JPS63193344A - 情報記録媒体の製造法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 73
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 49
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 24
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 16
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 5
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 5
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 4
- 239000000434 metal complex dye Substances 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 4
- 239000001013 indophenol dye Substances 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 claims description 2
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical compound C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZYKBEIDPRRYKKQ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(diethylamino)-2-methylphenyl]imino-1-oxo-n-phenylnaphthalene-2-carboxamide Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1N=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C(C(=O)NC=2C=CC=CC=2)=C1 ZYKBEIDPRRYKKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 16
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 72
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 12
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 125000000043 benzamido group Chemical group [H]N([*])C(=O)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical group 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical group C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enylhepta-1,6-diene Chemical compound C=CCC(CC=C)CC=C XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical class CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004801 Chlorinated PVC Substances 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical class CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001756 Polyvinyl chloride acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- STSCVKRWJPWALQ-UHFFFAOYSA-N TRIFLUOROACETIC ACID ETHYL ESTER Chemical compound CCOC(=O)C(F)(F)F STSCVKRWJPWALQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical class OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229920000457 chlorinated polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- LMBQFLQKKMVTMV-UHFFFAOYSA-N cyclohepta[b]pyrrole Chemical group C1=CC=CC2=NC=CC2=C1 LMBQFLQKKMVTMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910001506 inorganic fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical class COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000379 polypropylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Chemical group 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Chemical group 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229920005613 synthetic organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M toluene-4-sulfonate Chemical class CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび/または読み取りができる情報記
録媒体の製造法に関するものである。
情報の書き込みおよび/または読み取りができる情報記
録媒体の製造法に関するものである。
[発明の技術的背景]
近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、たとえばビデオ・ディスク、オ
ーディオ・ディスクなどの光ディスク、更には大容量静
止画像ファイル、大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リー、あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、超マ
イクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植字
用原版などに応用されている。
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、たとえばビデオ・ディスク、オ
ーディオ・ディスクなどの光ディスク、更には大容量静
止画像ファイル、大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リー、あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、超マ
イクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植字
用原版などに応用されている。
情報記録媒体は基本的に、プラスチック、ガラス等から
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては。
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては。
Bi、Sn% In、Te等の金属または半金属;およ
びシアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素が知られ
ている。
びシアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素が知られ
ている。
情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。記録媒
体からの情報の読み取りもまた。レーザービームを記録
媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報が再生される。
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。記録媒
体からの情報の読み取りもまた。レーザービームを記録
媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報が再生される。
また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを、介して接合してなるエア
ーサンドイッチ構造が提案されている。このような構造
を有する情報記録媒体では、記録層は直接外気に接する
ことがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザ
ー光で行なわれるために、一般に記録層が物理的または
化学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付
着して情報の記録、再生の障害となることがない。
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを、介して接合してなるエア
ーサンドイッチ構造が提案されている。このような構造
を有する情報記録媒体では、記録層は直接外気に接する
ことがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザ
ー光で行なわれるために、一般に記録層が物理的または
化学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付
着して情報の記録、再生の障害となることがない。
記録材料として色素を用いた情報記録媒体は、高感度で
あるなど記録媒体自体の特性において優れていることの
ほかに、記録層を塗布法により基板上に簡単に形成する
ことができるという製造上の大きな利点を有している。
あるなど記録媒体自体の特性において優れていることの
ほかに、記録層を塗布法により基板上に簡単に形成する
ことができるという製造上の大きな利点を有している。
シアニン系色素など大多数の色素は一般に溶解性が低く
、塗布液を調製する際には通常色素に対して溶解度の高
い溶剤としてジクロロメタン、ジクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素が使用されている。
、塗布液を調製する際には通常色素に対して溶解度の高
い溶剤としてジクロロメタン、ジクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素が使用されている。
しかしながら、これらのハロゲン化炭化水素系溶剤に対
してプラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を塗布
した場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けられて
いるトラッキング用グループなどの凹凸が消失したり、
基板材料の記録層への混入により記録層の反射率が低下
するなどの問題がある。このような問題を解決するため
に、たとえば特開昭59−217241号公報には、予
めプラスチック基板にハロゲン化炭化水素溶剤に対する
不溶化処理を施すことが記載されている。
してプラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を塗布
した場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けられて
いるトラッキング用グループなどの凹凸が消失したり、
基板材料の記録層への混入により記録層の反射率が低下
するなどの問題がある。このような問題を解決するため
に、たとえば特開昭59−217241号公報には、予
めプラスチック基板にハロゲン化炭化水素溶剤に対する
不溶化処理を施すことが記載されている。
[発明の要旨]
本発明は、新規な溶剤を用いて情報記録媒体を製造する
方法を提供することをその目的とするものである。
方法を提供することをその目的とするものである。
また本発明は、情報記録媒体を製造するに際して基板を
溶解することなく、塗布法により基板上に記録層を形成
する方法を提供することもその目的とするものである。
溶解することなく、塗布法により基板上に記録層を形成
する方法を提供することもその目的とするものである。
さらに本発明は、情報記録媒体を簡易に製造する方法を
提供することもその目的とするものである。
提供することもその目的とするものである。
上記の目的は、基板上に、レーザーによる情報の書き込
みおよび/または読み取りが可能な記録層が設けられて
なる情報記録媒体を製造する方法において、弗素置換エ
ステルを含む溶剤に色素を溶解して塗布液を調製した後
、該塗布液を基板上に塗布乾燥することにより記録層を
形成することを特徴とする本発明の情報記録媒体の製造
法により達成することができる。
みおよび/または読み取りが可能な記録層が設けられて
なる情報記録媒体を製造する方法において、弗素置換エ
ステルを含む溶剤に色素を溶解して塗布液を調製した後
、該塗布液を基板上に塗布乾燥することにより記録層を
形成することを特徴とする本発明の情報記録媒体の製造
法により達成することができる。
すなわち、本発明は1色素を記録材料とする記録層形成
のための塗布液調製用の溶剤として弗素置換エステルを
用いることにより、塗布液の調製を容易にし、かつ塗布
液により基板が溶解するのを防止するものである。
のための塗布液調製用の溶剤として弗素置換エステルを
用いることにより、塗布液の調製を容易にし、かつ塗布
液により基板が溶解するのを防止するものである。
本発明において、溶剤として用いられる弗素置換エステ
ルはシアニン系色素などの色素に対する溶解度が高いた
め、記録層形成のための塗布液を容易に調製することが
できる。また、この化合物はポリカーボネートなどのプ
ラスチック物質からなる基板に対して不溶性であるため
、塗布過程で基板が溶解することがない。
ルはシアニン系色素などの色素に対する溶解度が高いた
め、記録層形成のための塗布液を容易に調製することが
できる。また、この化合物はポリカーボネートなどのプ
ラスチック物質からなる基板に対して不溶性であるため
、塗布過程で基板が溶解することがない。
従って1本発明によれば、従来より問題となっていた基
板表面のグループの消失および記録層の反射率の低下な
どが生じることがなく、高性能の情報記録媒体を製造す
ることができる。また、予め基板に溶剤に対する不溶化
処理などを行なう必要もないから、記録媒体の製造工程
が煩雑となったり、製造コストが高くなることもない。
板表面のグループの消失および記録層の反射率の低下な
どが生じることがなく、高性能の情報記録媒体を製造す
ることができる。また、予め基板に溶剤に対する不溶化
処理などを行なう必要もないから、記録媒体の製造工程
が煩雑となったり、製造コストが高くなることもない。
[発明の構成]
情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような本発明の
方法により製造することができる。
方法により製造することができる。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時、安定性および製造コストなどの点から
、基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメタ
クリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等のア
クリル樹脂:ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の
塩化ビニル系樹脂:エボキシ樹脂;およびポリカーボネ
ート樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル
:ソーダ石灰ガラス等のガラス;およびセラミックスを
