JPS63191688A - 情報記録媒体の製造法 - Google Patents

情報記録媒体の製造法

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JPS63191688A
JPS63191688A JP62025007A JP2500787A JPS63191688A JP S63191688 A JPS63191688 A JP S63191688A JP 62025007 A JP62025007 A JP 62025007A JP 2500787 A JP2500787 A JP 2500787A JP S63191688 A JPS63191688 A JP S63191688A
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JP
Japan
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dye
substrate
recording medium
information recording
group
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Application number
JP62025007A
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English (en)
Inventor
Masao Yabe
矢部 雅夫
Yoshio Inagaki
由夫 稲垣
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS63191688A publication Critical patent/JPS63191688A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野] 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび/または読み取りができる情報記
録媒体の製造法に関するものである。
[発明の技術的背景] 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、たとえばビデオ・ディスク、オ
ーディオ・ディスクなどの光ディスク、更には大官・量
静止画像ファイル、大容量コンピュータ用ディスク・メ
モリー、あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、超
マイクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植
字用原版などに応用されている。
情報記録媒体は基本的に、プラスチック、ガラス等から
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては、Bi、Sn、In、T
e等の金属または半金属:およびシアニン系、金属錯体
系、キノン系等の色素が知られている。
情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生・じてその
光学的特性を変えることにより情報が記録される。記録
媒体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを記
録媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的
特性の変化に応じた反射光または透過光を検出すること
により情報が再生される。
また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合してなるエアー
サンドイッチ構造が提案されている。このような構造を
有する情報記録媒体では、記録層は直接外気に接するこ
とがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー
光で行なわれるために、一般に記録層が物理的または化
学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着
して情報の記録、再生の障害となることがない。
記録材料として色素を用いた情報記録媒体は。
高感度であるなど記録媒体自体の特性において優れてい
ることのほかに、記録層を塗布法により基板上に簡単に
形成することができるという製造上の大きな利点を有し
ている。シアニン系色素など大多数の色素は一般に溶解
性が低く、塗布液を調製する際には通常色素に対して溶
解度の高い溶剤としてジクロロメタン、ジクロロエタン
などのハロゲン化炭化水素が使用されている。
しかしながら、これらのハロゲン化炭化水素系溶剤に対
してプラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を塗布
した場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けられて
いるトラッキング用グループなどの凹凸が消失したり、
基板材料の記録層への混入により記録層の反射率が低下
するなどの間通がある。このような問題を解決するため
に、たとえば特開昭59−217241号公報には、予
めプラスチック基板にハロゲン化炭化水素溶剤に対する
不溶化処理を施すことが記載されている。
[発明の要旨1 本発明は、新規な溶剤を用いて情報記録媒体を製造する
方法を提供することをその目的とするものである。
また本発明は、情報記録媒体を製造するに際して基板を
溶解することなく、塗布法により基板上に記録層を形成
する方法を提供することもその目的とするものである。
さらに本発明は、情報記録媒体を簡易に製造する方法を
提供することもその目的とするものである。
上記の目的は、基板上に、レーザーによる情報の書き込
みおよび/または読み取りが可能な記録層が設けられて
なる情報記録媒体を製造する方法において、弗素置換ア
ミノ化合物および/またはその誘導体を含む溶剤に色素
を溶解して塗布液を調製した後、該塗布液を基板上に塗
布乾燥することにより記録層を形成することを特徴とす
る本発明の情報記録媒体の製造法により達成することが
できる。
すなわち、本発明は、色素を記録材料とする記録層形成
のための塗布液調製用の溶剤として弗素置換アミノ化合
物および/またはその誘導体を用いることにより、塗布
液の調製を容易にし、かつ塗布液により基板が溶解する
のを防止するものである。
本発明において、溶剤として用いられる弗素置換アミノ
化合物および/またはその誘導体はシアニン系色素など
の色素に対する溶解度が高いため、記録層形成のための
塗布液を容易に調製することができる。また、この化合
物はポリカーボネートなどのプラスチック物質からなる
基板に対して不溶性であるため、塗布過程で基板が溶解
することがない。
従って、本発明によれば、従来より問題となっていた基
板表面のグループの消失および記録層の反射率の低下な
どが生じることがなく、高性能の情報記録媒体を製造す
ることができる。また、予め基板に溶剤に対する不溶化
