JP2000080068A - 新規ｏ―アシルオキシム光開始剤 - Google Patents

新規ｏ―アシルオキシム光開始剤

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JP2000080068A
JP2000080068A JP17486699A JP17486699A JP2000080068A JP 2000080068 A JP2000080068 A JP 2000080068A JP 17486699 A JP17486699 A JP 17486699A JP 17486699 A JP17486699 A JP 17486699A JP 2000080068 A JP2000080068 A JP 2000080068A
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啓 松本
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Masaki Ohwa
真樹 大和
Hisatoshi Kura
久稔 倉
Jean-Luc Birbaum
ビルボーム ジャン−リュク
Kurt Dietliker
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高反応性で、合成が容易、かつ取り扱いが容
易な新規光開始剤を提供すること。 【解決手段】 式（Ｉ）、（II）、（III）及び（I
V）： 【化３５】 （式中、Ｒ1は、フェニル、Ｃ1−Ｃ2 0アルキル、ＣＮ、
ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ4ハロアルキルなど；Ｒ1′は、Ｃ2−Ｃ1
2アルコキシカルボニル、Ｃ5−Ｃ8シクロアルキルな
ど；Ｒ2は、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイル、Ｃ4−Ｃ6アルケノ
イルなど；Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、水素、ハロ
ゲン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、フェニルなど；Ｒ4′、
Ｒ5′及びＲ6′は、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキ
ル、シクロペンチル、フェニルなど；Ｍは、Ｃ1−Ｃ1 2
アルキレン、 シクロヘキシレン、フェニレンなど）で
示される化合物。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は、新規なＯ−アシルオキシム化合
物及び光重合性組成物中での光開始剤としてのそれらの
用途に関する。
【０００２】米国特許３５５８３０９から、ある種のオ
キシムエステル誘導体は、光開始剤であることが知られ
ている。米国特許４２５５５１３に、オキシムエステル
化合物が開示されている。米国特許４５９０１４５に、
数種のｐ−ジメチル−及びｐ−ジエチルアミノ−置換オ
キシムエステル化合物が開示されている。米国特許４２
０２６９７に、アクリルアミノ−置換オキシムエステル
が開示されている。Chemical Abstract No. 96: 52526
c、J. Ｃhem. Eng. Data 9 (3), 403-4 (1964)、Ｊ．ch
in. Chem. Soc. (Taipei) 41 (5) 573-8, (1994)、JP 6
2-273259-A (=Chemical Abstract 109: 83463w), JP 62
-286961-A (= Derwent No. 88-025703/04), JP 62-2018
59-A (= Derwent No. 87-288481/41), JP 62-184056-A
(= Derwent No. 87-266739/38), US 5019482 and J. of
Photochemistry and Photobiology A 107, 261-269 (1
997)に、いくつかのｐ−アルコキシフェニルオキシムエ
ステル化合物が記載されている。
【０００３】光重合技術において、高い反応性であり、
合成が容易であり、かつ取り扱い容易である光開始剤の
必要性は、まだ存在している。更に、そのような光開始
剤は、例えば熱安定性及び貯蔵安定性のような工業的に
関する特性の高度な要求を満足させねばならない。
【０００４】驚くべきことに、式（Ｉ）、（II）、（II
I）及び（IV）：
【０００５】
【化１０】
【０００６】（式中、Ｒ1は、フェニル（これは、非置
換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、フェニル、ハロゲ
ン、ＯＲ8、ＳＲ9若しくはＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により
置換されている）であるか；又はＲ1は、Ｃ1−Ｃ2 0アル
キル又はＣ2−Ｃ2 0アルキル（これは、場合により−Ｏ
−の１個以上により中断、及び／又は場合によりヒドロ
キシ基の１個以上により置換されている）であるか、又
はＲ1は、Ｃ5−Ｃ8シクロアルキル若しくはＣ2−Ｃ2 0ア
ルカノイルであるか；又はベンゾイル（これは、非置換
であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、フェニル、ＯＲ8、
ＳＲ9若しくはＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置換されて
いる）であるか、又はＲ1は、Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカル
ボニル（これは、場合により−Ｏ−の１個以上により中
断、及び／又は場合によりヒドロキシ基の１個又は２個
以上により置換されている）であるか、又はＲ1は、フ
ェノキシカルボニル（これは、非置換であるか、又はＣ
1−Ｃ6アルキル、ハロゲン、フェニル、ＯＲ8若しくは
ＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置換されている）である
か、又はＲ1は、−ＣＯＮＲ1 0Ｒ1 1、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1
−Ｃ4ハロアルキル、Ｓ（Ｏ)mＣ1−Ｃ6アルキル；非置
換若しくはＣ1−Ｃ1 2アルキル−置換Ｓ（Ｏ)m−Ｃ6−Ｃ
1 2アリール；ＳＯ2Ｏ−Ｃ1−Ｃ6アルキル；ＳＯ2Ｏ−Ｃ
6−Ｃ1 0アリール、又はジフェニル−ホスフィノイルで
あり；ｍは、１又は２であり；Ｒ1′は、Ｃ2−Ｃ1 2アル
コキシカルボニル（これは、場合により−Ｏ−の１個以
上により中断、及び／又は場合によりヒドロキシル基の
１個以上により置換されている）であるか；又はＲ1′
は、フェノキシカルボニル（これは、非置換であるか、
又はＣ1−Ｃ6アルキル、ハロゲン、フェニル、ＯＲ8若
しくはＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置換されている）で
あるか；又はＲ1′は、Ｃ5−Ｃ8シクロアルキル、−Ｃ
ＯＮＲ1 0Ｒ1 1、ＣＮ；又はフェニル（これは、ＳＲ9に
より置換されており、ここで、場合により基Ｒ4′、
Ｒ5′及びＲ6′を有するフェニル環の炭素原子への結合
を構築することにより基Ｒ9を介して５−又は６−員環
が形成される）；又はＲ4′、Ｒ5′及びＲ6′の少なく
とも１個が、−ＳＲ9であるならば、Ｒ1′は、更にＣ1
−Ｃ1 2アルキル（これは、非置換であるか、又はハロゲ
ン、ＯＨ、ＯＲ2、フェニル、ハロゲン化フェニル、又
はＳＲ9置換フェニルの１個以上により置換されてお
り、かつ場合により−Ｏ−又は−ＮＨ（ＣＯ）−により
中断されている）であり；Ｒ2は、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイ
ル（これは、非置換であるか、又はハロゲン若しくはＣ
Ｎの１個以上により置換されている）であるか；又はＲ
2は、Ｃ4−Ｃ6アルケノイルであるが、ただし二重結合
はカルボニル基と共役しておらず；又はＲ2は、ベンゾ
イル（これは、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキ
ル、ハロゲン、ＣＮ、ＯＲ8、ＳＲ9若しくは又はＮＲ1 0
Ｒ1 1の１個以上により置換されている）であるか、又は
Ｒ2は、Ｃ2−Ｃ6アルコキシカルボニル；若しくはフェ
ノキシカルボニル（これは、非置換であるか、又はＣ1
−Ｃ6アルキル若しくはハロゲンにより置換されてい
る）であり；Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、互いに独
立して、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル；又はフェニル（これは、非
置換であるか、又はＯＲ8、ＳＲ9若しくはＮＲ1 0Ｒ1 1の
１個以上により置換されている）であるか；又はＲ3、
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、ベンジル、ベンゾイル、Ｃ2
−Ｃ1 2アルカノイル；Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニル
（これは、場合により−Ｏ−の１個以上により中断、及
び／又は場合によりヒドロキシル基の１個以上により置
換されている）であるか；又はＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及び
Ｒ7は、フェノニキシカルボニル又は基ＯＲ8、ＳＲ9、
ＳＯＲ9、ＳＯ2Ｒ9若しくはＮＲ1 0Ｒ1 1（ここで、置換
基ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ1 0Ｒ1 1は、場合によりフェニル
環の更なる置換基又はフェニル環の炭素原子の一つと、
基Ｒ8、Ｒ9、Ｒ1 0及び／又はＲ1 1を介して５−又は６−
員環を形成する）であるが；ただしＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6
及びＲ7の少なくとも一つは、ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ1 0
Ｒ1 1であり；Ｒ4′、Ｒ5′及びＲ6′は、互いに独立し
て、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、シクロペン
チル、シクロヘキシル；フェニル（これは、非置換であ
るか、又はＯＲ8、ＳＲ9若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1により
置換されている）であるか；又はＲ4′、Ｒ5′及び
Ｒ6′は、ベンジル、ベンゾイル、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイ
ル；Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニル（これは、場合に
より−Ｏ−の１個以上により中断、及び／又は場合によ
りヒドロキシル基の１個以上により置換されている）で
あるか；又はＲ4′、Ｒ5′及びＲ6′は、フェノニキシ
カルボニル；又は基ＯＲ8、ＳＲ9、ＳＯＲ9、ＳＯ2Ｒ9
若しくはＮＲ1 0Ｒ1 1（ここで、置換基ＯＲ8、ＳＲ9及び
ＮＲ1 0Ｒ1 1は、場合によりフェニル環の更なる置換基又
はフェニル環の炭素原子の一つと、基Ｒ8、Ｒ9、Ｒ1 0及
び／又はＲ1 1を介して５−又は６−員環を形成する）で
あるが；ただしＲ4′、Ｒ5′及びＲ6′の少なくとも一
つは、ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ1 0Ｒ1 1であり；かつＲ5′
がメトキシであり、Ｒ4′及びＲ6′が両方同時に水素で
あり、Ｒ1′がＣＮであれば、Ｒ2′は、ベンゾイル又は
４−（Ｃ1−Ｃ1 0アルキル）ベンゾイルではなく；Ｒ
8は、水素、Ｃ1−Ｃ1 2アルキルであるか；又はＣ2−Ｃ6
アルキル（これは、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1−Ｃ4
アルコキシ、Ｃ3−Ｃ6アルケンオキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2
ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2(ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−Ｃ4アルキ
ル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1−Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）
−フェニル、−（ＣＯ）ＯＨ又は−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−
Ｃ4アルキル）で置換されている）であるか；又はＲ
8は、Ｃ2−Ｃ6アルキル（これは、−Ｏ−の１個以上に
よりより中断されている）であるか；又はＲ8は、−
（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＨ、Ｃ2−Ｃ8アルカノイル、Ｃ3−Ｃ1
2アルケニル、Ｃ3−Ｃ6アルケノイル、シクロヘキシ
ル；又はフェニル（これは、非置換であるか、又はハロ
ゲン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシ
で置換されている）であるか；又はＲ8は、フェニル−
Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｓｉ（Ｃ1−Ｃ8アルキル)r(フェニ
ル)3 - r又は下記式：
【０００７】
【化１１】
【０００８】のいずれかの基であり；ｎは、１〜２０で
あり；ｒは、１、２又は３であり；Ｒ9は、水素、Ｃ1−
Ｃ1 2アルキル、Ｃ3−Ｃ1 2アルケニル、シクロヘキシ
ル；Ｃ2−Ｃ6アルキル（これは、−ＯＨ、−ＳＨ、−Ｃ
Ｎ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ3−Ｃ6アルケンオキシ、−
ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2(ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−Ｃ
4アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1−Ｃ4アルキル、−Ｏ
（ＣＯ）−フェニル、−（ＣＯ）ＯＨ又は−（ＣＯ）Ｏ
（Ｃ1−Ｃ4アルキル）で置換されている）であるか；又
はＲ9は、Ｃ2−Ｃ1 2アルキル（これは、−Ｏ−又は−Ｓ
−の１個以上により中断されている）であるか；又はＲ
9は、フェニル（これは、非置換であるか、又はハロゲ
ン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシで
置換されている）であるか；又はＲ9は、フェニル−Ｃ1
−Ｃ3アルキル、又は下記式：
【０００９】
【化１２】
【００１０】のいずれかの基であり；Ｒ1 0及びＲ1 1は、
互いに独立して、水素、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、Ｃ2−Ｃ4
ヒドロキシアルキル、Ｃ2−Ｃ1 0アルコキシアルキル、
Ｃ3−Ｃ5アルケニル、Ｃ5−Ｃ1 2シクロアルキル, フェ
ニル−Ｃ1−Ｃ3アルキル；フェニル（これは、非置換で
あるか、又はＣ1−Ｃ1 2アルキル又はＣ1−Ｃ4アルコキ
シにより置換されている）であるか；又はＲ1 0及びＲ1 1
は、Ｃ2−Ｃ3アルカノイル、Ｃ3−Ｃ6アルケノイル又は
ベンゾイルであるか；又はＲ1 0及びＲ1 1は、一緒になっ
てＣ2−Ｃ6アルキレン（これは、場合により−Ｏ−若し
くは−ＮＲ8−により中断、及び／又は場合によりヒド
ロキシル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ2−Ｃ4アルカノイル
オキシ若しくはベンゾイルオキシで置換されている）で
あるか；又はＲ1 0が水素であるとき、Ｒ1 1は、下記式：
【００１１】
【化１３】
【００１２】のいずれかの基であってよく；Ｍは、Ｃ1
−Ｃ1 2アルキレン、シクロヘキシレン、フェニレン、−
（ＣＯ）Ｏ−（Ｃ2−Ｃ1 2アルキレン）−Ｏ（ＣＯ）
−、−（ＣＯ）Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n−（ＣＯ）−又は
−（ＣＯ）−（Ｃ2−Ｃ1 2−アルキレン）−（ＣＯ）−
であり；Ｍ1は、直接結合であるか；又はＣ1−Ｃ1 2アル
キレンオキシ（これは、場合により、１〜５個の−Ｏ
−、−Ｓ−、及び／又は−ＮＲ1 0−により中断されてい
る）であり；Ｍ2は、直接結合であるか；又はＣ1−Ｃ1 2
アルキレン−Ｓ−（これは、場合により、１〜５個の−
Ｏ−、−Ｓ−、及び／又は−ＮＲ1 0−により中断されて
いる）であり；Ｍ3は、直接結合、ピペラジノ基；又は
Ｃ1−Ｃ1 2アルキレン−ＮＨ−（これは、場合により、
１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ−、及び／又は−ＮＲ1 0−によ
り中断されている）であるが；ただし （ｉ）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ2がベンゾイル又はアセ
チルであるならば、Ｒ1はフェニルではなく； （ii）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ2がエトキシカルボニル
であるならば、Ｒ2はベンゾイル又はエトキシカルボニ
ルではなく； （iii）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ1が4−メトキシベンゾ
イルであるならば、Ｒ2はエトキシカルボニルではな
く； （iv）Ｒ5がメタクリロイルアミノであり、Ｒ1がメチル
であるならば、Ｒ2はベンゾイルではなく； （ｖ）Ｒ5及びＲ4、又はＲ5及びＲ6の両方がＯＲ8基で
あり、それらのＯＲ8基が一緒になってＲ8を介して環を
形成し、それにより−Ｏ−ＣＨ2−Ｏ−を与え、Ｒ1がメ
チルであるならば、Ｒ2はアセチルではなく； （vi）Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が、同時にメトキシであり、Ｒ1
がエトキシカルボニルであるならば、Ｒ2はアセチルで
はなく； （vii）Ｒ5がメトキシであり、同時にＲ4又はＲ6がアセ
トキシであり、Ｒ1がエチルであるならば、Ｒ2はアセチ
ルではなく； （viii）式（III）において、Ｒ1′がメチルであり、Ｒ
5′がフェニルチオであり、Ｒ4′及びＲ5′が両方Ｈで
あるならば、Ｒ2は４−クロロベンゾイルではない）で
示される化合物が、意外にも、光重合反応において良好
な効果を示すことが見出された。
【００１３】式（Ｉ）、（II）、（III）及び（IV）の
化合物は、それらが、オキシム官能基に結合するフェニ
ル又はベンゾイル基に直接結合している、アルコキシ、
アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキ
ルアミノ又はアリールアミノ置換基の少なくとも１個を
含むことで特徴づけられている。
【００１４】置換された基フェニルは、１〜４個置換さ
れており、例えば１、２又は３個、特に２個置換されて
いる。フェニル環の置換基は、好適には、フェニル環の
４位又は３，４−、３，４，５−、２，６−、２，４−
若しくは２，４，６−位、特に４−又は３，４−位であ
る。
【００１５】Ｃ1−Ｃ2 0アルキルは、直鎖又は分岐であ
り、例えばＣ1−Ｃ1 8−、Ｃ1−Ｃ1 4−、Ｃ1−Ｃ1 2−、
Ｃ1−Ｃ8−、Ｃ1−Ｃ6−若しくはＣ1−Ｃ4アルキル又は
Ｃ4−Ｃ1 2−若しくはＣ4−Ｃ8アルキルである。例は、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、２，４，４−トリメチルペン
チル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデ
シル、オクタデシル及びイコシルである。Ｃ1−Ｃ1 2ア
ルキル、Ｃ2−Ｃ1 2アルキル、Ｃ1−Ｃ8アルキル、Ｃ1−
Ｃ6アルキル、Ｃ2−Ｃ6アルキル及びＣ1−Ｃ4アルキル
は、炭素原子の相当する数までのＣ1−Ｃ2 0アルキルの
上記に示したのと同じ意味を有する。
【００１６】Ｃ2−Ｃ2 0アルキル（これは、−Ｏ−の１
個以上により中断され、例えば１〜９、１〜５、１〜３
個又は１又は２個の−Ｏ−により中断されている）二つ
のＯ−原子は、少なくとも２個のメチレン基、すなわち
エチレン基により分離されている。アルキル基は直鎖又
は分岐である。例えば以下の構造単位が存在するであろ
う、−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ3、−〔ＣＨ2ＣＨ2
Ｏ〕y−ＣＨ3（ここで、ｙ＝１〜９である）、−（ＣＨ
2−ＣＨ2Ｏ)7−ＣＨ2ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3又は−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−Ｃ
Ｈ2ＣＨ3である。Ｃ2−Ｃ6アルキル（これは、１又は２
個の−Ｏ−により中断されている）は、例えば、−ＣＨ
2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ3又は−Ｃ
Ｈ2−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ3である。
【００１７】Ｃ2−Ｃ4ヒドロキシアルキルは、１個又は
２個のＯ−原子で置換されているＣ2−Ｃ4アルキルを意
味する。このアルキル基は、直鎖又は分岐である。例
は、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシエチル、１
−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、３−
ヒドロキシプロピル、１−ヒドロキシブチル、４−ヒド
ロキシブチル、２−ヒドロキシブチル、３−ヒドロキシ
ブチル、２，３−ジヒドロキシプロピル又は２，４−ジ
ヒドロキシブチルである。
【００１８】Ｃ5−Ｃ1 2シクロアルキルは、例えばシク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロ
ドデシル、特にシクロペンチル及びシクロヘキシル、好
適にはシクロヘキシルである。
【００１９】Ｃ1−Ｃ4アルコキシは、直鎖又は分岐であ
り、例えば直鎖又は分岐であり、例えばメトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブチルオキ
シ、sec−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、tert−ブ
チルオキシである。
【００２０】Ｃ2−Ｃ1 0アルコキシアルキルは、Ｏ−原
子により中断されているＣ2−Ｃ1 0アルキルである。Ｃ2
−Ｃ1 0アルキルは、Ｃ−原子の相当する数までＣ1−Ｃ2
0アルキルのために上にあたえられた同じ意味を有す
る。例は、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシ
プロピル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシ
プロピル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロ
ポキシプロピルである。
【００２１】Ｃ2−Ｃ2 0アルカノイルは、直鎖又は分岐
であり、例えばＣ2−Ｃ1 8−、Ｃ2−Ｃ1 4−、Ｃ2−Ｃ1 2
−、Ｃ2−Ｃ8−、Ｃ2−Ｃ6−若しくはＣ2−Ｃ4アルカノ
イルＣ4−Ｃ1 2−若しくはＣ4−Ｃ8アルカノイルであ
る。例は、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、イソ
ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイ
ル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ドデカノ
イル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデ
カノイル、オクタデカノイル、イコサノイル、好適には
アセチルである。Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイル、Ｃ2−Ｃ8ア
ルカノイル、Ｃ2−Ｃ6アルカノイル及びＣ2−Ｃ4アルカ
ノイルは、Ｃ−原子の相当する数までＣ2−Ｃ2 0アルカ
ノイルのために上に示されたのと同じ意味を有する。
【００２２】Ｃ2−Ｃ4アルカノイルオキシは、直鎖又は
分岐であり、例えばアセチルオキシ、プロピオニルオキ
シ、ブタノイルオキシ、イソブタノイルオキシ、好適に
はアセチルオキシである。
【００２３】Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニルは、直鎖
又は分岐であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、プロポキシカルボニル、ｎ−ブチルオキシ
オカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、１，１−
ジメチルプロポキシカルボニル、ペンチルオキシカルボ
ニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカル
ボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカル
ボニル、デシルオキシカルボニル又はデオシルオキシカ
ルボニル、特にメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、ｎ−ブチルオキシカルボニ
ル又はイソブチルオキシカルボニル、好適にはメトキシ
カルボニルである。
【００２４】Ｃ2−Ｃ6アルコキシカルボニル及びＣ2−
Ｃ4アルコキシカルボニルは、Ｃ−原子の相当する数ま
でＣ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニルのために上にあたえ
られた同じ意味を有する。Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボ
ニルは、１個以上の−Ｏ−により中断されている。２個
のＯ−原子は、少なくとも２個のメチル基、すなわち、
エチレン基で分離されている。
【００２５】フェノキシカルボニルは、下記式：
【００２６】
【化１４】
【００２７】の基である。置換フェノキシカルボニル基
は、１〜４個置換されており、例えば１、２又は３個、
特に２又は３個置換されている。フェニル環の置換基
は、好適には、フェニル環の４位又は３，４−、３，
４，５−、２，６−、２，４−若しくは２，４，６−
位、特に４−又は３，４−位である。
【００２８】フェニル−Ｃ1−Ｃ3アルキルは、例えばベ
ンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジル又はα，
α−ジメチルベンジル、特にベンジルである。
【００２９】Ｃ3−Ｃ1 2アルケニルは、モノ−若しくは
ポリ置換であってよく、例えばアリル、メタリル、１，
１−ジメチルアリル、１−ブテニル、３−ブテニル、２
−ブテニル、１，３−ペンタジエニル、５−ヘキセニ
ル、７−オクテニル又は７−オクテニル又はドデシル、
特にアリルである。
【００３０】Ｃ3−Ｃ6アルケンオキシ基は、モノ−若し
くはポリ置換であってよく、例えばアリルオキシ、メタ
リルオキシ、ブテニルオキシ、ペンテンオキシ、１，３
−ペンタジエニルオキシ、５−ヘキセニルオキシであ
る。
【００３１】Ｃ3−Ｃ6アルケノイル基は、モノ−若しく
はポリ置換であってよく、例えばプロペノイル、２−メ
チル−プロペノイル、ブテノイル、ペンテノイル、１，
３−ペンタジエノイル、５−ヘキセノイルである。
【００３２】メチルスルファニルは、−ＳＣＨ3であ
る。
【００３３】ハロゲンは、フルオロ、クロロ、ブロモ及
びヨード、特にフルオロ、クロロ、及びブロモ、好適に
はフルオロ及びクロロである。
【００３４】Ｃ6−Ｃ1 2アリールは、例えばフェニル、
１−ナフチル、２−ナフチル、好適にはフェニルであ
る。
【００３５】フェニル環上の、置換基ＯＲ8、ＳＲ9及び
ＮＲ1 0Ｒ1 1が、フェニル環の別の置換基又はフェニル環
の炭素原子の１個と、基Ｒ8、Ｒ9、Ｒ1 0、及び／又はＲ
1 1を介して５−又は６−員環を形成するならば、２個又
は４個の環（フェニル環を含めて）を含む構造が得られ
る。例は下記式：
【００３６】
【化１５】
【００３７】の基である。
【００３８】Ｒ1′がフェニル（これは、ＳＲ9により置
換されている）であり、５−又は６−員環が、Ｒ4′、
Ｒ5′及びＲ6′を有するフェニル環の炭素原子への結合
を構築することにより基Ｒ9を介して形成されるなら
ば、下記式：
【００３９】
【化１６】
【００４０】の構造を形成することができる。Ｒ9が、
フェニルであり、Ｒ2が、ハロゲン置換ベンゾイルであ
る式（III）の化合物は、好適には、上記の定義から除
外される。
【００４１】好適なものは、Ｒ1がフェニル（これは、
非置換であるか又はＣ1−Ｃ6アルキル、フェニル、ハロ
ゲン、ＯＲ8、ＳＲ9若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1により置換
されている）であるか；又はＲ1が、Ｃ1−Ｃ2 0アルキル
（これらは、場合により−Ｏ−の１個以上により中断、
及び／又は場合によりヒドロキシ基の１個以上により置
換されている）であるか、又はＲ1が、Ｃ1−Ｃ4ハロア
ルキルであり；Ｒ1′が、フェノキシカルボニル（これ
は、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、ハロゲ
ン、フェニル、ＯＲ8、ＳＲ9若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の
１個以上により置換されている）であるか；又はＲ1′
が、−ＣＯＮＲ1 0Ｒ1 1であるか；又はＲ4′、Ｒ5′及び
Ｒ6′の少なくとも一つが−ＳＲ9であれば、Ｒ1′が、
更にＣ1−Ｃ1 2アルキル（これは、非置換であるか、又
はハロゲン、ＯＨ、ＯＲ2、フェニル、ハロゲン化フェ
ニル又はＳＲ9で置換されたフェニルの１個以上により
置換されており、かつ場合により−Ｏ−又は−ＮＨ（Ｃ
Ｏ）−により中断されている）であり；Ｒ2が、Ｃ2−Ｃ
1 2アルカノイル（これは、非置換であるか、又はハロゲ
ンにより置換されている）であるか；又はＲ2が、Ｃ4−
Ｃ6アルケノイルであるが、ただし二重結合はカルボニ
ル基と共役しておらず；又はＲ2が、ベンゾイル（これ
は、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル若しくはハ
ロゲンにより置換されている）であり；Ｒ3及びＲ7が、
水素であり；Ｒ4、Ｒ6、Ｒ4′及びＲ6′が、互いに独立
して、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、ＯＲ8又は
ＳＲ9であり、置換基ＯＲ8及びＳＲ9は、場合により、
フェニル環上の別の置換基又はフェニル環の炭素原子の
一つと、Ｒ8及び／又はＲ9を介して５−又は６−員環を
形成し；そしてＲ5及びＲ6が、ＯＲ8又はＳＲ9である、
式（Ｉ）及び（III）の化合物である。
【００４２】特に好適なものは、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6若
しくはＲ7又はＲ4′、Ｒ5′若しくはＲ6′が、ＳＲ9又
はＮＲ1 0Ｒ1 1である、式（Ｉ）及び（III）の化合物で
ある。
【００４３】他の好適な化合物は、Ｒ3及びＲ7が、水素
であり、そしてＲ4及びＲ5が、両方ＯＲ8である、式
（Ｉ）の化合物である。
【００４４】特に好適な式（Ｉ）及び（III）の化合物
において、Ｒ3、Ｒ4及びＲ7又はＲ4′及びＲ6′は、水
素であり、そしてＲ5及びＲ5′は、ＳＲ9である。特に
好適には、Ｒ9が、フェニル、すなわちＲ5又はＲ5′
が、下記式：
【００４５】
【化１７】
【００４６】の基であるそのような化合物である。
【００４７】Ｒ1′がＣ1−Ｃ1 2アルキル（これは、非置
換であるか、又はハロゲン若しくはフェニルにより置換
されている）である、式（III）の化合物が好適であ
り、特にＲ5′が、ＳＲ9、特に下記式：
【００４８】
【化１８】
【００４９】の基であるものである。
【００５０】更に興味があるものは、Ｒ1が、フェニル
又はＣ1−Ｃ1 2−アルキルであり；Ｒ1′がＣ2−Ｃ4アル
コキシカルボニル、又はフェニル（これは、ＳＲ9によ
り置換されており、場合により、基Ｒ9を介して、基
Ｒ4′、Ｒ5′及びＲ6′を有するフェニル環の炭素原子
への結合を構築することにより基Ｒ9を介して５−又は
６−員環が形成される）；又はＲ4′、Ｒ5′及びＲ6′
の少なくとも１個が、−ＳＲ9であるならば、Ｒ1′が、
更にＣ1−Ｃ1 2アルキル（これは、非置換であるか、又
はフルオロの１個以上により置換されている）であり；
Ｒ2が、Ｃ2−Ｃ4アルカノイル、又はベンゾイル（これ
は、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ4アルキル若しくはハ
ロゲンにより置換されている）であり；Ｒ3、Ｒ6及びＲ
7が、水素であり；Ｒ4及びＲ5が、互いに独立して、水
素又は基ＯＲ8、ＳＲ9、又はＮＲ1 0Ｒ1 1であり；Ｒ4′
及びＲ5′が、互いに独立して、水素又は基ＯＲ8、ＳＲ
9、又はＮＲ1 0Ｒ1 1であり；Ｒ6′が、水素であり；Ｒ8
及びＲ9が、Ｃ1−Ｃ4アルキル、フェニル又は下記式：
【００５１】
【化１９】
【００５２】のいずれかの基であり；Ｒ1 0及びＲ1 1が、
メチル若しくはエチルであるか、又はＲ1 0とＲ1 1は、一
緒になってＣ2−Ｃ6アルキレン（これは、−Ｏ−により
中断されている）であり；Ｍが、Ｃ1−Ｃ1 2アルキレン
であり；そしてＭ2が、直接結合である、式（Ｉ）、（I
I）、（III）又は（IV）のものである。特に興味がある
ものは、Ｒ4′及びＲ6′が水素であり、そしてＲ5′が
ＳＲ9である、式（III）の化合物である。
【００５３】Ｒ1は、好適にはフェニル（これは、非置
換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、フェニル、ハロゲ
ン、ＯＲ8、ＳＲ9又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置換
されている）であるか、又はＲ1は、Ｃ1−Ｃ2 0アルキル
（これは、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、フ
ェニル、ＯＲ8、ＳＲ9又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により
置換されている）である。
【００５４】特に好適なものは、Ｒ3〜Ｒ7の少なくとも
一つが、ＳＲ9、ＯＲ8又は特にＲ3〜Ｒ7の少なくとも一
つが、ＮＲ1 0Ｒ1 1又はＳＲ9、特にＳＲ9であるそれらで
ある。
【００５５】Ｒ5は、好適にはＳＲ9、ＯＲ8又はＮＲ1 0
Ｒ1 1、特にＳＲ9である。
【００５６】好適なものは、式（Ｉ）及び（III）の化
合物である。
【００５７】Ｒ3及びＲ7が水素である化合物は更に好適
である。
【００５８】Ｒ1は、好適にはＣ1−Ｃ1 2アルキルであ
る。Ｒ2は、好適にはベンゾイル、メチルベンゾイル、
ジメチルベンゾイル又はアセチルである。Ｒ6′は、水
素である。Ｒ1′は、好適にはＣ1−Ｃ1 2アルキル又は４
−（Ｃ1−Ｃ4アルキルチオ）フェニルである。Ｒ5′
は、好適にはＣ1−Ｃ4アルキルチオ又はフェニルチオで
ある。
【００５９】本発明の好適な化合物は、１−（４−フェ
ニルスルファニル−フェニル）−ブタン−１，２−ジオ
ン ２−オキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−（４−フェ
ニルスルファニル−フェニル）−オクタン−１，２−ジ
オン ２−オキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−（４−フ
ェニルスルファニル−フェニル）−オクタン−１−オン
オキシム−Ｏ−アセタート、１−（４−フェニルスルフ
ァニル−フェニル）−ブタン−１−オンオキシム−Ｏ−
アセタート、特に１−（４−フェニルスルファニル−フ
ェニル）−オクタン−１，２−ジオン ２−オキシム−
Ｏ−ベンゾアートである。
【００６０】式（Ｉ）、（II）、（III）及び（IV）の
オキシムエステルは、文献記載の方法、例えば相当する
オキシム（Ｒ2＝Ｈ）とアシルクロリド又は無水物と、
例えばテトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミドの
ような不活性溶媒中、塩基、例えばトリエチルアミンの
ような第三級アミンの存在下に、又はピリジンのような
塩基性溶媒中で反応させることにより製造される。
【００６１】
【化２０】
【００６２】そのような反応は、当業者には公知であ
り、一般に−１５℃〜＋５０℃、好適には０〜２０℃で
行われる。
【００６３】式（II）及び（IV）の化合物は、出発物質
として、下記式：
【００６４】
【化２１】
【００６５】（式中、Ｒ1〜Ｒ7、並びにＲ1 ′ 、Ｒ4 ′ 、
Ｒ5 ′ 、Ｒ6 ′ 及 び Ｍ は 、 上 記 と 同 義 で あ る）のいずれか
の適切なオキシムを用いて類似に得ることができる。
【００６６】出発物質として必要なオキシムは、標準の
化学のテキスト（例えば、J. March, Advanced Organic
Chemistry, 4th Edition, Wiley Interscience, 199
2、又は特定のモノグラフ、例えばS.R. Sandler & W. K
aro, Organic functional group preparations, Vol.
