JPH10189406A - 鏡面ウェーハの接合装置 - Google Patents
鏡面ウェーハの接合装置Info
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- JPH10189406A JPH10189406A JP35086796A JP35086796A JPH10189406A JP H10189406 A JPH10189406 A JP H10189406A JP 35086796 A JP35086796 A JP 35086796A JP 35086796 A JP35086796 A JP 35086796A JP H10189406 A JPH10189406 A JP H10189406A
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- wafer
- mirror
- wafers
- pressing
- bonding
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 自動的に、ボイドを発生させることなくウェ
ーハの接合を行う。 【解決手段】 第1の鏡面ウェーハを複数枚収納する第
1の収納部23と、第2の鏡面ウェーハを複数枚収納す
る第2の収納部24と、第1の鏡面ウェーハおよび第2
の鏡面ウェーハを支持可能な、水平方向に対して所要の
角度をなして固定されたウェーハの支持台4と、第1の
収納部23から第1の鏡面ウェーハを1枚宛取出し、支
持台4にその鏡面側を上方に向けて支持させると共に、
第2の収納部24から第2の鏡面ウェーハを1枚宛取出
してその鏡面側を支持台4に支持されている第1の鏡面
ウェーハの鏡面側と対向させて第1の鏡面ウェーハに重
ね合わせるようにして支持台4に支持させるロボット装
置25と、上記重ね合わせられた第2の鏡面ウェーハを
第1の鏡面ウェーハ側に押圧する押圧装置31とを具備
することを特徴としている。
ーハの接合を行う。 【解決手段】 第1の鏡面ウェーハを複数枚収納する第
1の収納部23と、第2の鏡面ウェーハを複数枚収納す
る第2の収納部24と、第1の鏡面ウェーハおよび第2
の鏡面ウェーハを支持可能な、水平方向に対して所要の
角度をなして固定されたウェーハの支持台4と、第1の
収納部23から第1の鏡面ウェーハを1枚宛取出し、支
持台4にその鏡面側を上方に向けて支持させると共に、
第2の収納部24から第2の鏡面ウェーハを1枚宛取出
してその鏡面側を支持台4に支持されている第1の鏡面
ウェーハの鏡面側と対向させて第1の鏡面ウェーハに重
ね合わせるようにして支持台4に支持させるロボット装
置25と、上記重ね合わせられた第2の鏡面ウェーハを
第1の鏡面ウェーハ側に押圧する押圧装置31とを具備
することを特徴としている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、同形の2枚の鏡面
ウェーハを接合する鏡面ウェーハの接合装置に関する。
ウェーハを接合する鏡面ウェーハの接合装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、鏡面研摩された2枚のシリコンウ
ェーハ、あるいは少なくともその一方にシリコン酸化膜
または窒化膜を形成させたシリコンウェーハの鏡面同士
を清浄な条件下で接触させると、接着剤等を用いなくと
も、ウェーハ同士は接着する(以後、この状態を接合と
称する)。しかし、この接合状態は完全なものではない
ので、その後、これらに熱処理を加えると、ウェーハ同
士は強固に接着する(以後、この状態を結合と称す
る)。この後者の、少なくとも一方のウェーハの表面を
酸化した2枚のシリコンウェーハを、その酸化膜を介し
て結合させたものがSOI(Silicon On Insulator)ウ
ェーハである。
ェーハ、あるいは少なくともその一方にシリコン酸化膜
または窒化膜を形成させたシリコンウェーハの鏡面同士
を清浄な条件下で接触させると、接着剤等を用いなくと
も、ウェーハ同士は接着する(以後、この状態を接合と
称する)。しかし、この接合状態は完全なものではない
ので、その後、これらに熱処理を加えると、ウェーハ同
士は強固に接着する(以後、この状態を結合と称す
る)。この後者の、少なくとも一方のウェーハの表面を
酸化した2枚のシリコンウェーハを、その酸化膜を介し
て結合させたものがSOI(Silicon On Insulator)ウ
ェーハである。
【0003】このようなSOIウェーハは、ウェーハ間
に接着剤等の異種物質を介在させる必要がないため、そ
の後の高温処理や各種化学処理が自由にでき、またpn
接合や誘電体埋め込みも簡便にできるという利点を有す
る。さらに平坦度、清浄度等の薄膜化技術の向上と相ま
つて、その実用化が注目されている。
に接着剤等の異種物質を介在させる必要がないため、そ
の後の高温処理や各種化学処理が自由にでき、またpn
接合や誘電体埋め込みも簡便にできるという利点を有す
る。さらに平坦度、清浄度等の薄膜化技術の向上と相ま
つて、その実用化が注目されている。
【0004】ところで、上記のように2枚の鏡面ウェー
ハを接合する場合には、ウェーハの微妙な反り等により
接合面の一部に気泡が取り込まれ、接合不良(ボイド)
を発生させることから、例えば特公平6−1790号公
報に示すように、一方の半導体ウェーハを、中央部が凸
型となるようにたわませて保持できる支持台上に載せ
て、他方の半導体ウェーハを前記支持台上に対向して保
持できるホルダーに保持し、前記ホルダーを下降させ
て、他方の半導体ウェーハを一方の半導体ウェーハの凸
部に接触させた後、支持台による一方の半導体ウェーハ
の保持を解除することにより、両ウェーハを接合させる
方法が開示されている。
ハを接合する場合には、ウェーハの微妙な反り等により
接合面の一部に気泡が取り込まれ、接合不良(ボイド)
を発生させることから、例えば特公平6−1790号公
報に示すように、一方の半導体ウェーハを、中央部が凸
型となるようにたわませて保持できる支持台上に載せ
て、他方の半導体ウェーハを前記支持台上に対向して保
持できるホルダーに保持し、前記ホルダーを下降させ
て、他方の半導体ウェーハを一方の半導体ウェーハの凸
部に接触させた後、支持台による一方の半導体ウェーハ
の保持を解除することにより、両ウェーハを接合させる
方法が開示されている。
【0005】他方、上記の接合方法とは別の例として、
特開平5−152549号公報で開示されている方法が
ある。この方法は図7に示すように、接合面に酸化膜を
形成させたベースウェーハ1aおよびボンドウェーハ1
