JPH10500225A - エレクトロクロミック・ミラーおよび装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明はエレクトロクロミック・ミラー（１）及び装置からなり、そのエレクトロクロミック要素はエレクトロクロミック固休膜（７）と酸化還元反応促進剤及びアルカリイオン及び／又はプロトンを含む電解質（６）とからなる。

Description

【発明の詳細な説明】 エレクトロクロミック・ミラーおよび装置発明の技術分野 本発明は、エレクトロクロミック固体膜と酸化還元反応促進剤およびアルカリ ・イオンおよび／または陽子を含む電解質とから製造され、たとえば自動車用エ レクトロクロミック・バックミラー、ウィンドウおよびサンルーフなどに使用す るのに適した、光の透過性が連続的に変化するエレクトロクロミック装置に関す る。関連技術の簡単な説明 自動車市場に電子光学ミラーが導入される以前は、自動車の運転者はプリズム ・バックミラーを使用して、後方に隣接した自動車の所在を決めることができた 。このようなミラーに配置された手動レバーを使用することにより、自動車の運 転者は、特に夕暮れ以降に、ミラーのプリズム機能を使用して、後方で走行する 他の自動車のロー・ビーム、特にハイ・ビームのライト要素によるヘッドランプ のギラツキ（自動車の後部から入射する電磁照射の主光源）の影響を減ずること ができた。レバーを夜間位置にすると、運転者はミラーの第１表面のガラスと空 気との界面からの反射で、像を見ることができる。この第１表面から反射した光 は、スペクトル選択性を示さない。つまり、プリズム・ミラーに夜間位置で見え る像は、すべて中間色となる。このような従来のプリズム・ミラーは、米国の自 動車の大半で、現在でも使用されている。 エレクトロクロミック技術のような電子光学技術の出現で、自動車のバックミ ラーで反射力を連続的に変化させることができるようになった。この連続的な変 化性は、たとえば反対に変化するエレクトロクロミック装置を使用することによ って達成され、ここで光（たとえば可視光線、赤外線、紫外線、またはその他の 別個または重複する電磁照射）の強度は、光がエレクトロクロミック媒体を通過 することによって調節される。このような装置では、エレクトロクロミック媒体 は、２つの導電性の電極間に配置され、２つの電極間に電位差を与えると、エレ クトロクロミック現象を生じる。 先行技術のエレクトロクロミック装置の幾つかの例が、米国特許第3,280,701 号(Donnelly)、第3,451,741号(Manas)、第3,806,229号(Schoot)、第4,465,339号 (Baucke)、第4,712,879号(Lynam)("Lynam I")、第4,902,108号(Byker)("Byker I ")、日本の特許公報第JP 57-30,639号(Negishi)(Negishi I)(Negishi II)、およ びNonemissive Electrooptic Displays，155-96，A.R．Kmetz and F.K.von Will ien，eds.，Plenum Press，New York(1976)にあるI.F.Changの「エレクトロクロ ミックおよびエレクトロケミクロミック材料および現象」で述べられている。 エレクトロクロミック現象が完全に溶液中で生じるエレクトロクロミック媒体 を使用した装置が多数、当技術分野で知られている（たとえば、米国特許第5,12 8,799号(Byker)("Byker II")、Donnelly、Manos、SchootおよびByker I 、および 共同譲渡の米国特許第5,073,012号(Lynam)("Lynam II")、第5,115,346号(Lynam) ("Lynam III")、第5,140,455号(Varaprasad)("Varaprasad I")、第5,142,407号( Varaprasad)("Varaprasad II")、第5,151,816号(Varaprasad)("Varaprasad III" ）、第5,239,405号(Varaprasad)("Varaprasad IV")、および共同譲渡の共願米国 特許第07/935,784号（1992年８月２７日出願）および第08/061,742号（1993年５ 月１７日出願）を参照）。通常、エレクトロケミクロミック装置と呼ばれること もあるこれらのエレクトロクロミック装置は、１区画の自動消去式液相エレクト ロクロミック装置である。たとえばManos、Negish II、Byker I およびByker II を参照。 １区画の自動消去式液相エレクトロクロミック装置では、電磁照射の強度は、 １区画内に保持された色形成種の溶剤を通過させることによって調整する。変色 反応は、この溶剤相内でのみ生じる。つまり、装置には、変色反応を有する固体 材料はない。このような装置の作動中、色形成種の溶剤は液体または流体である が、ゲル状でも、濃化剤で粘度を高くしてもよく、溶剤の成分は沈殿しない。た とえばByker IおよびByker IIを参照のこと。 エレクトロクロミック現象が固体層で生じるエレクトロクロミック媒体を使用 する多数の装置も、当技術分野で広く記述されている。そのような措置には、エ レクトロクロミック薄膜技術を利用するものもある（たとえば、SAE Technical Paper Series ，870636(1987)のN.R．Lynam による「自動車用エレクトロクロミ ック日中／夜間ミラー」、C.M．LampertおよびC.B．Granquistが編集したLarge Area Chromogenics:Materials & Devices for Transmittance Control ，Optical Eng'g Press，Washington(1990)のN.R．LynamおよびA．Agrawalによる「発色材 の自動車への応用」、Solar Energy Material，11，1-27(1984)のC.M．Lampert による「エレクトロクロミック装置およびエネルギー効率が高いウィンドー用の 装置」、日本特許文書JP 58-30,729（Kamimori）（"Kamimori I")、米国特許第3 ,521,941号(Deb)、第3,807,832号(Castellion)、第4,174,152号(Giglia)、Re．3 0,835(Giglia)、第4,338,000号(Kamimori)("Kamimori II")、第4,652,090号(Uch ikawa)、第4,671,619号(Kamimori("Kamimori III")、第4,702,566号(Tukude)、L ynam I および同時係属の米国特許第5,066,112号(Linam)("Lynam IV")および第5, 076,675号(Lynam)("Lynam V")を参照のこと)。 薄膜エレクトロクロミック装置では、それぞれが通常は無機金属酸化物または ポリマーの膜から製造された陽極エレクトロクロミック層や陰極エレクトロクロ ミック層を互いから分割し、別個にすることができる。上述した１区画の自動消 去式溶剤相装置と異なり、このような薄膜エレクトロクロミック装置は、個々の 陽極エレクトロクロミック層や陰極エレクトロクロミック層を通過させることに より、電磁照射の強度を調整する。 特定の薄膜エレクトロクロミック装置では、酸化タングステン・タイプの固体 膜のような固体のエレクトロクロミック材料の薄膜層を、フェロセンやヨウ化物 などの酸化還元促進剤と溶剤とを含む電解液と接触するよう配置してもよい。Ka mimiori III を参照のこと。これらのエレクトロクロミック装置では、電磁照射 の強度は、固体エレクトロクロミック材料を通過させることにより主に調整する 。このような酸化タングステン・タイプの固体膜は、着色状態に曇らせると、通 常は青色状態に曇る。 自動車の従来のプリズム・バックミラーに慣れると、スペクトル選択性がほと んどないバックミラーを好む自動車の消費者もいる。つまり、着色状態に曇らせ た時に、ほぼグレーになるミラー、換言すると、スペクトル反射性が従来のプリ ズム・ミラーと同様の視野背景を呈するミラーを好む消費者もいるのである。 他の点に注目すると、ミラーの反射要素は銀で構成されることが多く、通常は ミラーの最後部の表面に配置される。つまり、反射要素は入射光と最初に接触す る表面から最も遠いガラス基板の表面に配置される。しかし、このような配置に は特定の欠点がある。たとえば、このようなミラー構造では、二重像の問題があ ることが認識されている。さらに、ミラーの反射要素に到達する経路において、 入射光は、最初にミラー・アセンブリの各ガラス基板を通過しなければならない 。したがって、このようなミラー構造では、良好な光学的性能を達成するには、 両方の基板に比較的高品質のガラスを使用する。さらに、これらのミラー構造は 通常、エレクトロクロミック要素に電位を与えるために、各基板の内部表面を透 明な導電性電極薄膜でコーティングする必要がある。ミラーの各基板をこのよう に比較的高品質のガラスにし、このような透明な導電性電極を２枚使用しなけれ ばならないので、材料および製品の費用が上昇する。さらに、ミラーの最後部表 面に反射要素を配置するには、追加の製造段階が必要であり、これも製造費を上 昇させる。そして、このような配置にすると、反射要素（通常は銀またはアルミ ニウムなどの反射性の高い材料）を、塗料や同等品の使用などによる環境的劣化 から保護するために必要な措置のため、材料費および生産費が上昇する。この目 的には鉛系塗料を使用することが多く、そのため環境的問題を呈する。 銀などのミラーの反射要素が、反射要素としてだけでなく導電性電極コーティ ングとしても働くように、これを後部基板の内向きの表面に配置するよう示唆さ れ、試みられてきた。たとえばDonnely、Negishi I、Byker IおよびByker II を 参照のこと。この配置構成は、後部基板に別個の透明な導電性コーティングを施 す必要がなく、したがって製造費が下がるので、明らかに魅力的である。 コーティングは、反射要素と導電性電極との二重の役割を果たすために、（１ ）装置の作動中に劣化しないよう、電子化学的に安定で、（２）後部基板にしっ かり接着して装置の完全性を維持し、（３）ミラーが全体として許容可能な反射 レベルを有するように、反射性が高くなければならない。しかし、既知のミラー でこれらの要件をすべて満たすものはない。たとえば、従来のミラー構造で反射 要素として一般に使用されている銀は、反射性が高いが、電子化学的に不安定で 、 ガラス基板の表面に接着することが困難である。先行技術のミラーで、反射要素 と導電性電極の組合せとして使用されているロジウムやインコネルなどの他の材 料は、反射性の高いエレクトロクロミック・ミラーを提供するには反射性が不十 分である。おそらく以上の理由で、先行技術の示唆や試みの結果、反射要素と導 電性電極との両方に１つのコーティングを使用するエレクトロクロミック・ミラ ーとして、商業的に成功するものがなかった。 酸化タングステンのような固体膜エレクトロクロミック材料を使用するような エレクトロクロミック層は、紫外線に長時間さらされると（たとえば屋外で風雨 にさらされて通常遭遇する状態）、有害な性能を呈することもある。この有害な 性能は、光互変を生じる傾向があるなど、様々な源のいずれにも結び付けること ができる。 さらに別の点に注目すると、これまで特定のエレクトロクロミック・ミラー構 造には、ディスプレー、感光装置などの印およびセンサ、動作センサ、カメラな どが取り入れられてきた（たとえば米国特許第5,189,537号(O'Farrel)および第5 ,285,060号(Larson)を参照のこと）。これらの構造では、ミラーの反射要素を局 所的に除去して、透過性の高い局所ウィンドウを生成した。しかし、エレクトロ クロミック・ミラーの反射要素の背後に配置したこのようなディスプレーや同等 品の使用には、限界がある。このように使用が限られる理由の一つは、ミラーの 反射要素の一部が除去されたために、後方を見る機能が低下することである。さ らに、今日までに知られているディスプレーや同等品は、作動していない状態で 、自動車に取り付けたミラー内に見える限り、自動車の運転者や同乗者の気を散 らし、美的魅力がない。また、このようなディスプレーおよび同等品をミラーに 組み込む既知の方法は、製造業者の立場からは部分的にしか成功せず、労働集約 的で、経済的に魅力がない。 さらに、バックミラーに半透明なリフレクタを使用することが示唆されている が（たとえば米国特許第5,014,167号(Roberts)("Roberts I")および第5,207,492 号(Roberts)("Roberts II")を参照）、これまでの試みは、デザインが複雑で製 造費がかかるダイクロイック・リフレクタを使用することも含まれていた。また 、金属性リフレクタの使用を示唆した場合（たとえば米国特許第4,588,267号(Pa st ore)参照）、それは、プリズム・ミラーなどの従来のミラーを前提としていた。 これらの示唆は、反射性が高く部分的に透過するエレクトロクロミック・バック ミラーを提供するために克服すべき問題を認識していなかった。 したがって、夜間位置の時に従来のプリズム・ミラーが呈するように、着色状 態に曇った場合にスペクトル選択性がほぼなく、反射性が連続的に変化でき、容 易かつ簡単に製造でき、屋外の耐候性が強化されたエレクトロクロミック・ミラ ーへの需要がある。この関連で、基板の一方のみに基板として高品質ガラスを使 用し、電極の一方のみにほぼ透明な導電性電極コーティング薄膜を使用すること により、材料費および製造費を減少させたエレクトロクロミック・ミラーの構造 を有することが望ましい。また、ミラーは、必要に応じてディスプレーを起動し て見ることができ、ディスプレーが（１）美的に魅力的で非作動状態でも気を散 らせず、（２）容易かつ経済的に製造されるディスプレー・オン・デマンドを有 することが望ましい。発明の要約 本発明は、電位を印加することによって着色状態に曇った場合に、ほぼ中間色 または中間色グレーに見える形でスペクトル選択性をほぼ呈さないようなエレク トロクロミック・ミラーを提供することにより、スペクトル選択性がほとんどな いエレクトロクロミック・ミラーの望ましさに関して、上記の需要を満たす。こ のミラーのエレクトロクロミック要素は、エレクトロクロミック固体膜と電解質 とから成り、電解質自体は酸化還元反応促進剤とアルカリ・イオンおよび／また は陽子から成る。 本発明の別の態様は、斬新な構造を有する、商業的に実現可能なエレクトロク ロミック・ミラーを提供する。さらに具体的に言うと、この斬新なミラー構造は 、反射材の層が、導電性電極コーティングとしても働く第２基板の内面にコーテ ィングされる。反射材の層は、エレクトロクロミック固体膜で上をコーティング され、基板への接着性を促進するために、下もコーティングしてよい。 この構造は、基板の一方のみに高品質ガラスを使用し、高品質ガラスでできた 基板のみに、ほぼ透明な導電性電極コーティングを使用する。つまり、この構造 によって、（１）ミラーの光学的性能を良好に維持しながら、第２基板または最 後部基板として比較的低品質のガラスを使用し、（２）比較的高品質のガラスで できた第１基板または最前部基板に、抵抗力が大きく、したがってより経済的な 導電性電極を使用し、（３）ほぼ透明な導電性電極コーティングは１枚しか使用 しない（比較的高品質のガラスでできた第１基板の内面に使用する）ことができ 、これによって、このようなミラーの製造で生じる材料費がさらに減少する。 また、この斬新な構造の反射材の層は、導電性電極コーティングという追加的 役割も果たし、したがってほぼ透明な導電性電極コーティングを別個にした場合 に伴う製造費を不必要とするので、このようなミラーに伴う材料費および生産費 をさらに減少させる。さらに、この構造では、ミラーの反射要素が、ミラーのエ レクトロクロミック要素を形成する密封された空洞の中に配置され、それによっ て保護されている。したがって、ミラーの反射要素は、鉛系の保護膜塗料や同等 品のような保護材の使用に頼ることなく、環境への露出による劣化から保護され る。このエレクトロクロミック・ミラーの斬新な構造は、物理的、化学的、電子 化学的劣化に対する反射材の抵抗力も高める。さらに、このように提供された構 造は、二重像の識別問題を招く可能性がある像の分離も減少させる。 また、本発明の別の態様は、後述するようにミラーの「オン・デマンド・ディ スプレー」を提供する。上述し以下で詳述するミラー構造は、ミラー要素の背後 にディスプレー、印およびセンサおよび同等品を配置するのに役立ち、したがっ て「オン・デマンド・ディスプレー」と見なすことができる。 上述したように、本発明のエレクトロクロミック・ミラーは、電位を印加して 着色状態に曇らせると、ほぼグレーに見える。このミラーの着色能力は、ミラー から反射されるギラツキの程度を決定する。他のエレクトロクロミック・ミラー と同様、この着色能力は、印加電位の大きさ、継続時間および極性を制御するこ とで、連続的に変化させることができる。ほぼグレー色の外観は、消費者（特に 、このようなミラーを使用する自動車の特定の運転者）の好みに訴え、これを使 用するハウジング、ケーシング、構造、マシン、計器または自動車の色に対して ほぼ色が中性になるおかげで、商業デザインおよび製造の面でも魅力的である。 つまり、着色状態に曇っても、本発明のエレクトロクロミック・ミラーは、これ と ともに使用する他のコンポーネントの色と美的に合うことが多い。 本発明のエレクトロクロミック・ミラーは、エレクトロクロミック・バックミ ラー（たとえばトラックのミラーおよび自動車の車内および車外のミラー）、建 築物の鏡、または航空機や潜望鏡、または歯科や医療用途に役立つような特殊な 鏡として使用するのに適する。 エレクトロクロミック・ミラーに加えて、エレクトロクロミック・グレイジン グ（たとえば住宅や事務所またはその他の建物で役立つような建築用グレイジン グ、航空機で役立つ航空学用グレイジング、またはたとえばフロントガラス、サ イド・ウィンドウおよびバックライトのようなウィンドウ、サン・ルーフ、サン ・バイザまたはシェード・バンドの自動車用グレイジング）、陰極線モニタなど との関連で使用するのに適したコントラスト強調フィルタなどの光学的に減衰さ せたエレクトロクロミック・コントラスト・フィルタ、プライバシーまたは保護 のためのエレクトロクロミック・パーティション、エレクトロクロミック情報デ ィスプレー、およびエレクトロクロミック・レンズおよび眼鏡も、本明細書で述 べることが役立ち、特にスペクトル選択性がほとんどない着色が望ましい場合に は役に立つ。 したがって、本発明は、下記の図と組み合わせて詳細な説明を研究することに より容易に明白になり、より大きく評価される、当技術分野における進歩を例証 する。図面の簡単な説明 図１は、本発明によるエレクトロクロミック・ミラーの、脱色状態における反 射率対ナノメートル単位の波長のスペクトル走査結果を示す。 図２は、本発明によるエレクトロクロミック・ミラーの、中間色じょうたいに 曇った状態における反射率対ナノメートル単位の波長のスペクトル走査結果を示 す。 図３Ａは、本発明によるエレクトロクロミック・ミラー、つまり自動車用室内 バックミラーの透視図を示す。 図３Ｂは、図３Ａのエレクトロクロミック・ミラーの断面図を示す。 図４は、図３Ａおよび３Ｂのエレクトロクロミック・ミラーの別の断面図を示 す。 図５は、本発明による別のエレクトロクロミック・ミラー構造の断面図を示す 。この構造では、密封手段５が基板２、３を接合する接合部に、第２耐候性バリ ア１２が加えられている。 図６は、本発明によるさらに別のエレクトロクロミック・ミラー構造の断面図 を示す。このミラー構造は、図５のミラー構造に似ているが、基板３と導電性電 極コーティング４′との間に接着促進剤１１がコーティングされている。 図７は、本発明によるさらに別のエレクトロクロミック・ミラー構造の断面図 を示す。 図８は、オン・デマンド・ディスプレーとともに構築したエレクトロクロミッ ク・ミラーの透視図を示す。 図９は、ミラー構造の表示ウィンドウにガラス・カバー・シートをかぶせて、 オン・デマンド・ディスプレーとともに構築したエレクトロクロミック・ミラー の断面図を示す。 図１０は、オン・デマンド・ディスプレーとともに構築した別のエレクトロク ロミック・ミラーの断面図を示す。 図１１Ａ、ＢおよびＣは、本発明のエレクトロクロミック・ミラーおよびエレ クトロクロミック装置の様々な構造における基板の方向を示す。図１１Ａでは、 第１基板と第２基板とが垂直に転位している。図１１Ｂでは、第１基板と第２基 板とが横方向に転位し、垂直に転位している。図１１Ｃは、第１基板の長さと幅 の寸法が第２基板よりわずかに大きい、第１基板と第２基板との配置を示す。こ の配置では、第１基板の外周縁が第２基板の外周縁より先に延びる。 図１２は、方向指示の印とともに構築したエレクトロクロミック・ミラーの透 視図を示す。 図１３は、本発明による複数半径のエレクトロクロミック・ミラーの透視図を 示す。 図１４ＡおよびＢは、本発明により使用することができる様々な密封構造を示 す、エレクトロクロミック装置の断面図を示す。 図１５は、本発明によるエレクトロクロミック・ミラーの同期製造プロセスの 概略図である。 図１６は、固体エレクトロクロミック膜の蒸着に有用な定圧制御システムの概 略図である。 図１７は、約０ボルトから約１．４ボルトまでの範囲で、エレクトロクロミッ ク媒体に印加される電圧について、エレクトロクロミック・ウィンドウ・セルの ガラスに固定した、連続的に変化する強度フィルタの透過率対波長の図表である 。図１７では、実線の曲線Ｘが、約４０ｎｍの帯域を有する６００ｎｍ中帯域干 渉フィルタの透過率対波長（ｎｍ）のスペクトルを示す。曲線Ａは、電位を印加 しない場合にこの帯域フィルタとエレクトロクロミック・ウィンドウ・セルを通 る光の透過率を示す。曲線Ｂは、約０．３ボルトの電位が印加された場合に、こ の帯域フィルタとエレクトロクロミック・ウィンドウ・セルを通る光の透過率を 示す。曲線Ｃは、約０．５ボルトの電位が印加された場合に、この帯域フィルタ とエレクトロクロミック・ウィンドウ・セルを通る光の透過率を示す。曲線Ｄは 、約０．８ボルトの電位が印加された場合に、この帯域フィルタとエレクトロク ロミック・ウィンドウ・セルを通る光の透過率を示す。曲線Ｅは、約１．１ボル トの電位が印加された場合に、この帯域フィルタとエレクトロクロミック・ウィ ンドウ・セルを通る光の透過率を示す。曲線Ｆは、約１．４ボルトの電位が印加 された場合に、この帯域フィルタとエレクトロクロミック・ウィンドウ・セルを 通る光の透過率を示す。 これらの図面で描いたものは、例証のみを目的としたものであり、実寸大では ない。本発明の以下の詳細な説明で他に明記していない限り、検討する要素の番 号は、全図で同じ要素を示す。発明の詳細な説明 本発明の教示により、自動車用エレクトロクロミック・バックミラーなどのエ レクトロクロミック・ミラーが提供される。このミラーは、内面にほぼ透明な導 電性電極コーティングを有するほぼ透明な第１基板と、内面にほぼ透明でも透明 でなくてもよい導電性電極コーティングを有する、ほぼ透明でも透明でなくても よい第２基板とから構築される。第２基板とその導電性電極コーティングとがほ ぼ透明か、透明でないかは、ミラーの特定の構造によって決まる。 第１基板と第２基板とは、互いに間隔をあけ、基板が平面か湾曲しているかに よって、ほぼ平行か接線がほぼ平行の状態で配置することができる。これらの基 板は、互いに横方向に転位するか、ほぼ面一の関係でもよい。基板は、一方の基 板が他方の基板より長さおよび幅がわずかに大きくなるサイズおよび形状になる よう、別個の寸法を有することもできる。したがって、基板を互いに中心で位置 合わせして配置すると、わずかに大きい方の基板の外周縁が、わずかに小さい方 の基板の外周縁より先に延びる。 ミラーは、（ａ）ミラーの反射要素として単一の役割を果たす、第２基板の最 後部（内側ではない）表面、または（ｂ）ミラーの導電性電極コーティングと反 射要素という二重の役割を果たす、第２基板の内面とのいずれかに、反射材の層 を有する。 このミラーでは、エレクトロクロミック固体膜は、（ａ）第１基板の透明な導 電性電極コーティング、（ｂ）第２基板の内面の導電性電極コーティングとして 作用する場合は、反射材の層、または（ｃ）反射材の層が第２基板の最後部（内 側ではない）表面に配置される場合は、第２基板の内面のほぼ透明な導電性電極 コーティングのいずれかにコーティングされる。 密封手段が、第１基板と第２基板のそれぞれの外周縁に向かって配置され、空 洞を形成し、その中には、液体相または固体相で、酸化還元反応促進剤およびア ルカリ・イオンおよび／または陽子から成る電解質が配置される。空洞内で、電 解質は、エレクトロクロミック固体膜（それ自体が、第１基板または第２基板の うち一方の内面にある導電性電極コーティングと接触している）および導電性電 極コーティング（第１基板または第２基板のうち他方の内面にある）と接触し、 エレクトロクロミック要素を形成する。 最後に、印加電位をエレクトロクロミック要素に導く手段も設けられ、ミラー から反射する光の量を制御して、変化させる。 本発明のエレクトロクロミック装置の光透過率（およびエレクトロクロミック ・ミラーの反射率）は、主に、エレクトロクロミック固体膜内で生じる色形成反 応によって低下させる。このエレクトロクロミック固体膜は、無機遷移金属酸化 物の薄膜層でよい。酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化ニオブ、酸化バナ ジウム、酸化チタンおよびその組合せのようなＩＶ−Ｂ族、Ｖ−Ｂ族またはＶＩ −Ｂ族などの遷移金属酸化物の化学量形および準化学量形を使用することができ る。Kamimori IIIで述べているような、従来からある他の無機遷移金属酸化物を 使用することもできる。しかし、タングステン酸化物、またはモリブデン、レニ ウム、錫、ロジウム、インジウム、ビスマス、バリウム、チタン、タンタル、亜 鉛、ニッケルなどのような適切なドーパントを添加した酸化タングステンを、エ レクトロクロミック固体膜として使用することが好ましい。ドーパントの添加に よる有益な効果は、不純物を添加した酸化タングステン・コーティングのスペク トル吸収の縁を、電磁スペクトルの可視領域にさらに移動させることである。 不純物を添加した酸化タングステンを使用する場合、ドーパントは約０．１％ （モル）から約２０％（モル）、あるいはそれ以上の範囲の濃度で存在するとよ い。不純物を添加した好ましい酸化タングステンには、約０．５％（モル）から 約１０％（モル）の範囲でモリブデンのドーパントを使用したものがある。 エレクトロクロミック固体膜は、二酸化シリコン、二酸化チタン、五酸化タン タルまたは酸化セリウムのような薄膜で上塗りや下塗りを施した層などの、薄膜 の積重ねでもよい。このような上塗りや下塗りは、基板への酸化タングステンの エレクトロクロミック固体膜の接着を強化したり、エレクトロクロミック要素内 で接触する電解質から被膜で保護するのに役立つことがある。 エレクトロクロミック固体膜が、薄膜の積重ねからなる場合、積み重なった複 数の層は、それぞれエレクトロクロミック材料で構成することができる。たとえ ば、積み重ねたエレクトロクロミック固体膜は、酸化モリブデンのエレクトロク ロミック層を、透明な導体を（たとえば約１００Åから約３，０００Åの厚さに ）コーティングした基板にコーティングし、たとえば約１００Åから約５，００ ０Åの範囲の厚さを有する酸化タングステンなどの、別のエレクトロクロミック 固体膜層で、この酸化モリブデンのエレクトロクロミック層に上塗り（および／ または下塗り）を施すことによって形成することができる。あるいは、酸化タン グステンの複数の層と酸化モリブデンの複数の層とを使用して、積み重ねたエレ ク トロクロミック固体膜を形成することができる。 酸化モリブデンを蒸発させる場合は、蒸発の前に酸化モリブデンの粉末を溶解 処理すると有用である。酸化モリブデンは約７９５℃で溶解するので、酸化モリ ブデン粉末（通常は約１００メッシュ）を、高温に耐える不活性の適切な蒸発用 るつぼ（アルミナのるつぼなど）に入れ、高温炉内で、好ましくは窒素雰囲気な どの不活性雰囲気中で約８５０℃から約９００℃の範囲で約６０分加熱してもよ い。酸化モリブデンは、約１，０００℃より高い温度で溶解する酸化タングステ ンのように、他のエレクトロクロミック金属酸化物より低い温度（約１，０００ ℃未満）で溶解するので、酸化モリブデン（および同様に低い温度で溶解する金 属酸化物）を、高温で溶解する金属酸化物粉末を蒸発させるための結合剤として 使用してもよい。 エレクトロクロミック固体膜の厚さは、約０．０５μｍから約１．０μｍの範 囲でよく、約０．２５μｍから約０．７５μｍが好ましいが、０．