JP5430315B2 - 画像形成方法及びインク組成物 - Google Patents
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Description
<1> 少なくとも一部にシリコンを含むノズルプレートを備えたインクジェットヘッドから、顔料、水溶性有機溶剤、樹脂粒子、及び無機ケイ酸化合物を含むインク組成物を吐出して画像を形成する画像形成方法であり、
前記ノズルプレートは、2次元マトリックス状に配設された、インク組成物を吐出する複数の吐出口を有し、ノズルプレートの少なくとも一部がSiO 2 を含ませた膜を設けて形成されており、
前記インクジェットヘッドは、更に、
前記ノズルプレートの複数の吐出口のそれぞれと連通する複数の圧力室と、
前記複数の圧力室のそれぞれにインク組成物を供給する複数のインク供給流路と、
前記複数のインク供給流路にインクを供給する共通液室と、
前記複数の圧力室のそれぞれを変形する複数の圧力発生手段と、
前記共通液室を貫通するように配設され前記圧力発生手段に駆動信号を供給する電気配線と、を備え、
前記圧力発生手段が前記圧力室の前記ノズルプレートの配置側とは反対側に配置され、前記共通液室が前記圧力発生手段の前記圧力室の配置側とは反対側に配置され、
前記圧力発生手段の駆動により前記圧力室内の体積変化量を制御してインク組成物を吐出する、
画像形成方法である。
<2> 前記圧力発生手段が圧電素子であることを特徴とする前記<1>に記載の画像形成方法である。
<3> 前記インクジェットヘッドは、前記ノズルプレートからの吐出によりシングルパス方式で1200dpi以上の描画解像度で画像を形成することを特徴とする前記<1>又は前記<2>に記載の画像形成方法である。
<5> 前記インク組成物は、25℃におけるpHが7.5以上10.0以下であることを特徴とする前記<1>〜前記<4>のいずれか1つに記載の画像形成方法である。
<6> 前記樹脂粒子が、自己分散性ポリマー粒子であることを特徴とする前記<1>〜前記<5>のいずれか1つに記載の画像形成方法である。
<7> 前記無機ケイ酸化合物が、コロイダルシリカであることを特徴とする前記<1>〜前記<6>のいずれか1つに記載の画像形成方法である。
インク吐出工程では、少なくとも一部にシリコンを含むノズルプレートを備えたインクジェットヘッドを用い、無機ケイ酸化合物を含むインク組成物(以下、単に「インク」ともいう。)を吐出して画像を形成する。本工程では、記録媒体上に選択的にインク組成物を付与でき、所望の可視画像を形成できる。
本発明においては、前記圧力パルス方式を利用した圧力発生手段(例えば圧電素子)を用い、圧力発生手段を駆動して圧力室内の体積変化量を制御することによりノズルから吐出されるインク組成物の液滴径を変化させてノズルから吐出する方法、圧力発生手段を複数回駆動することによりノズルから吐出する液滴数を制御し着弾までの間に複数の液滴を合一させる方法などが好ましい。これらの場合において、特にノズルプレートのシリコン部位のインクによる侵食抑制の課題がより重要であり、本発明のインク組成物により安定的に多階調画像を記録することができる。
本発明の画像形成方法に用いられるインクジェットヘッドは、少なくとも一部がシリコンを含ませて形成されたノズルプレートを備えている。図1は、インクジェットヘッドの内部構造の一例を示す概略断面図である。
さらに、ノズルプレートのインク吐出方向側の表面には、インクに対する濡れ性を抑制してノズル近傍のインク汚れを防止する目的で、撥液性の膜により被覆されていてもよい。撥液性の膜としては、フルオロカーボンを含む膜が好ましく用いられる。
本発明においては、吐出に使用するインク組成物に無機ケイ酸化合物を含有することにより、侵食されやすいシリコンの劣化を効果的に防止することができる。
前記SiO2膜を形成する方法の一態様を述べる。例えば、コーティングされていないシリコン基板が設置された化学蒸着法(CVD)リアクタに、SiCl4及び水蒸気を導入することによって、シリコン基板上にSiO2膜を形成できる。CVDチャンバと真空ポンプとの間のバルブは、流体をくみ出しチャンバを空にした後、閉じられ、SiCl4及びH2Oの蒸気がチャンバの中に導入される。SiCl4の分圧は、0.05〜40torr(6.67〜5.3×103Pa)の間(例えば0.1〜5torr(13.3〜666.5Pa))とすることができ、H2Oの分圧は0.05〜20torrの間(例えば0.2〜10torr)とすることができる。堆積温度は、一般には室温と摂氏100度との間である。また、他の態様として、シリコン基板上にスパッタリングすることによりSiO2膜を形成することができる。SiO2膜によってコーティングされるべき表面は、SiO2膜を形成する前に(例えば、酸素プラズマを当てることによって)洗浄されることが好ましい。
記録媒体上に記録されるドットピッチを高密度化するためには、ヘッド50におけるノズルピッチを高密度化する必要がある。ヘッド50は、図3及び図4に示されるように、インク滴を吐出するノズル100と、各ノズル100に対応する圧力室102等とからなる複数のインク室ユニット104を千鳥でマトリックス状に配置した構造を有している。これにより、見かけ上のノズルピッチの高密度化が図られている。すなわち、ヘッド50は、図3及び図4に示すように、インクを吐出する複数のノズル100が記録媒体の搬送方向(副走査方向)と略直交する方向(主走査方向)に記録媒体の全幅に対応する長さにわたって配列された1列以上のノズル列が設けられたフルラインヘッドである。
このように、複数の吐出口にインクを多量に供給することが可能である
インクジェットヘッドは、ノズルピッチを高密度化するため、ノズルプレート194と、ノズルプレートの複数のノズル(吐出口)151のそれぞれと連通する複数の圧力室152と、複数の圧力室152のそれぞれにインクを供給する複数のインク供給流路153と、複数のインク供給流路153にインクを供給する共通液室155と、複数の圧力室152のそれぞれを変形する圧力発生手段158と、圧力発生手段158に駆動信号を供給する電気配線190とを備えている。
ノズル151が形成されたノズルプレート194の上に、圧力室152、インク供給口153及び圧力室152とノズル151を結ぶノズル流路151a等が形成された流路プレート196が積層されている。ここで、流路プレート196は、1枚のプレートのように表されているが、実際には流路プレート196はさらに複数のプレートが積層されて形成されるようにしてもよい。
また、ノズルプレート194は、一部又は全てはシリコンで形成されている。ノズル口内及びインク吐出方向側の表面には、シリコンが露出した構造になっていてもよく、金属(シリコンを含む)の酸化物及び窒化物、並びに金属(シリコンを除く)の群から選ばれる少なくとも一種を含ませた膜により被覆されていることが好ましい。
さらに、ノズルプレートのインク吐出方向側の表面には、インクに対する濡れ性を抑制してノズル近傍のインク汚れを防止する目的で、撥液性の膜により被覆されていてもよい。撥液性の膜としては、フルオロカーボンを含む膜が好ましく用いられる。
本発明の画像形成方法には、インク組成物と接触することで凝集体を形成可能な処理液を記録媒体に付与し、処理液をインク組成物と接触させて画像化する処理液付与工程を設けることができる、。この場合、インク組成物中のポリマー粒子や色材(例えば顔料)などの分散粒子が凝集し、記録媒体上に画像が固定化される。なお、処理液における各成分の詳細及び好ましい態様については、既述した通りである。
本発明の画像形成方法は、前記インク吐出工程の後、インク組成物の付与により形成されたインク画像に加熱面を接触させて加熱定着する加熱定着工程を有することが好ましい。加熱定着処理を施すことにより、記録媒体上の画像の定着が施され、画像の擦過に対する耐性をより向上させることができる。
本発明の画像形成方法は、記録媒体の上に画像を記録するものである。
記録媒体には、特に制限はないが、一般のオフセット印刷などに用いられる、いわゆる上質紙、コート紙、アート紙などのセルロースを主体とする一般印刷用紙を用いることができる。セルロースを主体とする一般印刷用紙は、水性インクを用いた一般のインクジェット法による画像記録においては比較的インクの吸収、乾燥が遅く、打滴後に色材移動が起こりやすく、画像品質が低下しやすいが、本発明の画像形成方法によると、色材移動を抑制して色濃度、色相に優れた高品位の画像の記録が可能である。
本発明におけるインク組成物は、無機ケイ酸化合物を含み、一般には更に顔料や染料等の着色剤を含んで構成され、また、必要に応じて他の成分を用いて構成することができる。本発明においては、酸性基を有する構造単位を含む水不溶性樹脂により被覆された顔料(以下、「樹脂被覆顔料」ということがある。)と無機ケイ酸化合物とを含む組成が好ましい。
無機ケイ酸化合物及び好ましくは前記樹脂被覆顔料を含む構成のインク組成物を用いることで、インクジェットヘッドのノズルプレートの侵食劣化が抑えられてインクの吐出信頼性に優れる。また、形成される画像の耐擦性が高められる。
本発明におけるインク組成物は、無機ケイ酸化合物の少なくとも一種を含有する。
無機ケイ酸化合物としては、ケイ酸及びケイ酸塩の中から広く選ばれてよいが、特に、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム等のケイ酸のアルカリ金属やアルカリ土類金属との塩、又は無水ケイ酸(シリカ)が好ましい。ケイ酸塩としては、水ガラスと呼ばれるケイ酸のアルカリ金属塩のアルカリ溶液が好ましく用いられる。無水ケイ酸(シリカ)としては、特に限定はないが、コロイダルシリカが好ましく用いられる。
x(M2O)・y(SiO2) ・・・(S)
一般式(S)において、Mは、ナトリウム又はカリウムを表し、xは1又は2を、yは1〜4の整数を表す。前記一般式(S)で表されるケイ酸のアルカリ金属塩は、x=1、y=1の場合はメタケイ酸アルカリ金属塩と、x=2、y=1の場合はオルトケイ酸アルカリ金属塩とそれぞれ呼ばれ、いずれも水溶性を有するケイ酸アルカリ金属塩である。
またコロイダルシリカには、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化アンモニウム等の無機塩類やテトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の有機塩類が含まれていてもよい。これらの無機塩類及び有機塩類は、例えば、コロイドの安定化剤として作用する。
平均粒子径が200nm以下であることで、インクジェットヘッドを構成する部材、例えば、基材、保護膜、撥液膜等に対するインクによるダメージ(例えば、侵食による形状変形等や撥液性の低下等)をより効果的に抑制することができる。これは例えば、平均粒子径が小さいことで、粒子の総表面積が大きくなり、インクジェットヘッドを構成する部材に対するダメージを、より効果的に抑制するためと考えることができる。またさらに、インク組成物の吐出性、粒子による研磨剤効果の観点からも、粒子の平均粒子径は200nm以下であることが好ましい。
