JP2019199461A

JP2019199461A - 化合物、液晶組成物、および液晶表示素子

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Publication number: JP2019199461A
Application number: JP2018222316A
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Inventors: 絢子森; Ayako Mori; 一雄奥村; Kazuo Okumura; 田中　裕之; Hiroyuki Tanaka; 裕之田中; 高田章博; Akihiro TAKATA; 章博高田
Original assignee: JNC Corp; JNC Petrochemical Corp
Current assignee: JNC Corp; JNC Petrochemical Corp
Priority date: 2018-05-15
Filing date: 2018-11-28
Publication date: 2019-11-21
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Also published as: JP7225736B2; CN111819165A; CN111819165B

Abstract

【課題】高い化学的安定性、液晶分子を配向させる能力、液晶組成物への溶解度を有し、液晶表示素子の電圧保持率が大きい極性化合物の提供。【解決手段】式（１）で表される化合物。式（１）において環Ａ１〜環Ａ２は置換／非置換のシクロヘキシレン、シクロヘキセニレン、フェニレン、ナフタレンジイル、デカヒドロナフタレンジイル、テトラヒドロナフタレンジイル、テトラヒドロピランジイル又はジオキサンジイル；ａは０〜３；Ｚ１は単結合又はアルキレン；Ｒ１はＨ、Ｃ１〜１０のアルキル；Ｒ２は式（１−ａ）、（１−ｂ）、（１−ｃ）のいずれか；式（１−ａ）−Ｓｐ３−Ｘ１、式（１−ｂ）−Ｓｐ３−ＣＲ３（Ｓｐ４−Ｘ１）２、式（１−ｃ）−Ｓｐ３−Ｃ（Ｓｐ４−Ｘ１）３［Ｓｐ１〜Ｓｐ４は、単結合又は置換／非置換のアルキレン］；Ｒ３〜Ｒ４はＨ、Ｃ１〜１０のアルキル、Ｃ１〜９のアルコキシ；Ｘ１は−ＯＨ。【選択図】なし

Description

本発明は、化合物、液晶組成物および液晶表示素子に関する。さらに詳しくは、複数のメタクリロイルオキシなどの重合性基と−ＯＨ基などの極性基を併せ持つ化合物、この化合物を含み、誘電率異方性が正または負の液晶組成物、およびこの組成物またはその一部の硬化物を含む液晶表示素子に関する。

液晶表示素子を液晶分子の動作モードに基づいて分類すると、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）、ＦＦＳ（fringe field switching）、ＦＰＡ（field-induced photo-reactive alignment）などのモードに分類できる。また、素子の駆動方式に基づくと、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）に分類できる。ＰＭは、スタティック（static）、マルチプレックス（multiplex）などに分類され、ＡＭは、ＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。さらに、ＴＦＴは非晶質シリコン（amorphous silicon）および多結晶シリコン（polycrystal silicon）に分類できる。後者は製造工程によって高温型と低温型とに分類される。光源に基づいた分類すると、自然光を利用する反射型、バックライトを利用する透過型、そして自然光とバックライトの両方を利用する半透過型に分類できる。

ネマチック相を有する液晶組成物は、適切な特性を有する。この組成物の特性を向上させることによって、良好な特性を有するＡＭ素子を得ることができる。前記組成物の特性とＡＭ素子の特性との関連を下記の表１にまとめる。

前記組成物の特性を市販されているＡＭ素子に基づいてさらに説明する。ネマチック相の温度範囲（ネマチック相を呈する温度範囲）は、素子の使用できる温度範囲に関連する。ネマチック相の好ましい上限温度は約７０℃以上であり、そしてネマチック相の好ましい下限温度は約−１０℃以下である。
前記組成物の粘度は素子の応答時間に関連する。素子で動画を表示するためには短い応答時間が好ましい。１ミリ秒でもより短い応答時間が望ましい。したがって、前記組成物の粘度は低いことが好ましく、さらに、低温でも低いとより好ましい。

前記組成物の光学異方性は、素子のコントラスト比に関連する。素子のモードに応じて、大きな光学異方性または小さな光学異方性、すなわち適切な光学異方性が必要である。組成物の光学異方性（Δｎ）と素子のセルギャップ（ｄ）との積（Δｎ×ｄ）は、コントラスト比を最大にするように設計される。適切な積の値は動作モードの種類に依存する。この値は、ＴＮなどのモードの素子では約０．４５μｍである。この値は、ＶＡモードの素子では約０．３０μｍから約０．４０μｍの範囲であり、ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの素子では約０．２０μｍから約０．３０μｍの範囲である。これらの場合、小さなセルギャップの素子には大きな光学異方性を有する組成物が好ましい。
前記組成物における大きな誘電率異方性は、素子における低いしきい値電圧、小さな消費電力と大きなコントラスト比に寄与する。したがって、正または負に大きな誘電率異方性が好ましい。組成物における大きな比抵抗は、素子における大きな電圧保持率と大きなコントラスト比とに寄与する。したがって、初期段階において室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。長時間使用した後、室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。
紫外線および熱に対する組成物の安定性は、素子の寿命に関連する。この安定性が高いとき、素子の寿命は長い。このような特性は、液晶プロジェクター、液晶テレビなどに用いるＡＭ素子に好ましい。

高分子支持配向（ＰＳＡ；polymer sustained alignment）型の液晶表示素子では、重合体を含有する液晶組成物が用いられる。まず、少量の重合性化合物を添加した組成物を素子に注入する。ここでは、複数の重合性基を有する重合性化合物が一般的に使用される。次に、この素子を挟持する基板の間に電圧を印加しながら、組成物に紫外線を照射する。重合性化合物は重合して、組成物中に重合体の網目構造を生成する。この組成物を用いると、重合体によって液晶分子の配向を制御することが可能になるので、素子の応答時間が短縮され、画像の焼き付きが改善される。重合体のこのような効果は、ＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＦＦＳ、ＦＰＡなどのモードを有する素子に期待できる。

汎用の液晶表示素子において、液晶分子の垂直配向は、ポリイミド配向膜によって達成される。一方、配向膜を有しない液晶表示素子として、極性化合物を液晶組成物に添加し、液晶分子を配向させるモードが提案されている。まず、少量の極性化合物および少量の重合性化合物を添加した組成物を素子に注入する。該重合性化合物としては、複数の重合性基を有する重合性化合物が一般的に使用される。ここで、極性化合物の作用によって液晶分子が配向される。次に、この素子を挟持する基板の間に電圧を印加しながら、組成物に紫外線を照射する。ここで、重合性化合物が重合し、液晶分子の配向を安定化させる。この組成物を用いると、極性化合物および重合体によって液晶分子の配向を制御することが可能になるので、素子の応答時間が短縮され、画像の焼き付きが改善される。さらに、配向膜を有しない素子では、配向膜を形成する工程が不要である。配向膜がないので、配向膜と組成物との相互作用によって、素子の電気抵抗が低下することはない。極性化合物と重合体の組合せによるこのような効果は、ＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＦＦＳ、ＦＰＡなどのモードを有する素子に期待できる。

これまでに、配向膜を有しない液晶表示素子において、極性化合物の作用と重合性化合物の作用を兼ね備えた化合物として、重合性を有する極性化合物が合成されてきた（例えば、特許文献１、２、および３）。特許文献２には、複数の極性基と複数の重合性基を有する重合性化合物（Ｓ−１）が記載されている。

国際公開第２０１７／０４７１７７号国際公開第２０１７／２０９１６１号国際公開第２０１６／１２９４９０号

本発明の第一の課題は、化学的に高い安定性、液晶分子を配向させる高い能力、紫外線照射による高い重合反応性、液晶表示素子に用いた場合の大きな電圧保持率の少なくとも１つを有し、そして液晶組成物への高い溶解度を有する化合物を提供することである。第二の課題は、この化合物を含み、そしてネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、低粘度、適切な光学異方性、正または負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、大きな弾性定数などの特性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を提供することである。第三の課題は、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、高い透過率、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、長い寿命、良好な垂直配向性などの特性の少なくとも１つを有する液晶表示素子を提供することである。

本発明は、式（１）で表される化合物、この化合物を含む液晶組成物、およびこの組成物および／またはこの組成物の少なくとも一部が重合した重合物を含む液晶表示素子に関する。

式（１）において、
環Ａ^１および環Ａ^２は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数２から１０のアルケニル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数２から９のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
ａは、０、１、２、または３であり；
Ｚ^１は、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｓｐ^１およびＳｐ^２は独立して、単結合または炭素数１から１５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｍ^１、Ｍ^２、Ｍ^３、およびＭ^４は独立して、水素、フッ素、塩素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｒ^１は、水素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数１から９のアルコキシアルキルであり、これらの基において、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｒ^２は、式（１−ａ）、式（１−ｂ）、および式（１−ｃ）で表される基から選択された基であり；

式（１−ａ）、式（１−ｂ）、および式（１−ｃ）において、
Ｓｐ^３およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｒ^３は、水素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数１から９のアルコキシアルキルであり
Ｘ^１は独立して、−ＯＨ、−ＮＨ_２、−Ｎ（Ｒ^４）_２、−ＣＯＯＨ、−ＳＨ、または−Ｓｉ（Ｒ^４）_３であり；
−Ｎ（Ｒ^４）_２、および−Ｓｉ（Ｒ^４）_３において、
Ｒ^４は、水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。

本発明の第一の長所は、化学的に高い安定性、液晶分子を配向させる高い能力、紫外線照射による高い重合反応性、液晶表示素子に用いた場合の大きな電圧保持率の少なくとも１つを有し、そして液晶組成物への高い溶解度を有する化合物を提供することである。第二の長所は、この化合物を含み、そしてネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、低粘度、適切な光学異方性、正または負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、大きな弾性定数などの特性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を提供することである。第三の長所は、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、高い透過率、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、長い寿命、良好な垂直配向性などの特性の少なくとも１つを有する液晶表示素子を提供することである。

この明細書における用語の使い方は、次のとおりである。「液晶性化合物」、「液晶組成物」、および「液晶表示素子」の用語をそれぞれ「化合物」、「組成物」、および「素子」と略すことがある。
「液晶性化合物」は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物、および液晶相を有しないが、上限温度、下限温度、粘度、誘電率異方性などの組成物の物性を調節する目的で添加する化合物の総称である。この化合物は、通常、１，４−シクロヘキシレンや１，４−フェニレンなどの六員環を有し、その分子構造は棒状（ｒｏｄｌｉｋｅ）である。
「重合性化合物」は、組成物中に重合体を生成させる目的で添加する化合物である。アルケニルを有する液晶性化合物は、その意味では重合性化合物ではない。
「極性化合物」は、極性基が基板表面などと相互作用することによって液晶分子が配列するのを援助する。
「液晶表示素子」は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールなどの総称である。

液晶組成物は、通常、複数の液晶性化合物を混合することによって調製される。この組成物には、物性をさらに調整する目的で、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、および消泡剤などの添加物が必要に応じて添加される。液晶組成物中の液晶性化合物の割合（含有量）は、添加物を添加した場合であっても、添加物を含まない液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）で表す。液晶組成物中の添加物の割合（添加量）は、添加物を含まない液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）で表す。すなわち、液晶性化合物や添加物の割合は、液晶性化合物の全重量に基づいて算出される。重量百万分率（ｐｐｍ）が用いられることもある。液晶組成物中の重合開始剤および重合禁止剤の割合は、例外的に重合性化合物の重量に基づいて表す。

「透明点」は、液晶性化合物における液晶相−等方相の転移温度である。「液晶相の下限温度」は、液晶性化合物における固体−液晶相（スメクチック相、ネマチック相など）の転移温度である。「ネマチック相の上限温度」は、液晶性化合物と母液晶との混合物または液晶組成物におけるネマチック相−等方相の転移温度であり、「上限温度」と略すことがある。「ネマチック相の下限温度」を「下限温度」と略すことがある。「誘電率異方性を上げる」や「大きな誘電率異方性」との表現は、その値の絶対値が増加するまたは大きいことを意味する。「電圧保持率が大きい」とは、素子が初期段階において室温だけでなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有し、そして素子を長時間使用した後においても、室温だけでなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有することを意味する。組成物や素子では、経時変化試験（加速劣化試験を含む）の前後で特性が検討されることがある。「液晶組成物への溶解度が高い」との表現は、常温での液晶性化合物を含む組成物のいずれにも対しても溶解度が高いことを意味するが、該組成物として、下記実施例で溶解性を評価するのに用いた組成物を規準とすることができる。

式（１）で表される化合物を「化合物（１）」と略すことがある。化合物（１）は、式（１）で表される１つの化合物、２つの化合物の混合物、または３つ以上の化合物の混合物を意味する。このルールは、式（２）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物などにも適用される。
六角形で囲んだＡ^１、Ｂ^１、Ｃ^１などの記号はそれぞれ環Ａ^１、環Ｂ^１、環Ｃ^１などに対応する。六角形は、シクロヘキサン環やベンゼン環などの六員環またはナフタレン環などの縮合環を表す。この六角形の一辺を横切る直線は、環上の任意の水素が−Ｓｐ^１−Ｐ^１などの基で置き換えられてもよいことを表す。
ｆ、ｇ、ｈなどの添え字は、置き換えられた基の数を示す。添え字が０のとき、そのような置き換えはない。
「環Ａおよび環Ｃは独立して、Ｘ、Ｙ、またはＺである」との表現では、主語が複数であるから、「独立して」を用いる。主語が「環Ａは」であるときは、主語が単数であるから「独立して」を用いない。

化合物の化学式において、末端基Ｒ^１１の記号を複数の化合物に用いているが、これらの化合物におけるＲ^１１が表す基はそれぞれ同一であってもよく、または異なってもよい。例えば、化合物（２）のＲ^１１がエチルである場合、化合物（３）のＲ^１１はエチルであってもよく、プロピルなどの他の基であってもよい。このルールは、他の記号にも適用される。化合物（８）において、ｉが２のとき、２つの環Ｄ^１が存在する。この化合物において２つの環Ｄ^１が表す２つの基は、同一であってもよく、または異なってもよい。ｉが２より大きいとき、任意の２つの環Ｄ^１にも適用される。このルールは、他の記号にも適用される。

