JP5401032B2 - 光学異方性膜、輝度向上フィルム、位相差板および液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、逆波長分散性を有する重合性化合物、重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を用いて形成された光学異方性膜に関する。また、本発明は、当該液晶化合物を固定化してなる輝度向上フィルムに関する。また、本発明は、広帯域λ／４板のような複屈折の逆波長分散性を有する位相差板に関する。さらに本発明は、当該位相差板を用いた偏光板および液晶表示装置に関する。

波長板は、従来から各種表示モードのカラーＴＦＴ液晶表示装置等において広視野角での高コントラスト比と色シフトとを改善する目的で広く使用されている。この波長板は、変色を防ぐために、位相差の波長分散を制御すること、つまり波長板の特性が波長によらず一定であることが求められ、位相差の波長分散が、短波側の位相差に比べて長波側の位相差が大きい、つまり逆波長分散であることが求められている。

例えば特許文献１には、フィルム面内方向の位相差が逆波長分散である位相差板を用いた場合、色度・輝度のばらつきが非常に小さい、優れた輝度向上フィルム付き偏光板として使用できることが開示されている。また、例えば特許文献２には、フィルム厚さ方向の位相差が逆波長分散である位相差板を用いた場合、輝度向上特性の向上および視角特性を著しく改善できることが開示されている。

しかしながら、一般的にフィルムの波長分散は、短波側の位相差に比べて長波側の位相差が小さくなる順波長分散であるため、上記課題を解決することは困難である。
この課題に対して、面内の複屈折光の位相差が１／４波長である１／４波長板と、複屈折光の位相差が１／２波長である１／２波長板とを、それぞれの光軸が交差した状態で貼り合わせることで課題を解決する方法が開発されている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、上記の位相差板を製造するには、二枚の高分子フィルムの光学的向き（光軸や遅相軸）を調節するという煩雑な工程が必要になる。
また、棒状液晶に、棒状液晶の長軸と直交するように配向する分子を混合することで逆波長分散性を発現させた液晶組成物を塗布する方法が提案されている（例えば、特許文献４参照。）。しかしこの方法においては、混合する分子が液晶性ではなく、そのために混合比を上げていくと液晶性が消失するため、波長分散性を任意に制御することは非常に困難である。
また、逆波長分散重合性液晶化合物を配向膜上に塗布、配向させた後、固定化することで作製したフィルムにより、上記課題を解決する方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。この方法は、フィルムを積層する必要がなく方法として簡便であり、またフィルム厚さが薄くできるため好ましい方法である。しかしながら、特許文献２に開示されている化合物の合成ルートが比較的長く、製造コストを鑑みると好ましいものではない。

特開２００４−７０３４４号公報 特開２００５−２８９９８０号公報 特開平１０−６８８１６号公報 特開２００２−２６７８３８号公報

上記問題点に鑑み、本発明の目的は、簡便な合成法にて合成できる新規な逆波長分散重合性液晶化合物を含む液晶組成物を用いて形成された光学異方性膜を提供すること、及びそれにより簡便な製造工程で作製可能な、複屈折の逆波長分散性を有する位相差板を提供することにある。またこの光学異方性膜を用いた位相差板、楕円偏光板を提供することにある。

上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ある特定の材料を配向膜上に塗布、配向させた後、固定化することでフィルムを作製すると、得られるフィルムにおける波長分散を逆分散とすることが可能であることを見いだし、本発明を完成するに至った。

［１］液晶組成物を用いて形成された光学異方性膜であって、該液晶組成物中に、ネマチック相またはスメクチックＡ相を発現する下記一般式（２）で表される化合物を含み、該化合物を配向させ、該化合物中の重合性基の重合により、固定化することで形成されてなることを特徴とする光学異方性膜。

（式中、Ａ_１及びＡ_２は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または下記置換基群から選択される置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｚは、式中記載のＣ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ又はＣ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃと共にベンゼン環を形成する。Ｒ_１は下記置換基群から選択される置換基を表し、Ｒ_２及びＲ_３は各々独立に、置換もしくは無置換のフェニル基または置換もしくは無置換のシクロヘキシル基を表す。ｍは０〜２の整数である。Ｌ_１及びＬ_２は各々独立に、−ＯＣＯ−を表す。Ｒ_５及びＲ_６は各々独立に下記置換基群から選択される置換基を表す。ここで、Ｒ_５とＲ_６が結合して環を形成してもよい。なお、Ｒ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_５及びＲ_６の少なくとも１つには、下記一般式Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３又はＰ４のいずれかで表される重合性基が置換されている。）

（式中、Ｒ_５１１、Ｒ_５１２、Ｒ_５１３、Ｒ_５２１、Ｒ_５２２、Ｒ_５２３、Ｒ_５３１、Ｒ_５３２、Ｒ_５３３、Ｒ_５４１、Ｒ_５４２、Ｒ_５４３、Ｒ_５４４及びＲ_５４５は各々独立に水素原子またはアルキル基を表す。ｎは０または１を表す。）

置換基群
ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基またはシリル基

［２］前記Ｒ_２及びＲ_３が各々独立に、置換もしくは無置換のベンゾイルオキシ基を４位に有するフェニル基、置換もしくは無置換のシクロヘキシル基を４位に有するフェニル基、置換もしくは無置換のフェニル基を４位に有するシクロヘキシル基、または置換もしくは無置換のシクロヘキシル基を４位に有するシクロへキシル基であることを特徴とする［１］項に記載の光学異方性膜。
［３］前記重合性基が、前記Ｒ_５またはＲ_６に置換されていることを特徴とする［１］または［２］項に記載の光学異方性膜。
［４］前記Ｒ_５及びＲ_６が、各々独立に、トリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、ニトロ基であることを特徴とする［１］〜［３］のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
［５］前記Ｒ_１が、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基またはアミノ基であることを特徴とする［１］〜［４］のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
［６］前記Ｒが、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基であることを特徴とする［１］〜［５］のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
［７］前記一般式（２）で表される化合物の前記液晶組成物中の含有量が、１０〜１００質量％であることを特徴とする［１］〜［４］のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
［８］前記化合物を略垂直配向させ、固定化することで形成されてなることを特徴とする［１］〜［７］のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
［９］前記化合物を略水平配向させ、固定化されてなることを特徴とする［１］〜［７］のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
［１０］前記化合物をコレステリック配向させ、固定化されてなることを特徴とする［１］〜［７］のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
［１１］コレステリック相の螺旋軸と透明支持体の平面方向がほぼ直交していることを特徴とする［１０］項に記載の光学異方性膜。
［１２］コレステリック液晶フィルムと、１／４波長板と、これらの間に配置されている光学異方性膜とを有する輝度向上フィルムであって、前記光学異方性膜が［８］項に記載の光学異方性膜であることを特徴とする輝度向上フィルム。
［１３］前記［８］項に記載の光学異方性膜と、さらに少なくとも１層の他の光学異方性膜とを含むことを特徴とする光学異方性膜。
［１４］前記他の光学異方性膜が、正のＡプレートフィルムであることを特徴とする［１３］項に記載の光学異方性膜。
［１５］前記他の光学異方性膜が、下記数式（Ｉ）及び（ＩＩ）を満足する正のＡプレートフィルムであることを特徴とする［１３］または［１４］項に記載の光学異方性膜。
数式（Ｉ） Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１．０
数式（ＩＩ） Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＞１．０
［１６］前記［１］〜［１５］のいずれか１項に記載の光学異方性膜からなることを特徴とする位相差板。
［１７］前記［１６］項に記載の位相差板を含むことを特徴とする偏光板。
［１８］前記［１６］項に記載の位相差板または［１７］項に記載の偏光板を含むことを特徴とする液晶表示装置。
［１９］前記［１３］〜［１５］のいずれか１項に記載の光学異方性膜を有することを特徴とするＩＰＳ型液晶表示装置。
［２０］前記［９］項に記載の光学異方性膜を有することを特徴とするＶＡ型液晶表示装置。
［２１］前記［１０］項に記載の光学異方性膜を有することを特徴とする視野角調整可能な液晶表示装置。

［８］［１］〜［７］のいずれか１項に記載の化合物を少なくとも一種含有する液晶組成物。
［９］［１］〜［７］のいずれか１項に記載の化合物がネマチック相またはスメクチックＡ相を発現することを特徴とする［８］項に記載の液晶組成物。
［１０］［８］又は［９］項に記載の液晶組成物を用い形成された光学異方性膜であって、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の化合物を略垂直配向させ、固定化することで形成された光学異方性膜（以下、光学異方性膜（Ａ）ともいう。）。
［１１］［８］又は［９］項に記載の液晶組成物を用い形成された光学異方性膜であって、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の化合物を略水平配向させ、固定化することで形成された光学異方性膜。
［１２］［８］又は［９］項に記載の液晶組成物を用い形成された光学異方性膜であって、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の化合物をコレステリック配向させ、固定化することで形成された光学異方性膜。
［１３］コレステリック相の螺旋軸と透明支持体の平面方向がほぼ直交していることを特徴とする［１２］項に記載の光学異方性膜。
［１４］コレステリック液晶フィルムと、１／４波長板と、これらの間に配置されている光学異方性膜とを有する輝度向上フィルムであって、前記光学異方性膜が［１０］項に記載の光学異方性膜（Ａ）であることを特徴とする輝度向上フィルム。
［１５］［１０］項に記載の光学異方性膜（Ａ）と、さらに少なくとも１層の他の光学異方性膜（以下、光学異方性膜（Ｂ）ともいう。）とを含むことを特徴とする光学異方性膜。
［１６］前記光学異方性膜（Ｂ）が、正のＡプレートフィルムであることを特徴とする［１５］項に記載の光学異方性膜。
［１７］前記光学異方性膜（Ｂ）が、下記数式（Ｉ）及び（II）を満足する正のＡプレートフィルムであることを特徴とする［１５］又は［１６］項に記載の光学異方性膜。
数式（Ｉ） Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１．０
数式（II） Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＞１．０
［１８］［１０］〜［１７］のいずれか１項に記載の光学異方性膜からなる位相差板。
［１９］［１８］項に記載の位相差板を含む偏光板。
［２０］［１８］項に記載の位相差板または［１９］項に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
［２１］［１５］〜［１７］のいずれか１項に記載の光学異方性膜を有することを特徴とするＩＰＳ型液晶表示装置。
［２２］［１１］項に記載の光学異方性膜を有することを特徴とするＶＡ型液晶表示装置。
［２３］［１２］項に記載の光学異方性膜を有することを特徴とする視野角調整可能な液晶表示装置。

本発明の液晶化合物は、配向膜上に塗布、配向させた後、固定化する方法により、逆波長分散性を有するフィルムを提供することができる。また、当該液晶化合物を含有する本発明の光学フィルムは逆波長分散性を有し、当該光学フィルムからなる位相差板は液晶表示装置に好ましく適用することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA 21ADH又はWR（商品名、王子計測機器(株)製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。

測定されるフィルムが１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ(λ)は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は、前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADH又はWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADH又はWRにおいて算出される。

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADH又はWRにおいて算出される。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の数式（１）及び数式（２）によりＲｔｈを算出することもできる。

式中、Ｒｅ(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸(optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ(λ)が算出される。
Ｒｔｈ(λ)は、前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADH又はWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADH又はWRにより算出される。

上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADH又はWRにおいてｎｘ、ｎｙ、ｎｚが算出される。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚによりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

［逆波長分散性を有する重合性化合物（一般式（１）又は（２）で表される化合物）］
本発明の化合物は、下記一般式（２）で表される化合物であり、逆波長分散性を有する重合性化合物であって、下記一般式（１）で表される化合物とともに説明する。

（式中、Ａ₁及びＡ₂は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｚは、炭素原子および第１４〜１６族の非金属原子からなる群から選択される１つ又は２つの原子を表し、式中記載のＣ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ又はＣ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃと共に５又は６員環を形成する。Ｒ₁、Ｒ₂及びＲ₃は各々独立に置換基を表す。ｍは０〜４の整数である。Ｌ₁及びＬ₂は各々独立に単結合または二価の連結基を表す。Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表す（ただし、Ｘには水素原子又は置換基Ｒ₄が結合してもよい。）。なお、Ｒ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄の少なくとも１つには、重合性基が置換されている。）

（式中、Ａ_１及びＡ_２は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または下記置換基群から選択される置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｚは、式中記載のＣ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ又はＣ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃと共にベンゼン環を形成する。Ｒ_１は下記置換基群から選択される置換基を表し、Ｒ_２及びＲ_３は各々独立に、置換もしくは無置換のフェニル基または置換もしくは無置換のシクロヘキシル基を表す。ｍは０〜２の整数である。Ｌ_１及びＬ_２は各々独立に、−ＯＣＯ−を表す。Ｒ_５及びＲ_６は各々独立に下記置換基群から選択される置換基を表す。ここで、Ｒ_５とＲ_６が結合して環を形成してもよい。なお、Ｒ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_５及びＲ_６の少なくとも１つには、後述の一般式Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３又はＰ４のいずれかで表される重合性基が置換されている。
置換基群
ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基またはシリル基）

