CN112566533A - 烹饪装置及其部件 - Google Patents

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CN112566533A
CN112566533A CN202080002505.5A CN202080002505A CN112566533A CN 112566533 A CN112566533 A CN 112566533A CN 202080002505 A CN202080002505 A CN 202080002505A CN 112566533 A CN112566533 A CN 112566533A
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cooking
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乔舒亚·D·安东尼
克里斯托弗·T·马丁
托马斯·奎林
约翰·M·施泰因梅茨
伊桑·T·布朗
查德·P·伍德罗
米夏埃拉·迪博
珍妮弗·凯瑟琳·马斯登
罗格·内尔·杰克逊
克里斯蒂娜·J·克劳利
鲁珀特·埃利斯顿
安德鲁·约翰·罗伊·塔特斯菲尔德
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Sharkninja Operating LLC
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Abstract

一种烹饪系统包括：壳体，其具有中空内部，所述中空内部包括用于收纳要烹饪的食物的烹饪区；加热元件，其与所述壳体相关联；以及烤架板，其具有用于支撑所述中空内部内的食物的支撑表面。所述烤架板具有足以维持实现所述食物的美拉德反应所需的温度的热质量。所述烹饪区的至少一部分安置在所述支撑表面与所述加热元件之间。所述加热元件可操作以加热所述支撑主体，以向由所述支撑表面支撑在所述烹饪区中的食物赋予来自所述支撑表面的接触式烹饪。

Description

烹饪装置及其部件
背景技术
本公开的实施例大体上涉及一种烹饪系统，并且更具体地说，涉及一种可以在多种不同的烹饪模式中操作的台面空气烧烤系统。
发明内容
根据实施例，一种烹饪系统包括：壳体，其具有中空内部，所述中空内部包括用于收纳要烹饪的食物的烹饪区；加热元件，其与所述壳体相关联；以及烤架板，其具有用于支撑所述中空内部内的食物的支撑表面。所述烤架板具有足以维持实现所述食物的美拉德反应所需的温度的热质量。所述烹饪区的至少一部分安置在所述支撑表面与所述加热元件之间。所述加热元件可操作以加热所述支撑主体，以向由所述支撑表面支撑在所述烹饪区中的食物赋予来自所述支撑表面的接触式烹饪。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述烹饪区的底部由所述支撑表面限定。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑表面与所述支撑主体成一体。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑表面与所述支撑主体分开地定位。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述烹饪区的顶部由所述加热元件限定。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括定位在所述加热元件与所述烹饪容器之间的防护件，所述烹饪区的所述顶部由所述防护件限定。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述烹饪区的一侧由所述壳体限定。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括安装在与所述支撑主体接触的所述烹饪容器内的配件，其中所述烹饪体积的一侧由所述配件限定。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述加热元件可操作以经由辐射加热所述支撑主体。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述加热元件可操作以经由对流加热所述支撑主体。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括可操作以使气流循环通过所述中空内部以向所述食物赋予非接触式烹饪的空气移动装置。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述非接触式烹饪和所述接触式烹饪同时进行。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括可相对于所述壳体移动的盖，其中所述盖和所述壳体协作以限定烹饪系统的烹饪体积，所述食物可收纳在所述烹饪体积内。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述加热元件邻近于所述壳体的上部范围而定位在所述盖内。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括可收纳在所述中空内部中的食物容器，其中所述支撑主体定位在所述食物容器的内部内。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述加热元件邻近于所述壳体的上部范围而定位。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑主体包括烤架板。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑主体具有介于约200g与约3kg之间的热质量。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑表面包括扩散结构。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述接触式烹饪包括传导烹饪。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述接触式烹饪包括感应烹饪。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括可操作地耦合到所述支撑主体的第二加热元件，所述第二加热元件可独立于所述加热元件操作。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述烹饪系统可在包括第一烹饪模式和第二烹饪模式的多个模式中操作，其中在所述第一烹饪模式中，烹饪系统可操作为空气烤架，而在所述第二烹饪模式中，烹饪系统可操作为对流灶具。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，支撑主体包括多个开口，流体被配置成流动通过所述多个开口。
根据实施例，一种使用烹饪系统来烹饪食物的方法包括：使用远离支撑主体而定位的加热元件来加热布置在烹饪系统的壳体的中空内部内的所述支撑主体的支撑表面；将食品定位在所述中空内部中，使得食物由所述支撑表面支撑在所述支撑表面的至少一部分与所述加热元件的至少一部分之间；以及经由所述支撑表面向食物赋予接触式烹饪。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，将支撑主体定位在所述壳体的所述中空内部内。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，将所述支撑主体定位在所述壳体的所述中空内部内进一步包括：将所述支撑主体定位成与布置在所述中空内部内的烹饪容器接触。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，经由所述加热元件向食物赋予非接触式烹饪。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，经由所述加热元件向食物赋予非接触式烹饪和经由所述支撑表面向食物赋予接触式烹饪同时进行。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，经由第二加热元件加热布置在所述壳体的所述中空内部内的所述支撑主体，所述第二加热元件可独立于所述加热元件操作。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，维持所述支撑表面的温度高于用于实现与食物的美拉德反应的最小阈值。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，维持所述支撑表面的温度低于食物发生冒烟的最大阈值。
