JPS63193345A - 情報記録媒体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび／または読み取りができる情報記
録媒体の製造法に関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、たとえばビデオ・ディスク、オ
ーディオ・ディスクなどの光ディスク、更には大容量静
止画像ファイル、大容祉コンピュータ用ディスク拳メモ
リー、あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、超マ
イクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植字
用原版などに応用されている。

情報記録媒体は基本的に、プラスチック、ガラス等から
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては。

Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属；および
シアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素が知られて
いる。

情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度を昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。記録媒
体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを記録
媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報が再生される。

また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも−・枚の基
板上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に
位置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペー
サとリング状外側スペーサとを介して接合してなるエア
ーサンドイッチ構造が提案されている。このような構造
を有する情報記録媒体では、記録層は直接外気に接する
ことがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザ
ー光で行なわれるために、一般に記録層が物理的または
化学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付
着して情報の記録、再生の障害となることがない。

記録材料として色素を用いた情報記録媒体は、高感度で
あるなど記録媒体自体の特性において優れていることの
ほかに、記録層を塗布法により基板とに簡単に形成する
ことができるという製造上の大きな利点を有している。

シアニン系色素など大多数の色素は一般に溶解性が低く
、塗布液を調装する際には通常色素に対して溶解度の高
い溶剤としてジクロロメタン、ジクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素が使用されている。

しかしながら、これらのハロゲン化炭化水素系溶剤に対
してプラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を塗布
した場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けられて
いるトラッキング用グループなどの凹凸が消失したり、
基板材料の記録層への混入により記録層の反射率が低下
するなどの問題がある。このような問題を解決するため
に、たとえば特開昭５９−２１７２４１号公報には、予
めプラスチック基板にハロゲン化炭化水素溶剤に対する
不溶化処理を施すことが記載されている。

［発明の要旨］ 本発明は、新規な溶剤を用いて情報記録媒体を製造する
方法を提供することをその目的とするものである。

また本発明は、情報記録媒体を製造するに際して基板を
溶解することなく、塗布法により基板上に記録層を形成
する方法を提供することもその目的とするものである。

さらに本発明は、情報記録媒体を簡易に製造する方法を
提供することもその目的とするものである。

上記の目的は、基板上に、レーザーによる情報の書き込
みおよび／または読み取りが可能な記録層が設けられて
なる情報記録媒体を製造する方法において、弗素化エー
テルを含む溶剤に色素を溶解して塗布液を調製した後、
該塗布液を基板上に塗布乾燥することにより記録層を形
成することを特徴とする本発明の情報記録媒体の製造法
により達成することができる。

すなわち１本発明は、色素を記録材料とする記録層形成
のための塗布液調製用の溶剤として弗素化エーテルを用
いることにより、塗布液の調製を容易にし、かつ塗布液
により基板が溶解するのを防止するものである。

本発明において、溶剤として用いられる弗素化エーテル
はシアニン系色素などの色素に対する溶解度が高いため
、記録層形成のための塗布液を容易に調製することがで
きる。また、この化合物はポリカーボネートなどのプラ
スチック物質からなる基板に対して不溶性であるため、
塗布過程で基板が溶解することがない。

従って１本発明によれば、従来よりｔ’ｉ！］題となっ
ていたノ＾板表面のグループの消失および記録層の反射
率の低下などが生じることがなく、高性能の情報記録媒
体を製造することができる。また・予めノ、（板に溶剤
に対する不溶化処理などを行なう必要もないから、記録
媒体の製造工程が煩雑となったり、製造コストが高くな
ることもない、。

［発ＩＪＪの構１＆］ 情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような本発明の
方法により製造することができる。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、ＩＰ面性、加工性
、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から
、基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメタ
クリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等のア
クリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の
塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；およびポリカーボネ
ート樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル
；ソーダ石灰ガラス等のガラス：およびセラミックスを
挙げることができる。