前記一般式（１）において、Ｌ_１及びＬ_２が表す二価の連結基としては、特に限定されるものではないが、好ましくは下記の例が挙げられる。なお、結合位置に関して、前記のＺとＣ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ又はＣ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃとによって形成される５〜６員環との結合位置が下記に例示した連結基の左側にあるものとする。

さらに好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−である。

前記一般式（１）において、Ｚは、炭素原子および第１４〜１６族の非金属原子からなる群から選択される１つ又は２つの原子を表し、式中記載のＣ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ又はＣ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃと共に５又は６員環を形成する。ＺとＣ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ又はＣ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃとによって形成される５〜６員環としては、特に限定されるものではないが、下記の例が好適に挙げられる。なお、下記の例において、点線はＬ_１又はＬ_２と結合することを表す。

ＺとＣ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ又はＣ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃとによって形成される環は、６員環であることが好ましい。６員環とすることにより、より配向秩序度が高く配向させることが可能となる。また、同様の理由により、芳香環であることも好ましく、より好ましくは芳香環かつ６員環である。
これらの観点および合成上の観点から、ＺとＣ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ又はＣ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃとによって形成される環は、チオフェン環、ベンゼン環、ピリジン環が好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。

一般式（１）又は（２）において、Ｒ_１は前記置換基群から選択される置換基であり、複数存在する場合は同じでも異なっていてもよく、環を形成しても良い。置換基の例として下記のものが挙げられる。

ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０の直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、

アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、

アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、

シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、

アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、

スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、

スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル又はアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、

アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、

アリール又はヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換または無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）

上記の置換基の中で水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その具体例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

Ｒ₁は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基またはアミノ基であり、さらに好ましくはハロゲン原子、アルキル基、シアノ基またはアルコキシ基である。

Ｒ₁が複数存在し、互いに環を形成する場合、その環は５〜８員環が好ましく、５又は６員環がさらに好ましい。もっとも好ましくは６員環である。

前記一般式（１）又は（２）において、ｍはＲ_１の置換数を表し、一般式（１）においては、ＺとＣ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ又はＣ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃとによって形成される環の構造によって取り得る数は変化する。ｍは０が最小であり、Ｚが二つの炭素原子を表し、かつ、ＺとＣ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ又はＣ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃとによって形成される環が芳香族性を有しない場合に最大４である。一般式（１）又は（２）において、ｍは好ましくは０又は１であり、より好ましくは０である。
ここで、一般式（２）においては、ｍは０〜２の整数である。

前記一般式（１）において、Ｒ_２及びＲ_３は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ_１の例が挙げられる。Ｒ_２及びＲ_３は前記一般式（１）又は（２）で表される化合物における、分子の長手方向となる。
また、前記一般式（１）又は（２）で表される化合物は液晶性を示すことが好ましい。液晶性を発現させるための要素としては、「液晶便覧」（丸善）第３章「分子構造と液晶性」に記載されているように、コアと呼ばれる剛直部と側鎖と呼ばれる柔軟部が必要である。そのため、Ｒ_２及びＲ_３の置換基として、少なくとも１つの剛直部、つまり環状部分が存在することが好ましい。Ｒ_２及びＲ_３は、好ましくは置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のシクロヘキシル基であり、本発明の前記一般式（２）で表される化合物は、Ｒ _２ 及びＲ _３ は、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のシクロヘキシル基である。一般式（１）又は（２）で表される化合物はともに、好ましくは置換基を有するフェニル基、置換基を有するシクロヘキシル基であり、より好ましくは４位に置換基を有するフェニル基、４位に置換基を有するシクロヘキシル基である。さらに好ましくは４位に置換基を有するベンゾイルオキシ基を４位に有するフェニル基、４位に置換基を有するシクロヘキシル基を４位に有するフェニル基、４位に置換基を有するフェニル基を４位に有するシクロヘキシル基、４位に置換基を有するシクロヘキシル基を４位に有するシクロへキシル基である。

また、４位に置換基を有するシクロヘキシル基にはシス体およびトランス体の立体異性体が存在するが、本発明においては限定されず、両者の混合物でも良い。好ましくはトランス−シクロヘキシル基である。

前記一般式（１）又は（２）において、Ｒ_５及びＲ_６は各々独立に前記置換基群から選択される置換基を表す。例としては上記Ｒ_１の例が挙げられる。好ましくは、Ｒ_５及びＲ_６のうち少なくとも１つがハメットの置換基定数σ_ｐ値が０より大きい電子吸引性の置換基であることが好ましく、σ_ｐ値が０〜１．５の電子吸引性の置換基を有していることがさらに好ましい。このような置換基としてはトリフルオロメチル基、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。また、Ｒ_５とＲ_６とが結合して環を形成してもよい。
なお、ハメットの置換基定数のσ_ｐ、σ_ｍに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４ 有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）、「ケミカル レビュー」，９１巻，１６５〜１９５頁（１９９１年）等の文献に詳しく解説されている。

前記一般式（１）又は（２）において、Ａ_１及びＡ_２は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または前記置換基群から選択される置換基）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは前記置換基群から選択される置換基を表し、例としては上記Ｒ_１の例が挙げられる。）または−Ｓ−である。

前記一般式（１）において、Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表す。ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい。Ｘは＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ₄、＝Ｃ(Ｒ₅)Ｒ₆が好ましい（ここでＲ₄、Ｒ₅、Ｒ₆は各々独立に置換基を表し、例としては上記Ｒ₁の例が挙げられる。）。

本発明の液晶化合物は重合性基を有する。これにより、位相差板などに用いた場合に熱などによる位相差の変化を防ぐことができる。重合性基は、化合物の分子の末端に有することが好ましい。
前記一般式（１）又は（２）において、Ｒ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₅およびＲ₆の少なくとも１つには重合性基が置換している。好ましくは１つ〜６つであり、さらに好ましくは１つ〜４つ、最も好ましくは１つ〜３つである。また、重合性基の好ましい置換する置換基は、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₅及びＲ₆である。

Ｒ、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₅およびＲ₆の少なくとも１つに置換している重合性基とは、付加重合反応または縮合重合反応が可能な基が好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基が好ましい。以下に重合性基の例を示す。

さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基が好ましい。
重合性基は、下記の一般式Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３またはＰ４のいずれかで表される基であることが好ましく、本発明の前記一般式（２）においては、該重合性基は下記の一般式Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３またはＰ４のいずれかで表される基である。

（式中、Ｒ₅₁₁、Ｒ₅₁₂、Ｒ₅₁₃、Ｒ₅₂₁、Ｒ₅₂₂、Ｒ₅₂₃、Ｒ₅₃₁、Ｒ₅₃₂、Ｒ₅₃₃、Ｒ₅₄₁、Ｒ₅₄₂、Ｒ₅₄₃、Ｒ₅₄₄及びＲ₅₄₅はそれぞれ各々独立に水素原子またはアルキル基を表す。ｎは０または１を表す。）

重合性基Ｐ１のＲ₅₁₁、Ｒ₅₁₂、Ｒ₅₁₃は各々独立に水素原子またはアルキル基を表す。
重合性基Ｐ１が置換して成るアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基残基は、アルキレンオキシ基（例えばエチレンオキシ、プロピレンオキシ、ブチレンオキシ、ペンチレンオキシ、ヘキシレンオキシ、ヘプチレンオキシなどのアルキレンオキシ基、またエチレンオキシエトキシなどのエーテル結合を含む置換アルキレンオキシ基）、アルキレンオキシカルボニルオキシ基（例えばエチレンオキシカルボニルオキシ、プロピレンオキシカルボニルオキシ、ブチレンオキシカルボニルオキシ、ペンチレンオキシカルボニルオキシ、ヘキシレンオキシカルボニルオキシ、ヘプチレンオキシカルボニルオキシなどのアルキレンオキシカルボニルオキシ基、またエチレンオキシエトキシカルボニルオキシなどのエーテル結合を含む置換アルキレンオキシカルボニルオキシ基）、アルキレンオキシカルボニル基（例えばエチレンオキシカルボニル基、プロピレンオキシカルボニル基、ブチレンオキシカルボニル基、ペンチレンオキシカルボニル基、ヘキシレンオキシカルボニル基、ヘプチレンオキシカルボニル基などのアルキレンオキシカルボニル基、またはエチレンオキシエトキシカルボニル基などのエーテル結合を含む置換アルキレンオキシカルボニル基）を表す。重合性基Ｐ１が直接芳香環に結合してもよい。

ｎは０〜１の整数を表し、ｎが１であることが好ましく、ｎが１の時は、重合性基Ｐ１は置換又は無置換のビニルエーテル基を表す。Ｒ₅₁₁及びＲ₅₁₃は、各々独立に水素原子、アルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルが挙げられ、メチル、エチルなどの低級アルキル基が好ましく、さらにメチルが好ましい。）を表し、Ｒ₅₁₁がメチル基でＲ₅₁₃が水素原子、またはＲ₅₁₁及びＲ₅₁₃が共に水素原子の組み合わせが好ましい。

Ｒ₅₁₂は水素原子、置換または無置換のアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、２−クロロエチル、３−メトキシエチル、メトキシエトキシエチルが挙げられ、メチル、エチルなどの低級アルキル基が好ましく、さらにメチルが好ましい。）を表し、水素原子、低級アルキル基が好ましく、さらに水素原子が好ましい。従って、重合性基Ｐ１としては、一般には重合活性の高い官能基である無置換のビニルオキシ基が好ましく用いられる。

重合性基Ｐ２は置換または無置換のオキシラン基を表す。Ｒ₅₂₁及びＲ₅₂₂は、各々独立に水素原子、アルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルが挙げられ、メチル、エチルなどの低級アルキル基が好ましく、さらにメチルが好ましい。）を表し、Ｒ₅₂₁及びＲ₅₂₂が共に水素原子が好ましい。

Ｒ₅₂₃は水素原子、置換または無置換のアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、２−クロロエチル、３−メトキシエチル、メトキシエトキシエチルが挙げられ、メチル、エチルなどの低級アルキル基が好ましく、さらにメチルが好ましい。）を表し、水素原子またはメチル、エチル、ｎ−プロピルなどの低級アルキル基が好ましい。

重合性基Ｐ３は置換または無置換のアクリル基を表す。置換基Ｒ₅₃₁及びＲ₅₃₃は、各々独立に水素原子、アルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルが挙げられ、メチル、エチルなどの低級アルキル基が好ましく、さらにメチルが好ましい。）を表し、Ｒ₅₃₁がメチルでＲ₅₃₃が水素原子、またはＲ₅₃₁及びＲ₅₃₃が共に水素原子の組み合わせが好ましい。

Ｒ₅₃₂は水素原子、置換または無置換のアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、２−クロロエチル、３−メトキシエチル、メトキシエトキシエチルが挙げられ、メチル、エチルなどの低級アルキル基が好ましく、さらにメチルが好ましい。）を表し、水素原子が好ましい。従って、重合性基Ｐ３としては、一般には無置換のアクリルオキシ基、メタクリルオキシ基、クロトニルオキシなどの重合活性の高い官能基が好ましく用いられる。

重合性基Ｐ４は置換または無置換のオキセタン基を表す。Ｒ₅₄₂、Ｒ₅₄₃、Ｒ₅₄₄及びＲ₅₄₅は各々独立に水素原子、アルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルが挙げられ、メチル、エチルなどの低級アルキル基が好ましく、さらにメチルが好ましい。）を表し、Ｒ₅₄₂、Ｒ₅₄₃、Ｒ₅₄₄及びＲ₅₄₅が共に水素原子が好ましい。

Ｒ₅₄₁は水素原子、置換または無置換のアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、２−クロロエチル、３−メトキシエチル、メトキシエトキシエチルが挙げられ、メチル、エチルなどの低級アルキル基が好ましく、さらにメチルが好ましい。）を表し、水素原子またはメチル、エチル、ｎ−プロピルなどの低級アルキル基が好ましい。

以下に、前記一般式（１）で表される化合物とともに、本発明の一般式（２）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（ ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。
なお、化合物（２９）、（９６）〜（１００）、（１０５）、（１０６）および（１０９）は参考例である。

前記一般式（１）又は（２）で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物（２）は、下記スキームに従って合成することができる。

前記スキーム中、化合物（２−１）から化合物（２−３）までの合成は、“Journal of Chemical Crystallography”(1997)，27(9)，p.515-526．に記載の方法を参照して行うことができる。
さらに、前記スキームに示したように、化合物（２−４）及び化合物（２−５）からはジシクロへキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）を用いた定法のエステル化にて化合物（２−６）が得られる。化合物（２−３）及び化合物（２−６）のＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）懸濁溶液に少量の重合禁止剤（Irganox1010、商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）を添加し、加熱することで化合物（２−７）が得られる。化合物（２−７）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液に、塩基としてピリジン（Ｐｙ）を加え、化合物（２−８）から塩化チオニルを用いた定法の酸クロライド合成にて得られる化合物（２−９）を添加することで、例示化合物（２）を得ることができる。

（複屈折性）
本発明の前記一般式（２）で表される重合性液晶化合物は、固有複屈折率Δｎが逆波長分散性、即ち下記数式（３）を満足する波長分散性を有することが好ましい。
数式（３） Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．０

