KR20190078591A - 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치, 반사 방지 필름, 및 화합물 - Google Patents
중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치, 반사 방지 필름, 및 화합물 Download PDFInfo
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Abstract
하기 식(I)으로 나타내어지는 중합성 화합물이다〔식 중, Ar은, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소고리기/방향족 복소환기를 나타내고; D는, 방향고리를 갖는 탄소수 1~67의 유기기를 나타내고; Z1 및 Z2, 및 Y0~Y4는 각각 결합손을 나타내고; L1 및 L2는 사슬형기를 나타내고; G는, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기/방향족기/알킬렌기를 나타내고; A1, A2, B1 및 B2는, 고리형 지방족기 또는 방향족기를 나타내고; P1 및 P2는, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고; p 및 q는, 각각 독립적으로, 0~2의 정수이고, 단 p = 0 또한 q = 1, p = 1 또한 q = 2의 경우는 제외한다〕.
Description
본 발명은, 광학 필름 및 광학 이방체, 그리고, 당해 광학 이방체를 사용한 편광판, 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치 및 반사 방지 필름에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, 상기 광학 필름 및 광학 이방체의 조제에 사용할 수 있는 고분자, 당해 고분자의 조제에 사용할 수 있는 중합성 화합물, 당해 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물, 그리고, 당해 중합성 화합물 및 상기 광학 필름의 조제에 사용할 수 있는 화합물에 관한 것이다.
플랫 패널 표시 장치 등의 각종 장치에서 사용되고 있는 위상차판에는, 직선 편광을 원 편광으로 변환하는 1/4 파장판이나 직선 편광의 편광 진동면을 90도 변환하는 1/2 파장판 등이 있다. 이들 위상차판은, 어느 특정한 단색광에 대해서는 정확하게 광선 파장의 1/4λ 혹은 1/2λ의 위상차를 부여하는 것이 가능한 것이다.
그러나, 종래의 위상차판에는, 위상차판을 통과하여 출력되는 편광이 유색의 편광으로 변환되어 버린다는 문제가 있었다. 이것은, 위상차판을 구성하는 재료가 위상차에 대하여 파장 분산성을 갖고, 가시광역의 광선이 혼재하는 합성파인 백색광에 대해서는 파장마다의 편광 상태에 분포가 생기기 때문에, 입력광을 모든 파장 영역에 있어서 정확한 1/4λ 혹은 1/2λ의 위상차의 편광으로 조정하는 것이 불가능한 것에서 기인한다.
이러한 문제를 해결하기 위하여, 넓은 파장역의 광에 대하여 균일한 위상차를 부여할 수 있는 광대역 위상차판, 소위 역파장 분산성을 갖는 위상차판이 여러 가지로 검토되고 있다.
한편, 모바일 컴퓨터, 휴대전화 등 휴대형의 정보 단말의 고기능화 및 보급에 따라, 플랫 패널 표시 장치의 두께를 최대한 얇게 억제하는 것이 요구되고 있다. 그 결과, 구성 부재인 위상차판의 박층화도 요구되고 있다.
박층화의 방법으로는, 저분자 중합성 화합물을 함유하는 중합성 조성물을 필름 기재에 도포하여 광학 필름을 형성함으로써 위상차판을 제작하는 방법이, 근년에는 가장 유효한 방법으로 여겨지고 있다. 그 때문에, 우수한 역파장 분산성을 갖는 광학 필름을 형성 가능한 중합성 화합물 또는 그것을 사용한 중합성 조성물의 개발이 많이 행하여지고 있다.
구체적으로는, 역파장 분산성이 우수한 광학 필름을 형성 가능한 중합성 화합물 및 중합성 조성물이 제안되어 왔다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).
여기서, 근년, 비교적 단파장의 광에 대한 파장 분산 특성을 향상시키는 것이 필요시되고 있다. 그러나, 특허문헌 1에 기재된 바와 같은 종래의 중합성 화합물 및 중합성 조성물에서는, 얻어지는 광학 필름 등의 단파장측의 파장 분산 특성을 충분히 향상시킬 수 없었다.
본 발명은, 상기한 실정을 감안하여 이루어진 것으로서, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름이나 광학 이방체를 형성 가능한 중합성 조성물의 조제에 유용한 중합성 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름이나 광학 이방체를 형성 가능한 중합성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은, 중합성 화합물 및 광학 필름의 조제에 유용한 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 연구한 결과, 하기 식(I)으로 나타내어지는 소정의 중합성 화합물을 사용하면, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름 등을 형성 가능한 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.
이렇게 하여 본 발명에 의하면, 하기에 나타내는 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치, 반사 방지 필름, 및 화합물이 제공된다.
〔1〕 하기 식(I):
[화학식 1]
〔식(I) 중, Ar은, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소고리기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 복소환기를 나타내고,
D는, 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 탄소수 1~67의 유기기를 나타내고,
Y0, Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -O-CH2-, -CH2-O-, -O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S-, -S-C(=O)-, -NR10-C(=O)-, -C(=O)-NR10-, -CF2-O-, -O-CF2-, -CH2-CH2-, -CF2-CF2-, -O-CH2-CH2-O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH-, -CH2-CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-CH2-, -CH=CH-, -N=CH-, -CH=N-, -N=C(CH3)-, -C(CH3)=N-, -N=N-, -CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-, -CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-, 또는 -C≡C-를 나타내고, R10은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고,
G는, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기를 나타내고,
L1 및 L2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬렌기, 및 탄소수 1~20의 알킬렌기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)의 적어도 하나가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환된 기의 어느 하나의 유기기이고, L1 및 L2의 상기 유기기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 1~5의 알킬기, 탄소수 1~5의 알콕시기, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 단, L1 및 L2의 양말단의 메틸렌기(-CH2-)가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되는 일은 없고,
A1, A2, B1 및 B2는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기를 나타내고,
Y1~Y4는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -NR11-C(=O)-, -C(=O)-NR11-, -O-C(=O)-O-, -NR11-C(=O)-O-, -O-C(=O)-NR11-, 또는 -NR11-C(=O)-NR12-를 나타내고, R11 및 R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고,
P1 및 P2의 일방은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고, P1 및 P2의 타방은, 중합성기를 나타내고,
p 및 q는, 각각 독립적으로, 0~2의 정수이고, 단 p = 0 또한 q = 1, p = 1 또한 q = 2의 경우는 제외한다〕으로 나타내어지는 중합성 화합물.
〔2〕 상기 Ar-D가, 하기 식(II-1)~(II-6):
[화학식 2]
〔식(II-1)~(II-6) 중, Ax는, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 유기기를 나타내고, Ax가 갖는 방향고리는 치환기를 갖고 있어도 되고, Ay는, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~30의 유기기를 나타내고, Q는, 수소 원자 또는, 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
R0은, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 2~6의 알케닐기, 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기, 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 니트로기, -C(=O)-Ra, -O-C(=O)-Ra, -C(=O)-O-Ra, 또는 -SO2Ra를 나타내고, Ra는, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 1~6의 알킬기 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기를 나타내고, n은, 각각 독립적으로 0~4의 정수이다〕의 어느 하나로 나타내어지는 상기 〔1〕에 기재된 중합성 화합물.
〔3〕 하기 식(III-1) 또는 (III-2):
[화학식 3]
〔식(III-1) 및 (III-2) 중, P1, P2, L1, L2, A1, A2, B1, B2, Y0~Y4, G, Z1, Z2, R0, n, p, q, Ax, Ay, 및 Q는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.〕으로 나타내어지는, 상기 〔2〕에 기재된 중합성 화합물.
〔4〕 상기 Ay가, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알키닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~30의 방향족 복소환기인, 상기 〔2〕 또는 〔3〕에 기재된 중합성 화합물.
〔5〕 상기 Ax가, 하기 식(V):
[화학식 4]
〔식(V) 중, R2~R5는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1~6의 플루오로알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, -OCF3, -O-C(=O)-Rb, 또는 -C(=O)-O-Rb를 나타내고, Rb는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기를 나타내고, C-R2~C-R5끼리는, 전부 동일해도 되고, 상이해도 되며, 고리를 구성하는 적어도 하나의 C-R2~C-R5는, 질소 원자로 치환되어 있어도 된다.〕으로 나타내어지는, 상기 〔2〕~〔4〕 중 어느 하나에 기재된 중합성 화합물.
〔6〕 상기 P1 및 P2가, 각각 독립적으로, 하기 식(IV):
[화학식 5]
〔식(IV) 중, R1은, 수소 원자, 메틸기 또는 염소 원자를 나타낸다〕으로 나타내어지는, 상기 〔1〕~〔5〕 중 어느 하나에 기재된 중합성 화합물.
〔7〕 하기 식(VI-1) 또는 (VI-2):
[화학식 6]
〔식(VI-1) 및 (VI-2) 중, R2~R5는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1~6의 플루오로알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, -OCF3, -O-C(=O)-Rb, 또는 -C(=O)-O-Rb를 나타내고, Rb는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기를 나타내고, C-R2~C-R5끼리는, 전부 동일해도 되고, 상이해도 되며, 고리를 구성하는 적어도 하나의 C-R2~C-R5가, 질소 원자로 치환되어 있어도 된다. Ay는, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~30의 유기기를 나타내고, Q는 수소 원자 또는, 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, G는 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기를 나타낸다.〕으로 나타내어지는, 상기 〔1〕~〔6〕 중 어느 하나에 기재된 중합성 화합물.
〔8〕 상기 〔1〕~〔7〕 중 어느 하나에 기재된 중합성 화합물 및 중합 개시제를 함유하는, 중합성 조성물.
〔9〕 상기 〔1〕~〔7〕 중 어느 하나에 기재된 중합성 화합물을 중합하여 얻어지는, 고분자.
〔10〕 상기 〔9〕에 기재된 고분자를 포함하는, 광학 필름.
〔11〕 상기 〔1〕~〔7〕 중 어느 하나에 기재된 중합성 화합물을 포함하는, 광학 필름.
〔12〕 상기 〔9〕에 기재된 고분자를 포함하는 층을 갖는, 광학 이방체.
〔13〕 상기 〔12〕에 기재된 광학 이방체 및 편광 필름을 포함하는, 편광판.
〔14〕 상기 〔13〕에 기재된 편광판 및 액정 패널을 구비하는, 플랫 패널 표시 장치.
〔15〕 상기 〔13〕에 기재된 편광판 및 유기 일렉트로루미네센스 패널을 구비하는, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치.
〔16〕 상기 〔13〕에 기재된 편광판을 포함하는, 반사 방지 필름.
〔17〕 하기 식(VII-1) 또는 (VII-2):
[화학식 7]
〔식(VII-1) 및 (VII-2) 중,
Z1은, 단결합, -O-, -O-CH2-, -CH2-O-, -O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S-, -S-C(=O)-, -NR10-C(=O)-, -C(=O)-NR10-, -CF2-O-, -O-CF2-, -CH2-CH2-, -CF2-CF2-, -O-CH2-CH2-O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH-, -CH2-CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-CH2-, -CH=CH-, -N=CH-, -CH=N-, -N=C(CH3)-, -C(CH3)=N-, -N=N-, -CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-, -CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-, 또는 -C≡C-를 나타내고, R10은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고,
G는, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기를 나타내고,
R0은, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 2~6의 알케닐기, 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기, 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 니트로기, -C(=O)-Ra, -C(=O)-O-Ra, 또는 -SO2Ra를 나타내고, Ra는, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 1~6의 알킬기 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기를 나타내고, n은, 각각 독립적으로 0~4의 정수이고,
R6, R7은, 각각 독립적으로 -ORe, -CH2ORe, -CH2CH2ORe, -C(=O)-ORe, -CH2-C(=O)-ORe, -CH2CH2-C(=O)-ORe, 수산기, 카르복실기, -CH2-C(=O)-OH, -CH2CH2-C(=O)-OH, -CH2OH, -CH2CH2OH 또는 아미노기로 나타내어지고, Re는, 보호기를 나타낸다〕으로 나타내어지는, 화합물.
〔18〕 하기 식(VIII-1) 또는 (VIII-2):
[화학식 8]
〔식(VIII-1) 및 (VIII-2) 중,
Y0, Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -O-CH2-, -CH2-O-, -O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S-, -S-C(=O)-, -NR10-C(=O)-, -C(=O)-NR10-, -CF2-O-, -O-CF2-, -CH2-CH2-, -CF2-CF2-, -O-CH2-CH2-O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH-, -CH2-CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-CH2-, -CH=CH-, -N=CH-, -CH=N-, -N=C(CH3)-, -C(CH3)=N-, -N=N-, -CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-, -CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-, 또는 -C≡C-를 나타내고, R10은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고,
G는, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기를 나타내고,
R0은, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 2~6의 알케닐기, 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기, 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 니트로기, -C(=O)-Ra, -C(=O)-O-Ra, 또는 -SO2Ra를 나타내고, Ra는, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 1~6의 알킬기 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기를 나타내고, n은, 각각 독립적으로 0~4의 정수이고,
L1 및 L2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬렌기, 및 탄소수 1~20의 알킬렌기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)의 적어도 하나가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환된 기의 어느 하나의 유기기이고, L1 및 L2의 상기 유기기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 1~5의 알킬기, 탄소수 1~5의 알콕시기, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 단, L1 및 L2의 양말단의 메틸렌기(-CH2-)가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되는 일은 없고,
A1, A2, B1 및 B2는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기를 나타내고,
Y1~Y4는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -NR11-C(=O)-, -C(=O)-NR11-, -O-C(=O)-O-, -NR11-C(=O)-O-, -O-C(=O)-NR11-, 또는 -NR11-C(=O)-NR12-를 나타내고, R11 및 R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고,
P1 및 P2의 일방은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고, P1 및 P2의 타방은, 중합성기를 나타내고,
p 및 q는, 각각 독립적으로, 0~2의 정수이고, 단 p = 0 또한 q = 1, p = 1 또한 q = 2의 경우는 제외한다〕으로 나타내어지는, 화합물.
〔19〕 하기 식(X-1) 또는 (X-2):
[화학식 9]
〔식(X-1) 및 (X-2) 중, G는 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기를 나타낸다.〕으로 나타내어지는, 화합물.
〔20〕 하기 식(XI-1)~(XI-7)의 어느 하나로 나타내어지는, 화합물.
[화학식 10]
본 발명에 의하면, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름이나 광학 이방체를 형성 가능한 중합성 조성물의 조제, 및 광학 필름의 조제에 유용한 중합성 화합물이 제공된다.
또한, 본 발명에 의하면, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름이나 광학 이방체를 형성 가능한 중합성 조성물이 제공된다.
또한, 본 발명에 의하면, 상기 중합성 화합물의 조제에 유용한 화합물이 제공된다.
그리고, 본 발명에 의하면, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름 및 광학 이방체, 그리고, 그들을 사용한 편광판, 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스(EL) 표시 장치 및 반사 방지 필름이 제공된다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다. 한편, 본 발명에 있어서, 「치환기를 갖고 있어도 되는」이란, 「비치환의, 또는 치환기를 갖는」의 의미이다. 또한, 일반식 중에 포함되는 알킬기나 방향족 탄화수소고리기 등의 유기기가 치환기를 갖는 경우, 당해 치환기를 갖는 유기기의 탄소수에는, 치환기의 탄소수를 포함하지 않는 것으로 한다. 예를 들어, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기가 치환기를 갖는 경우, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기의 탄소수에는, 이러한 치환기의 탄소수를 포함하지 않는 것으로 한다. 또한, 본 발명에 있어서, 「알킬기」란, 사슬형(직쇄형 또는 분기형)의 포화 탄화수소기를 의미하고, 「알킬기」에는, 고리형의 포화 탄화수소기인 「시클로알킬기」는 포함되지 않는 것으로 한다.
여기서, 본 발명의 중합성 화합물은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 본 발명의 중합성 조성물 및 광학 필름을 조제할 때에 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 본 발명의 고분자를 조제할 때에 사용할 수 있다.
그리고, 본 발명의 고분자는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 본 발명의 광학 필름의 구성 재료 및 본 발명의 광학 이방체가 갖는 층의 구성 재료로서 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 광학 이방체는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 본 발명의 편광판에 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 편광판은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 본 발명의 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치 및 반사 방지 필름에 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 화합물은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 본 발명의 중합성 화합물을 조제할 때에 사용할 수 있다.
(1) 중합성 화합물
본 발명의 중합성 화합물은, 하기 식(I)으로 나타내어지는 화합물(이하, 「중합성 화합물(I)」이라고 하는 경우가 있다.)로, 후술하는 고분자, 광학 필름 및 광학 이방체를 조제할 때에 유리하게 사용할 수 있다.
[화학식 11]
한편, 후술하는 바와 같이, 중합성 화합물(I)을 사용함으로써, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름 등을 유리하게 제조할 수 있는 중합성 조성물을 얻을 수 있다.
이 이유는, 분명하지는 않지만, 중합성 화합물(I)의 구조가 비대칭인 것에서 기인한다고 생각된다. 여기서, 「중합성 화합물(I)의 구조가 비대칭이다」라는 것은, 중합성 화합물(I)의, D를 치환기로서 갖는 방향족 탄화수소고리기 또는 방향족 복소환기(Ar)에 대하여 결합하는 2개의 사슬형부가 상이한 것을 의미한다. 중합성 화합물(I)의 구조가 비대칭이면, 단파장측의 파장 분산 특성을 향상시킬 수 있다.
여기서, 식(I) 중, Ar은, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소고리기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 복소환기이다. 또한, D는, 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 탄소수 1~67의 유기기이다.
그리고, Ar의 방향족 탄화수소고리기로는, 1,4-페닐렌기, 1,3-페닐렌기, 1,4-나프틸렌기, 2,6-나프틸렌기, 1,5-나프틸렌기, 안트라세닐-9,10-디일기, 안트라세닐-1,4-디일기, 및 안트라세닐-2,6-디일기 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 방향족 탄화수소고리기로는, 1,4-페닐렌기, 1,4-나프틸렌기 또는 2,6-나프틸렌기가 바람직하고, 1,4-페닐렌기가 특히 바람직하다.
