JP6476783B2 - 重合性液晶組成物、高分子、光学異方体、及び偏光板 - Google Patents

Description

本発明は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを作製することができる、重合性液晶組成物及び高分子、光学異方体、並びに偏光板に関する。

位相差板には、直線偏光を円偏光に変換する１／４波長板や直線偏光の偏光振動面を９０度変換する１／２波長板等がある。これらの位相差板は、ある特定の単色光に対しては正確に光線波長の１／４λあるいは１／２λの位相差に変換可能なものである。
しかしながら、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは、位相差板を構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する合成波である白色光に対して、各波長ごとの偏光状態に分布が生じることから、全ての波長領域において正確な１／４λあるいは１／２λの位相差に調整することが不可能であることに起因する。
このような問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている（例えば、特許文献１〜６）。

一方、モバイルパソコン、携帯電話等携帯型の情報端末の高機能化及び普及に伴い、フラットパネル表示装置の厚みを極力薄く抑えることが求められてきている。その結果、構成部材である位相差板の薄層化も求められている。
薄層化の方法としては、フィルム基材に低分子重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を塗布することにより位相差板を作成する方法が、近年では最も有効な方法とされている。優れた波長分散性を有する低分子重合性化合物又はそれを用いた重合性液晶組成物の開発が多く行われている（例えば、特許文献７〜２４）。

しかしながら、これらの文献に記載の低分子重合性化合物又は重合性液晶組成物は、工業的プロセスにおける加工には適していない高い融点を有しているため、フィルムに塗布することが困難であったり、液晶性を示す温度範囲が極端に狭かったり、工業的プロセスにおいて一般に使用される溶媒への溶解度が低かったり、これらを重合して得られる高分子フィルムの逆波長分散性が不十分であったりするなど、性能面で多くの課題を有している。また、これらの低分子重合性化合物等は、非常に高価な試薬を用いる合成法を駆使し、多段階で合成されるものであることから、コスト面でも課題を有していた。

そのような中、下記式（Ｉ）

（Ｉ）

〔式中、Ａはそれぞれ独立して水素原子、メチル基、塩素原子を表し、Ｒは水素原子、炭素数１〜２０の有機基を表し、Ｒ^Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基等を表し、ｎは１〜２０を表す。〕で示される重合性化合物は、前述の課題を全て解決できる化合物であることが知られている（特許文献２５）。

特開平１０−６８８１６号公報 特開平１０−９０５２１号公報 特開平１１−５２１３１号公報 特開２０００−２８４１２６号公報（ＵＳ２００２０１５９００５Ａ１） 特開２００１−４８３７号公報 国際公開第２０００／０２６７０５号 特開２００２−２６７８３８号公報 特開２００３−１６０５４０号公報（ＵＳ２００３０１０２４５８Ａ１） 特開２００５−２０８４１４号公報 特開２００５−２０８４１５号公報 特開２００５−２０８４１６号公報 特開２００５−２８９９８０号公報（ＵＳ２００７０１７６１４５Ａ１） 特開２００６−３３０７１０号公報（ＵＳ２００９００７２１９４Ａ１） 特開２００９−１７９５６３号公報（ＵＳ２００９０１８９１２０Ａ１） 特開２０１０−３１２２３号公報 特開２０１１−６３６０号公報 特開２０１１−６３６１号公報 特開２０１１−４２６０６号公報 特表２０１０−５３７９５４号公報（ＵＳ２０１００２０１９２０Ａ１） 特表２０１０−５３７９５５号公報（ＵＳ２０１００３０１２７１Ａ１） 国際公開第２００６／０５２００１号（ＵＳ２００７０２９８１９１Ａ１） 米国特許第６，１３９，７７１号 米国特許第６，２０３，７２４号 米国特許第５，５６７，３４９号 国際公開２０１４／０１０３２５号

前記式（Ｉ）で示される化合物を用いて、工業的生産規模で光学フィルムを製造する場合、広い製造条件許容度（プロセスマージン）が必要となる。特に大面積で塗工を行う際には、乾燥炉内の温度や時間条件を完全に均一にすることは非常に困難であり、温度や時間に対しての許容度は、その歩留りに大きく影響を与える。
よって、液晶相をより安定に長時間維持できる、式（Ｉ）で示される化合物を含む重合性液晶組成物が求められていた。

本発明は、上記した実情に鑑みてなされたものであり、液晶相をより安定に長時間維持でき、広いプロセスマージンを有し、かつ、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを低コストで製造することができる、重合性液晶組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した。その結果、下記式（Ｉ）で表される重合性化合物と、下記式（ＩＩ）で表される重合性化合物とを含有する重合性液晶組成物は、液晶相をより安定に長時間維持でき、液晶相を重合して得られる高分子を構成材料とする光学異方体を用いることで、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを低コストで製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。

かくして本発明によれば、（１）〜（８）の重合性液晶組成物、（９）の高分子、（１０）の光学異方体、及び（１１）の偏光板、が提供される。
下記式（Ｉ）

（Ｉ）

（式中、Ａはそれぞれ独立して、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、Ｒは水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。
Ｒ^Ｘはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、一置換アミノ基、二置換アミノ基又は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^１を表す。ここで、Ｒ^１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。環を構成する任意のＣ−Ｒ^Ｘは窒素原子に置き換えられていてもよい。
ｎはそれぞれ独立して、１〜２０の整数を表す。）
で示される重合性化合物（Ｉ）と、下記式（ＩＩ）

（ＩＩ）

（式中、Ｄはそれぞれ独立して、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、ｍはそれぞれ独立して、１〜２０の整数を表す。）で示される重合性化合物（ＩＩ）と
を含有する重合性液晶組成物。
（２）前記式（Ｉ）中、Ｒが、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい素数６〜１８の芳香族基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜１８の複素環式芳香族基である、（１）に記載の重合性液晶組成物。

（３）前記式（Ｉ）中、Ｒ^Ｘが水素原子である、（１）又は（２）に記載の重合性液晶組成物。
（４）前記式（Ｉ）中、Ａがそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基である（１）〜（３）のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
（５）前記式（Ｉ）中、Ｄがそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基である（１）〜（４）のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
（６）前記式（Ｉ）中、ｎがそれぞれ独立して、２〜１０の整数である（１）〜（５）のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
（７）前記式（Ｉ）中、ｍがそれぞれ独立して、２〜１０の整数である（１）〜（６）のいずれかに記載の重合性液晶組成物。

