JPS63281240A - 情報記録媒体およびその製造法 - Google Patents

情報記録媒体およびその製造法

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JPS63281240A
JPS63281240A JP62116619A JP11661987A JPS63281240A JP S63281240 A JPS63281240 A JP S63281240A JP 62116619 A JP62116619 A JP 62116619A JP 11661987 A JP11661987 A JP 11661987A JP S63281240 A JPS63281240 A JP S63281240A
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JP
Japan
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dye
recording medium
substrate
recording layer
information recording
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Application number
JP62116619A
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English (en)
Inventor
Masao Yabe
矢部 雅夫
Yoshio Inagaki
由夫 稲垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[発明の分野] 本発明は、色素を記録材料として用いた高エネルギー密
度のレーザービームを用いて情報の書き込みおよび/ま
たは読み取りができる情報記録媒体およびその製造法に
関するものである。 [発明の技術的背景] 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、たとえばビデオ拳ディスク、オ
ーディオ・ディスクなどの光ディスク、更には大容量静
止画像ファイル、大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リー、あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、超マ
イクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植字
用原版などに応用されている。 情報記録媒体は基本的に、プラスチック、ガラス等から
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては。 Bi、Sn、In、Te等の金属または半金属:および
シアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素が知られて
いる。 情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。記録媒
体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを記録
媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報が再生される。 また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して、あるいは基板の端
部に設けられた突起を利用して接合してなるエアーサン
ドイッチ構造が提案されている。 記録材料として色素を用いた情報記録媒体は、高感度で
あるなど記録媒体自体の特性において優れていることの
ほかに、記録層を塗布法により基板上に簡単に形成する
ことができるという製造上の大きな利点を有している。 シアニン系色素など大多数の色素は一般に溶解性が低く
、塗布液を調製する際には通常色素に対して溶解度の高
い溶剤としてジクロロメタン、ジクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素が使用されている。 一方、最近の情報記録媒体の基板は、製造の容易さ及び
取り扱い性における有利さを考慮して、セルキャストポ
リメチルメタクリレート、射出成形ポリメチルメタクリ
レート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル
共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;および
ポリカーボネート樹脂などのプラスチック材料から製造
するのが一般的となっている。 しかしながら、これらのプラスチック基板は上記のハロ
ゲン化炭化水素系溶剤などの非炭化水素系に対する耐溶
剤性が悪く、塗布液を塗布した場合に基板表面が溶解し
て、基板表面に設けられているトラッキング用グループ
などの凹凸が消失したり、基板材料の記録層への混入に
より記録層の反射率が低下するなどの問題がある。 このような問題を解決するために、たとえば。 特開昭59−217241号公報には、予めプラスチッ
ク基板にハロゲン化炭化水素溶剤に対する不溶化処理を
施すことが記載されている。 [発明の要旨] 本発明は1色素を記録材料とする新規な情報記録媒体お
よびその製造法を提供することをその目的とするもので
ある。 本発明は、非晶質ポリオレフィン製基板上に、レーザー
による情報の書き込みおよび/または読み取りが可能な
色素記録層が設けられてなる情報記録媒体からなる。 本発明は、色素を記録材料とする情報記録媒体の基板と
して、非晶質ポリオレフィン製基板を用いることを特徴
とするものである。すなわち、本発明者の研究によると
、光ディスクの基板とじては、あまり一般的ではない非
晶質ポリオレフィン製の基板が、ハロゲン化炭化水素系
溶剤などの非炭化水素系も対する耐溶剤性が高く、その
基板表面に特に不溶化処理を施さなくとも、これらの溶
媒を用いた塗布液を塗布した場合に基板表面が溶解する
ことなく良好な塗布型記録層が形成されることを見いだ
し、本発明に到達したものである。 従って、本発明によれば、従来より問題となっていた基
板表面のグループの消失および記録層の反射率の低下な
どが生じることがなく、高性能の情報記録媒体が得られ
る。 また、予め基板に溶剤に対する不溶化処理などを行なう
必要もないから、情報記録媒体の製造工程が煩雑となっ
たり、製造コストが高くなることもない。 [発明の詳細な記述] 本発明の情報記録媒体は、たとえば以下のような方法に
より製造することができる。 本発明において使用する基板は、アタクチックポリプロ
ピレンやプロピレン・エチレン共重合体などのアモルフ
ァス(非晶質)ポリオレフィンからなる基板である。こ
のような非晶質ポリオレフィンは、たとえば立体規則性
の低いポリオレフィン系樹脂を急冷成形することにより
得られるものであって、X線解析による格子パターンが
実質的に観察されないものである。このような基板自体
は既に知られている。非晶質ポリオレフィンを基板に成
形するには、たとえば射出成形あるいは押出成形などの
公知の成形操作が利用される。 基板には、トラッキング用溝またはアドレス信号等の情
報を表わす凹凸の形成の目的で、プレグルーブもしくは
プレグルーブ層が設けられていてもよい。 記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上、記録層の変質の防止および記録感゛度の