処理などを行なう必要もないから、記録媒体の製造工程
が煩雑となつたり、製造コストが高くなることもない。
[発明の構J&] 情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような本発明の
方法により製造することができる。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメタク
リレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等のアク
リル樹脂:ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩
化ビニル系樹脂:エボキシ樹脂;およびポリカーボネー
ト樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル;
ソーダ石灰ガラス等のガラス;およびセラミックスを挙
げることができる。
本発明の方法は基板材料がプラスチック物質である場合
に特に有効であり、そのうちでもポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、アモルファス
ポリオレフィン、ポリエステルまたはポリ塩化ビニルで
ある場合に好適に適用することができる。また、寸度安
定性、透明性および平面性などの点から好ましいのは、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート樹脂、エ
ポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステ
ルおよびガラスである。なお、これらの材料はフィルム
状としてまたは剛性のある基板として使うことができる
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられてもよい、下塗層の材料としてはたとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、ス
チレン番スルホン酸共重合体、スチレン・ビニルトルエ
ン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセ
ルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポ
リエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重
合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質;シ
ランカップリング剤などの有機物質;および無機酸化物
(SiO2、A!L203等)、無機弗化物(MgFt
)などの無機物質を挙げることができる。
ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレンφ無水マレイン酸共重
合体などの親木性基および/または無水マレイン酸基を
有するポリマーからなる下塗層が設けられるのが望まし
い。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、ディップコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般にo、oos〜20
JLmの範囲にあり、好ましくは0.01〜loILm
の範囲である。
また、基板(または下塗層)上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種のモノマー(またはオリゴマー)と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型(ス
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる0
次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般に0.05〜11007Lの範囲にあり、好ま
しくは0.1〜50pmの範囲である。基板材料がプラ
スチックの場合は、射出成形あるいは押出成形などによ
り直接基板にグループが設けられてもよい。
なお、本発明において溶剤として用いられる弗素置換ア
ミノ化合物および/またはその誘導体はプラスチック基
板に対して不溶性であるのみならず、このプレグルーブ
層材料に対しても殆ど不溶性であるから、基板上に記録
層を直接に設ける場合のみならず、プレグルーブ層上に
記録層を設ける場合にも同様の効果が得られるものであ
る。
基板(またはプレグルーブ層等)上には記録層が設けら
れる。
記録層は、実質的に色素のみからなる層であるか、ある
いは色素とこれを分散含有する結合剤からなる層である
本発明において色素としては、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなとの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素。
トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、
アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化
合物を挙げることができる。
以下余白 これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。
その例としては。
i)シアニン系色素: [11(CH3) zN−(CH=CH) 5−CH−
◆N(CH3) 2 C104−(ただし、nは2また
は3である) (ただし、Rは水素原子またはN(CH3)2である) であり、Rはアルキル基であり、Xは対イオンであり、
場合によりベンゼン環またはナフタリン環には塩素原子
、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が存在し
ていてもよく、nはO〜3の整数である) (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハロゲン原子で
ある) (ただし、Rは置換または未置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素
原子またはハロゲン原子であり、Yはハロゲン、バーク
ロレート、置換または未置換のベンゼンスルホネート、
パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチ
ルスルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカ
ルボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシレ
ートであり、nはθ〜3の整数である)(ただし、R1
,R2およびR3はそれぞれ置換または未置換のアルキ
ル基であって、互いに同じか異なっていてもよく、x−
は過ハロゲン酸イオン、トルエンスルホン酸イオンまた