挙げることができる。
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時、安定性および製造コストなどの点から
、基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメタ
クリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等のア
クリル樹脂:ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の
塩化ビニル系樹脂:エボキシ樹脂;およびポリカーボネ
ート樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル
:ソーダ石灰ガラス等のガラス;およびセラミックスを
挙げることができる。
本発明の方法は基板材料がプラスチック物質である場合
に特に有効であり、そのうちでもポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、アモルファス
ポリオレフィン、ポリエステルまたはポリ塩化ビニルで
ある場合に好適に適用することができる。また、寸度安
定性、透明性および平面性などの点から好ましいのは、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート樹脂、エ
ポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステ
ルおよびガラスである。なお、これらの材料はフィルム
状としてまたは剛性のある基板として使うことができる
。
に特に有効であり、そのうちでもポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、アモルファス
ポリオレフィン、ポリエステルまたはポリ塩化ビニルで
ある場合に好適に適用することができる。また、寸度安
定性、透明性および平面性などの点から好ましいのは、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート樹脂、エ
ポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステ
ルおよびガラスである。なお、これらの材料はフィルム
状としてまたは剛性のある基板として使うことができる
。
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられてもよい、下塗層の材料としてはたとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレンΦ無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、ス
チレンeスルホン酸共重合体、スチレン−ビニルトルエ
ン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセ
ルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポ
リエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重
合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質ニジ
ランカップリング剤などの有機物質;および無機酸化物
(Si20、Ai、03等)、無機弗化物(MgF2)
などの無機物質を挙げることができる。
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられてもよい、下塗層の材料としてはたとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレンΦ無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、ス
チレンeスルホン酸共重合体、スチレン−ビニルトルエ
ン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセ
ルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポ
リエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重
合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質ニジ
ランカップリング剤などの有機物質;および無機酸化物
(Si20、Ai、03等)、無機弗化物(MgF2)
などの無機物質を挙げることができる。
ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレン・無水マレイン酸共重
合体などの親木性基および/または無水マレイン酸基を
有するポリマーからなる下塗層が設けられるのが望まし
い。
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレン・無水マレイン酸共重
合体などの親木性基および/または無水マレイン酸基を
有するポリマーからなる下塗層が設けられるのが望まし
い。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、ディップコート、エクストルージ菖ゾコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に0.005〜20
ILmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10pmの
範囲である。
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、ディップコート、エクストルージ菖ゾコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に0.005〜20
ILmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10pmの
範囲である。
また、基板(または下塗層)上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種のモノマー(またはオリゴマー)と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種のモノマー(またはオリゴマー)と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型(ス
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる°混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上
に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の
照射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる
0次いで、基板を母型から剥離することによりプレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は一般に0.05〜100gmの範囲にあり、好ま
しくは0.1〜50μmの範囲である。基板材料がプラ
スチックの場合は、射出成形あるいは押出成形などによ
り直接基板にグループが設けられてもよい。
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる°混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上
に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の
照射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる
0次いで、基板を母型から剥離することによりプレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は一般に0.05〜100gmの範囲にあり、好ま
しくは0.1〜50μmの範囲である。基板材料がプラ
スチックの場合は、射出成形あるいは押出成形などによ
り直接基板にグループが設けられてもよい。
なお1本発明において溶剤として用いられる弗素置換エ