根据实施例，一种烹饪系统包括壳体，其具有中空内部，并且食物可收纳在所述中空内部内。加热元件与壳体相关联，并且支撑主体支撑中空内部内的食物。支撑主体包括具有多个扩散器肋的主体。多个通道形成于多个扩散器肋之间，并且多个扩散器肋和多个通道中的至少一个可操作以使相对向下流动的流体相对水平地跨越所述支撑主体偏转。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述向下流动的流体具有旋转，并且所述向下流动的流体的所述旋转随着所述向下流动的流体接触所述支撑主体而减小。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述流体邻近于所述支撑主体的周边进入所述多个通道，并且由所述多个肋和所述多个通道中的至少一个导向所述支撑主体的相对中心，所述流体从具有所述旋转运动的所述主体的所述相对中心排出。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述多个扩散器肋从所述主体向上延伸到所述中空内部中。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑主体进一步包括多个肋。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述扩散器肋是所述多个肋的一部分。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述多个肋包括短肋、中肋和长肋。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述扩散器肋包括所述长肋。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述扩散器肋包括所述长肋和所述中肋。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑主体进一步包括延伸穿过主体的多个开口。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑主体具有介于约200g与约3kg之间的热质量。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑主体由金属材料形成。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑主体由铁磁性材料形成。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑主体涂覆有不粘材料。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括从所述支撑主体延伸的至少一个手柄。除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括可收纳在所述中空内部中的食物容器，所述支撑主体以可拆卸方式安装在所述食物容器的内部内。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括用于监测所述中空内部内的温度和所述支撑主体的温度中的至少一个的温度传感器，所述温度传感器远离所述加热元件而定位。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述温度传感器延伸到所述食物容器的所述内部中。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述温度传感器延伸穿过所述食物容器的侧壁。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述温度传感器可操作以监测所述支撑主体的温度是否高于用于实现与食物的美拉德反应的最小阈值。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括用于监测在所述中空内部内循环的流体的温度的第二温度传感器。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述第二温度传感器相对于利用所述中空内部循环的所述流体的流动定位在所述加热元件下游。
根据实施例，一种烹饪系统包括壳体，其具有中空内部，并且食物可收纳在所述中空内部内。支撑主体支撑中空内部内的食物，并且加热元件被定位成加热中空内部和支撑主体。温度传感器可操作以监测支撑主体的温度。温度传感器远离所述加热元件而定位。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述温度传感器包括热敏电阻器。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括可收纳在所述中空内部中的食物容器，所述支撑主体以可拆卸方式安装在所述食物容器的内部内。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述温度传感器延伸到所述食物容器的所述内部中。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述温度传感器延伸穿过所述食物容器的侧壁。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述食物容器具有在其中形成的阶状物，并且所述温度传感器安装在所述阶状物处。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括可操作地耦合到所述加热元件和所述温度传感器的处理器，其中连接所述处理器和所述温度传感器的线嵌入所述壳体内。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述温度传感器安装成接近所述支撑主体。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述温度传感器安装成与所述支撑主体接触。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑主体进一步包括具有多个开口的基部和从所述基部延伸的多个扩散器叶片。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述支撑主体进一步包括形成在所述多个扩散器叶片之间的多个通道，所述多个扩散器叶片、所述多个通道和所述多个开口中的至少一个可操作以在流体流动通过多个通道时向所述流体赋予涡流。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述温度传感器可操作以监测所述支撑主体的温度是否高于用于实现与食物的美拉德反应的最小阈值。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述温度传感器可操作以监测所述支撑主体的温度是否正接近烟点。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述加热元件可操作地耦合到所述温度传感器，并且所述加热元件的操作是响应于所述温度传感器确定所述支撑主体的所述温度正接近所述烟点而调整的。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，包括用于监测在所述中空内部内循环的流体的温度的第二温度传感器。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述第二温度传感器相对于利用所述中空内部循环的所述流体的流动定位在所述加热元件下游。
除了上文所描述的特征中的一个或多个之外，或作为替代方案，在另外的实施例中，所述加热元件可操作地耦合到所述第二温度传感器，并且所述加热元件的操作是响应于所述温度传感器确定在所述中空内部内循环的所述流体的所述温度超出可允许阈值而调整的。
