JP6201377B2 - 光記録媒体 - Google Patents

Description

本技術は、光記録媒体に関する。詳しくは、複数の再生層を備える光記録媒体に関する。

これまでＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）などが光記録媒体の市場を牽引してきた。しかし、近年では、テレビのハイビジョン化やＰＣ（Personal Computer）で取り扱うデータの急激な増大に伴い、光記録媒体の更なる大容量化が求められている。この要求に応えるべく、ＢＤ（Blu-ray Disc（登録商標））などの青色レーザーに対応した大容量の光記録媒体が登場し、新たな大容量の光記録媒体の市場が立ち上がっている。

ＤＶＤやＢＤなどの高密度の光記録媒体においては、記録容量をさらに増大させるために、記録層を多層化する技術が広く採用されている。特に、近年では３層以上の記録層を有する多層型光記録媒体の開発が進んでいる。

しかしながら、記録層を多層化すると、層間の迷光により信号特性が低下する。特に、３層以上に記録層を増やすと、情報信号の読み取りを意図した記録層以外からの迷光が増加するために、信号特性の低下が特に顕著である。

このため、従来、多層型光記録媒体においては、迷光の影響を効果的に抑制し、信号特性を向上することができる技術が検討されている。特許文献１、２では、各情報記録層間のスペーサの厚さを所定の関係を満たすように設定することで、迷光による多重反射の影響を排除する技術が提案されている。

特開２００６−５９４３３号公報

特開２０１１−１９８４１０号公報

したがって、本技術の目的は、層間の迷光による信号特性の低下を抑制することができる光記録媒体を提供することにある。

上述の課題を解決するために、本技術は、
３層の再生層を含み、
再生光が照射される面側における３層の再生層それぞれの反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、５％以上であり、
反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちから選び出された２つの反射率の差ΔＲの絶対値はいずれも、７％以下であり、
３層の再生層は、
金属を含む第１の再生層と、
金属を含む第２の再生層と、
金属酸化物を含む第３の再生層と
を含み、
第３の再生層が面に最も近く、
第３の再生層の膜厚は、第１の再生層および第２の再生層の膜厚に比して厚い光記録媒体である。

本技術では、再生光が照射される面側における３層の再生層の反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３を５％以上としているので、反射率の低下による信号特性の低下を抑制することができる。また、反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちから選び出される２つの反射率の差ΔＲをいずれも７％以下としているので、反射率が高い再生層からの迷光により、反射率が低い再生層の反射光が影響を受けて信号特性が低下することを抑制できる。

本技術において、反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、３層の再生層それぞれの表面に対して波長４０５ｎｍの光を垂直入射させたときの反射率である。

本技術において再生層は、平坦面に対して多数の凹部または凸部を設けることで情報信号が予め記録された層である。これらの凹部または凸部が設けられた凹凸面に対して光を照射することにより情報信号が読み取られる。

本技術では、３層の再生層は基板上に設けられ、それらの３層の再生層上にカバー層が設けられていることが好ましい。このカバー層の厚さは特に限定されるものではなく、カバー層には、基板、シート、コーティング層などが含まれる。高密度の情報記録媒体としては、高ＮＡの対物レンズを用いることを考慮すると、カバー層としてシートまたはコーティング層などの薄い光透過層を採用し、この光透過層の側から光を照射することにより情報信号の再生が行われる構成を有するものが好ましい。この場合、基板としては、不透明性を有するものを採用することも可能である。情報信号を再生するための光の入射面は、情報記録媒体のフォーマットに応じてカバー層側および基板側の表面の少なくとも一方に適宜設定される。

以上説明したように、本技術によれば、層間の迷光による信号特性の低下を抑制することができる。

図１Ａは、本技術の一実施形態に係る光記録媒体の外観の一例を示す斜視図である。図１Ｂは、本技術の一実施形態に係る光記録媒体の構成の一例を示す断面図である。 図２は、参考例１−１〜１−７の光記録媒体の反射率および信号特性の評価結果を示す図である。 図３は、参考例２−１〜２−４、比較例２−１〜２−３の光記録媒体における反射率差および信号特性の評価結果を示す図である。 図４は、実施例３−１、３−２、参考例３−３の光記録媒体の加速試験前後の信号特性の評価結果を示す図である。 図５は、参考例４−１〜４−６のサンプルの屈折率ｎおよび消衰係数ｋの測定結果を示す図である。 図６Ａは、参考例５−１、実施例５−２〜５−４の光記録媒体の信号特性の評価結果を示す図である。図６Ｂは、参考例５−１、実施例５−２〜５−４の光記録媒体の反射率の評価結果を示す図である。 図７Ａは、参考例６−１のシミュレーションにより求めた反射スペクトルを示す図である。図７Ｂは、参考例６−１のシミュレーションにより求めた透過スペクトルを示す図である。 図８Ａは、参考例６−２のシミュレーションにより求めた反射スペクトルを示す図である。図８Ｂは、参考例６−２のシミュレーションにより求めた透過スペクトルを示す図である。 図９Ａは、実施例７−１−１、７−１−２、参考例７−１−３、参考例７−２−１〜７−２−３の光記録媒体の信号特性の評価結果を示す図である。図９Ｂは、実施例７−１−１、７−１−２、参考例７−１−３、参考例７−２−１〜７−２−３の光記録媒体のasymmetryの評価結果を示す図である。

本技術の実施形態について以下の順序で説明する。
１．光記録媒体の構成
２．光記録媒体の光学特性
３．光記録媒体の製造方法

［１．光記録媒体の構成］
図１Ａに示すように、本技術の一実施形態に係る光記録媒体１０は、中央に開口（以下「センターホール」という。）が設けられた円盤形状を有する。なお、光記録媒体１０の形状はこの例に限定されるものではなく、カード状などとすることも可能である。

図１Ｂに示すように、本技術の一実施形態に係る光記録媒体１０は、第１の再生層である反射層Ｌ０、中間層Ｓ１、第２の再生層である反射層Ｌ１、中間層Ｓ２、第３の再生層である反射層Ｌ２、カバー層である光透過層１２がこの順序で基板１１の表面に積層された構成を有する。なお、以下の説明において、反射層Ｌ０〜Ｌ２を特に区別しない場合には、反射層Ｌという。

この一実施形態に係る光記録媒体１０は、いわゆる多層の再生専用型光記録媒体であり、光透過層１２側の表面Ｃからレーザー光を各反射層Ｌ０〜Ｌ２に照射することにより、情報信号の再生が行われる。例えば、４００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザー光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層１２の側から各反射層Ｌ０〜Ｌ２に照射することにより、情報信号の再生が行われる。このような光記録媒体１０としては、例えば多層の再生専用型ブルーレイディスク（登録商標）が挙げられる。以下では、反射層Ｌ０〜Ｌ２に情報信号を再生するためのレーザー光が照射される表面Ｃを光照射面Ｃという。

以下、光記録媒体１０を構成する基板１１、反射層Ｌ０〜Ｌ２、中間層Ｓ１、Ｓ２、および光透過層１２について順次説明する。

（基板）
基板１１は、例えば、中央にセンターホールが設けられた円盤形状を有する。この基板１１の一主面は、例えば、凹凸面となっており、この凹凸面上に反射層Ｌ０が成膜される。この凹凸面は、ランド１１ａと多数のピット１１ｂとにより構成されている。多数のピット１１ｂは、基板１１の表面にて同心円状または螺旋状の列（いわゆるトラック）を構成している。ピット１１ｂは、ランド１１ａに対して凹状を有するピット（In-Pit）、およびランド１１ａに対して凸状を有するピット（On-Pit）のいずれであってもよい。図１Ｂでは、ピット１１ｂがランド１１ａに対して凹状を有する基板１１の例が示されている。

