JP6460128B2

JP6460128B2 - 位相差板及び円偏光板

Info

Publication number: JP6460128B2
Application number: JP2016569356A
Authority: JP
Inventors: 融石井; 小野　善之; 善之小野
Original assignee: DIC Corp
Current assignee: DIC Corp
Priority date: 2015-01-16
Filing date: 2016-01-12
Publication date: 2019-01-30
Anticipated expiration: 2036-01-12
Also published as: KR20170105042A; CN107209308B; JPWO2016114254A1; WO2016114254A1; CN107209308A; US10539714B2; US20180031738A1

Description

本発明は、広い波長域にわたり１／４波長の位相差を与える位相差板、広い波長域にわたり反射防止性能に優れる円偏光板、並びに視認性に優れる表示素子又は発光素子に関する。

従来、１枚の位相差板からなる１／４波長板は、１／４波長の位相差を与える波長が特定の波長に限られるため、ディスプレイ等の表面反射を抑制するための反射防止フィルタとして用いた場合、１／４波長の位相差を与える特定の波長付近以外の波長では十分な反射防止性能を得られず、ディスプレイ等が青、紫、赤等に着色して見える視認性の悪さが問題であった。
この問題に対して、複数の位相差板をそれらの光軸が交差するように積層してなる位相差板が提案されている（特許文献１〜３）。例えば、特許文献２によれば、波長４５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）で表される位相差比を用いて位相差板の波長特性を定義した場合、一方の位相差板の位相差比が１．１６であり、もう一方の位相差板の位相差比が１．０２５である２枚の位相差板を積層した位相差板において、良好な反射防止性能が得られたことが報告されている。また、特許文献３によれば、両方の位相差板の位相差比が１．００５である２枚の位相差板を積層した位相差板において、良好な反射防止性能が得られたことが報告されている。

しかし、特許文献１〜３の位相差板はいずれも、１／４波長の位相差を与える波長域の広さが不十分であり、また該位相差板に偏光板を積層して円偏光板を作成した場合、優れた反射防止性能を与える波長域の広さも不十分であることから、位相差板又は円偏光板を含むディスプレイ等の視認性の改善は不十分であった。具体的には、ディスプレイ等を斜めから観察した場合は防止しきれない僅かな反射光が必ず発生するが、その僅かな反射光が無彩色ではなく青、紫、赤等に着して見えてしまう問題があった。この着色は、観察者の周辺環境、特に、蛍光灯や太陽がディスプレイ等に青、紫、赤等に着色して映り込んでしまうことを意味し、ディスプレイ等の視認性の観点から極めて深刻な問題である。
さらに、特許文献１〜３のいずれも、膜厚が数十μｍである延伸フィルムを積層するため、積層した位相差板の厚さは１５０〜２００μｍとなり、常に薄型化を要求されるディスプレイ等においては位相差板の厚さが厚過ぎるという問題があった。
加えて、特許文献１〜３のいずれも、遅相軸が延伸方向に固定されてしまう延伸フィルムを用いているため、位相差板の遅相軸と偏光板の透過軸が交差するように位相差板と偏光板を積層する工程において、生産効率の悪い枚葉方式を採用しなければならないという問題もあった。

特開平５−１００１１４号公報特開平１１−２３１１３２号公報特開２００３−２７０４３５号公報

本発明が解決しようとする課題は、広い波長域にわたり１／４波長の位相差を与える位相差板、広い波長域にわたり反射防止性能に優れる円偏光板、並びに視認性に優れる表示素子又は発光素子を提供することである。

本発明者らは、上記課題を解決すべく、積層する位相差板の波長特性に着目して鋭意研究を行った結果、本発明を提供するに至った。即ち本発明は、位相差板１及び位相差板２の少なくとも２つの位相差板を積層してなる位相差板において、位相差板１と位相差板２の少なくとも一方が重合性液晶組成物の重合体により形成されており、位相差板１の波長５５０ｎｍにおける位相差が位相差板２の波長５５０ｎｍにおける位相差より大きく、位相差板１と位相差板２の少なくとも一方は波長４５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）で表される位相差比が０．９５以下であり、他方の位相差板のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）で表される位相差比が１．０５以下である位相差板、その位相差板に偏光板を積層してなる円偏光板、並びにその円偏光板を含む表示素子又は発光素子を提供する。

本発明の位相差板は、広い波長域にわたり１／４波長の位相差を与える位相差板であり、本発明の位相差板に偏光板を積層してなる本発明の円偏光板は、広い波長域にわたり反射防止性能に優れる円偏光板であり、本発明の位相差板又は本発明の円偏光板を含むディスプレイ等は、極めて視認性がよく、斜めから観察した場合は発生する僅かな反射光を無彩色にすることができる。
さらに、本発明の位相差層は厚さ１〜５０μｍであり、従来技術に比べて厚さを１〜５０％に薄型化することができる。加えて、重合性液晶の遅相軸は基材の配向処理により任意の方向へ調節できるため、位相差板の遅相軸と偏光板の透過軸が交差するように位相差板と偏光板を積層する工程において、生産効率の非常に高いロール・ツー・ロール方式を採用することができる。

本発明の位相差板は、位相差板１及び位相差板２の少なくとも２つの位相差板を積層してなる位相差板であって、位相差板１及び位相差板２の少なくとも一方が重合性液晶組成物の重合体により形成されており、位相差板１の波長５５０ｎｍにおける位相差が位相差板２の波長５５０ｎｍにおける位相差より大きく、位相差板１及び位相差板２の少なくとも一方は波長４５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）で表される位相差比が０．９５以下である位相差板であり、他方の位相差板のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）で表される位相差比が１．０５以下である。

＜位相差板＞
本発明の位相差板は、位相差板１及び位相差板２の少なくとも２つの位相差板を積層してなるものである。
位相差板１及び位相差板２としては、延伸フィルム、光学結晶、重合性液晶組成物の重合体など種々のものを用いることができるが、少なくとも一方は、重合性液晶組成物の重合体により形成されている。

延伸フィルムとしては、延伸ＣＯＰ（環状ポリオレフィン）フィルム、延伸ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム、延伸ＤＡＣ（ジアセチルセルロース）フィルム、延伸ＣＡＰ（セルロースアセテートプロピオネート）フィルム、延伸ＣＡＢ（セルロースアセテートブチレート）フィルム、延伸ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、延伸ＰＣ（ポリカーボネート）フィルム、延伸ＰＰ（ポリプロピレン）フィルム、延伸ＰＥ（ポリエチレン）フィルム等を用いることができる。
光学結晶としては、方解石、バリウム・ボーレイト結晶、イットリウム・バナデート結晶、酸化チタン単結晶等を用いることができる。
重合性液晶組成物の重合体としては、下記の重合性液晶組成物を重合してなる重合体を用いることができる。

位相差板１及び位相差板２の少なくとも一方は、重合性液晶組成物の重合体により形成されているが、位相差板１及び位相差板２がともに重合性液晶組成物の重合体により形成されているのがより好ましい。
位相差板１の波長５５０ｎｍにおける位相差は位相差板２の波長５５０ｎｍにおける位相差より大きく、位相差板１及び位相差板２の少なくとも一方は波長４５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）で表される位相差比が０．９５以下であり、他方の位相差板のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）で表される位相差比が１．０５以下である。好ましくは、位相差の大きい位相差板１の位相差比が０．９５以下であり、位相差の小さい位相差板２の位相差比が１．０５以下である位相差板１及び位相差板２を用いる。より好ましくは、位相差板１と位相差板２の両方の位相差板の位相差比が０．９５以下である位相差板１及び位相差板２を用いる。

本発明の位相差板は、位相差板１及び位相差板２の少なくとも一方の位相差板の位相差比が０．９５以下であり、他方の位相差板の位相差比が１．０５以下であることにより、広い波長域にわたり１／４波長の位相差が得られる。
位相差板１の波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ１（５５０）は２３０〜２９０ｎｍであることが好ましく、２５０〜２７０ｎｍであることがより好ましい。位相差板２の波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ２（５５０）は１１５〜１４５ｎｍであることが好ましく、１２０〜１４０ｎｍであることがより好ましい。

＜重合性液晶組成物＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、１つ以上の重合性基を有する液晶性化合物を含有する重合性液晶組成物を用いることができる。本発明において、「液晶性化合物」とは、メソゲン性骨格を有する化合物を示すことを意図するものであり、化合物単独では、液晶性を示さなくてもよい。なお、重合性組成物を紫外線等の光照射、あるいは加熱によって重合処理を行うことでポリマー化（フィルム化）することができる。
上記１つ以上の重合性基を有する液晶性化合物は、その複屈折性が可視光領域において、短波長側より長波長側で大きい特徴を有するのが好ましい。なかでも、１つの重合性基を有し、かつ、式（Ｉ）
Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１．０（Ｉ）
（式中、Ｒｅ（４５０ｎｍ）は、前記１つの重合性基を有する液晶性化合物を基板上に分子の長軸方向が実質的に基板に対して水平に配向させたときの４５０ｎｍの波長における面内位相差、Ｒｅ（５５０ｎｍ）は、前記１つの重合性基を有する液晶性化合物を基板上に分子の長軸方向が実質的に基板に対して水平に配向させたときの５５０ｎｍの波長における面内位相差、を表す。）を満たす液晶性化合物が好ましい。尚、１つ以上の重合性基を有する液晶性化合物は、上記式（Ｉ）を満たしていればよく、紫外線領域や赤外線領域では複屈折性が短波長側より長波長側で大きい必要はない。

本発明に用いる重合性液晶組成物は、一般式（１）〜（７）のいずれかの液晶性化合物を少なくとも１つ含有することが好ましい。

（式中、Ｐ^１１〜Ｐ^７４は重合性基を表し、Ｓ^１１〜Ｓ^７２はスペーサー基を又は単結合を表すが、Ｓ^１１〜Ｓ^７２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く、Ｘ^１１〜Ｘ^７２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１１〜Ｘ^７２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く（ただし、各Ｐ−（Ｓ−Ｘ）−結合には−Ｏ−Ｏ−を含まない。）、ＭＧ^１１〜ＭＧ^７１は各々独立して式（ａ）を表し、

（式中、Ａ^１１、Ａ^１２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良いが、Ａ^１１及び／又はＡ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
Ｚ^１１及びＺ^１２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１１及び／又はＺ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
Ｍは下記の式（Ｍ−１）から式（Ｍ−１１）

から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良く、
Ｇは下記の式（Ｇ−１）から式（Ｇ−６）

（式中、Ｒ^３は水素原子、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、
Ｗ^８１は少なくとも１つの芳香族基を有する、炭素原子数５から３０の基を表すが、当該基は無置換又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良く、
Ｗ^８２は水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、或いはＷ^８２はＷ^８１と同様の意味を表しても良く、Ｗ^８１及びＷ^８２は互いに連結し同一の環構造を形成しても良く、或いはＷ^８２は下記の基

（式中、Ｐ^Ｗ８２はＰ^１１と同じ意味を表し、Ｓ^Ｗ８２はＳ^１１と同じ意味を表し、Ｘ^Ｗ８２はＸ^１１と同じ意味を表し、ｎ^Ｗ８２はｍ１１と同じ意味を表す。）を表し、
Ｗ^８３及びＷ^８４はそれぞれ独立してハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、スルファモイル基、少なくとも１つの芳香族基を有する炭素原子数５から３０の基、炭素原子数１から２０のアルキル基、炭素原子数３から２０のシクロアルキル基、炭素原子数２から２０のアルケニル基、炭素原子数３から２０のシクロアルケニル基、炭素原子数１から２０のアルコキシ基、炭素原子数２から２０のアシルオキシ基、炭素原子数２から２０の又は、アルキルカルボニルオキシ基を表すが、前記アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、但し、上記Ｍが式（Ｍ−１）〜式（Ｍ−１０）から選択される場合Ｇは式（Ｇ−１）〜式（Ｇ−５）から選択され、Ｍが式（Ｍ−１１）である場合Ｇは式（Ｇ−６）を表し、
Ｌ^１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良いが、化合物内にＬ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
ｊ１１は１から５の整数、ｊ１２は１〜５の整数を表すが、ｊ１１＋ｊ１２は２から５の整数を表す。）、Ｒ^１１及びＲ^３１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、ｍ１１は０〜８の整数を表し、ｍ２〜ｍ７、ｎ２〜ｎ７、ｌ４〜ｌ６、ｋ６は各々独立して０から５の整数を表す。）

一般式（１）から一般式（７）において、重合性基Ｐ^１１〜Ｐ^７４は下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。

一般式（１）から一般式（７）において、Ｓ^１１〜Ｓ^７２はスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓ^１１〜Ｓ^７２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。また、スペーサー基としては、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は下記の式（Ｓ−１）

に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましい。Ｓは原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基又は単結合を表すことがより好ましく、各々独立して炭素原子数１から１０のアルキレン基又は単結合を表すことがさらに好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して炭素原子数１から８のアルキレン基を表すことが特に好ましい。

