JP2017206504A - 化合物、重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルム - Google Patents
化合物、重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルム Download PDFInfo
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Abstract
【課題】良好な逆波長分散性を有する光学フィルムの製造を可能にする。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される化合物〔式（Ｉ）中、ａは１〜３の整数を表し、ｂは１〜２０の整数を表し、ｃは０であり、Ａ１は、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Ｙ１は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２１〜Ｒ２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基または塩素原子を表し、ＦＧ１は、水酸基を表す。〕。
【化１】
【選択図】なし
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される化合物〔式（Ｉ）中、ａは１〜３の整数を表し、ｂは１〜２０の整数を表し、ｃは０であり、Ａ１は、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Ｙ１は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２１〜Ｒ２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基または塩素原子を表し、ＦＧ１は、水酸基を表す。〕。
【化１】
【選択図】なし
Description
本発明は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムおよび光学異方体、並びに、当該光学異方体を用いた偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルムに関するものである。
また、本発明は、上記光学フィルムおよび光学異方体の調製に使用し得る高分子、当該高分子の調製に使用し得る重合性化合物、当該重合性化合物を含む混合物および重合性液晶組成物、並びに、当該重合性化合物の調製に使用し得る化合物および当該化合物を含む混合物に関するものである。
また、本発明は、上記光学フィルムおよび光学異方体の調製に使用し得る高分子、当該高分子の調製に使用し得る重合性化合物、当該重合性化合物を含む混合物および重合性液晶組成物、並びに、当該重合性化合物の調製に使用し得る化合物および当該化合物を含む混合物に関するものである。
フラットパネル表示装置等の各種装置において用いられている位相差板には、直線偏光を円偏光に変換する１／４波長板や直線偏光の偏光振動面を９０度変換する１／２波長板等がある。これらの位相差板は、ある特定の単色光に対しては正確に光線波長の１／４λあるいは１／２λの位相差を与えることが可能なものである。
しかしながら、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは、位相差板を構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する合成波である白色光に対しては各波長ごとの偏光状態に分布が生じることから、入力光を全ての波長領域において正確な１／４λあるいは１／２λの位相差の偏光に調整することが不可能であることに起因する。
このような問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている。
しかしながら、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは、位相差板を構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する合成波である白色光に対しては各波長ごとの偏光状態に分布が生じることから、入力光を全ての波長領域において正確な１／４λあるいは１／２λの位相差の偏光に調整することが不可能であることに起因する。
このような問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている。
一方、モバイルパソコン、携帯電話等携帯型の情報端末の高機能化および普及に伴い、フラットパネル表示装置の厚みを極力薄く抑えることが求められてきている。その結果、構成部材である位相差板の薄層化も求められている。
薄層化の方法としては、低分子重合性化合物を含有する重合性組成物をフィルム基材に塗布して光学フィルムを形成することにより位相差板を作製する方法が、近年では最も有効な方法とされている。そのため、優れた逆波長分散性を有する光学フィルムを形成可能な重合性化合物またはそれを用いた重合性組成物の開発が多く行われている。
薄層化の方法としては、低分子重合性化合物を含有する重合性組成物をフィルム基材に塗布して光学フィルムを形成することにより位相差板を作製する方法が、近年では最も有効な方法とされている。そのため、優れた逆波長分散性を有する光学フィルムを形成可能な重合性化合物またはそれを用いた重合性組成物の開発が多く行われている。
そして、例えば特許文献１および２では、逆波長分散性に優れる光学フィルムを形成可能であると共に、加工に適した低い融点を有して基材に塗布することが容易であり、液晶性を示す温度範囲が広く、更に安価で合成可能な重合性化合物および重合性組成物が提案されている。
ここで、重合性化合物を含有する重合性組成物を用いて工業的生産規模で光学フィルムや光学異方体（以下、両者を合わせて「光学フィルム等」と称することがある。）を製造する場合には、広い製造条件許容度（プロセスマージン）が必要となる。
特に、重合性組成物を大面積で塗工して光学フィルム等を製造する際には、乾燥炉内の温度や時間条件を完全に均一にすることは困難であるため、温度や時間などの製造条件に対しての許容度は、光学フィルム等の歩留りに大きく影響を与える。
特に、重合性組成物を大面積で塗工して光学フィルム等を製造する際には、乾燥炉内の温度や時間条件を完全に均一にすることは困難であるため、温度や時間などの製造条件に対しての許容度は、光学フィルム等の歩留りに大きく影響を与える。
しかし、従来の重合性化合物および重合性組成物では、液晶相をより安定に長時間維持できる光学フィルム等が得られず、プロセスマージンが十分ではなかった。よって、液晶相をより安定に長時間維持できる光学フィルム等を形成可能な重合性化合物を含む重合性液晶組成物が求められていた。
本発明は、上記した実情に鑑みてなされたものであり、実用的な低い融点を有し、低コストで製造可能であり、かつ、広い波長域における一様の偏光変換および液晶相の安定的な長時間維持ができる光学フィルム等を形成可能な重合性液晶組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、当該重合性液晶組成物の調製に有用な重合性化合物およびその重合性化合物を含む混合物、並びに、当該重合性化合物の調製に有用な化合物およびその化合物を含む混合物を提供することを目的とする。
また、本発明は、当該重合性液晶組成物の調製に有用な重合性化合物およびその重合性化合物を含む混合物、並びに、当該重合性化合物の調製に有用な化合物およびその化合物を含む混合物を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、下記式（ＩＩＩ）で示される所定の重合性化合物と下記式（ＩＶ）で示される所定の重合性化合物との混合物を使用すれば、液晶相をより安定に長時間維持でき、塗布ムラが少なく、更に逆波長分散性に優れる光学フィルム等を形成可能な重合性液晶組成物が安価で得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
かくして本発明によれば、下記に示す化合物、重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルムが提供される。
かくして本発明によれば、下記に示す化合物、重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルムが提供される。
〔１〕下記式（Ｉ）：
〔式（Ｉ）中、Ａ１およびＢ１は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Ｙ１およびＬ１は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２１〜Ｒ２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基または塩素原子を表し、ＦＧ１は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表し、ａは１〜３の整数を表し、ｂは１〜２０の整数を表し、ｃは０または１である。〕で示される化合物。
〔２〕前記ＦＧ１が水酸基であり、前記ｃが０である、前記〔１〕に記載の化合物。
〔３〕前記ＦＧ１がカルボキシル基であり、前記ｃが１である、前記〔１〕に記載の化合物。
〔４〕前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の化合物と、下記式（ＩＩ）：
〔式（ＩＩ）中、Ａ２およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Ｙ２およびＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２１〜Ｒ２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ３は、水素原子、メチル基または塩素原子を表し、ＦＧ２は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表し、ｄは１〜２０の整数を表し、ｅは０または１である。〕で示される化合物とを含む混合物。
〔５〕前記ＦＧ１およびＦＧ２が水酸基であり、前記ｃおよびｅが０である、前記〔４〕に記載の混合物。
〔６〕前記ＦＧ１およびＦＧ２がカルボキシル基であり、前記ｃおよびｅが１である、前記〔４〕に記載の混合物。
〔７〕前記式（Ｉ）で示される化合物と、前記式（ＩＩ）で示される化合物との質量比（式（Ｉ）で示される化合物：式（ＩＩ）で示される化合物）が、１：１０００〜２０：１００である、前記〔４〕〜〔６〕のいずれかに記載の混合物。
〔８〕下記式（ＩＩＩ）：
〔式（ＩＩＩ）中、Ａｒ１は、Ｄ１を置換基として有する２価の芳香族炭化水素環基、または、Ｄ１を置換基として有する２価の芳香族複素環基を表し、Ｄ１は、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数１〜２０の有機基を表し、Ｚ１１およびＺ１２は、それぞれ独立して、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ３１−ＣＯ−、または、−ＣＯ−ＮＲ３２−を表し、Ｒ３１およびＲ３２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ａ１１、Ａ１２、Ｂ１１およびＢ１２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Ｙ１１、Ｙ１２、Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２１〜Ｒ２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ４〜Ｒ７は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基または塩素原子を表し、ｆおよびｋは、一方が１〜３の整数で、他方が０〜３の整数であり、ｇおよびｊは、それぞれ独立して、１〜２０の整数を表し、ｈおよびｉは、それぞれ独立して、０または１である。〕で示される重合性化合物。
〔９〕前記Ａｒ１−Ｄ１が、下記式（Ｖ）：
〔式（Ｖ）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基を表し、Ｒａは、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。〕で表される２価の基である、前記〔８〕に記載の重合性化合物。
〔１０〕前記Ａｘが、下記式（ＶＩ）：
〔式（ＶＩ）中、ＲＸは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、または、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒｂを表し、Ｒｂは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、複数のＲＸ同士は、すべて同一であっても、相異なっていてもよく、環を構成する少なくとも１つのＣ−ＲＸは、窒素原子に置き換えられていてもよい。〕で表される基である、前記〔９〕に記載の重合性化合物。
〔１１〕前記Ｒａが、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、または、置換基を有していてもよい炭素数６〜１８の芳香族基である、前記〔９〕または〔１０〕に記載の重合性化合物。
〔１２〕前記〔８〕〜〔１１〕のいずれかに記載の重合性化合物と、下記式（ＩＶ）：
〔式（ＩＶ）中、Ａｒ２は、Ｄ２を置換基として有する２価の芳香族炭化水素環基、または、Ｄ２を置換基として有する２価の芳香族複素環基を表し、Ｄ２は、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数１〜２０の有機基を表し、Ｚ２１およびＺ２２は、それぞれ独立して、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ３１−ＣＯ−、または、−ＣＯ−ＮＲ３２−を表し、Ｒ３１およびＲ３２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ａ２１、Ａ２２、Ｂ２１およびＢ２２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Ｙ２１、Ｙ２２、Ｌ２１およびＬ２２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２１〜Ｒ２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基または塩素原子を表し、ｍおよびｑは、それぞれ独立して、１〜２０の整数を表し、ｎおよびｐは、それぞれ独立して、０または１である。〕で示される重合性化合物とを含む混合物。
〔１３〕前記Ａｒ１−Ｄ１が、下記式（Ｖ）：
〔式（Ｖ）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基を表し、Ｒａは、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。〕で表される２価の基であり、前記Ａｒ２−Ｄ２が、下記式（ＶＩＩ）：
〔式（ＶＩＩ）中、Ａｙは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基を表し、Ｒｃは、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。〕で表される２価の基である、前記〔１２〕に記載の混合物。
〔１４〕前記ＡｘおよびＡｙが、それぞれ独立して、下記式（ＶＩ）：
〔式（ＶＩ）中、ＲＸは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、または、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒｂを表し、Ｒｂは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、複数のＲＸ同士は、すべて同一であっても、相異なっていてもよく、環を構成する少なくとも１つのＣ−ＲＸは、窒素原子に置き換えられていてもよい。〕で表される基である、前記〔１３〕に記載の混合物。
〔１５〕前記Ｒａが、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、または、置換基を有していてもよい炭素数６〜１８の芳香族基であり、前記Ｒｃが、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、または、置換基を有していてもよい炭素数６〜１８の芳香族基である、前記〔１３〕または〔１４〕に記載の混合物。
〔１６〕前記式（ＩＩＩ）で示される重合性化合物と、前記式（ＩＶ）で示される重合性化合物との質量比（式（ＩＩＩ）で示される重合性化合物：式（ＩＶ）で示される重合性化合物）が１：１０００〜２０：１００である、前記〔１２〕〜〔１５〕のいずれかに記載の混合物。
〔１７〕前記〔１２〕〜〔１６〕のいずれかに記載の混合物および重合開始剤を含有する、重合性液晶組成物。
〔１８〕前記〔１２〕〜〔１６〕のいずれかに記載の混合物を重合して得られる、高分子。
〔１９〕前記〔１７〕に記載の重合性液晶組成物を重合して得られる、高分子。
〔２０〕前記〔１８〕または〔１９〕に記載の高分子を構成材料とする、光学フィルム。
〔２１〕前記〔１８〕または〔１９〕に記載の高分子を構成材料とする層を有する、光学異方体。
〔２２〕前記〔２１〕に記載の光学異方体および偏光フィルムを含む、偏光板。
〔２３〕前記〔２２〕に記載の偏光板および液晶パネルを備える、フラットパネル表示装置。
〔２４〕前記〔２２〕に記載の偏光板および有機エレクトロルミネッセンスパネルを備える、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
〔２５〕前記〔２２〕に記載の偏光板を含む、反射防止フィルム。
本発明によれば、液晶相をより安定に長時間維持でき、実用的な低い融点を有し、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルム等を低コストかつ広いプロセスマージンで製造することができる、重合性液晶組成物が提供される。
また、本発明によれば、上記重合性液晶組成物の調製に有用な重合性化合物およびその重合性化合物を含む混合物、並びに、当該重合性化合物の調製に有用な化合物およびその化合物を含む混合物が提供される。
そして、本発明によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムおよび光学異方体、並びに、それらを用いた偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置および反射防止フィルムが提供される。
また、本発明によれば、上記重合性液晶組成物の調製に有用な重合性化合物およびその重合性化合物を含む混合物、並びに、当該重合性化合物の調製に有用な化合物およびその化合物を含む混合物が提供される。
そして、本発明によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムおよび光学異方体、並びに、それらを用いた偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置および反射防止フィルムが提供される。
以下、本発明を詳細に説明する。なお、本発明において、「置換基を有していてもよい」とは、「無置換の、または、置換基を有する」の意味である。また、一般式中に含まれるアルキル基や芳香族炭化水素環基等の有機基が置換基を有する場合、当該置換基を有する有機基の炭素数には、置換基の炭素数を含まないものとする。例えば、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基が置換基を有する場合、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基の炭素数には、このような置換基の炭素数を含まないものとする。
ここで、本発明の化合物およびその化合物を含む混合物は、特に限定されることなく、例えば本発明の重合性化合物を調製する際に用いることができる。
また、本発明の重合性化合物およびその重合性化合物を含む混合物は、特に限定されることなく、例えば本発明の重合性液晶組成物を調製する際に用いることができる。
更に、本発明の重合性液晶組成物は、特に限定されることなく、例えば本発明の高分子を調製する際に用いることができる。
そして、本発明の高分子は、特に限定されることなく、例えば本発明の光学フィルムの構成材料および本発明の光学異方体が有する層の構成材料として用いることができる。また、本発明の光学異方体は、特に限定されることなく、例えば本発明の偏光板に用いることができる。更に、本発明の偏光板は、特に限定されることなく、例えば本発明のフラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルムに用いることができる。
また、本発明の重合性化合物およびその重合性化合物を含む混合物は、特に限定されることなく、例えば本発明の重合性液晶組成物を調製する際に用いることができる。
更に、本発明の重合性液晶組成物は、特に限定されることなく、例えば本発明の高分子を調製する際に用いることができる。
そして、本発明の高分子は、特に限定されることなく、例えば本発明の光学フィルムの構成材料および本発明の光学異方体が有する層の構成材料として用いることができる。また、本発明の光学異方体は、特に限定されることなく、例えば本発明の偏光板に用いることができる。更に、本発明の偏光板は、特に限定されることなく、例えば本発明のフラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルムに用いることができる。
（１）化合物
本発明の化合物は、下記式（Ｉ）で示される化合物（以下、「化合物（Ｉ）」ということがある。）であり、後述する重合性化合物（ＩＩＩ）の製造中間体として有用である。
本発明の化合物は、下記式（Ｉ）で示される化合物（以下、「化合物（Ｉ）」ということがある。）であり、後述する重合性化合物（ＩＩＩ）の製造中間体として有用である。
ここで、式（Ｉ）中、ａは、１〜３の整数であり、ｂは、１〜２０の整数であり、２〜１２の整数が好ましく、４〜８の整数がより好ましく、ｃは、０または１である。
そして、ＦＧ１は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基である。なお、ｃが０の場合、ＦＧ１は水酸基であることが好ましく、ｃが１の場合、ＦＧ１はカルボキシル基であることが好ましい。
また、Ａ１は、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基である。中でも、Ａ１は、ｃが０の場合には置換基を有していてもよい芳香族基であることが好ましく、ｃが１の場合には置換基を有していてもよい環状脂肪族基であることが好ましい。
なお、置換基を有していてもよい環状脂肪族基は、無置換の２価の環状脂肪族基、または、置換基を有する２価の環状脂肪族基である。そして、２価の環状脂肪族基は、炭素数が通常は５〜２０である、環状構造を有する２価の脂肪族基である。
２価の環状脂肪族基の具体例としては、シクロペンタン−１，３−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−シクロヘプタン−１，４−ジイル、シクロオクタン−１，５−ジイル等の炭素数５〜２０のシクロアルカンジイル基；デカヒドロナフタレン−１，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル等の炭素数５〜２０のビシクロアルカンジイル基等が挙げられる。
２価の環状脂肪族基の具体例としては、シクロペンタン−１，３−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−シクロヘプタン−１，４−ジイル、シクロオクタン−１，５−ジイル等の炭素数５〜２０のシクロアルカンジイル基；デカヒドロナフタレン−１，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル等の炭素数５〜２０のビシクロアルカンジイル基等が挙げられる。
また、置換基を有していてもよい芳香族基は、無置換の２価の芳香族基、または、置換基を有する２価の芳香族基である。そして、２価の芳香族基は、炭素数が通常は２〜２０である、芳香環構造を有する２価の芳香族基である。
２価の芳香族基の具体例としては、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、４，４’−ビフェニレン基等の、炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素環基；フラン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ピラジン−２，５−ジイル等の、炭素数２〜２０の２価の芳香族複素環基；等が挙げられる。
２価の芳香族基の具体例としては、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、４，４’−ビフェニレン基等の、炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素環基；フラン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ピラジン−２，５−ジイル等の、炭素数２〜２０の２価の芳香族複素環基；等が挙げられる。
そして、上述した２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜５のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基；等が挙げられる。前記環状脂肪族基および芳香族基は、上述した置換基から選ばれる少なくとも１つの置換基を有していてもよい。なお、置換基を複数有する場合は、各置換基は同一でも相異なっていてもよい。
また、ｃが１の場合、Ｌ１は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−であり、ここで、Ｒ２１〜Ｒ２６は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｌ１は、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、または、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
なお、前記Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
更に、ｃが１の場合、Ｂ１は、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基である。中でも、Ｂ１は置換基を有していてもよい芳香族基であることが好ましい。
ここで、置換基を有していてもよい環状脂肪族基は、無置換の２価の環状脂肪族基、または、置換基を有する２価の環状脂肪族基である。そして、２価の環状脂肪族基は、炭素数が通常は５〜２０である、環状構造を有する２価の脂肪族基である。
Ｂ１の２価の環状脂肪族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の環状脂肪族基として例示したものと同じものが挙げられる。
Ｂ１の２価の環状脂肪族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の環状脂肪族基として例示したものと同じものが挙げられる。
また、置換基を有していてもよい芳香族基は、無置換の２価の芳香族基、または、置換基を有する２価の芳香族基である。そして、２価の芳香族基は、炭素数が通常は２〜２０である、芳香環構造を有する２価の芳香族基である。
Ｂ１の２価の芳香族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の芳香族基として例示したものと同じものが挙げられる。
Ｂ１の２価の芳香族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の芳香族基として例示したものと同じものが挙げられる。
更に、Ｂ１の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基としては、前記Ａ１の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基として例示したものと同じものが挙げられる。
また、Ｙ１は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−であり、ここで、Ｒ２１〜Ｒ２６は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｙ１は、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、または、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
なお、Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
なお、Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
そして、Ｒ２は、水素原子、メチル基または塩素原子であり、水素原子またはメチル基であるのが好ましい。
また、Ｒ１は、水素原子、メチル基または塩素原子であり、水素原子またはメチル基であるのが好ましい。なお、Ｒ１はＲ２と同一であることがより好ましく、Ｒ１およびＲ２は共に水素原子でことがさらに好ましい。
上記化合物（Ｉ）は、既知の合成反応を組み合わせて合成することができる。即ち、様々な文献（例えば、ＭＡＲＣＨ’Ｓ ＡＤＶＡＮＣＥＤ ＯＲＧＡＮＩＣ ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ（ＷＩＬＥＹ）、サンドラー・カロ「官能基別有機化合物合成法」稲本直樹共訳（廣川書店））に記載の方法を参照して合成できる。
ここで、ｃが０である化合物（Ｉ）の好ましい例としては、特に限定されることなく、下記式（Ｉａ）：
〔式（Ｉａ）中、Ｒ１、Ｒ２、ａおよびｂは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。〕に示される化合物（以下、「化合物（Ｉａ）」ということがある。）が挙げられる。
そして、化合物（Ｉａ）の製造方法としては、特に制約はないが、例えば、以下に示す方法が挙げられる。
具体的には、先ず、前記式（１）で示されるハイドロキノンと、前記式（２）で示される化合物（以下、「化合物（２）」という。）との反応により、前記式（３）で示されるモノエーテル化合物（以下、「モノエーテル化合物（３）」という。）を得る。
ここで、式（２）中、Ｌで示される脱離基は特に限定されず、有機化学の分野における一般的な脱離基が挙げられる。Ｌとしては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。
また、ハイドロキノンと化合物（２）の使用割合は、化合物（２）１モルに対して、ハイドロキノンが、通常１．０〜５．０モル、好ましくは１．２〜１．５モルである。
ハイドロキノンの使用割合が少なすぎると、副生成物としてのジエーテル化合物の生成量が多くなり、モノエーテル化合物（３）の収率および純度が低下する傾向がある。一方、ハイドロキノンの使用割合が多すぎると、反応後に精製処理を効率よく行うことが困難になる傾向がある。
ハイドロキノンの使用割合が少なすぎると、副生成物としてのジエーテル化合物の生成量が多くなり、モノエーテル化合物（３）の収率および純度が低下する傾向がある。一方、ハイドロキノンの使用割合が多すぎると、反応後に精製処理を効率よく行うことが困難になる傾向がある。
ハイドロキノンと化合物（２）との反応は、不活性溶媒中、塩基の存在下に行ってもよいし、アルカリ性水溶液と疎水性有機溶媒との二相系で行ってもよいが、目的物をより収率よく得ることができることから、後者の方法が好ましい。
この反応で用いる不活性溶媒としては、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；テトラヒドロフラン、１，３−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶媒；ジメチルスルホキシド等の含硫黄系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；および、これらの２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、化合物（２）１質量部に対し、通常１〜５０質量部である。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、化合物（２）１質量部に対し、通常１〜５０質量部である。
用いる塩基としては、ピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、アニリン、ピコリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、イミダゾール、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコラート；水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム等の金属炭酸塩；等が挙げられる。