3, Academic Press）に記載されている種々の方法で得
ることができる。
【００６７】最も好都合な方法の一つは、エタノール又
は水性エタノールのような極性溶媒中でのケトンとヒド
ロキシルアミン又はその塩との反応である。この場合、
酢酸ナトリウムのような塩基を、反応混合物のpHを調整
するために加えることはよく知られている。この反応の
速度は、pHに依存しており、塩基は初め又は反応の間に
連続的に加えることができる。ピリジンのような塩基性
溶媒は、塩基及び／又は溶媒若しくは共−溶媒として用
いられる。反応温度は、一般的に混合物の沸点温度、通
常６０〜１２０℃である。オキシムの別の好都合な合成
は、亜硝酸又は亜硝酸アルキルエステルによる「活性」
メチレン基のニトロソ化である。両方のアルカリ条件
は、例えばOrganic Syntheses Coll. Vol. VI (J. Wile
y & Sons,New York, 1988), pp 199 and 840に記載され
ており、酸性条件は、例えばOrganic Synthesis Ｃoll.
vol V, pp 32 and 373, Ｃoll. vol. III, pp 191 and
513, Ｃoll. vol. II, pp. 202, 204 and 363に記載さ
れており、本発明の出発物質として用いられるオキシム
の製造に適切である。亜硝酸は、通常、亜硝酸ナトリウ
ムから生成される。亜硝酸アルキルエステルは、例えば
亜硝酸メチルエステル、亜硝酸イソプロピルエステル、
亜硝酸ブチルエステル、亜硝酸イソアミルエステルであ
る。
【００６８】全てのオキシムエステル基は、二つの立体
配置、（Ｚ）又は（Ｅ）で存在する。慣用の方法でこの
異性体を分離することができるが、光開始種として異性
体の混合物も用いることができる。したがって、本発明
は、式（Ｉ）、（II）、（III）及び（IV）の化合物の
立体配置異性体の混合物にも関する。
【００６９】本発明により、式（Ｉ）、（II）、（II
I）及び（IV）の化合物は、エチレン性不飽和化合物又
はそのような化合物の混合物の光重合の開始剤として用
いることができる。
【００７０】したがって、本発明は、（ａ）エチレン性
不飽和の光重合性化合物の少なくとも１種及び（ｂ）光
開始剤として、式（Ｉ）、（II）、（III）及び／又は
（IV）：
【００７１】
【化２２】
【００７２】（式中、Ｒ1は、フェニル（これは、非置
換であるか又はＣ1−Ｃ6アルキル、フェニル、ハロゲ
ン、ＯＲ8、ＳＲ9若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上に
より置換されている）であるか；又はＲ1は、Ｃ5−Ｃ8
シクロアルキル、Ｃ1−Ｃ2 0アルキル；又はＣ2−Ｃ2 0ア
ルキル（これは、場合により−Ｏ−の１個以上により中
断及び／又は場合によりヒドロキシ基の１個以上により
置換されている）であるか、Ｒ1は、Ｃ2−Ｃ2 0アルカノ
イル；又はベンゾイル（これは、非置換であるか、又は
Ｃ1−Ｃ6アルキル、フェニル、ＯＲ8、ＳＲ9若しくはＮ
Ｒ1 0Ｒ1 1により置換されている）であるか、又はＲ
1は、Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニル（これは、場合に
より−Ｏ−の１個以上により中断、及び／又は場合によ
りヒドロキシ基の１個以上により置換されている）であ
るか、又はＲ1は、Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニル（こ
れは、場合により−Ｏ−の１個以上により中断、及び／
又は場合によりヒドロキシ基の１個以上により置換され
ている）であるか、又はＲ1は、フェノキシカルボニル
（これは、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、ハ
ロゲン、フェニル、ＯＲ8若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１
個以上により置換されている）、又はＲ1は、−ＣＯＮ
Ｒ1 0Ｒ1 1、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ4ハロアルキル、Ｓ
（Ｏ)mC1−Ｃ6アルキル；非置換若しくはＣ1−Ｃ1 2アル
キル−置換Ｓ（Ｏ)m−Ｃ1−Ｃ6アリール；ＳＯ2Ｏ−Ｃ1
−Ｃ6アルキル；ＳＯ2Ｏ−Ｃ6−Ｃ1 0アリール、又はジ
フェニル−ホスフィニルであり；ｍは、１又は２であ
り；Ｒ1′は、Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニル（これ
は、場合により−Ｏ−の１個以上により中断、及び／又
は場合によりヒドロキシル基の１個以上により置換され
ている）であるか；又はＲ1′は、フェノキシカルボニ
ル（これは、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、
ハロゲン、フェニル、ＯＲ8若しくはＮＲ1 0Ｒ1 1の１個
以上により置換されている）であるか；又はフェニル
（これは、ＳＲ9により置換されており、場合により、
基Ｒ9を介して、基Ｒ4′、Ｒ5′及びＲ6′を有するフェ
ニル環の炭素原子への結合を構築することにより基Ｒ9
を介して５−又は６−員環が形成される）；又は
Ｒ4′、Ｒ5′及びＲ6′の少なくとも１個が、−ＳＲ9で
あるならば、Ｒ1′は、更にＣ1−Ｃ1 2アルキル（これ
は、非置換であるか、又はハロゲン、ＯＨ，ＯＲ2、フ
ェニル、ハロゲン化フェニル又はＳＲ9で置換されたフ
ェニルの１個以上により置換されており、かつ場合によ
り−Ｏ−又は−ＮＨ（ＣＯ）−により中断されている）
であり；Ｒ2は、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイル（これは、非置
換であるか、又はハロゲン若しくはＣＮの１個以上によ
り置換されている）であるか；又はＲ2は、Ｃ2−Ｃ4ア
ルケノイルであるが、ただし二重結合はカルボニル基と
共役しておらず；又はＲ2は、ベンゾイル（これは、非
置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、ハロゲン、Ｃ
Ｎ、ＯＲ8、ＳＲ9若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上に
より置換されている）であるか、又はＣ2−Ｃ6アルコキ
シカルボニル；又はフェノキシカルボニル（これは、非
置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル若しくはハロゲン
により置換されている）であり；Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及
びＲ7は、互いに独立して、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ1 2
アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル；又はフェ
ニル（これは、非置換であるか、又はＯＲ8、ＳＲ9若し
くは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置換されている）
であるか；又はＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、ベンジ
ル、ベンゾイル、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイル；Ｃ2−Ｃ1 2ア
ルコキシカルボニル（これは、場合により−Ｏ−の１個
以上により中断、及び／又は場合によりヒドロキシル基
の１個以上により置換されている）であるか；又は
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、フェノニキシカルボニ
ル；又は基ＯＲ8、ＳＲ9、ＳＯＲ9、ＳＯ2Ｒ9若しくは
ＮＲ1 0Ｒ1 1（ここで、置換基ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ1 0Ｒ
1 1は、場合によりフェニル環の更なる置換基又はフェニ
ル環の炭素原子の一つと、基Ｒ8、Ｒ9、Ｒ1 0及び／又は
Ｒ1 1を介して５−又は６−員環を形成する）であるが；
ただしＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7の少なくとも一つ
は、ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ1 0Ｒ1 1であり；Ｒ4′、Ｒ5′
及びＲ6′は、互いに独立して、水素、ハロゲン、Ｃ1−
Ｃ1 2アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル；フェ
ニル（これは、非置換であるか、又はＯＲ8、ＳＲ9若し
くは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置換されている）
であるか；又はＲ4′、Ｒ5′及びＲ6′は、ベンジル、
ベンゾイル、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイル；Ｃ2−Ｃ1 2アルコ
キシカルボニル（これは、場合により−Ｏ−の１個以上
により中断、及び／又は場合によりヒドロキシル基の１
個以上により置換されている）であるか；又はＲ4′、
Ｒ5′及びＲ6′は、フェノニキシカルボニル；又は基Ｏ
Ｒ8、ＳＲ9、ＳＯＲ9、ＳＯ2Ｒ9若しくはＮＲ1 0Ｒ
1 1（ここで、置換基ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ1 0Ｒ1 1は、場
合によりフェニル環の更なる置換基又はフェニル環の炭
素原子の一つと、基Ｒ8、Ｒ9、Ｒ1 0及び／又はＲ1 1を介
して５−又は６−員環を形成する）であるが；ただしＲ
4′、Ｒ5′及びＲ6′の少なくとも一つは、ＯＲ8、ＳＲ
9及びＮＲ1 0Ｒ1 1であり；かつＲ5′がメトキシであり、
Ｒ4′及びＲ6′が両方同時に水素であり、Ｒ1′がＣＮ
であれば、Ｒ2′は、ベンゾイル又は４−（Ｃ1−Ｃ1 0ア
ルキル）ベンゾイルではなく；Ｒ8は、水素、Ｃ1−Ｃ1 2
アルキルであるか；又はＣ2−Ｃ6アルキル（これは、−
ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ3−Ｃ6
アルケンオキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2
(ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1−
Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル、−（ＣＯ）Ｏ
Ｈ又は−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）で置換されて
いる）であるか；又はＲ8は、Ｃ2−Ｃ6アルキル（これ
は、−Ｏ−の１個以上によりより中断されている）であ
るか；又はＲ8は、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＨ、Ｃ2−Ｃ8ア
ルカノイル、Ｃ3−Ｃ1 2アルケニル、Ｃ3−Ｃ6アルケノ
イル、シクロヘキシル；又はフェニル（これは、非置換
であるか、又はハロゲン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル若しくは
Ｃ1−Ｃ4アルコキシで置換されている）であるか；又は
Ｒ8は、フェニル−Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｓｉ（Ｃ1−Ｃ8
アルキル)r(フェニル)3 - r又は下記式：
【００７３】
【化２３】
【００７４】のいずれかの基であり；ｎは、１〜２０で
あり；ｒは、１、２又は３であり；Ｒ9は、水素、Ｃ1−
Ｃ1 2アルキル、Ｃ3−Ｃ1 2アルケニル、シクロヘキシ
ル；Ｃ2−Ｃ6アルキル（これは、−ＯＨ、−ＳＨ、−Ｃ
Ｎ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ3−Ｃ6アルケンオキシ、−
ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2(ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−Ｃ
4アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1−Ｃ4アルキル、−Ｏ
（ＣＯ）−フェニル、−（ＣＯ）ＯＨ又は−（ＣＯ）Ｏ
（Ｃ1−Ｃ4アルキル）で置換されている）であるか；又
はＲ9は、Ｃ2−Ｃ1 2アルキル（これは、−Ｏ−又は−Ｓ
−の１個以上により中断されている）であるか；又はＲ
9は、フェニル（これは、非置換であるか、又はハロゲ
ン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシで
置換されている）であるか；又はＲ9は、フェニル−Ｃ1
−Ｃ3アルキル、又は下記式：
【００７５】
【化２４】
【００７６】のいずれかの基であり；Ｒ1 0及びＲ1 1は、
互いに独立して、水素、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、Ｃ2−Ｃ4
ヒドロキシアルキル、Ｃ2−Ｃ1 0アルコキシアルキル、
Ｃ3−Ｃ5アルケニル、Ｃ5−Ｃ1 2シクロアルキル,フェニ
ル−Ｃ1−Ｃ3アルキル；フェニル（これは、非置換であ
るか、又はＣ1−Ｃ1 2アルキル又はＣ1−Ｃ4アルコキシ
により置換されている）であるか；又はＲ1 0及びＲ
1 1は、Ｃ2−Ｃ3アルカノイル、Ｃ3−Ｃ6アルケノイル又
はベンゾイルであるか；又はＲ1 0及びＲ1 1は、一緒にな
ってＣ2−Ｃ6アルキレン（これは、場合により−Ｏ−若
しくは−ＮＲ8−により中断、及び／又は場合によりヒ
ドロキシル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ2−Ｃ4アルカノイ
ルオキシ若しくはベンゾイルオキシで置換されている）
であるか；又はＲ1 0が水素であるとき、Ｒ1 1は、下記
式：
【００７７】
【化２５】
【００７８】のいずれかの基であってよく；Ｍは、Ｃ1
−Ｃ1 2アルキレン、シクロヘキシレン、フェニレン、−
（ＣＯ）Ｏ−（Ｃ2−Ｃ1 2アルキレン）−Ｏ（ＣＯ）
−、−（ＣＯ）Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n−（ＣＯ）−又は
−（ＣＯ）−（Ｃ2−Ｃ1 2−アルキレン）−（ＣＯ）−
であり；Ｍ1は、直接結合であるか；又はＣ1−Ｃ1 2アル
キレンオキシ（これは、場合により、１〜５個の−Ｏ
−、−Ｓ−、及び／又は−ＮＲ1 0−により中断されてい
る）であり；Ｍ2は、直接結合であるか；又はＣ1−Ｃ1 2
アルキレン−Ｓ−（これは、場合により、１〜５個の−
Ｏ−、−Ｓ−、及び／又は−ＮＲ1 0−により中断されて
いる）であり；Ｍ3は、直接結合、ピペラジノ基；又は
Ｃ1−Ｃ1 2アルキレン−ＮＨ−（これは、場合により、
１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ−、及び／又は−ＮＲ1 0−によ
り中断されている）であるが；ただし （ｉ）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ2がベンゾイル又はアセ
チルであるならば、Ｒ1はフェニルではなく； （ii）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ2がエトキシカルボニル
であるならば、Ｒ2はベンゾイル又はエトキシカルボニ
ルではなく； （iii）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ1が4−メトキシベンゾ
イルであるならば、Ｒ2はエトキシカルボニルではな
く； （iv）Ｒ5がメタクリロイルアミノであり、Ｒ1がメチル
であるならば、Ｒ2はベンゾイルではなく； （ｖ）Ｒ5及びＲ4、又はＲ5及びＲ6の両方がＯＲ8基で
あり、それらのＯＲ8基が一緒になってＲ8を介して環を
形成し、それにより−Ｏ−ＣＨ2−Ｏ−を与え、Ｒ1がメ
チルであるならば、Ｒ2はアセチルではなく； （vi）Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が、同時にメトキシであり、Ｒ1
がエトキシカルボニルであるならば、Ｒ2はアセチルで
はない）で示される化合物を含む、光重合性組成物に関
する。
【００７９】本配合物は、更に、成分（ｂ）に、更なる
光開始剤の少なくとも１種及び／又は更なる共開始剤及
び／又は他の添加剤を含むことができる。
【００８０】不飽和成分（ａ）は、オレフィン性二重結
合の１個又は２個を含むことができる。それらは、低
（モノマー性）又は高（オリゴマー性）分子量であるこ
とができる。二重結合を有するモノマーの例は、アルキ
ル又はヒドロキシアルキルアクリラート又はメタクリラ
ート、例えばメチル、エチル、ブチル、２−エチルヘキ
シル若しくは２−ヒドロキシエチルアクリラート、イソ
ブチルアクリラート、メチルメタクリラート又はエチル
メタクリラートである。シリコンアクリラートもまた、
好都合である。他の例は、アクリロニトリル、アクリル
アミド、メタクリアミド、Ｎ−置換（メタ）アクリラー
ト、ビニルエステル、例えば酢酸ビニル、ビニルエステ
ル、例えばイソブチルビニルエーテル、スチレン、アル
キル−及びハロスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニ
ルクロリド又はビニリデンクロリドである。
【００８１】２個以上の二重結合を有するモノマーの例
は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、ヘキサメチルグリコール又はビス
フェノールＡのジアクリラート、並びに４，４′−ビス
（２−アクリロイルオキシエトキシ）ジフェニルプロパ
ン、トリメチロールプロパントリアクリラート、ペンタ
エリスリトールトリアクリラート若しくはテトラアクリ
ラート、ビニルアクリラート、ジビニルベンゼン、ジビ
ニルスクシナート、ジアリルフタラート、トリアリルホ
スファート、トリアリルイソシアヌラート、又はトリス
（２−アクリロイルエチル)イソシアヌラートである。
【００８２】比較的高分子量（オリゴマー）のポリ不飽
和化合物の例は、アクリル化エポキシ樹脂、アクリル化
ポリエステル、ビニルエーテル又はエポキシ基を含むポ
リエステル、並びにポリウレタン及びポリエーテルであ
る。不飽和オリゴマーの更なる例は、不飽和ポリエステ
ル樹脂、それらは通常マレイン酸、フタール酸及びジオ
ールの１種以上から製造され、分子量約５００〜３，０
００を有する。更に、ビニルエーテルモノマー及びオリ
ゴマー、並びにまたマレアート末端オリゴマーとポリエ
ステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリビニルエー
テル及びエポキシ主鎖を用いることもできる。特に適切
には、ＷＯ ９０/０１５１２に記載のように、ビニル
エーテル基を有するオリゴマーとポリマーの組み合わせ
である。しかしながら、ビニルエーテルとマレイン酸−
官能基化モノマーとのコポリマーも、適切である。この
種の不飽和オリゴマーは、プレポリマーとして考えるこ
ともできる。
【００８３】特に適切な例は、エチレン性不飽和カルボ
ン酸及びポリオール又はポリエポキシドのエステル、主
鎖又は側鎖にエチレン性不飽和基、例えば不飽和ポリエ
ステル、ポリアミド及びポリウレタンを有するポリマ
ー、並びにそれのコポリマ、側鎖に（メタ）アクリル酸
基を含む、ポリマー及びコポリマー、並びにそのような
ポリマーの１種以上の混合物である。
【００８４】不飽和カルボン酸の例は、アクリル酸、メ
タアクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイ皮酸及び
リノレン酸又はオレイン酸のような不飽和脂肪である。
アクリル酸及びメタアクリル酸が好適である。
【００８５】適切なポリオールは、芳香族、及び特に脂
肪族、脂環式ポリオールである。芳香族ポリオールの例
は、ヒドキノン、４，４′−ジヒドロキシジフェニル、
２，２−ジ（４−ヒドロキシフェニル）プロパン並びに
またノボラック及びレゾールである。ポリエポキシドの
例は、上述のポリオール、特に芳香族ポリオール、及び
エピクロルヒドリンに基づくそれらである。他の適切な
ポリオールは、ポリマー主鎖又は側鎖にヒドロキシルを
含むポリマー及びコポリマーであり、例は、ポリビニル
アルコール及びそれのコポリマー並びにポリヒドロキシ
アルキルメタクリラート又はそれのコポリマーである。
適切である更なるポリオールは、ヒドロキシ末端基を有
するオリゴマーである。
【００８６】脂肪族及び脂環式ポリオールは、好適には
２〜１２個の炭素原子を有するアルケンジオール、例え
ばエチレングリコール、１，２−若しくは１，３−プロ
パンジオール、１，２−、１，３−若しくは１，４−ブ
タンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、
オクタンジオール、ドデカンジオール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、好適には２００〜
１，５００の分子量を有するポリエチレングリコール、
１，３−シクロペンタンジオール、１，２−、１，３−
若しくは１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ジ
ヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセロール、トリ
ス（β−ヒドロキシエチル）アミン、トリメチロールエ
タン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ル、ジペンタエリスリトール及びソルビトールである。
【００８７】ポリオールは、部分的若しくは完全に、カ
ルボン酸又は異なる不飽和カルボン酸とエステル化され
ており、部分エステルにおいて、遊離のヒドロキシル基
は改質、例えば他のカルボン酸でエーテル化又はエステ
ル化されていてもよい。
【００８８】エステルの例は、トリメチロールプロパン
トリアクリラート、トリメチロールエタントリアクリラ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリラート、ト
リメチロールエタントリメタクリラート、テトラメチレ
ングリコールジメタクリラート、トリエチレングリコー
ルジメタクリラート、テトラエチレングリコールジアク
リラート、ペンタエリスリトールジアクリラート、ペン
タエリスリトールトリアクリラート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリラート、ジペンタエリスリトールジア
クリラート、ジペンタエリスリトールトリアクリラー
ト、ジペンタエリスリトールテトラアクリラート、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリラート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリラート、トリペンタエリスリト
ールオクタアクリラート、ペンタエリスリトールジメタ
クリラート、ペンタエリスリトールトリメタクリラー
ト、ジペンタエリスリトールジメタクリラート、ジペン
タエリスリトールテトラメタクリラート、トリペンタエ
リスリトールオクタメタクリラート、ペンタエリスリト
ールジイタコナート、ジペンタエリスリトールトリスイ
タコナート、ジペンタエリスリトールペンタイタコナー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサイタコナート、エチ
レングリコールジアクリラート、１，３−ブタンジオー
ルジアクリラート、１，３−ブタンジオールジメタクリ
ラート、１，４−ブタンジオールジイタコナート、ソル
ビトールトリアクリラート、ソルビト−ルテトラアクリ
ラート、ペンタエリスリトール−改質トリアクリラー
ト、ソルビトールテトラメタクリラート、ソルビトール
ペンタアクリラート、ソルビトールヘキサアクリラー
ト、オリゴエステルアクリラート及びメタクリラート、
グリセロールジアクリラート及びトリアクリラート、
１，４−シクロヘキサンジアクリラート、分子量２００
〜１，５００のポリエチレングルコールのビスアクリラ
ート及びビスメタクリラート並びにそれらの混合物であ
る。
【００８９】また、成分（ａ）として好適なものは、同
一又は異なる、不飽和カルボン酸と、好適には２〜６
個、特に２〜４個のアミノ基を有する、芳香族、脂環式
及び脂肪族ポリアミンのアミドである。そのようなポリ
アミンの例は、エチレンジアミン、１，２−又は１，３
−プロピレンジアミン、１，２−、１，３−又は１，４
−ブチレンジアミン、１，５−ペンチレンジアミン、
１，６−ヘキシレンジアミン、オクチレンジアミン、ド
デシレンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、
イソホロンジアミン、フェニレンジアミン、ビスフェニ
レンジアミン、ジ−β−ジアミノエチルエーテル、ジエ
チレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジ（β−
アミノエトキシ）−又はジ（β−アミノプロポキシ）エ
タンである。他の適切なポリアミンは、好適には側鎖に
更なるアミノ基を有するポリマー及びコポリマー、並び
にアミノ末端基を有するオリゴアミドである。そのよう
な不飽和アミドの例は、メチレンビスアクリルアミド、
１，６−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジエチレ
ントリアミントリスメタクリルアミド、ビス（メタクリ
ルアミドプロポキシ）エタン、β−メタクリルアミドエ
チルメタクリラート及びＮ〔（ヒドロキシエトキシ）エ
チル〕アクリルアミドである。
【００９０】適切な不飽和ポリエステル及びポリアミド
は、例えばマレイン酸及びジオール又はジアミンから誘
導される。マレイン酸のいくつかは、他のジカルボン酸
で置きかえることができる。それらは、エチレン性の不
飽和コモノマー、スチレンと一緒に用いることができ
る。ポリエステル及びポリアミドは、ジカルボン酸及び
エチレン性の不飽和ジオール又はジアミン、特に比較的
長鎖、例えば６〜２０個の炭素原子のそれらから誘導し
てもよい。ポリウレタンの例は、飽和又は不飽和ジイソ
シアナート及び不飽和、又はそれぞれ、飽和のジオール
からなるそれらである。
【００９１】側鎖に（メタ）アクリラート基を有するポ
リマーもまた、知られている。それらは、例えばノボラ
ックに基づくエポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反
応生成物であることができるか、又は（メタ）アクリル
酸でエステル化されている、ビニルアルコール若しくは
それらのヒドロキシアルキル誘導体の、ホモ−又はコポ
リマーであることができるか、又はヒドロキシアルキル
（メタ）アクリラートでエステル化されている（メタ）
アクリラートのホモ−若しくはコポリマーであることが
できる。
【００９２】光重合性化合物は、単独で、又はいかなる
所望の混合物で用いることもができる。ポリオール（メ
タ）アクリラートの混合物を用いることが好適である。
【００９３】成分（ａ）の例は、分子構造中に少なくと
も２個のエチレン性の不飽和基及び少なくとも１個のカ
ルボキシル基を有するポリマー又はオリゴマーであり、
例えば酸改質エポキシアクリラート（例えば、EB9696、
UCB Chemicals; KAYARAD TCR1025、Nippon Kayaku Co.,
LTD.）、又はアクリル化アクリルコポリマー（例え
ば、ACA200M、Daicel Industries, Ltd.）である。
【００９４】希釈剤として、モノ−又は多−官能のエチ
レン性不飽和化合物、又は該化合物の数種の混合物は、
その配合物の固体部分に基づいて、７０重量％までの上
記の配合物に含まれている。
【００９５】結合剤（ｅ）は、更に新規な配合物に加え
ることができる。これは、特に、光重合性化合物が液体
又は粘稠物質であるときに、好都合である。結合剤の量
は、全固体含量に関して例えば２〜９８％、好適には５
〜５％、特に２０〜９０重量％である。結剤の選択は、
適用分野及びその分野の必要な特性、例えば水性及び有
機溶媒システムでの展開の可能性、基質への接着及び酸
素への感受性に依存する。
【００９６】適切な結合剤の例は、分子量約２，０００
〜２，０００，０００、好適には５，〜１，０００，０
００を有するポリマーである。アルカリ展開し得る結合
剤は、懸垂基としてカルボキシル基を有するアクリルポ
リマー、例えばエチレン性不飽和カルボン酸、例えば
（メタ）アクリル酸、２−カルボキシエチル（メタ）ア
クリル酸、２−カルボキシプロピル（メタ）アクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸及びフマール
酸と、（メタ）アクリル酸、例えばメチル（メタ）アク
リラート、エチル（メタ）アクリラート、プロピル（メ
タ）アクリラート、ブチル（メタ）アクリラート、ベン
ジル（メタ）アクリラート、２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリラート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリラ
ート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリラート、ベン
ジル（メタ）アクリラート；ビニル芳香族化合物、例え
ばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ
−クロロスチレン；アミドタイプ不飽和化合物、（メ
タ）アクリルアミドジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メ
チロールアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメタクリルアミ
ド；及びポリオレフィンタイプ化合物、例えばブタジエ
ン、イソプレン、クロロプレンなど；メタクリロニトリ
ル、メチルイソプロペニルケトン、ビニルアセタート、
ビニルプロピオナート、又はビニルピバラートのエステ
ルから選択されるモノマーの１種以上との共重合により
得られる慣用の既知コポリマーとして、カルボン酸を有
するアクリルポリマーである。コポリマーの例は、アク
リラート及びメタクリラートと、アクリル酸又はメタア
クリル酸及びスチレン又は置換ススチレン、フェノール
性樹脂、例えばノボラック、（ポリ）ヒドロキシスチレ
ンとのコポリマー、並びにヒドロキシスチレンと、アル
キルアクリラート、アクリル酸及び／又はメタアクリル
酸のコポリマーである。コポリマーの好適な例は、メチ
ルメタクリラート／メタクリル酸のコポリマー、ベンジ
ルメタクリラート／メタクリル酸のコポリマー、メチル
メタクリラート／エチルアクリラート／メタクリル酸の
コポリマー、ベンジルメタクリラート／メタクリル酸／
スチレンのコポリマー、ベンジルメタクリラート／メタ
クリル酸／ヒドロキシエチルメタクリラートノコポリマ
ー、メチルメタクリラート／ブチルメタクリラート／メ
タクリル酸／スチレンのコポリマー、メチルメタクリラ
ート／ベンジルメタクリラート／メタクリル酸／ヒドロ
キシフェニルメタクリラートのコポリマーである。溶媒
展開し得る結合剤の例は、ポリ（アルキルメタクリラー
ト）、ポリ（アルキルアクリラート）、ポリ（ベンジル
メタクリラート−コ−ヒドロキシエチルメタクリラート
−コ−メタアクリル酸）、ポリ（ベンジルメタクリラー
ト−コ−メタアクリル酸）；セルロースエステル及びセ
ルロースエーテル、例えばセルロースアセタート、セル
ロースアセトブチラート、メチルセルロース、エチルセ
ルロース；ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、環化ゴム、ポリエーテル、例えばポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシド及びポリテトラヒドロフ
ラン；ポリスチレン、ポリカーボナート、ポリウレタ
ン、塩素化ポリオレフィン、ポリビニルクロリド、ビニ
ルクロリド／ビニリデン−コ−ポリマー、ビニリデンク
ロリド及びアクリルニトリルのコポリマー、メチルメタ
クリラート及びビニルアセタートのコポリマー、ポリビ
ニルアセタート、コポリ（エチレン／ビニルアセター
ト）、ポリマー、例えばポリカプロラクタム、及びポリ
（ヘキサメチレンアジパミド）、及びポリエステル、例
えばポリ（エチレングリコールテレフタラート）及びポ
リ（ヘキサメチレングリコールスクシナート）及びポリ
イミド結合樹脂である。
【００９７】本発明のポリイミド結合樹脂は、場合によ
り分子の主鎖、又はエステル基に結合した光重合性側鎖
基を有する溶媒可溶性ポリイミド又はポリイミド前駆
体、例えばポリ（アミック酸エステル）化合物、又は例
えば好適にはその分子に少なくとも１個の塩基性基を有
するアクリラート又はメタクリラートが溶液中で加えら
れうポリ（アミック酸）であることができ、例えば、ア