ステルはプラスチック基板に対して不溶性であるのみな
らず、このプレグルーブ層材料に対しても殆ど不溶性で
あるから、基板上に記録層を直接に設ける場合のみなら
ず、プレグルーブ層上に記録層を設ける場合にも同様の
効果が得られるものである。
ステルはプラスチック基板に対して不溶性であるのみな
らず、このプレグルーブ層材料に対しても殆ど不溶性で
あるから、基板上に記録層を直接に設ける場合のみなら
ず、プレグルーブ層上に記録層を設ける場合にも同様の
効果が得られるものである。
基板(またはプレグルーブ層等)上には記録層が設けら
れる。
れる。
記録層は、実質的に色素のみからなる層であるか、ある
いは色素とこれを分散含有する結合剤からなる層である
。
いは色素とこれを分散含有する結合剤からなる層である
。
本発明において色素としては、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ビリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Orなどの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素。
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ビリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Orなどの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素。
トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、
アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化
合物を挙げることができる。
アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化
合物を挙げることができる。
以下余白
これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。
その例としては、
i)シアニン系色素:
[11(CHs)zN−(CI−C1l)s−OH−◆
14CCH3)z CILOs−(ただし、nは2また
は3である) (ただし、Rは水素原子またはN(CH3)2である) であり、Rはアルキル基であり、Xは対イオンであり、
場合によりベンゼン環またはナフタリン環には塩素原子
、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が存在し
ていてもよ<、nはθ〜3の整数である) (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハロゲン原子で
ある) (ただし、Rは置換または未置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素
原子またはハロゲン原子であり、Yはハロゲン、バーク
ロレート、置換または未置換のベンゼンスルホネート、
パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチ
ルスルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカ
ルボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシレ
ートであり、nは0〜3の整数である)(ただし、R1
,R2およびR3はそれぞれ置換または未置換のアルキ
ル基であって、互いに同じか異なっていてもよく、X−
は過ハロゲン酸イオン、トルエンスルホン酸イオンまた
はアルキル硫酸イオンであり、nはθ〜3の整数であり
、そしてインドレニン環の4位、5位、6位および7位
のうちの少なくとも一つにハロゲン原子が存在し、場合
により他の位置にさらにハロゲン原子が存在していても
よく、さらに場合によりベンゼン環はアルキル基、アル
コキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アリル基また
はアルキルカルボニル基で置換されていてもよい) (ただし AIおよびA2はそれぞれ水素原子または置
換基であり、Zは三員複素環を形*i−るのに必要な原
子団であり、81〜11士それぞれ水素原子または置換
基であり、R1±置換基であるかまたはZと共に六員複
素環を形成してもよく、X−は陰イオンであり、nは0
〜2の整数°である) 以下余白 [111Φ−L = ’!’ (X −)s(ただ
し、Φおよびψはそれぞれ芳香族環が縮合していてもよ
いインドール環残基、チアゾール環残基、オキサゾール
環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残基また
はピリジン環残基であり、Lはモノカルボシアニン、ジ
カルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテトラカル
ボシアニンを形成するための連結基であり、X−は陰イ
オンであり1mは0または1である)ii)スクワリリ
ウム系色素: 1ii)アズレニウム系色素: f14.R4とR5,R5とR6およびR6とR7の組
合せのうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置
換の複素環または脂肪族環による環を形成し、鎖環を形
成しないときのR1,R2、R3,R4,R5,R6お
よびR7はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価
の有機残基であり、あるいはR1とR2,R3とR4,
R4とR5、R5とR6およびR6とR7の組合せのう
ち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香
族環を形成してもよく、Aは二重結合によって結合し九
二価の有機残基であり、Z−はアニオン残基である。な
お、アズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が
窒素原子で置き換えられてアザアズレン環となっていて
もよい、)ii)インドフェノール系色素: (ただし、XおよびYはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、R1,R2およびR3はそれぞれ水素原子、01
〜C20の置換または未置換のアルキル基、アリール基
、複素環またはシクロヘキシル基であり、Aは−NHC
O−または−0081−である) ■)金属錯塩系色素: (ただし、R1〜R4はそれぞれアルギル基またはアリ
ール基であり、Mは二価の遷移金属原子である) (ただし、R1およびR2はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Mは二価の遷移金属原子である) (R3) n (R3) n(
ただし、R1およびR2はそれぞれ置換または未置換の
アルキル基またはアリール基であり、R3はアルキル基
、ハロゲン原子または■ −N−R5基(ここで、R4およびR5はそれぞれ置換
または未置換のアルキル基またはアリール基である)で
あり、Mは遷移金属原子であり、nは0めに必要な陽イ
オンであり1MはNi、Cu。
14CCH3)z CILOs−(ただし、nは2また
は3である) (ただし、Rは水素原子またはN(CH3)2である) であり、Rはアルキル基であり、Xは対イオンであり、
場合によりベンゼン環またはナフタリン環には塩素原子
、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が存在し
ていてもよ<、nはθ〜3の整数である) (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハロゲン原子で
ある) (ただし、Rは置換または未置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素
原子またはハロゲン原子であり、Yはハロゲン、バーク
ロレート、置換または未置換のベンゼンスルホネート、
パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチ
ルスルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカ
ルボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシレ
ートであり、nは0〜3の整数である)(ただし、R1
,R2およびR3はそれぞれ置換または未置換のアルキ
ル基であって、互いに同じか異なっていてもよく、X−
は過ハロゲン酸イオン、トルエンスルホン酸イオンまた
はアルキル硫酸イオンであり、nはθ〜3の整数であり
、そしてインドレニン環の4位、5位、6位および7位
のうちの少なくとも一つにハロゲン原子が存在し、場合
により他の位置にさらにハロゲン原子が存在していても
よく、さらに場合によりベンゼン環はアルキル基、アル
コキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アリル基また
はアルキルカルボニル基で置換されていてもよい) (ただし AIおよびA2はそれぞれ水素原子または置
換基であり、Zは三員複素環を形*i−るのに必要な原
子団であり、81〜11士それぞれ水素原子または置換
基であり、R1±置換基であるかまたはZと共に六員複
素環を形成してもよく、X−は陰イオンであり、nは0
〜2の整数°である) 以下余白 [111Φ−L = ’!’ (X −)s(ただ
し、Φおよびψはそれぞれ芳香族環が縮合していてもよ
いインドール環残基、チアゾール環残基、オキサゾール
環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残基また
はピリジン環残基であり、Lはモノカルボシアニン、ジ
カルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテトラカル
ボシアニンを形成するための連結基であり、X−は陰イ
オンであり1mは0または1である)ii)スクワリリ
ウム系色素: 1ii)アズレニウム系色素: f14.R4とR5,R5とR6およびR6とR7の組
合せのうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置
換の複素環または脂肪族環による環を形成し、鎖環を形
成しないときのR1,R2、R3,R4,R5,R6お
よびR7はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価
の有機残基であり、あるいはR1とR2,R3とR4,
R4とR5、R5とR6およびR6とR7の組合せのう
ち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香
族環を形成してもよく、Aは二重結合によって結合し九
二価の有機残基であり、Z−はアニオン残基である。な
お、アズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が
窒素原子で置き換えられてアザアズレン環となっていて
もよい、)ii)インドフェノール系色素: (ただし、XおよびYはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、R1,R2およびR3はそれぞれ水素原子、01
〜C20の置換または未置換のアルキル基、アリール基
、複素環またはシクロヘキシル基であり、Aは−NHC
O−または−0081−である) ■)金属錯塩系色素: (ただし、R1〜R4はそれぞれアルギル基またはアリ
ール基であり、Mは二価の遷移金属原子である) (ただし、R1およびR2はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Mは二価の遷移金属原子である) (R3) n (R3) n(
ただし、R1およびR2はそれぞれ置換または未置換の
アルキル基またはアリール基であり、R3はアルキル基
、ハロゲン原子または■ −N−R5基(ここで、R4およびR5はそれぞれ置換
または未置換のアルキル基またはアリール基である)で
あり、Mは遷移金属原子であり、nは0めに必要な陽イ
オンであり1MはNi、Cu。
Co%PdまたはPtであり% nは1または2である
) (ただし、 [Catlは錯塩を中性ならしめるために
必要な陽イオンであり、MはNi、Cu。
) (ただし、 [Catlは錯塩を中性ならしめるために
必要な陽イオンであり、MはNi、Cu。
Co%PdまたはPtであり、nは1または2で(ただ
し、又は水素原子、塩素原子、臭素原子またはメチル基
であり、nは1〜4の整数であり、Aは第四級アンモニ
ウム基である)以下余白 (ただし、X!およびx2はそれぞれニトロ基および/
またはハロゲン原子であり、nlおよびR2はそれぞれ
1〜3の整数であり、R1およびR2はそれぞれアミノ
基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセ
チル7ミノ基、ベンゾイルアミノ基(置換ベンゾイルア
ミノ基を含む)であり、xlとX2.n+とR2および
R1とR2はそれぞれ互いに同じであっても異なってい
てもよく、MはCrまたはCo原子であり、Yは水素、
ナトリウム、カリウム、アンモニウム。
し、又は水素原子、塩素原子、臭素原子またはメチル基
であり、nは1〜4の整数であり、Aは第四級アンモニ
ウム基である)以下余白 (ただし、X!およびx2はそれぞれニトロ基および/
またはハロゲン原子であり、nlおよびR2はそれぞれ
1〜3の整数であり、R1およびR2はそれぞれアミノ
基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセ
チル7ミノ基、ベンゾイルアミノ基(置換ベンゾイルア
ミノ基を含む)であり、xlとX2.n+とR2および
R1とR2はそれぞれ互いに同じであっても異なってい
てもよく、MはCrまたはCo原子であり、Yは水素、
ナトリウム、カリウム、アンモニウム。
脂肪族アンモニウム(置換脂肪族アンモニウムを含む)
または脂環族アンモニウムである)マi)ナフトキノン
系、アントラキノン系色素:(ただし、Rは水素原子、
アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基で
ある)(ただし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基
、アミン基または置換アミノ基である)(ただし、Rは
水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換
アミノ基である)(ただし、Xはハロゲン原子であり、
nはθ〜10の整数である) 以下余白 (ただし、Xはハロゲン原子である) NH2O などを挙げることができる。
または脂環族アンモニウムである)マi)ナフトキノン
系、アントラキノン系色素:(ただし、Rは水素原子、
アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基で
ある)(ただし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基
、アミン基または置換アミノ基である)(ただし、Rは
水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換
アミノ基である)(ただし、Xはハロゲン原子であり、
nはθ〜10の整数である) 以下余白 (ただし、Xはハロゲン原子である) NH2O などを挙げることができる。
これらの色素のうちで、本発明の方法を特に好ましく適
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合物とし
て用いてもよい、また、シアニン系色素を用いる場合に
、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモニ
ウム系色素ヲクエンチャーとして一緒に用いてもよい。
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合物とし
て用いてもよい、また、シアニン系色素を用いる場合に
、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモニ
ウム系色素ヲクエンチャーとして一緒に用いてもよい。
記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し1次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。
溶剤に溶解して塗布液を調製し1次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。