３μｍから約 ０．６μｍがさらに好ましい。 エレクトロクロミック固体膜は、非晶質、結晶質、多結晶質、またはその組合 せの微細構造を有することができる。光互変の発生が問題となるエレクトロクロ ミック装置では、エレクトロクロミック固体膜が、少なくとも部分的に結晶質の 微細構造を有することが望ましい。このような結晶質の微細構造は、エレクトロ クロミック装置の操作に有害な光互変の影響を、最小限に抑えると考えられる。 エレクトロクロミック固体膜は、多孔質の微細構造を有することも望ましい。こ れに関しては、酸化タングステンまたは不純物を添加した酸化タングステンなど のエレクトロクロミック固体膜が、大部分を占める酸化物に対して約９０％未満 の密度を有することが望ましく、約８０％未満が好ましい。 本発明のエレクトロクロミック・ミラーのエレクトロクロミック要素で有用な 電解質は、酸化還元反応促進剤、およびアルカリ・イオンおよび／または陽子か ら成る。電解質は、液体相でも固体相でもよい。 電解質の酸化還元反応促進剤は、２つの個々の種で構成され、メタロセンとフ ェノチアジンを組み合わせて使用する。 本発明の酸化還元反応促進剤として使用するのに適したメタロセンは、以下の 構造で表される。 ここでＲおよびＲ₁は同じでも異なってもよく、それぞれを選択できるグループ を構成するのは、Ｈ；CH₃、CH₂CH₃、CH₂CH₂CH₃、CH(CH₃)₂、C(CH₃)₃などの炭素 原子約１個から炭素原子約８個を有する直鎖または分枝鎖アルキル成分；アセチ ル基；ビニル基；アリル基；水酸基；カルボキシル基；ｎが１から約８の範囲の 整数でよい−(CH₂)_n−OH；ｎが１から約８の範囲の整数でよく、Ｒ₂が炭素原子 約１個から炭素原子約８個を有する直鎖または分枝鎖アルキル成分、水素、リチ いずれかでよい −(CH₂)_n−COOR₂ ；ｎが１から約８の範囲の整数でよく、Ｒ₃ が炭素原子約１個から炭素原子約８個を有する直鎖または分枝鎖アルキル成分、 １から約８の範囲の整数でよく、ＸがCl^-、Br^-、I^-、ClO₄ ^-またはBF₄ ^-でよい−( CH₂)_n−N⁺(CH₃)₃X^-で；Me はFe、Ni．Ru、Co、Ti、Crなどでよい。 本発明の酸化還元反応促進剤として使用するのに適したフェノチアジンは、以 下の構造で示されるものを含むが、これに限定されるものではない。 ここで、Ｒ₄はＨ；炭素原子約１個から炭素原子約１０個を有する直鎖または分 枝鎖アルキル成分；フェニル基；ベンジル基；−(CH₂)₂−CN；−(CH₂)₂−COOH； 素原子約１個から炭素原子約８個を有する直鎖または分枝鎖アルキル成分でよい Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂は、Ｈ、Cl、Br、CF₃、CH₃、NO₂、COOH、 は、一緒にすると炭素原子の１個にカルボニル置換基を有する原子６個（そのう ち５個は炭素）の輪を形成する。 フェノチアジンIIの内で好ましいのは、以下の構造で描かれるフェノチアジンIII である。 その他の望ましいフェノチアジンIIには、以下のものが含まれる。 以下は、本発明の酸化還元促進剤として使用するのが望ましいキノンの一例で ある。 酸化還元反応促進剤の組合せを優先的に選択して、エレクトロクロミック要素 （およびエレクトロクロミック要素が機能するミラー）が着色状態に曇った場合 に、スペクトル選択性がほとんどない望ましい状態を達成することができる。 酸化還元反応促進剤は、約０．００５Ｍから約０．５Ｍの全濃度で電解質内に 存在することができ、約０．０２Ｍから約０．１Ｍの全濃度が好ましい。この組 合せの割合（つまりフェノチアジンの合計に対するメタロセンの合計）は、約１ ：１から約１：１０の範囲内であるべきで、酸化還元反応促進剤の好ましい組合 せは、フェロセンとフェノチアジン(III)が約１：２（モル）から約１：４（モ ル）の割合であり、約０．０７Ｍから約０．０９Ｍの全濃度を有することが、さ らに好ましい。 アルカリ・イオン源も、電解質に含めることができる。適したアルカリ・イオ ン源は、過塩素酸リチウム("LiClO₄")、テトラフルオロホウ酸リチウム("LiBF₄" )、ヨウ化リチウム("LI")、ヘキサフルオロ燐酸リチウム("LiPF₆")、ヘキサフル オロ砒酸リチウム("LiAsF₆")、スチリルスルホン酸リチウム("LiSS")、リチウム ・トリフレート("LiCF₃SO₃")、リチウム・メタクリレート、塩化リチウム("LiCl ")、臭化リチウム("LiBr")などのＬＩ以外のハロゲン化リチウム、トリフルオロ 酢酸リチウム("CF₃COOLi")、およびその組合せ、などのリチウム塩である。その 内、LiClO₄またはLiClO₄とLiBF₄との組合せが好ましい。これらのアルカリ・イ オン源は、電解質内で約０．０１Ｍから約１．０Ｍの濃度で存在することができ 、約０．０５Ｍから約０．１Ｍの濃度が好ましい。 プロトン源も、たとえば電解液に（たとえば約５％(v/v)未満の濃度、好まし くは約０．５％(v/v)から約２％(v/v)の濃度で）取り入れるか、当技術分野で周 知のように有機酸、無機酸、または有機溶剤と組み合わせて使用するのに適した その他のプロトン源を電解質に取り入れることによって、電解質に含めることが できる。 電解質そのものは、液相または固相でよいが、電解質が液相の場合は、電解質 に入れて使用するのに適した溶剤は、酸化還元反応促進剤およびアルカリ・イオ ン（および紫外線を吸収したり遮蔽したりする紫外線安定剤のような、その他の 光学的要素）を溶かすが、それら（および電解質内のその他の光学的要素）には ほぼ不活性のままであってもよい。本発明の電解質で製造する装置がさらされる 温度範囲にわたって液状のままであるいかなる材料も、液相電解質の溶剤として 使用するのに適している（このような溶剤の詳細な説明については、網羅的では ないがVaraprasad IおよびVaraprasad IIIを参照のこと）。実際は、溶剤は有機 溶剤でよく、実質的に非水有機溶剤が好ましいが、これは電解作用および本発明 の実施中に遭遇するようなその他の現象に対して安定である。 適切な溶剤は、アセトニトリル、３−ヒドロキシプロピオニトリル、メトキシ プロピオニトリル、３−エトキシプロピオニトリル、２−アセチルブチロラクト ン、炭酸プロピレン、炭酸エチレン、炭酸グリセリン、テトラメチレンスルホン 、シアノエチルスクロース、γ−ブチロラクトン、２−メチルグルタロニトリル 、Ｎ，Ｎ′−ジメチルホルムアミド、３−メチルスルホラン、グルタロニトリル 、 ３，３′−オキシジプロピオニトリル、メチルエチルケトン、シクロペンタノン 、シクロヘキサノン、ベンゾイルアセトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２− ペンタノン、アセトフェノン、２−メトキシエチルエーテル、トリエチレングリ コールジメチルエーテル、４−エテニル−１，３−ジオキサラン−２−オン、１ ，２−炭酸ブチレン、（テキサス州オースチンのTexaco Chemical Company から 市販されているような）炭酸グリシジルエーテル、およびそれらの組合せから選 択することができ、その中で好ましいのは炭酸プロピレン、炭酸１，２−ブチレ ン、テトラメチレンスルホンと炭酸プロピレンとの組合せ、炭酸１，２−ブチレ ンと炭酸プロピレンとの組合せなどである。 本発明の電解質が、固相の電解質が望ましい場合、開始成分の配合は、たとえ ば紫外線に曝したり熱エネルギーを加えたりする重合反応などによって、元の位 置へ転移させ、固体の電解質を生成する。紫外線で活性化した重合に関しては、 紫外線重合可能な成分（１９９３年２月２６日に出願され（現在は放棄されてい る）共通に譲渡された同時係属の米国特許出願第08/023,675号("'675号出願")お よび１９９４年２月８日に出願された第08/193,557号("'557号出願")で教示され 、記載されているような成分で、この出願の開示はそれぞれ、参照として本明細 書に組み込む）を使用して、紫外線に曝した時に、固体相の電解質に転移するこ とができる。 その他の成分を電解質に添加することができ、このような成分は液相の電解質 の溶液であることが好ましい。これらの成分は、紫外線安定剤、赤外線照射還元 剤、色付け剤（たとえば染料または着色剤）、およびその組合せなどを含むが、 これに制限されるものではない。適切な紫外線安定剤および色付け剤については 、Lynam IIIに記載され、その開示は参照として本明細書に組み込む。たとえば 、”NEOPEN”808（ニュージャージー州ParsippanyのBASF Corp．から市販されて いる）などのフタロシアニン・タイプの青色染料を、色付け剤として電解質に添 加することができる。 多くの酸化還元反応促進剤は、約２５０ｎｍから約３５０ｎｍの電磁スペクト ルの紫外線領域で有意の吸光度を示し、エレクトロクロミック固体膜そのものは 、紫外線に曝すことによって有害な影響を受けることがあるので、酸化還元反応 促 進剤およびエレクトロクロミック固体膜を紫外線から遮蔽することが、往々にし て望ましい。したがって、電解質に紫外線安定剤を取り入れるか、それ自体が紫 外線を吸収する働きをする溶剤を使用することによって、エレクトロクロミック 装置の寿命を延ばすことができる。その使用意図のために、自動車の外部で遭遇 するような、屋外の風雨状態に曝されるエレクトロクロミック・ミラーおよびエ レクトロクロミック装置のための電解質には、紫外線安定剤を含めると、特に有 利である。 紫外線を吸収することが知られている多くの材料を、本明細書で使用すること ができるが、好ましい紫外線安定剤は、"UVINUL" 400((ミシガン州Wyandotte の BASF Corp．製造の)２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン）、"UVINUL" D 49( (BASF Corp.の)２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン ）、"UVINUL" N 35((BASF Corp．の)エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニル アクリレート）、"UVINUL" N 539((BASF Corp.の)２−エチルヘキシル−２−シ アノ−３，３′−ジフェニルアクリレート）、"UVINUL" M 40((BASF Corp.の)２ −ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）、"UVINUL" M 408((BASF Corp.の )２−ヒドロキシ−４−オクトキシ−ベンゾフェノン)、"TINUVIN" P（(ニューヨ ーク州HawthorneのCiba Geigy Corp．製造の)２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール −２−イル）−４−メチルフェニル）、"TINUVIN" 327((Chiba Geigy Corp.の） ２−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ −ベンゾトリアゾール）、"TINUVIN" 328((Chiba Geigy Corp.の)２−（３′， ５′−ジ−ｎ−ペンチル−２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール) 、"CYASORB" UV 24((ニュージャージー州WayneのAmerican Cyanamid Co．製造の )２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン)、およびその組合せ などで、紫外線安定剤の適切な範囲は、約０．２％(w/v)から約４０％(w/v)で、 約５％(w/v)から約１５％(w/v)が好ましい。紫外線安定剤は、性能および電解質 の機能への悪影響を避ける方向で考慮して選択するとよい。 また、第１基板および／または第２基板、特に第１基板に、紫外線を吸収する 中間層をコーティングするか、接着して、エレクトロクロミック要素を紫外線の 劣化効果から遮蔽するのに役立てることができる。適切な紫外線吸収中間層には 、Lynam III に記載されている層などがある。 さらに、エレクトロクロミック装置の寿命の延長に役立てるため、エレクトロ クロミック固体膜を第２基板の内面上に配置する、つまり特定の構造に応じて、 反射要素またはほぼ透明な導電性電極コーティングにコーティングすることがで きる。自動車の外部に使用するのに適したエレクトロクロミック・バックミラー を、紫外線に曝すなど、屋外の風雨に曝すことを意図した場合には、第２基板の 内面にエレクトロクロミック固体膜を配置することが望ましい。 エレクトロクロミック・ミラーの第１基板または第２基板、特に第１基板に、 あるいはエレクトロクロミック装置の第１基板および／または第２基板には、紫 外線を吸収するガラスまたは積層材を使用することも望ましい。適切な紫外線吸 収ガラスには、Lynam IVに記載されているガラスなどがある。また、第１基板の 内面へのほぼ透明な導電性電極コーティング、電解質の紫外線安定剤、紫外線吸 収中間層、紫外線吸収ガラス、およびその組合せとして、酸化錫、不純物を添加 した酸化錫、酸化亜鉛、または不純物を添加した酸化亜鉛を使用し、エレクトロ クロミック固体膜を第２基板の内面に配置することが望ましい。このような構造 にすると、特に上述したように電解質に追加の紫外線安定剤を含めた場合、第１ 基板、その導電性電極コーティング、電解質、および紫外線の影響を受ける可能 性があるエレクトロクロミック固体膜の前面に効果的に配置される電解質の成分 など、エレクトロクロミック・ミラーまたはエレクトロクロミック装置に使用す る成分が、紫外線を遮蔽したり、吸収したりするのが容易になる。 紫外線安定剤を追加することは、基板３の内面の導電性電極４′にエレクトロ クロミック固体膜７をコーティングする場合に、特に有利である。（図５参照。 ）この構造では、入射紫外線がエレクトロクロミック固体膜７に到達する前に、 紫外線安定剤がこれを遮蔽したり、吸収したりするよう働く。このように働くこ とによって、光互変の可能性があるか、あるいは他の方法で紫外線に対して脆弱 なエレクトロクロミック固体膜７に照射する可能性が低下するか、あるいはその 可能性がほとんどなくなる。これに対して、基板２の内面のほぼ透明な導電性電 極４にコーティングすると（図４参照）、エレクトロクロミック固体膜７は、基 板２を通る入射紫外線を直接受けることができる。電極は、この構造ではエレク ト ロクロミック固体膜７の背後に配置されているが、その紫外線遮蔽および／また は吸収効果は、入射紫外線からエレクトロクロミック固体膜７を遮蔽する機会が それほどない（しかし、電極は基板３の反射要素から反射する紫外線を、すべて 効果的に吸収することがでいる）。 当業者なら、基板、コーティング、エレクトロクロミック固体膜、および電極 のコンポーネント、たとえば酸化還元反応換言剤、アルカリ・イオンおよび／ま たは陽子の源、溶剤、およびその他のコンポーネントのために、本明細書で述べ たように入手可能な様々な材料から選択し、所望の用途に適した、スペクトル選 択性がほとんどないグレー色を発生することができるエレクトロクロミック・ミ ラーおよびエレクトロクロミック装置を準備することができる。また、基板を構 築する材料には、ガラスが適切な選択肢であるが、アクリル樹脂、ポリカーボネ ート、ポリスチレンおよびアリルジグリコールカーボネート（"CR-39"という商 標でペンシルバニア州PittsburghのPittsburgh Plastic Glass Industries が市 販している）のような光学プラスチックなど、他の材料を使用することもできる 。 次に、本発明のエレクトロクロミック装置、特にエレクトロクロミック・ミラ ーについて、より忠実に説明するために、図面を参照する。 図３Ａ、３Ｂおよび４を参照すると、エレクトロクロミック要素１は前基板２ および後基板３を含むことが分かり、それぞれは通常、ガラスである。しかし、 以下で詳細に述べるように、特定のミラーこうぞうでは前または第１基板２のみ が、少なくともほぼ透明でなければならず、この構造では、後または第２基板３ は透明である必要はまったくない。（図５参照。）実際、基板３は研磨した金属 板、金属でコーティングしたガラス製基板、または導電セラミック材料でよい。 慣習により、第１基板２（最前部または最外部の基板）は、入射電磁線の主な 源の最も近傍に配置された、エレクトロクロミック装置の基板であり、エレクト ロクロミック・ミラーでは、第２基板３は反射材８の層をコーティングした基板 である。別の方法をとると、第１基板２は、自動車の運転者または同乗者が、像 を見るために最初に見通す基板である。自動車のグレイジング、ウィンドウまた はサンルーフのようなエレクトロクロミック装置では、第１基板２は屋外の環境 に直接曝され、それと接触することが多い基板で、太陽の紫外線に直接曝される 。 基板２、３は、二重像を招く像分離を最小限に抑えるように、平面の場合は互 いに対してほぼ平行に配置するか（または湾曲している場合は、互いに対して接 線がほぼ平行に配置する）、互いに対してできる限り平行（または接線が平行） に近く配置するとよい。二重像は、ミラーを曇った状態に着色した時に、特に顕 著である。二重像は、以下で述べるように、ミラー構造でさらに抑えることがで きる。 基板２、３の内面のそれぞれに、導電性電極コーティング４または４′をコー ティングする。導電性電極コーティング４、４′は、酸化錫、酸化インジウム錫 （“ＩＴＯ”）、半波酸化インジウム錫（“ＨＷ−ＩＴＯ”）、全波酸化インジ ウム錫（“ＦＷ−ＩＴＯ”）、アンチモンを添加した酸化錫やフッ素を添加した 酸化錫などの不純物を添加した酸化図巣、アンチモンを添加した酸化亜鉛やアル ミニウムを添加した酸化亜鉛などの不純物を添加した酸化亜鉛のような透明な電 子伝導体など、同じ材料または異なる材料から構築することができ、装置に長期 にわたる紫外線弾性が望ましい場合は、酸化錫、不純物を添加した酸化錫、酸化 亜鉛、または不純物を添加した酸化亜鉛が好ましい。 特定のミラー構造では、導電性電極コーティング４′はほぼ透明である必要は ない。むしろ、ミラーの反射要素として働く反射材料の層（および薄膜の積重ね を形成するのに使用する他のコーティング）が、導電性電極コーティング４′と しても働き、これによってエレクトロクロミック要素１に電位を印加することが できる。この反射材の層に適した材料には、アルミニウム、パラジウム、プラチ ナ、チタン、クロム、銀、ニッケル合金、ステンレス銅などの金属があるが、銀 またはアルミニウムのような（反射率が約７０％を上回る）反射率の高い材料が 好ましい。しかし、引っ掻き傷や環境劣化に対する抵抗力が問題の場合は、クロ ム、ステンレス鋼、チタンおよびニッケル合金のような、（約４０％から約７０ ％の範囲の反射率を有する）中位の反射率の材料が好ましい。反射要素としてこ のような金属を使用する代わりに、無機酸化物、ハロゲン化物、窒化物などの多 層薄膜の積重ね、または反射率が高い材料の薄膜層も使用することができる。 導電性電極コーティング４、４′は、十分に導電性があっても、十分に透過す るように、銀、アルミニウムなどの金属の薄膜でよく、厚さは約２００Å未満で 、 約１００Åという薄さでよい。金属薄膜の上塗りまたは下塗りとして、酸化イン ジウム、酸化亜鉛、酸化錫、フッ化マグネシウム、窒化チタン、二酸化シリコン 、酸化タングステンまたは二酸化チタンのような透明な酸化金属、窒化金属、金 属ハロゲン化物などを使用して、金属の薄膜に率を合わせ、入射可視光線に対す るその反射率を下げ、透過性を上げるのに役立てることが望ましい（たとえば、 共同で譲渡された米国特許第5,239,406号(Lynam)("Lynam VI")を参照）。 たとえば、銀のような金属の層は、好ましくは、約２００Å未満の厚さおよび スクェア当たり約１２オーム未満の面積抵抗（スクェア当たり約１０オーム未満 がより好ましく、スクェア当たり約８オーム未満が最も好ましい）を有し、金属 酸化物の透明な導体（酸化インジウム（不純物を添加しないか、錫を添加して酸 化インジウム錫を形成する）の薄膜層など）で上塗りしたり、金属酸化物の層（ 酸化インジウム（不純物を添加しないか、錫を添加して酸化インジウム錫を形成 する）で上塗りしたりして、ガラス表面上にほぼ透過性の多層透明導体を形成す ることができる。多層透明導電積層体の面積抵抗は、スクェア当たり約１０オー ム未満が好ましく、スクェア当たり約８オーム未満がより好ましく、スクェア当 たり６オーム未満が最も好ましい。多層透明導体でコーティングされたガラス基 板（通常は、薄い金属層の上塗りとなる最も外側の金属酸化物層が、障壁コーテ ィングの働きをして、電子化学的に脆弱な可能性がある金属層と、多層透明積層 体に接触し電気化学的に活性な液体や濃縮液体などの電気活性媒体との間の直接 の接触を少なくするか、接触しないようにするため、ガラス／金属酸化物／金属 ／金属酸化物、またはガラス／金属／金属酸化物から成る）を通る可視光線の透 過率は、約７０％を上回ることが好ましく、約８０％を上回ることがより好まし く、約８５％を上回ることが最も好ましい。 このような多層透明導電積層体には、銀が好ましい金属であるが、アルミニウ ムを使用することもでき、多層積層体の光学的設計を最適化して、全体的な光の 透過率を最大にする場合は、特にアルミニウムを使用することができる。また、 最外部の金属酸化物の上塗り層は、金属層の電気的な絶縁上塗りを形成しないよ う、少なくとも多少の導通性があるとよく、有意の導通性があることが好ましい 。このような金属酸化物層の面積抵抗は、スクェア当たり約２，０００オーム未 満 でよく、スクェア当たり約１，０００オーム未満が好ましく、スクェア当たり約 ５００オーム未満がより好ましい。この上塗り金属酸化物層は、酸化錫（不純物 を添加しても添加しなくてもよい）、酸化インジウム（不純物を添加しても添加 しなくてもよい）、酸化亜鉛（不純物を添加しても添加しなくてもよい）、およ び錫酸カドミウムなど、少なくとも部分的に導通性で、ほぼ透明な金属酸化物で よい。上塗り金属酸化物層の厚さ（および下塗り金属酸化物層の厚さ）は、約５ ００Å未満が好ましく、約３００Å未満がより好ましく、約２００Å未満が最も 好ましい。 このような多層透明導電積層体は、平面状または回転式のマグネトロン・ター ゲットを有する直列スパッタ蒸着チャンバを使用し、金属酸化物層の蒸着は、酸 素が豊富な雰囲気中で、金属ターゲット（または導電性の加圧酸化物ターゲット ）からスパッタリングした酸化物コーティングの反応性蒸着か、酸化物ターゲッ トからの高周波("RF")スパッタリングによって実施することが好ましい。多層透 明導電積層体の一例は、ガラス／ＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯで、ＩＴＯ層の厚さは約 １００〜約３００Åの範囲で、銀層の厚さは約８０〜約２００Åの範囲である。 経済的なエレクトロクロミック・バックミラーは、透明ガラスを前基板、つま り基板２（フロート・ガラスで製造することが好ましい）を使用し、その内向き の表面に、透明な導体金属酸化物で上塗りされた薄い金属層を少なくとも含むほ ぼ透明な多層透明導体をコーティングして製造することができる。たとえば、前 基板、つまり基板２には、酸化インジウム・スズ（厚さ約１５０Å）／銀（厚さ 約１５０Å）／酸化インジウム・スズ（厚さ約１５０Å）でコーティングしたソ ーダ石灰ガラス基板を使用してよい。後基板、つまり基板３は、金属反射板（銀 、アルミニウム、クロム、チタン、ハステロイのようなニッケル合金、ステンレ ス鋼のような鉄合金など）をコーティングし、金属反射板は基板３の電気導体と しても働く。エレクトロクロミック媒体を、内向きに対面する２枚の導体表面の 間に配置する。このような構造の一例は、ガラス／酸化インジウム・スズ（厚さ 約１５０Å）．銀（厚さ約１５０Å）／酸化インジウム・スズ（厚さ約１５０Å ）//電解質//酸化タングステン（厚さ約６，０００Å）／アルミニウム（厚さ約 ２，０００Å）／クロム（厚さ約１，０００Å）／ガラスで、この構造は、金属 酸化 物の透明な導電ＩＴＯ層の厚さが合計で約３００Åしかないので、経済的に製造 される。この厚さ合計は、それぞれ約１，５００Åまたは３，０００Åの厚さを 有する半波または全波ＩＴＯ層を使用するのと比較して、好ましい。 導電性電極コーティングを施したガラス基板２、３の面積抵抗は、スクェア当 たり約１００オーム未満でよく、スクェア当たり約２０オーム未満が好ましい。 （しかし、以下でさらに詳細に述べるように、経済的理由から、面積抵抗がスク ェア当たり約２０オームを上回るほぼ透明な導電性電極を使用することが、好ま しい場合もある。）導電性電極コーティングを施したガラス基板は、市販されて いる。たとえば、酸化スズを添加した酸化インジウムの導電性コーティングを付 着させたガラス基板から製造したＩＴＯ被膜ガラス基板は、ミシガン州Holland のDonnely Corporation から入手することができる。また、「ＴＥＣガラス」と いう名称で知られる、酸化スズをコーティングしたガラス基板は、オハイオ州To ledoのLibbey-Owens-Ford Co.のLOF Glass Division から入手することができる 。 「ＴＥＣガラス」製品は、オンラインの化学蒸着法で製造される。このプロセ スは、透明なフロート・ガラス上に、多層薄膜構造を熱分解的に付着させる。こ の多層薄膜構造は、フッ素を添加した酸化スズの極めて薄い皮膜（細かい粒の均 一な構造を有する）を含み、追加の下塗り薄膜層が、フッ素を添加した酸化スズ 層と下のガラス基板との間に配置される。この構造により、色が反射せず、光の 透過率が増大しない。その結果生じる「ＴＥＣガラス」製品は、曇り度が約Ｋ０ ．１％から約５％の範囲で、面積抵抗がスクェア当たり約１０から約１，０００ オーム以上で、日光透過率が約７７％から約８７％の範囲で、太陽光透過率が約 ６４％から約８０％で、約１０μｍの波長の赤外線反射率が約３０％から約８７ ％の、真珠光沢のないガラス構造である。たとえば、１９９３年５月１７日に出 願された米国特許出願第08/061,742号を参照のこと。その開示は、参照によって 本明細書に組み込む。 「ＴＥＣガラス」製品の例には、"TEC 10"（面積抵抗はスクェア当たり１０オ ーム）、"TEC 12"(面積抵抗はスクェア当たり１２オーム)および"TEC 20"(面積 抵抗はスクェア当たり２０オーム)の酸化スズ被膜ガラスがある。さらに具体的 に言うと、たとえば"TEC 10"はオンラインで熱分解的にコーティングしたフロー ト・ガラスに、下塗りとして真珠光沢防止手段を含み、フッ素を添加した酸化ス ズ層をコーティングして製造する。この真珠光沢防止手段には、酸化スズの層に シリカ・シリコーンの層を付着させた二重の層が含まれる。 本発明に有用な導電性電極コーティング４、４′の抵抗率は、導電性電極コー ティング４、４′の素材および導電性電極コーティング４、４′の付着および形 成の方法に応じて、約５×１０^-3から約１×１０^-6オーム・センチメートルの間 でよい。たとえば、導電性電極コーティング４、４′がＩＴＯの場合、抵抗率は 通常、約１×１０^-4から約３×１０^-4オーム・センチメートルの範囲に入る。導 電性電極コーティング４、４′に酸化スズを添加する場合は、抵抗率は通常、約 ３×１０^-4から約５×１０^-3の範囲に入る。導電性電極コーティング４′が金属 の場合は、抵抗率は通常、約５×１０^-5オーム・センチメートル未満である。導 電性電極コーティング４′が銀の場合、抵抗率は通常、約３×１０^-5オーム・セ ンチメートル未満である。金属の厚さは、導電性電極コーティング４′の面積抵 抗がスクェア当たり約０．７５オーム未満になるようにし、これはスクェア当た り約０．５オーム未満が好ましく、スクェア当たり約０．２５オームがより望ま しい。好ましくは、導電性電極コーティング４′に使用する金属の厚さは、約２ ００Åから約５，０００Åの範囲内でよく、５００Åから約２，５００Åの範囲 の厚さが好ましく、約７５０Åから約１，５００Åの範囲内の厚さが最も好まし い。 基板２の内面にあるほぼ透明な導電性電極コーティング４は、可視光線で透過 性が高い、つまり、光の透過性が少なくとも約６０％から約８０％以上の範囲で あることが好ましい。同様に、基板３の内面上の導電性電極コーティング４′は 、透過性が高く、同様に高い光の透過性であることが望ましい。 導電性電極コーティング４、４′は、各方向に高く均一の導電性を有し、エレ クトロクロミック要素１に電位が印加された場合に、ほぼ均一の反応を示すとよ い。また、導電性電極コーティング４、４′は、エレクトロクロミック固体膜７ および電解質６の成分に対して、（物理的、化学的および電気化学的に）不活性 であるとよい。 