附图说明
并入于本说明书中并形成本说明书的一部分的附图体现本公开的若干方面，并且连同描述一起用以解释本公开的原理。在图中：
图1是根据实施例的烹饪系统的前部透视图；
图2是根据实施例的具有处于打开位置的盖的烹饪系统的前部透视图；
图3是根据实施例的烹饪系统的横截面图；
图4是根据实施例的具有处于打开位置的盖的烹饪系统的横截面图；
图5是根据实施例的其中定位有配件的烹饪容器的透视图；
图6是根据另一实施例的其中定位有配件的烹饪容器的横截面图；
图7是根据实施例的在烹饪容器与包括传感器的衬里之间的界面的详细横截面图；
图8是根据实施例的具有温度传感器的烹饪容器的透视图；
图9是根据实施例的图8的烹饪容器的横截面图；
图10是根据实施例的烹饪系统的示意图；
图10A是根据实施例的烹饪基部的俯视图，其示出提供到烹饪体积的空气的流动；
图11是根据实施例的烹饪系统的控制系统的示意图；
图12是根据实施例的可收纳在烹饪系统的烹饪容器内的支撑主体的透视图；
图13是根据另一实施例的烹饪系统的控制系统的示意图；
图14是根据实施例的可收纳在烹饪系统的烹饪容器内的另一配件的透视图；
图15是根据实施例的可收纳在烹饪系统的烹饪容器内的另一支撑主体的透视图；
图16是根据实施例的烹饪系统的烹饪区的示意图；并且
图17是根据实施例的烹饪系统的烹饪区的示意图。
具体实施方式参考附图通过举例解释了本公开的实施例以及优势和特征。
具体实施方式
现在参考图式，以数字20示出烹饪系统。如图所示，烹饪系统20包括基部22和盖24。基部22包括壳体26，其具有耐热或非导电的外表面28以及限定中空内部32的内表面30。壳体26可由任何合适材料制成，例如玻璃、铝、塑料或不锈钢。衬里34可以安置在壳体26的中空内部32内。衬里34可以由任何合适的导电材料(例如铝)形成。在实施例中，在图2中最佳示出，衬里34形成壳体26的内表面30(参见图4)，从而限定壳体26的中空内部32。替代地，衬里34可以与壳体26的内表面30偏移。然而，应当理解，烹饪系统20或其表面的其它部件还可以限定中空内部32。
在实施例中，烹饪容器36可收纳在由内衬34限定的中空内部内。虽然烹饪容器36在本文中被描述为可从基部22的壳体26移除，但是本文还涵盖烹饪容器36与壳体26一体地形成的实施例。在图2和4-6中最佳示出的烹饪容器36具有内部38，所述内部被设计成将用于支撑一种或多种消费产品的食物支撑结构收纳和存留在其中，所述消费产品例如食物产品。适合与烹饪系统20一起使用的食物产品的实例包括但不限于肉、鱼、家禽、面包、大米、谷物、意大利面、蔬菜、水果和乳制品等等。烹饪容器36可以是由陶瓷、金属或压铸铝材料形成的锅。在实施例中，烹饪容器36的内表面40包括纳米陶瓷涂层，并且烹饪容器36的外表面42包括有机硅环氧树脂材料。然而，本文涵盖能够耐受烹饪食品所需的高温的任何合适材料。
此外，一个或多个手柄44可以与烹饪容器36相关联，以允许用户容易地抓取和操纵烹饪容器36。在所示的非限制性实施例中，烹饪容器36包括从烹饪容器36的相对侧壁46延伸的两个手柄44。手柄44可以是可移动的，或可例如经由一个或多个紧固件以可拆卸方式连接到所述侧壁，或者可以与烹饪容器36的侧壁46一体地形成。尽管本文中所示出且描述的烹饪容器36具有两个手柄44，但本文也涵盖具有单个手柄、具有多于两个手柄或不具有手柄的实施例。此外，烹饪容器36和/或手柄44的任何合适的配置都在本公开的范围内。
烹饪容器36和/或衬里34可被配置成将烹饪容器36恰当地定位在衬里34内。在图4和图6中最佳示出的实施例中，一个或多个减震器48从衬里34向内延伸以接合烹饪容器36的外表面42。减震器48可围绕衬里34的内周等距间隔开以使烹饪容器36居中。然而，本文也涵盖减震器48不等距间隔开的实施例，或仅具有单个减震器48的实施例。
替代地或另外，烹饪容器36的轮廓可设计成促进将烹饪容器36定位在衬里34内。在实施例中，烹饪容器36的横截面积随着烹饪容器36的高度而变化。例如，阶状物50可以形成于烹饪容器36的侧壁46的中心部分中。因此，烹饪容器36的第一部分在烹饪容器36的上表面52与阶状物50之间延伸，并且烹饪容器36的第二部分在阶状物50与烹饪容器36的底部54之间延伸。由于阶状物50所产生的水平偏移，烹饪容器36的第一部分的直径大于烹饪容器36的第二部分的直径。在实施例中，阶状物50位于烹饪容器36的底部54附近，但与所述底部偏移。此外，阶状物50可以在烹饪容器36的整个内周上方延伸，或者可以仅在所述烹饪容器的选择部分上方延伸。
在实施例中，阶状物50的大小和形状设定成与烹饪系统20的另一部件协作，例如重叠或配合，以相对于基部22定位烹饪容器36。例如，间隔件56(图6中最佳示出)可安装在由衬里34限定的中空内部32内，并且阶状物50可在烹饪容器36安装在衬里34内时直接接合间隔件56。替代地，如图7所示的与阶状物50互补的凸缘58可以附连到衬里34或与衬里34一体地形成，使得当烹饪容器36被插入衬里34中时，阶状物50和凸缘58对准以便以期望的方式安放烹饪容器36。
一个或多个配件或支撑主体(将在下文更详细地描述)可与烹饪系统20配合使用。在此类实施例中，配件或支撑主体可以收纳在衬里34的中空内部32内，或者收纳在烹饪容器36的内部内。在实施例中，与烹饪容器36配合使用的配件或支撑主体由烹饪容器36的阶状物50而非其底部54支撑。然而，可由烹饪容器36的底部54支撑的其它配件或支撑主体也在本公开的范围内。如本文所讨论的任何配件或支撑主体可包括用于在上面支撑食物的支撑表面。支撑表面通常将是支撑主体的上表面，并且将暴露于烹饪区(下文描述关于此烹饪区的更多细节)。
更详细地参考盖24，应注意，盖24可连接到烹饪容器36和/或壳体26的表面，以封闭烹饪容器36的内部38的入口。因此，烹饪体积可以被限定在烹饪容器36的内部38与加热元件82或可操作以接合基部22的关闭盖24的一端之间，或者在由衬里34限定的中空内部32与加热元件82或可操作以接合基部22的关闭盖24的一端之间。在实施例中，盖24的直径与壳体26的直径大体互补，使得盖24不仅覆盖烹饪容器36，而且还覆盖壳体26的上表面60。
盖24可相对于基部22在打开位置和关闭位置之间移动，以选择性地覆盖中空内部32。例如，盖24可以与基部22不同并且与基部分离，或者盖24可以可移动地连接至基部22。当盖24处于关闭位置时，一个或多个紧固机构(未示出)可以但不必用于将盖24固定到基部22。能够承受与烹饪系统20相关联的热量的任何合适的类型的紧固机构被考虑在本公开的范围内。
在所示的非限制性实施例中，盖24可围绕枢轴P相对于基部22枢转或旋转。如图所示，盖24可围绕邻近于壳体26的下表面62而定位的枢轴P旋转。在一些实施例中，基部22包括刚性枢轴臂64，所述刚性枢轴臂邻近于壳体26的后表面66而定位，且具有围绕枢轴P连接到壳体26的第一端68。枢轴臂64的第二相对端70连接到盖24的后表面72。因此，当枢轴臂64在由箭头O指示的第一方向上围绕枢轴P旋转时，盖24旋转远离壳体26的上表面60或与壳体26的上表面60脱离接合，以暴露中空内部32。类似地，当枢轴臂64在第二方向上围绕由箭头C指示的枢轴P旋转时，盖24朝向壳体26的上表面60或烹饪容器的上表面52旋转或者与壳体26的上表面60或烹饪容器的上表面52接合，以密封或覆盖烹饪容器36。通过将枢轴P定位在壳体26的下表面62附近，当盖24处于打开位置时，烹饪系统20的大小设定包封(sizingenvelope)可能受到限制。然而，在其它实施例中，枢轴P和盖24到基部22的连接可以布置在基部22的上表面60处或附近。
在实施例中，烹饪系统20的基部22可另外包括从壳体26延伸的支撑件74。支撑件74可安装到壳体26的侧面，盖24在处于打开配置时围绕所述侧面定位，以在盖24打开时进一步使烹饪系统20稳定。在包括支撑件74和枢轴臂64两者的实施例中，枢轴臂64的第一端68可以耦合到支撑件74，如图4所示，而不是耦合到壳体26。因此，在此类实施例中，枢轴P与壳体26侧向偏移。在实施例中，盖24可围绕枢轴P旋转约40度与约80度之间，约50度与约70度之间，并且更具体地例如约62度，以实现盖24的与枢轴臂64相对的端76与壳体26的上表面60之间的期望角度θ(参见图4)。在实施例中，角度θ介于约65度与约95度之间，介于约70度与约90度之间，并且更具体地为约80度。