本発明の方法は基板材料がプラスチック物質である場合
に特に有効であり、そのうちでもポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、アモルファス
ポリオレフィン、ポリエステルまたはポリ塩化ビニルで
ある場合に好適に適用することができる。また１寸度安
定性、透明性および平面性などの点から好ましいのは、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート樹脂、エ
ポキシ・樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエス
テルおよびガラスである。なお、これらの材料はフィル
ム状としてまたは剛性のある基板として使うことができ
る。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられてもよい、下塗層の材料としてはたとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ス
チレン・スルホン酸共重合体、スチレン・ビニルトルエ
ン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセ
ルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポ
リエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重
合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シ
ランカップリング剤などの有機物質：および無機酸化物
（ＳｉＯ２、Ａｉ、Ｏコ等）、無機弗化物（ＭｇＦｚ）
などの無機物質を挙げることができる。

ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレン・無水マレイン酸共重
合体などの親木性基および／または無水マレイン酸ノ＾
を有するポリマーからなるド塗層が設けられるのが望ま
しい。

ド塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、ディップコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０
ｇｍの範囲にあり、好ましくは０．００１−１Ｏｐの範
囲である。

また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種のモノマー（またはオリゴマー）と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンバ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる０
次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般に０．０５〜１１００ＩＬの範囲にあり、好ま
しくは０．１〜５０ｇｍの範囲である。基板材料がプラ
スチックの場合は、射出成形あるいは押出成形などによ
り直接基板にグループが設けられてもよい。

なお１本発明において溶剤として用いられる弗素化エー
テルはプラスチック基板に対して不溶性であるのみなら
ず、このプレグルーブ層材料に対しても殆ど不溶性であ
るから、基板上に記録層を直接に設ける場合のみならず
、プレグルーブ層上に記録層を設ける場合にも同様の効
果が得られるものである。

基板（またはプレグルーブ層等）上には記録層が設けら
れる。

記録層は、実質的に色素のみからなる層であるか、ある
いは色素とこれを分散含有する結合剤からなる層である
。

本発明において色素としては、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｏｒなどの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、
トリフェニルメタン系色素、トリ、アリルメタン系色素
、アミニウム系−ジインモニウム系色素およびニトロソ
化合物を挙げることができる。

以下余白 これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体し・−ザーの利用が実用化されている点
から、７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸
収率が高い色素が好ま１．い。

その例としては。

ｉ）シアニン系色素： ［１１（ＣＨ３）　２Ｎ−（ＯＨ−ＣＩ）　５−０Ｈ−
Ｎ（ＯＨ３）　２　Ｃ１０ｓ−（ただし、ｎは２または
３である） （ただし、Ｒは水素原子またはＮ（ＯＨ３）？である） であり、Ｒはアルキル基であり、又は対イオンであり、
場合によりベンゼン環またはナフタリン環には塩素原子
、アルキル基、アルコ１シ２Ｓｉまたｊ衾アリール基が
存在していてもよ＜、ｎはθ〜３の整数である） （ただし、Ｒはアルキル基であり、Ｘはハばゲン原子で
ある） （ただし、Ｒは置換または未置換のアルギル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニルノ人であり、又は水
素原子またはハロゲン原子で々Ｊす、Ｙはハロゲン、バ
ークロレート、置換または未着換のベンゼンスルホネー
ト、パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、
エチルスルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチ
ルカルボキシレートまたはトリフルオロメチルカル、ト
勧シレートであり、ｎはθ〜３の整数である）（ただし
　Ｒ１，Ｒ２およびＲ３はそれぞれ置換または未置換の
アルキル基であって、互いに同じか異なっていてもよく
、Ｘ−は過ハロゲン酸イオン、トルエンスルホン酸イオ
ンまたはアル１ル硫酸イオンであり、ｎは０〜３の整数
であり、そしてインドレニン環の４位、５位、６位およ
び７位のうちの少なくとも一つにハロゲン原子が存在し
、場合により他の位置にさらにハロゲン原子が存在して
いてもよく、さらに場合によりベンゼン環はアルキル基
、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アリル
基またはアルキルカルボニル基で置換されていてもよい
） （ただし、ＡＩおよびＡ２はそれぞれ水素原子または置
換基であり、Ｚは三員複素環を形成するのに必要な原子
団であり　１１（１、、、Ｒ４はそれぞれ水素原子また
は置換基であり、Ｒ５は置換基であるかまたはＺと共に
六員複素環を形成して、もよく、Ｘ−は陰イオンであり
、ｎは（）〜２のｗｅである） 以下余白 ［１１１（り−Ｌ　＝　’ｌ’　　　（Ｘ　−）ｓ（た
だし、Φおよびψはそれぞれ芳香族環カζ縮合していて
もよいインドール環残基、チアソ′−ル環残基、オキサ
ゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残
基またはピリジン環残基であり、Ｌはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまた１−２
テトラカルボシアニンを形成するための連結基であり、
Ｘ−１±陰イオンであり、ｍは０または１である）ｉｉ
）スクワリリウム系色素二 １ｉｉ）アズレニウム系色素： （ただし、１１ｉ１と）ｉ２．１２と１ｌｉ３．Ｒ３と
Ｒ４，Ｒ４とＲ５，Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合
せのうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換
の複素環または脂肪族環による環ｋ・形成し、鎖環を形
成しないときのｌ（Ｉ、Ｒ２、Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｈｂ
およびＲ７はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一
価の有機残基であり、あるいはＲ１とＲ２，Ｒ３とＲ４
，Ｒ４とＲ５，Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ１の組合せの
うち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳
香族環を形成してもよく、Ａは二重結合によって結合し
た二価の有機残基であり、Ｚ−はアニオン残基である。