本発明の特徴的な要件である塗布液調製用の溶剤として
は、少なくとも一部が弗素で置換されたエステル類が用
いられる。
は、少なくとも一部が弗素で置換されたエステル類が用
いられる。
本発明に用いられる弗素置換エステルとしてはたとえば
一般式(X): a−co−a (I )(た
だし、AおよびBはそれぞれ置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基であり、かつAおよびBのうち少
なくとも一方は少なくとも一つの弗素原子で置換されて
いる) で表わされる化合物を挙げることができる。
一般式(X): a−co−a (I )(た
だし、AおよびBはそれぞれ置換または無置換のアルキ
ル基またはアリール基であり、かつAおよびBのうち少
なくとも一方は少なくとも一つの弗素原子で置換されて
いる) で表わされる化合物を挙げることができる。
上記一般式(I)において、AもしくはB上の置換基と
しては塩素原子、臭素原子、ニトロ基。
しては塩素原子、臭素原子、ニトロ基。
水酸基1H換または無置換のアルキル基、フェニル基、
置換または無置換の7ミノ基、シアノ基。
置換または無置換の7ミノ基、シアノ基。
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、フェノキシ
カルボニル基が挙げられる。AおよびBはそれぞれ好ま
しくは、−CF3. CF3−(CF20F2)h−1
H−(CF 2cF 2) i−または)I−(CF2
0F2) j−CH2−であり、ここでり、iおよびj
はそれぞれ1〜3の整数である。また、該化合物の分子
量は400以下であるのが好ましい。
カルボニル基が挙げられる。AおよびBはそれぞれ好ま
しくは、−CF3. CF3−(CF20F2)h−1
H−(CF 2cF 2) i−または)I−(CF2
0F2) j−CH2−であり、ここでり、iおよびj
はそれぞれ1〜3の整数である。また、該化合物の分子
量は400以下であるのが好ましい。
その具体例としては下記化合物が挙げられる。
CF3COOCH3,CF3GOOCzHs%CH3C
O0CHzCF3、CF3CO0C1hCF3. CH
3CO0CH2CFzCFzH1CFxCF20F2C
OOC2H5,CFs(CF2)icOOcIh、ただ
し1本発明に用いられる弗素置換エステルは上記化合物
に限定されるものではなく、−分子中に少なくとも一つ
の弗素原子を含むエステル化合物であって1色素に対し
て溶剤として機能しうる限り任意の化合物を用いること
ができる。
O0CHzCF3、CF3CO0C1hCF3. CH
3CO0CH2CFzCFzH1CFxCF20F2C
OOC2H5,CFs(CF2)icOOcIh、ただ
し1本発明に用いられる弗素置換エステルは上記化合物
に限定されるものではなく、−分子中に少なくとも一つ
の弗素原子を含むエステル化合物であって1色素に対し
て溶剤として機能しうる限り任意の化合物を用いること
ができる。
本発明において、上記弗素置換エステルは単独で溶剤と
して用いてもよいが、あるいは他の溶剤を併用すること
により混合溶剤として用いてもよい。
して用いてもよいが、あるいは他の溶剤を併用すること
により混合溶剤として用いてもよい。
そのような溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド ロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサン、エタノール、n−プロパ
ツール、インプロパツール、 n −ブタノールなど
の色素を溶解しうる溶剤を挙げることができる。
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド ロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサン、エタノール、n−プロパ
ツール、インプロパツール、 n −ブタノールなど
の色素を溶解しうる溶剤を挙げることができる。
なお、弗素置換エステルが常温で固体である場合には上
記溶剤との混合溶剤として用いられる。
記溶剤との混合溶剤として用いられる。
塗布液中にはさらに酸化防止剤、Uv吸収剤。
可塑剤,滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加して
もよい。
もよい。
結合剤を使用する場合に結合剤としては,たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質;およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂,ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂。
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質;およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂,ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂。
ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のア
クリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体,フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることができる
。
クリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体,フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることができる
。
塗布方法としては,スプレー法,スピンコード法,ティ
゛ツフ法,ロールコート法、ブレードコート法、ドクタ
ーロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができ
る。
゛ツフ法,ロールコート法、ブレードコート法、ドクタ
ーロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができ
る。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり,好ましくは1。
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり,好ましくは1。
0〜95%(重量比)の範囲にある.また、溶剤が弗素
置換エステルと他の溶剤との混合系である場合には,そ
の組合せ、色素および基板の種類によっても異なるが、
一般には弗素置換エステルは溶剤全体の5〜95%(重
量比)の範囲で使用され、好ましくは30〜90%(重
量比)の範囲にある.このようにルて調製される塗布液
の濃度は一般に0.01−10%(重量比)の範囲にあ
り、好ましくは0.1〜5%(重量比)の範囲にある。
置換エステルと他の溶剤との混合系である場合には,そ
の組合せ、色素および基板の種類によっても異なるが、
一般には弗素置換エステルは溶剤全体の5〜95%(重
量比)の範囲で使用され、好ましくは30〜90%(重
量比)の範囲にある.このようにルて調製される塗布液
の濃度は一般に0.01−10%(重量比)の範囲にあ
り、好ましくは0.1〜5%(重量比)の範囲にある。
記録層は単層でも重層でもよいが,その層厚は一般に0
.01〜10gmの範囲にあり、好ましくは0.02〜
17cmの範囲にある.また、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい。
.01〜10gmの範囲にあり、好ましくは0.02〜
17cmの範囲にある.また、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい。
さらに、記録層の上には、情報の再生時におけるS/N
比の向上および記録時における感度の向上の目的で,反
射層が設けられてもよい。
比の向上および記録時における感度の向上の目的で,反
射層が設けられてもよい。
反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては.、Mg.S
e.Y.Ti%Zr.Hf.V。
反射率が高い物質であり、その例としては.、Mg.S
e.Y.Ti%Zr.Hf.V。
Nb,Ta,Cr,Mo,W,Mn,Re、F e.
