WO2014010325A1 - 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学異方体、及び重合性化合物の製造方法 - Google Patents

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智史 桐木
久美 奥山
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    • G02F2202/40Materials having a particular birefringence, retardation

Definitions

  • the present invention is capable of producing an optical film capable of uniform polarization conversion in a wide wavelength range, a polymerizable compound, a polymerizable composition and a polymer, an optical anisotropic body, and a raw material for producing the polymerizable compound
  • the present invention relates to a method for producing a polymerizable compound using the carbonyl compound, and a method for using the carbonyl compound as a raw material for producing the polymerizable compound.
  • FPD Flat panel display devices
  • the retardation plate examples include a 1 ⁇ 4 wavelength plate that converts linearly polarized light into circularly polarized light, and a 1 ⁇ 2 wavelength plate that converts the polarization vibration plane of linearly polarized light by 90 degrees. These retardation plates can accurately convert a specific monochromatic light into a phase difference of 1 / 4 ⁇ or 1 / 2 ⁇ of the light wavelength.
  • the conventional retardation plate has a problem that polarized light output through the retardation plate is converted into colored polarized light. This is because the material constituting the retardation plate has wavelength dispersion with respect to the retardation, and distribution occurs in the polarization state for each wavelength with respect to white light that is a composite wave in which light rays in the visible light range are mixed.
  • the low molecular weight polymerizable compound or polymerizable composition described in these documents has a high melting point that is not suitable for processing in an industrial process, so it is difficult to apply to a film,
  • the temperature range showing liquid crystallinity is extremely narrow, the solubility in solvents generally used in industrial processes is low, or the reverse wavelength dispersibility of the polymer film obtained by polymerizing these is insufficient.
  • these low molecular weight polymerizable compounds and the like have a problem in terms of cost because they are synthesized in multiple stages by making full use of a synthesis method using a very expensive reagent.
  • Japanese Patent Laid-Open No. 10-68816 Japanese Patent Laid-Open No. 10-90521 Japanese Patent Laid-Open No. 11-52131 JP 2000-284126 A (US20020159005A1) JP 2001-4837 A International Publication No. 2000/026705 JP 2002-267838 A JP 2003-160540 A (US20030102458A1) JP 2005-208414 A JP 2005-208415 A JP 2005-208416 A Japanese Patent Laying-Open No.
  • the present invention has been made in view of the above-described prior art, has a practically low melting point, excellent solubility in general-purpose solvents, can be produced at low cost, has low reflection luminance, and has a wide wavelength.
  • an optical anisotropic body comprising a polymerizable compound represented by the following formula (I) or a polymer obtained by polymerizing a polymerizable composition containing the polymerizable compound and a polymerization initiator as a constituent material is obtained.
  • a polymerizable compound represented by the following formula (I) or a polymer obtained by polymerizing a polymerizable composition containing the polymerizable compound and a polymerization initiator as a constituent material is obtained.
  • an optical film capable of uniform polarization conversion in a wide wavelength range can be produced at low cost, and the present invention has been completed.
  • Y 1 to Y 8 are each independently a chemical single bond, —O—, —S—, —O—C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —O—, — OC ( ⁇ O) —O—, —NR 1 —C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —NR 1 —, —O—C ( ⁇ O) —NR 1 —, —NR 1 — C ( ⁇ O) —O—, —NR 1 —C ( ⁇ O) —NR 1 —, or —NR 1 —O— is represented.
  • R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • G 1 and G 2 each independently represents a divalent chain aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
  • the chain aliphatic group includes —O—, —S—, —O—C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —O—, —O—C ( ⁇ O) —O—.
  • —NR 2 —C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —NR 2 —, —NR 2 —, or —C ( ⁇ O) — may be present.
  • R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • Z 1 and Z 2 each independently represents an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.
  • a x represents an organic group having 2 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring.
  • a y has a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a substituent.
  • R 3 has an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or a substituent.
  • R 4 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, Represents a phenyl group or a 4-methylphenyl group
  • R 9 represents an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms.
  • a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent and an aromatic group having 5 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
  • the aromatic ring of A x and A y may have a substituent.
  • a x and A y may be combined to form a ring.
  • a 1 represents a trivalent aromatic group which may have a substituent.
  • a 2 and A 3 each independently represent a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms which may have a substituent,
  • a 4 and A 5 each independently represents a divalent aromatic group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent.
  • Q 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
  • Z 1 and Z 2 are each independently CH 2 ⁇ CH—, CH 2 ⁇ C (CH 3 ) —, or CH 2 ⁇ C (Cl) — (1) to (4)
  • G 1 and G 2 are each independently a divalent aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent [the aliphatic group includes —O—, —O —C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —O— or —C ( ⁇ O) — may be present. However, the case where two or more of —O— are adjacent to each other is excluded. ]
  • a polymerizable composition comprising at least one polymerizable compound as described in any of (1) to (7) above and a polymerization initiator.
  • Y 1 to Y 8 are each independently a chemical single bond, —O—, —S—, —O—C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —O—, — OC ( ⁇ O) —O—, —NR 1 —C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —NR 1 —, —O—C ( ⁇ O) —NR 1 —, —NR 1 — C ( ⁇ O) —O—, —NR 1 —C ( ⁇ O) —NR 1 —, or —NR 1 —O— is represented.
  • R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • G 1 and G 2 each independently represent a divalent chain aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent
  • the chain aliphatic group includes —O—, —S—, —O—C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —O—, —O—C ( ⁇ O) —O—, —NR 2 —C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —NR 2 —, —NR 2 —, or —C ( ⁇ O) — may be present.
  • R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • Z 1 and Z 2 each independently represents an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms which is unsubstituted or substituted with a halogen atom.
  • a 1 represents a trivalent aromatic group which may have a substituent.
  • a 2 and A 3 each independently represents a C 3-30 divalent alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent.
  • a 4 and A 5 each independently represents a divalent aromatic group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent.
  • Q 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. ⁇ The carbonyl compound shown by these.
  • a x represents an organic group having 2 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring.
  • a y has a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a substituent.
  • R 3 has an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or a substituent.
  • R 4 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, Represents a phenyl group or a 4-methylphenyl group
  • R 9 represents an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms.
  • the aromatic ring of A x and A y may have a substituent.
  • a x and A y may be combined to form a ring.
  • a method for producing a polymerizable compound (Wherein A x , A y , Y 1 to Y 8 , Z 1 , Z 2 , G 1 , G 2 , A 1 to A 5 , and Q 1 represent the same meaning as described above).
  • a method for producing a polymerizable compound (18)
  • the carbonyl compound according to any one of (13) to (16) is represented by the following formula (I):
  • a method used as a raw material for producing a polymerizable compound (Wherein A x , A y , Y 1 to Y 8 , Z 1 , Z 2 , G 1 , G 2 , A 1 to A 5 , and Q 1 represent the same meaning as described above).
  • a method used as a raw material for producing a polymerizable compound (Wherein A x , A y , Y 1 to Y 8 , Z 1 , Z 2 , G 1 , G 2 , A 1 to A 5 , and Q 1 represent the same meaning as described above).
  • the polymerizable compound, polymerizable composition and polymer of the present invention it has a practically low melting point, is excellent in solubility in general-purpose solvents, can be produced at low cost, has low reflection luminance, and An optical film capable of uniform polarization conversion in a wide wavelength range can be obtained. Since the optical anisotropic body of the present invention uses the polymer of the present invention as a constituent material, the optical anisotropic body can be manufactured at low cost, has low reflection luminance, and is capable of uniform polarization conversion in a wide wavelength range. . An antireflection film can be produced by combining the film-like optical anisotropic body of the present invention with a polarizing plate. This can be suitably used industrially, for example, for preventing reflection of a touch panel or an organic electroluminescent element.
  • the carbonyl compound of the present invention is useful as an intermediate for producing the polymerizable compound of the present invention. According to the method for producing a polymerizable compound of the present invention, the polymerizable compound of the present invention can be efficiently produced. By using the carbonyl compound of the present invention as a production raw material, the polymerizable compound of the present invention can be easily produced in high yield.
  • the present invention includes 1) a polymerizable compound, 2) a polymerizable composition, 3) a polymer, 4) an optical anisotropic body, 5) a carbonyl compound, and 6) a method for producing the polymerizable compound, and polymerizability.
  • the method will be described in detail by dividing into methods used as raw materials for producing compounds.
  • “optionally substituted” means “unsubstituted or substituted”.
  • the polymerizable compound of the present invention is a compound represented by the formula (I).
  • Y 1 to Y 8 are each independently a chemical single bond, —O—, —S—, —O—C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —O—, —O.
  • R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • alkyl group having 1 to 6 carbon atoms of R 1 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n- A hexyl group etc. are mentioned.
  • R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • Y 1 to Y 8 are each independently a chemical single bond, —O—, —O—C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —O—. Or —O—C ( ⁇ O) —O— is preferable.
  • G 1 and G 2 each independently represent a divalent aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms, which may have a substituent.
  • the divalent aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms include a divalent aliphatic group having a chain structure such as an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms and an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms; And divalent aliphatic groups such as a cycloalkanediyl group having 20 carbon atoms, a cycloalkenediyl group having 4 to 20 carbon atoms, and a divalent alicyclic fused ring group having 10 to 30 carbon atoms.
  • Examples of the substituent for the divalent aliphatic group of G 1 and G 2 include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n -Butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group and the like, such as alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms; Of these, a fluorine atom, a methoxy group, and an ethoxy group are preferable.
  • the aliphatic group includes —O—, —S—, —O—C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —O—, —O—C ( ⁇ O) —O—, — NR 2 —C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —NR 2 —, —NR 2 —, or —C ( ⁇ O) — may be present.
  • R 2 represents the same hydrogen atom or alkyl group having 1 to 6 carbon atoms as R 1, and is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • the group intervening in the aliphatic group is preferably —O—, —O—C ( ⁇ O) —, —C ( ⁇ O) —O—, —C ( ⁇ O) —.
  • G 1 and G 2 are each independently an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, or the like, from the viewpoint of better expressing the desired effect of the present invention.
  • a divalent aliphatic group having a chain structure is preferable.
  • Z 1 and Z 2 each independently represents an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms which is unsubstituted or substituted with a halogen atom.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 6 carbon atoms.
  • Examples of the halogen atom that is a substituent of the alkenyl group of Z 1 and Z 2 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and the like, and a chlorine atom is preferable.
  • alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms of Z 1 and Z 2 include CH 2 ⁇ CH—, CH 2 ⁇ C (CH 3 ) —, CH 2 ⁇ CH—CH 2 —, CH 3 —CH ⁇ .
  • Z 1 and Z 2 are each independently CH 2 ⁇ CH—, CH 2 ⁇ C (CH 3 ) —, CH 2 ⁇
  • C (Cl) —, CH 2 ⁇ CH—CH 2 —, CH 2 ⁇ C (CH 3 ) —CH 2 —, or CH 2 ⁇ C (CH 3 ) —CH 2 —CH 2 — is preferred.
  • CH 2 ⁇ CH—, CH 2 ⁇ C (CH 3 ) —, or CH 2 ⁇ C (Cl) — is more preferable, and CH 2 ⁇ CH— is particularly preferable.
  • a x represents an organic group having 2 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring.
  • the “aromatic ring” is represented by a cyclic structure having a broad sense of aromaticity according to the Huckle rule, that is, a cyclic conjugated structure having (4n + 2) ⁇ electrons, and thiophene, furan, benzothiazole, and the like. This means that a lone pair of heteroatoms such as sulfur, oxygen, and nitrogen is involved in the ⁇ -electron system and exhibits aromaticity.
  • the organic group having 2 to 30 carbon atoms and having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring of A x may have a plurality of aromatic rings. And having an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle.
  • aromatic hydrocarbon ring examples include a benzene ring, a naphthalene ring, and an anthracene ring.
  • aromatic heterocyclic ring examples include monocyclic aromatic heterocyclic rings such as a pyrrole ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxazole ring, and a thiazole ring; Benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoline ring, phthalazine ring, benzimidazole ring, benzopyrazole ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, thiazolopyridine ring, oxazolopyridine ring, thiazolopyrazine ring,
  • the aromatic ring of A x may have a substituent.
  • substituents include halogen atoms such as fluorine atom and chlorine atom; cyano group; alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group and propyl group; and 2 to 6 carbon atoms such as vinyl group and allyl group.
  • An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a trifluoromethyl group; a substituted amino group such as a dimethylamino group; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, and an isopropoxy group; Nitro group; aryl group such as phenyl group and naphthyl group; —C ( ⁇ O) —R 5 ; —C ( ⁇ O) —OR 5 ; —SO 2 R 6 ;
  • R 5 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms
  • R 6 is a carbon atom similar to R 4 described later. It represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group, or a 4-methylphenyl group.
  • the aromatic ring within A x may have a plurality of identical or different substituents, bonded two adjacent substituents together may form a ring.
  • the ring formed may be a single ring or a condensed polycycle, and may be an unsaturated ring or a saturated ring.
  • the “carbon number” of the organic group having 2 to 30 carbon atoms in A x means the total number of carbon atoms in the whole organic group not including the carbon atom of the substituent (the same applies to A y described later). .
  • an aromatic hydrocarbon ring group As the organic group having 2 to 30 carbon atoms and having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring of A x , an aromatic hydrocarbon ring group; an aromatic heterocyclic ring Group: an alkyl group having 3 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group; from an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group An alkenyl group having 4 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of: a carbon number having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group 4-30 alkynyl groups; and the like.
  • a x is not limited to the following.
  • “-” represents a bond extending from any position of the ring (the same applies hereinafter).
  • E represents NR 6 , an oxygen atom or a sulfur atom.
  • R 6 represents a hydrogen atom; or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
  • X, Y, and Z each independently represent NR 7 , an oxygen atom, a sulfur atom, —SO—, or —SO 2 — (provided that an oxygen atom, a sulfur atom, —SO—, Except where —SO 2 — are adjacent to each other).
  • R 7 represents the same hydrogen atom as R 6 ; or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
  • an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms or is preferably an aromatic heterocyclic group having 4 to 30 carbon atoms, more preferably one of the groups shown below ,
  • the ring of A x may have a substituent.
  • substituents include halogen atoms such as fluorine atom and chlorine atom; cyano group; alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group and propyl group; and 2 to 6 carbon atoms such as vinyl group and allyl group.
  • An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a trifluoromethyl group; a substituted amino group such as a dimethylamino group; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, and an isopropoxy group; Nitro group; aryl group such as phenyl group and naphthyl group; —C ( ⁇ O) —R 8 ; —C ( ⁇ O) —OR 8 ; —SO 2 R 6 ; R 8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group; or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms such as a phenyl group.
  • a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms are preferable.
  • the ring of A x may have a plurality of the same or different substituents, and two adjacent substituents may be bonded together to form a ring.
  • the ring formed may be monocyclic or condensed polycyclic.
  • the “carbon number” of the organic group having 2 to 30 carbon atoms in A x means the total number of carbon atoms in the whole organic group not including the carbon atom of the substituent (the same applies to A y described later). .
  • a y has a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a substituent.
  • a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, —C ( ⁇ O) —R 3 , —SO 2 —R 4 , —C ( S) NH-R 9 or an organic group having 2 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring.
  • R 3 has an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a substituent.
  • R 9 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, A cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent and an aromatic group having 5 to 20 carbon atoms which may have a substituent are represented.
  • alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent of A y include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and n-butyl.
  • alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent of A y include a vinyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, an isobutenyl group, and a pentenyl group.
  • the carbon number of the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent is preferably 2 to 12.
  • Examples of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclooctyl group. Groups and the like.
  • alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms of the alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent examples include an ethynyl group, a propynyl group, a 2-propynyl group (propargyl group), and a butynyl group.
  • Examples of the substituent of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent and the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent include a fluorine atom, chlorine Halogen atoms such as atoms; cyano groups; substituted amino groups such as dimethylamino groups; alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms such as methoxy groups, ethoxy groups, isopropoxy groups, butoxy groups; methoxymethoxy groups, methoxyethoxy groups, etc.
  • R 7 and R 10 are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a 6 to 12 carbon atom.
  • R 8 represents an aromatic hydrocarbon group, and R 8 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group, or a 4-methylphenyl group, similar to R 4 described above.
  • Examples of the substituent of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent for A y include a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom; a cyano group; a substituted amino group such as a dimethylamino group; C1-C6 alkyl groups such as methyl, ethyl and propyl groups; C1-C6 alkoxy groups such as methoxy, ethoxy and isopropoxy groups; nitro groups; aryls such as phenyl and naphthyl groups A cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group; —C ( ⁇ O) —R 7 ; —C ( ⁇ O) —OR 7 ; —SO 2 R 8 ; And the like.
  • R 7 and R 8 represent the same meaning as described
  • Examples of the substituent of the alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms that may have a substituent of A y include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent and a substituent. And the same substituent as the substituent of the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be used.
  • R 3 may have a C 1-20 alkyl group which may have a substituent, or may have a substituent.
  • Preferred examples thereof include an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms.
  • Specific examples thereof include the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent of the above Ay.
  • Examples of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may be included are the same as those listed.
  • R 4 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group, or a 4-methylphenyl group To express.
  • Specific examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms in R 4 include the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms in the above Ay . Examples are the same as those listed.
  • Examples of the organic group having 2 to 30 carbon atoms and having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring for A y are the same as those exemplified for A x above. Is mentioned.
  • a hydrogen atom an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a substituent
  • R 3 and R 4 represent the same meaning as described above.
  • an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and an optionally substituted carbon
  • substituent of the alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms include a halogen atom, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms substituted with an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, phenyl Group, cyclohexyl group, C2-C12 cyclic ether group, C6-C14 aryloxy group, hydroxyl group, benzodioxanyl group, phenylsulfonyl group, 4-methylphenylsulfonyl group, benzoyl group, -SR 10 Is preferred.
  • R 10 represents the same meaning as described above.
  • a y having an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an optionally substituted aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, and a substituent.
  • the substituent of the aromatic heterocyclic group having 3 to 9 carbon atoms a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a cyano group are preferable.
  • a x and A y may be combined to form a ring.
  • a ring examples include an unsaturated heterocyclic ring having 4 to 30 carbon atoms and an unsaturated carbocyclic ring having 6 to 30 carbon atoms, which may have a substituent.
  • the unsaturated heterocyclic ring having 4 to 30 carbon atoms and the unsaturated carbocyclic ring having 6 to 30 carbon atoms are not particularly limited and may or may not have aromaticity.
  • the ring shown below is mentioned.
  • the ring shown below is the one in the formula (I).
  • substituent groups include the same ones as exemplified as the substituents of the aromatic ring within A x.
  • the total number of ⁇ electrons contained in A x and A y is preferably 4 or more and 24 or less, more preferably 6 or more and 20 or less, from the viewpoint of better expressing the desired effect of the present invention. More preferably, it is 6 or more and 18 or less.
  • a x is an aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group having 4 to 30 carbon atoms
  • a y is a hydrogen atom, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, (halogen atom, cyano group,
  • An aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms which may have a substituent of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms) , (Halogen atom, alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, cyano group) which may have as a substituent a C 3-9 aromatic heterocyclic group or substituent An optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkenyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an optional
  • the substituent is a halogen atom, a cyano group, or an aryl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R 10 represents the same meaning as described above.
  • a x is any of the groups having the following structure
  • a y is a hydrogen atom, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, (a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, carbon
  • An aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms which may have an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, (halogen atom, 1 to 6 carbon atoms)
  • Atoms, cyano groups, alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 1 carbon atoms An alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group, a cyclohexyl group, a cyclic ether group having 2 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, a hydroxyl group, and a benzodioxanyl group.
  • benzenesulfonyl group, a benzoyl group, a combination is either -SR 10.
  • R 10 represents the same meaning as described above.
  • a x is any of the groups having the following structure
  • a y is a hydrogen atom, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, a (halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, carbon
  • An aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms which may have an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, (halogen atom, 1 to 6 carbon atoms)
  • Atoms, cyano groups, alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 1 carbon atoms An alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group, a cyclohexyl group, a cyclic ether group having 2 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, a hydroxyl group, and a benzodioxanyl group.
  • benzenesulfonyl group, a benzoyl group, a combination is either -SR 10.
  • X represents the same meaning as described above.
  • R 10 represents the same meaning as described above.
  • a 1 represents a trivalent aromatic group which may have a substituent.
  • the trivalent aromatic group may be a trivalent carbocyclic aromatic group or a trivalent heterocyclic aromatic group. From the viewpoint of better expressing the desired effect of the present invention, a trivalent carbocyclic aromatic group is preferable, a trivalent benzene ring group or a trivalent naphthalene ring group is more preferable, and a trivalent represented by the following formula: The benzene ring group or trivalent naphthalene ring group is more preferable.
  • the substituents Y 1 and Y 2 are described for convenience in order to clarify the bonding state (Y 1 and Y 2 represent the same meaning as described above, and the same applies hereinafter). .
  • a 1 groups represented by the following formulas (A11) to (A25) are more preferable.
  • A13 groups represented by the following formulas (A11), (A13), (A15), (A19), and (A23) are particularly preferred.
  • a 1 as a trivalent substituent which may be possessed by the aromatic group, the same ones as exemplified as the substituents of the aromatic groups of the A X and the like.
  • a 1 preferably has no substituent.
  • a 2 and A 3 each independently represents a C 3-30 divalent alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms include a cycloalkanediyl group having 3 to 30 carbon atoms and a divalent alicyclic condensed ring group having 10 to 30 carbon atoms.
  • Examples of the cycloalkanediyl group having 3 to 30 carbon atoms include cyclopropanediyl group; cyclobutanediyl group such as cyclobutane-1,2-diyl group and cyclobutane-1,3-diyl group; cyclopentane-1,2-diyl group Cyclopentanediyl groups such as cyclopentane-1,3-diyl group; cyclohexanediyl groups such as cyclohexane-1,2-diyl group, cyclohexane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group; Cycloheptanediyl groups such as cycloheptane-1,2-diyl group, cycloheptane-1,3-diyl group, cycloheptane-1,4-diyl group; cyclooc
  • Examples of the divalent alicyclic condensed ring group having 10 to 30 carbon atoms include decalin-2,5-diyl group, decalin-2,7-diyl group, etc .; adamantane-1,2-diyl group, adamantane Adamantanediyl group such as -1,3-diyl group; bicyclo [2.2.1] heptane-2,3-diyl group, bicyclo [2.2.1] heptane-2,5-diyl group, bicyclo And bicyclo [2.2.1] heptanediyl groups such as [2.2.1] heptane-2,6-diyl group.
  • These divalent alicyclic hydrocarbon groups may have a substituent at any position.
  • substituents the same ones as exemplified as the substituents of the aromatic groups of the A X and the like.
  • a 2 and A 3 a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms is preferable, a cycloalkanediyl group having 3 to 12 carbon atoms is more preferable, and the following formula (A31) to (A34)
  • the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms is a cis type or a trans type based on a difference in configuration of carbon atoms bonded to Y 1 , Y 3 (or Y 2 , Y 4 ).
  • Stereoisomers can exist.
  • a cis-type isomer (A32a) and a trans-type isomer (A32b) may exist.
  • it may be a cis type, a trans type, or a mixture of cis and trans isomers.
  • a trans type Preferably, there is a trans type.
  • a 4 and A 5 each independently represents a divalent aromatic group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent.
  • the aromatic groups of A 4 and A 5 may be monocyclic or polycyclic.
  • Preferable specific examples of A 4 and A 5 include the following.
  • the divalent aromatic groups of A 4 and A 5 may have a substituent at any position.
  • substituents include a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro group, a —C ( ⁇ O) —OR 8 group, and the like. It is done.
  • R 8 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkoxy group are preferable.
  • the halogen atom is preferably a fluorine atom
  • the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferably a methyl group, an ethyl group or a propyl group
  • the alkoxy group is more preferably a methoxy group or an ethoxy group.
  • a 4 and A 5 may each independently have a substituent, the following formulas (A41) and (A42) And a group represented by (A43) is more preferred, and a group represented by formula (A41) which may have a substituent is particularly preferred.
  • Q 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
  • the alkyl group which has 1 carbon atoms which may be ⁇ 6 have a substituent, the same ones as exemplified in the A X and the like.
  • Q 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • the polymerizable compound of the present invention can be produced, for example, by the reaction shown below.
  • a hydrazine compound (hydrazine compound (3)) represented by formula (3) is converted into a carbonyl compound (carbonyl compound (4)) represented by formula (4) and [hydrazine compound (3): carbonyl compound ( 4)] at a molar ratio of 1: 2 to 2: 1, preferably 1: 1.5 to 1.5: 1.
  • the polymerizable compound represented by the formula (I) can be produced.
  • the reaction can be carried out by adding an acid catalyst such as an organic acid such as ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid and paratoluenesulfonic acid; an inorganic acid such as hydrochloric acid and sulfuric acid;
  • an acid catalyst By adding an acid catalyst, the reaction time may be shortened and the yield may be improved.
  • the addition amount of the acid catalyst is usually 0.001 to 1 mol with respect to 1 mol of the carbonyl compound (4). Further, the acid catalyst may be added as it is, or may be added as a solution dissolved in an appropriate solution.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
  • alcohol solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, sec-butyl alcohol, t-butyl alcohol; diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane Ether solvents such as 1,4-dioxane and cyclopentyl methyl ether; ester solvents such as ethyl acetate, propyl acetate and methyl propionate; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene; n-pentane, n -Aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and n-heptane; Amides solvents such as N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and hexamethyl
  • the amount of the solvent used is not particularly limited and can be appropriately determined in consideration of the type of compound used, reaction scale, etc., but is usually 1 to 100 g with respect to 1 g of the hydrazine compound (3).
  • the reaction proceeds smoothly in the temperature range from ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent used.
  • the reaction time for each reaction is usually from several minutes to several hours depending on the reaction scale.
  • the hydrazine compound (3) can be produced as follows.
  • a x and A y represent the same meaning as described above.
  • X represents a leaving group such as a halogen atom, a methanesulfonyloxy group, and a p-toluenesulfonyloxy group.
  • the compound represented by the formula (2a) and hydrazine (1) are mixed in a suitable solvent in a molar ratio of (compound (2a): hydrazine (1)) of 1: 1 to 1:20, preferably 1 : 2 to 1:10 to obtain the corresponding hydrazine compound (3a). Further, by reacting the hydrazine compound (3a) with the compound represented by the formula (2b), the hydrazine compound ( 3) can be obtained.
  • hydrazine (1) a monohydrate is usually used.
  • hydrazine (1) a commercially available product can be used as it is.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
  • alcohol solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, sec-butyl alcohol, t-butyl alcohol; diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane Ether solvents such as 1,4-dioxane and cyclopentyl methyl ether
  • aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene
  • aliphatic hydrocarbon solvents such as n-pentane, n-hexane and n-heptane
  • amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N-methylpyr
  • the amount of the solvent to be used is not particularly limited and can be appropriately determined in consideration of the type of compound used, reaction scale, etc., but is usually 1 to 100 g with respect to 1 g of hydrazine.
  • the reaction proceeds smoothly in a temperature range from ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent used.
  • the reaction time for each reaction is usually from several minutes to several hours depending on the reaction scale.
  • the hydrazine compound (3) can also be produced by reducing the diazonium salt (5) using a conventionally known method as follows.
  • X ⁇ represents an anion which is a counter ion for diazonium.
  • examples of X ⁇ include inorganic anions such as hexafluorophosphate ion, borofluoride ion, chloride ion, sulfate ion; polyfluoroalkylcarboxylate ion, polyfluoroalkylsulfonate ion, tetraphenylborate ion And organic anions such as aromatic carboxylate ions and aromatic sulfonate ions.
  • a metal salt reducing agent is mentioned as a reducing agent used for the said reaction.
  • a metal salt reducing agent is generally a compound containing a low-valent metal or a compound comprising a metal ion and a hydride source (“Organic Synthesis Experiment Handbook”, 1990, published by Maruzen Co., Ltd., edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan). See).
  • R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. LiAlH 4 , iBu 2 AlH, LiBH 4 , NaBH 4 , SnCl 2 , CrCl 2 , TiCl 3 and the like.
  • the diazonium salt (5) can be produced from a compound such as aniline by a conventional method.
  • the carbonyl compound (4) typically has an ether bond (—O—), an ester bond (—C ( ⁇ O) —O—, —O—C ( ⁇ O) —), a carbonate bond (—O—).
  • Formation of an ether bond can be performed as follows.
  • D1-hal hal represents a halogen atom; the same shall apply hereinafter
  • D2-OMet Metal represents an alkali metal (mainly sodium). The same) is mixed and condensed (Williamson synthesis).
  • D1 and D2 represent arbitrary organic groups (the same applies hereinafter).
  • a compound represented by the formula: D1-hal and a compound represented by the formula: D2-OH are mixed and condensed in the presence of a base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
  • a compound represented by the formula: D1-J J represents an epoxy group
  • a compound represented by the formula: D2-OH are mixed in the presence of a base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
  • a base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
  • D1-OFN OFN represents a group having an unsaturated bond
  • D2-OMet are mixed with a base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. In the presence, they are mixed and subjected to an addition reaction.
  • a compound represented by the formula: D1-hal and a compound represented by the formula: D2-OMet are mixed and condensed in the presence of copper or cuprous chloride (Ullman condensation).
  • Formation of an ester bond and an amide bond can be performed as follows.
  • a compound represented by the formula: D1-COOH and a compound represented by the formula: D2-OH or D2-NH 2 are dehydrated in the presence of a dehydration condensing agent (N, N-dicyclohexylcarbodiimide or the like). Allow to condense.
  • a dehydration condensing agent N, N-dicyclohexylcarbodiimide or the like. Allow to condense.
  • a compound represented by the formula: D1-CO-hal is obtained by allowing a halogenating agent to act on the compound represented by the formula: D1-COOH, which is combined with the formula: D2-OH or D2-NH. The compound represented by 2 is reacted in the presence of a base.
  • the carbonyl compound (4) of the present invention can be specifically produced by the method shown in the following reaction formula.
  • L 1 and L 2 represent a hydroxyl group, a halogen, An atom, a leaving group such as a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group, etc.
  • -Y 1a represents a group that reacts with -L 1 to become -Y 1-
  • -Y 2a represents- And represents a group that reacts with L 2 to become —Y 2 —.
  • Y 1 is a group represented by Y 11 —C ( ⁇ O) —O— and has the formula: Z 2 —Y 8 —G 2 —Y 6 —A 5 —Y 4 —A
  • a compound represented by the formula: 3 -Y 2- is the same as the group represented by the formula: Z 1 -Y 7 -G 1 -Y 5 -A 4 -Y 3 -A 2 -Y 1-
  • the production method 4 ′) is shown below.
  • Y 1 represents a group to be a Y 1 are as defined above.
  • the compound (7) is a compound (carboxylic acid) in which L 1 is a hydroxyl group in the formula (7), dehydration of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride, dicyclohexylcarbodiimide, etc.
  • the target product can be obtained by reacting in the presence of a condensing agent.
  • the amount of the dehydrating condensing agent to be used is generally 1 to 3 mol per 1 mol of compound (7).
  • the compound (7) is a compound (carboxylic acid) in which L 1 is a hydroxyl group in the formula (7), a sulfonyl halide such as methanesulfonyl chloride or p-toluenesulfonyl chloride, triethylamine, diisopropylethylamine,
  • a base such as pyridine or 4- (dimethylamino) pyridine.
  • the amount of the sulfonyl halide to be used is generally 1 to 3 mol per 1 mol of compound (7).
  • the amount of the base to be used is generally 1 to 3 mol per 1 mol of compound (7).
  • a compound (mixed acid anhydride) in which L 1 is a sulfonyloxy group may be isolated to perform the next reaction.
  • the desired product can be obtained by reacting in the presence of a base.
  • a base examples include organic bases such as triethylamine and pyridine; and inorganic bases such as sodium hydroxide, sodium carbonate and sodium hydrogen carbonate.
  • the amount of the base to be used is generally 1 to 3 mol per 1 mol of compound (7).
  • Examples of the solvent used in the above reaction include chlorine solvents such as chloroform and methylene chloride; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and hexamethylphosphoric triamide; Ethers such as 1,4-dioxane, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,3-dioxolane; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as n-pentane, n-hexane and n-octane; alicyclic hydrocarbon solvents such as cyclopentane and cyclohexane; and mixed solvents composed of two or more of these solvents; It is done.
  • the compound (6) is a known substance and can be produced by a known method. For example, it can be produced by the method shown in the following reaction formula (see WO2009 / 042544 and The Journal of Organic Chemistry, 2011, 76, 8082-8087, etc.). What is marketed as a compound (6) can also be refine
  • a 1 and Q 1 represent the same meaning as described above, A 1a represents a divalent aromatic group that becomes A 1 by formylation or acylation, R ′ represents a methyl group, (Represents a protecting group for a hydroxyl group such as an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as an ethyl group and an alkoxyalkyl group having 2 to 6 carbon atoms such as a methoxymethyl group.) That is, the hydroxyl group of a dihydroxy compound (1,4-dihydroxybenzene, 1,4-dihydroxynaphthalene, etc.) represented by the formula (6a) is alkylated to obtain a compound represented by the formula (6b), and then OR 'The ortho-position of the group is formylated or acylated by a known method to obtain a compound represented by the formula (6c), and this is deprotected (dealkylated) to be the target Compound (6) can be obtained. Moreover, what is marketed as a compound
  • Many of the compounds (7) are known compounds, and include an ether bond (—O—), an ester bond (—C ( ⁇ O) —O—, —O—C ( ⁇ O) —), a carbonate bond (—O—).
  • Y 12 represents —O—C ( ⁇ O) —Y 12 represents Y .R representing the 3 become group, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, represents a); phenyl, p- aryl group which may have a substituent such as a methyl phenyl group.
  • the sulfonyl chloride represented by the formula (10) is reacted with the compound (9 ′) in the presence of a base such as triethylamine or 4- (dimethylamino) pyridine.
  • the reaction is performed by adding the compound (8) and a base such as triethylamine, 4- (dimethylamino) pyridine to the reaction mixture.
  • a base such as triethylamine, 4- (dimethylamino) pyridine.
  • the amount of sulfonyl chloride to be used is generally 0.5-0.7 equivalent relative to 1 equivalent of compound (9 ′).
  • the amount of compound (8) to be used is generally 0.5-0.6 equivalent per 1 equivalent of compound (9 ′).
  • the amount of the base to be used is generally 0.5-0.7 equivalent relative to 1 equivalent of compound (3).
  • the reaction temperature is 20 to 30 ° C., and the reaction time is several minutes to several hours depending on the reaction scale and the like.
  • a solvent used for the said reaction what was illustrated as a solvent which can be used when manufacturing the said compound (4 ') is mentioned. Of these, ethers are preferred.
  • the amount of the solvent to be used is not particularly limited and can be appropriately determined in consideration of the type of compound used, reaction scale, etc., but is usually 1 to 50 g with respect to 1 g of compound (9 ′).
  • any reaction after the completion of the reaction, the usual post-treatment operation in organic synthetic chemistry is performed, and if desired, by applying known separation / purification means such as column chromatography, recrystallization method, distillation method, etc. Product can be isolated.
  • separation / purification means such as column chromatography, recrystallization method, distillation method, etc.
  • the structure of the target compound can be identified by measurement of NMR spectrum, IR spectrum, mass spectrum, etc., elemental analysis or the like.
  • the second of the present invention is a polymerizable composition containing the polymerizable compound of the present invention and a polymerization initiator.
  • a polymerization initiator is mix
  • the polymerization initiator to be used an appropriate one may be selected and used according to the type of polymerizable group possessed by the polymerizable compound. For example, a radical polymerization initiator is used if the polymerizable group is radically polymerizable, an anionic polymerization initiator is used if it is an anionically polymerizable group, and a cationic polymerization initiator is used if it is a cationically polymerizable group. Good.
  • a thermal radical generator which is a compound that generates an active species capable of initiating polymerization of a polymerizable compound by heating; and visible light, ultraviolet light (i-line, etc.), far ultraviolet light, electron
  • photoradical generators which are compounds that generate active species capable of initiating polymerization of polymerizable compounds upon exposure to exposure light such as X-rays and X-rays, can be used, but photoradical generators are used. Is preferred.
  • Photoradical generators include acetophenone compounds, biimidazole compounds, triazine compounds, O-acyloxime compounds, onium salt compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds, ⁇ -diketone compounds, polynuclear quinone compounds , Xanthone compounds, diazo compounds, imide sulfonate compounds, and the like. These compounds are components that generate active radicals or active acids or both active radicals and active acids upon exposure.
  • a photoradical generator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • acetophenone compounds include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, Examples thereof include 1,2-octanedione, 2-benzyl-2-dimethylamino-4′-morpholinobutyrophenone, and the like.
  • biimidazole compound examples include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2 , 2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1 , 2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimi
  • a hydrogen donor in combination because sensitivity can be further improved.
  • the “hydrogen donor” means a compound that can donate a hydrogen atom to a radical generated from a biimidazole compound by exposure.
  • the hydrogen donor mercaptan compounds, amine compounds and the like defined below are preferable.
  • Examples of mercaptan compounds include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-2,5-dimethylaminopyridine and the like. Can be mentioned.
  • Examples of amine compounds include 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl-4-dimethylaminobenzoate, Examples include 4-dimethylaminobenzoic acid and 4-dimethylaminobenzonitrile.
  • triazine compounds examples include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran -2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4 , 6-Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-tri
  • O-acyloxime compounds include 1- [4- (phenylthio) phenyl] -heptane-1,2-dione 2- (O-benzoyloxime), 1- [4- (phenylthio) phenyl]- Octane-1,2-dione 2- (O-benzoyloxime), 1- [4- (benzoyl) phenyl] -octane-1,2-dione 2- (O-benzoyloxime), 1- [9-ethyl- 6- (2-Methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -ethanone 1- (O-acetyloxime), 1- [9-ethyl-6- (3-methylbenzoyl) -9H-carbazole-3- Yl] -ethanone 1- (O-acetyloxime), 1- (9-ethyl-6-benzoyl-9H-carbazol-3-yl) -ethanone 1- (O-acetyl)
  • anionic polymerization initiator examples include alkyl lithium compounds; monolithium salts or monosodium salts such as biphenyl, naphthalene, and pyrene; polyfunctional initiators such as dilithium salt and trilithium salt; and the like.
  • the cationic polymerization initiator examples include proton acids such as sulfuric acid, phosphoric acid, perchloric acid and trifluoromethanesulfonic acid; Lewis acids such as boron trifluoride, aluminum chloride, titanium tetrachloride and tin tetrachloride; A combined system of a group onium salt or an aromatic onium salt and a reducing agent.
  • proton acids such as sulfuric acid, phosphoric acid, perchloric acid and trifluoromethanesulfonic acid
  • Lewis acids such as boron trifluoride, aluminum chloride, titanium tetrachloride and tin tetrachloride
  • a combined system of a group onium salt or an aromatic onium salt and a reducing agent can be used singly or in combination of two or more.
  • the blending ratio of the polymerization initiator is usually 0.1 to 30 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable
  • a surfactant is added to the polymerizable composition of the present invention in order to adjust the surface tension.
  • the surfactant is not particularly limited, but a nonionic surfactant is usually preferable.
  • a commercially available product may be used as the nonionic surfactant, and examples thereof include a nonionic surfactant that is an oligomer having a molecular weight of about several thousand, such as KH-40 manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd.
  • the blending ratio of the surfactant is usually 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound.
  • the polymerizable composition of the present invention further includes other copolymerizable monomers, metals, metal complexes, dyes, pigments, fluorescent materials, phosphorescent materials, leveling agents, thixotropic agents, and gelling agents described later.
  • Other additives such as polysaccharides, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, antioxidants, ion exchange resins, and metal oxides such as titanium oxide may be blended.
  • the blending ratio of other additives is usually 0.1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the polymerizable compound.
  • the polymerizable composition of the present invention can be usually prepared by mixing and dissolving a predetermined amount of the polymerizable compound of the present invention, a polymerization initiator, and optionally other additives in an appropriate organic solvent. .
  • Organic solvents to be used include ketones such as cyclopentanone, cyclohexanone and methyl ethyl ketone; acetate esters such as butyl acetate and amyl acetate; halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane and dichloroethane; 1,4-dioxane, cyclopentylmethyl And ethers such as ether, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, and 1,3-dioxolane;
  • ketones such as cyclopentanone, cyclohexanone and methyl ethyl ketone
  • acetate esters such as butyl acetate and amyl acetate
  • halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane and dichloroethane
  • 1,4-dioxane 1,4-dioxane
  • cyclopentylmethyl And ethers such as
  • the polymerizable composition obtained as described above is useful as a raw material for producing the polymer and optical anisotropic body of the present invention, as will be described later.
  • the third of the present invention is (1) a polymer obtained by polymerizing the polymerizable compound of the present invention, or (2) a polymer obtained by polymerizing the polymerizable composition of the present invention. is there.
  • polymerization means a chemical reaction in a broad sense including a crosslinking reaction in addition to a normal polymerization reaction.
  • Polymer obtained by polymerizing the polymerizable compound of the present invention includes a homopolymer of the polymerizable compound of the present invention and the polymerizability of the present invention. Examples thereof include a copolymer composed of two or more kinds of compounds, or a copolymer of the polymerizable compound of the present invention and another copolymerizable monomer.
  • the other copolymerizable monomer is not particularly limited, and examples thereof include 4- (2-methacryloyloxyethyloxy) benzoic acid-4′-methoxyphenyl and 4- (6-methacryloyloxyhexyl).
  • LC-242 manufactured by BASF
  • the compounds disclosed in the above can also be used.
  • polyfunctional monomers having a plurality of polymerizable unsaturated groups such as acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group and allyl group can be used.
  • polyfunctional monomers include 1,2-butanediol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, neopentanediol diacrylate, and 1,6-hexanediol.
  • Alkanediol diacrylates such as diacrylate; 1,2-butanediol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, neopentanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol di
  • Alkanediol dimethacrylates such as metalylate; polyethylene glycols such as ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate Acrylates; polypropylene glycol diacrylates such as propylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tetrapropylene glycol diacrylate; ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene Polyethylene glycol dimethacrylates
  • (Co) polymerization of the polymerizable compound of the present invention and other copolymerizable monomers used as necessary can be carried out in the presence of a suitable polymerization initiator.
  • the proportion of the polymerization initiator used may be the same as the proportion of the polymerizable compound in the polymerizable composition.