本発明におけるインク組成物は、着色剤として顔料や染料等の色素を含有することができる。本発明においては、酸性基を有する構造単位を含む水不溶性樹脂によって被覆された顔料の少なくとも1種を含むことが好ましい。これにより、インクの吐出信頼性に優れ、形成される画像の耐擦性に優れる。この場合、顔料の具体的形態は、水不溶性樹脂によって顔料粒子の表面の全部又は一部が被覆された形態である限り特に限定はない。
顔料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、有機顔料、無機顔料が含まれる。
有機顔料としては、例えば、アゾ顔料、多環式顔料、染料キレート、ニトロ顔料、ニトロソ顔料、アニリンブラック、などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、多環式顔料などがより好ましい。前記アゾ顔料としては、例えば、アゾレーキ、不溶性アゾ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料などが挙げられる。前記多環式顔料としては、例えば、フタロシアニン顔料、ペリレン顔料、ペリノン顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサジン顔料、インジゴ顔料、チオインジゴ顔料、イソインドリノン顔料、キノフタロン顔料などが挙げられる。前記染料キレートとしては、例えば、塩基性染料型キレート、酸性染料型キレートなどが挙げられる。
水不溶性樹脂は、酸性基を有する構造単位の少なくとも1種を含み、必要に応じてその他の構造単位を含む構成のものが好適である。水不溶性樹脂は、インク組成物中で安定的に存在することができ、凝集物の付着又は堆積を緩和し、付着した凝集物の除去の容易化の観点から、親水性構造単位(A)の少なくとも1種と疎水性構造単位(B)の少なくとも1種とを含むことが好ましく、前記酸性基が前記親水性構造単位(A)の少なくとも1種に含まれることがより好ましい。
前記水不溶性樹脂における親水性構造単位としては、親水性官能基の少なくとも1種を含んでいれば特に制限はなく、イオン性の親水性基を含んでいても非イオン性の親水性基を含んでいてもよい。本発明においては酸性基を有する親水性構造単位であることが好ましい。また、酸性基を有する親水性構造単位は、酸性基含有モノマーに由来する構造単位であっても、酸性基を有さない構造単位(重合後のポリマー鎖)に高分子反応で酸性基を導入したものであってもよい。
前記不飽和カルボン酸モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、2−メタクリロイルオキシメチルコハク酸等が挙げられる。前記不飽和スルホン酸モノマーとしては、例えば、スチレンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、3−スルホプロピル(メタ)アクリレート、ビス−(3−スルホプロピル)−イタコン酸エステル等が挙げられる。前記不飽和リン酸モノマーとしては、例えば、ビニルホスホン酸、ビニルホスフェート、ビス(メタクリロキシエチル)ホスフェート、ジフェニル−2−アクリロイロキシエチルホスフェート、ジフェニル−2−メタクリロイロキシエチルホスフェート、ジブチル−2−アクリロイロキシエチルホスフェート等が挙げられる。
酸性基含有モノマーの中では、分散安定性、吐出安定性の観点から、不飽和カルボン酸モノマーが好ましく、アクリル酸及びメタクリル酸がより好ましい。
即ち、前記酸性基を有する繰り返し単位は、(メタ)アクリル酸に由来する構造単位であることが好ましい。
水不溶性樹脂中にはアクリル酸に由来の構造単位もしくはメタクリル酸に由来の構造単位のいずれか又は両方を含むことが好ましい。
前記塩基性の親水性基を含む親水性構造単位(A)としては、塩基性の親水性基を有するモノマーに由来の構造単位が挙げられる。塩基性の親水性基を有するモノマーとしては、例えば、塩基性の親水性官能基を有する(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド類、及びビニルエステル類等のビニルモノマー類を挙げることができる。
親水性構造単位(A)は、1種単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
本発明における水不溶性樹脂は、前記酸性基を有する構造単位のほか、疎水性構造単位(B)の少なくとも1種をさらに含むことが好ましい。前記疎水性構造単位としては疎水性の官能基を含む構造単位であれば特に制限はないが、芳香環を有する構造単位の少なくとも1種を含むことが好ましく、下記一般式(1)で表される構造単位の少なくとも1種を含むことがより好ましい。
前記一般式(1)において、R1は水素原子又はメチル基を表すが、好ましくはメチル基を表す。
L2は単結合、又は2価の連結基を表す。前記2価の連結基としては、好ましくは炭素数1〜30の連結基であり、より好ましくは炭素数1〜25の連結基であり、更に好ましくは炭素数1〜20の連結基であり、特に好ましくは炭素数1〜15の連結基である。
中でも、最も好ましくは、炭素数1〜25(より好ましくは1〜10)のアルキレンオキシ基、イミノ基(−NH−)、スルファモイル基、及び、炭素数1〜20(より好ましくは1〜15)のアルキレン基やエチレンオキシド基[−(CH2CH2O)n−、n=1〜6]などの、アルキレン基を含む2価の連結基、並びにこれらの2種以上を組み合わせた基などである。
具体的な例としては、ナフタレン、アントラセン、フルオレン、フェナントレン、アセナフテンなどが挙げられる。
芳香環が縮環したヘテロ環の具体例としては、フタルイミド、アクリドン、カルバゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾールなどが挙げられる。
ベンゼン環が2個以上連結した化合物から誘導される1価の基の具体例としては、ビフェニル、ターフェニル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル等を挙げることができる。
前記一般式(1)で表される繰り返し単位のうち、顔料の分散安定性の点で、R1はメチル基であって、L1は無置換のフェニレン基であって、L2は2価の連結基(好ましくはメチレン)であって、Ar1はアクリドンから誘導される1価の基であることが好ましい。
中でも、Ar2としては、無置換のベンゼン環、無置換のナフタレン環が好ましく、無置換のベンゼン環が特に好ましい。
前記(メタ)アクリルアミド類としては、例えば、N−シクロヘキシル(メタ)アクリルアミド、N−(2−メトキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N,N−ジアリル(メタ)アクリルアミド、N−アリル(メタ)アクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド類が挙げられる。
前記スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、n−ブチルスチレン、tert−ブチルスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基(例えばt−Bocなど)で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレン、ビニルナフタレン等などが挙げられ、中でも、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
前記ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどのビニルエステル類が挙げられる。中でも、ビニルアセテートが好ましい。
芳香環は、連結基を介して共重合体の主鎖をなす原子と結合され、共重合体の主鎖をなす原子に直接結合しない構造を有するので、疎水性の芳香環と親水性構造単位との間に適切な距離が維持されるため、共重合体と顔料との間で相互作用が生じやすく、強固に吸着して分散性がさらに向上する。
また、L11は、*−COO−、*−OCO−、*−CONR12−又は*−O−、を表し、R12は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基を表す。なお、L11で表される基中の*印は、主鎖に連結する結合手を表す。
中でも、特に好ましくは、炭素数1〜25(より好ましくは1〜10)のアルキレンオキシ基、イミノ基(−NH−)、スルファモイル基、及び、炭素数1〜20(より好ましくは1〜15)のアルキレン基やエチレンオキシド基[−(CH2CH2O)n−、n=1〜6]などの、アルキレン基を含む2価の連結基、並びにこれらの2種以上を組み合わせた基などである。
Ar11で表される芳香環としては、特に限定されないが、ベンゼン環、炭素数8以上の縮環型芳香環、ヘテロ環が縮環した芳香環、又はベンゼン環が2個以上連結した化合物が挙げられる。炭素数8以上の縮環型芳香環、ヘテロ環が縮環した芳香環、及びベンゼン環が2個以上連結した化合物の詳細については既述の通りである。
更に、本発明における水不溶性樹脂は、親水性構造単位(A)が(メタ)アクリル酸であって、疎水性構造単位(B)が上記(i)及び(ii)の少なくとも1種を含むことが好ましい。
特に、本発明における水不溶性樹脂は、親水性構造単位(A)が(メタ)アクリル酸であって、疎水性構造単位(B)が上記(i)及び(ii)の少なくとも1種を含み、かつ(iii)を更に含むことが好ましい。
親水性構造単位(A)の含有量が15質量%以下であると、単独で水性媒体中に溶解する成分量が抑えられ、顔料の分散などの諸性能が良好になり、インクジェット記録時には良好なインク吐出性が得られる。
なお、酸価とは、水不溶性樹脂の1gを完全に中和するのに要するKOHの質量(mg)で定義され、JIS規格(JISK0070、1992)記載の方法により測定されるものである。
また、数平均分子量(Mn)では1,000〜100,000の範囲程度のものが好ましく、3,000〜50,000の範囲程度のものが特に好ましい。数平均分子量が前記範囲内であると、顔料における被覆膜としての機能又はインク組成物の塗膜としての機能を発揮することができる。本発明における水不溶性樹脂は、アルカリ金属や有機アミンの塩の形で使用されることが好ましい。
前記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤は、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール等の種々の有機溶剤が挙げられる。溶剤は、1種単独で又は2種以上を併用してもよい。また、水との混合溶媒として用いてもよい。重合温度は、生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり、通常は0℃〜100℃程度であるが、50〜100℃の範囲で重合を行なうことが好ましい。反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は1〜100kg/cm2であり、特に1〜30kg/cm2程度が好ましい。反応時間は、5〜30時間程度である。得られた樹脂は、再沈殿などの精製を行なってもよい。
工程(1):酸性基を有する構造単位を含む水不溶性樹脂、有機溶媒、中和剤、顔料、及び水を含有する混合物を攪拌等により分散して分散物を得る工程
