CN110603590A - 只读的光信息记录介质和该光信息记录介质的反射膜形成用溅射靶 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及在基板上依次层叠有反射膜和透光层至少各一层,由蓝色激光进行信息的再生的只读的光信息记录介质,反射膜由含有Sn和Zn的金属氧化物或含有In的金属氧化物形成,并且,反射膜的膜厚为20nm以上、70nm以下。根据本发明,能够提供因高反射率和低抖动(再生信号在时间轴上的摆动少)而再生稳定性优异,并且耐久性也良好的只读光信息记录介质。

Description

只读的光信息记录介质和该光信息记录介质的反射膜形成用 溅射靶
技术领域
本发明涉及使用蓝色激光进行再生的只读型的BD(Blu-ray Disc(注册商标)或ブルーレイディスク)等的光信息记录介质和该光信息记录介质的反射膜形成用溅射靶。
背景技术
光信息记录介质(光盘),基于记录再生原理,大致分为只读型、一次写入型或可擦写型这三类。
图1中示意性地显示只读的光信息记录介质(单层光盘)的代表性的结构。如图1所示,只读的光信息记录介质100具有如下结构,在透明塑料等的基板10之上依次层叠有以Ag、Al、Au等为主成分的反射膜20和透光层30。
在基板10上,记录有由被称为岸台·凹坑(记录数据)的凹凸的组合构成的信息,例如,可使用厚度1.1mm,直径12cm的聚碳酸酯制基板。透光层30例如通过透光性树脂的涂布、固化而形成。记录数据的再生,通过检测照射到光盘上的激光的相位差和反射差来进行。
在图1中显示在记录有由岸台·凹坑的组合所构成的信息的基板10上分别形成有各一层的反射膜20和透光层30的单层光盘,但例如像图2所示的那样,也可使用具备第一信息记录面40和第二信息记录面50的双层光盘。
详细地说,图2的双层光盘具有如下构成:在记录有由凹凸的岸台·凹坑(记录数据)的组合构成的信息的基板10上,依次层叠有第一反射膜22、第一透光层32、第二反射膜24和第二透光层34,在第一透光层32上通过岸台·凹坑的组合而记录有与基板10不同的信息。
作为用于光盘的所述反射膜,至今为止,通用的是Au、Cu、Ag、Al及以它们为主成分的合金。
其中,以Au为主成分的反射膜,具有化学稳定性(耐久性)优异,记录特性的经时变化少这样的优点,但极为高价,另外,存在例如对于BD的记录再生所使用的蓝色激光(波长405nm)得不到足够高的反射率这样的问题。另外,以Cu为主成分的反射膜虽然廉价,但在现有的反射膜材料之中是化学稳定性最差的,除此之外,其与Au同样,存在对于蓝色激光的反射率低这样的缺点,用途受到限制。相对于此,以Ag为主成分的反射膜,在作为实用波长区域的400~800nm的范围显示出充分高的反射率,拥有高的化学稳定性,因此,目前在使用蓝色激光的光盘中被广泛利用。
另一方面,以Al为主成分的Al基合金的反射膜廉价,并且在波长405nm下具有充分高的反射率,但与Ag系和Au系的反射膜相比,耐久性差。因此,将Al基合金反射膜适用到DVD-ROM(Digital Versatile Disc Read Only Memory)时,则要使反射膜的厚度充分地厚,大致为40nm左右,以谋求耐久性的提高。
可是,若将这样厚度的Al系反射膜适用于使用蓝色激光的BD-ROM(Blu-ray DiscRead Only Memory)或HD DVD-ROM(High-Definition Digital Versatile Disc ReadOnly Memory)等,则记录信号(再生信号)的精度降低(即,抖动上升),有不能进行稳定的再生(再生稳定性)这样的问题。
另外,在DVD和BD中,因为信息记录层为多层,所以为了记录再生从激光入射侧看而处于深处的信息记录层的信号,需要利用从激光入射侧看而处于近前的层的透射光。但是,如果适用上述这种厚度的Al系反射膜,则由于从激光入射侧看而处于近前的层中的激光的反射和吸收,导致从激光入射侧看而处于深处的层的反射率变小,有得不到充分的S/N(信噪比)这样的问题。
