KR102211950B1 - 의료용 주사기 카트리지 등의 pecvd 증착 균일성 제어 - Google Patents

의료용 주사기 카트리지 등의 pecvd 증착 균일성 제어 Download PDF

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아담 스티븐슨
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Abstract

의료용 배럴, 바이얼, 혈액관과 같은 작업편의 플라즈마 개질 방법 및 장치를 제공한다. 작업편의 내부공간 (lumen) 속에 플라즈마를 제공한다. 작업편의 표면을 플라즈마 개질하는데 효과적인 조건하에 플라즈마를 제공된다. 내부공간의 적어도 일 부분에 자기장을 인가한다. 자기장은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 대한 플라즈 개질의 균일성을 향상시키는데 효과적인 배향 및 자기장 세기를 가진다. 본 발명은 또한 상기 기재된 방법 또는 장치에 따라 제조되는 용기, 및 제제를 보관하는 의료용 배럴 또는 바이얼이 마개로 단단히 고정된 제약 패키지를 제공한다.

Description

의료용 주사기 카트리지 등의 PECVD 증착 균일성 제어{CONTROLLING THE UNIFORMITY OF PECVD DEPOSITION ON MEDICAL SYRINGES, CARTRIDGES, AND THE LIKE}
다음과 같은 미국 임시특허출원들의 우선권을 주장한다: 시리얼 번호 제61/872,481호, 2013년 8월 30일 출원; 시리얼 번호 제61/800,660호, 2013년 3월 15일 출원; 시리얼 번호 제61/747,584호, 2012년 12월 31일 출원; 시리얼 번호 제61/732,180호, 2012년 11월 30일 출원. 선출원에 대한 개시를 제공하기 위해 상기 우선 출원들의 전체를 본원에 참조로 모두 통합한다.
특허출원 시리얼 번호 제12/779,007호, 2010년 5월 12일 출원, 현 미국 특허 제7,985,188호; PCT/US11/36097, 2011년 5월 11일 출원; PCT/US12/64489, 2012년 11월 9일 출원; 제61/558,885호, 2011년 11월 11일 출원; 제61/636,377호, 2012년 4월 20일 출원; 제61/645,003호, 2012년 5월 9일 출원; 제61/713,435호, 2012년 10월 12일 출원; 제61/716,381호, 2012년 10월 19일 출원, 전체를 본원에 참조로 모두 통합한다.
본 발명은 유체를 저장 또는 유체와 접촉되는 제약 패키지 또는 기타 용기의 피복된 표면, 예컨대, 대체로 원통형인 내부 표면의 기술 분야에 관한 것이다. 적합한 유체의 예로, 식품 또는 생물학적으로 활성인 화합물, 가령 약학적 조성물, 체액, 가령 혈액, 또는 다른 유형의 조성물, 가령 진단 및 분석 시약 또는 조성물이 있다. 본 발명은 또한 대체로 원통형의 피복된 내부 표면을 갖는, 제약 패키지 또는 다른 유체-충전 용기에 관한 것이다. 더 일반적으로 본 발명은 또한 패키지 또는 용기 이외의 기기, 가령 카테터를 포함한 의료 기기에 관한 것이다.
또한 본 개시는 가령 제제 저장 및 전달, 샘플 채취관 (예컨대, 정맥 천자용 채혈관) 및 다른 의료 샘플 채취, 및 그 밖의 목적으로 사용되는 다수의 동일한 제약 패키지 또는 기타 용기의 향상된 가공 방법에 관한 것이다. 이러한 제약 패키지 또는 기타 용기는 상기 목적들을 위해 수없이 사용되며, 제조하기에 비교적 경제적이되, 저장 및 사용하는데 있어서 매우 신뢰성이 높아야 한다.
유체를 저장하거나 유체와 기타 접촉되는 제약 패키지 또는 기타 용기, 예를 들어, 바이얼 및 사전충전형 주사기의 제조시 한 가지 중요한 고려 사항은 제약 패키지 또는 기타 용기의 내용물이 바람직하게는 상당한 유통기한을 갖도록 하는 것이다. 이러한 유통기한 동안, 제약 패키지 또는 기타 용기에 채워진 물질을 외부 환경으로부터 분리시키는 것이 중요할 수 있다. 또한, 제약 패키지 또는 기타 용기에 채워진 물질을, 상기 물질이 수용되어 있는 용기 벽으로부터 분리시켜, 물질이 제약 패키지 또는 기타 용기 벽, 배리어 코팅 혹은 층, 또는 그 밖의 기능성 코팅 혹은 층으로부터 침출되어 사전충전된 내용물로부터 침출되거나 그 반대의 경우를 피하는 것이 중요할 수 있다.
이러한 제약 패키지 또는 기타 용기의 대다수가 저렴하고 대량으로 사용되기 때문에, 어떤 적용분야에서는 제조비용을 엄청난 수준까지 높이지 않으면서 요구되는 유통기한을 신뢰성 있게 얻는 것이 유용할 수 있다.
수십 년간, 대부분의 비경구 치료제는 제I 타입 의료 등급 붕규산염 유리 용기, 이를테면 바이얼 또는 사전충전형 주사기에 담겨 최종 사용자에 전달되었다. 붕규산염 유리의 비교적 강하고, 불침투성이며, 비활성인 표면은 대부분의 약물 제품에 적절하게 기능해왔다. 그러나, 최근 고비용의 복잡하고 민감한 생물제제는 물론 자동주사기 (자동주사기)와 같이 발전된 전달 시스템의 출현으로, 여러 문제점 중에서, 금속으로부터 여기될 수 있는 오염, 플레이킹 (flaking), 박리 (delamination) 및 파단 현상들을 비롯한, 유리 재질의 제약 패키지 또는 기타 용기의 물리적, 화학적 결점들이 드러났다. 또한, 유리에는 저장시 침출될 수 있는 여러 성분이 함유되어 있어, 저장된 물질을 훼손시킬 수 있다.
더 상세하게 말해서, 붕규산염 제약 패키지 또는 기타 용기는 수많은 단점을 드러낸다.
유리는 많은 원소들 (규소, 산소, 붕소, 알루미늄, 나트륨, 칼슘)과 미량의 다른 알칼리토금속을 함유한 불균질 혼합물을 함유한 모래로부터 제조된다. 제I 타입 붕규산염 유리는 대략 76%의 SiO2, 10.5%의 B2O3, 5%의 Al2O3, 7%의 Na2O 및 1.5%의 CaO로 구성되며, 종종 철, 마그네슘, 아연, 구리 및 기타 금속을 미량으로 함유한다. 붕규산염 유리의 불균질 성질로 인해 분자 수준에서 균일하지 않은 표면 화학이 여기된다. 유리 용기를 만드는데 이용되는 유리 형성 공정에서 용기의 일 부분은 1200℃ 정도로 높은 온도에 노출된다. 이러한 고온하에, 알칼리 이온은 국소적 표면으로 이동하여, 산화물을 형성하게 된다. 붕규산염 유리 기기로부터 추출된 이온들의 존재는 일부 생물제제의 분해, 응집 및 변성에 관여할 수 있다. 많은 단백질 및 다른 생물제제는 유리 바이얼 또는 주사기 내 용액 속에서 충분히 안정적이지 못하기 때문에 동결건조 (freeze dried) 처리되어야 한다.
유리 주사기에서는 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼 (stopper) 또는 밀봉부 (seal)가 배럴 내에서 슬라이드될 수 있도록 윤활제로 실리콘 오일을 통상 사용한다. 실리콘 오일은 인슐린과 같은 단백질 용액 및 일부 다른 생물제제의 침전을 일으킨다. 게다가, 실리콘 오일 코팅 혹은 층은 종종 균일하지 않아서, 시중에서의 주사기 상품성이 상실된다.
유리 제약 패키지 또는 기타 용기는 제조, 충전 작업, 배송 및 사용시 깨지거나 분해되기 쉬우며, 이는 유리 미립자들이 약물에 들어갈 수도 있음을 뜻한다. 유리 미립자의 존재로 인해 많은 FDA 경고장이 발부되고 제품 리콜이 시행되어 왔다. 유리-형성 공정은 최신 자동주사기 및 전달 시스템들 중 일부에 요구되는 밀접 치수공차를 따르지 못한다.
그 결과, 일부 회사들은 유리보다 더 밀접한 치수공차 및 더 낮은 파단율을 제공하는 플라스틱 제약 패키지 또는 기타 용기로 관심을 돌렸다.
비록 파단율, 치수공차 및 표면 균일성과 관련하여 플라스틱이 유리보다 우수하지만, 아래와 같은 결점들로 인해 주요 제약 포장용으로 사용하는데 제한받는다.
가스 (산소) 투과성: 플라스틱은 소분자 가스가 기기 내부로 (또는 외부로) 투과하도록 허용한다. 플라스틱의 가스 투과성은 유리의 그것보다 현저히 높으며, 많은 경우에서 (산소-민감성 약물, 이를테면 에피네프린), 이러한 이유로 플라스틱은 이전에 부적합하였다.
수증기 투습성: 유리에 비해 플라스틱은 수증기가 더 높은 정도로 기기를 관통하도록 허용한다. 이는 고형 (동결건조된) 약물의 유통기한에 불리할 수 있다. 대안으로, 액체 제품은 매우 건조한 환경에서 수분을 잃을 수 있다.
침출성 및 추출성: 플라스틱 제약 패키지 또는 기타 용기는 약물 제품으로부터 침출될 수 있거나 약물 제품 내로 추출될 수 있는 유기 화합물들을 함유한다. 이들 화합물은 약물을 오염시킬 수 있고/있거나, 약물의 안정성에 부정적으로 영향을 미칠 수 있다.
분명히, 플라스틱 및 유리 재질 제약 패키지 또는 기타 용기는 각각 제약 일차 포장에 특정 이점들을 제공하기는 하지만, 둘 중 어느 것도 모든 약물, 생물제제 또는 다른 치료제에 최적인 것은 아니다. 따라서, 플라스틱 제약 패키지 또는 기타 용기, 특히 플라스틱 주사기가 유리의 특성들에 가까운 가스 및 용질 배리어 특성을 갖는 것이 요망된다. 아울러, 플라스틱 주사기가 충분한 윤활성 및/또는 부동태화 또는 보호 특성들, 및 주사기 내용물과 양립될 수 있는 윤활성 및/또는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 갖출 필요가 있다. 또한, 용기 내용물과 접촉되는 경우에 유리 용기의 표면이 구성성분들을 박리 또는 용해 또는 침출시키는 경향이 없어야 한다는 것이 요구될 수 있다.
사전충전형 주사기를 제조할 때 추가로 고려해야 할 사항들이 있다. 흔히 사전충전형 주사기는 사용 전에 주사기를 충전할 필요가 없도록 준비되고, 사용 후에는 폐기될 수 있다. 몇몇 예를 들자면, 식염수, 주사제용 염료, 또는 약학적으로 활성인 제제를 주사기에 미리 채울 수 있다.
흔히, 사전충전형 주사기는 원위 단부가, 뚜껑을 사용하는 것과 같이 (또는, 피하 주사바늘이 미리 설치되어 있다면, 주사바늘 쉴드도 뚜껑이 될 수 있음), 뚜껑 덮힌 상태가 될 수 있으며, 끌어 당겨진 플런져 팁, 피스톤, 스토퍼 또는 밀봉부에 의해 당겨 근위 단부가 밀폐될 수 있다. 사용 전의 사전충전형 주사기는 멸균처리된 패키지로 싸여있는 상태로 있다. 사전충전형 주사기를 사용하기 위해서는 모든 포장지와 뚜껑을 제거하고, 선택적으로 피하 주사바늘이나 다른 전달 도관을 배럴의 원위 단부에 부착시킬 수 있으며, 전달 도관 또는 주사기를 사용 위치까지 (이를 테면, 피하 주사바늘을 환자의 혈관 내로, 또는 주사기의 내용물로 세정되는 장치 내로 삽입함으로써) 이동시킬 수 있고, 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부를 배럴 내에서 전진시켜 배럴의 내용물을 주입시킬 수 있다.
주사기 또는 자동주사기 카트리지는 일반적으로 플런저 팁, 피스톤, 또는 밀봉부, 또는 내용물을 분주하기 위해 코팅 표면과 슬라이드 접촉되는 다른 이동부를 포함한다. 이동부는 마찰 저항으로 인해 쉽게 매끄럽게 이동하지 못한다. 주사기, 자동주사기 카트리지 및 유사한 기기들에 공통적으로 필요한 것은 배럴과 이동부 사이의 마찰저항 및 접착성을 줄이기 위한 윤활 또는 윤활성 코팅 혹은 층이며, 이로써 제약 조성물 또는 다른 물질을 기기로부터 분주할 때 더 쉽게 배럴 내에서 슬라이드할 수 있게 하는 것이다. 마찰저항은 두 가지 주요 요소 - 이탈력 (breakout force) 및 플런저 슬라이딩력 - 을 가진다.
이탈력은 고정 플런저를 배럴 내부에서 이동시키기 시작하는데 요구되는 힘이거나, 안착된 고정 마개 (closure)를 자리에서 밀어내어 이동시키기 시작하는데 요구되는 대등한 힘이다 (“배럴”은 의료용 주사기 배럴 또는 의료용 카트리지 배럴을 가리키며, 둘 다 더 보편적으로는 의료용 배럴로 알려져 있다). 이탈력은 사전충전형 주사기 플런저가 플런저와 의료용 배럴 사이의 윤활제를 밀어 버리거나 그 사이의 윤활제가 분해되어 의료용 배럴에 접착된 후, 주사기를 저장하게 되면서 증가하는 경향이 있다. 이탈력은 “교착 (sticktion)”을 극복하는데 필요한 힘이며, 이는 플런저를 이탈시켜 이동하기 시작하도록 허용하기 위해 극복될 필요가 있는 플런저와 의료용 배럴 사이의 접착력에 대한 산업 용어이다.
플런저 슬라이딩력은 플런저 또는 마개가 “이탈”되어 이동하기 시작한 후 상기 플런저 또는 마개가 의료용 배럴 또는 다른 패키지 내부에서 계속 이동시키는데 요구되는 힘이다.
사전충전형이든지 또는 별도로 시판되든지, 주사기, 자동주사기 카트리지 또는 유사한 기기에서는 통상적으로 실리콘 오일 또는 폴리디메틸실록산 (PDMS)을 윤활제로 사용하여 이탈력과 슬라이딩력을 줄인다. 비경구용 약물 저장/전달 기기에서 PDMS를 사용하는 것과 관련된 우려사항들 중 하나는 기기로부터의 이물질이 약물 용액에 도입된다는 점이다. PDMS-기반 윤활제 시스템은 사전충전형 주사기에 측정 및 추출가능한 프로파일을 부여하는 것으로 알려져 있으며, 이러한 프로파일은 약물 제제와의 부정적인 상호작용에 대한 가능성을 주어, 실리콘 오일의 볼루스 주사를 여기한다. 도 52 내지 도 54는 윤활제로서의 실리콘 오일 (또는 그 밖의 오일)의 단점들을 나타내는 도면이다. 실리콘 오일의 비균일성은 실리콘 오일이 표면에 공유 결합되지 않고 흐르기 때문에 발생한다. 도 52는 플런저가 삽입된 후에 실리콘 오일이 플런저에 의해 의료용 배럴 벽에서 밀어내지는 것을 나타낸다. 도 53은 실리콘 오일이 플런저와 주사기 벽 사이의 영역 밖으로 억지로 밀려져, 높은 해제력(break loose force)으로 이어지는 것을 나타낸다. 도 54는 시간이 지나면서 중력으로 인해 실리콘 오일이 흐르는 것을 나타낸다.
미국특허 제7,985,188호는 피복되지 않은 기질보다 더 낮은 피스톤 슬라이딩력 또는 이탈력을 제공하도록 구성된 윤활성 코팅 혹은 층으로 피복된” 의료용 배럴 또는 기타 장치에 관한 것이다. 윤활성 코팅 혹은 층은 X선 광전자 분광법 (XPS)으로 측정한 결과, SiOxCy 또는 SiNxCy (화학식에서 w는 1이고, x는 약 0.5 내지 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3임) 원자비들 중 하나를 가진다. “윤활성 층은 코팅을 형성하기에 효과적인 조건하에 플라즈마 강화 화학기상증착법 (PECVD)으로 증착된다.” “윤활성 층은 피복되지 않은 기질보다 더 낮은 피스톤 슬라이딩력 또는 이탈력을 제공하도록 구성된다.” 이러한 PECVD 윤활성 코팅 혹은 층은 해당 기기를 의료용 배럴 또는 다른 윤활된 부품의 벽에 더 잘 확고히 고정되는 코팅 혹은 층으로 윤활시키기 때문에, PDMS와 연관된 몇가지 문제점을 해결한다. 윤활성 코팅 혹은 층은 또한 PDMS보다 훨씬 더 얇고, 더 균일할 수 있어, 결과적으로 윤활제 사용량을 감소시킨다.
본 발명의 일 양태는 의료용 카트리지 또는 주사기를 위한 의료용 배럴의 제조 방법이다. 이에 제공되는 의료용 배럴은 내부공간 (lumen)의 적어도 일 부분을 획정하는 대체로 원통형의 내부 표면을 지닌 벽을 포함한다. 대체로 원통형의 내부 표면은 4 내지 15 mm 범위의 직경을 가진다. 일 부분이 내부공간 속에 위치되며 대체로 원통형의 내부 표면과 동축이고 그로부터 방사방향으로 1.2 내지 6.9 mm 이격된 외부 표면을 가진 내부 전극이 제공된다. 내부 전극은 하나 이상의 출구가 마련되어 있는 내부 통로를 가진다. 외부 전극 또한 제공된다.
가스 PECVD 전구체는 내부 통로의 하나 이상의 출구를 통해 내부공간 내부로 도입된다.
대체로 원통형의 내부 표면의 적어도 일 부분 상에 플라즈마 강화 화학기상증착 (PECVD) 가스 베리어 코팅을 형성하는데 효과적인 조건하에 전자기 에너지를 외부 전극에 인가한다. 배리어 코팅 혹은 층은 평균 두께를 가진다.
선택적으로는 전체 인가 단계에 대해, 전자기 에너지를 인가하는 동안 자기장을 의료용 배럴 가까이에 인가한다. 이러한 자기장은 대체로 원통형의 내부 표면상의 가스 배리어의 평균 두께의 표준편차를 줄이는데 효과적인 조건하에 인가된다.
본 발명의 또 다른 양태는 전술한 의료용 배럴의 대체로 원통형 벽 내부에 자기장을 인가하는 장치이다. 상기 장치는 의료용 배럴 홀더, 공급부 (feeder), 및 하나 이상의 자기장 발생부를 포함한다.
의료용 배럴 홀더는 의료용 배럴을 안착시키도록 구성된 크기로 배치된 안착부를 포함하여, 대체로 원통형의 내부 표면의 축의 위치를 정한다.
홀더에는 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 PECVD 전구체를 의료용 배럴의 내부공간에 공급하도록 구성된 공급부가 연결되어 있다.
홀더에는 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 의료용 배럴의 내부공간 속에 자기장을 인가하기 위한 1개 이상의 자기장 발생부가 연결되어 있다.
본 발명의 또 다른 양태는 의료용 카트리지 또는 주사기용 의료용 배럴을 피복하는 장치이다. 상기 장치는 배럴 홀더, 내부 전극, 외부 전극, 공급부, 및 1개 이상의 자기장 발생부를 포함한다.
배럴 홀더는 내부공간의 적어도 일 부분, 선택적으로는 전체 내부공간을 획정하는, 4 내지 15 mm 범위의 직경을 가진 대체로 원통형의 내부 표면을 가진 벽을 포함하는 유형의 의료용 배럴을 안착시키도록 구성된 크기 및 위치의 안착부를 포함한다.
내부 전극은, 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 일 부분이 의료용 배럴의 내부공간 속에 위치하도록 배치되는 외부 표면을 가진다. 적절한 비율의 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 내부 전극은 대체로 원통형의 내부 표면과 동축을 이루며, 그로부터 방사방향으로 1.2 내지 6.9 mm 이격된다. 내부 전극은 하나 이상의 출구가 형성된 내부 통로를 가진다. 외부 전극 또한 제공된다.
홀더에는 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 PECVD 전구체를 의료용 배럴의 내부공간에 공급하도록 구성된 공급부가 연결되어 있다.
홀더에는 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 의료용 배럴의 내부공간 속으로 자기장을 인가하기 위한 1개 이상의 자기장 발생부가 연결되어 있다.
본 발명의 다른 양태들은 본 명세서 및 청구범위에서 밝혀지거나 명백해진다.
도 1은 본 개시의 일 구현예에 따른, 캡 어셈블리로도 알려져 있는, 의료용 배럴, 피하 주사바늘 및 뚜껑으로 이루어진, 뚜껑 달린 어셈블리에 대한 입면도이다.
도 2는 도 1의 뚜껑 달린 어셈블리에 대한 종단면으로서, 3층 구조 PECVD 세트의 확대도를 나타낸다.
도 3은 도 1의 뚜껑 달린 어셈블리에 대한 확대 부분도이다.
도 4는 화학기상증착 코팅 스테이션에 안착된, 도 1과 도 2의 뚜껑 달린 어셈블리에 대한 종단면도이다.
도 5는 도 4의 A-A선을 따른 단면도로서, 사중극 자석 어레이를 나타낸다.
도 6은 도 4와 도 5에 나타낸 화학기상증착 코팅 스테이션을 더 상세히 보여주는 개략도이다.
도 7은 제제 (pharmaceutical preparation)가 충전되어 있고, 사전충전형 주사기를 정의하는 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부가 장착된, 도 1 내지 도 6의 뚜껑 달린 어셈블리의 도 2와 유사한 도면이다. 본 도면에 나타낸 선택예에서는 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부 및 플런저 푸쉬 로드가 설치되어 있다.
도 8은 마개 (격막 및 크림프)가 장착되어 있고, 동일한 배리어 코팅 혹은 층, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅, 및 그 밖의 일반 특징부들을 구비한 바이얼의 종단면도이다.
도 9는 본 발명의 임의의 구현예와 함께 사용가능한 대안적 자석 구조로서의 솔레노이드 코일에 대한, 도 5와 유사한 도면으로서, 9a 부분은 솔레노이드 코일의 분리사시도이다.
도 10은 본 발명의 임의의 구현예와 함께 사용가능한 대안적 자석 구조로서의 원형 단면 환상 코일 (toroidal coil)에 대한, 도 5와 유사한 도면이다.
도 11은 도 10의 환상 코일의 분리 절취사시도이다.
도 12는 본 발명의 임의의 구현예와 함께 사용가능한 대안적 자석 구조로서의 원형 단면 환상 코일에 대한, 도 9a와 유사한 도면이다.
도 13은 도 12의 13-13 단면선을 따른 단면도이다.
도 14는 본 발명의 임의의 구현예와 함께 사용가능한 원통 축과 일치하는 극축 (polar axis)을 가진 링 자석의 극축 배향을 나타낸다.
도 15는 본 발명의 임의의 구현예와 함께 사용가능한, 최장 치수에 평행한 극축을 가진 둥근 원통형 바 자석의 극축 배향을 나타낸다.
도 16은 본 발명의 임의의 구현예와 함께 사용가능한, 최장 치수에 평행한 극축을 가진 정사각형-단면 원통형 바 자석의 극축 배향을 나타낸다.
도 17은 본 발명의 임의의 구현예와 함께 사용가능한, 원주 극축을 가진 다중극 링 자석의 극축 배향 (밀폐 링으로부터의 절취도)을 나타낸다.
도 18은 최단 치수 (두께)에 평행하고 최장 치수 (길이)에 직각을 이루는 극축을 가진 바 자석의 극축 배향을 나타낸다.
도 19는 본 발명의 임의의 구현예와 함께 사용가능한, 도 5의 사중극 자석 어레이의 사시도이다.
도 20은 본 발명의 임의의 구현예에서 도 19의 자석 어레이와 유사하게 사용가능한 축방향 자석 어레이의 사시도이다.
도 21은 본 발명의 임의의 구현예에서 도 19의 자석 어레이와 유사하게 사용가능한 사중극 자석 어레이의 사시도이다.
도 22는 본 발명의 임의의 구현예에서 도 19의 자석 어레이와 유사하게 사용가능한, 적층형 다중극 세그먼트 링 자석 어레이의 사시도이다.
도 23은 본 발명의 임의의 구현예에서 도 19의 자석 어레이와 유사하게 사용가능한, 적층형 축방향-극 링 자석 어레이의 사시도이다.
도 24는 본 발명의 임의의 구현예에서 도 19의 자석 어레이와 유사하게 사용가능한, 적층형 사중극 자석 어레이의 사시도이다.
도 25는 본 발명의 임의의 구현예에서 도 19의 자석 어레이와 유사하게 사용가능한, 사중극 자석 어레이의 사시도이다.
도 26은 본 발명의 임의의 구현예에서 도 5의 해당 구조 (108)와 유사하게 사용가능한, 90도 천공 패턴을 가진 제1 대안적 가스 입구 및 내부 전극에 대한 측방향 입면도이다.
도 27은 본 발명의 임의의 구현예에서 도 5의 해당 구조 (108)와 유사하게 사용가능한, 120도 천공 패턴을 가진 제2 대안적 가스 입구 및 내부 전극에 대한 측방향 입면도이다.
도 28은 본 발명의 임의의 구현예에서 도 5의 해당 구조 (108)와 유사하게 사용가능한, 나선형 또는 45도 천공 패턴을 가진 제2 대안적 가스 입구 및 내부 전극에 대한 측방향 입면도이다.
도 29는 임의의 구현예에서 도 4 내지 도 6과 도 9 내지 도 28의 PECVD 장치 상에 분리된 뚜껑 (270)과 사용가능한, 의료용 샘플관의 사시도이다.
도 30은 실시예 1의 실험에서, 의료용 배럴의 대체로 원형의 내부 표면 (16) 상의 위치에 대한 코팅 혹은 층 두께의 선도이다.
도 31은 실시예 2의 실험에서, 의료용 배럴의 대체로 원형의 내부 표면 (16) 상의 위치에 대한 코팅 혹은 층 두께의 선도이다.
도 32는 실시예 3의 실험에서, 의료용 배럴의 대체로 원형의 내부 표면 (16) 상의 위치에 대한 코팅 혹은 층 두께의 선도이다.
도 33은 실시예 4의 실험에서, 의료용 배럴의 대체로 원형의 내부 표면 (16) 상의 위치에 대한 코팅 혹은 층 두께의 선도이다.
도 34는 실시예 5의 실험에서, 의료용 배럴의 대체로 원형의 내부 표면 (16) 상의 위치에 대한 코팅 혹은 층 두께의 선도이다.
도 35은 실시예 6의 실험에서, 의료용 배럴의 대체로 원형의 내부 표면 (16) 상의 위치에 대한 코팅 혹은 층 두께의 선도이다.
도 37은 도 4와 유사한 도면으로서, 임의의 구현예에서 개별적 또는 조합된 형태로 사용가능한 특정의 선택적 특징부들 (헬름홀츠 코일 (86a, 86b), 광검출기 (350), 로고스키 코일 (352), 및 랭뮤어 프로브 (354)을 포함함)를 나타낸다.
도 38은 전자 병을 포함한 플라즈마 처리 장치의 개략적 종단면도이다. 전자 병의 구성을 더 잘 나타내기 위해 플라즈마 발생 시스템, 물질 공급 시스템 및 배기 시스템을 생략하였다.
도 39는 도 38의 39-39선을 따른 단면도이다.
도 40은 도 38의 40-40선을 따른 부분단면도로서, 링 자석 (75) 및 밀접하게 이격된 자력선들 (83)의 횡단면도를 나타낸다.
도 41은 전자를 방사방향으로 밀폐시키기 위한 링 자석들 (75)의 적층체로 만들어진 대안적 전자 병의 개략적 단면도로서, 각 단부는 전자들을 축방향으로 밀폐시키기 위한 바 자석 (65)에 의해 뚜껑 덮힌 상태로 있다. 전자 병의 구성을 더 잘 나타내기 위해 플라즈마 발생 시스템, 물질 공급 시스템 및 배기 시스템을 생략하였다.
도 42는 전자들을 방사방향 및 축방향으로 제공하기 위한 솔레노이드 코일로 만들어진 대안적 전자 병의 개략적 단면도이다. 전자 병의 구성을 더 잘 나타내기 위해 플라즈마 발생 시스템, 물질 공급 시스템 및 배기 시스템을 생략하였다.
도 43은 전자들을 방사방향으로 밀폐시키기 위한 솔레노이드 코일 및 전자들을 축방향으로 밀폐시키기 위한 정전식 전자 미러들로 만들어진 또 다른 대안적 전자 병의 개략적 단면도이다. 전자 병의 구성을 더 잘 나타내기 위해 플라즈마 발생 시스템, 물질 공급 시스템 및 배기 시스템을 생략하였다.
도 44는 전자들을 방사방향으로 밀폐시키는 원통형 정전식 미러 및 전자들을 축방향으로 밀폐시키기 위한 자석식 전자 미러들로 만들어진 또 다른 대안적 전자 병의 개략적 단면도이다. 전자 병의 구성을 더 잘 나타내기 위해 플라즈마 발생 시스템, 물질 공급 시스템 및 배기 시스템을 생략하였다.
도 45는 방사방향으로 연장되는 극축을 가진 교번식 바 자석들 (61 및 62)로 만들어진 8개의 자석 사중극 유사체의 상세도이다. 자석 (61)은 내향 북극을 가지며, 교번식 자석 (62)은 외향 북극을 가진다.
도 46은 환형면이 극을 정함에 따라, 축방향을 향하는 극축을 가진 8개의 링 자석으로 이루어진 적층체의 상세도이다. 일 구현예에 의하면,8개 자석 모두 동일한 자기장 세기를 가지며, 이에 따라 오로지 방사방향 밀폐만 가능하다. 또 다른 구현예에서는 적층체의 각 단부에서 링 자석의 자기장 세기가 더 높으므로, 축방향 밀폐 역시 가능하다.
도 47은 본 발명의 특정 양태에 사용되는 자석 어레이의 개략적 측면도이다.
도 48은 경사진 사중극 자석 어레이를 포함한 PECVD 장치 내 바이얼의 개략적 측면도이다.
도 49는 본 발명의 특정 양태에 사용되는 축방향 자석 어레이의 사시도이다.
도 50은 도 1의 뚜껑 달린 어셈블리에서 국부 코팅 혹은 층을 위한 대안적 코팅 스테이션의 종단면도이다.
도 51은 도 1 내지 도 6의 뚜껑 달린 어셈블리에 대한 도 7과 유사한 도면으로서, 선택적 국부 윤활성 코팅을 나타낸다.
도 52 내지 도 54는 윤활제로서의 실리콘 오일 (또는 그 밖의 오일)의 단점들을 나타내는 도면이다.
도 55는 상부 쉘 지지체가 제거된 상태에서, 하부 쉘 지지체 (836)에 지지된 원추형 자석들의 링 형상 어레이의 사시도이다.
도 56은 도 55의 56-56선을 따른 단면도이다.
도 57은 상부 또는 하부 쉘 지지체 (836) (상부 쉘 지지체와 하부 쉘 지지체는 선택적으로 동일할 수 있음)의 단면도이다.
도 58은 본 발명에 따라 사용가능한 대안적 절두피라미드형 자석 모양을 나타낸다.
도 59는 본 발명에 따라 사용가능한 대안적 피라미드 자석 형상을 나타낸다.
도 60은 본 발명에 따라 사용가능한 대안적 절두원추형 자석 모양을 나타낸다.
도 61은 의료용 배럴의 내부 표면상의 코팅 혹은 층 두께에 대한 맵이다.
도 62는 의료용 배럴의 개략적 도면이다.
도 63은 도 61의 의료용 배럴의 대체로 원통형 내부 표면상의 코팅 혹은 층 두께에 대한 추가 개략적 도면이다.
도 64는 코팅 혹은 층 두께 대 (versus) 도 61 내지 도 63의 의료용 배럴의 후방측으로부터의 거리에 대한 선도이다.
도 65는 코팅 혹은 층 두께의 맵이다.
도 66은 도 65의 의료용 배럴의 대체로 원통형 내부 표면상의 코팅 혹은 층 두께를 보여주는 현미경 사진이다.
도 67은 도 65의 의료용 배럴의 대체로 원통형 내부 표면상의 코팅 혹은 층 두께를 보여주는 또 다른 제2 현미경 사진이다.
도 68은 플런저를 삽입하고 주사기를 10분 동안 숙성시킨 후, 실시예 9의 Fm에 대한 선도이다.
도 69는 의료용 배럴 상의 제3 윤활성 코팅 혹은 층 두께의 맵이다.
도 70은 실시예 10의 Fm에 대한 선도이다.
도 71은 의료용 배럴의 대체로 원통형 내부 표면상의 코팅 혹은 층 두께를 보여주는 현미경 사진이다.
도 72는 의료용 배럴의 대체로 원통형 내부 표면상의 코팅 혹은 층 두께를 보여주는 또 다른 제2 현미경 사진이다.
도 73은 도 69, 도 70, 도 71 및 도 72의 데이터를 생성하는데 사용되는 NdFe 자석에 대한 자기장 세기 프로파일을 나타낸다.
도 74는 실시예 11에서 시험 대상 바이얼의 바이얼 벽에서의 TEM (투과 전자 현미경) 시험 위치들을 나타낸다.
본 발명과 관련하여, 다음과 같은 정의 및 약어들을 사용하였다:
달리 명시되지 않는 한, “플라즈마”는 가스와 유사한 물질의 여기 상태를 가리키며, 이러한 상태에서는 물질의 입자들의 특정 부분이 이온화되며 자유 전자들이 존재한다. 대신, 본 명세서의 또 다른 범위에서 “플라즈마”는 혈액의 액체 성분을 가리킬 수 있지만, 후자 의미는 본 개시의 맥락에서 명백할 경우에만 해당된다.
RF는 고주파 전자기 에너지이다.
본 발명의 범위 내에서 “적어도 (이상)”란 용어는 상기 용어 다음에 쓰이는 정수와 “같거나 더 큰”을 뜻한다. “포함하는”이란 용어는 다른 원소들이나 단계들을 배제하지 않으며, 부정관사 “한” 또는 “하나의”는 달리 명시되지 않는 한 복수를 배제하지 않는다. 매개변수 범위가 표시될 때마다, 범위의 한계값들로서 주어진 매개변수 값들 및 상기 범위에 속하는 매개변수의 모든 값들을 가리키고자 한다.
본 발명의 목적상, “유기규소 전구체”는 산소 또는 질소 원자 및 유기 탄소 원자 (적어도 하나의 수소 원자에 결합된 수소 인자인 유기 탄소 원자)에 연결된 4가 규소 원자인 하기 연결기 중 적어도 하나를 갖는 화합물이다:
Figure 112015063276666-pct00001
또는
Figure 112015063276666-pct00002
PECVD 장치에 증기로서 공급될 수 있는 전구체로 정의되는 휘발성 유기규소 전구체는 선택적 유기규소 전구체일 수 있다. 임의로, 유기규소 전구체는 선형 실록산, 단일환 실록산, 다환 실록산, 폴리실세스퀴옥산, 알킬 트리메톡시실란, 선형 실라잔, 단일환 실라잔, 다환 실라잔, 폴리실세스퀴아잔, 및 이들 전구체 중 임의의 둘 이상의 조합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.
PECVD 전구체, 기상 (기체상) 반응물질 또는 처리 가스들 및 희석 가스의 공급량은 본 명세서와 청구범위에서 때때로 “표준 부피”로 표현된다. 가스의 충전량 또는 다른 고정량의 표준 부피는 표준 온도 및 압력에서 고정량의 가스가 차지하는 부피이다 (전달시 실제 온도 및 압력을 고려하지 않음). 표준 부피는 본 개시와 청구범위의 범주 내에 속하는 다양한 부피 단위를 이용하여 측정할 수 있다. 예를 들어, 동일한 고정량의 가스는 표준 입방 센티미터수, 표준 입방 미터수, 또는 표준 입방 피트수로 표현될 수 있다. 표준 부피는 또한 본 개시와 청구범위의 범주 내에 속하는 다양한 표준 온도 및 압력을 이용하여 정의될 수도 있다. 예를 들어, 표준 온도는 0℃, 표준 압력은 760 Torr일 수 있거나; 표준 온도는 20℃, 표준 압력은 1 Torr일 수 있다. 그러나, 주어진 경우에 어떤 표준이 사용되었든, 특정 매개변수들을 명시하지 않은 상태에서 2종 이상의 상이한 가스의 상대량을 비교할 때에는, 달리 명시되지 않는 한, 각 가스에 대해 동일한 단위의 부피, 표준 온도, 및 표준 압력을 사용해야 한다.
본 명세서에서 PECVD 전구체, 기상 반응물질 또는 처리 가스 및 희석 가스의 해당 공급 속도는 시간 단위당 표준 부피로 표현된다. 예를 들어, 실시예에서, 공급율은 분당 표준 입방 센티미터로 표현되며, 약어는 sccm이다. 기타 매개변수들과 마찬가지로, 다른 시간 단위, 이를테면 초 또는 시간을 사용할 수 있지만, 달리 명시되지 않는 한, 2종 이상 가스의 유량을 비교할 때에는 일관된 매개변수들을 사용해야 한다.
본 발명의 범위 내에서 “용기”는 적어도 하나의 개구, 및 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 획정하는 벽을 가진 임의 유형의 물품일 수 있다. 기질은 내부공간을 가진 용기의 내측 벽일 수 있다. 본 발명이 반드시 특정 부피의 제약 패키지 또는 기타 용기로 제한되는 것은 아니지만, 내부공간의 공극 부피가 0.5 내지 50 mL, 선택적으로는 1 내지 10 mL, 선택적으로는 0.5 내지 5 mL, 선택적으로는 1 내지 3 mL일 수 있는 제약 패키지 또는 기타 용기가 고려된다. 이들 치수는 예시적인 것으로, 한계치를 나타내는 것이 아니다. 기질 표면은 하나의 개구와 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 갖는 용기의 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 일부나 전체일 수 있다.
본 발명의 범위 내에서 용기는 하나 이상의 개구를 가질 수 있다. 보편적인 유형의 블리스터 패키지 웰 (blister package well), 바이얼 또는 샘플관의 개구 (하나의 개구), 또는 보편적인 유형의 주사기나 의료용 배럴의 개구 (2개의 개구)처럼, 하나 또는 2개의 개구가 바람직하다. 만일 용기에 2개의 개구가 있다면, 이들 개구의 크기는 같거나 다들 수 있다. 만일 2개 이상의 개구가 있다면, 한 개구는 본 발명에 따른 PECVD 코팅 방법을 위한 가스 입구로 사용될 수 있는 한편, 나머지 개구들은 뚜껑 덮힌 상태로 있거나 개방된 상태로 있게 된다. 본 발명의 따른 용기는 가령 혈액 또는 소변과 같은 생물학적 유체를 수거 또는 보관하기 위한 샘플관; 약제 또는 제약 조성물과 같은 생물학적으로 활성인 화합물이나 조성물을 저장 또는 전달하기 위한 주사기 (또는 그의 일부, 예를 들면 의료용 배럴); 생물학적 물질 또는 생물학적으로 활성인 화합물이나 조성물을 저장하기 위한 바이얼; 생물학적 물질 또는 생물학적으로 활성인 화합물이나 조성물을 이송시키기 위한 카테터와 같은 파이프; 또는 가령 생물학적 물질 또는 생물학적으로 활성인 화합물이나 조성물을 들고 있기 위한 유체 유지용 큐벳일 수 있다.
용기에는 샘플 채취 (예컨대, 채혈) 또는 분석을 위한 시제 또는 방부제가 마련되어 있을 수 있다. 예를 들어, 채혈용 용기는 내부공간을 획정하는 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면, 및 외부 표면을 가질 수 있고, 상기 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16) 상에는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층이 있을 수 있으며, 이러한 용기의 내부공간에 화합물 또는 조성물, 가령 구연산염 또는 구연산염-함유 조성물을 보관할 수 있다.
용기는 임의의 형상일 수 있지만, 개방 단부들 중 적어도 하나에 또는 그 가까이에 대체로 원통형의 내부 표면을 갖는 용기가 바람직하다. 일반적으로, 용기의 내부 표면은 가령 샘플관 또는 의료용 배럴에서와 같이 원통 형상을 지닐 수 있다. 샘플관 및 주사기 또는 이들의 일부들 (예컨대, 의료용 배럴)이 해당된다.
본 발명의 범위 내에서 “소수성 코팅 혹은 층”은, 이에 대응되는 미처리 표면에 비해, 해당 코팅 혹은 층으로 피복된 표면의 습윤 장력이 낮은 코팅 혹은 층을 뜻한다. 따라서 소수성은 미처리 기질과, 코팅 혹은 층 모두의 기능일 수 있다. “소수성”이란 용어가 사용된 다른 문맥에서의 적절한 변형 표현들에도 동일하게 적용된다. “친수성”이란 용어는 그 반대를 뜻한다. 즉, 습윤 장력이 기준 샘플에 비해 높다. 본 소수성 코팅 혹은 층은 주로 이들의 소수성과, 소수성을 부여하는 처리 조건들에 의해 제한받는다. 적합한 소수성 코팅 혹은 층과, 이들의 응용분야, 특성 및 용도에 대해 미국특허 제7,985,188호에 기재되어 있다. 소수성 코팅 혹은 층의 특성들을 또한 지닌 이관능성 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 본 발명의 임의의 구현예에 제공할 수 있다.
함께 표시된 x 및 y 값들은 달리 사용된다고 분명하게 표시되지 않는 한, 본 명세서 전체에 걸쳐 실험 조성물 SiOxCy에 적용될 수 있다, 단독으로 표시된 x 값은 달리 사용된다고 분명하게 표시되지 않는 한, 본 명세서 전체에 걸쳐 실험 조성물 SiOx 에 적용될 수 있다. 본 명세서에 걸쳐 사용되는 x 및 y 값들은 한 분자 내 원자들의 수 또는 유형에 대한 한계치로서가 아닌, (예컨대 코팅 혹은 층에 대한) 실험식의 비로 이해해야 한다. 예를 들어, 분자 조성물 Si4O4C8은 분자식 내 각각의 아래 첨자를 최대 공약수인 4로 나눔으로써 다음과 같은 실험식으로 표현될 수 있다: SiO1C2. 또한 x 및 y 값들은 정수에 한정되지 않는다.
“w”(w = 1) 아래 첨자를 가진 SiwOxCy 또는 이와 유사한 표현들은, 동일한 식을 표시하는 하나의 대안 방식으로서, 본 개시에서의 SiOxCy 또는 이와 유사한 표현들과 대등하다.
일련의 측정치 또는 다른 값들에 대한 “평균” (average 또는 mean)은 통계적 평균과 같은 것으로 동일하게 정의된다.
코팅 혹은 층에 대한 “두께 범위”는 상기 코팅 혹은 층에 대해 측정된 최대 두께 및 최소 두께 세트를 뜻한다. 예를 들어, 만일 여러 지점에서 구한 코팅의 세 측정값이 17 nm, 31 nm, 및 34 nm라면, 이러한 코팅의 두께 범위는 17 내지 34 nm이다.
함께 표시되는 x 및 y 값들은 본 명세서 전체에 걸쳐 실험 조성물 SiOxCy에 적용가능하다.
본원에서“원통형” 표면은 원 또는 기타 다른 형상 (타원, 8각형, 불규칙 루프 등)일 수 있는 2개의 합동 (congruent) 평행 폐루프 사이로 연장되는 3차원 기하학적 표면으로 정의된다. “대체로 원통형”이란 완벽하게 원통형인 형태로부터 약간의 편차, 예를 들면, 주사기 또는 의료용 배럴의 경사도 (taper), 표면 조도, 내경과 약간 상이한 단면들, 또는 주사기의 경우, 플런저가 표면에 대해 안착되거나 표면을 따라 이동하는데 방해가 되지 않는 다른 편차들을 허용한다. 단일 표면은 대체로 원통형인 부분과, 대체로 원통형이 아닌 부분, 이를테면 내부공간을 획정하는 주사기의 측벽 및 단부벽의 표면들을 포함할 수 있다.
“PECVD 세트”는 특정 표면에 PECVD법에 의해 도포되는 모든 코팅이며, 하나 이상의 코팅일 수 있다.
“러더포드 후광산란 분광법”은 PECVD 코팅 혹은 층의 수소 함량을 측정하기 위한 방법이다. 이 방법은 예를 들어 X선 광전자 분광법 (XPS) (수소 함량을 검출하지 않음)으로 PECVD 층을 SiOxCy로의 특징 분석을 보완하는데 이용가능함에 따라, 해당 화학식을 SiOxCyHz로 표현할 수 있다.
“습윤 장력”은 표면의 소수성 또는 친수성에 대한 특정 척도이다. 본 발명의 범위 내에서 선택적 습윤 장력 측정 방법은 ASTM D 2578 또는 ASTM D 2578에 기재된 방법의 수정법이다. 이 방법은 표준 습윤 장력 용액 (다인 용액으로 불림)을 사용하여, 정확히 2초 동안 플라스틱 필름 표면을 습윤시키는데 가장 근접한 용액을 정한다. 이것이 필름의 습윤 장력이다. 여기에 활용되는 과정은, 기질이 편평한 플라스틱 필름이 아니라, PET 관 형성을 위한 시행 방식 (프로토콜)에 따라 제조되며 (제어부를 제외하고) 소수성 코팅 혹은 층으로 관 내부를 피복시키기 (EP2251671 A2의 실시예 9 참조)를 위한 시행 방식에 따라 피복된 관이라는 점에서 ASTM D 2578에서 변경된 과정일 수 있다.
본 발명에 따른 “윤활성 코팅 혹은 층”은 미피복된 표면보다 낮은 마찰 저항을 갖는 코팅 혹은 층이다.
본 발명에 따른 “부동태화 층 또는 pH 보호 코팅”은 (본 명세서의 다른 부분에서 더 폭넓게 정의된 바와 같이) 하부의 표면 또는 층을 상기 층과 접촉되는 유체 조성물로부터 부동태화하거나 보호한다.
“마찰 저항”은 정적 마찰 저항 및/또는 동적 마찰 저항일 수 있다.
본 발명의 선택적 구현예들 중 하나는 윤활성 및/또는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅으로 피복된 주사기 부품, 예를 들면, 의료용 배럴 또는 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼 또는 밀봉부일 수 있다. 이와 같은 구현예에서, 본 발명과 관련하여 상대 정적 마찰 저항이란 본원에 정의된 바와 같은 이탈력이고, 본 발명과 관련하여 상대 동적 마찰 저항이란 본원에 정의된 바와 같은 플런저 슬라이딩력이다. 예를 들어, 본원에서 정의 및 측정되는 바와 같은 플런저 슬라이딩력은 본 발명의 범위 내에서, 코팅 혹은 층이 임의의 주사기 또는 주사기 부품에, 가령 의료용 배럴의 내벽에 도포될 때마다, 윤활성 및/또는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 윤활성 및/또는 부동태화 또는 보호 특성의 유무를 판단하는데 적합하다. 이탈력은, 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부가 다시 이동하기 (“떨어져 나와야” 함) 전에, 코팅 혹은 층이 사전충전형 주사기, 즉, 피복된 후에 충전가능하며 어느 정도의 시간 동안 (가령, 수개월 또는 심지어 수년 동안) 보관될 수 있는 주사기에 미치는 영향을 평가하는 것과 특히 관련이 있을 수 있다.
본 발명의 범위 내에서 “플런저 슬라이딩력” (본 설명에서도 사용되는 “글라이드력” “유지력” 또는 Fm과 동의어)은 예를 들면 흡입 (aspiration) 또는 분주 (dispense) 동안, 의료용 배럴 내 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부의 이동을 유지하는데 요구되는 힘이다. 유리하게 이러한 플런저 슬라이딩력은 본원에 기술되었고 당해 기술분야에 공지되어 있는 ISO 7886-1:1993 겁사법을 이용하여 결정될 수 있다. 당해 기술분야에 종종 사용되는 “플런저 슬라이딩력”의 동의어는 “플런저력”또는 “답력 (pushing force)”이다.
본 발명의 범위 내에서 “플런저 이탈력” (본 설명에서도 사용되는“이탈력”, “해제력”, “초기 힘”, Fi와 동의어)은 주사기 내, 예를 들면 사전충전형 주사기 내 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부를 이동시키는데 요구되는 초기 힘이다.
“플런저 슬라이딩력” 및 “플런저 이탈력”모두와, 이들의 측정 방법을 본 설명의 하기 부분에서 더 상세히 설명하였다. 이들 두 힘은 N, lbs 또는 kg으로 표현가능하며, 이들 세 단위 모두를 본원에서 사용하였다. 이들 단위는 다음과 같은 상관관계를 가진다: 1N = 0.102 kg = 0.2248 lbs (pounds).
본원에서 때때로 슬라이딩력 및 이탈력은 스토퍼 또는 다른 마개를 제약 패키지 또는 기타 용기, 이를테면 의료용 샘플관 또는 바이얼 내로 전진시키고, 스토퍼를 용기 내에 안착시켜 용기를 밀폐시키는데 요구되는 힘들을 설명하는데 사용된다. 그 용도는 주사기 및 그의 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼 또는 밀봉부와 관련된 용도와 유사할 수 있으며, 용기 및 그의 마개에 대한 이들 힘의 측정은 주사기에 대한 이들 힘의 측정과 유사한 것으로 간주되되, 단 적어도 대부분의 경우에 마개를 안착 위치까지 전진시킬 때 용기로부터 어떠한 액체도 배출되지 않는다는 조건이 있다.
“슬라이딩가능하게”는 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부, 또는 다른 착탈식 부품이 의료용 배럴 또는 기타 용기 내에서 슬라이드하도록 허용될 수 있다는 것을 뜻한다.
“전자 병”은 병에서 빠져나오는데 필요한 에너지보다 낮은 에너지를 가진 전자들을 그 내부에 밀폐시키는 경향이 있는 자기장 및/또는 전기장으로 구성된 가상의 컨테이너이다. 전자 병은 내용물을 밀폐시키는 벽들을 가진 작업편 또는 챔버와 혼동되어서는 안된다. 플라즈마 내 양전하 및/또는 음전하 이온들 역시 전자 병에 의해 밀폐될 수 있으며, 종종 더 낮은 에너지로 인해 전자보다 더 쉽게 밀폐될 수 있어, 본원에서 “전자 병”은 특별히 이온을 안내하거나 밀폐시키는 경향이 있는 구조를 포괄하도록 정의된다.
본 개시에 가끔 이용되는 “작업편”이란 용어는 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 내부공간을 가진 유사한 기기를 가리킨다.
당업자라면, 플라즈마가 컨테이너(작업편이든지, 개별 챔버이든지)의 벽들 내부에 형성되는 경우에, 밀폐 기능의 일부가 컨테이너 자체에 의해 수행될 수 있으며, 선택적으로 전자 병은 이러한 기능을 단지 보완할 수 있다는 것을 이해할 것이다. 전자 병 및 여타 물리적 컨테이너는 공간 중에든 아니든 일치할 수 있으며, 자성 컨테이너 “벽들”은 물리적 컨테이너 내부, 물리적 컨테이너 외부측에 있을 수 있거나, 물리적 컨테이너의 한 벽과 교차할 수 있으며, 그의 다양한 부분들은 상기 위치들 중 임의의 두 곳 이상에 한꺼번에 있을 수 있다는 것 또한 이해한다.
· 플라즈마가 형성된 컨테이너 (예를 들어, 주사기 어셈블리의 피하 주사바늘)의 일부가 강자성 또는 페리자성 물질로 만들어진 범위를 예외로, 컨테이너 및 전자 병은 서로 실실적으로 상호작용하지 않을 수 있다. 또한, 전자 병은 전자 또는 이온 자체를 밀폐시키는 것이 반드시 목표는 아니므로, 전자 또는 이온을 반드시 360도 밀폐시킬 필요는 없지만, 작업편의 처리를 향상하기 위해 필요할 수 있다. 예를 들어, 바이얼, 주사기 배럴, 또는 카트리지 배럴이 한 전자 병과 사용될 때, 병”은 선택적으로 실질적인 방사방향 밀폐 없이, 단지 바이얼의 한 단부에 가깝거나 바이얼의 양 단부에 가까운 단일 축방향 전자 미러일 수 있다. 대안으로, “병”은, 실질적인 축방향 밀폐 효과를 추가하지 않으면서, 도 4 내지 도 6, 도 21, 도 23, 도 25, 도 38 내지 도 40 또는 도 45의 사중극, 또는 균일하게 권선된 코일을 사용하는 것과 같이, 선택적으로 방사방향 밀폐 효과를 제공할 수 있다.
“표준편차”는, 예를 들면 표준편차가 평균 두께보다 적은 PECVD 코팅 혹은 층과 관련하여, 아래와 같이 측정한다. 실시예들 중 일부에, 표준 위치들에 있는 다수의 이격된 지점 - 측정 대상 코팅 부분에 걸쳐 제1 축방향으로 표면의 원주를 따라 45도 간격으로 떨어진 8개 지점, 그런 후에는 제1 축방향으로부터 6 mm 떨어진 제2 축방향 지점에서 원주를 따라 45도 간격으로 떨어진 8개 지점, 등 - 에서 코팅의 두께를 측정하는 Filmetrics 시험 방법을 활용한다. 그 결과 N개의 측정치, xi가 얻어진다. 이어서, 각 지점에서의 두께 값들의 표준편차를 통상 아래 공식에 따라 산출한다:
Figure 112015063276666-pct00003
상기 식에서, s는 표준편차이고, N은 두께 측정치들의 수이고, xi는 각각의 개별적 두께 측정치이고, 위에 선이 그어진 x는 모든 두께 결과의 평균이다.
본 목적상,
· 보통 약 1000 내지 1040 cm-1에 위치하는 Si-O-Si 대칭 신축 피크의 최대 진폭과,
· 보통 약 1060 내지 1100 cm-1에 위치하는 Si-O-Si 비대칭 신축 피크의 최대 진폭
사이의 비는 FTIR - 푸리에 전환 적외선 분광법을 이용하여 측정한다. 이는 SiOxCy PECVD 코팅 혹은 층의 적외선 흡수 스펙트럼을 얻는데 사용되는 분석 기법이다. 본 목적상, 감쇠 전반사 (ATR) 샘플러와 FTIR 장치를 사용하여 약 1000 cm-1 내지 1100 cm-1의 파동수 사이 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)의 흡수 스펙트럼을 얻는다. 보통 약 1000 내지 1040 cm-1에 위치하는 Si-O-Si 대칭 신축 피크의 최대 진폭을 구하고, 보통 약 1060 내지 1100 cm-1에 위치하는 Si-O-Si 비대칭 신축 피크의 최대 진폭을 구한다. 그런 후에는 이들 최대 진폭 사이의 비를 구한다.
배리어 코팅 혹은 층의 산소 차단 향상 인수 (BIF)는 2개의 동일한 컨테이너 군을 제공하고, 배리어 코팅 혹은 층, PECVD 세트, 또는 다른 처리를 컨테이너 시험군(미처리 컨테이너를 대조군으로 함)에 도포하여 측정한다. 각각의 시험 및 대조 컨테이너 상에서 산소 투과율을 측정한다. 대조군 용기의 산소 투과율 값에 대한 시험 용기의 산소 투과율 값의 비를 구한다. 이 비가 “산소 차단 향상 인수”이다. 예를 들어, 만일 배리어 코팅 혹은 층을 통한 탈가스율 (탈기체율)이 배리어 코팅 혹은 층이 없을 경우의 탈가스율의 1/3이라면, 배리어 코팅 혹은 층의 산소 BIF는 3이다.
산소 투과율은 앞서 저장된 용기 내용물을 시험하여 산소 함량을 구하고, 용기 내부로의 산소 투과량을 1일 패키지당 산소 가스의 입방 센티미터로 표현하는 방식으로 측정한다. 그런 후에는 PECVD 세트를 포함한 시험 용기들의 산소 투과율(OTR)이 제로이고 PECVD 세트를 전혀 포함하지 않은 대조군 용기들의 산소 투과율 사이의 비를 구한다.
차단 향상 인수는 미사용 컨테이너에서, 또는 컨테이너에 유체 조성물을 저장한 후에 측정하여, 차단 향상 인수에 미치는 유체 저장의 영향을 판단할 수 있다. PECVD 세트와 접촉되는 컨테이너에 유체를 저장한 후 차단 향상 인수를 측정하기 위해, 용액 저장 후 차단 향상 인수 (BIF)를 측정하기 위한 시행 방식에 대해 후술하였다. 제조된 상태 그대로의 의료용 배럴의 차단 향상 인수를 시험하기 위해 저장 시행 방식 없이도 상기 시행 방식에 기술된 동일한 산소 투과 시험법을 이용할 수 있다.
이하, 여러 구현예들이 예시된 첨부 도면들을 참조로 본 설명을 더 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 많은 다른 형태로 구현될 수 있으며, 여기에 제시되는 구현예들에 한정되는 것으로 간주해서는 안 된다. 오히려, 이들 구현예는 본 발명의 예들이며, 그 전체 범주는 청구범위의 언어로 표시되었다. 본문 전체에서 유사 참조 번호는 유사하거나 대응되는 구성요소들을 가리킨다. 하기 개시는 특정 구현예로 구체적으로 한정하지 않는 한 모든 구현예와 연관된다.
주사기
도 1 내지 도 7의 용기는 주사기이며, “내벽”으로도 알려져 있는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 포함한 의료용 배럴 (14)이 구비된 용기 유형으로 고려되었다. 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에는 배리어 코팅 혹은 층, 선택적으로 타이 (tie) 코팅 혹은 층, 및 선택적으로 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅을 선택적으로 포함한 PECVD 세트가 마련된다. “3층 구조의 코팅 혹은 층”인 PECVD 세트는 (1) 타이 코팅 혹은 층, (1) 배리어 코팅 혹은 층, 및 (3) 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 순차적으로 구성하여 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 얻는 한 가지 선택안이다.
선택적으로, PECVD를 시행하기에 앞서, 의료용 배럴에 피하 주사바늘을 부착시키며, 이때 배럴은 주사바늘 단부, 후단부, 및 상기 단부들 사이의 몸체부를 가진다. 선택적으로 주사바늘 단부는 PECVD 동안 뚜껑 덮힌 상태로 있음으로써, 부착된 피하 주사바늘을 통한 유동을 줄이거나 없애는 것은 물론, 이에 따른 주사기 또는 카트리지의 처리 또는 사용시 주사바늘 및 그에 가까운 작업을 보호할 수 있다.
처리가 끝난 후의 최종 주사기는 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부 (36)를 더 포함할 수 있다. 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부 (36)는 의료용 배럴 (250)에 대해, 주사기의 상대적으로 슬라이딩하는 부품일 수 있다. “의료용 배럴”이란 용어는 카트리지, 주사제용 “펜” 및 기능성 주사기를 제공하기 위해 하나 이상의 다른 구성요소와 조립되도록 구성된 다른 유형의 의료용 배럴 또는 저장조를 포함하고자 광범위하게 정의된다. 또한“주사기”는 내용물을 분주하기 위한 메커니즘을 제공하는 자동주사기와 같은 관련 물품들을 포함하고자 광범위하게 정의된다.
주사기를 제조하기 위한 한 가지 비제한적 방식으로서, 의료용 배럴 (14), 분주부 (20) 및 쉴드 (28)를 포함한 뚜껑 달린 어셈블리 (12)를 제공할 수 있다. 뚜껑 달린 어셈블리 (12)는 완품 (완전 물품)일 수 있거나, 또는 유체를 분주하도록 구성된 완품의 일 부분, 이를테면 주사기, 카트리지, 카테터, 또는 다른 물품일 수 있다.
의료용 배럴 (14)은 의료용 배럴 내부공간 (18)을 정의하는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 가질 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에서, 의료용 배럴 (14)은 분주부 (20)으로부터 이격되어, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 통해 소통되는 개구 (32)를 더 포함할 수 있다. 이러한 개구는 예컨대 주사기 또는 카트리지에서 통상적인 것일 수 있으며, 전형적인 한 예는 사전충전형 의료용 배럴의 후방 개구 (32)로서, 의료용 배럴 내부공간 (18)에 분주하고자 하는 적합한 제약 또는 다른 유체 물질 (40)을 충전한 후, 상기 개구를 통해 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부 (36)를 삽입시킬 수 있다.
의료용 배럴 (14)은 그 형성 방법이 중요한 것은 아니지만 가령 성형법으로 형성할 수 있으며, 예컨대 고체 예비성형체를 기계가공하여 형성할 수도 있다. 바람직하게, 의료용 배럴은 열가소성 재료를 사출가공하여 형성할 수 있으며, 블로우 성형법 또는 조합 방법으로 성형할 수도 있다.
바람직한 일 예로서, 의료용 배럴 (14)은 후술되는 바와 같이 분주부 (20)를 사출 주형에 넣고, 분주부 주위로 열가소성 재료를 사출 성형하여 의료용 배럴을 형성하고, 분주부를 의료용 배럴에 고정시킴으로써 형성할 수 있다. 대안으로는, 분주부와 의료용 배럴을 단일체로 성형 또는 형성할 수 있거나, 또는 개별적으로 형성한 다음 다른 방식으로 연결시킬 수 있다. 모든 구현예의 의료용 배럴은 임의의 적합한 물질로 만들 수 있다. 특히 고려되는 여러 의료용 배럴 물질로, COC (환형 올레핀 공중합체), COP (환형 올레핀 중합체), PET (폴리에틸렌 테레프탈레이트), 및 폴리프로필렌이 있다.
뚜껑 달린 어셈블리 (12)의 분주부 (20)는 뚜껑 달린 어셈블리 (12)로 이루어진 완품의 의료용 배럴 내부공간 (18)으로부터 분주되는 유체를 위한 출구로 역할을 하도록 제공될 수 있다. 도면들에 예시된 적합한 분주부의 일 예로, 피하 주사바늘이 있을 수 있다.