はアルキル硫酸イオンであり、nは0〜3の整数であり
、そしてインドレニン環の4位、5位、6位および7位
のうちの少なくとも一つにハロゲン原子が存在し、場合
により他の位置にさらにハロゲン原子が存在していても
よく、さらに場合によりベンゼン環はアルキル基、アル
コキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アリル基また
はアルキルカルボニル基で置換されていてもよい) (ただし、AIおよびA2はそれぞれ水素原子または置
換基であり、Zは工員複素環を形成するのに必要な原子
団であり、R1−R4はそれぞれ水素原子または置換基
であり、R5は置換基であるかまたはZと共に六員複素
環を形成してもよ<、X−は陰イオンであり、nは0〜
2の整数である) 以下余白 [11]   Φ−L = ’!’   (X −)s
(ただし、Φおよびψはそれぞれ芳香族環が縮合してい
てもよいインドール環残基、チアゾール環残基、オキサ
ゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残
基またはピリジン環残基であり、Lはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテト
ラカルボシアニンを形成するための連結基であり、X−
は陰イオンであり、mはOまたはlである)ii)スク
ワリリウム系色素: 1ii)アズレニウム系色素: (ただし、R1とR2,R2とR3,R3とR4,R4
とR5,R5とR6およびR6とR7の組合せのうち少
なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の複素環ま
たは脂肪族環による環紮形成し、鎖環を形成しないとき
のR1,R2、R3,R4,R5,f16およびR7は
それぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価の有機残基
であり、あるいはR1とl(2,1(3とR4,R4と
R5,R5とR6およびR6とR1の組合せのうち少な
くとも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香族環を
形成してもよく、Aは二重結合によって結合した二価の
有機残基であり、Z−はアニオン残基である。なお、ア
ズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が窒素原
子で置き換えられてアザアズレン環となっていてもよい
、)ii)インドフェノール系色素: (ただし、XおよびYはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、R1,R2およびR3はそれぞれ水素原子、C1
〜C1の置換または未置換のアルキル基、アリール基、
複素環またはシクロヘキシル基であり、Aは−NHCO
−または一〇0N)I−である) ■)金属錯塩系色素: (ただし、R1−R4はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり、Mは二価の遷移金属原子である) (ただし、R1およびR2はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Mは二価の遷移金属原子である) (R3)n              (R3)n(
ただし、R1およびR2はそれぞれR模本たは未置換の
アルキル基またはアリール基であり、R3はアルキル基
、ハロゲン原子または−N−R5基(ここで 1li4
およびR5はそれぞれ置換または未置換のアノ1キル基
またはアリール基である)であり、Mは遷移金属原子で
あり、nは0めに必要な陽イオンであり1MはNi、C
u。
Co、PdまたはPtであり、nは1または2である) (ただし、[Cat]は錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、MはNi、Cu、Go、Pdまた
はFtであり、nは1または2で(ただし、Xは水素原
子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、nは1
〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基である)
以下余白 基および/またはハロゲン原子であり、nlおよびR2
はそれぞれ1〜3の整数であり、R1およびR2はそれ
ぞれアミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミ
ノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基(置換ベ
ンゾイルアミノ基を含む)であり、XiとX2.nlと
R2およびR1とR2はそれぞれ互いに同じであっても
異なっていてもよく、MはCrまたはCO原子であり、
Yは水素、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、脂肪
族アンモニウム(置換脂肪族アンモニウムを含む)また
は脂環族アンモニウムである)Vυす7トキノン系、ア
ントラキノン系色素;(ただし、Rは水素原子、アルキ
ル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基である)
(ただし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
7基または置換アミ7基である)(ただし、Rは水素原
子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ
基である)(ただし、Xはハロゲン原子であり、nは0
〜lOの整数である) 以下余白 (ただし、Xはハロゲン原子である) ON)120 などを挙げることができる。
これらの色素のうちで5本発明の方法を特に好ましく適
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合物とし
て用いてもよい、また、シアニン系色素を用いる場合に
、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモニ
ウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いてもよい。
記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。
本発明の特徴的な要件である塗布液調製用の溶剤には、
少なくとも一部が弗素で置換されたアミノ化合物および
/またはその誘導体が用いられる。
本発明に用いられる弗素!!換アミノ化合物およびその
誘導体としては、一般式(I):%式%() (ただし、Aは置換または無置換のアルキル基またはア
リール基であって、かつ少なくとも一つの弗素原子で置
換されており;R1およびR2はそれぞれ水素原子、炭
素a1〜20の置換または無置換のアルキル基またはア
リール基であり:A、R1およびR2は全体として複素