또한, Ar의 방향족 복소환기로는, 벤조티아졸-4,7-디일기, 1,2-벤조이소티아졸-4,7-디일기, 벤조옥사졸-4,7-디일기, 인도닐-4,7-디일기, 벤조이미다졸-4,7-디일기, 벤조피라졸-4,7-디일기, 1-벤조푸란-4,7-디일기, 2-벤조푸란-4,7-디일기, 벤조[1,2-d:4,5-d']디티아졸릴-4,8-디일기, 벤조[1,2-d:5,4-d']디티아졸릴-4,8-디일기, 벤조티오페닐-4,7-디일기, 1H-이소인돌-1,3(2H)-디온-4,7-디일기, 벤조[1,2-b:5,4-b']디티오페닐-4,8-디일기, 벤조[1,2-b:4,5-b']디티오페닐-4,8-디일기, 벤조[1,2-b:5,4-b']디푸라닐-4,8-디일기, 벤조[1,2-b:4,5-b']디푸라닐-4,8-디일기, 벤조[2,1-b:4,5-b']디피롤-4,8-디일기, 벤조[1,2-b:5,4-b']디피롤-4,8-디일기, 및 벤조[1,2-d:4,5-d']디이미다졸-4,8-디일기 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 방향족 복소환기로는, 벤조티아졸-4,7-디일기, 벤조옥사졸-4,7-디일기, 1-벤조푸란-4,7-디일기, 2-벤조푸란-4,7-디일기, 벤조[1,2-d:4,5-d']디티아졸릴-4,8-디일기, 벤조[1,2-d:5,4-d']디티아졸릴-4,8-디일기, 벤조티오페닐-4,7-디일기, 1H-이소인돌-1,3(2H)-디온-4,7-디일기, 벤조[1,2-b:5,4-b']디티오페닐-4,8-디일기, 벤조[1,2-b:4,5-b']디티오페닐-4,8-디일기, 벤조[1,2-b:5,4-b']디푸라닐-4,8-디일기 또는 벤조[1,2-b:4,5-b']디푸라닐-4,8-디일기가 바람직하다.
Ar의 방향족 탄화수소고리기 및 방향족 복소환기는, 후술하는 치환기 R0을 갖고 있어도 된다.
또한, 본 명세서에 있어서, 「방향고리」란, Huckel 규칙에 따른 광의의 방향족성을 갖는 고리형 구조, 즉, π 전자를 (4n + 2)개 갖는 고리형 공액 구조, 및 티오펜, 푸란, 벤조티아졸 등으로 대표되는, 황, 산소, 질소 등의 헤테로 원자의 고립 전자쌍이 π 전자계에 관여하여 방향족성을 나타내는 고리형 구조를 의미한다.
또한, 상기 Ar에 포함되는 π 전자의 수(NAr)와, 상기 D 중에 포함되는 π 전자의 수(ND)의 합계수(NAr + ND)는, 통상 12 이상이고, 바람직하게는 12 이상 36 이하이며, 보다 바람직하게는 12 이상 30 이하이다.
한편, D의 방향족 탄화수소고리로는, 예를 들어, 벤젠고리, 나프탈렌고리, 안트라센고리, 페난트렌고리, 피렌고리, 및 플루오렌고리 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 방향족 탄화수소고리로는, 벤젠고리, 나프탈렌고리, 안트라센고리가 바람직하다.
또한, D의 방향족 복소환으로는, 예를 들어, 1H-이소인돌-1,3(2H)-디온고리, 1-벤조푸란고리, 2-벤조푸란고리, 아크리딘고리, 이소퀴놀린고리, 이미다졸고리, 인돌고리, 옥사디아졸고리, 옥사졸고리, 옥사졸로피라진고리, 옥사졸로피리딘고리, 옥사졸로피리다질고리, 옥사졸로피리미딘고리, 퀴나졸린고리, 퀴녹살린고리, 퀴놀린고리, 신놀린고리, 티아디아졸고리, 티아졸고리, 티아졸로피라진고리, 티아졸로피리딘고리, 티아졸로피리다진고리, 티아졸로피리미딘고리, 티오펜고리, 트리아진고리, 트리아졸고리, 나프티리딘고리, 피라진고리, 피라졸고리, 피라논고리, 피란고리, 피리딘고리, 피리다진고리, 피리미딘고리, 피롤고리, 페난트리딘고리, 프탈라진고리, 푸란고리, 벤조[c]티오펜고리, 벤조이소옥사졸고리, 벤조이소티아졸고리, 벤조이미다졸고리, 벤조옥사디아졸고리, 벤조옥사졸고리, 벤조티아디아졸고리, 벤조티아졸고리, 벤조티오펜고리, 벤조트리아진고리, 벤조트리아졸고리, 벤조피라졸고리, 벤조피라논고리, 디하이드로피란고리, 테트라하이드로피란고리, 디하이드로푸란고리, 및 테트라하이드로푸란고리 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 방향족 복소환으로는, 푸란고리, 피란고리, 티오펜고리, 옥사졸고리, 옥사디아졸고리, 티아졸고리, 티아디아졸고리 등의 단환의 방향족 복소환, 벤조티아졸고리, 벤조옥사졸고리, 퀴놀린고리, 1-벤조푸란고리, 2-벤조푸란고리, 벤조티오펜고리, 1H-이소인돌-1,3(2H)-디온고리, 벤조[c]티오펜고리, 티아졸로피리딘고리, 티아졸로피라진고리, 벤조이소옥사졸고리, 벤조옥사디아졸고리, 및 벤조티아디아졸고리 등의 축합고리의 방향족 복소환이 바람직하다.
그리고, D인, 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 탄소수 1~67의 유기기로는, 특별히 한정되지 않고, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소고리기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 복소환기, 식: -C(Rf)=N-N(Rg)Rh, 또는 식: -C(Rf)=N-N=C(Rf1)Rh로 나타내어지는 기를 들 수 있다.
한편, 상기 식 중, Rf 및 Rf1은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 및 이소프로필기 등의 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
또한, 상기 식 중, Rg는, 수소 원자, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~30의 유기기를 나타낸다. 여기서, 탄소수 1~30의 유기기 및 그 치환기로는, 후술하는 Ay의 탄소수 1~30의 유기기 및 그 치환기의 구체예로서 열기한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
또한, 상기 식 중, Rh는, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 유기기를 나타낸다. 여기서, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 유기기의 구체예로는, 후술하는 Ax의 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 유기기의 구체예로서 열기한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
구체적으로는, D가 되는 방향족 탄화수소고리기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트레닐기, 피레닐기, 및 플루오레닐기 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 방향족 탄화수소고리기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기가 바람직하다.
또한, D가 되는 방향족 복소환기로는, 프탈이미드기, 1-벤조푸라닐기, 2-벤조푸라닐기, 아크리디닐기, 이소퀴놀리닐기, 이미다졸릴기, 인돌리닐기, 푸라자닐기, 옥사졸릴기, 옥사졸로피라지닐기, 옥사졸로피리디닐기, 옥사졸로피리다지닐기, 옥사졸로피리미디닐기, 퀴나졸리닐기, 퀴녹살리닐기, 퀴놀릴기, 신놀리닐기, 티아디아졸릴기, 티아졸릴기, 티아졸로피라지닐기, 티아졸로피리딜기, 티아졸로피리다지닐기, 티아졸로피리미디닐기, 티에닐기, 트리아지닐기, 트리아졸릴기, 나프티리디닐기, 피라지닐기, 피라졸릴기, 피라논닐기, 피라닐기, 피리딜기, 피리다지닐기, 피리미디닐기, 피롤릴기, 페난트리디닐기, 프탈라지닐기, 푸라닐기, 벤조[c]티에닐기, 벤조이소옥사졸릴기, 벤조이소티아졸릴기, 벤조이미다졸릴기, 벤조옥사디아졸릴기, 벤조옥사졸릴기, 벤조티아디아졸릴기, 벤조티아졸릴기, 벤조티에닐기, 벤조트리아지닐기, 벤조트리아졸릴기, 벤조피라졸릴기, 벤조피라논닐기, 디하이드로피라닐기, 테트라하이드로피라닐기, 디하이드로푸라닐기, 및 테트라하이드로푸라닐기 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 방향족 복소환기로는, 푸라닐기, 피라닐기, 티에닐기, 옥사졸릴기, 푸라자닐기, 티아졸릴기, 티아디아졸릴기 등의 단환의 방향족 복소환기, 벤조티아졸릴기, 벤조옥사졸릴기, 퀴놀릴기, 1-벤조푸라닐기, 2-벤조푸라닐기, 벤조티에닐기, 프탈이미드기, 벤조[c]티에닐기, 티아졸로피리딜기, 티아졸로피라지닐기, 벤조이소옥사졸릴기, 벤조옥사디아졸릴기, 벤조티아디아졸릴기 등의 축합고리의 방향족 복소환기가 바람직하다.
D의 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환, 및 D가 되는 방향족 탄화수소고리기 및 방향족 복소환기는, 치환기를 갖고 있어도 된다.
이러한 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수 1~6의 알킬기; 비닐기, 알릴기 등의 탄소수 2~6의 알케닐기; 트리플루오로메틸기 등의 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기; 디메틸아미노기 등의 탄소수 1~12의 N,N-디알킬아미노기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기 등의 탄소수 1~6의 알콕시기; 니트로기; 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; -OCF3; -C(=O)-Rb1; -O-C(=O)-Rb1; -C(=O)-O-Rb1; -SO2Ra; 등을 들 수 있다. 여기서, Rb1은 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기를 나타낸다. 한편, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기로는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~12의 방향족 탄화수소고리기가 바람직하다. 또한, Ra는, 메틸기, 에틸기 등의 탄소수 1~6의 알킬기; 페닐기, 4-메틸페닐기, 4-메톡시페닐기 등의, 탄소수 1~6의 알킬기 또는, 탄소수 1~6의 알콕시기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기를 나타낸다. 이들 중에서도, D의 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환, 및 D가 되는 방향족 탄화수소고리기 및 방향족 복소환기가 갖는 방향고리의 치환기로는, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1~6의 알킬기, 및 탄소수 1~6의 알콕시기, 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기가 바람직하다.
한편, D의 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환, 및 D가 되는 방향족 탄화수소고리기 및 방향족 복소환기는, 상술한 치환기에서 선택되는 복수의 치환기를 갖고 있어도 된다. 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환, 및 방향족 탄화수소고리기 및 방향족 복소환기가 복수의 치환기를 갖는 경우, 치환기는 동일해도 되고 상이해도 된다.
Rb1의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기의 탄소수 1~20의 알킬기 및 그 치환기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기의 탄소수 2~20의 알케닐기 및 그 치환기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기의 탄소수 3~12의 시클로알킬기 및 그 치환기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기의 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기 및 그 치환기로는, 각각 후술하는 Rb의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기의 탄소수 1~20의 알킬기 및 그 치환기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기의 탄소수 2~20의 알케닐기 및 그 치환기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기의 탄소수 3~12의 시클로알킬기 및 그 치환기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기의 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기 및 그 치환기의 구체예로서 열기한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
그리고, 상술한 Ar 및 D의 조합(Ar-D)으로는, 식: -C(Rf)=N-N(Rg)Rh, 혹은 식: -C(Rf)=N-N=C(Rf1)Rh로 나타내어지는 기로 치환된 페닐렌기, 1-벤조푸란-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 5-(2-부틸)-1-벤조푸란-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4,6-디메틸-1-벤조푸란-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 6-메틸-1-벤조푸란-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4,6,7-트리메틸-1-벤조푸란-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4,5,6-트리메틸-1-벤조푸란-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 5-메틸-1-벤조푸란-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 5-프로필-1-벤조푸란-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 7-프로필-1-벤조푸란-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 5-플루오로-1-벤조푸란-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 페닐기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4-플루오로페닐기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4-니트로페닐기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4-트리플루오로메틸페닐기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4-시아노페닐기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4-메탄술포닐페닐기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 티오펜-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 티오펜-3-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 5-메틸티오펜-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 5-클로로티오펜-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 티에노[3,2-b]티오펜-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 2-벤조티아졸릴기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4-비페닐기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4-프로필비페닐기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4-티아졸릴기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 1-페닐에틸렌-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 4-피리딜기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 2-푸릴기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 나프토[1,2-b]푸란-2-일기로 치환된 벤조티아졸-4,7-디일기, 5-메톡시-2-벤조티아졸릴기로 치환된 1H-이소인돌-1,3(2H)-디온-4,7-디일기, 페닐기로 치환된 1H-이소인돌-1,3(2H)-디온-4,7-디일기, 4-니트로페닐기로 치환된 1H-이소인돌-1,3(2H)-디온-4,7-디일기, 또는 2-티아졸릴기로 치환된 1H-이소인돌-1,3(2H)-디온-4,7-디일기 등을 들 수 있다. 여기서, Rf, Rf1, Rg, Rh는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
여기서, Ar-D로는, 하기 식(II-1)~(II-6)의 어느 하나로 나타내어지는 기가 바람직하다.
[화학식 12]
상기 식(II-1)~(II-6) 중, Ax는, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 유기기를 나타내고, Ax가 갖는 방향고리는 치환기를 갖고 있어도 되고, Ay는, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~30의 유기기를 나타내고, Q는, 수소 원자 또는, 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다. Q의 탄소수 1~6의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필 등을 들 수 있다.
또한, R0은, 할로겐 원자; 시아노기; 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, 터셔리부틸기 등의 탄소수 1~6의 알킬기; 탄소수 2~6의 알케닐기; 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기; 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기; 탄소수 1~6의 알콕시기; 니트로기; -C(=O)-Ra; -O-C(=O)-Ra; -C(=O)-O-Ra; 또는 -SO2Ra를 나타내고, Ra는, 메틸기, 에틸기 등의 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 페닐기, 4-메틸페닐기, 4-메톡시페닐기 등의, 탄소수 1~6의 알킬기 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기를 나타낸다. 치환기가 복수인 경우에는, 복수의 치환기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. R0으로는, 용해성 향상의 관점에서, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 니트로기가 바람직하다.
또한, n은, 각각 독립적으로 0~4의 정수이다. 그리고, n=0인 것이 바람직하다.
한편, Ar-D로는, 하기 식(II-7)~(II-27)로 나타내어지는 구조가 더욱 바람직하다. 한편, 하기 식에 있어서는, 결합 상태를 보다 명확하게 하기 위하여, Z1과 Z2를 편의상 기재하고 있다. 식 중, Z1, Z2, Ax, Ay, Q, R0, n은 상기와 동일한 의미를 나타낸다. 그 중에서도, 식(II-7), (II-8), (II-16), (II-18)이 특히 바람직하다.
[화학식 13]
Ax가 갖는 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 유기기는, 방향고리를 복수개 갖는 것이어도 되고, 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환을 갖는 것이어도 된다. 또한, 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환을 복수 갖는 경우에는, 각각이 동일해도 되고 달라도 된다.
한편, Ax가 갖는 방향족 탄화수소고리로는, 예를 들어, 벤젠고리, 나프탈렌고리, 안트라센고리, 페난트렌고리, 피렌고리, 플루오렌고리 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 방향족 탄화수소고리로는, 벤젠고리, 나프탈렌고리, 안트라센고리가 바람직하다.
또한, Ax가 갖는 방향족 복소환으로는, 예를 들어, 1H-이소인돌-1,3(2H)-디온고리, 1-벤조푸란고리, 2-벤조푸란고리, 아크리딘고리, 이소퀴놀린고리, 이미다졸고리, 인돌고리, 옥사디아졸고리, 옥사졸고리, 옥사졸로피라진고리, 옥사졸로피리딘고리, 옥사졸로피리다질고리, 옥사졸로피리미딘고리, 퀴나졸린고리, 퀴녹살린고리, 퀴놀린고리, 신놀린고리, 티아디아졸고리, 티아졸고리, 티아졸로피라진고리, 티아졸로피리딘고리, 티아졸로피리다진고리, 티아졸로피리미딘고리, 티오펜고리, 트리아진고리, 트리아졸고리, 나프티리딘고리, 피라진고리, 피라졸고리, 피라논고리, 피란고리, 피리딘고리, 피리다진고리, 피리미딘고리, 피롤고리, 페난트리딘고리, 프탈라진고리, 푸란고리, 벤조[c]티오펜고리, 벤조이소옥사졸고리, 벤조이소티아졸고리, 벤조이미다졸고리, 벤조옥사디아졸고리, 벤조옥사졸고리, 벤조티아디아졸고리, 벤조티아졸고리, 벤조티오펜고리, 벤조트리아진고리, 벤조트리아졸고리, 벤조피라졸고리, 벤조피라논고리, 디하이드로피란고리, 테트라하이드로피란고리, 디하이드로푸란고리, 및 테트라하이드로푸란고리 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 방향족 복소환으로는, 푸란고리, 피란고리, 티오펜고리, 옥사졸고리, 옥사디아졸고리, 티아졸고리, 티아디아졸고리 등의 단환의 방향족 복소환; 및 벤조티아졸고리, 벤조옥사졸고리, 퀴놀린고리, 1-벤조푸란고리, 2-벤조푸란고리, 벤조티오펜고리, 1H-이소인돌-1,3(2H)-디온고리, 벤조[c]티오펜고리, 티아졸로피리딘고리, 티아졸로피라진고리, 벤조이소옥사졸고리, 벤조옥사디아졸고리, 및 벤조티아디아졸고리 등의 축합고리의 방향족 복소환이 바람직하다.