在所示的非限制性实施例中，一个或多个手柄78从盖24的壳体80向外延伸以向用户提供更易于抓取盖24以在打开位置与关闭位置之间移动的位置。尽管示出了大体上安装在盖24的前方附近的单个手柄78，但具有多个手柄或者不具有手柄的实施例也在本公开的范围内。壳体80和/或一个或多个手柄78可由例如经过模制的塑料材料一体地或单独地形成。
为了使用户更便于接近壳体26的中空内部32或烹饪容器36的内部38，在实施例中，壳体26被配置成相对于支撑表面(例如台面)移动(例如平移)和/或旋转。在实施例中，基部22包括限定壳体26的移动路径的轨道。壳体26可包括与轨道互补并接合的部件。壳体26相对于支撑表面的移动可由盖24驱动。例如，当盖24例如经由围绕枢轴P旋转而从关闭位置转变到打开配置时，壳体26可类似地相对于支撑表面从缩回位置移动到延伸位置。盖24从打开位置移动到关闭位置将类似地使壳体26从延伸位置移动到缩回位置。在实施例中，壳体26的此移动可能由于枢轴臂64的一部分与壳体26的对应部分之间的接合而发生。
现在参考图3和图10，烹饪系统20包括至少一个加热元件82，所述加热元件可操作以在烹饪系统20的一个或多个操作模式期间向烹饪体积赋予热量。在所示的非限制性实施例中，至少一个加热元件82大体定位在烹饪容器36的上部范围或表面52处或上方，例如接近烹饪容器36的内部38的中心。在所示的实施例中，至少一个加热元件82安装在盖24内，并因此完全在烹饪容器36的外部，并且与所述烹饪容器的上部范围或表面52竖直偏移。然而，应理解，位于任何合适位置处的加热元件在本公开的范围内。
至少一个加热元件82能够进行任何合适类型的热量产生。例如，被配置成经由传导、对流、辐射和感应来加热烹饪容器36或位于烹饪容器36的内部38内的一个或多个食品的加热元件82在本公开的范围内。在所示的非限制性实施例中，加热元件82是对流加热元件，并且烹饪系统20另外包括可操作以使空气在烹饪体积内循环的空气移动装置84，例如风扇。空气在沿着其循环路径流动时被加热，诸如通过在至少一个加热元件82的一部分上流动来加热。在所示的非限制性实施例中，空气移动装置84由电动机86驱动，所述电动机具有与其耦合的单独的冷却机构。此外，烹饪系统20可包括通风口，其用于将通过空气移动装置84、电动机86和单独的冷却机构中的至少一个的操作而产生的热空气排到烹饪系统20的外部。尽管通风口示出为在盖24中形成，但本文也涵盖在烹饪系统20的基部22中形成通风口的实施例。在实施例中，用于限制抛射(projectile)物质(例如油)接触加热元件82的防护件88(参见图2)直接邻近于加热元件定位在加热元件与烹饪容器36的内部38之间。
如先前所提及，具有用于在上面支撑食物的支撑表面的支撑主体100以可拆卸方式安装在烹饪容器36的内部38内。在实施例中，支撑主体100是烤架板，其将在下文更详细地描述。
继续参考图3和6，并且进一步参考图16，在实施例中，定位在烹饪容器36的内部38内的支撑主体100至少部分地限定烹饪体积内的烹饪区Z。支撑主体100的上表面限定烹饪区Z的底部或下部。将在下文更详细地描述的一个或多个配件可以被安装以代替烤架板100(作为支撑主体本身)或安装成与烤架板100的上表面重叠布置。在非烤架板配件安装在烹饪容器36内的实施例中，上面可收纳食品的最上配件的支撑表面限定烹饪区Z的底部。烹饪区Z进一步由配件的一个或多个侧壁和/或烹饪容器36的内部38限定。此外，烹饪区Z从烤架板100的烹饪表面或安装在所述烹饪表面上的配件延伸到加热元件82或者防护件88。
再次参考图1，烹饪系统20的控制面板或用户界面90邻近于基部22的壳体26的一个或多个侧或盖24的壳体80的一个或多个侧而定位。控制面板90包括一个或多个输入92，所述一个或多个输入与使烹饪系统20的加热元件82通电相关联并且用于选择烹饪系统20的各种操作模式。输入92中的一个或多个可包括灯或其它指示器以展示已选择相应输入。控制面板90可另外包括与至少一个输入92分开并且相关联的显示器94。然而，本文中也涵盖显示器94集成到至少一个输入92中的实施例。
将在下文更详细地描述一个或多个输入92的操作。如图11所示，烹饪系统20的控制系统96包括控制器或处理器98，其用于控制加热元件82(以及空气移动装置84，包括电动机86和/或与其相关联的风扇)的操作，并且在一些实施例中用于执行存储的加热操作工序。处理器98可操作地耦合到控制面板90、至少一个加热元件82及空气移动装置84。在实施例中，处理器98和/或控制系统96的另一部分邻近于壳体26的后表面66而安装，并且在一些实施例中安装在支撑件74内。
另外，烹饪系统20可以包括用于监测与气流温度相关联的一个或多个参数的一个或多个传感器S、加热元件82、盖24、烹饪体积、烤架板100和/或在烹饪操作期间安装在烹饪体积内的配件。因此，可响应于由一个或多个传感器S感测到的参数来调节烹饪系统20的操作，特别是一个或多个加热元件82的操作。在实施例中，一个或多个传感器S包括被布置成与处理器98通信的温度传感器。在实施例中，例如热敏电阻器的温度传感器S定位在衬里34和烹饪容器36中的一个或两个中(或其间)，例如邻近于在烹饪容器36中形成的阶状物50。在温度传感器S硬接线到控制系统96的实施例中，将温度传感器S连接到处理器98的一个或多个线可嵌入壳体26内，例如嵌入壳体26与衬里34之间。
温度传感器S可以直接接触烹饪容器36的外表面42，以确定烹饪容器36的温度，或者，可以延伸穿过烹饪容器36的主体以与支撑主体100(即图6所示的实施例中的烤架板)接合，或在其它实施例中与布置在烹饪容器36的内部38内的配件接合。如图6中最佳示出，温度传感器S可以耦合到间隔件56或至少部分地由间隔件56支撑。替代地，在烹饪系统20包括凸缘58的实施例中，温度传感器S可以至少部分地由凸缘58支撑，如图7所示。
在图8和9中最佳示出的又一个实施例中，温度传感器S被集成到烹饪容器36中并且可操作以接触和感测支撑主体100(例如烤架板)的温度。如图所示，温度传感器S可以例如经由铝板53和金属托架55邻近于阶状物50向上安装在烹饪容器36的内部38内。例如由有机硅形成的密封件57可将板53密封到烹饪容器36。温度传感器S可位于与金属托架55偏移的位置处，以防止温度传感器S过热。在此类实施例中，可用热胶(thermal paste)填充温度传感器S与金属托架55之间的间隙59。应理解，本文中所示出和描述的温度传感器S的各种配置仅旨在作为实例，并且本文还涵盖适用于监测和(向控制系统96)传达烹饪容器36、支撑主体100(即图6中所示的实施例中的烤架板)或定位于烹饪容器36的内部38内的配件中的至少一个的温度的其它配置。
除了用于监测支撑主体100的温度的温度传感器S之外，烹饪系统20还可以采用另外的一个或多个温度传感器(也指示为S)，以感测提供到烹饪容器36的内部38的空气的温度。在此类实施例中，一个或多个第一温度传感器可如先前所描述的那样安装，例如以接触烤架板100的底部或下表面，并且一个或多个第二温度传感器可位于盖24内，大体上邻近于空气移动装置84，使得温度传感器直接位于从空气移动装置84排出的经过加热的气流内。可响应于由一个或多个温度传感器S检测到的温度而经由例如可由处理器98访问的控制算法调整烹饪系统20的一个或多个操作参数。在示范性实施例中，可调整空气移动装置84的速度，或者，可增加或减少提供到加热元件82的功率以实现期望的温度。
在烹饪系统20包括定位在不同位置的温度传感器S的实施例中，可响应于经过加热的气流的温度而使用控制算法来执行对操作参数的调整，例如加热元件82的操作，所述温度由安置在经过加热的气流中的温度传感器S测量。例如，如果感测到的气流温度低于设定点，则提供给加热元件82的功率可以增加，并且如果感测到的气流温度高于设定点，则提供给加热元件82的功率可以减少或完全停止，从而允许烹饪容器36的内部38冷却。在实施例中，定位成接近支撑主体100的温度传感器S可操作以提供烟气控制并且指示烤架板100的温度何时接近与产生烟气相关联的温度(也称为烟点)。烟点将基于定位在内部38内的食物和/或脂肪的类型而变化。常见食物的烟点的实例如下所示：
Figure BDA0002748109220000141
Figure BDA0002748109220000151
如果烤架板100的感测到的温度高于存储在嵌入处理器98内或可由处理器98访问的存储器内的阈值(例如与烟点相关联)，那么烹饪系统20的操作受到接近烤架板100的温度传感器S影响。所有以上烟点可存储在处理器存储器中并用作设定阈值。另外，涵盖操作模式。例如，在低操作模式中，烤架板100的表面的温度阈值为约345℉，在中操作模式中，烤架板100的表面的温度阈值为约375℉。并且在高操作模式中，烤架板100的表面的温度阈值为约410℉。本文所指示的阈值仅旨在作为实例，并且应理解，可针对各种操作模式中的任一种选择其它温度。