環を形成していてもよい) で表わされる化合物を挙げることができる。
上記一般式(工゛)において、A、R1およびR2上の
置換基としては、弗素原子の他に塩素原子、臭素原子、
ニトロ基、水酸基、置換または無置換のアルキル基、フ
ェニル基が挙げられる。また、該化合物の分子量は40
0以下であるのが好ましい。
その具体例としては下記化合物が挙げられる。
F         F ただし、本発明に用いられる弗素置換アミノ化合物およ
び/またはその誘導体は上記化合物に限定されるもので
はなく、−分子中に少なくとも一つの弗素原子と窒素原
子(アミノ基など)を含む有機化合物であって1色素に
対して溶剤として機走しうる限り任意の化合物を用いる
ことができる。
本発明において、上記弗素置換アミノ化合物および/ま
たはその誘導体は単独で溶剤として用いてもよいが、あ
るいは他の溶剤を併用することにより混合溶剤として用
いてもよい。
そのような溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロンルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタ
ノール、n−プロパツール、インプロパツール、  n
 −ブタノールなどの色素を溶解しうる溶剤を挙げるこ
とができる。
なお、弗素置換アミノ化合物および/またはその誘導体
が常温で固体である場合には上記溶剤との混合溶剤とし
て用いられる。
塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤。
可塑剤、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加して
もよい。
結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質;およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル縁メチル等
のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の
初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることがで
きる。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、ディ
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1゜0〜95%(重量比)の
範囲にある。また、溶剤が弗素置換アミノ化合物および
/またはその誘導体と他の溶剤との混合系である場合に
は、その組合せ、色素および基板の種類によっても異な
るが、一般には弗素置換アミノ化合物および/またはそ
の誘導体は溶剤全体の5〜95%(重量比)の範囲で使
用され、好ましくは30〜90%(重量比)の範囲にあ
る。このようにして調製される塗布液の濃度は一般に0
.01−10%(重量比)の範囲にあり、好ましくは0
.1〜5%(重量比)の範囲にある。
記録層は単層でも重層でもよい、が、その層厚は一般に
0.001−1O1Lの範囲にあり、好ましくは0.0
2〜lpmの範囲にある。また、記録層は基板の片面の
みならず両面に設けられていてもよい。
さらに、記録層の上には、情報の再生時におけるS/N
比の向上および記録時における感度の向上の目的で、反
射層が設けられてもよい。
反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se
、Y、Ti、Zr、Hf、V、N b、Ta、Cr、M
o、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、
Pd、Ir。
Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、A!L、Ga、
In、St、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなど
の金属および半金属を挙げることができる。これらのう
ちで好ましいものはAn、CrおよびNiである。これ
らの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の
組合せでまたは合金として用いてもよい。
反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。
反射層の層厚は一般には100〜3000又の範囲にあ
る。
なお、反射層は基板と記録層との間に設けられてもよく
、この場合には情報の記録再生は記録層側(基板とは反
対の側)から行なわれる。
また、記録層(または反射層)の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい、この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。
保護層に用いられる材料の例としては、5iO1S i
02、MgF、、5n02等の無機物質;熱可塑性樹脂
、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げる
ことができる。
保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層(または銀塩層あるい
は反射層)上および/または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい、
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液
を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても
形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯
電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目
的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には0.1〜1100pの範囲にあ
る。
本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記Q1mが内側となるように向い合わせ、
接着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの
記録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚
の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有す
る基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側
スペーサとを介して接合することにより、エアーサンド
イッチタイプの記録媒体を製造することもできる。
