JP2022521373A - リフレクタ製造方法及び関連するリフレクタ - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本願は、2019年2月26日出願の欧州特許出願第19159257.5号の優先権を主張し、その内容全体は援用により本明細書に組み込まれる。
1.リフレクタを製造する方法であって、
複数の略平坦な基板のうち、最上層の略平坦な基板の少なくとも最上面を研磨することと、
各略平坦な基板を所望の形状に変形させることと、
変形した基板をともに接合して、リフレクタを形成することと、
を含む方法。
2.変形させるステップ及び接合するステップは、金型を使用してともに実行される、条項1に規定の方法。
3.変形させるステップ及び接合するステップは、各基板について、
金型内で基板を個々に変形させることと、
基板を先行の基板に接合して、リフレクタを規定する積層を形成することと、の繰り返しを含む、
条項2に規定の方法。
4.金型から離型させるため、接合された基板をさらに変形するように、事前補正を加えて、金型を形成することを含む、条項3に規定の方法。
5.基板の接合には、接着剤を用いずに実行される融着接合方法が含まれる、条項1から4のいずれかに規定の方法。
6.略平坦な基板のすべての接合面を研磨することにより、融着接合方法を促進することを含む、条項5に規定の方法。
7.最上層の基板の最上面は、他の接合面よりも高い水準まで研磨される、条項6に規定の方法。
8.他の接合面は、化学機械研磨法を使用して研磨される、条項7に規定の方法。
9.方法は、リフレクタが、以下の品質、すなわち、表面粗さが0.1nm RMS未満であること、傾斜誤差が1μrad RMS未満であること、形状誤差が山谷間で1nm未満であることのうちの少なくとも一部を有するようにするものである、条項1から8のいずれかに規定の方法。
10.基板には、シリコン基板が含まれる、条項1から9のいずれかに規定の方法。
11.最上層の基板の少なくとも最上面を研磨することは、磁気粘弾性流体研磨、イオンビーム成形、又は弾性発光加工プロセスを使用して実行される、条項1から10のいずれかに規定の方法。
12.接合するステップに先立ち、基板を薄化するステップを含む、条項1から11のいずれかに規定の方法。
13.変形させるステップに先立ち、最上層の略平坦な基板の最上面の前の上面に、格子をパターニングするステップを含む、条項1から12のいずれかに規定の方法。
14.格子には、分光計格子が含まれる、条項13に規定の方法。
15.格子には、フラットフィールド分光計用の線変動空間格子が含まれる、条項13に規定の方法。
16.格子をパターニングするステップは、リソグラフィ装置を使用して実行される、条項13、14、又は15に規定の方法。
17.格子をパターニングするステップは、ホログラフィ技術を使用して実行される、条項13、14、又は15に規定の方法。
18.略平坦な基板のうちの1つ以上に、少なくとも1つのアクチュエータを埋め込むことを含み、アクチュエータは、リフレクタを変形させるように動作可能である、条項1から17のいずれかに規定の方法。
19.アクチュエータは、残りの製造誤差を補正するように動作可能である、条項18に規定の方法。
20.アクチュエータは、フリーフォーム補正等、追加の形状コンポーネントを与えるように動作可能である、条項18又は19に規定の方法。
21.アクチュエータは、接合された基板内に埋め込まれた熱アクチュエータを含む、条項18、19、又は20に規定の方法。
22.アクチュエータは、圧電アクチュエータである、条項18、19、又は20に規定の方法。
23.リフレクタ内にイメージセンサを埋め込むことを含む、条項1から22のいずれかに規定の方法。
24.画像検出器は、入射するビームのフットプリントを検出するように動作可能である、条項23に規定の方法。
25.画像検出器は、画素毎に複数のコーティングを含み、入射するビームからスペクトル情報を生成するように動作可能である、条項23又は24に規定の方法。
26.条項1から25のいずれかに規定の方法によって製造された、リフレクタ。
27.条項26に規定された少なくとも1つのリフレクタを備える、照明サブシステム。
28.条項27に規定された照明サブシステムを備える、計測装置。
29.条項27に規定された照明サブシステムを備える、リソグラフィ装置。
Claims (15)
- 計測装置用のリフレクタを製造する方法であって、
複数の略平坦な基板のうち、最上層の略平坦な基板の少なくとも最上面を研磨することと、
各略平坦な基板を所望の形状に変形させることと、
前記変形した基板をともに接合して、前記リフレクタを形成することと、
を含む方法。 - 前記変形させるステップ及び前記接合するステップは、金型を使用してともに実行される、請求項1に記載の方法。
- 前記変形させるステップ及び前記接合するステップは、各基板に対して、
前記金型内で前記基板を個々に変形させることと、
前記基板を先行する基板に接合して、前記リフレクタを規定する積層を形成することと、の繰り返しを含み、
前記方法は、任意で、前記金型から離型させるため、前記接合された基板をさらに変形するように、事前補正を加えて、前記金型を形成することをさらに含む、
請求項2に記載の方法。 - 前記基板の接合には、接着剤を用いずに実行される融着接合方法が含まれる、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- 前記略平坦な基板のすべての接合面を研磨することにより、前記融着接合方法を促進することを含む、請求項4に記載の方法。
- 前記最上層の基板の前記最上面は、他の接合面よりも高い水準まで研磨され、
任意で、前記他の接合面は、化学機械研磨法を使用して研磨される、
請求項5に記載の方法。 - 前記方法は、前記リフレクタが、以下の品質、すなわち、表面粗さが0.1nm RMS未満であること、傾斜誤差が1μrad RMS未満であること、形状誤差が山谷間で1nm未満であることのうちの少なくとも一部を有するようにするものである、請求項1から6のいずれかに記載の方法。
- 前記最上層の基板の少なくとも前記最上面を研磨することは、磁気粘弾性流体研磨、イオンビーム成形、又は弾性発光加工プロセスを使用して実行される、請求項1から7のいずれかに記載の方法。
- 前記接合するステップに先立ち、前記基板を薄化するステップを含む、請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- 前記変形させるステップに先立ち、前記最上層の略平坦な基板の前記最上面の前の上面に、格子をパターニングするステップを含む、請求項1から9のいずれかに記載の方法。
- 前記格子には、フラットフィールド分光計用の線変動空間格子が含まれる、請求項10に記載の方法。
- 前記略平坦な基板のうちの1つ以上に、少なくとも1つのアクチュエータを埋め込むことを含み、前記アクチュエータは、前記リフレクタを変形させるように動作可能であり、
任意で、前記アクチュエータは、前記接合された基板内に埋め込まれた熱アクチュエータを含む、
請求項1から11のいずれかに記載の方法。 - 前記リフレクタ内にイメージセンサを埋め込むことを含み、
任意で、前記画像検出器は、入射するビームのフットプリントを検出するように動作可能である、
請求項1から12のいずれかに記載の方法。 - 請求項1から13に記載の方法で製造された、計測装置用のリフレクタ。
- 請求項14に記載の少なくとも1つのリフレクタを備える照明サブシステムを備える、計測装置。
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