JP2010163483A - セルロース組成物、光学フィルム、位相差板、偏光板、ならびに液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】簡便な製造工程で作製可能な、逆波長分散性を有する位相差板を提供する。
【解決手段】セルロース化合物の少なくとも一種と、光学フィルム用のレターデーション制御剤としての役割を果たす特定の化合物の少なくとも一種とを含有するセルロース組成物からなる位相差板。
【選択図】なし

Description

本発明は、フィルムに添加するとフィルムに逆波長分散性を付与することができる新規化合物をセルロース化合物とともに含む組成物に関する。また、本発明は、当該化合物を含有するセルロースフィルムに関する。また、本発明は、広帯域λ／４板のような複屈折の逆波長分散性を有する位相差板に関する。さらに本発明は、当該位相差板を用いた偏光板および液晶表示装置に関する。

液晶表示装置に用いられる位相差板は、各種表示モードのカラーＴＦＴ液晶表示装置等において広視野角での高コントラスト比と色シフトとを改善する目的で広く使用されている。この位相差板の種類には、直線偏光を円偏光に変換する１／４波長板（以下、「λ／４板」と略す）、および直線偏光の偏光振動面を９０°変換する１／２波長板（以下、「λ／２板」と略す）等がある。しかし、従来の位相差板は、単色光に対しては、光線波長のλ／４またはλ／２の位相差に調整可能であるが、可視光域の光線が混在している合成波である白色光に対しては、各波長での偏光状態に分布が生じ、有色の偏光に変換されるという問題がある。これは、位相差板を構成する材料が、位相差について波長分散性を有することに起因する。

この様な問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板が種々検討されている。例えば、複屈折光の位相差が１／４波長である１／４波長板と、複屈折光の位相差が１／２波長である１／２波長板とを、それぞれの光軸が交差した状態で貼り合わせた位相差板が開示されている（例えば、特許文献１参照）。また、光学的位相差値が１６０〜３２０ｎｍである位相差板を少なくとも２枚、それぞれの遅相軸が互いに平行でも直交でもない角度で積層してなる位相差板が開示されている（例えば、特許文献２参照）。

しかしながら、上記の位相差板を製造するには、二枚の高分子フィルムの光学的向き（光軸や遅相軸）を調節するという煩雑な工程が必要になる。高分子フィルムの光学的向きは、一般にシート状あるいはロール状フィルムの縦方向または横方向に相当する。シートあるいはロールの斜め方向に光軸や遅相軸を有する高分子フィルムは、大量に工業的に生産するのが困難である。さらに、二つの高分子フィルムの光学的向きを平行でも直交でもない角度に設定する必要がある。従って、これらの位相差板を製造するためには、二種類の高分子フィルムを所定の角度にカットしてチップを得、このチップを貼り合わせる工程を経て製造しなければならない。チップの貼り合わせ工程等は、操作が煩雑であり、軸ズレによる品質低下が起きやすく、歩留まりが低くなり、コストが増大する。また、汚染による劣化も起きやすい。また、高分子フィルムの光学的位相差値を厳密に調節することも困難であり、品質の低下等がより起きやすい。

このような問題を解決するために、位相差板を積層しない、一枚の位相差板での広帯域λ／４板の作製方法が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
この方法は、正の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位と負の複屈折性を有するモノマー単位を共重合させた高分子フィルムを用い一軸延伸によって作製するものである。この延伸した高分子フィルムは逆波長分散性を有するために、一枚の位相差フィルムで広帯域λ／４板を作製することができ、上記のような問題点を解決できるが、得られる位相差値の範囲が狭いため何層もフィルムを積層しなければ十分な光学特性が得られない。その結果、偏光板が分厚く、重くなる。また、フィルムを積層する工程で光軸ズレの発生や異物混入等の発生を防止する必要があり、製造が煩雑であるという問題もある。

また、セルロースアシレートフィルムの上層に重合性液晶化合物を塗布、乾燥、重合し、この硬化膜を剥離後セルロースアシレートフィルムのみを１５０℃にて２０％延伸することで逆波長分散フィルムを作製する方法が提案されている（特許文献４参照）。この方法においても、製造が煩雑であるという問題を解消できない。

これらの方法に比べて、逆波長分散性発現可能なある種の低分子化合物を添加したポリマーフィルムを延伸処理することで、逆波長分散フィルムを作製する方法は製造が簡便で好ましい（特許文献５参照）。しかしながら、前記文献で報告されている低分子化合物はフィルム作製時の溶媒への溶解性やポリマーとの相溶性が不十分なために、ポリマーフィルムへの添加量に制限があり、十分な光学的異方性を発現することができないという問題があることがわかった。また、液晶表示装置において位相差板として用いた際の色シフトのさらなる改善のためには、さらに高い逆波長分散性をもつ低分子化合物が望まれてきている。

特開平１０−６８８１６号公報 特開平１０−９０５２１号公報 国際公開第００／２６７５号パンフレット 特開２００５−２４２２９３号公報 特開２００８−１０７７６７号公報

上記問題点に鑑み本発明は、新規な化合物を提供し、それにより簡便な製造工程で作製可能な、広帯域λ／４板のような複屈折の逆波長分散性を有する位相差板を提供することを目的とする。また本発明は、この新規な化合物を用いたセルロース組成物、フィルム、偏光板、液晶表示装置を提供することを目的とする。

本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の化合物をセルロース化合物とともに含有する組成物を用いてフィルムを作製し、延伸するだけで、該フィルムにおける波長分散を逆分散とすることが可能であることを見いだし、この知見に基づき本発明をなすに至った。

すなわち本発明の目的は、下記手段により達成された。
（１）セルロース化合物の少なくとも一種と、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有することを特徴とするセルロース組成物。

一般式（Ｉ）

（式中、Ａ₁およびＡ₂は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し、Ｒ₁、Ｒ_４、Ｒ_５はそれぞれ独立に置換基を表す。ｎは０から２までの整数を表す。Ｌ_１１、Ｌ_１２、Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２は各々独立に単結合または二価の連結基を表す。Ｒａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２は各々独立に二価の環状連結基を表し、Ｒ_２１およびＲ_２２はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基であり、ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立に０から２までの整数を表す。ただし、Ｒａ_１またはＲｂ_１のうち少なくとも一つはヘテロ環構造である。）
（２）前記一般式（Ｉ）においてＬ_１１、Ｌ_１２、Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２が各々独立に単結合または−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−ＣＯ−、−ＮＲ^A−（Ｒ^Aは、炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。）からなる群より選ばれる二価の連結基であることを特徴とする（１）に記載のセルロース組成物。
（３）前記一般式（Ｉ）においてＲ_４およびＲ_５がハメットの置換基定数σ_p値が０以上の電子吸引性の置換基である化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする（１）または（２）に記載のセルロース組成物。
（４）前記一般式（Ｉ）においてＲａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２がそれぞれ独立に１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、またはヘテロ環連結基であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか一項に記載のセルロース組成物。
（５）前記セルロース化合物がセルロースエステルであることを特徴とする（１）〜（４）のいずれか一項に記載のセルロース組成物。