向上等の目的で、下塗層が設けられていてもよい。 次に、基板(または下塗層)上には、本発明の特徴的な
要件である記録層が設けられる。 本発明の情報記録媒体における記録層は、実質的に色素
のみからなる層であるか、あるいは色素とこれを分散含
有する結合剤からなる層であり、通常は、塗布操作によ
り設けられる層である。 本発明において色素としては、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ビリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Orなどの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、
トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、
アミニウム系−ジインモニウム系色素およびニトロン化
合物を挙げることができる。 1゛y下金白 これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外債域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましε翫。 その例としては、 l)シアニン系色素: [11(CHs)2N−(C1−CI)s−CH=゛N
(CH3)z Cl0s−(ただし、nは2または3で
ある) (ただし、Rは水素原子またはN(CHshである) [4]   A−(OH−C■)n−CH=8であり、
Rはアルキル基であり、又は対イオンであり、場合によ
りベンゼン環またはナフタリン環には塩素原子、アルキ
ル基、アルコキシ基またはアリール基が存在していても
よく、nはO〜3の整数である) (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハロゲン原子で
ある) (ただし、Rは置換または未置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素
原子またはハロゲン原子であり、Yはハロゲン、バーク
ロレート、置換または未置換のベンゼンスルホネート、
パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチ
ルスルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカ
ルボキシレートまたはトリフルオ日メチルカルボキシレ
ートであり、nはO〜3の整数である)(ただし、R1
,R2およびR3はそれぞれ置換または未置換のアルキ
ル基であって、互いに同じか異なっていてもよく、X−
は過ハロゲン酸イオン、トルエンスルホン酸イオンまた
はアルキル硫酸イオンであり、nはθ〜3の整数であり
、そしてインドレニン環の4位、5位、6位および7位
の゛うちの少なくとも一つにハロゲン原子が存在し、場
合により他の位置にさらにハロゲン原子が存在していて
もよく、さらに場合によりベンゼン環はアルキル基、ア
ルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アリル基ま
たはアルキルカルボニル基で置換されていてもよい) (ただし、AmおよびA2はそれぞれ水素原子または置
換基であり、Zは工員複素環を形成するのに必要な原子
団であり、R1−R4はそれぞれ水素原子または置換基
であり、R5は置換基であるかまたはZと共に六員複素
環を形成してもよく%X−は陰イオンであり、nは0〜
2の整数である) 以下余白
【11】   Φ−L=’!’   (X−)。 (ただし、Φおよび!はそれぞれ芳香族環が縮合してい
てもよいインドール環残基、チアゾール環残基、オキサ
ゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残
基またはピリジン環残基であり、Lはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテト
ラカルボシアニンを形成するための連結基であり、X−
は陰イオンであり1mは0または1である)ii)スク
ワリリウム系色素: 1ii)アズレニウム系色素: R4、R4とR5、R5とR6およびR6とR7の組合
せのうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換
の複素環または脂肪族環による環を形成し、鎖環を形成
しないときのill、ii2、R3、R4,R5、R6
およびR7はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一
価の有機残基であり、あるいはR1とR2,R3とR4
,ii4とR5,R5とR6およびR6とR7の組合せ
のうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の
芳香族環を形成してもよ<、Aは二重結合によって結合
した二価の有機残基であり、Z−はアニオン残基である
。なお、アズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原
子が窒素原子で置き換えられてアザアズレン環となって
いてもよい、)ii)インドフェノール系色素: (ただし、XおよびYはそれぞれ水素原子、フルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、R1,R2およびR3はそれぞれ水素原子、CI
”’C2(lの置換または未置換のアルキル基、アリー
ル基、複素環またはシクロヘキシル基であり、Aは−N
IIGO−または−coNn−である) ■)金属錯塩系色素: (ただし、R1−R4はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり1Mは二価の遷移金属原子である) (ただし、R1およびR2はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Mは二価の遷移金属原子である) (R3)n            (R’)n(ただ
し、R1およびR2はそれぞれ置換または未置換のアル
キル基またはアリール基であり、R3はアルキル基、ハ
ロゲン原子または−N−R5基(ここで、R4およびR
5はそれぞれ置換または未置換のアルキル基またはアリ
ール基である)であり、Mは遷移金属原子であり、nは
0めに必要な陽イオンであり、MはNi、Cu。 Co%PdまたはPtであり、nは1または2である) (ただし、 [Catlは錯塩を中性ならしめるために
必要な陽イオンであり、MはNi、Cu、Co、Pdま
たはPtであり、nは1または2で(ただし、Xは水素
原子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、nは
1〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基である
)以下余白 (ただし、XIおよびx2はそれぞれニトロ基および/
またはハロゲン原子であり、nlおよびR2はそれぞれ
1〜3の整数であり、R1およびR2はそれぞれアミノ
基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセ
チルアミノ基、ベンゾイルアミノ基(置換ベンゾイルア
ミノ基を含ム)テあり、XIとX2.nlとR2および
R1とR2はそれぞれ互いに同じであっても異なってい
てもよく、MはCrまたはCO原子であり、Yは水素、