Co, Ni, Ru. Rh. Pd.
I r。
Co, Ni, Ru. Rh. Pd.
I r。
Pt. Cu. Ag. Au. Zn. C
d. Ai、Ga、 I n, S t,
Ge, Te. Pb. Pa 、Sn.Biな
どの金属および半金属を挙げることができる.これらの
うちで好ましいものはAM。
d. Ai、Ga、 I n, S t,
Ge, Te. Pb. Pa 、Sn.Biな
どの金属および半金属を挙げることができる.これらの
うちで好ましいものはAM。
CrおよびNiである.これらの物質は単独で用いても
よいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として
用いてもよい。
よいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として
用いてもよい。
反射層は,たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。
反射層の層厚は一般には100〜3000スの範囲にあ
る。
る。
なお、反射層は基板と記録層との間に設けられてもよく
,この場合には情報の記録再生は記録層側(基板とは反
対の側)から行なわれる。
,この場合には情報の記録再生は記録層側(基板とは反
対の側)から行なわれる。
また、記録層(または反射層)の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい.この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい.この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。
保護層に用いられる材料の例としては、SiO,5iO
z、MgF、、5n02等の無機物質;熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。
z、MgF、、5n02等の無機物質;熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。
保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層(または銀塩層あるい
は反射層)上および/または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい、
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのもこの塗布液
を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても
形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯
電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目
的に応じて添加してもよい。
フィルムを接着層を介して記録層(または銀塩層あるい
は反射層)上および/または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい、
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのもこの塗布液
を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても
形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯
電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目
的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には0.11−1O0pの範囲にあ
る。
る。
本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。
以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各偶は本発明を制限するものではない。
し、これらの各偶は本発明を制限するものではない。
[実施例1]
シアニン系色素(上記構造式【5]:
2gを、エチルトリフロロアセテート(構造式二〇F3
COOC2H5) 100 c cに溶解して塗布液(
濃度:2重量%)を調製した。
COOC2H5) 100 c cに溶解して塗布液(
濃度:2重量%)を調製した。
トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板(外径:130mm、内径:15mm、厚さ:
1.2mm、トラックピッチ:1.61Lm、グループ
の深さ二800盈)上に。
ート基板(外径:130mm、内径:15mm、厚さ:
1.2mm、トラックピッチ:1.61Lm、グループ
の深さ二800盈)上に。
塗布液をスピンコード法により回転数200゜rpmの
速度で塗布した後、70℃の温度で10分間乾燥して膜
厚が0.06.Bmの記録層を形成した。
速度で塗布した後、70℃の温度で10分間乾燥して膜
厚が0.06.Bmの記録層を形成した。
このようにして、基板および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。
体を製造した。
[比較例1]
実施例1において、溶剤としてジクロロエタンを用いる
こと以外は実施例1の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
こと以外は実施例1の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
得られた各情報記録媒体について、記録再生特性試験を
行なった。その結果、弗素含有溶剤を用いる本発明の方
法により製造された記録媒体(実施例1)は、基板表面
のグループに沿って記録再生特性を測定することができ
たが、一方従来の方法により製造された記録媒体(比較
例1)は、基板表面の溶解によってグループが消失した
ために記録再生特性を測定することができなかった。
行なった。その結果、弗素含有溶剤を用いる本発明の方
法により製造された記録媒体(実施例1)は、基板表面
のグループに沿って記録再生特性を測定することができ
たが、一方従来の方法により製造された記録媒体(比較
例1)は、基板表面の溶解によってグループが消失した
ために記録再生特性を測定することができなかった。
[実施例2]
実施例1において、塗布液にさらにクエンチャをシアニ
ン色素と等モル添加して、塗布液を調製すること以外は
実施例1の方法と同様の処理を行なうことにより、基板
および記録層からなる情報記録媒体を製造した。
ン色素と等モル添加して、塗布液を調製すること以外は
実施例1の方法と同様の処理を行なうことにより、基板
および記録層からなる情報記録媒体を製造した。
[実施例3]