導電性電極コーティングを施したガラス基板２、３のいずれかの内面に、コー ティングとしてエレクトロクロミック固体膜７を付着させる場合、それは、付着 させる導電性電極コーティング４、４′が何であれ、それと電解質６との間の遮 蔽コーティングであり、導電性電極コーティング４、４′自体の間の遮蔽コーテ ィングでもある。 エレクトロクロミック固体膜７は、熱蒸発、電子ビーム蒸発、スパッタ蒸着、 イオンめっき、レーザー補助蒸着、マイクロ波補助蒸着およびイオン補助蒸着な どの真空蒸着法、溶射、熱分解蒸着、空中ＣＶＤ、プラズマ強化ＣＶＤ、低圧Ｃ ＶＤなどの化学蒸着("CVD")、浸漬塗装やスピン・コーティング、吹付け塗装な どの湿式化学的付着、およびペーストやインクの用途で使用されているような厚 膜法などの、様々な膜付着手段を使用して付着させることができる。米国特許第 4,855,161号(Moser)、第4,959,247号(Moser)、第4,996,083号(Moser)、第5,252, 354号(Cronin)および第5,277,986号(Cronin)で教示され、述べられているような 湿式化学的付着で、適切な付着結果が得られる。これらの特許の開示はそれぞれ 、参照により本明細書に組み込む。 エレクトロクロミック固体膜は、真空蒸着を使用して付着させると有利であり 、エレクトロクロミック固体膜７が酸化タングステンで、これが、反射要素と導 電性電極コーティング４′という二重の役割を果たす反射性材料の層で既にコー ティングされている基板３の内面に直接接触するか、その上に層として（たとえ ば代替の蒸発フィラメント、坩堝、ボートまたは代替の電子ビーム・ガン・アセ ンブリなどで）付着させる場合は、電子ビーム蒸発技術が好ましい。 反射材の層は、導電性電極コーティング４′としても働き、接着力を強化する 下塗り層（以下で検討）がある場合とない場合があるが、これを、基板３の内面 の付着させ、再取付けや真空破壊などを必要とせず、酸化タングステンを上塗り として付着させることができる。したがって、このような２つの目的の反射要素 を、容易かつ経済的な製造方法で付着させられることが分かる。１つの操作で基 板（これ自体が、反対側の内面にほぼ透明な導電性電極コーティングが施されて いる）の最後部（内側でない）表面にコーティングし、その後で真空チャンバに 装填して基板の他方の表面に酸化タングステンを付着させ、これにほぼ透明な導 電性電極をコーティングするという、従来のミラー構造と比較すると、特にそう である。 蒸発などによってエレクトロクロミック固体膜７に真空蒸着させる場合は、真 空チャンバの逆充填圧力を約１×１０^-4トルから約５×１０^-4トル以上の範囲に してよい。この逆充填圧力は、通常、真空チャンバをある程度低い底面圧（たと えば約５×１０^-5トル未満）にまで強制排気し、次に窒素、アルゴン、クリプト ン、酸素、水蒸気など、またはその組合せで逆充填し、真空チャンバ内の圧力を 、所望の逆充填圧力まで上昇させることによって得られる。あるは、真空チャン バの空気を、大気圧から約１×１０^-4トルから約５×１０^-4トル以上の範囲の圧 力までポンプで抜き、次に、たとえば酸化タングステンを基板２、３の所望の表 面上に蒸着させてもよい。このような真空蒸着中は、真空蒸着技術分野で周知の ように、ポンプ、弁および閉ループ制御装置を使用して、真空チャンバ内の圧力 を監視し、制御することが望ましい。 無機酸化物の固体エレクトロクロミック膜層、または接着促進剤の層や反射材 の層などの他の層を蒸着させる間は、比較的一定の逆充填圧力を維持すると有用 である。たとえば、設定の逆充填圧力に設定した逆充填気圧において、酸化タン グステンを蒸着させる場合は、通常、最初にチャンバの空気をポンプで抜いて、 大気圧から所望の逆充填圧力の約０．１倍の底面圧に下げる。このようにするこ とによって、逆充填圧力は、蒸着の間は一定になり、チャンバの壁、取付具など から気体が抜けることによって混乱することがない。 所望の逆充填圧力の０．１倍までにポンプで空気を抜くのに、余分なプロセス およびサイクル時間を消費せずに、蒸着中に比較的一定の逆充填圧力を達成する ためには、図１６に示したような定圧制御システムを使用することができる。こ こで、真空チャンバ１６００内の圧力は、圧力変換器１６０１で監視され、その 出力信号は、差増幅器／ガス制御装置１６０２の入力の圧力設定点ＶＰＳと比較 される。差増幅器／ガス制御装置１６０２の出力線１６０３を使用して、可変弁 １６０４を操作し、それによってガス発生源１６０５からのガスが真空チャンバ に送られ、そのため圧力変換器１６０１の出力と圧力設定点ＶＰＳとの差が一定 に維持される。チャンバ内の逆充填圧力は、主として、固定弁１６０６を通過で きるガスによって確立される。上述したように、可変弁１６０４の閉ループ操作 は、チャンバの壁、取付具、蒸発物(evaporant)などから水蒸気やその他の気体 種が抜けたために、（圧力変換器１６０１が検出した）チャンバ圧力が上昇した と判断された場合に、許容された逆充填ガスの体積を減らし、チャンバのポンピ ングで抜いたガス種の分圧が下がった場合には、蒸着中にチャンバ内の逆充填圧 力を一定に維持するよう、逆充填ガスの許容量を増加させる働きをする。 図４を参照すると、図示のミラー構造の導電性電極コーティング４、４′は、 ほぼ透明である。同様に、図７に示したミラー構造では、導電性電極コーティン グ４、４′および基板３は、ほぼ透明である。 しかし、図５を参照すると、図示のミラー構造の第１基板２の導電性電極コー ティング４のみが、ほぼ透明である必要がある。つまり、導電性電極コーティン グ４′は、ほぼ透明である必要はない。また、第２基板３はほぼ透明である必要 はない。本発明のこの態様では、反射材の層は、第２基板３の内面に直接コーテ ィングされ、これも導電性電極コーティング４′の働きをする。 導電性電極コーティング４、４′の一方には、酸化タングステンのような有機 遷移金属酸化物などのエレクトロクロミック固体膜７のコーティングが蒸着され る。本明細書で述べるように、光互変が問題となる場合は、エレクトロクロミッ ク固体膜７は、基板３の内面（この表面は導電性電極コーティング４′でコーテ ィングする）に配置するとよい。そうすることによって、エレクトロクロミック 固体膜７は、その前に配置されて、入射光に近い方のミラーの成分の遮蔽および ／または吸収機能の恩恵を受ける。 銀またはアルミニウムは、いずれの金属もミラーの反射要素として働くことが できるので、基板３の導電性電極コーティング４′の適切な選択肢だり、一般に 金属コーティングは、ＩＴＯまたは不純物を添加した酸化スズなどの半導体酸化 物より、はるかに導電性が高い。導電性電極コーティング４′として金属の薄膜 を使用した結果、たとえばスクェア当たり約４０から約１００オームのように、 比較的高い面積抵抗を考慮に入れて、基板２のほぼ透明な導電性電極コーティン グ４を選択することができる。これが望ましいのは、面積抵抗の高い導電性電極 コーティングの方が、面積抵抗が低い導電性電極コーティングより一般に薄く、 費用がかからないからである。ＩＴＯまたは不純物を添加した酸化スズは、導電 性電極コーティング４′として働く銀またはアルミニウムなどの反射要素として 、金属の薄膜と組み合わせて使用するほぼ透明な導電性電極コーティング４に適 した選択肢である。また、このような金属の薄膜を導電性電極コーティング４′ として使用すると、導電ストリップまたはクリップのコネクタ（「母線」として 知られる）は、導電性電極コーティング４′上で、外周の大部分で使用されるの ではなく、接点にまで長さを短くすることができる。つまり、母線９は、金属の 薄膜の一部にのみ取り付けられ、なおかつ導電性電極コーティング４、４′全体 に適切な電位を印加することができる。 さらに、導電性電極コーティング４′としてミラーの反射要素を使用すると、 生産の立場からも魅力的である。このように使用すると、追加の電極層または反 射要素を提供する必要がないので、材料費も製造費も削減される。また、この二 重目的の反射要素／導電性電極コーティングは、環境的に魅力的である。という のは、鉛系の場合もある上塗りを塗布することによる環境劣化など、劣化に対す る抵抗力を強化する必要がないからである。また、ミラー構造の最後部表面に配 置されたこのような従来の反射要素は、通常は不透明で、後述するように、この ような透明な結果、特定のミラー構造で「オン・デマンド・ディスプレー」が望 ましい場合、追加の製造努力が必要になることがある。 反射材、通常は銀の層と、これが塗布されている基板３の表面との間に、接着 促進剤（「接着促進剤」）として作用する薄膜接着強化手段をコーティングする ことが望ましい。（図６参照。）接着促進剤１１は、基板３の表面への反射材の 層の長期的接着を強化する。当技術分野では、銀などの反射材をガラスなどの基 板に接着するには、特に反射材を蒸着などの真空付着プロセスで付着させる場合 に、特定の困難があることが知られている。本発明の接着促進剤１１は、これら の困難を克服し、エレクトロクロミック・ミラーで反射要素／導電性電極という ２つの目的で機能するコーティングを塗布するのに、実際的な方法を提供する。 適切な接着促進剤１１には、クロム、ステンレス鋼、ニッケル合金（たとえば ハステロイ）、チタン、モネルメタル、ニクロム、モリブデン、金属酸化物（た とえば酸化銀、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化亜鉛、不純物を添加し た酸化亜鉛および酸化クロムなど）など、銀とガラスの界面との接着力を強化す る金属および金属酸化物の薄膜がある。本明細書で述べるように、接着促進剤と して、（酸化インジウム・スズや不純物を添加した酸化スズなどの）金属または 導電性金属酸化物の薄膜を使用することは、（金属を基板の表面に蒸着して金属 または金属酸化物のコーティングを形成することが、比較的単純なために）コス トが低く、その導電性が導電性電極コーティング４′の導電性を増加させ、機械 的硬度が高いという観点から、有利である。また、このような金属または導電性 金属酸化物の薄膜を、反射材の層の下塗りとなる接着促進剤として使用すると、 母線９の導電性を維持するのに役立つ。これは、接着促進剤が、導電性を維持す る導電性材料であるので、母線（たとえばクリップ・コネクタ）が反射材の層を 貫通する場合に、特に有利である。 接着促進剤１１は、単一金属、金属酸化物、または金属と金属酸化物との組合 せでできた薄膜の下塗りでもよい。基板３の表面に対する反射材の層の接着力を 促進する方法には、銀などの金属の真空蒸着やスパッタリングなどの付着があり 、これは、最初は酸素が豊富な雰囲気中で行われる。この雰囲気中で、酸化銀の 薄膜を、基板３の表面に塗布する。次に、酸素雰囲気を累進的にゼロに下げるこ とにより、累進的に減少した量の酸化物が、基板３に付着した薄膜の金属含有量 に関連して形成される。最後に、雰囲気中に酸素がほとんど、あるいはまったく なくなり、銀の薄膜が、既に形成されているそれ自体の酸化物／勾配酸化物の下 塗りの上に蓄積し、基板３の表面と反射材の層との間に、接着促進層を形成する 。同様に、クロムは、最初は酸素の分圧を強化した雰囲気中で、酸化クロムの薄 膜として付着し、その後、酸素の供給を枯渇させることによって、金属質クロム の薄膜を付着させる。再び酸素を導入して酸化銀を付着させ、最後に不活性雰囲 気中で金属銀の薄膜を付着させてもよい。基板は、金属を反応により付着させて 金属酸化物を形成する間、約１００℃から約５００℃の範囲（好ましくは約１５ ０℃から約４００℃の範囲）の温度などに加熱してもよい。この方法で基板を加 熱すると、金属から酸化物を反応形成するのに役立ち、接着力をさらに強化する ことになる。さらに、酸化クロム、酸化銀、酸化アルミニウム、酸化インジウム 、酸化スズ、酸化チタン、または酸化タンタルなどの金属酸化物を、酸素が豊富 な 雰囲気中で反応により付着させるなど、真空付着（たとえば蒸着またはスパッタ リング）により付着させ、接着促進剤１１を形成することができる。 接着促進剤１１は、約１０Åから約２，５００Å以上の範囲の厚さがよく、約 ５０Åから１，０００Åが好ましい。 接着促進剤１１は、単一の薄膜コーティングまたは薄膜コーティングの積重ね でよい。たとえば、基板３の内向きの表面は、最初に、酸化インジウム・スズの 導電性金属酸化物の接着促進剤コーティングでコーティングし、次にこれをクロ ムの金属接着促進剤コーティングで上塗りして、この積重ねに銀の反射コーティ ングを上塗りすることができる。 エレクトロクロミック固体膜を使用するミラーに加えて、本発明の接着促進剤 １１は、エレクトロケミクロミック・タイプのエレクトロクロミック溶液技術な ど、他のタイプのエレクトロクロミック技術を使用するミラーにも使用すること ができる（たとえばByker I、Byker II、Varaprasad IおよびVaraprasad III を 参照）。したがって、接着促進剤１１を使用して、単一のコーティングまたはコ ーティングの積重ねが、反射要素／導電性電極という２つの目的で機能するエレ クトロクロミック溶液を含むエレクトロクロミック・ミラーを製造することがで きる。 幾つかの用途では、基板２または３の内面の一部に、その縁から内向きに付着 材（酸化タングステンや銀など）が蓄積するのを防止することが望ましい。この 点に関して、磁化可能な金属マスクを、このような付着材の蓄積を防止したい部 分の上に配置してもよい。次に、材料を付着させている間に、磁気の影響を受け る基板の部分に磁化可能な金属マスクを保持する。たとえば、基板３の内面を接 着促進剤（たとえばクロム）、反射材（たとえば銀）の層およびエレクトロクロ ミック固体膜（たとえば酸化タングステン）の層でコーティングする前に、磁化 可能な金属マスクを、その内面の所望の位置に配置することができる。磁石を、 基板３の内面のその位置の後ろで、基板３の最後部表面に配置し、確実にマスク 所定の位置に保持することができる。クロム／銀／酸化タングステンの積重ねを 基板３の内面に付着する作業が終了した後、マスクを除去すると、表面に付着物 がない部分が形成される。 前述したように、間隔をあけたガラス基板２、３は、その間に密封手段５が配 置され、エレクトロクロミック固体膜７と電解質６とが配置された窓ガラス間の 間隔を規定するのに役立つ。密封手段５は、エレクトロクロミック固体膜７およ び電解質６の成分、さらに装置に使用されているその他の材料に対して不活性（ 物理的、化学的および電気化学的に不活性）な材料で製造することができる。こ のため、密封手段５は、エポキシ樹脂やシリコーンなどの様々な熱硬化性材料、 可塑化ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、パラフィンワックス、イオノマ ー樹脂、様々な無機材料などの熱可塑性材料から選択することができるが、これ に限定されるものではない。これ以外の適当な密封材料については、米国特許第 5,233,461号(Dornan)を参照されたい。 密封手段５の厚さは、約１０μｍから約１，０００μｍまで変化してよい。し かし、この厚さは約５０μｍから約１００μｍが好ましい。 また、密封手段５は、電解質６が液体相の場合に、それがエレクトロクロミッ ク要素１から逃げたり、電解質が液体相であっても固体相であってもそれに環境 の汚染物質が浸透したりすることを防止する。言うまでもなく、電解質が固体相 の場合、ミラーから電解質が漏出したり染み出したりすることは問題ではないが 、汚染が問題となることがある。 密封手段５は、潜伏硬化性エポキシなど、潜伏硬化性接着生成物を硬化させる ことによって形成したポリマーの密封材であることが望ましい。このような潜伏 硬化性接着生成物は、接着剤の技術分野では周知のように、１つの接着剤システ ム（たとえば潜伏硬化性エポキシ・システム）を構成する。潜伏硬化性接着剤シ ステムは、１つのパッケージ内で硬化していない形、または部分的にしか硬化し ていない形で供給され、（２成分のエポキシ・システムのような多くの接着剤シ ステムでよくあるように、樹脂と別個の硬化剤とは異なり）２種類以上の成分を 混合する必要がないので、１パッケージ・システムとも呼ばれる。このため、密 封手段５の形成時に、２種類以上の成分を混合する必要がない。 潜伏硬化性エポキシは、通常、可使時間が比較的長く（たとえば室温で数時間 から数日）、そのため室温では目に見えるほど硬化しない。しかし、高温に曝す と（その温度は選択した樹脂および潜伏性硬化剤によって異なり、通常、本発明 で使用する好ましいシステムでは、活性化する温度は少なくとも約６０℃で、少 なくとも約９０℃がより好ましい）、急速に硬化して、意図された硬化および接 着強度を達成する。したがって、潜伏硬化性エポキシには、活性化の温度があり 、その下では有意の硬化は開始しないが、その上では比較的急速な硬化が得られ る。このようなシステムを、本発明のエレクトロクロミック・セルの密封材料と して使用すると有利である。また、潜伏硬化性接着剤は、エレクトロクロミック ・バックミラーのようなエレクトロクロミック装置の商業的規模の製造法（シル クスクリーンによる製造か、あるいはニードル弁のディスペンサから直接分配さ れるか）に、特に影響を受ける。これらの潜伏硬化性接着剤は可使時間が長いの で、接着剤が室温硬化によって過度に老化しないという保証付きで（老化すると 、このようにして形成した密封材にばらつきが生じ、信頼性が落ちる可能性があ る）、接着剤のバッチを長時間の生産にわたって使用することができる。これら の潜伏硬化性接着剤によって、容易かつ経済的に製造することができる。という のは、このような１パッケージの潜伏硬化性システムを使用することにより、密 封接着システムが室温で硬化した場合と異なり、シルクスクリーンおよびディス ペンサ・システムが詰まったり、遮断されたりすることがなく、接着システムの 粘度が、生産日を通して比較的一定になるからである。シルクスクリーン上で、 あるいは、たとえばディスペンサの管、ニードルなどの中で早期に硬化する接着 剤を減らしたり、ほぼなくしたりするので、掃除も容易になる。 密封手段５の形成に有用な１パッケージの潜伏硬化性接着生成物には、通常、 樹脂（テキサス州HoustonのShell Chemical Companyが市販しているEPON Resin 828などのエポキシ樹脂が好ましい）、および潜伏性硬化剤（ジシアノジアミド 、変性アミン、有機酸無水物、マイクロカプセルに入れたアミン、重合多官能価 エポキシ基に封入したエポキシ基アダクト、およびアジピン酸ジヒドラジドなど ）がある。潜伏性硬化剤は、ペンシルバニア州Allentown の Air Products and Chemicals IncorporatedからANCAMINE^R 2014ASおよびANCAMINE^R 2014FGの商標で 出ているように、市販されている。これらの潜伏性硬化剤は、変性アミンである 。イミダゾール系システムなど、他の潜伏性硬化剤を使用してもよい。これらの イミダゾール系潜伏性硬化剤も、Air Products and Chemicals Incorporated か ら IMCURE^R（IMCURE^R AMI-2など）およびCUREZOL^TM（CUREZOL^TM 2E4MZ、1B2MZ、2PZ 、C17Z、2MZ Azine、2PHZ-5および2MA-OK など）の商標で出ているように、市販 されている。また、潜伏性硬化剤は、ニュージャージー州TeaneckのAJINOMOTO I ncorporated からAJICURE^Rの商標で市販され、その例にはAJICURE^R PN-23および AJICURE^R MY-24がある。潜伏硬化性エポキシのような潜伏硬化性接着剤は、充填 材（イリノイ州ElcoのUNIM Specialty Minerals Incorporatedから市販されてい るIMSIL A-8のようなシリカ系充填材、およびイリノイ州QuincyのJ.M．Huber Co rporationから市販されているSS-14066 HUBERCARB OPTIFILLのような炭酸カルシ ウム系充填材など）、以下の表Ｉに上げたシランカップリング剤のような結合剤 （接着促進剤として有用）を含むことを選択することができ、それが望ましい。 着色剤（カーボンブラックおよび重金属または鉄系顔料など）およびスペーサ ・ビーズ（ガラスなど）を含めてもよい。経済的に製造でき、合わせた基板で優 れた二重像性能を呈する、エレクトロクロミック・バックミラーの商業ベースの 生産に特に有用な潜伏硬化性接着生成物は、以下を含む。 この潜伏硬化性接着生成物は、シルクスクリーンで密封手段５を形成するか、 カリフォルニア州Carlsbad のASYMTEK がAUTOMOVE という商標で提供している、 コンピュータ制御の高速流体配給システムなどの自動流体配給システムを使用し て、塗布することができる。密封手段５の確立に使用する接着生成物に、潜伏性 硬化剤（室温では長期にわたって安定であるが、高温では急速に硬化する）を使 用するのは、自動流体配給システムを使用する場合には、特に有利である。この ようなシステムでは、流体の粘度を一定にし、制御することが容易になり、基板 の周辺に配給する流体接着剤のビーズの稠度および精密度も促進される。潜伏性 硬化剤は、ASYMTEK が市販しているDV-06弁のような回転容積式("RPD")弁など、 精密配給弁を使用する場合に、特に望ましい。 潜伏硬化性接着剤をスクリーン印刷するか、基板の外周に配給し、第２基板を これと並置して窓ガラス間に間隔を有するセルを確立したら、潜伏硬化性接着剤 を通常は約６０℃以上の高温にさらして、急速に硬化させることができる。ANCA MINE^R潜伏性硬化剤を使用し、約１００℃以上の温度に約１時間以内さらして硬 化するエポキシ接着系が、優れた性能を有する。さらに、硬化した密封剤は、沸 騰した湯に９６時間以上さらすと、弾性を呈する。このようなANCAMINE^Rで硬化 したミラー・セルの二重像性能は、エレクトロクロミック・バックミラーの一般 的な使用中に、硬化して密封手段５を形成する潜伏性硬化剤を使用したセルから 測定された二重像は、同様に処理し、２成分のエポキシを使用して密封手段５を 形成したエレクトロクロミック・バックミラーより常に低いという点で、同様の ２成分のエポキシ系より優れていることも分かっている。また、１パッケージの 潜伏硬化性接着剤の硬化によって形成した密封手段５のガラス繊維温度（Ｔ_s） は、約１４０℃未満であることが好ましく、約１２０℃未満がより好ましく、約 １００℃未満が最も好ましい。 １パッケージの接着および密封系は、潜伏性硬化剤が既に接着生成物に組み込 まれて供給され、これも市販されている。このような１パートの硬化性接着剤は 、不可欠の硬化剤または触媒を組み込み、通常は液体エポキシ樹脂およびジシア ンジアミド硬化剤を含む。その例には、ニュージャージー州Princeton の Al Te chnologyがEH7580、ME 7150-SMT または ME 7155−ANC という商標で販売してい る１パート・エポキシ接着剤、ニュージャージー州Wayne のAmerican Cyanamid がCYBOND 4802 という商標で販売している１パート・エポキシ接着剤、およびコ ロラド州Commerce CityのCHEMREXがCHEMREX 7459-9772 という商標で販売してい る１パート・エポキシなどがある。また、空気中の酸素または水分によって活性 化したり硬化したりする１パート好気性接着および密封系も、密封手段５の形成 に使用することができる。このような１パート好気性接着および密封系の一例は 、水分で活性化するシリコーンである。 バックミラーの二重像性能は、真空補助密封技術を使用すると、大いに役立つ 。このような技術の一例は、真空バッグ技術で、これは、スペーサ・ビーズのよ うなスペーサ手段を、合わせる基板の表面上に配置し、真空を用いて、基板間の 一貫性をさらに確保する。少なくとも一方の基板（通常は第１または前方の基板 ）が他方より薄いことが好ましく、少なくとも一方の基板が０．０７５”以下の 厚さであることが好ましくて、０．０６３”以下の厚さがより好ましく、０．０ ４３”以下の厚さが最も好ましい。このように二重像性能を改善することは、凸 状または複数の半径を有する外部ミラー部品を生産する場合、および（クラス８ の大型トラックのミラーなど）面積が大きい部品を生産する場合、および特に凄 惨に真空逆充填を用いる場合に、特に望ましい。 真空補助密封技術を用いて、硬化していない密封用接着剤（およびスペーサ・ ビーズを任意で含む）を。第１基板の外周に配給することができる。スペーサ・ ビーズは、好ましくは負荷に耐えられるガラス・ビーズで、第２基板の表面全体 にばらまかれ、第１基板がその上に並置される。次に、このように合わせたアセ ンブリを（仮クランプ、仮取付具などで）仮に固定し、（ヘヴィデューティの"M YLAR"バッグなどの）真空バッグに入れる。次に、真空ポンプを使用して、この バッグから強制排気し、真空にする。ここで、合わせる基板の表面上に大気圧が 均等にかかって、基板を互いに強制的に適合させ、窓ガラス間の所期の間隔を確 立するため選択した精密ガラス・スペーサにも適合させる。このように少なくと も2 lbs./in²の圧力がかかった仮止めアセンブリ（まだ真空バッグの中にある） を、次に、密封用接着剤が硬化して定着するよう、大気圧の炉（または、数気圧 にもなる加熱オートクレーブ）に入れる。これは、気密性にするためバッグを密 封して維持した真空を用いるか、真空ポンプへのホースを取り付けたままで実施 してよい。通常はエポキシである密封剤が硬化し、定着すると、基板がスペーサ ・ビーズに対して、および互いに対して適合し、真空バッグに通気して組み立て た部品を除去しても、硬化した接着密封剤によって保持される。 少なくとも約１４０ｃｍ²の面積を有する外部ミラーの場合は、積層エレクト ロクロミック・セルの基板間にある窓ガラス間のスペース内の位置に、少なくと も幾つかの頑丈なスペーサ手段（精密ガラス・ビーズなど）を配置することが望 ましい。このようなスペーサ・ビーズは、基板（通常はガラス）および電解質の 屈折率と光学的に一致するように、約１．４から約１．６の範囲の屈折率を有す るように選択することが好ましい。硬質のスペーサ・ビーズは、窓ガラス間の間 隔の適合性および均一性を助けるばかりでなく、液体または濃縮液体を使用する 外部バックミラー・アセンブリの、外周の密封剤の完全性を維持するのにも役立 つ。たとえば、設置者または自動車の所有者が、ミラーの中心を押して、中心部 の流体または濃縮流体を圧縮したことにより、周囲に密封剤に油圧が蓄積すると 、周囲の密封剤が破裂することがある。このようなスペーサ・ビーズを使用する と、特に窓ガラス間のスペース内の中心部に配置すると、外部バックミラーが平 坦なミラーか、凸状ミラーか半径が複数あるミラーかに関係なく、この点で有益 であり、少なくとも第１または前方の基板（運転者または保守要員が触れる基板 ）が、厚さ約０．０７５”以下など比較的薄いガラスの場合に、特に有益である 。たとえば、約１４０ｃｍ²以上の面積の大面積ミラーなどの外部のバックミラ ーに、２枚の基板を使用し、それぞれが約０．０７５”以下の厚さであると、重 量が軽くなる（振動を軽減し、ミラー・ハウジング内の手動および電動ミラーの 調節を 容易にする）、二重像性能が改善される、凸状や半径が複数ある部品の曲がりの 精度が上がるなど、多くの利点がある。 また、密封手段５には、多少フレキシブルなポリマー密封材を使用して、合わ せた基板からの二重像を減らし、固体電解質を使用した組立てのための高温／低 温熱衝撃性能を改善すると有利である。たとえば、密封手段５は、（コネチカッ ト州 Newington の Loctite Corporation が VISLOX V-205 の商標で市販してい るような）１成分で黒い付加硬化シリコーン・ポリマー系、または（ミシガン州 Midland のDow Corning がQ3-6611 の商標で市販しているような）ガラスに対す る強力な自己下塗接着力を発現する、下塗り不要の１パートの流動性接着剤でも よい。あるいは、Dow Corning が市販しているX3-6265 のように、チキソトロー プの１パート・シリコーン・エラストマー接着剤を使用して、密封手段５を形成 してもよい。軟質エポキシ樹脂を使用して、密封手段５を形成してもよい。 ビスフェノールＡ系の標準的エポキシ樹脂および一般に使用されている硬化剤 は、通常は脆弱なので、硬質および軟質硬化系になるよう改質する必要がある。 樹脂系は内部柔軟性（一般に柔軟性と呼ばれ、硬化剤の一部として長鎖脂肪族ア ミンを使用し、アミノ化またはカルボキシル化したゴムを添加し、カルボキシを 末端基とするポリエステルを添加し、ヒドロキシル官能基を含む長鎖有機化合物 を添加し、エポキシ化油を含む長鎖脂肪族エポキシ基物質を使用して得られる） 、および可塑剤を使用した外部柔軟性を有することができる。