  • the content of the polymerizable compound unit of the present invention is particularly limited. However, it is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more based on the total structural units. If it exists in this range, since the glass transition temperature (Tg) of a polymer is high and high film
  • Tg glass transition temperature
  • the polymer of (1) includes (A) the polymerizable compound in the presence of a suitable polymerization initiator, and other copolymerizable monomers used as necessary. (Co) polymerization in a suitable organic solvent, the target polymer is isolated, and the resulting polymer is dissolved in a suitable organic solvent to prepare a solution.
  • a solution prepared by dissolving, for example, a polymerization initiator together with a polymerization initiator on a substrate by a known coating method, then removing the solvent, and then heating or irradiating active energy rays to perform a polymerization reaction is preferable.
  • the polymerization initiator to be used include those exemplified as the components of the polymerizable composition.
  • the organic solvent used in the polymerization reaction (A) is not particularly limited as long as it is inert.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and mesitylene
  • ketones such as cyclohexanone, cyclopentanone and methyl ethyl ketone
  • acetate esters such as butyl acetate and amyl acetate
  • halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane and dichloroethane
  • ethers such as cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran and tetrahydropyran;
  • those having a boiling point of 60 to 250 ° C. are preferred, and those having a temperature of 60 to 150 ° C. are more preferred, from the viewpoint of excellent handleability.
  • Examples of the organic solvent for dissolving the polymer in the method (A) and the organic solvent used in the method (B) include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone; Ester solvents such as butyl acetate and amyl acetate; halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, chloroform and dichloroethane; tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,2-dimethoxyethane, 1,4-dioxane, cyclopentylmethyl ether, 1,3 -Ether solvents such as dioxolane; aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, ⁇ -butyrolactone, N-methylpyrrolidone; and the like.
  • a known and usual material can be used regardless of organic or inorganic.
  • organic materials include polycycloolefins (for example, ZEONEX, ZEONOR (registered trademark; manufactured by Zeon Corporation), ARTON (registered trademark; manufactured by JSR Corporation), and APPEL (registered trademark; manufactured by Mitsui Chemicals)), polyethylene Examples include terephthalate, polycarbonate, polyimide, polyamide, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, polytetrafluoroethylene, cellulose, cellulose triacetate, and polyethersulfone.
  • inorganic materials include silicon, glass, and calcite. Of these, organic materials are preferred.
  • the substrate used may be a single layer or a laminate. As the substrate, an organic material is preferable, and a resin film using the organic material as a film is more preferable.
  • a known method can be used, for example, a curtain coating method.
  • polymer obtained by polymerizing the polymerizable composition of the present invention The polymer of the present invention can be easily obtained by polymerizing the polymerizable composition of the present invention.
  • a polymerizable composition containing a polymerization initiator as described above, particularly a photopolymerization initiator it is preferable to use a polymerizable composition containing a polymerization initiator as described above, particularly a photopolymerization initiator.
  • the polymer of the present invention by applying the method (B), that is, the polymerizable composition of the present invention onto a substrate and polymerizing the same.
  • the substrate to be used include a substrate used for producing an optical anisotropic body described later.
  • Examples of the method for applying the polymerizable composition of the present invention on a substrate include known and commonly used coating methods such as bar coating, spin coating, roll coating, gravure coating, spray coating, die coating, cap coating, and dipping. .
  • a known and commonly used organic solvent may be added to the polymerizable composition of the present invention. In this case, it is preferable to remove the organic solvent by natural drying, heat drying, reduced pressure drying, reduced pressure heat drying or the like after applying the polymerizable composition of the present invention on the substrate.
  • Examples of the method for polymerizing the polymerizable compound or the polymerizable composition of the present invention include a method of irradiating active energy rays, a thermal polymerization method, etc., but it is active because the reaction proceeds at room temperature without requiring heating.
  • a method of irradiating energy rays is preferable.
  • a method of irradiating light such as ultraviolet rays is preferable because the operation is simple.
  • the temperature during irradiation is preferably 30 ° C. or lower.
  • the light irradiation intensity is usually in the range of 1 W / m 2 to 10 kW / m 2 , preferably in the range of 5 W / m 2 to 2 kW / m 2 .
  • the polymer obtained by polymerizing the polymerizable compound or polymerizable composition of the present invention can be used as a single substance by peeling from the substrate, or it can be used as it is as an organic material for an optical film without peeling from the substrate. You can also.
  • the number average molecular weight of the polymer of the present invention obtained as described above is preferably 500 to 500,000, more preferably 5,000 to 300,000. If the number average molecular weight is within such a range, a high film hardness can be obtained and handleability is excellent, which is desirable.
  • the number average molecular weight of the polymer can be measured by gel permeation chromatography (GPC) using monodispersed polystyrene as a standard sample and tetrahydrofuran as an eluent.
  • the polymer of the present invention is presumed that the cross-linking points exist uniformly in the molecule, has high cross-linking efficiency, and is excellent in hardness. According to the polymer of the present invention, an optical film that can perform uniform polarization conversion in a wide wavelength range and is satisfactory in terms of performance can be obtained at low cost.
  • optical anisotropic body of the present invention comprises the polymer of the present invention as a constituent material.
  • the optical anisotropic body of the present invention can be obtained, for example, by forming an alignment film on a substrate and further forming a liquid crystal layer made of the polymer of the present invention on the alignment film.
  • the alignment film is formed on the surface of the substrate in order to regulate the alignment of the organic semiconductor compound in one direction in the plane.
  • the alignment film is formed by applying a solution (composition for alignment film) containing a polymer such as polyimide, polyvinyl alcohol, polyester, polyarylate, polyamideimide, or polyetherimide onto the substrate in a film shape, drying, and unidirectional It can be obtained by rubbing.
  • the thickness of the alignment film is preferably 0.001 to 5 ⁇ m, and more preferably 0.001 to 1 ⁇ m.
  • the alignment film or the substrate can be rubbed.
  • the rubbing treatment method is not particularly limited, and examples thereof include a method of rubbing the alignment film in a certain direction with a roll made of a synthetic fiber such as nylon or a natural fiber such as cotton or a felt.
  • a function of regulating the alignment in one direction within the plane can also be provided by a method of irradiating the surface of the alignment film with polarized ultraviolet rays.
  • the method for forming the liquid crystal layer comprising the polymer of the present invention on the alignment film includes the same method as described in the section of the polymer of the present invention.
  • the optical anisotropic body of the present invention is composed of the polymer of the present invention, so that it can be manufactured at low cost, has low reflection luminance, and can perform uniform polarization conversion in a wide wavelength range. But it is excellent.
  • the optical anisotropic body of the present invention include a retardation plate, an alignment film for liquid crystal display elements, a polarizing plate, a viewing angle widening plate, a color filter, a low-pass filter, a light polarizing prism, and various optical filters.
  • the carbonyl compound of the present invention is a compound represented by the formula (4).
  • the carbonyl compound (4) of the present invention can be suitably used as an intermediate for producing the polymerizable compound (I) of the present invention.
  • the details of the production method of the carbonyl compound (4) are as described in the section of the polymerizable compound of 1) above.
  • the “production method of a polymerizable compound” of the present invention includes the carbonyl compound (4) of the present invention and the formula (3). It is a manufacturing method of polymeric compound (I) of this invention characterized by making it react with the hydrazine compound represented. The details of the production method are as described in the section of 1) polymerizable compound. According to the method for producing a polymerizable compound of the present invention, the polymerizable compound (I) of the present invention can be produced efficiently and simply.
  • the “method of using the carbonyl compound (4) of the present invention as a raw material for producing the polymerizable compound (I)” is a method for using the carbonyl compound (4) of the present invention as a raw material for producing the polymerizable compound (I). Specifically, it is as described in the section of 1) polymerizable compound.
  • the carbonyl compound (4) of the present invention as a production raw material, the polymerizable compound (I) of the present invention can be easily produced in a high yield.
  • Step 3 Synthesis of Compound 1 A three-necked reactor equipped with a thermometer was charged with 2.30 g (2.45 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 and 25 ml of THF in a nitrogen stream to obtain a uniform solution. Thereto was added 0.49 ml (0.25 mmol) of concentrated hydrochloric acid. To this solution, a solution of 0.40 g (2.45 mmol) of 2-hydrazinobenzothiazole in 5 ml of THF was added dropwise over 15 minutes. After completion of the addition, the whole volume was further stirred at 25 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 400 ml of methanol, and the precipitated solid was collected by filtration. The solid collected by filtration was dried with a vacuum dryer to obtain 2.4 g of Compound 1 as a pale yellow solid (yield: 90%). The structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • a three-necked reactor equipped with a thermometer was charged with 9.00 g (70.01 mmol) of 3-amino-2-chloropyridine and 90 ml of concentrated hydrochloric acid in a nitrogen stream to obtain a uniform solution. Thereto was added 10.21 g (105.01 mmol) of potassium thiocyanate, and the whole volume was stirred at 100 ° C. for 4 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to 20 ° C. and 90 ml of water was added.
  • the reaction mixture was poured into 300 ml of a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and further powdered sodium carbonate was added to adjust the pH of the aqueous solution to 8 to precipitate crystals.
  • the precipitated solid was filtered, washed with distilled water, and then dried with a vacuum dryer to obtain 8.74 g of Intermediate C as a pale yellow solid (yield: 83%).
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • a three-necked reactor equipped with a thermometer was charged with 182.0 g (3635 mmol) of hydrazine monohydrate and heated to 40 ° C. in a nitrogen stream.
  • a solution obtained by mixing 60.0 g (363.5 mmol) of 1-bromohexane and 60 ml of ethanol was added dropwise thereto using a dropping funnel over 4 hours. After completion of the dropwise addition, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 1 hour. After cooling the reaction solution to 25 ° C., 200 ml of distilled water was added and extracted twice with 300 ml of chloroform. The organic layer was collected and dried over anhydrous sodium sulfate, and then sodium sulfate was filtered off.
  • the filtrate was concentrated with a rotary evaporator, and the concentrate was distilled under reduced pressure to obtain 10.44 g of intermediate D as a colorless transparent liquid (degree of vacuum: 3.0 kPa, boiling point: 90 ° C.) (yield: 25% ).
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 4 Synthesis of Compound 2 A three-necked reactor equipped with a thermometer was charged with 1.20 g (1.28 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Example 1 and 30 ml of THF in a nitrogen stream, and homogeneously mixed. It was set as the solution. Thereto was added 0.26 ml (0.26 mmol) of 1N hydrochloric acid, and a solution of 0.48 g (1.92 mmol) of Intermediate E synthesized in Synthesis Step 3 was added dropwise over 15 minutes. After completion of the dropwise addition, the whole volume was further stirred at 25 ° C. for 5 hours. The reaction solution was poured into 250 ml of methanol, and the precipitated solid was collected by filtration.
  • a four-necked reactor equipped with a thermometer was charged with 20.0 g (125 mmol) of 1,4-dihydroxynaphthalene and 200 ml of N, N-dimethylformamide (DMF) in a nitrogen stream to obtain a uniform solution. Thereto, 51.8 g (375 mmol) of potassium carbonate and 19.4 ml (312 mmol) of methyl iodide were added, and the whole volume was stirred at 25 ° C. for 20 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was filtered through celite. The filtrate was poured into 500 ml of water and extracted with 500 ml of ethyl acetate.
  • DMF N, N-dimethylformamide
  • the dichloromethane layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and magnesium sulfate was filtered off.
  • Dichloromethane was distilled off from the filtrate under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain a yellow solid.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • a 3-necked reactor equipped with a thermometer was charged with 3.19 g (7.61 mmol) of Intermediate A synthesized in Step 1 of Example 1 and 50 ml of THF in a nitrogen stream to obtain a uniform solution.
  • 0.91 g (7.93 mmol) of methanesulfonyl chloride was added, and the reactor was immersed in a water bath to adjust the internal temperature of the reaction solution to 20 ° C.
  • 0.80 g (7.93 mmol) of triethylamine was added dropwise over 5 minutes while maintaining the internal temperature of the reaction solution at 20 to 30 ° C. After completion of the dropwise addition, the whole volume was stirred at 25 ° C. for 2 hours.
  • Step 5 Synthesis of Compound 3
  • 1.67 g (1.69 mmol) of Intermediate I synthesized in Step 4 and 30 ml of THF were placed in a nitrogen stream to obtain a uniform solution.
  • 0.34 ml (0.34 mmol) of 1N hydrochloric acid was added dropwise over 30 minutes.
  • the whole volume was stirred at 25 ° C. for 5 hours.
  • the reaction solution was poured into 250 ml of methanol, and the precipitated solid was collected by filtration.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • a four-necked reactor equipped with a thermometer was charged with 2.00 g (12.1 mmol) of 2-hydrazinobenzothiazole and 20 ml of DMF in a nitrogen stream to obtain a uniform solution.
  • 8.36 g (60.5 mmol) of potassium carbonate and 3.08 g (14.5 mmol) of 1-iodohexane were added, and the whole volume was stirred at 50 ° C. for 7 hours.
  • the reaction solution was cooled to 20 ° C., poured into 200 ml of water, and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • Step 2 Synthesis of Compound 4
  • 00 g (2.13 mmol) 3 ml of ethanol and 20 ml of THF were added to obtain a uniform solution.
  • 55.1 mg (0.24 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid was added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours.
  • the reaction solution was poured into 150 ml of water and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • a 4-necked reactor equipped with a thermometer was charged with 1.50 g (6.48 mmol) of 2- (methylthio) naphtho [1,2d] thiazole and 15 ml of methylene chloride in a nitrogen stream to obtain a uniform solution.
  • 3.52 g (14.3 mmol) of 3-chloroperbenzoic acid (containing about 30% water) was added at 0 ° C., and the whole volume was stirred at 25 ° C. for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of saturated sodium bicarbonate water and extracted with 200 ml of methylene chloride.
  • Step 5 Synthesis of Compound 5 In a four-necked reactor equipped with a thermometer, 588 mg (1.40 mmol) of the intermediate N synthesized in Step 4 described above and Intermediate A synthesized in Example 1 in a nitrogen stream. 47 g (3.50 mmol), 4- (dimethylamino) pyridine 85.5 mg (0.70 mmol), and N-methylpyrrolidone 15 ml were added to obtain a uniform solution. To this solution, 805 mg (4.20 mmol) of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (WSC) was added, and the whole volume was stirred at 25 ° C. for 5 hours.
  • WSC 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride
  • the reaction solution was poured into 150 ml of water and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • the ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and sodium sulfate was filtered off.
  • Ethyl acetate was distilled off from the filtrate under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain a white solid.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • a four-necked reactor equipped with a thermometer was charged with 3.46 g (26.7 mmol) of 2-amino-3-chloropyrazine, 8.56 g (53.4 mmol) of potassium ethylxanthate, and 30 ml of DMF in a nitrogen stream. A uniform solution was obtained. After the solution was heated to reflux for 7 hours, the reaction solution was cooled to 0 ° C., 3.3 ml (53.4 mmol) of methyl iodide was added, and the whole volume was stirred at 0 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 300 ml of water and extracted with 500 ml of ethyl acetate.
  • Step 3 Synthesis of Compound 6 In a four-necked reactor equipped with a thermometer, 390 mg (2.34 mmol) of Intermediate P synthesized in Step 2 above and Intermediate B synthesized in Example 1 in a nitrogen stream. 08 g (2.22 mmol), 3 ml of ethanol, and 15 ml of THF were added to obtain a uniform solution. To this solution, 54.4 mg (0.23 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid was added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 150 ml of water and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • Step 2 Synthesis of Compound 7 In a four-necked reactor equipped with a thermometer, 338 mg (1.34 mmol) of Intermediate Q synthesized in Step 1 above and Intermediate B synthesized in Example 1 in a nitrogen stream. 20 g (1.28 mmol), 3 ml of ethanol, and 10 ml of THF were added to obtain a uniform solution. To this solution, 15.6 mg (0.13 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid was added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • Step 3 Synthesis of Compound 8
  • 460 mg (2.36 mmol) of Intermediate S synthesized in Step 2 above and Intermediate B synthesized in Example 1 in a nitrogen stream 2.00 g (2.12 mmol) was dissolved in a mixed solvent of 3 ml of ethanol and 20 ml of THF.
  • 54.8 mg (0.24 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid was added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 3 hours.
  • the reaction solution was poured into 150 ml of water and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • Step 2 Synthesis of Compound A
  • a four-necked reactor equipped with a thermometer was charged with 10.5 g (15.3 mmol) of the intermediate ⁇ and 80 ml of THF in a nitrogen stream to obtain a uniform solution.
  • 3.0 g (18.3 mmol) of 2-hydrazinobenzothiazole was added and dissolved.
  • 18 mg (0.08 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid was added, and the whole volume was stirred at 25 ° C. for 3 hours.
  • the reaction solution was poured into 800 ml of 10% sodium bicarbonate water and extracted twice with 100 ml of ethyl acetate.
  • This substrate was placed on a hot plate, heated from 40 ° C. to 200 ° C., and then cooled again to 40 ° C. Changes in the structure of the structure when the temperature was raised or lowered were observed with a polarizing optical microscope (Nikon Corporation, ECLIPSE LV100POL type, the same below).
  • the phase transition temperature was measured in the range of 40 ° C. to 250 ° C.
  • the phase transition temperature was measured in the range of 50 ° C. to 200 ° C.
  • C represents Crystal
  • N represents Nematic
  • I represents Isotropic
  • Crystal means that the test compound is in a solid phase
  • N indicates that the test compound is in a nematic liquid crystal phase
  • Isotropic indicates that the test compound is in an isotropic liquid phase (the same applies hereinafter).
  • Example 9 Comparative Examples 1 and 2
  • a photopolymerization initiator A manufactured by ADEKA, Adekaoptomer N-1919, 30 mg of surfactant A (manufactured by AGC Seimi Chemical Co., KH-40, the same applies hereinafter) in 100 mg of 1% cyclopentanone was dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain polymerizable compositions 1, 1r, and 2r, respectively.
  • Example 10 and 11 1.0 g of each of compound 2 and compound 3 obtained in Examples 2 and 3, 30 mg of photopolymerization initiator A, 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A, 3.0 g of cyclopentanone and dimethyl Dissolved in 0.25 g of sulfoxide. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain polymerizable compositions 2 and 3, respectively.
  • Example 12 0.5 g of compound 3 obtained in Example 3, 0.5 g of compound A synthesized in Synthesis Example 1, 30 mg of photopolymerization initiator A, 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were added to cyclopenta Non-dissolved in 2.3 g. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 4.
  • Example 13 0.5 g of compound 3 obtained in Example 3, 0.5 g of compound 2r, 30 mg of photopolymerization initiator A, 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. I let you. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 5.
  • Example 14 1.0 g of compound 4 obtained in Example 4, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 6.
  • Example 15 1.0 g of compound 5 obtained in Example 5, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.9 g of chloroform. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 7.
  • Example 16 0.5 g of compound 5 obtained in Example 5, 0.5 g of compound A, 30 mg of photopolymerization initiator A, 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A, 2.2 g of cyclopentanone, chloroform Dissolved in 1.7 g. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 8.
  • Example 17 1.0 g of compound 6 obtained in Example 6, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 200 mg of a 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 5.3 g of chloroform. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 9.
  • Example 18 0.2 g of Compound 6 obtained in Example 6, 0.8 g of Compound A, 30 mg of Photopolymerization Initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of Surfactant A were dissolved in 3.7 g of chloroform. It was. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 10.
  • Example 19 0.5 g of Compound 7 obtained in Example 7, 0.5 g of Compound A, 30 mg of Photopolymerization Initiator A, 100 mg of 1% cyclopentanone solution of Surfactant A into 2.2 g of cyclopentanone Dissolved. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 11.
  • Example 20 0.2 g of Compound 7 obtained in Example 7, 0.8 g of Compound A, 30 mg of Photopolymerization Initiator A, 100 mg of 1% cyclopentanone solution of Surfactant A into 2.2 g of cyclopentanone Dissolved. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 12.
  • Example 21 0.5 g of compound 8 obtained in Example 8, 0.5 g of compound A, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 8.0 g of chloroform. It was. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 13.
  • the obtained polymerizable compositions 1 to 13, 1r and 2r were polymerized by the following method to obtain a polymer.
  • the phase difference was measured and the chromatic dispersion was evaluated.
  • In the case of ideal wavelength dispersion exhibiting broadband characteristics, that is, reverse wavelength dispersion, ⁇ is smaller than 1 and ⁇ is larger than 1. In the case of flat chromatic dispersion, ⁇ and ⁇ have the same value. If it has a general normal variance, ⁇ will be greater than 1 and ⁇ will be less than 1. That is, flat wavelength dispersibility in which ⁇ and ⁇ are approximately the same is preferable, and reverse wavelength dispersibility in which ⁇ is smaller than 1 and ⁇ is larger than 1 is particularly preferable.
  • the film thickness ( ⁇ m), phase difference (Re) at a wavelength of 548.5 nm, and ⁇ and ⁇ values of the liquid crystalline polymer film obtained by polymerization are summarized in Table 2 below.
  • Step 2 Synthesis of Compound 9
  • intermediate B synthesized in Step 2 of synthesis of Compound 1 of Example 1 in a nitrogen stream 0.70 g (0.75 mmol) Dissolved in 15 ml of THF.
  • 0.15 ml (0.15 mmol) of 1N hydrochloric acid and 0.27 g (1.49 mmol) of the intermediate T synthesized in Step 1 were added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 10 hours.
  • Step 2 Synthesis of Compound 10
  • 0.70 g (0.75 mmol) of the intermediate B synthesized in Step 2 of synthesis of Compound 1 of Example 1 was added in 15 ml of THF in a nitrogen stream. Dissolved in.
  • 0.15 ml (0.15 mmol) of 1N hydrochloric acid and 0.29 g (1.49 mmol) of the intermediate U synthesized in Step 1 were added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 10 hours.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 11
  • 1.4 g (1.49 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 was added in 30 ml of THF in a nitrogen stream. Dissolved in. To this solution, 0.30 ml (0.30 mmol) of 1N hydrochloric acid and 0.62 g (2.98 mmol) of the intermediate V synthesized in Step 1 were added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 10 hours.
  • Step 2 Synthesis of Compound 12 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream: 1.40 g (1.50 mmol) Dissolved in 30 ml of THF. To this solution were added 0.30 ml (0.30 mmol) of 1N hydrochloric acid and 0.62 g (2.98 mmol) of the intermediate W synthesized in Step 1, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 8 hours.
  • the filtrate was concentrated with a rotary evaporator, and 15 ml of THF was added to the resulting concentrate to dissolve it.
  • the solution was poured into 300 ml of distilled water, and the precipitated solid was collected by filtration.
  • the filtrate was washed with distilled water and then vacuum dried to obtain a yellow solid. A yellow solid was put in a flask, 50 ml of toluene was added and stirred for 30 minutes, and then a solid component insoluble in toluene was removed by filtration.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 13
  • 1.00 g (1.06 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 was added in 30 ml of THF in a nitrogen stream. Dissolved in. To this solution were added 0.22 ml (0.22 mmol) of 1N hydrochloric acid and 0.38 g (1.60 mmol) of the intermediate X synthesized in Step 1, and the whole was stirred at 40 ° C. for 2 hours.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 14
  • 1.00 g (1.06 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 was added in 30 ml of THF in a nitrogen stream. Dissolved in. To this solution were added 0.22 ml (0.22 mmol) of 1N hydrochloric acid and 0.32 g (1.28 mmol) of the intermediate Y synthesized in Step 1, and the whole was stirred at 40 ° C. for 1 hour.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 15
  • 1.00 g (1.06 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 was added in 30 ml of THF in a nitrogen stream. Dissolved in.
  • 0.22 ml (0.22 mmol) of 1N hydrochloric acid and 0.34 g (1.28 mmol) of the intermediate Z synthesized in Step 1 were added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 1 hour.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 16
  • 2.50 g (2.66 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 was added in 150 ml of THF in a nitrogen stream. Dissolved in.
  • 2.65 ml (2.65 mmol) of 1N hydrochloric acid and 4.0 g (13.3 mmol) of the intermediate A1 synthesized in Step 1 were added, and the whole volume was stirred at 60 ° C. for 30 hours.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 17
  • 2.00 g (1.84 mmol) of intermediate B1 synthesized in Step 1 and 4- (dimethylamino) pyridine 0 in a nitrogen stream 0.02 g (0.18 mmol) was dissolved in 100 ml of THF.
  • 0.33 g (2.03 mmol) of n-octanoyl chloride was added, and the reactor was immersed in an ice bath to adjust the internal temperature of the reaction solution to 10 ° C.
  • Step 2 Synthesis of Compound 18 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.40 g (1.49 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream, 456 mg (1.84 mmol) of intermediate C1 synthesized in Step 1, 38.6 mg (0.166 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid, 16 ml of THF, and 4 ml of ethanol were added to obtain a uniform solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of ethyl acetate.
  • Step 2 Synthesis of Compound 19 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream, Intermediate D1 (438 mg, 1.78 mmol) synthesized in Step 1 ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid (41.4 mg, 0.178 mmol), THF (16 ml), and ethanol (4 ml) were added to obtain a uniform solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of ethyl acetate.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 20 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 in a nitrogen stream, the above Step Intermediate E1 synthesized in 1 (468 mg, 1.78 mmol), ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid 41.4 mg (0.178 mmol), THF 16 ml, and ethanol 4 ml were added to obtain a uniform solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of ethyl acetate.
  • Step 2 Synthesis of Compound 21 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream, the above step Intermediate F1 (591 mg, 1.78 mmol) synthesized in Step 1, ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid (41.4 mg, 0.178 mmol), THF (16 ml), and ethanol (4 ml) were added to obtain a uniform solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of ethyl acetate.
  • Step 2 Synthesis of Compound 22 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 in a nitrogen stream, the above Step Intermediate G1 synthesized in Step 1 (396 mg, 1.78 mmol), ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid 41.4 mg (0.178 mmol), THF 16 ml, and ethanol 4 ml were added to obtain a homogeneous solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of ethyl acetate.
  • reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of ethyl acetate.
  • the ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and sodium sulfate was filtered off.
  • Ethyl acetate was distilled off from the filtrate under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain a yellow solid.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 1 Synthesis of Compound 24 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 2.00 g (1.84 mmol) of the intermediate B1 synthesized in Step 1 of Synthesis of Compound 17 of Example 30 in 20 ml of THF in a nitrogen stream. And cooled to 0 ° C. To this solution was added 412 mg (2.76 mmol) of chloromethylcyclohexyl ether, and a solution of 476 mg (7.36 mmol) of N, N-diisopropylethylamine in 5 ml of THF was added dropwise over 5 minutes. After completion of the dropwise addition, the whole volume was stirred at 25 ° C. for 3 hours.
  • reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of ethyl acetate.
  • the ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and sodium sulfate was filtered off.
  • Ethyl acetate was distilled off from the filtrate under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain a yellow solid.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and sodium sulfate was filtered off. After the filtrate was concentrated on a rotary evaporator, the concentrate was dissolved in 15 ml of THF. 200 ml of methanol was added to the solution to precipitate crystals, and the precipitated crystals were collected by filtration. The obtained crystals were washed with methanol and vacuum-dried to obtain 2.85 g of intermediate K1 as a white solid (yield 72.3%). The structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 5 Synthesis of Compound 25
  • 1.95 g (1.96 mmol) of the intermediate K1 synthesized in Step 4 above was synthesized in a nitrogen stream, and the compound 4 of Example 4 was synthesized.
  • 441 mg (1.76 mmol) of the intermediate J synthesized in Step 1 45.6 mg (0.196 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid, 24 ml of THF, and 6 ml of ethanol were added to obtain a uniform solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • Step 2 Synthesis of Compound 26 In a four-necked reactor equipped with a thermometer, 368 mg (1.77 mmol) of the intermediate L1 synthesized in Step 1 above and a step of synthesizing Compound 1 of Example 1 in a nitrogen stream
  • Intermediate B (1.50 g, 1.60 mmol) synthesized in 2 was dissolved in a mixed solvent of 3 ml of ethanol and 15 ml of THF.
  • 41.2 mg (0.18 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid was added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours.
  • reaction solution was poured into 150 ml of water and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • the ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and then sodium sulfate was filtered off.
  • Ethyl acetate was distilled off from the filtrate under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain a yellow solid.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 27
  • 195 mg (1.77 mmol) of the intermediate M1 synthesized in Step 1 above and the synthesis of Compound 1 of Example 1 were conducted in a nitrogen stream.
  • Intermediate B (1.50 g, 1.60 mmol) synthesized in Step 2 was dissolved in a mixed solvent of 3 ml of ethanol and 15 ml of THF.
  • 41.2 mg (0.18 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid was added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 8 hours.
  • reaction solution was poured into 150 ml of water and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • the ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and then sodium sulfate was filtered off.
  • Ethyl acetate was distilled off from the filtrate under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain a yellow solid.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 28 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream: 1.50 g (1.60 mmol), Intermediate N1: 489 mg (1.78 mmol), ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid 41.4 mg (0.178 mmol), THF 16 ml, and ethanol 4 ml were added to obtain a homogeneous solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 29 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream, the above Step Then, 444 mg (1.78 mmol) of the intermediate O1 synthesized in Example 1, 41.4 mg (0.178 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid, 16 ml of THF, and 4 ml of ethanol were added to obtain a uniform solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 30 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 in a nitrogen stream, the above Step Intermediate P1 synthesized in 1 (468 mg, 1.78 mmol), ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid 41.4 mg (0.178 mmol), THF 16 ml, and ethanol 4 ml were added to obtain a homogeneous solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • This brown powder was dissolved in 100 ml of toluene, and 2.34 g (32.6 mmol) of acrylic acid, 36.8 mg (0.296 mmol) of 4-methoxyphenol, and 284 mg (2.96 mmol) of methanesulfonic acid were added. Reflux for hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to 25 ° C., poured into 300 ml of water, and extracted twice with 200 ml of ethyl acetate. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and then sodium sulfate was filtered off.
  • Step 5 Synthesis of Compound 31
  • 1.50 g (1.36 mmol) of the intermediate T1 synthesized in Step 4 above was synthesized in a nitrogen stream, and the compound 4 of Example 4 was synthesized.
  • 375 mg (1.51 mmol) of the intermediate J synthesized in Step 1 35.1 mg (0.151 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid, 24 ml of THF, and 6 ml of ethanol were added to obtain a uniform solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 150 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • Step 3 Synthesis of Compound 32
  • 1.20 g (1.28 mmol) of the intermediate V1 synthesized in Step 2 was dissolved in 30 ml of THF in a nitrogen stream.
  • 0.26 ml (0.26 mmol) of 1N hydrochloric acid and 0.48 g (1.92 mmol) of the intermediate J synthesized in Step 1 of the synthesis of Compound 4 of Example 4 were added, and the whole volume was kept at 40 ° C. for 7 hours. Stir.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 3 Synthesis of Compound 33
  • Intermediate X1 0.94 g (1.00 mmol) synthesized in Step 2 was dissolved in 15 ml of THF in a nitrogen stream.
  • 0.20 ml (0.20 mmol) of 1N hydrochloric acid and 0.37 g (1.49 mmol) of the intermediate J synthesized in Step 1 of the synthesis of Compound 4 of Example 4 were added, and the whole volume was kept at 60 ° C. for 10 hours. Stir.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • phase transition temperature 2 10 mg of each of the compounds 9 to 33 obtained above was weighed and sandwiched between two glass substrates with a polyimide alignment film subjected to rubbing treatment in a solid state. This substrate was placed on a hot plate, heated from 40 ° C. to 250 ° C., and then cooled again to 40 ° C. Changes in the structure of the structure when the temperature was raised or lowered were observed with a polarizing optical microscope. The measured phase transition temperatures are shown in Table 3 below.
  • Example 47 and 48 1.0 g of each of compounds 9 and 10 obtained in Examples 22 and 23, 30 mg of photopolymerization initiator A, 100 mg of a 1% cyclopentanone solution of surfactant A, 2.3 g of cyclopentanone, and chloroform 2 .26 g. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain polymerizable compositions 14 and 15.
  • Example 49 1.0 g of compound 11 obtained in Example 24, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 16.
  • Example 50 1.0 g of compound 12 obtained in Example 25, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone and 1.7 g of chloroform. . This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 17.
  • Example 51 1.0 g of the compound 13 obtained in Example 26, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of a 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 18.
  • Example 52 1.0 g of compound 14 obtained in Example 27, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone and 1.7 g of chloroform. . This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 19.
  • Example 53 1.0 g of each of the compounds 15 and 16 obtained in Example 28, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of a 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain polymerizable compositions 20 and 21.
  • Example 55 0.5 g of compound 17 obtained in Example 30, 0.5 g of compound 4 of Example 4, 30 mg of photopolymerization initiator A, 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A, 3.26 g of chloroform Dissolved in. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 22.
  • Example 56 to 63 1.0 g of each of the compounds 18 to 25 obtained in Example 31, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of a 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain polymerizable compositions 23 to 30.
  • Example 64 1.0 g of compound 26 obtained in Example 39, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of a 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone and 0.7 g of chloroform. . This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 31.
  • Example 65 1.0 g of compound 27 obtained in Example 40, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of a 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 32.
  • Example 66 1.0 g of compound 28 obtained in Example 41, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone and 0.7 g of chloroform. . This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 33.
  • Example 67 and 68 1.0 g of compounds 29 and 30 obtained in Examples 42 and 43, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. It was. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain polymerizable compositions 34 and 35.
  • Example 69 1.0 g of compound 31 obtained in Example 44, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone and 0.7 g of chloroform. . This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 36.
  • Examples 70 and 71 Compounds 32 and 33 obtained in Examples 44 and 45 were each 0.3 g, compound 4 obtained in Example 4 was 0.7 g, photopolymerization initiator A was 30 mg, and surfactant A was 1% cyclopentanone. 100 mg of the solution was dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain polymerizable compositions 37 and 38, respectively.
  • the obtained polymerizable compositions 14 to 38 were polymerized by the following method to obtain a polymer. For each of the obtained polymers, the phase difference was measured and the chromatic dispersion was evaluated.
  • Step 2 Synthesis of Compound 34
  • Intermediate B 1.0 g, 1.06 mmol synthesized in (1) was dissolved in a mixed solvent of 3 ml of ethanol and 15 ml of THF.
  • 49.2 mg (0.21 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid was added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours.
  • reaction solution was poured into 150 ml of water and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • the ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and then sodium sulfate was filtered off.
  • Ethyl acetate was distilled off from the filtrate under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain a yellow solid.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 35
  • Intermediate B (2.00 g, 2.12 mmol) synthesized in (1) was dissolved in a mixed solvent of 3 ml of ethanol and 20 ml of THF.
  • 54.4 mg (0.24 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid was added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 7 hours.
  • the reaction solution was poured into 150 ml of water and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • Step 2 Synthesis of Compound 36 In a four-necked reactor equipped with a thermometer, 627 mg (2.13 mmol) of Intermediate A2 synthesized in Step 1 above and Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 in a nitrogen stream
  • Intermediate B (1.00 g, 1.06 mmol) synthesized in (1) was dissolved in a mixed solvent of 3 ml of ethanol and 15 ml of THF.
  • 49.2 mg (0.21 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid was added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 4 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 150 ml of water and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • Step 2 Synthesis of Compound 37
  • Intermediate B (1.00 g, 1.06 mmol) synthesized in (1) was dissolved in a mixed solvent of 3 ml of ethanol and 15 ml of THF.
  • 27.1 mg (0.12 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid was added, and the whole volume was stirred at 40 ° C. for 7 hours.
  • the reaction solution was poured into 150 ml of water and extracted with 300 ml of ethyl acetate.
  • Step 2 Synthesis of Compound 38 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream, the above step Intermediate C2 synthesized in Step 1 (534 mg, 1.78 mmol), ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid, 41.4 mg (0.178 mmol), THF, 16 ml, and ethanol, 4 ml were added to obtain a homogeneous solution. And stirred for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • Step 2 Synthesis of Compound 39
  • 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream
  • the above Step Intermediate D2 synthesized in Step 1 (495 mg, 1.78 mmol), ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid 41.4 mg (0.178 mmol), THF 16 ml, and ethanol 4 ml were added to obtain a homogeneous solution. And stirred for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • Step 2 Synthesis of Compound 40 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 in a nitrogen stream, the above Step 447 mg (1.78 mmol) of the intermediate E2 synthesized in Step 1, 41.4 mg (0.178 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid, 16 ml of THF, and 4 ml of ethanol were added to obtain a uniform solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • Step 2 Synthesis of Compound 41 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.35 g (1.44 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 in a nitrogen stream, the above Step 654 mg (1.59 mmol) of the intermediate F2 synthesized in Step 1, 38.4 mg (0.165 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid, 16 ml of THF, and 4 ml of ethanol were added to make a homogeneous solution. And stirred for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • Step 2 Synthesis of Compound 42
  • 1.0 g (1.06 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 was added to 30 ml of THF in a nitrogen stream. Dissolved.
  • 0.44 ml (0.44 mmol) of 1N hydrochloric acid and 1.12 g (5.13 mmol) of the intermediate G2 synthesized in Step 1 were added, and the whole volume was stirred at 60 ° C. for 20 hours.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 Synthesis of Compound 43
  • 1.0 g (1.06 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 was added to 30 ml of THF in a nitrogen stream. Dissolved.
  • 0.44 ml (0.44 mmol) of 1N hydrochloric acid and 0.74 g (3.20 mmol) of the intermediate H2 synthesized in Step 1 were added, and the whole volume was stirred at 60 ° C. for 15 hours.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 In a three-necked reactor equipped with a synthesis thermometer for compound 44, 1.0 g (1.06 mmol) of intermediate B synthesized in step 2 of synthesis of compound 1 of Example 1 was added to 30 ml of THF in a nitrogen stream. Dissolved. To this solution, 0.44 ml (0.44 mmol) of 1N hydrochloric acid and 0.64 g (3.20 mmol) of the intermediate I2 synthesized in Step 1 were added, and the whole volume was stirred at 50 ° C. for 15 hours.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 2 In a three-necked reactor equipped with a synthesis thermometer for compound 45, 1.0 g (1.06 mmol) of intermediate B synthesized in step 2 of synthesis of compound 1 of Example 1 was added to 30 ml of THF in a nitrogen stream. Dissolved. To this solution, 0.44 ml (0.44 mmol) of 1N hydrochloric acid and Intermediate J2 synthesized in Step 1 above: 0.7 g (3.20 mmol) were added, and the whole volume was stirred at 50 ° C. for 15 hours.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Step 5 Compound 46 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 10.4 g (24.8 mmol) of Intermediate A synthesized in Step 1 of Synthesis of Compound 1 of Example 1 was dissolved in 150 ml of THF in a nitrogen stream. To this solution, 2.9 g (25.7 mmol) of methanesulfonyl chloride was added, the reactor was immersed in a water bath to bring the internal temperature of the reaction solution to 20 ° C., and 2.7 g (26.5 mmol) of triethylamine was added dropwise over 10 minutes. . The water bath was removed after completion
  • Step 4 Compound 47 In a 3-neck reactor equipped with a thermometer, 5.36 g (12.78 mmol) of the intermediate A synthesized in Step 1 of the synthesis of Compound 1 of Example 1 was dissolved in 60 ml of THF in a nitrogen stream. To this solution, 1.52 g (13.22 mmol) of methanesulfonyl chloride was added, the reactor was immersed in a water bath, the internal temperature of the reaction solution was adjusted to 20 ° C., and 1.38 g (13.7 mmol) of triethylamine was added dropwise over 5 minutes. . The water bath was then removed and the whole was stirred at 25 ° C. for 2 hours.
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.
  • Example 86 to 88 1.0 g of each of the compounds 34 to 36 obtained in Examples 72 to 74, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of a 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. It was. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain polymerizable compositions 39 to 41.
  • Example 89 1.0 g of compound 37 obtained in Example 75, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 3.0 g of chloroform. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 42.
  • Example 90 to 93 Compounds 38 to 41 obtained in Examples 76 to 79 were each 1.0 g, Photopolymerization initiator A 30 mg, Surfactant A 1% cyclopentanone solution 100 mg, Cyclopentanone 2.3 g Dissolved in. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain polymerizable compositions 43 to 46.
  • Example 94 1.0 g of compound 42 obtained in Example 80, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 3.0 g of chloroform. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 47.
  • Example 95 to 97 1.0 g of each of compounds 43 to 45 obtained in Examples 81 to 83, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of a 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. It was. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain polymerizable compositions 48 to 50.
  • Example 98 1.0 g of compound 46 obtained in Example 84, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of chloroform. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 51.
  • Example 99 1.0 g of compound 47 obtained in Example 85, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 52.
  • Step 2 Synthesis of Compound 48 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream, 387 mg (1.78 mmol) of the intermediate R2 synthesized in Step 1, 41.4 mg (0.165 mmol) of ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid, 16 ml of THF, and 4 ml of ethanol were added to obtain a uniform solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • Step 2 Synthesis of Compound 49 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream, the above Step Intermediate S2 (534 mg, 1.78 mmol) synthesized in Step 1, ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid (41.4 mg, 0.178 mmol), THF (16 ml), and ethanol (4 ml) were added to obtain a uniform solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • Step 2 Synthesis of Compound 50
  • 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream
  • the above step Intermediate T2 synthesized in 1 (567 mg, 1.78 mmol), ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid 41.4 mg (0.178 mmol), THF 16 ml, and ethanol 4 ml were added to obtain a homogeneous solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • Step 2 Synthesis of Compound 51 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream, the above Step Intermediate U2 synthesized in Step 1 (504 mg, 1.78 mmol), ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid 41.4 mg (0.178 mmol), THF 16 ml, and ethanol 4 ml were added to obtain a homogeneous solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • Step 2 Synthesis of Compound 52 In a three-necked reactor equipped with a thermometer, 1.50 g (1.60 mmol) of Intermediate B synthesized in Step 2 of Compound 1 synthesis of Example 1 in a nitrogen stream, the above Step Intermediate V2 synthesized in 1 (477 mg, 1.78 mmol), ( ⁇ ) -10-camphorsulfonic acid 41.4 mg (0.178 mmol), THF 16 ml, and ethanol 4 ml were added to obtain a uniform solution. Thereafter, the whole volume was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 100 ml of water and extracted with 200 ml of chloroform.
  • Example 105 to 109 1.0 g of each of compounds 48 to 52 obtained in Examples 100 to 104, 30 mg of photopolymerization initiator A, and 100 mg of a 1% cyclopentanone solution of surfactant A were dissolved in 2.3 g of cyclopentanone. . This solution was filtered through a disposable filter having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain polymerizable compositions 53 to 57.
  • Table 8 shows that the polymers of Examples 105 to 109 obtained using the compounds 48 to 52 according to the present invention are optically anisotropic.
