JP2000080068A - 新規o―アシルオキシム光開始剤 - Google Patents
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- C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
- C07D295/12—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms
- C07D295/135—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms with the ring nitrogen atoms and the substituent nitrogen atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D335/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D335/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D335/10—Dibenzothiopyrans; Hydrogenated dibenzothiopyrans
- C07D335/12—Thioxanthenes
- C07D335/14—Thioxanthenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 9
- C07D335/18—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
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- G—PHYSICS
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-
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-
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Abstract
易な新規光開始剤を提供すること。 【解決手段】 式(I)、(II)、(III)及び(I
V): 【化35】 (式中、R1は、フェニル、C1−C2 0アルキル、CN、
NO2、C1−C4ハロアルキルなど;R1′は、C2−C1
2アルコキシカルボニル、C5−C8シクロアルキルな
ど;R2は、C2−C1 2アルカノイル、C4−C6アルケノ
イルなど;R3、R4、R5、R6及びR7は、水素、ハロ
ゲン、C1−C1 2アルキル、フェニルなど;R4′、
R5′及びR6′は、水素、ハロゲン、C1−C1 2アルキ
ル、シクロペンチル、フェニルなど;Mは、C1−C1 2
アルキレン、 シクロヘキシレン、フェニレンなど)で
示される化合物。
Description
物及び光重合性組成物中での光開始剤としてのそれらの
用途に関する。
キシムエステル誘導体は、光開始剤であることが知られ
ている。米国特許4255513に、オキシムエステル
化合物が開示されている。米国特許4590145に、
数種のp−ジメチル−及びp−ジエチルアミノ−置換オ
キシムエステル化合物が開示されている。米国特許42
02697に、アクリルアミノ−置換オキシムエステル
が開示されている。Chemical Abstract No. 96: 52526
c、J. Chem. Eng. Data 9 (3), 403-4 (1964)、J.ch
in. Chem. Soc. (Taipei) 41 (5) 573-8, (1994)、JP 6
2-273259-A (=Chemical Abstract 109: 83463w), JP 62
-286961-A (= Derwent No. 88-025703/04), JP 62-2018
59-A (= Derwent No. 87-288481/41), JP 62-184056-A
(= Derwent No. 87-266739/38), US 5019482 and J. of
Photochemistry and Photobiology A 107, 261-269 (1
997)に、いくつかのp−アルコキシフェニルオキシムエ
ステル化合物が記載されている。
合成が容易であり、かつ取り扱い容易である光開始剤の
必要性は、まだ存在している。更に、そのような光開始
剤は、例えば熱安定性及び貯蔵安定性のような工業的に
関する特性の高度な要求を満足させねばならない。
I)及び(IV):
換であるか、又はC1−C6アルキル、フェニル、ハロゲ
ン、OR8、SR9若しくはNR1 0R1 1の1個以上により
置換されている)であるか;又はR1は、C1−C2 0アル
キル又はC2−C2 0アルキル(これは、場合により−O
−の1個以上により中断、及び/又は場合によりヒドロ
キシ基の1個以上により置換されている)であるか、又
はR1は、C5−C8シクロアルキル若しくはC2−C2 0ア
ルカノイルであるか;又はベンゾイル(これは、非置換
であるか、又はC1−C6アルキル、フェニル、OR8、
SR9若しくはNR1 0R1 1の1個以上により置換されて
いる)であるか、又はR1は、C2−C1 2アルコキシカル
ボニル(これは、場合により−O−の1個以上により中
断、及び/又は場合によりヒドロキシ基の1個又は2個
以上により置換されている)であるか、又はR1は、フ
ェノキシカルボニル(これは、非置換であるか、又はC
1−C6アルキル、ハロゲン、フェニル、OR8若しくは
NR1 0R1 1の1個以上により置換されている)である
か、又はR1は、−CONR1 0R1 1、CN、NO2、C1
−C4ハロアルキル、S(O)mC1−C6アルキル;非置
換若しくはC1−C1 2アルキル−置換S(O)m−C6−C
1 2アリール;SO2O−C1−C6アルキル;SO2O−C
6−C1 0アリール、又はジフェニル−ホスフィノイルで
あり;mは、1又は2であり;R1′は、C2−C1 2アル
コキシカルボニル(これは、場合により−O−の1個以
上により中断、及び/又は場合によりヒドロキシル基の
1個以上により置換されている)であるか;又はR1′
は、フェノキシカルボニル(これは、非置換であるか、
又はC1−C6アルキル、ハロゲン、フェニル、OR8若
しくはNR1 0R1 1の1個以上により置換されている)で
あるか;又はR1′は、C5−C8シクロアルキル、−C
ONR1 0R1 1、CN;又はフェニル(これは、SR9に
より置換されており、ここで、場合により基R4′、
R5′及びR6′を有するフェニル環の炭素原子への結合
を構築することにより基R9を介して5−又は6−員環
が形成される);又はR4′、R5′及びR6′の少なく
とも1個が、−SR9であるならば、R1′は、更にC1
−C1 2アルキル(これは、非置換であるか、又はハロゲ
ン、OH、OR2、フェニル、ハロゲン化フェニル、又
はSR9置換フェニルの1個以上により置換されてお
り、かつ場合により−O−又は−NH(CO)−により
中断されている)であり;R2は、C2−C1 2アルカノイ
ル(これは、非置換であるか、又はハロゲン若しくはC
Nの1個以上により置換されている)であるか;又はR
2は、C4−C6アルケノイルであるが、ただし二重結合
はカルボニル基と共役しておらず;又はR2は、ベンゾ
イル(これは、非置換であるか、又はC1−C6アルキ
ル、ハロゲン、CN、OR8、SR9若しくは又はNR1 0
R1 1の1個以上により置換されている)であるか、又は
R2は、C2−C6アルコキシカルボニル;若しくはフェ
ノキシカルボニル(これは、非置換であるか、又はC1
−C6アルキル若しくはハロゲンにより置換されてい
る)であり;R3、R4、R5、R6及びR7は、互いに独
立して、水素、ハロゲン、C1−C1 2アルキル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル;又はフェニル(これは、非
置換であるか、又はOR8、SR9若しくはNR1 0R1 1の
1個以上により置換されている)であるか;又はR3、
R4、R5、R6及びR7は、ベンジル、ベンゾイル、C2
−C1 2アルカノイル;C2−C1 2アルコキシカルボニル
(これは、場合により−O−の1個以上により中断、及
び/又は場合によりヒドロキシル基の1個以上により置
換されている)であるか;又はR3、R4、R5、R6及び
R7は、フェノニキシカルボニル又は基OR8、SR9、
SOR9、SO2R9若しくはNR1 0R1 1(ここで、置換
基OR8、SR9及びNR1 0R1 1は、場合によりフェニル
環の更なる置換基又はフェニル環の炭素原子の一つと、
基R8、R9、R1 0及び/又はR1 1を介して5−又は6−
員環を形成する)であるが;ただしR3、R4、R5、R6
及びR7の少なくとも一つは、OR8、SR9及びNR1 0
R1 1であり;R4′、R5′及びR6′は、互いに独立し
て、水素、ハロゲン、C1−C1 2アルキル、シクロペン
チル、シクロヘキシル;フェニル(これは、非置換であ
るか、又はOR8、SR9若しくは又はNR1 0R1 1により
置換されている)であるか;又はR4′、R5′及び
R6′は、ベンジル、ベンゾイル、C2−C1 2アルカノイ
ル;C2−C1 2アルコキシカルボニル(これは、場合に
より−O−の1個以上により中断、及び/又は場合によ
りヒドロキシル基の1個以上により置換されている)で
あるか;又はR4′、R5′及びR6′は、フェノニキシ
カルボニル;又は基OR8、SR9、SOR9、SO2R9
若しくはNR1 0R1 1(ここで、置換基OR8、SR9及び
NR1 0R1 1は、場合によりフェニル環の更なる置換基又
はフェニル環の炭素原子の一つと、基R8、R9、R1 0及
び/又はR1 1を介して5−又は6−員環を形成する)で
あるが;ただしR4′、R5′及びR6′の少なくとも一
つは、OR8、SR9及びNR1 0R1 1であり;かつR5′
がメトキシであり、R4′及びR6′が両方同時に水素で
あり、R1′がCNであれば、R2′は、ベンゾイル又は
4−(C1−C1 0アルキル)ベンゾイルではなく;R
8は、水素、C1−C1 2アルキルであるか;又はC2−C6
アルキル(これは、−OH、−SH、−CN、C1−C4
アルコキシ、C3−C6アルケンオキシ、−OCH2CH2
CN、−OCH2CH2(CO)O(C1−C4アルキ
ル)、−O(CO)−C1−C4アルキル、−O(CO)
−フェニル、−(CO)OH又は−(CO)O(C1−
C4アルキル)で置換されている)であるか;又はR
8は、C2−C6アルキル(これは、−O−の1個以上に
よりより中断されている)であるか;又はR8は、−
(CH2CH2O)nH、C2−C8アルカノイル、C3−C1
2アルケニル、C3−C6アルケノイル、シクロヘキシ
ル;又はフェニル(これは、非置換であるか、又はハロ
ゲン、C1−C1 2アルキル若しくはC1−C4アルコキシ
で置換されている)であるか;又はR8は、フェニル−
C1−C3アルキル、Si(C1−C8アルキル)r(フェニ
ル)3 - r又は下記式:
あり;rは、1、2又は3であり;R9は、水素、C1−
C1 2アルキル、C3−C1 2アルケニル、シクロヘキシ
ル;C2−C6アルキル(これは、−OH、−SH、−C
N、C1−C4アルコキシ、C3−C6アルケンオキシ、−
OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O(C1−C
4アルキル)、−O(CO)−C1−C4アルキル、−O
(CO)−フェニル、−(CO)OH又は−(CO)O
(C1−C4アルキル)で置換されている)であるか;又
はR9は、C2−C1 2アルキル(これは、−O−又は−S
−の1個以上により中断されている)であるか;又はR
9は、フェニル(これは、非置換であるか、又はハロゲ
ン、C1−C1 2アルキル若しくはC1−C4アルコキシで
置換されている)であるか;又はR9は、フェニル−C1
−C3アルキル、又は下記式:
互いに独立して、水素、C1−C1 2アルキル、C2−C4
ヒドロキシアルキル、C2−C1 0アルコキシアルキル、
C3−C5アルケニル、C5−C1 2シクロアルキル, フェ
ニル−C1−C3アルキル;フェニル(これは、非置換で
あるか、又はC1−C1 2アルキル又はC1−C4アルコキ
シにより置換されている)であるか;又はR1 0及びR1 1
は、C2−C3アルカノイル、C3−C6アルケノイル又は
ベンゾイルであるか;又はR1 0及びR1 1は、一緒になっ
てC2−C6アルキレン(これは、場合により−O−若し
くは−NR8−により中断、及び/又は場合によりヒド
ロキシル、C1−C4アルコキシ、C2−C4アルカノイル
オキシ若しくはベンゾイルオキシで置換されている)で
あるか;又はR1 0が水素であるとき、R1 1は、下記式:
−C1 2アルキレン、シクロヘキシレン、フェニレン、−
(CO)O−(C2−C1 2アルキレン)−O(CO)
−、−(CO)O−(CH2CH2O)n−(CO)−又は
−(CO)−(C2−C1 2−アルキレン)−(CO)−
であり;M1は、直接結合であるか;又はC1−C1 2アル
キレンオキシ(これは、場合により、1〜5個の−O
−、−S−、及び/又は−NR1 0−により中断されてい
る)であり;M2は、直接結合であるか;又はC1−C1 2
アルキレン−S−(これは、場合により、1〜5個の−
O−、−S−、及び/又は−NR1 0−により中断されて
いる)であり;M3は、直接結合、ピペラジノ基;又は
C1−C1 2アルキレン−NH−(これは、場合により、
1〜5個の−O−、−S−、及び/又は−NR1 0−によ
り中断されている)であるが;ただし (i)R5がメトキシであり、R2がベンゾイル又はアセ
チルであるならば、R1はフェニルではなく; (ii)R5がメトキシであり、R2がエトキシカルボニル
であるならば、R2はベンゾイル又はエトキシカルボニ
ルではなく; (iii)R5がメトキシであり、R1が4−メトキシベンゾ
イルであるならば、R2はエトキシカルボニルではな
く; (iv)R5がメタクリロイルアミノであり、R1がメチル
であるならば、R2はベンゾイルではなく; (v)R5及びR4、又はR5及びR6の両方がOR8基で
あり、それらのOR8基が一緒になってR8を介して環を
形成し、それにより−O−CH2−O−を与え、R1がメ
チルであるならば、R2はアセチルではなく; (vi)R4、R5及びR6が、同時にメトキシであり、R1
がエトキシカルボニルであるならば、R2はアセチルで
はなく; (vii)R5がメトキシであり、同時にR4又はR6がアセ
トキシであり、R1がエチルであるならば、R2はアセチ
ルではなく; (viii)式(III)において、R1′がメチルであり、R
5′がフェニルチオであり、R4′及びR5′が両方Hで
あるならば、R2は4−クロロベンゾイルではない)で
示される化合物が、意外にも、光重合反応において良好
な効果を示すことが見出された。
化合物は、それらが、オキシム官能基に結合するフェニ
ル又はベンゾイル基に直接結合している、アルコキシ、
アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキ
ルアミノ又はアリールアミノ置換基の少なくとも1個を
含むことで特徴づけられている。