ミノアクリラート又はアミノメタクリラートである。
【００９８】好適なものは、結合ポリマーとして、メタ
クリラート及びメタクリル酸のコポリマーを含む光重合
し得る配合物である。更に興味があるものは、例えばJP
10-171119-A、特にカラーフィルターの用途のためのポ
リマー結合剤成分である。
【００９９】不飽和化合物（ａ）は、また非−光重合性
のフィルム形成成分である。それらは、例えば物理的に
乾燥ポリマー又は有機溶媒中のそれの溶液、例えばニト
ロセルロース又はセルロースアセトブチラートであるこ
とができる。それらは、また化学的及び／又は熱的に硬
化し得る（熱−硬化性）樹脂であることができ、例は、
ポリイソシアナート、ポリエポキシド及びメラミン樹
脂、並びにポリイミド前駆体である。同時に熱−硬化性
樹脂の使用は、ハイブリッドシステムとして知られるシ
ステムでの用途のために重要であり、第一段階で、光重
合され、第二段階で熱後処理の手段で架橋される。
【０１００】光開始剤に加えて、光重合性混合物は、種
々の添加剤（ｄ）を含むことができる。それらの例は、
熱阻害剤であり、それは、早期重合を阻止することを意
図し、例は、ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、ｐ−
メトキシフェノール、β−ナフトール又は立体障害フェ
ノール、例えば２，６−ジ−tert−ブチル−ｐ−クレゾ
ールである。暗所での貯蔵安定性を増大させるために、
例えば銅化合物、例えば銅ナフテナート、ステアラート
又はオクトアート、リン化合物、例えばトリフェニルホ
スフィン、トリブチルホスヒン、トリエチルホスファイ
ト、トリフェニルホスファイト又はトリベンジルホスフ
ァイト、四級アンモニウム化合物、例えばテトラメチル
アンモニウムクロリド若しくはトリメチルベンジルアン
モニウムクロリド、又はヒドロキシルアミン誘導体、例
えばＮ−ジエチルヒドロキシルアミンを用いることがで
きる。重合の間の雰囲気酸素を排除するために、ポリマ
ー中に十分溶解せず、重合の初期に表面に移行し、空気
の進入を阻害する透明層を形成する物質のようなパラフ
ィン又は類似のワックスを加えることができる。被覆の
最上部に酸素不透過層を適用、例えばポリ（ビニルアル
コール−コ−ビニルアセタート）を適用することができ
る。少量で加えることができる光安定剤は、ＵＶ吸収
剤、例えばヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒ
ドロキシフェニル−ベンゾフェノン、オギサルアミド又
はヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンタイプである。
それらの化合物は、単独で、又は混合物で、立体障害ア
ミン（ＨＡＬＳ）の存在又は不存在下で、用いることが
できる。
【０１０１】そのようなＵＶ吸収剤及び光安定剤の例
は、 １． ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール類、例えば２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′
−ジ−tert−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（５′−tert−ブチル−２′−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−
ヒドロキシ−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，
５′−ジ−tert−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）
−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−tert
−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）
−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−sec
−ブチル−５′−tert−ブチル−２′−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−
４′−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３′，５′−ジ−tert−アミル−２′−ヒドロキ
シフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−
ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２′−ヒドロキ
シフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−tert−
ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキ
シカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾ
トリアゾールの混合物、２−（３′−tert−ブチル−
５′−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニ
ルエチル〕−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ
−ベンゾトリアゾール、２−（３′−tert−ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエ
チル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、
２−（３′−tert−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−
（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（３′−tert−ブチル−２′−ヒドロ
キシ−５′−（２−オクチルオキシ−カルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−tert
−ブチル−５′−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）
カルボニルエチル〕−２′−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（３′−ドデシル−２′−ヒドロ
キシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール及び
２−（３′−tert−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾール、２，２′−メチレン−ビス−〔４
−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベン
ゾトリアゾール−２−イルフェノール〕；ポリエチレン
グリコール３００を用いた２−〔３′−tert−ブチル−
５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒド
ロキシフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールのエステ
ル交換生成物；〔Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ2
−〕2−（ここで、Ｒ＝３′−tert−ブチル−４′−ヒ
ドロキシ−５′−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル
フェニル）。
【０１０２】２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン類、
例えば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオ
キシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベ
ンジルオキシ、４，２′，４′−トリヒドロキシ及び
２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
【０１０３】３． 置換及び非置換安息香酸のエステル
類、例えば４−tert−ブチル−フェニルサリシラート、
フェニルサリシラート、オクチルフェニルサリシラー
ト、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−tert−ブ
チルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシ
ノール、２，４−ジ−tert−ブチルフェニル３，５−ジ
−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、ヘキサ
デシル３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベン
ゾアート、オクタデシル３，５−ジ−tert−ブチル−４
−ヒドロキシベンゾアート、２−メチル−４，６−ジ−
tert−ブチルフェニル３，５−ジ−tert−ブチル−４−
ヒドロキシベンゾアート。
【０１０４】４． アクリラート類、例えばエチルα−
シアノ−β，β−ジフェニルアクリラート、イソオクチ
ルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリラート、メチ
ルα−カルボメトキシシンナマート、メチルα−シアノ
−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナマート、ブチルα
−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナマート、
メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナマート
及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−
２−メチルインドリン。
【０１０５】５． 立体障害アミン類、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バカート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）スクシナート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバカート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルマロナート、１−（２−ヒドロキシエチ
ル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシ
ピペリジンとスクシン酸の縮合物、Ｎ，Ｎ′−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミンと４−tert−オクチルアミノ−
２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合物、
トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ニトリロトリアセタート、テトラキス−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，
３，４−ブタン−テトラオアート、１，１′−（１，２
−エタンジイル）−ビス−（３，３，５，５−テトラメ
チルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−
ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert−ブ
チルベンジル）マロナート、３−ｎ−オクチル−７，
７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピ
ロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オク
チルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル）セバカート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジル）スクシナート、Ｎ，
Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，
６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合物、２−
クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−
トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミ
ノ）エタンの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−
ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチル
ピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス
−（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、８−
アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチ
ル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−
２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，
６，−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−
２，５−ジオン及び３−ドデシル−１−（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−
２，５−ジオン。
【０１０６】６． オキサミド類、例えば４，４′−ジ
オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジエトキシオ
キサニリド、２，２′−ジオクチルオキシ−５，５′−
ジ−tert−ブトキサニリド、２，２′−ジドデシルオキ
シ−５，５′−ジ−tert−ブトキサニリド、２−エトキ
シ−２′−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−
ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−
５−tert−ブチル−２′−エトキサニリド、及び２−エ
トキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−tert−ブトキサ
ニリドとのその混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−ジ置換
オキサニリドの混合物並びにｏ−及びｐ−エトキシ−ジ
置換オキサニリドの混合物。
【０１０７】７． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン類、例えば、２，４，６−トリ
ス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス−（４−メチ
ルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒ
ドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビ
ス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリア
ジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−
３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル〕−４，６−
ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オ
クチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル〕−４，６−
ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−〔４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−
ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル〕
−４，６−ビス（２，４−ジ−メチルフェニル）−１，
３，５−トリアジン。
【０１０８】８． ホスファイト類及びホスホナイト
類、例えばトリフェニルホスファイト、ジフェニルアル
キルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、
トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリル
ホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステ
アリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
（２，４−ジ−tert−ブチルフェニル）ホスファイト、
ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビ
ス（２，４−ジ−tert−ブチルフェニル）ペンタエリス
リトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−tert−ブ
チル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジイソデシルオキシペンタエリスリトー
ルジホスファイト、ビス（２，４−ジ−tert−ブチル−
６−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、ビス（２，４，６−トリス（tert-フ゛チルフェニル)ヘ゜ンタエリ
スリトールシ゛ホスファイト、トリステアリルソルヒ゛トールトリホスファイト、テトラキス(2,4-シ゛-ter
t−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホス
ホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０
−テトラ−tert−ブチル−１２Ｈ−ジ−ベンズ〔ｄ，
ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ
−２，４，８，１０−テトラ−tert−ブチル−１２−メ
チル−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホス
ホシン、ビス（２，４−ジ−tert−ブチル−６−メチル
フェニル）メチルホスファイト及びビス（２，４−ジ−
tert−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファイ
ト。
【０１０９】この技術で知られている更なる添加剤は、
成分（ｄ）、例えば流動促進剤、接着促進剤、例えばビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランビ
ニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２
−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエト
キシシラン、３−グリシドオキシプロピルトリメトキシ
シラン、３−グリシドオキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメ
トキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、３−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン
及び３−メルカプトプロピルトリメトキシシランを添加
することができる。界面活性剤、集合阻止剤、抗酸化
剤、光安定剤、又は充填剤は、添加剤（ｄ）の更なる例
である。
【０１１０】光安定性を増大させるために、アミン、例
えばトリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールア
ミン、ｐ−ジメチルアミノベンゾアート又はミヘラーケ
トンを添加することができる。アミンの作用は、ベンゾ
フェノンタイプのケトンの添加により増強される。酸素
補足剤として用いることができるアミンの例は、置換
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリンであり、ＥＰ ３３９８４
１に記載されている。他の促進剤、共開始剤及び自動酸
化剤は、例えばＥＰ ４３８１２３、ＧＢ ２１８０３
５８及びJP Kokai' Hei ６−６８３０９に記載されて
いるように、チオール、チオエーテル、ジスルフィド、
ホスホニウム塩、ホスフィンオキシ又はホスフィンであ
る、
【０１１１】この技術で慣用である連鎖移動剤を、本発
明の配合物に加えることが、更に可能である。例は、メ
ルカプタン、アミン及びベンゾチアゾールである。
【０１１２】光重合は、更なる光増感剤又は共開始剤
（成分（ｄ）として）（これは、スペクトル感受性を移
動又は広げる）を加えることにより促進することができ
る。それらは、特に、芳香族化合物、例えばベンゾフェ
ノン及びそれの誘導体、チオキサントン及びその誘導
体、アントラキノン及びその誘導体、クマリン及びフェ
ノチアジン及びその誘導体、並びに３−（アロイルメチ
レン）チアゾリン、ローダニン、カンファーキノン、し
かしまた、エオシン、ローダミン、エリスロシン、キザ
ンテン、チオキザンテン、アクリジン、例えば９−フェ
ニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘ
プタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、
シアニン及びメロシアニン染料である。
【０１１３】そのような化合物の特定の例は、 １．チオキサントン チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２
−クロロチオキサントン、２−ドデシルチオキサント
ン、２，４−ジエチルｌチオキサントン、２，４−ジメ
チルチオキサントン、１−メトキシカルボニルチオキサ
ントン、２−エトキシカルボニルチオキサントン、３−
（２−メトキシエトキシカルボニル）−チオキサント
ン、４−ブトキシカルボニルチオキサントン、３−ブト
キシカルボニル−７−メチルチオキサントン、１−シア
ノ−３−クロロチオキサントン、１−エトキシカルボニ
ル−３−クロロチオキサントン、１−エトキシカルボニ
ル−３−エトキシチオキサントン、１−エトキシカルボ
ニル−３−アミノチオキサントン、１−エトキシカルボ
ニル−３−フェニルスルフリルチオキサントン、３，４
−ジ−〔２−（２−メトキシエトキシ）エトキシカルボ
ニル〕−チオキサントン、１−エトキシカルボニル−３
−（１−メチル−１−モルホリノエチル）−チオキサン
トン、２−メチル−６−ジメトキシメチル−チオキサン
トン、２−メチル−６−（１，１−ジメトキシベンジ
ル）−チオキサントン、２−モルホリノメチルチオキサ
ントン、２−メチル−６−モルホリノメチルチオキサン
トン、Ｎ−アリルチオキサントン−３，４−ジカルボキ
サミド、Ｎ−オクチルチオキサントン−３，４−ジカル
ボキシミド、Ｎ−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）−チオキサントン−３，４−ジカルボキサミド、１
−フェノキシチオキサントン、６−エトキシカルボニル
−２−メトキシチオキサントン、６−エトキシカルボニ
ル−２−メチルチオキサントン、チオキサントン−２−
カルボン酸ポリエチレングリコールエステル、２−ヒド
ロキシ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈ−
チオキサントン−２−イルオキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
メチル−１−プロパンアミニウムクロリド。
【０１１４】２．ベンゾフェノン ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、４−メ
トキシベンゾフェノン、４，４′−ジメトキシベンゾフ
ェノン、４，４′−ジメチルベンゾフェノン、４，４′
−ジクロロベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジメチル
アミノ）−ベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、
２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−（４−メ
チルチオフェニル）−ベンゾフェノン、３，３′−ジメ
チル−４−メトキシベンゾフェノン、メチル−２−ベン
ゾイルベンゾアート、４−（２−ヒドロキシエチルチ
オ）−ベンゾフェノン、４−（４−トリルチオ）ベンゾ
フェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルベ
ンゼンメタンアミニウムクロリド、２−ヒドロキシ−３
−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメ
チル−１−プロパンアミニウムクロリドモノヒドラー
ト、４−（１３−アクロイル−１，４，７，１０，１３
−ペンタオキサトリデシル）−ベンゾフェノン、４−ベ
ンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−〔２−（１−オキソ
−２−プロペニル）オキシ〕エチル−ベンゼンメタンア
ミニウムクロリド；
【０１１５】３．クマリン クマリン１、クマリン２、クマリン６、クマリン７、ク
マリン３０、クマリン１０２、クマリン１０６、クマリ
ン１３８、クマリン１５２、クマリン１５３、クマリン
３０７、クマリン３１４、クマリン３１４Ｔ、クマリン
３３４、クマリン３３７、クマリン５００、３−ベンゾ
イルクマリン、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリ
ン、３−ベンゾイル−５，７−ジメトキシクマリン、３
−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン、３−ベ
ンゾイル−６，８−ジクロロクマリン、３−ベンゾイル
−６−クロロ−クマリン、３，３′−カルボニル−ビス
〔５，７−ジ（プロポキシ）−クマリン〕、３，３′−
カルボニル−ビス（７−メトキシクマリン）、３，３′
−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノ−クマリ
ン）、３−イソブチロイルクマリン、３−ベンゾイル−
５，７−ジメトキシ−クマリン、３−ベンゾイル−５，
７−ジエトキシ−クマリン、３−ベンゾイル−５，７−
ジブトキシクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジ（メ
トキシエトキシ）−クマリン、３−ベンゾイル−５，７
−ジ（アリルオキシ）クマリン、３−ベンゾイル−７−
ジメチルアミノクマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチ
ルアミノクマリン、３−イソブチロイル−７−ジメチル
アミノクマリン、５，７−ジメトキシ−３−（１−ナフ
トイル）−クマリン、５，７−ジエトキシ−３−（１−
ナフトイル）−クマリン、３−ベンゾイルベンゾ〔ｆ〕
クマリン、７−ジエチルｔアミノ−３−チエノイルクマ
リン、３−（４−シアノベンゾイル）−５，７−ジメト
キシクマリン、３−（４−シアノベンゾイル）−５，７
−ジプロポキシクマリン、７−ジメチルアミノ−３−フ
ェニルクマリン、７−ジエチルアミノ−３−フェニルク
マリン、ＪＰ ０９−１７９２９９及びＪＰ ０９−３
２５２０９９に記載されれているクマリン誘導体、例え
ば７−〔｛４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−Ｓ−
トリアジン−２−イル｝アミノ〕−３−フェニルクマリ
ン；
【０１１６】４．３−（アロイルメチレン）−チアゾリ
ン ３−メチル−２−ベンゾイルメチレン−β−ナフトチア
ゾリン、３−メチル−２−ベンゾイルメチレン−ベンゾ
チアゾリン、３−エチル−２−プロピオニルメチレン−
β−ナフトチアゾリン；
【０１１７】５．ローダニン ４−ジメチルアミノベンザルローダニン、４−ジエチル
アミノベンザルローダニン、３−エチル−５−（３−オ
クチル−２−ベンゾチアゾリニレン）−ローダニン、Ｊ
Ｐ ０８−３０５０１９Ａに開示されている、式
〔１〕、〔２〕、〔７〕のローダニン誘導体；
【０１１８】６．他の化合物 アセトフェノン、３−メトキシアセトフェノン、４−フ
ェニルアセトフェノン、ベンジル、４，４′−ビス（ジ
メチルアミノ）ベンジル、２−アセチルナフタレン、２
−ナフタアルデヒド、ダンシル酸誘導体、９，１０−ア
ントラキノン、アントラセン、ピレン、アミノピレン、
フェナンスレン、フェナンスレンキノン、９−フルオレ
ノン、ジベンゾスベロン、カーキュミン、キザンテン、
チオミヒラーケトン、α−（４−ジメチルアミノベンジ
リデン）ケトン、例えば２，５−ビス（４−ジエチルア
ミノベンジリデン）シクロペンタノン、２−（４−ジメ
チルアミノ−ベンジリデン）−インダン−１−オン、３
−（４−ジメチルアミノ−フェニル）−１−インダン−
５−イル−プロペノン、３−フェニルチオフタールイミ
ド、Ｎ−メチル−３，５−ジ（エチルチオ）−フタール
イミド、Ｎ−メチル−３，５−ジ（エチルチオ）−フタ
ールイミド、フェノチアジン、メチルフェノチアジン、
アミン、例えばＮ−フェニルグリシン、エチル ４−ジ
メチルアミノベンゾアート、ブトキシエチル ４−ジメ
チルアミノベンゾアート、４−ジメチルアミノアセトフ
ェノン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールア
ミン、ジメチルアミノエタノール、２−（ジメチルアミ
ノ）エチルベンゾアート。
【０１１９】光増感剤（ｄ）として、ベンゾフェノン及
びその誘導体、チオキサントン及びその誘導体、アンス
ラキノン及びその誘導体、又はクマリン誘導体からから
なる群から選択される化合物を含む光重合性配合物が好
適である。硬化工程は、（例えばチタニウムジオキシド
で）で着色された配合物中に光増感剤を添加することに
より、また、ＥＰ ２４５６３９の実施例に記載されて
いるように、熱条件下で遊離基を形成する成分、例えば
アゾ化合物、例えば２，２′−アゾビス（４−メトキシ
−２，４−ジメチルバレロニトリル）、トリアジン、ジ
アゾスルフィド、ペンタザジエン又はエポキシ化合物、
例えばヒドロペルオキシド若しくはペルオキシカーボナ
ート、例えばｔ−ブチルヒドロペルオキシドを添加する
ことにより促進することができる。
【０１２０】本発明の配合物は、更なる添加剤として、
光還元性染料、例えばキザンテン−、ベンゾキザンテン
−、ベンゾチオキザンテン−、チアジン−、ピロニン
−、ポリフィリン−又はアクリジン染料及び／又は照射
により開裂し得るトリハロゲンメチル化合物を含むこと
ができる。同様の配合物は、例えばＥＰ ４４５６２４
に記載されている。
【０１２１】更なる慣用の添加剤は、その意図する用途
に依存して、光沢剤、充填剤、顔料、染料、湿潤剤、均
一助剤、分散剤、及び接着助剤、例えばメタクリルオキ
シプロピルトリメトキシシランである。
【０１２２】厚い、着色された被覆を硬化させるため
に、ＵＳ ５０１３７６８の実施例に記載されているよ
うに、ガラス微小球又は粉砕ガラスファイバーを添加す
ることは適切である。
【０１２３】添加剤（ｄ）の選択は、適用分野及びその
分野での必要とする特性により行われる。上記の添加剤
は、その技術において慣用であり、したがってそれぞれ
の適用で有効である量で加えられる。
【０１２４】本発明は、また成分（ａ）として、水に乳
化又は溶解された、少なくとも１個のエチレン性不飽和
の光重合性化合物含む配合物を提供する。そのような放
射線硬化性水性プレポリマー分散剤の多くの種類は商業
的に入手し得る。プレポリマー分散剤は、水の分散であ
ると理解され、少なくとも１種のプレポリマーがその中
に分散される。それらのシステム中の水の濃度は、例え
ば５〜８０重量％、特に３０〜６０重量％である。放射
線硬化性プレポリマー又はプレポアリマー混合物の濃度
は、例えば９５〜２０重量％、特に７０〜４０重量％で
ある。それらの配合物において、水とプレポリマーの割
合の合計はそれぞれの場合に１００であり、助剤と添加
剤は、意図する用途に従い、量を変えて加えられる。
【０１２５】水に分散し、かつしばしば溶解する、放射
線硬化性であり、フィルム形成性のプレポリマーは、モ
ノ又はポリ官能性であり、エチレン性の不飽和プレポリ
