JP2008174793A - 成膜装置及び成膜方法。 - Google Patents
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Abstract
【課題】成膜対象物たる中空体の内面に均一にDLC膜を形成することのできる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】チャンバー内を減圧する減圧手段と、中空体内に原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、中空体を囲む空間を形成し、この空間内で発生した放電によって中空体内の原料ガスをプラズマ状態とする電極と、電極の外側に配置され、中間体を囲む空間内に磁場を発生させる磁場発生手段と、を備え、磁場発生手段が発生した磁場を用いて、プラズマ状態の原料ガスによって中空体の内面に膜厚が均一なダイアモンドライクカーボン膜を形成する。
【選択図】図1
【解決手段】チャンバー内を減圧する減圧手段と、中空体内に原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、中空体を囲む空間を形成し、この空間内で発生した放電によって中空体内の原料ガスをプラズマ状態とする電極と、電極の外側に配置され、中間体を囲む空間内に磁場を発生させる磁場発生手段と、を備え、磁場発生手段が発生した磁場を用いて、プラズマ状態の原料ガスによって中空体の内面に膜厚が均一なダイアモンドライクカーボン膜を形成する。
【選択図】図1
Description
本発明は、ダイアモンドライクカーボン膜(以下、DLC膜という)の成膜装置及び成膜方法に関する。
中空の成膜対象物の内面に対して、高硬度、高耐磨耗性、高耐食性その他の特性を付与すべくDLC膜を成膜することが提案されている(例えば特許文献1)
特許文献1記載のDLC膜コーティングプラスチック容器の製造装置では、成膜対象物としてのプラスチック容器を収容する減圧室の一部を形成する容器側電極と、プラスチック容器の開口部上方に配置する口側電極と、を減圧室の一部を形成する絶縁体を介して対向させている。この製造装置では、容器側電極に高周波電圧を与えることによって、プラスチック容器内に供給した原料ガスをプラズマ状態として、プラスチック容器の内面にDLC膜を成膜している。
特開2003−341673号公報
しかしながら、特許文献1の製造装置では、プラスチック容器の内面全体に均一にDLC膜を成膜することができなかった。すなわち、有底で略管状のプラスチック容器の中央部分と周辺部分とでは、DLC膜の膜厚が異なっていた。このため、例えば、硬度にばらつきが生じることにより、プラスチック容器の強度が低下して破損しやすくなるという問題があった。
そこで本発明は、成膜対象物たる中空体の内面に均一にDLC膜を形成することのできる成膜装置及び成膜方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の成膜装置は、チャンバー内に配置された中空体の内面にダイアモンドライクカーボン膜を形成する成膜装置であって、チャンバー内を減圧する減圧手段と、中空体内に原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、中空体を囲む空間を形成し、この空間内で発生した放電によって中空体内の原料ガスをプラズマ状態とする電極と、電極の外側に配置され、中間体を囲む空間内に磁場を発生させる磁場発生手段と、を備え、磁場発生手段が発生した磁場を用いて、プラズマ状態の原料ガスによって中空体の内面に膜厚が均一なダイアモンドライクカーボン膜を形成することを特徴とする。
本発明の成膜装置において、中空体は中空の管体であることが好ましい。
本発明の成膜装置において、電極は中空の管状をなし、その軸方向が中空体の軸方向と略一致するように配置され、電極が形成する空間内にホロカソード放電を発生するとよい。
本発明の成膜装置において、磁場発生手段は、絶縁部材を介して、電極の外周に巻回されたコイルであることが好ましい。
本発明の成膜装置において、コイルは、中空体の内面への成膜範囲に対応した範囲に巻回されていることが好ましい。
本発明の成膜装置において、コイルには直流電流が印加されることが好ましい。
本発明の成膜方法は、中空体の内面にダイアモンドライクカーボン膜を形成する成膜方法であって、中空体内に原料ガスを供給する原料ガス供給ステップと、中空体を囲む空間を形成する電極によって、空間内に放電を発生させて中空体内の原料ガスをプラズマ状態とするステップと、電極の外側に配置された磁場発生手段によって、電極が形成する空間内に磁場を発生させ、この磁場を用いて、プラズマ状態の原料ガスによって中空体の内面に、膜厚が均一なダイアモンドライクカーボン膜を形成するステップと、を備えることを特徴とする。
本発明によると、チャンバー内を減圧する減圧手段と、中空体内に原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、中空体を囲む空間を形成し、この空間内で発生した放電によって中空体内の原料ガスをプラズマ状態とする電極と、電極の外側に配置され、中間体を囲む空間内に磁場を発生させる磁場発生手段と、を備えた構成により、磁場発生手段が発生した磁場を用いて、プラズマ状態の原料ガスによって中空体の内面に膜厚が均一なダイアモンドライクカーボン膜を形成することができる。
以下、本発明にかかる実施形態を図1を参照しつつ詳しく説明する。
第1実施形態にかかる成膜装置10は、チャンバー20内に配置された管体(中空体)40の内面44にDLC膜を成膜する装置であって、チャンバー20内の圧力を調整する排気ポンプ(減圧手段)12と、チャンバー20内へ原料ガスを供給するガス発生源(原料ガス供給手段)14と、中間部材24を介して高周波電源22に接続された管状の電極部材(電極)26と、直流電源32に接続されたコイル(磁場発生手段)30と、を備える。DLC膜生成の母材としての管体40としては、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、超硬合金を用いることができる。
第1実施形態にかかる成膜装置10は、チャンバー20内に配置された管体(中空体)40の内面44にDLC膜を成膜する装置であって、チャンバー20内の圧力を調整する排気ポンプ(減圧手段)12と、チャンバー20内へ原料ガスを供給するガス発生源(原料ガス供給手段)14と、中間部材24を介して高周波電源22に接続された管状の電極部材(電極)26と、直流電源32に接続されたコイル(磁場発生手段)30と、を備える。DLC膜生成の母材としての管体40としては、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、超硬合金を用いることができる。