塩基の使用量は、化合物（２）に対して、通常１〜５当量、好ましくは１〜２当量である。
塩基の使用量は、化合物（２）に対して、通常１〜５当量、好ましくは１〜２当量である。
また、後者の方法で用いるアルカリ性水溶液は、無機塩基を水に溶解させることで得られる。
無機塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸水素マグネシウム；炭酸水素カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸水素塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム；水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；等が挙げられる。
無機塩基は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
無機塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸水素マグネシウム；炭酸水素カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸水素塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム；水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；等が挙げられる。
無機塩基は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
アルカリ性水溶液中の無機塩基の含有量は、化合物（２）１モルに対して、通常１．００〜２．００モル、好ましくは１．０５〜１．５０モルである。無機塩基の含有量が少なすぎると、モノエーテル化物の収率が低下したり、反応速度が遅くなったり、化合物（２）が多量に残存したりするおそれがある。一方、無機塩基の使用量が多すぎると、反応後に中和する工程が別途必要になる。
アルカリ性水溶液の使用量は、ハイドロキノンおよび化合物（２）が溶解する量であれば、特に制限されない。
アルカリ性水溶液の使用量は、化合物（２）１質量部に対して、通常１〜１０質量部、好ましくは３〜６質量部である。アルカリ性水溶液の使用量が多すぎると、反応速度が遅くなったり、生産性が低下したりするおそれがある。一方、アルカリ性水溶液の使用量が少なすぎると、原料化合物等が析出したり、溶液の粘度が上がり反応速度が低下したりするおそれがある。
アルカリ性水溶液の使用量は、化合物（２）１質量部に対して、通常１〜１０質量部、好ましくは３〜６質量部である。アルカリ性水溶液の使用量が多すぎると、反応速度が遅くなったり、生産性が低下したりするおそれがある。一方、アルカリ性水溶液の使用量が少なすぎると、原料化合物等が析出したり、溶液の粘度が上がり反応速度が低下したりするおそれがある。
疎水性有機溶媒は、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が、１０（ｇ／１００ｇ−Ｈ２Ｏ）以下の有機溶媒をいう。
疎水性有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；アニソール、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒；１−ブタノール、１−ヘキサノール等の炭素数４以上のアルコール系溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；等が挙げられる。
これらの中でも、疎水性有機溶媒としては、水との共沸点が高く、高温で反応を行うことができ、目的とするモノエーテル化合物（３）を選択的に得られ易いこと等の理由から、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、または炭素数４以上のアルコール系溶媒が好ましく、トルエン、キシレン、アニソール、シクロペンチルメチルエーテル、または１−ヘキサノールがより好ましい。
なお、疎水性有機溶媒は、一種単独で、或いは二種以上を組み合わせて用いることができる。
疎水性有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；アニソール、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒；１−ブタノール、１−ヘキサノール等の炭素数４以上のアルコール系溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；等が挙げられる。
これらの中でも、疎水性有機溶媒としては、水との共沸点が高く、高温で反応を行うことができ、目的とするモノエーテル化合物（３）を選択的に得られ易いこと等の理由から、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、または炭素数４以上のアルコール系溶媒が好ましく、トルエン、キシレン、アニソール、シクロペンチルメチルエーテル、または１−ヘキサノールがより好ましい。
なお、疎水性有機溶媒は、一種単独で、或いは二種以上を組み合わせて用いることができる。
疎水性有機溶媒の使用量は、化合物（２）１質量部に対して、通常０．２〜１０質量部、好ましくは０．５〜２質量部である。疎水性有機溶媒の使用量が多すぎると、反応速度が遅くなったり、生産性が低下したりするおそれがある。一方、疎水性有機溶媒の使用量が少なすぎると、疎水性有機溶媒を用いる効果が得られにくくなり、モノエーテル化物を選択的に合成することが困難になるおそれがある。
ハイドロキノンと化合物（２）との反応は、窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で行う。
反応温度は特に限定されないが、通常２０〜２００℃、好ましくは６０〜１５０℃、より好ましくは８０〜１２０℃である。
反応時間は、反応温度等にもよるが、通常、１〜２４時間である。
反応温度は特に限定されないが、通常２０〜２００℃、好ましくは６０〜１５０℃、より好ましくは８０〜１２０℃である。
反応時間は、反応温度等にもよるが、通常、１〜２４時間である。
反応終了後は、反応液を冷却することで、目的とするモノエーテル化合物（３）を結晶として析出させることができる。
モノエーテル化合物（３）の純度（モノエーテル化物とジエーテル化物の合計に対するモノエーテル化物の割合）は、通常、７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上である。
モノエーテル化合物（３）の純度（モノエーテル化物とジエーテル化物の合計に対するモノエーテル化物の割合）は、通常、７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上である。
得られたモノエーテル化合物（３）の結晶は、精製することなく、そのまま次工程に供することもできるし、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー、再結晶、再沈殿等の公知の方法によりさらに精製し、より高純度のモノエーテル化合物として、次工程に供することもできる。
なお、モノエーテル化合物（３）の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等を測定や、元素分析を行うことで決定することができる。
なお、モノエーテル化合物（３）の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等を測定や、元素分析を行うことで決定することができる。
次いで、得られたモノエーテル化合物（３）と、式（４）で示されるカルボン酸化合物（以下、「化合物（４）」という。）との脱水縮合反応により、目的とする化合物（Ｉａ）を得ることができる。
ここで、脱水縮合反応は、適当な溶媒中、酸触媒の存在下に行う。
用いる酸触媒としては、特に制限されないが、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等の鉱酸；リンタングステン酸等のヘテロポリ酸；パラトルエンスルホン酸等の有機酸；等が挙げられる。
酸触媒の使用量は、通常、モノエーテル化合物（３）に対して、０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。或いは、酸触媒の使用量は、モノエーテル化合物（３）１モルに対して、通常０．０１〜１．０モル、好ましくは、０．０１〜０．５モルである。
用いる酸触媒としては、特に制限されないが、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等の鉱酸；リンタングステン酸等のヘテロポリ酸；パラトルエンスルホン酸等の有機酸；等が挙げられる。
酸触媒の使用量は、通常、モノエーテル化合物（３）に対して、０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。或いは、酸触媒の使用量は、モノエーテル化合物（３）１モルに対して、通常０．０１〜１．０モル、好ましくは、０．０１〜０．５モルである。
用いる溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，３−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；および、これらの２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族炭化水素系溶媒が好ましく、トルエンがより好ましい。
これらの中でも、芳香族炭化水素系溶媒が好ましく、トルエンがより好ましい。
上記反応においては、目的物を収率良く得るために、生成する水を系外に除去しながら、脱水縮合反応を行うことが好ましい。このような方法としては、例えば、ディーンスターク管等の装置を用いて、水を系外に除去しながら反応を行う方法等が挙げられる。
また、脱水縮合反応は、エーテル化合物を安定化するために、酸化防止剤の存在下で行ってもよい。用いる酸化防止剤としては、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）、２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール）、亜リン酸トリフェニル等が挙げられる。
酸化防止剤を用いる場合、その使用量は、エーテル化合物１００質量部に対して、通常、０．１〜１０質量部、好ましくは、０．５〜５質量部である。
酸化防止剤を用いる場合、その使用量は、エーテル化合物１００質量部に対して、通常、０．１〜１０質量部、好ましくは、０．５〜５質量部である。
反応温度は特に限定されないが、通常、２０〜２００℃、好ましくは４０〜１５０℃、より好ましくは６０〜１５０℃である。
反応時間は、反応温度等にもよるが、通常、１〜２４時間である。
反応時間は、反応温度等にもよるが、通常、１〜２４時間である。
反応終了後においては、有機合成化学における通常の後処理操作を行い、所望により、反応生成物を、蒸留法、カラムクロマトグラフィー法、再結晶法、再沈殿法等の、公知の分離・精製方法により精製して、目的とする化合物（Ｉａ）を効率よく単離することができる。
目的物の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の分析手段を用いることにより同定し、確認することができる。
目的物の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の分析手段を用いることにより同定し、確認することができる。
なお、化合物（４）は、アクリル酸を２〜４量化することにより得ることができる。その場合、通常、アクリル酸２−カルボキシエチル（２量体）のほか、アクリル酸自体や、アクリル酸の３量体以上のオリゴマーを含む混合物として得られる。
化合物（４）は、このようにして得られる混合物を分離精製することにより、一種単独の化合物として用いることができる。
また、後述するように、得られる混合物が、アクリル酸と、化合物（４）とを含む混合物である場合には、この混合物（以下、「混合物（Ｄ）」ということがある。）を、化合物（４）に代えて用いることができる。なお、混合物（Ｄ）は、化合物（４）を、混合物中に０．０１〜２０質量％含むことが好ましい。
化合物（４）としては、市販されているものを、そのまま使用することもできる。
化合物（４）は、このようにして得られる混合物を分離精製することにより、一種単独の化合物として用いることができる。
また、後述するように、得られる混合物が、アクリル酸と、化合物（４）とを含む混合物である場合には、この混合物（以下、「混合物（Ｄ）」ということがある。）を、化合物（４）に代えて用いることができる。なお、混合物（Ｄ）は、化合物（４）を、混合物中に０．０１〜２０質量％含むことが好ましい。
化合物（４）としては、市販されているものを、そのまま使用することもできる。
また、ｃが１である化合物（Ｉ）の好ましい例としては、特に限定されることなく、下記式（ＩＩＩａ）：
〔式（ＩＩＩａ）中、Ｒ１、Ｒ２、ａおよびｂは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。〕に示される化合物（以下、「化合物（ＩＩＩａ）」ということがある。）が挙げられる。
そして、化合物（ＩＩＩａ）の製造方法としては、特に制約はないが、例えば、以下に示す方法（前記化合物（Ｉａ）と、下記式（５）で表されるｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸とを反応させる方法）が挙げられる。
具体的には、先ず、適当な溶媒中で、化合物（５）に、式（６）で表されるスルホニルクロライド化合物を、第１の塩基の存在下で反応させる。
次いで、得られた反応混合物に、化合物（Ｉａ）と第２の塩基とを加えて、さらに反応を行う。
次いで、得られた反応混合物に、化合物（Ｉａ）と第２の塩基とを加えて、さらに反応を行う。
ここで、スルホニルクロライド化合物の使用量は、化合物（５）１当量に対して、通常０．５〜２．１当量であり、好ましくは、０．５〜１．１当量である。
また、化合物（Ｉａ）の使用量は、化合物（５）１当量に対して、通常０．５〜１．０当量である。
更に、第１の塩基および第２の塩基の使用量は、化合物（５）１当量に対して、通常０．５〜２．１当量であり、好ましくは、０．５〜１．１当量である。
なお、第１の塩基および第２の塩基としては、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等が挙げられる。
なお、第１の塩基および第２の塩基としては、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等が挙げられる。
また、反応温度は、−１０℃〜３０℃とすることができ、反応時間は反応規模等にもよるが、数分から数時間とすることができる。
上記反応に用いる溶媒としては、前記化合物（Ｉａ）を製造する際に用いることができる溶媒として例示したもの、並びに、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒が挙げられる。なかでも、エーテル系溶媒が好ましい。
なお、溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、化合物（Ｉａ）１質量部に対し、通常１〜５０質量部である。
反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作を行い、所望により、カラムクロマトグラフィー法、再結晶法、蒸留法、再沈殿法等の公知の分離・精製方法を用いた精製処理を施すことにより、目的物を単離することができる。
目的とする化合物の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の測定、元素分析等により、同定することができる。
目的とする化合物の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の測定、元素分析等により、同定することができる。
（２）化合物を含む混合物
本発明の混合物は、前記化合物（Ｉ）と、下記式（ＩＩ）で示される化合物（以下、「化合物（ＩＩ）」という。）とを含む混合物であり、例えば後述する重合性化合物（ＩＩＩ）の製造に用いることができる。
なお、混合物を用いて調製した重合性化合物（ＩＩＩ）を含む混合物または重合性液晶組成物を使用して光学フィルム等を形成する際にプロセスマージンを広げつつ得られる光学フィルム等の逆波長分散性を高める観点からは、混合物中の化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）との質量比（化合物（Ｉ）：化合物（ＩＩ））は、１：１０００〜２０：１００であることが好ましく、１：１００〜２０：１００であることがより好ましい。
本発明の混合物は、前記化合物（Ｉ）と、下記式（ＩＩ）で示される化合物（以下、「化合物（ＩＩ）」という。）とを含む混合物であり、例えば後述する重合性化合物（ＩＩＩ）の製造に用いることができる。
なお、混合物を用いて調製した重合性化合物（ＩＩＩ）を含む混合物または重合性液晶組成物を使用して光学フィルム等を形成する際にプロセスマージンを広げつつ得られる光学フィルム等の逆波長分散性を高める観点からは、混合物中の化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）との質量比（化合物（Ｉ）：化合物（ＩＩ））は、１：１０００〜２０：１００であることが好ましく、１：１００〜２０：１００であることがより好ましい。
ここで、式（ＩＩ）中、ｄは、１〜２０の整数であり、２〜１２の整数が好ましく、４〜８の整数がより好ましく、ｅは、０または１である。
そして、ＦＧ２は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基である。なお、ｅが０の場合、ＦＧ２は水酸基であることが好ましく、ｅが１の場合、ＦＧ２はカルボキシル基であることが好ましい。
また、Ａ２は、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基である。中でも、Ａ２は、ｅが０の場合には置換基を有していてもよい芳香族基であることが好ましく、ｅが１の場合には置換基を有していてもよい環状脂肪族基であることが好ましい。
ここで、置換基を有していてもよい環状脂肪族基は、無置換の２価の環状脂肪族基、または、置換基を有する２価の環状脂肪族基である。そして、２価の環状脂肪族基は、炭素数が通常は５〜２０である、環状構造を有する２価の脂肪族基である。
Ａ２の２価の環状脂肪族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の環状脂肪族基として例示したものと同じものが挙げられる。
Ａ２の２価の環状脂肪族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の環状脂肪族基として例示したものと同じものが挙げられる。
また、置換基を有していてもよい芳香族基は、無置換の２価の芳香族基、または、置換基を有する２価の芳香族基である。そして、２価の芳香族基は、炭素数が通常は２〜２０である、芳香環構造を有する２価の芳香族基である。
Ａ２の２価の芳香族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の芳香族基として例示したものと同じものが挙げられる。
Ａ２の２価の芳香族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の芳香族基として例示したものと同じものが挙げられる。
更に、Ａ２の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基としては、前記Ａ１の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基として例示したものと同じものが挙げられる。
また、ｅが１の場合、Ｌ２は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−であり、ここで、Ｒ２１〜Ｒ２６は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｌ２は、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、または、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
なお、前記Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
更に、ｃが１の場合、Ｂ２は、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基である。中でも、Ｂ２は置換基を有していてもよい芳香族基であることが好ましい。
ここで、置換基を有していてもよい環状脂肪族基は、無置換の２価の環状脂肪族基、または、置換基を有する２価の環状脂肪族基である。そして、２価の環状脂肪族基は、炭素数が通常は５〜２０である、環状構造を有する２価の脂肪族基である。
Ｂ２の２価の環状脂肪族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の環状脂肪族基として例示したものと同じものが挙げられる。
Ｂ２の２価の環状脂肪族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の環状脂肪族基として例示したものと同じものが挙げられる。
また、置換基を有していてもよい芳香族基は、無置換の２価の芳香族基、または、置換基を有する２価の芳香族基である。そして、２価の芳香族基は、炭素数が通常は２〜２０である、芳香環構造を有する２価の芳香族基である。
Ｂ２の２価の芳香族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の芳香族基として例示したものと同じものが挙げられる。
Ｂ２の２価の芳香族基の具体例としては、前記Ａ１の２価の芳香族基として例示したものと同じものが挙げられる。
更に、Ｂ２の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基としては、前記Ａ１の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基として例示したものと同じものが挙げられる。
また、Ｙ２は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−であり、ここで、Ｒ２１〜Ｒ２６は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｙ２は、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、または、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
なお、Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
なお、Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
そして、Ｒ３は、水素原子、メチル基または塩素原子であり、水素原子またはメチル基であるのが好ましい。
上記化合物（ＩＩ）は、既知の合成反応を組み合わせて合成することができる。即ち、様々な文献（例えば、ＭＡＲＣＨ’Ｓ ＡＤＶＡＮＣＥＤ ＯＲＧＡＮＩＣ ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ（ＷＩＬＥＹ）、サンドラー・カロ「官能基別有機化合物合成法」稲本直樹共訳（廣川書店））に記載の方法を参照して合成できる。
なお、光学フィルム等の逆波長分散性を高める観点からは、本発明の混合物では、化合物（Ｉ）のＦＧ１、Ａ１、Ｌ１、Ｂ１、Ｙ１、Ｒ１、ｂおよびｃが、それぞれ、化合物（ＩＩ）のＦＧ２、Ａ２、Ｌ２、Ｂ２、Ｙ２、Ｒ３、ｄおよびｅと同じであることが好ましい。即ち、化合物（ＩＩ）は、「ＣＨ２ＣＲ１ＣＯＯ−」と「−（ＣＨ２）ｂ−」との間に「−（ＣＨ２ＣＨＲ１ＣＯＯ）ａ−」を有さない以外は化合物（Ｉ）と同じ構造を有していることが好ましい。
そして、混合物は、例えば、化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）とを所望の割合で混合することにより調製することができる。
また、ｃが０である化合物（Ｉ）と、ｅが０である化合物（ＩＩ）との混合物は、特に限定されることなく、下記式：
〔式中、Ｙ１、Ａ１、ＦＧ１およびｂは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表す。〕
で表される化合物と、前記混合物（Ｄ）とを反応させることにより得ることもできる。
で表される化合物と、前記混合物（Ｄ）とを反応させることにより得ることもできる。
更に、ｃが１である化合物（Ｉ）と、ｅが１である化合物（ＩＩ）との混合物は、特に限定されることなく、下記式：
〔式中、Ｌ３は、ｃが０である化合物（Ｉ）のＦＧ１およびｅが０である化合物（ＩＩ）のＦＧ２と反応して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−を形成し得る基（但し、Ｒ２１〜Ｒ２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である）を表し、Ａ１は、前記式（Ｉ）と同じ意味を表し、ＦＧ３は、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表す。〕
で表される化合物と、ｃが０である化合物（Ｉ）およびｅが０である化合物（ＩＩ）を含む混合物とを反応させることにより得ることもできる。
で表される化合物と、ｃが０である化合物（Ｉ）およびｅが０である化合物（ＩＩ）を含む混合物とを反応させることにより得ることもできる。
なお、ｃが１である化合物（Ｉ）と、ｅが１である化合物（ＩＩ）との混合物は、更に下記式（α）で示される化合物を含んでいてもよい。その場合の、下記式（α）で示される化合物の含有量は、ｃが１である化合物（Ｉ）と、ｅが１である化合物（ＩＩ）との合計量に対し、０．０５〜６０質量％であり、好ましくは、０．０５〜５０質量％であり、さらに好ましくは、０．０５〜３５質量％である。
〔式（α）中、Ｙ１、Ｂ１、Ｌ１、Ａ１、Ｒ１、Ｒ２およびｂは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表し、ｘ、ｙはそれぞれ独立して、０〜３の整数を表す。〕
ここで、ｅが０である化合物（ＩＩ）の好ましい例としては、特に限定されることなく、下記式（ＩＩａ）：
〔式（ＩＩａ）中、Ｒ３およびｄは、前記式（ＩＩ）と同じ意味を表す。〕に示される化合物（以下、「化合物（ＩＩａ）」ということがある。）が挙げられる。
そして、化合物（ＩＩａ）は、例えば特許文献１に記載の方法などの従来公知の方法にて製造することができる。
また、例えば化合物（Ｉａ）と化合物（ＩＩａ）とを含む混合物は、上述した化合物（Ｉａ）と化合物（ＩＩａ）とを所望の割合で混合することにより調製することができる。
更に、化合物（Ｉａ）と化合物（ＩＩａ）とを含む混合物は、例えば、以下に示すように、上記化合物（Ｉａ）を得る製造方法において、化合物（４）に代えて、前記混合物（Ｄ）を使用することにより得ることもできる。
また、ｅが１である化合物（ＩＩ）の好ましい例としては、特に限定されることなく、下記式（ＩＶａ）：
〔式（ＩＶａ）中、Ｒ３およびｄは、前記式（ＩＩ）と同じ意味を表す。〕に示される化合物（以下、「化合物（ＩＶａ）」ということがある。）が挙げられる。
そして、化合物（ＩＶａ）は、例えば特許文献１に記載の方法などの従来公知の方法にて製造することができる。
また、例えば化合物（ＩＩＩａ）と化合物（ＩＶａ）とを含む混合物は、上述した化合物（ＩＩＩａ）と化合物（ＩＶａ）とを所望の割合で混合することにより調製することができる。
更に、化合物（ＩＩＩａ）と化合物（ＩＶａ）とを含む混合物は、例えば、以下に示すように、上記化合物（ＩＩＩａ）を得る製造方法において、化合物（Ｉａ）に代えて、上記化合物（Ｉａ）と化合物（ＩＩａ）とを含む混合物を使用することにより得ることもできる。
〔各式中、Ｒ１、Ｒ２、ａおよびｂは、前記式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｒ３およびｄは、前記式（ＩＩ）と同じ意味を表し、Ｒｄは、前記式（６）と同じ意味を表す。〕
（３）重合性化合物
本発明の重合性化合物は、下記式（ＩＩＩ）で示される化合物（以下、「重合性化合物（ＩＩＩ）」ということがある。）であり、後述する高分子、光学フィルムおよび光学異方体を調製する際に有利に用いることができる。
本発明の重合性化合物は、下記式（ＩＩＩ）で示される化合物（以下、「重合性化合物（ＩＩＩ）」ということがある。）であり、後述する高分子、光学フィルムおよび光学異方体を調製する際に有利に用いることができる。
なお、後述するように、重合性化合物（ＩＩＩ）と、後に詳細に説明する重合性化合物（ＩＶ）（式（ＩＶ）で示される化合物）との混合物を用いることで、液晶相をより安定に長時間維持でき、広いプロセスマージンを有し、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルム等を低コストで製造することができる、重合性液晶組成物を得ることができる。
この理由は、明らかではないが、重合性化合物（ＩＩＩ）が「−（ＣＨ２ＣＨＲ５ＣＯＯ）ｆ−」および／または「−（ＯＣＯＣＨＲ６ＣＨ２）ｋ−」で示される構造を有しているため、重合性化合物（ＩＩＩ）と重合性化合物（ＩＶ）との混合物を用いれば、重合性化合物（ＩＶ）のみを用いる場合と比較して、光学特性（特に、逆波長分散性）を確保しつつ、より低温で液晶相になり易い（即ち、室温で過冷却状態になり易い）液晶層を形成して、高分子を構成材料とした光学フィルム等を得ることができるからであると推察される。
因みに、重合性化合物（ＩＩＩ）は、重合性化合物（ＩＶ）と混合することなく、単独で、重合性液晶組成物および高分子、並びに、高分子を構成材料とした光学フィルム等の調製に用いることもできる。
この理由は、明らかではないが、重合性化合物（ＩＩＩ）が「−（ＣＨ２ＣＨＲ５ＣＯＯ）ｆ−」および／または「−（ＯＣＯＣＨＲ６ＣＨ２）ｋ−」で示される構造を有しているため、重合性化合物（ＩＩＩ）と重合性化合物（ＩＶ）との混合物を用いれば、重合性化合物（ＩＶ）のみを用いる場合と比較して、光学特性（特に、逆波長分散性）を確保しつつ、より低温で液晶相になり易い（即ち、室温で過冷却状態になり易い）液晶層を形成して、高分子を構成材料とした光学フィルム等を得ることができるからであると推察される。
因みに、重合性化合物（ＩＩＩ）は、重合性化合物（ＩＶ）と混合することなく、単独で、重合性液晶組成物および高分子、並びに、高分子を構成材料とした光学フィルム等の調製に用いることもできる。
ここで、式（ＩＩＩ）中、ｆおよびｋは、一方が１〜３の整数で、他方が０〜３の整数であり、ｇおよびｊは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、２〜１２の整数が好ましく、４〜８の整数がより好ましく、ｈおよびｉは、それぞれ独立して、０または１であり、１が好ましい。
そして、Ａｒ１は、Ｄ１を置換基として有する２価の芳香族炭化水素環基、または、Ｄ１を置換基として有する２価の芳香族複素環基である。また、Ｄ１は、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数１〜２０の有機基である。
ここで、Ｄ１を置換基として有する２価の芳香族炭化水素環基またはＤ１を置換基として有する２価の芳香族複素環基とは、Ｄ１が結合している芳香族炭化水素環またはＤ１が結合している芳香族複素環の環部分からＤ１が結合している炭素以外の炭素に結合している水素原子を２個取り除いた基である。
そして、Ａｒ１の２価の芳香族炭化水素環基としては、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、アントラセニル−９，１０−ジイル基、アントラセニル−１，４−ジイル基、アントラセニル−２，６−ジイル基等が挙げられる。
これらの中でも、２価の芳香族炭化水素環基としては、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基または２，６−ナフチレン基が好ましい。
これらの中でも、２価の芳香族炭化水素環基としては、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基または２，６−ナフチレン基が好ましい。