基板１１の径（直径）は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、より好ましくは０．６ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センターホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。

基板１１の材料としては、例えば、プラスチック材料またはガラスを用いることができ、コストの観点から、プラスチック材料を用いることが好ましい。プラスチック材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などを用いることができる。

（反射層）
反射層Ｌ０〜Ｌ２は、レーザー光の照射により情報信号を再生可能な反射層（再生専用の記録層）である。反射層Ｌ０〜Ｌ２は、例えば、波長４０５ｎｍ、集光レンズの開口数ＮＡ０．８５に対して２５ＧＢ以上の記録容量を有する。反射層Ｌ０の情報信号は反射層Ｌ１、Ｌ２を通して読み出され、反射層Ｌ１の情報信号は反射層Ｌ２を通して読み出されるため、反射層Ｌ１、Ｌ２としては、レーザー光の一部を反射し、残りを透過する半透過層が用いられる。

反射層Ｌ０、Ｌ１は、金属を主成分として含んでいることが好ましい。ここで、金属には、半金属も含まれるものとする。金属としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｇｅなどを単体、または２種以上含む合金として用いることができる。これらのうち、特にＡｌ系、Ａｇ系、Ａｕ系、Ｓｉ系、Ｇｅ系の材料が実用性の面から好ましい。合金としては、例えばＡｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒ、Ａｌ−Ｃｕ、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ、Ａｇ−Ｎｄ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｔｉ、Ｓｉ−Ｂなどが好適に用いられる。これらの材料のうちから、光学特性を考慮して設定することが好ましい。例えば、短波長領域においても高反射率を有する点を考慮すると、Ａｌ系またはＡｇ系の材料を用いることが好ましい。反射層Ｌ０、Ｌ１に含まれる材料としては、要求される信号特性などを考慮して、互いに異なる材料を用いてもよい。例えば、反射層Ｌ０に含まれる材料としてはＡｌ合金を用い、反射層Ｌ１に含まれる材料としてはＡｇ合金を用いることができる。

反射層Ｌ０が例えばＡｌ合金などの金属を主成分とする場合、反射層Ｌ０の膜厚は、１５ｎｍ以上２５ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。反射層Ｌ０の膜厚が１５ｎｍ未満であると、腐食などの欠陥が発生しやすく、信頼性が低下する。また、それとともに薄膜化による反射率低下が信号特性劣化を生じさせる。一方、反射層Ｌ０の膜厚を２５ｎｍを超えて厚膜化することには、特にメリットがない。すなわち、反射率や信頼性などの観点で十分な厚み（例えば１５〜２５ｎｍ程度）を持ってさえいれば、それ以上厚くしても、製造タクトタイムや材料費がかさむだけである。

反射層Ｌ１が例えばＡｇ合金などの金属を主成分とする場合、反射層Ｌ１の膜厚は、１５ｎｍ以上２３ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。反射層Ｌ１の膜厚が１５ｎｍ未満であると、腐食などの欠陥を発生しやすく、信頼性が低下する。また、それとともに薄膜化による反射率低下が信号特性劣化を生じさせる。一方、反射層Ｌ１の膜厚が２３ｎｍを超えると、透過率減少により、反射層Ｌ０の反射率が低減する。これにより、反射層Ｌ０の信号特性の劣化が顕著になる。

反射層Ｌ２は、反射層Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２のうちで光照射面Ｃに最も近い位置に設けられている。反射層Ｌ２は、例えば金属、金属酸化物または金属窒化物を主成分として含み、これらの材料のうち金属酸化物または金属窒化物を主成分として含んでいることが好ましい。反射層Ｌ２が金属酸化物または金属窒化物を主成分として含んでいることで、光記録媒体１０の信頼性を向上できる。また、反射層Ｌ１、Ｌ２間の電池効果により、反射層Ｌ１、Ｌ２が特性劣化することも抑制できる。金属酸化物および金属窒化物としては、例えば、誘電体を用いることができる。

金属酸化物としては、例えば、Ｗ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｃｒ、ＢｉおよびＭｇからなる群から選ばれる１種以上の元素の金属酸化物を用いることができ、Ｗ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＳｉおよびＺｒからなる群から選ばれる１種以上の元素の金属酸化物を用いることが好ましい。この金属酸化物を用いると、その組成を調整することで、反射層Ｌ２の屈折率ｎを２．０以上２．７以下、反射層Ｌ２の消衰係数ｋを０．０１以上０．５以下の範囲内に設定できるからである。金属酸化物の具体的例としては、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂、ＳｉＯ₂−Ｉｎ₂Ｏ₃−ＺｒＯ₂（ＳＩＺ）、ＳｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃−ＺｒＯ₂（ＳＣＺ）、Ｉｎ₂Ｏ₃−ＳｎＯ₂（ＩＴＯ）、Ｉｎ₂Ｏ₃−ＣｅＯ₂（ＩＣＯ）、Ｉｎ₂Ｏ₃−Ｇａ₂Ｏ₃（ＩＧＯ）、Ｉｎ₂Ｏ₃−Ｇａ₂Ｏ₃−ＺｎＯ（ＩＧＺＯ）、Ｓｎ₂Ｏ₃−Ｔａ₂Ｏ₅（ＴＴＯ）、ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃−ＺｎＯ、Ａｌ₂Ｏ₃−ＢａＯなどが挙げられる。

金属窒化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、ＴａおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物を用いることができる。金属窒化物の具体例としては、ＴｉＮ、ＳｉＮ、ＣｒＮ、ＷＮなどが挙げられる。

反射層Ｌ２が金属酸化物または金属窒化物を主成分として含み、反射層Ｌ０、Ｌ１が金属を主成分として含む場合、反射層Ｌ２の膜厚は、反射層Ｌ０、Ｌ１の膜厚に比して厚いことが好ましい。これにより、光照射面Ｃ側における反射層Ｌ２の反射率Ｒ２を十分な値とすることができる。

反射層Ｌ２が金属酸化物または金属窒化物を主成分として含む場合には、反射層Ｌ２の膜厚は、１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。反射層Ｌ２の膜厚が１５ｎｍ未満であると、信号特性が低下する傾向にある。一方、反射層Ｌ２を５０ｎｍを超える膜厚としても、反射層Ｌ２の成膜時間および成膜コストの増大を招くだけであり、何ら技術的な利点が得られない。これは、反射層Ｌ２が金属酸化物または金属窒化物を主成分として含む場合には、反射率は、反射層Ｌ２の膜厚に対して周期的に増減を繰り返し、その最初のピークは５０ｎｍ以下の位置に現れるからである。

反射層Ｌ２の屈折率ｎは２．０以上２．７以下の範囲内であることが好ましい。屈折率ｎが２．０未満であると、光透過層（屈折率１．５〜１．６）との屈折率値差分が小さすぎて、光照射面Ｓ側における反射層Ｌ２の反射率Ｒ２が５％未満となる傾向がある。一方、屈折率ｎが２．７を超えると、光透過層１２と反射層Ｌ２との界面、および反射層Ｌ２と中間層Ｓ２との界面における反射光の光量が大きくなりすぎて、反射層Ｌ０、Ｌ１に十分な光量のレーザー光を到達させることができなくなる傾向がある。したがって、光照射面Ｓ側における反射層Ｌ１、Ｌ２の反射率が５％未満となる傾向がある。