工程(2):前記分散物から前記有機溶媒の少なくとも一部を除去する工程
中和剤としては、例えば、アルコールアミン類(例えば、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、2−アミノ−2−エチル−1,3プロパンジオールなど)、アルカリ金属水酸化物(例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)、アンモニウム水酸化物(例えば、水酸化アンモニウム、第4級アンモニウム水酸化物)、ホスホニウム水酸化物、アルカリ金属炭酸塩などが挙げられ、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適に用いられる。
本発明における水不溶性樹脂の中和度とは、酸性基1当量に対する中和剤の当量の割合(%)をいう。即ち、前記水不溶性樹脂の中和度とは、水不溶性樹脂の酸性基合計当量数に対する中和剤の合計当量数の割合をいい、下記式により求めることができる。
水不溶性樹脂の中和度=(中和剤の合計当量数/水不溶性樹脂の酸性基合計当量数)×100(%)
なお、さらに具体的には、特開平11−209672号公報及び特開平11−172180号の記載を参照することができる。
また、樹脂被覆顔料の粒径分布に関しては、特に制限は無く、広い粒径分布又は単分散性の粒径分布のいずれであってもよい。また、単分散性の粒径分布を持つ着色粒子を、2種以上混合して使用してもよい。
尚、樹脂被覆顔料の平均粒径及び粒径分布は、例えば、動的光散乱法を用いて測定することができる。
また、樹脂被覆顔料の含有量としては、画像濃度の観点から、インク組成物に対して、0.1〜25質量%であることが好ましく、1〜20質量%がより好ましく、1.5〜15質量%がさらに好ましく、1.5〜10質量%が特に好ましい。
本発明のインク組成物は、水系媒体を含むことが好ましく、水系媒体は少なくとも水を溶媒として含むが、水と親水性有機溶剤の少なくとも1種とを含むことが好ましい。親水性有機溶剤は乾燥防止剤、湿潤剤あるいは浸透促進剤などの目的で用いられる。
ノズルのインク噴射口において該インクジェット用インクが乾燥することによる目詰まりを防止する目的で乾燥防止剤や湿潤剤が用いられ、乾燥防止剤や湿潤剤としては、水より蒸気圧の低い親水性有機溶剤が好ましい。
また、インク組成物を紙によりよく浸透させる目的で、浸透促進剤として親水性有機溶剤が好適に使用される。
尚、親水性有機溶剤のI/O値は、後述する自己分散性ポリマーにおけるI/O値と同義であり、同様にして算出したものである。
中でも画像定着性とインク安定性の観点から、トリプロレングリコールモノメチルエーテル(I/O値:0.80)が好ましい。
さらに第1の親水性有機溶剤として、I/O値が0.70以上1.00未満から選ばれる親水性有機溶剤を1〜16質量%含むことが好ましく、I/O値が0.70以上0.90未満から選ばれる親水性有機溶剤を2〜12質量%含むことがより好ましい。
さらに第2の親水性有機溶剤として、I/O値が1.00以上1.50以下から選ばれる親水性有機溶剤を1〜16質量%含むことが好ましく、I/O値が1.20以上1.40以下から選ばれる親水性有機溶剤を2〜12質量%含むことがより好ましい。
本発明におけるインク組成物は、定着性、耐擦性、凝集性の観点から、樹脂粒子の少なくとも1種を含むことが好ましく、前記樹脂粒子は自己分散性ポリマー粒子であることがより好ましい。また、樹脂粒子を含有する場合にノズルプレートのシリコン部位の侵食が進行しやすいため、無機ケイ酸化合物の併用による効果、すなわちノズルプレートの侵食による形状変形や撥液性の低下の抑制効果が大きい。
ここで分散状態とは、水性媒体中に水不溶性ポリマーが液体状態で分散された乳化状態(エマルション)、及び、水性媒体中に水不溶性ポリマーが固体状態で分散された分散状態(サスペンション)の両方の状態を含むものである。
本発明における自己分散性ポリマーにおいては、インク組成物に含有されたときのインク定着性の観点から、水不溶性ポリマーが固体状態で分散された分散状態となりうる自己分散性ポリマーであることが好ましい。
遠心分離前の固形分濃度に対する遠心分離後の固形分濃度の比が大きければ(1に近い数値であれば)、遠心分離によるポリマー粒子の沈降が生じない、すなわち、ポリマー粒子の水性分散物がより安定であることを意味する。本発明においては、遠心分離前後での固形分濃度の比が0.8以上であることが好ましく、0.9以上であることがより好ましく、0.95以上であることが特に好ましい。
ここで水溶性成分とは、自己分散性ポリマーに含有される化合物であって、自己分散性ポリマーを分散状態にした場合に水に溶解する化合物をいう。前記水溶性成分は自己分散性ポリマーを製造する際に、副生又は混入する水溶性の化合物である。
自己分散性ポリマーにおける親水性構成単位は、親水性基含有モノマー(親水性モノマー)に由来するものであれば特に制限はなく、1種の親水性基含有モノマーに由来するものであっても、2種以上の親水性基含有モノマーに由来するものであってもよい。前記親水性基としては、特に制限はなく、解離性基であってもノニオン性親水性基であってもよい。
前記親水性基は、自己分散促進の観点、及び形成された乳化又は分散状態の安定性の観点から、少なくとも1種は解離性基であることが好ましく、アニオン性の解離性基であることがより好ましい。前記アニオン性の解離性基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などが挙げられ、中でも、インク組成物を構成した場合の定着性の観点から、カルボキシル基が特に好ましい。
解離性基含有モノマーとしては、例えば、不飽和カルボン酸モノマー、不飽和スルホン酸モノマー、不飽和リン酸モノマー等が挙げられる。
上記解離性基含有モノマーの中でも、分散安定性、吐出安定性の観点から、不飽和カルボン酸モノマーが好ましく、アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも1種がより好ましい。
また、ノニオン性親水性基を有するモノマーとしては、末端が水酸基のエチレン性不飽和モノマーよりも、末端がアルキルエーテルのエチレン性不飽和モノマーのほうが、粒子の安定性、水溶性成分の含有量の観点で好ましい。
また、アニオン性の解離性基を有する親水性構成単位を2種以上含有する態様や、アニオン性の解離性基を有する親水性構成単位と、ノニオン性親水性基を有する親水性構成単位を2種以上併用する態様であることもまた好ましい。
また2種以上の親水性構成単位を有する場合、親水性構成単位の総含有率が前記範囲内であることが好ましい。
また、ノニオン性親水性基を有する構成単位の含有量としては、吐出安定性と経時安定性の観点から、好ましくは0〜25質量%であって、より好ましくは0〜20質量%であって、特に好ましいのは0〜15質量%である。
自己分散性ポリマーにおける疎水性構成単位は、疎水性基含有モノマー(疎水性モノマー)に由来するものであれば特に制限はなく、1種の疎水性基含有モノマーに由来するものであっても、2種以上の疎水性基含有モノマーに由来するものであってもよい。前記疎水性基としては、特に制限はなく、鎖状脂肪族基、環状脂肪族基、芳香族基のいずれであってもよい。
前記疎水性モノマーは、耐ブロッキング性、耐擦性、分散安定性の観点から、少なくとも1種は環状脂肪族基含有モノマーであることが好ましく、環状脂肪族基含有(メタ)アクリレート(以下、「脂環式(メタ)アクリレート」いうことがある)であることがより好ましい。
また、「脂環式(メタ)アクリレート」とは、脂環式炭化水素基を有する、メタクリレート又はアクリレートを意味する。
単環式(メタ)アクリレートとしては、シクロプロピル(メタ)アクリレート、シクロブチル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘプチル(メタ)アクリレート、シクロオクチル(メタ)アクリレート、シクロノニル(メタ)アクリレート、シクロデシル(メタ)アクリレート等のシクロアルキル基の炭素数が3〜10のシクロアルキル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
2環式(メタ)アクリレートとしては、イソボルニル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
3環式(メタ)アクリレートとしては、アダマンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
これらは、それぞれ単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
脂環式(メタ)アクリレートに由来する構成単位を20質量%以上とすることで、定着性、ブロッキングを改良することができる。一方、脂環式(メタ)アクリレートに由来する構成単位が90質量%以下であることでポリマー粒子の安定性が向上する。
その他共重合可能なモノマーとして芳香族含有(メタ)アクリレートを含む場合、自己分散性ポリマー粒子の分散安定性の観点から、芳香族含有(メタ)アクリレートに由来する構成単位は40重量%以下であることが好ましく、30重量%以下であることがより好ましく、20重量%以下であることが特に好ましい。
ここで、スチレン系モノマーとは、スチレン、置換スチレン(α-メチルスチレン、クロロスチレンなど)、及び、ポリスチレン構造単位を有するスチレンマクロマーのことを指す。
自己分散性ポリマーが、その他の構成単位を含有する場合、その含有量は10〜80質量%であることが好ましく、より好ましくは15〜75質量%であって、特に好ましいのは20〜70質量%である。その他の構成単位を形成するモノマーを、2種以上を組み合わせて使用する場合、その総含有量が前記範囲であることが好ましい。
本発明においては、分散安定性の観点から、炭素数が9以上の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有する(メタ)アクリレート、及び、芳香族基含有マクロモノマー等に由来する疎水性が大きい置換基を有する構成単位の含有量は、実質的に含まないことが好ましく、全く含まない態様であることがより好ましい
尚、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ(GPC)によって測定することできる。
また、2環式又は3環式以上の多環式(メタ)アクリレートに由来する構造を共重合比率として20質量%以上90質量%未満と、炭素数1〜4の鎖状アルキル基を含有する(メタ)アクリレートに由来する構造を共重合比率として10質量%以上80質量%未満と、カルボキシル基含有モノマーに由来する構造を酸価が25〜100の範囲で含み、親水性構造単位の総含有率が25質量%以下であって、重量平均分子量が10000〜20万であるビニルポリマーであることがより好ましい。
さらに、2環式又は3環式以上の多環式(メタ)アクリレートに由来する構造を共重合比率として40質量%以上80質量%未満と、少なくともメチル(メタ)アクリレート又はエチル(メタ)アクリレートに由来する構造を共重合比率として20質量%以上60質量%未満含み、アクリル酸又はメタクリル酸に由来する構造を酸価が30〜80の範囲で含み、親水性構造単位の総含有率が25質量%以下であって、重量平均分子量が30000〜15万であるビニルポリマーであることが特に好ましい。