  • ⁇ of the obtained optical anisotropic body was smaller than 1, and ⁇ was larger than 1, indicating an ideal wavelength dispersion exhibiting a broadband property.
  • Example 110 19.3 parts of Compound 4 obtained in Example 4, 0.6 parts of photopolymerization initiator B (manufactured by BASF Japan, Irgacure 379), surfactant B (manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Surflon S-420) ) 1% cyclopentanone solution was dissolved in 74.2 parts of cyclopentanone and filtered through a disposable filter having a pore size of 0.6 ⁇ m to obtain a polymerizable composition 58.
  • photopolymerization initiator B manufactured by BASF Japan, Irgacure 379
  • surfactant B manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Surflon S-420
  • Example 111 In Example 110, a polymerizable composition 59 was obtained in the same manner as in Example 110 except that the compound 13 obtained in Example 26 was used instead of the compound 4 obtained in Example 4.
  • Example 112 In Example 110, a polymerizable composition 60 was obtained in the same manner as in Example 110 except that the compound 22 obtained in Example 35 was used instead of the compound 4 obtained in Example 4.
  • Example 110 a polymerizable composition 61 was obtained in the same manner as in Example 110 except that Compound A obtained in Synthesis Example 1 was used instead of Compound 4 obtained in Example 4.
  • the obtained polymerizable compositions 58 to 61 were polymerized by the following method to obtain a polymer. For each of the obtained polymers, the phase difference was measured and the reflection luminance was evaluated.
  • the multilayer compound was irradiated with ultraviolet rays using a metal halide lamp to polymerize the polymerizable compound.
  • the irradiation amount of the ultraviolet rays was an illuminance of 16 mW / cm 2 and the exposure amount was 100 mJ / cm 2 .
  • This obtained the phase difference plate which consists of a support body and the optically anisotropic body layer provided on it.
  • the film thicknesses of the obtained optical anisotropic layer were 2.5 ⁇ m, 1.9 ⁇ m, 1.9 ⁇ m and 1.4 ⁇ m, respectively.
  • a circularly polarizing plate was obtained by bonding the obtained retardation plate and a linear polarizing plate (manufactured by SANRITZ, product name: HLC2-5618) with a transparent optical adhesive (manufactured by Nitto Denko Corporation, product name: LUCIACS). Produced. At this time, the relative angle between the absorption axis direction of the linear polarizing plate and the slow axis direction of the retardation plate (parallel to the rubbing direction) was set to 45 °.
  • the reflection luminance Y was calculated by multiplying the obtained reflection spectrum by the color matching function y ( ⁇ ) and integrating. At this time, a D65 light source was assumed as a reference white light source. The results are shown in Table 9.

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Abstract

 本発明は、重合性化合物(I)、該重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組成物、前記重合性化合物又は重合性組成物を重合して得られる高分子、該高分子を構成材料とする光学異方体、カルボニル化合物(4)、この化合物とヒドラジン化合物(6)とを反応させることを特徴とする、重合性化合物(I)の製造方法、及び、カルボニル化合物(4)を重合性化合物(I)の製造原料として使用する方法である。本発明によれば、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、低コストで製造可能で、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができる、重合性化合物等、及びその製造原料として有用なカルボニル化合物等が提供される。〔式(I)中、Y~Yは-C(=O)-O-等を、G、Gは炭素数1~20の二価の鎖状脂肪族基等を、Z、Zは、無置換又はハロゲン原子で置換された炭素数2~10のアルケニル基を、Aは、芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を、Aは水素原子、炭素数1~20のアルキル基等を、Aは三価の芳香族基等を、A、Aは炭素数3~30の二価の脂環式炭化水素基等を、A、Aは炭素数6~30の二価の芳香族基等を、Qは水素原子等を表す。〕

Description

重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学異方体、及び重合性化合物の製造方法
 本発明は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを作製することができる、重合性化合物、重合性組成物及び高分子、光学異方体、並びに、重合性化合物の製造原料として有用なカルボニル化合物、このカルボニル化合物を用いる重合性化合物の製造方法、及びこのカルボニル化合物を重合性化合物の製造原料として使用する方法に関する。
 フラットパネル表示装置(FPD)は、偏光板や位相差板等の光学フィルムを用いることにより高精細な表示が可能であることから、優れた表示デバイスとしてテレビをはじめとして広く使用されている。
 位相差板には、直線偏光を円偏光に変換する1/4波長板や直線偏光の偏光振動面を90度変換する1/2波長板等がある。これらの位相差板は、ある特定の単色光に対しては正確に光線波長の1/4λあるいは1/2λの位相差に変換可能なものである。
 しかしながら、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは、位相差板を構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する合成波である白色光に対して各波長ごとの偏光状態に分布が生じることから、全ての波長領域において正確な1/4λあるいは1/2λの位相差に調整することが不可能であることに起因する。
 このような問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている(例えば、特許文献1~6)。
 一方、モバイルパソコン、携帯電話等携帯型の情報端末の高機能化及び普及に伴い、フラットパネル表示装置の厚みを極力薄く抑えることが求められてきている。その結果、構成部材である位相差板の薄層化も求められている。
 薄層化の方法としては、フィルム基材に低分子重合性化合物を含有する重合性組成物を塗布することにより位相差板を作成する方法が、近年では最も有効な方法とされている。優れた波長分散性を有する低分子重合性化合物又はそれを用いた重合性組成物の開発が多く行われている(例えば、特許文献7~24)。
 しかしながら、これらの文献に記載の低分子重合性化合物又は重合性組成物は、工業的プロセスにおける加工には適していない高い融点を有しているため、フィルムに塗布することが困難であったり、液晶性を示す温度範囲が極端に狭かったり、工業的プロセスにおいて一般に使用される溶媒への溶解度が低かったり、これらを重合して得られる高分子フィルムの逆波長分散性が不十分であったりするなど、性能面で多くの課題を有している。また、これらの低分子重合性化合物等は、非常に高価な試薬を用いる合成法を駆使し、多段階で合成されるものであることから、コスト面でも課題を有していた。
特開平10-68816号公報 特開平10-90521号公報 特開平11-52131号公報 特開2000-284126号公報(US20020159005A1) 特開2001-4837号公報 国際公開第2000/026705号 特開2002-267838号公報 特開2003-160540号公報(US20030102458A1) 特開2005-208414号公報 特開2005-208415号公報 特開2005-208416号公報 特開2005-289980号公報(US20070176145A1) 特開2006-330710号公報(US20090072194A1) 特開2009-179563号公報(US20090189120A1) 特開2010-31223号公報 特開2011-6360号公報 特開2011-6361号公報 特開2011-42606号公報 特表2010-537954号公報(US20100201920A1) 特表2010-537955号公報(US20100301271A1) 国際公開第2006/052001号(US20070298191A1) 米国特許第6,139,771号 米国特許第6,203,724号 米国特許第5,567,349号
 本発明は、上記した従来技術に鑑みてなされたものであり、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、低コストで製造可能で、反射輝度が低く、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができる、重合性化合物、重合性組成物及び高分子、光学異方体、並びに、当該重合性化合物の製造原料として有用なカルボニル化合物、このカルボニル化合物を用いる重合性化合物の製造方法、及びこのカルボニル化合物を重合性化合物の製造原料として使用する方法を提供することを目的とする。
 本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した。その結果、下記式(I)で表される重合性化合物、又は前記重合性化合物と重合開始剤を含有する重合性組成物を重合して得られる高分子を構成材料とする光学異方体を用いることで、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを低コストで製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
 かくして本発明によれば、(1)~(7)の重合性化合物、(8)、(9)の重合性組成物、(10)、(11)の高分子、(12)の光学異方体、(13)~(16)のカルボニル化合物、(17)の重合性化合物の製造方法、及び、(18)の前記カルボニル化合物を重合性化合物の製造原料として使用する方法が提供される。
(1)下記式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
〔式中、Y~Yはそれぞれ独立して、化学的な単結合、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-O-C(=O)-NR-、-NR-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-NR-、-O-NR-、又は、-NR-O-を表す。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
 G、Gはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~20の二価の鎖状脂肪族基を表す。また、前記鎖状脂肪族基には、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-NR-、又は、-C(=O)-が介在していてもよい。ただし、-O-又は-S-がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
 Z、Zはそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2~10のアルケニル基を表す。
 Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。
 Aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、-C(=O)-R、-SO-R、-C(=S)NH-R、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。ここで、Rは、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、炭素数5~12の芳香族炭化水素基を表し、Rは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表し、Rは置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数5~20の芳香族基を表す。前記A及びAが有する芳香環は置換基を有していてもよい。また、前記AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。
 Aは置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
 A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3~30の二価の脂環式炭化水素基を表し、
 A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数6~30の二価の芳香族基を表す。
 Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。〕で示される重合性化合物。
(2)前記AとAに含まれるπ電子の総数が4以上24以下である(1)に記載の重合性化合物。
(3)前記Aが、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基である(1)又は(2)に記載の重合性化合物。
(4)前記Y~Y8が、それぞれ独立して、化学的な単結合、-O-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、又は、-O-C(=O)-O-である(1)~(3)のいずれかに記載の重合性化合物。
(5)前記Z、Zが、それぞれ独立して、CH=CH-、CH=C(CH)-、又は、CH=C(Cl)-である(1)~(4)のいずれかに記載の重合性化合物。
(6)前記G、Gがそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~20の二価の脂肪族基〔該脂肪族基には、-O-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-又は-C(=O)-が介在していてもよい。ただし、-O-が2以上隣接して介在する場合を除く。〕である(1)~(5)のいずれかに記載の重合性化合物。
(7)前記G、Gがそれぞれ独立して、炭素数1~12のアルキレン基である(1)~(6)のいずれかに記載の重合性化合物。
(8)前記(1)~(7)のいずれかに記載の重合性化合物の少なくとも1種を含有する重合性組成物。
(9)前記(1)~(7)のいずれかに記載の重合性化合物の少なくとも1種、及び重合開始剤を含有する重合性組成物。
(10)前記(1)~(7)のいずれかに記載の重合性化合物、又は、(8)若しくは(9)に記載の重合性組成物を重合して得られる高分子。
(11)液晶性高分子である(10)に記載の高分子。
(12)前記(11)に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。
(13)下記式(4)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
{式中、Y~Yはそれぞれ独立して、化学的な単結合、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-O-C(=O)-NR-、-NR-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-NR-、-O-NR-、又は、-NR-O-を表す。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
 G、Gはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~20の二価の鎖状脂肪族基を表す〔該鎖状脂肪族基には、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-NR-、又は、-C(=O)-が介在していてもよい。ただし、-O-又は-S-がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。〕。
 Z、Zはそれぞれ独立して、無置換又はハロゲン原子で置換された炭素数2~10のアルケニル基を表す。
 Aは、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
 A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3~30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
 A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数6~30の二価の芳香族基を表す。
 Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。}で示されるカルボニル化合物。
(14)前記Aが、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基である(13)記載のカルボニル化合物。
(15)前記A、Aがそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい二価のシクロヘキシル基である(13)又は(14)に記載のカルボニル化合物。
(16)前記Z、Zが、それぞれ独立して、CH=CH-、CH=C(CH)-、又は、CH=C(Cl)-である(13)~(15)のいずれかに記載のカルボニル化合物。
(17)(13)~(16)のいずれかに記載のカルボニル化合物と、下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
(式中、Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。
 Aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、-C(=O)-R、-SO-R、-C(=S)NH-R、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。ここで、Rは、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、炭素数5~12の芳香族炭化水素基を表し、Rは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表し、Rは置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数5~20の芳香族基を表す。
 前記A及びAが有する芳香環は置換基を有していてもよい。
 また、前記AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。)
で示されるヒドラジン化合物を反応させることを特徴とする、下記式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
(式中、A、A、Y~Y、Z、Z、G、G、A~A、及びQは、前記と同じ意味を表す。)で示される重合性化合物の製造方法。
(18)(13)~(16)のいずれかに記載のカルボニル化合物を、下記式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(式中、A、A、Y~Y、Z、Z、G、G、A~A、及びQは、前記と同じ意味を表す。)で示される重合性化合物の製造原料として使用する方法。
 本発明の、重合性化合物、重合性組成物及び高分子によれば、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、低コストで製造可能で、反射輝度が低く、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができる。
 本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とするため、低コストで製造可能で、反射輝度が低く、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能なものである。
 本発明のフィルム状の光学異方体を偏光板と組み合わせることで反射防止フィルムを作製することができる。このものは、産業上、例えばタッチパネルや有機電界発光素子の反射防止に好適に使用することができる。
 本発明のカルボニル化合物は、本発明の重合性化合物の製造中間体として有用である。
 本発明の重合性化合物の製造方法によれば、本発明の重合性化合物を効率よく製造することができる。
 本発明のカルボニル化合物を製造原料として使用することにより、本発明の重合性化合物を高収率で簡便に製造することができる。
 以下、本発明を、1)重合性化合物、2)重合性組成物、3)高分子、4)光学異方体、5)カルボニル化合物、並びに、6)重合性化合物の製造方法、及び重合性化合物の製造原料として使用する方法、に項分けして、詳細に説明する。なお、本発明において、「置換基を有していてもよい」は、「無置換又は置換基を有する」の意味である。
1)重合性化合物
 本発明の重合性化合物は、前記式(I)で表される化合物である。
 式中、Y~Yはそれぞれ独立して、化学的な単結合、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-O-C(=O)-NR-、-NR-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-NR-、-O-NR-、又は、-NR-O-を表す。
 ここで、Rは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
 Rの炭素数1~6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-へキシル基等が挙げられる。
 Rとしては、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基が好ましい。
 本発明の重合性化合物においては、Y~Yは、それぞれ独立して、化学的な単結合、-O-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、又は、-O-C(=O)-O-であるのが好ましい。
 G、Gはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数1~20の二価の脂肪族基を表す。
 炭素数1~20の二価の脂肪族基としては、炭素数1~20のアルキレン基、炭素数2~20のアルケニレン基等の鎖状構造を有する二価の脂肪族基;炭素数3~20のシクロアルカンジイル基、炭素数4~20のシクロアルケンジイル基、炭素数10~30の二価の脂環式縮合環基等の二価の脂肪族基;等が挙げられる。
 G、Gの二価の脂肪族基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基、n-へキシルオキシ基等の炭素数1~6のアルコキシ基;等が挙げられる。なかでも、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
 また、前記脂肪族基には、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-NR-、又は、-C(=O)-が介在していてもよい。ただし、-O-又は-S-がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Rは、前記Rと同様の、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
 前記脂肪族基に介在する基としては、-O-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-C(=O)-が好ましい。
 これらの基が介在する脂肪族基の具体例としては、-CH-CH-O-CH-CH-、-CH-CH-S-CH-CH-、-CH-CH-O-C(=O)-CH-CH-、-CH-CH-C(=O)-O-CH-CH-、-CH-CH-C(=O)-O-CH-、-CH-O-C(=O)-O-CH-CH-、-CH-CH-NR-C(=O)-CH-CH-、-CH-CH-C(=O)-NR-CH-、-CH-NR-CH-CH-、-CH-C(=O)-CH-等が挙げられる。
 これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、G、Gは、それぞれ独立して、炭素数1~20のアルキレン基、炭素数2~20のアルケニレン基等の鎖状構造を有する二価の脂肪族基が好ましく、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基〔-(CH10-〕等の、炭素数1~12のアルキレン基がより好ましく、テトラメチレン基〔-(CH-〕、ヘキサメチレン基〔-(CH-〕、オクタメチレン基〔-(CH-〕、及び、デカメチレン基〔-(CH10-〕が特に好ましい。
 Z、Zはそれぞれ独立して、無置換又はハロゲン原子で置換された炭素数2~10のアルケニル基を表す。
 該アルケニル基の炭素数としては、2~6が好ましい。Z及びZのアルケニル基の置換基であるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。
 Z及びZの炭素数2~10のアルケニル基の具体例としては、CH=CH-、CH=C(CH)-、CH=CH-CH-、CH-CH=CH-、CH=CH-CH-CH-、CH=C(CH)-CH-CH-、(CHC=CH-CH-、(CHC=CH-CH-CH-、CH=C(Cl)-、CH=C(CH)-CH-、CH-CH=CH-CH-等が挙げられる。
 なかでも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Z及びZとしては、それぞれ独立して、CH=CH-、CH=C(CH)-、CH=C(Cl)-、CH=CH-CH-、CH=C(CH)-CH-、又は、CH=C(CH)-CH-CH-であるのが好ましく、CH=CH-、CH=C(CH)-、又は、CH=C(Cl)-であるのがより好ましく、CH=CH-であるのが特に好ましい。
 Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。
 本発明において、「芳香環」は、Huckel則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を(4n+2)個有する環状共役構造、及びチオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示すものを意味する。
 Aの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を有するものであってもよい。
 前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられる。前記芳香族複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環等の単環の芳香族複素環;ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、チアゾロピリジン環、オキサゾロピリジン環、チアゾロピラジン環、オキサゾロピラジン環、チアゾロピリダジン環、オキサゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、オキサゾロピリミジン環等の縮合環の芳香族複素環;等が挙げられる。
 Aが有する芳香環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1~6のアルキル基;ビニル基、アリル基等の炭素数2~6のアルケニル基;トリフルオロメチル基等の炭素数1~6のハロゲン化アルキル基;ジメチルアミノ基等の置換アミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数1~6のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;-C(=O)-R;-C(=O)-OR;-SO;等が挙げられる。ここで、Rは炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、又は、炭素数3~12のシクロアルキル基を表し、Rは後述するRと同様の、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表す。
 また、Aが有する芳香環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよく、不飽和環であっても、飽和環であってもよい。
 なお、Aの炭素数2~30の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する(後述するAにて同じである。)。
 Aの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基としては、芳香族炭化水素環基;芳香族複素環基;芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数3~30のアルキル基;芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数4~30のアルケニル基;芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数4~30のアルキニル基;等が挙げられる。
 Aの好ましい具体例を以下に示す。但し、本発明においては、Aは以下に示すものに限定されるものではない。なお、下記式中、「-」は環の任意の位置からのびる結合手を表す(以下にて同じである。)。
(1)芳香族炭化水素環基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
(2)芳香族複素環基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 上記式中、Eは、NR、酸素原子又は硫黄原子を表す。ここで、Rは、水素原子;又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1~6のアルキル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 上記式中、X、Y、Zは、それぞれ独立して、NR、酸素原子、硫黄原子、-SO-、又は、-SO-を表す(ただし、酸素原子、硫黄原子、-SO-、-SO-が、それぞれ隣接する場合を除く。)。Rは、前記Rと同様の、水素原子;又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1~6のアルキル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
(上記式中、Xは前記と同じ意味を表す。)
(3)芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキル基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
(4)芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルケニル基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
(5)芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキニル基
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
上記したAの中でも、炭素数6~30の芳香族炭化水素基、又は炭素数4~30の芳香族複素環基であることが好ましく、下記に示すいずれかの基であることがより好ましく、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
下記に示すいずれかの基であることが更に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 Aが有する環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1~6のアルキル基;ビニル基、アリル基等の炭素数2~6のアルケニル基;トリフルオロメチル基等の炭素数1~6のハロゲン化アルキル基;ジメチルアミノ基等の置換アミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数1~6のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;-C(=O)-R;-C(=O)-OR;-SO;等が挙げられる。ここでRは、メチル基、エチル基等の炭素数1~6のアルキル基;又は、フェニル基等の炭素数6~14のアリール基;を表す。なかでも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~6のアルキル基、及び炭素数1~6のアルコキシ基が好ましい。
 また、Aが有する環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよい。
 なお、Aの炭素数2~30の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する(後述するAにて同じである。)。
 Aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基、-C(=O)-R、-SO-R、-C(=S)NH-R又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。ここで、Rは、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、炭素数5~12の芳香族炭化水素基を表し、Rは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表し、Rは置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数5~20の芳香族基を表す。
 Aの、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基の炭素数1~20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、1-メチルペンチル基、1-エチルペンチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-へキシル基、イソヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシル基、n-イコシル基等が挙げられる。置換基を有してもよい炭素数1~20のアルキル基の炭素数は、1~12であることが好ましく、4~10であることが更に好ましい。
 Aの、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基の炭素数2~20のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。
 置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基の炭素数は、2~12であることが好ましい。
 Aの、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基の炭素数3~12のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
 Aの、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基の炭素数2~20のアルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、2-プロピニル基(プロパルギル基)、ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、ペンチニル基、2-ペンチニル基、ヘキシニル基、5-ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、2-オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、7-デカニル基等が挙げられる。
 Aの、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、及び置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;シアノ基;ジメチルアミノ基等の置換アミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1~20のアルコキシ基;メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数1~12のアルコキシ基で置換された炭素数1~12のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3~8のシクロアルキル基;シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数3~8のシクロアルキルオキシ基;テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数2~12の環状エーテル基;フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数6~14のアリールオキシ基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、-CHCF等の、少なくとも1個がフッ素原子で置換された炭素数1~12のフルオロアルコキシ基;ベンゾフリル基;ベンゾピラニル基;ベンゾジオキソリル基;ベンゾジオキサニル基;-C(=O)-R;-C(=O)-OR;-SO;-SR10;-SR10で置換された炭素数1~12のアルコキシ基;水酸基;等が挙げられる。ここで、R及びR10はそれぞれ独立して、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、又は、炭素数6~12の芳香族炭化水素基を表し、Rは前記Rと同様の、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表す。
 Aの、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;シアノ基;ジメチルアミノ基等の置換アミノ基;メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1~6のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数1~6のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3~8のシクロアルキル基;-C(=O)-R;-C(=O)-OR;-SO;水酸基;等が挙げられる。ここでR、Rは前記と同じ意味を表す。
 Aの、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基の置換基としては、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、及び置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基の置換基と同様な置換基が挙げられる。
 Aの、-C(=O)-Rで表される基において、Rは、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、炭素数5~12の芳香族炭化水素基を表す。これらの具体例は、前記Aの、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基の例として列記したものと同様のものが挙げられる。
 Aの、-SO-Rで表される基において、Rは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表す。
 Rの、炭素数1~20のアルキル基、及び炭素数2~20のアルケニル基の具体例は、前記Aの、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基の例として列記したものと同様のものが挙げられる。
 Aの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基としては、前記Aで例示したのと同様のものが挙げられる。
 これらの中でも、Aとしては、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基、-C(=O)-R、-SO-R、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基で表される基が好ましく、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基、置換基を有してもよい炭素数6~12の芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数3~9の芳香族複素環基、-C(=O)-R、-SO-Rで表される基が更に好ましい。ここで、R、Rは前記と同じ意味を表す。
 Aの、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基で置換された炭素数1~12のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数2~12の環状エーテル基、炭素数6~14のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、フェニルスルホニル基、4-メチルフェニルスルホニル基、ベンゾイル基、-SR10が好ましい。ここで、R10は前記と同じ意味を表す。
 Aの、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数6~12の芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数3~9の芳香族複素環基の置換基としては、フッ素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、シアノ基が好ましい。
 また、AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。かかる環としては、置換基を有していてもよい、炭素数4~30の不飽和複素環、炭素数6~30の不飽和炭素環が挙げられる。
 前記炭素数4~30の不飽和複素環、炭素数6~30の不飽和炭素環としては、特に制約はなく、芳香族性を有していても有していなくてもよい。例えば、下記に示す環が挙げられる。なお、下記に示す環は、式(I)中の
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
として表される部分を示すものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
(式中、X、Y、Zは、前記と同じ意味を表す。)
 また、これらの環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、Aが有する芳香環の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。
 AとAに含まれるπ電子の総数は、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、4以上24以下であるのが好ましく、6以上20以下であるのがより好ましく、6以上18以下であるのが更に好ましい。
 AとAの好ましい組み合わせとしては、
(α)Aが炭素数4~30の、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基であり、Aが水素原子、炭素数3~8のシクロアルキル基、(ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、若しくは炭素数3~8のシクロアルキル基)を置換基として有していてもよい炭素数6~12の芳香族炭化水素基、(ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、シアノ基)を置換基として有していてもよい炭素数3~9の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基で置換された炭素数1~12のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数2~12の環状エーテル基、炭素数6~14のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基、-SR10のいずれかである組み合わせ、及び、
(β)AとAが一緒になって不飽和複素環又は不飽和炭素環を形成しているもの、
が挙げられる。ここで、R10は前記と同じ意味を表す。
 AとAのより好ましい組み合わせとしては、
(γ)Aが下記構造を有する基のいずれかであり、Aが水素原子、炭素数3~8のシクロアルキル基、(ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、若しくは炭素数3~8のシクロアルキル基)を置換基として有していてもよい炭素数6~12の芳香族炭化水素基、(ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、シアノ基)を置換基として有していてもよい炭素数3~9の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基で置換された炭素数1~12のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数2~12の環状エーテル基、炭素数6~14のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基、-SR10のいずれかである組み合わせである。ここで、R10は前記と同じ意味を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
(式中、X、Yは、前記と同じ意味を表す。)
 AとAの特に好ましい組み合わせとしては、
(δ)Aが下記構造を有する基のいずれかであり、Aが水素原子、炭素数3~8のシクロアルキル基、(ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、若しくは炭素数3~8のシクロアルキル基)を置換基として有していてもよい炭素数6~12の芳香族炭化水素基、(ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、シアノ基)を置換基として有していてもよい炭素数3~9の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基で置換された炭素数1~12のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数2~12の環状エーテル基、炭素数6~14のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基、-SR10のいずれかである組合せである。下記式中、Xは前記と同じ意味を表す。ここで、R10は前記と同じ意味を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 Aは置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。三価の芳香族基としては、三価の炭素環式芳香族基であっても、三価の複素環式芳香族基であってもよい。本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、三価の炭素環式芳香族基が好ましく、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がより好ましく、下記式に示す三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がさらに好ましい。
 なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、置換基Y、Yを便宜上記載している(Y、Yは、前記と同じ意味を表す。以下にて同じ。)。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 これらの中でも、Aとしては、下記に示す式(A11)~(A25)で表される基がより好ましく、式(A11)、(A13)、(A15)、(A19)、(A23)で表される基がさらに好ましく、式(A11)、(A23)で表される基が特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 Aの、三価の芳香族基が有していてもよい置換基としては、前記Aの芳香族基の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。Aとしては、置換基を有さないものが好ましい。
 A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3~30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
 炭素数3~30の二価の脂環式炭化水素基としては、炭素数3~30のシクロアルカンジイル基、炭素数10~30の二価の脂環式縮合環基等が挙げられる。
 炭素数3~30のシクロアルカンジイル基としては、シクロプロパンジイル基;シクロブタン-1,2-ジイル基、シクロブタン-1,3-ジイル基等のシクロブタンジイル基;シクロペンタン-1,2-ジイル基、シクロペンタン-1,3-ジイル基等のシクロペンタンジイル基;シクロヘキサン-1,2-ジイル基、シクロヘキサン-1,3-ジイル基、シクロヘキサン-1,4-ジイル基等のシクロへキサンジイル基;シクロヘプタン-1,2-ジイル基、シクロヘプタン-1,3-ジイル基、シクロヘプタン-1,4-ジイル基等のシクロへプタンジイル基;シクロオクタン-1,2-ジイル基、シクロオクタン-1,3-ジイル基、シクロオクタン-1,4-ジイル基、シクロオクタン-1,5-ジイル基等のシクロオクタンジイル基;シクロデカン-1,2-ジイル基、シクロデカン-1,3-ジイル基、シクロデカン-1,4-ジイル基、シクロデカン-1,5-ジイル基等のシクロデカンジイル基;シクロドデカン-1,2-ジイル基、シクロドデカン-1,3-ジイル基、シクロドデカン-1,4-ジイル基、シクロドデカン-1,5-ジイル基等のシクロドデカンジイル基;シクロテトラデカン-1,2-ジイル基、シクロテトラデカン-1,3-ジイル基、シクロテトラデカン-1,4-ジイル基、シクロテトラデカン-1,5-ジイル基、シクロテトラデカン-1,7-ジイル基等のシクロテトラデカンジイル基;シクロエイコサン-1,2-ジイル基、シクロエイコサン-1,10-ジイル基等のシクロエイコサンジイル基;等が挙げられる。
 炭素数10~30の二価の脂環式縮合環基としては、デカリン-2,5-ジイル基、デカリン-2,7-ジイル基等のデカリンジイル基;アダマンタン-1,2-ジイル基、アダマンタン-1,3-ジイル基等のアダマンタンジイル基;ビシクロ[2.2.1]へプタン-2,3-ジイル基、ビシクロ[2.2.1]へプタン-2,5-ジイル基、ビシクロ[2.2.1]へプタン-2,6-ジイル基等のビシクロ[2.2.1]へプタンジイル基;等が挙げられる。
 これらの二価の脂環式炭化水素基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。置換基としては、前記Aの芳香族基の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。
 これらの中でも、A、Aとしては、炭素数3~12の二価の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数3~12のシクロアルカンジイル基がより好ましく、下記式(A31)~(A34)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
で表される基がさらに好ましく、前記式(A32)で表される基が特に好ましい。
 前記炭素数3~30の二価の脂環式炭化水素基は、Y、Y(又はY、Y)と結合する炭素原子の立体配置の相違に基づく、シス型、トランス型の立体異性体が存在し得る。例えば、シクロヘキサン-1,4-ジイル基の場合には、下記に示すように、シス型の異性体(A32a)とトランス型の異性体(A32b)が存在し得る。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 本発明においては、シス型であってもトランス型であっても、あるいはシス型とトランス型の異性体混合物であってもよいが、配向性が良好であることから、トランス型あるいはシス型であるのが好ましく、トランス型がより好ましい。
 A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数6~30の二価の芳香族基を表す。
 A、Aの芳香族基は単環のものであっても、多環のものであってもよい。
 A、Aの好ましい具体例としては、下記のものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 上記A、Aの二価の芳香族基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。当該置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、ニトロ基、-C(=O)-OR基;等が挙げられる。ここでRは、炭素数1~6のアルキル基である。なかでも、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、アルコキシ基が好ましい。また、ハロゲン原子としてはフッ素原子が、炭素数1~6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。
 これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、A、Aは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、下記式(A41)、(A42)及び(A43)で表される基がより好ましく、置換基を有していてもよい式(A41)で表される基が特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 Qは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を示す。
 置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基としては、前記Aで例示したのと同様のものが挙げられる。
 これらの中でも、Qは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基が好ましく、水素原子及びメチル基がより好ましい。
 本発明の重合性化合物は、例えば、下記に示す反応により製造することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
(式中、Y~Y、G、G、Z、Z、A、A、A~A、Qは、前記と同じ意味を表す。)
 すなわち、式(3)で表されるヒドラジン化合物(ヒドラジン化合物(3))を、式(4)で表されるカルボニル化合物(カルボニル化合物(4))と、〔ヒドラジン化合物(3):カルボニル化合物(4)〕のモル比で、1:2~2:1、好ましくは1:1.5~1.5:1の割合で反応させることにより、高選択的かつ高収率で目的とする本発明の式(I)で示される重合性化合物を製造することができる。
 この場合、(±)-10-カンファースルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸;塩酸、硫酸等の無機酸;等の酸触媒を添加して反応を行うことができる。酸触媒を添加することで反応時間が短縮され、収率が向上する場合がある。酸触媒の添加量は、カルボニル化合物(4)1モルに対して、通常0.001~1モルである。また、酸触媒はそのまま添加してもよいし、適当な溶液に溶解させた溶液として添加してもよい。
 この反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec-ブチルアルコール、t-ブチルアルコール等のアルコール系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒;酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル等のエステル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;及びこれらの2種以上からなる混合溶媒;等が挙げられる。
 これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及びアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。
 溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、ヒドラジン化合物(3)1gに対し、通常1~100gである。
 反応は、-10℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。
 ヒドラジン化合物(3)は、次のようにして製造することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
(式中、A、Aは前記と同じ意味を表す。Xは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。)
 すなわち、式(2a)で表される化合物とヒドラジン(1)を、適当な溶媒中、(化合物(2a):ヒドラジン(1))のモル比で、1:1~1:20、好ましくは1:2~1:10で反応させて、対応するヒドラジン化合物(3a)を得ることができ、さらに、ヒドラジン化合物(3a)と式(2b)で表される化合物を反応させることで、ヒドラジン化合物(3)を得ることができる。
 ヒドラジン(1)としては、通常1水和物のものを用いる。ヒドラジン(1)は、市販品をそのまま使用することができる。
 この反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec-ブチルアルコール、t-ブチルアルコール等のアルコール系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;及びこれらの2種以上からなる混合溶媒;等が挙げられる。
 これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及びアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。
 溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、ヒドラジン1gに対し、通常1~100gである。
 反応は、-10℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。
 また、ヒドラジン化合物(3)は、次のように、従来公知の方法を用いて、ジアゾニウム塩(5)を還元することによって製造することもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 式(5)中、A、Aは、前記と同じ意味を表す。Xは、ジアゾニウムに対する対イオンである陰イオンを示す。Xとしては、例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン、ホウフッ化水素酸イオン、塩化物イオン、硫酸イオン等の無機陰イオン;ポリフルオロアルキルカルボン酸イオン、ポリフルオロアルキルスルホン酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、芳香族カルボン酸イオン、芳香族スルホン酸イオン等の有機陰イオン;等が挙げられる。
 上記反応に用いる還元剤としては、金属塩還元剤が挙げられる。
 金属塩還元剤とは、一般に低原子価金属を含む化合物、もしくは金属イオンとヒドリド源からなる化合物である(「有機合成実験法ハンドブック」1990年社団法人有機合成化学協会編 丸善株式会社発行810ページを参照)。
 金属塩還元剤としては、NaAlH、NaAlH(Or)(p、qはそれぞれ独立して1~3の整数を表し、p+q=4である。rは炭素数1~6のアルキル基を表す。)、LiAlH、iBuAlH、LiBH、NaBH、SnCl、CrCl、TiCl等が挙げられる。
 還元反応においては公知の反応条件を採用することができる。例えば、特開2005-336103号公報、新実験化学講座 1978年 丸善株式会社発行 14巻、実験化学講座 1992年 丸善株式会社発行 20巻、等の文献に記載の条件で反応を行うことができる。
 また、ジアゾニウム塩(5)は、アニリン等の化合物から常法により製造することができる。
 カルボニル化合物(4)は、典型的には、エーテル結合(-O-)、エステル結合(-C(=O)-O-、-O-C(=O)-)、カーボネート結合(-O-C(=O)-O-)及びアミド結合(-C(=O)-NH-、-NH-C(=O)-)の形成反応を任意に組み合わせて、所望の構造を有する複数の公知化合物を適宜結合・修飾することにより製造することができる。
 エーテル結合の形成は、以下のようにして行うことができる。
(i)式:D1-hal(halはハロゲン原子を表す。以下にて同じ。)で表される化合物と、式:D2-OMet(Metはアルカリ金属(主にナトリウム)を表す。以下にて同じ。)で表される化合物とを混合して縮合させる(ウイリアムソン合成)。なお、式中、D1及びD2は任意の有機基を表す(以下にて同じ。)
(ii)式:D1-halで表される化合物と、式:D2-OHで表される化合物とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
(iii)式:D1-J(Jはエポキシ基を表す。)で表される化合物と、式:D2-OHで表される化合物とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
(iv)式:D1-OFN(OFNは不飽和結合を有する基を表す。)で表される化合物と、式:D2-OMetで表される化合物を、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して付加反応させる。
(v)式:D1-halで表される化合物と、式:D2-OMetで表される化合物とを、銅あるいは塩化第一銅存在下、混合して縮合させる(ウルマン縮合)。
 エステル結合及びアミド結合の形成は、以下のようにして行うことができる。
(vi)式:D1-COOHで表される化合物と、式:D2-OH又はD2-NHで表される化合物とを、脱水縮合剤(N,N-ジシクロヘキシルカルボジイミド等)の存在下に脱水縮合させる。
(vii)式:D1-COOHで表される化合物にハロゲン化剤を作用させることにより、式:D1-CO-halで表される化合物を得、このものと式:D2-OH又はD2-NHで表される化合物とを、塩基の存在下に反応させる。
(viii)式:D1-COOHで表される化合物に酸無水物を作用させることにより、混合酸無水物を得た後、このものに、式:D2-OH又はD2-NHで表される化合物を反応させる。
(ix)式:D1-COOHで表される化合物と、式:D2-OH又はD2-NHで表される化合物とを、酸触媒あるいは塩基触媒の存在下に脱水縮合させる。
 本発明のカルボニル化合物(4)は、具体的には、下記反応式に示す方法により製造することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
(式中、Y~Y、G、G、Z、Z、A~A、及びQは、前記と同じ意味を表す。L、Lは、水酸基、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。-Y1aは、-Lと反応して、-Y-となる基を表し、-Y2aは、-Lと反応して、-Y-となる基を表す。)
 すなわち、従来公知の、エーテル結合(-O-)、エステル結合(-C(=O)-O-、-O-C(=O)-)、又は、カーボネート結合(-O-C(=O)-O-)の形成反応を用いることにより、式(6d)で表される化合物に、式(7a)で表される化合物、次いで、式(7b)で表される化合物を反応させて、本発明のカルボニル化合物(4)を製造することができる。
 より具体的には、Yが、Y11-C(=O)-O-で表される基であり、式:Z-Y-G-Y-A-Y-A-Y-で表される基が、式:Z-Y-G-Y-A-Y-A-Y-で表される基と同一である、化合物(4’)の製造方法を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
(式中、Y、Y、Y、G、Z、A、A、A、Q、及びLは前記と同じ意味を表す。Y11は、Y11-C(=O)-O-がYとなる基を表す。Yは前記と同じ意味を表す。)
 上記反応においては、式(6)で表されるジヒドロキシ化合物(化合物(6))と式(7)で表される化合物(化合物(7))とを、(化合物(6):化合物(7))のモル比で、1:2~1:4、好ましくは1:2~1:3の割合で反応させることにより、高選択的かつ高収率で目的とする化合物(4’)を得ることができる。
 化合物(7)が、式(7)中、Lが水酸基の化合物(カルボン酸)である場合には、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤の存在下に反応させることにより、目的物を得ることができる。
 脱水縮合剤の使用量は、化合物(7)1モルに対し、通常1~3モルである。
 また、化合物(7)が、式(7)中、Lが水酸基の化合物(カルボン酸)である場合には、メタンスルホニルクロリド、p-トルエンスルホニルクロリド等のスルホニルハライド、及びトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン等の塩基の存在下に反応させることによっても、目的物を得ることができる。
 スルホニルハライドの使用量は、化合物(7)1モルに対し、通常1~3モルである。
 塩基の使用量は、化合物(7)1モルに対し、通常1~3モルである。
 この場合、前記式(7)中、Lがスルホニルオキシ基の化合物(混合酸無水物)を単離して次の反応を行ってもよい。
 さらに、化合物(7)が、式(7)中、Lがハロゲン原子の化合物(酸ハライド)である場合には、塩基の存在下に反応させることにより、目的物を得ることができる。
 用いる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基;水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
 塩基の使用量は、化合物(7)1モルに対し、通常1~3モルである。
 上記反応に用いる溶媒としては、例えば、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶媒;N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒;1,4-ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,3-ジオキソラン等のエーテル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒;及びこれらの溶媒の2種以上からなる混合溶媒;等が挙げられる。
 溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、ヒドロキシ化合物(6)1gに対し、通常1~50gである。
 化合物(6)の多くは公知物質であり、公知の方法により製造することができる。
 例えば、下記反応式に示す方法により製造することができる(WO2009/042544号、及び、The Journal of Organic Chemistry,2011,76,8082-8087等参照。)。化合物(6)として市販されているものを、所望により精製して用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
(式中、A、Qは前記と同じ意味を表し、A1aは、ホルミル化又はアシル化されることによりAになる2価の芳香族基を表し、R’は、メチル基、エチル基等の炭素数1~6のアルキル基、メトキシメチル基等の炭素数2~6のアルコキシアルキル基等の水酸基の保護基を表す。)
 すなわち、式(6a)で表されるジヒドロキシ化合物(1,4-ジヒドロキシベンゼン、1,4-ジヒドロキシナフタレン等)の水酸基をアルキル化して、式(6b)で表される化合物を得た後、OR’基のオルト位を、公知の方法により、ホルミル化又はアシル化することにより、式(6c)で表される化合物を得、このものを脱保護(脱アルキル化)することにより、目的とする化合物(6)を得ることができる。
 また、化合物(6)として、市販されているものをそのまま、又は所望により精製して用いることもできる。
 化合物(7)の多くは公知化合物であり、エーテル結合(-O-)、エステル結合(-C(=O)-O-、-O-C(=O)-)、カーボネート結合(-O-C(=O)-O-)及びアミド結合(-C(=O)-NH-、-NH-C(=O)-)の形成反応を任意に組み合わせて、所望の構造を有する複数の公知化合物を適宜結合・修飾することにより製造することができる。
 例えば、化合物(7)が、下記式(7’)で表される化合物(化合物(7’))である場合には、式(9’)で表されるジカルボン酸(化合物(9’))を用いて、下記のようにして製造することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
(式中、Y、Y、G、Z、A、A、Y11は、前記と同じ意味を表す。Y12は、-O-C(=O)-Y12がYとなる基を表す。Rは、メチル基、エチル基等のアルキル基;フェニル基、p-メチルフェニル基等の置換基を有していてもよいアリール基;を表す。)
 先ず、化合物(9’)に、式(10)で表されるスルホニルクロライドを、トリエチルアミン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン等の塩基存在下で反応させる。
 次いで、反応混合物に、化合物(8)と、トリエチルアミン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン等の塩基を加えて反応を行う。
 スルホニルクロライドの使用量は、化合物(9’)1当量に対して、通常0.5~0.7当量である。
 化合物(8)の使用量は、化合物(9’)1当量に対して、通常0.5~0.6当量である。
 塩基の使用量は、化合物(3)1当量に対して、通常0.5~0.7当量である。
 反応温度は、20~30℃であり、反応時間は反応規模等にもよるが、数分から数時間である。
 上記反応に用いる溶媒としては、前記化合物(4’)を製造する際に用いることができる溶媒として例示したものが挙げられる。なかでも、エーテル類が好ましい。
 溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、化合物(9’)1gに対し、通常1~50gである。
 いずれの反応においても、反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作を行い、所望により、カラムクロマトグラフィー、再結晶法、蒸留法等の公知の分離・精製手段を施すことにより、目的物を単離することができる。
 目的とする化合物の構造は、NMRスペクトル、IRスペクトル、マススペクトル等の測定、元素分析等により、同定することができる。
2)重合性組成物
 本発明の第2は、本発明の重合性化合物、及び重合開始剤を含有する重合性組成物である。重合開始剤は本発明の重合性化合物の重合反応をより効率的に行う観点から配合される。
 用いる重合開始剤としては、重合性化合物が有する重合性基の種類に応じて適宜なものを選択して使用すればよい。例えば、重合性基がラジカル重合性であればラジカル重合開始剤を、アニオン重合性の基であればアニオン重合開始剤を、カチオン重合性の基であればカチオン重合開始剤を、それぞれ使用すればよい。
 ラジカル重合開始剤としては、加熱することにより、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である熱ラジカル発生剤;と、可視光線、紫外線(i線など)、遠紫外線、電子線、X線等の露光光の露光により、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である光ラジカル発生剤;のいずれも使用可能であるが、光ラジカル発生剤を使用するのが好適である。
 光ラジカル発生剤としては、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、O-アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α-ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、イミドスルホナート系化合物等を挙げることができる。これらの化合物は、露光によって活性ラジカルまたは活性酸、あるいは活性ラジカルと活性酸の両方を発生する成分である。光ラジカル発生剤は、一種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
 アセトフェノン系化合物の具体例としては、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)ブタン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシル・フェニルケトン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1,2-オクタンジオン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-4’-モルフォリノブチロフェノン等を挙げることができる。
 ビイミダゾール系化合物の具体例としては、2,2’-ビス(2-クロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラキス(4-エトキシカルボニルフェニル)-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2-ブロモフェニル)-4,4’,5,5’-テトラキス(4-エトキシカルボニルフェニル)-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2-クロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2,4-ジクロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2,4,6-トリクロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2-ブロモフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2,4-ジブロモフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2,4,6-トリブロモフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール等を挙げることができる。
 本発明においては、光重合開始剤としてビイミダゾール系化合物を用いる場合、水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
 「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。
 メルカプタン系化合物としては、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2,5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾール、2-メルカプト-2,5-ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。アミン系化合物としては、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4-ジエチルアミノアセトフェノン、4-ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル-4-ジメチルアミノベンゾエート、4-ジメチルアミノ安息香酸、4-ジメチルアミノベンゾニトリル等を挙げることができる。
 トリアジン系化合物としては、2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-〔2-(5-メチルフラン-2-イル)エテニル〕-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-〔2-(フラン-2-イル)エテニル〕-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-〔2-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)エテニル〕-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-〔2-(3,4-ジメトキシフェニル)エテニル〕-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-エトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-n-ブトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン系化合物を挙げることができる。
 O-アシルオキシム系化合物の具体例としては、1-〔4-(フェニルチオ)フェニル〕-ヘプタン-1,2-ジオン 2-(O-ベンゾイルオキシム)、1-〔4-(フェニルチオ)フェニル〕-オクタン-1,2-ジオン 2-(O-ベンゾイルオキシム)、1-〔4-(ベンゾイル)フェニル〕-オクタン-1,2-ジオン 2-(O-ベンゾイルオキシム)、1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-エタノン 1-(O-アセチルオキシム)、1-[9-エチル-6-(3-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-エタノン 1-(O-アセチルオキシム)、1-(9-エチル-6-ベンゾイル-9H-カルバゾール-3-イル)-エタノン 1-(O-アセチルオキシム)、エタノン-1-[9-エチル-6-(2-メチル-4-テトラヒドロフラニルベンゾイル)-9.H.-カルバゾール-3-イル]-1-(O-アセチルオキシム)、エタノン-1-〔9-エチル-6-(2-メチル-4-テトラヒドロピラニルベンゾイル)-9.H.-カルバゾール-3-イル〕-1-(O-アセチルオキシム)、エタノン-1-〔9-エチル-6-(2-メチル-5-テトラヒドロフラニルベンゾイル)-9.H.-カルバゾール-3-イル〕-1-(O-アセチルオキシム)、エタノン-1-〔9-エチル-6-(2-メチル-5-テトラヒドロピラニルベンゾイル)-9.H.-カルバゾール-3-イル〕-1-(O-アセチルオキシム)、エタノン-1-〔9-エチル-6-{2-メチル-4-(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラニル)ベンゾイル}-9.H.-カルバゾール-3-イル〕-1-(O-アセチルオキシム)、エタノン-1-[9-エチル-6-(2-メチル-4-テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル)-9.H.-カルバゾール-3-イル]-1-(O-アセチルオキシム)、エタノン-1-〔9-エチル-6-(2-メチル-4-テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル)-9.H.-カルバゾール-3-イル〕-1-(O-アセチルオキシム)、エタノン-1-〔9-エチル-6-(2-メチル-5-テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル)-9.H.-カルバゾール-3-イル〕-1-(O-アセチルオキシム)、エタノン-1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-1-(O-アセチルオキシム)、エタノン-1-〔9-エチル-6-(2-メチル-5-テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル)-9.H.-カルバゾール-3-イル〕-1-(O-アセチルオキシム)、エタノン-1-〔9-エチル-6-{2-メチル-4-(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}-9.H.-カルバゾール-3-イル〕-1-(O-アセチルオキシム)等を挙げることができる。
 光ラジカル発生剤は市販品をそのまま用いることもできる。具体例としては、BASF社製の、商品名:Irgacure907、商品名:Irgacure184、商品名:Irgacure369、品名:Irgacure651、品名:Irgacure819、品名:Irgacure907、及び商品名:Irgacure OXE02、ADEKA社製の、商品名:アデカオプトマーN1919等が挙げられる。