「少なくとも１つの‘Ａ’」との表現は、‘Ａ’の数は任意であることを意味する。「少なくとも１つの‘Ａ’は、‘Ｂ’で置き換えられてもよい」との表現は、‘Ｂ’で置き換えられない‘Ａ’そのものの場合、１つの‘Ａ’が‘Ｂ’で置き換えらた場合、２つ以上の‘Ａ’が‘Ｂ’で置き換えられた場合を含み、これらにおいて、‘Ｂ’で置き換えられる‘Ａ’の位置は任意である。置換位置が任意であるとのルールは、「少なくとも１つの‘Ａ’が、‘Ｂ’で置き換えられた」との表現にも適用される。「少なくとも１つのＡが、Ｂ、Ｃ、またはＤで置き換えられてもよい」という表現は、Ａが置換されない場合、少なくとも１つのＡがＢで置き換えられた場合、少なくとも１つのＡがＣで置き換えられた場合、および少なくとも１つのＡがＤで置き換えられた場合、さらに複数のＡがＢ、Ｃ、Ｄの少なくとも２つで置き換えられた場合を含むことを意味する。例えば、少なくとも１つの−ＣＨ_２−（または、−ＣＨ_２ＣＨ_２−）が−Ｏ−（または、−ＣＨ＝ＣＨ−）で置き換えられてもよいアルキルには、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルケニル、アルケニルオキシアルキルが含まれる。なお、連続する２つの−ＣＨ_２−が−Ｏ−で置き換えられて、−Ｏ−Ｏ−のようになることは好ましくない。アルキルなどにおいて、メチル部分（−ＣＨ_２−Ｈ）の−ＣＨ_２−が−Ｏ−で置き換えられて−Ｏ−Ｈになることも好ましくない。

「Ｒ^１１およびＲ^１２は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい」との表現が使われることがある。この表現において、「これらの基において」は、文言どおりに解釈してよい。この表現では、「これらの基」は、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルケニルオキシなどを意味する。すなわち、「これらの基」は、「これらの基において」の用語よりも前に記載された基の総てを表す。この常識的な解釈は、他の用語にも適用される。

ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を意味する。好ましいハロゲンは、フッ素または塩素である。さらに好ましいハロゲンはフッ素である。液晶性化合物において、アルキルは、直鎖状または分岐状であり、環状アルキルを含まない。直鎖状アルキルは、一般的に分岐状アルキルよりも好ましい。これらのことは、アルコキシ、アルケニルなどの末端基についても同様である。１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置は、ネマチック相の上限温度を上げるために、シスよりもトランスが好ましい。２−フルオロ−１，４−フェニレンは、下記の２つの二価基を意味する。化学式において、フッ素は左向き（Ｌ）であってもよいし、右向き（Ｒ）であってもよい。このルールは、テトラヒドロピラン−２，５−ジイルなどの、環から水素を２つ除くことによって生成した左右非対称な二価基にも適用される。

本発明は、下記の項などを包含する。

項１．
式（１）で表される化合物。

式（１−ａ）、式（１−ｂ）、および式（１−ｃ）において、
Ｓｐ^３およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｒ^３は、水素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数１から９のアルコキシアルキルであり
Ｘ^１独立しては、−ＯＨ、−ＮＨ_２、−Ｎ（Ｒ^４）_２、−ＣＯＯＨ、−ＳＨ、または−Ｓｉ（Ｒ^４）_３であり；
−Ｎ（Ｒ^４）_２、および−Ｓｉ（Ｒ^４）_３において、
Ｒ^４は、水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。

項２．
式（１）において、
Ｚ^１が、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、または−ＣＦ＝ＣＦ−である、項１に記載の化合物。

項３．
式（１）において、
環Ａ^１および環Ａ^２が独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数２から１０のアルケニル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数２から９のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい、項１または２に記載の化合物。

項４．
式（１−１）から式（１−４）のいずれか１つで表される、項１から３のいずれか１項に記載の化合物。

式（１−１）から式（１−４）において、
環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^３、および環Ａ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数２から１０のアルケニル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数２から９のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｚ^１、Ｚ^２、およびＺ^３は独立して、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であり；
Ｓｐ^１およびＳｐ^２は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｍ^１、Ｍ^２、Ｍ^３、およびＭ^４は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｒ^１は、水素、炭素数１から７のアルキル、炭素数１から６のアルコキシ、または炭素数１から６のアルコキシアルキルであり、これらの基において、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ^２は、式（１−ａ）、式（１−ｂ）、および式（１−ｃ）で表される基から選択された基であり；

式（１−ａ）、式（１−ｂ）、および式（１−ｃ）において、
Ｓｐ^３およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ^３は、水素、炭素数１から７のアルキル、炭素数１から６のアルコキシ、または炭素数１から６のアルコキシアルキルであり
Ｘ^１は独立して、−ＯＨ、−ＮＨ_２、または−ＳＨである。

項５．
式（１−５）から式（１−７）のいずれか１つで表される、項１から４のいずれか１項に記載の化合物。

式（１−５）から式（１−７）において、
環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^３、および環Ａ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、炭素数１から７のアルキル、炭素数２から７のアルケニル、または炭素数１から６のアルコキシで置き換えられてもよく；
Ｚ^１、Ｚ^２、およびＺ^３は独立して、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２Ｏ−、または−ＯＣＨ_２−であり；
Ｓｐ^１、およびＳｐ^２は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく；
Ｒ^１は、水素、炭素数１から５のアルキル、炭素数１から４のアルコキシ、または炭素数１から４のアルコキシアルキルであり；
Ｒ^２は、式（１−ａ）、および式（１−ｂ）で表される基から選択された基であり；

式（１−ａ）、および式（１−ｂ）において、
Ｓｐ^３およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ^３は、水素、炭素数１から７のアルキル、炭素数１から６のアルコキシ、または炭素数１から６のアルコキシアルキルであり
Ｘ^１は独立して、−ＯＨ、−ＮＨ_２、または−ＳＨである。

項６．
式（１−８）から式（１−２５）のいずれか１つで表される、項１から５のいずれか１項に記載の化合物。

式（１−８）から式（１−２５）において、
Ｒ^１は、水素、メチル、エチル、プロピル、または−ＣＨ_２ＯＣＨ_３であり；
Ｒ^３は、水素、炭素数１から７のアルキル、炭素数１から６のアルコキシ、または炭素数１から６のアルコキシアルキルであり；
Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、または−ＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｓｐ^３、およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４、Ｙ^５、Ｙ^６、Ｙ^７、Ｙ^８、Ｙ^９、Ｙ^１０、Ｙ^１１、およびＹ^１２は独立して、水素、フッ素、または炭素数１から５のアルキルである。

項７．
式（１−２６）から式（１−４３）のいずれか１つで表される、項１から６のいずれか１項に記載の化合物。

式（１−２６）から式（１−４３）において、
Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４、Ｙ^５、およびＹ^６は独立して、水素、フッ素、メチル、またはエチルであり；
Ｒ^３は、水素、炭素数１から７のアルキル、炭素数１から６のアルコキシ、または炭素数１から６のアルコキシアルキルであり；
Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合または−（ＣＨ_２）_２−であり；
Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｓｐ^３、およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよい。

項８．
項１から７のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有する液晶組成物。

項９．
式（２）から（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項８に記載の液晶組成物。

式（２）から（４）において、
Ｒ^１１およびＲ^１２は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
環Ｂ^１、環Ｂ^２、環Ｂ^３、および環Ｂ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ^１１、Ｚ^１２、およびＺ^１３は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−である。

項１０．
式（５）から（７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項８または９に記載の液晶組成物。

式（５）から（７）において、
Ｒ^１３は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ^１１は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ_３、−ＯＣＨＦ_２、−ＣＦ_３、−ＣＨＦ_２、−ＣＨ_２Ｆ、−ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、または−ＯＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_３であり；
環Ｃ^１、環Ｃ^２、および環Ｃ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；
Ｚ^１４、Ｚ^１５、およびＺ^１６は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−（ＣＨ_２）_４−であり；
Ｌ^１１およびＬ^１２は独立して、水素またはフッ素である。

項１１．
式（８）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項８から１０のいずれか１項に記載の液晶組成物。

式（８）において、
Ｒ^１４は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ^１２は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｄ^１は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；
Ｚ^１７は、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；
Ｌ^１３およびＬ^１４は独立して、水素またはフッ素であり；
ｉは、１、２、３、または４である。

項１２．
式（１１）から（１９）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項８から１１のいずれか１項に記載の液晶組成物。

式（１１）から（１９）において、
Ｒ^１５、Ｒ^１６、およびＲ^１７は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、そしてＲ^１７は、水素またはフッ素であってもよく；
環Ｅ^１、環Ｅ^２、環Ｅ^３、および環Ｅ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；
環Ｅ^５および環Ｅ^６は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン，テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
Ｚ^１８、Ｚ^１９、Ｚ^２０、およびＺ^２１は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−、または−ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり；
Ｌ^１５およびＬ^１６は独立して、フッ素または塩素であり；
Ｓ^１１は、水素またはメチルであり；
Ｘは、−ＣＨＦ−または−ＣＦ_２−であり；
ｊ、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、およびｓは独立して、０または１であり、ｋ、ｍ、ｎ、およびｐの和は、１または２であり、ｑ、ｒ、およびｓの和は、０、１、２、または３であり、
ｔは、１、２、または３である。

項１３．
式（１）で表される化合物以外の、式（２０）で表される少なくとも１つの重合性化合物を含有する、項８から１２のいずれか１項に記載の液晶組成物。

式（２０）において、
環Ｆおよび環Ｉは独立して、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、テトラヒドロピラン−２−イル、１，３−ジオキサン−２−イル、ピリミジン−２−イル、またはピリジン−２−イルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、ハロゲン、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；
環Ｇは、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，２−ジイル、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−１，７−ジイル、ナフタレン−１，８−ジイル、ナフタレン−２，３−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−２，７−ジイル、フェナントレン−２，７−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、ハロゲン、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ^２２およびＺ^２３は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ_２ＣＨ_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−、または−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｐ^１１、Ｐ^１２、およびＰ^１３は独立して、重合性基であり；
Ｓｐ^１１、Ｓｐ^１２、およびＳｐ^１３は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ_２ＣＨ_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
ｕは、０、１、または２であり；
ｆ、ｇ、およびｈは独立して、０、１、２、３、または４であり、そしてｆ、ｇ、およびｈの和は、１以上である。

項１４．
式（２０）において、
Ｐ^１１、Ｐ^１２、およびＰ^１３が独立して、式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）で表される重合性基の群から選択された基である、項１３に記載の液晶組成物。

式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）において、
Ｍ^１１、Ｍ^１２、およびＭ^１３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。

項１５．
式（２０）で表される重合性化合物が、式（２０−１）から式（２０−７）で表される重合性化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項１３または１４に記載の液晶組成物。

式（２０−１）から式（２０−７）において、
Ｌ^３１、Ｌ^３２、Ｌ^３３、Ｌ^３４、Ｌ^３５、Ｌ^３６、Ｌ^３７、およびＬ^３８は独立して、水素、フッ素、またはメチルであり；
Ｓｐ^１１、Ｓｐ^１２、およびＳｐ^１３は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ_２ＣＨ_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。
Ｐ^１１、Ｐ^１２、およびＰ^１３は独立して、式（Ｐ−１）から式（Ｐ−３）で表される重合性基の群から選択された基であり、

式（Ｐ−１）から式（Ｐ−３）において、
Ｍ^１１、Ｍ^１２、およびＭ^１３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。

項１６．
式（１）または式（２０）で表される化合物とは異なる重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、および消泡剤の群から選択された少なくとも１つを含有する、項８から１５のいずれか１項に記載の液晶組成物。

項１７．
項８から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物、および項８から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物の少なくとも一部が重合したものからなる群より選択された少なくとも１つ含有する液晶表示素子。

本発明は、次の項も含む。
（ａ）重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、消泡剤などの添加物の少なくとも２つをさらに含有する前記の液晶組成物。
（ｂ）前記の液晶組成物に化合物（１）または化合物（２０）とは異なる重合性化合物を添加することによって調製した重合性組成物。
（ｃ）前記の液晶組成物に化合物（１）と化合物（２０）とを添加することによって調製した重合性組成物。
（ｄ）前記重合性組成物を重合させることによって調製した液晶複合体。
（ｅ）この液晶複合体を含有する高分子支持配向型の素子。
（ｆ）前記の液晶組成物に化合物（１）と化合物（２０）と、化合物（１）または化合物（２０）とは異なる重合性化合物とを添加することによって調製した重合性組成物を使用することによって作成した高分子支持配向型の素子。

以下、化合物（１）の態様、化合物（１）の合成、液晶組成物、および液晶表示素子について順に説明する。

１．化合物（１）の態様
本発明の化合物（１）は、少なくとも１つの環より構成されるメソゲン部位、少なくとも１つの極性基、および２つ以上の重合性基を有することを特徴とし、特に、極性基の反対側に重合性基を有することを特徴とする。化合物（１）は、極性基がガラス（または金属酸化物）等の基板表面と非共有結合的に相互作用するので有用である。用途の一つは、液晶表示素子に使われる液晶組成物用の添加物であり、この用途において、化合物（１）は液晶分子の配向を制御する目的で添加される。このような添加物は、素子に密閉された条件下では化学的に安定であり、液晶分子を配向させる能力が高く、液晶表示素子に用いた場合の電圧保持率が大きく、そして液晶組成物への溶解度が大きいことが好ましい。化合物（１）は、このような特性をかなりの程度で充足し、従来の化合物では達成できなかった、液晶組成物への溶解度が大きく、該化合物（１）を用いることで、従来の化合物を用いた場合に比べ、配向性や電圧保持率を同程度またはそれ以上に維持したまま、長期安定性に優れる素子を容易に得ることができる。

化合物（１）の好ましい例について説明をする。化合物（１）におけるＲ^１、Ａ^１、Ｓｐ^１などの記号の好ましい例は、化合物（１）の下位式、例えば式（１−１）などにも適用される。化合物（１）において、これらの基の種類を適切に組み合わせることによって、特性を任意に調整することが可能である。化合物の特性に大きな差異がないので、化合物（１）は、^２Ｈ（重水素）、^１３Ｃなどの同位体を天然存在比の量より多く含んでもよい。

環Ａ^１および環Ａ^２は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数２から１０のアルケニル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数２から９のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。

好ましい環Ａ^１および環Ａ^２は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数２から１０のアルケニル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数２から９のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。

より好ましい環Ａ^１および環Ａ^２は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数２から１０のアルケニル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数２から９のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよい。

さらに好ましい環Ａ^１および環Ａ^２は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、炭素数１から５のアルキル、炭素数２から５のアルケニル、または炭素数１から４のアルコキシで置き換えられてもよい。

特に好ましい環Ａ^１および環Ａ^２は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２位置換１，４−フェニレン、３位置換１，４−フェニレン、または２位および３位置換１，４−フェニレンであり、該置換基としては、好ましくは、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、炭素数２から５のアルケニル、または炭素数１から４のアルコキシであり、より好ましくは水素、フッ素、メチル、またはエチルである。