一般式（１）から一般式（７）において、Ｘ^１１〜Ｘ^７２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１１〜Ｘ^７２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い（ただし、Ｐ−（Ｓ−Ｘ）−結合には−Ｏ−Ｏ−を含まない。）。また、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、各々独立して−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。

一般式（１）から一般式（７）において、Ａ^１１及びＡ^１２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上のＬによって置換されても良いが、Ａ^１１及び／又はＡ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良い。Ａ^１１及びＡ^１２は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から各々独立して無置換又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い１，４−フェニレン基、１，４−シクロへキシレン基又はナフタレン−２，６−ジイルを表すことが好ましく、各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−１１）

から選ばれる基を表すことがより好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−８）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−４）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

一般式（１）から一般式（７）において、Ｚ^１１及びＺ^１２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１１及び／又はＺ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良い。Ｚ^１１及びＺ^１２は化合物の液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、各々独立して単結合、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことがより好ましく、各々独立して−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらに好ましく、各々独立して−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。

一般式（１）から一般式（７）において、Ｍは下記の式（Ｍ−１）から式（Ｍ−１１）

から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い。Ｍは原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から各々独立して無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い式（Ｍ−１）又は式（Ｍ−２）若しくは無置換の式（Ｍ−３）から式（Ｍ−６）から選ばれる基を表すことが好ましく、無置換又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い式（Ｍ−１）又は式（Ｍ−２）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換の式（Ｍ−１）又は式（Ｍ−２）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

一般式（１）から一般式（７）において、Ｒ^１１及びＲ^３１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。Ｒ^１は液晶性及び合成の容易さの観点から水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表すことが好ましく、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、若しくは、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表すことがより好ましく、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（１）から一般式（７）において、Ｇは式（Ｇ−１）から式（Ｇ−６）から選ばれる基を表す。

式中、Ｒ^３は水素原子、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、
Ｗ^８１は少なくとも１つの芳香族基を有する、炭素原子数５から３０の基を表すが、当該基は無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良く、
Ｗ^８２は、水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、或いはＷ^８２はＷ^８１と同様の意味を表しても良く、Ｗ^８１及びＷ^８２は一緒になって環構造を形成しても良く、或いはＷ^８２は下記の基

（式中、Ｐ^Ｗ８２はＰ^１１と同じ意味を表し、Ｓ^Ｗ８２はＳ^１１と同じ意味を表し、Ｘ^Ｗ８２はＸ^１１と同じ意味を表し、ｎ^Ｗ８２はｍ１１と同じ意味を表す。）を表す。

Ｗ^８１に含まれる芳香族基は芳香族炭化水素基又は芳香族複素基であっても良く、両方を含んでいても良い。これらの芳香族基は単結合又は連結基（−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−、−Ｏ−）を介して結合していても良く、縮合環を形成しても良い。また、Ｗ^８１は芳香族基に加えて芳香族基以外の非環式構造及び／又は環式構造を含んでいても良い。Ｗ^８１に含まれる芳香族基は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１）から式（Ｗ−１９）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、これらの基から選ばれる２つ以上の芳香族基を単結合で連結した基を形成しても良く、Ｑ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^５−（式中、Ｒ^５は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）又は−ＣＯ−を表す。これらの芳香族基中の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^４−（式中、Ｒ^４は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）又は−ＣＯ−に置き換えられても良いが、−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）で表される基が好ましい。式（Ｗ−１）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１−１）から式（Ｗ−１−８）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良い。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−７）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−７−１）から式（Ｗ−７−７）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良い。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１０）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１０−１）から式（Ｗ−１０−８）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１１）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１１−１）から式（Ｗ−１１−１３）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１２）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１２−１）から式（Ｗ−１２−１９）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表すが、Ｒ^６が複数存在する場合それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１３）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１３−１）から式（Ｗ−１３−１０）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表すが、Ｒ^６が複数存在する場合それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１４）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１４−１）から式（Ｗ−１４−４）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１５）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１５−１）から式（Ｗ−１５−１８）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１６）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１６−１）から式（Ｗ−１６−４）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１７）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１７−１）から式（Ｗ−１７−６）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１８）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１８−１）から式（Ｗ−１８−６）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表すが、Ｒ^６が複数存在する場合それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）から選ばれる基を表すことが好ましく、式（Ｗ−１９）で表される基としては、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−１９−１）から式（Ｗ−１９−９）

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表すが、Ｒ^６が複数存在する場合それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）から選ばれる基を表すことが好ましい。Ｗ^８１に含まれる芳香族基は、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い式（Ｗ−１−１）、式（Ｗ−７−１）、式（Ｗ−７−２）、式（Ｗ−７−７）、式（Ｗ−８）、式（Ｗ−１０−６）、式（Ｗ−１０−７）、式（Ｗ−１０−８）、式（Ｗ−１１−８）、式（Ｗ−１１−９）、式（Ｗ−１１−１０）、式（Ｗ−１１−１１）、式（Ｗ−１１−１２）又は式（Ｗ−１１−１３）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い式（Ｗ−１−１）、式（Ｗ−７−１）、式（Ｗ−７−２）、式（Ｗ−７−７）、式（Ｗ−１０−６）、式（Ｗ−１０−７）又は式（Ｗ−１０−８）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。さらに、Ｗ^８１は下記の式（Ｗ−ａ−１）から式（Ｗ−ａ−６）

（式中、ｒは０から５の整数を表し、ｓは０から４の整数を表し、ｔは０から３の整数を表す。）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

Ｗ^８２は水素原子又は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、或いはＷ^８２はＷ^８１と同様の意味を表しても良く、Ｗ^８１及びＷ^８２は一緒になって環構造を形成しても良く、或いはＷ^８２は下記の基

Ｗ^８２は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、水素原子、若しくは、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、水素原子、若しくは、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、水素原子、若しくは、炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基を表すことが特に好ましい。また、Ｗ^８２がＷ^８１と同様の意味を表す場合、Ｗ^８２はＷ^８１と同一であっても異なっていても良いが、好ましい基はＷ^８１についての記載と同様である。また、Ｗ^８１及びＷ^８２が一緒になって環構造を形成する場合、−ＮＷ^８１Ｗ^８２で表される環状基は無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−ｂ−１）から式（Ｗ−ｂ−４２）

（式中、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましく、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、無置換又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い式（Ｗ−ｂ−２０）、式（Ｗ−ｂ−２１）、式（Ｗ−ｂ−２２）、式（Ｗ−ｂ−２３）、式（Ｗ−ｂ−２４）、式（Ｗ−ｂ−２５）又は式（Ｗ−ｂ−３３）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

また、＝ＣＷ^８１Ｗ^８２で表される環状基は無置換であるか又は１つ以上のＬ^１によって置換されても良い下記の式（Ｗ−ｃ−１）から式（Ｗ−ｃ−８１）

（式中、Ｒ^６は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表すが、Ｒ^６が複数存在する場合それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）から選ばれる基を表すことが好ましく、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い式（Ｗ−ｃ−１１）、式（Ｗ−ｃ−１２）、式（Ｗ−ｃ−１３）、式（Ｗ−ｃ−１４）、式（Ｗ−ｃ−５３）、式（Ｗ−ｃ−５４）、式（Ｗ−ｃ−５５）、式（Ｗ−ｃ−５６）、式（Ｗ−ｃ−５７）又は式（Ｗ−ｃ−７８）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

Ｗ^８２が下記の基

を表す場合、好ましいＰ^Ｗ８２はＰ^１１についての記載と同様であり、好ましいＳ^Ｗ８２はＳ^１１についての記載と同様であり、好ましいＸ^Ｗ８２はＸ^１１についての記載と同様であり、好ましいｎ^Ｗ８２はｍ１１についての記載と同様である。
Ｗ^８１及びＷ^８２に含まれるπ電子の総数は、波長分散特性、保存安定性、液晶性及び合成の容易さの観点から４から２４であることが好ましい。

Ｗ^８３、Ｗ^８４はそれぞれ独立してハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、スルファモイル基、少なくとも１つの芳香族基を有する炭素原子数５から３０の基、炭素原子数１から２０のアルキル基、炭素原子数３から２０のシクロアルキル基、炭素原子数２から２０のアルケニル基、炭素原子数３から２０のシクロアルケニル基、炭素原子数１から２０のアルコキシ基、炭素原子数２から２０のアシルオキシ基、炭素原子数２から２０の又は、アルキルカルボニルオキシ基を表すが、前記アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、Ｗ^８３はシアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換された、炭素原子数１から２０のアルキル基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基から選択される基がより好ましく、シアノ基、カルボキシル基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換された、炭素原子数１から２０のアルキル基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基で選択される基が特に好ましく、Ｗ^８４はシアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換された、炭素原子数１から２０のアルキル基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基から選択される基がより好ましく、シアノ基、カルボキシル基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換された、炭素原子数１から２０のアルキル基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基で選択される基で選択される基が特に好ましい。

Ｌ^１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、Ｌ^１はフッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から８の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（１）において、ｍ１１は０から８の整数を表すが、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から０から４の整数を表すことが好ましく、０から２の整数を表すことがより好ましく、０又は１を表すことがさらに好ましく、１を表すことが特に好ましい。
一般式（２）から一般式（７）において、ｍ２〜ｍ７は０から５の整数を表すが、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から０から４の整数を表すことが好ましく、０から２の整数を表すことがより好ましく、０又は１を表すことがさらに好ましく、１を表すことが特に好ましい。
一般式（ａ）において、ｊ１１及びｊ１２は各々独立して１から５の整数を表すが、ｊ１１＋ｊ１２は２から５の整数を表す。液晶性、合成の容易さ及び保存安定性の観点から、ｊ１１及びｊ１２は各々独立して１から４の整数を表すことが好ましく、１から３の整数を表すことがより好ましく、１又は２を表すことが特に好ましい。ｊ１１＋ｊ１２は２から４の整数を表すことが好ましい。

一般式（１）で表される化合物として具体的には、下記の式（１−ａ−１）から式（１−ａ−１０５）で表される化合物が好ましい。

これらの液晶性化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

一般式（２）で表される化合物として具体的には、下記の式（２−ａ−１）から式（２−ａ−６１）で表される化合物が好ましい。

（式中、ｎは１〜１０の整数を表す。）これらの液晶性化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

一般式（３）で表される化合物として具体的には、下記の式（３−ａ−１）から式（３−ａ−１７）で表される化合物が好ましい。

一般式（４）においては、Ｐ^４３−（Ｓ^４３−Ｘ^４３）_ｌ４−で表される基は、一般式（ａ）のＡ^１１又はＡ^１２に結合する。
一般式（４）で表される化合物として具体的には、下記の式（４−ａ−１）から式（４−ａ−２６）で表される化合物が好ましい。

（式中、ｍ及びｎはそれぞれ独立して１〜１０の整数を表す。）これらの液晶性化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

一般式（５）で表される化合物として具体的には、下記の式（５−ａ−１）から式（５−ａ−２９）で表される化合物が好ましい。

（式中、ｎは炭素原子数１〜１０を示す。）これらの液晶性化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

一般式（６）においては、Ｐ^６３−（Ｓ^６３−Ｘ^６３）_ｌ６−で表される基、及びＰ^６４−（Ｓ^６４−Ｘ^６４）_ｋ６−で表される基は、一般式（ａ）のＡ^１１又はＡ^１２に結合する。
一般式（６）で表される化合物として具体的には、下記の式（６−ａ−１）から式（６−ａ−２５）で表される化合物が好ましい

（式中、ｋ、ｌ、ｍ及びｎはそれぞれ独立して炭素原子数１〜１０を表す。）これらの液晶性化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

一般式（７）で表される化合物として具体的には、下記の式（７−ａ−１）から式（７−ａ−２６）で表される化合物が好ましい。

上記１つ以上の重合性基を有する液晶性化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる液晶性化合物の総量に対し、６０〜１００質量％含有することが好ましく、６５〜９８質量％含有することがより好ましく、７０〜９５質量％含有することが特に好ましい。

＜開始剤＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、必要に応じて開始剤を含有することができる。本発明の重合性液晶組成物で用いられる重合開始剤は、本発明の重合性液晶組成物を重合させるために用いる。重合を光照射によって行う場合に使用する光重合開始剤としては、特に限定はないが、一般式（１）から一般式（７）の液晶性化合物の配向状態を阻害しない程度で公知慣用のものが使用できる。

