KR20180081081A - 중합성 화합물 및 광학 이방체 - Google Patents
중합성 화합물 및 광학 이방체 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20180081081A KR20180081081A KR1020187015106A KR20187015106A KR20180081081A KR 20180081081 A KR20180081081 A KR 20180081081A KR 1020187015106 A KR1020187015106 A KR 1020187015106A KR 20187015106 A KR20187015106 A KR 20187015106A KR 20180081081 A KR20180081081 A KR 20180081081A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- oco
- coo
- formula
- substituted
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 455
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 100
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 36
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 119
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 118
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 116
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 110
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 67
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 67
- -1 pyridine-2,5-diyl group Chemical group 0.000 claims description 60
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 44
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 37
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 17
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 14
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 claims description 9
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 9
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 claims description 9
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 9
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 7
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 7
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 claims description 4
- 239000003814 drug Substances 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000004566 building material Substances 0.000 claims description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 3
- 239000003599 detergent Substances 0.000 claims description 3
- 235000013305 food Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 2
- JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N (+-)-Isoprenaline Chemical compound CC(C)NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VDFVNEFVBPFDSB-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxane Chemical compound C1COCOC1 VDFVNEFVBPFDSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 claims 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N pentafluoropropane Chemical compound FC(F)CC(F)(F)F MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 13
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 10
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 159
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 106
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 77
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 76
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 68
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 62
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 59
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 59
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 39
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 35
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000000047 product Substances 0.000 description 33
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 33
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 32
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 31
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 26
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 26
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 25
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 21
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 21
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 19
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- BDNKZNFMNDZQMI-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisopropylcarbodiimide Chemical compound CC(C)N=C=NC(C)C BDNKZNFMNDZQMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 17
- BGRWYRAHAFMIBJ-UHFFFAOYSA-N diisopropylcarbodiimide Natural products CC(C)NC(=O)NC(C)C BGRWYRAHAFMIBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 238000004895 liquid chromatography mass spectrometry Methods 0.000 description 14
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 14
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 13
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- MIOPJNTWMNEORI-UHFFFAOYSA-N camphorsulfonic acid Chemical compound C1CC2(CS(O)(=O)=O)C(=O)CC1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 10
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine hydrate Chemical compound O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 239000012359 Methanesulfonyl chloride Substances 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- QARBMVPHQWIHKH-UHFFFAOYSA-N methanesulfonyl chloride Chemical compound CS(Cl)(=O)=O QARBMVPHQWIHKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- VVWRJUBEIPHGQF-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl n-propan-2-yloxycarbonyliminocarbamate Chemical compound CC(C)OC(=O)N=NC(=O)OC(C)C VVWRJUBEIPHGQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 6
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 5
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 3
- RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N ethyl chloroformate Chemical compound CCOC(Cl)=O RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 3
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical group SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYCFGHUTYSLISP-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)=C TYCFGHUTYSLISP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001213 Polysorbate 20 Polymers 0.000 description 2
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N boron tribromide Chemical compound BrB(Br)Br ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWTDFICHZKXYAC-UHFFFAOYSA-N boron;oxolane Chemical compound [B].C1CCOC1 UWTDFICHZKXYAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 2
- YTXAYGAYACWVGD-UHFFFAOYSA-N palladium;hydrate Chemical compound O.[Pd] YTXAYGAYACWVGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 235000010486 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Nutrition 0.000 description 2
- ZDYVRSLAEXCVBX-UHFFFAOYSA-N pyridinium p-toluenesulfonate Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 ZDYVRSLAEXCVBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical group OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M sodium chlorite Chemical compound [Na+].[O-]Cl=O UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229960002218 sodium chlorite Drugs 0.000 description 2
- BBMHARZCALWXSL-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogenphosphate monohydrate Chemical compound O.[Na+].OP(O)([O-])=O BBMHARZCALWXSL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N (S)-camphorsulfonic acid Chemical compound C1C[C@@]2(CS(O)(=O)=O)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005714 2,5- (1,3-dioxanylene) group Chemical group [H]C1([H])OC([H])([*:1])OC([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 3-butylbenzene-1,2-diol Chemical group CCCCC1=CC=CC(O)=C1O BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEFAOCZERLVSIS-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenepyrrolidin-2-one Chemical compound C=C1CCNC1=O FEFAOCZERLVSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021532 Calcite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004986 Cholesteric liquid crystals (ChLC) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N Dihydropyran Chemical compound C1COC=CC1 BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006751 Mitsunobu reaction Methods 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWGKJDSIEKMTRX-AAZCQSIUSA-N Sorbitan monooleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O NWGKJDSIEKMTRX-AAZCQSIUSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical class [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- MCQRPQCQMGVWIQ-UHFFFAOYSA-N boron;methylsulfanylmethane Chemical compound [B].CSC MCQRPQCQMGVWIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- SHFGJEQAOUMGJM-UHFFFAOYSA-N dialuminum dipotassium disodium dioxosilane iron(3+) oxocalcium oxomagnesium oxygen(2-) Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[Na+].[Na+].[Al+3].[Al+3].[K+].[K+].[Fe+3].[Fe+3].O=[Mg].O=[Ca].O=[Si]=O SHFGJEQAOUMGJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- FAMRKDQNMBBFBR-BQYQJAHWSA-N diethyl azodicarboxylate Substances CCOC(=O)\N=N\C(=O)OCC FAMRKDQNMBBFBR-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- 229960004132 diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- FAMRKDQNMBBFBR-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethoxycarbonyliminocarbamate Chemical compound CCOC(=O)N=NC(=O)OCC FAMRKDQNMBBFBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 239000003349 gelling agent Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCPMPXBYPZGNDC-UHFFFAOYSA-N hydron;methanediimine;chloride Chemical compound Cl.N=C=N DCPMPXBYPZGNDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002116 nanohorn Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 239000010451 perlite Substances 0.000 description 1
- 235000019362 perlite Nutrition 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- PJGSXYOJTGTZAV-UHFFFAOYSA-N pinacolone Chemical group CC(=O)C(C)(C)C PJGSXYOJTGTZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000000256 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Substances 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-dithiol Chemical compound SCCCS ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004154 testing of material Methods 0.000 description 1
- 125000001412 tetrahydropyranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D277/62—Benzothiazoles
- C07D277/68—Benzothiazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
- C07D277/82—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/72—Hydrazones
- C07C251/84—Hydrazones having doubly-bound carbon atoms of hydrazone groups being part of rings other than six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/72—Hydrazones
- C07C251/86—Hydrazones having doubly-bound carbon atoms of hydrazone groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/72—Hydrazones
- C07C251/88—Hydrazones having also the other nitrogen atom doubly-bound to a carbon atom, e.g. azines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D277/62—Benzothiazoles
- C07D277/64—Benzothiazoles with only hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals attached in position 2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D277/84—Naphthothiazoles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D305/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms
- C07D305/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D305/04—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D305/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D339/00—Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D339/02—Five-membered rings
- C07D339/06—Five-membered rings having the hetero atoms in positions 1 and 3, e.g. cyclic dithiocarbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D409/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
- C07D409/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D409/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
- C07D409/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D409/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D513/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00
- C07D513/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D513/04—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
- C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
- C09K19/3001—Cyclohexane rings
- C09K19/3066—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/32—Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/32—Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems
- C09K19/322—Compounds containing a naphthalene ring or a completely or partially hydrogenated naphthalene ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
- C09K19/3402—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
- C09K19/3441—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having nitrogen as hetero atom
- C09K19/345—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having nitrogen as hetero atom the heterocyclic ring being a six-membered aromatic ring containing two nitrogen atoms
- C09K19/3472—Pyrimidine condensed or bridged with another ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
- C09K19/3441—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having nitrogen as hetero atom
- C09K19/3477—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having nitrogen as hetero atom the heterocyclic ring being a five-membered aromatic ring containing at least one nitrogen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
- C09K19/3491—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having sulfur as hetero atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
- C09K19/3491—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having sulfur as hetero atom
- C09K19/3497—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having sulfur as hetero atom the heterocyclic ring containing sulfur and nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
- C09K19/54—Additives having no specific mesophase characterised by their chemical composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
- C07C2602/36—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common
- C07C2602/40—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common the bicyclo ring system containing six carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/02—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
- C07C2603/04—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
- C07C2603/06—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members
- C07C2603/10—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings
- C07C2603/12—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings only one five-membered ring
- C07C2603/18—Fluorenes; Hydrogenated fluorenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/02—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
- C07C2603/04—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
- C07C2603/22—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing only six-membered rings
- C07C2603/24—Anthracenes; Hydrogenated anthracenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/02—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
- C07C2603/04—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
- C07C2603/30—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing seven-membered rings
- C07C2603/32—Dibenzocycloheptenes; Hydrogenated dibenzocycloheptenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K2019/0444—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K2019/0444—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
- C09K2019/0448—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the end chain group being a polymerizable end group, e.g. -Sp-P or acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K2019/0444—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
- C09K2019/0466—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the linking chain being a -CF2O- chain
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
- C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
- C09K19/3001—Cyclohexane rings
- C09K19/3003—Compounds containing at least two rings in which the different rings are directly linked (covalent bond)
- C09K2019/301—Cy-Cy-Ph
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
- C09K19/3402—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom
- C09K19/3405—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom the heterocyclic ring being a five-membered ring
- C09K2019/3408—Five-membered ring with oxygen(s) in fused, bridged or spiro ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
- C09K19/3402—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom
- C09K2019/3416—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom the heterocyclic ring being a four-membered ring, e.g. oxetane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Abstract
중합성 화합물을 중합성 조성물에 첨가하고 이 조성물을 중합시켜 얻어지는 필름상 중합체에 자외선을 조사할 경우에 변색 또는 배향 결함이 발생하기 어려운, 중합성 조성물이 제공된다. 또한, 중합성 조성물을 중합시켜 얻어지는 중합체, 및 이 중합체를 사용한 광학 이방체가 제공된다. 본 발명은, 식 (Z-0)으로 표시되는 부분 구조를 갖는 중합성 저파장 분산성 또는 중합성 역파장 분산성 화합물을 제공한다. 또한, 본 발명은 당해 화합물을 함유하는 조성물; 당해 조성물을 중합시켜 얻어지는 중합체; 및 당해 중합체를 사용하여 얻어지는 광학 이방체를 제공한다.
Description
본 발명은 중합성기를 갖는 화합물, 당해 화합물을 함유하는 중합성 조성물, 중합성 액정 조성물, 및 당해 중합성 액정 조성물을 사용한 광학 이방체에 관한 것이다.
중합성기를 갖는 화합물(중합성 화합물)이 다양한 광학 재료에 사용되고 있다. 예를 들면, 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 액정 상태로 제조하고, 이어서 중합성 조성물을 중합시킴으로써, 균일한 배향을 갖는 중합체를 제조할 수 있다. 이러한 중합체는 디스플레이에 필요한 편광판, 위상차판 등에 사용될 수 있다. 많은 경우, 요구되는 광학 특성, 중합 속도, 용해성, 융점, 유리 전이 온도, 중합체의 투명성, 기계적 강도, 표면 경도, 내열성, 및 내광성을 만족시키기 위해, 2종 이상의 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물이 사용된다. 이 경우, 사용되는 중합성 화합물은, 다른 성질에 악영향을 주지 않고 중합성 조성물에 양호한 물성을 부여하는 것이 요구된다.
액정표시장치의 시야각을 개선하기 위해서는, 위상차판의 복굴절의 파장 분산성을 낮게 하거나, 그 파장 분산성을 역으로 할 필요가 있다. 이 목적을 위한 재료로서, 역파장 분산성 또는 저파장 분산성을 갖는 다양한 중합성 액정 화합물이 개발되어 왔다. 그러나, 이들 중합성 화합물은, 당해 화합물을 중합성 조성물에 첨가하여 기재 상에 도포하고 중합시켜 얻어지는 필름상 중합체에 자외선 조사하면, 변색 또는 배향 결함이 발생하기 쉽다는 문제가 있었다(특허문헌 1~3). 예를 들면, 변색 또는 배향 결함이 발생한 필름을 디스플레이에 사용하면, 화면의 휘도 불균일이 발생하고, 색조가 부자연스럽고, 원하는 광학 특성을 얻을 수 없고, 디스플레이 제품의 품질이 대폭 악화된다는 문제가 있다. 따라서, 이러한 문제를 해결할 수 있는, 역파장 분산성 또는 저파장 분산성을 갖는 중합성 액정 화합물의 개발이 요구되어 왔다.
상술한 과제를 해결하기 위해, 본 발명은, 화합물을 중합성 조성물에 첨가하고 이 조성물을 중합시켜 얻어지는 필름상 중합체에 자외선을 조사할 경우에 변색 또는 배향 결함이 발생하기 어려운, 역파장 분산성 또는 저파장 분산성을 갖는 중합성 액정 화합물을 제공하고자 한다. 또한, 본 발명은, 역파장 분산성 또는 저파장 분산성을 갖는 중합성 액정 화합물을 포함하는 중합성 조성물, 당해 중합성 조성물을 중합시켜 얻어지는 중합체, 및 당해 중합체를 사용한 광학 이방체를 제공하고자 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해, 예의 검토하였다. 그 결과, 분자 중에 하기 식 (I-0-1)로 표시되는 부분 구조를 갖는 저파장 분산성 및/또는 역파장 분산성 화합물을 개발했다. 즉, 본 발명은, 분자 중에 하기 식 (Z-0)으로 표시되는 부분 구조를 갖는 중합성 저파장 분산성 또는 중합성 역파장 분산성 화합물을 제공한다
(식 중, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고, 여기에서 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자 또는 염소 원자로 치환되어도 되고; *는 환 구조에 연결됨). 또한, 본 발명은, 화합물을 포함하는 중합성 조성물; 당해 화합물을 사용하여 각각 얻어지는 수지, 수지 첨가제, 오일, 필터, 접착제, 감압 접착제, 유지, 잉크, 의약품, 화장품, 세제, 건재(建材), 포장재, 액정재, 유기 EL 재료, 유기 반도체 재료, 전자 재료, 디스플레이 소자, 전자 디바이스, 통신 기기, 자동차 부품, 항공기 부품, 기계 부품, 농약, 및 식품과, 이들을 사용한 제품; 중합성 액정 조성물; 중합성 액정 조성물을 중합하여 얻어지는 중합체; 및 당해 중합체를 사용한 광학 이방체를 제공한다.
본 발명의 화합물은 중합성 조성물의 성분으로서 유용하다. 또한, 본 발명의 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물을 사용한 광학 이방체는, 이 광학 이방체에 조사하면 변색 또는 배향 결함이 생기기 어렵기 때문에, 위상차 필름 등의 광학 재료의 용도에 유용하다.
본 발명은 분자 내에 특정 구조를 갖는 역분산성 화합물을 제공하고, 또한 당해 화합물을 포함하는 중합성 조성물; 당해 화합물을 사용하여 각각 얻어지는 수지, 수지 첨가제, 오일, 필터, 접착제, 감압 접착제, 유지, 잉크, 의약품, 화장품, 세제, 건재(建材), 포장재, 액정재, 유기 EL 재료, 유기 반도체 재료, 전자 재료, 디스플레이 소자, 전자 디바이스, 통신 기기, 자동차 부품, 항공기 부품, 기계 부품, 농약, 및 식품과, 이들을 사용한 제품; 중합성 액정 조성물; 중합성 액정 조성물을 중합하여 얻어지는 중합체; 및 당해 중합체를 사용한 광학 이방체를 제공한다.
횡축에 위상차 필름에의 입사광의 파장λ를 취하고, 종축에 복굴절률△n를 플롯한 그래프에서는, 파장λ가 짧아짐에 따라 복굴절률△n이 커지면, 통상의 기술자에게 있어서 당해 필름을 일반적으로 "정분산성"이라 하고, 파장λ가 짧아짐에 따라 복굴절률△n이 작아지면, 통상의 기술자에게 있어서 당해 필름을 일반적으로 "역파장 분산성" 또는 "역분산성"이라 한다. 본 발명에 있어서, 파장 450㎚(Re 450)에서의 면내 위상차를 파장 550㎚(Re 550)에서의 면내 위상차로 나눠 얻어진 값인 Re(450)/Re(550)가 0.95 이하인 위상차 필름을 구성하는 화합물을 역분산성 화합물이라 한다. 또한, Re(450)/Re(550)가 0.95 초과 1.05 이하인 위상차 필름을 구성하는 화합물을 저파장 분산성 화합물이라 한다. 위상차의 측정 방법은 다음과 같다.
<위상차의 측정>
배향막용 폴리이미드 용액을 스핀 코팅법을 이용하여 두께 0.7mm의 유리 기재 상에 도포하고, 100℃에서 10분간 건조하고, 이어서 200℃에서 60분간 소성해서, 도막을 얻는다. 얻어진 도막을 시판의 러빙 장치를 사용해서 러빙한다.
