TWI638353B - 光學記錄媒體 - Google Patents

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TWI638353B TW103107095A TW103107095A TWI638353B TW I638353 B TWI638353 B TW I638353B TW 103107095 A TW103107095 A TW 103107095A TW 103107095 A TW103107095 A TW 103107095A TW I638353 B TWI638353 B TW I638353B
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太田陽
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日商新力股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種光學記錄媒體，其包含三個重現層，其中利用重現光來照射之一表面之一側上之該三個重現層之反射比R1、R2及R3等於或大於5%，且其中選自反射比R1、R2及R3之兩者之間之一差值△R之任何絕對值等於或小於7%。

Description

光學記錄媒體 [相關申請案之交叉參考]
本申請案主張2013年4月1日申請之日本優先專利申請案JP 2013-076277之權利，該案之全文以引用的方式併入本文中。
本發明係關於一種光學記錄媒體。明確言之，本發明係關於一種具有複數個重現層之光學記錄媒體。
光碟(CD)、數位多功能光碟(DVD)及類似物已引領迄今為止之光學記錄媒體之市場。然而，隨著近年來高清晰度電視之普及及由個人電腦(PC)處置之資料之快速增加，已要求光學記錄媒體之容量進一步增加。為對此一要求作出回應，已出現與藍光雷射(諸如一藍光光碟(BD)(註冊商標))相容之高容量光學記錄媒體，且已啟動新高容量光學記錄媒體之市場。
已廣泛地採用提供多個記錄層以進一步增加高密度光學記錄媒體(諸如一DVD及一BD)之記錄容量的一項技術。特定言之，近年來已推進具有三個或三個以上記錄層之一多層光學記錄媒體之發展。
然而，若提供多個記錄層，則一信號性質歸因於層間雜散光而劣化。特定言之，若提供三個或三個以上記錄層，則來自除一資訊信號意欲從其讀取之一記錄層之外之部分之雜散光增加，且信號性質因此特別明顯地劣化。
為此，已針對先前技術中之多層光學記錄媒體而檢查有效地抑制雜散光之一影響且增強信號性質的一項技術。PTL 1及PTL 2揭示藉由設定資訊記錄層之間之一間隔件之厚度以便滿足一預定關係來消除由雜散光引起之多重反射之一影響的技術。
[引用清單]
[專利文件]
[PTL 1]
日本未審查專利申請公開案第2006-59433號
[PTL 2]
日本未審查專利申請公開案第2011-198410號
可期望提供一種能夠抑制歸因於層間雜散光之一信號性質之劣化的光學記錄媒體。
根據本發明之一實施例，提供一種光學記錄媒體，其包含三個重現層，其中利用重現光來照射之一表面之一側上之該三個重現層之反射比R1、R2及R3等於或大於5%，且其中選自反射比R1、R2及R3之兩者之間之一差值△R之任何絕對值等於或小於7%。
根據本發明，因為利用重現光來照射之該表面之該側上之該三個重現層之反射比R1、R2及R3等於或大於5%，所以可抑制歸因於反射比之劣化的一信號性質之劣化。此外，因為選自反射比R1、R2及R3之兩者之間之任何差值△R等於或小於7%，所以可抑制歸因於來自具有高反射比之重現層之雜散光對由具有低反射比之重現層反射之光之一影響的該信號性質之劣化。
根據本發明，反射比R1、R2及R3係具有405奈米之一波長之光垂 直入射至該三個重現層之表面時之反射比。
根據本發明，該等重現層係包含平坦表面之層，其具有多個凹部分及凸部分以便預先記錄一資訊信號。藉由利用光來照射具有該等凹部分及該等凸部分之凹凸表面而讀取該資訊信號。
根據本發明，較佳的是：該三個重現層設置於一基板上且一覆蓋層設置於該三個重現層上。該覆蓋層之厚度不受特別限制，且該覆蓋層包含一基板、一薄片、一塗覆層或類似物。對於一高密度資訊記錄媒體，較佳地將一薄型光透射層(諸如一薄片或一塗覆層)用作為該覆蓋層(鑑於使用具有高NA之一物鏡)，且較佳地採用其中藉由利用來自該光透射層之側之光照射該資訊記錄媒體來重現該資訊信號之一組態。在此一案例中，亦可採用一不透明基板。根據該資訊記錄媒體之一格式，將該覆蓋層側上及該基板側上之表面之至少一者適當地設定為用於重現該資訊信號之一光入射表面。
根據本發明，可抑制歸因於層間雜散光的一信號性質之劣化，如上文所描述。
10‧‧‧光學記錄媒體
11‧‧‧基板
11a‧‧‧軌面
11b‧‧‧訊坑
12‧‧‧光透射層
C‧‧‧光照射表面
L、L0至L2‧‧‧重現層
S1、S2‧‧‧中間層
圖1A係展示根據本發明之一實施例之一光學記錄媒體之外觀之一實例的一透視圖。
圖1B係展示根據本發明之實施例之光學記錄媒體之一組態之一實例的一截面圖。
圖2係展示參考實例1-1至1-7中之光學記錄媒體之反射比及信號性質之評估結果的一圖式。
圖3係展示實例2-1至2-4及比較實例2-1至2-3中之光學記錄媒體之反射比之差異及信號性質之評估結果的一圖式。
圖4係展示實例3-1至3-3中之光學記錄媒體之一加速測試之前及 一加速測試之後之信號性質評估結果的一圖式。
圖5係展示參考實例4-1至4-6中之樣本之折射率n及消光係數k之量測結果的一圖式。
圖6A係展示實例5-1至5-4中之光學記錄媒體之信號性質評估結果的一圖式。
圖6B係展示實例5-1至5-4中之光學記錄媒體之反射比評估結果的一圖式。
圖7A係展示藉由參考實例6-1中之模擬來獲得之一反射光譜的一圖式。
圖7B係展示藉由參考實例6-1中之模擬來獲得之一透射光譜的一圖式。
圖8A係展示藉由參考實例6-2中之模擬來獲得之一反射光譜的一圖式。
圖8B係展示藉由參考實例6-2中之模擬來獲得之一透射光譜的一圖式。
圖9A係展示實例7-1-1至7-1-3及7-2-1至7-2-3中之光學記錄媒體之信號性質評估結果的一圖式。
圖9B係展示實例7-1-1至7-1-3及7-2-1至7-2-3中之光學記錄媒體之不對稱性評估結果的一圖式。
將依以下順序描述本發明之實施例。
1.光學記錄媒體之組態
2.光學記錄媒體之光學性質
3.用於製造光學記錄媒體之方法
<1.光學記錄媒體之組態>
如圖1A中所展示，根據本發明之一實施例之一光學記錄媒體10 具有一圓盤形狀，其中一開口(在下文中稱作一「中心孔」)設置於其中心處。此外，光學記錄媒體10之形狀不受限於實例且可為一卡片形狀或類似物。
如圖1B中所展示，根據本發明之實施例之光學記錄媒體10具有一組態，其中作為一第一重現層之一反射層L0、一中間層S1、作為一第二重現層之一反射層L1、一中間層S2、作為一第三重現層之一反射層L2及作為一覆蓋層之一光透射層12依序層疊於一基板11之表面上。在其中反射層L0至L2於以下描述中無特別區別之一案例中，反射層L0至L2將被統稱作反射層。
根據實施例之光學記錄媒體10係一所謂之多層重現專用光學記錄媒體，且藉由利用來自光透射層12之一側上之一表面C之雷射光照射各自反射層L0至L2來重現一資訊信號。藉由以下操作來重現該資訊信號：由具有(例如)等於或大於0.84且等於或小於0.86之一範圍內之一數值孔徑之一物鏡聚集具有等於或大於400奈米且等於或小於410奈米之一範圍內之一波長之雷射光；及利用來自光透射層12之側之該聚集雷射光來照射各自反射層L0至L2。此一光學記錄媒體10之實例包含一多層重現專用藍光光碟(註冊商標)。在下文中，利用雷射光來照射以引起反射層L0至L2重現資訊信號之表面C將被稱作一光照射表面C。
在下文中，將循序描述組態光學記錄媒體10之基板11、反射層L0至L2、中間層S1及S2及光透射層12。
[基板]