대안으로는, 임의의 구현예에서 분주부 (20)는 그 대신 주사바늘이 없는 분주기일 수 있다. 주사바늘이 없는 분주기의 적합한 한 예는 유체 물질 (40)을 전달하기 위한 보완적 커플링에 수용되도록 의도된 무디거나 (blunt) 잘 휘어지는 (가요성) 분주부일 수 있다. 이렇게 무디거나 잘 휘어지는 분주부는 의료봉사자 또는 다른 사람이 우발적으로 찔릴 수 있는 뾰족한 주사바늘로 작업하는 위험을 막는 한편, 주사기, 정맥내 주사 시스템, 및 물질 분주용 기타 시스템과 장비에 사용되는 것으로 잘 알려져 있다. 주사바늘이 없는 분주기의 또 다른 예는 중간의 주사바늘이 필요없는, 유체의 프리 제트 또는 스프레이를 환자의 피부를 통해 직접 주사하는 유체 제트 또는 스프레이 주사 시스템일 수 있다. 피하 주사바늘이든 또는 임의의 형태의, 주사바늘이 없는 분주기이든, 모든 유형의 분주부 (20)를 본 발명의 임의의 구현예에 따라 사용하는 것으로 고려된다.
분주부 (20)는 의료용 배럴 (14)에 고정되거나 고정될 수 있으며, 근위 개구 (22), 원위 개구 (24), 및 분주부 내부공간 (26)을 포함한다. 근위 개구 (22)는 의료용 배럴의 내부공간 (18)과 소통한다. 원위 개구 (24)는 의료용 배럴 (14)의 외부측에 위치할 수 있다. 분주부 내부공간 (26)은 분주부 (20)의 근위 개구 및 원위 개구 (22, 24) 사이를 소통시킨다. 예시된 구현예에서, 원위 개구 (24)는 피하 주사바늘 (20)의 뽀족한 팁에 형성될 수 있다.
쉴드 (28)는 의료용 배럴 (14)에 고정될 수 있으며, 분주부 (20)의 원위 개구 (24)를 쉴드 (28) 외부측 압력 조건으로부터 실질적으로 분리시킨다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 경피 주사의 경우, 쉴드 (28)는 뚜껑 달린 어셈블리 (12)의 안전 사용을 용이하게 하기 위해 충분한 생-배리어를 제공하도록 뚜껑 달린 어셈블리 (12)의 여러 부분을 충분히 분리시킨다.
쉴드 (28)는 원위 개구 (24)를 다양한 방식으로 분리시킬 수 있다. 도 2, 도 3, 도 4 및 도 7에 나타낸 바와 같이, 쉴드 (28)와 원위 개구 (24) 사이의 접촉 덕분에 효과적인 분리가 적어도 일부 실현될 수 있다. 예시된 구현예에서, 분주부 (20)의 팁이 쉴드 (28)의 재료에 묻힐 수도 있다. 대안으로는 임의의 구현예에 의하면, 도 2, 도 3, 도 4 및 도 7에 또한 나타낸 바와 같이, 쉴드 (28)와 의료용 배럴 (14) 사이의 접촉 덕분에 효과적인 분리가 적어도 일부 실현될 수 있다. 예시된 구현예에서, 쉴드 (28)와 의료용 배럴 (14)간 접촉의 주 라인은 의료용 배럴 (14)의 코 부분에서 대체로 원통형의 표면 (44)을 둘러싸고 그 표면에 대해 안착된 리브 (42) (도 3에 가장 잘 도시됨)에 있을 수 있다. 대안으로는 임의의 구현예에 의하면, 효과적인 분리는 도 2 내지 도 3에 예시된 바와 같은 양 유형들의 접촉으로 인해, 또는 비제한적으로는 다른 방식들을 통해 제공될 수 있다.
임의의 구현예에 의한 쉴드 (28)는 함께 체결되어 쉴드 (28)를 제자리에 유지시키는 바브 (46) 및 캐치부 (48, catch)를 포함한 래칭 메커니즘 (도 3에 가장 잘 도시됨)을 선택적으로 가질 수 있다. 캐치부 (48)는 쉴드 (28)가 쉽게 분리 및 교체될 수 있도록 충분한 탄성을 띠는 재료로 만들어질 수 있다.
만일 분주부 (20)가 피하 주사바늘이라면, 쉴드 (28)는 특별히 형성된 주사바늘 쉴드일 수 있다. 주사바늘 쉴드의 원래 용도는 사용 전의 피하 주사바늘을 커버하여, 주사바늘에 우발적으로 찔리게 되는 현상을 막고, 환자 또는 주사 포트에 주입되기 전에 주사바늘이 오염되는 현상을 막기 위함이다. 비록 상기 분주부 (20)는 주사바늘이 없는 분주기이지만, 바람직하게는 대등한 쉴드를 사용하여, 취급시 분주기의 오염을 막는다.
쉴드 (28)는 임의의 적합한 방식으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 열가소성 재료를 성형하여 쉴드 (28)를 형성할 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 열가소성 재료는 엘라스토머성 재료이거나 또는 밀봉부를 형성하기에 적합할 수 있는 기타 재료일 수 있다. 엘라스토머성 재료의 한 가지 적합한 부류는 일반적으로 열가소성 엘라스토머 (TPE)로 알려져 있다. 쉴드 (28)를 형성하기에 적합한 열가소성 엘라스토머의 한 예는 Stelmi® Formulation 4800 (가요성 쉴드 제제)이다. 임의의 구현예에서는 적합한 특성을 지닌 기타 다른 재료를 대신 사용할 수 있다.
임의의 구현예에서 또 다른 선택적 특징으로서, 쉴드 (28)는 살균 가스에 대해 충분한 투과성을 지님으로써 쉴드에 의해 분리된 뚜껑 달린 어셈블리 (12)의 여러 부분을 살균할 수 있다. 적합한 살균 가스의 한 예는 산화에틸렌이다. 쉴드 (28)는 살균 가스에 대해 충분한 투과성을 지니므로, 쉴드에 의해 분리된 부품들이 살균처리될 수 있다. 산화에틸렌 가스 멸균 작업을 수용하는데 있어서 충분한 투과성을 나타내는 쉴드 제제의 한 예는 Stelmi® Formulation 4800일 수 있다.
전술된 구현예들 중 임의의 구현예의 선택적 특징으로서, 중합체 재료는 실리콘 엘라스토머 또는 열가소성 폴리우레탄 (두 가지 예를 들자면), 또는 혈액이나 인슐린과 접촉하는데 적합한 모든 재료일 수 있다. 예를 들어, 인슐린을 저장하기 위해, 임의의 기술된 구현예에 따라 피복된 기질을 사용하는 것이 고려된다.
선택적으로, 도 7의 구현예와 관련하여, 제약 패키지 (210)는 의료용 배럴을 포함한다.
선택적으로, 제약 패키지는 카트리지를 포함한다.
선택적으로, 도 8의 구현예와 관련하여, 제약 패키지 (210)는 바이얼을 포함한다.
선택적으로, 제약 패키지 (210)는 블리스터 패키지 또는 앰플을 포함한다.
선택적으로, 제약 패키지는 도 29의 의료용 샘플관을 포함한다.
대안으로, 용기의 배관 길이는 약 1 cm 내지 약200 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 150 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 120 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 100 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 80 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 60 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 40 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 30 cm일 수 있으며, 후술되는 프로브 전극을 사용하여 그를 처리한다. 특히 상기 범위들 중에서 더 긴 길이들의 경우, PECVD 또는 다른 화학기상증착 프로브와, 용기 사이의 상대적 이동이 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 형성하는 동안 유용할 수 있다고 이해된다. 이는 예를 들어 용기를 프로브에 대해 용기를 이동시키거나 프로브를 용기에 대해 이동시킴으로서 행해질 수 있다.
선택적으로, SiOx의 배리어 코팅 혹은 층 (30)을 플라즈마 강화 화학기상증착 방법 (PECVD) 또는 다른 화학기상증착 방법으로 제약 패키지, 구체적으로는 열가소성 패키지의 용기 상에 증착시킴으로써, 산소, 공기, 이산화탄소 또는 다른 가스류가 용기에 들어가는 것을 막고/막거나 제약 물질이 패키지 벽 내부로 또는 벽을 통해 침출되는 것을 막는 배리어 코팅 혹은 층으로 역할을 하도록 할 수 있다. 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅을 갖지 않는 용기에 비해, 배리어 코팅 혹은 층은 대기 가스, 가령 산소가 내부공간에 침투하는 것을 줄이는데 효과적일 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 화학기상증착법으로 증착된 코팅 혹은 층은 선택적으로, 더욱이 또는 대안으로는 용질 배리어 코팅 혹은 층일 수도 있다. 유리를 플라스틱 주사기로 전환시킬 때의 우려사항은 플라스틱으로부터 물질들이 침출될 수 있다는 가능성에 집중되어 있다. 플라즈마 코팅 혹은 층 기법 덕분에, 비-금속 가스 전구체, 가령 HMDSO, TMDSO, OMCTS, 또는 다른 유기규소 화합물로부터 유도되는 코팅 혹은 층은 어떠한 미량의 금속도 함유하지 않게 되며, 무기 용질, 금속 및 유기 용질에 대한 배리어로 기능하여, 피복된 기질로부터 이들 화학종이 침출되어 주사기의 유체로 들어가지 않도록 막는다. 플라스틱 주사기의 침출 제어 외에도, 동일한 플라즈마 부동태화 층 또는 Ph 보호 코팅 혹은 층 기법은, 통상, 훨씬 더 많은 함량의 침출성 유기 올리고머 및 촉매가 함유된 엘라스토머성 플라스틱 조성물로 만들어진 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부에 대해 용질 배리어를 제공하는 가능성을 선사한다.
또한, 합성 및 생물학적 제약 제제로 사전충전되는 일부 주사기는 산소와 수분에 매우 민감하다. 유리에서 플라스틱 의료용 배럴로 전환시키는데 있어서의 한 인자는 플라스틱의 산소 및 수분 배리어 성능 향상일 것이다. 플라즈마 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 기법은 긴 유효기간에 걸쳐 산소 및 수분에 맞선 보호 효과를 위해 SiOx 배리어 코팅 혹은 층을 유지시키는데 적합할 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 배리어 코팅 혹은 층에 의해 유용하게 차단되는 약물 내 용질들의 예로, 항균성 방부제, 항산화제, 금속이온 봉쇄제, pH 버퍼, 및 이들의 임의의 조합물이 포함된다. 임의의 구현예에 의하면, 기상-증착된 코팅 혹은 층은, 선택적으로, 약물 용해도를 높이기 위해 사용되는 조용매가 포함된 용매에 대한 용매 배리어 코팅 혹은 층일 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 기상-증착된 코팅 혹은 층은, 선택적으로, 물, 글리세린, 프로필렌 글리콜, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 아세톤, 벤질 알코올, 폴리에틸렌 글리콜, 면실유, 벤젠, 디옥산, 또는 이들 중 2종 이상의 조합물에 대한 배리어 코팅 혹은 층일 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 기상-증착된 코팅 혹은 층은, 선택적으로, 금속 이온에 대한 배리어 코팅 혹은 층일 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 기상-증착된 코팅 혹은 층은 앞서 언급한 의료용 배럴 기본 수지들 중 임의의 것과 각 조성물 내 기타 다른 성분들의 침출을 막거나 줄이도록, 선택적으로, 의료용 배럴 벽 재료에 대한 배리어 코팅 혹은 층일 수 있다.
그러나, 본 발명가들은 이러한 SiOx의 배리어 코팅 혹은 층은 일부 유체 조성물, 예컨대 pH가 약 5를 초과하는 수성 조성물에 의해 부식되거나 용해된다는 것을 발견하였다. 화학기상증착법으로 도포되는 코팅 혹은 층은 수십 내지 수백 나노미터 두께 등으로 매우 얇을 수 있기 때문에, 심지어 부식 속도가 상대적으로 늦더라도 배리어 코팅 혹은 층의 효과는 제품 패키지의 바람직한 유효기간보다 짧은 시간 안에 사라지거나 약해질 수 있다. 이는 특히 유체 제약 조성물의 경우에 문제점이 될 수 있는데, 그 이유는 많은 유체 제약 조성물의 pH가 대략 7이거나 또는 더 광범위하게는 혈액, 및 다른 인간 또는 동물 체액의 pH와 유사한 5 내지 9 범위이기 때문이다. 제제의 pH가 높을수록, SiOx 코팅을 더 빠르게 부식 또는 용해시킨다.
추가로 본 발명가들은 보호 코팅 혹은 층이 없으면 붕규산염 유리 표면이 일부 유체 조성물, 예컨대 pH가 약 5를 초과하는 수성 조성물에 의해 부식되거나 용해된다는 것을 발견하였다. 이는 특히 유체 제약 조성물의 경우에 문제점이 될 수 있는데, 그 이유는 많은 유체 제약 조성물의 pH가 대략 7이거나 또는 더 광범위하게는 혈액, 및 다른 인간 또는 동물 체액의 pH와 유사한 5 내지 9 범위이기 때문이다. 제제의 pH가 높을수록, 유리를 더 빠르게 부식 또는 용해시킨다. 이러한 부식 또는 용해 현상의 결과로, pH가 약 5를 초과하는 수성 조성물에 의해 유리의 소입자들 하부가 절단됨에 따라, 유리가 박리될 수도 있다.
또한 본 발명가들은 환형 폴리실록산 전구체로부터 형성되는 SiOxCy 또는 SiNxCy의 특정 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 - 상기 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 상당량의 유기 성분을 함유함 은 유체 조성물에 노출되었을 때 빨리 부식되지 않으며, 실제로는 상기 유체 조성물이 5 내지 9 범위에 속하는 더 높은 pH를 가질 때 더 서서히 부식 또는 용해된다는 것을 발견하였다. 예를 들어, pH 8에서, 유기규소 전구체, 예컨대 옥타메틸사이클로테트라실록산 (OMCTS) 또는 테트라메틸디실록산 (TMDSO)로 만들어진 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 용해 속도는 매우 느릴 수 있다. 따라서 이들 SiOxCy 또는 SiNxCy의 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 SiOx의 배리어 코팅 혹은 층을 커버하는데 사용될 수 있으므로, 제약 패키지 내 유체 조성물로부터 배리어 코팅 혹은 층을 부동태화시키거나 보호함으로써 배리어 코팅 혹은 층의 이점들을 유지한다. 이들 SiOxCy 또는 SiNxCy의 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 또한 유리 표면, 예를 들면, 붕규산염 유리 표면을 커버하는데 사용될 수 있으므로, 제약 패키지 내 유체 조성물로부터 유리 표면을 부동태화시키거나 보호함으로써 유리의 박리, 부식 및 용해 현상들을 막는다.
비록 본 발명은 후술되는 이론의 정확성에 의존하지는 않지만, 효과적인 SiOxCy 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 재료 특성들과, 미국특허 제7,985,188호 및 국제특허출원 제PCT/US11/36097호에 기재된 바와 같은 효과적인 윤활성 코팅 혹은 층의 재료 특성들이 일부 경우에서 유사함에 따라, 본 명세서, 미국특허 제7,985,188호, 또는 국제특허출원 제PCT/US11/36097호의 특정 실시예들에 기재되는 바와 같은 윤활성 코팅 혹은 층의 특징들을 가진 코팅 혹은 층 또한 특정 경우에 패키지의 배리어 코팅 혹은 층을 부동태화시키거나 보호하기 위한 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층으로도 역할을 하며, 그 반대로도 마찬가지라고 알려졌다.
PECVD 처리된 제약 패키지 또는 기타 용기
배리어 코팅 혹은 층 및 바람직하게는 본원에 기술된 바와 같은 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 가지고/가지거나 본원에 기술된 방법에 따라 제조되는 용기는 화합물 또는 조성물의 수용 및/또는 저장 및/또는 전달에 사용될 수 있다. 상기 화합물 또는 조성물은 가령 공기, 산소, 습도 및/또는 기계적 영향에 민감할 수 있다. 이러한 화합물 또는 조성물은 생물학적으로 활성인 화합물 또는 조성물, 예를 들면 인슐린과 같은 제제 또는 약제, 또는 인슐린을 포함한 조성물일 수 있다. 인슐린과 같이 주사가능한 물질 또는 다른 액체 약물을 수용하는 사전충전형 주사기를 특별히 고려할 수 있다.
또 다른 양태에서, 상기 화합물 또는 조성물은 생물학적 유체, 선택적으로 체액, 예를 들면 혈액 또는 혈액 분획물일 수 있다. 본 발명의 특정 양태에 의하면, 상기 화합물 또는 조성물은 이를 필요로하는 대상에 투여되는 산물, 예를 들면, 주사하고자 하는 산물, 가령 (공여자에서 수혜자로의 수혈, 또는 환자 등에서 동일 환자로의 혈액 재투입에서와 같이) 혈액 또는 인슐린일 수 있다.
배리어 코팅 혹은 층 및 바람직하게는 본원에 기술된 바와 같은 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 가지고/가지거나 본원에 기술된 방법에 따라 제조되는 용기는 또한 용기의 내부공간에 들어 있는 화합물 또는 조성물을 용기 재료 표면의 기계적 및/또는 화학적 영향으로부터 보호하는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 용기는 화합물, 또는 조성물 내 성분의 침전 및/또는 응고 또는 혈소판 활성화, 가령 인슐린 침전 또는 응혈 또는 혈소판 활성화를 방지하거나 감소시키는데 사용될 수 있다.
상기 용기는 예컨대 용기 주변의 환경으로부터 1종 이상의 화합물이 용기의 내부공간에 진입하는 것을 막거나 줄임으로써, 용기 내부에 들어 있는 화학물 또는 조성물을 제약 패키지 또는 기타 용기의 외부 환경으로부터 보호하는데 사용될 수 있다. 이러한 환경적 화합물은 가스 또는 액체, 예컨대, 산소, 공기 및/또는 수중기를 함유한 대기 가스 또는 액체일 수 있다.
도면들, 특히 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 양태는 타이 코팅 혹은 층 (838), 배리어 코팅 혹은 층 (30), 및 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)을 도 7 내지 도 8과 도 29의 제약 패키지들 (210), 샘플 채취관, 예컨대 채혈관 및/또는 단부가 밀폐된 샘플 채취관; 도관; 큐벳; 또는 용기 부품, 가령 화합물 또는 조성물과 접촉되고/되거나, 상기 화합물 또는 조성물을 저장 및/또는 전달하기 위한 예컨대 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부 중 임의의 것과 같이 용기의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 일 부분에 직접 또는 간접적으로 도포시키는 방법일 수 있다.
용기 벽 구성
도 7 내지 도 8 또는 도 29의 구현예들 중 임의의 구현예에 대해 선택적으로, 제약 패키지 (210)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 일 부분은 중합체, 예컨대 폴리올레핀 (이를테면, 환형 올레핀 중합체, 환형 올레핀 공중합체, 또는 폴리프로필렌), 폴리에스테르, 이를테면 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아세트산, 또는 상기 물질들 중 임의의 둘 이상의 임의의 조합물, 복합체 또는 블렌드를 포함하거나 필수적으로 포함한다.
도 7 내지 도 8 또는 도 29의 구현예들 중 임의의 구현예에 대해 선택적으로, 제약 패키지 (210)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 일 부분은 유리, 예컨대 붕규산염 유리를 포함하거나 필수적으로 포함한다.
전술된 구현예들 중 임의의 구현예의 선택적 특징으로서, 중합체 재료는 실리콘 엘라스토머 또는 열가소성 폴리우레탄 (두 가지 예를 들자면), 또는 혈액이나 인슐린과 접촉하는데 적합한 모든 재료일 수 있다. 예를 들어, 인슐린을 저장하기 위해, 임의의 기술된 구현예에 따라 피복된 기질를 사용하는 것이 고려된다.
선택적으로, 도 7의 구현예와 관련하여, 제약 패키지 (210)는 의료용 배럴을 포함한다.
선택적으로, 제약 패키지는 카트리지를 포함한다.
선택적으로, 도 8의 구현예와 관련하여, 제약 패키지 (210)는 바이얼을 포함한다.
선택적으로, 제약 패키지 (210)는 블리스터 패키지 또는 앰플을 포함한다.
선택적으로, 제약 패키지는 도 29의 의료용 샘플관을 포함한다.
대안으로, 용기의 배관 길이는 약 1 cm 내지 약200 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 150 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 120 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 100 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 80 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 60 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 40 cm, 선택적으로 약 1 cm 내지 약 30 cm일 수 있으며, 후술되는 프로브 전극을 사용하여 그를 처리한다. 특히 상기 범위들 중에서 더 긴 길이들의 경우, PECVD 또는 다른 화학기상증착 프로브와, 용기 사이의 상대적 이동이 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 형성하는 동안 유용할 수 있다고 이해된다. 이는 예를 들어 용기를 프로브에 대해 용기를 이동시키거나 프로브를 용기에 대해 이동시킴으로서 행해질 수 있다.
이들 구현예에 의하면, 이하 논의되는 배리어 코팅 혹은 층은 장기간 동안 배리어 코팅 혹은 층과 접촉되는 액체 물질을 보관하는데 필요한 긴 유효기간을 여전히 제공하는 한편, 진공처리된 채혈관에 요구되는 높은 가스 배리어 건전성을 제공하기 위해 선호되는 것보다 더 얇거나 덜 완전할 수 있는 것으로 이해된다.
전술된 구현예들 중 임의의 구현예에서의 선택적 특징으로서, 용기는 중심축을 가질 수 있다. 전술된 구현예들 중 임의의 구현예에서의 선택적 특징으로서, 용기 벽은 벽을 부러뜨리지 않고, 적어도 실질적으로 곧은 상태로부터 중심축에서의 곡률 방사이 용기의 외경만큼 100배 이하에 해당되는 범위에 걸쳐, 20℃에서 적어도 한 번 구부러지도록 충분한 가요성을 나타낼 수 있다.
전술된 구현예들 중 임의의 구현예에서의 선택적 특징으로서, 중심축에서의 곡률 방사은 예를 들어 용기의 이하, 또는 80배 이하, 또는 70배 이하, 또는 60배 이하, 또는 50배 이하, 또는 40배 이하, 또는 30배 이하, 또는 20배 이하, 또는 10배 이하, 또는 9배 이하, 또는 8배 이하, 또는 7배 이하, 또는 6배 이하, 또는 5배 이하, 또는 4배 이하, 또는 3배 이하, 또는 2배 이하일 수 있다.
전술된 구현예들 중 임의의 구현예에서의 선택적 특징으로서, 용기 벽은 가요성 재료로 만들어진 유체-접촉면일 수 있다.
전술된 구현예들 중 임의의 구현예에서의 선택적 특징으로서, 용기의 내부공간은 펌프의 유체 흐름 통로일 수 있다.
전술된 구현예들 중 임의의 구현예에서의 선택적 특징으로서, 용기는 혈액 보관 용기일 수 있다. 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은, 소수성 코팅 혹은 층으로 미피복된 동일 유형의 벽에 비해, 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)에 노출된 혈액의 응고 또는 혈소판 활성을 감소시키는데 효과적일 수 있다.
소수성 코팅 혹은 층을 도입하면, 미개질 중합체 또는 SiOx 표면과 접촉되었을 때의 혈액의 특성들에 비해, 혈액 접착 또는 응혈 경향을 줄일 수 있는 것으로 이해된다. 이러한 특성은 혈액을 헤파린으로 처리해야되는 필요성을 줄이거나 잠재적으로는 없애는 것으로 이해되며, 이는 심장 수술시 심장-폐 기기를 사용할 때처럼 환자로부터 피를 뺀 다음 환자에 재공급하는 것이 요구되는 유형의 수술을 받는 환자 내 헤파린으로 필요한 혈액 농도를 낮추는 것과 같다. 이는 헤파린 사용으로 인한 출혈 합병증을 줄임으로써, 이러한 제약 패키지 또는 기타 용기를 통과하는 혈액 통로가 이용되는 수술의 합병증을 줄일 수 있는 것으로 이해된다.
또 다른 구현예는 내부공간을 획정하는 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)을 갖는 벽을 포함하는 용기일 수 있다. 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 적어도 일부는 소수성 표면을 제공하는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층일 수 있으며, 상기 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 두께는 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)상에서 한 분자 (monomolecular) 두께 내지 약 1000 nm일 수 있고, 상기 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)에 노출된 혈액의 응고 또는 혈소판 활성을 감소시키는데 효과적이다.
이러한 용기의 여러 비제한적 예로, 수혈 주머니, 혈액 샘플 채취관 (예컨대, 채혈관) 또는 샘플 채취가 시행되는 기타 용기, 심장-폐 기기의 관, 가요성 벽을 지닌 채혈 주머니, 또는 수술 동안 환자의 혈액을 채취하고 다시 환자의 맥관 구조에 재도입시키는데 사용되는 관이 있다. 만일 용기가 혈액을 펌핑하기 위한 펌프를 포함한다면, 특히 적합한 펌프는 원심분리형 펌프 또는 연동 펌프일 수 있다. 용기는 벽을 가질 수 있으며, 상기 벽은 내부공간을 획정하는 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)을 가질 수 있다. 이러한 벽의 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 적어도 일부는 보호 코팅 혹은 층의 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층일 수 있으며, 이는 선택적으로 소수성 표면을 제공하기도 한다. 상기 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 두께는 한 분자 두께 정도로 얇거나 약 1000 nm정도로 두꺼울 수 있다. 선택적으로, 용기는 소수성 코팅 혹은 층과 접촉되는 내부공간 속에, 환자의 혈관에 재공급가능한 혈액을 보관할 수 있다.
일 구현예는 내부공간을 획정하는 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)을 갖는 벽을 포함하는 혈액 보관 용기일 수 있다. 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 적어도 일부는 선택적으로 소수성 표면을 제공하기도 하는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층일 수 있다. 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 또한 SiOxCy (x 및 y는 본 명세서에 정의된 바와 같음)를 포함하거나 필수적으로 포함할 수도 있다. 상기 용기는 소수성 코팅 혹은 층과 접촉되는 내부공간 속에, 환자의 혈관에 재공급가능한 혈액을 보관한다.
일 구현에는 기질 상에 소수성 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 형성하기에 효과적인 조건하에 수행될 수 있다. 선택적으로, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 소수성은 기상 반응물질 내 유기규소 전구체에 대한 산화제의 비를 설정하고/하거자, 플라즈마 생성에 사용되는 전기를 설정함으로써 얻을 수 있다. 선택적으로, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 미피복 표면보다 낮은 습윤 장력, 선택적으로 20 내지 72 dyne/cm, 선택적으로 30 내지 60 dynes/cm, 선택적으로 30 내지 40 dynes/cm, 선택적으로 34 dyne/cm의 습윤 장력을 가질 수 있다. 선택적으로, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 미피복 표면보다 더 소수성일 수 있다.
전술된 구현예들 중 임의의 구현예에서의 선택적 특징으로서, 용기의 내경은 2 mm 이상, 선택적으로 4 mm 이상, 선택적으로 5 mm 이상, 선택적으로 6 mm 이상일 수 있다. 선택적 일 구현예에서, 용기의 내경은 15 mm 이하, 선택적으로 12 mm 이하, 선택적으로 10 mm 이하, 선택적으로 9 mm 이하일 수 있다. 양끝값 범위의 일부 비제한적 예는 4 내지 15 mm, 선택적으로 5 내지 10 mm, 선택적으로 6 내지 10 mm이다.
전술된 구현예들 중 임의의 구현예에서의 선택적 특징으로서, 용기는 관 (tube)일 수 있다.
전술된 구현예들 중 임의의 구현예에서의 선택적 특징으로서, 내부공간은 2개 이상의 개방 단부를 가질 수 있다.
주사기
도 1 내지 도 7의 용기는 배리어 코팅 혹은 층, 및 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅을 구비한 것으로 이해되는 유형의 주사기이다. 상기 주사기는 의료용 배럴 (14), 및 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부 (36)를 포함할 수 있다. 의료용 배럴 (250)의 적어도 일 부분은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)으로 획정될 수 있다. 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부 (36)는 의료용 배럴 (250)에 대해, 주사기의 상대적으로 슬라이딩하는 부품일 수 있다. “주사기”란 용어는 카트리지, 주사제용 “펜” 및 기능성 주사기를 제공하기 위해 하나 이상의 다른 구성요소와 조립되도록 구성된 다른 유형의 의료용 배럴 또는 저장조를 포함하고자 광범위하게 정의된다. 또한“주사기”는 내용물을 분주하기 위한 메커니즘을 제공하는 자동주사기와 같은 관련 물품들을 포함하고자 광범위하게 정의된다.
주사기를 제조하기 위한 한 가지 비제한적 방식으로서, 의료용 배럴 (14), 분주부 (20) 및 쉴드 (28)를 포함한 뚜껑 달린 어셈블리 (12)를 제공할 수 있다. 뚜껑 달린 어셈블리 (12)는 완품 (완전 물품)일 수 있거나, 또는 유체를 분주하도록 구성된 완품의 일 부분, 이를테면 주사기, 카트리지, 카테터, 또는 다른 물품일 수 있다.
의료용 배럴 (14)은 의료용 배럴 내부공간 (18)을 획정하는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 가질 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에서, 의료용 배럴 (14)은 분주부 (20)으로부터 이격되어, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 통해 소통되는 개구 (32)를 더 포함할 수 있다. 이러한 개구는 예컨대 주사기 또는 카트리지에서 통상적인 것일 수 있으며, 전형적인 한 예는 사전충전형 의료용 배럴의 후방 개구 (opening) (32)로서, 의료용 배럴 내부공간 (18)에 분주하고자 하는 적합한 제약 또는 다른 유체 물질 (40)을 충전한 후, 상기 개구를 통해 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부 (36)를 삽입시킬 수 있다.
의료용 배럴 (14)은 그 형성 방법이 중요한 것은 아니지만 가령 성형법으로 형성할 수 있으며, 예컨대 고체 예비성형체를 기계가공하여 형성할 수도 있다. 바람직하게, 의료용 배럴은 열가소성 재료를 사출가공하여 형성할 수 있으며, 블로우 성형법 또는 조합 방법으로 성형할 수도 있다.
바람직한 일 예로서, 의료용 배럴 (14)은 후술되는 바와 같이 분주부 (20)를 사출 주형에 넣고, 분주부 주위로 열가소성 재료를 사출 성형하여 의료용 배럴을 형성하고, 분주부를 의료용 배럴에 고정시킴으로써 형성할 수 있다. 대안으로는, 분주부와 의료용 배럴을 단일체로 성형 또는 형성할 수 있거나, 또는 개별적으로 형성한 다음 다른 방식으로 연결시킬 수 있다. 모든 구현예의 의료용 배럴은 임의의 적합한 물질로 만들 수 있다. 특히 고려되는 여러 의료용 배럴 물질로, COC (환형 올레핀 공중합체), COP (환형 올레핀 중합체), PET (폴리에틸렌 테레프탈레이트), 및 폴리프로필렌이 있다.
뚜껑 달린 어셈블리 (12)의 분주부 (20)는 뚜껑 달린 어셈블리 (12)로 이루어진 완품의 의료용 배럴 내부공간 (18)으로부터 분주되는 유체를 위한 출구로 역할을 하도록 제공될 수 있다. 도면들에 예시된 적합한 분주부의 일 예로, 피하 주사바늘이 있을 수 있다.
대안으로는, 임의의 구현예에서 분주부 (20)는 그 대신 주사바늘이 없는 분주기일 수 있다. 주사바늘이 없는 분주기의 적합한 한 예는 유체 물질 (40)을 전달하기 위한 보완적 커플링에 수용되도록 의도된 무디거나 (blunt) 잘 휘어지는 (가요성) 분주부일 수 있다. 이렇게 무디거나 잘 휘어지는 분주부는 의료봉사자 또는 다른 사람이 우발적으로 찔릴 수 있는 뾰족한 주사바늘로 작업하는 위험을 막는 한편, 주사기, 정맥내 주사 시스템, 및 물질 분주용 기타 시스템과 장비에 사용되는 것으로 잘 알려져 있다. 주사바늘이 없는 분주기의 또 다른 예는 중간의 주사바늘이 필요없는, 유체의 프리 제트 또는 스프레이를 환자의 피부를 통해 직접 주사하는 유체 제트 또는 스프레이 주사 시스템일 수 있다. 피하 주사바늘이든 또는 임의의 형태의, 주사바늘이 없는 분주기이든, 모든 유형의 분주부 (20)를 본 발명의 임의의 구현예에 따라 사용하는 것으로 고려된다.
분주부 (20)는 의료용 배럴 (14)에 고정되거나 고정될 수 있으며, 근위 개구 (22), 원위 개구 (24), 및 분주부 내부공간 (26)을 포함한다. 근위 개구 (22)는 의료용 배럴의 내부공간 (18)과 소통한다. 원위 개구 (24)는 의료용 배럴 (14)의 외부측에 위치할 수 있다. 분주부 내부공간 (26)은 분주부 (20)의 근위 개구 및 원위 개구 (22, 24) 사이를 소통시킨다. 예시된 구현예에서, 원위 개구 (24)는 피하 주사바늘 (20)의 뽀족한 팁에 형성될 수 있다.
쉴드 (28)는 의료용 배럴 (14)에 고정될 수 있으며, 분주부 (20)의 원위 개구 (24)를 쉴드 (28) 외부측 압력 조건으로부터 실질적으로 분리시킨다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 경피 주사의 경우, 쉴드 (28)는 뚜껑 달린 어셈블리 (12)의 안전 사용을 용이하게 하기 위해 충분한 생-배리어를 제공하도록 뚜껑 달린 어셈블리 (12)의 여러 부분을 충분히 분리시킨다.
쉴드 (28)는 원위 개구 (24)를 다양한 방식으로 분리시킬 수 있다. 도 2, 도 3, 도 4 및 도 7에 나타낸 바와 같이, 쉴드 (28)와 원위 개구 (24) 사이의 접촉 덕분에 효과적인 분리가 적어도 일부 실현될 수 있다. 예시된 구현예에서, 분주부 (20)의 팁이 쉴드 (28)의 재료에 묻힐 수도 있다. 대안으로는 임의의 구현예에 의하면, 도 2, 도 3, 도 4 및 도 7에 또한 나타낸 바와 같이, 쉴드 (28)와 의료용 배럴 (14) 사이의 접촉 덕분에 효과적인 분리가 적어도 일부 실현될 수 있다. 예시된 구현예에서, 쉴드 (28)와 의료용 배럴 (14)간 접촉의 주 라인은 의료용 배럴 (14)의 코 부분에서 대체로 원통형의 표면 (44)을 둘러싸고 그 표면에 대해 안착된 리브 (42) (도 3에 가장 잘 도시됨)에 있을 수 있다. 대안으로는 임의의 구현예에 의하면, 효과적인 분리는 도 2 내지 도 3에 예시된 바와 같은 양 유형들의 접촉으로 인해, 또는 비제한적으로는 다른 방식들을 통해 실현될 수 있다.
임의의 구현예에 의한 쉴드 (28)는 함께 체결되어 쉴드 (28)를 제자리에 유지시키는 바브 (46) 및 캐치부 (48)를 포함한 래칭 메커니즘 (도 3에 가장 잘 도시됨)을 선택적으로 가질 수 있다. 캐치부 (48)는 쉴드 (28)가 쉽게 분리 및 교체될 수 있도록 충분한 탄성을 띠는 재료로 만들어질 수 있다.
만일 분주부 (20)가 피하 주사바늘이라면, 쉴드 (28)는 특별히 형성된 주사바늘 쉴드일 수 있다. 주사바늘 쉴드의 원래 용도는 사용 전의 피하 주사바늘을 커버하여, 주사바늘에 우발적으로 찔리게 되는 현상을 막고, 환자 또는 주사 포트에 주입되기 전에 주사바늘이 오염되는 현상을 막기 위함이다. 비록 상기 분주부 (20)는 주사바늘이 없는 분주기이지만, 바람직하게는 대등한 쉴드를 사용하여, 취급시 분주기의 오염을 막는다.
쉴드 (28)는 임의의 적합한 방식으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 열가소성 재료를 성형하여 쉴드 (28)를 형성할 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 열가소성 재료는 엘라스토머성 재료이거나 또는 밀봉부를 형성하기에 적합할 수 있는 기타 재료일 수 있다. 엘라스토머성 재료의 한 가지 적합한 부류는 일반적으로 열가소성 엘라스토머 (TPE)로 알려져 있다. 쉴드 (28)를 형성하기에 적합한 열가소성 엘라스토머의 한 예는 Stelmi® Formulation 4800 (가요성 쉴드 제제)이다. 임의의 구현예에서는 적합한 특성을 지닌 기타 다른 재료를 대신 사용할 수 있다.
임의의 구현예에서 또 다른 선택적 특징으로서, 쉴드 (28)는 살균 가스에 대해 충분한 투과성을 지님으로써 쉴드에 의해 분리된 뚜껑 달린 어셈블리 (12)의 여러 부분을 살균할 수 있다. 적합한 살균 가스의 한 예는 산화에틸렌이다. 쉴드 (28)는 살균 가스에 대해 충분한 투과성을 지니므로, 쉴드에 의해 분리된 부품들이 살균처리될 수 있다. 산화에틸렌 가스 멸균 작업을 수용하는데 있어서 충분한 투과성을 나타내는 쉴드 제제의 한 예는 Stelmi® Formulation 4800일 수 있다.
SiOx의 배리어 코팅 혹은 층을 플라즈마 강화 화학기상증착 방법 (PECVD) 또는 다른 화학기상증착 방법으로 제약 패키지, 구체적으로는 열가소성 패키지의 용기 상에 증착시킴으로써, 산소, 공기, 이산화탄소 또는 다른 가스류가 용기에 들어가는 것을 막고/막거나 제약 물질이 패키지 벽 내부로 또는 벽을 통해 침출되는 것을 막는 배리어 코팅 혹은 층으로 역할을 하도록 할 수 있다. 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅을 갖지 않는 용기에 비해, 배리어 코팅 혹은 층은 대기 가스, 가령 산소가 내부공간에 침투하는 것을 줄이는데 효과적일 수 있다.
또한, 합성 및 생물학적 제약 제제로 사전충전되는 일부 주사기는 산소와 수분에 매우 민감하다. 유리에서 플라스틱 의료용 배럴로 전환시키는데 있어서의 한 주요 인자는 플라스틱의 산소 및 수분 배리어 성능 향상일 것이다. 플라즈마 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 기법은 긴 유효기간에 걸쳐 산소 및 수분에 맞선 보호 효과를 위해 SiOx 배리어 코팅 혹은 층을 유지시키는데 적합할 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 배리어 코팅 혹은 층에 의해 유용하게 차단되는 약물 내 용질들의 예로, 항균성 방부제, 항산화제, 금속이온 봉쇄제, pH 버퍼, 및 이들의 임의의 조합물이 포함된다. 임의의 구현예에 의하면, 기상-증착된 코팅 혹은 층은, 선택적으로, 약물 용해도를 높이기 위해 사용되는 조용매가 포함된 용매에 대한 용매 배리어 코팅 혹은 층일 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 기상-증착된 코팅 혹은 층은, 선택적으로, 물, 글리세린, 프로필렌 글리콜, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 아세톤, 벤질 알코올, 폴리에틸렌 글리콜, 면실유, 벤젠, 디옥산, 또는 이들 중 2종 이상의 조합물에 대한 배리어 코팅 혹은 층일 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 기상-증착된 코팅 혹은 층은, 선택적으로, 금속 이온에 대한 배리어 코팅 혹은 층일 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 기상-증착된 코팅 혹은 층은 앞서 언급한 의료용 배럴 기본 수지들 중 임의의 것과 각 조성물 내 기타 다른 성분들의 침출을 막거나 줄이도록, 선택적으로, 의료용 배럴 벽 재료에 대한 배리어 코팅 혹은 층일 수 있다.
그러나, 본 발명가들은 이러한 SiOx의 배리어 코팅 혹은 층은 일부 유체 조성물, 예컨대 pH가 약 5를 초과하는 수성 조성물에 의해 부식되거나 용해된다는 것을 발견하였다. 화학기상증착법으로 도포되는 코팅 혹은 층은 수십 내지 수백 나노미터 두께 등으로 매우 얇을 수 있기 때문에, 심지어 부식 속도가 상대적으로 늦더라도 배리어 코팅 혹은 층의 효과는 제품 패키지의 바람직한 유효기간보다 짧은 시간 안에 사라지거나 약해질 수 있다. 이는 특히 유체 제약 조성물의 경우에 문제점이 될 수 있는데, 그 이유는 많은 유체 제약 조성물의 pH가 대략 7이거나 또는 더 광범위하게는 혈액, 및 다른 인간 또는 동물 체액의 pH와 유사한 5 내지 9 범위이기 때문이다. 제제의 pH가 높을수록, SiOx 코팅을 더 빠르게 부식 또는 용해시킨다.
추가로 본 발명가들은 보호 코팅 혹은 층이 없으면 붕규산염 유리 표면이 일부 유체 조성물, 예컨대 pH가 약 5를 초과하는 수성 조성물에 의해 부식되거나 용해된다는 것을 발견하였다. 이는 특히 유체 제약 조성물의 경우에 문제점이 될 수 있는데, 그 이유는 많은 유체 제약 조성물의 pH가 대략 7이거나 또는 더 광범위하게는 혈액, 및 다른 인간 또는 동물 체액의 pH와 유사한 5 내지 9 범위이기 때문이다. 제제의 pH가 높을수록, 유리를 더 빠르게 부식 또는 용해시킨다. 이러한 부식 또는 용해 현상의 결과로, pH가 약 5를 초과하는 수성 조성물에 의해 유리의 소입자들 하부가 절단됨에 따라, 유리가 박리될 수도 있다.
비록 본 발명은 후술되는 이론의 정확성에 의존하지는 않지만, 효과적인 SiOxCy 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 재료 특성들과, 미국특허 제7,985,188호 및 국제특허출원 제PCT/US11/36097호에 기재된 바와 같은 효과적인 윤활성 코팅 혹은 층의 재료 특성들이 일부 경우에서 유사함에 따라, 본 명세서, 미국특허 제7,985,188호, 또는 국제특허출원 제PCT/US11/36097호의 특정 실시예들에 기재되는 바와 같은 윤활성 코팅 혹은 층의 특징들을 가진 코팅 혹은 층 또한 특정 경우에 패키지의 배리어 코팅 혹은 층을 부동태화시키거나 보호하기 위한 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층으로도 역할을 하며, 그 반대로도 마찬가지라고 알려졌다.
다수의 공통적 특징부를 가진 본 발명의 세 구현예는 도 7, 도 8 및 도 29의 구현예들이다. 이들 공통적 특징부 중 일부는 아래와 같으며, 많은 경우에 동일 참조 문자나 명칭으로 표시하였다. 각 구현예의 특징부들의 성질은 본 명세서에 후술되는 바와 같을 수 있다.
도 7 내지 도 8과 도 29의 제약 패키지 각각은 용기 (210), 유체 조성물 (40), SiOx 배리어 코팅 혹은 층 (30), 및 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)을 포함한다. 각 용기 (210)는 열가소성 재료로 만들어진 벽 내부 부분 (16)에 의해 적어도 일부가 획정된 내부공간 (18)을 가질 수 있다.
대체로 원통형의 내부 표면 (16)은 내부공간 (18)을 향하는 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44, 254), 및 외부 표면 (216)을 가질 수 있다.
유체 조성물 (40)은 내부공간 (18)에 보관될 수 있으며, 4 내지 10, 대안으로는 5 내지 9의 pH를 가질 수 있다.
배리어 코팅 혹은 층
충전형 제약 패키지 또는 기타 용기 (210)에서, 배리어 코팅 혹은 층 (30)은 대체로 원통형의 열가소성 내부 표면 (16)의 내부 또는 대체로 원형의 내부 표면 (16)과, 유체 물질 (40) 사이에 위치할 수 있다. SiOx의 배리어 코팅 혹은 층 (286)은 대체로 원통형의 열가소성 내부 표면 (16)에 의해 지지될 수 있다. 배리어 코팅 혹은 층 (286)은 유체 물질 (40)의 공격을 받아, 6개월 미만 이내로 차단 향상 인수가 눈에 띄게 감소되는 특징을 가질 수 있다. 본 명세서의 다른 곳, 또는 미국특허 제7,985,188호에서 설명한 바와 같이 배리어 코팅 혹은 층 (286)은 모든 구현예에서 사용될 수 있다.
배리어 코팅 혹은 층 (30)은 제약 패키지 또는 기타 용기 (210)에 동일하되 미피복된 컨테이너에 비해 대기 가스, 가령 산소가 내부공간에 침투하는 것을 줄이는데 효과적일 수 있다. 본 명세서에 정의된 임의의 구현예 (특정 경우에 달리 명시되지 않는 한)에 대한 배리어 코팅 혹은 층은, 선택적으로, 미국특허 제7,985,188호에 지시된 바와 같이 PECVD법으로 도포된다.
배리어 코팅 혹은 층의 차단 향상 인수 (BIF)는 2개의 동일한 컨테이너 군을 제공하고, 배리어 코팅 혹은 층, PECVD 세트, 또는 다른 처리를 한 컨테이너 군에 적용하고, 배리어 코팅 혹은 층을 가진 컨테이너 상의 배리어 특성 (이를 테면, 분당 마이크로그램 단위로 표시되는 탈가스율 또는 다른 적합한 측정값)을 시험하고, 동일한 시험을 배리어 코팅 혹은 층이 없는 컨테이너에 시행하고, 해당 재료 대 배리어 코팅 혹은 층이 없는 경우의 비를 구함으로써 결정될 수 있다. 예를 들어, 만일 배리어 코팅 혹은 층을 통한 탈가스율 이 배리어 코팅 혹은 층이 없을 경우의 탈가스율의 1/3이라면, 배리어 코팅 혹은 층의 BIF는 3이다.
차단 향상 인수는 미사용 컨테이너에서, 또는 컨테이너에 유체 조성물을 저장한 후에 측정하여, 차단 향상 인수에 미치는 유체 저장의 영향을 판단할 수 있다. PECVD 세트와 접촉되는 컨테이너에 유체를 저장한 후 차단 향상 인수를 측정하기 위해, 용액 저장 후 차단 향상 인수 (BIF)를 측정하기 위한 시행 방식에 대해 후술하였다.
선택적으로 배리어 코팅 혹은 층은 “SiOx” 코팅 혹은 층을 특징으로 할 수 있으며, 규소, 산소 및 임의로 다른 원소들을 함유하고, 상기 화학식에서 규소 원자에 대한 산소 원자의 비인x는 약 1.5 내지 약 2.9, 또는 1.5 내지 약 2.6, 또는 약 2일 수 있다. 이러한 x의 대안적 정의들은 본 명세서에서 용어 SiOx의 모든 사용예에 적용된다. 배리어 코팅 혹은 층은 예를 들어 제약 패키지 또는 기타 용기, 가령 샘플 채취관 (이를 테면, 채혈관), 의료용 배럴, 바이얼, 또는 다른 유형의 용기의 내부에 도포될 수 있다.
배리어 코팅 혹은 층 (30)은 2 내지 1000 nm 두께 (평균 두께)의 SiOx를 포함하거나 필수적으로 포함하며, 선택적으로 임의의 구현예에서 평균 두께는 10 내지 500 nm이고 표준편차는 평균 두께 미만이다. 선택적으로 임의의 구현예에서, 배리어 코팅 혹은 층 (30)의 두께 범위는 10 내지 500 nm일 수 있다. SiOx의 배리어 코팅 혹은 층 (30)은 내부공간 (18)을 향하는 대체로 원통형의 내부 표면 (16), 및 상기 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 향하는 외부 표면을 가진다. 배리어 코팅 혹은 층 (30)은 미피복된 제약 패키지 (210)에 비해 내부공간 (18)으로의 대기 가스 진입을 줄이는데 효과적일 수 있다. 하나의 적합한 배리어 조성물은 가령 x가 2.3인 조성물일 수 있다.
예를 들어, 임의의 구현예에서 참조 번호 30에 해당되는 것과 같은 배리어 코팅 혹은 층은 2 nm 이상, 또는 4 nm 이상, 또는 7 nm 이상, 또는 10 nm 이상, 또는 20 nm 이상, 또는 30 nm 이상, 또는 40 nm 이상, 또는 50 nm 이상, 또는 100 nm 이상, 또는 150 nm 이상, 또는 200 nm 이상, 또는 300 nm 이상, 또는 400 nm 이상, 또는 500 nm 이상, 또는 600 nm 이상, 또는 700 nm 이상, 또는 800 nm 이상, 또는 900 nm 이상의 두께로 도포될 수 있다. 배리어 코팅 혹은 층은 최대 1000 nm까지, 또는 900 nm 이하, 또는 800 nm 이하, 또는 700 nm 이하, 또는 600 nm 이하, 또는 500 nm 이하, 또는 400 nm 이하, 또는 300 nm 이하, 또는 200 nm 이하, 또는 100 nm 이하, 또는 90 nm 이하, 또는 80 nm 이하, 또는 70 nm 이하, 또는 60 nm 이하, 또는 50 nm 이하, 또는 40 nm 이하, 또는 30 nm 이하, 또는 20 nm 이하, 또는 10 nm 이하, 또는 5 nm 이하로 두꺼울 수 있다. 위에 나타낸 최소 두께 중 임의의 하나와, 위에 나타낸 최대 두께 중 하나 이상로 구성된 특정 두께 범위들이 명백히 고려된다. 배리어 코팅 혹은 층에 대해 고려되는 또 다른 두께 범위는 20 내지 80 nm이다. 배리어 코팅 혹은 층의 두께에 바람직한 변화량은 평균 두께로부터 +/- 30%, 더 바람직하게는 평균 두께로부터 +/- 15%, 가장 바람직하게는 평균 두께로부터 +/- 5%이다. SiOx 또는 다른 배리어 코팅 혹은 층의 두께는 예를 들어 투과전자현미경 기법 (TEM)으로 측정가능하며, 그의 조성물은 X선 광전자 분광법 (XPS)으로 측정가능하다. 본원에 기술되는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 플라스틱 또는 유리로 만들어진 다양한 제약 패키지 또는 기타 용기, 예컨대 플라스틱 관, 바이얼 및 주사기에 도포될 수 있다.
부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층
SiOxCy의 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)을 최종 물품에서 배리어 코팅 혹은 층 (30)과 유체 물질 (40) 사이에 위치할 수 있도록, 예컨대 PECVD법으로, 배리어 코팅 혹은 층 (30)에 직접 또는 간접적으로 도포할 수 있다. 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)은 내부공간 (18)을 향하는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)과, 배리어 코팅 혹은 층 (30)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 향하는 외부 표면을 가질 수 있다. 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)은 대체로 원통형의 열가소성 내부 표면 (16)에 의해 지지될 수 있다. 비제한적 일 구현예에 의하면, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)은 적어도 6개월의 기간 동안 유체 물질 (40)의 공격을 받아도 배리어 코팅 혹은 층 (30)이 적어도 실질적으로 미분해된 상태로 유지되도록 하는데 효과적일 수 있다.
선택적으로, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 SiOxCyHz 또는 SiNxCyHz로 구성될 수 있으며, 식에서 w는 1이고, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이고, z (정의되는 경우)는 약 2 내지 약 9이다.
원자비는 XPS (X선 광전자 분광법)으로 결정될 수 있다. XPS는 수소 원자를 검출하지는 않으므로, XPS로 원자비를 결정할 때에는 해당 화학식으로부터 수소를 빼는 것이 관례이다. 따라서 화학식은 통상 SiOxCy 또는 SiOxCy로 표현될 수 있으며, 식에서 w는 1이고, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이고, z에 대한 제한 조건은 없다.
“윤활성 및/또는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층” 내 Si, O 및 C의 원자비는 여러 선택안으로 하기와 같을 수 있다:
Si 100 : O 50-150 : C 90-200 (예컨대, w = 1, x = 0.5 내지 1.5, y = 0.9 내지 2);
Si 100 : O 70-130 : C 90-200 (예컨대, w = 1, x = 0.7 내지 1.3, y = 0.9 내지 2)
Si 100 : O 80-120 : C 90-150 (예컨대, w = 1, x = 0.8 내지 1.2, y = 0.9 내지 1.5)
Si 100 : O 90-120 : C 90-140 (예컨대, w = 1, x = 0.9 내지 1.2, y = 0.9 내지 1.4), 또는
Si 100 : O 92-107 : C 116-133 (예컨대, w = 1, x = 0.92 내지 1.07, y = 1.16 내지 1.33).
통상, 이러한 코팅 혹은 층은 탄소 + 산소 + 규소를 100%로 정규화하였을 때 탄소를 36% 내지 41%로 함유할 수 있다. 대안으로, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 탄소, 산소 및 규소를 100%로 정규화하였을 때, X선 광전자 분광법 (XPS)으로 결정된 원자 농도로서 50% 미만의 탄소, 25%를 초과하는 규소를 함유할 수 있다. 대안으로, 원자 농도는 25 내지 45%의 탄소, 25 내지 65%의 규소, 및 10 내지 35%의 산소일 수 있다. 대안으로, 원자 농도는 30 내지 40%의 탄소, 32 내지 52%의 규소, 및 20 내지 27%의 산소일 수 있다. 대안으로, 원자 농도는 33 내지 37%의 탄소, 37 내지 47%의 규소, 및 22 내지 26%의 산소일 수 있다.
선택적으로, X선 광전자 분광법 (XPS)으로 결정되는 보호 코팅 혹은 층 내 탄소의 원자 농도는 탄소, 산소 및 규소를 100%로 정규화하였을 때 유기규소 전구체에 대한 원자식 내 탄소의 원자 농도보다 높을 수 있다. 예를 들어, 탄소의 원자 농도가 1 내지 80 at.%, 대안으로는 10 내지 70 at.%, 대안으로는 20 내지 60 at.%, 대안으로는 30 내지 50 at.%, 대안으로는 35 내지 45 at.%, 대안으로는 37 내지 41 at.%만큼 증가하는 구현예들이 고려된다.
선택적으로, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 내, 산소에 대한 탄소의 원자비는 유기규소 전구체와 비교하여 더 높을 수 있고/있거나, 규소에 대한 산소의 증가비는 유기규소 전구체와 비교하여 더 낮을 수 있다.
선택적으로, X선 광전자 분광법 (XPS)으로 결정되는 보호 코팅 혹은 층 내 규소의 원자 농도는 탄소, 산소 및 규소를 100%로 정규화하였을 때 공급 가스에 대한 원자식 내 규소의 원자 농도보다 낮을 수 있다. 예를 들어, 규소의 원자 농도가 1 내지 80 at.%, 대안으로는 10 내지 70 at.%, 대안으로는 20 내지 60 at.%, 대안으로는 30 내지 55 at.%, 대안으로는 40 내지50 at.%, 대안으로는 42 내지 46 at.%만큼 감소하는 구현예들이 고려된다.
또 다른 선택안으로서, 유기규소 전구체의 합 공식과 비교하여 C:O의 원자비가 높아질 수 있고/있거나 Si:O의 원자비가 낮아질 수 있는 전체 화학식을 특징으로 할 수 있는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층이 고려된다.
부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 밀도는 X선 반사율 (XRR)로 측정하였을 때 1.25 내지 1.65 g/cm3, 대안으로는 1.35 내지 1.55 g/cm3, 대안으로는 1.4 내지 1.5 g/cm3, 대안으로는 1.44 내지 1.48 g/cm3일 수 있다. 선택적으로, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 위한 전구체로 사용되는 유기규소 화합물은 옥타메틸사이클로테트라실록산 또는 테트라메틸디실록산일 수 있다.
선택적으로 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 RMS 표면 조도 값 (AFM으로 측정함)은 약 2 내지 약 9, 선택적으로 약 6 내지 약 8, 선택적으로 약 6.4 내지 약 7.8일 수 있다. AFM으로 측정한 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 Ra 표면 조도 값은 약 4 내지 약 6, 선택적으로 약 4.6 내지 약 5.8일 수 있다. AFM으로 측정한 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 Rmax 표면 조도 값은 약 70 내지 약 160, 선택적으로 약 84 내지 약 142, 선택적으로 약 90 내지 약 130일 수 있다.
유체 물질 (40)에 직접 접촉된 경우의 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)을 포함한 구성의 부식, 용해 또는 침출 속도(서로 관련된 개념들의 다양한 표현)는 유체 물질 (40)에 직접 접촉된 경우의 배리어 코팅 혹은 층 (30)의 부식, 용해 또는 침출 속도보다 낮을 수 있다.
부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)은 제약 패키지 또는 기타 용기 (210)의 유효기간 동안 배리어 코팅 혹은 층이 배리어로서 역할을 할 수 있도록 적어도 충분한 시간 동안 배리어 코팅 혹은 층 (30)을 유체 물질 (40)로부터 분리 또는 보호하는데 효과적일 수 있다.
선택적으로 도 7 내지 도 8 또는 도 29의 임의의 구현예에 따른 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34) 의 FTIR 흡수 스펙트럼에서 보통 약 1000 내지 1040 cm-1에 위치하는 Si-O-Si 대칭 신축 피크의 최대 진폭과, 보통 약 1060 내지 1100 cm-1에 위치하는 Si-O-Si 비대칭 신축 피크의 최대 진폭 사이의 비는 0.75를 초과한다. 대안으로는 임의의 구현예에서, 상기 비는 0.8 이상, 또는 0.9 이상, 또는 1.0 이상, 또는 1.1 이상, 또는 1.2 이상일 수 있다. 대안으로는 임의의 구현예에서, 상기 비는 1.7 이하, 또는 1.6 이하, 또는 1.5 이하, 또는 1.4 이하, 또는 1.3 이하일 수 있다. 도 7 내지 도 8 및 도 29에 예시된 발명의 대안적 구현예로서, 상기 제시된 임의의 최소비를 상기 제시된 임의의 최대비와 조합할 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 약제의 부재 하에, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 비-오일성 외관을 가질 수 있다. 이러한 외관은 일부 예에서 효과적인 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 윤활성 코팅 혹은 층과 구별하기 위해 관찰되었으며, 일부 예에서는 오일성 (즉, 매끄러운) 외관을 갖는 것으로 관찰되었다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 고농도 질산을 통해 pH가 8로 조절되었고, 0.2 wt.%의 폴리소르베이트-80 계면활성제를 함유하며, 주사제용으로 물에 희석된 50 mm 인산칼륨 버퍼 내, 40℃에서의 규소 용해 속도 (용해 시제가 변하는 것을 막기 위해 약제의 부재 하에 측정됨)는 170 ppb/day 미만일 수 있다 (폴리소르베이트-80은 제제의 흔한 성분이며, 가령 Wilmington Delaware에 소재한 Uniqema Americas LLC에서 Tween®-80으로 시판 중임). 규소 용해 속도는 용기로부터 그 내용물로 침출된 전체 규소를 구함으로써 측정될 수 있으며, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34), 윤활성 코팅 혹은 층 (287), 배리어 코팅 혹은 층 (30), 또는 함유된 다른 물질들로부터 유도된 규소와 구별되지 않는다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 규소 용해 속도는 160 ppb/day 미만, 또는 140 ppb/day 미만, 또는 120 ppb/day 미만, 또는 100 ppb/day 미만, 또는 90 ppb/day 미만, 또는 80 ppb/day 미만일 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 규소 용해 속도는 10 ppb/day 초과, 또는 20 ppb/day 초과, 또는 30 ppb/day 초과, 또는 40 ppb/day 초과, 또는 50 ppb/day 초과, 또는 60 ppb/day를 초과할 수 있다. 도 7 내지 도 8 및 도 29에 예시된 발명의 대안적 구현예로서, 상기 제시된 임의의 최저 속도를 상기 제시된 임의의 최고 속도와 조합할 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 용기로부터 pH 8인 시험 대상 조성물에 용해시켰을 때, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 및 배리어 코팅 혹은 층의 전체 규소 함량은 66 ppm 미만, 또는 60 ppm 미만, 또는 50 ppm 미만, 또는 40 ppm 미만, 또는 30 ppm 미만, 또는 20 ppm 미만일 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 패키지의 산출된 유효기간 (전체 Si / Si 용해 속도)은 6개월 초과, 또는 1년 초과, 또는 18개월 초과, 또는 2년 초과, 또는 2½년 초과, 또는 3년 초과, 또는 4년 초과, 또는 5년 초과, 또는 10년 초과, 또는 20년을 초과할 수 있다. 선택적으로 도 7 내지 도 8과 도 29의 임의의 구현예에 의하면,패키지의 산출된 유효기간 (전체 Si / Si 용해 속도)은 60년 미만일 수 있다.
대안적 구현예로서, 상기 제시된 임의의 최단 시간을 상기 제시된 임의의 최장 시간과 조합할 수 있다.
O-매개변수 또는 P-매개변수
선택적으로 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)은 감쇠 전반사 (ATR)로 아래와 같이 측정하였을 때 0.4 미만의 O-매개변수를 가질 수 있다:
Figure 112015063276666-pct00004
0-매개변수는 미국특허 제8,067,070호에 정의되어 있으며, 상기 문헌에서 O-매개변수의 값은 가장 포괄적으로 0.4 내지 0.9인 것으로 제시되었다. 이러한 O-매개변수는 상기 식의 분자와 분모를 구하기 위한 FTIR 진폭 대 파동수 선도를 물리적으로 분석하여 측정될 수 있다. O-매개변수는 또한 디지털 파동수 대 흡수 데이터로부터 측정될 수도 있다.
미국특허 제8,067,070호는, 둘 다 비-환형 실록산인 HMDSO 및 HMDSN만 사용한 실험들에 의존하여, 당 문헌에 제시 O-매개변수 범위가 우수한 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 제공한다고 제시하였다. 놀랍게도, 본 발명가들은 미국특허 제8,067,070호에 제시된 범위들 밖의 O-매개변수들이 미국특허 제8,067,070호에서 얻은 결과보다 나은 결과를 제공할 수 있음을 발견하였다.
대안으로, O-매개변수는 0.1 내지 0.39, 또는 0.15 내지 0.37, 또는 0.17 내지 0.35의 값을 가질 수 있다.
본 발명의 또 다른 양태는 도 7 내지 도 8 및 도 29에 예시된, 전술된 바와 같은 복합재일 수 있으며, 이때 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 감쇠 전반사 (ATR)로 측정하였을 때 0.7 미만인 P-매개변수를 가질 수 있으며, 아래와 같이 측정되었다:
Figure 112015063276666-pct00005
N-매개변수는 미국특허 제8,067,070호에 기재되어 있으며, 두 특정 파동수에서의 세기를 사용한다는 점을 제외하면 O-매개변수와 유사하게 측정될 수 있다 상기 파동수들 중 어느 것도 범위가 아니다. 미국특허 제8,067,070호는 N-매개변수가 0.7 내지 1.6인 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 제시하였다. 다시 한번, 본 발명가들은, 전술한 바와 같이, N-매개변수가 0.7 미만인 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)을 이용하여 더 나은 코팅 혹은 층을 제조하였다. 대안으로, N-매개변수는 0.3 내지 0.7 미만, 또는 0.4 내지 0.6, 또는 0.53 이상 내지 0.7 미만의 값을 가질 수 있다.