ナトリウム、カリウム、アンモニウム。 脂肪族アンモニウム(置換脂肪族アンモニウムを含む)
または脂環族アンモニウムである)マi)ナフトキノン
系、アントラキノン系色素:(ただし、Rは水素原子、
アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基で
ある)(ただし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基
、アミノ基または置換アミノ基である)(ただし、Rは
水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換
アミノ基である)(ただし、Xはハロゲン原子であり、
nは0〜10の整数である) 以下余 (ただし、Xはハロゲン原子である) NH2O などを挙げることができる。 これらの色素のうちで、本発明の方法を特に好ましく適
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合物とし
て用いてもよい、また、シアニン系色素を用いる場合に
、上記金属m環系色素またはアミニウム系・ジインモニ
ウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いてもよい。 記録層の形成は、上記色素、さらに所望ニヨリ結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾爆することによ
り行なうことができる。 塗布液調製用の溶剤としては、非炭化水素系有機溶剤が
用いられる。 そのような非炭化水素系溶剤の例としては、酢酸エチル
、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブ
チルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1,2−ジ
クロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素
、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンな
どのエーテル、エタノール、n−プロパツール、インプ
ロパツール、n−ブタノールなどのアルコール、ジメチ
ルホルムアミドなどのアミドなどを挙げることができる
。これらの非炭化水素系溶剤の内ではハロゲン化炭化水
素系溶剤が好ましい、なお、これらの非炭化水素系有機
溶剤は、50容量%以内である限り、脂肪族炭化水素溶
剤、脂環族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭
化水素系溶媒を含んでいてもよい。 塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、
滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。 結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン。 ゴムなどの天然有機高分子物質;およびポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の
炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル
系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチ
ル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポ
リエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導
体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬゛ 化
性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げる
ことができる。 塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディ
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。 記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1゜0〜95%(重量比)の
範囲にある。 記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に0
.01〜1101Lの範囲にあり、好ましくは0.02
〜14mの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい。 さらに、記録層の上には、情報の再生時におけるS/N
比の向上および記録時における感度の向上の目的で、反
射層が設けられてもよい。 反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se
、Y、Ti、Zr、Hf、V、N b、Ta、Cr、M
o、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、
Pd、Ir、Pt、  Cu、  Ag、  Au、 
 Zn、  Cd、  An。 Ga、  In、  Si、  Ge、  Te、  
Pb、  Po 、Sn、Biなどの金属および半金属
を挙げることができる。これらのうちで好ましいものは
An、CrおよびNiである。これらの物質は単独で用
いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金
として用いてもよい。 反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。 反射層の層厚は一般には100〜3000又の範囲にあ
る。 なお、反射層は基板と記録層との間に設けられてもよく
、この場合には情報の記録再生は記録層側(基板とは反
対の側)から行なわれる。 また、記録層(または反射層)の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい、この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。 保護層に用いられる材料の例としては、SiO,5i0
2、MgF2.5n02等の無機物質:熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。 保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層(または銀塩層あるい
は反射層)上および/または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい、
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液
を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても
形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯
電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目
的に応じて添加してもよい。 保護層の層厚は一般には0.1〜100 gmの範囲に