なお、アズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原子
が窒素原子で置き換えられてアザアズレン環となってい
てもよい、）ｉｉ）インドフェノール系色素： （ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、ｉｌｌ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ水素原子、Ｃ
Ｉ”’Ｃ２０の置換または未置換のアルキル基、アリー
ル基、複素環またはシクロヘキシル基であり、Ａは−Ｎ
ＨＧＯ−または−ＣＯＮ１１−である） ■）金属錯塩系色素： （ただし、Ｒ１，，１ｌｉ４はそれぞれアル１ニル基ま
たはアリール基であり１Ｍは二価の遷移金属原子である
） （ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （Ｒ”）ｎ　　　　　　　　　　　　（Ｒ３）。

（ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基またはアリール基であり、Ｒ３はアルキル
基、ハロゲン原子または換または未置換のアルキル基ま
たはアリール基である）であり１Ｍは遷移金属原子であ
り、ｎはＯ（ただし、［Ｃａｔｌは錯塩を中性ならしめ
るために必要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ。

Ｃｏ、ＰｄまたはＰｔであり、ｎは１または２である） （ただし、［Ｃａｔｌは錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、ＭはＮｉ％Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄまた
はｐｔであり、ｎは１または２で（ただし、Ｘは水素原
子、＃Ｘ素原子、臭素原子またはメチル基であり、ｎは
１〜４の整数であり、Ａは第四級アンモニウム基である
）以下余白 基および／またはハロゲン原子であり、ｎｌおよびＲ２
はそれぞれ１〜３の整数であり％Ｒ１およびＲ２はそれ
ぞれアミノ基、七ノアルキルアミノ基、ジアルキルアミ
ン基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基（Ｎ換ベ
ンゾイルアミノ基を含む）であり、ｘｌとＸ２．ｎ＋と
Ｒ２およびＲ１とＲ２はそれぞれ互いに同じであっても
異なっていてもよく、ＭはＣｒまたはＣＯ原子であり、
Ｙは水素、ナトリウム、カリウム、アンモニウム。

脂肪族アンモニウム（置換脂肪族アンモニウム・す含む
）または脂環族アンモニウムである）マｉ）ナフトキノ
ン系、アントラキノン系色素τ（ただし、Ｒは水素原子
、アルキル基、アシル仄、ｉ′ミノ基または置換アミノ
基である）（ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリ
ル基、アミノ基または置換アミノ基である）（ただし、
Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基または
置換アミノ基である）（ただし、Ｘはハロゲン原子であ
り、ｎは０〜１０の整数である） 以下余白 （ただし、Ｘはハロゲン原子である） ＮＨ２Ｏ などを挙げることができる。

これらの色素のうちで、本発明の方法を特に好ましく適
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合物とし
て用いてもよい、また、シアニン系色素を用いる場合に
、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモニ
ウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いてもよい。