（６）（１）〜（５）のいずれか一項に記載の組成物からなることを特徴とするセルロースフィルム。
（７）前記一般式（Ｉ）で表される化合物がフィルム質量に対して０．１〜５０質量％含まれることを特徴とする、（６）に記載のセルロースフィルム。
（８）（６）または（７）に記載のセルロースフィルムからなる光学フィルム。
（９）配向方向に対して複屈折率Δｎ（５５０ｎｍ）が０より大きく、かつ下記数式（１）および（２）を満たすことを特徴とする（８）に記載の光学フィルム。
数式（１）： １＞｜Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）｜、および
数式（２）： １＜｜Δｎ（６３０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）｜
（１０）（８）または（９）に記載の光学フィルムからなる位相差板。
（１１）（１０）に記載の位相差板を含んでなる偏光板。
（１２）（１０）に記載の位相差板または（１１）に記載の偏光板を含んでなる液晶表示装置。
（１３）ＶＡモードであることを特徴とする（１２）に記載の液晶表示装置。
（１４）下記一般式（Ｉ）で表される化合物。

一般式（Ｉ）

（式中、Ａ₁およびＡ₂は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し、Ｒ₁、Ｒ_４、Ｒ_５はそれぞれ独立に置換基を表す。ｎは０から２までの整数を表す。Ｌ_１１、Ｌ_１２、Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２は各々独立に単結合または二価の連結基を表す。Ｒａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２は各々独立に二価の環状連結基を表し、Ｒ_２１およびＲ_２２はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基であり、ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立に０から２までの整数を表す。ただし、Ｒａ_１またはＲｂ_１のうち少なくとも一つはヘテロ環構造である。）
（１５）前記一般式（Ｉ）においてＬ_１１、Ｌ_１２、Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２が各々独立に単結合または−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−ＣＯ−、−ＮＲ^A−（Ｒ^Aは、炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。）からなる群より選ばれる二価の連結基であることを特徴とする（１４）に記載の化合物。
（１６）前記一般式（Ｉ）においてＲ_４およびＲ_５がハメットの置換基定数σ_p値が０以上の電子吸引性の置換基である化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする（１４）または（１５）に記載の化合物。
（１７）前記一般式（Ｉ）においてＲａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２がそれぞれ独立に１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、またはヘテロ環連結基であることを特徴とする（１４）〜（１６）のいずれか一項に記載の化合物。

本発明の化合物は、セルロースフィルムに含有させるとフィルムに逆波長分散性を付与することができる。したがって、当該化合物を含有する本発明の光学フィルムは逆波長分散性を有する。当該光学フィルムからなる位相差板はλ／４板として有用であり、液晶表示装置に好ましく適用することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

本発明のセルロース組成物（セルロース化合物溶液）は、セルロース化合物を必須成分として含有し、かつ、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする。
［低分子化合物（一般式（Ｉ）で表される化合物）］
まず、本発明一般式（Ｉ）で表わされる化合物について説明する。

一般式（Ｉ）

（式中、Ａ₁およびＡ₂は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し、Ｒ₁、Ｒ_４、Ｒ_５はそれぞれ独立に置換基を表す。ｎは０から２までの整数を表す。Ｌ_１１、Ｌ_１２、Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２は各々独立に単結合または二価の連結基を表す。Ｒａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２は各々独立に二価の環状連結基を表し、Ｒ_２１およびＲ_２２はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基であり、ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立に０から２までの整数を表す。ただし、Ｒａ_１またはＲｂ_１のうち少なくとも一つはヘテロ環構造である。）

一般式（Ｉ）において、Ｒ₁は置換基であり、複数存在する場合は同じでも異なっていてもよく、環を形成しても良い。置換基の例としては下記のものが適用できる。

ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、

アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、

アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５または６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、

シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、

アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、

スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、

スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、

アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換または無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

Ｒ₁は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基であり、もっとも好ましくはハロゲン原子、炭素原子数１から８のアルキル基、シアノ基、炭素原子数１から８のアルコキシ基である。
ｎは０〜２の整数を表し、好ましくは０又は１である。

Ｒ₄、Ｒ₅は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ₁の例があげられる。好ましくは、ハメットの置換基定数σ_p値が０以上の電子吸引性の置換基であることが好ましく、σ_p値が０〜１．５の電子吸引性の置換基を有していることがさらに好ましい。

このような置換基としてはトリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、カルバモイル基、等が挙げられる。また、Ｒ₄とＲ₅とが結合して環を形成してもよい。
これらのうち好ましくは、シアノ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基であり、より好ましくは、シアノ基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基である。
なお、ハメットの置換基定数のσ_p、σ_mに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４ 有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル レビュー，９１巻，１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書に詳しく解説されている。

Ａ₁およびＡ₂は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは置換基を表し、例としては上記Ｒ₁の例が挙げられる。好ましくは、置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。）または−Ｓ−であり、より好ましくは−Ｓ−である。

−Ｌ_１１−Ｒａ_１−（Ｌ_２１−Ｒｂ_１）ｍ１−Ｌ_３１−Ｒ_２１、および−Ｌ_１２−Ｒａ_２−（Ｌ_２２−Ｒｂ_２）ｍ２−Ｌ_３２−Ｒ_２２で表される基について説明する。

Ｌ_１１、Ｌ_１２、Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。Ｌ_１１、Ｌ_１２、Ｌ_２１、およびＬ_２２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−ＣＯ−、−ＮＲ^A−（Ｒ^Aは、炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。）、二価の鎖状基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の鎖状基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基又は置換アルキニレン基を意味する。アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基及び置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基及びアルケニレン基がさらに好ましい。アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましく、１〜８であることがさらに好ましく、１〜２であることが最も好ましい。置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換アルキレン基の置換基の例には、アルコキシ基、ハロゲン原子が含まれる。アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２であることが最も好ましい。置換アルケニレン基のアルケニレン部分は、上記アルケニレン基と同様である。置換アルケニレン基の置換基の例には、アルコキシ基、ハロゲン原子が含まれる。アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２であることが最も好ましい。置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換アルキニレン基の置換基の例には、アルコキシ基、ハロゲン原子が含まれる。また、二価の鎖状基において、一つ以上の隣接していないＣＨ_２基は−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−に置換されていてよい。
前記２個以上連結して形成される２価の連結基としては、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ_２）_ｍＯ−（ｍは１以上の整数）があげられる。
Ｌ_１１およびＬ_１２として好ましくは単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−であり、より好ましくは−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−である。
Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２として好ましくは単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、より好ましくは単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−である。

Ｒａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２は各々独立に二価の環状連結基を表し、Ｒａ_１またはＲｂ_１のうち少なくとも一つはヘテロ環連結基である。
Ｒａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２で表される二価の環状連結基に含まれる環としては、芳香族環、脂肪族環、ヘテロ環ともに用いることができ、単環でも縮環でもよく、また、置換基を有していてもよい。

芳香族環の例としては、炭素原子数６〜３０のベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環およびフェナントレン環があげられる。ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基および１，３−フェニレン基が好ましく、ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基およびナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。
これらのうち、芳香族環からなる二価の環状連結基として特に好ましくは、無置換もしくは置換の１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基であり、無置換もしくは置換の１，４−フェニレン基がもっとも好ましい。

脂肪族環の例としては炭素原子数３〜２０のシクロプロパン環、シクロペンチル環、シクロヘキサン環があげられる。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基が好ましい。シクロヘキサン環にはシス体およびトランス体の立体異性体が存在するが、本発明においては限定されず、両者の混合物でも良い。好ましくはトランス-シクロヘキサン環である。したがって脂肪族環からなる二価の環状連結基として好ましくはトランス-１，４−シクロへキシレン基である。