평가 대상 화합물 20질량%를 포함하는 시클로펜탄온 용액을 스핀 코팅법에 의해 러빙된 기재에 도포하고, 100℃에서 2분간 건조했다. 얻어진 도막을 실온까지 냉각하고, 이어서 고압 수은 램프를 사용해서 자외선을 30mW/cm2의 강도로 30초간 조사해서 평가 대상 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 위상차는, 위상차 필름·광학 재료 시험 장치 RETS-100(OTSUKA ELECTRONICS Co., LTD.제)을 사용해서 측정했다.
평가 대상 화합물이 시클로펜탄온에 용해되지 않을 경우는, 용매로서 클로로포름을 사용한다. 또한, 평가 대상 화합물이 액정성만을 나타내지 않을 경우에는, 평가 대상 화합물(10질량%, 20질량%, 또는 30질량%)을, 하기 식 (A)로 표시되는 화합물(50질량%) 및 하기 식 (B)로 표시되는 화합물(50질량%)로 구성되는 모(母)액정에 첨가하여 얻어지는 조성물을 이용하여 필름을 형성하고, 위상차를 외삽에 의해 측정한다.
식 (Z-0) 중, 2개의 *는, 각각 독립적으로, 환 구조에 결합되고 있다. 환 구조는, 바람직하게는, 이하의 환 구조A 및/또는 환 구조G로부터 선택되는 기이다. 환 구조A는, 각각 독립적으로, 비치환의 환 구조 또는 1개 이상의 치환기 L로 치환되어도 되는 환 구조를 나타내고, 액정성, 합성의 용이함, 및 원료 입수의 용이함의 관점에서, 환 구조A는, 각각 독립적으로, 바람직하게는, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 나프탈렌-1,4-디일기, 테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기, 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기(그 각각은 비치환이이어도 되고, 또는 1개 이상의 치환기 L로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 또는 나프탈렌-2,6-디일기(그 각각은 비치환이이어도 되고, 또는 1개 이상의 치환기 L로 치환되어도 됨), 보다 더 바람직하게는, 하기 식 (A-1)~(A-11)로부터 선택되는 기, 보다 더욱더 바람직하게는, 하기 식 (A-1)~(A-8)로부터 선택되는 기, 및 특히 바람직하게는, 하기 식 (A-1)~(A-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다.
환 구조G는, 방향족 탄화수소환 및 방향족 복소환으로 구성되는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 방향족환을 갖는 2가의 기를 나타내고, G로 표시되는 기에서의 방향족환에 함유되는 π 전자의 수는 12 이상이고, G로 표시되는 기는, 바람직하게는, 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 치환기 LG로 치환되어도 되는 기를 나타낸다. 더 바람직한 구조는, 하기 G1로 표시되는 기와 동일하다. L은 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 수산기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내거나(여기에서 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 또는 L은 PL-(SpL-XL)kL-로 표시되는 기를 나타내어도 되고(여기에서, PL은 중합성기를 나타내고, 바람직한 중합성기는 하기 P0와 동일한 기를 나타내고, SpL은 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 바람직한 스페이서기는 하기 Sp0와 동일한 기를 나타내고, 복수의 SpL이 존재할 경우, 그들은 서로 동일하거나 상이해도 되고, XL은 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 XL이 존재할 경우, 그들은 서로 동일하거나 상이해도 되고(단, PL-(SpL-XL)kL-는 -O-O- 결합을 함유하지 않음), kL은 0~10의 정수를 나타내고, 복수의 L이 화합물에 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 됨).
액정성 및 합성의 용이함의 관점에서, 바람직하게는, L은 불소 원자, 염소 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로부터 선택된 기로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, L은 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -COO-, 또는 -OCO-로부터 선택되는 기로 치환되어도 됨), 보다 더 바람직하게는, L은 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기 또는 알콕시기를 나타내고(여기에서, 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 특히 바람직하게는, L은 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 직쇄상 알킬기 또는 직쇄상 알콕시기를 나타낸다.
식 (Z-0) 중, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고, 여기에서 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자 또는 염소 원자로 치환되어도 된다. 액정성, 합성의 용이함, 및 자외선 조사 시의 변색과 배향 결함의 관점에서, 바람직하게는, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O- 또는 -S-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자 또는 염소 원자로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 또는 탄소 원자수 1~6의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 보다 더 바람직하게는, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 메틸기, 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, 보다 더욱더 바람직하게는, 바람직하게는, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 불소 원자를 나타내고, 특히 바람직하게는, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 수소 원자를 나타낸다.
화합물로부터 제조되는 필름의 기계적 강도 및 액정성의 관점에서, 화합물은, 더 바람직하게는, 분자 중에 하기 식 (I-0-R)로 표시되는 적어도 하나의 기를 갖는다.
(식 중, P0는 중합성기를 나타내고, Sp0는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 복수의 Sp0가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, X0는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 X0가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고(단, P0-(Sp0-X0)k0-는 -O-O- 결합을 포함하지 않음), k0는 0~10의 정수를 나타낸다.
식 (I-0-R) 중, P0는 중합성기를 나타내고, 바람직하게는, 하기 식 (P-1)~(P-20)으로부터 선택되는 기이고,
이들 중합성기는, 라디칼 중합, 라디칼 부가 중합, 양이온 중합, 또는 음이온 중합에 의해 중합된다. 특히, 중합 방법으로서 자외선 중합을 행할 경우, 식 (P-1), (P-2), (P-3), (P-4), (P-5), (P-7), (P-11), (P-13), (P-15), 또는 (P-18)이 바람직하고, 식 (P-1), (P-2), (P-7), (P-11), 또는 (P-13)이 더 바람직하고, 식 (P-1), (P-2), 또는 (P-3)이 보다 더 바람직하고, 식 (P-1) 또는 (P-2)가 특히 바람직하다.
식 (I-0-R) 중, Sp0는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 복수의 Sp0가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 된다. 또한, 스페이서기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 L로 치환되어도 된다. 바람직하게는, 스페이서기는 탄소 원자수 1~20의 알킬렌기를 나타내고, 여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 된다. 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서, 복수의 Sp0가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, 복수의 Sp0는, 각각 독립적으로, 바람직하게는, 탄소 원자수 1~20의 알킬렌기를 나타내고(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -COO-, 또는 -OCO-로 치환되어도 됨) 또는 단결합을 나타내고, 보다 더 바람직하게는, 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기 또는 단결합을 나타내고, 특히 바람직하게는, 탄소 원자수 1~8의 알킬렌기를 나타낸다(여기에서, 복수의 알킬렌기가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 됨).
식 (I-0-R) 중, X0는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 X0가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 된다. 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서, 복수의 X0가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, 복수의 X0는, 각각 독립적으로, 바람직하게는, -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, 또는 단결합을 타나내고, 더 바람직하게는, -O-, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, 또는 단결합을 타나내고, 특히 바람직하게는, -O-, -COO-, -OCO-, 또는 단결합을 타나낸다(여기에서, 복수의 기가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 됨).
식 (I-0-R) 중, k0는 정수 0~10이고, 바람직하게는, 정수 0~5를, 더 바람직하게는, 정수 0~2를, 특히 바람직하게는, 1을 나타낸다.
액정성, 및 자외선 조사 시의 변색 및 배향 결함의 발생의 곤란함의 관점에서, 본 발명에 따른 저파장 분산성 및/또는 역파장 분산성 화합물은, 바람직하게는, 하기 식 (I)로 표시되는 화합물이고,
(식 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~80의 탄화수소기를 나타내고, 탄화수소기는 치환기를 가져도 되고, 어느 탄소 원자는 헤테로원자로 치환되어도 되고, R1 및 R2 중 적어도 하나는 식 (I-0-R)로 표시되는 기를 나타내고; A1 및 A2는, 각각 독립적으로, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 나프탈렌-1,4-디일기, 테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기, 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기를 나타내고, 이들 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 L로 치환되어도 되고;
Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CH2CH2-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -OCO-NH-, -NH-COO-, -NH-CO-NH-, -NH-O-, -O-NH-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-, -N=CH-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 단결합, 또는 -CR0-1R0-2O- 또는 -OCR0-1R0-2-로 표시되는 기를 나타내고(식 중, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 식 (Z-0) 중의 R0-1 및 R0-2와 동일한 의미를 가짐), 복수의 Z1이 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, 복수의 Z2가 존재할 경우는, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, Z1 및 Z2 중 적어도 하나는 -CR0-1R0-2O- 또는 -OCR0-1R0-2-로 표시되는 기를 나타내고;
G1은, 방향족 탄화수소환 및 방향족 복소환으로 구성되는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향족환을 갖는 2가의 기를 나타내고, G1로 표시되는 기의 방향족환에 함유되는 π 전자의 수는 12 이상이고, G1로 표시되는 기는 비치환이어도 되고 또는 하나 이상의 치환기 LG로 치환되어도 되고;
LG는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 수산기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내거나(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 또는 LG는 PLG-(SpLG-XLG)kLG-로 표시되는 기를 나타내도 되고(여기에서, PLG는 중합성기를 나타내고, 바람직한 중합성기는 상기 P0에 대해 정의된 것과 동일한 기를 나타내고, SpLG는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 바람직한 스페이서기는 상기 Sp0에 대해 정의된 것과 동일한 기를 나타내고, 복수의 SpLG가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, XLG는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 XLG가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고(단, PLG-(SpLG-XLG)kLG-는 -O-O- 결합을 함유하지 않음), kLG는 0~10의 정수를 나타내고, 복수의 LG가 화합물 중에 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 됨);
m1 및 m2는, 각각 독립적으로, 0~6의 정수를 나타내고, m1 + m2는 0~6의 정수를 나타냄).
식 (I) 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~80의 탄화수소기(어느 탄소 원자는 헤테로원자로 치환되어도 됨)를 나타내고, R1 및 R2 중 적어도 하나는 식 (I-0-R)로 표시되는 기를 나타낸다. R1 또는 R2가 식 (I-0-R)로 표시되는 기 이외의 기를 나타낼 경우, 액정성 및 합성의 용이함의 관점에서, R1 또는 R2는, 바람직하게는, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 시아노기, 니트로기, 이소시아노기, 티오이소시아노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기(여기에서 기 중의 임의의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -COO-, -OCO-, 또는 -O-CO-O-로 치환되어도 됨), 보다 더 바람직하게는, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 알킬기 또는 직쇄상 알콕시기, 특히 바람직하게는, 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 알킬기 또는 직쇄상 알콕시기를 나타낸다. 당해 화합물로 제조되는 필름의 기계적 강도 및 액정성의 관점에서, 더 바람직하게는, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 식 (I-0-R)로 표시되는 기를 나타낸다.
식 (I) 중, A1 및 A2는, 각각 독립적으로, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 나프탈렌-1,4-디일기, 테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기, 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기를 나타내고, 이들 기는 비치환이어도 되고 또는 하나 이상의 상술한 치환기 L로 치환되어도 된다. A1 및 A2의 바람직한 실시형태로서, A1 및 A2는. 각각 독립적으로, 더 바람직하게는, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 또는 나프탈렌-2,6-디일기(비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 치환기 L로 치환되어도 됨), 보다 더 바람직하게는, 하기 식 (A-1)~(A-11)로부터 선택되는 기, 보다 더욱더 바람직하게는, 식 (A-1)~(A-8)로부터 선택되는 기, 특히 바람직하게는, 식 (A-1)~(A-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다.
역분산성의 관점에서, 기G1에 인접한 Z1로 표시되는 기에 연결되는 A1로 표시되는 기 및 기G1에 인접한 기Z2로 표시되는 기에 연결되는 A2로 표시되는 기로서, A1 및 A2는, 각각 독립적으로, 바람직하게는, 1,4-시클로헥실렌기(비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 치환기 L로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, 식 (A-2)로 표시되는 기를 나타낸다. 또한, A1 및 A2로 표시되는 복수의 기가 존재할 경우에, 굴절률 이방성, 합성의 용이함, 및 용매에의 용해성의 관점에서, A1 및 A2로 표시되는 상기 기 이외의 A1 및 A2로 표시되는 기로서, A1 및 A2는, 각각 독립적으로, 바람직하게는, 1,4-페닐렌기 또는 나프탈렌-2,6-디일기(비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 치환기 L로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, 식 (A-1) 및 (A-3)~(A-11)로부터 선택되는 기, 보다 더 바람직하고, 식 (A-1) 및 (A-3)~(A-8)로부터 선택되는 기, 특히 바람직하게는, 식 (A-1), (A-3), 및 (A-4)로부터 선택되는 기를 나타난다.
식 (I) 중, Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CH2CH2-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -OCO-NH-, -NH-COO-, -NH-CO-NH-, -NH-O-, -O-NH-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-, -N=CH-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 단결합, 또는 -CR0-1R0-2O- 또는 -OCR0-1R0-2-로 표시되는 기를 나타낸다(식 중, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 식 (Z-0) 중 R0-1 및 R0-2와 동일한 의미를 가짐). 여기에서, 복수의 Z1가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, 복수의 Z2가 존재할 경우, 그들은 상이하거나 동일해도 되고, Z1 및 Z2 중 적어도 하나는, -CR0-1R0-2O- 또는 -OCR0-1R0-2-로 표시되는 기를 나타낸다. 복수의 Z1 및 Z2가 존재할 경우, 합성 용이함 및 액정성의 관점에서, 바람직하게는, 식 (I)에 포함되는 G1기에 직접 연결되는 Z1 및 Z2 중 적어도 하나는, -CR0-1R0-2O- 또는 -OCR0-1R0-2-로 표시되는 기를 나타내고, 특히 바람직하게는, 식 (I)에 포함되는 G1기에 직접 연결되는 Z1 및 Z2 모두는, -CR0-1R0-2O- 또는 -OCR0-1R0-2-로 표시되는 기를 나타낸다.
또한, 복수의 Z1 및 Z2가 존재할 경우에, 액정성, 원료 입수의 용이함, 및 합성의 용이함의 관점에서, -CR0-1R0-2O- 또는 -OCR0-1R0-2-로 표시되는 기 이외의 바람직한 기는, 각각 독립적으로, 바람직하게는, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -CF2O-, -OCF2-, -CH2CH2-, -CF2CF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -CH=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합, 더 바람직하게는, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -CF2O-, -OCF2-, -CH2CH2-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -CH=CH-, -C≡C-, 또는 단결합, 보다 더 바람직하게는, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -CF2O-, -OCF2-, 또는 단결합, 보다 더욱더 바람직하게는, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, 또는 단결합, 특히 바람직하게는, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, 또는 -OCO-를 나타낸다.
식 (I) 중, m1 및 m2는, 각각 독립적으로, 0~6의 정수를 나타낸다(단, m1 + m2는 0~6의 정수를 나타냄). 용매에의 용해성, 액정성, 및 자외선 조사 시의 배향 결함의 관점에서, m1 및 m2는, 각각 독립적으로, 바람직하게는, 정수 1~3을, 특히 바람직하게는, 정수 1 또는 2를 나타낸다. 또한, 합성의 용이함의 관점에서, 더 바람직하게는, m1 및 m2는 서로 동일하다.
식 (I) 중, G1은, 방향족 탄화수소환 및 방향족 복소환으로 구성되는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향족환을 갖는 2가의 기를 나타내고, G1로 표시되는 기의 방향족환에 함유되는 π 전자의 수는 12 이상이고, G1로 표시되는 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 치환기 LG로 치환되어도 된다. 역파장 분산성의 관점에서, G1은, 바람직하게는, 파장 300㎚~900㎚에서 최대 흡광도를 갖는 기이고, 더 바람직하게는, 파장 310㎚~500㎚에서 최대 흡광도를 갖는 기이다. 화합물의 액정성, 원료 입수의 용이함, 및 합성의 용이함의 관점에서, G1은, 더 바람직하게는, 하기 식 (M-1)~(M-6)으로부터 선택되는 기
(식 중, 이들 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LG로 치환되어도 되고, 어느 -CH=는 -N=로 치환되어도 되고, -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -NRT-(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), -CS-, 또는 -CO-로 치환되어도 되고, T1은 하기 식 (T1-1)~(T1-6)으로부터 선택되는 기를 나타내고
(식 중, 이들 기 각각은 어느 위치에 결합을 가져도 되고, 어느 -CH=는, 각각 독립적으로, -N=로 치환되어도 되고, -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -NRT-(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), -CS-, 또는 -CO-로 치환되어도 된다. 여기에서, 이들 기 각각이 어느 위치에 결합을 가져도 된다는 의미는, 식 (T1-1)이 식 (M-1)~(M-6)의 T1에 결합될 경우에, 식 (T1-1)의 어느 위치에 하나의 결합을 갖는다는 것을 의도하고 있다(이하, 본 발명에서, 이들 기 각각이 어느 위치에 결합을 가져도 된다는 의미는 동일한 의미를 나타냄). 또한, 이들 기는, 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 상기 치환기 LG로 치환되어도 됨)); 또는 하기 식 (M-7)~(M-14)로부터 선택되는 기를 나타내고
(식 중, 이들 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LG로 치환되어도 되고, 어느 -CH=는, 각각 독립적으로, -N=로 치환되어도 되고, -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -NRT-(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), -CS-, 또는 -CO-로 치환되어도 되고, T2는 하기 식 (T2-1) 및 (T2-2)로부터 선택되는 기를 나타내고,
(식 중, W1은 탄소 원자수 1~40의 방향족기 및/또는 비방향족기를 함유하는 기를 나타내고(치환되어도 됨), 방향족기는 탄화수소환 또는 복소환이어도 되고, 비방향족기는 탄화수소기, 또는 탄화수소기 중의 어느 탄소 원자가 헤테로원자로 치환된 기여도 되고(단, 산소 원자는 서로 직접 연결되지 않음),
W2는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내거나(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 또는 W2는 적어도 1개의 방향족기를 갖는 탄소 원자수 2~30의 기를 나타내도 되거나(기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 치환기 LW로 치환되어도 됨), 또는 W2는 PW-(SpW-XW)kW-로 표시되는 기를 나타내고, 여기에서 PW는 중합성기를 나타내고, 바람직한 중합성기는 상기 P0에 대해 정의된 것과 동일한 기를 나타내고, SpW는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 바람직한 스페이서기는 하기 Sp0에 대해 정의된 것과 동일한 기를 나타내고, 복수의 SpW가 존재할 경우에, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, XW는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 XW가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고(단, PW-(SpW-XW)kW-는 -O-O- 결합을 함유하지 않음), kW는 0~10의 정수를 나타내고,
LW는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 수산기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내거나(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 또는 LW는 PLW-(SpLW-XLW)kLW-로 표시되는 기를 나타내도 되고, 여기에서 PLW는 중합성기를 나타내고, SpLW는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 복수의 SpLW가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, XLW는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 XLW가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고(단, PLW-(SpLW-XLW)kLW-는 -O-O- 결합을 함유하지 않음), kLW는 정수 0~10를 나타내고, 복수의 LW가 화합물 중에 존재할 경우, 그들은 서로 동일하거나 상이해도 되고, Y는 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 수산기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내거나(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 또는 Y는 PY-(SpY-XY)kY-로 표현되는 기를 나타내도 되고, 여기에서, PY는 중합성기를 나타내고, 바람직한 중합성기는 상기 P0에 대해 정의한 것과 동일한 기를 나타내고, SpY는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 바람직한 스페이서기는 상기 Sp0에 대해 정의한 것과 동일한 기를 나타내고, 복수의 SpY가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, XY는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 XY가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고(단, PY-(SpY-XY)kY-는 -O-O- 결합을 함유하지 않음), kY는 0~10의 정수를 나타내고, W1 및 W2는 함께 환 구조를 형성해도 됨).