実施例1において、塗布液にさらにクエンチャ−として
ジインモニウム系色素(構造式:をシアニン色素と等モ
ル添加して、塗布液を調製すること以外は実施例1の方
法と同様の処理を行なうことにより、基板および記録層
からなる情報記録媒体を製造した。
ジインモニウム系色素(構造式:をシアニン色素と等モ
ル添加して、塗布液を調製すること以外は実施例1の方
法と同様の処理を行なうことにより、基板および記録層
からなる情報記録媒体を製造した。
[実施例4]
実施例1において、色素としてシアニン系色素(上記構
造式【91: を用いること以外は実施例1の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
造式【91: を用いること以外は実施例1の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
[実施例5]
実施例1において、色素としてシアニン系色素を用いる
こと以外は実施例1の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
こと以外は実施例1の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
[実施例6]
実施例1において1色素としてスクワリリウム系色素(
上記構造式[13] : を用いること以外は実施例1の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
上記構造式[13] : を用いること以外は実施例1の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
実施例2〜6の各情報記録媒体について記録再生特性試
験を行なったところ、いずれも基板表面のグループが消
失せずに残っており、このグループに沿って記録再生特
性を測定することができた。
験を行なったところ、いずれも基板表面のグループが消
失せずに残っており、このグループに沿って記録再生特
性を測定することができた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび/
または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
録媒体を製造する方法において、弗素置換エステルを含
む溶剤に色素を溶解して塗布液を調製した後、該塗布液
を基板上に塗布乾燥することにより記録層を形成するこ
とを特徴とする情報記録媒体の製造法。 2、上記弗素置換エステルが、一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、AおよびBはそれぞれ置換または無置換のア
ルキル基またはアリール基であり、かつAおよびBのう
ち少なくとも一方は少なくとも一つの弗素原子で置換さ
れている)で表わされる化合物であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体の製造法。 3、上記溶剤が弗素置換エステルのみからなることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体の製
造法。 4、上記色素が、シアニン系色素、フタロシアニン系色
素、ピリリウム、チオピリリウム系色素、スクワリリウ
ム系色素、アズレニウム系色素、インドフェノール系色
素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素
、キノン系色素、アミニウム、ジインモニウム系色素お
よび金属錯塩系色素からなる群より選ばれる少なくとも
一種の色素であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の情報記録媒体の製造法。 5、上記色素が、シアニン系色素もしくはシアニン系色
素と他の色素との混合物であることを特徴とする特許請
求の範囲第4項記載の情報記録媒体の製造法。 6、上記基板がプラスチック物質からなることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体の製造法
。 7、上記基板が、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン
、ポリエステルおよびポリ塩化ビニルからなる群より選
ばれる一種の高分子化合物からなることを特徴とする特
許請求の範囲第6項記載の情報記録媒体の製造法。 8、上記基板がポリカーボネートからなることを特徴と
する特許請求の範囲第7項記載の情報記録媒体の製造法
。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62025002A JPS63193344A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 情報記録媒体の製造法 |
US07/136,962 US4832992A (en) | 1986-12-23 | 1987-12-23 | Process for the preparation of information recording medium |
DE8787311378T DE3764073D1 (de) | 1986-12-23 | 1987-12-23 | Verfahren zur herstellung eines datenaufzeichnungstraegers. |
EP87311378A EP0272933B1 (en) | 1986-12-23 | 1987-12-23 | Process for the preparation of information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62025002A JPS63193344A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 情報記録媒体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63193344A true JPS63193344A (ja) | 1988-08-10 |
Family
ID=12153754
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62025002A Pending JPS63193344A (ja) | 1986-12-23 | 1987-02-04 | 情報記録媒体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63193344A (ja) |
-
1987
- 1987-02-04 JP JP62025002A patent/JPS63193344A/ja active Pending
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