反射層Ｌ２の消衰係数ｋは０．０１以上０．５以下の範囲内であることが好ましい。反射層Ｌ２に含まれる金属酸化物または金属窒化物の組成を変更することで、消衰係数ｋを０．０１未満にすることは困難である。一方、反射層Ｌ２の消衰係数ｋが０．５を超えると、反射層Ｌ２によるレーザー光の吸収量が多すぎるため、反射層Ｌ１、Ｌ２に十分な光量のレーザー光を到達させることができなくなる傾向がある。したがって、光照射面Ｓ側における反射層Ｌ１、Ｌ２の反射率が５％未満となる傾向がある。

上述の屈折率ｎおよび消衰係数ｋは、以下のようにして求められる。
まず、光記録媒体１０の再生層Ｌ２の組成を分析する。次に、この再生層Ｌ２と同様の組成を有する薄膜をＳｉウェハ上に成膜した後、この薄膜の屈折率ｎおよび消衰係数ｋを分光エリプソメータを用いて求める。ここで、屈折率ｎおよび消衰係数ｋは、波長４０５ｎｍのレーザー光を薄膜表面に対して垂直入射させたときの値である。

（中間層）
中間層Ｓ１、Ｓ２は、反射層Ｌ０〜Ｌ２を物理的および光学的に十分な距離をもって離間させる役割を果たし、その表面には凹凸面が設けられている。その凹凸面の構成は、上述の基板１１と同様である。

反射層Ｌ０、Ｌ１が金属を含み、反射層Ｌ２が金属酸化物または金属窒化物を含んでいる場合には、中間層Ｓ２のピット１１ｂは、中間層Ｓ１および基板１１のピット１１ｂに比して深いまたは高いことが好ましい。ここで、この関係を有するピット１１ｂは、凹状のピット（In-Pit）および凸状のピット（On-Pit）のいずれであってもよい。上述の関係を満たすことにより、反射層Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２間におけるasymmetryの違いを低減することができる。すなわち、反射層Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２間におけるピット深さの見え方の不均一性を抑制することができる。

中間層Ｓ１、Ｓ２の厚みは、９μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定することが好ましい。中間層Ｓ１、Ｓ２の材料は特に限定されるものではないが、紫外線硬化型のアクリル樹脂を用いることが好ましい。また、中間層Ｓ１、Ｓ２は、奥側の反射層Ｌ０の情報信号の再生のためのレーザー光の光路となることから、十分に高い光透過性を有していることが好ましい。

（光透過層）
光透過層１２は、例えば、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を硬化してなる樹脂層である。この樹脂層の材料としては、例えば、紫外線硬化型のアクリル系樹脂が挙げられる。また、円環形状を有する光透過性シートと、この光透過性シートを基板１１に対して貼り合わせるための接着層とから光透過層１２を構成するようにしてもよい。光透過性シートは、再生に用いられるレーザー光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂材料、ポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））などを用いることができる。接着層の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂、感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）などを用いることができる。

光透過層１２の厚さは、好ましくは１０μｍ以上１７７μｍ以下の範囲内から選ばれ、例えば１００μｍに選ばれる。このような薄い光透過層１２と、例えば０．８５程度の高ＮＡ(numerical aperture)化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。

（ハードコート層）
なお、図示しないが、光透過層１２の光照射面Ｃに、例えば機械的な衝撃や傷に対する保護、また利用者の取り扱い時の塵埃や指紋の付着などから、情報信号の再生品質を保護するためのハードコート層をさらに設けてもよい。ハードコート層としては、機械的強度を向上させるためにシリカゲルの微粉末を混入したものや、溶剤タイプ、無溶剤タイプなどの紫外線硬化樹脂を用いることができる。機械的強度を有し、撥水性や撥油性を持たせるには、厚さを１μｍから数μｍ程度とすることが好ましい。

［２．光記録媒体の光学特性］
光照射面Ｃ側における反射層Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２の反射率をそれぞれＲ０、Ｒ１、Ｒ２とすると、反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はいずれも、５％以上、好ましくは７％以上である。反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちのいずれかが５％未満であると、その反射率５％未満の反射層Ｌでは、反射率の低下により信号特性が悪化し、民生用ドライブにて情報信号の再生が困難になる。ここで、反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はいずれも、ランド部（８Ｔスペース）の反射率である。

反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちから選び出された２つの反射率の差ΔＲの絶対値（すなわち｜Ｒ１−Ｒ２｜、｜Ｒ１−Ｒ３｜および｜Ｒ２−Ｒ３｜）のいずれも、７％以下である。反射率の差ΔＲが７％を超えると、反射層Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２のうち反射率が高い反射層Ｌからの迷光により、反射率が低い反射層Ｌの反射光が影響を受けて信号特性が低下する。

反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はいずれも、５％以上１２％以下、または７％以上１４％以下であることが好ましい。上述の反射率の差ΔＲの値を考慮すると、反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３をこのような範囲に設定すれば、反射率低下による信号特性の低下を抑制できると共に、迷光の影響による信号特性の低下も抑制できるからである。

反射層Ｌ２の透過率は、７０％以上であることが好ましい。これにより、反射層Ｌ０、Ｌ１に十分な光量のレーザー光を到達させることができる。すなわち、光照射面Ｃ側における反射層Ｌ０、Ｌ１の反射率Ｒ０、Ｒ１それぞれを十分な値とすることができる。

［３．光記録媒体の製造方法］
次に、本技術の一実施形態に係る光記録媒体の製造方法の一例について説明する。

（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面が形成された基板１１を成形する。基板１１の成形の方法としては、例えば、射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。

（反射層の形成工程）
次に、基板１１を、反射層Ｌ０の形成用ターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタして、基板１１の凹凸面上に反射層Ｌ０を成膜する。

（中間層の形成工程）
次に、基板１１をスピンコータに搬送し、スピンコートにより紫外線硬化樹脂を反射層Ｌ０上に均一に塗布する。その後、反射層Ｌ０上に均一に塗布された紫外線硬化樹脂に対してスタンパの凹凸パターンを押し当て、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させた後、スタンパを剥離する。これにより、スタンパの凹凸パターンが紫外線硬化樹脂に転写され、凹凸面を有する中間層Ｓ１が反射層Ｌ０上に形成される。

（反射層の形成工程）
次に、基板１１を、反射層Ｌ１の形成用ターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタして、基板１１上に反射層Ｌ１を成膜する。

（中間層の形成工程）
次に、中間層Ｓ１の形成工程と同様にして、中間層Ｓ２を反射層Ｌ１上に形成する。なお、中間層Ｓ２に凹状のピット１１ｂを形成するためのスタンパの凸部は、中間層Ｓ１および基板１１に凹状のピット１１ｂを形成するためのスタンパの凸部よりも高いことが好ましい。もしくは、中間層Ｓ２に凸状のピット１１ｂを形成するためのスタンパの溝は、中間層Ｓ１および基板１１に凸状のピット１１ｂを形成するためのスタンパの溝よりも深いことが好ましい。このようなスタンパの溝の深さおよび凸部の高さの設定は、マスタリング工程における露光パワーやエッチングの条件を調整することにより可能である。

（反射層の成膜工程）
次に、基板１１を、反射層Ｌ２の形成用ターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ₂ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタして、中間層Ｓ２上に反射層Ｌ２を成膜する。

