KR20170105041A - 중합성 조성물 및 이를 이용한 광학 이방체 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 특정의 중합성 화합물 및, 펜타에리트리톨 골격 또는 디펜타에리트리톨 골격을 분자 내에 갖는 불소계 계면활성제를 함유하는 중합성 조성물을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 중합성 조성물을 이용해서 제작한 광학 이방체, 위상차막, 반사 방지막, 액정 표시 장치도 아울러 제공하는 것이다. 본 발명에 의하면, 중합성 조성물을 광중합시켜서 얻어지는 광학 이방체를 제조할 때에, 광학 이방체의 표면의 레벨링성과, 기재에의 뒤묻음과, 액정의 배향성의 세 특성을 동시에 개선할 수 있기 때문에 유용하다.

Description

중합성 조성물 및 이를 이용한 광학 이방체
본 발명은, 여러 가지 광학 특성을 요하는 광학 이방성을 갖는 중합체, 필름의 구성 부재로서 유용한 중합성 조성물, 및 당해 중합성 조성물로 이루어지는 광학 이방체, 위상차막, 광학 보상막, 반사 방지막, 렌즈, 렌즈 시트, 당해 중합성 조성물을 이용한 액정 표시 소자, 유기 발광 표시 소자, 조명 소자, 광학 부품, 편광 필름, 착색제, 시큐리티용 마킹, 레이저 발광용 부재, 인쇄물 등에 관한 것이다.
중합성기를 갖는 화합물(중합성 화합물)은 여러 가지 광학 재료에 사용된다. 예를 들면, 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 액정 상태에서 배열시킨 후, 중합시킴으로써, 균일한 배향을 갖는 중합체를 제작하는 것이 가능하다. 이러한 중합체는, 디스플레이에 필요한 편광판, 위상차판 등에 사용할 수 있다. 대부분의 경우, 요구되는 광학 특성, 중합 속도, 용해성, 융점, 유리 전이 온도, 중합체의 투명성, 기계적 강도, 표면 경도, 내열성 및 내광성을 만족시키기 위해서, 2종류 이상의 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물이 사용된다. 그때, 사용하는 중합성 화합물에는, 다른 특성에 악영향을 미치지 않고, 중합성 조성물에 양호한 물성을 가져오는 것이 요구된다.
액정 디스플레이의 시야각을 향상시키기 위해서, 위상차 필름의 복굴절률의 파장분산성을 작게, 또는 반대로 하는 것이 요구되고 있다. 그것을 위한 재료로서, 역파장분산성 또는 저파장분산성을 갖는 중합성 액정 화합물이 여러 가지 개발되어 왔다. 그러나, 그들 중합성 화합물은, 중합성 조성물에 첨가한 경우에 결정의 석출이 일어나, 보존 안정성이 불충분했다(특허문헌 1). 또한, 중합성 조성물을 기재(基材)에 도포하여 중합시킨 경우에, 불균일이 발생하기 쉬운 문제가 있었다(특허문헌 1~특허문헌 3). 불균일이 발생한 필름을, 예를 들면 디스플레이에 사용한 경우, 화면의 밝기에 불균일이 발생하거나, 색감이 부자연스럽거나 해서, 디스플레이 제품의 품질을 크게 저하시킨다는 문제가 있다. 그 때문에, 이러한 문제를 해결할 수 있는 역파장분산성 또는 저파장분산성을 갖는 중합성 액정 화합물의 개발이 요구되고 있었다. 불균일의 문제를 해결하기 위해서, 중합성 액정 화합물의 조성물에는, 어떠한 계면활성제를 첨가하는 것이 통상 행해진다(특허문헌 2~5). 또한, 중합성 조성물을 기재에 도포해서 중합시킨 후 기재를 겹쳐 접촉하는 것에 의해 도포 표면에 존재하는 계면활성제가 기재에 뒤묻음되어 외관 불량이 되는 문제가 있다. 앞의 도포 불균일과 뒤묻음의 문제를 동시에 해결하기 위해서, 계면활성제의 최적 선정이 중요한 기술로 되어 있다.
특허문헌 1 : 일본국 특허공개 2008-107767호 공보 특허문헌 2 : 일본국 특허공표 2010-522892호 공보 특허문헌 3 : 일본국 특허공표 2013-509458호 공보 특허문헌 4 : WO12/147904호 공보 특허문헌 5 : 일본국 특허공개 2009-062508호 공보
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 용해성이 우수하며, 결정의 석출등이 일어나지 않는 높은 보존 안정성을 갖는 중합성 조성물을 제공하고, 당해 조성물을 중합해서 얻어지는 필름상의 중합물을 제작했을 때에 불균일이 발생하기 어렵고, 계면활성제의 뒤묻음에 의한 외관 불량을 발생시키기 어려운 중합성 조성물을 제공하는 것에 있다. 또한, 당해 중합성 조성물로 이루어지는 광학 이방체, 위상차막, 광학 보상막, 반사 방지막, 렌즈, 렌즈 시트, 당해 중합성 조성물을 이용한 액정 표시 소자, 유기 발광 표시 소자, 조명 소자, 광학 부품, 착색제, 시큐리티용 마킹, 레이저 발광용 부재, 편광 필름, 색재, 인쇄물 등을 제공하는 것이다.
본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위해서, 하나 또는 둘 이상의 중합성기를 갖는 특정 구조로 이루어지는 중합성 화합물 및 특정 불소계 계면활성제를 이용한 중합성 조성물에 착안하여 예의 연구를 거듭한 결과, 본 발명을 제공하는데에 이르렀다.
즉, 본 발명은,
a) 하나의 중합성기 또는 둘 이상의 중합성기를 갖고, 또한, 식(I)을 만족시키는 중합성 화합물,
Re(450㎚)/Re(550㎚)＜1.0 (I)
(식 중, Re(450㎚)는, 상기 하나의 중합성기를 갖는 중합성 화합물을 기판 상에 분자의 장축 방향이 실질적으로 기판에 대해서 수평으로 배향시켰을 때의 450㎚의 파장에 있어서의 면내 위상차, Re(550㎚)는, 상기 하나의 중합성기를 갖는 중합성 화합물을 기판 상에 분자의 장축 방향이 실질적으로 기판에 대해서 수평으로 배향시켰을 때의 550㎚의 파장에 있어서의 면내 위상차를 나타냄)
b) 펜타에리트리톨 골격 또는 디펜타에리트리톨 골격을 갖는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 불소계 계면활성제(Ⅲ)를 함유하는 중합성 조성물을 제공한다.
또한, 아울러, 당해 중합성 조성물로 이루어지는 광학 이방체, 위상차막, 광학 보상막, 반사 방지막, 렌즈, 렌즈 시트, 당해 중합성 조성물을 이용한 액정 표시 소자, 유기 발광 표시 소자, 조명 소자, 광학 부품, 착색제, 시큐리티용 마킹, 레이저 발광용 부재, 인쇄물 등을 제공한다.
본 발명의 중합성 조성물은, 하나의 중합성기 또는 둘 이상의 중합성기를 갖고, 특정 구조로 이루어지는, 역파장분산성을 갖는 액정성 화합물과 상기 불소계 계면활성제(Ⅲ)를 동시에 이용함으로써, 용해성, 보존 안정성이 우수한 중합성 조성물을 얻을 수 있고, 또한 도막 표면의 레벨링성이 우수하며, 액정 도막면으로부터의 뒤묻음성이 낮고, 생산성이 우수한 중합체, 광학 이방체, 위상차 필름 등을 얻을 수 있다.
이하에 본 발명에 따른 중합성 조성물의 최량의 형태에 대해서 설명하지만, 본 발명에 있어서, 「액정성 화합물」이란, 메소겐성 골격을 갖는 화합물을 나타내는 것을 의도하는 것이며, 화합물 단독으로는, 액정성을 나타내지 않아도 된다. 또, 중합성 조성물을 자외선 등의 광조사, 혹은 가열에 의해 중합 처리를 행함으로써 폴리머화(필름화)할 수 있다.
(하나의 중합성기 또는 둘 이상의 중합성기를 갖는 중합성 화합물)
본 발명에 있어서의 하나의 중합성기 또는 둘 이상의 중합성기를 갖는 액정성 화합물은, 상기 화합물의 복굴절성이 가시광 영역에 있어서, 단파장측보다 장파장측에서 큰 특징을 갖는다. 구체적으로는, 식(I)
Re(450㎚)/Re(550㎚)＜1.0 (I)
(식 중, Re(450㎚)는, 상기 하나의 중합성기 또는 둘 이상의 중합성기를 갖는 중합성 화합물을 기판 상에 분자의 장축 방향이 실질적으로 기판에 대해서 수평으로 배향시켰을 때의 450㎚의 파장에 있어서의 면내 위상차, Re(550㎚)는, 상기 하나의 중합성기 또는 둘 이상의 중합성기를 갖는 중합성 화합물을 기판 상에 분자의 장축 방향이 실질적으로 기판에 대해서 수평으로 배향시켰을 때의 550㎚의 파장에 있어서의 면내 위상차를 나타냄)
을 만족시키고 있으면 되고, 자외선 영역이나 적외선 영역에서는 복굴절성이 단파장측보다 장파장측에서 클 필요는 없다.
상기 화합물로서는 액정성 화합물이 바람직하다. 그 중에서도, 일반식(1)~(7) 중 어느 하나의 액정성 화합물을 적어도 하나 이상 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00001
(식 중, P11~P74는 중합성기를 나타내고,
S11~S72는 스페이서기를 또는 단결합을 나타내지만, S11~S72가 복수 존재할 경우, 그들은 각각 동일해도 달라도 되고,
X11~X72는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C- 또는 단결합을 나타내지만, X11~X72가 복수 존재할 경우 그들은 각각 동일해도 달라도 되고(단, 각 P-(S-X)- 결합에는 -O-O-를 포함하지 않음),
MG11~MG71은 각각 독립적으로 식(a)를 나타내고,
Figure pct00002
(식 중, A11, A12는 각각 독립적으로 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 나프탈렌-1,4-디일기, 테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기를 나타내지만, 이들 기는 무치환 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되지만, A11 및/또는 A12가 복수 나타날 경우는 각각 동일해도 달라도 되고,
Z11 및 Z12는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CH2CH2-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-, -N=CH-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C- 또는 단결합을 나타내지만, Z11 및/또는 Z12가 복수 나타날 경우는 각각 동일해도 달라도 되고,
M은 하기의 식(M-1)~식(M-11)
Figure pct00003
에서 선택되는 기를 나타내지만, 이들 기는 무치환 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되고,
G는 하기의 식(G-1)~식(G-6)
Figure pct00004
(식 중, R3은 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고,
W81은 적어도 하나의 방향족기를 갖는, 탄소 원자수 5~30의 기를 나타내지만, 당해 기는 무치환 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되고,
W82는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고, 혹은 W82는 W81과 같은 의미를 나타내도 되고, W81 및 W82는 서로 연결해서 동일한 환구조를 형성해도 되며, 혹은 W82는 하기의 기
Figure pct00005
(식 중, PW82는 P11과 동일한 의미를 나타내고, SW82는 S11과 동일한 의미를 나타내며, XW82는 X11과 동일한 의미를 나타내고, nW82는 m11과 동일한 의미를 나타냄)를 나타내고, W83 및 W84는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 시아노기, 히드록시기, 니트로기, 카르복시기, 카르바모일옥시기, 아미노기, 설파모일기, 적어도 하나의 방향족기를 갖는 탄소 원자수 5~30의 기, 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 탄소 원자수 3~20의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2~20의 알케닐기, 탄소 원자수 3~20의 시클로알케닐기, 탄소 원자수 1~20의 알콕시기, 탄소 원자수 2~20의 아실옥시기, 또는, 탄소 원자수 2~20의 알킬카르보닐옥시기를 나타내지만, 상기 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 시클로알케닐기, 알콕시기, 아실옥시기, 알킬카르보닐옥시기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고, 단, 상기 M이 식(M-1)~식(M-10)에서 선택되는 경우, G는 식(G-1)~식(G-5)에서 선택되고, M이 식(M-11)일 경우, G는 식(G-6)을 나타내고,
L1은 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 이소시아노기, 아미노기, 히드록시기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는, 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C-에서 선택되는 기에 의해 치환되어도 되지만, 화합물 내에 L1이 복수 존재할 경우, 그들은 동일해도 달라도 되고,
j11은 1~5의 정수, j12는 1~5의 정수를 나타내지만, j11+j12는 2~5의 정수를 나타냄), R11 및 R31은 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 시아노기, 니트로기, 이소시아노기, 티오이소시아노기, 또는, 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고, m11은 0~8의 정수를 나타내며, m2~m7, n2~n7, l4~l6, k6은 각각 독립적으로 0~5의 정수를 나타냄)
일반식(1)~일반식(7)에 있어서, 중합성기 P11~P74는 하기의 식(P-1)~식(P-20)
Figure pct00006
에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 이들 중합성기는 라디칼 중합, 라디칼 부가 중합, 양이온 중합 및 음이온 중합에 의해 중합한다. 특히 중합 방법으로서 자외선 중합을 행할 경우, 식(P-1), 식(P-2), 식(P-3), 식(P-4), 식(P-5), 식(P-7), 식(P-11), 식(P-13), 식(P-15) 또는 식(P-18)이 바람직하고, 식(P-1), 식(P-2), 식(P-7), 식(P-11) 또는 식(P-13)이 보다 바람직하고, 식(P-1), 식(P-2) 또는 식(P-3)이 더욱 바람직하고, 식(P-1) 또는 식(P-2)가 특히 바람직하다.
일반식(1)~일반식(7)에 있어서, S11~S72는 스페이서기 또는 단결합을 나타내지만, S11~S72가 복수 존재할 경우, 그들은 동일해도 달라도 된다. 또한, 스페이서기로서는, 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-가 각각 독립적으로 -O-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-, -C≡C- 또는 하기의 식(S-1)
Figure pct00007
로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1~20의 알킬렌기를 나타내는 것이 바람직하다. S는 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서 복수 존재할 경우에는 각각 동일해도 달라도 되고, 각각 독립적으로 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-가 각각 독립적으로 -O-, -COO-, -OCO-로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기 또는 단결합을 나타내는 것이 보다 바람직하고, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기 또는 단결합을 나타내는 것이 더욱 바람직하고, 복수 존재할 경우는 각각 동일해도 달라도 되며 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~8의 알킬렌기를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
일반식(1)~일반식(7)에 있어서, X11~X72는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C- 또는 단결합을 나타내지만, X11~X72가 복수 존재할 경우, 그들은 동일해도 달라도 된다(단, P-(S-X)- 결합에는 -O-O-를 포함하지 않음). 또한, 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서, 복수 존재할 경우는 각각 동일해도 달라도 되고, 각각 독립적으로 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO- 또는 단결합을 나타내는 것이 바람직하고, 각각 독립적으로 -O-, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO- 또는 단결합을 나타내는 것이 보다 바람직하고, 복수 존재할 경우는 각각 동일해도 달라도 되고, 각각 독립적으로 -O-, -COO-, -OCO- 또는 단결합을 나타내는 것이 특히 바람직하다.
일반식(1)~일반식(7)에 있어서, A11 및 A12는 각각 독립적으로 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 나프탈렌-1,4-디일기, 테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기를 나타내지만, 이들 기는 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되지만, A11 및/또는 A12가 복수 나타날 경우는 각각 동일해도 달라도 된다. A11 및 A12는 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서 각각 독립적으로 무치환 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기 또는 나프탈렌-2,6-디일기를 나타내는 것이 바람직하고, 각각 독립적으로 하기의 식(A-1)~식(A-11)
Figure pct00008
에서 선택되는 기를 나타내는 것이 보다 바람직하고, 각각 독립적으로 식(A-1)~식(A-8)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 더욱 바람직하고, 각각 독립적으로 식(A-1)~식(A-4)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
일반식(1)~일반식(7)에 있어서, Z11 및 Z12는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CH2CH2-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -OCO-NH-, -NH-COO-, -NH-CO-NH-, -NH-O-, -O-NH-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-, -N=CH-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C- 또는 단결합을 나타내지만, Z11 및/또는 Z12가 복수 나타날 경우는 각각 동일해도 달라도 된다.
Z11 및 Z12는 화합물의 액정성, 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서 각각 독립적으로 단결합, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -CF2O-, -OCF2-, -CH2CH2-, -CF2CF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -CH=CH-, -CF=CF-, -C≡C- 또는 단결합을 나타내는 것이 바람직하고, 각각 독립적으로 -OCH2-, -CH2O-, -CH2CH2-, -COO-, -OCO-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -CH=CH-, -C≡C- 또는 단결합을 나타내는 것이 보다 바람직하고, 각각 독립적으로 -CH2CH2-, -COO-, -OCO-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO- 또는 단결합을 나타내는 것이 더욱 바람직하고, 각각 독립적으로 -CH2CH2-, -COO-, -OCO- 또는 단결합을 나타내는 것이 특히 바람직하다.
일반식(1)~일반식(7)에 있어서, M은 하기의 식(M-1)~식(M-11)
Figure pct00009
에서 선택되는 기를 나타내지만, 이들 기는 무치환 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 된다. M은 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서 각각 독립적으로 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 식(M-1) 또는 식(M-2) 또는 무치환의 식(M-3)~식(M-6)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 무치환 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 식(M-1) 또는 식(M-2)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 보다 바람직하고, 무치환의 식(M-1) 또는 식(M-2)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
일반식(1)~일반식(7)에 있어서, R11 및 R31은 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 시아노기, 니트로기, 이소시아노기, 티오이소시아노기 또는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-가 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 된다. R1은 액정성 및 합성의 용이함의 관점에서 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 시아노기 또는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-가 각각 독립적으로 -O-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-에 의해 치환되어도 되는 탄소 원자수 1~12의 직쇄 또는 분기 알킬기를 나타내는 것이 바람직하고, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 시아노기 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄 알킬기 또는 직쇄 알콕시기를 나타내는 것이 보다 바람직하고, 탄소 원자수 1~12의 직쇄 알킬기 또는 직쇄 알콕시기를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
일반식(1)~일반식(7)에 있어서, G는 식(G-1)~식(G-6)에서 선택되는 기를 나타낸다.
Figure pct00010
식 중, R3은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고,
W81은 적어도 하나의 방향족기를 갖는, 탄소 원자수 5~30의 기를 나타내지만, 당해 기는 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되고,
W82는, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고, 혹은 W82는 W81과 동일한 의미를 나타내도 되며, W81 및 W82는 일체로 되어 환구조를 형성해도 되고, 혹은 W82는 하기의 기
Figure pct00011
(식 중, PW82는 P11과 동일한 의미를 나타내고, SW82는 S11과 동일한 의미를 나타내고, XW82는 X11과 동일한 의미를 나타내고, nW82는 m11과 동일한 의미를 나타냄)를 나타낸다.
W81에 포함되는 방향족기는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소기여도 되고, 양쪽을 포함하고 있어도 된다. 이들 방향족기는 단결합 또는 연결기(-OCO-, -COO-, -CO-, -O-)를 개재해서 결합하고 있어도 되고, 축합환을 형성해도 된다. 또한, W81은 방향족기에 추가해서 방향족기 이외의 비환식 구조 및/또는 환식 구조를 포함하고 있어도 된다. W81에 포함되는 방향족기는 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-1)~식(W-19)
Figure pct00012
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수(結合手)를 갖고 있어도 되고, 이들 기에서 선택되는 2개 이상의 방향족기를 단결합으로 연결한 기를 형성해도 되고, Q1은 -O-, -S-, -NR4-(식 중, R4는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄) 또는 -CO-를 나타낸다. 이들 방향족기 중의 -CH=는 각각 독립적으로 -N=으로 치환되어도 되고, -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -NR4-(식 중, R4는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄) 또는 -CO-로 치환되어도 되지만, -O-O- 결합을 포함하지 않는다. 식(W-1)로 표시되는 기로서는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-1-1)~식(W-1-8)
Figure pct00013
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 됨)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 식(W-7)로 표시되는 기로서는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-7-1)~식(W-7-7)
Figure pct00014
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 됨)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 식(W-10)으로 표시되는 기로서는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-10-1)~식(W-10-8)
Figure pct00015
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 되고, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 식(W-11)로 표시되는 기로서는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-11-1)~식(W-11-13)
Figure pct00016
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 되고, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 식(W-12)로 표시되는 기로서는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-12-1)~식(W-12-19)
Figure pct00017