（８）さらに、重合開始剤を含有する、（１）〜（７）のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
（９）（１）〜（８）のいずれかに記載の重合性液晶組成物を重合して得られる高分子。
（１０）（９）に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。
（１１）（１０）に記載の光学異方体および偏光フィルムを含む偏光板。

本発明によれば、液晶相をより安定に長時間維持でき、広いプロセスマージンを有し、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを低コストで製造することができる、重合性液晶組成物が提供される。
本発明の高分子は、本発明の重合性液晶組成物を重合して得られるものであり、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを低コストで製造することができる。
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とするため、低コストで製造可能で、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能なものである。
本発明の光学異方体を偏光フィルムと組み合わせることで、偏光板を得ることができる。この偏光板と、液晶パネル又は有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）パネルとを組み合わせることで、フラットパネル表示装置、有機ＥＬ表示装置が得られる。また、本発明の偏光板から、反射防止フィルムを作製することができる。

液晶相の安定性評価試験における光学異方体の配置を示す図である。 ムラがない状態（評価指数：５）、及び、ムラが発生している状態（評価指数：１）の写真図を示す。

以下、本発明を、１）重合性液晶組成物、２）高分子、３）光学異方体、及び、４）偏光板、に項分けして、詳細に説明する。なお、本発明において、「置換基を有していてもよい」は、「無置換又は置換基を有する」の意味である。

重合性液晶組成物
本発明の重合性液晶組成物は、前記式（Ｉ）で表される重合性化合物（Ｉ）と、前記式（ＩＩ）で示される重合性化合物（ＩＩ）とを含有することを特徴とする。

（ｉ）重合性化合物（Ｉ）
本発明に用いる重合性化合物（Ｉ）は、前記式（Ｉ）で表される化合物である。
前記式（Ｉ）中、Ａはそれぞれ独立して、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、水素原子又はメチル基であるのが好ましい。

Ｒは水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。
Ｒの炭素数１〜２０の有機基としては、特に制限されないが、具体的には、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３、−ＳＯ_２−Ｒ^４、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ^５、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜２０の有機基等が挙げられる。

ここで、Ｒ^３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表し、Ｒ^５は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。

Ｒ^３、Ｒ^５の、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、Ｒ^４の炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基としては、後述する、Ｒの具体例として列記したのと同様のものが挙げられる。

Ｒ^３の、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。
Ｒ^５の、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基の炭素数５〜２０の芳香族基としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の芳香族炭化水素基；ピリジニル基、キノリル基等の芳香族複素環基；が挙げられる。これらの置換基としては、後述する、Ｒが芳香環を有する場合の芳香環の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。

Ｒの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数は、１〜１２であることが好ましく、４〜１０であることが更に好ましい。

Ｒの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数２〜２０のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。

Ｒの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の炭素数２〜２０のアルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基）、ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基、２−ペンチニル基、ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、２−オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、７−デカニル基等が挙げられる。

Ｒの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。

前記、Ｒの炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ_２ＣＦ_３等の、少なくとも１個がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアルコキシ基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^６；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^６；−ＳＯ_２Ｒ^７；−ＳＲ^６；−ＳＲ^６で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；水酸基；等が挙げられる。
ここで、Ｒ^６は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^６の炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素基としては、前記Ｒ^３として例示したのと同様のものが挙げられる。
Ｒ^７は、前記Ｒ^４と同様の、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。

前記、Ｒの炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^６；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^６；−ＳＯ_２Ｒ^７；水酸基；等が挙げられる。ここでＲ^６、Ｒ^７は前記と同じ意味を表す。

Ｒは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜２０の有機基を表す。
本発明において、「芳香環」は、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、及び、チオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示すものを意味する。

Ｒの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜２０の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を有するものであってもよい。

前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられる。前記芳香族複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環等の単環の芳香族複素環；ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、チアゾロピリジン環、オキサゾロピリジン環、チアゾロピラジン環、オキサゾロピラジン環、チアゾロピリダジン環、オキサゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、オキサゾロピリミジン環等の縮合環の芳香族複素環；等が挙げられる。

Ｒが有する芳香環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^８；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^８；−ＳＯ_２Ｒ^９；等が挙げられる。
ここで、Ｒ^８は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、又は、炭素数３〜１２のシクロアルキル基を表す。Ｒ^８としては、前記Ｒ^３の炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基として例示したのと同様のものが挙げられる
Ｒ^９は、前記Ｒ^４と同様の、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。

また、Ｒが有する芳香環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよく、不飽和環であっても、飽和環であってもよい。
なお、Ｒの炭素数２〜２０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する。

Ｒの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜２０の有機基としては、芳香族炭化水素環基；芳香族複素環基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルキル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜２０のアルケニル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜２０のアルキニル基；等が挙げられる。

Ｒの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜２０の有機基の好ましい具体例を以下に示す。但し、以下に示すものに限定されるものではない。なお、下記式中、「−」は環の任意の位置からのびる結合手を表す（以下にて同じである。）。
（１）芳香族炭化水素環基

（２）芳香族複素環基

上記式中、Ｅは、ＮＲ^ａ、酸素原子又は硫黄原子を表す。ここで、Ｒ^ａは、水素原子；又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。

上記式中、Ｘ、Ｙ、Ｚは、それぞれ独立して、ＮＲ^ｂ、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、又は、−ＳＯ_２−を表す（ただし、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−が、それぞれ隣接する場合を除く。）。Ｒ^ｂは、前記Ｒ^ａと同様の、水素原子；又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。

（上記式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。）
（３）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキル基

（４）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルケニル基

（５）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキニル基

Ｒが有する環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^１０；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^１０；−ＳＯ_２Ｒ^７；等が挙げられる。
ここで、Ｒ^７は前記と同じ意味を表し、Ｒ^１０は、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；又は、フェニル基等の炭素数６〜１４のアリール基；を表す。
これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、及び炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。

また、Ｒが有する環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよい。
なお、Ｒの炭素数２〜２０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する。

これらの中でも、Ｒとしては、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１８の芳香族基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１８の複素環式芳香族基であるのが好ましく、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基であるのがより好ましい。

Ｒ^Ｘは、水素原子；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；シアノ基；ニトロ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の炭素数１〜６のフルオロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基等の炭素数１〜６のアルキルチオ基；メチルアミノ基、エチルアミノ基等の一置換アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等の二置換アミノ基；又は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^１１を表す。ここで、Ｒ^１１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。

Ｒ^１１の置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基の炭素数１〜１０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。これらの置換基としては、前記Ｒの置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基等の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。