작동 이론
본 발명가들은 본원에 기술된 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 하기와 같은 작동 이론을 제공하였다. 본 발명은 본 이론의 정확도 또는 본 이론을 이용하여 예상가능한 구현예들에 제한되지 않는다.
SiOx 배리어 코팅 혹은 층의, 또는 유리의 용해 속도는 해당 층 또는 유리 내부의 SiO 결합에 좌우되는 것으로 알려져 있다. 산소 결합 자리 (실라놀)는 용해 속도를 높이는 것으로 알려져 있다.
OMCTS 또는 TMDSO에 기반한 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층이 SiOx 배리어 코팅 혹은 층 상의 실라놀 자리 또는 유리 상의 실라놀 자리와 결합하여, SiOx 또는 유리 표면을 “치유 (heal)” 또는 부동태화시킴으로써 용해 속도를 급격히 낮추는 것으로 알려져 있다. 이 가설에서, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 두께는 주요 보호 수단이 아니다 주요 수단은 SiOx 또는 유리 표면을 부동태화시키는 것일 수 있다. 본 명세서에서 전술된 바와 같은 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 가교 밀도를 증가시킴으로써 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 향상시킬 수 있는 것으로 이해된다.
선택적 그레이드 (점진적 변화형) 복합 코팅 혹은 층
부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34), 및 윤활성 코팅 혹은 층은 뚜렷한 전이를 나타내는 개별적 코팅 혹은 층일 수 있거나, 또는 그 사이의 계면이 뚜렷하지 않은, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)과 윤활성 코팅 혹은 층 사이에 전이되는 단일 등급화된 (graduated) 코팅 혹은 층일 수 있다. SiOx 및 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 인접 코팅들 또는 층들의 경우, 여기서 고려되는 또 다른 선택적 방편은 위의 정의 부분에서 정의된 바와 같은 SiOx 및 SiOxCy의 그레이드 복합체, 또는 그의 대등물 SiOxCy일 수 있다.
그레이드 복합체는 그 사이에 중간 조성 전이상태 또는 계면을 갖는 윤활성 및/또는 보호성 및/또는 배리어 코팅 혹은 층의 개별적 코팅 혹은 층일 수 있거나; 또는 그 사이에 중간 조성의 뚜렷한 중간 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 갖는 윤활성 및/또는 보호성 및/또는 소수성 코팅 혹은 층의 개별적 코팅 혹은 층일 수 있거나; 또는 윤활성 및/또는 보호성 및/또는 소수성 코팅 혹은 층의 조성에서, 수직 방향으로 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 거치면서, SiOx와 더 가까운 조성으로 연속적으로 또는 단계적으로 변화되는 단일 코팅 혹은 층일 수 있다.
그레이드 복합체 내 그레이드는 어느 방향으로도 갈 수 있다. 예를 들어, SiOx의 조성물을 기질에 직접 적용시켜, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 표면으로부터 조성물까지 더 등급화할 수 있고, 선택적으로 또 다른 유형의 코팅 혹은 층, 이를테면 소수성 코팅 혹은 층이나 윤활성 코팅 혹은 층까지 더 등급화될 수 있다. 그 밖에, 임의의 구현예에 의하면, 배리어 코팅 혹은 층을 도포하기 전에, 타이 코팅 혹은 층에 대한 또 다른 표현인 접착 코팅 혹은 층, 예를 들어 SiOxCy, 또는 그의 대등물 SiOxCy를 선택적으로 기질에 직접 도포할 수 있다.
한 조성물의 코팅 혹은 층이 다른 것보다 기질에 더 잘 접착된다면 등급화 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층이 특히 고려되며, 이 경우, 상기 더 잘 접착되는 조성물을 예컨대 기질에 직접 적용할 수 있다. 그레이드 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 더 멀리 있는 부분들이 그레이드 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 인접한 부분들보다 기질과의 혼화성이 더 낮을 수 있다고 여겨지며, 그 이유는 임의의 지점에서 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 특성이 점진적으로 변화될 수 있어, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 거의 동일한 깊이에 있는 인접한 부분들은 거의 동일한 조성물을 가지며, 실질적으로 상이한 깊이에 있는 더 멀리 물리적으로 떨어져 있는 부분들은 더 다양한 특성들을 가질 수 있기 때문이다. 또한 기질 내부 또는 외부로의 물질 전달에 맞서 더 나은 배리어를 형성하는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 부분을 기질에 직접 적용하여, 더 열악한 베리어를 형성하는 더 멀리 떨어져 있는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층이 배리어로 차단 또는 저지시키고자 하는 물질로 오염되는 것을 막을 수 있음을 이해한다.
그레이드되는 대신 상기와 같이 도포되는 코팅 혹은 층은, 조성물의 실질적인 변화 (gradient) 없이도, 선택적으로 한 코팅 혹은 층과 그 다음의 코팅 혹은 층 사이에 뚜렷한 전이가 이루어질 수 있다. 이러한 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은, 예를 들어, 비-플라즈마 상태에서 안정적 상태 (steady state) 흐름으로서의 코팅 혹은 층을 생성한 후에, 이러한 시스템을 짧게 플라즈마 방전으로 여기시켜 기질 상에 코팅 혹은 층을 형성함으로써 제조될 수 있다. 만일 그 다음 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 후속으로 도포해야 한다면, 이전 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 위한 가스들을 제거하고, 다음 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 위한 가스들을 안정적 상태 방식으로 인가하며, 그 후에 플라즈마를 여기시키고, 기질의 표면, 또는 그의 최외 이전 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층에 뚜렷한 코팅 혹은 층을 다시 형성하며, 이 경우 계면에 점진적인 전이가 발생하더라도 극히 적다.
본원에서 때때로 3층 구조 코팅으로 지칭되는 바람직한 PECVD 세트를 의료용 배럴에 도포할 수 있다: TMDSO에 기반한 타이층을 도포하고, HDMSO에 기반한 배리어층을 도포하며, TDMSO에 기반한 pH 보호층을 도포한다.
PECVD 장치
본 장치를 사용하여, 처리 대상 표면을 가진 의료용 배럴 (12)과 같은 작업편, 예를 들면, 처리 대상 표면을 획정하는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)으로 둘러싸인 내부공간(18)을 가진 의료용 배럴과 같은 작업편을 플라즈마 개질시킬 수 있다. 또한 본 장치와 방법을 이용하여 다른 유형의 표면, 이를테면 플런저 팁, 스토퍼, 피스톤, 또는 스토퍼의 외부 표면을 처리할 수도 있다. 일반적으로 본 장치는 작업편 (12)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 플라즈마 개질시키는데 효과적인 조건하에 플라즈마를 제공하기 위한 플라즈마 발생기를 포함한다. 본 장치는 또한 내부공간 (18)의 적어도 일 부분, 또는 더 광범위하게는 플라즈마 내 또는 플라즈마 가까이에 자기장을 공급하기 위한 자기장 발생기를 1개 이상 포함하며, 이에 대해서는 하기 부분 (예컨대, 61 내지 78, 86 내지 91, 93, 95, 97, 또는 99 중 임의의 것)에서 더 설명하기로 한다. 이러한 자기장은 표면에 대한 플라즈마 개질의 균일성을 향상시키는데 효과적인 위치, 배향 및 자기장 세기를 가진다.
본 장치는 또한 작동 위치에서 장치 내 작업편 (12)을 지지하기 위한 지지체를 포함한다.
본 명세서에 기술된 배리어 코팅 혹은 층, 윤활성 코팅 혹은 층, 및/또는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 제공하기 위해 미국특허 제7,985,188호에 기재된 저압 PECVD 공정 - 상기 명세서에 기재 또는 제시된 임의의 자석 배치를 수정한 방식 - 을 이용할 수 있다. 도 4 내지 도 6을 참조로, 상기 공정을 짧은 개요를 이하 설명하기로 한다.
본 목적에 적합한 PECVD 장치 또는 코팅 스테이션 (60)은 용기 지지체 (50), 프로브 (108)로 정의되는 내부 전극, 선택적으로 대체로 원통형인 외부 전극 (160), 및 전원부 (162)를 포함한다. 내부 전극 (108)의 적어도 일부는 PECVD 처리 동안 의료용 배럴의 내부공간 속에 위치하며, 외부 전극 (160)은 PECVD 처리 동안 의료용 배럴의 내부공간 외부측에 위치한다. 용기 지지체 (50)에 안착되는 프리-캡 (pre-capped) 어셈블리 (12)는 선택적으로 진공 챔버일 수 있는 플라즈마 반응 챔버를 획정하는 의료용 배럴을 구비한다. 선택적으로, 진공원 (98), 반응물질 가스 공급원 (144), 가스 공급부 (프로브 108), 또는 이들 중 둘 이상이 조합되어 구비될 수 있다.
본 발명의 임의의 구현예에 의하면, PECVD 장치는 의료용 배럴 상에, 특히 내부공간을 획정하는 대체로 원통형의 내부 표면을 가진 그의 벽에 하나 이상의 코팅으로 된 PECVD 세트를 도포하기 위한 장치로 이해되며, 상기 대체로 원통형의 내부 표면은 4 내지 15 mm 범위의 직경을 가진다.
PECVD 장치는 대기압 PECVD용으로 사용될 수도 있으며, 이 경우 프리-캡 어셈블리 (12)에 의해 획정되는 플라즈마 반응 챔버는 진공 챔버로 기능할 필요가 없다.
도 4 내지 도 6을 참조하면, 용기 지지체 (50)는 개구 (82) 상에 안착된 프리-캡 어셈플리 (12) 내부로 가스를 이송하기 위한 가스 입구 포트 (104)를 포함한다. 가스 입구 포트 (104)는, 프로브 (108)가 가스 입구 포트 (104)를 통해 삽입될 때 원통형 프로브 (108)에 안착될 수 있는, 가령 하나 이상의 O-링 (106), 또는 2개의 연속적 O-링, 또는 3개의 연속적 O-링으로 구비된 슬라이딩 밀봉부를 가질 수 있다. 프로브 (108)는 그의 원위 단부 (110)에 있는 가스 전달 포트로 연장되는 가스 입구 도관일 수 있다. 예시된 구현예의 원위 단부 (110)는 1종 이상의 PECVD 반응물질 및 다른 전구체 공급물질 또는 처리 가스를 공급하도록 프리-캡 어셈블리 (12) 내 적절합 깊이까지 삽입될 수 있다. 프로브 (108)로 정의되는 내부 전극은 상기 내부공간 내부로 연장되며 대체로 원통형의 내부 표면과 동축을 이루고 (선택적으로) 상기 내부 표면으로부터 방사방향으로 1.2 내지 6.9 mm 이격된 단부 또는 원위 부분 (110)을 가진다. 내부 전극 (108)은, 가스 PECVD 전구체를 내부공간 내로 도입하기 위한 출구 하나 이상, 여기서는 가령 천공들 (120 내지 142) 중 임의의 하나 또는 포트 (110)가 형성되어 있고 공급물질을 공급하기 위한 내부 통로 (110)를 가진다.
대체로 원통형의 내부 표면 상에 평균 두께를 갖는 플라즈마 강화 화학증기증착 (PECVD) 가스 배리어 코팅을 형성하기에 효과적인 조건하에 외부 전극 (160)에 전자기 에너지를 인가할 수 있다.
도 6은 예를 들어 모든 예시된 구현예에 유용한 코팅 스테이션 (60)의 추가 선택적 상세사항을 나타낸다. 코팅 스테이션 (60)은 또한 압력 센서 (152)까지 이어지는 진공 라인 (576) 내 주 진공 밸브 (574)를 가질 수 있다. 바이패스 라인 (580) 내에는 수동 바이패스 밸브 (578)가 구비될 수 있다. 배기 밸브 (582)는 배기부 (404)에서의 흐름을 제어한다.
주 반응물질 공급 라인 (586)을 통과하는 흐름을 조절하는 주 반응물질 가스 밸브 (584)를 통해, PECVD 가스 또는 전구체 공급원 (144)에서 나오는 흐름을 제어할 수 있다. 가스 공급원 (144)의 한 구성요소는 전구체를 함유한, 유기규소 액체 저장조 (588)일 수 있다. 저장조 (588)의 내용물은 원하는 유량을 제공하기 위해 적합한 길이 부분에 선택적으로 구비될 수 있는 유기규소 모세관 라인 (590)을 통해 인출될 수 있다. 유기규소 증기의 흐름은 유기규소 셧오프 밸브 (592)로 제어가능하다. 대기압 (및 그의 변동)에 좌우되지 않는 반복성 유기규소 액체 전달을 정립하기 위해 압력 라인 (618)에 의해 헤드공간 (614)에 연결된 가압 공기와 같은 압력원 (616)으로부터 가령 0 내지 15 psi (0 내지 78 cm.Hg) 범위의 압력을 액체 저장조 (588)의 헤드공간 (614)에 인가할 수 있다. 저장조 (588)는 밀봉가능하며, 모세관 연결부 (620)를 저장조 (588)의 저부에 위치시켜 오로지 순수 유기규소 액체 (헤드공간 (614)으로부터의 가압 가스는 제외)만 모세관 (590)을 통해 흐르도록 보장할 수 있다. 유기규소 액체를 기화시켜 유기규소 증기를 형성할 필요가 있거나 바람직하다면, 선택적으로 유기규소 액체를 대기 온도보다 높게 가열할 수 있다. 이러한 가열 작업을 달성하기 위해, 유리하게 상기 장치는 전구체 저장조의 출구로부터 주사기 내부로의 가스 입구에 가능한 한 가까이까지 고온 전달 라인들 (heated delivery lines)을 포함할 수 있다. 예를 들어 OMCTS를 공급할 때에는 예열 작업이 유용할 수 있다.
질량 유량 제어기 (598)에 의해 제어되고 산화제 셧오프 밸브 (600)가 구비된 산화 가스 공급 라인 (596)을 통해, 산화 가스조 (594)로부터 산화 가스를 공급할 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 특정 증착 공정을 위해 필요한 경우 추가 재료를 공급하기 위해 다른 전구체, 산화제, 및/또는 희석 가스 저장조 (이를 테면, 602)가 구비될 수 있다. 이러한 각 저장조 (이를 테면 602)는 적절한 공급 라인 (604) 및 셧오프 밸브 (606)를 가질 수 있다.
특히 도 4를 참조하면, 프로세싱 스테이션 (60)은 프로세싱 동안 프리-캡 어셈블리 (12) 내부에 플라즈마를 발생시키는 전기장을 제공하기 위한 고주파 전력 (162)이 공급되는 외부 전극 (160)을 포함할 수 있다. 본 구현예에서, 프로브 (108)는 전기전도성일 수 있고, 접지될 수 있으며, 이로써 프리-캡 어셈블리 (12) 내부에 상대전극을 제공한다. 대안으로, 임의의 구현예에 의하면, 외부 전극 (160)은 접지될 수 있으며, 프로브 (108)는 전원부 (162)에 직접 연결될 수 있다.
도 4 내지 도 6의 구현예에서, 외부 전극 (160)은 도 5와 도 6에 예시된 것처럼 대체로 원통형이거나, 또는 대체로 U자형의 긴 채널일 수 있다. 각각의 예시된 구현예는 하나 이상의 측벽 (이를 테면 164 및 166), 및 선택적으로 아주 근접하게 프리-캡 어셈블리 (12) 둘레에 배치된 상부 단부 (168)를 가질 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 외부 전극 (160)은 유공성 (foraminous) 재료, 예컨대, 금속 와이어 메쉬 재료로 만들어질 수 있다. 대안으로, 외부 전극 (160)은 연속 재료 (예컨대, 천공, 직조, 편직 또는 펠트 재료가 아님을 의미함), 이를테면 금속 실린더로 만들어질 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 내부 전극 (108)은 축방향으로 내부공간 (18) 속으로 연장된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 작업편 (12) 표면 (16)에 대한 플라즈 개질은 화학기상증착, 선택적으로 플라즈마 강화 화학기상증착 (PECVD)을 포함한다.
앞서 지적한 바와 같이, 선택적으로 내부 전극 (108)은 가스 재료를 내부공간 (18)에 제공하는 재료 공급관 (104)으로서 두 가지 역할을 할 수 있다. 재료 공급관 (104)는 선택적으로, 임의의 구현예에 의하면, 내부공간 (18) 속에 배치되는 벽을 구비한다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 상기 벽에는 가스 재료를 내부공간 (18)에 전달하는 천공 (122 내지 142 중 임의의 것)이 마련되어 있다. 구체적으로 도 4 내지 도 5와 도 26 내지 도 28을 참조한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 천공들 (예컨대, 122, 122a, 122b; 134, 134a, 134b, 134c, 134d; 또는 135, 135a, 135b)은 도 26 내지 도 28에 도시된 바와 같이 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 분포될 수 있다. 천공들 (예컨대, 122, 124; 130, 132, 134; 또는 139, 140)은 도 26 내지 도 28에 도시된 바와 같이 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 원주방향으로 분포될 수 있다.
천공들 (122 내지 142 중 임의의 것)은 2개 이상 천공들이 원주방향으로 이격된 시리즈처럼 분포될 수 있으며, 각 시리즈는 도 26 내지 도 28에 도시된 바와 같이 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 이격된다. 천공들 (122 내지 128 또는 135 내지 142 중 임의의 것)은 시리즈 당 2개의 천공이 정반대측에 있는, 원주방향으로 이격된 복수의 시리즈로서 분포될 수 있으며, 각 시리즈는 도 26과 도 28에 도시된 바와 같이 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 이격되어 있다. 제1 시리즈의 정반대측 천공들 (예컨대, 122 및 124)은 도 26에 도시된 바와 같이 인접한 제2 시리즈의 정반대측 천공들 (예컨대, 126 및 128)을 기준으로 대체로 원통형의 내부 표면 (16) 상에서 원주방향으로 약 90도 변위될 수 있다. 제1 시리즈의 정반대측 천공들 (예컨대, 135 및 136)은 도 28에 도시된 바와 같이 인접한 제2 시리즈의 정반대측 천공들 (예컨대, 137 및 138)을 기준으로 대체로 원통형의 내부 표면 (16) 상에서 원주방향으로 약 45도 변위될 수 있다. 천공들은 시리즈 당 적어도 3개의 천공 (예컨대, 130, 132 및 134)이 120도 이격되는, 원주방향으로 이격된 복수의 시리즈로서 분포될 수 있으며, 각 시리즈 (예컨대, 130, 132, 및 134, vs. 130a, 132a, 및 134a)는 도 27에 도시된 바와 같이 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 이격된다.
또 다른 선택안으로서, 상기 다양한 천공 패턴들의 조합, 또는 당업자에 공지되었거나 명백한 다른 패턴들을 단일 재료 공급관 (104)에 사용할 수 있다.
배리어 코팅 혹은 층의 도포
본 방법을 수행할 때, 배리어 코팅 혹은 층 (30)은 의료용 배럴 (14)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 일 부분에 직접 또는 간접적으로 도포될 수 있다. 예시된 구현예에는, 뚜껑이 미리 마련된 어셈블리 (12)의 뚜껑을 닫는 동안 배리어 코팅 혹은 층 (30)을 도포할 수 있지만, 요구사항은 아니다. 배리어 코팅 혹은 층 (30)은 실질적으로는 미국특허 제7,985,188호에 기재된 조건하에서 플라즈마 강화 화학기상증착법 (PECVD)으로 도포되는 SiOx 배리어 코팅 혹은 층일 수 있다. 배리어 코팅 혹은 층 (30)은 상기 도포 단계 말미에, 의료용 배럴 내부공간 (18)과 분주부 내부공간 (26) 사이의 소통을 유지하는데 효과적인 조건하에서 근위 개구 (22)를 통해 도포될 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 배리어 코팅 혹은 층 (30)은 선택적으로 개구 (32)를 통해 도포될 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 배리어 코팅 혹은 층 (30)은 선택적으로 기상 (vapor-phase) 전구체 재료를 개구를 통해 도입한 다음 화학기상증착법을 활용하여, 의료용 배럴의 대체로 원통형의 내부 표면 (16) 상에 상기 전구체 재료의 반응 생성물을 증착시킴으로써 도포될 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 배리어 코팅 혹은 층을 형성하기 위한 전구체 재료는 선택적으로 미국특허 제7,985,188호에 기재된 전구체 또는 본 명세서에서 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 형성하기 위한 전구체 중의 임의의 것일 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 반응물질 기상 재료 (reactant vapor material)는 개구를 통해 부분 진공 상태에 있는 1종 이상의 산화 가스 및 희석 가스와의 전구체 재료 혼합물일 수 있으며, 화학기상증착법을 활용하여, 의료용 배럴의 대체로 원통형의 내부 표면 (16) 상에 상기 전구체 재료의 반응 생성물을 증착시킴으로써 도포된다.
임의의 구현예에 의하면, 선택적으로 반응물질 기상 재료는 부압에서 개구를 통과할 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 선택적으로는 개구 (32)를 통해 내부 전극을 의료용 배럴 내부공간 (18)에 배치하고, 의료용 배럴 (14) 외부측에 외부 전극을 배치하며, 이들 전극을 이용하여, 선택적으로는 고주파 에너지일 수 있는 플라즈마-유도 전자기 에너지를 의료용 배럴 내부공간 (18)에 인가함으로써, 의료용 배럴 내부공간 (18) 속에 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 만일 다른 배치를 이용한다면, 플라즈마-유도 전자기 에너지는 극초단파 에너지이거나 다른 형태의 전자기 에너지일 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 선택적으로 전자기 에너지는 직류일 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 선택적으로 전자기 에너지는 교류일 수 있다. 선택적으로 교류는 가청 주파수, 극초단파 주파수, 무선 주파수, 또는 가청 주파수, 극초단파 주파수, 또는 무선 주파수 중 둘 이상의 조합을 비롯한 주파수에서 변조될 수 있다.
임의의 구현예에 의하면, 선택적으로 전자기 에너지는 의료용 배럴 내부공간 (18) 전체에 걸쳐 도포될 수 있다.
부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 도포
임의의 구현예에 의하면, 전술된 바와 같은 제1 코팅 혹은 층을 도포하는 조작 외에, 본 방법은 선택적으로 동일 재료 또는 상이한 재료의 제2 또는 추가 코팅 혹은 층을 도포하는 조작을 포함할 수 있다. 임의의 구현예에서 유용한 일 예로, 특히 고려되는 것 중, 제1 코팅 혹은 층이 SiOx 배리어 코팅 혹은 층인 경우에, 추가 코팅 혹은 층을 배리어 코팅 혹은 층 상부에 직접 또는 간접적으로 배치할 수 있다는 점이다. 임의의 구현예에서 유용한 이러한 추가 코팅 혹은 층은 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)이다.
전구체
배리어 코팅 혹은 층, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층, 또는 a 윤활성 코팅 혹은 층의 형성 방법들 중 임의의 것을 위한 전구체는 하기 전구체 중 임의의 것을 포함할 수 있다.
전구체는 유기규소 또는 관련 화합물일 수 있다. 유기규소 전구체는 폭넓게 유기금속성 전구체로 정의된다. 본 명세서에서 유기금속성 전구체는 주기율표 III족 및/또는 IV족의, 유기 잔기 이를테면 탄화수소, 아미노카본 또는 옥시카본 잔기를 갖는 금속 원소들의 종합적 화합물로 정의된다. 상기와 같이 정의되는 유기금속성 화합물은 규소 또는 다른 III족/IV족 금속 원자에 직접 결합되거나, 또는 선택적으로는 산소 원자나 질소 원자를 통해 결합된 유기 모이어티를 갖는 모든 전구체를 포함한다. 주기율표의 III족의 해당 원소들은 붕소, 알루미늄, 갈륨, 인듐, 탈륨, 스칸디늄, 이트륨 및 란타넘이며, 알루미늄과 붕소가 바람직하다. 주기율표의 IV족의 해당 원소들은 규소, 게르마늄, 주석, 납, 티타늄, 지르코늄, 하프늄, 및 토륨이며, 규소와 주석이 바람직하다. 그 밖의 휘발성 화합물 또한 고려될 수 있다. 그러나 본 발명을 수행하기 위해서는 유기규소 화합물이 바람직하다.
유기규소 전구체가 고려되며, 본 명세서 전체에 걸쳐 “유기규소 전구체”는 하나의 산소 원자와 하나의 유기 탄소 원자 (유기 탄소 원자는 1개 이상의 수소 원자에 결합된 탄소 원자임)에 결합된 4가 규소 원자인 하기 연결기 중 적어도 하나를 갖는 화합물을 포함한 화합물로 가장 광범위하게 정의된다:
Figure 112015063276666-pct00006
또는
Figure 112015063276666-pct00007
.
또 다른 고려되는 구조는 -NH- 연결기와 유기 탄소 원자 (유기 탄소 원자란 1개 이상의 수소 원자에 결합된 탄소 원자임)에 연결된 4가 규소 원자이다. 유기규소 전구체에 대한 추가 설명과 많은 예들은 미국특허 제7,985,188호에서 찾아볼 수 있다.
유기규소 전구체는 10 sccm 이하, 선택적으로는 6 sccm 이하, 선택적으로는 2.5 sccm 이하, 선택적으로는 1.5 sccm 이하, 선택적으로는 1.25 sccm 이하의 속도로 전달될 수 있다. 제약 패키지 또는 기타 용기가 더 크거나, 조건 및 규모에 다른 변경 사항이 있다면, 전구체가 더 많이 또는 더 적게 요구될 수 있다.
적합한 유형의 전구체의 또 다른 예는 플루오르화 중합체 코팅 또는 층을 위한 플루오르화 전구체이다. 플루오르화 전구체를 플런저 팁, 피스톤, 스토퍼, 또는 밀봉부 (36)의 슬라이딩 표면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16), 또는 둘 다에 직접 증착시킬 수 있거나, 중간에 코팅 또는 층들이 개재된 상태에서 증착시킬 수 있다. 선택적으로 플루오르화 중합체는 유체가 수용되는 대체로 원통형의 내부 표면 (16) 상에 또는 상기 표면에 인접하게 전구체가 있을 때 이러한 전구체를 화학적으로 개질함으로써 도포된다.
선택적으로, 전구체는
이량체 테트라플루오로파라크실리렌,
디플루오로카르벤,
단량체 테트라플루오로에틸렌,
화학식 F2C=CF(CF2)xF (x는 1 내지 100, 선택적으로는 2 내지 50, 선택적으로는 2 내지 20, 선택적으로는 2 내지 10임)의 올리고머 테트라플루오로에틸렌
나트륨 클로로디플루오로아세테이트,
클로로디플루오로메탄,
브로모디플루오로메탄,
헥사플루오로프로필렌 옥사이드,
1H,1H,2H,2H-퍼플루오로데실 아크릴레이트 (FDA),
브로모플루오로알칸, 알칸 모이어티는 1 내지 6개의 탄소 원자를 가짐,
요오드플루오로알칸, 알칸 모이어티는 1 내지 6개의 탄소 원자를 가짐, 또는
상기 중 임의의 둘 이상의 조합물
을 포함한다.
부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 위한 성분들의 비
일반적으로, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 경우, O2는 유기규소 양를 초과한 10배 미만의 양으로 함유될 수 있다. 이와 달리, 배리어 코팅 혹은 층을 얻기 위해, O2의 양 (예를 들어, 단위 sccm의 유량으로 표현될 수 있음)은 통상 유기규소 전구체의 양을 초과하여 10배 이상일 수 있다.
각 구성성분에 적합한 비율의 몇몇 특정 예로, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 위한 유기규소 전구체 대 O2의 부피비 (단위: sccm)는 0.1 : 1 내지 10 : 1 범위, 선택적으로는 0.3 : 1 내지 8 : 1 범위, 선택적으로는 0.5 : 1 내지 5 : 1, 선택적으로는 1 : 1 내지 3 : 1 범위일 수 있다. 전구체 가스, 산소 및 희석 가스의 일부 비제한적 대안 선택예 및 적합한 비를 아래에 제공한다.
처리 가스는 윤활성 및/또는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 제조하기 위한 가스들을 아래와 같은 비로 함유할 수 있다:
0.5 내지 10 표준 부피의 전구체;
1 내지 100 표준 부피의 희석 가스;
0.1 내지 10 표준 부피의 산화제.
(단부가 개방된) 1/8" 직경 관을 구비한 3 ml 샘플 크기 주사기에서 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 제조하기 위한 예시적 반응 조건은 아래돠 같다:
유량 범위:
OMCTS: 0.5 - 10 sccm
산소: 0.1 - 10 sccm
아르곤: 1.0 - 200 sccm
전력: 0.1 - 500 watts
실시예들에 제시된 부피비의 전구체 및 O2의 존재는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 얻는데 특히 적합할 수 있다.
본 발명의 일 양태에서, 캐리어 또는 희석 가스 (PECVD법에서 비활성 가스 공급물질에 대한 두 가지 다른 명칭)는 반응 혼합물 내에 함유되지 않을 수 있으며; 본 발명의 다른 양태에서는 캐리어 또는 희석 가스가 함유될 수 있다. 적합한 희석 가스로는 임의의 희가스, 예를 들면, 아르곤, 헬륨, 네온, 제논 또는 이들 중 둘 이상의 조합물이 포함될 수 있다. 반응 혼합물 내에 희석 가스가 함유된 경우, 희석 가스는 유기규소 전구체의 부피를 초과하는 부피 (단위: sccm)로 통상 함유된다. 예컨대, 유기규소 전구체 대 희석 가스의 비는 1 : 1 내지 1 : 50, 선택적으로는 1 : 5 내지 1 : 40, 선택적으로 1 : 10 내지 1 : 30일 수 있다. 희석 가스의 한 가지 기능은 플라즈마 내 반응물질들을 희석시켜, 기재에 접착되지 않으며 배기 가스들과 대부분 제거되는 분말 반응 생성물들 대신에, 기재 위에 코팅 또는 층이 형성되도록 돕는 것일 수 있다.
아르곤 가스를 첨가하면 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)의 성능이 향상되는 것으로 밝혀졌다. 아르곤의 존재하에 이루어지는 분자의 추가 이온화가 이러한 성능에 기여하는 것으로 알려져 있다. 분자의 Si-O-Si 결합은 높은 결합 에너지를 가지며, 그 다음이 Si-C이고, C-H 결합이 가장 약하다. 부동태화 또는 pH 보호 효과는 C-H 결합의 일부가 깨어졌을 때 달성되는 것으로 보인다. 이러한 효과가 클수록 구조의 연결 (가교)이 가능하게 한다. (아르곤을 제외하고) 산소를 첨가하면 본 방법이 개선되는 것으로 알려져 있다. 소량의 산소는 C-O 결합을 제공할 수도 있으며, 상기 결합에는 다른 분자들이 결합될 수 있다. 낮은 압력 및 낮은 전력하에 C-H 결합을 깨고 산소를 첨가하는 조합된 방식으로, 부동태화 또는 pH 보호 효과가 제공되는 한편, 고형 (단단한) 화학적 구조가 생성된다.
개시된 구현예들 중 임의의 것에서, 처리가스들의 한 바람직한 조합으로, 옥타메틸사이클로테트라실록산 (OMCTS), TMDSO, HMDSO 또는 다른 유기규소 화합물, 이를테면 전구체; O2, 산화질소 (N2O), 오존 (O3), 수증기 (플라즈마 내에서 분해되어 산소를 생성할 수 있음) 또는 다른 산화 가스 (이용되는 조건에서 PECVD 동안 전구체를 산화시키는 기타 가스, 바람직하게는 O2를 의미함); 희석 가스, 예를 들면, 희가스, 가령 헬륨, 아르곤, 크립톤, 제논, 네온, 또는 이들 중 둘 이상의 조합물이 포함된다. 헬륨과 아르곤이 특히 고려된다.
선택적으로 기상 반응물질 또는 처리 가스에는 질소가 적어도 실질적으로 함유되지 않을 수 있다. 이러한 조합은, 결과적으로 생성되는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 향상시키기 위해 고려된다.
도포 방법
선택적으로 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)은 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)의 도포 단계 말미에 의료용 배럴 내부공간 (18)과 분주부 내부공간 (26) 사이의 소통을 유지하기에 효과적인 조건하에, 배리어 코팅 혹은 층 (30) 상부에, 선택적으로는 프리-어셈블리 (12)에, 이를테면 프리-어셈블리의 뚜껑을 닫혀있는 동안, 직접 또는 간접적으로 도포될 수 있다.
유리로 만들어진 용기
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 제1 또는 유일한 PECVD-증착 코팅 혹은 층 (30)으로서 도포될 수 있으며, 이에 대한 추가로 또는 대신에 도포되는 추가 코팅 혹은 층으로서 사용되지 않을 수 있다. 이러한 방식은, 예를 들어, 의료용 배럴이 유리로 만들어진 경우에 유용할 수 있다. 본 개시된 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 또한 SiOx 코팅 또는 층을 공격하는 것으로 표시된 pH값을 가진 내용물들에 의해 유리가 용해되는 현상을 줄일 수 있다.
예를 들어 도 7 내지 도 8과 도 29에 나타낸 바와 같이, 유리로 만들어진 용기 또는 용기 부품; 선택적으로는 용기 또는 용기 부품 상의 배리어 코팅 혹은 층 (이를 테면, 30); 용기 또는 용기 부품 상, 또는 배리어 코팅 혹은 층 상의 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (이를 테면, 34); 및 용기 안에 보관되는 제약 조성물 또는 제제를 포함하는 제약 패키지 (210)를 고려한다.
이러한 유리 구현예에서, 유리 용기 벽 자체가 매우 양호한 배리어 코팅 혹은 층이기 때문에 배리어 코팅 혹은 층은 선택적일 수 있다. 주로 분리 효과를 주기 위해, 다시 말해, 용기 벽과 용기의 내용물 사이에서의, 임의 종류의 물질, 이를테면 유리의 이온들 또는 제약 조성물 또는 제제 성분들이 접촉하거나 상호교환되는 것을 막기 위해, 선택적으로는 배리어 코팅 혹은 층을 제공하는 것이 고려된다. 적어도 어느 정도까지, 독립적으로 분리 기능을 시행하기 위해, 본 명세서에 정의되는 바와 같은 보호 코팅 혹은 층을 고려할 수 있다. 현재 제약 포장에 흔히 사용되는 붕규산염 유리는 pH가 5를 초과하는 유체 조성물에 의해 용해될 수 있으므로, 전술된 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 제약 조성물 또는 제제와 접촉되는 유리에 유용한 기능을 제공하는 것으로 이해될 수 있다. 특히 이러한 용해가 불리할 수 있거나 불리한 것으로 여겨지는 분야에서, 본 부동태화 층 또는 보호 코팅이 활용될 수 있다.
용기는 예를 들면 의료 또는 실험실 분야에 사용되는 임의 종류의 유리, 이를테면 소다석회 유리, 붕규산염 유리, 또는 기타 유리 제제로 만들어질 수 있다. 유리 용기 상에서의 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 한 가지 기능은 유리의 이온들이 의도적으로 또는 불순물, 가령 나트륨, 칼슘 또는 기타로서, 유리로부터 제약 패키지 또는 기타 용기의 내용물, 이를테면 시약 또는 진공처리된 채혈관 내 혈액에 진입하는 현상을 줄일 수 있다는 것이다. 대안으로는, 이중 기능성의 보호/윤활성 코팅 혹은 층을 유리 용기 상의 전체 또는 일부, 이를테면 선택적으로는 다른 부분들에 대해 슬라이딩되도록 접촉되는 표면들 상에 사용하여, 예를 들면 스토퍼의 삽입 또는 분리나, 주사기 내 피스톤과 같은 슬라이딩 부재의 이동을 수월하게 하는 윤활성을 부여할 수 있을 뿐만 아니라, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 분리 효과를 제공할 수 있다는 것이다. 유리 용기를 예컨대 이중 기능성의 소수성 및 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층으로 피복시키는 또 다른 이유는 제약 패키지 또는 기타 용기가 쓰이는 시제 또는 샘플, 이를테면 혈액이 용기의 벽에 교착되는 현상이나 혈액과 용기 벽의 접촉으로 인한 응고율 증가를 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 분리 효과를 제공할 수 있기 때문이다.
이와 관련된 한 구현예는 이전 단락들에 설명한 바와 같이 기재 상의 배리어 코팅 혹은 층이 소다 석회 유리, 붕규산염 유리, 또는 다른 종류의 유리 코팅 혹은 층으로 만들어질 수 있는 경우의 용기일 수 있다.
부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 위한 조건
전구체 부근을 무선 주파수, 선택적으로는 10 kHz 내지 2.45 GHz, 선택적으로는 10 kHz 내지 300 MHz 미만, 선택적으로는 1 내지 50 MHz, 선택적으로는 10 내지 15 MHz, 대안으로는 약 13 내지 약 14 MHz, 선택적으로 약 13.56 MHz의 주파수의 전력이 인가된 전극으로 여기시켜 만들어진 플라즈마를 전구체와 접촉시킬 수 있다. 통상, PECVD 공정에서의 플라즈마는 무선 주파수에서 발생될 수 있지만, 극초단파 또는 다른 전자기 에너지도 사용가능하다. 플라즈마 반응을 통해 용기의 내부 상에 보호 코팅 혹은 층을 제공하기 위해, 0.1 내지 500 W, 선택적으로는 0.1 내지 400 W, 선택적으로는 0.1 내지 300 W, 선택적으로는 1 내지 250 W, 선택적으로는 1 내지 200 W, 심지어 선택적으로는 10 내지 150 W, 선택적으로는 20 내지 150 W, 가령 40 W, 선택적으로는 40 내지 150 W, 심지어 선택적으로는 60 내지 150 W의 전력을 사용하여, 임의의 구현예의 플라즈마를 발생시킬 수 있다.
본원의 임의의 구현예에 의한 임의의 PECVD 공정을 위해, PECVD는 상기 명시된 범위 내에서 더 높은 초기 전력 수준을 인가하여 개시한 다음, 이어서 상기 명시된 범위 내에서 더 낮은 전력 수준을 인가할 수 있다. 상기 더 높은 초기 전력 수준은 예컨대 1 내지 3초 동안 인가될 수 있다. 그 다음의 더 낮은 전력 수준은 예컨대 PECVD 공정의 나머지 시간 동안 인가될 수 있다.
부동태화 또는 pH 보호 외에도 윤활성을 부여하도록 의도된 코팅 혹은 층을 형성하기 위해, 전구체 부근을 0.1 내지 25 W, 선택적으로는1 내지 22 W, 선택적으로는1 내지 10 W, 심지어 선택적으로는1 내지 5 W, 선택적으로는2 내지 4 W, 예컨대 3 W, 선택적으로는3 내지 17 W, 심지어 선택적으로는5 내지 14 W, 예컨대 6 또는 7.5 W, 선택적으로는7 내지 11 W, 예컨대 8 W의 전력이 공급된 전극으로 여기시켜 만들어진 플라즈마를 전구체와 접촉시킬 수 있다.
플라즈마 부피에 대한 전극 전력의 비는 100 W/ml 미만, 선택적으로는 0.1 내지 100 W/mL, 선택적으로는 5 W/ml 내지 75 W/ml, 선택적으로는 6 W/ml 내지 60 W/ml, 선택적으로는 10 W/ml 내지 50 W/ml, 선택적으로 20 W/ml 내지 40 W/ml일 수 있다. 이들 전력 수준은 부동태화 층 또는 보호 코팅 또는 층을 주사기 및 샘플관, 및 PECVD 플라즈마가 발생될 수 있는 공극 용적 5 mL를 가진 제약 패키지 또는 유사 기하학 구조의 기타 용기에 도포시키는데 적합하다. 더 크거나 더 작은 객체의 경우, 기재의 크기에 대해 일정한 비율로 공정 처리되도록 인가되는 전력 (단위: Watt)을 이에 따라 높이거나 낮춰야 한다는 것을 이해한다.
부동태화 또는 pH 보호 외에도 윤활성을 부여하도록 의도된 코팅 혹은 층을 형성하기 위해, 전구체 부근을 플라즈마 부피의 10 W/ml 미만, 대안으로는 플라즈마 부피의 6 W/ml 내지 0.1 W/ml, 대안으로는 플라즈마 부피의 5 W/ml 내지 0.1 W/ml, 대안으로는 플라즈마 부피의 4 W/ml 내지 0.1 W/ml, 대안으로는 플라즈마 부피의 2 W/ml 내지 0.2 W/ml, 대안으로는 플라즈마 부피의 10 W/ml 내지 50 W/ml, 선택적으로는 20 W/ml 내지 40 W/ml의 전력 밀도가 공급된 전극으로 여기시켜 만들어진 플라즈마를 전구체와 접촉시킬 수 있다.
선택적으로, 도 7 내지 도 8과 도 29의 임의의 구현예에 의하면, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은, 전구체 질량 kg 당 22,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 30,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 40,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 50,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 60,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 62,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 70,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 80,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 100,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 200,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 300,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 400,000 kJ 초과, 또는 전구체 질량 kg 당 500,000 kJ을 초과하는 전력 수준에서 PECVD법을 통해 도포될 수 있다.
선택적으로, 도 7 내지 도 8과 도 29의 임의의 구현예에 의하면, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 (34)은, 전구체 질량 kg 당 2,000,000 kJ 미만, 또는 전구체 질량 kg 당 1,000,000 kJ 미만, 또는 전구체 질량 kg 당 700,000 kJ 미만, 또는 전구체 질량 kg 당 500,000 kJ 미만, 또는 전구체 질량 kg 당 100,000 kJ 미만, 또는 전구체 질량 kg 당 90,000 kJ 미만, 또는 전구체 질량 kg 당 81,000 kJ 미만의 전력 수준에서 PECVD법을 통해 도포될 수 있다.
PECVD 공정에서, 증착 시간은 1 내지 30 초, 대안으로는 2 내지 10 초, 대안으로는 3 내지 9 초일 수 있다. 증착 시간의 선택적 제한의 목적은 기재를 과열하는 것을 피하고, 생산율을 높이며, 처리 가스와 그의 구성성분들의 사용을 줄이기 위함일 수 있다. 증착 시간의 선택적 연장의 목적은 특정 증착 조건에 대해 더 두꺼운 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 제공하기 위함일 수 있다.
기타 방법을 이용하여 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 도포할 수 있다. 예를 들어, 헥사메틸렌 디실라잔 (HMDZ)을 전구체로 사용할 수 있다. HMDZ는 자신의 분자 구조 내에 산소를 전혀 함유하지 않는다는 이점을 지닌다. 이러한 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 처리는 HMDZ를 사용하여 SiOx 배리어 코팅 혹은 층의 표면을 처리하는 것으로 이해하면 된다. 이산화규소 코팅 혹은 층 내에 존재하는 OH 자리들과 HMDZ가 반응하게 되어, NH3이 발생되고 S-(CH3)3이 규소에 결합된다 (수소 원자들이 발생하며, 이들 수소 원자가 HMDZ로부터의 질소와 결합되어 NH3을 생성하는 것으로 여겨진다).
이러한 HMDZ 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 여러 가능한 경로를 통해 실현될 수 있는 것으로 이해된다.
한 가지 고려되는 경로는 대기 온도에서 HMDZ를 탈수/기화시키는 것일 수 있다. 우선, 예를 들면 헥사메틸렌 디실록산 (HMDSO)을 사용하여 SiOx 표면을 증착시킬 수 있다. 그런 후에는 상기 피복된 상태 그대로의 이산화규소 표면을 HMDZ 증기와 반응시킬 수 있다. 임의의 구현예에 의하면, SiOx 표면이 해당 물품 상부에 증착되자 마자, 진공도를 유지할 수 있다. HMDSO와 산소를 펌프로 빼내어 베이스 (최저 도달) 진공도를 얻는다. 일단 베이스 진공도에 이르면, HMDZ 증기를 (해당 부품 상에 피복된 상태 그대로의) 이산화규소 표면 상부로 mTorr 내지 수 Torr 범위의 압력하에 흘려보낼 수 있다. 그리고 나서 HMDZ를 펌프로 빼낼 수 있다 (그 결과, 반응의 부산물인 NH3이 생성됨). 가스 스트림 내 NH3의 양을 (가령, 잔여 가스 분석기, - RGA- ) 모니터링할 수 있으며, 더 이상 NH3이 검출되지 않으면 반응이 완료된 것이다. 그러면 해당 부분을 (깨끗한 건조 가스 또는 질소를 사용하여) 대기로 배기 처리한다. 이렇게 얻은 표면은 부동태화 또는 보호된 것으로 간주될 수 있다. 선택적으로 이 방법은 플라즈마를 형성하지 않고 달성될 수 있는 것으로 이해된다.
대안으로는, SiOx 배리어 코팅 혹은 층을 형성한 후에, HMDZ를 탈수/기화시키기 전에 진공도를 깰 수 있다. HMDZ의 탈수/기화 조작은 SiOx 배리어 코팅 혹은 층을 형성하는데 사용된 동일한 장치에서, 또는 상이한 장치에서 수행될 수 있다.
HMDZ의 탈수/기화 조작을 고온에서 실시하는 것도 고려된다. 대안으로 이러한 공정은 실온을 초과하는 온도 내지 약 150℃ 범위의 고온에서 수행될 수 있다. 최고 온도는 피복 대상 부품을 구성하는 재료에 따라 정해질 수 있다. 온도 상한치는 피복 대상 부품이 비틀리거나 아니면 손상되지 않을 수 있도록 선택되어야 한다.
플라즈마를 이용한 HMDZ의 탈수/기화 조작 또한 고려된다. 탈수/기화 조작에 대한 상기 구현예들 중 어느 하나를 수행한 다음, HMDZ 증기가 해당 부품에 도입되는 즉시 플라즈마가 발생될 수 있다. 플라즈마 전력은 수 watts 내지 100+ watts 범위 (SiOx를 증착시키는데 사용된 전력과 비슷한 수준)일 수 있다. 이러한 사항은 HMDZ에 제한되지 않으며, 수소와 반응할 수 있는 모든 분자에, 예를 들면 본 명세서에 기술되는 질소-함유 전구체에 적용될 수 있다.
놀랍게도, 전술된 코팅 혹은 층은 기상증착형 코팅 혹은 층 (30)이 실질적으로 전혀 증착되어 있지 않은 분주부 내부공간 (26)을 가진 뚜껑 달린 어셈블리 (12)에도 적용될 수 있음이 밝혀졌다.
특정 구현예에 의하면, 피복 대상 용기의 부분 전체에 균일한 플라즈마를 발생시키면 더 나은 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층이 생성되는 것으로 일부 예에서 밝혀진 바, 피복 대상 용기의 부분 전체에 균일한 플라즈마를 발생시키는 것을 고려한다. 균일한 플라즈마란, 실질적 양의 중공 캐소드 플라즈마 (일반 플라즈마보다 방출 강도가 높고, 일반 플라즈마의 더 균일한 강도를 저해하는 더 높은 강도의 국소 영역으로서 나타날 수 있음)를 포함하지 않는 일반 플라즈마를 뜻한다.
또한 본 명세서에 기술되는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 처리공정들 중 임의의 구현예는 플라즈마를 함유하도록 피복되는 물품을 사용하지 않고 수행될 수도 있다. 예를 들어, 의료 기기, 가령 카테터, 수술 도구, 마개, 및 기타 물품의 외부 표면을 부동태화 또는 보호할 수 있다.
비- 유기규소 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층
부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 도포하는 또 다른 방식은 비정질 탄소 또는 플루오르화 중합체 코팅 혹은 층, 또는 이 둘의 조합물을 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층으로서 도포하는 것일 수 있다.
비정질 탄소 코팅 혹은 층은 포화 탄화수소 (예컨대, 메탄, 에탄, 에틸렌 또는 프로판), 또는 불포화 탄화수소 (예컨대, 에틸렌, 아세틸렌), 또는 이들 중 둘 이상의 조합물을 플라즈마 중합용 전구체로 사용하여 PECVD법을 통해 형성될 수 있다.
비정질 탄소 및/또는 플루오르화 중합체 코팅 혹은 층에는 실라놀 결합이 함유될 수 없으므로, 실록산 코팅 혹은 층보다, 비정질 탄소 및/또는 플루오르화 중합체 코팅 혹은 층이 SiOx 배리어 코팅 혹은 층을 더 잘 부동태화 또는 보호할 수 있다고 이해된다.
또한, SiOx 배리어 코팅 혹은 층 상부에 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 제공하는데 있어서 플루오로규소 전구체를 사용할 수 있다고 알려져 있다. 이는 전구체로서 헥사플루오로실란과 같은 플루오르화 실란 전구체를 사용하여 PECVD 공정을 통해 수행될 수 있다. 그 결과로 생성되는 코팅 혹은 층 역시 비-습윤 코팅 혹은 층일 것으로 예상된다.
PECVD 동안의 자기 처리 (magnetic treatment)
처리 대상 표면 (14 또는 16)을 가진 작업편 (12)의 플라즈마 개질 방법을 수행하기 위해, 본 명세서의 임의의 구현예에서는 도 4 내지 도 6, 도 9 내지 도 28, 도 37 내지 도 49, 및 도 55 내지 도 60에서와 같이 본 명세서에 기술 및 예시되는 장치를 사용할 수 있다. 본 방법은 플라즈마를 제공하고, 플라즈마를 제공하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 플라즈마 내 또는 가까이에 자기장을 인가함으로서 수행될 수 있다.
대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 플라즈마 개질에 효과적인 조건하에, 플라즈마를 작업편 (12)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 또는 상기 표면 가까이에 제공할 수 있으며, 이러한 작업편의 구체적인 예로 주사기 또는 의료용 배럴 (14), 또는 바이얼 (10)이 있다. 개별적으로, 또는 연속적으로, 또는 함께 수행되는 등 다양한 유형의 개질 조작이 고려될 수 있으며, 앞서 기술된 예들을 포함하되, 이들에 한정되지 않는다. 예를 들어, 개질 조작은 기재가 마모될 수 있는 식각 공정 또는 융발 (ablation) 공정; 해당 재료의 코팅 혹은 층을 기재에 도포시킬 수 있는 코팅 혹은 적층 공정; 선택적으로는 벌크 재료를 첨가하거나 식각하지 않으면서 시행될 수 있으며, 상기 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 조성을 변화시킬 수 있는 화학적 개질일 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 작업편 (12)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 대한 플라즈 개질 조작은 화학기상증착일 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 작업편 (12)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 대한 플라즈 개질 조작은 플라즈마 강화 화학기상증착(PECVD)일 수 있다.
플라즈마를 제공하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 플라즈마 내 또는 가까이에 자기장을 인가할 수 있다. 이러한 자기장은 작업편 (12)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 대한 플라즈마 개질의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키는데 효과적인 위치, 배향 및 자기장 세기를 가질 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)은 내부공간 (18)의 적어도 일 부분을 획정하는 대체로 원통형의 내부 표면 상에 있을 수 있다. 예를 들어, 선택적으로, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)은, 여러 예를 들자면, 바이얼 (10), 의료용 배럴 (14), 샘플 채취관, 가령 채혈관 (268), 또는 강성 또는 가요성 관, 또는 가요성 샘플 주머니 상에 배치될 수 있다. 본 발명은 비-원통형 표면에도 유용할 수 있다. 예를 들어, 비-원통형 컨테이너의 다양한 부품에서 국소 자기장 세기, 재료 공급, 플라즈마-형성 에너지, 또는 이들의 임의의 조합을 각기 다르게 함으로써, 특정한 일 구현예에서 유용한, 일정하든 가변적이든, 코팅 혹은 층의 프로파일을 제공할 수 있다.
균일한 코팅 혹은 층 프로파일이 요구되는 경우, 배리어 코팅 혹은 층 또는 the pH 보호 코팅 혹은 층에 대해, 바람직한 두께 균일도 범위는 해당되는 특정 코팅 혹은 층의 평균 두께의 +/- 30%, 더 바람직하게는 평균 두께의 +/- 15%, 더 바람직하게는 평균 두께의 +/- 5%이다. 덜 균일한 코팅 혹은 층의 경우에는 상기 코팅 혹은 층의 균일성을 높이기 위해 자성 밀폐와 같은 방안을 이용해야 한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하면 내부공간의 적어도 일 부분에서의 플라즈마 분포의 균일성, 밀도 또는 둘 다가 향상된다. 비제한적 일 예로, 자기장을 인가하면 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 일 부분을 따른 플라즈마 분포의 축방향 균일성, 밀도, 또는 둘 다가 향상될 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 플라즈마는 플라즈마 전자일 수 있고, 자기장은 내부공간 내 플라즈마 전자의 밀폐를 향상시키는데 효과적일 수 있으며, 이는 본 명세서에 기술된 바와 같이 전자 병을 활용하는 것과 마찬가지이다. 본 발명가들은, 해당 이론의 정확도 또는 제한사항에 의해 구속되고자 함은 아니지만, 상기와 같은 전자 밀폐가, 적어도 일부, 플라즈마를 더 균일하게 분포시키고, 플라즈마 내 전구체와 다른 재료를 더 강하게, 그러나 더 균일하게 제공하게 함으로써, 상이한 처리 영역들을 나타내는 열점들 (hot spots) (많은 수의 여기 전자, 또는 더 많은 수의 여기 전자가 용기의 벽과 충돌하는 곳) 및 냉점들 (cool spots) (여기 전자들이 거의 충돌되지 않거나 더 적은 수의 여기 전자가 충돌되는 곳)을 피할 수 있게 하는데 일조한다는 것을 이론화하였다. 열점은, 예컨대, 냉점을 적절히 처리하는 공정시 기재의 영역들이 비틀리거나 과처리될 수 있게 만들 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장은 1개의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86-91, 93, 95, 97, 99, 820, 또는 828-832 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로는3개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로는4개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로는5개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로는6개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로는7개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로는8개 이상의 자기장 발생기, 그리고 선택적으로는 임의의 원하는 개수의 자기장 발생기를 대체로 원통형의 내부 표면 (16) 가까이에 제공함으로써 인가될 수 있으며, 각각의 자기장 발생기는 극축을 정의하는 북극과 남극을 가진다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장 발생기들 중 일부 또는 모두는 내부공간 (18)의 외부측에 위치할 수 있다. 흔히 사용되는 자기장 발생기의 주요 유형은 영구 자석 및 코일일 수 있지만, 본 발명은 이들 유형의 자기장 발생기에 한정되지 않는다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기는 영구 자석 (예를 들면, 61-78 또는 86-91, 93, 95, 97, 99, 820, 또는 828-832 중 임의의 것) 또는 코일 (예를 들면 86-91, 93, 95, 97, 또는 99 중 임의의 것) 또는 1개 이상의 영구 자석과 1개 이상의 코일의 조합일 수 있다. 코일 또는 영구 자석은 다양한 배향으로 유사한 자기장을 발생시키는 것과 비슷하게 사용될 수 있다.
선택적으로, 자기장 발생기들은 대체로 원통형의 표면 가까이에 상기 표면의 길이를 따라 축방향으로 연장되도록 위치될 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 영구 자석 (예를 들면, 61-72 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 영구 자석, 대안으로는 3개 이상의 영구 자석, 대안으로는 4개 이상의 영구 자석, 대안으로는 5개 이상의 영구 자석, 대안으로는 6개 이상의 영구 자석, 대안으로는 7개 이상의 영구 자석, 대안으로는 8개 이상의 영구 자석, 대안으로는 영구 자석 모두가 바 자석이다. 이들 구현예를 도 15, 도 16, 도 18 내지 도 21, 및 도 24 내지 도 25에 예시하였다. 자석의 극축이 바 자석의 최장 길이에 평행할 수 있지만, 반드시 요구되는 것은 아님을 주목할 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 영구 자석 (73-78), 대안으로는 2개 이상의 영구 자석, 대안으로는 3개 이상의 영구 자석, 대안으로는 4개 이상의 영구 자석, 대안으로는 5개 이상의 영구 자석, 대안으로는 6개 이상의 영구 자석, 대안으로는 7개 이상의 영구 자석, 대안으로는 8개 이상의 영구 자석, 대안으로는 영구 자석 모두가 링 자석이다. 링 자석을 예를 들면 도 14, 도 17, 도 22, 도 23, 도 38, 도 40, 도 41, 도 46 및 도 52에 나타내었다. 도 14, 도 23, 도 38, 도 40, 도 41, 도 46 및 도 52에 나타낸 바와 같이, 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 링 자석 (75-78) 중 적어도 하나의 북극과 남극은 반대측 환형면이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 링 자석 (예컨대, 73 또는 74)의 적어도 하나의 극축 (79)은 도 17과 도 22에 나타낸 바와 같이 링에 대해 원주 방향일 수 있으며, 이는 후술되는 환상 코일의 경우에도 마찬가지이다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 링 자석 (예컨대, 73 또는 74)의 적어도 하나의 원주는 북극-남극 구역으로 나뉠 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기는 1개 이상의 코일 (86-91, 93, 95, 97, 또는 99 중 임의의 것)을 대체로 원통형의 표면 가까이에 위치시키고, 상기 코일을 통해 전류를 전도시킴으로써 제공된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 코일은 솔레노이드 (86)일 수 있다. 선택적으로 솔레노이드는 자신의 축 (79)이 대체로 원통형의 표면의 축 (80)에 적어도 대체로 평행하도록, 대안으로는 자신의 축 (79)이 대체로 원통형의 표면의 축 (80)과 적어도 대체로 동일선상에 있도록 배향된다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 표면의 전체가 솔레노이드 코일 (86) 내부에 배치될 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 코일은 도 10 내지 도 13에 예시된 바와 같이 중앙 개구와 상기 중앙 개구를 통과하는 기하축 (80)을 가진 대체로 환상형의 코일 (88 또는 90)일 수 있거나, 이러한 코일을 포함할 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 대체로 환상의 코일 (88 또는 90)은 기하축 (80)과 적어도 대체로 평행하도록, 선택적으로는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 축 (80)과 적어도 대체로 동일선상에 있도록 배향될 수 있다. 이러한 환상 코일의 배향에서, 내부공간 (18)의 적어도 일 부분에서의 자기장은 축 (80) 중심으로 연장되는 자신의 극축이 처리 대상인 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 축을 따라 연장하도록 배향된다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 실질적으로 전체가 중앙 개구 내부에, 대안으로는 표면의 실질적으로 전체가 대체로 환상의 코일 (88 또는 90) 중 2개 이상의 적층체의 중앙 개구 내부에 배치될 수 있다.
예를 들어 도 12에 예시된 바와 같이 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 환상의 코일 (88 또는 90)은 2개 이상의 아크 (arc) 세그먼트 (A 및 A1), 선택적으로는 4개 이상의 아크 세그먼트 (A 및 A1), 선택적으로는 6개 이상의 아크 세그먼트 (A 및 A1), 선택적으로는 8개 이상의 아크 세그먼트 (A 및 A1), 선택적으로 8개의 45° 아크 세그먼트 (A 및 A1)를 가질 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 교번식 부분들이 반대 방향으로 권취된다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 환상의 코일 (88 또는 90)의 단면은 실질적으로 원형 (95)이거나 실질적으로 직사각형 (91)이거나, 또 다른 규칙적 또는 불규칙적 형상일 수 있다.
코일은 전체 길이 코어, 부분 길이 코어, 솔리드 코어 또는 중공 코어를 가지거나 코어를 전혀 갖지 않을 수 있으며, 코어는 자체로 자기장을 발생시키는 영구 자석, 코일에 의해 여기되면 자기장을 발생하는 일시적 자성 재료, 또는 코일을 권취하기 위해 자기적으로 비활성인 형태일 수 있다. 통상의 자기화 가능 코어 재료는 철이나 페라이트체 (ferrite body)이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 코일은 DC 또는 AC 에너지로 여기될 수 있다. AC 에너지, 가령 60 Hz 교류로 여기된 코일은 주기적으로 극들을 반대로 바꿀 수 있는 것으로 이해되며, 이는 후술되는 이동성 사중극자 어레이의 기능과 매우 유사하게, 증착 또는 다른 표면 처리의 균일성을 향상시키는 것으로 이해된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 2개 이상의 자기장 발생기는 그 사이에 요홈을 획정하도록 이격될 수 있으며, 상기 요홈 내부에 작엽편의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 일 부분이 위치될 수 있다.
다양한 배향의 자기장이 PECVD 처리의 균일성 또는 그 밖의 결과들을 향상시키는데 유용한 것으로 밝혀졌다. 일 예로, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78 또는 86-91, 93, 95, 97, 또는 99 중 임의의 것), 대안으로는 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 축 (80)에 대체로 평행한 극축 (79)을 가질 수 있다. 이러한 배향의 예들을 가령 도 9, 도 9a, 도 14 내지 도 16, 도 20, 도 23, 도 24, 도 37에 나타내었으며, 도 38 및 도 40, 그리고 도 41 내지 도 44 및 도 46의 자석 (75)은 선택적으로 표면 (16)의 축 (80)에 대체로 평행인 극축 (78)을 가질 수 있다. 표면 (16)이 대체로 원통형인 경우, 그 축은 원통형의 중심이다. 비-원통형 표면의 경우, 그 축은 표면을 관통하는 임의의 특정 라인이 될 수 있다.