（光透過層の形成工程）
次に、基板１１をスピンコータに搬送し、スピンコートにより紫外線硬化樹脂（ＵＶレジン）などの感光性樹脂を反射層Ｌ２上に均一に塗布し、紫外線などの光を感光性樹脂に照射し、硬化する。これにより、反射層Ｌ２上に光透過層１２が形成される。
以上の工程により、目的とする光記録媒体１０が得られる。

［効果］
本実施形態では、反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちから選び出される２つの反射率の差ΔＲをいずれも７％以下としているので、反射率が高い反射層Ｌからの迷光により、反射率が低い反射層Ｌの反射光が影響を受けて信号特性が低下することを抑制できる。

光照射面Ｃから最も近い反射層Ｌ２が金属酸化物または金属窒化物を主成分として含む場合には、反射層Ｌ２が金属を主成分として含む場合に比して、光記録媒体１０の信頼性を向上することができる。

以下、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

本実施例について以下の順序で説明する。
Ｉ．信号特性の反射率依存性
II．多層の反射層間の反射率のばらつきの許容範囲
III．金属酸化物層の信頼性
IV．反射層の屈折率および消衰係数の好適範囲
Ｖ．金属酸化物層の好適な膜厚範囲（下限）
VI．金属酸化物層の好適な膜厚範囲（上限）
VII．信号特性およびasymmetryの膜厚依存性

［Ｉ．信号特性の反射率依存性］
（参考例１−１〜１−７）
まず、射出成形により、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板を成形した。なお、このポリカーボネート基板の表面には、ランドとそのランドに対して凹状を有する多数のピット（In-Pit）とから構成された凹凸を形成した。この際、１層の反射層当たり３３．４ＧＢ相当の記録容量が得られるように、ピットのサイズ（長さ）およびトラックピッチを設定した。

次に、スパッタリング法によりポリカーボネート基板の凹凸面上に、反射層を形成した。この際、スパッタリングの成膜条件およびターゲット材料をサンプル毎に選択することにより、サンプル毎に異なる反射率が得られるようにした。

次に、スピンコート法により、紫外線硬化樹脂を反射層上に均一塗布し、これに紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ１００μｍを有する光透過層を形成した。
以上により、３３．４ＧＢの記録容量を有する再生専用型の光記録媒体を得た。

［評価］
上述のようにして得られた参考例１−１〜１−７の光記録媒体の反射層の反射率および信号特性を、以下のようにして評価した。その結果を表１および図２に示す。

（反射率）
ＢＤ用のディスク評価装置（パルステック社製、商品名：ＯＤＵ−１０００）を用いて、反射層の反射率を測定した。具体的には、ＢＤ用のディスク評価装置を用いて光記録媒体の再生（フォーカスやトラッキングなど）を行い、Ｉ８Ｈ（「８Ｔスペース」または「８Ｔランド」ともいう）の反射ｌｅｖｅｌから反射率を割り出した。なお、評価装置における再生用レーザー光の波長は４０５ｎｍ、集光レンズの開口数ＮＡは０．８５である。

（信号特性）
ＢＤ用のディスク評価装置（パルステック社製、商品名：ＯＤＵ−１０００）を用いて、反射層の再生信号の特性を評価した。信号品質の評価には、ＢＤ−ＸＬで使用されている、ｉ−ＭＬＳＥという評価指標を用いた。なお、ｉ−ＭＬＳＥとは、２Ｔ−８Ｔピット列を再生したときの、理想的なピットエッジ位置からのズレ量を示す評価指標である。評価装置における再生用レーザー光の波長は４０５ｎｍ、集光レンズの開口数ＮＡは０．８５である。

表１は、参考例１−１〜１−７の光記録媒体の評価結果を示す。

表１および図２から以下のことがわかる。
反射率を高くするに従って、ｉ−ＭＬＳＥが向上する傾向にある。具体的には、反射率が４．５％以上１１％以下の範囲では、反射率の増加に対してｉ−ＭＬＳＥが大きく向上する。そして、反射率が１１％以上４５％以下の範囲では、反射率の増加に対してｉ−ＭＬＳＥが緩やかに向上する。
反射率が５％以上であると、ｉ−ＭＬＳＥが基準値１２％以下に向上する。なお、ｉ−ＭＬＳＥが基準値１２％以下であると、民生用ドライブの再生系にばらつきがあっても良好な再生特性を得ることができる。

［II．多層の反射層間の反射率のばらつきの許容範囲］
（参考例２−１〜２−４、比較例２−１〜２−３）
まず、射出成形により、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板を成形した。なお、このポリカーボネート基板の表面には、ランドとそのランドに対して凹状を有する多数のピット（In-Pit）とから構成された凹凸を形成した。この際、１層の反射層当たり約３３．４ＧＢ相当の記録容量が得られるように、ピットのサイズ（長さ）およびトラックピッチを設定した。

次に、スパッタリング法によりポリカーボネート基板の凹凸面上に、Ａｌ合金からなる、膜厚１９ｎｍの第１の反射層（Ｌ０層）を形成した。

次に、スピンコート法により紫外線硬化樹脂を第１の反射層上に均一に塗布した。その後、第１の反射層上に均一に塗布された紫外線硬化樹脂に対してスタンパの凹凸パターンを押し当て、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させた後、スタンパを剥離した。これにより、厚さ１５．５μｍの中間層が形成された。なお、この中間層の表面には、ランドとそのランドに対して凹状を有する多数のピット（In-Pit）とから構成された凹凸を形成した。この際、１層の反射層当たり約３３．４ＧＢ相当の記録容量が得られるように、ピットのサイズ（長さ）およびトラックピッチを設定した。

次に、スパッタリング法により中間層の凹凸面上に、Ａｇ合金からなる、膜厚１２ｎｍの第２の反射層（Ｌ１層）を形成した。

次に、スピンコート法により紫外線硬化樹脂を第２の反射層上に均一に塗布した。その後、第２の反射層上に均一に塗布された紫外線硬化樹脂に対してスタンパの凹凸パターンを押し当て、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させた後、スタンパを剥離した。これにより、厚さ１９．５μｍの中間層が形成された。なお、この中間層の表面には、ランドとそのランドに対して凹状を有する多数のピット（In-Pit）とから構成された凹凸を形成した。この際、１層の反射層当たり約３３．４ＧＢ相当の記録容量が得られるように、ピットのサイズ（長さ）およびトラックピッチを設定した。

次に、スパッタリング法により中間層の凹凸面上に、ＩＴＯ（ＳｎＯ₂：Ｉｎ₂Ｏ₃＝１０：９０（質量％））からなる第３の反射層（Ｌ３層）を形成した。この際、スパッタリングの成膜条件およびターゲット材料をサンプル毎に選択することにより、サンプル毎に異なる反射率が得られるようにした。

次に、スピンコート法により、紫外線硬化樹脂を第３の反射層上に均一塗布し、これに紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ５３．５μｍを有する光透過層を形成した。
以上により、３層で１００ＧＢの記録容量を有する再生専用型の光記録媒体を得た。

［評価］
上述のようにして得られた参考例２−１〜２−４、比較例２−１〜２−３の光記録媒体の第１〜第３の反射層（Ｌ０〜Ｌ２層）の反射率および信号特性を以下のようにして評価した。

（反射率）
まず、参考例１−１〜１−７と同様にして、第１〜第３の反射層それぞれの反射率を求めた。次に、求めた各反射層のうち最大の反射率Ｒ_maxおよび最小の反射率Ｒ_minを選び出し、これらの反射率の差ΔＲ＝（Ｒ_max−Ｒ_min）を求めた。その結果を表２に示す。