基板11具有一圓盤形狀，其中一中心孔設置於(例如)其中心處。基板11之一主表面係一凹凸表面，且反射層L0之一膜形成於該凹凸表面上。該凹凸表面由軌面11a及多個訊坑11b組態。多個訊坑11b組態基板11之表面上之同心陣列(所謂之磁軌)或一螺旋陣列。訊坑11b可 為具有相對於軌面11a之凹形狀之訊坑(內訊坑(In-Pit))或具有相對於軌面11a之凸形狀之訊坑(上訊坑(On-Pit))。圖1B展示包含具有相對於軌面11a之凹形狀之訊坑11b的基板11之一實例。
例如，選擇具有120毫米之尺寸(直徑)之基板11。鑑於剛性而選擇基板11之厚度，較佳地選擇具有等於或大於0.3毫米且等於或小於1.3毫米之厚度之基板11，更佳地選擇具有等於或大於0.6毫米且等於或小於1.3毫米之厚度之基板11，且例如，選擇具有1.1毫米之厚度之基板11。例如，選擇具有15毫米之一尺寸(直徑)之中心孔。
可將(例如)一塑膠材料或玻璃用作為基板11之一材料，且從成本之觀點而言，較佳地使用塑膠材料。可將聚碳酸酯樹脂、聚烯烴樹脂、丙烯酸樹脂或類似物用作為塑膠材料。
[反射層]
反射層L0至L2係能夠藉由利用雷射光照射來重現一資訊信號之反射層(重現專用記錄層)。反射層L0至L2具有相對於405奈米之一波長及0.85之一聚光透鏡數值孔徑NA之等於或大於25GB之記錄容量。透過反射層L1及L2來讀取來自反射層L0之資訊信號，且透過反射層L2來讀取來自反射層L1之資訊信號，且因此將反射雷射光之一部分且透射雷射光之剩餘部分的半透明層用作為反射層L1及L2。
較佳的是：反射層L0及L1含有金屬來作為一主成分。此處，半金屬亦包含於該金屬中。可將選自包含Al、Ag、Au、Ni、Cr、Ti、Pd、Co、Si、Ta、W、Mo、Ge及類似物之一群組之一種金屬單獨用作為該金屬，或可將含有來自該群組之兩種或兩種以上金屬之合金用作為該金屬。在該群組中，可依據實際用途而尤佳地使用一Al基、Ag基、Au基、Si基或Ge基材料。較佳地，將Al-Ti、Al-Cr、Al-Cu、Al-Mg-Si、Ag-Nd-Cu、Ag-Pd-Cu、Ag-Pd-Ti、Si-B或類似物用作為該合金。較佳地，鑑於光學性質而判定此等材料中之一材料。例如，若 考量一短波長區域中之高反射比，則較佳地使用一Al基或Ag基材料。可鑑於一所需信號性質而將不同材料用作為反射層L0及L1中所含之材料。例如，Al合金可用作為反射層L0中所含之材料且Ag合金可用作為反射層L1中所含之材料。
若反射層L0含有金屬(諸如Al合金)來作為一主成分，則反射層L0之膜厚度較佳地在等於或大於15奈米且等於或小於25奈米之一範圍內。若反射層L0之膜厚度小於15奈米，則易於發生缺陷(諸如腐蝕)且可靠性劣化。此外，歸因於膜厚度之減小的反射比之劣化亦引起信號性質之降級。相比而言，反射層L0之膜厚度增大超過25奈米不具有任何優點。即，若反射層L0具有一足夠厚度(例如從約15奈米至約25奈米)(從反射比及可靠性之觀點而言)，則進一步增大僅導致製造生產節拍時間增加及材料成本增加。
當反射層L1含有金屬(諸如Ag合金)來作為一主成分時，反射層L1之膜厚度較佳地在等於或大於15奈米且等於或小於23奈米之一範圍內。若反射層L1之膜厚度小於15奈米，則易於發生缺陷(諸如腐蝕)且可靠性劣化。此外，歸因於膜厚度之減小的反射比之減小亦引起信號性質之降級。相比而言，若反射層L1之膜厚度超過23奈米，則反射層L1之反射比歸因於透射比之減小而減小。因此，使反射層L1之信號性質明顯降級。
在反射層L0、L1及L2中，反射層L2設置於最接近於光照射表面C之一位置處。反射層L2含有(例如)金屬、金屬氧化物或金屬氮化物來作為一主成分，且在此等材料中，反射層L2較佳地含有金屬氧化物或金屬氮化物來作為一主成分。若反射層L2含有金屬氧化物或金屬氮化物來作為一主成分，則可增強光學記錄媒體10之可靠性。此外，亦可藉由反射層L1與L2之間之一電池效應來抑制反射層L1及L2之性質之降級。可將(例如)一介電體用作為金屬氧化物或金屬氮化物。
可將選自包含(例如)W、Fe、Ti、In、Zn、Sn、Al、Si、Ge、Ti、Ga、Ta、Nb、Hf、Zr、Cr、Bi及Mg之一群組之一個或多個元素之金屬氧化物用作為金屬氧化物，且較佳地將選自包含W、Fe、Ti、In、Sn、Si及Zr之一群組之一個或多個元素之金屬氧化物用作為金屬氧化物。此係因為：可藉由使用此金屬氧化物且調整其組合物來將反射層L2之一折射率n設定為在等於或大於2.0且等於或小於2.7之一範圍內且將反射層L2之一消光係數k設定為在等於或大於0.01且等於或小於0.5之一範圍內。金屬氧化物之特定實例包含ZnS-SiO2、SiO2-In2O3-ZrO2(SIZ)、SiO2-Cr2O3-ZrO2(SCZ)、In2O3-SnO2(ITO)、In2O3-CeO2(ICO)、In2O3-Ga2O3(IGO)、In2O3-Ga2O3-ZnO(IGZO)、Sn2O3-Ta2O5(TTO)、TiO2-SiO2、Al2O3-ZnO及Al2O3-BaO。
可將選自包含In、Sn、Ge、Cr、Si、Al、Nb、Mo、Ti、Nb、Mo、Ti、W、Ta及Zn之一群組之一個或多個元素之氮化物用作為金屬氮化物。金屬氮化物之特定實例包含TiN、SiN、CrN及WN。
當反射層L2含有金屬氧化物或金屬氮化物來作為一主成分且反射層L0及L1含有金屬來作為一主成分時，反射層L2之膜厚度較佳地厚於反射層L0及L1之膜厚度。就此組態而言，可將一足夠值設定為光照射表面C之側上之反射層L2之反射比R2。
當反射層L2含有金屬氧化物或金屬氮化物來作為一主成分時，反射層L2之膜厚度較佳地在等於或大於15奈米且等於或小於50奈米之一範圍內。若反射層L2之膜厚度小於15奈米，則信號性質趨向於劣化。相比而言，反射層L2之膜厚度增大超過50奈米僅導致反射層L2之膜形成時間增加及膜形成成本增加，且無法達成技術優點。此係因為：當反射層L2含有金屬氧化物或金屬氮化物來作為一主成份時，反射比相對於反射層L2之膜厚度而週期性重複增大及減小且第一峰值出現於等於或小於50奈米之一位置處。
反射層L2之折射率n較佳地在等於或大於2.0且等於或小於2.7之一範圍內。若折射率n小於2.0，則與光透射層之折射率(折射率：1.5至1.6)之一差值過小，且光照射表面C之側上之反射層L2之反射比R2趨向於小於5%。相比而言，若折射率n超過2.7，則光透射層12與反射層L2之間之一介面處及反射層L2與中間層S2之間之一介面處之反射光之光強度過度增加，且其趨向於難以引起具有足夠光強度之雷射光到達反射層L0及L1。因此，光照射表面C之側上之反射層L1及L2之反射比趨向於小於5%。
反射層L2之消光係數k較佳地在等於或大於0.01且等於或小於0.5之一範圍內。難以藉由改變反射層L2中所含之金屬氧化物或金屬氮化物之一組合物來將消光係數k設定為小於0.01。相比而言，若反射層L2之消光係數k超過0.5，則反射層L2之雷射光吸收量過大，且其趨向於難以引起具有足夠光強度之雷射光到達反射層L1及L2。因此，光照射表面C之側上之反射層L1及L2之反射比趨向於小於5%。
如下文所描述般獲得上述折射率n及消光係數k。
首先，分析光學記錄媒體10中之重現層L2之一組合物。接著，在一Si晶圓上形成具有相同於重現層L2之組合物之組合物之一薄膜，接著藉由使用一光譜橢偏儀來獲得該薄膜之一折射率n及一消光係數k。此處，折射率n及消光係數k係具有405奈米之一波長之雷射光垂直入射於該薄膜之表面上時之值。
[中間層]
中間層S1及S2用於使反射層L0至L2間隔達實體及光學上之足夠距離，且其等之表面形成為凹凸表面。該等凹凸表面之組態相同於上述基板11之凹凸表面之組態。
當反射層L0及L1含有金屬且反射層L2含有包含金屬氧化物或金屬氮化物時，中間層S2之訊坑11b較佳地深於或高於中間層S1及基板 11之訊坑11b。此處，具有此一關係之訊坑11b可為具有凹形狀之訊坑(內訊坑)或具有凸形狀之訊坑(上訊坑)。可藉由滿足上述關係來減少反射層L0、L1及L2之不對稱性之差異。即，可抑制反射層L0、L1及L2之訊坑深度之外觀之非均勻性。