排気ポンプは、バルブ13を介してチャンバー20内部に連通しており、排気することによりチャンバー20内を減圧することができる。
ガス発生源14は、バルブ15を介して、チャンバー20内に連通しており、洗浄のためのアルゴン(Ar)又は水素(H)、中間層形成用の炭化水素系ガス、及び、DLC膜形成用の炭化水素系ガス(原料ガス)をチャンバー20内に供給する。バルブ15を調整して外部への排気量を変えることにより、チャンバー20内へ供給するガス圧を設定することができる。ここで、中間層形成用の炭化水素系ガスとしては、例えば、チタン(Ti)、珪素(Si)、アルミニウム(Al)、窒素(N)、リン(P)、硼素(B)を含むものがあり、ヘキサメチルジシロキサン((CH3)3SiOSi(CH3)3)が好ましい。また、DLC膜形成用の炭化水素系ガスとしては、アセチレン(C2H2)が好ましい。
管状の電極部材26の外周面には、絶縁部材28及びコイル30を避けるような間隙25を備えた、略長板状の中間部材24が電気的に接続している。この中間部材24は、高周波電源22に電気的に接続されている。ここで、高周波電源22に対して、チャンバー20が接地されている。また、電極部材26内には、電極部材26の軸方向(図1の左右方向)が管体40の軸方向と略一致するように、管体40が配置される。管体40は、外周面42が電極部材26の内面27に接するように配置することが好ましい。なお、電極部材26は、管体40を囲むような形状であれば管状以外の形状(例えば球状)とすることができる。これにより、管体40の形状が管状以外の形状(例えば瓶状)であっても、これを囲むように電極部材26を配置することができる。
以上の構成では、高周波電源22を駆動すると、中間部材24を介して電極部材26に交流電圧が印加されて、電極部材26の内面27が囲む空間(管体40を囲む空間)にホロカソード放電が発生する。ガス発生源14から電極部材26内に原料ガスを導入した状態で、ホロカソード放電を発生させると、原料ガスはプラズマ状態となり、管体40の内面44にDLC膜が成膜される。なお、DLC膜の成膜に関して周知の事項については詳細な説明は省略する。
電極部材26の外側には、電極部材26の軸方向が絶縁部材28の軸方向と略一致するように、管状の絶縁部材28(例えばガラス管)が配置されている。この絶縁部材28は、内面が電極部材26の外周面に接触した状態で配置されている。絶縁部材28の外周面には、コイル30が巻回されている。このコイル30は、管体40の軸方向長さ全体に対応する範囲、すなわち、管体40の内面44への成膜範囲、に対応した範囲に均一に巻回されている。コイル30には直流電源32が電気的に接続されている。この構成によれば、直流電源32を駆動すると、コイル30に直流電流が印加される。これにより、コイル30内及び電極部材26内に、磁場が発生する。この磁場により、電極部材26内でプラズマ状態となった原料ガスが、管体40内で分散されるため、管体40の内面44全体に渡って均一な厚さでDLC膜が形成される。
ここで、コイル30の巻き方を変えることにより、管体40の内面44上に成膜されるDLC膜の膜厚分布を任意に制御することができる。例えば、コイル30を巻回するところと、巻回しないところを設けることにより、又は、コイル30の巻回密度の高低をつけることにより、膜厚分布を制御できる。
なお、電極部材26内に磁場を発生することができれば、コイル30以外の部材(例えば永久磁石)を用いることができる。また、コイル30が磁場を発生することができれば、直流電源32に代えて交流電源を用いることもできる。
また、ホロカソード放電に代えて、電極部材26内に、棒状の電極部材を挿入して放電させた場合においても、コイル30が形成する磁場によって、管体40の内面44上に膜厚が均一なDLC膜を形成することができる。
つづいて、第1実施形態によるDLC膜の成膜工程について説明する。成膜は、洗浄、中間層生成、及びDLC膜生成の順に行う。
まず、管体40を電極部材26内に挿入した後に、洗浄に先立ってチャンバー20内を減圧する。減圧は、バルブ13を開いて排気ポンプを動作させることにより行い、10−3Pa以下まで減圧することが好ましい。
まず、管体40を電極部材26内に挿入した後に、洗浄に先立ってチャンバー20内を減圧する。減圧は、バルブ13を開いて排気ポンプを動作させることにより行い、10−3Pa以下まで減圧することが好ましい。
次に、洗浄のためのガスをチャンバー20内に導入する。ガスは、バルブ15を開いてガス発生源14から導入し、チャンバー20内が所定圧力となるように、排気ポンプを動作させて調整する。所定圧力としては、10−1〜10Paが好ましく、8×10−1Paであるとなおよい。ここで用いるガスとしてはアルゴン又は水素が好ましい。チャンバー20内が所定圧力となったところで、高周波電源22を駆動して電極部材26に高周波電圧を与えることによって、電極部材26内にホロカソード放電を発生させる。さらに、直流電源32を駆動してコイル30に直流を印加して管体40内に磁場を発生させる。ここで、高周波電源22からの出力は、1〜3000Wが好ましく、15Wであるとより好ましい。一方、コイル30に印加する電力は1〜100Wが好ましく、印加電流が18Aであるとなおよい。
つづいて、中間層を生成する。中間層は管体40の内面44へのDLC膜の密着性を向上するために行う。初めに、チャンバー20内のガス圧が所定圧となるように、バルブ15を開いてガス発生源14からチャンバー20内へガスを導入する。所定圧としては、10−1〜10Paが好ましく、10−1Paであるとなおよい。中間層生成用の炭化水素系ガスとしては、チタン(Ti)、珪素(Si)、アルミニウム(Al)、窒素(N)、リン(P)、又は硼素(B)を含むものが好ましく、例えばヘキサメチルジシロキサン((CH3)3SiOSi(CH3)3)を用いることができる。チャンバー20内が所定圧となったところで、高周波電源22を駆動して電極部材26に高周波電圧を与えることによって、電極部材26内にホロカソード放電を発生させる。さらに、直流電源32を駆動してコイル30に直流を印加して管体40内に磁場を発生させる。ここで、高周波電源22からの出力は、1〜3000Wが好ましく、15Wであるとより好ましい。また、コイル30に印加する電力は1〜100Wが好ましく、印加電流が18Aであるとなおよい。
最後に、DLC膜を生成する。