용매에의 용해성 및 합성의 용이함의 관점에서, G1은, 더 바람직하게는, 식 (M-1), (M-3), (M-4), (M-7), 및 (M-8)로부터 선택되는 기, 보다 더 바람직하게는, 식 (M-1), (M-7), 및 (M-8)로부터 선택되는 기, 특히 바람직하게는, 식 (M-7) 및 (M-8)로부터 선택되는 기를 나타낸다. 더 구체적으로, 식 (M-1)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (M-1-1)~(M-1-6)으로부터 선택되는 기,
(식 중, T1은 상기와 동일한 의미를 갖고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), 더 바람직하게는, 식 (M-1-4) 및 (M-1-5)로부터 선택되는 기, 및 특히 바람직하게는, 식 (M-1-5)로 표시되는 기를 나타낸다. 식 (M-3)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (M-3-1)~(M-3-6)으로부터 선택되는 기,
(식 중, T1은 상기와 동일한 의미를 갖고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), 보다 바람직하게는, 식 (M-3-4) 및 (M-3-5)로부터 선택되는 기, 특히 바람직하게는, 식 (M-3-5)로 표시되는 기를 나타낸다. 식 (M-4)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (M-4-1)~(M-4-6)으로부터 선택되는 기,
(식 중, T1은 상기와 동일한 의미를 갖고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), 더 바람직하게는, 식 (M-4-4) 및 (M-4-5)로부터 선택되는 기이고, 특히 바람직하게는, 식 (M-4-5)로 표시되는 기를 나타낸다. 식 (M-7)~(M-14)로 표시되는 기 각각은, 바람직하게는, 하기 식 (M-7-1)~(M-14-1)로부터 선택되는 기,
(식 중, T2는 상기와 동일한 의미를 갖고), 더 바람직하게는, 식 (M-7-1)~(M-12-1)로부터 선택되는 기, 특히 바람직하게는, 식 (M-7-1) 또는 (M-8-1)로 표현되는 기를 나타낸다.
또한, 식 (M-1)~(M-6) 중, 파장 분산성 및 합성의 용이함의 관점에서, T1은, 바람직하게는, 식 (T1-1), (T1-2), (T1-3), 및 (T1-6)으로부터 선택되는 기, 더 바람직하게는, 식 (T1-3) 및 (T1-6)으로부터 선택되는 기, 특히 바람직하게는, 식 (T1-3)으로 표시되는 기를 나타낸다. 더 구체적으로는, 식 (T1-1)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (T1-1-1)~(T1-1-7)로부터 선택되는 기,
(식 중, 이들 기 각각은 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타낸다. 또한, 이들 기 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LG로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, 식 (T1-1-2), (T1-1-4), (T1-1-5), (T1-1-6), 및 (T1-1-7)로 선택되는 기를 나타낸다. 식 (T1-2)로 나타나는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (T1-2-1)~(T1-2-8)로부터 선택되는 기,
(식 중, 이들 기 각각은 어느 위치에 결합을 가져도 된다. 또한, 이들 기 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LG로 치환되어도 됨), 보다 바람직하게는, 식 (T1-2-1)로 표시되는 기를 나타낸다. 식 (T1-3)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (T1-3-1)~(T1-3-8)로부터 선택되는 기,
(식 중, 이들 기 각각은 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타낸다. 또한, 이들 기 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LG로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, 식 (T1-3-2), (T1-3-3), (T1-3-6), 또는 (T1-3-7)로 표시되는 기를 나타낸다. 식 (T1-4)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (T1-4-1)~(T1-4-6)으로부터 선택되는 기를 나타낸다
(식 중, 이들 기 각각은 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타낸다. 또한, 이들 기 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LG로 치환되어도 됨). 식 (T1-5)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (T1-5-1)~(T1-5-9)로부터 선택되는 기를 나타낸다
(식 중, 이들 기 각각은 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타낸다. 또한, 이들 기 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LG로 치환되어도 됨). 식 (T1-6)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (T1-6-1)~(T1-6-7)로부터 선택되는 기를 나타낸다
(식 중, 이들 기 각각은 어느 위치에 결합을 가져도 된다. 또한, 이들 기 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LG로 치환되어도 됨).
식 (I) 중, LG는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 히드록실기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내거나(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비 인접 -CH2-는, 각각 독립적으로,-O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 또는 LG는 PLG-(SpLG-XLG)kLG-로 표시되는 기를 나타내도 되고, 여기에서 PLG는 중합성기를 나타내고, 바람직한 중합성기는 상기 P0에 대해 정의된 것과 동일한 기를 나타내고, SpLG는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 바람직한 스페이서기는 상기 SpO에 대해 정의된 것과 동일한 기를 나타내고, 복수의 SpLG가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, XLG는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 XLG가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고(단, PLG-(SpLG-XLG)kLG-는 -O-O- 결합을 포함하지 않음), kLG는 0~10의 정수를 나타내고, 복수의 LG가 화합물 중에 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고,
m1 및 m2는, 각각 독립적으로, 0~6의 정수를 나타내고, m1 + m2는 0~6의 정수를 나타낸다. 액정성 및 합성의 용이함의 관점에서, LG는, 바람직하게는, 불소 원자, 염소 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-, -CH=CH-, -CF=CF-, 및 -C≡C-로부터 선택되는 기로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -COO-, 및 -OCO-로부터 선택되는 기로 치환되어도 됨), 보다 더 바람직하게는, 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기 또는 알콕시기를 나타내고(여기에서, 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 특히 바람직하게는, 불소 원자, 염소 원자, 탄소 원자수 1~8의 직쇄상 알킬기 또는 직쇄상 알콕시기를 나타낸다.
식 (T2-1) 또는 (T2-2) 중, 액정성 및 합성의 용이함의 관점에서, Y는, 바람직하게는, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 니트로기, 시아노기, 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기(여기에서, 당해 기 중 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 됨), 또는 PY-(SpY-XY)kY-로 표시되는 기를 나타내고, 더 바람직하게는, Y는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 당해 기 중 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -COO-, 또는 -OCO-로 치환되어도 됨), 보다 더 바람직하게는, Y는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 당해 기 중 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 특히 바람직하게는, Y는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 알킬기를 나타낸다.
식 (T2-1) 또는 (T2-2) 중, 액정성 및 합성의 용이함의 관점에서, W1은, 탄소 원자수 1~12의 비방향족기 및/또는 방향족기의 탄소환 또는 복소환을 포함하는 기를 나타내고(치환되어도 됨), 탄소환 또는 복소환의 어느 탄소 원자는 헤테로원자로 치환되어도 된다. 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서, W1에 포함되는 방향족기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-1)~(W-18)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 치환기 Lw로 치환되어도 됨).
(식 중, 환 구조는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, 이들 기로부터 선택되는 2개 이상의 방향족기가 단결합으로 연결되는 기가 형성되어도 되고, 어느 -CH=는, 각각 독립적으로, -N=로 치환되어도 되고, -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -NRT-(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), -CS-, 또는 -CO-를 나타낸다(단, 이들 기는 -O-O- 결합을 포함하지 않음). 또한, 이들 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨). 식 (W-1)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-1-1)~(W-1-7)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-2)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-2-1)~(W-2-8)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 됨). 식 (W-3)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-3-1)~(W-3-6)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-4)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-4-1)~(W-4-9)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-5)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-5-1)~(W-5-13)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-6)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-6-1)~(W-6-12)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-7)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-7-1)~(W-7-8)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-8)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-8-1)~(W-8-19)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-9)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-9-1)~(W-9-7)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 됨). 식 (W-10)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-10-1)~(W-10-16)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-11)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-11-1)~(W-11-10)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-12)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-12-1)~(W-12-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-13)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-13-1)~(W-13-10)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-17)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-17-1)~(W-17-18)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-18)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-18-1)~(W-18-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨)
(식 중, 이들 기는 어느 위치에 결합을 가져도 되고, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄).
W1에 포함되는 탄소환 또는 복소환을 포함하는 기는, 바람직하게는, 식 (W-1-1), (W-1-2), (W-1-3), (W-1-4), (W-1-5), (W-1-6), (W-2-1), (W-6-9), (W-6-11), (W-6-12), (W-7-2), (W-7-3), (W-7-4), (W-7-6), (W-7-7), (W-7-8), (W-9-1), (W-12-1), (W-12-2), (W-12-3), (W-12-4), (W-13-7), (W-13-9), (W-13-10), (W-14), (W-18-1), 및 (W-18-4)로부터 선택되는 기를 나타내고(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, 식 (W-2-1), (W-7-3), (W-7-7), 및 (W-14)로부터 선택되는 기를 나타내고(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨), 보다 더 바람직하게는, 식 (W-7-3), (W-7-7), 및 (W-14)로부터 선택되는 기를 나타내고(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨), 보다 더욱더 바람직하게는, 식 (W-7-7)로 표시되는 기를 나타내고(이는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨), 특히 바람직하게는, 식 (W-7-7-1)로 표시되는 기를 나타낸다(이는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 Lw로 치환되어도 됨).
식 (T-1) 또는 (T-2) 중, 원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서, 더 바람직하게는, W2는 수소 원자, 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기(여기에서, 당해 기 중 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C로 치환되어도 됨), 또는 PW-(SpW-XW)kW-로 표시되는 기를 나타내고, 보다 더 바람직하게는, W2는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기(여기에서, 당해 기 중 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -CO-, -COO-, 또는 -OCO-로 치환되어도 됨), 또는 PW-(SpW-XW)kW-로 표시되는 기를 나타내고, 보다 더욱더 바람직하게는, W2는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 알킬기(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-로 치환되어도 됨), 또는 PW-(SpW-XW)kW-로 표시되는 기를 나타낸다.
또한, W2가 탄소 원자수 2~30의 기를 나타낼 경우(이것은, 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 되는 적어도 하나의 방향족기를 가짐), W2는, 바람직하게는, 식 (W-1)~(W-18)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨). 이 경우, 보다 바람직한 구조는 상기와 마찬가지이다.
또한, W2가 PW-(SpW-XW)kW-로 표시되는 기를 나타낼 경우, PW, SpW, XW, 및 kW로 표시되는 기의 바람직한 구조는, P0, Sp0, X0, 및 k0로 표시되는 기의 바람직한 구조와 동일하다.
또한, W1 및 W2는 함께 환 구조를 형성해도 된다. 단, 이 경우, -NW1W2로 표시되는 환상기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-19)~(W-40)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, 어느 -CH=는, 각각 독립적으로, -N=로 치환되어도 되고, -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -NRT-(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), -CS-, 또는 -CO-로 치환되어도 된다(단, 이들 기는 -O-O- 결합을 포함하지 않음). 또한, 이들 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨). 식 (W-19)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-19-1)~(W-19-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-20)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-20-1)~(W-20-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-21)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-21-1)~(W-21-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-22)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-22-1)~(W-22-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-23)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-23-1)~(W-23-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-24)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-24-1)~(W-24-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-25)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-25-1)~(W-25-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-26)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-26-1)~(W-26-7)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-27)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-27-1)~(W-27-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-28)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-28-1)~(W-28-6)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-29)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-29-1)~(W-29-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-30)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-30-1)~(W-30-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-31)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-31-1)~(W-31-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-32)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-32-1)~(W-32-5)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-33)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-33-1)~(W-33-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-34)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-34-1)~(W-34-5)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-35)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-35-1)로 표시되는 기를 나타낸다(그것은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-36)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-36-1)~(W-36-6)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-37)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-37-1)~(W-37-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-38)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-38-1)~(W-38-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-39)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-39-1)~(W-39-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-40)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-40-1)로 표시되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
원료의 입수 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서, 보다 바람직하게는, -NW1W2로 표시되는 환상기는, 식 (W-19-1), (W-21-2), (W-21-3), (W-21-4), (W-23-2), (W-23-3), (W-25-1), (W-25-2), (W-25-3), (W-30-2), (W-30-3), (W-35-1), (W-36-2), (W-36-3), (W-36-4), 및 (W-40-1)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
또한, W1 및 W2는 함께 환 구조를 형성해도 된다. 단, 이 경우, =CW1W2로 표시되는 환상기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-41)~(W-62)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, 어느 -CH=는, 각각 독립적으로, -N=로 치환되어도 되고, -CH2-는 -O-, -S-, -NRT-(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), -CS-, 또는 -CO-로 치환되어도 된다(단, 이들 기는 -O-O- 결합을 포함하지 않음). 또는, 이들 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 된다. 식 (W-41)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-41-1)~(W-41-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-42)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-42-1)~(W-42-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-43)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-43-1)~(W-43-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-44)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-44-1)~(W-44-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-45)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-45-1)~(W-45-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-46)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-46-1)~(W-46-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-47)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-47-1)~(W-47-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-48)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-48-1)~(W-48-7)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-49)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-49-1)~(W-49-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-50)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-50-1)~(W-50-6)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-51)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-51-1)~(W-51-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-52)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-52-1)~(W-52-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-53)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-53-1)~(W-53-8)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-54)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-54-1)~(W-54-5)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-55)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-55-1)~(W-55-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-56)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-56-1)~(W-56-5)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-57)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-57-1)로 표시되는 기를 나타낸다(이는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-58)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-58-1)~(W-58-6)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-59)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-59-1)~(W-59-3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
식 (W-60)으로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-60-1)~(W-60-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨)
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-61)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-61-1)~(W-61-4)로부터 선택되는 기를 나타낸다(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타냄). 식 (W-62)로 표시되는 기는, 바람직하게는, 하기 식 (W-62-1)로 표시되는 기를 나타낸다(이는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
원료 입수의 용이함 및 합성의 용이함의 관점에서, 더 바람직하게는, =CW1W2로 표시되는 환상기는, 식 (W-42-2), (W-42-3), (W-43-2), (W-43-3), (W-45-3), (W-45-4), (W-57-1), (W-58-2), (W-58-3), (W-58-4), 및 (W-62-1)로터 선택되는 기를 나타내고(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨), 보다 더 바람직하게는, 환상기는 식 (W-57-1) 및 (W-62-1)로부터 선택되는 기를 나타내고(그 각각은 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨), 보다 더욱더 바람직하게는, 환상기는 식 (W-57-1)로 표시되는 기를 나타낸다(이는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상술한 치환기 LW로 치환되어도 됨).
W1 및 W2에 포함되는 π 전자의 총 수는, 파장 분산성, 보존 안정성, 액정성, 및 합성의 용이함의 관점에서, 바람직하게는, 4~24이다.
액정성 및 합성의 용이함의 관점에서, 바람직하게는, LW는 불소 원자, 염소 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-, -CH=CH-, -CF=CF-, 및 -C≡C로부터 선택되는 기로 치환되어도 됨), 더 바람직하게는, LW는 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 되고, -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -COO-, 및 -OCO-로부터 선택되는 기로 치환되어도 되고, 보다 더 바람직하게는, LW는 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~12의 직쇄상 또는 분기상 알킬기 또는 알콕시기를 나타내고(여기에서, 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 특히 바람직하게는, LW는 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~8의 직쇄상 알킬기 또는 직쇄상 알콕시기를 나타낸다.
