DE19707645A1 - Verfahren zur Schichtdickenanalyse und stofflichen Konzentrationsbestimmung dünner Schichten - Google Patents
Verfahren zur Schichtdickenanalyse und stofflichen Konzentrationsbestimmung dünner SchichtenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur quanti
tativen Schichtdickenbestimmung sowie der Konzen
trationsbestimmung von Legierungsbestandteilen
dünner, auf Substraten aufgebrachter Schichten.
Bei diesen Schichten handelt es sich um mittels
vakuumgestützter Plasmaverfahren auf festen, mas
siven Werkstücken oder auf aus Folienträgern be
stehenden Substraten aufgetragenen
Einzelschichten oder Schichtsystemen, welche eine
Gesamtschichtdicke kleiner als 10 µm besitzen.
Die auf Foliensubstraten aufgetragenen Schichten
werden z. B. zur Herstellung von Folienkondensato
ren, insbesondere Wickelkondensatoren, verwendet.
Die Schichten bestehen hierbei z. B. aus einer
Aluminium/Zink-Legierung, die auf einer Kunst
stoffolie, z. B. auf einer Polypropylenfolie, zur
Bildung einer homogenen Einzelschicht aus der
Dampfphase abgeschieden wird. Um eine einwand
freie Funktion der Aluminium/Zink-Schichten z. B.
als Folienkondensatoren zu gewährleisten, ist ei
ne genaue Kenntnis der Schichtdicke sowie des
Aluminium/Zink-Mengenverhältnisses während des
Aufdampfens, und zur späteren Kontrolle der auf
getragenen Aluminium/Zink-Schicht erforderlich.
Als bekanntes Verfahren zur Messung sowohl der
Schichtdicke aber auch der Legierungsanteile von
aufgedampften dünnen Schichten hat sich die ana
lytische Atomabsorptionsspektroskopie (AAS) eta
bliert, wie z. B. in der Literatur von W. J.
Price in "Analytical Atomic Absorption Spectrome
try", 1972, Hyden & Sons Ldt., beschrieben.
Dieses Verfahren ist jedoch apparativ und auch in
seiner Durchführung sehr aufwendig und kostenin
tensiv und damit nur eingeschränkt verwendbar.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, ein Ver
fahren zur Bestimmung der Schichtdicke und des
Konzentrationsgehaltes von auf Substraten aufge
brachten dünnen Schichten anzugeben, welches zu
verlässig, sowie in einfacher Weise und
kostengünstig anwendbar ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch
Verfahren gemäß den Ansprüchen 1 bis 3. Weitere
Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Un
teransprüchen angegeben.
Zur Bestimmung der Schichtdicke einer auf einem
Substrat aufgebrachten dünnen Schicht sind gemäß
Patentanspruch 1 mehrere Verfahrensschritte vor
gesehen. Zunächst wird mittels des Verfahrens der
Atomabsorptionsspektralanalyse die jeweilige
Schichtdicke von mindestens zwei unterschiedlich
dicken Schichten, bestehend aus demselben Schich
tenmaterial, bestimmt. Anschließend werden die
zwei unterschiedlich dicken Schichten mit hierzu
geeigneten Vorrichtungen einem Teilchenbeschuß
oder der Einwirkung elektromagnetischer Strah
lung, vorzugsweise von Röntgenstrahlung, ausge
setzt, wodurch die einzelnen Schichten zur
Emission ihrer elementspezifischen, charakteri
stischen Röntgenstrahlung angeregt werden. Diese
charakteristische Röntgenstrahlung wird mittels
geeigneter, energiedispersiver bzw. wellenlängen
dispersiver Strahlungsdetektoren, z. B. elektri
schen Halbleiterspektrometern wie SiLi-
Detektoren, durch Bestimmung der zugehörigen
Röntgenzählraten in z. B. einer EDX(Energy Disper
sive x-ray-analysis)-Apparatur gemessen. Unter