較佳地，將中間層S1及S2之厚度設定為在等於或大於9微米且等於或小於50微米之一範圍內。雖然中間層S1及S2之材料不受特別限制，但較佳地使用一紫外線可固化丙烯酸樹脂。此外，中間層S1及S2較佳地具有足夠高之光透射性質，此係因為中間層S1及S2用作用於重現來自遠側上之反射層L0之資訊信號的雷射光之光學路徑。
[光透射層]
光透射層12係藉由使感光樹脂(諸如紫外線可固化樹脂)固化來獲得之一樹脂層。該樹脂層之一材料之實例包含紫外線可固化丙烯酸樹脂。此外，光透射層12可由具有一圓環形狀之一光透射薄片及用於將該光透射薄片附接至基板11之一黏著層組態。該光透射薄片較佳地由具有相對於用於重現之雷射光之低吸收能力的一材料製成，且明確言之，該光透射薄片較佳地由等於或大於90%之透射比之一材料製成。可將聚碳酸酯樹脂材料、聚烯烴樹脂(ZEONEX(註冊商標))或類似物用作為該光透射薄片之一材料。可將紫外線可固化樹脂、壓敏黏著劑(PSA)或類似物用作為該黏著層之一材料。
光透射層12之厚度較佳地選自等於或大於10微米且等於或小於177微米之一範圍，且(例如)選擇100微米。可藉由組合此一薄型光透射層12與具有(例如)約0.85之一高數值孔徑之物鏡來實現高密度記錄。
[硬塗覆層]
雖然圖式中未展示，但光透射層12之光照射表面C可進一步具有一硬塗覆層以在一使用者處置光學記錄媒體時保護光照射表面C免受 機械衝擊及劃傷且保護資訊信號重現品質免受灰塵及指紋之黏著影響。可將其中矽膠細粉經混合以增強機械強度之一材料、或溶劑型或無溶劑型紫外線可固化樹脂用作為該硬塗覆層。為使該硬塗覆層具有機械強度及拒水性或拒油性，該硬塗覆層之厚度較佳為約1微米至數微米。
<2.光學記錄媒體之光學性質>
若假定R1、R2及R3分別表示光照射表面C之側上之反射層L0、L1及L2之反射比，則所有反射比R1、R2及R3等於或大於5%且較佳地等於或大於7%。若反射比R1、R2及R3之任何者小於5%，則具有小於5%之反射比的反射層L之信號性質歸因於反射比之減小而劣化，且難以藉由一消費者使用驅動來重現資訊信號。此處，所有反射比R1、R2及R3係軌面部分(8T空間)之反射比。
選自反射比R1、R2及R3之兩者之間之一差值△R之任何絕對值(即，(R1-R2)之所有絕對值、(R1-R3)之絕對值及(R2-R3)之絕對值)等於或小於7%。若反射比之差值△R超過7%，則由具有低反射比之一反射層L反射之光受來自反射層L0、L1及L2中之具有高反射比之一反射層L的雜散光影響，且信號性質劣化。
所有反射比R1、R2及R3較佳地等於或大於5%且等於或小於12%，或等於或大於7%且等於或小於14%。此係因為：若鑑於反射比之差值△R之上述值而將反射比R1、R2及R3設定為在此一範圍內，則可抑制歸因於反射比之減小的信號性質之劣化且抑制歸因於雜散光之影響的信號性質之劣化。
反射層L2之透射比較佳地等於或大於70%。就此一組態而言，可引起具有足夠光強度之雷射光到達反射層L0及L1。即，可將足夠值設定為光照射表面C之側上之反射層L0及L1之反射比R1及R2。
<3.用於製造光學記錄媒體之方法>
接著，將給出用於製造根據本發明之實施例之光學記錄媒體之一方法之一實例之一描述。
[用於模製基板之程序]
首先，模製具有凹凸表面形成於其上之一主表面之基板11。可將一注射模製(注射)方法、一光聚合方法(2P方法：光聚合作用)或類似方法用作為用於模製基板11之一方法。
[用於形成反射層1之程序]
接著，將基板11輸送至具有用於形成反射層L0之一標靶的一真空室之內部，且將該真空室之內部抽空至一預定壓力。其後，濺鍍該標靶，同時將處理氣體(諸如Ar氣體)引入至該真空室中，且在基板11之凹凸表面上形成反射層L0之膜。
[用於形成中間層1之程序]
接著，將基板11輸送至一旋塗機，且藉由旋塗來使反射層L0均勻地塗覆有紫外線可固化樹脂。其後，將一壓模之一凹凸圖案壓製至使反射層L0均勻地塗覆有之該紫外線可固化樹脂上，利用紫外線來照射該紫外線可固化樹脂以使其固化，接著剝除該壓模。藉由此等操作，將該壓模之該凹凸圖案轉移至該紫外線可固化樹脂上，且在反射層L0上形成具有凹凸表面之中間層S1。
[用於形成反射層2之程序]
接著，將基板11輸送至具有用於形成反射層L1之一標靶的一真空室之內部，且將該真空室之內部抽空至一預定壓力。其後，濺鍍該標靶，同時將處理氣體(諸如Ar氣體)引入至該真空室中，且在基板11上形成反射層L1之膜。
[用於形成中間層2之程序]
接著，依相同於中間層S1之形成程序中之方式之方式在反射層L1上形成中間層S2。此外，用於形成中間層S2上之凹形訊坑11b的一 壓模之凸部分較佳地高於用於形成中間層S1及基板11上之凹形訊坑11b的壓模之凸部分。替代地，用於形成中間層S2上之凸形訊坑11b的壓模之凹槽較佳地深於用於形成中間層S1及基板11上之凸形訊坑11b的壓模之凹槽。如上文所描述，可藉由調整一主控程序中之曝光功率及蝕刻條件來設定壓模之凹槽之深度及凸部分之高度。
[用於形成反射層之膜的程序]
接著，將基板11輸送至具有用於形成反射層L2之一標靶的一真空室之內部，且將該真空室之內部抽空至一預定壓力。其後，濺鍍該標靶，同時將處理氣體(諸如Ar氣體或O2氣體)引入至該真空室中，且在中間層S2上形成反射層L2之膜。
[用於形成光透射層之程序]
接著，將基板11輸送至一旋塗機，且藉由旋塗來使反射層L2均勻地塗覆有感光樹脂(諸如紫外線可固化樹脂(UV樹脂))，且利用光(諸如紫外線)來照射該感光樹脂以使該感光樹脂固化。藉由此等操作，在反射層L2上形成光透射層12。
藉由上文所描述之程序來獲得目標光學記錄媒體10。
[優點]
因為在此實施例中，選自反射比R1、R2及R3之兩者之間之任何差值△R等於或小於7%，所以可抑制由來自具有高反射比之反射層L之雜散光對由具有低反射比之反射層L反射之光之影響引起之信號性質之劣化。
當位於最接近於光照射表面C之位置處之反射層L2含有金屬氧化物或金屬氮化物來作為一主成分時，可相較於其中反射層L2含有金屬來作為一主成分之一案例來增強光學記錄媒體10之可靠性。
[實例]
雖然下文將詳細描述本發明，但本發明不受限於以下實例。
將依以下順序描述實例。
I.信號性質之反射比相依性
II.多個反射層之反射比之變動之可容許範圍
III.金屬氧化物層之可靠性
IV.反射層之折射率及消光係數之較佳範圍
V.金屬氧化物層之膜厚度之較佳範圍(下限)
VI.金屬氧化物層之膜厚度之較佳範圍(上限)
VII.信號性質及不對稱性之膜厚度相依性
[I.信號性質之反射比相依性]
(參考實例1-1至1-7)
首先，藉由注射模製來模製具有1.1毫米之一厚度之聚碳酸酯基板。在該聚碳酸酯基板之表面上形成由軌面及具有相對於該等軌面之凹形狀的多個訊坑(內訊坑)組態之凹面及凸面。在此程序中，該等訊坑之大小(長度)及磁軌節距經設定以便使各反射層能夠獲得對應於33.4GB之記錄容量。
接著，藉由濺鍍方法來於聚碳酸酯基板之凹凸表面上形成反射層。在此程序中，針對各樣本選擇濺鍍之膜形成條件及標靶材料以便能夠獲得各樣本之不同反射比。
接著，藉由用旋塗方法使反射層均勻地塗覆有紫外線可固化樹脂且利用紫外線照射紫外線可固化樹脂以使紫外線可固化樹脂固化來形成具有100微米之一厚度之一光透射層。
如上文所描述，獲得具有33.4GB之記錄容量的重現專用光學記錄媒體。
[評估1]
下文中評估如上文所描述般獲得之參考實例1-1至1-7中之光學記錄媒體中之反射層之反射比及信號性質。其結果將展示於表1及圖2 中。
[反射比1]
由BD之一光碟評估裝置(由Pulstec Industrial有限公司製造；產品名：ODU-1000)量測反射層之反射比。明確言之，藉由使用BD之該光碟評估裝置來重現(聚焦、追蹤等等)光學記錄媒體，且從I8H(亦稱作一「8T空間」或「8T軌面」)之反射層級獲得反射比。此外，用於該評估裝置之重現的雷射光之波長係405奈米，且聚光透鏡之數值孔徑NA係0.85。
[信號性質1]
藉由使用BD之一光碟評估裝置(由Pulstec Industrial有限公司製造；產品名：ODU-1000)來評估反射層之重現信號性質。使用稱作i-MLSE(其用於BD-XL)之一評估準則來為評估信號品質。此外，i-MLSE係指示重現一2T-8T訊坑陣列時之與一理想訊坑邊緣位置之一偏差量的一評估準則。用於該評估裝置之重現的雷射光之一波長係405奈米，且聚光透鏡之數值孔徑係0.85。