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 되고, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내지만, R6이 복수 존재할 경우, 각각 동일해도, 달라도 됨)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 식(W-13)으로 표시되는 기로서는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-13-1)~식(W-13-10)
Figure pct00018
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 되고, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내지만, R6이 복수 존재할 경우, 각각 동일해도, 달라도 됨)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 식(W-14)로 표시되는 기로서는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-14-1)~식(W-14-4)
Figure pct00019
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 되고, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 식(W-15)로 표시되는 기로서는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-15-1)~식(W-15-18)
Figure pct00020
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 되고, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 식(W-16)으로 표시되는 기로서는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-16-1)~식(W-16-4)
Figure pct00021
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 되고, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 식(W-17)로 표시되는 기로서는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-17-1)~식(W-17-6)
Figure pct00022
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 되고, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 식(W-18)로 표시되는 기로서는, 무치환 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-18-1)~식(W-18-6)
Figure pct00023
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 되고, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내지만, R6이 복수 존재할 경우, 각각 동일해도, 달라도 됨)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 식(W-19)로 표시되는 기로서는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-19-1)~식(W-19-9)
Figure pct00024
(식 중, 이들 기는 임의의 위치에 결합수를 갖고 있어도 되고, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내지만, R6이 복수 존재할 경우, 각각 동일해도, 달라도 됨)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하다. W81에 포함되는 방향족기는, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 식(W-1-1), 식(W-7-1), 식(W-7-2), 식(W-7-7), 식(W-8), 식(W-10-6), 식(W-10-7), 식(W-10-8), 식(W-11-8), 식(W-11-9), 식(W-11-10), 식(W-11-11), 식(W-11-12) 또는 식(W-11-13)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 보다 바람직하고, 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 식(W-1-1), 식(W-7-1), 식(W-7-2), 식(W-7-7), 식(W-10-6), 식(W-10-7) 또는 식(W-10-8)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 특히 바람직하다. 또한, W81은 하기의 식(W-a-1)~식(W-a-6)
Figure pct00025
(식 중, r은 0~5의 정수를 나타내고, s는 0~4의 정수를 나타내고, t는 0~3의 정수를 나타냄)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
W82는 수소 원자 또는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-가 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S, -S-CO-, -O-C0-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C에 의해 치환되어도 되는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 혹은 W82는 W81과 동일한 의미를 나타내도 되고, W81 및 W82는 일체로 되어 환구조를 형성해도 되며, 혹은 W82는 하기의 식
Figure pct00026
(식 중, PW82는 P11과 동일한 의미를 나타내고, SW82는 S11과 동일한 의미를 나타내고, XW82는 X11과 동일한 의미를 나타내고, nW82는 m11과 동일한 의미를 나타냄)을 나타낸다.
W82는 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서, 수소 원자 또는 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -0-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C에 의해 치환되어도 되고, 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내는 것이 바람직하고, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내는 것이 보다 바람직하며, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 알킬기를 나타내는 것이 특히 바람직하다. 또한, W82가 W81과 동일한 의미를 나타낼 경우, W82는 W81과 동일해도 달라도 되지만, 바람직한 기는 W81에 대한 기재와 마찬가지이다. 또한, W81 및 W82가 일체로 되어 환구조를 형성할 경우, -NW81W82로 표시되는 환상 기는 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-b-1)~식(W-b-42)
Figure pct00027
Figure pct00028
(식 중, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서 무치환 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 식(W-b-20), 식(W-b-21), 식(W-b-22), 식(W-b-23), 식(W-b-24), 식(W-b-25) 또는 식(W-b-33)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
또한, =CW81W82로 표시되는 환상 기는 무치환이거나 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되는 하기의 식(W-c-1)~식(W-c-81)
Figure pct00029
Figure pct00030
Figure pct00031
(식 중, R6은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내지만, R6이 복수 존재할 경우 각각 동일해도, 달라도 됨)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 바람직하고, 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서 무치환 또는 하나 이상의 L에 의해 치환되어도 되는 식(W-c-11), 식(W-c-12), 식(W-c-13), 식(W-c-14), 식(W-c-53), 식(W-c-54), 식(W-c-55), 식(W-c-56), 식(W-c-57) 또는 식(W-c-78)에서 선택되는 기를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
W82가 하기의 기
Figure pct00032
를 나타낼 경우, 바람직한 PW82는 P11에 대한 기재와 동일하며, 바람직한 SW82는 S11에 대한 기재와 동일하고, 바람직한 XW82는 X11에 대한 기재와 동일하고, 바람직한 nW82는 m11에 대한 기재와 동일하다.
W81 및 W82에 포함되는 π전자의 총수는, 파장 분산 특성, 보존 안정성, 액정성 및 합성의 용이함의 관점에서 4~24인 것이 바람직하다.
W83, W84는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 시아노기, 히드록시기, 니트로기, 카르복시기, 카르바모일옥시기, 아미노기, 설파모일기, 적어도 하나의 방향족기를 갖는 탄소 원자수 5~30의 기, 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 탄소 원자수 3~20의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2~20의 알케닐기, 탄소 원자수 3~20의 시클로알케닐기, 탄소 원자수 1~20의 알콕시기, 탄소 원자수 2~20의 아실옥시기, 또는 탄소 원자수 2~20의 알킬카르보닐옥시기를 나타내지만, 상기 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 시클로알케닐기, 알콕시기, 아실옥시기, 알킬카르보닐옥시기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C에 의해 치환되어도 되고, W83은 시아노기, 니트로기, 카르복시기, 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C에 의해 치환된, 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 알케닐기, 아실옥시기, 알킬카르보닐옥시기에서 선택되는 기가 보다 바람직하고, 시아노기, 카르복시기, 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -CO-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C에 의해 치환된, 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 알케닐기, 아실옥시기, 알킬카르보닐옥시기에서 선택되는 기가 특히 바람직하고, W84는 시아노기, 니트로기, 카르복시기, 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C에 의해 치환된, 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 알케닐기, 아실옥시기, 알킬카르보닐옥시기에서 선택되는 기가 보다 바람직하고, 시아노기, 카르복시기, 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -CO-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C에 의해 치환된, 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 알케닐기, 아실옥시기, 알킬카르보닐옥시기에서 선택되는 기가 특히 바람직하다.
L1은 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 이소시아노기, 아미노기, 히드록시기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기 또는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-가 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C에 의해 치환되어도 되는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내지만 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 된다. 액정성, 합성의 용이함의 관점에서 L1은 불소 원자, 염소 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기 또는 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C에서 선택되는 기에 의해 치환되어도 되는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내는 것이 바람직하고, 불소 원자, 염소 원자 또는 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2- 는 각각 독립적으로 -O-, -COO- 또는 -OCO-에서 선택되는 기에 의해 치환되어도 되는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내는 것이 보다 바람직하고, 불소 원자, 염소 원자 또는 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기 또는 알콕시기를 나타내는 것이 더욱 바람직하며, 불소 원자, 염소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 직쇄 알킬기 또는 직쇄 알콕시기를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
일반식(1)에 있어서, m11은 0~8의 정수를 나타내지만, 액정성, 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서 0~4의 정수를 나타내는 것이 바람직하고, 0~2의 정수를 나타내는 것이 보다 바람직하고, 0 또는 1을 나타내는 것이 더욱 바람직하며, 1을 나타내는 것이 특히 바람직하다.
일반식(2)~일반식(7)에 있어서, m2~m7은 0~5의 정수를 나타내지만, 액정성, 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서 0~4의 정수를 나타내는 것이 바람직하고, 0~2의 정수를 나타내는 것이 보다 바람직하고, 0 또는 1을 나타내는 것이 더욱 바람직하며, 1을 나타내는 것이 특히 바람직하다.
일반식(a)에 있어서, j11 및 j12는 각각 독립적으로 1~5의 정수를 나타내지만, j11+j12는 2~5의 정수를 나타낸다. 액정성, 합성의 용이함 및 보존 안정성의 관점에서 j11 및 j12는 각각 독립적으로 1~4의 정수를 나타내는 것이 바람직하고, 1~3의 정수를 나타내는 것이 보다 바람직하고, 1 또는 2를 나타내는 것이 특히 바람직하다. j11+j12는 2~4의 정수를 나타내는 것이 바람직하다.
일반식(1)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(1-a-1)~식(1-a-105)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00033
Figure pct00034
Figure pct00035
Figure pct00036
Figure pct00037
Figure pct00038
Figure pct00039
Figure pct00040
Figure pct00041
Figure pct00042
Figure pct00043
Figure pct00044
Figure pct00045
Figure pct00046
Figure pct00047
Figure pct00048
Figure pct00049
Figure pct00050
Figure pct00051
Figure pct00052
Figure pct00053
Figure pct00054
Figure pct00055
Figure pct00056
(식 중, m11, n11, m, n은 1~10의 정수를 나타냄) 이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(2)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(2-a-1)~식(2-a-61)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00057
Figure pct00058
Figure pct00059
Figure pct00060
Figure pct00061
Figure pct00062
Figure pct00063
Figure pct00064
Figure pct00065
Figure pct00066
Figure pct00067
Figure pct00068
Figure pct00069
Figure pct00070
Figure pct00071
Figure pct00072
(식 중, n은 1~10의 정수를 나타냄) 이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(3)으로 표시되는 화합물로서는, 하기의 식(3-a-1)~식(3-a-17)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00073
Figure pct00074
Figure pct00075
Figure pct00076
이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(4)에 있어서는, P43-(S43-X43)l4-로 표시되는 기는, 일반식(a)의 A11 또는 A12에 결합한다.
일반식(4)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(4-a-1)~식(4-a-26)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00077
Figure pct00078
Figure pct00079
Figure pct00080
Figure pct00081
Figure pct00082
Figure pct00083
(식 중, m 및 n은 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타냄) 이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(5)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(5-a-1)~식(5-a-29)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00084
Figure pct00085
Figure pct00086
Figure pct00087
Figure pct00088
Figure pct00089
Figure pct00090
Figure pct00091
Figure pct00092
(식 중, n은 탄소 원자수 1~10을 나타냄) 이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(6)에 있어서는, P63-(S63-X63)l6-으로 표시되는 기, 및 P64-(S64-X64)k6-으로 표시되는 기는, 일반식(a)의 A11 또는 A12에 결합한다.
일반식(6)으로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(6-a-1)~식(6-a-25)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00093
Figure pct00094
Figure pct00095
Figure pct00096
Figure pct00097
Figure pct00098
(식 중, k, l, m 및 n은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~10을 나타냄) 이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(7)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(7-a-1)~식(7-a-26)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00099
Figure pct00100
Figure pct00101
Figure pct00102
Figure pct00104
Figure pct00105
이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
상기 하나 또는 둘 이상의 중합성기를 갖는 중합성 화합물의 합계 함유량은, 중합성 조성물에 이용하는 중합성 화합물의 총량에 대해, 60~100질량% 함유하는 것이 바람직하고, 65~98질량% 함유하는 것이 보다 바람직하고, 70~95질량% 함유하는 것이 특히 바람직하다.
(불소계 계면활성제)
본 발명의 중합성 조성물에는, 펜타에리트리톨 골격 또는 디펜타에리트리톨 골격을 갖는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 불소계 계면활성제(Ⅲ)를 함유한다.
당해 불소계 계면활성제를 이용함으로써, 본 발명의 중합성 조성물은 중합성 화합물과 당해 불소계 계면활성제의 상용성(相溶性)이 양호하기 때문에 용액 안정성이 우수하고, 광학 이방체로 한 경우에, 우수한 배향성을 유지하면서, 표면 레벨링성과 뒤묻음성을 동시에 개선할 수 있다.
상기 불소계 계면활성제는, 탄소 원자, 수소 원자, 산소 원자, 불소 원자, 황 원자로만 구성되어 있는 것이 바람직하다. 이들 원소로 구성되어 있는 계면활성제는, 본 발명에서 이용하는 중합성 화합물의 말단 부분(말단기) 이외의 구조(스페이서(Sp) 부분이나 메소겐(MG) 부분)를 구성하는 원자와 동일하다는 점에서 중합성 화합물과의 상용성이 증가하기 때문이라고 고찰된다.
(펜타에리트리톨 골격을 갖는 화합물)
상기 펜타에리트리톨 골격을 갖는 화합물로서는, 하기 일반식(Ⅲ-1)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00106
(식 중, X1은 알킬렌기를 나타내고, s1은 1~80의 수치를 나타내고, s2~s4는 각각 독립적으로 0~79의 수치를 나타내고, s1+s2+s3+s4는 4~80의 수치를 나타낸다. A1은 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타내고, A2~A4는 각각 독립적으로 수소 원자, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타냄)
일반식(Ⅲ-1)에 있어서, X1은 알킬렌기를 나타내지만, 바람직하게는 에틸렌기 또는 프로필렌기이며, 보다 바람직하게는 에틸렌기이다.
일반식(Ⅲ-1)에 있어서, s1은 1~80의 수치를 나타내지만, 바람직하게는 1~60이고, 특히 바람직하게는 1~40이고, s2~s4는 각각 독립적으로 0~79의 수치를 나타내지만, 바람직하게는 0~65이고, 특히 바람직하게는 0~50이고, s1+s2+s3+s4는 4~80의 수치를 나타내지만, 바람직하게는 4~40이며, 특히 바람직하게는 4~30이다.
일반식(Ⅲ-1)에 있어서, A1은 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타내지만, 당해 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기의 탄소 원자수는 3~10이 바람직하고, 4~9가 보다 바람직하고, 직쇄상 또는 분기상이어도 된다. A2~A4는 각각 독립적으로 수소 원자, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타내지만, 당해 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기의 탄소 원자수 3~10이 바람직하고, 4~9가 보다 바람직하고, 직쇄상 또는 분기상이어도 된다. 또한, A1~A4는, 플루오로알케닐기가 바람직하고, 분기상의 플루오로노네닐기가 특히 바람직하다.
일반식(Ⅲ-1)로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 펜타에리트리톨에 알킬렌옥시드를 부가시키고, 이어서 당해 부가물 말단의 활성 수소를 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기로 치환함으로써 제조된다. 또, 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 도입하고 있지 않은 활성 수소기에 대해서, 장쇄 알킬 등의 탄화수소기, 아크릴산, 메타크릴산, 글리시딜기 등의 반응성 관능기 등을 도입해도 된다.
상기 펜타에리트리톨 골격을 갖는 화합물로서는, 예를 들면, 하기 일반식(Ⅲ-1a)로 표시되는 것을 들 수 있다.
Figure pct00107
(식 중, A1은 하기 식(Rf-1-1)~식(Rf-1-8) 중 어느 하나의 기를 나타내고, A2~A4는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 하기 식(Rf-1-1)~식(Rf-1-9) 중 어느 하나의 기를 나타냄)
Figure pct00108
(상기 식(Rf-1-1)~식(Rf-1-4) 중의 n은 4~6의 정수를 나타낸다. 상기 식(Rf-1-5) 중의 m은 1~5의 정수이며, n은 0~4의 정수이고, 또한 m 및 n의 합계는 4~5이다. 상기 식(Rf-1-6) 중의 m은 0~4의 정수이고, n은 1~4의 정수이며, p는 0~4의 정수이고, 또한 m, n 및 p의 합계는 4~5임)
또한, 상기 일반식(Ⅲ-1a)의 보다 바람직한 구체예로서, 하기 일반식(Ⅲ-1a-1)을 들 수 있다.
Figure pct00109
(식 중, s1은 1~80의 수치를 나타내지만, 바람직하게는 1~60이고, 특히 바람직하게는 1~40이고, s2~s4는 각각 독립적으로 0~79의 수치를 나타내지만, 바람직하게는 0~65이고, 특히 바람직하게는 0~50이며, s1+s2+s3+s4는 4~80의 수치를 나타내지만, 바람직하게는 4~40이고, 특히 바람직하게는 4~30임)
(디펜타에리트리톨 골격을 갖는 화합물)
상기 디펜타에리트리톨 골격을 갖는 화합물로서는, 하기 일반식(Ⅲ-2)로 표시되는 것을 들 수 있다.
Figure pct00110
(식 중, X2, X3, X4, X5는 각각 독립적으로 단결합, -O-, -S-, -CO-, 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 옥시알킬렌기를 나타내고, A5는 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타내고, A6~A10은 각각 독립적으로 수소 원자, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타냄)