Ax가 갖는 방향고리는 치환기를 갖고 있어도 된다. 이러한 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수 1~6의 알킬기; 비닐기, 알릴기 등의 탄소수 2~6의 알케닐기; 트리플루오로메틸기 등의 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기; 디메틸아미노기 등의 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기 등의 탄소수 1~6의 알콕시기; 니트로기; 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; -OCF3; -C(=O)-Rb; -O-C(=O)-Rb; -C(=O)-O-Rb; 및 -SO2Ra; 등을 들 수 있다. 여기서, Rb는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기를 나타낸다. 또한, Ra는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다. 이들 중에서도, Ax가 갖는 방향고리의 치환기로는, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~6의 알킬기, 및 탄소수 1~6의 알콕시기가 바람직하다.
한편, Ax는, 상술한 치환기에서 선택되는 복수의 치환기를 갖고 있어도 된다. Ax가 복수의 치환기를 갖는 경우, 치환기는 동일해도 되고 상이해도 된다.
Rb의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기의 탄소수 1~20의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 1-메틸펜틸기, 1-에틸펜틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, n-트리데실기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기, n-노나데실기, 및 n-이코실기 등을 들 수 있다. 한편, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~20의 알킬기의 탄소수는, 1~12인 것이 바람직하고, 4~10인 것이 더욱 바람직하다.
Rb의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기의 탄소수 2~20의 알케닐기로는, 비닐기, 프로페닐기, 이소프로페닐기, 부테닐기, 이소부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기, 헵테닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기, 운데세닐기, 도데세닐기, 트리데세닐기, 테트라데세닐기, 펜타데세닐기, 헥사데세닐기, 헵타데세닐기, 옥타데세닐기, 노나데세닐기, 및 이코세닐기 등을 들 수 있다.
치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기의 탄소수는, 2~12인 것이 바람직하다.
Rb의 탄소수 1~20의 알킬기 및 탄소수 2~20의 알케닐기의 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 디메틸아미노기 등의 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1~20의 알콕시기; 메톡시메톡시기, 메톡시에톡시기 등의, 탄소수 1~12의 알콕시기로 치환된 탄소수 1~12의 알콕시기; 니트로기; 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; 트리아졸릴기, 피롤릴기, 푸라닐기, 티오페닐기, 벤조티아졸-2-일티오기 등의, 탄소수 2~20의 방향족 복소환기; 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 탄소수 3~8의 시클로알킬기; 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등의 탄소수 3~8의 시클로알킬옥시기; 테트라하이드로푸라닐기, 테트라하이드로피라닐기, 디옥솔라닐기, 디옥사닐기 등의 탄소수 2~12의 고리형 에테르기; 페녹시기, 나프톡시기 등의 탄소수 6~14의 아릴옥시기; 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, -CH2CF3 등의, 적어도 1개의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 1~12의 플루오로알킬기; 벤조푸릴기; 벤조피라닐기; 벤조디옥솔릴기; 및 벤조디옥사닐기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, Rb의 탄소수 1~20의 알킬기 및 탄소수 2~20의 알케닐기의 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1~20의 알콕시기; 니트로기; 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; 푸라닐기, 티오페닐기 등의, 탄소수 2~20의 방향족 복소환기; 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 탄소수 3~8의 시클로알킬기; 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, -CH2CF3 등의, 적어도 1개의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 1~12의 플루오로알킬기가 바람직하다.
한편, Rb의 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 2~20의 알케닐기는, 상술한 치환기에서 선택되는 복수의 치환기를 갖고 있어도 된다. Rb의 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 2~20의 알케닐기가 복수의 치환기를 갖는 경우, 복수의 치환기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.
Rb의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기의 탄소수 3~12의 시클로알킬기로는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로옥틸기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 시클로펜틸기, 시클로헥실기가 바람직하다.
Rb의 탄소수 3~12의 시클로알킬기의 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 디메틸아미노기 등의 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기; 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수 1~6의 알킬기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기 등의 탄소수 1~6의 알콕시기; 니트로기; 및, 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, Rb의 탄소수 3~12의 시클로알킬기의 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수 1~6의 알킬기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기 등의 탄소수 1~6의 알콕시기; 니트로기; 및, 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기가 바람직하다.
한편, Rb의 탄소수 3~12의 시클로알킬기는, 복수의 치환기를 갖고 있어도 된다. Rb의 탄소수 3~12의 시클로알킬기가 복수의 치환기를 갖는 경우, 복수의 치환기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.
Rb의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기의 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기로는, 탄소수 5~12의 방향족 탄화수소고리기가 바람직하고, 구체적으로는, 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 페닐기가 바람직하다.
치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기의 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 디메틸아미노기 등의 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1~20의 알콕시기; 메톡시메톡시기, 메톡시에톡시기 등의, 탄소수 1~12의 알콕시기로 치환된 탄소수 1~12의 알콕시기; 니트로기; 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; 트리아졸릴기, 피롤릴기, 푸라닐기, 티오페닐기 등의, 탄소수 2~20의 방향족 복소환기; 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 탄소수 3~8의 시클로알킬기; 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등의 탄소수 3~8의 시클로알킬옥시기; 테트라하이드로푸라닐기, 테트라하이드로피라닐기, 디옥솔라닐기, 디옥사닐기 등의 탄소수 2~12의 고리형 에테르기; 페녹시기, 나프톡시기 등의 탄소수 6~14의 아릴옥시기; 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, -CH2CF3 등의, 적어도 1개의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 1~12의 플루오로알킬기; -OCF3; 벤조푸릴기; 벤조피라닐기; 벤조디옥솔릴기; 벤조디옥사닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기의 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1~20의 알콕시기; 니트로기; 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; 푸라닐기, 티오페닐기 등의, 탄소수 2~20의 방향족 복소환기; 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 탄소수 3~8의 시클로알킬기; 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, -CH2CF3 등의, 적어도 1개의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 1~12의 플루오로알킬기; -OCF3에서 선택되는 적어도 1개의 치환기가 바람직하다.
한편, 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기는, 복수의 치환기를 갖고 있어도 된다. 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기가 복수의 치환기를 갖는 경우, 치환기는 동일해도 되고 상이해도 된다.
여기서, Ax가 갖는 방향고리는, 동일한, 또는 상이한 치환기를 복수 갖고 있어도 되고, 이웃한 2개의 치환기가 하나가 되어 결합하여 고리를 형성하고 있어도 된다. 형성되는 고리는 단환이어도 되고, 축합 다환이어도 되며, 불포화 고리여도 되고, 포화 고리여도 된다.
한편, Ax의 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 유기기의 「탄소수」는, 치환기의 탄소 원자를 포함하지 않는 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환 자체의 탄소수를 의미한다.
그리고, Ax의, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 유기기로는, 예를 들어, 이하의 1)~5):
1) 적어도 하나의 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리를 갖는 탄소수 6~40의 탄화수소고리기,
2) 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 탄소수 2~40의 복소환기,
3) 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 적어도 하나로 치환된 탄소수 1~12의 알킬기,
4) 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 적어도 하나로 치환된 탄소수 2~12의 알케닐기, 및
5) 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 적어도 하나로 치환된 탄소수 2~12의 알키닐기
를 들 수 있다.
상술한 1)의, 「적어도 하나의 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리를 갖는 탄소수 6~40의 탄화수소고리기」에 있어서의 방향족 탄화수소고리의 구체예로는, Ax가 갖는 방향족 탄화수소고리의 구체예로서 열기한 것과 동일한 것을 들 수 있다. 그리고, 상술한 1)의 탄화수소고리기로는, 예를 들어, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기(페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트레닐기, 피레닐기, 및 플루오레닐기 등), 인다닐기, 1,2,3,4-테트라하이드로나프틸기, 그리고, 1,4-디하이드로나프틸기를 들 수 있다.
상술한 2)의, 「탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 탄소수 2~40의 복소환기」에 있어서의 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환의 구체예로는, Ax가 갖는 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환의 구체예로서 열기한 것과 동일한 것을 들 수 있다. 그리고, 상술한 2)의 복소환기로는, 예를 들어, 탄소수 2~30의 방향족 복소환기(프탈이미드기, 1-벤조푸라닐기, 2-벤조푸라닐기, 아크리디닐기, 이소퀴놀리닐기, 이미다졸릴기, 인돌리닐기, 푸라자닐기, 옥사졸릴기, 옥사졸로피라지닐기, 옥사졸로피리디닐기, 옥사졸로피리다지닐기, 옥사졸로피리미디닐기, 퀴나졸리닐기, 퀴녹살리닐기, 퀴놀릴기, 신놀리닐기, 티아디아졸릴기, 티아졸릴기, 티아졸로피라지닐기, 티아졸로피리디닐기, 티아졸로피리다지닐기, 티아졸로피리미디닐기, 티에닐기, 트리아지닐기, 트리아졸릴기, 나프티리디닐기, 피라지닐기, 피라졸릴기, 피라논닐기, 피라닐기, 피리딜기, 피리다지닐기, 피리미디닐기, 피롤릴기, 페난트리디닐기, 프탈라지닐기, 푸라닐기, 벤조[c]티에닐기, 벤조이소옥사졸릴기, 벤조이소티아졸릴기, 벤조이미다졸릴기, 벤조옥사졸릴기, 벤조티아디아졸릴기, 벤조티아졸릴기, 벤조티오페닐기, 벤조트리아지닐기, 벤조트리아졸릴기, 벤조피라졸릴기, 벤조피라논닐기, 디하이드로피라닐기, 테트라하이드로피라닐기, 디하이드로푸라닐기, 및 테트라하이드로푸라닐기 등), 2,3-디하이드로인돌릴기, 9,10-디하이드로아크리디닐기, 1,2,3,4-테트라하이드로퀴놀릴기를 들 수 있다.
상술한 3)의, 「탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 적어도 하나로 치환된 탄소수 1~12의 알킬기」에 있어서의 탄소수 1~12의 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기 등을 들 수 있다. 그리고, 상술한 3)에 있어서의 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 구체예로는, 상술한 1) 및 2)에 있어서, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 구체예로서 열기한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
상술한 4)의, 「탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 적어도 하나로 치환된 탄소수 2~12의 알케닐기」에 있어서의 탄소수 2~12의 알케닐기의 구체예로는, 비닐기, 알릴기 등을 들 수 있다. 그리고, 상술한 4)에 있어서의 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 구체예로는, 상술한 1) 및 2)에 있어서, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 구체예로서 열기한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
상술한 5)의, 「탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 적어도 하나로 치환된 탄소수 2~12의 알키닐기」에 있어서의 탄소수 2~12의 알키닐기의 구체예로는, 에티닐기, 프로피닐기 등을 들 수 있다. 그리고, 상술한 5)에 있어서의 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 구체예로는, 상술한 1) 및 2)에 있어서, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 구체예로서 열기한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
한편, 상기 1)~5)에 있어서 열거한 유기기는, 1 또는 복수의 치환기를 갖고 있어도 된다. 복수의 치환기를 갖는 경우에는, 복수의 치환기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.
이러한 치환기로는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수 1~6의 알킬기; 비닐기, 알릴기 등의 탄소수 2~6의 알케닐기; 트리플루오로메틸기 등의 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기; 디메틸아미노기 등의 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기 등의 탄소수 1~6의 알콕시기; 니트로기; 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; -OCF3; -C(=O)-Rb; -O-C(=O)-Rb; -C(=O)-O-Rb; -SO2Ra; 등을 들 수 있다. 여기서 Rb, Ra는, 상기와 동일한 의미를 나타내고, 그 호적예도 상기와 동일하다.
이들 중에서도, 상기 1)~5)에 있어서 열거한 유기기가 갖는 치환기로는, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~6의 알킬기, 및 탄소수 1~6의 알콕시기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기가 바람직하다.
Ax로서의, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 유기기의 바람직한 구체예를 이하에 나타낸다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 것에 한정되는 것은 아니다. 한편, 하기 식 중, 「-」는 고리의 임의의 위치로부터 신장되는 N 원자(즉, 식(I)에 있어서 Ax와 결합하는 N 원자)와의 결합손을 나타낸다.
1) 적어도 하나의 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리를 갖는 탄소수 6~40의 탄화수소고리기의 구체예로는, 하기 식(1-1)~(1-21)로 나타내어지는 구조를 들 수 있고, 식(1-9)~(1-21) 등으로 나타내어지는 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기가 바람직하다.
[화학식 14]
2) 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 탄소수 2~40의 복소환기의 구체예로는, 하기 식(2-1)~(2-51)로 나타내어지는 구조를 들 수 있고, 식(2-12)~(2-51) 등으로 나타내어지는 탄소수 2~30의 방향족 복소환기가 바람직하다.
[화학식 15]
〔각 식 중, X는, -CH2-, -NRc-, 산소 원자, 황 원자, -SO- 또는 -SO2-를 나타내고,
Y 및 Z는, 각각 독립적으로, -NRc-, 산소 원자, 황 원자, -SO- 또는 -SO2-를 나타내고,
E는, -NRc-, 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다.
여기서, Rc는, 수소 원자, 또는 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.(단, 각 식 중에 있어서 산소 원자, 황 원자, -SO-, -SO2-는, 각각 인접하지 않는 것으로 한다.)〕
3) 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 적어도 하나로 치환된 탄소수 1~12의 알킬기의 구체예로는, 하기 식(3-1)~(3-8)로 나타내어지는 구조를 들 수 있다.
[화학식 16]
4) 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기의 적어도 하나로 치환된 탄소수 2~12의 알케닐기의 구체예로는, 하기 식(4-1)~(4-5)로 나타내어지는 구조를 들 수 있다.
[화학식 17]
5) 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나로 치환된 탄소수 2~12의 알키닐기의 구체예로는, 하기 식(5-1)~(5-2)로 나타내어지는 구조를 들 수 있다.
[화학식 18]
한편, 상술한 Ax의 바람직한 구체예가 갖는 고리는, 1 또는 복수의 치환기를 갖고 있어도 된다. 그리고, 복수의 치환기를 갖는 경우에는, 복수의 치환기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. 이러한 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수 1~6의 알킬기; 비닐기, 알릴기 등의 탄소수 2~6의 알케닐기; 트리플루오로메틸기 등의 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기; 디메틸아미노기 등의 탄소수 1~12의 N,N-디알킬아미노기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기 등의 탄소수 1~6의 알콕시기; 니트로기; 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; -OCF3; -C(=O)-Rb; -O-C(=O)-Rb; -C(=O)-O-Rb; -SO2Ra; 등을 들 수 있다.
여기서, Rb 및 Ra는 상기와 동일한 의미를 나타내고, 그 호적예도 상기와 동일하다. 이들 중에서도, Ax가 갖는 상기 고리가 갖는 치환기로는, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~6의 알킬기, 및 탄소수 1~6의 알콕시기가 바람직하다.
상술한 것 중에서도, Ax는, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기, 탄소수 2~30의 방향족 복소환기, 또는 상기 식(1-9)으로 나타내어지는 기인 것이 바람직하다.
그리고, Ax는, 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기, 또는 탄소수 4~20의 방향족 복소환기인 것이 보다 바람직하고, 상기 식(1-14), 식(1-20), 식(2-27)~식(2-33), 식(2-35)~식(2-43), 및 식(2-50)~식(2-51)으로 나타내어지는 기의 어느 하나인 것이 한층 더 바람직하다.
한편, 전술한 바와 같이, 상기의 고리는 1 또는 복수의 치환기를 갖고 있어도 된다. 복수의 치환기를 갖는 경우에는, 복수의 치환기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. 이러한 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수 1~6의 알킬기; 비닐기, 알릴기 등의 탄소수 2~6의 알케닐기; 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기 등의 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기; 디메틸아미노기 등의 탄소수 1~12의 N,N-디알킬아미노기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기 등의 탄소수 1~6의 알콕시기; 니트로기; 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; -C(=O)-Rb; -O-C(=O)-Rb; -C(=O)-O-Rb; -SO2Ra; 등을 들 수 있다.
여기서, Rb 및 Ra는 상기와 동일한 의미를 나타내고, 그 호적예도 상기와 동일하다.
이들 중에서도, 상기 고리가 갖는 치환기로는 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~6의 알킬기, 및 탄소수 1~6의 알콕시기가 바람직하다.
그리고, Ax로는, 하기 식(V)으로 나타내어지는 기가 더욱 바람직하다.
[화학식 19]
여기서, 식(V) 중, R2~R5는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1~6의 플루오로알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, -OCF3, -O-C(=O)-Rb, 또는 -C(=O)-O-Rb를 나타내고, Rb는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기를 나타낸다. 그 중에서도, R2~R5가 모두 수소 원자이거나, R2~R5 중 적어도 하나가 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~6의 알콕시기이고, 또한 나머지가 수소 원자인 것이 바람직하다.
그리고, C-R2~C-R5끼리는, 전부 동일해도 되고, 상이해도 되며, 고리를 구성하는 적어도 하나의 C-R2~C-R5는, 질소 원자로 치환되어 있어도 된다.
여기서, 상기 식(V)으로 나타내어지는 기의 C-R2~C-R5 중 적어도 하나가 질소 원자로 치환된 기의 구체예를 하기에 나타낸다. 단, C-R2~C-R5 중 적어도 하나가 질소 원자로 치환된 기는 이들에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 20]
〔각 식 중, R2~R5는, 상기와 동일한 의미를 나타내고, 그 호적예도 상기와 동일하다.〕
또한, 상기 식(II-1)~(II-6)으로 나타내어지는 기의 Ay의, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~30의 유기기로는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알키닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, -SO2Ra, -O-C(=O)-Rb, -C(=O)-O-Rb, -C(=O)-Rb, -CS-NH-Rb, -NH-C(=O)-O-Rb, -O-C(=O)-NH-Rb, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~30의 방향족 복소환기를 들 수 있다.
여기서, Ra 및 Rb는, 상기와 동일한 의미를 나타내고, 그 호적예도 상기와 동일하다.