 前記アニオン重合開始剤としては、アルキルリチウム化合物;ビフェニル、ナフタレン、ピレン等の、モノリチウム塩又はモノナトリウム塩;ジリチウム塩やトリリチウム塩等の多官能性開始剤;等が挙げられる。
 また、前記カチオン重合開始剤としては、硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸;三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズのようなルイス酸;芳香族オニウム塩又は芳香族オニウム塩と、還元剤との併用系;が挙げられる。
 これらの重合開始剤は一種単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
 本発明の重合性組成物において、重合開始剤の配合割合は、重合性化合物100重量部に対し、通常、0.1~30重量部、好ましくは0.5~10重量部である。
 また、本発明の重合性組成物には、表面張力を調整するために、界面活性剤を配合するのが好ましい。当該界面活性剤としては、特に限定はないが、通常、ノニオン系界面活性剤が好ましい。当該ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いればよく、例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤、例えば、セイミケミカル社製KH-40等が挙げられる。本発明の重合性組成物において、界面活性剤の配合割合は、重合性化合物100重量部に対し、通常、0.01~10重量部、好ましくは0.1~2重量部である。
 また、本発明の重合性組成物には、さらに、後述の他の共重合可能な単量体、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等の、その他の添加剤を配合してもよい。本発明の重合性組成物において、その他の添加剤の配合割合は、重合性化合物100重量部に対し、通常、各々0.1~20重量部である。
 本発明の重合性組成物は、通常、本発明の重合性化合物、重合開始剤、及び所望によりその他の添加剤の所定量を適当な有機溶媒に混合・溶解させることにより、調製することができる。
 用いる有機溶媒としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類;酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;1,4-ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,3-ジオキソラン等のエーテル類;等が挙げられる。
 以上のようにして得られる重合性組成物は、後述するように、本発明の高分子や光学異方体の製造原料として有用である。
3)高分子
 本発明の第3は、(1)本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子、又は、(2)本発明の重合性組成物を重合して得られる高分子である。
 ここで、「重合」とは、通常の重合反応のほか、架橋反応を含む広い意味での化学反応を意味するものとする。
(1)本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子
 本発明の重合性化合物を重合して得られる高分子としては、本発明の重合性化合物の単独重合体、本発明の重合性化合物の2種以上からなる共重合体、又は、本発明の重合性化合物と他の共重合可能な単量体との共重合体が挙げられる。
 前記他の共重合可能な単量体としては、特に限定されるものではなく、例えば、4-(2-メタクリロイルオキシエチルオキシ)安息香酸-4’-メトキシフェニル、4-(6-メタクリロイルオキシヘキシルオキシ)安息香酸ビフェニル、4-(2-アクリロイルオキシエチルオキシ)安息香酸-4’-シアノビフェニル、4-(2-メタクリロリルオキシエチルオキシ)安息香酸-4’-シアノビフェニル、4-(2-メタクリロリルオキシエチルオキシ)安息香酸-3’,4’-ジフルオロフェニル、4-(2-メタクリロイルオキシエチルオキシ)安息香酸ナフチル、4-アクリロイルオキシ-4’-デシルビフェニル、4-アクリロイルオキシ-4’-シアノビフェニル、4-(2-アクリロイルオキシエチルオキシ)-4’-シアノビフェニル、4-(2-メタクリロイルオキシエチルオキシ)-4’-メトキシビフェニル、4-(2-メタクリロイルオキシエチルオキシ)-4’-(4”-フルオロベンジルオキシ)-ビフェニル、4-アクリロイルオキシ-4’-プロピルシクロヘキシルフェニル、4-メタクリロイル-4’-ブチルビシクロヘキシル、4-アクリロイル-4’-アミルトラン、4-アクリロイル-4’-(3,4-ジフルオロフェニル)ビシクロヘキシル、4-(2-アクリロイルオキシエチル)安息香酸(4-アミルフェニル)、4-(2-アクリロイルオキシエチル)安息香酸(4-(4’-プロピルシクロヘキシル)フェニル)等が挙げられる。
 市販品としては、LC-242(BASF社製)等を用いることができる。また、特開2007-002208号公報、特開2009-173893号公報、特開2009-274984号公報、特開2010-030979号公報、特開2010-031223号公報、特開2011-006360号公報等に開示されている化合物等も用いることができる。
 また、上記に例示した単量体以外にも、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基等の重合性不飽和基を複数個有する多官能単量体を使用することができる。
 このような多官能単量体としては、1,2-ブタンジオールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、ネオペンタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート等のアルカンジオールジアクリレート類;1,2-ブタンジオールジメタクリレート、1,3-ブタンジオールジメタクリレート、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンタンジオールジメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタリレート等のアルカンジオールジメタクリレート類;エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート等のポリエチレングリコールジアクリレート類;プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート等のポリプロピレングリコールジアクリレート類;エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート等のポリエチレングリコールジメタクリレート類;プロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート等のポリプロピレングリコールジメタクリレート類;エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル等のポリエチレングリコールジビニルエーテル類;エチレングリコールジアリルエーテル、ジエチレングリコールジアリルエーテル、トリエチレングリコールジアリルエーテル、テトラエチレングリコールジアリルエーテル等のポリエチレングリコールジアリルエーテル類;ビスフェノールFエトキシレートジアクリレート;ビスフェノールFエトキシレートジメタクリレート;ビスフェノールAエトキシレートジアクリレート;ビスフェノールAエトキシレートジメタクリレート;トリメチロールプロパントリアクリレート;トリメチロールプロパントリメタクリレート;トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート;トリメチロールプロパンエトキシレートトリメタクリレート;トリメチロールプロパンプロポキシレートトリアクリレート;トリメチロールプロパンプロポキシレートトリメタクリレート;イソシアヌル酸エトキシレートトリアクリレート;グリセロールエトキシレートトリアクリレート;グリセロールプロポキシレートトリアクリレート;ペンタエリスリトールエトキシレートテトラアクリレート;ジトリメチロールプロパンエトキリレートテトラアクリレート;ジペンタエリスリトールエトキシレートヘキサアクリレート等が挙げられる。
 本発明の重合性化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等の(共)重合は、適当な重合開始剤の存在下に行うことができる。重合開始剤の使用割合としては、前記重合性組成物中の重合性化合物に対する配合割合と同様でよい。
 本発明の高分子が、本発明の重合性化合物と、その他の共重合可能な単量体との共重合体である場合、本発明の重合性化合物単位の含有量は、特に限定されるものではないが、全構成単位に対して50重量%以上が好ましく、70重量%以上がより好ましい。かかる範囲にあれば、高分子のガラス転移温度(Tg)が高く、高い膜硬度が得られるため好ましい。
 前記(1)の高分子は、より具体的には、(A)適当な重合開始剤の存在下、前記重合性化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等との(共)重合を適当な有機溶媒中で重合反応を行った後、目的とする高分子を単離し、得られる高分子を適当な有機溶媒に溶解して溶液を調製し、この溶液を適当な基板上に塗工して得られた塗膜を乾燥後、所望により加熱することにより得る方法、(B)前記重合性化合物、及び必要に応じて用いられる他の共重合可能な単量体等を重合開始剤と共に有機溶媒に溶解した溶液を、公知の塗工法により基板上に塗布した後、脱溶媒し、次いで加熱又は活性エネルギー線を照射することにより重合反応を行う方法等により好適に製造することができる。
 用いる重合開始剤としては、前記重合性組成物の成分として例示したのと同様のものが挙げられる。
 前記(A)の重合反応に用いる有機溶媒としては、不活性なものであれば、特に制限されない。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素;シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等のケトン類;酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類;等が挙げられる。これらの中でも、取り扱い性に優れる観点から、沸点が60~250℃のものが好ましく、60~150℃のものがより好ましい。
 (A)の方法における、高分子を溶解するための有機溶媒、及び、(B)の方法で用いる有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤;ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤;テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、1,3-ジオキソラン等のエーテル系溶剤;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、N-メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶剤;等が挙げられる。これらの中でも、取り扱いが容易な点から、溶媒の沸点が60~200℃のものが好ましい。これらの溶剤は単独でも用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 用いる基板としては、有機、無機を問わず、公知慣用の材質のものを使用することができる。例えば、有機材料としては、ポリシクロオレフィン〔例えば、ゼオネックス、ゼオノア(登録商標;日本ゼオン社製)、アートン(登録商標;JSR社製)、及びアペル(登録商標;三井化学社製)〕、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、セルロース、三酢酸セルロース、ポリエーテルスルホン等が挙げられ、無機材料としてはシリコン、ガラス、方解石等が挙げられ、中でも有機材料が好ましい。
 また、用いる基板は、単層のものであっても、積層体であってもよい。
 基板としては、有機材料が好ましく、この有機材料をフィルムとした樹脂フィルムが更に好ましい。
 (A)の方法において高分子の溶液を基板に塗布する方法、(B)の方法において重合反応用の溶液を基板に塗布する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばカーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法等が挙げられる。
(2)本発明の重合性組成物を重合して得られる高分子
 本発明の重合性組成物を重合することにより、本発明の高分子を容易に得ることができる。本発明においては、重合反応をより効率的に行う観点から、前記したような重合開始剤、特に光重合開始剤を含む重合性組成物を用いるのが好ましい。
 具体的には、前記(B)の方法、即ち、本発明の重合性組成物を、基板上に塗布し、重合させることによって、本発明の高分子を得ることが好適である。用いる基板としては、後述する光学異方体の作製に用いられる基板等が挙げられる。
 本発明の重合性組成物を基板上に塗布する方法としては、バーコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ダイコーティング、キャップコーティング、ディッピング法等の公知慣用のコーティング法が挙げられる。このとき、塗工性を高めるために、本発明の重合性組成物に公知慣用の有機溶媒を添加してもよい。この場合は、本発明の重合性組成物を基板上に塗布後、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等で有機溶媒を除去するのが好ましい。
 本発明の重合性化合物又は重合性組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。
 照射時の温度は、30℃以下とすることが好ましい。光照射強度は、通常、1W/m~10kW/mの範囲、好ましくは5W/m~2kW/mの範囲である。
 本発明の重合性化合物又は重合性組成物を重合させて得られる高分子は、基板から剥離して単体で使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学フィルムの有機材料等として使用することもできる。
 以上のようにして得られる本発明の高分子の数平均分子量は、好ましくは500~500,000、更に好ましくは5,000~300,000である。該数平均分子量がかかる範囲にあれば、高い膜硬度が得られ、取り扱い性にも優れるため望ましい。高分子の数平均分子量は、単分散のポリスチレンを標準試料とし、テトラヒドロフランを溶離液としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定することができる。
 本発明の高分子は、架橋点が分子内で均一に存在すると推定され、架橋効率が高く、硬度に優れている。
 本発明の高分子によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで得ることができる。
4)光学異方体
 本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とする。
 本発明の光学異方体は、例えば、基板上に配向膜を形成し、該配向膜上に、さらに、本発明の高分子からなる液晶層を形成することによって、得ることができる。
 配向膜は、有機半導体化合物を面内で一方向に配向規制するために基板の表面に形成される。
 配向膜は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリマーを含有する溶液(配向膜用組成物)を基板上に膜状に塗布し、乾燥させ、そして一方向にラビング処理等することで、得ることができる。
 配向膜の厚さは0.001~5μmであることが好ましく、0.001~1μmであることがさらに好ましい。
 本発明においては、配向膜あるいは基板にラビング処理を施すことができる。ラビング処理の方法は、特に制限されないが、例えばナイロン等の合成繊維、木綿等の天然繊維からなる布やフェルトを巻き付けたロールで一定方向に配向膜を擦る方法が挙げられる。ラビング処理した時に発生する微粉末(異物)を除去して配向膜の表面を清浄な状態とするために、ラビング処理後に配向膜をイソプロピルアルコール等によって洗浄することが好ましい。
 また、ラビング処理する方法以外に、配向膜の表面に偏光紫外線を照射する方法によっても、面内で一方向に配向規制する機能を持たせることができる。
 本発明において、配向膜上に本発明の高分子からなる液晶層を形成する方法としては、前記本発明の高分子の項で記載したのと同様の方法が挙げられる。
 本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料としているので、低コストで製造可能で、反射輝度が低く、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面でも優れたものである。
 本発明の光学異方体としては、位相差板、液晶表示素子用配向膜、偏光板、視野角拡大板、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等が挙げられる。
5)カルボニル化合物
 本発明のカルボニル化合物は、前記式(4)で示される化合物である。
 前述の通り、本発明のカルボニル化合物(4)は、本発明の重合性化合物(I)の製造中間体として好適に使用することができる。カルボニル化合物(4)の製造方法の詳細は、前記1)の重合性化合物の項で説明したとおりである。
6)重合性化合物の製造方法、及び重合性化合物の製造原料として使用する方法
 本発明の、「重合性化合物の製造方法」は、本発明のカルボニル化合物(4)と、前記式(3)で表されるヒドラジン化合物とを反応させることを特徴とする、本発明の重合性化合物(I)の製造方法である。製造方法の詳細は、前記1)重合性化合物の項で説明したとおりである。
 本発明の重合性化合物の製造方法によれば、本発明の重合性化合物(I)を、効率よく簡便に製造することができる。
 本発明の、「重合性化合物の製造原料として使用する方法」は、本発明のカルボニル化合物(4)を重合性化合物(I)の製造原料として使用する方法である。詳しくは、1)重合性化合物の項で説明したとおりである。
 本発明のカルボニル化合物(4)を製造原料として使用することにより、本発明の重合性化合物(I)を高収率で簡便に製造することができる。
 以下、本発明を、実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例により何ら制限されるものではない。
(実施例1)化合物1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
ステップ1:中間体Aの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸 17.98g(104.42mmol)とテトラヒドロフラン(THF)180mlを加えた。そこへ、メタンスルホニルクロリド 6.58g(57.43mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を20℃とした。次いで、トリエチルアミン 6.34g(62.65mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら、10分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃で2時間さらに攪拌した。
 得られた反応液に、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 0.64g(5.22mmol)、及び、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)13.80g(52.21mmol)を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とした。そこへ、トリエチルアミン 6.34g(62.65mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら、10分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃でさらに2時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水1000mlと飽和食塩水100mlを加え、酢酸エチル400mlで2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を蒸発除去した後、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:9(容積比、以下にて同じ。))により精製することで、中間体Aを白色固体として14.11g得た(収率:65%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):12.12(s,1H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.92(d,2H,J=9.0Hz)、6.32(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.17(dd,1H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.93(dd,1H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.11(t,2H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、2.48-2.56(m,1H)、2.18-2.26(m,1H)、2.04-2.10(m,2H)、1.93-2.00(m,2H)、1.59-1.75(m,4H)、1.35-1.52(m,8H)
ステップ2:中間体Bの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体A 4.00g(9.56mmol)及びTHF60mlを入れ、均一な溶液とした。そこへ、メタンスルホニルクロリド 1.12g(9.78mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を20℃とした。次いで、トリエチルアミン 1.01g(9.99mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら、5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃でさらに2時間攪拌した。得られた反応液に、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 0.11g(0.87mmol)、及び、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド 0.60g(4.35mmol)を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とした。そこへ、トリエチルアミン 1.10g(10.87mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら、5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃で2時間さらに攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水400mlと飽和食塩水50mlを加え、酢酸エチル750mlで2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を蒸発除去した後、得られた残留物をTHF100mlに溶解させた。その溶液にメタノール500mlを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。得られた結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、中間体Bを白色固体として2.51g得た(収率:62%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):10.02(s,1H)、7.67(d,1H,J=3.0Hz)、7.55(dd,1H,J=3.0Hz,8.5Hz)、7.38(d,1H,J=8.5Hz)、6.99-7.04(m,4H)、6.91-6.96(m,4H)、6.32(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.17(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.93(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.11(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.56-2.81(m,4H)、2.10-2.26(m,8H)、1.50-1.76(m,16H)、1.33-1.49(m,8H)
ステップ3:化合物1の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ2で合成した中間体B 2.30g(2.45mmol)及びTHF25mlを入れ、均一な溶液とし、そこへ、濃塩酸 0.49ml(0.25mmol)を加えた。この溶液に、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 0.40g(2.45mmol)のTHF5ml溶液を15分かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃にてさらに1時間撹拌した。反応終了後、反応液をメタノール400mlに投入して析出した固体をろ取した。ろ取した固体を真空乾燥機で乾燥させ、化合物1を淡黄色固体として2.4g得た(収率:90%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):12.63(s,1H)、8.10(s,1H)、7.80(d,1H,J=5.0Hz)、7.60(d,1H,J=3.0Hz)、7.48(s,1H)、7.21-7.35(m,3H)、7.14(t,1H,J=7.5Hz)、6.98-7.05(m,4H)、6.91-6.97(m,4H)、6.32(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.18(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.93(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.12(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.56-2.83(m,4H)、2.11-2.30(m,8H)、1.52-1.80(m,16H)、1.33-1.49(m,8H)
(実施例2)化合物2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
ステップ1:中間体Cの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、3-アミノ-2-クロロピリジン9.00g(70.01mmol)及び濃塩酸90mlを入れ、均一な溶液とした。そこへ、チオシアン酸カリウム10.21g(105.01mmol)を加え、全容を100℃で4時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、水90mlを加えた。反応混合物を、氷冷下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液300mlに投入し、さらに粉末の炭酸ナトリウムを投入して水溶液のpHを8に調整し、結晶を析出させた。析出した固体をろ過し、蒸留水で洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、中間体Cを淡黄色固体として8.74g得た(収率:83%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):8.11(dd,1H,J=1.5Hz,5.0Hz)、7.82(s,2H)、7.63(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.25(dd,1H,J=5.0Hz,8.0Hz)
ステップ2:中間体Dの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 温度計を備えた3つ口反応器に、ヒドラジン1水和物 182.0g(3635mmol)を入れ、窒素気流中で40℃に加熱した。そこへ、1-ブロモヘキサン60.0g(363.5mmol)とエタノール60mlを混合した溶液を、滴下漏斗を用いて4時間かけて滴下した。滴下終了後、全容を40℃にて1時間攪拌した。反応液を25℃まで冷却した後、蒸留水200mlを加え、クロロホルム300mlで2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液を濃縮し、濃縮物を減圧蒸留することで、中間体Dを無色透明液体として10.44g(真空度:3.0kPa、沸点:90℃)得た(収率:25%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):3.02(s,3H)、2.76(t,2H,J=7.0Hz)、1.44-1.53(m,2H)、1.24-1.37(m,6H)、0.89(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ3:中間体Eの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体C 2.70g(17.86mmol)、前記ステップ2で合成した中間体D 10.38g(89.29mmol)、濃塩酸1.49ml(17.86mmol)、及び、エチレングリコール25mlを入れ、均一な溶液とし、この溶液を140℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、蒸留水300mlと飽和食塩水50mlを加え、酢酸エチル500mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液を濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:9)により精製することで、中間体Eを淡黄色固体として1.33g得た(収率:30%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):8.07(dd,1H,J=1.5Hz,5.0Hz)、7.62(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.22(dd,1H,J=5.0Hz,8.0Hz)、5.46(s,2H)、3.70(t,2H,J=7.0Hz)、1.64-1.73(m,2H)、1.22-1.35(m,6H)、0.86(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ4:化合物2の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1のステップ2で合成した中間体B 1.20g(1.28mmol)及びTHF30mlを入れ、均一な溶液とした。そこへ、1N塩酸0.26ml(0.26mmol)を加え、前記合成ステップ3で合成した中間体E 0.48g(1.92mmol)のTHF5ml溶液を15分かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃にてさらに5時間撹拌した。反応液に、メタノール250mlに投入して、析出した固体をろ取した。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=97:3)により精製することで、化合物2を淡黄色固体として1.25g得た(収率:84%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):8.30(dd,1H,J=1.5Hz,5.0Hz)、7.96(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.89(s,1H)、7.63(d,1H,J=3.0Hz)、7.39(dd,1H,J=5.0Hz,8.0Hz)、7.32(d,1H,J=8.5Hz)、7.27(dd,1H,J=3.0Hz,8.5Hz)、6.98-7.04(m,4H)、6.91-6.97(m,4H)、6.32(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.17(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.93(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.35(t,2H,J=7.0Hz)、4.11(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.56-2.84(m,4H)、2.11-2.30(m,8H)、1.52-1.75(m,18H)、1.22-1.49(m,14H)、0.85(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例3)化合物3の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
ステップ1:中間体Fの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、1,4-ジヒドロキシナフタレン20.0g(125mmol)、及びN,N-ジメチルホルムアミド(DMF)200mlを入れ、均一な溶液とした。そこへ、炭酸カリウム51.8g(375mmol)、ヨウ化メチル19.4ml(312mmol)を加え、全容を25℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応液をセライトろ過した。ろ液を水500mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をn-ヘキサン(125ml)より再結晶することで、中間体Fを無色結晶として20.3g得た(収率:86.3%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.19-8.22(m,2H)、7.52-7.48(m,2H)、6.69(s,2H)、3.95(s,6H)
ステップ2:中間体Gの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体F 15.0g(79.7mmol)、及びジクロロメタン100mlを入れ、均一な溶液とし、0℃に冷却した。この溶液に、四塩化チタン(1.0Mジクロロメタン溶液)91.7ml(91.7mmol)、及びジクロロメチルメチルエーテル8.11ml(91.7mmol)を滴下し、0℃で1時間撹拌した。反応終了後、反応液を氷水300mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をn-ヘキサン260mlより再結晶することで、中間体Gを無色結晶として16.6g得た(収率:96.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):10.58(s,1H)、8.28-8.31(m,1H)、8.20-8.22(m,1H)、7.61-7.67(m,2H)、7.13(s,1H)、4.10(s,3H)、4.03(s,3H)
ステップ3:中間体Hの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ2で合成した中間体G 16.6g(76.8mmol)、及びジクロロメタン100mlを入れ、均一な溶液とし、-40℃に冷却した。そこへ、三臭化ほう素(17%ジクロロメタン溶液)230ml(230mmol)を滴下した後、25℃に昇温し、全容を2時間撹拌した。反応終了後、反応液を氷水500mlに投入し、ジクロロメタン500mlで抽出した。ジクロロメタン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液からジクロロメタンを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=70:30)により精製して、中間体Hを黄色固体として12.7g得た(収率:87.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):12.31(s,1H)、9.88(s,1H)、8.45(d,1H,J=8.5Hz)、8.16(d,1H,J=8.5Hz)、7.72(dd,1H,J=7.8Hz,8.5Hz)、7.61(dd,1H,J=7.8Hz,8.5Hz)、6.83(s,1H)、5.17(s,1H)
ステップ4:中間体Iの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、実施例1のステップ1で合成した中間体A 3.19g(7.61mmol)、及びTHF50mlを入れ、均一な溶液とした。そこへ、メタンスルホニルクロリド 0.91g(7.93mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を20℃とした。そして、トリエチルアミン0.80g(7.93mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら、5分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃で2時間撹拌した。得られた反応混合物に、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 0.08g(0.63mmol)、ステップ3で合成した中間体H 0.60g(3.17mmol)を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とした。そこへ、トリエチルアミン0.80g(7.93mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら、5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃でさらに2時間攪拌した。反応液に蒸留水150mlと飽和食塩水50mlを加え、酢酸エチル300mlで2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターでろ液を濃縮し、得られた固体をTHF100mlに溶解させた。その溶液にメタノール500mlを加えて結晶を析出させ、析出結晶をろ取した。得られた結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、中間体Iを灰白色固体として1.82g得た(収率:58%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):10.22(s,1H)、8.11(d,1H,J=8.5Hz)、7.99(d,1H,J=8.5Hz)、7.76-7.91(m,2H)、7.71(s,1H)、7.01-7.07(m,4H)、6.91-6.98(m,4H)、6.32(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.18(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.94(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.12(t,4H,J=6.5Hz)、3.96(t,4H,J=6.5Hz)、3.02-3.12(m,1H)、2.86-2.97(m,1H)、2.60-2.74(m,2H)、2.28-2.43(m,4H)、2.14-2.27(m,4H)、1.54-1.86(m,16H)、1.30-1.53(m,8H)
ステップ5:化合物3の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、ステップ4で合成した中間体I 1.67g(1.69mmol)及びTHF30mlを入れ、均一な溶液とした。そこへ、1N塩酸 0.34ml(0.34mmol)を加え、実施例2のステップ3で合成した中間体E 0.85g(3.38mmol)のTHF5ml溶液を30分かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃にて5時間撹拌した。反応液をメタノール250mlに投入し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=97:3)により精製することで、化合物3を淡黄色固体として1.61g得た(収率:78%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):8.31(dd,1H,J=1.5Hz,5.0Hz)、7.94-7.99(m,2H)、7.88-7.94(m,2H)、7.78(s,1H)、7.69-7.76(m,2H)、7.40(dd,1H,J=5.0Hz,8.0Hz)、6.99-7.08(m,4H)、6.90-6.98(m,4H)、6.32(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.18(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.94(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.40(t,2H,J=7.0Hz)、4.12(t,4H,J=6.5Hz)、3.96(t,2H,J=6.5Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、2.89-3.12(m,2H)、2.61-2.75(m,2H)、2.30-2.42(m,4H)、2.15-2.28(m,4H)、1.55-1.85(m,18H)、1.19-1.52(m,14H)、0.86(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例4)化合物4の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
ステップ1:中間体Jの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール2.00g(12.1mmol)、及びDMF20mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、炭酸カリウム8.36g(60.5mmol)、1-ヨードヘキサン3.08g(14.5mmol)を加え、全容を50℃で7時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムを濾別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=75:25)により精製し、中間体Jを白色固体として2.10g得た(収率:69.6%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.53(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.27(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.06(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、4.22(s,2H)、3.74(t,2H,J=7.5Hz)、1.69-1.76(m,2H)、1.29-1.42(m,6H)、0.89(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ2:化合物4の合成
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体J 697mg(2.37mmol)、実施例1で合成した中間体B 2.00g(2.13mmol)、エタノール3ml及びTHF20mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸 55.1mg(0.24mmol)を加え、全容を40℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10)により精製し、化合物4を白色固体として2.24g得た(収率:86.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):7.75(d,1H,J=2.5Hz)、7.67-7.70(m,3H)、7.34(ddd,1H,J=1.0Hz,7.0Hz,7.5Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.12(d,1H,J=9.0Hz)、7.10(dd,1H,J=2.5Hz,9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.30(t,2H,J=8.0Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.58-2.70(m,4H)、2.31-2.35(m,8H)、1.66-1.82(m,18H)、1.31-1.54(m,14H)、0.90(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例5)化合物5の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
ステップ1:中間体Kの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 温度計を備えた4つ口反応器に,窒素気流中、2-(メチルチオ)ナフト[1,2d]チアゾール1.50g(6.48mmol)、及び塩化メチレン15mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、3-クロロ過安息香酸(約30%含水) 3.52g(14.3mmol)を0℃で加え、全容を25℃で8時間撹拌した。反応終了後、反応液を飽和重曹水100mlに投入し、塩化メチレン200mlで抽出した。塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から塩化メチレンを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10)により精製し、中間体Kを白色固体として1.49g得た(収率:74.6%)。
 目的物の構造はH-NMR、及び、13C-NMRで同定した。
H-NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):8.84(d,1H,J=7.6Hz)、8.00(d,1H,J=8.0Hz)、7.99(d,1H,J=9.2Hz)、7.95(d,1H,J=9.2Hz)、7.75(dd,1H,J=7.6Hz、8.0Hz)、7.68(dd,1H,J=7.6Hz,7.6Hz)、3.48(s,3H)
13C-NMR(100MHz,CDCl,TMS,δppm):164.6、149.7、134.7、132.3、129.5、129.2、128.4、128.1、127.5、124.0、118.7、42.8
ステップ2:中間体Lの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体K 1.49g(4.83mmol)、ヒドラジン1水和物 1.2ml(24.2mmol)、1-プロパノール10ml、及びTHF5mlを入れ、均一な溶液とし、全容を80℃で4時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、水100mlを加え、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を水で洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として中間体Lを993mg得た(収率:95.5%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):9.20(s,1H)、8.34(d,1H,J=8.0Hz)、7.90(d,1H,J=8.0Hz)、7.83(d,1H,J=8.5Hz)、7.53(d,1H,J=8.5Hz)、7.51(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.46(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、5.12(s,2H)
ステップ3:中間体Mの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ2で合成した中間体L 993g(4.61mmol)、及びDMF10mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、炭酸セシウム 3.00g(9.22mmol)、及び1-ヨードヘキサン 1.17g(5.53mmol)を加え、全容を25℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=90:10)により精製し、中間体Mを白色固体として545mg得た(収率:39.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.57(d,1H,J=8.0Hz)、7.85(d,1H,J=8.0Hz)、7.69(d,1H,J=8.5Hz)、7.532(d,1H,J=8.5Hz)、7.531(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.46(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、4.27(s,2H)、3.83(t,2H,J=7.5Hz)、1.76(tt,2H,J=7.5Hz,7.5Hz)、1.34-1.45(m,6H)、0.90(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ4:中間体Nの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド 545mg(1.82mmol)、前記ステップ3で合成した中間体M 1.40g(1.40mmol)、及び1-プロパノール10mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸 42.3mg(0.18mmol)を加え、全容を25℃で4時間撹拌した。反応終了後、水100mlを加え、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を水で洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、黄色固体として中間体Nを588mg得た(収率:76.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):9.42(s,1H)、8.99(s,1H)、8.51(d,1H,J=8.0Hz)、8.19(s,1H)、7.98(d,1H,J=8.0Hz)、7.96(d,1H,J=8.5Hz)、7.70(d,1H,J=8.5Hz)、7.61(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.54(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.22(d,1H,J=3.0Hz)、6.78(d,1H,J=9.0Hz)、6.71(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz)、4.47(t,2H,J=7.0Hz)、1.75(tt,2H,J=7.0Hz,7.0Hz)、1.38-1.46(m,4H)、1.26-1.33(m,2H)、0.86(t,3H,J=7.5Hz)
ステップ5:化合物5の合成
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ4で合成した中間体N 588mg(1.40mmol)、実施例1で合成した中間体A 1.47g(3.50mmol)、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 85.5mg(0.70mmol)、及びN-メチルピロリドン15mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(WSC)805mg(4.20mmol)を加え、全容を25℃にて5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10)により精製し、化合物5を白色固体として1.12g得た(収率:65.5%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.63(d,1H,J=8.0Hz)、7.89(d,1H,J=8.0Hz)、7.78(d,1H,J=2.5Hz)、7.76(d,1H,J=8.5Hz)、7.63(d,1H,J=8.5Hz)、7.58(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.50(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.13(d,1H,J=9.0Hz)、7.10(dd,1H、J=2.5Hz,9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H、J=1.5Hz,17.0Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.0Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.42(t,2H,J=7.5Hz)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.0Hz)、3.47(d,1H,J=4.5Hz)、2.57-2.71(m,4H)、2.30-2.35(m,8H)、1.76-1.82(m,6H)、1.66-1.74(m,12H)、1.32-1.54(m,14H)、0.92(t,3H,J=7.5Hz)
(実施例6)化合物6の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
ステップ1:中間体Oの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2-アミノ3-クロロピラジン 3.46g(26.7mmol)、エチルキサントゲン酸カリウム 8.56g(53.4mmol)、及びDMF30mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液を7時間加熱還流した後、反応液を0℃まで冷却し、ヨウ化メチル 3.3ml(53.4mmol)を加え、全容を0℃で1時間撹拌した。反応終了後、反応液を水300mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10)により精製し、淡黄色固体として中間体Oを4.38g得た(収率:89.5%)。
 目的物の構造は、H-NMR、及び、13C-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.55(d,1H,J=2.5Hz)、8.37(d,1H,J=2.5Hz)、2.88(s,3H)
 13C-NMR(125MHz,CDCl,TMS,δppm):175.2、158.0、153.3、141.7、139.4、15.4
ステップ2:中間体Pの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体O 1.50g(8.19mmol)、ヒドラジン1水和物 4.0ml(81.9mmol)、及びエタノール10mlを入れ、均一な溶液とし、全容を25℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、析出した固体を濾取した。濾取した固体を水で洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、中間体Pを黄色固体として1.15g得た(収率:84.0%)。
 目的物の構造はH-NMR、及び、13C-NMRで同定した。
 H-NMR(400MHz,DMSO-d,TMS,δppm):9.99(brs,1H)、8.17(d,1H,J=2.6Hz)、7.97(d,1H,J=2.6Hz)、5.30(s,2H)
 13C-NMR(100MHz,DMSO-d,TMS,δppm):175.5、160.4、150.8、140.7、135.3
ステップ3:化合物6の合成
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ2で合成した中間体P 390mg(2.34mmol)、実施例1で合成した中間体B 2.08g(2.22mmol)、エタノール3ml、及びTHF15mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸54.4mg(0.23mmol)を加え、全容を40℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=95:5)により精製し、化合物6を淡黄色固体として1.82g得た(収率:75.3%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):13.00(brs,1H)、8.84(s,1H)、8.33(d,1H,J=2.5Hz)、8.22(d,1H,J=2.5Hz)、7.71(d,1H,J=2.5Hz)、7.19(dd,1H,J=2.5Hz,9.0Hz)、7.14(d,1H,J=9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.96(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.86(d,2H,J=9.0Hz)、6.403(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.398(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.822(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.817(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,2H,J=7.0Hz)、4.17(t,2H,J=7.0Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、3.93(t,2H,J=6.5Hz)、2.59-2.66(m,3H)、2.46-2.52(m,1H)、2.17-2.34(m,8H)、1.41-1.82(m,24H)
(実施例7)化合物7の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
ステップ1:中間体Qの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、実施例6のステップ2で合成した中間体P 4.17g(24.9mmol)、及びDMF30mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、炭酸セシウム 16.2g(49.8mmol)、及び1-ヨードヘキサン4.4ml(29.9mmol)を加え、全容を25℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=60:40)により精製し、中間体Qを白色固体として1.69g得た(収率:27.0%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):8.22(d,1H,J=3.0Hz)、8.02(d,1H,J=3.0Hz)、5.65(s,2H)、3.78(t,2H,J=7.0Hz)、1.71(tt,2H,J=7.0Hz,7.0Hz)、1.26-1.32(m,6H)、0.86(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ2:化合物7の合成
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体Q 338mg(1.34mmol)、実施例1で合成した中間体B 1.20g(1.28mmol)、エタノール3ml,及びTHF10mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸15.6mg(0.13mmol)を加え、全容を40℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムを濾別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10)により精製し、化合物7を白色固体として1.21g得た(収率:79.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.39(d,1H,J=2.5Hz)、8.20(d,1H,J=2.5Hz)、7.84(s,1H)、7.75(d,1H,J=2.0Hz)、7.14-7.18(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.36(t,2H,J=7.5Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.56-2.72(m,4H)、2.25-2.36(m,8H)、1.69-1.83(m,18H)、1.41-1.54(m,10H)、1.30-1.39(m,4H)、0.90(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例8)化合物8の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
ステップ1:中間体Rの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、4-アミノ-5-クロロ-2,6-ジメチルピリミジン 8.89g(56.4mmol)、及び、エチルキサントゲン酸カリウム 18.1g(113mmol)をDMF100mlに溶解させた。この溶液を8時間加熱還流した後、反応液を0℃まで冷却し、ヨウ化メチル 7.0ml(113mmol)を加え、0℃で1時間撹拌した。反応終了後、反応液を水500mlに投入し、酢酸エチル700mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=80:20)により精製し、淡黄色固体として中間体Rを6.88g得た(収率:57.7%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(400MHz,       CDCl,TMS,δppm):2.83(s,3H)、2.79(s,3H)、2.67(s,3H)
ステップ2:中間体Sの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体R 4.54g(21.5mmol)、ヒドラジン1水和物 10.0ml(215mmol)をエタノール80mlに溶解させ、この溶液を25℃で2時間撹拌した。反応終了後、反応液を水300mlに投入し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を水で洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として中間体Sを4.12g得た(収率:98.1%)。
 目的物の構造はH-NMR、及び、13C-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):10.08(s,1H)、5.36(s,2H)、2.48(s,3H)、2.45(s,3H)
13C-NMR(125MHz,DMSO-d,TMS,δppm):178.2、170.9、167.8、156.3、118.0、25.3、23.2
ステップ3:化合物8の合成
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、前記ステップ2で合成した中間体S 460mg(2.36mmol)及び、実施例1で合成した中間体B 2.00g(2.12mmol)を、エタノール3ml及びTHF20mlの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸54.8mg(0.24mmol)を加え、全容を40℃で3時間撹拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=90:10)により精製し、黄色固体として化合物8を1.02g得た(収率:43.1%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):13.51(brs,1H)、8.85(s,1H)、7.72(d,1H,J=2.5Hz)、7.18(dd,1H,J=2.5Hz,8.8Hz)、7.13(d,1H,J=8.8Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.95(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.87(d,2H,J=9.0Hz)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.14(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.11(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.83(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,2H,J=7.5Hz)、4.17(t,2H,J=7.0Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、3.93(t,2H,J=6.5Hz)、2.75(s,3H)、2.62(s,3H)、2.58-2.60(m,2H)、2.38-2.51(m,2H)、2.26-2.34(m,4H)、2.07-2.14(m,4H)、1.63-1.82(m,10H)、1.41-1.53(m,14H)
(合成例1)化合物Aの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
ステップ1:中間体αの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド 20g(144.8mmol)、4-(6-アクリロイル-ヘクス-1-イルオキシ)安息香酸(DKSH社製)105.8g(362.0mmol)、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 5.3g(43.4mmol)、及び、N-メチルピロリドン200mlを入れ、均一な溶液とした。そこに、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(WSC)83.3g(434.4mmol)を加え、全容を25℃にて12時間攪拌した。反応終了後、反応液を水1.5リットルに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1)により精製し、白色固体として中間体αを75g得た(収率:75.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):10.20(s,1H)、8.18-8.12(m,4H)、7.78(d,1H,J=2.8Hz)、7.52(dd,1H,J=2.8Hz,8.7Hz)、7.38(d,1H,J=8.7Hz)、7.00-6.96(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.4Hz,17.4Hz)、6.12(dd,2H,J=10.6Hz,17.4Hz)、5.82(dd,2H,J=1.4Hz,10.6Hz)、4.18(t,4H,J=6.4Hz)、4.08-4.04(m,4H)、1.88-1.81(m,4H)、1.76-1.69(m,4H)、1.58-1.42(m,8H)
ステップ2:化合物Aの合成
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、中間体α 10.5g(15.3mmol)及びTHF80mlを入れ、均一な溶液とした。そこに、2-ヒドラジノベンゾチアゾール3.0g(18.3mmol)を加えて溶解させた。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸18mg(0.08mmol)を加え、全容を25℃にて3時間攪拌した。反応終了後、反応液を10%の重曹水800mlに投入し、酢酸エチル100mlで2回抽出を行った。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=8:2)により精製し、化合物Aを淡黄色固体として8.0g得た(収率:62.7%)。
 目的物の構造はH-NMR、マススペクトルで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):12.30(br,1H)、8.19(s,1H)、8.17-8.12(m,4H)、7.76(d,1H,J=3.0Hz)、7.68(d,1H,J=7.5Hz)、7.45-7.39(m,3H)、7.28(t,1H,J=8.0Hz)、7.18-7.14(m,4H)、7.09(t,1H,J=8.0Hz)、6.33(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.18(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.944(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.941(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.14-4.10(m,8H)、1.80-1.75(m,4H)、1.69-1.63(m,4H)、1.53-1.38(m,8H)
LCMS(APCI)caled for C464710S:833[M];Found:833。
 実施例1~8で得られた化合物1~8、合成例1で得られた化合物A、及び、下記に示す比較例1で使用する参考例1の化合物1r(日本ゼオン社製、K35)、比較例2で使用する参考例2の化合物2r(BASF社製、LC242)につき、以下に示す方法で相転移温度を測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
〈相転移温度の測定1〉
 化合物1~8、化合物A、化合物1r及び2rをそれぞれ10mg計量し、固体状態のまま、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板(E.H.C.Co.,Ltd.製、商品名:配向処理ガラス基板 以下にて同じ。)2枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、40℃から200℃まで昇温した後、再び40℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏光光学顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE LV100POL型 以下にて同じ。)で観察した。但し、化合物4~8については、40℃から250℃の範囲で、化合物Aについては、50℃~200℃の範囲で相転移温度の測定を行った。
 測定した相転移温度を下記表1に示す。
 表1中、「C」はCrystal、「N」はNematic、「I」はIsotropicをそれぞれ表す。ここで、Crystalとは、試験化合物が固相にあることを、N
ematicとは、試験化合物がネマチック液晶相にあることを、Isotropicとは、試験化合物が等方性液体相にあることを、それぞれ示す(以下にて同じ。)。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000073
(実施例9、比較例1、2)
 実施例1で得た化合物1、参考例1の化合物1r、及び参考例2の化合物2rのそれぞれを1.0g、光重合開始剤A(ADEKA社製、アデカオプトマーN-1919、以下にて同じ。)を30mg、界面活性剤A(AGCセイミケミカル社製、KH-40、以下にて同じ。)の1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物1、1r、及び2rをそれぞれ得た。
(実施例10、11)
 実施例2、3で得た化合物2及び化合物3のそれぞれを1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン3.0g、ジメチルスルホキシド0.25gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物2及び3をそれぞれ得た。
(実施例12)
 実施例3で得た化合物3を0.5g、合成例1で合成した化合物Aを0.5g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物4を得た。
(実施例13)
 実施例3で得た化合物3を0.5g、化合物2rを0.5g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物5を得た。
(実施例14)
 実施例4で得た化合物4を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターで濾過し、重合性組成物6を得た。
(実施例15)
 実施例5で得た化合物5を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、クロロホルム2.9gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターで濾過し、重合性組成物7を得た。
(実施例16)
 実施例5で得た化合物5を0.5g、化合物Aを0.5g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.2g、クロロホルム1.7gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターで濾過し、重合性組成物8を得た。
(実施例17)
 実施例6で得た化合物6を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液200mgを、クロロホルム5.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターで濾過し、重合性組成物9を得た。
(実施例18)
 実施例6で得た化合物6を0.2g、化合物Aを0.8g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、クロロホルム3.7g、に溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターで濾過し、重合性組成物10を得た。
(実施例19)
 実施例7で得た化合物7を0.5g、化合物Aを0.5g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.2g、に溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターで濾過し、重合性組成物11を得た。
(実施例20)
 実施例7で得た化合物7を0.2g、化合物Aを0.8g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.2g、に溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターで濾過し、重合性組成物12を得た。
(実施例21)
 実施例8で得た化合物8を0.5g、化合物Aを0.5g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、クロロホルム8.0g、に溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターで濾過し、重合性組成物13を得た。
 得られた重合性組成物1~13、1r及び2rを、下記の方法にて重合させて高分子を得た。得られた高分子のそれぞれについて、位相差の測定と波長分散の評価を行った。
〈位相差の測定と波長分散の評価I〉
(i)重合性組成物による液晶層の形成1
 ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板(E.H.C.Co.,Ltd.製、商品名:配向処理ガラス基板、以下にて同じ。)に、重合性組成物1~8、10~12、1r及び2rを、♯4のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表2に示す温度で1分間乾燥した後、表2に示す温度で1分間配向処理し、液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から2000mJ/cmの紫外線を表2に示す温度下にて照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。
(ii)重合性組成物による液晶層の形成2
 ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板に、重合性組成物9及び重合性組成物13を♯6のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表2に示す温度で1分間乾燥した後、表2に示す温度で1分間配向処理し、液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から2000mJ/cmの紫外線を表2に示す温度下にて照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。
(iii)位相差の測定
 得られた試料につき、400nmから800nm間の位相差を、エリプソメーター(J.A.Woollam社製 M2000U型)を用いて測定した。
(iv)波長分散の評価
 測定した位相差を用いて以下のように算出されるα、β値から波長分散を評価した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000074
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000075
 広帯域性を示す理想的な波長分散性、即ち逆波長分散性を示す場合、αは1より小となり、βは1より大となる。フラットな波長分散を有している場合、αとβは同程度の値となる。一般的な通常分散を有している場合、αは1より大となり、βは1より小となる。
 即ち、αとβが同程度の値となるフラットな波長分散性が好ましく、αが1より小となり、βが1より大となる逆波長分散性が特に好ましい。
 重合して得られた液晶性高分子膜の膜厚(μm)、波長548.5nmにおける位相差(Re)、α、βの値を、下記表2にまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000076
 表2より、本発明に係る化合物1~8を用いて得られた実施例9~21の高分子は、光学異方体であることが分かる。また、得られた光学異方体のαは1より小となり、βは1より大となり、広帯域性を示す理想的な波長分散性を示した。
(実施例22)化合物9の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
ステップ1:中間体Tの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-クロロベンゾチアゾール3.00g(17.69mmol)とメチルヒドラジン3.26g(70.74mmol)をメタノール10mlに溶解させ、この溶液を1時間還流した。反応終了後、反応液を25℃まで冷却して、蒸留水300ml中に投入した。析出した結晶をろ過し、蒸留水で洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として中間体Tを3.01g、収率95%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.66(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.36(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.20(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、6.99(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.40(s,2H)、3.31(s,3H)
ステップ2:化合物9の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B:0.70g(0.75mmol)をTHF15mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.15ml(0.15mmol)と前記ステップ1で合成した中間体T 0.27g(1.49mmol)を加え、全容を40℃で10時間撹拌した。その後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=98:2)により精製することで、淡黄色固体として化合物9を0.70g、収率85%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74(t,1H,J=1.5Hz)、7.66-7.71(m,2H)、7.64(s,1H)、7.35(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.18(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.11(d,2H,J=1.5Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、3.73(s,3H)、2.55-2.76(m,4H)、2.25-2.39(m,8H)、1.65-1.84(m,16H)、1.41-1.55(m,8H)
(実施例23)化合物10の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
ステップ1:中間体Uの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール3.00g(18.16mol)をDMF70mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム11.83g(3 6.32mol)を加えて、0℃に冷却した。そこへ、ヨードエタン3.12g(19.97mmol)を10分間かけて滴下して、滴下終了後、全容を0℃で2時間撹拌し,さらに25℃で5時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水600mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:9)により精製することで、白色固体として中間体Uを1.48g、収率42%で得た。