れており、例えば1、2又は3個、特に2個置換されて
いる。フェニル環の置換基は、好適には、フェニル環の
4位又は3,4−、3,4,5−、2,6−、2,4−
若しくは2,4,6−位、特に4−又は3,4−位であ
る。
り、例えばC1−C1 8−、C1−C1 4−、C1−C1 2−、
C1−C8−、C1−C6−若しくはC1−C4アルキル又は
C4−C1 2−若しくはC4−C8アルキルである。例は、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、2,4,4−トリメチルペン
チル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデ
シル、オクタデシル及びイコシルである。C1−C1 2ア
ルキル、C2−C1 2アルキル、C1−C8アルキル、C1−
C6アルキル、C2−C6アルキル及びC1−C4アルキル
は、炭素原子の相当する数までのC1−C2 0アルキルの
上記に示したのと同じ意味を有する。
個以上により中断され、例えば1〜9、1〜5、1〜3
個又は1又は2個の−O−により中断されている)二つ
のO−原子は、少なくとも2個のメチレン基、すなわち
エチレン基により分離されている。アルキル基は直鎖又
は分岐である。例えば以下の構造単位が存在するであろ
う、−CH2−CH2−O−CH2CH3、−〔CH2CH2
O〕y−CH3(ここで、y=1〜9である)、−(CH
2−CH2O)7−CH2CH3、−CH2CH(CH3)−O
−CH2CH2CH3又は−CH2CH(CH3)−O−C
H2CH3である。C2−C6アルキル(これは、1又は2
個の−O−により中断されている)は、例えば、−CH
2−CH2−O−CH2−CH2−O−CH2CH3又は−C
H2−CH2−O−CH2CH3である。
2個のO−原子で置換されているC2−C4アルキルを意
味する。このアルキル基は、直鎖又は分岐である。例
は、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、1
−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシプロピル、3−
ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシブチル、4−ヒド
ロキシブチル、2−ヒドロキシブチル、3−ヒドロキシ
ブチル、2,3−ジヒドロキシプロピル又は2,4−ジ
ヒドロキシブチルである。
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロ
ドデシル、特にシクロペンチル及びシクロヘキシル、好
適にはシクロヘキシルである。
り、例えば直鎖又は分岐であり、例えばメトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブチルオキ
シ、sec−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、tert−ブ
チルオキシである。
子により中断されているC2−C1 0アルキルである。C2
−C1 0アルキルは、C−原子の相当する数までC1−C2
0アルキルのために上にあたえられた同じ意味を有す
る。例は、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシ
プロピル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシ
プロピル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロ
ポキシプロピルである。
であり、例えばC2−C1 8−、C2−C1 4−、C2−C1 2
−、C2−C8−、C2−C6−若しくはC2−C4アルカノ
イルC4−C1 2−若しくはC4−C8アルカノイルであ
る。例は、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、イソ
ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイ
ル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ドデカノ
イル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデ
カノイル、オクタデカノイル、イコサノイル、好適には
アセチルである。C2−C1 2アルカノイル、C2−C8ア
ルカノイル、C2−C6アルカノイル及びC2−C4アルカ
ノイルは、C−原子の相当する数までC2−C2 0アルカ
ノイルのために上に示されたのと同じ意味を有する。
分岐であり、例えばアセチルオキシ、プロピオニルオキ
シ、ブタノイルオキシ、イソブタノイルオキシ、好適に
はアセチルオキシである。
又は分岐であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、プロポキシカルボニル、n−ブチルオキシ
オカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、1,1−
ジメチルプロポキシカルボニル、ペンチルオキシカルボ
ニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカル
ボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカル
ボニル、デシルオキシカルボニル又はデオシルオキシカ
ルボニル、特にメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、n−ブチルオキシカルボニ
ル又はイソブチルオキシカルボニル、好適にはメトキシ
カルボニルである。
C4アルコキシカルボニルは、C−原子の相当する数ま
でC2−C1 2アルコキシカルボニルのために上にあたえ
られた同じ意味を有する。C2−C1 2アルコキシカルボ
ニルは、1個以上の−O−により中断されている。2個
のO−原子は、少なくとも2個のメチル基、すなわち、
エチレン基で分離されている。
は、1〜4個置換されており、例えば1、2又は3個、
特に2又は3個置換されている。フェニル環の置換基
は、好適には、フェニル環の4位又は3,4−、3,
4,5−、2,6−、2,4−若しくは2,4,6−
位、特に4−又は3,4−位である。
ンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジル又はα,
α−ジメチルベンジル、特にベンジルである。
ポリ置換であってよく、例えばアリル、メタリル、1,
1−ジメチルアリル、1−ブテニル、3−ブテニル、2
−ブテニル、1,3−ペンタジエニル、5−ヘキセニ
ル、7−オクテニル又は7−オクテニル又はドデシル、
特にアリルである。
くはポリ置換であってよく、例えばアリルオキシ、メタ
リルオキシ、ブテニルオキシ、ペンテンオキシ、1,3
−ペンタジエニルオキシ、5−ヘキセニルオキシであ
る。
はポリ置換であってよく、例えばプロペノイル、2−メ
チル−プロペノイル、ブテノイル、ペンテノイル、1,
3−ペンタジエノイル、5−ヘキセノイルである。
る。
びヨード、特にフルオロ、クロロ、及びブロモ、好適に
はフルオロ及びクロロである。
1−ナフチル、2−ナフチル、好適にはフェニルであ
る。
NR1 0R1 1が、フェニル環の別の置換基又はフェニル環
の炭素原子の1個と、基R8、R9、R1 0、及び/又はR
1 1を介して5−又は6−員環を形成するならば、2個又
は4個の環(フェニル環を含めて)を含む構造が得られ
る。例は下記式:
換されている)であり、5−又は6−員環が、R4′、
R5′及びR6′を有するフェニル環の炭素原子への結合
を構築することにより基R9を介して形成されるなら
ば、下記式:
フェニルであり、R2が、ハロゲン置換ベンゾイルであ
る式(III)の化合物は、好適には、上記の定義から除
外される。
非置換であるか又はC1−C6アルキル、フェニル、ハロ
ゲン、OR8、SR9若しくは又はNR1 0R1 1により置換
されている)であるか;又はR1が、C1−C2 0アルキル
(これらは、場合により−O−の1個以上により中断、
及び/又は場合によりヒドロキシ基の1個以上により置
換されている)であるか、又はR1が、C1−C4ハロア
ルキルであり;R1′が、フェノキシカルボニル(これ
は、非置換であるか、又はC1−C6アルキル、ハロゲ
ン、フェニル、OR8、SR9若しくは又はNR1 0R1 1の
1個以上により置換されている)であるか;又はR1′
が、−CONR1 0R1 1であるか;又はR4′、R5′及び
R6′の少なくとも一つが−SR9であれば、R1′が、
更にC1−C1 2アルキル(これは、非置換であるか、又
はハロゲン、OH、OR2、フェニル、ハロゲン化フェ
ニル又はSR9で置換されたフェニルの1個以上により
置換されており、かつ場合により−O−又は−NH(C
O)−により中断されている)であり;R2が、C2−C
1 2アルカノイル(これは、非置換であるか、又はハロゲ
ンにより置換されている)であるか;又はR2が、C4−
C6アルケノイルであるが、ただし二重結合はカルボニ
ル基と共役しておらず;又はR2が、ベンゾイル(これ
は、非置換であるか、又はC1−C6アルキル若しくはハ
ロゲンにより置換されている)であり;R3及びR7が、
水素であり;R4、R6、R4′及びR6′が、互いに独立
して、水素、ハロゲン、C1−C1 2アルキル、OR8又は
SR9であり、置換基OR8及びSR9は、場合により、
フェニル環上の別の置換基又はフェニル環の炭素原子の
一つと、R8及び/又はR9を介して5−又は6−員環を
形成し;そしてR5及びR6が、OR8又はSR9である、
式(I)及び(III)の化合物である。
しくはR7又はR4′、R5′若しくはR6′が、SR9又
はNR1 0R1 1である、式(I)及び(III)の化合物で
ある。
であり、そしてR4及びR5が、両方OR8である、式
(I)の化合物である。
において、R3、R4及びR7又はR4′及びR6′は、水
素であり、そしてR5及びR5′は、SR9である。特に
好適には、R9が、フェニル、すなわちR5又はR5′
が、下記式:
換であるか、又はハロゲン若しくはフェニルにより置換
されている)である、式(III)の化合物が好適であ
り、特にR5′が、SR9、特に下記式:
又はC1−C1 2−アルキルであり;R1′がC2−C4アル
コキシカルボニル、又はフェニル(これは、SR9によ
り置換されており、場合により、基R9を介して、基
R4′、R5′及びR6′を有するフェニル環の炭素原子
への結合を構築することにより基R9を介して5−又は
6−員環が形成される);又はR4′、R5′及びR6′
の少なくとも1個が、−SR9であるならば、R1′が、
更にC1−C1 2アルキル(これは、非置換であるか、又
はフルオロの1個以上により置換されている)であり;
R2が、C2−C4アルカノイル、又はベンゾイル(これ
は、非置換であるか、又はC1−C4アルキル若しくはハ
ロゲンにより置換されている)であり;R3、R6及びR
7が、水素であり;R4及びR5が、互いに独立して、水
素又は基OR8、SR9、又はNR1 0R1 1であり;R4′
及びR5′が、互いに独立して、水素又は基OR8、SR
9、又はNR1 0R1 1であり;R6′が、水素であり;R8
及びR9が、C1−C4アルキル、フェニル又は下記式:
メチル若しくはエチルであるか、又はR1 0とR1 1は、一
緒になってC2−C6アルキレン(これは、−O−により
中断されている)であり;Mが、C1−C1 2アルキレン
であり;そしてM2が、直接結合である、式(I)、(I
I)、(III)又は(IV)のものである。特に興味がある
ものは、R4′及びR6′が水素であり、そしてR5′が
SR9である、式(III)の化合物である。
換であるか、又はC1−C6アルキル、フェニル、ハロゲ
ン、OR8、SR9又はNR1 0R1 1の1個以上により置換
されている)であるか、又はR1は、C1−C2 0アルキル
(これは、非置換であるか、又はC1−C6アルキル、フ
ェニル、OR8、SR9又はNR1 0R1 1の1個以上により
置換されている)である。
一つが、SR9、OR8又は特にR3〜R7の少なくとも一
つが、NR1 0R1 1又はSR9、特にSR9であるそれらで
ある。
R1 1、特にSR9である。
合物である。
である。
る。R2は、好適にはベンゾイル、メチルベンゾイル、
ジメチルベンゾイル又はアセチルである。R6′は、水
素である。R1′は、好適にはC1−C1 2アルキル又は4
−(C1−C4アルキルチオ)フェニルである。R5′
は、好適にはC1−C4アルキルチオ又はフェニルチオで
ある。
ニルスルファニル−フェニル)−ブタン−1,2−ジオ
ン 2−オキシム−O−ベンゾアート、1−(4−フェ
ニルスルファニル−フェニル)−オクタン−1,2−ジ
オン 2−オキシム−O−ベンゾアート、1−(4−フ
ェニルスルファニル−フェニル)−オクタン−1−オン
オキシム−O−アセタート、1−(4−フェニルスルフ
ァニル−フェニル)−ブタン−1−オンオキシム−O−
アセタート、特に1−(4−フェニルスルファニル−フ
ェニル)−オクタン−1,2−ジオン 2−オキシム−
O−ベンゾアートである。
オキシムエステルは、文献記載の方法、例えば相当する
オキシム(R2=H)とアシルクロリド又は無水物と、
例えばテトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミドの
ような不活性溶媒中、塩基、例えばトリエチルアミンの
ような第三級アミンの存在下に、又はピリジンのような
塩基性溶媒中で反応させることにより製造される。
り、一般に−15℃〜+50℃、好適には0〜20℃で
行われる。
として、下記式:
R5 ′ 、R6 ′ 及 び M は 、 上 記 と 同 義 で あ る)のいずれか
の適切なオキシムを用いて類似に得ることができる。
化学のテキスト(例えば、J. March, Advanced Organic
Chemistry, 4th Edition, Wiley Interscience, 199
2、又は特定のモノグラフ、例えばS.R. Sandler & W. K
aro, Organic functional group preparations, Vol.
3, Academic Press)に記載されている種々の方法で得
ることができる。
は水性エタノールのような極性溶媒中でのケトンとヒド
ロキシルアミン又はその塩との反応である。この場合、
酢酸ナトリウムのような塩基を、反応混合物のpHを調整
するために加えることはよく知られている。この反応の
速度は、pHに依存しており、塩基は初め又は反応の間に
連続的に加えることができる。ピリジンのような塩基性
溶媒は、塩基及び/又は溶媒若しくは共−溶媒として用
いられる。反応温度は、一般的に混合物の沸点温度、通
常60〜120℃である。オキシムの別の好都合な合成
は、亜硝酸又は亜硝酸アルキルエステルによる「活性」
メチレン基のニトロソ化である。両方のアルカリ条件
は、例えばOrganic Syntheses Coll. Vol. VI (J. Wile
y & Sons,New York, 1988), pp 199 and 840に記載され
ており、酸性条件は、例えばOrganic Synthesis Coll.
