JP2005114461A - 薄膜厚さ測定方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プローブ10とステージ8との間に電界を付与し、基板3の静電容量、基板3と薄膜4との間の絶縁膜の静電容量、基板3から薄膜4までの静電容量を求める。基板3と薄膜4との間の静電容量は薄膜4全面に渡って複数箇所測定する。プローブ10の薄膜4に対する接触荷重Pが一定となるようにプローブ10をカンチレバー11で支持する。プローブ10の薄膜4との接触面積は荷重Pが一定であることを前提として所定式によりで算出する。測定した各静電容量と接触面積から薄膜4全域の厚さ分布を算出することができる。
【選択図】 図1
Description
(1)基板上に少なくとも導体層を介して成膜された絶縁性薄膜の膜厚を測定する薄膜厚さ測定方法において、上記基板の薄膜形成面の反対面を、導体からなるステージに対向させて接触させる工程と、同軸プローブを上記基板の表面に接触させて、上記基板の静電容量を測定する工程と、同軸プローブを上記薄膜の表面に接触させて、上記同軸プローブを薄膜表面方向に走査し、上記基板と薄膜とが合成された静電容量を複数箇所測定する工程と、測定された上記静電容量より上記薄膜の複数の静電容量成分を演算抽出して上記薄膜の厚さに換算する工程とを備える。
図1は本発明の一実施形態である薄膜厚さ測定装置の全体概略構成図である。図1において、基板3とその上に透明電極(図示せず)を介して形成された薄膜4からなる測定対象14とが導体よりなるウエハステージ8上に設置され真空吸着されている。
Cp=εo*εr*S/d −−−(1)
ただし、上記式(1)において、εoは真空の誘電率、εrは薄膜4の誘電率、Sは平行平板の面積である。
図6、図7は、プローブ10先端部の断面図である。図6に示すプローブ10は円柱状であり、先端部が球面状に仕上げられている。これにより、測定対象14の薄膜表面に若干の凹凸があっても常に良好な接触を得ることができる。
また、図9は、図4に示す測定対象の静電容量成分であり、図8の静電容量成分に対して、さらに絶縁膜15の層の静電容量Ciが直列に追加されている。このようなときは、次式(3)から薄膜4の静電容量Cpが抽出できる。
このように、測定対象の層構成が明らかであれば層数が複数であっても数学的に所望の静電容量成分を抽出することが可能である。
図12は、プローブ10が傾斜した状態で測定対象の薄膜4に接触した状態の略断面図である。プローブ10は薄膜4の上面に対して、プローブ10の縦方向軸を厳密に垂直に接触させることは困難であり、一般的に、図12に示すように、ある程度の傾斜を持って接触する。このような場合であっても、先端半径R0および荷重Pが一定であれば接触面積Sは一定であると見なすことができる。
図14において、測定対象14は製造上やむを得ない反りを有しており、その状態でステージ8に装着されている。図14中の破線はプローブ10が薄膜4表面を相対的に移動したときの支点17の位置の変化を示している。
図22において、フラットパネルディスプレイは、TFTの形成、洗浄、配向膜形成(成膜)が行われる(ステップ100〜102)。
4 薄膜
5 走査縞
6 透明電極
7 薄膜外周の隆起
8 ステージ
9 xyステージ
10 プローブ
11、16、19 カンチレバー
12 LCRメータ
13 処理装置
14 測定対象
15 絶縁膜
17、18 支点
20 リニアスライダ
21 筐体
22 プローブヘッド
23 スキャナ
Claims (10)
- 基板上に少なくとも導体層を介して成膜された絶縁性薄膜の膜厚を測定する薄膜厚さ測定方法において、
上記基板の薄膜形成面の反対面を、導体からなるステージに対向させて接触させる工程と、
同軸プローブを上記基板の表面に接触させて、上記基板の静電容量を測定する工程と、
同軸プローブを上記薄膜の表面に接触させて、上記同軸プローブを薄膜表面方向に走査し、上記基板と薄膜とが合成された静電容量を複数箇所測定する工程と、
測定された上記静電容量より上記薄膜の複数の静電容量成分を演算抽出して上記薄膜の厚さに換算する工程と、
を備えることを特徴とする薄膜厚さ測定方法。 - 基板上に少なくとも導体層を介して成膜された絶縁性薄膜の膜厚を測定する薄膜厚さ測定装置において、
上記基板を搭載するための導体表面を有するステージと、
同軸プローブと、
上記同軸プローブとステージとの間の上記基板の静電容量と、上記基板と薄膜とが合成された静電容量とを測定する手段と、
上記同軸プローブと上記ステージとを相対的に移動させる手段と、
測定されたう上記静電容量より上記薄膜の静電容量成分を演算抽出して厚さに換算する処理演算手段と、
上記換算された厚さを記録する手段と、
を備えることを特徴とする薄膜厚さ測定装置。 - 請求項1記載の薄膜厚さ測定方法において、上記同軸プローブ先端は実質的に球面形状であることを特徴とする薄膜厚さ測定方法。
- 請求項2記載の薄膜厚さ測定装置において、上記同軸プローブ先端は実質的に球面形状であることを特徴とする薄膜厚さ測定装置。
- 請求項1又は3記載の薄膜厚さ測定方法において、上記同軸プローブは、複数個であり、上記基板の静電容量と、上記基板と薄膜とが合成された静電容量とは、別個の同軸プローブにより測定されることを特徴とする薄膜厚さ測定方法。
- 請求項2又は4記載の薄膜厚さ測定装置において、上記同軸プローブは、複数個であり、上記基板の静電容量と、上記基板と薄膜とが合成された静電容量とは、別個の同軸プローブにより測定されることを特徴とする薄膜厚さ測定装置。
- 請求項1記載の薄膜厚さ測定方法において、上記同軸プローブと薄膜との接触圧力を、プローブ支持手段により、上記同軸プローブを薄膜表面方向に走査する期間、略同一とし、この接触圧力と、上記同軸プローブの先端径と、プローブの材質特性と、薄膜の材質特性から算出される上記プローブと薄膜との接触面積を用いて、薄膜の厚さを換算することを特徴とする薄膜厚さ測定方法。
- 請求項2項記載の薄膜厚さ測定装置において、上記同軸プローブと薄膜との接触圧力を、上記同軸プローブを薄膜表面方向に走査する期間、略同一とするプローブ支持手段を備え、この接触圧力と、上記同軸プローブの先端径と、プローブの材質特性と、薄膜の材質特性から算出される上記プローブと薄膜との接触面積を用いて、薄膜の厚さを換算することを特徴とする薄膜厚さ測定装置。
- 請求項1記載の薄膜厚さ測定方法において、上記同軸プローブと薄膜との接触圧力を検出し、この検出した接触圧力と、上記同軸プローブの先端径と、プローブの材質特性と、薄膜の材質特性から算出される上記プローブと薄膜との接触面積を用いて、薄膜の厚さを換算することを特徴とする薄膜厚さ測定方法。
- 請求項2項記載の薄膜厚さ測定装置において、上記同軸プローブと薄膜との接触圧力を検出する接触圧力検出手段を備え、検出した接触圧力と、上記同軸プローブの先端径と、プローブの材質特性と、薄膜の材質特性から算出される上記プローブと薄膜との接触面積を用いて、薄膜の厚さを換算することを特徴とする薄膜厚さ測定装置。
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