ヘテロ環連結基としては、５または６員の置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族へテロ環連結基があげられる。ヘテロ環連結基に含まれるヘテロ原子としては、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｂがあげられるがこれに限定されるものではない。また、二つ以上のヘテロ原子を含むことも好ましい。単環でも縮環でもよく、また、置換基を有していてもよい。ヘテロ環連結基としては、例えば、ピリジン環連結基、ピペリジン環連結基、ピラジン環連結基、フラン環連結基、ジオキサン環連結基、ベンズイミダゾール環連結基、イミダゾール環連結基、チオフェン環連結基、ピロール環連結基等が挙げられる。

非芳香族へテロ環連結基としては、下記に示すような連結基があげられる。＊の位置で連結するがどちら側がＬ_１１側になっていてもかまわない。

また、芳香族へテロ環連結基としては、下記に示すような連結基があげられる。＊の位置で連結するがどちら側がＬ_１１側になっていてもかまわない。

ヘテロ環連結基に含まれるヘテロ原子としては、好ましくは、Ｎ，Ｓ，Ｏ原子であり、より好ましくは、ＮまたはＯ原子である。ヘテロ環連結基としては、好ましくは、５または６員の置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族へテロ環連結基であり、より好ましくは、６員の置換もしくは無置換の非芳香族へテロ環連結基である。

ヘテロ環連結基はＲａ_１およびＲｂ_１中のいずれに含まれていてもよく、また二つ以上含まれていてもよい。この場合同じへテロ環連結基を二つ以上含んでいてもよく、異なるヘテロ環連結基を含んでいてもよい。Ｒａ_１またはＲｂ_１のうち少なくとも一つはヘテロ環連結基であるが、それ以外の、Ｒａ_２およびＲｂ_２にもヘテロ環連結基を含んでいてもかまわない。

Ｒ_２１およびＲ_２２は水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基であり、アルキル基の例としては先のＲ_１で示したとおりである。ただし、Ｒ_２１およびＲ_２２が置換アルキル基であるとき、末端に二重結合を有することはない。
Ｒ_２１およびＲ_２２として好ましくは、炭素原子数１２以下の置換もしくは無置換のアルキル基であり、より好ましくは、８以下の無置換のアルキル基である。

ｍ１およびｍ２は０から２までの整数を表し、好ましくはｍは０または１であり、もっとも好ましくは、ｍ１およびｍ２は１である。
ｍ１が２の場合、複数存在するＬ_２１およびＲｂ_１は同一であっても異なっていてもよい。また同様に、ｍ２が２の場合、複数存在するＬ_２２およびＲｂ２は同一であっても異なっていてもよい。また、−Ｌ_１１−Ｒａ_１−（Ｌ_２１−Ｒｂ_１）ｍ１−Ｌ_３１−Ｒ_２１で表される基と−Ｌ_１２−Ｒａ_２−（Ｌ_２２−Ｒｂ_２）ｍ２−Ｌ_３２−Ｒ_２２で表される基は、同一であっても異なっていてもよい。合成の観点からは同じであることが好ましいが、本発明はこれに限定されるものではない。

本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物のもっとも好ましい例としては、
Ａ₁およびＡ₂は、−Ｓ−であり、ｎは０または１であり、ｎは１のときのＲ₁はハロゲン原子、アルコキシ基またはアルキル基であり、
Ｒ_４、Ｒ_５はそれぞれ独立にシアノ基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基であり、
Ｌ_１１およびＬ_１２は単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−であり、より好ましくは−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−である。
Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２は単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−であり、より好ましくは、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−である。
Ｒａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２は無置換もしくは置換の１，４−フェニレン基、１，４−シクロへキシレン基、または、５もしくは６員の置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族へテロ環連結基であり、
Ｒ_２１およびＲ_２２はそれぞれ独立に無置換のアルキル基であり、
ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立に０または１である。

本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の分子量としては、好ましくは、１００〜３０００であり、より好ましくは２００〜２０００であり、最も好ましくは、３００〜１５００である。

以下に、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（ ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。

一般式（Ｉ）で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物（Ｎ−１１）は、下記スキームに従って合成することができる。

前記スキーム中、化合物（Ｎ−１１−ａ）から化合物（Ｎ−１１−ｄ）までの合成は、“Journal of Chemical Crystallography”(1997)；27(9)；p.515-526．に記載の方法を参照して行うことができる。さらに詳細には、特開２００８−１０７７６７号公報の段落００６６〜００６７、０１３６〜０１７６に記載の方法を用いることができる。
さらに、前記スキームに示したように、化合物（Ｎ−８−ｂ）のトルエン溶液にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを添加し、塩化チオニルを加えて加熱攪拌することによって酸クロライドを生成させたのち、この酸クロライドを、化合物（Ｎ−１１−ｄ）のテトラヒドロフラン溶液に滴下し、その後、ピリジンを加えて攪拌することで、例示化合物（Ｎ−１１）を得ることができる。

なお、一般式（Ｉ）において置換基や連結基の異なる他の化合物の合成については、上記方法に基づき、使用する化合物や行う反応を変えることで行える。例えば置換基Ｒ_５がアルキルオキシカルボニル基である化合物の場合、上記化合物（Ｎ−１１−ｃ）から化合物（Ｎ−１１−ｄ）の反応においてマロノニトリルをシアノ酢酸エステル（例えばシアノ酢酸エチル、シアノ酢酸ブチルなど）とすることにより合成できる。また置換基Ｒ_４、Ｒ_５がそれぞれカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基である化合物の場合、上記化合物（Ｎ−１１−ｃ）から化合物（Ｎ−１１−ｄ）の反応においてマロノニトリルを対応するケトエステル（例えばアセト酢酸エチル、アセト酢酸ブチルなど）とすることにより合成できる。Ｒ_１がアルキル基の場合は、（Ｎ−１１−ａ）をアルキルハイドロキノン（例えばメチルハイドロキノン、ｔ−ブチルハイドロキノン）に変えることで合成できる。

一般式（Ｉ）で表される化合物は、光学フィルム用のレターデーション制御剤（特に、レターデーション上昇および波長分散制御剤）としての役割を果たす。特に延伸によるＲｅ発現性および波長分散に優れたフィルムを得るためのレターデーション制御剤として好適な役割を果たす。

Δｎは配向方向（以下ＴＤ方向と示す。）の屈折率から配向方向と直交する方向（以下ＭＤ方向と示す。）の屈折率を差し引いた値であるため、ＴＤ方向の屈折率の波長分散性よりも、ＭＤ方向の波長分散性が、より右肩下がり（左を短波長側、右を長波長側とおいたときのΔｎの傾き）であれば、その差し引いた値は、
数式（１）： １＞｜Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）｜、および
数式（２）： １＜｜Δｎ（６３０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）｜
を満足する。屈折率の波長分散性は、Ｌｏｒｅｎｔｚ−Ｌｏｒｅｎｚの式で表されているように、物質の吸収に密接な関係にあるため、ＭＤ方向の波長分散性をより右肩下がりにするためには、ＴＤ方向に比較してＭＤ方向の吸収遷移波長をより長波化できれば、数式（１）及び（２）を満たすフィルムを設計することができる。例えば延伸処理を行ったポリマー材料では、ＭＤ方向は分子の鎖に直交方向である。そのような高分子幅方向の吸収遷移波長を長波化することは高分子材料としては非常に困難である。