記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。

本発明の特徴的な要件である塗布液調製用の溶剤には、
少なくとも一部が弗素で置換されたエーテル類が用いら
れる。

本発明に用いられる弗素化エーテルとしては、たとえば
炭素数１〜２０のエーテルであって、かつ少なくとも一
つの水素原子が弗素で置換されている化合物を挙げるこ
とができる。これらの化合物には直鎖状、環状および分
枝状のものが含まれる。また、該化合物は弗素原子の他
にさらに、塩素原子、臭素原子、シアノ基、ニトロ基、
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のフ
ェニル基、置換または無置換のフルコキシ基、アルキル
スルホニル基、アルキルスルフィニル基で置換されてい
てもよい、Ｗ１換基は好ましくは塩素原子、炭素数１〜
４の置換または無置換のアルコキシ基である。また、該
化合物の分子量は４００以下であるのが好ましい。

その具体例としては下記化合物が挙げられる。

０８０文２ＣＦ２００Ｈ３、Ｈ（ＣＦ２）４００Ｈ３。

Ｈ ■ ＣＦ３ＣＨＯＣｚＨｓ　、　ＣＦｓＣｌｈＯＣｚＨｓ　
％ＣＦ２Ｈ−ＣＧＩ　Ｆ−ＯＣＨ量ただし、本発明に用
いられる弗素化エーテルは上記化合物に限定されるもの
ではなく、−分子中に少なくとも一つの弗素原子とアル
コキシ基を含む有機化合物であって、色素に対して溶剤
として機能しうる限り任意の化合物を用いることがｉ’
きる。

本発明において、上記弗素化エーテルは単独で溶剤とし
て用いてもよいが、あるいは他の溶剤を併用することに
より混合溶剤として用いてもとい。

そのような溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタ
ノール、ｎ−プロパツール、イソプロパツール、　ｎ　
−ブタノールなどの色素を溶解しうる溶剤を挙げること
ができる。

なお、弗素化エーテルが常温で固体である場合には上記
溶剤との混合溶剤として用いられる。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質：およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル働ポリ酢酸ビニル共屯合体茅のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の
初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることがで
きる。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、ディ
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１゜０〜９５％（重量比）の
範囲にある。また、溶剤が弗素化エーテルと他の溶剤と
の混合系である場合には、その組合せ、色票および基板
の種類によっても異なるが、一般には弗素化エーテルは
溶剤全体の５〜９５％（重量比）の範囲で使用され。

好ましくは３０〜９０％（重量比）の範囲にある。この
ようにして調製される塗布液の濃度は一般に０．０１〜
１０％（重量比）の範囲にあり。

好ましくは０．１〜５％（重量比）の範囲にある。

記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に０
．０１〜ｌｏＩＬｍの範囲にあり、好ましくは０．０２
〜１４ｍの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい。

さらに、記録層の上には、情報の再生時におけるＳ／Ｎ
比の向上および記録時における感度の向上の目的で、反
射層が設けられてもよい。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎ　ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍ
ｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、
Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａ
ｎ。

Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂ
ｉなどの金属および半金属を挙げることができる。これ
らのうちで好ましいものはＡｎ、ＣｒおよびＮｉである
。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種
以上の組合せでまたは合金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。

反射層の層厚は一般には１００〜３０００１の範囲にあ
る。

なお、反射層は基板と記録層との間に設けられてもよく
、この場合には情報の記録再生は記録層側（基板とは反
対の側）から行なわれる。

また、記録層（または反射層）の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい、この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。

保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ、Ｓ　ｉ
　Ｏ２、Ｍ　ｇ　Ｆ　２　、　Ｓ　ｎ　Ｏ２等の無機物
質；熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の
有機物質を挙げることができる。

保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録Ｒ（または銀塩層あるい
は反射層）上および／または基板−Ｅにラミネートする
ことにより形成することができる。あるいは真空蒸着、
スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい
、また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これ
らを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この
塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成すること
ができる。Ｕｖ硬化性樹脂の場合には、そのままもしく
は適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのもこの塗布
液を塗布し、ｔＪＶ光を照射して硬化させることによっ
ても形成することができる。これらの塗布液中には、更
に帯電防止剤、酸化防止剤、Ｕｖ吸収剤等の各種添加剤
を目的に応じて添加してもよい。