表1展示參考實例1-1至1-7中之光學記錄媒體之評估結果。
可從表1及圖2獲知以下事實。
隨著反射比增大，i-MLSE趨向於增大。明確言之，當反射比係在等於或大於4.5%且等於或小於11%之一範圍內時，相對於反射比之增大而明顯提高i-MLSE。此外，當反射比係在等於或大於11%且等於 或小於45%之一範圍內時，相對於反射比之增大而適度提高i-MLSE。
當反射比等於或大於5%時，將i-MLSE提高至等於或小於12%之一參考值的一位準。當i-MLSE等於或小於12%之參考值時，即使存在消費者使用驅動之重現系統之變動，但仍可達成一滿意之重現性質。
[II.多個反射層之反射比之變動之可容許範圍]
(實例2-1至2-4及比較實例2-1至2-3)
首先，藉由注射模製來模製具有1.1毫米之一厚度之聚碳酸酯基板。在該聚碳酸酯基板之表面上形成由軌面及具有相對於該等軌面之凹形狀的多個訊坑(內訊坑)組態之凹面及凸面。在此程序中，該等訊坑之大小(長度)及磁軌節距經設定以便使各反射層能夠獲得對應於約33.4GB之記錄容量。
接著，藉由濺鍍方法來於聚碳酸酯基板之凹凸表面上形成由Al合金製成的具有19奈米之一膜厚度之一第一反射層(L0層)。
接著，藉由旋塗方法來使第一反射層均勻地塗覆有紫外線可固化樹脂。其後，將壓模之凹凸圖案壓製至使第一反射層均勻地塗覆有之紫外線可固化樹脂上，利用紫外線來照射紫外線可固化樹脂以使其固化，接著剝除壓模。藉由此等操作來形成具有15.5微米之一厚度之一中間層。此外，在該中間層之表面上形成由軌面及具有相對於該等軌面之凹形狀的多個訊坑(內訊坑)組態之凹面及凸面。在此程序中，該等訊坑之大小(長度)及磁軌節距經設定以便使各反射層能夠獲得對應於約33.4GB之記錄容量。
接著，藉由濺鍍方法來於中間層之凹凸表面上形成由Ag合金製成的具有12奈米之一膜厚度之一第二反射層(L1層)。
接著，藉由旋塗方法來使第二反射層均勻地塗覆有紫外線可固化樹脂。其後，將壓模之凹凸圖案壓製至使第二反射層均勻地塗覆有之紫外線可固化樹脂上，利用紫外線來照射紫外線可固化樹脂以使其 固化，接著剝除壓模。藉由此等操作來形成具有19.5微米之一厚度之一中間層。此外，在該中間層之表面上形成由軌面及具有相對於該等軌面之凹形狀的多個訊坑(內訊坑)組態之凹面及凸面。在此程序中，該等訊坑之大小(長度)及磁軌節距經設定以便使各反射層能夠獲得對應於約33.4GB之記錄容量。
接著，藉由濺鍍方法來於中間層之凹凸表面上形成由ITO(SnO2：In2O3=10：90(質量%))製成之一第三反射層(L2層)。在此程序中，針對各樣本選擇濺鍍之膜形成條件及標靶材料以便能夠獲得各樣本之不同反射比。
接著，藉由用旋塗方法使第三反射層均勻地塗覆有紫外線可固化樹脂且利用紫外線照射紫外線可固化樹脂以使紫外線可固化樹脂固化來形成具有53.5微米之一厚度之一光透射層。
如上文所描述，獲得具有100GB之記錄容量之三層重現專用光學記錄媒體。
[評估2]
下文中評估如上文所描述般獲得之實例2-1至2-4及比較實例2-1至2-3中之光學記錄媒體之第一反射層至第三反射層(L0層至L2層)之反射比及信號性質。
[反射比2]
首先，依相同於參考實例1-1至1-7中之方式之方式獲得第一反射層至第三反射層之各者之反射比。接著，選擇各反射層之最大反射比Rmax及最小反射比Rmin，且獲得最大反射比Rmax與最小反射比Rmin之間之一差值△R=(Rmax-Rmin)。結果將展示於表2中。
[信號性質2]
首先，依相同於參考實例1-1至1-7中之方式之方式獲得第一反射層至第三反射層之各者之i-MLSE。接著，判定第一反射層至第三反 射層中是否存在具有超過12%之參考值之i-MLSE的一反射層。其結果將展示於表2中。接著，最大i-MLSE選自第一反射層至第三反射層之i-MLSE(下文中稱作「最大i-MLSE」)。其結果將展示於表2中。接著，基於反射比之差值△R及如上文所描述般獲得之最大i-MLSE而產生一曲線圖，且獲得表示反射比之差值△R與最大i-MLSE之間之一關係的一近似直線。結果將展示於圖3中。藉由線性近似法來獲得該近似直線。
表2展示實例2-1至2-4及比較實例2-1至2-3中之光學記錄媒體之組態及評估結果。
L0層：第一重現層
L1層：第二重現層
L2層：第三重現層
可從表2及圖3中獲知以下事實。
當反射比之差值△R超過7%時，i-MLSE趨向於超過12%之參考值。此外，設定i-MLSE之參考值的技術意義係如上文「I.信號性質之反射比相依性」中所描述。
考量由以下原因引起之此一趨向。根據一多層光學記錄媒體，難以避免來自除一資訊信號將從其讀取之一反射層之外之反射層的雜散光之影響(串擾)。特定言之，具有低反射比之一反射層易於受來自具有高反射比之一反射層的雜散光影響，且若存在多個反射層中之兩 個反射層(其等具有超過7%的反射比之差值△R之一絕對值)之一組合，則i-MLSE(信號性質之品質)超過12%，此導致降級。
因此，反射比之差值△R較佳地等於或小於7%以將i-MLSE設定為等於或小於12%之參考值。
[III.金屬氧化物層之可靠性]
<實例3-1>
除將第一反射層(L0層)、第二反射層(L1層)及第三反射層(L2層)之膜厚度分別設定為19奈米、15奈米及30奈米之外，依相同於實例2-1中之方式之方式獲得一光學記錄媒體。
<實例3-2>
除具有20奈米之膜厚度之金屬氧化物層(其由W-Fe-Ti-O(W：Fe：Ti=74：22.7：2.4(質量%))製成)形成為第三反射層之外，依相同於實例3-1中之方式之方式獲得一光學記錄媒體。
<實例3-3>
除具有10奈米之膜厚度之一合金層(其由Ag合金製成)形成為第三反射層之外，依相同於實例3-1中之方式之方式獲得一光學記錄媒體。
[評估3]
下文中評估如上文所描述般獲得之實例3-1至3-3中之光學記錄媒體之第三反射層之可靠性。
[可靠性]
首先，依相同於參考實例1-1至1-7中之方式之方式獲得第三反射層之i-MLSE。接著，藉由將光學記錄媒體放置於攝氏80度之一85%溫室環境中達120個小時來進行一加速測試，且依相同於參考實例1-1至1-7中之方式之方式獲得第三反射層之i-MLSE。接著，獲得該加速測試之前之i-MLSE與該加速測試之後之i-MLSE之變動量(=[該加速測試 之後之i-MLSE]-[該加速測試之前之i-MLSE])。其結果將展示於表3及圖4中。
表3展示實例3-1至3-3中之光學記錄媒體之組態及評估結果。
L2層：第三重現層
可從表3及圖4瞭解以下事實。
在實例3-3(Ag基合金)中，加速測試之前之i-MLSE與加速測試之後之i-MLSE彼此明顯不同，且加速測試之後之i-MLSE比加速測試之前之i-MLSE降級1%或更大。
在實例3-1(ITO)中，加速測試之前之i-MLSE與加速測試之後之i-MLSE實質上相同。因此，相較於使用一金屬材料之一案例，可藉由將含有In及Sn之二元金屬氧化物(ITO)用作為第三反射層之一材料來明顯增強可靠性。此外，即使當將分別單獨含有In及Sn之一元金屬氧化物用作為第三反射層之材料時，仍可預期實質上相同於使用二元金屬氧化物之上述案例中之效應之效應。
在實例3-2(W基金屬氧化物)中，加速測試之前之i-MLSE與加速測試之後之i-MLSE相同。因此，相較於使用金屬材料之案例，可藉由將含有W、Fe及Ti之三元金屬氧化物用作為第三反射層之一材料來明顯增強可靠性。此外，即使當將分別單獨含有W、Fe及Ti之一元金屬氧化物或含有W、Fe及Ti中之兩者或兩者以上之一組合的二元金屬氧化物用作為第三反射層之材料時，仍可預期實質上相同於上述三元 金屬氧化物之效應之效應。再者，即使當使用包含選自包含W、Fe及Ti之一群組之一種或多種與選自包含In及Sn之一群組之一種或多種之一組合的金屬氧化物時，仍可預期實質上相同於上述二元金屬氧化物及三元金屬氧化物之效應之效應。