本発明では、高分子材料に対して低分子化合物を添加し配向することで、低分子化合物の吸収遷移波長が高分子幅方向（ＭＤ方向）に長波であれば、数式（１）及び（２）を満たすフィルムを設計することができる。
低分子化合物の屈折率の大きさがＭＤ方向に比べてＴＤ方向に大きければ、フィルムとしてＴＤ方向に対して複屈折Δｎ（５５０ｎｍ）が正であることに問題がないが、逆に低分子化合物の屈折率の大きさがＴＤ方向に比べてＭＤ方向に大きくても高分子材料の屈折率がＴＤ方向に大きく、フィルムとして複屈折Δｎ（５５０ｎｍ）が正であれば問題ない。
すなわち、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を少なくとも一種含有するセルロースフィルムは、配向処理されたのち、配向方向に対して屈折率Δｎ（５５０ｎｍ）が０より大きく、かつ、上記数式（１）、（２）を満たすことが特に好ましい。

Δｎについては、例えば液晶便覧（２０００年、丸善株式会社）２０１頁に詳細な説明がある。このΔｎは一般的には温度依存性を示す。本発明においてΔｎの測定温度は任意であるが、好ましくはフィルム状態でのΔｎは−２０℃から１２０℃の範囲の一定の温度で行われる。

［セルロース組成物］
本発明のセルロース組成物は、一般式（Ｉ）で表される化合物を少なくとも１種と、セルロース化合物とを含む組成物である。一般式（Ｉ）で表される化合物は二種類以上含んでいてもかまわない。
また、本発明において、「セルロース化合物」とは、例えば、セルロースを基本構造とする化合物であって、セルロースを原料として生物的あるいは化学的に官能基を導入して得られるセルロース骨格を有する化合物を含むものをいう。本発明においては異なる２種類以上のセルロース化合物を混合して用いてもよい。

本発明における、一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、セルロース化合物１００質量部に対して０．１〜５０質量部であることが好ましく、０．１〜３０質量部であることがより好ましく、０．５〜３０質量部であることがさらに好ましく、１〜３０質量部であることが最も好ましい。
セルロース化合物として好ましいものはセルロースエステルであり、より好ましくはセルロースアシレート（セルローストリアシレート、セルロースアシレートプロピオネート等が挙げられる。）である。以下、セルロースアシレートを例にして、本発明の好ましい態様を説明する。

＜セルロースアシレート原料綿＞
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤・宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７〜８頁）に記載されており、本発明に対しては特に限定されるものではない。

本発明に用いられるセルロースアシレートは、セルロースの水酸基をアセチル基及び炭素原子数が３以上のアシル基で置換して得られたセルロースの混合脂肪酸エステルであって、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（３）及び数式（４）を満足するセルロースアシレートであることが好ましい。
数式（３）： ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
数式（４）： ０＜Ｂ
上記式中Ａは、セルロースの水酸基に置換されているアセチル基の置換度を表し、Ｂはセルロースの水酸基に置換されている炭素原子数３以上のアシル基の置換度を表す。

セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部又は全部を、アシル基によってエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。

＜セルロースアシレートの重合度＞
本発明におけるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であることが好ましく、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００がさらに好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度を７００以下とすることにより、セルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり過ぎず、流延によるフィルム製造が容易になる傾向にある。また、重合度を１８０以上とすることにより、作製したフィルムの強度がより向上する傾向にあり好ましい。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫・斉藤秀夫著、「繊維学会誌」、第１８巻、第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。具体的には、特開平９−９５５３８号公報に記載の方法に従って測定することができる。
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがより好ましく、１．０〜１．６であることがさらに好ましい。
また、本発明におけるセルロースアシレートの原料綿や合成方法としては、例えば、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、７頁〜１２頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載のものを好ましく採用できる。

＜セルロース組成物への添加剤＞
本発明のセルロース組成物（以下、セルロースアシレート溶液もしくはドープともいう）には、上記一般式（Ｉ）で表される化合物のほか、種々の添加剤（例えば、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤等）を加えることができる。また、一般式（Ｉ）で表される化合物および他の添加剤の添加時期は、ドープ作製工程の何れにおいて添加してもよく、また、ドープ調製工程の最後に調製工程としてこれらの添加剤を添加してもよい。

これらの添加剤は、固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば、２０℃未満の紫外線吸収剤と２０℃以上の紫外線吸収剤を混合して用いたり、同様に可塑剤を混合して用いたりすることができる。具体的には、特開２００１−１５１９０１号公報に記載の方法を採用できる。

（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤としては、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができ、好ましくはベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系である。

紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。特に好ましい紫外線吸収剤は、上述のベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステルに対する不用な着色が少ないことから、好ましい。

また、紫外線吸収剤については、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載の化合物も用いることができる。

紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％以上であれば添加効果が十分に発揮されうるので好ましく、添加量が５質量％以下であればフィルム表面への紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できるので好ましい。

（劣化防止剤）
劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止するために添加してもよい。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物を用いることができる。

（可塑剤）
可塑剤としては、リン酸エステルおよび／またはカルボン酸エステルであることが好ましい。リン酸エステル系可塑剤としては、例えばトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が好ましい。また、カルボン酸エステル系可塑剤としては、例えばジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等が好ましい。さらに、前記可塑剤が、（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類であることが好ましい。

（剥離促進剤）
剥離促進剤としては、クエン酸のエチルエステル類が好ましい例として挙げられる。
（赤外吸収剤）
赤外吸収剤としては、例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載のものが好ましい。

（染料）
本発明では、色相調整のための染料を添加してもよい。染料の含有量は、セルロースアシレートに対する質量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５００ｐｐｍがさらに好ましい。特開平５−３４８５８号公報に記載の染料を用いることができる。

（マット剤微粒子）
セルロースアシレート溶液にマット剤として微粒子を加え、本発明のセルロースアシレートフィルムに含有させてもよい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は、ケイ素を含むものが濁度が低くなる点でより好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。二酸化ケイ素の微粒子は、１次平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットルが好ましく、１００〜２００ｇ／リットルがさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、いずれも商品名、日本アエロジル(株)製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、いずれも商品名、日本アエロジル(株)製）の商品名で市販されており、使用することができる。

（化合物添加の比率）
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレート質量に対して５〜４５質量％であることが好ましい。より好ましくは１０〜４０質量％であり、さらに好ましくは１５〜３０質量％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などである。さらに、分子量が２０００以下の化合物の総量が上記範囲内であることがより好ましい。これら化合物の総量を５質量％以上とすることにより、セルロースアシレート単体の性質が出にくくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しにくくなる。またこれら化合物の総量を４５質量％以下とすることにより、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムの白濁（フィルムからの泣き出し）が抑止される傾向にあり好ましい。

＜セルロースアシレート溶液の有機溶媒＞
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いて製造されることが好ましい。主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

以上、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としてもよいし、例えば公開技法（公開技報２００１−１７４５、１２頁〜１６頁、２００１年発行、発明協会）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としてもよい。

その他、本発明のセルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許文献に開示されているものを、好ましい態様としてあげることができる。特開２０００−９５８７６号、特開平１２−９５８７７号、特開平１０−３２４７７４号、特開平８−１５２５１４号、特開平１０−３３０５３８号、特開平９−９５５３８号、特開平９−９５５５７号、特開平１０−２３５６６４号、特開平１２−６３５３４号、特開平１１−２１３７９号、特開平１０−１８２８５３号、特開平１０−２７８０５６号、特開平１０−２７９７０２号、特開平１０−３２３８５３号、特開平１０−２３７１８６号、特開平１１−６０８０７号、特開平１１−１５２３４２号、特開平１１−２９２９８８号、特開平１１−６０７５２号、特開平１１−６０７５２号の各公報。
これらの特許文献によると本発明において好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、それらも、本発明においても好ましい態様である。