한편, Ay의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기의 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기의 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기의 탄소수 3~12의 시클로알킬기로는, 상술한 Rb의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기의 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기의 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기의 탄소수 3~12의 시클로알킬기의 구체예로서 열기한 것과 동일한 것을 들 수 있다. 또한, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기의 탄소수는, 1~10인 것이 바람직하고, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기의 탄소수는, 2~10인 것이 바람직하고, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기의 탄소수는, 3~10인 것이 바람직하다.
또한, Ay의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알키닐기의 탄소수 2~20의 알키닐기로는, 에티닐기, 프로피닐기, 2-프로피닐기(프로파르길기), 부티닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기, 펜티닐기, 2-펜티닐기, 헥시닐기, 5-헥시닐기, 헵티닐기, 옥티닐기, 2-옥티닐기, 노나닐기, 데카닐기, 7-데카닐기 등을 들 수 있다.
그리고, Ay의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 탄소수 2~20의 알키닐기의 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자; 시아노기; 디메틸아미노기 등의 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기; 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기, 부톡시기 등의 탄소수 1~20의 알콕시기; 메톡시메톡시기, 메톡시에톡시기 등의, 탄소수 1~12의 알콕시기로 치환된 탄소수 1~12의 알콕시기; 니트로기; 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; 트리아졸릴기, 피롤릴기, 푸라닐기, 티오페닐기 등의, 탄소수 2~20의 방향족 복소환기; 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 탄소수 3~8의 시클로알킬기; 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등의 탄소수 3~8의 시클로알킬옥시기; 테트라하이드로푸라닐기, 테트라하이드로피라닐기, 디옥솔라닐기, 디옥사닐기 등의 탄소수 2~12의 고리형 에테르기; 페녹시기, 나프톡시기 등의 탄소수 6~14의 아릴옥시기; 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, -CH2CF3 등의, 적어도 1개의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 1~12의 플루오로알킬기; 벤조푸릴기; 벤조피라닐기; 벤조디옥솔릴기; 벤조디옥사닐기; -O-C(=O)-Rb; -C(=O)-Rb; -C(=O)-O-Rb; -SO2Ra; -SRb; -SRb로 치환된 탄소수 1~12의 알콕시기; 수산기; 등을 들 수 있다. 여기서, Ra 및 Rb는, 상기와 동일한 의미를 나타내고, 그 호적예도 상기와 동일하다.
한편, Ay의 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 2~20의 알케닐기, 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 탄소수 2~20의 알키닐기는, 상술한 치환기를 복수 갖고 있어도 되고, 복수의 치환기를 갖는 경우에는, 복수의 치환기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.
또한, Ay의 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기, 그리고, 그들의 치환기로는, 각각 Ax의 방향족 탄화수소고리기 및 방향족 복소환기, 그리고, 그들의 치환기로서 열기한 것과 동일한 것을 들 수 있다. Ay의 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환기는, 상기 열기한 것에서 선택되는 복수의 치환기를 갖고 있어도 된다. Ay의 방향족 탄화수소고리기 및 방향족 복소환기가 복수의 치환기를 갖는 경우에는, 복수의 치환기는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. 또한, Ay의 상기 방향족 탄화수소고리기의 탄소수는, 6~20인 것이 바람직하고, 6~18인 것이 보다 바람직하며, 6~12인 것이 더욱 바람직하다. 또한, Ay의 상기 방향족 복소환기의 탄소수는, 2~20인 것이 바람직하고, 2~18인 것이 보다 바람직하다.
상술한 것 중에서도, Ay로는, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알키닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 6~18의 방향족 탄화수소고리기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~18의 방향족 복소환기가 바람직하다. 또한, Ay로는, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~18의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~18의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~18의 알키닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~10의 시클로알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 6~12의 방향족 탄화수소고리기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~18의 방향족 복소환기가 보다 바람직하다. 그 중에서도, Ay로는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~18의 알킬기가 특히 바람직하고, 그 중에서도, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~12의 알킬기가 특히 더 바람직하다.
또한, 전술한 식(I) 중, Y0, Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -O-CH2-, -CH2-O-, -O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S-, -S-C(=O)-, -NR10-C(=O)-, -C(=O)-NR10-, -CF2-O-, -O-CF2-, -CH2-CH2-, -CF2-CF2-, -O-CH2-CH2-O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH-, -CH2-CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-CH2-, -CH=CH-, -N=CH-, -CH=N-, -N=C(CH3)-, -C(CH3)=N-, -N=N-, -CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-, -CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-, 또는 -C≡C-를 나타낸다. 여기서, R10은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
그 중에서도, Z1은, -C(=O)-O-인 것이 바람직하고, Z2는, -O-C(=O)-인 것이 바람직하다.
또한, 전술한 식(I) 중, G는, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기를 나타내고, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~20의 고리형 지방족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 방향족기가 바람직하다.
그리고, 상술한 G인 알킬렌기, 고리형 지방족기, 및 방향족기의 치환기로는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자; 메틸기, 에틸기 등의 탄소수 1~6의 알킬기; 메톡시기, 이소프로폭시기 등의 탄소수 1~5의 알콕시기; 니트로기; 시아노기; 등을 들 수 있다. 상기 고리형 지방족기, 탄소수 5~20의 고리형 지방족기, 방향족기, 탄소수 2~20의 방향족기는, 상술한 치환기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖고 있어도 된다. 한편, 치환기를 복수 갖는 경우에는, 각 치환기는 동일해도 되고 상이해도 된다.
또한, G의 알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-헥실렌기 등을 들 수 있다.
G의 고리형 지방족기의 구체예로는, 시클로펜탄-1,3-디일, 시클로헥산-1,4-디일, 1,4-시클로헵탄-1,4-디일, 시클로옥탄-1,5-디일 등의 탄소수 5~20의 시클로알칸디일기; 데카하이드로나프탈렌-1,5-디일, 데카하이드로나프탈렌-2,6-디일 등의 탄소수 5~20의 비시클로알칸디일기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, G의 고리형 지방족기로는, 치환되어 있어도 되는 탄소수 5~20의 시클로알칸디일기가 바람직하고, 시클로헥산디일기가 보다 바람직하며, 특히, 하기 식(a)으로 나타내어지는 시클로헥산-1,4-디일기가 바람직하다. G의 고리형 지방족기로는, 식(a1)으로 나타내어지는 트랜스체여도 되고, 식(a2)으로 나타내어지는 시스체여도 되고, 혹은, 시스체와 트랜스체의 혼합물이어도 되지만, 식(a1)으로 나타내어지는 트랜스체가 보다 바람직하다.
[화학식 21]
(식 중, R0 및 n은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)
또한, G의 방향족기의 구체예로는, 1,4-페닐렌기, 1,4-나프틸렌기, 1,5-나프틸렌기, 2,6-나프틸렌기, 4,4'-비페닐렌기 등의, 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기; 푸란-2,5-디일, 티오펜-2,5-디일, 피리딘-2,5-디일, 피라진-2,5-디일 등의, 탄소수 2~20의 방향족 복소환기; 등을 들 수 있다. 그 중에서도, G의 방향족기로는, 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기가 바람직하고, 페닐렌기가 더욱 바람직하며, 특히, 하기 식(b)으로 나타내어지는 1,4-페닐렌기가 바람직하다.
[화학식 22]
(식 중, R0 및 n은 상기와 동일한 의미를 나타내고, 그 호적예도 상기와 동일하다. 한편, R0을 복수 갖는 경우에는, 각 R0은 동일해도 되고 상이해도 된다.)
또한, 전술한 식(I) 중, L1 및 L2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬렌기, 및 탄소수 1~20의 알킬렌기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)의 적어도 하나가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환된 기의 어느 하나의 유기기이고, L1 및 L2의 상기 유기기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 1~5의 알킬기, 탄소수 1~5의 알콕시기, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 한편, 「탄소수 1~20의 알킬렌기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)의 적어도 하나가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환된 기」에 있어서, -O-는, 알킬렌기 중의 연속된 메틸렌기를 치환하지 않는(즉, -O-O-의 구조를 형성하지 않는) 것이 바람직하고, -C(=O)-는, 알킬렌기 중의 연속된 메틸렌기를 치환하지 않는(즉, -C(=O)-C(=O)-의 구조를 형성하지 않는) 것이 바람직하다. 또한, L1 및 L2의 양말단의 메틸렌기(-CH2-)가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되는 일은 없다.
여기서, L1 및 L2의 유기기로는, 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬렌기, 또는 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 -(CH2)j-C(=O)-O-(CH2)k-로 나타내어지는 기(식 중, j, k는 각각 2~12의 정수를 나타내고, 바람직하게는 2~8의 정수를 나타낸다.)가 바람직하고, 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 2~12의 알킬렌기가 보다 바람직하고, 비치환의 탄소수 2~12의 알킬렌기가 더욱 바람직하며, -(CH2)l-로 나타내어지는 기(식 중, l은 2~12의 정수를 나타내고, 바람직하게는 2~8의 정수를 나타낸다.)가 특히 바람직하다.
또한, 전술한 식(I) 중, A1, A2, B1 및 B2는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기를 나타내고, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~20의 고리형 지방족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 방향족기가 바람직하다. 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 및 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기로는, 상기 G의 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 및 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기로서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있고, 예시한 것에서 선택되는 복수의 치환기를 갖고 있어도 된다. 고리형 지방족기 및 방향족기가 복수의 치환기를 갖는 경우, 치환기는 동일해도 되고 상이해도 된다.
여기서, 중합성 화합물(I)에 있어서, 상기 G와 A2의 조합으로는, G가 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~20의 시클로알칸디일기이고, A2가 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~20의 시클로알칸디일기인 것이 바람직하고, G가 치환기를 갖고 있어도 되는 시클로헥산디일기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기이고, A2가 치환기를 갖고 있어도 되는 시클로헥산디일기인 것이 보다 바람직하며, G가 식(a) 또는 식(b)으로 나타내어지는 기이고, A2가 식(a)으로 나타내어지는 기인 것이 더욱 바람직하다. 한편, 식(a)으로 나타내어지는 기는, 식(a1)으로 나타내어지는 기인 것이 특히 바람직하다.
또한, 전술한 식(I) 중, Y1~Y4는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -NR11-C(=O)-, -C(=O)-NR11-, -O-C(=O)-O-, -NR11-C(=O)-O-, -O-C(=O)-NR11-, 또는 -NR11-C(=O)-NR12-를 나타낸다. 여기서, R11 및 R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
그 중에서도, Y1~Y4는, 각각 독립적으로, -O-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-O-, 또는 -O-C(=O)-인 것이 바람직하다.
또한, 전술한 식(I) 중, P1 및 P2의 일방은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고, P1 및 P2의 타방은, 중합성기를 나타낸다. P1 및 P2의 중합성기로는, 예를 들어, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기 등의 CH2=CR1-C(=O)-O-로 나타내어지는 기(R1은, 수소 원자, 메틸기, 또는 염소 원자를 나타낸다.), 비닐기, p-스틸벤기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 카르복실기, 메틸카르보닐기, 수산기, 아미드기, 탄소수 1~4의 알킬아미노기, 아미노기, 에폭시기, 옥세타닐기, 알데히드기, 이소시아네이트기 또는 티오이소시아네이트기 등이 예시된다. 그 중에서도, 하기 식(IV)과 같은, CH2=CR1-C(=O)-O-로 나타내어지는 기가 바람직하고, CH2=CH-C(=O)-O-(아크릴로일옥시기), CH2=C(CH3)-C(=O)-O-(메타크릴로일옥시기)가 보다 바람직하며, 아크릴로일옥시기가 더욱 바람직하다. 한편, 식(I)으로 나타내어지는 중합성 화합물 중에 2개의 R1이 존재하는 경우, 그들은 동일해도 되고 상이해도 된다. 또한, P1 및 P2는, 상이해도 되지만, 동일한 중합성기인 것이 바람직하다.
[화학식 23]
〔식(IV) 중, R1은, 수소 원자, 메틸기 또는 염소 원자를 나타낸다〕
또한, 전술한 식(I) 중, p 및 q는, 각각 독립적으로, 0~2의 정수이다(단, p = 0 또한 q = 1, p = 1 또한 q = 2의 경우는 제외한다). p = 0 또는 1 또한 q = 0, 또는 p = 1 또한 q = 1인 것이 바람직하고, p = 0 또한 q = 0, 또는 p = 1 또한 q = 1인 것이 보다 바람직하다.
여기서, 전술한 식(I) 중, Ar-D로는, 상기 식(II-1)~(II-6)으로 나타내어지는 기 중에서도, (II-1) 또는 (II-4)로 나타내어지는 기가 바람직하다. 즉, 본 발명의 중합성 화합물은, 하기 식(III-1) 또는 (III-2)로 나타내어지는 중합성 화합물인 것이 바람직하다.
[화학식 24]
식(III-1) 및 (III-2) 중, P1, P2, L1, L2, A1, A2, B1, B2, Y0~Y4, G, Z1, Z2, p, q, R0, n, Ax, Ay, 및 Q는, 상기와 동일한 의미를 나타내고, 그 호적예도 상기와 동일하다.
상기 식(III-1) 및 (III-2)로 나타내어지는 중합성 화합물은, 단파장측의 파장 분산 특성이 한층 더 양호한 광학 필름 등의 제조를 가능하게 한다.
또한, 본 발명의 중합성 화합물은, 하기 식(VI-1) 또는 (VI-2)로 나타내어지는 중합성 화합물인 것이 바람직하다.
[화학식 25]
식(VI-1) 및 (VI-2) 중, R2~R5, G, Ay 및 Q는, 상기와 동일한 의미를 나타내고, 그 호적예도 상기와 동일하다.
상술한 중합성 화합물(I), (III-1), (III-2), (VI-1), 및 (VI-2)는, 기지의 합성 반응을 조합하여 합성할 수 있다. 즉, 여러 가지 문헌(예를 들어, MARCH'S ADVANCED ORGANIC CHEMISTRY(WILEY), 샌들러·카로 「관능기별 유기 화합물 합성법」 이나모토 나오키 공역(히로카와 서점))에 기재된 방법을 참조하여 합성할 수 있다.
(2) 중합성 조성물
본 발명의 중합성 조성물은, 상술한 중합성 화합물과, 중합 개시제를 함유한다.
한편, 본 발명의 중합성 조성물은, 후술하는 바와 같이, 본 발명의 고분자, 광학 필름, 광학 이방체의 제조 원료로서 유용하다. 그리고, 본 발명의 중합성 조성물에 의하면, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름 등을 양호하게 제조할 수 있다.
여기서, 중합 개시제는, 중합성 조성물에 포함되어 있는 중합성 화합물의 중합 반응을 보다 효율적으로 행하는 관점에서 배합된다.
그리고, 사용하는 중합 개시제로는, 라디칼 중합 개시제, 음이온 중합 개시제, 양이온 중합 개시제 등을 들 수 있다.
라디칼 중합 개시제로는, 가열함으로써, 중합성 화합물의 중합을 개시할 수 있는 활성종이 발생하는 화합물인 열 라디칼 발생제;나, 가시광선, 자외선(i선 등), 원자외선, 전자선, X선 등의 노광광의 노광에 의해, 중합성 화합물의 중합을 개시할 수 있는 활성종이 발생하는 화합물인 광 라디칼 발생제;를 어느 것이나 사용 가능하지만, 광 라디칼 발생제를 사용하는 것이 호적하다.
광 라디칼 발생제로는, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, O-아실옥심계 화합물, 오늄염계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 디아조계 화합물, 이미드술포네이트계 화합물 등을 들 수 있다. 이들 화합물은, 노광에 의해 활성 라디칼 또는 활성산, 혹은 활성 라디칼과 활성산의 양방을 발생하는 성분이다. 광 라디칼 발생제는, 1종 단독으로, 혹은 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
아세토페논계 화합물의 구체예로는, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 1-하이드록시시클로헥실·페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 1,2-옥탄디온, 2-벤질-2-디메틸아미노-4'-모르폴리노부티로페논 등을 들 수 있다.
비이미다졸계 화합물의 구체예로는, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등을 들 수 있다.
한편, 본 발명에 있어서는, 광중합 개시제(광 라디칼 발생제)로서 비이미다졸계 화합물을 사용하는 경우, 수소 공여체를 병용하는 것이, 감도를 더욱 개량할 수 있는 점에서 바람직하다.
여기서, 「수소 공여체」란, 노광에 의해 비이미다졸계 화합물로부터 발생한 라디칼에 대하여, 수소 원자를 공여할 수 있는 화합물을 의미한다. 수소 공여체로는, 하기에서 정의하는 메르캅탄계 화합물, 아민계 화합물 등이 바람직하다.
메르캅탄계 화합물로는, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2,5-디메르캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-메르캅토-2,5-디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다. 아민계 화합물로는, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 에틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조니트릴 등을 들 수 있다.
트리아진계 화합물로는, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-〔2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐〕-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-〔2-(푸란-2-일)에테닐〕-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-〔2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐〕-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-〔2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐〕-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등의 할로메틸기를 갖는 트리아진계 화합물을 들 수 있다.
O-아실옥심계 화합물의 구체예로는, 1-〔4-(페닐티오)페닐〕-헵탄-1,2-디온 2-(O-벤조일옥심), 1-〔4-(페닐티오)페닐〕-옥탄-1,2-디온 2-(O-벤조일옥심), 1-〔4-(벤조일)페닐〕-옥탄-1,2-디온 2-(O-벤조일옥심), 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-에탄온 1-(O-아세틸옥심), 1-[9-에틸-6-(3-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-에탄온 1-(O-아세틸옥심), 1-(9-에틸-6-벤조일-9H-카르바졸-3-일)-에탄온 1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라하이드로푸라닐벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라하이드로피라닐벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라하이드로푸라닐벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라하이드로피라닐벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-〔9-에틸-6-{2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥솔라닐)벤조일}-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라하이드로푸라닐메톡시벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라하이드로피라닐메톡시벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라하이드로푸라닐메톡시벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라하이드로피라닐메톡시벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-〔9-에틸-6-{2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥솔라닐)메톡시벤조일}-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심) 등을 들 수 있다.