また、Ａｒ１の２価の芳香族複素環基としては、ベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、１，２−ベンゾイソチアゾール−４，７−ジイル基、ベンゾオキサゾール−４，７−ジイル基、インドーニル−４，７−ジイル基、ベンゾイミダゾール−４，７−ジイル基、ベンゾピラゾール−４，７−ジイル基、１−ベンゾフラン−４，７−ジイル基、２−ベンゾフラン−４，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：４，５−ｄ’］ジチアゾリル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：５，４−ｄ’］ジチアゾリル−４，８−ジイル基、ベンゾチオフェニル−４，７−ジイル基、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジチオフェニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジチオフェニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジフラニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジフラニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［２，１−ｂ：４，５−ｂ’］ジピロール−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジピロール−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：４，５−ｄ’］ジイミダゾール−４，８−ジイル基等が挙げられる。
これらの中でも、２価の芳香族複素環基としては、ベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、ベンゾオキサゾール−４，７−ジイル基、１−ベンゾフラン−４，７−ジイル基、２−ベンゾフラン−４，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：４，５−ｄ’］ジチアゾリル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：５，４−ｄ’］ジチアゾリル−４，８−ジイル基、ベンゾチオフェニル−４，７−ジイル基、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジチオフェニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジチオフェニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジフラニル−４，８−ジイル基またはベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジフラニル−４，８−ジイル基が好ましい。
これらの中でも、２価の芳香族複素環基としては、ベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、ベンゾオキサゾール−４，７−ジイル基、１−ベンゾフラン−４，７−ジイル基、２−ベンゾフラン−４，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：４，５−ｄ’］ジチアゾリル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｄ：５，４−ｄ’］ジチアゾリル−４，８−ジイル基、ベンゾチオフェニル−４，７−ジイル基、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジチオフェニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジチオフェニル−４，８−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：５，４−ｂ’］ジフラニル−４，８−ジイル基またはベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジフラニル−４，８−ジイル基が好ましい。
Ａｒ１の２価の芳香族炭化水素環基および２価の芳香族複素環基は、Ｄ１の他に、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ターシャリーブチル基等の炭素数１〜６のアルキル基から選ばれる少なくとも１つの置換基を有していてもよい。置換基が複数の場合は、複数の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。２価の芳香族炭化水素環基および２価の芳香族複素環基のＤ１以外の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基およびターシャリーブチル基から選ばれる少なくとも１つの置換基が好ましい。
また、Ｄ１の、「芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数１〜２０の有機基」において、「芳香環」とは、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、および、チオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示す環状構造を意味する。
そして、Ｄ１が有する芳香環は、１または複数の置換基を有していてもよい。
また、前記Ａｒ１およびＤ１の中に含まれるπ電子の合計数は、通常１２以上であり、好ましくは１２以上２２以下であり、より好ましくは１２以上２０以下である。
また、前記Ａｒ１およびＤ１の中に含まれるπ電子の合計数は、通常１２以上であり、好ましくは１２以上２２以下であり、より好ましくは１２以上２０以下である。
なお、Ｄ１の、芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、フルオレン環等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。
これらの中でも、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。
また、Ｄ１の、芳香族複素環としては、例えば、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、アクリジン環、イソキノリン環、イミダゾール環、インドール環、オキサジアゾール環、オキサゾール環、オキサゾロピラジン環、オキサゾロピリジン環、オキサゾロピリダジル環、オキサゾロピリミジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、キノリン環、シンノリン環、チアジアゾール環、チアゾール環、チアゾロピラジン環、チアゾロピリジン環、チアゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、チオフェン環、トリアジン環、トリアゾール環、ナフチリジン環、ピラジン環、ピラゾール環、ピラノン環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピロール環、フェナントリジン環、フタラジン環、フラン環、ベンゾ［ｃ］チオフェン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアジン環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾピラゾール環、ペンゾピラノン環、ジヒドロピラン環、テトラヒドロピラン環、ジヒドロフラン環、テトラヒドロフラン環等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族複素環としては、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン環、チオフェン環、フラン環、ベンゾ［ｃ］チオフェン環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、ピラン環、ベンゾイソオキサゾール環、チアジアゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾチアジアゾール環が好ましい。
これらの中でも、芳香族複素環としては、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン環、チオフェン環、フラン環、ベンゾ［ｃ］チオフェン環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、ピラン環、ベンゾイソオキサゾール環、チアジアゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾチアジアゾール環が好ましい。
そして、Ｄ１である、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数１〜２０の有機基としては、特に限定されることなく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基、置換基を有していてもよい芳香族複素環基、または、式：−ＲｆＣ（＝Ｎ−ＮＲｇＲｈ）で表される基が挙げられる。
なお、上記式中、Ｒｆは、水素原子、または、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
また、上記式中、Ｒｇは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。ここで、炭素数１〜２０の有機基およびその置換基としては、後述するＲａの炭素数１〜２０の有機基およびその置換基の具体例として列記したものと同じものが挙げられる。
更に、上記式中、Ｒｈは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基を表す。ここで、炭素数２〜２０の有機基およびその置換基の具体例としては、後述するＡｘの炭素数２〜２０の有機基およびその置換基の具体例として列記したものと同じものが挙げられる。
なお、上記式中、Ｒｆは、水素原子、または、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
また、上記式中、Ｒｇは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。ここで、炭素数１〜２０の有機基およびその置換基としては、後述するＲａの炭素数１〜２０の有機基およびその置換基の具体例として列記したものと同じものが挙げられる。
更に、上記式中、Ｒｈは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基を表す。ここで、炭素数２〜２０の有機基およびその置換基の具体例としては、後述するＡｘの炭素数２〜２０の有機基およびその置換基の具体例として列記したものと同じものが挙げられる。
具体的には、Ｄ１となる芳香族炭化水素環基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基、フルオレニル基等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族炭化水素環基としては、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
これらの中でも、芳香族炭化水素環基としては、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
また、Ｄ１となる芳香族複素環基としては、フタルイミド基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、アクリジニル基、イソキノリニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、オキサゾロピラジニル基、オキサゾロピリジニル基、オキサゾロピリダジニル基、オキサゾロピリミジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、キノリル基、シンノリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラノンニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フェナントリジニル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ペンゾピラノンニル基、ジヒドロピラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジヒドロフラニル基、テトラヒドロフラニル基等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族複素環基としては、フラニル基、チエニル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、チアゾロピリジル基が好ましい。
これらの中でも、芳香族複素環基としては、フラニル基、チエニル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、チアゾロピリジル基が好ましい。
Ｄ１となる芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等の炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基；フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ’；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲｂ’；−ＳＲｂ’；−ＳＯ２Ｒｄ’；水酸基；等から選ばれる少なくとも１つの置換基を有していてもよい。ここで、Ｒｂ’は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、Ｒｄ’は、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；フェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基等の、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基を表す。なお、芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基が複数の置換基を有する場合、置換基は同一でも相異なっていてもよい。
Ｒｂ’の、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、および、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フラニル基、チオフェニル基等の炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基等が挙げられる。Ｒｂ’の炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、および、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基は、上述した置換基から選ばれる１または複数の置換基を有していてもよく、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。
また、Ｒｂ’の、炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；および、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基等が挙げられる。Ｒｂ’の炭素数３〜１２のシクロアルキル基は、上述した置換基から選ばれる１または複数の置換基を有していてもよく、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。
そして、上述したＡｒ１およびＤ１の組み合わせ（Ａｒ１−Ｄ１）としては、式：−ＲｆＣ（＝Ｎ−ＮＲｇＲｈ）で表される基で置換されたフェニレン基、１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−（２−ブチル）−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４，６−ジメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、６−メチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４，６，７−トリメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４，５，６−トリメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−メチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−プロピル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、７−プロピル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−フルオロ−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、フェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−フルオロフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−ニトロフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−トリフルオロメチルフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−シアノフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−メタンスルホニルフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、チオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、チオフェン−３−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−メチルチオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−クロロチオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、チエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、２−ベンゾチアゾリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−ビフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−プロピルビフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−チアゾリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、１−フェニルエチレン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−ピリジル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、２−フリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、ナフト［１，２−ｂ］フラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−メトキシ−２−ベンゾチアゾリル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、フェニル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、４−ニトロフェニル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、または、２−チアゾリル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基等が挙げられる。ここで、Ｒｆ、Ｒｇ、Ｒｈは前記と同じ意味を表す。
ここで、Ａｒ１−Ｄ１としては、下記式（Ｖ）で表される２価の基が好ましい。
〔式（Ｖ）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基を表し、Ｒａは、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。〕
なお、本明細書において、下記式（ｉ）で示される部分構造は、下記式（ｉａ）および／または（ｉｉｂ）で示される部分構造を意味する。
ここで、Ａｘの、「芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜２０の有機基」において、「芳香環」とは、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、および、チオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示す環状構造を意味する。
Ａｘの、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環および芳香族複素環を有するものであってもよい。
なお、Ａｘの、芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、フルオレン環等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。
これらの中でも、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。
また、Ａｘの、芳香族複素環としては、例えば、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、アクリジン環、イソキノリン環、イミダゾール環、インドール環、オキサジアゾール環、オキサゾール環、オキサゾロピラジン環、オキサゾロピリジン環、オキサゾロピリダジル環、オキサゾロピリミジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、キノリン環、シンノリン環、チアジアゾール環、チアゾール環、チアゾロピラジン環、チアゾロピリジン環、チアゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、チオフェン環、トリアジン環、トリアゾール環、ナフチリジン環、ピラジン環、ピラゾール環、ピラノン環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピロール環、フェナントリジン環、フタラジン環、フラン環、ベンゾ［ｃ］チオフェン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアジン環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾピラゾール環、ペンゾピラノン環、ジヒドロピラン環、テトラヒドロピラン環、ジヒドロフラン環、テトラヒドロフラン環等が挙げられる。
これらの中でも、芳香族複素環としては、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、チアゾール環等の単環の芳香族複素環；ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、チアゾロピリジン環、チアゾロピラジン環等の縮合環の芳香族複素環が好ましい。
これらの中でも、芳香族複素環としては、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、チアゾール環等の単環の芳香族複素環；ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、チアゾロピリジン環、チアゾロピラジン環等の縮合環の芳香族複素環が好ましい。
Ａｘが有する芳香環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲｂ；−ＳＯ２Ｒｄ；等が挙げられる。ここで、Ｒｂは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。また、Ｒｄは、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；フェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基等の、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基を表す。これらの中でも、Ａｘが有する芳香環の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、および、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。
なお、Ａｘは、上述した置換基から選ばれる複数の置換基を有していてもよい。Ａｘが複数の置換基を有する場合、置換基は同一でも相異なっていてもよい。
なお、Ａｘは、上述した置換基から選ばれる複数の置換基を有していてもよい。Ａｘが複数の置換基を有する場合、置換基は同一でも相異なっていてもよい。
Ｒｂの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。なお、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数は、１〜１２であることが好ましく、４〜１０であることが更に好ましい。
Ｒｂの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数２〜２０のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。
置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。
Ｒｂの炭素数１〜２０のアルキル基および炭素数２〜２０のアルケニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒｂの炭素数１〜２０のアルキル基および炭素数２〜２０のアルケニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基が好ましい。
なお、Ｒｂの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基は、上述した置換基から選ばれる複数の置換基を有していてもよい。Ｒｂの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。
なお、Ｒｂの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基は、上述した置換基から選ばれる複数の置換基を有していてもよい。Ｒｂの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。
Ｒｂの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。これらの中でも、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が好ましい。
Ｒｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基等が挙げられる。中でも、Ｒｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が好ましい。
なお、Ｒｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基は、複数の置換基を有していてもよい。Ｒｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。
Ｒｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基等が挙げられる。中でも、Ｒｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が好ましい。
なお、Ｒｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基は、複数の置換基を有していてもよい。Ｒｂの炭素数３〜１２のシクロアルキル基が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。
Ｒｂの、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基の炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。これらの中でも、フェニル基が好ましい。
置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基等が挙げられる。中でも、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基から選ばれる少なくとも１つの置換基が好ましい。
なお、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基は、複数の置換基を有していてもよい。炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基が複数の置換基を有する場合、置換基は同一でも相異なっていてもよい。
置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基等が挙げられる。中でも、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基から選ばれる少なくとも１つの置換基が好ましい。
なお、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基は、複数の置換基を有していてもよい。炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基が複数の置換基を有する場合、置換基は同一でも相異なっていてもよい。
ここで、Ａｘが有する芳香環は、同一の、または、相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよく、不飽和環であっても、飽和環であってもよい。
なお、Ａｘの炭素数２〜２０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する。
なお、Ａｘの炭素数２〜２０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する。
そして、Ａｘの、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜２０の有機基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基、フルオレニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フタルイミド基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、アクリジニル基、イソキノリニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、オキサゾロピラジニル基、オキサゾロピリジニル基、オキサゾロピリダジニル基、オキサゾロピリミジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、キノリル基、シンノリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジニル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラノンニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フェナントリジニル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ペンゾピラノンニル基、ジヒドロピラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジヒドロフラニル基、テトラヒドロフラニル基等の炭素数２〜２０の芳香族複素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭化水素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する複素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルキル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜２０のアルケニル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜２０のアルキニル基；等が挙げられる。
芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭化水素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する複素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルキル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜２０のアルケニル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜２０のアルキニル基の、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の具体例としては、上記Ｄ１の、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の具体例として列記したものと同じものが挙げられる。