環Ａ^１および環Ａ^２が独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素が炭素数１から５のアルキルで置き換えられた１，４−フェニレン、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、またはテトラヒドロピラン−２，５−ジイルである化合物は、化学的安定性が高い。環Ａ^１および環Ａ^２が独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素が炭素数１から５のアルキルで置き換えられた１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素が炭素数２から５のアルケニルで置き換えられた１，４−フェニレンである化合物は、液晶組成物への溶解度が大きい。環Ａ^１および環Ａ^２が独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素が炭素数１から２のアルキルで置き換えられた１，４−フェニレンである化合物は、液晶分子を配向させる能力が高い。環Ａ^１および環Ａ^２が独立して、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素が炭素数１から５のアルキルで置き換えられた１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素が炭素数１から４のアルコキシで置き換えられた１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルである化合物は、紫外線照射による重合反応性が高い。

ａは、０、１、２、または３であり、好ましくは、０、１、または２、であり、特に好ましくは、１、または２である。

ａが０である化合物は、液晶組成物への溶解度が大きい。ａが３である化合物は、液晶分子を配向させる能力が高い。ａが１または２である化合物は、液晶組成物への溶解度が大きく、液晶分子を配向させる能力が高く、紫外線照射による重合反応性が高い。

Ｚ^１は、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。

好ましいＺ^１は、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、または−ＣＦ＝ＣＦ−である。
より好ましいＺ^１は、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、または−ＣＦ＝ＣＦ−である。
さらに好ましいＺ^１は、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２Ｏ−、または−ＯＣＨ_２−であり、特に好ましいＺ^１は、単結合または−（ＣＨ_２）_２−であり、最も好ましいＺ^１は、単結合である。

Ｚ^１が単結合である化合物は、化学的安定性が高い。Ｚ^１が単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、または−ＯＣＦ_２−である化合物は、液晶組成物への溶解度が大きい。Ｚ^１が単結合または−（ＣＨ_２）_２−である化合物は、液晶分子を配向させる能力が高い。Ｚ^１が単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−である化合物は、紫外線照射による重合反応性が高い。

Ｓｐ^１、およびＳｐ^２は独立して、単結合または炭素数１から１５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。

Ｓｐ^１、およびＳｐ^２が独立して、単結合または炭素数１から７のアルキレンである化合物は、化学的安定性が高い。Ｓｐ^１、およびＳｐ^２が独立して、炭素数１から７のアルキレン、または炭素数１から７のアルキレンの少なくとも１つの−ＣＨ_２−が−Ｏ−で置き換えられた基である化合物は、液晶組成物への溶解度が大きい。

より好ましいＳｐ^１、およびＳｐ^２は独立して、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよい。

液晶組成物への溶解性により優れる化合物となる等の点から、特に好ましくは、Ｓｐ^１は、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｓｐ^２は、単結合または炭素数１から５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、さらに好ましくは−ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_２−、または−（ＣＨ_２）_３−である。

Ｍ^１、Ｍ^２、Ｍ^３、およびＭ^４は独立して、水素、フッ素、塩素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり、好ましくは、水素、フッ素、炭素数１から３のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた炭素数１から３のアルキルであり、紫外線照射による重合反応性が特に高い化合物となる等の点から、より好ましくは、水素である。

Ｒ^１は、水素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数１から９のアルコキシアルキルであり、これらの基において、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。

好ましいＲ^１は、水素、炭素数１から５のアルキル、炭素数１から４のアルコキシ、または炭素数１から４のアルコキシアルキルであり、これらの基において、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。さらに好ましいＲ^１は、水素、メチル、エチル、ブチル、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル、またはエトキシエチルである。特に好ましいＲ^１は、水素、メチル、またはメトキシメチルである。

Ｒ^１が炭素数１から１５のアルキルまたは炭素数１から１４のアルコキシである化合物は、化学的安定性が高い。Ｒ^１が炭素数１から１５のアルキル、炭素数２から１５のアルケニル、または炭素数２から１４のアルケニルオキシである化合物は、液晶組成物への溶解度が大きい。Ｒ^１が炭素数１〜１５のアルキルである化合物は、液晶分子を配向させる能力が高い。

Ｒ^２は、式（１−ａ）、式（１−ｂ）、および式（１−ｃ）で表される基から選択された基である。

好ましいＲ^２は、式（１−ａ）、または式（１−ｂ）である。Ｒ^２が式（１−ａ）である化合物は、液晶組成物への溶解度が大きい。Ｒ^２が式（１−ａ）、または式（１−ｃ）である化合物は、液晶分子を配向させる能力が高い。Ｒ^２が式（１−ｂ）である化合物は、液晶組成物への溶解度が高く、液晶分子を配向させる能力が高い。

Ｓｐ^３およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。

好ましいＳｐ^３およびＳｐ^４は、単結合、炭素数１から１０の直鎖のアルキレン、または炭素数３から１０の分岐鎖のアルキレンであり、これらのアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、または−ＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。さらに好ましいＳｐ^３およびＳｐ^４は、単結合、炭素数１から１０の直鎖のアルキレン、または炭素数３から１０の分岐鎖のアルキレンであり、これらのアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。特に好ましいＳｐ^３およびＳｐ^４は、単結合、炭素数１から１０の直鎖のアルキレン、または炭素数３から１０の分岐鎖のアルキレンであり、これらのアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよい。

Ｓｐ^３およびＳｐ^４が独立して、分岐鎖のアルキルである化合物は、液晶組成物への溶解度が大きい。Ｓｐ^３およびＳｐ^４が独立して、炭素数１から１０の直鎖のアルキレン、または炭素数１から１０の直鎖のアルコキシアルキルである化合物は、液晶分子を配向させる能力が高い。

Ｒ^３は、水素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数１から９のアルコキシアルキルである。

好ましいＲ^３は、水素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数１から９のアルコキシアルキルである。液晶組成物への溶解性により優れ、化学的安定性が高く、液晶分子を配向させる能力が高い化合物となる等の点から、より好ましいＲ^３は、水素、または炭素数１から４のアルキルである。

Ｘ^１は、−ＯＨ、−ＮＨ_２、−Ｎ（Ｒ^４）_２、−ＣＯＯＨ、−ＳＨ、または−Ｓｉ（Ｒ^４）_３である。
液晶組成物への溶解性により優れる化合物となる等の点から、好ましいＸ^１は、−ＯＨ、−ＮＨ_２、または−ＳＨであり、特に好ましいＸ^１は、−ＯＨである。
ここで、Ｒ^４は水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。

Ｘ^１が−ＯＨ、−ＮＨ_２、または−ＳＨである化合物は、液晶分子を配向させる能力が高い。Ｘ^１が−ＯＨである化合物は、化学的安定性が高く、液晶分子を配向させる能力が高く、液晶表示素子に用いた場合の電圧保持率が大きく、そして液晶組成物への溶解度が大きい。

好ましい化合物（１）の例は、項４に記載した化合物（１−１）から（１−４）である。より好ましい化合物（１）の例は、項５に記載した化合物（１−５）から（１−７）である。さらに好ましい化合物（１）の例は、項６に記載した化合物（１−８）から（１−２５）である。最も好ましい化合物（１）の例は、項７に記載した化合物（１−２６）から（１−４３）である。

２．化合物（１）の合成
化合物（１）の合成法について説明する。化合物（１）は、有機合成化学の方法を適切に組み合わせることにより合成できる。合成法を記載しなかった化合物は、「オーガニック・シンセシス」（ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｅｓ，ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ）、「オーガニック・リアクションズ」（ＯｒｇａｎｉｃＲｅａｃｔｉｏｎｓ，ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ）、「コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス」（ＣｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，ＰｅｒｇａｍｏｎＰｒｅｓｓ）、「新実験化学講座」（丸善）などの成書に記載された方法によって合成できる。

２−１．結合基の生成
化合物（１）における結合基を生成する方法の例は、下記のスキームのとおりである。このスキームにおいて、ＭＳＧ^１（またはＭＳＧ^２）は、少なくとも１つの環を有する一価の有機基である。複数のＭＳＧ^１（またはＭＳＧ^２）が表す一価の有機基は、同一であってもよいし、または異なってもよい。化合物（１Ａ）から（１Ｈ）は、化合物（１）または化合物（１）の中間体に相当する。

（Ｉ）単結合の生成
ホウ酸化合物（２１）と化合物（２２）とを、炭酸塩、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触媒の存在下で反応させ、化合物（１Ａ）を合成する。この化合物（１Ａ）は、化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触媒の存在下で化合物（２２）を反応させても合成できる。

（ＩＩ）−ＣＯＯ−と−ＯＣＯ−の生成
化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで二酸化炭素を反応させ、カルボン酸（２４）を得る。このカルボン酸（２４）と、化合物（２１）から誘導したアルコール（２５）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）とＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させて−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｂ）を合成する。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成する。

（ＩＩＩ）−ＣＦ_２Ｏ−と−ＯＣＦ_２−の生成
化合物（１Ｂ）をローソン試薬で硫黄化し、化合物（２６）を得る。化合物（２６）をフッ化水素ピリジン錯体とＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）でフッ素化し、−ＣＦ_２Ｏ−を有する化合物（１Ｃ）を合成する。Ｍ．Ｋｕｒｏｂｏｓｈｉｅｔａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１９９２，８２７．を参照。化合物（１Ｃ）は化合物（２６）をＤＡＳＴ（（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド）でフッ素化しても合成できる。Ｗ．Ｈ．Ｂｕｎｎｅｌｌｅｅｔａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９０，５５，７６８．を参照。この方法によって−ＯＣＦ_２−を有する化合物も合成できる。

（ＩＶ）−ＣＨ＝ＣＨ−の生成
化合物（２２）をｎ−ブチルリチウム、次いでＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）と反応させてアルデヒド（２７）を得る。ホスホニウム塩（２８）とカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドを反応させて発生させたリンイリドとを、アルデヒド（２７）と反応させて化合物（１Ｄ）を合成する。反応条件によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。

（Ｖ）−ＣＨ_２ＣＨ_２−の生成
化合物（１Ｄ）をパラジウム炭素触媒の存在下で水素化し、化合物（１Ｅ）を合成する。

（ＶＩ）−Ｃ≡Ｃ−の生成
ジクロロパラジウムとヨウ化銅の触媒存在下で、化合物（２３）に２−メチル−３−ブチン−２−オールを反応させた後、塩基性条件下で脱保護して化合物（２９）を得る。ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下、化合物（２９）を化合物（２２）と反応させて、化合物（１Ｆ）を合成する。

（ＶＩＩ）−ＣＨ_２Ｏ−と−ＯＣＨ_２−の生成
化合物（２７）を水素化ホウ素ナトリウムで還元して化合物（３０）を得る。これを臭化水素酸で臭素化して化合物（３１）を得る。炭酸カリウムの存在下、化合物（２５）と化合物（３１）とを反応させて、化合物（１Ｇ）を合成する。この方法によって−ＯＣＨ_２−を有する化合物も合成できる。

（ＶＩＩＩ）−ＣＦ＝ＣＦ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（３２）を得る。化合物（２２）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、化合物（３２）と反応させて、化合物（１Ｈ）を合成する。

２−２．環Ａ^１およびＡ^２の生成
１，２−シクロプロピレン、１，３−シクロブチレン、１，３−シクロペンチレン、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘプチレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイルなどの環に関しては出発物が市販されているか、または合成法がよく知られている。

２−３．合成例
化合物（１）を合成する方法の例は、次のとおりである。これらの化合物において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｚ^１、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｓｐ^３、およびａの定義は、項１に記載と同一である。

式（１）において、Ｒ^２が式（１−ａ）であり、Ｓｐ^３が−ＣＨ_２−であり、Ｍ^１、Ｍ^２、Ｍ^３、およびＭ^４が水素であり、Ｒ^１がメチルであり、Ｘ^１が−ＯＨである化合物（１−６１）は、以下の方法で合成できる。
化合物（５３）をＤＡＢＣＯ（１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン）の存在下でホルムアルデヒドと反応させ、化合物（５４）を得る。化合物（５４）をＰＰＴＳ（ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム）の存在下で３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランと反応させ、化合物（５５）を得る。化合物（５５）を水酸化リチウムを用いて加水分解して、化合物（５６）を得る。公知の方法で合成されるジオール（５７）と化合物（５８）をＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下で反応させ化合物（５９）を得る。化合物（５９）と化合物（５６）をＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下で反応させ、化合物（６０）を得た後、ＰＰＴＳを用いて脱保護させる事により、化合物（１−６１）へと導く事ができる。

式（１）において、Ｒ^２が式（１−ａ）であり、Ｓｐ^３が−（ＣＨ_２）_２−であり、Ｍ^１、Ｍ^２、Ｍ^３、およびＭ^４が水素であり、Ｒ^１がメチルであり、Ｘ^１が−ＯＨである化合物（１−６３）は、以下の方法で合成できる。
化合物（１−６１）に三臭化リンを作用させて、化合物（６２）を得る。次に化合物（６２）にインジウムを作用させた後、ホルムアルデヒドと反応させる事によって、化合物（１−６３）へと導く事ができる。

式（１）において、Ｒ^２が式（１−ａ）であり、Ｓｐ^３が−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−であり、Ｍ^１、Ｍ^２、Ｍ^３、およびＭ^４が水素であり、Ｒ^１がメチルであり、Ｘ^１が−ＯＨである化合物（１−６４）は、以下の方法で合成できる。
化合物（１−６１）に対しトリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ_２Ｏ）およびトリエチルアミン（Ｅｔ_３Ｎ）を作用させた後、エチレングリコールと反応させることによって、化合物（１−６４）へと導く事ができる。

３．液晶組成物
３−１．成分化合物
本発明の液晶組成物は、化合物（１）を成分Ａとして含む。化合物（１）は、素子の基板との非共有結合的な相互作用によって、液晶分子の配向を制御することができる。この組成物は、化合物（１）を成分Ａとして含み、下記成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥから選択された少なくとも１つの液晶性化合物をさらに含むことが好ましい。成分Ｂは、化合物（２）から（４）である。成分Ｃは、化合物（２）から（４）以外の化合物（５）から（７）である。成分Ｄは、化合物（８）である。成分Ｅは、化合物（１１）から（１９）である。この組成物は、化合物（２）から（８）および（１１）から（１９）とは異なる、その他の液晶性化合物を含んでもよい。この組成物を調製するときには、正または負の誘電率異方性の大きさなどを考慮して成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥを選択することが好ましい。成分を適切に選択した組成物は、高い上限温度、低い下限温度、低粘度、適切な光学異方性（すなわち、大きな光学異方性または小さな光学異方性）、正または負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、熱または紫外線に対する安定性、および適切な弾性定数（すなわち、大きな弾性定数または小さな弾性定数）を有する。

化合物（１）は、液晶分子の配向を制御する目的で、組成物に添加される。液晶組成物１００重量％に対する化合物（１）の好ましい割合は、液晶分子を容易に配向させることができる等の点から、０．０５重量％以上であり、素子の表示不良をより防ぐことができる等の点から、１０重量％以下であることが好ましい。さらに好ましい割合は、０．１重量％から７重量％の範囲であり、特に好ましい割合は、０．４重量％から５重量％の範囲である。これらの割合は、化合物（２０）を含む組成物に対しても適用される。