以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。
[実施例1] シアニン系色素(上記構造式[51: %式%) 2gll−、ペンタフロロアニリン(構造式:F   
            ) 100ccに溶解して塗布液(濃度:2重量%)を調製
した。
トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板(外径:130mm、内径:15mm、厚さ:
1−2mm、トラックピッチ:1.6pm、グループの
深さ=800又)上に、塗布液をスピンコード法により
回転数2000rpmの速度で塗布した後、70℃の温
度で10分間乾燥して膜厚がOo−06pの記録層を形
成した。
このようにして、基板および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。
[実施例2] 実施例1において、溶剤としてペンタフロロジF   
  ) を用いること以外は実施例1の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
[実施例3] 実施例1において、溶剤としてペンタフロロピリジン(
構造式二    F を用いること以外は実施例1の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
[比較例1] 実施例1において、溶剤としてジクロロエタンを用いる
こと以外は実施例1の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
得られた各情報記録媒体について、記録再生特性試験を
行なった。その結果、溶剤として弗素置換アミノ化合物
および/またはその誘導体を用いる本発明の方法により
製造された記録媒体(実施例1.2および3)は、基板
表面のグループに沿って記録再生特性を測定することが
できたが、一方従来の方法により製造された記録媒体(
比較例1)は、基板表面の溶解によってグループが消失
したために記録再生特性を測定することができなかった
[実施例4〜6] 実施例1〜3において、各塗布液にさらにクエンチャ−
としてニッケル錯塩系色素(上記構造式[21]: をシアニン色素と等モル添加して、塗布液を調製するこ
と以外はそれぞれ実施例1〜3の方法と同様の処理を行
なうことにより、基板および記ff1JWからなる情報
記録媒体を製造した。
[実施例7〜9] 実施例1〜3において、各塗布液にさらにクエンチャ−
としてジインモニウム系色素(構造式:%式%) をシアニン色素と等モル添加して、塗布液を1!4製す
ること以外はそれぞれ実施例1〜3の方法と同様の処理
を行なうことにより、基板および記録層からなる情報記
録媒体を製造した。
[実施例10−12] 実施例1〜3において、色素としてシアニン系色素(上
記構造式[9]: %式%) を用いること以外はそれぞれ実施例1〜3の方法と同様
の処理を行なうことにより、基板および記録層からなる
情報記録媒体を製造した。
[実施例13〜15] 実施例1〜3において、色素としてシアニン系C2H5
ON ON     CzH5)を用いること以外はそ
れぞれ実施例1〜3の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
[実施例16〜18] 実施例1〜3において1色素としてスクワリリウム系色
素(上記構造式[13] : を用いること以外はそれぞれ実施例1〜3の方法と同様
の処理を行なうことにより、基板および記録層からなる
情報記録媒体を製造した。
実施例4〜18の各情報記録媒体について記録再生特性
試験を行なったところ、いずれも基板表面のグループが
消失せずに残っており、このグループに沿って記録再生
特性を測定することができた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび/
    または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
    録媒体を製造する方法において、弗素置換アミノ化合物
    および/またはその誘導体を含む溶剤に色素を溶解して
    塗布液を調製した後、該塗布液を基板上に塗布乾燥する
    ことにより記録層を形成することを特徴とする情報記録
    媒体の製造法。 2、上記弗素置換アミノ化合物および/またはその誘導
    体が、一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、Aは置換または無置換のアルキル基またはア
    リール基であって、かつ少なくとも一つの弗素原子で置
    換されており;R^1およびR^2はそれぞれ水素原子
    、炭素数1〜20の置換または無置換のアルキル基また
    はアリール基であり;A、R^1およびR^2は全体と
    して複素環を形成していてもよい) で表わされる化合物であることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の情報記録媒体の製造法。 3、上記溶剤が弗素置換アミノ化合物もしくはその誘導
    体のみからなることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の情報記録媒体の製造法。 4、上記色素が、シアニン系色素、フタロシアニン系色
    素、ピリリウム、チオピリリウム系色素、スクワリリウ
    ム系色素、アズレニウム系色素、インドフェノール系色
    素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素
    、キノン系色素、アミニウム、ジインモニウム系色素お
    よび金属錯塩系色素からなる群より選ばれる少なくとも
    一種の色素であることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の情報記録媒体の製造法。 5、上記色素が、シアニン系色素もしくはシアニン系色
    素と他の色素との混合物であることを特徴とする特許請
    求の範囲第4項記載の情報記録媒体の製造法。 6、上記基板がプラスチック物質からなることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体の製造法
    。 7、上記基板が、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
    リレート、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン
    、ポリエステルおよびポリ塩化ビニルからなる群より選
    ばれる一種の高分子化合物からなることを特徴とする特
    許請求の範囲第6項記載の情報記録媒体の製造法。 8、上記基板がポリカーボネートからなることを特徴と
    する特許請求の範囲第7項記載の情報記録媒体の製造法
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