另一方面,为了提高Al系反射膜的再生稳定性和耐久性,例如,提出有专利文献1~专利文献4所示的方法。
其中在专利文献1中公开有一种光盘,其具有如下而成:形成有具有与记录信号相对应的凹坑的凹坑列的光盘基板;成膜于形成有凹坑的面上的反射膜;形成于反射膜上的透光层,其中,从透光层看到的凹坑列包含具有250nm以下的长度和宽度的被微细化的凹坑,Al、Ag、Au的反射膜的厚度被减低至20nm以下。
一般来说,凹坑的微细化会招致信号再生的降低,但在专利文献1中,通过将反射膜的厚度控制在20nm以下,由此避免抖动劣化的问题,提高再生稳定性。但是,若将反射膜的厚度减低至20nm以下,则存在得不到实用上充分的耐久性这样的问题。
在专利文献2中公开有一种技术,其利用形成于基板表面的凹坑和凹坑间的空间与基板长度的关系进行控制,从而改善再生信号的抖动特性。
在专利文献3中,作为即使在温度和湿度急剧变化的条件下仍具有良好的耐久性的只读型光盘,在实施例一栏中公开有一种具备含有4%Ta的Al反射层(厚度100nm)的光盘。
在专利文献4中公开有一种分别含有1~4%的Cr、Fe、Ti的Al基合金反射膜,通过成为这样的合金组成,能够得到反射率高,表面平滑(Ra约为5~10nm),伴随温度变化的晶粒的生长小,反射率的变化小(耐久性优异)的反射膜。
【在先技术文献】
【专利文献】
【专利文献1】国际公开第2000/65584号
【专利文献2】日本国特开2006-66003号公报
【专利文献3】日本国特公平7-62919号公报
【专利文献4】日本国特开2007-092153号公报
在上述专利文献1~专利文献4所示的任意一种方法中,即使通过高反射率和低抖动(再生信号的时间轴上的摆动少)而确保优异的再生稳定性,或者关于耐久性能够满足性能,但仍不能使这些性能并立。
发明内容
本发明鉴于上述情况而形成,其目的在于,提供一种只读光信息记录介质,其具备适合用于像BD-ROM和HD DVD-ROM这样使用蓝色激光的光盘的反射膜,其中,由于高反射率和低抖动而再生稳定性优异,并且耐久性也良好。另外,提供一种上述光信息记录介质的反射膜形成用溅射靶。
本发明者们反复锐意研究的结果发现,具备由特定的金属氧化物形成的反射膜的只读光信息记录介质能够解决上述课题,从而完成了本发明。
即,本发明是关于以下的[1]内容。
[1]一种只读的光信息记录介质,其特征在于,是在基板上依次层叠至少各一层的反射膜和透光层,通过蓝色激光进行信息的再生的只读的光信息记录介质,其中,
所述反射膜包含含有Sn和Zn的金属氧化物或含有In的金属氧化物,并且,所述反射膜的膜厚为20nm以上、70nm以下。
另外,本发明的优选的实施方式是关于以下的[2]~[5]的内容。
[2]根据前述[1]所述的只读的光信息记录介质,其特征在于,所述含有Sn和Zn的金属氧化物或所述含有In的金属氧化物中还含有W或Nb中的至少一种。
[3]根据前述[1]或前述[2]所述的只读的光信息记录介质,其特征在于,所述反射膜在波长405nm下的折射率为1.9以上,并且,在波长405nm下的消光系数为0.1以下。
[4]一种只读的光信息记录介质中的反射膜形成用溅射靶,其特征在于,所述只读的光信息记录介质包含在基板上依次层叠有至少各一层的反射膜和透光层的结构,通过蓝色激光进行信息的再生,
所述溅射靶包含含有Sn和Zn的金属氧化物或含有In的金属氧化物。
[5]根据前述[4]所述的只读的光信息记录介质中的反射膜形成用溅射靶,其特征在于,还含有W或Nb中的至少一种。
根据本发明,能够提供因高反射率和低抖动而再生稳定性优异,并且耐久性也良好的只读光信息记录介质。另外,还能够提供满足上述性能的光信息记录介质中的反射膜形成用溅射靶。
附图说明
图1是示意性地表示只读的光信息记录介质(单层光盘)的圆周方向的要部的剖视图。
图2是示意性地表示其他的只读的光信息记录介质(双层光盘)的圆周方向的要部的剖视图。
具体实施方式