典型的なエポキシ 樹脂（たとえばエポキシ基当量が約１８５）に、テキサス州 Houston の Texaco Chemical Company がJEFFAMINE^TM 400 という商標で販売しているポリオキシプ ロピレンヂアミンなどの二官能価第一アミン硬化剤を添加して柔軟にするように 、内部柔軟性が好ましい。上記の柔軟剤は、樹脂の百分の約２０〜５０の割合で 使用することが望ましい。このように柔軟化したエポキシ系は、約５０から約１ ５０の範囲内の破断点伸び率を有するが、これに対して硬質エポキシは約１０未 満である。また、FLEXOBOND 431（マサチューセッツ州 Watertown の Bacon Ind ustries が市販している透明な２パートのウレタン系）などのウレタン接着系を 使用してもよい。 任意選択で、二重密封剤を使用することができるが、これはシリコーンなどの 酸素透過性密封剤を使用する場合は望ましい。この場合、第１密封剤（シリコー ンおよび軟質系を使用する場合は、内部密封剤であることが多い）をスクリーン 印刷／配給し、異なる材料の第２密封剤（第１密封剤が軟質の場合は、硬質エポ キシであることが多い）を第１密封剤と分けて、別個にスクリーン印刷／配給す る。したがって、たとえば硬化していないシリコーンのビーズを基板の外周の内 側および周囲にスクリーン印刷／配給し、次に、硬化していないエポキシのビー ズをシリコーン・ビーズの外側かつ基板の外周に配給する。次に、二重密封接着 剤が間に挟まれるように、第２基板を第１基板に合わせ、両方の接着密封剤を炉 内で硬化し、所望の硬化二重密封剤を形成する。 また、密封手段５が単一の密封剤でも二重密封剤でも、密封剤、または少なく ともその一部が、アセンブリの基板の外周に電気母線機能を提供するよう、密封 剤は硬化した導電性接着剤に適合することが望ましい。このような密封剤と母線 との組合せを使用する場合は、基板２および３の内向きの表面が短絡しないよう 、注意しなければならない。短絡を未然に防ぐために、図１４−Ａに示すような 密封構造を使用してもよい。図１４−Ａを参照すると、基板１４２０および１４ ３０の内向き表面が、導電性電極１４２０′および１４３０′でコーティングさ れている。基板１４２０、１４３０は、コンパウンド密封材１４５０で合わされ ている。コンパウンド密封材１４５０は、伝導性の密封層１４５０Ａ（たとえば 、下記のような導電性エポキシで形成される）および不導性の絶縁密封層１４５ ０Ｂ（たとえば、従来の不導性エポキシで形成される）を含み、後者は２枚の導 電性電極が伝導性密封層１４５０Ａを介して電気的に短絡しないよう絶縁する。 コンパウンド密封材１４５０は、基本的に部品の外周に境界線を描くので、伝導 性密封層１４５０Ａ（これに対して、電気的リード線１４９０を介して電位を接 続することができる）は、基板１４２０と１４３０との間に挟まれたエレクトロ クロミック媒体（図示せず）の周囲およびそれ全体に、比較的均一に印加電力を 配給する導電性母線の役割を果たす。 基板１４２０、１４３０の対向する表面の少なくとも一方にある導電性電極１ ４２０′、１４３０′を、（図１４−Ｂに示すように）外周縁の領域で除去する （または最初からコーティングしない）場合は、（図１４−Ａのコンパウンド密 封材剤と異なり）単一の伝導性密封剤を使用することができる。図１４−Ｂを参 照すると、導電性密封材１４５０Ａが、基板１４３０の表面上の導電性電極１４ ３０′を、対向する基板１４２０のコーティングしていない剥き出しの表面に結 合する。伝導性密封層１４５０Ａの基板１４２０への接点領域には、導電性電極 １４２０′がないので、伝導性密封層１４５０Ａは電極１４２０′および１４３ ０′を短絡しない。導電性密封層１４５０Ａは、母線と密封材との２つの役割を 果たし、装置の組立てと製造を経済的かつ容易にする。導電性密封層１４５０Ａ は、セルのための単一の密封材を形成するか、あるいは、たとえば導電性密封材 の内側に従来の不導性エポキシを使用する場合は、二重密封材の一方を形成する ことができる。 このような構造は、図５および６に示すような装置に、特に影響を受ける。た とえばバックミラーでは、取付具が基板の外周縁にマスクを形成できるが、クロ ムの接着層の後にアルミニウムの反射層を付着させ、その後にタングステンのエ レクトロクロミック層を付着させる。コーティング用取付具でマスキングされた 状態の縁は、このようなコーティング用取付具から取り外されると、コーティン グされていず、透明な導体でコーティングされた対向の基板に伝導性エポキシ密 封剤を介して接合するため、剥き出しのガラス表面を呈する。このような構成で は、伝導性密封材は、これと接触する、透明な導体でコーティングされた基板の ため、対向する基板の反射／接着層を短絡させることなく、母線として働くこと ができる。このような構造には、マサチューセッツ州 Tyngsboro のCreative Ma terials Incorporated がCMI 106-32Aという商標で市販しているような、短時間 で硬化し銀を充填した単一成分の導電性エポキシ接着剤を使用することが好まし い。あるいは、溶剤に対する抵抗力がある導電性接着剤（硬化時の銀の含有率が 約．８５％を超える）である、102-05Fおよび114-11（これもCreative Material s Incorporated が市販している）導電性インクを使用することができる。 あるいは、デラウェア州WilmingtonのE.I．du Pont de Nemoursが５０２５と いう名称で市販しているような、銀の導電性ポリマーの厚膜コンパウンドを使用 してもよい。Du Pont の５０２５は、約１２〜１５ｍΩ／スクエア／ミルの風乾 面積抵抗を有する、スクリーン印刷可能な伝導性インクである。熱硬化性銀イン ク を使用してもよく、導電性および密封性について、風乾種より好ましい。このよ うな熱硬化性銀インクは、単一成分のエポキシ系インクで、通常は銀の含有率が 焼く５０％を上回り、約７５％を上回ることが好ましく、約１５０℃の温度に焼 く１時間曝して焼き付けられる。適切な熱硬化性伝導性エポキシは、Du Pont が 市販している５５０４Ｎである。また、AREMCO-BOND 525（ニューヨーク州Ossin ingのAremco Products Incorporated が市販している）のような導電性接着剤を 使用することもできる。AREMCO-BOND 525 は、約３５０°Ｆの温度で約１時間焼 き付けると硬化する導電性接着剤である。 密封剤のレジリエンスに関して寿命が長い密封剤の完全性を高めるため、基板 ２、３の一方の外周縁に向かって付着させたエレクトロクロミック固体膜７を除 去し、それによって密封剤が基板２の導電性電極コーティング４と基板３の導電 性電極コーティング４′との間に直接形成される、導電性電極でコーティングさ れたガラス基板２、３の少なくとも一部の間に直接形成することができる。これ は、たとえば酸化タングステンを大きめのガラス板に付着させ、次にそこから基 板を着ろ取ることによって得られる。こうすると、酸化タングステンのコーティ ングが基板の切断縁まで延びる。次に、様々な除去手段を用いて、基板の外周縁 の内側で、基板からこの部分のコーティングを約２ｍｍ未満から６ｍｍ程度まで 除去する。このような除去手段には、水またはわずかに酸性の溶液または塩基性 水溶液などを使用した化学的除去、刃などを使用した物理的除去、レーザー・エ ッチング、サンドブラスチングなどがある。外周縁の導電性電極コーティング４ 、４′も、酸化タングステンの上塗りとともに、同様の方法で除去することがで きる。 あるいは、エレクトロクロミック固体膜７を付着させる前に、基板２、３を所 望のサイズおよび形状に、予め切断することができる。このように予め切断した 基板を、マスキング用取付具の中に装填して、約２ｍｍ未満から約６ｍｍまで、 縁から内方向など、基板の縁から既定の距離だけ、エレクトロクロミック固体膜 ７の付着を防止することができる。マスキング・システムは、小さいタブ状突起 部も勘酌し、同じ１つの付着操作で付着させた導電性電極コーティング４、４′ およびエレクトロクロミック固体膜７への電気的接続を容易にする。言うまでも なく、タブ状突起部が望ましくない場合は、可動取付具を使用するか、真空を破 壊して取付具を再構成することもできる。 酸化タングステンなどのエレクトロクロミック固定膜には、水分が浸透するこ とが知られている。したがって、密封手段５をエレクトロクロミック固体膜７上 の全体または一部に配置する場合は、組み立てた積層材の接合部の外周に第２の 風雨遮断層１２を使用して、このような水分の浸透または他の環境的劣化要素の 浸透によって損なわれるような密封材の完全性を最適化すると有利である。第２ 風雨遮断層１２として使用する適切な材料には、紫外線、室温または熱で硬化可 能なシリコーン、エポキシ、エポキシ基、およびウレタンなどの接着剤がある。 市販されている接着剤には、"CYRACURE"樹脂UVR-6100（混合シクロアルキルエ ポキシ基）、UVR-6105（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポ キシクロヘキサンカーボキシレート）、UV4-6110（３，４−エポキシシクロヘキ シルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカーボキシレート）およびUVR-61 28（ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート）、および"CYRACUR E"希釈剤UVR-6200（混合シクロアルキルエポキシ基）および UVR-6216（１，２ −エポキシヘキサデカン）など、コネチカット州 Danbury のUnion Carbide Che micals and Plastics Co.が"CYRACURE"という商標で販売しているシクロアルキ ルエポキシ基D.E.R．736エポキシ樹脂（エピクロロヒドリン−ポリグリコール反 応生成物）、D.E.R．755エポキシ樹脂（ポリグリコールのビスフェノールＡ−ジ グリシジルエーテルのジグリシジルエーテル）およびD.E.R．732エポキシ樹脂（ エピクロロヒドリン−ポリグリコール反応生成物）、D.E.N．431、D.E.N．438お よびD.E.N．439（フェノールエポキシ基）などの、ミシガン州Midland のDow Ch emical Co．が市販するエポキシ基、および"EPON"樹脂825および 1001F（エピク ロロヒドリン−ビスフェノールＡタイプのエポキシ樹脂）のような、イリノイ州 Oak BrookのShell Chemical Co．が市販するエポキシ基などがある。 第２風雨遮断層１２として本明細書で使用するのに特に適した、その他の市販 されている接着剤には、"ENVIBAR"UV 1244T（シクロアルキルエポキシ基）など 、コネチカット州 Danbury のUnion Carbide Chemicals and Plastics Co．が "ENVIBAR"という商標で市販しているエポキシ基がある。 第２風雨遮断層１２を、紫外線硬化性接着剤の場合は、Fusion UV Curing Sys tems F-300 BおよびF-450（イリノイ州 Buffalo Grove のFusion UV Curing Sys tems）、Hanovia UV Curing System（ニュージャージー州Newark のHanovia Cor p.）、RC-500 A Pulsed UV Curing System（マサチューセッツ州 Woburn のXeno n Corp.）および弱い水銀灯とターンテーブルを装備したSunlighter UVチャンバ など、市販されている硬化システムを使用して、密封手段５間のいかなる接点で も、基板２、３間で密封した接合部の周囲に形成することができる。 印加電位の源を、線、はんだなどの電気リード線１０によって、エレクトロク ロミック・ミラーのエレクトロクロミック要素１に導入することができる。電気 リード線は、通常、母線９に接続または取り付け、母線は通常、導電性電極コー ティング４、４′に接続するか取り付ける。母線９は、金属、合金、超音波はん だ（たとえば東京の旭硝子製造のCerasolzer^TM）、金属リボン・コネクタ、伝導 性ポリマー（たとえば導電性ゴムおよび導電性エポキシ）、銀フリット（導電性 銀フリット＃7713(デラウェア州 Wilmington の E.I．du Pont de Nemours and Company が市販))などの導電性フリットなどの様々な導電性材料から製造するこ とができる。徹底的ではないが、このような導電性材料に関する説明が、Lynam IV に見られる。導電性銀フリットまたははんだなどの母線材料は、基板の切断縁 にまで重なり、本発明の面一のアセンブリで、電気的リード線の接続を容易にす ることもできる。 導電性電極コーティング４、４′の露出部分を、基板２、３の互いに対して反 対方向に転位させ、つまり基板２、３および密封手段５によって生じた空洞から 横方向であるが平行に設け、基板２、３上に母線９を取り付けるか接着すること ができる。（図１１Ａを参照。）また、基板２、３は、互いに対して反対方向に 転位させた後に、互いに対して垂直方向に転位させることにより、ずらして導電 性電極コーティング４、４′の露出部分を設けることができる。（図１１Ｂを参 照。）基板２、３の寸法は、たとえば、基板２が基板３より幅または長さ、ある いはその両方が大きいようにすることもできる。したがって、基板２、３を単に 間隔をあけた関係で、中心部分が整列するように配置すると、寸法が大きい方の 基板の外周縁が、寸法が小さい方の基板の外周縁を越えて延びる。したがって、 どちらの基板２、３の幅や長さが大きいかに応じて、導電性電極コーティング４ または４′の一部が露出する。（図１１Ｃを参照。） 導電性電極コーティング４、４′の露出部分は、基板２、３が同様の寸法にな るようなサイズおよび形状である、面一の設計でも設けることができる。このよ うな面一の設計では、第１基板２および第２基板３のそれぞれに、その個々の縁 に沿って適切な位置に刻み目を付けることができる。このように設けた刻み目は 、印加電位を導入するために電気リード線１０を接続または取り付けた母線や接 点にとって、適切な領域となる。 基板３にその縁に沿って適切な位置少なくとも１ヶ所に刻み目を入れた状態で 、反射材の層を、基板３の内向きの表面に塗布することも望ましい。この方法で 、基板２の導電性電極コーティングを施した対面に、直接アクセスすることがで きる。同様に、基板２も、基板３の１個または複数の刻み目から適切に間隔をあ けた位置に刻み目を設け、基板３の導電性電極を施した内面へのアクセスを提供 することができる。これらの刻み目は、接続または取り付ける電気リード線１０ のために便利な領域を提供し、ミラー・アセンブリ全体の寸法内でこのような接 続または取付けができるようにする。たとえば、基板２、３の一方または両方で 、１つ以上の縁に沿って刻み目をつけ、次に、基板２、３の導電性電極コーティ ング４、４′の露出部分に、母線９を取り付ける。次に、電気リード線１０を母 線９に結合することができる。ミラー・アセンブリの外周縁にこれ以上電気的接 続部を必要とせずに、基板２、３の内面に電気的接続部を作成することができる 。そのため、導電性電極コーティング４、４′への電気的接続は、反射要素やミ ラー・ケーシングまたはハウジングによって、視界から隠される。 あるいは、基板２、３の個々の縁に沿った適切な位置に、１個または複数の局 所的突起を設け、基板２、３の導電性電極コーティングを施した内面への直接ア クセスを容易にすることができる。 母線９は、金属薄膜で構成することもでき、その厚さは約５００Åから約５０ ，０００Å以上の範囲であることが好ましい。このような金属薄膜の母線は、蒸 着またはスパッタリングなどの真空付着により、導電性電極４および／または４ ′ に付着させ、これは通常、約０．０５ｍｍから約６ｍｍの範囲の幅を有し（厚さ は０．０５μｍから約５μｍ以上の範囲が好ましい）、基板の外周縁の内部にあ る。 金属薄膜の母線を形成するには、ほぼ透明な導電性電極コーティングを施した 基板の特定の領域にマスクを取り付け、マスキングしていない外周領域の少なく とも一部、および好ましくは大部分を残す。次に、クロムや銀、または銅、チタ ン、鋼、ニッケル合金などのその他の金属のような金属の薄膜を、真空付着プロ セスを使用して、表面全体に付着させ、マスキングした中心領域とマスキングし ていない外周領域の双方をコーティングすることができる。経済的に製造するた め、基板２の内面、導電性電極コーティング４′およびエレクトロクロミック固 体膜７に、真空付着プロセスの１つの段階で金属薄膜の母線を確立することが望 ましい。したがって、中心を整列させ、たとえば基板３（コーティングしていな いガラス）をほぼ透明な導電性電極コーティングを施した基板２の表面に重ねる と都合がよく、ここで基板３は長さも幅も、基板２より約２ｍｍから約４ｍｍ小 さくなるようなサイズおよび形状にする（たとえば図１１Ｃを参照）。こうする と、約２ｍｍから約４ｍｍの基板２の外周縁は、基板３の外周縁を越えて延びる 。この場合、基板２は、たとえばＩＴＯでコーティングしたガラスで製造し、基 板３は透明なソーダ石灰ガラスから製造する。この構成では、真空付着プロセス を用いて金属薄膜を表面全体に付着させ、任意選択で、その上に金属酸化物を付 着させることができる。 付着プロセスが完了すると、基板２、３を互いから分離する。次に、基板２の 外周縁にクロム／銀のコーティングで構成された金属薄膜の母線が形成されてい るのが見え、基板２の方が寸法が小さいので、付着中に、基板３が基板２の主要 中心領域をマスキングする役割を果たす。つまり、基板３が除去されると、基板 ２の主要中心領域は、付着中にコーティングされず、基板２の主要中心領域は透 明性が維持される。この金属薄膜の母線は導電性が高く、基板２の外周全体に延 びているので、これまで従来通り使用されていた大きい金属クリップまたはリボ ン・コネクタを必要とせず、電気接点（任意選択で、金属酸化物を局所的に除去 する）によって電位を供給することができる。さらに、金属薄膜の母線は、クロ ム／銀のコーティングで構成されているので、反射率の高い外周コーティングを 形成し、これを用いて、エレクトロクロミック・セルの任意の密封材および／ま たは電気的接続部を隠すことができる。（米国特許第5,060,112 号Ｗ参照。その 開示は、参照によって本明細書に組み込む。） また、付着中に露出していた基板３の表面は、この時にはクロム／銀／タング ステン酸化物のスタックでコーティングされ、エレクトロクロミック・セルの形 成時に、これを内面として用いる。１段階の真空付着プロセス中に、このような プロセスで必然的に生じる過剰噴霧のために、基板３の切断縁もクロム／銀のコ ーティングが施される。基板３の切断縁の周囲にあるこのクロム／銀のコーティ ングは、それ自体を使用して、エレクトロクロミック固体膜７に電位を印加する 電気的接続部を確立すると好都合である。 印加電位は、当技術分野で周知の交流（ＡＣ）または直流（ＤＣ）電源など様 々な電源から供給できるが ＡＣ電源を選択した場合は、電源と導電性電極コー ティング４、４′との間にダイオードなどの制御素子を配置し、導電性電極コー ティング４、４′間の電位差が、電源から印加される電位の極性の変化とともに 変化しないようにする。適切なＤＣ電源には、蓄電池、太陽熱電池、光電池また は光電気化学電池などがある。 このような電源から発生した印加電位は、約０．００１ボルトから約５．０ボ ルトの範囲内で、エレクトロクロミック要素１に導入する。しかし、エレクトロ クロミック要素を曇らせて着色状態にする、つまり透過する光の量を変化させる には、約０．２ボルトから約２．０ボルトの印加電位が好ましい。酸化タングス テンのようなエレクトロクロミック固体膜の場合、電位のマイナス極を、基板２ 、３のうちエレクトロクロミック固体膜７が付着している方で与える。 また、金属導体層または金属導体／反射体層が、電気化学的に活性の媒体（本 発明により準備した電解質、またはたとえばByker IおよびVaraprasad I が開示 したようなエレクトロケミクロミック溶液など）と接触する場合、陰極電位（つ まりマイナスの電位）を金属層に印加して、エレクトロクロミック装置（たとえ ばエレクトロクロミック・バックミラー）を着色することが好ましい。このよう なエレクトロクロミック装置を脱色するには、ゼロ・ボルトの電位を金属導 体層に印加することが好ましい。 本発明の教示は、機能する表面がほぼ平面または平坦なエレクトロクロミック ・ミラーへの使用に、非常に適している。たとえば、本発明のエレクトロクロミ ック要素で、自動車用の平坦なエレクトロクロミック・ミラーを製造することが できる。 また、本発明の教示は、機能する表面が湾曲し、凸状曲線、複心曲線、多半径 の曲線、非球面曲線、またはこのような曲線の組合せを有するエレクトロクロミ ック・ミラーへの使用に、非常に適している。（図１３を参照。）自動車用の凸 状エレクトロクロミック・ミラーは、本発明のエレクトロクロミック要素で製造 することができ、従来から知られているように、曲線の半径は通常は約２５”か ら約２５０”の範囲で、約３５”から約１２０”の範囲が好ましい。 米国特許第4,449,786号(McCord)が述べたような自動車用多半径ミラーも、本 発明により製造することができる。自動車用多半径ミラーは、通常、自動車の運 転席側の外側に使用して運転者の視野を拡大させ、運転者が安全に見ることがで きるようにし、後方視野での死角をなくす。一般に、このようなミラーには、主 として運転者の後方視野機能として働く、比較的半径が大きく（つまりほぼ平面 または平坦）運転者に近いまたは内側の領域と、主としてミラーの死角検出ゾー ンとして働く、比較的半径が小さく（つまりより湾曲した）運転者から遠いまた は外側の領域とを有する。 凸状の外部ミラーのような球面ミラー、または図１３の多半径ミラー４４のよ うな非球面ミラーの形成時には、基板２、３間でエレクトロクロミック要素１に よって形成される積層アセンブリに使用する基板の曲率半径を合わせるとよい。 さらに、非球面ミラーでは、たとえば第１基板２など、一方の基板の局部半径が 、たとえば第２基板３など、他方の基板の対応する局部半径の上に位置し、それ と一直線上の方向になるよう、積層アセンブリの２枚の基板２、３を合わせると よい。（図１３を参照。） このように曲率半径を合わせるには、所望の多半径形状の寸法より大きい寸法 を有する平坦な基板から、非球面ミラーの基板のために所望の形状を切断する。 この最初の平坦な基板（「平坦なミニライト」）は、長方形、正方形または円形 の形状であるか、所望の多半径形状の一般的形状であるか、その他の都合のよい 代替形状を有する。平坦なミニライトを切り出すガラスのライトは、ほぼ透明か 薄い色付きのソーダ石灰ガラス板であることが望ましい。また、特定のミラー構 造に応じて、および平坦なミニライトから得る所望の湾曲形状を前基板２に使用 するか後基板３に使用するかに応じて、所望の湾曲形状を得るためのガラスのラ イトや平坦なミニライトに、ＩＴＯまたはフッ素を添加した酸化スズなどのほぼ 透明な導電性電極コーティングを施すことができる。前述したように、フッ素を 添加した酸化スズでコーティングしたガラスは、Libbey-Owens-Ford Co.が"TEC- Glass"という商標で市販している。 切断した後、大きすぎる平坦なミニライトを、従来のスランプ曲げまたはプレ ス曲げによって、所望の多半径形状に曲げる。また、個々のミニライトを曲げて 複心曲線にするか、２枚の平坦なミニライトを、合わせた対として一緒に曲げて もよい。合わせた対の曲げミニライトを製造するには、２枚の平坦なミニライト を積み重ね、縦列方向で曲げプレスに装填し、１段階の曲げプロセスで、一緒に 曲げて所望の曲線（球面でも非球面でもよい）にする。 個々に曲げたミニライトを製造する場合は、ある１段階の曲げプロセスで製造 した１枚の曲げたミニライトは、他のどの曲げたミニライトとも合うようにする 。エレクトロクロミック・ミラーでは、１段階の曲げ操作で縦列に重ねて製造し た対の曲げたミニライトを、合わせた所与の対として使用し、積層構造を組み立 てると有利である。 特定のエレクトロクロミック・ミラーの所期の積層構造に使用するのに適した 寸法および形状に合わせて、曲げたミニライトから所望の基板を切り取ることが できる。上述したように製造した曲げたミニライトから切り取ったカレットが、 所期の半径デザインにほとんど適合しない限り、大きすぎるミニライトを曲げる ことが推奨される。しかし、特に曲げ操作を注意深く監視すれば、最初に平坦な ガラスのライトから所望の寸法の形状を切り取り、次に所望の寸法の形状を所望 の多半径曲線に曲げることができる。 多半径の前後基板を、個々の曲げたミニライトから切り取って、第１基板の局 部半径を第２基板の対応する局部半径と適切に位置合わせし易くすると有利であ る。この点で、合わせた曲げミニライトの対を組み立てて、第１基板が第２基板 に対して横方向に転位しているが、その間で局部半径同士の位置合わせは維持さ れている積層構造にすることができる。また、半径に非対称部分がある場合は、 曲げたミニライトの一方の周長ＬＣを、半径の小さい方（より湾曲している）部 分と特定し、これに対して、これに対向する周長ＬＦを同じ曲げミニライトの半 径が大きい方（より平坦）と特定する。同様に、合わせた曲げミニライトの対で 対の一方では、対応するＬＣ′およびＬＦ′周長が存在する。 適切なジグなどを使用して、対応する周長部を位置合わせしたエレクトロクロ ミック・ミラーの積層構造を組み立てる。たとえば、局部半径が互いに位置合わ せされ、ＬＣ′およびＬＦに沿って所望の電気的接続が確立されるよう、ＬＣ′ の数ミリメートル（たとえば３ｍｍ）内側にＬＣを位置合わせする。それには、 曲げたガラスの測定した部分（たとえば３ｍｍ）をＬＣおよびＬＦ′に沿って切 り取り、ジグを使用して、ＬＣの切り取った縁を、ＬＣ′の内側の同じ測定距離 （たとえば３ｍｍ）に位置合わせし、個々の基板を並置する。この位置合わせの ため、積層構造の基板間の局部半径が一致する。 あるいは、局部半径同士の一致が維持され、電気的接続が確立されるように、 １枚の切断した基板を別の切断した基板の上にほぼ面一の関係で整列させて重ね るよう、大きすぎるミニライトから曲げミニライトを切断する（Lynam IVを参照 。その開示は、参照によって本明細書に組み込む。） 必要事項ではないが、曲げ工具を適切に設計すると、ミニライトを十分大きく して、任意のミニライトから２枚以上の基板を切り取ることができる。これによ って、基板の切断プロセスが規模の利益の恩恵を受ける。たとえば、重文に大き い曲げミニライトから、基板を２枚切り取ることができる。この並んでマッチし た対の基板を、基板２、３に使用して、同じエレクトロクロミック積層アセンブ リを構築するか、任意のエレクトロクロミック積層アセンブリとして機能するよ う使用することができる。 また、不純物を添加した酸化スズのように、特定のほぼ透明な導電性電極コー ティングは、空気に対して不活性であり、したがって酸素を排除するという注意 を払わずに、普通の空気雰囲気中で曲げることができる。しかし、曲げプロセス 中に導電性電極コーティング４、４′にひび割れ、曇り、または光学的劣化が生 じないよう、適切な注意を払うとよい。ＩＴＯなどの、その他のほぼ透明な導電 性電極コーティングは、米国特許第4,490,227号(Bitter)で述べられているよう にな技術を落ち居て、平坦なシート素材から曲げてもよい。この特許の開示は、 参照によって本明細書に組み込む。エレクトロクロミック・ミラーの積層構造を 組み立てるのに適した球面および非球面形状の基板を生産する曲げ／焼き鈍しプ ロセスの場合のように、ＩＴＯの熱処理後、または熱処理中、あるいは銀の導電 性フリット＃7713(Du Pont)などのセラミック・フリットの母線材料の焼成時に は、形成ガスで確立されるような、水素が豊富な雰囲気などの、Bitterが述べた ような還元雰囲気を確立することが望ましい。 ガラス・ライトおよびミニライトは、最初に導電性電極をコーティングせずに 、球面および／または非球面形状の基板に製造することもできる。このような場 合、球面および／または非球面の曲げミニライトまたは成形した基板を製造した 後、ＩＴＯなどの導電性電極コーティングを、基板２の凸状表面および基板３の 凸状表面に付着させる。 本明細書で述べるように、運転者が主として後方視野機能のために使用する、 湾曲がより小さくより平坦な内側の領域６５（つまり運転者に近い方）から、運 転者が主として死角検出ゾーンとして使用する、湾曲がより大きい外側の領域５ ５（つまり外部の運転席側の多半径ミラーの外側および運転者から遠い方の部分 ）を分離するため、多半径ミラーに境界画定手段２２を用いることができる。