マーであり、それは、それ自体既知であり、遊離基によ
り開始されることができ、例えば、プレポリマー１００
ｇ当り０．０１〜１．０mol量の重合性二重結合及び例
えば少なくとも４，０００、特に５００〜１０，０００
の平均位分子量を有している。高分子量を有するプレポ
リマーは、しかしながら、意図する用途により考慮する
ことができる。例えば、重合性Ｃ−Ｃ二重結合を含み、
１０を越えない数の酸を有しするポリエステル、分子当
り少なくとも２個のエポキシド基を含み、少なくとも１
個のα，β−エチレン性不飽和カルボン酸を有する、ポ
リエポキシドのヒドロキシ含有反応生成物、ポリウレタ
ン（メタ）アクリラート、及びα，β−エチレン性不飽
和アクリル基の用途は、ＥＰ １２３３９に記載されて
いるようである。それらのプレポリマーの混合物も同様
に用いられる。また、ＥＰ３３８９６に記載されている
重合性プレポリマーも適切であり、それは、少なくとも
６００の平均分子量を有し、プレポリマー１００ｇ当
り、カルボキシル含量０．２〜１５％及び重合性Ｃ−Ｃ
二重結合０．０１〜０．８molを有するチオエーテル付
加物である。特定のアルキル（メタ）アクリラートプレ
ポリマーに基づく他の適切な水性分散剤は、ＥＰ ４１
１２５に記載され、ウレタンアクリラートの適切な水性
分散性の放射線硬化性プレポリマーは、ＤＥ ２９３６
０３９に見出すことができる。
【０１２６】それらの放射線硬化性水性プレポリマー分
散剤に含むことができる更なる添加剤は、分散助剤、乳
化剤、抗酸化剤、例えば２，２−チオビス（４−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）又は２，６−ジ−ｔ−ブ
チルフェノール、光安定剤、染料、顔料、充填剤、例え
ばガラス又はアルミナ、例えばタルク、石こう、珪酸、
ルチル、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化鉄、反応促
進剤、均一化剤、潤滑剤、湿潤剤、増粘剤、つや消し
剤、消泡剤、及びペイント技術での慣用の他の助剤であ
る。適切な分散助剤は、高分子量であり、極性基を有す
る水溶性有機化合物であり、例えばポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン又はセルロースエーテルであ
る。用いることができる乳化剤は、ノニオン性乳化剤、
及び所望ならばイオン性乳化剤である。
【０１２７】ある場合には、新規な光開始剤の２種以上
の混合物を用いることが有利であることができる。もち
ろん、既知光開始剤（Ｃ）の混合物を用いることもで
き、例えばカンファーキノン、ベンゾフェノン、ベンゾ
フェノン誘導体、アセトフェノン、アセトフェノン誘導
体、例えばα−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケト
ン又は２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プ
ロパノン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキ
シ−又はα−アミノアセトフェノン、例えば（４−メチ
ルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モルホリノエタ
ン、（４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１
−ジメチルアミノプロパン、４−アロイル−１，３−ジ
オキソラン、ベンゾインアルキルエーテル及びベンジル
ケタール、例えばジメチルベンジルケタール、フェニル
グリオキザールエステル及びその誘導体、二量化フェニ
ルグリオキザリル酸エステル、ジアセタール、ペルエス
テル、例えばＥＰ １２６５４１に記載されているベン
ゾフェノンテトラカルボン酸エステル、モノアシルホス
フィンオキシド、例えば（２，４，６−トリメチルベン
ゾイル）−ジフェニルホスフィンオキシド、ビスアシル
ホスフィンオキシド、ビス-（２，６−ジメトキシ−ベ
ンゾイル）−（２，４，４−トリメチル−ペンチル）ホ
スフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベン
ゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，
４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキ
シフェニルホスフィンオキシド、トリアシルホスフィン
オキシド、ハロメチルトリアジン、例えば２−〔２−
（４−メトキシ−フェニル）−ビニル〕−４，６−ビス
−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−
（４−メトキシ−フェニル）−４，６−ビス−トリクロ
ロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−（３，４−
ジメトキシ−フェニル）−４，６−ビス−トリクロロメ
チル−〔１，３，５〕トリアジン、２−メチル−４，６
−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジ
ン、２−（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチ
ル）アミノフェニル）−４，６−ジ（トリクロロメチ
ル）−〔１，３，５〕トリアジン、２−（４−メトキシ
−ナフチル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−
〔１，３，５〕トリアジン、２−（１，３−ベンゾジオ
キソール−５−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチ
ル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−〔４−（ペ
ンチルオキシ）フェニル〕エテニル〕−４，６−ビス−
トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−
〔２−（３−メチル−２−フラニル）−エテニル〕−
４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリ
アジン、２−〔２−（５−メチル−２−フラニル）−エ
テニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，
３，５〕トリアジン、２−〔２−（２，４−ジメトキシ
−フェニル）−エテニル〕−４，６−ビス−トリクロロ
メチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−（２−
メトキシ−フェニル）エテニル〕−４，６−ビス−トリ
クロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−
〔４−イソプロピルオキシ−フェニル〕−エテニル〕−
４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリ
アジン、２−〔２−（３−クロロ−４−メトキシ−フェ
ニル）エテニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−
〔１，３，５〕トリアジン、２−〔２−ブロモ−４−
Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ−フェ
ニル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，
５〕トリアジン、２−〔２−クロロ−４−Ｎ，Ｎ−ジ
（エトキシカルボニルメチル）アミノ−フェニル〕−
４，６−ビス−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリ
アジン、２−〔３−ブロモ−４−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシ
カルボニルメチル）アミノ−フェニル〕−４，６−ビス
−トリクロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン、２−
〔３−クロロ−４−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメ
チル）アミノ−フェニル〕−４，６−ビス−トリクロロ
メチル−〔１，３，５〕トリアジン、又はG.Buhr, R. D
ammel and C. Lindley Polym. Mater. SCi. Eng. 61, 2
69 (1989)及びＥＰ ０２６２７８８に記載の他のハロ
メチルトリアジン；ハロメチル−オキサゾール光開始
剤、例えば、ＵＳ４３７１６０６及びＵＳ ４３７１６
０７に記載されたもの；１，２−ジスルフィド、例えば
E. A. Bartmann, Synthesis 5, 490 (1993)に記載され
たもの；ヘキサアリールビスイミダゾール、及びヘキサ
アリールビスイミダゾール／共開始剤システム、例えば
２−メルカプトベンズチアゾール、フェロセニウム化合
物、又はチタノセンと組み合わせた、オルト−クロロヘ
キサフェニル−ビスイミダゾール、例えばビス（シクロ
ペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−ピ
リリル−フェニル）チタニウムとの混合物である。
【０１２８】新規な光開始剤システムがハイブリッドシ
ステムに適用される場合、新規な遊離基硬化剤に加え
て、カチオン性光開始剤、ペルオキシ化合物、例えばベ
ンゾイルペルオキシド（他の適切なペルオキシドは、US
Patent 4950581の１９欄、１７〜２５行に記載されて
いる）、芳香族スルホニウム−、ホスホニウム−又はヨ
ードニウム塩（US Patent 4950581、１８欄、６０行〜
１９欄１０行に記載されている）又はシクロペンタジエ
ニル−アレン−アイアン（II）錯体塩、例えば（η6−
イソ−プロピルベンゼン）（η5−シクロペンタジエニ
ル）アイアン（II）ヘキサフルオロホスファート、及び
オキシムスルホン酸エステルが、例えばＥＰ７８０７２
９に記載されている。また、ＥＰ ４９７５３１及びＥ
Ｐ ４４１２３２に記載されているピリジニウム及び
（イソ）キノリニウム塩は、新規な光開始剤と組み合わ
せて用いることができる。
【０１２９】本発明の目的は、式（Ｉ）、（II）、（II
I）又は（IV）の化合物に加えて、少なくとも１個のα
−アミノケトン、特に（４−メチルチオベンゾイル）−
１−メチル−１−モルホリノエタノンを含む組成物であ
る。
【０１３０】光重合性配合物は、固体配合物に基づい
て、一般に０．００５〜２５重量％、好適には０．０１
〜１０重量％、特に０．０１〜５重量％の開始剤を含
む。開始剤の混合物を用いるならば、この量は、全ての
光開始剤の合計である。したがって、量は、光開始剤
（ｂ）又は光開始剤（ｂ）＋（ｃ）に参照される。
【０１３１】光重合性配合物は、種々の方法、例えば印
刷インキとして、透明塗料として、例えば木材若しくは
金属のための白色塗料として、粉体塗料として、被覆材
料、とりわけ、紙、木、若しくはプラスチックのための
材料として、建築物及び道路標識のための日光−硬化性
被覆として、写真複製技術として、ホログラフィー記録
材料として、画像記録材料又は有機溶媒若しくは水性ア
ルカリで現像することができる印刷プレートの製造のた
めに、スクリーン印刷のための製造マスクとして、歯科
充填材として、接着剤として、圧力感受性接着剤とし
て、ラミネート樹脂として、食刻レジストとして、電気
伝メッキレジストとして、又はパーマネントレジストと
して、液体及び乾燥フィルムの両方で、光構造性誘電体
及び印刷回路ボード及び電気回路のはんだマスク、種々
の表示装置のためのカラーフィルターを製造するため又
はプラズマ表示パネルの製造工程での構造を生成させる
ためのレジストとして、並びにエレクトロルミネッセン
ス表示（例えば、ＵＳ ５８５３４４６、ＥＰ ８６３
５３４、ＪＰ ０９−２４４２３０−Ａ、ＪＰ １０−
６２９８０−Ａ、ＪＰ ０８−１７１８６３−Ａ、ＵＳ
５８４０４６５、ＥＰ ８５５７３１、ＪＰ ０５−
２７１５７６−Ａ、ＪＰ ０５−６７４０５５−Ａに記
載されている）、光スイッチ、光格子（妨害格子）、光
回路の製造のために、物質の硬化（透明な成形用型中で
のＵＶ硬化）又は立体リソグラフィ技術による三次元製
品の製造のために、例えばＵＳ ４５７５３３０に記載
されているように、複合材（例えば、所望ならば、ガラ
ス繊維及び／又は他の繊維並びに他の助剤を含むことが
できるスチレン性ポリエステル）及び他の厚層組成物の
製造のために、又は光学レンズ、例えばコンタクトレン
ズ又はフレネルレンズの製造のためにも用いることがで
きる。本発明の配合物は、医学装置、補助材又は移植材
の製造のために適切である。更に、本発明の配合物は、
例えば、ＤＥ １９７０００６４及びＥＰ ６７８５３
４に記載されているように、熱互変性を有するゲルの製
造に適切である。
【０１３２】新規な光開始剤は、更に、乳化重合、パー
ル重合又は懸濁重合の開始剤として、液晶モノマーの配
列状態を固定するための重合開始剤、又は有機材料上に
染料を固定するための開始剤として用いることができ
る。
【０１３３】被覆材料において、プレポリマーとポリ不
飽和モノマーの混合物がしばしば用いられ、それは、更
にモノ不飽和モノマーを同様に含むことができる。それ
は、ここで、主として被覆フィルムの特性を支配するプ
レポリマーであり、それを変更することにより当業者
は、硬化フィルムの特性に影響を与えることができる。
ポリ不飽和モノマーは、フィルムを不溶性にする架橋剤
として働く。ポリ不飽和モノマーは反応性希釈剤として
働き、それは、溶媒を用いる必要なしに、粘性を減少さ
せるために用いられる。
【０１３４】不飽和ポリエステル樹脂は、通常、モノ不
飽和モノマー、好適にはスチレンと一緒に２成分系で用
いられる。ホトレジストのために、特定の１成分システ
ムが、例えばＤＥ ２３０８３０に記載されているよう
にポリアミド、ポリカルコン又はポリイミドが、しばし
ば用いられる。
【０１３５】新規な光開始剤及びその混合物は、また放
射線−硬化性粉体被覆の重合のために用いることができ
る。粉体被覆は、固体樹脂及び反応性二重結合を含むモ
ノマー、例えばマレアート、ビニルエーテル、アクリラ
ート、アクリルアミド及びそれらの混合物に基づくこと
ができる。遊離基的なＵＶ硬化性粉体被覆は、固体アク
リルアミドと不飽和ポリエステル樹脂（例えば、メチル
アクリルアミドグリコラート）及び新規な遊離基光開始
剤を混合することにより処方され、このような配合物
は、例えばM. Wittig and Th. Gohmann, “Radiation C
uring of Powder被覆”, Conference Proceedings, Rad
tech Europe 1993に記載されている。粉体被覆は、ま
た、ＤＥ ４２２８５１４及びＥＰ ６３６６６９に記
載されているように結合剤を含むことができる。遊離基
的なＵＶ−硬化性粉体被覆は、また、不飽和ポリエステ
ル樹脂及び固体のアクリラート、メタクリラート又はビ
ニルエーテル、並びに新規な光開始剤（又は光開始剤混
合物）を混合することにより処方することができる。粉
体被覆は、また、例えばＤＥ ４２２８５１４及びＥＰ
６３６６６９に記載されているように、結合剤を含ん
でいてもよい。ＵＶ−硬化性粉体被覆は、更に、白色又
は着色された顔料を含むことができる。例えば、好適に
はルチルチタニウムジオキシドは、良好な被覆力の硬化
された粉体被覆を得るために５０重量％までの濃度で用
いることができる。この方法は、通常、基質、例えば金
属、木材上に粉体を静電的又は摩擦静電気的噴霧、加熱
による粉体の溶融、次いで、平滑フィルムが形成した
後、例えば中圧水銀ランプ、金属ハライドランプ又はキ
セノンランプを用いるＵＶ及び／又は可視光での被覆の
放射線硬化を含む。それらの熱−硬化性の相手方上での
放射線−硬化性粉体被覆の特別の利点は、粉体粒子の溶
融の後の時間経過が、平滑な、高い光沢の被覆を保証す
るために、遅れさせることができることである。熱−硬
化性のシステムに比べて、放射線−硬化性粉体被覆は、
それらの寿命を短くする望ましくない影響なしにより低
い温度で溶融するように配合することができる。この理
由のために、それらは、熱−感受性基質、例えば木又は
プラスチックの被覆に適切である。更に、新規な光開始
剤システム、粉体被覆配合物は、またＵＶ吸収剤を含む
ことができる。適切な例は、上記の１．−８項に列記さ
れている。
【０１３６】新規な光硬化性組成物は、保護膜を塗布す
る意図での、又は画像を生成させるために画像分の曝露
の手段で、例えば全ての種類の基質、例えば木材、繊
維、紙、セラミックス、ガラス、プラスチック、例えば
ポリエステル、ポリエチレンテレフタラート、ポリオレ
フィン、又は特にフィルムの形態での酢酸セルロース、
並びにまた金属、例えばＡｌ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚ
ｎ、Ｍｇ又はＣｏ及びＧａＡｓ、Ｓｉ又はＳｉＯ2のた
めの被覆材料として適切である。
【０１３７】基質の被覆は、基質に液体配合物、溶液又
は懸濁液を塗布することにより実施することができる。
溶媒の選択及び濃度は、原理的に配合物のタイプ及び被
覆技術に依存する。溶媒は、不活性であるべきであり、
すなわち、成分と化学反応を行うべきでない、被覆の
後、乾燥工程で除去することができるべきである。適切
な溶媒の例は、ケトン、エーテル及びエステル、例えば
メチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロ
ペンタノン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メトキシエ
タノール、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２
−プロパノール、１,２−ジメトキシエタン、エチルア
セタート、ｎ−ブチルアセタート、エチル３−エトキシ
プロピオナート、２−メトキシプロピルアセタート、メ
チル−３−メトキシプロピオナート、２−ヘプタノン、
２−ペンタノン及びエチルラクタートである。
【０１３８】溶液は、既知の被覆技術、例えばスピン被
覆、浸漬被覆、ナイフ被覆、カーテン被覆、刷毛、噴
霧、特に静電噴霧、及び逆−ロール被覆の手段により、
並びにまた電気泳動堆積の手段により、基質上に均一に
塗布される。一時的な、曲げられる支持材へ光感受性層
を塗布し、次いで最終基質、例えば銅メッキ回路板を被
覆、又はラミネートを介して層を移すことによりガラス
基質を被覆することができる。
【０１３９】塗布量（被覆厚さ）及び基質の性質（層支
持材）は、所望の適用分野に依存する。被覆厚さの範囲
は、一般に約０．１μm〜１００μmを越え、例えば０．
１μm〜１cm、好適には１μm〜１，０００μmである。
【０１４０】新規な放射線感受性配合物は、更に、光に
対して非常に高い感受性を有し、水性アルカリ媒体で、
膨潤なしに現像することができる陰画レジスト（negati
ve resist）としての適用が見出されている。それら
は、電気メッキレジスト、食刻レジスト、液体及び乾燥
の両フィルム、はんだレジスト、種々の表示装置のため
のカラーフィルターを製造するため又はプラズマ表示パ
ネルの製造工程での構造を生成させるためのレジストと
して、並びにエレクトロルミネッセンス表多くの表示適
用のためのカラーフィルターの製造、印刷板、例えばオ
フセット板又はスクリーン印刷板の製造、レリーフ印
刷、プラノグラフ印刷、写真彫刻又はスクリーン印刷型
のための印刷型の製造、レリーフコピーの製造、例えば
点字でのテキスト製造、スタンプの製造、化学粉砕での
用途、又は集積回路の製造でのマイクロレジストとして
適切である。この配合物は、更にコンピューターチッ
プ、印刷板及び他の電気又は電子部品性の製造での、光
形成性誘電層又は被覆、カプセル化及び絶縁被覆として
用いることができる。被覆基質の可能な層支持材及び加
工条件は、変えられる。
【０１４１】本発明の光硬化性配合物は、良好な熱安定
性を有し、酸素による阻害に十分抵抗性であるので、そ
れらは、例えばＥＰ ３２０２６４４に記載されている
ように、カラーフィルター又はカラーモザイクシステム
の製造のために適切である。カラーフィルターは、通
常、ＬＣＤ表示装置、投影システム及び画像センサーの
製造に用いられる。カラーフィルターは、例えばテレビ
ジョン受像機、ビデオモニター又はコンピューターのた
めに、平面表示技術などで用いることができる。
【０１４２】カラーフィルターを製造する過程におい
て、赤色、緑色及び青色の、染色物質、染料及び顔料
は、透明基質上のいかなる色の光感受性樹脂配合物をも
提供するために、本発明の光感受性樹脂配合物に加えら
れ、次いで曝露、現像に付し、必要により画像を形成さ
せるために加熱される。
【０１４３】現像は、適切なアルカリ現像液で、重合さ
れなかった領域を洗い出すことにより実施される。この
方法は、複数の色を有する画像を形成させるために繰り
返される。
【０１４４】本発明の光感受性配合物の少なくとも１種
以上の画像要素が透明基質上に形成され、次いで曝露が
透明基質の側面から行われ、その上では上記の画像要素
が形成されない方法において、上記の画像成要素を、光
遮蔽マスクとして用いることができる。この場合、例え
ば全曝露が与えられる場合、マスクの位置調整は不必要
であり、それの位置のすべりに関することは除外され
る。そして、上記の画像要素が形成されていれていない
上で全ての部分を硬化させることができる。更にこの場
合、十分に現像、上記の画像要素が、通常の部分的な光
−遮蔽マスクを用いて形成されない部分を除外すること
ができる。
【０１４５】いずれの場合にも、形式的に形成される画
像要素と後で形成するそれらの間にギャップは形成しな
いので、本発明の配合物は、例えばカラフィルターの形
成材料として適切である。具体化するために、赤色、緑
色及び青色の、染色物質、染料及び顔料は、本発明の光
感受性樹脂配合物に加えられ、画像を形成するための方
法が、赤色、緑色及び青色の画像要素を形成させるため
に繰り返される。次いで、例えば黒色着色材料、染料及
び顔料が加えられる光感受性樹脂配合物が、全表面に施
される。全曝露（又は光−遮蔽マスクを介して部分曝
露）は、その上に施され、赤色、緑色及び青色の画像要
素の間に、全空間（又は、全てか若しくは光−遮蔽マス
クの部分領域）に、黒色の画像要素を形成させる。
【０１４６】光感受性配合物が、基質に被覆され、乾燥
される工程に加えて、本発明の光感受性樹脂は、同様に
層移行材料のために用いることができる。すなわち、光
感受性配合物は、一時的な支持材上、好適にはポリエチ
レンテレフタラートフィルム、又は酸素−遮蔽層が施さ
れているポリエチレンテレフタラートフィルムに、層毎
に直接施されている。取り扱いでの保護のために、通
常、合成樹脂製の除去し得るカバーシートが、その上に
薄層化されている。更に、アルカリ可溶性熱可塑性樹脂
及び中間層が一時的支持材上に施され、更に光−感受性
樹脂配合物層がその上に施されている層構造として適用
することができる（JP-A-5-173320）。
【０１４７】上記のカバーシートは、使用時に除去さ
れ、光−感受性配合物層は、永久支持材上に薄層化され
ている。続いて、酸素−遮蔽層とはがし層が施されてい
るとき、それらの層と一時的な支持材の間で、はがし層
と酸素−遮蔽層が施されているとき、はがし層と酸素−
遮蔽層の間で、はがし層又は酸素−遮蔽層のいずれかが
施されていないとき、一時的な支持材と光感受性樹脂配
合物の間で、はがしを行い、次いで、一時的支持材を取
り除く。
【０１４８】金属支持材、ガラス、セラミックス及び合
成樹脂フィルムは、カラーフィルターの支持材として用
いることができる。透明であり、優れた寸法安定性を有
するガラス及び合成樹脂フィルムは、特に好適である。
【０１４９】光−感受性樹脂配合物層の厚さは、通常
０．１〜５０μm、特に１〜５μmである。
【０１５０】アルカリ物質の希釈水性溶液は、本発明の
光−感受性樹脂配合物現像溶液として用いられ、更にそ
れに水混和性有機溶媒の少量を加えて製造した溶液も、
同様に含まれる。
【０１５１】適切なアルカリ性材料の例は、アルカリ金
属水酸化物（例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリ
ウム）、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウ
ム、及び炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩（例え
ば、炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウム）、アル
カリ金属珪酸塩（例えば、珪酸ナトリウム及び珪酸カリ
ウム）、アルカリ金属メタ珪酸塩（例えば、メタ珪酸ナ
トリウム及びメタ珪酸カリウム）、トリエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モル
ホリン、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド（例
えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、又は
トリナトリムホスファートを含む。アルカリ物質の濃度
は、０．０１〜３０重量％であり、pHは、好適には８〜
１４である。
【０１５２】水と混和し得る適切な有機溶媒は、メタノ
ール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノー
ル、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエ
ーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン、イプシロン−カプロラクタ
ム、ガンマ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロアミド、
エチルラクタート、メチルラクタート、イプシロン−カ
プトラクタム及びＮ−メチル−ピロリドンを含む。水と
混和し得る有機溶媒の濃度は、０．１〜３０重量％であ
る。
【０１５３】更に、公然と知られている界面活性剤を、
加えることができる。界面活性剤の濃度は、好適には
０．００１〜１０重量％である。
【０１５４】現像溶液は、浴溶液又は噴霧溶液かのどち
らかの形態で用いることができる。光−感受性樹脂樹脂
配合物層の非硬化部分を除くために、回転ブラシでの摩
擦及び湿潤スポンジでの摩擦の方法を組み合わせること
ができる。通常、現像溶液の温度は、好適には周囲温度
〜４０℃である。現像時間は、光−感受性樹脂配合物の
特定の種類、アルカリ物及び現像溶液の温度、並びに加
えられた場合の有機溶媒の種類及び濃度により、変える
ことができる。通常、それは、１０秒〜２分である。現
像工程の後、すすぎ工程を行うことができる。
【０１５５】最終熱処理は、好適には現像工程の後に行
われる。したがって、曝露により光重合される層（後
で、光硬化された層として参照される）を有する支持材
は、電気炉中で加熱され、乾燥、又は光硬化された層
は、赤外ランプで照射されるか又はホットプレート上で
加熱される。加熱温度及び時間は、用いられた配合物及
び形成された層の厚さに依存する。一般に、加熱は、好
適には約１２０℃〜約２５０℃、約５〜約６０分であ
る。
【０１５６】本発明の光−感受性配合物は、適切にはカ
ラーフィルターの形成のために用いることができるが、
その適用に限定されない。同様に記録材料、表示、表示
要素、ペイント、及び印刷インキのためにも用いること
ができる。
【０１５７】本発明の光硬化性配合物は、熱安定性を有
し、酸素による阻害に十分抵抗性であるので、それら
は、特に、カラーフィルター又はＥＰ ３２０２６４に
記載されているように、カラーモザイクシステムに適切
である。カラーフィルターは、通常、ＬＣＤ表示装置、
投影システム及び画像センサーの製造に用いられる。カ
ラーフィルターは、通常、赤色、緑色及び青色ピクセル
並びにガラス基質上の黒マトリックスを形成することに
より製造される。これらの方法において、本発明の光硬
化性配合物を用いることができる。使用の特に好適な方
法は、本発明の配合物での基質の被覆、短時間の熱処理
による被覆の乾燥、化学線放射へ被覆のパターン様の曝
露、続いて水性アルカリ現像液中、及び場合により加熱
処理でのパターンの現像を含む。したがって、その方法
で互いに一番上に、赤色、緑色及び青色の着色被覆を塗
布することにより、赤色、緑色及び青色ピクセルのカラ
ーフィルターを製造することができる。カラーフィルタ
ーは、例えば、テレビジョン受像機、ビデオモニター又
はコンピューターの表示及び画像スキャナーのために、
平面表示技術などとして用いることができる。
【０１５８】着色されたカラーフィルターレジスト配合
物を含む、本発明の配合物に含まれる顔料は、好適には
加工された顔料、例えばアクリル樹脂、塩化ビニル−酢
酸ビニルコポリマー、マレイン酸樹脂及びエチルセルロ
ースからなるなる群より選択される少なくとも１種の樹
脂中に顔料を細かく分散することにより製造した粉体又
は糊料生成物である。
【０１５９】赤色顔料は、例えば、アントラキノンタイ
プ顔料単独、ペリレンタイプ顔料単独、又はそれらの少
なくとも１種からなる混合物、及びジアゾタイプ黄顔料
又はイソインドリノンタイプ黄色顔料、特にC.I. Pigme
nt Red 177単独、C.I. Pigment Red 155単独又はC.I. P
igment Red 177、C.I. Pigment Red 155及びC.I. Pigme
nt Yellow 83又はC.I. Pigment Yellow 139（“C.I.”
は、当業者に既知であり公然と入手し得るthe Color In
dexを参照）の少なくとも１種からなる混合物を含む。
【０１６０】顔料の別の適切な例は、C.I. Pigment Red
105, 144, 149, 176, 177, 185, 202, 209, 214, 222,
242, 254, 255, 264, 272及びC.I. Pigment Yellow 2
4, 31, 53, 83, 93, 95, 109, 110, 128, 129, 138, 13
9, 166及びC.I. Pigment Orange 43である。
【０１６１】緑色顔料は、例えばハロゲン化フタロシア
ニンタイプの顔料単独、又はジアゾタイプ黄色顔料若し
くはイソインドリノンタイプ黄色顔料との混合物、特に
C.I.Pigment Green 7単独、C.I. Pigment Green 36単
独、C.I. Pigment Green 37単独、又はC.I. Pigment Gr
een 7、C.I. Pigment Green 36、C.I. Pigment Green3
7、 C.I. Pigment Green 136及びC.I. Pigment Yellow
83若しくはC. I. Pigment Yellow 139の少なくとも１種
との混合物を含む。他の適切な緑色顔料は、C.I. Pigme
nt Green 15及び25である。
【０１６２】青色顔料の適切な例は、単独、又はジオキ
サジンタイプ紫色顔料と組み合わせて用いられるフタロ
シアニンタイプ顔料であり、例えばC.I. Pigment Blue
15:3及びC.I. Pigment Violet 23の組み合わせである。
青色顔料の別の例は、例えばC.I. Blue 15:3, 15:4, 1
5:6, 16及び60、すなわちフタロシアニンCI Pigment Bl
ue 15:3又はフタロシアニンC.I. Pigment Blue 15:6で
ある。他の適切な顔料は、例えばC.I. Pigment Blue 2
2, 28, C.I. Pigment Violet 14,19, 23, 29, 32,37, 1
77及びC.I. Orange 73である。
【０１６３】黒色マトリックス光ポリマー性配合物は、
好適には、カーボン、チタニウムブラック、及び酸化鉄
からなる群からの少なくとも１種を含む。しかしなが
ら、全体で黒色の外観を与える他の顔料との混合物もま
た、用いることができる。例えば、C.I. Pigment Black
1及び 7は、単独又は組み合わせて用いることができ
る。
【０１６４】いかなる色のためにも、２種以上の顔料の
組み合わせもまた用いることができる。カラーフィルタ
ーのために特に適切なものは、上記顔料を樹脂中に細か
く分散することにより製造した粉体様加工された顔料で
ある。
【０１６５】全固体中での顔料の濃度（種々の色の顔料
及び樹脂）は、例えば、５％〜８０重量％の範囲、特に
２０％〜４０重量％の範囲である。
【０１６６】カラーフィルターレジスト配合物中の顔料
は、好適には平均粒径、可視光線（４００nm〜７００n
m）の波長より小さい平均粒径を有する。特に好適に
は、＜１００nmの平均顔料径である。
【０１６７】それぞれの色において、全固体成分中の顔
料の濃度は、５重量％〜８０重量％、好適には２０％〜
４５％の範囲である。
【０１６８】必要ならば、顔料は、光配合物中で顔料の
分散安定性を改善するために分散剤で予備処理すること
により、光感受性配合物中で安定化することができる。
【０１６９】カラーフィルター、そのような樹脂の配合
及び加工条件の例は、T. Kudo et al., Jpn. J. Appl.