本発明の液晶化合物は、同じ液晶相であれば、波長分散性は温度にほとんど依存しないが、本発明をより明確化するために、前記数式（３）における値は、相が変化する温度の上限温度から２０℃下で測定した値を指すこととする。また、液晶温度範囲が２０℃以下の場合は液晶相の上限温度から１０℃下で測定した値、液晶温度範囲が１０℃以下の場合は上限温度から５℃下で測定した値、液晶温度範囲が５℃以下の場合は２℃下で測定した値を指す。

Δｎの波長分散性は、液晶化合物を用いる用途により好ましい範囲が異なるため、一義的に範囲を限定することができないが、Δｎの波長分散のより好ましい範囲としては、下記数式（４）及び（５）を満足することが好ましい。

数式（４） ０．６０＜Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜０．９９
数式（５） １．０１＜Δｎ（６５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．３５

更に、本発明の液晶化合物をλ／４板として使用する場合を考えれば、下記数式（６）及び（７）を満足することが好ましい。

数式（６） ０．６０＜Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜０．９５
数式（７） １．０４＜Δｎ（６５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．３５

前記数式（３）〜（７）中、Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）およびΔｎ（６５０）はそれぞれ、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍにおけるΔｎを表す。ただし、それぞれの測定波長は、±１０ｎｍの誤差を含む。

液晶のΔｎの測定方法は、例えば「液晶便覧」２．４．１３（丸善(株)、２０００年）に記載されているようなくさび型の液晶セルを用いる方法を挙げることができる。この方法において、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの３種類のバンドパスフィルターを用いることで、それぞれの波長のΔｎを求める。
本発明の化合物のように液晶化合物が重合性基を有する場合には、くさび型の液晶セル中で重合反応が起こることがあり、測定が困難な場合が生じやすい。このような場合は、重合禁止剤を添加して測定することが好ましい。また、液晶を均一に配向させた状態で、例えばＫＯＢＲＡ（商品名、王子計測機器(株)製）のような位相差を測定できる装置で測定することにより、それぞれの波長におけるＲｅを求め、膜厚を別途測定することで、Δｎを求めることができる（Δｎ＝Ｒｅ／ｄ（膜厚）の式より）。

本発明の液晶化合物は、正または負の複屈折性のどちらの複屈折性を有していても良いが、正の複屈折性を有することが好ましい。
正の複屈折性を有する液晶相としては、詳しくは「液晶便覧」（丸善(株)、２０００年）第２章などに記載されており、例えば、ネマチック相、コレステリック相、スメクチック相（例えば、スメクチックＡ相、スメクチックＣ相）を挙げることができる。

本発明の液晶化合物を光学異方性層に用いる場合には、均一な欠陥のない配向のために、良好なモノドメイン性を示すものが好ましい。モノドメイン性が悪い場合には、得られる構造がポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになる。これは、光学異方性層の透過率低下にもつながるので好ましくない。良好なモノドメイン性を示すために、本発明の液晶化合物は、ネマチック相（Ｎ相）もしくはスメクチックＡ相（Ｓ_A相）を発現することが好ましい。特にネマチック相を発現することが好ましい。

液晶化合物は、低分子液晶化合物でもよいし、高分子液晶化合物でもよいが、液晶の配向のしやすさを考慮すると、低分子液晶化合物の方が好ましい。

（逆波長分散性を有するフィルムの作製）
本発明の前記一般式（２）で表される重合性液晶化合物を配向膜上に塗布、配向させた後、固定化することで、逆波長分散性を有するフィルムを作製することができる。例えば、配向膜上に本発明の液晶化合物を略水平配向させた場合（いわゆるＡプレート）は、配向方向（以下、ＴＤ方向と示す）とそれに直交する方向（以下、ＭＤ方向と示す）との位相差Ｒｅ（５５０ｎｍ）が正であり、かつ特定波長における位相差Ｒｅが以下の数式（８）及び（９）を満たす。

数式（８） ０．５＜Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１．０
数式（９） １．０５＜Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１．５

上式（８）及び（９）を満たすフィルムを作製するためには、フィルムとして、ＴＤ方向とＭＤ方向における吸収波長と遷移モーメントの方向を上手く配置する必要がある。ここで、青（４５０ｎｍ）、緑（５５０ｎｍ）、赤（６５０ｎｍ）であり、視野角特性向上のためにはそれぞれの波長における最適レターデーションに合わせる必要がある。本発明では、最も重要な緑（５５０ｎｍ）に対して正の複屈折性を与えた場合の好適な青（４５０ｎｍ）、赤（６５０ｎｍ）の範囲が前記の数式（８）及び（９）の範囲となる。

ＲｅはＴＤ方向とＭＤ方向の位相差つまり、ＴＤ方向の屈折率からＭＤ方向の屈折率を差し引いた値（Δｎ）の比例関係であるため、ＴＤ方向の屈折率の波長分散性よりも、ＭＤ方向の波長分散性が、より右肩下がり（左を短波長側、右を長波長側とおいたときのΔｎの傾き）であれば、その差し引いた値は、以下の数式（１０）及び（１１）を満たす。

数式（１０） １＞｜Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）｜
数式（１１） １＜｜Δｎ（６５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）｜

屈折率の波長分散性は、Ｌｏｒｅｎｔｚ−Ｌｏｒｅｎｚの式で表されているように、物質の吸収に密接な関係にあるため、ＭＤ方向の波長分散性をより右肩下がりにするためには、ＴＤ方向に比較してＭＤ方向の吸収遷移波長をより長波化できれば、数式（８）及び（９）を満たすフィルムを設計することができる。例えば延伸処理を行ったポリマー材料では、ＭＤ方向は分子の鎖に直交方向である。そのような高分子幅方向の吸収遷移波長を長波化することは高分子材料としては非常に困難である。

また、本発明の液晶化合物を略垂直配向させた場合（いわゆるＣプレート）は、厚さ方向の位相差Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が負でありかつ特定波長における位相差Ｒｔｈが以下の数式（１２）及び（１３）を満たす。

数式（１２） ０．６＜Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）＜０．９９
数式（１３） １．０１＜Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）＜１．３５

上式（１２）及び（１３）を満たすフィルムを作製するためには、フィルムとして、面内方向と厚み方向における吸収波長と遷移モーメントの方向を上手く配置する必要がある。ここで、青（４５０ｎｍ）、緑（５５０ｎｍ）、赤（６５０ｎｍ）であり、視野角特性向上のためにはそれぞれの波長における最適レターデーションに合わせる必要がある。本発明では、最も重要な緑（５５０ｎｍ）に対して正の複屈折性を与えた場合の好適な青（４５０ｎｍ）、赤（６５０ｎｍ）の範囲が前記の数式（１２）及び（１３）の範囲となる。

厚さ方向の位相差Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が負であり、かつ上式（１２）及び（１３）を満たすフィルムを作製するには、厚み方向の屈折率が面内方向の屈折率に対して大きく、かつ厚み方向に比較して面内方向の吸収遷移波長をより長波化することで達成できる。しかしながら、例えばポリマー材料を用いた場合、分子の鎖は面内方向に並ぶため、厚み方向に比較して面内方向の吸収遷移波長をより長波化することは比較的容易であるが、厚み方向の屈折率が面内方向の屈折率に対して大きくするとは非常に困難であって、これら両条件を同時に満たすことはさらに困難である。

また、本発明の液晶化合物を略螺旋配向させ、その螺旋軸が基板に対して略垂直である場合は、厚さ方向の位相差Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が正でありかつ特定波長における位相差Ｒｔｈが数式（１４）及び（１５）を満たす。

数式（１４） ０．６＜Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）＜０．９９
数式（１５） １．０１＜Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）＜１．３５

上式（１４）及び（１５）を満たすフィルムを作製するためには、フィルムとして、面内方向と厚み方向における吸収波長と遷移モーメントの方向を上手く配置する必要がある。

厚さ方向の位相差Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が正であり、かつ上式（１４）及び（１５）を満たすフィルムを作製するには、面内方向の屈折率が厚み方向の屈折率に対して大きく、かつ面内方向に比較して厚み方向の吸収遷移波長をより長波化することで達成できる。しかしながら、例えばポリマー材料を用いた場合、分子の鎖は面内方向に並ぶため、面内方向の屈折率が厚み方向の屈折率に対して大きくするとは比較的容易であるが、面内方向に比較して厚み方向の吸収遷移波長をより長波化することは非常に困難であって、これら両条件を同時に満たすことはさらに困難である。

前述のように、本発明の液晶化合物を配向させた後、固定化する方法にて、ポリマー材料を用いた場合に非常に困難なフィルム、すなわち、
１）フィルム面内方向に位相差が正であり、その分散が逆波長分散であるフィルム、
２）フィルム厚み方向に位相差が負であり、その分散が逆波長分散であるフィルム、又は
３）フィルム厚み方向に位相差が正であり、その分散が逆波長分散であるフィルム
を作製することができる。

［液晶組成物］
本発明の液晶組成物は、本発明の前記一般式（２）で表される重合性液晶化合物の他に、任意の添加剤を併用することができる。添加剤の例としては、前記一般式（２）で表される化合物以外の液晶化合物や、後述する空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等が挙げられる。

（液晶化合物）
本発明の液晶組成物は、前記一般式（２）で表される化合物を含む。本発明の液晶性組成物を位相差板に用いる場合には、均一な欠陥のない配向のために、良好なモノドメイン性を示すものが好ましい。モノドメイン性が悪い場合には、得られる構造がポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになる。これは、位相差板の透過率低下にもつながるので好ましくない。良好なモノドメイン性を示すために、本発明の液晶性組成物は、ネマチック相（Ｎ相）を発現することが好ましい。

また、本発明の液晶組成物を位相差板に用いる場合に、その液晶温度範囲は、位相差板の製造適性等の面から１０〜２５０℃の範囲内に存在することが好ましく、１０〜１５０℃の範囲内に存在することがより好ましい。１０℃未満であると液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるために冷却工程等が必要となることがある。また２００℃を超えると一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にするために高温を要し熱エネルギーの浪費、基板の変形、変質等からも不利になる。

本発明の液晶組成物において、液晶化合物を単独又は複数使用してもよい。例えば、重合性の液晶化合物と非重合性の液晶化合物との併用が可能である。また、低分子液晶化合物と高分子液晶化合物との併用も可能である。更に、上記数式（３）を満たす液晶化合物２種を混合しても良い。

前記一般式（１）又は（２）で表される化合物以外の液晶化合物としては、例えば、特開２００５−２８９９８０号公報等に記載された液晶化合物を用いることができる。

本発明の上記数式（３）を満たす液晶化合物は、Δｎの波長分散が正常分散である液晶化合物と混合しても良い。ここで、波長分散が正常分散であるとは、下記数式（１６）を満たすことを意味する。
数式（１６） Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＞１．０

本発明の上記数式（３）を満たす液晶化合物とΔｎの波長分散が正常分散である液晶化合物とを混合することで、その中間の波長分散性を有する液晶組成物を作り出すことが可能となる。具体的には、これまでの液晶化合物では、数式（１７）の実現が非常に困難な領域であった。ところが、本発明の上記数式（３）を満たす液晶化合物とΔｎの波長分散が正常分散である液晶化合物と混合すれば、容易に数式（１７）で表される領域の波長分散性を有する液晶組成物を作製できる。
数式（１７） １．０≦Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．１

本発明の上記式（３）を満たす液晶化合物は液晶性を示すため、Δｎの波長分散が正常分散である液晶化合物とは、いかなる混合比においても混合できる可能性が高い。従って、目標の波長分散性に応じて、その混合比率を変化させればよい。

前記一般式（２）で表される重合性液晶化合物の含有量は、液晶組成物中、１０〜１００質量％が好ましく、４０〜１００質量％がより好ましい。本発明の液晶組成物における液晶化合物の含有量は、その組成物が液晶性を示す限り制限はされないが、液晶組成物に対して、３０〜９０質量％が好ましく、５０〜９０質量％がより好ましい。

（空気界面配向制御剤）
液晶化合物は、化合物の種類により空気界面でのチルト角（傾斜角）が異なることが知られている。この空気界面のチルト角は、位相差板の光学的な目的に応じて任意に制御する必要がある。このチルト角の制御には、例えば、電場や磁場のような外場を用いることや添加剤を用いることができるが、添加剤を用いることが好ましい。このような添加剤としては、炭素原子数が６〜４０の置換または無置換脂肪族基、あるいは炭素原子数が６〜４０の置換または無置換脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を、分子内に１本以上有する化合物が好ましく、分子内に２本以上有する化合物が更に好ましい。例えば、空気界面配向制御剤としては、特開平１１−３５２３２８号公報や特開２００２−２０３６３号公報、に記載のものを用いることができる。また、特開２００２−１２９１６２号公報に記載されている化合物を用いることができる。特開２００４−５３９８１号公報の段落番号［００７２］〜［００７５］に記載される事項も本発明に適宜適用することができる。また、これらの化合物を配合することによって塗布性が改善され、ムラまたはハジキの発生が抑制される。垂直配向剤として、特開２００６−１０６６６２号公報に記載のものと併用しても良い。

空気界面側の配向制御用添加剤の含有量としては、液晶性組成物に対して、０．００１質量％乃至２０質量％が好ましく、０．０１質量％乃至１０質量％が更に好ましく、０．１質量％乃至５質量％が最も好ましい。