本发明者为了提供因高反射率和低抖动而再生稳定性优异,并且耐久性也良好的只读光信息记录介质,特别是适合用于使用蓝色激光进行再生的BD-ROM和HD DVD-ROM(尤其是双层型的BD-ROM和HD DVD-ROM)等的光信息记录介质(光盘),而进行了锐意研究。
其结果发现,作为反射膜,通过适用含有Sn和Zn的金属氧化物,或含有In的金属氧化物,则因高反射率和低抖动而使再生稳定性优异,此外,还能够实现优异的耐久性。
还有,在本说明书中,所谓“再生稳定性优异”,如后述的实施例所示,意思是初期(加速环境试验前)的盘反射率为5.0%以上,并且,初期抖动值为8.5%以下。另外,所谓“耐久性优异”,如后述的实施例所示,意思是在进行以温度80℃、相对湿度约85%的环境下保持96小时的加速环境试验后的、加速环境试验前后的反射率的降低量(试验后的反射率-试验前的反射率)为10.0%以下(绝对值),且加速环境试验后的抖动为8.5%以下。
以下,对于达到上述本发明的构成的原委进行说明。本发明者在开发再生稳定性优异,并且耐久性也优异的使用金属氧化物的新的反射膜时,对于各种金属氧化物材料调查了加速环境试验前后的光学特性变化和再生稳定性的举动。具体来说,就是制作如下单层BD-ROM盘,对其测量抖动值,测量耐久性,所述单层BD-ROM盘是通过溅射法在形成有凹坑·岸台的聚碳酸酯基板上以各种膜厚成膜各种金属氧化物薄膜后,成膜紫外线固化树脂的透光层而成。其结果判明以下内容。
确认到通过使用含有Sn(锡)和Zn(锌)的氧化物、或In(铟)的氧化物,在确保高成膜速率的基础上没有抖动值的劣化。还确认到,通过混合W(钨)或Nb(铌),折射率提高,反射率进一步提高。
另外还确认到,虽然会根据这些金属氧化物的混合比率而有所不同,但作为反射膜的膜厚如果为20nm以上,则能够得到充分的反射率。另一方面确认到,膜厚高于70nm时,反射率变得过小,并且再生稳定性降低。在确认各种反射膜的结晶性时,确认到具有非晶结构,即使在加速环境试验后仍保持着非晶结构,光学特性的变化小。鉴于以上的实验结果,在本发明中,能够特定再生稳定性极其优异,并且耐久性也优异的只读光信息记录介质。
以下,对于本发明的实施的方式,就每个要件具体加以说明。还有,本发明不受以下说明的实施方式限定。
(金属氧化物)
对用于本发明的只读的光信息记录介质的作为反射膜的金属氧化物详细地说明。
本发明的金属氧化物,是含有Sn和Zn的金属氧化物,或含有In的金属氧化物。以Sn和Zn作为金属元素使用时,重要的是并用Sn和Zn而形成金属氧化物,如后述的实施例所示,用Sn单独的金属氧化物或Zn单独的金属氧化物得不到本发明的效果。另一方面,以In作为金属元素使用时,作为In单独的金属氧化物能够得到本发明的效果。
还有,Sn氧化物、Zn氧化物和In氧化物,其特征是在溅射中的成膜速率高,并且折射率大。通过以并用Sn和Zn的金属氧化物或In单独的金属氧化物作为反射膜使用,不会使折射率降低,而可以减小加速环境试验后的光学特性变化。
这被认为是由于,如果是含有Sn和Zn的金属氧化物,由于Sn与Zn的原子半径的不同,能够对反射膜的结构赋予应变,能够成为非晶结构,其结果是,能够抑制加速环境试验造成的结构变化。另外认为,如果是In氧化物,则因为In氧化物单体其结构稳定性,所以加速环境试验造成的结构变化小。
但是,Sn单独的金属氧化物或Zn单独的金属氧化物,因为被认为在加速环境试验中结晶化容易进行,所以得不到上述的作用效果。
还有,关于Sn的组成比,优选其相对于除去金属氧化物中的O(氧)后的全部金属元素(含Sn和Zn以外的金属元素时,也包含该金属元素。)的合计的组成比为95原子%以下,更优选为90原子%以下。这是因为通过达成上述范围,能够充分取得耐久性提高和反射率提高的效果。另一方面,特别是从确保耐久性的观点出发,优选Sn的组成比为10原子%以上,更优选为15原子%以上。
同样,关于Zn的组成比,优选其相对于除去金属氧化物中的O(氧)后的全部金属元素的合计的组成比为60原子%以下,更优选为50原子%以下。这是因为通过达成上述范围,能够充分取得耐久性提高的效果。同样,从提高耐久性的观点出发,优选为Zn的组成比为5原子%以上,更优选为10原子%以上。