（信号特性）
まず、参考例１−１〜１−７と同様にして、第１〜第３の反射層それぞれのｉ−ＭＬＳＥを求めた。次に、第１〜第３の反射層のうちにｉ−ＭＬＳＥが基準値１２％を超える反射層があるか否かを判別した。その結果を表２に示す。次に、第１〜第３の反射層のｉ−ＭＬＳＥから最大値をとるｉ−ＭＬＳＥ（以下「最大ｉ−ＭＬＳＥ」という。）を選び出した。その結果を表２に示す。次に、上述のように求めた反射率の差ΔＲおよび最大ｉ−ＭＬＳＥに基づきグラフを作成し、反射率の差ΔＲと最大ｉ−ＭＬＳＥとの関係を表す近似直線を求めた。その結果を図３に示す。なお、近似直線は、線形近似法により求めた。

表２は、参考例２−１〜２−４、比較例２−１〜２−３の光記録媒体の構成および評価結果を示す。

表２および図３から以下のことがわかる。
反射率差ΔＲが７％を超えると、ｉ−ＭＬＳＥが基準値１２％を超える傾向にある。なお、ｉ−ＭＬＳＥの基準値を１２％とする技術的意義は、上述の「Ｉ．信号特性の反射率依存性」にて述べた通りである。
このような傾向は以下の点に理由があると考えられる。多層の光記録媒体では、情報信号の読み取りを意図した反射層以外の反射層からの迷光（クロストーク）の影響は避けられない。特に反射率が低い反射層は高い反射層からの迷光の影響を大きく受けやすく、多層の反射層のうちに反射率差ΔＲの絶対値が７％を超える２層の反射層の組み合わせが存在すると、ｉ−ＭＬＳＥ（信号特性品質）が１２％を超えて劣化する。
したがって、ｉ−ＭＬＳＥを基準値１２％以下にするためには、反射率差ΔＲを７％以下にすることが好ましい。

［III．金属酸化物層の信頼性］
（実施例３−１）
第１の反射層（Ｌ０層）、第２の反射層（Ｌ１層）、第３の反射層（Ｌ２層）の膜厚をそれぞれ１９ｎｍ、１５ｎｍ、３０ｎｍとする以外は、参考例２−１と同様にして光記録媒体を得た。

（実施例３−２）
第３の反射層として、Ｗ−Ｆｅ−Ｔｉ−Ｏ（Ｗ：Ｆｅ：Ｔｉ＝７４：２２．７：２．４（質量％））からなる、膜厚２０ｎｍの金属酸化物層を形成する以外は、実施例３−１と同様にして光記録媒体を得た。

（参考例３−３）
第３の反射層として、Ａｇ合金からなる、膜厚１０ｎｍの合金層を形成する以外は、実施例３−１と同様にして光記録媒体を得た。

［評価］
上述のようにして得られた実施例３−１、３−２、参考例３−３の光記録媒体の第３の反射層の信頼性を以下のようにして評価した。

（信頼性）
まず、参考例１−１〜１−７と同様にして、第３の反射層のｉ−ＭＬＳＥを求めた。次に、光記録媒体を８０℃８５％の温室環境下に１２０時間投入することにより、加速試験を行った後、参考例１−１〜１−７と同様にして、第３の反射層のｉ−ＭＬＳＥを求めた。次に、加速試験前後のｉ−ＭＬＳＥの変化量（＝［加速試験後のｉ−ＭＬＳＥ］−［加速試験前のｉ−ＭＬＳＥ］）を求めた。その結果を表３および図４に示す。

表３は、実施例３−１、３−２、参考例３−３の光記録媒体の構成および評価結果を示す。

表３および図４から以下のことがわかる。
参考例３−３（Ａｇ系合金）では、加速試験前後のｉ−ＭＬＳＥが大きく異なっており、加速試験後のｉ−ＭＬＳＥは、加速試験前のｉ−ＭＬＳＥに比べて１％以上劣化している。
実施例３−１（ＩＴＯ）では、加速試験前後のｉ−ＭＬＳＥがほぼ等しい。したがって、第３の反射層の材料としてＩｎおよびＳｎを含む二元系金属酸化物（ＩＴＯ）を用いることで、金属材料を用いた場合に比して信頼性を大きく向上できる。なお、第３の反射層の材料としてＩｎおよびＳｎをそれぞれ単独で含む一元系金属酸化物を用いた場合にも、上述の二元系金属酸化物を用いた場合とほぼ同様の効果の発現が期待される。
実施例３−２（Ｗ系金属酸化物）では、加速試験前後のｉ−ＭＬＳＥが等しい。したがって、第３の反射層の材料としてＷ、ＦｅおよびＴｉを含む三元系金属酸化物を用いることで、金属材料を用いた場合に比して信頼性を大きく向上することができる。なお、第３の反射層の材料としてＷ、ＦｅおよびＴｉをそれぞれ単独で含む一元系金属酸化物、もしくはそれらの２以上の組合せを含む二元系金属酸化物を用いた場合にも、上述の三元系金属酸化物とほぼ同様の効果の発現が期待される。また、Ｗ、ＦｅおよびＴｉからなる群から選ばれる１種以上と、ＩｎおよびＳｎからなる群から選ばれる１種以上との組み合わせを含む金属酸化物を用いた場合にも、上述の二元系および三元系金属酸化物とほぼ同様の効果の発現が期待される。
したがって、信頼性を向上する観点からすると、光照射面から最も近い第３の反射層の材料としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｉｎ、ＳｎおよびＳｉからなる群から選ばれる１種以上を含む金属酸化物を用いることが好ましい。

本発明者らの知見によれば、Ｚｒを単独で含む一元系金属酸化物を用いた場合にも、上述の二元系および三元系金属酸化物とほぼ同様の効果が発現する。また、Ｗ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｉｎ、ＳｎおよびＳｉからなる群から選ばれる１種以上と、Ｚｒとを組合せて用いた場合にも、上述の二元系および三元系金属酸化物とほぼ同様の効果の発現が期待される。
したがって、信頼性を向上する観点からすると、光照射面から最も近い第３の反射層の材料としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＳｉおよびＺｒからなる群から選ばれる１種以上を含む金属酸化物を用いることが好ましい。

［IV．反射層の屈折率および消衰係数の好適範囲］
（参考例４−１）
まず、スパッタリング法によりＳｉウェハ上に、ＩＴＯからなる、膜厚２０ｎｍの反射層を形成した。この際、スパッタリングの成膜条件（真空チャンバー内に導入するＯ₂ガスの導入量）をサンプル毎に調整することにより、反射層の酸素含有量（すなわち反射層の組成）を変更した。これにより、目的とするサンプルを得た。

（参考例４−２）
スパッタリング法によりＳｉウェハ上に、Ｗ−Ｆｅ−Ｔｉ−Ｏからなる、膜厚２０ｎｍの反射層を形成した。この際、スパッタリングの成膜条件（真空チャンバー内に導入するＯ₂ガスの導入量）をサンプル毎に調整し、反射層の酸素含有量（すなわち反射層の組成）を変更した。これ以外のことは参考例４−１と同様にして、目的とするサンプルを得た。