Kenntnis der mit dem Atomabsorptionsspektralana
lyseverfahren ermittelten Schichtdicken d1 und d2
sowie den zugehörigen charakteristischen Röntgen
strahlungszählraten n1 und n2 werden schichtenma
terialabhängige Konstanten a und b gemäß
folgender Gleichungen bestimmt:
Zur Bestimmung der unbekannten Schichtendicke D
einer gegebenen Schicht S, z. B. einer Aluminium
oder Zinkschicht, welche auf einer Folie aufge
dampft wurde, wird diese in bekannter Weise zur
Emission ihrer charakteristischen Röntgenstrah
lung angeregt. Die dabei emittierte Strahlungsin
tensität wird als Röntgenstrahlungszählrate N
mittels eines energie- oder wellenlängensensiti
ven Strahlungsdetektors nachgewiesen. Die gesuch
te Dicke D der derartig untersuchten Schicht S
ergibt sich dann in überraschend einfacher Weise
aus dem linearen D(N) Verlauf in zu:
D = a × N + b (2)
Besonders vorteilhaft für dieses Verfahrens ist,
daß nach einmalig vorgenommener Standardisierung
der für die Schichtdickenmessung mittels Röntgen
strahlungsspektroskopie verwendeten Einrichtung,
z. B. der EDX-Apparatur, weitere Schichtdickenmes
sungen an stofflich gleichen Schichten den Ein
satz der herkömmlichen kostenintensiven
Atomabsorptionsspektralanalyse nicht mehr benöti
gen. Dies ermöglicht insbesondere eine kostengün
stige Bestimmung von Schichtdicken im Bereich
zwischen 10 nm und 100 nm.
Ein weiterer Vorteil des vorgenannten Verfahrens
ist, daß mit der hierfür benötigten, zur Analyse
der verwendeten Röntgenstrahlung benötigten Appa
ratur auch die quantitative, stoffliche Zusammen
setzung von auf Substraten aufgebrachten dünnen
Schichten möglich ist. Hierzu wird das im An
spruch 2 angegebene Verfahren vorgeschlagen, wel
ches die folgenden Verfahrensschritte umfaßt.
Mittels des Atomabsorptionsspektralanalyseverfah
rens werden zunächst die unterschiedlichen Kon
zentrationen der einzelnen Stoffkomponenten, be
zeichnet mit dem Index -i-, welche in mindestens
zwei einzelnen Schichten S1i und S2i enthalten
ist, bestimmt. Anschließend werden die Schichten
S1i und S2i einem Teilchenbeschuß, z. B. energeti
schen Elektronen mit einer Energie von Ekin = 5KeV
oder energetischer elektromagnetischer Strahlung,
vorzugsweise Röntgenstrahlung ausreichender Ener
gie ausgesetzt, wodurch der zuvor in seiner quan
titativen Menge mittels der
Atomabsorptionsspektralanalyse untersuchte i-te
Legierungsbestandteil der Schichten S1i und S2i
zur Emission seiner charakteristischen Röntgen
strahlung durch induzierte Fluoriszenzemission
angeregt wird. Die Bestimmung der Strahlungsin
tensität der charakteristischen Röntgenstrahlung
des nachzuweisenden Elements erfolgt durch Mes
sung der jeweiligen Röntgenzählraten n1i bzw. n2i
mit einem geeigneten energie- bzw. wellenlängen
dispersiven Strahlungsdetektor. Unter Verwendung
der wie folgt anzugebenden elementspezifischen
Konstanten ai und bi:
wird zur Bestimmung der interessierenden, unbe
kannten Konzentration Ci einer Legierungskompo
nente -i- in einer dünnen Schicht S, welche
insgesamt k zu bestimmende Legierungsanteile ent
hält, diese in bekannter Weise zur Emission ih
rer charakteristischen Röntgenstrahlung z. B.
durch Teilchenbeschuß, vorzugsweise mit energeti
schen Elektronen angeregt. Die der Probe entwei
chende charakteristische, elementspezifische
Röntgenstrahlung wird mittels geeigneter, z. B.