또한, 광 라디칼 발생제로서, 시판품을 그대로 사용할 수도 있다. 구체예로는, BASF사 제조의 상품명: Irgacure907, 상품명: Irgacure184, 상품명: Irgacure369, 상품명: Irgacure651, 상품명: Irgacure819, 상품명: Irgacure907, 및 상품명: IrgacureOXE02, 그리고, ADEKA사 제조의 상품명: 아데카 아크르즈 N1919T 등을 들 수 있다.
상기 음이온 중합 개시제로는, 알킬리튬 화합물; 비페닐, 나프탈렌, 피렌 등의 모노리튬염 또는 모노나트륨염; 디리튬염이나 트리리튬염 등의 다관능성 개시제; 등을 들 수 있다.
또한, 상기 양이온 중합 개시제로는, 황산, 인산, 과염소산, 트리플루오로메탄술폰산 등의 프로톤산; 삼불화붕소, 염화알루미늄, 사염화티탄, 사염화주석과 같은 루이스산; 방향족 오늄염 또는 방향족 오늄염과 환원제의 병용계;를 들 수 있다.
이들 중합 개시제는 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
한편, 본 발명의 중합성 조성물에 있어서, 중합 개시제의 배합 비율은, 상술한 중합성 화합물 100 질량부에 대하여, 통상 0.1~30 질량부, 바람직하게는 0.5~10 질량부이다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물에는, 표면 장력을 조정하기 위하여, 계면 활성제를 배합하는 것이 바람직하다. 당해 계면 활성제로는, 특별히 한정은 없지만, 통상, 비이온계 계면 활성제가 바람직하다. 당해 비이온계 계면 활성제로는, 시판품을 사용하면 되며, 예를 들어, 함불소기, 친수성기, 및 친유성기 함유 올리고머인 비이온계 계면 활성제, 예를 들어, AGC 세이미 케미컬사 제조의 서플론 시리즈(S242, S243, S386, S611, S651 등), DIC사 제조의 메가팩 시리즈(F251, F554, F556, F562, RS-75, RS-76-E 등), 네오스사 제조의 프터젠트 시리즈(FTX601AD, FTX602A, FTX601ADH2, FTX650A 등) 등을 들 수 있다. 또한, 이들 계면 활성제는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.
여기서, 본 발명의 중합성 조성물에 있어서, 계면 활성제의 배합 비율은, 전체 중합성 화합물 100 질량부에 대하여, 통상 0.01~10 질량부, 바람직하게는 0.01~2 질량부이다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물에는, 중합성 화합물, 중합 개시제, 계면 활성제 외에, 본 발명의 효과에 영향을 미치지 않는 범위에서, 다른 성분이 더 포함되어 있어도 된다. 다른 성분으로는, 금속, 금속 착물, 염료, 안료, 형광 재료, 인광 재료, 레벨링제, 틱소제, 겔화제, 다당류, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 항산화제, 이온 교환 수지, 산화티탄 등의 금속 산화물 등을 들 수 있다.
또한, 다른 성분으로는, 다른 공중합 가능한 단량체도 들 수 있다. 구체적으로는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 4-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시)벤조산-4'-메톡시페닐, 4-(6-메타크릴로일옥시헥실옥시)벤조산비페닐, 4-(2-아크릴로일옥시에틸옥시)벤조산-4'-시아노비페닐, 4-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시)벤조산-4'-시아노비페닐, 4-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시)벤조산-3',4'-디플루오로페닐, 4-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시)벤조산나프틸, 4-아크릴로일옥시-4'-데실비페닐, 4-아크릴로일옥시-4'-시아노비페닐, 4-(2-아크릴로일옥시에틸옥시)-4'-시아노비페닐, 4-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시)-4'-메톡시비페닐, 4-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시)-4'-(4''-플루오로벤질옥시)-비페닐, 4-아크릴로일옥시-4'-프로필시클로헥실페닐, 4-메타크릴로일-4'-부틸비시클로헥실, 4-아크릴로일-4'-아밀톨란, 4-아크릴로일-4'-(3,4-디플루오로페닐)비시클로헥실, 4-(2-아크릴로일옥시에틸)벤조산(4-아밀페닐), 4-(2-아크릴로일옥시에틸)벤조산(4-(4'-프로필시클로헥실)페닐), 상품명 「LC-242」(BASF사 제조), 트랜스-1,4-비스[4-[6-(아크릴로일옥시)헥실옥시]페닐]시클로헥산디카르복실레이트, 그리고, 일본 공개특허공보 2007-002208호, 일본 공개특허공보 2009-173893호, 일본 공개특허공보 2009-274984호, 일본 공개특허공보 2010-030979호, 일본 공개특허공보 2010-031223호, 일본 공개특허공보 2011-006360호, 일본 공개특허공보 2010-24438호, 국제 공개 제2012/141245호, 국제 공개 제2012/147904호, 국제 공개 제2012/169424호, 국제 공개 제2012/76679호, 국제 공개 제2013/180217호, 국제 공개 제2014/010325호, 국제 공개 제2014/061709호, 국제 공개 제2014/065176호, 국제 공개 제2014/126113호, 국제 공개 제2015/025793호, 국제 공개 제2015/064698호, 국제 공개 제2015/122384호, 및 국제 공개 제2015/122385호 등에 개시되어 있는 화합물 등의 공중합 가능한 단량체를 들 수 있다.
이들 다른 성분의 배합 비율은, 전체 중합성 화합물 100 질량부에 대하여, 통상 0.005~20 질량부이다.
본 발명의 중합성 조성물은, 통상, 중합성 화합물, 중합 개시제, 및 소망에 따라 배합되는 다른 성분 등의 소정량을, 적당한 유기 용매에 혼합·용해시킴으로써 조제할 수 있다.
사용하는 유기 용매로는, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸에틸케톤 등의 케톤류; 아세트산부틸, 아세트산아밀 등의 아세트산에스테르류; 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소류; 1,4-디옥산, 시클로펜틸메틸에테르, 테트라하이드로푸란, 테트라하이드로피란, 1,3-디옥솔란 등의 에테르류; 등을 들 수 있다.
(3) 고분자
본 발명의 고분자는, 상술한 중합성 화합물, 또는 상술한 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 것이다.
여기서, 「중합」이란, 통상의 중합 반응 외에, 가교 반응을 포함하는 넓은 의미에서의 화학 반응을 의미하는 것으로 한다.
그리고, 본 발명의 고분자는, 통상, 중합성 화합물(I)에서 유래하는 하기의 단량체 단위(반복 단위(I)')를 갖고 있다.
이하에, 일례로서, P1 및 P2로서 CH2=CR1-C(=O)-O-로 나타내어지는 중합성기를 갖는 중합성 화합물(I)을 사용한 경우의 반복 단위(I)'의 구조를 나타낸다.
[화학식 26]
〔식(I)' 중의 Ar, D, G, Z1, Z2, A1, A2, B1, B2, Y1, Y2, Y3, Y4, L1, L2, R1, p, 및 q는, 상기와 동일한 의미이다.〕
한편, 본 발명의 고분자는, 중합성 화합물(I)을 사용하여 조제하고 있으므로, 광학 필름 등의 구성 재료로서 양호하게 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 고분자는, 특별히 한정되지 않고, 필름상, 분체상, 분체가 집합한 층상 등의 용도에 따른 임의의 형상으로 하여 사용할 수 있다.
구체적으로는, 고분자의 필름은, 후술하는 광학 필름 및 광학 이방체의 구성 재료로서 양호하게 사용할 수 있고, 고분자의 가루는, 도료, 위조 방지 물품, 시큐리티 물품 등에 이용할 수 있고, 고분자의 가루로 이루어지는 층은, 광학 이방체의 구성 재료로서 양호하게 사용할 수 있다.
그리고, 본 발명의 고분자는, 구체적으로는, (α) 적당한 유기 용매 중에서, 중합성 화합물, 또는 중합성 조성물의 중합 반응을 행한 후, 목적으로 하는 고분자를 단리하고, 얻어지는 고분자를 적당한 유기 용매에 용해하여 용액을 조제하고, 이 용액을 적당한 기판 상에 도공하여 얻어진 도막을 건조 후, 소망에 따라 가열함으로써 얻는 방법, (β) 중합성 화합물, 또는 중합성 조성물을 유기 용매에 용해하고, 이 용액을 공지의 도공법에 의해 기판 상에 도포한 후, 탈용매하고, 이어서 가열 또는 활성 에너지선을 조사함으로써 중합 반응을 행하는 방법 등에 의해 호적하게 제조할 수 있다.
상기 (α)의 방법에 있어서 중합 반응에 사용하는 유기 용매로는, 불활성인 것이면, 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소; 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸에틸케톤 등의 케톤류; 아세트산부틸, 아세트산아밀 등의 아세트산에스테르류; 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소류; 시클로펜틸메틸에테르, 테트라하이드로푸란, 테트라하이드로피란 등의 에테르류; 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 취급성이 우수한 관점에서, 비점이 60~250℃인 것이 바람직하고, 60~150℃인 것이 보다 바람직하다.
또한, 상기 (α)의 방법에 있어서, 단리한 고분자를 용해하기 위한 유기 용매, 및 상기 (β)의 방법에서 사용하는 유기 용매로는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논 등의 케톤계 용제; 아세트산부틸, 아세트산아밀 등의 에스테르계 용제; 디클로로메탄, 클로로포름, 디클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소계 용제; 테트라하이드로푸란, 테트라하이드로피란, 1,2-디메톡시에탄, 1,4-디옥산, 시클로펜틸메틸에테르, 1,3-디옥솔란 등의 에테르계 용제; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, γ-부티로락톤, N-메틸피롤리돈 등의 비프로톤성 극성 용제; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 취급이 용이한 점에서, 용매의 비점이 60~200℃인 것이 바람직하다. 이들 용제는 단독으로도 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
상기 (α) 및 (β)의 방법에 있어서 사용하는 기판으로는, 유기, 무기를 불문하고, 공지 관용의 재질의 것을 사용할 수 있다. 예를 들어, 유기 재료로는, 폴리시클로올레핀〔예를 들어, 제오넥스, 제오노아(등록상표; 닛폰 제온사 제조), 아톤(등록상표; JSR사 제조), 및 아펠(등록상표; 미츠이 화학사 제조)〕, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리메타크릴산메틸, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 폴리테트라플루오로에틸렌, 셀룰로오스, 3아세트산셀룰로오스, 폴리에테르술폰 등을 들 수 있고, 무기 재료로는, 실리콘, 유리, 방해석 등을 들 수 있다.
또한, 사용하는 기판은, 단층의 것이어도 되고, 적층체여도 된다.
기판으로는, 유기 재료로 이루어지는 기판이 바람직하고, 유기 재료를 필름상으로 한 수지 필름이 더욱 바람직하다.
한편, 기판으로는, 후술하는 광학 이방체의 제작에 사용되는 기판 등도 들 수 있다.
또한, (α)의 방법에 있어서 고분자의 용액을 기판에 도포하는 방법, 및 (β)의 방법에 있어서 중합 반응용의 용액을 기판에 도포하는 방법으로는, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 커튼 코팅법, 압출 코팅법, 롤 코팅법, 스핀 코팅법, 딥 코팅법, 바 코팅법, 스프레이 코팅법, 슬라이드 코팅법, 인쇄 코팅법, 그라비아 코팅법, 다이 코팅법, 캡 코팅법 등을 이용할 수 있다.
또한, 상기 (α) 및 (β)의 방법에 있어서의 건조 또는 탈용매의 방법으로는, 자연 건조, 가열 건조, 감압 건조, 감압 가열 건조 등을 이용할 수 있다.
또한, 중합성 화합물 및 중합성 조성물을 중합시키는 방법으로는, 활성 에너지선을 조사하는 방법이나 열 중합법 등을 들 수 있으나, 가열을 필요로 하지 않고, 실온에서 반응이 진행되는 점에서 활성 에너지선을 조사하는 방법이 바람직하다. 그 중에서도, 조작이 간편한 점에서, 자외선 등의 광을 조사하는 방법이 바람직하다.
여기서, 광의 조사시의 온도는, 30℃ 이하로 하는 것이 바람직하다. 또한, 광조사 강도는, 통상 1 W/m2~10 kW/m2의 범위, 바람직하게는 5 W/m2~2 kW/m2의 범위이다.
상술한 바와 같이 하여 얻어진 고분자는, 기판으로부터 전사하여 사용하는 것도, 기판으로부터 박리하여 단체로 사용하는 것도, 기판으로부터 박리하지 않고 그대로 광학 필름 등의 구성 재료 등으로서 사용하는 것도 가능하다.
또한, 기판으로부터 박리한 고분자는, 기지의 방법으로 분쇄하여 분체상으로 하고 나서 사용할 수도 있다.
이상과 같이 하여 얻어지는 본 발명의 고분자의 수평균 분자량은, 바람직하게는 500~500,000, 더욱 바람직하게는 5,000~300,000이다. 그 수평균 분자량이 이러한 범위에 있으면, 높은 경도가 얻어지고, 취급성도 우수하기 때문에 바람직하다. 고분자의 수평균 분자량은, 단분산의 폴리스티렌을 표준 시료로 하고, 테트라하이드로푸란을 용리액으로 하여 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정할 수 있다.
그리고, 본 발명의 고분자에 의하면, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름 등을 얻을 수 있다.
(4) 광학 필름
본 발명의 광학 필름은, 본 발명의 고분자 및/또는 중합성 화합물을 사용하여 형성되고, 광학적인 기능을 갖는 층을 포함한다. 광학적인 기능이란, 단순한 투과, 반사, 굴절, 복굴절 등을 의미한다. 그리고, 본 발명의 광학 필름은, 본 발명의 고분자를 광학적인 기능을 갖는 층의 주된 구성 재료로 하는 광학 필름이거나, 혹은, 광학적인 기능을 갖는 층이 본 발명의 중합성 화합물을 함유하는 광학 필름일 수 있다. 바람직하게는, 본 발명의 고분자를 구성 재료로 하는 광학 필름은, 광학적인 기능을 갖는 층의 전체 구성 성분을 100 질량%로 한 경우에 본 발명의 고분자의 점유 비율이 50 질량% 초과이다. 또한, 바람직하게는, 본 발명의 중합성 화합물을 포함하는 광학 필름은, 광학적인 기능을 갖는 층의 전체 구성 성분을 100 질량%로 한 경우에, 본 발명의 중합성 화합물을 0.01 질량% 이상 함유한다.
여기서, 본 발명의 광학 필름은, 배향막을 갖고 있어도 되는 배향 기판 상에 형성된 채의 형태(배향 기판/(배향막)/광학 필름), 배향 기판과는 다른 투명 기판 필름 등에 광학 필름을 전사한 형태(투명 기판 필름/광학 필름), 또는 광학 필름에 자기 지지성이 있는 경우에는 광학 필름 단층 형태(광학 필름)의 어느 형태여도 된다.
한편, 배향막 및 배향 기판으로는, 후술하는 광학 이방체와 동일한 기판 및 배향막을 사용할 수 있다.
그리고, 본 발명의 광학 필름은, (A) 본 발명의 중합성 화합물을 포함하는 용액, 또는 중합성 조성물의 용액을 배향 기판 상에 도포하고, 얻어진 도막을 건조하고, 열처리(액정의 배향), 그리고, 광조사 및/또는 가열 처리(중합)를 행하는 방법이나, (B) 본 발명의 중합성 화합물 또는 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 액정성 고분자의 용액을 배향 기판 상에 도포하고, 임의로 얻어진 도막을 건조하는 방법이나, (C) 본 발명의 중합성 화합물 및 수지를 포함하는 용액을 배향 기판 상에 도포하고, 얻어진 도막을 건조하는 방법에 의해 제조할 수 있다.
본 발명의 광학 필름은, 광학 이방체, 액정 표시 소자용 배향막, 컬러 필터, 로 패스 필터, 광 편광 프리즘, 각종 광 필터 등에 사용할 수 있다.
한편, 본 발명의 광학 필름은, 엘립소미터로 측정한 파장 400, 410, 420, 430, 550 nm에 있어서의 위상차로부터 구해지는 하기 α~δ값이 소정의 범위 내에 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는, α값은, 0.10~0.75인 것이 바람직하고, 0.15 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.35 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, β값은, 0.40~0.75인 것이 바람직하고, 0.55 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, γ값은, 0.55~0.80인 것이 바람직하고, 0.60 이상인 것이 보다 바람직하다. 그리고, δ값은, 0.65~0.85인 것이 바람직하고, 0.70 이상인 것이 보다 바람직하다.
α = (400 nm에 있어서의 위상차)/(550 nm에 있어서의 위상차)
β = (410 nm에 있어서의 위상차)/(550 nm에 있어서의 위상차)
γ = (420 nm에 있어서의 위상차)/(550 nm에 있어서의 위상차)
δ = (430 nm에 있어서의 위상차)/(550 nm에 있어서의 위상차)
(5) 광학 이방체
본 발명의 광학 이방체는, 본 발명의 고분자를 구성 재료로 하는 층을 갖는다.
본 발명의 광학 이방체는, 예를 들어, 기판 상에 배향막을 형성하고, 그 배향막 상에, 본 발명의 고분자로 이루어지는 층(액정층)을 더 형성함으로써 얻을 수 있다. 한편, 본 발명의 광학 이방체는, 기판 상에 본 발명의 고분자로 이루어지는 층(액정층)을 직접 형성한 것이어도 되고, 본 발명의 고분자로 이루어지는 층(액정층)만으로 이루어지는 것이어도 된다.
한편, 고분자로 이루어지는 층은, 필름상의 고분자로 이루어지는 것이어도 되고, 분체상의 고분자의 집합체여도 된다.
여기서, 배향막은, 중합성 액정 화합물을 면내에서 일 방향으로 배향 규제하기 위하여 기판의 표면에 형성된다.