複数のＲ^Ｘ同士は、すべて同一であっても、相異なっていてもよく、環を構成する任意のＣ−Ｒ^Ｘは窒素原子に置き換えられていてもよい。Ｃ−Ｒ^Ｘが窒素原子に置き換えられた場合の、Ｒ^Ｘを有する環の具体例を下記に示す．但し、これらに限定されるものではない。

〔式中、Ｅは、ＮＲ^ｃ、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、又は、−ＳＯ_２−を表す（ただし、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−が、それぞれ隣接する場合を除く。）。Ｒ^ｃは、前記Ｒ^ａと同様の、水素原子、又は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。〕
これらの中でも、Ｒ^Ｘがすべて水素原子であるものが好ましい。
ｎはそれぞれ独立して、１〜２０の整数を表し、２〜１０の整数であるのが好ましい。

重合性化合物（Ｉ）は、従来公知の製造方法、例えば、特許文献２５に記載の方法により製造し、入手することができる。

（ｉｉ）重合性化合物（ＩＩ）
本発明の重合性液晶組成物は、前記重合性化合物（Ｉ）と共に、前記式（ＩＩ）で表される重合性化合物（ＩＩ）を含有する。
式（ＩＩ）中、Ｄはそれぞれ独立して、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、水素原子又はメチル基であるのが好ましく、いずれもが水素原子であるのがより好ましい。
ｍはそれぞれ独立して、１〜２０の整数を表し、２〜１０の整数が好ましく、４〜８の整数がより好ましい。

重合性化合物（ＩＩ）は、従来公知の製造方法、例えば、特開２０１０−２４４３８号公報に記載の方法により製造し、入手することができる。

本発明の重合性液晶組成物における、重合性化合物（Ｉ）と重合性化合物（ＩＩ）との使用割合は、重合性化合物（ＩＩ）の含量として５０％以下が好ましい。重合性化合物（Ｉ）と重合性化合物（ＩＩ）との質量比〔重合性化合物（Ｉ）：重合性化合物（ＩＩ）〕で、好ましくは、９５：５〜５０：５０、より好ましくは９０：１０〜７０：３０である。
このような割合で、重合性化合物（Ｉ）と重合性化合物（ＩＩ）を含有させることにより、得られる本発明の重合性液晶組成物を用いることにより、より安定に長時間維持することができる液晶相を得ることができる。

（ｉｉｉ）重合開始剤等
本発明の重合性液晶組成物は、さらに重合開始剤を含有するのが好ましい。
重合開始剤は、重合性化合物の重合反応をより効率的に行う観点から配合される。
用いる重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等が挙げられる。

ラジカル重合開始剤としては、加熱することにより、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である熱ラジカル発生剤；や、可視光線、紫外線（ｉ線など）、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の露光光の露光により、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である光ラジカル発生剤；のいずれも使用可能であるが、光ラジカル発生剤を使用するのが好適である。

光ラジカル発生剤としては、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、Ｏ−アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、イミドスルホナート系化合物等を挙げることができる。これらの化合物は、露光によって活性ラジカルまたは活性酸、あるいは活性ラジカルと活性酸の両方を発生する成分である。光ラジカル発生剤は、一種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

アセトフェノン系化合物の具体例としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１，２−オクタンジオン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４’−モルフォリノブチロフェノン等を挙げることができる。

ビイミダゾール系化合物の具体例としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。

本発明においては、光重合開始剤としてビイミダゾール系化合物を用いる場合、水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。

メルカプタン系化合物としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。アミン系化合物としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等を挙げることができる。

トリアジン系化合物としては、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン系化合物を挙げることができる。

Ｏ−アシルオキシム系化合物の具体例としては、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−ヘプタン−１，２−ジオン ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−オクタン−１，２−ジオン ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−〔４−（ベンゾイル）フェニル〕−オクタン−１，２−ジオン ２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン １−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−［９−エチル−６−（３−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン １−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−（９−エチル−６−ベンゾイル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）−エタノン １−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）ベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等を挙げることができる。

また、光ラジカル発生剤として、市販品をそのまま用いることもできる。具体例としては、ＢＡＳＦ社製の、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、及び商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０２、ＡＤＥＫＡ社製の、商品名：アデカオプトマーＮ１９１９等が挙げられる。

前記アニオン重合開始剤としては、アルキルリチウム化合物；ビフェニル、ナフタレン、ピレン等の、モノリチウム塩又はモノナトリウム塩；ジリチウム塩やトリリチウム塩等の多官能性開始剤；等が挙げられる。

また、前記カチオン重合開始剤としては、硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸；三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズのようなルイス酸；芳香族オニウム塩又は芳香族オニウム塩と、還元剤との併用系；が挙げられる。
これらの重合開始剤は一種単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の重合性液晶組成物において、重合開始剤の配合割合は、全重合性化合物１００重量部に対し、通常、０．１〜３０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部である。

また、本発明の重合性液晶組成物には、表面張力を調整するために、界面活性剤を配合するのが好ましい。当該界面活性剤としては、特に限定はないが、通常、ノニオン系界面活性剤が好ましい。当該ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いればよく、例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤、例えば、ネオス社製、商品名：フタージェント２０８Ｇが挙げられる。本発明の重合性液晶組成物において、界面活性剤の配合割合は、全重合性化合物１００重量部に対し、通常、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．１〜２重量部である。

（ｉｖ）重合性液晶組成物
本発明の重合性液晶組成物には、前記重合性化合物（Ｉ）、（ＩＩ）、重合開始剤、界面活性剤の他、本発明の効果に影響が出ない範囲で、さらに、他の成分が含まれていてもよい。他の成分としては、後述する他の共重合可能な単量体、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等が挙げられる。
これらの他の成分の配合割合は、重合性化合物（Ｉ）と重合性化合物（ＩＩ）の合計１００重量部に対し、通常、０．１〜２０重量部である。

本発明の重合性液晶組成物は、通常、前記重合性化合物（Ｉ）、重合性化合物（ＩＩ）、及び所望により他の成分等の所定量を、適当な有機溶媒に混合・溶解させることにより、調製することができる。

用いる有機溶媒としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン等のエーテル類；等が挙げられる。

以上のようにして得られる重合性液晶組成物は、後述するように、本発明の高分子や光学異方体の製造原料として有用である。

２）高分子
本発明の高分子は、本発明の重合性液晶組成物を重合して得られるものである。
ここで、「重合」とは、通常の重合反応のほか、架橋反応を含む広い意味での化学反応を意味するものとする。

