JPH01150256A - 情報記録媒体の製造法 - Google Patents
情報記録媒体の製造法Info
- Publication number
- JPH01150256A JPH01150256A JP62310283A JP31028387A JPH01150256A JP H01150256 A JPH01150256 A JP H01150256A JP 62310283 A JP62310283 A JP 62310283A JP 31028387 A JP31028387 A JP 31028387A JP H01150256 A JPH01150256 A JP H01150256A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dyes
- group
- layer
- information recording
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 23
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 52
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 42
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical group [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 13
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 6
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 77
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 59
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 49
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 10
- -1 metal complex salt Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 7
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 7
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 claims description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001013 indophenol dye Substances 0.000 claims description 4
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 claims description 3
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical compound C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 claims description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 claims description 2
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 claims description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 5
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 abstract 6
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 108
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 16
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 11
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 10
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000434 metal complex dye Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 125000000043 benzamido group Chemical group [H]N([*])C(=O)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical class [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical group C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enylhepta-1,6-diene Chemical compound C=CCC(CC=C)CC=C XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001756 Polyvinyl chloride acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 241001365914 Taira Species 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- LMBQFLQKKMVTMV-UHFFFAOYSA-N cyclohepta[b]pyrrole Chemical group C1=CC=CC2=NC=CC2=C1 LMBQFLQKKMVTMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000002991 molded plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052699 polonium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Chemical group 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Chemical group 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- OBTWBSRJZRCYQV-UHFFFAOYSA-N sulfuryl difluoride Chemical compound FS(F)(=O)=O OBTWBSRJZRCYQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M toluene-4-sulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical group 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
- G06K19/02—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the selection of materials, e.g. to avoid wear during transport through the machine
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび/または読み取りができる情報記
録媒体の製造法に関するものである。
情報の書き込みおよび/または読み取りができる情報記
録媒体の製造法に関するものである。
[発明の技術的背景]
近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、たとえばビデオ・ディスク、オ
ーディオ・ディスクなどの光ディスク、更には大容量静
止画像ファイル、大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リー、あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、超マ
イクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植字
用原版などに応用されている。
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、たとえばビデオ・ディスク、オ
ーディオ・ディスクなどの光ディスク、更には大容量静
止画像ファイル、大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リー、あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、超マ
イクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植字
用原版などに応用されている。
情報記録媒体は基本的に、プラスチック、ガラス等から