배향막은, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드 등의 폴리머를 함유하는 용액(배향막용 조성물)을 기판 상에 막상으로 도포하여, 건조시키고, 그리고 일 방향으로 러빙 처리 등을 함으로써 얻을 수 있다.
배향막의 두께는 0.001~5 μm인 것이 바람직하고, 0.001~1.0 μm인 것이 더욱 바람직하다.
러빙 처리의 방법은, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 나일론 등의 합성 섬유, 목면 등의 천연 섬유로 이루어지는 천이나 펠트를 휘감은 롤로 일정 방향으로 배향막을 문지르는 방법을 들 수 있다. 러빙 처리하였을 때에 발생하는 미분말(이물질)을 제거하여 배향막의 표면을 청정한 상태로 하기 위하여, 러빙 처리 후에 배향막을 이소프로필알코올 등에 의해 세정하는 것이 바람직하다.
또한, 러빙 처리하는 방법 이외에, 배향막의 표면에 편광 자외선을 조사하는 방법에 의해서도, 면내에서 일 방향으로 배향 규제하는 기능을 갖게 할 수 있다.
배향막을 형성하는 기판으로는, 유리 기판, 합성 수지 필름으로 이루어지는 기판 등을 들 수 있다. 상기 합성 수지로는, 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리이미드 수지, 폴리메틸메타크릴레이트 수지, 폴리술폰 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리염화비닐 수지, 2아세트산셀룰로오스, 3아세트산셀룰로오스, 및 지환식 올레핀 폴리머 등의 열가소성 수지를 들 수 있다.
지환식 올레핀 폴리머로는, 일본 공개특허공보 평05-310845호, 미국 특허 제5179171호 명세서에 기재되어 있는 고리형 올레핀 랜덤 다원 공중합체, 일본 공개특허공보 평05-97978호, 미국 특허 제5202388호 명세서에 기재되어 있는 수소 첨가 중합체, 일본 공개특허공보 평11-124429호(국제 공개 99/20676호)에 기재되어 있는 열가소성 디시클로펜타디엔계 개환 중합체 및 그 수소 첨가물 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서, 배향막 상에 본 발명의 고분자로 이루어지는 액정층을 형성하는 방법으로는, 상기 본 발명의 고분자의 항에서 기재한 것과 동일한 방법(상기 (α) 및 (β))을 들 수 있다.
얻어지는 액정층의 두께는, 특별히 제한은 없지만, 통상 1~10 μm이다.
한편, 본 발명의 광학 이방체의 1종으로는, 특별히 한정되지 않고, 위상차판, 시야각 확대판 등을 들 수 있다.
한편, 본 발명의 광학 이방체는, 상기 (4)에 있어서의 광학 필름과 동일한 방법으로 구해지는 α~δ값이, 상기 (4)에 기재한 소정의 범위 내에 있는 것이 바람직하다.
(6) 편광판 등
본 발명의 편광판은, 본 발명의 광학 이방체 및 편광 필름을 포함하는 것이다.
본 발명의 편광판의 구체예로는, 편광 필름 상에, 직접 또는 그 밖의 층(유리판 등)을 개재하여, 본 발명의 광학 이방체가 적층되어 이루어지는 것을 들 수 있다.
편광 필름의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. PVA계의 편광 필름을 제조하는 방법으로는, PVA계 필름에 요오드 이온을 흡착시킨 후에 1축으로 연신하는 방법, PVA계 필름을 1축으로 연신한 후에 요오드 이온을 흡착시키는 방법, PVA계 필름으로의 요오드 이온 흡착과 1축 연신을 동시에 행하는 방법, PVA계 필름을 이색성 염료로 염색한 후에 1축으로 연신하는 방법, PVA계 필름을 1축으로 연신한 후에 이색성 염료로 염색하는 방법, PVA계 필름으로의 이색성 염료에 의한 염색과 1축 연신을 동시에 행하는 방법을 들 수 있다. 또한, 폴리엔계의 편광 필름을 제조하는 방법으로는, PVA계 필름을 1축으로 연신한 후에 탈수 촉매 존재 하에서 가열·탈수하는 방법, 폴리염화비닐계 필름을 1축으로 연신한 후에 탈염산 촉매 존재 하에서 가열·탈수하는 방법 등의 공지의 방법을 들 수 있다.
본 발명의 편광판에 있어서는, 편광 필름과 본 발명의 광학 이방체가, 접착제(점착제를 포함한다)로 이루어지는 접착층을 개재하여 접하고 있어도 된다. 접착층의 평균 두께는, 통상 0.01 μm~30 μm, 바람직하게는 0.1 μm~15 μm이다. 상기 접착층은, JIS K7113에 의한 인장 파괴 강도가 40 MPa 이하가 되는 층인 것이 바람직하다.
접착층을 구성하는 접착제로는, 아크릴 접착제, 우레탄 접착제, 폴리에스테르 접착제, 폴리비닐알코올 접착제, 폴리올레핀계 접착제, 변성 폴리올레핀 접착제, 폴리비닐알킬에테르 접착제, 고무 접착제, 염화비닐·아세트산비닐 접착제, 스티렌·부타디엔·스티렌 공중합체(SBS 공중합체) 접착제, 그 수소 첨가물(SEBS 공중합체) 접착제, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체 및 에틸렌-스티렌 공중합체 등의 에틸렌 접착제, 그리고, 에틸렌·메타크릴산메틸 공중합체, 에틸렌·아크릴산메틸 공중합체, 에틸렌·메타크릴산에틸 공중합체 및 에틸렌·아크릴산에틸 공중합체 등의 아크릴산에스테르 접착제 등을 들 수 있다.
본 발명의 편광판은, 본 발명의 광학 이방체를 사용하고 있기 때문에, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 것이다.
또한, 본 발명의 편광판을 사용함으로써, 액정 패널을 사용한 플랫 패널 표시 장치나, 유기 일렉트로루미네센스 패널을 사용한 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치나, 반사 방지 필름을 호적하게 제조할 수 있다.
(7) 화합물
본 발명의 화합물은, 상기 중합성 화합물(I)의 제조 중간체로서 유용하다. 이러한 화합물의 일례로서, 하기 식(VII-1) 또는 (VII-2)로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다. 이하, 하기 식(VII-1)로 나타내어지는 화합물을 「화합물(VII-1)」이라고, 하기 식(VII-2)로 나타내어지는 화합물을 「화합물(VII-2)」라고, 각각 칭하는 경우가 있다.
[화학식 27]
식(VII-1) 및 (VII-2) 중, Z1, G 및 R0은, 상기와 동일한 의미를 나타낸다. n은, 각각 독립적으로 0~4의 정수이다. R6, R7은, 각각 독립적으로 -ORe, -CH2ORe, -CH2CH2ORe, -C(=O)-ORe, -CH2-C(=O)-ORe, -CH2CH2-C(=O)-ORe, 수산기, 카르복실기, -CH2-C(=O)-OH, -CH2CH2-C(=O)-OH, -CH2OH, -CH2CH2OH 또는 아미노기를 나타낸다. Re는 보호기를 나타낸다. R6, R7은, 각각 독립적으로 -ORe, -CH2ORe, -CH2CH2ORe, -CH2OH, -CH2CH2OH, 또는 수산기가 바람직하고, R6이 수산기, -ORe, -CH2ORe, 또는 -CH2CH2ORe이고, R7이 수산기, -CH2OH, 또는 -CH2CH2OH인 조합이 보다 바람직하며, R6이 수산기, -ORe, -CH2ORe, 또는 -CH2CH2ORe이고, R7이 수산기인 조합이 특히 바람직하다.
식(VII-1) 및 (VII-2) 중, Re의 보호기로는, 특별히 한정되지 않고, 테트라하이드로피라닐기, 메톡시메틸기, 2-메톡시에톡시메틸기, 터셔리부틸디메틸실릴기, 트리메틸실릴기, 벤질기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, Re의 보호기로는, 테트라하이드로피라닐기, 2-메톡시에톡시메틸기, 터셔리부틸디메틸실릴기가 바람직하다.
그리고, 화합물(VII-1) 및 화합물(VII-2)는, 기지의 합성 반응을 조합하여 합성할 수 있다. 즉, 여러 가지 문헌(예를 들어, MARCH'S ADVANCED ORGANIC CHEMISTRY(WILEY), 샌들러·카로 「관능기별 유기 화합물 합성법」 이나모토 나오키 공역(히로카와 서점))에 기재된 방법을 참조하여 합성할 수 있다.
여기서, 화합물(VII-1) 및 화합물(VII-2)로는, 각각 하기 (VII-1-1) 또는 (VII-1-2), (VII-2-1) 또는 (VII-2-2)가 바람직하고, (VII-1-1), (VII-2-1)이 특히 바람직하다. 또한 치환기에 관해서는, n = 0 즉, R0은 갖지 않는 구조가 바람직하다.
[화학식 28]
또한, 다른 일례에 따른 본 발명의 화합물은, 하기 식(VIII-1) 또는 (VIII-2)로 나타내어지는 화합물일 수 있다. 이하, 하기 식(VIII-1)로 나타내어지는 화합물을 「화합물(VIII-1)」이라고, 하기 식(VIII-2)로 나타내어지는 화합물을 「화합물(VIII-2)」라고, 각각 칭하는 경우가 있다.
[화학식 29]
식(VIII-1) 및 식(VIII-2) 중, Z1, Z2, G, Y0~Y4, A1, A2, B1, B2, L1, L2, P1, P2, R0, n, p 및 q는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
화합물(VIII-1) 및 (VIII-2)는, 상술한 화합물(VII-1) 및 화합물(VII-2)를 재료로 하여, 기지의 합성 반응을 조합하여 합성할 수 있다. 즉, 여러 가지 문헌(예를 들어, MARCH'S ADVANCED ORGANIC CHEMISTRY(WILEY), 샌들러·카로 「관능기별 유기 화합물 합성법」 이나모토 나오키 공역(히로카와 서점))에 기재된 방법을 참조하여 합성할 수 있다.
그리고, 화합물(VIII-1) 및 (VIII-2)로는, 각각 하기 식(VIII-1-1) 또는 (VIII-1-2), (VIII-2-1) 또는 (VIII-2-2)로 나타내어지는 화합물이 바람직하고, 식(VIII-1-1), (VIII-2-1)로 나타내어지는 화합물이 특히 바람직하다. 또한 n은 0이 바람직하다.
[화학식 30]
또한, 화합물(VIII-1-1) 중에서도, 하기 식(X-1)로 나타내어지는 화합물이 바람직하다. 또한, 화합물(VIII-2-2) 중에서도, 하기 식(X-2)로 나타내어지는 화합물이 바람직하다. 또한, 식(X-1), (X-2)로 나타내어지는 화합물 중에서도, 식(X-1-1)~(X-2-2)로 나타내어지는 화합물이 더욱 바람직하고, 식(X-1-1), (X-2-1)로 나타내어지는 화합물이 특히 바람직하다.
[화학식 31]
〔식(X-1) 및 (X-2), (X-1-1)~(X-2-2) 중, G는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.〕
실시예
이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시예에 의해 조금도 제한되는 것은 아니다.
(합성예 1) 화합물 1의 합성
[화학식 32]
단계 1: 중간체 A의 합성
[화학식 33]
온도계를 구비한 3구 반응기에, 질소 기류 중, trans-1,4-시클로헥산디카르복실산 17.98 g(104.42 mmol)과 테트라하이드로푸란(THF) 180 ml를 첨가하였다. 거기에, 메탄술포닐클로라이드 6.58 g(57.43 mmol)을 첨가하고, 반응기를 수욕에 담그어 반응액 내온을 20℃로 하였다. 이어서, 트리에틸아민 6.34 g(62.65 mmol)을, 반응액 내온을 20~30℃로 유지하면서, 10분간에 걸쳐 적하하였다. 적하 종료 후, 전체를 25℃에서 2시간 더 교반하였다.
얻어진 반응액에, 4-(디메틸아미노)피리딘 0.64 g(5.22 mmol), 및 4-(6-아크릴로일옥시-헥스-1-일옥시)페놀(DKSH사 제조) 13.80 g(52.21 mmol)을 첨가하고, 다시 반응기를 수욕에 담그어 반응액 내온을 15℃로 하였다. 거기에, 트리에틸아민 6.34 g(62.65 mmol)을, 반응액 내온을 20~30℃로 유지하면서, 10분간에 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후, 전체를 25℃에서 2시간 더 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액에 증류수 1000 ml와 포화 식염수 100 ml를 첨가하고, 아세트산에틸 400 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로, 여과액으로부터 용매를 증발 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(THF:톨루엔 = 1:9(용적비, 이하에서 동일))에 의해 정제를 행하였다. 고속 액체 크로마토그래피로 분석을 행하고, 순도가 99.5% 이상이 될 때까지 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피에 의한 정제를 반복하였다. 그 결과, 백색 고체로서 중간체 A를 14.11 g 얻었다(수율: 65 몰%).
목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 2: 중간체 B의 합성
[화학식 34]
온도계를 구비한 3구 반응기에, 질소 기류 중, 4-하이드록시벤조산 20 g(145 mmol) 및 3,4-디하이드로-2H-피란 14.62 g(145 mmol)을 테트라하이드로푸란 200 ml에 첨가하여, 균일한 용액으로 하였다. 반응기를 냉수욕에 담그어 반응액 내온을 15℃로 하였다. 거기에, (±)-10-캠퍼술폰산 336 mg(1.45 mmol)을 첨가하였다. 그 후, 전체를 25℃로 되돌려 6시간 교반하였다. 반응 종료 후, 얻어진 반응액에 증류수 1 리터와 포화 식염수 100 ml를 첨가하고, 아세트산에틸 300 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을, 아세트산에틸을 용매로 하여 재결정을 행하였다. 석출된 결정을 여과 채취하였다. 얻어진 결정을 냉아세트산에틸로 세정 후, 진공 건조시켜, 백색 고체로서 중간체 B를 9.0 g 얻었다(수율: 28 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 3: 중간체 C(식(VII-1)의 화합물의 일례)의 합성
[화학식 35]
온도계를 구비한 3구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 단계 2에서 합성한 중간체 B: 6.0 g(27 mmol) 및 2,5-디하이드록시벤즈알데히드 3.73 g(27 mmol), N,N-디메틸아미노피리딘 330 mg(2.7 mmol)을 클로로포름 110 ml에 첨가하였다. 거기에, N,N'-디이소프로필카르보디이미드 4.09 g(32.4 mmol)을 25℃에서, 강교반하면서 천천히 적하하였다. 그 후, 25℃에서 2시간 교반하여 반응을 행하였다. 반응 종료 후, 얻어진 반응액에 증류수 1 리터와 포화 식염수 100 ml를 첨가하고, 아세트산에틸 500 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 포화 식염수 500 ml로 세정하였다. 얻어진 유기층을 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(톨루엔:아세트산에틸 = 97:3(용적비))에 의해 정제하여, 백색 고체로서 중간체 C를 4.5 g 얻었다(수율: 49 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 4: 중간체 D(식(VII-1)의 화합물의 다른 일례)의 합성
[화학식 36]
온도계를 구비한 3구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 단계 3에서 합성한 중간체 C: 3.0 g(8.76 mmol)을 아세트산/테트라하이드로푸란/물 = 4/2/1(질량비)의 혼합 용액 40 ml에 첨가하였다. 그 후, 전체를 45℃로 가온하여 6시간 교반하였다. 반응 종료 후, 얻어진 반응액에 증류수 500 ml를 첨가하고, 아세트산에틸 200 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(톨루엔:아세트산에틸 = 80:20(용적비))에 의해 정제하여, 백색 고체로서 중간체 D를 1.5 g 얻었다(수율: 66 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 5: 중간체 E의 합성
[화학식 37]
온도계를 구비한 4구 반응기에, 질소 기류 중, 2-하이드라지노벤조티아졸 2.00 g(12.1 mmol)을 디메틸포름아미드 20 ml에 용해하였다. 이 용액에 탄산칼륨 8.36 g(60.5 mmol), 1-요오드헥산 3.08 g(14.5 mmol)을 첨가하여, 50℃에서 7시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 20℃까지 냉각하고, 반응액을 물 200 mL에 투입하여, 아세트산에틸 300 ml로 추출하였다. 아세트산에틸층을 무수 황산나트륨으로 건조하였다. 황산나트륨을 여과 분리한 후, 로터리 이배퍼레이터로 아세트산에틸을 감압 증류 제거하여, 황색 고체를 얻었다. 이 황색 고체를 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(헥산:아세트산에틸 = 75:25(용적비))에 의해 정제하여, 백색 고체로서 중간체 E를 2.10 g 얻었다(수율: 69.6 몰%). 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 6: 화합물 1의 합성
온도계를 구비한 4구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 단계 4에서 합성한 중간체 D: 1.0 g(3.87 mmol) 및, 앞선 단계 1에서 합성한 중간체 A: 3.56 g(8.51 mmol), N,N-디메틸아미노피리딘 47 mg(0.39 mmol)을 클로로포름 100 ml에 첨가하였다. 이 용액에 N,N'-디이소프로필카르보디이미드 1.12 g(8.9 mmol)을 25℃에서, 천천히 적하하였다. 그 후, 그 용액을 25℃에서 3시간 교반하였다. 반응 종료 후, 얻어진 용액의 일부를 샘플링하여 얻은 반응액을 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(클로로포름:테트라하이드로푸란 = 95:5(용적비))에 의해 정제하여, 중간체 F가 존재하는 것을 1H-NMR에 의해 확인하였다. 결과를 이하에 나타낸다. 한편, 중간체 F는, 상기 식(VIII-1)의 화합물 중에서도, 식(X-1)으로 나타내어지는 화합물의 일례이다.