（ハジキ防止剤）
液晶化合物とともに使用して、液晶組成物の塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般にポリマーを好適に用いることができる。使用するポリマーとしては、液晶化合物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましいポリマーの具体例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。
液晶の配向を阻害しないようにハジキ防止目的で使用されるポリマーの含有量は、液晶化合物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。

（重合開始剤）
本発明では、液晶化合物はモノドメイン配向、つまり実質的に均一に配向している状態で固定されていることが好ましい。したがって、本発明の重合性液晶化合物は、重合反応によってモノドメイン配向で固定されることが好ましい。

重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応と電子線照射による重合反応が含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応と電子線照射による重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
液晶化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ²〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
また、雰囲気の酸素濃度は重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達しない場合には、窒素置換等の方法により酸素濃度を低下させることが好ましい。好ましい酸素濃度としては、１０％以下が好ましく、７％以下がさらに好ましく、３％以下が最も好ましい。

（重合性モノマー）
液晶組成物は、重合性のモノマーを含有してもよい。液晶化合物とともに使用する重合性モノマーとしては、液晶化合物と相溶性を有し、液晶化合物の傾斜角変化や配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。
上記重合性モノマーの含有量は、液晶化合物に対して一般に０．５〜５０質量％の範囲にあり、１〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。

（カイラル剤）
本発明において、液晶組成物に少なくとも１種のカイラル剤を含有させることで、コレステリック相を発現させることができる。本発明に用いられるカイラル剤は、公知のカイラル剤（例えば、日本学術振興会第１４２委員会編「液晶デバイスハンドブック」，第３章４−３項，ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤，１９９頁，１９８９年に記載）を用いることができる。
カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が挙げられる。また、カイラル剤は、液晶性を有していてもよく、更に本発明の液晶化合物がカイラル剤を兼ねていてもよい。
カイラル剤の使用量は、液晶化合物の量の０．００１〜２００モル％であることが好ましい。カイラル剤の使用量は、より少なくした方が液晶性に影響を及ぼさないことが多いため好まれる。従って、カイラル剤は、ねじり力の強い方が好ましい。このような捻れ力の強いカイラル剤としては、例えば、特開２００３−２８７６２３公報に記載のカイラル剤を用いることが可能である。

本発明の化合物をコレステリック配向させ、固定化して得られる負のＣプレートフィルムは、ＩＤＷ’０６（ＬＣＴｐ３−３１Ｌ）記載の視野角調整可能な液晶表示装置に必要な負のＣプレートとして用いることができる。

（塗布溶剤）
液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、トルエン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド、エステルおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

［位相差板］
本発明の位相差板は、透明支持体上に、配向膜と、上記一般式（２）で表される化合物を含む少なくとも一層の光学異方性層とを有する。本発明の位相差板は、上記一般式（２）で表される化合物を含む液晶組成物をその液晶状態における配向形態を損なうことなく固定化するために、一度液晶相形成温度まで加熱し、次にその配向状態を維持したまま冷却することにより光学異方性層を形成することで得ることができる。あるいは、重合性基を有する液晶化合物に重合開始剤を添加した液晶組成物を液晶相形成温度まで加熱した後、重合させ冷却することによって得ることができる。ここで、本発明でいう「固定化した」という状態は、光学異方性層に含まれる液晶化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様ではあるが、それだけには限定されず、具体的には、通常０℃〜５０℃、より過酷な条件下では−３０℃〜７０℃の温度範囲において、該光学異方性層に流動性が無く、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を指すものである。

なお、本発明の位相差板においては、光学異方性層が最終的に形成された際に、その光学異方性が保持されていれば液晶化合物はもはや液晶性である必要はない。例えば、低分子の二軸性液晶化合物が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化して、液晶性を失ってもよい。

（光学異方性層）
光学異方性層は、上記溶媒を用いて調製した液晶組成物の塗布液を、配向膜上に塗布し、液晶化合物を配向処理することで形成する。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
液晶組成物から形成される光学的異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．２〜１５μｍであることがさらに好ましく、０．３〜１０μｍであることが最も好ましい。

（液晶化合物の配向処理）
液晶化合物の配向に関しては、液晶便覧（丸善(株)）第２章「液晶の配列と物性」に記載されている。
本発明における配向状態を固定化する方法としては、液晶性組成物を一度液晶相形成温度まで加熱し、次にその配向状態を維持したまま冷却することにより、その液晶状態における配向形態を損なうことなく固定化することで形成できる。また、本発明の液晶性組成物に重合開始剤を添加した組成物を液晶相形成温度まで加熱した後、重合させ冷却することによって液晶状態の配向状態を固定化することで形成できる。本発明における配向状態の固定化は、後者の重合反応により行うことが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応と電子線照射による重合反応が含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応または電子線照射による重合反応が好ましい。

（配向膜）
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜上に設けられる光学異方性層の液晶化合物に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、本発明においては、ラビング処理または光照射により形成される配向膜が好ましい。特にポリマーのラビング処理により形成する配向膜が好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では「液晶便覧」（丸善(株)、２０００年）に記載されている方法により行うことが好ましい。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜３μｍであることがさらに好ましい。

配向膜に用いられるポリマーは、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明の位相差板に用いられる配向膜は、ポリビニルアルコール及びその誘導体が好ましく用いられる。特に、疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが好ましい。配向膜については、ディスコティック液晶に用いられている配向膜を液晶の配向膜として用いることができる。そのような配向膜としては、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号パンフレットの４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。

（配向膜のラビング密度）
配向膜のラビング密度と配向膜界面での液晶化合物のチルト角との間には、ラビング密度を高くするとチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとチルト角は大きくなる関係があるので、配向膜のラビング密度を変えることで、チルト角の調整をすることができる。配向膜のラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」（丸善(株)、２０００年）に記載されている方法を用いることができる。すなわち、ラビング密度（Ｌ）は下記式（Ａ）で定量化されている。

式（Ａ） Ｌ＝Ｎｌ｛１＋（（２πｒｎ）／（６０ｖ））｝

式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。

式（Ａ）によれば、ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。

（垂直配向膜）
液晶化合物を配向膜側で垂直に配向させるためには、配向膜の表面エネルギーを低下させる方法、および排除体積効果によって液晶を垂直にする方法が有効である。配向膜の表面エネルギーを低下させるためには、ポリマーに導入した官能基により配向膜の表面エネルギーを低下させる。
これには疎水性基の官能基が有効であり、具体的にはフッ素原子および炭素原子数が１０以上の炭化水素基が有効である。フッ素原子または炭化水素基を配向膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖よりも側鎖にフッ素原子または炭化水素基を導入することが好ましい。含フッ素ポリマーは、フッ素原子を０．０５〜８０質量％の割合で含むことが好ましく、０．１〜７０質量％の割合で含むことがより好ましく、０．５〜６５質量％の割合で含むことがさらに好ましく、１〜６０質量％の割合で含むことが最も好ましい。炭化水素基は、脂肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わせである。脂肪族基は、環状、分岐状あるいは直鎖状のいずれでもよい。脂肪族基は、アルキル基（シクロアルキル基であってもよい）またはアルケニル基（シクロアルケニル基であってもよい）であることが好ましい。炭化水素基は、ハロゲン原子のような強い親水性を示さない置換基を有していてもよい。炭化水素基の炭素原子数は、１０〜１００であることが好ましく、１０〜６０であることがより好ましく、１０〜４０であることがさらに好ましい。ポリマーの主鎖は、ポリイミド構造またはポリビニルアルコール構造を有することが好ましい。

ポリイミドは、一般にテトラカルボン酸とジアミンとの縮合反応により合成する。二種類以上のテトラカルボン酸あるいは二種類以上のジアミンを用いて、コポリマーに相当するポリイミドを合成してもよい。フッ素原子または炭化水素基は、テトラカルボン酸起源の繰り返し単位に存在していても、ジアミン起源の繰り返し単位に存在していても、両方の繰り返し単位に存在していてもよい。ポリイミドに炭化水素基を導入する場合、ポリイミドの主鎖または側鎖にステロイド構造を形成することが特に好ましい。側鎖に存在するステロイド構造は、炭素原子数が１０以上の炭化水素基に相当し、液晶化合物を垂直に配向させる機能を有する。本明細書においてステロイド構造とは、シクロペンタノヒドロフェナントレン環構造またはその環の結合の一部が脂肪族環の範囲（芳香族環を形成しない範囲）で二重結合となっている環構造を意味する。ステロイド構造のような剛直な置換基やアルキル鎖などは、配向させる液晶分子に対して排除体積効果を発現できるのでより好ましい。

さらに液晶化合物を垂直に配向させる手段として、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、またはポリイミドの高分子に有機酸を混合する方法を好適に用いることができる。混合する酸としてはカルボン酸やスルホン酸、アミノ酸が好適に用いられる。後述の空気界面配向剤のうち、酸性を示すものを使用してもよい。また、４級アンモニウム塩類も好適に用いることができる。その混合量は高分子に対して、０．１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜１０質量％であることがさらに好ましい。上記ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は１００〜５０００であることが好ましい。

配向膜を、主鎖に結合した架橋性官能基を有する側鎖を有するポリマーまたは液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を有するポリマーを用いて形成し、その上に位相差膜を、多官能モノマーを含む組成物を用いて形成すると、配向膜中のポリマーと、その上に形成される位相差膜中の多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマー間だけではなく、配向膜ポリマー間および多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間にも共有結合が形成され、配向膜と位相差膜とが強固に結合される。従って、架橋性官能基を有するポリマーを用いて配向膜を形成することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００８０］〜［０１００］に記載のもの等が挙げられる。

配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール、またはジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］に記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、または高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマーおよび架橋剤を含む組成物を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥し（架橋させ）、必要に応じてラビング処理することにより形成することができる。
棒状液晶化合物の垂直配向にはラビング処理は行なわないことが好ましい。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには位相差層表面の欠陥が著しく減少する。

配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法又はインクジェット法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、８０℃〜１００℃がより好ましい。乾燥時間は好ましくは１分〜３６時間であり、より好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。

本発明の位相差膜は、それ自体を塗布、加熱形成することによって、ガラス基板やガラス基板上に設けられたカラーフィルタ、配向膜、オーバーコート（ＯＣ）層、反射板に対して十分な密着性を有するが、目的に応じて下記の方法を用いて、密着力を調整することができる。具体的には表面活性化、表面修飾、及び位相差膜塗布液に密着力促進剤を混合させる方法である。

表面活性化による方法には、表面を、酸やアルカリによる化学処理、機械処理、コロナ放電処理、火焔処理、ＵＶ処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、及びオゾン酸化処理を挙げることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、さらにまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。

表面修飾による方法には、下塗り層形成、後述のシランカップリング剤を用いたシランカップリング処理、アンカーコート層形成などである。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁に記載されている。
位相差膜塗布液に密着力促進剤を混合させる方法として、好適に用いることが出来るものとしては、例えば、特開平５−１１４３９号公報、特開平５−３４１５３２号公報、及び特開平６−４３６３８号公報等に記載の密着促進剤が好適挙げられる。具体的には、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、２−メルカプトベンズチアゾール、３−モルホリノメチル−１−フェニル−トリアゾール−２−チオン、３−モルホリノメチル−５−フェニル−オキサジアゾール−２−チオン、５−アミノ−３−モルホリノメチル−チアジアゾール−２−チオン、及び２−メルカプト−５−メチルチオ−チアジアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、アミノ基含有ベンゾトリアゾール、加水分解性基またはラジカル重合性基等を有する重合性有機金属化合物、α，β−エチレン性不飽和カルボン酸エステル、シランカップリング剤、チタンカップリング剤などが挙げられる。

前記シランカップリング剤としては、例えば、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリプロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリブトキシシラン、γ−アミノエチルトリエトキシシラン、γ−アミノエチルトリメトキシシラン、γ−アミノエチルトリプロポキシシラン、γ−アミノエチルトリブトキシシラン、γ−アミノブチルトリエトキシシラン、γ−アミノブチルトリメトキシシラン、γ−アミノブチルトリプロポキシシラン、γ−アミノブチルトリブトキシシランなどが挙げられ、また上記チタンカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシチタン、γ−アミノプロピルトリメトキシチタン、γ−アミノプロピルトリプロポキシチタン、γ−アミノプロピルトリブトキシチタン、γ−アミノエチルトリエトキシチタン、γ−アミノエチルトリメトキシチタン、γ−アミノエチルトリプロポキシチタン、γ−アミノエチルトリブトキシチタン、γ−アミノブチルトリエトキシチタン、γ−アミノブチルトリメトキシチタン、γ−アミノブチルトリプロポキシチタン、γ−アミノブチルトリブトキシチタンなどが挙げられる。これらは２種以上を併用してもよい。

前記密着促進剤の含有量としては、前記位相差層の全成分に対して０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．１質量％〜５質量％が特に好ましい。

また、重合開始剤によっても密着性を制御することができる。重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの等）、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、芳香族オニウム塩、メタロセン類などが挙げられる。これらの中でも、感度、保存性、及び密着性等の観点から、トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素、オキシム誘導体、ケトン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物が好ましい。