まず、チャンバー20内のガス圧が所定の圧力となるように、バルブ15を開いてガス発生源14からチャンバー20内へガスを導入する。所定の圧力としては、10−1〜10Paが好ましく、10−1Paがより好ましい。DLC膜生成用の炭化水素系ガス(原料ガス)としては、アセチレンが好ましい。チャンバー20内が所定の圧力となったところで、高周波電源22を駆動して電極部材26に高周波電圧を与えることによって、電極部材26内にホロカソード放電を発生させて、電極部材26内に導入されたガスをプラズマ状態とする。これとともに、直流電源32を駆動してコイル30に直流を印加して管体40内に磁場を発生させる。ここで、高周波電源22からの出力は、1〜3000Wが好ましく、15Wであるとより好ましい。また、コイル30に印加する電力は1〜100Wが好ましく、印加電流が18Aであるとなおよい。このように、プラズマ状態となった原料ガスが存在する内面44内に、コイル30による磁場を形成することによって、原料ガスが管体40内で分散され、コイル30の巻回範囲に対応する管体40の内面44全体に、DLC膜が均一な膜厚で生成される。
まず、チャンバー20内のガス圧が所定の圧力となるように、バルブ15を開いてガス発生源14からチャンバー20内へガスを導入する。所定の圧力としては、10−1〜10Paが好ましく、10−1Paがより好ましい。DLC膜生成用の炭化水素系ガス(原料ガス)としては、アセチレンが好ましい。チャンバー20内が所定の圧力となったところで、高周波電源22を駆動して電極部材26に高周波電圧を与えることによって、電極部材26内にホロカソード放電を発生させて、電極部材26内に導入されたガスをプラズマ状態とする。これとともに、直流電源32を駆動してコイル30に直流を印加して管体40内に磁場を発生させる。ここで、高周波電源22からの出力は、1〜3000Wが好ましく、15Wであるとより好ましい。また、コイル30に印加する電力は1〜100Wが好ましく、印加電流が18Aであるとなおよい。このように、プラズマ状態となった原料ガスが存在する内面44内に、コイル30による磁場を形成することによって、原料ガスが管体40内で分散され、コイル30の巻回範囲に対応する管体40の内面44全体に、DLC膜が均一な膜厚で生成される。
以下に、図2に示す第2実施形態について説明する。
第2実施形態に係る成膜装置50においては、第1実施形態では一部材であった電極部材26に代えて、2つの管状の電極部材(電極)66、67を用いている。また、管体40は、外周面42が絶縁部材28の内面に接するように配置されている。その他の構成は第1実施形態と同様であって、同じ部材については同じ参照符号を使用する。
第2実施形態に係る成膜装置50においては、第1実施形態では一部材であった電極部材26に代えて、2つの管状の電極部材(電極)66、67を用いている。また、管体40は、外周面42が絶縁部材28の内面に接するように配置されている。その他の構成は第1実施形態と同様であって、同じ部材については同じ参照符号を使用する。
電極部材66、67は、同一の外径及び内径を備えた同一材料で構成されており、それぞれの一つの端部が絶縁部材28内に挿入される。挿入された端部は、管体40の両端にそれぞれ当接する。また電極部材66、67は高周波電源22に電気的に接続される。
この成膜装置50では、高周波電源22を動作させて電極部材66、67間に高周波の交流電圧を印加すると、電極部材66、67間の絶縁部材28内でホロカソード放電が発生する。これにより、管体40内に導入した原料ガスをプラズマ状態として内面44上にDLC膜を生成する。このとき、第1実施形態と同様に、直流電源32を駆動してコイル30に直流電流を印加することにより管体40内に磁場を形成すると、内面44上に均一な膜厚のDLC膜を生成することができる。
なお、その他の作用、効果、変形例は第1実施形態と同様である。
なお、その他の作用、効果、変形例は第1実施形態と同様である。
本発明について上記実施形態を参照しつつ説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、改良の目的または本発明の思想の範囲内において改良または変更が可能である。
10 成膜装置
12 排気ポンプ(減圧手段)
14 ガス発生源(原料ガス供給手段)
20 チャンバー
22 高周波電源
26 電極部材(電極)
30 コイル(磁場発生手段)
32 直流電源
40 管体(中空体)
44 内面
50 成膜装置
66 電極部材
67 電極部材
12 排気ポンプ(減圧手段)
14 ガス発生源(原料ガス供給手段)
20 チャンバー
22 高周波電源
26 電極部材(電極)
30 コイル(磁場発生手段)
32 直流電源
40 管体(中空体)
44 内面
50 成膜装置
66 電極部材
67 電極部材
Claims (7)
- チャンバー内に配置された中空体の内面にダイアモンドライクカーボン膜を形成する成膜装置であって、
前記チャンバー内を減圧する減圧手段と、
前記中空体内に原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
前記中空体を囲む空間を形成し、この空間内で発生した放電によって前記中空体内の前記原料ガスをプラズマ状態とする電極と、
前記電極の外側に配置され、前記中間体を囲む空間内に磁場を発生させる磁場発生手段と、を備え、
前記磁場発生手段が発生した磁場を用いて、プラズマ状態の前記原料ガスによって前記中空体の内面に膜厚が均一なダイアモンドライクカーボン膜を形成することを特徴とする成膜装置。 - 前記中空体は中空の管体である請求項1に記載の成膜装置。
- 前記電極は中空の管状をなし、その軸方向が前記中空体の軸方向と略一致するように配置され、前記電極が形成する空間内にホロカソード放電を発生する請求項2に記載の成膜装置。
- 前記磁場発生手段は、絶縁部材を介して、前記電極の外周に巻回されたコイルである請求項3に記載の成膜装置。
- 前記コイルは、前記中空体の内面への成膜範囲に対応した範囲に巻回されている請求項4に記載の成膜装置。
- 前記コイルには直流電流が印加される請求項4又は請求項5に記載の成膜装置。
- 中空体の内面にダイアモンドライクカーボン膜を形成する成膜方法であって、
前記中空体内に原料ガスを供給する原料ガス供給ステップと、
前記中空体を囲む空間を形成する電極によって、前記空間内に放電を発生させて前記中空体内の前記原料ガスをプラズマ状態とするステップと、
前記電極の外側に配置された磁場発生手段によって、前記電極が形成する空間内に磁場を発生させ、この磁場を用いて、プラズマ状態の前記原料ガスによって前記中空体の内面に、膜厚が均一なダイアモンドライクカーボン膜を形成するステップと、
を備えることを特徴とする成膜方法。
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Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016003394A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | ノードソン コーポレーションNordson Corporation | 管腔内ポリマー堆積装置及び方法 |