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては、Bi、Sn、In、T
e等の金属または半金属:およびシアニン系、金属錯体
系、キノン系等の色素が知られている。
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては、Bi、Sn、In、T
e等の金属または半金属:およびシアニン系、金属錯体
系、キノン系等の色素が知られている。
情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。記録媒
体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを記録
媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報が再生される。
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。記録媒
体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを記録
媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報が再生される。
また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合してなるエアー
サンドイッチ構造が提案されている。このような構造を
有する情報記録媒体では、記録層は直接外気に接するこ
とがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー
光で行なわれるために、一般に記録層が物理的または化
学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着
して情報の記録、再生の障害となることがない。
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合してなるエアー
サンドイッチ構造が提案されている。このような構造を
有する情報記録媒体では、記録層は直接外気に接するこ
とがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー
光で行なわれるために、一般に記録層が物理的または化
学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着
して情報の記録、再生の障害となることがない。
記録材料として色素を用いた情報記録媒体は、高感度で
あるなど記録媒体自体の特性において優れていることの
ほかに、記録層を塗布法により基板上に簡単に形成する
ことができるという製造上の大きな利点を有している。
あるなど記録媒体自体の特性において優れていることの
ほかに、記録層を塗布法により基板上に簡単に形成する
ことができるという製造上の大きな利点を有している。
シアニン系色素など大多数の色素は一般に溶解性が低く
、塗布液を調製する際には通常色素に対して溶解度の高
い溶剤としてジクロロメタン、ジクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素が使用されている。
、塗布液を調製する際には通常色素に対して溶解度の高
い溶剤としてジクロロメタン、ジクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素が使用されている。
しかしながら、こわらのハロゲン化炭化水素系溶剤に対
してプラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を塗布
した場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けられて
いるトラッキング用グループなどの凹凸が消失したり、
基板材料の記録層への混入により記録層の反射率が低下
するなどの問題がある。このような問題を解決するため
に、たとえば特開昭59−217241号公報には、予
めプラスチック基板にハロゲン化炭化水素溶剤に対する
不溶化処理を施すことが記載されている。
してプラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を塗布
した場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けられて
いるトラッキング用グループなどの凹凸が消失したり、
基板材料の記録層への混入により記録層の反射率が低下
するなどの問題がある。このような問題を解決するため
に、たとえば特開昭59−217241号公報には、予
めプラスチック基板にハロゲン化炭化水素溶剤に対する
不溶化処理を施すことが記載されている。
[発明の要旨]
本発明は、新規な溶剤を用いて情報記録媒体を製造する
方法を、提供することをその目的とするものである。
方法を、提供することをその目的とするものである。
また本発明は、情報記録媒体を製造するに際して基板を
溶解することなく、塗布法により基板上に層厚の均一な
記録層を形成する方法を提供することもその目的とする
ものである。
溶解することなく、塗布法により基板上に層厚の均一な
記録層を形成する方法を提供することもその目的とする
ものである。
さらに本発明は、情報記録媒体を簡易に製造する方法を
提供することもその目的とするものである。
提供することもその目的とするものである。
上記の目的は、ジアセトンアルコールを含む溶剤に色素
を溶解して塗布液を調製した後、該塗布液を基板上に塗
布乾燥することによりレーザーによる情報の書き込みお
よび/または読み取りが可能な色素記録層を形成するこ
とを特徴とする↑11報記録媒体の製造法、およびニ ジアセトンアルコールを含む溶剤にポリマーを溶解して
塗布液を調製した後、該塗布液を基板上に塗布乾燥する
ことにより中間層を形成し、次いで該中間層上に色素記
録層または金属記録層を形成することを特徴とする情報
記録媒体の製造法により達成することができる。
を溶解して塗布液を調製した後、該塗布液を基板上に塗
布乾燥することによりレーザーによる情報の書き込みお
よび/または読み取りが可能な色素記録層を形成するこ
とを特徴とする↑11報記録媒体の製造法、およびニ ジアセトンアルコールを含む溶剤にポリマーを溶解して
塗布液を調製した後、該塗布液を基板上に塗布乾燥する
ことにより中間層を形成し、次いで該中間層上に色素記
録層または金属記録層を形成することを特徴とする情報
記録媒体の製造法により達成することができる。
すなわち、本発明は、色素を記録材料とする記録層形成
のため、あるいは記録層の下塗としてのポリマーからな
る中間層形成のための塗布液調製用の溶剤としてジアセ
トンアルコールを用いることにより、塗布液の調製を容
易にし、かつ層厚の均一な塗布層の形成を可能にし、さ
らに塗布液により基板が溶解するのを防止するものであ
る。
のため、あるいは記録層の下塗としてのポリマーからな
る中間層形成のための塗布液調製用の溶剤としてジアセ
トンアルコールを用いることにより、塗布液の調製を容
易にし、かつ層厚の均一な塗布層の形成を可能にし、さ
らに塗布液により基板が溶解するのを防止するものであ
る。
本発明において、溶剤として用いられるジアセトンアル
コールはシアニン系色素などの色素およびポリマーに対
する溶解度が高いため、記録層あるいは中間層形成のた
めの塗布液を容易に調製することができる。また、この
化合物はポリカーボネートなどのプラスチック物質から
なる基板に対して不溶性であるため、塗布過程で基板が
溶解することがない。
コールはシアニン系色素などの色素およびポリマーに対
する溶解度が高いため、記録層あるいは中間層形成のた
めの塗布液を容易に調製することができる。また、この
化合物はポリカーボネートなどのプラスチック物質から
なる基板に対して不溶性であるため、塗布過程で基板が
溶解することがない。
従って、本発明によれば、従来より問題となっていた基
板表面のグループの消失および記録層の反射率の低下な
どが生じることがなく、高性能の情報記録媒体を製造す
ることができる。また、予め基板に溶剤に対する不溶化
処理などを行なう必要もないから、記録媒体の製造工程
が煩雑となったり、製造コストが高くなることもない。
板表面のグループの消失および記録層の反射率の低下な
どが生じることがなく、高性能の情報記録媒体を製造す
ることができる。また、予め基板に溶剤に対する不溶化
処理などを行なう必要もないから、記録媒体の製造工程
が煩雑となったり、製造コストが高くなることもない。
尚、本発明の中間層とは、記録層の下の平面性および/
または記録特性の向上のために設けられた塗布層の全て
を意味し、いわゆる下塗層も含んでいる。
または記録特性の向上のために設けられた塗布層の全て
を意味し、いわゆる下塗層も含んでいる。
[発明の詳細な記述]
本発明の情報記録媒体を製造するためには、基板上に、
中間層および/または色素記録層等塗布型記録層(以下
は主に色素記録層について説明する)をジアセトンアル
コールを含む溶剤に色素またはポリマー溶解して塗布液
を調製した後、該塗布液を基板上に塗布乾燥することに
より形成することが必要である。
中間層および/または色素記録層等塗布型記録層(以下
は主に色素記録層について説明する)をジアセトンアル
コールを含む溶剤に色素またはポリマー溶解して塗布液
を調製した後、該塗布液を基板上に塗布乾燥することに
より形成することが必要である。
すなわち本発明の主な目的は、基板に直接塗布する際に
基板を侵すことなく塗布層を設けることにあるので、そ
の塗布層が記録層であってもポリマーからなる中間層で
あっても同じ効果を得ることができる。従って、本発明