일반식(Ⅲ-2)에 있어서, A5는 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타내지만, 당해 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기의 탄소 원자수는 3~10이 바람직하고, 4~9가 보다 바람직하고, 직쇄상 또는 분기상이어도 된다. A6~A10은 각각 독립적으로 수소 원자, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타내지만, 당해 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기의 탄소 원자수는 3~10이 바람직하고, 4~9가 보다 바람직하고, 직쇄상 또는 분기상이어도 된다. A5는 플루오로알킬기가 바람직하고, 직쇄상의 플루오로알킬기가 특히 바람직하고, A6~A10은, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 플루오로알킬기가 바람직하고, 아크릴로일기, 직쇄상의 플루오로알킬기가 특히 바람직하다. A6~A10은, 적어도 하나가 아크릴로일기인 것이 특히 더 바람직하다.
일반식(Ⅲ-2)로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 디펜타에리트리톨의 다관능 아크릴레이트에 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 갖는 모노티올 단량체를 마이클 부가에 의해 반응시킴으로써 제조된다.
상기 디펜타에리트리톨 골격을 갖는 화합물로서는, 예를 들면, 하기 일반식(Ⅲ-2a)로 표시되는 것을 들 수 있다.
Figure pct00111
(식 중, a 및 b는 1 또는 2의 정수이고, 또한 a+b=3을 만족시키며, c 및 d는 c+d=3을 만족시키는 0~3의 정수이고, A5는 하기 식(Rf-2-1)~식(Rf-2-8) 중 어느 하나의 기를 나타냄)
Figure pct00112
(상기 식(Rf-2-1)~식(Rf-2-4) 중의 n은 4~6의 정수를 나타냄. 상기 식(Rf-2-5) 중의 m은 1~5의 정수이고, n은 0~4의 정수이며, 또한 m 및 n의 합계는 4~5임. 상기 식(Rf-2-6) 중의 m은 0~4의 정수이고, n은 1~4의 정수이고, p는 0~4의 정수이며, 또한 m, n 및 p의 합계는 4~5임)
또한, 상기 일반식(Ⅲ-2a)의 보다 바람직한 구체적 예로서, 하기 일반식(Ⅲ-2a-1)을 들 수 있다.
Figure pct00113
불소계 계면활성제의 첨가량은 중합성 화합물 및 키랄 화합물의 합계량에 대해서, 0.005~5질량%인 것이 바람직하고, 0.01~3질량%인 것이 보다 바람직하고, 0.05~2.0질량%인 것이 더욱 바람직하다.
(중합 개시제)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 필요에 따라 중합 개시제를 함유할 수 있다. 본 발명의 중합성 조성물로 이용되는 중합 개시제는, 본 발명의 중합성 조성물을 중합시키기 위해서 이용한다. 중합을 광조사에 의해 행할 경우에 사용하는 광중합개시제로서는, 특히 한정은 없지만, 이용하는 중합성 화합물의 배향 상태를 저해하지 않는 정도에서 공지 관용의 것을 사용할 수 있다.
예를 들면, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤「이르가큐어 184」, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온「다로큐어 1116」, 2-메틸-1-[(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1「이르가큐어 907」, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온「이르가큐어 651」, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온「이르가큐어 369」), 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴리노-페닐)부탄-1-온「이르가큐어 379」, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-디페닐포스핀옥사이드「루시린 TPO」, 2,4,6-트리메틸벤조일-페닐-포스핀옥사이드「이르가큐어 819」, 1,2-옥탄디온,1-[4-(페닐티오)-,2-(O-벤조일옥심)],에탄온「이르가큐어 OXE01」), 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심)「이르가큐어 OXE02」(이상, BASF 주식회사제. 2,4-디에틸티오잔톤(니혼카야쿠사제 「카야큐어 DETX」)과 p-디메틸아미노벤조산에틸(니혼카야쿠사제「카야큐어 EPA」)과의 혼합물, 이소프로필티오잔톤(워드플레킨솝사제 「칸타큐어-ITX」)과 p-디메틸아미노벤조산에틸의 혼합물, 「에사큐어 ONE」, 「에사큐어 KIP150」, 「에사큐어 KIP160」, 「에사큐어 1001M」, 「에사큐어 A198」, 「에사큐어 KIP IT」, 「에사큐어 KTO46」, 「에사큐어 TZT」(lamberti 주식회사제),
LAMBSON사의 「스피드큐어 BMS」, 「스피드큐어 PBZ」, 「벤조페논」 등을 들 수 있다. 또한, 광양이온개시제로서는, 광산발생제를 이용할 수 있다. 광산발생제로서는 디아조디설폰계 화합물, 트리페닐설포늄계 화합물, 페닐설폰계 화합물, 설포닐피리딘계 화합물, 트리아진계 화합물 및 디페닐요오도늄 화합물 등을 들 수 있다.
광중합개시제의 함유율은, 중합성 조성물에 포함되는 중합성 화합물의 총량에 대해, 0.1~10질량%가 바람직하고, 1~6질량%가 특히 바람직하다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
또한, 열중합시에 사용하는 열중합개시제로서는 공지 관용의 것을 사용할 수 있고, 예를 들면, 메틸아세토아세테이트퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, 비스(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)3,3,5-트리메틸시클로헥산, p-펜타하이드로퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 디큐밀퍼옥사이드, 이소부틸퍼옥사이드, 디(3-메틸-3-메톡시부틸)퍼옥시디카보네이트, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로헥산 등의 유기 과산화물, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등의 아조니트릴 화합물, 2,2'-아조비스(2-메틸-N-페닐프로피온-아미딘)디하이드로클로라이드 등의 아조아미딘 화합물, 2,2'아조비스{2-메틸-N-[1,1-비스(히드록시메틸)-2-히드록시에틸]프로피온아미드} 등의 아조아미드 화합물, 2,2'아조비스(2,4,4-트리메틸펜탄) 등의 알킬아조 화합물 등을 사용할 수 있다. 열중합개시제의 함유량은 0.1~10질량%가 바람직하고, 1~6질량%가 특히 바람직하다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
(유기 용제)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 필요에 따라 유기 용제를 함유할 수 있다. 이용하는 유기 용제로서는 특히 한정은 없지만, 상기 중합성 화합물이 양호한 용해성을 나타내는 유기 용제가 바람직하고, 100℃ 이하의 온도에서 건조할 수 있는 유기 용제인 것이 바람직하다. 그러한 용제로서는, 예를 들면, 톨루엔, 자일렌, 쿠멘, 메시틸렌 등의 방향족계 탄화수소, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 아세트산시클로헥실, 아세트산3-부톡시메틸, 젖산에틸 등의 에스테르계 용제, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥산온, 시클로펜탄온 등의 케톤계 용제, 테트라히드로퓨란, 1,2-디메톡시에탄, 아니솔 등의 에테르계 용제, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸-2-피롤리돈 등의 아미드계 용제, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤 및 클로로벤젠 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있지만, 케톤계 용제, 에테르계 용제, 에스테르계 용제 및 방향족 탄화수소계 용제 중 어느 1종류 이상을 이용하는 것이 용액 안정성의 점에서 바람직하다.
이용하는 유기 용제의 비율은, 본 발명에 이용되는 중합성 조성물이 통상 도포에 의해 행해진다는 점에서, 도포한 상태를 현저하게 손상시키지 않는 한은 특히 제한은 없지만, 중합성 조성물에 있어서의 중합성 화합물의 합계량의 함유 비율이 0.1~99질량%인 것이 바람직하고, 5~60질량%인 것이 더욱 바람직하고, 10~50질량%인 것이 특히 바람직하다.
또한, 유기 용제에 상기 중합성 화합물을 용해할 때에는, 균일하게 용해시키기 위해서, 가열 교반하는 것이 바람직하다. 가열 교반시의 가열 온도는, 이용하는 중합성 화합물의 유기 용제에 대한 용해성을 고려해서 적의(適宜) 조절하면 되지만, 생산성의 점에서 15℃~130℃가 바람직하고, 30℃~110℃가 더욱 바람직하고, 50℃~100℃가 특히 바람직하다.
(첨가제)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 각각의 목적에 따라 범용의 첨가제를 사용할 수도 있다. 예를 들면, 중합 금지제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 배향 제어제, 연쇄 이동제, 적외선 흡수제, 틱소제, 대전 방지제, 색소, 필러, 키랄 화합물, 중합성기를 갖는 비액정성 화합물, 기타 액정 화합물, 배향 재료 등의 첨가제를 액정의 배향성을 현저히 저하시키지 않는 정도로 첨가할 수 있다.
(중합 금지제)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 필요에 따라 중합 금지제를 함유할 수 있다. 이용하는 중합 금지제로서는 특히 한정은 없고, 공지 관례의 것을 사용할 수 있다.
예를 들면, p-메톡시페놀, 크레졸, t-부틸카테콜, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시톨루엔, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4-메톡시-1-나프톨, 4,4'-디알콕시-2,2'-비-1-나프톨 등의 페놀계 화합물, 히드로퀴논, 메틸히드로퀴논, tert-부틸히드로퀴논, p-벤조퀴논, 메틸-p-벤조퀴논, tert-부틸-p-벤조퀴논, 2,5-디페닐벤조퀴논, 2-히드록시-1,4-나프토퀴논, 1,4-나프토퀴논, 2,3-디클로로-1,4-나프토퀴논, 안트라퀴논, 디페노퀴논 등의 퀴논계 화합물, p-페닐렌디아민, 4-아미노디페닐아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N-i-프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-디-2-나프틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-페닐-β-나프틸아민, 4,4'-디큐밀-디페닐아민, 4,4'-디옥틸-디페닐아민 등의 아민계 화합물, 페노티아진, 디스테아릴티오디프로피오네이트 등의 티오에테르계 화합물, N-니트로소디페닐아민, N-니트로소페닐나프틸아민, N-니트로소디나프틸아민, p-니트로소페놀, 니트로소벤젠, p-니트로소디페닐아민, α-니트로소-β-나프톨 등, N,N-디메틸p-니트로소아닐린, p-니트로소디페닐아민, p-니트로소디메틸아민, p-니트로소-N,N-디에틸아민, N-니트로소에탄올아민, N-니트로소디-n-부틸아민, N-니트로소-N-n-부틸-4-부탄올아민, N-니트로소-디이소프로판올아민, N-니트로소-N-에틸-4-부탄올아민, 5-니트로소-8-히드록시퀴놀린, N-니트로소모르폴린, N-니트로소-N-페닐히드록실아민암모늄염, 니트로소벤젠, 2,4,6-트리-tert-부틸니트로소벤젠, N-니트로소-N-메틸-p-톨루엔설폰아미드, N-니트로소-N-에틸우레탄, N-니트로소-N-n-프로필우레탄, 1-니트로소-2-나프톨, 2-니트로소-1-나프톨, 1-니트로소-2-나프톨-3,6-설폰산나트륨, 2-니트로소-1-나프톨-4-설폰산나트륨, 2-니트로소-5-메틸아미노페놀염산염, 2-니트로소-5-메틸아미노페놀염산염 등의 니트로소계 화합물을 들 수 있다.
중합 금지제의 첨가량은, 중합성 조성물에 포함되는 중합성 화합물의 총량에 대해 0.01~1.0질량%인 것이 바람직하고, 0.05~0.5질량%인 것이 보다 바람직하다.
(산화 방지제)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 필요에 따라 산화 방지제 등을 함유할 수 있다. 그러한 화합물로서, 히드로퀴논 유도체, 니트로소아민계 중합 금지제, 힌더드페놀계 산화 방지제 등을 들 수 있고, 보다 구체적으로는, tert-부틸하이드로퀴논, 와코쥰야쿠고교샤의 「Q-1300」, 「Q-1301」, 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트「IRGANOX 1010」, 티오디에틸렌비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트「IRGANOX 1035」, 옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트「IRGANOX 1076」, 「IRGANOX 1135」, 「IRGANOX 1330」, 4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸「IRGANOX 1520L」, 「IRGANOX 1726」, 「IRGANOX 245」, 「IRGANOX 259」, 「IRGANOX 3114」, 「IRGANOX 3790」, 「IRGANOX 5057」, 「IRGANOX 565」(이상, BASF 주식회사제), 가부시키가이샤 ADEKA제의 아데카스타브 AO-20, AO-30, AO-40, AO-50, AO-60, AO-80, 스미토모카가쿠 가부시키가이샤의 스미라이저 BHT, 스미라이저 BBM-S, 및 스미라이저 GA-80 등등을 들 수 있다.
산화 방지제의 첨가량은, 중합성 조성물에 포함되는 중합성 화합물의 총량에 대해 0.01~2.0질량%인 것이 바람직하고, 0.05~1.0질량%인 것이 보다 바람직하다.
(자외선 흡수제)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 필요에 따라 자외선 흡수제나 광안정제를 함유할 수 있다. 이용하는 자외선 흡수제나 광안정제는 특히 한정은 없지만, 광학 이방체나 광학 필름 등의 내광성을 향상시키는 것이 바람직하다.
상기 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 2-(2-히드록시-5-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸 「티누빈 PS」, 「티누빈 99-2」, 「티누빈 109」, 「TINUVIN 213」, 「TINUVIN 234」, 「TINUVIN 326」, 「TINUVIN 328」, 「TINUVIN 329」, 「TINUVIN 384-2」, 「TINUVIN 571」, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀「TINUVIN 900」, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(1-메틸-1-페닐에틸)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀「TINUVIN 928」, 「TINUVIN 1130」, 「TINUVIN 400」, 「TINUVIN 405」, 2,4-비스[2-히드록시-4-부톡시페닐]-6-(2,4-디부톡시페닐)-1,3,5-트리아진「TINUVIN 460」, 「티누빈 479」, 「TINUVIN 5236」(이상, BASF 주식회사제), 「아데카스타브LA-32」, 「아데카스타브LA-34」, 「아데카스타브LA-36」, 「아데카스타브LA-31」, 「아데카스타브 1413」, 「아데카스타브LA-51」(이상, 가부시키가이샤 ADEKA제) 등을 들 수 있다.
광안정제로서 예를 들면, 「TINUVIN 111FDL」, 「TINUVIN 123」, 「TINUVIN 144」, 「TINUVIN 152」, 「TINUVIN 292」, 「TINUVIN 622」, 「TINUVIN 770」, 「TINUVIN 765」, 「TINUVIN 780」, 「TINUVIN 905」, 「TINUVIN 5100」, 「TINUVIN 5050」, 「TINUVIN 5060」, 「TINUVIN 5151」, 「CHIMASSORB 119FL」, 「CHIMASSORB 944FL」, 「CHIMASSORB 944LD」(이상, BASF 주식회사제), 「아데카스타브LA-52」, 「아데카스타브LA-57」, 「아데카스타브LA-62」, 「아데카스타브LA-67」, 「아데카스타브LA-63P」, 「아데카스타브LA-68LD」, 「아데카스타브LA-77」, 「아데카스타브LA-82」, 「아데카스타브LA-87」(이상, 가부시키가이샤 ADEKA제) 등을 들 수 있다.
(배향 제어제)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 액정성 화합물의 배향 상태를 제어하기 위해서, 배향 제어제를 함유할 수 있다. 이용하는 배향 제어제로서는, 액정성 화합물이, 기재에 대해서 실질적으로 수평 배향, 실질적으로 수직 배향, 실질적으로 하이브리드 배향하는 것을 들 수 있다. 또한, 키랄 화합물을 첨가한 경우에는 실질적으로 평면 배향하는 것을 들 수 있다. 상술한 바와 같이, 계면활성제에 의해, 수평 배향, 평면 배향이 유기(誘起)되는 경우도 있지만, 각각의 배향 상태가 유기되는 것이면, 특히 한정은 없고, 공지 관용의 것을 사용할 수 있다.
그러한 배향 제어제로서는, 예를 들면, 광학 이방체로 한 경우의 공기 계면의 틸트각을 효과적으로 줄이는 효과를 갖고, 하기 일반식(8)로 표시되는 반복 단위를 갖는 중량 평균 분자량이 100 이상 1000000 이하인 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00114
(식 중, R11, R12, R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소 원자수 1~20의 탄화수소기를 나타내고, 당해 탄화수소기 중의 수소 원자는 하나 이상의 할로겐 원자로 치환되어 있어도 됨)
또한, 플루오로알킬기로 변성된 봉상 액정성 화합물, 원반상 액정성 화합물, 분기 구조를 가져도 되는 장쇄 지방족 알킬기를 함유한 중합성 화합물 등도 들 수 있다.
광학 이방체로 한 경우의 공기 계면의 틸트각을 효과적으로 증가시키는 효과를 갖는 것으로서는, 질산셀룰로오스, 아세트산셀룰로오스, 프로피온산셀룰로오스, 부티르산셀룰로오스, 복소 방향족환염 변성된 봉상 액정성 화합물, 시아노기, 시아노알킬기로 변성된 봉상 액정성 화합물 등을 들 수 있다.
(연쇄 이동제)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 중합체나 광학 이방체와 기재와의 밀착성을 보다 향상시키기 위해서, 연쇄 이동제를 함유할 수 있다. 연쇄 이동제로서는, 방향족 탄화수소류, 클로로포름, 사염화탄소, 사브롬화탄소, 브로모트리클로로메탄 등의 할로겐화 탄화수소류, 옥틸메르캅탄, n-부틸메르캅탄, n-펜틸메르캅탄, n-헥사데실메르캅탄, n-테트라데실메르캅탄, n-도데실메르캅탄, t-테트라데실메르캅탄, t-도데실메르캅탄 등의 메르캅탄 화합물, 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-부탄디올비스티오프로피오네이트, 1,4-부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 트리메르캅토프로피온산트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 2,4,6-트리메르캅토-s-트리아진, 2-(N,N-디부틸아미노)-4,6-디메르캅토-s-트리아진 등의 티올 화합물, 디메틸잔토겐디설피드, 디에틸잔토겐디설피드, 디이소프로필잔토겐디설피드, 테트라메틸티우람디설피드, 테트라에틸티우람디설피드, 테트라부틸티우람디설피드 등의 설피드 화합물, N,N-디메틸아닐린, N,N-디비닐아닐린, 펜타페닐에탄, α-메틸스티렌 다이머, 아크롤레인, 알릴알코올, 테르피놀렌, α-테르피넨, γ-테르피넨, 디펜텐 등을 들 수 있지만, 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐, 티올 화합물이 보다 바람직하다.
구체적으로는 하기 일반식(9-1)~(9-12)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00115
Figure pct00116
식 중, R95는 탄소 원자수 2~18의 알킬기를 나타내고, 당해 알킬기는 직쇄여도 분기쇄여도 되고, 당해 알킬기 중의 1개 이상의 메틸렌기는 산소 원자, 및 황 원자가 상호 직접 결합하지 않는 것으로서, 산소 원자, 황 원자, -CO-, -OCO-, -COO- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있어도 되고, R96은 탄소 원자수 2~18의 알킬렌기를 나타내고, 당해 알킬렌기 중의 1개 이상의 메틸렌기는 산소 원자 및 황 원자가 상호 직접 결합하지 않는 것으로서, 산소 원자, 황 원자, -CO-, -OCO-, -COO- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있어도 된다.
연쇄 이동제는, 중합성 화합물을 유기 용제에 혼합하고 가열 교반해서 중합성 용액을 조제하는 공정에 있어서 첨가하는 것이 바람직하지만, 그 후의, 중합성 용액에 중합 개시제를 혼합하는 공정에 있어서 첨가해도 되고, 양쪽의 공정에 있어서 첨가해도 된다.
연쇄 이동제의 첨가량은, 중합성 조성물에 포함되는 중합성 화합물의 총량에 대해서, 0.5~10질량%인 것이 바람직하고, 1.0~5.0질량%인 것이 보다 바람직하다.
또한 물성 조정을 위해, 중합성이 아닌 액정 화합물 등도 필요에 따라 첨가하는 것도 가능하다. 액정성이 없는 중합성 화합물은, 중합성 화합물을 유기 용제에 혼합하고 가열 교반해서 중합성 용액을 조제하는 공정에 있어서 첨가하는 것이 바람직하지만, 중합성이 아닌 액정 화합물 등은, 그 후의, 중합성 용액에 중합 개시제를 혼합하는 공정에 있어서 첨가해도 되고, 양쪽의 공정에 있어서 첨가해도 된다. 이들 화합물의 첨가량은 중합성 조성물에 대해, 20질량% 이하가 바람직하고, 10질량% 이하가 보다 바람직하고, 5질량% 이하가 보다 더 바람직하다.
(적외선 흡수제)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 필요에 따라 적외선 흡수제를 함유할 수 있다. 이용하는 적외선 흡수제는, 특히 한정은 없고, 배향성을 흐트러뜨리지 않는 범위에서 공지 관용의 것을 함유할 수 있다.
상기 적외선 흡수제로서는, 시아닌 화합물, 프탈로시아닌 화합물, 나프토퀴논 화합물, 디티올 화합물, 디임모늄 화합물, 아조 화합물, 알루미늄염 등을 들 수 있다.
구체적으로는, 디임모늄염 타입의 「NIR-IM1」, 알루미늄염 타입의 「NIR-AM1」(이상, 나가세켐텍 가부시키가이샤제), 「카렌즈 IR-T」, 「카렌즈 IR-13F」(이상, 쇼와덴코 가부시키가이샤제), 「YKR-2200」, 「YKR-2100」(이상, 야마모토카세이 가부시키가이샤제), 「IRA908」, 「IRA931」, 「IRA955」, 「IRA1034」(이상, INDECO 주식회사) 등을 들 수 있다.
(대전 방지제)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 필요에 따라 대전 방지제를 함유할 수 있다. 이용하는 대전 방지제는, 특히 한정은 없고, 배향성을 흐트러뜨리지 않는 범위에서 공지 관용의 것을 함유할 수 있다.
그러한 대전 방지제로서는, 설폰산염기 또는 인산염기를 분자 내에 적어도 1종류 이상 갖는 고분자 화합물, 4급 암모늄염을 갖는 화합물, 중합성기를 갖는 계면활성제 등을 들 수 있다.
그 중에서도 중합성기를 갖는 계면활성제가 바람직하고, 예를 들면, 중합성기를 갖는 계면활성제 중, 음이온계인 것으로서, 「안톡스SAD」, 「안톡스MS-2N」(이상, 니혼뉴카자이 가부시키가이샤제), 「아크아론KH-05」, 「아크아론KH-10」, 「아크아론KH-20」, 「아크아론KH-0530」, 「아크아론KH-1025」(이상, 다이이치고교세이야쿠 가부시키가이샤제), 「아데카리아소프SR-10N」, 「아데카리아소프SR-20N」(이상, 가부시키가이샤 ADEKA제), 「라테무르PD-104」(가오 가부시키가이샤제) 등의 알킬에테르계, 「라테무르S-120」,「라테무르S-120A」, 「라테무르S-180P」, 「라테무르S-180A」(이상, 가오 가부시키가이샤제), 「에레미놀JS-2」(산요카세이 가부시키가이샤제) 등의 설포숙신산에스테르계, 「아크아론H-2855A」, 「아크아론H-3855B」, 「아크아론H-3855C」, 「아크아론H-3856」, 「아크아론HS-05」, 「아크아론HS-10」, 「아크아론HS-20」, 「아크아론HS-30」, 「아크아론HS-1025」, 「아크아론BC-05」, 「아크아론BC-10」, 「아크아론BC-20」, 「아크아론BC-1025」, 「아크아론BC-2020」(이상, 다이이치고교세이야쿠 가부시키가이샤제), 「아데카리아소프SDX-222」, 「아데카리아소프SDX-223」, 「아데카리아소프SDX-232」, 「아데카리아소프SDX-233」, 「아데카리아소프SDX-259」, 「아데카리아소프SE-10N」, 「아데카리아소프SE-20N」(이상, 가부시키가이샤 ADEKA제) 등의 알킬페닐에테르 혹은 알킬페닐에스테르계, 「안톡스MS-60」, 「안톡스MS-2N」(이상, 니혼뉴카자이 가부시키가이샤제), 「에레미놀RS-30」(산요카세이 가부시키가이샤제) 등의 (메타)아크릴레이트황산에스테르계, 「H-3330P」(다이이치고교세이야쿠 가부시키가이샤제), 「아데카리아소프PP-70」(가부시키가이샤 ADEKA제) 등의 인산에스테르계를 들 수 있다.
한편, 중합성기를 갖는 계면활성제 중, 비이온계인 것으로서, 예를 들면, 「안톡스LMA-20」, 「안톡스LMA-27」, 「안톡스EMH-20」, 「안톡스LMH-20」, 「안톡스SMH-20」(이상, 니혼뉴카자이 가부시키가이샤제), 「아데카리아소프ER-10」, 「아데카리아소프ER-20」, 「아데카리아소프ER-30」, 「아데카리아소프ER-40」(이상, 가부시키가이샤 ADEKA제), 「라테무르PD-420」, 「라테무르PD-430」, 「라테무르PD-450」(이상, 가오 가부시키가이샤제) 등의 알킬에테르계, 「아크아론RN-10」, 「아크아론RN-20」, 「아크아론RN-30」, 「아크아론RN-50」, 「아크아론RN-2025」(이상, 다이이치고교세이야쿠 가부시키가이샤제), 「아데카리아소프NE-10」, 「아데카리아소프NE-20」, 「아데카리아소프NE-30」, 「아데카리아소프NE-40」(이상, 가부시키가이샤 ADEKA제) 등의 알킬페닐에테르계 또는 알킬페닐에스테르계, 「RMA-564」, 「RMA-568」, 「RMA-1114」(이상, 니혼뉴카자이 가부시키가이샤제) 등의 (메타)아크릴레이트황산에스테르계를 들 수 있다.