US9272095B2 (en) | 2011-04-01 | 2016-03-01 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods |
CN105483614A (zh) * | 2015-12-03 | 2016-04-13 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种类金刚石微管及其制备方法 |
US9458536B2 (en) | 2009-07-02 | 2016-10-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles |
US9545360B2 (en) | 2009-05-13 | 2017-01-17 | Sio2 Medical Products, Inc. | Saccharide protective coating for pharmaceutical package |
US9554968B2 (en) | 2013-03-11 | 2017-01-31 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging |
US9572526B2 (en) | 2009-05-13 | 2017-02-21 | Sio2 Medical Products, Inc. | Apparatus and method for transporting a vessel to and from a PECVD processing station |
US9664626B2 (en) | 2012-11-01 | 2017-05-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Coating inspection method |
US9662450B2 (en) | 2013-03-01 | 2017-05-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus |
US9764093B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-09-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
US9863042B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-01-09 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD lubricity vessel coating, coating process and apparatus providing different power levels in two phases |
US9878101B2 (en) | 2010-11-12 | 2018-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
US9903782B2 (en) | 2012-11-16 | 2018-02-27 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics |
US9937099B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-04-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate |
US10189603B2 (en) | 2011-11-11 | 2019-01-29 | Sio2 Medical Products, Inc. | Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus |
US10201660B2 (en) | 2012-11-30 | 2019-02-12 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition on medical syringes, cartridges, and the like |
JP2019077903A (ja) * | 2017-10-20 | 2019-05-23 | アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社 | プラズマcvd装置及びプラスチック容器の成膜方法 |
US11066745B2 (en) | 2014-03-28 | 2021-07-20 | Sio2 Medical Products, Inc. | Antistatic coatings for plastic vessels |
US11077233B2 (en) | 2015-08-18 | 2021-08-03 | Sio2 Medical Products, Inc. | Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate |
US11116695B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-09-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube |
US11624115B2 (en) | 2010-05-12 | 2023-04-11 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubrication |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0270059A (ja) * | 1987-12-02 | 1990-03-08 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 器具およびその製造方法 |
JPH0831748A (ja) * | 1994-07-13 | 1996-02-02 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマ処理装置、エッチング装置および成膜装置 |
JP2000185997A (ja) * | 1998-12-24 | 2000-07-04 | Daiei Seiko Kk | ダイヤモンドライクカーボン膜形成装置およびダイヤモンドライクカーボン膜形成方法 |