本发明的含Sn和Zn的金属氧化物或含In的金属氧化物,优选还含有W(钨)或Nb(铌)中的至少一种。这些元素被添加到含有Sn和Zn的金属氧化物或含有In的金属氧化物中,能够确保更高的折射率。作为结果是,在光信息记录介质的反射膜中,可以实现高反射率。
还有,关于通过添加这些金属元素能够确保高折射率的理由尚不清楚,但考虑是因为单体下具有高折射率的钨化合物或铌化合物中的金属原子与氧的结合的结构没有受到影响,含有Sn和Zn的金属氧化物或含有In的金属氧化物保持了非晶结构。
关于金属氧化物中包含W时的W的组成比,优选其相对于除去金属氧化物中的O(氧)后的全部金属元素的合计的组成比为5原子%以上,更优选为10原子%以上。这是因为通过达成上述范围,能够得到反射率提高的效果。另一方面,从耐久性提高的观点出发,优选W的组成比为80原子%以下,更优选为70原子%以下。
同样,关于金属氧化物中包含Nb时的Nb的组成比,优选其相对于除去金属氧化物中的O(氧)后的全部金属元素的合计的组成比为3原子%以上,更优选为5原子%以上。这是因为通过达成上述范围,能够得到反射率提高的效果。另一方面,从膜形成所花费的时间(溅射速率)的观点出发,优选Nb的组成比为50原子%以下,更优选为40原子%以下。
以上,以本发明的金属氧化物作为反射膜使用时,如上述,由于高反射率和低抖动而再生稳定性优异,并且,能够兼顾优异的耐久性。此外,因为使用金属氧化物,所以与现有的使用了Ag的反射膜相比,制造成本的方面也有利。
(反射膜)
接着,对用于本发明的只读的光信息记录介质的反射膜进行详细说明。
如上述,本发明的反射膜,其特征是,由含有Sn和Zn的金属氧化物,或含有In的金属氧化物这样的材料形成。
关于反射膜的膜厚,从抑制反射率变得过小的观点出发,需要为20nm以上,优选为30nm以上。另一方面,若膜厚过厚,则由于光学的干涉导致反射率变小,因此需要为70nm以下,优选为60nm以下。
关于反射膜的折射率,从确保高反射率的观点出发,优选波长405nm下的折射率为1.9以上,更优选为2.0以上。另外,关于反射膜的消光系数,若消光系数过高,则光的吸收率变高,因此透射性降低,从激光入射侧看而处于深处的层的反射率变小。因此,波长405nm下的消光系数优选为0.1以下,更优选为0.07以下。还有,关于本发明的反射膜的折射率和消光系数的测量方法为光谱椭圆偏振。
(其他的光信息记录介质的构成)
本发明的只读的光信息记录介质,具有的特征在于,以上述金属氧化物作为反射膜使用,适用该金属氧化物所形成的反射膜的光盘的构成和种类(透光层、基板等的种类)没有特别限定,能够采用通常所用的光盘。
用于本发明的基板的种类没有特别限定,能够使用光盘用基板所通用的树脂,例如,聚碳酸酯树脂和丙烯酸树脂等。若考虑价格和力学特性等,则优选使用聚碳酸酯。
基板的厚度,优选大致在0.4~1.2mm的范围内。另外,基板上所形成的凹坑的深度,优选大致在50~100nm的范围内。
用于本发明的透光层的种类也没有限定,例如,能够使用紫外线固化树脂、聚碳酸酯树脂等。透光层的厚度,作为单层光盘时,优选为100μm左右,作为2层光盘时,优选第一透光层的厚度为25μm左右,第二透光层的厚度为75μm左右。
用于本发明的由金属产物形成的反射膜,例如,能够通过溅射法、蒸镀法等成膜,但优选溅射法。这是由于根据溅射法,上述的金属元素和氧分散得均匀,因此能够得到均质的膜,能够得到稳定的光学特性和耐久性。
溅射时的成膜条件没有特别限定,不过,例如,优选采用以下的条件。
·基板温度:室温~50℃
·到达真空度:1×10-5Torr以下(1×10-3Pa以下)
·成膜时的气压:0.1~1.0Pa,氧分压:1~50%
·DC溅射功率密度(靶的单位面积的DC溅射功率):1.0~20W/cm2
(溅射靶)