（透明支持体）
本発明の位相差板の透明支持体としては、主に光学的等方性で、光透過率が８０％以上であれば、特に材料の制限はないが、ポリマーフィルムが好ましい。ポリマーの具体例として、セルロースエステル類（例、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸で、炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）又は４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。
なお、本発明において、透明支持体および配向膜は位相差膜を形成する段階では必須であるが、位相差膜を形成した後は異なる基板に転写し、透明支持体およびまたは配向膜は剥離などによって取り除いてもかまわない。

以下、透明支持体として好ましく使用されるセルロースエステル（特に、セルローストリアセテート）について詳述する。セルロースエステルとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜４．０であることが好ましく、１．３〜３．５であることがさらに好ましく、１．４〜３．０であることが最も好ましい。

セルローストリアセテートでは、セルロースの２位、３位、６位の水酸基が全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。セルロースの６位水酸基の置換度が、２位、３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基がアシル基で置換されている割合が、３０％以上４０％以下であることが好ましく、さらには３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素原子数３以上のアシル基（例、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ベンゾイル、アクリロイル）で置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。６位水酸基の置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。

透明支持体として用いるポリマーフィルム、特にセルロースアセテートフィルムに対して、レターデーションを調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することも可能である。このようなレターデーション上昇剤を使用する場合、レターデーション上昇剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。レターデーション上昇剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。ここで、芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。

レターデーション上昇剤としての芳香族化合物が有する芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。また、芳香族性ヘテロ環は、一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は、一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。

また、レターデーション上昇剤としての芳香族化合物が有する二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号パンフレット、ＷＯ００／２６１９Ａ１号パンフレット、特開２０００−１１１９１４号公報、同２０００−２７５４３４号公報、同２００２−３６３３４３号公報等に記載されている。

透明支持体としてのセルロースアセテートは、単層または複数の層からなる。例えば、セルローストリアセテートの場合、単層のセルローストリアセテートは、特開平７−１１０５５号等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成でき、後者の複数の層からなるセルローストリアセテートは、特開昭６１−９４７２５号、特公昭６２−４３８４６号等で開示されている、いわゆる共流延法により作成することができる。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。

上記のような、セルローストリアセテートを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。ジクロロメタン等を実質的に含まない溶剤を用いてセルローストリアセテートのドープを調製する場合には、後述するような特殊な溶解法が必須となる。これらは冷却溶解法、高温溶解法と称される。ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアセテートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７４５号と略す）に詳しく記載されている。

セルロースアセテートの種々の物性を改良するために添加する添加剤については、公開技報２００１−１７４５号に記載のものを好ましく使用できる。

透明支持体がセルロースアセテートの場合、片面に粘着層を設ける等してその他の機能性層や基材に接着する際に、十分に接着させるために鹸化処理を実施することが好ましい。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカリ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗するか、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。鹸化処理することにより、透明支持体の表面が親水化される。親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏向膜との接着性を改良するのに特に有効である。また、親水化された表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏向膜と接着させる際に偏向膜と透明支持体との間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効である。

鹸化処理は、透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２０゜以下である。

アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の２つから選択することができる。汎用のセルロースアセテートフィルムと同一の工程で処理できる点で下記（１）が優れているが、光学異方性層表面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、下記（２）が優れる。
（１）透明支持体上に光学異方性層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する。
（２）透明支持体上に光学異方性層を形成する前または後に、アルカリ液を透明支持体の光学異方性層を形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該透明支持体の裏面だけを鹸化処理する。

また、セルロースアセテートフィルムの表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社 １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアセテートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアセテートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。

セルロースアセテートフィルムの厚さは、通常５〜５００μｍの範囲が好ましく、２０〜２５０μｍの範囲が好ましく、３０〜１８０μｍの範囲がより好ましく、３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。

（波長分散）
本発明の位相差板の波長分散のより好ましい範囲としては、下記式（Ａ−１）と（Ａ−２）を満足することが好ましい。

式（Ａ−１） ０．６０＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９９
式（Ａ−２） １．０１＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．３５
［式中、Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）、Ｒ（６５０）は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける、レターデーション値を表す。ただし、それぞれの測定波長は、±１０ｎｍの誤差を含む。］

これらの範囲から外れた場合は、例えば、λ／４板として使用する場合において、４００〜７００ｎｍの直線偏光をこの位相差板に入射した際、得られる偏光状態はある特定の波長では完全な円偏光が得られるものの、それ以外の波長では大きく円偏光からずれるといった問題が生じることがあるため、下記式（Ａ−３）と（Ａ−４）を満足することがより好ましい。

式（Ａ−３） ０．６０＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９５
式（Ａ−４） １．０４＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．３５
［式中、Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）、Ｒ（６５０）は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける、レターデーション値を表す。ただし、それぞれの測定波長は、±１０ｎｍの誤差を含む。］

［偏光板］
本発明の位相差板は、特に偏光板保護膜用として有用である。偏光板保護膜として用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。
保護膜処理面と偏光膜を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光膜及びその両面を保護する保護膜で構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成してもよい。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明のセルロースフィルムを適用した偏光板保護膜はどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護膜には透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護膜をこの部分に用いることが得に好ましい。

また、本発明の液晶化合物を含有してなる光学フィルムを偏光板の保護膜として用いる場合は、光弾性の値が０．５×１０^-13〜９．０×１０^-13［ｃｍ²／ｄｙｎ］であり、透湿度の値（但し、フィルムの厚みを８０μｍとして換算した値）が１８０〜４３５［ｇ／ｃｍ²・２４ｈ］であるのが好ましい。光弾性の値は、０．５×１０^-13〜７．０×１０^-13［ｃｍ²／ｄｙｎ］であるのがより好ましく、０．５×１０^-13〜５．０×１０^-13［ｃｍ²／ｄｙｎ］であるのがさらに好ましい。また、透湿度の値（但し、フィルムの厚みを８０μｍとして換算した値）は、１８０〜４００［ｇ／ｃｍ²・２４ｈ］であるのがより好ましく、１８０〜３５０［ｇ／ｃｍ²・２４ｈ］であるのがさらに好ましい。本発明のフィルムが上記特性を有すると、偏光板の保護膜として用いた場合に、湿度の影響による性能の低下を軽減することができる。

本発明の液晶化合物を略垂直配向させ固定化させた光学異方性膜（光学異方性膜（Ａ））は、輝度向上フィルム、ＩＰＳ用光学補償フィルムとして用いることができる。

本発明の光学異方性膜（Ａ）は、偏光膜と組み合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型液晶表示装置に、偏光膜と組み合わせて適用することにより、液晶表示装置の視野角の拡大に寄与させることができる。

本発明の光学異方性膜（Ａ）には、粘着層を設けることもできる。粘着剤層は、液晶セルへの貼着に用いることができるほか、他の光学異方性膜（光学異方性膜（Ｂ））等の積層に用いられる。
粘着層は、異なる組成または種類等のものの重畳層として偏光板や光学フィルムの片面または両面に設けることもできる。また両面に設ける場合に、偏光板や光学フィルムの表裏において異なる組成や種類や厚さ等の粘着層とすることもできる。粘着層の厚さは、使用目的や接着力などに応じて適宜に決定でき、１〜５００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、１０〜１００μｍがさらに好ましい。

粘着層の露出面に対しては、実用に供するまでの間、その汚染防止等を目的にセパレータが仮着されてカバーされる。これにより、通例の取扱状態で粘着層に接触することを防止できる。セパレータとしては、上記厚さ条件を除き、例えば、プラスチックフィルム、ゴムシート、紙、布、不織布、ネット、発泡シートや金属箔、それらのラミネート体等の適宜な薄葉体を、必要に応じシリコーン系や長鏡アルキル系、フッ素系や硫化モリブデン等の適宜な剥離剤でコート処理したものなどの、従来に準じた適宜なものを用いうる。

［本発明の輝度向上フィルム］
液晶の動きによる偏光状態の変化を利用して画像表示する液晶表示装置には、偏光板が必要であり、そのためバックライトから放射された光の半分以上がこの偏光板によって吸収され、画像の表示に寄与できなくなる。輝度向上フィルムは、この吸収される偏光を、一度バックライト側に反射する機能を有するものであり、反射された偏光はバックライト側の光学部材によって再反射および偏光状態を変化された後に、偏光板を通過し液晶表示装置に入射できる。このため、元来、偏光板によって吸収されて表示に寄与できなかった光が利用できるようになり、その結果液晶表示装置の表示輝度を向上されることができるものである。

（構成）
輝度向上フィルムは、液晶表示装置の裏側の偏光板に貼り合わせて使用することが好ましい。本発明の輝度向上フィルムは、前記光学異方性膜（Ａ）を、コレステリック液晶フィルムと、１／４波長板との間に配置して形成する。コレステリック液晶層は右左円偏光成分のうち片方のセンスの円偏光を反射し、もう片方のセンスの円偏光を透過する機能を有している。これを通過した円偏光を、偏光板を効率よく通過させるために、１／４波長板を用いて直線偏光に変換させる。１／４波長板はこの目的のために、偏光板とコレステリック液晶フィルムとの間に配置されている。しかし、コレステリック液晶層へ斜めに入射し、斜めに出射する光は、コレステリック液晶層が持つ厚み方向位相差による影響を受け楕円偏光化するため、斜め方向から見た場合に着色したり、光の利用効率のロスを生じたりする。前記の光学異方性膜（Ａ）は、コレステリック液晶層が持つ厚み方向位相差を補償する機能を有するため、この着色やロスを軽減することができる。前記の光学異方性膜（Ａ）のＲｅは面内の位相差（Ｒｅ）は４０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。一方、厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）は光学補償の効果の観点から、−１００ｎｍ〜−６００ｎｍであることが好ましく、−１５０ｎｍ〜−４５０ｎｍであることがより好ましく、−２００ｎｍ〜−３５０ｎｍであることがさらに好ましい。コレステリック液晶フィルム、１／４波長板は、輝度向上フィルムに使用される各種のものを特に制限なく使用できる。

輝度向上フィルムは、例えば、前記のＲｔｈの小さな透明支持体上に形成した光学異方性膜（Ａ）をコレステリック液晶フィルムと１／４波長板との間に粘着剤を用いて貼りあわせて形成できる。
また、１／４波長板を支持体として、本発明の光学異方性膜（Ａ）を作製し、さらに光学異方性膜（Ａ）に粘着剤層を介してコレステリック液晶フィルムを貼り合わせることにより作製することもできる。
また、支持体上に作製された光学異方性膜（Ａ）を、粘着剤層を介してコレステリック液晶フィルムまたは１／４波長板に転写した後、これに前記転写に用いていない１／４波長板またはコレステリック液晶フィルムをさらに粘着剤層を介して貼り合わせることにより作製することもできる。

粘着剤層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤のような光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。

粘着剤層の形成は、適宜な方式で行うことができる。その例としては、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物または混合物からなる溶媒にベースポリマーまたはその組成物を溶解または分散させた１０〜４０質量％程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で前記基板または液晶フィルム上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘着剤層を形成してそれを前記液晶層上移着する方式などがあげられる。また、粘着剤層には、例えば天然物や合成物の樹脂類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤や顔料、着色剤、酸化防止剤などの粘着層に添加されることの添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して光拡散性を示す粘着剤層などであってもよい。

なお、基板上で形成された前記光学異方性膜（Ａ）を、粘着剤層を介して転写する際には、光学異方性膜（Ａ）を表面処理することが好ましい。表面処理の手段は、特に制限されないが、前記光学異方性膜（Ａ）の透明性を維持できるコロナ放電処理、スパッタ処理、低圧ＵＶ照射、プラズマ処理などの表面処理法を好適に採用できる。これら表面処理法のなかでもコロナ放電処理がより好ましい。

（コレステリック液晶フィルム）
コレステリック液晶フィルムは、右円偏光または左円偏光のいずれかを可視光線波長の広い範囲で反射することが好ましい。フィルムの法線方向から入射した光に対して４００ｎｍ〜１１００ｎｍの範囲で反射するものが好ましく、４３０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射するものがより好ましい。

反射される光の波長は、法線方向から入射する光に対して、コレステリック液晶の螺旋の周期（ピッチ）とコレステリック液晶の平均屈折率との積で与えられるので、螺旋のピッチは２５０ｎｍ〜８００ｎｍのものが使用できる。ただし、コレステリック液晶による円偏光の反射波長帯域の幅はコレステリック液晶の屈折率異方性とピッチとの積になり、通常の液晶材料では２００ｎｍを超えることは極めて困難である。そのため、上記の可視光領域に渡る広い反射帯域を確保するために、反射波長が相違するものの組み合わせにして２層または３層以上重畳した配置構造を取らせる方法や反射帯域が４００ｎｍ及び９００ｎｍ程度のコレステリック液晶フィルムを重ね合わせた後に、加熱してコレステリック液晶構成成分をフィルムの厚さ方向に拡散させることによって、ピッチの連続的な分布を厚さ方向に形成して、反射帯域を広げる方法がある。ピッチの連続的な分布を厚さ方向に形成する別な方法としては、ＵＶ吸収剤と光異性化キラル剤をコレステリック液晶の構成成分に用いて、コレステリック液晶を配向した後に、ＵＶ光を照射する方法や、ＵＶ吸収剤と重合反応速度の異なるモノマーをコレステリック液晶の構成成分として配合して、照度の低いＵＶ光を照射して形成する方法がある。