［光学フィルム］
次に、セルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置を広く採用することができる。
＜セルロースアシレートフィルムの製造工程＞
（溶解工程）
セルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法または高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２２頁〜２５頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。

本発明におけるセルロースアシレート溶液のドープ透明度としては８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。本発明においてはセルロースアシレートドープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、商品名、島津製作所）で５５０ｎｍの吸光度を測定する。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出する。

（流延、乾燥、巻き取り工程）
溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば、回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。本発明のセルロースアシレートフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２５頁〜３０頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。

（延伸処理）
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーション値を調整することが好ましい。特に、セルロースアシレートフィルムの面内レターデーション値を高い値とする場合には、積極的に幅方向に延伸する方法、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、特開平４−２８４２１１号、特開平４−２９８３１０号、及び特開平１１−４８２７１号の各公報などに記載されている、製造したフィルムを延伸する方法を用いることができる。

フィルムの延伸は、常温又は加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムの延伸は、縦又は横だけの一軸延伸でもよく、同時又は逐次２軸延伸でもよい。フィルムは、１〜２００％の延伸を行うことが好ましく、１〜１００％の延伸を行うことがより好ましく、１〜５０％の延伸を行うことがさらに好ましい。

乾燥後得られる、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムの厚さは、使用目的によって異なり、５〜５００μｍの範囲であることが好ましく、２０〜３００μｍの範囲であることがより好ましく、３０〜１５０μｍの範囲であることがさらに好ましい。また、光学用、特にＶＡ液晶表示装置用としては、４０〜１１０μｍであることが好ましい。フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。

＜セルロースアシレートフィルムの光学特性＞
（Ｒｅ、Ｒｔｈの測定）
［フィルムのレターデーション］
本明細書において、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（商品名、王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（２１）及び式（２２）よりＲｔｈを算出することもできる。

式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは層の厚み（ｎｍ）である。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。

上記の測定において、平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出することができる。

Ｒｅ（λ）値、Ｒｔｈ（λ）値は、それぞれ、以下の数式（５）、（６）を満たすことが、液晶表示装置、特にＶＡモード、ＯＣＢモード液晶表示装置の視野角を広くするために好ましい。また特にセルロースアシレートフィルムが、偏光板の液晶セル側の保護膜に用いられる場合に好ましい。
数式（５）：０ｎｍ≦Ｒｅ（５９０）≦２００ｎｍ
数式（６）：０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５９０）≦４００ｎｍ
（式中、Ｒｅ（５９０）、Ｒｔｈ（５９０）は、波長λ＝５９０ｎｍにおける値（単位：ｎｍ）である。）
さらに好ましくは、以下の数式（５−１）、（６−１）を満たす。
数式（５−１）：３０ｎｍ≦Ｒｅ（５９０）≦１５０ｎｍ
数式（６−１）：３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５９０）≦３００ｎｍ
（式中、Ｒｅ（５９０）、Ｒｔｈ（５９０）は、式（５）、（６）におけると同義である。）

本発明のセルロースアシレートフィルムをＶＡモード、ＯＣＢモードに使用する場合、セルの両側に１枚ずつ合計２枚使用する形態（２枚型）と、セルの上下のいずれか一方の側にのみ使用する形態（１枚型）の２通りがある。
２枚型の場合、Ｒｅ（５９０）は２０〜１００ｎｍが好ましく、３０〜７０ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ（５９０）については７０〜３００ｎｍが好ましく、１００〜２００ｎｍがさらに好ましい。
１枚型の場合、Ｒｅ（５９０）は３０〜１５０ｎｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ（５９０）については１００〜３００ｎｍが好ましく、１５０〜２５０ｎｍがさらに好ましい。

＜フィルムの透湿度＞
本発明の位相差板（光学補償シート）に用いるセルロースアシレートフィルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳ Ｚ ０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨ（相対湿度）の条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して４００〜２０００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが好ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ²・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが特に好ましい。
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４，共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、商品名、東洋精機(株)）にて、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ²）し、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で求める。

＜フィルムの残留溶剤量＞
本発明では、セルロースアシレートフィルムに対する残留溶剤量が、０．０１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。本発明のセルロースアシレートフィルムを支持体に用いる場合、残留溶剤量を該範囲内とすることでカールをより抑制できる。これは、前述のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶剤量が少なくすることで自由体積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。

［フィルムの吸湿膨張係数］
本発明のセルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数は３０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１５×１０^-5／％ＲＨ以下とすることがより好ましく、１０×１０^-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は特に定めるものではなく、吸湿膨張係数は小さい方が好ましい傾向にあるが、より好ましくは、１．０×１０^-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、本発明のセルロースアシレートフィルムを光学補償フィルム支持体として用いた際、光学補償フィルムの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。

＜表面処理＞
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えば、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒ（０．１３３Ｐａ〜２．６７ｋＰａ）の低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、３０頁〜３２頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。

＜機能層＞
本発明のセルロースフィルムは、その用途として光学用途と写真感光材料に適用される。特に光学用途が液晶表示装置であることが好ましく、液晶表示装置が、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償シートを配置した構成であることがさらに好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）が好ましい。
その際に前述の光学用途に本発明のセルロースフィルムを用いるに際し、各種の機能層を付与することが実施される。それらは、例えば、帯電防止層、硬化樹脂層（透明ハードコート層）、反射防止層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などである。本発明のセルロースフィルムを用いることができるこれらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられ、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、３２頁〜４５頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。

［偏光板］
本発明のセルロースフィルムの用途について説明する。
本発明のセルロースフィルムは特に偏光板保護膜用として有用である。偏光板保護膜として用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。
保護膜処理面と偏光膜を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光膜及びその両面を保護する保護膜で構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成してもよい。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明のセルロースフィルムを適用した偏光板保護膜はどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護膜には透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護膜をこの部分に用いることが特に好ましい。

［光学補償フィルム（位相差板）］
本発明のセルロースフィルムは、様々な用途で用いることができ、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いると特に効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。

［液晶表示装置］
＜一般的な液晶表示装置の構成＞
本発明のセルロースフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合は、偏光膜の透過軸と、セルロースフィルムからなる光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光膜、および該液晶セルと該偏光膜との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、好ましくは５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。

＜液晶表示装置の種類＞
本発明のセルロースフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。具体的には、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＥＣＢ、およびＨＡＮ等の表示モードが挙げられる。また、上記表示モードを配向分割した表示モードにおいても用いることができる。また、本発明のセルロースフィルムは、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても好ましく用いることができる。

（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明のセルロースフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅ値を０〜１５０ｎｍとし、Ｒｔｈ値を７０〜４００ｎｍとすることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈ値は７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈ値は１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であってもよい。

＜ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム＞
本発明のセルロースフィルムは、また、ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムに好ましく用いることができる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明のセルロースフィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、５４頁〜５７頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細に記載されており、本発明のセルロースフィルムを好ましく用いることができる。

＜写真フィルム支持体＞
さらに、本発明のセルロースフィルムは、ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としても適用できる。具体的には、特開２０００−１０５４４５号公報にカラーネガティブに関する記載に従って、本発明のセルロースフィルムが好ましく用いられる。またカラー反転ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としての適用も好ましく、特開平１１−２８２１１９号公報に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法に従って、作製することができる。

