JP2023106460A - デジタル印刷システム用の中間転写部材 - Google Patents

Abstract

【課題】可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）、１または複数の感知アセンブリ、およびプロセッサを含むシステムを提供する。【解決手段】可撓性ＩＴＭは、複数の層のスタックを含み、ＩＴＭに沿った１または複数のそれぞれのマーキング位置において層の少なくとも１つに彫刻された１または複数のマーカを有し、ＩＴＭは、表面にインク画像を形成するためにインク供給システムからインク液滴を受け取り、インク画像を標的基板に転写するように構成される。１または複数の感知アセンブリは、ＩＴＭに対する１または複数のそれぞれの既定の位置に配置され、マーカのそれぞれの位置を示す信号を生成するように構成される。プロセッサは、信号を受信し、信号に基づいて、ＩＴＭにおけるインク液滴の堆積を制御するように構成される。【選択図】図２Ａ

Description

本発明は、一般にデジタル印刷に関し、特に、デジタル印刷システムの動作における制御のための方法およびシステムに関する。

デジタル印刷におけるプロセスを制御するための様々な方法およびデバイスが、当技術分野において既知である。

たとえば、ＰＣＴ特許出願ＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０５１７２７号は、たとえば中間転写部材（ＩＴＭ）を備える印刷システムのための制御装置および方法を説明する。いくつかの実施形態は、ＩＴＭの速度および／または張力および／または長さの調整に関する。いくつかの実施形態は、移動ＩＴＭにおけるインクの堆積の調整に関する。いくつかの実施形態は、ＩＴＭの動作に関連する１または複数のイベントをユーザに警告するように構成された装置に関する。

米国特許第５，８８９，５３４号は、回転ドラム部材の外側表面に結合された印刷媒体の共通画像素子位置、すなわち画素へ向かって推進される複数のインク液滴の各々が、ドラム表面の一部におけるわずかな変動にかかわらず同じ画素位置に精密に到達するように、ドラムベースのデジタル印刷エンジンを特徴付ける方法を説明する。

本明細書で説明される本発明の実施形態は、可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）、１または複数の感知アセンブリ、およびプロセッサを含むシステムを提供する。可撓性ＩＴＭは、複数の層のスタックを含み、ＩＴＭに沿った１または複数のそれぞれのマーキング位置において層の少なくとも１つに彫刻された１または複数のマーカを有し、ＩＴＭは、表面にインク画像を形成するためにインク供給システムからインク液滴を受け取り、インク画像を標的基板に転写するように構成される。１または複数の感知アセンブリは、ＩＴＭに対する１または複数のそれぞれの既定の位置に配置され、マーカのそれぞれの位置を示す信号を生成するように構成される。プロセッサは、信号を受信し、信号に基づいて、ＩＴＭにおけるインク液滴の堆積を制御するように構成される。

いくつかの実施形態において、マーカの少なくとも１つは、グリッドマーカ、動き符号化コード、１次元（１Ｄ）バーコード、２次元（２Ｄ）バーコード、および３次元（３Ｄ）バーコードから成るリストから選択された少なくとも１つのコードを含む。他の実施形態において、２Ｄバーコードは、クイックレスポンス（ＱＲ）コードおよびＡＺＴＥＣコードの少なくとも１つを含む。また他の実施形態において、マーカの少なくとも１つは、円形、長方形、正方形、および星形から成るリストから選択された幾何学的形状を有する。

実施形態において、システムは、各光源がそれぞれの感知アセンブリに面し、またはそれぞれのセンサに結合されるように感知アセンブリの少なくとも１つにそれぞれ関連付けられた１または複数の光源を含み、光源の各々は、ＩＴＭを照明するように構成される。他の実施形態において、システムはスリットアセンブリを含み、スリットアセンブリは、ＩＴＭと感知アセンブリとの間に配置され、互いに既定の距離を置いて形成された、スリットアセンブリを介して光源から放出された１または複数の光ビームを通すように構成された第１および第２のスリットを有し、マーカのうちの所与のマーカが第１のスリットと一直線上にある時、感知アセンブリは、第１のスリットと一直線上にある所与のマーカの位置を示す第１の信号を生成するように構成され、所与のマーカが第２のスリットと一直線上にある時、感知アセンブリは、第２のスリットと一直線上にある所与のマーカの位置を示す第２の信号を生成するように構成され、プロセッサは、第１および第２の信号に基づいて、ＩＴＭの変形を検出するように構成される。

いくつかの実施形態において、システムは、スリットアセンブリと感知アセンブリとの間に配置され、スリットアセンブリを通過する光ビームを感知アセンブリへ伝達するように構成された複数の光ファイバを有するファイバアセンブリを含む。他の実施形態において、光ビームは、第１のスリットを通過する第１の光ビームおよび第２のスリットを通過する第２の光ビームを含み、システムは、第１および第２のスリットの間に配置され、第１および第２の光ビームを分離するように構成されたシールドを含む。また他の実施形態において、マーカは、所与のマーカと、所与のマーカからマーカ間距離を置いて位置する隣接マーカとを少なくとも含み、マーカ間距離は、既定の距離よりも大きい。

実施形態において、ＩＴＭが第１および第２のスリットに対して既定の速度で動く時、プロセッサは、既定の速度および第１および第２の信号に基づいて、ＩＴＭの変形を検出するように構成される。他の実施形態において、光源の少なくとも１つは、可視光、赤外（ＩＲ）光、および紫外（ＵＶ）光の１つを放出するように構成され、感知アセンブリの少なくとも１つは、それぞれの光源から放出された光を感知するように構成される。また他の実施形態において、マーカの少なくとも１つは、磁性材料を含み、感知アセンブリの少なくとも１つは、磁性材料と感知アセンブリとの間に生成された磁界を感知し、感知された磁界に基づいて、信号を生成するように構成される。

いくつかの実施形態において、システムは、少なくとも１つのステーションまたはアセンブリを含み、プロセッサは、信号に基づいて、システムの少なくとも１つのステーションまたはアセンブリの動作を制御するように構成される。他の実施形態において、少なくとも１つのステーションまたはアセンブリは、（ａ）画像形成ステーション、（ｂ）押付けステーション、（ｃ）ＩＴＭガイドシステム、（ｄ）１または複数の乾燥アセンブリ、（ｅ）ＩＴＭ処理ステーション、および（ｆ）画像品質制御ステーションから成るリストから選択される。また他の実施形態において、画像形成ステーションは、１または複数の印刷ヘッドを備える印刷バーを少なくとも含み、画像形成ステーションは、インク供給システムに結合され、そこからインクを受け取り、印刷ヘッドを用いてＩＴＭにインク液滴を塗布するように構成される。

実施形態において、押付けステーションは、インク画像を標的基板に転写するように構成された回転可能押付けシリンダおよび回転可能圧力シリンダを含み、プロセッサは、信号に基づいて、（ａ）押付けシリンダと圧力シリンダとの係合および係合解除のタイミング、（ｂ）押付けシリンダおよび圧力シリンダの少なくとも１つの運動プロファイル、および（ｃ）係合解除された押付けシリンダと圧力シリンダとの間隙のサイズから成るリストから選択された少なくとも１つの動作を制御するように構成される。他の実施形態において、プロセッサは、信号に基づいて、ＩＴＭに堆積したインク液滴を乾燥するために乾燥アセンブリの少なくとも１つによって付与される乾燥プロセスを制御するように構成される。また他の実施形態において、プロセッサは、信号に基づいて、ＩＴＭガイドシステムの１または複数のローラの速度を制御するように構成される。

いくつかの実施形態において、プロセッサは、信号に基づいて、ＩＴＭ処理ステーションにおけるＩＴＭの冷却プロセス、洗浄プロセス、および処理プロセスの少なくとも１つを制御するように構成される。他の実施形態において、プロセッサは、信号に基づいて、ＩＴＭ処理ステーションにおけるＩＴＭへの処理液の付与を制御するように構成される。また他の実施形態において、プロセッサは、信号に基づいて、画像品質制御ステーションによって取得および処理されたインク画像のデジタル画像の少なくとも１つの撮像パラメータを制御するように構成される。

実施形態において、１または複数のマーカは、ＩＴＭの少なくとも一部に沿って形成された連続マーカを含む。他の実施形態において、ＩＴＭに彫刻されたマーカの少なくとも１つは、ＩＴＭ層の少なくとも１つに形成された構造の少なくとも一部を埋めるように構成された充填材料を含む。また他の実施形態において、充填材料は、磁性材料と感知アセンブリとの間に磁界を生成する磁性材料を含む。

いくつかの実施形態において、充填材料は、ＩＴＭ層の少なくとも１つの少なくとも１つの光学特性を変化させ、またはＩＴＭ全体の少なくとも１つの光学特性を変化させるように構成される。他の実施形態において、充填材料は、シリコンポリマー、ポリウレタン、金属、シリコン系顔料、および磁性材料から成る材料のリストのうちの少なくとも１つの材料を含む。また他の実施形態において、充填材料は、シリコンポリマーへの化学親和力、０℃～１８０℃の温度範囲における機械的および化学的安定性、耐薬品性、および３０ショアＡより大きい表面硬さから成る属性のリストから選択された少なくとも１つの属性を有する。

実施形態において、複数の層のスタックは、第１の層と、第１の層上に配置された第２の層とを少なくとも含み、マーカの少なくとも１つは、第２の層を貫通して彫刻され、第１の層内へ延びる。他の実施形態において、複数の層のスタックは、第１の層と、第１の層上に配置された第２の層とを少なくとも含み、マーカの少なくとも１つは、第１および第２の層の少なくとも１つの少なくとも一部に彫刻される。

本発明の実施形態によると、可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）、１または複数の感知アセンブリ、およびプロセッサを含むシステムが更に提供される。可撓性ＩＴＭは、（ａ）複数の層のスタックと、（ｂ）ＩＴＭに沿った１または複数のそれぞれのマーキング位置において可撓性層の少なくとも１つと一体化された１または複数のマーカとを含み、ＩＴＭは、表面にインク画像を形成するためにインク供給システムからのインク液滴を受け取り、インク画像を標的基板に転写するように構成される。１または複数の感知アセンブリは、ＩＴＭに対する１または複数のそれぞれの既定の位置に配置され、マーカのそれぞれの位置を示す信号を生成するように構成される。プロセッサは、信号を受信し、信号に基づいて、ＩＴＭにおけるインク液滴の堆積を制御するように構成される。

いくつかの実施形態において、マーカは、可撓性層の少なくとも１つに彫刻された１または複数の３次元（３Ｄ）マーカを含む。

本発明の実施形態によると、中間転写部材（ＩＴＭ）を生成するための方法が更に提供され、方法は、１または複数の層を提供することを含む。１または複数のマーカは、１または複数の層の少なくとも１つに、その一体部分を成すように形成される。

いくつかの実施形態において、１または複数の層を提供することは、（ａ）そこに衝突する光の強度を減衰するための不透明層、および（ｂ）そこに衝突する光の強度を通すための透明層を少なくとも提供することを含む。他の実施形態において、１または複数のマーカを形成することは、不透明層の少なくとも一部を除去し、透明層の少なくとも一部を保持することを含む。また他の実施形態において、マーカを形成することは、１または複数の層の少なくとも１つの少なくとも一部にマーカの少なくとも１つを彫刻することを含む。

本発明の実施形態によると、表面にインク画像を形成するためにインク液滴を受け取り、インク画像を標的基板に転写するために構成された中間転写部材（ＩＴＭ）が更に提供され、ＩＴＭは、１または複数の層と、ＩＴＭに沿った１または複数のそれぞれのマーキング位置において１または複数の層の少なくとも１つと一体化された１または複数のマーカとを含む。

いくつかの実施形態において、ＩＴＭに彫刻されたマーカの少なくとも１つは、ＩＴＭ層の少なくとも１つに形成された構造の少なくとも一部を埋めるように構成された充填材料を含む。他の実施形態において、マーカの少なくとも１つは、可撓性層の少なくとも１つに印刷されたインクマーカを含む。また他の実施形態において、マーカの少なくとも１つは、可撓性層の少なくとも１つに印刷された１または複数の３次元（３Ｄ）マーカを含む。

実施形態において、１または複数の層は、そこに衝突する光の強度を、そこを貫通して伝送されないように減衰するように構成された不透明層を含み、不透明層の少なくとも一部は、それぞれのマーキング位置の１または複数において除去される。他の実施形態において、１または複数の層は、（ａ）そこに衝突する光の強度を、そこから反射しないように減衰するように構成された非反射性層と、（ｂ）そこに衝突する光の強度を通すように構成された透明層とを少なくとも含む。また他の実施形態において、１または複数の層は、そこに衝突する光の強度を、そこから反射しないように減衰させるように構成された非反射性層を含み、非反射性層の少なくとも一部は、それぞれのマーキング位置の１または複数において除去される。

いくつかの実施形態において、層の少なくとも１つは、長さ軸に沿って折り畳まれ、連続ループを形成するように互いに結合された第１および第２の端部を有する。他の実施形態において、連続ループは、間接印刷システムの１または複数のローラの周囲に巻き付けられ、ローラによってガイドされるように構成される。また他の実施形態において、ＩＴＭは、間接印刷システムの１または複数のドラムの周囲に巻き付けられるように構成される。いくつかの実施形態において、マーカの少なくとも１つは、１または複数の層の少なくとも１つの少なくとも一部に彫刻される。

実施形態において、連続ループは、シートおよび連続ウェブから成るリストから選択された標的基板にインク画像を転写するように構成される。他の実施形態において、層の少なくとも２つは、互いに位置合わせされ、共通の第１および第２の端部を有し、少なくとも２つの層は、長さ軸に沿って折り畳まれ、第１および第２の端部は、連続ループを形成するように互いに結合される。また他の実施形態において、マーカは、ＩＴＭの伸張量を示すように構成される。

本発明の実施形態によると、表面にインク画像を形成するためにインク液滴を受け取り、インク画像を標的基板に転写するために構成された中間転写部材（ＩＴＭ）が更に提供され、ＩＴＭは、１または複数の層と、ＩＴＭに沿った１または複数のそれぞれのマーキング位置において層の少なくとも１つに彫刻された１または複数のマーカとを含む。

本発明の実施形態によると、中間転写部材（ＩＴＭ）、１または複数の感知アセンブリ、およびプロセッサが更に提供される。ＩＴＭは、（ａ）１または複数の層と、（ｂ）ＩＴＭに沿った１または複数のそれぞれの位置において１または複数の層の少なくとも１つに一体化された１または複数のマーカとを含む。ＩＴＭは、インク供給システムからインク画像を受け取り、インク画像を標的基板に転写するように構成される。１または複数の感知アセンブリは、ＩＴＭに対する１または複数のそれぞれの既定の位置に配置され、マーカのそれぞれの位置を示す信号を生成するように構成される。プロセッサは、信号を受信し、信号に基づいて、ＩＴＭにおける画像の配置を制御するように構成される。

いくつかの実施形態において、ＩＴＭは、伸張するように構成され、信号に基づいて、プロセッサは、ＩＴＭの伸張量を推定するように構成される。

本発明の実施形態によると、中間転写部材（ＩＴＭ）、１または複数の感知アセンブリ、およびプロセッサを含む印刷システムが更に提供される。ＩＴＭは、（ａ）１または複数の層と、（ｂ）ＩＴＭに沿った１または複数のそれぞれの位置において１または複数の層の少なくとも１つに一体化された１または複数のマーカとを含み、ＩＴＭは、印刷流体を供給するように構成された画像形成ステーションから印刷流体の画像を受け取り、画像を標的基板に転写するように構成される。１または複数の感知アセンブリは、ＩＴＭに対する１または複数のそれぞれの既定の位置に配置され、マーカのそれぞれの位置を示す信号を生成するように構成される。プロセッサは、信号を受信し、信号に基づいて、ＩＴＭにおける画像の配置を制御するように構成される。