그 밖의 대전 방지제로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 프로폭시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, n-부톡시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, n-펜톡시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 프로폭시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, n-부톡시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, n-펜톡시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리테트라메틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시테트라에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 헥사에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시헥사에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 대전 방지제는, 1종류만으로 사용할 수도, 2종류 이상 조합해서 사용할 수도 있다. 상기 대전 방지제의 첨가량은, 중합성 조성물에 포함되는 중합성 화합물의 총량에 대해서, 0.001~10중량%가 바람직하고, 0.01~5중량%가 보다 바람직하다.
(색소)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 필요에 따라 색소를 함유할 수 있다. 이용하는 색소는 특히 한정은 없고, 배향성을 흐트러뜨리지 않는 범위에서 공지 관용의 것을 함유할 수 있다.
상기 색소로서는, 예를 들면, 2색성 색소, 형광 색소 등을 들 수 있다. 그러한 색소로서는, 예를 들면, 폴리아조 색소, 안트라퀴논 색소, 시아닌 색소, 프탈로시아닌 색소, 페릴렌 색소, 페리논 색소, 스쿠아릴륨 색소 등을 들 수 있지만, 첨가하는 관점에서 상기 색소는 액정성을 나타내는 색소가 바람직하다.
예를 들면, 미국 특허 제2,400,877호 공보, Dreyer J. F., Phys. and Colloid Chem., 1948, 52, 808., "The Fixing of Molecular Orientation", Dreyer J. F., Journal de Physique, 1969, 4, 114., "Light Polarization from Films of Lyotropic Nematic Liquid Crystals", 및 J.Lydon, "Chromonics" in "Handbook of Liquid Crystals Vol.2B: Low Molecular Weight Liquid Crystals II", D. Demus,J. Goodby, G. W. Gray, H. W. Spiessm,V. Vill ed, Willey-VCH, P.981-1007(1998), Dichroic Dyes for Liquid Crystal Display A.V.lvashchenko
CRC Press, 1994년 및 「기능성 색소 시장의 신전개」, 제1장, 1페이지, 1994년, CMC 가부시키가이샤 발행 등에 기재된 색소를 사용할 수 있다.
2색성 색소로서는, 예를 들면, 이하의 식(d-1)~식(d-8)
Figure pct00117
Figure pct00118
을 들 수 있다. 상기 2색성 색소 등의 색소의 첨가량은, 중합성 조성물에 포함되는 중합성 화합물의 총량에 대해서 0.001~10중량%가 바람직하고, 0.01~5중량%가 보다 바람직하다.
(필러)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 필요에 따라 필러를 함유할 수 있다. 이용하는 필러는 특히 한정은 없고, 얻어진 중합물의 열전도성이 저하하지 않는 범위에서 공지 관용의 것을 함유할 수 있다.
상기 필러로서는, 예를 들면, 알루미나, 티타늄 화이트, 수산화알루미늄, 탈크, 클레이, 마이카, 티타늄산바륨, 산화아연, 유리 섬유 등의 무기질 충전재, 은분, 동분 등의 금속 분말이나 질화알루미늄, 질화붕소, 질화규소, 질화갈륨, 탄화규소, 마그네시아(산화알루미늄), 알루미나(산화알루미늄), 결정성 실리카(산화규소), 용융 실리카(산화규소) 등등의 열전도성 필러, 은나노 입자 등을 들 수 있다.
(키랄 화합물)
본 발명의 중합성 조성물에는, 키랄 네마틱상(相)을 얻는 것을 목적으로 해서 키랄 화합물을 함유해도 된다. 상기 키랄 화합물은, 그 자체가 액정성을 나타낼 필요는 없고, 또한 중합성기를 갖고 있어도, 갖고 있지 않아도 된다. 또한, 키랄 화합물의 나선의 방향은, 중합체의 사용 용도에 따라 적의 선택할 수 있다.
중합성기를 갖고 있는 키랄 화합물로서는, 특히 한정은 없고, 공지 관용의 것을 사용할 수 있지만, 나선 비틀림력(HTP)이 큰 키랄 화합물이 바람직하다. 또한, 중합성기는 비닐기, 비닐옥시기, 알릴기, 알릴옥시기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 글리시딜기, 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기, 글리시딜기, 옥세타닐기가 특히 바람직하다.
키랄 화합물의 배합량은, 화합물의 나선 유기력(誘起力)에 따라 적의 조정하는 것이 필요하지만, 중합성기를 갖는 액정성 화합물 및 키랄 화합물의 총량에 대해서, 0.5~80질량% 함유하는 것이 바람직하고, 3~50질량% 함유하는 것이 보다 바람직하고, 5~30질량% 함유하는 것이 특히 바람직하다.
키랄 화합물의 구체예로서, 하기 일반식(10-1)~식(10-4)로 표시되는 화합물을 들 수 있지만, 하기의 일반식에 한정되는 것은 아니다.
Figure pct00119
상기 식 중, Sp5a, Sp5b는 각각 독립적으로, 탄소 원자수 0~18의 알킬렌기를 나타내고, 당해 알킬렌기는 하나 이상의 할로겐 원자, CN기, 또는 중합성 관능기를 갖는 탄소 원자수 1~8의 알킬기에 의해 치환되어 있어도 되고, 이 기 중에 존재하는 1개의 CH2기 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 CH2기는 각각 서로 독립적으로, 산소 원자가 서로 직접 결합하지 않은 형태로, -O-, -S-, -NH-, -N(CH3)-, -CO-, -COO-, -OCO-, -OCOO-, -SCO-, -COS- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어 있어도 되고,
A1, A2, A3, A4, A5 및 A6은 각각 독립적으로, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 1,4-시클로헥세닐기, 테트라히드로피란-2,5-디일기, 1,3-디옥산-2,5-디일기, 테트라히드로티오피란-2,5-디일기, 1,4-비시클로(2,2,2)옥틸렌기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 피라진-2,5-디일기, 티오펜-2,5-디일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 2,6-나프틸렌기, 페난트렌-2,7-디일기, 9,10-디히드로페난트렌-2,7-디일기, 1,2,3,4,4a,9,10a-옥타히드로페난트렌-2,7-디일기, 1,4-나프틸렌기, 벤조[1,2-b:4,5-b']디티오펜-2,6-디일기, 벤조[1,2-b:4,5-b']디셀레노펜-2,6-디일기, [1]벤조티에노[3,2-b]티오펜-2,7-디일기, [1]벤조셀레노페노[3,2-b]셀레노펜-2,7-디일기, 또는 플루오렌-2,7-디일기를 나타내며, n, l 및 k는 각각 독립적으로 0 또는 1을 나타내고, 0≤n+l+k≤3이 되고,
m5는 0 또는 1을 나타내고,
Z0, Z1, Z2, Z3, Z4, Z5 및 Z6은 각각 독립적으로, -COO-, -OCO-, -CH2CH2-, -OCH2-, -CH2O-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CHCOO-, -OCOCH=CH-, -CH2CH2COO-, -CH2CH2OCO-, -COOCH2CH2-, -OCOCH2CH2-, -CONH-, -NHCO-, 탄소수 2~10의 할로겐 원자를 가져도 되는 알킬기 또는 단결합을 나타내고,
R5a 및 R5b는, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기 또는 탄소 원자수 1~18의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 하나 이상의 할로겐 원자 또는 CN에 의해 치환되어 있어도 되고, 이 기 중에 존재하는 1개의 CH2기 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 CH2기는 각각 독립적으로, 산소 원자가 서로 직접 결합하지 않는 형태로, -O-, -S-, -NH-, -N(CH3)-, -CO-, -COO-, -OCO-, -OCOO-, -SCO-, -COS- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어 있어도 되고, 혹은 R5a 및 R5b는 일반식(10-a)
Figure pct00120
(식 중, P5a는 중합성 관능기를 나타내고, Sp5a는 Sp1과 동일한 의미를 나타냄)
P5a는, 하기의 식(P-1)~식(P-20)으로 표시되는 중합성기에서 선택되는 치환기를 나타낸다.
Figure pct00121
상기 키랄 화합물의 보다 나은 구체적예로서는, 하기 일반식(10-5)~식(10-31)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00122
Figure pct00123
Figure pct00124
Figure pct00125
Figure pct00126
Figure pct00127
상기 식 중, m, n은 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타내고, R은 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 불소 원자를 나타내지만, R이 복수 존재할 경우는, 각각 동일해도, 달라도 된다.
중합성기를 갖고 있지 않은 키랄 화합물로서는, 구체적으로는 예를 들면, 키랄기로서 콜레스테릴기를 갖는 펠라르곤산콜레스테롤, 스테아르산콜레스테롤, 키랄기로서 2-메틸부틸기를 갖는 비디에이치사제의 「CB-15」, 「C-15」, 머크사제의 「S-1082」, 칫소사제의 「CM-19」, 「CM-20」, 「CM」, 키랄기로서 1-메틸헵틸기를 갖는 머크사제의 「S-811」, 칫소사제의 「CM-21」, 「CM-22」 등을 들 수 있다.
키랄 화합물을 첨가할 경우는, 본 발명의 중합성 조성물의 중합체의 용도에 따르지만, 얻어지는 중합체의 두께(d)를 중합체 중에서의 나선 피치(P)로 나눈 값(d/P)이 0.1~100의 범위가 되는 양을 첨가하는 것이 바람직하고, 0.1~20의 범위가 되는 양이 더욱 바람직하다.
(중합성기를 갖는 비액정성 화합물)
본 발명의 중합성 조성물은, 중합성기를 갖지만 액정 화합물이 아닌 화합물을 첨가할 수도 있다. 이러한 화합물로서는, 통상, 이 기술 분야에서 중합성 모노머 혹은 중합성 올리고머로서 인식되는 것이면 특히 제한 없이 사용할 수 있다. 첨가할 경우는, 본 발명의 중합성 조성물에 이용하는 중합성액 화합물의 합계량에 대해서, 15질량% 이하인 것이 바람직하고, 10질량% 이하가 더욱 바람직하다.
구체적으로는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥실에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐옥실에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아다만틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 2-페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, (2-메틸-2-에틸-1,3-디옥솔란-4-일)메틸(메타)아크릴레이트, (3-에틸옥세탄-3-일)메틸(메타)아크릴레이트, o-페닐페놀에톡시(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노(메타)아크릴레이트, 디에틸아미노(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 2,2,3,4,4,4-헥사플루오로부틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3,4,4,4-헵타플루오로부틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로부틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로헥실)에틸(메타)아크릴레이트, 1H,1H,3H-테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1H,1H,5H-옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 1H,1H,7H-도데카플루오로헵틸(메타)아크릴레이트, 1H-1-(트리플루오로메틸)트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 1H,1H,3H-헥사플루오로부틸(메타)아크릴레이트, 1,2,2,2-테트라플루오로-1-(트리플루오로메틸)에틸(메타)아크릴레이트, 1H,1H-펜타데카플루오로옥틸(메타)아크릴레이트, 1H,1H,2H,2H-트리데카플루오로옥틸(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸인산, 아크릴로일모르폴린, 디메틸아크릴아미드, 디메틸아미노프로필아크릴아미드, 이소프로필아크릴아미드, 디에틸아크릴아미드, 히드록시에틸아크릴아미드, N-아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈이미드 등의 모노(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸디올디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 비스페놀A디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-아크릴로일옥시프로필메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 아크릴산 부가물, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르의 아크릴산 부가물 등의 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡시화 이소시아누르산트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, ε-카프로락톤 변성 트리스-(2-아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트 등의 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트 등의 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 올리고머형의 (메타)아크릴레이트, 각종 우레탄아크릴레이트, 각종 매크로 모노머, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 비스페놀A디글리시딜에테르 등의 에폭시 화합물, 말레이미드 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
(기타 액정성 화합물)
본 발명에 이용하는 중합성 조성물은, 일반식(1)~일반식(7)의 액정성 화합물 이외에도, 중합성기를 1개 이상 갖는 액정성 화합물을 함유할 수 있다. 그러나, 첨가량이 너무 많으면, 위상차판으로서 이용한 경우에 위상차비가 커질 우려가 있어, 첨가할 경우는, 본 발명의 중합성 조성물에 이용하는 중합성액 화합물의 합계량에 대해서 30질량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 10질량% 이하가 더욱 바람직하고, 5질량% 이하가 특히 바람직하다.
그러한 액정성 화합물로서, 일반식(1-b)~일반식(7-b)의 액정성 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00128
(식 중, P11~P74는 중합성기를 나타내며, S11~S72는 스페이서기를 또는 단결합을 나타내지만, S11~S72가 복수 존재할 경우, 그들은 각각 동일해도 달라도 되고, X11~X72는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C- 또는 단결합을 나타내지만, X11~X72가 복수 존재할 경우, 그들은 각각 동일해도 달라도 되고(단, 각 P-(S-X)- 결합에는 -O-O-를 포함하지 않음), MG11~MG71은 각각 독립적으로 식(b)를 나타내고,
Figure pct00129
(식 중, A83, A84는 각각 독립적으로 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 나프탈렌-1,4-디일기, 테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기를 나타내지만, 이들 기는 무치환 또는 하나 이상의 L2에 의해 치환되어도 되지만, A83 및/또는 A84가 복수 나타날 경우는 각각 동일해도 달라도 되고,
Z83 및 Z84는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CH2CH2-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-, -N=CH-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C- 또는 단결합을 나타내지만, Z83 및/또는 Z84가 복수 나타날 경우는 각각 동일해도 달라도 되고,
M81은 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 1,4-시클로헥세닐기, 테트라히드로피란-2,5-디일기, 1,3-디옥산-2,5-디일기, 테트라히드로티오피란-2,5-디일기, 1,4-비시클로(2,2,2)옥틸렌기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 피라진-2,5-디일기, 티오펜-2,5-디일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 나프틸렌-1,4-디일기, 나프틸렌-1,5-디일기, 나프틸렌-1,6-디일기, 나프틸렌-2,6-디일기, 페난트렌-2,7-디일기, 9,10-디히드로페난트렌-2,7-디일기, 1,2,3,4,4a,9,10a-옥타히드로페난트렌-2,7-디일기, 벤조[1,2-b:4,5-b']디티오펜-2,6-디일기, 벤조[1,2-b:4,5-b']디셀레노펜-2,6-디일기, [1]벤조티에노[3,2-b]티오펜-2,7-디일기, [1]벤조셀레노페노[3,2-b]셀레노펜-2,7-디일기, 또는 플루오렌-2,7-디일기에서 선택되는 기를 나타내지만, 이들 기는 무치환 또는 하나 이상의 L2에 의해 치환되어도 되고,
L2는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐, 니트로기, 이소시아노기, 아미노기, 히드록시기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C-에서 선택되는 기에 의해 치환되어도 되지만, 화합물 내에 L2가 복수 존재할 경우, 그들은 동일해도 달라도 되고, m은 0~8의 정수를 나타내며, j83 및 j84는 각각 독립적으로 0~5의 정수를 나타내지만, j83+j84는 1~5의 정수를 나타냄), R11 및 R31은 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 시아노기, 니트로기, 이소시아노기, 티오이소시아노기 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고, m11은 0~8의 정수를 나타내며, m2~m7, n2~n7, l4~l6, k6은 각각 독립적으로 0~5의 정수를 나타낸다. 단, 일반식(1)~일반식(7)을 제외함)
일반식(1-b)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(1-b-1)~식(1-b-39)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00130
Figure pct00131
Figure pct00132
Figure pct00133
Figure pct00134
(식 중, m11, n11은 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타내고, R111 및 R112는, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 불소 원자를 나타내고, R113은 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 시아노기, 니트로기, 이소시아노기, 티오이소시아노기 또는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-가 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨) 이들 액정 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(2-b)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(2-b-1)~식(2-b-33)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00135
Figure pct00136
Figure pct00137
Figure pct00138
Figure pct00139
(식 중, m 및 n은 각각 독립적으로 1~18의 정수를 나타내고, R은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 시아노기를 나타냄. 이들 기가 탄소수 1~6의 알킬기, 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기인 경우, 전부가 미치환이거나, 혹은 하나 또는 둘 이상의 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 됨) 이들 액정 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(3-b)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(3-b-1)~식(3-b-16)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00140
Figure pct00141
Figure pct00142
이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(4-b)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(4-b-1)~식(4-b-29)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00143
Figure pct00144
Figure pct00145
Figure pct00146
Figure pct00147
Figure pct00148
(식 중, m 및 n은 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타냄. R은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 시아노기를 나타냄. 이들 기가 탄소수 1~6의 알킬기, 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기인 경우, 전부가 미치환이거나, 혹은 하나 또는 둘 이상의 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 됨) 이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(5-b)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(5-b-1)~식(5-b-26)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00149
Figure pct00150
Figure pct00151
Figure pct00152
Figure pct00153
(식 중, n은 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타냄. R은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 시아노기를 나타냄. 이들 기가 탄소수 1~6의 알킬기, 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기인 경우, 전부가 미치환이거나, 혹은 하나 또는 둘 이상의 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 됨) 이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(6-b)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(6-b-1)~식(6-b-23)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00154
Figure pct00155
Figure pct00156
Figure pct00157
Figure pct00158
(식 중, k, l, m 및 n은 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타냄. R은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 시아노기를 나타냄. 이들 기가 탄소수 1~6의 알킬기, 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기인 경우, 전부가 미치환이거나, 혹은 하나 또는 둘 이상의 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 됨) 이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
일반식(7-b)로 표시되는 화합물로서 구체적으로는, 하기의 식(7-b-1)~식(7-b-25)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00159
Figure pct00160
Figure pct00161
Figure pct00162
(식 중, R은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 시아노기를 나타냄. 이들 기가 탄소수 1~6의 알킬기, 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기인 경우, 전부가 미치환이거나, 혹은 하나 또는 둘 이상의 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 됨) 이들 액정성 화합물은, 단독으로 사용할 수도 있고, 2종류 이상 사용할 수도 있다.