自己分散性ポリマーのガラス転移温度は、通常用いられる方法によって適宜制御することができる。例えば、自己分散性ポリマーを構成するモノマーの重合性基の種類、モノマー上の置換基の種類やその構成比率、ポリマー分子の分子量等を適宜選択することで、自己分散性ポリマーのガラス転移温度を所望の範囲に制御することができる。
計算Tgは下記の式(1)で計算する。
1/Tg=Σ(Xi/Tgi) (1)
ここで、計算対象となるポリマーはi=1からnまでのn種のモノマー成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの重量分率(ΣXi=1)、Tgiはi番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度(絶対温度)である。ただしΣはi=1からnまでの和をとる。尚、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値(Tgi)はPolymer Handbook(3rd Edition)(J.Brandrup, E.H.Immergut著(Wiley-Interscience、1989))の値を採用する。
前記自己分散性ポリマーのI/O値が0.20未満ではインク組成物の安定性が低下する場合がある。またI/O値が0.55を超えると耐ブロッキング性(特に高温高湿条件下)が低下する場合がある。
前記I/O値とは、無機性値/有機性値とも称される各種有機化合物の極性を有機概念的に取り扱った値であり、各官能基にパラメータを設定する官能基寄与法の一つである。
また、前記有機性値とは、分子内のメチレン基を単位とし、そのメチレン基を代表する炭素原子の沸点への影響力を基準にして定めたものである。すなわち、直鎖飽和炭化水素化合物の炭素数5〜10付近で炭素1個が加わることによる沸点上昇の平均値は20℃であるから、これを基準に炭素原子1個の有機性値を20と定め、これを基礎として各種置換基や結合等の沸点への影響力を数値化した値が有機性値となる。例えば、ニトロ基(−NO2)の有機性値は70である。
I/O値は、0に近いほど非極性(疎水性、有機性が大きい)の有機化合物であることを示し、値が大きいほど極性(親水性、無機性が大きい)の有機化合物であることを示す
ただし、各モノマーの無機性値の算出方法として、一般的には2重結合を無機性2として加算するが、ポリマー化すると2重結合はなくなるため、本発明ではモノマーの無機性値として2重結合分は加算していない数値を用いて自己分散性ポリマーのI/O値を算出した。
・メチルメタクリレート/イソボルニルメタクリレート/メタクリル酸 共重合体(40/52/8)、ガラス転移温度:160℃、I/O値:0.50
・メチルメタクリレート/イソボルニルメタクリレート/ジシクロペンタニルメタクリレート/メタクリル酸 共重合体(20/62/10/8)、ガラス転移温度:170℃、I/O値:0.44
・メチルメタクリレート/ジシクロペンタニルメタクリレート/メタクリル酸 共重合体(20/72/8)、ガラス転移温度:160℃、I/O値:0.47
メチルメタクリレート:0.60、イソボルニルメタクリレート:0.29、ジシクロペンタニルメタクリレート:0.32、メタクリル酸:0.47
本発明の自己分散性ポリマーの製造方法においては、モノマー混合物と、必要に応じて、有機溶剤及びラジカル重合開始剤とを含んだ混合物を、不活性ガス雰囲気下で共重合反応させて前記水不溶性ポリマーを製造することができる。
工程(1):水不溶性ポリマー、有機溶剤、中和剤、及び水性媒体を含有する混合物を攪拌して分散体を得る工程。
工程(2):前記分散体から、前記有機溶剤の少なくとも一部を除去する工程。
該混合物の攪拌方法に特に制限はなく、一般に用いられる混合攪拌装置や、必要に応じて超音波分散機や高圧ホモジナイザー等の分散機を用いることができる。
アルコール系溶剤としては、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、t−ブタノール、エタノール等が挙げられる。ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。エーテル系溶剤としては、ジブチルエーテル、ジオキサン等が挙げられる。これらの有機溶剤の中では、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤とイソプロピルアルコール等のアルコール系溶剤が好ましい。
また、イソプロピルアルコールとメチルエチルケトンを併用することも好ましい。該溶剤を併用することで、凝集沈降や粒子同士の融着が無く、分散安定性の高い微粒径の自己分散性ポリマー粒子を得ることができる。これは、例えば、油系から水系への転相時への極性変化が穏和になるためと考えることができる。
また、自己分散性ポリマー粒子の粒径分布に関しては、特に制限は無く、広い粒径分布を持つもの、又は単分散の粒径分布を持つもの、いずれでもよい。また、水不溶性粒子を、2種以上混合して使用してもよい。
尚、自己分散性ポリマー粒子の平均粒径及び粒径分布は、例えば、光散乱法を用いて測定することができる。
本発明の自己分散性ポリマー粒子は自己分散性に優れており、ポリマー単独で分散させたときの安定性は非常に高いものである。しかし、例えば、顔料を安定に分散させる、所謂分散剤としての機能は高くないため、本発明における自己分散性ポリマーが顔料を含有する形態でインク組成物中に存在すると、結果としてインク組成物全体の安定性が大きく低下する場合がある。
また本発明におけるインク組成物の自己分散性ポリマー粒子の含有量としては、画像の光沢性などの観点から、インク組成物に対して、1〜30質量%であることが好ましく、2〜20質量%であることがより好ましく、2〜10質量%であることが特に好ましい。
また、本発明のインク組成物における着色粒子と自己分散性ポリマー粒子の含有比率(着色粒子/自己分散性ポリマー粒子)としては、画像の耐擦過性などの観点から、1/0.5〜1/10であることが好ましく、1/1〜1/4であることがより好ましい。
本発明のインク組成物は、上記成分に加えて必要に応じてその他の添加剤を含むことができる。
本発明におけるその他の添加剤としては、例えば、褪色防止剤、乳化安定剤、浸透促進剤、紫外線吸収剤、防腐剤、防黴剤、pH調整剤、表面張力調整剤、消泡剤、粘度調整剤、分散剤、分散安定剤、防錆剤、キレート剤等の公知の添加剤が挙げられる。これらの各種添加剤は、インク組成物を調製後に直接添加してもよく、インク組成物の調製時に添加してもよい。具体的には特開2007−100071号公報の段落番号[0153]〜[0162]に記載のその他の添加剤などが挙げられる。
また、表面張力調整剤の添加量は、インクジェット方式で良好に打滴するために、インク組成物の表面張力を20〜60mN/mに調整する添加量が好ましく、20〜45mN/mに調整する添加量がより好ましく、25〜40mN/mに調整する添加量がさらに好ましい。
インク組成物の表面張力は、例えば、プレート法を用いて25℃で測定することができる。
更に、特開昭59−157636号公報の第(37)〜(38)頁、リサーチディスクロージャーNo.308119(1989年)記載の界面活性剤として挙げたものも用いることができる。
また、特開2003−322926号、特開2004−325707号、特開2004−309806号の各公報に記載されているようなフッ素(フッ化アルキル系)系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等を用いることにより、耐擦性を良化することもできる。
また、これら表面張力調整剤は、消泡剤としても使用することができ、フッ素系化合物、シリコーン系化合物、及びEDTAに代表されるキレート剤等、も使用することができる。
またインク組成物のpHは、酸性化合物又は塩基性化合物を用いて適宜調製することができる。酸性化合物又は塩基性化合物としては通常用いられる化合物を特に制限なく用いることができる。
本発明における処理液は、前記インク組成物と接触したときに凝集体を形成できる水性組成物であり、具体的には、インク組成物と混合されたときに、インク組成物中の着色粒子(顔料等)などの分散粒子を凝集させて凝集体を形成可能な凝集成分を少なくとも含み、必要に応じて、他の成分を含んで構成することができる。インク組成物と共に処理液を用いることで、インクジェット記録を高速化でき、高速記録しても濃度、解像度の高い画像が得られる。
中でも、本発明においては、画像濃度、解像度、及びインクジェット記録の高速化の観点から、前記インク組成物のpH(25℃)が7.5以上であって、処理液のpH(25℃)が3〜5である場合が好ましい。
前記凝集成分は、1種単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
処理液中の酸性化合物の含有量としては、凝集効果の観点から、処理液の全質量に対して、5〜95質量%であることが好ましく、10〜80質量%であることがより好ましい
また、処理液の表面張力としては、インク組成物の凝集速度の観点から、20〜60mN/mであることが好ましく、20〜45mN/mであることがより好ましく、25〜40mN/mであることがさらに好ましい。なお、表面張力は、Automatic Surface Tensiometer CBVP−Z(協和界面科学(株)製)を用いて25℃の条件下で測定されるものである。
<インクの調製>
〜樹脂分散剤P−1の合成〜
攪拌機、冷却管を備えた1000mlの三口フラスコに、メチルエチルケトン88gを加えて窒素雰囲気下で72℃に加熱し、これにメチルエチルケトン50gにジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート0.85g、フェノキシエチルメタクリレート50g、メタクリル酸11g、及びメチルメタクリレート39gを溶解した溶液を3時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに1時間反応した後、メチルエチルケトン2gにジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート0.42gを溶解した溶液を加え、78℃に昇温して4時間加熱した。得られた反応溶液にメチルエチルケトン(MEK)を加え、フェノキシエチルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸(共重合比[質量%比]=50/39/11)共重合体(樹脂分散剤P−1)36.8%のMEK溶液を得た。
得られた樹脂分散剤P−1の組成は、1H−NMRで確認し、GPCより求めた重量平均分子量(Mw)は49400であった。さらに、JIS規格(JIS K 0070:1992)記載の方法により、このポリマーの酸価を求めたところ、71.7mgKOH/gであった。また、Tgを測定したところ、94℃であった。