いくつかの実施形態において、１または複数の層の少なくとも１つは、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリオレフィン、エラストマー、ポリスチレン系ポリマー、ポリアミド系ポリマー、メタクリル酸系エラストマー、ゴム、ポリウレタン、ポリカーボネート、およびアクリルから成るリストから選択された少なくとも１つの材料を含む。他の実施形態において、印刷流体は、少なくとも１つの着色剤を含む液体を含む。また他の実施形態において、印刷流体は、１または複数の種類の着色剤含有スラリーを含む。

実施形態において、印刷流体は、インクを含む。他の実施形態において、印刷流体は、トナーを含む。また他の実施形態において、ＩＴＭは、（ａ）インクジェット、（ｂ）電子写真、（ｃ）リソグラフィ、（ｄ）フレキソ印刷、および（ｅ）グラビア印刷から成るリストから選択されたプロセスまたはプロセスの組み合わせを実行するように構成される。

本発明の実施形態によると、表面にインク画像を形成するためにインク液滴を受け取り、インク画像を標的基板に転写し、連続経路に沿って動くために構成された中間転写部材（ＩＴＭ）が更に提供され、ＩＴＭは、第１および第２の長手方向エッジと、１または複数のガイド要素とを含む。第１および第２の長手方向エッジは、ＩＴＭの長手方向軸に沿って延びる。１または複数のガイド要素は、第１および第２の長手方向エッジに沿って配置され、連続経路に沿ってＩＴＭを動かすために印刷システムのガイドサブシステムと係合するように構成される。ガイド要素の少なくとも１つは、それぞれのガイド要素に沿った１または複数のそれぞれのマーキング位置に位置する１または複数のマーカを含む。

いくつかの実施形態において、ガイド要素は、第１および第２の長手方向エッジに沿って形成された１または複数の側方構造を含む。構造は、ＩＴＭに少なくとも長手方向の力を付与するためにガイドサブシステムのそれぞれのガイドトラックと係合するように構成され、側方構造の少なくとも１つは、マーカの少なくとも１つを含む。他の実施形態において、側方構造の少なくとも２つは、第１および第２の長手方向エッジの少なくとも１つに沿って互いに既定の間隔を置いて位置する。また他の実施形態において、ガイド要素の少なくとも１つは、ジップファスナを含み、側方構造は、ジップファスナの歯を含む。

実施形態において、歯の1または複数は、マーカとしての機能を果たす。他の実施形態において、歯の少なくとも１つは、ＩＴＭの長手方向ＩＴＭ寸法の０．００３％～０．０５％である長手方向マーカ寸法を有し、長手方向マーカ寸法および長手方向ＩＴＭ寸法は、ＩＴＭの長手方向軸に沿って測定される。また他の実施形態において、ジップファスナは、５００より多い数の歯を含み、歯の１または複数は、マーカとしての機能を果たす。

本発明は、図面とともに取り上げられる、以下の発明を実施するための形態から、より詳しく理解される。

本発明の実施形態に係る、デジタル印刷システムの概略側面図である。 本発明の実施形態に係る、位置感知アセンブリの概略側面図である。 本発明の実施形態に係る、位置感知アセンブリの概略側面図である。 本発明の実施形態に係る、位置感知アセンブリの概略側面図である。 本発明の他の実施形態に係る、位置感知アセンブリの概略側面図である。 本発明の他の実施形態に係る、位置感知アセンブリの概略側面図である。 本発明の他の実施形態に係る、位置感知アセンブリの概略側面図である。 本発明のいくつかの実施形態に係る、デジタル印刷システムのブランケットの概略上面図である。 本発明のいくつかの実施形態に係る、デジタル印刷システムのブランケットの概略上面図である。 本発明のいくつかの実施形態に係る、デジタル印刷システムのブランケットの概略上面図である。 本発明のいくつかの実施形態に係る、デジタル印刷システムのブランケットの概略上面図である。 本発明のいくつかの実施形態に係る、デジタル印刷システムのブランケットの概略断面図である。 本発明のいくつかの実施形態に係る、デジタル印刷システムのブランケットの概略断面図である。 本発明のいくつかの実施形態に係る、デジタル印刷システムのブランケットの概略断面図である。 本発明のいくつかの実施形態に係る、デジタル印刷システムのブランケットにマーカを生成するためのプロセスシーケンスの概略断面図である。 本発明のいくつかの実施形態に係る、デジタル印刷システムのブランケットにマーカを生成するためのプロセスシーケンスの概略断面図である。 本発明の他の実施形態に係る、位置感知アセンブリの概略断面図である。

概観
以下で説明される本発明の実施形態は、デジタル印刷システムの精度を向上させるための方法および装置を提供する。

いくつかの実施形態において、デジタル印刷システムは、本明細書においてブランケットとも称される移動可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）と、たとえば画像形成ステーション、インク乾燥ステーション、および押付けステーションなどのいくつかのステーションとを備え、ＩＴＭは、ステーション間をガイドシステムによって回転する。画像形成ステーションは、画像を形成するためにＩＴＭにインク液滴を塗布するように構成された複数の印刷バーを備える。インク乾燥ステーションは、ＩＴＭに塗布されたインク画像を乾燥するように構成され、押付けステーションは、インク画像を、ＩＴＭから、たとえば紙シートまたは連続ウェブなどの標的基板へ転写するように構成される。

デジタル印刷システムは、ブランケット処理ステーションを更に備えてよく、ここで、ブランケットは、画像形成ステーションへ戻される前に、処理液を用いて洗浄、冷却、および処理される。

デジタル印刷システムは、これらのステーションおよびデジタル印刷システムの他の構成要素の動作を制御するように構成されたプロセッサを更に備える。印刷プロセスにおいて、インク画像を精密に形成するためにＩＴＭにインク液滴を正確に堆積させ、その後、インク画像をＩＴＭから標的基板へ高精度で転写することが重要である。印刷プロセスの精度は、とりわけ、ＩＴＭの動きおよび挙動（たとえば延伸）を可能な限り精密かつ継続的に監視する能力に依拠する。

原則として、ＩＴＭ表面にラベルを貼り付け、ラベルを用いてＩＴＭの動きを制御することが可能であるが、そのようなラベルは、印刷プロセスにおけるＩＴＭ動作の高デューティサイクルによって時間とともに劣化（たとえば剥離または摩耗）し得る。開示される実施形態において、少なくともいくつかのマーカはＩＴＭに形成され、ＩＴＭの制御のために用いられる。

いくつかの実施形態において、ＩＴＭは、たとえばＩＴＭ層またはＩＴＭ表面に構造を形成すること、マーカを彫刻すること、および／またはＩＴＭの１または複数の層にインクを噴射および／または３次元（３Ｄ）構造を印刷すること、またはこれらの組み合わせなどの様々な技術を用いてＩＴＭの製造中に形成され得るマーカのセットを備える一体化エンコーダを備える。たとえば、マーカは、ＩＴＭ表面に溝を彫刻し、その後、溝内に３Ｄ構造を印刷することによって形成され得る。

いくつかの実施形態において、デジタル印刷システムのプロセッサは、ＩＴＭに関する１または複数の位置に取り付けられたセンサから、それぞれのエンコーダマーカの位置を示す信号を受信するように構成される。プロセッサは更に、信号に基づいて、ＩＴＭを動かすように構成されたデジタル印刷システムのローラおよびダンサを制御することによって、ＩＴＭの運動プロファイル（たとえば速度、加速度、および減速度）を制御するように構成される。

いくつかの実施形態において、ＩＴＭ表面にマーカを彫刻することは、たとえばレーザマーキング、レーザアブレーション、および／または直接部分マーキング（たとえば機械パンチングおよび／またはピンニング）などの任意の適当な技術を用いて実行され得る。彫刻マーカは、任意の適当なサイズおよび形状のフットプリント（たとえば上面視で円形、長方形、正方形、または星形）またはプロファイル（たとえば断面視で穴、溝、または階段形状）を有してよい。

いくつかの実施形態において、彫刻マーカは、マーカに機械的支持を提供するため、およびエンコーダのマーカに特徴を追加するために、適当な充填材料で全体的または部分的に充填され得る。たとえば、充填材料は、彫刻マーカおよび／またはＩＴＭ表面に磁気材料を塗布することによってＩＴＭの磁気特性を変化させ得る。代替または追加として、充填材料は、たとえば充填材料に様々な種類の顔料を添加することによって、彫刻マーカおよび／またはＩＴＭ表面および／またはＩＴＭの少なくとも１つの層の光学特性を変化させ得る。

いくつかの実施形態において、エンコーダは、たとえばグリッドマーカ、クイックレスポンス（ＱＲ）コード、ＡＺＴＥＣコード、またはこれらの組み合わせなど、マーカとしての機能を果たし得る様々な種類の符号化構造を備えてよい。これらのマーカは、たとえば光学系センサ（たとえば可視光、赤外線、紫外線）または磁気系センサなど、任意の適当な種類のセンサを用いて感知され得る。

いくつかの実施形態において、１または複数のエンコーダは、一般にＩＴＭの斜面に位置し、ＩＴＭに沿って交互に配置された様々な種類のマーカを備えてよい。追加または代替として、様々な種類のマーカは、ＩＴＭの異なるそれぞれの位置においてグループ化され得る。

開示される技術は、たとえばインク画像を形成するためのＩＴＭへのインク液滴の堆積、インク液滴の乾燥、ＩＴＭから標的基板へのインク画像の転写、および画像形成ステーションへ戻る前のＩＴＭの処理など、デジタル印刷システムの複数の動作を正確に制御することによって、印刷画像の品質を向上させる。開示される技術は、たとえばローラにロータリエンコーダを一体化する必要性を低減することによって、デジタル印刷システムの複雑性を低減するために用いられ得る。また、開示されるエンコーダは、デジタル印刷システムにおいて一般に用いられる高デューティサイクルにおいても高い耐久性を示すように設計および製造される。
システム説明

図１は、本発明の実施形態に係る、デジタル印刷システム１１の概略側面図である。いくつかの実施形態において、システム１１は、画像形成ステーション２１２、乾燥ステーション２１４、押付けステーション２１６、およびブランケット処理ステーション５０を循環する回転可撓性ブランケット２１０を備える。本発明の文脈および特許請求の範囲において、「ブランケット」および「中間転写部材（ＩＴＭ）」という用語は、同義的に用いられ、以下で詳しく説明するように、インク画像を受け取り、標的基板へインク画像を転写するように構成された中間部材として用いられる層のスタックを備える可撓性部材を指す。

いくつかの実施形態において、画像形成ステーション２１２は、たとえば任意の適当な種類のインク（たとえばインクジェットインク）および／または液体トナーおよび／または着色剤含有スラリー、および少なくとも１つの着色剤を含む他の液体など、様々な種類の印刷流体を供給するように構成される。以下の説明は、水性インクに言及するが、他の任意の種類の印刷流体にも適用可能である。

動作モードにおいて、画像形成ステーション２１２は、ブランケット２１０の表面の上側ランに、デジタル画像４２の、本明細書において「インク画像」（不図示）とも称されるミラーインク画像を形成するように構成される。その後、インク画像は、ブランケット２１０の下側ランの下に位置する標的基板（たとえば紙、折り畳み箱、またはシートまたは連続ウェブ状の任意の適当な可撓性包装材）に転写される。

本発明の文脈において、「ラン」という用語は、その上でブランケット２１０がガイドされる所与の任意の２つのローラ間にある、ブランケット２１０の長さまたは部分を指す。

いくつかの実施形態において、設置中、ブランケット２１０は、溶接、糊付け、テーピングによって（たとえば、ストリップの両エッジを重ね合わせる連結ストリップとともに、カプトン（登録商標）テープ、室温加硫シリコン（ＲＴＶ）液体接着剤、または熱可塑性接着剤を用いて）、または他の任意の適当な方法を用いて、連続ブランケットループ（不図示）を形成するためにエッジとエッジとを接着され得る。ブランケット２１０の端部を接合する任意の方法は、本明細書においてシームと称される不連続性をもたらすことがあり、シームにおけるブランケット２１０の厚さまたは化学および／または機械特性の不連続性の増大を回避することが望ましい。シームの設置に関する方法およびシステムの一例は、参照によってその開示が本願に組み込まれる、米国仮特許出願第６２／５３２，４００号において詳しく説明される。

いくつかの実施形態において、画像形成ステーション２１２は、各々が、たとえばシアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、黄色（Ｙ）、および黒色（Ｋ）などの４つの異なる色の１つを堆積させるように構成された、インク供給システムに連結された４つの個別の印刷バー２２２を備える。他の実施形態において、ステーション２１２は、任意の適当な構成で間隔を置いてステーション２１２内に配置された任意の適当な数の印刷バー２２２を備えてよい。インク供給システムは、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、黄色（Ｙ）、および黒色（Ｋ）の水性インクを印刷バー２２２へ供給するように構成された複数のインク槽（不図示）を更に備える。他の実施形態において、インク供給システムは、各色について複数のインク槽を備えてよく、任意選択的に、上述されていない追加の色のための追加のインク槽を備えてよい。

いくつかの実施形態において、印刷バー２２２の各々は、ブランケット２１０の表面にインク画像（不図示）を形成するためにブランケット２１０の表面に様々な色のインク液滴を噴射するように構成された１または複数の印刷ヘッドを組み込む。

いくつかの実施形態において、印刷バー２２２は、たとえば黒色を含む様々な濃淡の灰色などの様々な濃淡の同じ色を堆積させるように構成され、または、２つ以上の印刷バー２２に関して、同じ色、たとえば黒色を堆積させるように構成される。

いくつかの実施形態において、システム１１は、本明細書において中間乾燥ステーション（不図示）とも称され印刷バー２２２間に位置し得る、および／または、図１に示すように画像形成ステーション２１２の後に位置し得る乾燥ステーション２２４を備えてよい。乾燥ステーション２２４は、形成中のインク画像を部分的に乾燥するために、ブランケット２１０の表面に温風（または他の気体）を吹き付けるように構成される。

印刷バーの間を流れる温風は、たとえば、印刷ヘッドの表面における凝縮の低減および／または付随物（たとえば、主要インク液滴の周囲に分散した残留物または小液滴）の処理、および／または印刷ヘッドのインクジェットノズルの詰まり防止を支援してよく、ブランケット２１０上の様々な色のインク液滴が不所望に混ざり合うことも防ぐ。いくつかの実施形態において、各印刷バー２２２は、所与の位置における印刷色の濃度を制御するために、ブランケット２１０上の所与の位置において同じ色の１または複数の液滴を噴射するように構成される。たとえば、黒色インクの１つの液滴は、薄灰色の印刷色をもたらし得るが、ブランケット２１０に堆積した黒色インクの３つの液滴は、所与の位置において濃灰色または黒色をもたらし得る。

乾燥ステーション２１４において、ブランケット２１０に形成されたインク画像は、インクをより完全に乾燥させ、液体キャリアの大部分を蒸発させ、粘着性を持つ点まで加熱される樹脂および着色剤の層のみを残すために、放射線および／または温風に晒される。

押付けステーション２１６において、ブランケット２１０は、圧縮性ブランケット２１９を搬送するように構成された押付けシリンダ２２０および圧力シリンダ２１８の間を通過する。

いくつかの実施形態において、システム１１は、たとえばブランケット２１０、画像形成ステーション２１２、および本明細書で説明される他の構成要素の動きなど、システム１１の複数のステーションおよび他の構成要素を制御するように構成された制御盤１２を備える。いくつかの実施形態において、制御盤１２は、たとえばブランケット２１０およびステーション２１２の動きを制御するため、およびそれらからの信号を受信するための適当なフロントエンドおよびインタフェース回路を有するプロセッサ２０、一般に汎用プロセッサを備える。いくつかの実施形態において、プロセッサ２０は、印刷システムによって用いられる機能を実行するためにソフトウェアにプログラムされてよく、プロセッサは、ソフトウェアに関するデータをメモリ２２に格納する。ソフトウェアは、たとえばネットワークを介して電子形式でプロセッサ２０にダウンロードされてよく、または、たとえば光学、磁気、または電子メモリ媒体などの非一時的有形媒体において提供され得る。