本発明の高分子は、より具体的には、（Ａ）適当な有機溶媒中で、本発明の重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた後、目的とする高分子を単離し、得られる高分子を適当な有機溶媒に溶解して溶液を調製し、この溶液を適当な基板上に塗工して得られた塗膜を乾燥後、所望により加熱することにより得る方法、（Ｂ）前記重合性液晶組成物を有機溶媒に溶解し、この溶液を、公知の塗工法により基板上に塗布した後、脱溶媒し、次いで加熱又は活性エネルギー線を照射することにより重合反応を行う方法等により好適に製造することができる。

前記（Ａ）の重合反応に用いる有機溶媒としては、不活性なものであれば、特に制限されない。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素；シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類；等が挙げられる。
これらの中でも、取り扱い性に優れる観点から、沸点が６０〜２５０℃のものが好ましく、６０〜１５０℃のものがより好ましい。

（Ａ）の方法における、高分子を溶解するための有機溶媒、及び、（Ｂ）の方法で用いる有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶剤；等が挙げられる。これらの中でも、取り扱いが容易な点から、溶媒の沸点が６０〜２００℃のものが好ましい。これらの溶剤は単独でも用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

用いる基板としては、有機、無機を問わず、公知慣用の材質のものを使用することができる。例えば、有機材料としては、ポリシクロオレフィン〔例えば、ゼオネックス、ゼオノア（登録商標；日本ゼオン社製）、アートン（登録商標；ＪＳＲ社製）、及びアペル（登録商標；三井化学社製）〕、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、セルロース、三酢酸セルロース、ポリエーテルスルホン等が挙げられ、無機材料としてはシリコン、ガラス、方解石等が挙げられ、中でも有機材料が好ましい。
また、用いる基板は、単層のものであっても、積層体であってもよい。
基板としては、有機材料が好ましく、この有機材料をフィルムとした樹脂フィルムが更に好ましい。

（Ａ）の方法において高分子の溶液を基板に塗布する方法、（Ｂ）の方法において重合反応用の溶液を基板に塗布する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばカーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法等が挙げられる。

本発明の重合性液晶組成物としては、重合反応をより効率的に行う観点から、前記したような重合開始剤、特に光重合開始剤を含むものを用いるのが好ましい。

具体的には、前記（Ｂ）の方法、即ち、本発明の重合性液晶組成物を、基板上に塗布し、重合させることによって、本発明の高分子を得ることが好適である。用いる基板としては、後述する光学異方体の作製に用いられる基板等が挙げられる。

本発明の重合性液晶組成物を基板上に塗布する方法としては、バーコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ダイコーティング、キャップコーティング、ディッピング法等の公知慣用のコーティング法が挙げられる。このとき、塗工性を高めるために、本発明の重合性液晶組成物に公知慣用の有機溶媒を添加してもよい。この場合は、本発明の重合性液晶組成物を基板上に塗布後、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等で有機溶媒を除去するのが好ましい。

本発明の重合性液晶組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。

照射時の温度は、３０℃以下とすることが好ましい。光照射強度は、通常、１Ｗ／ｍ^２〜１０ｋＷ／ｍ^２の範囲、好ましくは５Ｗ／ｍ^２〜２ｋＷ／ｍ^２の範囲である。

本発明の重合性液晶組成物を重合させて得られる高分子は、基板から剥離して単体で使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学フィルムの有機材料等として使用することもできる。

以上のようにして得られる本発明の高分子の数平均分子量は、好ましくは５００〜５００，０００、更に好ましくは５，０００〜３００，０００である。該数平均分子量がかかる範囲にあれば、高い膜硬度が得られ、取り扱い性にも優れるため望ましい。高分子の数平均分子量は、単分散のポリスチレンを標準試料とし、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶離液としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。
本発明の高分子によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで得ることができる。

３）光学異方体
本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料とする。
本発明の光学異方体は、例えば、基板上に配向膜を形成し、該配向膜上に、さらに、本発明の高分子からなる液晶層を形成することによって、得ることができる。

配向膜は、有機半導体化合物を面内で一方向に配向規制するために基板の表面に形成される。
配向膜は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリマーを含有する溶液（配向膜用組成物）を基板上に膜状に塗布し、乾燥させ、そして一方向にラビング処理等することで、得ることができる。
配向膜の厚さは０．００１〜５μｍであることが好ましく、０．００１〜１μｍであることがさらに好ましい。

本発明においては、配向膜あるいは基板にラビング処理を施すことができる。ラビング処理の方法は、特に制限されないが、例えばナイロン等の合成繊維、木綿等の天然繊維からなる布やフェルトを巻き付けたロールで一定方向に配向膜を擦る方法が挙げられる。ラビング処理した時に発生する微粉末（異物）を除去して配向膜の表面を清浄な状態とするために、ラビング処理後に配向膜をイソプロピルアルコール等によって洗浄することが好ましい。
また、ラビング処理する方法以外に、配向膜の表面に偏光紫外線を照射する方法によっても、面内で一方向に配向規制する機能を持たせることができる。

本発明において、配向膜上に本発明の高分子からなる液晶層を形成する方法としては、前記本発明の高分子の項で記載したのと同様の方法が挙げられる。

本発明の光学異方体は、本発明の高分子を構成材料としているので、低コストで製造可能で、反射輝度が低く、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面でも優れたものである。
本発明の光学異方体としては、位相差板、液晶表示素子用配向膜、偏光板、視野角拡大板、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等が挙げられる。

４）偏光板
本発明の偏光板は、本発明の光学異方体、及び偏光フィルムを含むものである。
本発明の偏光板は、本発明の光学異方体を用いていることから、低コストで製造可能で、反射輝度が低く、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面でも優れたものである。
また、本発明の偏光板によれば、反射防止フィルムや、液晶パネルを用いたフラットパネル表示装置や、有機エレクトロルミネッセンスパネルを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置を好適に製造することができる。