攪拌機、冷却管を備えた1000mlの三口フラスコに、メチルエチルケトン240g、N−(4−ビニルベンジル)−10H−アクリジン−9−オンとN−(3−ビニルベンジル)−10H−アクリジン−9−オン(1/1=質量/質量)との混合物30g、メタクリル酸20g、及びエチルメタクリレート150gを加えて窒素雰囲気下で75℃に加熱し、これにメチルエチルケトン16gにジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート2.44g、を溶解した溶液を加えた。
同温度を維持しつつ攪拌し、さらに2時間反応させた後、メチルエチルケトン(MEK)2gにジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート1.0gを溶解した溶液を加え、さらに2時間反応させた後、メチルエチルケトン2gにジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート1.0gを溶解した溶液を加えて、80℃に昇温して4時間加熱した。
得られた反応溶液にメチルエチルケトンを加え、樹脂分散剤P−2〔N−(4−ビニルベンジル)−10H−アクリジン−9−オンとN−(3−ビニルベンジル)−10H−アクリジン−9−オン(1/1=質量/質量)との混合物/エチルメタクリレート/メタクリル酸(共重合比[質量比]=15/75/10)共重合体)のMEK溶液を得た。また、Tgを測定したところ、124℃であった。
得られた溶液の一部を減圧下で加熱乾燥して、不揮発分を求めたところ、36.8%であった。得られた樹脂分散剤P−2の組成は、1H−NMRで確認し、GPCより求めた重量平均分子量(Mw)は44200であった。このポリマーの酸価を求めたところ、65.2mgKOH/gであった。
攪拌機、温度計、還流冷却管、及び窒素ガス導入管を備えた2リットル三口フラスコに、メチルエチルケトン560.0gを仕込んで、87℃まで昇温した。反応容器内は還流状態を保ちながら(以下、反応終了まで還流)、メチルメタクリレート220.4g、イソボルニルメタクリレート301.6g、メタクリル酸58.0g、メチルエチルケトン108g、及び「V−601」(和光純薬工業(株)製)2.32gからなる混合溶液を、2時間で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、1時間攪拌した後に(1)「V−601」1.16g及びメチルエチルケトン6.4gからなる溶液を加え、2時間攪拌を行なった。続いて、前記(1)の工程を4回繰り返し、さらに「V−601」1.16g及びメチルエチルケトン6.4gからなる溶液を加えて3時間攪拌を続けた。重合反応を終了後、溶液の温度を65℃に降温し、イソプロパノール163.0gを加えて放冷した。得られた共重合体の重量平均分子量(Mw)は63000、酸価は65.1(mgKOH/g)であった。
その後、減圧下、反応容器内温度70℃で1.5時間保って、イソプロパノール、メチルエチルケトン、蒸留水を合計で287.0g留去し(溶剤除去工程)、プロキセルGXL(S)(アーチ・ケミカルズ・ジャパン(株)製)0.278g(ポリマー固形分に対してベンゾイソチアゾリン−3−オンとして440ppm)添加した。その後、1μmのフィルターでろ過を実施し、ろ過液を回収して、固形分濃度26.5%の自己分散性ポリマー粒子B−01の水性分散物を得た。得られた自己分散性ポリマー粒子をイオン交換水で希釈し25.0%の液の物性を測定した結果、pH7.8、電気伝導度461mS/m、粘度14.8mPa・s、体積平均粒径2.8nmであった。
得られたポリマー粒子B−01のガラス転移温度を以下の方法で測定したところ、160℃であった。
重合後のポリマー溶液を固形分量として0.5gになる量をとりわけ、50℃で4時間減圧乾燥させ、ポリマー固形分を得た。得られたポリマー固形分を用い、エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)製の示差走査熱量計(DSC)EXSTAR6220によりTgを測定した。測定条件は、サンプル量5mgをアルミパンに密閉し、窒素雰囲気下、以下の温度プロファイルで2回目の昇温時の測定データのDDSCのピークトップの値をTgとした。
30℃ →−50℃ (50℃/分で冷却)
−50℃→120℃ (20℃/分で昇温)
120℃→−50℃ (50℃/分で冷却)
−50℃→120℃ (20℃/分で昇温)
得られた自己分散性ポリマー粒子の水性分散物を測定に適した濃度(ローディングインデックスが0.1〜10の範囲)に適宜希釈し、超微粒子粒度分布測定装置ナノトラックUPA−EX150(日機装(株)製)を用い、動的光散乱法により、各水分散物を全て同一測定条件にて体積平均粒子径を測定した。すなわち、粒子透過性:透過、粒子屈折率:1.51、粒子形状:非球形、密度:1.2g/cm3、溶媒:水、セル温度:18〜25℃の条件において測定を行なった。
(シアン顔料分散物Cの調製)
顔料としてピグメント・ブルー15:3(フタロシアニンブルーA220ウェットケーキ(顔料固形分33.5%)、大日精化工業(株)製)を顔料固形分として100gと、上記のフェノキシエチルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(樹脂分散剤P−1)を固形分で45gと、メチルエチルケトン140gと、pH調整剤として1mol/L 水酸化ナトリウム水溶液50.6g(メタクリル酸に対する中和度88モル%)と、イオン交換水331gとをディスパーで予備分散し、さらに分散機(マイクロフルイディックス社製、マイクロフルイダイザーM−140K、150MPa)で8パス処理した。
続いて、得られた分散物を減圧下、56℃でメチルエチルケトンを除去し、さらに1部の水を除去した後、更に、高速遠心冷却機7550((株)久保田製作所製)を用いて、50mL遠心菅を使用し、8000rpmで30分間遠心処理を行ない、沈殿物以外の上澄み液を回収した。
続いて、得られた分散物(上澄み液)を70℃にて4時間加熱後、防腐剤として2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オンを80ppmと、5−クロロ−2−メチル−イソチアゾリン−3−オンを40ppmと、2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオールを10ppmと、4,4−ジメチルオキサゾリジンを30ppmと、1,2−ベンズイソチアゾリン−3−オンを80ppmと、2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オンを30ppmとを添加した。これをろ過し、ろ液を回収した。その後、吸光度スペクトルから顔料濃度を求め、顔料濃度が15%の樹脂被覆顔料粒子の分散物(シアン顔料分散液C)を得た。この分散物は、pH=8.5、粘度=2.9であった。
得られた樹脂被覆顔料粒子の分散物について、ナノトラック粒度分布測定装置UPA−EX150(日機装(株)製)を用い、動的光散乱法により体積平均粒径を測定した。測定は、樹脂被覆顔料粒子の分散物10μlに対してイオン交換水10mlを加えて測定用サンプル液を調製し、これを25℃に調温して行なった。測定の結果、樹脂被覆顔料粒子の体積平均粒子径は88nmであった。
ピグメント・レッド122(Cromophtal Jet Magenta DMQ(チバ・ジャパン社製;マゼンタ顔料)100gと、上記の樹脂分散剤P−2を固形分で 30gと、メチルエチルケトン133gと、1mol/L NaOH水溶液27.2g(メタクリル酸に対する中和度78モル%)と、イオン交換水424gとを混合し、ディスパー混合で予備分散し、更に分散機(マイクロフルイダイザーM−140K、150MPa)で10パス処理した。
その後、シアン顔料分散物Cにおいて行なった操作と同様の操作を行ない、顔料濃度が15%の樹脂被覆顔料粒子の分散物(マゼンタ顔料分散液M)を得た。また、上記と同様の方法により、得られた分散物の体積平均粒子径、pH、粘度を測定したところ、それぞれ76nm、pH8.6、粘度2.8mPa・sであった。
(シアンインクの調製)
上記で得られたシアン顔料分散物Cと自己分散性ポリマー粒子B−01とを用いて、下記のインク組成になるように各成分を混合した。これを、プラスチックス製のディスポーザブルシリンジに詰め、PVDF5μmフィルター(Millex−SV、直径25mm、ミリポア社製)で濾過し、シアンインク(インクジェット用インク組成物)C−01を調製した。
<シアンインクの組成>
・シアン顔料(ピグメント・ブルー15:3) ・・・2.5%
・前記樹脂分散剤P−1(固形分) ・・・1.125%
・前記自己分散性ポリマー粒子B−01(固形分) ・・・8.5%
・コロイダルシリカ(固形分) ・・・0.05%
(スノーテックスXS、体積平均粒子径:4〜6nm、日産化学工業(株)製)
・サンニックスGP250 ・・・8%
(三洋化成工業(株)製、親水性有機溶剤、I/O値1.30)
・トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(TPGmME)・・・8%
(日本乳化剤(株)製、MFTG、親水性有機溶剤、I/O値0.80)
・尿素(日産化学工業(株)製、固体湿潤剤) ・・・5%
・ニューポールPE−108(三洋化成工業(株)製、増粘剤) ・・・0.15%
・オルフィンE1010(日信化学工業(株)製、界面活性剤) ・・・1%
・イオン交換水 ・・・残部(全体で100%になる量)
上記で得られたマゼンタ顔料分散物Mと樹脂分散剤P−2とを用いて、下記のインク組成になるように各成分を混合した以外は、シアンインクC−01と同様の方法でマゼンタインク(インクジェット用インク組成物)M−01を調製した。
<マゼンタインクの組成>
・マゼンタ顔料(ピグメント・レッド122) ・・・5.0%
・前記樹脂分散剤P−2(固形分) ・・・1.5%
・前記自己分散性ポリマー粒子B−01(固形分) ・・・7.25%
・サンニックスGP250 ・・・10%
(三洋化成工業(株)製、親水性有機溶剤、I/O値1.30)
・トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(TPGmME)・・・6%
(日本乳化剤(株)製、MFTG、親水性有機溶剤、I/O値0.80)
・尿素(日産化学工業(株)製、固体湿潤剤) ・・・5%
・ニューポールPE−108(三洋化成工業(株)製、増粘剤) ・・・0.05%
・オルフィンE1010(日信化学工業(株)製、界面活性剤) ・・・1%
・イオン交換水 ・・・残部(全体で100%になる量)
下記の組成となるように各成分を混合して処理液T−1を調製した。得られた処理液の粘度、表面張力を上記と同様の方法により測定したところ、粘度=2.3mPa・s、表面張力=42.5mN/m、pH=1.0であった。
<組成>
・マロン酸(立山化成(株)製) ・・・11.3%
・DL−リンゴ酸(扶桑化学工業(株)製) ・・・14.5%
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル ・・・4%
(日本乳化剤(株)製BDG)
・トリプロピレングリコールモノメチルエーテル・・・4%
(日本乳化剤(株)製、MFTG)
・イオン交換水 ・・・66.2%
〜画像形成〜