なお、上記の有機基は、１または複数の置換基を有していてもよい。複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。
かかる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲｂ；−ＳＯ２Ｒｄ；等が挙げられる。ここでＲｂ、Ｒｄは、前記と同じ意味を表す。
これらの中でも、Ａｘの有機基が有する置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、および、炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれる少なくとも１つの置換基が好ましい。
これらの中でも、Ａｘの有機基が有する置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、および、炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれる少なくとも１つの置換基が好ましい。
Ａｘとしての、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基の好ましい具体例を以下に示す。但し、本発明は以下に示すものに限定されるものではない。なお、下記式中、「−」は環の任意の位置からのびるＮ原子（即ち、式（Ｖ）においてＡｘと結合するＮ原子）との結合手を表す。
１）芳香族炭化水素環基
２）芳香族複素環基
３）少なくとも１つの芳香環を有する炭化水素環基
４）少なくとも１つの芳香環を有する複素環基
〔各式中、ＸおよびＹは前記と同じ意味を表し、Ｚは、−ＮＲｚ−、酸素原子または硫黄原子を表し、ここで、Ｒｚは前記と同じ意味を表す（但し、各式中において酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ２−は、それぞれ隣接しないものとする。）。〕
５）芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキル基
６）芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルケニル基
７）芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキニル基
なお、上述したＡｘの好ましい具体例が有する環は、１または複数の置換基を有していてもよい。そして、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲｂ；−ＳＯ２Ｒｄ；等が挙げられる。
ここで、ＲｂおよびＲｄは前記と同じ意味を表す。これらの中でも、Ａｘが有する上記環が有する置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、および、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。
ここで、ＲｂおよびＲｄは前記と同じ意味を表す。これらの中でも、Ａｘが有する上記環が有する置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、および、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。
ここで、Ａｘの更に好ましい具体例を以下に示す。但し、Ａｘは以下に示すものに限定されるものではない。
〔各式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。〕
なお、前述した通り、上記環は１または複数の置換基を有していてもよい。複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲｂ；−ＳＯ２Ｒｄ；等が挙げられる。ここで、ＲｂおよびＲｄは前記と同じ意味を表す。
これらの中でも、上記環が有する置換基としてはハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、および、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。
これらの中でも、上記環が有する置換基としてはハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、および、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。
そして、Ａｘとしては、下記式（ＶＩ）で表される基が更に好ましい。
ここで、上記式（ＶＩ）中、ＲＸは、水素原子；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の炭素数１〜６のフルオロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；または、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒｂを表し、Ｒｂは、前記した通り、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。
なお、複数のＲＸ同士は、すべて同一であっても、相異なっていてもよく、環を構成する任意のＣ−ＲＸは、窒素原子に置き換えられていてもよい。
ここで、上記式（ＶＩ）で表される基のＣ−ＲＸが窒素原子に置き換えられた基の具体例を下記に示す。但し、Ｃ−ＲＸが窒素原子に置き換えられた基はこれらに限定されるものではない。
〔各式中、ＲＸは、前記と同じ意味を表す。〕
これらの中でも、Ａｘとしては、上記式（ＶＩ）で表される基のＲＸがすべて水素原子であるものが好ましい。
また、上記式（Ｖ）で表される２価の基のＲａの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基としては、特に制限されることなく、例えば、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ、−ＳＯ２−Ｒｄ、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒｉ、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基、または、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０の芳香族複素環基が挙げられる。
ここで、ＲｂおよびＲｄは、前記と同じ意味を表し、Ｒｉは、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族炭化水素環基、または、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族複素環基を表す。
そして、Ｒｉの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数１〜２０のアルキル基およびその置換基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数２〜２０のアルケニル基およびその置換基、並びに、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の炭素数３〜１２のシクロアルキル基およびその置換基としては、Ｒｂの炭素数１〜２０のアルキル基およびその置換基、炭素数２〜２０のアルケニル基およびその置換基、並びに、炭素数３〜１２のシクロアルキル基およびその置換基の具体例として列記したのと同じものが挙げられる。また、Ｒｉの、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族炭化水素環基としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられ、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族複素環基としては、ピリジニル基、キノリル基等が挙げられる。更に、これらの芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基の置換基としては、Ａｘの炭素数２〜２０の有機基の置換基として例示したものと同じものが挙げられる。
そして、Ｒｉの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数１〜２０のアルキル基およびその置換基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数２〜２０のアルケニル基およびその置換基、並びに、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の炭素数３〜１２のシクロアルキル基およびその置換基としては、Ｒｂの炭素数１〜２０のアルキル基およびその置換基、炭素数２〜２０のアルケニル基およびその置換基、並びに、炭素数３〜１２のシクロアルキル基およびその置換基の具体例として列記したのと同じものが挙げられる。また、Ｒｉの、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族炭化水素環基としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられ、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族複素環基としては、ピリジニル基、キノリル基等が挙げられる。更に、これらの芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基の置換基としては、Ａｘの炭素数２〜２０の有機基の置換基として例示したものと同じものが挙げられる。
なお、Ｒａの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。そして、置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数は、１〜１２であることが好ましく、１〜１０であることが更に好ましい。
また、Ｒａの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数２〜２０のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。
置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。
更に、Ｒａの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の炭素数２〜２０のアルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基）、ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基、２−ペンチニル基、ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、２−オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、７−デカニル基等が挙げられる。
また、Ｒａの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
そして、Ｒａの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、および、炭素数２〜２０のアルキニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、少なくとも１個の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアキル基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲｂ；−ＳＯ２Ｒｄ；−ＳＲｂ；−ＳＲｂで置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；水酸基；等が挙げられる。ここで、ＲｂおよびＲｄは、前記と同じ意味を表す。
なお、Ｒａの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、および、炭素数２〜２０のアルキニル基は、上述した置換基を複数有していてもよく、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。
なお、Ｒａの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、および、炭素数２〜２０のアルキニル基は、上述した置換基を複数有していてもよく、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。
また、Ｒａの炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲｂ；−ＳＯ２Ｒｄ；水酸基；等が挙げられる。ここで、ＲｂおよびＲｄは、前記と同じ意味を表す。
なお、Ｒａの炭素数３〜１２のシクロアルキル基は、上述した置換基を複数有していてもよく、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。
なお、Ｒａの炭素数３〜１２のシクロアルキル基は、上述した置換基を複数有していてもよく、複数の置換基を有する場合は、複数の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。
また、Ｒａの、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基および炭素数２〜２０の芳香族複素環基、並びに、それらの置換基としては、それぞれＡｘの芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基、並びに、それらの置換基として列記したものと同じものが挙げられる。
上述した中でも、Ｒａとしては、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１８の芳香族炭化水素環基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１８の芳香族複素環基が好ましく、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基がより好ましい。
また、前述した式（ＩＩＩ）中、Ｚ１１およびＺ１２は、それぞれ独立して、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ３１−ＣＯ−、または、−ＣＯ−ＮＲ３２−であり、ここで、Ｒ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｚ１１は、−ＣＯ−Ｏ−であることが好ましい。また、Ｚ１２は、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
更に、Ａ１１およびＡ１２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基である。中でも、Ａ１１およびＡ１２は、置換基を有していてもよい環状脂肪族基であることが好ましい。
なお、置換基を有していてもよい環状脂肪族基は、無置換の２価の環状脂肪族基、または、置換基を有する２価の環状脂肪族基である。そして、２価の環状脂肪族基は、炭素数が通常は５〜２０である、環状構造を有する２価の脂肪族基である。
Ａ１１およびＡ１２の２価の環状脂肪族基の具体例としては、前記式（Ｉ）のＡ１の２価の環状脂肪族基として例示したものと同じものが挙げられる。
Ａ１１およびＡ１２の２価の環状脂肪族基の具体例としては、前記式（Ｉ）のＡ１の２価の環状脂肪族基として例示したものと同じものが挙げられる。
また、置換基を有していてもよい芳香族基は、無置換の２価の芳香族基、または、置換基を有する２価の芳香族基である。そして、２価の芳香族基は、炭素数が通常は２〜２０である、芳香環構造を有する２価の芳香族基である。
Ａ１１およびＡ１２の２価の芳香族基の具体例としては、前記式（Ｉ）のＡ１の２価の芳香族基として例示したものと同じものが挙げられる。
Ａ１１およびＡ１２の２価の芳香族基の具体例としては、前記式（Ｉ）のＡ１の２価の芳香族基として例示したものと同じものが挙げられる。
更に、Ａ１１およびＡ１２の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基としては、前記式（Ｉ）のＡ１の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基として例示したものと同じものが挙げられる。
また、ｈおよび／またはｉが１の場合、Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−であり、ここで、Ｒ２１〜Ｒ２６は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｌ１１およびＬ１２は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、または、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
なお、前記Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
なお、前記Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
また、ｈおよび／またはｉが１の場合、Ｂ１１およびＢ１２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基である。中でも、Ｂ１１およびＢ１２は置換基を有していてもよい芳香族基であることが好ましい。
ここで、置換基を有していてもよい環状脂肪族基は、無置換の２価の環状脂肪族基、または、置換基を有する２価の環状脂肪族基である。そして、２価の環状脂肪族基は、炭素数が通常は５〜２０である、環状構造を有する２価の脂肪族基である。
Ｂ１１およびＢ１２の２価の環状脂肪族基の具体例としては、前記式（Ｉ）のＡ１の２価の環状脂肪族基として例示したものと同じものが挙げられる。
Ｂ１１およびＢ１２の２価の環状脂肪族基の具体例としては、前記式（Ｉ）のＡ１の２価の環状脂肪族基として例示したものと同じものが挙げられる。
また、置換基を有していてもよい芳香族基は、無置換の２価の芳香族基、または、置換基を有する２価の芳香族基である。そして、２価の芳香族基は、炭素数が通常は２〜２０である、芳香環構造を有する２価の芳香族基である。
Ｂ１１およびＢ１２の２価の芳香族基の具体例としては、前記式（Ｉ）のＡ１の２価の芳香族基として例示したものと同じものが挙げられる。
Ｂ１１およびＢ１２の２価の芳香族基の具体例としては、前記式（Ｉ）のＡ１の２価の芳香族基として例示したものと同じものが挙げられる。
更に、Ｂ１１およびＢ１２の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基としては、前記式（Ｉ）のＡ１の２価の環状脂肪族基および２価の芳香族基の置換基として例示したものと同じものが挙げられる。
また、Ｙ１１およびＹ１２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−であり、ここで、Ｒ２１〜Ｒ２６は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｙ１１およびＹ１２は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、または、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
なお、Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
なお、Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
そして、Ｒ４〜Ｒ７は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基または塩素原子であり、水素原子またはメチル基であるのが好ましい。なお、Ｒ４〜Ｒ７は、全て同一であることがより好ましく、Ｒ４〜Ｒ７は全て水素原子でことがさらに好ましい。
なお、逆波長分散性に優れる光学フィルム等を得る観点からは、重合性化合物（ＩＩＩ）は、Ａｒ１−Ｄ１を中心として左右が概ね対称な構造を有することが好ましい。具体的には、重合性化合物（ＩＩＩ）では、Ｒ４、ｇおよびｈが、それぞれ、Ｒ７、ｊおよびｉと同じであり、−Ｙ１１−［Ｂ１１−Ｌ１１］ｈ−Ａ１１−Ｚ１１−（＊）と、（＊）−Ｚ１２−Ａ１２−［Ｌ１２−Ｂ１２］ｉ−Ｙ１２−とがＡｒ１に結合する側（＊）を対称中心とした対称構造を有することが好ましい。
なお、「（＊）を対称中心とした対称構造を有する」とは、例えば、−ＣＯ−Ｏ−（＊）と（＊）−Ｏ−ＣＯ−や、−Ｏ−（＊）と（＊）−Ｏ−や、−Ｏ−ＣＯ−（＊）と（＊）−ＣＯ−Ｏ−などの構造を有することを意味する。
なお、「（＊）を対称中心とした対称構造を有する」とは、例えば、−ＣＯ−Ｏ−（＊）と（＊）−Ｏ−ＣＯ−や、−Ｏ−（＊）と（＊）−Ｏ−や、−Ｏ−ＣＯ−（＊）と（＊）−ＣＯ−Ｏ−などの構造を有することを意味する。
上記重合性化合物（ＩＩＩ）は、既知の合成反応を組み合わせて合成することができる。即ち、様々な文献（例えば、ＭＡＲＣＨ’Ｓ ＡＤＶＡＮＣＥＤ ＯＲＧＡＮＩＣ ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ（ＷＩＬＥＹ）、サンドラー・カロ「官能基別有機化合物合成法」稲本直樹共訳（廣川書店））に記載の方法を参照して合成できる。
ここで、ｈおよびｉが１である重合性化合物（ＩＩＩ）の好ましい例としては、特に限定されることなく、下記式（Ｖａ）：
〔式（Ｖａ）中、Ｒ４〜Ｒ７、Ｒａ、Ｒｘ、ｆ、ｇ、ｊおよびｋは、前記と同じ意味を表す。〕に示される化合物（以下、「重合性化合物（Ｖａ）」ということがある。）が挙げられる。
そして、重合性化合物（Ｖａ）の製造方法としては、特に制約はないが、例えば、下記式（７）で表される２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒドと、下記式（ｂ）で表される化合物（以下、「化合物（ｂ）」という。）、下記式（ｃ）で表される化合物（以下、「化合物（ｃ）」という。）を順次反応させ、下記式（９）で表される化合物（以下、「化合物（９）」という。）を得て、得られた化合物（９）に、下記式（１０）で表されるヒドラジン化合物を反応させることにより、重合性化合物（Ｖａ）を得る方法が挙げられる。
〔各式中、Ｒ４〜Ｒ７、ｆ、ｇ、ｊ、ｋ、ＲａおよびＲＸは、前記と同じ意味を表し、Ｌは、前記式（２）と同じく、脱離基を表す。〕
なお、化合物（ｂ）および化合物（ｃ）（以下、「化合物（ｂ）等」ということがある。）において、Ｌがハロゲン原子である化合物（酸ハライド）は、上述した化合物（ＩＩＩａ）に、活性剤の存在下、塩化チオニル等のハロゲン化剤を反応させることにより得ることができる。
ここで、用いる活性剤としては、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩等が挙げられる。
そして、活性剤の使用量は、化合物（ｂ）等１モルに対し、通常０．１〜３モルである。
そして、活性剤の使用量は、化合物（ｂ）等１モルに対し、通常０．１〜３モルである。
また、化合物（ｂ）等において、Ｌがメタンスルホニルオキシ基、または、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等のアルキル（アリール）スルホニルオキシ基の化合物（混合酸無水物）は、適当な溶媒中で、上述した化合物（ＩＩＩａ）に、ＲｄＳＯ２Ｃｌ〔式中、Ｒｄは、前記式（６）と同じ意味を表す。〕で表されるスルホニルクロライド化合物を、塩基の存在下で反応させることで得られる。
なお、塩基としては、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等を用いることができる。
また、上記適当な溶媒としては、前記化合物（Ｉａ）を製造する際に用いることができる溶媒として例示したもの、並びに、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒を用いることができる。なかでも、エーテル系溶媒が好ましい。
なお、塩基としては、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等を用いることができる。
また、上記適当な溶媒としては、前記化合物（Ｉａ）を製造する際に用いることができる溶媒として例示したもの、並びに、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒を用いることができる。なかでも、エーテル系溶媒が好ましい。
上記式（７）で表される２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒドと化合物（ｂ）等との反応に用いる溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン等のエーテル類；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；および、これらの溶媒の２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、化合物（ｂ）等１ｇに対し、通常１〜５０ｇである。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、化合物（ｂ）等１ｇに対し、通常１〜５０ｇである。
なお、目的とする重合性化合物（Ｖａ）は、得られた化合物（９）とヒドラジン化合物（１０）とを、モル比（化合物（９）：ヒドラジン化合物（１０））で、１：２〜２：１、好ましくは１：１．５〜１．５：１の割合で反応させることにより、高選択的かつ高収率で製造することができる。
この場合、（±）−１０−カンファースルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸；塩酸、硫酸等の無機酸；等の酸触媒を添加して反応を行うことができる。酸触媒を添加することで反応時間が短縮され、収率が向上する場合がある。酸触媒の添加量は化合物（９）１モルに対して、通常０．００１〜１モルである。また、酸触媒はそのまま添加してもよいし、適当な溶液に溶解させた溶液として添加してもよい。
化合物（９）とヒドラジン化合物（１０）との反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルルコール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶媒；および、これらの２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。
これらの中でも、アルコール系溶媒、塩素系溶媒、エーテル系溶媒、および、これらの２種以上からなる混合溶媒が好ましい。
これらの中でも、アルコール系溶媒、塩素系溶媒、エーテル系溶媒、および、これらの２種以上からなる混合溶媒が好ましい。
なお、溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、ヒドラジン化合物（１０）１ｇに対し、通常１〜１００ｇである。
また、反応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。
（４）重合性化合物を含む混合物
本発明の混合物は、前記重合性化合物（ＩＩＩ）と、下記式（ＩＶ）で示される重合性化合物（重合性化合物（ＩＶ））とを含む混合物であり、例えば後述する重合性液晶組成物および高分子の製造に用いることができる。
なお、混合物または混合物を用いて調製した重合性液晶組成物を使用して光学フィルム等を形成する際にプロセスマージンを広げつつ得られる光学フィルムの逆波長分散性を高める観点からは、混合物中の重合性化合物（ＩＩＩ）と重合性化合物（ＩＶ）との質量比（重合性化合物（ＩＩＩ）：重合性化合物（ＩＶ））は、１：１０００〜２０：１００であることが好ましく、１：１００〜２０：１００であることがより好ましい。
本発明の混合物は、前記重合性化合物（ＩＩＩ）と、下記式（ＩＶ）で示される重合性化合物（重合性化合物（ＩＶ））とを含む混合物であり、例えば後述する重合性液晶組成物および高分子の製造に用いることができる。
なお、混合物または混合物を用いて調製した重合性液晶組成物を使用して光学フィルム等を形成する際にプロセスマージンを広げつつ得られる光学フィルムの逆波長分散性を高める観点からは、混合物中の重合性化合物（ＩＩＩ）と重合性化合物（ＩＶ）との質量比（重合性化合物（ＩＩＩ）：重合性化合物（ＩＶ））は、１：１０００〜２０：１００であることが好ましく、１：１００〜２０：１００であることがより好ましい。
なお、重合性化合物（ＩＩＩ）と重合性化合物（ＩＶ）との混合物を使用すれば、液晶相をより安定に長時間維持でき、広いプロセスマージンを有し、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルム等を低コストで製造することができる。
この理由は、明らかではないが、重合性化合物（ＩＩＩ）が「−（ＣＨ２ＣＨＲ５ＣＯＯ）ｆ−」および／または「−（ＯＣＯＣＨＲ６ＣＨ２）ｋ−」で示される構造を有しているため、重合性化合物（ＩＩＩ）と重合性化合物（ＩＶ）との混合物を用いれば、重合性化合物（ＩＶ）のみを用いる場合と比較して、光学特性（特に、逆波長分散性）を確保しつつ、より低温で液晶相になり易い（即ち、室温で過冷却状態になり易い）液晶層を形成して、高分子を構成材料とした光学フィルム等を得ることができるからであると推察される。
この理由は、明らかではないが、重合性化合物（ＩＩＩ）が「−（ＣＨ２ＣＨＲ５ＣＯＯ）ｆ−」および／または「−（ＯＣＯＣＨＲ６ＣＨ２）ｋ−」で示される構造を有しているため、重合性化合物（ＩＩＩ）と重合性化合物（ＩＶ）との混合物を用いれば、重合性化合物（ＩＶ）のみを用いる場合と比較して、光学特性（特に、逆波長分散性）を確保しつつ、より低温で液晶相になり易い（即ち、室温で過冷却状態になり易い）液晶層を形成して、高分子を構成材料とした光学フィルム等を得ることができるからであると推察される。
ここで、式（ＩＶ）中、ｍおよびｑは、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、２〜１２の整数が好ましく、４〜８の整数がより好ましく、ｎおよびｐは、それぞれ独立して、０または１であり、１が好ましい。
そして、Ａｒ２は、Ｄ２を置換基として有する２価の芳香族炭化水素環基、または、Ｄ２を置換基として有する２価の芳香族複素環基である。また、Ｄ２は、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数１〜２０の有機基である。
ここで、Ｄ２を置換基として有する２価の芳香族炭化水素環基またはＤ２を置換基として有する２価の芳香族複素環基とは、Ｄ２が結合している芳香族炭化水素環またはＤ２が結合している芳香族複素環の環部分からＤ２が結合している炭素以外の炭素に結合している水素原子を２個取り除いた基である。
そして、Ａｒ２の２価の芳香族炭化水素環基としては、前記重合性化合物（ＩＩＩ）のＡｒ１の２価の芳香族炭化水素環基として例記したものと同じものが挙げられる。
また、Ａｒ２の２価の芳香族複素環基としては、前記重合性化合物（ＩＩＩ）のＡｒ１の２価の芳香族複素環基として例記したものと同じものが挙げられる。
また、Ａｒ２の２価の芳香族複素環基としては、前記重合性化合物（ＩＩＩ）のＡｒ１の２価の芳香族複素環基として例記したものと同じものが挙げられる。
なお、Ａｒ２の２価の芳香族炭化水素環基および２価の芳香族複素環基は、重合性化合物（ＩＩＩ）のＡｒ１と同じく、Ｄ２の他に少なくとも１つの置換基を有していてもよい。そして、Ａｒ２の２価の芳香族炭化水素環基および２価の芳香族複素環基が有する置換基としては、Ａｒ１の２価の芳香族炭化水素環基および２価の芳香族複素環基が置換基を有する場合の置換基として例示したものと同じものが挙げられる。
また、Ｄ２の、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数１〜２０の有機基としては、前記重合性化合物（ＩＩＩ）のＤ１の、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数１〜２０の有機基として例示したものと同じものが挙げられる。