또 다른 예로, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78 또는 86-91, 93, 95, 97, 또는 99 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는, 예를 들면 도 4, 도 5, 도 9 내지 도 9a, 도 10 내지 도 14, 도 19 내지 도 25, 및 도 37 내지 도 46에 예시된 바와 같이, 플라즈마 처리를 위해 작업편과 자기장 발생기들이 작동 위치에 있을 때 대체로 원통형의 내부 표면 (16) 둘레로 원주 방향으로 분포될 수 있다. 원주방향 분포는 일정하거나 일정하지 않을 수 있지만, 한 대안적 예로는 일정한 분포를 특히 고려한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 4개 이상의 자기장 발생기 (예를 들면, 도 19, 도 21, 도 25, 도 38 내지 도 40, 도 45, 도 49 및 도 55 내지 도 60의 자석 (61-64 또는 61a-64a)) 중 짝수개는 중심에 대해 배치되며, 이들의 극축은 상기 중심을 향해, 그리고 상기 중심으로부터 멀리 방사방향으로 교번식 배향되어, 사중극자 또는 이와 유사한 구조를 제공한다. 사중극자 및 이들의 8-자석 유사체에 대해서 전자 병과 연관지어 실시예들에서 더 설명하기로 한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는, 작업편과 자기장 발생기들이 작동 위치에 있을 때, 인접한 자기장 발생기로부터 실질적으로 원주방향으로 등간격을 유지할 수 있다. 이에 대해, 예를 들면, 도 4, 도 5, 도 19 내지 도 21, 도 24 내지 도 25, 및 도 38 내지 도 40, 도 49 및 도 55 내지 도 56에 예시하였다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78 또는 86-91, 93, 95, 97, 또는 99 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는, 예를 들어 도 10 내지 도 13, 도 22 내지 도 24, 도 37 내지 도 41, 및 도 46에 예시된 바와 같이, 대체로 원통형의 표면에 대해 축방향으로 적층될 수 있으며, 임의의 예시된 자기장 발생기를 형성하는데 사용될 수 있다. 아울러, 코일 86a 또는 86b로 표시된, 도 9, 도 9a, 도 37의 축방향으로 배향되는 솔레노이드 코일들은 연속적 턴이 축방향으로도 “적층”되기 때무에 개념적으로 유사하며, 각각은 더 입상적 (granular) 관점에서 1개의 자기장 발생기이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78 또는 86-91, 93, 95, 97, 또는 99 중 임의의 것)중 2개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 5개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 6개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 7개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 모두가 서로로부터 축방향으로 이격될 수 있다. 이러한 배향을 예를 들면 도 23, 도 37, 도 38 및 도 52에 예시하였다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78 또는 86-91, 93, 95, 97, 또는 99 중 임의의 것)중 2개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 5개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 6개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 7개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 모두가 서로 축방향으로 인접해 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개 이상의 자기장 발생기는 자신의 극축 (79)이 표면의 축 (80)에 적어도 대체로 평행하도록 배향될 수 있다. 대안으로 또는 추가로, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개 이상의 자기장 발생기는 자신의 극축 (79)이 표면의 축 (80)과 적어도 대체로 동일선상에 있도록 배향될 수 있다. 이들 배향을 예를 들면 도 9, 도 9a, 도 20, 도 24, 도 37, 도 38 및 도 40 (자석 (75)), 도 41 내지 도 44, 도 46, 및 도 52에 예시하였다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기는 극축을 따라 연장되는 통로를 가질 수 있으며, 표면 전체가 상기 통로 내부에 배치될 수 있다. 이들 배향을 예를 들면 도 9, 도 9a, 도 20, 도 24, 도 37, 도 38 및 도 40 (자석 (75)), 도 41 내지 도 44, 도 46, 및 도 52에 예시하였다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장 발생기는 헬름홀츠 코일일 수 있으며, 이는 도 37에 도시된 바와 같이 그 사이에 공간이 있는 한 쌍의 솔레노이드 (86a 및 86b)일 수 있다. 헬름홀츠 코일에서, 지나치게 크지 않다면 솔레노이드 (86a 및 86b) 사이의 공간에는 실질적으로 균일한 자기장이 제공된다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 선택적으로 제1 및 제2 솔레노이드 (86a 및 86b) 사이의 공간에는 본 방법이 진행되는 동안 (다른 장치를 통해 볼 수 있는 정도로) 플라즈마를 볼 수 있도록 하는 관측창이 제공된다. 예를 들어, 선택적으로 외부 전극 (160) (도 4)은 U자형 (도 5와 도 9의 대안예)이고, 용기 벽 (14)은 투명할 수 있어, 플라즈마를 쉽게 볼 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기는 작업편의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 가변적인 자기장 세기를 제공할 수 있다. 이러한 가변적 자기장 세기는 다양한 방식으로 제공될 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개 이상의 자기장 발생기와 대체로 원통형의 내부 표면 사이의 거리는 도 52에 도시된 바와 같이 작업편의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 가변적일 수 있다. 또 다른 예로, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 세기는 예를 들어 도 9a, 도 23, 도 37 (헬름홀츠 코일은 비-균일성을 최소화하지만, 특정 구현예에 의하면 그 일부가 계속 지속될 수 있음), 도 38, 도 41 내지 도 44, 도 46 및 도 52 내지 도 53에 나타낸 바와 같이 가변적 자기장 세기의 프로파일을 정의하도록 대체로 원통형의 내부 표면을 따라 가변적일 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하지 않고 플라즈마를 제공하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 각기 다른 플라즈마 개질의 프로파일을 정의하기 위해 작업편 (12)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 대한 플라즈 개질은 대체로 원통형의 내부 표면을 따라 가변적이다. 다시 말해, 자기장을 인가하지 않고, 대체로 원통형의 내부 표면 상의 다양한 지점에서 플라즈마 개질의 정도 또는 종류는 주어진 조건 하에 작동되는 주어진 장치에 대해 균일하지 않을 수 있다. 이러한 변화는 바람직할 수 있거나 바람직하지 않을 수 있다. 만일 특정 구현예에서 바람직하지 않을 수 있다면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기는 자기장 발생기는 자기장 세기의 프로파일 변화가 플라즈마 개질의 변화를 상쇄 (counteract)시키는 경향을 나타내도록 구성될 수 있다. 플라즈마 공정에서의 변화를 자기 변화로 상쇄시킴으로써, 작업편 (12)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 대한 플라즈마 개질의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 더 일정하게 만들 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 플라즈마의 적어도 일 부분은 “전자 병” 내 작업편 부근에 적어도 부분적으로 밀폐될 수 있다. 전자 병은 다양한 방식으로 생성될 수 있다.
전자 병의 일 예를 도 38 내지 도 40에 나타내었다. 전자 병의 측면은, 북극이 의료용 배럴 (10)을 향해 방사방향으로 연장되고 상기 의료용 배럴로부터 방사방향으로 멀어지는 교번식 형태로 배치된 자석들 (61, 62, 63 및 64)로 형성된 사중극자일 수 있다. 도 39에 나타낸 바와 같이, 이러한 사중극자 배형은 한 자석의 내부측 방사방향으로부터 인접 자석의 외부측 방사방향으로 호를 그리는 자력선 (83)을 생성하여, 임의의 방사면에서 네변이 닫힌 루프를 닮은 패턴을 제공한다. 전자는 자력선 (83)을 따라 주위로 나선형을 그리며 이동하며, 이에 따라 의료용 배럴 (10) 주위와 내부의 회로 내에서 이동한다. 이는 자석으로 둘러싸인 공간 (81)에 방사방향으로 전자들을 밀폐시킨다.
전자 병의 단부들은 선택적이며, 만일 사용된다면 도 38 내지 도 40에서와 같이 외주 둘레의 자석들 (61-64)보다 내경이 더 작고, 자기장 세기가 더 큰 링 자석 (75)에 의해 획정될 수 있다. 링 자석 (75)은 극축이 사중극자 (61-64)의 기하축 및 의료용 배럴 (10)의 기하축과 정렬되도록 배향될 수 있다. 도 38은 자기장 선들이 후퇴하여, 링 자석 (75)으로부터 축 방향 거리에서 더 멀리 이격될 수 있으며 (이러한 일반적 축방향 선들은 링 자석 (75)에 의해 주로 발생될 수 있기 때문), 자석 (75) 내에 보다 사중극자의 축방향 중심 가까이에 자속이 더 낮으므로, 전자들의 이동 방향을 바꾸어 이들 전자가 의료용 배럴 (10) 측으로 다시 접근하게 하는 경향이 있는 반대측 전자 거울들로서 역할하는 것을 가리킨다.
도 41은 다른 유형의 전자 병을 나타내며, 이 경우 작업편은 의료용 배럴 및 주사바늘 뚜껑 달린 어셈블리 (12)가 될 수 있고, 상기 어셈블리는 주사바늘 단부, 주사바늘 단부의 반대측에 있는 후단부, 및 주사바늘 단부와 후단부 사이의 몸체부를 가진다. 도 41의 전자 병은 링 자석들 (75)의 적층체로 정의될 수 있으며, 이들 자석 모두의 북극은 시트 상부를 향하고, 남극은 시트 저부를 향한다. 전자 병의 단부들은 때때로 캡 자석으로 지칭되는 바 자석 (65)일 수 있으며, 이러한 자석은 중심 개구부가 없고, 링 자석 (65)와 동일한 자기 배향을 가지며, 북극이 시트의 상부를 향한다. 캡 자석 (65)은 자기투과성 재료로 만들어질 수 있고, 자속은 각각의 캡 자석의 양측 외부보다 몸체 내부에서 더 강할 수 있으므로, 캡 자석은 전자 거울로 역할을 한다. 도 41의 자력선을 표시한다면 도 42의 자력선 (83)과 매우 비슷할 것이다.
도 9a 및 도 42는 코일에 의해 형성된 전자 병을 나타내며, 바이얼 (10)의 중앙 부분 가까이에 대체로 충방향으로 연장되는 자기장을 제공하는 중앙 부분 (89)과, 유사하게 배향된 자기장을 제공하되 중앙 부분 (89)보다 강한 자속을 가진 단부 부분들 (97 및 99)을 가진다. 단부 부분들 (97 및 99)의 권선부는 중앙 부분 (89)의 권선부보다 함께 더 가까울 수 있기 때문에 더 강한 자속을 제공한다. 단부 부분들 (97 및 99)의 권선부는 또한 더 강한 자속을 제공할 수 있는데, 그 이유는 중앙 부분에 걸리는 전압 강하가 30 볼트 (일 예로 언급한 것으로서, 본 발명의 범주를 제한하고자 함이 아님)인 반면, 각각의 단부에 걸리는 전압 강하는 60 볼트 (일 예로 언급한 것으로서, 본 발명의 범주를 제한하고자 함이 아님)이기 때문이며, 각각의 단부 부분 (97, 99)의 저항은 중앙 부분 (89)의 저항과 같은 수 있어 (일 예로 언급한 것으로서, 본 발명의 범주를 제한하고자 함이 아님), 단부 부분들 (97, 99)을 통해 흐르는 전류 세기는 중앙 부분 (89)을 통해 흐르는 전류 세기보다 높을 수 있다. 이러한 자속 차이는 이전에 지적한 바와 같이 자력선 (83)에 의해 반영된다. 따라서, 단부 부분들 (97 및 99)은 또 다시 반대측 전자 거울들을 정의한다. 다른 대안으로, 전자 병의 단부들에서의 자속을 높이기 위해 이들을 독립적으로 사용할 수 있다는 것이 편리하다.
선택적으로, 전자 병은 대체로 원통형의 표면의 단부들 사이에 보다 대체로 원통형의 표면의 한 단부에 또는 그 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의된다. 또 다른 선택안으로, 전자 병은 대체로 원통형의 표면의 한 단부에 또는 그 가까이에 보다 대체로 원통형의 표면의 다른 단부에 또는 그 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의된다.
도 43은 균일한 권선부 (89)를 가져 대체로 평행한 자력선들 (83)에 의해 표시되는 자기장을 발생시키는 솔레노이드로 형성된 또 다른 유형의 전자 병을 나타낸다. 자기장은 전자들이 나선형 (corkscrew 또는 helical) 축방향 경로 (103)를 따라 이동하도록 구속한다. 또 다른 선택안으로, 전자 병은 대체로 원통형 부분의 적어도 한 단부에 인접하게 위치된 음으로 하전된 객체 또는 객체의 일부를 포함한다. 예를 들어, 하전된 커패시터 (101)는 솔레노이드의 한 단부 또는 양 단부에 배치될 수 있으며, 각각 음으로 하전된 플레이트들이 솔레노이드를 향해 있으며, 양으로 하전된 플레이트들을 솔레노이드 반대쪽을 향한다. 음으로 하전된 플레이트는 전자 거울로 역할을 하여 접근하는 전자들을 밀어내어 전자들을 솔레노이드 내부로 되돌린다. 도 43의 전자 병은 전자를 병 내부로 반사시키는 거울이 자성이 아닌 정전기성일 수 있다는 점에서 도 9a 및 도 38 내지 도 42의 전자 병과 다르다. 본 목적상, 전자들을 밀폐시키는 유사한 방식으로 기능하기 때문에 여전히 “전자 병”으로 간주된다.
도 44는 또 다른 유형의 전자 병을 나타내며, 여기서는 각 단부에서의 링 자석들 (75)(솔레노이드와 같은 다른 유형의 자기장 발생기들)이 전자 거울을 정의하고, 또한 전자들은 외부의 음으로 하전된 쉘 전극 (109) 내부에 배치된 내부의 음으로 하전된 쉘 전극 (107)에 의해 횡방향으로 밀폐될 수 있다. 역시, 전자들은 장치의 축 내측을 향해 반사되거나 밀어내어질 수 있다. 또한 이 장치는 바이얼 (10) 내부에 형성되는 양전하 이온들이 바이얼의 벽 쪽으로 끌어당겨질 수 있는 (바이얼의 벽이 플라즈마에 의해 처리되었기 때문임) 한편, 전자들이 내측으로 밀어내어질 수 있어, 작동시 벽을 더 서늘한 상태로 유지시키는 경향이 있다는 이점을 가질 수 있다. 바이얼 (10)의 벽들은 이온을 밀폐시키므로 이온이 빠져나갈 수 없다.
도 44에 대한 한 가지 대안은 외부 전극 (160)을 음으로 하전된 쉘 (107)로 사용하고, 내부 전극 (108)을 양으로 하전된 상대 전극으로 사용하는 것이 될 수 있다. 이는 DC 바이어스 전압을 전극들 (108 및 160)에 인가할 뿐만 아니라, RF 교류 역시 인가함으로써 이루어질 수 있다. 이러한 구성은 전자들이 바이얼 (10)의 벽에서 반대쪽으로 끌어 당겨지고, 바이얼 (10) 내의 양으로 하전된 이온들은 벽 쪽으로 끌어 당겨지는 유사한 결과를 낳을 수 있다.
또한, 도 1 내지 도 29와 도 36 내지 도 44의 구현예들 중 임의의 것의 개별 특징들은 제한 없이 이들 구현예의 임의의 것에서 대체될 수 있다. 예를 들어, 도 38 또는 도 44의 링 자석 (75), 도 41의 캡 자석 (65), 도 9a 및 도 42의 솔레노이드 권선부 (97 및 99), 및 도 43의 정전기 플레이트 (electrostatic plate) (101)에 의해 정의되는 축방향 전자 거울들 중 임의의 것은 도 1 내지 도 29 및 도 36 내지 도 44의 구현예들 중 임의의 것에 개별적으로 사용될 수 있으며, 이들 구현예 중 임의의 것에서 임의로 조합되어 사용될 수도 있다. 방사방향 밀폐를 위한 방안들, 이를테면 도 38의 사중극 자석 (61-64), 도 41의 링 자석 (75), 도 42 또는 도 43의 솔레노이드 권선부 (89), 정전기 쉘 (107 및 109) 또는 내부 전극과 외부 전극 (108 및 160) 사이의 바이어스에 대해서도 마찬가지이다. 이들 전자 병 특징부들 중 임의의 것은 개별적으로 또는 임의의 조합 형태로 임의의 구현예에서 사용될 수 있으며, 도 1 내지 도 3, 도 7 내지 도 8, 도 29 및 도 36의 바이얼 (10), 뚜껑 달린 프리-어셈블리 (12), 주사기 또는 의료용 배럴 (14), 샘플관 (210) 또는 기타와 같은 임의 유형의 작업편과 함께 사용될 수 있고, 도 4 내지 도 6, 도 9 내지 도 28, 또는 도 37 내지 도 44의 것과 같은 임의의 플라즈마 발생 및 재료 공급 및 배기 장치 또는 장치의 조합 또는 대체물로도 사용될 수 있다.
따라서, 선택적으로 본 발명의 임의의 주사기 구현예에서, 예를 들어, 작업편이 주사기 또는 의료용 배럴 (14)이거나 또는 의료용 배럴 및 주사바늘 뚜껑 딸린 어셈블리 (12)인 구현예에서, 이들 모두는 주사바늘 단부 (당시에 주사바늘이 존재하는 지의 여부와 상관없음), 주사바늘 단부 반대측의 후단부, 주사바늘 단부와 후단부 사이의 몸체부를 가지며, 전자 병은 몸체부의 적어도 일부에서 또는 그 일부 가까이에보다 주사바늘 단부에 또는 그 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의될 수 있다.
선택적으로 본 발명의 임의의 주사기 구현예에서, 전자 병은, 예를 들면 도 9 및 도 9a, 도 37 내지 도 42 또는 예시된 바와 같이, 몸체부의 적어도 일부에서 또는 그 일부 가까이에보다 후단부에서 또는 그 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의될 수 있다. 동일한 도면들에 예시된 전자 병은 몸체부의 적어도 일부에서 또는 그 일부 가까이에 보다 주사바늘 단부 및 후단부에 또는 이들 가까이에 더 강한 자기장을 제공하는 구조로 정의될 수 있다. 전자 병은, 도 9, 도 9a, 도 23, 도 37, 도 41, 그리고 도 38 내지 도 40, 도 42 내지 도 44, 및 도 52에 나타낸 바와 같이 예시된 바이얼 (10)이 주사기로 대체된 경우, 주사바늘 단부에 또는 그 가까이에 전자 거울을 제공하는 구조로 정의될 수 있다. 더 나아가 전자 병은 동일한 도 9, 도 9a, 도 23, 도 37, 도 41, 그리고 도 38 내지 도 40, 도 42 내지 도 44, 및 도 52에서와 같이 예시된 바이얼 (10)이 주사기로 대체된 경우, 후단부에 또는 그 가까이에 전자 거울을 제공하는 구조로 정의될 수 있다.
작업편이 개방 단부, 폐쇄 단부, 및 이들 단부 사이의 몸체부를 갖는 바이얼 (10)인 구현예들의 경우, 전자 병은 위의 주사기 처리 또는 바이얼 처리와 관련하여 언급한 도면들에서와 같이 바이얼의 몸체부의 적어도 일부에 또는 그 가까이에 보다 바이얼의 폐쇄 단부에 또는 그 가까이에 더 강한 자기장을 제공하는 구조로 정의될 수 있다. 전자 병은 바이얼의 몸체부의 적어도 일부에 또는 그 가까이에 보다 바이얼의 개방 단부에 또는 그 가까이에 더 강한 자기장을 제공하는 구조로 정의될 수 있다. 전자 병은 바이얼의 몸체부의 적어도 일부에 또는 그 가까이에 보다 바이얼의 개방 단부와 폐쇄 단부에 또는 이들 단부 가까이에 더 강한 자기장을 제공하는 구조로 정의될 수 있다. 전자 병은 바이얼의 폐쇄 단부에 또는 그 가까이에 전자 거울을 제공하는 구조로 정의될 수 있다. 전자 병은 바이얼의 개방 단부에 또는 그 가까이에 전자 거울을 제공하는 구조로 정의될 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전자 거울을 제공하는 구조는 도 9, 도 9a, 도 23, 도 37 내지 도 42, 도 44 및 도 52 내지 도 53에서와 같이 자기장 발생기의 적어도 일 부분일 수 있다 (도 53에서는 자석 (61 및 62)의 하부 부분들이 동일 자석의 상부 부분들 보다 강한 자기장을 제공하므로, 자기 거울임). 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전자 거울을 제공하는 구조는 도 23, 도 38 내지 도 41, 및 도 52 내지 도 53의 영구 자석 구현예들 중 임의의 것에서와 같이 강자성 재료를 포함할 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전자 거울을 제공하는 구조는 강자성 재료, 이를테면 도 9 내지 도 13, 도 37, 도 42 또는 도 43에서와 같이 상부에 코일의 권선부가 지지되는 코어를 포함할 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전자 거울을 제공하는 구조는, 예를 들어 도 43 (축방향 거울) 및 도 44 (방사방향 거울)에 나타낸 바와 같이, 음으로 하전된 객체 또는 객체의 일부일 수 있다.
도 54의 구현예에서, 자석들 (65-72)은 축방향 자석으로서, 그 극축이 자석의 길이를 따라 연장되는 것을 뜻하며, 이들은 처리 대상 주사기 또는 기타 용기를 수용하는 개구부를 통해 축방향으로 연장되는 강한 자기장을 인가하도록 배열된다. 이들은 사중극자를 정의하지 않는다. 이러한 자석 (65-72)은, 예컨대, 매우 강한 자기장을 인가하는 NdFeB 자석일 수 있다. 본 발명가들은 이들 자석이 가령 사용 중 어셈블리의 편심률 또는 대등한 자기 세기로부터의 임의의 편차를 보충하도록 회전될 수 있지만, 자석 배열을 회전시키지 않고도 이들 자석이 PECVD 코팅 혹은 층 증착의 균일성을 향상시킬 수 있다고 여긴다.
이제 구체적으로 도 51을 참조하기로 한다. 상기 도면은 국부 윤활성 코팅 혹은 층을 의료용 배럴 (14)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 도포시키는데 선택적으로 사용되는 발명의 일 양태를 예시하는 사전충전형 주사기 (210)를 나타낸다. 주사기 (210)는 의료용 배럴 (14)을 포함하며, 이는 대안으로 자동주사기 카트리지 (300) (도 36) 또는 유사 장치일 수 있다. 의료용 배럴 (14)은 분주 단부 (22), 후단부 (32), 및 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 구비한다. 대체로 원통형의 내부 표면 (16)은 내부공간 (18)을 획정하는 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)을 가진다. 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)은 의료용 배럴 (14), 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의, 분주 단부 (22)와 후단부 (32) 사이의 거리 중 적어도 일부, 본 예에서는 적어도 거의 전체 거리만큼 연장된다. 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)은 슬라이딩가능한 플런저 또는 피스톤 (36)을 수용하도록 구성된다.
대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)은 의료용 배럴 (14), 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치에 또는 그 가까이의 전단부 (808)로부터 뒤로 후단부 (806)까지 연장되는 제1 부분 (800)을 가진다.
대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)은 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 제1 부분 (800)으로부터 뒤로 연장되는 제2 부분 (802)을 가진다. 제2 부분 (802)은 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 제1 부분 (800)으로부터 뒤로 완전히, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 후단부 (32)까지 연장될 수 있거나, 제2 부분 (802)은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 후단부 (32)로부터 전방측으로 이격된 후단부 (810)를 가질 수 있다. 다시 말해, 제2 부분 (802) 뒤로 제3 부분 (804)가 있을 수도, 있지 않을 수도 있다.
선택적으로는, 만일 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 제2 부분 (802)이 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 후단부 (36)로부터 전방측으로 이격된 후단부 (810)를 가지면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)은 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 제2 부분 (802)으로부터 뒤로 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 후단부까지 연장되는 제3 부분 (804)을 가질 수 있다.
예시된 구현예에서 제1 부분 (800)은 플런저 또는 피스톤 (36)의 전방측에 있고, 제2 부분 (802)은 플런저 또는 피스톤 (36)에 인접해 있으며, 제3 부분 (804)은 플런저 또는 피스톤 (36) 뒤에 있지만, 이들 관계는 선택적인 특징이다. 또한, 주사기 (210)는 각각이 용량 범위를 수용하는 표준 크기로 공급되기 때문에, 주어진 예에서 플런저 또는 피스톤 (36)의 안착 위치는 내부공간 (18) 내 유체의 용량 부피에 따라 달라질 수 있다.
대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 제2 부분 (802)은 PECVD법으로 도포되는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 가진다.
한 가지 선택안은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 제1 부분 (800)이 PECVD법으로 도포되는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 갖지 않는다는 것이다. 본원에 예시된 다른 선택안은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 제1 부분 (800)이 PECVD법으로 도포되는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 갖되, 이러한 윤활성 코팅 혹은 층은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 제2 부분 (802) 상에 있는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)보다 평균적으로 더 얇다.
주사기 (210), 자동주사기, 또는 유사 장치는 플런저 또는 피스톤 (36)과 조합된, 전술된 바와 같은 의료용 배럴 (14) 또는 카트리지를 구비한다. 플런저 또는 피스톤 (36)은 의료용 배럴 (14) 또는 카트리지의 내부공간 (18) 속에 배치된다. 플런저 또는 피스톤 (36)은 도 7에 나타낸 바와 같이 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 제2 부분 (802)을 접촉하는 안착 위치와, 대체로 원통형의 내부 표면 (16, 44)의 제1 부분 (800)을 접촉하는 전진 위치 사이에서 슬라이딩가능하다.
도 7에 예시된 바와 같이, 전술된 바와 같은 주사기 (210), 자동주사기, 또는 유사 장치에는 유체 조성물이 사전충전된다. 유체 조성물은 의료용 배럴 (14) 또는 카트리지의 플런저 또는 피스톤 (36)과 분주 단부 (22) 사이의 내부공간 (18) 속에 배치된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 두께는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)과 제2 부분 (802) 사이에서 변화된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 제1 부분 (800)의 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 최소 평균 두께는 0 nm이고, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 최대 평균 두께는 제2 부분 (802)의 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 평균 두께의 0.8배, 선택적으로는 0.7배, 선택적으로는 0.6배, 선택적으로는 0.5배, 선택적으로는 0.4배, 선택적으로는 0.3배, 선택적으로는 0.2배, 선택적으로는 0.1배, 선택적으로는 0.09배, 선택적으로는 0.08배, 선택적으로는 0.07배, 선택적으로는 0.06배, 선택적으로는 0.05배, 선택적으로는 0.04배, 선택적으로는 0.03배, 선택적으로는 0.02배, 선택적으로는 0.01배이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)의 배면측 단부보다 작은 내경을 가진다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 극축 (80)을 정의하는 반대측 제1 극 및 제2 극 (822, 824) 및 제1 극 및 제2 극에 각각 상응하는 제1 단부 및 제2 단부를 갖는 영구 자석 (61-78 또는 820 중 임의의 것)이고, 상기 영구 자석은 제1 극 (822)으로부터 제2 극 (824)까지 연장하는 하나 이상의 측면 (820)을 가지며, 적어도 하나의 측면 (826)은 제1 극 (822)과 제2 극 (824) 사이 내측으로 테이퍼(taper)진다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 자기장 발생기 모두의 제2 단부 (824)가 제1 단부 (822)보다 크다
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 도 55 및 도 56의 영구 자석 (820)처럼 대체로 원뿔형, 도 60의 영구 자석 (830)처럼 절단원뿔형, 도 59의 영구 자석 (828)처럼, 피라미드형, 또는 도 58의 영구 자석 (832)처럼 절단피라미드형이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 도 56에 나타낸 바와 같이 둥글고 더 작은 단부 (822)를 가진 대체로 원뿔형이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (820), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 방사방향 내측으로 배치된 더 작은 단부 (822)와 방사방향 외측으로 배치된 더 큰 단부 (824)를 갖는 링형 어레이 (834, 도 55 및 도 56) 형태로 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 동일한 사인 (북 또는 남)의 극이 방사방향 내측으로 배치되고, 제1극이 방사방향 외측으로 배치되도록 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 북극이 방사방향 내측으로 배치되도록 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 남극이 방사방향 내측으로 배치되도록 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (73-78 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 도 14, 도 22, 도 23, 도 38, 도 40, 도 41, 도 46, 또는 도 52 중 임의의 것에 예를 들어 나타낸 바와 같이, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 수용하기 위한 크기의 중심 개구부를 갖는 링 자석일 수 있다. 선택적으로 적어도 1개의 자기장 발생기, 선택적으로는 링 자석은 자신의 극축을 따라 연장되는 통로를 가진다. 한 가지 선택안으로, 대체로 원통형의 표면 전체가 상기 통로 내부에 배치된다. 또 다른 선택안으로, 1개 이상의 링 자석은 축방향으로 이격될 수 있으며, 이는 제조시 관측하기를 원하거나 플라즈마로부터 광을 수신하기를 원할 때 유용할 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 링 자석 (73-78 중 임의의 것) 중 적어도 하나의 북극과 남극은 도 14, 도 22, 도 23, 도 38, 도 40, 도 41, 도 46 또는 도 52 중 임의의 것에 예를 들어 나타낸 바와 같이 반대측 환형면이다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장의 적어도 일부는 하기의 적층체에 의해 제공된다:
· 작동 위치에 있을 때 대체로 원통형의 내부 표면 (16)이 중앙 요홈 내부에 놓이는 적어도 1개의 내주 링 자석 , 및
· 내부 링 자석들의 적층체와 축방향으로 정렬되되 그 외부측에 마련되는 적어도 1개의 캡 자석 - 상기 캡 자석은 링 자석 또는 바 자석을 포함함
이때 상부 내부 링 자석은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 방사방향으로 인접하게 제1 자기장 세기를 인가하되, 상기 제1 자기장 세기는 캡 자석이 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 축방향으로 인접하게 인가하는 자기장 세기보다 약하다. 이러한 구성을 예를 들어 도 41에 도시하였으며, 다른 도면들은 동일한 구성을 제공하도록 구성될 수 있는 멀티 링 자석을 나타낸다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 선택적으로는, 도 41에 예시된 바와 같이 하나의 캡 자석과, 내주 링 자석들의 적층체 사이에 1개 이상의 추가 자석이 위치할 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 링 자석들 (73 또는 74) 중 적어도 하나의 극축 (79)은 도 17 및 도 22에 나타낸 바와 같이 링에 대해 원주방향일 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 링 자석 (73 또는 74) 중 적어도 하나의 원주는 도 17 및 도 22에 나타낸 바와 같이 복수의 북극-남극 구역을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 4개 이상의 자기장 발생기 (61-64 또는 61a-64a) 중 짝수개는 한 축에 대해 배치되어, 도 4 내지 도6, 도 21, 도 25, 도 38 내지 도40, 도 45, 또는 도 53에 나타낸 바와 같이, 축방향으로 이격된 단부들 사이에 사중극자 또는 유사한 구조를 제공할 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장 발생기는 사중극자 또는 유사한 구조를 제공하는 효과적 위치와, 자기장 발생기에 의해 사중극자 또는 유사한 구조가 제공되지 않는 비-기능적 위치 사이에서 상대적으로 이동가능하다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 사중극자 및 의료용 배럴은 대체로 원통형의 내부 표면 (14)을 관통하는 축에 상대적으로 위치된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 사중극자는 작업편 표면의 적어도 일 부분에 또는 그 일 부분 가까이에 플라즈마를 적어도 부분적으로 격리하는데 효과적이다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 이격된 단부들 중 적어도 하나에 또는 가까이에는 축방향 극축을 가진 자기장 발생기가 위치한다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 이격된 단부들 둘 다에 또는 이들 가까이에는 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들이 위치할 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 링 자석일 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 캡 자석일 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 바 자석일 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 또는 86-91, 93, 95, 97, 또는 99중 임의의 것), 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 플라즈마 처리 중 적어도 일부 동안 작동 위치에 있는 표면의 축에 대해 회전하거나, 표면이 그 축을 중심으로 회전하거나, 둘 다일 수 있다. 이를 예컨대 도 4 내지 도 6, 도 19 내지 도 28 및 도 37 내지 도 46에 예시하였으며, 이들 도면의 구현예들과 사용될 수 있다.
구체적으로 도 19를 참조 하면, 예시된 사중극자 배열은 자석의 외주 내에 대한 PECVD 코팅 혹은 층의 증착의 균일성을 향상시키기 위해 예컨대 10 내지 1000 rpm, 대안으로는 40 내지 200 RPM으로 회전될 수 있다. 예를 들어, 균일성을 향상시키기 위해 더 빠른 회전 속도가 고려되지만, 47 RPM의 회전 속도가 성공적으로 사용되었다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 실시예들에 예시된 바와 같이, 1개 이상의 자기장 발생기, 대체로 원통형의 내부 표면, 또는 둘 다는 평균 자기장 세기의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키는데 효과적인 속도로 회전될 수 있거나, 또는 대체로 원통형의 내부 표면의 원주에 대한 작업편 가열의 균일성을 향상시키거나 세기를 낮추거나 또는 둘 다에 효과적인 속도로 회전될 수 있다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 회전은 동심 또는 편심 회전일 수 있다. 전체 표면을 동시에 더 균일하게 처리하기 위해 동심 회전, 또는 원주 방향으로 밀접 배치된 자기장 발생기, 또는 다양한 발생기에 의해 발생되는 균일한 자기장 세기, 또는 이들 중 둘 이상의 임의의 조합을 고려할 수 있는 한편; 더 센 자기 에너지를 인가하는 사이에 원주 주위의 특정 지점이 어느 정도의 냉각 시간을 가질 수 있도록, 처리된 표면의 원주 주위의 임의의 특정 지점에서 주기적으로 자기장 세기를 증감시키고 가열하기 위해서는 편심 회전, 또는 원주 방향으로 더 멀리 이격된 자기장 발생기, 또는 자기장 발생기의 자기장 세기 변화, 또는 이들 중 둘 이상의 임의의 조합을 고려할 수 있다.
자기장 발생기를 회전시키는 대신, 또는 자기장 발생기를 회전시키는 것에 추가로, 대체로 원통형의 내부 표면을 플라즈마 처리 중 적어도 일부 동안, 1개, 2개 이상, 또는 모든 자기장 발생기에 대해 회전시킬 수 있다. 이를 예컨대 도 4 내지 도 6, 도 19 내지 도 28 및 도 37 내지 도 46에 예시하였으며, 이들 도면의 구현예들과 사용될 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 대체로 원통형의 내부 표면의 축을 따라 작업편 가열의 균일성을 향상시키는데 효과적으로 속도로, 자기장 발생기 중 1개 이상이 예를 들면 대체로 원통형의 내부 표면을 따라 축방향으로 평행이동 (직선 이동)할 수 있거나, 대체로 원통형의 내부 표면이 자기장 발생기에 대해 평행이동할 수 있거나, 둘 다 가능하다. 예를 들어 도 4 내지 도 6, 도 9, 도 9a 내지 도 13, 도 19 내지 도 28, 및 도 37 내지 도 46의 구현예들은 자기장 발생기, 그리고 결과적으로 자기장이 평행이동하는 동안 작동될 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 코일 또는 작업편의 물리적 이동이 없이, 자기장을 작업편에 대해 이동시키는 방식으로, 자기장 발생기로서 이용되는 코일 어레이를 여기시킬 수 있다. 예를 들어, 중심에 대해 사중극자를 형성하도록 배치된 일련의 8개 솔레노이드 (축이 방사방향으로 배향됨)를 각 코일의 위상이 좌측으로 좌측 코일에 45도 앞서고, 우측 코일에 45도 뒤지는 교류로 여기시킬 수 있다. 위상이 변화함에 따라, 그 효과는 동일한 사중극자를 중심에 대해 회전시켜 얻는 효과와 비슷하며, 인접한 자석들은 반대 방향의 일정한 DC 전류로 여기된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, PECVD 매개변수는 입구관과, PECVD가 수행되는 의료 배럴의 벽 또는 다른 부분 사이의 거리가 하기와 같이 되도록 조절된다:
디바이 길이 초과,
선택적으로는 디바이 길이의 2배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 3배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 4배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 5배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 6배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 7배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 8배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 9배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 10배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 20배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 30배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 40배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 50배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 60배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 70배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 80배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 90배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 100배 이상.
디바이 길이는 아래와 같은 공식으로 정의된다:
Figure 112015063276666-pct00008
식에서, λD는 디바이 길이이고,
ε0는 자유 공간에서의 유전율이고,
kB는 볼츠만 상수이고,
qe는 전자의 전하이고,
Te 및 Ti은 각각 전자와 이온의 온도이고,
ne는 전자들의 밀도이고,
nij는 양이온 전하 jqe를 갖는 원자종 i의 밀도이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 플라즈마 개질의 균일성은 분모에 해당되는 평균 코팅 혹은 층 두께와 분자에 해당되는 코팅 혹은 층 두께의 표준편차의 비로 표현되며, 상기 비는 0.69 미만, 대안으로는 0.69 내지 0.01, 대안으로는 0.69 내지 0.05, 대안으로는 0.66 내지 0.1, 대안으로는 0.66 내지 0.2, 대안으로는 0.66 내지 0.21, 대안으로는 0.6 미만, 대안으로는 0.6 내지 0.01, 대안으로는 0.6 내지 0.05, 대안으로는 0.6 내지 0.1, 대안으로는 0.6 내지 0.2, 대안으로는 0.6 내지 0.21, 대안으로는 0.5 미만, 대안으로는 0.5 내지 0.01, 대안으로는 0.5 내지 0.05, 대안으로는 0.5 내지 0.1, 대안으로는 0.5 내지 0.2, 대안으로는 0.5 내지 0.21, 대안으로는 0.4 미만, 대안으로는 0.4 내지 0.01, 대안으로는 0.4 내지 0.05, 대안으로는 0.4 내지 0.1, 대안으로는 0.4 내지 0.2, 대안으로는 0.4 내지 0.21, 대안으로는 0.3 미만, 대안으로는 0.3 내지 0.01, 대안으로는 0.3 내지 0.05, 대안으로는 0.3 내지 0.1, 대안으로는 0.3 내지 0.2, 대안으로는 0.3 내지 0.21일 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 플라즈마 개질은 평균 두께 1 내지 1000 nm 및 표준편차 190 nm 미만, 대안으로는 190 내지 10 nm, 대안으로는 190 내지 20 nm, 대안으로는 190 내지 30 nm, 대안으로는 190 내지 40 nm, 대안으로는 190 내지 50 nm, 대안으로는 190 내지 60 nm, 대안으로는 190 내지 70 nm, 대안으로는 190 내지 80 nm, 대안으로는 161 nm 미만, 대안으로는 160 내지 10 nm, 대안으로는 160 내지 20 nm, 대안으로는 160 내지 30 nm, 대안으로는 160 내지 40 nm, 대안으로는 160 내지 50 nm, 대안으로는 160 내지 60 nm, 대안으로는 160 내지 70 nm, 대안으로는 160 내지 80 nm, 대안으로는 140 nm 미만, 대안으로는 140 내지 10 nm, 대안으로는 140 내지 20 nm, 대안으로는 140 내지 30 nm, 대안으로는 140 내지 40 nm, 대안으로는 140 내지 50 nm, 대안으로는 140 내지 60 nm, 대안으로는 140 내지 70 nm, 대안으로는 140 내지 80 nm, 대안으로는 122 nm 미만, 대안으로는 120 내지 10 nm, 대안으로는 120 내지 20 nm, 대안으로는 120 내지 30 nm, 대안으로는 120 내지 40 nm, 대안으로는 120 내지 50 nm, 대안으로는 120 내지 60 nm, 대안으로는 120 내지 70 nm, 대안으로는 120 내지 80 nm, 대안으로는 100 nm 미만, 대안으로는 100 내지 10 nm, 대안으로는 100 내지 20 nm, 대안으로는 100 내지 30 nm, 대안으로는 100 내지 40 nm, 대안으로는 100 내지 50 nm, 대안으로는 100 내지 60 nm, 대안으로는 100 내지 70 nm, 대안으로는 100 내지 80 nm, 대안으로는 80 nm 미만, 대안으로는 80 내지 10 nm, 대안으로는 80 내지 20 nm, 대안으로는 80 내지 30 nm, 대안으로는 80 내지 40 nm, 대안으로는 80 내지 50 nm, 대안으로는 80 내지 60 nm, 대안으로는 80 내지 70 nm인 코팅 혹은 층을 도포하는 조작일 수 있다.
자기 처리 장치
자기장의 존재하에, 작업편 지지체 (114) 상에 지지된 작업편 (12)을 플라즈마 개질하기 위한 임의의 구현예에서 사용가능한 장치에 대한 추가 상세사항을 예를 들어 도 4 내지 도 6, 도 9 내지 도 11, 도 19 내지 도 28, 도 37 내지 도 39, 도 55 내지 도 61, 및 도 63 내지 도 70에 예시하였다. 상기 장치는 작업편 (12)을 장치 내에 유지시키기 위한 작업편 지지체 (114), 플라즈마 발생기, 및 자기장 발생기를 포함한다. 여기서 플라즈마 발생기는 내부 전극 (이를 테면, 108) (선택적으로는, 가령, 특징부 (120-142) 중 임의의 것을 더 포함함), 외부 전극 (이를 테면, 160), 전원부 (162), 및 재료 공급용 가스 전달 포트 (110)를 포함한다. 도 4 내지 도 5의 자기장 발생기는 선택적으로, 예를 들면, 자석 (61, 62, 63 및 64) (대안으로는 각 구현예에서, 이를테면, 가령, 자석 (61-78), 코일 (86-99) 또는 전극 (107 또는 109) 중 임의의 것을 포함함) 중 임의의 것일 수 있다.
임의의 구현예에서 사용되는 작업편 (12)은, 선택적으로, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 의해 둘러싸인 내부공간 (18)을 가진다. 처리대상 표면은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 일부, 여기서는 대체로 원통형인 내부표면 (16)의 실질적으로 전체인 것으로 정의될 수 있다.
플라즈마 발생기는, 작업편 (12)의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 대한 플라즈마 개질에 효과적인 조건하에, 작업편 지지체 (114) 상에 지지된 작업편 (12)의 내부공간 (18) 속에 플라즈마를 제공하는데 사용될 수 있다.
자기장 발생기는 작업편 지지체 (114) 상에 지지된 작업편 (12)의 내부공간 (18)의 적어도 일 부분에 자기장을 인가하는데 사용될 수 있다. 그 결과로 생성된 자기장은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 대한 플라즈마 개질의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키는데 효과적인 배향 및 자기장 세기를 가진다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 솔레노이드 (86)의 내부 부분 (81)은 내부 권선부 (89)일 수 있다. 여기되었을 때 더 강한 자기장을 제공하는 단부 부분 (86 또는 87) 중 적어도 하나는 개별적 외부 권선부 (97 또는 99)일 수 있다. 예를 들어, 권선부들이 야기되었을 때 내부 권선부 (89)에는 상기 개별적 외부 권선부 (97 또는 99)보다 낮은 전류세기가 제공될 수 있거나, 내부 권선부 (89)는 외부 권선부 (97 또는 99)보다 축의 cm 당 총 턴(turn)수가 낮을 수 있다.
더 구체적인 비제한적 예로서, 솔레노이드 코일은 내부 부분과 제1 및 제2 반대측 단부 부분들 (86 및 87)을 따라 연장하는 단일 권선부를 가지며, 상기 권선부의, 제1 및 제2 반대측 단부 부분들 (86 및 87)에 또는 그 부분들 가까이의 축을 따른 cm 당 턴수는 내부 부분 (81)을 따른 cm 당 턴수보다 더 높다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장 발생기들은 다음과 같은 기능들을 개별적으로 또는 조합하여 제공하도록 배치될 수 있다: 재료 공급관 (104)은 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78 또는 86-91, 93, 95, 97, 99, 또는 820-832 중 임의의 것)에 의해 인가되는 자기장, 및 작업편 지지체 (114)에 대해 회전할 수 있다. 자기장 발생기에 의해 인가되는 자기장은 재료 공급관 및 작업편 지지체에 대해 회전할 수 있다. 작업편 지지체는 재료 공급관, 및 자기장 발생기에 의해 인가되는 자기장에 대해 회전할 수 있다. 재료 공급관, 및 자기장 발생기에 의해 인가되는 자기장은 작업편 지지체에 대해 동일하거나 상이한 회전 속도 및 방향으로 회전할 수 있다. 자기장 발생기에 의해 인가되는 자기장, 및 작업편 지지체는 재료 공급관에 대해 동일하거나 상이한 회전 속도 및 방향으로 회전할 수 있다. 재료 공급관 및 작업편 지지체는 자기장 발생기에 의해 인가되는 자기장에 대해 동일하거나 상이한 회전 속도 및 방향으로 회전할 수 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 플라즈마 특성을 측정하는 장치가 제공될 수 있다. 일 예로, 광 검출기 (350), 예를 들어, 플라즈마가 비균일 플라즈마 대 완전히 충전된 균일 플라즈마의 스트리머를 포함하는지 나타내도록 구성된 카메라가 제공될 수 있다. 또 다른 예로, 플라즈마 스펙트럼의 균일성을 결정하기 위한 광학 방사 분광계가 제공될 수 있다. 또 다른 예로, 플라즈마에 공급되는 전류의 균일성을 판단하기 위해 내부 전극 또는 그의 전원 전도체 둘레에 배치된 로고스키 코일 (352)이 제공될 수 있다. 또 다른 예로, 플라즈마의 전자 온도를 측정하기 위한 랭뮤어 프로브 (354)가 제공될 수 있다. 상기 프로브 (354)는 내부 전극 (108) 상에 장착될 수 있거나, 개별 부품 또는 시스템으로서 제공될 수 있다.
유체 물질
선택적으로 도 7 내지 도 8, 도 29, 도 36, 및 도 48 내지 도 51의 구현예들 중 임의의 것에 대해, 제약 또는 다른 유체 패키지 내에 보관되는 유체 물질 (40)의 pH는 5 내지 6, 선택적으로는 6 내지 7, 선택적으로는 7 내지 8, 선택적으로는 8 내지 9, 선택적으로는 6.5 내지 7.5, 선택적으로는 7.5 내지 8.5, 선택적으로는 8.5 내지 9일 수 있다.
선택적으로 도 7 내지 도 8, 및 도 29의 구현예들 중 임의의 것에 대해, 유체 물질 (40)은 20℃, 해수면에서의 대기압 (760 mm Hg의 압력으로 정의됨)에서 액체일 수 있다.
선택적으로 도 7 내지 도 8, 및 도 29의 구현예들 중 임의의 것에 대해, 유체 물질 (40)은 수성 액체일 수 있다.
선택적으로 도 7 내지 도 8, 및 도 29의 구현예들 중 임의의 것에 대해, 유체 물질 (40)은 본 명세서에서 이하 나열되는 약물들 중의 한 구성원 또는 상기 약물들 중 2종 이상의 조합물을 포함한다.
여러 다양한 예로서, 유체 물질 (40)은 흡입 마취용 약물이거나 진단 시험용 물질일 수 있다. 이들 유체 물질 (40) 중 임의의 것은 주사가능한 물질, 또는 흡입될 수 있거나 아니면 대상에 투입될 수 있는 휘발성 물질일 수 있다.
부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 기타 용도
본원에 기재된 바와 같은 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 갖춘 용기는 또한 진공처리될 수 있으며, 진공처리된 상태로 보관될 수 있다. 예를 들어, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층이 없는 용기와 비교하여, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 갖춘 용기는 진공도를 더 잘 유지할 수 있다. 본 구현예의 일 양태에서, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 갖춘 용기는 채혈관일 수 있다. 이러한 관은 또한 응혈 또는 혈소판 활성화를 방지하기 위한 작용제, 예를 들면 EDTA 또는 헤파린을 함유할 수도 있다.
또 다른 구현예는 본원의 임의의 구현예에서 정의된 바와 같은 기재 상에 본원의 임의의 구현예에 정의된 바와 같은 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 갖춘 용기를 포함하는 의료용 또는 진단용 키트일 수 있다. 선택적으로, 상기 키트는, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 갖춘 용기에 보관되어 상기 코팅 혹은 층과 접촉되는, 본원의 임의의 구현예에서 정의된 바와 같은 약제 또는 진단제; 및/또는 피하 주사바늘, 양두침, 또는 다른 전달 도관; 및/또는 설명서를 더 포함한다.
임의의 기재된 구현예에 따른 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 상기 코팅 혹은 층과 접촉되는 화합물 또는 조성물 내 한 성분의 침전 및/또는 응고 또는 혈소판 활성화를 방지하기 위해 사용하는 것이 고려된다.
임의의 기재된 구현예에 따른 피복된 기재를 인슐린 저장용으로 사용하는 것이 고려된다. 한 가지 선택안으로, 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 포함한 접촉 표면을 가진 인슐린 보관 용기를 제공함으로써 인슐린의 침전 현상을 방지하거나 줄일 수 있다.
또 다른 선택안으로서, 화합물, 또는 조성물 내 성분은 혈액 또는 혈액 분획물일 수 있으며, 혈액을 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층과 접촉되는 채혈관에 저장함으로써 응혈 또는 혈소판 활성화를 방지하거나 줄일 수 있다. 선택적으로, 채혈관은 응혈 또는 혈소판 활성화를 방지하는 작용제, 예를 들면 에틸렌디아민테트라아세트산 (EDTA), 그의 나트륨염, 또는 헤파린을 함유할 수 있다. 채혈관은 상기 작용제가 용기 내의 SiOx 배리어 코팅 혹은 층을 공격하지 못하게 하는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 포함할 수 있다. 임의의 기재된 구현예에 따른 피복된 기재를 혈액 저장용으로 사용하는 것이 고려된다. 선택적으로, 저장되는 혈액은 환자의 혈관계로 재공급될 수 있다.
임의의 기재된 구현예에 따른 코팅 혹은 층을 (i) 미피복 표면보다 마찰저항이 낮은 윤활성 코팅 혹은 층; 및/또는 (ii) 유체와의 접촉으로 인해 배리어 코팅 혹은 층이 용해되는 것을 방지하는 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층; 및/또는 (iii) 미피복 표면보다 소수성이 더 강할 수 있는 소수성 코팅 혹은 층으로 사용하는 것이 고려될 수 있다.
선택적 구현예들
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 두께는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)과 제2 부분 (802) 사이에서 변화된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 제1 부분 (800)의 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 최소 평균 두께는 0 nm이고, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 최대 평균 두께는 제2 부분 (802)의 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 평균 두께의 0.8배, 선택적으로는 0.7배, 선택적으로는 0.6배, 선택적으로는 0.5배, 선택적으로는 0.4배, 선택적으로는 0.3배, 선택적으로는 0.2배, 선택적으로는 0.1배, 선택적으로는 0.09배, 선택적으로는 0.08배, 선택적으로는 0.07배, 선택적으로는 0.06배, 선택적으로는 0.05배, 선택적으로는 0.04배, 선택적으로는 0.03배, 선택적으로는 0.02배, 선택적으로는 0.01배이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)과 의료용 배럴 또는 카트리지 (14)의 후단부 (32) 사이에 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제3 부분이 제공된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)의 배면측 단부보다 작은 내경을 가진다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 플런저 또는 피스톤 (36)이 정지 위치에 있는 상태로 2주 저장된 후, 플런저 또는 피스톤 (36)의 해제력 (Fi)은 12 N 미만, 대안으로는 10 N 미만, 대안으로는 8 N 미만, 대안으로는 6 N 미만, 대안으로는 4 N 미만이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 플런저 또는 피스톤 (36)이 정지 위치에 있는 상태로 2주 저장된 후, 플런저 또는 피스톤 (36)의 해제력 (Fi)은 3N 이상이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 플런저 또는 피스톤 (36)의 유지력 (maintenance force) (Fm)은 2 내지 8 N이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)으로부터 추출되어 용해된 Si는 10 마이크로그램 미만, 대안으로는 5 마이크로그램 미만, 대안으로는 4 마이크로그램 미만, 대안으로는 3 마이크로그램 미만이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)으로부터 추출되어 용해된 Si는 2 마이크로그램을 초과한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 가스 크로마토그래피와 질량 분광법으로 윤활성 코팅 혹은 층 (34)으로부터 수성 매질을 사용하여 추출되는 선형 및 환형 실록산은 그램 당 10 마이크로그램 미만, 대안으로는 1 마이크로그램 미만, 대안으로는 0.7 마이크로그램 미만, 대안으로는 0.08 마이크로그램 미만이고, 선택적으로, 코팅된 플라스틱 성분들을 수계 추출하는 경우에는 검출 한계치 미만이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)은 윤활성 코팅 혹은 층 재료를 본질적으로 함유하지 않는다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)은 검출가능한 윤활성 코팅 혹은 층 재료를 함유하지 않는다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)의 구배각은 0° 내지 1° 미만, 선택적으로는 0 내지 0.5° 미만, 선택적으로는 0° 내지 0.25° 미만, 선택적으로는 0° 내지 0.16° 미만, 선택적으로는 0° 내지 0.03° 미만, 선택적으로는 0° 내지 0.014° 미만, 선택적으로는 0° 내지 0.01° 미만이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)은 제2 부분 (802)과 후단부 (32) 사이에 제3 부분을 가지며, 상기 제3 부분은 제2 부분 (802)의 배면측 단부에 인접한 전단부, 및 배면측 단부를 가진다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제3 부분은 PECVD법에 의해 도포되는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)은 폴리카보네이트, 올레핀 중합체 (예컨대, 폴리프로필렌 (PP) 또는 폴리에틸렌 (PE)), 환형 올레핀 공중합체 (COC), 환형 올레핀 중합체 (COP), 폴리메틸펜텐, 폴리에스테르 (예컨대, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 또는 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (PBT)), 폴리메틸메타크릴레이트, PVdC (폴리비닐리덴 클로라이드), 폴리비닐 클로라이드 (PVC), 폴리아세트산, 폴리스티렌, 수소화 (수소첨가) 폴리스티렌, 폴리(사이클로헥실에틸렌) (PCHE), 에폭시 수지, 나일론, 폴리우레탄 폴리아크릴로니트릴 (PAN), 폴리아크릴로니트릴 (PAN), 아이오노머 수지 (예컨대, Surlyn®), 유리 (예컨대, 붕규산염 유리), 또는 이들 중 임의의 둘 이상의 조합물을 포함하고; 바람직하게는 환형 올레핀 중합체, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리프로필렌을 포함하며; 더 바람직하게는 COP를 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 원자비 SiOxCy 또는 SiNxCy를 X선 광전자 분광법에 의해 측정한 결과, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)은 SiOxCy 대 SiOx 또는 그 반대의 그레이드 복합체를 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 평균 두께는 1 내지 5000 nm, 바람직하게는 30 내지 1000 nm, 더 바람직하게는 100 내지 500 nm이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 코팅 혹은 층의 평균 두께는 분광 반사율로 구한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)은:
· (i) 미피복된 표면보다 낮은 습윤 장력, 바람직하게는 20 내지 72 dyne/cm, 더 바람직하게는 30 내지 60 dynes/cm, 더 바람직하게는 30 내지 40 dynes/cm, 바람직하게는 34 dyne/cm의 습윤 장력을 가지고/가지거나,
· (ii) 미피복된 표면보다 더 큰 소수성을 나타낸다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 제약 조성물은 생물학적으로 활성인 화합물 또는 생물학적 유체, 바람직하게는 (i) 시트르산염 또는 시트르산염-함유 조성물, (ii) 약제, 구체적으로는 인슐린 또는 인슐린-함유 조성물, 또는 (iii) 혈액 또는 혈구를 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 플런저 개시력 (initiation force) Fi은 2.5 내지 15 N이고, 1주일 후 플런저 유지력 Fm은 2.5 내지 25 N이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 제1 부분 (800) 상에 배리어 코팅 혹은 층을 더 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 배리어 코팅 혹은 층은 SiOx를 포함하며, 식에서 x는 XPS로 측정한 결과 1.5 내지 2.9이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 배리어 코팅 혹은 층의 두께는 2 내지 1000 nm, 선택적으로는 20 내지 300 nm이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 배리어 코팅 혹은 층을 위한 유기규소 전구체는 선형 실록산, 바람직하게는 HMDSO 또는 TMDSO이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 제1 부분 (800) 상에 타이 코팅 혹은 층이 제공된다..
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 접착 코팅 혹은 층 또는 타이 코팅 혹은 층 (동일 층에 대한 두 가지 다른 명칭)은 SiOxCy 또는 SiNxCy를 포함하며, XPS로 측정한 결과 x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 타이 코팅 혹은 층의 두께는 2 내지 1000 nm이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 타이 코팅 혹은 층을 위한 유기규소 전구체는 실록산, 바람직하게는 OMCTS 또는 TMDSO이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 제1 부분 (800) 상에 pH 보호 코팅 혹은 층이 제공된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, pH 보호 코팅 혹은 층은 SiOxCy 또는 SiNxCy를 포함하며, XPS로 측정한 결과 x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, pH 보호 코팅 혹은 층의 두께는 2 내지 1000 nm이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 제1 부분 (800) 상에 소수성 코팅 혹은 층이 제공된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 소수성 코팅 혹은 층은 SiOxCy 또는 SiNxCy를 포함하며, XPS로 측정한 결과 x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 소수성 코팅 혹은 층의 두께는 2 내지 1000 nm이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 소수성 코팅 혹은 층을 위한 유기규소 전구체는 선형 실록산, 바람직하게는 OMCTS 또는 TMDSO이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 타이 코팅 혹은 층, 배리어 코팅 혹은 층, 및 pH 보호 코팅 혹은 층은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 제1 부분 상에 제공된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)은 타이 코팅 혹은 층, 배리어 코팅 혹은 층, 및 pH 보호 코팅 혹은 층 상부에 위치한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802) 상에 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 증착시키는데 효과적인 조건은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에 도포된 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 두께와 비교하여 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에 도포되는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 두께를 줄이기 위해 충분히 낮은 전원 수준에서 전자기 에너지를 인가하는 것을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전구체 가스 (588)의 일부는 플라즈마 내 화학 반응을 거쳐 반응 생성물을 형성하며, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802) 상에, 더 큰 평균 두께를 갖는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 증착시키는데 효과적인 조건은 상기 반응 생성물을 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 후단부 (32)를 통해 배출시키는 것을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전구체 가스 (588)는 선형 실록산, 단일환 실록산, 다환 실록산, 폴리실세스퀴옥산, 선형 실라잔, 단일환 실라잔, 다환 실라잔, 폴리실세스퀴아잔, 실라트랜, 실쿠아실라트랜, 실프로아트란, 아자실라트랜, 아자실쿠아시아트랜, 아자실프로아트랜, 또는 이들 전구체 중 임의의 둘 이상의 조합물을 포함하며; 선택적으로는 단일환 실록산, 선택적으로는 옥타메틸사이클로테트라실록산이고; 선택적으로는 선형 실록산, 선택적으로는 테트라메틸디실록산이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 공칭 용량은 0.1 내지 5 mL, 선택적으로는 0.5 내지 3 mL, 선택적으로는 0.7 내지 2 mL, 선택적으로 1 mL이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전자기 에너지는 0.5 Watts의 최저 전원 수준 내지 15 Watts의 최고 전원 수준 으로 인가된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전자기 에너지는 0.6 Watts, 선택적으로는 0.7 Watts, 선택적으로는 0.8 Watts, 선택적으로는 0.9 Watts, 선택적으로는 1 Watt, 선택적으로는 2 Watts의 최저 전원 수준으로 인가된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전자기 에너지는 3 Watts, 선택적으로는 4 Watts, 선택적으로는 5 Watts, 선택적으로는 6 Watts, 선택적으로는 7 Watts, 선택적으로는 8 Watts, 선택적으로는 9 Watts, 선택적으로는 10 Watts의 최고 전원으로 인가된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 PECVD법으로 도포시키는 동안, 자기장을 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에 인가하되, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 증착시킬 때, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에 존재하는 순평균 자기장 세기가 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에서의 평균 자기장 세기의 선택적으로는 2배 이상, 선택적으로는 5배 이상, 선택적으로는 10배 이상, 선택적으로는 20배 이상, 선택적으로는 30배 이상, 선택적으로는 40배 이상, 선택적으로는 50배 이상, 선택적으로는 100배 이상, 선택적으로는 200배 이상, 선택적으로는 500배 이상이 되도록 인가한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 PECVD법으로 도포시키는 동안, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에서 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 증착시킬 때 최저 평균 자기장 세기는 Gauss 단위로 1 Gauss (100 μT, microTesla) 초과, 선택적으로는 2 Gauss 이상, 선택적으로는 5 Gauss 이상, 선택적으로는 10 Gauss 이상, 선택적으로는 15 Gauss 이상, 선택적으로는 20 Gauss 이상, 선택적으로는 25 Gauss 이상, 선택적으로는 30 Gauss 이상, 선택적으로는 35 Gauss 이상, 선택적으로는 40 Gauss 이상이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 PECVD법으로 도포시키는 동안, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에서 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 증착시킬 때 최고 평균 자기장 세기는 Gauss 단위로 100 Gauss (10,000 μT, microTesla), 선택적으로는 80 Gauss, 선택적으로는 60 Gauss, 선택적으로는 50 Gauss, 선택적으로는 45 Gauss이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장은 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 플라즈마 개질의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키는데 효과적인 위치, 배향 및 자기상 세기를 가진다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장 인가는 표면의 적어도 일 부분을 따른 플라즈마 분포의 축방향 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시킨다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장 인가는 표면의 적어도 일 부분을 따른 플라즈마 분포의 방사방향 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시킨다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 플라즈마는 플라즈마 전자를 포함하며, 자기장은 내부공간 (18) 내 플라즈마 전자의 밀폐를 향상시키는데 효과적이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장은 하나의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 3개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 4개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 5개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 6개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 7개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 8개 이상의 자기장 발생기를 표면 가까이에 제공함으로써 인가되며, 각각의 자기장 발생기는 극축 (80)을 정의하는 제1극 및 제2 극을 갖는다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 하나의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 표면의 축에 대체로 평행한 극축을 가진다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 작동 위치에 있는 표면 둘레에 원주 방향으로 분포된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 표면에 대해 축방향으로 연장되는 극축을 가진다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 PECVD 동안 고정된 상태로 유지된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 인접한 자기장 발생기로부터 실질적으로 원주방향으로 등간격을 유지한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 플라즈마 처리 중 적어도 일부 동안 작동 위치에 있는 표면의 축에 대해 회전하거나, 표면이 그 축을 중심으로 회전하거나, 둘 다이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 영구 자석, 코일, 또는 1개 이상의 영구 자석과 1개 이상의 코일의 조합이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 2개 이상의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 그들 사이에 요홈을 획정하도록 이격되며, 상기 요홈 내부에 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면의 적어도 일 부분이 위치된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개 이상의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면, 또는 둘 다는 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면의 원주에 대한 평균 자기장 세기의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키는데 효과적인 속도로 회전된다. 더 넓게, 자기장 발생기들 중 적어도 하나 또는 대체로 원통형의 표면은 타 대상에 대해 (relative to the other) 회전한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개 이상의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 표면, 또는 둘 다는 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 표면의 원주에 대해 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면 가열 조작의 균일성을 향상시키거나, 강도를 감소하거나, 또는 둘 다에 효과적인 속도로 회전된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면의 축을 따라 수행되는 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면 가열 조작의 균일성을 향상시키는데 효과적인 속도로, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 1개 이상을 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 표면을 따라 축방향으로 평행이동시키거나, 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면을 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)에 대해 평행이동시키거나, 또는 둘 다를 더 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 대체로 원통형의 표면에 대해 축방향으로 적층된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 모두가 서로로부터 축방향으로 이격된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 모두가 서로에 축방향으로 인접해 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 1개 이상의 코일을 표면 가까이에 위치시키고, 상기 코일을 통해 전류를 전도시킴으로써 제공된다. 선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 상기 1개 이상의 코일은 솔레노이드 코일을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 상기 1개 이상의 코일은 중앙 개구와 상기 중앙 개구를 통과하는 기하축을 가진 대체로 환상형의 코일 (8 또는 9)을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)은 기하축과 적어도 대체로 평행하게 배향되며, 선택적으로는 표면의 축과 적어도 대체로 동일선상에 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)은 2개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로는 4개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로는 6개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로는 8개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로 8개의 45° 아크 세그먼트를 가지며, 교번식 부분들이 반대 방향으로 권취된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 대체로 환상의 코일의 단면은 실질적으로 원형이거나 실질적으로 직사각형이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 적어도 1개의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 극축 (80)이 표면의 축과 적어도 대체로 평행하도록 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 극축 (80)이 표면의 축과 적어도 대체로 동일선상에 있도록 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 극축 (80)을 따라 연장되는 통로를 가지며, 표면 전체가 상기 통로 내부에 배치된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 헬름홀츠 코일이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 헬름홀츠 코일은 이격된 제1 및 제2 솔레노이드 코일을 포함하며, 그 사이에는 상기 방법이 진행되는 동안 플라즈마를 볼 수 있도록 하는 관측창을 제공하는 공간이 있다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사장치의 표면을 따라 각기 다른 자기장 세기를 제공한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면의 적어도 일 부분은 대체로 원통형이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 적어도 1개의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)와 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사장치의 표면 사이의 거리는 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사장치의 표면을 따라 각기 다르다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사장치의 표면을 따라 자기장 세기를 가변시켜 다양한 자기장 세기의 프로파일을 정의한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하지 않고 플라즈마를 제공하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면을 따라 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면의 플라즈마 개질을 가변시켜, 다양한 플라즈마 개질의 프로파일을 정의한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 자기장 세기의 프로파일 변화가 플라즈마 개질의 변화를 상쇄시키는 경향을 나타내어, 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면에 대한 플라즈마 개질의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키도록 구성된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 후단부 (32)에 또는 그 가까이에 전자 거울을 제공하는 조작을 더 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전자 거울을 제공하는 구조체는 자기장 발생기의 적어도 일 부분을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전자 거울을 제공하는 구조체는 강자성체 또는 강자성 물질을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전자 거울을 제공하는 구조체는 자기장 발생기를 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 전자 거울을 제공하는 구조체는 음전하 객체 또는 객체의 일부를 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간 (18)의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부는 극축 (80)이 처리 대상 표면의 축에 대체로 평행하도록 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간 (18)의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부는 극축 (80)이 처리 대상 표면의 축을 중심으로 연장되도록 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간 (18)의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부는 극축 (80)이 처리 대상 표면에 대해 대체로 방사면으로 연장되도록 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 극축 (80)을 정의하는 반대측 제1 극 및 제2 극 (822, 824) 및 제1 극 및 제2 극에 각각 상응하는 제1 단부 및 제2 단부를 갖는 영구 자석 (61-78 또는 820 중 임의의 것)이고, 상기 영구 자석은 제1 극 (822)으로부터 제2 극 (824)까지 연장하는 하나 이상의 측면 (820)을 가지며, 적어도 하나의 측면 (826)은 제1 극 (822)과 제2 극 (824) 사이 내측으로 테이퍼(taper)진다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 자기장 발생기 모두의 제2 단부 (824)가 제1 단부 (822)보다 크다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 대체로 원뿔형, 절단원뿔형, 피라미드형, 또는 절단피라미드형이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 둥글고 더 작은 단부 (822)를 가진 대체로 원뿔형이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (820), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 방사방향 내측으로 배치된 더 작은 단부 (822)와 방사방향 외측으로 배치된 더 큰 단부 (824)를 갖는 링형 어레이 (834) 형태로 배향된다. 이는 내부공간의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부를 그 극축이 처리 대상인 대체로 원통형의 표면에 대해 대체로 방사면으로 연장되도록 배향시키는 선택적 시행의 한 예이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 동일한 사인 (북 또는 남)의 극이 방사방향 내측으로 배치되고, 제1극이 방사방향 외측으로 배치되도록 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 북극이 방사방향 내측으로 배치되도록 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 남극이 방사방향 내측으로 배치되도록 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 바 자석이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 1개 이상의 자기장 발생기 (73-78 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면을 수용하기 위한 크기의 중심 개구부를 갖는 링 자석이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 링 자석 (73-78 중 임의의 것) 중 적어도 하나의 북극과 남극은 반대측 환형면이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장의 적어도 일부는 하기의 적층체에 의해 제공된다:
· 작동 위치에 있을 때 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면이 중앙 요홈 내부에 놓이는 적어도 1개의 내주 링 자석 (73-78 중 임의의 것),
· 내부 링 자석들의 적층체와 축방향으로 정렬되되 그 외부측에 마련되는 적어도 1개의 캡 자석 (65-78 또는 820 중 임의의 것),
· 상기 내부 링 자석은 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면에 방사방향으로 인접하게 제1 자기장 세기를 인가하되, 상기 제1 자기장 세기는 캡 자석이 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면에 축방향으로 인접하게 인가하는 자기장 세기보다 약하며,
· 선택적으로는, 하나의 캡 자석과, 내주 링 자석들의 적층체 사이에 위치하는, 1개 이상의 추가 자석.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 링 자석 (73-78) 중 적어도 하나는 링에 대한 원주이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 링 자석 (73-78) 중 적어도 하나의 원주는 복수의 북극-남극 구역을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 4개 이상의 자기장 발생기 중 짝수개 (61, 62)는 한 축에 대해 배치되어, 축방향으로 이격된 단부들 사이에 사중극자 또는 유사한 구조를 제공한다. 이는 내부공간의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부를 그 극축이 처리 대상인 대체로 원통형의 표면에 대해 대체로 방사면으로 연장되도록 배향시키는 선택적 시행의 한 예이다. 선택적으로, 자기장 발생기들 중 2개 이상은 대체로 원통형의 표면의 축에 대해 원주 방향으로 분포되며, 극축이 반대가 되도록 자기장 발생기들은 교번 형태로 배향된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장 발생기는 사중극자 또는 유사한 구조를 제공하는 효과적 위치 (834)와, 자기장 발생기에 의해 사중극자 또는 유사한 구조가 제공되지 않는 비-기능적 위치 (834a) 사이에서 상대적으로 이동가능하다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 사중극자 및 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치는 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면을 관통하는 축에 상대적으로 위치된다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 사중극자는 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면의 적어도 일 부분에 또는 그 일 부분 가까이에 플라즈마를 적어도 부분적으로 격리하는데 효과적이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 이격된 단부들 중 적어도 하나에 또는 가까이에는 축방향 극축 (80)을 가진 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)가 위치한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 이격된 단부들 둘 다에 또는 이들 가까이에는 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들이 위치한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 링 자석을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 캡 자석을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 바 자석을 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 내부 표면 (16)의 직경을 선택하여 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 Fi 값을 최적화하는 조작을 더 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 내부 표면 (16)의 직경을 선택하여 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 Fm 값을 최적화하는 조작을 더 포함한다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 유체 조성물 (40)은 인간에 비경구 투여하기에 적합한 제약 조성물이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 유체 조성물 (40)은 진단용 조성물이다.