因此，從增強可靠性之一觀點而言，較佳地將含有選自包含W、Fe、Ti、In、Sn及Si之一群組之一種或多種的金屬氧化物用作為位於最接近於光照射表面之位置處之第三反射層之一材料。
根據本發明者之知識，即使當使用單獨含有Zr之一元金屬氧化物時，仍引起實質上相同於上述二元金屬氧化物及三元金屬氧化物之效應之效應。此外，即使當使用選自包含W、Fe、Ti、In、Sn及Si之一群組之一種或多種與Zr之一組合時，仍可預期實質上相同於上述二元金屬氧化物及三元金屬氧化物之效應之效應。
因此，從增強可靠性之一觀點而言，較佳地將含有選自包含W、Fe、Ti、In、Sn、Si及Zr之一群組之一種或多種的金屬氧化物用作為位於最接近於光照射表面之位置處之第三反射層之一材料。
[IV.反射層之折射率及消光係數之較佳範圍]
(參考實例4-1)
首先，藉由濺鍍方法來於一Si晶圓上形成由ITO製成的具有20奈米之一膜厚度之一反射層。在此程序中，藉由針對各樣本調整濺鍍之一膜形成條件(引入至真空室中之O2氣體之引入量)來改變反射層中之氧含量(即，反射層之組合物)。藉由此等操作來獲得目標樣本。
(參考實例4-2)
藉由濺鍍方法來於一Si晶圓上形成由W-Fe-Ti-O製成的具有20奈米之一膜厚度之一反射層。在此程序中，藉由針對各樣本調整濺鍍之一膜形成條件(引入至真空室中之O2氣體之引入量)來改變反射層中之氧含量(即，反射層之組合物)。除上述點之外，依相同於參考實例4-1 中之方式之方式獲得目標樣本。
(參考實例4-3)
首先，藉由濺鍍方法來於一Si晶圓上形成由Ag製成的具有20奈米之一膜厚度之一反射層。藉由此等操作來獲得一目標樣本。
(參考實例4-4)
除藉由濺鍍方法來於一Si晶圓上形成由Al製成的具有20奈米之一膜厚度之一反射層之外，依相同於參考實例4-3中之方式之方式獲得一樣本。
(參考實例4-5)
除藉由濺鍍方法來於一Si晶圓上形成由Au製成的具有20奈米之一膜厚度之一反射層之外，依相同於參考實例4-3中之方式之方式獲得一樣本。
(參考實例4-6)
除藉由濺鍍方法來於一Si晶圓上形成由Si製成的具有20奈米之一膜厚度之一反射層之外，依相同於參考實例4-3中之方式之方式獲得一樣本。
[評估4]
量測如上文所描述般獲得之參考實例4-1至4-6中之樣本之折射率n及消光係數k。明確言之，藉由使用一光譜橢偏儀(由J.A.Woollam公司製造；產品名：VASE系列橢偏儀(HS-190單色儀))來量測具有405奈米之一波長之雷射光垂直入射至反射層之膜表面時之折射率n及消光係數k。其結果將展示於表4及圖5中。在圖5中，一陰影區域R表示參考實例4-1及4-2中之反射層之n及k量測結果之一範圍。如同圖式，由區域R展示量測結果，此係因為：在參考實例4-1及4-2中，針對其中反射層具有不同組合物之複數個樣本而量測n及k。
表4展示參考實例4-1至4-6中之光學記錄媒體之組態及評估結 果。
可從表4及圖5獲知以下事實。
在由ITO製成之反射層(金屬氧化物層)中，可藉由調整反射層中之氧含量來在從2.0至2.3之一範圍內改變折射率n且在從0.01至0.1之一範圍內改變消光係數k。
在由W-Fe-Ti-O製成之反射層(金屬氧化物層)中，可藉由調整反射層中之氧含量來在從2.0至2.7之一範圍內改變折射率n且在從0.1至0.4之一範圍內改變消光係數k。
由Ag、Al、Au或Si製成之反射層(金屬層)之折射率n及消光係數k明顯不同於由ITO或W-Fe-Ti-O製成之反射層之折射率n及消光係數k。
由Ag、Al或Au製成之反射層之消光係數明顯大於由ITO或W-Fe-Ti-O製成之反射層之消光係數。雖然需要減小反射層之膜厚度以實現由Ag、Al或Au製成之反射層之高透射比，但若如上文所描述般減小膜厚度，則耐久性明顯劣化。
雖然由Si製成之反射層之消光係數k實質上相同於由ITO或W-Fe-Ti-O製成之反射層之消光係數，但由Si製成之反射層之折射率n明顯大於由ITO或W-Fe-Ti-O製成之反射層之折射率n。因此，由Si製成之反射層在一入射側及一出射側上之介面處之反射比明顯高於由ITO或W-Fe-Ti-O製成之反射層之反射比，此引起到達第一反射層及第二反射層之雷射光之光強度減小。
相應地，從高透射比及可靠性之觀點而言，更佳地將金屬氧化 物層而非金屬層用作為位於最接近於光照射表面之位置處之第三反射層。
當將由ITO或W-Fe-Ti-O製成之金屬氧化物層用作為反射層時，可藉由調整反射層中之氧含量來將折射率n設定為在等於或大於2.0且等於或小於2.7之一範圍內且將消光係數k設定為在等於或大於0.01且等於或小於0.5之一範圍內。相比而言，當將由Ag、Al或Si製成之金屬層用作為反射層時，折射率n及消光係數未被設定為在上述範圍內。
雖然本文僅描述其中將含有In及Sn之二元金屬氧化物或含有W、Fe及Ti之三元金屬氧化物用作為反射層之材料的案例，但只要金屬氧化物含有選自包含W、Fe、Ti、In、Sn、Si及Zr之一群組之一種或多種，則可將折射率n設定為在等於或大於2.0且等於或小於2.7之範圍內且將消光係數k設定為在等於或大於0.01且等於或小於0.5之範圍內。此外，可藉由將折射率n及消光係數k設定為在上文所描述之此等範圍內來實現具有高透射比之第三反射層。
[V.金屬氧化物層之膜厚度之較佳範圍(下限)]
[實例5-1至5-4]
將第一反射層之膜厚度改變為19奈米，且將第二反射層之膜厚度改變為15奈米。此外，在從15奈米至35奈米之一範圍內改變第三反射層之膜厚度，如表5中所展示。除上述點之外，依相同於實例3-2中之方式之方式獲得一光學記錄媒體。
[評估5]
依相同於參考實例1-1至1-7中之方式之方式評估如上文所描述般獲得之實例5-1至5-4中之光學記錄媒體之第三反射層之信號性質及反射比。其結果將展示於表5及圖6A及圖6B中。
表5展示實例5-1至5-4中之光學記錄媒體之組態及評估結果。
L2層：第三重現層
可從表5及圖6A及圖6B獲知以下事實。
當將由W-Fe-Ti-O製成之金屬氧化物層用作為第三反射層時，i-MLSE趨向於隨著反射層之膜厚度增大而提高。當膜厚度等於或大於15奈米時，可將i-MLSE設定為等於或小於12%之參考值。
當將由W-Fe-Ti-O製成之金屬氧化物層用作為第三反射層時，反射比趨向於隨著反射層之膜厚度增大而增大。當膜厚度等於或大於15奈米時，可將反射比設定為等於或大於5%。
此外，如上文「I.信號性質之反射比相依性」中所描述，當反射比等於或大於5%時，可將i-MLSE設定為等於或小於12%之參考值。再者，i-MLSE趨向於隨著第三反射層之膜厚度減小而降級之原因被認為是因為：一信雜比(SNR)歸因於反射比之減小而減小。
因此，從增強信號性質之觀點而言，當將金屬氧化物層用作為第三反射層時，第三反射層之膜厚度較佳地等於或大於15奈米。
[VI.金屬氧化物層之膜厚度之較佳範圍(上限)]
(參考實例6-1)
藉由模擬來檢查具有一折射率n=2.0至2.7及一消光係數k=0.01至0.5之一反射層之一反射光譜及一透射光譜(入射角θ：0度)，如下文所描述。此外，基於「Spectroscopic Ellipsometry written by Hiroyuki Fujiwara,2.4 Optical Interference」中所描述之一方法而進行模擬。
首先，依一偽方式設定一光學記錄媒體之一組態，其中一反射層及一光透射層循序層疊於一中間層之表面上。下文中將展示各組件 之設定參數。
反射層：折射率n=1.6，消光係數k=0
光透射層：折射率n=2.0至2.7，消光係數k=0.01至0.5，膜厚度t=0奈米至200奈米
(此處，折射率n及消光係數k之數值範圍係假定反射層由金屬氧化物製成時之折射率n及消光係數k之數值範圍。)
中間層：折射率n=1.6，消光係數k=0
(然而，將反射層設置於其上之中間層之表面係不具有凹面及凸面之一平坦表面。)
接著，獲得雷射光從光透射層之側入射至具有上述組態之光學記錄媒體時之一反射光譜及一透射光譜。此外，假定：雷射光未由光透射層之表面反射。在結果中，折射率n=2.3且消光係數k=0.05時之代表性實例將展示於圖7A及圖7B中。n值及k值對應於ITO之n及k。
