JP6445615B2 - 読み出し専用の光情報記録媒体および該光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲット - Google Patents

読み出し専用の光情報記録媒体および該光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲット Download PDF

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Description

本発明は、青色レーザーを使用して再生を行う読み出し専用型のＢＤ（Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ（登録商標）又はブルーレイディスク）等の光情報記録媒体、および該光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲットに関する。
光情報記録媒体（光ディスク）は、記録再生原理に基づき、読み出し専用型、追記型又は書き換え型の３種類に大別される。
図１に、読み出し専用の光情報記録媒体（１層光ディスク）の代表的な構成を模式的に示す。図１に示すように、読み出し専用の光情報記録媒体１００は、透明プラスチックなどの基板１０の上に、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕなどを主成分とする反射膜２０と、光透過層３０とが順次積層された構造を有している。基板１０には、ランド・ピット（記録データ）と呼ばれる凹凸の組み合わせによる情報が記録されており、例えば、厚さ１．１ｍｍ、直径１２ｃｍのポリカーボネート製基板が用いられる。光透過層３０は、例えば光透過性樹脂の塗布・硬化によって形成される。記録データの再生は、光ディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出することによって行われる。
図１には、ランド・ピットの組み合わせによる情報が記録された基板１０上に、反射膜２０および光透過層３０がそれぞれ１層ずつ形成された１層光ディスクを示しているが、例えば図２に示すように、第１の情報記録面４０および第２の情報記録面５０を備えた２層光ディスクも用いられる。詳細には、図２の２層光ディスクは、凹凸のランド・ピット（記録データ）の組み合わせによる情報が記録された基板１０上に、第１の反射膜２２、第１の光透過層３２、第２の反射膜２４、および第２の光透過層３４が順次積層された構成を有しており、第１の光透過層３２には、基板１０とは別の情報がランド・ピットの組み合わせによって記録されている。
光ディスクに用いられる前記反射膜としては、これまで、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ及びこれらを主成分とする合金が汎用されてきた。
このうち、Ａｕを主成分とする反射膜は、化学的安定性（耐久性）に優れ、記録特性の経時変化が少ないという利点を有するが、極めて高価であり、また、例えばＢＤの記録再生に使用される青色レーザー（波長４０５ｎｍ）に対し、十分高い反射率が得られないという問題がある。また、Ｃｕを主成分とする反射膜は安価であるが、従来の反射膜材料の中で最も化学的安定性に劣っているほか、Ａｕと同様、青色レーザーに対する反射率が低いという欠点があり、用途が制限されている。これに対し、Ａｇを主成分とする反射膜では、実用波長領域である４００〜８００ｎｍの範囲で充分高い反射率を示しており、高い化学的安定性を持つことから、現在、青色レーザーを使用する光ディスクにおいて広く利用されている。
一方、Ａｌを主成分とするＡｌ基合金の反射膜は、安価で、かつ、波長４０５ｎｍにおいて充分高い反射率を有しているが、Ａｇ系やＡｕ系の反射膜に比べて耐久性に劣っている。そこで、Ａｌ基合金反射膜をＤＶＤ−ＲＯＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）へ適用する場合には、反射膜の厚さをおおむね、４０ｎｍ程度に充分厚くして耐久性の向上を図っている。ところが、このような厚さのＡｌ系反射膜を、青色レーザーを使用するＢＤ−ＲＯＭ（Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）やＨＤ ＤＶＤ−ＲＯＭ（Ｈｉｇｈ−Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）などに適用すると、記録信号（再生信号）の精度が低下（すなわち、ジッターが上昇）し、安定した再生（再生安定性）を行うことができないという問題があった。