いくつかの実施形態において、制御盤１２は、プロセッサ２０から受信したデータおよび画像またはシステム１０の入力デバイス４０を用いてユーザ（不図示）によって挿入された入力を表示するように構成されたディスプレイ３４を備える。いくつかの実施形態において、制御盤１２は、他の任意の適当な構成を有してよく、たとえば、制御盤１２およびディスプレイ３４の代替構成は、その開示が参照によって本願に組み込まれる米国特許第９，２２９，６６４号において詳しく説明される。

いくつかの実施形態において、プロセッサ２０は、メモリ２２に格納された画像のパターンの１または複数のセグメントを備えるデジタル画像４２をディスプレイ３４に表示するように構成される。パターンは、システム１１によって印刷される画像の特徴を定義するための１または複数のデジタルファイルに格納される。

いくつかの実施形態において、システム１１は、制御盤１２と、システム１１の全ての構成要素、モジュール、およびステーションとの間を電気的に接続するように構成された１または複数の配電盤２３５を備える。システム１１の電気配線およびルーティングの構成は、単に例として簡略化され示されており、他の適当な構成が用いられてもよいことが理解される。

いくつかの実施形態において、本明細書において冷却ステーションとも称されるブランケット処理ステーション５０は、たとえば、ブランケットを冷却および／またはブランケット２１０の外側表面に処理液を付与すること、および／またはブランケット２１０の外側表面を洗浄することによって、ブランケットを処理するように構成される。ブランケット処理ステーション５０において、ブランケット２１０が画像形成ステーション２１２へ入る前に、ブランケット２１０の温度は所望の値まで低減され得る。処理は、ブランケット２１０に、ブランケットの外側表面に冷却および／または洗浄および／または処理液を付与するために構成された１または複数のローラまたはブレードの上を通過させることによって実行され得る。いくつかの実施形態において、プロセッサ２０は、ブランケット２１０の温度を監視し、ブランケット処理ステーション５０の動作を制御するために、たとえば温度センサ（不図示）から、ブランケット２１０の表面温度を示す信号を受信するように構成される。そのような処理ステーションの例は、たとえば、それらの開示が全て参照によって本願に組み込まれるＰＣＴ国際公開ＷＯ２０１３／１３２４２４号およびＷＯ２０１７／２０８１５２号において説明される。

図１の例において、ステーション５０は、ローラ２５２と２５３との間に取り付けられるが、ステーション５０は、押付けステーション２１６と画像形成ステーション２１２との間の他の任意の適当な位置でブランケット５０に隣接して取り付けられ得る。

シート２２６または連続ウェブ（不図示）は、供給スタック２２８から適当な運搬機構（不図示）によって搬送され、押付けシリンダ２２０と圧力シリンダ２１８との間に位置するニップを通過する。ニップ内で、インク画像を搬送するブランケット２１０の表面は、インク画像がシート２２６の表面に押し付けられ、ブランケット２１０の表面から綺麗に分離されるように、圧力シリンダ２１８の圧縮性ブランケット２１９によってシート２２６（または他の適当な基板）にしっかりと押圧される。その後、シート２２６は、出力スタック２３０へ運搬される。

いくつかの実施形態において、印刷バー２２２は、矢印２９０によって表されたブランケット２１０の移動軸に沿って、互いに既定の間隔を置いて位置する。いくつかの実施形態において、システム１１は、たとえばローラ２３２、２４０、２４２、および２５３などの様々な種類のローラを更に備える。実施形態において、これらのローラの少なくともいくつかは、画像形成ステーション２１２の下での所望の（一般に一定の）速度でのブランケット２１０の動きを可能にするように、制御盤１２のプロセッサ２０によって制御される。ただし、ブランケット２１０の滑らかではない、または振動を伴う移動は、１または複数の色を備えるインク画像の堆積に影響を及ぼし、一般に、色対色レジストレーションの精度に影響を及ぼし得る。

いくつかの実施形態において、システム１１は、ダンサ２５０および２５２とも称される２つの動力付き緊張ローラを備える。ダンサ２５０および２５２は、ニップの前後でブランケット２１０におけるたるみの長さを制御するように構成され、それらの動きは、それぞれのダンサに隣接した両頭矢印によって概略的に表される。また、経年によるブランケット２１０の任意の延伸は、システム１１のインク画像載置性能に影響を及ぼすことはなく、緊張ダンサ２５０および２５２によってより多くのたるみを緊張させることを必要とするのみである。

いくつかの実施形態において、（たとえば以下の図２Ａに示す）ロータリエンコーダは、ローラ２３２、２４０、２４２、および２５３、およびダンサ２５０および２５２の少なくとも１つに組み込まれる。ロータリエンコーダは、それぞれのローラまたはダンサの角変位を示す回転に基づく位置信号を生成するように構成される。

ローラ２３２、２４０、２４２、および２５３、およびダンサ２５０および２５２の構成および動作は、たとえば、それらの開示が全て参照によって本願に組み込まれる米国特許出願公開２０１７／０００８２７２号、および上述したＰＣＴ国際公開ＷＯ２０１３／１３２４２４号において更に詳しく説明される。

いくつかの実施形態において、ブランケット２１０は、図１に概略的に示し、以下で図２～７においていくつかの実施形態で示すように、ブランケットに沿って形成（たとえば彫刻）された１または複数のマーカ３３を備えるエンコーダを備える。ただし、マーカ３３は、以下で説明するように、任意の適当な構成でブランケット２１０全体に分散し、またはブランケット層の１または複数に埋め込まれ得る。また、エンコーダは、マーカ３３の代替または追加として、ブランケット２１０の少なくとも一部に沿って形成された少なくとも１つの連続マーカ（不図示）を備えてよい。連続マーカは、たとえば、以下で詳しく説明するように、ブランケット２１０の層の上または間にインクを噴射すること、または他の任意の適当な技術を用いることによって生成され得る。

いくつかの実施形態において、システム１１は、たとえば、ブランケット２１０に隣接した１または複数のそれぞれの既定の位置に配置された、図内の８つの感知アセンブリ５５Ａ・・・５５Ｈなどの複数の感知アセンブリを更に備える。感知アセンブリは、マーカ３３の感知に応答して、たとえばマーカ３３のそれぞれの位置を示す位置信号などの電気信号を生成するように構成される。図１の構成例において、感知アセンブリ５５Ａは、移動ブランケット２１０の所与のセクションが画像形成ステーション２１２の下を移動する前に、所与のセクションに彫刻されたマーカ３３のそれぞれの位置を示す位置信号を生成するように、ローラ２４２の上に配置される。本発明の文脈および特許請求の範囲において、「信号」という用語は、感知アセンブリによって感知される、たとえば位置信号などの様々な種類の電気信号を指してよい。

いくつかの実施形態において、感知アセンブリ５５Ｂは、「Ｃ」と表記されたシアン（および／または他の任意の）印刷バー２２２に結合されてよく、感知アセンブリ５５Ｃは、「Ｍ」および「Ｋ」と表記された印刷バー２２２の間に配置され、感知アセンブリ５５Ｄおよび５５Ｅはそれぞれ乾燥ステーション２１４の前後に位置し、感知アセンブリ５５Ｆ～５５Ｈは、ブランケット２１０の下側ランに隣接した様々な位置に固定される。他の実施形態において、システム１１は、ブランケット２１０に隣接した任意の適当な位置に固定された他の任意の適当な数の感知アセンブリ５５を備えてよい。

いくつかの実施形態において、１または複数の同様のまたは異なる感知アセンブリは、印刷システム１１に沿ったステーション、たとえば画像形成ステーション２１２、乾燥ステーション２１４、押付けステーション２１６、ブランケット処理ステーション５０、およびシステム１１の他のステーションの１または複数に関連付けられてよく、これらのステーションに隣接した任意の位置に位置し、上述したように信号を生成することを可能にし得る。

いくつかの実施形態において、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈは、ブランケット２１０の増分運動に対応する各マーカ３３の位置を示す信号を生成するように構成される。実施形態において、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈは、これらの位置信号を受信し、位置信号に基づいて、たとえばブランケット２１０の運動などのいくつかのプロセスを制御するように構成されたプロセッサ２０に電気的に接続される。

いくつかの実施形態において、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈから受信した信号は、システム１１の様々なステーションおよびモジュールを制御するために用いられ得る。たとえば、ステーション２１２において、これらの信号は、インク液滴噴射のタイミングまたは時間シーケンス、および印刷バー２２２の各印刷ヘッドからの噴射のプロファイルを設定する波形を設定するために用いられ得る。乾燥プロセスにおいて、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈから受信した信号は、たとえば、中間および乾燥ステーション２１４の温度および空気流量を設定するために用いられ得る。

いくつかの実施形態において、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈから受信した信号は、押付けステーション２１６のプロセスを制御するため、たとえば、シリンダ２１８および２２０の係合および係合解除のタイミングおよびそれらのそれぞれの運動プロファイルを制御するため、シリンダ２１８と２２０との間隙のサイズを制御するため、ブランケットシームの位置に関して押付けステーション２１６の動作を同期するため、およびステーション２１６の他の任意の適当な動作を制御するために用いられ得る。

いくつかの実施形態において、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈから受信した信号は、たとえば洗浄プロセスおよび／またはブランケット２１０への処理液の付与を制御するため、およびブランケット処理プロセスの他の全ての態様を制御するためなど、ブランケット処理ステーション５０の動作を制御するために用いられ得る。

また、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈから受信した信号は、システム１１の動作の温度態様および熱交換態様を制御するシステム１１の任意のサブシステムを制御するために、各ローラが個々に、および互いに同期した、システム１１の全てのローラおよびダンサの動作を制御するために用いられ得る。いくつかの実施形態において、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈから受信した信号は、システム１１のブランケット撮像動作を制御するために用いられ得る。たとえば、標的基板に印刷された画像のデジタル画像を取得するように構成された画像品質制御ステーション（不図示）から得られたデータに基づいて、システム１１の他の任意の構成要素の動作を制御するためである。

図１の例において、ローラ２３２は、ブランケット２１０の上側ランに位置し、画像形成ステーション２１２に隣接して通過する時のブランケット２１０の緊張を維持するように構成される。また、ブランケット２１０の表面における、形成ステーション２１２によるインク液滴の正確な噴射および堆積およびそれに伴うインク画像の配置をもたらすように、画像形成ステーション２１２の下でのブランケット２１０の速度を制御することが特に重要である。

いくつかの実施形態において、押付けシリンダ２２０は、移動ブランケット２１０から、ブランケット２１０と押付けシリンダ２２０との間を通過する標的基板へインク画像を転写するために、ブランケット２１０と周期的に係合および係合解除される。いくつかの実施形態において、周期的な係合は、ブランケット２１０の下側ランにおけるたるみ部分における機械的振動を誘発する。システム１１は、上側ランの緊張を維持し、下側ランにおける機械的振動による影響を受けないようにブランケット２１０の上側ランを実質的に隔離するために、上述したローラおよびダンサを用いてブランケット２１０にトルクを付与するように構成される。

いくつかの実施形態において、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈから受信した位置信号に基づいて、プロセッサ２０は、ブランケット２１０の上側ランの緊張を維持し、下側ランにおける機械的振動による影響を受けないように隔離するために、各ローラおよびダンサによってブランケット２１０に付与されたトルクを制御するように構成される。たとえば、乾燥ステーション２１４は、画像形成ステーション２１２によって形成されたインク画像を乾燥するために、ブランケット２１０に輻射熱および／または温風を当てる。場合によっては、当てられた輻射熱および／または温風は、乾燥ステーション２１４の下を通過する時のブランケット２１０の熱膨張をもたらし得る。いくつかの実施形態において、プロセッサ２０は、ステーション２１４の前後に位置する感知アセンブリ５５Ｄおよび５５Ｅによって生成された位置信号に基づいて、熱膨張の表示を受信するように構成される。感知アセンブリ５５Ｄおよび５５Ｅによって生成された位置信号に基づいて、プロセッサ２０は、ブランケット２１０を緊張状態に、かつ画像形成ステーション２１２および乾燥ステーション２１４の下を規定速度で動くように維持するために、ローラ２４０、２３２、および２４２におけるトルクレベルを設定するように構成される。

他の実施形態において、感知アセンブリ５５Ｇおよび５５Ｆから受信した位置信号に基づいて、プロセッサ２０は、ブランケット２１０を緊張状態に、かつ押付けステーション２１６およびブランケット２１０をガイドする他のローラにおける規定の運動プロファイル（たとえば速度、加速度、および減速度）に従って動くように維持するために、ダンサ２５０および２５２およびローラ２５３によってブランケット２１０に付与されるトルクレベルを設定するように構成される。ただし、プロセッサ２０は、シリンダ２１８および２２０の運動プロファイルを調和させ、それらの間で実行される係合および係合解除も制御するように構成される。

いくつかの実施形態において、プロセッサ２０は更に、ブランケット２１０の表面におけるインク画像の正確な堆積を可能にするために、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｄから受信した位置信号に基づいて、インク液滴を方向付ける印刷バー２２２の動作と、ブランケット２１０が画像形成ステーション２１２の下で動く実際の瞬間速度とを同期させるように構成される。

いくつかの実施形態において、プロセッサ２０は更に、システム１１のいくつかのステーションおよびモジュールによってデジタル印刷プロセス中に実行される追加のプロセスステップを制御するように構成される。たとえば、画像形成ステーション２１２によってインク液滴を噴射するプロセスを制御すること、適当な熱量を精密なタイミングでブランケット２１０に当てることによってインク画像を乾燥するために乾燥ステーション２１４の動作を制御すること、ブランケット２１０に処理液を付与するように構成されたブランケット処理ステーションを制御すること、ブランケット２１０からそれぞれのシート２２６へのインク画像の精密な転写を可能にするために押付けシリンダ２２０および圧力シリンダ２１８の動作を制御することである。

図１の例において、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｆは、ブランケット２１０によって形成されたループの外側に取り付けられ、感知アセンブリ５５Ｇおよび５５Ｈは、ループの内側に取り付けられる。この構成は、図２Ａ～２Ｃおよび図３Ａ～３Ｃにおいて詳しく示される２つの異なる種類の感知アセンブリ５５を示すために例として提供される。他の典型的な構成において、システム１１は、任意の適当な数の様々な種類の感知アセンブリを備えてよい。感知アセンブリは、任意の適当な構成でブランケット２１０に隣接して取り付けられ得る。

システム１１の構成は、本発明を明確化するために、単に例として簡略化され提供される。上述した印刷システム１１において説明された構成要素、モジュール、およびステーション、および追加の構成要素および構成は、たとえば、それらの開示が全て参照によって本願に組み込まれる、米国特許第９，３２７，４９６号および第９，１８６，８８４号、ＰＣＴ国際公開ＷＯ２０１３／１３２４３８号、ＷＯ２０１３／１３２４２４号、およびＷＯ２０１７／２０８１５２号、米国特許出願公開第２０１５／０１１８５０３号および第２０１７／０００８２７２号において詳しく説明される。

いくつかの実施形態において、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈから受信した信号は、任意の適当な種類のＩＴＭを用いてデジタル印刷プロセスを実行する他の構成のデジタル印刷システムのステーション、モジュール、および構成要素の動作を制御するために用いられ得る。たとえば、連続ウェブに印刷するように構成されたシステム、および両面印刷システムとも称される、シートの両面に印刷するように構成されたシステムを制御するためである。これらのウェブ印刷および両面印刷システムは、システム１１の構成への追加または代替として、たとえば複数の押付けステーション２１６および様々な構成のローラおよびダンサなどの様々なモジュールおよびステーションを備えてよい。そのようなウェブ印刷および両面印刷システムの典型的なモジュールおよびステーションは、たとえば、その開示が参照によって全て本願に組み込まれる、ＰＣＴ国際公開ＷＯ２０１３／１３２４２４号および米国特許出願公開第２０１５／００５４８６５号において詳しく説明される。