＜透明基板＞
本発明のセルロースフィルムは、光学的異方性がゼロに近く、優れた透明性を持たせることもできることから、液晶表示装置の液晶セルガラス基板の代替、すなわち駆動液晶を封入する透明基板としても用いることができる。
液晶を封入する透明基板はガスバリアー性に優れる必要があることから、必要に応じて本発明のセルロースフィルムの表面にガスバリアー層を設けてもよい。ガスバリアー層の形態や材質は特に限定されないが、本発明のセルロースフィルムの少なくとも片面にＳｉＯ₂等を蒸着したり、塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーなど相対
的にガスバリアー性の高いポリマーのコート層を設ける方法が考えられ、これらを適宜使用できる。
また液晶を封入する透明基板として用いるには、電圧印加によって液晶を駆動するための透明電極を設けてもよい。透明電極としては特に限定されないが、本発明のセルロースフィルムの少なくとも片面に、金属膜、金属酸化物膜などを積層することによって透明電極を設けることができる。中でも透明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましく、なかでも酸化スズを主として酸化亜鉛を２〜１５質量％含む酸化インジウムの薄膜が好ましく使用できる。これら技術の詳細は例えば、特開２００１−１２５０７９号公報や特開２０００−２２７６０３号公報に記載の方法を用いることができる。

本発明のセルロースフィルムのＲｅ値とＲｔｈ値をそれぞれ好ましい範囲に制御するためには、使用する一般式（Ｉ）で表される化合物（レターデーション制御剤）の種類および添加量、ならびにフィルムの延伸倍率を適宜調整することが好ましい。特に、本発明では、一般式（Ｉ）で表される化合物の中から、所望のＲｔｈ値を達成し得るレターデーション制御剤を選択し、かつ、所望のＲｅ値が得られるように、該レターデーション制御剤の添加量およびフィルムの延伸倍率を適宜設定することにより、所望のＲｅ値およびＲｔｈ値を有するセルロースフィルムを得ることができる。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

実施例１
［例示化合物（Ｎ−８）の合成］
下記スキームに従い、例示化合物（Ｎ−８）を合成した。なお、合成したすべての化合物の同定は¹Ｈ−ＮＭＲ（３００MHzまたは４００ＭＨｚ）により行った。

化合物（Ｎ−８−ａ）の合成
トランスー４−ペンチルシクロヘキシルカルボン酸２３．８ｇ（０．１２ｍｏｌ）、トルエン１００ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．２５ｍｌの混合溶液に、塩化チオニル９．６３ｍｌを添加し、１時間８０℃に加熱攪拌したのち、溶媒を減圧留去した。この酸クロライドを、イソニペコチン酸エチル１７．３ｇのテトラヒドロフラン５０ｍｌ溶液に氷冷下で滴下し、さらに、トリエチルアミン１６．８７ｍｌを滴下した。この反応溶液を室温で２時間攪拌したのち、水に加え、酢酸エチルで生成物を抽出した。有機層は、塩酸水、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去することで、オイル状の化合物（Ｎ−８−ａ）を４０ｇ（収率１００％）得た。

化合物（Ｎ−８−ｂ）の合成
化合物（Ｎ−８−ａ）４０ｇのメタノール５０ｍｌ溶液に、水酸化カリウム（１８ｇ）水溶液を加え、室温で一晩攪拌した。この反応溶液を水１５０ｍｌ、塩酸２７．５ｍｌ溶液に氷冷下で添加し、得られた白色固体をろ別することで、化合物（Ｎ−８−ｂ）を３３ｇ（収率１００％）得た。

化合物（Ｎ−８）の合成
化合物（Ｎ−８−ｃ）は特開２００８−１０７７６７号公報に記載の方法で合成した。
化合物（Ｎ−８−ｂ）１３．６ｇ、トルエン５０ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．１ｍｌの混合溶液に、塩化チオニル３．５３ｍｌを添加し、１時間８０℃に加熱攪拌したのち、溶媒を減圧留去した。この酸クロライドをテトラヒドロフラン２５ｍｌでけん濁させた溶液を、化合物（Ｎ−８−ｃ）６．７１ｇのテトラヒドロフラン５０ｍｌ溶液に氷冷下で滴下し、さらにピリジン３．５６ｍｌを滴下した。この反応溶液を室温で４時間攪拌したのちに、メタノール、水を加え、さらに、塩化メチレンを加えて、生成物を抽出した。
有機層は、塩酸水、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、塩化メチレン/へキサンにより再結晶することで、例示化合物（Ｎ−８）を白色固体として５ｇ（収率２７％）得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ０．８０−１．００（１０Ｈ），１．１３−１．３８（１８Ｈ），１．３０（ｓ，６Ｈ），１．４２−１．９０（１６Ｈ），１．９５（ｔ，２Ｈ），２．１５（ｍ，４Ｈ），２．４３（ｍ，２Ｈ），２．８６（ｍ，４Ｈ），３．２１（ｍ，２Ｈ），４．０１（ｍ，４Ｈ），４．４８（ｔ，２Ｈ），４．６０（ｍ，２Ｈ），７．２８（ｓ，２Ｈ）

実施例２
［例示化合物（Ｎ−７）（Ｎ−６）の合成］
実施例１におけるトランスー４−ペンチルシクロヘキシルカルボン酸を、トランスー４−ブチルシクロヘキシルカルボン酸、トランスー４−プロピルシクロヘキシルカルボン酸と変更したこと以外は実施例１と同様にして、例示化合物（Ｎ−７）、（Ｎ−６）を合成した。

実施例３
［例示化合物（Ｎ−１０）（Ｎ−１１）の合成］
実施例１における中間体（Ｎ−８−ｃ）を、（Ｎ−１０−ａ）、（Ｎ−１１−ａ）と変更したこと以外は実施例１と同様にして、例示化合物（Ｎ−１０）、（Ｎ−１１）を合成した。

実施例４
［例示化合物（Ｏ−１４）の合成］
下記スキームに従い、例示化合物（Ｏ−１４）を合成した。

化合物（Ｏ−１４−ａ）の合成
１７０．３ｇの４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメチル（ビニル）エーテル（和光純薬工業株式会社製：３２０−２２６９５）を１Ｌのトルエンに溶解し、２００ｇのｐ−トルエンスルホニルクロライドを加え撹拌した。この混合物にピリジン８８ｍＬをゆっくり滴下し、１晩放置した。この後、水５００ｍＬを加え、分液して有機相を濃縮して、化合物（Ｏ−１４−ａ）を得た。

化合物（Ｏ−１４−ｂ）の合成
前記（Ｏ−１４−ａ）で合成した化合物全量をテトラヒドロフラン１Ｌ、水１００ｍＬ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物２０ｇを加えて２晩放置した。テトラヒドロフランを減圧留去したのち、酢酸エチルを加えて分液抽出を行った。有機相は濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物（Ｏ−１４−ｂ）２０９ｇを得た（収率７０％）。

化合物（Ｏ−１４−ｃ）の合成
前記化合物（Ｏ−１４−ｂ）２００ｇを塩化メチレン８００ｍＬに溶解し、ＴＥＭＰＯ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシドラジカル）２．４ｇと３％臭化ナトリウム水溶液１６０ｍＬを加えて室温で撹拌した。これに２％の炭酸水素ナトリウムを含む次亜塩素酸ナトリウム（有効塩素５％）を２５〜３０℃に保って滴下した。原料の消失を確認後、有機相を分液し、水洗、チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄したのち、５０％程度濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行った。目的物は粘稠な油状物１５０ｇとして得られた。

化合物（Ｏ−１４−ｄ）の合成
前記化合物（Ｏ−１４−ｃ）１５０ｇを３０００ｍＬのトルエンに溶解し、８８ｇの２−ペンチル−１，３−プロパンジオール、０．５ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、ｎｍｒで反応進行を追跡しながら共沸脱水反応を行った。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒から再結晶を行い、化合物（Ｏ−１４−ｄ）を５０ｇ得た（収率２３％）。