の基本的な構成は、基板に色素記録層を設ける、あるい
は基板に中間層を設けた後色素記録層または金属記録層
を設ける形である。これらの構成の情報記録媒体の製造
方法について以下に記載する。
基板を侵すことなく塗布層を設けることにあるので、そ
の塗布層が記録層であってもポリマーからなる中間層で
あっても同じ効果を得ることができる。従って、本発明
の基本的な構成は、基板に色素記録層を設ける、あるい
は基板に中間層を設けた後色素記録層または金属記録層
を設ける形である。これらの構成の情報記録媒体の製造
方法について以下に記載する。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメタク
リレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等のアク
リル樹脂:ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩
化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂:およびポリカーボネー
ト樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル;
ソーダ石灰ガラス等のガラス;およびセラミックスを挙
げることができる。
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメタク
リレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等のアク
リル樹脂:ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩
化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂:およびポリカーボネー
ト樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル;
ソーダ石灰ガラス等のガラス;およびセラミックスを挙
げることができる。
プレグルーブ付き基板は、たとえば、ポリカーボネート
樹脂、ポリアクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、エポキ
シ樹脂および非晶質ポリオレフィンなどのプラスチック
材料(好ましくはポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレートおよび非晶質ポリオレフィン)を射出成型して
製造する方法、プラスチック板、平面基板にプレグルー
ブを有する樹脂層を積層させる方法などによって製造す
ることができ、これらの方法は既に一般的に知られてい
る。
樹脂、ポリアクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、エポキ
シ樹脂および非晶質ポリオレフィンなどのプラスチック
材料(好ましくはポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレートおよび非晶質ポリオレフィン)を射出成型して
製造する方法、プラスチック板、平面基板にプレグルー
ブを有する樹脂層を積層させる方法などによって製造す
ることができ、これらの方法は既に一般的に知られてい
る。
本発明の情報記録媒体を製造する方法としては、たとえ
ば、下記のように行なわれる。
ば、下記のように行なわれる。
まず、基板表面上に公知のスピンコード法により中間塗
布層を形成させる。
布層を形成させる。
なあ、塗布法により形成される中間層の例としては、接
着層、断熱層、反射層、感度向上層(ガス発生層)など
を挙げることができる。
着層、断熱層、反射層、感度向上層(ガス発生層)など
を挙げることができる。
中間塗布層に使用されるポリマーとしては、例えばポリ
メチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重
合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニル
アルコール、N−メチロール・アクリルアミド共重合体
、スチレン・スルホン酸共重合体、スチレン・ビニルト
ルエン共重合体、塩素化ポリエチレン、クロルスルホン
化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、
ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共
重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリカーボネートなどを挙げること
ができる。これらのポリマーを溶剤に溶解した塗布液を
用いて中間層を形成することができる。
メチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重
合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニル
アルコール、N−メチロール・アクリルアミド共重合体
、スチレン・スルホン酸共重合体、スチレン・ビニルト
ルエン共重合体、塩素化ポリエチレン、クロルスルホン
化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、
ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共
重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリカーボネートなどを挙げること
ができる。これらのポリマーを溶剤に溶解した塗布液を
用いて中間層を形成することができる。
本発明の特徴的な要件である塗布液調製用の溶剤には、
ジアセトンアルコールが用いられる。他の溶剤と混合し
て使用する際は、ジアセトンアルコールが少なくとも1
0重量%以上含んでおり、好ましくは50〜100重量
%であり、特に好ましくはくは90〜100重量%であ
る。
ジアセトンアルコールが用いられる。他の溶剤と混合し
て使用する際は、ジアセトンアルコールが少なくとも1
0重量%以上含んでおり、好ましくは50〜100重量
%であり、特に好ましくはくは90〜100重量%であ
る。
ジアセトンアルコールは分子内にカルボニル基と水酸基
を有し、このためケトンとアルコールの一般的性質を示
す。すなわち、基板に使用されるあるプラスチック材料
はかなり高分子であるために、これらに対してはジアセ
トンアルコールが溶解により侵すというようなことはほ
とんど超こらない。しかしながら、比較的低分子である
後述する色素や上記中間層相等ポリマーに対してはかな
りの溶解性を71(シ、もし溶解性が充分で無い場合で
も助溶剤程度の働きは持っているのでプラスチック基板
を侵さない目的で使用することには全く問題はない。
を有し、このためケトンとアルコールの一般的性質を示
す。すなわち、基板に使用されるあるプラスチック材料
はかなり高分子であるために、これらに対してはジアセ
トンアルコールが溶解により侵すというようなことはほ
とんど超こらない。しかしながら、比較的低分子である
後述する色素や上記中間層相等ポリマーに対してはかな
りの溶解性を71(シ、もし溶解性が充分で無い場合で
も助溶剤程度の働きは持っているのでプラスチック基板
を侵さない目的で使用することには全く問題はない。
特に上記ポリマーに対してはジアセトンアルコールの溶
解性は比較的高く、しかも高沸点であり且つ基板を侵さ
ないため、基板に上記ポリマーを含む中間層を塗布した
際の流展性が向上することから、得られる中間層は表面
が平滑で且つ均一な層厚なものとなり好ましい。
解性は比較的高く、しかも高沸点であり且つ基板を侵さ
ないため、基板に上記ポリマーを含む中間層を塗布した
際の流展性が向上することから、得られる中間層は表面
が平滑で且つ均一な層厚なものとなり好ましい。
本発明において、上記ジアセトンアルコールは単独で溶
剤として用いてもよいが、上記の範囲にて他の溶剤を併
用することにより混合溶剤として用いてもよい。
剤として用いてもよいが、上記の範囲にて他の溶剤を併
用することにより混合溶剤として用いてもよい。
そのような溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタ
ノール、n−プロパツール、イソプロパツール、n〜ブ
タノールなどのポリマーを溶解しつる溶剤を挙げること
ができる。
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタ
ノール、n−プロパツール、イソプロパツール、n〜ブ
タノールなどのポリマーを溶解しつる溶剤を挙げること
ができる。
中間塗布層の層厚(平均層厚)は、中間層に要求される
特性を考慮して決定されている。中間塗布層の層厚は通
常は50〜5000X、好ましくは100〜1000又
である 中間塗布層の上には、記録層が設けられる。
特性を考慮して決定されている。中間塗布層の層厚は通
常は50〜5000X、好ましくは100〜1000又
である 中間塗布層の上には、記録層が設けられる。
記録層が金属記録層の場合、記録層に用いられる材料の
例としては、Te、Zn、In、Sn、Zr、A11.
、Cu、Ge等の金属;Bi、As、sb等の半金属;
Ge、Si等の半導体:およびこれらの合金またはこれ
らの組合せを挙げることができる。また、これらの金属
または半金属の硫化物、酸化物、ホウ化物、ケイ素化合
物、炭化物および窒化物等の化合物:およびこれらの化
合物と金属との混合物も記録層に用いることができる。
例としては、Te、Zn、In、Sn、Zr、A11.