energiedispersiver, Strahlungsdetektoren gemessen
und die in der Schicht S enthaltene Elementkon
zentration Ci unter Verwendung der jeweiligen,
zum i-ten Element gemessenen Röntgenzählrate Ni
sowie der Konstanten ai und bi nach Gleichung (5)
wie folgt bestimmt:
Weiterhin wird im Rahmen der Erfindung ein Ver
fahren angegeben, mit welchem auch die Gesamt
schichtdicke DGS einer aus einer
mehrkomponentigen Legierung bestehenden dünnen
Schicht, welche insgesamt k unterschiedliche Le
gierungsbestandteile enthält, zu ermitteln ist.
Hierzu werden, wie in Patentanspruch 3 angegeben,
zunächst mit dem Atomabsorptionsspektralanalyse
verfahren die k elementspezifischen Konstanten
a1,. .,kund b1,. .,k bestimmt. Anschließend wird die
Legierungsschicht zur Anregung der charakteristi
schen Röntgenstrahlung der in ihr enthaltenen Le
gierungskomponenten z. B. durch Elektronenbeschuß
angeregt und die Zählraten der emittierten Rönt
genquanten mittels geeigneter, bekannter Röntgen
strahlungsdetektoren gemessen. Unter Verwendung
der den einzelnen Elementen zuzuordnenden Rönt
genzählraten Ni=1,. .,k der charakteristischen Rönt
genstrahlung werden für die einzelnen
Legierungskomponenten einzelne Schichtdicken
Di=1,. .,k gemäß Gleichung (6) wie folgt berechnet:
Di = ai × Ni + bi (6)
Die Di entsprechen dabei nicht realen geometri
schen Einzelschichtdicken, sondern stellen einen,
einer realen geometrischen Einzelschicht äquiva
lenten Meßwert eines Legierungsanteils wieder.
Die zu bestimmende Gesamtschichtdicke DGS der
Schicht S ergibt sich dann durch Summe über die
Einzelschichtdicken Di, gemäß:
In sämtlichen, erfindungsgemäßen Verfahrens
schritten, bei welchen die Schichten zur Emissi
on ihrer charakteristischen Röntgenstrahlung
angeregt werden, befinden sich diese auf dem
Substrat in einer zur Messung der Röntgenstrah
lungszählraten in bekannter Weise geeigneten Vor
richtung, z. B. einer EDX-Apparatur, wobei die zu
analysierenden Schichten unter Vakuum bei Unter
druck gehalten werden.
Mit den in den Ansprüchen 1 bis 3 vorgeschlagenen
Verfahren sind vorteilhaft Schichtdicken zwischen
10 nm und 30 nm, insbesondere zwischen 17 nm und
24 nm auf +/- 1 nm genau bestimmbar. Weiterhin
hat sich gezeigt, daß sich mit den im Anspruch 2
vorgeschlagenen Verfahren der Aluminium-Gehalt
einer dünnen, auf einer Polypropylenfolie aufge
dampften dünnen Schicht, welche aus einer Al/Zn-
Legierung besteht, sich im Bereich zwischen 1 und
20 Gewichtsprozent (Gew.-%) bis auf +/- 0,5 Gew.-%
genau bestimmen läßt (siehe Patentanspruch 4).
Im weiteren wird die Erfindung anhand eines be
vorzugten Ausführungsbeispiels näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 eine Querschnittsansicht einer auf ei
nem Substrat aufgebrachten Schicht;
Fig. 2 die Abhängigkeit der Zählrate NAl der
Al-Kα-Linie von der Al-Schichtdicke;
Fig. 3 die Abhängigkeit der Zählrate NAl der
Zn-Lα-Linie von der Zn-Schichtdicke
und
Fig. 4 den Verlauf der Einzelelementkonzentra
tion C1 als Funktion der Zählrate n1 der
gemessenen zugehörigen charakteristi
schen Röntgenstrahlung.