(배향 재료)
본 발명의 중합성 조성물은, 배향성을 향상시키기 위해서 배향성이 향상하는 배향 재료를 함유할 수 있다. 이용하는 배향 재료는, 본 발명의 중합성 조성물에 이용되는, 중합성기를 갖는 액정성 화합물을 용해시킬 수 있는 용제에 가용이면, 공지 관용의 것이어도 되지만, 첨가하는 것에 의해 배향성을 현저하게 열화시키지 않는 범위에서 첨가할 수 있다. 구체적으로는, 중합성 조성물에 포함되는 중합성 화합물의 총량에 대해서 0.05~30중량%가 바람직하고, 0.5~15중량%가 더욱 바람직하고, 1~10중량%가 특히 바람직하다.
배향 재료는 구체적으로는, 폴리이미드, 폴리아미드, BCB(벤조시클로부텐 폴리머), 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리페닐렌에테르, 폴리아릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르설폰, 에폭시 수지, 에폭시아크릴레이트 수지, 아크릴 수지, 쿠마린 화합물, 칼콘 화합물, 신나메이트 화합물, 풀기드 화합물, 안트라퀴논 화합물, 아조 화합물, 아릴에텐 화합물 등, 광이성화, 또는 광이량화하는 화합물을 들 수 있지만, 자외선 조사, 가시광 조사에 의해 배향하는 재료(광배향 재료)가 바람직하다.
광배향 재료로서는, 예를 들면, 환상 시클로알칸을 갖는 폴리이미드, 전방향족 폴리아릴레이트, 일본국 특허공개 5-232473호 공보에 나타나 있는 바와 같은 폴리비닐신나메이트, 파라메톡시신남산의 폴리비닐에스테르, 일본국 특허공개평 6-287453, 일본국 특허공개평 6-289374호 공보에 나타나 있는 바와 같은 신나메이트 유도체, 일본국 특허공개 2002-265541호 공보에 나타나 있는 바와 같은 말레이미드 유도체 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 이하의 식(12-1)~식(12-7)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00163
(식 중, R은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~3의 알킬기, 알콕시기, 니트로기, R'는 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고, 말단의 CH3는, CF3, CCl3, 시아노기, 니트로기, 이소시아노기, 티오이소시아노기로 치환되어도 된다. n은 4~100000을 나타내고, m은 1~10의 정수를 나타냄)
(중합체)
본 발명의 중합성 조성물에 중합 개시제를 함유한 상태에서 중합시킴으로써, 본 발명의 중합체가 얻어진다. 본 발명의 중합체는, 광학 이방체, 위상차 필름, 렌즈, 착색제, 인쇄물 등에 이용된다.
(광학 이방체의 제조 방법)
(광학 이방체)
본 발명의 중합성 조성물을, 기재 혹은 배향 기능을 갖는 기재 상에 도포하고, 본 발명의 중합성 조성물 중의 액정 분자를, 네마틱상이나 스멕틱상을 유지한 상태에서 균일하게 배향시켜, 중합시킴으로써, 본 발명의 광학 이방체가 얻어진다.
(기재)
본 발명의 광학 이방체에 이용되는 기재는, 액정 표시 소자, 유기 발광 표시 소자, 기타 표시 소자, 광학 부품, 착색제, 마킹, 인쇄물이나 광학 필름에 통상 사용하는 기재로서, 본 발명의 중합성 조성물 용액의 도포 후의 건조시에 있어서의 가열에 견딜 수 있는 내열성을 갖는 재료이면, 특히 제한은 없다. 그러한 기재로서는, 유리 기재, 금속 기재, 세라믹 기재, 플라스틱 기재나 종이 등의 유기 재료를 들 수 있다. 특히 기재가 유기 재료인 경우, 셀룰로오스 유도체, 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 폴리카보네이트, 폴리아크릴레이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르설폰, 폴리이미드, 폴리페닐렌설피드, 폴리페닐렌에테르, 나일론 또는 폴리스티렌 등을 들 수 있다. 그 중에서도 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리올레핀, 셀룰로오스 유도체, 폴리아릴레이트, 폴리카보네이트 등의 플라스틱 기재가 바람직하다. 기재의 형상으로서는, 평판 외에, 곡면을 갖는 것이어도 된다. 이들 기재는, 필요에 따라 전극층, 반사 방지 기능, 반사 기능을 가지고 있어도 된다.
본 발명의 중합성 조성물의 도포성이나 중합체와의 접착성 향상을 위해서, 이들 기재의 표면 처리를 행해도 된다. 표면 처리로서, 오존 처리, 플라즈마 처리, 코로나 처리, 실란 커플링 처리 등을 들 수 있다. 또한, 광의 투과율이나 반사율을 조절하기 위해서, 기재 표면에 유기 박막, 무기 산화물 박막이나 금속 박막 등을 증착 등의 방법에 의해 마련하거나 혹은, 광학적인 부가가치를 붙이기 위해서, 기재가 픽업 렌즈, 로드 렌즈, 광디스크, 위상차 필름, 광확산 필름, 컬러 필터 등이어도 된다. 그 중에서도 부가가치가 보다 높아지는 픽업 렌즈, 위상차 필름, 광확산 필름, 컬러 필터가 바람직하다.
(배향 처리)
또한, 상기 기재에는, 본 발명의 중합성 조성물을 도포 건조했을 때에 중합성 조성물이 배향하도록, 통상 배향 처리가 실시되어 있거나 혹은, 배향막이 마련되어 있어도 된다. 배향 처리로서는, 연신 처리, 러빙 처리, 편광 자외 가시광 조사 처리, 이온빔 처리, 기재에의 SiO2의 사방(斜方) 증착 처리 등을 들 수 있다. 배향막을 이용할 경우, 배향막은 공지 관용의 것이 이용된다. 그러한 배향막으로서는, 폴리이미드, 폴리실록산, 폴리아미드, 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리페닐렌에테르, 폴리아릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르설폰, 에폭시 수지, 에폭시아크릴레이트 수지, 아크릴 수지, 아조 화합물, 쿠마린 화합물, 칼콘 화합물, 신나메이트 화합물, 풀기드 화합물, 안트라퀴논 화합물, 아조 화합물, 아릴에텐 화합물 등의 화합물 또는, 상기 화합물의 중합체나 공중합체를 들 수 있다. 러빙에 의해 배향 처리하는 화합물은, 배향 처리 또는 배향 처리 후에 가열 공정을 넣음으로써 재료의 결정화가 촉진되는 것이 바람직하다. 러빙 이외의 배향 처리를 행하는 화합물 중에서는 광배향 재료를 이용하는 것이 바람직하다.
일반적으로, 배향 기능을 갖는 기판에 액정 조성물을 접촉시킨 경우, 액정 분자는 기판 부근에서 기판을 배향 처리한 방향을 따라 배향한다. 액정 분자가 기판과 수평으로 배향하는지, 경사 혹은 수직해서 배향하는지는, 기판에의 배향 처리 방법에 따른 영향이 크다. 예를 들면, 인플레인 스위칭(IPS) 방식의 액정 표시 소자에 사용하는 것과 같은 프리틸트각이 아주 작은 배향막을 기판 상에 마련하면, 대략 수평으로 배향한 중합성 액정층이 얻어진다.
또한, TN형 액정 표시 소자에 사용하는 것과 같은 배향막을 기판 상에 마련한 경우는, 조금만 배향이 경사진 중합성 액정층이 얻어지고, STN 방식의 액정 표시 소자에 사용하는 것과 같은 배향막을 사용하면, 크게 배향이 경사진 중합성 액정층이 얻어진다.
(도포)
본 발명의 광학 이방체를 얻기 위한 도포법으로서는, 어플리케이터법, 바 코팅법, 스핀 코팅법, 롤 코팅법, 다이렉트 그라비어 코팅법, 리버스 그라비어 코팅법, 플렉소 코팅법, 잉크젯법, 다이 코팅법, 캡 코팅법, 딥 코팅법, 슬릿 코팅법, 스프레이 코팅법 등, 공지 관용의 방법을 행할 수 있다. 중합성 조성물을 도포 후, 건조시킨다.
도포 후, 본 발명의 중합성 조성물 중의 액정 분자를 스멕틱상, 혹은 네마틱상을 유지한 상태에서 균일하게 배향시키는 것이 바람직하다. 그 방법 중 하나로서 열처리법을 들 수 있다. 구체적으로는, 본 발명의 중합성 조성물을 기판 상에 도포 후, 당해 액정 조성물의 N(네마틱상)-I(등방성 액체상) 전이 온도(이하, N-I 전이 온도로 약기함) 이상으로 가열해서, 당해 액정 조성물을 등방상 액체 상태로 한다. 거기에서, 필요에 따라 서냉해서 네마틱상을 발현시킨다. 이때, 일단 액정상을 나타내는 온도로 유지하고, 액정상 도메인을 충분히 성장시켜서 모노도메인으로 하는 것이 바람직하다. 혹은, 본 발명의 중합성 조성물을 기판 상에 도포 후, 본 발명의 중합성 조성물의 네마틱상이 발현하는 온도 범위 내에서 온도를 일정 시간 유지하는 것과 같은 가열 처리를 실시해도 된다.
가열 온도가 너무 높으면 중합성 액정 화합물이 바람직하지 않은 중합 반응을 일으켜 열화할 우려가 있다. 또한, 너무 냉각하면, 중합성 조성물이 상분리를 일으켜, 결정의 석출, 스멕틱상과 같은 고차 액정상을 발현하여, 배향 처리가 불가능해지는 경우가 있다.
이러한 열처리를 함으로써, 단순히 도포하는 것뿐인 도공 방법에 비해서, 배향 결함이 적은 균질의 광학 이방체를 제작할 수 있다.
또한, 이렇게 해서 균질의 배향 처리를 행한 후, 액정상이 상분리를 일으키지 않는 최저 온도, 즉 과냉각 상태가 될 때까지 냉각하고, 그 온도에서 액정상을 배향시킨 상태에서 중합하면, 보다 배향 질서가 높고, 투명성이 우수한 광학 이방체를 얻을 수 있다.
(중합 공정)
건조한 중합성 조성물의 중합 처리는, 균일하게 배향한 상태에서 일반적으로 가시 자외선 등의 광조사, 혹은 가열에 의해 행해진다. 중합을 광조사로 행할 경우는, 구체적으로는 420㎚ 이하의 가시 자외광을 조사하는 것이 바람직하고, 250~370㎚의 파장의 자외광을 조사하는 것이 가장 바람직하다, 단, 420㎚ 이하의 가시 자외광에 의해 중합성 조성물이 분해 등을 일으킬 경우는, 420㎚ 이상의 가시 자외광으로 중합 처리를 행하는 편이 바람직한 경우도 있다.
(중합 방법)
본 발명의 중합성 조성물을 중합시키는 방법으로서는, 활성 에너지선을 조사하는 방법이나 열중합법 등을 들 수 있지만, 가열을 필요로 하지 않고, 실온에서 반응이 진행한다는 점에서 활성 에너지선을 조사하는 방법이 바람직하고, 그 중에서도, 조작이 간편하다는 점에서, 자외선 등의 광을 조사하는 방법이 바람직하다. 조사시의 온도는, 본 발명의 중합성 조성물이 액정상을 유지할 수 있는 온도로 하고, 중합성 조성물의 열중합의 유기를 피하기 위해서, 가능한 한 30℃ 이하로 하는 것이 바람직하다. 또, 중합성 조성물은, 통상, 승온 과정에 있어서, C(고상)-N(네마틱) 전이 온도(이하, C-N 전이 온도로 약기함)에서부터, N-I 전이 온도 범위 내에서 액정상을 나타낸다. 한편, 강온(降溫) 과정에 있어서는, 열역학적으로 비평형 상태를 취하기 때문에, C-N 전이 온도 이하에서도 응고하지 않고 액정 상태를 유지하는 경우가 있다. 이 상태를 과냉각 상태라 한다. 본 발명에 있어서는, 과냉각 상태에 있는 액정 조성물도 액정상을 유지하고 있는 상태에 포함시키는 것으로 한다. 구체적으로는 390㎚ 이하의 자외광을 조사하는 것이 바람직하고, 250~370㎚의 파장의 광을 조사하는 것이 가장 바람직하다. 단, 390㎚ 이하의 자외광에 의해 중합성 조성물이 분해 등을 일으키는 경우는, 390㎚ 이상의 자외광으로 중합 처리를 행하는 편이 바람직한 경우도 있다. 이 광은, 확산광이며, 또한 편광하여 있지 않은 광인 것이 바람직하다. 자외선 조사 강도는, 0.05kW/㎡~10kW/㎡의 범위가 바람직하다. 특히, 0.2kW/㎡~2kW/㎡의 범위가 바람직하다. 자외선 강도가 0.05kW/㎡ 미만인 경우, 중합을 완료시키는데에 많은 시간이 걸린다. 한편, 2kW/㎡를 초과하는 강도에서는, 중합성 조성물 중의 액정 분자가 광분해하는 경향이 있는 것이나, 중합열이 많이 발생해서 중합 중의 온도가 상승하고, 중합성 액정의 오더 파라미터가 변화해서, 중합 후의 필름의 리타데이션에 이상이 발생할 가능성이 있다.
마스크를 사용해서 특정 부분만을 자외선 조사로 중합시킨 후, 당해 미중합 부분의 배향 상태를, 전장, 자장 또는 온도 등을 가해서 변화시키고, 그 후, 당해 미중합 부분을 중합시키면, 상이한 배향 방향을 가진 복수의 영역을 갖는 광학 이방체를 얻을 수도 있다.
또한, 마스크를 사용해서 특정 부분만을 자외선 조사로 중합시킬 때에, 미리 미중합 상태의 중합성 조성물에 전장, 자장 또는 온도 등을 가해서 배향을 규제하고, 그 상태를 유지한 채 마스크 위에서 광을 조사해서 중합시키는 것에 의해서도, 상이한 배향 방향을 가진 복수의 영역을 갖는 광학 이방체를 얻을 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물을 중합시켜서 얻어지는 광학 이방체는, 기판으로부터 박리해서 단체(單體)로 광학 이방체로서 사용할 수도, 기판으로부터 박리하지 않고 그대로 광학 이방체로서 사용할 수도 있다. 특히, 다른 부재를 오염하기 어려우므로, 피적층 기판으로서 사용하거나, 다른 기판에 첩합해서 사용하거나 할 때에 유용하다.
(위상차 필름)
본 발명의 위상차 필름은, 상기 광학 이방체를 함유하고 있고, 액정성 화합물이 기재에 대해서 균일하게 연속적인 배향 상태를 형성해서, 기재에 대해서 면내, 면외, 면내와 면외의 양쪽, 혹은 면내에 있어서 2축성을 갖고 있으면 된다. 또한, 접착제나 접착층, 점착제나 점착층, 보호 필름이나 편광 필름 등이 적층되어 있어도 된다.
그러한 위상차 필름으로서는, 예를 들면, 기재에 대해서 봉상 액정성 화합물이 실질적으로 수평 배향한 포지티브 A 플레이트, 기재에 대해서 원반상 액정성 화합물이 수직으로 일축 배향한 네거티브 A 플레이트, 기재에 대해서 봉상 액정성 화합물이 실질적으로 수직으로 배향한 포지티브 C 플레이트, 기재에 대해서 봉상 액정성 화합물이 콜레스테릭 배향, 혹은 원반상 액정성 화합물이 수평으로 일축 배향한 네거티브 C 플레이트, 이축성 플레이트, 기재에 대해서 봉상 액정성 화합물이 하이브리드 배향한 포지티브 O 플레이트, 기재에 대해서 원반상 액정성 화합물이 하이브리드 배향한 네거티브 O 플레이트의 배향 모드를 적용할 수 있다. 액정 표시 소자에 이용한 경우는, 시야각 의존성을 개선하는 것이면, 특히 한정 없이 다양한 배향 모드를 적용할 수 있다.
예를 들면, 포지티브 A 플레이트, 네거티브 A 플레이트, 포지티브 C 플레이트, 네거티브 C 플레이트, 이축성 플레이트, 포지티브 O 플레이트, 네거티브 O 플레이트의 배향 모드를 적용할 수 있다. 그 중에서도, 포지티브 A 플레이트 및 네거티브 C 플레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 포지티브 A 플레이트 및 네거티브 C 플레이트를 적층하는 것이 보다 바람직하다.
여기에서, 포지티브 A 플레이트란, 중합성 조성물을 호모지니어스 배향시킨, 광학 이방체를 의미한다. 또한, 네거티브 C 플레이트란, 중합성 조성물을 콜레스테릭 배향시킨, 광학 이방체를 의미한다.
위상차 필름을 이용한 액정셀에서는, 편광축 직교성의 시야각 의존을 보상해서 시야각을 넓히기 위해서, 제1 위상차층으로서, 포지티브 A 플레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 여기에서, 포지티브 A 플레이트는, 필름의 면내 지상축(遲相軸) 방향의 굴절률을 nx, 필름의 면내 진상축(進相軸) 방향의 굴절률을 ny, 필름의 두께 방향의 굴절률을 nz로 했을 때에, 「nx≥ny=nz」의 관계가 된다. 포지티브 A 플레이트로서는, 파장 550㎚에 있어서의 면내 위상차 값이 30~500㎚ 범위에 있는 것이 바람직하다. 또한, 두께 방향 위상차 값은 특히 한정되지 않는다. Nz 계수는, 0.9~1.1의 범위가 바람직하다.
또한, 액정 분자 자체의 복굴절을 없애기 위해서, 제2 위상차층으로서는 음의 굴절률 이방성을 갖는, 이른바 네거티브 C 플레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 포지티브 A 플레이트 상에 네거티브 C 플레이트를 적층해도 된다.
여기에서, 네거티브 C 플레이트는, 위상차층의 면내 지상축 방향의 굴절률을 nx, 위상차층의 면내 진상축 방향의 굴절률을 ny, 위상차층의 두께 방향의 굴절률을 nz로 했을 때에, 「nx=ny＞nz」의 관계로 되는 위상차층이다. 네거티브 C 플레이트의 두께 방향 위상차 값은 20~400㎚의 범위가 바람직하다.
또, 두께 방향의 굴절률 이방성은, 하기 식(2)에 의해 정의되는 두께 방향 위상차 값 Rth로 표시된다. 두께 방향 위상차 값 Rth은, 면내 위상차 값 R0, 지상축을 경사축으로 해서 50°경사지게 해서 측정한 위상차 값 R50, 필름의 두께 d, 필름의 평균 굴절률 n0을 이용해서, 식(1)과 다음 식(4)~(7)에서 수치 계산에 의해 nx, ny, nz를 구하고, 이들을 식(2)에 대입해서 산출할 수 있다. 또한, Nz 계수는, 식(3)에서 산출할 수 있다. 이하, 본 명세서의 다른 기재에 있어서 마찬가지이다.
R0 = (nx-ny)×d (1)
Rth = [(nx+ny)/2-nz]×d (2)
Nz 계수 = (nx-nz)/(nx-ny) (3)
R50 = (nx-ny')×d/cos(φ) (4)
(nx+ny+nz)/3 = n0 (5)
여기에서,
φ = sin- 1[sin(50°)/n0] (6)
ny' = ny×nz/[ny2×sin2(φ)+nz2×cos2(φ)]1/2 (7)
시판의 위상차 측정 장치에서는, 여기에 나타낸 수치 계산을 장치 내에서 자동적으로 행하여, 면내 위상차 값 R0이나 두께 방향 위상차 값 Rth 등을 자동적으로 표시하도록 되어 있는 것이 많다. 이러한 측정 장치로서는, 예를 들면, RETS-100(오츠카카가쿠(주)제)을 들 수 있다.
(렌즈)
본 발명의 중합성 조성물을, 기재 혹은 배향 기능을 갖는 기재 상에 도포하고, 또는 렌즈 형상의 금형에 주입하고, 네마틱상이나 스멕틱상을 유지한 상태에서 균일하게 배향시키고, 중합시킴으로써, 본 발명의 렌즈에 사용할 수 있다. 렌즈의 형상은 단순 셀형, 프리즘형, 렌티큘러형 등을 들 수 있다.
(액정 표시 소자)
본 발명의 중합성 조성물을, 기재 혹은 배향 기능을 갖는 기재 상에 도포하고, 네마틱상이나 스멕틱상을 유지한 상태에서 균일하게 배향시키고, 중합시킴으로써, 본 발명의 액정 표시 소자에 사용할 수 있다. 사용 형태로서는, 광학 보상 필름, 액정 입체 표시 소자의 패턴화된 위상차 필름, 컬러 필터의 위상차 보정층, 오버코트층, 액정 매체용 배향막 등을 들 수 있다. 액정 표시 소자는, 적어도 2개의 기재에 액정 매체층, TFT 구동 회로, 블랙 매트릭스층, 컬러 필터층, 스페이서, 액정 매체층에 상응하는 전극 회로가 최저한 협지(挾持)되어 있고, 통상, 광학 보상층, 편광판층, 터치 패널층은 2개의 기재의 외측에 배치되지만, 경우에 따라서는, 광학 보상층, 오버코트층, 편광판층, 터치 패널용 전극층이 2개의 기재 내에 협지되어도 된다.
액정 표시 소자의 배향 모드로서는, TN 모드, VA 모드, IPS 모드, FFS 모드, OCB 모드 등이 있지만, 광학 보상 필름이나 광학 보상층에서 이용될 경우에는, 배향 모드에 상응하는 위상차를 갖는 필름을 작성할 수 있다. 패턴화된 위상차 필름에서 사용될 경우에는, 중합성 조성물 중의 액정성 화합물이 기재에 대해서 실질적으로 수평 배향이면 된다. 오버코트층에서 이용될 경우에는, 1분자 중의 중합성기가 보다 많은 액정성 화합물을 열중합시키면 된다. 액정 매체용 배향막에서 이용될 경우에는, 배향 재료와 중합성기를 갖는 액정성 화합물을 혼합한 중합성 조성물을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 액정 매체 중에도 혼합하는 것이 가능하며, 액정 매체와 액정성 화합물과의 비율에 따라, 응답 속도나 콘트라스트 등, 각종 특성을 향상시키는 효과가 있다.
(유기 발광 표시 소자)
본 발명의 중합성 조성물을, 기재 혹은 배향 기능을 갖는 기재에 도포하고, 네마틱상이나 스멕틱상을 유지한 상태에서 균일하게 배향시키고, 중합시킴으로써, 본 발명의 유기 발광 표시 소자에 사용할 수 있다. 사용 형태로서는, 상기 중합에 의해 얻어진 위상차 필름과 편광판과 조합함으로써, 유기 발광 표시 소자의 반사 방지 필름으로서 사용할 수 있다. 반사 방지 필름으로서 사용할 경우, 편광판의 편광축과 위상차 필름의 지상축이 이루는 각도는 45° 정도가 바람직하다. 편광판과 상기 위상차 필름은, 접착제나 점착제 등으로 첩합해도 된다. 또한, 편광판 상에 러빙 처리나 광배향막을 적층한 배향 처리 등에 의해, 직접 적층해도 된다. 이때 사용하는 편광판은, 색소를 도프한 필름 형태의 것이라도, 와이어 그리드와 같은 금속상의 것이라도 된다.
(조명 소자)
본 발명의 중합성 조성물을, 네마틱상이나 스멕틱상, 혹은 배향 기능을 갖는 기재 상에 배향시킨 상태에서 중합시킨 중합체는 조명 소자, 특히 발광 다이오드 소자의 방열 재료로서 사용할 수도 있다. 방열 재료의 형태로서는, 프리프레그, 중합체 시트, 접착제, 금속박 부착 시트 등이 바람직하다.
(광학 부품)
본 발명의 중합성 조성물을, 네마틱상이나 스멕틱상을 유지한 상태, 혹은 배향 재료와 조합한 상태에서 중합시킴으로써, 본 발명의 광학 부품으로서 사용할 수 있다.
(착색제)
본 발명의 중합성 조성물은, 염료나 유기 안료 등의 착색제를 첨가해서, 착색제로서 사용할 수도 있다.
(편광 필름)
본 발명의 중합성 조성물은, 2색성 색소, 리오트로픽 액정이나 크로모닉 액정 등과 조합하거나, 혹은 첨가해서, 편광 필름으로서 사용할 수도 있다.
[실시예]
이하에 본 발명을 실시예 및 비교예에 의해 설명하지만, 본래 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또, 특히 언급하지 않는 한, 「부」 및 「%」는 질량 기준이다.
(실시예 1)
식(1-a-5)로 표시되는 화합물 55부, 식(1-a-6)으로 표시되는 화합물 25부, 식(2-a-1)로 표시되고, n=6인 화합물 20부 및 p-메톡시페놀(MEHQ) 0.1부를 시클로펜탄온(CPN) 400부에 첨가한 후, 60℃로 가온, 교반해서 용해시키고, 용해가 확인된 후, 실온으로 되돌리고, 이르가큐어 907(Irg907: BASF 재팬 가부시키가이샤제) 3부, 및 식(H-1)로 표시되는 계면활성제 0.15부를 첨가하고 추가로 교반을 행하여, 용액을 얻었다. 용액은 투명하고 균일했다. 얻어진 용액을 0.20㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, 실시예 1의 중합성 조성물(1)을 얻었다.
(실시예 2~34, 비교예 1~3)
하기 표에 나타내는 각 화합물을 각각 하기 표에 나타내는 비율로 변경한 것 이외에는 실시예 1의 중합성 조성물(1)의 조정과 동일 조건으로, 실시예 2~34의 중합성 조성물(2)~(34) 및 비교예 1~3의 중합성 조성물(C1)~(C3)을 얻었다.
(실시예 35)
식(2-a-31)로 표시되고, n=6인 화합물 100부, 및 p-메톡시페놀(MEHQ) 0.1부를 클로로포름(CLF) 400부에 첨가한 후, 50℃로 가온, 교반해서 용해시키고, 용해가 확인된 후, 실온으로 되돌리고, 이르가큐어 907(Irg907: BASF 재팬 가부시키가이샤제) 3부, 및 식(H-1)로 표시되는 계면활성제 0.15부를 첨가하고 추가로 교반을 행하여, 용액을 얻었다. 용액은 투명하고 균일했다. 얻어진 용액을 0.20㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, 실시예 35의 중합성 조성물(35)를 얻었다.
(실시예 36)
식(2-a-40)으로 표시되고, n=6인 화합물 100부, 및 p-메톡시페놀(MEHQ) 0.1부를 1,1,2-트리클로로에탄(TCE) 400부에 첨가한 후, 50℃로 가온, 교반해서 용해시키고, 용해가 확인된 후, 실온으로 되돌리고, 이르가큐어 907(Irg907: BASF 재팬 가부시키가이샤제) 3부, 및 식(H-1)로 표시되는 계면활성제 0.15부를 첨가하고 추가로 교반을 행하여, 용액을 얻었다. 용액은 투명하고 균일했다. 얻어진 용액을 0.20㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, 실시예 36의 중합성 조성물(36)을 얻었다.
하기 표에, 본 발명의 실시예 1~36의 중합성 조성물(1)~(36), 비교예 1~3의 중합성 조성물(C1)~(C3)의 구체적인 조성을 나타낸다.
[표 1]
Figure pct00164
[표 2]
Figure pct00165
[표 3]
Figure pct00166
[표 4]
Figure pct00167
[표 5]
Figure pct00168
[표 6]
Figure pct00169
Figure pct00170
Figure pct00172
Figure pct00173
Figure pct00174
Figure pct00175
화합물(H-1): p1+p2+p3+p4= 18
화합물(H-2): p1+p2+p3+p4= 12
상기 각 식으로 표시되는 화합물의 Re(450㎚)/Re(550㎚)의 값을 하기 표에 나타낸다.
[표 7]
Figure pct00176
(용해성 평가)
실시예 1~36, 비교예 1~3의 용해성은 이하와 같이 해서 평가했다.
○: 조정 후, 투명하고 균일한 상태를 목시(目視)로 확인할 수 있다.
△: 가온, 교반했을 때에는 투명하고 균일한 상태를 목시로 확인할 수 있지만, 실온으로 되돌렸을 때에 화합물의 석출이 확인된다.
×: 가온, 교반해도 화합물을 균일하게 용해할 수 없다.
(보존 안정성 평가)
실시예 1~36, 비교예 1~3을 실온에서 일주일 방치한 후의 상태를 목시로 관찰했다. 또, 보존 안정성은 이하와 같이 해서 평가했다.
○: 실온에서 3일 방치한 후에도 투명하고 균일한 상태가 유지된다.
△: 실온에서 1일 방치 후에도 투명하고 균일한 상태가 유지된다.
×: 실온에서 1시간 방치 후에 화합물의 석출이 확인된다.
얻어진 결과를 하기 표에 나타낸다.
[표 8]
Figure pct00177
(실시예 37)
식(1-a-5)로 표시되는 화합물 40부, 식(1-a-6)으로 표시되는 화합물 40부, 식(2-a-1)로 표시되고, n=6인 화합물 10부, 식(2-a-42)로 표시되고, n=6인 화합물 10부, 및 p-메톡시페놀(MEHQ) 0.1부를 메틸에틸케톤(MEK) 400부에 첨가한 후, 60℃로 가온, 교반해서 용해시키고, 용해가 확인된 후, 실온으로 되돌리고, 이르가큐어 907(BASF 재팬 가부시키가이샤제) 3부, 및 식(H-1)로 표시되는 계면활성제 0.15부를 첨가하고 추가로 교반을 행하여, 용액을 얻었다. 용액은 투명하고 균일했다. 얻어진 용액을 0.20㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, 실시예 37의 중합성 조성물(37)을 얻었다.
본 발명의 중합성 조성물(37)을 실온에서 3일간 방치한 후의 상태를 목시로 관찰했다. 본 발명의 중합성 조성물은, 일주일 후에도 투명하고 균일한 상태를 유지하고 있었다.
(실시예 38~48, 비교예 4~5)
하기 표에 나타내는 각 화합물을 각각 하기 표에 나타내는 비율로 변경한 것 이외에는 중합성 조성물(37)의 조정과 동일 조건으로, 실시예 38~48의 중합성 조성물(38)~(48) 및 비교예 4~5의 중합성 조성물(C4)~(C5)를 얻었다.
(실시예 49~50)