、Cu、Ge等の金属;Bi、As、sb等の半金属;
Ge、Si等の半導体:およびこれらの合金またはこれ
らの組合せを挙げることができる。また、これらの金属
または半金属の硫化物、酸化物、ホウ化物、ケイ素化合
物、炭化物および窒化物等の化合物:およびこれらの化
合物と金属との混合物も記録層に用いることができる。
上記金属記録層は、上記の記録材料を蒸着、スパッタリ
ング、イオンブレーティングなどの方法によって中間塗
布層上に形成することができる。
ング、イオンブレーティングなどの方法によって中間塗
布層上に形成することができる。
記録層は単層または重層でもよいが、その層厚は光情報
記録に要求される光学濃度の点から一般に100〜50
00λの範囲である。
記録に要求される光学濃度の点から一般に100〜50
00λの範囲である。
基板上の記録層として、上記のような金属層を設けない
場合は、色素記録層が設けられる。基板上の記録層が色
素記録層の場合は、前記中間層はあっても良いし、無く
ても良い。しかし前記中間層の無い場合の方が色素塗布
液を基板に直接塗布することになるので、色素を溶解す
る溶剤にジアセトンアルコールを使用する効果が顕著に
発揮されることになる。
場合は、色素記録層が設けられる。基板上の記録層が色
素記録層の場合は、前記中間層はあっても良いし、無く
ても良い。しかし前記中間層の無い場合の方が色素塗布
液を基板に直接塗布することになるので、色素を溶解す
る溶剤にジアセトンアルコールを使用する効果が顕著に
発揮されることになる。
色素記録層は、実質的に色素のみからなる層であるか、
あるいは色素とこれを分散する結合剤からなる層である
。
あるいは色素とこれを分散する結合剤からなる層である
。
本発明において色素としては、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなとの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、
トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、
アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化
合物を挙げることができる。
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなとの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、
トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、
アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化
合物を挙げることができる。
これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。
その例としては、
i)シアニン系色素:
[+1 (に113)2N−((:11=に11)5−
CH−”N((:113)2 Cl3(L−(ただし、
nは2または3である) (ただし、Rは水素原子またはN(CIl3)2である
) [4] A−(CIl−C8)。−(:1l−8ハ X RRR であり、Rはアルキル基であり、Xは対イオンであり、
場合によりベンゼン環またはナフタリン環には塩素原子
、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が存在し
ていてもよく、nは0〜3の整数である) RX−R (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハロゲン、バー
クロレート、RF6−、パーフルオロアルカンスルホネ
ート、置換または非置換のベンゼンスルホネートなどの
陰イオンである)RY−R (ただし、Rは置換または未置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素
原子またはハロゲン原子であり、Yはハロゲン、バーク
ロレート、置換または未置換のベンゼンスルホネート、
パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチ
ルスルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカ
ルボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシレ
ートなどの陰イオンであり、nは0〜3の整数である) R3X−83 (ただし、R1,R2およびR3はそれぞれ置換または
未置換のアルキル基であって、互いに同じか異なってい
てもよく、X−は過ハロゲン酸イオン、RF6−1置換
または非置換のベンゼンスルスルホン酸イオン、パーフ
ルオロスルホン酸イオンまたはアルキル硫酸イオンなど
の陰イオンてあり、nはO〜3の整数であり、そしてイ
ンドレニン環の4位、5位、6位および7位のうちの少
なくとも一つにハロゲン原子が存在し、場合により他の
位置にさらにハロゲン原子が存在していてもよく、さら
に場合によりベンゼン環はアルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基、カルボキシ基、アリル基またはアルキル
カルボニル基などで置換されていてもよい) (ただし、AIおよびA2はそれぞれ水素原子または置
換基であり、Zは五員複素環を形成するのに必要な原子
団であり、R1〜R4はそれぞれ水素原子または置換基
であり、R5は置換基であるかまたはZと共に六員複素
環を形成してもよく、X−は陰イオンであり、nは0〜
2の整数である) c2u<ocu、 −cIto、t−C2114
(H;113Czl15(:N GN
G2115[11] 0−L=重(X−)1.l(
ただし、Φおよび平はそれぞれ芳香族環が縮合していて
もよいインドール環残基、チアゾール環残基、オキサゾ
ール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残基
またはピリジン環残基であり、Lはモノカルボシアニン
、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテトラ
カルボシアニンを形成するための連結基であり、X−は
陰イオンであり、mは0または1である)ii)スクワ
リリウム系色素: 1ii)アズレニウム系色素: (ただし、R皿とR2,R2とR3、R3とR4、R4
とR5、RsとR6およびR6とR7の組合せのうち少
なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の複素環ま
たは脂肪族環による環を形成し、鎖環を形成しないとき
の)j l 、 R2、R3、R4、)j5 、)j6
およびR7はそれぞわ水素原子、ハロゲン原子または一
価の有機残基であり、あるいはR1とR2、R3とR4
、R4とR5、R6とR6およびR6とR7の組合せの
うち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳
香族環を形成してもよく、Aは二重結合によって結合し
た二価の有機残基であり、2−はアニオン残基である。
CH−”N((:113)2 Cl3(L−(ただし、
nは2または3である) (ただし、Rは水素原子またはN(CIl3)2である
) [4] A−(CIl−C8)。−(:1l−8ハ X RRR であり、Rはアルキル基であり、Xは対イオンであり、
場合によりベンゼン環またはナフタリン環には塩素原子
、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が存在し
ていてもよく、nは0〜3の整数である) RX−R (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハロゲン、バー
クロレート、RF6−、パーフルオロアルカンスルホネ
ート、置換または非置換のベンゼンスルホネートなどの
陰イオンである)RY−R (ただし、Rは置換または未置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素
原子またはハロゲン原子であり、Yはハロゲン、バーク
ロレート、置換または未置換のベンゼンスルホネート、
パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチ
ルスルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカ
ルボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシレ
ートなどの陰イオンであり、nは0〜3の整数である) R3X−83 (ただし、R1,R2およびR3はそれぞれ置換または
未置換のアルキル基であって、互いに同じか異なってい
てもよく、X−は過ハロゲン酸イオン、RF6−1置換
または非置換のベンゼンスルスルホン酸イオン、パーフ
ルオロスルホン酸イオンまたはアルキル硫酸イオンなど
の陰イオンてあり、nはO〜3の整数であり、そしてイ
ンドレニン環の4位、5位、6位および7位のうちの少
なくとも一つにハロゲン原子が存在し、場合により他の
位置にさらにハロゲン原子が存在していてもよく、さら
に場合によりベンゼン環はアルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基、カルボキシ基、アリル基またはアルキル