そして、Ａｒ２およびＤ２の組み合わせ（Ａｒ２−Ｄ２）としては、式：−ＲｆＣ（＝Ｎ−ＮＲｇＲｈ）で表される基で置換されたフェニレン基、１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−（２−ブチル）−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４，６−ジメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、６−メチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４，６，７−トリメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４，５，６−トリメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−メチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−プロピル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、７−プロピル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−フルオロ−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、フェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−フルオロフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−ニトロフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−トリフルオロメチルフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−シアノフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−メタンスルホニルフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、チオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、チオフェン−３−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−メチルチオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−クロロチオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、チエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、２−ベンゾチアゾリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−ビフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−プロピルビフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−チアゾリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、１−フェニルエチレン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−ピリジル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、２−フリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、ナフト［１，２−ｂ］フラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、５−メトキシ−２−ベンゾチアゾリル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、フェニル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、４−ニトロフェニル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基、または、２−チアゾリル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基等が挙げられる。ここで、Ｒｆ、Ｒｇ、Ｒｈは前記と同じ意味を表す。
これらの中でも、Ａｒ２−Ｄ２としては、下記式（ＶＩＩ）で表される基がより好ましい。
〔式（ＶＩＩ）中、Ａｙは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基を表し、Ｒｃは、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。〕
ここで、Ａｙの、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基としては、前記式（Ｖ）のＡｘの芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数２〜２０の有機基として例示したものと同じものが挙げられる。
中でも、Ａｙとしては、前記式（Ｖ）のＡｘと同じく、下記式（ＶＩ）で表される基が好ましく、下記式（ＶＩ）で表される基のＲＸがすべて水素原子であるものが更に好ましい。
〔式（ＶＩ）中、ＲＸは前記と同じ意味を表す。〕
また、Ｒｃの置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基としては、前記式（Ｖ）のＲａの置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基として例示したのと同じものが挙げられる。
また、前述した式（ＩＶ）中、Ｚ２１およびＺ２２は、それぞれ独立して、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ３１−ＣＯ−、または、−ＣＯ−ＮＲ３２−であり、ここで、Ｒ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｚ２１は、−ＣＯ−Ｏ−であることが好ましい。また、Ｚ２２は、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
更に、Ａ２１およびＡ２２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基である。中でも、Ａ２１およびＡ２２は、置換基を有していてもよい環状脂肪族基であることが好ましい。
なお、Ａ２１およびＡ２２の、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基としては、前記重合性化合物（ＩＩＩ）のＡ１１およびＡ１２の置換基を有していてもよい環状脂肪族基または置換基を有していてもよい芳香族基と同じものが挙げられる。
なお、Ａ２１およびＡ２２の、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基としては、前記重合性化合物（ＩＩＩ）のＡ１１およびＡ１２の置換基を有していてもよい環状脂肪族基または置換基を有していてもよい芳香族基と同じものが挙げられる。
また、ｎおよび／またはｐが１の場合、Ｌ２１およびＬ２２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−であり、ここで、Ｒ２１〜Ｒ２６は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｌ２１およびＬ２２は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、または、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
なお、前記Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
なお、前記Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
また、ｎおよび／またはｐが１の場合、Ｂ２１およびＢ２２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基である。中でも、Ｂ２１およびＢ２２は置換基を有していてもよい芳香族基であることが好ましい。
なお、Ｂ２１およびＢ２２の、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基としては、前記重合性化合物（ＩＩＩ）のＢ１１およびＢ１２の置換基を有していてもよい環状脂肪族基または置換基を有していてもよい芳香族基と同じものが挙げられる。
なお、Ｂ２１およびＢ２２の、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基としては、前記重合性化合物（ＩＩＩ）のＢ１１およびＢ１２の置換基を有していてもよい環状脂肪族基または置換基を有していてもよい芳香族基と同じものが挙げられる。
また、Ｙ２１およびＹ２２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−であり、ここで、Ｒ２１〜Ｒ２６は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。中でも、Ｙ２１およびＹ２２は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、または、−Ｏ−ＣＯ−であることが好ましい。
なお、Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
なお、Ｒ２１〜Ｒ２６の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
そして、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基または塩素原子であり、水素原子またはメチル基であるのが好ましい。なお、Ｒ８はＲ９と同一であることがより好ましく、Ｒ８およびＲ９は共に水素原子でことがさらに好ましい。
なお、逆波長分散性に優れる光学フィルム等を得る観点からは、重合性化合物（ＩＶ）は、Ａｒ２−Ｄ２を中心として左右が対称な構造を有することが好ましい。具体的には、重合性化合物（ＩＶ）では、Ｒ８、ｍおよびｎが、それぞれ、Ｒ９、ｑおよびｐと同じであり、−Ｙ２１−［Ｂ２１−Ｌ２１］ｎ−Ａ２１−Ｚ２１−（＊）と、（＊）−Ｚ２２−Ａ２２−［Ｌ２２−Ｂ２２］ｐ−Ｙ２２−とがＡｒ２に結合する側（＊）を対称中心とした対称構造を有することが好ましい。
なお、「（＊）を対称中心とした対称構造を有する」とは、例えば、−ＣＯ−Ｏ−（＊）と（＊）−Ｏ−ＣＯ−や、−Ｏ−（＊）と（＊）−Ｏ−や、−Ｏ−ＣＯ−（＊）と（＊）−ＣＯ−Ｏ−などの構造を有することを意味する。
なお、「（＊）を対称中心とした対称構造を有する」とは、例えば、−ＣＯ−Ｏ−（＊）と（＊）−Ｏ−ＣＯ−や、−Ｏ−（＊）と（＊）−Ｏ−や、−Ｏ−ＣＯ−（＊）と（＊）−ＣＯ−Ｏ−などの構造を有することを意味する。
上記重合性化合物（ＩＶ）は、既知の合成反応を組み合わせて製造することができる。即ち、様々な文献（例えば、ＭＡＲＣＨ’Ｓ ＡＤＶＡＮＣＥＤ ＯＲＧＡＮＩＣ ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ（ＷＩＬＥＹ）、サンドラー・カロ「官能基別有機化合物合成法」稲本直樹共訳（廣川書店））に記載の方法を参照して合成できる。
なお、特に限定されるものではないが、光学フィルム等の逆波長分散性を高める観点からは、本発明の混合物では、重合性化合物（ＩＩＩ）のＡｒ１、Ｚ１１、Ｚ１２、Ａ１１、Ａ１２、Ｂ１１、Ｂ１２、Ｙ１１、Ｙ１２、Ｌ１１、Ｌ１２、Ｒ４、Ｒ７、ｇ、ｊ、ｈおよびｉは、それぞれ、重合性化合物（ＩＶ）のＡｒ２、Ｚ２１、Ｚ２２、Ａ２１、Ａ２２、Ｂ２１、Ｂ２２、Ｙ２１、Ｙ２２、Ｌ２１、Ｌ２２、Ｒ８、Ｒ９、ｍ、ｑ、ｎおよびｐと同じであることが好ましい。なお、Ｄ１およびＤ２は、互いに同一でも、異なっていてもよい。
即ち、重合性化合物（ＩＩＩ）のＤ１以外の部分は、「ＣＨ２ＣＲ４ＣＯＯ−」と「−（ＣＨ２）ｇ−」との間に「−（ＣＨ２ＣＨＲ５ＣＯＯ）ｆ−」を有さず、「−ＯＣＯＣＲ７ＣＨ２」と「−（ＣＨ２）ｊ−」との間に「−（ＯＣＯＣＨＲ６ＣＨ２）ｋ−」を有さない以外は重合性化合物（ＩＶ）のＤ２以外の部分と同じ構造を有していることが好ましい。
即ち、重合性化合物（ＩＩＩ）のＤ１以外の部分は、「ＣＨ２ＣＲ４ＣＯＯ−」と「−（ＣＨ２）ｇ−」との間に「−（ＣＨ２ＣＨＲ５ＣＯＯ）ｆ−」を有さず、「−ＯＣＯＣＲ７ＣＨ２」と「−（ＣＨ２）ｊ−」との間に「−（ＯＣＯＣＨＲ６ＣＨ２）ｋ−」を有さない以外は重合性化合物（ＩＶ）のＤ２以外の部分と同じ構造を有していることが好ましい。
そして、混合物は、例えば、重合性化合物（ＩＩＩ）と重合性化合物（ＩＶ）とを所望の割合で混合することにより調製することができる。
また、混合物は、特に限定されることなく、下記式：
〔式中、Ｌ４は、前述した化合物（Ｉ）のＦＧ１または化合物（ＩＩ）のＦＧ２と反応して−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ３１−ＣＯ−、または、−ＣＯ−ＮＲ３２−を形成し得る基（但し、Ｒ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である）を表し、Ｌ５はＤ１に変換可能な基を表し、Ａｒ１は、前記式（ＩＩＩ）と同じ意味を表す。〕
で表される化合物と、前述した化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）を含む混合物とを反応させ、その後、Ｌ５をＤ１に変換することにより得ることもできる。
で表される化合物と、前述した化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）を含む混合物とを反応させ、その後、Ｌ５をＤ１に変換することにより得ることもできる。
ここで、ｎおよびｐが１である重合性化合物（ＩＶ）の好ましい例としては、特に限定されることなく、下記式（ＶＩａ）：
〔式（ＶＩａ）中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒｃ、Ｒｘ、ｍおよびｑは前記と同じ意味を表し、ＲＸはすべて水素原子であるのが好ましい。〕に示される化合物（以下、「化合物（ＶＩａ）」ということがある。）が挙げられる。
そして、化合物（ＶＩａ）は、例えば特許文献１に記載の方法などの従来公知の方法にて製造することができる。
また、例えば化合物（Ｖａ）と化合物（ＶＩａ）とを含む混合物は、上述した化合物（Ｖａ）と化合物（ＶＩａ）とを所望の割合で混合することにより調製することができる。
更に、化合物（Ｖａ）と化合物（ＶＩａ）とを含む混合物は、例えば、上述した化合物（Ｖａ）を得る製造方法において、化合物（ｂ）および化合物（ｃ）に代えて、化合物（ＩＩＩａ）と化合物（ＩＶａ）とを含む混合物を使用することにより得ることもできる。
（５）重合性液晶組成物
本発明の重合性液晶組成物は、上述した重合性化合物を含む混合物（重合性化合物（ＩＩＩ）および重合性化合物（ＩＶ）を含む混合物）と、重合開始剤とを含有する。
なお、本発明の重合性液晶組成物は、後述するように、本発明の高分子、光学フィルム、光学異方体の製造原料として有用である。そして、本発明の重合性液晶組成物によれば、液晶相をより安定に長時間維持でき、広いプロセスマージンを有し、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルム等を低コストで製造することができる。
本発明の重合性液晶組成物は、上述した重合性化合物を含む混合物（重合性化合物（ＩＩＩ）および重合性化合物（ＩＶ）を含む混合物）と、重合開始剤とを含有する。
なお、本発明の重合性液晶組成物は、後述するように、本発明の高分子、光学フィルム、光学異方体の製造原料として有用である。そして、本発明の重合性液晶組成物によれば、液晶相をより安定に長時間維持でき、広いプロセスマージンを有し、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルム等を低コストで製造することができる。
ここで、重合開始剤は、重合性液晶組成物に含まれている重合性化合物の重合反応をより効率的に行う観点から配合される。
そして、用いる重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等が挙げられる。
そして、用いる重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等が挙げられる。
ラジカル重合開始剤としては、加熱することにより、重合性化合物の重合を開始し得る活性種が発生する化合物である熱ラジカル発生剤；や、可視光線、紫外線（ｉ線など）、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の露光光の露光により、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である光ラジカル発生剤；のいずれも使用可能であるが、光ラジカル発生剤を使用するのが好適である。
光ラジカル発生剤としては、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、Ｏ−アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、イミドスルホナート系化合物等を挙げることができる。これらの化合物は、露光によって活性ラジカルまたは活性酸、あるいは活性ラジカルと活性酸の両方を発生する成分である。光ラジカル発生剤は、一種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
アセトフェノン系化合物の具体例としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１，２−オクタンジオン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４’−モルフォリノブチロフェノン等を挙げることができる。
ビイミダゾール系化合物の具体例としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。
なお、本発明においては、光重合開始剤（光ラジカル発生剤）としてビイミダゾール系化合物を用いる場合、水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
ここで、「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。
ここで、「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。
メルカプタン系化合物としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。アミン系化合物としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等を挙げることができる。
トリアジン系化合物としては、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン系化合物を挙げることができる。
Ｏ−アシルオキシム系化合物の具体例としては、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−ヘプタン−１，２−ジオン２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−オクタン−１，２−ジオン２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−〔４−（ベンゾイル）フェニル〕−オクタン−１，２−ジオン２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−［９−エチル−６−（３−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−（９−エチル−６−ベンゾイル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）−エタノン１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）ベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等を挙げることができる。
また、光ラジカル発生剤として、市販品をそのまま用いることもできる。具体例としては、ＢＡＳＦ社製の、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、および、商品名：ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０２、並びに、ＡＤＥＫＡ社製の、商品名：アデカオプトマーＮ１９１９等が挙げられる。
前記アニオン重合開始剤としては、アルキルリチウム化合物；ビフェニル、ナフタレン、ピレン等の、モノリチウム塩またはモノナトリウム塩；ジリチウム塩やトリリチウム塩等の多官能性開始剤；等が挙げられる。
また、前記カチオン重合開始剤としては、硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸；三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズのようなルイス酸；芳香族オニウム塩または芳香族オニウム塩と、還元剤との併用系；が挙げられる。
これらの重合開始剤は一種単独で、または二種以上を組み合わせて用いることができる。
なお、本発明の重合性液晶組成物において、重合開始剤の配合割合は、上述した重合性化合物を含む混合物１００質量部に対し、通常、０．１〜３０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部である。
また、本発明の重合性液晶組成物には、表面張力を調整するために、界面活性剤を配合するのが好ましい。当該界面活性剤としては、特に限定はないが、通常、ノニオン系界面活性剤が好ましい。当該ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いればよく、例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤、例えば、ネオス社製、商品名：フタージェント２０８Ｇが挙げられる。
ここで、本発明の重合性液晶組成物において、界面活性剤の配合割合は、全重合性化合物１００質量部に対し、通常、０．０１〜１０質量部、好ましくは０．１〜２質量部である。
ここで、本発明の重合性液晶組成物において、界面活性剤の配合割合は、全重合性化合物１００質量部に対し、通常、０．０１〜１０質量部、好ましくは０．１〜２質量部である。
更に、本発明の重合性液晶組成物には、重合性化合物を含む混合物、重合開始剤、界面活性剤の他、本発明の効果に影響が出ない範囲で、他の成分が更に含まれていてもよい。他の成分としては、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等が挙げられる。
また、他の成分としては、他の共重合可能な単量体も挙げられる。具体的には、特に限定されるものではなく、例えば、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−メトキシフェニル、４−（６−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸ビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−３’，４’−ジフルオロフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸ナフチル、４−アクリロイルオキシ−４’−デシルビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−シアノビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−メトキシビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−（４”−フルオロベンジルオキシ）−ビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−プロピルシクロヘキシルフェニル、４−メタクリロイル−４’−ブチルビシクロヘキシル、４−アクリロイル−４’−アミルトラン、４−アクリロイル−４’−（３，４−ジフルオロフェニル）ビシクロヘキシル、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−アミルフェニル）、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−（４’−プロピルシクロヘキシル）フェニル）、商品名「ＬＣ−２４２」（ＢＡＳＦ社製）、並びに、特開２００７−００２２０８号公報、特開２００９−１７３８９３号公報、特開２００９−２７４９８４号公報、特開２０１０−０３０９７９号公報、特開２０１０−０３１２２３号公報、特開２０１１−００６３６０号公報および特開２０１０−２４４３８号公報に開示されている化合物等の共重合可能な単量体が挙げられる。
これらの他の成分の配合割合は、全重合性化合物１００質量部に対し、通常、０．１〜２０質量部である。
また、他の成分としては、他の共重合可能な単量体も挙げられる。具体的には、特に限定されるものではなく、例えば、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−メトキシフェニル、４−（６−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸ビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−３’，４’−ジフルオロフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸ナフチル、４−アクリロイルオキシ−４’−デシルビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−シアノビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−メトキシビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−（４”−フルオロベンジルオキシ）−ビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−プロピルシクロヘキシルフェニル、４−メタクリロイル−４’−ブチルビシクロヘキシル、４−アクリロイル−４’−アミルトラン、４−アクリロイル−４’−（３，４−ジフルオロフェニル）ビシクロヘキシル、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−アミルフェニル）、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−（４’−プロピルシクロヘキシル）フェニル）、商品名「ＬＣ−２４２」（ＢＡＳＦ社製）、並びに、特開２００７−００２２０８号公報、特開２００９−１７３８９３号公報、特開２００９−２７４９８４号公報、特開２０１０−０３０９７９号公報、特開２０１０−０３１２２３号公報、特開２０１１−００６３６０号公報および特開２０１０−２４４３８号公報に開示されている化合物等の共重合可能な単量体が挙げられる。
これらの他の成分の配合割合は、全重合性化合物１００質量部に対し、通常、０．１〜２０質量部である。
本発明の重合性液晶組成物は、通常、重合性化合物を含む混合物、重合開始剤、および、所望により配合される他の成分等の所定量を、適当な有機溶媒に混合・溶解させることにより、調製することができる。
なお、この場合、混合物としての重合性化合物（ＩＩＩ）と重合性化合物（ＩＶ）とは、予め混合した状態で添加してもよいし、別々に添加してもよい。
なお、この場合、混合物としての重合性化合物（ＩＩＩ）と重合性化合物（ＩＶ）とは、予め混合した状態で添加してもよいし、別々に添加してもよい。
用いる有機溶媒としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン等のエーテル類；等が挙げられる。
（６）高分子
本発明の高分子は、上述した重合性化合物を含む混合物（重合性化合物（ＩＩＩ）および重合性化合物（ＩＶ）を含む混合物）、または、上述した重合性液晶組成物を重合して得られるものである。
ここで、「重合」とは、通常の重合反応のほか、架橋反応を含む広い意味での化学反応を意味するものとする。
そして、本発明の高分子は、通常、重合性化合物（ＩＩＩ）に由来する下記の単量体単位（繰り返し単位（ＩＩＩ）’）と、重合性化合物（ＩＶ）に由来する下記の単量体単位（繰り返し単位（ＩＶ）’）とを有している。
〔式（ＩＩＩ）’中のＡｒ１、Ｄ１、Ｚ１１、Ｚ１２、Ａ１１、Ａ１２、Ｂ１１、Ｂ１２、Ｙ１１、Ｙ１２、Ｌ１１、Ｌ１２、Ｒ４〜Ｒ７、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊおよびｋは、式（ＩＩＩ）と同じ意味であり、式（ＩＶ）’中のＡｒ２、Ｄ２、Ｚ２１、Ｚ２２、Ａ２１、Ａ２２、Ｂ２１、Ｂ２２、Ｙ２１、Ｙ２２、Ｌ２１、Ｌ２２、Ｒ８、Ｒ９、ｍ、ｎ、ｐおよびｑは、式（ＩＶ）と同じ意味である。〕
本発明の高分子は、上述した重合性化合物を含む混合物（重合性化合物（ＩＩＩ）および重合性化合物（ＩＶ）を含む混合物）、または、上述した重合性液晶組成物を重合して得られるものである。
ここで、「重合」とは、通常の重合反応のほか、架橋反応を含む広い意味での化学反応を意味するものとする。
そして、本発明の高分子は、通常、重合性化合物（ＩＩＩ）に由来する下記の単量体単位（繰り返し単位（ＩＩＩ）’）と、重合性化合物（ＩＶ）に由来する下記の単量体単位（繰り返し単位（ＩＶ）’）とを有している。
なお、本発明の高分子は、重合性化合物（ＩＩＩ）および重合性化合物（ＩＶ）を含む混合物を用いて調製しているので、光学フィルム等の構成材料として良好に用いることができる。
また、本発明の高分子は、特に限定されることなく、フィルム状、粉体状、粉体が集合した層状などの用途に応じた任意の形状にして使用することができる。
具体的には、高分子のフィルムは、後述する光学フィルムおよび光学異方体の構成材料として良好に用いることができ、高分子の粉は、塗料、偽造防止物品、セキュリティ物品等に利用することができ、高分子の粉よりなる層は、光学異方体の構成材料として良好に用いることができる。
具体的には、高分子のフィルムは、後述する光学フィルムおよび光学異方体の構成材料として良好に用いることができ、高分子の粉は、塗料、偽造防止物品、セキュリティ物品等に利用することができ、高分子の粉よりなる層は、光学異方体の構成材料として良好に用いることができる。
そして、本発明の高分子は、具体的には、（α）適当な有機溶媒中で、重合性化合物を含む混合物、または、重合性液晶組成物の重合反応を行った後、目的とする高分子を単離し、得られる高分子を適当な有機溶媒に溶解して溶液を調製し、この溶液を適当な基板上に塗工して得られた塗膜を乾燥後、所望により加熱することにより得る方法、（β）重合性化合物を含む混合物、または、重合性液晶組成物を有機溶媒に溶解し、この溶液を、公知の塗工法により基板上に塗布した後、脱溶媒し、次いで加熱または活性エネルギー線を照射することにより重合反応を行う方法等により好適に製造することができる。
前記（α）の方法において重合反応に用いる有機溶媒としては、不活性なものであれば、特に制限されない。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素；シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類；等が挙げられる。
これらの中でも、取り扱い性に優れる観点から、沸点が６０〜２５０℃のものが好ましく、６０〜１５０℃のものがより好ましい。
これらの中でも、取り扱い性に優れる観点から、沸点が６０〜２５０℃のものが好ましく、６０〜１５０℃のものがより好ましい。
また、前記（α）の方法において、単離した高分子を溶解するための有機溶媒、および、前記（β）の方法で用いる有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶剤；等が挙げられる。これらの中でも、取り扱いが容易な点から、溶媒の沸点が６０〜２００℃のものが好ましい。これらの溶剤は単独でも用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記（α）および（β）の方法において用いる基板としては、有機、無機を問わず、公知慣用の材質のものを使用することができる。例えば、有機材料としては、ポリシクロオレフィン〔例えば、ゼオネックス、ゼオノア（登録商標；日本ゼオン社製）、アートン（登録商標；ＪＳＲ社製）、および、アペル（登録商標；三井化学社製）〕、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、セルロース、三酢酸セルロース、ポリエーテルスルホン等が挙げられ、無機材料としては、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。
また、用いる基板は、単層のものであっても、積層体であってもよい。
基板としては、有機材料からなる基板が好ましく、有機材料をフィルム状にした樹脂フィルムが更に好ましい。
なお、基板としては、後述する光学異方体の作製に用いられる基板等も挙げられる。
また、用いる基板は、単層のものであっても、積層体であってもよい。
基板としては、有機材料からなる基板が好ましく、有機材料をフィルム状にした樹脂フィルムが更に好ましい。