식 (I) 중, 더 바람직하게는, G1은 하기 식 (G-1)~(G-22)로부터 선택되는 기를 나타내고
(식 중, LG, LW, Y, W2는 상기와 동일한 의미를 나타내고, r은 정수 0~5를 나타내고, s는 정수 0~4를 나타내고, t는 정수 0~3을 나타내고, u는 정수 0~2를 나타내고, v는 0 또는 1를 나타낸다. 또한, 이들 기는, 좌우가 역으로 되도록 구성되어도 됨). 식 (G-1)~(G-10) 중, 식 (G-1), (G-3), (G-5), (G-6), (G-7), (G-8), 및 (G-10)으로부터 선택되는 기가 더 바람직하고, u는, 더 바람직하게는, 0이고, 하기 식 (G-1-1)~(G-10-1)로부터 선택되는 기가 특히 바람직하다
(식 중, 이들 기는, 좌우가 역으로 되도록 구성되어도 됨). 또한, 식 (G-11)~(G-22) 중, Y는, 더 바람직하게는, 수소 원자를 나타내고, s, t, u, 및 v 각각은, 보다 더 바람직하게는, 0이고, 하기 식 (G-11-1)~(G-20-1)로부터 선택되는 기가 특히 바람직하다.
식 (I)로 표시되는 화합물 중, 역분산성 및 액정성의 관점에서, 하기 식 (IA)로 표시되는 화합물이 바람직하다
(식 중, R1, R2, 및 G1은 식 (I)의 것과 동일한 의미를 나타내고, A11 및 A22는 식 (I)의 A1 및 A2와 동일한 의미를 나타내고, Z11 및 Z22는 식 (I)의 Z1 및 Z2와 동일한 의미를 나타내고, A12 및 A21는, 각각 독립적으로, 1,4-시클로헥실렌기(이는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 치환기 L로 치환되어도 됨)를 나타내고, Z12 및 Z21은, 각각 독립적으로, 식 (Z0-1) 또는 (Z0-2)로 표시되는 기를 나타냄). 각각 기의 바람직한 형태는, 식 (I)의 것과 동일하다.
바람직하게는, 식 (I)로 표시되는 화합물의 구체예로서는, 하기 식 (I-1)~(I-125)로 표시되는 화합물을 포함한다.
본 발명의 화합물은, 이하의 제조 공정에 의해 제조할 수 있다.
(제조 공정 1) 하기 식 (S-9)로 표시되는 화합물의 제조
(식 중, P0, Sp0, X0, L, 및 T1은, 각각 독립적으로, 식 (Z-0), 식 (I-0-R), 및 식 (I)에서 정의된 것과 동일한 것을 나타냄, s는, 각각 독립적으로, 정수 0~4를 나타내고, u는 정수 0~2를 나타내고, PG는 보호기를 나타내고, 할로겐은 할로겐 원자 또는 할로겐 당량을 나타냄).
식 (S-1)로 표시되는 화합물의 카르복실기는 보호기(PG)로 보호된다. 보호기(PG)는, 탈보호(deprotection) 스텝까지 안정된 보호을 제공할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, GREENE'S PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS((제4판), PETER G. M. WUTS, THEODORA W. GREENE 공저, John Wiley & Sons, Inc., 출판)에 기재된 보호기(PG)가 바람직하다. 보호기의 구체예로서는, 테트라히드로피라닐기, tert-부틸기, 및 메톡시메틸기를 포함한다.
식 (S-2)로 표시되는 화합물을 환원함으로써, 식 (S-3)으로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 환원제의 예는, 보란-테트라히드로퓨란 착체 및 보란-디메틸설피드 착체 등의 보란 착체, 및 디보란을 포함한다.
식 (S-3)으로 표시되는 화합물을 할로겐화함으로써, 식 (S-4)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 할로겐화의 조건으로서는, 트리페닐포스핀 및 이미다졸의 존재 하에서 요오드와 반응시키는 방법, 트리페닐포스핀의 존재 하에서 사브롬화탄소 또는 N-브로모숙신이미드와 반응시키는 방법, 및 염기의 존재 하에서 염화리튬과 반응시키는 방법이 예시된다. 또한, 염기의 존재 하에서, 메탄설포닐클로라이드 또는 p-톨루엔설포닐클로라이드와 반응시켜 할로겐 당량으로 유도하는 방법이 예시된다.
염기의 존재 하에서 식 (S-4)로 표시되는 화합물을 식 (S-5)로 표시되는 화합물과 반응시킴으로써, 식 (S-6)으로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 염기의 예는, 탄산칼륨, 탄산세슘, 및 트리에틸아민을 포함한다. 또한, 식 (S-3)으로 표시되는 화합물을 식 (S-5)로 표시되는 화합물과 Mitsunobu 반응을 통해 반응시킴으로써, 식 (S-6)으로 표시되는 화합물을 얻을 수도 있다. 이 때 사용되는 아조디카르복실산에스테르로서는, 아조디카르복실산디에틸, 아조디카르복실산디이소프로필 등이 예시된다.
식 (S-6)으로 표시되는 화합물의 보호기(PG)를 탈보호한다. 탈보호의 반응 조건은, 식 (S-7)로 표시되는 화합물이 제조되는 한, 특별히 한정되지 않지만, 문헌에 기재된 것들이 바람직하다.
식 (S-7)로 표시되는 화합물을 식 (S-8)로 표시되는 화합물과 반응시킴으로써, 식 (S-9)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 반응 조건으로서는, 축합제를 사용하는 방법, 또는 식 (S-7)로 표시되는 화합물로부터 유도되는 산염화물, 혼합 산무수물, 또는 카르복실산무수물을 식 (S-8)를 표시되는 화합물과 반응시키는 방법이 예시된다. 본 반응에 축합제를 사용할 경우, 축합제의 예는, N,N'-디시클로헥실카르보디이미드, N,N'-디이소프로필카르보디이미드, 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염을 포함한다. 염기의 예는 트리에틸아민 및 디이소프로필에틸아민을 포함한다.
(제조 공정 2) 하기 식 (S-18)로 표시되는 화합물의 제조
(식 중, P0, Sp0, X0, L, W1, 및 W2 는, 각각 독립적으로, 식 (Z-0), 식 (I-0-R), 및 식 (I)에서 정의되는 것과 동일한 것을 나태내고, s는, 각각 독립적으로, 정수 0~4를 나타내고, t는 정수 0~3을 나타내고, PG는 보호기를 나타내고, 할로겐은 할로겐 원자 또는 할로겐 당량을 나타냄).
염기의 존재 하에서 식 (S-4)로 표시되는 화합물을 식 (S-10)으로 표시되는 화합물과 반응시킴으로써, 식 (S-11)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 염기의 예는, 제조 공정 1에 기재한 것과 동일하다.
식 (S-11)로 표시되는 화합물의 보호기(PG)를 탈보호한다. 탈보호의 반응 조건은, 식 (S-12)로 표시되는 화합물이 제조되는 한, 특별히 한정되지 않지만, 문헌에 기재된 것들이 바람직하다.
식 (S-12)로 표시되는 화합물을 식 (S-8)로 표시되는 화합물과 반응시킴으로써, 식 (S-13)으로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 반응 조건의 예는, 제조 공정 1에 기재된 것을 포함한다.
식 (S-14)로 표시되는 화합물을, 예를 들면, 히드라진일수화물과 반응시킴으로써, 식 (S-15)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.
염기의 존재 하에서 식 (S-15)로 표시되는 화합물을 식 (S-16)으로 표시되는 화합물과 반응시킴으로써, 식 (S-17)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 염기의 예는 탄산칼륨, 탄산세슘, 및 트리에틸아민을 포함한다.
산 촉매의 존재 하에서 식 (S-17)로 표시되는 화합물을 식 (S-13)으로 표시되는 화합물과 반응시킴으로써, 식 (S-18)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 산의 예는, p-톨루엔설폰산, p-톨루엔설폰산피리디늄, 및 10-캄퍼설폰산을 포함한다.
제조 공정 1 및 2의 각 스텝에 기재된 것 이외의 반응 조건의 예는, Experimental Chemistry Course(the Chemical Society of Japan 편집, Maruzen Co., Ltd. 발행), Organic Syntheses(John Wiley & Sons, Inc., 발행), Beilstein Handbook of Organic Chemistry((Beilstein-Institut fuer Literatur der Organischen Chemie, Springer-Verlag Berlin 및 Heidelberg GmbH & Co. K), 및 Fieser's Reagents for Organic Synthesis(John Wiley & Sons, Inc.) 등의 문헌에 기재된 조건, 및 SciFinder(Chemical Abstracts Service, American Chemical Society) 및 Reaxys (Elsevier Ltd.) 등의 온라인 검색 서비스에 의해 제공되는 조건을 포함한다.
또한, 각 스텝에 있어서, 적절한 반응 용매를 사용할 수 있다. 용매는, 원하는 화화물이 제조되는 한, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, 이소프로필알코올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 클로로포름, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 아세톤, 아세토니트릴, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸설폭시드, 디에틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 자일렌, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산프로필, 아세트산메틸, 시클로헥산온, 1,4-디옥산, 디클로로메탄, 스티렌, 테트라히드로퓨란, 피리딘, 1-메틸-2-피롤리디논, 톨루엔, 헥산, 시클로헥산, 헵탄, 벤젠, 메틸이소부틸케톤, tert-부틸메틸에테르, 및 메틸에틸케톤을 포함한다. 유기 용매 및 물의 2상계에서 반응을 행할 경우에는, 상간 이동 촉매를 첨가하는 것도 가능하다. 상간 이동 촉매의 예는, 벤질트리메틸암모늄클로리드, 폴리옥시에틸렌(20)소르비탄모노라우레이트[Tween20], 및 모노올레산소르비탄[Span80]을 포함한다.
필요에 따라, 각 스텝에서 정제를 행할 수 있다. 정제 방법의 예는, 크로마토그래피, 재결정, 증류, 승화, 재침전, 흡착, 및 액분리 처리를 포함한다. 정화제를 사용할 경우, 정화제의 예는 실리카겔, 알루미나, 활성탄, 활성백토, 셀라이트, 제올라이트, 메조다공성 실리카, 카본 나노튜브, 카본 나노혼, 빈초탄, 목탄, 그래핀, 이온 교환 수지, 산성 클레이, 이산화규소, 규조토, 펄라이트, 셀룰로오스, 유기 중합체, 및 다공질겔을 포함한다.
바람직하게는, 본 발명의 화합물은, 네마틱 액정 조성물, 스멕틱 액정 조성물, 키랄 스멕틱 액정 조성물, 및 콜레스테릭 액정 조성물에 사용된다. 본 발명의 반응성 화합물을 사용하는 액정 조성물에는, 본 발명의 것 이외의 화합물을 첨가해도 된다.
본 발명의 중합성 화합물과 혼합해서 사용되는 다른 중합성 화합물로서는, 구체적으로는, 식 (X-11) 및/또는 식 (X-12)로 표시되는 화합물이 바람직하고
(식 중, P11, P12, 및 P13은, 각각 독립적으로, 중합성기를 나타내고; Sp11, Sp12, 및 Sp13은, 각각 독립적으로, 단결합 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬렌기를 나타내고, 여기에서 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는 -O-, -COO-, -OCO-, -OCOO-로 치환되어도 되고; X11, X12, 및 X13은, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고; Z11 및 Z12는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -CO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH2CH2-, -CH2CF2-, -CF2CH2-, -CF2CF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고; A11, A12, A13, 및 A14는, 각각 독립적으로, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 나프탈렌-1,4-디일기, 테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기를 나타내고, A11, A12, A13, 및 A14는, 각각 독립적으로, 비치환이어도 되거나, 또는 알킬기, 할로겐화알킬기, 알콕시기, 할로겐화알콕시기, 할로겐 원자, 시아노기, 또는 니트로기로 치환되어도 되고; R11은 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 시아노기, 니트로기, 이소시아노기, 티오이소시아노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 됨); m11 및 m12는 0, 1, 2, 또는 3을 나타내고, m11 및/또는 m12가 2 또는 3을 나타낼 경우, 2개 또는 3개의 A11, A13, Z11, 및/또는 z12는 서로 동일하거나 상이해도 됨), 식 (X-11) 및/또는 식 (X-12)로 표시되는 화합물(그 각각은 P11, P12, 및 P13은 아크릴기 또는 메타크릴기를 나타냄)이 특히 바람직하다. 식 (X-11)로 표시되는 화합물로서, 구체적으로는, 식 (X-11a)로 표시되는 화합물이 바람직하고,
(식 중, W11 및 W12는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고; Sp14 및 Sp15는, 각각 독립적으로, 탄소 원자수 2~18의 알킬렌기를 나타내고; X14 및 X15는, 각각 독립적으로, -O-, -COO-, -OCO-, 또는 단결합을 나타내고; Z13 및 Z14는, 각각 독립적으로, -COO- 또는 -OCO-를 나타내고; A15, A16 및 A17은, 각각 독립적으로, 1,4-페닐렌기를 나타내고(이는 비치환이어도 되고 또는 불소 원자, 염소 원자, 탄소 원자수 1~4의 직쇄상 또는 분기상 알킬기, 또는 탄소 원자수 1~4의 직쇄상 또는 분기상 알콕시기로 치환되어도 됨), 이하 식 (X-11a-1)~(X-11a-4)로 표시되는 화합물이 특히 바람직하다
(식 중, W11, W12, Sp14, 및 Sp15는 식 (X-11a) 중의 것과 동일한 의미를 나타냄). 식 (X-11a-1)~(X-11a-4) 중, 각각에서 Sp14 및 Sp15가, 각각 독립적으로, 탄소 원자수 2~8의 알킬렌기인 화합물이 특히 바람직하다.
또한, 바람직한 2관능 중합성 화합물의 예는, 하기 식 (X-11b-1)~(X-11b-3)으로 표시되는 화합물을 포함한다
(식 중, W13 및 W14는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고; Sp16 및 Sp17은, 각각 독립적으로, 탄소 원자수 2~18의 알킬렌기를 나타냄). 식 (X-11b-1)~(X-11b-3) 중, 각각에서 Sp16 및 Sp17이, 각각 독립적으로, 탄소 원자수 2~8의 알킬렌기인 화합물이 특히 바람직하다.
식 (X-12)로 표시되는 화합물의 구체예는, 하기 식 (X-12-1)~(X-12-7)로 표시되는 화합물을 포함한다
(식 중, P14는 중합성기를 나타내고; Sp18은 단결합 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬렌기를 나타내고(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는 -O-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-로 치환되어됨 됨); X16은 단결합, -O-, -COO-, 또는 -OCO-를 나타내고; Z15는 단결합, -COO-, 또는 -OCO-를 나타내고; L11은 불소 원자, 염소 원자, 또는 탄소 원자수 1~10의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -COO-, 또는 -OCO-로 치환되어도 됨); s11은 정수 0~4를 나타내고; R12는 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 시아노기, 니트로기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타낸다(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 됨)).
또한, 본 발명의 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물에는, 액정성을 나타내지 않는 중합성 화합물을 조성물의 액정성이 현저히 열화되지 않을 정도로 첨가할 수 있다. 구체적으로는, 당해 분야에서, 화합물이 중합체-형성성 모노머 또는 중합체-형성성 올리고머로서 인식되고 있으면, 특별한 제한 없이 사용할 수 있다. 그 구체예는, "Material edition (monomer, oligomer, photopolymerization initiator), Photocuring technology data book"(Ichimura Kunihiro 및 Kato Kiyomi(Techno net Co., Ltd.)에 의해 감수)에 기재되어 있다.
본 발명의 화합물은 광중합 개시제를 사용하지 않고 중합할 수도 있지만, 필요에 따라, 광중합 개시제를 첨가해도 된다. 이 경우, 본 발명의 화합물에 대한 광중합 개시제의 농도는, 바람직하게는, 0.1질량%~15질량%이고, 더 바람직하게는, 0.2질량%~10질량%이고, 보다 더 바람직하게는, 0.4질량%~8질량%이다. 광중합 개시제의 예는 벤조인에테르, 벤조페논, 아세토페논, 벤질케탈, 및 아실포스핀옥사이드를 포함한다. 광중합 개시제의 구체예는, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온(IRGACURE 907) 및 벤조산[1-(4-(페닐티오)벤조일]헵틸리덴]아미노(IRGACURE OXE 01)를 포함한다. 열중합 개시제의 예는 아조 화합물 및 과산화물을 포함한다. 열중합 개시제의 구체예는, 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴) 및 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴)를 포함한다. 중합 개시제는 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합해서 사용해도 된다.