成分Ｂは、２つの末端基がアルキルなどである化合物である。成分Ｂは、小さな誘電率異方性を有する。成分Ｂの好ましい例として、化合物（２−１）から（２−１１）、化合物（３−１）から（３−１９）、および化合物（４−１）から（４−７）を挙げることができる。これらの化合物において、Ｒ^１１およびＲ^１２は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルまたはアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。

成分Ｂは、誘電率異方性の絶対値が小さいので、中性に近い化合物である。化合物（２）は、主として粘度の減少または光学異方性の調整に効果がある。化合物（３）および（４）は、上限温度を高くすることによってネマチック相の温度範囲を広げる効果、または光学異方性の調整に効果がある。

成分Ｂの含有量を増加させるにつれて組成物の誘電率異方性が小さくなるが粘度は小さくなる。このため、素子のしきい値電圧の要求値を満たす限り、成分Ｂの含有量は多いほうが好ましい。成分Ｂの含有量は、液晶組成物１００重量％に対し、好ましくは３０重量％以上、さらに好ましくは４０重量％以上であり、その上限は特に制限されないが、例えば９９．９５重量％である。

成分Ｃは、少なくとも一方の末端にフッ素、塩素またはフッ素含有基を有する化合物である。成分Ｃは、正に大きな誘電率異方性を有する。成分Ｃの好ましい例として、化合物（５−１）から（５−１６）、化合物（６−１）から（６−１１６）、化合物（７−１）から（７−５９）を挙げることができる。成分Ｃの化合物において、Ｒ^１３は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ^１１は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ_３、−ＯＣＨＦ_２、−ＣＦ_３、−ＣＨＦ_２、−ＣＨ_２Ｆ、−ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、または−ＯＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_３である。

成分Ｃは、誘電率異方性が正であり、熱、光などに対する安定性が非常に良好であるので、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＯＣＢなどのモード用の組成物を調製する場合に好適に用いられる。液晶組成物１００重量％に対する成分Ｃの含有量は、１重量％から９９重量％の範囲が適しており、好ましくは１０重量％から９７重量％の範囲、さらに好ましくは４０重量％から９５重量％の範囲である。成分Ｃを誘電率異方性が負である組成物に添加する場合、成分Ｃの含有量は液晶組成物１００重量％に対し、３０重量％以下が好ましい。成分Ｃを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。

成分Ｄは、片末端基が−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎである化合物（８）である。成分Ｄは、シアノ基を有するので正により大きな誘電率異方性を有する。成分Ｄの好ましい例として、化合物（８−１）から（８−６４）を挙げることができる。成分Ｄの化合物において、Ｒ^１４は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ^１２は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎである。

成分Ｄは、誘電率異方性が正であり、その値が大きいので、ＴＮなどのモード用の組成物を調製する場合に主として用いられる。この成分Ｄを添加することにより、組成物の誘電率異方性を大きくすることができる。成分Ｄは、液晶相の温度範囲を広げる、粘度を調整する、または光学異方性を調整する、という効果がある。成分Ｄは、素子の電圧−透過率曲線の調整にも有用である。

液晶組成物１００重量％に対する成分Ｄの含有量は、１重量％から９９重量％の範囲が適しており、好ましくは１０重量％から９７重量％の範囲、さらに好ましくは４０重量％から９５重量％の範囲である。成分Ｄを誘電率異方性が負である組成物に添加する場合、成分Ｄの含有量は液晶組成物１００重量％に対し、３０重量％以下が好ましい。成分Ｄを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。

成分Ｅは、化合物（１１）から（１９）である。成分Ｅは、負に大きな誘電率異方性を有する。これらの化合物は、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンのように、ラテラル位が２つのハロゲン（フッ素または塩素）で置換されたフェニレンを有する。成分Ｅの好ましい例として、化合物（１１−１）から（１１−９）、化合物（１２−１）から（１２−１９）、化合物（１３−１）および（１３−２）、化合物（１４−１）から（１４−３）、化合物（１５−１）から（１５−３）、化合物（１６−１）から（１６−１１）、化合物（１７−１）から（１７−３）、化合物（１８−１）から（１８−３）、および化合物（１９−１）を挙げることができる。これらの化合物において、Ｒ^１５、Ｒ^１６、およびＲ^１７は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、そしてＲ^１７は、水素またはフッ素であってもよい。

成分Ｅは、誘電率異方性が負に大きい。成分Ｅは、ＩＰＳ、ＶＡ、ＰＳＡなどのモード用の組成物を調製する場合に好適に用いられる。成分Ｅの含有量を増加させるにつれて組成物の誘電率異方性が負に大きくなるが、粘度が大きくなる。このため、素子のしきい値電圧の要求値を満たす限り、含有量は少ないほうが好ましい。誘電率異方性が−５程度であることを考慮すると、充分な電圧駆動をさせるには、液晶組成物１００重量％に対する成分Ｅの含有量は、４０重量％以上であることが好ましい。

成分Ｅのうち、化合物（１１）は二環化合物であるので、粘度を下げる、光学異方性を調整する、または誘電率異方性を上げる効果がある。化合物（１２）および（１３）は三環化合物であり、化合物（１４）は四環化合物であるので、上限温度を上げる、光学異方性を上げる、または誘電率異方性を上げるという効果がある。化合物（１５）から（１９）は、誘電率異方性を上げるという効果がある。

成分Ｅの含有量は、液晶組成物１００重量％に対し、好ましくは４０重量％以上であり、さらに好ましくは５０重量％から９５重量％の範囲である。成分Ｅを誘電率異方性が正である組成物に添加する場合は、成分Ｅの含有量は、液晶組成物１００重量％に対し、３０重量％以下が好ましい。成分Ｅを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。

以上に述べた成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥを適切に組み合わせることによって、高い上限温度、低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、正または負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、大きな弾性定数などの特性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を調製することができる。

３−２．添加物
液晶組成物は公知の方法によって調製される。例えば、前記成分を混合し、そして加熱によって互いに溶解させる方法が挙げられる。用途に応じて、この組成物に添加物を添加してよい。添加物の例は、化合物（１）以外の重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、消泡剤などである。このような添加物は当業者によく知られており、文献に記載されている。

重合性化合物は、液晶組成物中に重合体を生成させる目的で添加される。電極間に電圧を印加した状態で紫外線を照射して、化合物（１）を重合させることによって、重合体を生成させることができる。この際、化合物（１）は、その極性基がガラス（または金属酸化物）の基板表面と非共有結合的に相互作用した状態で固定化される。これにより、液晶分子の配向を制御する能力がさらに向上し、適切なプレチルトが得られるので、応答時間が短縮される。

重合性化合物の好ましい例は、アクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、ビニルオキシ化合物、プロペニルエーテル、エポキシ化合物（オキシラン、オキセタン）、およびビニルケトンである。さらに好ましい例は、少なくとも１つのアクリロイルオキシを有する化合物および少なくとも１つのメタクリロイルオキシを有する化合物である。さらに好ましい例には、アクリロイルオキシとメタクリロイルオキシの両方を有する化合物も含まれる。
重合性化合物の特に好ましい例は、化合物（２０）が挙げられる。化合物（２０）は、化合物（１）とは異なる化合物である。化合物（１）は極性基を有する。一方、化合物（２０）は、極性基を有さないことが好ましい。

式（２０）において、環Ｆおよび環Ｉは独立して、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、テトラヒドロピラン−２−イル、１，３−ジオキサン−２−イル、ピリミジン−２−イル、またはピリジン−２−イルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、ハロゲン、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよい。

好ましい環Ｆまたは環Ｉは、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、フェニル、フルオロフェニル、ジフルオロフェニル、１−ナフチル、または２−ナフチルである。さらに好ましい環Ｆまたは環Ｉは、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、またはフェニルである。特に好ましい環Ｆまたは環Ｉは、フェニルである。

式（２０）において、環Ｇは、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，２−ジイル、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−１，７−ジイル、ナフタレン−１，８−ジイル、ナフタレン−２，３−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−２，７−ジイル、フェナントレン−２，７−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、ハロゲン、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよい。

好ましい環Ｇは、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、ナフタレン−１，２−ジイル、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−１，７−ジイル、ナフタレン−１，８−ジイル、ナフタレン−２，３−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−２，７−ジイルである。さらに好ましい環Ｇは、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、または２−フルオロ−１，４−フェニレンである。特に好ましい環Ｇは、１，４−フェニレンまたは２−フルオロ−１，４−フェニレンである。最も好ましい環Ｇは、１，４−フェニレンである。

式（２０）において、Ｚ^２２およびＺ^２３は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ_２ＣＨ_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−、または−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましいＺ^７またはＺ^８は、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−である。さらに好ましいＺ^２２またはＺ^２３は、単結合である。

化合物（２０）において、Ｐ^１１、Ｐ^１２、およびＰ^１３は独立して、重合性基である。好ましいＰ^１１からＰ^１３は、式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）で表される重合性基の群から選択された基である。さらに好ましいＰ^１１からＰ^１３は、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、または式（Ｐ−３）で表される基ある。特に好ましいＰ^１１からＰ^１３は、式（Ｐ−１）で表される基ある。式（Ｐ−１）で表される好ましい基は、アクリロイルオキシ（−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ_２）またはメタクリロイルオキシ（−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２）である。式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）の波線は、結合する部位を示す。

式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）において、Ｍ^１１、Ｍ^１２、およびＭ^１３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。好ましいＭ^１１、Ｍ^１２、またはＭ^１３は、反応性を上げるために水素またはメチルである。さらに好ましいＭ^１１は水素またはメチルであり、さらに好ましいＭ^１２またはＭ^１３は水素である。

式（２０）において、Ｓｐ^１１、Ｓｐ^１２、およびＳｐ^１３は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ_２ＣＨ_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましいＳｐ^１１、Ｓｐ^１２、またはＳｐ^１３は、単結合である。

式（２０）において、ｕは、０、１、または２である。好ましいｕは０または１である。

式（２０）において、ｆ、ｇ、およびｈは独立して、０、１、２、３、または４であり、そして、ｆ、ｇ、およびｈの和は、１以上である。好ましいｆ、ｇ、またはｈは、１または２である。好ましい和は、２、３または４である。さらに好ましい和は、２または３である。

化合物（２０）の好ましい例は、項１５に記載の化合物（２０−１）から化合物（２０−７）であり、より好ましい例は、化合物（２０−８）から（２０−１１）である。さらに好ましい例は、化合物（２０−１−１）から（２０−１−５）、化合物（２０−２−１）から（２０−２−５）、化合物（２０−４−１）、化合物（２０−５−１）、化合物（２０−６−１）、および化合物（２０−７−１）である。これらの化合物において、Ｒ^２５からＲ^３１は独立して、水素またはメチルであり；Ｒ^３２、Ｒ^３３、およびＲ^３４は独立して、水素または炭素数１から５のアルキルであり、Ｒ^３２、Ｒ^３３、およびＲ^３４の少なくとも１つは炭素数１から５のアルキルであり；ｖ、およびｘは独立して、０または１であり；ｔおよびｕは独立して、１から１０の整数であり、ｔ＋ｖおよびｘ＋ｕはそれぞれ最大で１０であり；Ｌ^３１からＬ^３６は独立して、水素またはフッ素であり、Ｌ^３７およびＬ^３８は独立して、水素、フッ素、またはメチルである。

組成物中の重合性化合物は、光ラジカル重合開始剤などの重合開始剤を用いることによって、速やかに重合させることができる。また、重合の際の反応条件を最適化することによって、残存する重合性化合物の量を減少させることができる。光ラジカル重合開始剤の例は、ＢＡＳＦ社のダロキュアシリーズからＴＰＯ、１１７３、および４２６５が挙げられ、イルガキュアシリーズから１８４、３６９、５００、６５１、７８４、８１９、９０７、１３００、１７００、１８００、１８５０、および２９５９が挙げられる。

光ラジカル重合開始剤の追加例は、４−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）トリアジン、２−（４−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン混合物、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール混合物、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルキサントン／ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル混合物、ベンゾフェノン／メチルトリエタノールアミン混合物である。

液晶組成物に光ラジカル重合開始剤を添加した後、電場を印加した状態で紫外線を照射することによって重合を行うことができる。しかし、未反応の重合開始剤または重合開始剤の分解生成物は、素子に画像の焼き付きなどの表示不良を引き起こす可能性がある。これを防ぐために重合開始剤を添加しないまま光重合を行ってもよい。照射する光の好ましい波長は１５０ｎｍから５００ｎｍの範囲である。さらに好ましい波長は２５０ｎｍから４５０ｎｍの範囲であり、最も好ましい波長は３００ｎｍから４００ｎｍの範囲である。

重合性化合物を保管するとき、重合を防止するために重合禁止剤を添加してもよい。重合性化合物は、通常は重合禁止剤を除去しないまま組成物に添加される。重合禁止剤の例は、ヒドロキノン、メチルヒドロキノンなどのヒドロキノン誘導体、４−ｔ−ブチルカテコール、４−メトキシフェノ−ル、フェノチアジンである。

光学活性化合物は、液晶分子にらせん構造を誘起して必要なねじれ角を与えることによって逆ねじれを防ぐ、という効果を有する。光学活性化合物を添加することによって、らせんピッチを調整することができる。らせんピッチの温度依存性を調整する目的で２つ以上の光学活性化合物を添加してもよい。光学活性化合物の好ましい例として、下記の化合物（Ｏｐ−１）から（Ｏｐ−１８）を挙げることができる。化合物（Ｏｐ−１８）において、環Ｊは１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、Ｒ^２８は炭素数１から１０のアルキルである。＊印は不斉炭素を表す。

酸化防止剤は、大きな電圧保持率を維持するために有効である。酸化防止剤の好ましい例として、下記の化合物（ＡＯ−１）および（ＡＯ−２）；Ｉｒｇａｎｏｘ４１５、Ｉｒｇａｎｏｘ５６５、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ１０３５、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、およびＩｒｇａｎｏｘ１０９８（商品名；ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。
紫外線吸収剤は、上限温度の低下を防ぐために有効である。紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などであり、具体例として下記の化合物（ＡＯ−３）および（ＡＯ−４）；Ｔｉｎｕｖｉｎ３２９、ＴｉｎｕｖｉｎＰ、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４、Ｔｉｎｕｖｉｎ２１３、Ｔｉｎｕｖｉｎ４００、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２８、およびＴｉｎｕｖｉｎ９９−２（商品名；ＢＡＳＦ社）；および１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）を挙げることができる。