カルボニル基などで置換されていてもよい) (ただし、AIおよびA2はそれぞれ水素原子または置
換基であり、Zは五員複素環を形成するのに必要な原子
団であり、R1〜R4はそれぞれ水素原子または置換基
であり、R5は置換基であるかまたはZと共に六員複素
環を形成してもよく、X−は陰イオンであり、nは0〜
2の整数である) c2u<ocu、 −cIto、t−C2114
(H;113Czl15(:N GN
G2115[11] 0−L=重(X−)1.l(
ただし、Φおよび平はそれぞれ芳香族環が縮合していて
もよいインドール環残基、チアゾール環残基、オキサゾ
ール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残基
またはピリジン環残基であり、Lはモノカルボシアニン
、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテトラ
カルボシアニンを形成するための連結基であり、X−は
陰イオンであり、mは0または1である)ii)スクワ
リリウム系色素: 1ii)アズレニウム系色素: (ただし、R皿とR2,R2とR3、R3とR4、R4
とR5、RsとR6およびR6とR7の組合せのうち少
なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の複素環ま
たは脂肪族環による環を形成し、鎖環を形成しないとき
の)j l 、 R2、R3、R4、)j5 、)j6
およびR7はそれぞわ水素原子、ハロゲン原子または一
価の有機残基であり、あるいはR1とR2、R3とR4
、R4とR5、R6とR6およびR6とR7の組合せの
うち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳
香族環を形成してもよく、Aは二重結合によって結合し
た二価の有機残基であり、2−はアニオン残基である。
なお、アズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原子
が窒素原子で置き換えられてアザアズレン環となってい
てもよい。)iv)インドフェノール系色素: A−R’ Y (ただし、XおよびYはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、R1,1(2およびR3はそれぞれ水素原子、C
1〜C2oの置換または未置換のアルキル基、アリール
基、複素環またはシクロヘキシル基であり、Aは−NH
(:0−または−CONH−である) ■)金属錯塩系色素: (ただし、RI 、、、 R4はそれぞれアルキル基ま
たはアリール基であり、Mは二価の遷移金属原子である
) (ただし、R1およびR2はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Mは二価の遷移金属原子である) (R3)。 (R3)n(
ただし、R1およびR2はそれぞれ置換またけ未置換の
アルキル基またはアリール基であり、R3はアルキル基
、ハロゲン原子または−N−R5基(ここで、R4およ
びR5はそれぞれ置換または未置換のアルキル基または
アリール基である)であり、Mは遷移金属原子であり、
nは0(ただし、[Catlは錯塩を中性ならしめるた
めに必要な陽イオンであり、MはNi、Cu、Co、P
dまたはptであり、nは1または2である) (ただし、[Gat]は錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、MはNi、Cu、Co、Pdまた
はptであり、nは1または2で(ただし、Xは水素原
子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、nは1
〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基である)
(ただし、xlおよびx2はそれぞれニトロ基および/
またはハロゲン原子であり、n、およびR2はそれぞれ
1〜3の整数であり、R1およびR2はそれぞれアミノ
基、′モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ア
セチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基(置換ベンゾイル
アミノ基を含む)であり、xlとX2.n、とR2およ
びR1とR2はそれぞれ互いに同じであっても異なって
いてもよく、MはCrまたはCO原子であり、Yは水素
、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、脂肪族アンモ
ニウム(置換脂肪族アンモニウムを含む)または脂環族
アンモニウムである)vi)ナフトキノン系、アントラ
キノン系色素:(ただし、Rは水素原子、アルキル基、
アリル基、アミノ基または置換アミノ基である)(ただ
し、Rは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基ま
たは置換アミノ基である)(ただし、Rは水素原子、ア
ルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基であ
る)(ただし、Xはハロゲン原子であり、nは0〜10
の整数である) (ただし、Xはハロゲン原子である) ONH2S などを挙げることができる。
が窒素原子で置き換えられてアザアズレン環となってい
てもよい。)iv)インドフェノール系色素: A−R’ Y (ただし、XおよびYはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、R1,1(2およびR3はそれぞれ水素原子、C
1〜C2oの置換または未置換のアルキル基、アリール
基、複素環またはシクロヘキシル基であり、Aは−NH
(:0−または−CONH−である) ■)金属錯塩系色素: (ただし、RI 、、、 R4はそれぞれアルキル基ま
たはアリール基であり、Mは二価の遷移金属原子である
) (ただし、R1およびR2はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Mは二価の遷移金属原子である) (R3)。 (R3)n(
ただし、R1およびR2はそれぞれ置換またけ未置換の
アルキル基またはアリール基であり、R3はアルキル基
、ハロゲン原子または−N−R5基(ここで、R4およ
びR5はそれぞれ置換または未置換のアルキル基または
アリール基である)であり、Mは遷移金属原子であり、
nは0(ただし、[Catlは錯塩を中性ならしめるた
めに必要な陽イオンであり、MはNi、Cu、Co、P
dまたはptであり、nは1または2である) (ただし、[Gat]は錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、MはNi、Cu、Co、Pdまた
はptであり、nは1または2で(ただし、Xは水素原
子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、nは1
〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基である)
(ただし、xlおよびx2はそれぞれニトロ基および/
またはハロゲン原子であり、n、およびR2はそれぞれ
1〜3の整数であり、R1およびR2はそれぞれアミノ
基、′モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ア
セチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基(置換ベンゾイル
アミノ基を含む)であり、xlとX2.n、とR2およ
びR1とR2はそれぞれ互いに同じであっても異なって
いてもよく、MはCrまたはCO原子であり、Yは水素
、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、脂肪族アンモ
ニウム(置換脂肪族アンモニウムを含む)または脂環族
アンモニウムである)vi)ナフトキノン系、アントラ
キノン系色素:(ただし、Rは水素原子、アルキル基、
アリル基、アミノ基または置換アミノ基である)(ただ
し、Rは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基ま
たは置換アミノ基である)(ただし、Rは水素原子、ア
ルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基であ
る)(ただし、Xはハロゲン原子であり、nは0〜10
の整数である) (ただし、Xはハロゲン原子である) ONH2S などを挙げることができる。
これらの色素のうちで、本発明の方法を特に好ましく適
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるし1は二種以上の混合物と
して用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる場合
に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモ
ニウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いてもよい
。