なお、基板としては、後述する光学異方体の作製に用いられる基板等も挙げられる。
また、（α）の方法において高分子の溶液を基板に塗布する方法、および、（β）の方法において重合反応用の溶液を基板に塗布する方法としては、公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、キャップコーティング法等を用いることができる。
更に、前記（α）および（β）の方法における乾燥または脱溶媒の方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等を用いることができる。
また、混合物および重合性液晶組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。
ここで、光の照射時の温度は、３０℃以下とすることが好ましい。光照射強度は、通常、１Ｗ／ｍ２〜１０ｋＷ／ｍ２の範囲、好ましくは５Ｗ／ｍ２〜２ｋＷ／ｍ２の範囲である。
上述のようにして得られた高分子は、基板から転写して使用することも、基板から剥離して単体で使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学フィルム等の構成材料等として使用することもできる。
また、基板から剥離した高分子は、既知の方法で粉砕して粉体状にしてから使用することもできる。
また、基板から剥離した高分子は、既知の方法で粉砕して粉体状にしてから使用することもできる。
以上のようにして得られる本発明の高分子の数平均分子量は、好ましくは５００〜５００，０００、更に好ましくは５，０００〜３００，０００である。該数平均分子量がかかる範囲にあれば、高い硬度が得られ、取り扱い性にも優れるため望ましい。高分子の数平均分子量は、単分散のポリスチレンを標準試料とし、テトラヒドロフランを溶離液としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。
そして、本発明の高分子によれば、液晶相をより安定に長時間維持でき、広いプロセスマージンを有し、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルム等を低コストで得ることができる。
（７）光学フィルム
本発明の光学フィルムは、本発明の高分子を用いて形成され、光学的な機能を有する層を含む。光学的な機能とは、単なる透過、反射、屈折、複屈折などを意味する。
本発明の光学フィルムは、本発明の高分子を用いて形成され、光学的な機能を有する層を含む。光学的な機能とは、単なる透過、反射、屈折、複屈折などを意味する。
ここで、本発明の光学フィルムは、配向膜を有していてもよい配向基板上に形成されたままの形態（配向基板／（配向膜）／光学フィルム）、配向基板とは異なる透明基板フィルム等に光学フィルムを転写した形態（透明基板フィルム／光学フィルム）、または、光学フィルムに自己支持性がある場合には光学フィルム単層形態（光学フィルム）のいずれの形態であってもよい。
なお、配向膜および配向基板としては、後述する光学異方体と同じ基板および配向膜を用いることができる。
なお、配向膜および配向基板としては、後述する光学異方体と同じ基板および配向膜を用いることができる。
そして、本発明の光学フィルムは、（Ａ）重合性化合物を含む混合物の溶液、または、重合性液晶組成物の溶液を配向基板上に塗布し、得られた塗膜を乾燥し、熱処理（液晶の配向）、並びに、光照射および／または加熱処理（重合）を行う方法や、（Ｂ）重合性化合物を含む混合物または液晶性組成物を重合して得られる液晶性高分子の溶液を配向基板上に塗布し、任意に得られた塗膜を乾燥する方法により製造することができる。
本発明の光学フィルムは、光学異方体、液晶表示素子用配向膜、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等に用いることができる。
なお、本発明の光学フィルムは、エリプソメーターで測定した波長４４９．９ｎｍ、５４８．５ｎｍ、６５０．２ｎｍにおける位相差から求められる、下記α値およびβ値が所定の範囲内にあることが好ましい。具体的には、α値は、０．７０〜０．９９であることが好ましく、０．７５〜０．９０であることがより好ましい。また、β値は、１．００〜１．２５であることが好ましく、１．０１〜１．２０であることがより好ましい。
α＝（４４９．９ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
β＝（６５０．２ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
α＝（４４９．９ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
β＝（６５０．２ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
（８）光学異方体
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とする層を有する。
本発明の光学異方体は、例えば、基板上に配向膜を形成し、該配向膜上に、さらに、本発明の高分子からなる層（液晶層）を形成することによって、得ることができる。なお、本発明の光学異方体は、基板上に本発明の高分子からなる層（液晶層）を直接形成したものであってもよいし、本発明の高分子からなる層（液晶層）のみからなるものであってもよい。
なお、高分子からなる層は、フィルム状の高分子からなるものであってもよいし、粉体状の高分子の集合体であってもよい。
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とする層を有する。
本発明の光学異方体は、例えば、基板上に配向膜を形成し、該配向膜上に、さらに、本発明の高分子からなる層（液晶層）を形成することによって、得ることができる。なお、本発明の光学異方体は、基板上に本発明の高分子からなる層（液晶層）を直接形成したものであってもよいし、本発明の高分子からなる層（液晶層）のみからなるものであってもよい。
なお、高分子からなる層は、フィルム状の高分子からなるものであってもよいし、粉体状の高分子の集合体であってもよい。
ここで、配向膜は、重合性液晶化合物を面内で一方向に配向規制するために基板の表面に形成される。
配向膜は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリマーを含有する溶液（配向膜用組成物）を基板上に膜状に塗布し、乾燥させ、そして一方向にラビング処理等することで、得ることができる。
配向膜の厚さは０．００１〜５μｍであることが好ましく、０．００１〜１μｍであることがさらに好ましい。
配向膜は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリマーを含有する溶液（配向膜用組成物）を基板上に膜状に塗布し、乾燥させ、そして一方向にラビング処理等することで、得ることができる。
配向膜の厚さは０．００１〜５μｍであることが好ましく、０．００１〜１μｍであることがさらに好ましい。
ラビング処理の方法は、特に制限されないが、例えばナイロン等の合成繊維、木綿等の天然繊維からなる布やフェルトを巻き付けたロールで一定方向に配向膜を擦る方法が挙げられる。ラビング処理した時に発生する微粉末（異物）を除去して配向膜の表面を清浄な状態とするために、ラビング処理後に配向膜をイソプロピルアルコール等によって洗浄することが好ましい。
また、ラビング処理する方法以外に、配向膜の表面に偏光紫外線を照射する方法によっても、面内で一方向に配向規制する機能を持たせることができる。
また、ラビング処理する方法以外に、配向膜の表面に偏光紫外線を照射する方法によっても、面内で一方向に配向規制する機能を持たせることができる。
配向膜を形成する基板としては、ガラス基板、合成樹脂フィルムからなる基板等が挙げられる。前記合成樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、および、脂環式オレフィンポリマーなどの熱可塑性樹脂が挙げられる。
脂環式オレフィンポリマーとしては、特開平０５−３１０８４５号公報、米国特許第５１７９１７１号明細書に記載されている環状オレフィンランダム多元共重合体、特開平０５−９７９７８号公報、米国特許第５２０２３８８号明細書に記載されている水素添加重合体、特開平１１−１２４４２９号公報（国際公開９９／２０６７６号）に記載されている熱可塑性ジシクロペンタジエン系開環重合体およびその水素添加物等が挙げられる。
本発明において、配向膜上に本発明の高分子からなる液晶層を形成する方法としては、前記本発明の高分子の項で記載したのと同じ方法（前記（α）および（β））が挙げられる。
得られる液晶層の厚みは、特に制限はないが、通常１〜１０μｍである。
得られる液晶層の厚みは、特に制限はないが、通常１〜１０μｍである。
なお、本発明の光学異方体の一種としては、特に限定されることなく、位相差板、視野角拡大板等が挙げられる。
なお、本発明の光学異方体は、エリプソメーターで測定した波長４４９．９ｎｍ、５４８．５ｎｍ、６５０．２ｎｍにおける位相差から求められる、下記α値およびβ値が所定の範囲内にあることが好ましい。具体的には、α値は、０．７０〜０．９９であることが好ましく、０．７５〜０．９０であることがより好ましい。また、β値は、１．００〜１．２５であることが好ましく、１．０１〜１．２０であることがより好ましい。
α＝（４４９．９ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
β＝（６５０．２ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
α＝（４４９．９ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
β＝（６５０．２ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
（９）偏光板等
本発明の偏光板は、本発明の光学異方体および偏光フィルムを含むものである。
本発明の偏光板の具体例としては、偏光フィルム上に、直接又はその他の層（ガラス板等）を介して、本発明の光学異方体が積層されてなるものが挙げられる。
本発明の偏光板は、本発明の光学異方体および偏光フィルムを含むものである。
本発明の偏光板の具体例としては、偏光フィルム上に、直接又はその他の層（ガラス板等）を介して、本発明の光学異方体が積層されてなるものが挙げられる。
偏光フィルムの製造方法は特に限定されない。ＰＶＡ系の偏光フィルムを製造する方法としては、ＰＶＡ系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、ＰＶＡ系フィルムへのヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、ＰＶＡ系フィルムを二色性染料で染色した後に一軸に延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後に二色性染料で染色する方法、ＰＶＡ系フィルムへの二色性染料での染色と一軸延伸とを同時に行う方法が挙げられる。また、ポリエン系の偏光フィルムを製造する方法としては、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在下で加熱・脱水する方法、ポリ塩化ビニル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩酸触媒存在下で加熱・脱水する方法などの公知の方法が挙げられる。
本発明の偏光板においては、偏光フィルムと本発明の光学異方体とが、接着剤（粘着剤を含む）からなる接着層を介して接していてもよい。接着層の平均厚みは、通常０．０１μｍ〜３０μｍ、好ましくは０．１μｍ〜１５μｍである。前記接着層は、ＪＩＳ Ｋ７１１３による引張破壊強度が４０ＭＰａ以下となる層であることが好ましい。
接着層を構成する接着剤としては、アクリル接着剤、ウレタン接着剤、ポリエステル接着剤、ポリビニルアルコール接着剤、ポリオレフィ系接着剤、変性ポリオレフィン接着剤、ポリビニルアルキルエーテル接着剤、ゴム接着剤、塩化ビニル・酢酸ビニル接着剤、スチレン・ブタジエン・スチレン共重合体（ＳＢＳ共重合体）接着剤、その水素添加物（ＳＥＢＳ共重合体）接着剤、エチレン・酢酸ビニル共重合体およびエチレン−スチレン共重合体などのエチレン接着剤、並びに、エチレン・メタクリル酸メチル共重合体、エチレン・アクリル酸メチル共重合体、エチレン・メタクリル酸エチル共重合体およびエチレン・アクリル酸エチル共重合体などのアクリル酸エステル接着剤などが挙げられる。
本発明の偏光板は、本発明の光学異方体を用いていることから、低コストで製造可能で、反射輝度が低く、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面でも優れたものである。
また、本発明の偏光板を用いることにより、液晶パネルを用いたフラットパネル表示装置や、有機エレクトロルミネッセンスパネルを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置や、反射防止フィルムを好適に製造することができる。
以下、本発明を、実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例により何ら制限されるものではない。
（合成例１）化合物１の合成
ステップ１：中間体Ａの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸１７．９８ｇ（１０４．４２ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１８０ｍｌを加えた。そこへ、メタンスルホニルクロリド６．５８ｇ（５７．４３ｍｍｏｌ）を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を２０℃とした。次いで、トリエチルアミン６．３４ｇ（６２．６５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を２５℃で２時間さらに攪拌した。
得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．６４ｇ（５．２２ｍｍｏｌ）、及び、４−（６−アクリロイルオキシ−ヘクス−１−イルオキシ）フェノール（ＤＫＳＨ社製）１３．８０ｇ（５２．２１ｍｍｏｌ）を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン６．３４ｇ（６２．６５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１０００ｍｌと飽和食塩水１００ｍｌを加え、酢酸エチル４００ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を蒸発除去した後、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝１：９（容積比、以下にて同じ））により精製を行った。高速液体クロマトグラフィーで分析を行い、純度が９９．５％以上になるまでシリカゲルカラムクロマトグラフィーでの精製を繰り返した。その結果、白色固体として中間体Ａを１４．１１ｇ得た（収率：６５モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．６４ｇ（５．２２ｍｍｏｌ）、及び、４−（６−アクリロイルオキシ−ヘクス−１−イルオキシ）フェノール（ＤＫＳＨ社製）１３．８０ｇ（５２．２１ｍｍｏｌ）を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン６．３４ｇ（６２．６５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１０００ｍｌと飽和食塩水１００ｍｌを加え、酢酸エチル４００ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を蒸発除去した後、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝１：９（容積比、以下にて同じ））により精製を行った。高速液体クロマトグラフィーで分析を行い、純度が９９．５％以上になるまでシリカゲルカラムクロマトグラフィーでの精製を繰り返した。その結果、白色固体として中間体Ａを１４．１１ｇ得た（収率：６５モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１２．１２（ｓ，１Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ）、４．１１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．４８−２．５６（ｍ，１Ｈ）、２．１８−２．２６（ｍ，１Ｈ）、２．０４−２．１０（ｍ，２Ｈ）、１．９３−２．００（ｍ，２Ｈ）、１．５９−１．７５（ｍ，４Ｈ）、１．３５−１．５２（ｍ，８Ｈ）
ステップ２：中間体Ｂの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ１で合成した中間体Ａ４．００ｇ（９．５６ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ６０ｍｌを入れ、均一な溶液とした。そこへ、メタンスルホニルクロリド１．１２ｇ（９．７８ｍｍｏｌ）を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を２０℃とした。次いで、トリエチルアミン１．０１ｇ（９．９９ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、５分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間攪拌した。得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．１１ｇ（０．８７ｍｍｏｌ）、及び、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド０．６０ｇ（４．３５ｍｍｏｌ）を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン１．１０ｇ（１０．８７ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、５分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃で２時間さらに攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水４００ｍｌと飽和食塩水５０ｍｌを加え、酢酸エチル７５０ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を蒸発除去した後、得られた残留物をＴＨＦ１００ｍｌに溶解させた。その溶液にメタノール５００ｍｌを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。得られた結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として中間体Ｂを２．５１ｇ得た（収率：６２モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．０２（ｓ，１Ｈ）、７．６７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．５５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．９９−７．０４（ｍ，４Ｈ）、６．９１−６．９６（ｍ，４Ｈ）、６．３２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．９３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ）、４．１１（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５６−２．８１（ｍ，４Ｈ）、２．１０−２．２６（ｍ，８Ｈ）、１．５０−１．７６（ｍ，１６Ｈ）、１．３３−１．４９（ｍ，８Ｈ）
ステップ３：化合物１の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ２で合成した中間体Ｂ２．３０ｇ（２．４５ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ２５ｍｌを入れ、均一な溶液とし、そこへ、濃塩酸０．４９ｍｌ（０．２５ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液に、２−ヒドラジノベンゾチアゾール０．４０ｇ（２．４５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ５ｍｌ溶液を１５分かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃にてさらに１時間撹拌した。反応終了後、反応液をメタノール４００ｍｌに投入して析出した固体をろ取した。ろ取した固体を真空乾燥機で乾燥させ、淡黄色固体として化合物１を２．４ｇ得た（収率：９０モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ２で合成した中間体Ｂ２．３０ｇ（２．４５ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ２５ｍｌを入れ、均一な溶液とし、そこへ、濃塩酸０．４９ｍｌ（０．２５ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液に、２−ヒドラジノベンゾチアゾール０．４０ｇ（２．４５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ５ｍｌ溶液を１５分かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃にてさらに１時間撹拌した。反応終了後、反応液をメタノール４００ｍｌに投入して析出した固体をろ取した。ろ取した固体を真空乾燥機で乾燥させ、淡黄色固体として化合物１を２．４ｇ得た（収率：９０モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１２．６３（ｓ，１Ｈ）、８．１０（ｓ，１Ｈ）、７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、７．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．４８（ｓ，１Ｈ）、７．２１−７．３５（ｍ，３Ｈ）、７．１４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、６．９８−７．０５（ｍ，４Ｈ）、６．９１−６．９７（ｍ，４Ｈ）、６．３２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．９３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ）、４．１２（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５６−２．８３（ｍ，４Ｈ）、２．１１−２．３０（ｍ，８Ｈ）、１．５２−１．８０（ｍ，１６Ｈ）、１．３３−１．４９（ｍ，８Ｈ）
（合成例２）化合物２の合成
ステップ１：中間体Ｃの合成
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２．００ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）を入れ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２０ｍｌに溶解した。この溶液に炭酸カリウム８．３６ｇ（６０．５ｍｍｏｌ）、１−ヨードヘキサン３．０８ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で７時間撹拌した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、反応液を水２００ｍＬに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。そして、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５）により精製し、白色固体として中間体Ｃを２．１０ｇ得た（収率：６９．６モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．０６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、４．２２（ｓ，２Ｈ）、３．７４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．６９−１．７６（ｍ，２Ｈ）、１．２９−１．４２（ｍ，６Ｈ）、０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
ステップ２：化合物２の合成
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ１で合成した中間体Ｃ６９７ｍｇ（２．３７ｍｍｏｌ）、及び、合成例１のステップ２で合成した中間体Ｂ２．００ｇ（２．１３ｍｍｏｌ）を入れ、エタノール３ｍｌ及びＴＨＦ２０ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸５５．１ｍｇ（０．２３７ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１５０ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製し、白色固体として化合物２を２．２４ｇ得た（収率：８６．４モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ１で合成した中間体Ｃ６９７ｍｇ（２．３７ｍｍｏｌ）、及び、合成例１のステップ２で合成した中間体Ｂ２．００ｇ（２．１３ｍｍｏｌ）を入れ、エタノール３ｍｌ及びＴＨＦ２０ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸５５．１ｍｇ（０．２３７ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１５０ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製し、白色固体として化合物２を２．２４ｇ得た（収率：８６．４モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．６７−７．７０（ｍ，３Ｈ）、７．３４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５８−２．７０（ｍ，４Ｈ）、２．３１−２．３５（ｍ，８Ｈ）、１．６６−１．８２（ｍ，１８Ｈ）、１．３１−１．５４（ｍ，１４Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
（合成例３）化合物３の合成
ステップ１：中間体Ｄの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、２−クロロベンゾチアゾール３．００ｇ（１７．６９ｍｍｏｌ）とフェニルヒドラジン７．６５ｇ（７０．７４ｍｍｏｌ）を入れ、エチレングリコール３０ｍｌに溶解させた。この溶液を１４０℃に加熱し５時間反応させた。その後、反応液に蒸留水３００ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、ロータリーエバポレーターで濃縮した後にＴＨＦ１５ｍｌを加えて溶解させ、その溶液を蒸留水３００ｍｌ中に投入した。析出した固体をろ過し、蒸留水で洗浄後、真空乾燥させて黄色固体を得た。得られた黄色固体をフラスコに入れ、トルエン５０ｍｌを加えて３０分攪拌した後に、ろ過を行うことでトルエンに不溶の固体成分を除去した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝２：５０）により精製することで、黄色オイルとして中間体Ｄを０．９４ｇ得た（収率：２２モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．４３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．２８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０８−７．１６（ｍ，２Ｈ）、６．２６（ｓ，２Ｈ）
ステップ２：化合物３の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ１．００ｇ（１．０６ｍｍｏｌ）を入れ、ＴＨＦ３０ｍｌに溶解させた。この溶液に、１Ｎ塩酸０．２２ｍｌ（０．２２ｍｍｏｌ）と前記ステップ１で合成した中間体Ｄ０．３８ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で２時間反応させた。その後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝４０：１）により精製することで、淡黄色固体として化合物３を１．１４ｇ得た（収率：９５モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ１．００ｇ（１．０６ｍｍｏｌ）を入れ、ＴＨＦ３０ｍｌに溶解させた。この溶液に、１Ｎ塩酸０．２２ｍｌ（０．２２ｍｍｏｌ）と前記ステップ１で合成した中間体Ｄ０．３８ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で２時間反応させた。その後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝４０：１）により精製することで、淡黄色固体として化合物３を１．１４ｇ得た（収率：９５モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．７３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．６４−７．７０（ｍ，２Ｈ）、７．６０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．３５−７．４２（ｍ，３Ｈ）、７．３０（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０３−７．１２（ｍ，２Ｈ）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９２−３．９８（ｍ，４Ｈ）、２．５６−２．７１（ｍ，２Ｈ）、２．４１−２．５０（ｍ，１Ｈ）、２．２７−２．４０（ｍ，５Ｈ）、２．１２−２．２２（ｍ，２Ｈ）、１．６４−１．９１（ｍ，１４Ｈ）、１．４１−１．５６（ｍ，１０Ｈ）、１．１９−１．３１（ｍ，２Ｈ）
（合成例４）化合物４の合成
ステップ１：中間体Ｅの合成
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流下中、シクロヘキシルヒドラジン塩酸塩２．５０ｇ（１６．６ｍｍｏｌ）を入れ、トリエチルアミン８ｍｌに溶解した。この溶液に２−クロロベンゾチアゾール５．６３ｇ（３３．２ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で５時間撹拌した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１５０ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。そして、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５）により精製し、白色固体として中間体Ｅを１．０２ｇ得た（収率：２２．３モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．５２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．２６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，８．２Ｈｚ）、７．０５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、４．２５−４．３２（ｍ，１Ｈ）、４．０４（ｓ，２Ｈ）、１．８４−１．８８（ｍ，４Ｈ）、１．６８−１．７３（ｍ，１Ｈ）、１．４３−１．５９（ｍ，４Ｈ）、１．０８−１．１９（ｍ，１Ｈ）