他の実施形態において、画像形成ステーション２１２は、上述したように液滴を噴射すること、または他の任意の適当な間接印刷技術を用いることによって、印刷流体（たとえばインク、トナー）を塗布するように構成される。たとえば、画像形成ステーション２１２は、印刷される画像を表す静電荷像を印加するように構成された光荷電ステーション、および転写部材（たとえばブランケット２１０またはドラム）の表面に印加された対向電界に引き付ける荷電粒子を備える１または複数の色の印刷流体を備えてよい。その後、転写部材は、上述したように画像をシート２２６または他の任意の標的基板へ転写するように構成される。

本発明の実施形態によって対処される特定の問題を例示するため、およびそのようなシステムの性能を向上させるためのこれらの実施形態の適用を論証するために、システム１１の特定の構成が例として示される。ただし、本発明の実施形態は決して、この特定の種類のシステム例に限定されず、本明細書で説明される原理は、当技術分野において既知である他の任意の種類の印刷システム、特に中間転写部材を用いる印刷システム、すなわち、たとえば印刷される画像を転写するためにブランケットまたはドラムを用いる間接印刷システム、（たとえばリソグラフィ、フレキソ印刷、およびグラビア印刷技術を用いる）オフセット印刷システム、デジタル印刷システム（すなわちインクジェットおよび電子写真）、またはそのようなシステムの任意の組み合わせに同様に適用され得る。いくつかの実施形態において、ＩＴＭは、たとえばインクジェット、電子写真、リソグラフィ、フレキソ印刷、およびグラビア印刷などであるがこれに限定されないプロセスまたはプロセスの組み合わせを実行するように構成される。これらの実施形態において、印刷システムは、（たとえばリソグラフィおよび／またはフレキソ印刷および／またはグラビア印刷プロセスを用いる）任意の種類のオフセット印刷システム、または（たとえばインクジェットおよび／または電子写真プロセスを用いる）任意の種類のデジタル印刷システム、またはこれらの組み合わせを備えてよい。
ブランケットに一体化されたマーカのそれぞれの位置を示す信号の生成

図２Ａは、本発明の実施形態に係る、位置感知アセンブリ２６０の概略側面図である。いくつかの実施形態において、アセンブリ２６０は、たとえば、上述の図１の感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈの中の任意の感知アセンブリと置き換えられ得る。上述の図１において説明したように、ブランケット２１０は、任意の適当な処理技術を用いてブランケット２１０内に形成されブランケット２１０の一体部品を構成する複数のマーカ３３を備える。

いくつかの実施形態において、ブランケット２１０は、たとえば少なくとも一部の波長の光に対し透明であってよい層２７３、および一般に光に対し不透明な層２７７などの複数の層を備える。本発明の文脈および特許請求の範囲において、「不透明層」という用語は、そこに衝突する光の実質的な強度を、光がそこを貫通して伝送されないように減衰するように適合された層を指す。

また、本発明の文脈において、「透明層」という用語は、そこへ衝突する光の実質的な強度を通過させるように適合された層を指し、「無反射層」という用語は、そこへ衝突する光の実質的な強度を、光がそこから反射しないように減衰させるように適合された層を指す。理解される点として、層の不透明性、透明性、および反射性は、たとえば層の厚さおよびそれぞれの層に当たる光の波長などの様々なパラメータに依存する。

たとえばブランケット２１０などの任意の適当なブランケットのスタック層の構造に関連する詳細な実施形態は、たとえば、本発明の図６および図７において、およびその開示が参照によって本願に組み込まれるＰＣＴ国際公開ＷＯ２０１７／２０８１４４号において提供される。

いくつかの実施形態において、マーカ３３は、少なくとも不透明層２７７が部分的に除去され、たとえば層２７３などの少なくとも１つの透明層がスタック内に残るように、ブランケット製造プロセスの任意の適当な段階において、ブランケット層の１または複数における、本明細書においてマーキング位置とも称される予定の位置でブランケットを彫刻することによって形成され得る。

マーカ３３の彫刻構成は、光の少なくとも一部の通過を可能にするが、ブランケット２１０の少なくとも１つの不透明層を有する部分は、光が感知アセンブリ２６０または他の任意の適当な光感知アセンブリに到達することを妨げるように構成される。

これらの実施形態において、マーカ３３は、たとえばレーザマーキング、レーザアブレーション、レーザ彫刻、パンチングまたはピンニング技術を用いる直接部分マーキング（ＤＰＭ）、インク噴射、３次元（３Ｄ）印刷、磁気材料の配置、層のスタックに磁性顔料の混合物を形成すること、または他の任意の適当な処理技術などであるがこれに限定されない任意の適当なプロセスを用いて生成され得る。いくつかの実施形態において、マーカ３３の表面は、たとえば機械処理、化学処理、およびレーザ処理、たとえば熱アブレーションなどであるがこれに限定されない任意の適当な技術を用いて、様々な程度の表面粗さおよび質感を形成するために更に処理され得る。

上記技術の１または複数を用いることは、たとえばブランケット２１０から不透明層を除去すること、ブランケット２１０の層間に適当な材料を配置すること、および／またはブランケット２１０の１または複数の層の表面に材料を配置すること（たとえばインク噴射、３Ｄ印刷）によって、ブランケット２１０の構造と一体化したエンコーダの形成を可能にすることに留意する。

上述の図１において説明したように、ローラおよびダンサは、矢印２９０によって表された移動軸に沿ってブランケット２１０を動かすように構成される。図２Ａの例において、ローラ２６６および２６８の各々は、上述の図１において説明したローラおよびダンサのいずれかに取って代わってよく、移動軸に沿ってブランケット２１０を動かすように構成される。

いくつかの実施形態において、ロータリエンコーダ２７２は、ローラ２６６に組み込まれ、ローラ２６６の角変位を示す回転に基づく位置信号を生成するように構成される。エンコーダ２７２は更に、ブランケット２１０の運動制御を向上させるために、これらの回転に基づく位置信号をプロセッサ２０に提供するように構成される。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ２６０は、この例において発光ダイオード（ＬＥＤ）２６２である、ＬＥＤ２６２の上面２６５に設けられた開口部（不図示）を通して任意の適当な波長または波長範囲を有する光ビーム２６４を発するように構成された任意の適当な種類の光源を備える。

図２Ａの例において、ＬＥＤ２６２は、表面２６５がブランケット２１０の下面２６７に略平行であり、ＬＥＤ２６２の軸２６３と略直交するように、ブランケット２１０に対して取り付けられる。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ２６０は、ＬＥＤ２６２から発された光ビーム２６４を感知し、任意の適当な座標系における、および／またはシステム１１内の任意の参照点に対する各マーカ３３の位置を示す位置信号を生成するように構成されたセンサ２７１を更に備える。実施形態において、光ビーム２６４は、可視光範囲（すなわち４００ｎｍ～７００ｎｍ）内である任意の波長または波長範囲を有してよい。他の実施形態において、光ビーム２６４は、赤外（ＩＲ）範囲（すなわち７００ｎｍ～１ｍｍ）または紫外（ＵＶ）範囲（すなわち１０ｎｍ～４００ｎｍ）内である波長または波長範囲を有してよい。アセンブリ２６０の構成において、光ビーム２６４は、本明細書において「背面光」または「拡散光」とも称される。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ２６０は、ブランケット２１０とセンサ２７１との間に設けられたスリット２７４を更に備える。実施形態において、スリット２７４は、光ビーム２６４の少なくとも一部をセンサ２７１へ通すように構成された開口部２７５または複数のそのような開口部を有する。

システム１１の動作中、ブランケット２１０は、矢印２９０の方向に動き、光ビーム２６４は、ブランケット２１０の表面２６７に衝突する。ブランケット２１０のフルスタック層を備える部分がＬＥＤ２６２より上を通る時、光ビーム２６４は層２７７によって遮断され、その結果、センサ２７１によって感知され得ない。対照的に、マーカ３３を備える部分がＬＥＤ２６２より上を通る時、光ビーム２６４の少なくとも一部のビームは、透明層２７３を通過し、センサ２７１によって感知され得る。

位置感知アセンブリ２６０は、ＬＥＤ２６２によって伝送され、透明層（たとえば層２７３）、彫刻マーカ３３、スリット２７４の開口部２７５を通過してセンサ２７１へ到達する光ビーム２６４のビームを感知することによって位置信号を生成することに留意する。他の実施形態において、以下で図３Ａおよび図３Ｂにおいて説明するように、光は、マーカ３３を通過するのではなく、マーカ３３によって反射され得る。

図２Ｂは、本発明の実施形態に係る、位置感知アセンブリ２７０の概略側面図である。いくつかの実施形態において、アセンブリ２７０は、たとえば上述の図１の感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈの中の任意の感知アセンブリに取って代わり得る。いくつかの実施形態において、アセンブリ２７０およびアセンブリ２６０は、主にＬＥＤ構成に関して異なる同様の構成を有する。いくつかの実施形態において、ＬＥＤ２６２は、ＬＥＤ２６２の軸２６９が軸２６３に対して既定の角度２７６で傾斜するように、位置感知アセンブリ２７０内に取り付けられる。この構成は、たとえば、アセンブリ２７０の動作ならびに製造容易性およびサービス性を高め得る。

システム１１の動作中、ブランケット２１０が矢印２９０の方向へ動く期間において、ＬＥＤ２６２は、ブランケット２１０の表面２６７に衝突する光ビーム２６４を発するように構成される。ブランケット２１０の少なくとも１つの不透明層（たとえば層２７７）を備える部分がＬＥＤ２６２より上を通る時、光ビーム２６４は層２７７によって遮断され、その結果、センサ２７１に到達することができない。マーカ３３を備える部分がＬＥＤ２６２より上を通る時、光ビーム２６４の少なくとも一部のビームは、透明層２７３を通過し、センサ２７１によって感知され得る。

図２Ｃは、本発明の実施形態に係る、位置感知アセンブリ２８０の概略側面図である。位置感知アセンブリ２８０は、たとえば上述の図１の感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈの中の任意の感知アセンブリに取って代わり得る。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ２８０は、ブランケット２１０の表面２６７に衝突するレーザビーム２８６を発するように構成されたレーザ２８２を備える。レーザビーム２８６は、上述した範囲、たとえば可視、ＩＲまたはＵＶ、または他の任意の適当な波長の１つから選択された波長を有してよい。

図２Ｃの実施形態例において、ローラ２６８は、ロータリエンコーダを備えなくてもよく、システム１１に組み込まれたロータリエンコーダまたは他の任意の種類のエンコーダの代わりにマーカ３３が用いられ得る。実施形態において、ブランケット２１０に一体化されたエンコーダを構成するマーカ３３は、システム１１の任意のエンコーダに加えて、またはその代わりに用いられ得る。この実施形態において、システム１１のローラのいずれもエンコーダを組み込まなくてよいことに留意する。上述の図１において説明したように、マーカ３３は、システム１１の様々なステーションおよびモジュールの動作を制御するため、および上述した他の構成のシステム、たとえば両面印刷システムおよびウェブ印刷システムを制御するために用いられ得る。他の実施形態において、たとえば図２Ｂに示すエンコーダ２７２などの任意の適当なロータリエンコーダは、ローラ２６８の少なくとも１つに一体化され得る。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ２８０は、レーザ２８２から発されたビーム２８６を感知し、ビーム２８６の感知に応答して、システム１１内の任意の参照点に対する各マーカ３３の位置を示す位置信号を生成するように構成されたセンサ２８４を備える。代替実施形態において、レーザ２８２がブランケット２１０より上に位置し、ブランケット２１０の層２７３の下に位置するセンサ２８４へ向かってビーム２８６を方向付けるように、センサ２８４およびレーザ２８２の位置（たとえばＩＲレーザ）は入れ替えられ得る。

システム１１の動作中、ブランケット２１０は、矢印２９０の方向へ動き、レーザビーム２８６は、ブランケット２１０の表面２６７に衝突する。ブランケット２１０のフルスタックの層を備える部分がＬＥＤ２６２より上を通る時、レーザビーム２８６は、層２７７によって遮断され、その結果、センサ２８４によって感知され得ない。対照的に、マーカ３３を備える部分がＬＥＤ２６２より上を通る時、少なくともある程度の強度のレーザビーム２８６は、透明層２７３を通過し、センサ２８４によって感知され得る。

位置感知アセンブリ２８０は、彫刻マーカ３３の透明層（たとえば層２７３）を通過してセンサ２８４に到達するレーザビーム２８６の光子を感知することによって、位置信号を生成することに留意する。

いくつかの実施形態において、センサ２８４に到達する光子の属性（たとえば角度）を制御するために、ブランケット２１０とセンサ２８４との間に、たとえば上述の図２Ａおよび図２Ｂに示すスリット２７４などの適当なスリット（不図示）が取り付けられ得る。いくつかの実施形態において、レーザ光源の使用は、感知アセンブリ２８０の横方向分解能を向上させ、より狭小なマーカ３３を用いることを可能にし得る。（たとえばＬＥＤの代わりに）レーザ光源を使用することは、センサの感度を高めるために、センサ２８４の光飽和または投光も防ぎ得る。

いくつかの実施形態において、ブランケット２１０は、伸張性材料で作られるため、システム１１の動作中、伸び縮みすることができる。伸張量は、ブランケット層の材料、およびたとえば印刷および乾燥温度、ブランケット２１０の運動プロファイル（たとえば速度、加速度、および減速度）などといった印刷プロセスの様々なパラメータに依存する。

いくつかの実施形態において、マーカ３３は、ブランケット２１０に一体化されることにより、ブランケット可撓性およびその伸張の程度を反映し、および／またはブランケット２１０の伸張量を示すように構成される。たとえば、ブランケット２１０がたとえば１パーセント伸びると、マーカ３３を備える層２７７の隣接した部分間の距離は、１パーセント、またはブランケット２１０の伸張量を示す他の量だけ増大してよい。

いくつかの実施形態において、マーカ３３は、ブランケット２１０と同じ可撓性を有することにより、上述した１パーセントの伸張の例において説明したように、ブランケット２１０の挙動を模倣するように構成される。

いくつかの実施形態において、プロセッサ２０は、上述した感知アセンブリから、マーカ３３の伸張量を示す信号を受信し、信号に基づいて、ブランケット２１０の伸張量を推定するように構成される。プロセッサ２０は更に、推定されたブランケット２１０の伸張量に基づいて、印刷プロセスの様々なパラメータを調整するように構成される。たとえば、プロセッサ２０は、ブランケット２１０の運動プロファイル、およびブランケット２１０の表面に塗布される印刷バー２２２からのインク噴射のタイミングを調整してよい。

図３Ａは、本発明の実施形態に係る、位置感知アセンブリ３００の概略側面図である。いくつかの実施形態において、アセンブリ３００は、たとえば上述の図１の感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈの中の任意の感知アセンブリに取って代わり得る。いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ３００は、たとえばブランケット３１０に一体化されたマーカ３３３などの１または複数のマーカを感知し、マーカの感知に応答して、それぞれのマーカ３３３の位置を示す位置信号を生成するように構成される。

いくつかの実施形態において、ブランケット３１０は、たとえば上述の図２Ａに示す透明層２７３および不透明層２７７などの複数の層を備える。不透明層２７７は、非反射性層でもあることに留意する。ブランケット３１０は、非反射性層２７７に、またはそれらの間に配置された他の任意の層（不図示）に付与され得る反射性層３７９を備えてよい。

図３Ａの例において、マーカ３３３は、層３７９にパターンを彫刻することによって形成される。パターンは、たとえばレーザアブレーションまたは様々なエッチングプロセスなどの任意の適当な技術を用いて層３７９から材料を除去することによって形成され得る。追加または代替として、マーカ３３３は、層３３３の少なくとも一部を彫刻した後に配置された光反射ラベルを備えてよい。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ３００は、上述の図２Ｃのレーザ２８２と同様の特性を有し得るレーザ３０６を備える感知モジュール３４０を備える。レーザ３０６は、層３７９の上面３０２に対して略直角または他の任意の適当な角度に、かつマーカ３３３上に方向付けられた入射ビーム３８６を発するように構成される。いくつかの実施形態において、感知モジュール３４０は、上述の図２Ｃのセンサ２８４と同様の特性を有し得る、マーカ３３３から反射した拡散ビーム３８７を感知するように構成されたセンサ３０８を更に備える。