立体障害のあるアミンのような光安定剤は、大きな電圧保持率を維持するために好ましい。光安定剤の好ましい例として、下記の化合物（ＡＯ−５）、（ＡＯ−６）、（ＡＯ−７）、（ＡＯ−８）、および（ＡＯ−９）；Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４、Ｔｉｎｕｖｉｎ７６５、Ｔｉｎｕｖｉｎ７７０ＤＦ、Ｔｉｎｕｖｉｎ７８０（商品名；ＢＡＳＦ社）；ＬＡ−５２、ＬＡ−５７、ＬＡ−７７Ｙ、およびＬＡ−７７Ｇ（商品名；ＡＤＥＫＡ社）を挙げることができる。熱安定剤も大きな電圧保持率を維持するために有効であり、好ましい例としてＩｒｇａｆｏｓ１６８（商品名；ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。ＧＨ（guest host）モードの素子に適合させるために、アゾ系色素、アントラキノン系色素などのような二色性色素（dichroic dye）が組成物に添加される。消泡剤は、泡立ちを防ぐために有効である。消泡剤の好ましい例は、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどである。

化合物（ＡＯ−１）において、Ｒ^４０は炭素数１から２０のアルキル、炭素数１から２０のアルコキシ、−ＣＯＯＲ^４１、または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯＲ^４１であり、ここでＲ^４１は炭素数１から２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−２）および（ＡＯ−５）において、Ｒ^４２は炭素数１から２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−５）において、Ｒ^４３は水素、メチルまたはＯ^・（酸素ラジカル）であり；環Ｇ^１は１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；化合物（ＡＯ−７）および（ＡＯ−８）において、環Ｇ^２は１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；化合物（ＡＯ−５）、（ＡＯ−７）、および（ＡＯ−８）において、ｚは、１、２、または３である。

４．液晶表示素子
液晶組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＯＣＢ、ＰＳＡなどの動作モードを有し、アクティブマトリックス方式で駆動する液晶表示素子に好適に使用できる。この組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳなどの動作モードを有し、パッシブマトリクス方式で駆動する液晶表示素子にも好適に使用することができる。これらの素子は、反射型、透過型、半透過型のいずれのタイプにも適用できる。

この組成物は、ＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）素子にも適しており、ここでは組成物がマイクロカプセル化されている。この組成物は、ポリマー分散型液晶表示素子（ＰＤＬＣＤ）や、ポリマーネットワーク液晶表示素子（ＰＮＬＣＤ）にも使用できる。これらの組成物においては、重合性化合物が多量に添加される。一方、ＰＳＡモードの液晶表示素子に用いる組成物は、重合性化合物の割合が液晶組成物１００重量％に対し、好ましくは１０重量％以下であり、より好ましい割合は０．１重量％から２重量％の範囲であり、さらに好ましい割合は、０．２重量％から１．０重量％の範囲である。ＰＳＡモードの素子は、アクティブマトリックス方式、パッシブマトリクス方式などの駆動方式で駆動させることができる。このような素子は、反射型、透過型、半透過型のいずれのタイプにも適用できる。

高分子支持配向型の素子では、組成物に含まれる重合体が液晶分子を配向させる。極性化合物は、液晶分子が配列するのを援助する。すなわち、極性化合物は、配向膜の代わりに用いることができる。このような素子を製造する方法の一例は、次のとおりである。アレイ基板とカラーフィルター基板と呼ばれる２つの基板を有する素子を用意する。この基板は配向膜を有しない。この基板の少なくとも１つは、電極層を有する。液晶性化合物を混合して液晶組成物を調製する。この組成物に化合物（１）、さらに必要により他の重合性化合物および極性化合物を添加する。必要に応じて添加物をさらに添加してもよい。この組成物を素子に注入する。この素子に電圧を印加した状態で光照射する。紫外線が好ましい。光照射によって重合性化合物を重合させる。この重合によって、重合体を含む組成物が生成し、ＰＳＡモードを有する素子が作製される。

この手順において、極性化合物は、極性基が基板表面と相互作用するので、基板上に配列する。この極性化合物が、液晶分子を配向させる。極性基が複数存在する場合、基板表面との相互作用がより強くなり、低濃度で配向させることができる。電圧を印加したとき、電場の作用によって液晶分子の配向がさらに促進される。この配向に従って重合性化合物も配向する。この状態で重合性化合物が紫外線によって重合するので、この配向を維持した重合体が生成する。この重合体の効果によって、液晶分子の配向が追加的に安定化するので、素子の応答時間が短縮される。画像の焼き付きは、液晶分子の動作不良であるから、この重合体の効果によって焼き付きも同時に改善されることになる。化合物（１）は重合性であるので、重合によって消費される。化合物（１）は、他の重合性化合物と共重合することによっても消費される。したがって、化合物（１）は極性基を有するが、消費されるので、電圧保持率の大きな液晶表示素子が得られる。なお、重合性を有する極性化合物を用いれば、極性化合物と重合性化合物の両方の効果を１つの化合物で達成することが可能である為、極性基を持たない重合性化合物を必要としない場合もある。

実施例（合成例、使用例を含む）により、本発明をさらに詳しく説明する。本発明はこれらの実施例によっては制限されない。本発明は、使用例の組成物の少なくとも２つを混合することによって調製した混合物をも含む。

１．化合物（１）の実施例
特に記載のない限り、反応は窒素雰囲気下で行った。化合物（１）は、実施例１などに示した手順により合成した。合成した化合物は、ＮＭＲ分析などの方法により同定した。化合物（１）、液晶性化合物、組成物、素子の特性は、下記の方法により測定した。

ＮＭＲ分析：測定には、ブルカーバイオスピン社製のＤＲＸ−５００を用いた。^１Ｈ−ＮＭＲの測定では、試料をＣＤＣｌ_３などの重水素化溶媒に溶解させ、測定は、室温で、５００ＭＨｚ、積算回数１６回の条件で行った。テトラメチルシランを内部標準として用いた。^１９Ｆ−ＮＭＲの測定では、ＣＦＣｌ_３を内部標準として用い、積算回数２４回で行った。核磁気共鳴スペクトルの説明において、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｑｕｉｎはクインテット、ｓｅｘｔはセクステット、ｍはマルチプレット、ｂｒはブロードであることを意味する。

ガスクロマト分析：測定には、（株）島津製作所製のＧＣ−２０１０型ガスクロマトグラフを用いた。カラムは、ＡｇｉｌｅｎｔＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓＩｎｃ．製のキャピラリカラムＤＢ−１（長さ６０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）を用いた。キャリアーガスとしてはヘリウム（１ｍｌ／分）を用いた。試料気化室の温度を３００℃、検出器（ＦＩＤ）部分の温度を３００℃に設定した。試料はアセトンに溶解させて、１重量％の溶液となるように調製し、得られた溶液１μｌを試料気化室に注入した。記録計には（株）島津製作所製のＧＣＳｏｌｕｔｉｏｎシステムなどを用いた。

ＨＰＬＣ分析：測定には、（株）島津製作所製のＰｒｏｍｉｎｅｎｃｅ（ＬＣ−２０ＡＤ；ＳＰＤ−２０Ａ）を用いた。カラムは（株）ワイエムシィ製のＹＭＣ−ＰａｃｋＯＤＳ−Ａ（長さ１５０ｍｍ、内径４．６ｍｍ、粒子径５μｍ）を用いた。溶出液はアセトニトリルと水を適宜混合して用いた。検出器としてはＵＶ検出器、ＲＩ検出器、ＣＯＲＯＮＡ検出器などを適宜用いた。ＵＶ検出器を用いた場合、検出波長は２５４ｎｍとした。試料はアセトニトリルに溶解して、０．１重量％の溶液となるように調製し、この溶液１μＬを試料室に導入した。記録計としては（株）島津製作所製のＣ−Ｒ７Ａｐｌｕｓを用いた。

紫外可視分光分析：測定には、（株）島津製作所製のＰｈａｒｍａＳｐｅｃＵＶ−１７００用いた。検出波長は１９０ｎｍから７００ｎｍとした。試料はアセトニトリルに溶解して、０．０１ｍｍｏｌ／Ｌの溶液となるように調製し、石英セル（光路長１ｃｍ）に入れて測定した。

測定試料：相構造および転移温度（透明点、融点、重合開始温度など）を測定するときには、化合物そのものを試料として用いた。

測定方法：特性の測定は下記の方法で行った。これらの多くは、社団法人電子情報技術産業協会（ＪＥＩＴＡ；ＪａｐａｎＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓａｎｄＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓＡｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）で審議制定されるＪＥＩＴＡ規格（ＪＥＩＴＡ・ＥＤ−２５２１Ｂ）に記載された方法、またはこれを修飾した方法であった。測定に用いたＴＮ素子には、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を取り付けなかった。

（１）相構造
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート（メトラー社製、ＦＰ−５２型ホットステージ）に試料を置いた。この試料を、３℃／分の速度で加熱しながら相状態とその変化を偏光顕微鏡で観察し、相の種類を特定した。

（２）転移温度（℃）
測定には、パーキンエルマー社製の走査熱量計、ＤｉａｍｏｎｄＤＳＣシステムまたは（株）日立ハイテクサイエンス製の高感度示差走査熱量計、Ｘ−ＤＳＣ７０００を用いた。試料は、３℃／分の速度で昇降温し、試料の相変化に伴う吸熱ピークまたは発熱ピークの開始点を外挿により求め、転移温度を決定した。化合物の融点、重合開始温度もこの装置を使って測定した。化合物が固体からスメクチック相、ネマチック相などの液晶相に転移する温度を「液晶相の下限温度」と略すことがある。化合物が液晶相から液体に転移する温度を「透明点」と略すことがある。

結晶はＣと表した。結晶の種類の区別がつく場合は、それぞれをＣ_１、Ｃ_２のように表した。スメクチック相はＳ、ネマチック相はＮと表した。スメクチック相の中で、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＣ相、またはスメクチックＦ相の区別がつく場合は、それぞれＳ_Ａ、Ｓ_Ｂ、Ｓ_Ｃ、またはＳ_Ｆと表した。液体（アイソトロピック）はＩと表した。転移温度は、例えば、「Ｃ５０．０Ｎ１００．０Ｉ」のように表記した。これは、結晶からネマチック相への転移温度が５０．０℃であり、ネマチック相から液体への転移温度が１００．０℃であることを示す。

（３）ネマチック相の上限温度（Ｔ_ＮＩまたはＮＩ；℃）
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。試料が化合物（１）と母液晶との混合物であるときは、Ｔ_ＮＩの記号で示した。試料が化合物（１）と成分Ｂ、Ｃ、Ｄのような化合物との混合物であるときは、ＮＩの記号で示した。

（４）ネマチック相の下限温度（Ｔ_Ｃ；℃）
ネマチック相を有する試料を０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管した後、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、Ｔ_Ｃを≦−２０℃と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。

（５）粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
測定には、東京計器（株）製のＥ型回転粘度計を用いた。

（６）光学異方性（屈折率異方性；２５℃で測定；Δｎ）
測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングした後、試料を主プリズムに滴下した。屈折率（ｎ‖）は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率（ｎ⊥）は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性（Δｎ）の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。

（７）比抵抗（ρ；２５℃で測定；Ωｃｍ）
電極を備えた容器に試料１．０ｍＬを注入した。この容器に直流電圧（１０Ｖ）を印加し、１０秒後の直流電流を測定した。比抵抗は次の式から算出した。（比抵抗）＝｛（電圧）×（容器の電気容量）｝／｛（直流電流）×（真空の誘電率）｝。

誘電率異方性が正の試料と負の試料とでは、特性の測定法が異なることがある。誘電率異方性が正であるときの測定法は、項（８ａ）から（１２ａ）に記載した。誘電率異方性が負の場合は、項（８ｂ）から（１２ｂ）に記載した。

（８ａ）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
正の誘電率異方性：測定は、M. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。ツイスト角が０度であり、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５μｍであるＴＮ素子に試料を入れた。この素子に１６Ｖから１９．５Ｖの範囲で０．５Ｖ毎に段階的に電圧を印加した。０．２秒の無印加の後、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とＭ．Ｉｍａｉらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算で必要な誘電率異方性の値は、この回転粘度を測定した素子を用い、下に記載した方法で求めた。

（８ｂ）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
負の誘電率異方性：測定は、M. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍのＶＡ素子に試料を入れた。この素子に３９ボルトから５０ボルトの範囲で１ボルト毎に段階的に電圧を印加した。０．２秒の無印加の後、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とＭ．Ｉｍａｉらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算に必要な誘電率異方性は、下記の誘電率異方性の項で測定した値を用いた。

（９ａ）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）
正の誘電率異方性：２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、そしてツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（１０Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。

（９ｂ）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）
負の誘電率異方性：誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。誘電率（ε‖およびε⊥）は次のように測定した。
１）誘電率（ε‖）の測定：よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン（０．１６ｍＬ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させた後、１５０℃で１時間加熱した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであるＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。
２）誘電率（ε⊥）の測定：よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、ツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。

（１０ａ）弾性定数（Ｋ；２５℃で測定；ｐＮ）
正の誘電率異方性：測定にはアジレント・テクノロジー社製のＨＰ４２８４Ａ型ＬＣＲメータを用いた。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍである水平配向素子に試料を入れた。この素子に０ボルトから２０ボルトの電荷を印加し、静電容量および印加電圧を測定した。測定した静電容量（Ｃ）と印加電圧（Ｖ）の値を「液晶デバイスハンドブック」（日刊工業新聞社）、７５頁にある式（２．９８）、式（２．１０１）を用いてフィッティングし、式（２．９９）からＫ_１１およびＫ_３３の値を得た。次に１７１頁にある式（３．１８）に、先ほど求めたＫ_１１およびＫ_３３の値を用いてＫ_２２を算出した。弾性定数Ｋは、このようにして求めたＫ_１１、Ｋ_２２およびＫ_３３の平均値で表した。

（１０ｂ）弾性定数（Ｋ_１１およびＫ_３３；２５℃で測定；ｐＮ）
負の誘電率異方性：測定には（株）東陽テクニカ製のＥＣ−１型弾性定数測定器を用いた。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍである垂直配向素子に試料を入れた。この素子に２０ボルトから０ボルトの電荷を印加し、静電容量および印加電圧を測定した。静電容量（Ｃ）と印加電圧（Ｖ）の値を、「液晶デバイスハンドブック」（日刊工業新聞社）、７５頁にある式（２．９８）、式（２．１０１）を用いてフィッティングし、式（２．１００）から弾性定数の値を得た。

（１１ａ）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）
正の誘電率異方性：測定には大塚電子（株）製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプとした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が０．４５／Δｎ（μｍ）であり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に印加する電圧（３２Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから１０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が９０％になったときの電圧で表した。

（１１ｂ）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）
負の誘電率異方性：測定には大塚電子（株）製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプとした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に印加する電圧（６０Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから２０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が１０％になったときの電圧で表した。