In Fig. 1 ist eine auf einem Substrat 2, z. B.
mittels eines vakuumgestützten Aufdampfverfahrens
aufgebrachte dünne Schicht S im Querschnittspro
fil dargestellt. Die Schicht S selbst besteht aus
einer binären Al/Zn-Legierung, die als Al/Zn-
Dampfgemisch auf dem aus Polypropylen bestehenden
Substrat 2 in einer Unterdruck aufweisenden in
der Figur nicht dargestellten Prozeßkammer aufge
dampft wird.
Zur Bestimmung der Gesamtschichtdicke D sind zu
nächst die den einzelnen Legierungsbestandteilen,
hier Al bzw. Zn zukommenden Einzelschichtdicken
dAl bzw. dZn zu bestimmen. Hierzu werden zunächst
mit Schichtproben, welche einen definierten Alu
minium- bzw. Zink-Gehalt aufweisen, die zur wei
teren Verwendung vorgesehene Meßapparatur zur
Bestimmung der charakteristischen Röntgenstrah
lung dünner Schichten kalibriert. Diese Kalibrie
rung erfolgt unter Bestimmung der aus dem Atomab
sorptionsspektralanalyseverfahren ermittelten
Schichtdicken einer Aluminiumschicht bzw. einer
Zinkschicht. Unter Verwendung der derartig ermit
telten Konstanten aAl sowie bAl bzw. aZn und bZn,
welche sich aus den gemessenen Schichtdicken
dAl,1; dZn,1; dAl,2; dZn,2 sowie den charakteristi
schen Röntgenzählraten nAl,1, nAl,2, nZn,1, nZn,2 erge
ben zu:
ergibt sich ein linearer Zusammenhang zwischen
einer zu bestimmenden Einzelschichtdicke dAl und
dZn und der Zählrate NAL bzw. NZn. In Fig. 2 ist
als Funktion der gemessene Aluminium-Zählrate NAl
(Impulse/Sek.), die nach Gleichung:
dAl = aAl × NAl + bAl (6)
sich ergebene Einzelschichtdicke dAl des Alumini
umanteils und in Fig. 3 die Einzelschichtdicke
dZn des Zinkanteils analog als Funktion der ge
messenen Zählrate NZn (Impulse/Sek.) der charak
teristischen Röntgenstrahlungsübergangslinie Al-
Kα (e: 1440. . .1540 eV) bzw. Zn-Lα (e: 970. . .1070
eV) aufgetragen.
Deutlich ist aus den Fig. 2 und 3 die in Glei
chung (6) vorgegebene lineare Abhängigkeit zwi
schen den Einzelschichtdicken dAl, dZn und den
gemessenen Röntgenzählraten ersichtlich. Die Ge
samtschichtdicke DAl/Zn ergibt sich aus den gemes
senen Zählraten NAl und NZn zu:
dAl/Zn = dAl + dAl (7)
Der in den Fig. 2 und 3 jeweils eingezeichnete
Geradenverlauf gibt die Regressionsgerade unter
Verwendung der geometrisch eingezeichneten Daten
punkte wieder.
Die Bestimmung der Einzelkonzentration einer aus
einer Al/Zn-Legierung bestehenden dünnen Schicht
ergibt sich aus den in Fig. 4 aufgetragenen Kon
zentrationswerten C1 als Funktion der zugehörigen
Zählraten der charakteristischen Röntgenstrahlung
n1. Hierzu wird zunächst die zu verwendende zur
Messung der charakteristischen Röntgenstrahlung
zu verwendende Meßvorrichtung zur Bestimmung der
elementspezifischen Faktoren ai und bi an bekann
ten Standards mittels des Atomabsortionsspektral
analyseverfahrens vermessen. Unter Kenntnis der
zugehörigen elementspezifischen und apparativ
festgelegten Konstanten aAl, bAl sowie aZn und bZn
ergibt sich der in Fig. 4 dargestellte lineare
Verlauf einer Einzelelementkonzentration C1 als
Funktion der zugehörigen elementspezifischen
Zählrate n1 der zugehörigen charakteristischen
Röntgenstrahlung.