いくつかの実施形態において、マーカ３３３の彫刻パターンは、ビーム３８７がセンサ３０８によって感知されるように、ビーム３８７を角度３１２で反射するように構成された、表面３０２に対して既定の角度で傾斜した１または複数の表面、この例において複数の三角形３３４を備えてよい。感知モジュール３４０におけるセンサ３０８の位置は、角度３１２に対応することに留意する。

他の実施形態において、層３７９は、マーカ３３３において部分的または完全に除去されてよく、上述した反射性ラベルは、傾斜表面を備えてよく、マーカ３３３のレーザに面した表面に結合（たとえば接着）され得る。

上述の図２Ｃにおいて説明したように、ローラ２６８は、矢印２９０で示される移動方向にブランケット３１０を動かすように構成され、上述の図２Ａにおいて説明したように、プロセッサ２０に回転に基づく位置信号を提供するためにロータリエンコーダ２７２を更に備えてよい。

図３Ｂは、本発明の実施形態に係る、位置感知アセンブリ３６０の概略側面図である。いくつかの実施形態において、アセンブリ３６０は、たとえば、上述の図１の感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈの中の任意の感知アセンブリに取って代わり得る。いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ３６０は、たとえばブランケット３２０に一体化されたマーカ３３５などの１または複数のマーカを感知し、マーカ３３５の感知に応答して、それぞれのマーカ３３５の位置を示す位置信号を生成するように構成される。

いくつかの実施形態において、ブランケット３２０は、たとえば、それぞれ上述の図２Ａおよび図３Ａにおいて示された層２７７および３７９などの複数の層を備える。ブランケット３２０は、上面３６９および下面３７１を有する層３７３を更に備える。

図３Ｂの例において、マーカ３３５は、層３７９および２７７を彫刻することによって形成され、その結果、表面３６９を感知アセンブリ３６０に露出させる。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ３６０は、表面３０２および３６９に略直角に入射ビーム３８６を方向付けるように構成されたレーザ３０６を備える感知モジュール３５０を備える。いくつかの実施形態において、感知モジュール３４０は、上述の図３Ａのセンサ３０８と同様の特性を有する、マーカ３３５から反射した拡散ビーム３８８を感知するように構成されたセンサ３０９を更に備える。

いくつかの実施形態において、層３７３は、ビーム３８６に対し透明であるが、ローラ２６８の外側表面３６８は、ビーム３８６を反射し、センサ３０９に向けられたビーム３８８を生成するように構成される。

図３Ｃは、本発明の実施形態に係る、位置感知アセンブリ３９０の概略側面図である。いくつかの実施形態において、アセンブリ３９０は、たとえば、上述の図１の感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈの中の任意の感知アセンブリに取って代わり得る。いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ３９０は、たとえばブランケット３３０に一体化されたマーカ３９２などの１または複数のマーカを感知し、マーカ３９２の感知に応答して、それぞれのマーカ３９２の位置を示す位置信号を生成するように構成される。

いくつかの実施形態において、ブランケット３３０は、上述の図３Ｂに示すアセンブリ３６０のブランケット３２０の構造と実質的に同様の層構造、または他の任意の適当な層構造を有してよい。

図３Ｃの例において、マーカ３９４は、上述した彫刻方法を用いて層３７９および２７７の少なくとも一部に溝３９６または穴を彫刻し、磁性層３９４を層３７３に付与することによって溝３９６の少なくとも一部を埋めることによって形成される。いくつかの実施形態において、磁性層３９４は、磁性層３９４の上面３９８がブランケット３３０の表面３０２と同一平面であるように、溝３９６内に付与される。他の実施形態において、表面３９８が表面３０２より上に延びるように、表面３９８と３７１との間の距離は、表面３０２と３７１との間の距離よりも大きくてよい。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ３９０は、マーカ３９２が磁気センサ３１９に隣接して通る時に生成される磁界（不図示）を感知するように構成された磁気センサ３１９を備える。上述したように、位置感知アセンブリ３９０は、センサ３１９によって感知された磁界に基づいて、マーカ３９２の位置を示す位置信号を生成するように構成される。
ブランケットに一体化されたマーカの形状および位置の制御

図４Ａは、本発明の実施形態に係る、ブランケット４００の概略上面図である。ブランケット４００は、たとえばシステム１１のブランケット２１０に取って代わり得る。いくつかの実施形態において、ブランケット４００は、以下で図６および図７において詳しく説明される複数層のスタック（不図示）を備える可撓性基板４０２を備える。いくつかの実施形態において、基板４０２は、ブランケット４００の幅であるＹ軸に沿って位置する、本明細書において端部４０４および４０６と称される２つのエッジを有する。端部４０４および４０６は、矢印２９０と略平行であり、Ｙ軸と直交する。

いくつかの実施形態において、ブランケット４００は、ブランケット４００の一体部品であり、ブランケット４００の製造プロセス中に形成され、それぞれのバッファ４１２によって分離された複数のマーカ４０８を備えるリニアエンコーダを備える。

図４Ａの例において、エンコーダ４０１は、端部４０４に隣接して形成され、エンコーダ４０１の位置は、本明細書において基板４０２およびブランケット４００の斜面と称され、マーカ４０８は、各バッファ４１２がそれぞれ２つの隣り合うマーカ４０８を分離するようにバッファ４１２と交互に配置され、またはその逆である。各マーカ４０８は、既定の長さ４１５および幅４１６を有し、長さ４１５およびそれぞれの隣り合うバッファ４１２の合計サイズが各マーカ４０８のピッチ４１４を定める。図４Ａの実施形態例において、各マーカ４０８は、実質的に同様の形状、サイズ（たとえば長方形状の場合は長さおよび幅）、およびピッチを有する。他の実施形態において、マーカの形状、サイズ、ピッチ、および位置の少なくとも１つは、基板４０２に沿って変化してよい。たとえば、ブランケットは、交互に配置された２種類のマーカ、または上述した構成の他の任意の適当な変形例を備えてよい。幅４１６のサイズは一般に、マーカ４０８が、基板４０２の表面に形成されたインク画像と重なり合わないように、端部４０４と４０６との間の距離（たとえば約１５ｍｍ）よりも小さいことに留意する。

上述の図２Ａにおいて説明したように、マーカ４０８は、ブランケット４００の多層構造を彫刻することによって形成され得るが、追加または代替として、たとえばインク噴射、３次元（３Ｄ）印刷、ブランケットの層間および／または外側層の上に磁性材料を付与することなど、他の適当な処理技術を用いて形成されてよい。

図４Ｂは、本発明の実施形態に係る、ブランケット４１０の概略上面図である。ブランケット４１０は、たとえばシステム１１のブランケット２１０に取って代わり得る。いくつかの実施形態において、ブランケット４１０は、それぞれブランケット４１０の端部４０４および４０６に隣接して形成された、本明細書において基板４０２の斜面とも称される２つのリニアエンコーダ４１１および４１３を備える。エンコーダ４１１は、それぞれのバッファ４２２と交互に配置され、バッファ４２２によって分離された複数のマーカ４１８を備え、それぞれのバッファ４２２に結合されたマーカ４１８の毎ペアがマーカピッチ４２４を形成する。同様に、エンコーダ４１３は、それぞれのバッファ４３２と交互に配置され、バッファ４３２によって分離された複数のマーカ４２８を備え、それぞれのバッファ４３２に結合されたマーカ４２８のペアがマーカピッチ４３４を形成する。

図４Ｂの例において、エンコーダ４１１および４１３は、互いに実質的に同一であり、それぞれ端部４０４および４０６から実質的に同じ距離に形成される。ブランケット４００のエンコーダ４０１と同様、エンコーダ４１１および４１３は、ブランケット４１０の一体部品であり、一般に、ブランケット４１０の製造プロセス中に形成される。

図４Ｃは、本発明の実施形態に係る、ブランケット４２０の概略上面図である。ブランケット４２０は、たとえばシステム１１のブランケット２１０に取って代わり得る。いくつかの実施形態において、ブランケット４２０は、それぞれブランケット４２０の端部４０４および４０６に隣接して形成された２つの異なるリニアエンコーダ４２１および４２３を備える。エンコーダ４２１は、それぞれのバッファ４４２と交互に配置され、バッファ４４２によって分離された、幅４４６を有する複数の実質的に同一のマーカ４３８を備え、マーカピッチ４４４は、互いに結合されたマーカ４３８およびバッファ４４２のペアを備える。同様に、エンコーダ４２３は、それぞれのバッファ４５２と交互に配置され、バッファ４５２によって分離された、幅４５６を有するマーカ４４８を備え、マーカピッチ４５４は、互いに結合されたマーカ４４８およびバッファ４５２のペアを備える。

図４Ｃの例において、エンコーダ４２１および４２３は互いに異なり、たとえば、幅４４６は幅４５６よりも大きく、ピッチ４４４はピッチ４５４よりも大きい。また、エンコーダ４２１および４２３は、それぞれ端部４０４および４０６から実質的に同一の距離、または異なる距離に形成され得る。エンコーダ４２１および４２３は、ブランケット４２０の一体部品であり、一般に、上述した製造技術の１または複数を用いて、ブランケット４２０の製造プロセス中に形成される。

ブランケット４００、４１０、および４２０の構成は、本発明の明確性のために単に例として提供される。他の実施形態において、たとえばエンコーダ４０１などのエンコーダは、たとえばグリッドマーカ、動き符号化コード、１次元（１Ｄ）バーコード、２次元（２Ｄ）バーコード、および３次元（３Ｄ）バーコードなどの任意の適当な種類のマーカを備えてよい。また、２Ｄバーコードの各々は、クイックレスポンス（ＱＲ）コード、ＡＺＴＥＣコード、および／または他の任意の種類の２Ｄバーコードを備えてよい。

追加または代替として、３Ｄバーコードは、ブランケット層の１または複数に３Ｄ構造（たとえば溝、穴、または階段）を彫刻することによって、および／またはブランケットのトポグラフィックな外側表面を形成する３Ｄ構造を生成すること（たとえば、層間に３Ｄ構造を形成することにより、ブランケットの外側表面にトポグラフィを形成すること）によって、および／または、彫刻された３Ｄ構造内に３Ｄ構造（たとえば上述の図３Ａの三角形３３４）を生成することによって生成され得る。上述したように、３Ｄ構造は、外側層の少なくとも１つの一部としてブランケット層間に形成されてよく、または、ブランケットの外側層の上面に配置され得る。

また、３Ｄ構造は、ブランケットの製造中に、３Ｄ印刷または他の任意の適当な技術を用いて形成され得る。３Ｄ構造の最上面は、彫刻構造内（たとえばブランケット層間）に、またはブランケットの外側層の表面と同一表面上にあってよく、または、ブランケットの外側層の表面から突出することに留意する。

同様に、１Ｄおよび２Ｄバーコードは、３Ｄ構造を生成するために適用された上述の技術の少なくとも１つを用いて形成され得る。たとえば、ブランケットに１Ｄまたは２Ｄ構造を彫刻し、充填材料の外側表面がブランケットの外側層の外側表面と同一平面上にあるように彫刻構造を充填材料で埋めることによる。

他の実施形態において、マーカは、ブランケットの外側層の外側表面における既定の位置に構造を彫刻し、彫刻構造の表面のみに付着するように適合されたインク液滴を噴射することによって形成され得る。追加または代替として、マーカは、ブランケット層間および／またはブランケットの外側層の上にインク液滴を噴射することによって生成され得る。

上述の図２Ｃにおいて説明したように、ブランケット（たとえばブランケット４２０）は、システム１１の動作中に伸張するように構成される。

いくつかの実施形態において、エンコーダ（たとえばエンコーダ４２１および４２３）は、ブランケット４２０に一体化されることにより、ブランケット４２０の伸張量を示すように構成される。図４Ｃの例において、ブランケット４２０が、たとえば１パーセント拡張すると、マーカ４３８および４４８ならびにそれぞれのバッファ４２２および４５２の少なくとも１つは、１パーセント、またはブランケット４２０の伸張量を示す他の量だけ拡張し得る。

いくつかの実施形態において、プロセッサ２０は、感知アセンブリから、マーカ４３８および４４８ならびにバッファ４２２および４５２の伸張量を示す信号を受信し、信号に基づいて、ブランケット４２０の伸張量を推定するように構成される。推定された伸張量に基づいて、プロセッサ２０は、ブランケット４２０の伸張を補償するために印刷プロセスの様々なパラメータを調整してよい。

図４Ｄは、本発明の他の実施形態に係る、ブランケット４３０の概略上面図である。ブランケット４３０は、たとえばシステム１１のブランケット２１０に取って代わり得る。いくつかの実施形態において、ブランケット４３０は、ブランケット４３０の長手方向軸２９１に沿って配置されたガイド要素を備える。図４Ｄの例において、ガイド要素は、たとえば上述した端部４０４および４０６などのブランケット４３０の長手方向エッジに結合された、本明細書においてジップファスナ４３３とも称される、２つの部品（一般に２分割）のジッパを備える。他の実施形態において、ジップファスナ４３３の片方のみが、ブランケット４３０のそれぞれの長手方向エッジと係合する。代替実施形態において、ブランケット４３０は、他の任意の適当な種類のガイド要素を備えてよい。

いくつかの実施形態において、ジップファスナ４３３は、矢印２９０によって表された移動軸に沿ってブランケット４３０を動かすために、長手方向軸２９１に沿って、システム１０のガイドサブシステムと係合するように構成される。いくつかの実施形態において、ガイドサブシステムは特に、上述の図１において説明した上記ローラ（たとえばローラ２３２、２４０、２４２、および２５３）と、以下で詳しく説明するようにブランケット４３０と係合するように構成されたガイドトラック４３５とを備えてよい。

図４Ｄに示す実施形態例において、１つのジップファスナ４３３が、ガイドサブシステムのそれぞれのガイドトラック４３５と係合する。この構成は、概念上の明確性のため、および以下に示すジップファスナ４３３の詳細な説明のために示される。他の実施形態において、システム１０のガイドサブシステムは、ブランケット４３０の両側に位置する２つのガイドトラック４３５を備えてよい。実施形態において、ブランケット４３０の両方のジップファスナ４３３が、長手方向軸２９１に平行な連続経路に沿って、両方のそれぞれのガイドトラック４３５と係合する。

いくつかの実施形態において、ジップファスナ４３３とガイドトラック４３５との係合は、基板４０２のＹ軸方向の緊張を維持するために、ガイドサブシステムがブランケット４３０に横方向の張力を付与することを可能にする。また係合は、矢印２９０によって表された移動軸の方向に、連続経路に沿ってブランケット４３０を回転させるために、ガイドサブシステムが基板４０２に長手方向の力を付与することも可能にする。

いくつかの実施形態において、ジップファスナ４３３は、実質的に同一または異なる材料で作られ、端部４０４および４０６の少なくとも１つに縫い付けられ、または他の方法で結合され得るストリップ４６５を備える。

いくつかの実施形態において、ガイドサブシステムは、様々な種類のガイド要素を備えてよく、たとえばストリップ４６５は、互いに異なる等級の弾性を有してよい。システム１０および他の構成の印刷システムにおいて様々な種類のＩＴＭとともに用いるために適したジップファスナの例は、たとえば、それらの開示が全て参照によって本願に組み込まれるＰＣＴ特許出願公開ＷＯ２０１３／１３６２２０号およびＰＣＴ特許出願ＰＣＴ／ＩＢ２０１８／０５８００９号において詳しく説明される。

いくつかの実施形態において、ジップファスナ４３３は、ストリップ４６５の長手方向エッジに沿って形成された複数の同様のまたは異なる側方構造を備え、この例において、側方構造は、約１ｃｍまたは他の任意の適当なサイズの幅４６６および約５．５ｍｍまたは他の任意の適当なサイズの長さ４６８を有する歯４５８を備える。歯４５８は、本明細書においてバッファ４６２と称されるそれぞれの既定の間隔と交互に配置され、それぞれの既定の間隔によって分離される。この構成において、ジップファスナ４３３は、１つの歯４５８および１つのバッファ４６２のペアを備える、約７．５ｍｍまたは他の任意の適当なサイズのマーカピッチ４６４を備える。