vol V, pp 32 and 373, Coll. vol. III, pp 191 and
513, Coll. vol. II, pp. 202, 204 and 363に記載さ
れており、本発明の出発物質として用いられるオキシム
の製造に適切である。亜硝酸は、通常、亜硝酸ナトリウ
ムから生成される。亜硝酸アルキルエステルは、例えば
亜硝酸メチルエステル、亜硝酸イソプロピルエステル、
亜硝酸ブチルエステル、亜硝酸イソアミルエステルであ
る。
配置、(Z)又は(E)で存在する。慣用の方法でこの
異性体を分離することができるが、光開始種として異性
体の混合物も用いることができる。したがって、本発明
は、式(I)、(II)、(III)及び(IV)の化合物の
立体配置異性体の混合物にも関する。
I)及び(IV)の化合物は、エチレン性不飽和化合物又
はそのような化合物の混合物の光重合の開始剤として用
いることができる。
不飽和の光重合性化合物の少なくとも1種及び(b)光
開始剤として、式(I)、(II)、(III)及び/又は
(IV):
換であるか又はC1−C6アルキル、フェニル、ハロゲ
ン、OR8、SR9若しくは又はNR1 0R1 1の1個以上に
より置換されている)であるか;又はR1は、C5−C8
シクロアルキル、C1−C2 0アルキル;又はC2−C2 0ア
ルキル(これは、場合により−O−の1個以上により中
断及び/又は場合によりヒドロキシ基の1個以上により
置換されている)であるか、R1は、C2−C2 0アルカノ
イル;又はベンゾイル(これは、非置換であるか、又は
C1−C6アルキル、フェニル、OR8、SR9若しくはN
R1 0R1 1により置換されている)であるか、又はR
1は、C2−C1 2アルコキシカルボニル(これは、場合に
より−O−の1個以上により中断、及び/又は場合によ
りヒドロキシ基の1個以上により置換されている)であ
るか、又はR1は、C2−C1 2アルコキシカルボニル(こ
れは、場合により−O−の1個以上により中断、及び/
又は場合によりヒドロキシ基の1個以上により置換され
ている)であるか、又はR1は、フェノキシカルボニル
(これは、非置換であるか、又はC1−C6アルキル、ハ
ロゲン、フェニル、OR8若しくは又はNR1 0R1 1の1
個以上により置換されている)、又はR1は、−CON
R1 0R1 1、CN、NO2、C1−C4ハロアルキル、S
(O)mC1−C6アルキル;非置換若しくはC1−C1 2アル
キル−置換S(O)m−C1−C6アリール;SO2O−C1
−C6アルキル;SO2O−C6−C1 0アリール、又はジ
フェニル−ホスフィニルであり;mは、1又は2であ
り;R1′は、C2−C1 2アルコキシカルボニル(これ
は、場合により−O−の1個以上により中断、及び/又
は場合によりヒドロキシル基の1個以上により置換され
ている)であるか;又はR1′は、フェノキシカルボニ
ル(これは、非置換であるか、又はC1−C6アルキル、
ハロゲン、フェニル、OR8若しくはNR1 0R1 1の1個
以上により置換されている)であるか;又はフェニル
(これは、SR9により置換されており、場合により、
基R9を介して、基R4′、R5′及びR6′を有するフェ
ニル環の炭素原子への結合を構築することにより基R9
を介して5−又は6−員環が形成される);又は
R4′、R5′及びR6′の少なくとも1個が、−SR9で
あるならば、R1′は、更にC1−C1 2アルキル(これ
は、非置換であるか、又はハロゲン、OH,OR2、フ
ェニル、ハロゲン化フェニル又はSR9で置換されたフ
ェニルの1個以上により置換されており、かつ場合によ
り−O−又は−NH(CO)−により中断されている)
であり;R2は、C2−C1 2アルカノイル(これは、非置
換であるか、又はハロゲン若しくはCNの1個以上によ
り置換されている)であるか;又はR2は、C2−C4ア
ルケノイルであるが、ただし二重結合はカルボニル基と
共役しておらず;又はR2は、ベンゾイル(これは、非
置換であるか、又はC1−C6アルキル、ハロゲン、C
N、OR8、SR9若しくは又はNR1 0R1 1の1個以上に
より置換されている)であるか、又はC2−C6アルコキ
シカルボニル;又はフェノキシカルボニル(これは、非
置換であるか、又はC1−C6アルキル若しくはハロゲン
により置換されている)であり;R3、R4、R5、R6及
びR7は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1−C1 2
アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル;又はフェ
ニル(これは、非置換であるか、又はOR8、SR9若し
くは又はNR1 0R1 1の1個以上により置換されている)
であるか;又はR3、R4、R5、R6及びR7は、ベンジ
ル、ベンゾイル、C2−C1 2アルカノイル;C2−C1 2ア
ルコキシカルボニル(これは、場合により−O−の1個
以上により中断、及び/又は場合によりヒドロキシル基
の1個以上により置換されている)であるか;又は
R3、R4、R5、R6及びR7は、フェノニキシカルボニ
ル;又は基OR8、SR9、SOR9、SO2R9若しくは
NR1 0R1 1(ここで、置換基OR8、SR9及びNR1 0R
1 1は、場合によりフェニル環の更なる置換基又はフェニ
ル環の炭素原子の一つと、基R8、R9、R1 0及び/又は
R1 1を介して5−又は6−員環を形成する)であるが;
ただしR3、R4、R5、R6及びR7の少なくとも一つ
は、OR8、SR9及びNR1 0R1 1であり;R4′、R5′
及びR6′は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1−
C1 2アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル;フェ
ニル(これは、非置換であるか、又はOR8、SR9若し
くは又はNR1 0R1 1の1個以上により置換されている)
であるか;又はR4′、R5′及びR6′は、ベンジル、
ベンゾイル、C2−C1 2アルカノイル;C2−C1 2アルコ
キシカルボニル(これは、場合により−O−の1個以上
により中断、及び/又は場合によりヒドロキシル基の1
個以上により置換されている)であるか;又はR4′、
R5′及びR6′は、フェノニキシカルボニル;又は基O
R8、SR9、SOR9、SO2R9若しくはNR1 0R
1 1(ここで、置換基OR8、SR9及びNR1 0R1 1は、場
合によりフェニル環の更なる置換基又はフェニル環の炭
素原子の一つと、基R8、R9、R1 0及び/又はR1 1を介
して5−又は6−員環を形成する)であるが;ただしR
4′、R5′及びR6′の少なくとも一つは、OR8、SR
9及びNR1 0R1 1であり;かつR5′がメトキシであり、
R4′及びR6′が両方同時に水素であり、R1′がCN
であれば、R2′は、ベンゾイル又は4−(C1−C1 0ア
ルキル)ベンゾイルではなく;R8は、水素、C1−C1 2
アルキルであるか;又はC2−C6アルキル(これは、−
OH、−SH、−CN、C1−C4アルコキシ、C3−C6
アルケンオキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2
(CO)O(C1−C4アルキル)、−O(CO)−C1−
C4アルキル、−O(CO)−フェニル、−(CO)O
H又は−(CO)O(C1−C4アルキル)で置換されて
いる)であるか;又はR8は、C2−C6アルキル(これ
は、−O−の1個以上によりより中断されている)であ
るか;又はR8は、−(CH2CH2O)nH、C2−C8ア
ルカノイル、C3−C1 2アルケニル、C3−C6アルケノ
イル、シクロヘキシル;又はフェニル(これは、非置換
であるか、又はハロゲン、C1−C1 2アルキル若しくは
C1−C4アルコキシで置換されている)であるか;又は
R8は、フェニル−C1−C3アルキル、Si(C1−C8
アルキル)r(フェニル)3 - r又は下記式:
あり;rは、1、2又は3であり;R9は、水素、C1−
C1 2アルキル、C3−C1 2アルケニル、シクロヘキシ
ル;C2−C6アルキル(これは、−OH、−SH、−C
N、C1−C4アルコキシ、C3−C6アルケンオキシ、−
OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O(C1−C
4アルキル)、−O(CO)−C1−C4アルキル、−O
(CO)−フェニル、−(CO)OH又は−(CO)O
(C1−C4アルキル)で置換されている)であるか;又
はR9は、C2−C1 2アルキル(これは、−O−又は−S
−の1個以上により中断されている)であるか;又はR
9は、フェニル(これは、非置換であるか、又はハロゲ
ン、C1−C1 2アルキル若しくはC1−C4アルコキシで
置換されている)であるか;又はR9は、フェニル−C1
−C3アルキル、又は下記式:
互いに独立して、水素、C1−C1 2アルキル、C2−C4
ヒドロキシアルキル、C2−C1 0アルコキシアルキル、
C3−C5アルケニル、C5−C1 2シクロアルキル,フェニ
ル−C1−C3アルキル;フェニル(これは、非置換であ
るか、又はC1−C1 2アルキル又はC1−C4アルコキシ
により置換されている)であるか;又はR1 0及びR
1 1は、C2−C3アルカノイル、C3−C6アルケノイル又
はベンゾイルであるか;又はR1 0及びR1 1は、一緒にな
ってC2−C6アルキレン(これは、場合により−O−若
しくは−NR8−により中断、及び/又は場合によりヒ
ドロキシル、C1−C4アルコキシ、C2−C4アルカノイ
ルオキシ若しくはベンゾイルオキシで置換されている)
であるか;又はR1 0が水素であるとき、R1 1は、下記
式:
−C1 2アルキレン、シクロヘキシレン、フェニレン、−
(CO)O−(C2−C1 2アルキレン)−O(CO)
−、−(CO)O−(CH2CH2O)n−(CO)−又は
−(CO)−(C2−C1 2−アルキレン)−(CO)−
であり;M1は、直接結合であるか;又はC1−C1 2アル
キレンオキシ(これは、場合により、1〜5個の−O
−、−S−、及び/又は−NR1 0−により中断されてい
る)であり;M2は、直接結合であるか;又はC1−C1 2
アルキレン−S−(これは、場合により、1〜5個の−
O−、−S−、及び/又は−NR1 0−により中断されて
いる)であり;M3は、直接結合、ピペラジノ基;又は
C1−C1 2アルキレン−NH−(これは、場合により、
1〜5個の−O−、−S−、及び/又は−NR1 0−によ
り中断されている)であるが;ただし (i)R5がメトキシであり、R2がベンゾイル又はアセ
チルであるならば、R1はフェニルではなく; (ii)R5がメトキシであり、R2がエトキシカルボニル
であるならば、R2はベンゾイル又はエトキシカルボニ
ルではなく; (iii)R5がメトキシであり、R1が4−メトキシベンゾ
イルであるならば、R2はエトキシカルボニルではな
く; (iv)R5がメタクリロイルアミノであり、R1がメチル
であるならば、R2はベンゾイルではなく; (v)R5及びR4、又はR5及びR6の両方がOR8基で
あり、それらのOR8基が一緒になってR8を介して環を
形成し、それにより−O−CH2−O−を与え、R1がメ
チルであるならば、R2はアセチルではなく; (vi)R4、R5及びR6が、同時にメトキシであり、R1
がエトキシカルボニルであるならば、R2はアセチルで
はない)で示される化合物を含む、光重合性組成物に関
する。
光開始剤の少なくとも1種及び/又は更なる共開始剤及
び/又は他の添加剤を含むことができる。
合の1個又は2個を含むことができる。それらは、低
(モノマー性)又は高(オリゴマー性)分子量であるこ
とができる。二重結合を有するモノマーの例は、アルキ
ル又はヒドロキシアルキルアクリラート又はメタクリラ
ート、例えばメチル、エチル、ブチル、2−エチルヘキ
シル若しくは2−ヒドロキシエチルアクリラート、イソ
ブチルアクリラート、メチルメタクリラート又はエチル
メタクリラートである。シリコンアクリラートもまた、
好都合である。他の例は、アクリロニトリル、アクリル
アミド、メタクリアミド、N−置換(メタ)アクリラー
ト、ビニルエステル、例えば酢酸ビニル、ビニルエステ
ル、例えばイソブチルビニルエーテル、スチレン、アル
キル−及びハロスチレン、N−ビニルピロリドン、ビニ
ルクロリド又はビニリデンクロリドである。
は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、ヘキサメチルグリコール又はビス
フェノールAのジアクリラート、並びに4,4′−ビス
(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパ
ン、トリメチロールプロパントリアクリラート、ペンタ
エリスリトールトリアクリラート若しくはテトラアクリ
ラート、ビニルアクリラート、ジビニルベンゼン、ジビ
ニルスクシナート、ジアリルフタラート、トリアリルホ
スファート、トリアリルイソシアヌラート、又はトリス
(2−アクリロイルエチル)イソシアヌラートである。
和化合物の例は、アクリル化エポキシ樹脂、アクリル化
ポリエステル、ビニルエーテル又はエポキシ基を含むポ
リエステル、並びにポリウレタン及びポリエーテルであ
る。不飽和オリゴマーの更なる例は、不飽和ポリエステ
ル樹脂、それらは通常マレイン酸、フタール酸及びジオ
ールの1種以上から製造され、分子量約500〜3,0
00を有する。更に、ビニルエーテルモノマー及びオリ
ゴマー、並びにまたマレアート末端オリゴマーとポリエ
ステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリビニルエー
テル及びエポキシ主鎖を用いることもできる。特に適切
には、WO 90/01512に記載のように、ビニル
エーテル基を有するオリゴマーとポリマーの組み合わせ
である。しかしながら、ビニルエーテルとマレイン酸−
官能基化モノマーとのコポリマーも、適切である。この
種の不飽和オリゴマーは、プレポリマーとして考えるこ
ともできる。
ン酸及びポリオール又はポリエポキシドのエステル、主
鎖又は側鎖にエチレン性不飽和基、例えば不飽和ポリエ
ステル、ポリアミド及びポリウレタンを有するポリマ
ー、並びにそれのコポリマ、側鎖に(メタ)アクリル酸
基を含む、ポリマー及びコポリマー、並びにそのような
ポリマーの1種以上の混合物である。
タアクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイ皮酸及び
リノレン酸又はオレイン酸のような不飽和脂肪である。
アクリル酸及びメタアクリル酸が好適である。
肪族、脂環式ポリオールである。芳香族ポリオールの例
は、ヒドキノン、4,4′−ジヒドロキシジフェニル、
2,2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)プロパン並びに
またノボラック及びレゾールである。ポリエポキシドの
例は、上述のポリオール、特に芳香族ポリオール、及び
エピクロルヒドリンに基づくそれらである。他の適切な
ポリオールは、ポリマー主鎖又は側鎖にヒドロキシルを
含むポリマー及びコポリマーであり、例は、ポリビニル
アルコール及びそれのコポリマー並びにポリヒドロキシ
アルキルメタクリラート又はそれのコポリマーである。
適切である更なるポリオールは、ヒドロキシ末端基を有
するオリゴマーである。
2〜12個の炭素原子を有するアルケンジオール、例え
ばエチレングリコール、1,2−若しくは1,3−プロ
パンジオール、1,2−、1,3−若しくは1,4−ブ
タンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、
オクタンジオール、ドデカンジオール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、好適には200〜
1,500の分子量を有するポリエチレングリコール、
1,3−シクロペンタンジオール、1,2−、1,3−
若しくは1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−ジ
ヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセロール、トリ
ス(β−ヒドロキシエチル)アミン、トリメチロールエ
タン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ル、ジペンタエリスリトール及びソルビトールである。
ルボン酸又は異なる不飽和カルボン酸とエステル化され
ており、部分エステルにおいて、遊離のヒドロキシル基
は改質、例えば他のカルボン酸でエーテル化又はエステ
ル化されていてもよい。
トリアクリラート、トリメチロールエタントリアクリラ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリラート、ト
リメチロールエタントリメタクリラート、テトラメチレ
ングリコールジメタクリラート、トリエチレングリコー
ルジメタクリラート、テトラエチレングリコールジアク
リラート、ペンタエリスリトールジアクリラート、ペン
タエリスリトールトリアクリラート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリラート、ジペンタエリスリトールジア
クリラート、ジペンタエリスリトールトリアクリラー
ト、ジペンタエリスリトールテトラアクリラート、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリラート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリラート、トリペンタエリスリト
ールオクタアクリラート、ペンタエリスリトールジメタ
クリラート、ペンタエリスリトールトリメタクリラー
ト、ジペンタエリスリトールジメタクリラート、ジペン
タエリスリトールテトラメタクリラート、トリペンタエ
リスリトールオクタメタクリラート、ペンタエリスリト
ールジイタコナート、ジペンタエリスリトールトリスイ
タコナート、ジペンタエリスリトールペンタイタコナー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサイタコナート、エチ
レングリコールジアクリラート、1,3−ブタンジオー
ルジアクリラート、1,3−ブタンジオールジメタクリ
ラート、1,4−ブタンジオールジイタコナート、ソル
ビトールトリアクリラート、ソルビト−ルテトラアクリ
ラート、ペンタエリスリトール−改質トリアクリラー
ト、ソルビトールテトラメタクリラート、ソルビトール
ペンタアクリラート、ソルビトールヘキサアクリラー
ト、オリゴエステルアクリラート及びメタクリラート、
グリセロールジアクリラート及びトリアクリラート、