(參考實例6-2)
除將折射率n改變為0.17且將消光係數k改變為1.95之外，依相同於參考實例6-1中之方式之方式獲得一反射光譜及一透射光譜。此外，折射率n=0.17及消光係數k=1.95係假定反射層由Ag合金製成時之折射率n及消光係數k之數值。結果將展示於圖8A及圖8B中。
可從參考實例6-1中之上述模擬結果獲知以下事實。
在假定金屬氧化物層作為反射層時之折射率n=2.0至2.7及消光係數k=0.01至0.5之範圍內，反射光譜及透射光譜週期性重複增加及減少，同時反射層之膜厚度增大。接著，具有週期性之反射光譜之第一峰值出現於其中反射層之膜厚度等於或小於50奈米之一位置處。
從反射層之成本減少及膜形成時間減少之觀點而言，反射層之膜厚度較佳為較薄，且未發現藉由將反射層之膜厚度設定為超過50奈米來達成之技術優點。因此，當將金屬氧化物層用作為反射層時，較 佳地藉由在等於或小於50奈米之一範圍內改變反射層之膜厚度來調整反射比。
折射率n=2.0至2.7及消光係數k=0.01至0.5之範圍內之可能最大反射比(n=2.5，k=0.01)係約18%。在上述模擬中，將中間層之表面設定為不具有凹面及凸面之一平坦表面。因為歸因於其上存在訊坑之中間層之一實際表面上之凹面及凸面而發生光散射，所以反射比進一步劣化。鑑於該點，將實際最大反射比估計為約15%。
當將折射率n=2.0至2.7及消光係數k=0.01至0.5之範圍內之金屬氧化物層用作為反射層時，可藉由調整反射層之膜厚度來實現等於或大於5%之反射比及高透射比兩者。
可從參考實例6-2中之上述模擬結果獲知以下事實。
當折射率n=0.17且消光係數k=1.95(假定金屬層作為反射層)時，反射比增大，同時透射比趨向於隨著膜厚度增大而減小。
雖然需要明顯減小反射層之膜厚度以實現等於或大於5%之反射比及高透射比兩者，但若反射層之厚度如上文所描述般減小，則可靠性如上文「III.金屬氧化物層之可靠性」中所描述般劣化。
[VII.信號性質及不對稱性之膜厚度相依性]
[實例7-1-1至7-1-3]
將第一反射層之膜厚度改變為19奈米，且將第二反射層之膜厚度改變為15奈米。此外，在從15奈米至30奈米之一範圍內改變第三反射層之膜厚度，如表6中所展示。除上述點之外，依相同於實例3-1中之方式之方式獲得光學記錄媒體。
[實例7-2-1至7-2-3]
將第一反射層之膜厚度改變為19奈米，且將第二反射層之膜厚度改變為15奈米。在從14奈米至25奈米之一範圍內改變第三反射層之膜厚度，如表6中所展示。除上述點之外，依相同於實例3-3中之方式 之方式獲得光學記錄媒體。
[評估6]
下文中評估如上文所描述般獲得之實例7-1-1至7-1-3及實例7-2-1至7-2-3中之光學記錄媒體之第三反射層之信號性質及不對稱性。
[信號性質3]
依相同於參考實例1-1至1-7中之方式之方式獲得第三反射層之i-MLSE。其結果將展示於圖9A中。
[不對稱性]
不對稱性係指示一8T信號與一2T信號之比率的一準則，且更接近於0%之一對稱性值意味著一更滿意之2T-8T平衡。可期望依據性質而將該不對稱性值設定為在±5%內。
當假定I8H表示重現信號之8T振幅之最大值，I8L表示重現信號之8T振幅之最小值，I2H表示2T振幅之最大值，且I2L表示2T振幅之最小值時，可由不對稱性之一方程式={(I8H+I8L)-(I2H+I2L)}/{2(I8H-I8L)}表達不對稱性。存在其中當2T訊坑增大時不對稱性係一正值且當2T訊坑減小時不對稱性係一負值之一關係。其結果將展示於圖9B中。
表6展示實例7-1-1至7-1-3及實例7-2-1至7-2-3中之光學記錄媒體之組態及評估結果。
L2層：第三重現層
可從圖9A及圖9B獲知以下事實。
i-MLSE及不對稱性(即，最小訊坑2T之一光學深度)之膜厚度相依性完全取決於將金屬氧化物層(介電層)及金屬層之何者用作為第三反射層，如下文所描述。
當將金屬氧化物層用作為第三反射層時，i-MLSE趨向於隨著反射層之膜厚度增大而提高。相比而言，當將金屬層用作為第三反射層時，i-MLSE趨向於隨著反射層之膜厚度增大而劣化。
因此，從信號性質之觀點而言，一較佳膜厚度範圍取決於將金屬氧化物層及金屬層之何者用作為第三反射層。例如，在其中將金屬氧化物層之膜厚度設定為約30奈米之一案例及其中將金屬層之膜厚度設定為約15奈米之一案例中獲得實質上相同之信號性質。
當將金屬氧化物層用作為第三反射層時，不對稱性趨向於隨著反射層之膜厚度增大而適度減少。相比而言，當將金屬層用作為第三反射層時，不對稱性趨向於隨著反射層之膜厚度增大而增加。
換言之，若考量不對稱性係指示最小訊坑2T之一光學深度之一準則的事實，則可在下文中描述此一趨向。即，當將金屬氧化物層用作為第三反射層時，最小訊坑(凹形訊坑)2T之光學深度趨向於隨著反射層之膜厚度增大而顯得更淺。相比而言，當將金屬層用作為第三反射層時，最小訊坑2T之光學深度趨向於隨著反射層之膜厚度增大而顯得更深。
可考量，根據將金屬氧化物(介電體)及金屬之何者用作為反射層之材料，第三反射層之材料之折射率n及消光係數k之差異引起信號性質及不對稱性之膜厚度相依性之差異，如上文所描述。下文中將就此給出一特定描述。
金屬n及k一般具有n<1及k>1之關係，且例如，Ag之n及k滿足n=0.17及k=1.95。相比而言，較佳地用於本發明中之金屬氧化物(介電體)之n及k滿足折射率n=2.0至2.7及消光係數k=0.01至0.5(如上文所描 述)，且例如，ITO之n及k滿足n=2.3至2.4及k=0.2。
n及k之差異引起第三反射層與光透射層之間之一介面(下文中稱作一「入射側介面」)處及第三反射層與中間層之間之一介面(下文中稱作一「出射側介面」)處之介面反射光之強度之差異。
當將諸如Ag之金屬用作為第三反射層之一材料時，該金屬具有一大k值，且第三反射層中所吸收之雷射光之量因此較大。相比而言，當將諸如ITO之金屬氧化物用作為第三反射層之一材料時，該金屬氧化物具有接近於0之一k值，且第三反射層中所吸收之雷射光之量因此非常小。
此外，相較於諸如Ag(n=0.17)之金屬，諸如ITO(n=2.5)之金屬氧化物具有與諸如光透射層及中間層之透明樹脂層(通常n=約1.6)之折射率的一小折射率差值△n。
當將金屬氧化物用作為第三反射層(如上文所描述)時，光吸收量及折射率差值△n小於其中將金屬用作為第三反射層之案例中之光吸收量及折射率差值△n，且入射側介面及出射側介面處之一光干涉作用因此有效率地工作。此外，即使第三反射層之厚度增大，但該干涉作用之效率無明顯改變。
將金屬用作為第三反射層之一材料時的出射側介面處之反射光強度相對於入射側介面處之反射光強度之比率明顯不同於將金屬氧化物用作為第三反射層之一材料時的出射側介面處之反射光強度相對於入射側介面處之反射光強度之比率。
可考量，上述差異導致信號性質及不對稱性(訊坑之外觀)之膜厚度相依性之差異。
若考量上述結果，則當將金屬層用作為第一反射層及第二反射層且將金屬氧化物層用作為第三反射層時，第三反射層之訊坑較佳地深於第一反射層及第二反射層之訊坑以抑制第一反射層、第二反射層 及第三反射層之不對稱性(訊坑之外觀)之差異。
雖然上文已明確描述本發明之實施例，但本發明不受限於上述實施例，且可基於本發明之技術理念而進行各種修改。
例如，僅為說明之目的而描述上述實施例中之組態、方法、程序、形狀、材料、數值及類似物，且可根據需要使用不同於描述中之組態、方法、程序、形狀、材料、數值及類似物之組態、方法、程序、形狀、材料、數值及類似物。
此外，可將上述實施例中之組態、方法、程序、形狀、材料、數值及類似物組合於本發明之一要旨內。
此外，本發明中所使用之術語「包含(包括)」包含更具限制性之「本質上由…組成」及「由…組成」。
雖然已將上述實施例描述為其中將本發明應用於一光學記錄媒體(其具有依序層疊於基板上之三個反射層及光透射層之組態以便藉由利用來自光透射層之側之雷射光照射三個反射層來重現一資訊信號)之一實例，但本發明不受限於該實例。例如，可將本發明應用於以下各者：一光學記錄媒體，其具有依序層疊於一基板上之三個反射層及一保護層之一組態以便藉由利用來自該基板之側之雷射光照射該三個反射層來重現一資訊信號；或一光學記錄媒體，其具有設置於兩個基板之間之三個反射層之一組態以便藉由利用來自一基板之一側之雷射光照射該三個反射層來重現一資訊信號。