식(1-a-6)으로 표시되는 화합물 50부, 식(1-a-2)로 표시되는 화합물 25부, 식(2-a-1)로 표시되고, n=6인 화합물 25부, 및 p-메톡시페놀(MEHQ) 0.1부를 메틸에틸케톤(MEK) 200부, 및 메틸이소부틸케톤(MIBK) 200부에 첨가한 후, 60℃로 가온, 교반해서 용해시키고, 용해가 확인된 후, 실온으로 되돌리고, 이르가큐어 907(BASF 재팬 가부시키가이샤제) 3부, 및 식(H-1)로 표시되는 계면활성제 0.15부를 첨가하고 추가로 교반을 행하여, 용액을 얻었다. 용액은 투명하고 균일했다. 얻어진 용액을 0.20㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, 실시예 49의 중합성 조성물(49)를 얻었다.
하기 표에 나타내는 각 화합물을 각각 하기 표에 나타내는 비율로 변경한 것 이외에는 실시예 49와 마찬가지로 해서, 실시예 50의 중합성 조성물(50)을 얻었다.
본 발명의 중합성 조성물(49) 및 (50)을 실온에서 3일간 방치한 후의 상태를 목시로 관찰했다. 본 발명의 중합성 조성물은, 일주일 후에도 투명하고 균일한 상태를 유지하고 있었다.
(실시예 51)
식(1-a-6)으로 표시되는 화합물 40부, 식(1-a-2)로 표시되는 화합물 20부, 식(2-a-1)로 표시되고, n=6인 화합물 20부, 식(2-a-42)로 표시되고, n=6인 화합물 10부, 식(2-b-1)로 표시되고, m=n=3으로 표시되는 화합물 10부, 및 p-메톡시페놀 0.1부를 메틸에틸케톤(MEK) 300부, 및 메틸이소부틸케톤(MIBK) 100부에 첨가한 후, 60℃로 가온, 교반해서 용해시키고, 용해가 확인된 후, 실온으로 되돌리고, 이르가큐어 907(BASF 재팬 가부시키가이샤제) 3부, 및 식(H-1)로 표시되는 계면활성제 0.15부를 첨가하고 추가로 교반을 행하여, 용액을 얻었다. 용액은 투명하고 균일했다. 얻어진 용액을 0.20㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, 실시예 51의 중합성 조성물(51)을 얻었다.
(실시예 52)
식(1-a-5)로 표시되는 화합물 10부, 식(1-a-6)으로 표시되는 화합물 50부, 식(1-a-83)으로 표시되는 화합물 10부, 식(2-a-1)로 표시되고, n=6인 화합물 20부, 식(2-b-1)로 표시되고, m=n=4로 표시되는 화합물 10부, 및 p-메톡시페놀 0.1부를 메틸에틸케톤(MEK) 200부, 및 메틸이소부틸케톤(MIBK) 200부에 첨가한 후, 60℃로 가온, 교반해서 용해시키고, 용해가 확인된 후, 실온으로 되돌리고, 이르가큐어 907(BASF 재팬 가부시키가이샤제) 3부, 및 식(H-1)로 표시되는 계면활성제 0.15부를 첨가하고 추가로 교반을 행하여, 용액을 얻었다. 용액은 투명하고 균일했다. 얻어진 용액을 0.20㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, 실시예 52의 중합성 조성물(52)를 얻었다.
(비교예 6)
하기 표에 나타내는 각 화합물을 각각 하기 표에 나타내는 비율로 변경한 것 이외에는 중합성 조성물(51)의 조정과 동일 조건으로, 비교예 6의 중합성 조성물(C6)을 얻었다.
본 발명의 중합성 조성물(51) 및 (52)를 실온에서 3일간 방치한 후의 상태를 목시로 관찰했다. 본 발명의 중합성 조성물은, 일주일 후에도 투명하고 균일한 상태를 유지하고 있었다.
하기 표에, 본 발명의 실시예 37~52의 중합성 조성물(37)~(52), 비교예 4~6의 중합성 조성물(C4)~(C6)의 구체적인 조성을 나타낸다.
[표 9]
Figure pct00178
[표 10]
Figure pct00179
[표 11]
Figure pct00180
(용해성 평가, 보존 안정성 평가)
실시예 37~52, 비교예 4~6의 용해성 평가, 보존 안정성 평가를 실시예 1과 마찬가지로 행했다. 얻어진 결과를 이하의 표에 나타낸다.
[표 12]
Figure pct00181
(실시예 53)
배향막용 폴리이미드 용액을 두께 0.7㎜의 유리 기재에 스핀 코트법을 이용해서 도포하고, 100℃에서 10분 건조한 후, 200℃에서 60분 소성함으로써 도막을 얻었다. 얻어진 도막을 러빙 처리했다. 러빙 처리는, 시판의 러빙 장치를 이용해서 행했다.
러빙한 기재에 본 발명의 중합성 조성물(1)을 스핀 코트법으로 도포하고, 100℃에서 2분 건조했다. 얻어진 도포막을 실온에서 냉각한 후, 고압 수은 램프를 이용해서, 30mW/㎠의 강도로 30초간 자외선을 조사해서 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체를 이하의 기준에 따라 평가했더니, 목시로는 결함이 전혀 없고, 편광 현미경 관찰에서도 결함이 전혀 없었다.
(배향성 평가)
◎: 목시로 결함이 전혀 없고, 편광 현미경 관찰에서도 결함이 전혀 없다.
○: 목시로는 결함이 없지만, 편광 현미경 관찰에서 일부에 무배향 부분이 존재하여 있다.
△: 목시로는 결함이 없지만, 편광 현미경 관찰에서 전체적으로 무배향 부분이 존재하여 있다.
×: 목시로 일부 결함이 발생되어 있고, 편광 현미경 관찰에서도 전체적으로 무배향 부분이 존재하여 있다.
(위상차비)
상기에서 작성한 광학 이방체의 리타데이션(위상차)을 위상차 필름·광학 재료 검사 장치 RETS-100(오츠카덴시 가부시키가이샤제)으로 측정했더니, 파장 550㎚에 있어서의 면내 위상차(Re(550))는 130㎚였다. 또한, 파장 450㎚에 있어서의 면내 위상차(Re(450))와 Re(550)의 비 Re(450)/Re(550)은 0.846이며, 균일성 양호한 위상차 필름이 얻어졌다.
(레벨링성 평가)
상기에서 작성한 광학 이방체의 시싱(cissing) 상태를 목시로 관찰했다.
◎: 도막 표면에 시싱 결함이 전혀 관찰되지 않는다.
○: 도막 표면에 시싱 결함이 아주 조금 관찰된다.
△: 도막 표면에 시싱 결함이 조금 관찰된다.
×: 도막 표면에 시싱 결함이 다수 관찰된다.
(뒤묻음 평가)
상기에서 작성한 광학 이방체의 중합성 조성물면(A)에 TAC 필름(B)를 중첩시키고, 하중 40g/㎠, 80℃에서 30분간 유지한 후, 중첩시킨 채 실온까지 냉각시켰다. 그 후, 필름(B)를 박리하고, 필름(B)에 중합성 조성물 중의 계면활성제가 뒤묻음되어 있는지의 여부를 목시로 관찰했다. 또, 계면활성제가 필름(B)에 이행한 경우, 뒤묻음된 부분이 백탁된 것처럼 관찰된다.
◎: 전혀 관찰되지 않는다.
○: 아주 조금 관찰된다.
△: 조금 관찰된다.
×: 전체적으로 관찰된다.
(실시예 54~88, 비교예 7~9)
이용하는 중합성 조성물을 각각, 본 발명의 중합성 조성물(2)~(36), 비교용 중합성 조성물(C1)~(C3)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 53과 동일 조건으로, 실시예 54~88의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체, 및 비교예 7~9의 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다. 얻어진 결과를 하기 표에 나타낸다.
[표 13]
Figure pct00182
(실시예 89)
두께 50㎛의 일축 연신 PET 필름을 시판의 러빙 장치를 이용해서 러빙 처리한 후, 본 발명의 중합성 조성물(37)을 바코트법으로 도포하고, 80℃에서 2분 건조했다. 얻어진 도포막을 실온까지 냉각한 후, UV 컨베이어 장치(GS 유아사 가부시키가이샤제)를 이용해서 컨베이어 속도 6m/min으로 자외선을 조사해서, 실시예 89의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다.
(실시예 90~100, 비교예 10~11)
이용하는 중합성 조성물을 각각, 본 발명의 중합성 조성물(37)~(48), 및 비교용 중합성 조성물(C4)~(C5)로 변경한 것 이외에는, 실시예 89와 동일 조건으로, 실시예 90~100, 및 비교예 10~11의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다.
(실시예 101)
두께 40㎛의 무연신 시클로올레핀 폴리머 필름 「제오노아」(니혼제온 가부시키가이샤제)를 시판의 러빙 장치를 이용해서 러빙 처리한 후, 본 발명의 중합성 조성물(49)를 바코트법으로 도포하고, 80℃에서 2분 건조했다. 얻어진 도포막을 실온까지 냉각한 후, UV 컨베이어 장치(GS 유아사 가부시키가이샤제)를 이용해서 컨베이어 속도 6m/min으로 자외선을 조사해서, 실시예 101의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다. 배향성 평가 결과, 목시로는 결함이 전혀 없고, 편광 현미경 관찰에서도 결함이 전혀 없었다. 또한, 얻어진 광학 이방체의 (Re(550))은 121㎚, 파장 450㎚에 있어서의 면내 위상차(Re(450))와 Re(550)의 비 Re(450)/Re(550)은 0.814이고, 균일성 양호한 위상차 필름이 얻어졌다.
(실시예 102)
이용하는 중합성 조성물을 본 발명의 중합성 조성물(50)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 101과 동일 조건으로, 실시예 102의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다. 얻어진 결과를 하기 표에 나타낸다.
[표 14]
Figure pct00183
(실시예 103)
하기 식(12-4)로 표시되는 광배향 재료 5부를 시클로펜탄온 95부에 용해시켜, 용액을 얻었다. 얻어진 용액을 0.45㎛의 멤브레인 필터로 여과해서, 광배향 용액(1)을 얻었다. 다음으로 두께 0.7㎜의 유리 기재에 스핀 코트법을 이용해서 도포하고, 80℃에서 2분 건조한 후, 바로 313㎚의 직선 편광을 10mW/㎠의 강도로 20초간 조사해서 광배향막(1)을 얻었다. 얻어진 광배향막 상에 중합성 조성물(51)을 스핀 코트법으로 도포하고, 100℃에서 2분 건조했다. 얻어진 도포막을 실온까지 냉각한 후, 고압 수은 램프를 이용해서, 30mW/㎠의 강도로 30초간 자외선을 조사해서 실시예 103의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다. 배향성 평가 결과, 목시로는 결함이 전혀 없고, 편광 현미경 관찰에서도 결함이 전혀 없었다. 또한, 얻어진 광학 이방체의 리타데이션을 RETS-100(오츠카덴시 가부시키가이샤제)으로 측정했더니, 파장 550㎚에 있어서의 면내 위상차(Re(550))는 125㎚이고, 균일성 양호한 위상차 필름이 얻어졌다.
(실시예 104)
하기 식(12-9)로 표시되는 광배향 재료 5부를 N-메틸-2-피롤리돈 95부에 용해시켜, 얻어진 용액을 0.45㎛의 멤브레인 필터로 여과해서, 광배향 용액(2)를 얻었다. 다음으로 두께 0.7㎜의 유리 기재에 스핀 코트법을 이용해서 도포하고, 100℃에서 5분 건조한 후, 추가로 130℃에서 10분 건조한 후, 바로 313㎚의 직선 편광을 10mW/㎠의 강도로 1분간 조사해서 광배향막(2)를 얻었다. 얻어진 광배향막 상에 중합성 조성물(51)을 스핀 코트법으로 도포하고, 100℃에서 2분 건조했다. 얻어진 도포막을 실온까지 냉각한 후, 고압 수은 램프를 이용해서, 30mW/㎠의 강도로 30초간 자외선을 조사해서 실시예 104의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다. 배향성 평가 결과, 목시로는 결함이 전혀 없고, 편광 현미경 관찰에서도 결함이 전혀 없었다. 또한, 얻어진 광학 이방체의 리타데이션을 RETS-100(오츠카덴시 가부시키가이샤제)으로 측정했더니, 파장 550㎚에 있어서의 면내 위상차(Re(550))는 120㎚이고, 균일성 양호한 위상차 필름이 얻어졌다.
Figure pct00184
(실시예 105)
상기 식(12-8)로 표시되는 광배향 재료 1부를 (2-에톡시에톡시)에탄올 50부, 2-부톡시에탄올 49부에 용해시켜, 얻어진 용액을 0.45㎛의 멤브레인 필터로 여과해서, 광배향 용액(3)을 얻었다. 다음으로 두께 80㎛의 폴리메타크릴산메틸(PMMA) 필름에 바코트법을 이용해서 도포하고, 80℃에서 2분 건조한 후, 365㎚의 직선 편광을 10mW/㎠의 강도로 50초간 조사해서 광배향막(3)을 얻었다. 얻어진 광배향막 상에 중합성 조성물(51)을 스핀 코트법으로 도포하고, 100℃에서 2분 건조했다. 얻어진 도포막을 실온까지 냉각한 후, 고압 수은 램프를 이용해서, 30mW/㎠의 강도로 30초간 자외선을 조사해서 실시예 105의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다. 배향성 평가 결과, 목시로는 결함이 전혀 없고, 편광 현미경 관찰에서도 결함이 전혀 없었다. 또한, 얻어진 광학 이방체의 리타데이션을 RETS-100(오츠카덴시 가부시키가이샤제)으로 측정했더니, 파장 550㎚에 있어서의 면내 위상차(Re(550))는 137㎚이고, 균일성 양호한 위상차 필름이 얻어졌다.
(비교예 12~14)
비교용 중합성 조성물(C6)을 사용한 것 이외에는, 실시예 103과 동일 조건으로 비교예 12의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻고, 실시예 104와 동일 조건으로 비교예 13의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻고, 실시예 105와 동일 조건으로 비교예 14의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다. 배향성 평가 결과, 목시로는 결함이 전혀 없고, 편광 현미경 관찰에서도 결함이 전혀 없고, 균일성 양호한 위상차 필름이 얻어졌다. 얻어진 비교용 광학 이방체(12)~(14)의 레벨링성 평가를 목시로 관찰했더니, 도막 표면에 시싱 결함이 조금 관찰되었다. 얻어진 비교용 광학 이방체(12)~(14)에 있어서, 중합성 조성물 중의 계면활성제가 뒤묻음되어 있는지의 여부를 목시로 관찰했더니, 조금 관찰되었다.
(실시예 106)
두께 180㎛의 PET 필름을 시판의 러빙 장치를 이용해서 러빙 처리한 후, 본 발명의 중합성 조성물(52)를 바코트법으로 도포하고, 80℃에서 2분 건조했다. 얻어진 도포막을 실온까지 냉각한 후, 램프 출력 2kW의 UV 컨베이어 장치(GS 유아사 가부시키가이샤제)를 이용해서 컨베이어 속도 5m/min으로 자외선을 조사해서, 실시예 106의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다.
얻어진 광학 이방체의 위상차 Re(550)은 137㎚, 파장 450㎚에 있어서의 면내 위상차(Re(450))와 Re(550)의 비 Re(450)/Re(550)은 0.872이고, 균일성 양호한 위상차 필름이 얻어졌다. 얻어진 광학 이방체(106)의 시싱 상태를 목시로 관찰했더니, 도막 표면에 시싱 결함은 전혀 관찰되지 않았다. 얻어진 광학 이방체(106)에 있어서, 중합성 조성물 중의 계면활성제가 뒤묻음되어 있는지의 여부를 목시로 관찰했더니, 전혀 관찰되지 않았다.
다음으로 평균 중합도 약 2400, 비누화도 99.9몰% 이상이고 두께 75㎛의 폴리비닐알코올 필름을, 건식으로 약 5.5배로 일축 연신하고, 더욱 긴장 상태를 유지한 채, 60℃의 순수에 60초간 침지한 후, 요오드/요오드화 칼륨/물의 중량비가 0.05/5/100인 수용액에 28℃에서 20초간 침지했다. 그 후, 요오드화 칼륨/붕산/물의 중량비가 8.5/8.5/100인 수용액에 72℃에서 300초간 침지했다. 계속해서 26℃의 순수로 20초간 세정한 후, 65℃에서 건조해서, 폴리비닐알코올 수지에 요오드가 흡착 배향된 편광막을 얻었다.
이렇게 해서 얻어진 편광자의 양면에, 카르복시기 변성 폴리비닐알코올〔구라레 가부시키가이샤제 구라레포바르 KL318〕3부와, 수용성 폴리아미드에폭시 수지〔스미카켐텍스 가부시키가이샤제 스미레즈레진 650(고형분 농도 30%의 수용액)〕1.5부로 제작한 폴리비닐알코올계 접착제를 통해, 비누화 처리를 실시한 트리아세틸셀룰로오스 필름〔코니카미놀타옵토 가부시키가이샤제 KC8UX2MW〕으로 양면을 보호해서 편광 필름을 제작했다.
얻어진 편광 필름의 편광축과 위상차 필름의 지상축과의 각도가 45°가 되도록 접착제를 통해 접합해서, 본 발명의 반사 방지 필름을 얻었다. 추가로 얻어진 반사 방지 필름과 유기 발광 소자의 대체로서 사용한 알루미늄판을 접착제를 통해 첩합하여, 알루미늄판으로부터 오는 반사 시인성을 정면, 및 경사 45°에서 목시로 확인했더니, 알루미늄판 유래의 반사는 관찰되지 않았다.
[표 15]
Figure pct00185
(실시예 107~142)
하기 표에 나타내는 각 화합물을 각각 하기 표에 나타내는 비율로 변경한 것 이외에는 실시예 1의 중합성 조성물(1)의 조정과 동일 조건으로, 실시예 107~142의 중합성 조성물(53)~(88)을 얻었다. 하기 표에, 본 발명의 중합성 조성물(53)~(88)의 구체적인 조성을 나타낸다.
[표 16]
Figure pct00186
[표 17]
Figure pct00187
[표 18]
Figure pct00188
[표 19]
Figure pct00189
[표 20]
Figure pct00190
[표 21]
Figure pct00191
Figure pct00192
Figure pct00193
Figure pct00194
Figure pct00195
Figure pct00196
상기 각 식으로 표시되는 화합물의 Re(450㎚)/Re(550㎚)의 값을 하기 표에 나타낸다.
[표 22]
Figure pct00197
(용해성 평가)
실시예 107~142의 용해성은 이하와 같이 해서 평가했다.
○: 조정 후, 투명하고 균일한 상태를 목시로 확인할 수 있다.
△: 가온, 교반했을 때에는 투명하고 균일한 상태를 목시로 확인할 수 있지만, 실온으로 되돌렸을 때에 화합물의 석출이 확인된다.
×: 가온, 교반해도 화합물을 균일 용해할 수 없다.
(보존 안정성 평가)
실시예 107~142를 실온에서 일주일 방치한 후의 상태를 목시로 관찰했다. 또, 보존 안정성은 이하와 같이 해서 평가했다.
○: 실온에서 3일 방치 후에도 투명하고 균일한 상태가 유지된다.
△: 실온에서 1일 방치 후에도 투명하고 균일한 상태가 유지된다.
×: 실온에서 1시간 방치 후에 화합물의 석출이 확인된다.
얻어진 결과를 하기 표에 나타낸다.
[표 23]
Figure pct00198
(실시예 143)
두께 50㎛의 일축 연신 PET 필름을 시판의 러빙 장치를 이용해서 러빙 처리한 후, 본 발명의 중합성 조성물(53)을 바코트법으로 도포하고, 90℃에서 2분 건조했다. 얻어진 도포막을 실온까지 냉각한 후, UV 컨베이어 장치(GS 유아사 가부시키가이샤제)를 이용해서 컨베이어 속도 6m/min으로 자외선을 조사해서, 실시예 143의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다.
(실시예 144~170)
이용하는 중합성 조성물을 각각, 본 발명의 중합성 조성물(54)~(80)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 143과 동일 조건으로, 실시예 144~170의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음 평가를, 실시예 53과 마찬가지로 행했다. 얻어진 결과를 하기 표에 나타낸다.
[표 24]
Figure pct00199
(실시예 171~175)
COP 필름 기재 상에 실란 커플링계 수직 배향막을 적층한 필름에, 본 발명의 중합성 조성물(81)~(85)를 바코트법으로 도포하고, 90℃에서 2분 건조했다. 얻어진 도포막을 실온까지 냉각한 후, UV 컨베이어 장치(GS 유아사 가부시키가이샤제)를 이용해서 컨베이어 속도 6m/min으로 자외선을 조사해서, 실시예 171~175의 포지티브 C 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음성 평가를, 실시예 89와 마찬가지로 행했다. 얻어진 결과를 하기 표에 나타낸다.
[표 25]
Figure pct00200
(실시예 176~178)
두께 50㎛의 일축 연신 PET 필름을 시판의 러빙 장치를 이용해서 러빙 처리한 후, 본 발명의 중합성 조성물(86)~(88)을 바코트법으로 도포하고, 90℃에서 2분 건조했다. 얻어진 도포막을 실온까지 냉각한 후, UV 컨베이어 장치(GS 유아사 가부시키가이샤제)를 이용해서 컨베이어 속도 6m/min으로 자외선을 조사해서, 실시예 176~178의 포지티브 O 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성 평가, 위상차비, 레벨링성 평가 및 뒤묻음성 평가를, 실시예 89와 마찬가지로 행했다. 얻어진 결과를 하기 표에 나타낸다.
[표 26]
Figure pct00201
(실시예179)
식(1-a-5)로 표시되는 화합물 20부, 식(1-a-6)으로 표시되는 화합물 50부, 식(2-a-1)로 표시되고, n=6인 화합물 10부, 식(2-a-1)로 표시되고, n=3인 화합물 10부, 식(2-b-1)로 표시되고, m=n=3인 화합물 10부, 식(d-7)로 표시되는 화합물 6부를 시클로펜탄온 400부에 첨가한 후, 60℃로 가온, 교반해서 분산 용해시키고, 분산 용해가 확인된 후, 실온으로 되돌리고, 이르가큐어 907(Irg907; BASF 재팬 가부시키가이샤제) 3부, 이르가큐어 OXE-01(Irg. OXE-01; BASF 재팬 가부시키가이샤제) 3부, 식(H-1)로 표시되는 화합물 0.20부, p-메톡시페놀(MEHQ) 0.1부, 이르가녹스 1076(BASF 재팬 가부시키가이샤제) 0.1부, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토 프로피오네이트) TMMP(SC 유키카가쿠 가부시키가이샤제) 2부를 첨가하고, 추가로 교반을 행해서, 용액을 얻었다. 용액은 균일했다. 얻어진 용액을 0.5㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, 본 발명의 중합성 조성물(89)를 얻었다. 실시예 179의 용해성을 실시예 1과 마찬가지로 평가했더니, 투명하고 균일한 상태였다. 또한 보존 안정성을 실시예 1과 마찬가지로 평가했더니, 실온에서 3일 방치 후에도 투명하고 균일한 상태가 유지되어 있었다.
(실시예 180~182)
하기 표에 나타내는 각 화합물을 각각 하기 표에 나타내는 비율로 변경한 것 이외에는 실시예 179의 중합성 조성물(89)의 조정과 동일 조건으로, 실시예 180~182의 중합성 조성물(90)~(92)를 얻었다. 하기 표에, 본 발명의 중합성 조성물(89)~(92)의 구체적인 조성을 나타낸다.
[표 27]
Figure pct00202
Figure pct00203
이르가녹스 1076(I-1076)
트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토 프로피오네이트)(TMMP)
(용해성 평가)
실시예 179~182의 용해성은 이하와 같이 해서 평가했다.
○: 조정 후, 투명하고 균일한 상태를 목시로 확인할 수 있다.
△: 가온, 교반했을 때에는 투명하고 균일한 상태를 목시로 확인할 수 있지만, 실온으로 되돌렸을 때에 화합물의 석출이 확인된다.
×: 가온, 교반해도 화합물을 균일 용해할 수 없다.
(보존 안정성 평가)
실시예 179~182를 실온에서 일주일 방치한 후의 상태를 목시로 관찰했다. 또, 보존 안정성은 이하와 같이 해서 평가했다.
○: 실온에서 3일 방치 후에도 투명하고 균일한 상태가 유지된다.
△: 실온에서 1일 방치 후에도 투명하고 균일한 상태가 유지된다.
×: 실온에서 1시간 방치 후에 화합물의 석출이 확인된다.
얻어진 결과를 하기 표에 나타낸다.
[표 28]
Figure pct00204
(실시예 183)
배향막용 폴리이미드 용액을 두께 0.7㎜의 유리 기재에 스핀 코트법을 이용해서 도포하고, 100℃에서 10분 건조한 후, 200℃에서 60분 소성함으로써 도막을 얻었다. 얻어진 도막을 러빙 처리했다. 러빙 처리는, 시판의 러빙 장치를 이용해서 행했다.
러빙한 기재에 본 발명의 중합성 조성물(89)을 스핀 코트법으로 도포하고, 90℃에서 2분 건조했다. 얻어진 도포막을 실온까지 2분에 걸쳐 냉각한 후, 고압 수은 램프를 이용해서, 30mW/㎠의 강도로 30초간 자외선을 조사해서 실시예 183의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 편광도, 투과율, 및 콘트라스트를 RETS-100(오츠카덴시 가부시키가이샤제)으로 측정했더니, 편광도는 99.0%, 투과율은 44.5%, 콘트라스트는 93이며, 편광 필름으로서 기능함을 알 수 있었다.
(실시예 184)
본 발명의 중합성 조성물(90)을 두께 0.7㎜의 유리 기재에 스핀 코트법을 이용해서 도포하고, 70℃에서 2분 건조한 후, 다시 100℃에서 2분 건조하고, 313㎚의 직선 편광을 10mW/㎠의 강도로 30초간 조사했다. 그 후, 도포막을 실온까지 되돌리고, 고압 수은 램프를 이용해서, 30mW/㎠의 강도로 30초간 자외선을 조사해서 실시예 184의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성을 평가했더니, 목시로는 결함이 전혀 없고, 편광 현미경 관찰에서도 결함이 전혀 없었다. 또한, 얻어진 광학 이방체의 리타데이션을 RETS-100(오츠카덴시 가부시키가이샤제)으로 측정했더니, 파장 550㎚에 있어서의 면내 위상차(Re(550))는 137㎚이고, 균일성 양호한 위상차 필름이 얻어졌다.
(실시예 185)
이용하는 중합성 조성물을 본 발명의 중합성 조성물(91)로 변경한 것 이외에는, 실시예 184와 동일 조건으로, 실시예 185의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성을 평가했더니, 목시로는 결함이 전혀 없고, 편광 현미경 관찰에서도 결함이 전혀 없었다. 또한, 얻어진 광학 이방체의 리타데이션을 RETS-100(오츠카덴시 가부시키가이샤제)으로 측정했더니, 파장 550㎚에 있어서의 면내 위상차(Re(550))는 130㎚이고, 균일성 양호한 위상차 필름이 얻어졌다.
(실시예 186)
이용하는 중합성 조성물을 본 발명의 중합성 조성물(92)로 변경한 것 이외에는, 실시예 184와 동일 조건으로, 실시예 186의 포지티브 A 플레이트인 광학 이방체를 얻었다. 얻어진 광학 이방체의 배향성을 평가했더니, 목시로는 결함이 젼혀 없고, 편광 현미경 관찰에서도 결함이 전혀 없었다. 또한, 얻어진 광학 이방체의 리타데이션을 RETS-100(오츠카덴시 가부시키가이샤제)으로 측정했더니, 파장 550㎚에 있어서의 면내 위상차(Re(550))는 108㎚이고, 균일성 양호한 위상차 필름이 얻어졌다.
식(H-1)~식(H-3)으로 표시되는 계면활성제를 이용한 본 발명의 중합성 조성물(1)~(92)(실시예 1~52, 실시예 107~142, 및 실시예 179~182)는, 용해성, 보존성이 우수하고, 중합성 조성물(1)~(92)로 형성되는 광학 이방체(실시예 53~106, 실시예143~178, 및 실시예 183~186)는, 레벨링성 평가, 뒤묻음 평가, 배향성 평가 결과가 모두 양호하여, 생산성이 우수하다고 할 수 있다. 그 중, 특히, 펜타에리트리톨 골격 및 에틸렌옥시드기를 갖는 불소계 계면활성제를 이용한 중합성 조성물은, 레벨링성 평가, 뒤묻음 평가, 배향성 평가 결과가 매우 양호한 결과로 되었다. 한편, 비교예 1~14의 결과에서, 펜타에리트리톨 골격 및 디펜타에리트리톨 골격을 갖지 않는 단분자형 불소계 계면활성제를 이용한 경우, 레벨링성 평가, 뒤묻음 평가, 및 배향성 평가 결과 중 어느 하나가 불량이며, 본 발명의 중합성 조성물에 비해 뒤떨어지는 결과로 되었다.