例えば１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン「イルガキュア１８４」、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン「ダロキュア１１１６」、２−メチル−１−［（メチルチオ）フェニル］−２−モリホリノプロパン−１「イルガキュア９０７」、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン「イルガキュア６５１」、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン「イルガキュア３６９」）、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリノ−フェニル）ブタン−１−オン「イルガキュア３７９」、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ジフェニルフォスフィンオキサイド「ルシリンＴＰＯ」、２，４，６−トリメチルベンゾイル−フェニル−フォスフィンオキサイド「イルガキュア８１９」、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］，エタノン「イルガキュアＯＸＥ０１」）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）「イルガキュアＯＸＥ０２」（以上、ＢＡＳＦ株式会社製。２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワ−ドプレキンソップ社製「カンタキュア−ＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、「エサキュアＯＮＥ」、「エサキュアＫＩＰ１５０」、「エサキュアＫＩＰ１６０」、「エサキュア１００１Ｍ」、「エサキュアＡ１９８」、「エサキュアＫＩＰＩＴ」、「エサキュアＫＴＯ４６」、「エサキュアＴＺＴ」（ｌａｍｂｅｒｔｉ株式会社製）、
ＬＡＭＢＳＯＮ社の「スピードキュアＢＭＳ」、「スピードキュアＰＢＺ」、「ベンゾフェノン」等が挙げられる。さらに、光カチオン開始剤としては、光酸発生剤を用いることができる。光酸発生剤としてはジアゾジスルホン系化合物、トリフェニルスルホニウム系化合物、フェニルスルホン系化合物、スルフォニルピリジン系化合物、トリアジン系化合物及びジフェニルヨードニウム化合物などが挙げられる。

光重合開始剤の含有率は、重合性液晶組成物に含まれる液晶性化合物の総量に対し、０．１〜１０質量％が好ましく、１〜６質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

また、熱重合の際に使用する熱重合開始剤としては公知慣用のものが使用でき、例えば、メチルアセトアセテイトパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パ−オキシジカーボネイト、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエイト、メチルエチルケトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパ−オキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｐ−ペンタハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、イソブチルパーオキサイド、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネイト、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾニトリル化合物、２，２’−アゾビス（２−メチル−Ｎ−フェニルプロピオン−アミヂン）ジハイドロクロライド等のアゾアミヂン化合物、２，２’アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝等のアゾアミド化合物、２，２’アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等のアルキルアゾ化合物等を使用することができる。熱重合開始剤の含有率は０．１〜１０質量％が好ましく、１〜６質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

＜有機溶剤＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、必要に応じて有機溶剤を含有することができる。用いる有機溶剤としては特に限定はないが、前記重合性液晶性化合物が良好な溶解性を示す有機溶剤が好ましく、１００℃以下の温度で乾燥できる有機溶剤であることが好ましい。そのような溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン、等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸シクロヘキシル、酢酸３−ブトキシメチル、乳酸エチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、等のアミド系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン及びクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできるが、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤及び芳香族炭化水素系溶剤のうちのいずれか１種類以上を用いることが溶液安定性の点から好ましい。

用いる有機溶剤の含有量は、本発明に用いられる重合性液晶組成物が通常塗布により行われることから、塗布した状態を著しく損なわない限りは特に制限はないが、有機溶剤を含有する重合性液晶組成物中の液晶性化合物の合計量の含有率が０．１〜９９質量％であるように調整することが好ましく、５〜６０質量％であるように調整することが更に好ましく、１０〜５０質量％であるように調整することが特に好ましい。
また、有機溶剤に前記重合性液晶性化合物を溶解する際には、均一に溶解させるために、加熱攪拌することが好ましい。加熱攪拌時の加熱温度は、用いる重合性液晶化合物の有機溶剤に対する溶解性を考慮して適宜調節すればよいが、生産性の点から１５℃〜１３０℃が好ましく、３０℃〜１１０℃が更に好ましく、５０℃〜１００℃が特に好ましい。

＜添加剤＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、均一に塗布するため、あるいは、各々の目的に応じて汎用の添加剤を使用することもできる。例えば、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、配向制御剤、連鎖移動剤、赤外線吸収剤、チキソ剤、帯電防止剤、色素、フィラー、キラル化合物、重合性基を有する非液晶性化合物、その他液晶化合物、配向材料等の添加剤を液晶の配向性を著しく低下させない程度添加することができる。

＜重合禁止剤＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、必要に応じて重合禁止剤を含有することができる。用いる重合禁止剤としては、特に限定はなく、公知慣例のものが使用できる。
例えば、ｐ−メトキシフェノール、クレゾール、ｔ−ブチルカテコール、３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、２．２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２．２'−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４．４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４−メトキシ−１−ナフトール、４，４’−ジアルコキシ−２，２’−ビ−１−ナフトール、等のフェノール系化合物、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、メチル−ｐ−ベンゾキノン、ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジフェニルベンゾキノン、２−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン、１，４−ナフトキノン、２，３−ジクロロ−１，４−ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン、等のキノン系化合物、ｐ−フェニレンジアミン、４−アミノジフェニルアミン、Ｎ．Ｎ'−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−ｉ−プロピル−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１．３−ジメチルブチル）−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ．Ｎ'−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−β−ナフチルアミン、４．４'−ジクミル−ジフェニルアミン、４．４'−ジオクチル−ジフェニルアミン、等のアミン系化合物、フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート、等のチオエーテル系化合物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルナフチルアミン、Ｎ−ニトロソジナフチルアミン、ｐ−ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、ｐ−ニトロソジフェニルアミン、α−ニトロソ−β−ナフトール等、Ｎ、Ｎ−ジメチルｐ−ニトロソアニリン、ｐ−ニトロソジフェニルアミン、ｐ−ニトロンジメチルアミン、ｐ−ニトロン−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミン、Ｎ−ニトロソエタノールアミン、Ｎ−ニトロソジ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ −ｎ−ブチル−４−ブタノールアミン、Ｎ−ニトロソ−ジイソプロパノールアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−エチル−４−ブタノールアミン、５−ニトロソ−８−ヒドロキシキノリン、Ｎ−ニトロソモルホリン、Ｎ−二トロソーＮ−フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、二トロソベンゼン、２，４．６−トリーｔｅｒｔ−ブチルニトロンベンゼン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−エチルウレタン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−ｎ−プロピルウレタン、１−ニトロソ−２−ナフトール、２−ニトロソ−１−ナフトール、１−ニトロソ−２−ナフトール−３，６−スルホン酸ナトリウム、２−ニトロソ−１−ナフトール−４−スルホン酸ナトリウム、２−ニトロソ−５−メチルアミノフェノール塩酸塩、２−ニトロソ−５−メチルアミノフェノール塩酸塩、等のニトロソ系化合物が挙げられる。

重合禁止剤の添加量は、重合性液晶組成物に含まれる液晶性化合物の総量に対し、０．０１〜１．０質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。

＜酸化防止剤＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、必要に応じて酸化防止剤等を含有することができる。そのような化合物として、ヒドロキノン誘導体、ニトロソアミン系重合禁止剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤等が挙げられ、より具体的には、tert-ブチルハイドロキノン、和光純薬工業社の「Ｑ−１３００」、「Ｑ−１３０１」、ペンタエリスリトールテトラキス[３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、チオジエチレンビス[３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」（以上、ＢＡＳＦ株式会社製）、株式会社ＡＤＥＫＡ製のアデカスタブＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０、ＡＯ−８０、住友化学株式会社のスミライザーＢＨＴ、スミライザーＢＢＭ−Ｓ、およびスミライザーＧＡ−８０等々があげられる。

酸化防止剤の添加量は、重合性液晶組成物に含まれる液晶性化合物の総量に対し、０．０１〜２．０質量％であることが好ましく、０．０５〜１．０質量％であることがより好ましい。

＜紫外線吸収剤＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、必要に応じて紫外線吸収剤や光安定剤を含有することができる。用いる紫外線吸収剤や光安定剤は特に限定はないが、光学異方体や光学フィルム等の耐光性を向上させるものが好ましい。

前記紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール「チヌビンＰＳ」、「チヌビン９９−２」、「チヌビン１０９」、「ＴＩＮＵＶＩＮ２１３」、「ＴＩＮＵＶＩＮ２３４」、「ＴＩＮＵＶＩＮ３２６」、「ＴＩＮＵＶＩＮ３２８」、「ＴＩＮＵＶＩＮ３２９」、「ＴＩＮＵＶＩＮ３８４−２」、「ＴＩＮＵＶＩＮ５７１」、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール「ＴＩＮＵＶＩＮ９００」、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール「ＴＩＮＵＶＩＮ９２８」、「ＴＩＮＵＶＩＮ１１３０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ４００」、「ＴＩＮＵＶＩＮ４０５」、２，４−ビス[２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル]−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン「ＴＩＮＵＶＩＮ４６０」、「チヌビン４７９」、「ＴＩＮＵＶＩＮ５２３６」（以上、ＢＡＳＦ株式会社製）、「アデカスタブＬＡ−３２」、「アデカスタブＬＡ−３４」、「アデカスタブＬＡ−３６」、「アデカスタブＬＡ−３１」、「アデカスタブ１４１３」、「アデカスタブＬＡ−５１」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

光安定剤としては例えば、「ＴＩＮＵＶＩＮ１１１ＦＤＬ」、「ＴＩＮＵＶＩＮ１２３」、「ＴＩＮＵＶＩＮ１４４」、「ＴＩＮＵＶＩＮ１５２」、「ＴＩＮＵＶＩＮ２９２」、「ＴＩＮＵＶＩＮ６２２」、「ＴＩＮＵＶＩＮ７７０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ７６５」、「ＴＩＮＵＶＩＮ７８０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ９０５」、「ＴＩＮＵＶＩＮ５１００」、「ＴＩＮＵＶＩＮ５０５０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ５０６０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ５１５１」、「ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ１１９ＦＬ」、「ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＬ」、「ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＬＤ」（以上、ＢＡＳＦ株式会社製）、「アデカスタブＬＡ−５２」、「アデカスタブＬＡ−５７」、「アデカスタブＬＡ−６２」、「アデカスタブＬＡ−６７」、「アデカスタブＬＡ−６３Ｐ」、「アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ」、「アデカスタブＬＡ−７７」、「アデカスタブＬＡ−８２」、「アデカスタブＬＡ−８７」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

＜レベリング剤＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、必要に応じてレベリング剤を含有することができる。用いるレベリング剤は特に限定はないが、光学異方体や光学フィルム等の薄膜を形成する場合に膜厚むらを低減させるためものが好ましい。前記レベリング剤としては、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類等が挙げられる。