また、ＤＶＤやＢＤでは情報記録層が複数あるため、レーザー入射側から見て奥の情報記録層の信号を記録再生するためには、レーザー入射側から見て手前の層の透過光を利用する必要がある。しかし、上記のような厚さのＡｌ系反射膜を適用した場合、レーザー入射側から見て手前の層における、レーザーの反射や吸収により、レーザー入射側から見て奥の層における反射率が小さくなってしまい、十分なＳ/Ｎ（シグナル−ノイズ比）が得られないという問題があった。
一方、Ａｌ系反射膜における再生安定性や耐久性を高めるため、例えば、特許文献１〜特許文献４に示す方法が提案されている。
このうち特許文献１には、記録信号に応じたピットを有するピット列が形成された光ディスク基板と、ピットが形成された面に成膜された反射膜と、反射膜に形成された光透過層とを有してなる光ディスクにおいて、光透過層からみたピット列が２５０ｎｍ以下の長さおよび幅を有する微細化されたピットを含み、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕの反射膜の厚さが２０ｎｍ以下に低減された光ディスクが開示されている。一般に、ピットの微細化は信号再生の低下を招くが、特許文献１では、反射膜の厚さを２０ｎｍ以下に制御することによってジッター劣化の問題を回避し、再生安定性を高めている。しかし、反射膜の厚さを２０ｎｍ以下に低減すると、実用上充分な耐久性が得られないという問題がある。
特許文献２には、基板表面に形成されるピットおよびピット間のスペースを基板長さとの関係で制御することにより、再生信号のジッター特性を改善する技術が開示されている。
特許文献３には、温度や湿度が急激に変化する条件下でも良好な耐久性を有する再生専用型光ディスクとして、４％Ｔａを含有するＡｌ反射層（厚さ１００ｎｍ）を備えた光ディスクが実施例の欄に開示されている。
特許文献４には、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｔｉをそれぞれ１〜４％含有するＡｌ基合金反射膜が開示されており、このような合金組成とすることにより、反射率が高く、表面が平滑で（Ｒａは約５〜１０ｎｍ）、温度変化に伴う結晶粒の成長が小さく反射率の変化が小さい（耐久性に優れた）反射膜が得られる。
国際公開第００／６５５８４号 特開２００６−６６００３号公報 特公平７−６２９１９号公報 特開２００７−０９２１５３号公報
上記特許文献１〜特許文献４に示す方法のいずれにおいても、高い反射率や低ジッター（再生信号の時間軸上のゆらぎが少ないこと）により優れた再生安定性を確保することや、あるいは耐久性について性能を満足できていたとしても、これら性能を両立することはできていない。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ＢＤ−ＲＯＭやＨＤ ＤＶＤ−ＲＯＭのように青色レーザーを使用する光ディスクに好適に用いられる反射膜を備えた読み出し専用光情報記録媒体において、高い反射率および低ジッターにより再生安定性に優れており、かつ、耐久性も良好な、読み出し専用光情報記録媒体を提供することにある。また、上記光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲットを提供することにある。
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、特定の金属酸化物により形成される反射膜を備えた読み出し専用光情報記録媒体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下の［１］〜［３］に係るものである。
［１］基板上に反射膜および光透過層が少なくとも１層ずつ順次積層され、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体であって、 前記反射膜は、Ｓｎ−Ｚｎ−Ｗ酸化物（ただし、Ｗの組成比は、金属酸化物におけるＯ（酸素）を除いた全金属元素の合計に対して４０原子％以上）、Ｓｎ−Ｚｎ−Ｎｂ酸化物、Ｉｎ−Ｗ酸化物およびＩｎ−Ｎｂ酸化物のうち少なくとも１つからなり、かつ、前記反射膜の膜厚が２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体。