化合物（Ｏ−１４）の合成
前記化合物（Ｏ−１４−ｄ）４７ｇ、化合物（Ｎ−８−ｃ）１９ｇ、炭酸カルシウム２２．６ｇ、ヨウ化ナトリウム０．８ｇ、Ｎ−メチルピロリジノン５００ｍｌを１００℃で二時間加熱攪拌した。反応溶液を水に加えた後、クロロホルムで生成物を抽出し、有機層は、塩酸水、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、酢酸エチルにより再結晶することで、例示化合物（Ｏ−１４）を白色固体として１７．５ｇ（収率３８％）得た。
融点；２１４℃。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ０．８８（ｔ，６Ｈ），０．９３−１．５８（２４Ｈ），１．３０（ｓ，６Ｈ），１．７０−２．００（１４Ｈ），３．２９（ｔ，４Ｈ），３．８２（ｄｄ，４Ｈ），４．０８（ｄｄ，４Ｈ），４．１９（ｍ，２Ｈ），４．４６（ｔ，２Ｈ），６．７２（ｓ，２Ｈ）

実施例５
［例示化合物（Ｏ−１０）〜（Ｏ−１３）の合成］
実施例４における２−ペンチル−１，３−プロパンジオールを、それぞれ２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオールと変更したこと以外は実施例４と同様にして、例示化合物（Ｏ−１０）〜（Ｏ−１３）を合成した。
融点；例示化合物（Ｏ−１０）；２２０℃、例示化合物（Ｏ−１１）；２３８℃、例示化合物（Ｏ−１２）；２５０℃、例示化合物（Ｏ−１３）；２２０℃

実施例６
［例示化合物（Ｏ−１９）（Ｏ−２５）の合成］
実施例４における中間体（Ｎ−８−ｃ）を、（Ｏ−１９−ａ）、（Ｏ−２５−ａ）と変更したこと以外は実施例４と同様にして、例示化合物（Ｏ−１９）、（Ｏ−２５）を合成した。

実施例７
［例示化合物（Ｈ−１５）の合成］
下記スキームに従い、例示化合物（Ｈ−１５）を合成した。

化合物（Ｈ−１５−ｂ）の合成
上記スキームにしたがって合成した化合物（Ｈ−１５−ａ）５３．１ｇをＮ−メチルピロリジノン３００ｍｌに加え加熱攪拌して溶解させたのち、クロロアセチルクロライド２３．９ｍｌ、トリエチルアミン４１．９ｍｌを室温にて順に滴下した。途中発熱する際、水冷し、反応溶液が４０℃以下を保つようにしたのち、室温にてさらに2時間攪拌した。その後反応溶液を水１．５ｌに加えて生成物をろ取した。メタノールで再結晶し、４２ｇ（収率５８％）の化合物（Ｈ−１５−ｂ）を得た。

化合物（Ｈ−１５−ｃ）の合成
化合物（Ｈ−１５−ｂ）１５ｇをアセトニトリル２００ｍｌに加え、トリフェニルホスフィン４１ｇ、四塩化炭素２５ｍｌを室温にて順に添加したのち、６０℃にて３時間過熱攪拌した。その後反応溶液を水に加えて、さらに、酢酸エチルを加えて、生成物を抽出した。
有機層は、塩酸水、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/へキサン＝１/３）により精製を行い、油状の化合物（Ｈ−１５−ｃ）を１０．９ｇ（収率７１％）得た。

化合物（Ｈ−１５）の合成
前記化合物（Ｈ−１５−ｃ）９．１ｇ、化合物（Ｎ−８−ｃ）５．４ｇ、炭酸カルシウム６．２ｇ、ヨウ化ナトリウム０．２３ｇ、Ｎ−メチルピロリジノン７０ｍｌを１００℃で二時間加熱攪拌した。反応溶液を水に加えた後、酢酸エチルで生成物を抽出し、有機層は、塩酸水、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/へキサン＝３/１）により精製を行い、塩化メチレン/酢酸エチルにより再結晶することで、例示化合物（Ｈ−１５）を白色固体として４．７ｇ（収率３８％）得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ０．８６（ｔ，６Ｈ），０．９５−１．４０（２２Ｈ），１．５０−１．６８（４Ｈ），１．９０（４Ｈ），１．９６（ｔ，２Ｈ），２．１６（４Ｈ），２．８６（ｍ，２Ｈ），４．４５（ｔ，２Ｈ），５．３０（ｓ，４Ｈ），７．０２（ｓ，２Ｈ）

実施例８
［例示化合物（Ｈ−１３）（Ｈ−１４）の合成］
実施例７における４-ペンチルシクロヘキサンカルボン酸を４−プロピルシクロヘキサンカルボン酸、４-ブチルシクロヘキサンカルボン酸と変更したこと以外は実施例７と同様にして、例示化合物（Ｈ−１３）（Ｈ−１４）を合成した。
融点；例示化合物（Ｈ−１３）；１０５℃、例示化合物（Ｈ−１４）；１０８℃

実施例９
（セルロースアセテートフィルムの作製１）
下記セルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。

（セルロースアセテート溶液組成）
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３１８質量部
メタノール（第２溶媒） ４７質量部

別のミキシングタンクに、例示化合物（Ｏ−１４）、例示化合物（Ｏ−１９）、例示化合物（Ｏ−２４）、例示化合物（Ｏ−２５）または比較化合物（１）、（２）と、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部とを投入し、加熱しながら攪拌して、各レターデーション制御剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に上記調製したレターデーション制御剤溶液をそれぞれ３６質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。例示化合物又は比較化合物の量は、セルロースアセテート１００質量部に対して表１に記載の質量部を添加するように、各レターデーション制御剤溶液を調製した。

得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１６０℃の条件で、固定端一軸延伸で２０％の延伸倍率で横延伸して、セルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を製造した。
作製したセルロースアセテートフィルムについて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍにおけるＲｅ値を、KOBRA 21ADH（商品名、王子計測機器(株)製）において各波長の光をフィルム法線方向に入射させて測定した。結果を表２に示す。なお、表２中のＮｏ．２１は、レターデーション制御剤溶液を加えないこと以外は同様にして製造されたセルロースアセテートフィルムである。

比較化合物（１）（特開２００３−３４４６５５号公報に記載の化合物）
比較化合物（２）（特開２００８−２７３９２５号公報に記載の化合物(108) ）

表１の結果から明らかなように、レターデーション制御剤溶液を用いなかった試料Ｎｏ．１はＲｅ値が著しく小さく、延伸によるＲｅ発現性が得られないことがわかった。また、比較化合物（１）を添加した試料Ｎｏ．８はＲｅ値は大きかったものの、複屈折Δｎの波長分散性に劣ることがわかった。また、試料Ｎｏ．９から、特開２００８−２７３９２５号公報に記載の比較化合物（２）ではＲｅ発現性、波長分散性ともに不足していることがわかる。
これに対し、本発明の試料（試料Ｎｏ．２〜７）はいずれも各波長におけるＲｅ値が大きく、かつ、Ｒｅの波長分散性が優れる（Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）の値が大きい）ことがわかった。
また、例示化合物（Ｏ−８）の添加量を変化させた試料Ｎｏ．２、３を比較すると、添加量の増大につれてＲｅ値が増大することがわかる。

実施例１０
（セルロースアセテートフィルムの作製２）
下記セルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。

（セルロースアセテート溶液組成）
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３１８質量部
メタノール（第２溶媒） ４７質量部