한편, 본 발명의 액정 조성물에는, 조성물의 보존 안정성을 향상시키기 위해안정제를 첨가할 수 있다. 사용될 수 있는 안정제의 예는 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노알킬에테르, 터셔리 부틸카테콜, 피로갈롤, 티오페놀, 니트로 화합물, β-나프틸아민, β-나프톨, 및 니트로소 화합물을 포함한다. 안정제의 사용 시, 첨가되는 안정제의 양은, 바람직하게는, 0.005질량%~1질량%, 더 바람직하게는, 0.02질량%~0.8질량%, 보다 더 바람직하게는, 0.03질량%~0.5질량%이다. 안정제는 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합해서 사용해도 된다. 안정제로서는, 구체적으로, 하기 식 (X-13-1)~(X-13-35)로 표시되는 화합물이 바람직하다
(식 중, n은 정수 0~20을 나타냄).
한편, 본 발명의 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물을 필름, 광학 소자, 기능성 안료, 의약품, 화장품, 코팅제, 및 합성 수지에 사용할 경우, 필요에 따라, 금속, 금속 착체, 염료, 안료, 착색제, 형광 재료, 인광 재료, 계면활성제, 레벨링제, 틱소트로피제, 겔화제, 다당류, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 산화 방지제, 이온 교환 수지, 또는 산화티타늄 등의 금속 산화물을 첨가할 수도 있다.
본 발명의 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물을 중합하여 얻어지는 중합체는 다양한 용도에 사용할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물을 배향 없이 중합시켜 얻어지는 중합체는, 광산란판, 편광 해소판, 및 모아레 스트라이프 방지판에 사용할 수 있다. 또한, 중합성 액정 조성물을 배향시켜서 중합시켜 얻어지는 중합체는, 광학 이방성을 갖기 때문에 유용하다. 이러한 광학 이방체는, 천으로 러빙된 기재, 유기박막이 설치된 기재, 또는 SiO2가 비스듬히 증착된 배향막을 갖는 기재 상에 본 발명의 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물을 서포트하거나, 중합성 액정 조성물을 기재 간에 개재시킨 후, 중합성 액정 조성물을 중합시킴으로써 제조될 수 있다.
중합성 액정 조성물을 기재 상에 서포트하는 방법으로서는, 스핀 코팅, 다이 코팅, 익스트루전 코팅, 롤 코팅, 와이어 바 코팅, 그라비어 코팅, 스프레이 코팅, 침지, 인쇄 등이 예시된다. 코팅 중에, 중합성 액정 조성물에 유기 용매를 첨가해도 된다. 유기 용매로서는, 탄화수소 용매, 할로겐화 탄화수소 용매, 에테르 용매, 알코올 용매, 케톤 용매, 에스테르 용매, 또는 비프로톤성 용매를 사용할 수 있다. 예를 들면, 탄화수소 용매로서는, 톨루엔 또는 헥산을 사용할 수 있고, 할로겐화 탄화수소 용매로서는, 염화메틸렌을 사용할 수 있고, 에스테르 용매로서는, 테트라히드로퓨란, 아세톡시-2-에톡시-에탄, 또는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 사용할 수 있고, 알코올 용매로서는, 메탄올, 에탄올, 또는 이소프로판올을 사용할 수 있고, 케톤 용매로서는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥산온, γ-부티로락톤 또는 N-메틸피롤리디논을 사용할 수 있고, 에스테르 용매로서는, 아세트산에틸 또는 셀로솔브를 사용할 수 있고, 비프로톤성 용매로서는, 디메틸포름아미드 또는 아세토니트릴을 사용할 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 조합해서 사용할 수 있고, 중합성 액정 조성물의 용해성 및 그 증기압을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 첨가한 유기 용매를 휘발시키는 방법으로서는, 자연 건조, 가열 건조, 진공 건조, 또는 진공 가열 건조를 사용할 수 있다. 중합성 액정 재료의 도포성을 더 향상시키기 위해서는, 기재 상에 폴리이미드 박막 등의 중간층을 설치하거나, 중합성 액정 재료에 레벨링제를 첨가하는 것도 유효하다. 폴리이미드 박막 등의 중간층을 기재 상에 설치하는 방법은, 중합성 액정 재료를 중합시켜 얻어지는 중합체와 기재 사이의 밀착성을 향상시키는 데 유효하다.
상기 이외의 배향 처리로서는, 액정 재료의 유동 배향의 이용이나 전계 또는 자계의 이용을 들 수 있다. 이들 배향 수단은, 단독으로 또는 조합해서 사용해도 된다. 또한, 배향 처리 방법으로서, 러빙을 대신해서 광배향법을 사용할 수 있다. 기재의 형상으로서는, 기재는 평판 이외에도 곡면을 구성 요소로서 가져도 된다. 기재를 구성하는 재료로서는, 유기 재료 및 무기 재료의 양쪽을 사용할 수 있다. 예를 들면, 기재의 재료로서 기능하는 유기 재료의 예는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리아릴레이트, 폴리설폰, 트리아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스, 및 폴리에테르에테르케톤을 포함한다. 또한, 무기 재료의 예는 실리콘, 유리, 및 방해석을 포함한다.
본 발명의 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물을 중합시킬 때는, 중합이 신속히 진행되는 것이 바람직하고, 이에 따라 자외선 또는 전자빔 등의 활성 에너지선을 조사해서 조성물을 중합시키는 방법이 바람직하다. 자외선을 사용할 경우에는, 편광 광원을 사용해도 되고, 비편광 광원을 사용해도 된다. 또한, 액정 조성물을 2개의 기재 사이에 끼운 상태에서 중합시킬 경우, 적어도 조사면측의 기재는, 활성 에너지선에 대해 적당한 투명성을 가져야 한다. 또한, 광조사 시에 마스크를 사용해서 특정 부분만을 중합시키고, 전계 및 자계 또는 온도 등의 조건을 바꿔 미중합 부분의 배향 상태를 변화시키고, 또한 중합을 행하기 위해 활성 에너지선을 조사하는 수단을 사용해도 된다. 또한, 조사 중의 온도는, 본 발명의 중합성 액정 조성물의 액정 상태가 유지되는 온도 범위 내인 것이 바람직하다. 특히, 광중합에 의해 광학 이방체를 제조하고자 할 경우에는, 의도하지 않는 열중합의 유도를 피하기 위해, 가능한 한 실온 부근, 즉 통상적으로 25℃에서 중합을 행하는 것이 바람직하다. 활성 에너지선의 강도는, 바람직하게는, 0.1mW/cm2~2W/cm2이다. 강도가 0.1mW/cm2 이하이면, 광중합 완료까지 장시간이 걸리기 때문에 생산성이 저하되고, 강도가 2W/cm2 이상이면, 중합성 액정 화합물 또는 중합성 액정 조성물을 열화시킬 위험이 있다.
또한, 중합에 의해 얻어지는 광학 이방체는, 초기 특성의 변화를 저감하고, 안정된 특성을 나타낼 목적으로 열처리될 수도 있다. 열처리 온도는, 바람직하게는, 50℃~250℃이고, 열처리 시간은, 바람직하게는, 30초~12시간이다.
이러한 방식으로 제조된 광학 이방체는 기재로부터 박리된 후에 단독으로 사용되어도 되고, 또는 기재로부터 박리되지 않고 사용되어도 된다. 또한, 얻어진 광학 이방체를 적층해도 되고, 다른 기재에 접합한 후 사용해도 된다.
[실시예]
이하, 본 발명을 다음의 실시예를 참조하여 더 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 및 비교예의 조성물에서, "%"는 "질량%"를 의미한다. 각 스텝에서 산소 및/또는 수분에 대해 불안정한 물질을 처리할 경우, 질소 가스, 아르곤 가스 등의 불활성 가스 중에서 조작을 행하는 것이 바람직하다. "통상의 후처리"는, 반응액으로부터 원하는 화합물을 얻는 조작이고, 반응 정지(quenching), 액 분리 및 추출, 중화, 세정, 건조, 또는 농축 등의 조작을 의미하며, 이는 통상의 기술자에 의해 통상 행해진다.
(실시예 1) 식 (I-1)로 표시되는 화합물의 제조
식 (I-1-1)로 표시되는 화합물, 트리에틸아민, 및 테트라히드로퓨란을 반응 용기에 넣었다. 빙냉(ice cooling) 하, 클로로포름산에틸을 적하하고, 이어서 실온에서 교반했다. 침전물을 여과해서 용액을 얻었다. 질소 분위기 하, 다른 반응 용기에 수소화붕소나트륨 및 테트라히드로퓨란을 넣었다. 빙냉 하, 용액을 적하하고, 얻어진 혼합물을 교반했다. 메탄올과 물의 혼합액을 적하한 후, 얻어진 혼합물을 더 교반했다. 염산을 첨가한 후, 아세트산에틸로 추출했다. 칼럼 크로마토그래피(알루미나)에 의해 정제하여, 식 (I-1-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-1-2)로 표시되는 화합물, 피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 염화메탄설포닐을 적하한 후, 실온에서 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-1-3)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-1-3)으로 표시되는 화합물, 식 (I-1-4)로 표시되는 화합물, 탄산칼륨, 및 N,N-디메틸포름아미드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-1-5)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-1-5)로 표시되는 화합물, 메탄올, 및 수산화나트륨 수용액을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 염산으로 중화하고, 아세트산에틸로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(알루미나)에 의해 정제하여, 식 (I-1-6)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-1-7)로 표시되는 화합물, 식 (I-1-8)로 표시되는 화합물, 탄산칼륨, 및 N,N-디메틸포름아미드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(알루미나)에 의해 정제하여, 식 (I-1-9)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-1-9)로 표시되는 화합물, 테트라히드로퓨란, 메탄올, 및 농염산을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 건조를 행하여, 식 (I-1-10)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-1-10)으로 표시되는 화합물, 식 (I-1-6)으로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 질소 퍼지한 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔), 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-1-11)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-1-11)로 표시되는 화합물, 식 (I-1-12)로 표시되는 화합물, (±)-10-캄퍼설폰산, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 용매를 농축하고, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-1)로 표시되는 화합물을 얻었다.
전이 온도(승온 속도 5℃/분) C 155 N > 220 I
1H NMR(CDCl3) δ 1.12(q, 2H), 1.26(q, 2H), 1.50(q, 2H), 1.67(qd, 2H), 1.91-2.27(m, 14H), 2.43(t, 1H), 2.56(tt, 2H), 3.77(d, 2H), 3.88(d, 2H), 4.09(t, 4H), 4.40(t, 4H), 5.88(d, 2H), 6.17(ddd, 2H), 6.45(d, 2H), 6.85(d, 1H), 6.92(m, 5H), 7.02(d, 4H), 7.19(t, 1H), 7.37(t, 1H), 7.59(m, 2H), 7.71(d, 1H), 8.44(s, 1H)ppm.
(실시예 2) 식 (I-2)로 표시되는 화합물의 제조
(I-1-8)로 표시되는 화합물을 식 (I-2-2)로 표시되는 화합물로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 식 (I-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
전이 온도(승온 속도 5℃/분) C 90-110 N 182-187 I
1H NMR(CDCl3) δ 1.07(q, 2H), 1.24(q, 2H), 1.47-1.90 (m, 24H), 2.09(m, 4H), 2.22(d, 2H), 2.39(t, 1H), 2.53(t, 1H), 3.74(d, 2H), 3.85(d, 2H), 3.94 (td, 4H), 4.17 (td, 4H), 5.82(d, 2H), 6.13(dd, 2H), 6.40(d, 2H), 6.80-6.99(m, 6H), 6.98(d, 4H), 7.16(t, 1H), 7.33(t, 1H), 7.55(m, 2H), 7.67(d, 1H), 8.40(s, 1H)ppm.
(실시예 3) 식 (I-3)으로 표시되는 화합물의 제조
히드라진일수화물 및 에탄올을 질소 퍼지한 반응 용기에 넣었다. 가열하면서, 식 (I-3-1)로 표시되는 화합물을 적하한 후, 교반했다. 얻어진 생성물을 농축하여, 식 (I-3-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-3-3)으로 표시되는 화합물, 1,2-디메톡시에탄, 및 트리에틸아민을 질소 퍼지한 반응 용기에 넣었다. 식 (I-3-2)로 표시되는 화합물을 적하한 후, 가열 교반했다. 반응액을 물에 넣고, 석출된 고체를 여과했다. 얻어진 생성물을 헥산으로 세정하고, 이어서 건조해서, 식 (I-3-4)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-1-11)로 표시되는 화합물, 식 (I-3-4)로 표시되는 화합물, (±)-10-캄퍼설폰산, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 용매를 농축하고, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-3)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:1058 [M+1]
(실시예 4) 식 (I-4)로 표시되는 화합물의 제조
실시예 3과 마찬가지로 해서, 식 (I-4)로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:1142 [M+1]
(실시예 5) 식 (I-5)로 표시되는 화합물의 제조
실시예 3과 마찬가지로 해서, 식 (I-5)로 표시되는 화합물을 얻었다.
전이 온도(승온 속도 5℃/분) C 119-122 N 144 I
1H NMR(CDCl3) δ 1.25(m, 4H), 1.48(m, 8H), 1.63-1.82(m, 12H), 1.90(m, 2H), 2.07(dd, 4H), 2.24(d, 4H), 2.52(m, 2H), 3.30(t, 1H), 3.86(dd, 4H), 3.94(t, 4H), 4.08(td, 2H), 4.17(t, 4H), 4.50(t, 2H), 5.82(dd, 2H), 6.12(dd, 2H), 6.40(dd, 2H), 6.88(m, 6H), 6.97(dd, 4H), 7.16(t, 1H), 7.33(t, 1H), 7.52(d, 1H), 7.64(d, 1H), 7.69(d, 1H), 8.28(s, 1H)ppm.
LCMS:1102 [M+1]
(실시예 6) 식 (I-6)으로 표시되는 화합물의 제조
일본국 특개2011-207765호 공보에 기재된 방법에 의해, 식 (I-6-1)로 표시되는 화합물을 제조했다. 식 (I-6-1)로 표시되는 화합물, 식 (I-1-3)으로 표시되는 화합물, 탄산세슘, 및 디메틸설폭시드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하고 재결정해서, 식 (I-6-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-6-2)로 표시되는 화합물, 테트라히드로퓨란, 메탄올, 및 수산화나트륨 수용액을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 염산으로 중화한 후, 통상의 후처리를 행하여, 식 (I-6-3)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-6-3)으로 표시되는 화합물, 식 (I-2-4)로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-6)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:1084 [M+1]
(실시예 7) 식 (I-7)로 표시되는 화합물의 제조
식 (I-7-1)로 표시되는 화합물, tert-부틸알코올, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-7-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-7-2)로 표시되는 화합물, 메탄올, 및 수산화나트륨 수용액을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 염산으로 중화하고, 클로로포름으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 셀라이트로 고체를 여과한 후, 용매를 증류 제거하여, 식 (I-7-3)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-7-3)으로 표시되는 화합물, 트리에틸아민, 및 테트라히드로퓨란을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 클로로포름산에틸을 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과해서 용액을 얻었다. 질소 분위기 하, 다른 반응 용기에 수소화붕소나트륨 및 테트라히드로퓨란을 넣었다. 빙냉 하, 용액을 적하한 후, 교반했다. 메탄올과 물의 혼합액을 적하한 후, 더 교반했다. 염산을 첨가한 후, 아세트산에틸로 추출했다. 칼럼 크로마토그래피(알루미나)에 의해 정제하여, 식 (I-7-4)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-7-4)로 표시되는 화합물, 피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 염화메탄설포닐을 적하한 후, 실온에서 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-7-5)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-7-5)로 표시되는 화합물, 식 (I-7-6)으로 표시되는 화합물, 탄산칼륨, 및 N,N-디메틸포름아미드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(알루미나)에 의해 정제하여, 식 (I-7-7)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-7-7)로 표시되는 화합물, 테트라히드로퓨란, 메탄올, 및 농염산을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 건조를 행하여, 식 (I-7-8)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-7-8)로 표시되는 화합물, 식 (I-7-9)로 표시되는 화합물, 탄산칼륨, 및 N,N-디메틸포름아미드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-7-10)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-7-10)으로 표시되는 화합물, 디클로로메탄, 및 트리플루오로아세트산을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 디클로로메탄을 증류 제거한 후, 디이소프로필에테르를 첨가하고, 석출된 고체를 여과했다. 고체를 디이소프로필에테르로 세정하고 건조해서, 식 (I-7-11)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-7-11)로 표시되는 화합물, 식 (I-7-12)로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-7-13)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
실시예 1과 마찬가지로 해서, 식 (I-7)로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:1058 [M+1]
(실시예 8) 식 (I-8)로 표시되는 화합물의 제조
식 (I-1-6)으로 표시되는 화합물, 식 (I-8-1)로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-8-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
실시예 3과 마찬가지로 해서, 식 (I-8)로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:902 [M+1]
(실시예 9) 식 (I-9)로 표시되는 화합물의 제조
일본국 특개2008-107767호 공보에 기재된 방법에 의해, 식 (I-9-1)로 표시되는 화합물을 제조했다. 식 (I-9-1)로 표시되는 화합물, 식 (I-7-5)로 표시되는 화합물, 탄산칼륨, 및 N,N-디메틸포름아미드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-9-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-9-2)로 표시되는 화합물, 디클로로메탄, 및 트리플루오로아세트산을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 디클로로메탄을 증류 제거한 후, 디이소프로필에테르를 첨가하고, 석출된 고체를 여과했다. 고체를 디이소프로필에테르로 세정하고 건조해서, 식 (I-9-3)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-9-3)으로 표시되는 화합물, 식 (I-2-4)로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-9)로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:1021 [M+1]
(실시예 10) 식 (I-10)으로 표시되는 화합물의 제조
일본국 특개2009-179563호 공보에 기재된 방법에 의해, 식 (I-10-1)로 표시되는 화합물을 제조했다. 식 (I-7-3)으로 표시되는 화합물, 식 (I-10-1)로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-10-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-10-2)로 표시되는 화합물, 테트라히드로퓨란, 에탄올, 및 5% 팔라듐탄소를 오토클레이브에 넣은 후, 수소압 0.5MPa에서 가열 교반했다. 촉매를 여과한 후, 용매를 증류 제거하고 건조시킴으로써, 식 (I-10-3)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-10-3)으로 표시되는 화합물, 트리에틸아민, 및 테트라히드로퓨란을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 클로로포름산에틸을 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과해서 용액을 얻었다. 질소 분위기 하, 다른 반응 용기에 수소화붕소나트륨 및 테트라히드로퓨란을 넣었다. 빙냉 하, 용액을 적하한 후, 교반했다. 메탄올과 물의 혼합액을 적하한 후, 더 교반했다. 염산을 첨가한 후, 아세트산에틸로 추출했다. 칼럼 크로마토그래피(알루미나)에 의해 정제하여, 식 (I-10-4)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-10-4)로 표시되는 화합물, 피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 염화메탄설포닐을 적하한 후, 실온에서 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-10-5)로 표시되는 화합물을 얻었다.