bを、常温下で少なくとも雰囲気の清浄度がクラス10
00以上のクリーンベンチ内において、ベースウェーハ
1aを真空吸着台2にほぼ水平状態で吸着固定させた
後、ボンドウェーハ1bをそのOF部(オリエンテーシ
ョンフラット部)2bの近傍部分11bを真空ピンセッ
ト3によって吸着させる。そして、真空ピンセット3の
操作によりボンドウェーハ1bのOF部2bの方がやや
下がり気味となるように前記ボンドウェーハ1bを傾
け、その状態で、ベースウェーハ1a上方位置から、ボ
ンドウェーハ1bを下降させてゆき、ボンドウェーハ1
bのOF部2bの接合面の縁とベースウェーハ1aのO
F部2aの接合面側の縁とを軽く突き当て接触させる。
次いで、両ウェーハのOF部2a、2bとは反対側の端
部3a、3b同士の間隔が約1mmになるまで接近さ
せ、その後、真空ピンセット3によるボンドウェーハ1
bの吸着を止める。するとボンドウェーハ1bは、ベー
スウェーハ1aとの初期の突き当て部であるOF部2a
の接合面側の縁を支点として自重により回転し、最終的
にベースウェーハ1a全面とボンドウェーハ1b全面と
が接触し、OF部に押圧力を与え、OF部2a、2bか
ら他側3a、3bへ向け順次に接合を進行させるという
方法である。
特開平5−152549号公報で開示されている方法が
ある。この方法は図7に示すように、接合面に酸化膜を
形成させたベースウェーハ1aおよびボンドウェーハ1
bを、常温下で少なくとも雰囲気の清浄度がクラス10
00以上のクリーンベンチ内において、ベースウェーハ
1aを真空吸着台2にほぼ水平状態で吸着固定させた
後、ボンドウェーハ1bをそのOF部(オリエンテーシ
ョンフラット部)2bの近傍部分11bを真空ピンセッ
ト3によって吸着させる。そして、真空ピンセット3の
操作によりボンドウェーハ1bのOF部2bの方がやや
下がり気味となるように前記ボンドウェーハ1bを傾
け、その状態で、ベースウェーハ1a上方位置から、ボ
ンドウェーハ1bを下降させてゆき、ボンドウェーハ1
bのOF部2bの接合面の縁とベースウェーハ1aのO
F部2aの接合面側の縁とを軽く突き当て接触させる。
次いで、両ウェーハのOF部2a、2bとは反対側の端
部3a、3b同士の間隔が約1mmになるまで接近さ
せ、その後、真空ピンセット3によるボンドウェーハ1
bの吸着を止める。するとボンドウェーハ1bは、ベー
スウェーハ1aとの初期の突き当て部であるOF部2a
の接合面側の縁を支点として自重により回転し、最終的
にベースウェーハ1a全面とボンドウェーハ1b全面と
が接触し、OF部に押圧力を与え、OF部2a、2bか
ら他側3a、3bへ向け順次に接合を進行させるという
方法である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の特公平6−1790号公報に記載された接合方法に
おいては、接合するための装置が複雑で、大規模とな
り、それに伴う設備コストが高くなるという問題があ
り、また接合するために一方のウェーハを支持台上にた
わませて保持させるため、ウェーハに余分な力が加わっ
て傷ついたり、割れたりするという問題があった。この
方法によって、ウェーハ接合面の気泡の取り込みを少な
くすることが可能となったが、必ずしも満足のいく気泡
取り込みの解消とはならなかった。
来の特公平6−1790号公報に記載された接合方法に
おいては、接合するための装置が複雑で、大規模とな
り、それに伴う設備コストが高くなるという問題があ
り、また接合するために一方のウェーハを支持台上にた
わませて保持させるため、ウェーハに余分な力が加わっ
て傷ついたり、割れたりするという問題があった。この
方法によって、ウェーハ接合面の気泡の取り込みを少な
くすることが可能となったが、必ずしも満足のいく気泡
取り込みの解消とはならなかった。
【0007】また上記従来の特開平5−152549号
公報に記載された接合方法においては、真空ピンセット
3の操作によりボンドウェーハ1bのOF部2bの接合
面の縁をベースウェーハ1aのOF部2aの接合面側の
縁に接触させた後、両ウェーハのOF部2a、2bとは
反対側の端部3a、3b同士の間隔を約1mm以下に
し、ボンドウェーハ1bの吸着状態を解除して自重によ
り接触させて、その後、すみやかに押圧力を与えること
により接合させるという微妙な位置調整と押圧タイミン
グを熟練作業者の手動操作によって行わなければならな
いため、作業性に不利があり、機械化によって量産を行
うことができず、生産効率が悪いという問題があった。
また、この接合方法においても、ウェーハ接合面の気泡
の取り込み(すなわちボイド)を少なくできるが、ボン
ドウェーハの自重が押圧力として作用し、ウェーハ鏡面
の複数の場所から接合が自然に始まり、気泡を取り込ん
でしまったり、あるいは接合面のOF部近傍部分に接合
不良(ボイド)が発生しやすく、完全な接合ができない
という不利があった。
公報に記載された接合方法においては、真空ピンセット
3の操作によりボンドウェーハ1bのOF部2bの接合
面の縁をベースウェーハ1aのOF部2aの接合面側の
縁に接触させた後、両ウェーハのOF部2a、2bとは
反対側の端部3a、3b同士の間隔を約1mm以下に
し、ボンドウェーハ1bの吸着状態を解除して自重によ
り接触させて、その後、すみやかに押圧力を与えること
により接合させるという微妙な位置調整と押圧タイミン
グを熟練作業者の手動操作によって行わなければならな
いため、作業性に不利があり、機械化によって量産を行
うことができず、生産効率が悪いという問題があった。
また、この接合方法においても、ウェーハ接合面の気泡
の取り込み(すなわちボイド)を少なくできるが、ボン
ドウェーハの自重が押圧力として作用し、ウェーハ鏡面
の複数の場所から接合が自然に始まり、気泡を取り込ん
でしまったり、あるいは接合面のOF部近傍部分に接合
不良(ボイド)が発生しやすく、完全な接合ができない
という不利があった。
【0008】そこで、本発明は上記問題点を解決すべく
なされたものであり、その目的とするところは、簡易な
装置であって、自動的な接合が行え、しかもボイドの発
生を防止できる鏡面ウェーハの接合装置を提供するにあ
る。
なされたものであり、その目的とするところは、簡易な
装置であって、自動的な接合が行え、しかもボイドの発
生を防止できる鏡面ウェーハの接合装置を提供するにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため次の構成を備える。すなわち、同形の2枚のウ
ェーハの鏡面同士を重ね合わせて接合するための装置で