雖然已將上述實施例描述為其中將本發明應用於具有三個反射層之一光學記錄媒體的一實例，但本發明不受限於該實例。例如，可將本發明應用於具有四個或四個以上反射層之一多層光學記錄媒體或具有兩個反射層之一兩層光學記錄媒體。在此等案例中，位於最接近於光照射表面之位置處之一反射層較佳地含有金屬氧化物或金屬氮化物。此係因為可增強光學記錄媒體之可靠性。
在上述實施例中，選自反射比R1、R2及R3之相鄰兩個重現層之反射比之差值△R之所有絕對值(即，(R1-R2)之絕對值及(R2-R3)之絕對值)可等於或小於7%。若反射比之差值△R超過7%，則由具有低反射比之反射層L反射之光受來自具有高反射比之相鄰反射層L之雜散光影響，且信號性質劣化。
本發明可採用以下組態。
(1)一種光學記錄媒體，其包含三個重現層，其中利用重現光來照射之一表面之一側上之該三個重現層之反射比R1、R2及R3等於或大於5%，且其中選自反射比R1、R2及R3之兩者之間之一差值△R之任何絕對值等於或小於7%。
(2)如(1)之光學記錄媒體，其中該三個重現層中之位於最接近於該表面之位置處之一重現層含有金屬氧化物。
(3)如(2)之光學記錄媒體，其中該金屬氧化物含有選自包含W、Fe、Ti、In、Sn、Si及Zr之一群組之一種或多種。
(4)如(2)或(3)之光學記錄媒體，其中該三個重現層中之位於最接近於該表面之位置處之該重現層之一膜厚度係在等於或大於15奈米且等於或小於50奈米之一範圍內。
(5)如(1)至(4)中任一項之光學記錄媒體，其中利用該重現光來照射之該表面之該側上之該三個重現層之該反射比R1、R2及R3等於或大於7%且等於或小於14%。
(6)如(1)至(5)中任一項之光學記錄媒體，其中該三個重現層中之位於最接近於該表面之位置處之該重現層之一折射率係在等於或大於2.0且等於或小於2.7之一範圍內，且其中該三個重現層中之位於最接近於該表面之位置處之該重現層之一消光係數係在等於或大於0.01且等於或小於0.5之一範圍內。
(7)如(1)之光學記錄媒體，其中該三個重現層中之位於最接近於 該表面之位置處之該重現層含有金屬氮化物。
(8)如(1)之光學記錄媒體，其中該三個重現層包含含有金屬之一第一重現層、含有金屬之一第二重現層及含有金屬氧化物之一第三重現層，且其中該第三重現層位於最接近於該表面之位置處。
(9)如(8)之光學記錄媒體，其中該第三重現層之一膜厚度大於該第一重現層及該第二重現層之膜厚度。
(10)如(8)或(9)之光學記錄媒體，其中該第三重現層之訊坑深於或高於該第一重現層及該第二重現層之訊坑。
熟悉此項技術者應瞭解，可根據設計要求及其他因數而進行各種修改、組合、子組合及更改，只要其等落於隨附申請專利範圍或其等效物之範疇內。

Claims (9)

  1. 一種光學記錄媒體，其包括：三個重現層，其中利用重現光來照射之一表面之一側上之該三個重現層之反射比R1、R2及R3等於或大於5%，其中選自該反射比R1、R2及R3之兩者之間之一差值△R之任何絕對值等於或小於7%；及其中該三個重現層包含含有金屬之一第一重現層、含有金屬之一第二重現層及含有金屬氧化物之一第三重現層，及其中該第三重現層位於最接近於該表面之位置處。
  2. 如請求項1之光學記錄媒體，其中該三個重現層中之位於最接近於該表面之位置處之一重現層含有金屬氧化物。
  3. 如請求項2之光學記錄媒體，其中該金屬氧化物含有選自由W、Fe、Ti、In、Sn、Si及Zr組成之一群組之一種或多種。
  4. 如請求項2之光學記錄媒體，其中該三個重現層中之位於最接近於該表面之位置處之該重現層之一膜厚度係在等於或大於15奈米且等於或小於50奈米之一範圍內。
  5. 如請求項1之光學記錄媒體，其中利用該重現光來照射之該表面之該側上之該三個重現層之該反射比R1、R2及R3等於或大於7%且等於或小於14%。
  6. 如請求項1之光學記錄媒體，其中該三個重現層中之位於最接近於該表面之位置處之該重 現層之一折射率係在等於或大於2.0且等於或小於2.7之一範圍內，及其中該三個重現層中之位於最接近於該表面之位置處之該重現層之一消光係數係在等於或大於0.01且等於或小於0.5之一範圍內。
  7. 如請求項1之光學記錄媒體，其中該三個重現層中之位於最接近於該表面之位置處之該重現層含有金屬氮化物。
  8. 如請求項1之光學記錄媒體，其中該第三重現層之一膜厚度大於該第一重現層及該第二重現層之膜厚度。
  9. 如請求項1之光學記錄媒體，其中該第三重現層之訊坑深於或高於該第一重現層及該第二重現層之訊坑。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105340012B (zh) 2013-06-28 2019-06-28 索尼公司 光学介质再现装置和光学介质再现方法
JP6428619B2 (ja) 2013-08-14 2018-11-28 ソニー株式会社 光媒体再生装置および光媒体再生方法
JP6167918B2 (ja) 2013-08-14 2017-07-26 ソニー株式会社 光媒体再生装置および光媒体再生方法
TWI665665B (zh) * 2014-02-14 2019-07-11 日商新力股份有限公司 具複數個記錄層之可抑制偏離軌道之光記錄媒體
JP6445615B2 (ja) * 2017-05-11 2018-12-26 株式会社神戸製鋼所 読み出し専用の光情報記録媒体および該光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲット
JP6661000B2 (ja) * 2018-06-07 2020-03-11 株式会社神戸製鋼所 記録層、光情報記録媒体及びスパッタリングターゲット

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060203680A1 (en) * 2005-03-10 2006-09-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Multilayer recording medium and method of manufacturing the same
JP2006313585A (ja) * 2005-05-06 2006-11-16 Toshiba Corp 光ディスク、光ディスクの製造方法、情報再生装置、情報再生方法、情報記録装置、および情報記録方法
TW200746132A (en) * 2006-05-05 2007-12-16 Ciba Sc Holding Ag High capacity optical storage media comprising organometallic ion pairs
JP2008251140A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Toshiba Corp 光ディスク及びこの光ディスクを用いた光ディスク装置
JP2009004063A (ja) * 2007-05-18 2009-01-08 Tdk Corp 光記録媒体及びその再生方法
US20120201993A1 (en) * 2011-02-03 2012-08-09 Sony Corporation Optical information recording medium
TW201249666A (en) * 2011-02-24 2012-12-16 Taiyo Yuden Kk Recordable optical recording medium

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2657579B2 (ja) * 1990-04-19 1997-09-24 富士写真フイルム株式会社 光情報記録媒体