Phys. Vol. 37 (1998) 3594; T. Kudo et al., J. Phot
opolym. Sci. Technol. Vol 9 (1996) 109; K. Kobayas
hi, Solid State Technol. Nov. 1992, p. S15-S18; US
5368976; US 5800952; US 5882843; US 5879855; US58
66298; US 5863678; JP 06-230212-A; EP 320264; JP 0
9-269410-A; JP 10-221843-A; JP 01-090516-A; JP 10-
171119-A; US 5821016; US 5847015; US 5882843; US 6
719008; EP 881541又はEP 902327に記載されている。
【０１７０】本発明の光開始剤は、カラーフィルターレ
ジスト、例えば上記の例に述べたそれらに用いることが
できるか、又はそのようなレジストでの既知の光開始剤
を部分的又は完全に置き代えることができる。本発明の
新規な光開始剤の使用は、特定の結合剤樹脂、架橋剤及
びここに述べたカラーフィルターレジストの配合物の例
に限定されることなく、光感受性カラーフィルターイン
キ又はカラーフィルターレジストを形成させるために、
染料若しくは色顔料又は潜在的顔料と組み合わせて、あ
らゆる遊離基的な重合性成分に関連して用いることがで
きる。
【０１７１】したがって、本発明の目的は、また赤色、
緑色及び青（ＲＧＢ）色要素、かつ場合により黒色マト
リックス（すべては、透明基質上に光感受性樹脂及び顔
料を含む）を準備しかつ基質の表面又はカラーフィルタ
ー層の表面のいずれかに透明電極を準備することにより
製造されるカラーフィルターであり、該光感受性樹脂
は、ポリ官能性アクリラートモノマー、有機ポリマー結
合剤及び上記の式（Ｉ）、（II）、（III）又は（IV）
の光重合開始剤を含む。モノマー及び結合剤成分並びに
適切な顔料は、上に記載されている。カラーフィルター
の製造において、透明電極は、透明基質の表面上に塗布
することができるか、又は赤色、緑色及び青色要素及び
黒色マトリックスの表面に施すことができる。透明基質
は、例えば更にその表面に電極層を有することがででき
るガラス基質である。カラーフィルターのコントラスト
を改善するために異なる色の色領域の間に黒色マトリッ
クスを塗布するのが好適である。
【０１７２】光感受性配合物を用いて黒色マトリックス
を形成し、かつ透明基質上に赤、緑及び青色領域を分離
する黒色パターンを形成するために、黒色光感受性配合
物を光リソグラフィ的にパターン様曝露（すなわち、適
切なマスクを通して）する代わりに、無機黒色マトリッ
クスを用いることは、別の方法として可能である。その
ような無機黒色マトリックスは、適切な画像方法、例え
ば、食刻レジストで保護されていない領域の無機層を食
刻し、次いで残留食刻レジストを除くことによる、食刻
レジストの手段による光リソグラフィパターン化を用い
ることにより、透明基質上の堆積（すなわち、スパッタ
リングされた）金属（すなわち、クロム）フィルムから
形成させることができる。
【０１７３】カラーフィルター製造方法において、黒色
マトリックスを、どのように、かつ何で塗布することが
できるかについての異なる既知の方法がある。既に述べ
た赤、緑及び青（ＲＧＢ）色カラーフィルターの形成の
前に、透明基質上に直接に塗布することができるか、又
はＲＧＢカラーフィルターが、基質上に形成された後に
塗布することができる。
【０１７４】ＵＳ ５６２６７９６による液晶表示装置
のためのカラーフィルターの異なる実施態様において、
黒色マトリックスは、ＲＧＢカラーフィルター要素含有
基質の反対側の基質上に塗布することができ、それは液
晶層により前者から分離されている。
【０１７５】透明電極層が、ＲＧＢカラーフィルター層
要素及び場合により黒色マトリックスを塗布した後に、
堆積されるならば、保護層としての更なる被覆フィルム
を、電極層の堆積前に、例えばＵＳ ５６５０２６３に
記載されているように、カラーフィルター層上に塗布す
ることができる。
【０１７６】本発明の光感受性配合物は、赤、緑及び青
色カラーフィルター及び黒色マトリックスを生成させる
ために、カラーフィルターの製造のために、上記の工程
の違いを考えることなく、塗布することができる更なる
層を考えることなく、かつカラーフィルターのデザイン
の違いを考えることなく、用いることができることは当
業者には自明である。着色された要素を形成するため
に、本発明の配合物の使用は、そのようなカラーフィル
ターの異なるデザイン及び製造方法により限定されると
は考えられない。
【０１７７】好適には、カラーフィルターレジスト配合
物中の有機ポリマー結合剤は、更なる重合性モノマー単
位として、アクリル酸、メアクリル酸などのような少な
くとも不飽和有機酸化合物を含むアルカリ可溶性コポリ
マーを含む。ポリマー結合剤のための更なるコモノマー
として、メチルアクリラート、エチル（メタ）アクリラ
ート、ベンジル（メタ）アクリラート、スチレンなどの
ような不飽和有機酸エステル化合物を、アルカリ溶解
性、接着剛性、化学的耐性などのような特性をバランス
させるために、用いることは、好適である。
【０１７８】有機ポリマー結合剤は、例えば、ＵＳ ５
３６８９７６に記載されているように、ランダムコポリ
マー又はブロックコポリマーのどちらかであることがで
きる。
【０１７９】好適には、本発明のカラーフィルターレジ
スト配合物は、更に、少なくとも１種の重合性モノマー
化合物を含む。
【０１８０】例えば、以下の化合物は、単独、又は本発
明で用いられたエチレン性不飽和二重結合を有する付加
重合モノマーとして、他のモノマーと組み合わせて用い
ることができる。特に、それらは、ｔ−ブチル（メタ）
アクリラート、エチレングリコールジ（メタ）アクリラ
ート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリラート、
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリラート、トリ
メチロ−ルプロパントリ（メタ）アクリラート、２−エ
チル−２−ブチルプロパンジオールジ（メタ）アクリラ
ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリラー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリラー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリラー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリラー
ト、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリラート、トリス（２−（メタ）アクリロ
イルオキシエチル）イソシアヌラート、１，４−ジイソ
プロペニル−ベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼン
（メタ）アクリラート、デカメチレングリコールジ（メ
タ）アクリラート、スチレン、ジアリルフマラート、ト
リアリルトリメリタート、ラウリル（メタ）アクリラー
ト、（メタ）アクリルアミド及びキシレンビス（メタ）
アクリルアミドを含む。更に、ヒドロキシル基を有する
化合物、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリラ
ート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリラート、
及びポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリラート
と、ジイソシアナート、例えばヘキサメチレンジイソシ
アナート、トルエンジイソシアナート、及びキシレンジ
イソシアナートの反応生成物を用いることができる。特
に好適なものは、ペンタエリスリトールテトラアクリラ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリラート及びトリス
（２−アクリロイルオキシエチル）−イソシアヌラート
である。
【０１８１】カラーフィルターレジスト配合物におい
て、光重合性配合物中に含まられるモノマーの全量は、
配合物の全要素に基づいて、５〜８０重量％、特に１０
〜７０重量％である。
【０１８２】カラーフィルターレジスト配合物中で用い
られる結合剤、それはアルカリ水性溶液に可溶であり水
に不溶である、として、例えば分子中に１個以上の酸基
及び１個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物
のホモポリマー、又はそれらの化合物と共重性でありか
つ酸基を含まない、１種以上の共重合性不飽和結合を有
する１種以上の重合性化合物のコポリマーを用いること
ができる。そのような化合物は、分子中に１個以上の酸
基及び１個以上の重合性不飽和結合を有する低分子量化
合物の１種以上と、それらの化合物と共重合性でありか
つ酸基を有しない１個以上の不飽和結合を有する重合性
化合物の１種以上との共重合により得ることができる。
酸基の例は、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ3基、−ＳＯ2ＮＨＣ
Ｏ−基、フェノール性ヒドロキシ基、−ＳＯ2ＮＨ−基
及び−ＣＯ−ＮＨ−ＣＯ−基である。それらのうち、−
ＣＯＯＨ基を有する高分子量化合物が、好適である。
【０１８３】分子中に１個以上の酸基及び１個以上の重
合性不飽和結合を有する重合性化合物の例は、以下の化
合物を含む：アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、マレイン酸、ビニル安息香酸及びケイ皮酸
は、分子中に１個以上の−ＣＯＯＨ基及び１個以上の重
合性基を含む重合性化合物の例である。ビニルベンゼン
スルホン酸及び２−（メタ）アクリルアミド−２−メチ
ルプロパンスルホン酸は、１個以上の−ＳＯ3基及び１
個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物の例で
ある。Ｎ−メチルスルホニル（メタ）アクリルアミド、
Ｎ−エチルスルホニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フ
ェニルスルホニルメタ）アクリルアミド、及びＮ−（ｐ
−メチルフェニルスルホニル）（メタ）アクリルアミド
は、１個以上の−ＳＯ2ＮＨＣＯ−基及び１個以上の重
合性基を含む重合性化合物の例である。
【０１８４】分子中に１個以上のフェノール性ヒドロキ
シ基及び１個以上の重合性基を含む重合性化合物の例
は、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、ジヒ
ドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシ
フェニル−カルボニルオキシエチル（メタ）アクリラー
ト、ヒドロキシフェニルオキシエチル（メタ）アクリラ
ート、ヒドロキシフェニルチオエチル（メタ）アクリラ
ート、ジヒドロキシフェニルカルボニルオキシエチル
（メタ）アクリラート、ジヒドロキシフェニルオキシエ
チル（メタ）アクリラート及びジヒドロキシ−フェニル
チオエチル（メタ）アクリラートを含む。
【０１８５】分子中に１個以上のＳＯ2ＮＨ−基及び１
個以上の重合性基を含む重合性化合物の例は、下記式
（ａ）又は（ｂ）：
【０１８６】
【化２６】
【０１８７】（式中、Ｙ1及びＹ2は、それぞれ、−ＣＯ
Ｏ−、−ＣＯＮＡ7−、又は単結合を意味し；Ａ1及びＡ
4は、それぞれ、Ｈ又はＣＨ3を表し；Ａ2及びＡ5は、そ
れぞれ、場合により置換基を有するＣ1−Ｃ1 2アルキレ
ン、シクロアルキレン、アリーレン若しくはアラルキレ
ン、又はエーテル基及びチオエーテル基が挿入されてい
るＣ2−Ｃ1 2アルキレン、シクロアルキレン、アリーレ
ン若しくはアラルキレンを表し；Ａ3及びＡ6は、それぞ
れ、Ｈ、場合により置換基を有するＣ1−Ｃ1 2アルキ
ル、シクロアルキル、アリール又はアラルキル基を表
し；そしてＡ7は、Ｈ、場合により置換基を有するＣ1−
Ｃ1 2アルキル、シクロアルキル、アリール、又はアラル
キル基を表す）で示される化合物を含む。
【０１８８】１個以上の−ＣＯ−ＮＨ−ＣＯ−基及び１
個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物は、マ
レイミド及びＮ−アクリロイルル−アクリルアミドを含
む。これらの重合性化合物は、−ＣＯ−ＮＨ−ＣＯ−基
を含む高分子量化合物になり、そこで重合により主鎖と
一緒になり環が形成される。更に、それぞれ−ＣＯ−Ｎ
Ｈ−ＣＯ−基を有する、メタクリル酸誘導体及びアクリ
ル酸誘導体を、同様に用いることができる。そのような
メタクリル酸誘導体及びアクリル酸誘導体は、例えば、
メタクリルアミド誘導体、例えばＮ−アセチルメタアク
リルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−
ブタノイルメタクリルアミド、Ｎ−ペンタノイルメタク
リルアミド、Ｎ−デカノイルメタクリルアミド、Ｎ−ド
デカノイルメタクリルアミド、Ｎ−ベンゾイルメタクリ
ルアミド、Ｎ−（ｐ−メチルベンゾイル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ナフチル−カルボニル）メタクリルアミド、
Ｎ−（フェニルアセチル）−メタクリルアミド及び４−
メタクロイルアミノフタルイミド並びにそれらと同様な
置換基を有するアクリルアミド誘導体を含む。これらの
重合性化合物は、側鎖に−ＣＯ−ＮＨ−ＣＯ−基を有す
る化合物であるように重合する。
【０１８９】１個以上の重合性結合を有し、かつ酸基を
含まない重合性化合物の例は、（メタ）アクリラート、
（メタ）アクリルアミド、アクリル化合物、ビニルエー
テル、ビニルエステル、スチレン及びクロトナートから
選択される重合性不飽和基を有する化合物を含み、かつ
特に、（メタ）アクリラート、例えばアルキル（メタ）
アクリラート又は置換アルキル（メタ）アクリラート
（例えば、メチル（メタ）アクリラート、エチル（メ
タ）アクリラート、プロピル（メタ）アクリラート、イ
ソプロピル（メタ）アクリラート、ブチル（メタ）アク
リラート、アミル（メタ）アクリラート、ヘキシル（メ
タ）アクリラート、シクロヘキシル（メタ）アクリラー
ト、エチルヘキシル（メタ）アクリラート、オクチル
（メタ）アクリラート、ｔ−オクチル（メタ）アクリラ
ート、クロロ−エチル（メタ）アクリラート、アリル
（メタ）アクリラート、２−ヒドロキシ−エチル（メ
タ）アクリラート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリラート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリラー
ト、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシ−プロピル（メ
タ）アクリラート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）ア
クリラート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アク
リラート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリラ
ート、ベンジル（メタ）アクリラート、メトキシ−ベン
ジル（メタ）アクリラート、クロロベンジル（メタ）ア
クリラート、フルフリル（メタ）アクリラート、テトラ
ヒドロフルフリル（メタ）アクリラート、フェノキシエ
チル（メタ）アクリラート、及びアリール（メタ）アク
リラート（例えば、フェニル（メタ）アクリラート、ク
レシル（メタ）アクリラート、及びナフチル（メタ）ア
クリラート）；（メタ）アクリルアミド、例えば（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ−アルキル（メタ）アクリルア
ミド（このアルキル基は、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘプチル、オクチル、エチ
ルヘキシル、シクロヘキシル、ヒドロキシ−エチル及び
ベンジルを含む）、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミ
ド、（このアリール基は、例えばフェニル、トリル、ニ
トロフェニル、ナフチル、及びヒドロキシフェニルを含
む）、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリルアミド（こ
のアルキル基は、例えば、メチル、エチル、ブチル、イ
ソブチル、エチルヘキシル及びシクロヘキシルを含
む）、Ｎ，Ｎ−ジアリール（メタ）アクリルアミド（こ
のアリール基は、例えばフェニルを含む）、Ｎ−メチル
−Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキ
シエチル−Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−２
−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチル（メタ）アクリル
アミド、Ｎ−（フェニル−スルホニル）（メタ）アクリ
ルアミド、及びＮ−（ｐ−メチルフェニル−スルホニ
ル）（メタ）アクリルアミド；アリル化合物、例えばア
リルエステル（例えば、アリルアセタート、アリルカプ
ロアート、アリルカプリラート、アリルラウラート、ア
リルパルミタート、アリルステアラート、アリルベンゾ
アート、アリルアセトアセタート、及びアリルラクター
ト）、及びアリルオキシエタノール；ビニルエーテル、
例えばアルキルビニルエーテル（このアルキル基は、例
えばヘキシル、オクチル、デシル、エチルヘキシル、メ
トキシエチル、エトキシエチル、クロロエチル、１−メ
チル−２，２−ジメチルプロピル、２−エチルブチル、
ヒドロキシエチル、ヒドロキシエトキシエチル、ジメチ
ルアミノエチル、ジエチルアミノ−エチル、ブチルアミ
ノエチル、ベンジル、及びテトラヒドロフルフリルを含
む）、及びビニルアリールエーテル（このアリール基
は、例えばフェニル、トリル、クロロフェニル、２，４
−ジクロロ−フェニル、ナフチル、及びアントラニルを
含む）；ビニルエステル、例えばビニルブチラート、ビ
ニルイソブチラート、ビニルトリメチルアセタート、ビ
ニルジエチル−アセタート、ビニルバラート、ビニルカ
プロアート、ビニルクロロ−アセタタート、ビニルジク
ロロアセタート、ビニルメトキシアセタート、ビニルブ
トキシアセタート、ビニルフェニルアセタート、ビニル
アセト−アセタート、ビニルラクタート、ビニル−ｂ−
フェニルブチラート、ビニルシクロヘキシルカルボキシ
ラート、ビニルベンゾアート、ビニルサルシラート、ビ
ニルクロロベンゾアート、ビニルテトラクロロベンゾア
ート、及びビニルナフトアート；スチレン、例えばスチ
レン、アルキルスチレン、（例えば、メチルスチレン、
ジメチルスチレン、トリメチル−スチレン、エチルスチ
レン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチ
ルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレ
ン、デシル−スチレン、ベンジルスチレン、クロロメチ
ルスチレン、トリフルオロ−メチルスチレン、エトキシ
メチルスチレン、及びアセトキシスチレン）、アルコキ
シスチレン（例えば、メトキシスチレン、４−メトキシ
−３−メチルスチレン、及びジメトキシスチレン）、及
びハロゲノスチレン（例えば、クロロスチレン、ジクロ
ロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレ
ン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモ
スチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフ
ルオロスチレン、２−ブロモ−４−トリフルオロメチル
スチレン、及び４−フルオロ−３−トリフルオロメチル
−スチレン）；クロトナート、例えばアルキルクロトナ
ート（例えば、ブチルクロトナート、ヘキシルクロトナ
ート、及びグリセリンモノクロトナート）；ジアルキル
イタコナート（例えば、ジメチルイタコナート、ジエチ
ルイタコナート、及びじブチルイタコナート）；ジアル
キルマレアート又はフマラート（例えば、ジメチルマレ
アート及びジブチルフマラート）；及び（メタ）アクリ
ロニトリルを含む。
【０１９０】同様に、ヒドロキシスチレンホモ−若しく
はコ−ポリマー又はノボラックタイプフェノール樹脂、
例えばポリ（ヒドロキシスチレン）及びポリ（ヒドロキ
シスチレン−コ−ビニルシクロヘキサノール）、ノボラ
ック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、及びハロゲン化
フェノールノボラック樹脂を用いることができる。更に
特に、それは、例えばコモノマーとしてのスチレンと
の、例えばメタクリル酸コポリマー、アクリル酸コポリ
マー、イタコン酸コポリマー、クロトン酸コポリマー、
マレイン酸無水物コポリマー、及びマレイン酸コポリマ
ー、並びに部分的にエステル化されたマレイン酸コポリ
マー、それぞれは、例えばＪＰ ５９−４４６１５−Ｂ
４（ここで用いている用語“ＪＰ−Ｂ４”は、審査され
た日本特許公開を意味する）、ＪＰ ５４−３４３２７
−Ｂ４、ＪＰ ５８−１２５７７−Ｂ４、及びＪＰ ５
４−２５９７５−Ｂ４、ＪＰ ５９−５３８３６−Ａ、
ＪＰ５９−７１０４８−Ａ、ＪＰ ６０−１５９７４３
−Ａ、ＪＰ ６０−２５８５３９−Ａ、ＪＰ １−１５
２４４９−Ａ、ＪＰ ２−１９９４０４−Ａ、及びＪＰ
２−１９９４０４−Ａに記載され、並びにコポリマー
は、更にＵＳ ５６０２６３に記載されているように、
アミンと反応させることができ；更に、側鎖にカルボキ
シル基を有するセルロース誘導体を用いることができ、
そして、ベンジル（メタ）アクリラートと（メタ）アク
リル酸のコポリマー及びベンジル（メタ）アクリラー
ト、（メタ）アクリル酸及びＵＳ ４１３９３９１、Ｊ
Ｐ ５９−４４６１５−Ｂ４、ＪＰ ６０−１５９７４
３−Ａ及びＪＰ ６０−２５８５３９−Ａに記載されて
いるような他のモノマーとのコモノマーは特に好適であ
る。
【０１９１】上記の有機結合剤のうちで、カルボン酸基
を有するそれらに関し、光感受性、被覆フィルム強度、
被覆溶媒及び化学耐性並びに基質への接着性を改善する
ための光重合性有機結合剤ポリマーを得るために、カル
ボン酸基のいくつか又はすべてを、グリシジル（メタ）
アクリラート又はエポキシ（メタ）アクリラートと反応
させることは可能である。例は、ＪＰ ５０−３４４４
３−Ｂ４及びＵＳ ５１５３０９５、T. Kudo et al.
J. Appl. Phys., Vol. 37 (1998), p.3594-3603、ＵＳ
５６７７３８５及びＵＳ ５６５０２３３に記載され
ている。
【０１９２】結合剤の重量平均分子量は。好適には、５
００〜１，０００，０００、例えば３，０００〜１，０
００，０００、更に好適には５，０００〜４００，００
０である。
【０１９３】これらの化合物は、単独で、又は２種以上
の混合物として用いることができる。光−感受性樹脂配
合物中の結合剤の含量は、全固体物質に基づいて、好適
には１０〜９５重量％、更に好適には１５〜９０重量％
である。
【０１９４】更に、カラーフィルターにおいて、それぞ
れの色の全固体成分は、イオン性不純物補足剤、例えば
エポキシ基を有する有機化合物を含むことができる。全
固体成分中のイオン性不純物補足剤の濃度は、０．１重
量％〜１０重量％の範囲である。
【０１９５】カラーフィルターの例、特に上述の点に関
し、イオン性不純物補足剤の組み合わせは、ＥＰ ３２
０２６４に記載されている。ＥＰ ３２０２６４に記載
されているカラーフィルター配合物中の本発明の光開始
剤、すなわち式（Ｉ）、（II）、（III）及び（IV）の
化合物は、トリアジン開始剤を置き換えることができ
る。
【０１９６】本発明の配合物は、更に、例えばＪＰ １
０２２１８４３−Ａに記載されているように、酸により
活性化される架橋剤を含むことができ、それは、熱的
に、又は化学線照射により酸を発生し、架橋反応を活性
化する。
【０１９７】本発明の配合物は、光感受性パターン又は
被覆を含む潜在定顔料の熱処理の間に細かく分散され顔
料へ移行する潜在的顔料も含むことができる。熱処理
は、曝露後、又は潜在顔料−含有光画像性層の現像後
に、実施することができる。そのような潜在的顔料は、
例えばＵＳ ５８７９８５５に記載のように、化学的、
熱的、光又は放射線誘導方法により、不溶性顔料へ移行
させることができる可溶性顔料前駆体である。そのよう
な潜在的顔料の移行は、化学線曝露で酸を生成する化合
物の添加又は配合物へ酸を添加することにより増強させ
ることができる。したがって、本発明の配合物に潜在的
顔料を含むカラーフィルターレジストを製造することも
できる。
【０１９８】本発明の配合物は、単−又は多色であるこ
とができる画像記録又は画像再作成（コピー、レプログ
ラフィ）のための、１−又は２−層以上の材料の生産の
ための適用を見出した。更に、この材料は、カラー耐性
システムに適切である。この技術において、マイクロカ
プセルを含む配合物が、用いられることができ、画像作
成のために、放射線硬化を、熱処理に続いて用いること
ができる。そのようなシステムは、例えばＵＳ ５３７
６４５９に記載されている。
【０１９９】ホトグラフィ情報記録に用いられる基質
は、例えばポリエステル、セルロースアセタート、又は
ポリマー−被覆ペーパーのフィルムを含み；オフセット
印刷型の基質は、特に処理されたアルミニウムであり、
印刷回路を製造するための基質は、銅メッキラミネート
であり、そして集積回路を製造するための基質は、シリ
コンウエハーである。ホトグラフィ材料及びオフセット
印刷型のための層厚さは、一般に約０．５μm〜１０μm
であり、一方印刷回路の厚さは、１．０μm〜約１００
μmである。
【０２００】基質の被覆に続いて、溶媒は、一般的に乾
燥により除去され、基質上にホトレジストの被覆を得
る。
【０２０１】用語「画像様（imagewise）」曝露は、予
め決められたパターンを含む光遮蔽、例えばスライド又
はレチクルを通す曝露、及びレーザー又は光ビームを用
いる曝露、それは、例えばコンピューター制御下に被覆
した基質の表面を移動し、この方法で画像を作成し、コ
ンピューター制御の電子線ビームで照射する、方法の両
者を含む。例えば、A. Bertsch, J.Y. Jezequel, J.C.
Andre in Journal ofPhotochemistry and Photobiology
A: Chemistry 1997, 107, p.275-181及びK.-P. Nicola
y in Offset Printing 1997, 6, p.34-37に記載されて
いるようにピクセルによりピクセルを記憶し、デジタル
画像を生成することもできる液晶から作成されたマスク
を用いることもできる。
【０２０２】材料の画像様曝露に続き、かつ現像の前
に、短時間熱処理することが好都合であることができ
る。現像の後での熱焼き付けは、配合物を硬化させ、溶
媒の全痕跡を除くことができる。用いる温度は、一般に
５０〜２５０℃、好適には８０〜２２０℃であり；熱処
理の時間は、一般に０．２５〜６０分である。
【０２０３】光硬化性配合物は、更に、例えばＤＥ ４
０１３３５８１に記載されているように、印刷プレート
又はホトレジストの製造方法で用いることができる。そ
のような方法において、配合物は、画像方法照射の前、
同時に又はその後に、少なくも４００nmの波長の可視光
にマスクなしに短時間曝露される。
【０２０４】曝露の後、もし行ったならば、熱処理、光
感受性被覆の非曝露領域は、それ自体既知の方法で、現
像剤により除去される。
【０２０５】既述のように、新規な配合物は、水性アル
カリにより現像することができる。特に、適切な水性ア
ルカリ現像溶液は、テトラアルキルアンモニウムヒドロ
キシド又はアルカリ金属シリカート、ホスファート及び
カーボナートの溶液である。湿潤剤及び／又は有機溶媒
のより少ない量が、所望ならば、それらの溶液に加えて
もよい。現像溶液へ少量加えてもよい典型的な有機溶媒
の例は、シクロへキサノン、２−エトキシエタノール、
トルエン、アセトン及びそのような溶媒の混合物であ
る。基質に従い、また、溶媒は、現像剤として又は上述
したようにそのような溶媒と水性アルカリの混合物とし
て用いることができる。
【０２０６】インキの乾燥時間は、グララフィックの作
成速度に対し重要なファクターであり、それは重要な秒
の割合の範囲であるべきであるので、光硬化は印刷のた
めに重要である。ＵＶ−硬化性インキは、特にスクリー
ン印刷及びオフセット印刷のために重要である。
【０２０７】記述のように、新規な混合物は、印刷プレ
ートを製造するために非常に適切である。この適用は、
例えば、カルボキシル基、ポリビニルアルコール若しく
はウレタンアクリラートを含む、可溶性線状ポリアミド
又はスチレン／ブタジエン及び／若しくはスチレン／イ
ソプレンラバーポリアクリラート又はポリメチルメタク
リラートと光重合性モノマー、例えばアクリルアミド及
び／若しくはメタクリルアミド、又はメタクリラート、
及び光開始剤の混合物を用いる。それらのシステム（湿
潤及び乾燥）のフィルム及びプレートは、印刷された最
初のネガ（又はポジ）の上で曝露され、次いで非硬化部
分は、適切な溶媒又は水性溶液を用いて洗い出される。
【０２０８】光硬化が用いられる別の分野は、金属の被
覆であり、この場合、例えば金属板及び管、缶又はビン
のふたであり、ＰＶＣに基づくポリマー被覆、例えばＰ
ＶＣに基づく床又は壁の覆いの光硬化である。ペーパー
被覆の光硬化の例は、ラベル、レコードの紙袋及び本の
カバーの無色ワニスである。
【０２０９】また、興味があるものは、複合材から製造
された成形品を硬化させる新規な光開始剤の用途であ
る。複合材化合物は、自己支持マトッリクス材料、例え
ば、グラスファイバー織物、又は別のものとして、例え
ばプラントファイバー〔K.-P.Mieck, T. Reussmann in
Kunststoffe 85 (1995), 365-370参照〕からなり、これ
は光硬化配合物を組み込まれている。複合材を含む成形
部分は、新規な化合物を用いて製造されたとき、高水準
の機械的安定性及び耐性を達成する。これらの新規な配
合物は、例えばＥＰ ７０８６に記載されているよう
に、成形品、組み込み品及び被覆配合物での光硬化剤と
して用いることができる。そのような配合物の例は、ゲ
ル被覆樹脂（これは、硬化活性及び黄色化耐性に関して
厳しい要求になりやすい）、及び繊維強化成形品、例え
ば光分散パネル（これは、平面であるか又は縦しわ又は
横しわを有する）である。そのような成形品、例えば手
仕上げ、噴霧仕上げ、遠心注型又は糸巻きのような成形
品を製造する技術が、例えばP.H. Selden in “Glasfas
erverstarkte Kunststoffe”, page 610、Springer Ver
lag Berlin-Heidelberg-New York 1967に記載されてい
る。それらの技術で製造することができる製品の例は、
ボート、繊維ボード、ガラス繊維強化プラスチックで両
側を被覆したボール紙パネル、管、容器などである。成
形、組み込み及び被覆配合物の例は、ガラス繊維（ＧＲ
Ｐ）を含む成形品、例えばしわ紙及びペーパーラミネー
トのためのＵＰ樹脂ゲル被覆である。ラミネートを製造
する前に、ゲル被覆が支持材（例えば、フィルム）の上
に製造される。新規な光硬化性配合物は、注型樹脂又は
埋め込み製品、例えば電気部品のために用いることがで
きる。
【０２１０】本発明の配合物及び化合物は、ホログラフ
ィ、導波管、光学スイッチの製造に用いることができ、
照射及び非照射領域の間の屈折率の差を大きくする利点
を有している。
【０２１１】画像技術及び情報担体の光製造のための光
硬化性配合物は、また重要である。そのような適用にお
いて、上に既述したように、支持材上に塗布されたその
層（湿潤又は乾燥）は、画像様に、例えば光マスクを通
して、ＵＶ又は可視光で照射され、層の非曝露領域は現
像剤で処理して除かれる。金属への光硬化性層の塗布
は、電着により実施することができる。曝露領域は、架
橋を通しての重合性であり、したがって不溶性であり、
支持材上に残る。適切な着色は、可視画像を調製する。
支持材がメタル化層である場合、金属は、曝露及び現像
に続いて、非曝露部分で食刻されるか、又はメッキによ
り強化される。この方法で、電子回路オ及びホトレジス
トを製造することができる。画像−形成材料で用いられ
るとき、新規な光開始剤は、いわゆる印刷画像の製造に
おいて、優れた効果を提供し、それにより色変化は、照
射により誘導される。そのような印刷画像を形成するた
めに、異なる染料及び／又はそれらのロイコ形態が用い
られ、そのような印刷画像システムの例は、例えばＷＯ
９６／４１２４０、ＥＰ ７０６０９１、ＥＰ ５１
１４０３、ＵＳ ３５７９３３９及びＵＳ ４６２２２
８６に見ることができる。
【０２１２】新規な配合物の光感受性は、一般に約１９
０nm〜６００nm（ＵＶ−可視領域）に広がっている。適
切な照射は存在し、例えば太陽光又は人工光源の光であ
る。結論的に、多くの種々な光源が用いられる。点光源
及び配列（面ランプ）の両方が適切である。例は、カー
ボンアークランプ、ゼノンアークランプ、中圧、高圧及
び低圧水銀ランプ、多分金属ハロゲン化物をドープした
（金属−ハロゲンランプ）、マイクロ波励起金属ラン
プ、エキシマーランプ、超化学蛍光管、蛍光ランプ、ア
ルゴン白熱ランプ、電気フラッシュ光、写真用フラッド
ランプ、光発光ダイオード（ＬＥＤ）、電子線ビーム及
びＸ−線である。ランプと本発明の曝露される基質の距
離は、意図される適用、型及びランプの出力により変え
ることができ、例えば２cm〜１５０cmであることができ
る。レーザー光源、例えばエキシマレーザー、例えば２
４８nmでの曝露のためのＫｒＦエキシマレーザ及び１９
３nmでの曝露のためのＡｒＦエキシマレーザは、適切で
ある。可視領域でのレーザも用いることができる。この
方法で、電子工業での印刷回路、リソグラフィオフセッ
ト印刷プレート又はレリーフ印刷プレート、及びホトグ
ラフ画像記録材料を製造することは、可能である。
【０２１３】したがって、本発明は、少なくとも１個の
エチレン性不飽和二重結合を含む、モノマー性、オリゴ
マー性又はポリマー性化合物の光重合のための方法であ
って、上述の化合物に、上記の、式（Ｉ）、（II）、
（III）又は（IV）の光開始剤の少なくとも１種を加
え、得られた配合物を電磁照射で、電子線ビーム又はＸ
線で、特に波長１９０〜６００nmの光で照射することを
含む方法を提供する。
【０２１４】本発明は、更に、着色及び非着色ペイント
及びワニス、粉体被覆、印刷インキ、印刷プレート、接
着剤、歯科配合物、ホトレジストを含むレジスト材料、
カラーフィルター材料、電気及び電子部品を封止するた
めの組成物として、磁場記録材料、微小機械部品、導波
管、光学スイッチ、メッキ遮蔽、食刻遮蔽、カラープル
ーフィングシステム、グラスファイバーケーブル被覆、
スクリーン印刷型紙、の製造、ステレオリドグラフィの
手法による三次元物体の製造、及び画像記録材料、特に
ホログラフ記録、マイクロ電子回路、脱色材料、画像記
録材料のための脱色材料、マイクロカプセルを用いる画
像記録材料を製造するための配合物を提供する。
【０２１５】更に、本発明は、上記の配合物で少なくと
も一つの表面に被覆された基質を提供し、レリーフ画像
のホトグラフ製造の方法を記載し、そこで、被覆された
基質は、画像方法での曝露に付され、次いで非曝露部分
は、現像剤で除去される。画像方法の曝露は、マスクを
通してか又はレーザービームの方法により実施すること
ができる。特に、この文脈において、既に上記したよう
にレーザービーム曝露が好都合である。
【０２１６】本発明の化合物は、増感剤がない場合で
も、低濃度において、高い感受性及び分解性を有してい
る。それらは、良好な熱安定性及び低揮発性を有し、空
気（酸素）の存在においての光重合にも適切である。更
に、本発明の化合物は、光重合後配合物中に低い黄色化
をもたらすのみである。
【０２１７】以下の実施例は、本発明を更に詳細に説明
している。部及びパーセントは、明細書及びクレームに
おいて、特に断らないかぎり、重量である。３個を超え
る炭素原子を有するアルキル基が、特定の異性体に何ら
かの言及なしに参照されている場合、それぞれの場合
に、ｎ−異性体を意味する。
【０２１８】
【実施例】実施例１：１−（４−メチルスルファニル−
フェニル）−ブタン−１，２−ブタン ２−オキシム−
Ｏ−アセタートの製造 式（Ｉ）において：Ｒ1＝Ｃ2Ｈ5；Ｒ2＝ＣＯＣＨ3；
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7＝ＳＣＨ3 １．ａ．：１−（４−メチルスルファニル−フェニル）
−ブタン−１，２−ブタン ２−オキシム １１．０ｇ（０．２０６mol）のナトリウムメトキシド
を、１３０mlのメタノールに懸濁した。次いで、イソア
ミルナイトライト（２７ml、０．２０６mol）及び２５
ｇ（０．１２９mol）の１−（４−メチルスルファニル
−フェニル）−ブタン−１−オンを７０mlのテトラヒド
ロフラン（ＴＨＦ）に溶解した溶液を加え、反応溶液を
室温で１．５日攪拌した。濃縮した後、水及び酢酸を加
えて中和した。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、
塩水（brine）で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮し
た。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶離
剤：エチルアセタート−ヘキサン（１５：８５））で精
製した。構造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.14 (t,
3H), 2.52 (s, 3H), 2.72 (q, 2H), 7.25 (d, 2H), 7.8
6 (d, 2H), 8.01 (s, 1H).
【０２１９】１．ｂ．：１−（４−メチルスルファニル
−フェニル）−ブタン−１，２−ブタン ２−オキシム
−Ｏ−アセタート ３．５ｇ（１５．７mmol）の１−（４−メチルスルファ
ニル−フェニル）−ブタン−１，２−ブタン ２−オキ
シムを２０mlのＴＨＦに溶解し、次いで溶液を氷−浴で
冷却した。アセチルクロリド（１．２３ml、１７．３mm
ol）及びトリエチルアミン（３．３ml、２３．６mmol）
を、順次加え、反応溶液を０℃で１時間攪拌し、次いで
水に注いだ。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、塩
水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。残渣を、
シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶離剤：エチルア
セタート−ヘキサン（２０：８０））で精製した。構造
は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.17 (t,
3H), 2.27 (s, 3H), 2.53 (s, 3H), 2.78 (q, 2H), 7.2
7 (d, 2H), 8.00 (d, 2H).
【０２２０】実施例２〜１７:実施例２〜１７の化合物
は、相当するケトンから実施例１記載の方法に従い、ジ
クロロメタン中アルミニウムクロリドの存在下に相当す
る芳香族及びアシルクロリドを用いるフリーデルクラフ
ト反応を用いて製造した。化合物及び1Ｈ−ＮＭＲ−デ
ータは、表１に示した。
【０２２１】
【表１】
【０２２２】
【表２】
【０２２３】
【表３】
【０２２４】
【表４】
【０２２５】
【表５】
【０２２６】実施例２２：１−（４−メチルスルファニ
ル−フェニル）−ブタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセ
タートの製造 式（III）において：Ｒ1′＝Ｃ3Ｈ7；Ｒ2＝ＣＯＣＨ3；
Ｒ5′＝ＳＣＨ3；Ｒ4′、Ｒ6 ′＝Ｈ ２２．ａ：１−（４−メチルスルファニル−フェニル）
−ブタン−１−オンオキシム ９.７２ｇ（５０mmol）の１−（４−メチルスルファニ
ル−フェニル）−ブタン−１−オンを熱エタノール中へ
溶解した。次いで、２０mlの水中のヒドロキシアンモニ
ウムクロリド（３．５８ｇ、５１．５mmol）及びナトリ
ウムアセタート（７．０ｇ、８５mmol）の溶液を加え、
反応溶液を１００℃で４時間攪拌した。冷却し、濃縮し
た後、水を加えた。粗生成物をエチルアセタートで抽出
し、塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（エチルアセタ
ート−ヘキサン（２０：８０）溶離剤）で精製した。構
造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 0.98 (t,
3H), 1.54-1.64 (m, 2H), 2.50 (s, 3H), 2.76 (t, 2
H), 7.24 (d, 2H), 7.54 (d, 2H), 7.98 (s, 1H).