（１２ａ）応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）
正の誘電率異方性：測定には大塚電子（株）製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプとした。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５．０μｍであり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、５Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％であるとみなした。立ち上がり時間（τｒ：rise time；ミリ秒）は、透過率が９０％から１０％に変化するのに要した時間である。立ち下がり時間（τｆ：fall time；ミリ秒）は透過率１０％から９０％に変化するのに要した時間である。応答時間は、このようにして求めた立ち上がり時間と立ち下がり時間との和で表した。

（１２ｂ）応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）
負の誘電率異方性：測定には大塚電子（株）製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプとした。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が３．２μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＰＶＡ素子に試料を入れた。この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子にしきい値電圧を若干超える程度の電圧を１分間印加し、次に５．６Ｖの電圧を印加しながら２３．５ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を８分間照射した。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、１０Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％であるとみなした。応答時間は透過率９０％から１０％に変化するのに要した時間（立ち下がり時間；fall time；ミリ秒）で表した。

（１３）電圧保持率
アイグラフィックス（株）製ブラックライト、Ｆ４０Ｔ１０／ＢＬ（ピーク波長３６９ｎｍ）を用いて紫外線を照射することによって、重合性化合物を重合させた。この素子に６０℃でパルス電圧（１Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１．６７秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率で表した。

原料
ソルミックス（登録商標）Ａ−１１は、エタノール（８５．５％）、メタノール（１３．４％）とイソプロパノール（ＩＰＡ）（１．１％）の混合物であり、日本アルコール販売（株）から入手した。

［合成例１］
化合物（１−２−１）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−１）（４０ｇ）、トリエチルアミン（３３．７ｍｌ）およびＤＭＦ（３０００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへ化合物（Ｔ−２）（２３．２ｇ）を加え、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ−３）（２．７ｇ；５％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−３）（５．０ｇ）、化合物（Ｔ−４）（４．２ｇ）、ＤＭＡＰ（１．２ｇ）、およびジクロロメタン（５５．０ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへＤＣＣ（５．８ｇ）のジクロロメタン（３０．０ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温に戻しつつ１２時間攪拌した。不溶物を炉別した後、反応混合物を水に注ぎ込み、水層をジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ−５）（５．０ｇ；５８％）を得た。なお、ＴＨＰはテトラヒドロピラニル基を示す。

第３工程
化合物（Ｔ−５）（５．０ｇ）、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）（１．５ｇ）、ＴＨＦ（２５．０ｍｌ）、およびメタノール（２５．０ｍｌ）を反応器に入れ、５０℃で４時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝２：１）で精製した。さらにヘプタンからの再結晶により精製して、化合物（１−２−１）（２．７ｇ；６７％）を得た。

得られた化合物（１−２−１）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：６．２３（ｓ，１Ｈ）、６．０７（ｓ，１Ｈ）、５．８０（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１Ｈ）、５．５３（ｔ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ）、４．７９−４．６５（ｍ，２Ｈ）、４．３２（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ）、２．３０（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、２．０９−２．００（ｍ，４Ｈ）、１．９３（ｓ，３Ｈ）、１．８５−１．７６（ｍ，４Ｈ）、１．４３−１．３１（ｍ，４Ｈ）、１．１９−１．０７（ｍ，６Ｈ）．
転移温度：Ｃ１１９Ｉ．（重合開始温度：１２３℃）

［合成例２］
化合物（１−２−１６）の合成

第１工程
公知の方法で合成した化合物（Ｔ−６）（１５６．２ｇ）、およびＴＨＦ（１７７０ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへ１０％塩酸（８８４ｍｌ）を滴下し室温攪拌を行った。反応混合物を水に注ぎ込み、炭酸カリウムで中和し、水層を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ−７）（１２３．６ｇ；９５％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−７）（１２３．６ｇ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（６０．２ｍｌ）、およびジクロロメタン（１０００ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへ、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）（１３．８ｇ）を加え、室温に戻しつつ攪拌した。反応混合物を重曹水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ−８）（１１６．０ｇ；６８％）を得た。

第３工程
水素化リチウムアルミニウム（８．６ｇ）およびＴＨＦ（５００ｍｌ）を反応器に入れ、―１０℃に冷却した。そこへ、化合物（Ｔ−８）（１１６．０ｇ）のＴＨＦ（６６０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつ攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、不溶物を炉別した後、水層を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１：１）で精製して、化合物（Ｔ−９）（８６．２ｇ；７４％）を得た。

第４工程
化合物（Ｔ−９）（８１．２ｇ）と化合物（Ｔ−１０）（２６．５ｍｌ）を原料として用い、合成例１の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１１）（８６．２ｇ；８７％）を得た。

第５工程
化合物（Ｔ−１１）（５５．０ｇ）を原料として用い、合成例１の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１２）（４０．６ｇ；９５％）を得た。

第６工程
化合物（Ｔ−１２）（５．０ｇ）を原料として用い、合成例１の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１３）（６．５ｇ；８２％）を得た。

第７工程
化合物（Ｔ−１３）（６．５ｇ）を原料として用い、合成例１の第３工程と同様の手法により、化合物（１−２−１６）（４．６ｇ；８７％）を得た。

得られた化合物（１−２−１６）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：６．２５（ｓ，１Ｈ）、６．０７（ｓ，１Ｈ）、５．８３（ｓ，１Ｈ）、５．５２（ｓ，１Ｈ）、４．７４−４．６４（ｍ，１Ｈ）、４．３４（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）、４．２２（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ）、２．２５（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）、２．０７−１．９８（ｍ，２Ｈ）、１．９３（ｓ，３Ｈ）、１．８３−１．６９（ｍ，６Ｈ）、１．６２−１．５３（ｍ，２Ｈ）、１．４１−１．２６（ｍ，３Ｈ）、１．１８−０．８８（ｍ，８Ｈ）．
転移温度：Ｃ６６．８Ｉ．（重合開始温度：１０２℃）

［合成例３］
化合物（１−２−１７）の合成

第１工程
トリフルオロメタンスルホン酸無水物（５０．０ｇ）およびジクロロメタン（１６０ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへ化合物（Ｔ−１４）（２０．６ｇ）のジクロロメタン（１６０ｍｌ）溶液及びトリエチルアミン（１７．９ｇ）のジクロロメタン溶液（１６０ｍｌ）をゆっくりと滴下し、０℃で６０分間撹拌した。反応混合物をエチレングリコール（３３０ｍｌ）へゆっくりと滴下し、室温で１２時間攪拌した。反応混合物から溶媒を減圧下で留去し、残渣からクロロホルムで抽出した。得られた有機層を重曹水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１：２）で精製して、化合物（Ｔ−１５）（１３．５ｇ；４８％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−１５）（１３．５ｇ）を原料として用い、合成例２の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１６）（１９．５ｇ；９５％）を得た。

第３工程
化合物（Ｔ−１６）（１９．５ｇ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（２．６ｇ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（９７ｍｌ）および水（９７ｍｌ）を反応器に入れた。そこへ水酸化リチウム一水和物をゆっくり滴下し、室温で２４時間攪拌した。反応混合物にトルエン（１００ｍｌ）加え、水で抽出した。得られた水層へ１Ｎ塩酸（１６８ｍｌ）をゆっくり滴下し、ターシャリーブチルメチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し化合物（Ｔ−１７）（１３．６ｇ、収率７４％）を得た。

第４工程
化合物（Ｔ−１２）（５．０ｇ）を原料として用い、合成例１の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１８）（７．２ｇ；８３％）を得た。

第５工程
化合物（Ｔ−１８）（７．２ｇ）を原料として用い、合成例１の第３工程と同様の手法により、化合物（１−２−１７）（５．０ｇ；８４％）を得た。

得られた化合物（１−２−１７）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：６．３１（ｓ，１Ｈ）、６．０７（ｓ，１Ｈ）、５．８７（ｓ，１Ｈ）、５．５２（ｓ，１Ｈ）、４．７４−４．６４（ｍ，１Ｈ）、４．２８−４．１７（ｍ，４Ｈ）、３．８１−３．７４（ｍ，２Ｈ）、３．６６−３．６１（ｍ，２Ｈ）、２．２１（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ）、２．０７−１．９８（ｍ，２Ｈ）、１．９３（ｓ，３Ｈ）、１．８４−１．６９（ｍ，６Ｈ）、１．６３−１．５３（ｍ，２Ｈ）、１．４１−１．２５（ｍ，３Ｈ）、１．１８−０．８８（ｍ，８Ｈ）．
転位温度：Ｃ４６．０Ｓ_Ａ６２．２Ｉ．（重合開始温度：１０５℃）

［合成例４］
化合物（１−２−１８）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−１４）（１４．６ｇ）とジエチレングリコール（４００ｇ）を原料として用い、合成例４の第１工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−１９）（１４．８ｇ；５８％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−１９）（１４．８ｇ）を原料として用い、合成例４の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−２０）（１９．８ｇ；９５％）を得た。

第３工程
化合物（Ｔ−２０）（１９．８ｇ）を原料として用い、合成例４の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−２１）（１５．３ｇ；８３％）を得た。

第４工程
化合物（Ｔ−２１）（６．０ｇ）と化合物（Ｔ−１２）（４．３ｇ）を原料として用い、合成例１の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−２２）（６．１ｇ；７６％）を得た。

第５工程
化合物（Ｔ−２２）（６．１ｇ）を原料として用い、合成例１の第３工程と同様の手法により、化合物（１−２−１８）（３．３ｇ；６４％）を得た。

得られた化合物（１−２−１８）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：６．３２（ｓ，１Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．９１（ｓ，１Ｈ）、５．５４（ｓ，１Ｈ）、４．７４−４．６９（ｍ，１Ｈ）、４．２７（ｓ，２Ｈ）、４．２２（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ）、３．７６−３．６４（ｍ，８Ｈ）、２．３４−２．３３（ｍ，１Ｈ）、２．０６−２．０３（ｍ，２Ｈ）、１．９５（ｓ，３Ｈ）、１．８４−１．６９（ｍ，６Ｈ）、１．６１−１．５６（ｍ，４Ｈ）、１．３８−１．３３（ｍ，３Ｈ）、１．５５−０．９４（ｍ，７Ｈ）．
転位温度：Ｃ４１．８Ｓ_Ｂ５７．７Ｉ．（重合開始温度：１０９℃）

［合成例５］
化合物（１−２−５９）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−２３）（３０．０ｇ）とトリフェニルホスフィン（７０．０ｇ）、イミダゾール（３４．９ｇ）およびトルエン（４５０ｍｌ）を反応器に入れ０℃に冷却した。そこへヨウ素をゆっくり滴下し、０℃で２時間攪拌した。反応混合物から不溶物を炉別した後、得られた有機層を水で洗浄し、そこへヘプタン（５００ｍｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。混合物から不溶物を炉別した後、この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：トルエン＝２：１）で精製して、化合物（Ｔ−２４）（４５．７ｇ；８７％）を得た。

第２工程
水素化ナトリウム（２１．８ｇ）とテトラヒドロフラン（８００ｍｌ）を反応器にいれた。そこへホスホノ酢酸トリエチル（１０６．８ｇ）のテトラヒドロフラン（２４０ｍｌ）を滴下し、室温で１時間攪拌した。そこへ化合物（Ｔ−２４）（６１．０ｇ）のテトラヒドロフラン（３６０ｍｌ）溶液を滴下し、加熱還流下で６時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、水（６１０ｍｌ）と反応器に入れた。そこへ炭酸カリウム（６５．８ｇ）とパラホルムアルデヒド（２８．６ｇ）を加え、８０℃で６時間加熱攪拌した。反応混合物をを水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。加熱還流下で６時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、化合物（Ｔ−２５）（２１．９ｇ；４０％）を得た。

第３工程
化合物（Ｔ−２５）（２１．９ｇ）を原料として用い、合成例４の第３工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−２６）（１２．７ｇ；６６％）を得た。

第４工程
化合物（Ｔ−２６）（５．１ｇ）、と化合物（Ｔ−１２）（５．０ｇ）を原料として用い、合成例１の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−２７）（７．８ｇ；９６％）を得た。

第５工程
化合物（Ｔ−２７）（７．４ｇ）を原料として用い、合成例１の第３工程と同様の手法により、化合物（１−２−５９）（４．０ｇ；５９％）を得た。

得られた化合物（１−２−５９）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：６．２５（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１Ｈ）、６．０７（ｓ，１Ｈ）、５．６７（ｓ，１Ｈ）、５．５２（ｔ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１Ｈ）、４．７４−４．６４（ｍ，１Ｈ）、４．２０（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ）、３．８２−３．７４（ｍ，２Ｈ）、３．７０−３．６２（ｍ，２Ｈ）、２．５４（ｔ，Ｊ＝５．６５Ｈｚ，２Ｈ）、２．４０（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ）、２．０７−１．９８（ｍ，２Ｈ）、１．９３（ｓ，３Ｈ）、１．９０−１．８３（ｍ，１Ｈ）、１．８２−１．７０（ｍ，６Ｈ）、１．６２−１．５４（ｍ，２Ｈ）、１．４１−１．２５（ｍ，３Ｈ）、１．１８−０．８８（ｍ，８Ｈ）．
転位温度：Ｃ１０９Ｉ．（重合開始温度：１２２℃）

［合成例６］
化合物（１−３−４２）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−２８）（４．５ｇ）、と化合物（Ｔ−１２）（２．２ｇ）を原料として用い、合成例１の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−２９）（５．４ｇ；８８％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−２９）（５．４ｇ）を原料として用い、合成例１の第３工程と同様の手法により、化合物（１−３−４２）（２．７ｇ；５８％）を得た。

得られた化合物（１−３−４２）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：７．２６−７．２３（ｍ，２Ｈ）、７．１８（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．１６−７．１２（ｍ，３Ｈ）、７．０９−７．０５（ｍ，４Ｈ）、６．３５（ｓ，１Ｈ）、６．２７（ｓ，１Ｈ）、５．８５（ｓ，１Ｈ）、５．７５（ｓ，１Ｈ）、４．３４（ｔ，Ｊ＝７．１５Ｈｚ，２Ｈ）、４．２６（ｔ，Ｊ＝６．４５Ｈｚ，２Ｈ）、２．９６−２．９２（ｍ，４Ｈ）、２．７５（ｔ，Ｊ＝７．６５Ｈｚ，２Ｈ）、２．６９（ｑ，Ｊ＝７．５５Ｈｚ，２Ｈ）、２．５９（ｑ，Ｊ＝７．５５Ｈｚ，２Ｈ）、２．１１−２．０５（ｍ，５Ｈ）、１．２４（ｔ，Ｊ＝７．５５Ｈｚ，３Ｈ）、１．１１（ｔ，Ｊ＝７．５５Ｈｚ，３Ｈ）．
重合開始温度：１４２℃