선택적으로 임의의 구현예에 의하면, 유체 조성물 (40)은 인간에 투여하기에 적합한 마취용 조성물이다.
코팅 혹은 층 두께의 측정
부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 , 배리어 코팅 혹은 층, 윤활성 코팅 혹은 층, 및/또는 이들 코팅 혹은 층 중 임의의 둘 이상의 복합체와 같은 PECVD 코팅 혹은 층의 두께는 예를 들어 투과전자현미경 (TEM) 기법 또는 분광 반사율 기기를 사용하여 측정될 수 있다.
TEM은 예를 들어 다음과 같이 수행될 수 있다. 집속 이온 빔 (FIB) 횡단면 측정을 위해 샘플을 두 가지 방식으로 마련할 수 있다. 샘플을 먼저 탄소 박막층 (두께 50 내지 100 nm)으로 피복한 후에 K575X Emitech 시스템을 이용하여 스퍼터링된 백금 코팅 혹은 층 (두께 50 내지 100 nm)으로 피복할 수 있거나, 또는 샘플을 스퍼터링 Pt층으로 직접 피복할 수 있다. 이렇게 피복된 샘플들을 FEI FIB200 FIB 시스템 안에 배치시킬 수 있다. 해당 영역 상부에 30 kV 갈륨 이온 빔을 래스터링 (rastering)하면서 유기금속성 가스를 주입하여 추가의 백금 코팅 혹은 층을 FIB-증착시킬 수 있다. 각 샘플에 대한 해당 영역은 의료용 배럴의 길이 방향으로 절반 내려간 위치로 선택될 수 있다. 현장 FIB 리프트-아웃 기법을 이용하여 다이 표면으로부터 대략 15μm (“마이크로미터”)의 길이, 2μm의 너비, 및 15μm의 깊이를 가진 얇은 횡단면들을 추출할 수 있다. 이들 횡단면을 FIB-증착된 백금을 사용하여 200 메쉬 구리 TEM 그리드에 부착시킬 수 있다. 각 단면에 약 8μm 너비의 창 하나 또는 두개를 FEI FIB의 갈륨 이온 빔을 사용하여 전자 투명성을 얻을 때까지 얇게 만들 수 있다.
이렇게 마련된 샘플들의 횡단면 이미지 분석을 투과 전자 현미경 (TEM) 기법, 또는 주사 투과 전자 현미경 (STEM) 기법, 또는 둘 다를 활용하여 수행할 수 있다. 모든 이미지 처리 데이터를 디지털 방식으로 기록할 수 있다. STEM 이미지 처리 작업을 위해, 얇은 호일을 구비한 그리드를 Hitachi HD2300 전용 STEM에 전달할 수 있다. 전송된 전자 이미지의 스캔 작업은 원자번호 대조 모드 (ZC) 및 투과 전자 모드 (TE)로 적절한 배율에서 이루어질 수 있다. 아래와 같은 기기 설정치들을 사용할 수 있다.
Figure 112015063276666-pct00009
TEM 분석을 위해, 샘플 그리드들을 Hitachi HF2000 투과 전자 현미경에 전달할 수 있다. 투과 전자 이미지들을 적절한 배율로 획들할 수 있다. 이미지 획득시 사용된 관련 기기 설정치들은 아래에 제공된 바와 같을 수 있다.
Figure 112015063276666-pct00010
의료용 배럴 형성 및 피복을 위한 기본 시행 방식
다음 실시예들에서 시험 대상 제약 패키지 또는 기타 용기를, 달리 개별 실시예에서 명시되지 않는 한, 하기 예시적 시행 방식에 따라 형성하여 피복하였다. 하기 기본 시행 방식에 제공된 특정 매개변수 값들, 예를 들어 전력 및 기상 반응물질 또는 처리 가스 유량은 통상적 대표값들이다. 이들 대표값과 비교하여 매개변수 값이 변한 경우에는, 이를 다음 실시예들에서 표시하였다. 이는 기상 반응물질 또는 처리 가스의 종류 및 조성에서 똑같이 적용된다.
일부 예에서, 하기 시행 방식 및 추가 상세설명에서 언급되는 기준 문자들과 도면들은 미국특허 제7,985,188호에서 찾아볼 수 있다.
의료용 배럴 내부를 SiO x 로 피복하기 위한 시행 방식
의료용 배럴 내부를 SiOx 배리어 코팅 혹은 층으로 피복 또는 적층시키기 위해 미국특허 제7,985,188호에 기재된 바와 같은 장치 및 시행 방식을 대체로 이용하였으며, 일부 경우에서는 약간의 변경이나 자기장 발생기 추가가 이루어졌다. 바이얼을 SiOx 배리어 코팅 혹은 층으로 피복 또는 적층시키기 위해 유사한 장치 및 시행 방식을 이용하되, 일부 경우에서는 약간의 변경이 이루어졌다.
의료용 배럴 내부를 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층으로 피복하기 위한 시행 방식
전술한 바와 같은 SiOx의 배리어 코팅 혹은 층으로 미리 피폭된 의료용 배럴의 내부를 전술한 바와 같은 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층으로 추가 피복하였으며, 이를 위해 윤활성 코팅 혹은 층의 도포에 관한 미국특허 제7,985,188호의 시행 방식을 대체로 따르되, 실시예에 설명된 바와 같이 특정 예의 경우에는 조건을 수정하기도 하였다. 여기에 주어진 조건들은 COC 의료용 배럴을 위한 것이므로, 다른 재료로 만들어진 의료용 배럴에 대해서는 이에 적합하게 조건을 수정할 수 있다. 도 4에 대략 나타낸 장치를 사용하여, 의료용 배럴을 버트 실링 (butt sealing)으로 의료용 배럴의 기저부에 유지할 수 있다.
의료용 배럴을 연장된 프로브 또는 상대 전극 (108) 상부의 실링 위치에 조심스럽게 이동시키고, 플라즈마 스크린쪽으로 민다. 플라즈마 스크린을 프로브 또는 상대 전극 (108) 둘레로 꼭 끼워맞추어, 양호한 전기 접촉을 확실히 한다. 프로브 또는 상대 전극 (108)을 RF 매칭 네트워크의 케이스에 접지시킨다.
가스 전달 포트 (110)를 배기용 수동 볼 밸브 또는 유사 장치, 열전대 압력계 및 진공 펌핑 라인에 연결된 바이패스 밸브에 연결된다. 또한, 가스 시스템이 가스 전달 포트 (110)에 연결되어, 기상 반응물질 또는 처리 가스가 가스 전달 포트 (110)) (처리 압력하에)를 통해 의료용 배럴 내부로 흘러 들어갈 수 있게 한다.
OMCTS 또는 다른 저비등점 기상 반응물질 또는 처리 가스를 사용하는 경우, 가스 시스템은 OMCTS를 약 100℃까지 가열하는 시판용 가열 질량 흐름 기화 시스템을 구비할 수 있다. 이러한 가열 질량 흐름 기화 시스템은 액체 옥타메틸사이클로테트라 실록산 (Alfa Aesar® Part Number A12540, 98%)에 연결된다. 특정 예의 경우, 전구체 유량을 비 (specific) 유기규소 전구체 유량에 설정한다.
의료용 배럴이 설치되었을 때, 진공 펌프 밸브를 용기 지지체 (50) 및 COC 의료용 배럴의 내부 쪽으로 개방한다. 진공 펌프 및 송풍기는 진공 펌프 시스템을 포함한다. 펌프 시스템은 기상 반응물질 또는 처리 가스가 명시된 속도로 흘러가는 동안 COC 의료용 배럴 내부의 압력이 100 mTorr 미만까지 낮아질 수 있도록 한다.
베이스 진공 수준에 도달하였을 때, 용기 지지체 (50) 어셈블리를 외부 전극 (160) 어셈블리 내로 이동시킨다. (펌핑 라인으로부터 가스 전달 포트 (110)까지의 3-way 밸브를 조절하여) 가스 스트림 (예를 들면, OMCTS, HMDSO, 또는 TMDSO 증기)을 가스 전달 포트 (110) 내부로 흘려 보낸다. 사용된 경우, PECVD용 플라즈마가 감압 하에 발생될 수 있으며, 이러한 감압은 300 mTorr, 선택적으로는 200 mTorr 미만, 심지어 선택적으로는 100 mTorr 미만일 수 있다. COC 의료용 배럴 내부의 압력은, 진공압을 제어하는 밸브 가까이의 펌핑 라인 상에 설치된 전기용량 압력계 (MKS)로 측정하였을 때, 일 예로, 대략 140 mTorr일 수 있다. COC 의료용 배럴 압력 외에, 가스 전달 포트 (110) 및 가스 시스템 내부의 압력 또한 가스 시스템에 연결된 열전대 진공 게이지를 사용하여 측정한다. 이 압력은 통상 6 Torr 미만이다.
일단 가스가 COC 의료용 배럴의 내부로 흘러 들어가면, RF 전원부를 지정된 전력 수준으로, 또는 특정 예나 설명에서 지시되는 바와 같은 전력 수준으로 켠다 (turn on). 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층의 물리적 특성과 화학적 특성은 가상 반응물질 내 유기규소 전구체에 대한 산화 가스의 비를 설정하고/하거나 플라즈마를 발생시키는데 사용되는 전력을 설정함으로써 정해질 수 있다. 600 Watt RF 전원부를 (13.56 MHz에서) 지정된 전력 수준으로, 또는 특정 예나 설명에서 지시된 대로 사용한다. RF 전원부를 (용기 내에 발생시키고자 하는) 플라즈마의 복합 임피던스를 RF 전원부의 출력 임피던스에 정합시키는 자동 정합부에 연결한다. 순방향 전력은 명시된 대로, 반사 전력은 O Watt로 정함으로써, 상기 명시된 전력을 용기의 내부에 전달한다. 실험 시간 및 파워 온 시간을 10초 (또는 주어진 예에 명시된 다른 시간)로 설정하여 RF 전원부를 제어한다.
RF 전원을 초기화하는 즉시, 균일한 플라즈마가 용기의 내부측에 확립된다. 플라즈마는 타이머에 의해 RF 전원이 종료될 때까지 전체 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층 시간 동안 유지된다. 플라즈마는 용기 내부 상에 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 생성한다.
부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층을 도포한 다음, 가스 흐름을 진공 라인으로 방향을 다시 전환시키고, 진공 밸브를 닫는다. 이어서 배기 밸브를 개방하여, COC 의료용 배럴의 내부를 대기압 (대략 760 Torr)까지 되돌린다. 처리된 용기를 (용기 지지체 (50) 어셈블리를 외부 전극 (160) 어셈블리 외부로 뺀 후) 조심스럽게 용기 지지체 (50) 어셈블리로부터 분리시킨다.
부동태화 층, pH 보호 코팅 혹은 층, 또는 윤활성 코팅 혹은 층을 주사기 또는 기타 용기에 도포하기 위해, PECVD 조건이 변경된 유사한 시행 방식을 이용하였다.
두께 맵핑을 위한 분광 반사 시행 방식
Filmetrics 박막 분석기 모델 205-0436 F40 분광 반사 기기를 사용하였다. 후단부가 위를 향해 있고, 원주를 8개의 동일한 45도 세그먼트 (segment)로 나누는 인덱스 마크가 후단부 상에 표시된 홀더 안에 주사기를 배치하였다. 카메라 기기를 코팅 혹은 층에 포커스를 맞추고, 의료용 배럴의 맵핑된 영역의 후단부로부터 6 mm, 원주 상에서 0도에서 두께를 측정하였다. 그런 후에는 축방향으로 6 mm에 유지된 상태로 주사기를 45도 이동시켜, 또 다른 측정치를 획득하였다. 본 과정을 6 mm에서 주사기 둘레로 45도 간격으로 반복하였다. 이어서 주사기를 맵핑된 영역의 후단부로부터 11 mm까지 축방향으로 전진시키고, 원주 둘레로 8개의 측정치를 얻었다. 주사기를 축방향으로 5 mm씩 늘리고, 원주 방향으로 45도씩 증가시켜 맵을 완성하였다. Filmetrics 소프트웨어를 이용하여 데어터를 맵핑하였다.
전체 규소량을 측정하기 위한 시행 방식
본 시행 방식을 이용하여 전체 용기 벽 상에 존재하는 규소 코팅 혹은 층의 총량을 결정하였다. 공급량의 0.1 N 수산화칼륨 (KOH) 수용액을 제조하고, 이 용액 또는 성분들과, 유리 사이의 접촉을 막기 위해 주의를 기울였다. 사용된 물은 18 MΩ 수질의 정제수였다. 달리 지시되지 않는 한, Perkin Elmer Optima 모델 7300DV ICP-OES 기기를 측정 용도로 사용하였다.
시험 대상 각 장치 ((바이얼, 주사기, 관 등)와, 그의 뚜껑 및 크림프 (바이얼의 경우) 또는 기타 마개를 빈 상태에서 0.001 g까지 무게를 잰 후, KOH 용액으로 가득 채우고 (헤드공간부를 남기지 않음), 뚜껑을 닫고, 클림핑한 후, 다시 무게를 0.001 g까지 재었다. 분해 (digestion) 단계에서, 각각의 바이얼을 40℃에서 초음파처리 수조에 최소 8 내지 10시간 동안 두었다. 이러한 분해 단계는 용기 벽으로부터의 규소 코팅 혹은 층을 KOH 용액 내로 정량적 분리시키기 위해 수행된다. 본 분해 단계가 끝나면, 바이얼을 초음파처리 수조에서 꺼내고, 실온까지 냉각되도록 하였다. 바이얼의 내용물을 15 ml ICP 관으로 옮겼다. ICP/OES 작동 과정을 따라 ICP/OES기법으로 각 용액의 전체 Si 농도를 구하였다.
전체 Si 농도는 KOH 용액 내 Si ppb (parts per billion)로 보고되었다. 이러한 농도는 분해 단계를 이용하여 분리시키기 전에 용기 벽 상에 있었던 규소 코팅 혹은 층의 총량을 나타낸다.
전체 Si 농도는 또한 용기 상의 모든 규소 코팅 또는 층에 대해서보다 더 적게 측정될 수도 있다. 이는 SiOx 배리어 코팅 혹은 층이 도포될 때, SiOxCy 제2 코팅 혹은 층 (예를 들면, 윤활성 코팅 혹은 층, 또는 부동태화 층, 또는 pH 보호 코팅 혹은 층)이 그 다음에 도포되는데, 그럼에도 단지 SiOxCy 코팅 혹은 층의 전체 규소 농도를 알아내는 것이 요구되기 때문이다. 이러한 결정은 두 세트의 용기를 마련하여, 한 세트에는 SiOx 코팅 혹은 층만 도포하고, 다른 세트에는 동일한 SiOx 코팅 혹은 층을 도포한 다음, SiOxCy 코팅 혹은 층, 또는 다른 해당 코팅 혹은 층을 도포한다. 각 세트 용기에 대한 전체 Si 농도를 전술된 것과 동일한 방식으로 결정한다. 두 Si 농도 간의 차이가 SiOxCy 제2 코팅 혹은 층의 전체 Si 농도이다.
용기 내 용해된 규소량을 측정하기 위한 시행 방식
예를 들어 시액 (test solution)의 용해율을 평가하기 위해, 시액 (test solution)에 의해 용기 벽으로부터 용해된 규소의 양을 ppb 단위로 구할 수 있다. 이러한 용해된 규소량의 측정 작업은 SiOx 및/또는 SiOxCy 코팅 혹은 층을 갖춘 용기 내에 시액을 시험 조건하에 저장한 후, 용기로부터 해당 용액의 샘플을 분리시키고, 상기 샘플 내 Si 농도를 시험함으로써 이루어진다. 본 시험은, 상기 시행 방식의 분해 단계를 본 시행 방식에 기술된 바와 같이 용기에 시액을 저장하는 단계로 대체한 것을 제외하고는, 전체 규소 측정을 위한 시행 방식과 동일한 방식으로 행해진다. 전체 Si 농도는 시액 내 Si ppb로 보고되었다.
평균 용해율을 구하기 위한 시행 방식
평균 용해율은 다음과 같이 구할 수 있다. 전체 규소 측정치가 공지되어 있는 일련의 시험용 용기에, 상기‘전체 규소량을 측정하기 위한 시행 방식’에서 바이얼에 KOH 용액을 채우는 것과 유사한 방식으로, 원하는 시액 (시액은 본 실시예들에서 이용되는 바와 같이 생리적으로 비활성인 시액이거나, 또는 제약 패키지를 형성하기 위한 용기 내에 저장하고자 하는, 생리적으로 활성인 제제일 수 있음)을 채웠다. 시액을 각각의 용기에 여러 상이한 양의 시간 동안 저장한 다음, 각 저장 시간에 대한 시액 내 Si 농도 (단위: ppb)를 분석하였다. 각 저장 시간과 Si 농도에 대한 선도를 작성하였다. 이들 선도를 연구하여, 기울기가 가장 가파른, 실질적으로 직선 형태를 나타내는 포인트들의 시리즈를 구하였다.
용해량 (Si ppb) 대 경과일수의 선도를 보면 기울기는 시간에 따라 감소한다. Si 코팅 혹은 층이 시액에 의해 완전히 분해되었기 때문에 용해율이 안정화되지 않는 것으로 이해된다.
tPC194 시험 데이터와 관련하여, 각 실험 선도의 첫 번째 다섯 데이터 지점에 대응하는 선형 선도를 구하기 위해 최소 자승 선형 회귀 프로그램을 이용하여 용해율 대 시간 데이터의 선형 선도를 작성하였다. 시간 단위 (unit of time) 당 시액에 용해되는 Si ppb를 측정하여, 각 선형 선도의 기울기를 구하고, 이러한 기울기는 시험에 적용가능한 평균 용해율을 나타내는 것임을 보고하였다.
유효기간 산출값을 구하기 위한 시행 방식
하기 실시예들에 보고된 유효시간 산출값은, 각각 상기 ‘전체 규소량을 측정하기 위한 시행 방식’과 ‘평균 용해율을 구하기 위한 시행 방식’에 기술된 바와 같이 구해진 전체 규소 측정량과 평균 용해율을 외삽법으로 구하였다. SiOxCy 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅 혹은 층은 명시된 저장 조건하에 완전히 분리될 때까지 평균 용해율로 분리되는 것으로 가정하였다. 따라서, 용기에 대한 전체 규소량 측정치를 용해율로 나누면, 시액이 SiOxCy 코팅 혹은 층을 완전히 용해시키는데 필요한 시간이 도출된다. 이 시간을 유효기간 산출값으로 보고하였다. 상업용 유효기간 산출치와 다르게, 안전 계수는 전혀 계산하지 않았다. 대신, 유효기간 산출값은 장애 (고장) 상태가 발생하기까지의 시간을 산출한 값이다.
Si ppb 대 시간 (hours)에 대한 선도의 기울기가 시간에 따라 감소하기 때문에 상대적으로 긴 유효기간 산출값에 대한 상대적으로 짧은 측정 시간의 외삽법은 실제로 실현가능한 유효기간 산출값을 과소평가하는 경향이 있는 “최악 케이스”인 것으로 여겨진다.
용액 저장 후의 차단 향상 인수 (BIF)를 측정하기 위한 시행 방식
본 시행 방식은 유체 저장 이후 PECVD 코팅 혹은 층 또는 PECVD 세트의 차단 향상 인수 (BIF)를 측정하기 위한 임의의 구현예에서 이용될 수 있다.
당해 기술분야에서 흔히 “5 mL 바이얼”로 지칭되는 환형 올리펜 중합체 (COP) 바이얼 (단, 본 바이얼의 내부 전체 용적이 더 큼)을 동일하게 블로우 성형으로 다수 개 형성하여 제공하였다. 본 경우에 사용되는 바이얼들은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)으로 둘러싸인 대체로 원통형의 내부공간을 가지며, 내부공간의 내경이 줄어들면서 바이얼 상부에는 짧은 목 (neck)이 형성된다. 벽의 상부에는 크림프를 수용하기 위한 플랜지가 마련되어 있다. 바이얼의 치수는 다음과 같다: 전체 높이 40 mm, 대체로 원통형의 내부 표면의 내경 21 mm, 및 대체로 원통형의 내부 표면을 형성하는 벽의 외경 22 mm. 플랜지의 내경은 12.6 mm이다.
바이얼은 다수의 시험용 용기 및 대조군 용기로 나누었다. 시험용 용기에는 BIF에 대한 시험 대상 PECVD 세트를 제공하였다. 대조군 용기에는 시험 대상 PECVD를 제공하지 않았다.
특정 조성을 가진 1종 이상의 시험용 유체를 사용하였다. 본 실시예들에서는 상기 시행 방식과 함께, 상이한 ph값을 가진 여러 시험용 유체를 사용하였다.
pH 8 인산염/Tween 시험용 유체로는, 미국약전 (USP) 주사용수에 희석하고, 농축 질산으로 pH를 8에 조절한, 0.2 중량% 폴리소르베이트-80 계면활성제 및 20 mM 인산염-함유 50 mmol 인산칼륨 버퍼를 사용하였다 (폴리소르베이트-80은 델러웨어주 Wilmington에 소재한 Uniqema Americas LLC에서 예컨대 Tween®-80으로 입수가능한 제약의 흔한 성분이며, 규소 분해를 촉진시키는 것으로 알려져 있다).
pH 7.4 더블 인산염 시험용 유체로는, 대략 600 mOsm/kg으로 제공된 pH 7.4의 DS (double strength) 인산염 버퍼 식염수를 사용하였다.
pH 7 WFI 시험용 유체로는, pH 7.0의 미국약전 (USP) 주사용수를 사용하였다. 주사용수는 pH 5 내지 7로 미국약전 사양에 부합되지만, 본 시험용 유체는 pH 7을 갖도록 더 구체적으로 명시되였다.
pH 3.5 시트르산염 시험용 유체로는, 20 mM 시트르산염으로 버퍼된 WFI를 사용하였다.
사용되는 시험용 유체를 시험용 바이얼 및 대조군 바이얼에 넣었다. 이들 바이얼에 시험용 유체를 (헤드공간이 없도록) 가득 채운 다음, 뚜껑을 닫고, 클림핑한 다음, 지정된 온도에서 지정된 시간 동안 저장하였다. 본 시행 방식을 위한 저장 시간은 3개월이고, 상기 지정된 저장 온도는 25℃이다.
저장 시간이 경과된 후, 바이얼의 뚜껑을 열고, 시험용 유체를 시험용 바이얼 및 대조군 바이얼에서 쏟아 내었다. 산소 투과율을 시험하기 위해, 이들 바이얼에 질소를 대기압에서 충전시켜 준비하였다. 이는 질소 가스로 충전된 글로브 박스 안에 개방 상태의 바이얼을 넣고, 어느 정도의 시간을 허용하여 산소가 빠져 나가고 질소로 대체되도록 한 다음, 바이얼의 뚜껑을 닫았다. 그런 후에는, 질소로 충전된 이들 바이얼을 대기 외부 기압하에 20℃에서 대기 공기 중에 저장하였다.
차단 향상 인수 (BIF)는 앞서 저장된 용기 내용물을 분석하여 산소 함량을 구하고, 용기 내부에서 발견되는 산소의 양을 1일 패키지당 산소 가스의 입방 센티미터로 표현하는 방식으로 측정한다. 그런 후에는 PECVD 세트를 포함한 시험 용기들의 OTR과 PECVD 세트를 전혀 포함하지 않은 대조군 용기들의 OTR 사이의 비를 구한다. 예를 들어, PECVD 세트를 갖추지 않은 패키지로의 OTR이 PECVD 세트를 갖춘 패키지로의 OTR의 3배라면, PECVD 세트의 BIF는 3이다.
SEM 과정
SEM 샘플 제조: 각각의 주사기 샘플을 (내부, 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 노출하기 위해) 길이 방향을 따라 반으로 절단하였다. 주사기 (Luer end)의 상부를 절단하여 샘플을 더 작게 만들었다.
전도성 흑연 접착제를 사용하여 샘플을 샘플 지지체 상에 장착시킨 다음, Denton Desk IV SEM 샘플 제조 시스템에 넣고, 주사기의 내부 또는 대체로 원통형의 내부 표면 (16) 상에 얇은 (대략 50 Å) 금 (gold) 층을 스퍼터링하였다. 이러한 금 층은 측정시 표면의 전하를 제거하는데 필요하다.
스퍼터링 시스템에서 분리한 샘플을 Jeol JSM 6390 SEM (주사전자현미경)의 샘플단에 장착하였다. 샘플을 샘플실 (sample compartment) 내에 적어도 1 x 10-6 Torr까지 펌핑처리하였다. 일단 샘플이 요구되는 진공 수준에 이르면, 슬릿 밸브를 개방하고 샘플을 분석 스테이션 내부로 이동시켰다.
높지 않은 분해능 (coarse resolution)으로 샘플을 먼저 이미지 처리한 다음, 더 높은 배율의 이미지들을 축적하였다.
AFM (원자력 현미경 기법) 과정
NanoScope III Dimension 3000 기기 (Digital Instruments, 미국 캘리포니아주 산타바바라에 소재함)를 이용하여 AFM 이미지들을 수거하였다. 본 기기를 NIST 추적가능 표준에 맞추어 보정하였다. 식각된 규소 주사 프로브 현미경 기법 (SPM) 팁 (tip)을 사용하였다. 자동-플래트닝 (auto-flattening), 평면 피팅 (plane fitting), 또는 회선 (convolution)을 이용한 이미지 처리 과정을 이용하였다. 10 μm x 10 μm 영역을 이미지화하였다. 조도 분석을 한 후, (1) 제곱 평균 제곱근, RMS; (2) 평균 조도, Ra; 및 (3) 최대 높이 (피크 대 밸리), Rmax (이들 모두는 nm 단위로 측정됨) (표 5 참조)로 표시하였다. 조도 분석을 위해, 각 샘플을 상기 10 μm x 10 μm 영역 위로 이미지 처리한 다음, 분석자는 10 μm x 10 μm 이미지들 내 특징점들을 가로지르는 3개의 횡단면을 선택하였다. 이들 특징점의 수직 방향 깊이를 횡단면 도구를 사용하여 측정하였다. 각각의 횡단면에 대해, 제곱 평균 제곱근 (RMS)을 나노미터 단위로 보고하였다.
10 μm x 10 μm 이미지들에 대한 추가 분석을 수행할 수 있다. 이 분석을 위해, 각 이미지로부터 3개의 횡단면을 추출하였다. 분석자는 이들 이미지 내 특징점들을 가로지르는 위치의 횡단면들을 선택하였다. 이들 특징점의 수직 방향 깊이를 횡단면 도구를 사용하여 측정하였다.
Digital Instruments Nanoscope III AFM/STM을 이용하여, 표면들의 3차원 그림을 획득한 후 디지털 포맷으로 저장하였다. 이들 표면을 다양한 방식으로 분석할 수 있다.
Nanoscope III 소프트웨어로 임의의 AFM 또는 STM 이미지의 조도를 분석할 수 있다. 이러한 분석의 결과물은 선택된 이미지를 평면도로 재생하는 단일 페이지이다. 상기 이미지의 우측 상부는 차단대역 (stopband) (이를 통과하는 X를 가진 박스)에 의해 제외된 모든 영역들이 빠진 (minus) 전체 이미지에 대해 산출된 특성들을 열거하는 “이미지 통계치” 박스이다. 상기 이미지 중 하나의 선택된 부분에 대해 유사한 추가 통계치들을 산출할 수 있으며, 이들을 해당 페이지의 우측 하부에 있는 “박스 통계치”에 열거하였다. 이하, 상기 통계치들에 대한 기재 및 설명을 제공한다.
이미지 통계치:
Z 범위 (Rр): 이미지 내에서 가장 높은 지점과 가장 낮은 지점 간의 차이. 이 값은 이미지의 평면 내 경사도에 대해 수정되지 않으므로, 데이터를 평면 피팅 또는 플래트닝 처리하여 그 값을 변경시킬 수 있다.
평균: 이미지 처리된 영역 내 모든 Z 값들의 평균. 이 값은 이미지의 평면 내 경사도에 대해 수정되지 않으므로, 데이터를 평면 피팅 또는 플래트닝 처리하여 그 값을 변경시킬 수 있다.
RMS (Rq): 이는 이미지 내 Z 값들 (또는 RMS 조도)의 표준편차이다. 하기 공식에 따라 산출된다:
Rq= {Σ(Z1-Zavg)2/N}
식에서, Zavg는 이미지 내의 평균 Z 값이고; Z1은 Z의 현재값이고; N은 이미지 내 포인트들의 개수이다. 이 값은 이미지의 평면 내 경사도에 대해 수정되지 않으므로, 데이터를 평면 피팅 또는 플래트닝 처리하여 그 값을 변경시킬 수 있다.
평균 조도(Ra): 이는 중앙평면을 기준으로 한 표면의 평균값으로서, 하기 공식을 이용하여 산출된다:
Ra=[1/(LxLy)]∫oLy∫oLx{f(x,y)}dxdy
식에서 f(x,y)는 중앙 평면 (center plane)을 기준으로 한 표면이며, Lx 및 Ly는 표면의 치수들이다.
최대 높이 (Rmax): 이는 평균 평면 (mean plane)을 기준으로 표면의 최고 지점과 최저 지점 사이의 높이 차이이다.
표면적: (선택적 산출): 이미지 처리된 영역의 3차원 표면의 면적이다. 이는 해당 이미지를 관통하는 3개의 인접 데이터 포인트로 형성된 삼각형들의 면적의 합계를 구함으로써 산출된다.
표면적 diff: (선택적 산출) 표면적이 이미지 처리된 영역을 초과하는 양이다. 이는 백분율로 표현되며, 하기 공식에 따라 산출된다:
표면적 diff = 100[(표면적/S12-1]
식에서 S1은 차단대역에 의해 제외된 모든 영역들이 빠진 주사 영역의 길이 (및 폭)이다.
중앙 평면: 평균 평면에 평행한 편평한 면. 중앙 평면 위와 아래의 이미지 표면에 의해 둘러싸인 부피들은 동일한다.
평균 평면: 이미지 데이터는 이러한 상기 편평한 면에 대해 최소 분산을 가진다. 이는 Z 데이터에 대한 일차 최소 제곱 피팅법으로 얻는다.
실시예
비교 실시예 1 - pH-보호 코팅 혹은 층에 대한 두께 프로파일
스택형 (stacked) 주사바늘과, 내경 6.3 mm, 내부 길이 54 mm, 내경과 의료용 배럴 길이 사이의 종횡비 8.6인 1 mL 긴 주사기의 벽의 표면 (16)에 pH 보호 코팅 혹은 층 (예컨대, 34)을 도포하였다. 이렇게 주사바늘이 적층되어 있는 1 mL 긴 주사기를, 달리 명시되지 않는 한 각각의 하기 실시예에서 사용하였다. 도 26에 나타낸 90도 천공 패턴이 형성된 가스 입구 및 내부 전극을 사용하였다. 외부 전극으로는 고체 금속성 관을 사용하였다. 30 Watts의 RF 에너지, 2 sccm 유량의 OMCTS를 전구체로, 20 sccm 유량의 아르곤을 희석제로, 0.5 sccm 유량의 산소 가스를 산화 가스로, 연속 플라즈마 여기 시간 10초를 사용하고, 전술된 시행 방식을 일반적으로 따랐다. 본 실시예에서는 자석을 전혀 사용하지 않았다.
의료용 배럴의 원통형 부분 상의 위치에 따른 코팅 혹은 층 두께의 선도를 도 30에 제공하였다. 이에 작성된 선도에 따르면, 주사기의 원주 둘레로 약 50도에서 매우 두꺼운 증착 영역이 보였고, 약 220 내지 300도에서는 매우 낮은 증착 두께 영역들이 측정되었으며, 270 내지 800도 사이의 주사기 표면의 전체 높이까지는 증착 두께에 단계적 차이가 있었다. 본 시험 동안 획득된 통계적 데이터는 아래와 같다:
Figure 112015063276666-pct00011
Figure 112015063276666-pct00012
위의 표는 두께의 표준편차가 306 nm, 평균 두께가 385 nm, 평균 두께에 대한 (하나의) 표준편차의 비가 0.79임을 보여 준다. 이러한 높은 표준편차와 높은 비는 하기 실시예들에 비해 균일하지 않은 코팅 혹은 층을 나타낸다. 도 30에 예시된 두께 범위는 ≤50 nm 내지 >1000 nm이다.
실시예 2 - pH-보호 코팅 혹은 층에 대한 두께 프로파일
1 mL 긴 주사기의 벽의 표면 (16)에 pH 보호 코팅 혹은 층 (예컨대, 34)을 도포하였다. 도 27에 나타낸 120도 삼각형 천공 패턴이 형성된 가스 입구 및 내부 전극을 사용하였다. 20 Watts의 RF 에너지, 2 sccm 유량의 OMCTS를 전구체로, 20 sccm 유량의 아르곤을 희석제로, 0.5 sccm 유량의 산소 가스를 산화 가스로, 연속 플라즈마 여기 시간 5초를 사용하고, 전술된 시행 방식을 일반적으로 따랐다. 와이어 메쉬 외부 전극의 경우처럼, 도 4 내지 도 5에 일반적으로 도시한 바와 같이, 세라믹 자석을 이용한 고정 사중극 자석 어레이를 사용하였다.
상기 코팅 또는 층은 표준 0.1 M KOH에 용해되지 않았다. 의료용 배럴의 원통형 부분 상의 위치에 따른 코팅 혹은 층 두께의 선도를 도 31에 제공하였다. 이에 작성된 선도에 따르면, 상기 코팅 혹은 층과, 바람직하게는 용해 현상에 더 내성이 강한 코팅 또는 층이 보다 균일하게 증착되었으며, 주사기의 원주 둘레로 약 80도, 200도, 및 320도에, 주사기 표면의 높이를 따라 15 mm, 25 mm 및 40 mm에 해당되는 더 두꺼운 증착 영역들이 격리되어 있는 것으로 나타났다. 이러한 불연속적 부분들은 가스 입구에 형성된 천공 패턴으로 인한 것으로 여겨진다. 본 시험 동안 획득된 통계적 데이터는 아래와 같다:
Figure 112015063276666-pct00013
Figure 112015063276666-pct00014
위의 표는 두께의 표준편차가 161 nm, 평균 두께가 369 nm (실시예 1과 비슷함), 평균 두께에 대한 (하나의) 표준편차의 비가 0.44임을 보여 준다. 이렇게 표준편차와 비가 훨씬 더 낮다는 것은 실시예 1에 비해 훨씬 더 균일한 코팅 또는 층을 나타내는 것으로, 이는 사중극 자석들을 사용한 덕분이다. 도 31 에 예시된 두께 범위는 ≤100 nm 내지 >1000 nm이다.
실시예 3 - pH-보호 코팅 혹은 층에 대한 두께 프로파일
1 mL 긴 주사기의 벽의 표면 (16)에 pH 보호 코팅 혹은 층 (예컨대, 34)을 도포하였다. 도 28에 나타낸 45도 또는 나선형 천공 패턴이 형성된 가스 입구 및 내부 전극을 사용하였다. 20 Watts의 RF 에너지, 2 sccm 유량의 OMCTS를 전구체로, 20 sccm 유량의 아르곤을 희석제로, 0.5 sccm 유량의 산소 가스를 산화 가스로, 연속 플라즈마 여기 시간 10초를 사용하고, 전술된 시행 방식을 일반적으로 따랐다. 와이어 메쉬 외부 전극의 경우처럼, 도 4 내지 도 5에 일반적으로 도시한 바와 같이, 네오디뮴-철-붕소 (NdFeB 또는 네오디뮴) 자석을 이용한 고정 사중극 자석 어레이를 사용하였다.
의료용 배럴의 원통형 부분 상의 위치에 따른 코팅 혹은 층 두께의 선도를 도 32에 제공하였다. 이에 작성된 선도에 따르면, 상기 코팅 혹은 층과, 바람직하게는 용해 현상에 더 내성이 강한 코팅 또는 층이 보다 균일하게 증착되었으며, 주사기의 원주 둘레로 약 0도 내지 180도에 높이 방향 전체에 걸쳐 더 두꺼운 증착 영역들이 격리되어 있는 것으로 나타났다. 이러한 두께 변화의 이유가 알려져 있지는 않지만, 실시예 4와 비교하였을 때 상기 변화는 사중극 자석의 북극을 마주하는 영역의 증착 두께와 남극을 마주하는 영역의 증착 두께 간의 차이로 인한 결과일 것임을 제시한다. 본 시험 동안 획득된 통계적 데이터는 아래와 같다:
Figure 112015063276666-pct00015
Figure 112015063276666-pct00016
위의 표는 두께의 표준편차가 233 nm, 평균 두께는 이전 실시예들보다 훨씬 더 두꺼운 559 nm, 평균 두께에 대한 (하나의) 표준편차의 비가 0.42임을 보여 준다. 이러한 높은 표준편차 비는 실시예 2와 유사하였다. 도 32에 예시된 두께 범위는 ≤100 nm 내지 >1000 nm이다.
실시예 4 - pH-보호 코팅 혹은 층에 대한 두께 프로파일
1 mL 긴 주사기의 벽의 표면 (16)에 pH 보호 코팅 혹은 층 (예컨대, 34)을 도포하였다. 도 28에 나타낸 45도 또는 나선형 천공 패턴이 형성된 가스 입구 및 내부 전극을 사용하였다. 20 Watts의 RF 에너지, 2 sccm 유량의 OMCTS를 전구체로, 20 sccm 유량의 아르곤을 희석제로, 0.5 sccm 유량의 산소 가스를 산화 가스로, 연속 플라즈마 여기 시간 10초를 사용하고, 전술된 시행 방식을 일반적으로 따랐다. 실시예 3에서와 동일한 사중극 자석 어레이와 와이어 메쉬 외부 전극을 사용하되, 증착 공정 동안 사중극 자석 어레이를 그 축에 대해 회전시켰다.
의료용 배럴의 원통형 부분 상의 위치에 따른 코팅 혹은 층 두께의 선도를 도 33에 제공하였다. 이에 작성된 선도에 따르면, 이전 실시예들보다 코팅 혹은 층이 훨씬 더 균일하게 증착되었으며, 원주 둘레의 증착 두께에서의 변화도 더 적었고, 높이 방향 전체에 걸친 증착 두께에서도 상대적으로 차이가 적었다. 본 시험 동안 획득된 통계적 데이터는 아래와 같다:
Figure 112015063276666-pct00017
Figure 112015063276666-pct00018
위의 표는 두께의 표준편차가 79 nm, 평균 두께는 367 nm, 평균 두께에 대한 (하나의) 표준편차의 비가 0.22임을 보여 준다. 이러한 높은 표준편차 비는 실시예 1 내지 3에서 보다 훨씬 적으며, 이는 훨씬 더 균질한 코팅을 나타낸다. 도 33에 예시된 두께 범위는 ≤100 nm 내지 ≤350 nm이다.
실시예 5 - pH-보호 코팅 혹은 층에 대한 두께 프로파일
1 mL 긴 주사기의 벽의 표면 (16)에 pH 보호 코팅 혹은 층 (예컨대, 34)을 도포하였다. 도 28에 나타낸 45도 또는 나선형 천공 패턴이 형성된 가스 입구 및 내부 전극을 사용하였다. 20 Watts의 RF 에너지, 2 sccm 유량의 OMCTS를 전구체로, 20 sccm 유량의 아르곤을 희석제로, 0.5 sccm 유량의 산소 가스를 산화 가스로, 연속 플라즈마 여기 시간 10초를 사용하고, 전술된 시행 방식을 일반적으로 따랐다. 두 다중극 NdFeB 링 자석들의 스택을 자석 어레이로 사용하고, 고체 관형 전극을 사용하였다. 증착 공정 동안 자석 어레이는 고정된 상태였다.
의료용 배럴의 원통형 부분 상의 위치에 따른 코팅 혹은 층 두께의 선도를 도 34에 제공하였다. 본 선도는 이전 실시예 1보다 코팅 혹은 층이 더 균일하게 증착되었음을 나타낸다. 본 시험 동안 획득된 통계적 데이터는 아래와 같다:
Figure 112015063276666-pct00019
Figure 112015063276666-pct00020
위의 표는 두께의 표준편차가 122 nm, 평균 두께는 200 nm, 평균 두께에 대한 (하나의) 표준편차의 비가 0.61임을 보여 준다. 이러한 결과는 최저 높이와 0 내지 50도의 각도에서 증착 제로로 측정된 스팟에 의해 비스듬해진 (skewed) 것으로 보인다. 도 34에 예시된 두께 범위는 ≤100 nm 내지 ≤550 nm이다.
실시예 6 - 배리어 코팅 혹은 층에 대한 두께 프로파일
1 mL 긴 주사기의 벽의 표면 (16)에 SiOx 배리어 코팅 혹은 층 (예컨대, 30)을 도포하였다. 도 28에 나타낸 45도 또는 나선형 천공 패턴이 형성된 가스 입구 및 내부 전극을 사용하였다. 35 Watts의 RF 에너지, 10 sccm 유량의 HMDSO를 전구체로, 25 sccm 유량의 산소 가스를 산화 가스로, 3회로 적용된 연속 플라즈마 여기 시간 10초 (전체 여기 시간 30초) 사용하되, 희석제는 전혀 사용하지 않고, 전술된 시행 방식을 일반적으로 따랐다. 이전 실시예들의 NdFeB 사중극자를 자석 어레이로 사용하고, 메쉬 전극을 사용하였다. 증착 공정 동안 자석 어레이는 고정된 상태였다.
의료용 배럴의 원통형 부분 상의 위치에 따른 코팅 혹은 층 두께의 선도를 도 35에 제공하였다. 본 선도는 이전 비교 실시예 1보다 코팅 혹은 층이 훨씬 더 균일하게 증착되었음을 나타낸다. 본 시험 동안 획득된 통계적 데이터는 아래와 같다:
Figure 112015063276666-pct00021
Figure 112015063276666-pct00022
위의 표는 두께의 표준편차가 123 nm, 평균 두께는 297 nm, 평균 두께에 대한 (하나의) 표준편차의 비가 0.41임을 보여 준다. 배리어 코팅 혹은 층으로서의 상기 코팅 혹은 층의 가치를 가리키는, 상기 코팅 혹은 층의 차단 향상 인수는 4.5인 것으로 밝혀졌다. 도 35에 예시된 두께 범위는 ≤200 nm 내지 ≤700 nm이다.
실시예 7 내지 10 - 윤활성 코팅 혹은 층에 대한 두께 프로파일
본 실시예들은 통상 0.4 내지 1 mL 범위의 충전 부피를 갖는 1 mL 긴 주사기 상에 윤활성 코팅 혹은 층을 제공하기 위한 다양한 방법을 시험하기 위해 수행되었다. 이들 윤활성 코팅 혹은 층은 의료용 배럴의 전방측 (피하 주사바늘에 가까움)에서보다 의료용 배럴의 후방측 가까이에서 더 큰 평균 두께를 가졌다.
피하 주사바늘과 뚜껑이 제자리에 구비된 다수의 1 mL 의료용 배럴에, 도 2와 도 6에 전반적으로 예시된 바와 같은 PECVD 장치를 이용하여 윤활성 코팅 혹은 층을 도포하되, 실시예 7 내지 도 9에서는 자석 어레이 (834) 또는 자석들 (820)을 전혀 사용하지 않았으며, 실시예 10에서는 링 자석으로 대체하였다. 각 예에서 사용된 내부 전극 (108)은 가스 전달 포트 (110)가 의료용 배럴의 후단부 (32)에 배치되어 있는 (도 61, 도 65 및 도 69의 코팅 혹은 층 맵의 경우에는 y축 상으로 0 mm, 도 63, 도 64 및 도 68의 선도의 경우에는 x 축에서 0 mm에 해당됨) 1/8 인치 (3 mm) 황동 (brass) 관 이었다. 각 예에서 사용된 외부 전극 (160)은 슬릿들이 형성된 원통형 전극이었다. 전구체로서 OMCTS를 사용하였으며, 기화기 및 가열 테이프를 사용하여 OMCTS를 기화시켰다. 그 밖의 증착 조건들을 표 11에 나타내었다.
Figure 112015063276666-pct00023
표 11에 나타낸 바와 같이, 각 주사기에 대해 플라즈마를 두 번 점화시켰다. 플라즈마의 첫 번째 점화는, 균질한 조성을 보장하기 위해, 반응물질들의 흐름이 시작된 후 15초 지연시켰고, 그런 후에는 비교적 높은 전력 수준 (각 경우에 50 W)에서 1초 동안 점화시켜, 윤활성 코팅 또는 층의 접착을 촉진하였다. 플라즈마의 두 번째 점화는 3초 지연시킴으로써, 첫 번째 점화로부터의 반응 생성물이 제거되는 시간을 허용하고, 상기 표시된 더 낮은 전력 수준에서 플라즈마를 15 내지 30초 동안 점화시켰다. 이러한 시험 결과를 도 61 내지 도 72에 나타내었으며, 이하 설명하기로 한다.
실시예 7의 결과를 도 61 내지 도 64에 나타내었다. 도 61은 코팅 혹은 층 두께 맵핑을 위한 Filmetrics 시행 방식에 기재된 바와 같은 Filmetrics 분석에 의해 생성된, 의료용 배럴 내, 코팅 혹은 층의 두께 대 축방향 위치 (y축)와 원주방향 위치 (x축)의 맵이다. 도 62 내지 도 63은 의료용 배럴을 따른 방향의 세 위치에서의 코팅 혹은 층의 평균 두께를 나타낸다 (본 명세서에 정의된 바와 같은 의료용 배럴의 제1, 제2 및 제3 위치에 대략적으로 대응되지만, 반드시 정확하게 대응되지는 않는다). 예시된 바와 같이, 도 62의 제1 위치에서의 평균 윤활성 코팅 혹은 층 두께는 46 ± 5 nm였고, 도 62의 2 위치에서의 평균 두께는 109 ± 44 nm였으며, 주사기의 저부에 가장 가까운 위치인, 도 62의 제3 위치에서의 평균 두께는 160 ± 75 nm였다.
도 64는 플런저를 계속 이동시키기 위한 힘인 Fm, 대 실시예 7의 의료용 배럴 내 위치에 대한 선도를 나타낸다. 이 선도는 다음과 같이 작성되었다. 플런저를 각 건조한 상태의 (유체가 첨가되지 않은) 주사기에 장착시켰다. 주사기를 1시간 동안 숙성시키고, 50 N 변환기 (transducer)를 이용한 Instron 기기 상에 다수 샘플들을 사용하여 시험을 수행하였다. 그 결과, 의료용 배럴의 길이 방향을 따른 여러 지점에서 구한 Fm은 상대적으로 균일하며, 적은 (약 5 nm 이하) 것으로 드러났다.
전술된 ‘평균 용해율을 측정하기 위한 시행 방식’을 실질적으로 이용하여, 규소 용해 시험을 수행하였다. 시험된 피복 주사기들의 주사바늘과 주사바늘 쉴드를 분리시킨 후, 각각의 주사기를 15 mL 폴리프로필렌 원심분리관에 넣고, 0.2% Tween 80 계면활성제가 함유된 75 mL의 pH 8.0 수산화칼륨 (KOH) 용액에 완전히 침지시켰다. 이어서, 상기 용액에 침전된 컨테이너들을 3일 동안 40℃에서 인큐베이터 처리하였다. 용해된 규소를 함유하고 있는 이들 컨테이너를 Perkin Elmer S10 자동샘플러가 구비된 ICP/OES Perkin Elmer Optima 7300 DV 분석기를 사용하여 분석하였다. 이에 따른 결과는 용해 시간 및 용해된 Si의 마이크로그램수 형태로 보고하였다. 이 경우, 용해 시간은 3일이었고, 용해된 Si는 10.2 마이크로그램이었다.
실시예 8에서는 주사기의 전단부 가까이에 직사각형 Kapton® 필름 조각을 삽입하고, 의료용 배럴의 앞 절반부를 마스크시켜 코팅 혹은 층이 의료용 배럴의 전방측 가까이에 증착되지 않도록 하였다. 이는 Kapton으로 덮힌 영역의 코팅 혹은 층을 차단시키기 위해 시행되었다. 본 시험은, 주사기 내 장애물을 이용하여 윤활성 코팅 혹은 층의 두께 프로파일을 조절할 수 있음을 나타낸다.
실시예 9에서는 윤활성 코팅 혹은 층의 제2 단에서의 전력 수준을 0.9 watts로 낮추었으며, 장애물을 사용하지 않았다. 실시예 9의 결과를 도 65 내지 도 68에 나타내었다. 도 65의 맵은, 주사기의 분주 단부 가까이의 제1 섹션부, 즉 약 24 mm로부터 의료용 배럴의 전방측까지와 심지어 방사방향으로의 영역에는 본질적으로 어떠한 코팅 혹은 층도 없음을 보여 준다. 도 66 내지 도 67은 주사기 상의 제2 위치에 있는 코팅 혹은 층 (30 nm 윤활성 코팅 혹은 층)의 SEM 이미지과, 주사기의 후방측 제3 위치에 있는 코팅 혹은 층 (71 nm 윤활성 코팅 혹은 층)의 SEM 이미지를 나타낸다. 제1 위치에서의 코팅 혹은 층의 두께는 약 0 nm이었다. 도 68은 실시예 9와 관련하여, 플런저를 삽입시킨 다음 주사기를 10분 동안 숙성시킨 후의 Fm에 대한 선도이다. 본 선도는, 마스크된 영역 내에서, 맵 상의 약 28 nm 이상의 위치로부터 Fm이 실질적으로 증가하였음을 보여 준다. 유사한 샘플을 대상으로, 용해된 Si를 분석한 결과, 용해 시간 하루가 지난 후 3.5 마이크로그램의 Si가 용해된 것으로 드러났다.
실시예 10에서는 축방향 극축 (즉, 극들이 환형면임)을 갖는 고정 링 자석을 주사기의 후단부에 인접하며 외부 전극 내부에 있는 의료용 배럴 둘레에 배치하였다. 주사기를 따른 방향으로 다양한 지점에서의 자기장 세기를 도 73에 나타내었다. 표 11에 기재된 조건들을 이용하여 윤활성 코팅 혹은 층을 도포하였으며, 도 69에 나타낸 바와 같이 맵핑하였다. 도 71과 도 72에 나타낸 바와 같이 필름 두께와 관련하여 SEM 이미지를 얻고, 도 70에 나타낸 바와 같이 Fm을 시험하였다. 도 69는 주사기의 제1 위치에서의 윤활성 코팅 혹은 층 두께가 약 0 nm임을 보여 줌으로써, 상기 위치에서는 코팅 혹은 층이 전혀 또는 본질적으로 전혀 없음을 가리킨다. 제2 위치에서의 윤활성 코팅 혹은 층 두께는 약 54 nm였고, 코팅 동안 자석에 인접하는 제3 위치에서의 윤활성 코팅 두께는 약 169 nm였다. Fm 대 플런저의 축방향 위치에 대한 선도인 도 70은, 주사기의 분주 단부 가까이의 본질적으로 비윤활 영역 내에서 Fm이 약간 증가하였을 뿐, 비교적 균일하고 낮은 (실시예 9에서보다 훨씬 낮음) Fm을 보여 준다. 이러한 본질적으로 비윤활 영역 내에서의 Fm 증가는 예를 들어 의료용 배럴의 내경을 증가시키고, PECVD 코팅 혹은 층을 증착시키는데 사용되는 전력을 낮춤으로써 해결될 수 있다. 규소 분해율 시험 결과, 4일 동안의 용해 시간이 지난 후 2.1 마이크로그램의 Si가 용해된 것으로 드러났으며, 이는 자석 없이 달성된 용해율 향상 효과이다. 자석의 극성을 반대로 바꾼 경우에도 유사한 결과를 얻을 수 있다.
실시예 10은, 자석이 존재하면 대부분의 코팅 혹은 층이 자석 부근으로 조종될 수 있음에 따라, 주사기 또는 다른 작업편의 축방향 길이를 따른 코팅 혹은 층의 두께를 자석을 사용하여 조절할 수 있다는 것을 보여준다. 향상된 Fm 균일성 및 향상된 용해율 결과들도 얻었다.
실시예 11 - 고정 축방향 자석
PECVD 공정을 이용하여, 1 mL 긴 주사기 상에 균일한 배리어 코팅 혹은 층을 증착시켰다. 사용된 PECVD 장치는 도 4 내지 도 5의 개략도와 대등하되, 도 49의 것과 유사한 자석 어셈블리를 사용하였다. 각 자석은 그의 북극이 어셈블리의 축을 따라 축 방향 자기장을 발생시키도록 배향되었다.
더 구체적으로, 자석 어셈블리 디자인은 8개의 컬럼으로 구성되었으며, 각각 3개의 N40 등급 네오디듐 (NdFeB) 바 자석을 주사기를 둘러싸는 8각형 구조로 배치하였다. 각 행에서 바 자석은 1 인치 x 1/8 인치 x ¼ 인치 (25 mm x 3 mm x 6 mm)였다 (전체 길이 3 인치, 76 mm). 내부면들의 간격 (즉, 자석들 간의 원통형 공간의 내경)은 7/8 인치 (22 mm)였다.각 자석의 표면의 자기장 세기는 4211 Gauss 였고, 각 자석의 풀 세기 (pull strength)는 2.5 lbs. (1.1 kg)였다.
본 실험들은, 주사기의 산소투과율을 낮추거나 차단 향상 인수 (BIF)를 높이기 위해 더 최적의 PECVD 공정 조건들을 정하도록 구성되었다. 본 공정을 이용하여, 각기 다른 공정 매개변수에서 각각의 주사기 상에 단일 산화규소 (SiOx) 코팅 혹은 층을 증착시켰다. 활용된 공정 매개변수들은 다음과 같다: 전구체로서 HMDSO 0.5 내지 5 sccm; 산소 10 내지 200 sccm; RF 전력 5 내지 100 Watts; 및 시간 1 to 30초.
이들 실험의 최상 결과를 도 12에 나타내었다. 결과는 (유체가 저장되지 않은, 피복된 상태의 주사기 상에서 측정된) 차단 향상 인수 (BIF)로 표시되었다.
Figure 112015063276666-pct00024
위 결과는 PECVD 공정을 향상시키기 위해 고정 자석을 사용하여 매우 작은 내경을 가진 의료용 배럴에 실질적인 차단 향상 인수를 제공할 수 있다는 것을 보여 준다. 이러한 향상은 축방향으로 연장되는 자기장의 존재 덕분에 SiOx 배리어 코팅 혹은 층의 도포 균일성이 향상된 것에 기인하는 것으로 이해된다.
실시예 12 - 5 mL 바이얼 차단 향상 인수 (BIF)
5 mL 바이얼을 사용하며, 전술된 ‘용액 저장 후 차단 향상 인수 (BIF)를 측정하기 위한 시행 방식’을 따랐다, 시험용 바이얼에 도포된 PECVD 세트는 하기를 순차적으로 포함하는 3층구조의 코팅 혹은 층이었다:
· COP 바이얼 벽 내부측 상에 형성되는, 접착 코팅 혹은 층과 동일한 코팅 혹은 층으로 언급되는 SiOxCy (x 및 y는 각각 1임) 타이 코팅 혹은 층, (x 및 y는 각각 1임):
· 타이 코팅 혹은 층에 인접하게 형성되는 SiOx (x는 2.2임) 배리어 코팅 혹은 층:
· 배리어 코팅 혹은 층에 인접하게, 바이얼의 내부공간을 직접 향하도록 형성되는, SiOxCy (x는 1.1이고, y는 각각 1임) pH 보호 코팅 혹은 층.