[화학식 38]
나머지의 반응액을 빙욕 하에서 냉각하고, 앞선 단계 5에서 합성한 중간체 E: 1.16 g(4.6 mmol), 1 규정의 염산 수용액 14 ml를 첨가하였다. 그 후, 그 용액을 40℃에서 3시간 교반하였다. 반응 종료 후, 10 질량%의 중조수 500 ml에 투입하여, 아세트산에틸 500 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(톨루엔:THF = 95:5(용적비))에 의해 정제하여, 담황색 고체로서 화합물 1을 3.0 g 얻었다(수율: 60%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
(합성예 2) 화합물 2의 합성
[화학식 39]
단계 1: 중간체 G(상기 식(VII-1)의 화합물의 다른 일례)의 합성
[화학식 40]
온도계를 구비한 3구 반응기에, 질소 기류 중, trans-4-하이드록시시클로헥산카르복실산: 5.0 g(34.7 mmol) 및 2,5-디하이드록시벤즈알데히드 4.79 g(34.7 mmol), N,N-디메틸아미노피리딘 424 mg(3.47 mmol)을 클로로포름 100 ml에 첨가하였다. 거기에, N,N'-디이소프로필카르보디이미드 5.25 g(41.6 mmol)을 15℃에서, 강교반하면서 천천히 적하하였다. 그 후, 25℃에서 8시간 교반하여 반응을 행하였다. 반응 종료 후, 얻어진 반응액에 증류수 1 리터와 포화 식염수 100 ml를 첨가하고, 아세트산에틸 500 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 포화 식염수 500 ml로 세정하였다. 얻어진 유기층을 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(톨루엔:아세트산에틸 = 75:25(용적비))에 의해 정제하여, 백색 고체로서 중간체 G를 5.0 g 얻었다(수율: 55 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 2: 화합물 2의 합성
온도계를 구비한 4구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 단계 1에서 합성한 중간체 G: 2.5 g(9.53 mmol) 및, 상기 합성예 1의 단계 1과 동일하게 하여 합성한 중간체 A: 8.77 g(21 mmol), N,N-디메틸아미노피리딘 232 mg(1.9 mmol)을 클로로포름 150 ml에 첨가하였다. 이 용액에 N,N'-디이소프로필카르보디이미드 2.77 g(21.9 mmol)을 25℃에서, 천천히 적하하였다. 그 후, 그 용액을 25℃에서 4시간 교반하였다. 반응 종료 후, 얻어진 용액의 일부를 샘플링하여 얻은 반응액을 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(클로로포름:테트라하이드로푸란 = 95:5(용적비))에 의해 정제하여, 중간체 H가 존재하는 것을 1H-NMR에 의해 확인하였다. 결과를 이하에 나타낸다. 한편, 중간체 H는, 식(VIII-1)의 화합물 중에서도, 식(X-1)으로 나타내어지는 화합물의 일례이다.
[화학식 41]
나머지의 반응액을 빙욕 하에서 냉각하고, 상기 합성예 1의 단계 5와 동일하게 하여 합성한 중간체 E: 2.85 g(11.4 mmol), (±)-10-캠퍼술폰산 1.1 g(4.77 mmol)을 첨가하였다. 그 용액을 45℃에서 4시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 3 질량%의 중조수 1 리터에 투입하여, 아세트산에틸 500 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(톨루엔:아세트산에틸 = 85:15(용적비))에 의해 정제하여, 담황색 고체로서 화합물 2를 2.1 g 얻었다(수율: 17 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
(합성예 3) 화합물 3의 합성
[화학식 42]
단계 1: 중간체 I의 합성
[화학식 43]
온도계를 구비한 3구 반응기에, 질소 기류 중, 2-플루오로-4-하이드록시벤조산 5 g(32.03 mmol) 및 3,4-디하이드로-2H-피란 10.78 g(128.15 mmol)을 THF 50 ml에 첨가하여, 균일한 용액으로 하였다. 반응기를 냉수욕에 담그어 반응액 내온을 15℃로 하였다. 거기에, (±)-10-캠퍼술폰산 74 mg(0.32 mmol)을 첨가하였다. 그 후, 전체를 25℃로 되돌려 12시간 교반하였다. 반응 종료 후, 얻어진 반응액에 증류수 400 ml와 포화 식염수 100 ml를 첨가하고, 아세트산에틸 200 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 톨루엔과 헥산의 혼합 용매로부터 재결정을 행하였다. 또한, 얻어진 고체에 대하여, 아세트산에틸을 용매로 하여 재결정을 행하였다. 그리고, 석출된 결정을 여과 채취하였다. 얻어진 결정을 냉아세트산에틸로 세정 후, 진공 건조시켜, 백색 고체로서 중간체 I를 2.8 g 얻었다(수율: 36.4 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 2: 중간체 J(상기 식(VII-1)의 화합물의 다른 일례)의 합성
[화학식 44]
온도계를 구비한 3구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 단계 1에서 합성한 중간체 I: 2.23 g(9.28 mmol) 및 2,5-디하이드록시벤즈알데히드 1.28 g(9.28 mmol), N,N-디메틸아미노피리딘 113 mg(0.93 mmol)을 클로로포름 80 ml에 첨가하였다. 거기에, N,N'-디이소프로필카르보디이미드 1.41 g(11.14 mmol)을 25℃에서, 강교반하면서 천천히 적하하였다. 그 후, 25℃에서 12시간 교반하여 반응을 행하였다. 반응 종료 후, 얻어진 반응액에 증류수 300 ml와 포화 식염수 50 ml를 첨가하고, 아세트산에틸 200 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 포화 식염수 500 ml로 세정하였다. 얻어진 유기층을 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(톨루엔:아세트산에틸 = 98:2(용적비))에 의해 정제하여, 백색 고체로서 중간체 J를 2.0 g 얻었다(수율: 59.8 몰%). 중간체 J의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 3: 중간체 K(상기 식(VII-1)의 화합물의 다른 일례)의 합성
[화학식 45]
온도계를 구비한 3구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 단계 2에서 합성한 중간체 J: 2.0 g(5.55 mmol)을 아세트산/THF/물 = 4/2/1(질량비)의 혼합 용액 40 ml에 첨가하였다. 그 후, 전체를 45℃로 가온하여 6시간 교반하였다. 반응 종료 후, 얻어진 반응액에 증류수 300 ml를 첨가하고, 아세트산에틸 200 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 증류수 300 ml로 2회 세정하였다. 유기층을 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(톨루엔:아세트산에틸 = 85:15(용적비))에 의해 정제하여, 백색 고체로서 중간체 K를 1.2 g 얻었다(수율: 78 몰%). 중간체 K의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 4: 화합물 3의 합성
온도계를 구비한 4구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 단계 3에서 합성한 중간체 K: 1.2 g(4.34 mmol) 및, 상기 합성예 1의 단계 1과 동일하게 하여 합성한 중간체 A: 4.0 g(9.56 mmol), N,N-디메틸아미노피리딘 117 mg(0.95 mmol)을 클로로포름 80 ml에 첨가하였다. 이 용액에 N,N'-디이소프로필카르보디이미드 1.26 g(9.98 mmol)을 25℃에서, 천천히 적하하였다. 그 후, 그 용액을 25℃에서 4시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 빙욕 하에서 냉각하고, 상기 합성예 1의 단계 5와 동일하게 하여 합성한 중간체 E: 1.30 g(5.21 mmol), 1 규정의 염산수용액 15.8 ml(15.75 mmol)를 첨가하였다. 그 용액을 40℃에서 4시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 3 질량%의 중조수 200 ml에 투입하여, 아세트산에틸 200 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(톨루엔:테트라하이드로푸란 = 95:5(용적비))에 의해 정제하여, 담황색 고체로서 화합물 3을 1.7 g 얻었다(수율: 30 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
(합성예 4) 화합물 4의 합성
[화학식 46]
단계 1: 중간체 L의 합성
[화학식 47]
온도계를 구비한 4구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 합성예 1의 단계 4와 동일하게 하여 합성한 중간체 D: 10 g(38.73 mmol) 및, 상기 합성예 1의 단계 1과 동일하게 하여 합성한 중간체 A: 37.27 g(89.07 mmol), N,N-디메틸아미노피리딘 473 mg(3.87 mmol)을 클로로포름 400 ml에 첨가하였다. 이 용액에 N,N'-디이소프로필카르보디이미드 11.73 g(92.95 mmol)을 25℃에서, 천천히 적하하였다. 그 후, 그 용액을 25℃에서 4시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(클로로포름:테트라하이드로푸란 = 95:5(용적비))에 의해 정제하였다. 얻어진 백색 고체를 THF 150 ml에 용해시켜, 메탄올 1.5 리터에 적하하였다. 석출된 고체를 여과하여, 메탄올로 세정 후, 진공 건조시켜, 백색 고체로서 중간체 L을 22 g 얻었다(수율: 53.7 몰%). 중간체 L의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 2: 중간체 M의 합성
[화학식 48]
온도계를 구비한 4구 반응기에 질소 기류 중, 2-하이드라지노벤조티아졸 2.00 g(12.1 mmol)을 디메틸포름아미드 20 ml에 용해하였다. 이 용액에 탄산세슘 7.88 g(24.2 mmol), 1-브로모헵탄 2.60 g(14.5 mmol)을 첨가하여, 50℃에서 6시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 20℃까지 냉각하고, 반응액을 물 200 mL에 투입하여, 아세트산에틸 300 ml로 추출하였다. 아세트산에틸층을 무수 황산나트륨으로 건조하였다. 황산나트륨을 여과 분리한 후, 로터리 이배퍼레이터로 아세트산에틸을 감압 증류 제거하여, 황색 고체를 얻었다. 이 황색 고체를 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(헥산:THF = 80:20(용적비))에 의해 정제하여, 백색 고체로서 중간체 M을 2.5 g 얻었다(수율: 78.4%). 중간체 M의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 3: 화합물 4의 합성
온도계를 구비한 4구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 단계 1에서 합성한 중간체 L: 2.0 g(1.89 mmol) 및, 상기 단계 2에서 합성한 중간체 M: 696 mg(2.64 mmol)을, 에탄올 5 ml 및 테트라하이드로푸란 40 ml의 혼합 용매에 용해시켰다. 이 용액에, (±)-10-캠퍼술폰산 87.8 mg(0.378 mmol)을 첨가하여, 50℃에서 2시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 물 300 ml에 투입하여, 아세트산에틸 200 ml로 추출하였다. 아세트산에틸층을 무수 황산나트륨으로 건조하였다. 황산나트륨을 여과 분리한 후, 로터리 이배퍼레이터로 아세트산에틸을 감압 증류 제거하여, 백색 고체를 얻었다. 이 백색 고체를 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(클로로포름:THF = 95:5(용적비))에 의해 정제하여, 담황색 고체로서 화합물 4를 1.58 g 얻었다(수율: 64.1 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
(합성예 5) 화합물 5의 합성
[화학식 49]
단계 1: 중간체 N의 합성
[화학식 50]
온도계를 구비한 4구 반응기에 질소 기류 중, 2-아미노벤조티아졸 4.00 g(22.2 mmol)을 에틸렌글리콜 40 ml, 물 15 ml에 용해하였다. 이 용액에 하이드라진 1 수화물을 11.1 g(222 mmol), 12 N 염산을 2.8 ml(33.3 mmol) 첨가하여, 120℃에서 15시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 20℃까지 냉각하고, 반응액을 10% 중조수 200 mL에 투입하여, 아세트산에틸 800 ml로 추출하였다. 아세트산에틸층을 무수 황산나트륨으로 건조하였다. 황산나트륨을 여과 분리한 후, 로터리 이배퍼레이터로 아세트산에틸을 감압 증류 제거하여, 황색 고체를 얻었다. 이 백색 고체를 아세트산에틸로부터 재결정하여 중간체 N을 2.3 g 얻었다(수율: 53.1 몰%). 중간체 N의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 2: 중간체 O의 합성
[화학식 51]
온도계를 구비한 4구 반응기에 질소 기류 중, 상기 단계 1에서 합성한 중간체 N: 2.00 g(10.2 mmol)을 디메틸포름아미드 20 ml에 용해하였다. 이 용액에 탄산세슘 6.68 g(20.4 mmol), 1-브로모헵탄 2.19 g(12.2 mmol)을 첨가하여, 50℃에서 6시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 20℃까지 냉각하고, 반응액을 물 200 mL에 투입하여, 아세트산에틸 300 ml로 추출하였다. 아세트산에틸층을 무수 황산나트륨으로 건조하였다. 황산나트륨을 여과 분리한 후, 로터리 이배퍼레이터로 아세트산에틸을 감압 증류 제거하여, 황색 고체를 얻었다. 이 황색 고체를 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(헥산:THF = 80:20(용적비))에 의해 정제하여, 백색 고체로서 중간체 O를 2.3 g 얻었다(수율: 76.8 몰%). 중간체 O의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 3: 화합물 5의 합성
온도계를 구비한 4구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 합성예 4의 단계 1과 동일하게 하여 합성한 중간체 L: 2.0 g(1.89 mmol) 및, 상기 단계 2에서 합성한 중간체 O: 776 mg(2.65 mmol)을, 에탄올 5 ml 및 테트라하이드로푸란 40 ml의 혼합 용매에 용해시켰다. 이 용액에, (±)-10-캠퍼술폰산 87.8 mg(0.378 mmol)을 첨가하여, 50℃에서 2시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 물 300 ml에 투입하여, 아세트산에틸 200 ml로 추출하였다. 아세트산에틸층을 무수 황산나트륨으로 건조하였다. 황산나트륨을 여과 분리한 후, 로터리 이배퍼레이터로 아세트산에틸을 감압 증류 제거하여, 백색 고체를 얻었다. 이 백색 고체를 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(클로로포름:THF = 95:5(용적비))에 의해 정제하여, 담황색 고체로서 화합물 5를 1.44 g 얻었다(수율: 57.1 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
(합성예 6) 화합물 6의 합성
[화학식 52]
단계 1: 중간체 P의 합성
[화학식 53]
온도계를 구비한 4구 반응기에 질소 기류 중, 상기 합성예 5의 단계 1과 동일하게 하여 합성한 중간체 N: 2.00 g(10.2 mmol)을 디메틸포름아미드 20 ml에 용해하였다. 이 용액에 탄산세슘 6.68 g(20.4 mmol), 1-브로모헥산 2.0 g(12.2 mmol)을 첨가하여, 50℃에서 6시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 20℃까지 냉각하고, 반응액을 물 200 mL에 투입하여, 아세트산에틸 300 ml로 추출하였다. 아세트산에틸층을 무수 황산나트륨으로 건조하였다. 황산나트륨을 여과 분리한 후, 로터리 이배퍼레이터로 아세트산에틸을 감압 증류 제거하여, 황색 고체를 얻었다. 이 황색 고체를 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(헥산:THF = 80:20(용적비))에 의해 정제하여, 백색 고체로서 중간체 P를 2.0 g 얻었다(수율: 70.2 몰%). 중간체 P의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 2: 화합물 6의 합성
온도계를 구비한 4구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 합성예 4의 단계 1과 동일하게 하여 합성한 중간체 L: 2.0 g(1.89 mmol) 및, 상기 단계 1에서 합성한 중간체 P: 740 mg(2.65 mmol)을, 에탄올 5 ml 및 테트라하이드로푸란 40 ml의 혼합 용매에 용해시켰다. 이 용액에, (±)-10-캠퍼술폰산 87.8 mg(0.378 mmol)을 첨가하여, 50℃에서 2시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 물 300 ml에 투입하여, 아세트산에틸 200 ml로 추출하였다. 아세트산에틸층을 무수 황산나트륨으로 건조하였다. 황산나트륨을 여과 분리한 후, 로터리 이배퍼레이터로 아세트산에틸을 감압 증류 제거하여, 백색 고체를 얻었다. 이 백색 고체를 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(클로로포름:THF = 95:5(용적비))에 의해 정제하여, 담황색 고체로서 화합물 5를 1.55 g 얻었다(수율: 62.1 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
(합성예 7) 화합물 7의 합성
[화학식 54]
단계 1: 중간체 Q의 합성
[화학식 55]
온도계를 구비한 4구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 합성예 2의 단계 1과 동일하게 하여 합성한 중간체 G: 10 g(37.84 mmol) 및, 상기 합성예 1의 단계 1과 동일하게 하여 합성한 중간체 A: 36.4 g(87.03 mmol), N,N-디메틸아미노피리딘 462 mg(3.78 mmol)을 클로로포름 400 ml에 첨가하였다. 이 용액에 N,N'-디이소프로필카르보디이미드 11.46 g(90.82 mmol)을 25℃에서, 천천히 적하하였다. 그 후, 그 용액을 25℃에서 4시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 로터리 이배퍼레이터로 용매를 제거한 후, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(클로로포름:테트라하이드로푸란 = 95:5(용적비))에 의해 정제하였다. 얻어진 백색 고체를 THF 150 ml에 용해시켜, 메탄올 1.5 리터에 적하하였다. 석출된 고체를 여과하여, 메탄올로 세정 후, 진공 건조시켜, 백색 고체로서 중간체 Q를 18 g 얻었다(수율: 44.7 몰%). 중간체 Q의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 2: 화합물 7의 합성
온도계를 구비한 4구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 단계 1에서 합성한 중간체 Q: 2.0 g(1.88 mmol) 및, 상기 합성예 6의 단계 1과 동일하게 하여 합성한 중간체 P: 735 mg(2.63 mmol)을, 에탄올 5 ml 및 테트라하이드로푸란 40 ml의 혼합 용매에 용해시켰다. 이 용액에, (±)-10-캠퍼술폰산 87.3 mg(0.376 mmol)을 첨가하여, 50℃에서 2시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 물 300 ml에 투입하여, 아세트산에틸 200 ml로 추출하였다. 아세트산에틸층을 무수 황산나트륨으로 건조하였다. 황산나트륨을 여과 분리한 후, 로터리 이배퍼레이터로 아세트산에틸을 감압 증류 제거하여, 백색 고체를 얻었다. 이 백색 고체를 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(클로로포름:THF = 95:5(용적비))에 의해 정제하여, 담황색 고체로서 화합물 7을 1.77 g 얻었다(수율: 71 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
(비교 합성예 1) 화합물 X의 합성
[화학식 56]
단계 1: 중간체 R의 합성
[화학식 57]
온도계를 구비한 3구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 합성예 1의 단계 1과 동일하게 하여 합성한 중간체 A: 4.00 g(9.56 mmol) 및 테트라하이드로푸란 60 ml를 넣어, 균일한 용액으로 하였다. 거기에, 메탄술포닐클로라이드 1.12 g(9.78 mmol)을 첨가하고, 반응기를 수욕에 담그어 반응액 내온을 20℃로 하였다. 이어서, 트리에틸아민 1.01 g(9.99 mmol)을, 반응액 내온을 20~30℃로 유지하면서, 5분간에 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후, 전체를 25℃에서 2시간 더 교반하였다. 얻어진 반응액에, 4-(디메틸아미노)피리딘 0.11 g(0.87 mmol), 및 2,5-디하이드록시벤즈알데히드 0.60 g(4.35 mmol)을 첨가하고, 다시 반응기를 수욕에 담그어 반응액 내온을 15℃로 하였다. 거기에, 트리에틸아민 1.10 g(10.87 mmol)을, 반응액 내온을 20~30℃로 유지하면서, 5분간에 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후, 전체를 25℃에서 2시간 더 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액에 증류수 400 ml와 포화 식염수 50 ml를 첨가하고, 아세트산에틸 750 ml로 2회 추출하였다. 유기층을 모으고, 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 황산나트륨을 여과 분리하였다. 로터리 이배퍼레이터로 여과액으로부터 용매를 증발 제거한 후, 얻어진 잔류물을 테트라하이드로푸란 100 ml에 용해시켰다. 그 용액에 메탄올 500 ml를 첨가하여 결정을 석출시키고, 석출된 결정을 여과 채취하였다. 얻어진 결정을 메탄올로 세정 후, 진공 건조시켜, 백색 고체로서 중간체 R을 2.51 g 얻었다(수율: 62 몰%). 중간체 R의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
단계 2: 화합물 X의 합성
온도계를 구비한 4구 반응기에, 질소 기류 중, 상기 합성예 1의 단계 5와 동일하게 하여 합성한 중간체 E 697 mg(2.37 mmol) 및, 상기 단계 1에서 합성한 중간체 R: 2.00 g(2.13 mmol)을, 에탄올 3 ml 및 테트라하이드로푸란 20 ml의 혼합 용매에 용해시켰다. 이 용액에, (±)-10-캠퍼술폰산 55.1 mg(0.24 mmol)을 첨가하여, 40℃에서 5시간 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 물 150 ml에 투입하여, 아세트산에틸 300 ml로 추출하였다. 아세트산에틸층을 무수 황산나트륨으로 건조하였다. 황산나트륨을 여과 분리한 후, 로터리 이배퍼레이터로 아세트산에틸을 감압 증류 제거하여, 백색 고체를 얻었다. 이 백색 고체를 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(톨루엔:아세트산에틸 = 90:10(용적비))에 의해 정제하여, 백색 고체로서 화합물 X를 2.24 g 얻었다(수율: 86.4 몰%). 목적물의 구조는 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 이하에 나타낸다.