作为用于形成本发明的只读的光信息记录介质中的反射膜的溅射靶,可以使用含有Sn和Zn的金属氧化物或含有In的金属氧化物的溅射靶。即,可以使用与本发明的反射膜的成分组成基本上相同的溅射靶。另外,含有Sn和Zn的金属氧化物或含有In的金属氧化物,如上述说明,优选含有W或Nb中的至少一种。通过使用这样的溅射靶,能够容易地成膜希望成分组成的反射膜。
另外,本发明的溅射靶,优选体积电阻率为1Ωcm以下,这是为了稳定地进行使用直流电源的溅射。
溅射靶通过熔解·铸造法、粉末烧结法、喷射成形法等任意一种方法都能够制造,但若考虑生产率等,则优选使用粉末烧结法。
关于成膜,也能够在氧气氛中进行反应性溅射,将Zn和Sn的金属作为溅射靶使用,但因它们熔点低,所以为了避免以大功率进行成膜时的熔融,优选以Sn氧化物和Zn氧化物为原料,以粉末烧结法进行制造。W或Nb可以以金属粉末或金属氧化物粉末的任意一种作为原料。
【实施例】
以下,列举实施例和比较例更具体地说明本发明,但本发明不受这些实施例限定,在能够符合其宗旨的范围也可以加以变更实施,这些均包含在本发明的技术范围内。
<实施例1>
(单层BD-ROM的制作)
在本实施例中,如以下这样制作表1所示的各种单层BD-ROM(No.1~No.13)。
首先,使用具有岸台·凹坑的Ni压模,对聚碳酸酯进行注塑成型而得到厚度1.1mm的BD-ROM基板。在所得到的BD-ROM基板上,使用表1所示的各种成分组成(表1中的No.2~No.13的各金属氧化物的组成,表示各元素相对于除去O以外的全部金属元素的合计的比例。)的金属氧化物或金属靶,在氧气氛中进行反应性溅射,分别形成表1所示的膜厚的反射膜。
还有,溅射条件为,Ar气体流量:20sccm,Ar气压:2mTorr,成膜功率:DC400W,到达真空度:2.0×10-6Torr以下。反射膜的厚度通过使溅射时间变化来进行控制。
接着,通过旋涂法使厚度为100μm而涂布紫外线固化树脂,通过紫外线照射使树脂固化而形成透光层。如此,制作具有各种组成的反射膜的单层BD-ROM。
(抖动的测量)
使用パルステック社制ODU-1000和テクトロニクス社制时间间隔分析器(タイムインターバルアナライザ)TA820,按以下条件测量抖动。在本实施例中,将初期(加速环境试验前)的抖动为8.5%以下的作为再生稳定性优异,为合格。
·再生激光功率:1~2mW
·盘旋转速度:4.98m/s
(反射率的测量)
关于反射率,使用パルステック社制ODU-1000,以读出功率0.35mW进行再生后,使用横河电机社制数字示波器(商品名DL1640L),测量反射信号的最大水平(反射强度,单位:mV),将该反射强度换算成盘反射率而定义为“反射率”。在本实施例中,将初期(加速环境试验前)的盘反射率为5.0%以上的作为合格。
(耐久性的评价)
对于制作的BD-ROM的一部分,进行在温度80℃、相对湿度约85%的大气气氛中保持96小时的加速环境试验。在本实施例中,加速环境试验前后的反射率的降低量(试验后的反射率-试验前的反射率)在10.0%以下(绝对值)为合格。另外,加速环境试验后的抖动在8.5%以下的为合格。
这些结果显示在表1中。
【表1】
由表1的结果能够进行如下考察。即,使用了本发明中规定的金属氧化物的反射膜(表1的No.4~No.13),初期(加速环境试验前)的反射率高达5.0以上,初期抖动值也显示出8.5%以下的低值。因此,可理解为再生稳定性优异。另外,反射率的变化率(加速环境试验前后的反射率的降低量)低至10.0%以下(绝对值),加速环境试验后的抖动也显示出8.5%以下的低值,可理解为耐久性优异。根据以上的结果,作为本发明的实施例的No.4~No.13,再生稳定性优异,并且耐久性也优异,综合判定为“○(合格)”。
相对于此,纯Al膜或Sn氧化物、Zn氧化物等没有使用本发明所规定的金属氧化物的例,结果是得不到高反射率,或发生经过加速环境试验反射率降低,或加速环境试验后的抖动变高等这样耐久性的劣化。
具体来说,No.1因为反射膜由纯Al膜构成,所以结果是初期的反射率虽然显著地高,但是加速环境试验后反射率大幅降低,并且,加速环境试验前后抖动均增大。