［２］前記反射膜は、波長４０５ｎｍにおける屈折率が１．９以上、かつ、波長４０５ｎｍにおける消衰係数が０．１以下であることを特徴とする前記［１］に記載の読み出し専用の光情報記録媒体。
［３］基板上に反射膜および光透過層が少なくとも１層ずつ順次積層された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる、読み出し専用の光情報記録媒体における反射膜形成用スパッタリングターゲットであって、 Ｓｎ−Ｚｎ−Ｗ酸化物（ただし、Ｗの組成比は、金属酸化物におけるＯ（酸素）を除いた全金属元素の合計に対して４０原子％以上）、Ｓｎ−Ｚｎ−Ｎｂ酸化物、Ｉｎ−Ｗ酸化物およびＩｎ−Ｎｂ酸化物のうち少なくとも１つからなることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体における反射膜形成用スパッタリングターゲット。
本発明によれば、高い反射率および低ジッターにより再生安定性に優れており、かつ、耐久性も良好な、読み出し専用光情報記録媒体を提供することができる。また、上記性能を満足する光情報記録媒体における反射膜形成用スパッタリングターゲットを提供することができる。
図１は、読み出し専用の光情報記録媒体（１層光ディスク）の円周方向の要部を模式的に示す断面図である。 図２は、他の読み出し専用の光情報記録媒体（２層光ディスク）の円周方向の要部を模式的に示す断面図である。
本発明者は、高い反射率および低ジッターにより再生安定性に優れており、かつ、耐久性も良好な読み出し専用光情報記録媒体であって、特に青色レーザーを用いて再生を行うＢＤ−ＲＯＭやＨＤ ＤＶＤ−ＲＯＭ（特には、２層型のＢＤ−ＲＯＭやＨＤ ＤＶＤ−ＲＯＭ）などに好適に用いられる光情報記録媒体（光ディスク）を提供するため、鋭意検討を行ってきた。
その結果、反射膜としてＳｎ及びＺｎを含む金属酸化物、又はＩｎを含む金属酸化物を適用することにより、高い反射率および低ジッターにより再生安定性に優れており、更に、優れた耐久性をも実現できることを見出した。
なお、本明細書において、「再生安定性に優れる」とは、後述する実施例で示す通り、初期（加速環境試験前）におけるディスク反射率が５．０％以上であり、かつ、初期ジッター値が８．５％以下であることを意味する。また、「耐久性に優れる」とは、後述する実施例で示す通り、温度８０℃、相対湿度が約８５％の環境下で９６時間保持する加速環境試験を行ったときの、加速環境試験前後の反射率の低下量（試験後の反射率−試験前の反射率）が１０．０％以下（絶対値）であり、かつ加速環境試験後のジッターが８．５％以下であることを意味する。
以下、上記本発明の構成に到達した経緯について説明する。本発明者は、再生安定性に優れ、かつ、耐久性にも優れた金属酸化物を用いた新規の反射膜を開発するに当たり、各種の金属酸化物材料について加速環境試験前後の光学特性変化および再生安定性の挙動を調査した。具体的には，ピット・ランドが形成されたポリカーボネート基板上にスパッタリング法によって種々の金属酸化物薄膜を各種膜厚で成膜した後、紫外線硬化樹脂の光透過層を成膜した１層ＢＤ−ＲＯＭディスクを作製し、ジッター値を測定したり、耐久性を測定した。その結果、以下のことが判明した。
Ｓｎ（スズ）及びＺｎ（亜鉛）を含む酸化物、又はＩｎ（インジウム）酸化物を用いることにより、高い成膜レートを確保した上でジッター値の劣化がないことを確認した。さらに、Ｗ（タングステン）またはＮｂ（ニオブ）を混合することで屈折率が向上し、反射率が更に向上することを確認した。
また、これら金属酸化物の混合比率にもよるが、反射膜としての膜厚は２０ｎｍ以上であれば十分な反射率が得られることを確認した。一方、膜厚が７０ｎｍ超えでは反射率が小さくなりすぎるとともに、再生安定性が低下することを確認した。各種反射膜の結晶性を確認したところアモルファス構造を有しており、加速環境試験後においてもアモルファス構造を保っており光学特性の変化が小さいことを確認した。以上の実験結果に鑑み、本発明においては、再生安定性に極めて優れ、かつ、耐久性にも優れた読み出し専用光情報記録媒体を特定することができた。
以下、本発明の実施の形態につき、要件ごとに具体的に説明する。なお、本発明は、以下に説明する実施形態につき限定されるものではない。
（金属酸化物）
本発明の読み出し専用の光情報記録媒体に用いられる反射膜である金属酸化物について詳しく説明する。