別のミキシングタンクに、例示化合物（Ｏ−１４）、例示化合物（Ｏ−２５）、例示化合物（Ｎ−４）、例示化合物（Ｎ−８）または比較化合物（２）と、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部とを投入し、加熱しながら攪拌して、各レターデーション制御剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に上記調製したレターデーション制御剤溶液をそれぞれ３６質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。例示化合物又は比較化合物の量は、セルロースアセテート１００質量部に対して表２に記載の質量部を添加するように、各レターデーション制御剤溶液を調製した。

得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１９５℃の条件で、固定端一軸延伸で２０％の延伸倍率で横延伸して、セルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を製造した。
作製したセルロースアセテートフィルムについて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍにおけるＲｅ値を、KOBRA 21ADH（商品名、王子計測機器(株)製）において各波長の光をフィルム法線方向に入射させて測定した。結果を表２に示す。なお、表２中のＮｏ．１０は、レターデーション制御剤溶液を加えないこと以外は同様にして製造されたセルロースアセテートフィルムである。

実施例９と同様、表２の結果から明らかなように、レターデーション制御剤溶液を用いなかった試料Ｎｏ．１０および比較化合物（２）を添加した試料Ｎｏ．１４では、Ｒｅの波長分散性に劣ることがわかった。これに対し、本発明の試料（試料Ｎｏ．１１〜１３）はいずれも各波長におけるＲｅ値が大きく、かつ、Ｒｅの波長分散性が優れることがわかった。

実施例１１
（セルロースアセテートフィルムの作製３）
実施例９と同様にして、例示化合物（Ｎ−１），（Ｎ−８）、（Ｎ−１８），（Ｎ−１９），（Ｎ−２８），（Ｏ−２）、（Ｈ−１５），（Ｈ−４９）についてもセルロースアセテートフィルムを作製し、Ｒｅ値を測定したところ、いずれも、これらのレターデーション制御剤溶液を用いなかった試料に比べて、Ｒｅ値が大きく、Ｒｅの波長分散性が優れる（Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０）の値が大きくなっていることが確認できた。

実施例１２
（偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。

上記実施例９で作製したセルロースアシレートフィルム（表１、Ｎｏ．３）をポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。なお、ケン化処理は以下のような条件で行った。

１．５モル／リットルの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１モル／リットルの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製したセルロースアシレートフィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
市販のセルローストリアシレートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、商品名、富士写真フイルム(株)製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥した。
偏光膜の透過軸と上記のように作製したセルロースアシレートフィルムの遅相軸とが平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と市販のセルローストリアシレートフィルムの遅相軸とは直交するように配置した。

（液晶セルの作製）
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（「ＭＬＣ６６０８」、商品名、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のレターデーション（即ち、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。

（ＶＡパネルへの実装）
上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置の上側偏光板（観察者側）には、市販品のスーパーハイコントラスト品（株式会社サンリッツ社製、商品名、ＨＬＣ２−５６１８）を用いた。下側偏光板（バックライト側）には上記実施例９で作製したフィルム（表１、Ｎｏ．３、Ｎｏ．５）を備えた偏光板を、該セルロースアシレートフィルムが液晶セル側となるように設置した。上側偏光板および下側偏光板は粘着剤を介して液晶セルに貼りつけた。上側偏光板の透過軸が上下方向に、そして下側偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。

液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示５Ｖ、黒表示０Ｖのノーマリーブラックモードとした。黒表示の方位角４５度、極角６０度方向視野角における黒表示及び、方位角４５度極角６０度と方位角１８０度極角６０度との色ずれを観察した。

作製した液晶表示装置を観察した結果、本発明のフィルムを用いた液晶パネルは正面方向および視野角方向のいずれにおいても、ニュートラルな黒表示が実現することを確認できる。

Claims (17)

1. セルロース化合物の少なくとも一種と、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有することを特徴とするセルロース組成物。
   一般式（Ｉ）
   

   

   （式中、Ａ₁およびＡ₂は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し、Ｒ₁、Ｒ_４、Ｒ_５はそれぞれ独立に置換基を表す。ｎは０から２までの整数を表す。Ｌ_１１、Ｌ_１２、Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２は各々独立に単結合または二価の連結基を表す。Ｒａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２は各々独立に二価の環状連結基を表し、Ｒ_２１およびＲ_２２はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基であり、ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立に０から２までの整数を表す。ただし、Ｒａ_１またはＲｂ_１のうち少なくとも一つはヘテロ環構造である。）
2. 前記一般式（Ｉ）においてＬ_１１、Ｌ_１２、Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２が各々独立に単結合または−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−ＣＯ−、−ＮＲ^A−（Ｒ^Aは、炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。）からなる群より選ばれる二価の連結基であることを特徴とする請求項１に記載のセルロース組成物。
3. 前記一般式（Ｉ）においてＲ_４およびＲ_５がハメットの置換基定数σ_p値が０以上の電子吸引性の置換基である化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする請求項１または２に記載のセルロース組成物。
4. 前記一般式（Ｉ）においてＲａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２がそれぞれ独立に１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、またはヘテロ環連結基であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のセルロース組成物。
5. 前記セルロース化合物がセルロースエステルであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のセルロース組成物。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物からなることを特徴とするセルロースフィルム。
7. 前記一般式（Ｉ）で表される化合物がフィルム質量に対して０．１〜５０質量％含まれることを特徴とする、請求項６に記載のセルロースフィルム。
8. 請求項６または７に記載のセルロースフィルムからなる光学フィルム。
9. 配向方向に対して複屈折率Δｎ（５５０ｎｍ）が０より大きく、かつ下記数式（１）および（２）を満たすことを特徴とする請求項８に記載の光学フィルム。
   数式（１）： １＞｜Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）｜、および
   数式（２）： １＜｜Δｎ（６３０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）｜
10. 請求項８または９に記載の光学フィルムからなる位相差板。
11. 請求項１０に記載の位相差板を含んでなる偏光板。
12. 請求項１０に記載の位相差板または請求項１１に記載の偏光板を含んでなる液晶表示装置。
13. ＶＡモードであることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置。
14. 下記一般式（Ｉ）で表される化合物。
    一般式（Ｉ）
    

    

    （式中、Ａ₁およびＡ₂は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し、Ｒ₁、Ｒ_４、Ｒ_５はそれぞれ独立に置換基を表す。ｎは０から２までの整数を表す。Ｌ_１１、Ｌ_１２、Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２は各々独立に単結合または二価の連結基を表す。Ｒａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２は各々独立に二価の環状連結基を表し、Ｒ_２１およびＲ_２２はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基であり、ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立に０から２までの整数を表す。ただし、Ｒａ_１またはＲｂ_１のうち少なくとも一つはヘテロ環構造である。）
15. 前記一般式（Ｉ）においてＬ_１１、Ｌ_１２、Ｌ_２１、Ｌ_２２、Ｌ_３１およびＬ_３２が各々独立に単結合または−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−ＣＯ−、−ＮＲ^A−（Ｒ^Aは、炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。）からなる群より選ばれる二価の連結基であることを特徴とする請求項１４に記載の化合物。
16. 前記一般式（Ｉ）においてＲ_４およびＲ_５がハメットの置換基定数σ_p値が０以上の電子吸引性の置換基である化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする請求項１４または１５に記載の化合物。
17. 前記一般式（Ｉ）においてＲａ_１、Ｒａ_２、Ｒｂ_１、およびＲｂ_２がそれぞれ独立に１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、またはヘテロ環連結基であることを特徴とする請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の化合物。