具体的には、「メガファックＦ−１１４」、「メガファックＦ−２５１」、「メガファックＦ−２８１」、「メガファックＦ−４１０」、「メガファックＦ−４３０」、「メガファックＦ−４４４」、「メガファックＦ−４７２ＳＦ」、「メガファックＦ−４７７」、「メガファックＦ−５１０」、「メガファックＦ−５１１」、「メガファックＦ−５５２」、「メガファックＦ−５５３」、「メガファックＦ−５５４」、「メガファックＦ−５５５」、「メガファックＦ−５５６」、「メガファックＦ−５５７」、「メガファックＦ−５５８」、「メガファックＦ−５５９」、「メガファックＦ−５６０」、「メガファックＦ−５６１」、「メガファックＦ−５６２」、「メガファックＦ−５６３」、「メガファックＦ−５６５」、「メガファックＦ−５６７」、「メガファックＦ−５６８」、「メガファックＦ−５６９」、「メガファックＦ−５７０」、「メガファックＦ−５７１」、「メガファックＲ−４０」、「メガファックＲ−４１」、「メガファックＲ−４３」、「メガファックＲ−９４」、「メガファックＲＳ−７２−Ｋ」、「メガファックＲＳ−７５」、「メガファックＲＳ−７６−Ｅ」、「メガファックＲＳ−７６−ＮＳ」、「メガファックＲＳ−９０」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ−１３６７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ１４３７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ１５３７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ−２０６６」（以上、ＤＩＣ株式会社製）、
「フタージェント１００」、「フタージェント１００Ｃ」、「フタージェント１１０」、「フタージェント１５０」、「フタージェント１５０ＣＨ」、「フタージェント１００Ａ-Ｋ」、「フタージェント３００」、「フタージェント３１０」、「フタージェント３２０」、「フタージェント４００ＳＷ」、「フタージェント２５１」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２１２Ｍ」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２１２Ｄ」、「ＦＴＸ−２１８」、「フタージェント２０９Ｆ」、「フタージェント２４５Ｆ」、「フタージェント２０８Ｇ」、「フタージェント２４０Ｇ」、「フタージェント２１２Ｐ」、「フタージェント２２０Ｐ」、「フタージェント２２８Ｐ」、「ＤＦＸ−１８」、「フタージェント６０１ＡＤ」、「フタージェント６０２Ａ」、「フタージェント６５０Ａ」、「フタージェント７５０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＭ」、「フタージェント７３０ＦＬ」、「フタージェント７１０ＦＳ」、「フタージェント７１０ＦＭ」、「フタージェント７１０ＦＬ」、「フタージェント７５０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＳ」、「フタージェント７３０ＬＭ」、（以上、株式会社ネオス製）、
「ＢＹＫ−３００」、「ＢＹＫ−３０２」、「ＢＹＫ−３０６」、「ＢＹＫ−３０７」、「ＢＹＫ−３１０」、「ＢＹＫ−３１５」、「ＢＹＫ−３２０」、「ＢＹＫ−３２２」、「ＢＹＫ−３２３」、「ＢＹＫ−３２５」、「ＢＹＫ−３３０」、「ＢＹＫ−３３１」、「ＢＹＫ−３３３」、「ＢＹＫ−３３７」、「ＢＹＫ−３４０」、「ＢＹＫ−３４４」、「ＢＹＫ−３７０」、「ＢＹＫ−３７５」、「ＢＹＫ−３７７」、「ＢＹＫ−３５０」、「ＢＹＫ−３５２」、「ＢＹＫ−３５４」、「ＢＹＫ−３５５」、「ＢＹＫ−３５６」、「ＢＹＫ−３５８Ｎ」、「ＢＹＫ−３６１Ｎ」、「ＢＹＫ−３５７」、「ＢＹＫ−３９０」、「ＢＹＫ−３９２」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５００」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５１０」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５７０」、「ＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００」（以上、ＢＹＫ株式会社製）、
「ＴＥＧＯＲａｄ２１００」、「ＴＥＧＯＲａｄ２０１１」、「ＴＥＧＯＲａｄ２２００Ｎ」、「ＴＥＧＯＲａｄ２２５０」、「ＴＥＧＯＲａｄ２３００」、「ＴＥＧＯＲａｄ２５００」、「ＴＥＧＯＲａｄ２６００」、「ＴＥＧＯＲａｄ２６５０」、「ＴＥＧＯＲａｄ２７００」、「ＴＥＧＯＦｌｏｗ３００」、「ＴＥＧＯＦｌｏｗ３７０」、「ＴＥＧＯＦｌｏｗ４２５」、「ＴＥＧＯＦｌｏｗＡＴＦ２」、「ＴＥＧＯＦｌｏｗＺＦＳ４６０」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅ１００」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅ１１０」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅ１３０」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅ４１０」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅ４１１」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅ４１５」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅ４３２」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅ４４０」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅ４５０」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅ４８２」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅＡ１１５」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅＢ１４８４」、「ＴＥＧＯＧｌｉｄｅＺＧ４００」、「ＴＥＧＯＴｗｉｎ４０００」、「ＴＥＧＯＴｗｉｎ４１００」、「ＴＥＧＯＴｗｉｎ４２００」、「ＴＥＧＯＷｅｔ２４０」、「ＴＥＧＯＷｅｔ２５０」、「ＴＥＧＯＷｅｔ２６０」、「ＴＥＧＯＷｅｔ２６５」、「ＴＥＧＯＷｅｔ２７０」、「ＴＥＧＯＷｅｔ２８０」、「ＴＥＧＯＷｅｔ５００」、「ＴＥＧＯＷｅｔ５０５」、「ＴＥＧＯＷｅｔ５１０」、「ＴＥＧＯＷｅｔ５２０」、「ＴＥＧＯＷｅｔＫＬ２４５」、（以上、エボニック・インダストリーズ株式会社製）、「ＦＣ−４４３０」、「ＦＣ−４４３２」（以上、スリーエムジャパン株式会社製）、「ユニダインＮＳ」（以上、ダイキン工業株式会社製）、「サーフロンＳ−２４１」、「サーフロンＳ−２４２」、「サーフロンＳ−２４３」、「サーフロンＳ−４２０」、「サーフロンＳ−６１１」、「サーフロンＳ−６５１」、「サーフロンＳ−３８６」（以上、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製）、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＯＸ−８８０ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＯＸ−８８１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＯＸ−８８３」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＯＸ−７７ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＯＸ−７１０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１９２２」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１９２７」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１９５８」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＰ−４１０ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＰ−４２０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＰ−４２５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＰＤ−７」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１９７０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ２３０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＦ−１９８０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＦ−１９８２」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＦ−１９８３」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＦ−１０８４」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＦ−１９８５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＨＰ−９０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＨＰ−９１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＨＰ−９５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＨＰ−９６」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＯＸ−７１５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１９３０Ｎ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１９３１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１９３３」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１９３４」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１７１１ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１７５１Ｎ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ１７６１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＳ−００９」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＳ−００１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮＬＳ−０５０」（以上、楠本化成株式会社製）、「ＰＦ−１５１Ｎ」、「ＰＦ−６３６」、「ＰＦ−６３２０」、「ＰＦ−６５６」、「ＰＦ−６５２０」、「ＰＦ−６５２−ＮＦ」、「ＰＦ−３３２０」（以上、ＯＭＮＯＶＡＳＯＬＵＴＩＯＮＳ社製）、「ポリフローＮｏ．７」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ」、「ポリフローＮｏ．５０ＥＨＦ」、「ポリフローＮｏ．５４Ｎ」、「ポリフローＮｏ．７５」、「ポリフローＮｏ．７７」、「ポリフローＮｏ．８５」、「ポリフローＮｏ．８５ＨＦ」、「ポリフローＮｏ．９０」、「ポリフローＮｏ．９０Ｄ−５０」、「ポリフローＮｏ．９５」、「ポリフローＮｏ．９９Ｃ」、「ポリフローＫＬ−４００Ｋ」、「ポリフローＫＬ−４００ＨＦ」、「ポリフローＫＬ−４０１」、「ポリフローＫＬ−４０２」、「ポリフローＫＬ−４０３」、「ポリフローＫＬ−４０４」、「ポリフローＫＬ−１００」、「ポリフローＬＥ−６０４」、「ポリフローＫＬ−７００」、「フローレンＡＣ−３００」、「フローレンＡＣ−３０３」、「フローレンＡＣ−３２４」、「フローレンＡＣ−３２６Ｆ」、「フローレンＡＣ−５３０」、「フローレンＡＣ−９０３」、「フローレンＡＣ−９０３ＨＦ」、「フローレンＡＣ−１１６０」、「フローレンＡＣ−１１９０」、「フローレンＡＣ−２０００」、「フローレンＡＣ−２３００Ｃ」、「フローレンＡＯ−８２」、「フローレンＡＯ−９８」、「フローレンＡＯ−１０８」（以上、共栄社化学株式会社製）、「Ｌ−７００１」、「Ｌ−７００２」、「８０３２ＡＤＤＩＴＩＶＥ」、「５７ＡＤＤＴＩＶＥ」、「Ｌ−７０６４」、「ＦＺ−２１１０」、「ＦＺ−２１０５」、「６７ＡＤＤＴＩＶＥ」、「８６１６ＡＤＤＴＩＶＥ」（以上、東レ・ダウシリコーン株式会社製）等の例を挙げることができる。

レベリング剤の添加量は、重合性液晶組成物に含まれる液晶性化合物の総量に対し、０．０１〜２質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。
また、上記レベリング剤を使用することで、本発明に用いる重合性液晶組成物を光学異方体とした場合、空気界面のチルト角を効果的に減じることができるものもある。

＜配向制御剤＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、液晶性化合物の配向状態を制御するために、配向制御剤を含有することができる。用いる配向制御剤としては、液晶性化合物が、基材に対して実質的に水平配向、実質的に垂直配向、実質的にハイブリッド配向するものが挙げられる。また、キラル化合物を添加した場合には実質的に平面配向するものが挙げられる。前述したように、界面活性剤によって、水平配向、平面配向が誘起される場合もあるが、各々の配向状態が誘起されるものであれば、特に限定はなく、公知慣用のものを使用することができる。

そのような配向制御剤としては、例えば、光学異方体とした場合の空気界面のチルト角を効果的に減じる効果を持つ、下記一般式（８）で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１００以上１００００００以下である化合物が挙げられる。

（式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基中の水素原子は１つ以上のハロゲン原子で置換されていても良い。）
また、フルオロアルキル基で変性された棒状液晶性化合物、円盤状液晶性化合物、分岐構造を有してもよい長鎖脂肪族アルキル基を含有した重合性化合物、等も挙げられる。

光学異方体とした場合の空気界面のチルト角を効果的に増加させる効果を持つものとしては、硝酸セルロース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、複素芳香族環塩変性された棒状液晶性化合物、シアノ基、シアノアルキル基で変性された棒状液晶性化合物、等が挙げられる。

＜連鎖移動剤＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、重合体や光学異方体と基材との密着性をより向上させるため、連鎖移動剤を含有することができる。連鎖移動剤としては、芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素、ブロモトリクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、
オクチルメルカプタン、ｎ―ブチルメルカプタン、ｎ―ペンチルメルカプタン、ｎ−ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−テトラデシルメル、ｎ―ドデシルメルカプタン、ｔ−テトラデシルメルカプタン、ｔ―ドデシルメルカプタン等のメルカプタン化合物、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４−ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６−トリメルカプト−ｓ−トリアジン、２−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン等のチオール化合物、ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド等のスルフィド化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジビニルアニリン、ペンタフェニルエタン、α−メチルスチレンダイマー、アクロレイン、アリルアルコール、ターピノーレン、α−テルピネン、γ−テルビネン、ジペンテン、等が挙げられるが、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン、チオール化合物がより好ましい。

具体的には下記一般式（９−１）〜（９−１２）で表される化合物が好ましい。

式中、Ｒ^９５は炭素原子数２〜１８のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であっても良く、該アルキル基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子、及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子、硫黄原子、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、Ｒ^９６は炭素原子数２〜１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子、及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子、硫黄原子、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよい。

連鎖移動剤は、重合性液晶化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。
連鎖移動剤の添加量は、重合性液晶組成物に含まれる液晶性化合物の総量に対し、０．５〜１０質量％であることが好ましく、１．０〜５．０質量％であることがより好ましい。
更に物性調整のため、重合性基を有さない液晶性化合物や液晶性のない重合性化合物も必要に応じて添加することも可能である。液晶性のない重合性化合物は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、重合性を有さない液晶性化合物は、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。これらの化合物の添加量は重合性液晶組成物に対して、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下が更により好ましい。

＜赤外線吸収剤＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、必要に応じて赤外線吸収剤を含有することができる。用いる赤外線吸収剤は、特に限定はなく、配向性を乱さない範囲で公知慣用のものを含有することができる。

前記赤外線吸収剤としては、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフトキノン化合物、ジチオール化合物、ジインモニウム化合物、アゾ化合物、アルミニウム塩等が挙げられる。
具体的には、ジインモニウム塩タイプの「ＮＩＲ−ＩＭ１」、アルミニウム塩タイプの「ＮＩＲ−ＡＭ１」（以上、ナガセケムテック株式会社製）、「カレンズＩＲ−Ｔ」、「カレンズＩＲ−１３Ｆ」（以上、昭和電工株式会社製）、「ＹＫＲ−２２００」、「ＹＫＲ−２１００」（以上、山本化成株式会社製）、「ＩＲＡ９０８」、「ＩＲＡ９３１」、「ＩＲＡ９５５」、「ＩＲＡ１０３４」（以上、ＩＮＤＥＣＯ株式会社）等が挙げられる。

＜帯電防止剤＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、必要に応じて帯電防止剤を含有することができる。用いる帯電防止剤は、特に限定はなく、配向性を乱さない範囲で公知慣用のものを含有することができる。
そのような帯電防止剤としては、スルホン酸塩基またはリン酸塩基を分子内に少なくとも１種類以上有する高分子化合物、４級アンモニウム塩を有する化合物、重合性基を有する界面活性剤等が挙げられる。