本発明にかかる金属酸化物は、Ｓｎ及びＺｎを含む金属酸化物、又はＩｎを含む金属酸化物である。ＳｎやＺｎを金属元素として用いる場合には、Ｓｎ及びＺｎを併用して金属酸化物を形成することが重要であり、後述する実施例で示すように、Ｓｎ単独の金属酸化物やＺｎ単独の金属酸化物では本発明の効果は得られない。一方で、Ｉｎを金属元素として用いる場合には、Ｉｎ単独の金属酸化物として本発明の効果が得られる。
ところで、Ｓｎ酸化物、Ｚｎ酸化物及びＩｎ酸化物は、スパッタリングにおける成膜レートが高く、かつ、屈折率が大きいことが特徴である。Ｓｎ及びＺｎを併用した金属酸化物やＩｎ単独の金属酸化物を反射膜として用いることにより、屈折率を低下させることなく、加速環境試験後の光学特性変化を小さくすることが可能となる。これは、Ｓｎ及びＺｎを含む金属酸化物の場合は、ＳｎとＺｎの原子半径の違いにより、反射膜の構造にひずみを与えることができ、アモルファス構造とすることができた結果、加速環境試験による構造変化を抑制できるためと考えられる。また、Ｉｎ酸化物の場合は、Ｉｎ酸化物単体で構造安定性が高いため、加速環境試験による構造変化が小さいためと考えられる。
ただし、Ｓｎ単独の金属酸化物やＺｎ単独の金属酸化物では、加速環境試験による結晶化が進みやすいと考えられるため、上記の作用効果は得られない。
なお、Ｓｎの組成比については、金属酸化物におけるＯ（酸素）を除いた全金属元素（Ｓｎ及びＺｎ以外の金属元素を含む場合には、この金属元素も含む。）の合計に対する組成比が、９５原子％以下とすることが好ましく、９０原子％以下とすることが更に好ましい。上記範囲とすることにより、耐久性向上および反射率向上の効果が十分に得られるためである。一方、特に耐久性確保の観点からは、Ｓｎの組成比は、１０原子％以上とすることが好ましく、１５原子％以上とすることが更に好ましい。
同様に、Ｚｎの組成比については、金属酸化物におけるＯ（酸素）を除いた全金属元素の合計に対する組成比が、６０原子％以下とすることが好ましく、５０原子％以下とすることが更に好ましい。上記範囲とすることにより、耐久性向上の効果が十分に得られるためである。同様に、耐久性向上の観点からは、Ｚｎの組成比は、５原子％以上とすることが好ましく、１０原子％以上とすることが更に好ましい。
本発明にかかるＳｎ及びＺｎを含む金属酸化物又はＩｎを含む金属酸化物は、更に、Ｗ（タングステン）又はＮｂ（ニオブ）の少なくとも１種を含むことが好ましい。これらの元素は、Ｓｎ及びＺｎを含む金属酸化物又はＩｎを含む金属酸化物に添加されることで、更なる高い屈折率を確保することができる。結果として、光情報記録媒体の反射膜において、高い反射率を実現することが可能となる。なお、これら金属元素の添加により、高い屈折率を確保することができる理由については明らかではないが、単体で高い屈折率を有するタングステン化合物やニオブ化合物における金属原子と酸素の結合の構造に影響を受けることなく、Ｓｎ及びＺｎを含む金属酸化物又はＩｎを含む金属酸化物がアモルファス構造を保つためであると考えられる。
Ｗを金属酸化物に含める場合のＷの組成比については、金属酸化物におけるＯ（酸素）を除いた全金属元素の合計に対する組成比が、５原子％以上とすることが好ましく、１０原子％以上とすることが更に好ましい。上記範囲とすることにより、反射率向上の効果が得られるためである。一方、耐久性向上の観点からは、Ｗの組成比は、８０原子％以下とすることが好ましく、７０原子％以下とすることが更に好ましい。
同様に、Ｎｂを金属酸化物に含める場合のＮｂの組成比については、金属酸化物におけるＯ（酸素）を除いた全金属元素の合計に対する組成比が、３原子％以上とすることが好ましく、５原子％以上とすることが更に好ましい。上記範囲とすることにより、反射率向上の効果が得られるためである。一方、膜形成にかかる時間（スパッタリングレート）の観点からは、Ｎｂの組成比は、５０原子％以下とすることが好ましく、４０原子％以下とすることが更に好ましい。
以上、本発明に係る金属酸化物を反射膜として用いる場合、上述の通り、高い反射率および低ジッターにより再生安定性に優れており、かつ、優れた耐久性を両立することができる。更に、金属酸化物を用いているため、従来のＡｇを用いた反射膜に比べ、製造コストの面でも有利となる。
（反射膜）
続いて、本発明の読み出し専用の光情報記録媒体に用いられる反射膜について詳しく説明する。