1,4−シクロヘキサンジアクリラート、分子量200
〜1,500のポリエチレングルコールのビスアクリラ
ート及びビスメタクリラート並びにそれらの混合物であ
る。
一又は異なる、不飽和カルボン酸と、好適には2〜6
個、特に2〜4個のアミノ基を有する、芳香族、脂環式
及び脂肪族ポリアミンのアミドである。そのようなポリ
アミンの例は、エチレンジアミン、1,2−又は1,3
−プロピレンジアミン、1,2−、1,3−又は1,4
−ブチレンジアミン、1,5−ペンチレンジアミン、
1,6−ヘキシレンジアミン、オクチレンジアミン、ド
デシレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、
イソホロンジアミン、フェニレンジアミン、ビスフェニ
レンジアミン、ジ−β−ジアミノエチルエーテル、ジエ
チレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジ(β−
アミノエトキシ)−又はジ(β−アミノプロポキシ)エ
タンである。他の適切なポリアミンは、好適には側鎖に
更なるアミノ基を有するポリマー及びコポリマー、並び
にアミノ末端基を有するオリゴアミドである。そのよう
な不飽和アミドの例は、メチレンビスアクリルアミド、
1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジエチレ
ントリアミントリスメタクリルアミド、ビス(メタクリ
ルアミドプロポキシ)エタン、β−メタクリルアミドエ
チルメタクリラート及びN〔(ヒドロキシエトキシ)エ
チル〕アクリルアミドである。
は、例えばマレイン酸及びジオール又はジアミンから誘
導される。マレイン酸のいくつかは、他のジカルボン酸
で置きかえることができる。それらは、エチレン性の不
飽和コモノマー、スチレンと一緒に用いることができ
る。ポリエステル及びポリアミドは、ジカルボン酸及び
エチレン性の不飽和ジオール又はジアミン、特に比較的
長鎖、例えば6〜20個の炭素原子のそれらから誘導し
てもよい。ポリウレタンの例は、飽和又は不飽和ジイソ
シアナート及び不飽和、又はそれぞれ、飽和のジオール
からなるそれらである。
リマーもまた、知られている。それらは、例えばノボラ
ックに基づくエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反
応生成物であることができるか、又は(メタ)アクリル
酸でエステル化されている、ビニルアルコール若しくは
それらのヒドロキシアルキル誘導体の、ホモ−又はコポ
リマーであることができるか、又はヒドロキシアルキル
(メタ)アクリラートでエステル化されている(メタ)
アクリラートのホモ−若しくはコポリマーであることが
できる。
所望の混合物で用いることもができる。ポリオール(メ
タ)アクリラートの混合物を用いることが好適である。
も2個のエチレン性の不飽和基及び少なくとも1個のカ
ルボキシル基を有するポリマー又はオリゴマーであり、
例えば酸改質エポキシアクリラート(例えば、EB9696、
UCB Chemicals; KAYARAD TCR1025、Nippon Kayaku Co.,
LTD.)、又はアクリル化アクリルコポリマー(例え
ば、ACA200M、Daicel Industries, Ltd.)である。
レン性不飽和化合物、又は該化合物の数種の混合物は、
その配合物の固体部分に基づいて、70重量%までの上
記の配合物に含まれている。
ることができる。これは、特に、光重合性化合物が液体
又は粘稠物質であるときに、好都合である。結合剤の量
は、全固体含量に関して例えば2〜98%、好適には5
〜5%、特に20〜90重量%である。結剤の選択は、
適用分野及びその分野の必要な特性、例えば水性及び有
機溶媒システムでの展開の可能性、基質への接着及び酸
素への感受性に依存する。
〜2,000,000、好適には5,〜1,000,0
00を有するポリマーである。アルカリ展開し得る結合
剤は、懸垂基としてカルボキシル基を有するアクリルポ
リマー、例えばエチレン性不飽和カルボン酸、例えば
(メタ)アクリル酸、2−カルボキシエチル(メタ)ア
クリル酸、2−カルボキシプロピル(メタ)アクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸及びフマール
酸と、(メタ)アクリル酸、例えばメチル(メタ)アク
リラート、エチル(メタ)アクリラート、プロピル(メ
タ)アクリラート、ブチル(メタ)アクリラート、ベン
ジル(メタ)アクリラート、2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリラート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリラ
ート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリラート、ベン
ジル(メタ)アクリラート;ビニル芳香族化合物、例え
ばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、p
−クロロスチレン;アミドタイプ不飽和化合物、(メ
タ)アクリルアミドジアセトンアクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド、N−ブトキシメタクリルアミ
ド;及びポリオレフィンタイプ化合物、例えばブタジエ
ン、イソプレン、クロロプレンなど;メタクリロニトリ
ル、メチルイソプロペニルケトン、ビニルアセタート、
ビニルプロピオナート、又はビニルピバラートのエステ
ルから選択されるモノマーの1種以上との共重合により
得られる慣用の既知コポリマーとして、カルボン酸を有
するアクリルポリマーである。コポリマーの例は、アク
リラート及びメタクリラートと、アクリル酸又はメタア
クリル酸及びスチレン又は置換ススチレン、フェノール
性樹脂、例えばノボラック、(ポリ)ヒドロキシスチレ
ンとのコポリマー、並びにヒドロキシスチレンと、アル
キルアクリラート、アクリル酸及び/又はメタアクリル
酸のコポリマーである。コポリマーの好適な例は、メチ
ルメタクリラート/メタクリル酸のコポリマー、ベンジ
ルメタクリラート/メタクリル酸のコポリマー、メチル
メタクリラート/エチルアクリラート/メタクリル酸の
コポリマー、ベンジルメタクリラート/メタクリル酸/
スチレンのコポリマー、ベンジルメタクリラート/メタ
クリル酸/ヒドロキシエチルメタクリラートノコポリマ
ー、メチルメタクリラート/ブチルメタクリラート/メ
タクリル酸/スチレンのコポリマー、メチルメタクリラ
ート/ベンジルメタクリラート/メタクリル酸/ヒドロ
キシフェニルメタクリラートのコポリマーである。溶媒
展開し得る結合剤の例は、ポリ(アルキルメタクリラー
ト)、ポリ(アルキルアクリラート)、ポリ(ベンジル
メタクリラート−コ−ヒドロキシエチルメタクリラート
−コ−メタアクリル酸)、ポリ(ベンジルメタクリラー
ト−コ−メタアクリル酸);セルロースエステル及びセ
ルロースエーテル、例えばセルロースアセタート、セル
ロースアセトブチラート、メチルセルロース、エチルセ
ルロース;ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、環化ゴム、ポリエーテル、例えばポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシド及びポリテトラヒドロフ
ラン;ポリスチレン、ポリカーボナート、ポリウレタ
ン、塩素化ポリオレフィン、ポリビニルクロリド、ビニ
ルクロリド/ビニリデン−コ−ポリマー、ビニリデンク
ロリド及びアクリルニトリルのコポリマー、メチルメタ
クリラート及びビニルアセタートのコポリマー、ポリビ
ニルアセタート、コポリ(エチレン/ビニルアセター
ト)、ポリマー、例えばポリカプロラクタム、及びポリ
(ヘキサメチレンアジパミド)、及びポリエステル、例
えばポリ(エチレングリコールテレフタラート)及びポ
リ(ヘキサメチレングリコールスクシナート)及びポリ
イミド結合樹脂である。
り分子の主鎖、又はエステル基に結合した光重合性側鎖
基を有する溶媒可溶性ポリイミド又はポリイミド前駆
体、例えばポリ(アミック酸エステル)化合物、又は例
えば好適にはその分子に少なくとも1個の塩基性基を有
するアクリラート又はメタクリラートが溶液中で加えら
れうポリ(アミック酸)であることができ、例えば、ア
ミノアクリラート又はアミノメタクリラートである。
クリラート及びメタクリル酸のコポリマーを含む光重合
し得る配合物である。更に興味があるものは、例えばJP
10-171119-A、特にカラーフィルターの用途のためのポ
リマー結合剤成分である。
のフィルム形成成分である。それらは、例えば物理的に
乾燥ポリマー又は有機溶媒中のそれの溶液、例えばニト
ロセルロース又はセルロースアセトブチラートであるこ
とができる。それらは、また化学的及び/又は熱的に硬
化し得る(熱−硬化性)樹脂であることができ、例は、
ポリイソシアナート、ポリエポキシド及びメラミン樹
脂、並びにポリイミド前駆体である。同時に熱−硬化性
樹脂の使用は、ハイブリッドシステムとして知られるシ
ステムでの用途のために重要であり、第一段階で、光重
合され、第二段階で熱後処理の手段で架橋される。
々の添加剤(d)を含むことができる。それらの例は、
熱阻害剤であり、それは、早期重合を阻止することを意
図し、例は、ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−
メトキシフェノール、β−ナフトール又は立体障害フェ
ノール、例えば2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾ
ールである。暗所での貯蔵安定性を増大させるために、
例えば銅化合物、例えば銅ナフテナート、ステアラート
又はオクトアート、リン化合物、例えばトリフェニルホ
スフィン、トリブチルホスヒン、トリエチルホスファイ
ト、トリフェニルホスファイト又はトリベンジルホスフ
ァイト、四級アンモニウム化合物、例えばテトラメチル
アンモニウムクロリド若しくはトリメチルベンジルアン
モニウムクロリド、又はヒドロキシルアミン誘導体、例
えばN−ジエチルヒドロキシルアミンを用いることがで
きる。重合の間の雰囲気酸素を排除するために、ポリマ
ー中に十分溶解せず、重合の初期に表面に移行し、空気
の進入を阻害する透明層を形成する物質のようなパラフ
ィン又は類似のワックスを加えることができる。被覆の
最上部に酸素不透過層を適用、例えばポリ(ビニルアル
コール−コ−ビニルアセタート)を適用することができ
る。少量で加えることができる光安定剤は、UV吸収
剤、例えばヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒ
ドロキシフェニル−ベンゾフェノン、オギサルアミド又
はヒドロキシフェニル−s−トリアジンタイプである。
それらの化合物は、単独で、又は混合物で、立体障害ア
ミン(HALS)の存在又は不存在下で、用いることが
できる。
は、 1. 2−(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリア
ゾール類、例えば2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチ
ルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′
−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(5′−tert−ブチル−2′−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−
ヒドロキシ−5′−(1,1,3,3−テトラメチルブ
チル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,
5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)
−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3′−tert
−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)
−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3′−sec
−ブチル−5′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−
4′−オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(3′,5′−ジ−tert−アミル−2′−ヒドロキ
シフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−
ビス−(α,α−ジメチルベンジル)−2′−ヒドロキ
シフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−
ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−オクチルオキ
シカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾ
トリアゾールの混合物、2−(3′−tert−ブチル−
5′−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)−カルボニ
ルエチル〕−2′−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ
−ベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−
2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボニルエ
チル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、
2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−
(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾト
リアゾール、2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロ
キシ−5′−(2−オクチルオキシ−カルボニルエチ
ル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′−tert
−ブチル−5′−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)
カルボニルエチル〕−2′−ヒドロキシフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(3′−ドデシル−2′−ヒドロ
キシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール及び
2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−
(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル
ベンゾトリアゾール、2,2′−メチレン−ビス−〔4
−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベン
ゾトリアゾール−2−イルフェノール〕;ポリエチレン
グリコール300を用いた2−〔3′−tert−ブチル−
5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′−ヒド
ロキシフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールのエステ
ル交換生成物;〔R−CH2CH2−COO−CH2CH2
−〕2−(ここで、R=3′−tert−ブチル−4′−ヒ
ドロキシ−5′−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル
フェニル)。
例えば4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクチルオ
キシ、4−デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベ
ンジルオキシ、4,2′,4′−トリヒドロキシ及び
2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
類、例えば4−tert−ブチル−フェニルサリシラート、
フェニルサリシラート、オクチルフェニルサリシラー
ト、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−tert−ブ
チルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシ
ノール、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル3,5−ジ
−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート、ヘキサ
デシル3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベン
ゾアート、オクタデシル3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシベンゾアート、2−メチル−4,6−ジ−
tert−ブチルフェニル3,5−ジ−tert−ブチル−4−
ヒドロキシベンゾアート。
シアノ−β,β−ジフェニルアクリラート、イソオクチ
ルα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリラート、メチ
ルα−カルボメトキシシンナマート、メチルα−シアノ
−β−メチル−p−メトキシ−シンナマート、ブチルα
−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナマート、
メチルα−カルボメトキシ−p−メトキシシンナマート
及びN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−
2−メチルインドリン。
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セ
バカート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)スクシナート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバカート、ビス