ステップ２：化合物４の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ１．４０ｇ（１．４９ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｅ４５６ｍｇ（１．８４ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファースルホン酸３８．６ｍｇ（０．１６６ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及び、エタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、４０℃にて５時間反応させた。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝９７：３）により精製し、淡黄色固体として化合物４を１．２４ｇ得た（収率：７１．４モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ１．４０ｇ（１．４９ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｅ４５６ｍｇ（１．８４ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファースルホン酸３８．６ｍｇ（０．１６６ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及び、エタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、４０℃にて５時間反応させた。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝９７：３）により精製し、淡黄色固体として化合物４を１．２４ｇ得た（収率：７１．４モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．１５（ｓ，１Ｈ）、７．７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、７．６８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．６６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．３１−７．３５（ｍ，１Ｈ）、７．１４−７．１８（ｍ，１Ｈ）、７．１３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、６．９６−７．００（ｍ，４Ｈ）、６．８６−６．９０（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ）、４．６２−４．７０（ｍ，１Ｈ）、４．１７（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５５−２．７４（ｍ，４Ｈ）、２．２７−２．４７（ｍ，１０Ｈ）、１．９０−２．００（ｍ，４Ｈ）、１．６５−１．８５（ｍ，１６Ｈ）、１．４２−１．５５（ｍ，１０Ｈ）、１．２４−１．３３（ｍ，２Ｈ）
（合成例５）化合物５の合成
ステップ１：中間体Ｆの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２．００ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）を入れ、ＤＭＦ３０ｍｌに溶解させた。この溶液に炭酸セシウム７．８８ｇ（２４．２ｍｏｌ）を加えて０℃に冷却し、ブチル２−クロロエチルエーテル１．９８ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を５分かけて滴下し、その後反応液を室温（２３℃、以下にて同じ）に戻して３時間攪拌した。反応終了後、反応液に水２００ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５）により精製することで、白色固体として中間体Ｆを１．７０ｇ得た（収率５３．０モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２７−７．２９（ｍ，１Ｈ）、７．０４−７．０８（ｍ，１Ｈ）、４．７０（ｓ，２Ｈ）、４．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、３．８２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５２−１．５７（ｍ，２Ｈ）、１．３１−１．３９（ｍ，２Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
ステップ２：化合物５の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１のステップ２で合成した中間体Ｂ１．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｆ３９６ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファースルホン酸４１．４ｍｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及び、エタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、４０℃にて５時間反応させた。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９：１）により精製し、淡黄色固体として化合物５を１．３１ｇ得た（収率：６９．４モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１のステップ２で合成した中間体Ｂ１．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｆ３９６ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファースルホン酸４１．４ｍｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及び、エタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、４０℃にて５時間反応させた。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９：１）により精製し、淡黄色固体として化合物５を１．３１ｇ得た（収率：６９．４モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．０３（ｓ，１Ｈ）、７．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、７．６５−７．７１（ｍ，２Ｈ）、７．３４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．０９−７．１２（ｍ，２Ｈ）、６．９６−７．００（ｍ，４Ｈ）、６．８７−６．９０（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．４５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．５５−２．７４（ｍ，４Ｈ）、２．２８−２．４０（ｍ，８Ｈ）、１．６５−１．８３（ｍ，１６Ｈ）、１．４２−１．５５（ｍ，１０Ｈ）、１．２５−１．３４（ｍ，２Ｈ）、０．８５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
（合成例６）化合物６の合成
ステップ１：中間体Ｇの合成
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール５．０４ｇ（３０．５ｍｍｏｌ）を入れ、ＤＭＦ５０ｍｌに溶解した。この溶液に炭酸セシウム１４．９ｇ（４５．８ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−１−ブテン４．９４ｇ（３６．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で７時間撹拌した。反応終了後、反応液を水２００ｍＬに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。そして、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝７０：３０）により精製し、白色固体として中間体Ｇを４．４０ｇ得た（収率：４９．５モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．０６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、５．８９（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．１７（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，３．０Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．０９（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，３．０Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．２６（ｓ，２Ｈ）、３．８５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．５２（ｄｄｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１．５Ｈｚ，７．０Ｈｚ，７．０Ｈｚ）
ステップ２：化合物６の合成
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ１で合成した中間体Ｇ１９５ｍｇ（１．７７ｍｍｏｌ）、及び、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ：１．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）を入れ、エタノール３ｍｌ及びＴＨＦ１５ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸４１．２ｍｇ（０．１７７ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で８時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１５０ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。そして、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製し、白色固体として化合物６を１．２６ｇ得た（収率：６９．３モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ１で合成した中間体Ｇ１９５ｍｇ（１．７７ｍｍｏｌ）、及び、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ：１．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）を入れ、エタノール３ｍｌ及びＴＨＦ１５ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸４１．２ｍｇ（０．１７７ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で８時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１５０ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。そして、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製し、白色固体として化合物６を１．２６ｇ得た（収率：６９．３モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．６７−７．７０（ｍ，３Ｈ）、７．３５（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１０−７．１４（ｍ，２Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８９（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．１５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．３８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５８−２．６８（ｍ，４Ｈ）、２．５１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，７．０Ｈｚ）、２．３１−２．３５（ｍ，８Ｈ）、１．７６−１．８５（ｍ，４Ｈ）、１．６５−１．７４（ｍ，１２Ｈ）、１．４１−１．５４（ｍ，８Ｈ）
（合成例７）化合物７の合成
ステップ１：中間体Ｈの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２．００ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）を入れ、ＤＭＦ３０ｍｌに溶解させた。この溶液に炭酸セシウム７．８８ｇ（２４．２ｍｏｌ）を加えて０℃に冷却し、２−ブロモヘキサン２．３９ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下し、その後反応液を室温に戻して３時間攪拌した。反応終了後、反応液に水２００ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９３：７）により精製することで、白色固体として中間体Ｈを１．６１ｇ得た（収率５３．４モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．５９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２４−７．３０（ｍ，１Ｈ）、７．０５（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、３．９７（ｓ，２Ｈ）、１．４７−１．７４（ｍ，３Ｈ）、１．２０−１．４１（ｍ，７Ｈ）、０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）
ステップ２：化合物７の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ１．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｈ４４４ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファースルホン酸４１．４ｍｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及び、エタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、４０℃にて５時間反応させた。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、クロロホルム２００ｍｌで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９２：８）により精製し、淡黄色固体として化合物７を１．３５ｇ得た（収率：７２．４モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ１．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｈ４４４ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファースルホン酸４１．４ｍｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及び、エタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、４０℃にて５時間反応させた。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、クロロホルム２００ｍｌで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９２：８）により精製し、淡黄色固体として化合物７を１．３５ｇ得た（収率：７２．４モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．０４（ｓ，１Ｈ）、７．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、７．６９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．６５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．３３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．０７−７．１９（ｍ，３Ｈ）、６．９５−７．０１（ｍ，４Ｈ）、６．８５−６．９１（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５４−２．７３（ｍ，４Ｈ）、２．２５−２．４０（ｍ，８Ｈ）、１．６５−１．８３（ｍ，１６Ｈ）、１．６０−１．６２（ｍ，２Ｈ）、１．５７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．２４−１．５５（ｍ，１３Ｈ）、０．８７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）
（合成例８）化合物８の合成
ステップ１：中間体Ｉの合成
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２．００ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）を入れ、ＤＭＦ３０ｍｌに溶解した。この溶液に炭酸セシウム７．８８ｇ（２４．２ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−２−ブチン１．９３ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０時間撹拌した。反応終了後、反応液を水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出し、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８５：１５）により精製し、白色固体として中間体Ｉを１．２５ｇ得た（収率：４７．５モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．５８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．２９（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．１０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、４．５６（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、４．３６（ｓ，２Ｈ）、１．８４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）
ステップ２：化合物８の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ１．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｉ３８７ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファースルホン酸４１．４ｍｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及び、エタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、４０℃にて５時間反応させた。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、クロロホルム２００ｍｌで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９：１）により精製し、淡黄色固体として化合物８を１．５４ｇ得た（収率：８４．９モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ１．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｉ３８７ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファースルホン酸４１．４ｍｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及び、エタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、４０℃にて５時間反応させた。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、クロロホルム２００ｍｌで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９：１）により精製し、淡黄色固体として化合物８を１．５４ｇ得た（収率：８４．９モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．９０（ｓ，１Ｈ）、７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ）、７．６７−７．７３（ｍ，２Ｈ）、７．３５（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０９−７．１５（ｍ，２Ｈ）、６．９５−７．０１（ｍ，４Ｈ）、６．８５−６．９１（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、２．５５−２．７６（ｍ，４Ｈ）、２．２６−２．４３（ｍ，８Ｈ）、１．６４−１．８３（ｍ，１９Ｈ）、１．４１−１．５５（ｍ，８Ｈ）
（合成例９）化合物９の合成
ステップ１：中間体Ｊの合成
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール５．００ｇ（３０．３ｍｍｏｌ）を入れ、ＤＭＦ１００ｍｌに溶解した。この溶液に炭酸カリウム２０．９ｇ（１５２ｍｍｏｌ）、５−ブロモバレロニトリル５．１７ｇ（３０．３ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で８時間撹拌した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、反応液を水５００ｍＬに投入し、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６０：４０）により精製し、白色固体として中間体Ｊを３．４１ｇ得た（収率：４５．７モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．２８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３、８．１Ｈｚ）、７．０７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、４．２３（ｓ，２Ｈ）、３．８１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、２．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、１．８８−１．９５（ｍ，２Ｈ）、１．７１−１．７９（ｍ，２Ｈ）
ステップ２：化合物９の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ１．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｊ４３８ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファースルホン酸４１．４ｍｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及び、エタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、４０℃にて５時間反応させた。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝８５：１５）により精製し、淡黄色固体として化合物９を１．３１ｇ得た（収率：７０．２モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１の化合物１の合成のステップ２で合成した中間体Ｂ１．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｊ４３８ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファースルホン酸４１．４ｍｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及び、エタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、４０℃にて５時間反応させた。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝８５：１５）により精製し、淡黄色固体として化合物９を１．３１ｇ得た（収率：７０．２モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、７．６４−７．７２（ｍ，３Ｈ）、７．３５（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１９（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１０−７．１４（ｍ，２Ｈ）、６．９６−７．０１（ｍ，４Ｈ）、６．８６−６．９１（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．２２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５８−２．７５（ｍ，４Ｈ）、２．５５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．２６−２．４０（ｍ，８Ｈ）、１．９６（ｔｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，６．５Ｈｚ）、１．６６−１．８３（ｍ，１８Ｈ）、１．４２−１．５５（ｍ，８Ｈ）
（実施例１）化合物Ｘの合成
ステップ１：中間体Ｋの合成
冷却器及び温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、ハイドロキノン１０４．７７ｇ（０．９５１５ｍｏｌ）、６−クロロヘキサノール１００ｇ（０．７３２０ｍｏｌ）、蒸留水５００ｇ、ｏ−キシレン１００ｇを加えた。全容を攪拌しながら、さらに、水酸化ナトリウム３５．１５ｇ（０．８７８４ｍｏｌ）を、内容物の温度が４０℃を超えないように２０分かけて少量ずつ加えた。水酸化ナトリウムの添加終了後、内容物を加熱し、還流条件下（９６℃）で、さらに１２時間反応を行った。
反応終了後、反応液の温度を８０℃に下げ、蒸留水２００ｇを加えた後、反応液を１０℃に冷却することで、結晶が析出した。析出した結晶をろ過により固液分離し、得られた結晶を蒸留水５００ｇで洗浄し、真空乾燥することで、褐色結晶１２３．３ｇを得た。
この褐色結晶を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、褐色結晶に含まれる化合物の含有量比（モル比）は（ハイドロキノン／中間体Ｋ／副生成物Ｋ＝１．３／９０．１／８．１）であった。この混合物を精製することなく、そのままステップ２に用いた。
反応終了後、反応液の温度を８０℃に下げ、蒸留水２００ｇを加えた後、反応液を１０℃に冷却することで、結晶が析出した。析出した結晶をろ過により固液分離し、得られた結晶を蒸留水５００ｇで洗浄し、真空乾燥することで、褐色結晶１２３．３ｇを得た。
この褐色結晶を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、褐色結晶に含まれる化合物の含有量比（モル比）は（ハイドロキノン／中間体Ｋ／副生成物Ｋ＝１．３／９０．１／８．１）であった。この混合物を精製することなく、そのままステップ２に用いた。
ステップ２：中間体Ｌの合成
ディーンスターク管付き冷却器及び温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ１で合成した中間体Ｋを含む褐色結晶１０．００ｇ、トルエン１００ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．１０５ｇ（０．４７６ｍｍｏｌ）を加え、全容を撹拌した。溶液を８０℃に加熱し、アクリル酸２−カルボキシエチル２０．５６ｇ（０．１４２７ｍｏｌ）、メタンスルホン酸１．３７ｇ（１４．３ｍｍｏｌ）を加え、還流条件（１１０℃）で、生成する水を除去しながら脱水反応を２時間行った。次いで、反応液を３０℃に冷却し、蒸留水５００ｇを加え、全容を攪拌後、静置した。有機層を分取し、得られた有機層に５％食塩水５００ｇを加え、分液した。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝８：１）により精製することで、ステップ１〜２のトータルで、白色固体として中間体Ｌを７．９３ｇ得た（収率：４０モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：６．７７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．７６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．８３（ｓ，１Ｈ）、４．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．８９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．６９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．７１−１．８０（ｍ，２Ｈ）、１．６２−１．７０（ｍ，２Ｈ）、１．３６−１．５２（ｍ，４Ｈ）
ステップ３：中間体Ｍの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸３．５８ｇ（０．０２０８ｍｏｌ）とＴＨＦ２５ｍｌを加えた。次に、メタンスルホニルクロリド１．２５ｇ（０．０１０９ｍｏｌ）を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を５℃とした。そして、トリエチルアミン１．１５ｇ（０．０１１４ｍｏｌ）を反応液内温が１５℃以下となるように１５分間かけて滴下した。反応液を５℃で１時間撹拌した後に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．１２７ｇ（１．０４ｍｍｏｌ）、中間体Ｌ３．５１ｇ（０．０１０４ｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン１．１５ｇ（０．０１１４ｍｏｌ）を反応液内温が１５℃以下となるように１５分間かけて滴下した。その後、反応液を２５℃で２時間反応させた。反応終了後、反応液に蒸留水３００ｍｌと飽和食塩水３０ｍｌを加え、クロロホルム２００ｍｌで２回抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝９５：５）により精製することで、白色固体として中間体Ｍを２．４１ｇ得た（収率：４７モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：６．９６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．６９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．４７−２．５７（ｍ，１Ｈ）、２．３４−２．４３（ｍ，１Ｈ）、２．１２−２．２８（ｍ，４Ｈ）、１．７３−１．８２（ｍ，２Ｈ）、１．３６−１．７１（ｍ，１０Ｈ）
ステップ４：中間体Ｎの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、合成例１のステップ１で合成した中間体Ａ：３．９０ｇ（８．８５ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ０．５２ｇ（７．１ｍｍｏｌ）、トルエン３９ｇを加えた。溶液を５℃に冷却し、塩化チオニル１．１０ｇ（９．３ｍｍｏｌ）を１０分間かけて滴下した後、５℃で１時間反応させた。その後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、真空乾燥させることで白色固体を得た。