以下、本発明を、実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例により何ら制限されるものではない。

（合成例１）化合物１の合成

ステップ１：中間体Ａの合成

温度計を備えた３口反応器に、窒素気流中、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸 １７．９８ｇ（１０４．４２ｍｍｏｌ）とＴＨＦ１８０ｍｌを加えた。そこへ、メタンスルホニルクロリド ６．５８ｇ（５７．４３ｍｍｏｌ）を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を２０℃とした。次いで、トリエチルアミン ６．３４ｇ（６２．６５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下した。滴下終了後、全容を２５℃で２時間さらに攪拌した。
得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン ０．６４ｇ（５．２２ｍｍｏｌ）、及び、４−（６−アクリロイルオキシ−ヘクス−１−イルオキシ）フェノール（ＤＫＳＨ社製）１３．８０ｇ（５２．２１ｍｍｏｌ）を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン ６．３４ｇ（６２．６５ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、１０分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水１０００ｍｌと飽和食塩水１００ｍｌを加え、酢酸エチル４００ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を蒸発除去した後、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝１：９（体積比、以下にて同じ））により精製することで、白色固体として中間体Ａを１４．１１ｇ得た。収率６５％
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１２．１２（ｓ，１Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．９３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ）、４．１１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．４８−２．５６（ｍ，１Ｈ）、２．１８−２．２６（ｍ，１Ｈ）、２．０４−２．１０（ｍ，２Ｈ）、１．９３−２．００（ｍ，２Ｈ）、１．５９−１．７５（ｍ，４Ｈ）、１．３５−１．５２（ｍ，８Ｈ）

ステップ２：中間体Ｂの合成

温度計を備えた３口反応器に、窒素気流中、前記ステップ１で合成した中間体Ａ ４．００ｇ（９．５６ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ６０ｍｌを入れ、均一な溶液とした。そこへ、メタンスルホニルクロリド １．１２ｇ（９．７８ｍｍｏｌ）を加え、反応器を水浴に浸して反応液内温を２０℃とした。次いで、トリエチルアミン １．０１ｇ（９．９９ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、５分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃でさらに２時間攪拌した。得られた反応液に、４−（ジメチルアミノ）ピリジン ０．１１ｇ（０．８７ｍｍｏｌ）、及び、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド ０．６０ｇ（４．３５ｍｍｏｌ）を加え、再度反応器を水浴に浸して反応液内温を１５℃とした。そこへ、トリエチルアミン １．１０ｇ（１０．８７ｍｍｏｌ）を、反応液内温を２０〜３０℃に保持しながら、５分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃で２時間さらに攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水４００ｍｌと飽和食塩水５０ｍｌを加え、酢酸エチル７５０ｍｌで２回抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から溶媒を蒸発除去した後、得られた残留物をＴＨＦ１００ｍｌに溶解させた。その溶液にメタノール５００ｍｌを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。得られた結晶をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として中間体Ｂを２．５１ｇ得た。収率６２％
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．０２（ｓ，１Ｈ）、７．６７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．５５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．９９−７．０４（ｍ，４Ｈ）、６．９１−６．９６（ｍ，４Ｈ）、６．３２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．９３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ）、４．１１（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５６−２．８１（ｍ，４Ｈ）、２．１０−２．２６（ｍ，８Ｈ）、１．５０−１．７６（ｍ，１６Ｈ）、１．３３−１．４９（ｍ，８Ｈ）

ステップ３：化合物１の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ２で合成した中間体Ｂ ２．３０ｇ（２．４５ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ２５ｍｌを入れ、均一な溶液とし、そこへ、濃塩酸 ０．４９ｍｌ（０．２５ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液に、２−ヒドラジノベンゾチアゾール ０．４０ｇ（２．４５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ５ｍｌ溶液を１５分かけて滴下し、滴下終了後、全容を２５℃にてさらに１時間撹拌した。反応終了後、反応液をメタノール４００ｍｌに投入して析出した固体をろ取した。ろ取した固体を真空乾燥機で乾燥させ、淡黄色固体として化合物１を２．４ｇ得た。収率：９０％
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１２．６３（ｓ，１Ｈ）、８．１０（ｓ，１Ｈ）、７．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、７．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．４８（ｓ，１Ｈ）、７．２１−７．３５（ｍ，３Ｈ）、７．１４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、６．９８−７．０５（ｍ，４Ｈ）、６．９１−６．９７（ｍ，４Ｈ）、６．３２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．９３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ）、４．１２（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５６−２．８３（ｍ，４Ｈ）、２．１１−２．３０（ｍ，８Ｈ）、１．５２−１．８０（ｍ，１６Ｈ）、１．３３−１．４９（ｍ，８Ｈ）

（合成例２）化合物２の合成

ステップ１：中間体Ｃの合成

中間体Ｃ

温度計を備えた４つ口反応器に窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２．００ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。この溶液に炭酸カリウム８．３６ｇ（６０．５ｍｍｏｌ）、１−ヨードヘキサン３．０８ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で７時間撹拌した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、反応液を水２００ｍＬに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５）により精製し、白色固体として中間体Ｃを２．１０ｇ得た（収率：６９．６％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０、８．０Ｈｚ）、７．５３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０、８．０Ｈｚ）、７．２７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０、８．０、８．０Ｈｚ）、７．０６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０、８．０、８．０Ｈｚ）、４．２２（ｓ，２Ｈ）、３．７４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．６９−１．７６（ｍ，２Ｈ）、１．２９−１．４２（ｍ，６Ｈ）、０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）。

ステップ２：化合物２の合成
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、前記ステップ１で合成した中間体Ｃ６９７ｍｇ（２．３７ｍｍｏｌ）及び、先の合成例１の化合物１合成のステップ２で合成した中間体Ｂ ２．００ｇ（２．１３ｍｍｏｌ）を、エタノール３ｍｌ及びＴＨＦ２０ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸５５．１ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１５０ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製し、白色固体として化合物２を２．２４ｇ得た（収率：８６．４％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．６７−７．７０（ｍ，３Ｈ）、７．３４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．３０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５８−２．７０（ｍ，４Ｈ）、２．３１−２．３５（ｍ，８Ｈ）、１．６６−１．８２（ｍ，１８Ｈ）、１．３１−１．５４（ｍ，１４Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）。

（合成例３）化合物３の合成

ステップ１：中間体Ｄの合成

温度計を備えた３つ口反応器内において、窒素気流中、２−クロロベンゾチアゾール３．００ｇ（１７．６９ｍｍｏｌ）とフェニルヒドラジン７．６５ｇ（７０．７４ｍｍｏｌ）をエチレングリコール３０ｍｌに溶解させた。この溶液を１４０℃に加熱し５時間反応させた。その後、反応液に蒸留水３００ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、硫酸ナトリウムをろ別後、ロータリーエバポレーターでろ液を濃縮した。得られた濃縮物をＴＨＦ１５ｍｌを加えて溶解させ、その溶液を蒸留水３００ｍｌ中に投入した。析出した固体をろ過し、蒸留水で洗浄後、真空乾燥させて黄色固体を得た。得られた黄色固体をフラスコに入れ、トルエン５０ｍｌを加えて３０分攪拌した後、不溶物を除去した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＴＨＦ：トルエン＝２：５０）により精製することで、黄色オイルとして中間体Ｄを０．９４ｇ、収率２２％で得た。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．０１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．４３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．２８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０８−７．１６（ｍ，２Ｈ）、６．２６（ｓ，２Ｈ）。