(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジ
ル)n−ブチル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルマロナート、1−(2−ヒドロキシエチ
ル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシ
ピペリジンとスクシン酸の縮合物、N,N′−ビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘ
キサメチレンジアミンと4−tert−オクチルアミノ−
2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンの縮合物、
トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)ニトリロトリアセタート、テトラキス−(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,
3,4−ブタン−テトラオアート、1,1′−(1,2
−エタンジイル)−ビス−(3,3,5,5−テトラメ
チルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1,
2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−2−n−
ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブ
チルベンジル)マロナート、3−n−オクチル−7,
7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピ
ロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、ビス(1−オク
チルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル)セバカート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジル)スクシナート、N,
N−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,
6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンの縮合物、2−
クロロ−4,6−ビス(4−n−ブチルアミノ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−
トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミ
ノ)エタンの縮合物、2−クロロ−4,6−ジ−(4−
n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチル
ピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス
−(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合物、8−
アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチ
ル−1,3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−
2,4−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,
6,−テトラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−
2,5−ジオン及び3−ドデシル−1−(1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−
2,5−ジオン。
オクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジエトキシオ
キサニリド、2,2′−ジオクチルオキシ−5,5′−
ジ−tert−ブトキサニリド、2,2′−ジドデシルオキ
シ−5,5′−ジ−tert−ブトキサニリド、2−エトキ
シ−2′−エチルオキサニリド、N,N′−ビス(3−
ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ−
5−tert−ブチル−2′−エトキサニリド、及び2−エ
トキシ−2′−エチル−5,4′−ジ−tert−ブトキサ
ニリドとのその混合物、o−及びp−メトキシ−ジ置換
オキサニリドの混合物並びにo−及びp−エトキシ−ジ
置換オキサニリドの混合物。
1,3,5−トリアジン類、例えば、2,4,6−トリ
ス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス−(4−メチ
ルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒ
ドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビ
ス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリア
ジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−
3−ブチルオキシ−プロポキシ)フェニル〕−4,6−
ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オ
クチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル〕−4,6−
ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−〔4−(ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−
ヒドロキシプロポキシ)−2−ヒドロキシ−フェニル〕
−4,6−ビス(2,4−ジ−メチルフェニル)−1,
3,5−トリアジン。
類、例えばトリフェニルホスファイト、ジフェニルアル
キルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、
トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリラウリル
ホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステ
アリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、
ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビ
ス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリス
リトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブ
チル−4−メチルフェニル)−ペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジイソデシルオキシペンタエリスリトー
ルジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−
6−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファ
イト、ビス(2,4,6−トリス(tert-フ゛チルフェニル)ヘ゜ンタエリ
スリトールシ゛ホスファイト、トリステアリルソルヒ゛トールトリホスファイト、テトラキス(2,4-シ゛-ter
t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホス
ホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10
−テトラ−tert−ブチル−12H−ジ−ベンズ〔d,
g〕−1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フルオロ
−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12−メ
チル−ジベンズ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホス
ホシン、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチル
フェニル)メチルホスファイト及びビス(2,4−ジ−
tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスファイ
ト。
成分(d)、例えば流動促進剤、接着促進剤、例えばビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランビ
ニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2
−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエト
キシシラン、3−グリシドオキシプロピルトリメトキシ
シラン、3−グリシドオキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメ
トキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン
及び3−メルカプトプロピルトリメトキシシランを添加
することができる。界面活性剤、集合阻止剤、抗酸化
剤、光安定剤、又は充填剤は、添加剤(d)の更なる例
である。
えばトリエタノールアミン、N−メチルジエタノールア
ミン、p−ジメチルアミノベンゾアート又はミヘラーケ
トンを添加することができる。アミンの作用は、ベンゾ
フェノンタイプのケトンの添加により増強される。酸素
補足剤として用いることができるアミンの例は、置換
N,N−ジアルキルアニリンであり、EP 33984
1に記載されている。他の促進剤、共開始剤及び自動酸
化剤は、例えばEP 438123、GB 21803
58及びJP Kokai' Hei 6−68309に記載されて
いるように、チオール、チオエーテル、ジスルフィド、
ホスホニウム塩、ホスフィンオキシ又はホスフィンであ
る、
明の配合物に加えることが、更に可能である。例は、メ
ルカプタン、アミン及びベンゾチアゾールである。
(成分(d)として)(これは、スペクトル感受性を移
動又は広げる)を加えることにより促進することができ
る。それらは、特に、芳香族化合物、例えばベンゾフェ
ノン及びそれの誘導体、チオキサントン及びその誘導
体、アントラキノン及びその誘導体、クマリン及びフェ
ノチアジン及びその誘導体、並びに3−(アロイルメチ
レン)チアゾリン、ローダニン、カンファーキノン、し
かしまた、エオシン、ローダミン、エリスロシン、キザ
ンテン、チオキザンテン、アクリジン、例えば9−フェ
ニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘ
プタン、1,5−ビス(9−アクリジニル)ペンタン、
シアニン及びメロシアニン染料である。
−クロロチオキサントン、2−ドデシルチオキサント
ン、2,4−ジエチルlチオキサントン、2,4−ジメ
チルチオキサントン、1−メトキシカルボニルチオキサ
ントン、2−エトキシカルボニルチオキサントン、3−
(2−メトキシエトキシカルボニル)−チオキサント
ン、4−ブトキシカルボニルチオキサントン、3−ブト
キシカルボニル−7−メチルチオキサントン、1−シア
ノ−3−クロロチオキサントン、1−エトキシカルボニ
ル−3−クロロチオキサントン、1−エトキシカルボニ
ル−3−エトキシチオキサントン、1−エトキシカルボ
ニル−3−アミノチオキサントン、1−エトキシカルボ
ニル−3−フェニルスルフリルチオキサントン、3,4
−ジ−〔2−(2−メトキシエトキシ)エトキシカルボ
ニル〕−チオキサントン、1−エトキシカルボニル−3
−(1−メチル−1−モルホリノエチル)−チオキサン
トン、2−メチル−6−ジメトキシメチル−チオキサン
トン、2−メチル−6−(1,1−ジメトキシベンジ
ル)−チオキサントン、2−モルホリノメチルチオキサ
ントン、2−メチル−6−モルホリノメチルチオキサン
トン、N−アリルチオキサントン−3,4−ジカルボキ
サミド、N−オクチルチオキサントン−3,4−ジカル
ボキシミド、N−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)−チオキサントン−3,4−ジカルボキサミド、1
−フェノキシチオキサントン、6−エトキシカルボニル
−2−メトキシチオキサントン、6−エトキシカルボニ
ル−2−メチルチオキサントン、チオキサントン−2−
カルボン酸ポリエチレングリコールエステル、2−ヒド
ロキシ−3−(3,4−ジメチル−9−オキソ−9H−
チオキサントン−2−イルオキシ)−N,N,N−トリ
メチル−1−プロパンアミニウムクロリド。
トキシベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフ
ェノン、4,4′−ジメチルベンゾフェノン、4,4′
−ジクロロベンゾフェノン、4,4′−ビス(ジメチル
アミノ)−ベンゾフェノン、4,4′−ビス(ジエチル
アミノ)ベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、
2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−(4−メ
チルチオフェニル)−ベンゾフェノン、3,3′−ジメ
チル−4−メトキシベンゾフェノン、メチル−2−ベン
ゾイルベンゾアート、4−(2−ヒドロキシエチルチ
オ)−ベンゾフェノン、4−(4−トリルチオ)ベンゾ
フェノン、4−ベンゾイル−N,N,N−トリメチルベ
ンゼンメタンアミニウムクロリド、2−ヒドロキシ−3
−(4−ベンゾイルフェノキシ)−N,N,N−トリメ
チル−1−プロパンアミニウムクロリドモノヒドラー
ト、4−(13−アクロイル−1,4,7,10,13
−ペンタオキサトリデシル)−ベンゾフェノン、4−ベ
ンゾイル−N,N−ジメチル−N−〔2−(1−オキソ
−2−プロペニル)オキシ〕エチル−ベンゼンメタンア
ミニウムクロリド;
マリン30、クマリン102、クマリン106、クマリ
ン138、クマリン152、クマリン153、クマリン
307、クマリン314、クマリン314T、クマリン
334、クマリン337、クマリン500、3−ベンゾ
イルクマリン、3−ベンゾイル−7−メトキシクマリ
ン、3−ベンゾイル−5,7−ジメトキシクマリン、3
−ベンゾイル−5,7−ジプロポキシクマリン、3−ベ
ンゾイル−6,8−ジクロロクマリン、3−ベンゾイル
−6−クロロ−クマリン、3,3′−カルボニル−ビス
〔5,7−ジ(プロポキシ)−クマリン〕、3,3′−
カルボニル−ビス(7−メトキシクマリン)、3,3′
−カルボニル−ビス(7−ジエチルアミノ−クマリ
ン)、3−イソブチロイルクマリン、3−ベンゾイル−
5,7−ジメトキシ−クマリン、3−ベンゾイル−5,
7−ジエトキシ−クマリン、3−ベンゾイル−5,7−
ジブトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジ(メ
トキシエトキシ)−クマリン、3−ベンゾイル−5,7
−ジ(アリルオキシ)クマリン、3−ベンゾイル−7−
ジメチルアミノクマリン、3−ベンゾイル−7−ジエチ
ルアミノクマリン、3−イソブチロイル−7−ジメチル
アミノクマリン、5,7−ジメトキシ−3−(1−ナフ
トイル)−クマリン、5,7−ジエトキシ−3−(1−
ナフトイル)−クマリン、3−ベンゾイルベンゾ〔f〕
クマリン、7−ジエチルtアミノ−3−チエノイルクマ
リン、3−(4−シアノベンゾイル)−5,7−ジメト
キシクマリン、3−(4−シアノベンゾイル)−5,7
−ジプロポキシクマリン、7−ジメチルアミノ−3−フ
ェニルクマリン、7−ジエチルアミノ−3−フェニルク
マリン、JP 09−179299及びJP 09−3
252099に記載されれているクマリン誘導体、例え
ば7−〔{4−クロロ−6−(ジエチルアミノ)−S−
トリアジン−2−イル}アミノ〕−3−フェニルクマリ
ン;
ン 3−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナフトチア
ゾリン、3−メチル−2−ベンゾイルメチレン−ベンゾ
チアゾリン、3−エチル−2−プロピオニルメチレン−
β−ナフトチアゾリン;
アミノベンザルローダニン、3−エチル−5−(3−オ
クチル−2−ベンゾチアゾリニレン)−ローダニン、J
P 08−305019Aに開示されている、式
〔1〕、〔2〕、〔7〕のローダニン誘導体;
ェニルアセトフェノン、ベンジル、4,4′−ビス(ジ
メチルアミノ)ベンジル、2−アセチルナフタレン、2
−ナフタアルデヒド、ダンシル酸誘導体、9,10−ア
ントラキノン、アントラセン、ピレン、アミノピレン、
フェナンスレン、フェナンスレンキノン、9−フルオレ
ノン、ジベンゾスベロン、カーキュミン、キザンテン、
チオミヒラーケトン、α−(4−ジメチルアミノベンジ
リデン)ケトン、例えば2,5−ビス(4−ジエチルア
ミノベンジリデン)シクロペンタノン、2−(4−ジメ
チルアミノ−ベンジリデン)−インダン−1−オン、3
−(4−ジメチルアミノ−フェニル)−1−インダン−
5−イル−プロペノン、3−フェニルチオフタールイミ
ド、N−メチル−3,5−ジ(エチルチオ)−フタール
イミド、N−メチル−3,5−ジ(エチルチオ)−フタ
ールイミド、フェノチアジン、メチルフェノチアジン、
アミン、例えばN−フェニルグリシン、エチル 4−ジ
メチルアミノベンゾアート、ブトキシエチル 4−ジメ
チルアミノベンゾアート、4−ジメチルアミノアセトフ
ェノン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールア
ミン、ジメチルアミノエタノール、2−(ジメチルアミ
ノ)エチルベンゾアート。
びその誘導体、チオキサントン及びその誘導体、アンス
ラキノン及びその誘導体、又はクマリン誘導体からから
なる群から選択される化合物を含む光重合性配合物が好
適である。硬化工程は、(例えばチタニウムジオキシド
で)で着色された配合物中に光増感剤を添加することに
より、また、EP 245639の実施例に記載されて
いるように、熱条件下で遊離基を形成する成分、例えば
アゾ化合物、例えば2,2′−アゾビス(4−メトキシ
−2,4−ジメチルバレロニトリル)、トリアジン、ジ