図6〜図8に示すように構成され、シリコンノズルプレートを備えたインクジェットヘッド1を用意し、これに繋がる貯留タンクに上記で得たマゼンタインクに詰め替えた。シリコンノズルプレートは、単結晶シリコンで形成されており、そのインク吐出方向側の表面は、化学気相蒸着(CVD)法リアクタにSiCl4及び水蒸気を導入することによってCVD法により成膜された酸化シリコンの膜(SiO2膜)が形成されている。SiO2膜の膜厚は、50nmである。さらに、酸素プラズマ処理を施した後にC8F17C2H4SiCl3を用いて化学気相蒸着法(CVD)が施されており、SiO2膜に撥液膜が形成されている。この撥液膜は、低圧力でC8F17C2H4SiCl3及び水蒸気をCVDリアクタの中に導入することによって製膜したものである。撥液性膜の厚みは、10nmである。また、シリコンノズルプレートには、図2〜図4に示すように複数のノズルが2次元マトリクス状に配列されており、図5に示すように高精細にインク滴を吐出できるようになっている。記録媒体としては、特菱アート両面N(三菱製紙(株)製)を用意した。
この記録媒体を500mm/秒で所定の直線方向に移動可能なステージ上に固定し、ステージ温度を30℃で保持し、これに上記で得た処理液をバーコーターで約1.2μmの厚みとなるように塗布し、塗布直後に50℃で2秒間乾燥させた。用意したインクジェットヘッドを、前記ステージの移動方向(副走査方向)と直交する方向に対して、ノズルが並ぶラインヘッドの方向(主走査方向)が75.7度傾斜するように固定配置し、記録媒体を副走査方向に定速移動させながらインク液滴量6.0pL、吐出周波数25.7kHz、解像度1200dpi×1200dpiの吐出条件にてライン方式で吐出し、2cm四方の50%ベタ画像と、4〜8ptの「轟」文字画像と、ベタ画像中に白抜きの4ptの「轟」文字画像とを含む画像を記録した。
記録直後、60℃で3秒間乾燥させ、更に60℃に加熱された一対の定着ローラ間を通過させ、ニップ圧0.25MPa、ニップ幅4mmにて定着処理を実施し、評価サンプルを得た。
−1.画像の解像度−
得られた評価サンプルの画像のうち、4〜8ptの「轟」文字画像とベタ画像中に白抜きして形成した4ptの「轟」文字画像とについて、目視にて観察することにより、下記の評価基準にしたがってその解像性を評価した。評価結果を下記表2に示す。
<評価基準>
◎:4ptの文字まで解像性が良好であり、実用上問題のないレベルであった。
○:一部の4ptの文字で解像性の低下が認識されたが、実用上は問題のないレベルであった。
△:4pt超の文字でも解像性の低下が認められ、実用性の低いレベルであった。
×:文字が潰れて解像性の低下が顕著であり、実用性の極めて低いレベルであった。
得られた評価サンプルの画像部の濃度を反射濃度測定計(Xrite社製の「Xrite938」)を用いて測定し、下記の評価基準にしたがって評価した。評価結果を下記表2に示す。
<評価基準>
◎:充分な濃度が得られており、極めて良好なレベルであった。
○:濃度が得られており、良好なレベルであった。
△:実用上問題のないレベルであった。
×:濃度が低く、実用性の低いレベルであった。
××:濃度が極めて低く、実用性のきわめて低いレベルであった。
インクジェットヘッドを25.7kHzで6000億回、連続吐出した後、画像の記録を行ない、96ノズルを用いて吐出周波数25.7kHzで75×2400dpiの線画像を描画した。そして、この線画像を王子計測機器(株)製のドットアナライザDA−6000にて線の中心値を計測し、各線のズレ量の標準偏差σを算出した。評価結果を下記表2に示す。
<評価基準>
◎:σ<2μm
○:2μm≦σ<3μm
△:3μm≦σ<5μm
×:5μm≦σ<7μm
××:7μm≦σ
インクジェットヘッドを25.7kHzで6000億回、連続吐出した後、画像の記録を行ない、2048個のノズル孔の形状、ノズル孔周囲の撥液膜、酸化膜の異常の有無を光学顕微鏡により観察して、ノズル孔形状又はノズル孔周囲における変化の有無を下記の評価基準にしたがって評価した。評価結果を下記表2に示す。
<評価基準>
◎:全てのノズル孔が正常であった。
○:ノズル孔の形状変化又はノズル孔周囲の変化が5個未満であった
△:ノズル孔の形状変化又はノズル孔周囲の変化が5個以上10個未満であった
×:ノズル孔の形状変化又はノズル孔周囲の変化が10個以上20個未満であった。
××:ノズル孔の形状変化又はノズル孔周囲の変化が20個以上であった。
実施例1において、インクジェットヘッド1を、シリコンノズルプレートを備えるが背面流路を有しない構成、すなわち共通液室が圧力室の配置と同じ側に配置された構成のインクジェットヘッド2に代えたこと以外は、実施例1と同様にして、画像を記録し、評価を行なった。シリコンノズルプレートには、図2〜図4に示すように複数のノズルが設けられており、図5に示すように高精細にインク滴を吐出できるようになっている。また、シリコンノズルプレートは、単結晶シリコンで形成されており、そのインク吐出方向側の表面には、化学気相蒸着(CVD)法により酸化シリコンの膜(SiO2膜)が形成されている。さらに、酸素プラズマ処理を施した後にC8F17C2H4SiCl3を用いて化学気相蒸着法(CVD)が施されており、SiO2膜に撥液膜が形成されている。評価結果は下記表2に示す。
実施例1において、インクの調製に用いた自己分散性ポリマー粒子の分散物B−01を、下記のように乳化重合法で得たポリマー粒子の分散物Cに代えたこと以外は、実施例1と同様にして、画像を記録し、評価を行なった。評価結果は下記表2に示す。
攪拌装置、還流冷却管を装着した1リットル三口フラスコに、パイオニンA−43s(竹本油脂社製、乳化剤)8.1g、蒸留水236.0gを入れ、窒素気流下70℃に加熱攪拌した。スチレン6.2g、n−ブチルアクリレート3.5g、アクリル酸0.3g、過硫酸アンモニウム1.0g、蒸留水40gを添加し、30分間攪拌した後、スチレン117.8g、n−ブチルアクリレート66.5g、及びアクリル酸5.7gからなるモノマー溶液を2時間で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、過硫酸アンモニウム0.5g及び蒸留水20gからなる水溶液を加え、70℃で4時間攪拌した後、85℃に昇温して更に2時間攪拌を続けた。反応液を冷却し、2モル/LのNaOH水溶液を用いて中和度が0.5となるように中和した。引き続いて濾過することで、下記構造で表されるポリマー粒子BH−1の分散液を得た。得られたポリマー粒子の物性は、重量平均分子量=232,000、酸価=23mgKOH/g、体積平均粒径=70nmであった。
実施例3において、インクジェットヘッド1を、シリコンノズルプレートを備えるが背面流路を有しない構成、すなわち共通液室が圧力室の配置と同じ側に配置された構成のインクジェットヘッド2に代えたこと以外は、実施例1と同様にして、画像を記録し、評価を行なった。シリコンノズルプレートには、図2〜図4に示すように複数のノズルが設けられており、図5に示すように高精細にインク滴を吐出できるようになっている。また、シリコンノズルプレートは、単結晶シリコンで形成されており、そのインク吐出方向側の表面には、化学気相蒸着(CVD)法により酸化シリコンの膜(SiO2膜)が形成されている。さらに、酸素プラズマ処理を施した後にC8F17C2H4SiCl3を用いて化学気相蒸着法(CVD)が施されており、SiO2膜に撥液膜が形成されている。評価結果は下記表2に示す。
実施例1において、インクの調製に用いたコロイダルシリカを含有しなかったこと以外は、実施例1と同様にして、画像を記録し、評価を行なった。評価結果は下記表2に示す。
比較例1において、インクジェットヘッド1を、シリコンノズルプレートを備えるが背面流路を有しない構成、すなわち共通液室が圧力室の配置と同じ側に配置された構成のインクジェットヘッド2に代えたこと以外は、実施例1と同様にして、画像を記録し、評価を行なった。シリコンノズルプレートには、図2〜図4に示すように複数のノズルが設けられており、図5に示すように高精細にインク滴を吐出できるようになっている。また、シリコンノズルプレートは、単結晶シリコンで形成されており、そのインク吐出方向側の表面には、化学気相蒸着(CVD)法により酸化シリコンの膜(SiO2膜)が形成されている。さらに、酸素プラズマ処理を施した後にC8F17C2H4SiCl3を用いて化学気相蒸着法(CVD)が施されており、SiO2膜に撥液膜が形成されている。評価結果は下記表2に示す。
実施例1において、インクジェットヘッド1を、背面流路を有しない構成、すなわち共通液室が圧力室の配置と同じ側に配置された構成を有し、ノズルプレートがステンレス合金(SUS316L)で形成され、ノズルが2次元マトリクス状に配列されていない比較用ヘッド3に代えたこと以外は、実施例1と同様にして、画像を記録し、評価を行なった。但し、記録は、インク液滴量2.4pL、吐出周波数25.7kHz、解像度300dpi×300dpiの吐出条件に変更して行なった。評価結果は下記表2に示す。
実施例1において、インクジェットヘッド1を、背面流路を有しない構成、すなわち共通液室が圧力室の配置と同じ側に配置された構成を有し、ノズルプレートがステンレス合金(SUS316L)で形成され、ノズルが2次元マトリクス状に配列されていない比較用ヘッド3に代えると共に、インクの調製に用いたコロイダルシリカを含有しなかったこと以外は、実施例1と同様にして、画像を記録し、評価を行なった。但し、記録は、インク液滴量2.4pL、吐出周波数25.7kHz、解像度300dpi×300dpiの吐出条件に変更して行なった。評価結果は下記表2に示す。
実施例1、3、及び参考例2、4において、マゼンタインクをシアンインクに変更したこと以外は、実施例1、3、及び参考例2、4のそれぞれと同様にして、画像を記録し、評価を行なった。
その結果、いずれの実施例においても、実施例1、3と同様にヘッドプレートの劣化が抑制され、ノズル変形が少なくヘッド信頼性に優れており、より高精細な画像を安定的に形成することができた。
実施例1、3、及び参考例2、4において、コロイダルシリカ(スノーテックスXS)0.05%を、ケイ酸ナトリウム0.05%に代えたこと以外は、実施例1、3、及び参考例2、4のそれぞれと同様にして、画像を記録し、評価を行なった。
その結果、実施例1、3と同様にヘッドプレートの劣化が抑制され、ノズル変形が少なくヘッド信頼性に優れており、より高精細な画像を安定的に形成することができた。
12,100,151・・・吐出口(ノズル)
23,153・・・インク供給流路
30,158・・・圧電素子(圧電アクチュエータ;圧力発生手段)
102,152・・・圧力室
104・・・インク室ユニット
50,150,200・・・インクジェットヘッド
190・・・電気配線
155・・・共通液室
156・・・振動板
Claims (7)
- 少なくとも一部にシリコンを含むノズルプレートを備えたインクジェットヘッドから、顔料、水溶性有機溶剤、樹脂粒子、及び無機ケイ酸化合物を含むインク組成物を吐出して画像を形成する画像形成方法であり、
前記ノズルプレートは、2次元マトリックス状に配設された、インク組成物を吐出する複数の吐出口を有し、ノズルプレートの少なくとも一部がSiO 2 を含ませた膜を設けて形成されており、