［合成例７］
化合物（１−３−４４）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−２８）（５．６ｇ）、と化合物（Ｔ−１７）（４．２ｇ）を原料として用い、合成例１の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−３０）（６．３ｇ；７７％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−３０）（６．３ｇ）を原料として用い、合成例１の第３工程と同様の手法により、化合物（１−３−４４）（３．３ｇ；６０％）を得た。

得られた化合物（１−３−４４）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：７．２８−７．２５（ｍ，２Ｈ）、７．２２−７．１５（ｍ，３Ｈ）、７．１２−７．０７（ｍ，４Ｈ）、６．３８（ｓ，１Ｈ）、６．３５（ｓ，１Ｈ）、５．９２（ｓ，１Ｈ）、５．７８（ｓ，１Ｈ）、４．２８−４．２６（ｍ，４Ｈ）、３．８１−３．７９（ｍ，２Ｈ）、３．６７（ｔ，Ｊ＝４．２５Ｈｚ，２Ｈ）、３．０２−２．９３（ｍ，４Ｈ）、２．７７（ｔ，Ｊ＝７．８５Ｈｚ，２Ｈ）、２．７１（ｑ，Ｊ＝７．５５Ｈｚ，２Ｈ）、２．６１（ｑ，Ｊ＝７．５５Ｈｚ，２Ｈ）、２．１１−２．０８（ｍ，５Ｈ）、１．２６（ｔ，Ｊ＝７．５５Ｈｚ，３Ｈ）、１．１４（ｔ，Ｊ＝７．５５Ｈｚ，３Ｈ）．
重合開始温度：１４３℃

［合成例８］
化合物（１−３−４６）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−３１）（４．５ｇ）、と化合物（Ｔ−１７）（２．２ｇ）を原料として用い、合成例１の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−３２）（５．４ｇ；８８％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−３２）（５．４ｇ）を原料として用い、合成例１の第３工程と同様の手法により、化合物（１−３−４６）（２．７ｇ；５８％）を得た。

得られた化合物（１−３−４６）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：７．２３−７．２０（ｍ，６Ｈ）、７．１４−７．１１（ｍ，２Ｈ）、７．０６−７．０３（ｍ，３Ｈ）、６．３３（ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，２Ｈ）、５．９０−５．８９（ｍ，１Ｈ）、５．７５−５．７４（ｍ，１Ｈ）、４．２６−４．２３（ｍ，４Ｈ）、３．７９−３．７６（ｍ，２Ｈ）、３．６５−３．６３（ｍ，２Ｈ）、２．９９（ｓ，４Ｈ）、２．７６−２．７０（ｍ，２Ｈ）、２．６１−２．５６（ｍ，２Ｈ）、２．２７−２．２６（ｍ，１Ｈ）、２．１０−２．０８（ｍ，５Ｈ）、１．０１−１．０８（ｍ，３Ｈ）．
重合開始温度：１８０℃

［合成例９］
化合物（１−３−６２）の合成

第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−３３）（１３．６ｇ）、化合物（Ｔ−３４）（２．２ｇ）、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（４．８ｇ）、炭酸カリウム（２２．８ｇ）、ＴＢＡＢ（２．７ｇ）、トルエン（３００ｍｌ）、ソルミックス（３００ｍｌ）を反応器に入れ、加熱還流を行った。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン）と再結晶により精製し、化合物（Ｔ−３５）（２１．５ｇ、収率８６％）を得た。

第２工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−３５）（２．０ｇ）、ジイソプロピルアミン（３５ｍｌ）、テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（０．０５ｇ）、酢酸パラジウム（０．０８ｇ）、ｔ−ブチルジメチル(２−プロピニルオキシ)シラン（４．２ｍｌ）を加え、加熱還流下で２時間攪拌を行った。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ−３６）（１．４ｇ；５４％）を得た。

第３工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−３６）（１７．３ｇ）、テトラヒドロフラン（２００ｍｌ）を加え−３０℃まで冷却し、そこへｔ−ブトキシカリウム（３．６ｇ）を加えた。１時間攪拌した後、化合物（Ｔ−３７）（１０．０ｇ）、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液を滴下した。室温まで昇温し攪拌した後、反応混合物を水へ注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝９：１）で精製して、化合物（Ｔ−３８）（７．６ｇ；５６％）を得た。

第４工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−３８）（７．６ｇ）、Ｐｄ／Ｃ（０．３８ｇ）、トルエン（８０ｍｌ）、ソルミックス（８０ｍｌ）を加え、水素雰囲気下、水素を吸収しなくなるまで、室温で攪拌した。Ｐｄ／Ｃを除去した後、シリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、化合物（Ｔ−３９）（７．１ｇ；９２％）を得た。

第５工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−３９）（７．１ｇ）、ギ酸（３５．５ｍｌ）、ＴＢＡＢ（０．８８ｇ）、トルエン（１００ｍｌ）を加え、室温で７時間攪拌した。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ−４０）（５．１ｇ；９６％）を得た。

第６工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−４０）（５．１ｇ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（２．４ｇ）、およびジクロロメタン（３０ｍｌ）を反応器に入れ、０℃に冷却した。そこへ、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナート（ＰＰＴＳ）（０．３５ｇ）を加え、室温に戻しつつ攪拌した。反応混合物を重曹水に注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、化合物（Ｔ−４１）（４．９ｇ；９７％）を得た。

第７工程
水素化リチウムアルミニウム（０．２５ｇ）およびＴＨＦ（２５ｍｌ）を反応器に入れ、―１０℃に冷却した。そこへ、化合物（Ｔ−４１）（４．６ｇ）のＴＨＦ（５０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温に戻しつつ攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、不溶物を炉別した後、水層を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、化合物（Ｔ−４２）（３．１ｇ；６３％）を得た。

第８工程
化合物（Ｔ−４２）（３．１ｇ）と化合物（Ｔ−１０）（０．７ｇ）を原料として用い、合成例１の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−４３）（３．５ｇ；９８％）を得た。

第９工程
化合物（Ｔ−４３）（３．５ｇ）を原料として用い、合成例１の第３工程と同様の手法により反応を行った後、合成例１の第２工程と同様の手法によりエステル化を行い、さらに合成例１の第３工程と同様の反応により、化合物（１−３−６２）（１．９ｇ；７０％）を得た。

得られた化合物（１−３−６２）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：７．２６−７．２３（ｍ，４Ｈ）、７．１８―７．１３（ｍ，２Ｈ）、７．０９−７．０３（ｍ，１Ｈ）、６．３８（ｓ，１Ｈ）、６．１０（ｓ，１Ｈ）、５．８７（ｓ，１Ｈ）、５．５５（ｓ，１Ｈ）、４．８０−４．７６（ｍ，１Ｈ）、４．２９−４．２６（ｍ，４Ｈ）、３．８２−３．７９（ｍ，２Ｈ）、３．６７（ｔ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，２Ｈ）、２．７７（ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ）、２．７１−２．６９（ｍ，２Ｈ）、２．６１（ｑ，Ｊ＝７．５０Ｈｚ，２Ｈ）、２．２５−２．２２（ｍ，１Ｈ）、２．１２−２．０５（ｍ，４Ｈ）、１．９６−１．９２（ｍ，５Ｈ）、１．６４−１．５９（ｍ，２Ｈ）、１．４７−１．３４（ｍ，３Ｈ）、１．１９−１．０９（ｍ，５Ｈ）．
重合開始温度：１６８℃

［合成例９］
化合物（１−３−６６）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−４４）（３．０ｇ）、と化合物（Ｔ−１７）（１．７ｇ）を原料として用い、合成例１の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−４５）（４．０ｇ；９２％）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−４５）（０．５ｇ）のテトラヒドロフラン（５．０ｍｌ）溶液を
０℃に冷却した。そこへ、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）（０．７６ｍｌ）を滴下し、室温に昇温しながら、１０時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｔ−４６）（０．３ｇ；７４％）を得た。

第３工程
化合物（Ｔ−４６）（１１．０ｇ）を原料として用い、合成例１の第２，３工程と同様の手法により、化合物（１−３−６６）（６．６ｇ；７８％）を得た。

得られた化合物（１−３−６６）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：７．２３−７．２１（ｍ，６Ｈ）、７．１３−７．１２（ｍ，２Ｈ）、７．０６−７．０４（ｍ，３Ｈ）、６．５６（ｓ，１Ｈ）、６．１２（ｓ，１Ｈ）、６．０７（ｓ，１Ｈ）、５．５７−５．５６（ｍ，１Ｈ）、４．３６（ｓ，１Ｈ）、４．２１（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ）、３．８１−３．７８（ｍ，２Ｈ）、３．６８（ｔ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，４Ｈ）、２．９７（ｓ，４Ｈ）、２．７５（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，２Ｈ）、２．５８（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）、２．１４−２．１２（ｍ，１Ｈ）、２．０９−２．０３（ｍ，２Ｈ）、１．９６（ｓ，３Ｈ）、１．０９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ）．
重合開始温度：１２３℃

［合成例１０］
化合物（１−３−４５）の合成

第１工程
化合物（Ｔ−４７）（４．０ｇ）、と化合物（Ｔ−１７）（２．９ｇ）を原料として用い、合成例１の第２工程と同様の手法により、化合物（Ｔ−４８）（６．３ｇ；定量的）を得た。

第２工程
化合物（Ｔ−４８）（６．３ｇ）を原料として用い、合成例１の第３工程と同様の手法により、化合物（１−３−４５）（３．５ｇ；６４％）を得た。

得られた化合物（１−３−４５）のＮＭＲ分析値は以下の通りである。
^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ₃）：７．２５−７．２３（ｍ，２Ｈ）、７．１８−７．１３（ｍ，３Ｈ）、７．１０−７．０７（ｍ，３Ｈ）、７．０３−６．９７（ｍ，２Ｈ）、６．３４（ｓ，１Ｈ）、６．３３（ｓ，１Ｈ）、５．９２（ｓ，１Ｈ）、５．７８（ｓ，１Ｈ）、４．２９−４．２６（ｍ，４Ｈ）、３．８２−３．７９（ｍ，２Ｈ）、３．６８−３．６６（ｍ，２Ｈ）、３．００−２．９８（ｍ，４Ｈ）、２．７８（ｔ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ，２Ｈ）、２．５２（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）、２．１３−２．０７（ｍ，５Ｈ）、１．０８（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ）．
重合開始温度：１７９℃

［比較例１］
相溶性の比較
比較化合物として下記の化合物（Ｓ−１）を選んだ。この化合物は公知の方法に従って合成した。

^１Ｈ−ＮＭＲ：化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ_３）：６．２４（ｓ，１Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、５．８４（ｓ，１Ｈ）、５．５７（ｓ，１Ｈ），４．３３−４．２７（ｍ，４Ｈ）、４．２０−４．１６（ｍ，２Ｈ）、２．３４−２．３１（ｍ，１Ｈ）、１．９７−１．９０（ｍ，４Ｈ）、１．８２−１．６７（ｍ，８Ｈ）、１．４３−１．３９（ｍ，１Ｈ）、１．３１−１．１８（ｍ，６Ｈ）、１．１５−０．７５（ｍ，１６Ｈ）．

化合物（１−２−６）と比較化合物（Ｓ−１）の液晶組成物への相溶性を比較した。評価には、下記の化合物（ｉ−１）〜（ｉ−９）を含む組成物（ｉ）を用いた。

組成物（ｉ）の成分の割合を重量％で示す。

化合物（１−２−１７）、化合物（１−３−４２）、化合物（１−３−６６）または比較化合物（Ｓ−１）を、母液晶（ｉ）に２重量％の割合で添加した試料を作成した。この試料を−２０℃で３日間静置した後、目視により観察し、ネマチック相を維持している場合は○、結晶またはスメクチック相が析出している場合は×と表した。

表２．相溶性

溶解度を比較した結果、本願に記載の化合物は母液晶に２重量％添加しても−２０℃でネマチック相を維持したのに対し、比較化合物（Ｓ−１）は２重量％添加した際−２０℃で結晶が析出した。これは本願化合物が重合性基を両末端に持っているため、液晶組成物への親和性が改善した為であると考察出来る。従って、本願化合物は良好な相溶性を有する優れた化合物であるといえる。

合成例に記載された方法や、「２．化合物（１）の合成」の項を参考にしながら、以下の化合物（１−１−１）から（１−４−２４）を合成することが可能である。

２．組成物の実施例
実施例における化合物は、下記の表３の定義に基づいて記号により表した。表３において、１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。記号の後にあるかっこ内の番号は化合物の番号に対応する。（−）の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合（百分率）は、液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）である。最後に、液晶組成物の特性値をまとめた。特性は、先に記載した方法にしたがって測定し、測定値を（外挿することなく）そのまま記載した。

［使用例１］
１−ＢＢ−３（２−８）７％
１−ＢＢ−５（２−８）８％
２−ＢＴＢ−１（２−１０）３％
３−ＨＨＢ−１（３−１）８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１（３−１）５％
３−ＨＨＢ−３（３−１）１４％
３−ＨＨＢ−Ｆ（６−１）４％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３）５％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ（６−１０）４％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ（６−１０）４％
２−ＨＢ−Ｃ（８−１）５％
３−ＨＢ−Ｃ（８−１）１２％

上記の組成物に下記の化合物（１−２−１）を１重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝９５．８℃；η＝１６．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０８；Δε＝４．８．

［使用例２］
３−ＨＨ−４（２−１）１２％
７−ＨＢ−１（２−５）３％
５−ＨＢ−Ｏ２（２−５）６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２（４−５）６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３（４−５）６％
３−ＨＢ−ＣＬ（５−２）１０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３）３％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２４）３０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２４）２４％

上記の組成物に下記の化合物（１−３−４２）を１．５重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７５．５℃；η＝２０．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１１７；Δε＝５．７．

［使用例３］
１Ｖ２−ＨＨ−１（２−１）３％
１Ｖ２−ＨＨ−３（２−１）４％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（５−４）３％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）１０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）９％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）９％
２−ＨＢＢ−Ｆ（６−２２）５％
３−ＨＢＢ−Ｆ（６−２２）５％
５−ＨＢＢ−Ｆ（６−２２）３％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２３）９％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２３）９％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２３）１６％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２４）５％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２４）１０％

上記の組成物に下記の化合物（１−２−１６）を２重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８４．７℃；η＝２５．０ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１１２；Δε＝５．７．

［使用例４］
２−ＨＨ−３（２−１）４％
３−ＨＨ−４（２−１）１２％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５（４−１）３％
５−ＨＢ−ＣＬ（５−２）１６％
３−ＨＨＢ−Ｆ（６−１）４％
３−ＨＨＢ−ＣＬ（６−１）３％
４−ＨＨＢ−ＣＬ（６−１）４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）９％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）１０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）９％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２３）４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（７−６）２％
４−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（７−６）３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（７−６）３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（７−１５）３％
４−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（７−１５）３％

上記の組成物に下記の化合物（１−２−１７）を０．５重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝１１３．１℃；η＝１８．６ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９０；Δε＝３．７．