HMDSO 및 TMDSO를 사용하여 PECVD 세트를 바이얼에 도포시키기 위한 조건들을 표 13에 요약하였다. 표에서 W는 watt이고, sccm은 분당 표준 입방 센티미터이다. 본 PECVD 공정에서는 자석이 전혀 사용되지 않았다.
시험용 바이얼 상에 증착되는 세 PECVD 코팅 혹은 층의 두께와 균일성을 도 74와, 코팅 혹은 층 두께가 시험되는 바이얼 상의 위치들, 각 위치에서의 각각의 코팅 혹은 층의 두께 (단위: nm), 및 해당 코팅 혹은 층에 대해 표에 제공된 각 측정치의 표준편차 (“SD”) 및 평균 코팅 혹은 층 두께를 제시하는 표 14를 참조하여 나타내었다. 투과전자현미경 기법 (TEM)을 이용하여 각 바이얼 위치에서 세 측정치를 얻었다. 각 세트의 두께 데이터에 대해, 평균 코팅 혹은 층 두께에 대한 표준 편차의 비를 또한 산출하였다. 각각의 코팅 혹은 층을 위한 각각의 SD/평균 비는 pH 보호 코팅 혹은 층의 경우에는 0.29, 타이 또는 접착 코팅 혹은 층의 경우에는 0.34, 배리어 코팅 혹은 층의 경우에는 0.44 등으로 다양하였다.
전술된 ‘용액 저장 후 차단 향상 인수 (BIF)를 측정하기 위한 시행 방식’에 명시된 각각의 시험용 유체를 사용하여 3개월 차단 향상 인수를 도 15에 제공하였다.
이들 시험은 약 2:1의 종횡비 (내경 21 mm vs. 전체 길이 40 mm)와 21 mm 크기의 내경을 가진 10-mL 바이얼과 관련하여, 사용된 시험용 유체와 저장 온도에 따라, 3개월 저장 기간 후의 SD/평균 비는 0.29 내지 0.44 였고, 차단 향상 인수는 10 내지 31이었다. 이들 결과는 상업적으로 유용한 차단 향상 인수이다.
Figure 112015063276666-pct00025
Figure 112015063276666-pct00026
Figure 112015063276666-pct00027
가상적 실시예 13 - 1 mL 긴 주사기에 대한 BIF 결과의 외삽
실시예 1 내지 6과 실시예 11의 1 mL 긴 주사기 데이터와, 실시예 12의 10 mL 바이얼 데이터를 표 16에 정리하였다.
Figure 112015063276666-pct00028
표 16은 내부 전극과 재료 공급관을 사용하며, 내경이 매우 작고 (6.3 mm), 종횡비가 길며 (8.57), 1 mL 긴 주사기에 자석을 사용하였을 때, SiOxCy 또는 SiOx 코팅 혹은 층의 균일성이 현저하게 향상되었음을 나타낸다. 표준편차/평균 두께 비로 표현되는 균일성이 실시예 1의 경우 (자석을 사용하지 않음) 0.79 로부터 실시예 4의 경우 (회전식 사중극자 어레이) 0.22까지 향상되었으며, 이는 형전한 향상을 나타낸다.
자석을 사용하지 않은 상태에서, 10 mL 바이얼의 데이터는, 0.29 내지 0.44의 SD/두께 비 (더 적은 수의 데이터 포인트 상에서 상이한 방식으로 측정되었으므로, 표준편차가 증가하는 경향이 있음)와 더불어, (다른 실시예들에서 1 mL 긴 주사기의 자석-사용 PECVD와 비교하여) 유사한 높은 균일성, 및 3개월 배리어 향상 (예를 들면, 10 내지 31)을 나타낸다. 이러한 주사기 데이터와 바이얼 데이터의 비교로 두 가지가 증명된다.
첫째, 상기 주사기 데이터와 바이얼 데이터의 비교 결과는 자기 밀폐는 작은 내경, 큰 종횡비를 가진 내부 상에 수행되는 PECVD에 특히 유용하다는 것을 나타낸다. 더 큰 내경과 더 작은 종횡비를 갖는 부품들은 자석들이 없어도 대등한 성능을 제공할 수 있다.
둘째, 상기 주사기 데이터와 바이얼 데이터의 비교 결과는 더 균일한 코팅 혹은 층이 더 높은 차단 향상 인수 (BIF)를 제공함을 제시한다.
이러한 데이터에 근거하여, 이를 테면 자석들을 사용하여 비교적 균일한 PECVD 코팅 혹은 층 두께로 처리된 작은 내직경, 높은 종횡비의 의료용 배럴은 또한 제조된 시점과, 유체 조성물을 저장한 이후 모두에서, 더 높은 차단 향상 인수를 나타낼 수 있다.
매개변수들의 작용 범위 (조합예)
이하 첨부된 표들은 함께 유용한 매개변수들의 범위를 나타낸다.
매개변수 조합예1을 사용하기 위해, 제1 단계를 “제1 단계의 조합예 1 또는 2”표에 따라 수행한 다음, “단계 2의 조합예 1” 표에 표시된 지연 시간을 시행한 후, 단계 2를 “단계 2의 조합예 1” 표에 따라 수행한다.
매개변수 조합예2를 사용하기 위해, 제1 단계를 “제1 단계의 조합예 1 또는 2”표에 따라 수행한 다음, “단계 2의 조합예 2” 표에 표시된 지연 시간을 시행한 후, 단계 2를 “단계 2의 조합예 2” 표에 따라 수행한다.
조합예1 또는 2
제1 단계
Figure 112015063276666-pct00029
조합예1
제2 단계
Figure 112015063276666-pct00030
조합예2
제2 단계
Figure 112015063276666-pct00031
가청구범위 (PSEUDO CLAIMS)
하기 가청구범위는 “발명의 내용”의 일부로서, 본 발명의 대안적 구현예들을 나타낸다.
aaa. 의료용 배럴 또는 처리대상 표면을 가진 의료용 배럴에 대한 플라즈 개질 방법이며, 상기 방법은
· 의료용 배럴의 표면 또는 의료용 배럴을 플라즈마 개질하는데 효과적인 조건하에 플라즈마를 표면 내 또는 표면 가까이에 제공하는 단계; 및
· 플라즈마를 제공하는 시간 동안의 적어도 일부동안, 의료용 배럴의 표면에 대한 플라즈마 개질의 균일성, 밀도, 또는 둘 다를 향상시키는데 효과적인 위치, 배향 또는 자기장 세기를 갖는 자기장을 플라즈마 내 또는 플라즈마 가까이에 인가하는 단계
를 포함한다.
aaa1. 상기 가청구항 aaa에 따른 발명에 있어서, PECVD 처리 대상인 대체로 원통형의 내부 표면의 내경 및 길이의 종횡비는 2 내지 10이다.
aaa2. 상기 가청구항 aaa에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질은 배리어 코팅 혹은 층을 포함한 PECVD 세트를 도포하는 조작을 포함하며, 벽과 PECVD 세트의 산소 차단 향상 인수는 PECVD 세트를 갖지 않는 벽에 비해 5 내지 12이다.
aaa3. 상기 가청구항 aaa 또는 aaa2에 따른 발명에 있어서, PECVD 세트는, PECVD 세트를 갖지 않는 배럴에 비해, 25℃의 온도에서 3개월의 기간 동안 pH 7.0의 미국약전 주사용수와 접촉 상태로 보관된 후에도 5 이상의 산소 차단 향상 인수를 유지하는데 효과적이다.
aaa4. 상기 가청구항 aaa, aaa2 또는 aaa3에 따른 의료용 배럴에 있어서, PECVD 세트는, PECVD 세트를 갖지 않는 배럴에 비해, 25℃의 온도에서 3개월의 기간 동안 pH 7.0의 미국약전 주사용수와 접촉 상태로 보관된 후에도 31 이하의 산소 차단 향상 인수를 유지하는데 효과적이다.
aab. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 표면은 내부공간의 적어도 일 부분을 획정하는 대체로 원통형의 내부 표면 상에 있으며, 상기 표면의 내경은 선택적으로 4 내지 15 mm, 선택적으로 2 mm 이상, 선택적으로 4 mm 이상, 선택적으로 5 mm 이상, 선택적으로 6 mm 이상, 선택적으로 15 mm 이하, 선택적으로 12 mm 이하, 선택적으로 10 mm 이하, 선택적으로 9 mm 이하, 선택적으로 4 내지 15 mm, 선택적으로 5 내지 10 mm, 선택적으로 6 내지 10 mm이다.
aac. 상기 가청구항 aab에 따른 발명에 있어서, 자기장 인가 단계는 내부공간의 적어도 일 부분에 대한 플라즈마 분포의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시킨다.
aac1. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 벽과 PECVD 세트를 통한 내향 산소 투과율은 벽 외부측 대기압하, 20℃에서, 0.0012 내지 0.00048 cm3/패키지/일 (day)이다.
aad. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장 인가 단계는 표면의 적어도 일 부분을 따른 방향의 플라즈마 분포의 축방향 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시킨다.
aae. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마는 플라즈마 전자를 포함하며, 자기장은 내부공간 내 플라즈마 전자의 밀폐를 향상시키는데 효과적이다.
방법 자력에 대한 제한사항
aaf. 상기 가청구항 aaa 내지 aae 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어, 자기장은 1개의 자기장 발생기, 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 3개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 4개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 5개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 6개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 7개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 8개 이상의 자기장 발생기를 표면 가까이에 제공함으로써 인가하며, 각각의 자기장 발생기는 극축을 정의하는 북극과 남극을 가진다.
aag. 상기 가청구항 aaf에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개의 자기장 발생기, 대안으로는 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 모두의 극축은 표면의 축에 대체로 평행하다.
aah. 상기 가청구항 aaf 또는 aag에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 중2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 작동 위치에 있는 표면 둘레에 원주방향으로 분포된다.
aai. 상기 가청구항 aah에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기는 표면에 대해 축방향으로 연장되는 극축을 가진다.
aaj. 상기 가청구항 aai에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기는 PECVD 동안 계속 고정되어 있다.
aak. 상기 가청구항 aaf 내지 aah 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 중2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 인접한 자기장 발생기로부터 실질적으로 원주방향으로 등간격을 유지한다.
aal. 상기 가청구항 aaf 내지 aak 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개의 자기장 발생기, 자기장 발생기 중2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 플라즈마 처리 중 적어도 일부 동안, 표면에 대해 회전하거나, 표면이 자기장 발생기에 대해 회전하거나, 또는 둘 다이다.
aam. 상기 가청구항 aaf 내지 aal 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 적어도 1개의 자기장 발생기는 영구 자석이거나, 코일 6-9이거나, 1개 이상의 영구 자석과 1개 이상의 코일의 조합이다.
aan. 상기 가청구항 aaf 내지 aam 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 2개 이상의 자기장 발생기는 이격되어 있어 그 사이에 요홈이 획정되며, 상기 요홈의 내부에 의료용 배럴 표면의 적어도 일 부분이 위치된다.
aao. 상기 가청구항 aaf 내지 aan 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 적어도 1개의 자기장 발생기, 의료용 배럴 표면, 또는 둘 다는 의료용 배럴 표면의 원주에 대한 평균 자기장 세기의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키는데 효과적인 속도로 회전한다.
aap. 상기 가청구항 aaf 내지 aao 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 적어도 1개의 자기장 발생기, 자기장 발생기, 의료용 배럴 표면, 또는 둘 다는 의료용 배럴 표면의 원주에 대한 의료용 배럴 가열의 균일성을 향상시키거나, 세기를 줄이거나 또는 둘 다를 향상시키는데 효과적인 속도로 회전한다.
aaq. 상기 가청구항 aaf 내지 aap 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 의료용 배럴 표면의 축을 따라 시행되는 의료용 배럴 가열의 균일성을 향상시키는데 효과적인 속도로, 자기장 발생기 중 적어도 하나를 의료용 배럴 표면을 따라 축방향으로 평행이동시키는 단계, 또는 의료용 배럴을 자기장 발생기에 대해 평행이동시키는 단계, 또는 둘 다를 더 포함한다.
aar. 상기 가청구항 aaf 내지 aaq 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 중2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 모두가 대체로 원통형의 표면에 대해 축방향으로 적층된다.
aas. 상기 가청구항 aaf 내지 aar 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 5개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 6개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 7개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 모두가 서로로부터 축방향으로 이격된다.
aat. 상기 가청구항 aaf 내지 aas 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 5개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 6개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 7개 이상, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 모두가 서로 축방향으로 인접해 있다.
aau. 상기 가청구항 aaf 내지 aat 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기는 1개 이상의 코일을 표면 가까이에 배치하고, 코일을 통해 전류를 전도함으로써 제공된다.
aav. 상기 가청구항 aau에 따른 발명에 있어서, 상기 1개 이상의 코일은 솔레노이드 코일을 포함한다.
aaw. 상기 가청구항 aau에 따른 발명에 있어서, 상기 1개 이상의 코일은 중앙 개구와, 상기 중앙 개구를 통과하는 기하축을 가진 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)을 포함한다.
aax. 상기 가청구항 aaw에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)은 기하축과 적어도 대체로 평행하도록, 선택적으로는 표면의 축과 적어도 대체로 동일선상에 있도록 배향된다.
aay. 상기 가청구항 aaw 또는 aax에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 표면의 실질적으로 전체가 중앙 개구 내부에 배치되며, 대안으로는 표면의 실질적으로 전체가 대체로 환상의 코일 (8 또는 9) 중 2개 이상의 적층체의 중앙 개구 내부에 배치된다.
aaz. 상기 가청구항 aaw 내지 aay 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)은 2개 이상의 아크 (원호) 부분, 선택적으로는 4개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로는 6개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로는 8개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로 8개의 45° 아크 세그먼트을 가지며, 교번식 부분들이 반대 방향으로 권취된다.
aba. 상기 상기 가청구항 aaw 내지 aaz 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 환상의 코일의 단면은 실질적으로 원형이거나 실질적으로 직사각형이다.
abb. 상기 가청구항 aaf 내지 aba 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 적어도 1개의 자기장 발생기는 극축이 표면의 축과 적어도 대체로 평행하도록 배향된다.
abc. 상기 가청구항 aaf 내지 abc 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 적어도 1개의 자기장 발생기는 극축이 표면의 축과 적어도 대체로 동일선상에 있도록 배향된다.
abd. 상기 가청구항 aaf 내지abd 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기는 극축을 따라 연장되는 통로를 가지며, 표면 전체가 상기 통로 내부에 배치된다.
abe. 상기 가청구항 aaf 내지 abd 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기는 헬름홀츠 코일이다.
abf. 상기 가청구항 abe에 따른 발명에 있어서, 헬름홀츠 코일은 이격된 제1 및 제2 솔레노이드 코일을 포함하며, 그 사이에는 상기 방법이 진행되는 동안 플라즈마를 볼 수 있도록 하는 관측창을 제공하는 공간이 있다.
abg. 상기 가청구항 aaf 내지 abf 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기는 의료용 배럴 표면을 따라 가변적 (varing) 자기장 세기를 제공한다.
abh. 상기 가청구항 abg에 따른 발명에 있어서, 의료용 배럴 표면의 적어도 일 부분은 대체로 원통형이다.
abi. 상기 가청구항 abg 또는 abh에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 적어도 1개의 자기장 발생기와 의료용 배럴 표면 사이의 거리는 의료용 배럴 표면을 따라 가변적이다.
abj. 상기 가청구항 abg, abh, 또는 abi 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 의료용 배럴 표면을 따라 자기장 세기를 각기 달리하여 다양한 자기장 세기의 프로파일을 정의한다.
abk. 상기 가청구항 abj에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하지 않고 플라즈마를 제공하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 의료용 배럴 표면을 따라 의료용 배럴 표면에 대한 플라즈마 개질을 각기 달리하여, 다양한 플라즈마 개질의 프로파일을 정의한다.
abl. 상기 가청구항 abk에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기는 자기장 세기의 프로파일 변화가 플라즈마 개질의 변화를 상쇄 (counteract)시키는 경향을 나타내어, 의료용 배럴의 표면에 대한 플라즈마 개질의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키도록 구성된다.
abm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 플라즈마의 적어도 일부는 전자 병 내 의료용 배럴 가까이에 적어도 부분적으로 밀폐된다.
abn. 상기 가청구항 abm에 따른 발명에 있어서, 의료용 배럴은 의료용 배럴 및 주사바늘 어셈블리이며, 상기 어셈블리는 주사바늘 단부, 후단부 및 이들 단부 사이의 몸체부를 포함한다.
abo. 상기 가청구항 abn에 따른 발명에 있어서, 전자 병은 어셈블리의 몸체부의 적어도 일부에 또는 그 일부 가까이보다 어셈블리의 주사바늘 단부에 또는 그 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의된다.
abp. 상기 가청구항 abn 또는 abo에 따른 발명에 있어서, 전자 병은 어셈블리의 몸체부의 적어도 일부에 또는 그 일부 가까이보다 어셈블리의 후단부에 또는 그 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의된다.
abq. 상기 가청구항 abn, abo 또는 abp에 따른 발명에 있어서, 전자 병은 어셈블리의 몸체부의 적어도 일부에 또는 그 일부 가까이보다 주사바늘 단부와 어셈블리의 후단부에 또는 이들 단부 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의된다.
abr. 상기 가청구항 abm 내지 abq 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자 병은 어셈블리의 주사바늘 단부에 또는 그 가까이에 전자 거울을 제공하는 구조로 정의된다.
abs. 상기 가청구항 abr에 따른 발명에 있어서, 전자 병은 어셈블리의 후단부에 또는 그 가까이에 전자 거울을 제공하는 구조로 추가 정의된다.
abt. 상기 가청구항 abm에 따른 발명에 있어서, 의료용 배럴은 개방 단부, 폐쇄 단부 및 이들 단부 사이의 몸체부를 가진 바이얼이다.
abu. 상기 가청구항 abt에 따른 발명에 있어서, 전자병은 바이얼의 몸체부의 적어도 일부에 또는 그 일부 가까이보다 바이얼의 폐쇄 단부에 또는 그 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의된다.
abv. 상기 가청구항 abt 또는 abu에 따른 발명에 있어서, 전자병은 바이얼의 몸체부의 적어도 일부에 또는 그 일부 가까이보다 바이얼의 개방 단부에 또는 그 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의된다.
abw. 상기 가청구항 abt 내지 abv 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자병은 바이얼의 몸체부의 적어도 일부에 또는 그 일부 가까이보다 바이얼의 폐쇄 단부와 개방 단부에 또는 이들 단부 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의된다.
abx. 상기 가청구항 abt 내지 abw 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자병은 바이얼의 폐쇄 단부에 또는 그 가까이에 전자 거울을 제공하는 구조로 정의된다.
aby. 상기 가청구항 abt 내지 abx 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자병은 바이얼의 개방 단부에 또는 그 가까이에 전자 거울을 제공하는 구조로 추가 정의된다.
abz. 상기 가청구항 abt 내지 aby 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자 거울을 제공하는 상기 구조는 자기장 발생기의 적어도 일 부분을 포함한다.
aca. 상기 가청구항 abt 내지 abz 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자 거울을 제공하는 상기 구조는 강자성체 또는 강자성 물질을 포함한다.
acb. 상기 가청구항 abt 내지 aca 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자 거울을 제공하는 상기 구조는 자기장 발생기를 포함한다.
acc. 상기 가청구항 abt 내지 acb 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자 거울을 제공하는 상기 구조는 음으로 하전된 객체 (object) 또는 객체의 일부를 포함한다.
acd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부는 극축이 처리 대상 표면의 축에 대체로 평행하도록 배향된다.
ace. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부는 극축이 처리 대상 표면의 축을 중심으로 연장되도록 배향된다.
acf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부는 극축이 처리 대상 표면에 대해 대체로 방사면 (radial plane)으로 연장되도록 배향된다.
acg. 상기 가청구항 aaf 내지 acf 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 자기장 발생기 모두 바 자석이다.
ach. 상기 가청구항 aaf 내지 acg 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 자기장 발생기 모두 의료용 배럴 표면을 수용하기 위한 크기의 중심 개구부 (central aperture)를 가진 링 자석들이다.
aci. 상기 가청구항 ach에 따른 발명에 있어서, 상기 링 자석들 중 적어도 하나의 북극과 남극은 반대측 환형면이다.
acj. 상기 가청구항 aci에 따른 발명에 있어서, 자기장의 적어도 일부는
· 작동 위치에 있을 때 중앙 요홈 내에 의료용 배럴 표면을 수용하도록 구성된 적어도 하나의 내부 링 자석,
· 내부 링 자석들의 적층체 외부측에 축방향으로 정렬되며 하나의 링 자석 또는 하나의 바 자석을 포함하는 적어도 하나의 캡 자석
(상기 내부 링 자석들은 의료용 배럴 표면에 방사방향으로 인접하게 제1 세기의 자기장을 인가하며, 이는 의료용 배럴 표면에 축방향으로 인접하게 캡 자석에 의해 인가되는 자기장 세기보다 약함),
· 선택적으로, 내부 링 자석들의 적층체와 캡 자석 사이에 위치하는 1개 이상의 추가 자석
의 적층체에 의해 제공된다.
ack. 상기 가청구항 ach 내지 acj 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 링 자석들 중 적어도 하나의 극축은 링에 대한 원주이다.
acl. 상기 가청구항 ack에 따른 발명에 있어서, 상기 링 자석들 중 적어도 하나의 원주는 복수의 북극-남극 구역 (domain)을 포함한다.
acm. 상기 가청구항 aaf 내지 acl 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 4개 이상의 자기장 발생기 중 짝수개는 한 축에 대해 배치되어, 축방향으로 이격된 단부들 사이에 사중극자 또는 유사한 구조를 제공한다.
acn. 상기 가청구항 acm에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기는 사중극자 또는 유사한 구조를 제공하는 효과적 위치와, 자기장 발생기에 의해 사중극자 또는 유사한 구조가 제공되지 않는 비-기능적 위치 사이에서 상대적으로 이동가능하다.
aco. 상기 가청구항 acm 또는 acn에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 사중극자 및 의료용 배럴은 의료용 배럴 표면을 관통하는 축에 상대적으로 위치된다.
acp. 상기 가청구항 acm 내지 aco에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 사중극자는 의료용 배럴 표면의 적어도 일 부분에 또는 그 일 부분 가까이에 플라즈마를 적어도 부분적으로 분리하는데 효과적이다.
acq. 상기 가청구항 acm 내지 acp 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 이격된 단부들 중 적어도 하나에 또는 가까이에는 축방향 극축을 가진 자기장 발생기가 위치한다.
acr. 상기 가청구항 acg 내지 acq 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 이격된 단부들 둘 다에 또는 이들 가까이에는 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들이 위치한다.
acs. 상기 가청구항 acm 내지 acr 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 링 자석을 포함한다.
act. 상기 가청구항 acm 내지 acs 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 캡 자석을 포함한다.
acu. 상기 가청구항 acm 내지 act 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 바 자석을 포함한다.
방법 - PECVD 에너지/전극에 대한 제한사항
acv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 고주파 에너지를 사용하여 플라즈마를 발생시키는는 단계를 더 포함한다.
acw. 상기 가청구항 acv에 따른 발명에 있어서, 고주파 에너지는 외부 전극을 의료용 배럴 벽의 외부측에 제공하고, 내부 전극을 의료용 배럴의 내부공간 내부측에 적어도 부분적으로 제공한 다음, 이들 전극을 여기시킴으로써 발생된다.
acx. 상기 가청구항 acw에 따른 발명에 있어서, 외부 전극은 대체로 원통형이며, 표면은 외부 전극 내부에 배치된다.
acy. 상기 가청구항 acw 또는 acx에 따른 발명에 있어서, 외부 전극은 유공성 재료로 만들어진다.
acz. 상기 가청구항 acw 내지 acy에 따른 발명에 있어서, 외부 전극은 메쉬 재료로 만들어진다.
ada. 상기 가청구항 acw 또는 acx에 따른 발명에 있어서, 외부 전극은 연속성 재료로 만들어진다.
adb. 상기 가청구항 acw 내지 ada 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 내부 전극은 내부공간 속 축방향으로 연장된다.
adc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 의료용 배럴 마 개질은 화학기상증착을 포함한다.
add. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 의료용 배럴 표면에 대한 플라즈마 개질은 플라즈마 강화 화학기상증착 (PECVD)을 포함한다.
ade. 상기 가청구항 adc 또는 add에 따른 발명에 있어서, 내부 전극은 내부공간에 가스 재료를 공급하기 위한 재료 공급관을 포함한다.
adf. 상기 가청구항 ade에 따른 발명에 있어서, 재료 공급관은 내부공간 속에 배치되는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 가진다.
adg. 상기 가청구항 adf에 따른 발명에 있어서, 재료 공급관의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에는 내부공간에 가스 재료를 전달하기 위해 천공들이 마련되어 있다.
adh. 상기 가청구항 adg에 따른 발명에 있어서, 천공들은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 분포된다.
adi. 상기 가청구항 adg 또는 adh에 따른 발명에 있어서, 천공들은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 원주방향으로 분포된다.
adj. 상기 가청구항 adg 내지 adi에 따른 발명에 있어서, 천공들은 2개 이상의 천공들이 원주방향으로 이격된 시리즈로서 분포되며, 각 시리즈는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 이격된다.
adk. 상기 가청구항 adj에 따른 발명에 있어서, 천공들은 시리즈 당 2개의 천공이 정반대측에 있는, 원주방향으로 이격된 복수의 시리즈로서 분포되며, 각 시리즈는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 이격된다.
adl. 상기 가청구항 adk에 따른 발명에 있어서, 제1 시리즈의 정반대측 천공들은 인접한 제2 시리즈의 정반대측 천공들을 기준으로 대체로 원통형의 내부 표면 (16)상에서 원주방향으로 약 90도 변위된다.
adm. 상기 가청구항 adk에 따른 발명에 있어서, 제1 시리즈의 정반대측 천공들은 인접한 제2 시리즈의 정반대측 천공들을 기준으로 대체로 원통형의 내부 표면 (16)상에서 원주방향으로 약 45도 변위된다.
adn. 상기 가청구항 adl에 따른 발명에 있어서, 천공들은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 이격되어, 시리즈 당 적어도 3개의 천공이 120도 이격되는, 원주방향으로 이격된 복수의 시리즈로서 분포된다.
방법 의료용 배럴의 자체 진공 챔버로서의 용도
ado. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질은 부압 (subatmospheric pressure)에서 적어도 일부가 수행된다.
adp. 상기 가청구항 ado에 따른 발명에 있어서, 부압은 플라즈마 개질 수행시 적어도 일부 동안 표면에 또는 표면 가까이에서 내부공간을 적어도 부분적으로 진공처리함으로써 발생된다.
adq. 상기 가청구항 ado 또는 adp에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질 수행시 적어도 일부 동안 의료용 배럴의 외부는 대기압에 노출된다.
방법 재료에 대한 제한사항
adr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질 수행시 적어도 일부 동안 내부공간에 공급되는 재료는:
· 전구체;
· 선택적으로, 산화 가스; 및
· 선택적으로, 희석 가스
를 포함한다.
ads. 상기 가청구항 adr에 따른 발명에 있어서, 전구체는 유기실록산, 플루오로탄소, 파릴렌, 또는 이들 중 둘 이상의 조합물을 포함한다.
adt. 상기 가청구항 adr 또는 ads에 따른 발명에 있어서, 전구체는 유기실록산을 포함한다.
adv. 상기 가청구항 adr 내지 adt 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전구체는 파릴렌 N 또는 폴리(파라크실리렌); 파릴렌 C 또는 폴리(2-클로로파라크실리렌); 파릴렌 D 또는 폴리(2,5-디클로로파라-크실리렌); 파릴렌 HT® 또는 폴리(테트라플루오로파라-크실리렌), 또는 이들의 이량체, 또는 이들 중 둘 이상의 조합물을 포함한다.
adw. 상기 가청구항 adr 내지 adt 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전구체는
· 이량체 테트라플루오로파라크실리렌,
· 디플루오로카르벤,
· 단량체 테트라플루오로에틸렌,
· 화학식 F2C=CF(CF2)xF (x는 1 내지 100, 선택적으로는 2 내지 50, 선택적으로는 2 내지 20, 선택적으로는 2 내지 10임)의 올리고머 테트라플루오로에틸렌
· 나트륨 클로로디플루오로아세테이트,
· 클로로디플루오로메탄,
· 브로모디플루오로메탄,
· 헥사플루오로프로필렌 옥사이드,
· 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로데실 아크릴레이트 (FDA),
· 브로모플루오로알칸, 알칸 모이어티는 1 내지 6개의 탄소 원자를 가짐,
· 요오드플루오로알칸, 알칸 모이어티는 1 내지 6개의 탄소 원자를 가짐, 또는
· 상기 중 임의의 둘 이상의 조합물
을 포함한다.
adx. 상기 가청구항 adr 내지 adw 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 산화 가스는 산소, 산화질소, 수증기, 또는 이들 중 둘 이상의 조합물을 포함한다.
ady. 상기 가청구항 adr 내지 ady 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 희석 가스는 헬륨, 아르곤, 크립톤, 크세논, 네온, 또는 이들 중 둘 이상의 조합물을 포함한다.
방법 - 코팅 혹은 층에 대한 제한사항
adz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질은 의료용 배럴의 표면에 코팅 혹은 층을 도포하는 단계를 포함한다.
aea. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질은 의료용 배럴의 표면에 배리어 코팅 혹은 층을 도포하는 단계를 포함한다.
aeb. 상기 가청구항 aea에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층은 SiOx를 필수적으로 포함하며, x는 X선 광전자 분광법으로 측정한 결과, 1.5 내지 2.9이다.
aec. 상기 가청구항 aea 또는 aeb에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질은 배리어 코팅 혹은 층과 내부공간 사이의 의료용 배럴 층의 표면에 pH 보호 코팅 혹은 층을 도포하는 단계를 포함한다.
aed. 상기 가청구항 aec에 따른 발명에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층은 SiOxCy 또는 SiNxCy를 필수적으로 포함하며, X선 광전자 분광법에 의해 측정한 결과, x는 약 0.5 내지 약 2.4, 선택적으로는 약 0.5 내지 1이고, y는 약 0.6 내지 약 3, 선택적으로는 약 2 내지 약 3이다.
aed1. 상기 가청구항 aec 또는 aed 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 산소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00032
aed2. 상기 가청구항 aec, aed, 또는 aed1 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 산소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00033
aed3. 상기 가청구항 aec 또는 aed에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층과 내부공간 사이의 pH 보호 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 질소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00034
aed4. 상기 가청구항 aed3에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층과 내부공간 사이의 pH 보호 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 질소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00035
aed5. 상기 가청구항 aec 내지 aed4 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층의 평균 두께는 50 내지 500 nm이다.
aed6. 상기 가청구항 aec 내지 aed5 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층의 FTIR 흡수 스펙트럼에서
· 약 1000 내지 1040 cm-1에 위치하는 Si-O-Si 대칭 신축 피크의 최대 진폭과
· 약 1060 내지 1100 cm-1에 위치하는 Si-O-Si 비대칭 신축 피크의 최대 진폭
사이의 비는 0.75를 초과한다.
aee. 상기 가청구항 aea 내지 aed 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질은 의료용 배럴의 표면에 윤활성 코팅 혹은 층을 도포하는 단계를 포함한다.
aef. 상기 가청구항 aee에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층은 SiOxCy를 필수적으로 포함하며, X선 광전자 분광법에 의해 측정한 결과, x는 약 0.5 내지 약 2.4, 선택적으로는 약 0.5 내지 1이고, y는 약 0.6 내지 약 3, 선택적으로는 약 2 내지 약 3이다.
aef1. 상기 가청구항 aee 또는 aef에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 산소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00036
aef2. 상기 가청구항 aee 또는 aef 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 산소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00037
aef3. 상기 가청구항 aee 또는 aef에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층과 내부공간 사이의 윤활성 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 질소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00038
aef4. 상기 가청구항 aee 또는 aef에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층과 내부공간 사이의 윤활성 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 질소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00039
방법 - 코팅 혹은 층 균일성에 대한 제한사항
aeg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질의 균일성은
코팅 혹은 층 두께의 표준편차
평균 코팅 혹은 층 두께의 비로 표현되며, 상기 비는 0.69 미만, 대안으로는 0.69 내지 0.01, 대안으로는 0.69 내지 0.05, 대안으로는 0.66 내지 0.1, 대안으로는 0.66 내지 0.2, 대안으로는 0.66 내지 0.21, 대안으로는 0.6 미만, 대안으로는 0.6 내지 0.01, 대안으로는 0.6 내지 0.05, 대안으로는 0.6 내지 0.1, 대안으로는 0.6 내지 0.2, 대안으로는 0.6 내지 0.21, 대안으로는 0.5 미만, 대안으로는 0.5 내지 0.01, 대안으로는 0.5 내지 0.05, 대안으로는 0.5 내지 0.1, 대안으로는 0.5 내지 0.2, 대안으로는 0.5 내지 0.21, 대안으로는 0.4 미만, 대안으로는 0.4 내지 0.01, 대안으로는 0.4 내지 0.05, 대안으로는 0.4 내지 0.1, 대안으로는 0.4 내지 0.2, 대안으로는 0.4 내지 0.21, 대안으로는 0.3 미만, 대안으로는 0.3 내지 0.01, 대안으로는 0.3 내지 0.05, 대안으로는 0.3 내지 0.1, 대안으로는 0.3 내지 0.2, 대안으로는 0.3 내지 0.21이다.
aeh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질은 평균 두께 1 내지 1000 nm 및 표준편차 190 nm 미만, 대안으로는 190 내지 10 nm, 대안으로는 190 내지 20 nm, 대안으로는 190 내지 30 nm, 대안으로는 190 내지 40 nm, 대안으로는 190 내지 50 nm, 대안으로는 190 내지 60 nm, 대안으로는 190 내지 70 nm, 대안으로는 190 내지 80 nm, 대안으로는 161 nm 미만, 대안으로는 160 내지 10 nm, 대안으로는 160 내지 20 nm, 대안으로는 160 내지 30 nm, 대안으로는 160 내지 40 nm, 대안으로는 160 내지 50 nm, 대안으로는 160 내지 60 nm, 대안으로는 160 내지 70 nm, 대안으로는 160 내지 80 nm, 대안으로는 140 nm 미만, 대안으로는 140 내지 10 nm, 대안으로는 140 내지 20 nm, 대안으로는 140 내지 30 nm, 대안으로는 140 내지 40 nm, 대안으로는 140 내지 50 nm, 대안으로는 140 내지 60 nm, 대안으로는 140 내지 70 nm, 대안으로는 140 내지 80 nm, 대안으로는 122 nm 미만, 대안으로는 120 내지 10 nm, 대안으로는 120 내지 20 nm, 대안으로는 120 내지 30 nm, 대안으로는 120 내지 40 nm, 대안으로는 120 내지 50 nm, 대안으로는 120 내지 60 nm, 대안으로는 120 내지 70 nm, 대안으로는 120 내지 80 nm, 대안으로는 100 nm 미만, 대안으로는 100 내지 10 nm, 대안으로는 100 내지 20 nm, 대안으로는 100 내지 30 nm, 대안으로는 100 내지 40 nm, 대안으로는 100 내지 50 nm, 대안으로는 100 내지 60 nm, 대안으로는 100 내지 70 nm, 대안으로는 100 내지 80 nm, 대안으로는 80 nm 미만, 대안으로는 80 내지 10 nm, 대안으로는 80 내지 20 nm, 대안으로는 80 내지 30 nm, 대안으로는 80 내지 40 nm, 대안으로는 80 내지 50 nm, 대안으로는 80 내지 60 nm, 대안으로는 80 내지 70 nm인 코팅 혹은 층을 도포하는 조작이다.
aei. 상기 가청구항 aec에 따른 방법에 있어서, 내부 PECVD 코팅 혹은 층은 배리어 코팅 혹은 층을 포함한다.
aej. 상기 가청구항 aei에 따른 방법에 있어서, 내부 PECVD 코팅 혹은 층은 부동태화 층 또는 pH 보호 코팅을 포함한다.
aek. 상기 가청구항 aei 내지 aej 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 내부 PECVD 코팅 혹은 층은 윤활성 코팅 혹은 층을 포함한다.
장치
ael. 적어도 일부가 처리 대상 표면을 획정하는 벽에 둘러싸인 내부공간을 갖는 의료용 배럴의 지지체 상에 지지되는 의료용 배럴을 플라즈마 개질하기 위한 장치로서, 상기 장치는:
· 장치 내에 의료용 배럴을 고정시키기 위한 의료용 배럴 지지체;
· 의료용 배럴의 표면을 플라즈마 개질하는데 효과적인 조건하에, 의료용 배럴 지지체 (1) 상에 지지되는 의료용 배럴의 내부공간 속에 플라즈마를 제공하기 위한 플라즈마 발생기;
· 의료용 배럴 지지체 (1) 상에 지지되는 의료용 배럴의 내부공간의 적어도 일 부분에 자기장을 인가하기 위한 자기장 발생기
를 포함하며, 상기 자기장은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 대한 플라즈 개질의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키는데 효과적인 배향 및 자기장 세기를 가진다.
장치 자력에 대한 제한사항
aem. 상기 가청구항 ael에 따른 발명에 있어서, 작동 위치에 있는 의료용 배럴의 외부측에 1개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 3개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 4개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 5개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 6개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 7개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 8개 이상의 자기장 발생기를 포함한다.
aen. 상기 가청구항 ael 또는 aem에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기 중 1개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 작동 위치에 있는 의료용 배럴 표면의 축에 대체로 평행한 극축을 가진다.
aeo. 상기 가청구항 ael 내지 aen 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 작동 위치에 있는 표면 둘레에 원주 방향으로 분포된다.
aep. 상기 가청구항 ael 내지 aeo 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 서로로부터 실질적으로 원주방향으로 등간격을 유지한다.
aeq. 상기 가청구항 ael 내지 aep 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기 중 1개 이상, 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 플라즈마 처리 중 적어도 일부 동안 작동 위치에 있는 표면의 축에 대해 회전하거나, 표면이 그 축을 중심으로 회전하거나, 둘 다이다.
aer. 상기 가청구항 ael 내지 aeq 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 작동 위치에 있는 표면에 대해 축방향으로 적층된다.
aes. 상기 가청구항 ael 내지 aer 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 서로로부터 축방향으로 이격된다.
aet. 상기 가청구항 ael 내지 aes에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 서로 축방향으로 인접해 있다.
aeu. 상기 가청구항 ael 내지 aet 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기는 전류를 전도시키는 1개 이상의 코일 (6 또는 8)이다.
aev. 상기 가청구항 aeu에 따른 발명에 있어서, 상기 1개 이상의 코일은 솔레노이드 코일을 포함한다.
aew. 상기 가청구항 aev에 따른 발명에 있어서, 솔레노이드 코일은 자신의 축이 작동 위치에 있는 표면의 축에 적어도 대체로 평행하도록 배향된다.
aex. 상기 가청구항 aev 또는 aew에 따른 발명에 있어서, 솔레노이드 코일은 작동 위치에 있는 의료용 배럴 표면을 수용하도록 구성된 내부 부분, 및 제1 및 제2 반대측 단부 부분 (5 및 8)을 가진다.
aey. 상기 가청구항 aev 내지 aex 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 제1 단부 부분, 제2 단부 부분, 또는 둘 다 여기되면, 내부 부분보다 강한 자기장을 제공한다.
aez. 상기 가청구항 aex 내지 aey에 따른 발명에 있어서, 내부 부분은 내부 권선부를 포함하며, 여기되었을 때 더 강한 자기장을 제공하는 단부 부분 (6 또는 8) 중 적어도 하나는 개별적 외부 권선부 (7 또는 9)를 포함한다.
afa. 상기 가청구항 aez에 따른 발명에 있어서, 권선부들이 여기되었을 때 내부 권선부에는 상기 개별적 외부 권선부 (7 또는 9)보다 낮은 전류세기가 제공된다.
afb. 상기 가청구항 aez 또는 afa에 따른 발명에 있어서, 내부 권선부는 외부 권선부 (7 또는 9)보다 축의 cm 당 총 턴(turn)수가 낮다.
afc. 상기 가청구항 aev 내지 afb 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 솔레노이드 코일은 내부 부분과 제1 및 제2 반대측 단부 부분들 (6 및 8)을 따라 연장하는 단일 권선부를 가지며, 상기 권선부의, 제1 및 제2 반대측 단부 부분들 (6 및 8)에 또는 그 부분들 가까이의 축을 따른 cm 당 턴수는 내부 부분을 따른 cm 당 턴수보다 더 높다.
afd. 상기 가청구항 aev 내지 afc 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 솔레노이드 코일은 자신의 축이 작동 위치에 있는 표면의 축에 적어도 대체으로 동일선상에 있도록 배향된다.
afe. 상기 가청구항 aev 내지 afd 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 작동 위치에 있는 표면의 전체가 솔레노이드 코일 내에 배치된다.
aff. 상기 가청구항 aeu에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 코일은 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)이다.
afg. 상기 가청구항 aff에 따른 발명에 있어서, 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)은 자신의 축이 작동 위치에 있는 표면의 축에 적어도 대체로 평행하도록 배향된다.
afh. 상기 가청구항 afg에 따른 발명에 있어서, 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)은 자신의 축이 작동 위치에 있는 표면의 축과 적어도 대체로 동일선상에 있도록 배향된다.
afi. 상기 가청구항 aff 내지 afh 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 작동 위치에 있는 표면의 실질적으로 전체가 대체로 환상의 코일 (8 또는 9) 내부에, 대안으로는 2개 이상의 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)로 된 적층체의 내부에 배치된다.
afj. 상기 가청구항 aff 내지 afi 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)은 2개 이상의 아크 (원호) 부분, 선택적으로는 4개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로는 6개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로는 8개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로 8개의 45° 아크 세그먼트을 가지며, 교번식 부분들이 반대 방향으로 권취된다.
afk. 상기 가청구항 aff 내지 afj 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 실질적으로 원형이거나 실질적으로 직사각형인 횡단면을 가진 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)을 2개 이상 포함한다.
afl. 상기 가청구항 ael 내지 afk 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 작동 위치에 있는 의료용 배럴의 적어도 일 부분 내 자기장의 적어도 일부는 극축이 처리 대상 표면의 축에 대해 대체로 평행하도록 배향된다.
afm. 상기 가청구항 ael 내지 afl 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 작동 위치에 있는 의료용 배럴의 적어도 일 부분 내 자기장의 적어도 일부는 극축이 처리 대상 표면의 축을 중심으로 연장되도록 배향된다.
afn. 상기 가청구항 ael 내지 afm 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 작동 위치에 있는 의료용 배럴의 적어도 일 부분 내 자기장의 적어도 일부는 처리 대상 표면의 축에 대해 대체로 방사면 (radial plane)으로 연장되도록 배향된다.
afo. 상기 가청구항 aem 내지 afn 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기 중 1개 이상, 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 바 자석이다.
afp. 상기 가청구항 afo에 따른 발명에 있어서, 4개 이상의 자기장 발생기 중 짝수개는 사중극자 또는 유사한 구조를 제공하도록 배치된다.
afq. 상기 가청구항 ael 내지 afp 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기방 발생기 중 1개 이상, 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 링 자석들이다.
afr. 상기 가청구항 afq에 따른 발명에 있어서, 상기 링 자석들 중 적어도 하나의 북극과 남극은 반대측 환형면이다.
afs. 상기 가청구항 afq 또는 afr에 따른 발명에 있어서, 상기 링 자석들 중 적어도 하나의 극축은 링에 대한 원주이다.
aft. 상기 가청구항 afq에 따른 발명에 있어서, 상기 링 자석들 중 적어도 하나의 원주는 복수의 북극-남극 구역을 포함한다.
장치 - PECVD 에너지/전극에 대한 제한사항
afu. 상기 가청구항 ael 내지 aft 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 고주파 에너지를 사용하여 플라즈마를 발생시키는 단계를 더 포함한다.
afv. 상기 가청구항 afu에 따른 발명에 있어서, 고주파 에너지는 외부 전극을 의료용 배럴 벽의 외부측에 제공하고, 내부 전극을 의료용 배럴의 내부공간 내부측에 적어도 부분적으로 제공한 다음, 이들 전극을 여기시킴으로써 발생된다.
afw. 상기 가청구항 afw에 따른 발명에 있어서, 외부 전극은 대체로 원통형이며, 작동 위치에 있는 표면은 외부 전극 내부에 배치된다.
afx. 상기 가청구항 afv 또는 afx에 따른 발명에 있어서, 외부 전극은 유공성 재료로 만들어진다.
afy. 상기 가청구항 afv 내지 afx에 따른 발명에 있어서, 외부 전극은 메쉬 재료로 만들어진다.
afz. 상기 가청구항 afv 또는 afw에 따른 발명에 있어서, 외부 전극은 연속성 재료로 만들어진다.
aga. 상기 가청구항 aeb 내지 afz 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 내부 전극 (O)은 작동 위치에 있는 의료용 배럴 내부 축방향으로 연장된다.
agb. 상기 가청구항 aaa 내지 aga 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 의료용 배럴 표면에 대한 플라즈마 개질은 화학기상증착을 포함한다.
agc. 상기 가청구항 aaa 내지 agb 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 의료용 배럴 표면에 대한 플라즈마 개질은 플라즈마 강화 화학기상증착 (PECVD)을 포함한다.
agd. 상기 가청구항 agb 또는 agc에 따른 발명에 있어서, 내부 전극 (O)은 작동 위치에 있는 의료용 배럴에 가스 재료를 공급하기 위한 재료 공급관을 포함한다.
age. 상기 가청구항 agd에 따른 발명에 있어서, 재료 공급관은 작동 위치에 있는 의료용 배럴 내부에 배치되는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 가진다.
agf. 상기 가청구항 age에 따른 발명에 있어서, 재료 공급관의 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에는 작동 위치에 있는 의료용 배럴에 가스 재료를 전달하기 위해 천공들이 마련되어 있다.
agg. 상기 가청구항 agf에 따른 발명에 있어서, 천공들은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 분포된다.
agh. 상기 가청구항 agf 또는 agg에 따른 발명에 있어서, 천공들은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 원주방향으로 분포된다.
agi. 상기 가청구항 agf 내지 agh에 따른 발명에 있어서, 천공들은 2개 이상의 천공들이 원주방향으로 이격된 시리즈로서 분포되며, 각 시리즈는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 이격된다.
agj. 상기 가청구항 agi에 따른 발명에 있어서, 천공들은 시리즈 당 2개의 천공이 정반대측에 있는, 원주방향으로 이격된 복수의 시리즈로서 분포되며, 각 시리즈는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 이격된다.
agk. 상기 가청구항 agj에 따른 발명에 있어서, 제1 시리즈의 정반대측 천공들은 인접한 제2 시리즈의 정반대측 천공들을 기준으로 대체로 원통형의 내부 표면 (16)상에서 원주방향으로 약 90도 변위된다.
agl. 상기 가청구항 agj에 따른 발명에 있어서, 제1 시리즈의 정반대측 천공들은 각각의 인접한 제2 시리즈의 정반대측 천공들을 기준으로 대체로 원통형의 내부 표면 (16)상에서 원주방향으로 약 45도 변위된다.
agm. 상기 가청구항 agi에 따른 발명에 있어서, 천공들은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 따라 축방향으로 이격되어, 시리즈 당 적어도 3개의 천공이 120도 이격되는, 원주방향으로 이격된 복수의 시리즈로서 분포된다.
agn. 상기 가청구항 agd 내지 agm 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서,
· 재료 공급관은 자기장 발생기에 의해 인가되는 자기장, 및 의료용 배럴 지지체에 대해 회전하거나;
· 자기장 발생기에 의해 인가되는 자기장은 재료 공급관 및 의료용 배럴 지지체에 대해 회전하거나;
· 의료용 배럴 지지체는 재료 공급관, 및 자기장 발생기에 의해 인가되는 자기장에 대해 회전하거나;
· 재료 공급관, 및 자기장 발생기에 의해 인가되는 자기장은 의료용 배럴 지지체에 대해 동일하거나 상이한 회전 속도 및 방향으로 회전하거나;
· 자기장 발생기에 의해 인가되는 자기장, 및 의료용 배럴 지지체는 재료 공급관에 대해 동일하거나 상이한 회전 속도 및 방향으로 회전하거나;
· 재료 공급관 및 의료용 배럴 지지체는 자기장 발생기에 의해 인가되는 자기장에 대해 동일하거나 상이한 회전 속도 및 방향으로 회전한다.
ago. 상기 가청구항 ael 내지 agn 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 하기 중 하나 이상을 포함하는, 플라즈마 특성 측정용 장치를 더 포함한다:
광 검출기, 예를 들어, 플라즈마가 비균일 플라즈마 대 완전히 충전된 균일 플라즈마의 스트리머를 포함하는지 나타내도록 구성된 카메라, 또는 플라즈마 스펙트럼의 균일성을 결정하기 위한 광학 방사 분광계;
· 플라즈마에 공급되는 전류의 균일성을 판단하기 위해 내부 전극 또는 그의 전원 전도체 둘레에 배치된 로고스키 코일; 또는
· 플라즈마의 전자 온도를 측정하기 위한 랭뮤어 프로브 (5).
장치 의료용 배럴의 자체 진공 챔버로서의 용도
agp. 상기 가청구항 ael 내지 ago 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질 수행시 적어도 일부 동안, 작동 장치에서의 의료용 배럴을 적어도 부분적으로 진공처리하기 위한 진공 펌프를 더 포함한다.
agq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질 수행시 적어도 일부 동안 의료용 배럴의 외부를 대기압에 노출시키는 장치를 포함한다.
장치 재료에 대한 제한사항
agr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질 수행시 적어도 일부 동안 작동 위치에 있는 의료용 배럴에 공급되는 각 재료의 공급원을 더 포함하며, 상기 재료는:
· 전구체;
· 선택적으로, 산화 가스; 및
· 선택적으로, 희석 가스
를 포함한다.
ags. 상기 가청구항 agr에 따른 발명에 있어서, 전구체는 유기실록산, 플루오로탄소, 파릴렌, 또는 이들 중 둘 이상의 조합물을 포함한다.
agt. 상기 가청구항 agr 또는 ags에 따른 발명에 있어서, 전구체는 유기실록산을 포함한다.
agu. 상기 가청구항 agr 또는 agt에 따른 발명에 있어서, 전구체는 헥사메틸렌디실록산 (HMDSO), 옥타메틸사이클로테트라실록산 (OMCTS), 테트라메틸디실록산 (TMDSO), 또는 이들의 조합물을 포함한다.
agv. 상기 가청구항 agr 내지 agu 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전구체는 파릴렌 N 또는 폴리(파라크실리렌); 파릴렌 C 또는 폴리(2-클로로파라크실리렌); 파릴렌 D 또는 폴리(2,5-디클로로파라-크실리렌); 파릴렌 HT® 또는 폴리(테트라플루오로파라-크실리렌), 또는 이들의 이량체, 또는 이들 중 둘 이상의 조합물을 포함한다.
agw. 상기 가청구항 agr 내지 agv 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전구체는
· 이량체 테트라플루오로파라크실리렌,
· 디플루오로카르벤,
· 단량체 테트라플루오로에틸렌,
· 화학식 F2C=CF(CFxF (x는 1 내지 100, 선택적으로는 2 내지 50, 선택적으로는 2 내지 20, 선택적으로는 2 내지 10임)의 올리고머 테트라플루오로에틸렌
· 나트륨 클로로디플루오로아세테이트,
· 클로로디플루오로메탄,
· 브로모디플루오로메탄,
· 헥사플루오로프로필렌 옥사이드,
· 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로데실 아크릴레이트 (FDA),
· 브로모플루오로알칸, 알칸 모이어티는 1 내지 6개의 탄소 원자를 가짐,
· 요오드플루오로알칸, 알칸 모이어티는 1 내지 6개의 탄소 원자를 가짐, 또는
· 상기 중 임의의 둘 이상의 조합물
을 포함한다.
agx. 상기 가청구항 agr 내지 agw 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 산화 가스는 산소, 산화질소, 수증기, 또는 이들 중 둘 이상의 조합물을 포함한다.
agy. 상기 가청구항 agr 내지 agx 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 희석 가스는 헬륨, 아르곤, 크립톤, 크세논, 네온, 또는 이들 중 둘 이상의 조합물을 포함한다.
장치 - 코팅 혹은 층에 대한 제한사항
agz. 상기 가청구항 ael 내지 agy 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질은 의료용 배럴의 표면에 코팅 혹은 층을 도포하는 단계를 포함한다.
aha. 상기 가청구항 ael 내지 agz 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질은 의료용 배럴의 표면에 배리어 코팅 혹은 층을 도포하는 단계를 포함한다.
ahb. 상기 가청구항 aha에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층은 SiOx를 필수적으로 포함하며, x는 X선 광전자 분광법으로 측정한 결과, 1.5 내지 2.9이다.
ahc. 상기 가청구항 aha에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질은 의료용 배럴 층의 표면에 pH 보호 코팅 혹은 층을 도포하는 단계를 포함한다.
ahd. 상기 가청구항 ahc에 따른 발명에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층은 SiOxCy를 필수적으로 포함하며, 식에서 x는 약 0.5 내지 약 2.4, 선택적으로는 약 0.5 내지 1이고, y는 약 0.6 내지 약 3, 선택적으로는 약 2 내지 약 3이다.
ahe. 상기 가청구항 aha에 따른 발명에 있어서, 플라즈마 개질은 의료용 배럴 층의 표면에 윤활성 코팅 혹은 층을 도포하는 단계를 포함한다.
ahf. 상기 가청구항 ahe에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층은 SiOxCy를 필수적으로 포함하며, 식에서 x는 약 0.5 내지 약 2.4, 선택적으로는 약 0.5 내지 1이고, y는 약 0.6 내지 약 3, 선택적으로는 약 2 내지 약 3이다.
장치 - 코팅 혹은 층에 대한 균일성 제한사항
ahg. 상기 가청구항 ael 내지 ahf 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 장치는 평균 코팅 혹은 층 두께에 대한 코팅 혹은 층 두께의 표준편차의 비가 0.69 미만, 대안으로는 0.69 내지 0.01, 대안으로는 0.69 내지 0.05, 대안으로는 0.66 내지 0.1, 대안으로는 0.66 내지 0.2, 대안으로는 0.66 내지 0.21, 대안으로는 0.6 미만, 대안으로는 0.6 내지 0.01, 대안으로는 0.6 내지 0.05, 대안으로는 0.6 내지 0.1, 대안으로는 0.6 내지 0.2, 대안으로는 0.6 내지 0.21, 대안으로는 0.5 미만, 대안으로는 0.5 내지 0.01, 대안으로는 0.5 내지 0.05, 대안으로는 0.5 내지 0.1, 대안으로는 0.5 내지 0.2, 대안으로는 0.5 내지 0.21, 대안으로는 0.4 미만, 대안으로는 0.4 내지 0.01, 대안으로는 0.4 내지 0.05, 대안으로는 0.4 내지 0.1, 대안으로는 0.4 내지 0.2, 대안으로는 0.4 내지 0.21, 대안으로는 0.3 미만, 대안으로는 0.3 내지 0.01, 대안으로는 0.3 내지 0.05, 대안으로는 0.3 내지 0.1, 대안으로는 0.3 내지 0.2, 대안으로는 0.3 내지 0.21인 균일한 코팅 혹은 층을 제공하도록 구성된다.
ahh. 상기 가청구항 ael 내지 ahg 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 장치는 평균 두께 1 내지 1000 nm, 대안으로는 10 내지 500 nm 및 표준편차 190 nm 미만, 대안으로는 190 내지 10 nm, 대안으로는 190 내지 20 nm, 대안으로는 190 내지 30 nm, 대안으로는 190 내지 40 nm, 대안으로는 190 내지 50 nm, 대안으로는 190 내지 60 nm, 대안으로는 190 내지 70 nm, 대안으로는 190 내지 80 nm, 대안으로는 161 nm 미만, 대안으로는 160 내지 10 nm, 대안으로는 160 내지 20 nm, 대안으로는 160 내지 30 nm, 대안으로는 160 내지 40 nm, 대안으로는 160 내지 50 nm, 대안으로는 160 내지 60 nm, 대안으로는 160 내지 70 nm, 대안으로는 160 내지 80 nm, 대안으로는 140 nm 미만, 대안으로는 140 내지 10 nm, 대안으로는 140 내지 20 nm, 대안으로는 140 내지 30 nm, 대안으로는 140 내지 40 nm, 대안으로는 140 내지 50 nm, 대안으로는 140 내지 60 nm, 대안으로는 140 내지 70 nm, 대안으로는 140 내지 80 nm, 대안으로는 122 nm 미만, 대안으로는 120 내지 10 nm, 대안으로는 120 내지 20 nm, 대안으로는 120 내지 30 nm, 대안으로는 120 내지 40 nm, 대안으로는 120 내지 50 nm, 대안으로는 120 내지 60 nm, 대안으로는 120 내지 70 nm, 대안으로는 120 내지 80 nm, 대안으로는 100 nm 미만, 대안으로는 100 내지 10 nm, 대안으로는 100 내지 20 nm, 대안으로는 100 내지 30 nm, 대안으로는 100 내지 40 nm, 대안으로는 100 내지 50 nm, 대안으로는 100 내지 60 nm, 대안으로는 100 내지 70 nm, 대안으로는 100 내지 80 nm, 대안으로는 80 nm 미만, 대안으로는 80 내지 10 nm, 대안으로는 80 내지 20 nm, 대안으로는 80 내지 30 nm, 대안으로는 80 내지 40 nm, 대안으로는 80 내지 50 nm, 대안으로는 80 내지 60 nm, 대안으로는 80 내지 70 nm이고, 선택적으로는 표준편차가 평균 두께 미만, 대안으로는 최소 표준편차가 평균 두께의 20% 이상인 균일한 코팅 혹은 층을 제공하도록 구성된다.
ahi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, PECVD 공정 조건은 입구관과, PECVD가 수행되는 의료 배럴의 벽 또는 다른 부분 사이의 거리가 하기와 같이 되도록 조절된다:
디바이 길이 초과,
선택적으로는 디바이 길이의 2배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 3배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 4배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 5배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 6배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 7배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 8배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 9배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 10배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 20배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 30배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 40배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 50배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 60배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 70배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 80배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 90배 이상,
선택적으로는 디바이 길이의 100배 이상.
ahj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면의 내경 및 길이의 종횡비가 2:1 이상, 더 바람직하게는 3:1, 더 바람직하게는 5:1, 더 바람직하게는 10:1, 더 바람직하게는 15;1, 더 바람직하게는 20:1, 선택적으로는 2 내지 10, 선택적으로는 4 이상, 선택적으로는 6 이상이면, PECVD 동안 자장 밀폐법을 이용한다.
ahk. 상기 가청구항 ahg 내지 ahj 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조되는 용기.
ahl. 상기 가청구항 ahk에 따른 용기에 있어서, 의료용 배럴 또는 바이얼을 포함한다.
ahm. 제제를 보관하며, 마개로 안전하게 밀봉되는, 상기 가청구항 ahl에 따른 의료용 배럴, 의료용 배럴 (4, 도 3), 또는 바이얼을 포함하는 제약 패키지.
ahm1. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 내부공간 속에 pH 4 내지 9의 유체 조성물, 및 내부공간 속 상기 유체 조성물을 유지하기 위한 마개를 더 포함하며, 이로써 유체 저장 패키지가 획정된다.
ahn. 상기 가청구항 ahm 또는 ahm1에 따른 제약 패키지에 있어서, 제제 또는 유체 조성물은 본 명세서의 하기 부분에 나열되는 각각의 재료들 중 임의의 것을 필수적으로 포함하는 군에서 선택된 구성원을 포함한다.