일본국 특개2009-179563호 공보에 기재된 방법에 의해, 식 (I-10-6)으로 표시되는 화합물을 제조했다. 식 (I-10-5)로 표시되는 화합물, 식 (I-10-6)으로 표시되는 화합물, 탄산세슘, 및 디메틸설폭시드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-10-7)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-10-7)로 표시되는 화합물, 디클로로메탄, 및 트리플루오로아세트산을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 디클로로메탄을 증류 제거한 후, 디이소프로필에테르를 첨가하고, 석출된 고체를 여과했다. 고체를 디이소프로필에테르로 세정하고 건조해서, 식 (I-10-8)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-10-8)로 표시되는 화합물, 식 (I-1-8)로 표시되는 화합물, 탄산세슘, 및 디메틸설폭시드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-10)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:1171 [M+1]
(실시예 11) 식 (I-11)로 표시되는 화합물의 제조
저널 Macromolecular Chemistry and Physics(페이지 531~541, No. 7, Vol. 210, 2009)에 기재된 방법에 의해, 식 (I-11-2)로 표시되는 화합물을 얻었다. 질소 분위기 하, 식 (I-11-1)로 표시되는 화합물, 식 (I-11-2)로 표시되는 화합물, 트리페닐포스핀, 및 테트라히드로퓨란을 첨가했다. 빙냉 하, 아조디카르복실산디이소프로필을 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 식 (I-11-3)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-11-3)으로 표시되는 화합물, 인산이수소나트륨이수화물, 메탄올, 물, 및 과산화수소수를 반응 용기에 넣었다. 아염소산나트륨 수용액을 적하한 후, 가열 교반했다. 물의 첨가에 의해 냉각하고, 침전물을 여과했다. 건조를 행하여, 식 (I-11-4)로 표시되는 화합물을 얻는다.
질소 분위기 하, 식 (I-11-5)로 표시되는 화합물, 피리디늄 p-톨루엔설포네이트, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 3,4-디히드로-2H-피란을 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 식 (I-11-6)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-11-7)로 표시되는 화합물, 테트라히드로퓨란, 및 수소화나트륨을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 식 (I-11-6)으로 표시되는 화합물의 테트라히드로퓨란 용액을 적하한 후, 가열 교반했다. 물을 적하했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 식 (I-11-8)로 표시되는 화합물을 얻었다.
포름산 및 과산화수소를 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 식 (I-11-8)로 표시되는 화합물의 디클로로메탄 용액을 적하한 후, 가열 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 식 (I-11-9)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-11-9)로 표시되는 화합물, 메탄올, 테트라히드로퓨란, 및 농염산을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 식 (I-11-10)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, (I-11-11)로 표시되는 화합물, (I-11-12)로 표시되는 화합물, 탄산칼륨, 테트라히드로퓨란, 물, 및 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(0)을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-11-13)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-11-13)으로 표시되는 화합물, 1,3-프로판디티올, 및 트리플루오로아세트산을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 냉각하면서, tert-부틸메틸에테르를 첨가하고, 침전물을 여과했다. 얻어진 생성물을 tert-부틸메틸에테르로 세정하고 건조해서, 식 (I-11-14)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-11-14)로 표시되는 화합물, 식 (I-11-15)로 표시되는 화합물, 트리에틸아민삼불화수소, 및 디클로로메탄을 -65℃까지 냉각한 반응 용기에 넣었다. 브롬을 적하한 후, 교반했다. 실온에서 수산화나트륨 수용액을 첨가하고, 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-11-16)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-11-16)으로 표시되는 화합물, 식 (I-11-4)로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-11-17)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-11-18)로 표시되는 화합물을, WO2012-141245A1에 기재된 방법에 의해 제조했다. 식 (I-11-17)로 표시되는 화합물, 식 (I-11-18)로 표시되는 화합물, (±)-10-캄퍼설폰산, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 용매를 농축하고, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-11-19)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-11-19)로 표시되는 화합물, 테트라히드로퓨란, 및 부틸아민을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-11-20)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-11-20)으로 표시되는 화합물, 식 (I-11-10)으로 표시되는 화합물, 트리페닐포스핀, 및 테트라히드로퓨란을 첨가했다. 빙냉 하, 아조디카르복실산디이소프로필을 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하고 재결정해서, 식 (I-11)로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:1159 [M+1]
(실시예 12) 식 (I-12)로 표시되는 화합물의 제조
저널 Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters(페이지 1675-1681, No. 6, Vol. 15, 2005)에 기재된 방법에 의해, 식 (I-12-1)로 표시되는 화합물을 얻었다. 식 (I-12-1)로 표시되는 화합물 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 반응 용기를 -78℃까지 냉각하고, 삼브롬화붕소를 적하한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 식 (I-12-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-12-3)으로 표시되는 화합물, 식 (I-12-4)로 표시되는 화합물, 요오드화구리(I), 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(0), 트리에틸아민, 및 N,N-디메틸포름아미드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 식 (I-12-5)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-12-5)로 표시되는 화합물, 5% 팔라듐탄소, 및 테트라히드로퓨란을 반응 용기에 넣었다. 수소 분위기 하, 교반했다. 촉매를 여과하고, 이어서 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 식 (I-12-6)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-12-6)으로 표시되는 화합물, 식 (I-12-2)로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-12-7)로 표시되는 화합물을 얻었다.
히드라진일수화물 및 에탄올을 반응 용기에 넣었다. 식 (I-12-8)로 표시되는 화합물의 테트라히드로퓨란 용액을 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-12-9)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-12-9)로 표시되는 화합물, 식 (I-12-7)로 표시되는 화합물, (±)-10-캄퍼설폰산, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-12-10)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-12-11)로 표시되는 화합물, 2-플루오로아크릴산, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-12-12)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-12-12)로 표시되는 화합물, 식 (I-12-10)으로 표시되는 화합물, 트리페닐포스핀, 및 테트라히드로퓨란을 첨가했다. 빙냉 하, 아조디카르복실산디이소프로필을 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하고 재결정해서, 식 (I-12)로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:837 [M+1]
(실시예 13) 식 (I-13)으로 표시되는 화합물의 제조
질소 분위기 하, 2-플루오로아크릴산, 식 (I-13-1)로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-13-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-13-2)로 표시되는 화합물, 식 (I-13-3)으로 표시되는 화합물, 탄산세슘, 및 디메틸설폭시드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-13-4)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-13-4)로 표시되는 화합물, 인산이수소나트륨이수화물, 메탄올, 물, 및 과산화수소수를 반응 용기에 넣었다. 아염소산나트륨 수용액을 적하한 후, 가열 교반했다. 물의 첨가에 의해 냉각하고, 침전물을 여과했다. 건조를 행하여, 식 (I-13-5)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-13-6)로 나타나는 화합물, 피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 염화메탄설포닐을 적하한 후, 실온에서 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-13-7)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-13-7)로 표시되는 화합물, 식 (I-13-8)로 표시되는 화합물, 탄산세슘, 및 디메틸설폭시드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-13-9)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-13-9)로 표시되는 화합물, 식 (I-13-5)로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-13-10)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
WO2012-141245A1에 기재된 방법에 의해, 식 (I-13-11)로 표시되는 화합물을 얻었다. 식 (I-13-10)으로 표시되는 화합물, 식 (I-13-11)로 표시되는 화합물, (±)-10-캄퍼설폰산, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-13)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:861 [M+1]
(실시예 14) 식 (I-14)로 표시되는 화합물의 제조
WO2008-010985A1에 기재된 방법에 의해, 식 (I-14-1)로 표시되는 화합물을 얻었다. 질소 분위기 하, 식 (I-14-1)로 표시되는 화합물, N-에틸디이소프로필아민, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 염화아크릴로일을 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-14-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-14-2)로 표시되는 화합물 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 트리플루오로아세트산을 첨가한 후, 교반했다. 용매를 증류 제거한 후, 수세, 얻어진 생성물을 물로 세정하고 건조하여, 식 (I-14-3)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
저널 European Journal of Organic Chemistry(페이지 4482-4486, No.21, 2014)에 기재된 방법에 의해, 식 (I-14-4)로 표시되는 화합물을 제조했다. 식 (I-14-4)로 표시되는 화합물, 식 (I-14-5)로 표시되는 화합물, 탄산세슘, 및 디메틸설폭시드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-14-6)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
WO2014/010325A1에 기재된 방법에 의해, 식 (I-14-8)로 표시되는 화합물을 제조했다. 식 (I-14-7)로 표시되는 화합물, 식 (I-14-8)로 표시되는 화합물, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 용매를 증류 제거하고, 얻어진 생성물을 건조해서, 식 (I-14-9)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-14-9)로 표시되는 화합물, 식 (I-14-6)으로 표시되는 화합물, 트리페닐포스핀, 및 테트라히드로퓨란을 첨가했다. 빙냉 하, 아조디카르복실산디이소프로필을 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-14-10)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-14-10)으로 표시되는 화합물, 식 (I-14-3)으로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-14)로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:944 [M+1]
(실시예 15) 식 (I-15)로 표시되는 화합물의 제조
2-(트리플루오로메틸)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드, 및 트리에틸아민을 오토클레이브에 넣은 후, 가열 교반했다. 감압 증류를 행하여, 식 (I-15-1)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-15-2)로 표시되는 화합물, 피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 염화메탄설포닐을 적하한 후, 실온에서 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-15-3)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-15-3)으로 표시되는 화합물, 식 (I-15-4)로 표시되는 화합물, 탄산세슘, 및 디메틸설폭시드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-15-5)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-15-5)로 표시되는 화합물, 식 (I-15-6)으로 표시되는 화합물, 탄산세슘, 및 디메틸설폭시드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-15-7)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-15-7)로 표시되는 화합물, 식 (I-15-8)로 표시되는 화합물, 탄산칼륨, 테트라히드로퓨란, 물, 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(0)을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-15-9)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-15-9)로 표시되는 화합물, 식 (I-15-1)로 표시되는 화합물, 트리페닐포스핀, 및 테트라히드로퓨란을 첨가했다. 빙냉 하, 아조디카르복실산디이소프로필을 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-15)로 표시되는 화합물을 얻었다.
LCMS:1039 [M+1]
(실시예 16) 식 (I-86)으로 표시되는 화합물의 제조
질소 분위기 하, 식 (I-5)로 표시되는 화합물, N-에틸디이소프로필아민, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 염화아크릴로일을 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-86)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
전이 온도(승온 속도 5℃/분) C 122 N 142 I
1H NMR(CDCl3) δ 1.24(m, 4H), 1.48(m, 8H), 1.60-1.83(m, 12H), 1.93(m, 2H), 2.08(t, 4H), 2.23(m, 4H), 2.54(m, 2H), 3.86(dd, 4H), 3.94(t, 4H), 4.17(t, 4H), 4.53(t, 2H), 4.65(t, 2H), 5.78(dd, 1H), 5.82(dd, 2H), 6.08(dd, 1H), 6.12(dd, 2H), 6.39(dd, 1H), 6.40(dd, 2H), 6.88(m, 6H), 6.97(dd, 4H), 7.16(t, 1H), 7.34(t, 1H), 7.54(d, 1H), 7.66(d, 1H), 7.70(d, 1H), 8.36(s, 1H)ppm.
(실시예 17) 식 (I-89)로 표시되는 화합물의 제조
히드라진일수화물 및 에탄올을 질소 퍼지한 반응 용기에 넣었다. 가열하면서, 식 (I-89-1)로 표시되는 화합물을 적하한 후, 교반했다. 얻어진 생성물을 농축하여, 식 (I-89-2)로 표시되는 화합물을 포함하는 혼합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-89-3)으로 표시되는 화합물, 1,2-디메톡시에탄, 트리에틸아민, 및 식 (I-89-2)로 표시되는 화합물을 포함하는 혼합물을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반한다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 물 및 심염수로 세정했다. 이 용액을 황산나트륨으로 건조하고 용매를 농축해서, 식 (I-89-4)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-89-5)로 표시되는 화합물, 식 (I-89-4)로 표시되는 화합물, (±)-10-캄퍼설폰산, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 용매를 농축하고, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-89-6)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-89-6)으로 표시되는 화합물, N-에틸디이소프로필아민, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 염화아크릴로일을 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-89)로 표시되는 화합물을 얻었다.
전이 온도(승온 속도 5℃/분) C 71 N 115 I
1H NMR(CDCl3) δ 1.19-1.29(m, 4H), 1.41-1.82(m, 22H), 1.91(m, 2H), 2.08(m, 4H), 2.24(m, 4H), 2.53(m, 2H), 3.62(m, 3H), 3.67(m, 2H), 3.84-3.90(m, 5H), 3.94(t, 4H), 4.15-4.19(m, 6H), 4.53(t, 2H), 5.76(dd, 1H), 5.82(dd, 2H), 6.08(dd, 1H), 6.12(dd, 2H), 6.37(dd, 1H), 6.40(dd, 2H), 6.84-6.90(m, 6H), 6.95-6.98(m, 4H), 7.14(t, 1H), 7.32(t, 1H), 7.53(d, 1H), 7.65(d, 1H), 7.69(d, 1H), 8.34(s, 1H)ppm.
LCMS:1244 [M+1]
(실시예 18) 식 (I-121)로 표시되는 화합물의 제조
식 (I-121-1)로 표시되는 화합물, 식 (I-121-2)로 표시되는 화합물, 탄산칼륨, 및 N,N-디메틸포름아미드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(알루미나)에 의해 정제하여, 식 (I-121-3)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-121-3)으로 표시되는 화합물, N-에틸디이소프로필아민, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 염화아크릴로일을 첨가한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(알루미나) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-121-4)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-121-4)로 표시되는 화합물, 테트라히드로퓨란, 메탄올, 및 농염산을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 건조를 행하여, 식 (I-121-5)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-121-5)로 표시되는 화합물, 식 (I-121-6)으로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 질소 퍼지한 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-121-7)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-121-7)로 표시되는 화합물, 식 (I-121-8)로 표시되는 화합물, (±)-10-캄퍼설폰산, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 교반했다. 용매를 농축하고, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-121)로 표시되는 화합물을 얻었다.
전이 온도(승온 속도 5℃/분) C 77 S 90 N 109 I
1H NMR(CDCl3) δ 0.89(t, 3H), 1.20-1.35(m, 10H), 1.61-1.69(m, 6H), 1.78(m, 2H), 1.90(m, 2H), 2.07(t, 4H), 2.23(d, 4H), 2.50(m, 2H), 3.69-3.76(m, 12H), 3.83-3.87(m, 8H), 4.11(t, 4H), 4.32(t, 6H), 5.82(d, 2H), 6.15(q, 2H), 6.42(d, 2H), 6.83-6.98(m, 10H), 7.13(t, 1H), 7.32(t, 1H), 7.53(t, 1H), 7.66(t, 2H), 8.13(s, 1H)ppm.
(실시예 19) 식 (I-122)로 표시되는 화합물의 제조
질소 분위기 하, 히드라진일수화물 및 에탄올을 반응 용기에 넣었다. 식 (I-122-1)로 표시되는 화합물을 첨가한 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 농축하여, 식 (I-122-2)로 표시되는 화합물을 포함하는 혼합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-122-3)으로 표시되는 화합물, 1,2-디메톡시에탄, 트리에틸아민, 및 식 (I-122-2)로 표시되는 화합물을 포함하는 혼합물을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 물 및 심염수로 세정했다. 이 용액을 황산나트륨으로 건조하고, 용매를 농축해서, 식 (I-122-4)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-122-5)로 표시되는 화합물, 식 (I-122-4)로 표시되는 화합물, (±)-10-캄퍼설폰산, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 용매를 농축하고, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-122)로 표시되는 화합물을 얻었다.