另外,No.2因为反射膜由Sn单体的金属氧化物构成,所以初期的反射率低。No.3因为反射膜由Zn单体的金属氧化物构成,所以反射率的变化率显著地低。根据以上的结果,作为本发明的比较例的No.1~No.3,再生稳定性或耐久性差劣,综合判定为“×(不合格)”。
还有,Sn与Zn的组成比相同的No.4(Sn-Zn系)和No.6~No.8(Sn-Zn-W系)进行比较时,添加有W的No.6~No.8的例能够确保高折射率,其结果是显示出更高的反射率。
同样,Sn与Zn的组成比相同的No.4(Sn-Zn系)和No.9或No.10(Sn-Zn-Nb系)进行比较时,添加有Nb的No.9或No.10的例能够确保高折射率,其结果是显示出更高的反射率。
此外,No.11(In系)与No.12(In-W系)或No.13(In-Nb系)进行比较时,添加有W或Nb的No.12或No.13的例能够确保高折射率,其结果是显示出更高的反射率。根据以上的结果,可理解为添加W或Nb带来反射率的提高。
<实施例2>
为了调查使用了本发明中规定的金属氧化物的反射膜的膜厚的影响,对于作为实施例1的No.4的Sn70Zn30O,以表2的方式使膜厚变化,除此以外,均与上述实施例1同样,如此制作单层BD-ROM。
对于以此方式得到的各单层BD-ROM,以与实施例1的情况相同的条件,进行初期(加速环境试验前)的抖动的测量和反射率的测量。还有,初期的抖动为8.5%以下,并且,初期的盘反射率在5.0%以上的为再生稳定性优异,综合判定为“○(合格)”。另外,不满足上述要件的,综合判定为“×(不合格)”。
这些结果显示在表2中。还有,关于表2的No.14和No.18,将“抖动”和“反射率”的结果表述为“-”的,是因为反射率过低而不可计测,因此是未能测量“抖动”和“反射率”情况。
【表2】
根据表2的结果,使用了本发明所规定的金属氧化物的反射膜(表2的No.15~No.17),如上述说明,在20nm以上、70nm以下的范围,初期的反射率高达5.0以上,关于初期抖动值,也显示出8.5%以下的低值,可理解为再生稳定性优异。
还有,在实施例2中,作为本发明中规定的金属氧化物使用了Sn70Zn30O,但对于Sn70Zn30O以外的本发明所规定的金属氧化物也同样能够适用。
参照特定的方式详细地说明了本发明,但不脱离本发明的精神和范围可以进行各种各样的变更和修改,这对于从业者来说很清楚。还有,本申请基于2017年5月11日申请的的日本专利申请(特愿2017-094733),其整体通过引用被援引。
【符号说明】
10 基板
20 反射膜
22 第一反射膜
24 第二反射膜
30 透光层
32 第一透光层
34 第二透光层
40 第一信息记录面
50 第二信息记录面
100 只读的光信息记录介质(单层光盘)
200 只读的光信息记录介质(2层光盘)

Claims (5)

1.一种只读的光信息记录介质,其特征在于,是在基板上依次层叠有至少各一层的反射膜和透光层,通过蓝色激光进行信息的再生的只读的光信息记录介质,
所述反射膜包含含有Sn和Zn的金属氧化物或含有In的金属氧化物,并且所述反射膜的膜厚为20nm以上、70nm以下。
2.根据权利要求1所述的只读的光信息记录介质,其特征在于,在所述含有Sn和Zn的金属氧化物或所述含有In的金属氧化物中,还含有W或Nb中的至少一种。
3.根据权利要求1或2所述的只读的光信息记录介质,其特征在于,所述反射膜在波长405nm下的折射率为1.9以上,并且,波长405nm下的消光系数为0.1以下。
4.一种只读的光信息记录介质中的反射膜形成用溅射靶,其特征在于,所述只读的光信息记录介质含有在基板上依次层叠有至少各一层的反射膜和透光层的结构,通过蓝色激光进行信息的再生,
所述溅射靶包含含有Sn和Zn的金属氧化物或含有In的金属氧化物。
5.根据权利要求4所述的只读的光信息记录介质中的反射膜形成用溅射靶,其特征在于,还含有W或Nb中的至少一种。
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