あって、第1の鏡面ウェーハを複数枚収納する第1の収
納部と、第2の鏡面ウェーハを複数枚収納する第2の収
納部と、前記第1の鏡面ウェーハおよび前記第2の鏡面
ウェーハを支持可能な、水平方向に対して所要の角度を
なして固定されたウェーハ支持台と、前記第1の収納部
から第1の鏡面ウェーハを1枚宛取出し、前記支持台に
その鏡面側を上方に向けて支持させると共に、前記第2
の収納部から第2の鏡面ウェーハを1枚宛取出してその
鏡面側を前記支持台に支持されている第1の鏡面ウェー
ハの鏡面側と対向させて第1の鏡面ウェーハに重ね合わ
せるようにして前記支持台に支持させるロボット装置
と、上記重ね合わせられた第2の鏡面ウェーハを第1の
鏡面ウェーハ側に押圧する押圧装置とを具備することを
特徴としている。
するため次の構成を備える。すなわち、同形の2枚のウ
ェーハの鏡面同士を重ね合わせて接合するための装置で
あって、第1の鏡面ウェーハを複数枚収納する第1の収
納部と、第2の鏡面ウェーハを複数枚収納する第2の収
納部と、前記第1の鏡面ウェーハおよび前記第2の鏡面
ウェーハを支持可能な、水平方向に対して所要の角度を
なして固定されたウェーハ支持台と、前記第1の収納部
から第1の鏡面ウェーハを1枚宛取出し、前記支持台に
その鏡面側を上方に向けて支持させると共に、前記第2
の収納部から第2の鏡面ウェーハを1枚宛取出してその
鏡面側を前記支持台に支持されている第1の鏡面ウェー
ハの鏡面側と対向させて第1の鏡面ウェーハに重ね合わ
せるようにして前記支持台に支持させるロボット装置
と、上記重ね合わせられた第2の鏡面ウェーハを第1の
鏡面ウェーハ側に押圧する押圧装置とを具備することを
特徴としている。
【0010】また、接合された接合ウェーハを収納する
第3の収納部を設け、前記ロボット装置により、前記支
持台上から前記接合ウェーハを取出し、前記第3の収納
部に収納するようにすると好適である。さらに、ウェー
ハのセンタリング装置を設け、前記ロボット装置によ
り、前記第1の鏡面ウェーハおよび第2の鏡面ウェーハ
を一旦前記センタリング装置に載置してセンタリング装
置によりウェーハのセンタリングを行った後、前記支持
台に第1および第2の鏡面ウェーハを搬入するようにす
ると好適である。また、前記支持台の水平方向に対する
角度を調整可能に設けることにより、微妙なボイドの発
生を好適に防止することができる。前記支持台の水平方
向に対する角度を70°〜90°にすることにより、ボ
イドの発生を極力防止できる。
第3の収納部を設け、前記ロボット装置により、前記支
持台上から前記接合ウェーハを取出し、前記第3の収納
部に収納するようにすると好適である。さらに、ウェー
ハのセンタリング装置を設け、前記ロボット装置によ
り、前記第1の鏡面ウェーハおよび第2の鏡面ウェーハ
を一旦前記センタリング装置に載置してセンタリング装
置によりウェーハのセンタリングを行った後、前記支持
台に第1および第2の鏡面ウェーハを搬入するようにす
ると好適である。また、前記支持台の水平方向に対する
角度を調整可能に設けることにより、微妙なボイドの発
生を好適に防止することができる。前記支持台の水平方
向に対する角度を70°〜90°にすることにより、ボ
イドの発生を極力防止できる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明装
置のうちのウェーハの接合部1を示す説明図である。こ
の接合部1は、同形の2枚の鏡面ウェーハW1、W2の
鏡面同士を重ね合わせて接合する部位であり、その第1
の鏡面ウェーハ(ここではベースウェーハとする)W1
に第2の鏡面ウェーハ(ここではボンドウェーハとす
る)W2を、その鏡面同士を互いに対向し、ボンドウェ
ーハW2の自重の分力による荷重により、接合が直ちに
開始しないように、静かに重ね合わせるための支持台4
と、支持台4の一端に取り付けられる押圧駆動部5と、
押圧駆動部5から延びる押圧アーム6と、押圧アーム6
の先端に取り付けられ、両鏡面ウェーハ中のボンドウェ
ーハW2の面取角部に押し当てて押圧する凸型曲面形状
の押圧部材7とから主に構成されている。
を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明装
置のうちのウェーハの接合部1を示す説明図である。こ
の接合部1は、同形の2枚の鏡面ウェーハW1、W2の
鏡面同士を重ね合わせて接合する部位であり、その第1
の鏡面ウェーハ(ここではベースウェーハとする)W1
に第2の鏡面ウェーハ(ここではボンドウェーハとす
る)W2を、その鏡面同士を互いに対向し、ボンドウェ
ーハW2の自重の分力による荷重により、接合が直ちに
開始しないように、静かに重ね合わせるための支持台4
と、支持台4の一端に取り付けられる押圧駆動部5と、
押圧駆動部5から延びる押圧アーム6と、押圧アーム6
の先端に取り付けられ、両鏡面ウェーハ中のボンドウェ
ーハW2の面取角部に押し当てて押圧する凸型曲面形状
の押圧部材7とから主に構成されている。
【0012】この支持台4は、ベースウェーハW1を載
置できるような平板であって、水平方向に対して所定の
角度に傾斜できるように基台8によって支えられてい
る。支持台4の傾斜角度は重要であり、水平方向に対し
て70°〜90°の範囲に設定するのが好ましい。この
傾斜角度が70°の角度より小さいとベースウェーハW
1に接合されるボンドウェーハW2との自重接合がすぐ
始まってしまい機械化が困難となり、しかもボイドが発
生しやすくなるという問題があり、逆に90°の角度よ
り大きいと、ベースウェーハW1が支持台4より下方と
なりウェーハの保持ができなくなるので好ましくない。
支持台4の傾斜角度が70°〜90°の範囲では、ボン
ドウェーハW2のベースウェーハW1に対する自重の分
力による荷重がそれ程大きくなく、直ちには自重接合が
開始しないので、その間に押圧部材7で押圧することに
よって両ウェーハの接合を進行させることができる。つ
まり接合の管理が容易となり、手動による微妙な操作が
必要なくなり、自動化が可能となった。
置できるような平板であって、水平方向に対して所定の
角度に傾斜できるように基台8によって支えられてい
る。支持台4の傾斜角度は重要であり、水平方向に対し
て70°〜90°の範囲に設定するのが好ましい。この
傾斜角度が70°の角度より小さいとベースウェーハW
1に接合されるボンドウェーハW2との自重接合がすぐ
始まってしまい機械化が困難となり、しかもボイドが発
生しやすくなるという問題があり、逆に90°の角度よ
り大きいと、ベースウェーハW1が支持台4より下方と
なりウェーハの保持ができなくなるので好ましくない。
支持台4の傾斜角度が70°〜90°の範囲では、ボン
ドウェーハW2のベースウェーハW1に対する自重の分
力による荷重がそれ程大きくなく、直ちには自重接合が
開始しないので、その間に押圧部材7で押圧することに
よって両ウェーハの接合を進行させることができる。つ
まり接合の管理が容易となり、手動による微妙な操作が
必要なくなり、自動化が可能となった。
【0013】この角度範囲に両ウェーハを保持するため
に、支持台4の所定位置にウェーハ保持用の保持部材
9、9′が2つ対称位置に取り付けられている。この保
持部材9、9′は、通常、支持台4にほぼ垂直に取り付
けられた棒状体、特にピンで構成され、両ウェーハが支
持台4から滑り落ちないように支えることができるよう
になっている。支持台4の一端、例えば下端側には、押
圧駆動部5が取り付けられており、この押圧駆動部5に
押圧アーム6が取り付けられ、この押圧アーム6は押圧
駆動部5により回動可能に設けられている。押圧駆動部
5は正逆モータ等によって構成できる。
に、支持台4の所定位置にウェーハ保持用の保持部材
9、9′が2つ対称位置に取り付けられている。この保
持部材9、9′は、通常、支持台4にほぼ垂直に取り付
けられた棒状体、特にピンで構成され、両ウェーハが支
持台4から滑り落ちないように支えることができるよう
になっている。支持台4の一端、例えば下端側には、押
圧駆動部5が取り付けられており、この押圧駆動部5に
押圧アーム6が取り付けられ、この押圧アーム6は押圧
駆動部5により回動可能に設けられている。押圧駆動部
5は正逆モータ等によって構成できる。
【0014】この押圧アーム6は、通常、長尺な棒状体
で、アルミニウムやステンレスのような金属材料で構成
され、先端部がウェーハの押圧部に向かって垂直に当た
るように、または力がかけられるような形状に形成され
ている。この押圧アーム6の先端には、ボンドウェーハ
W2を柔らかく押圧するための押圧部材7が取り付けら
れている。この押圧部材7のウェーハを押圧する面は、
凸型曲面形状とするのが好ましく、例えば球面、円柱面
などとするのがよい。また押圧部材7は弾性体、例えば
ゴムや合成樹脂成形体などを用いる。この押圧部材7の
曲面の一部(例えば稜線部)がボンドウェーハW2の面
取角部10を押圧できるように押圧アーム6が作動され
る。なお、面取角部とは、ウェーハの縁が面取りされて
いるものではその角部付近を指し、ウェーハの縁が曲面
加工されているものでは、その曲面加工始点付近を指す
もので、両者を包含する意味である。本実施の形態で
は、押圧駆動部5、押圧アーム6、押圧部材7等により
ウェーハの押圧装置が構成されるが、この押圧装置は、
シリンダ装置によっても構成できる。
で、アルミニウムやステンレスのような金属材料で構成
され、先端部がウェーハの押圧部に向かって垂直に当た
るように、または力がかけられるような形状に形成され
ている。この押圧アーム6の先端には、ボンドウェーハ
W2を柔らかく押圧するための押圧部材7が取り付けら
れている。この押圧部材7のウェーハを押圧する面は、
凸型曲面形状とするのが好ましく、例えば球面、円柱面
などとするのがよい。また押圧部材7は弾性体、例えば
ゴムや合成樹脂成形体などを用いる。この押圧部材7の
曲面の一部(例えば稜線部)がボンドウェーハW2の面
取角部10を押圧できるように押圧アーム6が作動され
る。なお、面取角部とは、ウェーハの縁が面取りされて
いるものではその角部付近を指し、ウェーハの縁が曲面
加工されているものでは、その曲面加工始点付近を指す
もので、両者を包含する意味である。本実施の形態で
は、押圧駆動部5、押圧アーム6、押圧部材7等により
ウェーハの押圧装置が構成されるが、この押圧装置は、
シリンダ装置によっても構成できる。
【0015】なお、鏡面ウェーハとは、通常の半導体材
料からなる鏡面ウェーハを指すが、その材質としては、
半導体材料(シリコン、化合物半導体)、酸化物単結晶
やセラミックス材料(石英その他の各種のセラミック
ス)を含むものである。したがってその接合体は、シリ
コン鏡面ウェーハを基準にするとき、シリコン−シリコ
ン直接接合、シリコン−Si02 膜−シリコン接合(S
OI)、あるいはシリコン−Si02 (石英)接合等が
包含される。また本発明でいう接合とは、上記従来技術
で説明したように、鏡面研摩された2枚のシリコンウェ
ーハ、あるいは少なくともその一方にシリコン酸化膜ま
たは窒化膜を形成させたシリコンウェーハの鏡面同士を
清浄な条件下で接触させ、接着剤等を用いずにウェーハ
同士を接着させることである。さらに本発明でいう結合
とは、上記従来技術で説明したように、接合状態のウェ
ーハに熱処理等を加えて、ウェーハ同士を強固に接着す
ることである。
料からなる鏡面ウェーハを指すが、その材質としては、
半導体材料(シリコン、化合物半導体)、酸化物単結晶
やセラミックス材料(石英その他の各種のセラミック
ス)を含むものである。したがってその接合体は、シリ
コン鏡面ウェーハを基準にするとき、シリコン−シリコ
ン直接接合、シリコン−Si02 膜−シリコン接合(S
OI)、あるいはシリコン−Si02 (石英)接合等が
包含される。また本発明でいう接合とは、上記従来技術
で説明したように、鏡面研摩された2枚のシリコンウェ
ーハ、あるいは少なくともその一方にシリコン酸化膜ま
たは窒化膜を形成させたシリコンウェーハの鏡面同士を
清浄な条件下で接触させ、接着剤等を用いずにウェーハ
同士を接着させることである。さらに本発明でいう結合
とは、上記従来技術で説明したように、接合状態のウェ
ーハに熱処理等を加えて、ウェーハ同士を強固に接着す
ることである。
【0016】本実施の形態では、2枚の鏡面ウェーハと
して第1の鏡面ウェーハと第2の鏡面ウェーハ、すなわ
ちベースウェーハとボンドウェーハを接合するが、半導
体材料の場合、ベースウェーハとは、ボンドウェーハに
半導体素子を形成するときそれを支持するウェーハのこ
とであり、ボンドウェーハとは、上記ベースウェーハの
上面に接合され、半導体素子を形成する層となるウェー
ハのことである。本実施の形態において、上記のよう
に、第1の鏡面ウェーハをベースウェーハとし、第2の
鏡面ウェーハをボンドウェーハとして接合するが、これ
を逆にして第1の鏡面ウェーハをボンドウェーハとし、
第2の鏡面ウェーハをベースウェーハとしてもよいこと
はもちろんである。
して第1の鏡面ウェーハと第2の鏡面ウェーハ、すなわ
ちベースウェーハとボンドウェーハを接合するが、半導
体材料の場合、ベースウェーハとは、ボンドウェーハに
半導体素子を形成するときそれを支持するウェーハのこ
とであり、ボンドウェーハとは、上記ベースウェーハの
上面に接合され、半導体素子を形成する層となるウェー
ハのことである。本実施の形態において、上記のよう
に、第1の鏡面ウェーハをベースウェーハとし、第2の
鏡面ウェーハをボンドウェーハとして接合するが、これ
を逆にして第1の鏡面ウェーハをボンドウェーハとし、
第2の鏡面ウェーハをベースウェーハとしてもよいこと
はもちろんである。
【0017】次に、両鏡面ウェーハの接合状況について
説明する。同形の2枚の鏡面ウェーハ、すなわち、第1
の鏡面ウェーハ(ここではベースウェーハとする)W1
と第2の鏡面ウェーハ(ここではボンドウェーハとす
る)W2の鏡面同士を重ね合わせて接合するものである
が、予め水平方向に対して70°〜90°の角度で固定
された支持台4に、ベースウェーハW1をその鏡面が表
側になるようにして凭せ掛け、これにボンドウェーハW
2の鏡面をベースウェーハW1の鏡面と互いに対向し、
ボンドウェーハW2の自重の分力による荷重により、接
合がただちに開始しないように、ベースウェーハW1に
静かに重ねあわせた後、ボンドウェーハW2の面取角部
10の一端に、凸型曲面形状の押圧面を有する押圧部材
7の押圧面を押し当てて軽く押圧し、その押圧部分より
2枚の鏡面ウェーハの接合を開始させて2枚のウェーハ
W1とW2を接合させるものである。
説明する。同形の2枚の鏡面ウェーハ、すなわち、第1
の鏡面ウェーハ(ここではベースウェーハとする)W1
と第2の鏡面ウェーハ(ここではボンドウェーハとす
る)W2の鏡面同士を重ね合わせて接合するものである
が、予め水平方向に対して70°〜90°の角度で固定
された支持台4に、ベースウェーハW1をその鏡面が表
側になるようにして凭せ掛け、これにボンドウェーハW
2の鏡面をベースウェーハW1の鏡面と互いに対向し、
ボンドウェーハW2の自重の分力による荷重により、接
合がただちに開始しないように、ベースウェーハW1に
静かに重ねあわせた後、ボンドウェーハW2の面取角部
10の一端に、凸型曲面形状の押圧面を有する押圧部材
7の押圧面を押し当てて軽く押圧し、その押圧部分より
2枚の鏡面ウェーハの接合を開始させて2枚のウェーハ
W1とW2を接合させるものである。
【0018】このように重ね合わせて保持された上記ウ
ェーハW2の面取角部10(曲面加工の場合ウェーハ縁
曲面加工始点)の一端を押圧する。この一端の押圧位置
は、面取角部とその近傍の任意の一点であればよく、こ
の押圧位置を押圧部材7の押圧面で軽く押圧して、2枚
のウェーハW1とW2の接合を開始させるのである。こ
のときの押圧力は、各鏡面ウェーハの表面粗さや清浄度
等によっても異なるが、通常、100g〜1000g、
好ましくは500g程度である。
ェーハW2の面取角部10(曲面加工の場合ウェーハ縁
曲面加工始点)の一端を押圧する。この一端の押圧位置
は、面取角部とその近傍の任意の一点であればよく、こ
の押圧位置を押圧部材7の押圧面で軽く押圧して、2枚
のウェーハW1とW2の接合を開始させるのである。こ
のときの押圧力は、各鏡面ウェーハの表面粗さや清浄度
等によっても異なるが、通常、100g〜1000g、
好ましくは500g程度である。
【0019】図2、図3により両ウェーハを接合する場
合、押圧部材7によるボンドウェーハW2の押圧方向に
ついて説明する。この押圧部材7による押圧方向を所要
方向に設定することによりさらに好ましい接合が可能と
なるのである。その押圧方向は、ウェーハ縁の曲面形状
により異なる。まず、ウェーハの縁が面取加工されたウ
ェーハでは、ボンドウェーハW2の押圧部位における面
取部角度をθとし、該ウェーハ主面と押圧部材の稜線と
のなす角度をαとするとき、α=1/2×θを基準とす
る方向に押圧することが重要である。この面取部角度θ
は、通常の縁が面取り加工されたウェーハでは、8°、
11°、22°である。この面取部角度θが確定した
後、押圧方向の角度αは、1/2×θを基準としている
が、この範囲は、その±30%の範囲内であれば好まし
く採用される。例えば、θが22°の場合には、αは
7.7°〜14.3°である。
合、押圧部材7によるボンドウェーハW2の押圧方向に
ついて説明する。この押圧部材7による押圧方向を所要
方向に設定することによりさらに好ましい接合が可能と
なるのである。その押圧方向は、ウェーハ縁の曲面形状
により異なる。まず、ウェーハの縁が面取加工されたウ
ェーハでは、ボンドウェーハW2の押圧部位における面
取部角度をθとし、該ウェーハ主面と押圧部材の稜線と
のなす角度をαとするとき、α=1/2×θを基準とす
る方向に押圧することが重要である。この面取部角度θ
は、通常の縁が面取り加工されたウェーハでは、8°、
11°、22°である。この面取部角度θが確定した
後、押圧方向の角度αは、1/2×θを基準としている
が、この範囲は、その±30%の範囲内であれば好まし
く採用される。例えば、θが22°の場合には、αは
7.7°〜14.3°である。
【0020】また、ウェーハの縁が曲面加工されたウェ
ーハでは、図3に示すように、ボンドウェーハW2の縁
曲面加工始点11の近傍を押圧する。その押圧方向β
は、0°〜10°の範囲であり、この範囲内であるとよ
り好適である。このように面取部角度θに対して、押圧
方向の角度αを所定の範囲内に設定することにより、ま
た押圧方向の角度βを所定の範囲内に設定することによ
り、ボイドの発生を解消した完全な接合を行うことがで
きた。上記両ウェーハの接合は、高純度の不活性ガス雰
囲気中で行うのが好ましい。この場合、高純度の不活性
ガスは、半導体製造用の超高純度不活性ガスとして通常
用いられている、例えばN2 、Ar等が挙げられ、清浄
度が米国連邦規格クラス10以上のクリーンルームまた
はクリーンベンチ内で行うことが望ましい。この雰囲気
中で接合を行うことにより、特に化学的汚染物としての
ホウ素(B)による結合界面等の汚染を防御することが
できる。
ーハでは、図3に示すように、ボンドウェーハW2の縁
曲面加工始点11の近傍を押圧する。その押圧方向β
は、0°〜10°の範囲であり、この範囲内であるとよ
り好適である。このように面取部角度θに対して、押圧
方向の角度αを所定の範囲内に設定することにより、ま
た押圧方向の角度βを所定の範囲内に設定することによ
り、ボイドの発生を解消した完全な接合を行うことがで
きた。上記両ウェーハの接合は、高純度の不活性ガス雰
囲気中で行うのが好ましい。この場合、高純度の不活性
ガスは、半導体製造用の超高純度不活性ガスとして通常
用いられている、例えばN2 、Ar等が挙げられ、清浄
度が米国連邦規格クラス10以上のクリーンルームまた
はクリーンベンチ内で行うことが望ましい。この雰囲気
中で接合を行うことにより、特に化学的汚染物としての
ホウ素(B)による結合界面等の汚染を防御することが
できる。
【0021】図4、図5は接合装置20の具体例を示
す。21はクリーンボックスである。クリーンボックス
21内には、第1の鏡面ウェーハ(ベースウェーハW
1)を複数枚収納可能な第1の収納マガジン(収納部)
23と、第2の鏡面ウェーハ(ボンドウェーハW2)を
複数枚収納可能な第2の収納マガジン(収納部)24が
配設されている。両マガジン23、24は棚段式になっ
ていて、各棚段の中央部は開口されていて、この開口部
下方からロボット装置の吸着アームが進入可能で、吸着
アームの先端に設けられた吸着パッドでウェーハの下面
を吸着してウェーハを外部に取出し、搬送可能になって
いる。25はそのロボット装置であり、旋回台25a上
で水平面内で自在に旋回可能になっていると共に、自在
に屈曲する吸着アーム25bとその先端に設けられた吸
着パッド25cを具備する。ロボット装置25は公知の
多関節ロボットを使用できる。
す。21はクリーンボックスである。クリーンボックス
21内には、第1の鏡面ウェーハ(ベースウェーハW
1)を複数枚収納可能な第1の収納マガジン(収納部)
23と、第2の鏡面ウェーハ(ボンドウェーハW2)を
複数枚収納可能な第2の収納マガジン(収納部)24が
配設されている。両マガジン23、24は棚段式になっ
ていて、各棚段の中央部は開口されていて、この開口部
下方からロボット装置の吸着アームが進入可能で、吸着
アームの先端に設けられた吸着パッドでウェーハの下面
を吸着してウェーハを外部に取出し、搬送可能になって
いる。25はそのロボット装置であり、旋回台25a上
で水平面内で自在に旋回可能になっていると共に、自在
に屈曲する吸着アーム25bとその先端に設けられた吸
着パッド25cを具備する。ロボット装置25は公知の
多関節ロボットを使用できる。
【0022】27は位置決め装置である。位置決め装置
27は、ロボット装置25により、第1および第2の収
納マガジン23、24から取り出されたウェーハが一旦
載置されるレールを備えた載置台28を備える。載置台
28は図4の破線位置でロボット装置25からウェーハ
を受け取った後、実線位置まで移動可能となっている。
この移動は図示しないモータが駆動されることによって
行われる。載置台28が実線位置まで移動した側に、ウ
ェーハの一端側が進入可能な空間部を有するセンサ装置
29が配設されている。またこのセンサ装置29には、
上端に吸着部が付いている昇降桿30が配設されてい
る。昇降桿30は図示しない昇降台に設けられていて昇
降可能であると共に、図示しないモータにより軸線を中
心として回転可能になっている。
27は、ロボット装置25により、第1および第2の収
納マガジン23、24から取り出されたウェーハが一旦
載置されるレールを備えた載置台28を備える。載置台
28は図4の破線位置でロボット装置25からウェーハ
を受け取った後、実線位置まで移動可能となっている。
この移動は図示しないモータが駆動されることによって
行われる。載置台28が実線位置まで移動した側に、ウ
ェーハの一端側が進入可能な空間部を有するセンサ装置
29が配設されている。またこのセンサ装置29には、
上端に吸着部が付いている昇降桿30が配設されてい
る。昇降桿30は図示しない昇降台に設けられていて昇
降可能であると共に、図示しないモータにより軸線を中
心として回転可能になっている。
【0023】そして、ウェーハが載置台28の移動によ
り一端側がセンサ装置29の空間部に進入する位置まで
搬送されると、昇降桿30が上昇されてその吸着部によ
りウェーハ下面を吸着保持すると共に、載置台28のレ
ール上からウェーハを受け取り、そして軸線を中心とし
て回転する。センサ装置29では図示しないセンサによ
り、ウェーハのOF部あるいはノッチ部を検出し、この
OF部あるいはノッチ部が所定の位置まできた際に昇降
桿30の回転を停止し、次いで下降してウェーハを載置
台28のレール上に受け渡すのである。これによりウェ
ーハはそのOF部あるいはノッチ部が所定の位置(方
向)にあるように位置決めされる。載置台28は再度図
4の破線位置まで移動してウェーハを搬送する。ウェー
ハはこの位置で再度ロボット装置25による吸着、搬送
を待つ。
り一端側がセンサ装置29の空間部に進入する位置まで
搬送されると、昇降桿30が上昇されてその吸着部によ
りウェーハ下面を吸着保持すると共に、載置台28のレ
ール上からウェーハを受け取り、そして軸線を中心とし
て回転する。センサ装置29では図示しないセンサによ
り、ウェーハのOF部あるいはノッチ部を検出し、この
OF部あるいはノッチ部が所定の位置まできた際に昇降
桿30の回転を停止し、次いで下降してウェーハを載置
台28のレール上に受け渡すのである。これによりウェ
ーハはそのOF部あるいはノッチ部が所定の位置(方
向)にあるように位置決めされる。載置台28は再度図
4の破線位置まで移動してウェーハを搬送する。ウェー
ハはこの位置で再度ロボット装置25による吸着、搬送
を待つ。
【0024】4は前記した支持台であり、基台8に、水
平方向に対して70°〜90°の傾斜角度をなすように
固定されている。31は前記した押圧駆動部5、押圧ア
ーム6、押圧部材7を含む押圧装置である。支持台4
は、図6に示すように、中央にウェーハを受入れ可能な
円形の凹部が形成され、この凹部4aの縁に保持部材
9、9′が脱着可能に設けられている。径の小さな保持
部材9、9′は8インチのウェーハ用、径の大きな保持
部材9、9′は6インチのウェーハ用であり、いずれか
を用いることになる。
平方向に対して70°〜90°の傾斜角度をなすように
固定されている。31は前記した押圧駆動部5、押圧ア
ーム6、押圧部材7を含む押圧装置である。支持台4
は、図6に示すように、中央にウェーハを受入れ可能な
円形の凹部が形成され、この凹部4aの縁に保持部材
9、9′が脱着可能に設けられている。径の小さな保持
部材9、9′は8インチのウェーハ用、径の大きな保持
部材9、9′は6インチのウェーハ用であり、いずれか
を用いることになる。
【0025】また凹部4aの縁下端部には、ウェーハの
ノッチ部に進入可能な突部を有する位置決め板4bが固
定されている。この位置決め板4bは交換可能になって
おり、ウェーハがOF部を有するものの場合には、所定
間隔をおいて2個の突部を有する位置決め板(図示せ
ず)に交換される。OF部はこの2個の突部間に橋渡し
状に支持されるのである。またこの位置決め板4bにウ
ェーハが当接した際に、ウェーハは同時に保持部材9、
9′にも当接し、正確に位置出しされることになる。
ノッチ部に進入可能な突部を有する位置決め板4bが固
定されている。この位置決め板4bは交換可能になって
おり、ウェーハがOF部を有するものの場合には、所定
間隔をおいて2個の突部を有する位置決め板(図示せ
ず)に交換される。OF部はこの2個の突部間に橋渡し
状に支持されるのである。またこの位置決め板4bにウ
ェーハが当接した際に、ウェーハは同時に保持部材9、
9′にも当接し、正確に位置出しされることになる。
【0026】なお、支持台4の凹部4aには切欠4cが
設けられていて、この切欠4cによりロボット装置25
の吸着アーム25bや吸着パッド25cの逃げが可能と
なっている。支持台4の両側端部には、それぞれ2本の
固定ピン32が設けられていて、支持台4はこの固定ピ
ン32が基台8に設けられた長孔に挿通され、ネジ止め
されることにより、水平方向に対する傾斜角度を変更可
能に取り付けられている。33は接合が終了したウェー
ハが収納される第3の収納マガジン(収納部)である。
34はシロッコファンであり、ダクト35、フィルター
36を介して雰囲気気体を循環させる。37は絞り板で
あり、気体の循環量を調節する。また絞り板38を調整
することによって、フィルター39を介して適宜外部気
体を導入可能になっている。
設けられていて、この切欠4cによりロボット装置25
の吸着アーム25bや吸着パッド25cの逃げが可能と
なっている。支持台4の両側端部には、それぞれ2本の
固定ピン32が設けられていて、支持台4はこの固定ピ
ン32が基台8に設けられた長孔に挿通され、ネジ止め
されることにより、水平方向に対する傾斜角度を変更可
能に取り付けられている。33は接合が終了したウェー
ハが収納される第3の収納マガジン(収納部)である。
34はシロッコファンであり、ダクト35、フィルター
36を介して雰囲気気体を循環させる。37は絞り板で
あり、気体の循環量を調節する。また絞り板38を調整
することによって、フィルター39を介して適宜外部気
体を導入可能になっている。
【0027】上記のように構成されているから、まずロ
ボット装置25により、第1の収納マガジン23内から
ベースウェーハW1を吸着して取出し、載置台28上に
搬入し、そして前記したように位置決め装置27により
ウェーハのOF部あるいはノッチ部が所定の位置(方
向)にくるように位置決めする。そしてロボット装置2
5により再度ベースウェーハW1を吸着して、支持台4
上に搬送する。その際鏡面側が上を向くようにベースウ
ェーハW1を支持台4の保持部材9、9′に支持させ
る。ロボット装置25の吸着アーム25b等はベースウ
ェーハW1を支持台4に載置した後、切欠4cから逃げ
る。
ボット装置25により、第1の収納マガジン23内から
ベースウェーハW1を吸着して取出し、載置台28上に
搬入し、そして前記したように位置決め装置27により
ウェーハのOF部あるいはノッチ部が所定の位置(方
向)にくるように位置決めする。そしてロボット装置2
5により再度ベースウェーハW1を吸着して、支持台4
上に搬送する。その際鏡面側が上を向くようにベースウ
ェーハW1を支持台4の保持部材9、9′に支持させ
る。ロボット装置25の吸着アーム25b等はベースウ
ェーハW1を支持台4に載置した後、切欠4cから逃げ
る。
【0028】次に同様にしてロボット装置25により第
2の収納マガジン24からボンドウェーハW2を取出
し、同様にして位置決め装置27により位置決めした
後、再度ロボット装置25により支持台4上に搬送す
る。その際ロボット装置25の吸着アームによりボンド
ウェーハW2の鏡面側がベースウェーハ1の鏡面に対向
するように反転して搬入し、支持台4の保持部材9、
9′に保持させるのである。ロボット装置25の吸着ア
ーム25b等は上方に逃げる。そして前記した要領で押
圧装置31によってボンドウェーハW2を押圧して両ウ
ェーハの接合を行う。接合の終了したウェーハはロボッ
ト装置25により支持台4上から取り出され、順次第3
の収納マガジン33に収納される。このようにして、全
自動的に効率よくウェーハの接合が行えるのである。な
お、上記した実施の態様において、ウェーハがマガジン
内において予め位置決めして収納されている場合には位
置決め装置27は必ずしも設けなくともよい。
2の収納マガジン24からボンドウェーハW2を取出
し、同様にして位置決め装置27により位置決めした
後、再度ロボット装置25により支持台4上に搬送す
る。その際ロボット装置25の吸着アームによりボンド
ウェーハW2の鏡面側がベースウェーハ1の鏡面に対向
するように反転して搬入し、支持台4の保持部材9、
9′に保持させるのである。ロボット装置25の吸着ア
ーム25b等は上方に逃げる。そして前記した要領で押
圧装置31によってボンドウェーハW2を押圧して両ウ
ェーハの接合を行う。接合の終了したウェーハはロボッ
ト装置25により支持台4上から取り出され、順次第3
の収納マガジン33に収納される。このようにして、全
自動的に効率よくウェーハの接合が行えるのである。な
お、上記した実施の態様において、ウェーハがマガジン
内において予め位置決めして収納されている場合には位
置決め装置27は必ずしも設けなくともよい。
【0029】
【発明の効果】本発明に係る鏡面ウェーハの接合装置に
よれば、ウェーハを傾斜して設けた支持台に載置するよ
うにしたので、装置が簡単になり、またボイドを発生さ
せることなく、容易、確実にしかも全自動的に効率よく
ウェーハの接合が行える。
よれば、ウェーハを傾斜して設けた支持台に載置するよ
うにしたので、装置が簡単になり、またボイドを発生さ
せることなく、容易、確実にしかも全自動的に効率よく
ウェーハの接合が行える。
【図1】鏡面ウェーハの接合部を示す説明図である。
【図2】ウェーハの押圧部位を示す拡大説明図である。
【図3】ウェーハの押圧部位を示す拡大説明図である。
【図4】ウェーハの接合装置の一例を示す平面説明図で
ある。
ある。
【図5】図4に示す実施の形態の側面説明図である。
【図6】支持台の説明図である。
【図7】従来のウェーハの接合方法を示す説明図であ
る。
る。
1 接合部 2 真空吸着台 3 真空ピンセット 4 支持台 4a 凹部 4b 位置決め板 4c 切欠 5 押圧駆動部 6 押圧アーム 7 押圧部材 8 基台 9、9′ 保持部材 10 面取角部 11 縁曲面加工始点 W1 第1の鏡面ウェーハ W2 第2の鏡面ウェーハ θ 面取り部角度 α、β 押圧方向角度 20 ウェーハの接合装置 21 クリーンボックス 23 第1の収納マガジン(収納部) 24 第2の収納マガジン(収納部) 25 ロボット装置 25a 旋回台 25b 吸着アーム 25c 吸着パッド 27 位置決め装置 28 載置台 29 センサ装置 30 昇降桿 31 押圧装置 33 第3の収納マガジン(収納部)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小平 真夫 長野県更埴市大字屋代1393番地 長野電子 工業株式会社内 (72)発明者 高橋 則夫 長野県更埴市大字屋代1393番地 長野電子 工業株式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 同形の2枚のウェーハの鏡面同士を重ね
合わせて接合するための装置であって、 第1の鏡面ウェーハを複数枚収納する第1の収納部と、 第2の鏡面ウェーハを複数枚収納する第2の収納部と、 前記第1の鏡面ウェーハおよび前記第2の鏡面ウェーハ
を支持可能な、水平方向に対して所要の角度をなして固
定されたウェーハの支持台と、 前記第1の収納部から第1の鏡面ウェーハを1枚宛取出
し、前記支持台にその鏡面側を上方に向けて支持させる
と共に、前記第2の収納部から第2の鏡面ウェーハを1
枚宛取出してその鏡面側を前記支持台に支持されている
第1の鏡面ウェーハの鏡面側と対向させて第1の鏡面ウ
ェーハに重ね合わせるようにして前記支持台に支持させ
るロボット装置と、 上記重ね合わせられた第2の鏡面ウェーハを第1の鏡面
ウェーハ側に押圧する押圧装置とを具備することを特徴
とする鏡面ウェーハの接合装置。 - 【請求項2】 接合された接合ウェーハを収納する第3
の収納部を備え、 前記ロボット装置は前記支持台上から前記接合ウェーハ
を取出し、前記第3の収納部に収納することを特徴とす
る請求項1記載の鏡面ウェーハの接合装置。 - 【請求項3】 ウェーハのセンタリング装置を備え、 前記ロボット装置は、前記第1の鏡面ウェーハおよび第
2の鏡面ウェーハを一旦前記センタリング装置に載置し
てセンタリング装置によりウェーハのセンタリングを行
った後、前記支持台に第1および第2の鏡面ウェーハを
搬入することを特徴とする請求項1または2記載の鏡面
ウェーハの接合装置。 - 【請求項4】 前記支持台は水平方向に対する角度を調
整可能に設けられていることを特徴とする請求項1、2
または3記載の鏡面ウェーハの接合装置。 - 【請求項5】 前記支持台の水平方向に対する角度が7
0°〜90°であることを特徴とする請求項1、2、3
または4記載の鏡面ウェーハの接合装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35086796A JPH10189406A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | 鏡面ウェーハの接合装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35086796A JPH10189406A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | 鏡面ウェーハの接合装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10189406A true JPH10189406A (ja) | 1998-07-21 |
Family
ID=18413434
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35086796A Pending JPH10189406A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | 鏡面ウェーハの接合装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10189406A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010287883A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-12-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Soi基板の作製方法およびsoi基板 |
JP2018010923A (ja) * | 2016-07-12 | 2018-01-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板受け渡し装置 |
EP3703114A1 (en) * | 2019-02-26 | 2020-09-02 | ASML Netherlands B.V. | Reflector manufacturing method and associated reflector |
-
1996
- 1996-12-27 JP JP35086796A patent/JPH10189406A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010287883A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-12-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Soi基板の作製方法およびsoi基板 |
JP2018010923A (ja) * | 2016-07-12 | 2018-01-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板受け渡し装置 |
EP3703114A1 (en) * | 2019-02-26 | 2020-09-02 | ASML Netherlands B.V. | Reflector manufacturing method and associated reflector |
WO2020173640A1 (en) * | 2019-02-26 | 2020-09-03 | Asml Netherlands B.V. | Reflector manufacturing method and associated reflector |
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Legal Events
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070206 |