在至少一种操作模式中，例如在最高温度操作模式中，烹饪系统20被配置成忽略或忽视由接近烤架板100的温度传感器S检测到的所述烤架板的温度。因此，在最高温度模式中，烤架板100的温度可以超过烟点。尽管本文关于使用接近烤架板100的温度传感器来监测烤架板100的温度来描述操作，但是在此温度传感器S可操作以监测烹饪容器36的温度或安装在烹饪容器36的内部38内的配件的温度的实施例中，可执行对烹饪系统20的类似控制。
在实施例中，控制面板90上的至少一个输入92是开/关按钮，其允许用户将控制面板90激活或解除激活。当控制面板90被解除激活时，一个或多个加热元件82均不通电。在示范性实施例中，至少一个输入92可操作以选择加热元件82的一个或多个手动操作模式。替代地或另外，至少一个输入92可操作以选择加热元件82的存储的操作序列。在一些情况下，存储的序列可尤其较适用于给定的食物制备方法和/或特定成份或特定类型的成份。与至少一个输入92相关联的多个存储的序列可存储在可由处理器98访问的存储器内。或者，多个存储的序列可远离烹饪系统20存储，并且可例如通过无线通信等由处理器98访问。
另外，用户可能够在所要手动模式中输入与烹饪系统20的操作相关联的时间。可经由相同输入92或如所使用的不同输入92来输入所述时间以选择操作模式。此外，在烹饪系统20处于被配置成响应于选择输入92中的一个而执行所存储序列的模式的实施例中，显示器94可指示显示器94上剩余的时间。温度或其它参数也可通过输入92来输入。
至少一个输入92可包括旨在以所期望的模式发起操作的不同开始按钮、停止全部操作的不同停止按钮，或旨在发起以及停止功能的停止/开始按钮。替代地，一旦已选择输入92并且任何必要信息已经提供到控制面板90，那么烹饪系统20可操作以在预定时间流逝之后自动开始操作。替代地，其它输入92中的一个或多个，例如旋钮，可通过朝向控制面板90推动旋钮来操作，以开始及终止烹饪系统20的操作，不论烹饪系统20是以下所存储序列还是处于手动模式。
一个或多个输入92可操作以在多个烹饪模式中发起烹饪系统20的操作。在实施例中，烹饪系统20的第一烹饪模式可操作以经由非接触式烹饪操作和接触式烹饪操作来烹饪位于烹饪体积内的食品。如本文所用，术语“非接触式烹饪操作”包括加热元件或热源被布置成不与食品直接或间接接触的任何烹饪操作，诸如但不限于对流和辐射加热。类似地，术语“接触式烹饪操作”包括经由加热元件或热源和食品之间的直接或间接接触来传输热量的烹饪操作，例如但不限于传导和感应烹饪。例如，第一烹饪模式可经由对流和传导烹饪两者的组合烹饪食品；然而，应理解，本文涵盖非接触式和接触式烹饪操作的任何组合。
第一烹饪模式中的操作涉及使用可收纳在衬里34的内部内或者可收纳在烹饪容器36的内部38内的各种部件，例如加热元件82和支撑主体100，例如烤架板。现在参考图12，更详细地示出了烤架板100的实例。烤架板100包括主体102，所述主体具有形成在其中的多个通孔或开口104。烤架板100的主体102的大小设定成使得当安装在烹饪容器36的内部38内时，烤架板100与阶状物50接触并由阶状物50支撑(参见图10)。因此，在烤架板100的底部106与烹饪容器36的底部54之间限定间隙。在烹饪操作期间产生的润滑脂、油和其它流失液体可流动通过形成于主体102中的开口104，以在烤架板100下方收集在烹饪容器36的底部54处。在实施例中，烤架板100的直径基本上等于烹饪容器36的第一部分的内径。因此，当安装在烹饪容器36内时，烤架板100的外周大体邻接烹饪容器36的内表面40或与烹饪容器36的内表面40最低程度地偏移(约1mm或更小)。
如图12中最佳示出，多个肋108可从主体102的上表面110延伸。肋108彼此间隔开以限定形成于邻近肋108之间的多个通道112。肋108可以与上表面110一体地形成，或者可以附连到所述上表面。因此，当一个或多个食品定位在由肋108限定的食品支撑表面114上时，食物与主体102的上表面110偏移。多个肋108中的每一个可以是相同的，或者可以基于肋108相对于主体102的位置而改变大小或形状。在所示的非限制性实施例中，多个肋包括较长肋116、中肋115和较短肋117。较长肋116从形成于主体102中的中心开口118径向向外延伸。中肋115和较短肋117还从安置成更靠近主体102的边缘的区域径向向外延伸(中肋115从同心开口121延伸，并且较短肋117从同心开口123延伸)，其中所有肋108大体延伸到主体102的最外侧边缘。
在示范性实施例中，肋108中的一些或全部产生扩散结构，所述扩散结构可操作以扩散提供到所述扩散结构的气流。本文中所描述的扩散结构不仅用于减缓气流的速度，还用于减少气流在穿过扩散结构时的旋转。如图12所示，烤架板100的每个肋108形成扩散结构的一部分。然而，在其它实施例中，肋108的仅一部分，例如仅较长肋116，或者较长肋116和中肋117协作以扩散提供到烤架板的气流。
一个或多个手柄120可以与烤架板100相关联，以允许用户容易地抓取和操纵烤架板100。在所示的非限制性实施例中，烤架板100具有两个手柄120，其邻近于烤架板100的相对侧从基部102的上表面110延伸。手柄120可以连接到肋108或直接连接到烤架板100的主体102。尽管手柄120示出为与烤架板100一体地形成，但是一个或多个手柄120附连到烤架板100的实施例也在本公开的范围内。
烤架板100可以由任何合适的金属材料制成，例如铁、钢、铝或任何合适的铁磁材料。此外，在一些实施例中，烤架板100的至少一部分可以涂覆有例如特氟龙(Teflon)的不粘材料，以防止食品粘到烤架板100上。
继续参考图12和第一烹饪模式，在第一烹饪模式开始时，烤架板100安装在烹饪容器36内，并且盖24覆盖壳体26和烹饪容器36的上部范围或表面52、60以及中空内部32、38。当在第一烹饪模式中利用烹饪系统20时，处理器98发起远离烤架板100而定位的加热元件82的操作以加热烤架板100。在实施例中，还操作空气移动装置84以使热空气在烹饪体积内循环，如图10中的箭头所示。如图所示，从空气移动装置84输出的空气被抽吸通过加热元件82并且从烹饪体积的中心进入空气移动装置84。经过加热的空气被径向排出并具有圆形流动或旋转，在图10A中最佳示出，类似于空气移动装置84的旋转。部分地由于经过加热的空气的旋转以及由盖24的内表面进行的偏转，空气沿着烹饪容器36的内表面40向下流入烹饪体积中。
当气流接近在烹饪容器36中形成的阶状物50时，气流大体邻近于烤架板100的外周被接收。烤架板100的扩散结构阻止气流向下移动，并且将气流径向向内引导通过限定在肋108之间的多个通道112。扩散结构的肋108和通道112的弯曲配置减缓气流的旋转，同时将气流大体水平地导向至烤架板100的中心，其中一个或多个食品通常定位在所述中心。因此，在烤架板100的相对中心处从多个通道输出的气流的旋转完全停止，或至少小于在烤架板100的外周进入多个通道112的气流的旋转。离开通道112的气流从食品下方向上流动，并且在由空气移动装置84重新向上抽吸并通过加热元件82之前围绕食品的外表面流动。空气移动通过烹饪体积以按对流方式烹饪食品(即非接触式烹饪)可以部分地通过扩散配置促进。当经过加热的空气流动通过通道112并且在烤架板100的表面上方流动时，来自空气的热量传递到烤架板100，从而增加烤架板100的温度。如前所述，烤架板100由导电金属材料形成。
在实施例中，烤架板100的质量被选择成使得在以第一烹饪模式操作期间，烤架板100在初始“预热”时段之后实现并维持足以在位于烹饪体积内的食物中产生美拉德反应的温度。实现美拉德反应所必需的烤架板100的温度为至少285℉。在实施例中，预热时段是将烤架板100加热到将发生美拉德反应的温度(即285℉或更高)所需的时间段。在实施例中，将烤架板100最初在室温下的温度增加到将发生美拉德反应的温度的预热时段少于约20分钟，少于约15分钟，或少于约10分钟。在实施例中，烹饪系统20的温度传感器S可操作以监测烹饪容器36的温度和/或烤架板100的温度。因此，显示器94可以响应于确定由温度传感器S检测到的烤架板100的温度已达到实现美拉德反应所需的最低温度而向用户指示“预热”操作完成并且食品准备好收纳在烹饪体积内。