上記の通り、本発明に係る反射膜は、Ｓｎ及びＺｎを含む金属酸化物、又はＩｎを含む金属酸化物である材料から構成されることを特徴とする。
反射膜の膜厚については、反射率が小さくなりすぎることを抑制する観点から、２０ｎｍ以上とする必要があり、好ましくは３０ｎｍ以上である。一方、膜厚が厚くなりすぎると、光学的な干渉により反射率が小さくなるため、７０ｎｍ以下とする必要があり、好ましくは６０ｎｍ以下である。
反射膜の屈折率については、高い反射率を確保する観点から、波長４０５ｎｍにおける屈折率が１．９以上であることが好ましく、２．０以上であることがより好ましい。また、反射膜の消衰係数については、消衰係数が高すぎると、光の吸収率が高くなるため透過性が低下し、レーザー入射側から見て奥の層の反射率が小さくなってしまう。このため、波長４０５ｎｍにおける消衰係数が０．１以下であることが好ましく、０．０７以下であることがより好ましい。なお、本発明に係る反射膜の屈折率および消衰係数の測定方法については、分光エリプソメトリとする。
（その他の光情報記録媒体の構成）
本発明の読み出し専用の光情報記録媒体は、上記金属酸化物を反射膜として用いたところに特徴があり、当該金属酸化物からなる反射膜が適用される光ディスクの構成や種類（光透過層、基板などの種類）は特に限定されず、通常用いられるものを採用することができる。
本発明に用いられる基板の種類は特に限定されず、光ディスク用基板に汎用される樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂などを用いることができる。価格や機械的特性などを考慮すると、ポリカーボネートの使用が好ましい。
基板の厚さは、おおむね、０．４〜１．２ｍｍの範囲内であることが好ましい。また、基板上に形成されるピットの深さは、おおむね５０〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
本発明に用いられる光透過層の種類も限定されず、例えば、紫外線硬化樹脂、ポリカーボネート樹脂等を用いることができる。光透過層の厚さは、１層光ディスクでは１００μｍ程度であることが好ましく、２層光ディスクでは、第１の光透過層の厚さは２５μｍ程度、第２の光透過層の厚さは７５μｍ程度であることが好ましい。
本発明に用いられる金属酸化物からなる反射膜は、例えば、スパッタリング法、蒸着法などによって成膜することができるが、スパッタリング法が好ましい。スパッタリング法によれば、上記の金属元素及び酸素が均一に分散するので均質な膜が得られ、安定した光学特性や耐久性が得られるからである。
スパッタリング時における成膜条件は特に限定されないが、例えば、以下のような条件を採用することが好ましい。
・基板温度：室温〜５０℃
・到達真空度：１×１０−５Ｔｏｒｒ以下（１×１０−３Ｐａ以下）
・成膜時のガス圧：０．１〜１．０Ｐａ、酸素分圧：１〜５０％
・ＤＣスパッタリングパワー密度（ターゲットの単位面積当たりのＤＣスパッタリングパワー）：１．０〜２０Ｗ／ｃｍ２
（スパッタリングターゲット）
本発明にかかる読み出し専用の光情報記録媒体における反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットとしては、Ｓｎ及びＺｎを含む金属酸化物又はＩｎを含む金属酸化物を用いるのが良い。すなわち、本発明に係る反射膜の成分組成と基本的に同一のものを用いるのが良い。また、Ｓｎ及びＺｎを含む金属酸化物又はＩｎを含む金属酸化物は、上記で説明した通り、Ｗ又はＮｂの少なくとも１種を含むことが好ましい。このようなスパッタリングターゲットを用いることで、所望の成分組成の反射膜を容易に成膜することができる。
また、本発明にかかるスパッタリングターゲットは、体積抵抗率が１Ωｃｍ以下であることが、直流電源を用いたスパッタリングを安定に行うためには好ましい。
スパッタリングターゲットは、溶解・鋳造法、粉末焼結法、スプレイフォーミング法などのいずれの方法によっても製造することができるが、生産性などを考慮すると、粉末焼結法の使用が好ましい。
成膜について、酸素雰囲気で反応性スパッタリングを行うことでＺｎやＳｎの金属をスパッタリングターゲットとして用いることもできるが、これらは融点が低いため、高パワーによる成膜での溶融を避けるためには、Ｓｎ酸化物やＺｎ酸化物を原料とし、粉末焼結法で製造することが好ましい。ＷやＮｂは、金属粉末と金属酸化物粉末のいずれでも原料とすることができる。