（ 図１３を参照。） 境界画定手段２２は、多半径ミラーの外側領域を内側領域から分割する、黒ま たは暗い色の連続線または間隔の詰まった小点、ダッシュまたは点（シルクスク リーンまたはその他の方法で塗布）でよい。この黒または暗い色の分割線（また は前述した同等物）は、自動車の運転者が、ミラーの最も外側のより湾曲した領 域の像を、最も内側のより平坦な領域の像との違いを識別するのに役立つ。この 分割線の太さは、約０．１ｍｍから約３ｍｍの範囲がよく、約０．５ｍｍから約 ２ｍｍが好ましい。 境界画定手段２２は、エポキシのようなポリマーなどの有機材料、セラミック ・フリットなどの無機材料、または有機材料と無機材料との組合せで構成する。 このような境界画定手段２２は、たとえばガラスのスペーサ・ビーズと結合した エポキシ、あるいはプラスチック・テープまたはプラスチック・テープからの打 ち抜きを含むよう構成することができる。境界画定手段は、装置を組み立てる前 に、シルクスクリーンまたはその他の適切な技術によって、両方または一方の基 板２、３の導電性電極コーティング４、４′上に配置する。また、境界画定手段 ２２は、基板２、３の表面のどこにでも、あるいは全面、つまり基板２、３の内 向きの表面または基板２、３の対向する内向きでない表面に付与する。境界画定 手段に使用する材料に添加物を含めて、黒または暗い青や暗いブラウンのような 暗い色などで色を強化し、安定性を高めたり（たとえば本明細書で述べるような 紫外線安定剤）、接着力を高めたり（たとえばシラン、チタンまたはジルコン系 の結合剤）することができる。あるいは、基板２および／または３の表面にエッ チングし（サンドブラスチング、レーザ・エッチングまたは化学的エッチングな ど）、エッチングした表面を光学的に汚染して暗い色の分割線を発生させること によって、分割線を確立する。 境界画定手段としてセラミック・フリットを使用したり、銀の導電性フリット （たとえば＃7713(Du Pont)）を基板２および／または３の内面の縁の外周およ び内側に塗布したりする場合は、曲げる前に、シルクスクリーンまたはその他の 手段で、基板２、３の一方または両方にこの材料を塗布すると都合がよい。この 方法では、曲げ作業が、曲げることと、基板にセラミック・フリットを焼成／硬 化させることの２つの目的で作用する。また、境界分割手段や母線として機能す る材料として、エポキシまたはその他の有機系材料を使用する場合は、密封手段 、境界画定手段および／または母線として機能する材料を１つの同じ作業段階で 焼成／硬化できるように、密封手段として使用する材料の最終硬化の前に、シル クスクリーンまたはその他の方法で、基板の一方または両方に材料を付着させる と都合がよい。分割線は、基板２、３間に形成される空洞内に設けることもでき る。 「ミラーに写る物体は、見かけより近くにあります」という従来の警告文など 、運転者に対する警告文２３を、本発明によるエレクトロクロミック多半径外部 ミラーの、最も外側でより湾曲した部分５５に含めることができる。（図１３を 参 照。）あるいは、運転者に対する警告文は、最も内側の湾曲が少ない領域６５に 含める。これまで、このような警告は、サンドブラスチングまたはO'Farrelの述 べたような方法で設けられてきた。あるいは、ミラー・アセンブリの基板２、３ の一方の表面に、シルクスクリーンで警告文を入れるか、レーザ・エッチングな どのその他の適切な技術で、基板３の表面をコーティングしたミラーの反射要素 に、警告文を入れてもよい。 オンデマンド・ディスプレイ１４をミラーの反射要素の背後に配置し（図９お よび１０を参照）、ユーザの入力によって起動するか、補助視覚装置（たとえば カメラ、センサ、近接検出器、死角検出器、赤外線およびマイクロ波検出器）、 温度センサ、燃料センサ、故障検出器、コンパス・センサ、全地球測位衛星検出 器、ハザード検出器などのセンサからの入力によって起動することができる。ま た、自動車の機能（方向指示灯、ブレーキレバー、ブレーキペダル、ハイビーム 選択、ギアチェンジ、メモリ機能の選択など）によって、オンデマンド・ディス プレイを起動することもできる。オンデマンド・ディスプレイは、コンパス、時 計、メッセージ・センタ、スピードメータ、単位距離当たりのエンジン回転数な どの機能によって起動することもできる。自動車のバックミラーと連動して使用 するという点で、オンデマンド・ディスプレイは、非作動時または非起動時には 、運転者や同乗者から少なくともほとんど見えない、あるいは分からない状態で あることが望ましい。同様に、オンデマンド・ディスプレイを使用することが望 ましい他の用途でも、非起動時に、少なくともほとんど見えない、あるいは分か らない状態であるとよい。 オンデマンド・ディスプレイ１４は、真空蛍光ディスプレイ、発光ダイオード 、放電ディスプレイ、プラズマ・ディスプレイ、ブラウン管、エレクトロルミネ センス・ディスプレイなど、放出形電子ディスプレイであるとよい。 従来、エレクトロクロミック・ミラーの反射要素は、第２基板の最も遠い（内 向きでない）表面に、化学的銀の裏打ち用ミラー液状コーティングを用いた反射 要素をコーティングして構成する。この最も遠い表面は、通常は銀の層８でコー ティングされ、次に銅の薄膜層１９で保護され、これに保護材２０で上塗りされ 、それは通常、鉛系塗料などの塗料である。この構造では、ミラーを通る光の透 過 性は、ほぼ不透明、つまり約０．０１％よりはるかに低い。ディスプレイ、カメ ラ、センサなどをこのような従来のミラーの背後に配置するには、光が通過する 「窓」１３を、下記のように作成しなければならない。 図８、９および１０を参照すると、オンデマンド・ディスプレイ機能は、金属 の薄膜１６（たとえば約７５０Å未満の厚さを有することが好ましいクロム、チ タン、ステンレス鋼などの中反射材など）のような反射材の層を、窓１３が存在 する基板の部分で、基板３の最も遠い（内向きでない）表面にコーティングする ことにより、既に（通常は、サンドブラスチング、機械的腐蝕（たとえば旋回す るゴムを使用する）、レーザ・エッチング、化学エッチングなどで）形成されて いる窓１３を通って導入されていることが分かる。（図１０を参照。）クロム、 チタン、ステンレス鋼などの中反射材を使用するのが好ましい。というのは、こ のような中反射材は耐久性があり、引っ掻き傷が付かず、環境劣化にも耐え、塗 料、ラッカー、またはその他の酸化物コーティングなどのような追加の上塗り層 を必要としないからである。それでも、言うまでもなく、このような上塗り層を 使用してもよい。また、銀またはアルミニウムのような高反射材を、適宜使用す ることができる。窓１３は、この時点では、光の透過性において、部分的にのみ 不透明であり、ひかりをほぼ反射する。 この部分的に透過し、ほぼ反射する窓は、窓に、最大約７５０Åの厚さでクロ ム金属を（真空付着法を用いて）蒸着またはスパッタリングさせることにより生 成する。これにより、約１％から約１０％の範囲の光の透過率が得られ、約４０ ％から約６５％の範囲の光の反射率も得られる。しかし、この方法は、（たとえ ば、最初に、基板３の最後部の銀で裏打ちした被覆表面に窓を生成し、次にそれ にクロムの薄膜を真空付着させるため）製造費が高くなる。また、銀の反射要素 による高い反射率と、部分的に透過する反射率の低い方の窓の低い反射率との反 射率の差が、見る人に感知されるか、顕著になる。 代替方法には、部分的に透過し（つまり、光の透過率が少なくとも約１％から 約２０％の範囲）、ほぼ反射する（つまり、光の反射率が少なくとも約４０％か ら約７０％以上の範囲の）金属箔、またはアルミニウムやクロムをコーティング したアクリル板やポリエステルの"MYLAR"膜（Du Pontが市販）のような、金属化 したポリマー・シートまたは膜などの、反射材をコーティングしたポリマー・シ ートまたは膜１５を使用する方法などがある。このような箔、またはシートや膜 １５、金属の薄膜１６をコーティングした反射板を、光学的接着剤１８、好まし くは下記のような屈折率が合った接着剤を使用して、基板３の反射材の層にある 窓１３に接触または接着してもよい。 同様に、部分的に光を透過し（好ましくは約１％から約２０％）、なおかつ光 をほぼ反射する（好ましくは少なくとも４０％から約７０％以上）金属の薄膜１ ６をコーティングした、適切なサイズのガラス製（又はポリマー製）カバー・シ ート１５を、本明細書で述べるような光学的接着剤１８を使用して、基板３の反 射材の層にある窓１３に接触または接着してもよい。（図９を参照。）ガラス製 カバー・シート１５は、所望の形状で、少なくとも、基板の銀メッキした最後部 表面に生成された窓１３（たとえばO'FarrellおよびLarson の述べたコンパス・ ディスプレイのようなコンパス・ディスプレイを収容するのに適している）全体 を覆うのに十分な大きさであるとよい。 ガラス・ライトに、所望のように部分的に光を透過し、ほぼ光を反射する厚さ まで、アルミニウムまたは銀の薄膜コーティングのような高反射材をコーティン グすると都合がよい。あるいは、クロム、ステンレス鋼、チタンなどの薄膜コー ティングのような中反射材を使用して、ガラス・ライトをコーティングしてもよ い。 二酸化シリコン、二酸化チタン、酸化亜鉛などの無機酸化物コーティングも、 薄膜金属反射材コーティングに上塗りして、弾性や環境劣化に対する抵抗力を与 え、引っ掻き傷に対する抵抗力や光学的性能を高めることができる。同様に、フ ッ化マグネシウムの薄膜、または前述したような誘電体の薄膜の組合せを使用し て、薄膜金属反射材コーティングを上塗りしてもよい。アクリル系またはウレタ ン系ラッカーなどのようなラッカーの透明な被膜も、薄膜金属反射材コーティン グの上塗りに使用できる選択肢である。 部分的に透過し、ほぼ反射するガラス・ライトが形成されたら、これをさらに 分割して、基板３の最後部（内向きでない）表面の反射材にある窓を覆う、より サイズの小さい複数のカバー・シートにすることができる。さらに具体的に述べ ると、ディスプレイ用の窓の寸法より約１ｍｍから約６ｍｍ大きい寸法の正方形 、円形または長方形に切断する。次に、正方形または長方形のガラス製カバー・ シートを、基板３の最後部（内向きでない）表面に接触または接着させ、既に生 成したディスプレイ用の窓を覆う。 ガラスの屈折率（つまり約１．５２）と適合する屈折率を有する光学的接着剤 １８を使用して、ガラス製カバー・シート１５を基板３の最後部（内向きではな い）表面に接着する。このような光学的接着剤は、光学的品質および光学的屈折 率の適合を最大限にし、界面の反射を最小限にして、可塑化したポリビニルブチ ラール、様々なシリコーン、"NORLAND NOA 65"および"NORLAND NOA 68"などのポ リウレタン、"DYMAX LIGHT-WELD 478"などのアクリル樹脂を含む。ミラー構造が 、ガラス製カバー・シート１５／半透明な反射材金属コーティング１６／光学的 接着剤１８／基板３の最後部（内向きでない）表面を組み立てたスタックで構成 されるよう、ガラス製カバー・シート１５は、半透明な金属反射材コーティング １６を、基板３の最後部（内向きでない）表面に最も近い位置にして配置する。 この構造では、光学的接着剤を、接着剤として、さらにガラス製カバー・シート １５の半透明な金属反射材コーティング１６の保護材として使用する。半透明な 反射材コーティングを施したガラス製カバー・シート１５／１６を、このように 使用すると、経済的かつ自動的に組み立てることができる。また、カバー・シー トは、ダイクロイック・ミラーでコーティングしたガラスで製造するか、下記の ように、ポリマー反射材("RPM")から製造することができる。 基板３の内向きでない表面の窓１３部分に、図１０で示すように金属薄膜で局 所的な反射材コーティングを施すか、図９で示すようにカバー・シート、箔、膜 などを局所的に使用する代わりに、基板３の内向きの表面の窓１３の位置に、同 様の局所的な反射材手段を使用することができる。 ガラス製カバー・シート１５（これ自体が、エレクトロクロミック・ミラー・ アセンブリの基板３の背後に配置されている）の最後部（内向きでない）表面の 背後に、放出形ディスプレイ１４も配置してよい。なお、多重像や二重像を最小 限に抑えるよう、カバー・シート１５には薄いガラスを使用することが望ましい 。カバー・シートの厚さは、約０．０６３”を超える必要はなく、適切な厚さは 約 ０．０６３”、約０．０４３”、約０．０２８”、約０．０１６”および約０． ００８”である。しかし、適宜、カバー・シート１５の厚さは約０．０６３”を 超えてもよい。 再び図５を参照すると、反射材の層が基板３の内面にコーティングされている 場所では、基板３を薄くすることなく、光学的性能の改善が認められる。このよ うな構造では、比較的厚いガラス（約０．０６３”を上回る厚さ）を基板３に、 薄いガラス（約０．０６３”以下の厚さ）を基板２に使用しながら、基板３の剛 性が比較的高いために、良好な機械的特性を維持することができる。反射材の層 （基板３の内面にコーティングされている）と基板２の最前部（内向きでない） 表面との間が比較的近接しているので、光学的性能の改善も認められる。 本発明のこの態様の例証は、基板３を厚さ約３ｍｍの"TEC 10"ガラス（面積抵 抗がスクエア当たり約１０オーム）で製造し、基板２を厚さ約０．０４３”のソ ーダ石灰ガラス（ほぼ透明な導電性電極コーティング４として、スクェア当たり 約１２オームの面積抵抗を有するＨＷ−ＩＴＯでコーティングされる）で製造す る場合に見られる。この構造では、"TEC 10"ガラスから製造した基板４の、フッ 素を添加した酸化スズの表面を内向きに配置し（さらに、金属反射材／導電性電 極コーティング４′で上塗りし）、基板２のＨＷ−ＩＴＯをコーティングした表 面も、コーティングした基板２、３が互いに面するように、内向きに配置する。 シリコンまたは同様の元素半導体材料も、基板３の最後部（内向きでない）表 面または内向きの表面のいずれかにコーティングする反射要素８として使用する ことができる。自動車用の元素半導体ミラーの製造法が、１９９１年５月１５日 に出願された共同譲渡の同時係属米国特許出願第07/700,760号（「第'760号出願 」）で教示され、説明されている。この開示は、参照によって本明細書に組み込 む。元素半導体反射材からの高い反射率が、少なくとも約６０％から約７０％以 上の範囲にあることが望ましい場合は、シリコンの薄膜層と、これが塗布されて いる基板の表面との間にある二酸化シリコンの薄膜層の下塗りを用いて、反射性 能を向上させる（たとえば、第'760号出願および米国特許第4,377,613号(Gordon )および第4,419,386号(Gordon)を参照。それぞれの開示は、参照によって本明細 書に組み込む）。 また、シリコンの層や二酸化シリコンの下塗りを、真空付着、噴霧付着、ＣＶ Ｄ、熱分解などの技術を用いて付着させることができる。たとえば、フロート・ ガラス・ラインへのインライン付着、好ましくは（ガラス製造業で周知のような ）フロート・ガラス・ラインへの浴内インライン付着を用いて、シリコン層およ びシリコン／二酸化シリコンの薄膜のスタックをフロート・ガラスに付着させ、 反射率が高く、部分的に透過する基板３用反射板を提供する。これらの元素半導 体コーティングのさらなる利点は、これが曲げ可能であることである。 たとえば、反射要素でコーティングされたガラスは、ガラス基板の上に約６， ９５０Åの光学的厚さで元素シリコンの第１層を付着させ、次いで約１，０５０ Åの光学的厚さで二酸化シリコンの第２層を付着させ、次に約１，６００Åの光 学的厚さで元素シリコンの第３層を付着させる。このような構造は、加熱および 曲げの前は約６９％の視感反射率を有し、加熱および曲げの後は約７４％の視感 反射率を有する。不純物を添加した酸化スズ（たとえばフッ素を添加した酸化ス ズ）などのようなほぼ透明な導電性電極コーティングを、元素シリコンの第３層 にコーティングして、エレクトロクロミック・ミラーおよびエレクトロクロミッ ク装置に使用するのに適した、反射率が高く導電性のガラス基板を製造すること ができ、コーティングした基板は、光学的特性や電気的特性に許容できない劣化 をもたらすことなく、曲げることができる。ガラス／シリコン／二酸化シリコン ／シリコンのスタック（追加の下塗りまたは上塗りのスタック層の有無を問わな い）など、多層スタックを用いて構築した反射材被覆基板を、フロート・ガラス ・ライン上で製造したガラスに、浴内インライン法で付着させることが好ましい 。 曲げ可能な反射材をコーティングした基板、および第'760号出願で教示し述べ たのと同じ製造技術、およびフッ素を添加した酸化スズなどのほぼ透明な導電性 電極コーティングの追加的上塗りの有無を問わず、前述したようなガラス／シリ コン／二酸化シリコン／シリコンのスタックなどの多層スタックを使用すること も有利である。金属薄膜の付着には、通常、最初に非反射材でコーティングした 基板を曲げ、次に曲げた基板に反射材の層をコーティングする複数の段階を必要 とするので、曲げ可能なコーティングは、製造要件を最小限に抑えるという点で 有利である。 前述したように、反射要素８が積層アセンブリ内に配置されているエレクトロ クロミック・ミラーを構築すると有利である。それには、銀のコーティング（お よび接着促進剤層１１）を外部の環境から保護するように、基板３の内面を、銀 などの反射材８の層でコーティングする。たとえば、反射材の層８を、その後の エレクトロクロミック固体膜７を基板３に付着させるのと同じ１つの段階で、基 板３の内面に真空付着させる。この構造およびこれを生産するプロセスは、製造 面から経済的であるばかりでなく、高い光学的性能が得られる。というのは、ミ ラーの表面全体にわたる反射率の均一性が高まるからである。薄膜スタック（エ レクトロクロミック固体膜７（たとえば酸化タングステン）、反射材の層８（た とえば銀またはアルミニウム）、および反射材の層８と基板３との間の下塗り層 を構成する）は、少なくとも約７０％から約８０％以上の光反射率、約１％から 約２０％の範囲の光透過率を有するとよい。光の透過率は約３％から約２０％の 範囲が好ましく、約４％から約８％の範囲がより望ましく、光の反射率は約８０ ％以上であることが望ましい。 基板３の内向きの表面は、少なくとも部分的に導電性の透明な導体金属酸化物 層（不純物を添加した酸化スズか添加していない酸化スズの層、あるいは不純物 を添加した酸化インジウムまたは添加していない酸化インジウムの層などから成 る）で上塗りを施した、部分的に透過する（好ましくは約１％から約２０％の範 囲）／ほぼ反射する（約７０％の反射率が好ましく、約８０％を超えることがよ り好ましい）金属層（銀またはアルミニウムのコーティングが好ましい）から成 る、部分的に透過する／ほぼ反射する多層導体でコーティングすることができる 。任意選択で、下塗り用の金属酸化物（または窒化チタンのような金属窒化物な どの、少なくとも部分的に透過する別の金属化合物層）を、多層導体から成るス タックに含めてもよい。この多層導体は、反射要素８の機能を果たし、オンデマ ンド・ディスプレイを組み込んだエレクトロクロミック・ミラーの製造中に、エ レクトロクロミック固体膜７を上塗りすることができる。あるいは、前述した多 層導体を基板３の内向きの表面上に使用し、エレクトロクロミック固体膜７を基 板２の内向きの表面にコーティングしてもよい。 自動車用バックミラーの反射率の推奨測定手順であるSA3 J964aを用いて測定 し て、エレクトロクロミック・ミラーの脱色した（通電していない）状態の反射率 が少なくとも５５％（好ましくは少なくとも６５％）になり得るように、オンデ マンド・ディスプレイを組み込んだエレクトロクロミック・ミラーに使用する反 射要素には、少なくとも７０％（好ましくは少なくとも８０％）の光反射率があ ることが望ましい。同様に、エレクトロクロミック・ミラーの反射要素の背後に 配置された放出形ディスプレイが、日中でも通電時には適切に見え、非通電かつ 非放出時には、ディスプレイ（およびその他のコンポーネント、回路類、裏打ち 部材、ケーシング構造、配線など）が運転者および同乗者からほぼ識別できず、 見えなくなるように、反射要素の透過率は約１％から約２０％の範囲であること が好ましいが、約３０％をそれほど超えない（Illuminant A 明所視検出器を使 用して、ほぼ垂直の入射角で測定）ことが望ましい。 図９および１０を参照すると、真空蛍光ディスプレイ、発光ダイオード、放電 ディスプレイ、プラズマ・ディスプレイ、ブラウン管、エレクトロルミネセンス ・ディスプレイなどの放出形電子ディスプレイ１４は、エポキシのような接着剤 １７、１８を使用して、基板３の裏側に接触または接着することもできる。一般 に、このような放出形ディスプレイは、発光するよう通電した時にしか見えない 。 二重異質接合Al／GaAs／GaAs材料テクノロジーを使用したソリッドステート発 光ディスプレイＬＥＤランプ（カリフォルニア州Palo Alto のHewlett Packard Corporation が"T-1 3/4（5mm）HLMP-4100-4101"という名称で市販）のような、 二重異質接合AlGaAs超強力赤色ＬＥＤランプなど、この接続には様々な放出形デ ィスプレイ１４を使用することができる。 あるいは、１２Ｖ電池で駆動する高輝度カラー真空蛍光ディスプレイのような 、真空蛍光ディスプレイを使用すると有利である（イリノイ州SchaumburgのFuta ba Corporation of America がS-2425G、S-24-24G、S-2396G および S2397G の 名称で市販）。約１２Ｖ以下で効率的に作動するディスプレイ１４を使用するの も有利である。というのは、この電圧が自動車では特に影響を受けやすいからで ある。また、自動車のヘッドアップ・ディスプレイ用途に適した超高輝度真空蛍 光ディスプレイを、Type 3-LT-I0GX（Futaba Corporationが市販）のような適切 な回路類と一緒に使用してもよい。適切な真空蛍光ディスプレイは、Part No． FIP2QM8S という名称などでカリフォルニア州Mountain ViewのNEC Electronics Incorporatedも市販している。 特に反射要素が少なくとも部分的に光を透過する場合に、ディスプレイを取り 付けていない基板３の最後部（内向きでない）表面の部分に、黒、ブラウンまた は青色またはその他の適切な色の吸収性コーティング、テープ、塗料、ラッカー のような光吸収手段を使用することも望ましい。ディスプレイを配置した場所以 外で、好ましくは背面のほぼ全体に、保護材料２０に接着することなどによって 、基板３の表面に、ほぼ不透明で好ましくは暗い色のテープまたはプラスチック 膜などを使用することが望ましい。これにより、ディスプレイから出る迷光によ って生じる、第２の像または美的に魅力的でないミラー・ケーシングの照明が低 下する。 テープまたは膜の裏打ちに開口部または切欠きを配置すると、ディスプレイを 取り付けたい箇所まで組立装置を誘導することにより、このようなミラーの組立 てが促進される。テープまたは膜の裏打ちは、散乱防止手段としても働くので、 たとえば事故による衝突などでミラーが破損した場合に生じるガラスの破片を保 持することによって、安全性を高め、傷害を防止する。 適切に着色した塗料、インク、プラスチック膜などを、ディスプレイの色を変 更するか、その色に影響を与えるようディスプレイ１４を配置した場所で、基板 ３の表面に塗布することができる。また、屈折率が適合する接着剤１７、１８の ような接着剤１８を使用して、ディスプレイ１４を基板の表面に接着する。接着 剤は、ディスプレイの色やコントラストの強化に影響を与えるよう、染色するこ とができる（たとえばLarsonを参照。その開示は、参照によって本明細書に組み 込む）。 一般に、そして特に得れ要素が脱色した無色の状態の場合に、たとえばコンパ ス表示、時計表示、ハザード警告表示などのディスプレイの像は、ディスプレイ をエレクトロクロミック・ミラーの背後に配置し、それを通して放出させ、エレ クトロクロミック要素を完全に透過した脱色状態にして測定して、少なくとも焼 く３０フートランベルトから約８０フートランベルトの範囲であることが望まし い（少なくとも約４０フートランベルトから約６０フートランベルトの範囲が好 ましい）。この輝度レベルでは、周囲の光レベルが明るくても、このようなディ スプレイを容易に読み取ることができる。また、Larsonが教示し記載した電子回 路を使用して、ディスプレイを適切に曇らせ、夜間走行状態に合わせたり、エレ クトロクロミック要素の曇りを補償したりすることができる。一般に、夜間のデ ィスプレイの輝度は約１５〜４０％で、約２０〜３５％が好ましく、これは日中 の値である。 日中の光の状態では、エレクトロクロミック・ミラー（車内、車外または両方 ）を取り付けた自動車の運転者は、脱色した「日中」状態時の比較的高い反射率 （少なくとも約５５％で、通常は少なくとも約６５％が好ましい）から恩恵を受 ける。エレクトロクロミック・ミラーの背後に配置されたディスプレイは、ディ スプレイ（ディジタル、英数字、アナログまたはその組合せ）がミラーを通して 放出し、読めるように、十分高い輝度を有するとよい。晴れた雲のない日の真昼 のように、自動車のキャビン（または、エレクトロクロミック車外バックミラー を使用する場合、またはエレクトロクロミック車内バックミラーを上下逆にして コンバーチブルに取り付ける場合は車外）の周囲状態が明るくても、ディスプレ イ１４は読み取り可能であること。金属薄膜コーティングの形で十分な厚さを有 する高反射材を使用して、光がエレクトロクロミック要素１を透過でき、（Illu minant A 明所視検出器を使用して、ほぼ垂直の入射角で測定した）透過率が約 １％から約１５％であるが約３０％を超えないことが望ましい場合、本発明のミ ラーは、高い反射状態のための、少なくとも約５５％の光反射率を達成すること ができる。さらに具体的に述べると、高反射材として銀を使用すると、本発明の ミラーは、高反射状態のための少なくとも約６５％の光反射率を達成し、光透過 率は約１％から約２０％の範囲となる（前述のように測定）。金属薄膜コーティ ングは、約２００Åから約１，５００Åの範囲の厚さでよく、約２００Åから約 ７５０Åの範囲が好ましい。 また、特にスペクトル選択性が高い発光ダイオードなどと組み合わせて使用す る場合は、ディスプレイ１４と基板３の最後部（内向きではない）表面との間に 、反射材としてＲＰＭを使用することが望ましい。ＲＰＭはスペクトル選択性が あり、ほぼ反射して（約５０％を超える）非常に透明なポリマー反射材である （T.Alfrey，Jr．その他の「真珠光沢のある多層プラスチック膜の物理的光学素 子」，Eng'g & Sci.，9(6)，400-04(1969)、W．Schrenk その他の「同時押出光 学干渉エラストマー・フィルム」,ANTEC '88，1703-07(1988)、および米国特許 第3,711,176号(Alfrey，Jr.)、第3,557,265号(Chisolm)および第3,565,985号(Sc hrenk)を参照）。ＲＰＭは、RPM HU75218.03Lという名称などでミシガン州Midla ndのDow Chemical Co．が市販し、これは異なる屈折率および透明度のＣＡＰ層 を有する多層ポリマー（たとえば１３０５層）でできた厚さ０．１２５”のシー トである。このＲＰＭは、約５８％の光反射率とおおむね中性の光透過率を呈す る。RPM HU75218.08L という名称の別のＲＰＭも、厚さが０．１２５”のシート で、多層ポリマー（たとえば１３０５層）ででき、光反射率が約５８％である。 しかし、このＲＰＭは透明／赤いＣＡＰ層を有するので、その結果、明瞭に赤い 色合いの透過となる。そのため、一般にハザード警告装置に使用されるような赤 色発光ダイオードを、その構造内に使用する本発明のミラーと組み合わせて使用 するのに、特に適している。 ミラー内の窓１３の背後に、発光ダイオードのアレイを配置し、適切なサイズ のＲＰＭを、放出形ディスプレイ１４と基板３の最後部（内向きでない）表面と の間に配置してもよい。エミッタから出る光の帯域は通過させるが、光のその帯 域以外の他の波長をほぼ減衰する選択透過性を有するＲＰＭを選択することによ り、光学的効率が強化される。実際、ＲＰＭ自体が、適切な反射要素で、その背 後にディスプレイ・エミッタを配置することができる。ＲＰＭは引っ掻き傷に対 して脆弱で、環境へ露出すると劣化し易いが、基板２、３がこのような損傷から 適切に保護する。基板３の反射要素内に生成された窓よりＲＰＭの部片が大きく 、これを覆うＲＰＭ（しかし基板３の全表面積よりは小さい）を使用すると、そ の経済的利点のために、反射要素として従来のダイクロイック・ミラー（薄膜誘 電スタック・ダイクロイック・ミラー（カリフォルニア州Santa Rosa のOptical Coatings Labsが市販）など）を使用するのと比較して、特に魅力的である。 