前記インクジェットヘッドは、更に、
前記ノズルプレートの複数の吐出口のそれぞれと連通する複数の圧力室と、
前記複数の圧力室のそれぞれにインク組成物を供給する複数のインク供給流路と、
前記複数のインク供給流路にインクを供給する共通液室と、
前記複数の圧力室のそれぞれを変形する複数の圧力発生手段と、
前記共通液室を貫通するように配設され前記圧力発生手段に駆動信号を供給する電気配線と、を備え、
前記圧力発生手段が前記圧力室の前記ノズルプレートの配置側とは反対側に配置され、前記共通液室が前記圧力発生手段の前記圧力室の配置側とは反対側に配置され、
前記圧力発生手段の駆動により前記圧力室内の体積変化量を制御してインク組成物を吐出する、
画像形成方法。 - 前記圧力発生手段が圧電素子であることを特徴とする請求項1に記載の画像形成方法。
- 前記インクジェットヘッドは、前記ノズルプレートからの吐出によりシングルパス方式で1200dpi以上の描画解像度で画像を形成することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の画像形成方法。
- 前記無機ケイ酸化合物のインク組成物中における含有量が、インク組成物の全質量の0.0005質量%以上0.5質量%以下であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の画像形成方法。
- 前記インク組成物は、25℃におけるpHが7.5以上10.0以下であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の画像形成方法。
- 前記樹脂粒子が、自己分散性ポリマー粒子であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の画像形成方法。
- 前記無機ケイ酸化合物が、コロイダルシリカであることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の画像形成方法。
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US8956450B2 (en) * | 2012-07-25 | 2015-02-17 | Funai Electric Co., Ltd. | Formulation for silicon-doped ink used to prevent chip etching |
GB201401173D0 (en) | 2013-09-11 | 2014-03-12 | Landa Corp Ltd | Ink formulations and film constructions thereof |
GB2536489B (en) | 2015-03-20 | 2018-08-29 | Landa Corporation Ltd | Indirect printing system |
JP6227584B2 (ja) | 2015-03-30 | 2017-11-08 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット用顔料分散体及びその製造方法、インクセット、並びに画像形成方法 |
US11806997B2 (en) | 2015-04-14 | 2023-11-07 | Landa Corporation Ltd. | Indirect printing system and related apparatus |
WO2017149918A1 (ja) | 2016-02-29 | 2017-09-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
DE112017002714T5 (de) | 2016-05-30 | 2019-02-28 | Landa Corporation Ltd. | Digitales Druckverfahren |
GB201609463D0 (en) | 2016-05-30 | 2016-07-13 | Landa Labs 2012 Ltd | Method of manufacturing a multi-layer article |
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WO2018147469A1 (ja) | 2017-02-13 | 2018-08-16 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクセット、画像記録方法、及び記録物 |
EP3581626A4 (en) | 2017-02-13 | 2020-02-26 | FUJIFILM Corporation | INK COMPOSITION FOR INK JET, RECORDED MATERIAL AND IMAGE RECORDING METHOD |
US11267239B2 (en) | 2017-11-19 | 2022-03-08 | Landa Corporation Ltd. | Digital printing system |
WO2019102297A1 (en) | 2017-11-27 | 2019-05-31 | Landa Corporation Ltd. | Digital printing system |
US11707943B2 (en) | 2017-12-06 | 2023-07-25 | Landa Corporation Ltd. | Method and apparatus for digital printing |
US11679615B2 (en) | 2017-12-07 | 2023-06-20 | Landa Corporation Ltd. | Digital printing process and method |
JP2019177553A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 株式会社リコー | 液体吐出装置及び液体吐出方法 |
EP3814144A4 (en) | 2018-06-26 | 2022-03-16 | Landa Corporation Ltd. | INTERMEDIATE TRANSFER ELEMENT FOR DIGITAL PRINTING SYSTEM |
US10994528B1 (en) | 2018-08-02 | 2021-05-04 | Landa Corporation Ltd. | Digital printing system with flexible intermediate transfer member |
GB201812989D0 (en) | 2018-08-09 | 2018-09-26 | Fujifilm Speciality Ink Systems Ltd | Printing ink |
GB2590838B (en) | 2018-08-09 | 2022-11-16 | Fujifilm Speciality Ink Systems Ltd | Printing method and ink |
US11318734B2 (en) | 2018-10-08 | 2022-05-03 | Landa Corporation Ltd. | Friction reduction means for printing systems and method |
CN113272144B (zh) | 2018-12-24 | 2023-04-04 | 兰达公司 | 数字印刷系统和方法 |
JP7265353B2 (ja) * | 2018-12-26 | 2023-04-26 | 花王株式会社 | インクジェット印刷用水系インク |
WO2021105806A1 (en) | 2019-11-25 | 2021-06-03 | Landa Corporation Ltd. | Drying ink in digital printing using infrared radiation absorbed by particles embedded inside itm |
US11321028B2 (en) | 2019-12-11 | 2022-05-03 | Landa Corporation Ltd. | Correcting registration errors in digital printing |
EP4188713A1 (en) * | 2020-07-29 | 2023-06-07 | Landa Corporation Ltd. | Inkjet ink formulations and uses thereof |
Family Cites Families (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59157636A (ja) | 1983-02-25 | 1984-09-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラ−画像形成方法 |
JPS62238783A (ja) | 1986-04-10 | 1987-10-19 | Nitto Boseki Co Ltd | インクジエツト記録用紙 |
JPH072430B2 (ja) | 1988-12-16 | 1995-01-18 | 旭硝子株式会社 | 記録用シート |
US5328504A (en) * | 1989-08-09 | 1994-07-12 | Seiko Epson Corporation | Image recording ink |
JP3221101B2 (ja) | 1992-11-05 | 2001-10-22 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
JPH07276789A (ja) | 1994-04-05 | 1995-10-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 記録用シート |
JPH0827693A (ja) | 1994-07-12 | 1996-01-30 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 記録用紙及び塗工用原紙 |
JPH08127979A (ja) * | 1994-10-27 | 1996-05-21 | Canon Inc | インクジェット捺染用布帛、捺染方法及び捺染物 |
JPH08169172A (ja) | 1994-12-20 | 1996-07-02 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | インクジェット記録シート |
JP3386099B2 (ja) * | 1995-07-03 | 2003-03-10 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッド用ノズルプレート、これの製造方法、及びインクジェット式記録ヘッド |