アゾスルフィド、ペンタザジエン又はエポキシ化合物、
例えばヒドロペルオキシド若しくはペルオキシカーボナ
ート、例えばt−ブチルヒドロペルオキシドを添加する
ことにより促進することができる。
光還元性染料、例えばキザンテン−、ベンゾキザンテン
−、ベンゾチオキザンテン−、チアジン−、ピロニン
−、ポリフィリン−又はアクリジン染料及び/又は照射
により開裂し得るトリハロゲンメチル化合物を含むこと
ができる。同様の配合物は、例えばEP 445624
に記載されている。
に依存して、光沢剤、充填剤、顔料、染料、湿潤剤、均
一助剤、分散剤、及び接着助剤、例えばメタクリルオキ
シプロピルトリメトキシシランである。
に、US 5013768の実施例に記載されているよ
うに、ガラス微小球又は粉砕ガラスファイバーを添加す
ることは適切である。
分野での必要とする特性により行われる。上記の添加剤
は、その技術において慣用であり、したがってそれぞれ
の適用で有効である量で加えられる。
化又は溶解された、少なくとも1個のエチレン性不飽和
の光重合性化合物含む配合物を提供する。そのような放
射線硬化性水性プレポリマー分散剤の多くの種類は商業
的に入手し得る。プレポリマー分散剤は、水の分散であ
ると理解され、少なくとも1種のプレポリマーがその中
に分散される。それらのシステム中の水の濃度は、例え
ば5〜80重量%、特に30〜60重量%である。放射
線硬化性プレポリマー又はプレポアリマー混合物の濃度
は、例えば95〜20重量%、特に70〜40重量%で
ある。それらの配合物において、水とプレポリマーの割
合の合計はそれぞれの場合に100であり、助剤と添加
剤は、意図する用途に従い、量を変えて加えられる。
線硬化性であり、フィルム形成性のプレポリマーは、モ
ノ又はポリ官能性であり、エチレン性の不飽和プレポリ
マーであり、それは、それ自体既知であり、遊離基によ
り開始されることができ、例えば、プレポリマー100
g当り0.01〜1.0mol量の重合性二重結合及び例
えば少なくとも4,000、特に500〜10,000
の平均位分子量を有している。高分子量を有するプレポ
リマーは、しかしながら、意図する用途により考慮する
ことができる。例えば、重合性C−C二重結合を含み、
10を越えない数の酸を有しするポリエステル、分子当
り少なくとも2個のエポキシド基を含み、少なくとも1
個のα,β−エチレン性不飽和カルボン酸を有する、ポ
リエポキシドのヒドロキシ含有反応生成物、ポリウレタ
ン(メタ)アクリラート、及びα,β−エチレン性不飽
和アクリル基の用途は、EP 12339に記載されて
いるようである。それらのプレポリマーの混合物も同様
に用いられる。また、EP33896に記載されている
重合性プレポリマーも適切であり、それは、少なくとも
600の平均分子量を有し、プレポリマー100g当
り、カルボキシル含量0.2〜15%及び重合性C−C
二重結合0.01〜0.8molを有するチオエーテル付
加物である。特定のアルキル(メタ)アクリラートプレ
ポリマーに基づく他の適切な水性分散剤は、EP 41
125に記載され、ウレタンアクリラートの適切な水性
分散性の放射線硬化性プレポリマーは、DE 2936
039に見出すことができる。
散剤に含むことができる更なる添加剤は、分散助剤、乳
化剤、抗酸化剤、例えば2,2−チオビス(4−メチル
−6−t−ブチルフェノール)又は2,6−ジ−t−ブ
チルフェノール、光安定剤、染料、顔料、充填剤、例え
ばガラス又はアルミナ、例えばタルク、石こう、珪酸、
ルチル、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化鉄、反応促
進剤、均一化剤、潤滑剤、湿潤剤、増粘剤、つや消し
剤、消泡剤、及びペイント技術での慣用の他の助剤であ
る。適切な分散助剤は、高分子量であり、極性基を有す
る水溶性有機化合物であり、例えばポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン又はセルロースエーテルであ
る。用いることができる乳化剤は、ノニオン性乳化剤、
及び所望ならばイオン性乳化剤である。
の混合物を用いることが有利であることができる。もち
ろん、既知光開始剤(C)の混合物を用いることもで
き、例えばカンファーキノン、ベンゾフェノン、ベンゾ
フェノン誘導体、アセトフェノン、アセトフェノン誘導
体、例えばα−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケト
ン又は2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プ
ロパノン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキ
シ−又はα−アミノアセトフェノン、例えば(4−メチ
ルチオベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノエタ
ン、(4−モルホリノベンゾイル)−1−ベンジル−1
−ジメチルアミノプロパン、4−アロイル−1,3−ジ
オキソラン、ベンゾインアルキルエーテル及びベンジル
ケタール、例えばジメチルベンジルケタール、フェニル
グリオキザールエステル及びその誘導体、二量化フェニ
ルグリオキザリル酸エステル、ジアセタール、ペルエス
テル、例えばEP 126541に記載されているベン
ゾフェノンテトラカルボン酸エステル、モノアシルホス
フィンオキシド、例えば(2,4,6−トリメチルベン
ゾイル)−ジフェニルホスフィンオキシド、ビスアシル
ホスフィンオキシド、ビス-(2,6−ジメトキシ−ベ
ンゾイル)−(2,4,4−トリメチル−ペンチル)ホ
スフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベン
ゾイル)−フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,
4,6−トリメチルベンゾイル)−2,4−ジペントキ
シフェニルホスフィンオキシド、トリアシルホスフィン
オキシド、ハロメチルトリアジン、例えば2−〔2−
(4−メトキシ−フェニル)−ビニル〕−4,6−ビス
−トリクロロメチル−〔1,3,5〕トリアジン、2−
(4−メトキシ−フェニル)−4,6−ビス−トリクロ
ロメチル−〔1,3,5〕トリアジン、2−(3,4−
ジメトキシ−フェニル)−4,6−ビス−トリクロロメ
チル−〔1,3,5〕トリアジン、2−メチル−4,6
−ビス−トリクロロメチル−〔1,3,5〕トリアジ
ン、2−(p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチ
ル)アミノフェニル)−4,6−ジ(トリクロロメチ
ル)−〔1,3,5〕トリアジン、2−(4−メトキシ
−ナフチル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−
〔1,3,5〕トリアジン、2−(1,3−ベンゾジオ
キソール−5−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチ
ル−〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−〔4−(ペ
ンチルオキシ)フェニル〕エテニル〕−4,6−ビス−
トリクロロメチル−〔1,3,5〕トリアジン、2−
〔2−(3−メチル−2−フラニル)−エテニル〕−
4,6−ビス−トリクロロメチル−〔1,3,5〕トリ
アジン、2−〔2−(5−メチル−2−フラニル)−エ
テニル〕−4,6−ビス−トリクロロメチル−〔1,
3,5〕トリアジン、2−〔2−(2,4−ジメトキシ
−フェニル)−エテニル〕−4,6−ビス−トリクロロ
メチル−〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−(2−
メトキシ−フェニル)エテニル〕−4,6−ビス−トリ
クロロメチル−〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−
〔4−イソプロピルオキシ−フェニル〕−エテニル〕−
4,6−ビス−トリクロロメチル−〔1,3,5〕トリ
アジン、2−〔2−(3−クロロ−4−メトキシ−フェ
ニル)エテニル〕−4,6−ビス−トリクロロメチル−
〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−ブロモ−4−
N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノ−フェ
ニル〕−4,6−ビス−トリクロロメチル−〔1,3,
5〕トリアジン、2−〔2−クロロ−4−N,N−ジ
(エトキシカルボニルメチル)アミノ−フェニル〕−
4,6−ビス−トリクロロメチル−〔1,3,5〕トリ
アジン、2−〔3−ブロモ−4−N,N−ジ(エトキシ
カルボニルメチル)アミノ−フェニル〕−4,6−ビス
−トリクロロメチル−〔1,3,5〕トリアジン、2−
〔3−クロロ−4−N,N−ジ(エトキシカルボニルメ
チル)アミノ−フェニル〕−4,6−ビス−トリクロロ
メチル−〔1,3,5〕トリアジン、又はG.Buhr, R. D
ammel and C. Lindley Polym. Mater. SCi. Eng. 61, 2
69 (1989)及びEP 0262788に記載の他のハロ
メチルトリアジン;ハロメチル−オキサゾール光開始
剤、例えば、US4371606及びUS 43716
07に記載されたもの;1,2−ジスルフィド、例えば
E. A. Bartmann, Synthesis 5, 490 (1993)に記載され
たもの;ヘキサアリールビスイミダゾール、及びヘキサ
アリールビスイミダゾール/共開始剤システム、例えば
2−メルカプトベンズチアゾール、フェロセニウム化合
物、又はチタノセンと組み合わせた、オルト−クロロヘ
キサフェニル−ビスイミダゾール、例えばビス(シクロ
ペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−ピ
リリル−フェニル)チタニウムとの混合物である。
ステムに適用される場合、新規な遊離基硬化剤に加え
て、カチオン性光開始剤、ペルオキシ化合物、例えばベ
ンゾイルペルオキシド(他の適切なペルオキシドは、US
Patent 4950581の19欄、17〜25行に記載されて
いる)、芳香族スルホニウム−、ホスホニウム−又はヨ
ードニウム塩(US Patent 4950581、18欄、60行〜
19欄10行に記載されている)又はシクロペンタジエ
ニル−アレン−アイアン(II)錯体塩、例えば(η6−
イソ−プロピルベンゼン)(η5−シクロペンタジエニ
ル)アイアン(II)ヘキサフルオロホスファート、及び
オキシムスルホン酸エステルが、例えばEP78072
9に記載されている。また、EP 497531及びE
P 441232に記載されているピリジニウム及び
(イソ)キノリニウム塩は、新規な光開始剤と組み合わ
せて用いることができる。
I)又は(IV)の化合物に加えて、少なくとも1個のα
−アミノケトン、特に(4−メチルチオベンゾイル)−
1−メチル−1−モルホリノエタノンを含む組成物であ
る。
て、一般に0.005〜25重量%、好適には0.01
〜10重量%、特に0.01〜5重量%の開始剤を含
む。開始剤の混合物を用いるならば、この量は、全ての
光開始剤の合計である。したがって、量は、光開始剤
(b)又は光開始剤(b)+(c)に参照される。
刷インキとして、透明塗料として、例えば木材若しくは
金属のための白色塗料として、粉体塗料として、被覆材
料、とりわけ、紙、木、若しくはプラスチックのための
材料として、建築物及び道路標識のための日光−硬化性
被覆として、写真複製技術として、ホログラフィー記録
材料として、画像記録材料又は有機溶媒若しくは水性ア
ルカリで現像することができる印刷プレートの製造のた
めに、スクリーン印刷のための製造マスクとして、歯科
充填材として、接着剤として、圧力感受性接着剤とし
て、ラミネート樹脂として、食刻レジストとして、電気
伝メッキレジストとして、又はパーマネントレジストと
して、液体及び乾燥フィルムの両方で、光構造性誘電体
及び印刷回路ボード及び電気回路のはんだマスク、種々
の表示装置のためのカラーフィルターを製造するため又
はプラズマ表示パネルの製造工程での構造を生成させる
ためのレジストとして、並びにエレクトロルミネッセン
ス表示(例えば、US 5853446、EP 863
534、JP 09−244230−A、JP 10−
62980−A、JP 08−171863−A、US
5840465、EP 855731、JP 05−
271576−A、JP 05−674055−Aに記
載されている)、光スイッチ、光格子(妨害格子)、光
回路の製造のために、物質の硬化(透明な成形用型中で
のUV硬化)又は立体リソグラフィ技術による三次元製
品の製造のために、例えばUS 4575330に記載
されているように、複合材(例えば、所望ならば、ガラ
ス繊維及び/又は他の繊維並びに他の助剤を含むことが
できるスチレン性ポリエステル)及び他の厚層組成物の
製造のために、又は光学レンズ、例えばコンタクトレン
ズ又はフレネルレンズの製造のためにも用いることがで
きる。本発明の配合物は、医学装置、補助材又は移植材
の製造のために適切である。更に、本発明の配合物は、
例えば、DE 19700064及びEP 67853
4に記載されているように、熱互変性を有するゲルの製
造に適切である。
ル重合又は懸濁重合の開始剤として、液晶モノマーの配
列状態を固定するための重合開始剤、又は有機材料上に
染料を固定するための開始剤として用いることができ
る。
飽和モノマーの混合物がしばしば用いられ、それは、更
にモノ不飽和モノマーを同様に含むことができる。それ
は、ここで、主として被覆フィルムの特性を支配するプ
レポリマーであり、それを変更することにより当業者
は、硬化フィルムの特性に影響を与えることができる。
ポリ不飽和モノマーは、フィルムを不溶性にする架橋剤
として働く。ポリ不飽和モノマーは反応性希釈剤として
働き、それは、溶媒を用いる必要なしに、粘性を減少さ
せるために用いられる。
飽和モノマー、好適にはスチレンと一緒に2成分系で用
いられる。ホトレジストのために、特定の1成分システ
ムが、例えばDE 230830に記載されているよう
にポリアミド、ポリカルコン又はポリイミドが、しばし
ば用いられる。
射線−硬化性粉体被覆の重合のために用いることができ
る。粉体被覆は、固体樹脂及び反応性二重結合を含むモ
ノマー、例えばマレアート、ビニルエーテル、アクリラ
ート、アクリルアミド及びそれらの混合物に基づくこと
ができる。遊離基的なUV硬化性粉体被覆は、固体アク
リルアミドと不飽和ポリエステル樹脂(例えば、メチル
アクリルアミドグリコラート)及び新規な遊離基光開始
剤を混合することにより処方され、このような配合物
は、例えばM. Wittig and Th. Gohmann, “Radiation C
uring of Powder被覆”, Conference Proceedings, Rad
tech Europe 1993に記載されている。粉体被覆は、ま
た、DE 4228514及びEP 636669に記
載されているように結合剤を含むことができる。遊離基
的なUV−硬化性粉体被覆は、また、不飽和ポリエステ
ル樹脂及び固体のアクリラート、メタクリラート又はビ
ニルエーテル、並びに新規な光開始剤(又は光開始剤混
合物)を混合することにより処方することができる。粉
体被覆は、また、例えばDE 4228514及びEP
636669に記載されているように、結合剤を含ん
でいてもよい。UV−硬化性粉体被覆は、更に、白色又
は着色された顔料を含むことができる。例えば、好適に
はルチルチタニウムジオキシドは、良好な被覆力の硬化
された粉体被覆を得るために50重量%までの濃度で用
いることができる。この方法は、通常、基質、例えば金
属、木材上に粉体を静電的又は摩擦静電気的噴霧、加熱
による粉体の溶融、次いで、平滑フィルムが形成した
後、例えば中圧水銀ランプ、金属ハライドランプ又はキ
セノンランプを用いるUV及び/又は可視光での被覆の
放射線硬化を含む。それらの熱−硬化性の相手方上での
放射線−硬化性粉体被覆の特別の利点は、粉体粒子の溶
融の後の時間経過が、平滑な、高い光沢の被覆を保証す
るために、遅れさせることができることである。熱−硬
化性のシステムに比べて、放射線−硬化性粉体被覆は、
それらの寿命を短くする望ましくない影響なしにより低
い温度で溶融するように配合することができる。この理
由のために、それらは、熱−感受性基質、例えば木又は
プラスチックの被覆に適切である。更に、新規な光開始
剤システム、粉体被覆配合物は、またUV吸収剤を含む
ことができる。適切な例は、上記の1.−8項に列記さ
れている。
る意図での、又は画像を生成させるために画像分の曝露
の手段で、例えば全ての種類の基質、例えば木材、繊
維、紙、セラミックス、ガラス、プラスチック、例えば
ポリエステル、ポリエチレンテレフタラート、ポリオレ
フィン、又は特にフィルムの形態での酢酸セルロース、
並びにまた金属、例えばAl、Cu、Ni、Fe、Z
n、Mg又はCo及びGaAs、Si又はSiO2のた
めの被覆材料として適切である。
は懸濁液を塗布することにより実施することができる。
溶媒の選択及び濃度は、原理的に配合物のタイプ及び被
覆技術に依存する。溶媒は、不活性であるべきであり、
すなわち、成分と化学反応を行うべきでない、被覆の
後、乾燥工程で除去することができるべきである。適切
な溶媒の例は、ケトン、エーテル及びエステル、例えば
メチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロ
ペンタノン、シクロヘキサノン、N−メチルピロリド
ン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メトキシエ
タノール、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2
−プロパノール、1,2−ジメトキシエタン、エチルア
セタート、n−ブチルアセタート、エチル3−エトキシ
プロピオナート、2−メトキシプロピルアセタート、メ
チル−3−メトキシプロピオナート、2−ヘプタノン、
2−ペンタノン及びエチルラクタートである。
覆、浸漬被覆、ナイフ被覆、カーテン被覆、刷毛、噴
霧、特に静電噴霧、及び逆−ロール被覆の手段により、
並びにまた電気泳動堆積の手段により、基質上に均一に
塗布される。一時的な、曲げられる支持材へ光感受性層
を塗布し、次いで最終基質、例えば銅メッキ回路板を被
覆、又はラミネートを介して層を移すことによりガラス
基質を被覆することができる。
持材)は、所望の適用分野に依存する。被覆厚さの範囲
は、一般に約0.1μm〜100μmを越え、例えば0.