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるし1は二種以上の混合物と
して用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる場合
に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモ
ニウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いてもよい
。
記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。
本発明の特徴的な要件である塗布液調製用の溶剤には、
中間層塗布液を調製の際にポリマーを溶解するのに使用
したのと同様にジアセトンアルコールが用いられる。他
の溶剤と混合して使用する際は、ジアセトンアルコール
が少なくとも10重量%以上含んでい乞ことが好ましい
。
中間層塗布液を調製の際にポリマーを溶解するのに使用
したのと同様にジアセトンアルコールが用いられる。他
の溶剤と混合して使用する際は、ジアセトンアルコール
が少なくとも10重量%以上含んでい乞ことが好ましい
。
ジアセトンアルコールは、前述のように基板に使用され
るあるプラスチック材料に対しては溶解により侵すとい
うようなことはほとんど起こらない。しかしながら、比
較的低分子である色素や結合剤用ポリマーに対してはか
なりの溶解性を示す。
るあるプラスチック材料に対しては溶解により侵すとい
うようなことはほとんど起こらない。しかしながら、比
較的低分子である色素や結合剤用ポリマーに対してはか
なりの溶解性を示す。
特にジアセトンアルコールはシアニン系色素に対する溶
解性は高く、しかも高沸点であるため、基板にシアニン
色素を含む色素を塗布した際の流展性が向上することか
ら、得られる色素記録層は表面が平滑で且つ均一な層厚
なものとなり好ましい。
解性は高く、しかも高沸点であるため、基板にシアニン
色素を含む色素を塗布した際の流展性が向上することか
ら、得られる色素記録層は表面が平滑で且つ均一な層厚
なものとなり好ましい。
色素記録層においても中間層を形成した時と同様に上記
ジアセトンアルコールは単独で溶剤として用いてもよい
が、上記の範囲にて他の溶剤を併用することにより混合
溶剤として用いてもよい。
ジアセトンアルコールは単独で溶剤として用いてもよい
が、上記の範囲にて他の溶剤を併用することにより混合
溶剤として用いてもよい。
他の溶剤は中間層で示した溶剤を使用することができる
。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤
、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい
。
。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤
、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい
。
結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質:およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共用合体等のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の
初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることがで
きる。
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質:およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共用合体等のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の
初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることがで
きる。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1゜0〜95%(重量比)の
範囲にある。また、溶剤が弗素含有溶剤と他−の溶剤と
の混合系である場合には、その組合せ、色素および基板
の種類によっても異なるが、一般には弗素含有溶剤は溶
剤全体の5〜95%(重量比)の範囲で使用され、好ま
しくは30〜90%(重量比)の範囲にある。このよう
にして調製される塗布液の濃度は一般に0.01〜10
%(重量比)の範囲にあり、好ましくは0.1〜5%(
重量比)の範囲にある。
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1゜0〜95%(重量比)の
範囲にある。また、溶剤が弗素含有溶剤と他−の溶剤と
の混合系である場合には、その組合せ、色素および基板
の種類によっても異なるが、一般には弗素含有溶剤は溶
剤全体の5〜95%(重量比)の範囲で使用され、好ま
しくは30〜90%(重量比)の範囲にある。このよう
にして調製される塗布液の濃度は一般に0.01〜10
%(重量比)の範囲にあり、好ましくは0.1〜5%(
重量比)の範囲にある。
記録層は単層でも石層でもよいが、その層厚は一般に0
.01〜10μmの範囲にあり、好ましくは0.02〜
1μmの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみな
らず両面に設けられていてもよい。
.01〜10μmの範囲にあり、好ましくは0.02〜
1μmの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみな
らず両面に設けられていてもよい。
さらに、記録層の上には、情報の再生時におけるS/N
比の向上および記録時における感度の向上の目的で、反
射層が設けられてもよい。
比の向上および記録時における感度の向上の目的で、反
射層が設けられてもよい。
反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se
、Y、Ti%Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo
% W% Mn、Re、Fe% C01Ni% Ru、
Rh% Pd、Ir。
反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se
、Y、Ti%Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo
% W% Mn、Re、Fe% C01Ni% Ru、
Rh% Pd、Ir。
Pt、Cu、Ag% Au% Zn、Cd、Art。
Ga、In、Si% Ge、Te、Pb、Po。
Sn、Biなどの金属および半金属を挙げることができ
る。これらのうちで好ましいものはA1、CrおよびN
iである。これらの物質は単独で用いてもよいし、ある
いは二種以上の組合せでまたは合金として用いてもよい
。
る。これらのうちで好ましいものはA1、CrおよびN
iである。これらの物質は単独で用いてもよいし、ある
いは二種以上の組合せでまたは合金として用いてもよい
。
反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。
反射層の層厚は一般には100〜3000又の範囲にあ
る。
る。
なあ、反射層は基板と記録層との間に設けられてもよく
、この場合には情報の記録再生は記録層側(基板とは反
対の側)から行なわれる。
、この場合には情報の記録再生は記録層側(基板とは反
対の側)から行なわれる。
また、記録層(または反射層)の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい。この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい。この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。
保護層に用いられる材料の例としては、5iO1Si0
2、MgF2.5n02等の無機物質:熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。
2、MgF2.5n02等の無機物質:熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。
′保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られ
たフィルムを接着層を介して記録層(または銀塩層ある
いは反射層)上および/または基板上にラミネートする
ことにより形成することができる。あるいは真空蒸着、
スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい
。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これ
らを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この
塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成すること
ができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしく
は適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布
液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによフて
も形成することができる。これらの塗布液中には、更に
帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を
目的に応じて添加してもよい。
たフィルムを接着層を介して記録層(または銀塩層ある
いは反射層)上および/または基板上にラミネートする
ことにより形成することができる。あるいは真空蒸着、
スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい
。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これ
らを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この
塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成すること
ができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしく
は適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布
液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによフて
も形成することができる。これらの塗布液中には、更に
帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を
目的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には0.1〜100μmの範囲にあ
る。
る。
本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。
以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。
[実施例1]
塩−;ヒポ1オレフイン含「塗布゛〜
塩素化ポリエチレン 2車量部(分子
量: aooo、塩素化率: 68!k)ジアセトンア
ルコール/メチルエチルケトン=1071 998容
量部 プレグルーブ付き円盤状のポリカーボネート基板(外径
:130mm、内径: 15mm、厚さ:1.2mm、
トラックピッチ:1.6μm、グループの深さ=80
0λ)上に、上記塩素化ポリオレフィン含有塗布液をス
ピンコード法により回転数10’OOrpmの速度で塗
布し、次いで乾燥して層厚500又の中間層を得た。
量: aooo、塩素化率: 68!k)ジアセトンア
ルコール/メチルエチルケトン=1071 998容
量部 プレグルーブ付き円盤状のポリカーボネート基板(外径
:130mm、内径: 15mm、厚さ:1.2mm、
トラックピッチ:1.6μm、グループの深さ=80
0λ)上に、上記塩素化ポリオレフィン含有塗布液をス
ピンコード法により回転数10’OOrpmの速度で塗
布し、次いで乾燥して層厚500又の中間層を得た。
シアニン系色素(上記構造式[5]:
1重量部をジアセトンアルコール99容量部に溶解して
塗布液を調製した。
塗布液を調製した。
上記中間層上に上記色素塗布液をスピンコード法により
回転数1000 rpmの速度で塗布した後、70℃の
温度で10分間乾燥して膜厚が600Xの記録層を形成
した。
回転数1000 rpmの速度で塗布した後、70℃の
温度で10分間乾燥して膜厚が600Xの記録層を形成
した。
このようにして、基板、中間層および記録層からなる情
報記録媒体を製造した。
報記録媒体を製造した。
[実施例2]
実施例1において、中間層を設けることなく、基板上に
直接上記色素塗布液を塗布した以外は実施例1と同様に
情報記録媒体を製造した。
直接上記色素塗布液を塗布した以外は実施例1と同様に
情報記録媒体を製造した。
[実施例3]
実施例1において、中間層の上にIn:GeS:AIJ
=66+22: 12 (重量比)の比率で共蒸着させ
て、層厚300Xの記録層を形成した以外は実施例1と
同様に情報記録媒体を製造した。
=66+22: 12 (重量比)の比率で共蒸着させ
て、層厚300Xの記録層を形成した以外は実施例1と
同様に情報記録媒体を製造した。
[比較例1]
実施例1において、塩素化ポリエチレン含有塗布液中の
溶剤および色素記録層塗布液中の溶剤とを全てメチルエ
チルケトンに変更した以外は実施例1と同様に情報記録
媒体を製造した。
溶剤および色素記録層塗布液中の溶剤とを全てメチルエ
チルケトンに変更した以外は実施例1と同様に情報記録
媒体を製造した。
上記各側で得られた情報記録媒体について顕微鏡により
その記録層を観察した結果、実施例1〜3においては、
プレグルーブが元の基板と同じように変形することなく
存在していることが観察された。そして記録層の平面性
も良好であった。−方比較例1では、同じく顕微鏡によ
りプレグルーブが変形していることが観察された。
その記録層を観察した結果、実施例1〜3においては、
プレグルーブが元の基板と同じように変形することなく
存在していることが観察された。そして記録層の平面性
も良好であった。−方比較例1では、同じく顕微鏡によ
りプレグルーブが変形していることが観察された。
さらに、これらの記録媒体を再生した結果、比較例1は
トラッキング不良を起こしたが、実施例1〜3において
は正常であフた。
トラッキング不良を起こしたが、実施例1〜3において
は正常であフた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1。ジアセトンアルコールを含む溶剤に色素を溶解して
塗布液を調製した後、該塗布液を基板上に塗布乾燥する
ことによりレーザーによる情報の書き込みおよび/また
は読み取りが可能な色素記録層を形成することを特徴と
する情報記録媒体の製造法。 2。上記溶剤が、ジアセトンアルコールを10重量%以
上含んでいることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の情報記録媒体の製造法。 3。上記色素が、シアニン系色素、フタロシアニン系色
素、ピリリウム、チオピリリウム系色素、スクワリリウ
ム系色素、アズレニウム系色素、インドフェノール系色
素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素
、キノン系色素、アミニウム、ジインモニウム系色素お
よび金属錯塩系色素からなる群より選ばれる少なくとも
一種の色素であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の情報記録媒体の製造法。 4。上記基板が、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン
、ポリエステルおよびポリ塩化ビニルからなる群より選
ばれる一種の高分子化合物からなることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体の製造法。 5。ジアセトンアルコールを含む溶剤にポリマーを溶解
して塗布液を調製した後、該塗布液を基板上に塗布乾燥
することにより中間層を形成し、次いで該中間層上に色
素記録層または金属記録層を形成することを特徴とする
情報記録媒体の製造法。 6。上記溶剤が、ジアセトンアルコールを10重量%以
上含んでいることを特徴とする特許請求の範囲第5項記
載の情報記録媒体の製造法。 7。上記ポリマーが、ポリメチルメタクリレート、アク
リル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイ
ン酸共重合体、スチレン・ビニルトルエン共重合体、塩
素化ポリエチレン、クロルスルホン化ポリエチレン、ニ
トロセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリ
イミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体およびエチレ
ン・酢酸ビニル共重合体からなる群より選ばれる少なく
とも一種のポリマーであることを特徴とする特許請求の
範囲第5項記載の情報記録媒体の製造法。 8。上記色素が、シアニン系色素、フタロシアニン系色
素、ピリリウム、チオピリリウム系色素、スクワリリウ
ム系色素、アズレニウム系色素、インドフェノール系色
素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素
、キノン系色素、アミニウム、ジインモニウム系色素お
よび金属錯塩系色素からなる群より選ばれる少なくとも
一種の色素であることを特徴とする特許請求の範囲第5
項記載の情報記録媒体の製造法。 9。上記基板が、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン
、ポリエステルおよびポリ塩化ビニルからなる群より選
ばれる一種の高分子化合物からなることを特徴とする特
許請求の範囲第5項記載の情報記録媒体の製造法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62310283A JPH01150256A (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | 情報記録媒体の製造法 |