実施形態において、ジップファスナ４３３は、たとえば３０００～８２００の歯であるがこれに限定されない任意の適当な数の歯４５８を備えてよい。この実施形態において、単一の歯４５８の長さ４６８は、ブランケット４３０の全長の約０．００３％～０．００５％であってよい。他の実施形態において、各ジップファスナ４３３は、５００個超過の歯４５８、たとえば約１３７５個の歯４５８を備えてよく、それぞれ端部４０４および４０６に結合された２つのジップファスナ４３３の場合、ブランケット４３０は、合計約２７５０個の歯４５８を備えてよい。この実施形態において、単一の歯４５８の長さ４６８は、ブランケット４３０の全長の約０．０５％であってよい。これらの実施形態において、本明細書において長手方向マーカ寸法とも称される単一の歯４５８の長さ４６８は、本明細書において長手方向ＩＴＭ寸法とも称されるブランケット４３０の全長の約０．００３％～０．０５％であってよい。

いくつかの実施形態において、ガイドサブシステムのガイドトラック４３５は、互いに既定の間隔を置いて長手方向軸２９１に沿って位置する歯４５９（または他の任意の適当な種類の側方構造）を備える。いくつかの実施形態において、歯４５９および４５８は、ジップファスナ４３３とそれぞれのガイドトラック４３５との上述した係合を可能にするサイズ、形状、および配置を有する。

いくつかの実施形態において、ジップファスナ４３３の少なくとも１つは、たとえば歯４５８、バッファ４６２、マーカピッチ４６４、またはこれらの任意の適当な組み合わせなどのマーカを有するリニアエンコーダとして作用してよい。

いくつかの実施形態において、システム１１は、たとえば上述の図１の感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈなどの感知アセンブリを備える。感知アセンブリは、ジップファスナ４３３のマーカの少なくとも１つを感知することに応答して、たとえばそれぞれのマーカのそれぞれの位置を示す位置信号などの電気信号を生成するように構成される。

上述したように、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈから受信した位置信号に基づいて、プロセッサ２０は、ブランケット４３０の上側ランの緊張を維持し、かつ下側ランにおける機械的振動による影響から隔離されるように維持するために、各ローラによってブランケット４３０に付与されたトルクを制御するように構成される。

いくつかの実施形態において、基板４０２の伸張に応答して、上述のジップファスナ４３３のマーカは、ブランケット４３０の伸張量を示すように構成される。たとえば、１または複数のバッファ４６２のサイズ、およびマーカピッチ４６４が拡大し得る。

いくつかの実施形態において、歯４５８は、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈから受信した位置信号の精度を高めるような形状であってよい。たとえば、歯４５８は、高い反復性で感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈによって感知され得る少なくとも１つの鋭利なエッジを有してよい。たとえば、歯４５８の１または複数は、たとえば丸形、長方形、正方形、台形、または星形などであるがこれに限定されない任意の適当な幾何学的形状を有してよい。

いくつかの実施形態において、ジップファスナ４３３の１または複数のマーカ、たとえば歯４５８またはバッファ４６２は、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈの感知反復性を高め得る突起および／または貫入を有してよい。

他の実施形態において、ジップファスナ４３３の１または複数の歯４５８または他の任意のマーカは、システム１１に取り付けられた１または複数の適当な磁気感知アセンブリによって感知され得る磁性材料を備えてよい。

追加または代替として、ジップファスナ４３３の少なくともいくつかのマーカ（たとえば歯４５８またはバッファ４６２）は、感知アセンブリ５５Ａ～５５Ｈの感知反復性を更に高め得る特徴的な仕切りを有する２色以上を有してよい。

代替実施形態において、各ジップファスナ４３３は、ブランケット４３０が、たとえば上述の図４Ｃのブランケット４２０において説明したように端部４０４および４０６に近接した２つの異なるエンコーダを備え得るように、様々な構成のマーカを有してよい。

いくつかの実施形態において、プロセッサ２０は、２つのそれぞれの位置信号セットを生成するために２つの異なるエンコーダを用いてよい。異なる位置信号は、基板４０２の表面にインク画像を付与するプロセスにおける２つの異なる態様を制御するために用いられ得る。

いくつかの実施形態において、マーカのセットは、たとえば幅またはバッファサイズ、またはピッチ、またはこれらの組み合わせなどにおいて、互いに異なってよい。

いくつかの実施形態において、ジップファスナ４３３のマーカの少なくとも１つは、たとえば上述の図３Ｃにおいて説明したグリッドマーカまたは動き符号化コードなどの少なくとも１つのコードを備えてよい。

他の実施形態において、ジップファスナ４３３のマーカの少なくとも１つは、１次元（１Ｄ）バーコード、２次元（２Ｄ）バーコード、または３次元（３Ｄ）バーコードを備えてよい。たとえば、少なくともいくつかの歯４５８、またはバッファ４６２、またはこれらの組み合わせは、そこに模様付けまたは彫刻、または印刷された上述のバーコードの少なくとも１つを有してよい。

ジップファスナ４３３の構成は、本発明の実施形態によって対処される動き制御問題を例示するため、およびシステム１１の印刷性能を向上させるためのこれらの実施形態の適用を論証するために、例として示される。ただし、本発明の実施形態は決して、この特定の種類のエンコーダに限定されることはなく、本明細書で説明される原理は、他の任意の種類の印刷システムにおいて用いられる他の種類の基板および転写部材にも同様に適用され得る。

図５Ａは、本発明の実施形態に係る、ブランケット５００の概略側面図である。ブランケット５００は、たとえばシステム１１のブランケット２１０に取って代わり得る。いくつかの実施形態において、ブランケット５００は、厚さ５３１を有する基板５０２の１または複数の層に彫刻された複数の３Ｄ構造５０４（たとえば、上述の図４Ｃにおいて説明された溝または穴）を備える。

図５Ａの実施形態例において、全ての構造５０４は、実質的に同一の幅５０８および深さ５１５を有し、それぞれのバッファ５１４によって分離される。また、構造５０４は、上面５１６および下面５１１に対して略直交する側壁５０６を有する対称的な断面形状を有する。深さ対厚さ比、たとえば深さ５１５と厚さ５３１との比は、０．０１～０．９９の任意の値を有し得ることに留意する。

上述の図４Ｃに示すように、彫刻の後、構造５０４は、本明細書において充填材層（図５Ａには不図示）とも称される、任意の適当な充填材料で少なくとも部分的に充填され得る。

他の実施形態において、深さ対厚さ比は、構造間で異なり得る。たとえば、少なくとも２つの３Ｄ構造は、異なるレベルの深さ５１５を有してよい。また、図５Ａの例において、表面５１１は、それぞれ上面および下面５１６および５１０と略平行である。代替実施形態において、表面５１１は、表面５１６および５１０のいずれかと平行でなくてよく、たとえば、片側において傾斜し、側壁５０６間に異なる長さが生じる。

図５Ｂは、本発明の実施形態に係る、ブランケット５２０の略断面図である。ブランケット５２０は、たとえばシステム１１のブランケット２１０に取って代わり得る。いくつかの実施形態において、ブランケット５２０は、間を分離するバッファ５３４および均一な深さ５２５を有する、基板５２２の１または複数の層に彫刻された複数の３Ｄ構造５２４（たとえば上述の図４Ｃにおいて説明された溝または穴）を備える。

図５Ｂの実施形態例において、少なくとも２つの構造５２４は、それぞれ上面および下面５３６および５２１の少なくとも１つと側壁５２６との間に非直角を有する傾斜側壁を有する。その結果、表面５２１において測定された側壁５２６間の幅５２８は、上面５３６の高さにおいて側壁５２６間で測定された幅５３０よりも小さい。

代替実施形態において、ブランケット５２０は、異なる構造５２４間で不均一な深さ５２５、および／または表面５３６、５２１、および５３３のうち少なくとも１つの傾斜表面、および／またはブランケット５２０の構造における他の任意の変化を備えてよい。変化は、設計によって意図されたものであり、またはブランケット５２０の製造プロセスにおける変動による不所望のものであり得る。

システム１１によって実行されるインク画像載置プロセスにおける２つの異なる態様を制御するために用いられ得る、２つのそれぞれの位置信号セットを生成するために、感知アセンブリ（たとえば上述の図１のアセンブリ５５Ａ～５５Ｈ）によって２つの幅セット（たとえば幅５２８および５３０）が用いられ得ることに留意する。たとえば、２つの位置信号セットは、ブランケット５２０の表面５３３と５３６との間の応力および／または歪みを示してよい。

図５Ｃは、本発明の実施形態に係る、ブランケット５４０の概略断面図である。ブランケット５４０は、たとえばシステム１１のブランケット２１０に取って代わり得る。いくつかの実施形態において、ブランケット５４０は、間を分離するバッファ５５４を有する、交互に配置され、基板５４２の１または複数の層に彫刻された複数の少なくとも２つの異なる３Ｄ構造５４３および５４４（たとえば上述の図４Ｃにおいて説明された溝または穴）を備える。ブランケット５４０は、どの構造５４３も２つの隣り合う構造５４４を有し、またはその逆であるように、交互に配置された構造５４３および５４４の２つのセットを有する。

図５Ｃの実施形態例において、構造５４３および５４４は、均一な深さ５４５を有するが、それらの側壁は異なっている。構造５４３の側壁５４６は、（上述の図５Ａに示すブランケット５００の側壁５０６と同様に）表面５２１および５３６の少なくとも１つに略直交するが、構造５４４の側壁５８８は（上述の図５Ｂに示すブランケット５２０の側壁５２６と同様に）傾斜し、表面５２１および５３６の少なくとも１つと直交しない。

いくつかの実施形態において、ブランケット５４０の構成は、交互に配置され、または他の任意の適当な構成で配置された２つ以上のエンコーダの組込みを可能にし得る。たとえば、構造５４３は、両表面５５６および５４１において側壁５４６間に実質的に同一の幅５４８を有するが、構造５４４は、表面５４１において同様の幅５４８を有し得るが、表面５５６の高さにおいて一般により大きな幅５５０を有し得る。

いくつかの実施形態において、システム１１のプロセッサ２０は、感知アセンブリ（たとえば上述の図３Ｂのアセンブリ３６０）から、構造５４３および５４４から生成された１または複数の位置信号セットを受信するように構成される。たとえば、第１および第２のセットは、それぞれ構造５４３および５４４の表面５５６から感知された異なる反射を備え、第３のセットは、構造５４３および５４４の両方の表面５４１から感知された２倍の密度の反射を備える。ブランケット５４０の構成例は、ユーザに、ブランケット５４０に隣接して取り付けられた１または複数の感知アセンブリから受信した複数のコードを提供する。各コードは、ブランケット５４０の表面５５６（または、たとえば後述の図７に示す他の上面）におけるインク画像配置の制御に関連する様々な態様に対処し得る。
ブランケットに一体化されたエンコーダを生成するための方法

図６は、本発明の実施形態に係る、一体型マーカを備えるブランケット６００を製造するためのプロセスシーケンスの断面図を概略的に示す図である。ブランケット６００は、たとえばシステム１１のブランケット２１０に取って代わり得る。

プロセスは、ブランケット６００を備える典型的な５層のスタックをキャリア６１６上に準備するステップ１において開始する。

いくつかの実施形態において、キャリア６１６は、たとえば主にアルミニウム、ニッケル、および／またはクロミウムから成る、またはそれらを備える可撓性ホイルなどの可撓性ホイルで形成され得る。実施形態において、ホイルは、本明細書においてポリエステルとも称されるアルミ蒸着ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、たとえばヒュームドアルミニウム金属で被覆されたＰＥＴのシートを備える。

いくつかの実施形態において、キャリア６１６は、帯電防止ポリマー膜、たとえばポリエステル膜で形成され得る。帯電防止膜の特性は、たとえばアンモニウム塩などの様々な添加物をポリマー組成物に添加することなど、様々な技術を用いて得られ得る。

いくつかの実施形態において、キャリア６１６は、本明細書においてキャリア接触面とも称される、５０ｎｍ未満程度の粗さ（Ｒａ）を有する研磨平坦表面（不図示）を有する。

いくつかの実施形態において、流動性の第１の硬化性組成物（不図示）が提供され、そこから、キャリア接触面に剥離層６０２が形成される。いくつかの実施形態において、剥離層６０２は、たとえばシステム１１の画像形成ステーション２１２からインク画像を受け取り、上述の図１に示され説明された、たとえばシート２２６などの標的基板へインク画像を転写するように構成されたインク受取り面６０３を備える。層６０２、特に表面６０３は、後述するように、表面６０３とインク画像との間の、本明細書において後退角（ＲＣＡ）とも称される濡れ角によって測定される、インク画像に対する低い離型力を有するように構成されることに留意する。

低い離型力は、表面６０３から基板２２６へのインク画像の完全な転写を可能にする。いくつかの実施形態において、剥離層６０２は、一般に、たとえばビニル末端ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）などの透明シリコンエラストマで、または他の任意の適当な種類のシリコンポリマーで作られ、一般に５０μｍの厚さ、または１０μｍよりも大きい他の任意の適当な厚さを有してよい。

いくつかの実施形態において、流動性の第１の硬化性材料は、ビニル官能性シリコンポリマー、たとえば、末端ビニル基、たとえばビニル末端ポリジメチルシロキサンに加えて、少なくとも１つの横型ビニル基を備えるビニルシリコンポリマーを備える。

いくつかの実施形態において、流動性の第１の硬化性材料は、ビニル末端ポリジメチルシロキサン、末端ビニル基に加えてポリシロキサン鎖に少なくとも１つの横型ビニル基を備えるビニル官能性ポリジメチルシロキサン、架橋剤、および付加硬化型触媒を備えてよく、任意選択的に、硬化抑制剤を更に備える。

図６の例において、剥離層６０２は、５～２００μｍの厚さに均され、１２０～１３０℃で約２～１０分硬化された、ＰＥＴ系キャリア６１６に均一に塗布され得る。インク転写表面６０３の疎水性は、０．５～５マイクロリットル（μｌ）の蒸留水液滴の場合、約６０°のＲＣＡを有し得ることに留意する。いくつかの実施形態において、剥離層６０２の表面６０５は、著しく大きい、一般におよそ９０°のＲＣＡを有してよい。

いくつかの実施形態において、インク転写表面６０３を生成するために用いられたＰＥＴキャリアは、典型的な４０°未満のＲＣＡを有してよい。全ての接触角測定は、ドイツ国ハンブルク州Ｂｏｒｓｔｅｌｅｒ Ｃｈａｕｓｓｅｅ８５、２２４５３所在のＫｒｕｓｓ（登録商標）社によって製造される接触角分析器「Ｅａｓｙ Ｄｒｏｐ」ＦＭ４０Ｍｋ２を用いて、および／またはオーストラリア国ニューサウスウェールズ州ゴスフォード所在のＰａｒｔｉｃｌｅ ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ社によって製造されるＤａｔａｐｈｙｓｉｃｓ ＯＣＡ１５ Ｐｒｏを用いて行われた。

いくつかの実施形態において、剥離層６０２は、いくつかの種類の材料に対し低い離型力を有し得るので、層６０２は、たとえば上述の図４Ａ、図４Ｂ、および図４Ｃにおいて説明された基板４０２の斜面において、マーカのために指定された位置に塗布されなくてよい。これらの実施形態の更なる詳細は後述される。

いくつかの実施形態において、ブランケット６００は、本明細書においてコンフォーマル層とも称される、一般に黒色顔料添加物を有するＰＤＭＳで作られたコンプライアンス層６０４を備える。コンプライアンス層６０４は、剥離層６０２に塗布され、典型的な１５０μｍの厚さ、または１００μｍ以上である他の任意の適当な厚さを有してよい。コンプライアンス層６０４は、選択された波長の光の実質的な強度を、そこを通って伝送されないように、および／またはそこから反射されないように減衰するように構成されることに留意する。