1μm〜1cm、好適には1μm〜1,000μmである。
対して非常に高い感受性を有し、水性アルカリ媒体で、
膨潤なしに現像することができる陰画レジスト(negati
ve resist)としての適用が見出されている。それら
は、電気メッキレジスト、食刻レジスト、液体及び乾燥
の両フィルム、はんだレジスト、種々の表示装置のため
のカラーフィルターを製造するため又はプラズマ表示パ
ネルの製造工程での構造を生成させるためのレジストと
して、並びにエレクトロルミネッセンス表多くの表示適
用のためのカラーフィルターの製造、印刷板、例えばオ
フセット板又はスクリーン印刷板の製造、レリーフ印
刷、プラノグラフ印刷、写真彫刻又はスクリーン印刷型
のための印刷型の製造、レリーフコピーの製造、例えば
点字でのテキスト製造、スタンプの製造、化学粉砕での
用途、又は集積回路の製造でのマイクロレジストとして
適切である。この配合物は、更にコンピューターチッ
プ、印刷板及び他の電気又は電子部品性の製造での、光
形成性誘電層又は被覆、カプセル化及び絶縁被覆として
用いることができる。被覆基質の可能な層支持材及び加
工条件は、変えられる。
性を有し、酸素による阻害に十分抵抗性であるので、そ
れらは、例えばEP 3202644に記載されている
ように、カラーフィルター又はカラーモザイクシステム
の製造のために適切である。カラーフィルターは、通
常、LCD表示装置、投影システム及び画像センサーの
製造に用いられる。カラーフィルターは、例えばテレビ
ジョン受像機、ビデオモニター又はコンピューターのた
めに、平面表示技術などで用いることができる。
て、赤色、緑色及び青色の、染色物質、染料及び顔料
は、透明基質上のいかなる色の光感受性樹脂配合物をも
提供するために、本発明の光感受性樹脂配合物に加えら
れ、次いで曝露、現像に付し、必要により画像を形成さ
せるために加熱される。
れなかった領域を洗い出すことにより実施される。この
方法は、複数の色を有する画像を形成させるために繰り
返される。
以上の画像要素が透明基質上に形成され、次いで曝露が
透明基質の側面から行われ、その上では上記の画像要素
が形成されない方法において、上記の画像成要素を、光
遮蔽マスクとして用いることができる。この場合、例え
ば全曝露が与えられる場合、マスクの位置調整は不必要
であり、それの位置のすべりに関することは除外され
る。そして、上記の画像要素が形成されていれていない
上で全ての部分を硬化させることができる。更にこの場
合、十分に現像、上記の画像要素が、通常の部分的な光
−遮蔽マスクを用いて形成されない部分を除外すること
ができる。
像要素と後で形成するそれらの間にギャップは形成しな
いので、本発明の配合物は、例えばカラフィルターの形
成材料として適切である。具体化するために、赤色、緑
色及び青色の、染色物質、染料及び顔料は、本発明の光
感受性樹脂配合物に加えられ、画像を形成するための方
法が、赤色、緑色及び青色の画像要素を形成させるため
に繰り返される。次いで、例えば黒色着色材料、染料及
び顔料が加えられる光感受性樹脂配合物が、全表面に施
される。全曝露(又は光−遮蔽マスクを介して部分曝
露)は、その上に施され、赤色、緑色及び青色の画像要
素の間に、全空間(又は、全てか若しくは光−遮蔽マス
クの部分領域)に、黒色の画像要素を形成させる。
される工程に加えて、本発明の光感受性樹脂は、同様に
層移行材料のために用いることができる。すなわち、光
感受性配合物は、一時的な支持材上、好適にはポリエチ
レンテレフタラートフィルム、又は酸素−遮蔽層が施さ
れているポリエチレンテレフタラートフィルムに、層毎
に直接施されている。取り扱いでの保護のために、通
常、合成樹脂製の除去し得るカバーシートが、その上に
薄層化されている。更に、アルカリ可溶性熱可塑性樹脂
及び中間層が一時的支持材上に施され、更に光−感受性
樹脂配合物層がその上に施されている層構造として適用
することができる(JP-A-5-173320)。
れ、光−感受性配合物層は、永久支持材上に薄層化され
ている。続いて、酸素−遮蔽層とはがし層が施されてい
るとき、それらの層と一時的な支持材の間で、はがし層
と酸素−遮蔽層が施されているとき、はがし層と酸素−
遮蔽層の間で、はがし層又は酸素−遮蔽層のいずれかが
施されていないとき、一時的な支持材と光感受性樹脂配
合物の間で、はがしを行い、次いで、一時的支持材を取
り除く。
成樹脂フィルムは、カラーフィルターの支持材として用
いることができる。透明であり、優れた寸法安定性を有
するガラス及び合成樹脂フィルムは、特に好適である。
0.1〜50μm、特に1〜5μmである。
光−感受性樹脂配合物現像溶液として用いられ、更にそ
れに水混和性有機溶媒の少量を加えて製造した溶液も、
同様に含まれる。
属水酸化物(例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリ
ウム)、アルカリ金属炭酸塩(例えば、炭酸ナトリウ
ム、及び炭酸カリウム)、アルカリ金属重炭酸塩(例え
ば、炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウム)、アル
カリ金属珪酸塩(例えば、珪酸ナトリウム及び珪酸カリ
ウム)、アルカリ金属メタ珪酸塩(例えば、メタ珪酸ナ
トリウム及びメタ珪酸カリウム)、トリエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モル
ホリン、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド(例
えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド)、又は
トリナトリムホスファートを含む。アルカリ物質の濃度
は、0.01〜30重量%であり、pHは、好適には8〜
14である。
ール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノー
ル、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエ
ーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン、イプシロン−カプロラクタ
ム、ガンマ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロアミド、
エチルラクタート、メチルラクタート、イプシロン−カ
プトラクタム及びN−メチル−ピロリドンを含む。水と
混和し得る有機溶媒の濃度は、0.1〜30重量%であ
る。
加えることができる。界面活性剤の濃度は、好適には
0.001〜10重量%である。
らかの形態で用いることができる。光−感受性樹脂樹脂
配合物層の非硬化部分を除くために、回転ブラシでの摩
擦及び湿潤スポンジでの摩擦の方法を組み合わせること
ができる。通常、現像溶液の温度は、好適には周囲温度
〜40℃である。現像時間は、光−感受性樹脂配合物の
特定の種類、アルカリ物及び現像溶液の温度、並びに加
えられた場合の有機溶媒の種類及び濃度により、変える
ことができる。通常、それは、10秒〜2分である。現
像工程の後、すすぎ工程を行うことができる。
われる。したがって、曝露により光重合される層(後
で、光硬化された層として参照される)を有する支持材
は、電気炉中で加熱され、乾燥、又は光硬化された層
は、赤外ランプで照射されるか又はホットプレート上で
加熱される。加熱温度及び時間は、用いられた配合物及
び形成された層の厚さに依存する。一般に、加熱は、好
適には約120℃〜約250℃、約5〜約60分であ
る。
ラーフィルターの形成のために用いることができるが、
その適用に限定されない。同様に記録材料、表示、表示
要素、ペイント、及び印刷インキのためにも用いること
ができる。
し、酸素による阻害に十分抵抗性であるので、それら
は、特に、カラーフィルター又はEP 320264に
記載されているように、カラーモザイクシステムに適切
である。カラーフィルターは、通常、LCD表示装置、
投影システム及び画像センサーの製造に用いられる。カ
ラーフィルターは、通常、赤色、緑色及び青色ピクセル
並びにガラス基質上の黒マトリックスを形成することに
より製造される。これらの方法において、本発明の光硬
化性配合物を用いることができる。使用の特に好適な方
法は、本発明の配合物での基質の被覆、短時間の熱処理
による被覆の乾燥、化学線放射へ被覆のパターン様の曝
露、続いて水性アルカリ現像液中、及び場合により加熱
処理でのパターンの現像を含む。したがって、その方法
で互いに一番上に、赤色、緑色及び青色の着色被覆を塗
布することにより、赤色、緑色及び青色ピクセルのカラ
ーフィルターを製造することができる。カラーフィルタ
ーは、例えば、テレビジョン受像機、ビデオモニター又
はコンピューターの表示及び画像スキャナーのために、
平面表示技術などとして用いることができる。
物を含む、本発明の配合物に含まれる顔料は、好適には
加工された顔料、例えばアクリル樹脂、塩化ビニル−酢
酸ビニルコポリマー、マレイン酸樹脂及びエチルセルロ
ースからなるなる群より選択される少なくとも1種の樹
脂中に顔料を細かく分散することにより製造した粉体又
は糊料生成物である。
プ顔料単独、ペリレンタイプ顔料単独、又はそれらの少
なくとも1種からなる混合物、及びジアゾタイプ黄顔料
又はイソインドリノンタイプ黄色顔料、特にC.I. Pigme
nt Red 177単独、C.I. Pigment Red 155単独又はC.I. P
igment Red 177、C.I. Pigment Red 155及びC.I. Pigme
nt Yellow 83又はC.I. Pigment Yellow 139(“C.I.”
は、当業者に既知であり公然と入手し得るthe Color In
dexを参照)の少なくとも1種からなる混合物を含む。
105, 144, 149, 176, 177, 185, 202, 209, 214, 222,
242, 254, 255, 264, 272及びC.I. Pigment Yellow 2
4, 31, 53, 83, 93, 95, 109, 110, 128, 129, 138, 13
9, 166及びC.I. Pigment Orange 43である。
ニンタイプの顔料単独、又はジアゾタイプ黄色顔料若し
くはイソインドリノンタイプ黄色顔料との混合物、特に
C.I.Pigment Green 7単独、C.I. Pigment Green 36単
独、C.I. Pigment Green 37単独、又はC.I. Pigment Gr
een 7、C.I. Pigment Green 36、C.I. Pigment Green3
7、 C.I. Pigment Green 136及びC.I. Pigment Yellow
83若しくはC. I. Pigment Yellow 139の少なくとも1種
との混合物を含む。他の適切な緑色顔料は、C.I. Pigme
nt Green 15及び25である。
サジンタイプ紫色顔料と組み合わせて用いられるフタロ
シアニンタイプ顔料であり、例えばC.I. Pigment Blue
15:3及びC.I. Pigment Violet 23の組み合わせである。
青色顔料の別の例は、例えばC.I. Blue 15:3, 15:4, 1
5:6, 16及び60、すなわちフタロシアニンCI Pigment Bl
ue 15:3又はフタロシアニンC.I. Pigment Blue 15:6で
ある。他の適切な顔料は、例えばC.I. Pigment Blue 2
2, 28, C.I. Pigment Violet 14,19, 23, 29, 32,37, 1
77及びC.I. Orange 73である。
好適には、カーボン、チタニウムブラック、及び酸化鉄
からなる群からの少なくとも1種を含む。しかしなが
ら、全体で黒色の外観を与える他の顔料との混合物もま
た、用いることができる。例えば、C.I. Pigment Black
1及び 7は、単独又は組み合わせて用いることができ
る。
組み合わせもまた用いることができる。カラーフィルタ
ーのために特に適切なものは、上記顔料を樹脂中に細か
く分散することにより製造した粉体様加工された顔料で
ある。
及び樹脂)は、例えば、5%〜80重量%の範囲、特に
20%〜40重量%の範囲である。
は、好適には平均粒径、可視光線(400nm〜700n
m)の波長より小さい平均粒径を有する。特に好適に
は、<100nmの平均顔料径である。
料の濃度は、5重量%〜80重量%、好適には20%〜
45%の範囲である。
分散安定性を改善するために分散剤で予備処理すること
により、光感受性配合物中で安定化することができる。
及び加工条件の例は、T. Kudo et al., Jpn. J. Appl.