コレステリック液晶フィルムは、コレステリック高分子液晶や重合性のコレステリック液晶をラビングした配向膜が形成されている支持体の上で、その螺旋軸を支持体の法線方向と略平行にして配向させたのち固定化して形成する。コレステリック液晶は、例えば、棒状液晶化合物と光学活性な化合物とを混合して得られる。棒状液晶化合物は重合性の基を複数有するものが好ましい。コレステリック高分子液晶では、光学活性な置換基をポリマーに結合したものを用いることができる。光学活性な化合物の混合量を増大するとコレステリック液晶のピッチは混合量に比例して短くなるので、これを利用すれば容易に反射帯域を調整することができる。

コレステリック液晶フィルムの厚さは、１〜３０μｍであることが好ましく、２〜１５μｍであることがより好ましい。なお、コレステリック液晶フィルムには、ポリマーや空気界面側配向剤、界面活性剤、安定剤、可塑剤などの無機化合物、有機化合物、金属やその化合物などの１種以上の添加剤を必要に応じて配合することができる。

（１／４波長板）
１／４波長板は、使用目的に応じた適宜な位相差板が用いられる。１／４波長板は、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御することができる。位相差板としては、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルムや液晶ポリマーなどの液晶材料からなる配向フィルム、液晶材料の配向層をフィルムにて支持したものなどが挙げられる。１／４波長板の厚さは、０．５〜２００μｍであることが好ましく、１〜１００μｍであることがより好ましい。

可視光域等の広い波長範囲で１／４波長板として機能する位相差板は、例えば、波長５５０ｎｍの淡色光に対して１／４波長板として機能する位相差層と他の位相差特性を示す位相差層、例えば１／２波長板として機能する位相差層とを重畳する方式などにより得ることができる。従って、偏光板と輝度向上フィルムの間に配置する位相差板は、１層または２層以上の位相差層からなるものであってよい。

［本発明の光学フィルムの構成と形成方法］
本発明の光学フィルムは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ‐Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。本発明の光学フィルムには、各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償の作用がある。
また、直交偏光板を斜めから見た場合の偏光軸交差角度の直交からのズレに基づく光漏れを軽減できる効果がある。

本発明の液晶表示装置は、前記光学異方性膜（Ａ）と少なくとも一層以上の前記光学異方性膜（Ｂ）とを有することが好ましい。
本発明の光学フィルムは、例えば、光学異方性膜（Ｂ）を支持体として、光学異方性膜（Ａ）を塗布配向固定して作製された積層光学フィルムであってもよい。
また、支持体上に作製された光学異方性膜（Ａ）を、粘着剤層を介して光学異方性膜（Ｂ）に転写して積層することができる。または、前記のＲｔｈの小さな透明支持体上に形成した光学異方性膜（Ａ）を光学異方性膜（Ｂ）に粘着剤を用いて貼りあわせて積層してもよい。

（光学異方性膜（Ｂ））
光学異方性膜（Ｂ）には、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどを使用することができ、また使用目的に応じた適宜な光学異方性膜（Ｂ）を有する２種以上の光学異方性膜（Ｂ）を積層して位相差等の光学特性を制御することができる。このような光学異方性膜（Ｂ）としては、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルムや液晶ポリマーなどの液晶化合物からなる配向フィルム、液晶材料の配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。他に二軸延伸処理や直交する二方向に延伸処理等された複屈折を有するフィルム、傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理または／および収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。特に、前記光学異方性膜（Ａ）と組み合わせることで、より高機能な光学特性を作り出せる光学異方性膜（Ｂ）として、以下に説明する透明光学異方性フィルムおよびＲｅが小さなセルロースアシレートフィルムが好適に用いられる。

《透明光学異方性フィルム》
光学異方性膜（Ｂ）としての透明光学異方性フィルムは面内の位相差（Ｒｅ）が０ｎｍ〜２５０ｎｍ、厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が０ｎｍ〜３５０ｎｍ）のポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、セルロースアシレートの透明光学異方性フィルムを用いることが好ましい。
偏光板の斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、Ｒｅは、４０ｎｍ〜２５０ｎｍであるのがより好ましく、６０ｎｍ〜２００ｎｍであるのがさらに好ましい。また、斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、Ｒｔｈは、１０ｎｍ〜３００ｎｍであるのがより好ましく、２０ｎｍ〜２５０ｎｍであるのがさらに好ましい。この範囲であれば透明光学異方性フィルムは光学的に一軸性であっても、二軸性であってもよい。光学異方性膜（Ｂ）として正のＡプレートフィルムを正のＣプレートフィルムである光学異方性膜（Ａ）と併用した場合、ＩＰＳ用液晶表示装置のコントラストの改善に適しており、正のＡプレートフィルム（Ｂ）としてＲｅ（５５０ｎｍ）４０〜２５０ｎｍであり、７０〜２３０ｎｍであることが好ましく、１００〜１８０ｎｍであることがさらに好ましい。また、波長分散としてΔｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＝０．６〜１．０であり、０．６５〜０．９５であることが好ましく、０．７〜０．９であることが更に好ましい。Δｎ（６５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＝１．０〜１．３であり、１．０１〜１．２５であることが好ましく、１．０２〜１．２３であることが更に好ましい。光学異方性膜（Ａ）としてＲｅ（５５０ｎｍ）は、０〜４０ｎｍであることが好ましく、０〜２０ｎｍであることがより好ましく、０〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、−１０〜−３００ｎｍであることが好ましく、−３０〜−２５０ｎｍであることがより好ましく、−５０〜−２００ｎｍであることがさらに好ましい。波長分散として前記数式（１２）および（１３）を満たすことが好ましい。ＩＰＳ用液晶表示装置のコントラストの改善を目的とした正のＡプレートフィルムと正のＣプレートフィルムを有する光学補償膜は、国際公開ＷＯ２００５／０３８５１７号パンフレットに記載されているが、正のＣプレートの波長分散に関して言及されていない。

基本的には前記透明光学異方性フィルムは、前記光学特性を有する限り、その材料および形態については特に制限されない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、透明支持体上に高分子化合物を塗布後に加熱延伸した膜、および透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶化合物を塗布もしくは転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。

複屈折ポリマーフィルムとしては、複屈折特性の制御性や透明性、耐熱性に優れるものが好ましい。この場合、用いる高分子材料としては均一な一軸配向若しくは二軸配向が達成できる高分子であれば特に制限はないが、従来公知のもので溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるもの好ましく、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、セルロースアシレート、または、それらポリマーの２種または３種以上を混合したポリマーなどがあげられる。このうち、透明性や均一性などの光学性能の観点からは、ポリカーボネート系、ノルボルネン系やセルロースアシレートのフィルムを含んでいるのがより好ましい。これらの製膜方法は前述の支持体の説明に述べた方法を用いてもよい。

フィルムの二軸配向は、押出し成形方式や流延製膜方式等の適宜な方式で製造した当該熱可塑性樹脂からなるフィルムを、例えばロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより達成することができる。前記のロールによる縦延伸方式では加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の適宜な加熱方法を採ることができる。またテンターによる二軸延伸方式では全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法などの適宜な方法を採ることができる。
また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般には薄型化の点より１〜３００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましく、２０〜１５０μｍがさらに好ましい。延伸は１．０１〜２倍の倍率で行う。延伸方向は少なくとも一方向であればよいが、その方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向（押出方向）であることが好ましく、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。光学特性の制御はこの延伸倍率と加熱温度を制御することによって行なうことができる。

《Ｒｅが小さいセルロースアシレートフィルム》
光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さいセルロースアシレートフィルムとしては、波長６３０ｎｍにおける面内の位相差Ｒｅが１０ｎｍ以下（０≦Ｒｅ（６３０）≦１０）でかつ、膜厚方向の位相差Ｒｔｈが−１００ｎｍ〜２５ｎｍであることが好ましい。より好ましくは、０≦Ｒｅ（６３０）≦５、かつ、−６０≦Ｒｔｈ（６３０）≦２０であり、さらに好ましくは、０≦Ｒｅ（６３０）≦２、かつ、−４０≦Ｒｔｈ（６３０）≦１５である。

さらに、波長分散が小さいセルロースアシレートフィルムが好ましく、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５であることがより好ましい。さらに好ましくは、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦５、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦２５であり、最も好ましくは、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦３、かつ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦１５である。
このフィルムと本発明の光学異方性膜との積層で、偏光板の視野角を効果的に広げる部材を提供できる。
また、積層したＲｅが小さいセルロースアシレートフィルムを偏光板の保護フィルムと使用した場合には、本発明の光学異方性膜（Ａ）の必要な厚さを薄くできる効果がある。
上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基、プロピオニル基およびブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下できることがわかった。より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらに好ましくは２．６５〜３．００である。本発明に用いることができるこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）７頁〜１２頁に詳細に記載されている。

上記セルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。

セルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
本発明で用いることができるセルロースアシレートフィルムは、膜厚方向のＲｔｈが下記数式（III）及び（IV）を満たすようなＲｔｈを低下させる化合物を含有することが好ましい。
数式（III） （Ｒｔｈ_(A)−Ｒｔｈ₍₀₎）／Ａ≦−１．０
数式（IV） ０．０１≦Ａ≦３０
（数式（III）及び（IV）中、Ｒｔｈ_(A)は、Ｒｔｈを低下させる化合物をＡ％含有した保護膜のＲｔｈ（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ₍₀₎は、該保護膜であって、Ｒｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）を表し、Ａは、フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈを低下させる化合物の質量（％）を表す。）
上記数式（III）及び（IV）はそれぞれ、下記数式（III-I）及び（IV-I）を満たすことがさらに好ましい。
数式（III-I） （Ｒｔｈ_(A)−Ｒｔｈ₍₀₎）／Ａ≦−２．０
数式（IV-I） ０．１≦Ａ≦２０

セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物について説明する。本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、フィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いて光学異方性を十分に低下させ、ＲｅがゼロかつＲｔｈがゼロに近くなるようにした。このためには光学異方性を低下させる化合物はセルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。

本発明で用いることができるセルロースアシレートフィルムを作製するにあたっては、上述のようにフィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制して光学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物が好ましい。ｌｏｇＰ値が７以下の化合物を採用することにより、セルロースアシレートとの相溶性がより良くなり、フィルムの白濁や粉吹きをより効果的に防止することができる。また、ｌｏｇＰ値が０以上の化合物を採用することにより、親水性が高いために、セルロースアセテートフィルムの耐水性が悪化してしまうのをより効果的に防止できる。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Crippen's fragmentation法（J．Chem．Inf．Comput．Sci.，27，21（1987）.）、Viswanadhan's fragmentation法（J．Chem．Inf．Comput．Sci.，29，163（1989）.）、Broto's fragmentation法（Eur．J．Med．Chem．−Chim．Theor.，19，71（1984）.）などが好ましく用いられるが、Crippen's fragmentation法（J．Chem．Inf．Comput．Sci.，27，21（1987）.）がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Crippen's fragmentation法により判断することが好ましい。

光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい。また光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０〜３０００であることが好ましく、１７０〜２０００であることがより好ましく、２００〜１０００であることがさらに好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。
光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０〜９９％となるよう存在するのが好ましい。光学異方性を低下させる化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより表面および中心部の化合物量を測定して求めることができる。

以下に本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物の具体例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。
光学異方性を低下させる化合物としては、例えば、下記一般式（３）または一般式（４）で表される化合物が挙げられる。

一般式（３）中、Ｒ¹¹¹はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ¹¹²及びＲ¹¹³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²及びＲ¹¹³の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²及びＲ¹¹³は置換基を有していてもよく、置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基、スルホンアミド基およびシアノ基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビシクロオクチル基、ノニル基、アダマンチル基、デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、ジデシル基）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、トリフェニルフェニル基）が特に好ましい。

一般式（４）中、Ｒ¹⁷はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。
Ｒ¹⁷は、フェニル基または環状アルキル基が好ましい。Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、それぞれ、フェニル基またはアルキル基が好ましい。アルキル基としては、環状アルキル基および直鎖のアルキル基のいずれも好ましい。
これらの基は、置換基を有していてもよく、置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。
一般式（４）で表される化合物は、より好ましくは一般式（５）で表される化合物である。

一般式（５）中、Ｒ¹¹⁴、Ｒ¹¹⁵およびＲ¹¹⁶はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。アルキル基は、環状アルキル基および直鎖のアルキル基のいずれも好ましいく、アリール基はフェニル基が好ましい。

以下に、前記一般式（３）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。尚、本明細書中、Ｐｒⁱはイソプロピル基を意味する。

以下に、前記一般式（４）又は（５）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。尚、本明細書中、Ｂｕⁱはイソブチル基を意味する。

Ｒｔｈをさらに小さくし、負にするための手段は、支持体の製作方法に説明した手法が適用できる。

［本発明の画像表示装置］
本発明の光学異方性膜（Ａ）や積層光学フィルムの利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、米国特許第５８０５２５３号明細書および国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレットに記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特許第２８６６３７２号公報に記載がある。
さらにエレクトロルミネセンス装置やフィールドエミッション表示装置などの反射防止の目的にも偏光板と組み合わせて、本発明の光学異方性膜や積層光学フィルムの使用が効果がる。