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではなく、その趣旨に適合し得る範囲で変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
＜実施例１＞
（１層ＢＤ−ＲＯＭの作製）
本実施例では、以下のようにして表１に示す種々の１層ＢＤ−ＲＯＭ（Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１３）を作製した。
まず、ランド・ピットを有するＮｉスタンパーを用い、ポリカーボネートを射出成型することによって厚さ１．１ｍｍのＢＤ−ＲＯＭ基板を得た。得られたＢＤ−ＲＯＭ基板上に、表１に示す種々の成分組成（表１中のＮｏ．２〜Ｎｏ．１３の各金属酸化物の組成は、Ｏを除く全金属元素の合計に対する各元素の割合を示している。）の金属酸化物又は金属ターゲットを用いて、酸素雰囲気で反応性スパッタリングを行い、表１に示す膜厚の反射膜をそれぞれ形成した。なお、スパッタリング条件は、Ａｒガス流量：２０ｓｃｃｍ、Ａｒガス圧：２ｍＴｏｒｒ、成膜パワー：ＤＣ４００Ｗ、到達真空度：２．０×１０−６Ｔｏｒｒ以下とした。反射膜の厚さは、スパッタリング時間を変化させることによって制御した。
続いて、スピンコート法により厚さが１００μｍとなるように紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線照射により樹脂を硬化させて光透過層を形成した。このようにして、各種組成の反射膜をもつ１層ＢＤ−ＲＯＭを作製した。
（ジッターの測定）
パルステック社製ＯＤＵ−１０００およびテクトロニクス社製タイムインターバルアナライザＴＡ８２０を用い、以下の条件でジッターを測定した。本実施例では、初期（加速環境試験前）におけるジッターが８．５％以下のものを再生安定性に優れるとし、合格とした。
再生レーザーパワー：１〜２ｍＷ
ディスク回転速度：４．９８ｍ／ｓ
（反射率の測定）
反射率は、パルステック社製ＯＤＵ−１０００を用い、読み出しパワー０．３５ｍＷで再生を行なった後、横河電機社製デジタルオシロスコープ（商品名ＤＬ１６４０Ｌ）を用い、反射信号の最大レベル（反射強度、単位：ｍＶ）を測定し、この反射強度をディスク反射率に換算して「反射率」と定義した。本実施例では、初期（加速環境試験前）におけるディスク反射率が５．０％以上のものを合格とした。
（耐久性の評価）
作製したＢＤ−ＲＯＭの一部について、温度８０℃、相対湿度が約８５％の大気雰囲気中で９６時間保持する加速環境試験を行った。本実施例では、加速環境試験前後の反射率の低下量（試験後の反射率−試験前の反射率）が１０．０％以下（絶対値）であるものを合格とした。また、加速環境試験後のジッターが８．５％以下であるものを合格とした。
これらの結果を表１に示す。
Figure 0006445615
表１の結果より、次のように考察できる。すなわち、本発明で規定する金属酸化物を用いた反射膜（表１のＮｏ．４〜Ｎｏ．１３）は、初期（加速環境試験前）の反射率が５．０以上と高く、初期ジッター値についても８．５％以下の低い値を示している。よって、再生安定性に優れていることが読み取れる。また、反射率の変化率（加速環境試験前後の反射率の低下量）が１０．０％以下（絶対値）と低く、加速環境試験後のジッターも８．５％以下の低い値を示しており、耐久性に優れていることが読み取れる。以上の結果より、本発明の実施例であるＮｏ．４〜Ｎｏ．１３は、再生安定性に優れ、かつ、耐久性にも優れるものであり、総合判定として「○」とした。
これに対し、純Ａｌ膜やＳｎ酸化物やＺｎ酸化物など、本発明で規定する金属酸化物を用いていないものは、高反射率を得られないか、加速環境試験により反射率が低下したり、加速環境試験後のジッターが高くなるなど、耐久性の劣化が生じる結果となった。
具体的に、Ｎｏ．1は、反射膜が純Ａｌ膜からなるため、初期の反射率は著しく高いものの、加速環境試験後は反射率が大きく低下し、かつ、加速環境試験前後ともにジッターが増大する結果となった。
また、Ｎｏ．２は、反射膜がＳｎ単体の金属酸化物からなるため、初期の反射率が低かった。Ｎｏ．３は、反射膜がＺｎ単体の金属酸化物からなるため、反射率の変化率が著しく低いものとなった。以上の結果より、本発明の比較例であるＮｏ．１〜Ｎｏ．３は、再生安定性又は耐久性において劣るものであり、総合判定として「×」とした。