由于重量和成本通常成正比，因此期望使烤架板100的重量减到最小。因此，例如在炉中使用的燃烧器等炉类元件的热质量不足以实现并维持引发美拉德反应所需的温度，特别是当经由对流或辐射加热时。在实施例中，烤架板100的质量介于约200克与约3kg之间，并且更具体地约300g与约3kg之间，约400克与约3kg之间，约500g与约3kg之间，约600g与约3kg之间，约700g与约3kg之间，约800g与约3kg之间，约900g与约3kg之间，约1000g与约3kg之间，约1.1kg与约3kg之间，约1.2kg与约3kg之间，约1.3kg与约3kg之间，约1.4kg与约3kg之间，约1.5kg与约3kg之间，约1.6kg与约3kg之间，约1.7kg与约3kg之间，约1.8kg与约3kg之间，约1.9kg与约3kg之间，约2.0kg与约3kg之间，约2.1kg与约3kg之间，约2.2kg与约3kg之间，约2.3kg与约3kg之间，约2.4kg与约3kg之间，约2.5kg与约3kg之间，约2.6kg与约3kg之间，约2.7kg与约3kg之间，约2.8kg与约3kg之间，或约2.9kg与约3kg之间。
在第一烹饪模式期间，在预热周期完成之后，一个或多个食品定位在烹饪体积内，与烤架板100的支撑表面114直接接触以执行烧烤操作。来自烤架板100的热量，并且更具体来说，来自肋108的热量例如通过传导(即接触式烹饪)传递到食品。因为烤架板100的温度高于285℉，并且因此发生了美拉德反应，所以在布置成与烤架板100的肋108直接接触的食物的表面处形成呈烤架或烙印标记形式的褐变。应理解，在肋108的仅一部分形成扩散结构的一部分的实施例中，并非扩散结构的部分的肋108可操作以将热量传递到食物。此外，限定扩散结构的肋108将热量传递到食物。
在第一烹饪模式中操作期间，包括在烤架板100已预热到期望温度之后，温度传感器S可持续地或选择性地对烹饪体积或烤架板100的温度进行采样并且相应地调整烹饪系统20的操作。例如，在确定烤架板100的温度正接近最大阈值后，处理器98可以使加热元件82断电，直到温度已下降到可接受水平。在此类实施例中，最大阈值可为定位在烹饪体积内的食物的烟点。类似地，在确定烤架板100的温度正接近最小阈值(例如实现美拉德反应的最低可能温度)后，处理器98将调整烹饪系统20的一个或多个操作参数，例如空气循环的速度和/或提供到加热元件82的功率。
尽管烤架板100示出并描述为由远离所述烤架板而定位(即，在盖子内)的加热元件82在第一烹饪模式中加热以使得正被烹饪的食品安置在加热元件82的至少一部分与烤架板100的至少一部分之间，但是在其它实施例中，烹饪系统20可以包括另一加热元件122(参见图13)，其不同于加热元件82并且可操作地耦合到烤架板100。第一加热元件82和第二加热元件122可独立地或组合操作以应用一个或多个预定功率设定来烹饪容器36内的食品。在实施例中，加热元件122嵌入烤架板100内。替代地，加热元件122可以嵌入壳体26内并且当烤架板100安装在衬里34的中空内部32或烹饪容器36的内部38内时可操作地耦合到烤架板100。因此，在实施例中，在以第一烹饪模式操作期间，加热元件82和加热元件122两者都可操作并且向烹饪体积赋予热量。
在加热元件122邻近于烹饪容器36的侧壁46嵌入壳体26内的实施例中，加热元件122可以限定烹饪区Z的一部分。因此，由于烹饪区Z的底部由烤架板100的烹饪表面114或配件的最上表面限定，因此图17的阴影区中示出的烹饪区Z的至少一部分以及与表面114接触的任何食物安置在食物支撑表面114的一部分与加热元件122的一部分之间。
此外，第一烹饪模式可另外用于执行除了“烧烤”之外的烹饪操作。如先前所描述，配件可以安装成与烤架板100的上表面114的重叠布置，使得热量从烤架板100传递到配件。替代地，配件可以安装在没有烤架板100的烹饪容器36的内部38内，使得配件充当如本文所述的支撑主体。此类配件的实例包括如图14所示的烤盘(griddle)123、图15所示的漂洗篮(crisping basket)130和漂洗板132(图3和图5)。
在实施例中，烹饪系统20可另外在第二烹饪模式中操作，在第二烹饪模式中，加热元件82用于执行非接触式加热操作，例如对流或辐射加热操作。因此，在烹饪系统20另外包括加热元件122的实施例中，在第二烹饪模式中，加热元件122不可操作。第二烹饪模式中合适的烹饪操作可包括但不限于空气炸锅、烧烤、烘烤/烤炙和脱水。在第二烹饪模式中，烤架板100通常不定位在烹饪容器36的内部38内。然而，本文还涵盖在第二模式中将烤架板100安置在烹饪容器36的内部38内的实施例。
在第二烹饪模式中，在没有烤架板100的实施例中，任何合适的配件可以安装在烹饪容器36内以限定烹饪区Z的支撑表面。例如，漂洗篮130可定位在烹饪容器36的内部38内，并且可以由阶状物50或者由烹饪容器36的底部54支撑。漂洗篮130的一个或多个尺寸小于烹饪容器36的内部38，使得在漂洗篮130的侧壁与烹饪容器36的内表面40之间限定环形空间。在漂洗篮130的底部136中形成的多个开口134允许气流循环通过所述开口。
漂洗板132(图3和图5)可以具有类似于漂洗篮130的配置。如图所示，漂洗板132包括基部138以及在基部138中形成的多个开口144，所述基部具有第一侧140和从基部138延伸的第二侧142。环形空间146可类似地形成于漂洗板132的第一侧140和第二侧142与烹饪容器36的内表面40之间。
在图3的实施例中，具有一个或多个叶片150的扩散器148邻近于漂洗板132而定位或与所述漂洗板集成。如图所示，叶片150大体垂直于基部138的底部延伸。在包括多个叶片150的情况下，叶片150可具有类似或不同配置。此外，多个叶片150可以围绕漂洗板132的基部138间隔开，并且可以具有似或不同的取向。在所示的非限制性实施例中，漂洗板132包括四个叶片150，并且邻近的叶片150围绕基部138的中心等距离地间隔开并相对于彼此旋转90度。然而，应理解，在其它实施例中，漂洗板132不需要使扩散器148与其相关联。
在第二烹饪模式中操作期间，空气移动装置84可操作以使经过加热的气流循环通过烹饪体积。如先前所描述，空气移动装置84可操作以通过邻近的加热元件82向上抽吸空气，并且向外排出热空气，其中所述热空气被向下重新导向烹饪体积。热孔气例如通过形成于配件与烹饪容器36之间的环形空间流动到烹饪容器36的底部54，所述配件例如漂洗板132或漂洗篮130。热空气偏离烹饪容器36的底部54，并由空气移动装置84抽吸通过在配件中形成的开口。在配件包括例如漂洗板132的下部扩散器的一些实施例中，热空气可以在扩散器的叶片上流动，并且可以向热空气赋予旋转运动，由此在空气穿过配件的开口时产生漩涡。在流到烹饪容器36内的食品的外部之后，重新将空气抽吸通过加热元件82并进入空气移动装置84以供进一步循环。
在一实施例中，烹饪系统20的空气移动装置84为可以多个旋转速度操作的可变速风扇。在一实施例中，空气移动装置84的可操作速度可基于选定的烹饪模式而变化。举例来说，空气移动装置84在第一烹饪模式中操作期间的速度可不同于空气移动装置84在第二空气炸锅模式中操作期间的速度。空气移动装置84的可操作速度可响应于包括烹饪模式的选择的一个或多个输入92而受处理器98控制。然而，处理器98还可被配置成调整空气移动装置84的可操作速度或供应到一个或多个加热元件82、122的功率，以控制烹饪容器36的内部38内的温度和/或压力。
在一些实施例中，烹饪系统20可在多于两个烹饪模式中操作。例如，在烹饪系统20包括可操作地耦合到烤架板100并且与加热元件82分开的加热元件122的实施例中，烹饪系统20可以在第三烹饪模式中操作。在第三烹饪模式中，加热元件122可操作并且加热元件82通常被断电。在第三烹饪模式中，加热元件122可操作以执行接触加热操作，例如慢烹饪、烘烤和嫩煎(sautéing)。在此类实施例中，加热元件122可操作以用于加热没有烤架板100的烹饪容器36，并且替代地或另外，加热定位成与烤架板100重叠布置的一个或多个配件。
本文中所示出且描述的烹饪系统20通过将若干常规的家用产品的功能性组合到单个用户友好装置中来提供增强的用户体验。
本文中所引用的所有参考文献，包括公开案、专利申请和专利，特此以引用的方式并入本文中，其引用程度就如同每一参考文献单独地并且专门指示为以引用的方式并入并在本文中整体阐述一般。