ステップ２：化合物３の合成
温度計を備えた３つ口反応器内で、窒素気流中、先の合成例１のステップ２で合成した中間体Ｂ １．００ｇ（１．０６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３０ｍｌに溶解させた。この溶液に、１Ｎ塩酸０．２２ｍｌ（０．２２ｍｍｏｌ）及び前記ステップ１で合成した中間体Ｄ ０．３８ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）を加え、全容を４０℃で２時間撹拌した。その後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝４０：１）により精製することで、淡黄色固体として化合物３を１．１４ｇ、収率９５％で得た。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．７３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．６４−７．７０（ｍ，２Ｈ）、７．６０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．３５−７．４２（ｍ，３Ｈ）、７．３０（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０３−７．１２（ｍ，２Ｈ）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．４１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９２−３．９８（ｍ，４Ｈ）、２．５６−２．７１（ｍ，２Ｈ）、２．４１−２．５０（ｍ，１Ｈ）、２．２７−２．４０（ｍ，５Ｈ）、２．１２−２．２２（ｍ，２Ｈ）、１．６４−１．９１（ｍ，１４Ｈ）、１．４１−１．５６（ｍ，１０Ｈ）、１．１９−１．３１（ｍ，２Ｈ）。

（合成例４）化合物４の合成

ステップ１：中間体Ｅの合成

温度計を備えた４つ口反応器内で、窒素気流下中、シクロヘキシルヒドラジン塩酸塩 ２．５０ｇ（１６．６ｍｍｏｌ）をトリエチルアミン８ｍｌに溶解させた。この溶液に、２−クロロベンゾチアゾール ５．６３ｇ（３３．２ｍｍｏｌ）を加え、全容を８０℃で５時間撹拌した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１５０ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色個体を得た。この黄色個体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５）により精製して、白色個体として中間体Ｅを１．０２ｇ得た（収率：２２．３％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．５２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．２６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，８．２Ｈｚ）、７．０５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、４．２５−４．３２（ｍ，１Ｈ）、４．０４（ｓ，２Ｈ）、１．８４−１．８８（ｍ，４Ｈ）、１．６８−１．７３（ｍ，１Ｈ）、１．４３−１．５９（ｍ，４Ｈ）、１．０８−１．１９（ｍ，１Ｈ）。

ステップ２：化合物４の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、先の合成例１のステップ２で合成した中間体Ｂ １．４０ｇ（１．４９ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｅ ４５６ｍｇ（１．８４ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファスルホン酸３８．６ｍｇ（０．１６６ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及びエタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、全容を４０℃にて５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：ＴＨＦ＝９７：３）により精製して、淡黄色固体として化合物４を１．２４ｇ得た（収率：７１．４％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．１５（ｓ，１Ｈ）、７．７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、７．６８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．６６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．３１−７．３５（ｍ，１Ｈ）、７．１４−７．１８（ｍ，１Ｈ）、７．１３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，９．０Ｈｚ）、６．９６−７．００（ｍ，４Ｈ）、６．８６−６．９０（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ）、４．６２−４．７０（ｍ，１Ｈ）、４．１７（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５５−２．７４（ｍ，４Ｈ）、２．２７−２．４７（ｍ，１０Ｈ）、１．９０−２．００（ｍ，４Ｈ）、１．６５−１．８５（ｍ，１６Ｈ）、１．４２−１．５５（ｍ，１０Ｈ）、１．２４−１．３３（ｍ，２Ｈ）。

（合成例５）化合物５の合成

ステップ１：中間体Ｆの合成

温度計を備えた３つ口反応器内で、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２．００ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム ７．８８ｇ（２４．２ｍｏｌ）を加えて０℃に冷却した。そこへ、ｎ−ブチル−２−クロロエチルエーテル１．９８ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を５分かけて滴下した。滴下終了後、反応液を室温に戻して３時間攪拌した。反応終了後、反応液に水２００ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターでろ液を濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝７５：２５）により精製することで、白色固体として中間体Ｆを１．７０ｇ得た（収率５３．０％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２７−７．２９（ｍ，１Ｈ）、７．０４−７．０８（ｍ，１Ｈ）、４．７０（ｓ，２Ｈ）、４．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、３．８２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５２−１．５７（ｍ，２Ｈ）、１．３１−１．３９（ｍ，２Ｈ）、０．９０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）。

ステップ２：化合物５の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、先の合成例１のステップ２で合成した中間体Ｂ １．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｆ３９６ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファスルホン酸４１．４ｍｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及びエタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、全容を４０℃にて５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９：１）により精製して、淡黄色固体として化合物５を１．３１ｇ得た（収率：６９．４％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．０３（ｓ，１Ｈ）７．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、７．６５−７．７１（ｍ，２Ｈ）、７．３４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１７（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．０９−７．１２（ｍ，２Ｈ）、６．９６−７．００（ｍ，４Ｈ）、６．８７−６．９０（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．４５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、３．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．５５−２．７４（ｍ，４Ｈ）、２．２８−２．４０（ｍ，８Ｈ）、１．６５−１．８３（ｍ，１６Ｈ）、１．４２−１．５５（ｍ，１０Ｈ）、１．２５−１．３４（ｍ，２Ｈ）、０．８５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）。

（合成例６）化合物６の合成

ステップ１：中間体Ｇの合成

温度計を備えた４つ口反応器内に、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール５．０４ｇ（３０．５ｍｍｏｌ）を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム１４．９ｇ（４５．８ｍｍｏｌ）、及び、４−ブロモ−１−ブテン４．９４ｇ（３６．６ｍｍｏｌ）を加え、全容を室温で７時間撹拌した。反応終了後、反応液を水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝７０：３０）により精製し、白色固体として中間体Ｇを４．４０ｇ得た（収率：４９．５％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．０６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、５．８９（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．１７（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，３．０Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．０９（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，３．０Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．２６（ｓ，２Ｈ）、３．８５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．５２（ｄｄｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１．５Ｈｚ，７．０Ｈｚ，７．０Ｈｚ）。