中でも重合性基を有する界面活性剤が好ましく、例えば、重合性基を有する界面活性剤の内、アニオン系のものとして、「アントックスＳＡＤ」、「アントックスＭＳ−２Ｎ」（以上、日本乳化剤株式会社製）、「アクアロンＫＨ−０５」、「アクアロンＫＨ−１０」、「アクアロンＫＨ−２０」、「アクアロンＫＨ−０５３０」、「アクアロンＫＨ−１０２５」（以上、第一工業製薬株式会社製）、「アデカリアソープＳＲ−１０Ｎ」、「アデカリアソープＳＲ−２０Ｎ」（以上株式会社ＡＤＥＫＡ製）、「ラテムルＰＤ−１０４」（花王株式会社製）、等のアルキルエーテル系、「ラテムルＳ−１２０」、「ラテムルＳ−１２０Ａ」、「ラテムルＳ−１８０Ｐ」、「ラテムルＳ−１８０Ａ」（以上、花王株式会社製）、「エレミノールＪＳ−２」（三洋化成株式会社製）、等のスルフォコハク酸エステル系、「アクアロンＨ−２８５５Ａ」、「アクアロンＨ−３８５５Ｂ」、「アクアロンＨ−３８５５Ｃ」、「アクアロンＨ−３８５６」、「アクアロンＨＳ−０５」、「アクアロンＨＳ−１０」、「アクアロンＨＳ−２０」、「アクアロンＨＳ−３０」、「アクアロンＨＳ−１０２５」、「アクアロンＢＣ−０５」、「アクアロンＢＣ−１０」、「アクアロンＢＣ−２０」、「アクアロンＢＣ−１０２５」、「アクアロンＢＣ−２０２０」（以上、第一工業製薬株式会社製）、「アデカリアソープＳＤＸ−２２２」、「アデカリアソープＳＤＸ−２２３」、「アデカリアソープＳＤＸ−２３２」、「アデカリアソープＳＤＸ−２３３」、「アデカリアソープＳＤＸ−２５９」、「アデカリアソープＳＥ−１０Ｎ」、「アデカリアソープＳＥ−２０Ｎ」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、等のアルキルフェニルエーテルあるいはアルキルフェニルエステル系、「アントックスＭＳ−６０」、「アントックスＭＳ−２Ｎ」（以上、日本乳化剤株式会社製）、「エレミノールＲＳ−３０」（三洋化成株式会社製）、等の（メタ）アクリレート硫酸エステル系、「Ｈ−３３３０Ｐ」（第一工業製薬株式会社製）、「アデカリアソープＰＰ−７０」（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、等のリン酸エステル系が挙げられる。

一方、重合性基を有する界面活性剤の内、ノニオン系のものとして、例えば、「アントックスＬＭＡ−２０」、「アントックスＬＭＡ−２７」、「アントックスＥＭＨ−２０」、「アントックスＬＭＨ-２０、「アントックスＳＭＨ−２０」（以上、日本乳化剤株式会社製）、「アデカリアソープＥＲ−１０」、「アデカリアソープＥＲ−２０」、「アデカリアソープＥＲ−３０」、「アデカリアソープＥＲ−４０」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、「ラテムルＰＤ−４２０」、「ラテムルＰＤ−４３０」、「ラテムルＰＤ−４５０」（以上、花王株式会社製）、等のアルキルエーテル系、「アクアロンＲＮ−１０」、「アクアロンＲＮ−２０」、「アクアロンＲＮ−３０」、「アクアロンＲＮ−５０」、「アクアロンＲＮ−２０２５」（以上、第一工業製薬株式会社製）、「アデカリアソープＮＥ−１０」、「アデカリアソープＮＥ−２０」、「アデカリアソープＮＥ−３０」、「アデカリアソープＮＥ−４０」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、等のアルキルフェニルエーテル系もしくはアルキルフェニルエステル系、「ＲＭＡ−５６４」、「ＲＭＡ−５６８」、「ＲＭＡ−１１１４」（以上、日本乳化剤株式会社製）等の（メタ）アクリレート硫酸エステル系が挙げられる。

その他の帯電防止剤としては、例えば、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート等が挙げられる。

前記帯電防止剤は、１種類のみで使用することも２種類以上組み合わせて使用することもできる。前記帯電防止剤の添加量は、重合性液晶組成物に含まれる液晶性化合物の総量に対し、０．００１〜１０重量％が好ましく、０．０１〜５重量％がより好ましい。

＜色素＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、必要に応じて色素を含有することができる。用いる色素は、特に限定はなく、配向性を乱さない範囲で公知慣用のものを含有することができる。
前記色素としては、例えば、２色性色素、蛍光色素等が挙げられる。そのような色素としては、例えば、ポリアゾ色素、アントラキノン色素、シアニン色素、フタロシアニン色素、ペリレン色素、ペリノン色素、スクアリリウム色素等が挙げられるが、添加する観点から、前記色素は液晶性を示す色素が好ましい。

例えば、米国特許第２，４００，８７７号公報、DreyerJ. F., Phys. and Colloid Chem., 1948, 52, 808., "The Fixing of MolecularOrientation"、Dreyer J. F., Journal de Physique, 1969, 4, 114., "LightPolarization from Films of Lyotropic Nematic Liquid Crystals"、及び、J.Lydon, "Chromonics" in "Handbook of Liquid Crystals Vol.2B: Low MolecularWeight Liquid Crystals II", D. Demus,J. Goodby, G. W. Gray, H. W. Spiessm,V. Vill ed, Willey-VCH, P.981-1007(1998) 、Dichroic Dyes for Liquid Crystal Display A．V．lvashchenko
CRC Press、1994年、および「機能性色素市場の新展開」、第一章、１頁、1994年、ＣＭＣ株式会社発光、等に記載の色素を使用することができる。

２色性色素としては、例えば、以下の式（ｄ−１）〜式（ｄ−８）

が挙げられる。前記２色性色素等の色素の添加量は、重合性液晶組成物に含まれる液晶性化合物の総量の総量に対し、０．００１〜１０重量％が好ましく、０．０１〜５重量％がより好ましい。

＜フィラー＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、必要に応じてフィラーを含有することができる。用いるフィラーは、特に限定はなく、得られた重合物の熱伝導性が低下しない範囲で公知慣用のものを含有することができる。
前記フィラーとしては、例えば、アルミナ、チタンホワイト、水酸化アルミニウム、タルク、クレイ、マイカ、チタン酸バリウム、酸化亜鉛、ガラス繊維等の無機質充填材、銀粉、銅粉などの金属粉末や窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、窒化ガリウム、炭化ケイ素、マグネシア（酸化アルミニウム）、アルミナ（酸化アルミニウム）、結晶性シリカ（酸化ケイ素）、溶融シリカ（酸化ケイ素）等などの熱伝導性フィラー、銀ナノ粒子等が挙げられる。

＜その他の液晶性化合物＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、一般式（１）から一般式（７）の液晶性化合物以外にも、重合性基を１つ以上有する液晶性化合物を含有することができる。しかし、添加量が多すぎると、位相差板として用いた場合に位相差比が大きくなる恐れがあり、添加する場合は、前記一般式（１）から一般式（７）で表される重合性液晶性化合物の総量に対して３０質量％以下とすることが好ましく、１０質量％以下がさらに好ましく、５質量％以下が特に好ましい。

そのような液晶性化合物として、一般式（１−ｂ）から一般式（７−ｂ）の化合物が挙げられる。

（式中、Ｐ^１１〜Ｐ^７４は重合性基を表し、Ｓ^１１〜Ｓ^７２はスペーサー基を又は単結合を表すが、Ｓ^１１〜Ｓ^７２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く、Ｘ^１１〜Ｘ^７２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１１〜Ｘ^７２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く（ただし、各Ｐ−（Ｓ−Ｘ）−結合には−Ｏ−Ｏ−を含まない。）、ＭＧ^１１〜ＭＧ^７１は各々独立して式（ｂ）を表し、

（式中、Ａ^８３、Ａ^８４は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良いが、Ａ^８３及び／又はＡ^８４が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
Ｚ^８３及びＺ^８４は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^８３及び／又はＺ^８４が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
Ｍ^８１は１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ナフチレン−１，４−ジイル基、ナフチレン−１，５−ジイル基、ナフチレン−１，６−ジイル基、ナフチレン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ^２によって置換されても良く、
Ｌ^２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良いが、化合物内にＬ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍは０から８の整数を表し、ｊ８３及びｊ８４は各々独立して０から５の整数を表すが、ｊ８３＋ｊ８４は１から５の整数を表す。）、Ｒ^１１及びＲ^３１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、ｍ１１は０〜８の整数を表し、ｍ２〜ｍ７、ｎ２〜ｎ７、ｌ４〜ｌ６、ｋ６は各々独立して０から５の整数を表す。）

一般式（１−ｂ）で表される化合物として具体的には、下記の式（１−ｂ−１）から式（１−ｂ−３９）で表される化合物が挙げられる。

（式中、ｍ１１、ｎ１１はそれぞれ独立して１〜１０の整数を表し、Ｒ^１１１及びＲ^１１２は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、又は、フッ素原子を表し、Ｒ^１１３は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。）これらの液晶化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

一般式（２−ｂ）で表される化合物として具体的には、下記の式（２−ｂ−１）から式（２−ｂ−３３）で表される化合物が挙げられる。

（式中、ｍ及びｎはそれぞれ独立して１〜１８の整数を表し、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基を示す。これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。）これらの液晶化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

一般式（３−ｂ）で表される化合物として具体的には、下記の式（３−ｂ−１）から式（３−ｂ−１６）で表される化合物が挙げられる。

一般式（４−ｂ）で表される化合物として具体的には、下記の式（４−ｂ−１）から式（４−ｂ−２９）で表される化合物が挙げられる。

（式中、ｍ及びｎはそれぞれ独立して１〜１０の整数を表す。Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基を示す。これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。）これらの液晶性化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

一般式（５−ｂ）で表される化合物として具体的には、下記の式（５−ｂ−１）から式（５−ｂ−２６）で表される化合物が挙げられる。

（式中、ｎはそれぞれ独立して１〜１０の整数を表す。Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基を示す。これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。）これらの液晶性化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

一般式（６−ｂ）で表される化合物として具体的には、下記の式（６−ｂ−１）から式（６−ｂ−２３）で表される化合物が挙げられる。

（式中、ｋ、ｌ、ｍ及びｎはそれぞれ独立して１〜１０の整数を表す。Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基を示す。これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。）これらの液晶性化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

一般式（７−ｂ）で表される化合物として具体的には、下記の式（７−ｂ−１）から式（７−ｂ−２５）で表される化合物が挙げられる。

（式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基を示す。これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。）これらの液晶性化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

＜配向材料＞
本発明に用いる重合性液晶組成物は、配向性を向上させるために配向性が向上する配向材料を含有することができる。用いる配向材料は、本発明の重合性組成物に用いられる、重合性基を有する液晶性化合物を溶解させることができる溶剤に可溶であれば、公知慣用のものでよいが、添加することにより配向性を著しく劣化させない範囲で添加することができる。具体的には、重合性液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物の総量に対して０．０５〜３０重量％が好ましく、０．５〜１５重量％がさらに好ましく、１〜１０重量％が特に好ましい。

配向材料は具体的には、ポリイミド、ポリアミド、ＢＣＢ（ペンゾシクロブテンポリマー）、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、アクリル樹脂、クマリン化合物、カルコン化合物、シンナメート化合物、フルギド化合物、アントラキノン化合物、アゾ化合物、アリールエテン化合物等、光異性化、もしくは、光二量化する化合物が挙げられるが、紫外線照射、可視光照射により配向する材料（光配向材料）が好ましい。

光配向材料としては、例えば、環状シクロアルカンを有するポリイミド、全芳香族ポリアリレート、特開５−２３２４７３号公報に示されているようなポリビニルシンナメート、パラメトキシ桂皮酸のポリビニルエステル、特開平６−２８７４５３、特開平６−２８９３７４号公報に示されているようなシンナメート誘導体、特開２００２−２６５５４１号公報に示されているようなマレイミド誘導体等が挙げられる。具体的には、以下の式（１２−１）〜式（１２−７）で表される化合物が好ましい。

（式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、Ｒ‘は水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基を示すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、末端のＣＨ_３は、ＣＦ_３、ＣＣｌ_３、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基に置換されても良い。ｎは４〜１０００００を示し、ｍは１〜１０の整数を示す。）

＜基材＞
本発明に用いる位相差板１及び位相差板２を積層する基材は、液晶表示素子、有機発光表示素子、その他表示素子、光学部品、着色剤、マーキング、印刷物や光学フィルムに通常使用する基材であって、重合性液晶組成物の塗布後の乾燥時における加熱に耐えうる耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基材としては、ガラス基材、金属基材、セラミックス基材、プラスチック基材や紙等の有機材料が挙げられる。特に基材が有機材料の場合、セルロース誘導体、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンエーテル、ナイロン又はポリスチレン等が挙げられる。中でもポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、セルロース誘導体、ポリアリレート、ポリカーボネート等のプラスチック基材が好ましい。基材の形状としては、平板の他、曲面を有するものであっても良い。これらの基材は、必要に応じて、一軸延伸又は二軸延伸されていてもよく、電極層、反射防止機能、反射機能を有していてもよい。
重合性液晶組成物の塗布性や重合体との接着性向上のために、これらの基材の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、シランカップリング処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基材表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設ける、あるいは、光学的な付加価値をつけるために、基材がピックアップレンズ、ロッドレンズ、光ディスク、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルター、等であっても良い。中でも付加価値がより高くなるピックアップレンズ、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルターは好ましい。