 目的物の構造は、H-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.65(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.35(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.20(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、6.98(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.34(s,2H)、3.73(q、2H,J=7.0Hz)、1.20(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ2:化合物10の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 0.70g(0.75mmol)をTHF15mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.15ml(0.15mmol)と前記ステップ1で合成した中間体U 0.29g(1.49mmol)を加え、全容を40℃で10時間撹拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=98:2)により精製することで、淡黄色固体として化合物10を0.67g、収率81%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.75(dd,1H,J=1.5Hz,2.0Hz)、7.66-7.71(m,3H)、7.35(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.17(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.10-7.12(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.38(q、2H,J=7.0Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.55-2.76(m,4H)、2.26-2.40(m,8H)、1.65-1.84(m,16H)、1.41-1.55(m,8H)、1.34(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例24)化合物11の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
ステップ1:中間体Vの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール3.00g(18.16mol)をDMF70mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 11.83g(36.32mol)を加えて0℃に冷却し、2-ブロモプロパン3.33g(27.23mmol)を加え、全容を0℃で1時間撹拌した後、さらに、25℃で20時間攪拌した。その後、反応液に蒸留水600mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:9)により精製することで、白色固体として中間体Vを1.11g、収率29%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.65(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.35(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.20(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、6.98(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.10(s,2H)、4.61-4.72(m,1H)、1.17(d,6H,J=6.5Hz)
ステップ2:化合物11の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.4g(1.49mmol)をTHF30mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.30ml(0.30mmol)と前記ステップ1で合成した中間体V 0.62g(2.98mmol)を加え、全容を40℃で10時間撹拌した。その後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=98:2)により精製することで、淡黄色固体として化合物11を1.40g、収率83%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.08(s,1H)、7.74(d,1H,J=2.5Hz)、7.69(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.65(d,1H,J=8.0Hz)、7.33(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.16(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.08-7.13(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.29-5.39(m,1H)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、2.54-2.74(m,4H)、2.25-2.39(m,8H)、1.65-1.84(m,16H)、1.62(d,6H,J=7.0Hz)、1.41-1.55(m,8H)
(実施例25)化合物12の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
ステップ1:中間体Wの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-クロロベンゾチアゾール3.00g(17.69mmol)と2-ヒドラジノエタノール5.38g(70.74mmol)をメタノール10mlに溶解させた。この溶液を2時間加熱還流させ、その後、反応液を25℃まで冷却して、蒸留水300ml中に投入した。析出した結晶をろ過し、蒸留水で洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として中間体Wを3.27g、収率88%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.66(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.35(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.20(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、6.98(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.37(s,2H)、4.86(t,1H,J=5.0Hz)、3.69-3.81(m,4H)
ステップ2:化合物12の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B:1.40g(1.50mmol)をTHF30mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.30ml(0.30mmol)と前記ステップ1で合成した中間体W0.62g(2.98mmol)を加え、40℃で8時間撹拌した。その後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=98:2)により精製することで、淡黄色固体として化合物12を1.32g、収率78%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.95(s,1H)、7.73-7.75(m,1H)、7.69(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.65(d,1H,J=8.0Hz)、7.35(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.18(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.10-7.13(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.45(t,2H,J=5.0Hz)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、4.04(q、2H,J=5.0Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、2.85(t,1H,J=5.0Hz)、2.54-2.74(m,4H)、2.25-2.39(m,8H)、1.65-1.84(m,16H)、1.41-1.55(m,8H)
(実施例26)化合物13の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
ステップ1:中間体Xの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-クロロベンゾチアゾール 3.00g(17.69mmol)とフェニルヒドラジン 7.65g(70.74mmol)をエチレングリコール30mlに溶解させた。この溶液を140℃に加熱し5時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水300mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた濃縮物にTHF15mlを加えて溶解させた。その溶液を蒸留水300ml中に投入し、析出した固体をろ取した。ろ過物を蒸留水で洗浄後、真空乾燥させて黄色固体を得た。黄色固体をフラスコに入れ、トルエン50mlを加えて30分攪拌した後に、ろ過を行うことでトルエンに不溶の固体成分を除去した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=2:50)により精製することで、黄色オイルとして中間体Xを0.94g、収率22%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):8.01(dd,2H,J=1.0Hz,9.0Hz)、7.78(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.51(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.43(dd,2H,J=7.5Hz,8.5Hz)、7.28(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.08-7.16(m,2H)、6.26(s,2H)
ステップ2:化合物13の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.00g(1.06mmol)をTHF30mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.22ml(0.22mmol)と前記ステップ1で合成した中間体X 0.38g(1.60mmol)を加え、全容を40℃で2時間攪拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=40:1)により精製することで、淡黄色固体として化合物13を1.14g、収率95%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.82(d,1H,J=2.5Hz)、7.73(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.64-7.70(m,2H)、7.60(d,2H,J=7.5Hz)、7.35-7.42(m,3H)、7.30(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.18(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.03-7.12(m,2H)、7.00(d,2H,J=9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.90(d,2H,J=9.0Hz)、6.89(d,2H,J=9.0Hz)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、3.92-3.98(m,4H)、2.56-2.71(m,2H)、2.41-2.50(m,1H)、2.27-2.40(m,5H)、2.12-2.22(m,2H)、1.64-1.91(m,14H)、1.41-1.56(m,10H)、1.19-1.31(m,2H)
(実施例27)化合物14の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
ステップ1:中間体Yの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-クロロベンゾチアゾール 2.50g(14.74mmol)、p-トリルヒドラジン塩酸塩 7.01g(44.21mmol)、N,N-ジイソプロピルエチルアミン 7.62g(58.95mmol)を、エチレングリコール40mlに溶解させた。この溶液を140℃で5時間攪拌した後、反応液に蒸留水400mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物にトルエン50mlを加えて30分攪拌した。トルエンに不溶の固体成分ろ過により除去し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=5:95)により精製することで、淡黄色固体として中間体Yを0.64g、収率17%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.86(d,2H,J=8.5Hz)、7.76(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.47(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.27(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.23(d,2H,J=8.5Hz)、7.09(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、6.19(s,2H)、2.31(s,3H)
ステップ2:化合物14の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.00g(1.06mmol)をTHF30mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.22ml(0.22mmol)と前記ステップ1で合成した中間体Y 0.32g(1.28mmol)を加え、全容を40℃で1時間攪拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=40:1)により精製することで、淡黄色固体として化合物14を1.16g、収率93%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.82(d,1H,J=2.5Hz)、7.72(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.61(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.46(d,2H,J=8.0Hz)、7.40(s,1H)、7.25-7.32(m,3H)、7.17(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.04-7.12(m,2H)、6.96-7.01(m,4H)、6.86-6.92(m,4H)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、2.55-2.72(m,2H)、2.50(s,3H)、2.41-2.50(m,1H)、2.27-2.41(m,5H)、2.14-2.22(m,2H)、1.65-1.95(m,14H)、1.41-1.60(m,10H)、1.22-1.34(m,2H)
(実施例28)化合物15の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
ステップ1:中間体Zの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-クロロベンゾチアゾール 2.50g(14.74mmol)、4-メトキシフェニルヒドラジン塩酸塩 7.72g(44.21mmol)、N,N-ジイソプロピルエチルアミン 7.62g(58.95mmol)を、エチレングリコール40mlに溶解させた。この溶液を140℃で5時間攪拌した後、反応液に蒸留水400mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物にトルエン50mlを加えて30分攪拌した。トルエンに不溶の固体成分ろ過により除去した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=5:95)により精製することで、淡黄色固体として中間体Zを0.84g、収率21%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.82(d,2H,J=9.0Hz)、7.75(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.43(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.25(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.07(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.01(d,2H,J=9.0Hz)、6.15(s,2H)、3.78(s,3H)
ステップ2:化合物15の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.00g(1.06mmol)をTHF30mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.22ml(0.22mmol)と前記ステップ1で合成した中間体Z 0.34g(1.28mmol)を加え、全容を40℃で1時間攪拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=40:1)により精製することで、淡黄色固体として化合物15を1.18g、収率93%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.82(d,1H,J=2.5Hz)、7.72(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.62(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.39(s,1H)、7.26-7.33(m,3H)、7.13-7.19(m,3H)、7.04-7.12(m,2H)、6.96-7.02(m,4H)、6.86-6.92(m,4H)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、3.88(s,3H)、2.55-2.72(m,2H)、2.25-2.51(m,6H)、2.13-2.22(m,2H)、1.65-1.96(m,14H)、1.41-1.59(m,10H)、1.19-1.31(m,2H)
(実施例29)化合物16の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
ステップ1:中間体A1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 3.30g(20.0mol)をエタノール75mlに溶解させた。この溶液を0℃に冷却し、イソチオシアン酸フェニル 2.70g(20.0mmol)を30分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を0℃で3時間攪拌した後、さらに25℃で15時間攪拌した。反応終了後、反応器内で析出した結晶をろ取した。ろ過物をエタノールで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として中間体A1を4.14g、収率69%で得た。 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):10.22(s,1H)、10.09(s,2H)、7.80(d,1H,J=7.5Hz)、7.46-7.55(m,3H)、7.26-7.36(m,3H)、7.09-7.19(m,2H)
ステップ2:化合物16の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 2.50g(2.66mmol)をTHF150mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸2.65ml(2.65mmol)と前記ステップ1で合成した中間体A1 4.0g(13.3mmol)を加え、全容を60℃で30時間攪拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=95:5)により精製することで、淡黄色固体として化合物16を1.40g、収率43%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):11.86(s,1H)、8.06(s,1H)、7.62-7.85(m,2H)、7.28-7.59(m,4H)、7.06-7.25(m,4H)、6.80-7.05(m,10H)、6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、4.17(t,2H,J=6.5Hz)、3.89-3.98(m,4H)、
2.50-2.76(m,2H)、2.21-2.48(m,6H)、1.99-2.16(m,2H)、1.35-1.85(m,26H)
(実施例30)化合物17の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
ステップ1:中間体B1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 2.30g(2.45mmol)をTHF25mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.49ml(0.49mmol)を加え、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 0.40g(2.45mmol)のTHF5ml溶液を15分間かけて滴下し、滴下終了後、25℃にて1時間さらに撹拌した。反応終了後、反応液をメタノール400mlに投入して析出した固体をろ取した。ろ取した固体を真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として中間体B1を2.4g、収率:90%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):12.63(s,1H)、8.10(s,1H)、7.80(d,1H,J=5.0Hz)、7.60(d,1H,J=3.0Hz)、7.48(s,1H)、7.21-7.35(m,3H)、7.14(t,1H,J=7.5Hz)、6.98-7.05(m,4H)、6.91-6.97(m,4H)、6.32(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.18(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.93(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.12(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.56-2.83(m,4H)、2.11-2.30(m,8H)、1.52-1.80(m,16H)、1.33-1.49(m,8H)
ステップ2:化合物17の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体B1 2.00g(1.84mmol)と4-(ジメチルアミノ)ピリジン 0.02g(0.18mmol)をTHF100mlに溶解させた。この溶液に、n-オクタノイルクロリド 0.33g(2.03mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を10℃とした。次いで、トリエチルアミン0.22g(2.21mmol)を10分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃で2時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水600ml及び飽和食塩水10mlを加え、クロロホルム200mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=40:2)により精製することで、淡黄色固体として化合物17を1.72g、収率77%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.89(s,1H)、7.89-7.98(m,2H)、7.78(d,1H,J=2.5Hz)、7.53(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.42(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.20(dd,1H,J=2.5Hz,9.0Hz)、7.14(d,1H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.96(d,2H,J=9.0Hz)、6.89(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、4.17(t,2H,J=6.5Hz)、3.92-3.98(m,4H)、3.01(t,2H,J=7.5Hz)、2.54-2.70(m,2H)、2.39-2.48(m,1H)、2.23-2.37(m,5H)、1.91-2.06(m,4H)、1.62-1.86(m,14H)、1.26-1.56(m,20H)、0.90(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例31)化合物18の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
ステップ1:中間体C1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流下中、シクロヘキシルヒドラジン塩酸塩 2.50g(16.6mmol)をトリエチルアミン8mlに溶解させた。この溶液に、2-クロロベンゾチアゾール 5.63g(33.2mmol)を加え、全容を80℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色個体を得た。この黄色個体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=75:25)により精製し、白色個体として中間体C1を1.02g得た(収率:22.3%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):7.58(d,1H,J=7.8Hz)、7.52(d,1H,J=8.2Hz)、7.26(dd,1H,J=7.4Hz,8.2Hz)、7.05(dd,1H,J=7.4Hz,7.8Hz)、4.25-4.32(m,1H)、4.04(s,2H)、1.84-1.88(m,4H)、1.68-1.73(m,1H)、1.43-1.59(m,4H)、1.08-1.19(m,1H)
ステップ2:化合物18の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.40g(1.49mmol)、前記ステップ1で合成した中間体C1 456mg(1.84mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸38.6mg(0.166mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=97:3)により精製し、淡黄色固体として化合物18を1.24g得た(収率:71.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.15(s,1H)、7.72(d,1H,J=1.5Hz)、7.68(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.66(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.31-7.35(m,1H)、7.14-7.18(m,1H)、7.13(d,1H,J=9.0Hz)、7.10(dd,1H,J=1.5Hz,9.0Hz)、6.96-7.00(m,4H)、6.86-6.90(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz)、6.13(dd,2H,J=10.0Hz,17.0Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.62-4.70(m,1H)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、2.55-2.74(m,4H)、2.27-2.47(m,10H)、1.90-2.00(m,4H)、1.65-1.85(m,16H)、1.42-1.55(m,10H)、1.24-1.33(m,2H)
(実施例32)化合物19の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
ステップ1:中間体D1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 5.00g(30.3mmol)をDMF100mlに溶解させた。この溶液に、炭酸カリウム 20.9g(152mmol)、及び5-ブロモバレロニトリル 5.17g(30.3mmol)を加え、全容を60℃で8時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、水500mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=60:40)により精製し、白色固体として中間体D1を3.41g得た(収率:45.7%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(d,1H,J=7.8Hz)、7.51(d,1H,J=8.1Hz)、7.28(dd,1H,J=7.3、8.1Hz)、7.07(dd,1H,J=7.3Hz,7.8Hz)、4.23(s,2H)、3.81(t,2H,J=6.9Hz)、2.46(t,2H,J=7.1Hz)、1.88-1.95(m,2H)、1.71-1.79(m,2H) 
ステップ2:化合物19の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体D1 438mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃で5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=85:15)により精製し、淡黄色固体として化合物19を1.31g得た(収率:70.2%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74(d,1H,J=1.5Hz)、7.64-7.72(m,3H)、7.35(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.19(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.10-7.14(m,2H)、6.96-7.01(m,4H)、6.86-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz)、6.12(dd,2H,J=10.5Hz,17.0Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.22(t,2H,J=6.5Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.58-2.75(m,4H)、2.55(t,2H,J=6.5Hz)、2.26-2.40(m,8H)、1.96(tt,2H,J=6.5Hz,6.5Hz)、1.66-1.83(m,18H)、1.42-1.55(m,8H)
(実施例33)化合物20の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
ステップ1:中間体E1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 2.00g(12.1mmol)をDMF30mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 7.88g(24.2mol)を加えて0℃に冷却し、ヨードヘプタン 3.28g(14.5mmol)を5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃で3時間攪拌した。反応終了後、反応液に水200mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=85:15)により精製することで、白色固体として中間体E1を1.81g得た(収率56.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.59(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.53(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.06-7.28(m,2H)、4.22(s,2H)、3.75(t,2H,J=7.0Hz)、1.29-1.38(m,10H)、0.88(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ2:化合物20の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体E1 468mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸 41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1)により精製し、淡黄色固体として化合物20を1.46g得た(収率:77.5%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.75(d,1H,J=1.5Hz)、7.66-7.70(m,3H)、7.34(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.08-7.14(m,2H)、6.95-7.01(m,4H)、6.87-6.90(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.30(t,2H,J=7.0Hz)、4.18(t,4H,J=7.0Hz)、3.95(t,4H,J=7.0Hz)、2.55-2.73(m,4H)、2.26-2.40(m,8H)、1.65-1.84(m,16H)、1.36-1.55(m,14H)、1.25-1.35(m,4H)、0.87(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例34)化合物21の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
ステップ1:中間体F1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール3.00g(18.2mmol)をDMF45mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 11.9g(36.4mmol)、1-ヨードドデカン 6.45g(21.8mmol)を加え、全容を25℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mLに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=95:5)により精製し、白色固体として中間体F1を2.93g得た(収率:48.3%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.53(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.27(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.06(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、4.22(s,2H)、3.74(t,2H,J=7.5Hz)、1.73(tt,2H,J=7.5Hz,7.5Hz)、1.41-1.25(m,18H)、0.88(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ2:化合物21の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体F1 591mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸 41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1)により精製し、淡黄色固体として化合物21を1.44g得た(収率:71.9%)。
目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74(d,1H,J=1.5Hz)、7.66-7.70(m,3H)、7.34(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.08-7.14(m,2H)、6.95-7.01(m,4H)、6.86-6.91(m,4H)、6.41(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.30(t,2H,J=7.0Hz)、4.18(t,4H,J=7.0Hz)、3.94(t,4H,J=7.0Hz)、2.56-2.73(m,4H)、2.28-2.39(m,8H)、1.66-1.84(m,18H)、1.35-1.55(m,10H)、1.19-1.33(m,16H)、0.86(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例35)化合物22の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
ステップ1:中間体G1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール2.00g(12.1mmol)をDMF30mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 7.88g(24.2mol)を加えて0℃に冷却し、ブチル2-クロロエチルエーテル 1.98g(14.5mmol)を5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃で3時間攪拌した。反応終了後、反応液に水200mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=75:25)により精製することで、白色固体として中間体G1を1.70g得た(収率53.0%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.61(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.50(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.27-7.29(m,1H)、7.04-7.08(m,1H)、4.70(s,2H)、4.01(t,2H,J=5.0Hz)、3.82(t,2H,J=5.0Hz)、3.44(t,2H,J=7.0Hz)、1.52-1.57(m,2H)、1.31-1.39(m,2H)、0.90(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ2:化合物22の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体G1 396mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1)により精製し、淡黄色固体として化合物22を1.31g得た(収率:69.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.03(s,1H)7.76(d,1H,J=1.5Hz)、7.65-7.71(m,2H)、7.34(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.09-7.12(m,2H)、6.96-7.00(m,4H)、6.87-6.90(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.45(t,2H,J=5.5Hz)、4.18(t,4H,J=7.0Hz)、3.95(t,4H,J=7.0Hz)、3.79(t,2H,J=5.5Hz)、3.44(t,2H,J=7.0Hz)、2.55-2.74(m,4H)、2.28-2.40(m,8H)、1.65-1.83(m,16H)、1.42-1.55(m,10H)、1.25-1.34(m,2H)、0.85(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例36)化合物23の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例30の化合物17合成のステップ1で合成した中間体B1 2.00g(1.84mmol)をTHF20mlに溶解させて、0℃に冷却した。この溶液に、2-メトキシエトキシメチルクロリド344mg(2.76mmol)を加え、さらに、N、N-ジイソプロピルエチルアミン476mg(3.68mmol)のTHF5ml溶液を5分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃にて20時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=95:5)により精製し、淡黄色固体として化合物23を1.58g得た(収率:73.0%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):8.31(s,1H)、7.62-7.71(m,2H)、7.32-7.42(m,2H)、7.25-7.29(m,2H)、7.15-7.19(m,1H)、7.00-7.04(m,4H)、6.92-6.96(m,4H)、6.32(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.17(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.93(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.60(s,2H)、4.12(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、3.71(t,2H,J=6.0Hz)、3.46(t,2H,J=6.0Hz)、3.20(s,3H)、2.60-2.85(m,4H)、2.11-2.28(m,8H)、1.55-1.75(m,16H)、1.35-1.50(m,8H)
(実施例37)化合物24の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
ステップ1:化合物24の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、実施例30の化合物17合成のステップ1で合成した中間体B1 2.00g(1.84mmol)をTHF20mlに溶解させて、0℃に冷却した。この溶液に、クロロメチルシクロヘキシルエーテル412mg(2.76mmol)を加え、さらに、N、N-ジイソプロピルエチルアミン476mg(7.36mmol)のTHF5ml溶液を5分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃にて3時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、酢酸エチル200mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=95:5)により精製し、淡黄色固体として化合物24を1.54g得た(収率:70.0%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.33(s,1H)、7.86(d,1H,J=2.0Hz)、7.42(d,1H,J=7.5Hz)、7.25-7.29(m,2H)、7.08-7.13(m,3H)、6.96-7.00(m,4H)、6.86-6.90(m,4H)、6.41(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.62(s,2H)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、3.56-3.64(m,1H)、2.57-2.76(m,4H)、2.27-2.40(m,8H)、1.89-1.95(m,2H)、1.64-1.83(m,16H)、1.42-1.55(m,10H)、1.18-1.39(m,6H)
(実施例38)化合物25の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
ステップ1:中間体H1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、ヒドロキノン7.28g(66.1mmol)、水酸化ナトリウム2.38g(59.5mmol)、及び蒸留水50mlを加えた。この溶液に、8-クロロ-1-n-オクタノール 9.90g(60.1mmol)を30分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を5時間還流した。反応終了後、反応液を25℃まで冷却し、析出した白色固体をろ取し、得られた固体をトルエン120mlから再結晶することで、白色固体として中間体H1を7.93g得た(収率56.1%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):8.86(s,1H)、6.72(dd,2H,J=2.5Hz,8.0Hz)、6.65(dd,2H,J=2.5Hz,8.0Hz)、4.33(t,1H,J=5.0Hz)、3.82(t,2H,J=6.5Hz)、3.37(dt,2H,J=5.0Hz,6.5Hz)、1.65(tt,2H,J=6.5Hz,6.5Hz)、1.28-1.42(m,10H)
ステップ2:中間体I1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体H1 7.84g(32.9mmol)、アクリル酸 2.61g(36.2mmol)、4-メトキシフェノール 40.8mg(0.329mmol)、メタンスルホン酸316mg(3.29mmol)及びトルエン40mlを加え、全容を6時間還流した。反応液を25℃まで冷却した後、水200mlに投入し、酢酸エチル100mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:THF=95:5)により精製し、白色固体として中間体I1:を6.95g得た(収率:71.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):8.86(s,1H)、6.72(dd,2H,J=2.5Hz,9.0Hz)、6.65(dd,2H,J=2.5Hz,8.0Hz)、6.31(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.17(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.93(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.10(t,2H,J=6.5Hz)、3.83(t,2H,J=6.5Hz)、1.58-1.68(m,4H)、1.30-1.39(m,8H)
ステップ3:中間体J1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸 6.86g(39.8mmol)、THF70ml、及びDMF14mlを加えた。そこへ、メタンスルホニルクロリド2.28g(19.9mmol)を加え、反応器を水浴に浸して、反応液内温を20℃とした。次いで、トリエチルアミン2.20g(21.7mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら、5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃で2時間さらに攪拌した。得られた反応混合物に、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 221mg(1.81mmol)、前記ステップ2で合成した中間体I1 5.30g(18.1mmol)を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とした。さらに、トリエチルアミン2.20g(21.7mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら、5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃で2時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水300mlと飽和食塩水100mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:THF=85:15)により精製することで、白色固体として中間体J1を5.23g得た(収率64.6%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):12.1(s,1H)、6.98(dd,2H,J=2.5Hz,9.0Hz)、6.92(dd,2H,J=2.5Hz,8.0Hz)、6.31(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.17(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.92(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.10(t,2H,J=6.5Hz)、3.93(t,2H,J=6.5Hz)、2.19-2.25(m,1H)、2.04-2.10(m,2H)、1.94-1.98(m,2H)、1.69(tt,2H,J=6.5Hz,6.5Hz)、1.57-1.64(m,2H)、1.31-1.52(m,13H)
ステップ4:中間体K1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
 温度計を備えた3口反応器内において、窒素気流中、前記ステップ3で合成した中間体J1 4.00g(8.96mmol)をTHF60mlに溶解させた。この溶液に、メタンスルホニルクロリド 1.07g(9.32mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を20℃とした。そこへ、トリエチルアミン 944mg(9.32mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら5分間かけて滴下した後、全容を25℃でさらに2時間攪拌した。次いで、反応混合物に4-(ジメチルアミノ)ピリジン 92.0mg(0.748mmol)、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド 548mg(3.97mmol)を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とし、トリエチルアミン944mg(9.32mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃でさらに2時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水350mlと飽和食塩水50mlを加え、クロロホルム150mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をTHF15mlに溶解させた。その溶液にメタノール200mlを加えて結晶を析出させ、析出結晶をろ取した。得られた結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として中間体K1を2.85g得た(収率72.3%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):10.1(s,1H)、7.61(d,1H,J=2.5Hz)、7.37(dd,1H,J=2.5Hz,8.5Hz)、7.20(d,1H,J=8.5Hz)、6.97(dd,4H,J=2.0Hz,9.0Hz)、6.88(dd,4H,J=2.0Hz,9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.16(t,4H,J=6.5Hz)、3.93(t,4H,J=6.5Hz)、2.57-2.74(m,4H)、2.26-2.37(m,8H)、1.65-1.80(m,16H)、1.35-1.48(m,16H)
ステップ5:化合物25の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ4で合成した中間体K1 1.95g(1.96mmol)、前記実施例4の化合物4合成のステップ1で合成した中間体J 441mg(1.76mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸 45.6mg(0.196mmol)、THF24ml、及びエタノール6mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液からクロロホルムを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=95:5)により精製し、淡黄色固体として化合物25を1.56g得た(収率:64.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.75(d,1H,J=1.5Hz)、7.66-7.70(m,3H)、7.34(dd,1H,J=1.5Hz,7.8Hz)、7.09-7.18(m,3H)、6.96-7.00(m,4H)、6.86-6.90(m,4H)、6.41(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.81(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.30(t,2H,J=7.5Hz)、4.16(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、2.56-2.72(m,4H)、2.27-2.38(m,8H)、1.65-1.81(m,18H)、1.32-1.49(m,22H)、0.90(t,3H,J=7.5Hz)
(実施例39)化合物26の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
ステップ1:中間体L1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 5.00g(30.3mmol)をDMF50mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 14.8g(45.5mmol)、アリルブロミド 3.1ml(36.3mmol)を加え、全容を25℃にて2時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mLに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=70:30)により精製し、白色固体として中間体L1を1.82g得た(収率:29.0%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.62(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.54(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.29(ddd,1H,J=1.0Hz,7.0Hz,8.0Hz)、7.08(ddd,1H,J=1.0Hz,7.0Hz,7.5Hz)、5.90(ddt,1H,J=6.5Hz,10.5Hz,17.0Hz)、5.38(ddt,1H,J=1.0Hz,2.5Hz,10.5Hz)、5.34(ddt,1H,J=1.5Hz,2.5Hz,17.0Hz)、4.42(ddd,2H,J=1.0Hz,1.5Hz,6.5Hz)、4.18(s,2H)
ステップ2:化合物26の合成
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体L1 368mg(1.77mmol)及び、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)を、エタノール3ml及びTHF15mlの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸41.2mg(0.18mmol)を加え、全容を40℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10)により精製し、白色固体として化合物26を1.61g得た(収率:89.6%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 1H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74(d,1H,J=2.5Hz)、7.70(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.64-7.69(m,2H)、7.35(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.18(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.09-7.13(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.88(ddt,1H,J=4.5Hz,10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.29(dd,1H,J=1.0Hz,10.5Hz)、5.19(dd,1H,J=1.0Hz,17.5Hz)、4.98-4.99(m,2H)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.57-2.67(m,4H)、2.30-2.35(m,8H)、1.76-1.85(m,4H)、1.66-1.74(m,12H)、1.42-1.54(m,8H)
(実施例40)化合物27の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
ステップ1:中間体M1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 5.04g(30.5mmol)をDMF50mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 14.9g(45.8mmol)、4-ブロモ-1-ブテン 4.94g(36.6mmol)を加え、全容を25℃にて7時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=70:30)により精製し、白色固体として中間体M1を4.40g得た(収率:49.5%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.54(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.28(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.06(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、5.89(ddt,1H,J=7.0Hz,10.5Hz,17.0Hz)、5.17(ddt,1H,J=1.5Hz,3.0Hz,17.0Hz)、5.09(ddt,1H,J=1.0Hz,3.0Hz,10.5Hz)、4.26(s,2H)、3.85(t,2H,J=7.0Hz)、2.52(dddt,2H,J=1.0Hz,1.5Hz,7.0Hz,7.0Hz)
ステップ2:化合物27の合成
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体M1 195mg(1.77mmol)、及び、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)を、エタノール3ml及びTHF15mlの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸41.2mg(0.18mmol)を加え、全容を40℃で8時間撹拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10)により精製し、白色固体として化合物27を1.26g得た(収率:69.3%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.76(d,1H,J=2.5Hz)、7.67-7.70(m,3H)、7.35(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.18(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.10-7.14(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.5Hz)、6.98(d,2H,J=9.5Hz)、6.88(d,4H,J=9.5Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.89(ddt,1H,J=6.5Hz,10.5Hz,17.0Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.18(dd,1H,J=1.5Hz,17.0Hz)、5.15(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.38(t,2H,J=7.0Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.58-2.68(m,4H)、2.51(dt,2H,J=6.5Hz,7.0Hz)、2.31-2.35(m,8H)、1.76-1.85(m,4H)、1.65-1.74(m,12H)、1.41-1.54(m,8H)
(実施例41)化合物28の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
ステップ1:中間体N1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 1.45g(8.75mmol)をDMF20mlに溶解させた。この溶液に、炭酸カリウム 3.63g(26.3mmol)、1,1,1,-トリフルオロ-4-ヨードブタン 2.50g(10.5mmol)を加え、全容を80℃で8時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、水200mlに投入して、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=85:15)により精製し、白色固体として中間体N1を961mg得た(収率:39.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.61(d,1H,J=8.0Hz)、7.54(d,1H,J=7.8Hz)、7.30(dd,1H,J=7.8Hz,7.8Hz)、7.09(dd,1H,J=7.8Hz,8.0Hz)、4.24(s,2H)、3.81(t,2H,J=7.0Hz)、2.16-2.26(m,2H)、1.99-2.05(m,2H)
ステップ2:化合物28の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B:1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体N1:489mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=9:1)により精製し、淡黄色固体として化合物28を1.47g得た(収率:77.2%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.75(s,1H)、7.65-7.71(m,3H)、7.34(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.08-7.14(m,2H)、6.96-7.01(m,4H)、6.86-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.42(t,2H,J=7.5Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.55-2.73(m,4H)、2.25-2.38(m,10H)、2.04(tt,2H,J=7.5Hz,7.5Hz)、1.64-1.84(m,16H)、1.42-1.55(m,8H)
(実施例42)化合物29の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
ステップ1:中間体O1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 2.00g(12.1mmol)をDMF30mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 7.88g(24.2mol)を加えて0℃に冷却し、2-ブロモヘキサン2.39g(14.5mmol)を5分間かけて滴下し、滴下終了後、25℃でさらに3時間攪拌した。反応終了後、反応液に水200mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=93:7)により精製することで、白色固体として中間体O1を1.61g得た(収率53.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):7.59(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.52(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.24-7.30(m,1H)、7.05(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、3.97(s,2H)、1.47-1.74(m,3H)、1.20-1.41(m,7H)、0.89(t,3H,J=5.5Hz) 
ステップ2:化合物29の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体O1 444mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=92:8)により精製し、淡黄色固体として化合物29を1.35g得た(収率:72.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.04(s,1H)、7.73(d,1H,J=1.5Hz)、7.69(dd,1H,J=1.5Hz,7.8Hz)、7.65(dd,1H,J=1.5Hz,7.8Hz)、7.33(ddd,1H,J=1.5Hz,7.8Hz,7.8Hz)、7.07-7.19(m,3H)、6.95-7.01(m,4H)、6.85-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.54-2.73(m,4H)、2.25-2.40(m,8H)、1.65-1.83(m,16H)、1.60-1.62(m,2H)、1.57(d,3H,J=7.5Hz)、1.24-1.55(m,13H)、0.87(t,3H,J=7.5Hz)
(実施例43)化合物30の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
ステップ1:中間体P1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 2.00g(12.1mmol)をDMF30mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 7.88g(24.2mol)を加えて0℃に冷却し、3-ブロモヘプタン2.60g(14.5mmol)を5分間かけて滴下し、滴下終了後、25℃でさらに3時間攪拌した。反応終了後、反応液に水200mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=9:1)により精製することで、白色固体として中間体P1を1.80g得た(収率56.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.58(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.51(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.27(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.04(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、3.94(s,2H)、1.48-1.72(m,5H)、1.18-1.41(m,4H)、0.91(t,3H,J=7.5Hz)、0.86(t,3H,J=7.5Hz)
ステップ2:化合物30の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体P1 468mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1)により精製し、淡黄色固体として化合物30を1.44g得た(収率:76.3%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.03(s,1H)、7.74(d,1H,J=3.0Hz)、7.69(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.64(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.33(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.16(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.07-7.14(m,2H)、6.96-7.01(m,4H)、6.86-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.55-2.72(m,4H)、2.26-2.40(m,8H)、1.65-1.91(m,19H)、1.23-1.55(m,14H)、0.94(t,3H,J=7.5Hz)、0.86(t,3H,J=7.5Hz)
(実施例44)化合物31の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
ステップ1:中間体Q1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、12-ブロモ-1-ドデカノール 14.4g(54.4mmol)、4-(ベンジルオキシ)フェノール 12.0g(59.8mmol)、炭酸カリウム9.02g(65.2mmol)、18-クラウン-6-エーテル1.42g(5.44mmol)、及びアセトン150mlを加え、全容を10時間還流した。反応終了後、反応液を25℃まで冷却し、蒸留水300mlを加え、酢酸エチル200mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮することで、白色固体として中間体Q1を12.2g得た(収率51.1%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.36-7.45(m,4H)、7.29-7.34(m,1H)、6.89-6.94(m,2H)、6.81-6.86(m,2H)、5.02(s,2H)、4.32(t,1H,J=5.0Hz)、3.87(t,2H,J=7.5Hz)、3.36(t,2H,J=7.5Hz)、1.66(tt,2H,J=7.5Hz,7.5Hz)、1.20-1.43(m,18H)
ステップ2:中間体R1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
 温度計を備えた3口反応器に、前記ステップで合成した中間体Q1 12.2g(27.8mmol)、5%パラジウム-活性炭素 2.22g、THF50ml及びメタノール200mlを加えた。反応器に水素バルーンを取り付け、全容を、水素雰囲気下、25℃にて21時間撹拌した。反応終了後、反応混合物にクロロホルム100mlを加え、パラジウム-活性炭素をろ別した。有機層をロータリーエバポレーターにて濃縮して褐色粉末を8.70g得た。この褐色粉末をトルエン100mlに溶解させ、アクリル酸 2.34g(32.6mmol)、4-メトキシフェノール 36.8mg(0.296mmol)、及びメタンスルホン酸284mg(2.96mmol)を加え、全容を10時間還流した。反応終了後、反応液を25℃まで冷却し、水300mlに投入し、酢酸エチル200mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=96:4)により精製することで、白色固体として中間体R1を5.94g得た(収率57.6%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):8.87(s,1H)、6.69-6.74(m,2H)、6.62-6.67(m,2H)、6.31(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.16(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.93(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.09(t,2H,J=6.5Hz)、3.82(t,2H,J=6.5Hz)、1.55-1.68(m,4H)、1.21-1.42(m,16H)
ステップ3:中間体S1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸 6.20g(36.0mmol)、THF40ml、及びDMF8mlを加えた。そこへ、メタンスルホニルクロリド 2.06g(18.0mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を20℃とした。次いで、トリエチルアミン 1.99g(19.6mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃で2時間攪拌した。さらに、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 200mg(1.64mmol)、前記ステップ2で合成した中間体R1 5.70g(16.4mmol)を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とし、トリエチルアミン1.99g(19.6mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら5分間かけて滴下し、滴下終了後、25℃でさらに2時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水250mlと飽和食塩水100mlを加え、酢酸エチル200mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別下。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:THF=95:5)により精製することで、白色固体として中間体S1を3.90g得た(収率47.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):12.1(s,1H)、6.96-7.01(m,2H)、6.89-6.94(m,2H)、6.31(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.16(dd,1H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.93(dd,1H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.09(t,2H,J=7.0Hz)、3.93(t,2H,J=7.0Hz)、2.18-2.26(m,1H)、2.04-2.10(m,2H)、1.93-2.00(m,2H)、1.69(tt,2H,J=7.0Hz,7.0Hz)、1.59(tt,2H,J=7.0Hz,7.0Hz)、1.20-1.52(m,21H)
ステップ4:中間体T1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
 温度計を備えた3口反応器内において、窒素気流中、前記ステップ3で合成した中間体S1 2.80g(5.58mmol)をTHF40mlに溶解させた。そこへ、メタンスルホニルクロリド 664mg(5.80mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を20℃とした。さらに、トリエチルアミン586mg(5.80mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら5分間かけて滴下した。滴下終了後、25℃でさらに2時間攪拌した。得られた反応混合物に、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 56.6mg(0.464mmol)、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド 320mg(2.32mmol)を加え、再度反応器を水浴に浸して、反応液内温を15℃とし、トリエチルアミン586mg(5.80mmol)を、反応液内温を20~30℃に保持しながら、5分間かけて滴下し、滴下終了後、25℃でさらに2時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水300mlと飽和食塩水50mlを加え、クロロホルム150mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた固体をTHF20mlに溶解させた。その溶液にメタノール200mlを加えて結晶を析出させた。析出結晶をろ取し、得られた結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として中間体T1を1.84g得た(収率71.6%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):10.1(s,1H)、7.61(d,1H,J=2.8Hz)、7.37(dd,1H,J=2.8Hz,9.0Hz)、7.20(d,1H,J=9.0Hz)、6.94-7.01(m,4H)、6.85-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.81(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.15(t,4H,J=6.5Hz)、3.93(t,4H,J=6.5Hz)、2.54-2.75(m,4H)、2.24-2.39(m,8H)、1.62-1.81(m,14H)、1.24-1.48(m,34H)
ステップ5:化合物31の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ4で合成した中間体T1 1.50g(1.36mmol)、前記実施例4の化合物4合成のステップ1で合成した中間体J 375mg(1.51mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸35.1mg(0.151mmol)、THF24ml、及びエタノール6mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=97:3)により精製し、淡黄色固体として化合物31を1.54g得た(収率:84.6%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.75(d,1H,J=2.0Hz)、7.65-7.71(m,3H)、7.34(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.08-7.14(m,2H)、6.95-7.01(m,4H)、6.86-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.81(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.30(t,2H,J=7.0Hz)、4.15(t,4H,J=7.0Hz)、3.94(t,4H,J=7.0Hz)、2.54-2.73(m,4H)、2.25-2.39(m,8H)、1.63-1.81(m,16H)、1.23-1.44(m,40H)、0.90(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例45)化合物32の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
ステップ1:中間体U1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、cis-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸 15.00g(87.12mmol)とTHF150mlを加えた。そこへ、メタンスルホニルクロリド 5.49g(47.92mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とした。さらに、トリエチルアミン 5.07g(50.09mmol)を10分間かけて滴下し、滴下終了後、25℃でさらに2時間攪拌した。得られた反応混合物に、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 0.53g(4.36mmol)、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール 11.51g(43.56mmol)を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とし、トリエチルアミン 5.29g(52.27mmol)を10分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃でさらに2時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水1000mlと飽和食塩水100mlを加え、酢酸エチル400mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:クロロホルム=5:95)により精製することで、白色固体として中間体U1を9.66g、収率53%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):12.16(s,1H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.92(d,2H,J=9.0Hz)、6.32(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.17(dd,1H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.93(dd,1H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.11(t,2H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、2.71-2.79(m,1H)、2.41-2.48(m,1H)、1.57-1.91(m,12H)、1.34-1.50(m,4H)