（参考例４−３）
まず、スパッタリング法によりＳｉウェハ上に、Ａｇからなる、膜厚２０ｎｍの反射層を形成した。これにより、目的とするサンプルを得た。

（参考例４−４）
スパッタリング法によりＳｉウェハ上に、Ａｌからなる、膜厚２０ｎｍの反射層を形成すること以外は、参考例４−３と同様にしてサンプルを得た。

（参考例４−５）
スパッタリング法によりＳｉウェハ上に、Ａｕからなる、膜厚２０ｎｍの反射層を形成すること以外は、参考例４−３と同様にしてサンプルを得た。

（参考例４−６）
スパッタリング法によりＳｉウェハ上に、Ｓｉからなる、膜厚２０ｎｍの反射層を形成すること以外は、参考例４−３と同様にしてサンプルを得た。

（評価）
上述のようにして得られた参考例４−１〜４−６のサンプルの屈折率ｎおよび消衰係数ｋを測定した。具体的には、分光エリプソメータ（J.A.woollam co.製、商品名：VASE series Ellipsometers (HS-190 monochromator)）を用いて、波長４０５ｎｍのレーザー光を反射層の膜面に対して垂直入射させたときの屈折率ｎおよび消衰係数ｋを測定した。その結果を表４および図５に示す。なお、図５において、斜線を付した領域Ｒは、参考例４−１、４−２における反射層のｎ、ｋの測定結果の範囲を示している。このように領域Ｒで測定結果を示しているのは、参考例４−１、４−２では、反射層の組成を変更した複数のサンプルについてｎ、ｋを測定しているからである。

表４は、参考例４−１〜４−６の光記録媒体の構成および評価結果を示す。

表４および図５から以下のことがわかる。
ＩＴＯからなる反射層（金属酸化物層）では、反射層の酸素含有量を調整することにより、屈折率ｎを２．０〜２．３、消衰係数ｋを０．０１〜０．１の範囲で変更することができる。
Ｗ−Ｆｅ−Ｔｉ−Ｏからなる反射層（金属酸化物層）では、反射層の酸素含有量を調整することにより、屈折率ｎを２．０〜２．７、消衰係数ｋを０．１〜０．４の範囲で変更することができる。
Ａｇ、Ａｌ、ＡｕまたはＳｉからなる反射層（金属層）の屈折率ｎおよび消衰係数ｋは、ＩＴＯまたはＷ−Ｆｅ−Ｔｉ−Ｏからなる反射層と比べて大きく異なっている。
Ａｇ、ＡｌまたはＡｕからなる反射層の消衰係数は、ＩＴＯまたはＷ−Ｆｅ−Ｔｉ−Ｏからなる反射層に比べて非常に大きい。このため、Ａｇ、ＡｌまたはＡｕからなる反射層では、高透過率を実現するためには、反射層の膜厚を薄くする必要性が生じるが、このように膜厚を薄くすると、耐久性が大きく低下してしまう。
Ｓｉからなる反射層の消衰係数ｋは、ＩＴＯまたはＷ−Ｆｅ−Ｔｉ−Ｏからなる反射層と同程度であるが、Ｓｉからなる反射層の屈折率ｎは、ＩＴＯまたはＷ−Ｆｅ−Ｔｉ−Ｏからなる反射層に比べて非常に大きい。このため、Ｓｉからなる反射層では、ＩＴＯまたはＷ−Ｆｅ−Ｔｉ−Ｏからなる反射層に比べて、入射側および出射側の界面における反射率が非常に高くなり、第１および第２の反射層に到達するレーザー光の光量の低下を招くことになる。

したがって、高透過率および信頼性の観点からすると、光照射面に最も近い第３の反射層としては、金属層よりも金属酸化物層を用いることが好ましい。
反射層としてＩＴＯまたはＷ−Ｆｅ−Ｔｉ−Ｏからなる金属酸化物層を用いた場合には、反射層中の酸素含有量を調整することで、屈折率ｎを２．０以上２．７以下、消衰係数ｋの０．０１以上０．５以下の範囲内で設定することができる。これに対して、反射層として、Ａｇ、Ａｌ、ＡｕまたはＳｉからなる金属層を用いた場合には、屈折率ｎおよび消衰係数を上述の範囲内に設定することはできない。
ここでは、反射層の材料として、ＩｎおよびＳｎを含む二元系金属酸化物、またはＷ、ＦｅおよびＴｉを含む三元系金属酸化物を用いた場合についてのみ説明したが、Ｗ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＳｉおよびＺｒからなる群から選ばれる１種以上を含む金属酸化物であれば、屈折率ｎを２．０以上２．７以下、消衰係数ｋを０．０１以上０．５以下の範囲内で設定することが可能である。なお、上述したように、屈折率ｎよび消衰係数ｋをこのような範囲に設定することで、高透過率を有する第３の反射層を実現することができる。

［Ｖ．金属酸化物層の好適な膜厚範囲（下限）］
（参考例５−１、実施例５−２〜５−４）
第１の反射層の膜厚を１９ｎｍ、第２の反射層の膜厚を１５ｎｍに変更した。また、第３の反射層の膜厚を、表５に示すように、１５ｎｍ〜３５ｎｍの範囲内で変更した。これ以外のことは実施例３−１と同様にして光記録媒体を得た。

（評価）
上述のようにして得られた参考例５−１、実施例５−２〜５−４の光記録媒体の第３の反射層の信号特性および反射率を、参考例１−１〜１−７と同様にして評価した。その結果を表５、図６Ａおよび図６Ｂに示す。

表５は、参考例５−１、実施例５−２〜５−４の光記録媒体の構成および評価結果を示す。

表５、図６Ａおよび図６Ｂから以下のことがわかる。
第３の反射層としてＷ−Ｆｅ−Ｔｉ−Ｏからなる金属酸化物層を用いた場合には、反射層の膜厚が厚くなるに従って、ｉ−ＭＬＳＥが向上する傾向にある。膜厚が１５ｎｍ以上であると、ｉ−ＭＬＳＥを基準値１２％以下にすることができる。
第３の反射層としてＷ−Ｆｅ−Ｔｉ−Ｏからなる金属酸化物層を用いた場合には、反射層の膜厚が厚くなるに従って、反射率が高くなる傾向にある。膜厚が１５ｎｍ以上であると、反射率を５％以上にすることができる。
なお、反射率が５％以上であると、ｉ−ＭＬＳＥを基準値１２％以下にできることは、上述の「Ｉ．信号特性の反射率依存性」にて説明した通りである。また、第３の反射層の膜厚が薄いほどｉ−ＭＬＳＥが劣化する傾向を示すのは、反射率が低くなることにより、ＳＮＲ（Signal-Noise Ratio）が低下するためであると考えられる。
したがって、第３の反射層として金属酸化物層を用いる場合、信号特性向上の観点からすると、第３の反射層の膜厚を１５ｎｍ以上にすることが好ましい。

［VI．金属酸化物層の好適な膜厚範囲（上限）］
（参考例６−１）
屈折率ｎ＝２．０〜２．７、消衰係数ｋ＝０．０１〜０．５である反射層の反射スペクトルおよび透過スペクトル（入射角度θ：0deg）について、以下のようにしてシミュレーションにより検討した。なお、シミュレーションは、「分光エリプソメトリー 藤原裕之著、2.4光学干渉」に記載の手法に基づき行った。

まず、中間層表面に反射層および光透過層を順次積層した光記録媒体の構成を擬似的に設定した。以下に、これらの各構成要素の設定パラメータを示す。
光透過層：屈折率ｎ＝１．６、消衰係数ｋ＝０
反射層：屈折率ｎ＝２．０〜２．７、消衰係数ｋ＝０．０１〜０．５、膜厚ｔ＝０〜２００ｎｍ
（ここで、屈折率ｎおよび消衰係数ｋの数値範囲は、金属酸化物からなる反射層の屈折率ｎおよび消衰係数ｋを想定した数値範囲である。）
中間層：屈折率ｎ＝１．６、消衰係数ｋ＝０
（但し、反射層が設けられる中間層表面は、凹凸のない平面とした。）