除非本文中另外指明或与上下文明显相矛盾，否则在描述本公开的上下文中(尤其在所附权利要求书的上下文中)使用术语“一”和“所述”以及类似指示物应解释为涵盖单数和复数。除非另有说明，否则术语“包括(comprising)”、“具有”、“包括(including)”和“含有”应理解为开放式术语(即，意指“包括但不限于”)。除非在本文中另外指示，否则本文中对值的范围的引述仅在于充当个别地参考属于所述范围的每个单独值的速记方法，并且每个单独值并入本说明书中，如同在本文中个别地引述一般。除非在本文中另有指示或另外明显与上下文相矛盾，否则本文所描述的所有方法可按任何适合的次序执行。除非另外声明，否则本文提供的任何和所有示例或示范性语言(例如，“例如”)的使用仅在于更好地说明本公开，而不对本公开的范围构成限制。本说明书中的任何语言都不应理解为指示任何未请求保护的要素对于实践本公开是必需的。
本文中描述本公开的示范性实施例，包括本发明人已知的用于执行本公开的最佳模式。在阅读前面的描述后，这些实施例的变化对于所属领域的技术人员而言将变得显而易见。本发明人期望所属领域的技术人员在适当时使用此类变化，并且本发明人预期本公开以与本文具体描述的方式不同的方式来实践。因此，本公开包括适用法律所准许的随附权利要求书中所述的主题的所有修改和等同物。此外，除非本文另外指示或另外明显与上下文相矛盾，否则本公开涵盖上文所描述的要素以其所有可能变化形式的任何组合。

Claims (97)

1.一种烹饪系统，包括：
壳体，其具有中空内部，所述中空内部包括用于收纳要烹饪的食物的烹饪区；
加热元件，其与所述壳体相关联；以及
支撑主体，其具有用于支撑所述中空内部内的食物的支撑表面，所述支撑主体具有足以维持实现所述食物的美拉德反应所需的温度的热质量，其中所述烹饪区的至少一部分安置在所述支撑表面与所述加热元件之间；
其中所述加热元件能够操作以加热所述支撑主体，以向由所述支撑表面支撑在所述烹饪区中的食物赋予来自所述支撑表面的接触式烹饪。
2.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述烹饪区的底部由所述支撑表面限定。
3.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述支撑表面与所述支撑主体成一体。
4.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述支撑表面与所述支撑主体分开地定位。
5.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述烹饪区的顶部由所述加热元件限定。
6.根据权利要求1所述的烹饪系统，其进一步包括定位在所述加热元件与所述烹饪容器之间的防护件，所述烹饪区的所述顶部由所述防护件限定。
7.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述烹饪区的一侧由所述壳体限定。
8.根据权利要求1所述的烹饪系统，其进一步包括安装在与所述支撑主体接触的所述烹饪容器内的配件，其中所述烹饪体积的一侧由所述配件限定。
9.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述加热元件能够操作以经由辐射加热所述支撑主体。
10.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述加热元件能够操作以经由对流加热所述支撑主体。
11.根据权利要求1所述的烹饪系统，其进一步包括能够操作以使气流循环通过所述中空内部以向所述食物赋予非接触式烹饪的空气移动装置。
12.根据权利要求11所述的烹饪系统，其中所述非接触式烹饪和所述接触式烹饪同时进行。
13.根据权利要求1所述的烹饪系统，其进一步包括能够相对于所述壳体移动的盖，其中所述盖和所述壳体协作以限定所述烹饪系统的烹饪体积，所述食物能够收纳在所述烹饪体积内。
14.根据权利要求13所述的烹饪系统，其中所述加热元件邻近于所述壳体的上部范围而定位在所述盖内。
15.根据权利要求1所述的烹饪系统，其进一步包括能够收纳在所述中空内部中的食物容器，其中所述支撑主体定位在所述食物容器的内部内。
16.根据权利要求15所述的烹饪系统，其中所述加热元件邻近于所述壳体的上部范围而定位。
17.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述支撑主体包括烤架板。
18.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述支撑主体具有介于约200g与约3kg之间的热质量。
19.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述支撑表面包括扩散结构。
20.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述接触式烹饪包括传导烹饪。
21.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述接触式烹饪包括感应烹饪。
22.根据权利要求1所述的烹饪系统，其进一步包括可操作地耦合到所述支撑主体的第二加热元件，所述第二加热元件能够独立于所述加热元件操作。
23.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述烹饪系统能够在包括第一烹饪模式和第二烹饪模式的多个模式中操作，其中在所述第一烹饪模式中，所述烹饪系统能够操作为空气烤架，而在所述第二烹饪模式中，所述烹饪系统能够操作为对流灶具。
24.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述支撑主体包括多个开口，流体被配置成流动通过所述多个开口。
25.一种使用烹饪系统来烹饪食物的方法，所述方法包括：
使用远离支撑主体而定位的加热元件来加热布置在所述烹饪系统的壳体的中空内部内的所述支撑主体的支撑表面；
将食品定位在所述中空内部中，使得所述食物由所述支撑表面支撑在所述支撑表面的至少一部分与所述加热元件的至少一部分之间；以及
经由所述支撑表面向所述食物赋予接触式烹饪。
26.根据权利要求25所述的方法，其进一步包括将支撑主体定位在所述壳体的所述中空内部内。
27.根据权利要求26所述的方法，其中将所述支撑主体定位在所述壳体的所述中空内部内进一步包括：将所述支撑主体定位成与布置在所述中空内部内的烹饪容器接触。
28.根据权利要求25所述的方法，其进一步包括经由所述加热元件向所述食物赋予非接触式烹饪。
29.根据权利要求28所述的方法，其中经由所述加热元件向所述食物赋予非接触式烹饪和经由所述支撑表面向所述食物赋予接触式烹饪同时进行。
30.根据权利要求25所述的方法，其进一步包括维持所述支撑表面的温度高于用于实现与所述食物的美拉德反应的最小阈值。
31.一种烹饪系统，包括：
壳体，其具有中空内部，食物能够收纳在所述中空内部内；
加热元件，其与所述壳体相关联；以及
支撑主体，其用于支撑所述中空内部内的食物，其中所述支撑主体包括具有多个扩散器肋的主体；
其中所述支撑主体包括形成于所述多个扩散器肋之间的多个通道，所述多个扩散器肋和所述多个通道中的至少一个能够操作以使相对向下流动的流体相对水平地跨越所述支撑主体偏转。
32.根据权利要求31所述的烹饪系统，其中所述向下流动的流体具有旋转，并且所述向下流动的流体的所述旋转随着所述向下流动的流体接触所述支撑主体而减小。
33.根据权利要求31所述的烹饪系统，其中所述流体邻近于所述支撑主体的周边进入所述多个通道，并且由所述多个肋和所述多个通道中的至少一个径向向内引导通过所述通道并跨越所述支撑主体，所述流体在具有所述旋转运动的所述主体的所述相对中心处从所述通道排出。
34.根据权利要求31所述的烹饪系统，其中所述多个扩散器肋从所述主体向上延伸到所述中空内部中。
35.根据权利要求31所述的烹饪系统，其中所述支撑主体进一步包括多个肋。
36.根据权利要求35所述的烹饪系统，其中所述扩散器肋是所述多个肋的一部分。
37.根据权利要求36所述的烹饪系统，其中所述多个肋包括短肋、中肋和长肋。
38.根据权利要求37所述的烹饪系统，其中所述扩散器肋包括所述长肋。
39.根据权利要求37所述的烹饪系统，其中所述扩散器肋包括所述长肋和所述中肋。
40.根据权利要求31所述的烹饪系统，其中所述支撑主体进一步包括延伸穿过所述主体的多个开口。
41.根据权利要求31所述的烹饪系统，其中所述支撑主体具有介于约200g与约3kg之间的热质量。