なお、ＳｎとＺｎの組成比が同一である、Ｎｏ．４（Ｓｎ−Ｚｎ系）とＮｏ．６〜Ｎｏ．８（Ｓｎ−Ｚｎ−Ｗ系）で比較した場合、Ｗが添加されているＮｏ．６〜Ｎｏ．８の方が高い屈折率を確保することができた結果、更なる高い反射率を示した。同様に、ＳｎとＺｎの組成比が同一である、Ｎｏ．４（Ｓｎ−Ｚｎ系）とＮｏ．９又はＮｏ．１０（Ｓｎ−Ｚｎ−Ｎｂ系）で比較した場合においても、Ｎｂが添加されているＮｏ．９又はＮｏ．１０の方が高い屈折率を確保することができた結果、更なる高い反射率を示した。更に、Ｎｏ．１１（Ｉｎ系）とＮｏ．１２（Ｉｎ−Ｗ系）又はＮｏ．１３（Ｉｎ−Ｎｂ系）で比較した場合においても、Ｗ又はＮｂが添加されているＮｏ．１２又はＮｏ．１３の方が高い屈折率を確保することができた結果、更なる高い反射率を示した。以上の結果より、Ｗ又はＮｂを添加することによる反射率の向上が読み取れる。
＜実施例２＞
本発明で規定する金属酸化物を用いた反射膜の膜厚の影響を調べるため、実施例１のＮｏ．４であるＳｎ７０Ｚｎ３０Ｏに対し、膜厚を表２のように変化させたこと以外は、上記実施例１と同様にして、１層ＢＤ−ＲＯＭを作製した。
このようにして得られた各１層ＢＤ−ＲＯＭについて、実施例１の場合と同じ条件で、初期（加速環境試験前）におけるジッターの測定及び反射率の測定を行った。なお、初期におけるジッターが８．５％以下であり、かつ、初期におけるディスク反射率が５．０％以上のものを再生安定性に優れるとし、総合判定として「○」とした。また、上記要件を満たさないものを、総合判定として「×」とした。
これらの結果を表２に示す。なお、表２のＮｏ，１４及びＮｏ．１８について、「ジッター」及び「反射率」の結果を「−」と表記しているのは、反射率が低すぎるために計測が不可能であったため、「ジッター」及び「反射率」を測定できなかった場合である。
Figure 0006445615
表２の結果より、本発明で規定する金属酸化物を用いた反射膜（表２のＮｏ．１５〜Ｎｏ．１７）は、上記で説明した通り、２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下の範囲で、初期の反射率が５．０以上と高く、初期ジッター値についても８．５％以下の低い値を示しており、再生安定性に優れていることが読み取れる。
なお、実施例２においては、本発明で規定する金属酸化物としてＳｎ７０Ｚｎ３０Ｏを用いたが、Ｓｎ７０Ｚｎ３０Ｏ以外の本発明で規定する金属酸化物についても同様に適用することができる。
１０ 基板
２０ 反射膜
２２ 第１の反射膜
２４ 第２の反射膜
３０ 光透過層
３２ 第１の光透過層
３４ 第２の光透過層
４０ 第１の情報記録面
５０ 第２の情報記録面
１００ 読み出し専用の光情報記録媒体（１層光ディスク）
２００ 読み出し専用の光情報記録媒体（２層光ディスク）

Claims (3)

  1. 基板上に反射膜および光透過層が少なくとも１層ずつ順次積層され、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体であって、
    前記反射膜は、Ｓｎ−Ｚｎ−Ｗ酸化物（ただし、Ｗの組成比は、金属酸化物におけるＯ（酸素）を除いた全金属元素の合計に対して４０原子％以上）、Ｓｎ−Ｚｎ−Ｎｂ酸化物、Ｉｎ−Ｗ酸化物およびＩｎ−Ｎｂ酸化物のうち少なくとも１つからなり、かつ、前記反射膜の膜厚が２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体。
  2. 前記反射膜は、波長４０５ｎｍにおける屈折率が１．９以上、かつ、波長４０５ｎｍにおける消衰係数が０．１以下であることを特徴とする請求項１に記載の読み出し専用の光情報記録媒体。
  3. 基板上に反射膜および光透過層が少なくとも１層ずつ順次積層された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる、読み出し専用の光情報記録媒体における反射膜形成用スパッタリングターゲットであって、
    Ｓｎ−Ｚｎ−Ｗ酸化物（ただし、Ｗの組成比は、金属酸化物におけるＯ（酸素）を除いた全金属元素の合計に対して４０原子％以上）、Ｓｎ−Ｚｎ−Ｎｂ酸化物、Ｉｎ−Ｗ酸化物およびＩｎ−Ｎｂ酸化物のうち少なくとも１つからなることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体における反射膜形成用スパッタリングターゲット。
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