【０２２７】２２．ｂ：１−（４−メチルスルファニル
−フェニル）−ブタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタ
ート ２.０ｇ（９．５６mmol）の１−（４−メチルスルファ
ニル−フェニル）−ブタン−１−オンオキシムを１０ml
のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解し、溶液を氷−
浴で冷却した。アセチルクロリド（０．７５ml、１０．
５mmol）及びトリエチルアミン（２．０ml、１４．３mm
ol）を順次に加え、反応溶液を０℃で１時間攪拌し、次
いで水に注いだ。粗生成物をエチルアセタートで抽出
し、塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（エチルアセタ
ート−ヘキサン（２０：８０）溶離剤）で精製した。生
成物は、無色油状物であった。構造は、1Ｈ−ＮＭＲス
ペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 0.98 (t,
3H), 1.56-1.64 (m, 2H), 2.26 (s, 3H), 2.50 (s, 3
H), 2.81 (t, 2H), 7.25 (d, 2H), 7.65 (d, 2H).
【０２２８】実施例２３：１−（４−フェニルスルファ
ニル−フェニル）−ブタン−１−オンオキシム−Ｏ−ア
セタートの製造 式（III）において：Ｒ1′＝Ｃ3Ｈ7；Ｒ2＝ＣＯＣＨ3；
Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝−ＳＣ6Ｈ5 化合物は出発物質として、１−（４−フェニルスルファ
ニル−フェニル）−ブタン−１−オンを用い、実施例２
２に従い製造した。構造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで
確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕： １．０
４ （ｔ，３Ｈ）， １．７１ （ｍ，２Ｈ）， ２．
９３（ｔ， ２Ｈ）， ７．３２−７．５２ （ｍ，９
Ｈ）， ７．６２ （ｔ，１Ｈ）， ７．７０ （ｄ，
２Ｈ）， ８．１０ （ｄ，２Ｈ）．
【０２２９】実施例２４：ヒドロキシイミノ−（４−メ
チルスルファニル−フェニル）−酢酸エチルエステル−
Ｏ−アセタート 式（ＩＩＩ）において：Ｒ1′＝ＣＯＣ2Ｈ5；Ｒ2＝ＣＯ
ＣＨ3；Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝−ＳＣＨ3 ２４．ａ：（４−メチルスルファニル−フェニル）−オ
キソ−酢酸エチルエステル ３７．５ｇ（０．３mol）のチオアニソール及び４．４
ｇ（０．３mol）のクロロ−オキソ−酢酸エチルエステ
ルを２００mlのジクロロメタンに溶解し、３５０mlのジ
クロロメタン中の６０ｇ（０．４５mol）のアルミニウ
ムトリクロロクロリドの懸濁液へ０℃で滴下により加え
た。溶液を室温で一夜攪拌し、次いで２時間加熱還流し
た。室温に冷却した後、反応混合物を１００ml濃ＨＣｌ
と氷／水の混合物へ注加した。ジクロロメタンで抽出し
た後、有機相を、水及び炭酸水素ナトリウムで洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した。塩を濾別し、溶媒を留去
して、５２．３ｇ（７８％）の（４−メチルスルファニ
ル−フェニル）−オキソ−酢酸エチルエステルを黄色油
状物として得た。この油状物は、更に精製することなく
次の工程で用いた。構造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで
確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 7.87 (d,
2H), 7.24 (d, 2H), 4.39 (q, 2H), 2.48 (s, 2H), 1.3
7 (t, 3H).
【０２３０】２４．ｂ：ヒドロキシイミノ−（４−メチ
ルスルファニル−フェニル）−酢酸エチルエステル ２２．４ｇ（０．１mol）の（４−メチルスルファニル
−フェニル）−オキソ−酢酸エチルエステル及び７．６
ｇ（０．１mol）の水酸化アンモニウム塩酸塩を、１８
０mlのピリジンへ溶解し、混合物を室温で１６時間攪拌
した。帯黄色溶液を水とエチルアセタートで抽出し、有
機相を分離し、水性相を数回エチルアセタートで抽出し
た。合わせた有機抽出物を希塩酸及び水で洗浄し、溶媒
を留去した。２４ｇ（１００％）の粗ヒドロキシイミノ
−（４−メチルスルファニル−フェニル）−酢酸エチル
エステル（６６：３４のＥ及びＺ異性体の混合物）を
得、更に精製することなく次の工程で用いた。構造は、
1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 7.46 (d,
2H), 7.19 (d, 2H), 4.44 (E)及び4,32 (Z) (2 d,2H)
2.47 (Z)及び2.46 (E) (s, 3H) 1.37 (E)及び1.28(Z)
(t, 3H).
【０２３１】２４．ｃ：ヒドロキシイミノ−（４−メチ
ルスルファニル−フェニル）−酢酸エチルエステル−Ｏ
−アセタート １４．３５ｇ（０．０６mol）の粗ヒドロキシイミノ−
（４−メチルスルファニル−フェニル）−酢酸エチルエ
ステル及び９．１ｇ（０．０９mol）のトリエチルアミ
ンを、１００mlのＴＨＦに溶解した。５．２ｇ（０．０
６６mol）のアセチルクロリドを１０mlのＴＨＦに溶解
し、０℃で加えた。この懸濁液を室温に暖め、一夜攪拌
した。反応混合物をエチルアセタート及び水で希釈し、
水相を数回更なるエチルアセタートで抽出し、合わせた
有機画分を塩水及び水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。溶媒を留去して、油状物として粗生成物を得、シリ
カゲル濾過により精製した。１１．２ｇ（６６％）のヒ
ドロキシイミノ−（４−メチルスルファニル−フェニ
ル）−酢酸エチルエステル−Ｏ−アセタートを帯黄色油
状物として得た。1Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、（Ｅ）及
び（Ｚ）異性体の７０：３０混合物であるあること示し
た。構造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 7.59及び
7.43 (d, 2H), 4.44及び4.35 (q, 2H), 2.48及び2.47
(s, 3H), 2.15及び2.13 (s, 3H) 1.33及び1.32 (t,3H). 元素分析： ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ ％Ｓ 計算値： ５５．５０ ５．３７ ４．９８ １１．４０ 実測値： ５５．５４ ５．４６ ４．９５ １１．４１
【０２３２】実施例２５：ヒドロキシイミノ−（４−メ
チルスルファニル−フェニル）−酢酸エチルエステル−
Ｏ−ベンゾアート 式（III）において：Ｒ1′＝ＣＯＯＣ2Ｈ5；Ｒ2＝
【０２３３】
【化２７】
【０２３４】；Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝−ＳＣＨ3 実施例２４．ｃ．に記載のように、１２．３ｇ（０．０
５mol）のヒドロキシイミノ−（４−メチルスルファニ
ル−フェニル）−酢酸エチルエステル−Ｏ−アセタート
を７．９５ｇ（０．０５６mol）のベンゾイルクロリド
と反応させた。１７．５ｇの粗生成物を帯褐色油状物と
して得、更にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィ
（溶離剤：石油エーテル／エチルアセタート５：１、
３：１）に付した。最初の画分（帯黄色油状物、５．４
ｇ、３１％）を、1Ｈ−ＮＭＲにより、ヒドロキシイミ
ノ−（４−メチルスルファニル−フェニル）−酢酸エチ
ルエステル−Ｏ−ベンゾアートの純粋な（Ｅ）異性体で
あると同定した。第２の画分（帯黄色油状物、７．６
ｇ、４４％）を、ヒドロキシイミノ−（４−メチルスル
ファニル−フェニル）−酢酸エチルエステル−Ｏ−ベン
ゾアートの（Ｅ）及び（Ｚ）異性体の４５：５５混合物
であると同定した。 画分１（（Ｅ）−異性体): 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CD
Cl3）δ〔ppm〕: 8.01 (d, 2H), 7.68 (d, 2H), 7.57
(t, 1H), 7.48 (t, 2H), 7.25 (d, 2H), 4.49 (q,2H),
2.49 (s, 3H), 1.38 (t, 3H). 元素分析： ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ ％Ｓ 計算値： ６２．９６ ４．９９ ４．０８ ９．３４ 実測値： ６２．９８ ４．９９ ３．９７ ９．２０
【０２３５】画分２（Ｅ）及び（Ｚ）−異性体）: 1Ｈ
−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 8.01及び7.89
(d, 2H), 7.68-7.20 (7H), 4.49及び4.39 (q, 2H), 2.
52及び2.49 (s, 3H), 1.40及び１．３８ （ｔ， ３
Ｈ）． 元素分析： ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ ％Ｓ 計算値： ６２．９６ ４．９９ ４．０８ ９．３４ 実測値： ６２．７９ ４．９０ ４．３４ ９．２５
【０２３６】実施例２６：ヒドロキシイミノ−（３，４
−ジメトキシ−フェニル）−酢酸エチルエステル−Ｏ−
アセタート 式（ＩＩＩ）において：Ｒ1′＝ＣＯＯＣ2Ｈ5；Ｒ2＝Ｃ
ＯＣＨ3、；Ｒ4′＝ＯＣＨ3、Ｒ5′＝ＯＣＨ3、Ｒ6′＝
Ｈ ２６．ａ．：（３，４−ジメトキシ−フェニル）−オキ
ソ−酢酸エチルエステルこの化合物は、実施例２４．
ａ．記載の方法と類似に、出発物質としてチオアニソー
ルに代えて、ベラトロールを用いて製造した。収量：７
４％の橙色油状物。構造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで
確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 7.58 (dx
d, 1H), 7.53 (d, 1H), 6.87 (d, 1H), 4.38 (q, 2H),
3.92 (s, 3H), 3.89 (s, 3H), 1.37 (q, 3H).
【０２３７】２６．ｂ：（３，４−ジメトキシ−フェニ
ル）−ヒドロキシイミノ−酢酸エチルエステル この化合物は、（３，４−ジメトキシ−フェニル）−オ
キソ−酢酸エチルエステルから、実施例２４．ｂに記載
のように製造し、（Ｅ）及び（Ｚ）の８０：２０混合物
を８３％の収率で得た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 8.43 (幅
広 s, 1H), 7.18及び7.17(d, 1H), 6.99 (dxd, 1H), 6.
83 (d, 1H), 4.44及び4.33 (q, 2H), 3,90, 3.89, 3.8
7, 3.86 (s, 6H), 1.38, 1.36 (t, 3H).
【０２３８】２６．ｃ：エチル２−（３，４−ジメトキ
シフェニル）−２−アセチルオキシイミノ−アセタート 実施例２４．ｃ．に記載のように、（３，４−ジメトキ
シ−フェニル）−ヒドロキシイミノ−酢酸エチルエステ
ルをアセチルクロリドと反応させた。生成物は、帯黄色
油状物として、７９％収率で得た。1Ｈ−ＮＭＲスペク
トルは、（Ｅ）及び（Ｚ）異性体の８５：１５の混合物
であることを示した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 7.38及び
7.32 (d, 1H), 7.15-7.10(1H), 6.88及び6.83 (d, 1H),
4.44及び4.35 (q, 2H), 3.87, 3.86, 3.84, 3.83 (s,
6H), 2.27及び2.16 (s, 3H), 1.37及び1.32 (d, 3H). 元素分析： ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ 計算値： ５６．９５ ５．８０ ４．７４ 実測値： ５６．７１ ５．７６ ４．８８
【０２３９】実施例２７：エチル２−（３，４−ジメト
キシフェニル）−２−ベンゾイルオキシイミノミノ−ベ
ンゾアート 式（III）において：Ｒ1′＝ＣＯＯＣ2Ｈ5；Ｒ2＝
【０２４０】
【化２８】
【０２４１】 ；Ｒ4′＝ＯＣＨ3、Ｒ5′＝ＯＣＨ3、Ｒ6′＝Ｈ この化合物は、（３，４−ジメトキシ−フェニル）−ヒ
ドロキシイミノ−酢酸エチルエステルから、実施例２５
に記載されたように、ベンゾイルクロリドとの反応によ
り製造した。固体生成生成物をトルエンから再結晶し、
純粋な（Ｅ）異性体を白色結晶として得た。融点：９８
〜９９℃（収率：４９％）。母液から溶媒を留去して、
４３％の帯黄色液体を得た。これは1Ｈ−ＮＭＲスペク
トルから、（Ｅ）及び（Ｚ）異性体の粗５５：４５混合
物であった。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: (E)-異性
体: 8.02 (d, 1H), 7.57,7.49 (d), 7.48 (t, 3H), 7.1
3 (d, 1H), 6.87 (d, 2H), 4.49 (q, 2H), 3.94(s, 3
H), 3.92 (s, 3H), 1.39 (t, 3H). 元素分析： ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ 計算値： ６３．８６ ５．３６ ３．９２ 実測値： ６３．９５ ５．３７ ３．７５
【０２４２】実施例２８：１−（４−メチルスルファニ
ル−フェニル）−ブタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベン
ゾアート 式（III）において：Ｒ1′＝Ｃ3Ｈ7；Ｒ2＝
【０２４３】
【化２９】
【０２４４】；Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝ＳＣＨ3 この化合物は、実施例２２ｂに記載されているように、
アセチルクロリドに代えてベンゾイルクロリドを用いて
製造した。生成物を室温放置により固体化する油状物と
して得た（m.p.４８〜５３℃）。構造は、1Ｈ−ＮＭＲ
スペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.04 (t,
3H), 1.71 (dt, 2H), 2.52 (s, 3H), 2.94 (t, 2H), 7.
27 (d, 2H), 7.51 (t, 2H), 7.62 (t, 1H), 7.74(d, 2
H), 8.11 (d, 2H).
【０２４５】実施例２９：１−（４−フェニルスルファ
ニル−フェニル）−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−
アセタート 式（III）において：Ｒ1′＝Ｃ7Ｈ1 5；Ｒ2＝ＣＯＣ
Ｈ3；Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝ＳＣ6Ｈ5 この化合物は、実施例２２ｂの記載にしたがい、相当す
るケトンから製造した。生成物は油状物として得た。構
造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕： ０．８
７ （ｔ， ３Ｈ）， １．２０−１．３９ （ｍ，
８Ｈ）， １．４９−１．６０ （ｍ， ２Ｈ），
２．２５ （ｓ， ３Ｈ）， ２．７９ （ｔ， ２
Ｈ）， ７．２６ （ｄ， ２Ｈ）， ７．３１−７．
３８（ｍ， ３Ｈ）， ７．４２ （ｄ， ２Ｈ），
７．６１ （ｄ， ２Ｈ）．
【０２４６】実施例３０：１−（４−フェニルスルファ
ニル−フェニル）−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−
ベンゾアート 式（ＩＩＩ）において：Ｒ1′＝Ｃ7Ｈ1 5；Ｒ2＝ＣＯＣ
Ｈ3；Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝ＳＣ6Ｈ5 この化合物は、実施例２９の記載のように、アセチルク
ロリドに代えて、ベンゾイルクロリドを用いて製造し
た。構造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 0.85 (t,
3H), 1.25-1.44 (m, 8H), 1.65 (t, 2H), 2.94 (t, 2
H), 7.20-7.45 (m, 7H), 7.50 (t, 2H), 7.62 (t,1H),
7.69 (d, 2H), 8.10 (d, 2H).
【０２４７】実施例３１：２，２，２−トリフルオロ−
１−（４−メチルスルファニル−フェニル）−エタノン
オキシム−Ｏ−アセタート 式（III）において：Ｒ1′＝ＣＦ3；Ｒ2＝ＣＯＣＨ3；
Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝ＳＣＨ3 ３１．１：２，２，２−トリフルオロ−１−（４−メチ
ルスルファニル−フェニル）−エタノン ５００mlのＣＨ2Ｃｌ2中の５０．０ｇ（４０３mmol）の
チオアニソール及び４９．２ｇ（４０３mmol）の４−ジ
メチルアミノピリジンへ、８４．６ｇ（４０３mmol）ト
リフルオロ酢酸無水物、次いで１２３ｇ（９２６mmol）
のＡｌＣｌ3を注意深く０℃で加えた。反応混合物を室
温で１夜攪拌し、次いで氷中へ注加した。ＣＨ2Ｃｌ2で
抽出した後、有機層を水、水性アンモニア溶液、次いで
塩水で洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過し、溶
媒を濾過した後、５０．０ｇの帯黄色固体を得た（５６
％）。この固体は、更に精製することなく次の工程で用
いた。構造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕： ｄ
２．５５ （ｓ， ３Ｈ）， ７．３２ （ｄ， ２
Ｈ）， ７．９７ （ｄ， ２Ｈ）．
【０２４８】３１．２：２，２，２−トリフルオロ−１
−（４−メチルスルファニル−フェニル）−エタノンオ
キシム ４９．３ｇ（２２４ｍｍｏｌ）の２，２，２−トリフル
オロ−１−（４−メチルスルファニル−フェニル）−エ
タノンを、２５０mlの熱エタノール中に溶解した。この
溶液に、１２５mlの水中のヒドロキシアンモニウムクロ
リド（１６．３ｇ、２３５mmol）及びナトリウムアセタ
ート（３１．２ｇ、３８１mmol）溶液を加え、反応溶液
を６．５時間還流下に加熱した。反応混合物をロータリ
ーエバポレーターで濃縮し、氷／水中に注加した。得ら
れた帯黄色固体を濾過し、水で洗浄した。減圧下に乾燥
し、ヘキサン−エチルアセタートから再結晶し、２８．
４ｇの白色固体（５４％）を得た。構造は、1Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 2.51
(s, 3H), 7.31 (d, 2H), 7.49 (d, 2H), 8.80 (幅広 s,
1H).
【０２４９】３１．３：２，２，２−トリフルオロ−１
−（４−メチルスルファニル−フェニル）−エタノンオ
キシム−Ｏ−アセタート ３０mlのＴＨＦ中の２，２，２−トリフルオロ−１−
（４−メチルスルファニル−フェニル）−エタノンオキ
シム（２．００ｇ、８．５０mmol）及びアセチルクロリ
ド（０．７３４ｇ、９．３５mmol）の溶液に、トリエチ
ルアミン（１．２９ｇ、１２．８mmol）を０℃で滴下に
より加えた。０℃で３時間攪拌した後、反応混合物を氷
／水に注加した。生成物をエチルアセタートで抽出し、
有機層を水性ＮａＨＣＯ3及び塩水で洗浄し、続いて無
水ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過し、溶媒を蒸発させた
後、所望の生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
（溶離剤：エチルアセタート−ヘキサン（１：９））で
精製した。１．２０ｇの無色油状物を得た（５１％）。
構造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 2.11
(s, 3H), 2.45 (s, 3H), 7.24 (d, 2H), 7.32 (d, 2H).
【０２５０】実施例３２：２，２，２−トリフルオロ−
１−（４−フェニルスルファニル−フェニル）−エタノ
ンオキシム−Ｏ−アセタート 式（III）において：Ｒ1′＝ＣＦ3；Ｒ2＝ＣＯＣＨ3；
Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝ＳＣ6Ｈ5 ３２．１：２，２，２−トリフルオロ−１−（４−フェ
ニルスルファニル−フェニル）−エタノン ５００mlのＣＨ2Ｃｌ2中の３７．３ｇ（２００mmol）の
ジフェニルスルフィド及び３６．７ｇ（３００mmol）の
４−ジメチルアミノピリジンへ、６３．０ｇ（３００mm
ol）のトリフルオロ酢酸無水物、続いて９２．０ｇ（６
９０mmol）のＡｌＣｌ3を、０℃で注意して加えた。反
応混合物を室温で一夜攪拌し、次いで氷中へ注いだ。Ｃ
Ｈ2Ｃｌ2で抽出し、有機層を水、水性塩化アンモニウム
及び塩水で洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過し
溶媒を留去した後、５４．１ｇの褐色油状物を得た。１
０ｇの粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
（溶離剤：ＣＨ2Ｃｌ2−ヘキサン（１：４））に付し
た。７．４０ｇの帯黄色油状物を得た（１３％）。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 7.19
(d, 2H), 7.45-7.49 (m, 3H), 7.54-7.7.58 (m, 2H),
7.90 (d, 2H).
【０２５１】３２．２：２，２，２−トリフルオロ−１
−（４−フェニルスルファニル−フェニル）−エタノン
オキシム ６．２１ｇ（２２．０mmol）の２，２，２−トリフルオ
ロ−１−（４−フェニルスルファニル−フェニル）−エ
タノンを２５mlの熱エタノール中に溶解した。この溶液
に、１２．５mlの水中のヒドロキシアンモニウムクロリ
ド（１．６１ｇ、２３．１mmol）及びナトリウムアセタ
ート（３．０７ｇ、３７．４mmol）を滴下により加え、
反応溶液を６時間還流下に攪拌した。反応混合物をロー
タリーエバポレーターで濃縮し、氷／水中へ注いだ。得
られた白色固体を濾過し、水で洗浄した。減圧下に乾燥
した後、ヘキサン−ＣＨ2Ｃｌ2からの再結晶により４．
１ｇの白色固体（６３％）を得た。構造は、1Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトルで確認した。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕： ｄ
７．２６ （ｄ， ２Ｈ）， ７．３６−７．４４
（ｍ， ５Ｈ）， ７．４８−７．５１ （ｍ， ２
Ｈ）， ８．７８ （ｓ， １Ｈ）．
【０２５２】３２．３：２，２，２−トリフルオロ−１
−（４−フェニルスルファニル−フェニル）−エタノン
オキシム−Ｏ−アセタート ＴＨＦ（２５ｍｌ）中の２，２，２−トリフルオロ−１
−（４−フェニルスルファニル−フェニル）−エタノン
オキシム（１．５０ｇ、５．０５mmol）及びアセチルク
ロリド（０．４３６ｇ、５．５６mmol）の溶液に、トリ
エチルアミン（０．７６６ｇ、７．５７mmol）を０℃で
滴下により加えた。０℃で３時間攪拌した後、反応混合
物を氷／水に注加した。生成物をエチルアセタートで抽
出し、次いで有機層を水性ＮａＨＣＯ3及び塩水で洗浄
し、続いて無水ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過し、溶媒を
留去した後、所望の生成物は、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィ（溶離剤：ＣＨ2Ｃｌ2−ヘキサン（１：
１））で精製した。０．９１ｇの白色固体を、シン及び
アンチの混合物として得た（５３％）。少量の異性体に
対する主異性体の割合は、1Ｈ−ＮＭＲに基づいて、８
７：１３であった。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 2.18及
び2.28 (s, 3H), 7.24 (d, 2H), 7.34-7.53 (m, 7H). シグナルは、以下のように主異性体（Ｅ）に当てはめ
た。d 2.18 (s, 3H), 7.34(d, 2H), 7.53 (dd, 2H). 固体の融点は、７６〜８０℃であった。
【０２５３】実施例３３：１−（４−フェニルスルファ
ニル−フェニル）−デカン−１−オンオキシム−Ｏ−ペ
ンタフルオロベンゾアート 式（III）において：Ｒ1′＝Ｃ9Ｈ1 9；Ｒ2＝ＣＯＣ
6Ｆ5；Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝ＳＣ6Ｈ5 ＴＨＦ（２５ml）中の１−（４−フェニルスルファニル
−フェニル）−デカン−１−オンオキシム（２．００
ｇ、５．６３mmol）及びペンタフルオロベンゾイルクロ
リド（１．４３ｇ、６．１９mmol）の溶液に、トリエチ
ルアミン（０．８５ｇ、８．４５mmol）を、０℃で滴下
により加えた。０℃で１時間攪拌した後、反応混合物を
氷／水に注加した。生成物をエチルアセタートで抽出
し、有機層をＮａＨＣＯ3水性溶液で洗浄し、続いて無
水ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過し、溶媒を留去した後、
所望の生成物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
（溶離剤：ＣＨ2Ｃｌ2−ヘキサン（１：４））で精製し
た。２．０８ｇの白色固体（融点：５６〜５９℃）を得
た（６７％）。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 0.86
(t, 3H), 1.2-1.4 (m, 12H), 1.56 (幅広 s, 2H), 2.84
(t, 2H), 7.27 (d, 2H), 7.35-7.38 (m, 3H), 7.45 (d
d, 2H), 7.64 (d, 2H).
【０２５４】実施例３４：３，３，３−トリフルオロ−
１−（４−メチルスルファニル−フェニル）−プロパン
−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート 式（III）において：Ｒ1′＝ＣＦ3ＣＨ2；Ｒ2＝ＣＯＣ
Ｈ3；Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝ＳＣＨ3 ３４．１：Ｎ，Ｎ−ジメチルＮ′−（４−メチルスルフ
ァニル−ベンジリデン）−ヒドラジン ７．４４ｇ（４８．９mmol）の４−メチルチオベンザル
デヒド及び４．０ml（５２．７mmol）の１，１−ジメチ
ルヒドラジンをトルエン（５０ml）に溶解し、２．５時
間還流下に加熱した。塩水を、この反応混合物に加え
た。冷却した後、生成物をトルエンで抽出した。トルエ
ン層を濃縮し残渣をシリカゲルクロマトグラフィ（溶離
剤：アセトン−ヘキサン（１：２０））に付した。９．
０７ｇの淡黄色油状物を得た（９６％）。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 2.48
(s, 3H), 2.96 (s, 6H), 7.20 (s, 1H), 7.21 (d, 2H),
7.49 (d, 2H).
【０２５５】３４．２：３，３，３−トリフルオロ−１
−（４−メチルスルファニル−フェニル）−プロパン−
１−オン ６４ml（４５３mmol）のトリフルオロ酢酸無水物を、ピ
リジン中の８．６８ｇ（４４．７mmol）のＮ，Ｎ−ジメ
チル−Ｎ′−（４−メチルスルファニル−ベンジリデ
ン）−ヒドラジンに０℃で２０分かけて、滴下により加
えた、次いで、反応溶液を、徐々に室温まで暖め、一夜
攪拌した。過剰のトリフルオロ酢酸無水物及びピリジン
をロータリーエバポレーターを用いて、減圧下に留去し
た。残渣を２００mlのアセトニトリル及び２００mlの６
N ＨＣｌ水性溶液に溶解した。室温で一夜攪拌した後、
反応溶液をＮａＨＣＯ3で中和した。アセトニトリルを
除いて白色固体を得、濾過し、水で洗浄した。生成物を
シリカゲルクロマトグラフィ（溶離剤：アセトン−ヘキ
サン（１：１））に付した。３．１８ｇの白色結晶（融
点１１８〜１２０℃）を得た（３０％）。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 2.54
(s, 3H), 3.75 (q, 2H), 7.29 (d, 2H), 7.84 (d, 2H)
【０２５６】３４．３：３，３，３−トリフルオロ−１
−（４−メチルスルファニル−フェニル）−プロパン−
１−オンオキシム ヒドロキシアンモニウムクロリド（１．０７ｇ、１５．
４mmol）及びナトリウムアセタート（１．８５ｇ、２
２．５mmol）を、１０mlの水に溶解した。この溶液に、
３０mlのエタノール中の２．３５ｇ（１０．０mmol）の
３，３，３−トリフルオロ−１−（４−メチルスルファ
ニル−フェニル）−プロパン−１−オンを加えた。反応
混合物を６．５時間攪拌した。反応混合物をロータリー
エバポレーターで留去して濃縮し、水に注加した。生成
物をＣＨ2Ｃｌ2で抽出し、有機層を水で洗浄し、無水Ｍ
ｇＳＯ4で乾燥した。溶媒を留去した後、生成物をシリ
カゲルクロマトグラフィ（溶離剤：ＣＨ2Ｃｌ2−ヘキサ
ン（２：１））に付した。１．４８ｇの白色結晶（融点
１０６〜１０７℃）を得た（５９％）。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 2.51
(s, 3H), 3.73 (q, 2H), 7.26 (d, 2H), 7.57 (d, 2H),
8.23 (s, 1H).
【０２５７】３４．４：３，３，３−トリフルオロ−１
−（４−メチルスルファニル−フェニル）−プロパン−
１−オンオキシム−Ｏ−アセタート ＴＨＦ（１０ml）中の３，３，３−トリフルオロ−１−
（４−メチルスルファニル−フェニル）−プロパン−１
−オンオキシム（１．１２ｇ、４．５０mmol）及びアセ
チルクロリド（０.３５ml、４．９２mmol）の溶液に、
ピリジン（０．４０ml、４．９５mmol）を０℃で滴下に
より加えた。一夜室温で攪拌した後、反応混合物を水に
注加した。生成物をＴＨＦで抽出し、有機層をＮａＨＣ
Ｏ3次いで塩水で洗浄し、続いて無水ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過し、溶媒を留去した後、所望の生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ（溶離剤：ＣＨ2Ｃｌ2−ヘ
キサン（２：１））で精製した。０．９９７ｇの淡黄色
固体（融点７０〜７１℃）を得た（７６％）。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 2.28
(s, 3H), 2.51 (s, 3H), 3.75 (q, 2H), 7.26 (d, 2H),
7.69 (d, 2H).