ステップ2:中間体V1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体U1 2.50g(5.97mmol)をTHF30mlに溶解させた。そこへ、メタンスルホニルクロリド 0.70g(6.10mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とした。さらに、トリエチルアミン 0.63g(6.22mmol)を5分間かけて滴下し、滴下終了後、25℃でさらに2時間攪拌した。得られた反応混合物に、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 0.06g(0.50mmol)、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド 0.34g(2.49mmol)を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とし、トリエチルアミン 0.60g(5.97mmol)を5分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃でさらに2時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水200mlと飽和食塩水20mlを加え、クロロホルム100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物にメタノール100mlを加え、不溶分の固体をろ取した。得られた固体をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として中間体V1を1.32g、収率56%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):10.02(s,1H)、7.67(d,1H,J=3.0Hz)、7.55(dd,1H,J=3.0Hz,8.5Hz)、7.39(d,1H,J=8.5Hz)、7.01(d,4H,J=9.0Hz)、6.93(d,4H,J=9.0Hz)、6.31(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.17(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.93(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.11(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、2.78-3.02(m,4H)、1.79-2.05(m,16H)、1.55-1.76(m,8H)、1.33-1.49(m,8H)
ステップ3:化合物32の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、前記ステップ2で合成した中間体V1 1.20g(1.28mmol)をTHF30mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.26ml(0.26mmol)と前記実施例4の化合物4合成のステップ1で合成した中間体J 0.48g(1.92mmol)を加え、全容を40℃で7時間攪拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=98:2)により精製することで、淡黄色固体として化合物32を1.23g、収率82%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74(d,1H,J=2.5Hz)、7.68(s,1H)、7.64(d,1H,J=8.0Hz)、7.58(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.31(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.05-7.14(m,3H)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.96(d,2H,J=9.0Hz)、6.86(d,2H,J=9.0Hz)、6.84(d,2H,J=9.0Hz)、6.39(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.39(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.81(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.81(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.28(t,2H,J=7.5Hz)、4.17(t,2H,J=6.5Hz)、4.16(t,2H,J=6.5Hz)、3.87-3.96(m,4H)、2.75-2.90(m,4H)、2.08-2.26(m,8H)、1.85-2.03(m,8H)、1.65-1.82(m,10H)、1.24-1.54(m,14H)、0.87(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例46)化合物33
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
ステップ1:中間体W1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ1で合成した中間体A 1.50g(3.58mmol)をTHF30mlに溶解させた。次にメタンスルホニルクロリド0.43g(3.76mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とした。そこへ、トリエチルアミン 0.40g(3.94mmol)を5分間かけて滴下し、滴下終了後、25℃でさらに2時間攪拌した。得られた反応混合物に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド 2.48g(17.92mmol)、及び、4-(ジメチルアミノ)ピリジン0.04g(0.36mmol)を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とし、トリエチルアミン0.44g(4.30mmol)を5分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃でさらに2時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水300mlと飽和食塩水50mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物にトルエン100mlを加え、不溶分の固体をろ過により除去した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=5:95)により精製することで、白色固体として中間体W1を0.80g、収率41%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):10.91(s,1H)、9.86(s,1H)、7.32(d,1H,J=3.0Hz)、7.25(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz)、7.01(d,1H,J=9.0Hz)、6.97(d,2H,J=9.0Hz)、6.87(d,2H,J=9.0Hz)、6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,1H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.17(t,2H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、2.53-2.65(m,2H)、2.23-2.35(m,4H)、1.75-1.84(m,2H)、1.62-1.75(m,6H)、1.41-1.55(m,4H)
ステップ2:中間体X1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
 温度計を備えた3口反応器内において、窒素気流中、前記実施例45の化合物32合成のステップ1で合成した中間体U1 0.87g(2.09mmol)をTHF30mlに溶解させた。そこへ、メタンスルホニルクロリド 0.25g(2.16mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とし、さらに、トリエチルアミン0.23g(2.23mmol)を5分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃でさらに2時間攪拌した。得られた反応混合物に、4-(ジメチルアミノ)ピリジン0.02g(0.14mmol)、前記ステップ1で合成した中間体W1 0.75g(1.39mmol)を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を15℃とし、トリエチルアミン0.17g(1.67mmol)を5分間かけて滴下し、滴下終了後、25℃でさらに2時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水200mlと飽和食塩水20mlを加え、クロロホルム100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物にメタノール100mlを加え、不溶分の固体をろ取した。得られた固体をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として中間体X1を0.98g、収率75%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):10.09(s,1H)、7.61(d,1H,J=3.0Hz)、7.36(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz)、7.21(d,1H,J=9.0Hz)、6.97(d,2H,J=9.0Hz)、6.97(d,2H,J=9.0Hz)、6.87(d,2H,J=9.0Hz)、6.87(d,2H,J=9.0Hz)、6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,1H,J=10.0Hz,17.5Hz)、6.12(dd,1H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.0Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.17(t,2H,J=6.5Hz)、4.17(t,2H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、2.77-2.93(m,2H)、2.52-2.66(m,2H)、2.09-2.37(m,8H)、1.85-2.04(m,4H)、1.58-1.84(m,12H)、1.38-1.56(m,8H)
ステップ3:化合物33の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、前記ステップ2で合成した中間体X1:0.94g(1.00mmol)をTHF15mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.20ml(0.20mmol)と前記実施例4の化合物4合成のステップ1で合成した中間体J 0.37g(1.49mmol)を加え、全容を60℃で10時間攪拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=98:2)により精製することで、淡黄色固体として化合物33を0.92g、収率79%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74(d,1H,J=2.5Hz)、7.64-7.71(m,3H)、7.33(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.07-7.19(m,3H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.96(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.87(d,2H,J=9.0Hz)、6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.39(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.11(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.81(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.28(t,2H,J=7.5Hz)、4.17(t,2H,J=6.5Hz)、4.16(t,2H,J=6.5Hz)、3.90-3.97(m,4H)、2.80-2.88(m,2H)、2.54-2.71(m,2H)、2.26-2.38(m,4H)、2.09-2.26(m,4H)、1.85-2.03(m,4H)、1.64-1.83(m,14H)、1.24-1.55(m,14H)、0.87(t,3H,J=7.0Hz)
〈相転移温度の測定2〉
 上記で得た化合物9~33をそれぞれ10mg計量し、固体状態のままで、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板2枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、40℃から250℃まで昇温した後、再び40℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏光光学顕微鏡で観察した。
 測定した相転移温度を下記表3に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000133
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000134
(実施例47、48)
 実施例22、23で得た化合物9、10を、それぞれ1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3g、クロロホルム2.26gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物14、15を得た。
(実施例49)
 実施例24で得た化合物11を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物16を得た。
(実施例50)
 実施例25で得た化合物12を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3g、クロロホルム1.7gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物17を得た。
(実施例51)
 実施例26で得た化合物13を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物18を得た。
(実施例52)
 実施例27で得た化合物14を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3g、クロロホルム1.7gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物19を得た。
(実施例53、54)
 実施例28で得た化合物15、16を、それぞれ1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物20、21を得た。
(実施例55)
 実施例30で得た化合物17を0.5g、実施例4の化合物4を0.5g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、クロロホルム3.26gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物22を得た。
(実施例56~63)
 実施例31で得た化合物18~25を、それぞれ1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物23~30を得た。
(実施例64)
 実施例39で得た化合物26を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3g、クロロホルム0.7gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物31を得た。
(実施例65)
 実施例40で得た化合物27を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物32を得た。
(実施例66)
 実施例41で得た化合物28を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3g、クロロホルム0.7gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物33を得た。
(実施例67、68)
 実施例42、43で得た化合物29、30を、それぞれ1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物34、35を得た。
(実施例69)
 実施例44で得た化合物31を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3g、クロロホルム0.7gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物36を得た。
(実施例70、71)
 実施例44、45で得た化合物32、33を、それぞれ0.3g、実施例4で得た化合物4を0.7g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物37、38をそれぞれ得た。
 得られた重合性組成物14~38を、下記の方法にて重合させて高分子を得た。得られた高分子のそれぞれについて、位相差の測定と波長分散の評価を行った。
〈位相差の測定と波長分散の評価II〉
(i)重合性組成物による液晶層の形成1
 ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板に、重合性組成物16~18、20~30、32及び34~38のそれぞれを♯4のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表4に示す温度で1分間乾燥した後、表4に示す温度で1分間配向処理し、液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から2000mJ/cmの紫外線を表4に示す温度下にて照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。
(ii)重合性組成物による液晶層の形成2
 ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板に、重合性組成物14、15、19、31及び33のそれぞれを♯6のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表4に示す温度で1分間乾燥した後、表4に示す温度で1分間配向処理し、液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から2000mJ/cmの紫外線を、表4に示す温度下にて照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。
(iii)位相差の測定、波長分散の評価
 得られた試料につき、位相差の測定、波長分散の評価を前記と同様の方法で行った。
 重合して得られた液晶性高分子膜の膜厚(μm)、波長548.5nmにおける位相差(Re)、α、βの値を、下記表4にまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000135
 表4より、本発明に係る化合物9~33を用いて得られた実施例47~71の高分子は、光学異方体であることが分かる。また、得られた光学異方体のαは1より小となり、βは1より大か、ほぼ1となり、広帯域性を示す理想的な波長分散性を示した。
(実施例72)化合物34
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000136
ステップ1:中間体Y1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000137
 温度計を備えた4つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール2.50g(15.1mmol)を、DMF20mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム7.38g(22.7mmol)、3-ブロモ-2-メチル-1-プロペン 2.45g(18.2mmol)を加え、全容を25℃で18時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=80:20)により精製し、白色固体として中間体Y1を368mg得た(収率:11.1%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.59(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.52(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.26(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.05(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,8.0Hz)、4.98(s,1H)、4.86(s,1H)、4.29(s,2H)、4.12(s,2H)、1.71(s,3H)
ステップ2:化合物34の合成
 温度計を備えた4つ口反応器において、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体Y1 368mg(1.68mmol)及び、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.0g(1.06mmol)を、エタノール3ml及びTHF15mlの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸49.2mg(0.21mmol)を加え、全容を40℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10)により精製し、白色固体として化合物34を1.07g得た(収率:88.5%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74(d,1H,J=2.5Hz)、7.70(d,1H,J=7.5Hz)、7.67(d,1H,J=8.0Hz)、7.63(s,1H)、7.34(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.18(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.12(d,1H,J=9.0Hz)、7.10(dd,1H,J=2.5Hz,9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.98(s,1H)、4.90(s,2H)、4.83(s,1H)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.56-2.66(m,4H)、2.31-2.36(m,8H)、1.76-1.82(m,7H)、1.64-1.74(m,12H)、1.40-1.55(m,8H)
(実施例73)化合物35
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000138
ステップ1:中間体Z1の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000139
 温度計を備えた4つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール5.00g(30.3mmol)を、DMF50mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム14.8g(45.5mmol)、1-ブロモ-2-メチルプロパン 4.98g(36.4mmol)を加え、全容を25℃で24時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=85:15)により精製し、白色固体として中間体Z1を3.28g得た(収率:48.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.52(dd,1H,J=1.0Hz,8.5Hz)、7.27(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.5Hz)、7.06(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、4.24(s,2H)、3.57(d,2H,J=6.5Hz)、2.14-2.25(triplet of septets,1H,J=6.5Hz,6.5Hz)、1.00(d,6H,J=6.5Hz)
ステップ2:化合物35の合成
 温度計を備えた4つ口反応器において、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体Z1 518mg(2.34mmol)及び、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 2.00g(2.12mmol)を、エタノール3ml及びTHF20mlの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸54.4mg(0.24mmol)を加え、全容を40℃で7時間撹拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10)により精製し、白色固体として化合物35を1.83g得た(収率:75.7%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.76(d,1H,J=2.5Hz)、7.692(s,1H)、7.690(d,1H,J=7.5Hz)、7.66(d,1H,J=8.0Hz)、7.34(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.17(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.12(d,1H,J=9.0Hz)、7.10(dd,1H,J=2.5Hz,9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.16-4.19(m,6H)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.59-2.68(m,4H)、2.23-2.35(m,9H)、1.76-1.82(m,4H)、1.66-1.74(m,12H)、1.42-1.54(m,8H)、1.03(d,6H,J=6.5Hz)
(実施例74)化合物36
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000140
ステップ1:中間体A2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000141
 温度計を備えた4つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール2.50g(15.1mmol)をDMF20mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム7.38g(22.7mmol)、2-ブロモメチル-1,4-ベンゾジオキサン 4.17g(18.2mmol)を加え、全容を25℃で6時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=70:30)により精製し、白色固体として中間体A2を2.39g得た(収率:53.7%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.62(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.51(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.28(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.08(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、6.83-6.90(m,4H)、4.72(dddd,1H,J=2.5Hz,3.0Hz,7.0Hz,7.0Hz)、4.64(s,2H)、4.39(dd,1H,J=2.5Hz,12.5Hz)、4.25(dd,1H,J=3.0Hz,15.0Hz)、4.07(dd,1H,J=7.0Hz,12.0Hz)、3.98(dd,1H,J=7.0Hz,15.0Hz)
ステップ2:化合物36の合成
 温度計を備えた4つ口反応器において、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体A2 627mg(2.13mmol)及び、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.00g(1.06mmol)を、エタノール3ml及びTHF15mlの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸49.2mg(0.21mmol)を加え、全容を40℃で4時間撹拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10)により精製し、白色固体として化合物36を1.11g得た(収率:84.8%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.02(s,1H)、7.76(d,1H,J=2.0Hz)、7.71(d,1H,J=7.5Hz)、7.67(d,1H,J=8.0Hz)、7.36(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.20(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.13(dd,1H,J=2.0Hz,9.0Hz)、7.11(d,1H,J=9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.97(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.85-6.87(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.0Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.0Hz,10.5Hz)、4.75(dd,1H,J=6.0Hz,15.0Hz)、4.68(dddd,1H,J=2.0Hz,5.5Hz,6.0Hz,7.0Hz)、4.47(dd,1H,J=2.0Hz,11.5Hz)、4.42(dd,1H,J=5.5Hz,15.0Hz)、4.18(t,4H,J=7.0Hz)、4.08(dd,1H,J=7.5Hz,11.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.0Hz)、2.57-2.68(m,3H)、2.41-2.47(m,1H)、2.24-2.36(m,6H)、2.17-2.20(m,2H)、1.77-1.82(m,4H)、1.69-1.74(m,8H)、1.56-1.65(m,4H)、1.42-1.54(m,8H)
(実施例75)化合物37
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000142
ステップ1:中間体B2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000143
 温度計を備えた4つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール5.00g(30.3mmol)をDMF50mlに溶解した。この溶液に、炭酸セシウム14.8g(45.5mmol)、β-ブロモフェネトール7.30g(36.6mmol)を加え、全容を25℃で24時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mLに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=70:30)により精製し、白色固体として中間体B2を2.26g得た(収率:28.1%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.61(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.53(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.26-7.31(m,3H)、7.07(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、6.97(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、6.90(dd,2H,J=1.0Hz,8.5Hz)、4.70(s,2H)、4.39(t,2H,J=4.5Hz)、4.23(t,2H,J=4.5Hz)
ステップ2:化合物37の合成
 温度計を備えた4つ口反応器において、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体B2 312mg(1.77mmol)及び、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.00g(1.06mmol)を、エタノール3ml及びTHF15mlの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、(±)-10-カンファースルホン酸27.1mg(0.12mmol)を加え、全容を40℃で7時間撹拌した。反応終了後、反応液を水150mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=90:10)により精製し、白色固体として化合物37を1.18g得た(収率:92.3%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.14(s,1H)、7.78(d,1H,J=1.0Hz)、7.70(d,1H,J=8.0Hz)、7.67(d,1H,J=8.0Hz)、7.35(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.24-7.27(m,2H)、7.18(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.14(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.12(d,1H,J=7.5Hz)、6.93-7.00(m,5H)、6.87-6.90(m,6H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.69(t,2H,J=6.0Hz)、4.36(t,2H,J=6.0Hz)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、2.56-2.68(m,3H)、2.31-2.39(m,5H)、2.23-2.27(m,2H)、2.11-2.14(m,2H)、1.77-1.85(m,4H)、1.69-1.74(m,8H)、1.42-1.65(m,12H)
(実施例76)化合物38
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000144
ステップ1:中間体C2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000145
 温度計を備えた4つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール2.00g(12.1mmol)を、DMF30mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム7.88g(24.2mmol)、2-ブロモエチルフェニルスルフィド 3.15g(14.5mmol)を加え、全容を25℃で3時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出し、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=80:20)により精製し、白色固体として中間体C2を1.55g得た(収率:42.5%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.61(dd,1H,J=1.3Hz,8.0Hz)、7.53(dd,1H,J=1.3Hz,8.0Hz)、7.38-7.43(m,2H)、7.27-7.32(m,3H)、7.21(ddd,1H,J=1.3Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.08(ddd,1H,J=1.3Hz,8.0Hz,8.0Hz)、4.44(s,2H)、4.00(t,2H,J=6.5Hz)、3.36(t,2H,J=6.5Hz)
ステップ2:化合物38の合成
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体C2 534mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とし、全容を40℃にて5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1)により精製し、淡黄色固体として化合物38を1.67g得た(収率:86.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74(s,1H)、7.65-7.72(m,3H)、7.44-7.49(m,2H)、7.30-7.39(m,3H)、7.23(ddd,1H,J=1.0Hz,7.0Hz,7.0Hz)、7.19(ddd,1H,J=1.0Hz,7.0Hz,7.0Hz)、7.10-7.14(m,2H)、6.96-7.01(m,4H)、6.86-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.22(t,2H,J=8.0Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、3.28(t,2H,J=8.0Hz)、2.52-2.73(m,4H)、2.24-2.40(m,8H)、1.62-1.84(m,16H)、1.41-1.56(m,8H)
(実施例77)化合物39
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000146
ステップ1:中間体D2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000147
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール2.00g(12.1mmol)をDMF30mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム7.88g(24.2mol)を加えて0℃に冷却し、2-(2-ブロモエチル)-1,3-ジオキサン2.83g(14.5mmol)を5分間かけて滴下し、滴下終了後、反応液を25℃に戻して25時間攪拌した。反応終了後、反応液に水200mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた白色固体をトルエン50mlで洗浄し、真空乾燥することで白色固体として中間体D2を1.45g得た(収率42.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):7.59(dd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz)、7.52(dd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz)、7.27(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.05(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz)、4.70(t,1H,J=4.5Hz)、4.47(s,2H)、4.00-4.12(m,2H)、3.93(t,2H,J=6.5Hz)、3.68-3.76(m,2H)、1.98-2.11(m,3H)、1.29-1.36(m,1H)
ステップ2:化合物39の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体D2 495mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とし、全容を40℃にて3時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=92:8)により精製し、淡黄色固体として化合物39を1.61g得た(収率:83.8%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.79(s,1H)、7.74(d,1H,J=1.5Hz)、7.69(dd,1H,J=1.3Hz,6.5Hz)、7.67(dd,1H,J=1.3Hz,6.5Hz)、7.34(ddd,1H,J=1.3Hz,6.5Hz,6.5Hz)、7.16(ddd,1H,J=1.3Hz,6.5Hz,6.5Hz)、7.08-7.13(m,2H)、6.95-7.01(m,4H)、6.85-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.68(t,1H,J=5.0Hz)、4.41(t,2H,J=7.5Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、4.07-4.14(m,2H)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、3.71-3.79(m,2H)、2.55-2.75(m,4H)、2.25-2.41(m,8H)、2.01-2.15(m,3H)、1.64-1.84(m,16H)、1.41-1.56(m,8H)、1.32-1.38(m,1H)
(実施例78)化合物40
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000148
ステップ1:中間体E2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000149
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール2.00g(12.1mmol)をDMF30mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 7.88g(24.2mol)を加えて0℃に冷却し、2-ブロモメチル1,3-ジオキソラン2.42g(14.5mmol)を5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃で3時間さらに攪拌した。反応終了後、反応液に水200mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=55:45)により精製することで、白色固体として中間体E2を1.31g得た(収率43.1%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.53(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.27(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.06(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、5.19(t,1H,J=4.5Hz)、4.63(s,2H)、3.93-4.05(m,4H)、3.86-3.94(m,2H)
ステップ2:化合物40の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体E2 447mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=85:15)により精製し、淡黄色固体として化合物40を1.60g得た(収率:85.7%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.11(s,1H)、7.76(d,1H,J=1.5Hz)、7.71(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.69(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.39(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.09-7.13(m,2H)、6.96-7.01(m,4H)、6.86-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.24(t,1H,J=3.5Hz)、4.57(d,2H,J=3.5Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.97-4.01(m,2H)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、3.86-3.90(m,2H)、2.55-2.74(m,4H)、2.25-2.41(m,8H)、1.64-1.84(m,16H)、1.40-1.55(m,8H)
(実施例79)化合物41
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000150
ステップ1:中間体F2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000151
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール2.00g(12.1mmol)をDMF30mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム7.88g(24.2mmol)、2-(ノナフルオロブチル)エチルヨージド 5.00g(14.5mmol)を加え、全容を25℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出し、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=9:1)により精製し、白色固体として中間体F2を1.15g得た(収率:22.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.63(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.57(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.32(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.11(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、4.35(s,2H)、4.08(t,2H,J=7.5Hz)、2.56-2.70(m,2H)
ステップ2:化合物41の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.35g(1.44mmol)、前記ステップ1で合成した中間体F2 654mg(1.59mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸38.4mg(0.165mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とし、全容を40℃にて5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=92:8)により精製し、淡黄色固体として化合物41を1.41g得た(収率:73.6%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74-7.78(m,2H)、7.69-7.73(m,2H)、7.38(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.21(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.11-7.17(m,2H)、6.95-7.01(m,4H)、6.85-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.61-4.69(m,2H)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.52-2.71(m,6H)、2.25-2.40(m,8H)、1.61-1.84(m,16H)、1.41-1.55(m,8H)
(実施例80)化合物42
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000152
ステップ1:中間体G2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000153
温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 2.00g(12.11mol)をDMF40mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム7.89g(24.21mol)と3-ブロモプロピオニトリル 1.95g(14.53mmol)とを加え、全容を25℃で15時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水500mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物にトルエン20mlを加え0℃に冷却した。析出した結晶をろ取し、真空乾燥させることで、白色固体として中間体G2を1.12g、収率42%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.70(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.42(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.24(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.03(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.47(s,2H)、3.99(t,2H,J=6.5Hz)、2.97(t,2H,J=6.5Hz)
ステップ2:化合物42の合成
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.0g(1.06mmol)をTHF30mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.44ml(0.44mmol)と前記ステップ1で合成した中間体G2 1.12g(5.13mmol)を加え、全容を60℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=40:1)により精製することで、淡黄色固体として化合物42を0.55g、収率91%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.84(s,1H)、7.66-7.76(m,3H)、7.38(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.22(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.13-7.16(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.87(d,2H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.62(t,2H,J=7.0Hz)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、2.85(t,2H,J=7.0Hz)、2.70-2.80(m,1H)、2.54-2.70(m,3H)、2.25-2.41(m,8H)、1.64-1.85(m,16H)、1.41-1.55(m,8H)
(実施例81)化合物43
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000154
ステップ1:中間体H2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000155
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール2.00g(12.11mol)をDMF40mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム7.89g(24.21mol)と3-ブロモブチロニトリル 2.15g(14.53mmol)とを加え、全容を25℃で15時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水500mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:9)により精製することで、白色固体として中間体H2を2.03g、収率72%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.70(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.41(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.24(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.03(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.24(s,2H)、4.86-4.96(m,1H)、2.80-2.96(m,2H)、1.27(d,3H,J=6.5Hz)
ステップ2:化合物43の合成
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.0g(1.06mmol)をTHF30mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.44ml(0.44mmol)と前記ステップ1で合成した中間体H2 0.74g(3.20mmol)を加え、全容を60℃で15時間撹拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=40:1)により精製することで、淡黄色固体として化合物43を1.04g、収率85%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.18(s,1H)、7.65-7.76(m,3H)、7.37(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.21(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.13-7.16(m,2H)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.85-4.94(m,1H)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、3.28-3.46(m,2H)、2.53-2.80(m,4H)、2.23-2.41(m,8H)、1.64-1.84(m,19H)、1.41-1.55(m,8H)
(実施例82)化合物44
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000156
ステップ1:中間体I2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000157
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール2.00g(12.11mol)をDMF40mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム7.89g(24.21mol)とプロパルギルブロミド 1.73g(14.53mmol)とを加え、全容を25℃で15時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水500mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:19)により精製することで、淡黄色固体として中間体I2を0.69g、収率28%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.73(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.44(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.26(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.06(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.31(s,2H)、4.52(d,2H,J=2.5Hz)、3.35(t,1H,J=2.5Hz)
ステップ2:化合物44の合成
温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.0g(1.06mmol)をTHF30mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.44ml(0.44mmol)と前記ステップ1で合成した中間体I2 0.64g(3.20mmol)を加え、全容を50℃で15時間撹拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=40:1)により精製することで、淡黄色固体として化合物44を1.10g、収率92%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.92(s,1H)、7.67-7.78(m,3H)、7.36(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.20(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.11-7.17(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.14(d,2H,J=2.0Hz)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、2.54-2.76(m,4H)、2.24-2.42(m,9H)、1.64-1.84(m,16H)、1.41-1.56(m,8H)
(実施例83)化合物45
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000158
ステップ1:中間体J2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000159
温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 2.00g(12.11mol)をDMF40mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム7.89g(24.21mol)と4-ブロモ-1-ブチン 1.93g(14.53mmol)とを加え、全容を25℃で15時間攪拌した。その後、反応液を60℃に加熱して更に3時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水500mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:19)により精製することで、淡黄色固体として中間体J2を0.98g、収率37%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.68(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.39(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.22(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.01(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.33-5.40(m,1H)、5.29(s,2H)、4.91-4.97(m,2H)、4.32-4.37(m,2H)
ステップ2:化合物45の合成
温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.0g(1.06mmol)をTHF30mlに溶解させた。この溶液に、1N塩酸0.44ml(0.44mmol)と、前記ステップ1で合成した中間体J2:0.7g(3.20mmol)を加え、全容を50℃で15時間撹拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=40:1)により精製することで、淡黄色固体として化合物45を1.08g、収率89%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.76(s,1H)、7.66-7.76(m,3H)、7.35(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.18(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.09-7.13(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.19-5.27(m,1H)、4.93-4.99(m,2H)、4.83-4.89(m,2H)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.54-2.74(m,4H)、2.24-2.40(m,8H)、1.63-1.84(m,16H)、1.41-1.56(m,8H)
(実施例84)化合物46
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000160
ステップ1:中間体K2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000161
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド10.0g(72.4mol)をジクロロメタン200mlに溶解させた。この溶液を0℃に冷却し、ジイソプロピルエチルアミン35.06g(0.27mol)を加え、クロロメチルメチルエーテル23.32g(0.29mol)を10分間かけて滴下し、滴下終了後、反応液を25℃にして、同温度で15時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水1000mlを加え、ジクロロメタン200mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:19)により精製することで、無色オイルとして中間体K2を13.26g、収率81%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):10.46(s,1H)、7.49(d,1H,J=3.0Hz)、7.23(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz)、7.17(d,1H,J=9.0Hz)、5.25(s,2H)、5.15(s,2H)、3.52(s,3H)、3.47(s,3H)
ステップ2:中間体L2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000162
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体K2 11.04g(48.8mol)をエタノール400mlに溶解させた。この溶液に、2-ヒドラジノピリジン6.40g(58.56mmol)を加え、全容を25℃で3時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水400mlを加え、析出した結晶をろ取し、蒸留水で洗浄後、真空乾燥させることで、淡黄色固体として中間体L2を11.16g、収率72%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):10.93(s,1H)、8.34(s,1H)、8.07-8.12(m,1H)、7.61-7.67(m,1H)、7.52(d,1H,J=3.0Hz)、7.23(d,1H,J=8.5Hz)、7.09(d,1H,J=9.0Hz)、6.96(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz)、6.73-6.78(m,1H)、5.20(s,2H)、5.18(s,2H)、3.42(s,3H)、3.40(s,3H)
ステップ3:中間体M2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000163
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、前記ステップ2で合成した中間体L2 10.0g(31.5mol)をTHF300mlに溶解させた。この溶液に、水素化ナトリウム(油性:50~72%)14.0g(34.7mmol)を30分間かけて添加し、さらに25℃で30分攪拌した。その後、2-クロロベンゾチアゾール5.9g(34.7mmol)を加え、反応液を加熱し還流条件下で8時間攪拌した。その後、反応液に蒸留水2000mlと飽和食塩水500mlを加え、酢酸エチル1000mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:19)により精製することで、淡黄色固体として中間体M2を8.8g、収率62%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.69-8.75(m,1H)、8.19(s,1H)、7.99(dt,1H,J=2.0Hz,7.5Hz)、7.71-7.79(m,2H)、7.59-7.67(m,2H)、7.37-7.43(m,1H)、7.28-7.33(m,1H)、7.15-7.21(m,2H)、7.01-7.04(m,1H)、5.22(s,2H)、5.03(s,2H)、3.54(s,3H)、3.36(s,3H)
ステップ4:中間体N2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000164
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、前記ステップ3で合成した中間体M2 8.4g(18.7mol)をエタノール300mlに溶解させ、p-トルエンスルホン酸一水和物17.7g(93.2mmol)を加え、全容を25℃で15時間攪拌した。その後、反応液に蒸留水2000mlと飽和食塩水500mlを加え、酢酸エチル1500mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物にメタノール150mlを加えた。不溶分の結晶をろ過によりろ取し、メタノールで洗浄後、真空乾燥させることで、黄色固体として中間体N2を3.1g、収率46%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):9.28(s,1H)、9.01(s,1H)、8.74-8.78(m,1H)、8.17(dt,1H,J=2.0Hz,7.5Hz)、7.92(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.86(s,1H)、7.72-7.76(m,1H)、7.58-7.63(m,1H)、7.51(d,1H,J=8.0Hz)、7.32(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.25-7.28(m,1H)、7.21(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、6.70-6.72(m,2H)
ステップ5:化合物46
 温度計を備えた3口反応器において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ1で合成した中間体A 10.4g(24.8mmol)をTHF150mlに溶解させた。この溶液に、メタンスルホニルクロリド2.9g(25.7mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を20℃とし、トリエチルアミン2.7g(26.5mmol)を10分間かけて滴下した。滴下終了後、水浴を除去し、全容を25℃で2時間撹拌した。次いで、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 0.2g(1.7mmol)、前記ステップ4で合成した中間体N2 3.0g(8.3mmol)を加え、さらに、トリエチルアミン2.5g(24.8mmol)を10分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃で2時間撹拌した。反応終了後、反応液に蒸留水2000mlと飽和食塩水500mlを加え、クロロホルム1000mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=25:1)により精製することで、淡黄色固体として化合物46を1.8g、収率19%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.70-8.74(m,1H)、8.02(dt,1H,J=2.0Hz,7.5Hz)、7.87(s,1H)、7.83(d,1H,J=2.5Hz)、7.74-7.78(m,1H)、7.62-7.67(m,2H)、7.42-7.46(m,1H)、7.34(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.22(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.07-7.15(m,2H)、6.96-7.01(m,4H)、6.90(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、2.56-2.71(m,2H)、2.25-2.50(m,6H)、2.12-2.21(m,2H)、1.93-2.01(m,2H)、1.65-1.85(m,12H)、1.31-1.61(m,12H)
(実施例85)化合物47
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000165
ステップ1:中間体O2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000166
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、o-トリルヒドラジン1.68g(10.61mol)とエタノール50mlを加えた。この溶液にトリエチルアミン1.34g(13.26mol)を加え、全容を25℃で10分間攪拌した。得られた混合物に、前記実施例84の化合物46合成のステップ1で合成した中間体K2 2.00g(8.84mol)を加えて、全容を25℃で1時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水300mlと飽和食塩水50mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:25)により精製することで、淡黄色固体として中間体O2を2.81g、収率96%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.16(s,1H)、7.69(d,1H,J=3.0Hz)、7.57(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.14-7.26(m,2H)、7.03-7.11(m,2H)、6.95(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz)、6.81(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.18(s,2H)、5.18(s,2H)、3.51(s,3H)、3.50(s,3H)、2.24(s,3H)
ステップ2:中間体P2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000167
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、前記ステップ1で合成した中間体O2:2.78g(8.42mol)をTHF50mlに溶解させた。この溶液に、水素化ナトリウム(油性:50~72%)0.54g(13.46mmol)を25℃で15分間かけて添加し、30分攪拌した。その後、2-クロロベンゾチアゾール2.14g(12.62mmol)を加え、反応液を加熱還流条件下で2時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水400mlと飽和食塩水50mlを加え、酢酸エチル150mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=3:100)により精製することで、淡黄色固体として中間体P2を2.66g、収率68%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.76(d,1H,J=3.0Hz)、7.72(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.60(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.54(s,1H)、7.41-7.48(m,3H)、7.25-7.34(m,2H)、7.11-7.21(m,1H)、6.95-7.03(m,2H)、5.22(s,2H)、4.98(s,2H)、3.55(s,3H)、3.26(s,3H)、2.16(s,3H)
ステップ3:中間体Q2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000168
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、前記ステップ2で合成した中間体P2 2.65g(5.72mol)をエタノール80mlに溶解させた。この溶液に、p-トルエンスルホン酸一水和物5.44g(28.58mmol)を加えて15時間攪拌した。反応終了後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、メタノール40mlを加えた。不溶分の結晶をろ過によりろ取し、メタノールで洗浄後、真空乾燥させることで、黄色固体として中間体Q2を1.88g、収率88%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.90(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.46-7.58(m,5H)、7.39-7.42(m,1H)、7.25-7.33(m,2H)、7.18(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.10-7.15(m,2H)、6.69(s,1H)、6.69(s,1H)、2.29(s,3H)
ステップ4:化合物47
 温度計を備えた3口反応器において、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ1で合成した中間体A 5.36g(12.78mmol)をTHF60mlに溶解させた。この溶液に、メタンスルホニルクロリド1.52g(13.22mmol)を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を20℃とし、トリエチルアミン1.38g(13.7mmol)を5分間かけて滴下した。次いで水浴を除去し、全容を25℃で2時間撹拌した。さらに、4-(ジメチルアミノ)ピリジン 0.1g(0.82mmol)、前記ステップ3で合成した中間体Q2 1.60g(4.26mmol)を加え、さらにトリエチルアミン1.30g(12.78mmol)を5分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃で2時間撹拌した。反応終了後、反応液に蒸留水400mlと飽和食塩水100mlを加え、クロロホルム200mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:THF=40:1)により精製することで、淡黄色固体として化合物47を1.04g、収率21%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.84(d,1H,J=3.0Hz)、7.73(dt,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.61(d,1H,J=8.0Hz)、7.44-7.52(m,3H)、7.27-7.34(m,2H)、7.15-7.20(m,2H)、7.10(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz)、7.05(d,1H,J=9.0Hz)、7.01(d,2H,J=9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.90(d,2H,J=9.0Hz)、6.89(d,2H,J=9.0Hz)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、3.96(t,2H,J=6.5Hz)、3.95(t,2H,J=6.5Hz)、2.56-2.72(m,2H)、2.42-2.51(m,1H)、2.28-2.40(m,5H)、2.14-2.22(m,2H)、2.14(s,3H)、1.65-1.91(m,14H)、1.41-1.57(m,10H)、1.19-1.31(m,2H)
〈相転移温度の測定3〉
 上記で得た化合物34~47をそれぞれ10mg計量し、固体状態のままで、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板2枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、40℃から250℃まで昇温した後、再び40℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏光光学顕微鏡で観察した。
 測定した相転移温度を下記表5に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000169
(実施例86~88)
 実施例72~74で得た化合物34~36を、それぞれ1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物39~41を得た。
(実施例89)
 実施例75で得た化合物37を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、クロロホルム3.0gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物42を得た。
(実施例90~93)
 実施例76~79で得た化合物38~41を、ぞれぞれ1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物43~46を得た。
(実施例94)
 実施例80で得た化合物42を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、クロロホルム3.0gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物47を得た。
(実施例95~97)
 実施例81~83で得た化合物43~45を、それぞれ1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物48~50を得た。
(実施例98)
 実施例84で得た化合物46を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、クロロホルム2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物51を得た。
(実施例99)
 実施例85で得た化合物47を1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物52を得た。
〈位相差の測定と波長分散の評価III〉
(i)重合性組成物による液晶層の形成
 ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板に、重合性組成物39~52のそれぞれを♯4のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表6に示す温度で1分間乾燥した後、表6に示す温度で1分間配向処理し、液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から2000mJ/cmの紫外線を表6に示す温度下にて照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。
(ii)位相差の測定及び波長分散の評価
 得られた試料につき、位相差の測定、波長分散の評価を前記と同様の方法で行った。
 重合して得られた液晶性高分子膜の膜厚(μm)、波長548.5nmにおける位相差(Re)、α、βの値を、下記表6にまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000170
 表6より、本発明に係る化合物34~47を用いて得られた実施例86~99の高分子は、光学異方体であることが分かる。また、得られた光学異方体のαは1より小となり、βは1より大か、ほぼ1となり、広帯域性を示す理想的な波長分散性を示した。
(実施例100)化合物48の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000171