次に、上述の構成を有する光記録媒体に対して、レーザー光を光透過層側から入射させたときの反射スペクトルおよび透過スペクトルを求めた。なお、光透過層の表面でのレーザー光の反射は無いものとした。その結果のうち、屈折率ｎ＝２．３、消衰係数ｋ＝０．０５のものを代表して、図７Ａ、図７Ｂに示す。このｎ、ｋの値はＩＴＯのｎ、ｋに対応している。

（参考例６−２）
屈折率ｎ＝０．１７、消衰係数ｋ＝１．９５に変更する以外は参考例６−１と同様にして、反射スペクトルおよび透過スペクトルを求めた。なお、屈折率ｎ＝０．１７、消衰係数ｋ＝１．９５は、Ａｇ合金からなる反射層の屈折率ｎおよび消衰係数ｋを想定した数値である。その結果を図８Ａ、図８Ｂに示す。

上述の参考例６−１のシミュレーション結果から以下のことがわかった。
反射層として金属酸化物層を想定した屈折率ｎ＝２．０〜２．７、消衰係数ｋ＝０．０１〜０．５の範囲では、反射スペクトルおよび透過スペクトルは反射層の膜厚の増加に対して周期的に増減を繰り返す。そして、周期性を有する反射スペクトルの最初のピーク値は、反射層の膜厚が５０ｎｍ以下の位置に現れる。
反射層のコスト低減および成膜時間の短縮の観点からすると、反射層の膜厚は薄い方が望ましく、反射層の膜厚を５０ｎｍを超えて設定する技術的な利点は何ら見いだせない。したがって、反射層として金属酸化物層を用いる場合には、反射層の膜厚を５０ｎｍ以下の範囲で変更して、反射率を調整することが好ましい。
屈折率ｎ＝２．０〜２．７、消衰係数ｋ＝０．０１〜０．５の範囲では、取り得る最大反射率（ｎ＝２．５、ｋ＝０．０１）は１８％程度である。上述のシミュレーションでは、中間層表面を凹凸のない平面に設定した。ピットが存在する実際の中間層表面では、凹凸により光散乱が生じるため、さらに反射率は低下する。この点を考慮すると、実際の最大反射率は１５％程度であると推測される。
反射層として屈折率ｎ＝２．０〜２．７、消衰係数ｋ＝０．０１〜０．５の範囲である金属酸化物層を用いた場合には、反射層の膜厚を調整することで、５％以上の反射率と高透過率とを実現することができる。

上述の参考例６−２のシミュレーション結果から以下のことがわかった。
反射層として金属層を想定した屈折率ｎ＝０．１７、消衰係数ｋ＝１．９５では、膜厚が増加するに従って、反射率は上昇するのに対して、透過率は低下する傾向にある。
５％以上の反射率と高透過率を実現するためには、反射層の膜厚を非常に薄くする必要があるが、このように反射層を薄くすると、上述の「III．金属酸化物層の信頼性」にて説明したように、信頼性が低下する。

［VII．信号特性およびasymmetryの膜厚依存性］
（実施例７−１−１、７−１−２、参考例７−１−３）
第１の反射層の膜厚を１９ｎｍ、第２の反射層の膜厚を１５ｎｍに変更した。また、第３の反射層の膜厚を、表６に示すように、１５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内で変更した。これ以外のことは実施例３−１と同様にして光記録媒体を得た。

（参考例７−２−１〜７−２−３）
第１の反射層の膜厚を１９ｎｍ、第２の反射層の膜厚を１５ｎｍに変更した。また、第３の反射層の膜厚を、表６に示すように、１４ｎｍ〜２５ｎｍの範囲内で変更した。これ以外のことは参考例３−３と同様にして光記録媒体を得た。

（評価）
上述のようにして得られた実施例７−１−１、７−１−２、参考例７−１−３、参考例７−２−１〜７−２−３の光記録媒体の第３の反射層の信号特性およびasymmetryを以下のようにして評価した。

（信号特性）
参考例１−１〜１−７と同様にして、第３の反射層のｉ−ＭＬＳＥを求めた。その結果を図９Ａに示す。

（asymmetry）
asymmetryとは８Ｔ信号と２Ｔ信号の割合を示す指標となっており、asymmetry値が０％に近いほど２Ｔ−８Ｔバランスが良いことを意味している。asymmetry値を±５％以内の収めることが特性上望まれている。
再生信号の８Ｔ振幅の最大値をＩ８Ｈ、最小値をＩ８Ｌ。２Ｔ振幅の最大値をＩ２Ｈ、最小値をＩ２Ｌとしたとき、asymmetry＝｛（Ｉ８Ｈ＋Ｉ８Ｌ）−（Ｉ２Ｈ＋Ｉ２Ｌ）｝／｛２（Ｉ８Ｈ−Ｉ８Ｌ）｝という計算式で表すことができる。２Ｔピットが大きくなるとasymmetryは「＋」、２Ｔピットが小さくなると「−」になるという関係を持っている。その結果を図９Ｂに示す。

表６は、実施例７−１−１、７−１−２、参考例７−１−３、参考例７−２−１〜７−２−３の光記録媒体の構成および評価結果を示す。

図９Ａ、図９Ｂから以下のことがわかる。
第３の反射層として金属酸化物層（誘電体層）および金属層のいずれを用いるかによって、ｉ−ＭＬＳＥおよびasymmetry（すなわち最小ピット２Ｔの光学的な深さの）の膜厚依存性が、以下に示すように全く異なっている。
第３の反射層として金属酸化物層を用いた場合には、反射層の膜厚の増加に伴って、ｉ−ＭＬＳＥが向上する傾向にある。これに対して、第３の反射層として金属層を用いた場合には、反射層の膜厚の増加に伴って、ｉ−ＭＬＳＥが劣化する傾向にある。
したがって、第３の反射層として金属酸化物層および金属層のいずれを用いるかによって、信号特性の観点から好適な膜厚の範囲が異なっている。例えば、金属酸化物層の膜厚が３０ｎｍ程度に設定した場合と、金属層の膜厚が１５ｎｍ程度に設定した場合とでほぼ同様の信号特性が得られる。
第３の反射層として金属酸化物層を用いた場合には、反射層の膜厚の増加に伴って、asymmetryが緩やかに低下する傾向にある。これに対して、第３の反射層として金属層を用いた場合には、反射層の膜厚の増加に伴って、asymmetryが増加する傾向にある。
この傾向は、asymmetryが最小ピット２Ｔの光学的な深さを示す指標であることを考慮すると、次のように言い換えることができる。すなわち、第３の反射層として金属酸化物層を用いた場合には、反射層の膜厚の増加に伴って、最小ピット（凹状のピット）２Ｔの光学的な深さが浅く見える傾向にある。これに対して、第３の反射層として金属層を用いた場合には、反射層の膜厚の増加に伴って、最小ピット２Ｔの光学的な深さが深く見える傾向にある。
上述したように反射層の材料として金属酸化物（誘電体）および金属のいずれを用いるかによって、信号特性およびasymmetryの膜厚依存性が異なるのは、第３の反射層の材料の屈折率ｎおよび消衰係数ｋの違いによるものと考えられる。以下、この点について具体的に説明する。
金属ｎ、ｋはｎ＜１、ｋ＞１の関係を有することが一般的であり、例えばＡｇのｎ、ｋはｎ＝０．１７、ｋ＝１．９５である。これに対して、本技術において好適な金属酸化物（誘電体）のｎ、ｋは、上述したように屈折率ｎ＝２．０〜２．７、消衰係数ｋ＝０．０１〜０．５であり、例えば、例えばＩＴＯのｎ、ｋはｎ＝２．３〜２．４、ｋ＝０．２である。
このｎ、ｋの違いにより、第３の反射層および光透過層の界面（以下「入射側界面」という。）と、第３の反射層と中間層との界面（以下「出射側界面」という。）とにおける界面反射光量に差異が生じる。
第３の反射層の材料としてＡｇなどの金属を用いた場合には、金属はｋが大きいために、第３の反射層にて吸収されるレーザー光の吸収量が多い。一方、第３の反射層の材料としてＩＴＯなどの金属酸化物を用いた場合には、金属酸化物はｋが０に近いために、第３の反射層にて吸収されるレーザー光の吸収量が極めて少ない。
また、ＩＴＯ（ｎ＝２．５）などの金属酸化物は、Ａｇ（ｎ＝０．１７）などの金属に比して、光透過層や中間層などの透明樹脂層（一般的にはｎ＝１．６程度）との屈折率差Δｎが小さい。
上述のように、第３の反射層として金属酸化物を用いた場合には、第３の反射層として金属を用いた場合に比して光吸収が少なく、かつ、屈折率差Δｎも小さいため、入射側界面と出射側界面との光学的な干渉作用が効率良く作用する。また、第３の反射層を厚膜化してもその干渉作用の効率に大きな変化は生じない。
第３の反射層の材料として金属を用いた場合と、第３の反射層の材料として金属酸化物を用いた場合とでは、入射側界面の反射光量に対する出射側界面の反射光量の比率が大きく相違している。
上述した相違が、信号特性およびasymmetry（ピットの見え方）の膜厚依存性に差異をもたらしていると考えられる。
上述の結果を考慮すると、第１および第２の反射層として金属層を用い、第３の反射層として金属酸化物層を用いる場合には、第１、第２および第３の反射層のasymmetry（ピットの見え方）の違いを抑制するためには、第１および第２の反射層のピットに比して第３の反射層のピットを深くすることが好ましい。