Die in Fig. 4 eingezeichnete Gerade stellt die
Regressionsgerade dar, die die lineare Abhängig
keit zwischen der Einzelelementkonzentration C1
und der zugehörigen Zählrate n1 verdeutlicht.
Die in den Fig. 2 bis 4 dargestellten Meßdaten
wurden unter Verwendung von insgesamt 17 aus je
weils einer mit einer Al/Zn-Legierungsschicht be
dampften Polypropylenfolie gemessen. Die
charakteristische Röntgenstrahlung wurde mittels
einer EDX-Apparatur nachgewiesen, wobei zur Fluo
reszenzanregung der dünnen Schichten energetische
Elektronen mit einer Energie von 5 keV verwendet
werden. Aus den derartig gewonnenen Meßdaten wer
den die Gesamtschichtdicken der jeweiligen Al/Zn-
Legierungsschichten im Bereich zwischen 17 nm und
24 nm bis auf +/- 1 nm genau vermessen.
Die Aluminium-Konzentration ergibt sich dabei
zwischen 1 und 16 Gewichtsprozenten mit einer Ge
nauigkeit von +/- 0,5 Gewichtsprozenten.
2
Substrat
S dünne Schicht
D Gesamtschichtdicke
dAl
S dünne Schicht
D Gesamtschichtdicke
dAl
Schichtdicke der Legie
rungskomponente Aluminium
dZn
dZn
Schichtdicke der Legie
rungskomponente Zink
C1
C1
Einzelkonzentration für Ma
terial Nr. 1
Claims (4)
1. Verfahren zur Bestimmung der Schichtdicke
(D) einer gegebenen, auf einem Substrat (2)
aufgebrachten dünnen Schicht (S), welches
folgende Verfahrensschritte umfaßt:
- - Bestimmung der jeweiligen Schichtdicke d1 und d2 von mindestens zwei unterschiedlich dicken Schichten s1 und s2, welche aus demselben Schichtmaterial bestehen, mit tels des Atomabsorptionsspektralanalyse verfahrens;
- - Anregen der Schichten s1 und s2 bekannter
Schichtdicken d1 und d2 mittels Teilchen-
oder elektromagnetischer Strahlung, vor
zugsweise Röntgenstrahlung, wodurch in
den Schichten s1 und s2 die Emission cha
rakteristischer schichtenspezifischer
Röntgenstrahlung induziert wird, deren
Strahlungsintensität mittels geeigneter
energiedispersiver bzw. wellenlängendis
persiver Röntgenfluoreszenzstrahlungsde
tektoren durch Bestimmung der zugehörigen
Röntgenzählraten n1 und n2 gemessen wird,
aus welchen schichtenmaterialabhängige
Konstanten a und b wie folgt bestimmt
werden:
- - und wobei die zu bestimmende Schichten
dicke (D) der Schicht (S) durch Teilchen
beschuß oder durch Einwirkung
elektromagnetischer Strahlung, vorzugs
weise von Röntgenstrahlung, zur Emission
ihrer charakteristischen Röntgenstrahlung
angeregt wird, welche mittels geeigneter
energiedispersiver oder wellenlängendis
persiver Röntgenstrahlungsdetektoren
durch Messung der zugehörigen Röntgen
strahlungszählraten N nachgewiesen wird
und wobei sich die gesuchte Dicke D der
Schicht S ergibt zu:
D = a × N + b
2. Verfahren zur Bestimmung der quantitativen,
stofflichen Zusammensetzung einer gegebenen
auf einem Substrat (2) aufgebrachten dünnen
Schicht (S), welches folgende Verfahrens
schritte umfaßt:
- - Bestimmung der jeweiligen Elementkonzen tration c1i und c2i von mindestens zwei unterschiedliche Stoffkonzentrationen ei nes Elements (i) aufweisende Schichten s1i und s2i welche eine im wesentlichen iden tische Schichtdicke aufweisen, mittels des Atomabsorptionsspektralanalyseverfah rens;
- - Anregung der Schichten s1i und s2i bekann
ter Elementkonzentrationen c1i und c2i mit
tels Teilchenbeschuß oder elektroma
gnetischer Strahlung, vorzugsweise Rönt
genstrahlung, wodurch die Emission charak