ステップ1:中間体R2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000172
 温度計を備えた4つ口反応器内で、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 2.00g(12.1mmol)をDMF30mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 7.88g(24.2mmol)、1-ブロモ-2-ブチン 1.93g(14.5mmol)を加え、全容を25℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=85:15)により精製し、白色固体として中間体R2を1.25g得た(収率:47.5%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.63(dd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz)、7.58(dd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz)、7.29(ddd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz,7.8Hz)、7.10(ddd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz,7.8Hz)、4.56(q,2H,J=2.5Hz)、4.36(s,2H)、1.84(t,3H,J=2.5Hz)
ステップ2:化合物48の合成
 温度計を備えた3つ口反応器内で、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体R2 387mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.165mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1)により精製し、淡黄色固体として化合物48を1.54g得た(収率:84.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.90(s,1H)、7.78(d,1H,J=1.3Hz)、7.67-7.73(m,2H)、7.35(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.18(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.09-7.15(m,2H)、6.95-7.01(m,4H)、6.85-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.0Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.06(d,2H,J=2.0Hz)、4.18(t,4H,J=6.0Hz)、3.95(t,4H,J=6.0Hz)、2.55-2.76(m,4H)、2.26-2.43(m,8H)、1.64-1.83(m,19H)、1.41-1.55(m,8H)
(実施例101)化合物49の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000173
ステップ1:中間体S2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000174
 温度計を備えた3つ口反応器内で、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 2.00g(12.1mmol)をDMF30mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 7.88g(24.2mol)を加えて0℃に冷却し、10-クロロ-3-デシン 2.50g(14.5mmol)を5分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃で5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=85:15)により精製し、白色固体として中間体S2を1.51g得た(収率:41.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz)、7.53(dd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz)、7.28(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.06(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,7.5Hz)、4.23(s,2H)、3.75(t,2H,J=7.5Hz)、2.09-2.21(m,4H)、1.75(tt,2H,J=7.5Hz,7.5Hz)、1.35-1.54(m,6H)、1.11(t,3H,J=7.5Hz)
ステップ2:化合物49の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体S2 534mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて3時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=92:8)により精製し、淡黄色固体として化合物49を1.62g得た(収率:83.8%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.75(d,1H,J=1.5Hz)、7.65-7.71(m,3H)、7.34(ddd,1H,J=1.5Hz,7.8Hz,7.8Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.5Hz,7.8Hz,7.8Hz)、7.08-7.14(m,2H)、6.95-7.01(m,4H)、6.85-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.31(t,2H,J=7.5Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、2.54-2.74(m,4H)、2.25-2.40(m,8H)、2.09-2.19(m,4H)、1.63-1.85(m,18H)、1.38-1.55(m,14H)、1.09(t,3H,J=7.5Hz)
(実施例102)化合物50の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000175
ステップ1:中間体T2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000176
 温度計を備えた3つ口反応器内で、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 3.00g(18.2mmol)をDMF40mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 11.9g(36.4mol)を加えて0℃に冷却し、クロロメチルフェニルスルホン 4.15g(21.8mmol)を5分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃で6時間攪拌した。反応終了後、反応液に水300mlを加え、酢酸エチル200mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=75:25)により精製することで、白色固体として中間体T2を1.81g得た(収率31.2%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.85-7.90(m,2H)、7.55(dd,1H,J=1.5Hz,7.3Hz)、7.32-7.43(m,3H)、7.13-7.21(m,2H)、7.05(ddd,1H,J=1.5Hz,7.3Hz,7.3Hz)、5.25(s,2H)、4.99(s,2H)
ステップ2:化合物50の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体T2 567mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=9:1)により精製し、淡黄色固体として化合物50を1.53g得た(収率:77.3%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
 H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.50(s,1H)、7.87-7.95(m,2H)、7.72(d,1H,J=1.3Hz)、7.61(d,1H,J=7.5Hz)、7.33-7.45(m,4H)、7.27(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.16-7.20(m,2H)、7.15(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz)、6.94-7.01(m,4H)、6.84-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、5.61(s,2H)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、2.73-2.86(m,1H)、2.54-2.71(m,3H)、2.40-2.49(m,2H)、2.29-2.39(m,6H)、1.62-1.84(m,16H)、1.40-1.54(m,8H)
(実施例103)化合物51の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000177
ステップ1:中間体U2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000178
 温度計を備えた3つ口反応器内で、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 3.00g(18.2mmol)をDMF40mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 11.9g(36.4mol)を加えて0℃に冷却し、フェナシルブロミド 4.34g(21.8mmol)を5分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃で5時間攪拌した。反応終了後、反応液に水250mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=75:25)により精製することで、白色固体として中間体U2を1.79g得た(収率34.7%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.99(dd,2H,J=1.3Hz,7.5Hz)、7.59-7.66(m,2H)、7.44-7.53(m,3H)、7.25(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.08(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz)、5.31(s,2H)、4.65(s,2H)
ステップ2:化合物51の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体U2 504mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=85:15)により精製し、淡黄色固体として化合物51を1.59g得た(収率:82.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.12(dd,2H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.76(d,1H,J=2.5Hz)、7.72(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.60-7.69(m,2H)、7.53-7.59(m,2H)、7.42(s,1H)、7.34(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.19(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.06-7.12(m,2H)、6.95-7.01(m,4H)、6.86-6.93(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.83(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.82(s,2H)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.55-2.72(m,2H)、2.20-2.42(m,6H)、1.87-2.09(m,4H)、1.64-1.85(m,12H)、1.32-1.56(m,12H)
(実施例104)化合物52の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000179
ステップ1:中間体V2の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000180
 温度計を備えた3つ口反応器内で、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 3.00g(18.2mmol)をDMF30mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 11.9g(36.4mol)を加えて0℃に冷却し、2-フェニルエチルブロミド 4.03g(21.8mmol)を5分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を25℃で25時間攪拌した。反応終了後、反応液に水250mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=78:22)により精製することで、白色固体として中間体V2を2.10g得た(収率42.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz)、7.56(dd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz)、7.20-7.36(m,6H)、7.07(ddd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz,7.8Hz)、4.05(s,2H)、4.01(t,2H,J=7.3Hz)、3.07(t,2H,J=7.3Hz)
ステップ2:化合物52の合成
 温度計を備えた3つ口反応器に、窒素気流中、実施例1の化合物1合成のステップ2で合成した中間体B 1.50g(1.60mmol)、前記ステップ1で合成した中間体V2 477mg(1.78mmol)、(±)-10-カンファスルホン酸41.4mg(0.178mmol)、THF16ml、及びエタノール4mlを加え、均一な溶液とした。その後、全容を40℃にて5時間撹拌した。反応終了後、反応液を水100mlに投入し、クロロホルム200mlで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=92:8)により精製し、淡黄色固体として化合物52を1.56g得た(収率:82.3%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.76(d,1H,J=1.5Hz)、7.68-7.73(m,3H)、7.29-7.39(m,5H)、7.22-7.26(m,1H)、7.19(ddd,1H,J=1.5Hz,8.5Hz,8.5Hz)、7.08-7.14(m,2H)、6.95-7.02(m,4H)、6.86-6.92(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.0Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.54(t,2H,J=5.5Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、3.06(t,2H,J=5.5Hz)、2.56-2.71(m,3H)、2.42-2.53(m,1H)、2.13-2.40(m,8H)、1.59-1.84(m,16H)、1.41-1.56(m,8H)
〈相転移温度の測定4〉
 化合物48~52をそれぞれ10mg計量し、固体状態のままで、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板2枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、40℃から250℃まで昇温した後、再び40℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏光光学顕微鏡で観察した。
 測定した相転移温度を下記表7に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000181
(実施例105~109)
 実施例100~104で得た化合物48~52をそれぞれ1.0g、光重合開始剤Aを30mg、界面活性剤Aの1%シクロペンタノン溶液100mgを、シクロペンタノン2.3gに溶解させた。この溶液を0.45μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物53~57を得た。
〈位相差の測定と波長分散の評価IV〉
(i)重合性組成物による液晶層の形成
 ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板に、重合性組成物53~57のそれぞれを♯4のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表8に示す温度で1分間乾燥した後、表8に示す温度で1分間配向処理し、液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から2000mJ/cmの紫外線を表8に示す温度下にて照射して重合させ、波長分散測定用の試料とした。
(ii)位相差の測定、波長分散の評価
 得られた試料につき、位相差の測定、波長分散の評価を前記と同様の方法で行った。
 重合して得られた液晶性高分子膜の膜厚(μm)、波長548.5nmにおける位相差(Re)、α、βの値を、下記表8にまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000182
 表8より、本発明に係る化合物48~52を用いて得られた実施例105~109の高分子は、光学異方体であることが分かる。また、得られた光学異方体のαは1より小となり、βは1より大となり、広帯域性を示す理想的な波長分散性を示した。
(実施例110)
 実施例4で得た化合物4を19.3部、光重合開始剤B(BASFジャパン社製、イルガキュアー379)を0.6部、界面活性剤B(AGCセイミケミカル社製、サーフロンS-420)の1%シクロペンタノン溶液5.8部を、シクロペンタノン74.2部に溶解し、0.6μmの細孔径を有するディスポーサブルフィルターで濾過して、重合性組成物58を得た。
(実施例111)
 実施例110において、実施例4で得た化合物4の代わりに、実施例26で得た化合物13を用いたほかは、実施例110と同様にして重合性組成物59を得た。
(実施例112)
 実施例110において、実施例4で得た化合物4の代わりに、実施例35で得た化合物22を用いたほかは、実施例110と同様にして重合性組成物60を得た。
(比較例3)
 実施例110において、実施例4で得た化合物4の代わりに、合成例1で得た化合物Aを用いたほかは、実施例110と同様にして重合性組成物61を得た。
〈位相差の測定と反射輝度の評価〉
 得られた重合性組成物58~61を、下記の方法で重合させて高分子を得た。得られた高分子のそれぞれについて、位相差の測定と反射輝度の評価を行った。
(位相差板の製造)
 支持体(日本ゼオン社製、ゼオノアフィルム、商品名「ZF16」)の一方の面を、ラビングすることにより配向処理を行なった。かかる面上に、上記で得た重合性組成物58~61のそれぞれを、スピンコーターで乾燥膜厚がそれぞれ2.5μm、1.9μm、1.9μm及び1.4μmになるように塗布した。オーブンにて130℃(重合性組成物60については、105℃)で2分間加熱することにより、重合性組成物の層を乾燥させた。これにより、支持体、及びその上に形成された乾燥した重合性組成物の層からなる複層物を得た。
 次に、当該複層物にメタルハライドランプを用いて紫外線を照射し、重合性化合物を重合させた。紫外線の照射量は、照度16mW/cmで露光量を100mJ/cmとした。これにより、支持体、及びその上に設けられた光学異方体層からなる位相差板を得た。得られた光学異方体層の膜厚は、それぞれ2.5μm、1.9μm、1.9μm及び1.4μmであった。
 得られた位相差板について、位相差解析装置(AXOMETRICS社製、製品名:AxoScan)を用いて、波長λ=550nmにおける位相差Re(550)を測定した。その結果を表9に示す。
(円偏光板の製造)
 得られた位相差板と直線偏光板(SANRITZ社製、製品名:HLC2-5618)を、光学用透明粘着材(日東電工社製、商品名:LUCIACS)で貼り合わせることにより、円偏光板を作製した。このとき、直線偏光板の吸収軸方向と位相差板の遅層軸方向(ラビング方向と平行方向)との相対角を45°とした。
(円偏光板の反射輝度の算出)
 得られた円偏光板の位相差板側に、前記光学用透明粘着材を用いてアルミニウム蒸着PETフィルム(東レフィルム加工社製、商品名:メタルミーTS#50)を貼り合わせて、測定用の試料を作製した。この試料の5°反射における反射スペクトルを分光光度計(日本分光社製、商品名:V7200)により測定した。測定波長は380nm~780nmである。
 得られた反射スペクトルに等色関数y(λ)を掛け合わせ積分することにより、反射輝度Yを算出した。このとき、基準となる白色光源にはD65光源を想定した。その結果を表9に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000183
 表9の結果から、実施例110~112で得られた円偏光板の反射輝度は、比較例3のものに比して低くなっており、優れた円偏光板であることが分かる。

Claims (18)

  1.  下記式(I)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    {式中、Y~Yはそれぞれ独立して、化学的な単結合、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-O-C(=O)-NR-、-NR-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-NR-、-O-NR-、又は、-NR-O-を表す。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
     G、Gはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~20の二価の鎖状脂肪族基を表す。前記鎖状脂肪族基には、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-NR-、又は、-C(=O)-が介在していてもよい。ただし、-O-又は-S-がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
     Z、Zはそれぞれ独立して、無置換又はハロゲン原子で置換された炭素数2~10のアルケニル基を表す。
     Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。
     Aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、-C(=O)-R、-SO-R、-C(=S)NH-R、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。ここで、Rは、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、炭素数5~12の芳香族炭化水素基を表し、Rは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表し、Rは置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数5~20の芳香族基を表す。
     前記A及びAが有する芳香環は置換基を有していてもよい。
     また、前記AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。
     Aは、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
     A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3~30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
     A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数6~30の二価の芳香族基を表す。
     Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。}で示される重合性化合物。
  2.  前記AとAに含まれるπ電子の総数が4以上24以下である請求項1に記載の重合性化合物。
  3.  前記Aが、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基である請求項1又は2に記載の重合性化合物。
  4.  前記Y~Y8が、それぞれ独立して、化学的な単結合、-O-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、又は、-O-C(=O)-O-である請求項1~3のいずれかに記載の重合性化合物。
  5.  前記Z、Zが、それぞれ独立して、CH=CH-、CH=C(CH)-、又は、CH=C(Cl)-である請求項1~4のいずれかに記載の重合性化合物。
  6.  前記G、Gが、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~12の二価の脂肪族基〔該脂肪族基には、-O-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-又は-C(=O)-が介在していてもよい。ただし、-O-が2以上隣接して介在する場合を除く。〕である請求項1~5のいずれかに記載の重合性化合物。
  7.  前記G、Gがそれぞれ独立して、炭素数1~12のアルキレン基である請求項1~6のいずれかに記載の重合性化合物。
  8.  請求項1~7のいずれかに記載の重合性化合物を少なくとも1種を含有する重合性組成物。
  9.  請求項1~7のいずれかに記載の重合性化合物の少なくとも1種、及び重合開始剤を含有する重合性組成物。
  10.  請求項1~7のいずれかに記載の重合性化合物、又は、請求項8若しくは請求項9に記載の重合性組成物を重合して得られる高分子。
  11.  液晶性高分子である請求項10に記載の高分子。
  12.  請求項11に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。
  13.  下記式(4)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    {式中、Y~Yはそれぞれ独立して、化学的な単結合、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-O-C(=O)-NR-、-NR-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-NR-、-O-NR-、又は、-NR-O-を表す。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
     G、Gはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~20の二価の鎖状脂肪族基を表す。前記鎖状脂肪族基には、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-NR-、又は、-C(=O)-が介在していてもよい。ただし、-O-又は-S-がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
     Z、Zはそれぞれ独立して、無置換又はハロゲン原子で置換された炭素数2~10のアルケニル基を表す。
     Aは、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
     A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3~30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
     A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数6~30の二価の芳香族基を表す。
     Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。}で示されるカルボニル化合物。
  14.  前記Aが、置換基を有していてもよい、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基である請求項13記載のカルボニル化合物。
  15.  前記A、Aがそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい二価のシクロヘキシル基である請求項13又は14に記載のカルボニル化合物。
  16.  前記Z、Zが、それぞれ独立して、CH=CH-、CH=C(CH)-、又は、CH=C(Cl)-である請求項13~15のいずれかに記載のカルボニル化合物。
  17.  請求項13~16のいずれかに記載のカルボニル化合物と、下記式
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    (式中、Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。
     Aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、-C(=O)-R、-SO-R、-C(=S)NH-R、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。ここで、Rは、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、炭素数5~12の芳香族炭化水素基を表し、Rは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表し、Rは置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数5~20の芳香族基を表す。
     前記A及びAが有する芳香環は置換基を有していてもよい。
     また、前記AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。)
    で示されるヒドラジン化合物を反応させることを特徴とする、下記式(I)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    {式中、A、Aは前記と同じ意味を表し、
    ~Yはそれぞれ独立して、化学的な単結合、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-O-C(=O)-NR-、-NR-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-NR-、-O-NR-、又は、-NR-O-を表す。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
     G、Gはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~20の二価の鎖状脂肪族基を表す。前記鎖状脂肪族基には、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-NR-、又は、-C(=O)-が介在していてもよい。ただし、-O-又は-S-がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
     Z、Zはそれぞれ独立して、無置換又はハロゲン原子で置換された炭素数2~10のアルケニル基を表す。
     Aは、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
     A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3~30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
     A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数6~30の二価の芳香族基を表す。
     Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。}で示される重合性化合物の製造方法。
  18.  請求項13~16のいずれかに記載のカルボニル化合物を、下記式(I)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    {式中、Aは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。
     Aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、-C(=O)-R、-SO-R、-C(=S)NH-R、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。ここで、Rは、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、炭素数5~12の芳香族炭化水素基を表し、Rは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表し、Rは置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数5~20の芳香族基を表す。前記A及びAが有する芳香環は置換基を有していてもよい。また、前記AとAは一緒になって、環を形成していてもよい。)
    ~Yはそれぞれ独立して、化学的な単結合、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-O-C(=O)-NR-、-NR-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-NR-、-O-NR-、又は、-NR-O-を表す。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
     G、Gはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~20の二価の鎖状脂肪族基を表す。前記鎖状脂肪族基には、-O-、-S-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-O-、-NR-C(=O)-、-C(=O)-NR-、-NR-、又は、-C(=O)-が介在していてもよい。ただし、-O-又は-S-がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。〕。
     Z、Zはそれぞれ独立して、無置換又はハロゲン原子で置換された炭素数2~10のアルケニル基を表す。
     Aは、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
     A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数3~30の二価の脂環式炭化水素基を表す。
     A、Aはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数6~30の二価の芳香族基を表す。
     Qは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。}で示される重合性化合物の製造原料として使用する方法。
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Cited By (102)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014126113A1 (ja) * 2013-02-15 2014-08-21 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2015064698A1 (ja) * 2013-10-31 2015-05-07 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
JP2015140302A (ja) * 2014-01-27 2015-08-03 日本ゼオン株式会社 エーテル化合物の製造方法、および重合性化合物の製造方法
WO2015129654A1 (ja) * 2014-02-28 2015-09-03 日本ゼオン株式会社 1,1-ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法
WO2015141784A1 (ja) * 2014-03-19 2015-09-24 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
WO2015147243A1 (ja) * 2014-03-28 2015-10-01 富士フイルム株式会社 重合性化合物、ポリマー、重合性組成物、フィルム、および投映像表示用ハーフミラー
KR20150113855A (ko) * 2014-03-31 2015-10-08 후지필름 가부시키가이샤 액정 화합물 및 광학 필름, 그리고 광학 필름의 제조 방법
WO2016002816A1 (ja) * 2014-06-30 2016-01-07 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造中間体、その製造方法、組成物及び安定化方法
JP2016053149A (ja) * 2014-03-28 2016-04-14 富士フイルム株式会社 重合性化合物、ポリマー、重合性組成物、フィルム、および投映像表示用ハーフミラー
CN105524625A (zh) * 2014-10-21 2016-04-27 富士胶片株式会社 光学各向异性层及其制造方法、层叠体、偏振片、显示装置、液晶化合物及其制造方法、羧酸化合物
JP2016098258A (ja) * 2014-11-18 2016-05-30 日本ゼオン株式会社 重合性液晶組成物、高分子、光学異方体、及び偏光板
WO2016088749A1 (ja) * 2014-12-04 2016-06-09 Dic株式会社 重合性化合物、組成物、重合体、光学異方体、液晶表示素子及び有機el素子
WO2016114211A1 (ja) * 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
WO2016114066A1 (ja) * 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
WO2016114252A1 (ja) * 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
WO2016136533A1 (ja) * 2015-02-24 2016-09-01 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
JP2016166344A (ja) * 2015-03-02 2016-09-15 Jnc株式会社 重合性液晶組成物及び光学異方性フィルム
WO2016159193A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の混合物及びその製造方法
KR20160122139A (ko) * 2014-02-12 2016-10-21 제온 코포레이션 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체
JP2016190818A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 日本ゼオン株式会社 1,1−ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法
JP2016190828A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
WO2016190435A1 (ja) * 2015-05-28 2016-12-01 日本ゼオン株式会社 円偏光分離フィルム及びその製造方法
WO2016194999A1 (ja) * 2015-06-03 2016-12-08 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP6055569B1 (ja) * 2016-05-18 2016-12-27 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルム
JP6090514B1 (ja) * 2016-05-18 2017-03-08 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
JPWO2015122384A1 (ja) * 2014-02-14 2017-03-30 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2017056501A1 (ja) * 2015-10-02 2017-04-06 日本ゼオン株式会社 酸ハライド溶液の製造方法、混合溶液、及びモノエステル化合物の製造方法
WO2017057545A1 (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP2017088591A (ja) * 2015-11-09 2017-05-25 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
WO2017098988A1 (ja) * 2015-12-08 2017-06-15 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
WO2017098952A1 (ja) * 2015-12-07 2017-06-15 Dic株式会社 重合性化合物の製造方法
WO2017110631A1 (ja) * 2015-12-25 2017-06-29 日本ゼオン株式会社 光学異方性層及びその製造方法、光学異方性積層体並びに円偏光板
WO2017154588A1 (ja) * 2016-03-10 2017-09-14 Dic株式会社 エステル基を有する化合物の製造方法
JPWO2017038265A1 (ja) * 2015-09-01 2017-10-19 Dic株式会社 粉体混合物
JPWO2017038267A1 (ja) * 2015-09-03 2017-11-09 Dic株式会社 メソゲン基を有する化合物及びそれを含む組成物、並びに重合性組成物を重合することにより得られる重合体、光学異方体、並びに位相差膜
JPWO2017038266A1 (ja) * 2015-09-03 2017-11-24 Dic株式会社 メソゲン基を有する化合物を含む組成物、並びに重合性組成物を重合することにより得られる重合体、光学異方体、並びに位相差膜
JP2017206504A (ja) * 2017-04-27 2017-11-24 日本ゼオン株式会社 化合物、重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルム
CN107406769A (zh) * 2015-03-19 2017-11-28 日本瑞翁株式会社 液晶性组合物、相位差层的制造方法和圆偏振片
WO2018066486A1 (ja) 2016-10-06 2018-04-12 日本ゼオン株式会社 混合物、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルム、並びに重合性化合物の使用方法
KR20180040718A (ko) 2015-10-23 2018-04-20 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물 및 광학 이방체
WO2018096958A1 (ja) 2016-11-22 2018-05-31 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム
WO2018096938A1 (ja) 2016-11-22 2018-05-31 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、反射防止フィルム、および化合物
KR20180074751A (ko) 2015-11-26 2018-07-03 후지필름 가부시키가이샤 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 중합성 화합물과 1,4-사이클로헥세인다이카복실산 모노아릴에스터의 제조 방법
WO2018123551A1 (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 富士フイルム株式会社 光学フィルムおよびその製造方法、偏光板、画像表示装置
WO2018123586A1 (ja) 2016-12-27 2018-07-05 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性液晶混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、および化合物
WO2018123622A1 (ja) 2016-12-26 2018-07-05 日本ゼオン株式会社 混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム、並びに、混合物の製造方法
WO2018123625A1 (ja) 2016-12-26 2018-07-05 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム
WO2018128084A1 (ja) * 2017-01-06 2018-07-12 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
WO2018155498A1 (ja) * 2017-02-21 2018-08-30 富士フイルム株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶化合物の製造方法、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
KR20180101396A (ko) 2016-01-26 2018-09-12 니폰 제온 가부시키가이샤 산 할라이드 용액의 제조 방법, 및 모노에스테르 화합물의 제조 방법
WO2018168778A1 (ja) 2017-03-17 2018-09-20 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性液晶混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、および化合物
US20180275329A1 (en) * 2015-09-30 2018-09-27 Zeon Corporation Optical film and method for producing same
WO2018173954A1 (ja) 2017-03-23 2018-09-27 日本ゼオン株式会社 重合性化合物およびその製造方法、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、並びに、化合物およびその使用方法
WO2018180716A1 (ja) 2017-03-27 2018-10-04 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法および溶液
JP2018184599A (ja) * 2015-01-16 2018-11-22 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
KR20180129767A (ko) 2016-03-30 2018-12-05 디아이씨 가부시끼가이샤 2-히드라지노벤조티아졸 유도체의 제조 방법
WO2019017445A1 (ja) * 2017-07-19 2019-01-24 富士フイルム株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP6473537B1 (ja) * 2017-10-13 2019-02-20 大日本印刷株式会社 重合性液晶化合物、重合性組成物、重合体、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
WO2019039165A1 (ja) 2017-08-23 2019-02-28 日本ゼオン株式会社 重合性液晶材料、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、反射防止フィルム、表示装置、並びに、重合性液晶組成物の製造方法
JP2019056069A (ja) * 2017-09-21 2019-04-11 日本ゼオン株式会社 重合性液晶材料、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、反射防止フィルム、表示装置、並びに、重合性液晶組成物の製造方法
US10316252B2 (en) 2014-09-05 2019-06-11 Fujifilm Corporation Polymerizable compound, polymer, polymerizable composition, and film
US10323120B2 (en) 2014-09-25 2019-06-18 Fujifilm Corporation Polymerizable composition containing polymerizable compound, film, and half mirror for displaying projection image
KR20190072610A (ko) 2016-11-29 2019-06-25 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치
KR20190077028A (ko) 2016-11-29 2019-07-02 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치
JP2019120945A (ja) * 2017-12-27 2019-07-22 大日本印刷株式会社 重合性液晶化合物、重合性組成物、重合体、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
WO2019151263A1 (ja) * 2018-02-05 2019-08-08 日本ゼオン株式会社 1,1-ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法および重合性化合物の製造方法
WO2019163878A1 (ja) * 2018-02-21 2019-08-29 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
WO2019181247A1 (ja) 2018-03-23 2019-09-26 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶層、積層体、光学異方体、反射膜、コレステリック液晶層の製造方法、偽造防止媒体、および、判定方法
WO2019182052A1 (ja) 2018-03-23 2019-09-26 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶層の製造方法、コレステリック液晶層、液晶組成物、硬化物、光学異方体、反射層
WO2019188519A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 日本ゼオン株式会社 液晶硬化フィルム及びその製造方法、第一硬化層、偏光板、並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置
WO2019188495A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 日本ゼオン株式会社 光学異方体及びその製造方法、1/4波長板、偏光板及び有機エレクトロルミネッセンス表示パネル
JP2019199461A (ja) * 2018-05-15 2019-11-21 Jnc株式会社 化合物、液晶組成物、および液晶表示素子
WO2019230848A1 (ja) * 2018-06-01 2019-12-05 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
WO2020022422A1 (ja) * 2018-07-25 2020-01-30 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
KR20200013730A (ko) 2017-07-19 2020-02-07 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
WO2020059768A1 (ja) * 2018-09-21 2020-03-26 日本ゼオン株式会社 化合物およびその使用方法
US10703973B2 (en) 2015-03-12 2020-07-07 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, film, and half mirror for displaying projection image
KR20200083567A (ko) 2017-12-07 2020-07-08 후지필름 가부시키가이샤 장척 위상차 필름, 장척 적층체, 화상 표시 장치
US10723952B2 (en) 2014-10-09 2020-07-28 Dic Corporation Polymerizable compound and optically anisotropic body
KR20200102479A (ko) 2018-02-14 2020-08-31 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
JP2020134634A (ja) * 2019-02-15 2020-08-31 大日本印刷株式会社 重合性液晶化合物、重合性組成物、重合体、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
KR20200103834A (ko) 2018-02-14 2020-09-02 후지필름 가부시키가이샤 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20200103833A (ko) 2018-02-14 2020-09-02 후지필름 가부시키가이샤 화상 표시 장치 및 감광성 접착제 포함 원 편광판
KR20200105935A (ko) 2018-02-14 2020-09-09 후지필름 가부시키가이샤 혼정, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20200105917A (ko) 2018-02-14 2020-09-09 후지필름 가부시키가이샤 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20200105905A (ko) 2018-02-14 2020-09-09 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 중합성 액정 조성물의 제조 방법, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20200105898A (ko) 2018-02-14 2020-09-09 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20200106068A (ko) 2018-02-14 2020-09-10 후지필름 가부시키가이샤 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치
KR20200111741A (ko) 2018-02-28 2020-09-29 후지필름 가부시키가이샤 적층체, 유기 전계 발광 장치, 액정 표시 장치
JP2020531615A (ja) * 2017-08-15 2020-11-05 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung 重合性lc媒体およびフラット光学分散を有するポリマーフィルム
US10935835B2 (en) 2016-08-08 2021-03-02 Zeon Corporation Optically anisotropic laminate, polarizing plate, and image display device
JPWO2021124803A1 (ja) * 2019-12-17 2021-06-24
WO2021182280A1 (ja) * 2020-03-11 2021-09-16 住友化学株式会社 重合性液晶組成物、位相差フィルム、楕円偏光板および光学ディスプレイ
US11261378B2 (en) 2014-12-25 2022-03-01 Dic Corporation Polymerizable compound and optically anisotropic object
KR20220050169A (ko) 2019-09-27 2022-04-22 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20220050162A (ko) 2019-09-27 2022-04-22 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 화합물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
US11435510B2 (en) * 2013-09-11 2022-09-06 Fujifilm Corporation Optically anisotropic layer, method of manufacturing the same, laminate, method of manufacturing the same, polarizing plate, liquid crystal display device, and organic EL display
KR20230030525A (ko) 2021-08-25 2023-03-06 후지필름 가부시키가이샤 액정 조성물, 액정 경화층, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
US11630253B2 (en) 2018-09-04 2023-04-18 Fujifilm Corporation Laminate, organic electroluminescent device, and liquid crystal display device
US11697695B2 (en) 2015-01-16 2023-07-11 Dic Corporation Polymerizable composition and optically anisotropic body using same
US12038650B2 (en) 2017-03-28 2024-07-16 Zeon Corporation Multilayer phase difference plate, polarizing plate, and image display device
JP7528685B2 (ja) 2020-09-29 2024-08-06 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、および反射防止フィルム

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012141245A1 (ja) * 2011-04-15 2012-10-18 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
JP5979136B2 (ja) 2011-04-27 2016-08-24 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2013180217A1 (ja) 2012-05-30 2013-12-05 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
US10273322B2 (en) * 2013-08-22 2019-04-30 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optical anisotropic body
CN107209309B (zh) * 2015-01-16 2020-06-02 Dic株式会社 聚合性组合物和使用该聚合性组合物的光学各向异性体
WO2016114348A1 (ja) * 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性組成物及び光学異方体
US20180120487A1 (en) * 2015-04-24 2018-05-03 Zeon Corporation Multilayer film manufacturing method and multilayer film
US20170145312A1 (en) * 2015-11-25 2017-05-25 Sumitomo Chemical Company, Limited Liquid crystal composition
CN108431175A (zh) * 2015-12-22 2018-08-21 日本瑞翁株式会社 液晶性组合物、液晶固化层及其制造方法、以及光学膜
JP7052718B2 (ja) * 2016-03-08 2022-04-12 日本ゼオン株式会社 液晶性組成物、液晶硬化層及びその液晶硬化層の製造方法
CA3018343A1 (en) 2016-03-23 2017-09-28 Guardian Glass, LLC Low haze switchable liquid crystal arrangement for use in switchable window or the like
US10705274B2 (en) 2016-03-30 2020-07-07 Zeon Coporation Optically anisotropic layer and production method therefor, optically anisotropic laminate and production method therefor, optically anisotropic transfer body, polarization plate, and image display device
TWI719177B (zh) * 2016-03-30 2021-02-21 日商日本瑞翁股份有限公司 光學異向性層積體、圓偏光板以及影像顯示裝置
JP7430631B2 (ja) 2017-08-15 2024-02-13 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 重合性液晶材料および重合した液晶フィルム
TWI742155B (zh) * 2017-09-08 2021-10-11 日商迪愛生股份有限公司 具有酯基之化合物之製造方法、其化合物及衍生物、以及使用該等之組成物、聚合物、光學各向異性體、顯示元件
TWI828609B (zh) * 2017-09-13 2024-01-11 日商迪愛生股份有限公司 2-肼基苯并噻唑衍生物之製造方法、從該衍生物衍生之化合物、組成物、聚合物、光學各向異性體及樹脂
CN108640833A (zh) * 2018-04-13 2018-10-12 上海皓元医药股份有限公司 4-(6-(丙烯酰氧基)已氧基)苯酚及其系列化合物的制备方法
JP6700468B1 (ja) * 2019-12-25 2020-05-27 住友化学株式会社 重合性液晶混合物、重合性液晶組成物
EP4039776A3 (en) 2020-11-20 2022-08-24 Merck Patent GmbH Polymerisable lc material and polymer film
EP4416234A1 (en) 2021-10-11 2024-08-21 Merck Patent GmbH Polymerisable compound, polymerisable lc material and polymer film
WO2023237572A1 (en) 2022-06-10 2023-12-14 Merck Patent Gmbh Polymerisable liquid crystal medium and polymerised liquid crystal film
WO2024061796A1 (en) 2022-09-21 2024-03-28 Merck Patent Gmbh Polymerisable liquid crystal medium and polymerised liquid crystal film

Citations (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07294735A (ja) * 1994-04-22 1995-11-10 Dainippon Ink & Chem Inc 光学異方性を有する基板
US5567349A (en) 1994-03-30 1996-10-22 Hoffmann-La Roche Inc. Photo cross-linkable liquid crystals
JPH1068816A (ja) 1996-08-29 1998-03-10 Sharp Corp 位相差板及び円偏光板
JPH1090521A (ja) 1996-07-24 1998-04-10 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光軸回転積層位相差板およびこれを用いた投射型液晶表示装置
JPH1152131A (ja) 1997-08-01 1999-02-26 Sumitomo Bakelite Co Ltd 位相差板及びそれを用いた偏光素子
WO2000026705A1 (fr) 1998-10-30 2000-05-11 Teijin Limited Film a differences de phase et dispositif optique dans lequel il est utilise
JP2000284126A (ja) 1999-01-27 2000-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板、円偏光板および反射型液晶表示装置
US6139771A (en) 1997-04-04 2000-10-31 Displaytech, Inc. Mesogenic materials with anomalous birefringence dispersion and high second order susceptibility (X.sup.(2)).
JP2001004837A (ja) 1999-06-22 2001-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板および円偏光板
US6203724B1 (en) 1998-12-03 2001-03-20 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Crosslinked cyclohexane derivatives, and liquid-crystalline medium
JP2001234154A (ja) * 1999-12-14 2001-08-28 Hayashibara Biochem Lab Inc 光吸収材とその用途
JP2002267838A (ja) 2001-03-06 2002-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差膜
US20020159005A1 (en) 1998-11-06 2002-10-31 Kohei Arakawa Quarter wave plate comprising two optically anisotropic layers
JP2003160540A (ja) 2001-09-17 2003-06-03 Fuji Photo Film Co Ltd 四員環化合物、それを用いた複屈折媒体および光学部材
JP2005208415A (ja) 2004-01-23 2005-08-04 Nitto Denko Corp 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置
JP2005208414A (ja) 2004-01-23 2005-08-04 Nitto Denko Corp 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置
JP2005208416A (ja) 2004-01-23 2005-08-04 Nitto Denko Corp 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置
JP2005289980A (ja) 2004-03-08 2005-10-20 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶化合物、液晶組成物、重合体、位相差板、及び楕円偏光板
JP2005336103A (ja) 2004-05-27 2005-12-08 Fuji Photo Film Co Ltd フェニルヒドラジン類の製造方法
WO2006052001A1 (ja) 2004-11-11 2006-05-18 Sumitomo Chemical Company, Limited 光学フィルム
JP2006330710A (ja) 2005-04-28 2006-12-07 Sumitomo Chemical Co Ltd フィルム及びその製造方法
JP2007002208A (ja) 2004-11-11 2007-01-11 Sumitomo Chemical Co Ltd 光学フィルム
JP2008291218A (ja) * 2007-04-24 2008-12-04 Nippon Zeon Co Ltd 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子および光学異方体
US20090072194A1 (en) 2005-04-28 2009-03-19 Motohiro Yamahara Films and Processes for Producing the Same
WO2009042544A1 (en) 2007-09-26 2009-04-02 Indiana University Research And Technology Corporation Quinone derivatives, pharmaceutical compositions, and uses thereof
US20090189120A1 (en) 2008-01-29 2009-07-30 Fujifilm Corporation Compound, liquid crystal composition, and anisotropic material
JP2009173893A (ja) 2007-12-28 2009-08-06 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法
JP2009274984A (ja) 2008-05-14 2009-11-26 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法
JP2010001284A (ja) * 2008-05-20 2010-01-07 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物及び光学フィルム
JP2010030979A (ja) 2007-12-28 2010-02-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2010070505A (ja) * 2008-09-19 2010-04-02 Nippon Zeon Co Ltd 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子及び光学異方体
US20100201920A1 (en) 2007-09-03 2010-08-12 Merck Patent Gesellschaft Calamitic Mesogenic Compounds
US20100301271A1 (en) 2007-09-03 2010-12-02 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Fluorene derivatives
JP2011006360A (ja) 2009-06-26 2011-01-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2011006361A (ja) 2009-06-26 2011-01-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2011042606A (ja) 2009-08-20 2011-03-03 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
WO2012141245A1 (ja) * 2011-04-15 2012-10-18 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2012147904A1 (ja) * 2011-04-27 2012-11-01 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2012176679A1 (ja) * 2011-06-24 2012-12-27 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5512427B2 (ja) * 1971-12-29 1980-04-02
WO1983001448A1 (en) * 1981-10-16 1983-04-28 Abbott Lab Ad1-(2-benzoxazolyl)hydrazinobdalkyl nitrile derivatives
DE3340932A1 (de) * 1983-11-11 1985-05-23 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur herstellung von teilweise bekannten 2-hydrazino-benzimidazol-derivaten
JPH0619580B2 (ja) * 1984-03-29 1994-03-16 東洋インキ製造株式会社 電子写真感光体
JPS61296358A (ja) * 1985-06-26 1986-12-27 Toshiba Corp 電子写真感光体
JPS6217750A (ja) * 1985-07-16 1987-01-26 Toshiba Corp 電子写真感光体
DE3533331A1 (de) * 1985-09-18 1987-03-26 Heumann Ludwig & Co Gmbh Pyridothiazolderivate, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltende arzneimittel
US5506331A (en) * 1992-05-01 1996-04-09 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Polyester polymer, production thereof and electrophotographic photoreceptor using the same
FR2710644B1 (fr) * 1993-10-01 1995-12-22 Innothera Lab Sa Dérivés d'indane cétoniques et de leurs analogues hétérocycliques et leur utilisation thérapeutique.
EP0659865B1 (en) 1993-12-24 1999-06-16 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Polymerizable liquid crystal composition and optically anisotropic film comprising the same
JP2005345781A (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Canon Inc 電子写真感光体
JP5401032B2 (ja) * 2006-12-15 2014-01-29 富士フイルム株式会社 光学異方性膜、輝度向上フィルム、位相差板および液晶表示装置
JP4283854B2 (ja) * 2007-01-29 2009-06-24 シャープ株式会社 芳香族ポリカーボネート、電子写真感光体および画像形成装置
CN101622219A (zh) * 2007-03-01 2010-01-06 日本瑞翁株式会社 可聚合的液晶化合物,可聚合的液晶组合物,液晶聚合物,和光学各向异性物质
WO2008133290A1 (ja) 2007-04-24 2008-11-06 Zeon Corporation 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子および光学異方体
JP2009276442A (ja) * 2008-05-13 2009-11-26 Konica Minolta Opto Inc 1/4波長板、画像表示装置および液晶表示装置
JP5556078B2 (ja) * 2009-07-30 2014-07-23 日本ゼオン株式会社 キラル化合物の製造方法および製造中間体
JP5652011B2 (ja) * 2010-06-10 2015-01-14 住友化学株式会社 光学フィルム
JP5804814B2 (ja) * 2011-07-20 2015-11-04 富士フイルム株式会社 化合物、ヘイズ低下剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム
JP5967092B2 (ja) * 2011-07-29 2016-08-10 日本ゼオン株式会社 光学異方体の波長分散調整方法及び重合性組成物
KR20200024367A (ko) * 2011-09-27 2020-03-06 제온 코포레이션 중합성 화합물의 제조 중간체 및 그 제조 방법
WO2013146633A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 日本ゼオン株式会社 位相差フィルム積層体およびその製造方法、ならびに液晶表示装置
JP5880226B2 (ja) * 2012-04-03 2016-03-08 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
WO2013180217A1 (ja) * 2012-05-30 2013-12-05 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
KR102128555B1 (ko) * 2012-10-19 2020-06-30 제온 코포레이션 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체
WO2014065243A1 (ja) * 2012-10-22 2014-05-01 日本ゼオン株式会社 位相差板、円偏光板、及び画像表示装置
WO2014065176A1 (ja) * 2012-10-23 2014-05-01 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2014132978A1 (ja) 2013-02-28 2014-09-04 富士フイルム株式会社 位相差板、反射防止板、画像表示装置、および位相差板の製造方法
US9868710B2 (en) 2013-10-31 2018-01-16 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic product
CN106068257B (zh) * 2014-03-19 2018-09-14 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物的制造方法
JP6047604B2 (ja) * 2014-03-31 2016-12-21 富士フイルム株式会社 液晶化合物および光学フィルム、ならびに光学フィルムの製造方法
JP6217999B2 (ja) * 2014-10-09 2017-10-25 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
CN105524625B (zh) * 2014-10-21 2020-10-09 富士胶片株式会社 光学各向异性层及其制造方法、层叠体、偏振片、显示装置、液晶化合物及其制造方法、羧酸化合物
US10633353B2 (en) * 2014-12-04 2020-04-28 Dic Corporation Polymerizable compound, composition, polymer, optically anisotropic body, liquid crystal display element, and organic EL display

Patent Citations (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5567349A (en) 1994-03-30 1996-10-22 Hoffmann-La Roche Inc. Photo cross-linkable liquid crystals
JPH07294735A (ja) * 1994-04-22 1995-11-10 Dainippon Ink & Chem Inc 光学異方性を有する基板
JPH1090521A (ja) 1996-07-24 1998-04-10 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光軸回転積層位相差板およびこれを用いた投射型液晶表示装置
JPH1068816A (ja) 1996-08-29 1998-03-10 Sharp Corp 位相差板及び円偏光板
US6139771A (en) 1997-04-04 2000-10-31 Displaytech, Inc. Mesogenic materials with anomalous birefringence dispersion and high second order susceptibility (X.sup.(2)).