【０２５８】実施例３５：１−（４−メチルスルファニ
ル−フェニル）−２−フェニル−エタノンオキシム−Ｏ
−アセタート 式（III）において：Ｒ1′＝Ｃ6Ｈ5ＣＨ2；Ｒ2＝ＣＯＣ
Ｈ3；Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝ＳＣＨ3 ３５．１：１−（４−メチルスルファニル−フェニル）
−２−フェニル−エタノン チオアニソール（６．２２ｇ、５０mmol）をＣＨ2Ｃｌ2
（５ml）で希釈し、ＣＨ2Ｃｌ2（４５ml）中のＡｌＣｌ
3（６．８ｇ、５１mmol）の懸濁液に加えた。ＣＨ2Ｃｌ
2（１５ml）中のフェニルアセチルクロリド（７．７３
ｇ、５０．０mmol）を０℃で５分にわたり滴下により加
えた。次いで、反応溶液を徐々に室温まで暖め、一夜攪
拌した。反応溶液を氷に注加した。得られた白色沈殿を
ＣＨ2Ｃｌ2で抽出し、有機層を水及び水性ＮａＨＣＯ3
で洗浄し、続いてＭｇＳＯ4で乾燥した。溶媒を留去し
た後、残渣をヘキサンから再結晶した。１０．４ｇの白
色固体を得た（８６％）。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 2.50
(s, 3H), 4.23 (s, 2H), 7.22-7.27 (m, 5H), 7.32 (t,
2H), 7.91 (d, 2H)
【０２５９】３５．２：１−（４−メチルスルファニル
−フェニル）−２−フェニル−エタノンオキシム ヒドロキシアンモニウムクロリド（４．１９ｇ、６０．
２mmol）及びナトリウムアセタート（７．４２ｇ、９
０．４mmol）を２０mlの水に溶解した。６０mlのエタノ
ール中の９．７２ｇ（４０．１mmol）の１−（４−メチ
ルスルファニル−フェニル）−２−フェニル−エタノン
の溶液に加えた。反応混合物を１８時間加熱還流した。
反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮し、水中
に注加した。得られた白色固体を水で洗浄した。減圧下
で乾燥し、ヘキサン−ＣＨ2Ｃｌ2から再結晶し、７．３
２ｇの白色固体を得た（７１％）。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 2.45
(s, 3H), 4.20 (s, 2H), 7.16-7.20 (m, 3H), 7.24-7.2
7 (m, 4H), 7.54 (d, 2H), 9.03 (s, 1H).
【０２６０】３５．３：１−（４−メチルスルファニル
−フェニル）−２−フェニル−エタノンオキシム−Ｏ−
アセタート ＴＨＦ（２０ml）中の１−（４−メチルスルファニル−
フェニル）−２−フェニル−エタノンオキシム（２．６
４ｇ、１０．３mmol）及びアセチルクロリド（０．８m
l、１１．３mmol）の溶液に、ピリジン（１．０ml、１
２．４mmol）を０℃で滴下により加えた。室温で一夜攪
拌した後、反応混合物を水に注加した。生成物をＴＨＦ
で抽出し、有機層を水性ＮａＨＣＯ3溶液及び塩水で洗
浄し、続いて無水ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過し、溶媒
を留去した後、所望の生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ（溶離剤：ＣＨ2Ｃｌ2）で精製した。２．７
９ｇの白色固体（融点５７〜５９℃）を得た（９１
％）。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: d 2.20
(s, 3H), 2.44 (s, 3H), 4.20 (s, 2H), 7.16-7.23 (m,
5H), 7.26 (dd, 2H), 7.67 (d, 2H).
【０２６１】実施例３６：１，９−ビス−（４−メチル
スルファニル−フェニル）−ノナン−１，２，８，９−
テトラオン２，８−ジオキシムジ（Ｏ−アセタート） 式（II）において：Ｍ＝−（ＣＨ2）5−；Ｒ2＝ＣＯＣ
Ｈ3；Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7＝Ｈ；Ｒ5＝ＳＣＨ3 ３６．１：１，９−ビス−（４−メチルスルファニル−
フェニル）−ノナン−１，９−ブタン チオアニソール（２３．５ml、０．２０mol）を、２０
０mlのＣＨ2Ｃｌ2のＡｌＣｌ3（２７．３ｇ、０．２０
５mol）の懸濁液へ加えた。アゼラオイルクロリド（１
９．７ml、０．１０mol）を、徐々に滴下により加え、
その間反応混合物を氷−浴で冷却し、反応溶液を１９時
間室温で攪拌した。反応溶液を氷／水中運に注加した。
生成した白色沈殿を濾別し、粗生成物を濾液からＣＨ2
Ｃｌ2で抽出し、塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃
縮した。残渣をｉ−Ｐｒ2Ｏ−ＣＨＣｌ3から再結晶によ
り精製した。生成物を白色固体として得た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.35-1.43
(m, 6H), 1.72 (t, 4H), 2.52 (s, 6H), 2.91 (t, 4
H), 7.26 (d, 4H), 7.87 (d, 4H).
【０２６２】３６．２：１，９−ビス−（４−メチルス
ルファニル−フェニル）−ノナン−１，２，８，９−テ
トラオン２，８−ジオキシム ５．０ｇ（１２．５mmol）の１，９−ビス−（４−メチ
ルスルファニル−フェニル）−ノナン−１，９−ブタン
を、１２０mlのｔ−ブチルメチルエーテル及び２００ml
のＣＨ2Ｃｌ2に溶解した。ＨＣｌガスをこの混合物を通
して吹き込み、続いてメチルナイトライト−ガスを０.
５時間吹き込んだ。吹き込みが終了した後、反応溶液を
水に注加した。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、
水及び塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。
残渣をメタノールからの再結晶により精製した。帯黄色
固体の生成物を得た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（DMSO-d6）δ〔ppm〕: 1.25
(m, 2H), 1.41 (m, 4H), 2.45 (s, 6H), 2.50 (t, 4H),
7.24 (d, 4H), 7.69 (d, 4H).
【０２６３】３６．３：１，９−ビス−（４−メチルス
ルファニル−フェニル）−ノナン−１，２，８，９−テ
トラオン２，８−ジオキシムジ（Ｏ−アセタート） アセチルクロリド（０．３３ml、４．５８mmol）及びト
リエチルアミン（０．９１ml、６．５４mmol）を、３５
mlのＴＨＦ中の１，９−ビス−（４−メチルスルファニ
ル−フェニル）−ノナン−１，２，８，９−テトラオン
２，８−ジオキシム（１．０ｇ、２．１８mmol）の溶液
へ加えた。０℃で３時間攪拌した後、生成した固体を濾
別した。粗生成物を濃縮し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィ（溶離剤エチルアセタート−ヘキサン（１：４
〜２：３））で精製した。生成物を粘稠油状物として得
た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.40-1.49
(m, 2H), 1.52-1.64 (m, 4H), 2.25 (s, 6H), 2.52
(s, 6H), 2.76 (t, 4H), 7.26 (d, 4H), 7.98 (d,4H).
【０２６４】実施例３７：１，９−ビス−（４−メチル
スルファニル−フェニル）−ノナン−１，９−ブタンジ
オキシムジ（Ｏ−アセタート） 式（IV）において：Ｍ＝−（ＣＨ2）7−；Ｒ2＝ＣＯＣ
Ｈ3；Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5′＝ＳＣＨ3 ３７．１：１，９−ビス−（４−メチルスルファニル−
フェニル）−ノナン−１，９−ブタンジオキシム ８．０ｇ（２０mmol）の１，９−ビス−（４−メチルス
ルファニル−フェニル）−ノナン−１，９−ブタンを、
４００mlの熱エタノール及び７０mlの熱ＴＨＦに溶解し
た。次いで、７０mlの水中のヒドロキシアンモニウムク
ロリド（２．９ｇ、４２mmol）及びナトリウムアセター
ト（５．６ｇ、６８mmol）の溶液を加え、反応溶液を３
時間１００℃で攪拌した。冷却し、濃縮し、水を加え
た。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、塩水で洗浄
し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。残渣をメタノール
から再結晶した。生成物を白色固体として得た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.30-1.40
(m, 6H), 1.48-1.58 (m, 4H), 2.50 (s, 6H), 2.75
(t, 4H), 7.23 (d, 4H), 7.52 (d, 4H).
【０２６５】３７．２：１，９−ビス−（４−メチルス
ルファニル−フェニル）−ノナン−１，９−ブタンジオ
キシムジ（Ｏ−アセタート） アセチルクロリド（０．６９ml、９．７４mmol）及びト
リエチルアミン（１．９ml、１３．９mmol）を、７０ml
の水中の１，９−ビス−（４−メチルスルファニル−フ
ェニル）−ノナン−１，９−ブタンジオキシム（２．０
ｇ、４．６４mmol）の溶液へ加えた。０℃で３０分攪拌
した後、生成した固体を濾別した。粗生成物を濃縮し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶離剤：エチルア
セタート−ヘキサン（１：４〜２：３））により精製し
た。生成物を粘稠油状物として得た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.27-1.40
(m, 6H), 1.48-1.58 (m, 4H), 2.25 (s, 6H), 2.50
(s, 6H), 2.80 (t, 4H), 7.24 (d, 4H), 7.63 (d,4H).
【０２６６】実施例３８：１−｛４−〔４−（２−アセ
トキシイミノ−ブチリル）−フェニルスルファニル〕−
フェニル｝−ブタン−１，２−ブタン ２−オキシム−
Ｏ−アセタート 式（Ｉ）において、Ｒ1＝Ｃ2Ｈ5；Ｒ2＝−ＣＯＣＨ3；
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6＝Ｈ；Ｒ5＝ＳＲ9；Ｒ9＝
【０２６７】
【化３０】
【０２６８】Ｍ2＝直接結合 ３８．１：１−〔４−（４−ブチリル−フェニルスルフ
ァニル）−フェニル〕−ブタン−１−オン ジフェニルスルフィド（３３．３ml、０．２０mol）
を、３５０mlのＣＨ2Ｃｌ2のＡｌＣｌ3（５４．７ｇ、
０．４１mol）の懸濁液に加えた。ｎ−ブチリルクロリ
ド（４１．４ml、０．４０mol）を、氷−浴中で徐々に
滴下により加え、反応溶液を室温で１５時間攪拌した。
次いで、反応溶液を氷／水中へ注加した。粗生成物をＣ
Ｈ2Ｃｌ2で抽出し、１NのＮａＯＨ及び塩水で洗浄し、
ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。生成物を白色固体とし
て得た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕:δ 〔pp
m〕: 1.00 (t, 6H), 1.77 (tq, 4H), 2.92 (t, 4H), 7.
40 (d, 4H), 7.90 (d, 4H).
【０２６９】３８．２：１−｛４−〔４−（２−ヒドロ
キシイミノ−ブチリル）−フェニルスルファニル〕−フ
ェニル｝−ブタン−１，２−ブタン ２−オキシム ２０ｇ（６１mmol）の１−〔４−（４−ブチリル−フェ
ニルスルファニル）−フェニル〕−ブタン−１−オン
を、３００mlのｔ−ブチルメチルエーテル及び５０mlの
ＣＨ2Ｃｌ2に溶解した。ＨＣｌガスをこの混合物を通し
て吹き込み、続いてメチルナイトライト−ガスを０．５
時間吹き込んだ。吹き込みが終了した後、反応溶液を水
に注加した。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、水
及び塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。シ
リカゲルカラムクロマトグラフィ（溶離剤：エチルアセ
タート−ヘキサン（１：８〜１：３））により精製し
た。帯黄色固体の生成物を得た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.15 (t,
6H), 2.73 (q, 4H), 7.35 (d, 4H), 7.84 (d, 4H), 8.4
0 (bs, 2H).
【０２７０】３８．３：１−｛４−〔４−（２−アセト
キシイミノ−ブチリル）−フェニルスルファニル〕−フ
ェニル｝−ブタン−１，２−ブタン ２−オキシム−Ｏ
−アセタート アセチルクロリド（２．０ml、２８．６mmol）及びトリ
エチルアミン（５．７ml、４０．８mmol）を、２０mlの
ＴＨＦ中の１−｛４−〔４−（２−ヒドロキシイミノ−
ブチリル）−フェニルスルファニル〕−フェニル｝−ブ
タン−１，２−ブタン ２−オキシム（５．０ｇ、１
３．６mmol）の溶液へ加えた。０℃で３０分攪拌した
後、生成した固体を濾別した。粗生成物を濃縮し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィ（溶離剤：エチルアセタ
ート−ヘキサン（１：８〜１：３））により精製した。
帯黄色固体の生成物を得た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.18 (t,
6H), 2.27 (s, 6H), 2.80 (q, 4H), 7.44 (d, 4H), 8.0
4 (d, 4H).
【０２７１】実施例３９：１−｛４−〔４−（２−ベン
ゾキシイミノ−ブチリル）−フェニルスルファニル〕−
フェニル｝−ブタン−１，２−ブタン ２−オキシム−
Ｏ−ベンゾアート 式（Ｉ）において、Ｒ1＝Ｃ2Ｈ5；Ｒ2＝−ＣＯフェニ
ル；Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7＝Ｈ；Ｒ5＝ＳＲ9；Ｒ9＝
【０２７２】
【化３１】
【０２７３】Ｍ2＝直接結合 ベンゾイルクロリド（４．７２ml、４０．７mmol）及び
トリエチルアミン（８．５ml、６１mmol）を、４０mlの
ＴＨＦ中の１−｛４−〔４−（２−ヒドロキシイミノ−
ブチリル）−フェニルスルファニル〕−フェニル｝−ブ
タン−１，２−ブタン ２−オキシム（７．４５ｇ、２
０．３mmol）の溶液へ加えた。０℃で５０分攪拌した
後、反応溶液を水へ注加した。粗生成物をエチルアセタ
ートで抽出し、水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶離
剤：エチルアセタート−ヘキサン（１：９：０〜１：
３：１））により精製した。帯黄色固体の生成物（融点
１１０〜１１３℃）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.28 (t,
6H), 2.93 (q, 4H), 7.45-7.56 (m, 8H), 7.65 (t, 2
H), 8.08-8.18 (m, 8H).
【０２７４】実施例４０：１−｛４−〔４−（１−アセ
トキシイミノ−ブチル）−フェニルスルファニル〕−フ
ェニル｝−ブタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート 式（III）において、Ｒ1′＝Ｃ3Ｈ7；Ｒ2＝−ＣＯＣ
Ｈ3；Ｒ4′、Ｒ6′＝Ｈ；Ｒ5＝ＳＲ9；Ｒ9＝
【０２７５】
【化３２】
【０２７６】Ｍ2＝直接結合 ４０．１：１−｛４−〔４−（１−ヒドロキシイミノ−
ブチル）−フェニルスルファニル〕−フェニル｝−ブタ
ン−１−オンオキシム ２０ｇ（６１．３mmol）の１−〔４−（４−ブチリル−
フェニルスルファニル）−フェニル〕−ブタン−１−オ
ンを、１４０mlの熱エタノールに溶解した。次いで、７
０mlの水中のヒドロキシアンモニウムクロリド（８．５
５ｇ、１２３mmol）及びナトリウムアセタート（１７．
１ｇ、２０８mmol）の溶液を加え、反応溶液を１００℃
で２時間攪拌した。冷却し、濃縮した後、水を加えた。
粗生成物をエチルアセタートで抽出し、塩水で洗浄し、
ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。残渣をメタノールから
の再結晶により生成した。生成物（異性体混合物）を白
色固体として得た。＜ 主 生 成 物 ＞ 1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔pp
m〕: 0.98 (t, 6H), 1.61(tq, 4H), 2.76 (t, 4H), 7.3
4 (d, 4H), 7.55 (d, 4H).
【０２７７】４０．２：１−｛４−〔４−（１−アセト
キシイミノ−ブチル）−フェニルスルファニル〕−フェ
ニル｝−ブタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート アセチルクロリド（２．１ml、２９．４mmol）及びトリ
エチルアミン（５．９ml、４２mmol）を、４０mlのＴＨ
Ｆ中の１−｛４−〔４−（１−ヒドロキシイミノ−ブチ
ル）−フェニルスルファニル〕−フェニル｝−ブタン−
１−オンオキシム（５．０ｇ、１４．０mmol）の溶液に
加えた。０℃で３０分攪拌した後、生成した固体を濾別
した。粗生成物を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィ（溶離剤：エチルアセタート−ヘキサン（１：４
〜２：５））で精製した。生成物を無色油状物として得
た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 0.99 (t,
6H), 1.60 (tq, 4H), 2.26 (s, 6H), 2.81 (t, 4H), 7.
35 (d, 4H), 7.66 (d, 4H).
【０２７８】実施例４１：２，４−ジエチル−チオキサ
ンテン−９−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート
【０２７９】
【化３３】
【０２８０】（Ｒ1′は、基Ｒ4′及びＲ6′を有するフ
ェニル環の炭素原子と、基Ｒ9を介して環を形成するＳ
Ｒ9である） ４１．１：２，４−ジエチル−チオキサンテン−９−オ
ンオキシム ７．０ｇ（２６mmol）のジエチルチオキサンテン−９−
オンを、１５mlの熱エタノール及び１５mlのピリジンに
溶解した。次いで、ヒドロキシアンモニウムクロリド
（３．６ｇ、５２mmol）を加え、反応溶液を１１５℃で
２１時間攪拌した。冷却した後、水を加えた。粗生成物
をエチルアセタートで抽出し、水で洗浄し、ＭｇＳＯ4
で乾燥し、濃縮した。残渣を、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィ（溶離剤：エチルアセタート−ヘキサン
（１：３０〜１：１０））で精製した。生成物（異性体
混合物）を淡黄色固体として得た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.23-1.32
(m, 6H), 2.65-2.72 (m, 2H), 2.77-2.86 (m, 2H), 7.
12(s, 1H), 7.30-7.36 (m, 2H), 7.45 (dd, 1/2H), 7.5
3-7.55 (m, 1H), 7.80 (dd, 1/2H), 8.03 (d, 1/2H),
8.09-8.48 (bs, 1H), 8.34 (dd, 1/2H), ここで1/2Hは
どちらかの異性体の1Hを意味する。
【０２８１】４１．２：２，４−ジエチル−チオキサン
テン−９−オンオキシム−Ｏ−ベンゾアート ベンゾイルクロリド（１．１ml、９．９mmol）及びトリ
エチルアミン（１．９ml、１３．５mmol）を、１０mlの
ＴＨＦ中の２，４−ジエチル−チオキサンテン−９−オ
ンオキシム（２．５６ｇ、９．０mmol）の溶液に加え
た。０℃で７０分攪拌した後、反応溶液を水中へ注加し
た。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、水で洗浄
し、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。残渣を、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィ（溶離剤：エチルアセタート
−ヘキサン（１：２０〜１：８））で精製した。生成物
（異性体混合物）を黄色固体として得た。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ〔ppm〕: 1.24-1.36
(m, 6H), 2.71-2.76 (q, 2H), 2.81-2.90 (m, 2H), 7.
20 (d, 1/2H), 7.23 (d, 1/2H), 7.38-7.54 (m,4H + 1/
2H), 7.59-7.65 (m, 1H + 1/2H), 7.87 (m, 1/2H), 7.9
4 (m, 1/2H), 8.08 (t, 2H), 8.16 (dd, 1/2H), 8.22
(dd, 1/2H), ここで1/2Hはどちらかの異性体の1Hを意味
する。
【０２８２】実施例４２：光硬化性配合物は、以下の成
分を混合して調製した： アクリル化アクリルコポリマー（R T MACA200M、Daicel Industries， Ltd.から ） ２００．０重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート（（ＤＰＨＡ）、UCBから） １５．０重量部 試験すべき光開始剤 ２．３重量部 全ての操作は、黄色光の下で行った。この配合物をアル
ミニウムプレートの上に塗布した。通常のオーブン中、
８０℃１５分加熱して溶媒を除いた。乾燥フィルムの厚
さは、２５μmであった。この被覆にアセタートフィル
ムを塗布し、その上に異なる光学密度の２１段階（Stou
ffer step wedge）を有する標準化された試験陰画（tes
t negative）を置いた。サンプルを第二のＵＶ−透過フ
ィルムで覆い、真空の方法で金属プレートの上に押し付
けた。曝露を、第一の試験系で４０秒間、第二の試験系
で８０秒間、そして第三の試験系で１６０秒間、３kW金
属ハライドランプ（ＯＲＣ、モデルSMX3000）を用い
て、６０cmの距離で行った。曝露に続いて、覆いのフィ
ルム及びマスクを除き、曝露したフィルムを１％炭酸ナ
トリウム水溶液で３０℃で１８０秒間、噴霧タイプ現像
剤（Walter Lemmen、モデル21）を用いて現像した。用
いた開始剤の感受性は、最も高い段階の数（現像後、残
留する（すなわち、重合した）を示すことで際立ってい
る。段階の数が高ければ、試験したシステムは、より感
受性である。別の試験システムが、上記の配合物へ、
０．２３重量部の２−イソプロピルチオキサントン及び
４−イソプロピルチオキサントンの混合物（R T MQUANTAC
URE ITX, International Biosynthetics）を添加して、
準備された。結果は、表２に集めた。
【０２８３】
【表６】
【０２８４】実施例４３ 光硬化性配合物（それは乾燥フィルムのための、食刻レ
ジストのモデルとして働く）は、以下の成分を混合する
ことにより調製した： R T M SCRIPSET 540（スチレン−マレイン酸無水物コポリマー、Monsantoから） ４５.１重量％ トリメチロールプロパントリアセタート ４８．３重量％ ペンタエチレングリコールジアクリラート ６.６重量％ アセトン １０５.２重量％ この混合物にR T MQUANTACURE ITX ０．２５％（固型分に
基づいて）、ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
０．１４％（固型分に基づいて）及び試験すべき開始剤
３％の混合物に加え、攪拌した。すべての操作は、黄色
光条件下で行った。開始剤が加えられたサンプルを、ア
ルミニウムホイルに塗布した。通常のオーブン中、６０
℃１５分加熱して溶媒を除いた。乾燥フィルムの厚さ
は、３５〜４０μmであった。乾燥フィルム上に７６μm
厚さのポリエステルフィルムをラミネートし、２１段階
の異なる光学密度を有する標準化された試験陰画（test
negative）（Stouffer wedge）をその上に置いた。サ
ンプルを第二のＵＶ透過フィルムで覆い、真空の方法で
金属プレート上に加圧した。曝露は、第一の試験系で１
０秒間、第二の試験系で２０秒間、そして第三の試験系
で４０秒間、５kW金属ハライドランプ（MO61、Staub A
G）を用いて、３０cmの距離で行った。曝露に続いて、
覆いのフィルム及びマスクを除き、曝露したフィルムを
０．８５％炭酸ナトリウム水溶液で３５℃で１８０秒
間、噴霧タイプ現像剤を用いて行った（WalterLemmen、
モデル21）。用いた開始剤の感受性は、最も高い段階の
数（現像後、残留する（すなわち、重合した）を示すこ
とで際立っている。段階の数が高ければ、試験したシス
テムは、より感受性である。
【０２８５】
【表７】
【０２８６】実施例４４：ポリ（ベンジルメタクリラー
ト−コ−メタクリラート）の調製 ２４ｇのベンジルメタクリラート、６ｇのメタクリル酸
及び０．５２５ｇのアゾビスイソブチロニトリルル（Ａ
ＩＢＮ）を９０mlのプロピレングリコール１−モノメチ
ルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ）に溶解した。
得られた反応混合物を、油浴中８０℃で５時間攪拌した
後、得られた粘稠溶液を室温に冷却し、更に精製するこ
となく用いた。固型分顔料は、約２５％であった。
【０２８７】光重合性配合物は、以下の成分を混合する
ことにより調製した。 ベンジルメタクリラートとメタクリル酸のコポリマー （ベンジルメタクリラート：メタクリル酸＝８０：２０重量％） ２５％プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート （ＰＧＭＥＡ）溶液（上記のように製造した） ２００．０重量部； ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート（（ＤＰＨＡ）、UCB Chemicals から） ５０．０重量部； 光開始剤 ４．０重量部；及び ＰＧＭＥＡ １５０．０重量部 すべての操作は、黄色光条件下で行った。配合物を、ア
ルミニウムプレートにワイヤーを巻いたバーを有する電
気塗布機を用いて塗布した。通常のオーブン中、６０℃
１５分加熱して溶媒を除いた。乾燥フィルムの厚さは、
約２μmであった。この被覆にアセタートフィルムを塗
布し、その上に２１段階の異なる光学密度を有する標準
化された試験陰画（test negative）（Stouffer wedg
e）を置いた。サンプルを第二のＵＶ透過フィルムで覆
い、真空の方法で金属プレート上に加圧した。３６５nm
及び４０５nmでの波長を選択するために最上部に妨害フ
ィルターを置いた。２５０Wの超高圧水銀ランプ（USHI
O、USA-25-BY）を用い、１５cmの距離で行った。曝露し
た後、覆ったフィルム及びマスクを除き、曝露したフィ
ルムを１％炭酸ナトリウム水溶液で３０℃で２００秒
間、噴霧タイプ現像剤（Walter Lemmen、モデル21）を
用いて現像を行った。用いた開始剤の感受性は、それぞ
れの波長での照射で硬化に必要な最少の照射量により際
立っており、それは、硬化された最も高い数での段階の
透過から計算される。照射量がより少なければ、選択さ
れた波長での試験された開始剤がより感受性が高い。結
果は表４に集めた。
【０２８８】
【表８】
【０２８９】Ｓ−１は、４，４′−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン（２．４重量部で加えられた）であ
る。
【０２９０】実施例４５：光重合性配合物は、以下の成
分を混合することにより調製した。 ベンジルメタクリラートとメタクリル酸のコポリマー （ベンジルメタクリラート：メタクリル酸＝８０：２０重量％） ２５％プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート （ＰＧＭＥＡ）溶液（実施３３記載のように調製した） ２００．０重量部； ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート（（ＤＰＨＡ）、UCB Chemicals から） ５０．０重量部； 光開始剤 ２．０重量部；及び ＰＧＭＥＡ １５０．０重量部 すべての操作は、黄色光条件下で行った。配合物を、ア
ルミニウムプレートにワイヤーを巻いたバーを有する電
気塗布機を用いて塗布した。通常のオーブン中、１００
℃、２分加熱して溶媒を除いた。乾燥フィルムの厚さ
は、約２μmであった。２１段階の異なる光学密度を有
する標準化された試験陰画（test negative）（Stouffe
r wedge）を、このフィルムとレジストの間の１００μm
の空気間隔を持たせて配置した。３６５nmの波長を選択
するために最上部に妨害フィルターを置いた。曝露は、
２５０Wの超高圧水銀ランプ（USHIO、USA-25-BY）を用
い、１５cmの距離で行った。曝露した後、覆ったフィル
ム及びマスクを除き、曝露したフィルムを１％炭酸ナト
リウム水溶液で３０℃で２００秒間、噴霧タイプ現像剤
（Walter Lemmen、モデル21）を用いて現像を行った。
用いた開始剤の感受性は、それぞれの波長での照射で硬
化に必要な最少の照射量により際立っており、それは、
硬化された最も高い数での段階の透過から計算される。
照射量がより少なければ、選択された波長での試験され
た開始剤がより感受性が高い。結果は表５に集めた。
【０２９１】
【表９】
【０２９２】Ｓ−１は、４，４′−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン（１．２重量％で添加）である。Ｓ
−２は、クマリン１０６（１．２重量％で添加）
【０２９３】
【化３４】
【０２９４】である。
【０２９５】実施例４６:ポリアミンエステルは、ＥＰ
６２４８２６の実施例Ｉ．１に従い、オキシジフタル
酸ジ無水物、メクリル酸−２ ヒドロキシエチルエステ
ル及び４，４′−ジアミノジフェニルエーテルから調製
した。固有粘度は、０．３１dl/gであり、平均分子量は
Ｍｗ＝２，５５０g/mol、Ｍｎ＝３，８００g/molであっ
た。配合物は、１６．９７ｇの上記の前駆体、２．５４
５ｇのテトラエチレングリコールジメタクリラート（SR
209、Cray Valley）及び０．８５ｇの実施例２１の化合
物を２９．５２ｇのＮ−メチルピロリジノンに溶解して
調製した。配合物は、拡大のために１，５００rpmで５
秒、続いて５，０００rpmで３０秒のスピンサイクル
で、シリコンウエハー上にスピン−被覆した。被覆した
ウエハーをホットプレート上で、１００℃で５分間乾燥
した。６μm厚さの光感受性の粘性のフィルムをえた。
次いで、このウエハーを、３６５nmの狭いバンドフィル
ターを通すか、又は全アークスペクトルでの３５０W水
銀ランプを有するＯＲＩＥＬ（モデル87532）曝露装置
を用いて、段階−くさび（step-wedge）を通して曝露し
た。段階くさびマスクの真空接触は、基質と段階くさび
を覆うポリエステルホイルを用いて真空チューブで行っ
た。強度は、３６５nmセンサーを有するＯＡＩ強度計を
用いて測定した。曝露されたフィルムを、シクロペンタ
ノン中で６０秒間、浸漬現像し、シクロペンタノン／イ
ソプロパノールの１：１混合物で１０秒間２回すすい
だ。３６５nmでの単色照射で、２８mJ/cm2の照射量が、
このフィルムを現像液中で不溶性にするため十分に架橋
させるのに必要である。水銀ランプの全アークスペクト
ルを用いた場合、３８mJ/cm2の照射量が、フィルムを架
橋させるのに必要であり、それによりそれは現像液中で
溶解しなかった。
【０２９６】実施例４７:配合物は、１６．９７ｇの実
施例Ａに記載したポリイミド前駆体、２．５４５ｇのテ
トラエチレングリコールジメタクリラート（R T MSR209、
Cray Valley）、０．８５ｇの実施例２９の開始剤、
０．１７ｇのミヘラーケトン及び２９．５２ｇのＮ−メ
チルピロリジノンを混合することにより製造した。配合
物は、拡大のために１，５００rpmで５秒、続いて５，
０００rpmで３０秒のスピンサイクルで、シリコンウエ
ハー上にスピン−被覆した。被覆したウエハーをホット
プレート上で、１００℃で５分間乾燥した。６μm厚さ
の光感受性の粘性のフィルムを得た。次いで、このウエ
ハーを、３６５nmの狭いバンドフィルターを通すか、又
は全アークスペクトルでの３５０W水銀ランプを有する
ＯＲＩＥＬ（モデル87532）曝露装置を用いて、段階−
くさび（step-wedge）を通して曝露した。段階くさびマ
スクの真空接触は、基質と段階くさびを覆うポリエステ
ルホイルを用いて真空チューブで行った。強度は、３６
５nmセンサーを有するＯＡＩ強度計を用いて測定した。
曝露されたフィルムを、シクロペンタノン中で６０秒
間、浸漬現像し、シクロペンタノン／イソプロパノール
の１：１混合物で１０秒間２回すすぎ、最後に純粋のイ
ソプロパノールで１０秒間すすいだ。３６５nmでの単色
照射で、３６mJ/cm2の照射量が、このフィルムを現像液
中で不溶性にするため十分に架橋させるのに必要であ
る。全スペクトルを用いた場合、７５mJ/cm2の照射量
が、フィルムを架橋させるのに必要であり、それにより
それは現像液中で溶解しなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｆ 20/10 Ｃ０８Ｆ 20/10 290/00 290/00 Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｇ０３Ｈ 1/02 Ｇ０３Ｈ 1/02 (72)発明者 岡 英隆 兵庫県宝塚市末成町18−27 (72)発明者 大和 真樹 兵庫県神戸市灘区高徳町１−１−４ (72)発明者 倉 久稔 兵庫県宝塚市小林５−３−15−205 (72)発明者 ジャン−リュク ビルボーム スイス国 4102 ビニンゲン ブルーダー ホルツシュトラーセ 17 (72)発明者 クルト ディートリカー スイス国 4123 アルシュヴィル バーゼ ルマットヴェーク 132

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式（Ｉ）、（II）、（III）及び（I
    V）： 【化１】 （式中、 Ｒ1は、フェニル（これは、非置換であるか、又はＣ1−
    Ｃ6アルキル、フェニル、ハロゲン、ＯＲ8、ＳＲ9若し
    くはＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置換されている）であ
    るか；又はＲ1は、Ｃ1−Ｃ2 0アルキル又はＣ2−Ｃ2 0ア
    ルキル（これは、場合により−Ｏ−の１個以上により中
    断、及び／又は場合によりヒドロキシ基の１個以上によ
    り置換されている）であるか、又はＲ1は、Ｃ5−Ｃ8シ
    クロアルキル若しくはＣ2−Ｃ2 0アルカノイルである
    か；又はベンゾイル（これは、非置換であるか、又はＣ
    1−Ｃ6アルキル、フェニル、ＯＲ8、ＳＲ9若しくはＮＲ
    1 0Ｒ1 1の１個以上により置換されている）であるか、又
    はＲ1は、Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニル（これは、場
    合により−Ｏ−の１個以上により中断、及び／又は場合
    によりヒドロキシ基の１個以上により置換されている）
    であるか、又はＲ1は、フェノキシカルボニル（これ
    は、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、ハロゲ
    ン、フェニル、ＯＲ8若しくはＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上に
    より置換されている）であるか、又はＲ1は、−ＣＯＮ
    Ｒ1 0Ｒ1 1、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ4ハロアルキル、Ｓ
    （Ｏ)mＣ1−Ｃ6アルキル；非置換若しくはＣ1−Ｃ1 2ア
    ルキル−置換Ｓ（Ｏ)m−Ｃ6−Ｃ1 2アリール；ＳＯ2Ｏ−
    Ｃ1−Ｃ6アルキル；ＳＯ2Ｏ−Ｃ6−Ｃ1 0アリール、又は
    ジフェニル−ホスフィノイルであり；ｍは、１又は２で
    あり；Ｒ1′は、Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニル（これ
    は、場合により−Ｏ−の１個以上により中断、及び／又
    は場合によりヒドロキシル基の１個以上により置換され
    ている）であるか；又はＲ1′は、フェノキシカルボニ
    ル（これは、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、
    ハロゲン、フェニル、ＯＲ8若しくはＮＲ1 0Ｒ1 1の１個
    以上により置換されている）であるか；又はＲ1′は、
    Ｃ5−Ｃ8シクロアルキル、−ＣＯＮＲ1 0Ｒ1 1、ＣＮ；又
    はフェニル（これは、ＳＲ9により置換されており、こ
    こで、場合により基Ｒ4′、Ｒ5′及びＲ6′を有するフ
    ェニル環の炭素原子への結合を構築することにより基Ｒ
    9を介して５−又は６−員環が形成される）；又は
    Ｒ4′、Ｒ5′及びＲ6′の少なくとも１個が、−ＳＲ9で
    あるならば、Ｒ1′は、更にＣ1−Ｃ1 2アルキル（これ
    は、非置換であるか、又はハロゲン、ＯＨ、ＯＲ2、フ
    ェニル、ハロゲン化フェニル、又はＳＲ9置換フェニル
    の１個以上により置換されており、かつ場合により−Ｏ
    −又は−ＮＨ（ＣＯ）−により中断されている）であ
    り；Ｒ2は、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイル（これは、非置換で
    あるか、又はハロゲン若しくはＣＮの１個以上により置
    換されている）であるか；又はＲ2は、Ｃ4−Ｃ6アルケ
    ノイルであるが、ただし二重結合はカルボニル基と共役
    しておらず；又はＲ2は、ベンゾイル（これは、非置換
    であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、ハロゲン、ＣＮ、Ｏ
    Ｒ8、ＳＲ9若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置
    換されている）であるか、又はＲ2は、Ｃ2−Ｃ6アルコ
    キシカルボニル；若しくはフェノキシカルボニル（これ
    は、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル若しくはハ
    ロゲンにより置換されている）であり；Ｒ3、Ｒ4、
    Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、互いに独立して、水素、ハロゲ
    ン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、シクロペンチル、シクロヘキ
    シル；又はフェニル（これは、非置換であるか、又はＯ
    Ｒ8、ＳＲ9若しくはＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置換さ
    れている）であるか；又はＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7
    は、ベンジル、ベンゾイル、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイル；
    Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニル（これは、場合により
    −Ｏ−の１個以上により中断、及び／又は場合によりヒ
    ドロキシル基の１個以上により置換されている）である
    か；又はＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、フェノニキシ
    カルボニル又は基ＯＲ8、ＳＲ9、ＳＯＲ9、ＳＯ2Ｒ9若
    しくはＮＲ1 0Ｒ1 1（ここで、置換基ＯＲ8、ＳＲ9及びＮ
    Ｒ1 0Ｒ1 1は、場合によりフェニル環の更なる置換基又は
    フェニル環の炭素原子の一つと、基Ｒ8、Ｒ9、Ｒ1 0及び
    ／又はＲ1 1を介して５−又は６−員環を形成する）であ
    るが；ただしＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7の少なくとも
    一つは、ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ1 0Ｒ1 1であり；Ｒ4′、
    Ｒ5′及びＲ6′は、互いに独立して、水素、ハロゲン、
    Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシ
    ル；フェニル（これは、非置換であるか、又はＯＲ8、
    ＳＲ9若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1により置換されている）
    であるか；又はＲ4′、Ｒ5′及びＲ6′は、ベンジル、
    ベンゾイル、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイル；Ｃ2−Ｃ1 2アルコ
    キシカルボニル（これは、場合により−Ｏ−の１個以上
    により中断、及び／又は場合によりヒドロキシル基の１
    個以上により置換されている）であるか；又はＲ4′、
    Ｒ5′及びＲ6′は、フェノニキシカルボニル；又は基Ｏ
    Ｒ8、ＳＲ9、ＳＯＲ9、ＳＯ2Ｒ9若しくはＮＲ1 0Ｒ
    1 1（ここで、置換基ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ1 0Ｒ1 1は、場
    合によりフェニル環の更なる置換基又はフェニル環の炭
    素原子の一つと、基Ｒ8、Ｒ9、Ｒ1 0及び／又はＲ1 1を介
    して５−又は６−員環を形成する）であるが；ただしＲ
    4′、Ｒ5′及びＲ6′の少なくとも一つは、ＯＲ8、ＳＲ
    9及びＮＲ1 0Ｒ1 1であり；かつＲ5′がメトキシであり、
    Ｒ4′及びＲ6′が両方同時に水素であり、Ｒ1′がＣＮ
    であれば、Ｒ2′は、ベンゾイル又は４−（Ｃ1−Ｃ1 0ア
    ルキル）ベンゾイルではなく；Ｒ8は、水素、Ｃ1−Ｃ1 2
    アルキルであるか；又はＣ2−Ｃ6アルキル（これは、−
    ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ3−Ｃ6
    アルケンオキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2
    (ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1−
    Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル、−(ＣＯ)ＯＨ
    又は−(ＣＯ)Ｏ(Ｃ1−Ｃ4アルキル)で置換されている）
    であるか；又はＲ8は、Ｃ2−Ｃ6アルキル（これは、−
    Ｏ−の１個以上によりより中断されている）であるか；
    又はＲ8は、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＨ、Ｃ2−Ｃ8アルカノ
    イル、Ｃ3−Ｃ1 2アルケニル、Ｃ3-C6アルケノイル、シ
    クロヘキシル；又はフェニル（これは、非置換である
    か、又はハロゲン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル若しくはＣ1−Ｃ
    4アルコキシで置換されている）であるか；又はＲ8は、
    フェニル−Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｓｉ（Ｃ1−Ｃ8アルキ
    ル)r(フェニル)3 - r又は下記式： 【化２】 のいずれかの基であり；ｎは、１〜２０であり；ｒは、
    １、２又は３であり；Ｒ9は、水素、Ｃ1−Ｃ1 2アルキ
    ル、Ｃ3−Ｃ1 2アルケニル、シクロヘキシル；Ｃ2−Ｃ6
    アルキル（これは、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1−Ｃ4
    アルコキシ、Ｃ3−Ｃ6アルケンオキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2
    ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2(ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−Ｃ4アルキ
    ル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1−Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）
    −フェニル、−（ＣＯ）ＯＨ又は−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−
    Ｃ4アルキル）で置換されている）であるか；又はＲ
    9は、Ｃ2−Ｃ1 2アルキル（これは、−Ｏ−又は−Ｓ−の
    １個以上により中断されている）であるか；又はＲ
    9は、フェニル（これは、非置換であるか、又はハロゲ
    ン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシで
    置換されている）であるか；又はＲ9は、フェニル−Ｃ1
    −Ｃ3アルキル、又は下記式： 【化３】 のいずれかの基であり；Ｒ1 0及びＲ1 1は、互いに独立し
    て、水素、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、Ｃ2−Ｃ4ヒドロキシア
    ルキル、Ｃ2−Ｃ1 0アルコキシアルキル、Ｃ3−Ｃ5アル
    ケニル、Ｃ5−Ｃ1 2シクロアルキル、フェニル−Ｃ1−Ｃ
    3アルキル；フェニル（これは、非置換であるか、又は
    Ｃ1−Ｃ1 2アルキル又はＣ1−Ｃ4アルコキシにより置換
    されている）であるか；又はＲ1 0及びＲ1 1は、Ｃ2−Ｃ3
    アルカノイル、Ｃ3−Ｃ6アルケノイル又はベンゾイルで
    あるか；又はＲ1 0及びＲ1 1は、一緒になってＣ2−Ｃ6ア
    ルキレン（これは、場合により−Ｏ−若しくは−ＮＲ8
    −により中断、及び／又は場合によりヒドロキシル、Ｃ
    1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ2−Ｃ4アルカノイルオキシ若しく
    はベンゾイルオキシで置換されている）であるか；又は
    Ｒ1 0が水素であるとき、Ｒ1 1は、下記式： 【化４】 のいずれかの基であってよく；Ｍは、Ｃ1−Ｃ1 2アルキ
    レン、シクロヘキシレン、フェニレン、−（ＣＯ）Ｏ−
    （Ｃ2−Ｃ1 2アルキレン）−Ｏ（ＣＯ）−、−（ＣＯ）
    Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n−（ＣＯ）−又は−（ＣＯ）−
    （Ｃ2−Ｃ1 2−アルキレン）−（ＣＯ）−であり；Ｍ
    1は、直接結合であるか；又はＣ1−Ｃ1 2アルキレンオキ
    シ（これは、場合により、１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ−、
    及び／又は−ＮＲ1 0−により中断されている）であり；
    Ｍ2は、直接結合であるか；又はＣ1−Ｃ1 2アルキレン−
    Ｓ−（これは、場合により、１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ
    −、及び／又は−ＮＲ1 0−により中断されている）であ
    り；Ｍ3は、直接結合、ピペラジノ基；又はＣ1−Ｃ1 2ア
    ルキレン−ＮＨ−（これは、場合により、１〜５個の−
    Ｏ−、−Ｓ−、及び／又は−ＮＲ1 0−により中断されて
    いる）であるが；ただし （ｉ）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ2がベンゾイル又はアセ
    チルであるならば、Ｒ1はフェニルではなく； （ii）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ2がエトキシカルボニル
    であるならば、Ｒ2はベンゾイル又はエトキシカルボニ
    ルではなく； （iii）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ1が4−メトキシベンゾ
    イルであるならば、Ｒ２はエトキシカルボニルではな
    く； （ｉｖ）Ｒ5がメタクリロイルアミノであり、Ｒ1がメチ
    ルであるならば、Ｒ2はベンゾイルではなく； （ｖ）Ｒ5及びＲ4、又はＲ5及びＲ6の両方がＯＲ8基で
    あり、それらのＯＲ8基が一緒になってＲ8を介して環を
    形成し、それにより−Ｏ−ＣＨ2−Ｏ−を与え、Ｒ1がメ
    チルであるならば、Ｒ2はアセチルではなく； （vi）Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が、同時にメトキシであり、Ｒ1
    がエトキシカルボニルであるならば、Ｒ2はアセチルで
    はなく； （vii）Ｒ5がメトキシであり、同時にＲ4又はＲ6がアセ
    トキシであり、Ｒ1がエチルであるならば、Ｒ2はアセチ
    ルではなく； （viii）式（III）において、Ｒ1′がメチルであり、Ｒ
    5′がフェニルチオであり、Ｒ4′及びＲ5′が両方Ｈで
    あるならば、Ｒ2は4−クロロベンゾイルではない）で示
    される化合物。
  2. 【請求項２】 Ｒ3、Ｒ4及びＲ7、又はＲ4′及びＲ6′
    が、水素であり、そしてＲ5又はＲ5′が、ＳＲ9であ
    る、請求項１記載の式（Ｉ）又は（III）の化合物。
  3. 【請求項３】 Ｒ1が、フェニル又はＣ1−Ｃ1 2アルキル
    であり；Ｒ1′がＣ2−Ｃ4アルコキシカルボニル、又は
    フェニル（これは、ＳＲ9により置換されており、基
    Ｒ4′、Ｒ5′及びＲ6′を有するフェニル環の炭素原子
    への結合を構築することにより基Ｒ9を介して５−又は
    ６−員環が形成される）であるか；又はＲ4′、Ｒ5′及
    びＲ6′の少なくとも１個が、−ＳＲ9であるならば、Ｒ
    1′は、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル（これは、非置換であるか、
    又はフェニル若しくはフルオロの１個以上により置換さ
    れている）であり；Ｒ2が、Ｃ2−Ｃ4アルカノイル、又
    はベンゾイル（これは、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ4
    アルキル若しくはハロゲンにより置換されている）であ
    り；Ｒ3、Ｒ6及びＲ7が、水素であり；Ｒ4及びＲ5が、
    互いに独立して、水素又は基ＯＲ8、ＳＲ9、又はＮＲ1 0
    Ｒ1 1であり；Ｒ4′及びＲ5′が、互いに独立して、水素
    又は基ＯＲ8、ＳＲ9、又はＮＲ1 0Ｒ 1 1であり；Ｒ6′
    が、水素であり；Ｒ8及びＲ9が、Ｃ1−Ｃ4アルキル、フ
    ェニル又は下記式： 【化５】 のいずれかの基であり；Ｒ1 0及びＲ1 1が、メチル若しく
    はエチルであるか、又はＲ1 0とＲ1 1が、一緒になって、
    Ｃ2−Ｃ6アルキレン（これは、−Ｏ−により中断されて
    いる）であり；Ｍが、Ｃ1−Ｃ1 2アルキレンであり；そ
    してＭ2が、直接結合である、式（Ｉ）、（II）、（II
    I）又は（IV）の請求項１記載の化合物。
  4. 【請求項４】 （ａ）エチレン性不飽和の光重合性化合
    物の少なくとも１種及び（ｂ）光開始剤として、式
    （Ｉ）、（II）、（III）及び／又は（IV）： 【化６】 （式中、 Ｒ1は、フェニル（これは、非置換であるか、又はＣ1−
    Ｃ6アルキル、フェニル、ハロゲン、ＯＲ8、ＳＲ9若し
    くは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置換されている）
    であるか；又はＲ1は、Ｃ5−Ｃ8シクロアルキル、Ｃ1−
    Ｃ2 0アルキル；又はＣ2−Ｃ2 0アルキル（これらは、場
    合により−Ｏ−の１個以上により中断、及び／又は場合
    によりヒドロキシ基の１個以上により置換されている）
    であるか、Ｒ1は、Ｃ2−Ｃ2 0アルカノイルであるか；又
    はベンゾイル（これは、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6
    アルキル、フェニル、ＯＲ8、ＳＲ9若しくはＮＲ1 0Ｒ1 1
    の１個以上により置換されている）であるか、又はＲ1
    は、Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニル（これは、場合に
    より−Ｏ−の１個以上により中断、及び／又は場合によ
    りヒドロキシ基の１個以上により置換されている）であ
    るか、又はＲ1は、フェノキシカルボニル（これは、非
    置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、ハロゲン、フェ
    ニル、ＯＲ8若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により
    置換されている）であるか、又はＲ1は、−ＣＯＮＲ1 0
    Ｒ1 1、ＣＮ、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ4ハロアルキル、Ｓ（Ｏ)m
    Ｃ1−Ｃ6アルキル；非置換若しくはＣ1−Ｃ1 2アルキル
    −置換Ｓ（Ｏ)m−Ｃ1−Ｃ6アリール；ＳＯ2Ｏ−Ｃ1−Ｃ
    6アルキル；ＳＯ2Ｏ−Ｃ6−Ｃ1 0アリール、又はジフェ
    ニル−ホスフィニルであり；ｍは、１又は２であり；Ｒ
    1′は、Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニル（これは、場合
    により−Ｏ−の１個以上により中断、及び／又は場合に
    よりヒドロキシル基の１個以上により置換されている）
    であるか；又はＲ1′は、フェノキシカルボニル（これ
    は、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、ハロゲ
    ン、フェニル、ＯＲ8若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以
    上により置換されている）であるか；又はＲ1′は、Ｃ5
    −Ｃ8シクロアルキル、−ＣＯＮＲ1 0Ｒ1 1、ＣＮである
    か；又はフェニル（これは、ＳＲ9により置換されてお
    り、場合により基Ｒ4′、Ｒ5′及びＲ6′を有するフェ
    ニル環の炭素原子への結合を構築することにより基Ｒ9
    を介して５−又は６−員環が形成される）；又は
    Ｒ4′、Ｒ5′及びＲ6′の少なくとも１個が、−ＳＲ9で
    あるならば、Ｒ1′は、更にＣ1−Ｃ1 2アルキル（これ
    は、非置換であるか、又はハロゲン、ＯＨ、ＯＲ2、フ
    ェニル、ハロゲン化フェニル又はＳＲ9で置換されたフ
    ェニルの１個以上により置換されており、かつ場合によ
    り−Ｏ−又は−ＮＨ（ＣＯ）−により中断されている）
    であり；Ｒ2は、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイル（これは、非置
    換であるか、又はハロゲン若しくはＣＮの１個以上によ
    り置換されている）であるか；又はＲ2は、Ｃ2−Ｃ4ア
    ルケノイルであるが、ただし二重結合はカルボニル基と
    共役しておらず；又はＲ2は、ベンゾイル（これは、非
    置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル、ハロゲン、Ｃ
    Ｎ、ＯＲ8、ＳＲ9若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上に
    より置換されている）であるか、又はＲ2は、Ｃ2−Ｃ6
    アルコキシカルボニル；又はフェノキシカルボニル（こ
    れは、非置換であるか、又はＣ1−Ｃ6アルキル若しくは
    ハロゲンにより置換されている）であり；Ｒ3、Ｒ4、Ｒ
    5、Ｒ6及びＲ7は、互いに独立して、水素、ハロゲン、
    Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシ
    ル；又はフェニル（これは、非置換であるか、又はＯＲ
    8、ＳＲ9若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置換
    されている）であるか；又はＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ
    7は、ベンジル、ベンゾイル、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイル；
    Ｃ2−Ｃ1 2アルコキシカルボニル（これは、場合により
    −Ｏ−の１個以上により中断、及び／又は場合によりヒ
    ドロキシル基の１個以上により置換されている）である
    か；又はＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、フェノニキシ
    カルボニル；ＯＲ8、ＳＲ9、ＳＯＲ9、ＳＯ2Ｒ9若しく
    はＮＲ1 0Ｒ1 1（ここで、置換基ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ1 0
    Ｒ1 1は、場合によりフェニル環の更なる置換基又はフェ
    ニル環の炭素原子の一つと、基Ｒ8、Ｒ9、Ｒ1 0及び／又
    はＲ1 1を介して５−又は６−員環を形成する）である
    が；ただしＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7の少なくとも一
    つは、ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ1 0Ｒ1 1であり；Ｒ4′、
    Ｒ5′及びＲ6′は、互いに独立して、水素、ハロゲン、
    Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシ
    ル；フェニル（これは、非置換であるか、又はＯＲ8、
    ＳＲ9若しくは又はＮＲ1 0Ｒ1 1の１個以上により置換さ
    れている）であるか；又はＲ4′、Ｒ5′及びＲ6′は、
    ベンジル、ベンゾイル、Ｃ2−Ｃ1 2アルカノイル；Ｃ2−
    Ｃ1 2アルコキシカルボニル（これは、場合により−Ｏ−
    の１個以上により中断、及び／又は場合によりヒドロキ
    シル基の１個以上により置換されている）であるか；又
    はＲ4′、Ｒ5′及びＲ6′は、フェノニキシカルボニ
    ル；ＯＲ8、ＳＲ9、ＳＯＲ9、ＳＯ2Ｒ9若しくはＮＲ1 0
    Ｒ1 1（ここで、置換基ＯＲ8、ＳＲ9及びＮＲ1 0Ｒ1 1は、
    場合によりフェニル環の更なる置換基又はフェニル環の
    炭素原子の一つと、基Ｒ8、Ｒ9、Ｒ1 0及び／又はＲ1 1を
    介して５−又は６−員環を形成する）であるが；ただし
    Ｒ4′、Ｒ5′及びＲ6′の少なくとも一つは、ＯＲ8、Ｓ
    Ｒ9及びＮＲ1 0Ｒ1 1であり；かつＲ5′がメトキシであ
    り、Ｒ4′及びＲ6′が両方同時に水素であり、Ｒ1′が
    ＣＮであれば、Ｒ2′は、ベンゾイル又は４−（Ｃ1−Ｃ
    1 0アルキル）ベンゾイルではなく；Ｒ8は、水素、Ｃ1−
    Ｃ1 2アルキルであるか；又はＣ2−Ｃ6アルキル（これ
    は、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ
    3−Ｃ6アルケンオキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ
    2ＣＨ2(ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）、−Ｏ（ＣＯ）
    −Ｃ1−Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）−フェニル、−（Ｃ
    Ｏ）ＯＨ又は−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）で置換
    されている）であるか；又はＲ8は、Ｃ2−Ｃ6アルキル
    （これは、−Ｏ−の１個以上によりより中断されてい
    る）であるか；又はＲ8は、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＨ、Ｃ2
    −Ｃ8アルカノイル、Ｃ3−Ｃ1 2アルケニル、Ｃ3−Ｃ6ア
    ルケノイル、シクロヘキシル；又はフェニル（これは、
    非置換であるか、又はハロゲン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル若
    しくはＣ1−Ｃ4アルコキシで置換されている）である
    か；又はＲ8は、フェニル−Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｓｉ
    （Ｃ1−Ｃ8アルキル)r(フェニル)3 - r又は下記式： 【化７】 のいずれかの基であり；ｎは、１〜２０であり；ｒは、
    １、２又は３であり；Ｒ9は、水素、Ｃ1−Ｃ1 2アルキ
    ル、Ｃ3−Ｃ1 2アルケニル、シクロヘキシル；Ｃ2−Ｃ6
    アルキル（これは、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1−Ｃ4
    アルコキシ、Ｃ3−Ｃ6アルケンオキシ、−ＯＣＨ2ＣＨ2
    ＣＮ、−ＯＣＨ2ＣＨ2(ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−Ｃ4アルキ
    ル）、−Ｏ（ＣＯ）−Ｃ1−Ｃ4アルキル、−Ｏ（ＣＯ）
    −フェニル、−（ＣＯ）ＯＨ又は−（ＣＯ）Ｏ（Ｃ1−
    Ｃ4アルキル）で置換されている）であるか；又はＲ
    9は、Ｃ2−Ｃ1 2アルキル（これは、−Ｏ−又は−Ｓ−の
    １個以上により中断されている）であるか；又はＲ
    9は、フェニル（これは、非置換であるか、又はハロゲ
    ン、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル若しくはＣ1−Ｃ4アルコキシで
    置換されている）であるか；又はＲ9は、フェニル−Ｃ1
    −Ｃ3アルキル、又は下記式： 【化８】 のいずれかの基であり；Ｒ1 0及びＲ1 1は、互いに独立し
    て、水素、Ｃ1−Ｃ1 2アルキル、Ｃ2−Ｃ4ヒドロキシア
    ルキル、Ｃ2−Ｃ1 0アルコキシアルキル、Ｃ3−Ｃ5アル
    ケニル、Ｃ5−Ｃ1 2シクロアルキル,フェニル−Ｃ1−Ｃ3
    アルキル；フェニル（これは、非置換であるか、又はＣ
    1−Ｃ1 2アルキル又はＣ1−Ｃ4アルコキシにより置換さ
    れている）であるか；又はＲ1 0及びＲ1 1は、Ｃ2−Ｃ3ア
    ルカノイル、Ｃ3−Ｃ6-アルケノイル又はベンゾイルで
    あるか；又はＲ1 0及びＲ1 1は、一緒になってＣ2−Ｃ6ア
    ルキレン（これは、場合により−Ｏ−若しくは−ＮＲ8
    −により中断、及び／又は場合によりヒドロキシル、Ｃ
    1−Ｃ4アルコキシ、Ｃ2−Ｃ4アルカノイルオキシ若しく
    はベンゾイルオキシで置換されている）であるか；又は
    Ｒ1 0が水素であるとき、Ｒ1 1は、下記式： 【化９】 のいずれかの基であってよく；Ｍは、Ｃ1−Ｃ1 2アルキ
    レン、シクロヘキシレン、フェニレン、−（ＣＯ）Ｏ−
    （Ｃ2−Ｃ1 2アルキレン）−Ｏ（ＣＯ）−、−（ＣＯ）
    Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n−（ＣＯ）−又は−（ＣＯ）−
    （Ｃ2−Ｃ1 2−アルキレン）−（ＣＯ）−であり；Ｍ
    1は、直接結合であるか；又はＣ1−Ｃ1 2アルキレンオキ
    シ（これは、場合により、１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ−、
    及び／又は−ＮＲ1 0−により中断されている）であり；
    Ｍ2は、直接結合であるか；又はＣ1−Ｃ1 2アルキレン−
    Ｓ−（これは、場合により、１〜５個の−Ｏ−、−Ｓ
    −、及び／又は−ＮＲ1 0−により中断されている）であ
    り；Ｍ3は、直接結合、ピペラジノ基；又はＣ1−Ｃ1 2ア
    ルキレン−ＮＨ−（これは、場合により、１〜５個の−
    Ｏ−、−Ｓ−、及び／又は−ＮＲ1 0−により中断されて
    いる）であるが；ただし （ｉ）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ2がベンゾイル又はアセ
    チルであるならば、Ｒ1はフェニルではなく； （ii）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ2がエトキシカルボニル
    であるならば、Ｒ2はベンゾイル又はエトキシカルボニ
    ルではなく； （iii）Ｒ5がメトキシであり、Ｒ1が4−メトキシベンゾ
    イルであるならば、Ｒ2はエトキシカルボニルではな
    く； （iv）Ｒ5がメタクリロイルアミノであり、Ｒ1がメチル
    であるならば、Ｒ2はベンゾイルではなく； （ｖ）Ｒ5及びＲ4、又はＲ5及びＲ6の両方がＯＲ8基で
    あり、それらのＯＲ8基が一緒になってＲ8を介して環を
    形成し、それにより−Ｏ−ＣＨ2−Ｏ−を与え、Ｒ1がメ
    チルであるならば、Ｒ2はアセチルではなく； （vi）Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が、同時にメトキシであり、Ｒ1
    がエトキシカルボニルであるならば、Ｒ2はアセチルで
    はない）で示される化合物の少なくとも１種を含む、光
    重合性配合物。
  5. 【請求項５】 光開始剤（ｂ）に加えて、少なくとも１
    種の更なる光開始剤（ｃ）及び／又は他の添加剤（ｄ）
    を含む、請求項４記載の光重合性配合物。
  6. 【請求項６】 結合剤ポリマー（ｅ）を更に含む、請求
    項４記載の光重合性配合物。
  7. 【請求項７】 エチレン性不飽和二重結合を含む化合物
    を光重合させる方法であって、 請求項４記載の配合物を、電子線ビーム又はＸ−線によ
    り、１９０〜６００nmの範囲での電磁放射線で照射する
    ことを特徴とする方法。
  8. 【請求項８】 着色及び非−着色の、ペイント及びワニ
    ス、粉体塗装、印刷インキ、印刷プレート、接着剤、歯
    科配合物、複合配合物、光レジストを含むレジスト、カ
    ラーフィルター材料、電気及び電子成分封止配合物の製
    造のための、磁気記録材料、微小機械部品、導波部材、
    光スイッチ、プレートマスク、食刻マスク、カラー耐性
    システム、ガラス繊維被覆、スクリーン印刷型紙の製造
    のための、ミクロリソグラフィ、プレーティング、ステ
    レオリソグラフィによる三次元体の製造のための、画像
    記録材料、特にホログラフ記録、マイクロ電子回路、脱
    カラー化材料、画像記録材料のための脱カラー材料の製
    造のための、又はマイクロカプセルを用いる画像記録材
    料の製造のための、請求項７記載の方法。
  9. 【請求項９】 レリーフ画像の写真製造のための方法で
    あって、 請求項４記載の配合物で被覆された基質を画像様に暴露
    し、次いで非暴露部分を現像剤で取り除くことを特徴と
    する方法。
  10. 【請求項１０】 全てが、透過基質上に光感受性樹脂及
    び顔料を含む、赤色、緑色及び青色の画素並びに黒色マ
    トリックスを設け、かつ基質の表面又はカラーフィルタ
    ー層の表面のいずれかに透明電極を設けることにより調
    製されたカラーフィルターであって、 該光感受性樹脂が、多官能性アクリラートモノマー、有
    機ポリマー結合剤、及び請求項１記載の式（Ｉ）、（I
    I）、（III）又は（IV）の光重合開始剤を含むことを特
    徴とする方法。
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