US07/280,358 US4944967A (en) | 1987-12-07 | 1988-12-06 | Process for the preparation of information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62310283A JPH01150256A (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | 情報記録媒体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01150256A true JPH01150256A (ja) | 1989-06-13 |
Family
ID=18003368
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62310283A Pending JPH01150256A (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | 情報記録媒体の製造法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4944967A (ja) |
JP (1) | JPH01150256A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02164587A (ja) * | 1988-12-19 | 1990-06-25 | Sony Corp | 光学情報記録媒体の製造方法 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5075147A (en) * | 1989-03-24 | 1991-12-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for optically recording information and information recorded medium |
JPH03256240A (ja) * | 1990-03-06 | 1991-11-14 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体 |
US5267228A (en) * | 1990-04-05 | 1993-11-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrates for optical cards, process for preparing substrates for optical cards, optical cards and apparatus for recording and reproducing information on optical cards |
JP2657579B2 (ja) * | 1990-04-19 | 1997-09-24 | 富士写真フイルム株式会社 | 光情報記録媒体 |
NL9002594A (nl) * | 1990-11-28 | 1992-06-16 | Philips & Du Pont Optical | Masterplaat. |
US5215798A (en) * | 1991-01-31 | 1993-06-01 | Tdk Corporation | Optical recording medium |
US5449590A (en) * | 1991-06-04 | 1995-09-12 | International Business Machines Corporation | Multiple data surface optical data storage system |
JPH04360037A (ja) * | 1991-06-06 | 1992-12-14 | Pioneer Electron Corp | 追記型光ディスク |
EP0528512A1 (en) * | 1991-08-20 | 1993-02-24 | Pioneer Electronic Corporation | Recording medium |
US5952073A (en) * | 1996-11-08 | 1999-09-14 | Media Chemical Corp. | Dye composition for optical recording media having selected anions |
US6191384B1 (en) | 1998-05-05 | 2001-02-20 | Tapematic S.P.A. | Apparatus for trimming dye coated on a recordable disc substrate and related method |
US6077584A (en) * | 1998-07-24 | 2000-06-20 | Media Chemical Corp. | Stabilized dye compositions for optical recording media |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4175145A (en) * | 1975-04-28 | 1979-11-20 | Teletype Corporation | Making memory structure for laser recording system |
JPS61113672A (ja) * | 1984-11-08 | 1986-05-31 | Canon Inc | 記録液及びこれを用いたインクジェット記録方法 |
JPH0739211B2 (ja) * | 1985-08-06 | 1995-05-01 | 三井東圧化学株式会社 | 光記録媒体の製造方法 |
-
1987
- 1987-12-07 JP JP62310283A patent/JPH01150256A/ja active Pending
-
1988
- 1988-12-06 US US07/280,358 patent/US4944967A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02164587A (ja) * | 1988-12-19 | 1990-06-25 | Sony Corp | 光学情報記録媒体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4944967A (en) | 1990-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5633106A (en) | Optical recording media and a method of recording and reproducing information | |
US4832992A (en) | Process for the preparation of information recording medium | |
JPH01150256A (ja) | 情報記録媒体の製造法 | |
JP2657579B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
JP2686841B2 (ja) | 情報記録媒体及び光情報記録方法 | |
JPS63159090A (ja) | 情報記録媒体の製造法 | |
JPH023452A (ja) | 色素溶液組成物および情報記録媒体の製造方法 | |
JPH048585A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
JPH01146790A (ja) | 情報記録媒体 | |
JPS63281240A (ja) | 情報記録媒体およびその製造法 | |
JPH02252148A (ja) | 情報記録媒体および光情報記録方法 | |
JP2671141B2 (ja) | 情報記録媒体およびその製造方法 | |
JP2530517B2 (ja) | 波長多重光記録媒体、その製造方法、光多重記録方法および光多重記録再生方法 | |
JP2663009B2 (ja) | 情報記録媒体およびその製造方法 | |
JP2883618B2 (ja) | 情報記録媒体および光情報再生方法 | |
JP2794643B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
JPS63193343A (ja) | 情報記録媒体の製造法 | |
JPH01190494A (ja) | 情報記録媒体 | |
JPS63193348A (ja) | 情報記録媒体の製造法 | |
JPH02137138A (ja) | 光情報記録媒体 | |
JP2542262B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
JPS63191688A (ja) | 情報記録媒体の製造法 | |
JP3278064B2 (ja) | 情報記録媒体およびその製造方法 | |
JPS63193345A (ja) | 情報記録媒体の製造法 | |
JPS63191689A (ja) | 情報記録媒体の製造法 |