以上、本技術の実施形態について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本技術の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。

例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。

また、上述の実施形態の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。

また、本開示において用いた「含む（または含んでいる）」（comprising）という用語は、より制限的な用語である「から本質的になる」（consisting essentially of）および「からなる」（consisting of）を含んでいる。

また、上述の実施形態では、基板上に３層の反射層、光透過層がこの順序で積層された構成を有し、この光透過層側からレーザー光を３層の反射層に照射することにより情報信号の再生が行われる光記録媒体に対して本技術を適用した場合を例として説明したが、本技術はこの例に限定されるものではない。例えば、基板上に３層の反射層、保護層がこの順序で積層された構成を有し、基板側からレーザー光を３層の反射層に照射することにより情報信号の再生が行われる光記録媒体、または２枚の基板の間に３層の反射層が設けられた構成を有し、一方の基板の側からレーザー光を３層の反射層に照射することにより情報信号の再生が行われる光記録媒体に対しても本技術は適用可能である。

また、上述の実施形態では、３層の反射層を有する光記録媒体に対して本技術を適用した場合を例として説明したが、本技術はこの例に限定されるものではない。例えば、３層を超える反射層を有する多層の光記録媒体または２層の反射層を有する２層の光記録媒体に対しても本技術は適用可能である。この場合、光照射面から最も近い反射層が金属酸化物または金属窒化物を含んでいることが好ましい。光記録媒体の信頼性を向上することができるからである。

また、上述の実施形態において、反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちから選び出された隣接する２つの反射率の差ΔＲの絶対値（すなわち｜Ｒ１−Ｒ２｜および｜Ｒ２−Ｒ３｜）をいずれも、７％以下としてもよい。反射率の差ΔＲが７％を超えると、隣接する反射率が高い反射層Ｌからの迷光により、反射率が低い反射層Ｌの反射光が影響を受けて信号特性が低下する。

また、本技術は以下の構成を採用することもできる。
（１）
３層の再生層を含み、
再生光が照射される面側における上記３層の再生層それぞれの反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、５％以上であり、
上記反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちから選び出された２つの反射率の差ΔＲの絶対値はいずれも、７％以下である光記録媒体。
（２）
上記３層の再生層のうち上記面に最も近い再生層は、金属酸化物を含んでいる（１）に記載の光記録媒体。
（３）
上記金属酸化物は、Ｗ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＳｉおよびＺｒからなる群から選ばれる１種以上を含んでいる（２）に記載の光記録媒体。
（４）
上記３層の再生層のうち上記面に最も近い再生層の膜厚は、１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲内である（２）から（３）のいずれかに記載の光記録媒体。
（５）
再生光が照射される面側における上記３層の再生層それぞれの反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、７％以上１４％以下である（１）から（４）のいずれかに記載の光記録媒体。
（６）
上記３層の再生層のうち上記面に最も近い再生層の屈折率は、２．０以上２．７以下の範囲内であり、
上記３層の再生層のうち上記面に最も近い再生層の消衰係数は、０．０１以上０．５以下の範囲内である（１）から（５）のいずれかに記載の光記録媒体。
（７）
上記３層の再生層のうち上記面に最も近い再生層は、金属窒化物を含んでいる（１）に記載の光記録媒体。
（８）
上記３層の再生層は、
金属を含む第１の再生層と、
金属を含む第２の再生層と、
金属酸化物を含む第３の再生層と
を含み、
上記第３の再生層が上記面に最も近い（１）に記載の光記録媒体。
（９）
上記第３の再生層の膜厚は、上記第１の再生層および上記第２の再生層の膜厚に比して厚い（８）に記載の光記録媒体。
（１０）
上記第３の再生層のピットは、上記第１の再生層および上記第２の再生層のピットに比して深いまたは高い（８）から（９）のいずれかに記載の光記録媒体。

１０ 光記録媒体
１１ 基板
１１ａ ランド
１１ｂ ピット
１２ 光透過層
Ｌ、Ｌ０〜Ｌ２ 再生層
Ｓ１〜Ｓ２ 中間層
Ｃ 光照射面

Claims (6)

1. ３層の再生層を含み、
   再生光が照射される面側における上記３層の再生層それぞれの反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、５％以上であり、
   上記反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちから選び出された２つの反射率の差ΔＲの絶対値はいずれも、７％以下であり、
   上記３層の再生層は、
   金属を含む第１の再生層と、
   金属を含む第２の再生層と、
   金属酸化物を含む第３の再生層と
   を含み、
   上記第３の再生層が上記面に最も近く、
   上記第３の再生層の膜厚は、上記第１の再生層および上記第２の再生層の膜厚に比して厚い光記録媒体。
2. 上記金属酸化物は、Ｗ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＳｉおよびＺｒからなる群から選ばれる１種以上を含んでいる請求項１に記載の光記録媒体。
3. 上記第３の再生層の膜厚は、１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲内である請求項１または２に記載の光記録媒体。
4. 再生光が照射される面側における上記３層の再生層それぞれの反射率Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、７％以上１４％以下である請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒体。
5. 上記第３の再生層の屈折率は、２．０以上２．７以下の範囲内であり、
   上記第３の再生層の消衰係数は、０．０１以上０．５以下の範囲内である請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体。
6. 上記第３の再生層のピットは、上記第１の再生層および上記第２の再生層のピットに比して深いまたは高い請求項１から５のいずれかに記載の光記録媒体。

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