전이 온도(승온 속도 5℃/분) C 85 N 128 I
1H NMR(CDCl3) δ 1.22-1.28(m, 4H), 1.44-1.47(m, 8H), 1.60-1.82(m, 12H), 1.90(m, 2H), 2.07(t, 4H), 2.24(d, 4H), 2.53(m, 2H), 3.30(s, 3H), 3.50(t, 2H), 3.66(t, 2H), 3.85-3.89(m, 6H), 3.93(t, 4H), 4.17(t, 4H), 4.53(t, 2H), 5.82(d, 2H), 6.13(q, 2H), 6.40(d, 2H), 6.83-6.90(m, 6H), 6.95-6.98(m, 4H), 7.14(t, 1H), 7.32(t, 1H), 7.52(t, 1H), 7.67(t, 2H), 8.33(s, 1H)ppm.
(실시예 20) 식 (I-123)으로 표시되는 화합물의 제조
식 (I-123-1)로 표시되는 화합물, 식 (I-123-2)로 표시되는 화합물, (±)-10-캄퍼설폰산, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 용매를 농축하고, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-123)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
전이 온도(승온 속도 5℃/분) C 89-95 N 145 I
1H NMR(CDCl3) δ 1.24(m, 4H), 1.65(m, 4H), 1.91(m, 2H), 2.05-2.25(m, 12H), 2.55(m, 2H), 3.30(s, 3H), 3.51(m, 2H), 3.67(m, 2H), 3.84-3.89(m, 6H), 4.05(t, 4H), 4.36(t, 4H), 4.54(t, 2H), 5.84(dd, 2H), 6.13(dd, 2H), 6.41(dd, 2H), 6.84-6.89(m, 6H), 6.97-7.00(m, 4H), 7.14(t, 1H), 7.33(t, 1H), 7.52(d, 1H), 7.67(dd, 2H), 8.34(s, 1H)ppm.
(실시예 21) 식 (I-124)로 표시되는 화합물의 제조
식 (I-124-1)로 표시되는 화합물, 염화마그네슘, 파라포름알데히드, 트리에틸아민, 아세토니트릴을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 아세트산에틸로 희석하고, 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-124-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-124-3)으로 표시되는 화합물 및 테트라히드로퓨란을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 보란-테트라히드로퓨란 착체(0.9mol/L)를 적하한 후, 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 용매를 농축해서, 식 (I-124-4)로 표시되는 화합물을 얻었다.
질소 분위기 하, 식 (I-124-4)로 표시되는 화합물, 피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 염화메탄설포닐을 적하한 후, 실온에서 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-124-5)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-124-5)로 표시되는 화합물, 식 (I-124-2)로 표시되는 화합물, 탄산칼륨, 및 N,N-디메틸포름아미드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-124-6)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-124-6)으로 표시되는 화합물, 메탄올, 및 수산화나트륨 수용액을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 염산으로 중화하고, 아세트산에틸로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(알루미나)에 의해 정제하여, 식 (I-124-7)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-124-7)로 표시되는 화합물, 식 (I-124-8)로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-124-9)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-124-9)로 표시되는 화합물, 식 (I-124-10)으로 표시되는 화합물, (±)-10-캄퍼설폰산, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 용매를 농축하고, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-124)로 표시되는 화합물을 얻었다.
전이 온도(승온 속도 5℃/분) C 101-105(N 82) I
1H NMR(CDCl3) δ 0.92(t, 3H), 1.08-1.91(m, 26H), 2.06(d, 2H), 2.24(d, 2H), 2.51(m, 2H), 3.30(s, 3H), 3.51(dd, 2H), 3.67(dd, 2H), 3.87(quin, 4H), 3.94(t, 2H), 4.17(t, 2H), 4.54(t, 2H), 5.82(dd, 1H), 6.12(dd, 1H), 6.40(dd, 1H), 6.86(m, 3H), 6.97(m, 2H), 7.16(m, 2H), 7.32(t, 1H), 7.65(d, 1H), 7.70(d, 1H), 7.82(d, 1H), 8.36(s, 1H)ppm.
(실시예 22) 식 (I-125)로 표시되는 화합물의 제조
질소 분위기 하, 식 (I-125-1)로 표시되는 화합물, 식 (I-125-2)로 표시되는 화합물, 탄산칼륨, 에탄올, 물, 및 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(0)을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 통상의 후처리를 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔)에 의해 정제하여, 식 (I-125-3)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-125-3)으로 표시되는 화합물, 식 (I-125-4)로 표시되는 화합물, 탄산칼륨, 및 N,N-디메틸포름아미드를 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 디클로로메탄으로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-125-5)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-125-5)로 표시되는 화합물, 메탄올, 및 수산화나트륨 수용액을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 얻어진 생성물을 염산으로 중화하고, 아세트산에틸로 희석하고, 이어서 물 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(알루미나)에 의해 정제하여, 식 (I-125-6)으로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-125-6)으로 표시되는 화합물, 식 (I-125-7)로 표시되는 화합물, N,N-디메틸아미노피리딘, 및 디클로로메탄을 반응 용기에 넣었다. 빙냉 하, 디이소프로필카르보디이미드를 적하한 후, 실온에서 교반했다. 침전물을 여과하고, 이어서 염산, 물, 및 심염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-125-8)로 표시되는 화합물을 얻었다.
식 (I-125-8)로 표시되는 화합물, 식 (I-125-9)로 표시되는 화합물, (±)-10-캄퍼설폰산, 테트라히드로퓨란, 및 에탄올을 반응 용기에 넣은 후, 가열 교반했다. 용매를 농축하고, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔) 및 재결정에 의해 정제하여, 식 (I-125)로 표시되는 화합물을 얻었다.
전이 온도(승온 속도 5℃/분) C 67-100 I
1H NMR(CDCl3) δ 1.00(t, 3H), 1.28(m, 2H), 1.45-1.81(m, 12H), 1.97(br, 1H), 2.13(m, 2H), 2.26(m, 2H), 2.57(tt, 1H), 2.65(t, 2H), 3.27(s, 3H), 3.37(m, 2H), 3.50(m, 2H), 3.70(t, 2H), 3.95(q, 4H), 4.17(t, 2H), 4.33(t, 2H), 5.82(dd, 1H), 6.12(dd, 1H), 6.40(dd, 1H), 6.87(d, 2H), 6.98(m, 3H), 7.15(t, 1H), 7.25(m, 5H), 7.32(t, 1H), 7.64(m, 2H), 7.69(d, 1H), 7.91(s, 1H)ppm.
식 (I-16)~(I-85), 식 (I-87), 식 (I-88), 및 식 (I-90)~식 (I-120)으로 표시되는 화합물을 실시예 1~22 및 공지의 방법과 동일한 방법을 이용하여 제조했다.
(실시예 23~44 및 비교예 1~3)
실시예 1~22에 기재된 식 (I-1)~(I-15), 식 (I-86), 식 (I-89), 및 식 (I-121)~식 (I-125), 특허문헌 1에 기재된 화합물(R-1), 특허문헌 2에 기재된 화합물(R-2), 및 특허문헌 3에 기재된 화합물(R-3)을 평가 대상 화합물로서 마련했다.
또한, 일본국 특개2005-015473호 공보에 기재된 화합물(X-1) 50%, 일본국 특개평10-87565호 공보에 기재된 화합물(X-2) 30%, 일본국 특개2002-537280호 공보에 기재된 화합물(X-3) 20%를 포함하는 액정 조성물을 모액정(X)으로서 사용했다.
배향막용 폴리이미드 용액을 두께 0.7mm의 유리 기재 상에 스핀 코팅하고, 100℃에서 10분간 건조하고, 이어서 200℃에서 60분간 소성해서 도막을 얻었다. 얻어진 도막을 러빙했다. 러빙 처리는, 시판의 러빙 장치를 사용해서 행했다.
모액정(X)에 평가 대상 화합물 40%를 첨가하여 제조한 각 조성물에, 광중합 개시제 IRGACURE 907(BASF사제) 1%, 4-메톡시페놀 0.1%, 및 클로로포름 80%를 첨가해 도포액을 제조했다. 도포액을, 러빙한 유리 기재 상에 스핀 코팅에 의해 도포했다. 도포액을 80℃에서 1분간 건조시키고, 120℃에서 1분간 더 건조시켰다. 이어서, 건조한 도포액에 고압 수은 램프를 사용해서 강도 40mW/cm2의 자외선을 25초간 조사함으로써, 평가 대상 막을 제작했다. 평가 대상 화합물에 대한 실시예의 막 번호의 대응 관계를 이하의 표 1에 나타낸다.
막 | 사용 평가 대상 화합물 |
실시예 23 | 본 발명의 화합물 (I-1) |
실시예 24 | 본 발명의 화합물 (I-2) |
실시예 25 | 본 발명의 화합물 (I-3) |
실시예 26 | 본 발명의 화합물 (I-4) |
실시예 27 | 본 발명의 화합물 (I-5) |
실시예 28 | 본 발명의 화합물 (I-6) |
실시예 29 | 본 발명의 화합물 (I-7) |
실시예 30 | 본 발명의 화합물 (I-8) |
실시예 31 | 본 발명의 화합물 (I-9) |
실시예 32 | 본 발명의 화합물 (I-10) |
실시예 33 | 본 발명의 화합물 (I-11) |
실시예 34 | 본 발명의 화합물 (I-12) |
실시예 35 | 본 발명의 화합물 (I-13) |
실시예 36 | 본 발명의 화합물 (I-14) |
실시예 37 | 본 발명의 화합물 (I-15) |
실시예 38 | 본 발명의 화합물 (I-86) |
실시예 39 | 본 발명의 화합물 (I-89) |
실시예 40 | 본 발명의 화합물 (I-121) |
실시예 41 | 본 발명의 화합물 (I-122) |
실시예 42 | 본 발명의 화합물 (I-123) |
실시예 43 | 본 발명의 화합물 (I-124) |
실시예 44 | 본 발명의 화합물 (I-125) |
비교예 1 | 비교 화합물 (R-1) |
비교예 2 | 비교 화합물 (R-2) |
비교예 3 | 비교 화합물 (R-3) |
제작한 각 막의 San 시험을, Xenon 램프 조사 시험기(San test XLS, ATLAS사제)를 사용해서, 60mW/cm2, 26℃ 및 120J의 조건에서 행했다. 얻어진 각 막의 변색 및 배향 불량을 평가했다.
<변색>
각 막의 황색도 지수(YI)를 측정했다. San 시험 전의 YI값과 San 시험 후의 YI값의 차이(△YI)를 산출했다. 황색도 지수(YI)의 측정은, JASCO UV/VIS Spectrophotometer V-560을 사용해서 행하고, 황색도 지수(YI)는 부속 컬러 진단 프로그램에 의해 산출했다. 산출식은 다음 식으로 나타난다.
YI = 100(1.28X-1.06Z)/Y(JIS K7373)
(X, Y, Z는 XYZ 표색계에서의 3 자극치(stimulus value)를 나타냄). △YI값이 작을수록, 변색이 적음을 의미한다.
<배향 불량>
필름 각각을 합계 100개의 정방형(종10×횡10)의 영역으로 분할했다. 편광 현미경 관찰에 의해, 배향 결함이 발생한 그리드 수를 카운트했다. 값이 작을수록, 배향 불량이 적음을 의미한다. 그 결과를 이하의 표 2에 요약한다.
막 | △YI | 배향 결함 |
실시예 23 | 0.6 | 0 |
실시예 24 | 0.6 | 0 |
실시예 25 | 0.4 | 0 |
실시예 26 | 0.4 | 0 |
실시예 27 | 0.5 | 0 |
실시예 28 | 0.8 | 1 |
실시예 29 | 0.8 | 1 |
실시예 30 | 0.5 | 2 |
실시예 31 | 1.4 | 6 |
실시예 32 | 1.4 | 7 |
실시예 33 | 1.1 | 4 |
실시예 34 | 1.2 | 4 |
실시예 35 | 1.3 | 5 |
실시예 36 | 1.3 | 6 |
실시예 37 | 1.3 | 7 |
실시예 38 | 0.4 | 0 |
실시예 39 | 0.4 | 0 |
실시예 40 | 0.5 | 2 |
실시예 41 | 0.4 | 0 |
실시예 42 | 0.4 | 0 |
실시예 43 | 0.5 | 1 |
실시예 44 | 0.5 | 1 |
비교예 1 | 1.5 | 8 |
비교예 2 | 2.7 | 7 |
비교예 3 | 5.2 | 9 |
표 2로부터, 실시예 23~44의 본 발명의 화합물을 사용해서 제작한 막은 모두, 자외선 조사 시, 변색 및 배향 불량이 일어나기 어려움을 알았다. 따라서, 본 발명의 화합물 각각은, 중합성 조성물의 성분으로서 유용하다. 또한, 본 발명의 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물을 사용한 광학 이방체는, 광학 필름 등의 용도에 유용하다.