42.根据权利要求31所述的烹饪系统，其中所述支撑主体由金属材料形成。
43.根据权利要求31所述的烹饪系统，其中所述支撑主体由铁磁性材料形成。
44.根据权利要求31所述的烹饪系统，其中所述支撑主体涂覆有不粘材料。
45.根据权利要求31所述的烹饪系统，其进一步包括从所述支撑主体延伸的至少一个手柄。
46.根据权利要求31所述的烹饪系统，其进一步包括能够收纳在所述中空内部中的食物容器，所述支撑主体以可拆卸方式安装在所述食物容器的内部内。
47.根据权利要求31所述的烹饪系统，其进一步包括用于监测所述中空内部内的温度和所述支撑主体的温度中的至少一个的温度传感器，所述温度传感器远离所述加热元件而定位。
48.根据权利要求47所述的烹饪系统，其中所述温度传感器延伸到所述食物容器的所述内部中。
49.根据权利要求48所述的烹饪系统，其中所述温度传感器延伸穿过所述食物容器的侧壁。
50.根据权利要求47所述的烹饪系统，其中所述温度传感器能够操作以监测所述支撑主体的温度是否高于用于实现与所述食物的美拉德反应的最小阈值。
51.根据权利要求47所述的烹饪系统，其进一步包括用于监测在所述中空内部内循环的流体的温度的第二温度传感器。
52.根据权利要求51所述的烹饪系统，其中所述第二温度传感器相对于利用所述中空内部循环的所述流体的流动定位在所述加热元件下游。
53.一种烹饪系统，包括：
壳体，其具有中空内部，食物能够收纳在所述中空内部内；
支撑主体，其支撑所述中空内部内的食物；
加热元件，其被定位成加热所述中空内部和所述支撑主体；以及
温度传感器，其用于监测所述支撑主体的温度，所述温度传感器远离所述加热元件而定位。
54.根据权利要求53所述的烹饪系统，其中所述温度传感器是热敏电阻器。
55.根据权利要求53所述的烹饪系统，其进一步包括能够收纳在所述中空内部中的食物容器，所述支撑主体以可拆卸方式安装在所述食物容器的内部内。
56.根据权利要求55所述的烹饪系统，其中所述温度传感器延伸到所述食物容器的所述内部中。
57.根据权利要求56所述的烹饪系统，其中所述温度传感器延伸穿过所述食物容器的侧壁。
58.根据权利要求56所述的烹饪系统，其中所述食物容器具有在其中形成的阶状物，并且所述温度传感器安装在所述阶状物处。
59.根据权利要求53所述的烹饪系统，其进一步包括可操作地耦合到所述加热元件和所述温度传感器的处理器，其中连接所述处理器和所述温度传感器的线嵌入所述壳体内。
60.根据权利要求53所述的烹饪系统，其中所述温度传感器安装成接近所述支撑主体。
61.根据权利要求53所述的烹饪系统，其中所述温度传感器安装成与所述支撑主体接触。
62.根据权利要求53所述的烹饪系统，其中所述支撑主体进一步包括具有多个开口的基部和从所述基部延伸的多个扩散器肋。
63.根据权利要求62所述的烹饪系统，其中所述支撑主体进一步包括形成在所述多个扩散器肋之间的多个通道，所述多个扩散器肋和所述多个通道中的至少一个能够操作以向流动通过所述多个通道的流体赋予旋转运动。
64.根据权利要求53所述的烹饪系统，其中所述温度传感器能够操作以监测所述支撑主体的温度是否高于用于实现与所述食物的美拉德反应的最小阈值。
65.根据权利要求53所述的烹饪系统，其中所述温度传感器能够操作以监测所述支撑主体的温度是否正接近烟点。
66.根据权利要求65所述的烹饪系统，其中所述加热元件可操作地耦合到所述温度传感器，并且所述加热元件的操作是响应于所述温度传感器确定所述支撑主体的所述温度正接近所述烟点而调整的。
67.根据权利要求53所述的烹饪系统，其进一步包括用于监测在所述中空内部内循环的流体的温度的第二温度传感器。
68.根据权利要求67所述的烹饪系统，其中所述第二温度传感器相对于在所述中空内部内循环的所述流体的流动定位在所述加热元件下游。
69.根据权利要求65所述的烹饪系统，其中所述加热元件可操作地耦合到所述第二温度传感器，并且所述加热元件的操作是响应于所述温度传感器确定在所述中空内部内循环的所述流体的所述温度超出可允许阈值而调整的。
70.一种烹饪系统，包括：
壳体，其具有中空内部，食物能够收纳在所述中空内部内；
加热元件，其与所述壳体相关联；
支撑主体，其用于支撑所述中空内部内的食物，其中所述支撑表面包括多个扩散器肋；以及
所述中空内部中的食物容器，所述支撑主体能够定位在所述食物容器的内部内；
其中所述支撑表面包括形成于所述多个扩散器肋之间的多个通道。
71.根据权利要求70所述的烹饪系统，其中所述多个扩散器肋从所述表面向上延伸到所述中空内部中。
72.根据权利要求70所述的烹饪系统，其中所述支撑主体进一步包括延伸穿过所述主体的多个开口。
73.根据权利要求70所述的烹饪系统，其中所述支撑主体具有介于约200g与约3kg之间的热质量。
74.根据权利要求70所述的烹饪系统，其进一步包括从所述支撑主体延伸的至少一个手柄。
75.根据权利要求70所述的烹饪系统，其进一步包括用于监测所述中空内部内的温度和所述支撑主体的温度中的至少一个的温度传感器，所述温度传感器远离所述加热元件而定位。
76.根据权利要求75所述的烹饪系统，其中所述温度传感器能够操作以监测所述支撑主体的温度是否高于用于实现与所述食物的美拉德反应的最小阈值。
77.根据权利要求70所述的烹饪系统，其进一步包括用于监测在所述中空内部内循环的流体的温度的第二温度传感器。
78.根据权利要求70所述的烹饪系统，其中所述支撑主体以可拆卸方式安装在所述食物容器的内部内。
79.根据权利要求70所述的烹饪系统，其中所述支撑主体附接到所述食物容器的内部或与所述食物容器的内部成一体。
80.一种烹饪系统，包括：
壳体，其具有中空内部，食物能够收纳在所述中空内部内；
容器，其能够安置在所述中空内部内；
支撑主体，其支撑所述中空内部内的食物，所述支撑主体能够安置在所述容器的内部内；
加热元件，其被定位成加热所述中空内部和所述支撑主体；
温度传感器，其用于监测所述支撑主体的温度，所述温度传感器远离所述加热元件而定位；以及
凸缘，其围绕所述中空内部形成，所述容器能够由所述凸缘支撑，并且所述温度传感器安装在所述凸缘处。
81.根据权利要求80所述的烹饪系统，其中所述温度传感器是热敏电阻器。
82.根据权利要求80所述的烹饪系统，其中所述凸缘形成在限定所述中空内部的衬里上。
83.根据权利要求82所述的烹饪系统，其中所述容器包括阶状物，所述支撑主体能够支撑在所述阶状物上。
84.根据权利要求82所述的烹饪系统，其中所述温度传感器延伸穿过所述衬里的侧壁。
85.根据权利要求83所述的烹饪系统，其中所述容器阶状物能够由所述凸缘对准并支撑。
86.根据权利要求80所述的烹饪系统，其进一步包括可操作地耦合到所述加热元件和所述温度传感器的处理器，其中连接所述处理器和所述温度传感器的线嵌入所述壳体内。
87.根据权利要求80所述的烹饪系统，其中所述温度传感器安装成接近但不接触所述支撑主体。
88.根据权利要求80所述的烹饪系统，其中所述支撑主体进一步包括具有多个开口的基部和从所述基部延伸的多个扩散器肋。
89.根据权利要求88所述的烹饪系统，其中所述支撑主体进一步包括形成在所述多个扩散器肋之间的多个通道，所述多个扩散器肋和所述多个通道中的至少一个能够操作以向流动通过所述多个通道的流体赋予旋转运动。
90.根据权利要求80所述的烹饪系统，其中所述温度传感器能够操作以监测所述支撑主体的温度是否高于用于实现与所述食物的美拉德反应的最小阈值。
91.根据权利要求80所述的烹饪系统，其中所述温度传感器能够操作以监测所述支撑主体的温度是否正接近烟点。
92.根据权利要求91所述的烹饪系统，其中所述加热元件可操作地耦合到所述温度传感器，并且所述加热元件的操作是响应于所述温度传感器确定所述支撑主体的所述温度正接近所述烟点而调整的。
93.根据权利要求80所述的烹饪系统，其进一步包括用于监测在所述中空内部内循环的流体的温度的第二温度传感器。
94.根据权利要求93所述的烹饪系统，其中所述第二温度传感器相对于在所述中空内部内循环的所述流体的流动定位在所述加热元件下游。
95.根据权利要求91所述的烹饪系统，其中所述加热元件可操作地耦合到所述第二温度传感器，并且所述加热元件的操作是响应于所述温度传感器确定在所述中空内部内循环的所述流体的所述温度超出可允许阈值而调整的。
96.根据权利要求80所述的烹饪系统，其中所述支撑件能够从所述容器移除。
97.根据权利要求80所述的烹饪系统，其中所述容器能够从所述中空内部移除。
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