<상전이 온도의 측정>
화합물 1~7, 화합물 X를 각각 소량, 고체 상태 그대로, 러빙 처리를 실시한 폴리이미드 배향막이 부착된 유리 기판(E. H. C. Co., Ltd. 제조, 상품명: 배향 처리 유리 기판) 2매 사이에 두었다. 이 기판을 핫 플레이트 상에 올려 놓고, 50℃부터 200℃까지 승온한 후, 다시 50℃까지 강온하였다. 승온, 강온할 때의 조직 구조의 변화를 편향 광학 현미경(니콘사 제조, ECLIPSE LV100POL형)으로 관찰하고, 상전이 온도를 구하였다.
측정한 상전이 온도를 하기 표 1에 나타낸다.
표 1 중, 「C」는 Crystal, 「N」은 Nematic, 「I」는 Isotropic을 각각 나타낸다. 여기서, Crystal이란, 시험 화합물이 고상으로 있는 것을, Nematic이란, 시험 화합물이 네마틱 액정상으로 있는 것을, Isotropic이란, 시험 화합물이 등방성 액체상으로 있는 것을 각각 나타낸다.
(실시예 1~7)
합성예 1~7에서 얻은 화합물 1~7의 각각을 1.0 g, 광중합 개시제 아데카 아크르즈 N1919T(ADEKA사 제조)를 43 mg, 계면 활성제 메가팩 F-562(DIC 주식회사 제조)를 1 질량% 포함하는 시클로펜타논과 1,3-디옥솔란 혼합 용매(혼합비(질량비): 시클로펜타논/1,3-디옥솔란 = 4/6) 300 mg을, 1,3-디옥솔란 2.05 g, 시클로펜타논 1.37 g에 용해시켰다. 이 용액을 0.45 μm의 세공 직경을 갖는 디스포저블 필터로 여과하여, 중합성 조성물 1~7을 각각 얻었다.
(비교예 1)
비교 합성예 1에서 얻은 화합물 X를 1.0 g, 광중합 개시제 아데카 아크르즈 N1919T(ADEKA사 제조)를 43 mg, 계면 활성제 메가팩 F-562(DIC 주식회사 제조)를 1 질량% 포함하는 시클로펜타논과 1,3-디옥솔란 혼합 용매(혼합비(질량비): 시클로펜타논/1,3-디옥솔란 = 4/6) 300 mg을, 1,3-디옥솔란 2.05 g, 시클로펜타논 1.37 g에 용해시켰다. 이 용액을 0.45 μm의 세공 직경을 갖는 디스포저블 필터로 여과하여, 중합성 조성물 1r을 얻었다.
<위상차의 측정과 파장 분산의 평가>
(i) 중합성 조성물에 의한 액정층의 형성
러빙 처리된 폴리이미드 배향막이 부여된 투명 유리 기판(상품명: 배향 처리 유리 기판; E. H. C. Co., Ltd. 제조)에, 중합성 조성물 1~7 및 1r을 #4의 와이어 바를 사용해 도포하여, 도막을 얻었다. 얻어진 도막을, 하기 표 2에 나타내는 온도에서 1분간 건조한 후, 표 2에 나타내는 온도에서 1분간 배향 처리하여, 액정층을 형성하였다. 그 후, 액정층의 도포면측으로부터 표 2에 나타내는 노광 온도에서 2000 mJ/cm2의 자외선을 조사하여 중합시켜, 파장 분산 측정용의 시료인 투명 유리 기판 부착 광학 이방체를 얻었다. 여기서, 광학 이방체의 막두께는, 투명 유리 기판 부착 광학 이방체의 광학 이방체에 바늘로 흠집을 내고, 그 단차를 표면 형상 측정 장치 DEKTAK150형(주식회사 알박 제조)으로 측정하여 계측하였다.
(ii) 위상차의 측정
얻어진 시료에 대하여, 파장 400 nm 내지 800 nm 사이의 위상차를, Mueller Matrix Polarimeter Axoscan(Axometrics사 제조)을 사용하여 측정하였다.
(iii) 파장 분산의 평가
측정한 위상차를 사용하여 이하와 같이 산출되는 파장 분산비로부터 파장 분산을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.
(400 nm에 있어서의 파장 분산비: α값) = (400 nm에 있어서의 위상차값)/(550 nm에 있어서의 위상차값)
(410 nm에 있어서의 파장 분산비: β값) = (410 nm에 있어서의 위상차값)/(550 nm에 있어서의 위상차값)
(420 nm에 있어서의 파장 분산비: γ값) = (420 nm에 있어서의 위상차값)/(550 nm에 있어서의 위상차값)
(430 nm에 있어서의 파장 분산비: δ값) = (430 nm에 있어서의 위상차값)/(550 nm에 있어서의 위상차값)
(440 nm에 있어서의 파장 분산비) = (440 nm에 있어서의 위상차값)/(550 nm에 있어서의 위상차값)
(450 nm에 있어서의 파장 분산비) = (450 nm에 있어서의 위상차값)/(550 nm에 있어서의 위상차값)
표 2로부터, 실시예 1~7, 즉, 화합물 1~7을 포함하는 중합성 조성물 1~7을 사용하여 형성한 광학 이방체에서는, 파장 400 nm 내지 440 nm의 단파장측에서 파장 분산비의 이상값(理想値)과의 괴리가 작아져 있어, 개선이 보인다. 특히, 파장 400 nm 내지 430 nm에서는, 파장 분산 특성이 현저하게 개선되어 있는 것을 알 수 있다.
산업상 이용가능성
본 발명에 의하면, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름이나 광학 이방체를 형성 가능한 중합성 조성물의 조제에 유용한 중합성 화합물이 제공된다.
또한, 본 발명에 의하면, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름이나 광학 이방체를 형성 가능한 중합성 조성물이 제공된다.
또한, 본 발명에 의하면, 상기 중합성 화합물의 조제 및 광학 필름에 유용한 화합물이 제공된다.
그리고, 본 발명에 의하면, 단파장측의 파장 분산 특성이 양호한 광학 필름 및 광학 이방체, 그리고, 그들을 사용한 편광판, 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스(EL) 표시 장치 및 반사 방지 필름이 제공된다.
Claims (20)
- 하기 식(I):
[화학식 1]
〔식(I) 중, Ar은, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소고리기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 복소환기를 나타내고,
D는, 방향족 탄화수소고리 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 탄소수 1~67의 유기기를 나타내고,
Y0, Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -O-CH2-, -CH2-O-, -O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S-, -S-C(=O)-, -NR10-C(=O)-, -C(=O)-NR10-, -CF2-O-, -O-CF2-, -CH2-CH2-, -CF2-CF2-, -O-CH2-CH2-O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH-, -CH2-CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-CH2-, -CH=CH-, -N=CH-, -CH=N-, -N=C(CH3)-, -C(CH3)=N-, -N=N-, -CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-, -CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-, 또는 -C≡C-를 나타내고, R10은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고,
G는, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기를 나타내고,
L1 및 L2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬렌기, 및 탄소수 1~20의 알킬렌기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)의 적어도 하나가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환된 기의 어느 하나의 유기기이고, L1 및 L2의 상기 유기기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 1~5의 알킬기, 탄소수 1~5의 알콕시기, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 단, L1 및 L2의 양말단의 메틸렌기(-CH2-)가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되는 일은 없고,
A1, A2, B1 및 B2는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기를 나타내고,
Y1~Y4는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -NR11-C(=O)-, -C(=O)-NR11-, -O-C(=O)-O-, -NR11-C(=O)-O-, -O-C(=O)-NR11-, 또는 -NR11-C(=O)-NR12-를 나타내고, R11 및 R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고,
P1 및 P2의 일방은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고, P1 및 P2의 타방은, 중합성기를 나타내고,
p 및 q는, 각각 독립적으로, 0~2의 정수이고, 단, p = 0 또한 q = 1, p = 1 또한 q = 2의 경우는 제외한다〕으로 나타내어지는 중합성 화합물. - 제1항에 있어서,
상기 Ar-D가, 하기 식(II-1)~(II-6):
[화학식 2]
〔식(II-1)~(II-6) 중, Ax는, 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리 및 탄소수 2~30의 방향족 복소환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 방향고리를 갖는 유기기를 나타내고, Ax가 갖는 방향고리는 치환기를 갖고 있어도 되고, Ay는, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~30의 유기기를 나타내고, Q는, 수소 원자 또는, 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
R0은, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 2~6의 알케닐기, 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기, 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 니트로기, -C(=O)-Ra, -O-C(=O)-Ra, -C(=O)-O-Ra, 또는 -SO2Ra를 나타내고, Ra는, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 1~6의 알킬기 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기를 나타내고, n은, 각각 독립적으로, 0~4의 정수이다〕의 어느 하나로 나타내어지는, 중합성 화합물. - 제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 Ay가, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알키닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 6~30의 방향족 탄화수소고리기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~30의 방향족 복소환기인, 중합성 화합물. - 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 Ax가, 하기 식(V):
[화학식 4]
〔식(V) 중, R2~R5는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1~6의 플루오로알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, -OCF3, -O-C(=O)-Rb, 또는 -C(=O)-O-Rb를 나타내고, Rb는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기를 나타내고, C-R2~C-R5끼리는, 전부 동일해도 되고, 상이해도 되며, 고리를 구성하는 적어도 하나의 C-R2~C-R5는, 질소 원자로 치환되어 있어도 된다.〕으로 나타내어지는, 중합성 화합물. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
하기 식(VI-1) 또는 (VI-2):
[화학식 6]
〔식(VI-1) 및 (VI-2) 중, R2~R5는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1~6의 플루오로알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, -OCF3, -O-C(=O)-Rb, 또는 -C(=O)-O-Rb를 나타내고, Rb는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 2~20의 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~12의 시클로알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 5~18의 방향족 탄화수소고리기를 나타내고, C-R2~C-R5끼리는, 전부 동일해도 되고, 상이해도 되며, 고리를 구성하는 적어도 하나의 C-R2~C-R5가, 질소 원자로 치환되어 있어도 된다. Ay는, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~30의 유기기를 나타내고, Q는 수소 원자 또는, 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, G는 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기를 나타낸다.〕으로 나타내어지는, 중합성 화합물. - 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 화합물 및 중합 개시제를 함유하는, 중합성 조성물.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 화합물을 중합하여 얻어지는, 고분자.
- 제9항에 기재된 고분자를 포함하는, 광학 필름.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 화합물을 포함하는, 광학 필름.
- 제9항에 기재된 고분자를 포함하는 층을 갖는, 광학 이방체.
- 제12항에 기재된 광학 이방체 및 편광 필름을 포함하는, 편광판.
- 제13항에 기재된 편광판 및 액정 패널을 구비하는, 플랫 패널 표시 장치.
- 제13항에 기재된 편광판 및 유기 일렉트로루미네센스 패널을 구비하는, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치.
- 제13항에 기재된 편광판을 포함하는, 반사 방지 필름.
- 하기 식(VII-1) 또는 (VII-2):
[화학식 7]
〔식(VII-1) 및 (VII-2) 중,
Z1은, 단결합, -O-, -O-CH2-, -CH2-O-, -O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S-, -S-C(=O)-, -NR10-C(=O)-, -C(=O)-NR10-, -CF2-O-, -O-CF2-, -CH2-CH2-, -CF2-CF2-, -O-CH2-CH2-O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH-, -CH2-CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-CH2-, -CH=CH-, -N=CH-, -CH=N-, -N=C(CH3)-, -C(CH3)=N-, -N=N-, -CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-, -CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-, 또는 -C≡C-를 나타내고, R10은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고,
G는, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기를 나타내고,
R0은, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 2~6의 알케닐기, 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기, 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 니트로기, -C(=O)-Ra, -C(=O)-O-Ra, 또는 -SO2Ra를 나타내고, Ra는, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 1~6의 알킬기 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기를 나타내고, n은, 각각 독립적으로 0~4의 정수이고,
R6, R7은, 각각 독립적으로 -ORe, -CH2ORe, -CH2CH2ORe, -C(=O)-ORe, -CH2-C(=O)-ORe, -CH2CH2-C(=O)-ORe, 수산기, 카르복실기, -CH2-C(=O)-OH, -CH2CH2-C(=O)-OH, -CH2OH, -CH2CH2OH 또는 아미노기로 나타내어지고, Re는, 보호기를 나타낸다〕으로 나타내어지는, 화합물. - 하기 식(VIII-1) 또는 (VIII-2):
[화학식 8]
〔식(VIII-1) 및 (VIII-2) 중,
Y0, Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -O-CH2-, -CH2-O-, -O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S-, -S-C(=O)-, -NR10-C(=O)-, -C(=O)-NR10-, -CF2-O-, -O-CF2-, -CH2-CH2-, -CF2-CF2-, -O-CH2-CH2-O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH-, -CH2-CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-CH2-, -CH=CH-, -N=CH-, -CH=N-, -N=C(CH3)-, -C(CH3)=N-, -N=N-, -CH2-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH2-, -CH2-O-C(=O)-, -C(=O)-O-CH2-, 또는 -C≡C-를 나타내고, R10은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고,
G는, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기를 나타내고,
R0은, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 2~6의 알케닐기, 탄소수 1~6의 할로겐화 알킬기, 탄소수 2~12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 니트로기, -C(=O)-Ra, -C(=O)-O-Ra, 또는 -SO2Ra를 나타내고, Ra는, 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 탄소수 1~6의 알킬기 혹은 탄소수 1~6의 알콕시기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 탄소수 6~20의 방향족 탄화수소고리기를 나타내고, n은, 각각 독립적으로 0~4의 정수이고,
L1 및 L2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬렌기, 및 탄소수 1~20의 알킬렌기에 포함되는 메틸렌기(-CH2-)의 적어도 하나가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환된 기의 어느 하나의 유기기이고, L1 및 L2의 상기 유기기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 1~5의 알킬기, 탄소수 1~5의 알콕시기, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 단, L1 및 L2의 양말단의 메틸렌기(-CH2-)가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되는 일은 없고,
A1, A2, B1 및 B2는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 고리형 지방족기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족기를 나타내고,
Y1~Y4는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -NR11-C(=O)-, -C(=O)-NR11-, -O-C(=O)-O-, -NR11-C(=O)-O-, -O-C(=O)-NR11-, 또는 -NR11-C(=O)-NR12-를 나타내고, R11 및 R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고,
P1 및 P2의 일방은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고, P1 및 P2의 타방은, 중합성기를 나타내고,
p 및 q는, 각각 독립적으로, 0~2의 정수이고, 단, p = 0 또한 q = 1, p = 1 또한 q = 2의 경우는 제외한다〕으로 나타내어지는, 화합물.
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