ＲＰＭ／放出形ディスプレイを使用するのが望ましい場合は、ほぼ透過する金 属反射材コーティングの有無を問わず、基板をＲＰＭの前に配置してよい。ＲＰ Ｍのシートは、放出された光を通過させるガラス基板の背後に配置されるが、Ｒ ＰＭのシートを通過する光を放出する発光要素を備えるミラーを構築するのに、 適切な光学的接着剤を使用してよく、これは前述したように、屈折率の適合する 接着剤であることが好ましい。このようなミラーは、発光要素（たとえば前述し たような赤色ＬＥＤ）に通電しない時には、反射性に見えるが、発光要素に通電 するか、ストロボまたはフラッシュ時には、警告法事を効率的に表示する。また 、ポリマー材のＲＰＭは成形、スランプ、曲げおよび同様のポリマー形成法で比 較的容易に形成されるので、複心曲線または凸状曲線への適合が容易である。 自動車用車外バックミラーについての本発明の態様では、１９９３年２月１日 に出がされ、共同譲渡された同時係属米国特許出願第08/011,947号（「第'947号 出願」）が教示し、述べたように、これを、信号灯、安全灯、投光照明、遠隔作 動器、およびその組合せと共に使用すると有利であり、その開示は、参照により 本明細書に組み込む。 本発明のエレクトロクロミック・ミラーは、観察者から見て最外部または最前 部の基板の前（内向きでない）表面にある反射防止コーティングなどの反射防止 手段（たとえばLynam V を参照）、導電性コーティングなど、特にＩＴＯ、酸化 スズなどのようにほぼ透明な導電性コーティングなどの静電気防止手段、適切に 選択した光路長を有する薄膜のように、内部反射および界面反射を抑える屈折率 適合手段、および／またはコントラスト強調の増大に役立つ、灰色のガラス"GRA YLIFE"（Pittsburgh Plate Glass Industies が市販）や灰色のガラス"SUNGLAS" （ミシガン州Detroit のFord Glass Co．が市販）など、中位の濃度に色を付け たガラスなどの光吸収ガラスも含むことができる。さらに、Lynam I が教示し、 述べたようなエレクトロクロミック装置に使用するような、灰色の色味を有する ポリマー中間層を、本明細書で述べるエレクトロクロミック・ミラーに組み込む ことができる。 本発明のミラー、特に自動車の車外で使用することを意図したバックミラーも 、米国特許第5,151,824号(O'Farrell)および１９９２年１１月４日に出願した米 国特許出願第07/971,676号（「第'676号出願」）が教示し、述べたように、これ と共に使用する補助加熱手段の恩恵を受ける。これらの開示は、それぞれ参照に よって本明細書に組み込む。このような加熱手段の内で好ましいのは、イリノイ 州 ChicagoのITW Chromomatic が市販している、正の温度係数("PTC")を有するヒー ター・バッドである。このヒーター・パッドは、カーボン・ブラック、倉ファイ ト、金属および金属酸化物が分散した混合物または結晶質有機ポリマーなどの導 電性ポリマーを使用する（たとえば米国特許第4,882,466号(Friel)を参照）。こ のヒーター・パッドは正の温度係数を呈する。つまり周囲の温度が上昇するにつ れ、抵抗が増加する。したがって、自動調整加熱要素としてヒーター・パッドを 使用してもよい。 ヒーター・パッドの代替品として、抵抗層または加熱膜などのヒーター手段を 、（真空付着、厚膜印刷、スクリーン印刷、配給、密着印刷、流し塗りなどによ り）基板３の外向きの表面（つまりエレクトロクロミック・ミラー・アセンブリ の最後部表面）に付着させてもよい。適切なヒーター手段には、ＰＴＣ材料、金 属薄膜層（クロム、モリブデン、インコネルやハステロイなどのニッケル合金、 ステンレス鋼、チタンなど）および透明な導体薄膜（酸化スズ（不純物を添加、 または無添加）および酸化インジウム・スズなど）がある。このようなヒーター 手段は、第'676号出願で開示されている。 上述のヒーター手段は、低温での作動時にエレクトロクロミック・バックミラ ーの迅速な着色および脱色を確保するばかりでなく、基板２の外向きの表面（つ まり雨、雪、露などの屋外の要素と接触するバックミラーの最外部表面）に溜ま る霜や露を除去する機能も果たす。たとえば、自動車用の凸状または多半径エレ クトロクロミック車外ミラーは、透明な導体を添加した酸化スズの薄膜コーティ ングを基板の凹状表面に配置するよう、フッ素を添加した酸化スズをコーティン グしたガラス基板（"TEC 20"、"TEC 12"または"TEC 10"のような"TEC-Glass"製 品など）を曲げることによって、基板３を形成して製造することができる。対向 する基板３の凸状表面は、金属反射材層（銀などで、任意選択によりクロム接着 促進剤層で下塗りする）でコーティングされ、反射材が、酸化タングステンなど のエレクトロクロミック層と接触する。次に、この反射材をコーティングした凸 状表面／透明導体をコーティングした凹状表面の基板３を、凹状（内向きの）表 面に透明導体（フッ素を添加した酸化スズなど）をコーティングし、同様に曲げ た基板２に合わせ、合わせた基板間に電解質を入れて、エレクトロクロミック車 外バックミラーを形成する。次に、母線（たとえば導電性フリット、はんだなど ）を、基板３の最外部凹状表面上にある透明な導体薄膜ヒーターの対向する側に 形成する。基板３の最外部凹状表面の透明な導体薄膜ヒーターは、自動車の１２ ボルトの電池／点火電源と接触すると、エレクトロクロミック媒体を加熱し、基 板の前部にある最外部凹状表面を除霜する。 ディスプレイを反射要素の背後に取り付ける場合は、補助加熱手段にあけた適 切なサイズおよび形状の開口部を用いてディスプレイを収容するが、除氷または 除霧のために、ミラーに非加熱部分を残すとよい。同様に、第'676号出願に記載 されたようなアルミニウムまたは銅箔などの熱分散パッドを使用する場合は、こ れにも適切なサイズ及び開口部を設け、このようなディスプレイを収容する。Ｐ ＴＣヒーター・パッドに開口部を含める場合は、通常はFriel が記載したような シルクスクリーン法で塗布した、導電性ポリマーと接触する抵抗電極のパターン を設計して、パッド内に開口部を納める。また、このようなパターンは、パッド 内の開口部の温度を補正するのにも有用である。あるいは、抵抗電極と導電性ポ リマーとの組合せを、たとえば基板３の最後部（内向きでない）表面に直接付与 するか、これに接触したり接着される熱分散パッドに付与する。 ミラーをモジュールの形で設けても有利であり、このモジュールはミラー自体 およびその電気接続手段（たとえば電気リード線）、ヒーター・パッド（任意選 択で熱分散パッドを含む）および関連の電気接続手段、ベゼル・フレーム、保持 部材（たとえば一体プレート）および電気接続手段（たとえばO'Farrell を参照 ）、アクチュエータ(たとえば川越市のマツヤマが市販している Model No．H16- 49-8001（右手ミラー）および Model No．H16-49-8051(左手ミラー))または遊星 歯車アクチュエータ（たとえば米国特許第4,281,899号(Oskamo)および第'947号 出願を参照。それぞれの開示は、参照により本明細書に組み込む）、または４イ ヤ調整リングと２５度の行程と付加メモリ制御装置を含んでオランダの Montfor tのIndustrie Koot B.V.(IKU)から入手できるSmall Electrical Actuator #966/ 001 のようなメモリ制御回路を含むメモリ・アクチュエータ、および第'947号出 願が教示し、記載したようなミラー・アセンブリのケーシングまたはハウジング 内にモジュールと取り付けるブラケットから成る。エレクトロクロミック・ミラ ーは、これらの品目を使用して組み立て、エレクトロクロミック要素を含むミラ ー・ケーシングまたはハウジングとともに使用するのに適したモジュールを提供 する。エレクトロクロミック要素は、反射要素、およびヒーター手段、ベゼル手 段、電気または手動で操作する作動手段、取付け手段および電気接続手段などの 関連コンポーネントを組み込む。これらのコンポーネントは、シリコーン、エポ キシ樹脂、エポキシ化合物、ウレタンなどの密封剤を使用して外部の環境からほ ぼ密封されるモジュールに、事前に組み込むことができる。これらのコンポーネ ントは、モジュール式窓の封入に関して適切な成形プロセスをそれぞれ記載した 米国特許第4,139,234号(Morgan)および第4,561,625号(Weaver)に記載されたプロ セスのような一体成形プロセスで、形成、組み立てることもできる。自動車の運 転席側および助手席側に取り付けた車外ミラー・ハウジング内に取り付けた場合 に、反射板の視野を調整し、選択することができるアクチュエータを含む付加価 値エレクトロクロミック・ミラー・モジュールを仮組立てして、自動車の車外ミ ラー・ハウジングの製造業者に供給し、容易かつ経済的な製造の便宜を図ること ができる。 本発明の多くの態様、特にＲＰＭおよび放出形ディスプレイ、ガラス製カバー ・シート、箔など、および局所的に塗布されてほぼ反射し、部分的に透過する金 属薄膜コーティングの使用に関する態様は、言うまでもなく、従来のプリズム・ ミラーなど、自動車の非エレクトロクロミック・バックミラーにも使用すること ができる。たとえば、自動車用外部バックミラーの場合、運転席側のバックミラ ーと助手席側のバックミラーとを組み合わせて、使用する自動車に取り付け、互 いに補足して運転者の後方視野を向上させることができる。このようなミラーは 、一方がエレクトロクロミック・ミラーで、他方がクロム・ガラス・ミラーなど の非エレクトロクロミック・ミラーにしてもよく、双方の車外ミラーが本発明の これらの態様の恩恵を受ける。また、本発明のこれらの態様は、プリズム・ミラ ーに設けられたディスプレイ窓と関連して、使用することができる。 基板２は、本明細書で述べた光学的接着剤などの、ほぼ透明な接着剤により、 互いに接着された少なくとも２枚の透明なパネルから成る積層アセンブリでよい 。この積層アセンブリは、衝突でミラー・アセンブリが破損した場合に、基板２ か らのガラスの破片が散乱するのを緩和する。同様に、基板２、３はそれぞれ、グ レイジング、ウィンドウ、サンルーフ、表示装置、コントラスト・フィルタなど のこのような積層アセンブリでよい。 また、基板２の最外部表面（つまり、たとえば、基板２が図１ないし１３で示 したように、自動車の車内または車外バックミラーの外側基板を形成する場合に 、雨、露などを含む屋外の要素に接触する表面）は、防湿特性を有するようにす ることができる。たとえば、車外エレクトロクロミックバックミラーの最外部の ガラス表面を、疎水性のようにすることができる。これによって水滴による濡れ を減少させ、雨中運転時などに車外のエレクトロクロミック・ミラー・アセンブ リの最外部表面に形成する水玉によって、車外ミラーからの反射像の光学的鮮明 度が失われるのを防止するのに役立つ。エレクトロクロミック・ミラー・アセン ブリの最外部のガラス表面は、接触角θ（水滴が、防湿性にした基板２の固体の 最外部表面と接触して形成する角度）が約９０°を超えることが好ましく、約１ ２０°を超えることがより好ましく、約１５０°を超えることが最も好ましい。 基板２の最外部表面は、高エネルギーの高原子重量イオンを衝突させたり、接触 した水の接触角を増大させる有機成分を含む、無機または有機基質から成る層ま たはコーティング（これ自体が防湿特性を示す）を付着させたりするなど、様々 な手段で防湿性にすることができる。たとえば、シリコーン成分（Lynam IIに記 載。その開示は、参照によって本明細書に組み込む）を含むウレタン・コーティ ングを使用してもよい。また、耐久性向上のため、化学蒸着法で付着させるよう なダイアモンド様のカーボン・コーティングを、たとえばエレクトロクロミック ・ミラー、ウィンドウおよび装置などの防湿手段として使用することができる。 本明細書の教示により、グレイジング、ウィンドウ、サンルーフ、表示装置、 コントラスト・フィルタなどを所望通りに構築する場合は、透明な基板を透過す る光が、そこからの反射でさらに補助されないよう、組み立てた構造から反射要 素８を削除するだけでよい。 エレクトロクロミック装置、特にエレクトロクロミック光学減衰コントラスト ・フィルタに関する本発明の態様では、このようなコントラスト・フィルタは、 エレクトロクロミック装置の一体部品か、あるいはブラウン管モニタなどの既に 構築された装置に取り付けることができる。たとえば、光学減衰コントラスト・ フィルタを、本明細書で述べるようなエレクトロクロミック要素を使用して製造 し、次に適切な光学接着剤を使用して装置に取り付ける。このようなコントラス ト・フィルタでは、印加電圧が導入されると、コントラスト・カラーが適切なレ ベルに色付き、望ましくないスペクトルのバイアスを示さないよう、エレクトロ クロミック要素の成分を選択するとよい。 また、本発明の夜エレクトロクロミック反射板は、第１屈折媒体と第２屈折媒 体とから成る屈折手段とともに使用することができる。第１屈折媒体が入射光を エレクトロクロミック可変調光反射板に逸らせる。第２屈折媒体は、第１屈折媒 体からの光が入射し、エレクトロクロミック反射板からの光を観察者（通常は自 動車の運転者）へ向けるように配置される。本発明による使用に適した屈折手段 は、「バックミラー・ユニット」に関する英国特許第GB 2,254,832B 号に記載さ れ、その開示は、参照により本明細書に組み込む。 車内、車外両方のエレクトロクロミック・バックミラーの生産に、図１５に示 すような同時製造プロセスを用いることができる。たとえば、基板２の所望の形 状およびサイズに合わせて既に切断された未コーティングのガラス形状（平坦、 湾曲、または多半径の形状など）を、蒸発塗装機１５００に装填し、透明な導体 （酸化イリジウム・スズなど）を（約５×１０^-5トルから約９×１０^-4トルの酸 素分圧の範囲の酸素逆充填圧力を用い、基板を約２００℃から約４５０℃の範囲 に加熱して、約３〜５Å／秒の速度で電子ビーム蒸発させるなどの方法で）付着 させる。この付着と同時に、基板３の所望の形状およびサイズに合わせて既に切 断された未コーティングのガラス形状を、蒸発塗装機１５１０に装填する。次に 、クロムの接着層、次いでアルミニウムの反射層、次いで酸化タングステンのエ レクトロクロミック固体膜層を、これに付着させる。基板のコーティングが完了 したら、基板２、３は密封剤配給ステーション１５２０を通過し、ここではコン ピュータ制御の高速自動流体配給システム（AUTOMOVE 400など）を使用して、透 明な導体をコーティングした基板２の表面の外周縁に、１パッケージの潜伏硬化 性エポキシを配給する。次に、基板２、３を取付具で保持しながら、個々の内向 きの面を合わせ、ここで取付具自体の重量が、合わせ面を所定の位置に維持する 仮 保持手段を提供する。次に、挟んだ部品をコンベヤ付きの炉またはガラス焼き鈍 し炉１５３０へ移動させ、ここで潜伏硬化性エポキシ中の潜伏性硬化剤は、少な くとも約１１０℃の温度に曝され、活性化する。コンベヤ付き炉またはガラス焼 き鈍し炉１５３０を出ると、永久的に合わされたセルを取付具（再利用可能）か ら取り外し、充填／組立ステーション１５４０でセルに充填し、仕上げる。この ような同時製造プロセスを用いる方法、特に自動流体ディスペンサで配給する潜 伏硬化性エポキシを使用し、エポキシをコンベヤ付きの炉またはガラス焼き鈍し 炉の中で硬化させる方法は、車内および車外エレクトロクロミック・バックミラ ーなどの製品の経済的な大量生産に、非常に適している。 本発明の多くの態様、特にミラーの構造、元素半導体層またはスタックの使用 （追加の二酸化シリコンの下塗りや不純物を添加した酸化スズの上塗りがある場 合とない場合がある）、ＲＰＭ、防湿性、同時製造、局所的な薄膜コーティング 、導電性金属酸化物層の上塗りを施した薄い金属層を含む、透明な多層導電性ス タック、導電性密封剤、可変強度帯域フィルタ、遮断弁の真空逆充填、カバー・ シートおよびオンデマンド・ディスプレイに関する態様は、言うまでもなく、重 合ビオロゲンなどのエレクトロクロミック有機材料の薄膜をエレクトロクロミッ ク要素に使用するエレクトロクロミック有機薄膜技術（たとえば米国特許第4,47 3,693号(Wringhton)参照）など、エレクトロクロミック固体膜技術（たとえば第 '675号出願、第'557号出願およびLynam I）およびエレクトロケミクロミック・ タイプのエレクトロクロミック溶液技術（たとえばByker I、Byker II、Varapra sad I およびVaraprasad III）のような、本明細書で開示し、述べたものとは異 なるエレクトロクロミック要素のエレクトロクロミック技術を利用した、エレク トロクロミック・ミラーおよびエレクトロクロミック装置に取り入れてもよい。 また、透明な多結晶質二酸化チタン(TiO₂)の半導体電極のような無機金属酸化 物でエレクトロクロミック固体膜を形成し、表面のTi⁴⁺原子とキレート化するこ とによってTiO₂に化学的に吸収させたサリチル酸のようなキレート（スペーサ） を使用して、これに酸化還元種（ビオロゲンなど）を付着させ、使用することが できる。このような固体膜（Marquerettaz その他、J．Am．Chem．Soc.，116， 2629-30(1994)の記載など。この開示は、参照により本明細書に取り込む）を、 フッ素を添加した酸化スズなどの電子伝導層に（好ましくは約０．１μｍから約 １０μｍの厚さで）付着させると、効率的なエレクトロクロミック活動が可能な 電子ドナー(TiO₂)−スペーサ（TiO₂に結合したサリチル酸）−電子アクセプタ（ サリチル酸に結合したビオロゲン）ヘテロダイアドが形成される。このようなド ナー−スペーサ−アクセプタ錯体は、第２アクセプタ（アントラキノンのような キノンなど）を第１アクセプタ（ビオロゲンなど）に結合した場合に形成される ような、複数のアクセプタを含むことができる。このようなドナー−スペーサ− アクセプタ固体膜は、エレクトロクロミック固体膜として機能することができ、 エレクトロクロミック・バックミラー、ウィンドウ、サンルーフ、および本発明 のその他の装置に使用すると有利である。 エレクトロクロミック媒体は、化学結合などで有機基質または無機基質に取り 付けたり、エレクトロクロミック活性座席としてポリマー構造に含めたりする、 様々なエレクトロクロミック活性成分を含むことができる。たとえば、エレクト ロクロミック活性のフタロシアニン系成分やフタロシアニン誘導成分は、還元状 態でも酸化状態でも変色せず、紫外線に対して安定であることが好ましいが、こ れをエレクトロクロミック媒体に、好ましくは固体膜の一部として含むことがで きる。固体に組み込むことができたり、固体として形成できたりするエレクトロ クロミック活性フタロシアニンには、開示を参照により本明細書に組み込む J． Silverその他のPolyhedron，8(13/14)，1163-65(1989)に記載されているような 、ジルコン・フタロシアニンおよびモルブデン・フタロシアニンなどの遷移金属 フタロシアニン、開示を参照により本明細書に組み込む K．Beltios その他のJ ．Polym．Sci.：Part C: Polymer Letters ，27，355-59（1989）で開示されたよ うに、ＩＶａ族元素のジヒドロキシ（メタロ）フタロシアニン化合物を熱重合す ることによって形成するような固相重合フタロシアニン、開示を参照により本明 細書に組み込むJ．Davison その他のMacromolecules，11(1)，186-91（1978年１ 〜２月）に記載されているようなシリコンフタロシアニン・シロキサン重合体、 および開示を参照により本明細書に組み込む G．Corkerその他のJ ．Electrochem ．Soc. ，126，1339-43（1979）に記載されているようなルテチウム・ジフタロシ ア ニンなどのランタン系ジフタロシアニンがある。このようなフタロシアニン系エ レクトロクロミック媒体は、固体であることが好ましく、酸化状態でも還元状態 でも紫外線に対して安定していることが最も好ましいが、これをエレクトロクロ ミック・バックミラー、ウィンドウ、サンルーフ、および本発明のその他の装置 に使用すると有利である。 エレクトロクロミック・ミラーなどのエレクトロクロミック装置は、作成され ると、周囲に成形したケーシングまたはハウジングが配置される。この成形ケー シングまたはハウジングは、予備成形してから、アセンブリの外周に配置するか 、さらに言えば、塩化ポリビニルやポリプロピレンなどの熱可塑性材料の射出成 形、またはポリウレタンまたはその他の熱硬化性樹脂などの熱硬化性材料の反応 射出成形など、従来通りの技術を用いて周囲に射出成形してもよい。これらの技 術は、当技術分野では周知である（たとえば、それぞれMorganおよびWeaverを参 照）。 また、空のエレクトロクロミック・セル（空のエレクトロクロミック・バック ミラー・セルなど）内で基板２と３との間に形成されたセルの空洞（または窓ガ ラス間のスペース）に、空気の影響を受ける可能性がある電解質などの流体を配 給することが望ましい場合には、Varaprasad IV に記載されているような真空逆 充填法を利用してもよい。 たとえば、空のエレクトロクロミック・バックミラー・セルを受け取ることが できる第１ガラス鐘チャンバと、第１ガラス鐘チャンバとは分離された第２チャ ンバとで、真空逆充填装置を構成することができる。第２チャンバは、るつぼな どの容器を含み、この容器は、空の窓ガラス間の空洞に入れるべき、空気の影響 を受ける可能性がある電解質を、ガラス鐘チャンバ内に保持する。第２チャンバ は、最初は不活性ガス（窒素など）で大気圧に維持される。遮断弁（ゲート弁な ど）で、不活性ガスを充填したこの第２チャンバを、最初は普通の空気で大気圧 である第１ガラス鐘チャンバから分離する。空のセルを第１ガラス鐘チャンバに 装填した後、真空ポンプを使用して空気を強制排除し、第１ガラス鐘チャンバ内 に高い真空度（つまり酸素、水蒸気、二酸化炭素、窒素などの酸素の成分の分圧 が低い状態）を生成する。高い真空度は、強制排気された第１ガラス鐘チャンバ 内にあるバックミラーの空のセルの窓ガラス間空洞にも生成される。次に、ガラ ス鐘チャンバ内の空気がほぼ除去された後に、ガラス鐘チャンバと第２チャンバ の電解質を含むるつぼとの間の遮断弁を開く。ここで、真空ポンプが第２チャン バから不活性ガスを抜き取る。その結果、ガラス鐘チャンバも第２チャンバも、 高い真空になる。 次に、逆充填についてVaraprasad IV の述べた手順に従う。通気段階中に、ガ ラス鐘チャンバ／第２チャンバに通帰して、不活性ガス（窒素など）を大気圧に する。次に遮断弁を閉じ、再び第２チャンバ（不活性ガスが再充填されている） をガラス鐘チャンバから遮断する。第２チャンバを再度遮断した後、ガラス鐘チ ャンバを普通の室内の大気に対して開放し、充填したミラー・セルを取り出す。 遮断弁手段を使用するこのような真空逆充填技術では、不活性ガスを使用して 逆充填するが、遮断弁（ゲート弁、仕切弁、ポート弁、スリット弁、または同等 の遮断弁）を使用すると、空のセルをガラス鐘チャンバに挿入する場合や充填し たセルをガラス鐘チャンバから取り出す場合に、空気の影響を受ける可能性があ る電解質を大気から遮断する。このように遮断弁を使用するのは、真空逆充填中 に不活性ガスを使用すると、普通の室内空気環境でガラス鐘チャンバに出し入れ でき、同時に空気の影響を受ける可能性がある電解質を、空気に曝さないことが できる、ということである。このような遮断弁の真空逆充填装置では、適切なデ ィスペンサを使用して、るつぼに電解質を補給し、空気に曝されない気密状態に 維持された電解質容器から、電解質をポンプで組み上げることができる。この配 置構成では、電解質を空気に曝さずに補給することができる。また、（第２チャ ンバの電解質が空気と接触しないよう）遮断弁を閉じた時に、不活性ガスで第２ チャンバを満たす代わりに、遮断弁の閉状態で、第２チャンバに真空を生成（お よび／または維持）することができる。 本明細書で引用した文書はそれぞれ、各文書を参照によって個々に組み込むの と同じ程度に、参照によって本明細書に組み込む。 本発明に関する以上の記述に鑑みて、本明細書の教示により、幅広い実用の機 会があるのは明白である。以下のエレクトロクロミック・ミラーおよびエレクト ロクロミック装置の例は、本発明の使用法を例証するだけであり、いかなる意味 でも本明細書の教示を制限するものではない。 例 例 １ 車内バックミラーに一般に使用されている形状を有する、自動車用エレクトロク ロミック車内バックミラー・セルを、第１基板（スクエア当たり約１２オームの 面積抵抗を有する）は透明なＨＷ−ＩＴＯを塗布したガラスから作成し、酸化タ ングステンのエレクトロクロミック固体膜を、そのＨＷ−ＩＴＯコーティング（ 基板の内向きの面に塗布されている）に塗布した。ミラー・セルの第２基板には 、ＨＷ−ＩＴＯを塗布したガラス基板（これもスクエア当たり約１２オームの面 積抵抗を有する）を使用し、その内向きの表面にＩＴＯを塗布した。反射要素は 、ミラー・セルの第２基板の最外部（反対側で内向きでない）表面に銀の層を塗 布して形成した。ＨＷ−ＩＴＯを、約１，５００Åの厚さでガラス基板に塗布し 、酸化タングステンのエレクトロクロミック固体膜を、約５，０００Åの厚さで 第１基板のＨＷ−ＩＴＯコーティングの上に塗布し、ミラーの技術分野で周知の 、従来通りの湿式化学的銀めっき付着法を用いて、第２基板の最後部表面に、銀 を塗布した。第２基板に対して間隔をあけた関係で第１基板を配置し、基板の内 向きの被覆表面間に、８８μｍの窓ガラス間スペースを形成した。第１基板はま た、第２基板に対して横方向に転位し、母線の取付けに便利な区域を提供した。 このミラー・セルのために、テトラメチレンスルホンと炭酸プロピレンとを組 み合わせた(割合は約５０：５０(v/v))溶剤に、フェロセン（約０．０１５Ｍ） 、フェノチアジン（約０．０６Ｍ）、過塩素酸リチウム（約０．０５Ｍ）および "UVINUL"400(約５％(v/v))を含む電解質を配合した。 前記の電解質を、真空逆充填法で（Varaprasad IV に記載）ミラー・セルに配 給した。 約１．４ボルトを印加すると、ミラーが均等に曇り、急速に中性の灰色の状態 になるのが観察された。具体的に述べると、ミラーは、約３．２秒の反応時間で 約７０％の反射率から約２０％の反射率へと曇った。また、ミラーは、非通電時 の脱色状態では反射率約７４．７％という高い反射率を示し、曇った状態では反 射率約５．９％という低い反射率を示した。 これらの観察は、光源（当技術分野でStandard Illuminant A として知られる ） および光互変検出アセンブリを装備し、反射率モードに設定した反射計を使用し て、Society of Automotive Engineersの標準手順Ｊ９６４Ａに従って実施し、 記録した。 スペクトルの走査は、脱色状態（図１および表II(a)およびII(b)を参照）およ び約１．５ボルトの電位を印加した着色状態（図２および表III(a)およびIII(b) を参照）の両方で、反射モードで操作した従来の分光測光計で記録した。 このミラーを、このようなサイクル状態にかけた後、ミラーの屈折率が３．２ 秒の反応時間で約７０％から約２０％に低下したのが観察された。また、ミラー は非通電時の脱色状態で約７８．６％という高い反射率、１．４ボルトの電位を 印加した時の曇った状態で、約６．４％という低い反射率が観察された。これら の観察結果は、前記のＳＡＥ手順を用いて記録した。 ミラーは、極端な温度で優れた安定性を呈することが観察された。たとえば、 約２時間から３３６時間を超える範囲の期間、８０℃〜１１０℃の温度で保管し た後、性能は依然として優れ、それどころか低い反射率状態から高い反射率状態 への遷移時間に関しては、熱に曝した後、性能がさらに良くなった。 例 ２ この例では、前記の例１と同じ電解質の配合、および同じ方法で作成したエレ クトロクロミック・ミラーを使用した。 約１．４ボルトの電位をミラーに印加すると、その中心部分が約７５．９％の 高い反射率から約６．３％の低い反射率へと変化するのが観察され、これは約３ ．５秒の反応時間では反射率約７０％から反射率約２０％へと低下した。 次に、このミラーを屋外暴露状態の促進シミュレーションにかけ、そのレジリ エンスと紫外線に対する安定性を調査した。具体的に述べると、約３４０ｎｍで 約０．５５ｗ／ｍ²の強度で発光するキセノン・ランプを装備した Atlas Ci35A Xenon Weather-o-meter（イリノイ州ChicagoのAtlas Electric Devices Company ）内で、ミラーを約１３００ＫＪ／ｍ²の紫外線に曝した。促進屋外暴露後、ミ ラーは自動車で使用するのに、引き続き安定して機能するのが観察された。