JP2002212728A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-31 | Daiei Seiko Kk | ダイヤモンドライクカーボン膜の製膜装置及び製膜方法 |
JP2004300536A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Shinko Seiki Co Ltd | 表面処理装置および表面処理方法 |
JP2005233960A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | Univ Of Electro-Communications | マイクロプローブ並びにその製造装置及び方法 |
-
2007
- 2007-01-18 JP JP2007009046A patent/JP2008174793A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0270059A (ja) * | 1987-12-02 | 1990-03-08 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 器具およびその製造方法 |
JPH0831748A (ja) * | 1994-07-13 | 1996-02-02 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマ処理装置、エッチング装置および成膜装置 |
JP2000185997A (ja) * | 1998-12-24 | 2000-07-04 | Daiei Seiko Kk | ダイヤモンドライクカーボン膜形成装置およびダイヤモンドライクカーボン膜形成方法 |
JP2002212728A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-31 | Daiei Seiko Kk | ダイヤモンドライクカーボン膜の製膜装置及び製膜方法 |
JP2004300536A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Shinko Seiki Co Ltd | 表面処理装置および表面処理方法 |
JP2005233960A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | Univ Of Electro-Communications | マイクロプローブ並びにその製造装置及び方法 |
Cited By (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9572526B2 (en) | 2009-05-13 | 2017-02-21 | Sio2 Medical Products, Inc. | Apparatus and method for transporting a vessel to and from a PECVD processing station |
US10537273B2 (en) | 2009-05-13 | 2020-01-21 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubricity layer |
US10390744B2 (en) | 2009-05-13 | 2019-08-27 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubricity layer, apparatus and method for transporting a vessel to and from a PECVD processing station, and double wall plastic vessel |
US9545360B2 (en) | 2009-05-13 | 2017-01-17 | Sio2 Medical Products, Inc. | Saccharide protective coating for pharmaceutical package |
US9458536B2 (en) | 2009-07-02 | 2016-10-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles |
US11624115B2 (en) | 2010-05-12 | 2023-04-11 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubrication |
US11123491B2 (en) | 2010-11-12 | 2021-09-21 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
US9878101B2 (en) | 2010-11-12 | 2018-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
US9272095B2 (en) | 2011-04-01 | 2016-03-01 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods |
US11724860B2 (en) | 2011-11-11 | 2023-08-15 | Sio2 Medical Products, Inc. | Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus |
US11884446B2 (en) | 2011-11-11 | 2024-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus |
US11148856B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-10-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus |
US11116695B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-09-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube |
US10577154B2 (en) | 2011-11-11 | 2020-03-03 | Sio2 Medical Products, Inc. | Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus |
US10189603B2 (en) | 2011-11-11 | 2019-01-29 | Sio2 Medical Products, Inc. | Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus |
US9664626B2 (en) | 2012-11-01 | 2017-05-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Coating inspection method |
US9903782B2 (en) | 2012-11-16 | 2018-02-27 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics |
US9764093B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-09-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
US10363370B2 (en) | 2012-11-30 | 2019-07-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
US11406765B2 (en) | 2012-11-30 | 2022-08-09 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
US10201660B2 (en) | 2012-11-30 | 2019-02-12 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition on medical syringes, cartridges, and the like |
US9662450B2 (en) | 2013-03-01 | 2017-05-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus |
US9937099B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-04-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate |
US10537494B2 (en) | 2013-03-11 | 2020-01-21 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated blood collection tube with low oxygen transmission rate |
US9554968B2 (en) | 2013-03-11 | 2017-01-31 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging |
US11684546B2 (en) | 2013-03-11 | 2023-06-27 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coated pharmaceutical packaging |
US10016338B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-07-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging |
US10912714B2 (en) | 2013-03-11 | 2021-02-09 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coated pharmaceutical packaging |
US11344473B2 (en) | 2013-03-11 | 2022-05-31 | SiO2Medical Products, Inc. | Coated packaging |
US11298293B2 (en) | 2013-03-11 | 2022-04-12 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coated pharmaceutical packaging |
US9863042B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-01-09 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD lubricity vessel coating, coating process and apparatus providing different power levels in two phases |
US11066745B2 (en) | 2014-03-28 | 2021-07-20 | Sio2 Medical Products, Inc. | Antistatic coatings for plastic vessels |
JP2016003394A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | ノードソン コーポレーションNordson Corporation | 管腔内ポリマー堆積装置及び方法 |
US11077233B2 (en) | 2015-08-18 | 2021-08-03 | Sio2 Medical Products, Inc. | Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate |
CN105483614A (zh) * | 2015-12-03 | 2016-04-13 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种类金刚石微管及其制备方法 |
JP7006918B2 (ja) | 2017-10-20 | 2022-01-24 | ジャパンクリエイト株式会社 | プラズマcvd装置及びプラスチック容器の成膜方法 |
JP2019077903A (ja) * | 2017-10-20 | 2019-05-23 | アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社 | プラズマcvd装置及びプラスチック容器の成膜方法 |
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