teristischer Röntgenstrahlung in den
Schichten s1i und s2i induziert wird, deren
Intensität mittels geeigneter ener
giedispersiver bzw. wellenlängendispersi
ver Röntgenfluoreszenzstrah
lungsdetektoren durch Messung der zugehö
rigen Röntgenzählraten n1i und n2i gemessen
wird, aus welchen die von der jeweiligen
Schichtendicke abhängigen elementspezifi
schen Konstanten ai und bi wie folgt be
stimmt werden:
- Anregung der gegebenen, aus einer mehr
komponentigen Legierung, vorzugsweise bi
nären Legierung bestehenden Schicht S, wel
che insgesamt k unterschiedliche Le
gierungsbestandteile enthält, durch Teil
chenbeschuß oder mit elektromagnetischer
Strahlung, vorzugsweise Röntgenstrahlung,
wodurch die in der Schicht S enthaltenen k
Elemente zur Emission ihrer charakteri
stischen Röntgenstrahlung angeregt werden,
welche jeweils mittels geeigneter energie
dispersiver bzw. wellenlängensensitiver
Röntgenstrahlungsdetektoren nachgewiesen
werden, wobei zur Bestimmung der Strahlungs
intensität der charakteristischen Röntgen
strahlung die elementspezifischen
Röntgenstrahlungszählraten Ni gemessen wer
den, und wobei die in der Schicht S enthal
tene Elementkonzentration Ci wie folgt
bestimmt wird:
3. Verfahren nach Anspruch 1, welches zur Be
stimmung der Gesamtschichtdicke Dges einer
aus einer mehrkomponentigen Legierung, vor
zugsweise binären Legierung, bestehenden
Schicht, welche insgesamt k unterschiedliche
Legierungsbestandteile enthält, folgende
Verfahrensschritte aufweist:
- - Bestimmung der elementspezifischen Kon stanten ai und bi, insbesondere nach An spruch 2 mit dem Atomabsorptionsanalyse verfahren;
- - Bestimmung der den einzelnen Legierungs
komponenten entsprechenden Einzelschicht
dicken Di gemäß:
Di = ai × Ni + bi
wobei die elementspezifische Strahlungs intensität durch Messung der durch Teil chenbeschuß oder Anregung mit elektroma gnetischer Strahlung induzierte charakte ristischen Röntgenzählrate Ni der charak teristischen Röntgenstrahlung mittels einer geeigneten Detektoreinrichtung ge messen wird und wobei - - die Gesamtschichtdicke Dges
bestimmt wird.
4. Verfahren nach mindestens einem der Ansprü
che 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Schicht (S) aus einer Aluminium/Zink-
Legierung besteht, welche eine Gesamt
schichtdicke Dges zwischen 10 nm und 30 nm
und einen Aluminium-Gehalt zwischen 1 Gew.-%
und 20 Gew.-% aufweist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997107645 DE19707645A1 (de) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | Verfahren zur Schichtdickenanalyse und stofflichen Konzentrationsbestimmung dünner Schichten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997107645 DE19707645A1 (de) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | Verfahren zur Schichtdickenanalyse und stofflichen Konzentrationsbestimmung dünner Schichten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19707645A1 true DE19707645A1 (de) | 1998-08-27 |
Family
ID=7821509
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
DE1997107645 Withdrawn DE19707645A1 (de) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | Verfahren zur Schichtdickenanalyse und stofflichen Konzentrationsbestimmung dünner Schichten |
Country Status (1)
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