ステップ２：化合物６の合成
温度計を備えた４つ口反応器内で、窒素気流中、前記ステップ１で合成した中間体Ｇ１９５ｍｇ（１．７７ｍｍｏｌ）及び、先の合成例１のステップ２で合成した中間体Ｂ １．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）を、エタノール３ｍｌ及びＴＨＦ１５ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸４１．２ｍｇ（０．１８ｍｍｏｌ）を加え、全容を４０℃で８時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１５０ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製し、白色固体として化合物６を１．２６ｇ得た（収率：６９．３％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、７．６７−７．７０（ｍ，３Ｈ）、７．３５（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１０−７．１４（ｍ，２Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）、６．８８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８９（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．１５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．３８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５８−２．６８（ｍ，４Ｈ）、２．５１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，７．０Ｈｚ）、２．３１−２．３５（ｍ，８Ｈ）、１．７６−１．８５（ｍ，４Ｈ）、１．６５−１．７４（ｍ，１２Ｈ）、１．４１−１．５４（ｍ，８Ｈ）。

（合成例７）化合物７の合成

ステップ１：中間体Ｈの合成

温度計を備えた３つ口反応器内で、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２．００ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム７．８８ｇ（２４．２ｍｏｌ）を加えて０℃に冷却し、２−ブロモヘキサン２．３９ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下した。滴下終了後、反応液を室温に戻して３時間攪拌した。反応終了後、反応液に水２００ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターでろ液を濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝９３：７）により精製することで、白色固体として中間体Ｈを１．６１ｇ得た（収率５３．４％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．５９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．２４−７．３０（ｍ，１Ｈ）、７．０５（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、３．９７（ｓ，２Ｈ）、１．４７−１．７４（ｍ，３Ｈ）、１．２０−１．４１（ｍ，７Ｈ）、０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）。

ステップ２：化合物７の合成
温度計を備えた３つ口反応器内に、窒素気流中、先の合成例１のステップ２で合成した中間体Ｂ １．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｈ ４４４ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファスルホン酸４１．４ｍｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及びエタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、全容を４０℃にて５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、クロロホルム２００ｍｌで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターでろ液を濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９２：８）により精製して、淡黄色固体として化合物７を１．３５ｇ得た（収率：７２．４％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．０４（ｓ，１Ｈ）、７．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、７．６９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．６５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．３３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．０７−７．１９（ｍ，３Ｈ）、６．９５−７．０１（ｍ，４Ｈ）、６．８５−６．９１（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５４−２．７３（ｍ，４Ｈ）、２．２５−２．４０（ｍ，８Ｈ）、１．６５−１．８３（ｍ，１６Ｈ）、１．６０−１．６２（ｍ，２Ｈ）、１．５７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．２４−１．５５（ｍ，１３Ｈ）、０．８７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）。

（合成例８）化合物８の合成

ステップ１：中間体Ｉの合成

温度計を備えた４つ口反応器内で、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２．００ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム７．８８ｇ（２４．２ｍｍｏｌ）、及び１−ブロモ−２−ブチン１．９３ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を加え、全容を２５℃で２０時間撹拌した。反応終了後、反応液を水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出し、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８５：１５）により精製し、白色固体として中間体Ｉを１．２５ｇ得た（収率：４７．５％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．５８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．２９（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、７．１０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、４．５６（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、４．３６（ｓ，２Ｈ）、１．８４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）。

ステップ２：化合物８の合成
温度計を備えた３つ口反応器内で、窒素気流中、先の合成例１のステップ２で合成した中間体Ｂ １．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｉ ３８７ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファスルホン酸４１．４ｍｇ（０．１６５ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及びエタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、全容を４０℃にて５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、クロロホルム２００ｍｌで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターでろ液を濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９：１）により精製し、淡黄色固体として化合物８を１．５４ｇ得た（収率：８４．９％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．９０（ｓ，１Ｈ）、７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ）、７．６７−７．７３（ｍ，２Ｈ）、７．３５（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．１８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．０９−７．１５（ｍ，２Ｈ）、６．９５−７．０１（ｍ，４Ｈ）、６．８５−６．９１（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、２．５５−２．７６（ｍ，４Ｈ）、２．２６−２．４３（ｍ，８Ｈ）、１．６４−１．８３（ｍ，１９Ｈ）、１．４１−１．５５（ｍ，８Ｈ）。

（合成例９）化合物９の合成

ステップ１：中間体Ｊの合成

温度計を備えた４つ口反応器内で、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール５．００ｇ（３０．３ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解させた。この溶液に、炭酸カリウム２０．９ｇ（１５２ｍｍｏｌ）、５−ブロモバレロニトリル５．１７ｇ（３０．３ｍｍｏｌ）を加え、全容を６０℃で８時間撹拌した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、反応液を水５００ｍｌに投入し、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６０：４０）により精製し、白色固体として中間体Ｊを３．４１ｇ得た（収率：４５．７％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．２８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３、８．１Ｈｚ）、７．０７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、４．２３（ｓ，２Ｈ）、３．８１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、２．４６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、１．８８−１．９５（ｍ，２Ｈ）、１．７１−１．７９（ｍ，２Ｈ）。

ステップ２：化合物９の合成
温度計を備えた３つ口反応器に、窒素気流中、先の合成例１のステップ２で合成した中間体Ｂ １．５０ｇ（１．６０ｍｍｏｌ）、前記ステップ１で合成した中間体Ｊ ４３８ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、（±）−１０−カンファスルホン酸４１．４ｍｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１６ｍｌ、及びエタノール４ｍｌを加え、均一な溶液とした。その後、全容を４０℃にて５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水１００ｍｌに投入し、酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝８５：１５）により精製し、淡黄色固体として化合物９を１．３１ｇ得た（収率：７０．２％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、７．６４−７．７２（ｍ，３Ｈ）、７．３５（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１９（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１０−７．１４（ｍ，２Ｈ）、６．９６−７．０１（ｍ，４Ｈ）、６．８６−６．９１（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．２２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．５８−２．７５（ｍ，４Ｈ）、２．５５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．２６−２．４０（ｍ，８Ｈ）、１．９６（ｔｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，６．５Ｈｚ）、１．６６−１．８３（ｍ，１８Ｈ）、１．４２−１．５５（ｍ，８Ｈ）。