ミラ ーのサイクルも良好であった。また、約１．４ボルトの電位を印加すると、約７ ５．２％の高い反射率および約６．９％の低い反射率が観察された。 これらの観察結果は、前記の例１で言及したＳＡＥ手順を用いて記録した。 例 ３ この例のエレクトロクロミック・ミラー・セルは、前記の例１と同様、透明な ＨＷ−ＩＴＯを塗布したガラスを第１基板にして作成した。しかし、第２基板は 、 普通のソーダ石灰ガラスから作成した。真空チャンバ内で電子ビーム蒸発を利用 し、第２ガラス基板の内向きの表面に、接着促進剤としてクロムの層を直接塗布 した。次に、真空を破壊せずに、銀の薄膜を反射要素としてクロムの層に塗布し 、その後（この場合も真空を破壊せずに）酸化タングステンをエレクトロクロミ ック固体膜として、銀の層に塗布した。クロムの層は、約１，０００Åの厚さで 第２基板に塗布し、銀の薄膜は、約１，０００Åの厚さでクロムに塗布し、酸化 タングステンは、約５，０００Åの厚さで銀に塗布した。このようにクロムで下 塗りした銀の面積抵抗は、スクエア当たり約０．４から０．５オームであった。 前記の例１のミラー・セルと同様、第２基板と間隔をあけた関係で第１基板を配 置し、基板の内向きの被覆表面間に、８８μｍの窓ガラス間スペースを形成した 。第１基板は、第２基板から横方向に転位し、母線の取付に便利な区域を提供し た。 前記の例１の電解質を使用し、（Varaprasad IV が記載したような）真空逆充 填法を用いてこれをミラー・セルに配給した。 約１．４ボルトの電位をミラーに印加すると、その中心部分が約８１．６％の 高い反射率から約５．９％の低い反射率へと変化するのが観察され、これは約１ ．９秒の反応時間では反射率約７０％から反射率約２０％へと低下した。 これらの観察結果は、前記の例１で言及したＳＡＥ手順を用いて記録した。 ミラーを、以下の表Ｖに示すようなサイクルにもかけた。 ミラーをこのようなサイクル状態にかけた後、非通電時の脱色状態ではミラー の反射率が７７．３％で、１．４ボルトを印加するとミラーが反射率６．２％に 曇ったことが観察された。 例 ４ 前記の例１と同じ形式と同じ形状および寸法でエレクトロクロミック・ミラー ・セルを作成したが、酸化タングステンのエレクトロクロミック固体膜（約５， ０００Åの厚さを有する）を、第２基板の内向き表面のＨＷ−ＩＴＯのコーティ ングに塗布した。 テトラメチレンスルホンと炭酸プロピレンとを組み合わせた(割合は約２５： ７５(v/v))溶剤に、フェロセン（約０．０２５Ｍ）、フェノチアジン（約０．０ ５Ｍ）、過塩素酸リチウム（約０．０５Ｍ）および"UVINUL" 400（約１０％(v/v ))を含む電解質を配合した。（Varaprasad IV が記載したような）真空逆充填法 を用いて、電解質をミラー・セルに配給した。 約１．４ボルトを印加すると、ミラーが均等に曇り、急速に中性の灰色の状態 になるのが観察された。具体的に述べると、ミラーは、非通電時の脱色状態では 約７０．７％という高い反射率を示し、曇った状態では約７．３％という低い反 射率を示した。これらの観察は、前記の例１で言及したＳＡＥ手順を用いて実施 し、記録した。 このミラーをサイクルにかけ、屋外暴露状態の促進シミュレーションにもかけ て、前記の例２で述べたように、そのレジリエンスと紫外線に対する安定性を調 査したが、暴露は約２，５００ＫＪ／ｍ²の紫外線に曝した。ミラーのサイクル は良好で、促進屋外暴露後、ミラーは自動車で使用するのに、引き続き安定して 機能するのが観察された。 例 ５ この例では、自動車のウィンドウまたはサンルーフに使用するのに適した構造 のエレクトロクロミック・グレイジング・セルを作成した。グレイジング・セル は、約１５ｃｍ×約１５ｃｍの寸法にして、第２基板の内向き表面に施した酸化 タングステンのコーティングと第１基板の内向き表面に施したＨＷ−ＩＴＯコー ティングとの間の窓ガラス間スペースは、約１０５μｍであった。 グレイジング・セルは、窓ガラス間スペースを規定する助けになるよう、スペ ーサを使用して作成した。スペーサは、第１基板の酸化タングステンを塗布した 表面上に散布し、ＨＷ−ＩＴＯを塗布した第２基板の外周縁に、シルクスクリー ン技術でエポキシを塗布した。エポキシがまだ硬化しないうちに、第１基板と第 ２基板を横方向に転位させ、垂直に転位させて、互いからずらした。次に、エポ キシを硬化して密封剤にする間、ほぼ均一な圧力を達成するために（積層技術分 野で周知の）真空バッグ技術を用いて、還元雰囲気で水銀柱約１０”の圧力、温 度約１１０℃で約２時間、エポキシを硬化して、エレクトロクロミック・グレイ ジング・セル用の密封剤にする。 テトラメチレンスルホンと炭酸プロピレンとを組み合わせた（割合は約５０： ５０(v/v))溶剤に、フェロセン（約０．０１５Ｍ）、フェノチアジン（約０．０ ６Ｍ）、過塩素酸リチウム（約０．０５Ｍ）および"UVINUL" 400（約５％(v/v) ）を含む電解質を配合した。（Varaprasad IV が記載したような）真空逆充填法 を用いて、電解質をエレクトロクロミック・グレイジング・セルに配給した。 エレクトロクロミック・グレイジングに約１．４ボルトの電位を印加すると、 透過率が約７８．６％の高い透過率から１２．９％の低い透過率に変化するのが 観察された。 これらの観察は、前記の例１で言及したＳＡＥ手順を用いて実施し、記録した が、屈折計は透過モードに設定した。 例 ６ この例では、自動車の車外バックミラーに使用するのに適したエレクトロクロ ミック・ミラーを作成した。 ミラーは、前記の例１と同様、透明なＨＷ−ＩＴＯを塗布したガラスを第１基 板に用いて作成した。ただし、第２基板としては普通のソーダライムガラスを使 用した。基板は両方とも９．５ｃｍ×１５ｃｍのサイズおよび形状にした。第１ 基板の一方縁に刻み目を切り、第２基板の一方縁の別の位置に、別の刻み目を切 った。基板のＨＷ−ＩＴＯを塗布した表面の周辺領域全体に、約２．５ｍｍの幅 で銀の導電性フリット材料（＃7713(Du Pont)）をシルクスクリーン印刷し、次 にＨＷ−ＩＴＯの酸化を防止するために還元雰囲気にして、高温でフリットを焼 成することにより、第１基板の縁に沿って母線を形成した。 真空付着により、第２ガラス基板の内向きの表面に、接着促進剤として厚さ約 １，０００Åのクロムの層を直接塗布した。その後、真空を破壊せずに、厚さ約 １，０００Åの銀の薄膜を反射要素としてクロムの層に塗布し、次に（この場合 も真空を破壊せずに）厚さ約５，０００Åの酸化タングステンをエレクトロクロ ミック固体膜として、銀の層に塗布した。第１基板と第２基板は、基板の縁が面 一になるように、間隔をあけた関係で配置し、２枚の基板の間に空洞を形成する よう、密封剤を付与した。この面一の設計では、基板の内向きの被覆表面間の窓 ガラス間スペースは、８８μｍであった。 この車外ミラーのために、炭酸プロピレンに、フェロセン（約０．０２５Ｍ） 、フェノチアジン（約０．０６Ｍ）、過塩素酸リチウム（約０．０５Ｍ）および "UVINUL" 400(約５％(v/v))を含む電解質を配合した。（Varaprasad IV が記載 したような）真空逆充填法を用いて、この電解質をミラー・セルに配給した。 次に、ミラーに電気リード線を取り付ける。第２基板の刻み目のおかげで、第 １基板のＨＷ−ＩＴＯを塗布した内向き表面の周囲に形成されて、ほぼその輪郭 を規定する銀フリットの母線の接点に、電気リード線を取り付けることができる 。第１基板に刻み目を切って露出させた、第２基板の内向き表面のクロム／銀／ 酸化タングステンのコーティングの部分に、別の電気リード線を取り付けた。第 ２基板の内向き表面のコーティングは、面積抵抗が低いので、電極全体に電位を 印加するのに、接点で十分であった。 ミラーに約１．５ボルトの印加電位を導入すると、反射率が約７７．５％の高 い反射率から１０．６％の低い反射率に変化するのが観察された。 ミラーを、約５０℃で５０，０００回のサイクルにかけ、ミラーのサイクルが 良好で、自動車で使用するのに、引き続き安定して機能するのが観察された。 例 ７ この例では、前記の例１で記載したのと同じ電解質配分と、同じ形状のエレク トロクロミック・ミラー・セルを使用した。（Varaprasad IV が記載したような ）真空逆充填法を用いてエレクトロクロミック・ミラー・セルを充填した後、水 酸化カリウムの希釈塩基性溶液を使用し、その後に水を使用して、第１基板の外 周 縁から酸化タングステンの被膜を除去した。次に、新しく露出したこのＩＴＯ表 面に、母線を接続した。約２％のシラン結合剤A-186（コネチカット州Danburyの OSi Specialties Inc.）を約１％の光反応開始剤"CYRACURE" UVI-6990 と化合さ せ、"ENVIBAR" UV 1244V紫外線硬化性エポキシから第２風雨遮断材を形成した。 その後、適切な紫外線光源にこの材料を曝して、第２風雨遮断材を形成した。 第２風雨遮断材を形成した後、ミラーに約１．３ボルトの印加電圧を導入する と、反射率が約７７．８％の高い反射率から約７．１％の低い反射率へ変化する のが観察された。 これらの観察は、前記の例１で言及したＳＡＥ手順を用いて実施し、記録した 。 このエレクトロクロミック・ミラーを自動車のキャビンにも取り付けたところ 、ミラーは商業的に許容可能な状態で作動することが判明した。 例 ８ 前記の例１で述べたのと同じ形状を有し、ＩＴＯを塗布した透明なガラスを第 １基板（スクエア当たり約８０オームの面積抵抗を有する）として作成したエレ クトロクロミック・ミラー・セルを使用した。ミラー・セルの第２基板には、普 通のソーダ石灰ガラスを使用した。第１基板を、長さも幅も、第２基板より約２ 〜３ｍｍ長い寸法にした。第２ガラス基板の内向きの表面に、接着促進剤として 厚さ約１，０００Åのクロムの層を直接塗布した。その後、厚さ約１，０００Å の銀の薄膜を反射要素としてクロムの層に塗布し、次に厚さ約５，０００Åの酸 化タングステンをエレクトロクロミック固体膜として、銀の層に塗布した。これ らの薄膜は、電子ビーム蒸発による真空付着プロセスで塗布され、クロム銀／酸 化タングステンのスタックの付着中に、真空を破壊せずに単一の付着プロセスで 付着させた。 また、透明な導体を塗布した基板（たとえば、普通の大気中で曲げ可能な、前 記の"TEC-Glass" などのフッ素を添加した酸化スズを塗布したガラス）を、基板 ２に使用し、曲げ可能な反射材を塗布した基板（たとえば、前記の酸化スズの透 明な導体で上塗りしたシリコン系反射材の組合せ）を基板３に使用する場合は、 図１５で概略したプロセスを適切に改変することができる。たとえば、基板２と して使用するのに適した凸状または非球面の車外ミラー形状を、面積抵抗がスク エア当たり約２０オームの、フッ素を添加した酸化スズの透明な導体から成る"T EC-20"ガラスの曲げミニライトから切断し、曲げミニライトの凹状表面に、酸化 スズのコーティングを施すことができる。従来知られているように、このように 空気中で曲げ可能な透明導体を使用することは、図１５で示すように、曲げた素 のガラスの凹状表面に透明な導体を塗布することの代替法である。また、曲げた 基板３の凸状表面に、（通常は曲げられないアルミニウム、銀、クロムなどの被 覆金属層の代わりに）それ自体が導電性か、あるいは酸化スズなどの透明な導電 層の上塗りを施した、曲げ可能な元素半導体反射材層を使用することができる。 第１基板と第２基板とは、間隔をあけた関係で配置し、第１基板のＩＴＯを塗 布した表面と第２基板の多層表面との間に８８μｍの窓ガラス間スペースを形成 した。第１基板と第２基板とのサイズおよび形状が異なるので、第１基板のＩＴ Ｏを塗布した表面が、第２基板の多層表面を越えて延びる。ＩＴＯを塗布した第 １基板の外周縁のほぼ全部に、母線を取り付け、それに電気リード線を接続した 。多層の第２基板では、単なる接点のように、比較的小さい部分に電気リード線 を取り付けた。 テトラメチレンスルホンと炭酸プロピレンとを組み合わせた(割合は約５０： ５０(v/v))溶剤に、フェロセン（約０．０１５Ｍ）、フェノチアジン（約０．０ ６Ｍ）、過塩素酸リチウム（約０．０５Ｍ）および"UVINUL" 400（約５％(v/v) ）を含む電解質を配合した。（Varaprasad IV が記載したような）真空逆充填法 を用いて、この電解質をミラー・セルに配給した。 約１．４ボルトを印加すると、ミラーが均等に曇り、急速に中性の灰色の状態 になるのが観察された。具体的に述べると、ミラーは、非通電時の脱色状態では 約７５．８％という高い反射率を示し、曇った状態では約９．５％という低い反 射率を示した。これらの観察は、前記の例１で言及したＳＡＥ手順を用いて実施 し、記録した。 例 ９ この例では、前記の例８で述べたような電解質の配合と同じ形状を有するエレ クトロクロミック・ミラーを使用した。しかし、この例のミラーは、スクエア当 たり約５５オームの面積抵抗を有するＩＴＯ被覆ガラスを第１基板として作成し た。また、第１基板と第２基板とは、第１基板のＩＴＯ被覆表面と第２基板の多 層表面との間に、６３μｍの窓ガラス間スペースを形成するよう、間隔をあけた 位置で配置した。 （Varaprasad IV が記載したような）真空逆充填法を用いて、電解質をミラー ・セルに配給した後、ミラーは約７５．７％という高い反射率を有し、約１．４ ボルトの電位を印加すると、約８．６％という低い反射率を有することが観察さ れた。これらの観察は、前記の例１で言及したＳＡＥ手順を用いて実施し、記録 した。 例 １０ この例では、自動車のウィンドウまたはサンルーフに使用するのに適した構造 で、固体電解質を含むエレクトロクロミック・グレイジング装置を作成した。グ レイジング装置は、約１５ｃｍ×約１５ｃｍの寸法にし、第１基板の内向き表面 に施した酸化タングステンのコーティングと、第２基板の内向き表面に施したＨ Ｗ−ＩＴＯコーティングとの問の窓ガラス間スペースは、約７４μｍであった。 グレイジング・セルは、窓ガラス問スペースを規定する助けになるよう、スペ ーサを使用して作成した。スペーサは、第１基板の酸化タングステンを塗布した 表面上に散布し、ＨＷ−ＩＴＯを塗布した第２基板の外周縁に、シルクスクリー ン技術でエポキシを塗布した。エポキシがまだ硬化しないうちに、第１基板と第 ２基板を横方向に転位させ、垂直に転位させて、互いからずらした。次に、エポ キシを硬化して風雨遮断材にする間、ほぼ均一な圧力を達成するために（積層技 術分野で周知の）真空バッグ技術を用いて、還元雰囲気で水銀柱約１０”の圧力 、温度約１４０℃で約１時間、熱硬化することによってエレクトロクロミック・ グレイジング装置の風雨遮断材を形成した。 フェロセン（約０．３％(w/w)）、フェノチアジン（約０．８％(w/w)）、過塩 素酸リチウム（約０．４％(w/w)）、"SARBOX"アクリル酸樹脂(500E50)（約２７ ．９％(w/w)）、（可塑剤として）炭酸プロピレン（約６７．３％(w/w)）および "IRGACURE" 184(約３．３％(w/w))を含む開始配合物の配合を調整した。（Varap rasad IV が記載したような）真空逆充填法を用いて、この配合物をエレクトロ クロミック・グレイジング装置に配給した。 次に、配合物を紫外線に曝して現場重合し、固体相の電解質を形成した。 次に、エレクトロクロミック・グレイジング装置の外周縁に沿って母線を取り 付け、電気リード線を母線に接続した。 エレクトロクロミック・グレイジングに約１．５ボルトの印加電位を、第２基 板（ＨＷ−ＩＴＯを塗布した表面に酸化タングステンの上塗りを施した表面）に プラスの極性で約２分間導入すると、約７３．０％という高い透過率が観察され た。その後、極性を反対にし、約１．５ボルトの電位を印加すると、透過率は約 １７．８％という低い透過率に曇ったのが観察された。 これらの観察は、前記の例１で言及したＳＡＥ手順を用いて実施し、記録した が、屈折計は透過モードに設定した。 例 １１ この例では、前記の例１で述べたのと同じ形状を有するエレクトロクロミック ・ミラー装置を作成し、窓ガラス間スペースは約７４μｍで、固体相の電解質を 使用した。 フェロセン（約０．２％(w/w)）、フェノチアジン（約０．５％(w/w)）、過塩 素酸リチウム（約０．３％(w/w)）、ポリエチレングリコールジメタクリレート( 600)(PEGDMA-600)（約１７．９％(w/w)）、（可塑剤として）炭酸プロピレン（ 約７６．５％(w/w)）、（光反応開始剤として）"IRGACURE" 184（約２．１％(w/ w)）および"UVINUL" 400（約２．５％(w/w)）を含む開始配合物の配合を調整し た。 ミラーは、窓ガラス間スペースを規定する助けになるよう、スペーサを使用し て作成した。スペーサは、第１基板のＨＷ−ＩＴＯを塗布した内向き表面上に散 布し（反対側の、内向きでない表面は、従来の湿式化学銀めっき付着法で、銀の 層が塗布してある）、固体相の電解質に転移する配合物を、その上に配給した。 内向きの表面に厚さ約５，０００Åの酸化タングステンを塗布した第２基板を、 第１基板のスペーサを散布しＨＷ−ＩＴＯを塗布した表面の上に配置し、第１基 板と第２基板の被覆表面全体およびその間に、配合物が均等に分散できるように する。 クランプを使用して、第１基板と第２基板を一時的に一緒に保持し、その間に 配置された配合物を紫外線に曝して現場重合させて、固体相の電解質を形成した 。具体的に述べると、Fusion UV Curing System F-450 B のコンベヤ・ベルトに ミラーを載せ、ベルトを約１５フィート／分の速度で進め、F-450 B のＤ融解用 ランプで生成した紫外線に当てた。ミラーに、溶解用ランプの下を１５回通過さ せ、１５回の通過ごとに２分の間隔をおいた。 次に、装置の外周縁に沿って母線を取り付け、母線に電気リード線を接続した 。 エレクトロクロミック・ミラーに約１．５ボルトの印加電位を、第２基板（Ｈ Ｗ−ＩＴＯを塗布した表面に酸化タングステンの上塗りを施した表面）にプラス の極性で約２分間導入すると、約７３．２％という高い反射率が観察された。そ の後、極性を反対にし、約１．５ボルトの電位を印加すると、反射率率は約７． １％という低い反射率に曇ったのが観察された。 これらの観察は、前記の例１で言及したＳＡＥ手順を用いて実施し、記録した 。 例 １２ この例では、前記の例４で述べたのと同じ形状を有するエレクトロクロミック ・ミラー・セルを作成した。 1,2-ブチレンカーボネートと炭酸プロピレンとを組み合わせた(割合は約５０ ：５０(v/v))溶剤に、フェロセン（約０．０２５Ｍ）、フェノチアジン（約０． ０６Ｍ）、過塩素酸リチウム（約０．０５Ｍ）および"UVINUL"4 00（約５％(v/v )）を含む電解質を配合した。（Varaprasad IV が記載したような）真空逆充填 法を用いて、この電解質をミラー・セルに配給した。 ミラーに約１．４ボルトの印加電圧を導入すると、反射率が約７２．０％の高 い反射率から約６．８％の低い反射率へ変化するのが観察された。 ミラーを、約５０℃で５０，０００回のサイクルにかけ、ミラーのサイクルが 良好であることが観察された。 例 １３ この例では、前記の例１で述べたのと同じ形状を有するエレクトロクロミック ・ミラー・セルを再度作成した。 このミラー・セルのために、炭酸プロピレンに、フェロセン（約０．０２５Ｍ ）、フェノチアジン（約０．０６Ｍ）、過塩素酸リチウム（約０．０５Ｍ）、四 フルオロほう酸リチウム（約０．０５Ｍ）および"UVINUL" 400(約５％(v/v))を 含む電解質を配合し、（Varaprasad IV が記載したような）真空逆充填法を用い て、これをミラー・セルに配給した。 ミラーに約１．４ボルトの印加電圧を導入すると、約７２．０％の高い反射率 から約６．７％の低い反射率へ変化するのが観察された。 ミラーは、優れたサイクル安定性と紫外線に対する安定性とを実証した。 例 １４ この例では、前記の例１で述べたのと同じ形状を有するエレクトロクロミック ・ミラー・セルを、オンデマンド・ディスプレイを付けて作成した。例証のため に、図９を参照のこと。 このミラー・セルにオンデマンド・ディスプレイを設けるために、ミラー・セ ルの第２基板の最後部（反対側の内向きでない）表面に上塗りした銀／銅／塗料 を通して、ディスプレイ用窓（寸法は約７／１６”×３／４”）をレーザーでエ ッチングした。 約０．０７５”の厚さを有するガラス製カバー・シートを、ディスプレイ用窓 の上に配置し、それに取り付けられるよう、ディスプレイ用窓の上および内部に 、光学接着剤("IMPRUV" LV 注封材料(コネチカット州Newington の Loctite Cor porationが市販))を塗布した。 銀の薄膜層を一方の表面に塗布する真空蒸着プロセスに、大きめのガラス板を 事前にかけることにより、このような状況で使用するのに適したガラス製カバー ・シートを準備した。銀の薄膜層は、ほぼ反射し（約９３％の反射率を有する） 、部分的に透過した（約５％の透過率を有する）。次に、銀を塗布したガラス製 カバー・シートを、たとえば約１”×３／４”のサイズに切断し、次に銀を塗布 し た表面をディスプレイ用窓の上に配置し、光学接着剤でそれに取り付けた。ガラ ス製カバー・シートの、反対側の銀を塗布していない表面には、エポキシ層(UV1 5-74RI(ニュージャージー州HackensackのMaster Bond Incorporatedが市販))を 配置し、それに真空蛍光ディスプレイ(Part No．FIP2QM8S(カリフォルニア州Mou ntain ViewのNEC Electronics Incorporated))を取り付けた。 このミラー・セルに、前記の例１の電解質を配給した。 例 １５ この例では、前記の例１で述べたのと同じ形状を有するエレクトロクロミック ・ミラー・セルを、オンデマンド・ディスプレイを付けて作成した。例証のため に、図１０を参照のこと。 このミラー・セルでは、前記の例１４のミラー・セルと同様、ミラー・セルの 第２基板の最後部（反対側の内向きでない）表面に上塗りした銀／銅／塗料を通 して、ディスプレイ用窓（寸法は約７／１６”×３／４”）をレーザーでエッチ ングした。 次に、前記のように真空チャンバ内で電子ビーム蒸発により形成したディスプ レイ用窓に、銀の薄膜層を塗布した。銀の薄膜層は、ほぼ反射し（約９０％の反 射率を有する）、部分的に透過した（約８％の透過率を有する）。 銀を塗布したディスプレイ用窓の上および内部に、エポキシ層(UV15-74RI(Mas ter Bond))を付与し、それに真空蛍光ディスプレイ(Part No．FIP2QM8S(NEC Ele ctronics))を取り付けた。 このミラー・セルに、前記の例１の電解質を配給した。 例 １６ この例では、第１基板および第２基板に、ＨＷ−ＩＴＯを塗布した透明なガラ スを使用して、エレクトロクロミック・ミラー・セルを作成した。第２基板の内 向きの表面に、接着促進剤として厚さ約１００Åのクロムの層を塗布した。次に 、反射要素として、厚さ約４５０Åの銀の薄膜を、クロムの層に塗布し、厚さ約 ５，８００Åの酸化タングステンの層を、エレクトロクロミック固体膜として銀 の層 に塗布した。第１基板と第２基板とは、基板の内向きの被覆表面間に８８μｍの 窓ガラス間スペースを形成するよう、間隔をあけた関係で配置した。 第２基板の最後部表面に不透明テープを配置し、真空蛍光ディスプレイやその 他の情報表示を収容するのに適した位置で、そこに開口部を設けた。 前記の例１４で述べたように、このミラー・セルに真空蛍光ディスプレイを取 り付けたが、反射剤を塗布したカバー・シートを省いた。ディスプレイは方位情 報を提供し、共同譲渡された米国特許第5,255,422 号(Schierbeek)に記載されて いるように、ミラー・ハウジングと自動車を運転するためにエレクトロクロミッ ク・ミラー要素を取り付けたアセンブリとに含まれたコンパス回路が、いずれか の座標を起動すると、運転時の自動車の方向に応じて、ディスプレイはＮ、ＮＥ 、Ｅ、ＳＥ、Ｓ、ＳＷ、ＷまたはＮＷを表示した。方向指示表示(JKL NEO Wedge Lamps T2-1/4(カリフォルニア州PaloisaのJKL Components Corporationが市販) )も、第２基板の最後部表面の背後に配置され、方向指示表示の位置には、不透 明なテープに適切な形状の開口部を切り取った。方向指示表示は、特定の方向指 示信号からのトリガー機構によって起動した。エレクトロクロミック・ミラーの 方向指示表示２１の使用の例証については、図１２を参照のこと。 このミラー・セルに、前記の例１の電解質を配給した。 ミラーに約１．４ボルトの印加電圧を導入すると、約７４．１％の高い反射率 が約７．０％の低い反射率へ変化するのが観察された。透明な状態で、透過率が 約４．５％であることも観察された。 このミラーは、自動車に取り付けて、実際に様々な日中および夜間運転状態で 試験し、所期の目的に従って作動することが判明した。 例 １７ この例では、自動車の車内バックミラーに使用するのに適したエレクトロクロ ミック・ミラーを作成した。 ミラーは、ＩＴＯを塗布したガラスを第１基板（スクエア当たり約８０オーム の面積抵抗を有する）として作成した。ミラー・セルの第２基板には、普通のソ ーダ石灰ガラスを使用した。双方の基板を、同じ寸法のサイズおよび形状とした 。 第１基板の上縁の中央に刻み目を切り、第２基板の下縁の中央に、別の刻み目を 切った。中心部分をマスキングし、外周領域の大部分はマスキングせずに残して 、第１基板の外周に沿って金属薄膜の母線を形成し、次に真空蒸発プロセスで厚 さ約２，０００Åのクロムの薄膜を付着させ、その後、厚さ約５，０００Åの銀 の薄膜を付着させた。 厚さ約１，０００Åのクロムの層を、接着促進剤として第２ガラス基板の内向 き表面に直接塗布した。次に、厚さ約１，０００Åの銀の薄膜を、反射要素とし てクロムの層に付着させ、次に厚さ約５，０００Åの酸化タングステンをエレク トロクロミック固体膜として銀の層に塗布した。 次に、第１基板と第２基板の縁が面一になり、密封剤を塗布して基板間に空洞 を形成するように、第１基板と第２基板を、間隔をあけた関係で配置する。この 面一のデザインで、基板の内無機の被覆表面間の窓ガラス間スペースは、８８μ ｍであった。 この面一設計の車内ミラーでは、前記の例１のような電解質を配合した。（Va raprasad IV が記載したような）真空逆充填法を用いて、この電解質をミラー・ セルに配給した。 次に、電気リード線をミラーに取り付けた。第２基板の刻み目によって、第１ 基板の下縁にある金属薄膜母線上の接点に、電気リード線を取り付けることがで きた。同様に、第１基板の刻み目によって、第２基板の内向き表面の上縁の一部 が露出し、クロム／銀／酸化タングステンのコーティング上の接点に、電気リー ド線を取り付けることができた。 ミラーに約１．５ボルトの印加電圧を導入すると、反射率が約８５．３％の高 い反射率から約７．５％の低い反射率へ変化するのが観察された。 例 １８ この例では、第１基板として厚さ０．０６３”の透明なＨＷ−ＩＴＯ塗布ガラ ス形物を使用し、第２基板として厚さ０．０９３”の透明ＨＷ−ＩＴＯ塗布ガラ ス基板を使用して、非球面エレクトロクロミック・ミラー・セルを作成した。第 ２基板は、自動車の銀めっき技術分野で周知のような従来の湿式化学銀めっきプ ロセスを用いて、裏面（つまりアセンブリの第４の表面）に銀を塗布した。第１ および第２基板は、ヨーロッパで自動車の運転席側の車外ミラーに一般的に用い られている多半径デザインを用いて、個々に非球面半径に曲げた。このデザイン は、曲率半径が約２，０００ｍｍの内向きの球面曲線領域と、半径が約５６０ｍ ｍから約２３０ｍｍ、さらに約１６０ｍｍへと減少する、半径が連続的に減少す る非球面曲線の外向きの領域とを含む。曲げ多半径基板は、最初にガラスを少な くとも約５５０℃の温度に加熱し、次いで精密金型に合わせてプレス曲げするこ とにより、前述したように、曲げプレス金型内で過大ライトとして個々にプレス 曲げした。 過大多半径ライトを曲げて焼き鈍した後、多半径形物（フランスのＰＳＡが１ ９９４年式で製造したPeugeot 605 車の運転席側の車外ミラーとして使用したサ イズおよび形状）を過大多半径ライトから切り取った。第２基板の内向きのＩＴ Ｏ塗布表面に、電子ビーム蒸発法を用い、前述したように急速サイクルプロセス を用いて、厚さ約５，５００Åの酸化タングステンの層を塗布したが、ここで酸 化タングステンの蒸発は、初期のポンプ使用中、チャンバの圧力が約２×１０^-4 トル(mmHg)に達した時に開始した。第１基板と第２基板とは、基板の内向きの塗 布表面間に約８８μｍの窓ガラス間スペースを形成するよう、間隔をあけた関係 で配置した。使用した密封材は、潜伏性硬化剤としてANCAMINE^R 2014FGで硬化す るEPON 8281エポキシであった。 第１基板の局部半径と第２基板の対応する局部半径との均一性および適合性を 高めるため、約８８μｍの直径を有するガラス・ビーズを、硬化していないエポ キシに含め、さらに痔２基板の内向き表面に散布した。コンピュータの数値制御 装置("CNC")で制御したASYMTEKディスペンサと２０ゲージのニードルを使用して 、第１基板の内向き表面の外周に、硬化していないエポキシを塗布した。次に、 第１基板を第２基板の対応する局部半径上に慎重に位置合わせし、単純なクラン プを使用して、そこに一時的に取り付けた。このアセンブリを"MYLAR" 真空バッ グに入れ、真空を生成し、大気圧がアセンブリの表面にかかって、第１基板と第 ２基板との局部半径が強制的に適合するようにした。次に、真空状態で大気圧が かかっている状態で、真空バッグとアセンブリを炉に入れ、約１４０℃の温度に 約 １時間曝して、エポキシを硬化させた。硬化したらアセンブリを炉から取り出し 、真空バッグに通気して取り外し、このようにして形成した空のセルに、真空逆 充填法を用いて前記の例１の電解質を充填した。 セルの製造が終了した後、ミラーに約１．４ボルトの電圧を導入すると、反射 率が約７４．７％の高い値から約７．３％の低い値へ変化するのが観察された。 この反射率の変化は短時間で達成され、二重像がほとんど、あるいはまったくな い均等性が観察された。 このミラーをベゼルに取り付け、自動車に設置した。ミラーは、所期の目的に 従って作動することが判明した。 また、このようなミラーは、前述した環境、サイクルおよび性能のレジリエン スを示した。 例 １９ この例では、前記の例１８に述べたのと同様の多半径ミラーを作成した。しか し、この例では、第２基板がＩＴＯを塗布していない透明ガラスで、第４の表面 には銀めっきが反映していない。代わりに、内向きの素のガラス表面に、最初に 厚さ約１，０００Åのクロムの層（接着促進剤層）を、次いで厚さ約２，０００ Åのアルミニウムの層（反射材）を、次いで厚さ約６，０００Åの酸化タングス テンの層（エレクトロクロミック固体膜）を塗布した。 セルの製造が終了した後、ミラーに約１．４ボルトの電圧を導入すると、約６ ９．７％の高い反射率が約６．４％の低い反射率へ変化するのが観察された。こ の反射率の変化は短時間で達成され、二重像がほとんど、あるいはまったくない 均等性が観察された。 例 ２０ この例のミラーは、おおむね前記の例３で述べたように作成したが、前基板は 約０．０４３”の厚さを有する平坦なＨＷ−ＴＴＯ被覆ガラス形物で、その寸法 は約６．７５”×０．０４３”であった。また、後基板は、同様の寸法で０．０ ６３”の厚さを有する、平坦な素のガラスであった。このミラー構造の窓ガラス 間スペースは、約７４ミクロンであった。電解質は、テトラメチレンスルホンと 炭酸プロピレンとを組み合わせた(割合は約６０：４０(v/v))溶剤に、過塩素酸 リチウム（約０．０１Ｍ）、四フルオロほう酸リチウム（約０．０４Ｍ）、フェ ロセン（約０．０４Ｍ）、および"UVINUL" 400(約５％(v/v))を溶解させたもの である。このようにして形成したエレクトロクロミック・ミラー・セルは、ワシ ントン州SeattleのKenworth Truck Companyが製造するクラス８の大型Kenworth T600重量トラックの車外ミラー・アセンブリに使用するのに適していた。 セルの製造が終了した後、（外周の母線を使用して）ミラーに約１．４ボルト の電圧を導入すると、約８１．２％の高い反射率が約１６．５％の低い反射率へ 変化するのが観察された。この反射率の変化は短時間で達成され、二重像がほと んど、あるいはまったくない均等性が観察された。 例 ２１ この例では、前記の例１で述べたのと同様のバックミラー構造の結果を報告す るが、不純物を添加していない二酸化タングステンではなく、スズを添加した酸 化タングステンを使用した。スズを添加した酸化タングステンのタイプのエレク トロクロミック固体膜は、物理的蒸着法（特に電子ビーム蒸発）と非真空付着法 （特に浸漬／焼成技術を用いた湿式化学沈着。米国特許第4,855,161号(Moser)を 参照）との両方で付着させた。 物理的蒸着法では、前記の例１で述べた手順および構造を使用したが、酸化タ ングステンと酸化スズの混合物（割合は９５：５％w/w）を蒸着して、約６，０ ００Åの厚さを有するスズを添加した酸化タングステンを形成した（コーティン グのSn／WO₃の重量比は約０．０４）。このように蒸着したスズ添加の酸化タン グステンを使用し、このように形成したバックミラー・セルを試験し、操作して 、自動車のバックミラーに使用するのに適しているか判断した。このミラーは、 性能の面でもサイクル／環境のレジリエンスの面でも適していることが判明した 。 不純物を添加していない酸化タングステンを使用しているが、これ以外には意 図的な違いがない同様のミラー・セルと比較すると、スズを添加した酸化タング ステン膜は、電位を印加してエレクトロクロミック的にミラーを曇らせた場合に 、 顕著に中性の色を生じた。また、真空で反応蒸着中に酸化スズを酸化タングステ ンと混合すると、蒸着るつぼからの吐出が少なくなり、おそらく無機酸化物の混 合物の導電性が高いために、混合物を蒸発させガラス上に酸化物の膜を形成する のが容易になった。これによって、たとえば真空付着させた酸化タングステン系 エレクトロクロミック膜などを使用するエレクトロクロミック装置の製造が容易 になる。また、不純物を添加しない酸化タングステンと比較して、スズを添加し た酸化タングステンを使用した場合は、脱色状態での反射率が高くなり、脱色に 要する時間が短くなることも観察された。 非真空付着法では、米国特許第4,855,161号(Moser)で記載されているような湿 式化学浸漬／焼成法を用いた。この開示は、参照により本明細書に組み込む。約 ７．５重量％のタングステンヘキサクロライド、約２．５重量％のジブチル錫オ ヤシド、約５５重量％の酢酸エチル、約３０重量％のイソプロパノールおよび約 ５重量％のメタノールから成る浸漬溶液を調製した。ＨＷ−ＩＴＯを塗布したガ ラス基板に、従来の浸漬被覆法でゾル・ゲル配合物を塗布し、約１２０℃の温度 に予熱した炉にこれを移送した。炉内で、浸清した状態で既に自然乾燥させたコ ーティングを約１時間焼成し、Sn/WO₃の重量比が約０．２５の、所望のスズ添加 酸化タングステン・コーティングを生成した。 この場合も、バックミラー・セルは前記の例１で述べた通りに作成したが、浸 漬／焼成したこのスズ添加酸化タングステン・コーティングを使用した。 このようなバックミラーの性能特性を、以下の表VI(a)およびVI(b)で報告する 。 異なったSn／WO₃の重量比を有する配合物に浸漬したゾル・ゲル配合物を、透 明な導体でコーティングしたガラス基板に塗布した。比率が約０．１と約０．５ の間のコーティングが望ましいことが判明した。様々な焼成温度も用い、約１２ ０℃と３００℃の間の範囲の焼成温度が望ましいことが判明した。 例 ２２ この例では、連続的に変化できる透過帯域フィルタを作成した。帯域フィルタ を通過するスペクトルの内容を、電気的に減衰し、これによってユーザは、電磁 波のスペクトル内容（通常は、スペクトルの可視光線、紫外線、近赤外線または 赤外線電磁照射の小領域）を制御できるばかりでなく、フィルタを通過する電磁 波の強度も制御できる。このような帯域フィルタは、通常は、入射光のような電 磁波を選択的に透過する（そして時には反射する）よう、決められた厚さおよび 屈折率を有する多薄膜層から成る干渉タイプである。このような干渉フィルタに は、（蛍光を発する抗体をトレースする）病気の診断、スペクトル放射測定およ び比色定量など、広い用途がある。連続可変透過および反射フィルタは、光学フ ィルタ、ヘッドアップ・ディスプレイ装置などのディスプレイ装置、ヘッドラン プなどの自動車の光源の制御装置、制御強化フィルタ、レーザ光学システム、お よび同様の用途に有用である。このような強度可変フィルタは、分散要素（プリ ズムや格子など）を必要とせず、このフィルタを通過したり、ここから反射した りする光またはその他の電磁波の調製を電気的に制御でき、わずか数ナノメート ルの帯域（約１００ナノメートル未満など、およびより選択的なスペクトル用途 では、約１０ナノメートル未満の用途もある）の波長間隔でも分離できる、中帯 域、狭帯域または制限された帯域のフィルタであることが好ましい。 このような強度可変フィルタの一例として、前記の例５で述べたような約２” ×２”の寸法を有するエレクトロクロミック・ウィンドウ要素を作成し、その最 外部のガラス表面に、約４０ｎｍの帯域を有し、透過率対波長(nm)のスペクトル を図１７の実曲線Ｘで示す６００ｎｍ中帯域平渉フィルタを取り付けた。このフ ィルタは、約１．５という屈折率が適合した光学接着剤を使用して エレクトロ クロミック・ウィンドウ・セルのガラスに固定した。 この連続強度可変フィルタの透過率対波長のプロットを、エレクトロクロミッ ク媒体に印加する電圧が約０ボルトから約１．４ボルトの範囲について、図１７ に示す。図１７では、電位を印加しない状態で、帯域フィルタおよびエレクトロ クロミック・ウィンドウ・セルを通る光の透過率を、曲線Ａで示す。印加電位が 約０．３ボルトで、帯域フィルタおよびエレクトロクロミック・ウィンドウ・セ ルを通る光の透過率を、曲線Ｂで示す。印加電位が約０．５ボルトで、帯域フィ ルタおよびエレクトロクロミック・ウィンドウ・セルを通る光の透過率を、曲線 Ｃで示す。印加電位が約０．８ボルトで、帯域フィルタおよびエレクトロクロミ ック・ウィンドウ・セルを通る光の透過率を、曲線Ｄで示す。印加電位が約１． １ボルトで、帯域フィルタおよびエレクトロクロミック・ウィンドウ・セルを通 る光の透過率を、曲線Ｅで示す。印加電位が約１．４ボルトで、帯域フィルタお よびエレクトロクロミック・ウィンドウ・セルを通る光の透過率を、曲線Ｆで示 す。以下の表VII では、約６００ナノメートルでの透過率を、強度可変フィルタ に印加された電圧との関連で示す。 図１７で分かるように、エレクトロクロミック媒体に様々な電位を印加して、 光の強度を連続的に調整しても、スペクトル選択性はほぼ維持される。 前述したように、エレクトロクロミック・セルに別個のフィルタを取り付ける のではなく、薄膜コーティングの干渉スタックを、エレクトロクロミック・セル の基板の少なくとも１つの表面に付着させる方法もある。このような配置構成で は、透明な導体および金属酸化物のエレクトロクロミック固体膜層は、他の誘電 半導体および導電層と組み合わせて、スペクトル選択性を提供する干渉スタック を含んでもよい。 例 ２３ この例のエレクトロクロミック・ミラー・セルは、前記の例４で述べたように 作成したが、電解質は、酸化還元促進剤のフェノチアジンの代わりに、酸化還元 剤としてＡＭＰＴを含んでいた。ＡＭＰＴは、来国特許第4,666,907号(Fortin) に記載された手順に従って合成した。この開示は、参照により本明細書に組み込 む。 合成したＡＭＰＴは、メタノールから再結晶化して精製した。 ＡＭＰＴの元素を分析すると、以下のように決定された。 電解質は、炭酸プロピレンにＡＭＰＴ（約０．０３５Ｍ）、フェロセン（約０ ．０２Ｍ）、過塩素酸リチウム（約０．０５５Ｍ）および"UVINUL" 400(約５％( w/v))を溶解したものである。充填したエレクトロクロミック・ミラー・セルの 性能を、以下の表VIII で報告する。 例 ２４ この例のエレクトロクロミック・ミラー・セルは、前記の例３で述べたように 作成したが、電解質は、酸化還元促進剤のフェノチアジンの代わりに、酸化還元 促進剤としてＣ−ＰＴを含んでいた。Ｃ−ＰＴは、N.L．Smith の J ．Org．Chem . ，15，1125(1950)に記載された手順に従って合成された。 この例では、基板を互いに面一に並置し、外周を取り巻く蒸着母線（約１，０ ００Åのクロム金属から成る）は、マスクで中心部分をマスキングして、ＩＴＯ を塗布した第１基板の内向き表面に蒸着させ、次いで別の１０，０００Åの銀金 属をその上に蒸着した。クロムの接着層／銀の反射材層／酸化タングステンのエ レクトロクロミック固体膜層を、素のガラスである第２基板の対向する表面に蒸 着した。電解質は、炭酸プロピレンにＣ−ＰＴ（約０．０５Ｍ）、過塩素酸リチ ウム（約０．０５Ｍ）および"UVTNUL" 400(約５％(w/v))を溶解したものである 。 第１基板の内向き表面の外周を取り巻く蒸着母線と、対向する第２基板の反射 材層との間に約１．３ボルトの電位を印加すると、最初は約８７．３％という高 い反射率状態(HR(%))が観察されていたが、曇って約７．２％という低い反射率 状態(LR(%))になり、７０％から２０％の反射率の遷移は、約２．１秒という時 間で発生し、電極を短絡させて脱色すると、１０％から６０％の反射率の遷移は 、 約７．１秒という時間で発生した。 例 ２５ この例では、自動車の車内バックミラーに使用するのに適したエレクトロクロ ミック・ミラーを作成した。構造は、前記の例６で述べたのと同様であったが、 この例で作成したミラーの形状は、車内バックミラーに通常使用されるサイズお よび形状であった。また、第１基板は、厚さ約３００Å、抵抗率２．４×１０^-4 Ωｃｍ、面積抵抗はスクエア当たり約８０オームのＩＴＯの層を塗布したガラス であった。また、前記の例６の構造で使用した銀の反射要素の代わりに、厚さ約 ２，０００Åのアルミニウムの薄膜を反射要素として使用した。 炭酸プロピレンとテトラメチレンスルフォン(割合は約５０：５０(v/v))を組 み合わせた溶剤にフェロセン（約０．０１５Ｍ）、フェノチアジン（約０．０６ Ｍ）、過塩素酸リチウム（約０．０５Ｍ）および"UVINUL" 400(約５％(w/v))を 含む電解質で、エレクトロクロミック・バックミラーを充填した。 第１基板のＩＴＯを塗布した内向き表面の外周に巻き付けた銀の導電フリット 母線と、第２基板の対向する表面のアルミニウム反射材／クロム接着層の組合せ との間に、約１．１ボルトから約１．４ボルトの電圧を印加すると、エレクトロ クロミック・バックミラーは、反射率約７０％±５％の高い反射率状態から、反 射率約６％±２％の曇った状態に曇るのが観察された。 この例のエレクトロクロミック・ミラーを試験し、車内バックミラーとしても 車外バックミラーとしても、自動車に商業的に使用するための要件を満たすこと が実証された。また、サイクル安定性に関して、エレクトロクロミック・ミラー （最初は反射率約７０．５％の高い反射率状態を示し、約１．４ボルトの電位を 印加すると、反射率約７．１％の反射率に曇った）を、約５０℃の温度で合計３ ９，４６３回、繰り返してサイクル試験し、各サイクルでは、約１．４ボルトの 電位を１５秒印加し、ゼロボルトの電位を１５秒印加した。サイクル試験の終了 後、ミラーは反射率約６８．２％という高い反射率状態を維持し、約１．４ボル トの電位を印加すると、反射率約６．６％に曇った。また、約８５℃の温度で、 炉で約１４日間ベーキングした後、ミラー（最初は、反射率約７１．６％の高い 反射率状態を示し、約１．４ボルトの電位を印加すると、反射率約７．４％に曇 った）は、反射率約７６．１％の高い反射率状態を示し、約１．４ボルトを印加 すると、反射率約８．５％に曇った。このミラーは、炉で８５℃でベーキングし た後も、自動車で意図した使用に適していた。このミラーは、自動車の車内のキ ャビンで使用するか、車外ミラーとして使用するのに適するための、自動車メー カなどの性能要件および信頼性要件を満たした。 以上の例は、例証のためのみ提供したもので、当業者には、本発明の範囲を規 定する特許請求の範囲の精神内で、変更および修正が可能であることが明白であ る。したがって、当業者には、本明細書で述べた発明の実施例に対する同等物が 存在することが、日常的な実験だけで認識されるか、あるいは容易に確認される 。このような同等物は、以下の特許請求の範囲に入るものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マッキャベ，イアン，エー. アメリカ合衆国．49424 ミシガン，ホラ ンド，ランサム 16114 (72)発明者 ライナム，ニオール，アール. アメリカ合衆国．49424 ミシガン，ホラ ンド，フォックスダウン 248 (72)発明者 ツァオ，ミンタン アメリカ合衆国．49423 ミシガン，ホラ ンド，キャメルバック ドライヴ 245 (72)発明者 ドーナン，クレイグ，エー. アメリカ合衆国．49417 ミシガン，グラ ンド ハレン，ワンハンドレッドトウェン ティス ストリート 12949

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．自動車用エレクトロクロミック・バックミラーで、 （ａ）内向きの表面にほぼ透明な導電性電極コーティングを有する、ほぼ透 明な基板と、 （ｂ）内向きの表面に導電性電極コーティングを有する基板とから成り、こ の基板は前記（ａ）の基板と間隔をあけた関係で配置され、さらに （ｃ）前記（ｂ）の基板の表面に塗布された反射材の層と、 （ｄ）前記（ａ）のほぼ透明な導電性電極コーティング、または前記（ｂ） の導電性電極コーティング上に塗布されたエレクトロクロミック固体膜と、 （ｅ）前記（ａ）の基板と前記（ｂ）の基板とのそれぞれの外周縁に向かっ て配置され、その間に密封状態で空洞を形成する密封手段と、 （ｆ）酸化還元反応促進剤から成る電解質とから成り、この酸化還元反応促 進剤は、フェノチアジンと組み合わせたメタロセンから成り、この電解質が、前 記空洞内に配置されて、エレクトロクロミック要素を形成し、さらに （ｇ）印加電位を前記エレクトロクロミック要素に導入して、前記ミラーか ら反射する光の量を、制御可能な状態で変化させる手段とから成るエレクトロク ロミック・バックミラー。 ２．前記反射材の層が銀である、請求項１記載のエレクトロクロミック・ミラー 。 ３．前記エレクトロクロミック固体膜が無機遷移金属酸化物である、請求項１記 載のエレクトロクロミック・ミラー。 ４．前記エレクトロクロミック固体膜が酸化タングステンである、請求項３記載 のエレクトロクロミック・ミラー。 ５．前記酸化還元反応促進剤がフェロセンから成る、請求項１記載のエレクトロ クロミック・ミラー。 ６．前記酸化還元反応促進剤がフェノチアジンから成る、請求項１記載のエレク トロクロミック・ミラー。 ７．前記電解質が、さらに、紫外線安定剤から成る、請求項１記載のエレクトロ クロミック・ミラー。 ８．自動車用エレクトロクロミック・バックミラーで、 （ａ）内向きの表面にほぼ透明な導電性電極コーティングを塗布した、ほぼ 透明な基板と、 （ｂ）前記（ａ）の基板と間隔をあけた関係で配置された基板と、 （ｃ）前記（ｂ）の基板の内向き表面に、または前記（ｂ）の基板の内向き 表面に塗布された薄膜または薄膜スタックに塗布された反射材の層と、 （ｄ）前記（ｃ）の反射材層上に塗布されたエレクトロクロミック固体膜と （ｅ）前記（ａ）の基板と前記（ｂ）の基板のそれぞれの外周縁に向かって 配置され、その間に密封状態で空洞を形成する密封手段と、 （ｆ）酸化還元反応促進剤から成る電解質とから成り、この電解質が前記空 洞内に配置されて、エレクトロクロミック要素を形成し、さらに、 （ｇ）印加電位を前記エレクトロクロミック要素に導入して、当該ミラーか ら反射する光の量を、制御可能な状態で変化させる手段とから成るエレクトロク ロミック・バックミラー。 ９．さらに、前記（ｃ）の反射材層と前記（ｂ）の基板の内向き表面との間に塗 布された接着促進剤とから成る、請求項８記載のエレクトロクロミック・ミラー 。 １０．前記接着促進剤が、金属、金属酸化物または導電性金属酸化物で構成され たグループから選択される、請求項９記載のエレクトロクロミック・ミラー。 １１．前記金属が、クロム、ステンレス鋼、ニッケル系合金、チタン、モネル、 ニクロムおよびモリブデンで構成されたグループから選択される、請求項１０記 載のエレクトロクロミック・ミラー。 １２．前記金属酸化物が、酸化銀、酸化アルミニウムおよび酸化クロムで構成さ れたグループから選択される、請求項１０記載のエレクトロクロミック・ミラー 。 １３．前記導電性金属酸化物が、酸化インジウム、酸化インジウム・スズ、酸化 スズ、不純物を添加した酸化スズおよび不純物を添加した酸化亜鉛で構成された グループから選択される、請求項１０記載のエレクトロクロミック・ミラー。 １４．前記反射材層が銀である、請求項８記載のエレクトロクロミック・ミラー 。 １５．前記エレクトロクロミック固体膜が無機遷移金属酸化物である、請求項８ 記載のエレクトロクロミック・ミラー。 １６．前記エレクトロクロミック固体膜が酸化タングステンである、請求項１５ 記載のエレクトロクロミック・ミラー。 １７．前記酸化還元反応促進剤がメタロセンから成る、請求項８記載のエレクト ロクロミック・ミラー。 １８．前記酸化還元反応促進剤がフェノチアジンから成る、請求項８記載のエレ クトロクロミック・ミラー。 １９．前記電解質が、さらに、紫外線安定剤から成る、請求項８記載のエレクト ロクロミック・ミラー。 ２０．自動車用エレクトロクロミック・バックミラーで、 （ａ）内向きの表面にほぼ透明な導電性電極コーティングを塗布した、ほぼ 透明な第１基板と、 （ｂ）内向きの表面にほぼ透明な導電性電極コーティングを塗布した、ほぼ 透明な第２基板とから成り、この第２基板が、前記（ａ）の基板と間隔をあけた 関係で配置され、さらに、 （ｃ）前記（ｂ）の基板の内向きでない反対側の表面に塗布された反射材の 層と、 （ｄ）（ｂ）のほぼ透明な前記導電性電極コーティング上に塗布されたエレ クトロクロミック固体膜と、 （ｅ）前記（ａ）の基板と前記（ｂ）の基板とのそれぞれの外周縁に向かっ て配置され、その間に密封状態で空洞を形成する密封手段と、 （ｆ）酸化還元反応促進剤から成る電解質とから成り、この電解質が前記空 洞内に配置されて、エレクトロクロミック要素を形成し、さらに （ｇ）印加電位を前記エレクトロクロミック要素に導入して、当該ミラーか ら反射する光の量を、制御可能な状態で変化させる手段とから成るエレクトロク ロミック・バックミラー。 ２１．前記反射材層が銀である、請求項２０記載のエレクトロクロミック・ミラ ー。 ２２．前記エレクトロクロミック固体膜が無機遷移金属酸化物である、請求項２ ０記載のエレクトロクロミック・ミラー。 ２３．前記エレクトロクロミック固体膜が酸化タングステンである、請求項２２ 記載のエレクトロクロミック・ミラー。 ２４．前記酸化還元反応促進剤がメタロセンから成る、請求項２０記載のエレク トロクロミック・ミラー。 ２５．前記酸化還元反応促進剤がフェノチアジンから成る、請求項２０記載のエ レクトロクロミック・ミラー。 ２６．前記電解質が、さらに、紫外線安定剤から成る、請求項２０記載のエレク トロクロミック・ミラー。 ２７．自動車用エレクトロクロミック・バックミラーで、 （ａ）内向きの表面にほぼ透明な導電性電極コーティングを有する、ほぼ透 明な基板と、 （ｂ）内向きの表面に導電性電極コーティングを有する基板とから成り、こ の基板は前記（ａ）の基板と間隔をあけた関係で配置され、さらに （ｃ）前記（ｂ）の基板の表面に塗布された反射材の層と、 （ｄ）前記（ａ）のほぼ透明な導電性電極コーティング、または前記（ｂ） の導電性電極コーティング上に塗布されたエレクトロクロミック固体膜と、 （ｅ）前記（ａ）の基板と前記（ｂ）の基板とのそれぞれの外周縁に向かう が、その内側に配置され、その問に密封状態で空洞を形成する密封手段と、 （ｆ）電解質とから成り、この電解質は （１）酸化還元反応促進剤から成り、この酸化還元反応促進剤はフェノチ アジンと組み合わされたメタロセンから成り、さらに （２）紫外線安定剤と、 （３）有機溶剤とから成り、 この電解質は、前記空洞内に配置されて、エレクトロクロミック要素を形 成し、さらに （ｇ）印加電位を前記エレクトロクロミック要素に導入して 当該ミラーか ら反射する光の量を、制御可能な状態で変化させる手段とから成るエレクトロク ロミック・バックミラー。 ２８．自動車用エレクトロクロミック・バックミラーで、 （ａ）内向きの表面にほぼ透明な導電性電極コーティングを有する、ほぼ透 明な基板と、 （ｂ）前記（ａ）の基板と間隔をあけた関係で配置された基板と、 （ｃ）前記（ｂ）の基板の内向き表面に塗布された接着促進剤と、 （ｄ）前記（ｃ）の接着促進剤上に塗布された反射材の層と、 （ｅ）前記（ｄ）の反射材層上に塗布されたエレクトロクロミック固体膜と 、 （ｆ）前記（ａ）のガラス基板と前記（ｂ）の基板とのそれぞれの外周縁に 向かうが、その内側に配置され、その間に密封状態で空洞を形成する密封手段と 、 （ｇ）電解質とから成り、この電解質は （１）酸化還元反応促進剤と （２）紫外線安定剤と、 （３）有機溶剤とから成り、 この電解質は、前記空洞内に配置されて、そこに制限され、エレクトロク ロミック要素を形成し、さらに （ｈ）印加電位を前記エレクトロクロミック要素に導入して、当該ミラーか ら反射する光の量を、制御可能な状態で変化させる手段とから成るエレクトロク ロミック・バックミラー。 ２９．自動車用エレクトロクロミック・バックミラーで、 （ａ）内向きの表面にほぼ透明な導電性電極コーティングを有する、ほぼ透 明な基板と、 （ｂ）前記（ａ）の基板と間隔をあけた関係で配置された基板と、 （ｃ）前記（ｂ）の基板の内向き表面に、または前記（ｂ）の基板の内向き 表面に塗布された薄膜または薄膜スタックに塗布された反射材の層と、 （ｄ）前記（ｃ）の反射材層上に塗布されたエレクトロクロミック固体膜と 、 （ｅ）前記（ａ）の基板と前記（ｂ）の基板のそれぞれの外周縁に向かって 配置され、その間に密封状態で空洞を形成する密封手段と、 （ｆ）電解質とから成り、この電解質は （１）酸化還元反応促進剤と、 （２）紫外線安定剤と、 （３）有機溶剤とから成り、 この電解質は、前記空洞内に配置されて、エレクトロクロミック要素を形 成し、さらに （ｇ）印加電位を前記エレクトロクロミック要素に導入して 当該ミラーか ら反射する光の量を、制御可能な状態で変化させる手段とから成るエレクトロク ロミック・バックミラー。 ３０．自動車用エレクトロクロミック・バックミラーで、 （ａ）内向きの表面にほぼ透明な導電性電極コーティングを有する、ほぼ透 明な基板と、 （ｂ）前記（ａ）の基板と間隔をあけた関係で配置された基板と、 （ｃ）前記（ｂ）の基板の内向き表面に塗布された接着促進剤と、 （ｄ）前記（ｃ）の接着促進剤上に塗布された反射材の層と、 （ｅ）前記（ａ）の基板と前記（ｂ）の基板のそれぞれの外周縁に向かうが 、その内側に配置され、その間に密封状態で空洞を形成する密封手段と、 （ｆ）前記（ａ）の基板と前記（ｂ）の基板との間に配置されたエレクトロ クロミック媒体と、 （ｇ）印加電位を前記エレクトロクロミック媒体に導入して、当該ミラーか ら反射する光の量を、制御可能な状態で変化させる手段とから成るエレクトロク ロミック・バックミラー。 ３１．前記接着促進剤が、金属、金属酸化物および導電性金属酸化物で構成され たグループから選択される、請求項３０記載のエレクトロクロミック・ミラー。 ３２．前記金属が、クロム、ステンレス鋼、ニッケル系合金、チタン、モネル、 ニクロムおよびモリブデンで構成されたグループから選択される、請求項３１記 載のエレクトロクロミック・ミラー。 ３３．前記金属酸化物が、酸化銀、酸化アルミニウムおよび酸化クロムで構成さ れたグループから選択される、請求項３１記載のエレクトロクロミック・ミラー 。 ３４．前記導電性金属酸化物が、酸化インジウム、酸化インジウム・スズ、酸化 スズ、不純物を添加した酸化スズおよび不純物を添加した酸化亜鉛で構成された グループから選択される、請求項３１記載のエレクトロクロミック・ミラー。 ３５．前記反射材層が銀である、請求項３０記載のエレクトロクロミック・ミラ ー。 ３６．前記エレクトロクロミック媒体がエレクトロクロミック固体膜から成る、 請求項３０記載のエレクトロクロミック・ミラー。 ３７、前記エレクトロクロミック固体膜が無機遷移金属酸化物である、請求項３ ６記載のエレクトロクロミック・ミラー。 ３８．前記エレクトロクロミック固体膜が酸化タングステンである、請求項３７ 記載のエレクトロクロミック・ミラー。 ３９．さらに、酸化還元反応促進剤から成る電解質から成り、前記電解質が前記 空洞内に配給され、そこに制約される、請求項３０記載のエレクトロクロミック ・ミラー。 ４０．前記酸化還元反応促進剤が、フェノチアジンと組み合わせたメタロセンか ら成る、請求頂３９記載のエレクトロクロミック・ミラー。 ４１．前記酸化還元反応促進剤がフェロセンから成る、請求項４０記載のエレク トロクロミック・ミラー。 ４２．前記酸化還元反応促進剤がフェノチアジンから成る、請求項４０記載のエ レクトロクロミック・ミラー。 ４３．前記電解質が、さらに、紫外線安定剤から成る、請求項３９記載のエレク トロクロミック・ミラー。 ４４．前記エレクトロクロミック媒体がエレクトロクロミック溶液から成る、請 求項３０記載のエレクトロクロミック・ミラー。 ４５．前記エレクトロクロミック溶液が、さらに、紫外線安定剤から成る、請求 項４４記載のエレクトロクロミック・ミラー。