Claims (16)

  1. a) 하나의 중합성기 또는 둘 이상의 중합성기를 갖고, 또한 식(I)을 만족시키는 중합성 화합물,
    Re(450㎚)/Re(550㎚)＜1.0 (I)
    (식 중, Re(450㎚)는, 상기 하나의 중합성기를 갖는 중합성 화합물을 기판 상에 분자의 장축 방향이 실질적으로 기판에 대해서 수평으로 배향시켰을 때의 450㎚의 파장에 있어서의 면내 위상차, Re(550㎚)는, 상기 하나의 중합성기를 갖는 중합성 화합물을 기판 상에 분자의 장축 방향이 실질적으로 기판에 대해서 수평으로 배향시켰을 때의 550㎚의 파장에 있어서의 면내 위상차를 나타냄)
    b) 펜타에리트리톨 골격 또는 디펜타에리트리톨 골격을 갖는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 불소계 계면활성제(Ⅲ),
    를 함유하는 중합성 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 펜타에리트리톨 골격을 갖는 화합물로서, 일반식(Ⅲ-1)
    Figure pct00205

    (식 중, X1은 알킬렌기를 나타내고, s1은 1~80의 수치를 나타내고, s2~s4는 각각 독립적으로 0~79의 수치를 나타내고, s1+s2+s3+s4는, 4~80의 수치를 나타낸다. A1은 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타내고, A2~A4는 각각 독립적으로 수소 원자, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타냄)로 표시되는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물을 함유하는 중합성 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 디펜타에리트리톨 골격을 갖는 화합물로서, 일반식(Ⅲ-2)
    Figure pct00206

    (식 중, X2, X3, X4, X5는 각각 독립적으로 단결합, -O-, -S-, -CO-, 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 옥시알킬렌기를 나타내고, A5는 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타내고, A6~A10은 각각 독립적으로 수소, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 플루오로알킬기 또는 플루오로알케닐기를 나타냄)
    로 표시되는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물을 함유하는 중합성 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한항에 있어서,
    상기 하나의 중합성기 또는 둘 이상의 중합성기를 갖고, 또한 식(I)을 만족시키는 중합성 화합물이, 일반식(1)~(7) 중 어느 하나의 액정성 화합물을 적어도 하나 이상 함유하는 중합성 조성물.
    Figure pct00207

    (식 중, P11~P74는 중합성기를 나타내고,
    S11~S72는 스페이서기를 또는 단결합을 나타내지만, S11~S72가 복수 존재할 경우, 그들은 각각 동일해도 달라도 되고, X11~X72는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C- 또는 단결합을 나타내지만, X11~X72가 복수 존재할 경우 그들은 각각 동일해도 달라도 되고(단, 각 P-(S-X)- 결합에는 -O-O-를 포함하지 않음),
    MG11~MG71은 각각 독립적으로 식(a)를 나타내고,
    Figure pct00208

    (식 중,
    A11, A12는 각각 독립적으로 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 나프탈렌-1,4-디일기, 테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기를 나타내지만, 이들 기는 무치환 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되지만, A11 및/또는 A12가 복수 나타날 경우는 각각 동일해도 달라도 되고,
    Z11 및 Z12는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CH2CH2-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-, -N=CH-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C- 또는 단결합을 나타내지만, Z11 및/또는 Z12가 복수 나타날 경우는 각각 동일해도 달라도 되고,
    M은 하기의 식(M-1)~식(M-11)
    Figure pct00209

    에서 선택되는 기를 나타내지만, 이들 기는 무치환 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되고,
    G는 하기의 식(G-1)~식(G-6)
    Figure pct00210

    (식 중, R3은 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고,
    W81은 적어도 하나의 방향족기를 갖는, 탄소 원자수 5~30의 기를 나타내지만, 당해 기는 무치환 또는 하나 이상의 L1에 의해 치환되어도 되고,
    W82는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고, 혹은 W82는 W81과 동일한 의미를 나타내도 되고, W81 및 W82는 서로 연결해서 동일한 환구조를 형성해도 되며, 혹은 W82는 하기의 기
    Figure pct00211