（合成例１０）化合物Ｘの合成

温度計を備えた４つ口反応器で、窒素気流中、トランスシクロヘキサンジカルボン酸 １０．０ｇ（５８．１ｍｍｏｌ）、４−［（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ］フェノール（商品名：ＳＴ０３４５６；ＤＫＳＨジャパン社製）３８．４ｇ（１４５．２ｍｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン ７１０ｍｇ（０．５８ｍｍｏｌ）をＮ−メチルピロリドン５００ｍｌに溶解させた。この溶液に、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）３３．４ｇ（１７４．３ｍｍｏｌ）を加え、全容を２３℃にて２０時間撹拌した。反応終了後、反応液をメタノール３０００ｍｌに投入して、３０分間撹拌した。析出した固体をろ取した。得られた固体をメタノール１０００ｍｌに投入して、さらに３０分間撹拌して洗浄した。洗浄後、吸引ろ過にて固体をろ別し、白色固体として化合物Ｘを１０．５ｇ得た（収率：２７．２％）。
目的物の構造は^１Ｈ−ＮＭＲで同定した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：６．９７（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８７（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１７（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．９４（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．６０−２．５３（ｍ，２Ｈ）、２．３０−２．２２（ｍ，４Ｈ）、１．８３−１．６２（ｍ，１２Ｈ）、１．５６−１．４０（ｍ，８Ｈ）。

〈相転移温度の測定〉
化合物１〜９をそれぞれ１０ｍｇ計量し、固体状態のまま、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板（Ｅ．Ｈ．Ｃ．Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製、商品名：配向処理ガラス基板）２枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、４０℃から２００℃まで昇温した後、再び４０℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏向光学顕微鏡（ニコン社製、ＥＣＬＩＰＳＥ ＬＶ１００ＰＯＬ型）で観察した。

測定した相転移温度を下記表１に示す。
表１中、「Ｃ」はＣｒｙｓｔａｌ、「Ｎ」はＮｅｍａｔｉｃ、「Ｉ」はＩｓｏｔｒｏｐｉｃをそれぞれ表す。ここで、Ｃｒｙｓｔａｌとは、試験化合物が固相にあることを、Ｎｅｍａｔｉｃとは、試験化合物がネマチック液晶相にあることを、Ｉｓｏｔｒｏｐｉｃとは、試験化合物が等方性液体相にあることを、それぞれ示す。

＜重合性液晶組成物の調製＞
（実施例１〜９）
合成例１〜９で得た化合物１〜９のそれぞれを０．８ｇ、合成例１０で得た化合物Ｘを０．２ｇ、光重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製、アデカオプトマーＮ−１９１９）を３０ｍｇ、界面活性剤（ネオス社製、フタージェント２０８Ｇ）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、１，３−ジオキソラン０．３ｇ、シクロペンタノン２．０ｇに溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性液晶組成物１〜９をそれぞれ得た。

（比較例１〜９）
合成例１〜９で得た化合物１〜９のそれぞれを１．０ｇ、光重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製、アデカオプトマーＮ−１９１９）を３０ｍｇ、界面活性剤（ネオス社製、フタージェント２０８Ｇ）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、１，３−ジオキソラン０．３ｇ、シクロペンタノン２．０ｇに溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性液晶組成物１ｒ〜９ｒをそれぞれ得た。

得られた重合性液晶組成物１〜９、１ｒ〜９ｒにつき、下記に示す液晶相の安定性評価を行った。

＜液晶相の安定性評価＞
（ｉ）重合性液晶組成物による液晶層の形成
ラビング処理されたポリイミド配向膜の付与された透明ガラス基板（商品名：配向処理ガラス基板；Ｅ．Ｈ．Ｃ．Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）に、重合性液晶組成物１ｒ〜９ｒのそれぞれを♯４のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を、下記表２に示す温度で１分間乾燥した後、表２に示す温度で１分間配向処理し、液晶層を形成した。

（ｉｉ）光学異方体の形成
（ｉ）で作成した液晶層を表２に示す温度で１分間あるいは１５分間放置した後、それぞれの液晶層の塗布面側から表２に示す温度で１５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して重合させ、それぞれ光学異方体を得た。

（ｉｉｉ）液晶相安定性の判定
（ｉｉ）で得られた光学異方体を図１に示すように配置した。図１（ａ）は、厚み方向の構成を示し、図１（ｂ）は面内方向の光学構成を示す。遅相軸と吸収軸は４５度の関係にある。
その後、表面の状態を目視にて観察した。ムラが少ない状態（よい状態）を５とし、ムラが発生している状態（悪い状態）を１として、その程度を５段階で評価した。評価結果を表２に示す。
なお、ムラがない状態（評価指数：５）は、図２（ａ）の写真図に示す状態、ムラが発生している状態（評価指数：１）は、図２（ｂ）の写真図に示す状態を基準とする。

表２から、化合物Ｘを含む本発明の重合性液晶組成物によれば、液晶相をより安定に長時間維持でき、塗布ムラの少ない塗膜が得られることが分かる。

Claims (11)

1. 下記式（Ｉ）
   

   

   （式中、Ａはそれぞれ独立して、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、Ｒは水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の有機基を表す。
   Ｒ^xはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、一置換アミノ基、二置換アミノ基、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^１を表す。ここで、Ｒ^１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。環を構成する、Ｃ−Ｒ^xは、窒素原子に置き換えられていてもよい。
   ｎはそれぞれ独立して、１〜２０の整数を表す。）
   で示される重合性化合物（Ｉ）と、下記式（ＩＩ）
   

   

   （式中、Ｄはそれぞれ独立して、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、ｍはそれぞれ独立して、１〜２０の整数を表す。）
   で示される重合性化合物（ＩＩ）とを含有し、
   前記重合性化合物（Ｉ）と前記重合性化合物（ＩＩ）との質量比が９０：１０〜７０：３０である重合性液晶組成物。
2. 前記式（Ｉ）中、Ｒが、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１８の芳香族基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜１８の複素環式芳香族基である、請求項１に記載の重合性液晶組成物。
3. 前記式（Ｉ）中、Ｒ^Xが水素原子である、請求項１又は２に記載の重合性液晶組成物。
4. 前記式（Ｉ）中、Ａがそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基である、請求項１〜３のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
5. 前記式（Ｉ）中、Ｄがそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基である、請求項１〜４のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
6. 前記式（Ｉ）中、ｎがそれぞれ独立して、２〜１０の整数である、請求項１〜５のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
7. 前記式（Ｉ）中、ｍがそれぞれ独立して、２〜１０の整数である、請求項１〜６のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
8. さらに、重合開始剤を含有する、請求項１〜７のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
9. 請求項１〜８のいずれかに記載の重合性液晶組成物を重合して得られる高分子。
10. 請求項９に記載の高分子を構成材料とする光学異方体。
11. 請求項１０に記載の光学異方体および偏光フィルムを含む偏光板。
    

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