理解される点として、減衰の程度は、たとえば層の厚さおよび感知アセンブリによって発される光の波長などの様々なパラメータに依存する。たとえば、ＵＶ波長（１０ｎｍ～４００ｎｍ）は、可視光（４００ｎｍ～７００ｎｍ）に比べて大きな減衰を有し得る。

いくつかの実施形態において、コンプライアンス層６０４は、剥離層６０２とは異なる機械特性（たとえば、張力へのより大きな抵抗）を有してよい。そのような所望の特性の差は、たとえば、剥離層６０２と異なる組成を用いること、剥離層６０２の製剤を調製するために用いられる成分間で特性を変えること、および／またはそのような製剤への更なる成分の添加、および／または異なる硬化条件の選択によって得られ得る。たとえば、充填材粒子の添加は、剥離層６０２に対してコンプライアンス層６０４の機械強度を高め得る。

いくつかの実施形態において、コンプライアンス層６０４は、剥離層６０２および表面６０３が、インク画像が押し付けられる基板（たとえばシート２２６）の表面輪郭を近接して辿ることを可能にする弾性特性を有する。インク転写表面６０３の反対側にコンプライアンス層６０４を付着させるは、コンプライアンス層６０４の材料に加えて粘着または接着組成物の適用を伴い得る。

いくつかの実施形態において、ブランケット６００は、本明細書において支持層６０７またはブランケット６００のスケルトンとも称される、コンプライアンス層６０４に付与され、以下で詳しく説明される補強スタック層を備える。いくつかの実施形態において、支持層６０７は、ローラおよびダンサによってブランケット６００に付与されたトルクによって生じ得る変形または断裂への改善された機械耐性をブランケット６００に提供するように構成される。いくつかの実施形態において、ブランケット６００のスケルトンは、製織ガラス繊維層６０８とともに形成される、ＰＤＭＳまたは他の任意の適当な材料で作られた接着層６０６を備える。いくつかの実施形態において、層６０６および６０８は、支持層６０７の厚さが一般に１００μｍを超えるように、それぞれ約１５０μｍおよび１１２μｍの典型的な厚さ、または他の任意の適当な厚さを有してよい。

他の実施形態において、スケルトンは、他の任意の適当なプロセスを用いて、たとえば層６０６を配置し、その後、そこへ層６０８を結合して重合すること、または他の任意のプロセスシーケンスを用いることによって生成され得る。

いくつかの実施形態において、重合化プロセスは、商業上「付加硬化」として知られている、白金触媒によるヒドロシリル化触媒反応に基づいてよい。

他の実施形態において、ブランケット６００のスケルトンは、ブランケット６００がシステム１１において張力を保持されている時の伸張に耐えるための十分な構造的一体性をブランケット６００に提供するために、ウェブまたは織物の形状の任意の適当な繊維強化材を備えてよい。スケルトンは、後に硬化され硬化後に可撓性を保っている任意の適当な樹脂で繊維強化材をコーティングすることによって形成され得る。

代替実施形態において、支持層６０７は、独立して硬化された樹脂に埋め込まれ、および／または植え込まれた繊維のように、個別に形成され得る。この実施形態において、支持層６０７は、接着層を介してコンプライアンス層６０４に付着してよく、任意選択的に、その場で支持層６０７を硬化する必要性を排除する。この実施形態において、支持層６０７は、その場でコンプライアンス層６０４上に形成されても個別に形成されても、約１００マイクロメートル～約５００μｍの厚さを有してよく、その一部は、一般に約５０μｍ～３００μｍの間で変化する繊維または織物の厚さによるものである。ただし、支持層６０７の厚さは、上記値に限定されない。

いくつかの実施形態において、ブランケット６００は、一般に透明のＰＤＭＳで作られ、上述の図１において説明されたシステム１１のローラおよびダンサとブランケット６００とを物理的に接触させるように構成された、本明細書においてグリップ層とも称される高摩擦層６１０を備える。層６１０は、比較的軟性の材料で作られるが、ローラに面した表面は、ブランケット６００がローラおよびダンサによって付与されるトルクに滑動することなく耐えるように高い摩擦力を有することに留意する。実施形態例において、層６１０は、１００μｍの厚さを有し得るが、たとえば１０μｍ～１ｍｍなど、他の任意の適当な厚さを有してよい。

図６のステップ１を実装する追加の実施形態は、たとえば、その開示が参照によって本願に組み込まれるＰＣＴ国際公開ＷＯ２０１７／２０８１４４号において詳しく説明される。

ステップ２において、プロセスは、ブランケット６００を備える層の１または複数において、本明細書においてマーカ６１２とも称される３Ｄ構造（たとえば溝、穴、または階段）を彫刻することを備える。ステップ２は、マーカ６１２が形成されるブランケット６００の斜面の断面図を示すことに留意する。図４Ａ、図４Ｂ、および図４Ｃに示すように、マーカは、ブランケットの上面に形成されたインク画像と重なり合わないように、ブランケットの斜面に形成される。したがって、図６および図７の断面図は、ブランケットのインク画像とは別の領域を表すことが理解される。

ステップ２の例において、マーカ６１２は、層６０２および６０４に形成され、任意選択的に、少なくとも層６０２を貫通して、任意選択的に層６０４も貫通して彫刻されてよく、更に、層６０６の少なくとも一部にまで延びてよい。いくつかの実施形態において、マーカ６１２は、たとえばレーザマーキングまたはレーザアブレーションなどのレーザ技術を用いて、２００μｍを超える深さまで彫刻される。他の実施形態において、マーカ６１２の少なくとも１つは、層６０２、６０４、および６０６の１または複数の少なくとも一部に彫刻され得る。たとえば、１または複数のマーカ６１２の第１のグループは、層６０２の一部または厚さ全体に彫刻されてよく、１または複数のマーカ６１２の第２のグループは、層６０２の厚さ全体を貫通し、層６０４の一部または厚さ全体に彫刻されてよく、１または複数のマーカ６１２の第３のグループは、層６０２および６０４の厚さ全体を貫通し、層６０６の一部または厚さ全体に彫刻され得る。

また他の実施形態において、マーカ６１２の１または複数は、層６０２、６０４、および６０６を備えるスタックの少なくとも１層の少なくとも一部に彫刻されてよく、１または複数の他のマーカ６１２は、スタックの１または複数の他の層の少なくとも一部に彫刻され得る。たとえば、１または複数のマーカ６１２は、層６０２の一部または厚さ全体に彫刻されてよく、１または複数の他のマーカ６１２は、本明細書で説明された任意の適当な彫刻プロセスを用いて、層６０４および／または６０６の一部または厚さ全体に彫刻され得る。

他の実施形態において、マーカ６１２は、たとえば上述の図２Ａにおいて説明したようなパンチングまたはピンニング技術を用いるＤＰＭなどの他の任意の適当なプロセスを用いて、または他の任意の適当な処理技術を適用することによって彫刻され得る。

いくつかの実施形態において、マーカ６１２は、たとえば図４Ａに示すマーカ４０８などの正方形、たとえば図４Ｂおよび図４Ｃにそれぞれ示すマーカ４１８および４３８などの長方形を有してよい。追加または代替として、たとえば円形、楕円形、星形などの他の適当な形状が用いられてもよい。いくつかの形状例は、上述の図４Ａ、図４Ｂ、および図４Ｃにおいて説明される。

いくつかの実施形態において、マーカ６１２は、断面視において、上述の図５Ａに示す直角側壁５０６を有するブランケット５００の３Ｄ構造５０４、または上述の図５Ａに示す傾斜側壁５２６を有するブランケット５２０の構造５２４、またはたとえば図５Ｃに示すこれらの組み合わせ、またはたとえば上述の図５Ａ、図５Ｂ、および図５Ｃにおいて説明した他の任意の適当な形状など、任意の適当な形状を有してよい。

ステップ３において、プロセスは、マーカ６１２の彫刻３Ｄ構造内に、本明細書において充填材層６１４とも称される充填材料を付与することを備える。上述したように、剥離層６０２は、マーカ６１２の彫刻３Ｄ構造を埋めるように構成された、たとえば充填材層６１４などの数種類の材料に対する低い離型力を有してよい。

充填材層６１４は、層６０４およびブランケット６００の他の層に付着するが、層６０２に付着しないように構成されることに留意する。いくつかの実施形態において、層６０２は、たとえば上述のステップ１において、および上述の図４Ａおよび図４Ｃにおいて更に詳しく説明したようなブランケット６００の斜面など、マーカ６１２のために指定された位置には付与されなくてよい。他の実施形態において、層６０２は、ステップ１においてブランケット６００全体に付与され、ステップ３において層６１４を付与する前にブランケット６００の斜面から除去され得る。

いくつかの実施形態において、充填材層６１４は、ＰＤＭＳベースの層６０２、６０４、および６０６に適合するように、シリコンポリマーに対する化学親和力を有するように構成される。追加または代替として、層６１４は、ブランケット６００の可撓性を維持するために、任意の適当な弾性率を有してよい。

いくつかの実施形態において、充填材層６１４は、０℃～１８０℃の温度範囲において機械的および化学的安定性を有するように構成され、すなわち、充填材層６１４の化学および機械特性は、それらが室温で存在すると維持され、耐薬品性であり、たとえば熱分解、重量減少、または特性損失が発生しない。

いくつかの実施形態において、層６１４は、ブランケット６００に匹敵する、またはそれを超える、耐摩耗性および耐擦傷性（たとえば３０ショアＡを超える表面硬さ）を有するように構成される。また、層６１４は、たとえば透明性、反射性および色などの光学属性、磁気属性、および耐機械（たとえば引張）応力性を制御するために様々な種類の添加物を受け入れるように構成される。

斜面からの層６０２の除去は、たとえば、斜面の選択された位置をエッチングすること、または他の適当な技術を用いることによって実行され得る。他の実施形態において、層６０２は、マーカ６１２を備えるブランケット６００のそれぞれの斜面に充填材層６１４を付与する前に、ブランケット６００の斜面の少なくとも１つから除去され得る。ステップ３によって、図６のプロセスシーケンスは終了する。

ブランケット６００の構成は、本発明を明確にするために単に例として提供される。他の実施形態において、ブランケット６００は、単一の層または他の任意の適当な数の層を備えてよい。これらの実施形態において、ブランケット６００の層の少なくとも１つは、たとえばポリテトラフルオロエチレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリオレフィン、エラストマー、ポリスチレン系ポリマー、ポリアミド系ポリマー、メタクリル酸系エラストマー、ゴム、ポリウレタン、ポリカーボネート、アクリル、およびこれらの材料の少なくとも２つの組み合わせなどであるがこれに限定されない他の任意の適当な材料を備えてよい。

追加または代替として、ブランケット６００は、ブランケット６００の２つ以上の層に穴および／または溝を彫刻すること（または他の任意の適当な技術を用いること）によって形成され得る３次元（３Ｄ）マーカを備えてよい。たとえば、ブランケット６００は、Ｌ字形３Ｄマーカまたは逆Ｔ字形３Ｄマーカを備えてよい。そのような実施形態において、３Ｄマーカの大きな横方向部分は、たとえば層６０６を彫刻することによって形成されてよく、３Ｄマーカのより小さな部分（たとえば「Ｌ」字の「棒」部分または逆「Ｔ」字の「足」部分）は、層６０４を彫刻することによって形成され得る。上述した感知アセンブリは、任意の透明または部分的に透明な層を通してそのような３Ｄマーカを感知してよく、ブランケット６００は、任意の所望の形状を有する増加した密度のマーカを備えてよい。したがって、プロセッサ２０は、印刷プロセス制御の強化においてプロセッサ２０を支援し得る、当該ブランケットにおけるより大量かつより貴重な情報を受信し得ることにより、標的基板へ印刷された画像の品質を向上させ得る。

図７は、本発明の実施形態に係る、一体型マーカ７１０を備えるブランケット７００を製造するためのプロセスシーケンスの断面図を概略的に示す図である。ブランケット７００は、たとえばシステム１１のブランケット２１０に取って代わり得る。

いくつかの実施形態において、図７における層は、上述の図６における層と同様であるが、異なるそれぞれのプロセスシーケンスを受ける。したがって図７は、プロセスの異なるシーケンスを強調する。

プロセスは、剥離層７０４をポリエステル（ＰＥＴ）基板７０２に付与し、その後、剥離層７０４の重合化を伴うステップ１において開始する。その後、コンプライアンス層７０６が剥離層７０４に付与される。

いくつかの実施形態において、後述のステップ２に示す彫刻プロセス中にコンプライアンス層７０６を保護するために、任意の適当なポリマー材料（たとえばプラスチック）で作られた層７０８がコンプライアンス層７０６に付与され得る。他の実施形態において、プロセスのステップ１は、層７０８を付与することなく、コンプライアンス層７０６を付与した後に終了され得る。

ステップ２において、プロセスは、本明細書においてマーカ７１０とも称される３Ｄ構造をブランケット７００の１または複数の層に彫刻することを備える。彫刻は、上述した彫刻技術のいずれかを用いて実行され得る。図７に示す実施形態例において、３Ｄ構造は、層７０６を貫通して彫刻される。

いくつかの実施形態において、彫刻プロセスに加え、層７０８が除去され、プロセスのステップ２が終了する。上述のステップ１において説明した他の実施形態において、層７０８は層７０６に付与されない。これらの実施形態において、プロセスのステップ２は、層７０６の外側表面およびマーカ７１０の３Ｄ構造を彫刻プロセスの残余副産物から洗浄するという追加のサブステップを備えてよい。

ステップ２は、デジタル印刷プロセス中にブランケット７００の剥離層７０４に付与されたインク画像と重なり合わない領域にマーカ７１０が形成される、ブランケット７００の斜面の断面図を示すことに留意する。

ステップ３において、プロセスは、ガラス繊維層７１４に付与される、本明細書において充填材層７１２とも称される充填材料を備えるスタックを付与することを備える。いくつかの実施形態において、充填材層７１２は、マーカ７１０の彫刻３Ｄ構造を埋め、層７０６に結合されるように構成される。いくつかの実施形態において、充填材料７１２は、剥離層７０４の内側部分（たとえばバルク）に付着するように構成されるが、層７０４の外側表面は一般に、幅広い選択肢の材料、たとえば充填材料７１２への低い付着力を示す。

いくつかの実施形態において、層７１２および７１４は、単一の動作で層７０６およびマーカ７１０の両方に付与され、その後、層７１２は重合化される。代替実施形態において、層７１２および７１４は、他の任意の適当なシーケンスを用いて配置され得る。

ステップ４において、プロセスは、ガラス繊維層７１４にグリップ層７１６を付与することを備える。いくつかの実施形態において、グリップ層７１６は、高摩擦層６１０と実質的に同一であり、ブランケット７００とシステム１１のローラおよびダンサとの強固な接触を可能にするように構成される。その後、基板７０２は、たとえばチャネルエッチングなどの任意の適当な技術を用いて除去され得る。

本明細書で説明される実施形態は主に、基板およびウェブへのデジタル印刷プロセスにおいて用いられるブランケット（ＩＴＭ）を扱うが、本明細書で説明される方法およびシステムは、たとえばブランケットがドラムの周囲に巻き付けられ、ローラによってガイドされない間接印刷システムにおいて用いられるドラムブランケットなど、他の応用において用いられてもよい。本明細書で説明される方法およびシステムは、ＩＴＭの動きが精密に制御されるように、ＩＴＭを用いる任意の印刷システムにおいて用いられてもよい。

したがって、上述した実施形態は、例として引用されていること、および本発明は、本明細書において特に示され説明されたものに限定されないことが理解される。むしろ、本発明の範囲は、本明細書で上述した様々な特徴の組み合わせおよび部分的組み合わせ、ならびに上記説明を閲読した当業者が思い至る、従来技術には開示されていないそれらの変形例および修正例の両方を含む。参照によって本特許出願に組み込まれる文書は、本出願の一体部分であると見なされるものであるが、これらの組み込まれた文書において任意の用語が本明細書において明示的または暗示的になされた定義と矛盾するように定義される場合、この限りではなく、本出願における定義のみが考慮されるべきである。
ブランケットの伸張の検出および補償