また、温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド６．１０ｇ（０．０４４３ｍｏｌ）とトリエチルアミン０．９８５ｇ（９．７ｍｍｏｌ）を入れ、ＴＨＦ３５ｇに溶解させた。溶液を５℃に冷却し、上記得られた白色固体を加えて３０分反応させた。その後、反応液に蒸留水２００ｍｌと飽和食塩水１０ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：ＴＨＦ＝９５：５）により精製することで、白色固体として中間体Ｎを１．５３ｇ得た（収率：３２モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
また、温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド６．１０ｇ（０．０４４３ｍｏｌ）とトリエチルアミン０．９８５ｇ（９．７ｍｍｏｌ）を入れ、ＴＨＦ３５ｇに溶解させた。溶液を５℃に冷却し、上記得られた白色固体を加えて３０分反応させた。その後、反応液に蒸留水２００ｍｌと飽和食塩水１０ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：ＴＨＦ＝９５：５）により精製することで、白色固体として中間体Ｎを１．５３ｇ得た（収率：３２モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．９１（ｓ，１Ｈ）、９．８６（ｓ，１Ｈ）、７．３２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．２４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５１−２．６５（ｍ，２Ｈ）、２．２０−２．３５（ｍ，４Ｈ）、１．７５−１．８３（ｍ，２Ｈ）、１．６３−１．７５（ｍ，６Ｈ）、１．３６−１．５５（ｍ，４Ｈ）
ステップ６：中間体Ｐの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ３で合成した中間体Ｍ：１．００ｇ（２．０４ｍｍｏｌ）を入れ、ＴＨＦ１５ｍｌに溶解させた。次にメタンスルホニルクロリド０．２３４ｇ（２．０４ｍｍｏｌ）を加え、反応液を５℃に冷却し、トリエチルアミン０．２３６ｇ（２．３３ｍｍｏｌ）を１０分間かけて滴下した。反応液を５℃で１時間反応させた後、４−ジメチルアミノピリジン０．０１８ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）、前記ステップ４で合成した中間体Ｎ０．７８６ｇ（１．４６ｍｍｏｌ）を加え、トリエチルアミン０．１７７ｇ（１．７５ｍｍｏｌ）を１０分間かけて滴下した。その後、反応液を２５℃として２時間反応させた後、反応液に蒸留水２００ｍｌと飽和食塩水２０ｍｌを加え、クロロホルム１００ｍｌで２回抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝９９：１）により精製することで、白色固体として中間体Ｐを１．１５ｇ得た（収率：７８モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．０８（ｓ，１Ｈ）、７．６１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．３７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５３−２．７４（ｍ，６Ｈ）、２．２０−２．３９（ｍ，８Ｈ）、１．６０−１．８３（ｍ，１６Ｈ）、１．３４−１．５６（ｍ，８Ｈ）
ステップ７：化合物Ｘの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ６で合成した中間体Ｐ：０．９４４ｇ（０．９３４ｍｍｏｌ）、合成例２のステップ１で合成した中間体Ｃ：０．２７９ｇ（１．１２ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０２ｇをＴＨＦ１５ｍｌに溶解させた。その溶液に（＋）−１０−カンファースルホン酸４４ｍｇ（０．１８９ｍｍｏｌ）とエタノール２ｍｌを加え、４０℃に加熱して５時間反応させた。反応終了後、反応液に蒸留水１００ｍｌと飽和食塩水１５ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた固体をクロロホルム１０ｍｌに溶解させた。その溶液にメタノール１５０ｍｌを加えて結晶を析出させてろ過を行い、結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、淡黄色固体として化合物Ｘを０．９８６ｇ得た（収率：８０モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ６で合成した中間体Ｐ：０．９４４ｇ（０．９３４ｍｍｏｌ）、合成例２のステップ１で合成した中間体Ｃ：０．２７９ｇ（１．１２ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０２ｇをＴＨＦ１５ｍｌに溶解させた。その溶液に（＋）−１０−カンファースルホン酸４４ｍｇ（０．１８９ｍｍｏｌ）とエタノール２ｍｌを加え、４０℃に加熱して５時間反応させた。反応終了後、反応液に蒸留水１００ｍｌと飽和食塩水１５ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた固体をクロロホルム１０ｍｌに溶解させた。その溶液にメタノール１５０ｍｌを加えて結晶を析出させてろ過を行い、結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、淡黄色固体として化合物Ｘを０．９８６ｇ得た（収率：８０モル％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．６５−７．７１（ｍ，３Ｈ）、７．３４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０７−７．１４（ｍ，２Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５４−２．７４（ｍ，６Ｈ）、２．２５−２．４０（ｍ，８Ｈ）、１．６２−１．８４（ｍ，１８Ｈ）、１．２８−１．５６（ｍ，１４Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
（実施例２）混合物Ｘの合成
ステップ１：中間体混合物Ｑの合成
ディーンスターク管付き冷却器及び温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記実施例１のステップ１で合成した中間体Ｋを含む褐色結晶１０．００ｇ、トルエン１００ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．１０５ｇ（０．４７６ｍｍｏｌ）を加え、全容を撹拌した。溶液を８０℃に加熱し、アクリル酸５．１４ｇ（７１．３ｍｍｏｌ）、メタンスルホン酸０．９１ｇ（９．５１ｍｍｏｌ）を加え、還流条件（１１０℃）で、生成する水を除去しながら脱水反応を３時間行った。次いで、反応液を３０℃に冷却し、蒸留水５００ｇを加え、全容を攪拌後、静置した。有機層を分取し、得られた有機層に５％食塩水５００ｇを加え、分液した。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝８：１）により精製することで、白色固体として混合物Ｑを８．２ｇ得た。この白色固体を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、白色固体に含まれる化合物の含有量比（モル比）は下記の通りであった。この混合物を精製することなく、そのままステップ２に用いた。
ステップ２：中間体混合物Ｒの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸１０．６８ｇ（６２．０ｍｍｏｌ）とＴＨＦ９０ｍｌを加えた。そこへ、メタンスルホニルクロリド３．９ｇ（３４．１ｍｍｏｌ）を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を２０℃とした。次いで、トリエチルアミン３．７９ｇ（３７．５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を２５℃で２時間さらに攪拌した。
得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．３８ｇ（３．１２ｍｍｏｌ）、及び、先のステップ１で合成した混合物Ｑ８．２ｇを加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン３．７９ｇ（３７．５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１０００ｍｌと飽和食塩水１００ｍｌを加え、酢酸エチル４００ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を蒸発除去した後、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝１：９）により精製することで、白色固体として混合物Ｒを７．１ｇ得た。この白色固体を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、白色固体に含まれる化合物の含有量比（モル比）は下記の通りであった。この混合物を精製することなく、そのままステップ３に用いた。
得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．３８ｇ（３．１２ｍｍｏｌ）、及び、先のステップ１で合成した混合物Ｑ８．２ｇを加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン３．７９ｇ（３７．５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１０００ｍｌと飽和食塩水１００ｍｌを加え、酢酸エチル４００ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を蒸発除去した後、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝１：９）により精製することで、白色固体として混合物Ｒを７．１ｇ得た。この白色固体を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、白色固体に含まれる化合物の含有量比（モル比）は下記の通りであった。この混合物を精製することなく、そのままステップ３に用いた。
ステップ３：混合物Ｓの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ２で合成した混合物Ｒ７．１ｇ及びＴＨＦ１００ｍｌを入れ、均一な溶液とした。そこへ、メタンスルホニルクロリド２．３９ｇ（２０．９ｍｍｏｌ）を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を２０℃とした。次いで、トリエチルアミン２．１６ｇ（２１．３ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、５分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間攪拌した。得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン０．１９ｇ（１．５４ｍｍｏｌ）、及び、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド１．０７ｇ（７．７２ｍｍｏｌ）を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン１．９５ｇ（１９．３ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、５分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃で２時間さらに攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水４００ｍｌと飽和食塩水５０ｍｌを加え、酢酸エチル７５０ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を蒸発除去した後、得られた残留物をＴＨＦ１５０ｍｌに溶解させた。その溶液にメタノール７５０ｍｌを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。得られた結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物Ｓを４．５ｇ得た。この白色固体を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、白色固体に含まれる化合物の含有量比（モル比）は下記の通りであった。この混合物を精製することなく、そのままステップ４に用いた。
ステップ４：混合物Ｘの合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ３で合成した混合物Ｓ４．５ｇ及びＴＨＦ５０ｍｌを入れ、均一な溶液とし、そこへ、濃塩酸０．９３ｍｌ（０．４８ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液に、合成例２のステップ１で合成した中間体Ｃ１．２５ｇ（５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１０ｍｌ溶液を１５分かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃にてさらに１時間撹拌した。反応終了後、反応液をメタノール８００ｍｌに投入して、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を真空乾燥機で乾燥させ、淡黄色固体として混合物Ｘを４．２ｇ得た。この白色固体を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、白色固体に含まれる化合物の含有量比（モル比）は下記の通りであった。
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ３で合成した混合物Ｓ４．５ｇ及びＴＨＦ５０ｍｌを入れ、均一な溶液とし、そこへ、濃塩酸０．９３ｍｌ（０．４８ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液に、合成例２のステップ１で合成した中間体Ｃ１．２５ｇ（５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１０ｍｌ溶液を１５分かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃にてさらに１時間撹拌した。反応終了後、反応液をメタノール８００ｍｌに投入して、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を真空乾燥機で乾燥させ、淡黄色固体として混合物Ｘを４．２ｇ得た。この白色固体を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、白色固体に含まれる化合物の含有量比（モル比）は下記の通りであった。
＜相転移温度の測定＞
化合物１〜９及び化合物Ｘをそれぞれ１０ｍｇ計量し、固体状態のまま、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板（Ｅ．Ｈ．Ｃ．Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製、商品名：配向処理ガラス基板）２枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、４０℃から２００℃まで昇温した後、再び４０℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏向光学顕微鏡（ニコン社製、ＥＣＬＩＰＳＥＬＶ１００ＰＯＬ型）で観察し、相転移温度を求めた。
化合物１〜９及び化合物Ｘをそれぞれ１０ｍｇ計量し、固体状態のまま、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板（Ｅ．Ｈ．Ｃ．Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製、商品名：配向処理ガラス基板）２枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、４０℃から２００℃まで昇温した後、再び４０℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏向光学顕微鏡（ニコン社製、ＥＣＬＩＰＳＥＬＶ１００ＰＯＬ型）で観察し、相転移温度を求めた。
測定した相転移温度を下記表１に示す。
表１中、「Ｃ」はＣｒｙｓｔａｌ、「Ｎ」はＮｅｍａｔｉｃ、「Ｉ」はＩｓｏｔｒｏｐｉｃをそれぞれ表す。ここで、Ｃｒｙｓｔａｌとは、試験化合物が固相にあることを、Ｎｅｍａｔｉｃとは、試験化合物がネマチック液晶相にあることを、Ｉｓｏｔｒｏｐｉｃとは、試験化合物が等方性液体相にあることを、それぞれ示す。
表１中、「Ｃ」はＣｒｙｓｔａｌ、「Ｎ」はＮｅｍａｔｉｃ、「Ｉ」はＩｓｏｔｒｏｐｉｃをそれぞれ表す。ここで、Ｃｒｙｓｔａｌとは、試験化合物が固相にあることを、Ｎｅｍａｔｉｃとは、試験化合物がネマチック液晶相にあることを、Ｉｓｏｔｒｏｐｉｃとは、試験化合物が等方性液体相にあることを、それぞれ示す。
（実施例３〜１１）
合成例１〜９で得た化合物１〜９のそれぞれを０．９９ｇ、実施例１で得た化合物Ｘを１０ｍｇ、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュアーＯＸＥ０２）を３０ｍｇ、界面活性剤（ネオス社製、商品名：フタージェント２０８Ｇ）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、１，３−ジオキソラン０．３ｇ及びシクロペンタノン２．０ｇの混合溶媒に溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物（重合性液晶組成物）１〜９をそれぞれ得た。
合成例１〜９で得た化合物１〜９のそれぞれを０．９９ｇ、実施例１で得た化合物Ｘを１０ｍｇ、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュアーＯＸＥ０２）を３０ｍｇ、界面活性剤（ネオス社製、商品名：フタージェント２０８Ｇ）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、１，３−ジオキソラン０．３ｇ及びシクロペンタノン２．０ｇの混合溶媒に溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物（重合性液晶組成物）１〜９をそれぞれ得た。
（実施例１２〜２０）
合成例１〜９で得た化合物１〜９のそれぞれを０．９０ｇ、実施例１で得た化合物Ｘを１００ｍｇ、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュアーＯＸＥ０２）を３０ｍｇ、界面活性剤（ネオス社製、商品名：フタージェント２０８Ｇ）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、１，３−ジオキソラン０．３ｇ及びシクロペンタノン２．０ｇの混合溶媒に溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物（重合性液晶組成物１０〜１８）をそれぞれ得た。
合成例１〜９で得た化合物１〜９のそれぞれを０．９０ｇ、実施例１で得た化合物Ｘを１００ｍｇ、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュアーＯＸＥ０２）を３０ｍｇ、界面活性剤（ネオス社製、商品名：フタージェント２０８Ｇ）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、１，３−ジオキソラン０．３ｇ及びシクロペンタノン２．０ｇの混合溶媒に溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物（重合性液晶組成物１０〜１８）をそれぞれ得た。
（実施例２１）
実施例２で得た混合物Ｘを１．０ｇ、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュアーＯＸＥ０２）を３０ｍｇ、界面活性剤（ネオス社製、商品名：フタージェント２０８Ｇ）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、１，３−ジオキソラン０．３ｇ及びシクロペンタノン２．０ｇの混合溶媒に溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性液晶組成物１９を得た。
実施例２で得た混合物Ｘを１．０ｇ、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュアーＯＸＥ０２）を３０ｍｇ、界面活性剤（ネオス社製、商品名：フタージェント２０８Ｇ）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、１，３−ジオキソラン０．３ｇ及びシクロペンタノン２．０ｇの混合溶媒に溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性液晶組成物１９を得た。
（比較例１〜９）
合成例１〜９で得た化合物１〜９のそれぞれを１．０ｇ、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュアーＯＸＥ０２）を３０ｍｇ、界面活性剤（ネオス社製、商品名：フタージェント２０８Ｇ）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、１，３−ジオキソラン０．３ｇ及びシクロペンタノン２．０ｇの混合溶媒に溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性液晶組成物１ｒ〜９ｒをそれぞれ得た。
合成例１〜９で得た化合物１〜９のそれぞれを１．０ｇ、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュアーＯＸＥ０２）を３０ｍｇ、界面活性剤（ネオス社製、商品名：フタージェント２０８Ｇ）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、１，３−ジオキソラン０．３ｇ及びシクロペンタノン２．０ｇの混合溶媒に溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性液晶組成物１ｒ〜９ｒをそれぞれ得た。
＜液晶相の安定性評価＞
（ｉ）重合性液晶組成物による液晶層の形成
ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板（Ｅ．Ｈ．Ｃ．Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製、商品名：配向処理ガラス基板）に、重合性液晶組成物１〜１９および１ｒ〜９ｒのそれぞれを♯４のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表２に示す温度で１分間乾燥した後、表２に示す温度で１分間配向処理し、液晶層（厚み約２．５μｍ）を形成した。
（ｉｉ）光学異方体の形成
上記（ｉ）で作製した液晶層を表２に示す温度で１分間あるいは１５分間放置した後、それぞれの液晶層の塗布面側から表２に示す温度で１５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して重合させ、それぞれ、透明ガラス基板付光学異方体を得た。
（ｉｉｉ）液晶相安定性の判定
上記（ｉｉ）で得られた透明ガラス基板付光学異方体を図１に示すように配置して積層体を得て、表面の状態を目視にて観察した。ムラの無い状態がよい状態である。ムラが少ない状態を５とし、ムラが発生している状態を１として、その程度を５段階で評価した。評価結果を表２にまとめた。
なお、図１中、偏光フィルムとしては、ＰＶＡ系の偏光フィルム（住友化学社製）を使用した。また、ムラがない状態（評価指数：５）、ムラが発生している状態（評価指数：１）の写真を、それぞれ図２（ａ）、図２（ｂ）に示した。
（ｉ）重合性液晶組成物による液晶層の形成
ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板（Ｅ．Ｈ．Ｃ．Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製、商品名：配向処理ガラス基板）に、重合性液晶組成物１〜１９および１ｒ〜９ｒのそれぞれを♯４のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表２に示す温度で１分間乾燥した後、表２に示す温度で１分間配向処理し、液晶層（厚み約２．５μｍ）を形成した。
（ｉｉ）光学異方体の形成
上記（ｉ）で作製した液晶層を表２に示す温度で１分間あるいは１５分間放置した後、それぞれの液晶層の塗布面側から表２に示す温度で１５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して重合させ、それぞれ、透明ガラス基板付光学異方体を得た。
（ｉｉｉ）液晶相安定性の判定
上記（ｉｉ）で得られた透明ガラス基板付光学異方体を図１に示すように配置して積層体を得て、表面の状態を目視にて観察した。ムラの無い状態がよい状態である。ムラが少ない状態を５とし、ムラが発生している状態を１として、その程度を５段階で評価した。評価結果を表２にまとめた。
なお、図１中、偏光フィルムとしては、ＰＶＡ系の偏光フィルム（住友化学社製）を使用した。また、ムラがない状態（評価指数：５）、ムラが発生している状態（評価指数：１）の写真を、それぞれ図２（ａ）、図２（ｂ）に示した。
＜光学特性の測定＞
上記（ｉｉ）で得られた透明ガラス基板付光学異方体について、２４５．９ｎｍから９９８．４ｎｍ間の位相差を、エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、Ｍ２０００Ｕ型）を用いて測定した。また、測定した位相差を用いて以下のように算出されるα、β値から波長分散性を評価した。結果を表３に示す。
α＝（４４９．９ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
β＝（６５０．２ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
なお、広帯域性を示す理想的な波長分散性、即ち逆波長分散性を示す場合、α値は１より小となり、β値は１より大となる。フラットな波長分散性を有している場合、α値とβ値は同程度の値となる。一般的な（通常の）波長分散性を有している場合、α値は１より大となり、β値は１より小となる。即ち、α値とβ値が同程度の値となるフラットな波長分散性が好ましく、αが１より小となり、βが１より大となる逆波長分散性が特に好ましい。
ここで、光学異方体の膜厚は、透明ガラス基板付光学異方体の光学異方体に針で傷をつけ、その段差を表面形状測定装置ＤＥＫＴＡＫ１５０型（株式会社アルバック製）で測定して計測した。
上記（ｉｉ）で得られた透明ガラス基板付光学異方体について、２４５．９ｎｍから９９８．４ｎｍ間の位相差を、エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、Ｍ２０００Ｕ型）を用いて測定した。また、測定した位相差を用いて以下のように算出されるα、β値から波長分散性を評価した。結果を表３に示す。
α＝（４４９．９ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
β＝（６５０．２ｎｍにおける位相差）／（５４８．５ｎｍにおける位相差）
なお、広帯域性を示す理想的な波長分散性、即ち逆波長分散性を示す場合、α値は１より小となり、β値は１より大となる。フラットな波長分散性を有している場合、α値とβ値は同程度の値となる。一般的な（通常の）波長分散性を有している場合、α値は１より大となり、β値は１より小となる。即ち、α値とβ値が同程度の値となるフラットな波長分散性が好ましく、αが１より小となり、βが１より大となる逆波長分散性が特に好ましい。
ここで、光学異方体の膜厚は、透明ガラス基板付光学異方体の光学異方体に針で傷をつけ、その段差を表面形状測定装置ＤＥＫＴＡＫ１５０型（株式会社アルバック製）で測定して計測した。
表２から、化合物Ｘを含む重合性液晶組成物では、液晶相をより安定に長時間維持でき、塗布ムラの少ない塗膜が得られるとなることが分かる。また、化合物Ｘの添加量が１０％の場合（実施例１２〜２０）には、乾燥温度を下げることが可能となり、取扱いのより容易な液晶組成物を得られることが分かる。
表３から、実施例１〜２１においても、αは１より小となり、ベータは１より大となることが分かる。従って、化合物Ｘを添加しても、広帯域性を示す理想的な波長分散性、即ち逆波長分散性を維持していることが分かる。
本発明によれば、液晶相をより安定に長時間維持でき、実用的な低い融点を有し、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルム等を低コストかつ広いプロセスマージンで製造することができる、重合性液晶組成物が提供される。
また、本発明によれば、上記重合性液晶組成物の調製に有用な重合性化合物およびその重合性化合物を含む混合物、並びに、当該重合性化合物の調製に有用な化合物およびその化合物を含む混合物が提供される。
そして、本発明によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムおよび光学異方体、並びに、それらを用いた偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置および反射防止フィルムが提供される。
また、本発明によれば、上記重合性液晶組成物の調製に有用な重合性化合物およびその重合性化合物を含む混合物、並びに、当該重合性化合物の調製に有用な化合物およびその化合物を含む混合物が提供される。
そして、本発明によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムおよび光学異方体、並びに、それらを用いた偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置および反射防止フィルムが提供される。
Claims (7)
- 下記式（Ｉ）：
Ａ１およびＢ１は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
Ｙ１およびＬ１は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２１〜Ｒ２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基または塩素原子を表し、
ＦＧ１は、カルボキシル基またはアミノ基を表す。〕で示される化合物。 - Ａ１およびＢ１は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０の芳香族基を表す、請求項１に記載の化合物。
- 請求項１または２に記載の化合物と、
下記式（ＩＩ）：
Ａ２およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
Ｙ２およびＬ２は、それぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２１〜Ｒ２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｒ３は、水素原子、メチル基または塩素原子を表し、
ＦＧ２は、カルボキシル基またはアミノ基を表す。〕で示される化合物と、
を含む混合物。 - Ａ１、Ａ２、Ｂ１およびＢ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０の芳香族基を表す、請求項３に記載の混合物。
- 前記式（Ｉ）で示される化合物と、前記式（ＩＩ）で示される化合物との質量比（式（Ｉ）で示される化合物：式（ＩＩ）で示される化合物）が、１：１０００〜２０：１００である、請求項３または４に記載の混合物。
- 下記式（Ｉ）：
Ａ１は、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、
Ｙ１は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ２１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ２２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ２３−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ２４−、または、−ＮＲ２５−ＣＯ−ＮＲ２６−を表し、Ｒ２１〜Ｒ２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基または塩素原子を表し、
ＦＧ１は、水酸基を表す。〕で示される（但し、下記式：
- Ａ１は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０の芳香族基である、請求項６に記載の化合物。
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