＜配向処理＞
また、上記基材には、重合性液晶組成物を塗布乾燥した際に液晶性化合物が配向するように、通常配向処理が施されている、あるいは配向膜が設けられていても良い。配向処理としては、延伸処理、ラビング処理、偏光紫外可視光照射処理、イオンビーム処理、基材へのＳｉＯ_２の斜方蒸着処理、等が挙げられる。配向膜を用いる場合、配向膜は公知慣用のものが用いられる。そのような配向膜としては、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルホン、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、アクリル樹脂、アゾ化合物、クマリン化合物、カルコン化合物、シンナメート化合物、フルギド化合物、アントラキノン化合物、アゾ化合物、アリールエテン化合物等の化合物、もしくは、前記化合物の重合体や共重合体が挙げられる。ラビングにより配向処理する化合物は、配向処理、もしくは配向処理の後に加熱工程を入れることで材料の結晶化が促進されるものが好ましい。ラビング以外の配向処理を行う化合物の中では光配向材料を用いることが好ましい。

一般に、配向機能を有する基板に液晶組成物を接触させた場合、液晶分子は基板付近で基板を配向処理した方向に沿って配向する。液晶分子が基板と水平に配向するか、傾斜あるいは垂直して配向するかは、基板への配向処理方法による影響が大きい。例えば、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）方式の液晶表示素子に使用するようなプレチルト角のごく小さな配向膜を基板上に設ければ、ほぼ水平に配向した重合性液晶層が得られる。
また、ＴＮ型液晶表示素子に使用するような配向膜を基板上に設けた場合は、少しだけ配向が傾斜した重合性液晶層が得られ、ＳＴＮ方式の液晶表示素子に使用するような配向膜を使うと、大きく配向が傾斜した重合性液晶層が得られる。

＜塗布＞
本発明に用いる位相差板１及び位相差板２を形成する重合性液晶組成物の塗布法としては、アプリケーター法、バーコーティング法、スピンコーティング法、ロールコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、フレキソコーティング法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディップコーティング法、スリットコーティング法、スプレーコーティング法等、公知慣用の方法を行うことができる。重合性液晶組成物を塗布後、乾燥させる。

塗布後、重合性液晶組成物の液晶分子をスメクチック相、あるいはネマチック相を保持した状態で均一に配向させることが好ましい。その方法の１つとして、熱処理法が挙げられる。具体的には、本発明の重合性液晶組成物を基板上に塗布後、該液晶組成物のＮ（ネマチック相）−Ｉ（等方性液体相）転移温度（以下、Ｎ−Ｉ転移温度と略す）以上に加熱して、該液晶組成物を等方相液体状態にする。そこから、必要に応じ徐冷してネマチック相を発現させる。このとき、一旦液晶相を呈する温度に保ち、液晶相ドメインを充分に成長させてモノドメインとすることが望ましい。あるいは、本発明の重合性液晶組成物を基板上に塗布後、重合性液晶のネマチック相が発現する温度範囲内で温度を一定時間保つような加熱処理を施しても良い。

加熱温度が高過ぎると重合性液晶が好ましくない重合反応を起こして劣化するおそれがある。また、冷却しすぎると、重合性液晶が相分離を起こし、結晶の析出、スメクチック相のような高次液晶相を発現し、配向処理が不可能になることがある。
このような熱処理をすることで、単に塗布するだけの塗工方法と比べて、配向欠陥の少ない均質な光学異方体を作製することができる。
また、このようにして均質な配向処理を行った後、液晶相が相分離を起こさない最低の温度、即ち過冷却状態となるまで冷却し、該温度において液晶相を配向させた状態で重合すると、より配向秩序が高く、透明性に優れる位相差板を得ることができる。

＜重合工程＞
乾燥した重合性液晶組成物の重合処理は、一様に配向した状態で一般に可視紫外線等の光照射、あるいは加熱によって行われる。重合を光照射で行う場合は、具体的には４２０ｎｍ以下の可視紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の紫外光を照射することが最も好ましい。但し、４２０ｎｍ以下の可視紫外光により重合性液晶が分解などを引き起こす場合は、４２０ｎｍ以上の可視紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。

＜重合方法＞
本発明に用いる位相差板１及び位相差板２を形成する重合性液晶組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましく、中でも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。照射時の温度は、重合性液晶組成物が液晶相を保持できる温度とし、重合性液晶の熱重合の誘起を避けるため、可能な限り３０℃以下とすることが好ましい。尚、重合性液晶組成物は、通常、昇温過程において、Ｃ（固相）−Ｎ（ネマチック）転移温度（以下、Ｃ−Ｎ転移温度と略す。）から、Ｎ−Ｉ転移温度範囲内で液晶相を示す。一方、降温過程においては、熱力学的に非平衡状態を取るため、Ｃ−Ｎ転移温度以下でも凝固せず液晶状態を保つ場合がある。この状態を過冷却状態という。本発明においては、過冷却状態にある液晶組成物も液晶相を保持している状態に含めるものとする。具体的には３９０ｎｍ以下の紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、３９０ｎｍ以下の紫外光により重合性液晶が分解などを引き起こす場合は、３９０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。紫外線照射強度は、０．０５ｋＷ／ｍ^２〜１０ｋＷ／ｍ^２の範囲が好ましい。特に、０．２ｋＷ／ｍ^２〜２ｋＷ／ｍ^２の範囲が好ましい。紫外線強度が０．０５ｋＷ／ｍ^２未満の場合、重合を完了させるのに多大な時間がかかる。一方、２ｋＷ／ｍ^２を超える強度では、重合性液晶組成物中の液晶分子が光分解する傾向にあることや、重合熱が多く発生して重合中の温度が上昇し、重合性液晶組成物のオーダーパラメーターが変化して、重合後の位相差板の位相差に狂いが生じる可能性がある。

マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させた後、該未重合部分の配向状態を、電場、磁場又は温度等をかけて変化させ、その後該未重合部分を重合させると、異なる配向方向をもった複数の領域を有する位相差板を得ることもできる。
また、マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させる際に、予め未重合状態の重合性液晶組成物に電場、磁場又は温度等をかけて配向を規制し、その状態を保ったままマスク上から光を照射して重合させることによっても、異なる配向方向をもった複数の領域を有する位相差板を得ることができる。

本発明の重合性液晶組成物を重合させて得られる光学異方体は、基板から剥離して単体で光学異方体として使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学異方体として使用することもできる。特に、他の部材を汚染し難いので、被積層基板として使用したり、他の基板に貼り合わせて使用したりするときに有用である。

＜積層方法＞
本発明に用いる位相差板１及び位相差板２の積層工程は次の通りである。即ち、基材にラビング処理や光配向膜を積層した配向処理を施し、位相差板２を形成する重合性液晶組成物を塗布乾燥した後に重合し、形成した位相差板２にラビング処理や光配向膜を積層した配向処理を施し、位相差板１を形成する重合性液晶組成物を塗布乾燥した後に重合する。または、基材にラビング処理や光配向膜を積層した配向処理を施し、位相差板１を形成する重合性液晶組成物を塗布乾燥した後に重合し、形成した位相差板１にラビング処理や光配向膜を積層した配向処理を施し、位相差板２を形成する重合性液晶組成物を塗布乾燥した後に重合する。もしくは、基材にラビング処理や光配向膜を積層した配向処理を施し、位相差板１を形成する重合性液晶組成物を塗布乾燥した後に重合し、基材の位相差板２と反対側にラビング処理や光配向膜を積層した配向処理を施し、位相差板２を形成する重合性液晶組成物を塗布乾燥した後に重合する。積層した位相差板１及び位相差板２を偏光板、導光板、輝度向上フィルム、カラーフィルター、表示素子基板、保護フィルム、アンチグレアフィルム、アンチリフレクションフィルム、発光素子基板、等に転写して、基材から剥離した状態で位相差板を用いてもよい。特に、他の部材を汚染し難いので、被積層基板として使用したり、他の基板に貼り合わせて使用したりするときに有用である。

本発明に用いる位相差板１及び／又は位相差板２は重合性液晶組成物により形成されているため、基材から剥離した状態の位相差板は１〜５μｍであり、基材及び位相差を含めた厚さは２０〜５０μｍであり、従来技術に比べて厚さを１〜５０％に薄型化することができる。

本発明に用いる位相差板１及び位相差板２の積層工程は、光配向膜を積層した配向処理を施すことが好ましい。光配向膜を積層した配向処理では、配向膜を形成する材料を塗布乾燥した後に照射する偏光可視紫外線光の偏光振動方向を制御することにより、位相差板１の遅相軸及び位相差板２の遅相軸を任意の方向に調節することができる。
したがって、偏光板の透過軸に対して適切な角度となるように位相差板１の遅相軸及び位相差板２の遅相軸を予め調節することにより、偏光板の透過軸と位相差板の遅相軸が交差するように位相差板と偏光板を積層する工程において、生産効率の非常に高いロール・ツー・ロール方式を採用することができる。

＜ポジティブＣプレート＞
本発明の位相差板は、位相差板１及び位相差板２の他に、ポジティブＣプレートを積層してもよい。積層する場所は、基材、位相差板１及び位相差板２のいずれの間でも外側でもよい。好ましくは、位相差板１及び位相差板２の間に積層する。または、偏光板と位相差板１の間に積層する。積層する方法は、接着剤や粘着剤等で貼り合わせてもよい。また、基材、位相差板１、又は位相差板２上にラビング処理や光配向膜を積層した配向処理等、又は樹脂からなる中間層を設けることにより、ポジティブＣプレートを直接積層してもよい。あるいは、ポジティブＣプレート上にラビング処理や光配向膜を積層した配向処理等、又は樹脂からなる中間層を設けることにより、位相差板１を直接積層してもよい。

＜円偏光板＞
本発明の円偏光板は、本発明の位相差板に偏光板を積層してなる。該偏光板は本発明の位相差板の位相差板１側に積層してなるが、位相差板１と反対側にポジティブＣプレートが積層されている場合は、ポジティブＣプレート上であって、位相差板１と反対側に偏光板を積層してなる。積層する方法は、接着剤や粘着剤等で貼り合わせてもよい。また、偏光板上にラビング処理や光配向膜を積層した配向処理等、又は樹脂からなる中間層を設けることにより、位相差板を直接積層してもよい。このとき使用する偏光板は、色素をドープしたフィルム形態のものでも、ワイヤーグリッドのような金属状のものでもよい。
本発明の位相差板と偏光板を積層する場合、偏光板の透過軸方向を基準として、位相差板１の遅相軸が５〜２５°の角度であり、位相差板２の遅相軸が６５〜８５°の角度であり、位相差板１の遅相軸が偏光板の透過軸方向と位相差板２の遅相軸との間となるように積層する。好ましくは、位相差板１の遅相軸が１０〜２０°の角度であり、位相差板２の遅相軸が７０〜８０°の角度となるように積層する。

または、偏光板の透過軸方向を基準として、位相差板１の遅相軸が３５〜５５°の角度であり、位相差板２の遅相軸が１２５〜１４５°の角度であり、位相差板１の遅相軸が偏光板の透過軸方向と位相差板２の遅相軸との間となるように積層する。好ましくは、位相差板１の遅相軸が４０〜５０°の角度であり、位相差板２の遅相軸が１３０〜１４０°の角度となるように積層する。
あるいは、偏光板の透過軸方向を基準として、位相差板１の遅相軸が６５〜８５°の角度であり、位相差板２の遅相軸が５〜２５°の角度であり、位相差板２の遅相軸が偏光板の透過軸方向と位相差板１の遅相軸との間となるように積層する。好ましくは、位相差板１の遅相軸が７０〜８０°の角度であり、位相差板２の遅相軸が１０〜２０°の角度となるように積層する。

＜表示素子＞
本発明の位相差板又は円偏光板は表示素子に使用することができる。使用形態としては、光学補償フィルム、液晶立体表示素子のパターン化された位相差フィルム、カラーフィルターの位相差補正層、オーバーコート層、液晶媒体用の配向膜、反射防止フィルム、等が挙げられる。表示素子は、少なくとも二つの基材に液晶媒体層、ＴＦＴ駆動回路、ブラックマトリックス層、カラーフィルター層、スペーサー、液晶媒体層に相応の電極回路が最低限狭持されており、場合によっては、光学補償層、カラーフィルターのオーバーコート層、偏光板層、タッチパネル用の電極層が二つの基材内に狭持されてもよい。

＜発光素子＞
本発明の位相差板又は円偏光板は発光素子に使用することができる。使用形態としては、光学補償フィルム、カラーフィルターの位相差補正層、オーバーコート層、反射防止フィルム、等が挙げられる。発光素子は、電子輸送層、発光層、正孔輸送層を積層してなり、両端から電圧をかけることにより発光層内で電子と正孔が結合し、そのエネルギーが発光物質を励起させ発光する。この発光物質は有機化合物であってもよく、無機化合物であってもよい。

以下に本発明を合成例、実施例、及び、比較例によって説明するが、もとより本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。また、以下において、本発明の位相差板１及び位相差板２の少なくとも２つの位相差板を積層してなる位相差板を積層位相差版と表記する。