本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）を作製することができる。本発明の位相差板は、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＶＡおよびＨＡＮモードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。

本発明の光学異方性膜（Ａ）および光学異方性膜（Ｂ）は、支持体または平滑化層として用いても良い。光学異方性膜（Ａ）および光学異方性膜（Ｂ）を組み合わせることでＩＰＳ用光学補償膜としても効果的であり、その場合、光学異方性膜（Ａ）および光学異方性膜（Ｂ）が、液晶セルの内側または外側にあってもよく。またいずれか一方が内側、もう一方が外側にあっても良い。

本発明の液晶化合物を略水平配向させ固定化させた光学異方性膜は、特開２００４−３２６０８９号公報に記載の逆分散性正のＡプレート同様、ＶＡ液晶などの液晶表示装置用補償膜として用いることができる。さらに、特開２００４−３２６０８９号公報の逆分散性正のＡプレートは、５０〜８０μｍのポリマー延伸フィルムを用いているのに対し、本発明の逆分散性正のＡプレートは３μｍ程度で所望の光学特性を達成することができ膜厚を薄くすることができる。

［液晶表示装置］
＜一般的な液晶表示装置の構成＞
本発明の液晶化合物を含有してなる光学フィルムは、液晶表示装置に適用することができる。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光膜、および該液晶セルと該偏光膜との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、好ましくは５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。

＜液晶表示装置の種類＞
本発明の液晶化合物を含有してなる光学フィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。具体的には、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＡＦＬＣ（Anti-ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）、およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）等の表示モードが挙げられる。また、上記表示モードを配向分割した表示モードにおいても用いることができる。

（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明の液晶化合物を含有してなる光学フィルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報の記載に従って作製することができる。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６，（１９９７），ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６，（１９９７），ｐ．１０６８）の記載に従って作製することができる。

（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明の液晶化合物を含有してなる光学フィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報の記載に従って作製することができる。

（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明の液晶化合物を含有してなる光学フィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅ値を０〜１５０ｎｍとし、Ｒｔｈ値を７０〜４００ｎｍとすることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈ値は７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈ値は１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であってもよい。

（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明の液晶化合物を含有してなる光学フィルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体、または偏光板の保護膜としても有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースフィルムを用いた偏光板は色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下の前記偏光板の保護膜のうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護膜（セル側の保護膜）に本発明の偏光板を少なくとも片側一方に用いることが好ましい。更に好ましくは、偏光板の保護膜と液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のレターデーション値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。

（ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明の液晶化合物を含有してなる光学フィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーション値の絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報の記載に従って作製することができる。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３８，（１９９９），ｐ．２８３７）の記載に従って作製することができる。

（反射型液晶表示装置）
本発明の液晶化合物を含有してなる光学フィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Guest-Host）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号公報、国際公開ＷＯ９８／４８３２０号パンフレット、特許第３０２２４７７号公報の記載に従って作製することができる。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、国際公開ＷＯ００／６５３８４号の記載に従って作製することができる。

（その他の液晶表示装置）
本発明の液晶化合物を含有してなる光学フィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．，ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ，（１９９８），ｐ．１０８９）の記載に従って作製することができる。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜例示化合物の調整＞
［例示化合物（２）の調製］
下記スキームに従い、例示化合物（２）を調製した。

化合物（２−１）から化合物（２−３）までの合成は“Journal of Chemical Crystallography”(1997)，27(9)，p.515-526．に記載の方法で行った。

シアノ酢酸（２−４）８．５ｇ（０．１ｍｏｌ）、４−ヒドロキシブチルアクリル酸エステル（２−５）１４．４ｇ（０．１ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液５０ｍｌに、ジシクロへキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）２０．６ｇ（０．１ｍｏｌ）を氷冷下滴下した。室温まで昇温しそのまま２時間攪拌した後、固形物をろ過にて取り除いた。ろ液の溶媒を減圧下、取り除き、生じた固形物をさらにろ過にて取り除くことで、化合物（２−６）１８．６ｇ（収率８８ｍｏｌ％）を得た。

化合物（２−３）１５．７ｇ（５０ｍｍｏｌ）、化合物（２−６）１２．７ｇ（６０ｍｍｏｌ）、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５０ｍｇのＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）１００ｍｌの懸濁溶液を窒素雰囲気下、８０℃まで加熱した。懸濁溶液が均一溶液となった後、１．５時間攪拌し、冷却した。酢酸エチルおよび水を加えて分液し、有機層を水、０．５Ｎ塩酸水、水の順に水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製を行うことで、化合物（２−７）１２．８ｇを得た（収率６５ｍｏｌ％）。

化合物（２−８）１７．６ｇ（６６ｍｍｏｌ）のトルエン２０ｍｌ溶液に塩化チオニル１１．８ｇ（９９ｍｍｏｌ）を加え、触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを加えた。そのまま８０℃まで昇温し、２時間攪拌後、溶媒を留去した。そのものを、化合物（２−７）１１．８ｇ（３０ｍｍｏｌ）、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）１０ｍｇ、ピリジン（Ｐｙ）７．１ｇ（９０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）３０ｍｌ溶液に氷冷下、窒素雰囲気にて滴下した。滴下終了後、３時間攪拌させた後、室温にてさらに１時間攪拌した。酢酸エチルおよび水を加えて分液し、有機層を水、０．５Ｎ塩酸水、水の順に水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製を行うことで、例示化合物（２）２０．０ｇを得た（収率７５ｍｏｌ％）。
＜例示化合物（２）の同定データ＞
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）：
０．７５−１．２５（ｍ，３６Ｈ）、１．４０−１．６５（ｍ，４Ｈ）、１．６５−２．００（ｍ，１６Ｈ）、２．１０−２．２５（ｍ，４Ｈ）、２．４５−２．６０（ｍ，２Ｈ）、４．４０−４．５５（ｍ，４Ｈ）、５．９２（ｄ，１Ｈ）、６．２０（ｄｄ，１Ｈ）、６．５０（ｄ，１Ｈ）、７．２１（ｄ，２Ｈ）
Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，ＰＯＳＩ）＝８９０

［例示化合物（１）及び（３）の調製］
上記の例示化合物（２）の調製において、４−ヒドロキシブチルアクリル酸エステルを、２−ヒドロキシエチルアクリル酸エステル又は４−ヒドロキシブチルメタクリル酸エステルにそれぞれ変更したこと以外例示化合物（２）の調製と同様にして例示化合物（１）及び（３）を調製した。
＜例示化合物（１）の同定データ＞
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）：
０．７５−１．２５（ｍ，３６Ｈ）、１．４０−１．６５（ｍ，４Ｈ）、１．６５−２．００（ｍ，１２Ｈ）、２．１０−２．２５（ｍ，４Ｈ）、２．４５−２．６０（ｍ，２Ｈ）、４．４０−４．５５（ｍ，４Ｈ）、５．９２（ｄ，１Ｈ）、６．２０（ｄｄ，１Ｈ）、６．５０（ｄ，１Ｈ）、７．２１（ｄ，２Ｈ）
Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，ＰＯＳＩ）＝８６３
＜例示化合物（３）の同定データ＞
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）：
０．７５−１．２５（ｍ，３６Ｈ）、１．４０−１．６５（ｍ，４Ｈ）、１．６５−２．１０（ｍ，１９Ｈ）、２．１０−２．２５（ｍ，４Ｈ）、２．４５−２．６０（ｍ，２Ｈ）、４．４０−４．５５（ｍ，４Ｈ）、５．５８（ｄ，１Ｈ）、６．１５（ｄ，１Ｈ）、７．２１（ｄ，２Ｈ）
Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ，ＰＯＳＩ）＝９０５

［例示化合物（７８）〜（９５）の調製］
上記の例示化合物（２）の調製と同様な方法によって例示化合物（７８）〜（９５）を調製した。得られた化合物は上記の例示化合物（１）〜（３）の調製と同様にＮＭＲスペクトルやマススペクトル等の各種スペクトルデータに基づいてその構造を決定した。

このように調整して得られた各化合物の相転移温度を表１に示す。表１中、Ｃｒは結晶相、Ｎｅはネマチック相、Ｉｓｏは等方相、Ｃｏｌはカラムナー相をそれぞれ表す。数字は昇温過程での相転移温度を表す。

実施例１
［例示化合物（２）を用いた略水平配向させた重合性膜（Ａプレート）の調製］
例示化合物（２）１００質量部、及び重合開始剤（イルガキュア８１９、商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）４質量部をクロロホルム３５０質量部に溶解させた溶液を、ホモジニアス配向処理を施したポリイミド配向膜が形成されているガラス板にスピンコートし、薄膜を作製した。液晶化合物を基板温度１４０℃にて配向させると、均一に配向した。その後、４００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して液晶化合物を重合させ、これを冷却することによって液晶化合物の配向状態を固定化させた重合性膜を形成させた。溶液濃度、並びにスピンコート速度及び時間を調整することにより厚さがそれぞれ２．１０μｍ（膜ａ）又は３．５２μｍ（膜ｂ）、３．０３μｍ（膜ｂ−２）である膜を得た。

作製した膜ａ、膜ｂ及び膜ｂ−２を自動複屈折率計（KOBRA-21ADH、商品名、王子計測機器(株)社製）を用いて測定した結果を表２に示す。

表２の結果から明らかなように、膜ａ、膜ｂ及び膜ｂ−２はいずれも、Ｒｅが各測定波長において正であり、かつ各波長におけるＲｅ／Ｒｔｈ比が略２である。このことから、例示化合物（２）が膜面に対して略水平配向していることが分かった。
また、測定波長が長波になるにつれＲｅが大きくなっており、Ｒｅ／Ｒｅ（５５０）の値からこの異方性膜は、位相差Ｒｅが以下の数式（８）及び（９）を満たすことがわかった。
数式（８） ０．５＜Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１．０
数式（９） １．０５＜Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１．５

実施例２
［例示化合物（２）を用いた略垂直配向させた重合性膜（Ｃプレート）の調製］
（配向膜の形成）
ポリイミド系液晶配向材（ＪＡＬＳ６８４、商品名、ＪＳＲ(株)製）をγ−ブチロラクトンで希釈し、ガラス板上に塗布した。８０℃で１５分間乾燥後、２００℃で６０分間加熱し、冷却後ラビング処理を行い、配向膜を形成した。得られた配向膜の膜厚は０．１μｍであった。
得られたＪＡＬＳ６８４面付きガラス基板上に、例示化合物（２）１００質量部、下記重合開始剤２質量部をクロロホルム３５０質量部に溶解させ、バー塗布した後に１４０℃に加熱し、液晶化合物を配向させた。その後、１２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して液晶化合物を重合させ、これを冷却することによって液晶化合物の配向状態を固定化させた重合性膜を形成させた。塗布バーの番手および塗布液濃度を調整することにより、厚さがそれぞれ４．４３μｍ（膜ｃ）、２．４９μｍ（膜ｄ）又は２．４１μｍ（膜ｄ−２）である膜を得た。

作製した膜ｃ、膜ｄ及び膜ｄ−２を自動複屈折率計（KOBRA-21ADH、商品名、王子計測機器(株)社製）を用いて測定した結果を表３に示す。

表３の結果から明らかなように、膜ｃ、膜ｄ及び膜ｄ−２はいずれも、Ｒｅが各測定波長において略０であり、かつＲｔｈが各測定波長において負である。このことから、例示化合物（２）が膜面に対して略垂直配向していることが分かった。
また、測定波長が長波になるにつれて値がさらに小さくなっており、Ｒｔｈ／Ｒｔｈ（５５０）の値からこの異方性膜は、厚さ方向の位相差Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が負であり、かつ特定波長における位相差Ｒｔｈが以下の数式（１２）及び（１３）を満たすことが分かった。
数式（１２） ０．６＜Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）＜０．９９
数式（１３） １．０１＜Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）＜１．３５

実施例３
［例示化合物（２）を用いた略螺旋配向させた重合性膜の調製］
ポリイミド系液晶配向材（ＳＥ−１５０、商品名、日産化学工業(株)製）をγ−ブチロラクトンで希釈し、ガラス板上に塗布した。８０℃で１５分間乾燥後、２５０℃で６０分間加熱し、冷却後ラビング処理を行い、配向膜を形成した。得られた配向膜の膜厚は０．１μｍであった。

例示化合物（２）１００質量部、重合開始剤（イルガキュア９０７、商品名、日本チバガイギー(株)製）３質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、商品名、日本化薬(株)製）１質量部、カイラル剤（下記Ｋ−１）１０質量部、および添加剤（下記ＳＨ−１）０．４質量部をクロロホルム５００質量部に溶解させ、上記配向膜上に塗布した。１４０℃に加熱し、その後、窒素雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して液晶化合物を重合させ、これを冷却することによって液晶化合物の配向状態を固定化させた重合性膜を形成させた。塗布液濃度を調整することにより厚さが、それぞれ、２．０５μｍ（膜ｅ）、２．１０μｍ（膜ｆ）を得た。