保護層の層厚は一般には０．１”１１００ＩＬの範囲に
ある。

本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。

以ドに、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ シアニン系色素（上記構造式〔５］： ２ｇを、ペンタフロロアニソール（構造式：１００ｃｃ
に溶解して塗布液（濃度：２重量％）を調製した。

トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径：１３０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ：
１．２ｍｍ、トラックピッチ：１．６終ｍ、グループの
深さ二８００１）上に、塗布液をスピンコード法により
回転数２００゜ｒｐｍの速度で塗布した後、７０℃の温
度で１０分間乾燥して膜厚が０．０６７Ｌｍの記録層を
形成した。

このようにして、基板および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。

［比較例１］ 実施例１において、溶剤としてジクロロエタンを用いる
こと以外は実施例１の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。

得られた各情報記録媒体について、記録再生特性試験を
行なった。その結果、溶剤として弗素化エーテルを用い
る本発明の方法により製造された記録媒体（実施例１）
は、基板表面のグループに沿って記録再生特性を測定す
ることができたが、一方従来の方法により製造された記
録媒体（比較例１）は、基板表面の溶解によってグルー
プが消失したために記録再生特性を測定することができ
なかった。

［実施例２］ 実施例１において、塗布液にさらにクエンチャをシアニ
ン色素と等モル添加して、塗布液を調製すること以外は
実施例１の方法と同様の処理を行なうことにより、基板
および記録層からなる情報記録媒体を製造した。

［実施例３］ 実施例１において、塗布液にさらにクエンチャ−として
ジインモニウム系色素（構造式：％式％） をシアニン色素と等モル添加して、塗布液を調製するこ
と以外は実施例１の方法と同様の処理を行なうことによ
り、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造した
。

［実施例４］ 実施例１において、色素としてシアニン系色素（上記構
造式［９Ｊ： 以下余白 を用いること以外は実施例１の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。

〔実施例５］ 実施例１において、色素としてシアニン系色素を用いる
こと以外は実施例１の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。

［実施例６］ 実施例１において１色素としてスクワリリウム系色素（
上記構造式［１３］　： を用いること以外は実施例１の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。

実施例２〜６の各情報記録媒体について記録再生特性試
験を行なったところ、いずれも基板表面のグループが消
失せずに残っており、このグループに沿って記録再生特
性を測定することができた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび／
   または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
   録媒体を製造する方法において、弗素化エーテルを含む
   溶剤に色素を溶解して塗布液を調製した後、該塗布液を
   基板上に塗布乾燥することにより記録層を形成すること
   を特徴とする情報記録媒体の製造法。 ２、上記弗素化エーテルが、炭素数１〜２０を有し、か
   つ少なくとも一つの水素原子が弗素で置換されたエーテ
   ルであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   情報記録媒体の製造法。 ３、上記溶剤が弗素化エーテルのみからなることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体の製造
   法。 ４、上記色素が、シアニン系色素、フタロシアニン系色
   素、ピリリウム、チオピリリウム系色素、スクワリリウ
   ム系色素、アズレニウム系色素、インドフェノール系色
   素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素
   、キノン系色素、アミニウム、ジインモニウム系色素お
   よび金属錯塩系色素からなる群より選ばれる少なくとも
   一種の色素であることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載の情報記録媒体の製造法。 ５、上記色素が、シアニン系色素もしくはシアニン系色
   素と他の色素との混合物であることを特徴とする特許請
   求の範囲第４項記載の情報記録媒体の製造法。 ６、上記基板がプラスチック物質からなることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体の製造法
   。 ７、上記基板が、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
   リレート、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン
   、ポリエステルおよびポリ塩化ビニルからなる群より選
   ばれる一種の高分子化合物からなることを特徴とする特
   許請求の範囲第６項記載の情報記録媒体の製造法。 ８、上記基板がポリカーボネートからなることを特徴と
   する特許請求の範囲第７項記載の情報記録媒体の製造法
   。