［重合性液晶組成物の調整］
［重合性液晶組成物（１）の調製］
式（１−ａ−５）で表される化合物５５部、式（１−ａ−６）で表される化合物２５部、式（２−ａ−１）で表され、ｎ＝６である化合物１０部、式（２−ａ−１）で表され、ｎ＝３である化合物１０部、イルガキュア９０７（Irg907:ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるトルエン４００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（１）を得た。

［重合性液晶組成物（２）の調製］
式（２−ｂ−１）で表され、ｍ＝３である化合物５０部、式（２−ｂ−１）で表され、ｍ＝４である化合物５０部、イルガキュア９０７（Irg907:ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるトルエン４００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（２）を得た。

［重合性液晶組成物（３）の調製］
重合性液晶組成物（１）６５部、重合性液晶組成物（２）３５部を、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌して重合性液晶組成物（３）を得た。

［位相差板（１）〜（３）の作製］
配向膜用ポリイミド溶液を、室温で、厚さ０．７ｍｍのガラス基板にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得て、得られた塗膜をラビング処理して基材を得た。調製した重合性液晶組成物（１）〜（３）を、該基材にスピンコーターで塗布した後、８０℃で２分乾燥した。その後、積算光量が６００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射して重合させ、位相差板（１）〜（３）を作製した。

［位相差板（１）〜（３）の波長分散の評価］
位相差板（１）〜（３）の波長４００〜１０００ｎｍにおける位相差を分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製Ｍ−２０００）を用いて測定した。測定した位相差から波長４５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）として位相差比を算出した。得られた位相差比を表１に記す。

表１より、重合性液晶組成物（１）により形成された位相差板（１）の位相差比は０．９５以下であり、重合性液晶組成物（２）により形成された位相差板（２）の位相差比は１．０５超であり、重合性液晶組成物（３）により形成された位相差板（３）の位相差比は０．９５以上１．０５以下であることがわかる。

［延伸ＣＯＰ（環状ポリオレフィン）フィルム（１）〜（２）の作製］
厚さ１００μｍのＣＯＰフィルム（ＪＳＲ社製ＡＲＴＯＮ）を１７５℃で２５％延伸して、延伸ＣＯＰフィルム（１）を得た。同様にして、厚さ１００μｍのＣＯＰフィルム（ＪＳＲ社製ＡＲＴＯＮ）を１７５℃で５０％延伸して、延伸ＣＯＰフィルム（２）を得た。

［延伸ＣＯＰ（環状ポリオレフィン）フィルム（１）〜（２）の波長分散の評価］
延伸ＣＯＰフィルム（１）〜（２）の位相差比を、位相差板（１）〜（３）の場合と同様にして求めた。得られた位相差比を表２に記す。

表２より、延伸ＣＯＰフィルム（１）〜（２）の位相差比は０．９５以上１．０５以下であることがわかる。

（実施例１〜３、比較例１〜６）積層位相差板（１）〜（９）の作製
表３に示した上層（位相差板１）の重合性液晶組成物と下層（位相差板２）の重合性液晶組成物の組合せである積層位相差板（１）〜（９）を次の手順で作製した。まず、位相差の無い厚さ０．５０μｍのＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムに、光配向剤溶液を室温でスピンコート法を用いて塗布し、８０℃で２分乾燥した後、積算光量が１００ｍＪ/ｃｍ^２であり、ＴＡＣフィルムのＭＤ方向を基準として偏光振動方向が７５°となるようにセットして偏光ＵＶ光を照射した。次に、位相差が１３５ｎｍとなるように回転数を調整して下層の重合性液晶組成物をスピンコーターで塗布し、８０℃で２分乾燥した後、積算光量が６００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射して重合させた。さらに、光配向剤溶液を室温でスピンコート法を用いて塗布し、８０℃で２分乾燥した後、積算光量が１００ｍＪ/ｃｍ^２であり、ＴＡＣフィルムのＭＤ方向を基準として偏光振動方向が１５°となるようにセットして偏光ＵＶ光を照射した。最後に、位相差が２７０ｎｍとなるように回転数を調整して上層の重合性液晶組成物をスピンコーターで塗布し、８０℃で２分乾燥した後、積算光量が６００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射して重合させた。

［積層位相差板（１）〜（９）の反射防止性能の評価］
積層位相差板（１）〜（９）の反射防止性能の評価を次の手順で評価した。まず、積層位相差板（１）〜（９）に対して、ＴＡＣフィルムのＭＤ方向と偏光板の透過軸が一致するように上層側に偏光板を貼り合せ、その反対側に発光素子であるＯＬＥＤパネルを貼り合せ、発光素子を得た。次に、分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製Ｍ−２０００）を用いて、入射光の仰角が４５°、入射光の方位角が偏光板の透過軸方向を基準として０°、３０°、６０°、９０°、１２０°、１５０°における各発光素子の分光反射率を測定した。その後、測定した各分光反射率に対してＤ６５光源、２度視野の測色条件における三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺをＪＩＳＺ８７２２に基づいて算出し、算出した各三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚに対してＣＩＥＬＡＢ色空間における彩度Ｃ^＊をＪＩＳＺ８７８１に基づいて算出した。最後に、各発光素子において全ての入射光方位角に対する彩度Ｃ^＊の平均値を算出した。反射防止性能の評価結果として得られた平均彩度を表４に記す。

表４より、実施例１〜３の積層位相差板を用いた発光素子では斜め４５°から入射した光に対する反射光の彩度が低く、反射光は着色の無い無彩色であることが分かる。一方、比較例１〜６の積層位相差板を用いた発光素子では斜め４５°から入射した光に対する反射光の彩度が高く、反射光は着色していることがわかる。

（比較例７）積層位相差板（１０）の作製
延伸ＣＯＰフィルム（１）を、遅相軸が基準となる一辺に対して７５°となるように５ｃｍ角の正方形に切り出し、同様に延伸ＣＯＰフィルム（２）を、遅相軸が基準となる一辺に対して１５°となるように５ｃｍ角の正方形に切り出し、切り出した延伸ＣＯＰフィルム（１）〜（２）を基準となる一辺が重なるように粘着剤で貼り合せて、積層位相差板（１０）を作成した。

［積層位相差板（１０）の反射防止性能の評価］
積層位相差板（１０）の反射防止性能を、延伸ＣＯＰフィルムの基準となる一辺と偏光板の透過軸が一致するように偏光板を貼り合せたことを除き、積層位相差板（１）〜（９）の場合と同様にして求めた。得られた反射防止性能を表６に記す。

表６より、比較例７の積層位相差板を用いた発光素子では斜め４５°から入射した光に対する反射光の彩度が高く、反射光は着色していることがわかる。

［重合性液晶組成物（４）の調製］
式（１−ａ−５）で表される化合物１０部、式（１−ａ−６）で表される化合物２０部、式（１−ａ−８２）で表される化合物１５部、式（２−ａ−４４）で表され、ｎ＝６である化合物４０部、式（２−ａ−４５）で表され、ｎ＝６である化合物１５部、イルガキュア９０７（Irg907:ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるトルエン４００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（４）を得た。

［重合性液晶組成物（５）の調製］
式（１−ａ−１）で表される化合物６０部、式（１−ａ−８２）で表される化合物２０部、式（２−ａ−４５）で表され、ｎ＝６である化合物２０部、イルガキュア９０７（Irg907:ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるトルエン４００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（５）を得た。

［重合性液晶組成物（６）の調製］
式（１−ａ−２）で表される化合物５０部、式（１−ａ−８３）で表される化合物３０部、式（２−ａ−４４）で表され、ｎ＝６である化合物２０部、イルガキュア９０７（Irg907:ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるトルエン４００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（６）を得た。

［重合性液晶組成物（７）の調製］
式（２−ａ−４２）で表され、ｎ＝６である化合物９０部、式（２−ａ−４１）で表され、ｎ＝６である化合物１０部、イルガキュア９０７（Irg907:ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるトルエン４００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（７）を得た。

［重合性液晶組成物（８）の調製］
式（１−ａ−６）で表される化合物３０部、式（１−ａ−１）で表される化合物２０部、式（１−ａ−３）で表される化合物１０部、式（１−ａ−８４）で表される化合物２０部、式（２−ａ−１）で表され、ｎ＝３である化合物２０部、イルガキュア９０７（Irg907:ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるトルエン４００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（８）を得た。

［重合性液晶組成物（９）の調製］
重合性液晶組成物（４）６５部、重合性液晶組成物（２）３５部を、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、攪拌温度が６０℃の条件化で１時間攪拌して重合性液晶組成物（９）を得た。
［重合性液晶組成物（１０）の調製］
重合性液晶組成物（５）６５部、重合性液晶組成物（２）３５部を、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、攪拌温度が６０℃の条件化で１時間攪拌して重合性液晶組成物（１０）を得た。
［重合性液晶組成物（１１）の調製］
重合性液晶組成物（６）６５部、重合性液晶組成物（２）３５部を、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、攪拌温度が６０℃の条件化で１時間攪拌して重合性液晶組成物（１１）を得た。
［重合性液晶組成物（１２）の調製］
重合性液晶組成物（７）７０部、重合性液晶組成物（２）３０部を、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、攪拌温度が６０℃の条件化で１時間攪拌して重合性液晶組成物（１２）を得た。
［重合性液晶組成物（１３）の調製］
重合性液晶組成物（８）７０部、重合性液晶組成物（２）３０部を、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、攪拌温度が６０℃の条件化で１時間攪拌して重合性液晶組成物（１３）を得た。

［位相差板（４）〜（１３）の作製］
重合性液晶組成物（４）〜（１３）を用い、位相差板（１）〜（３）の場合と同様にして位相差板（４）〜（１３）を作製した。

［位相差板（４）〜（１３）の波長分散の評価］
位相差板（４）〜（１３）の位相差比を、位相差板（１）〜（３）の場合と同様にして求めた。得られた位相差比を表７に記す。

表７より、位相差板（４）〜（８）の位相差比は０．９５以下であり、重合性液晶位相差板（９）〜（１３）の位相差比は０．９５以上１．０５以下であることがわかる。
（実施例４〜１８）積層位相差板（１１）〜（２５）の作製
表８に示した上層（位相差板１）の重合性液晶組成物と下層（位相差板２）の重合性液晶組成物の組合せである積層位相差板（１１）〜（２５）を、積層位相差板（１）〜（９）の場合と同様にして作製した。

［積層位相差板（１１）〜（２５）の反射防止性能の評価］
積層位相差板（１１）〜（２５）の反射防止性能を、積層位相差板（１）〜（９）の場合と同様にして求めた。得られた反射防止性能を表９に記す。

表９より、実施例４〜１８の積層位相差板を用いた発光素子では斜め４５°から入射した光に対する反射光の彩度が低く、反射光は着色の無い無彩色であることが分かる。

［重合性液晶組成物（１４）の調製］
式（２−ａ−４３）で表され、ｎ＝６である化合物８５部、式（１−ａ−８３）で表される化合物１５部、イルガキュア９０７（Irg907:ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるトルエン４００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（１４）を得た。

［重合性液晶組成物（１５）の調製］
式（２−ａ−４２）で表され、ｎ＝６である化合物５０部、式（２−ａ−４２）で表され、ｎ＝３である化合物５０部、イルガキュア９０７（Irg907:ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるメチルエチルケトン２００部、トルエン２００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（１５）を得た。

［位相差板（１４）〜（１５）の作製］
重合性液晶組成物（１４）〜（１５）を用い、位相差板（１）〜（３）の場合と同様にして位相差板（１４）〜（１５）を作製した。

［位相差板（１４）〜（１５）の波長分散の評価］
位相差板（１４）〜（１５）の位相差比を、位相差板（１）〜（３）の場合と同様にして求めた。得られた位相差比を表１０に記す。

表１０より、位相差板（１４）の位相差比は０．９５以上１．０５以下、位相差板（１５）の位相差比は０．９５以下であることがわかる。

（実施例１９〜３３）積層位相差板（２６）〜（４０）の作製
表１１に示した上層（位相差板１）の重合性液晶組成物と下層（位相差板２）の重合性液晶組成物の組合せである積層位相差板（２６）〜（４０）を、積層位相差板（１）〜（９）の場合と同様にして作製した。

［積層位相差板（２６）〜（４０）の反射防止性能の評価］
積層位相差板（２６）〜（４０）の反射防止性能を、積層位相差板（１）〜（９）の場合と同様にして求めた。得られた反射防止性能を表１２に記す。

表１２より、実施例１９〜３３の積層位相差板を用いた発光素子では斜め４５°から入射した光に対する反射光の彩度が低く、反射光は着色の無い無彩色であることが分かる。

（実施３４〜３９）積層位相差板（４１）〜（４６）の作製
表１３に示した上層（位相差板１）の重合性液晶組成物と下層（位相差板２）の延伸ＣＯＰフィルムの組合せである積層位相板（４１）〜（４６）を次の手順で作製した。まず、延伸ＣＯＰフィルムを、遅相軸が基準となる一辺に対して７５°となるように５ｃｍ角の正方形に切り出した。次に、切り出した延伸ＣＯＰフィルムに、光配向剤溶液を室温でスピンコート法を用いて塗布し、８０℃で２分乾燥した後、積算光量が１００ｍＪ/ｃｍ^２であり、延伸ＣＯＰフィルムの基準となる一辺に対して偏光振動方向が１５°となるようにセットして偏光ＵＶ光を照射した。最後に、位相差が２７０ｎｍとなるように回転数を調整して上層の重合性液晶組成物をスピンコーターで塗布し、８０℃で２分乾燥した後、積算光量が６００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射して重合させた。