Claims (14)
- 분자 중에 하기 식 (Z-0)으로 표시되는 부분 구조를 갖는 중합성 저파장 분산성 또는 중합성 역파장 분산성 화합물,
(식 중, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내고, 여기에서 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 그리고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자 또는 염소 원자로 치환되어도 되고; 그리고, *는 환 구조에 연결됨). - 제1항에 있어서,
분자 중에 하기 식 (I-0-R)로 표시되는 적어도 1개의 기를 포함하는 화합물,
(식 중, P0는 중합성기를 나타내고, Sp0는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 복수의 Sp0가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고; X0는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 X0가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고(단, P0-(Sp0-X0)k0-는 -O-O- 결합을 함유하지 않음), 그리고, k0는 0~10의 정수를 나타냄). - 제1항에 있어서,
상기 중합성 저파장 분산성 또는 중합성 역파장 분산성 화합물은 하기 식 (I)로 표시되는 화합물인 화합물,
(식 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~80의 탄화수소기를 나타내고, 상기 탄화수소기는 치환기를 가져도 되고, 어느 탄소 원자는 헤테로원자로 치환되어도 되고, R1 및 R2 중 적어도 하나는 식 (I-0-R)로 표시되는 기를 나타내고;
A1 및 A2는, 각각 독립적으로, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 나프탈렌-1,4-디일기, 테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기, 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기를 나타내고, 이들 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 치환기 L로 치환되어도 되고, L은 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 수산기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내거나(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 또는 L은 PL-(SpL-XL)kL-로 표시되는 기를 나타내어도 되고(여기에서, PL은 중합성기를 나타내고, SpL은 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 복수의 SpL이 존재할 경우, 그들은 서로 동일하거나 상이해도 되고, XL은 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 XL이 존재할 경우, 그들은 서로 동일하거나 상이해도 되고(단, PL-(SpL-XL)kL-는 -O-O- 결합을 함유하지 않음), 그리고, kL은 0~10의 정수를 나타내고, 복수의 L이 화합물에 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 됨);
Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CH2CH2-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -OCO-NH-, -NH-COO-, -NH-CO-NH-, -NH-O-, -O-NH-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-, -N=CH-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 단결합, 또는 -CR0-1R0-2O- 또는 -OCR0-1R0-2-로 표시되는 기를 나타내고(식 중, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 식 (Z-0) 중의 R0-1 및 R0-2와 동일한 의미를 가짐), 복수의 Z1이 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, 복수의 Z2가 존재할 경우는, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, Z1 및 Z2 중 적어도 하나는 -CR0-1R0-2O- 또는 -OCR0-1R0-2-로 표시되는 기를 나타내고;
G1은, 방향족 탄화수소환 및 방향족 복소환으로 구성되는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향족환을 갖는 2가의 기를 나타내고, G1로 표시되는 기의 방향족환에 함유되는 π 전자의 수는 12 이상이고, G1로 표시되는 기는 비치환이어도 되고 또는 하나 이상의 치환기 LG로 치환되어도 되고;
LG는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 수산기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내거나(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 또는 LG는 PLG-(SpLG-XLG)kLG-로 표시되는 기를 나타내도 되고(여기에서, PLG는 중합성기를 나타내고, SpLG는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 복수의 SpLG가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, XLG는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 XLG가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고(단, PLG-(SpLG-XLG)kLG-는 -O-O- 결합을 함유하지 않음), 그리고, kLG는 0~10의 정수를 나타내고, 복수의 LG가 화합물 중에 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 됨); 그리고,
m1 및 m2는, 각각 독립적으로, 0~6의 정수를 나타내고, m1 + m2는 0~6의 정수를 나타냄). - 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
식 (I-0-R) 중, Sp0는, 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1~20의 알킬렌기를 나타내며, 여기에서 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -COO-, -OCO-, -OCO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되는 화합물. - 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
식 (I) 중, G1은 하기 식 (M-1)~(M-6)으로부터 선택되는 기:
(식 중, 이들 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상기 치환기 LG로 치환되어도 되고, 어느 -CH=는, 각각 독립적으로, -N=로 치환되어도 되고, -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -NRT-(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), -CS-, 또는 -CO-로 치환되어도 되고, 그리고, T1은 하기 식 (T1-1)~(T1-6)으로부터 선택되는 기를 나타내고:
(식 중, 이들 기 각각은 어느 위치에 결합을 가져도 되고, 어느 -CH=는, 각각 독립적으로, -N=로 치환되어도 되고, -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -NRT-(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), -CS-, 또는 -CO-로 치환되어도 되고; 이들 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상기 치환기 LG로 치환되어도 됨)); 또는
하기 식 (M-7)~(M-14)로부터 선택되는 기를 나타내는 화합물:
(식 중, 이들 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 상기 치환기 LG로 치환되어도 되고, 어느 -CH=는, 각각 독립적으로, -N=로 치환되어도 되고, -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -NRT-(식 중, RT는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 알킬기를 나타냄), -CS-, 또는 -CO-로 치환되어도 되고, T2는 하기 식 (T2-1) 및 (T2-2)로부터 선택되는 기를 나타내고
(식 중, W1은 탄소 원자수 1~40의 방향족기 및/또는 비방향족기를 함유하는 기를 나타내고(치환되어도 됨), 방향족기는 탄화수소환 또는 복소환이어도 되고, 비방향족기는 탄화수소기, 또는 탄화수소기 중의 어느 탄소 원자가 헤테로원자로 치환된 기여도 되고(단, 산소 원자는 서로 직접 연결되지 않음),
W2는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내거나(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 또는 W2는 적어도 1개의 방향족기를 갖는 탄소 원자수 2~30의 기를 나타내도 되거나(상기 기는 비치환이어도 되고 또는 1개 이상의 치환기 LW로 치환되어도 됨), 또는 W2는 PW-(SpW-XW)kW-로 표시되는 기를 나타내고, 여기에서 PW는 중합성기를 나타내고, SpW는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 복수의 SpW가 존재할 경우에, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, XW는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 XW가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고(단, PW-(SpW-XW)kW-는 -O-O- 결합을 함유하지 않음), 그리고, kW는 0~10의 정수를 나타내고,
LW는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 수산기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내거나(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 또는 LW는 PLW-(SpLW-XLW)kLW-로 표시되는 기를 나타내도 되고, 여기에서 PLW는 중합성기를 나타내고, SpLW는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 복수의 SpLW가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, XLW는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 XLW가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고(단, PLW-(SpLW-XLW)kLW-는 -O-O- 결합을 함유하지 않음), 그리고, kLW는 0~10의 정수를 나타내고, 복수의 LW가 화합물 중에 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, Y는 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 펜타플루오로설퓨라닐기, 니트로기, 시아노기, 이소시아노기, 아미노기, 수산기, 메르캅토기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디이소프로필아미노기, 트리메틸실릴기, 디메틸실릴기, 티오이소시아노기, 또는 탄소 원자수 1~20의 직쇄상 또는 분기상 알킬기를 나타내거나(여기에서, 1개의 -CH2- 또는 2개 이상의 비인접 -CH2-는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -CF=CF-, 또는 -C≡C-로 치환되어도 되고, 알킬기 중의 어느 수소 원자는 불소 원자로 치환되어도 됨), 또는 Y는 PY-(SpY-XY)kY-로 표현되는 기를 나타내도 되고, 여기에서, PY는 중합성기를 나타내고, SpY는 스페이서기 또는 단결합을 나타내고, 복수의 SpY가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고, XY는 -O-, -S-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -COO-CH2CH2-, -OCO-CH2CH2-, -CH2CH2-COO-, -CH2CH2-OCO-, -COO-CH2-, -OCO-CH2-, -CH2-COO-, -CH2-OCO-, -CH=CH-, -N=N-, -CH=N-N=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, 또는 단결합을 나타내고, 복수의 XY가 존재할 경우, 그들은 서로 상이하거나 동일해도 되고(단, PY-(SpY-XY)kY-는 -O-O- 결합을 함유하지 않음), 그리고, kY는 0~10의 정수를 나타내고, W1 및 W2는 함께 조합해 환 구조를 형성해도 됨)). - 제3항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
식 (I) 중, R1 및 R2는 식 (I-0-R)로 표시되는 기를 나타내는 화합물. - 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
식 (I)로 표시되는 화합물은 하기 식 (IA)로 표시되는 화합물
(식 중, R1, R2, 및 G1은 식 (I)의 것과 동일한 의미를 갖고, A11 및 A22는 식 (I)의 A1 및 A2와 동일한 의미를 갖고, Z11 및 Z22는 식 (I)의 Z1 및 Z2와 동일한 의미를 갖고, A11 및 A22는, 비치환이어도 되거나 1개 이상의 상기 치환기 L로 치환되어도 되는 1,4-시클로헥실렌기를 나타내고, Z12 및 Z21은, 각각 독립적으로, -CR0-1R0-2O- 또는 -OCR0-1R0-2-로 표시되는 기를 나타냄(식 중, R0-1 및 R0-2는, 각각 독립적으로, 식 (Z-0)의 R0-1 및 R0-2와 동일한 의미를 가짐)). - 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
식 (I) 또는 식 (IA) 중, G1은 식 (M-7) 또는 식 (M-8)로 표시되는 화합물. - 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 화합물을 포함하는 조성물.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 화합물을 포함하는 액정 조성물.
- 제10항 또는 제11항에 기재된 조성물을 중합하여 얻어지는 중합체.
- 제12항에 기재된 중합체를 사용한 광학 이방체.
- 제1항 또는 제9항 중 어느 한 항에 기재된 화합물을 사용하여 각각 얻어지는 수지, 수지 첨가제, 오일, 필터, 접착제, 감압(pressure-sensitive) 접착제, 유지, 잉크, 의약품, 화장품, 세제, 건재(建材), 포장재, 액정재, 유기 EL 재료, 유기 반도체 재료, 전자 재료, 디스플레이 소자, 전자 디바이스, 통신 기기, 자동차 부품, 항공기 부품, 기계 부품, 농약 및 식품, 및 이들을 사용한 제품.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/CN2015/094100 WO2017079867A1 (en) | 2015-11-09 | 2015-11-09 | Polymerizable compound and optically anisotropic body |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180081081A true KR20180081081A (ko) | 2018-07-13 |
KR102600890B1 KR102600890B1 (ko) | 2023-11-13 |
Family
ID=58695769
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020187015106A KR102600890B1 (ko) | 2015-11-09 | 2015-11-09 | 중합성 화합물 및 광학 이방체 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10919870B2 (ko) |
JP (2) | JP6428590B2 (ko) |
KR (1) | KR102600890B1 (ko) |
CN (1) | CN108349925B (ko) |
WO (1) | WO2017079867A1 (ko) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10633353B2 (en) * | 2014-12-04 | 2020-04-28 | Dic Corporation | Polymerizable compound, composition, polymer, optically anisotropic body, liquid crystal display element, and organic EL display |
US11261378B2 (en) | 2014-12-25 | 2022-03-01 | Dic Corporation | Polymerizable compound and optically anisotropic object |
WO2016114346A1 (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Dic株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体 |
WO2016114253A1 (ja) | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Dic株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体 |
JP6255632B2 (ja) | 2015-01-16 | 2018-01-10 | Dic株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体 |
WO2017098952A1 (ja) * | 2015-12-07 | 2017-06-15 | Dic株式会社 | 重合性化合物の製造方法 |
CN108368070B (zh) * | 2015-12-08 | 2023-04-28 | Dic株式会社 | 聚合性化合物和光学各向异性体 |
WO2017154588A1 (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | Dic株式会社 | エステル基を有する化合物の製造方法 |
JP6418476B1 (ja) * | 2017-01-06 | 2018-11-07 | Dic株式会社 | 重合性化合物及び光学異方体 |
EP3668947B1 (en) | 2017-08-15 | 2023-09-27 | Merck Patent GmbH | Polymerisable lc medium and polymer film with flat optical dispersion |
CN110997872B (zh) | 2017-08-15 | 2024-01-02 | 默克专利股份有限公司 | 可聚合液晶材料及经聚合的液晶膜 |
JP6675596B2 (ja) * | 2017-12-22 | 2020-04-01 | Dic株式会社 | 重合性液晶組成物、光学異方体及びその製造方法 |
JP6975308B2 (ja) * | 2018-02-14 | 2021-12-01 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
KR102522253B1 (ko) | 2019-02-19 | 2023-04-17 | 주식회사 엘지화학 | 편광판의 제조 방법 |
JP7279162B2 (ja) * | 2019-06-28 | 2023-05-22 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線吸収剤、紫外線吸収組成物、紫外線吸収膜、積層体及び新規化合物 |
WO2021037774A1 (en) * | 2019-08-28 | 2021-03-04 | Rolic Technologies AG | Compositions of polymerizable liquid crystals |
WO2021060426A1 (ja) * | 2019-09-27 | 2021-04-01 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
JP7285226B2 (ja) * | 2020-02-06 | 2023-06-01 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶組成物、化合物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
JP7335856B2 (ja) * | 2020-08-17 | 2023-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
JP7440647B2 (ja) * | 2020-08-28 | 2024-02-28 | 富士フイルム株式会社 | 液晶組成物、液晶硬化層、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
EP4039776A3 (en) | 2020-11-20 | 2022-08-24 | Merck Patent GmbH | Polymerisable lc material and polymer film |
WO2023061903A1 (en) | 2021-10-11 | 2023-04-20 | Merck Patent Gmbh | Polymerisable compound, polymerisable lc material and polymer film |
CN114920712B (zh) * | 2022-06-06 | 2023-08-29 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 化合物、光学各向异性体及液晶显示器件 |
WO2023237572A1 (en) | 2022-06-10 | 2023-12-14 | Merck Patent Gmbh | Polymerisable liquid crystal medium and polymerised liquid crystal film |
WO2024061796A1 (en) | 2022-09-21 | 2024-03-28 | Merck Patent Gmbh | Polymerisable liquid crystal medium and polymerised liquid crystal film |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090073006A (ko) * | 2007-12-28 | 2009-07-02 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 광학 필름 |
JP2009179563A (ja) | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Fujifilm Corp | 化合物、液晶組成物及び異方性材料 |
JP2011162678A (ja) | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 組成物及び光学フィルム |
WO2014010325A1 (ja) | 2012-07-09 | 2014-01-16 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学異方体、及び重合性化合物の製造方法 |
KR102098617B1 (ko) * | 2015-09-03 | 2020-04-08 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 메소겐기를 갖는 화합물 및 그것을 포함하는 조성물, 그리고 중합성 조성물을 중합함에 의해 얻어지는 중합체, 광학 이방체, 및 위상차막 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19953804A1 (de) * | 1999-11-09 | 2001-05-10 | Clariant Gmbh | Tetrahydrothiophen-Derivate und ihre Verwendung in flüssigkristallinen Mischungen |
US8304313B2 (en) * | 2004-08-23 | 2012-11-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and its manufacturing method |
JP2009265317A (ja) | 2008-04-24 | 2009-11-12 | Fujifilm Corp | 垂直配向膜及びvaモード液晶セル |
JP2010163482A (ja) | 2009-01-13 | 2010-07-29 | Fujifilm Corp | セルロース組成物、光学フィルム、位相差板、ならびに液晶表示装置 |
JP5411770B2 (ja) | 2010-03-29 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、高分子、及びフィルム |
JP5621584B2 (ja) | 2010-12-27 | 2014-11-12 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性キラル化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子及び光学異方体 |
EP2824162B1 (en) * | 2012-04-20 | 2018-12-12 | LG Chem, Ltd. | Polymerizable liquid crystal compound, polymerizable liquid crystal composition, and optical anisotropic body |
CN104755512B (zh) | 2012-10-19 | 2016-05-18 | 日本瑞翁株式会社 | 聚合性化合物、聚合性组合物、高分子以及光学各向异性体 |
KR102137419B1 (ko) | 2013-02-15 | 2020-07-24 | 제온 코포레이션 | 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체 |
JP6270812B2 (ja) | 2013-02-28 | 2018-01-31 | 富士フイルム株式会社 | 位相差板、反射防止板、画像表示装置、および位相差板の製造方法 |
JP5880992B2 (ja) * | 2013-03-21 | 2016-03-09 | Dic株式会社 | 重合性化合物及びそれを用いた液晶組成物 |
CN103664868A (zh) * | 2013-11-27 | 2014-03-26 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 氧硫杂环己烷衍生物及其制备方法与应用 |
CN103772335B (zh) * | 2014-01-27 | 2016-02-10 | 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 | 一种含五氟丙烯和吡喃环的液晶化合物及其液晶组合物 |
US10633353B2 (en) | 2014-12-04 | 2020-04-28 | Dic Corporation | Polymerizable compound, composition, polymer, optically anisotropic body, liquid crystal display element, and organic EL display |
JP6531935B2 (ja) | 2014-12-17 | 2019-06-19 | Dic株式会社 | 重合性化合物及び光学異方体 |
US11261378B2 (en) | 2014-12-25 | 2022-03-01 | Dic Corporation | Polymerizable compound and optically anisotropic object |
WO2016114253A1 (ja) | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Dic株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体 |
WO2016114347A1 (ja) | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Dic株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体 |
KR102613244B1 (ko) | 2015-01-16 | 2023-12-14 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 중합성 화합물 및 광학 이방체 |
WO2016114346A1 (ja) | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Dic株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体 |
WO2016114254A1 (ja) | 2015-01-16 | 2016-07-21 | Dic株式会社 | 位相差板及び円偏光板 |
KR102552212B1 (ko) | 2015-01-16 | 2023-07-06 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 중합성 조성물 및 광학 이방체 |
JP6213797B2 (ja) | 2015-01-16 | 2017-10-18 | Dic株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体 |
US20180112022A1 (en) | 2015-01-16 | 2018-04-26 | Dic Corporation | Polymerizable composition and optically anisotropic material |
JP6255632B2 (ja) | 2015-01-16 | 2018-01-10 | Dic株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体 |
JP6164509B2 (ja) * | 2015-02-24 | 2017-07-19 | Dic株式会社 | 重合性化合物及び光学異方体 |
JP6403029B2 (ja) | 2015-09-01 | 2018-10-10 | Dic株式会社 | 粉体混合物 |
WO2017038266A1 (ja) | 2015-09-03 | 2017-03-09 | Dic株式会社 | メソゲン基を有する化合物を含む組成物、並びに重合性組成物を重合することにより得られる重合体、光学異方体、並びに位相差膜 |
KR102082201B1 (ko) | 2015-09-30 | 2020-02-27 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 중합성 조성물 및 그것을 사용한 광학 이방체 |
JP6292462B2 (ja) * | 2015-10-23 | 2018-03-14 | Dic株式会社 | 重合性化合物及び光学異方体 |
-
2015
- 2015-11-09 KR KR1020187015106A patent/KR102600890B1/ko active IP Right Grant
- 2015-11-09 CN CN201580084572.5A patent/CN108349925B/zh active Active
- 2015-11-09 US US15/772,981 patent/US10919870B2/en active Active
- 2015-11-09 WO PCT/CN2015/094100 patent/WO2017079867A1/en active Application Filing
- 2015-12-09 JP JP2015240161A patent/JP6428590B2/ja active Active
-
2018
- 2018-03-20 JP JP2018052601A patent/JP6540849B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090073006A (ko) * | 2007-12-28 | 2009-07-02 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 광학 필름 |
JP2009179563A (ja) | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Fujifilm Corp | 化合物、液晶組成物及び異方性材料 |
JP2011162678A (ja) | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 組成物及び光学フィルム |
WO2014010325A1 (ja) | 2012-07-09 | 2014-01-16 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学異方体、及び重合性化合物の製造方法 |
KR102098617B1 (ko) * | 2015-09-03 | 2020-04-08 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 메소겐기를 갖는 화합물 및 그것을 포함하는 조성물, 그리고 중합성 조성물을 중합함에 의해 얻어지는 중합체, 광학 이방체, 및 위상차막 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018145192A (ja) | 2018-09-20 |
JP6428590B2 (ja) | 2018-11-28 |
US20180319755A1 (en) | 2018-11-08 |
US10919870B2 (en) | 2021-02-16 |
WO2017079867A1 (en) | 2017-05-18 |
KR102600890B1 (ko) | 2023-11-13 |
JP6540849B2 (ja) | 2019-07-10 |
CN108349925A (zh) | 2018-07-31 |
CN108349925B (zh) | 2022-08-16 |
JP2017088591A (ja) | 2017-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102600890B1 (ko) | 중합성 화합물 및 광학 이방체 | |
JP6164509B2 (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
JP7067302B2 (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
JP6292462B2 (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
JP6634692B2 (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
JP6531935B2 (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
JP6428951B2 (ja) | 重合性化合物の製造方法 | |
TWI526457B (zh) | 在末端環結構具有側面取代基之聚合性化合物 | |
JP6769131B2 (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
JP6529519B2 (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
JP6418476B1 (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
JP2019156733A (ja) | 混合物及び光学異方体 | |
JP2018035126A (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
JP2018070546A (ja) | エステル結合を有するビスフェノール誘導体 | |
JP2021020913A (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
JP6772549B2 (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
JP2017218391A (ja) | 重合性化合物及び光学異方体 | |
TW201912621A (zh) | 具有酯基之化合物之製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |