JP4972001B2 - エレクトロクロミックミラー - Google Patents
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Description
本発明は、例えば、車両の後方確認用としてアウタミラーやインナミラーに用いられて電圧を印加することにより反射率を可変できるエレクトロクロミックミラーに関する。
車両のアウタミラーやインナミラーには、反射膜の表面に形成したエレクトロクロミック膜を着色させることで反射膜に入射する光及び反射膜で反射された光の透過率を変更するエレクトロクロミックミラー（防眩ミラーと称する場合もある）がある。
このようなエレクトロクロミックミラーでは、エレクトロクロミック膜を三酸化タングステン等で形成する。また、この種のエレクトロクロミックミラーでは、一対の電極間にリチウムイオンを含む電解液を封入したセルを用いており、セルの電極間に所定の電圧を印加して電解液中のリチウムイオンと電極から供給される電子とで三酸化タングステンを還元反応させてエレクトロクロミック膜を略青色に着色している。
ところで、上記のセル中の電解液にはリチウムイオンの他に酸化還元剤としてフェロセン等が含まれる。上記のように一対の電極間に所定の電圧を印加した場合には、一対の電極のうちの陽極にてフェロセンが酸化され、正のフェロセンイオンになる。このフェロセンイオンが一対の電極のうちの陰極に到達すると還元されてフェロセンに戻る。
このようなフェロセンの酸化反応と還元反応とが繰り返されることで、電極間に定常的に電流が流れる。各電極の中央側では、周囲の上記のような電流が流れていることで電圧降下が生じ、これにより、エレクトロクロミック膜における各電極の中央側（すなわち、セルの中央側）に対応した部分では充分に着色されないことがある。
このような現象を解決するための一手段が下記特許文献１に開示されている。特許文献１では、エレクトロクロミックミラーに用いられるエレクトロクロミックセルを構成する電解液の導電率σ、一対の電極の面積抵抗値Ｒ、電極の長さＬ、及び電極間距離ｈの各値を以下の式（１）に代入して得られる数値αが２以下になるように上記の各値を設定することで電解液にかかる電圧分布の一様性を向上させている。
α＝（σ・Ｒ／ｈ）１／２ ・・・（１）
しかしながら、電解液や電極の材質、また、ミラー全体の各部位の寸法に基づく電極の寸法等に制限がある。このため、上記の式（１）の演算結果であるαの値が２以下になるように他の各値を設定することは現実的には難しい。
本発明は、上記事実を考慮して、電解液や電極の材質や各部材の各部位の寸法等に基づいた制限を受けずに充分にエレクトロクロミック膜を着色できるエレクトロクロミックミラーを得ることが目的である。
請求項１に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーは、表側からの光を反射すると共に所定のイオンの透過が可能に表側と裏側とを繋げるように貫通した多数の反射膜側小孔が形成された電極の陰極を構成する導電性反射膜と、前記導電性反射膜と共に前記電極を構成し、前記導電性反射膜との間で電圧が印加される陽極と、前記所定のイオン及び酸化還元剤を含めて構成されて前記導電性反射膜と前記陽極との間で封入されると共に、前記陽極と前記導電性反射膜との間で電圧が印加されることにより前記所定のイオンが前記導電性反射膜を通過する電解物質と、前記導電性反射膜の表側に設けられて、前記導電性反射膜を通過した前記所定のイオンとで還元反応が生じて着色されるエレクトロクロミック膜と、電気的な絶縁性を有し、前記導電性反射膜の裏側で前記導電性反射膜と前記電解物質との間に介在すると共に、前記所定のイオンの透過が可能に表側と裏側とを繋ぐように貫通して更に前記導電性反射膜の側で前記反射膜側小孔に連通した多数の絶縁膜側小孔が形成された絶縁膜を含めて構成されて、前記電圧の印加状態で前記所定のイオンが前記エレクトロクロミック膜に到達することを許容すると共に、前記電圧の印加によって前記陽極にて酸化された前記酸化還元剤の前記陰極における還元反応を抑制する還元反応抑制手段と、を備えている。
請求項１に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーでは、陽極と陰極を構成する導電性反射膜との間で電圧が印加されると陽極と導電性反射膜との間に封入された電解物質を構成する所定のイオンが還元反応抑制手段を構成する絶縁膜に形成された多数の絶縁膜側小孔を通過して導電性反射膜の側へ到達する。絶縁膜側小孔を通過した所定のイオンは更に導電性反射膜に形成された反射膜側小孔を通過してエレクトロクロミック膜に到達する。所定のイオンがエレクトロクロミック膜に到達するとエレクトロクロミック膜にて還元反応が生じ、これによりエレクトロクロミック膜が着色される。このようにエレクトロクロミック膜が着色されることでエレクトロクロミック膜での光の透過率が変わり、エレクトロクロミック膜での光の透過率が変わることで光の反射率が変わる。
また、上記の電解物質には酸化還元剤が含まれ、陽極と陰極との間で電圧を印加すると陽極において酸化還元剤が酸化される。これにより、全体的に反応が安定する。ここで、陰極を構成する導電性反射膜と電解物質との間に介在する還元反応抑制手段の絶縁膜は電気的な絶縁性を有しているため、陽極において酸化還元剤が酸化されても陰極において酸化された酸化還元剤に還元反応が生じないか、陰極における酸化された酸化還元剤の還元反応が効果的に抑制される。
これにより、酸化還元剤が酸化と還元を繰り返すことに起因して陽極と陰極としての導電性反射膜との間で電解物質中を流れる定常電流の発生が抑制される。このような定常電流の発生が抑制されることで、陽極と電極との間の部分的な電圧降下が抑制され、このように電圧降下が抑制されることで、エレクトロクロミック膜における部分的な着色不足等の発生を抑制できる。しかも、本発明では、還元反応抑制手段が酸化された酸化還元剤の還元反応を抑制するので、陽極や陰極の大きさや間隔等を含めて本エレクトロクロミックミラーの各部位の寸法等は格別な制限を受けない。
また、上記のように導電性反射膜にはその表側と裏側とを繋ぐように多数の反射膜側小孔が貫通しており、絶縁膜にはその表側と裏側とを繋ぐように多数の絶縁膜側小孔が貫通している。しかも、導電性反射膜の反射膜側小孔と絶縁膜の絶縁膜側小孔とが連通している。このため、陽極と導電性反射膜との間で電圧が印加された場合には、電解物質を構成する所定のイオンが絶縁膜側小孔及び反射膜側小孔を通過して容易にエレクトロクロミック膜側へ通過する。容易にエレクトロクロミック膜に到達する。これにより、エレクトロクロミック膜にて円滑な還元反応を生じさせることができ、エレクトロクロミック膜を円滑に着色できる。
ここで、絶縁膜には絶縁膜側小孔が形成されているので、陽極にて酸化された酸化還元剤が絶縁膜側小孔を介して導電性反射膜に到達する可能性もある。しかしながら、絶縁膜側小孔が形成されていない部分では導電性反射膜と電解物質との間に絶縁膜が介在するので、極めて効果的に酸化された酸化還元剤の還元反応を抑制できる。
また、上記のように導電性反射膜にはその表側と裏側とを繋ぐように多数の反射膜側小孔が貫通しており、絶縁膜にはその表側と裏側とを繋ぐように多数の絶縁膜側小孔が貫通している。しかも、導電性反射膜の反射膜側小孔と絶縁膜の絶縁膜側小孔とが連通している。このため、陽極と導電性反射膜との間で電圧が印加された場合には、電解物質を構成する所定のイオンが絶縁膜側小孔及び反射膜側小孔を通過して容易にエレクトロクロミック膜側へ通過する。容易にエレクトロクロミック膜に到達する。これにより、エレクトロクロミック膜にて円滑な還元反応を生じさせることができ、エレクトロクロミック膜を円滑に着色できる。
ここで、絶縁膜には絶縁膜側小孔が形成されているので、陽極にて酸化された酸化還元剤が絶縁膜側小孔を介して導電性反射膜に到達する可能性もある。しかしながら、絶縁膜側小孔が形成されていない部分では導電性反射膜と電解物質との間に絶縁膜が介在するので、極めて効果的に酸化された酸化還元剤の還元反応を抑制できる。
なお、本発明において、還元反応抑制手段は、還元反応抑制手段を設けない場合に酸化された酸化還元剤が陰極にて還元される場合に比べて結果的に還元反応が少なければよい。また、この還元反応抑制手段は酸化された酸化還元剤の還元反応を防止する構成であってもよい。
すなわち、本発明において、酸化された酸化還元剤の還元反応の「抑制」には酸化された酸化還元剤の還元反応の「防止」も含まれ、したがって、陽極と陰極との間における電圧の印加により陽極にて酸化された酸化還元剤の陰極における還元反応を防止する還元反応防止手段は本発明を構成する還元反応抑制手段に含まれるものである。
以上説明したように、本発明に係るエレクトロクロミックミラーは、電解液や電極の材質や各部材の各部位の寸法等に基づいた制限を受けずに充分にエレクトロクロミック膜を着色できる。
＜第１の実施の形態の構成＞
図１には本発明の第１の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー１０の構成が概略的な断面図により示されている。
図１には本発明の第１の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー１０の構成が概略的な断面図により示されている。
この図に示されるように、エレクトロクロミックミラー１０は表面側基板１２を備えている。表面側基板１２はガラス等により形成された透明の基板本体１４を備えている。この基板本体１４の厚さ方向一方（図１の矢印Ｗ方向）側の面にはエレクトロクロミック膜１６が形成されている。エレクトロクロミック膜１６は、例えば、三酸化タングステン（ＷＯ３）や三酸化モリブデン（ＭｏＯ３）、又は、このような酸化物が含まれる混合物により形成されており、特に、本実施の形態では、三酸化タングステンによりエレクトロクロミック膜１６が形成されている。
基板本体１４の厚さ方向に沿ったエレクトロクロミック膜１６の厚さは３００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲で設定され、特に、本実施の形態ではエレクトロクロミック膜１６の厚さは５００ｎｍに設定されている。このエレクトロクロミック膜１６の基板本体１４とは反対側の面には、本エレクトロクロミックミラー１０の反射膜を構成すると共に陰極として電極を構成する導電性反射膜１８が形成されている。この導電性反射膜１８は、導電性を有し、且つ、リチウムイオンの透過が可能な光沢を有する金属、例えば、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、ニッケル（Ｎｉ）等により形成されている。基板本体１４の厚さ方向に沿った導電性反射膜１８の厚さは３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲で設定され、特に、本実施の形態では導電性反射膜１８の厚さは５０ｎｍに設定されている。
さらに、図１における一点鎖線の楕円Ｂには一点鎖線の楕円Ａの部位を更に拡大した概略的な断面が示されている。これに示されるように、導電性反射膜１８には、その厚さ方向に貫通した微細な多数の反射膜側小孔２０が形成されている。これらの反射膜側小孔２０は内径（内周部の直径）寸法Ｄが２０μｍ以下で、特に、本実施の形態では０．５μｍとされている。また、これらの反射膜側小孔２０は基本的に導電性反射膜１８に不規則（ランダム）に形成されている。但し、これらの反射膜側小孔２０は隣り合う反射膜側小孔２０の中心間距離Ｌが２０μｍ以下で更に好ましくは１０μｍ以下とされ、特に本実施の形態では中心間距離Ｌが５μｍ以下に設定されている。また、反射膜側小孔２０は内径（内周部の直径）寸法Ｄと反射膜側小孔２０は隣り合う反射膜側小孔２０の中心間距離Ｌとの比は７以上とされている。
この導電性反射膜１８のエレクトロクロミック膜１６とは反対側の面には、還元反応抑制手段としての絶縁膜２２が形成されている。この絶縁膜２２は電気的な絶縁性を有しており、例えば、酸化アルミニウム（所謂「アルミナ」、Ａｌ２Ｏ３）、二酸化ケイ素（所謂「シリカ」、ＳｉＯ２）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、ルチル型の酸化チタン（ＴｉＯ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等のフッ化物や酸化物が用いられている。
絶縁膜２２は、例えば、蒸着やスパッタ等によってエレクトロクロミック膜１６及び導電性反射膜１８が形成された表面側基板１２に形成されている。この絶縁膜２２には、その厚さ方向に貫通した微細な多数の絶縁膜側小孔２４が形成されている。これらの絶縁膜側小孔２４は絶縁膜２２の厚さ方向に貫通している。また、これらの絶縁膜側小孔２４は基本的に反射膜側小孔２０に対応して形成されており、絶縁膜側小孔２４の導電性反射膜１８の開口端と反射膜側小孔２０の絶縁膜２２側の開口端とが繋がり、絶縁膜側小孔２４と反射膜側小孔２０とが互いに連通している。
上述した反射膜側小孔２０及び絶縁膜側小孔２４は、フォトレジストが塗布された絶縁膜２２に絶縁膜側小孔２４のパターンが印刷されたフォトマスクを施して露光し、その後に絶縁膜側小孔２４に対応したフォトレジストを除去し、エッチング液で絶縁膜２２及び導電性反射膜１８を溶かすことで形成されている。
以上の構成の表面側基板１２の厚さ方向一方の側には裏面側基板３２が表面側基板１２と対向するように設けられている。裏面側基板３２はガラス等により形成された透明の基板本体３４を備えている。この基板本体３４の厚さ方向他方、すなわち、表面側基板１２の側の面には陽極として電極を構成する導電性膜３６が形成されている。導電性膜３６は、クロム（Ｃｒ）やニッケル（Ｎｉ）等の金属や、インジウムチンオキサイド（Ｉｎ２Ｏ３：Ｓｎ、所謂「ＩＴＯ」）や酸化スズ（ＳｎＯ２）、フッ素ドープ酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ２）等、更にはこれらの混合物により形成されている。
以上の構成の表面側基板１２と裏面側基板３２との間には所定の隙間が形成されていると共に、表面側基板１２の外周部と裏面側基板３２の外周部との間は封止材３８により封止されている。表面側基板１２、裏面側基板３２、及び封止材３８により囲まれた空間内には、電解物質としての電解液４０が封入されている。電解液４０は、炭酸プロピレン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、γブチロラクトン、ジメチルフォルムアミド等、又はこれらの混合物により形成された溶媒を有しており、特に、本実施の形態では炭酸プロピレンが溶媒として用いられている。
このような溶媒の他に、電解液４０は、過塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ４）、六フッ化リン酸リチウム（ＬｉＰＦ６）、四フッ化ホウ酸リチウム（ＬｉＢＦ４）、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＬｉＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２）、リチウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド（ＬｉＮ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２）、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム（ＬｉＣＦ３ＳＯ３）等やこれらの混合物を電解質として有しており、特に、本実施の形態では過塩素酸リチウムが電解質として用いられ、これにより、電解液４０中にリチウムイオンが含まれるようになる。さらに、電解液４０には、酸化還元剤としてフェロセン（Ｆｅ（Ｃ５Ｈ５）２）が含有され、更に水素イオン剤として硫酸が含有されている。
さらに、以上の構成のエレクトロクロミックミラー１０の導電性膜３６は、回路５０を構成するスイッチ５２に接続されている。スイッチ５２は、ＯＮ状態で接続される端子に車両に搭載されるバッテリー等で構成され定格電圧が１．３Ｖ程度の直流電源５４の正極が接続されている。この直流電源５４の負極は導電性反射膜１８に接続されている。また、スイッチ５２がＯＦＦ状態で接続される端子は、上記の直流電源５４を介さずに導電性反射膜１８に接続されており、ＯＦＦ状態では導電性膜３６と導電性反射膜１８とが短絡される。
＜第１の実施の形態の作用、効果＞
次に本実施の形態の作用並びに効果について説明する。
次に本実施の形態の作用並びに効果について説明する。
以上の構成のエレクトロクロミックミラー１０によれば、スイッチ５２のＯＦＦ状態では、エレクトロクロミック膜１６が略透明となっている。このため、基板本体１４のエレクトロクロミック膜１６とは反対側から入射した光は、基板本体１４、エレクトロクロミック膜１６を透過して導電性反射膜１８にて反射される。さらに、導電性反射膜１８にて反射された光はエレクトロクロミック膜１６、基板本体１４を透過する。
一方、スイッチ５２をＯＮ状態に切り替えて、導電性膜３６と導電性反射膜１８との間に所定の大きさの電圧を印加すると、回路５０を導電性反射膜１８の側に移動した電子（ｅ−）が導電性反射膜１８からエレクトロクロミック膜１６に侵入する。また、スイッチ５２をＯＮ状態に切り替えると、電解液４０の電解質を構成するリチウムイオン（Ｌｉ＋）が絶縁膜側小孔２４を通過し、絶縁膜側小孔２４に繋がる反射膜側小孔２０を通過し、リチウムイオンがエレクトロクロミック膜１６に侵入する。これにより、エレクトロクロミック膜１６では以下の式２の還元反応が生じ、所謂タングステンブロンズと称される青色のＬｉｘＷＯ３がエレクトロクロミック膜１６で形成される。
Ｌｉ＋＋ｅ−＋ＷＯ３→ＬｉｘＷＯ３ ・・・（式２）
このようにしてエレクトロクロミック膜１６が青色に着色されることでエレクトロクロミック膜１６が着色される前に比べて反射率が低下する。
以上のようなエレクトロクロミックミラー１０を、例えば、車両における後方確認用のインナミラー（ルームミラー）やアウタミラー（ドアミラーやフェンダーミラー）等のミラー本体に用いると、昼間時にはスイッチ５２をＯＦＦ状態で維持して高い反射率で後方を確認でき、夜間時等に後方の車両がヘッドライトを点灯させている場合には、スイッチ５２をＯＮ状態に切り換えてエレクトロクロミック膜１６を着色し、反射率を低下させることで、ヘッドライトの反射光を低減でき、眩しさが低下する。
また、本実施の形態では、反射膜側小孔２０は内径（内周部の直径）寸法Ｄを０．５μｍ（すなわち、２０μｍ以下）としていることで、基本的には反射膜側小孔２０を直接目視することができない。このため、反射膜側小孔２０を形成してもエレクトロクロミックミラー１０での反射光を目視した際に違和感が生じない。
しかも、反射膜側小孔２０の内径寸法Ｄと隣り合う反射膜側小孔２０の中心間距離Ｌとの比は７以上になり、その逆数である中心間距離Ｌと内径寸法Ｄとの比は０．５以下としている。このため、反射膜側小孔２０を形成したにも関わらず、反射率の低下を抑えることができ、導電性反射膜１８にて光を充分に反射できるうえ、反射膜側小孔２０の境界の光の回折現象に起因した光に散乱が極めて効果的に低減され、反射光により形成される反射像が光干渉を発生したり、白濁したりすることを防止又は効果的に抑制できる。
ところで、上記のように、導電性膜３６と導電性反射膜１８との間に所定の大きさの電圧を印加すると、陽極である導電性膜３６の近傍にて電解液４０中に含まれるフェロセンが酸化され、以下の式３に示されるように正のフェロセンイオンとなる。
Ｆｅ（Ｃ５Ｈ５）２−ｅ−→〔Ｆｅ（Ｃ５Ｈ５）２〕＋ ・・・（式３）
この正のフェロセンイオンが陰極で還元されて元のフェロセンに戻り、この酸化と還元が繰り返されると陽極と陰極との間で定常的に電流が流れる。
ここで、本エレクトロクロミックミラー１０では、電極の陰極である導電性反射膜１８と電解液４０との間には絶縁膜２２が形成されており、絶縁膜側小孔２４の内側を除いては導電性反射膜１８と電解液４０との間が電気的に絶縁されている。このため、絶縁膜側小孔２４及び反射膜側小孔２０の部分においてはフェロセンイオンがフェロセンに戻る還元反応が生じるものの、絶縁膜側小孔２４が形成されていない部分では導電性反射膜１８に電解液４０が触れないのでフェロセンイオンの還元反応が生じない。
このため、全体的にはフェロセンイオンがフェロセンに戻る還元反応を極めて効果的に抑制できるので、フェロセンの酸化還元反応の繰り返しにより導電性膜３６と導電性反射膜１８との間で定常的に電流が流れることを極めて効果的に抑制できる。これにより、導電性膜３６と導電性反射膜１８との間で定常的に電流が流れることに起因した導電性膜３６と導電性反射膜１８との間の部分的な電圧降下を極めて効果的に抑制でき、エレクトロクロミック膜１６を均一に着色できる。
また、このように本エレクトロクロミックミラー１０では、フェロセンの酸化還元反応の繰り返しを絶縁膜２２により抑制するので、導電性膜３６や導電性反射膜１８の大きさ（寸法）や導電性膜３６と導電性反射膜１８との間隔が電解液４０の導電率等に束縛されない。このため、エレクトロクロミックミラー１０の大きさ等を自由に設定できる。
＜第２の実施の形態の構成＞
次に本発明の第２の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態を説明するにあたり、前記第１の実施の形態と基本的に同一の部位に関しては同一の符号を付与してその詳細な説明を省略する。
次に本発明の第２の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態を説明するにあたり、前記第１の実施の形態と基本的に同一の部位に関しては同一の符号を付与してその詳細な説明を省略する。
図２には本実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー９０の構成が概略的な断面図により示されている。
この図に示されるように、本エレクトロクロミックミラー９０は絶縁膜２２を備えておらず、代わりに還元反応抑制手段としての絶縁膜の一態様であるリチウムイオン導伝膜９２を備えている。
リチウムイオン導伝膜９２は、窒化リチウム（ＬｉＮ３）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、４フッ化アルミリチウム（ＬｉＡｌＦ４）等の電気的には絶縁性を有するものの、リチウムイオンの透過が可能な無機材料、又は、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）やＰＥＯ（ポリエチレンオキサイド）等のポリマーに過塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＦ４）等のリチウム塩を導入した材料により形成されている。
また、図２における一点鎖線の楕円Ｇには一点鎖線の楕円Ｆの部位を更に拡大した概略的な断面が示されている。これに示されるように、前記第１の実施の形態における絶縁膜２２とは異なり、このリチウムイオン導伝膜９２には絶縁膜側小孔２４が形成されておらず、しかも、導電性反射膜１８に形成された反射膜側小孔２０はリチウムイオン導伝膜９２により埋められている。
＜第２の実施の形態の作用、効果＞
以上の構成の本実施の形態では、リチウムイオン導伝膜９２には絶縁膜側小孔２４が形成されていないものの、導電性膜３６と導電性反射膜１８との間に電圧が印加されると、リチウムイオンがリチウムイオン導伝膜９２を透過する。しかも、リチウムイオン導伝膜９２は電気的な絶縁性を有しているので、陽極である導電性膜３６の近傍にて電解液４０中に含まれるフェロセンが酸化されても、電解液４０と導電性反射膜１８との間は電気的に絶縁されているので導電性反射膜１８にて正のフェロセンイオンの還元反応が生じることはない。
以上の構成の本実施の形態では、リチウムイオン導伝膜９２には絶縁膜側小孔２４が形成されていないものの、導電性膜３６と導電性反射膜１８との間に電圧が印加されると、リチウムイオンがリチウムイオン導伝膜９２を透過する。しかも、リチウムイオン導伝膜９２は電気的な絶縁性を有しているので、陽極である導電性膜３６の近傍にて電解液４０中に含まれるフェロセンが酸化されても、電解液４０と導電性反射膜１８との間は電気的に絶縁されているので導電性反射膜１８にて正のフェロセンイオンの還元反応が生じることはない。
すなわち、本実施の形態は、絶縁膜２２に代わりリチウムイオン導伝膜９２が用いられているものの、基本的には前記第１の実施の形態と同様の作用を奏し、前記第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
１０ エレクトロクロミックミラー
１６ エレクトロクロミック膜
１８ 導電性反射膜（陰極）
２０ 反射膜側小孔
２２ 絶縁膜（還元反応抑制手段）
２４ 絶縁膜側小孔
３６ 導電性膜（陽極）
４０ 電解液
９０ 本エレクトロクロミックミラー
９２ リチウムイオン導伝膜（還元反応抑制手段）
１６ エレクトロクロミック膜
１８ 導電性反射膜（陰極）
２０ 反射膜側小孔
２２ 絶縁膜（還元反応抑制手段）
２４ 絶縁膜側小孔
３６ 導電性膜（陽極）
４０ 電解液
９０ 本エレクトロクロミックミラー
９２ リチウムイオン導伝膜（還元反応抑制手段）
Claims (1)
- 表側からの光を反射すると共に所定のイオンの透過が可能に表側と裏側とを繋げるように貫通した多数の反射膜側小孔が形成された電極の陰極を構成する導電性反射膜と、
前記導電性反射膜と共に前記電極を構成し、前記導電性反射膜との間で電圧が印加される陽極と、
前記所定のイオン及び酸化還元剤を含めて構成されて前記導電性反射膜と前記陽極との間で封入されると共に、前記陽極と前記導電性反射膜との間で電圧が印加されることにより前記所定のイオンが前記導電性反射膜を通過する電解物質と、
前記導電性反射膜の表側に設けられて、前記導電性反射膜を通過した前記所定のイオンとで還元反応が生じて着色されるエレクトロクロミック膜と、
電気的な絶縁性を有し、前記導電性反射膜の裏側で前記導電性反射膜と前記電解物質との間に介在すると共に、前記所定のイオンの透過が可能に表側と裏側とを繋ぐように貫通して更に前記導電性反射膜の側で前記反射膜側小孔に連通した多数の絶縁膜側小孔が形成された絶縁膜を含めて構成されて、前記電圧の印加状態で前記所定のイオンが前記エレクトロクロミック膜に到達することを許容すると共に、前記電圧の印加によって前記陽極にて酸化された前記酸化還元剤の前記陰極における還元反応を抑制する還元反応抑制手段と、
を備えるエレクトロクロミックミラー。
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| JPS6156640U (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-16 | ||
| JPS61210388A (ja) * | 1985-03-15 | 1986-09-18 | 日立マクセル株式会社 | エレクトロクロミツク表示素子 |
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| JP4098736B2 (ja) * | 2003-06-18 | 2008-06-11 | 株式会社東海理化電機製作所 | エレクトロクロミックミラー |
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