제2 부분
aho. 본 청구범위에서는 작업편과 동일한 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)로서,
· 분주 단부 (22),
· 후단부 (32),
· 분주 단부 (22)와 후단부 (32) 사이의 거리를 적어도 일부 연장하는 내부공간 (18)을 획정하는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 가진 대체로 원통형의 내부 표면 (16) - 상기 대체로 원통형의 내부 표면 (16)은:
· 슬라이딩가능한 플런저 또는 피스톤 (36)을 수용하도록 구성되고,
· 분주 단부 (22)에서의 또는 가까이의 전단부로부터, 분주 단부 (22)와 후단부 (32) 사이의, 각각으로부터 이격된 후단부 (806)까지 축방향으로 연장되는 제1 부분 (800)을 가지며,
· 제1 부분 후방에 인접한 전단부로부터 후단부 (32)까지의 거리의 적어도 일부만큼 축방향으로 연장되는 제2 부분 (802)을 가지며;
· 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에 PECVD법으로 도포되며, 평균 두께를 갖는 윤활성 코팅 혹은 층 (34), 및
· 하기 특징 중의 하나
· 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에 PECVD법으로 도포되는 윤활성 코팅 혹은 층을 포함하지 않거나,
· 제2 부분 (802) 상의 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 평균 두께보다 얇은 평균 두께를 갖는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)이 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에 PECVD법으로 도포됨
을 포함한다.
ahp. 의료용 배럴 (14) 또는 카트리지 및 플런저 또는 피스톤 (36)을 포함하는 시린지 (210), 자동주사기 (300), 또는 유사 장치 (14)로서,
- 상기 의료용 또는 카트리지 (14)는
· 분주 단부 (22),
· 후단부 (32),
· 분주 단부 (22)와 후단부 (32) 사이의 거리를 적어도 일부 연장하는 내부공간 (18)을 획정하는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 가진 대체로 원통형의 내부 표면 (16) - 상기 대체로 원통형의 내부 표면 (16)은:
· 슬라이딩가능한 플런저 또는 피스톤 (36)을 수용하도록 구성되고,
· 분주 단부 (22)에서의 또는 가까이의 전단부로부터, 분주 단부 (22)와 후단부 (32) 사이의, 각각으로부터 이격된 후단부 (806)까지 축방향으로 연장되는 제1 부분 (800)을 가지며,
· 제1 부분 후단부 (806)에 인접한 전단부로부터 후단부 (32)까지의 거리의 적어도 일부만큼 축방향으로 연장되는 제2 부분 (802)을 가지며;
· 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에 PECVD법으로 도포되며, 평균 두께를 갖는 윤활성 코팅 혹은 층 (34),
· 하기 특징 중의 하나
· 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에 PECVD법으로 도포되는 윤활성 코팅 혹은 층을 포함하지 않거나,
· 제2 부분 (802) 상의 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 평균 두께보다 얇은 평균 두께를 갖는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)이 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에 PECVD법으로 도포됨
를 포함하고,
- 내부공간 (18) 속에 배치되는 플런저 또는 피스톤 (36)은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)과 접촉되는 정지 위치와, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)과 접촉되는 전진 위치 사이에서 슬라이딩 가능하다.
ahq. 의료용 배럴 또는 카트리지 (14), 분주 대상 유체 조성물 (40), 및 플런저 또는 피스톤 (36)을 포함하는 사전충전형 시린지, 자동 주사기 또는 유사 장치 (14)로서,
- 상기 의료용 또는 카트리지 (14)는
· 분주 단부 (22),
· 후단부 (32),
· 분주 단부 (22)와 후단부 (32) 사이의 거리를 적어도 일부 연장하는 내부공간 (18)을 획정하는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 가진 대체로 원통형의 내부 표면 (16) - 상기 대체로 원통형의 내부 표면 (16)은:
· 슬라이딩가능한 플런저 또는 피스톤 (36)을 수용하도록 구성되고,
· 분주 단부 (22)에서의 또는 가까이의 전단부로부터, 분주 단부 (22)와 후단부 (32) 사이의, 각각으로부터 이격된 후단부 (806)까지 축방향으로 연장되는 제1 부분 (800)을 가지며,
· 제1 부분 후단부 (806)에 인접한 전단부로부터 후단부 (32)까지의 거리의 적어도 일부만큼 축방향으로 연장되는 제2 부분 (802)을 가지며;
· 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에 PECVD법으로 도포되며, 평균 두께를 갖는 윤활성 코팅 혹은 층 (34),
· 하기 특징 중의 하나
· 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에 PECVD법으로 도포되는 윤활성 코팅 혹은 층을 포함하지 않거나,
· 제2 부분 (802) 상의 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 평균 두께보다 얇은 평균 두께를 갖는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)이 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에 PECVD법으로 도포됨
를 포함하고,
- 내부공간 (18) 속에 배치되는 플런저 또는 피스톤 (36)은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)과 접촉되는 정지 위치와, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)과 접촉되는 전진 위치 사이에서 슬라이딩 가능하며,
- 유체 조성물 (40)은 플런저와 의료용 배럴 또는 카트리지 (14)의 분주 단부 (22) 사이의 내부공간 (18) 속에 배치된다.
ahr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 두께는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)과 제2 부분 (802) 사이에서 변화된다.
ahs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 제1 부분 (800)의 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 최소 평균 두께는 0 nm이고, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 최대 평균 두께는 제2 부분 (802)의 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 평균 두께의 0.8배, 선택적으로는 0.7배, 선택적으로는 0.6배, 선택적으로는 0.5배, 선택적으로는 0.4배, 선택적으로는 0.3배, 선택적으로는 0.2배, 선택적으로는 0.1배, 선택적으로는 0.09배, 선택적으로는 0.08배, 선택적으로는 0.07배, 선택적으로는 0.06배, 선택적으로는 0.05배, 선택적으로는 0.04배, 선택적으로는 0.03배, 선택적으로는 0.02배, 선택적으로는 0.01배이다.
aht. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)과 의료용 배럴 또는 카트리지 (14)의 후단부 (32) 사이에 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제3 부분을 더 포함한다.
ahu. 상기 가청구항 aho 내지 aht 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)의 배면측 단부보다 작은 내경을 가진다.
ahv. 상기 가청구항 ahp 내지 ahu 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플런저 또는 피스톤 (36)이 정지 위치에 있는 상태로 2주 저장된 후, 플런저 또는 피스톤 (36)의 해제력 (Fi)은 12 N 미만, 대안으로는 10 N 미만, 대안으로는 8 N 미만, 대안으로는 6 N 미만, 대안으로는 4 N 미만이다.
ahw. 상기 가청구항 ahp 내지 ahy 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플런저 또는 피스톤 (36)이 정지 위치에 있는 상태로 2주 저장된 후, 플런저 또는 피스톤 (36)의 해제력 (Fi)은 3N 이상이다.
ahx. 상기 가청구항 ahp 내지 ahx 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플런저 또는 피스톤 (36)의 유지력 (maintenance force) (Fm)은 2 내지 8 N이다.
ahy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)으로부터 추출되어 용해된 Si는 10 마이크로그램 미만, 대안으로는 5 마이크로그램 미만, 대안으로는 4 마이크로그램 미만, 대안으로는 3 마이크로그램 미만이다.
ahz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)으로부터 추출되어 용해된 Si는 2 마이크로그램을 초과한다.
aia. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 가스 크로마토그래피와 질량 분광법으로 윤활성 코팅 혹은 층 (34)으로부터 수성 매질을 사용하여 추출되는 선형 및 환형 실록산은 그램 당 10 마이크로그램 미만, 대안으로는 1 마이크로그램 미만, 대안으로는 0.7 마이크로그램 미만, 대안으로는 0.08 마이크로그램 미만이고, 선택적으로, 코팅된 플라스틱 성분들을 수계 추출하는 경우에는 검출 한계치 미만이다.
aib. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)은 윤활성 코팅 혹은 층 재료를 본질적으로 함유하지 않는다.
aic. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)은 검출가능한 윤활성 코팅 혹은 층 재료를 함유하지 않는다.
aid. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)의 구배각은 0° 내지 1° 미만, 선택적으로는 0 내지 0.5° 미만, 선택적으로는 0° 내지 0.25° 미만, 선택적으로는 0° 내지 0.16° 미만, 선택적으로는 0° 내지 0.03° 미만, 선택적으로는 0° 내지 0.014° 미만, 선택적으로는 0° 내지 0.01° 미만이다.
aie. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)은 제2 부분 (802)과 후단부 (32) 사이에 제3 부분을 가지며, 상기 제3 부분은 제2 부분 (802)의 배면측 단부에 인접한 전단부, 및 배면측 단부를 가진다.
aif. 상기 가청구항 aie에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제3 부분은 PECVD법에 의해 도포되는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 포함한다.
aig. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 의료용 배럴 벽은 폴리카보네이트, 올레핀 중합체 (예컨대, 폴리프로필렌 (PP) 또는 폴리에틸렌 (PE)),
환형 올레핀 공중합체 (COC), 환형 올레핀 중합체 (COP), 폴리메틸펜텐, 폴리에스테르 (예컨대, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 또는 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (PBT)), 폴리메틸메타크릴레이트, PVdC (폴리비닐리덴 클로라이드), 폴리비닐 클로라이드 (PVC), 폴리아세트산, 폴리스티렌, 수소화 (수소첨가) 폴리스티렌, 폴리(사이클로헥실에틸렌) (PCHE), 에폭시 수지, 나일론, 폴리우레탄 폴리아크릴로니트릴 (PAN), 폴리아크릴로니트릴 (PAN), 아이오노머 수지 (예컨대, Surlyn®), 유리 (예컨대, 붕규산염 유리), 또는 이들 중 임의의 둘 이상의 조합물을 포함하고; 바람직하게는 환형 올레핀 중합체, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리프로필렌을 포함하며; 더 바람직하게는 COP를 포함한다.
aig1. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 배럴 벽은 비전도성 재료로 만들어진다.
aig3. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 배럴 벽은 투명한 재료로 만들어진다.
aig4. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 배럴 벽은 사출성형 가능한 열가소성 재료로 만들어진다.
aih. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 원자비 SiOxCy 또는 SiNxCy를 X선 광전자 분광법에 의해 측정한 결과, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이다.
aii. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)은 SiOxCy 대 SiOx 또는 그 반대의 그레이드 복합체를 포함한다.
aij. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 평균 두께는 1 내지 5000 nm, 바람직하게는 30 내지 1000 nm, 더 바람직하게는 100 내지 500 nm이다.
aik. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 코팅 혹은 층의 평균 두께는 분광 반사율로 구한다.
ail. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)은:
· (i) 미피복된 표면보다 낮은 습윤 장력, 바람직하게는 20 내지 72 dyne/cm, 더 바람직하게는 30 내지 60 dynes/cm, 더 바람직하게는 30 내지 40 dynes/cm, 바람직하게는 34 dyne/cm의 습윤 장력을 가지고/가지거나,
· (ii) 미피복된 표면보다 더 큰 소수성을 나타낸다.
aim. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 제약 조성물은 생물학적으로 활성인 화합물 또는 생물학적 유체, 바람직하게는 (i) 시트르산염 또는 시트르산염-함유 조성물, (ii) 약제, 구체적으로는 인슐린 또는 인슐린-함유 조성물, 또는 (iii) 혈액 또는 혈구를 포함한다.
ain. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플런저 개시력 (initiation force) Fi은 2.5 내지 15 N이고, 1주일 후 플런저 유지력 Fm은 2.5 내지 25 N이다.
aio. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 제1 부분 (800) 상에 배리어 코팅 혹은 층을 더 포함한다.
aip. 상기 가청구항 aio에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층은 SiOx를 포함하며, 식에서 x는 XPS로 측정한 결과 1.5 내지 2.9이다.
aiq. 상기 가청구항 aio 또는 aip에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층의 두께는 2 내지 1000 nm, 선택적으로는 20 내지 300 nm이다.
air. 상기 가청구항 aio 내지 aiq 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층을 위한 유기규소 전구체는 선형 실록산, 바람직하게는 HMDSO 또는 TMDSO이다.
ais. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 제1 부분 (800) 상에 타이 코팅 혹은 층을 더 포함한다.
ais1. 상기 가청구항 ais에 따른 의료용 배럴에 있어서, 타이 코팅 혹은 층은 배리어 코팅 혹은 층과 대체로 원통형의 내부 표면 사이에 위치한다.
ais2. 상기 가청구항 ais 또는 ais1에 따른 의료용 배럴에 있어서, 타이 코팅 혹은 층의 평균 두께는 0 초과 내지 10 nm이다.
ait. 상기 가청구항 있어서 ais, ais1, 또는 ais2 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 타이 코팅 혹은 층은 SiOxCy 또는 SiNxCy를 포함하며, XPS로 측정한 결과 x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이다.
ait1. 상기 가청구항 ais 또는 ait에 따른 발명에 있어서, 타이 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 산소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00040
ait2. 상기 가청구항 ais 또는 ait 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 타이 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 산소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00041
ait3. 상기 가청구항 ais 또는 ait에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층과 내부공간 사이의 타이 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 질소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00042
ait4. 상기 가청구항 ais 또는 ait에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층과 내부공간 사이의 타이 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 질소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00043
aiu. 상기 가청구항 37 또는 38에 따른 발명에 있어서, 타이 코팅 혹은 층의 두께는 2 내지 1000 nm이다.
aiv. 상기 가청구항 ais 내지 aiu 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층을 위한 유기규소 전구체는 실록산, 바람직하게는 OMCTS 또는 TMDSO이다.
aiw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 적어도 제1 부분 상에 pH 보호 코팅 혹은 층을 더 포함한다.
aix. 상기 가청구항 aiw에 따른 발명에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층은 SiOxCy 또는 SiNxCy를 포함하며, XPS로 측정한 결과 x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이다.
aiy. 상기 가청구항 aiw 또는 aix에 따른 발명에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층의 두께는 2 내지 1000 nm이다.
코팅 혹은 층, 배리어 코팅 혹은 층, 및 pH 보호 코팅 혹은 층
방법 청구항
ajg. 상기 가청구항에 따른 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 제조 방법으로서,
A. 하기를 포함하는 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)를 제공하는 단계:
· 분주 단부 (22),
· 후단부 (32),
· 분주 단부 (22)와 후단부 (32) 사이의 거리를 적어도 일부 연장하는 내부공간 (18)을 획정하는 대체로 원통형의 내부 표면 (16)을 가진 대체로 원통형의 내부 표면 (16) - 상기 대체로 원통형의 내부 표면 (16)은:
· 슬라이딩가능한 플런저 또는 피스톤 (36)을 수용하도록 구성되고,
· 분주 단부 (22)에서의 또는 가까이의 전단부로부터, 분주 단부 (22)와 후단부 (32) 사이의, 각각으로부터 이격된 후단부 (806)까지 축방향으로 연장되는 제1 부분 (800)을 가지며,
· 제1 부분 후방에 인접한 전단부로부터 후단부 (32)까지의 거리의 적어도 일부만큼 축방향으로 연장되는 제2 부분 (802)을 가짐-
B. 평균 두께를 갖는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 PECVD법으로 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에 도포하는 단계, 및
C. PECVD법으로
· 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에 윤활성 코팅 혹은 층을 도포하지 않거나,
· 제2 부분 (802) 상의 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 평균 두께보다 얇은 평균 두께를 갖는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에 도포하는 단계
를 포함한다.
ajh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)은:
· 개방 후단부 (32)를 갖는 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치(14)를 제공하고;
· 개방 후단부 (32)에 인접한 가스 전달 포트로부터 전구체 가스 (588), 선택적으로는 산화 가스 (594), 및 선택적으로는 희석 가스 (602)의 흐름을 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 내부공간 (18) 속으로 도입하고;
· 내부공간 (18)에 플라즈마를 형성하기에 효과적인 조건하에 전자기 에너지를 내부공간 (18)에 인가함으로써 도포되며,
· 상기 방법은, 존재하는 경우, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800) 상에 증착된 윤활성 코팅 혹은 층 (34)보다 큰 평균 두께를 갖는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802) 상에 증착시키는데 효과적인 조건하에 수행된다.
aji. 상기 가청구항 ajh에 따른 발명에 있어서, 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802) 상에 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 증착시키는데 효과적인 조건은 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에 도포된 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 두께와 비교하여 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에 도포되는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)의 두께를 줄이기 위해 충분히 낮은 전력 수준에서 전자기 에너지를 인가하는 것을 포함한다.
ajj. 상기 가청구항 ajh 또는 aji에 따른 발명에 있어서, 전구체 가스 (588)의 일부는 플라즈마 내 화학 반응을 거쳐 반응 생성물을 형성하며, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802) 상에, 더 큰 평균 두께를 갖는 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 증착시키는데 효과적인 조건은 상기 반응 생성물을 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 후단부 (32)를 통해 배출시키는 것을 포함한다.
ajk. 상기 가청구항 ajh 내지 ajj 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전구체 가스 (588)는 선형 실록산, 단일환 실록산, 다환 실록산, 폴리실세스퀴옥산, 선형 실라잔, 단일환 실라잔, 다환 실라잔, 폴리실세스퀴아잔, 실라트랜, 실쿠아실라트랜, 실프로아트란, 아자실라트랜, 아자실쿠아시아트랜, 아자실프로아트랜, 또는 이들 전구체 중 임의의 둘 이상의 조합물을 포함하며; 선택적으로는 단일환 실록산, 선택적으로는 옥타메틸사이클로테트라실록산이고; 선택적으로는 선형 실록산, 선택적으로는 테트라메틸디실록산이다.
ajl. 상기 가청구항 ajg 내지 ajk 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 공칭 용량은 0.1 내지 5 mL, 선택적으로는 0.5 내지 3 mL, 선택적으로는 0.7 내지 2 mL, 선택적으로 1 mL이다.
ajm. 상기 가청구항 ajh 내지 ajl 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자기 에너지는 0.5 Watts의 최저 전력 수준 내지 15 Watts의 최고 전력 수준 으로 인가된다.
ajn. 상기 가청구항 ajh 내지 ajm 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자기 에너지는 0.6 Watts, 선택적으로는 0.7 Watts, 선택적으로는 0.8 Watts, 선택적으로는 0.9 Watts, 선택적으로는 1 Watt, 선택적으로는 2 Watts의 최저 전력 수준으로 인가된다.
ajo. 상기 가청구항 ajh 내지 ajn 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자기 에너지는 3 Watts, 선택적으로는 4 Watts, 선택적으로는 5 Watts, 선택적으로는 6 Watts, 선택적으로는 7 Watts, 선택적으로는 8 Watts, 선택적으로는 9 Watts, 선택적으로는 10 Watts의 최고 전력으로 인가된다.
ajp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 PECVD법으로 도포시키는 동안, 자기장을 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에 인가하되, 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 증착시킬 때, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에 존재하는 순평균 자기장 세기가 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제1 부분 (800)에서의 평균 자기장 세기의 선택적으로는 2배 이상, 선택적으로는 5배 이상, 선택적으로는 10배 이상, 선택적으로는 20배 이상, 선택적으로는 30배 이상, 선택적으로는 40배 이상, 선택적으로는 50배 이상, 선택적으로는 100배 이상, 선택적으로는 200배 이상, 선택적으로는 500배 이상이 되도록 인가한다.
ajq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 PECVD법으로 도포시키는 동안, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에서 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 증착시킬 때 최저 평균 자기장 세기는 Gauss 단위로 1 Gauss (100 μT, microTesla) 초과, 선택적으로는 2 Gauss 이상, 선택적으로는 5 Gauss 이상, 선택적으로는 10 Gauss 이상, 선택적으로는 15 Gauss 이상, 선택적으로는 20 Gauss 이상, 선택적으로는 25 Gauss 이상, 선택적으로는 30 Gauss 이상, 선택적으로는 35 Gauss 이상, 선택적으로는 40 Gauss 이상이다.
ajr. 상기 가청구항 ajg에 따른 발명에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)에 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 PECVD법으로 도포시키는 동안, 대체로 원통형의 내부 표면 (16)의 제2 부분 (802)에서 윤활성 코팅 혹은 층 (34)을 증착시킬 때 최고 평균 자기장 세기는 Gauss 단위로 100 Gauss (10,000 μT, microTesla), 선택적으로는 80 Gauss, 선택적으로는 60 Gauss, 선택적으로는 50 Gauss, 선택적으로는 45 Gauss이다.
ajs. 상기 가청구항 ajp 내지 ajr 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장은 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 플라즈마 개질의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키는데 효과적인 위치, 배향 및 자기상 세기를 가진다.
ajt. 상기 가청구항 ajs에 따른 발명에 있어서, 자기장 인가는 표면의 적어도 일 부분을 따른 플라즈마 분포의 축방향 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시킨다.
aju. 상기 가청구항 ajs에 따른 발명에 있어서, 자기장 인가는 표면의 적어도 일 부분을 따른 플라즈마 분포의 방사방향 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시킨다.
ajv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 플라즈마는 플라즈마 전자를 포함하며, 자기장은 내부공간 (18) 내 플라즈마 전자의 밀폐를 향상시키는데 효과적이다.
ajw. 상기 가청구항 ajp 내지 ajv 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장은 하나의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 3개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 4개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 5개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 6개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 7개 이상의 자기장 발생기, 선택적으로 8개 이상의 자기장 발생기를 표면 가까이에 제공함으로써 인가되며, 각각의 자기장 발생기는 극축 (80)을 정의하는 제1극 및 제2 극을 갖는다.
ajx. 상기 가청구항 ajw에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 하나의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 표면의 축에 대체로 평행한 극축을 가진다.
ajy. 상기 가청구항 ajw 또는 ajx에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 작동 위치에 있는 표면 둘레에 원주 방향으로 분포된다.
ajz. 상기 가청구항 ajy에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 표면에 대해 축방향으로 연장되는 극축을 가진다.
aka. 상기 가청구항 ajz에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 PECVD 동안 고정된 상태로 유지된다.
akb. 상기 가청구항 ajw 내지 aka 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 인접한 자기장 발생기로부터 실질적으로 원주방향으로 등간격을 유지한다.
akc. 상기 가청구항 ajw 내지 akb 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 플라즈마 처리 중 적어도 일부 동안 작동 위치에 있는 표면의 축에 대해 회전하거나, 표면이 그 축을 중심으로 회전하거나, 둘 다이다.
akd. 상기 가청구항 ajw 내지 akc 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 영구 자석, 코일, 또는 1개 이상의 영구 자석과 1개 이상의 코일의 조합이다.
ake. 상기 가청구항 ajw 내지 akd 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 2개 이상의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 에 요홈을 획정하도록 이격되며, 상기 요홈 내부에 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면의 적어도 일 부분이 위치된다.
akf. 상기 가청구항 ajw 내지 ake 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개 이상의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면, 또는 둘 다는 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면의 원주에 대한 평균 자기장 세기의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키는데 효과적인 속도로 회전된다.
akg. 상기 가청구항 ajw 내지 akf 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개 이상의 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 표면, 또는 둘 다는 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 표면의 원주에 대해 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면 가열 조작의 균일성을 향상시키거나, 강도를 감소하거나, 또는 둘 다에 효과적인 속도로 회전된다.
akh. 상기 가청구항 ajw 내지 akg 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면의 축을 따라 수행되는 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면 가열 조작의 균일성을 향상시키는데 효과적인 속도로, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 1개 이상을 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 표면을 따라 축방향으로 평행이동시키거나, 의료용 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면을 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)에 대해 평행이동시키거나, 또는 둘 다를 더 포함한다.
aki. 상기 가청구항 ajw 내지 akh 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로 자기장 발생기 모두는 대체로 원통형의 표면에 대해 축방향으로 적층된다.
akj. 상기 가청구항 ajw 내지 aki 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 모두가 서로로부터 축방향으로 이격된다.
akk. 상기 가청구항 ajw 내지 Kj 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 적층된 자기장 발생기 (예를 들면, 61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것) 중 2개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 3개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 4개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 5개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 6개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 7개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 중 8개 이상, 대안으로는 축방향으로 적층된 자기장 발생기 모두가 서로에 축방향으로 인접해 있다.
akl. 상기 가청구항 ajw 내지 akk 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 1개 이상의 코일을 표면 가까이에 위치시키고, 상기 코일을 통해 전류를 전도시킴으로써 제공된다.
akm. 상기 가청구항 akl에 따른 발명에 있어서, 상기 1개 이상의 코일은 솔레노이드 코일을 포함한다.
akn. 상기 가청구항 akl에 따른 발명에 있어서, 상기 1개 이상의 코일은 중앙 개구와 상기 중앙 개구를 통과하는 기하축을 가진 대체로 환상형의 코일 (8 또는 9)을 포함한다.
ako. 상기 가청구항 akn에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)은 기하축과 적어도 대체로 평행하도록, 선택적으로는 표면의 축과 적어도 대체로 동일선상에 있도록 배향된다
akp. 상기 가청구항 akn 내지 ako에 따른 발명에 있어서, 대체로 환상의 코일 (8 또는 9)은 2개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로는 4개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로는 6개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로는 8개 이상의 아크 세그먼트, 선택적으로 8개의 45° 아크 세그먼트를 가지며, 교번식 부분들이 반대 방향으로 권취된다.
akq. 상기 가청구항 akn 내지 akp에 따른 발명에 있어서, 대체로 환상의 코일의 횡단면은 실질적으로 원형이거나 실질적으로 직사각형이다.
akr. 상기 가청구항 ajw 내지 akq 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 적어도 1개의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 극축 (80)이 표면의 축과 적어도 대체로 평행하도록 배향된다.
aks. 상기 가청구항 ajw 내지 akr 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 극축 (80)이 표면의 축과 적어도 대체로 동일선상에 있도록 배향된다.
akt. 상기 가청구항 ajw 내지 aks 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 극축 (80)을 따라 연장되는 통로를 가지며, 표면 전체가 상기 통로 내부에 배치된다.
aku. 상기 가청구항 ajw 내지 aku 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 헬름홀츠 코일이다.
akv. 상기 가청구항 aku에 따른 발명에 있어서, 헬름홀츠 코일은 이격된 제1 및 제2 솔레노이드 코일을 포함하며, 그 사이에는 상기 방법이 진행되는 동안 플라즈마를 볼 수 있도록 하는 관측창을 제공하는 공간이 있다.
akw. 상기 가청구항 ajw 내지 akv 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사장치의 표면을 따라 가변적 자기장 세기를 제공한다.
akx. 상기 가청구항 akw에 따른 발명에 있어서, 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면의 적어도 일 부분은 대체로 원통형이다.
aky. 상기 가청구항 akw 또는 akx에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 적어도 1개의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)와 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사장치의 표면 사이의 거리는 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사장치의 표면을 따라 가변적이다.
akz. 상기 가청구항 akw, akx, 또는 aky 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사장치의 표면을 따라 자기장 세기를 각기 달리하여 다양한 자기장 세기의 프로파일을 정의한다.
ala. 상기 가청구항 akz에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하지 않고 플라즈마를 제공하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면을 따라 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면에 대한 플라즈마 개질을 각기 달리하여, 다양한 플라즈마 개질의 프로파일을 정의한다.
alb. 상기 가청구항 ala에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)는 자기장 세기의 프로파일 변화가 플라즈마 개질의 변화를 상쇄시키는 경향을 나타내어, 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면에 대한 플라즈마 개질의 균일성, 밀도 또는 둘 다를 향상시키도록 구성된다.
ald. 상기 가청구항 ajg 내지 alb 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 후단부 (32)에 또는 그 가까이에 전자 거울을 제공하는 조작을 더 포함한다.
ale. 상기 가청구항 ald에 따른 발명에 있어서, 전자 거울을 제공하는 구조는 자기장 발생기의 적어도 일 부분을 포함한다.
alf. 상기 가청구항 ald 내지 ale 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자 거울을 제공하는 구조는 강자성체 또는 강자성 물질을 포함한다.
alg. 상기 가청구항 ald 내지 alf 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자 거울을 제공하는 구조는 자기장 발생기를 포함한다.
alh. 상기 가청구항 ald 내지 alg 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 전자 거울을 제공하는 구조는 음으로 하전된 객체 또는 객체의 일부를 포함한다.
ali. 상기 가청구항 ajp 내지 alh 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간 (18)의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부는 극축 (80)이 처리 대상 표면의 축에 대체로 평행하도록 배향된다.
alj. 상기 가청구항 ajp 내지 ali 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간 (18)의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부는 극축 (80)이 처리 대상 표면의 축을 중심으로 연장되도록 배향된다.
alk. 상기 가청구항 ajp 내지 alj 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간 (18)의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부는 극축 (80)이 처리 대상 표면에 대해 대체로 방사면으로 연장되도록 배향된다.
all. 상기 가청구항 ajp 내지 alk 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 극축 (80)을 정의하는 반대측 제1 극 및 제2 극 (822, 824) 및 제1 극 및 제2 극에 각각 상응하는 제1 단부 및 제2 단부를 갖는 영구 자석 (61-78 또는 820 중 임의의 것)이고, 상기 영구 자석은 제1 극 (822)으로부터 제2 극 (824)까지 연장하는 하나 이상의 측면 (820)을 가지며, 적어도 하나의 측면 (826)은 제1 극 (822)과 제2 극 (824) 사이 내측으로 테이퍼(taper)진다.
alm. 상기 가청구항 all에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 자기장 발생기 모두의 제2 단부 (824)가 제1 단부 (822)보다 크다.
aln. 상기 가청구항 alm에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 대체로 원뿔형, 절단원뿔형, 피라미드형, 또는 절단피라미드형이다.
alo. 상기 가청구항 alm 또는 aln에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 둥글고 더 작은 단부 (822)를 가진 대체로 원뿔형이다.
alp. 상기 가청구항 alm 또는 alo에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기 (820), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 방사방향 내측으로 배치된 더 작은 단부 (822)와 방사방향 외측으로 배치된 더 큰 단부 (824)를 갖는 링형 어레이 (834) 형태로 배향된다.
alq. 상기 가청구항 alm 또는 alp에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 동일한 사인 (북 또는 남)의 극이 방사방향 내측으로 배치되고, 제1극이 방사방향 외측으로 배치되도록 배향된다.
alr. 상기 가청구항 alm 내지 alq 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 북극이 방사방향 내측으로 배치되도록 배향된다.
als. 상기 가청구항 alm 내지 alr 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 남극이 방사방향 내측으로 배치되도록 배향된다.
alt. 상기 가청구항 ajp 내지 als 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 바 자석이다.
alu. 상기 가청구항 ajw 내지 alt 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기 (73-78 중 임의의 것), 대안으로는 2개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 3개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 4개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 5개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 6개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 7개 이상의 자기장 발생기, 대안으로는 8개 이상의 자기장 발생기, 대안으로 자기장 발생기 모두는 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면을 수용하기 위한 크기의 중심 개구부를 갖는 링 자석이다.
alv. 상기 가청구항 alu에 따른 발명에 있어서, 링 자석 (73-78 중 임의의 것) 중 적어도 하나의 북극과 남극은 반대측 환형면이다.
alw. 상기 가청구항 alv에 따른 발명에 있어서, 자기장의 적어도 일부는 하기의 적층체에 의해 제공된다:
· 작동 위치에 있을 때 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면이 중앙 요홈 내부에 배치되는 적어도 1개의 내주 링 자석 (73-78 중 임의의 것),
· 내부 링 자석들의 적층체와 축방향으로 정렬되되 그 외부측에 마련되는 적어도 1개의 캡 자석 (65-78 또는 820 중 임의의 것), 및
- 상기 내부 링 자석은 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면에 방사방향으로 인접하게 제1 자기장 세기를 인가하되, 상기 제1 자기장 세기는 캡 자석이 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면에 축방향으로 인접하게 인가하는 자기장 세기보다 약함
· 선택적으로는, 하나의 캡 자석과, 내주 링 자석들의 적층체 사이에 위치하는, 1개 이상의 추가 자석.
alx. 상기 가청구항 alu 내지 alw 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 링 자석 (73-78) 중 적어도 하나는 링에 대한 원주이다.
aly. 상기 가청구항 alx에 따른 발명에 있어서, 링 자석 (73-78) 중 적어도 하나의 원주는 복수의 북극-남극 구역을 포함한다.
alz. 상기 가청구항 ajw 내지 aly 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 4개 이상의 자기장 발생기 중 짝수개 (61, 62)는 한 축에 대해 배치되어, 축방향으로 이격된 단부들 사이에 사중극자 또는 유사한 구조를 제공한다.
ama. 상기 가청구항 alz에 따른 발명에 있어서, 자기장 발생기는 사중극자 또는 유사한 구조를 제공하는 효과적 위치 (834)와, 자기장 발생기에 의해 사중극자 또는 유사한 구조가 제공되지 않는 비-기능적 위치 (834a) 사이에서 상대적으로 이동가능하다.
amb. 상기 가청구항 alz 내지 ama 중 어느 하나에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 사중극자 및 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치는 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면을 관통하는 축에 상대적으로 위치된다.
amc. 상기 가청구항 alz 내지 amb 중 어느 하나에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 사중극자는 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치의 표면의 적어도 일 부분에 또는 그 일 부분 가까이에 플라즈마를 적어도 부분적으로 분리하는데 효과적이다.
amd. 상기 가청구항 alz 내지 amc 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 이격된 단부들 중 적어도 하나에 또는 가까이에는 축방향 극축 (80)을 가진 자기장 발생기 (61-78, 86, 88, 90, 또는 820 중 임의의 것)가 위치한다.
ame. 상기 가청구항 alm 내지 amd 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 축방향으로 이격된 단부들 둘 다에 또는 이들 가까이에는 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들이 위치한다.
amf. 상기 가청구항 alz 내지 ame 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 링 자석을 포함한다.
amg. 상기 가청구항 alz 내지 amf 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 캡 자석을 포함한다.
amh. 상기 가청구항 alz 내지 amg 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 축방향 극축을 가진 자기장 발생기들 중 적어도 하나는 바 자석을 포함한다.
ami. 상기 가청구항 ajg 내지 amh 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 내부 표면 (16)의 직경을 선택하여 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 Fi 값을 최적화하는 조작을 더 포함한다.
amj. 상기 가청구항 ajg 내지 ami 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 내부 표면 (16)의 직경을 선택하여 주사기 배럴, 자동주사기 카트리지, 또는 유사 장치 (14)의 Fm 값을 최적화하는 조작을 더 포함한다.
amk. 상기 가청구항 3 내지 180 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 유체 조성물 (40)은 인간에 비경구 투여하기에 적합한 제약 조성물이다.
aml. 상기 가청구항 3 내지 181 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 유체 조성물 (40)은 진단용 조성물이다.
amm. 상기 가청구항 3 내지 182 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 유체 조성물 (40)은 인간에 투여하기에 적합한 마취용 조성물이다.
amn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ablavar (가도포스베셋 트리나트륨 주사제(주))를 포함한다.
amo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Abobotulinumtoxin A 주사제 (디스포트)를 포함한다.
amp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Accretropin (소마트로핀 주사제)을 포함한다
amq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Acetadote (아세틸시스테인 주사제)을 포함한다
amr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아세타졸아미드 주사제 (Acetazolamide Injection )을 포함한다.
ams. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아세틸시스테인 주사제 (Acetadote)를 포함한다.
amt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Actemra (토실리주맙 주사제)를 포함한다.
amu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Acthrel (주사제용 코트리코렐린 오바인 트리플루테이트)을 포함한다.
amv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 Acyclovir (조비락스 주사제)를 포함한다
amw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Adacel을 포함한다.
amx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Adalimumab을 포함한다.
amy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Adenoscan (아데노신 주사제)을 포함한다.
amz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아데노신 주사제 (Adenoscan)를 포함한다.
ana. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Adrenaclick을 포함한다.
anb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 AdreView (정맥내 사용을 위한 Iobenguane I 123 주사제)를 포함한다.
anc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Afluria를 포함한다.
and. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ak-Fluor (플루오레세인 주사제)를 포함한다.
ane. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알글루세라제 주사제 (Ceredase)를 포함한다.
anf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Alkeran 주사제 (Melphalan Hcl 주사제)를 포함한다.
ang. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 알로푸리놀 나트륨 (Aloprim)을 포함한다.
anh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Aloprim (주사제용 알로푸리놀 나트륨)을 포함한다.
ani. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Alprostadil을 포함한다.
anj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Alsuma (수마트리프탄 주사제)를 포함한다.
ank. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아미노산 주사제를 포함한다.
anl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Aminosyn을 포함한다.
anm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Apidra를 포함한다.
ann. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Apremilast를 포함한다.
ano. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 Alprostadil 두심강 시스템 (Caverject Impulse)을 포함한다.
anp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 AMG 108을 포함한다.
anq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 AMG 714를 포함한다.
anr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Amiodarone HCl 주사제 (아미오다론 HCl 주사제)를 포함한다.
ans. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아모바비탈 나트륨 주사제 (아미탈 나트륨)를 포함한다.
ant. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아미탈 나트륨 (아모바비탈 나트륨 주사제)을 포함한다.
anu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Anakinra를 포함한다.
anv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Arixtra를 포함한다.
anw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Amphadase (히알루로니다제 주사제)를 포함한다.
anx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ammonul (페닐 아세트산나트륨 및 벤조산나트륨 주사제)을 포함한다.
any. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Anzemet 주사제 (돌라세트론 메실레이트 주사제)를 포함한다.
anz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Apidra (인슐린 글룰리신 [rDNA 유래] 주사제)를 포함한다.
aoa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Argatroban (아가트로반 주사제)을 포함한다.
aob. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아르기닌 하이드로클로라이드 주사제 (R-Gene 10)를 포함한다.
aoc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Aristocort를 포함한다.
aod. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Aristospan을 포함한다.
aoe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Arsenic Trioxide 주사제 (Trisenox)를 포함한다.
aof. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Articane HCl 및 에피네프린 주사제 (Septocaine)를 포함한다.
aog. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Arzerra (오파투무맙 주사제)를 포함한다.
aoh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Asclera (폴리도카놀 주사제)를 포함한다.
aoi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Atenolol 주사제 (테노르민 I.V. 주사제)를 포함한다.
aoj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Atracurium Besylate 주사제 (아트라큐륨 베실레이트 주사제)를 포함한다.
aok. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Avastin을 포함한다.
aol. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Azactam 주사제 (아즈트레오남 주사제)를 포함한다.
aom. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Azithromycin (지스로맥스 주사제)을 포함한다
aon. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Aztreonam 주사제 (아작탐 주사제)를 포함한다.
aoo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Baclofen 주사제 (Lioresal Intrathecal)를 포함한다.
aop. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 정균수 (주사제용 정균수)를 포함한다.
aoq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Baclofen 주사제 (Lioresal Intrathecal)를 포함한다.
aor. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Bal in Oil Ampules (디메르카프롤 주사제)를 포함한다.
aos. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 BayHepB를 포함한다.
aot. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 BayTet를 포함한다.
aou. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Benadryl을 포함한다.
aov. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 벤다무스틴 하이드로클로라이드 주사제 (Treanda)를 포함한다
aow. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 벤조트로핀 메실레이트 주사제 (Cogentin)를 포함한다.
aox. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 베타메타존 주사가능 현탁액(Celestone Soluspan)을 포함한다.
aoy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Bexxar를 포함한다.
aoz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Bicillin C-R 900/300 (페니실린 G 벤자틴 및 페니실린 G 프로카인 주사제)을 포함한다
apa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Blenoxane (블레오마이신 설페이트 주사제)을 포함한다.
apb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 블레오마이신 설페이트 주사제 (Blenoxane)를 포함한다.
apc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 보니바 주사제(이반드로네이트 나트륨 주사제)를 포함한다.
apd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Botox Cosmetic (주사제용 오나보툴리눔톡신A)을 포함한다.
ape. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Bravelle (우로폴리트로핀 주사제)를 포함한다.
apf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Bretylium (브레틸륨 토실레이트 주사제)을 포함한다.
apg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 브레비탈 나트륨 (주사제용 메고헥시탈 나트륨)을 포함한다.
aph. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 브레틴을 포함한다.
api. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 브리바셉트를 포함한다.
apj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 BTT-1023을 포함한다.
apk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Bupivacaine HCI을 포함한다.
apl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 바이에타를 포함한다.
apm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ca-DTPA (펜테테이트 칼슘 트리나트륨 주사제)를 포함한다.
apn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 카바지탁셀 주사제 (Jevtana)를 포함한다.
apo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 카페인 알칼로이드 (카페인 및 벤조산나트륨 주사제)를 포함한다.
app. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 칼시젝스 주사제 (칼시트리올)를 포함한다.
apq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Calcitrol (칼시젝스 주사제)을 포함한다.
apr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 염화칼슘 (염화칼슘 주사제 10%)을 포함한다.
aps. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 칼슘 이나트륨 베르세네이트 (에데테이트 칼슘 이나트륨 주사제)를 포함한다.
apt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Camptosar 주사제 (이리노테칸 하이드로클로라이드)를 포함한다.
apu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 카나키누맙 주사제 (Ilaris)를 포함한다.
apv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 카파스타트 설페이트(주사제용 카프레오마이신)를 포함한다.
apw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 카프레오마이신 (카파스타트 설페이트)을 포함한다.
apx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 카디올라이트 (주사제용 테크네튬 Tc99 세스타미비 Prep kit)를 포함한다.
apy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 세파졸린 및 덱스트로제 (Cefazolin 주사제)를 포함한다.
apz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 세페핌 하이드로클로라이드를 포함한다.
aqa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 세포탁심을 포함한다.
aqb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 세프트릭악손을 포함한다.
aqc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Carnitor 주사제를 포함한다.
aqd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Caverject를 포함한다.
aqe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Celestone Soluspan을 포함한다.
aqf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cerebyx (포스페니토인 나트륨 주사제)를 포함한다.
aqg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ceredase (알글루세라제 주사제)를 포함한다.
aqh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ceretec (테크네튬 Tc99m 엑사메타짐 주사제)을 포함한다.
aqi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 세톨리주맙을 포함한다.
aqj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CF-101을 포함한다.
aqk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 클로람페니콜 나트륨 숙시네이트 (클로람페니콜 나트륨 숙시네이트 주사제)를 포함한다.
aql. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 클로람페니콜 나트륨 숙시네이트 주사제 (클로람페니콜 나트륨 숙시네이트)를 포함한다.
aqm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 코리오고나도트로핀 알파 주사제 (Ovidrel)를 포함한다
aqn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cimzia를 포함한다.
aqo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cisplatin (시스플라틴 주사제)을 포함한다.
aqp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 클로미핀 시트레이트를 포함한다.
aqq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 클로니딘 주사제 (Duraclon)를 포함한다.
aqr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cogentin (벤조트리핀 메실레이트 주사제)을 포함한다.
aqs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 콜리스티메테이트 주사제 (Coly-Mycin M)를 포함한다.
aqt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Coly-Mycin M (콜리스티메테이트 주사제)을 포함한다.
aqu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Compath를 포함한다.
aqv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Conivaptan Hcl 주사제 (Vaprisol)를 포함한다.
aqw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 배합 에스트로겐 (Premarin 주사제)을 포함한다.
aqx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 코팍손을 포함한다.
aqy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 코티코렐린 오바인 트리플루테이트 (Acthrel)를 포함한다.
aqz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Corvert (이부틸라이드 푸마레이트 주사제)를 포함한다.
ara. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cubicin (답토마이신 주사제)을 포함한다.
arb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CF-101을 포함한다.
arc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cyanokit (주사제용 하이드록소코발라민)을 포함한다.
ard. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 시타라빈 리포좀 주사제 (DepoCyt)를 포함한다.
are. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 시아노코발라민을 포함한다.
arf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 D.H.E. 45를 포함한다.
arg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 다코겐 (데시타빈 주사제)을 포함한다.
arh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Dalteparin을 포함한다.
ari. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Dantrium IV (주사제용 단트롤렌 나트륨)을 포함한다.
arj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 단트롤렌 나트륨 (Dantrium IV)을 포함한다.
ark. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 답토마이신 주사제 (Cubicin)을 포함한다.
arl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 다베포이에틴 알파를 포함한다.
arm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 DDAVP 주사제 (데스모프레신 아세테이트 주사제)를 포함한다.
arn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 데카박스를 포함한다.
aro. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 데시타빈 주사제 (Dacogen)를 포함한다.
arp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Dehydrated Alcohol (무수 알코올 주사제)을 포함한다.
arq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 데노수맙 주사제 (Prolia)를 포함한다
arr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 델라시험릴을 포함한다.
ars. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 델레스트로겐을 포함한다.
art. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 델테파린 나트륨을 포함한다.
aru. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Depacon (발프로에이트 나트륨 주사제)을 포함한다.
arv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Depo Medrol (메틸프레드니솔론 아세테이트 주사가능 현탁액)을 포함한다.
arw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 DepoCyt (시타라빈 리포좀 주사제)를 포함한다.
arx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 DepoDur (모르핀 설페이트 XR 리포좀 주사제)를 포함한다.
ary. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 데스모프레신 아세테이트 주사제 (DDAVP 주사제)를 포함한다.
arz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 데포-에스트라디올을 포함한다.
asa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 데포-프로베라 104mg/ml를 포함한다
asb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 데포-프로베라 150mg/ml를 포함한다.
asc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 데포-테스토스테론을 포함한다.
asd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 덱스라족산 (정맥내 주입만 가능) (Totect)을 포함한다.
ase. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 덱스트로제 / 전해질을 포함한다.
asf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 덱스트로제 및 염화나트륨 주사제 (0.9% 염화나트륨 내 5% 덱스트로제)를 포함한다.
asg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 덱스트로제를 포함한다.
ash. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Diazepam 주사제 (디아제팜 주사제)를 포함한다.
asi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Digoxin 주사제 (Lanoxin 주사제)를 포함한다.
asj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Dilaudid-HP (하이드로모르폰 하이드로클로라이드 주사제)을 포함한다.
ask. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 디메르카프롤 주사제 (오일 앰플 내 Bal)를 포함한다.
asl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 디펜하이드라민 주사제 (Benadryl 주사제)를 포함한다.
asm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Dipyridamole 주사제 (디피리다몰 주사제)를 포함한다.
asn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 도세탁셀 (Taxotere)을 포함한다.
aso. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 돌라세트론 메실레이트 주사제 (Anzemet 주사제)를 포함한다.
asp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Doribax (주사제용 도리페넴)를 포함한다.
asq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 도리페넴 (Doribax)을 포함한다.
asr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 독서칼시페롤 주사제 (Hectorol 주사제)를 포함한다.
ass. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Doxil (독소루비신 Hcl 리포좀 주사제)을 포함한다.
ast. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 독소루비신 Hcl 리포좀 주사제 (Doxil)를 포함한다.
asu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Duraclon (클로니딘 주사제)을 포함한다.
Asv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Duramorph (모르핀 주사제)를 포함한다.
asw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 디스포트 (아보보툴리눔톡신 A 주사제)를 포함한다.
asx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에칼란타이드 주사제 (Kalbitor)를 포함한다.
asy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에데테이트 칼슘 이나트륨 주사제 (칼슘 이나트륨 버세네이트)를 포함한다.
asz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Edex (Alprostadil for 주사제)를 포함한다.
ata. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Engerix를 포함한다.
atb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 엔드로포늄 주사제 (Enlon)를 포함한다.
atc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Eloxatin (옥살리플라틴 주사제)을 포함한다.
atd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Emend 주사제 (포사프로피탄트 디메글루민 주사제)를 포함한다.
ate. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Enalaprilat 주사제 (에날라프릴라트 주사제)를 포함한다.
atf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Enlon (엔드로포늄 주사제)을 포함한다.
atg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에녹사파린 나트륨 주사제 (Lovenox)를 포함한다.
ath. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에오비스트 (가도세틱산 이나트륨 주사제)를 포함한다.
ati. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 엔브렐을 포함한다.
atj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에녹사파린을 포함한다.
atk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에피네프린을 포함한다
atl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에피펜을 포함한다.
atm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에피펜 Jr를 포함한다.
atn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 어비툭스 (Erbitux)를 포함한다.
ato. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 어타페넴 주사제 (Invanz)를 포함한다.
atp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에리스로포이에텐 (Erythropoieten)을 포함한다
atq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 필수아미노산 주사제 (Nephramine)를 포함한다.
atr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 시피오네이트를 포함한다.
ats. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에스트라디올 발레레이트를 포함한다.
att. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에타네르셉트를 포함한다.
atu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 엑테나타이드 주사제 (Byetta)를 포함한다.
atv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 파모티딘 주사제를 포함한다.
atw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 FDG (플루데옥시글루코스 F 18 주사제)를 포함한다.
atx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Feraheme (페럼옥시톨 주사제)을 포함한다.
aty. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Feridex I.V. (페럼옥사이드 주사가능 용액)를 포함한다.
atz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Fertinex를 포함한다.
aua. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페럼옥사이드 주사가능 용액 (Feridex I.V.)을 포함한다.
aub. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페럼옥시톨 주사제 (Feraheme)를 포함한다.
auc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Flagyl 주사제 (메트로니다졸 주사제)를 포함한다.
aud. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Fluarix를 포함한다.
aue. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 플루데옥시글루코스 F 18 주사제 (FDG)를 포함한다.
auf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Fluorescein 주사제 (Ak-Fluor)를 포함한다.
aug. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Follistim AQ 카트리지 (폴리트로핀 베타 주사제)를 포함한다.
auh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 폴리트로핀 알파 주사제 (Gonal-f RFF)를 포함한다.
aui. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 폴리트로핀 베타 주사제 (Follistim AQ 카트리지)를 포함한다.
auj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 폴로틴 (정맥내 주사용 프랄라트렉세이트 용액)을 포함한다.
auk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 폰다파리눅스를 포함한다.
aul. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 포르테오 (테리파라타이드 (rDNA 유래) 주사제)를 포함한다.
aum. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 포스타마티닙을 포함한다.
aun. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 포사프로피탄트 디메글루민 주사제 (Emend 주사제)를 포함한다.
auo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 포스카르네트 나트륨 주사제 (Foscavir)를 포함한다.
aup. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Foscavir (포스카르네트 나트륨 주사제)를 포함한다.
auq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 포스페니토인 나트륨 주사제 (Cerebyx)를 포함한다.
aur. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 포스프로포폴 이나트륨 주사제 (Lusedra)를 포함한다.
aus. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 프라그민을 포함한다.
aut. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 가도베네이트 디메글루민 주사제 (Multihance)를 포함한다.
auu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 마가포스베셋 트리나트륨 주사제 (Ablavar)를 포함한다.
auv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 가도테리돌 주사용액 (ProHance)를 포함한다.
auw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 가도베르세타미드 주사제 (OptiMARK)를 포함한다.
aux. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 가도세틱산 이나트륨 주사제 (Eovist)를 포함한다.
auy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ganirelix (가니렐릭스 아세테이트 주사제)를 포함한다.
auz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 가르다실을 포함한다.
ava. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 겜투주맙 오조가미신 (Mylotarg)을 포함한다.
avb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 게노트로핀을 포함한다.
avc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 겐타미신 주사제를 포함한다.
avd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 골리무맙 주사제 (Simponi 주사제)를 포함한다.
ave. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Gonal-f RFF (폴리트로핀 알파 주사제)를 포함한다.
avf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 그라니세트론 하이드로클로라이드 (Kytril 주사제)를 포함한다.
avg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 겐타미신 설페이트를 포함한다.
avh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 글라티라머 아세테이트를 포함한다.
avi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 글루카겐을 포함한다.
avj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 글루카곤을 포함한다.
avk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Haldol (할로페리돌 주사제)을 포함한다.
avl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 하브릭스를 포함한다.
avm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Hectorol InjectiZn (독세르칼시페롤 주사제)을 포함한다.
avn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 헤파린을 포함한다.
avo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 허셉틴을 포함한다.
avp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 hG-CSF를 포함한다.
avq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 휴마로그 (Humalog)를 포함한다.
avr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 인간 성장 호르몬을 포함한다.
avs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Humatrope를 포함한다.
avt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 HuMax를 포함한다.
avu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Humegon을 포함한다.
avv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Humira를 포함한다.
avw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Humulin을 포함한다.
avx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ibandr8nate Sodium 주사제 (Boniva 주사제)를 포함한다.
avy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 이부프로펜 라이신 주사제 (NeoProfen)를 포함한다.
avz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 이부틸라이드 푸마레이트 주사제 (Corvert)를 포함한다.
awa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 이다마이신 PFS (이다루비신 하이드로클로라이드 주사제)를 포함한다.
awb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 디아루비신 하이드로클로라이드 주사제 (Idamycin PFS)를 포함한다.
awc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ilaris (카나키누맙 주사제)를 포함한다.
awd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 이미페넴 및 실라스타틴 (Primaxin I.V.)을 포함한다.
awe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 이미트렉스를 포함한다.
awf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 이코보툴리눔톡신 A (Xeomin)를 포함한다.
awg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Increlex (메카세르민 [rDNA 유래] 주사제)를 포함한다.
awh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 인도신 IV (Indomethacin 주사제)를 포함한다.
awi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 인도메타신 주사제 (Indocin IV)를 포함한다.
awj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Infanrix를 포함한다.
awk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Innohep를 포함한다.
awl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 인슐린/을 포함한다.
awm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 인슐린 아스파르트 [rDNA 유래] 주사제 (NovoLog)를 포함한다.
awn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 인슐린 글라긴 [rDNA 유래] 주사제 (Lantus)를 포함한다.
awo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 인슐린 글루리신 [rDNA 유래] 주사제(Apidra)를 포함한다.
awp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 인터페론 알파-2b, 재조합 주사제 (Intron A)를 포함한다.
awq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Intron A (인터페론 알파-2b, 재조합 주사제)를 포함한다.
awr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Invanz (에르타페넴 주사제)를 포함한다.
aws. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Invega Sustenna (팔리페리돈 팔미테이트 서방출 주사가능 현탁액)을 포함한다.
awt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 정맥내 용도의 이오벤구안 I 123 주사제 (AdreView)를 포함한다.
awu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 이오프로마이드 주사제 (Ultravist)를 포함한다.
awv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 이오베르솔 주사제 (Optiray 주사제)를 포함한다.
aww. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Iplex (메카세르민 린파베이트 [rDNA 유래] 주사제)를 포함한다.
awx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Iprivask를 포함한다.
awy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 이리노테칸 하이드로클로라이드 (Camptosar 주사제)를 포함한다.
awz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 철분 수크로오스 주사제 (Venofer)를 포함한다.
axa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Istodax (주사제용 로미뎁신)를 포함한다.
axb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 이트라코나졸 주사제 (스프라녹스 주사제)를 포함한다.
axc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Jevtana (카바지탁셀 주사제)을 포함한다.
axd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Kalbitor (Ecallantide 주사제)를 포함한다.
axe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 D5NS 중 KCL (5% 덱스트로제 내 염화칼륨 및 염화나트륨 주사제)을 포함한다.
axf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 D5W 중 KCL을 포함한다.
axg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 NS 중 KCL을 포함한다.
axh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 케나로그 10 주사제 (트리암시놀론 아세토나이드 주사가능 현탁액)를 포함한다.
axi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 케프라 주사제 (레비티라세탐)를 포함한다.
axj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 키네레트를 포함한다.
axk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 킨리틱 (우로키나아제 주사제)을 포함한다.
axl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 킨릭스를 포함한다.
axm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 키트릴 주사제 (그라니세트론 하이드로클로라이드)를 포함한다.
axn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 라코사마이드정 및 주사제 (Vimpat)를 포함한다.
axo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 젖산화 링거액을 포함한다.
axp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 라녹신 주사제 (다이곡신 주사제)를 포함한다.
axq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 란소프라졸 (Prevacid I.V.)을 포함한다.
axr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lantus를 포함한다.
axs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 류코보린 칼슘 (류코보린 칼슘 주사제)을 포함한다.
axt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lente (L)를 포함한다.
Axu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Levemir를 포함한다.
axv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 류프로이드 아세테이트를 포함한다.
axw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 레보티록신을 포함한다.
axx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 레베티라세탐 (케프라 주사제)을 포함한다.
axy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lovenox를 포함한다.
axz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 레보카르니틴 주사제 (Carnitor 주사제)를 포함한다.
aya. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 렉시스칸 (레가데노손 주사제)을 포함한다.
ayb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lioresal Intrathecal (바클로펜 주사제)을 포함한다.
ayc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 리라글루타이드 (Liraglutide) [rDNA] 주사제 (Victoza)를 포함한다.
ayd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lovenox (에녹사파린 나트륨 주사제)를 포함한다.
aye. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lucentis (라니비주맙 주사제)를 포함한다.
ayf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lupron (류프롤라이드 아세테이트 주사제)을 포함한다.
ayg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lusedra (포스프로포폴 이나트륨 주사제)를 포함한다.
ayh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 황산마그네슘 (황산마그네슘 주사제)를 포함한다.
ayi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 만니톨 주사제 (만니톨 IV)를 포함한다.
ayj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Marcaine (부피바카인 하이드로클로라이드 및 에피네프린 주사제)을 포함한다.
ayk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Maxipime (주사제용 세페핌 하이드로클로라이드)을 포함한다.
ayl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 테크네튬 주사제의 MDP Multidose Kit (테크네튬 Tc99m 메드로네이트 주사제)를 포함한다.
aym. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메카세르민 [rDNA 유래] 주사제 (Increlex)를 포함한다.
ayn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메카세르민 린파베이트 [rDNA 유래] 주사제 (Iplex)를 포함한다.
ayo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 멜팔란 Hcl 주사제 (알케란 주사제)를 포함한다.
ayp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메토트렉세이트를 포함한다.
ayq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메나크트라를 포함한다.
ayr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메노푸어 (Menopur) (메노트로핀스 주사제)를 포함한다.
ays. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 메노트로핀스 (Repronex)를 포함한다.
ayt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 메토헥시탈 나트륨 (브레피탈 나트륨)을 포함한다.
ayu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메틸도페이트 하이드로클로라이드 주사 용액 (메틸도페이트 Hcl)을 포함한다.
ayv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메틸렌 블루 (메틸렌 블루 주사제)를 포함한다.
ayw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메틸프레드니솔론 아세테이트 주사가능 현탁액 (Depo Medrol)을 포함한다.
ayx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메토클로프라미드 주사제 (레글란 (Reglan) 주사제)를 포함한다.
ayy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Metrodin (주사제용 유로폴리트로핀)을 포함한다.
ayz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메트로니다졸 주사제 (Flagyl 주사제)를 포함한다.
aza. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 미아칼신 (miacalcin)을 포함한다.
azb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 미다졸람 (미다졸람 주사제)을 포함한다.
azc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Minocin 주사제 (미노사이클린 주사제)를 포함한다.
azd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 미노사이클린 주사제(Minocin 주사제)를 포함한다.
aze. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사 농축물용 미톡산트론 (Novantrone)을 포함한다.
azf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 모르핀 주사제 (Duramorph)를 포함한다.
azg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 모르핀 설페이트 XR 리포좀 주사제 (DepoDur)를 포함한다.
azh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 모르후에이트 나트륨 (모르후에이트 나트륨 주사제)을 포함한다.
azi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Mozobil (플레릭사포르 (Plerixafor) 주사제)을 포함한다.
azj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Multihance (가도베네이트 다이메글루민 주사제)을 포함한다.
azk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 복합 전해질 및 덱스트로제 주사제를 포함한다.
azl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 복합 전해질 주사제를 포함한다.
azm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Mylotarg (주사제용 겜투주맙 오조가미신)를 포함한다.
azn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 나프실린 주사제 (나프실린 나트륨)를 포함한다.
azo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 나프실린 나트륨 (나프실린 주사제)을 포함한다.
azp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 날트렉손 XR 주사제 (비비트롤)를 포함한다.
azq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 NeoProfen (이부프로펜 라이신 주사제)을 포함한다.
azr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 난드롤 데카노에이트를 포함한다.
azs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 네오스티그민 메틸설페이트 (네오스티그민 메틸설페이트 주사제)를 포함한다.
azt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 NeoTect (테스네튬 Tc 99m 데프레오타이드 주사제)를 포함한다.
azu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 네프라민 (필수 아미노산 주사제)을 포함한다.
azv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Neulasta를 포함한다.
azw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Neupogen을 포함한다.
azx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Novolin을 포함한다.
azy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Novolog를 포함한다.
azz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 NeoRecormon을 포함한다.
baa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Neutrexin (트리메트렉세이트 글루쿠로네이트 주사제)을 포함한다.
bab. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 NPH (N)을 포함한다.
bac. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Nexterone (아미오다론 HCl 주사제)을 포함한다.
bad. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Norditropin (소마트로핀 주사제)을 포함한다.
bae. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Normal Saline (염화나트륨 주사제)을 포함한다.
baf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Novantrone (주사 농축물용 미톡산트론)을 포함한다.
bag. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Novolin 70/30 Innolet (70% NPH, 인간 인슐린 이소판 현탁액 및 30% 속효성 인간 인슐린 주사제)을 포함한다.
bah. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 NovoLog (인슐린 아스파르트 [rDNA 유래] 주사제)를 포함한다.
bai. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Nutropin (주사제용 소마트로핀 (rDNA 유래))을 포함한다.
baj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Nutropin Depot (주사제용 소마트로핀 (rDNA 유래))을 포함한다.
bak. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 옥트레오타이드 아세테이트 주사제 (산도스타틴 LAR)를 포함한다.
bal. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 오클리주맙 (Ocrelizumab)을 포함한다.
bam. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 오파투무맙 주사제 (Arzerra)를 포함한다.
ban. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 올라자핀 서방출형 주사가능 현탁액 (Zyprexa Relprevv)을 포함한다.
bao. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 옴니트로프 (소마트로핀 [ rDNA 유래] 주사제)를 포함한다.
bap. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 온단세트론 하이드로클로라이드 주사제 (Zofran 주사제)를 포함한다.
baq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 OptiMARK (가도베르세타미드 주사제)를 포함한다.
bar. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Optiray 주사제 (이오베르솔 주사제)를 포함한다.
bas. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Orencia를 포함한다
bat. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Aviva 내 Osmitrol 주사제 (Aviva 플라스틱 용기 내 만니톨 주사제)를 포함한다.
bau. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Viaflex 내 Osmitrol 주사제 (Viaflex 플라스틱 용기 내 만니톨 주사제)를 포함한다.
bav. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ovidrel (코리오고나도트로핀 알파 주사제)을 포함한다.
baw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 옥사실린 (주사제용 옥사실린)을 포함한다.
bax. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 옥살리플라틴 주사제 (Eloxatin)를 포함한다.
bay. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 옥시토신 주사제 (Pitocin)를 포함한다.
baz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 팔리페리돈 팔미테이트 서방출형 주사가능 현탁액 (Invega Sustenna)을 포함한다.
bba. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 파미드로네이트 이나트륨 주사제 (파미드로네이트 이나트륨 주사제)를 포함한다.
bbb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 정맥내 용도의 파니투무맙 주사제 (Vectibix)를 포함한다.
bbc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 파파베린 하이드로클로라이드 주사제 (파파베린 주사제)를 포함한다.
bbd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 파파베린 주사제 (파파베린 하이드로클로라이드 주사제)를 포함한다.
bbe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 부갑상선 호르몬을 포함한다.
bbf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 파리칼시톨 주사제 Fliptop 바이얼 (Zemplar 주사제)을 포함한다.
bbg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페디아릭스를 포함한다.
bbh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 PEGIntron을 포함한다.
bbi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페긴터페론 (Peginterferon)을 포함한다.
bbk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페그필그라스팀 (Pegfilgrastim)을 포함한다.
bbl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페니실린 G 벤자틴 및 페니실린 G 프로카인을 포함한다.