図８は、本発明の他の実施形態に係る、位置感知アセンブリ８００の概略断面図である。いくつかの実施形態において、システム１１は、たとえば上述の図１のブランケット２１０に取って代わり得るブランケット８０２を備えてよい。たとえば上述の図２Ａ～２Ｃにおいて説明したように、システム１１は、矢印２９０によって表された移動方向に、既定の制御された速度でブランケット８０２を動かすように構成される。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ８００は、たとえば互いに距離８１３を置いてブランケット８０２に彫刻された（または他の任意の適当な技術を用いて形成された）マーカ８０４および８０６などのマーカの位置を検出し、ブランケット８０２の伸張を示す信号を生成するように構成される。以下で詳しく説明するように、開示される技術は、所与のマーカに関して、所与のマーカの２つ以上のそれぞれの位置を示す２つ以上の信号を取得してよい。これらの技術は、距離８１３の実際の長さを推定するため、すなわち、たとえば過剰な伸張によってブランケット８０２が変形しているかを検出するために、マーク付きブランケットの複数のマーカに適用され得る。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ８００は、たとえば上述の図２Ａ～２Ｃおよび図３Ａ～３Ｃにおいて詳しく説明したような、たとえば１または複数のＬＥＤ、１または複数のレーザ、または他の任意の適当な種類の光源などの光源８１６を備える。光源８１６は、ブランケット８０２のマーカ８０４および８０６を通過し得る、たとえば光ビーム８１５および８１７などの複数の光ビームを放出し、方向付けるように構成される。光ビーム８１５および８１７は一般に、互いに同一であることに留意する。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ８００は、互いに距離８１１を置いて位置し、上述したようにマーカ８０４および８０６を通過した光ビーム８１５および８１７をそれぞれ通すように適合された２つ以上のスリット８１０および８１２を有するスリットアセンブリ８０８を備える。いくつかの実施形態において、スリット８１０と８１２との間の距離８１１は、本明細書においてマーカ間距離とも称される、マーカ８０４と８０６との間の距離８１３よりも小さい。いくつかの実施形態において、スリットアセンブリ８０８は、スリット８１０と８１２との間で散乱した光または迷光を遮断するように構成されたシールド８１４を備える。すなわち、シールド８１４は、後述するように、光ビーム８１５および８１７の各々が２つの個別のチャネルで位置感知アセンブリ８００を通って伝達されるように、光ビーム８１５と８１７とを分離するように構成される。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ８００は、ファイバアセンブリ８１８の下面８２１と上面８２３との間に横たわる複数の光ファイバ８２０の束を有するファイバアセンブリ８１８を備える。いくつかの実施形態において、表面８２１および８２３は、光ビーム８１５および８１７に対し透明であり、光ファイバ８２０は、ファイバアセンブリ８１８を通して光ビーム８１５および８１７を伝達するように構成される。

いくつかの実施形態において、位置感知アセンブリ８００は、たとえば上述の図２Ａ～２Ｃにおいて説明したセンサ２７１または２８４などであるがこれに限定されないセンサ８２２を備える。追加または代替として、センサ８２２は、光ビーム８１５および８１７を感知し、感知した光ビームの強度を示す電気信号を生成するように構成された、適当な種類のフォトダイオードまたは他の任意の適当な感知装置を備えてよい。

図８の実施形態例において、システム１１は、所定の速度で、矢印２９０によって表された移動方向にブランケット８０２を動かし、光源８１６は、光ビーム８１５および８１７を放出する。マーカ８０４がスリット８１０と一直線になると、光ビーム８１５は、マーカ８０４、およびスリット８１０およびファイバアセンブリ８１８を通過し、センサ８２２によって感知され、センサ８２２は感知された光ビーム８１５の強度およびマーカ８０４の第１の位置を示す、本明細書において第１の信号とも称される電気信号８２４を出力する。その後、システム１１は、矢印２９０の方向に既定の速度でブランケット８０２を動かし続ける。マーカ８０４がスリット８１２と一直線になると、光ビーム８１７は、マーカ８０４、およびスリット８１２およびファイバアセンブリ８１８を通過し、センサ８２２によって感知され、センサ８２２は感知された光ビーム８１７の強度およびマーカ８０４の第２の位置を示す、本明細書において第２の信号とも称される電気信号８２６を出力する。

図８の構成例において、位置感知アセンブリ８００は、単一のマーカ（たとえばマーカ８０４）の２つのそれぞれの位置を示す２つの信号を生成するように構成されることに留意する。他の実施形態において、同様の技術が、必要な変更を加えて他の構成で実装されてよく、位置感知アセンブリ８００は、単一のマーカから他の任意の適当な数の信号を取得するように適合され得る。

いくつかの実施形態において、プロセッサ２０は、信号８２４および８２６を受信し、ブランケット８０２の既定の移動速度および電気信号８２４および８２６に基づいて、スリット８１０と８１２との間でマーカ８０４が移動した距離を示す距離８２７を推定するように構成される。プロセッサ２０は更に、ブランケット８０２が、たとえば伸張によって変形しているか否かを検出するために、推定された距離８２７と（スリット８１０と８１２との間の）既定の距離８１１とを比較するように構成される。たとえば、等しい値の距離８１１および８２７は、ブランケット８０２が変形または伸張していないことを示し得るが、計算された距離８２７が既定の距離８１１よりも大きい場合、プロセッサ２０は、システム１１による過剰な引張応力によって、またはブランケットの経年劣化または他の任意の理由によってブランケット８０２が変形していることを警告するように構成される。

いくつかの実施形態において、プロセッサ２０は、ブランケット８０２の伸張を制御および補償するために１または複数の閾値を保持してよい。たとえば、距離８２７が第１の閾値の値だけ距離８１１よりも大きい場合、プロセッサ２０は、伸張したブランケットの警告をディスプレイ３４に表示してよく、また、プロセッサ２０は、ブランケットの伸張を補償するために、ブランケット８０２の移動速度またはシステム１１の他のプロセスパラメータを調整してよい。距離８２７が第２のより大きな閾値だけ距離８１１よりも大きい場合、プロセッサは、システム１１の動作を停止するメッセージを表示してよく、および／またはブランケット８０２の過剰な伸張を補償するために他の任意の適当な動作を実行してよい。

この特定の構成の位置感知アセンブリ８００およびマーク付きブランケット８０２は、本発明の実施形態によって対処される、たとえばブランケットの伸張などの特定の問題を例示するため、およびたとえばシステム１１などのデジタル印刷システムの性能を向上させるためのこれらの実施形態の適用を論証するために、例として示される。しかし、本発明の実施形態は決して、この特定の種類のシステム例に限定されることはなく、本明細書で説明される原理は、他の種類の位置感知アセンブリおよび／またはブランケットおよび／または印刷システムに同様に適用され得る。

Claims (22)

1. 印刷システムであって、
   インク画像を標的基板に転写するように構成された可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）であって、前記ＩＴＭは、複数の層のスタックを備え、かつ、前記ＩＴＭに沿う１つ以上のそれぞれの位置において、前記複数の層のうちの少なくとも１つの少なくとも一部の中に彫刻された構造を備える１つ以上のマーカを有する、ＩＴＭと、
   前記ＩＴＭに対する既定の位置に配置され、かつ、前記マーカのそれぞれの位置を示す信号を生成するように構成された少なくとも１つの感知アセンブリであって、前記感知アセンブリは、赤外（ＩＲ）または紫外（ＵＶ）の放射線を前記ＩＴＭに当て、かつ、前記１つ以上のマーカから放出された放射線の少なくとも一部を感知することに応答して前記信号を生成するように構成される、感知アセンブリと、
   前記信号を受信し、かつ、前記信号に基づいて、前記印刷システム内のプロセスを制御するように構成されたプロセッサと、
   を備える、システム。
2. 前記層のスタックは、少なくとも、（ａ）前記放射線の強度を、そこから反射しないように減衰するように構成された非反射性層、および、（ｂ）前記非反射性層の上に形成され、かつ、前記放射線の少なくとも一部を通すように構成された透明層を備える、請求項１に記載のシステム。
3. 前記マーカのうちの少なくとも１つは、前記彫刻された構造の少なくとも一部を充填し、かつ、前記放射線の一部の少なくともいくらかを反射するように構成された充填材料を備える、請求項２に記載のシステム。
4. 前記感知アセンブリは、前記ＩＲおよび前記ＵＶを備える放出された放射線の少なくとも一部を感知するように構成されたセンサを備える、請求項１に記載のシステム。
5. 前記感知アセンブリは、ＩＲまたはＵＶの放射線を当てるように構成された光源を備える、請求項１～４のいずれか一項に記載のシステム。
6. 前記システムはスリットアセンブリを備え、前記スリットアセンブリは、前記ＩＴＭと前記感知アセンブリとの間に配置され、かつ、第１のスリットおよび第２のスリットを有し、前記第１のスリットおよび前記第２のスリットは、互いに既定の距離を置いて形成され、かつ、前記スリットアセンブリを介して、前記光源から放出されたＵＶまたはＩＲ放射線を備える１つ以上の光ビームを通すように構成され、前記マーカのうちの所与のマーカが前記第１のスリットと一直線上にある時に、前記感知アセンブリは、前記第１のスリットと一直線上にある所与のマーカの位置を示す第１の信号を生成するように構成され、前記所与のマーカが前記第２のスリットと一直線上にある時に、前記感知アセンブリは、前記第２のスリットと一直線上にある所与のマーカの位置を示す第２の信号を生成するように構成され、前記プロセッサは、前記第１の信号および前記第２の信号に基づいて、前記ＩＴＭの変形を検出するように構成される、請求項５に記載のシステム。
7. 前記システムはファイバアセンブリを備え、前記ファイバアセンブリは、前記スリットアセンブリと前記感知アセンブリとの間に配置され、かつ、前記スリットアセンブリを通過する光ビームを前記感知アセンブリへ伝達するように構成された複数の光ファイバを有する、請求項６に記載のシステム。
8. 前記光ビームは、前記第１のスリットを通過する第１の光ビーム、および、前記第２のスリットを通過する第２の光ビームを備え、前記システムは、前記第１のスリットおよび前記第２のスリットの間に配置され、かつ、前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームを分離するように構成されたシールドを備える、請求項６に記載のシステム。
9. 前記マーカは、少なくとも、前記所与のマーカ、および、前記所与のマーカからマーカ間距離を置いて位置する隣接マーカを備え、前記マーカ間距離は前記既定の距離よりも大きい、請求項６に記載のシステム。
10. 前記ＩＴＭが前記第１のスリットおよび前記第２のスリットに対して既定の速度で動く時に、前記プロセッサは、前記既定の速度ならびに前記第１の信号および前記第２の信号に基づいて、前記ＩＴＭの変形を検出するように構成される、請求項６に記載のシステム。
11. システムであって、
    複数の層のスタックを備え、かつ、前記ＩＴＭに沿う１つ以上のそれぞれの位置において、前記複数の層のうちの少なくとも１つの中に彫刻された１つ以上のマーカを有する可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）であって、前記ＩＴＭは、前記ＩＴＭ上にインク画像を形成するためにインク供給システムからインク液滴を受け取り、かつ、前記インク画像を標的基板に転写するように構成され、前記マーカのうちの少なくとも１つは磁性材料を備える、ＩＴＭと、
    前記ＩＴＭに対する１つ以上のそれぞれの既定の位置に配置された１つ以上の感知アセンブリであって、前記感知アセンブリは、（ｉ）前記磁性材料と前記感知アセンブリとの間に生成された磁界を感知し、かつ、（ｉｉ）感知された磁界に基づいて、前記マーカのそれぞれの位置を示す信号を生成するように構成される、感知アセンブリと、
    前記信号を受信し、かつ、前記信号に基づいて、前記ＩＴＭ上のインク液滴の堆積を制御するように構成されたプロセッサと、
    を備える、システム。
12. 前記システムは、少なくとも１つのステーションまたはアセンブリを備え、前記プロセッサは、前記信号に基づいて、前記システムの少なくとも１つのステーションまたはアセンブリの動作を制御するように構成される、請求項１１に記載のシステム。
13. 前記少なくとも１つのステーションまたはアセンブリは、（ａ）画像形成ステーション、（ｂ）押付けステーション、（ｃ）ＩＴＭガイドシステム、（ｄ）１つ以上の乾燥アセンブリ、（ｅ）ＩＴＭ処理ステーション、および（ｆ）画像品質制御ステーションから成る群から選択される、請求項１２に記載のシステム。
14. 前記画像形成ステーションは、１つ以上の印刷ヘッドを備える印刷バーを少なくとも備え、前記画像形成ステーションは、前記インク供給システムに結合され、前記画像形成ステーションは、前記インク供給システムから前記インク液滴を受け取り、かつ、前記印刷ヘッドを用いて前記ＩＴＭに前記インク液滴を塗布するように構成される、請求項１３に記載のシステム。
15. 前記押付けステーションは、前記インク画像を前記標的基板に転写するように構成された、回転可能押付けシリンダおよび回転可能圧力シリンダを備え、前記プロセッサは、前記信号に基づいて、（ａ）前記押付けシリンダと前記圧力シリンダとの間の係合および係合解除のタイミング、（ｂ）前記押付けシリンダおよび前記圧力シリンダのうちの少なくとも１つの運動プロファイル、および（ｃ）係合解除された押付けシリンダと圧力シリンダとの間の間隙のサイズから成る群から選択された少なくとも１つの動作を制御するように構成される、請求項１４に記載のシステム。
16. 前記プロセッサは、前記信号に基づいて、前記ＩＴＭ上に堆積されたインク液滴を乾燥するために前記乾燥アセンブリのうちの少なくとも１つによって付与される乾燥プロセスを制御するように構成される、請求項１４に記載のシステム。
17. 前記プロセッサは、前記信号に基づいて、前記ＩＴＭガイドシステムの１つ以上のローラの速度を制御するように構成される、請求項１４に記載のシステム。
18. 前記プロセッサは、前記信号に基づいて、前記ＩＴＭ処理ステーションにおいて前記ＩＴＭの冷却プロセス、洗浄プロセス、および処理プロセスのうちの少なくとも１つを制御するように構成される、請求項１４に記載のシステム。
19. 前記プロセッサは、前記信号に基づいて、前記ＩＴＭ処理ステーションにおいて前記ＩＴＭ上での処理液の塗布を制御するように構成される、請求項１８に記載のシステム。
20. 前記プロセッサは、前記信号に基づいて、前記画像品質制御ステーションによって取得および処理されたインク画像のデジタル画像の少なくとも１つの撮像パラメータを制御するように構成される、請求項１４に記載のシステム。
21. 中間転写部材（ＩＴＭ）を生成するための方法であって、前記方法は、
    ともに積み重ねられた１つ以上の可撓性層を提供することと、
    前記１つ以上の可撓性層のうちの少なくとも１つの中に１つ以上のマーカを形成することであって、前記マーカのうちの少なくとも１つは、前記ＩＴＭに沿う１つ以上のそれぞれの位置において前記１つ以上の可撓性層のうちの少なくとも１つの中に構造を彫刻することによって形成されることと、
    前記構造内に磁性充填材料を付与することであって、前記充填材料は、前記構造の少なくとも一部を充填し、かつ、感知アセンブリから既定の距離を置いて前記ＩＴＭを通すことに応答して前記構造と前記感知アセンブリとの間に磁界を生成することと、
    を備える、方法。
22. 前記マーカのうちの少なくとも１つは、グリッドマーカ、動き符号化コード、１次元（１Ｄ）バーコード、２次元（２Ｄ）バーコード、および３次元（３Ｄ）バーコードから成る群から選択される少なくとも１つのコードを備える、請求項２１に記載の方法。

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