US5255262A (en) * 1991-06-04 1993-10-19 International Business Machines Corporation Multiple data surface optical data storage system with transmissive data surfaces
SG48111A1 (en) 1993-01-04 1998-04-17 Koninkl Philips Electronics Nv Multiplane information storage system and record carrier for use in such a system
US5540966A (en) * 1994-08-05 1996-07-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dual layer optical medium having partially reflecting thin film layer
JP3671484B2 (ja) * 1995-12-06 2005-07-13 ソニー株式会社 光学記録媒体
JP2004013947A (ja) * 2002-06-04 2004-01-15 Victor Co Of Japan Ltd 情報記録担体、再生装置、記録装置、記録再生装置、再生方法、記録方法及び記録再生方法
JP4341505B2 (ja) 2004-08-19 2009-10-07 ソニー株式会社 多層光情報記録媒体
JP2006344338A (ja) 2005-06-10 2006-12-21 Sony Corp 評価装置、評価方法、光ディスク製造方法
JP4231060B2 (ja) * 2006-04-24 2009-02-25 株式会社日立製作所 レイヤー判定方法、情報記録方法及び情報再生方法
JP4830655B2 (ja) 2006-06-13 2011-12-07 ソニー株式会社 再生装置、再生方法
JP4686779B2 (ja) * 2006-10-05 2011-05-25 ビクターアドバンストメディア株式会社 多層型相変化光記録媒体
US8111477B2 (en) 2008-07-11 2012-02-07 Sony Corporation Recording medium, recording apparatus, reproducing apparatus, and reproducing method
WO2010067556A1 (ja) 2008-12-11 2010-06-17 パナソニック株式会社 情報記録媒体、再生装置および再生方法
JP2011081865A (ja) 2009-10-07 2011-04-21 Sony Corp 光記録媒体、記録方法
JP2011198410A (ja) 2010-03-19 2011-10-06 Sony Corp 多層光記録媒体
JP2011216171A (ja) 2010-04-02 2011-10-27 Sony Corp 光学ピックアップ、光学ドライブ装置、光照射方法
JP2011227979A (ja) 2010-04-02 2011-11-10 Sony Corp 光学ピックアップ、光学ドライブ装置、光照射方法
JP5726557B2 (ja) 2010-04-19 2015-06-03 ソニー株式会社 光記録媒体
JP2012018712A (ja) 2010-07-06 2012-01-26 Sony Corp 光情報記録再生装置及び光情報記録再生方法
JP2012094219A (ja) 2010-10-28 2012-05-17 Sony Corp 光記録媒体、記録装置
JP2012243363A (ja) 2011-05-20 2012-12-10 Sony Corp 再生方法、再生装置
JP2013186910A (ja) 2012-03-06 2013-09-19 Sony Corp 光記録媒体駆動装置、クロストラック信号生成方法
JP2013251019A (ja) 2012-05-30 2013-12-12 Sony Corp 光情報記録媒体および光情報記録媒体再生装置
JP6003366B2 (ja) 2012-08-06 2016-10-05 ソニー株式会社 再生装置、再生方法
JP2014035775A (ja) 2012-08-08 2014-02-24 Sony Corp 光記録媒体および光記録媒体の製造方法
JP2014216038A (ja) 2013-04-26 2014-11-17 ソニー株式会社 光記録媒体
CN105340012B (zh) 2013-06-28 2019-06-28 索尼公司 光学介质再现装置和光学介质再现方法
JP6428619B2 (ja) 2013-08-14 2018-11-28 ソニー株式会社 光媒体再生装置および光媒体再生方法
JP6167918B2 (ja) 2013-08-14 2017-07-26 ソニー株式会社 光媒体再生装置および光媒体再生方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060203680A1 (en) * 2005-03-10 2006-09-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Multilayer recording medium and method of manufacturing the same
JP2006313585A (ja) * 2005-05-06 2006-11-16 Toshiba Corp 光ディスク、光ディスクの製造方法、情報再生装置、情報再生方法、情報記録装置、および情報記録方法
TW200746132A (en) * 2006-05-05 2007-12-16 Ciba Sc Holding Ag High capacity optical storage media comprising organometallic ion pairs
JP2008251140A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Toshiba Corp 光ディスク及びこの光ディスクを用いた光ディスク装置
JP2009004063A (ja) * 2007-05-18 2009-01-08 Tdk Corp 光記録媒体及びその再生方法
US20120201993A1 (en) * 2011-02-03 2012-08-09 Sony Corporation Optical information recording medium
TW201249666A (en) * 2011-02-24 2012-12-16 Taiyo Yuden Kk Recordable optical recording medium

Also Published As

Publication number Publication date
JP6201377B2 (ja) 2017-09-27
US9672861B2 (en) 2017-06-06
TW201443891A (zh) 2014-11-16
CN105051817A (zh) 2015-11-11
JP2014203470A (ja) 2014-10-27
WO2014162658A1 (en) 2014-10-09
CN105051817B (zh) 2019-02-12
US20160275983A1 (en) 2016-09-22

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