Bbm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 펜테테이트 칼슘 트리나트륨 주사제(Ca-DTPA)를 포함한다.
bbn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 펜테테이트 아연 트리나트륨 주사제 (Zn-DTPA)를 포함한다.
bbo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 펩시드 주사제 (파모티딘 주사제)를 포함한다.
bbp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페르고날을 포함한다.
bbq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 펜톨아민 메실레이트 (주사제용 펜톨아민 메실레이트)를 포함한다.
bbr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 피소스티그민 살리실레이트 (피소스티그민 살리실레이트 (주사제))를 포함한다.
bbs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 피소스티그민 살리실레이트 (주사제) (피소스티그민 살리실레이트)를 포함한다.
bbt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 피페라실린 및 타조박탐 주사제 (Zosyn)를 포함한다.
bbu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 피토신 (옥시토신 주사제)을 포함한다.
bbv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 플라즈마-Lyte 148 (복합 전해질 주사제)을 포함한다.
bbw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 플라즈마-Lyte 56 및 덱스트로제 (Viaflex 플라스틱 용기 내 복합 전해질 및 덱스트로제 주사제)를 포함한다.
bbx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 플라즈마Lyte를 포함한다.
bby. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 플레릭사포르 주사제 (Mozobil)를 포함한다.
bbz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 폴리도카놀 주사제 (Asclera)를 포함한다.
bca. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 염화칼륨을 포함한다.
bcb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 정맥내 주사용 프랄라트렉세이트 용액 (Folotyn)를 포함한다.
bcc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 프람린타이드 (Pramlintide) 아세테이트 주사제 (Symlin)를 포함한다.
bcd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Premarin 주사제 (주사제용 배합 에스트로겐)을 포함한다.
bce. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 테크네튬 Tc99 세스타미비에 대한 Prep kit (Cardiolite)를 포함한다.
bcf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Prevacid I.V. (주사제용 란소프라졸)를 포함한다.
bcg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Primaxin I.V. (주사제용 이미페넴 및 실라스타틴)를 포함한다.
bch. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 프로세트세론을 포함한다.
bci. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 ProHance (가도테리돌 주사 용액)를 포함한다.
bcj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Prolia (데노수맙 주사제)를 포함한다.
bck. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 프로메타진 HCl 주사제 (프로메타진 하이드로클로라이드 주사제)를 포함한다.
bcl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 프로파놀롤 하이드로클로라이드 주사제 (프로파놀롤 하이드로클로라이드 주사제)를 포함한다.
bcm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 퀴니딘 글루코네이트 주사제 (퀴니딘 주사제)를 포함한다.
bcn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 퀴니딘 주사제 (퀴니딘 글루코네이트 주사제)를 포함한다.
bco. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 R-Gene 10 (아르기닌 하이드로클로라이드 주사제)을 포함한다.
bcp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 라니비주맙 주사제 (Lucentis)를 포함한다.
bcq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 라니티딘 하이드로클로라이드 주사제 (Zantac 주사제)를 포함한다.
bcr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Reclast (졸레드론산 주사제)를 포함한다.
bcs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Recombivarix HB를 포함한다.
bct. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 레가데노손 주사제 (Lexiscan)를 포함한다.
bcu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 레글란 주사제 (메토클로프라미드 주사제)를 포함한다.
bcv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 레미케이드 (Remicade)를 포함한다.
bcw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Repronex (주사제용 메노프로핀스)를 포함한다.
bcx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Retrovir IV (Zidovudine 주사제)를 포함한다.
bcy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 링거액 및 5% 덱스트로제 주사제 (덱스트로제 내 링거액)를 포함한다.
bcz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ringer’s 주사제 (링거 주사제)를 포함한다.
bda. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Rituxan을 포함한다.
bdb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 리툭시맙 (Rituximab)을 포함한다.
bdc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 브롬화 로쿠로늄 주사제 (Zemuron)를 포함한다.
bdd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 로미뎁신 (Istodax)을 포함한다.
bde. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Saizen (소마트로핀 주사제)을 포함한다.
bdf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Sandostatin LAR (옥트레오타이드 아세테이트 주사제)를 포함한다.
bdg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Sensorcaine (부피바카인 HCI 주사제)을 포함한다.
bdh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Septocaine (아티카인 HCl 및 에피네프린 주사제)을 포함한다.
bdi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Serostim LQ (소마트로핀 (rDNA 유래) 주사제)를 포함한다.
bdj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Simponi 주사제 (골리무맙 주사제)를 포함한다.
bdk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아세트산나트륨 (아세트산나트륨 주사제)을 포함한다.
bdl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 중탄산나트륨 (중탄산나트륨 5% 주사제)을 포함한다.
bdm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 젖산나트륨 (AVIVA 내 젖산나트륨 주사제)을 포함한다.
bdn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페닐 아세트산나트륨 및 벤조산나트륨주사제 (Ammonul)를 포함한다.
bdo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 소마트로핀 (rDNA 유래) (Nutropin)을 포함한다.
bdp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 스포라녹스 주사제 (이트라코나졸 주사제)를 포함한다.
bdq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Stelara 주사제 (우스테키누맙)를 포함한다.
bdr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 수펜타 (Sufenta) (수펜타닐 시트레이트 주사제)를 포함한다.
bds. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 수펜타닐 시트레이트 주사제 (수펜타)를 포함한다.
bdt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 수마벨 (Sumavel)을 포함한다.
bdu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 수마트립탄 주사제 (Alsuma)를 포함한다
bdv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 심린 (Symlin)을 포함한다.
bdw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 심린펜을 포함한다.
bdx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Synvisc-One (Hylan G-F 20 Single 관절내 주사제)을 포함한다.
bdy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 탁소티어 (Taxotere) (주사제용 도세탁셀)를 포함한다.
bdz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 vvTechnetium Tc 99m를 포함한다.
bea. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 텔라반신 (Telavancin)을 포함한다.
beb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 템시로리무스 (Temsirolimus) 주사제 (Torisel)를 포함한다.
bec. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 테노르민 I.V. 주사제 (Atenolol Inj)를 포함한다.
bed. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 테리파라타이드 (rDNA 유래) 주사제 (Forteo)를 포함한다.
bee. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 테스토스테론 시피오네이트를 포함한다.
bef. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 테스토스테론 에난테이트를 포함한다.
beg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 테스토스테론 프로피오네이트를 포함한다.
beh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Tev-트로핀 (주사제용 소마트로핀, rDNA 유래)을 포함한다.
bei. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 tgAAC94를 포함한다.
bej. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 염화탈륨을 포함한다.
bek. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 테오필린 (Theophylline)을 포함한다.
bel. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 티오테파 (티오테파 주사제)를 포함한다.
bem. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 타이로겐 (주사제용 타이로트로핀 알파)을 포함한다.
ben. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 (티카르실린 이나트륨 및 클라불라네이트 칼륨 갤럭시 (티멘틴 주사제)를 포함한다.
beo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 티간 (Tigan) 주사제 (트리메토벤즈아미드 하이드로클로라이드 주사가능 물질) 을 포함한다.
bep. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 티멘틴 주사제 (티카르실린 이나트륨 및 클라불라네이트 칼륨 갤럭시)를 포함한다.
beq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 토브라마이신 주사제 (Tobramycin Injection)를 포함한다
ber. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 토실리주맙 주사제 (Actemra)를 포함한다.
bes. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Torisel (템시롤리무스 주사제)을 포함한다.
bet. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Totect (주사제용 덱스라족산, 정맥내 주입만 가능)을 포함한다.
beu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Travasol (아미노산 (주사제))을 포함한다.
bev. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Treanda (벤다무스틴 하이드로클로라이드 주사제)를 포함한다.
bew. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Trelstar (트립토렐린 파모에이트 주사가능 현탁액)를 포함한다.
bex. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 트리암시놀론 아세토나이드를 포함한다.
bey. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 트리암시놀론 디아세테이트를 포함한다.
bez. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 트리암시놀론 헥스아세토나이드 주사가능 현탁액 (Aristospan 주사제 20 mg)을 포함한다.
bfa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Triesence (트리암시놀론 아세토나이드 주가가능 현탁액)를 포함한다.
bfb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 트리메토벤즈아미드 하이드로클로라이드 주사가능 물질 (Tigan 주사제)을 포함한다.
bfc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 트리메트렉세이트 글루쿠로네이트 주사제(Neutrexin)를 포함한다.
bfd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 트립토렐린 파모에이트 주사가능 현탁액 (Trelstar)을 포함한다.
bfe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Twinject를 포함한다.
bff. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Trivaris (트리암시놀론 아세토나이드 주사가능 현탁액)를 포함한다.
bfg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Trisenox (삼산화비소 주사제)를 포함한다.
bfh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Twinrix를 포함한다.
bfi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Typhoid Vi을 포함한다.
bfj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ultravist (이오프로마이드 주사제)를 포함한다.
bfk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 우로폴리트로핀 (Metrodin)을 포함한다.
bfl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 우로키나아제 주사제 (킨리틱)를 포함한다.
bfm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 우스테키투맙 (Stelara 주사제)을 포함한다.
bfn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 울트라렌테 (U)를 포함한다.
bfo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 밸프로에이트 나트륨 주사제 (Depacon)를 포함한다.
bfp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 밸트로핀 (소마트로핀 주사제)을 포함한다.
bfq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 반코마이신 하이드로클로라이드 (반코마이신 하이드로클로라이드 주사제)를 포함한다.
bfr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 반코마이신 하이드로클로라이드 주사제 (반코마이신 하이드로클로라이드)를 포함한다.
bfs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Vaprisol (코니밥탄 Hcl 주사제)을 포함한다.
bft. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 VAQTA를 포함한다.
bfu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Vasovist (정맥내 용도의 마가포스베셋 트리나트륨 주사제)를 포함한다.
bfv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Vectibix (정맥내 용도의 파니투무맙 주사제)를 포함한다.
bfw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Venofer (철 수크로오스 주사제)를 포함한다.
bfx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 베르테포핀 주사제(Visudyne)를 포함한다.
bfy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Vibativ (주사제용 텔라반신)를 포함한다.
bfz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Victoza (리라글루타이드 [rDNA] 주사제)를 포함한다.
bga. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Vimpat (라코사마이드정 및 주사제)를 포함한다.
bgb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 빈플라스틴 설페이트 (빈플라스틴 설페이트 주사제)를 포함한다.
bgc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Vincasar PFS (빈크리스틴 설페이트 주사제)를 포함한다.
bgd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Victoza를 포함한다.
bge. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 빈크리스틴 설페이트 (빈크리스틴 설페이트 주사제)를 포함한다.
bgf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Visudyne (베르테포르핀 주사제)을 포함한다.
bgg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 비타민 B-12를 포함한다.
bgh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Vivitrol (날트렉손 XR 주사제)을 포함한다.
bgi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Voluven (염화나트륨 내 하이드록시에틸 전분 주사제)을 포함한다.
bgj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Xeomin (주사제용 인코보툴리눔톡신 A)을 포함한다.
bgk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zantac 주사제 (라니티딘 하이드로클로라이드 주사제)를 포함한다.
bgl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zemplar 주사제 (파리칼시톨 주사제 Fliptop 바이얼)를 포함한다.
bgm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zemuron (브롬화 로쿠로늄 주사제)을 포함한다.
bgn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zevalin을 포함한다.
bgo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zidovudine 주사제 (Retrovir IV)를 포함한다.
bgp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zithromax 주사제 (아지트로마이신)를 포함한다.
bgq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zn-DTPA (펜테테이트 아연 트리나트륨 주사제)를 포함한다.
bgr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zofran 주사제 (온단세트론 하이드로클로라이드 주사제)를 포함한다.
bgs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zingo를 포함한다.
bgt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 주사제용 졸레드론산 주사제 (Zometa) 포함한다.
bgu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 졸레드론산 주사제 (Reclast)를 포함한다.
bgv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zometa (졸레드론산 주사제)를 포함한다.
bgw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zosyn (피페라실린 및 타조막탐 주사제)을 포함한다.
bgx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zyprexa Relprevv (올라자핀 서방출형 주사가능 현탁액)를 포함한다.
bgy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Abilify를 포함한다.
bgz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 AccuNeb (알부테롤 설페이트 흡입액)을 포함한다.
bha. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Actidose Aqua (활성탄 현탁액)을 포함한다.
bhb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 활성탄 현탁액 (Actidose Aqua)을 포함한다.
bhc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Advair를 포함한다.
bhd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아게네라제 구강 용액 (Amprenavir 구강액)을 포함한다.
bhe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Akten (리도카인 하이드로클로라이드 점안겔)을 포함한다.
bhf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Alamast (페미로라스트 칼륨 점안액)를 포함한다.
bhg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알부민 (인간) 5% 용액 (부미네이트 5%)을 포함한다.
bhh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알부테롤 설페이트 흡입액을 포함한다.
bhi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Alinia를 포함한다.
bhj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Alocril을 포함한다.
bhk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Alphagan을 포함한다.
bhl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Alrex를 포함한다.
bhm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Alvesco를 포함한다.
bhn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Amprenavir 구강액을 포함한다.
bho. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Analpram-HC를 포함한다.
bhp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아르포모테롤 타르트레이트 흡입액 (Brovana)을 포함한다.
bhq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Aristospan 주사제 20 mg (트리암시놀론 헥사세토나이드 주사가능 현탁액)을 포함한다.
bhr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Asacol을 포함한다.
bhs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Asmanex Astepro를 포함한다.
bht. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Astepro (아젤라스틴 하이드로클로라이드 비강 스프레이)를 포함한다.
bhu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Atrovent 비강 스프레이 (브롬화 이프라트로퓸 비강 스프레이)를 포함한다.
bhv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Atrovent 비강 스프레이.06을 포함한다.
bhw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Augmentin ES-600을 포함한다.
bhx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Azasite (아지트로마이신 점안액)를 포함한다.
bhy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아젤라산 (피나시아 겔)을 포함한다.
bhz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아젤라스틴 하이드로클로라이드 비강 스프레이 (Astepro)를 포함한다.
bia. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Azelex (아젤라산 크림)를 포함한다.
bib. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Azopt (브린졸라미드 점안 현탁액)를 포함한다.
bic. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 정균 생리식염수를 포함한다.
bid. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 평형염을 포함한다.
bie. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 베포타스틴을 포함한다.
bif. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Bactroban Nasal을 포함한다.
big. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Bactroban을 포함한다.
bih. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Beclovent를 포함한다.
bii. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Benzac W를 포함한다.
bij. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Betimol을 포함한다.
bik. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Betoptic S를 포함한다.
bil. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Bepreve를 포함한다.
bim. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 비마토프로스트 점안액을 포함한다.
bin. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Bleph 10 (설파세타미드 나트륨 점안액 10%)을 포함한다.
bio. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 브린졸라미드 점안 현탁액 (Azopt)을 포함한다.
bip. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 브롬페낙 점안액 (Xibrom)을 포함한다.
biq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Bromhist를 포함한다.
bir. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Brovana (아르포모테롤 타르트레이트 흡입액)를 포함한다.
bis. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 부데소나이드 흡입 현탁액 (Pulmicort Respules)을 포함한다.
bit. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cambia (구강액용 디클로페낙 칼륨)를 포함한다.
biu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Capex를 포함한다.
biv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Carac을 포함한다.
biw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Carboxine-PSE를 포함한다.
bix. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Carnitor를 포함한다.
biy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cayston (흡입액용 아즈트레오남)을 포함한다.
biz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cellcept를 포함한다.
bja. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Centany를 포함한다.
bjb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cerumenex를 포함한다.
bjc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ciloxan 점안액 (사이프로플록사신 HCL 점안액)을 포함한다.
bjd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ciprodex를 포함한다.
bje. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 사이프로플록사신 HCL 점안액 (Ciloxan 점안액)을 포함한다.
bjf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 클레마스틴 푸마레이트 시럽(Clemastine Fumarate Syrup)을 포함한다.
bjg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CoLyte (PEG 전해질 용액)를 포함한다.
bjh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Combiven을 포함한다.
bji. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Comtan을 포함한다.
bjj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Condylox를 포함한다.
bjk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cordran을 포함한다.
bjl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cortisporin 점안 현탁액을 포함한다.
bjm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cortisporin 점이 현탁액을 포함한다.
bjn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 크로몰린 나트륨 흡입액 (Intal Nebulizer Solution)을 포함한다.
bjo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 크로몰린 나트륨 점안액 (Opticrom)을 포함한다.
bjp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 전해질 함유 결정성 아미노산 용액 (아미노신 전해질) 포함한다.
bjq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cutivate를 포함한다.
bjr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cuvposa (글리코피롤레이트 구강액)를 포함한다.
bjs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 시아노코발라민 (CaloMist 비강 스프레이)을 포함한다.
bjt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 사이클로스포린 구강액 (Gengraf 구강액)을 포함한다.
bju. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 사이클로질을 포함한다.
bjv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Cysview (헥사미노레불리네이트 방광내 용액)를 포함한다.
bjw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 DermOtic 오일 (플루오시놀론 아세토나이드 오일 점이액)을 포함한다.
bjx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Desmopressin 아세테이트 비강 스프레이를 포함한다.
bjy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 DDAVP를 포함한다.
bjz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Derma-Smoothe/FS를 포함한다.
bka. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 덱사메타손 Intensol을 포함한다.
bkb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Dianeal Low Calcium을 포함한다.
bkc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Dianeal PD를 포함한다.
bkd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 구강액용 디클로페낙 칼륨 (Cambia)을 포함한다.
bke. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 구강액용 디다노신 소아용 분말 (Videx)을 포함한다.
bkf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Differin을 포함한다.
bkg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Dilantin 125 (페니토인 경구용 현탁액)을 포함한다.
bkh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ditropan을 포함한다.
bki. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 도르졸라미드 하이드로클로라이드 점안액 (Trusopt)을 포함한다.
bkj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 도르졸라미드 하이드로클로라이드-티몰롤 말리에이트 점안액 (Cosopt)을 포함한다.
bkk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Dovonex Scalp (칼시포트리엔 용액)을 포함한다.
bkl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 독시사이클린 칼슘 경구용 현탁액 (Vibramycin Oral)을 포함한다.
bkm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Efudex를 포함한다.
bkn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Elaprase (이두설파제 용액)를 포함한다.
bko. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Elestat (에피나스틴 HCl 점안액)를 포함한다.
bkp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Elocon을 포함한다.
bkq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에피나스틴 HCl 점안액 (Elestat)을 포함한다.
bkr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Epivir HBV를 포함한다.
bks. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Epogen을 포함한다.
bkt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에리트로마이신 외용액 1.5% (Staticin)를 포함한다.
bku. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에티오돌 (에티오다이즈드 오일)을 포함한다.
bkv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에토숙시미드 구강액 (Zarontin 구강액)을 포함한다.
bkw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Eurax를 포함한다.
bkx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Extraneal (이코덱스트린 복막 투석액)을 포함한다.
bky. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Felbatol을 포함한다.
bkz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Feridex I.V. (페럼옥사이드 주사가능 용액)를 포함한다.
bla. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Flovent를 포함한다.
blb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Floxin Otic (오플록사신 점이액)을 포함한다.
blc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Flo-Pred (프레드니솔론 아세테이트 구강용 현탁액)를 포함한다.
bld. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Fluoroplex를 포함한다.
ble. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 플루니솔리드 점비액 (플루니솔리드 비강 스프레이 0.025%)을 포함한다.
blf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 플루오로메톨론 점안 현탁액 (FML)을 포함한다.
blg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 플루르비프로펜 나트륨 점안액 (Ocufen)을 포함한다.
blh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 FML을 포함한다.
bli. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Foradil을 포함한다.
blj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 포르포테롤 푸마레이트 흡입액 (Perforomist)을 포함한다.
blk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Fosamax를 포함한다.
bll. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Furadantin (니트로푸란토인 구강용 현탁액)을 포함한다.
blm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Furoxone을 포함한다.
bln. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Gammagard Liquid (정맥내 면역 글로불린 (인긴) 10%)를 포함한다.
blo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Gantrisin (아세틸 설피속사졸 소아용 현탁액)을 포함한다.
blp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 가티플록사신 점안액 (Zymar)을 포함한다.
blq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Gengraf 구강액 (사이클로스포린 구강액)을 포함한다.
blr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 글리코피롤레이트 구강액 (Cuvposa)을 포함한다.
bls. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 할시노나이드 외용액 (Halog Solution)을 포함한다.
blt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Halog Solution (할시노나이드 외용액)을 포함한다.
blu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 HEP-LOCK U/P (무방부제 헤파린 록 관류 용액)를 포함한다.
blv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 무방부제 헤파린 록 관류 용액 (Hepflush 10)을 포함한다.
blw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 헥사미노레불리네이트 하이드로클로라이드 방광내 용액 (Cysview)을 포함한다.
blx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 하이드로코돈 바이타르트레이트 및 아세타미노펜 구강액 (Lortab Elixir)을 포함한다.
bly. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 하이드로퀴논 3% 외용액 (Melquin-3 외용액)을 포함한다.
blz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Isopto를 포함한다.
bma. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 브롬화 이프라트로퓸 비강 스프레이 (Atrovent 비강 스프레이)를 포함한다
bmb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 이트라코나졸 구강액 (스포라녹스 구강액)을 포함한다.
bmc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 케토롤락 트로메타민 점안액 (Acular LS)을 포함한다.
bmd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Kaletra를 포함한다.
bme. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lanoxin을 포함한다.
bmf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lexiva를 포함한다.
bmg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 류프로라이드 아세테이트 Depot 현탁액 (Lupron Depot 11.25 mg)을 포함한다.
bmh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 레보베탁소롤 하이드로클로라이드 점안 현탁액 (Betaxon)을 포함한다.
bmi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 레보카르니틴정, 구강액, 무설탕 (Carnitor)을 포함한다.
bmj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 레보플록사신 점안액 0.5% (Quixin)을 포함한다.
bmk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 리도카인 HCl 살균액 (크실로카인 MPF 살균액)을 포함한다.
bml. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lok Pak (헤파린 록 관류 용액)을 포함한다.
bmm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lorazepam Intensol을 포함한다.
bmn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lortab Elixir (하이드로코돈 바이타르트레이트 및 아세타미노펜 구강액)를 포함한다.
bmo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lotemax (로테프레드놀 에타보네이트 점안 현탁액)를 포함한다.
bmp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 로테프레드놀 에타보네이트 점안 현탁액 (Alrex)을 포함한다.
bmq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 저칼슘 복막 투석액 (Dianeal Low Calcium)을 포함한다.
bmr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lumigan (녹내장용 비마토프로스트 점안액 0.03%)을 포함한다.
bms. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Lupron Depot 11.25 mg (Depot 현탁액용 류프롤라이드 아세테이트)을 포함한다.
bmt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메세스트롤 아세테이트 경구용 현탁액 (Megestrol Acetate 경구용 현탁액)을 포함한다.
bmu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Mepron을 포함한다.
bmv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Mesnex를 포함한다.
bmw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Mestinon을 포함한다.
bmx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메살라민 직장 현탁액 관장제 (Rowasa)를 포함한다.
bmy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Melquin-3 외용액 (하이드로퀴논 3% 외용액)을 포함한다.
bmz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Methyldopate Hcl (메틸도페이트 하이드로클로라이드 주사제, 용액)을 포함한다.
bna. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Methylin 구강액 (메틸페니데이트 HCl 구강액 5 mg/5 mL 및 10 mg/5 mL)을 포함한다.
bnb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메틸프레드니솔론 아세테이트 주사가능 현탁액 (Depo Medrol)을 포함한다.
bnc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메틸페니데이트 HCl 구강액 5 mg/5 mL 및 10 mg/5 mL (Methylin 구강액)을 포함한다.
bnd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메틸프레드니솔론 나트륨 숙시네이트 (Solu Medrol)을 포함한다.
bne. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메티프라놀롤 점안액 (Optipranolol)을 포함한다.
bnf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Migranal을 포함한다.
bng. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Miochol-E (염화 아세틸콜린 안구내 (intraocular) 용액)을 포함한다.
bnh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 액체 현탁액용 Micro-K (액체 현탁액용 염화칼륨 서방출형 제제)를 포함한다.
bni. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Minocin (미노사이클린 하이드로클로라이드 경구용 현탁액)을 포함한다.
bnj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Nasacort를 포함한다.
bnk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 네오마이신 및 폴리믹신 B 설페이트 및 하이드로코티존을 포함한다.
bnl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 네파페낙 점안 현탁액 (Nevanac)을 포함한다.
bnm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Nevanac (네파페낙 점안 현탁액)을 포함한다.
bnn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 니트로푸란토인 경구용 현탁액 (Furadantin)을 포함한다.
bno. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Noxafil (포사코나졸 경구용 현탁액)을 포함한다.
bnp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Nystatin (oral) (니스타틴 경구용 현탁액)을 포함한다.
bnq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 니스타틴 경구용 현탁액 (Nystatin (oral))을 포함한다.
bnr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ocufen (플루르비프로펜 나트륨 점안액)을 포함한다.
bns. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 오플록사신 점안액 (Ofloxacin Ophthalmic Solution)을 포함한다.
bnt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 오플록사신 점이액 (Floxin Otic)을 포함한다.
bnu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 올로파타딘 하이드로클로라이드 점안액 (Pataday)을 포함한다.
bnv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Opticrom (크로몰린 나트륨 점안액)을 포함한다.
bnw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Optipranolol (메티프라놀롤 점안액)을 포함한다.
bnx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Patanol을 포함한다.
bny. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Pediapred를 포함한다.
bnz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 PerioGard를 포함한다.
boa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페니토인 경구용 현탁액 (Dilantin 125)을 포함한다.
bob. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Phisohex를 포함한다.
boc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 포사코나졸 경구용 현탁액 (Noxafil)을 포함한다.
bod. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 액체 현탁액용 염화칼륨 서방출형 제제 (액체 현탁액용 Micro-K)를 포함한다.
boe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Pataday (올로파타딘 하이드로클로라이드 점안액)를 포함한다.
bof. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Patanase 비강 스프레이 (올로파타딘 하이드로클로라이드 비강 스프레이)를 포함한다.
bog. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 PEG 전해질 용액 (CoLyte)을 포함한다.
boh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페미롤라스트 칼륨 점안액 (Alamast)을 포함한다.
boi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Penlac (시클로피록스 외용액)을 포함한다.
boj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 PENNSAID (디클로페낙 나트륨 외용액)를 포함한다.
bok. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Perforomist (포모테롤 푸마레이트 흡입액)를 포함한다.
bol. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 복막 투석액을 포함한다.
bom. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페닐에프린 하이드로클로라이드 점안액 (Neo-Synephrine)을 포함한다.
bon. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 요오드화 포스폴린 (점안액용 요오드화 에코티오페이트)을 포함한다.
boo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Podofilox (포도필록스 외용액)을 포함한다.
bop. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Pred Forte (프레드니솔론 아세테이트 점안 현탁액)를 포함한다.
boq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 정맥내 주사용 프랄라트렉세이트 용액 (Folotyn)을 포함한다.
bor. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Pred Mild를 포함한다.
bos. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Prednisone Intensol을 포함한다.
bot. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 프레드니솔론 아세테이트 점안 현탁액 (Pred Forte)을 포함한다.
bou. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Prevacid를 포함한다.
bov. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 PrismaSol 용액 (살균 혈액여과 혈액투석여과 용액)을 포함한다.
bow. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 ProAir를 포함한다.
box. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Proglycem을 포함한다.
boy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 ProHance (가도테리돌 주사 용액)를 포함한다.
boz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 프로파라카인 하이드로클로라이드 점안액 (Alcaine)을 포함한다.
bpa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Propine을 포함한다.
bpb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Pulmicort를 포함한다.
bpc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Pulmozyme을 포함한다.
bpd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Quixin (레보플록사신 점안액 0.5%)을 포함한다.
bpe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 QVAR를 포함한다.
bpf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Rapamune을 포함한다.
bpg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Rebetol을 포함한다.
bph. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Relacon-HC를 포함한다.
bpi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Rotarix (로타바이러스 백신, Live, 경구용 현탁액)를 포함한다.
bpj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 로타바이러스 백신, Live, 경구용 현탁액 (Rotarix)을 포함한다.
bpk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Rowasa (메살라민 직장 현탁액 관장제)를 포함한다.
bpl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Sabril (비가바트린 구강액)을 포함한다.
bpm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 사크로시다제 구강액 (Sucraid)을 포함한다.
bpn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Sandimmune을 포함한다.
bpo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Serevent Diskus를 포함한다.
bpp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Solu Cortef (하이드로코티존 나트륨 숙시네이트)를 포함한다.
bpq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Solu Medrol (메틸프레드니솔론 나트륨 숙시네이트)을 포함한다.
bpr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Spiriva를 포함한다.
bps. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 스포라녹스 구강액 (이트라코나졸 구강액)을 포함한다.
bpt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Staticin (에리트로마이신 외용액 1.5%)을 포함한다.
bpu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Stalevo를 포함한다.
bpv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Starlix를 포함한다.
bpw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 살균 혈액여과 혈액투석여과 용액 (PrismaSol 용액)을 포함한다.
bpx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Stimate를 포함한다.
bpy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 수크랄페이트 (카라페이트 현탁액)를 포함한다.
bpz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 설파세타미드 나트륨 점안액 10% (Bleph 10)를 포함한다.
bqa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Synarel 점비액 (자궁내막증용 나파렐린 아세테이트 점비액)을 포함한다.
bqb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Taclonex Scalp (칼시포트리엔 및 베타메타손 디프로피오네이트 외용 현탁액)를 포함한다.
bqc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Tamiflu를 포함한다.
bqd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Tobi를 포함한다.
bqe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 TobraDex를 포함한다.
bqf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Tobradex ST (토브라마이신 / 덱사메타손 점안 현탁액 0.3%/0.05%)를 포함한다.
bqg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 토브라마이신 / 덱사메타손 점안 현탁액 0.3%/0.05% (Tobradex ST)를 포함한다.
bqh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Timolol을 포함한다.
bqi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Timoptic을 포함한다.
bqj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Travatan Z를 포함한다.
bqk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 트레프로스티닐 흡입액 (Tyvaso)을 포함한다.
bql. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Trusopt (도르졸라미드 하이드로클로라이드 점안액)를 포함한다.
bqm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Tyvaso (트레프로스티닐 흡입액)를 포함한다.
bqn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ventolin을 포함한다.
bqo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Vfend를 포함한다.
bqp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Vibramycin Oral (독시사이클린 칼슘 경구용 현탁액)을 포함한다.
bqq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Videx (구강액용 디다노신 소아용 분말)를 포함한다.
bqr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 비가바트린 구강액 (Sabril)을 포함한다.
bqs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Viokase를 포함한다.
bqt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Viracept를 포함한다.
bqu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Viramune을 포함한다.
bqv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 비타민 K1 (비타민 K1의 콜로이드 수용액)을 포함한다.
bqw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Voltaren Ophthalmic (디클로페낙 나트륨 점안액)을 포함한다.
bqx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zarontin 구강액 (에토숙시미드 구강액)을 포함한다.
bqy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Ziagen을 포함한다.
bqz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zyvox를 포함한다.
bra. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zymar (가티플록사신 점안액)를 포함한다.
brb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Zymaxid (가티플록사신 점안액)을 포함한다
brc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 17-하이드록시프로게스테론을 포함한다.
brd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 ACE (앤지오텐신 I 전환 효소)를 포함한다
bre. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아세타미노펜을 포함한다.
brf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 산성 인산효소를 포함한다.
brg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 ACTH를 포함한다.
brh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 활성화 응고 시간을 가진다.
bri. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 활성화 단백질 C 저항성을 가진다.
brj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 부산피질자극 호르몬 (ACTH)을 포함한다.
brk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알라닌 아미노트랜스퍼라제 (ALT)를 포함한다.
brl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알부민을 포함한다.
brm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알돌라아제를 포함한다.
brn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알도스테론을 포함한다.
bro. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알칼리성 포스파타아제를 포함한다.
brp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알칼리성 포스파타아제 (ALP)를 포함한다.
brq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알파1-항트립신을 포함한다.
brr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알파-페토프로틴을 포함한다.
brs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 알파-페토프로테인을 포함한다.
brt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 암모니아 수준을 가진다.
bru. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아밀라아제를 포함한다.
brv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 ANA (항핵항체)를 포함한다.
brw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 ANA (항핵항체)를 포함한다.
brx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 앤지오텐신 전환 효소 (ACE)를 포함한다.
bry. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 음이온 갭을 가진다.
brz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 항카르디올리핀 항체를 포함한다.
bsa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 항카르디올리핀 항체 (ACA)를 포함한다.
bsb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 항동원체 항체를 포함한다.
bsc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 항이뇨성 호르몬을 포함한다.
bsd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Anti-DNA를 포함한다.
Bse. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Anti-Dnase-B를 포함한다.
bsf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 항-글리아딘 항체를 포함한다
bsg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 항사구체 기저막 항체를 포함한다.
bsh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Anti-HBc (간염 B 중핵항체)를 포함한다.
bsi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Anti-HBs (간염 B 표면 항체)를 포함한다.
bsj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 항인지질 항체를 포함한다.
bsk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Anti-RNA 폴리머라아제를 포함한다.
bsl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Anti-Smith (Sm) 항체를 포함한다.
bsm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Anti-Smooth 근육 항체를 포함한다.
bsn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 스트렙토리신항체 O (ASO)를 포함한다.
bso. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 안티트롬빈 III을 포함한다.
bsp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Anti-Xa 활성을 가진다.
bsq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Anti-Xa 분석된다.
bsr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아포지방단백질을 포함한다.
bss. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 비소를 포함한다.
bst. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 아스파르트산염 아미노트랜스퍼라제 (AST)를 포함한다.
bsu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 B12를 포함한다.
bsv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Basophil (호염기성 세포)을 포함한다.
bsw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 베타-2-마이크로글루불린을 포함한다.
bsx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 베타-하이드록시부티레이트를 포함한다.
bsy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 B-HCG를 포함한다.
bsz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 빌리루빈을 포함한다.
bta. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 direct 빌리루빈을 포함한다.
btb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 indirect 빌리루빈을 포함한다.
btc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 total 빌리루빈을 포함한다.
btd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 출혈시간을 가진다.
bte. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 (동맥) 혈액 가스를 포함한다.
btf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 혈액 요소 질소 (BUN)를 포함한다.
btg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 BUN을 포함한다.
bth. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 BUN (혈액 요소 질소)을 포함한다.
bti. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CA 125를 포함한다.
btj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CA 15-3을 포함한다.
btk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CA 19-9를 포함한다.
btl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 칼시토닌을 포함한다.
btm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 칼슘을 포함한다.
btn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 (이온화된) 칼슘을 포함한다.
bto. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 일산화탄소 (CO)를 포함한다.
btp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 암 배아 항원 (CEA)을 포함한다.
btq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CBC를 포함한다.
btr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CEA를 포함한다.
bts. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CEA (암 배아 항원)를 포함한다.
btt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 세룰로플라즈민 (Ceruloplasmin)을 포함한다.
btu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CH50클로라이드를 포함한다.
btv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 콜레스테롤을 포함한다.
btw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 콜레스테롤, HDL을 포함한다.
btx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 혈전 용해 시간을 가진다.
bty. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 혈병 퇴축 시간을 가진다.
btz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CMP를 포함한다.
bua. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CO2를 포함한다.
bub. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 한랭응집소를 가진다.
buc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Complement C3을 포함한다.
bud. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 구리를 포함한다.
bue. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 부신피질 자극 호르몬 분비 호르몬 (CRH) 자극 시험을 거친다.
buf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 코티졸을 포함한다.
bug. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 코트로신 자극 시험을 거친다.
buh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 C-펩타이드를 포함한다.
bui. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CPK (Total)를 포함한다.
buj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 CPK-MB를 포함한다.
buk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 C-반응성 단백질을 포함한다.
bul. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 크레아티닌을 포함한다.
bum. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 크레아티닌 키나아제 (CK)를 포함한다.
bun. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 한랭글로불린을 포함한다.
buo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 DAT (Direct antiglobulin test)를 거친다.
bup. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 D-다이머를 포함한다.
buq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 덱사메타손 억제 시험을 거친다.
bur. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 DHEA-S를 포함한다.
bus. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 희석 러셀 살무사 뱀독을 포함한다.
but. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 타원적혈구를 포함한다.
buu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 호산성물질 (Eosinophil)을 포함한다.
buv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에리트로사이트 침전률 (ESR)을 가진다.
buw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에스트라디올을 포함한다.
bux. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에스트리올을 포함한다.
buy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에탄올을 포함한다.
buz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 에틸렌 글리콜을 포함한다.
bva. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 유글로불린 용균을 포함한다.
bvb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Factor V Leiden을 가진다.
bvc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Factor VIII 억제제를 포함한다.
bvd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Factor VIII 레젤을 가진다.
bve. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 페리틴을 포함한다.
bvf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 피브린 분해 산물을 포함한다.
bvg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 피브리노겐을 포함한다.
bvh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 엽산을 포함한다.
bvi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 엽산 (혈청)을 포함한다.
bvj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 나트륨 분획 배설율 (FENA)을 가진다.
bvk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 FSH (모낭 자극 인자)를 포함한다.
bvl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 FTA-ABS를 포함한다.
bvm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 감마 글루타밀 트랜스퍼라제(GGT)를 포함한다.
bvm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 가스트린을 포함한다.
bvo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 GGTP (감마 글루타밀 트랜스퍼라제)를 포함한다.
bvp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 글루코오스를 포함한다.
bvq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 성장 호르몬을 포함한다.
bvr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 합토글로빈을 포함한다.
bvs. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 HBeAg (간염 Be 항원)을 포함한다.
bvt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 HBs-Ag (B형 간염 표면 항원)을 포함한다.
bvu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 헬리코박터 피롤리를 포함한다.
bvv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 헤바토크릿을 포함한다.
bvw. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 헤바토크릿 (HCT)을 포함한다.
bvx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 헤모글로빈을 포함한다.
bvy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 헤모글로빈 A1C를 포함한다.
bvz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 헤모글로빈 전기영동된다.
bwa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 A형 간염 항체를 포함한다.
bwb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 C형 간염 항체를 포함한다.
bwc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 IAT (간접 항글로불린 시험)를 거친다.
bwd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 면역고정 (IFE)된다.
bwe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 철을 포함한다.
bwf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 젖산 탈수소 효소 (LDH)를 포함한다.
bwg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 젖산 (락테이트)을 포함한다.
bwh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 LDH를 포함한다.
bwi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 LH (루틴화 호르몬)을 포함한다.
bwj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 리파아제를 포함한다.
bwk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 루푸스 항응고제를 포함한다.
bwl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 림프구를 포함한다.
bwm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 마그네슘을 포함한다.
bwn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 MCH (평균 혈구 혈색소)를 포함한다.
bwo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 MCHC (평균 혈구 혈색소 농도)를 포함한다.
bwp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 MCV (평균 혈구 용적)를 포함한다.
bwq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 메틸말로네이트를 포함한다.
bwr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 단핵 백혈구 (monocyte)를 포함한다.
bws. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 MPV (평균 혈소판 용적)를 가진다.
bwt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 미오글로빈을 포함한다.
bwu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 호중구 (neutrophil)를 포함한다.
bwv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 부갑상선 호르몬 (PTH)을 포함한다.
bww. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 인을 포함한다.
bwx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 혈소판 (plt)을 포함한다.
bwy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 칼륨을 포함한다.
bwz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 프리알부민을 포함한다.
bwa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 프롤락틴을 포함한다.
bwb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 전립선 특이 항원 (PSA)을 포함한다.
bwc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 단백질 C를 포함한다.
bwd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 단백질 S를 포함한다.
bwe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 PSA (전립선 특이 항원)를 포함한다.
bwf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 소정의 PT (프로트롬빈 시간)를 가진다.
bwg. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 소정의 PTT (부분 트롬보플라스틴 시간)를 가진다.
bwh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 소정의 RDW (적혈구 분포폭)를 가진다.
bwi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 renin (단백 분해 효소)을 포함한다.
bwj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 rennin (응유 효소)을 포함한다.
bwk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 소정의 망상 적혈구 비율을 가진다.
bwl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 망상 적혈구를 포함한다.
bwm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 소정의 류마티즘 인자 (RF)를 가진다.
bwm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 소정의 침강 속도를 가진다.
bwo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 혈청 글루탐산-피루부산 아미노기전달효소 (SGPT)를 포함한다.
bwp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 혈청 단백 전기영동 (SPEP)을 거친다.
bwq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 나트륨을 포함한다.
bwr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 소정의 T3-레진 섭취율 (T3RU)을 가진다.
bwr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 Free T4를 가진다.
bws. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 소정의 트롬빈 시간을 가진다.
bwt. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 갑상선 자극 호르몬 (TSH)을 포함한다.
bwu. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 티록신 (T4)을 포함한다.
bwv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 소정의 총 철결합력 (TIBC)을 가진다.
bww. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 소정의 총 단백질을 포함한다.
bwx. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 트랜스페린을 포함한다.
bwy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 소정의 트랜스페린 포화도를 가진다.
bwz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 트리글리세라이드 (TG)를 포함한다.
bxa. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 트로포닌을 포함한다.
bxb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 요산 (uric acid)을 포함한다.
bxc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 비타민 B12를 포함한다.
bxd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 백혈구 (WBC)를 포함한다.
bxe. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 발명에 있어서, 상기 유체 조성물 (40)은 위달 시험 (Widal)를 거친다.
의료용 배럴 가청구범위
bxf. 하기를 포함하는 의료용 주사기 배럴 또는 의료용 카트리지 배럴:
· 내부공간의 적어도 일 부분을 획정하는 대체로 원통형의 내부표면을 가진 벽 - 상기 대체로 원통형의 내부 표면은 4 내지 15 mm의 내경을 가짐; 및
· 대체로 원통형의 내부 표면의 적어도 일 부분, 선택적으로는 전체 상에 마련되는 하나 이상의 플라즈마 강화 화학기상증착 코팅 혹은 층으로 된 PECVD 세트 - 상기 PECVD 세트의 적어도 1개의 코팅 혹은 층은 10 내지 500 nm의 평균 두께와, 상기 평균 두께보다 적은 표준편차를 가짐.
bxg. 상기 가청구하 bxf에 따른 의료용 배럴에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층은 10 내지 500 nm 의 두께 범위를 가진다.
bxh. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 표준편차는 평균 두께의 20% 이상이다.
bxi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 상기 의료용 배럴은 비전도성 재료로 만들어진다.
bxj. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 상기 의료용 배럴은 투명 재료로 만들어진다.
bxk. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 주사 사출성형가능한 열가소성 재료로 만들어진다.
bxl. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 상기 의료용 배럴은 COC (환형 올레핀 공중합체), COP (환형 올레핀 중합체), PET (폴리에틸렌 테레프탈레이트), 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 유리, 또는 이들 중 둘 이상의 조합물로 만들어진다.
bxm. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, PECVD 처리 대상인 대체로 원통형의 내부 표면의 내경 및 길이의 종횡비는 2 내지 10이다.
bxn. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층은 SiOx를 필수적으로 포함하며, x는 X선 광전자 분광법으로 측정한 결과, 1.5 내지 2.9이다.
bxo. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 벽과 PECVD 세트의 산소 차단 향상 인수는 5 내지 12이다.
bxp. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 밀폐 내부공간을 형성하기 위해 의료용 배럴에 안착되는 마개를 더 포함하며, 내부공간은 0.5 내지 50 ml의 용적을 지니고, 벽과 PECVD 세트를 통한 내향 산소 투과율은 벽 외부측 대기압하, 20℃에서, 0.0012 내지 0.00048 cm3/패키지/일 (day)이다.
bxq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, PECVD 세트는 배리어 코팅 혹은 층과 내부공간 사이에 pH 보호 코팅 혹은 층을 더 포함한다.
bxr. 상기 가청구항 bxq에 따른 의료용 배럴에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층은 SiOxCy 또는 SiNxCy를 필수적으로 포함하며, XPS로 측정한 결과, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이다.
bxs. 상기 가청구항 bxq 또는 bxr에 따른 의료용 배럴에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층은 X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 산소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00044
bxt. 상기 가청구항 bxq 내지 bxs 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층의 평균 두께는 50 내지 500 nm이다.
bxu. 상기 가청구항 bxq 내지 bxt 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, pH 보호 코팅 혹은 층의 FTIR 흡수 스펙트럼에서
· 약 1000 내지 1040 cm-1에 위치하는 Si-O-Si 대칭 신축 피크의 최대 진폭과
· 약 1060 내지 1100 cm-1에 위치하는 Si-O-Si 비대칭 신축 피크의 최대 진폭
사이의 비는 0.75를 초과한다.
bxv. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, PECVD 세트는 배리어 코팅 혹은 층과 대체로 원통형의 내부 표면 사이에 타이 코팅 혹은 층을 더 포함하며, 타이 코팅 혹은 층의 평균 두께는 0 초과 내지 10 nm이다.
bxw. 상기 가청구항 bxv에 따른 의료용 배럴에 있어서, SiOxCy 또는 SiNxCy를 필수적으로 포함하며, XPS로 측정한 결과, x는 약 0.5 내지 약 2.4이고, y는 약 0.6 내지 약 3이다.
bxx. 상기 가청구항 bxv 내지 bxw 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 타이 코팅 혹은 층은, X선 광전자 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 규소, 산소 및 탄소와, 러더포드 후광산란 분광법에 의해 측정된 하기 원자비의 수소를 필수적으로 포함한다:
Figure 112015063276666-pct00045
bxy. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, PECVD 세트는, PECVD 세트를 갖지 않는 배럴에 비해, 25℃의 온도에서 3개월의 기간 동안 pH 7.0의 미국약전 주사용수와 접촉된 상태로 보관된 후에도 5 이상의 산소 차단 향상 인수를 유지하는데 효과적이다.
bxz. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, PECVD 세트는, PECVD 세트를 갖지 않는 배럴에 비해, 25℃의 온도에서 3개월의 기간 동안 pH 7.0의 미국약전 주사용수와 접촉된 상태로 보관된 후에도 31 이하의 산소 차단 향상 인수를 유지하는데 효과적이다.
bya. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 내부공간 속에 pH 4 내지 9의 유체 조성물, 및 내부공간 속 상기 유체 조성물을 유지하기 위한 마개를 더 포함하며, 이로써 유체 저장 패키지가 획정된다.
byb. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층은 선형 실록산, 단일환 실록산, 다환 실록산, 폴리실세스퀴옥산, 선형 실라잔, 단일환 실라잔, 다환 실라잔, 폴리실세스퀴아잔, 실라트랜, 실쿠아실라트랜, 실프로아트란, 아자실라트랜, 아자실쿠아시아트랜, 아자실프로아트랜, 또는 이들 전구체 중 임의의 둘 이상의 조합물을 전구체로 사용하여 PECVD법으로 도포된다.
byc. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, 배리어 코팅 혹은 층은 헥사메틸렌디실록산 (HMDSO), 테트라메틸렌디실록산 (TMDSO), 또는 이들의 조합물을 전구체로 사용하여 PECVD법으로 도포된다.
byd. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴에 있어서, PECVD 세트는:
· 테트라메틸렌디실록산 (TMDSO)을 전구체로 사용하여 PECVD법으로 도포된 타이 코팅 혹은 층;
· 헥사메틸렌디실록산 (HMDSO) 을 전구체로 사용하여 PECVD법으로 도포된 배리어 코팅 혹은 층; 및
· 테트라메틸렌디실록산 (TMDSO)을 전구체로 사용하여 PECVD법으로 도포된 pH 보호 코팅 혹은 층
을 포함한다.
bye. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴을 포함하는 주사기.
byf. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 의료용 배럴을 포함하는 카트리지.
자석 처리 가청구범위
byg. 의료용 카트리지 또는 주사기를 위한 의료용 배럴의 제조 방법으로서, 상기 방법은:
· 내부공간의 적어도 일 부분을 획정하며 4 내지 15 mm의 내경을 갖는 대체로 원통형의 내부표면을 가진 벽을 포함한 의료용 배럴을 제공하는 단계;
· 내부공간 속에 위치하고, 대체로 원통형의 내부 표면과 동축을 이루며 그로부터 방사방향으로 1.2 내지 6.9 mm 이격되며, 하나 이상의 출구를 가진 내부 통로가 마련된 내부 전극을 제공하는 단계;
· 외부 전극을 제공하는 단계;
· 상기 내부 통로의 하나 이상의 출구를 통해 가스 PECVD 전구체를 내부공간 내부로 도입하는 단계;
· 대체로 원통형의 내부 표면의 적어도 일 부분 상에 평균 두께를 갖는 가스 배리어 코팅을 플라즈마 강화 화학기상증착 (PECVD)으로 형성하는데 효과적인 조건하에서 전자기 에너지를 상기 외부 전극에 인가하는 단계; 및
· 전자기 에너지를 인가하는 동안, 선택적으로는 전체 인가 단계 동안에, 대체로 원통형의 내부 표면 상의 가스 배리어 코팅의 평균 두께의 표준편차를 줄이는데 효과적인 조건하에, 자기장을 의료용 배럴 가까이에 인가하는 단계
를 포함한다.
byh. 상기 가청구항 byg에 따른 방법에 있어서, 플라즈마는 플라즈마 전자를 포함하며, 자기장은 PECVD 동안 내부공간 내 플라즈마 전자의 밀폐를 향상시키는데 효과적이다.
byi. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 자기장은 대체로 원통형의 표면 가까이에, 상기 표면의 길이를 따라 축방향으로 연장되는 1개 이상의 자기장 발생기에 의해 제공되며, 각각의 자기장 발생기는 극축을 정의하는 북극과 남극을 가진다.
byj. 상기 가청구항 byi에 따른 방법에 있어서, 자기장 발생기 중 1개 이상은 의료용 배럴의 적어도 실질적 길이로 연장된다.
byk. 상기 가청구항 byi 또는 byj에 따른 방법에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 상의 가스 배리어 코팅의 평균 두께의 표준편차를 줄이는데 효과적인 조건은 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서 자기장 발생기 중 1개 이상의 극축이 상기 대체로 원통형의 표면의 축에 대체로 평행하도록 배치하는 것이다.
byl. 상기 가청구항 byi 내지 byk 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 자기장 발생기 중 2개 이상은 작동 위치에 있는 대체로 원통형의 표면 둘레로 원주 방향으로 분포된다.
bym. 상기 가청구항 byi 내지 byl 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개 이상의 자기장 발생기는 극축을 따라 연장되는 내부 통로를 가진 환형 실린더를 포함하며, 상기 대체로 원통형의 표면 전체가 내부 통로 내부에 위치한다.
byn. 상기 가청구항 byi 내지 bym 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 대체로 원통형의 내부 표면 상의 가스 배리어 코팅의 평균 두께의 표준편차를 줄이는데 효과적인 조건은, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부가 극축이 처리 대상 표면에 대해 대체로 방사면 (radial plane)으로 연장되도록 배향되는 것이다.
byo. 상기 가청구항 byi 내지 byn 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 2개 이상의 자기장 발생기가 상기 대체로 원통형의 표면의 축에 대해 원주 방향으로 분포되며, 극축이 반대가 되도록 자기장 발생기들은 교번 형태로 배향된다.
byp. 상기 가청구항 byi 내지 byo 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 자기장 발생기 중 1개 이상 또는 대체로 원통형의 표면은 서로에 대해 회전한다.
byq. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, PECVD가 수행되기 전, 의료용 배럴에는 피하 주사바늘이 부착되며, 대체로 원통형의 표면은 주사바늘 단부, 후단부, 및 상기 단부들 사이의 몸체부를 포함한다.
byr. 상기 가청구항 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 플라즈마의 적어도 일부는 전자 병 내 대체로 원통형의 표면 가까이에 적어도 부분적으로 밀폐된다.
bys. 상기 가청구항 byr에 따른 방법에 있어서, 전자 병은 대체로 원통형의 표면의 단부들 사이보다 상기 대체로 원통형의 표면에 또는 상기 표면 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의된다.
byt. 상기 가청구항 byr 또는 bys에 따른 방법에 있어서, 전자 병은 대체로 원통형의 표면의 한 단부에 또는 상기 단부 가까이에 보다 상기 대체로 원통형의 표면의 다른 단부에 또는 상기 단부 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의된다.
byu. 상기 가청구항 byr 내지 byt 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 전자 병은 상기 대체로 원통형의 표면의 적어도 한 단부 가까이에 위치하는 음으로 하전된 객체 또는 객체의 일부를 포함한다.
byv. 상기 가청구항 byr 내지 byu 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기는 바 자석이다.
byw. 상기 가청구항 byr 내지 byv 중 어느 한 항에 따른 방법에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기는 작동 위치에 있을 때 중앙 요홈 내부에 대체로 원통형의 표면을 갖는 링 자석이다.
byx. 상기 가청구항 중 임의의 한 항에 따른 방법에 있어서, 전자기 에너지는 고주파 에너지이다.
byy. 상기 가청구항 중 임의의 한 항에 따른 방법에 있어서, 외부 전극은 대체로 원통형이며, 의료용 배럴의 대체로 원통형의 표면은 상기 외부 전극 내부에 배치된다.
byz. 상기 가청구항 중 임의의 한 항에 따른 방법에 있어서, 가스 배리어 코팅 혹은 층을 도포하기 위해 전자기 에너지는 0.1 내지 500 Watts의 전력 수준으로 인가된다.
bza. 상기 가청구항 중 임의의 한 항에 따른 방법에 있어서, 가스 배리어 코팅 혹은 층을 도포하기 위한 전자기 에너지는 다수의 불연속 펄스로 인가된다.
bzb. 상기 가청구항 중 임의의 한 항에 따른 방법에 있어서, 가스 PECVD 전구체는 선형 실록산, 단일환 실록산, 다환 실록산, 폴리실세스퀴옥산, 선형 실라잔, 단일환 실라잔, 다환 실라잔, 폴리실세스퀴아잔, 실라트랜, 실쿠아실라트랜, 실프로아트란, 아자실라트랜, 아자실쿠아시아트랜, 아자실프로아트랜, 또는 이들 전구체 중 임의의 둘 이상의 조합물을 포함한다.
bzc. 상기 가청구항 중 임의의 한 항에 따른 방법에 있어서, 가스 PECVD 전구체는 헥사메틸렌디실록산 (HMDSO), 테트라메틸렌디실록산 (TMDSO), 또는 이들의 조합물을 포함한다.
bzd. 상기 가청구항 중 임의의 한 항에 따른 방법으로 제조된 의료용 배럴을 포함하는 주사기.
bze. 상기 가청구항 중 임의의 한 항에 따른 방법으로 제조된 의료용 배럴을 포함하는 카트리지.
bzf. 상기 가청구항 중 임의의 한 항에 기재된 의료용 배럴의 대체로 원통형 벽 내부에 자기장을 인가하는 장치로서, 상기 장치는:
· 의료용 배럴을 안착시키도록 구성된 크기 및 위치의 안착부를 포함하여 대체로 원통형의 내부 표면의 축의 위치를 정하는, 의료용 배럴 홀더;
· 상기 홀더에 연결되어, 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 PECVD 전구체를 의료용 배럴의 내부공간에 공급하도록 구성된 공급부; 및
· 상기 홀더에 연결되어, 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 의료용 배럴의 내부공간 속에 자기장을 인가하기 위한 1개 이상의 자기장 발생부
를 포함한다.
bzg. 의료용 카트리지 또는 주사기용 의료용 배럴을 피복하는 장치로서, 상기 장치는:
· 내부공간의 적어도 일 부분, 선택적으로는 전체 내부공간을 획정하는, 4 내지 15 mm 범위의 직경을 가진 대체로 원통형의 내부 표면을 가진 벽을 포함한 의료용 배럴을 안착시키도록 구성된 크기 및 위치의 안착부를 포함하는 배럴 홀더;
· 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 일 부분이 의료용 배럴의 내부공간 속에 위치하도록 배치되는 외부 표면을 가지며, 대체로 원통형의 내부 표면과 동축을 이루고 그로부터 방사방향으로 1.2 내지 6.9 mm 이격되며, 하나 이상의 출구가 형성된 내부 통로를 갖는 내부 전극;
· 외부 전극;
· 상기 홀더에 연결되어, 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 PECVD 전구체를 의료용 배럴의 내부공간에 공급하도록 구성된 공급부; 및
· 상기 홀더에 연결되어, 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 의료용 배럴의 내부공간 속에 자기장을 인가하기 위한 1개 이상의 자기장 발생부
를 포함한다.
Figure 112015063276666-pct00046

Figure 112015063276666-pct00047

Figure 112015063276666-pct00048

Figure 112015063276666-pct00049

Claims (27)

  1. 내부공간의 적어도 일 부분을 획정하며 4 내지 15 mm의 내경을 갖는 원통형의 내부표면을 가진 벽을 포함한 의료용 배럴을 제공하는 단계;
    상기 내부공간 속에 위치하고, 상기 원통형의 내부 표면과 동축을 이루며 그로부터 방사방향으로 1.2 내지 6.9 mm 이격되며, 하나 이상의 출구를 가진 내부 통로가 마련된 내부 전극을 제공하는 단계;
    외부 전극을 제공하는 단계;
    상기 내부 통로의 하나 이상의 출구를 통해 가스 PECVD 전구체를 내부공간 내부로 도입하는 단계;
    상기 원통형의 내부 표면의 적어도 일 부분 상에 플라즈마 강화 화학기상증착 (PECVD)으로 2㎚ 내지 1000㎚의 두께를 갖는 가스 배리어 코팅을 형성하도록 전자기 에너지를 상기 외부 전극에 인가하는 단계; 및
    전자기 에너지를 인가하는 동안에, 자기장을 의료용 배럴 가까이에 인가하는 단계를 포함하고,
    상기 자기장은 원통형의 표면 가까이에, 상기 표면의 길이를 따라 축방향으로 연장되는 1개 이상의 자기장 발생기에 의해 제공되며, 각각의 자기장 발생기는 극축을 정의하는 북극과 남극을 갖고,
    상기 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부가 극축이 처리 대상 표면에 대해 방사면 (radial plane)으로 연장되도록 배향되는 의료용 카트리지 또는 주사기를 위한 의료용 배럴의 제조 방법.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서, 상기 자기장 발생기 중 1개 이상은 상기 의료용 배럴의 길이로 연장되는 것인 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서 상기 자기장 발생기 중 1개 이상의 극축이 상기 원통형의 표면의 축에 평행하도록 배치하는 것인 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 상기 자기장 발생기 중 2개 이상은 작동 위치에 있는 원통형의 표면 둘레로 원주 방향으로 분포되는 것인 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 1개 이상의 자기장 발생기는 극축을 따라 연장되는 내부 통로를 가진 환형 실린더를 포함하며, 상기 원통형의 표면 전체가 내부 통로 내부에 위치하는 것인 방법.
  8. 삭제
  9. 제1항에 있어서, 2개 이상의 자기장 발생기가 상기 원통형의 표면의 축에 대해 원주 방향으로 분포되며, 극축이 반대가 되도록 자기장 발생기들은 교번 형태로 제공되는 것인 방법.
  10. 제1항에 있어서, 상기 자기장 발생기 중 1개 이상 또는 상기 원통형의 표면은 서로에 대해 회전하는 것인 방법.
  11. 제1항에 있어서, PECVD가 수행되기 전, 상기 의료용 배럴에는 피하 주사바늘이 부착되며, 상기 원통형의 표면은 주사바늘 단부, 후단부, 및 상기 단부들 사이의 몸체부를 포함하는 것인 방법.
  12. 제1항에 있어서, 상기 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 플라즈마의 적어도 일부는 전자 병 내 원통형의 표면 가까이에 적어도 부분적으로 밀폐되는 것인 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 전자 병은 원통형의 표면의 단부들 사이보다 상기 원통형의 표면의 일 단부에 또는 상기 단부 가까이에 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의되는 것인 방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 전자 병은 원통형의 표면의 한 단부 또는 상기 단부 가까이에서 보다 상기 원통형의 표면의 다른 단부 또는 상기 단부 가까이에서 더 강한 자기장을 인가하는 구조로 정의되는 것인 방법.
  15. 제12항에 있어서, 상기 전자 병은 상기 원통형의 표면의 적어도 한 단부 가까이에 위치하는 음으로 하전된 객체 또는 객체의 일부를 포함하는 것인 방법.
  16. 제1항에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기는 바 자석인 방법.
  17. 제1항에 있어서, 1개 이상의 자기장 발생기는 작동 위치에 있을 때 중앙 요홈 내부에 원통형의 표면을 갖는 링 자석인 방법.
  18. 제1항에 있어서, 상기 전자기 에너지는 고주파 에너지인 방법.
  19. 제1항에 있어서, 상기 외부 전극은 원통형이며, 상기 의료용 배럴의 원통형의 표면은 상기 외부 전극 내부에 배치되는 것인 방법.
  20. 제1항에 있어서, 상기 가스 배리어 코팅 혹은 층을 도포하기 위해 전자기 에너지는 0.1 내지 500 Watts의 전력 수준으로 인가되는 것인 방법.
  21. 제1항에 있어서, 상기 가스 배리어 코팅 혹은 층을 도포하기 위한 전자기 에너지는 다수의 불연속 펄스로 인가되는 것인 방법.
  22. 제1항에 있어서, 상기 가스 PECVD 전구체는 선형 실록산, 단일환 실록산, 다환 실록산, 폴리실세스퀴옥산, 선형 실라잔, 단일환 실라잔, 다환 실라잔, 폴리실세스퀴아잔, 실라트랜, 실쿠아실라트랜, 실프로아트란, 아자실라트랜, 아자실쿠아시아트랜, 아자실프로아트랜, 또는 이들 전구체 중 임의의 둘 이상의 조합물을 포함하는 것인 방법.
  23. 제1항에 있어서, 상기 가스 PECVD 전구체는 헥사메틸렌디실록산 (HMDSO), 테트라메틸렌디실록산 (TMDSO), 또는 이들의 조합물을 포함하는 것인 방법.
  24. 제1항, 제 4항 내지 제 7항 및 제 9항 내지 제23항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조된 의료용 배럴을 포함하는 주사기.
  25. 제1항, 제 4항 내지 제 7항 및 제 9항 내지 제23항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조된 의료용 배럴을 포함하는 카트리지.
  26. 삭제
  27. 내부공간의 적어도 일 부분을 획정하는, 4 내지 15 mm 범위의 직경을 가진 원통형의 내부 표면을 가진 벽을 포함한 의료용 배럴을 안착시키도록 구성된 크기 및 위치의 안착부를 포함하는 배럴 홀더;
    상기 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 일 부분이 상기 의료용 배럴의 내부공간 속에 위치하도록 배치되는 외부 표면을 가지며, 상기 원통형의 내부 표면과 동축을 이루고 그로부터 방사방향으로 1.2 내지 6.9 mm 이격되며, 하나 이상의 출구가 형성된 내부 통로를 갖는 내부 전극;
    외부 전극;
    상기 홀더에 연결되어, 상기 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 PECVD 전구체를 상기 의료용 배럴의 내부공간에 공급하도록 구성된 공급부; 및
    상기 홀더에 연결되어, 상기 의료용 배럴이 안착부에 안착되었을 때 상기 의료용 배럴의 내부공간 속에 자기장을 인가하기 위한 1개 이상의 자기장 발생부를 포함하고,
    상기 1개 이상의 자기장 발생기는 상기 원통형의 표면 가까이에, 상기 표면의 길이를 따라 축방향으로 연장되고, 각각의 자기장 발생기는 극축을 정의하는 북극과 남극을 갖고,
    각각의 자기장 발생기는 자기장을 인가하는 시간 동안의 적어도 일부에서, 내부공간의 적어도 일 부분에서의 자기장의 적어도 일부가 극축이 처리 대상 표면에 대해 방사면 (radial plane)으로 연장되도록 배향되는 의료용 카트리지 또는 주사기용 의료용 배럴을 피복하는 장치.
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