［積層位相差板（４１）〜（４６）の反射防止性能の評価］
積層位相差板（４１）〜（４６）の反射防止性能を、延伸ＣＯＰフィルムの基準となる一辺と偏光板の透過軸が一致するように偏光板を貼り合せたことを除き、積層位相差板（１）〜（９）の場合と同様にして求めた。得られた反射防止性能を表１４に記す。

表１４より、実施例３４〜３９の積層位相差板を用いた発光素子では斜め４５°から入射した光に対する反射光の彩度が低く、反射光は着色の無い無彩であることがわかる。

（実施４０〜４５）積層位相差板（４７）〜（５２）の作製
表１５に示した上層（位相差板１）の延伸ＣＯＰフィルムと下層（位相差板２）の重合性液晶組成物の組合せである積層位相差板（４７）〜（５２）を次の手順で作製した。まず、延伸ＣＯＰフィルムを、遅相軸が基準となる一辺に対して１５°となるように５ｃｍ角の正方形に切り出した。次に、切り出した延伸ＣＯＰフィルムに、光配向剤溶液を室温でスピンコート法を用いて塗布し、８０℃で２分乾燥した後、積算光量が１００ｍＪ/ｃｍ^２であり、延伸ＣＯＰフィルムの基準となる一辺に対して偏光振動方向が７５°となるようにセットして偏光ＵＶ光を照射した。最後に、位相差が１３５ｎｍとなるように回転数を調整して下層の重合性液晶組成物をスピンコーターで塗布し、８０℃で２分乾燥した後、積算光量が６００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射して重合させた。

［積層位相差板（４７）〜（５２）の反射防止性能の評価］
積層位相差板（４７）〜（５２）の反射防止性能を、延伸ＣＯＰフィルムの基準となる一辺と偏光板の透過軸が一致するように偏光板を貼り合せたことを除き、積層位相差板（１）〜（９）の場合と同様にして求めた。得られた反射防止性能を表１６に記す。

表１６より、実施例４０〜４５の積層位相差板を用いた発光素子では斜め４５°から入射した光に対する反射光の彩度が低く、反射光は着色の無い無彩であることがわかる。

［重合性液晶組成物（１６）の調製］
式（２−ａ−５９）で表され、ｎ＝６である化合物７０部、式（２−ａ−６０）で表され、ｎ＝６である化合物３０部、イルガキュアＯＸＥ０１（Irg.OXE01：ＢＡＳＦジャパン株式会社製）５部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるメチルエチルケトン２００部、トルエン２００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（１６）を得た。

［重合性液晶組成物（１７）の調製］
式（１−ａ−１０２）で表される化合物２０部、式（２−ａ−５９）で表され、ｎ＝６である化合物６０部、式（２−ａ−６０）で表され、ｎ＝６である化合物２０部、イルガキュアＯＸＥ０１（Irg.OXE01：ＢＡＳＦジャパン株式会社製）５部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるメチルエチルケトン２００部、トルエン２００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（１７）を得た。

［重合性液晶組成物（１８）の調製］
式（１−ａ−１０５）で表される化合物３０部、式（２−ａ−５９）で表され、ｎ＝６である化合物４０部、式（２−ａ−６０）で表され、ｎ＝６である化合物３０部、イルガキュアＯＸＥ０１（Irg.OXE01：ＢＡＳＦジャパン株式会社製）５部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるメチルエチルケトン２００部、トルエン２００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（１９）を得た。

［重合性液晶組成物（１９）の調製］
式（１−ａ−１０２）で表される化合物２０部、式（１−ａ−１０５）で表される化合物１０部、式（２−ａ−５９）で表され、ｎ＝６である化合物４０部、式（２−ａ−６０）で表され、ｎ＝６である化合物３０部、イルガキュアＯＸＥ０１（Irg.OXE01：ＢＡＳＦジャパン株式会社製）５部、及びメガファックＦ−５５４（F-554:ＤＩＣ株式会社製）０．２部を有機溶媒であるメチルエチルケトン２００部、トルエン２００部に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（１９）を得た。

［位相差板（１６）〜（１９）の作製］
配向膜用ポリイミド溶液を、室温で、厚さ０．７ｍｍのガラス基板にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得て、得られた塗膜をラビング処理して基材を得た。調製した重合性液晶組成物（１６）〜（１９）を、該基材にスピンコーターで塗布した後、９０℃で２分乾燥した。その後、積算光量が６００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射して重合させ、位相差板（１６）〜（１９）を作製した。

［位相差板（１６）〜（１９）の波長分散の評価］
位相差板（１６）〜（１９）の位相差比を、位相差板（１）〜（３）の場合と同様にして求めた。得られた位相差比を表１７に記す。

表１７より、位相差板（１６）〜（１９）の位相差比は０．９５以下であることがわかる。

（実施例４６〜５７）積層位相差板（５３）〜（６４）の作製
表１８に示した上層（位相差板１）の重合性液晶組成物と下層（位相差板２）の重合性液晶組成物の組合せである積層位相差板（５３）〜（６４）を、積層位相差板（１）〜（９）の場合と同様にして作製した。

［積層位相差板（５３）〜（６４）の反射防止性能の評価］
積層位相差板（５３）〜（６４）の反射防止性能を、積層位相差板（１）〜（９）の場合と同様にして求めた。得られた反射防止性能を表１９に記す。

表１９より、実施例１９〜３３の積層位相差板を用いた発光素子では斜め４５°から入射した光に対する反射光の彩度が低く、反射光は着色の無い無彩色であることが分かる。

Claims

位相差板１及び位相差板２の少なくとも２つの位相差板に偏光板を積層してなる円偏光板の製造方法であって、
偏光板の透過軸方向を基準として、位相差板１の遅相軸が５〜２５°の角度となるように重合性液晶組成物を重合させて位相差板１を形成する工程１、次いで、得られた位相差板１に、配向処理を施し、重合性液晶組成物を塗布乾燥した後、該重合性液晶組成物を重合させることにより、位相差板２を、該偏光板の透過軸方向を基準として、該位相差板２の遅相軸が６５〜８５°の角度であって、前記位相差板１の遅相軸が偏光板の透過軸方向と前記位相差板２の遅相軸との間にくるように形成する工程２、を必須の製造工程とするか、或いは、
偏光板の透過軸方向を基準として、位相差板１の遅相軸が６５〜８５°の角度となるように重合性液晶組成物を重合させて位相差板１を形成する工程１’、次いで、得られた位相差板１に、配向処理を施し、重合性液晶組成物を塗布乾燥した後、該重合性液晶組成物を重合させることにより、位相差板２を、該偏光板の透過軸方向を基準として、該位相差板２の遅相軸が５〜２５°の角度であって、前記位相差板２の遅相軸が偏光板の透過軸方向と前記位相差板１の遅相軸との間にくるように形成する工程２’、を必須の製造工程としており、かつ、前記重合性液晶組成物が一般式（１）〜（７）のいずれかの液晶性化合物を少なくとも１つ含有するものであり、

（式中、Ｐ ^１１〜Ｐ ^７４は重合性基を表し、
Ｓ ^１１〜Ｓ ^７２はスペーサー基を又は単結合を表すが、Ｓ ^１１〜Ｓ ^７２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く、
Ｘ ^１１〜Ｘ ^７２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ _２ −、−ＣＨ _２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ _２ −、−ＣＨ _２Ｓ−、−ＣＦ _２Ｏ−、−ＯＣＦ _２ −、−ＣＦ _２Ｓ−、−ＳＣＦ _２ −、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ _２ＣＨ _２ −、−ＯＣＯ−ＣＨ _２ＣＨ _２ −、−ＣＨ _２ＣＨ _２ −ＣＯＯ−、−ＣＨ _２ＣＨ _２ −ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ _２ −、−ＯＣＯ−ＣＨ _２ −、−ＣＨ _２ −ＣＯＯ−、−ＣＨ _２ −ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ ^１１〜Ｘ ^７２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く（ただし、各Ｐ−（Ｓ−Ｘ）−結合には−Ｏ−Ｏ−を含まない。）、
ＭＧ ^１１〜ＭＧ ^７１は各々独立して式（ａ）を表し、

（式中、
Ａ ^１１、Ａ ^１２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ ^１によって置換されても良いが、Ａ ^１１及び／又はＡ ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
Ｚ ^１１及びＺ ^１２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ _２ −、−ＣＨ _２Ｏ−、−ＣＨ _２ＣＨ _２ −、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ _２ −、−ＣＨ _２Ｓ−、−ＣＦ _２Ｏ−、−ＯＣＦ _２ −、−ＣＦ _２Ｓ−、−ＳＣＦ _２ −、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ _２ＣＨ _２ −、−ＯＣＯ−ＣＨ _２ＣＨ _２ −、−ＣＨ _２ＣＨ _２ −ＣＯＯ−、−ＣＨ _２ＣＨ _２ −ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ _２ −、−ＯＣＯ−ＣＨ _２ −、−ＣＨ _２ −ＣＯＯ−、−ＣＨ _２ −ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ ^１１及び／又はＺ ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
Ｍは下記の式（Ｍ−１）から式（Ｍ−１１）

から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬ ^１によって置換されても良く、
Ｇは下記の式（Ｇ−１）から式（Ｇ−６）

（式中、Ｒ ^３は水素原子、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ _２ −又は隣接していない２個以上の−ＣＨ _２ −は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、
Ｗ ^８１は少なくとも１つの芳香族基を有する、炭素原子数５から３０の基を表すが、当該基は無置換又は１つ以上のＬ ^１によって置換されても良く、
Ｗ ^８２は水素原子又は炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ _２ −又は隣接していない２個以上の−ＣＨ _２ −は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、或いはＷ ^８２はＷ ^８１と同様の意味を表しても良く、Ｗ ^８１及びＷ ^８２は互いに連結し同一の環構造を形成しても良く、或いはＷ ^８２は下記の基

（式中、Ｐ ^Ｗ８２はＰ ^１１と同じ意味を表し、Ｓ ^Ｗ８２はＳ ^１１と同じ意味を表し、Ｘ ^Ｗ８２はＸ ^１１と同じ意味を表し、ｎ ^Ｗ８２はｍ１１と同じ意味を表す。）を表し、Ｗ ^８３及びＷ ^８４はそれぞれ独立してハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、スルファモイル基、少なくとも１つの芳香族基を有する炭素原子数５から３０の基、炭素原子数１から２０のアルキル基、炭素原子数３から２０のシクロアルキル基、炭素原子数２から２０のアルケニル基、炭素原子数３から２０のシクロアルケニル基、炭素原子数１から２０のアルコキシ基、炭素原子数２から２０のアシルオキシ基、又は炭素原子数２から２０のアルキルカルボニルオキシ基を表すが、前記アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基中の１個の−ＣＨ _２ −又は隣接していない２個以上の−ＣＨ _２ −は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、但し、上記Ｍが式（Ｍ−１）〜式（Ｍ−１０）から選択される場合Ｇは式（Ｇ−１）〜式（Ｇ−５）から選択され、Ｍが式（Ｍ−１１）である場合Ｇは式（Ｇ−６）を表し、
Ｌ ^１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ _２ −又は隣接していない２個以上の−ＣＨ _２ −は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良いが、化合物内にＬ ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
ｊ１１は１から５の整数、ｊ１２は１〜５の整数を表すが、ｊ１１＋ｊ１２は２から５の整数を表す。）、Ｒ ^１１及びＲ ^３１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ _２ −又は隣接していない２個以上の−ＣＨ _２ −は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、ｍ１１は０〜８の整数を表し、ｍ２〜ｍ７、ｎ２〜ｎ７、ｌ４〜ｌ６、ｋ６は各々独立して０から５の整数を表す。）
かつ、位相差板１の波長５５０ｎｍにおける位相差が位相差板２の波長５５０ｎｍにおける位相差より大きく、位相差板１の波長４５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）で表される位相差比が０．９５以下であり、かつ、位相差板２のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）で表される位相差比が０．９５以下である円偏光板の製造方法。
前記位相差板１の波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ１（５５０）が２３０〜２９０ｎｍであり、前記位相差板２の波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ２（５５０）が１１５〜１４５ｎｍである請求項１に記載の円偏光板の製造方法。
請求項１〜２のいずれかに記載の製造方法によって得られる円偏光板の位相差板にポジティブＣプレートを積層する円偏光板の製造方法。