US5746818A (en) * | 1995-08-31 | 1998-05-05 | Seiko Epson Corporation | Pigment ink composition capable of forming image having no significant bleeding or feathering |
JP3829370B2 (ja) | 1995-09-28 | 2006-10-04 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 記録液用アニオン性マイクロカプセル化顔料含有水性分散液及び記録液 |
JP3830219B2 (ja) | 1996-02-22 | 2006-10-04 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録用インクおよび記録方法 |
JPH09227812A (ja) | 1996-02-26 | 1997-09-02 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 水性インクジェット用記録液 |
JP3684674B2 (ja) | 1996-06-06 | 2005-08-17 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | インクジェット記録用紙およびこれを用いた記録方法 |
JPH1025440A (ja) | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Dainippon Ink & Chem Inc | インクジェットフルカラー記録画像 |
JPH10140065A (ja) | 1996-09-11 | 1998-05-26 | Dainippon Ink & Chem Inc | 水性記録液 |
JP3550637B2 (ja) | 1996-09-27 | 2004-08-04 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録方法 |
JPH10217473A (ja) | 1996-10-14 | 1998-08-18 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッドおよびその製造方法 |
JPH10153989A (ja) | 1996-11-22 | 1998-06-09 | Nec Home Electron Ltd | ドットクロック回路 |
JPH10235995A (ja) | 1996-12-26 | 1998-09-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録媒体および画像記録方法 |
JPH10217597A (ja) | 1997-02-10 | 1998-08-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
JPH10259332A (ja) | 1997-03-18 | 1998-09-29 | Seiko Epson Corp | インクジェット記録ヘッドのインク及びその製造方法 |
JPH10337947A (ja) | 1997-06-04 | 1998-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録媒体 |
JP3799752B2 (ja) | 1997-06-26 | 2006-07-19 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録用インク |
JPH1110856A (ja) | 1997-06-26 | 1999-01-19 | Seiko Epson Corp | インクジェット記録用インクおよび記録方法 |
EP0887391A1 (en) | 1997-06-26 | 1998-12-30 | Seiko Epson Corporation | Ink jet recording ink and method |
JP4484171B2 (ja) | 1997-07-30 | 2010-06-16 | Dic株式会社 | インクジェットプリンター用記録液 |
JP4412748B2 (ja) | 1997-12-09 | 2010-02-10 | Dic株式会社 | インクジェットプリンター用水性記録液 |
JPH11209672A (ja) | 1998-01-30 | 1999-08-03 | Dainippon Ink & Chem Inc | インクジェットプリンター用水性記録液及びその製造方法 |
JP2001018425A (ja) * | 1999-07-05 | 2001-01-23 | Canon Inc | インクジェットプリント方法およびインクジェットプリント装置 |
JP4472119B2 (ja) | 2000-05-23 | 2010-06-02 | 花王株式会社 | 水性インク組成物 |
JP2002121436A (ja) * | 2000-10-13 | 2002-04-23 | Canon Inc | 静止画大判ディスプレイ用インク及び静止画大判ディスプレイ |
US6547366B2 (en) * | 2000-12-18 | 2003-04-15 | Eastman Kodak Company | Cleaning method for nozzle plate of an ink jet print head |
JP2002206063A (ja) | 2001-01-10 | 2002-07-26 | Canon Inc | インク及び該インクを用いる画像記録表示装置 |
JP2002275398A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-25 | Canon Inc | インクジェット記録用インク及び画像表示装置 |
JP4282940B2 (ja) | 2001-03-22 | 2009-06-24 | 株式会社リコー | 水性インク組成物を用いたインクジェット記録方法 |
JP4171607B2 (ja) | 2002-04-16 | 2008-10-22 | 富士フイルム株式会社 | 水性インク |
JP4142336B2 (ja) | 2002-05-02 | 2008-09-03 | 富士フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP4120588B2 (ja) * | 2003-01-24 | 2008-07-16 | ソニー株式会社 | 液組成物、記録液、液体カートリッジ、液体吐出カートリッジ、液体吐出装置及び液体吐出方法 |
JP2004309806A (ja) | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2004325707A (ja) | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料および水性塗布組成物 |
JP4021383B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2007-12-12 | シャープ株式会社 | ノズルプレート及びその製造方法 |
JP2005096443A (ja) | 2003-09-03 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | インクジェット記録装置及び画像形成方法 |
JP2005239974A (ja) | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Sony Corp | 記録液、液体カートリッジ、液体吐出カートリッジ、液体吐出装置及び液体吐出方法 |
JP3991362B2 (ja) | 2004-03-01 | 2007-10-17 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成装置及び方法 |
US7618129B2 (en) | 2004-09-15 | 2009-11-17 | Fujifilm Corporation | Liquid ejection head and image forming apparatus comprising same |
JP2006111000A (ja) | 2004-09-15 | 2006-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液体吐出ヘッド及びこれを備えた画像形成装置 |
JP4678511B2 (ja) * | 2004-09-28 | 2011-04-27 | 富士フイルム株式会社 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法並びにこれを備えた画像形成装置 |
US7549223B2 (en) * | 2004-09-28 | 2009-06-23 | Fujifilm Corporation | Method for manufacturing a liquid ejection head |
JP2007100071A (ja) | 2005-09-07 | 2007-04-19 | Fujifilm Corp | インクセット、画像記録方法及び装置 |
JP4914084B2 (ja) * | 2006-03-08 | 2012-04-11 | 花王株式会社 | インクジェット記録用水系インク |
JP4914088B2 (ja) | 2006-03-15 | 2012-04-11 | 花王株式会社 | インクジェット記録用水系インク |
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JP2008266564A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-11-06 | Seiko Epson Corp | インク組成物及び該インク組成物を用いる記録方法 |
US20080241395A1 (en) * | 2007-03-27 | 2008-10-02 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method using this ink composition |
JP2008273079A (ja) | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Seiko Epson Corp | ノズル基板の製造方法、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法 |
JP2009149756A (ja) * | 2007-12-20 | 2009-07-09 | Konica Minolta Ij Technologies Inc | カチオン重合硬化型インクジェットインクおよび画像形成方法 |
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