作製した膜ｅおよび膜ｆを自動複屈折率計（KOBRA-21ADH、商品名、王子計測機器(株)社製）を用いて測定した結果を表４に示す。

表４の結果から明らかなように、膜ｅ及び膜ｆはいずれも、Ｒｅが各測定波長において０であり、かつＲｔｈが各測定波長において正である。このことから、例示化合物（２）が略螺旋配向しかつ螺旋軸が基板面に対して略垂直であることが分かった。
また、測定波長が長波になるにつれＲｔｈが大きくなっており、Ｒｔｈ／Ｒｔｈ（５５０）の値からこの異方性膜は、厚さ方向の位相差Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が正であり、かつ特定波長における位相差Ｒｔｈが以下の数式（１４）及び（１５）を満たすことがわかった。
数式（１４） ０．６＜Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）＜０．９９
数式（１５） １．０１＜Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）＜１．３５

実施例４
［輝度向上フィルムの作製］
市販の厚さ８０μｍのセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、商品名、富士写真フイルム（株）製）上に、４００〜７００ｎｍの帯域において円偏光二色性を示すコレステリック液晶層（厚さ５μｍ）を形成したものを用い、この上にアクリル系粘着剤を塗布して、実施例２で形成した光学異方性膜（光学異方性膜（Ａ））の膜ｃを貼り合わせた後、支持体であるガラス基板を剥離した。
さらに膜ｃ上にポリカーボネートフィルムを延伸配向したＲｅが１３７ｎｍである１／４波長板（厚さ６０μｍ）を貼り合せて、輝度向上フィルムを作製した。
さらに、この１／４波長板の上に粘着剤を塗布して、１／４波長板の遅相軸が偏光板の透過軸とのなす角度が４５度となるように、偏光板を貼り付けた。

これを、導光板付バックライト上に拡散フィルム、輝度向上フィルム（コレステリック液晶層／膜ｃ／1/4波長板）、偏光板、液晶セル、偏光板の順で配置された液晶ディスプレイを用いて、白レベルでの正面輝度（ｃｄ／ｍ²）を、分光放射輝度計を用いて測定した。
また、輝度向上フィルムを装着しない以外は、これと同じ構成で測定を行い、この値に対する輝度向上フィルム装着時の輝度の比（輝度向上率）を求めたところ、１．３１倍であった。
また、斜め視角方向（角度４５°）の色ムラが極めて小さいことを目視にて確認した。

実施例５
［光学異方性膜（Ａ）と光学異方性膜（Ｂ）とを有する光学異方性膜の作製］
＜光学異方性膜Ｂ−１（光学異方性膜（Ｂ））の作製＞
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。

（セルロースアセテート溶液Ａ組成）
酢化度２．８６のセルロースアセテート １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部

（マット剤溶液の調製）
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、商品名、日本アエロジル(株)製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。

（マット剤溶液組成）
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ １０．３質量部

（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。

（添加剤溶液組成）
光学異方性を低下させる化合物（Ａ−０１） ４９．３質量部
波長分散調整剤（ＵＶ−０１） ７．６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ １２．８質量部
なお、化合物Ａ−０１のＬｏｇＰ値はそれぞれ２．９である。

＜光学異方性膜Ｂ−１の作製＞
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学異方性を低下させる化合物（Ａ−０１）および波長分散調整剤（ＵＶ−０１）のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％および１．８％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させセルロースアセテートフィルムを製造した。得られたセルロースアセテートフィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍであった。

また、この膜のＲｅ₍₆₃₀₎は０.３ｎｍ、Ｒｔｈ₍₆₃₀₎は３.２ｎｍ、｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜は１．２ｎｍ、｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜は７.５ｎｍ、フィルムのＴｇは１３４.３℃、フィルムのヘイズは０.３４％、ΔＲｔｈ（１０％ＲＨ−８０％ＲＨ）は２４.９ｎｍであった。この膜を光学異方性膜Ｂ−１とした。

＜光学異方性膜Ｂ−１つき偏光板１の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、市販のセルロースアセテートフィルム（富士写真フイルム(株)製、フジタックＴＤ８０ＵＦ、商品名）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、この偏光膜の一方に貼り付け、もう片方に光学異方性膜Ｂ−１を貼り付け偏光板１を形成した。

＜膜ｄ−２つき偏光板２の作製＞
光学異方性膜Ｂ−１つき偏光板１の光学異方性膜Ｂ−１側に正のＡプレートのポリカーボネートフィルム（Ｂ−２）（Ｒｅ（５５０ｎｍ）＝１３３．７７ｎｍ、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＝０．７９６、Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＝１．０５３）を遅相軸方向が偏光膜の透過軸とは直交になるようにはり、更に上記ガラス基板上の光学異方性膜（Ａ）の膜ｄ−２を貼り合わせ、これをローラーで加圧加温した後に、膜ｄ−２の支持体であるガラス基板を剥離し、膜ｄ−２つき偏光板２を形成した。

＜ＩＰＳ型液晶表示装置の作製＞
ＩＰＳモード液晶セル（市販の東芝製液晶ＴＶ３２Ｚ１０００（商品名）の液晶セル）の一方に、偏光板１の偏光膜の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるようにかつ光学異方性膜Ｂ−１側が液晶セル側になるように貼り付けた。続いて、ＩＰＳモード液晶セルのもう一方の側に、偏光板２を正のＡプレートのポリカーボネートフィルム（Ｂ−２）の遅相軸が液晶セルのラビング方向と平行になるようにかつポリカーボネートフィルム（Ｂ−２）側が液晶セル側になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。

＜作製した液晶表示装置の光漏れの測定＞
バックライトの輝度に対して、実装した液晶表示装置の斜め方向の輝度を測定し、その比を透過率とした。ここでは、黒表示の際の輝度を測定し、極角６０°で固定し、方位角を３６０°ふって最も輝度の高い値を採用した。バックライトの輝度は、正面から測った値である。測定した光漏れは、０．０００２５４であった。

実施例６
実施例５で作製したＩＰＳモード液晶表示装置において、ポリカーボネートフィルム（Ｂ−２）を、正のＡプレートのゼオノアフィルム（Ｂ−３）（Ｒｅ（５５０ｎｍ）＝１３３．７７ｎｍ、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＝０．９８８、Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＝１．００）に代えた以外は、実施例５と同様に作製し、光漏れを測定した。その結果、光漏れは０．０００２８３であった。

比較例１
［一般的な重合性棒状液晶化合物との比較］
下記の一般的な重合性液晶化合物ＮＧ−１を例示化合物（２）の替わりに用いて、配向固定を１００℃で行った以外は、実施例２と同様にして、膜の厚みが約１．７μｍと１．４μｍの垂直配向固定した位相差膜を作製した。
作製した位相差膜の光学異方性を自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、商品名、王子計測機器（株）社製）を用いてＲｅの光入射角度依存性を測定し、別途求めた膜厚ｄよりΔｎ＝Ｒｅ／ｄの式を用いてΔｎを求めたところ、いずれの光学異方性膜も、Δｎ（４５０ｎｍ）＝０．１１６、Δｎ（５５０ｎｍ）＝０．１０４、Δｎ（６５０ｎｍ）＝０．１００であった。即ちΔｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＝１．１２、Δｎ（６５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＝０．０９６であった。

比較例２
実施例４で製作した輝度向上フィルムの膜ｃを、上記比較例１で製作した通常の波長分散の位相差膜（Ｒｅ／Ｒｔｈ＝０ｎｍ／−２１０ｎｍ）に代えた以外は、実施例４と同様に製作したものの輝度向上率は１．２７であった。
また、斜め視角方向（角度４５°）の色ムラが極めて大きいことを目視にて確認した。

比較例３
前記作製したＩＰＳモード液晶表示装置の膜ｄ−２およびポリカーボネートフィルム（Ｂ−３）を、それぞれ上記比較例１で製作した通常の波長分散の位相差膜（Ｒｅ／Ｒｔｈ＝０ｎｍ／−１１８ｎｍ）、実施例６で用いたゼオノアフィルム（Ｂ−３）に代えた以外は、実施例５と同様に製作したものの光漏れは０．０００３１９であった。

実施例５および６と比較例３との比較により、ＩＰＳ位相差膜として光学異方性膜（Ａ）は、逆波長分散性を有する液晶が好ましいことが分かった。さらに、光学異方性膜（Ｂ）である正のＡプレートフィルムは、逆波長分散性を有する膜を用いることが光漏れ抑制に効果があることが分かった。

実施例７
特開２００４−３２６０８９号公報の実施例記載の延伸高分子フィルム１１（正のＡプレートａ）のかわりに、前記実施例１で作製した膜ｂ−２を用いて、特開２００４−３２６０８９号の実施例と同様の実験を行った。その結果、膜ｂ−２を含む透過型ＶＡ液晶表示装置の光漏れが大幅に低減され、カラーシフトもほとんど無いことが分かった。膜厚８０μｍの延伸高分子フィルム１１に対して、膜ｂ−２は３．０３μｍと大幅に薄膜化することができる。

Claims (21)

1. 液晶組成物を用いて形成された光学異方性膜であって、該液晶組成物中に、ネマチック相またはスメクチックＡ相を発現する下記一般式（２）で表される化合物を含み、該化合物を配向させ、該化合物中の重合性基の重合により、固定化することで形成されてなることを特徴とする光学異方性膜。
   

   

   （式中、Ａ_１及びＡ_２は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または下記置換基群から選択される置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｚは、式中記載のＣ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ又はＣ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃと共にベンゼン環を形成する。Ｒ_１は下記置換基群から選択される置換基を表し、Ｒ_２及びＲ_３は各々独立に、置換もしくは無置換のフェニル基または置換もしくは無置換のシクロヘキシル基を表す。ｍは０〜２の整数である。Ｌ_１及びＬ_２は各々独立に、−ＯＣＯ−を表す。Ｒ_５及びＲ_６は各々独立に下記置換基群から選択される置換基を表す。ここで、Ｒ_５とＲ_６が結合して環を形成してもよい。なお、Ｒ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_５及びＲ_６の少なくとも１つには、下記一般式Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３又はＰ４のいずれかで表される重合性基が置換されている。）
   

   

   （式中、Ｒ_５１１、Ｒ_５１２、Ｒ_５１３、Ｒ_５２１、Ｒ_５２２、Ｒ_５２３、Ｒ_５３１、Ｒ_５３２、Ｒ_５３３、Ｒ_５４１、Ｒ_５４２、Ｒ_５４３、Ｒ_５４４及びＲ_５４５は各々独立に水素原子またはアルキル基を表す。ｎは０または１を表す。）
   
   置換基群
   ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基またはシリル基
2. 前記Ｒ_２及びＲ_３が各々独立に、置換もしくは無置換のベンゾイルオキシ基を４位に有するフェニル基、置換もしくは無置換のシクロヘキシル基を４位に有するフェニル基、置換もしくは無置換のフェニル基を４位に有するシクロヘキシル基、または置換もしくは無置換のシクロヘキシル基を４位に有するシクロへキシル基であることを特徴とする請求項１に記載の光学異方性膜。
3. 前記重合性基が、前記Ｒ_５またはＲ_６に置換されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学異方性膜。
4. 前記Ｒ_５及びＲ_６が、各々独立に、トリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、ニトロ基であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
5. 前記Ｒ_１が、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基またはアミノ基であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
6. 前記Ｒが、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
7. 前記一般式（２）で表される化合物の前記液晶組成物中の含有量が、１０〜１００質量％であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
8. 前記化合物を略垂直配向させ、固定化することで形成されてなることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
9. 前記化合物を略水平配向させ、固定化されてなることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
10. 前記化合物をコレステリック配向させ、固定化されてなることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
11. コレステリック相の螺旋軸と透明支持体の平面方向がほぼ直交していることを特徴とする請求項１０に記載の光学異方性膜。
12. コレステリック液晶フィルムと、１／４波長板と、これらの間に配置されている光学異方性膜とを有する輝度向上フィルムであって、前記光学異方性膜が請求項８に記載の光学異方性膜であることを特徴とする輝度向上フィルム。
13. 請求項８に記載の光学異方性膜と、さらに少なくとも１層の他の光学異方性膜とを含むことを特徴とする光学異方性膜。
14. 前記他の光学異方性膜が、正のＡプレートフィルムであることを特徴とする請求項１３に記載の光学異方性膜。
15. 前記他の光学異方性膜が、下記数式（Ｉ）及び（ＩＩ）を満足する正のＡプレートフィルムであることを特徴とする請求項１３または１４に記載の光学異方性膜。
    数式（Ｉ） Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１．０
    数式（ＩＩ） Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＞１．０
16. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学異方性膜からなることを特徴とする位相差板。
17. 請求項１６に記載の位相差板を含むことを特徴とする偏光板。
18. 請求項１６に記載の位相差板または請求項１７に記載の偏光板を含むことを特徴とする液晶表示装置。
19. 請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の光学異方性膜を有することを特徴とするＩＰＳ型液晶表示装置。
20. 請求項９に記載の光学異方性膜を有することを特徴とするＶＡ型液晶表示装置。
21. 請求項１０に記載の光学異方性膜を有することを特徴とする視野角調整可能な液晶表示装置。