JPH1152131A (ja) 1997-08-01 1999-02-26 Sumitomo Bakelite Co Ltd 位相差板及びそれを用いた偏光素子
WO2000026705A1 (fr) 1998-10-30 2000-05-11 Teijin Limited Film a differences de phase et dispositif optique dans lequel il est utilise
US20020159005A1 (en) 1998-11-06 2002-10-31 Kohei Arakawa Quarter wave plate comprising two optically anisotropic layers
US6203724B1 (en) 1998-12-03 2001-03-20 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Crosslinked cyclohexane derivatives, and liquid-crystalline medium
JP2000284126A (ja) 1999-01-27 2000-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板、円偏光板および反射型液晶表示装置
JP2001004837A (ja) 1999-06-22 2001-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板および円偏光板
JP2001234154A (ja) * 1999-12-14 2001-08-28 Hayashibara Biochem Lab Inc 光吸収材とその用途
JP2002267838A (ja) 2001-03-06 2002-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差膜
JP2003160540A (ja) 2001-09-17 2003-06-03 Fuji Photo Film Co Ltd 四員環化合物、それを用いた複屈折媒体および光学部材
US20030102458A1 (en) 2001-09-17 2003-06-05 Naoyuki Nishikawa 4-Membered ring compound and optical phase optical retardation plate using the same
JP2005208415A (ja) 2004-01-23 2005-08-04 Nitto Denko Corp 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置
JP2005208414A (ja) 2004-01-23 2005-08-04 Nitto Denko Corp 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置
JP2005208416A (ja) 2004-01-23 2005-08-04 Nitto Denko Corp 逆波長分散位相差フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置
JP2005289980A (ja) 2004-03-08 2005-10-20 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶化合物、液晶組成物、重合体、位相差板、及び楕円偏光板
US20070176145A1 (en) 2004-03-08 2007-08-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Liquid crystal compound comprising two condensed and substituted rings
JP2005336103A (ja) 2004-05-27 2005-12-08 Fuji Photo Film Co Ltd フェニルヒドラジン類の製造方法
JP2007002208A (ja) 2004-11-11 2007-01-11 Sumitomo Chemical Co Ltd 光学フィルム
WO2006052001A1 (ja) 2004-11-11 2006-05-18 Sumitomo Chemical Company, Limited 光学フィルム
US20070298191A1 (en) 2004-11-11 2007-12-27 Motohiro Yamahara Optical Film
US20090072194A1 (en) 2005-04-28 2009-03-19 Motohiro Yamahara Films and Processes for Producing the Same
JP2006330710A (ja) 2005-04-28 2006-12-07 Sumitomo Chemical Co Ltd フィルム及びその製造方法
JP2008291218A (ja) * 2007-04-24 2008-12-04 Nippon Zeon Co Ltd 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子および光学異方体
US20100201920A1 (en) 2007-09-03 2010-08-12 Merck Patent Gesellschaft Calamitic Mesogenic Compounds
JP2010537955A (ja) 2007-09-03 2010-12-09 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング フルオレン誘導体
JP2010537954A (ja) 2007-09-03 2010-12-09 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング カラミチックメソゲン化合物
US20100301271A1 (en) 2007-09-03 2010-12-02 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Fluorene derivatives
WO2009042544A1 (en) 2007-09-26 2009-04-02 Indiana University Research And Technology Corporation Quinone derivatives, pharmaceutical compositions, and uses thereof
JP2009173893A (ja) 2007-12-28 2009-08-06 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法
JP2010030979A (ja) 2007-12-28 2010-02-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2010031223A (ja) 2007-12-28 2010-02-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
US20090189120A1 (en) 2008-01-29 2009-07-30 Fujifilm Corporation Compound, liquid crystal composition, and anisotropic material
JP2009179563A (ja) 2008-01-29 2009-08-13 Fujifilm Corp 化合物、液晶組成物及び異方性材料
JP2009274984A (ja) 2008-05-14 2009-11-26 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法
JP2010001284A (ja) * 2008-05-20 2010-01-07 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物及び光学フィルム
JP2010070505A (ja) * 2008-09-19 2010-04-02 Nippon Zeon Co Ltd 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子及び光学異方体
JP2011006360A (ja) 2009-06-26 2011-01-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2011006361A (ja) 2009-06-26 2011-01-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2011042606A (ja) 2009-08-20 2011-03-03 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
WO2012141245A1 (ja) * 2011-04-15 2012-10-18 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2012147904A1 (ja) * 2011-04-27 2012-11-01 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2012176679A1 (ja) * 2011-06-24 2012-12-27 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"Jikken Kagaku Koza", vol. 20, 1992, MARUZEN CO., LTD.
"Shin-Jikken Kagaku Koza", vol. 14, 1978, MARUZEN CO., LTD.
"Yuki Gosei Jikkenhou Handbook", 1990, MARUZEN CO., LTD., pages: 810
THE JOURNAL OF ORGANIC CHEMISTRY, vol. 76, 2011, pages 8082 - 8087

Cited By (276)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2963068A1 (en) * 2013-02-15 2016-01-06 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic body
EP2963068A4 (en) * 2013-02-15 2016-11-16 Zeon Corp POLYMERIZABLE COMPOUND, POLYMERIZABLE COMPOSITION, POLYMER, AND OPTICAL ANISOTROPIC BODY
WO2014126113A1 (ja) * 2013-02-15 2014-08-21 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
US10227292B2 (en) 2013-02-15 2019-03-12 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic body
US11435510B2 (en) * 2013-09-11 2022-09-06 Fujifilm Corporation Optically anisotropic layer, method of manufacturing the same, laminate, method of manufacturing the same, polarizing plate, liquid crystal display device, and organic EL display
US11614575B2 (en) 2013-09-11 2023-03-28 Fujifilm Corporation Optically anisotropic layer, method of manufacturing the same, laminate, method of manufacturing the same, polarizing plate, liquid crystal display device, and organic EL display device
US11740398B2 (en) 2013-09-11 2023-08-29 Fujifilm Corporation Optically anisotropic layer, method of manufacturing the same, laminate, method of manufacturing the same, polarizing plate, liquid crystal display device, and organic EL display
US12078832B2 (en) 2013-09-11 2024-09-03 Fujifilm Corporation Optically anisotropic layer, method of manufacturing the same, laminate, method of manufacturing the same, polarizing plate, liquid crystal display device, and organic EL display device
US10730844B2 (en) 2013-10-31 2020-08-04 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic product
EP3064516A4 (en) * 2013-10-31 2017-04-19 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optical isomer
JPWO2015064698A1 (ja) * 2013-10-31 2017-03-09 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2015064698A1 (ja) * 2013-10-31 2015-05-07 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
US9868710B2 (en) 2013-10-31 2018-01-16 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic product
JP2015140302A (ja) * 2014-01-27 2015-08-03 日本ゼオン株式会社 エーテル化合物の製造方法、および重合性化合物の製造方法
KR20160122139A (ko) * 2014-02-12 2016-10-21 제온 코포레이션 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체
KR102273081B1 (ko) 2014-02-12 2021-07-02 제온 코포레이션 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체
US10954443B2 (en) 2014-02-14 2021-03-23 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic product
US10400170B2 (en) 2014-02-14 2019-09-03 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic product
JPWO2015122384A1 (ja) * 2014-02-14 2017-03-30 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
EP3106478A4 (en) * 2014-02-14 2017-10-04 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic body
WO2015129654A1 (ja) * 2014-02-28 2015-09-03 日本ゼオン株式会社 1,1-ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法
CN106029641A (zh) * 2014-02-28 2016-10-12 日本瑞翁株式会社 1,1-二取代肼化合物的制造方法
JPWO2015129654A1 (ja) * 2014-02-28 2017-03-30 日本ゼオン株式会社 1,1−ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法
EP3121168A4 (en) * 2014-03-19 2017-11-08 Zeon Corporation Method for producing polymerizable compound
CN106068257A (zh) * 2014-03-19 2016-11-02 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物的制造方法
JP2019194207A (ja) * 2014-03-19 2019-11-07 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
US10059679B2 (en) 2014-03-19 2018-08-28 Zeon Corporation Method for producing polymerizable compound
WO2015141784A1 (ja) * 2014-03-19 2015-09-24 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
JPWO2015141784A1 (ja) * 2014-03-19 2017-04-13 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
WO2015147243A1 (ja) * 2014-03-28 2015-10-01 富士フイルム株式会社 重合性化合物、ポリマー、重合性組成物、フィルム、および投映像表示用ハーフミラー
US10012868B2 (en) 2014-03-28 2018-07-03 Fujifilm Corporation Polymerizable compound, polymer, polymerizable composition, film, and half mirror for displaying projection image
KR20160128368A (ko) 2014-03-28 2016-11-07 후지필름 가부시키가이샤 중합성 화합물, 폴리머, 중합성 조성물, 필름, 및 투영상 표시용 하프 미러
JP2016053149A (ja) * 2014-03-28 2016-04-14 富士フイルム株式会社 重合性化合物、ポリマー、重合性組成物、フィルム、および投映像表示用ハーフミラー
KR102525256B1 (ko) 2014-03-31 2023-04-24 후지필름 가부시키가이샤 액정 화합물 및 광학 필름, 그리고 광학 필름의 제조 방법
JP2015200877A (ja) * 2014-03-31 2015-11-12 富士フイルム株式会社 液晶化合物および光学フィルム、ならびに光学フィルムの製造方法
KR20220054567A (ko) * 2014-03-31 2022-05-03 후지필름 가부시키가이샤 액정 화합물 및 광학 필름, 그리고 광학 필름의 제조 방법
KR102390443B1 (ko) * 2014-03-31 2022-04-25 후지필름 가부시키가이샤 액정 화합물 및 광학 필름, 그리고 광학 필름의 제조 방법
KR20150113855A (ko) * 2014-03-31 2015-10-08 후지필름 가부시키가이샤 액정 화합물 및 광학 필름, 그리고 광학 필름의 제조 방법
KR20230057328A (ko) * 2014-03-31 2023-04-28 후지필름 가부시키가이샤 액정 화합물 및 광학 필름, 그리고 광학 필름의 제조 방법
US9638849B2 (en) 2014-03-31 2017-05-02 Fujifilm Corporation Liquid crystal compound, optical film, and method for producing optical film
KR102655459B1 (ko) 2014-03-31 2024-04-05 후지필름 가부시키가이샤 액정 화합물 및 광학 필름, 그리고 광학 필름의 제조 방법
CN106458833A (zh) * 2014-06-30 2017-02-22 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物的制造中间体、其制造方法、组合物及稳定化方法
WO2016002816A1 (ja) * 2014-06-30 2016-01-07 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造中間体、その製造方法、組成物及び安定化方法
US10316252B2 (en) 2014-09-05 2019-06-11 Fujifilm Corporation Polymerizable compound, polymer, polymerizable composition, and film
US10323120B2 (en) 2014-09-25 2019-06-18 Fujifilm Corporation Polymerizable composition containing polymerizable compound, film, and half mirror for displaying projection image
US10723952B2 (en) 2014-10-09 2020-07-28 Dic Corporation Polymerizable compound and optically anisotropic body
CN105524625A (zh) * 2014-10-21 2016-04-27 富士胶片株式会社 光学各向异性层及其制造方法、层叠体、偏振片、显示装置、液晶化合物及其制造方法、羧酸化合物
CN105524625B (zh) * 2014-10-21 2020-10-09 富士胶片株式会社 光学各向异性层及其制造方法、层叠体、偏振片、显示装置、液晶化合物及其制造方法、羧酸化合物
US11072741B2 (en) 2014-10-21 2021-07-27 Fujifilm Corporation Optically anisotropic layer, method for producing the optically anisotropic layer, a laminate, polarizing plate, display device, liquid crystal compound, method for producing the liquid crystal compound, and carboxylic acid compound
JP2016098258A (ja) * 2014-11-18 2016-05-30 日本ゼオン株式会社 重合性液晶組成物、高分子、光学異方体、及び偏光板
JPWO2016088749A1 (ja) * 2014-12-04 2017-04-27 Dic株式会社 重合性化合物、組成物、重合体、光学異方体、液晶表示素子及び有機el素子
KR102624959B1 (ko) * 2014-12-04 2024-01-16 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물, 조성물, 중합체, 광학 이방체, 액정 표시 소자 및 유기 el 소자
KR20170086047A (ko) * 2014-12-04 2017-07-25 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물, 조성물, 중합체, 광학 이방체, 액정 표시 소자 및 유기 el 소자
CN107001242A (zh) * 2014-12-04 2017-08-01 Dic株式会社 聚合性化合物、组合物、聚合物、光学各向异性体、液晶显示元件和有机el元件
WO2016088749A1 (ja) * 2014-12-04 2016-06-09 Dic株式会社 重合性化合物、組成物、重合体、光学異方体、液晶表示素子及び有機el素子
CN111548324A (zh) * 2014-12-04 2020-08-18 Dic株式会社 聚合性化合物、组合物、聚合物、光学各向异性体、液晶显示元件和有机el元件
US20170260150A1 (en) * 2014-12-04 2017-09-14 Dic Corporation Polymerizable compound, composition, polymer, optically anisotropic body, liquid crystal display element, and organic el device
CN107001242B (zh) * 2014-12-04 2020-11-17 Dic株式会社 聚合性化合物、组合物、聚合物、光学各向异性体、液晶显示元件和有机el元件
US10633353B2 (en) 2014-12-04 2020-04-28 Dic Corporation Polymerizable compound, composition, polymer, optically anisotropic body, liquid crystal display element, and organic EL display
US11261378B2 (en) 2014-12-25 2022-03-01 Dic Corporation Polymerizable compound and optically anisotropic object
JPWO2016114252A1 (ja) * 2015-01-16 2017-04-27 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
JP6066252B2 (ja) * 2015-01-16 2017-01-25 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
WO2016114211A1 (ja) * 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
CN107207652A (zh) * 2015-01-16 2017-09-26 Dic株式会社 聚合性组合物和使用其的光学各向异性体
WO2016114066A1 (ja) * 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
JP2017203168A (ja) * 2015-01-16 2017-11-16 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
WO2016114252A1 (ja) * 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
CN107108473A (zh) * 2015-01-16 2017-08-29 Dic株式会社 聚合性化合物和光学各向异性体
JP2018184599A (ja) * 2015-01-16 2018-11-22 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
US11697695B2 (en) 2015-01-16 2023-07-11 Dic Corporation Polymerizable composition and optically anisotropic body using same
KR102552213B1 (ko) 2015-01-16 2023-07-06 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 조성물 및 이를 이용한 광학 이방체
KR20170105041A (ko) * 2015-01-16 2017-09-18 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 조성물 및 이를 이용한 광학 이방체
US10647662B2 (en) 2015-01-16 2020-05-12 Dic Corporation Polymerizable compound and optically anisotropic body
JPWO2016114211A1 (ja) * 2015-01-16 2017-04-27 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
JPWO2016114066A1 (ja) * 2015-01-16 2017-04-27 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
KR102613244B1 (ko) * 2015-01-16 2023-12-14 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물 및 광학 이방체
US11186669B2 (en) 2015-01-16 2021-11-30 Dic Corporation Polymerizable composition and optically anisotropic body using same
KR20170102242A (ko) * 2015-01-16 2017-09-08 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물 및 광학 이방체
CN107207419A (zh) * 2015-02-24 2017-09-26 Dic株式会社 聚合性化合物和光学各向异性体
WO2016136533A1 (ja) * 2015-02-24 2016-09-01 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
CN107207419B (zh) * 2015-02-24 2021-03-09 Dic株式会社 聚合性化合物和光学各向异性体
JPWO2016136533A1 (ja) * 2015-02-24 2017-04-27 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
US10597371B2 (en) 2015-02-24 2020-03-24 Dic Corporation Polymerizable compound and optical isomer
US20180022716A1 (en) * 2015-02-24 2018-01-25 Dic Corporation Polymerizable compound and optical isomer
JP2016166344A (ja) * 2015-03-02 2016-09-15 Jnc株式会社 重合性液晶組成物及び光学異方性フィルム
US10703973B2 (en) 2015-03-12 2020-07-07 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, film, and half mirror for displaying projection image
US10533137B2 (en) * 2015-03-19 2020-01-14 Zeon Corporation Liquid crystal composition, method for producing retardation layer, and circularly polarizing plate
CN107406769A (zh) * 2015-03-19 2017-11-28 日本瑞翁株式会社 液晶性组合物、相位差层的制造方法和圆偏振片
US20180072952A1 (en) * 2015-03-19 2018-03-15 Zeon Corporation Liquid crystal composition, method for producing retardation layer, and circularly polarizing plate
CN107406769B (zh) * 2015-03-19 2021-01-29 日本瑞翁株式会社 液晶性组合物、相位差层的制造方法和圆偏振片
TWI680181B (zh) * 2015-03-19 2019-12-21 日商日本瑞翁股份有限公司 液晶性組合物、相位差層之製造方法以及圓偏光板
JP2017052761A (ja) * 2015-03-31 2017-03-16 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の混合物及びその製造方法
TWI671288B (zh) * 2015-03-31 2019-09-11 日商日本瑞翁股份有限公司 聚合性化合物的混合物及其製造方法
JP2016190828A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
CN107428672A (zh) * 2015-03-31 2017-12-01 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物的混合物及其制造方法
WO2016159193A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の混合物及びその製造方法
US10577306B2 (en) 2015-03-31 2020-03-03 Zeon Corporation Mixture of polymerizable compound and method of producing the same
JP2016190818A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 日本ゼオン株式会社 1,1−ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法
JP6020772B1 (ja) * 2015-03-31 2016-11-02 日本ゼオン株式会社 混合物及び重合性化合物の製造方法
CN107428672B (zh) * 2015-03-31 2021-05-14 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物的混合物及其制造方法
US10934246B2 (en) 2015-03-31 2021-03-02 Zeon Corporation Mixture of polymerizable compound and method of producing the same
WO2016190435A1 (ja) * 2015-05-28 2016-12-01 日本ゼオン株式会社 円偏光分離フィルム及びその製造方法
US10620352B2 (en) 2015-05-28 2020-04-14 Zeon Corporation Circularly polarized light separating film and method for producing same
JPWO2016190435A1 (ja) * 2015-05-28 2018-03-15 日本ゼオン株式会社 円偏光分離フィルム及びその製造方法
WO2016194999A1 (ja) * 2015-06-03 2016-12-08 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板および画像表示装置
US11208596B2 (en) 2015-06-03 2021-12-28 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate, and image display device
US10689575B2 (en) 2015-06-03 2020-06-23 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate, and image display device
JP2020173460A (ja) * 2015-06-03 2020-10-22 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JPWO2016194999A1 (ja) * 2015-06-03 2018-03-01 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JPWO2017038265A1 (ja) * 2015-09-01 2017-10-19 Dic株式会社 粉体混合物
JPWO2017038266A1 (ja) * 2015-09-03 2017-11-24 Dic株式会社 メソゲン基を有する化合物を含む組成物、並びに重合性組成物を重合することにより得られる重合体、光学異方体、並びに位相差膜
CN107924015B (zh) * 2015-09-03 2020-06-16 Dic株式会社 具有介晶基的化合物和含有其的组合物、以及聚合物、光学各向异性体以及相位差膜
JPWO2017038267A1 (ja) * 2015-09-03 2017-11-09 Dic株式会社 メソゲン基を有する化合物及びそれを含む組成物、並びに重合性組成物を重合することにより得られる重合体、光学異方体、並びに位相差膜
CN107924015A (zh) * 2015-09-03 2018-04-17 Dic株式会社 具有介晶基的化合物和含有其的组合物、以及通过使聚合性组合物聚合而得到的聚合物、光学各向异性体以及相位差膜
US10649124B2 (en) 2015-09-03 2020-05-12 Dic Corporation Composition including compound having mesogenic group, polymer and optically anisotropic body obtained by polymerizing polymerizable composition, and phase difference film
JPWO2017057545A1 (ja) * 2015-09-30 2018-05-31 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板および画像表示装置
US20180275329A1 (en) * 2015-09-30 2018-09-27 Zeon Corporation Optical film and method for producing same
US11001653B2 (en) 2015-09-30 2021-05-11 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate, and image display device
WO2017057545A1 (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板および画像表示装置
KR20180064393A (ko) 2015-10-02 2018-06-14 니폰 제온 가부시키가이샤 산 할라이드 용액의 제조 방법, 혼합 용액, 및 모노에스테르 화합물의 제조 방법
JPWO2017056501A1 (ja) * 2015-10-02 2018-07-19 日本ゼオン株式会社 酸ハライド溶液の製造方法、混合溶液、及びモノエステル化合物の製造方法
WO2017056501A1 (ja) * 2015-10-02 2017-04-06 日本ゼオン株式会社 酸ハライド溶液の製造方法、混合溶液、及びモノエステル化合物の製造方法
US10508072B2 (en) 2015-10-02 2019-12-17 Zeon Corporation Method for producing acid halide solution, mixed solution, and method for producing monoester compound
US10428032B2 (en) 2015-10-23 2019-10-01 Dic Corporation Polymerizable compound and optically anisotropic body
KR20180040718A (ko) 2015-10-23 2018-04-20 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물 및 광학 이방체
JP2017088591A (ja) * 2015-11-09 2017-05-25 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
JP2018145192A (ja) * 2015-11-09 2018-09-20 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
KR20180081081A (ko) 2015-11-09 2018-07-13 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물 및 광학 이방체
US10919870B2 (en) 2015-11-09 2021-02-16 Dic Corporation Polymerizable compound and optically anisotropic body
US10782567B2 (en) 2015-11-26 2020-09-22 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate, image display device, polymerizable compound, and method for manufacturing 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid monoaryl ester
KR20180074751A (ko) 2015-11-26 2018-07-03 후지필름 가부시키가이샤 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 중합성 화합물과 1,4-사이클로헥세인다이카복실산 모노아릴에스터의 제조 방법
JPWO2017098952A1 (ja) * 2015-12-07 2017-12-28 Dic株式会社 重合性化合物の製造方法
KR20180090820A (ko) 2015-12-07 2018-08-13 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물의 제조 방법
US10927087B2 (en) 2015-12-07 2021-02-23 Dic Corporation Method for producing polymerizable compound
WO2017098952A1 (ja) * 2015-12-07 2017-06-15 Dic株式会社 重合性化合物の製造方法
JP2018154658A (ja) * 2015-12-08 2018-10-04 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
KR20180090286A (ko) 2015-12-08 2018-08-10 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물 및 광학 이방체
WO2017098988A1 (ja) * 2015-12-08 2017-06-15 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
US11046889B2 (en) 2015-12-08 2021-06-29 Dic Corporation Polymerizable compound and optically anisotropic body
JP7067302B2 (ja) 2015-12-08 2022-05-16 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
WO2017110631A1 (ja) * 2015-12-25 2017-06-29 日本ゼオン株式会社 光学異方性層及びその製造方法、光学異方性積層体並びに円偏光板
JPWO2017110631A1 (ja) * 2015-12-25 2018-10-11 日本ゼオン株式会社 光学異方性層及びその製造方法、光学異方性積層体並びに円偏光板
US10633323B2 (en) 2016-01-26 2020-04-28 Zeon Corporation Method of producing acid halide solution and method of producing monoester compound
KR20180101396A (ko) 2016-01-26 2018-09-12 니폰 제온 가부시키가이샤 산 할라이드 용액의 제조 방법, 및 모노에스테르 화합물의 제조 방법
JPWO2017154588A1 (ja) * 2016-03-10 2018-05-24 Dic株式会社 エステル基を有する化合物の製造方法
WO2017154588A1 (ja) * 2016-03-10 2017-09-14 Dic株式会社 エステル基を有する化合物の製造方法
US11370740B2 (en) 2016-03-10 2022-06-28 Dic Corporation Method for producing ester group-containing compound
JP2018162301A (ja) * 2016-03-10 2018-10-18 Dic株式会社 エステル基を有する化合物の製造方法
KR20180129767A (ko) 2016-03-30 2018-12-05 디아이씨 가부시끼가이샤 2-히드라지노벤조티아졸 유도체의 제조 방법
US10968189B2 (en) 2016-03-30 2021-04-06 Dic Corporation Method for producing 2-hydrazinobenzothiazole derivative
US11203716B2 (en) 2016-05-18 2021-12-21 Zeon Corporation Compound, polymerizable compound, mixture, polymerizable liquid crystal composition, polymer, optical film, optically anisotropic product, polarizing plate, flat panel display device, organic electroluminescence display device, and anti-reflection film
JP2017206461A (ja) * 2016-05-18 2017-11-24 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
KR20190008208A (ko) 2016-05-18 2019-01-23 니폰 제온 가부시키가이샤 중합성 화합물의 제조 방법, 할로겐화체 및 혼합물
JP6055569B1 (ja) * 2016-05-18 2016-12-27 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルム
JP6090514B1 (ja) * 2016-05-18 2017-03-08 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
KR20170130287A (ko) 2016-05-18 2017-11-28 니폰 제온 가부시키가이샤 화합물, 중합성 화합물, 혼합물, 중합성 액정 조성물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치 및 반사 방지 필름
JP2017206460A (ja) * 2016-05-18 2017-11-24 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルム
EP3246306A1 (en) 2016-05-18 2017-11-22 Zeon Corporation Compound, polymerizable compound, mixture, polymerizable liquid crystal composition, polymer, optical film, optically anisotropic product, polarizing plate, flat panel display device, organic electroluminescence display device, and anti-reflection film
WO2017199862A1 (ja) 2016-05-18 2017-11-23 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法、ハロゲン化体および混合物
US10935835B2 (en) 2016-08-08 2021-03-02 Zeon Corporation Optically anisotropic laminate, polarizing plate, and image display device
WO2018066486A1 (ja) 2016-10-06 2018-04-12 日本ゼオン株式会社 混合物、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルム、並びに重合性化合物の使用方法
KR20190078591A (ko) 2016-11-22 2019-07-04 니폰 제온 가부시키가이샤 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치, 반사 방지 필름, 및 화합물
WO2018096958A1 (ja) 2016-11-22 2018-05-31 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム
WO2018096938A1 (ja) 2016-11-22 2018-05-31 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、反射防止フィルム、および化合物
JPWO2018096938A1 (ja) * 2016-11-22 2019-10-17 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、反射防止フィルム、および化合物
KR20190078589A (ko) 2016-11-22 2019-07-04 니폰 제온 가부시키가이샤 중합성 화합물, 혼합물, 중합성 액정 조성물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 표시 장치 및 반사 방지 필름
KR20190077028A (ko) 2016-11-29 2019-07-02 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치
US11332669B2 (en) 2016-11-29 2022-05-17 Fujifilm Corporation Polymerizable liquid crystal composition, optically anisotropic film, optical film, polarizing plate, image display device, and organic electroluminescent display device
KR20190072610A (ko) 2016-11-29 2019-06-25 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치
US11279880B2 (en) 2016-11-29 2022-03-22 Fujifilm Corporation Polymerizable liquid crystal composition, optically anisotropic film, optical film, polarizing plate, image display device, and organic electroluminescent display device
KR20190097027A (ko) 2016-12-26 2019-08-20 니폰 제온 가부시키가이샤 중합성 화합물, 혼합물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 표시 장치 및 반사 방지 필름
KR20190099415A (ko) 2016-12-26 2019-08-27 니폰 제온 가부시키가이샤 혼합물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 표시 장치 및 반사 방지 필름, 그리고, 혼합물의 제조 방법
WO2018123622A1 (ja) 2016-12-26 2018-07-05 日本ゼオン株式会社 混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム、並びに、混合物の製造方法
WO2018123625A1 (ja) 2016-12-26 2018-07-05 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム
KR20190097047A (ko) 2016-12-27 2019-08-20 니폰 제온 가부시키가이샤 중합성 화합물, 중합성 액정 혼합물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 표시 장치, 반사 방지 필름, 및 화합물
WO2018123586A1 (ja) 2016-12-27 2018-07-05 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性液晶混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、および化合物
WO2018123551A1 (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 富士フイルム株式会社 光学フィルムおよびその製造方法、偏光板、画像表示装置
JPWO2018123551A1 (ja) * 2016-12-28 2019-10-31 富士フイルム株式会社 光学フィルムおよびその製造方法、偏光板、画像表示装置
WO2018128084A1 (ja) * 2017-01-06 2018-07-12 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
JP6418476B1 (ja) * 2017-01-06 2018-11-07 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
JP2021073233A (ja) * 2017-02-21 2021-05-13 富士フイルム株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶化合物の製造方法、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
KR20190097181A (ko) 2017-02-21 2019-08-20 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 화합물의 제조 방법, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
JPWO2018155498A1 (ja) * 2017-02-21 2019-11-14 富士フイルム株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶化合物の製造方法、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
WO2018155498A1 (ja) * 2017-02-21 2018-08-30 富士フイルム株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶化合物の製造方法、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
US11225605B2 (en) 2017-02-21 2022-01-18 Fujifilm Corporation Polymerizable liquid crystal compound, method for producing polymerizable liquid crystal compound, polymerizable liquid crystal composition, optically anisotropic film, optical film, polarizing plate, and image display device
JP7033223B2 (ja) 2017-02-21 2022-03-09 富士フイルム株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶化合物の製造方法、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
KR20190131023A (ko) 2017-03-17 2019-11-25 니폰 제온 가부시키가이샤 중합성 화합물, 중합성 액정 혼합물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 표시 장치, 반사 방지 필름, 및 화합물
CN110382471A (zh) * 2017-03-17 2019-10-25 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物、聚合性液晶混合物、高分子、光学膜、光学各向异性体、偏振片、显示装置、防反射膜和化合物
WO2018168778A1 (ja) 2017-03-17 2018-09-20 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性液晶混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、および化合物
JPWO2018168778A1 (ja) * 2017-03-17 2020-01-16 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性液晶混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、および化合物
CN110382471B (zh) * 2017-03-17 2023-09-01 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物、聚合性液晶混合物、高分子、光学膜、光学各向异性体、偏振片、显示装置、防反射膜和化合物
JP7310601B2 (ja) 2017-03-17 2023-07-19 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性液晶混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、および化合物
CN110392703B (zh) * 2017-03-23 2022-02-01 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物及其制造方法、聚合性组合物、高分子、光学膜、光学各向异性体
KR20190128644A (ko) 2017-03-23 2019-11-18 니폰 제온 가부시키가이샤 중합성 화합물 및 그 제조 방법, 중합성 조성물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 표시 장치, 반사 방지 필름, 그리고, 화합물 및 그 사용 방법
JP7151699B2 (ja) 2017-03-23 2022-10-12 日本ゼオン株式会社 重合性化合物およびその製造方法、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、並びに、化合物およびその使用方法
CN110392703A (zh) * 2017-03-23 2019-10-29 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物及其制造方法、聚合性组合物、高分子、光学膜、光学各向异性体、偏振片、显示装置、防反射膜以及化合物及其使用方法
WO2018173954A1 (ja) 2017-03-23 2018-09-27 日本ゼオン株式会社 重合性化合物およびその製造方法、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、並びに、化合物およびその使用方法
JPWO2018173954A1 (ja) * 2017-03-23 2020-01-23 日本ゼオン株式会社 重合性化合物およびその製造方法、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、並びに、化合物およびその使用方法
KR20190132400A (ko) 2017-03-27 2019-11-27 니폰 제온 가부시키가이샤 중합성 화합물의 제조 방법 및 용액
WO2018180716A1 (ja) 2017-03-27 2018-10-04 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法および溶液
US12038650B2 (en) 2017-03-28 2024-07-16 Zeon Corporation Multilayer phase difference plate, polarizing plate, and image display device
JP2017206504A (ja) * 2017-04-27 2017-11-24 日本ゼオン株式会社 化合物、重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルム
KR20200013730A (ko) 2017-07-19 2020-02-07 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20200014377A (ko) 2017-07-19 2020-02-10 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
WO2019017445A1 (ja) * 2017-07-19 2019-01-24 富士フイルム株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
US11932798B2 (en) 2017-07-19 2024-03-19 Fujifilm Corporation Polymerizable liquid crystal compound, polymerizable liquid crystal composition, optically anisotropic film, optical film, polarizing plate, and image display device
JPWO2019017445A1 (ja) * 2017-07-19 2020-04-16 富士フイルム株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP7270603B2 (ja) 2017-08-15 2023-05-10 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 重合性lc媒体およびフラット光学分散を有するポリマーフィルム
JP2020531615A (ja) * 2017-08-15 2020-11-05 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung 重合性lc媒体およびフラット光学分散を有するポリマーフィルム
WO2019039165A1 (ja) 2017-08-23 2019-02-28 日本ゼオン株式会社 重合性液晶材料、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、反射防止フィルム、表示装置、並びに、重合性液晶組成物の製造方法
US11492552B2 (en) 2017-08-23 2022-11-08 Zeon Corporation Polymerizable liquid crystal material, polymerizable liquid crystal composition, polymer, optical film, optically anisotropic body, polarizing plate, anti-reflection film, display device, and method of producing polymerizable liquid crystal composition
JP2019056069A (ja) * 2017-09-21 2019-04-11 日本ゼオン株式会社 重合性液晶材料、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、反射防止フィルム、表示装置、並びに、重合性液晶組成物の製造方法
KR20200067146A (ko) * 2017-10-13 2020-06-11 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 중합성 액정 화합물, 중합성 조성물, 중합체, 위상차 필름 및 그 제조 방법, 전사용 적층체, 광학 부재 및 그 제조 방법, 그리고 표시 장치
TWI791639B (zh) * 2017-10-13 2023-02-11 日商大日本印刷股份有限公司 聚合性液晶化合物、聚合性組合物、聚合物、相位差膜及其製造方法、轉印用積層體、光學構件及其製造方法、以及顯示裝置
KR102697122B1 (ko) 2017-10-13 2024-08-23 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 중합성 액정 화합물, 중합성 조성물, 중합체, 위상차 필름 및 그 제조 방법, 전사용 적층체, 광학 부재 및 그 제조 방법, 그리고 표시 장치
CN111201220A (zh) * 2017-10-13 2020-05-26 大日本印刷株式会社 聚合性液晶化合物、聚合性组合物、聚合物、相位差膜及其制造方法、转印用层叠体、光学构件及其制造方法、以及显示装置
TWI842340B (zh) * 2017-10-13 2024-05-11 日商大日本印刷股份有限公司 聚合性液晶化合物、聚合性組合物、聚合物、相位差膜及其製造方法、轉印用積層體、光學構件及其製造方法、以及顯示裝置
JP2019073496A (ja) * 2017-10-13 2019-05-16 大日本印刷株式会社 重合性液晶化合物、重合性組成物、重合体、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
CN111201220B (zh) * 2017-10-13 2023-10-17 大日本印刷株式会社 聚合性液晶化合物、聚合性组合物、相位差膜、转印用层叠体、光学构件
WO2019074007A1 (ja) * 2017-10-13 2019-04-18 大日本印刷株式会社 重合性液晶化合物、重合性組成物、重合体、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
JP6473537B1 (ja) * 2017-10-13 2019-02-20 大日本印刷株式会社 重合性液晶化合物、重合性組成物、重合体、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
KR20200083567A (ko) 2017-12-07 2020-07-08 후지필름 가부시키가이샤 장척 위상차 필름, 장척 적층체, 화상 표시 장치
JP7293651B2 (ja) 2017-12-27 2023-06-20 大日本印刷株式会社 重合性液晶化合物、重合性組成物、重合体、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
JP2019120945A (ja) * 2017-12-27 2019-07-22 大日本印刷株式会社 重合性液晶化合物、重合性組成物、重合体、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
WO2019151263A1 (ja) * 2018-02-05 2019-08-08 日本ゼオン株式会社 1,1-ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法および重合性化合物の製造方法
JPWO2019151263A1 (ja) * 2018-02-05 2021-01-28 日本ゼオン株式会社 1,1−ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法および重合性化合物の製造方法
JP7318535B2 (ja) 2018-02-05 2023-08-01 日本ゼオン株式会社 1,1-ジ置換ヒドラジン化合物の製造方法および重合性化合物の製造方法
KR20200105905A (ko) 2018-02-14 2020-09-09 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 중합성 액정 조성물의 제조 방법, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
US11480721B2 (en) 2018-02-14 2022-10-25 Fujifilm Corporation Polymerizable liquid crystal composition, method for producing polymerizable liquid crystal composition, optically anisotropic film, optical film, polarizing plate, and image display device
KR20200106068A (ko) 2018-02-14 2020-09-10 후지필름 가부시키가이샤 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치
KR20200102479A (ko) 2018-02-14 2020-08-31 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20200103834A (ko) 2018-02-14 2020-09-02 후지필름 가부시키가이샤 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20200105935A (ko) 2018-02-14 2020-09-09 후지필름 가부시키가이샤 혼정, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20200103833A (ko) 2018-02-14 2020-09-02 후지필름 가부시키가이샤 화상 표시 장치 및 감광성 접착제 포함 원 편광판
KR20200105917A (ko) 2018-02-14 2020-09-09 후지필름 가부시키가이샤 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
US11370970B2 (en) 2018-02-14 2022-06-28 Fujifilm Corporation Optically anisotropic film, optical film, polarizing plate, and image display device
KR20200105898A (ko) 2018-02-14 2020-09-09 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
US11630342B2 (en) 2018-02-14 2023-04-18 Fujifilm Corporation Image display device and circularly polarizing plate with photosensitive adhesive
CN111727390B (zh) * 2018-02-14 2021-11-02 富士胶片株式会社 聚合性液晶组合物、光学膜、偏振片及图像显示装置
CN111727390A (zh) * 2018-02-14 2020-09-29 富士胶片株式会社 聚合性液晶组合物、光学各向异性膜、光学膜、偏振片及图像显示装置
WO2019163878A1 (ja) * 2018-02-21 2019-08-29 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JPWO2019163878A1 (ja) * 2018-02-21 2021-03-04 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
KR20200105910A (ko) 2018-02-21 2020-09-09 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
US11702596B2 (en) 2018-02-21 2023-07-18 Fujifilm Corporation Polymerizable liquid crystal composition, optically anisotropic film, optical film, polarizing plate, and image display device
JP7022192B2 (ja) 2018-02-21 2022-02-17 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
US11667842B2 (en) 2018-02-28 2023-06-06 Fujifilm Corporation Laminate, organic electroluminescent device, and liquid crystal display device
KR20200111741A (ko) 2018-02-28 2020-09-29 후지필름 가부시키가이샤 적층체, 유기 전계 발광 장치, 액정 표시 장치
WO2019182052A1 (ja) 2018-03-23 2019-09-26 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶層の製造方法、コレステリック液晶層、液晶組成物、硬化物、光学異方体、反射層
WO2019181247A1 (ja) 2018-03-23 2019-09-26 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶層、積層体、光学異方体、反射膜、コレステリック液晶層の製造方法、偽造防止媒体、および、判定方法
WO2019188495A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 日本ゼオン株式会社 光学異方体及びその製造方法、1/4波長板、偏光板及び有機エレクトロルミネッセンス表示パネル
WO2019188519A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 日本ゼオン株式会社 液晶硬化フィルム及びその製造方法、第一硬化層、偏光板、並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JP7081660B2 (ja) 2018-03-30 2022-06-07 日本ゼオン株式会社 液晶硬化フィルム及びその製造方法、第一硬化層、偏光板、並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JPWO2019188519A1 (ja) * 2018-03-30 2021-04-15 日本ゼオン株式会社 液晶硬化フィルム及びその製造方法、第一硬化層、偏光板、並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JP7225736B2 (ja) 2018-05-15 2023-02-21 Jnc株式会社 化合物、液晶組成物、および液晶表示素子
JP2019199461A (ja) * 2018-05-15 2019-11-21 Jnc株式会社 化合物、液晶組成物、および液晶表示素子
JPWO2019230848A1 (ja) * 2018-06-01 2021-06-24 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
WO2019230848A1 (ja) * 2018-06-01 2019-12-05 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
JP7380555B2 (ja) 2018-06-01 2023-11-15 日本ゼオン株式会社 重合性化合物の製造方法
JPWO2020022422A1 (ja) * 2018-07-25 2021-08-12 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP7118153B2 (ja) 2018-07-25 2022-08-15 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
US11746295B2 (en) 2018-07-25 2023-09-05 Fujifilm Corporation Polymerizable liquid crystal composition, optically anisotropic film, optical film, polarizing plate, and image display device
WO2020022422A1 (ja) * 2018-07-25 2020-01-30 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
US11630253B2 (en) 2018-09-04 2023-04-18 Fujifilm Corporation Laminate, organic electroluminescent device, and liquid crystal display device
WO2020059768A1 (ja) * 2018-09-21 2020-03-26 日本ゼオン株式会社 化合物およびその使用方法
JP7251197B2 (ja) 2019-02-15 2023-04-04 大日本印刷株式会社 重合性液晶化合物、重合性組成物、重合体、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
JP2020134634A (ja) * 2019-02-15 2020-08-31 大日本印刷株式会社 重合性液晶化合物、重合性組成物、重合体、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置
KR20220050169A (ko) 2019-09-27 2022-04-22 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20220050162A (ko) 2019-09-27 2022-04-22 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 화합물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
JP7271721B2 (ja) 2019-12-17 2023-05-11 富士フイルム株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示装置
WO2021124803A1 (ja) * 2019-12-17 2021-06-24 富士フイルム株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JPWO2021124803A1 (ja) * 2019-12-17 2021-06-24
WO2021182280A1 (ja) * 2020-03-11 2021-09-16 住友化学株式会社 重合性液晶組成物、位相差フィルム、楕円偏光板および光学ディスプレイ
CN115280199A (zh) * 2020-03-11 2022-11-01 住友化学株式会社 聚合性液晶组合物、相位差膜、椭圆偏光板及光学显示器
JP7528685B2 (ja) 2020-09-29 2024-08-06 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、および反射防止フィルム
US11932796B2 (en) 2021-08-25 2024-03-19 Fujifilm Corporation Liquid crystal composition, liquid crystal cured layer, optical film, polarizing plate, and image display device
KR20230030525A (ko) 2021-08-25 2023-03-06 후지필름 가부시키가이샤 액정 조성물, 액정 경화층, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치

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Publication number Publication date
JP2017167553A (ja) 2017-09-21
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JP6439825B2 (ja) 2018-12-19
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