［使用例５］
Ｖ−ＨＢＢ−２（３−４）１０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４（４−１）４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５（４−１）４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３）９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１５）８％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１５）８％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１５）９％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２４）１０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２４）１８％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２７）１２％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（７−６）３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（７−１５）３％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ（７−１７）２％

上記の組成物に下記の化合物（１−３−４４）を２重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝１０６．９℃；η＝３２．３ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１２２；Δε＝８．２．

［使用例６］
５−ＨＢＢＨ−３（４−１）３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３（４−２）３％
５−ＨＢ−Ｆ（５−２）１２％
６−ＨＢ−Ｆ（５−２）９％
７−ＨＢ−Ｆ（５−２）７％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３（６−１）７％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３（６−１）７％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３（６−１）７％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３（６−１）５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ２Ｈ（６−３）４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３（６−３）５％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３（６−４）４％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３（６−４）４％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ（６−５）３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２３）１０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２３）１０％

上記の組成物に下記の化合物（１−２−１８）を１．５重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８５．３℃；η＝１４．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９２；Δε＝４．５．

［使用例７］
２−ＨＨ−５（２−１）４％
３−ＨＨ−４（２−１）５％
５−Ｂ（Ｆ）ＢＢ−２（３−８）５％
５−ＨＢ−ＣＬ（５−２）１０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３）８％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１２）１１％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１２）３％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１２）３％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２４）１８％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２４）１５％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３９）４％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３９）５％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３９）３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（７−６）６％

上記の組成物に下記の化合物（１−２−５９）を４重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７８．５℃；η＝２３．４ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０９；Δε＝８．７．

［使用例８］
Ｖ２−ＨＨＢ−１（３−１）６％
３−ＨＢ−ＣＬ（５−２）５％
５−ＨＢ−ＣＬ（５−２）５％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３（６−１）４％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）５％
Ｖ−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）５％
３−Ｈ２ＨＢ−ＯＣＦ３（６−１３）５％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１５）５％
５−Ｈ４ＨＢ−ＯＣＦ３（６−１９）１５％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２１）７％
３−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３（６−２１）８％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３（６−２１）１０％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２６）５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２６）１０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３９）５％

上記の組成物に下記の化合物（１−３−４５）を２．５重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７３．１℃；η＝２４．８ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９９；Δε＝８．１．

［使用例９］
３−ＨＨ−４（２−１）１０％
３−ＨＨ−５（２−１）５％
３−ＨＢ−Ｏ２（２−５）１１％
３−ＨＨＢ−１（３−１）９％
３−ＨＨＢ−Ｏ１（３−１）４％
５−ＨＢ−ＣＬ（５−２）１６％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（５−４）３％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ（６−２）７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３）７％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１５）７％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１５）７％

上記の組成物に下記の化合物（１−３−６２）を５重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７３．２℃；η＝１５．５ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０７３；Δε＝３．１．

［使用例１０］
３−ＨＨ−４（２−１）９％
３−ＨＨ−５（２−１）１０％
３−ＨＨＢ−３（３−１）１１％
５−ＨＢ−ＣＬ（５−２）４％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ（５−３）８％
２−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３）５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３）４％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ（６−１０）８％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ（６−１０）８％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１２）１０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１２）７％
３−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１０９）６％
４−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１０９）５％
５−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１０９）５％

上記の組成物に下記の化合物（１−３−６４）を０．５重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８４．４℃；η＝２１．２ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０７０；Δε＝５．８．

［使用例１１］
３−ＨＨ−ＶＦＦ（２−１）５％
５−ＨＨ−ＶＦＦ（２−１）２５％
２−ＢＴＢ−１（２−１０）１０％
３−ＨＨＢ−１（３−１）４％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１（３−１）８％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１（３−１）１１％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２（３−１７）５％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３（３−１７）４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４（３−１７）４％
３−ＨＢ−Ｃ（８−１）１８％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ（８−１５）６％

上記の組成物に下記の化合物（１−３−６５）を１重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝８１．０℃；η＝１１．１ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１３０；Δε＝６．６．

［使用例１２］
２−ＨＨ−５（２−１）４％
３−ＨＨ−４（２−１）１０％
５−Ｂ（Ｆ）ＢＢ−２（３−８）５％
５−ＨＢ−ＣＬ（５−２）７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３）６％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１２）１１％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１２）３％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−１２）４％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２４）１８％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−２４）１５％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３９）４％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３９）４％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（６−３９）４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ（７−６）５％

上記の組成物に下記の化合物（１−３−８）を３重量％の割合で添加した。

ＮＩ＝７９．４℃；η＝２２．１ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０６；Δε＝８．２．

化合物（１）含む液晶組成物は、液晶プロジェクター、液晶テレビなどの表示素子に用いることができる。

Claims

式（１）で表される化合物。

式（１）において、
環Ａ^１および環Ａ^２は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数２から１０のアルケニル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数２から９のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
ａは、０、１、２、または３であり；
Ｚ^１は、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｓｐ^１およびＳｐ^２は独立して、単結合または炭素数１から１５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｍ^１、Ｍ^２、Ｍ^３、およびＭ^４は独立して、水素、フッ素、塩素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｒ^１は、水素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数１から９のアルコキシアルキルであり、これらの基において、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｒ^２は、式（１−ａ）、式（１−ｂ）、および式（１−ｃ）で表される基から選択された基であり；

式（１−ａ）、式（１−ｂ）、および式（１−ｃ）において、
Ｓｐ^３およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｒ^３は、水素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数１から９のアルコキシアルキルであり
Ｘ¹は独立して、−ＯＨ、−ＮＨ₂、−Ｎ（Ｒ^４）₂、−ＣＯＯＨ、−ＳＨ、または−Ｓｉ（Ｒ^４）₃であり；
−Ｎ（Ｒ^４）₂、および−Ｓｉ（Ｒ^４）₃において、
Ｒ^４は、水素または炭素数１から１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ₂−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ₂）₂−は、−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。
式（１）において、
Ｚ^１が、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、または−ＣＦ＝ＣＦ−である、請求項１に記載の化合物。
式（１）において、
環Ａ^１および環Ａ^２が独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数２から１０のアルケニル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数２から９のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい、請求項１または２に記載の化合物。
式（１−１）から式（１−４）のいずれか１つで表される、請求項１から３のいずれか１項に記載の化合物。

式（１−１）から式（１−４）において、
環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^３、および環Ａ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、炭素数１から１０のアルキル、炭素数２から１０のアルケニル、炭素数１から９のアルコキシ、または炭素数２から９のアルケニルオキシで置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｚ^１、Ｚ^２、およびＺ^３は独立して、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であり；
Ｓｐ^１およびＳｐ^２は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｍ^１、Ｍ^２、Ｍ^３、およびＭ^４は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた炭素数１から５のアルキルであり；
Ｒ^１は、水素、炭素数１から７のアルキル、炭素数１から６のアルコキシ、または炭素数１から６のアルコキシアルキルであり、これらの基において、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ^２は、式（１−ａ）、式（１−ｂ）、および式（１−ｃ）で表される基から選択された基であり；

式（１−ａ）、式（１−ｂ）、および式（１−ｃ）において、
Ｓｐ^３およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１５のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ^３は、水素、炭素数１から７のアルキル、炭素数１から６のアルコキシ、または炭素数１から６のアルコキシアルキルであり
Ｘ^１は独立して、−ＯＨ、−ＮＨ_２、または−ＳＨである。
式（１−５）から式（１−７）のいずれか１つで表される、請求項１から４のいずれか１項に記載の化合物。

式（１−５）から式（１−７）において、
環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^３、および環Ａ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、フッ素、炭素数１から７のアルキル、炭素数２から７のアルケニル、または炭素数１から６のアルコキシで置き換えられてもよく；
Ｚ^１、Ｚ^２、およびＺ^３は独立して、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ_２Ｏ−、または−ＯＣＨ_２−であり；
Ｓｐ^１、およびＳｐ^２は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく；
Ｒ^１は、水素、炭素数１から５のアルキル、炭素数１から４のアルコキシ、または炭素数１から４のアルコキシアルキルであり；
Ｒ^２は、式（１−ａ）、および式（１−ｂ）で表される基から選択された基であり；

式（１−ａ）、および式（１−ｂ）において、
Ｓｐ^３およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ_２）_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ^３は、水素、炭素数１から７のアルキル、炭素数１から６のアルコキシ、または炭素数１から６のアルコキシアルキルであり
Ｘ^１は独立して、−ＯＨ、−ＮＨ_２、または−ＳＨである。
式（１−８）から式（１−２５）のいずれか１つで表される、請求項１から５のいずれか１項に記載の化合物。

式（１−８）から式（１−２５）において、
Ｒ^１は、水素、メチル、エチル、プロピル、または−ＣＨ_２ＯＣＨ_３であり；
Ｒ^３は、水素、炭素数１から７のアルキル、炭素数１から６のアルコキシ、または炭素数１から６のアルコキシアルキルであり；
Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合、−（ＣＨ_２）_２−、または−ＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｓｐ^３、およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４、Ｙ^５、Ｙ^６、Ｙ^７、Ｙ^８、Ｙ^９、Ｙ^１０、Ｙ^１１、およびＹ^１２は独立して、水素、フッ素、または炭素数１から５のアルキルである。
式（１−２６）から式（１−４３）のいずれか１つで表される、請求項１から６のいずれか１項に記載の化合物。

式（１−２６）から式（１−４３）において、
Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４、Ｙ^５、およびＹ^６は独立して、水素、フッ素、メチル、またはエチルであり；
Ｒ^３は、水素、炭素数１から７のアルキル、炭素数１から６のアルコキシ、または炭素数１から６のアルコキシアルキルであり；
Ｚ^１およびＺ^２は独立して、単結合または−（ＣＨ_２）_２−であり；
Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｓｐ^３、およびＳｐ^４は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換えられてもよい。
請求項１から７のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有する液晶組成物。
式（２）から（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項８に記載の液晶組成物。

式（２）から（４）において、
Ｒ^１１およびＲ^１２は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
環Ｂ^１、環Ｂ^２、環Ｂ^３、および環Ｂ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ^１１、Ｚ^１２、およびＺ^１３は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−である。
式（５）から（７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項８または９に記載の液晶組成物。

式（５）から（７）において、
Ｒ^１３は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ^１１は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ_３、−ＯＣＨＦ_２、−ＣＦ_３、−ＣＨＦ_２、−ＣＨ_２Ｆ、−ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、または−ＯＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_３であり；
環Ｃ^１、環Ｃ^２、および環Ｃ^３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；
Ｚ^１４、Ｚ^１５、およびＺ^１６は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−（ＣＨ_２）_４−であり；
Ｌ^１１およびＬ^１２は独立して、水素またはフッ素である。
式（８）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項８から１０のいずれか１項に記載の液晶組成物。

式（８）において、
Ｒ^１４は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ^１２は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｄ^１は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；
Ｚ^１７は、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；
Ｌ^１３およびＬ^１４は独立して、水素またはフッ素であり；
ｉは、１、２、３、または４である。
式（１１）から（１９）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項８から１１のいずれか１項に記載の液晶組成物。

式（１１）から（１９）において、
Ｒ^１５、Ｒ^１６、およびＲ^１７は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、そしてＲ^１７は、水素またはフッ素であってもよく；
環Ｅ^１、環Ｅ^２、環Ｅ^３、および環Ｅ^４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；
環Ｅ^５および環Ｅ^６は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン，テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
Ｚ^１８、Ｚ^１９、Ｚ^２０、およびＺ^２１は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−、または−ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり；
Ｌ^１５およびＬ^１６は独立して、フッ素または塩素であり；
Ｓ^１１は、水素またはメチルであり；
Ｘは、−ＣＨＦ−または−ＣＦ_２−であり；
ｊ、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、およびｓは独立して、０または１であり、ｋ、ｍ、ｎ、およびｐの和は、１または２であり、ｑ、ｒ、およびｓの和は、０、１、２、または３であり、
ｔは、１、２、または３である。
式（１）で表される化合物以外の、式（２０）で表される少なくとも１つの重合性化合物を含有する、請求項８から１２のいずれか１項に記載の液晶組成物。

式（２０）において、
環Ｆおよび環Ｉは独立して、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、テトラヒドロピラン−２−イル、１，３−ジオキサン−２−イル、ピリミジン−２−イル、またはピリジン−２−イルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、ハロゲン、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；
環Ｇは、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，２−ジイル、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−１，７−ジイル、ナフタレン−１，８−ジイル、ナフタレン−２，３−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−２，７−ジイル、フェナントレン−２，７−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において、少なくとも１つの水素は、ハロゲン、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から１２のアルキルで置き換えられてもよく；
Ｚ^２２およびＺ^２３は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ_２ＣＨ_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）−、または−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｃ（ＣＨ_３）−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
Ｐ^１１、Ｐ^１２、およびＰ^１３は独立して、重合性基であり；
Ｓｐ^１１、Ｓｐ^１２、およびＳｐ^１３は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ_２ＣＨ_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよく；
ｕは、０、１、または２であり；
ｆ、ｇ、およびｈは独立して、０、１、２、３、または４であり、そしてｆ、ｇ、およびｈの和は、１以上である。
式（２０）において、
Ｐ^１１、Ｐ^１２、およびＰ^１３が独立して、式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）で表される重合性基の群から選択された基である、請求項１３に記載の液晶組成物。

式（Ｐ−１）から式（Ｐ−５）において、
Ｍ^１１、Ｍ^１２、およびＭ^１３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。
式（２０）で表される重合性化合物が、式（２０−１）から式（２０−７）で表される重合性化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項１３または１４に記載の液晶組成物。

式（２０−１）から式（２０−７）において、
Ｌ^３１、Ｌ^３２、Ｌ^３３、Ｌ^３４、Ｌ^３５、Ｌ^３６、Ｌ^３７、およびＬ^３８は独立して、水素、フッ素、またはメチルであり；
Ｓｐ^１１、Ｓｐ^１２、およびＳｐ^１３は独立して、単結合または炭素数１から１０のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＯＣＯＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ_２ＣＨ_２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素は、フッ素または塩素で置き換えられてもよい。
Ｐ^１１、Ｐ^１２、およびＰ^１３は独立して、式（Ｐ−１）から式（Ｐ−３）で表される重合性基の群から選択された基であり、

式（Ｐ−１）から式（Ｐ−３）において、
Ｍ^１１、Ｍ^１２、およびＭ^１３は独立して、水素、フッ素、炭素数１から５のアルキル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１から５のアルキルである。
式（１）または式（２０）で表される化合物とは異なる重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、および消泡剤の群から選択された少なくとも１つを含有する、請求項８から１５のいずれか１項に記載の液晶組成物。
請求項８から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物、および請求項８から１６のいずれか１項に記載の液晶組成物の少なくとも一部が重合したものからなる群より選択された少なくとも１つ含有する液晶表示素子。