ある。 本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。 以下に1本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。 [実施例1] シアニン系色素(上記構造式[5J: 1gを、1.2−ジクロルエタン100ccに溶解して
塗布液(濃度21重量%)を調製した。 トラッキングガイドが設けられた円盤状の非晶質ポリオ
レフィン基板(外径:130mm、内径:15mm、厚
さ:1.2mm、トラックピッチ:1.6gm、グルー
プの深さ=800又、三井石油化学■製)上に、塗布液
をスピンコード法により回転数2000 rp■の速度
で塗布した後、70℃の温度で10分間乾燥して膜厚が
0.06#Lmの記録層を形成した。 このようにして、基板および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。 [実施例2] 実施例1において、溶剤としてメチルエチルケトンを用
いること以外は実施例1の方法と同様の処理を行なうこ
とにより、基板および記録層からなる情報記録媒体を製
造した。 [比較例1] 実施例1において、基板としてポリカーボネート基板を
用いること以外は実施例1の方法と同様の処理を行なう
ことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体を
製造した。 [比較例2] 実施例1において、zP法を利用してPMMA(ポリメ
チルメタクリレート)基板上にフォトポリマー・グルー
プ層を設けた基板を用いること以外は、実施例1の方法
と同様の処理を行なうことにより、基板および記録層か
らなる情報記録媒体を製造した。 [情報記録媒体の評価I] 得られた各情報記録媒体について、記録再生特性試験を
行なった。その結果、基板として非晶質ポリオレフエン
基板を用いた記録媒体(実施例1および2)は、基板表
面のグループに沿って記録再生特性を測定することがで
きたが、一方従来の方法によりポリカポネート基板を用
いて製造された記録媒体(比較例1)は、基板表面の溶
解によってグループが消失したために記録再生特性を測
定することができなかった。 [情報記録媒体の評価III 実施例1及び比較例2で得られた情報記録媒体の記録/
再生性能を以下の条件で行なった。 半導体レーザー二波長830nm ビーム径   =1.5ルmφ 回転スピード :5m/秒 記録パワー  :9mW (記録時の変調周波数2.5MH2、 デユーティ50%、グループ記録) 再生パワー  :0.4mW 再生信号のC/N (キャリヤ一対ノイズ比)を測定し
たところ、比較例2の記録媒体が45dBであるのに対
し、実施例1の記録媒体は49dBと高い性能を示した
。 特許出願人 富士写真フィルム株式会社代  理  人
  弁理士   柳  川  泰  男手続補正書 昭和62年12月 1日 昭和62年 特許願第116619号 2、発明の名称 情報記録媒体およびその製造法 3、補正をする者 事件との関係     特許出願人 名 称  (520)富士写真フィルム株式会社4、 
イーn人 住 所 東京都新宿区四谷2−14ミツヤ四谷ビル8階
6、補正により増加する発明の詳細な説明明細書の「発
明の詳細な説明」の欄を下記の如く補正致します。 −起一 (1)明細書の第7頁第3行目のr水素系も」をr水素
系に1と補正する。 (2)明細書の第7頁最終行のrポリプロピレンや1を
rポリプロピレン、」と補正する。 (3)明細書の第8頁第1行目のrなどの1の前にrや
ノルボルネン化合物を含むポリオレフィン1を挿入する
。 (4)明細書の第8頁第7行目のr知られているJの後
に「(ノルボルネン化合物を含む非晶質ポリオレフィン
については、特開昭61−292601号公報に開示)
」を挿入する。 −以上一

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、非晶質ポリオレフィン製基板上に、レーザーによる
    情報の書き込みおよび/または読み取りが可能な色素記
    録層が設けられてなる情報記録媒体。 2、上記色素が、シアニン系色素、フタロシアニン系色
    素、ピリリウム、チオピリリウム系色素、スクワリリウ
    ム系色素、アズレニウム系色素、インドフェノール系色
    素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素
    、キノン系色素、アミニウム、ジインモニウム系色素お
    よび金属錯塩系色素からなる群より選ばれる少なくとも
    一種の色素であることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の情報記録媒体。 3、上記色素が、シアニン系色素もしくはシアニン系色
    素と他の色素との混合物であることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の情報記録媒体。 4、非炭化水素系有機溶剤に色素を溶解して記録層製造
    用塗布液を調製した後、該塗布液を非晶質ポリオレフィ
    ン製基板上に塗布し乾燥させることによりレーザーによ
    る情報の書き込みおよび/または読み取りが可能な色素
    記録層を形成することを特徴とする情報記録媒体の製造
    法。 5、上記色素が、シアニン系色素、フタロシアニン系色
    素、ピリリウム、チオピリリウム系色素、スクワリリウ
    ム系色素、アズレニウム系色素、インドフェノール系色
    素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素
    、キノン系色素、アミニウム、ジインモニウム系色素お
    よび金属錯塩系色素からなる群より選ばれる少なくとも
    一種の色素であることを特徴とする特許請求の範囲第4
    項記載の情報記録媒体の製造法。 6、上記非炭化水素系有機溶剤がハロゲン化炭化水素で
    あることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の情報
    記録媒体の製造法。
JP62116619A 1987-05-12 1987-05-12 情報記録媒体およびその製造法 Pending JPS63281240A (ja)

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JP62116619A Pending JPS63281240A (ja) 1987-05-12 1987-05-12 情報記録媒体およびその製造法

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0346135A (ja) * 1989-07-13 1991-02-27 Sony Corp 光記録媒体
JPH03219994A (ja) * 1990-01-26 1991-09-27 Canon Inc 光記録媒体の製造方法
WO1998002875A1 (fr) * 1996-07-11 1998-01-22 Seiko Epson Corporation Disque optique et procede de production de ce dernier, et procede de production d'un materiau formant feuille

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