    (식 중, PW82는 P11과 동일한 의미를 나타내고, SW82는 S11과 동일한 의미를 나타내며, XW82는 X11과 동일한 의미를 나타내고, nW82는 m11과 동일한 의미를 나타냄)를 나타내고, W83 및 W84는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 시아노기, 히드록시기, 니트로기, 카르복시기, 카르바모일옥시기, 아미노기, 설파모일기, 적어도 하나의 방향족기를 갖는 탄소 원자수 5~30의 기, 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 탄소 원자수 3~20의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2~20의 알케닐기, 탄소 원자수 3~20의 시클로알케닐기, 탄소 원자수 1~20의 알콕시기, 탄소 원자수 2~20의 아실옥시기, 또는, 탄소 원자수 2~20의 알킬카르보닐옥시기를 나타내지만, 상기 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 시클로알케닐기, 알콕시기, 아실옥시기, 알킬카르보닐옥시기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고, 단, 상기 M이 식(M-1)~식(M-10)에서 선택되는 경우, G는 식(G-1)~식(G-5)에서 선택되고, M이 (M-11)일 경우, G는 식(G-6)을 나타내고,
    L1은 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 이소시아노기, 아미노기, 히드록시기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는, 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C-에서 선택되는 기에 의해 치환되어도 되지만, 화합물 내에 L1이 복수 존재할 경우, 그들은 동일해도 달라도 되고,
    j11은 1~5의 정수, j12는 1~5의 정수를 나타내지만, j11+j12는 2~5의 정수를 나타냄), R11 및 R31은 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 시아노기, 니트로기, 이소시아노기, 티오이소시아노기, 또는, 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타내지만, 당해 알킬기는 직쇄상이어도 분기상이어도 되고, 당해 알킬기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 당해 알킬기 중의 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO- 또는 -C≡C-에 의해 치환되어도 되고, m11은 0~8의 정수를 나타내며, m2~m7, n2~n7, l4~l6, k6은 각각 독립적으로 0~5의 정수를 나타냄)
  5. 제4항에 있어서,
    상기 중합성기 P11~P74가 일반식(P-1)~(P-20) 중 어느 하나로 표시되는 중합성 조성물.
    Figure pct00212
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한항에 있어서,
    2색성 색소를 함유하는 중합성 조성물.
  7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한항에 있어서,
    신나메이트 유도체를 함유하는 중합성 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한항에 기재된 중합성 조성물의 중합체.
  9. 제8항에 기재된 중합체를 이용한 광학 이방체.
  10. 제8항에 기재된 중합체를 이용한 위상차 필름.
  11. 제8항에 기재된 중합체를 이용한 편광 필름.
  12. 제8항에 기재된 중합체를 함유하는 렌즈 시트.
  13. 제8항에 기재된 중합체를 함유하는 발광 다이오드 조명 장치.
  14. 제9항에 기재된 광학 이방체 또는 제10항에 기재된 위상차 필름을 함유하는 표시 소자.
  15. 제9항에 기재된 광학 이방체 또는 제10항에 기재된 위상차 필름을 함유하는 발광 소자.
  16. 제10항에 기재된 위상차 필름을 함유하는 반사 필름.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019124964A1 (ko) * 2017-12-22 2019-06-27 주식회사 엘지화학 액정 조성물 및 이의 용도

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016104317A1 (ja) 2014-12-25 2016-06-30 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
JP6255632B2 (ja) 2015-01-16 2018-01-10 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
WO2016114253A1 (ja) 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
KR102635854B1 (ko) * 2015-01-16 2024-02-14 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 조성물 및 그것을 사용한 광학 이방체
JP6403029B2 (ja) * 2015-09-01 2018-10-10 Dic株式会社 粉体混合物
CN108137486B (zh) 2015-10-23 2019-08-13 Dic株式会社 聚合性化合物和光学各向异性体
KR102600890B1 (ko) * 2015-11-09 2023-11-13 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물 및 광학 이방체
KR20180125144A (ko) * 2016-03-10 2018-11-22 디아이씨 가부시끼가이샤 에스테르기를 가지는 화합물의 제조 방법
WO2018003653A1 (ja) * 2016-06-27 2018-01-04 Dic株式会社 重合性液晶組成物、それを用いた光学異方体及び液晶表示素子
JPWO2018096938A1 (ja) * 2016-11-22 2019-10-17 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、反射防止フィルム、および化合物
CN110462868B (zh) * 2017-03-23 2021-11-30 富士胶片株式会社 有机电致发光显示装置、相位差薄膜、圆偏振片
US20200024520A1 (en) * 2017-03-24 2020-01-23 Zeon Corporation Liquid crystal composition, liquid crystal cured film, and method for manufacturing same
WO2019034592A1 (en) * 2017-08-15 2019-02-21 Merck Patent Gmbh POLYMERIZABLE LC MEDIUM AND POLYMER FILM HAVING FLAT OPTICAL DISPERSION
WO2019124090A1 (ja) * 2017-12-21 2019-06-27 Dic株式会社 位相差フィルム、楕円偏光板及びそれを用いた表示装置
WO2019131350A1 (ja) * 2017-12-26 2019-07-04 日本ゼオン株式会社 液晶組成物及び液晶硬化フィルム
CN109343743A (zh) * 2018-12-07 2019-02-15 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 柔性触控显示模组
EP4022008A1 (en) 2019-08-28 2022-07-06 Rolic Technologies AG Compositions of polymerizable liquid crystals

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008107767A (ja) 2006-02-07 2008-05-08 Fujifilm Corp 光学フィルムおよび位相差板、並びに液晶化合物
KR20090062508A (ko) 2007-12-13 2009-06-17 엘에스산전 주식회사 계기용 변성기
JP2010265405A (ja) * 2009-05-15 2010-11-25 Konica Minolta Ij Technologies Inc インクジェット記録用インク組成物およびインクジェット記録方法
WO2012147904A1 (ja) 2011-04-27 2012-11-01 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2014010325A1 (ja) * 2012-07-09 2014-01-16 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学異方体、及び重合性化合物の製造方法
WO2014069515A1 (ja) * 2012-10-30 2014-05-08 日本ゼオン株式会社 液晶組成物、位相差板、画像表示装置、および光学異方性層の波長分散制御方法

Family Cites Families (100)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3174367B2 (ja) 1991-10-07 2001-06-11 日東電工株式会社 積層波長板及び円偏光板
JPH0628937A (ja) 1992-07-09 1994-02-04 Mitsubishi Electric Corp 耐雷ブッシング
SG50569A1 (en) 1993-02-17 2001-02-20 Rolic Ag Optical component
US5445854A (en) 1993-11-29 1995-08-29 The Dow Chemical Company Nonlinear optical epoxy-containing compositions and crosslinked nonlinear optical polymeric composition therefrom
JP3783787B2 (ja) 1995-02-27 2006-06-07 大日本インキ化学工業株式会社 重合性液晶組成物及び光学異方体の製造方法
JPH11231132A (ja) 1998-02-12 1999-08-27 Nitto Denko Corp １／４波長板、円偏光板及び液晶表示装置
US5995184A (en) 1998-09-28 1999-11-30 Rockwell Science Center, Llc Thin film compensators having planar alignment of polymerized liquid crystals at the air interface
KR100602815B1 (ko) 1998-10-30 2006-07-19 데이진 가부시키가이샤 위상차필름 및 그것을 이용한 광학장치
DE19953804A1 (de) 1999-11-09 2001-05-10 Clariant Gmbh Tetrahydrothiophen-Derivate und ihre Verwendung in flüssigkristallinen Mischungen
JP2003270435A (ja) 2002-03-13 2003-09-25 Nippon Zeon Co Ltd 広帯域波長板
JP4606195B2 (ja) 2004-03-08 2011-01-05 富士フイルム株式会社 液晶化合物、液晶組成物、重合体、位相差板、及び楕円偏光板
WO2005112540A2 (en) 2004-05-21 2005-12-01 Merck Patent Gmbh Liquid crystal compounds, liquid crystal medium and liquid crystal display
JP4907881B2 (ja) 2004-09-09 2012-04-04 富士フイルム株式会社 液晶組成物、光学補償フィルム、及び液晶表示装置
JP2007304444A (ja) 2006-05-12 2007-11-22 Dainippon Printing Co Ltd 位相差フィルム、および、位相差フィルムの製造方法
JP2007328053A (ja) 2006-06-06 2007-12-20 Dainippon Printing Co Ltd 位相差フィルム、および、位相差フィルムの製造方法
JP2007334014A (ja) * 2006-06-15 2007-12-27 Dainippon Printing Co Ltd 液晶組成物、カラーフィルタおよび液晶表示装置
JP2008033285A (ja) 2006-06-29 2008-02-14 Fujifilm Corp 位相差フィルム、偏光板及び液晶表示装置
JP2008037768A (ja) 2006-08-02 2008-02-21 Asahi Glass Co Ltd 重合性液晶化合物、液晶組成物、光学異方性材料、および光学素子
US7361437B2 (en) * 2006-09-01 2008-04-22 E.I. Du Pont De Nemours And Company Thermal transfer donor element with a carboxylated binder and a hydroxylated organic compound
JP5013830B2 (ja) * 2006-11-29 2012-08-29 株式会社ネオス 新規な含フッ素ペンタエリスリトール誘導体及びそれを用いた湿式コーティング膜の製造方法
JP2008165185A (ja) 2006-12-07 2008-07-17 Nitto Denko Corp 積層光学フィルム、積層光学フィルムを用いた液晶パネル、および液晶表示装置
ATE542876T1 (de) 2007-03-30 2012-02-15 Merck Patent Gmbh Doppelbrechungsschicht mit negativer optischer dispersion
JP5363022B2 (ja) * 2007-04-11 2013-12-11 富士フイルム株式会社 光学異方性膜及び液晶表示装置
JP5504585B2 (ja) 2007-06-29 2014-05-28 住友化学株式会社 重合性化合物および光学フィルム
JP2009062508A (ja) 2007-08-14 2009-03-26 Fujifilm Corp 液晶組成物、及び光学異方性膜
JP2009134257A (ja) 2007-10-31 2009-06-18 Sumitomo Chemical Co Ltd 位相差フィルム、およびそれを用いた楕円偏光板
JP5453798B2 (ja) 2007-12-28 2014-03-26 住友化学株式会社 化合物、光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法
JP5391682B2 (ja) 2007-12-28 2014-01-15 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP5373293B2 (ja) 2008-01-29 2013-12-18 富士フイルム株式会社 化合物、液晶組成物及び異方性材料
JP2009181104A (ja) * 2008-02-01 2009-08-13 Dic Corp 光配向性基板、光学異方体及び液晶表示素子
JP2009242318A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Daikin Ind Ltd 多官能含フッ素化合物及び該化合物の製造方法
JP2009265317A (ja) 2008-04-24 2009-11-12 Fujifilm Corp 垂直配向膜及びｖａモード液晶セル
JP2010100541A (ja) 2008-10-21 2010-05-06 Asahi Glass Co Ltd アクリル酸誘導体化合物、液晶性組成物、高分子液晶、光学素子および光ヘッド装置
JP2010163482A (ja) 2009-01-13 2010-07-29 Fujifilm Corp セルロース組成物、光学フィルム、位相差板、ならびに液晶表示装置
JP5899607B2 (ja) 2009-03-16 2016-04-06 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2010230815A (ja) * 2009-03-26 2010-10-14 Dic Corp 配向膜のチルト角を測定する方法、光配向膜、光学異方体
JP2010265605A (ja) * 2009-05-12 2010-11-25 Shimizu Corp 耐火被覆構造
JP5453956B2 (ja) 2009-06-26 2014-03-26 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
WO2011050896A1 (en) 2009-10-30 2011-05-05 Merck Patent Gmbh Polymerisable lc material and polymer film with negative optical dispersion
JP5532974B2 (ja) 2010-01-29 2014-06-25 日本ゼオン株式会社 液晶層形成用組成物、円偏光分離シート及びその製造方法、並びに輝度向上フィルム及び液晶表示装置
JP5375644B2 (ja) 2010-02-10 2013-12-25 住友化学株式会社 組成物及び光学フィルム
JP5411770B2 (ja) 2010-03-29 2014-02-12 富士フイルム株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、高分子、及びフィルム
JP5703594B2 (ja) 2010-05-26 2015-04-22 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP5624393B2 (ja) 2010-07-13 2014-11-12 住友化学株式会社 組成物及び光学フィルム
JP2012077055A (ja) 2010-10-06 2012-04-19 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP5555598B2 (ja) 2010-10-15 2014-07-23 株式会社クレハ 球晶状構造を有するポリグリコール酸系樹脂多孔質体及びその製造方法
JP5621584B2 (ja) 2010-12-27 2014-11-12 日本ゼオン株式会社 重合性キラル化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子及び光学異方体
CN103459438B (zh) 2011-04-15 2015-09-23 日本瑞翁株式会社 可聚合性化合物、可聚合性组合物、高分子及光学各向异性体
CN103582626B (zh) 2011-06-10 2016-01-13 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物、聚合性组合物、高分子以及光学各向异性体
JP2013003212A (ja) 2011-06-13 2013-01-07 Nippon Zeon Co Ltd パターン位相差フィルム、ディスプレイ装置及び立体画像表示システム
CN103608331B (zh) 2011-06-24 2015-06-10 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物、聚合性组合物、高分子以及光学各向异性体
EP2727903B1 (en) 2011-06-30 2018-01-10 DIC Corporation Cinnamic acid derivative, polymer thereof, and liquid crystal alignment layer comprising hardened product of said polymer
WO2013018526A1 (ja) 2011-07-29 2013-02-07 日本ゼオン株式会社 光学異方体の波長分散調整方法及び重合性組成物
JP2013071956A (ja) 2011-09-27 2013-04-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 組成物及び光学フィルム
KR101478303B1 (ko) * 2011-11-28 2014-12-31 주식회사 엘지화학 광경화성 조성물, 광학 이방성 필름 및 이의 제조 방법
JP6128115B2 (ja) 2012-03-30 2017-05-17 日本ゼオン株式会社 位相差フィルム積層体およびその製造方法、ならびに液晶表示装置
JP6069487B2 (ja) 2012-04-20 2017-02-01 エルジー・ケム・リミテッド 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物および光学異方体
KR102089668B1 (ko) 2012-05-30 2020-03-16 제온 코포레이션 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체
JP2014017304A (ja) 2012-07-06 2014-01-30 Sumitomo Electric Ind Ltd 積層基板の剥離方法
JP6123563B2 (ja) 2012-08-31 2017-05-10 住友化学株式会社 円偏光板および表示装置
JP5860787B2 (ja) * 2012-09-27 2016-02-16 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、モノアシルホスフィンオキシド化合物
JP6206413B2 (ja) 2012-10-19 2017-10-04 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
JP6476862B2 (ja) 2012-10-22 2019-03-06 日本ゼオン株式会社 位相差板、円偏光板、及び画像表示装置
WO2014065176A1 (ja) 2012-10-23 2014-05-01 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
JP6206481B2 (ja) 2013-02-15 2017-10-04 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2014132978A1 (ja) 2013-02-28 2014-09-04 富士フイルム株式会社 位相差板、反射防止板、画像表示装置、および位相差板の製造方法
US10273322B2 (en) 2013-08-22 2019-04-30 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optical anisotropic body
JP6427340B2 (ja) 2013-09-11 2018-11-21 富士フイルム株式会社 光学異方性層とその製造方法、積層体とその製造方法、偏光板、液晶表示装置及び有機ｅｌ表示装置
CN105745233B (zh) 2013-10-31 2018-06-12 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物、聚合性组合物、高分子、及光学各向异性体
US10106738B2 (en) 2013-11-20 2018-10-23 Dic Corporation Polymerizable liquid crystal composition, and anisotropic optical body, retardation film, antireflective film, and liquid crystal, display element fabricated using composition
CN103664868A (zh) 2013-11-27 2014-03-26 石家庄诚志永华显示材料有限公司 氧硫杂环己烷衍生物及其制备方法与应用
CN103772335B (zh) 2014-01-27 2016-02-10 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 一种含五氟丙烯和吡喃环的液晶化合物及其液晶组合物
JP2015143790A (ja) 2014-01-31 2015-08-06 住友化学株式会社 転写用光学異方性シート
JP2015143789A (ja) 2014-01-31 2015-08-06 住友化学株式会社 転写用光学異方性シート
JP2015143786A (ja) 2014-01-31 2015-08-06 住友化学株式会社 液晶硬化膜
CN104820255B (zh) 2014-01-31 2020-04-07 住友化学株式会社 光学各向异性片材
US10392343B2 (en) 2014-02-12 2019-08-27 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic product
EP3106478B1 (en) 2014-02-14 2019-12-25 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic body
JP6047604B2 (ja) 2014-03-31 2016-12-21 富士フイルム株式会社 液晶化合物および光学フィルム、ならびに光学フィルムの製造方法
JP6276393B2 (ja) 2014-05-01 2018-02-07 富士フイルム株式会社 有機ｅｌ表示装置
US10723952B2 (en) 2014-10-09 2020-07-28 Dic Corporation Polymerizable compound and optically anisotropic body
CN107001242B (zh) 2014-12-04 2020-11-17 Dic株式会社 聚合性化合物、组合物、聚合物、光学各向异性体、液晶显示元件和有机el元件
JP6531935B2 (ja) 2014-12-17 2019-06-19 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
WO2016104317A1 (ja) 2014-12-25 2016-06-30 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
KR102635854B1 (ko) 2015-01-16 2024-02-14 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 조성물 및 그것을 사용한 광학 이방체
WO2016114253A1 (ja) 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
JP6255632B2 (ja) 2015-01-16 2018-01-10 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
US20180112022A1 (en) 2015-01-16 2018-04-26 Dic Corporation Polymerizable composition and optically anisotropic material
JP6213797B2 (ja) 2015-01-16 2017-10-18 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体
US20180037817A1 (en) 2015-01-16 2018-02-08 Dic Corporation Polymerizable composition and optically anisotropic body
CN107209307B (zh) 2015-01-16 2020-04-28 Dic株式会社 聚合性组合物和使用其的光学各向异性体
US10539714B2 (en) 2015-01-16 2020-01-21 Dic Corporation Retardation plate and circularly polarizing plate
CN107108473B (zh) 2015-01-16 2020-11-06 Dic株式会社 聚合性化合物和光学各向异性体
WO2016136533A1 (ja) 2015-02-24 2016-09-01 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
JP6403029B2 (ja) 2015-09-01 2018-10-10 Dic株式会社 粉体混合物
EP3346304A4 (en) 2015-09-03 2019-04-24 DIC Corporation COMPOSITION COMPRISING A COMPOUND HAVING A MESOGENIC GROUP, POLYMER AND OPTICALLY ANISOTROPIC BODY OBTAINED BY POLYMERIZATION OF A POLYMERIZABLE COMPOSITION, AND PHASE DIFFERENCE FILM
KR102098617B1 (ko) 2015-09-03 2020-04-08 디아이씨 가부시끼가이샤 메소겐기를 갖는 화합물 및 그것을 포함하는 조성물, 그리고 중합성 조성물을 중합함에 의해 얻어지는 중합체, 광학 이방체, 및 위상차막
US20180277780A1 (en) 2015-09-30 2018-09-27 Dic Corporation Polymerizable composition and optically anistropic body using same
CN108137486B (zh) 2015-10-23 2019-08-13 Dic株式会社 聚合性化合物和光学各向异性体
KR102600890B1 (ko) 2015-11-09 2023-11-13 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물 및 광학 이방체

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008107767A (ja) 2006-02-07 2008-05-08 Fujifilm Corp 光学フィルムおよび位相差板、並びに液晶化合物
KR20090062508A (ko) 2007-12-13 2009-06-17 엘에스산전 주식회사 계기용 변성기
JP2010265405A (ja) * 2009-05-15 2010-11-25 Konica Minolta Ij Technologies Inc インクジェット記録用インク組成物およびインクジェット記録方法
WO2012147904A1 (ja) 2011-04-27 2012-11-01 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体
WO2014010325A1 (ja) * 2012-07-09 2014-01-16 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学異方体、及び重合性化合物の製造方法
WO2014069515A1 (ja) * 2012-10-30 2014-05-08 日本ゼオン株式会社 液晶組成物、位相差板、画像表示装置、および光学異方性層の波長分散制御方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019124964A1 (ko) * 2017-12-22 2019-06-27 주식회사 엘지화학 액정 조성물 및 이의 용도
US11539002B2 (en) 2017-12-22 2022-12-27 Lg Chem, Ltd. Liquid crystal composition and use thereof

Also Published As

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