Phys. Vol. 37 (1998) 3594; T. Kudo et al., J. Phot
opolym. Sci. Technol. Vol 9 (1996) 109; K. Kobayas
hi, Solid State Technol. Nov. 1992, p. S15-S18; US
5368976; US 5800952; US 5882843; US 5879855; US58
66298; US 5863678; JP 06-230212-A; EP 320264; JP 0
9-269410-A; JP 10-221843-A; JP 01-090516-A; JP 10-
171119-A; US 5821016; US 5847015; US 5882843; US 6
719008; EP 881541又はEP 902327に記載されている。
ジスト、例えば上記の例に述べたそれらに用いることが
できるか、又はそのようなレジストでの既知の光開始剤
を部分的又は完全に置き代えることができる。本発明の
新規な光開始剤の使用は、特定の結合剤樹脂、架橋剤及
びここに述べたカラーフィルターレジストの配合物の例
に限定されることなく、光感受性カラーフィルターイン
キ又はカラーフィルターレジストを形成させるために、
染料若しくは色顔料又は潜在的顔料と組み合わせて、あ
らゆる遊離基的な重合性成分に関連して用いることがで
きる。
緑色及び青(RGB)色要素、かつ場合により黒色マト
リックス(すべては、透明基質上に光感受性樹脂及び顔
料を含む)を準備しかつ基質の表面又はカラーフィルタ
ー層の表面のいずれかに透明電極を準備することにより
製造されるカラーフィルターであり、該光感受性樹脂
は、ポリ官能性アクリラートモノマー、有機ポリマー結
合剤及び上記の式(I)、(II)、(III)又は(IV)
の光重合開始剤を含む。モノマー及び結合剤成分並びに
適切な顔料は、上に記載されている。カラーフィルター
の製造において、透明電極は、透明基質の表面上に塗布
することができるか、又は赤色、緑色及び青色要素及び
黒色マトリックスの表面に施すことができる。透明基質
は、例えば更にその表面に電極層を有することがででき
るガラス基質である。カラーフィルターのコントラスト
を改善するために異なる色の色領域の間に黒色マトリッ
クスを塗布するのが好適である。
を形成し、かつ透明基質上に赤、緑及び青色領域を分離
する黒色パターンを形成するために、黒色光感受性配合
物を光リソグラフィ的にパターン様曝露(すなわち、適
切なマスクを通して)する代わりに、無機黒色マトリッ
クスを用いることは、別の方法として可能である。その
ような無機黒色マトリックスは、適切な画像方法、例え
ば、食刻レジストで保護されていない領域の無機層を食
刻し、次いで残留食刻レジストを除くことによる、食刻
レジストの手段による光リソグラフィパターン化を用い
ることにより、透明基質上の堆積(すなわち、スパッタ
リングされた)金属(すなわち、クロム)フィルムから
形成させることができる。
マトリックスを、どのように、かつ何で塗布することが
できるかについての異なる既知の方法がある。既に述べ
た赤、緑及び青(RGB)色カラーフィルターの形成の
前に、透明基質上に直接に塗布することができるか、又
はRGBカラーフィルターが、基質上に形成された後に
塗布することができる。
のためのカラーフィルターの異なる実施態様において、
黒色マトリックスは、RGBカラーフィルター要素含有
基質の反対側の基質上に塗布することができ、それは液
晶層により前者から分離されている。
要素及び場合により黒色マトリックスを塗布した後に、
堆積されるならば、保護層としての更なる被覆フィルム
を、電極層の堆積前に、例えばUS 5650263に
記載されているように、カラーフィルター層上に塗布す
ることができる。
色カラーフィルター及び黒色マトリックスを生成させる
ために、カラーフィルターの製造のために、上記の工程
の違いを考えることなく、塗布することができる更なる
層を考えることなく、かつカラーフィルターのデザイン
の違いを考えることなく、用いることができることは当
業者には自明である。着色された要素を形成するため
に、本発明の配合物の使用は、そのようなカラーフィル
ターの異なるデザイン及び製造方法により限定されると
は考えられない。
物中の有機ポリマー結合剤は、更なる重合性モノマー単
位として、アクリル酸、メアクリル酸などのような少な
くとも不飽和有機酸化合物を含むアルカリ可溶性コポリ
マーを含む。ポリマー結合剤のための更なるコモノマー
として、メチルアクリラート、エチル(メタ)アクリラ
ート、ベンジル(メタ)アクリラート、スチレンなどの
ような不飽和有機酸エステル化合物を、アルカリ溶解
性、接着剛性、化学的耐性などのような特性をバランス
させるために、用いることは、好適である。
368976に記載されているように、ランダムコポリ
マー又はブロックコポリマーのどちらかであることがで
きる。
スト配合物は、更に、少なくとも1種の重合性モノマー
化合物を含む。
明で用いられたエチレン性不飽和二重結合を有する付加
重合モノマーとして、他のモノマーと組み合わせて用い
ることができる。特に、それらは、t−ブチル(メタ)
アクリラート、エチレングリコールジ(メタ)アクリラ
ート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリラート、
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリラート、トリ
メチロ−ルプロパントリ(メタ)アクリラート、2−エ
チル−2−ブチルプロパンジオールジ(メタ)アクリラ
ート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリラー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリラー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリラー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリラー
ト、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリラート、トリス(2−(メタ)アクリロ
イルオキシエチル)イソシアヌラート、1,4−ジイソ
プロペニル−ベンゼン、1,4−ジヒドロキシベンゼン
(メタ)アクリラート、デカメチレングリコールジ(メ
タ)アクリラート、スチレン、ジアリルフマラート、ト
リアリルトリメリタート、ラウリル(メタ)アクリラー
ト、(メタ)アクリルアミド及びキシレンビス(メタ)
アクリルアミドを含む。更に、ヒドロキシル基を有する
化合物、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリラ
ート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリラート、
及びポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリラート
と、ジイソシアナート、例えばヘキサメチレンジイソシ
アナート、トルエンジイソシアナート、及びキシレンジ
イソシアナートの反応生成物を用いることができる。特
に好適なものは、ペンタエリスリトールテトラアクリラ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリラート及びトリス
(2−アクリロイルオキシエチル)−イソシアヌラート
である。
て、光重合性配合物中に含まられるモノマーの全量は、
配合物の全要素に基づいて、5〜80重量%、特に10
〜70重量%である。
られる結合剤、それはアルカリ水性溶液に可溶であり水
に不溶である、として、例えば分子中に1個以上の酸基
及び1個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物
のホモポリマー、又はそれらの化合物と共重性でありか
つ酸基を含まない、1種以上の共重合性不飽和結合を有
する1種以上の重合性化合物のコポリマーを用いること
ができる。そのような化合物は、分子中に1個以上の酸
基及び1個以上の重合性不飽和結合を有する低分子量化
合物の1種以上と、それらの化合物と共重合性でありか
つ酸基を有しない1個以上の不飽和結合を有する重合性
化合物の1種以上との共重合により得ることができる。
酸基の例は、−COOH基、−SO3基、−SO2NHC
O−基、フェノール性ヒドロキシ基、−SO2NH−基
及び−CO−NH−CO−基である。それらのうち、−
COOH基を有する高分子量化合物が、好適である。
合性不飽和結合を有する重合性化合物の例は、以下の化
合物を含む:アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、マレイン酸、ビニル安息香酸及びケイ皮酸
は、分子中に1個以上の−COOH基及び1個以上の重
合性基を含む重合性化合物の例である。ビニルベンゼン
スルホン酸及び2−(メタ)アクリルアミド−2−メチ
ルプロパンスルホン酸は、1個以上の−SO3基及び1
個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物の例で
ある。N−メチルスルホニル(メタ)アクリルアミド、
N−エチルスルホニル(メタ)アクリルアミド、N−フ
ェニルスルホニルメタ)アクリルアミド、及びN−(p
−メチルフェニルスルホニル)(メタ)アクリルアミド
は、1個以上の−SO2NHCO−基及び1個以上の重
合性基を含む重合性化合物の例である。
シ基及び1個以上の重合性基を含む重合性化合物の例
は、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、ジヒ
ドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシ
フェニル−カルボニルオキシエチル(メタ)アクリラー
ト、ヒドロキシフェニルオキシエチル(メタ)アクリラ
ート、ヒドロキシフェニルチオエチル(メタ)アクリラ
ート、ジヒドロキシフェニルカルボニルオキシエチル
(メタ)アクリラート、ジヒドロキシフェニルオキシエ
チル(メタ)アクリラート及びジヒドロキシ−フェニル
チオエチル(メタ)アクリラートを含む。
個以上の重合性基を含む重合性化合物の例は、下記式
(a)又は(b):
O−、−CONA7−、又は単結合を意味し;A1及びA
4は、それぞれ、H又はCH3を表し;A2及びA5は、そ
れぞれ、場合により置換基を有するC1−C1 2アルキレ
ン、シクロアルキレン、アリーレン若しくはアラルキレ
ン、又はエーテル基及びチオエーテル基が挿入されてい
るC2−C1 2アルキレン、シクロアルキレン、アリーレ
ン若しくはアラルキレンを表し;A3及びA6は、それぞ
れ、H、場合により置換基を有するC1−C1 2アルキ
ル、シクロアルキル、アリール又はアラルキル基を表
し;そしてA7は、H、場合により置換基を有するC1−
C1 2アルキル、シクロアルキル、アリール、又はアラル
キル基を表す)で示される化合物を含む。
個以上の重合性不飽和結合を有する重合性化合物は、マ
レイミド及びN−アクリロイルル−アクリルアミドを含
む。これらの重合性化合物は、−CO−NH−CO−基
を含む高分子量化合物になり、そこで重合により主鎖と
一緒になり環が形成される。更に、それぞれ−CO−N
H−CO−基を有する、メタクリル酸誘導体及びアクリ
ル酸誘導体を、同様に用いることができる。そのような
メタクリル酸誘導体及びアクリル酸誘導体は、例えば、
メタクリルアミド誘導体、例えばN−アセチルメタアク
リルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−
ブタノイルメタクリルアミド、N−ペンタノイルメタク
リルアミド、N−デカノイルメタクリルアミド、N−ド
デカノイルメタクリルアミド、N−ベンゾイルメタクリ
ルアミド、N−(p−メチルベンゾイル)メタクリルア
ミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミ
ド、N−(ナフチル−カルボニル)メタクリルアミド、
N−(フェニルアセチル)−メタクリルアミド及び4−
メタクロイルアミノフタルイミド並びにそれらと同様な
置換基を有するアクリルアミド誘導体を含む。これらの
重合性化合物は、側鎖に−CO−NH−CO−基を有す
る化合物であるように重合する。
含まない重合性化合物の例は、(メタ)アクリラート、
(メタ)アクリルアミド、アクリル化合物、ビニルエー
テル、ビニルエステル、スチレン及びクロトナートから
選択される重合性不飽和基を有する化合物を含み、かつ
特に、(メタ)アクリラート、例えばアルキル(メタ)
アクリラート又は置換アルキル(メタ)アクリラート
(例えば、メチル(メタ)アクリラート、エチル(メ
タ)アクリラート、プロピル(メタ)アクリラート、イ
ソプロピル(メタ)アクリラート、ブチル(メタ)アク
リラート、アミル(メタ)アクリラート、ヘキシル(メ
タ)アクリラート、シクロヘキシル(メタ)アクリラー
ト、エチルヘキシル(メタ)アクリラート、オクチル
(メタ)アクリラート、t−オクチル(メタ)アクリラ
ート、クロロ−エチル(メタ)アクリラート、アリル
(メタ)アクリラート、2−ヒドロキシ−エチル(メ
タ)アクリラート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリラート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリラー
ト、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシ−プロピル(メ
タ)アクリラート、5−ヒドロキシペンチル(メタ)ア
クリラート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アク
リラート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリラ
ート、ベンジル(メタ)アクリラート、メトキシ−ベン
ジル(メタ)アクリラート、クロロベンジル(メタ)ア
クリラート、フルフリル(メタ)アクリラート、テトラ
ヒドロフルフリル(メタ)アクリラート、フェノキシエ
チル(メタ)アクリラート、及びアリール(メタ)アク
リラート(例えば、フェニル(メタ)アクリラート、ク
レシル(メタ)アクリラート、及びナフチル(メタ)ア
クリラート);(メタ)アクリルアミド、例えば(メ
タ)アクリルアミド、N−アルキル(メタ)アクリルア
ミド(このアルキル基は、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、t−ブチル、ヘプチル、オクチル、エチ
ルヘキシル、シクロヘキシル、ヒドロキシ−エチル及び
ベンジルを含む)、N−アリール(メタ)アクリルアミ
ド、(このアリール基は、例えばフェニル、トリル、ニ
トロフェニル、ナフチル、及びヒドロキシフェニルを含
む)、N,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミド(こ
のアルキル基は、例えば、メチル、エチル、ブチル、イ
ソブチル、エチルヘキシル及びシクロヘキシルを含
む)、N,N−ジアリール(メタ)アクリルアミド(こ
のアリール基は、例えばフェニルを含む)、N−メチル
−N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキ
シエチル−N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−2
−アセトアミドエチル−N−アセチル(メタ)アクリル
アミド、N−(フェニル−スルホニル)(メタ)アクリ
ルアミド、及びN−(p−メチルフェニル−スルホニ
ル)(メタ)アクリルアミド;アリル化合物、例えばア
リルエステル(例えば、アリルアセタート、アリルカプ
ロアート、アリルカプリラート、アリルラウラート、ア
リルパルミタート、アリルステアラート、アリルベンゾ
アート、アリルアセトアセタート、及びアリルラクター
ト)、及びアリルオキシエタノール;ビニルエーテル、
例えばアルキルビニルエーテル(このアルキル基は、例
えばヘキシル、オクチル、デシル、エチルヘキシル、メ
トキシエチル、エトキシエチル、クロロエチル、1−メ
チル−2,2−ジメチルプロピル、2−エチルブチル、
ヒドロキシエチル、ヒドロキシエトキシエチル、ジメチ
ルアミノエチル、ジエチルアミノ−エチル、ブチルアミ
ノエチル、ベンジル、及びテトラヒドロフルフリルを含
む)、及びビニルアリールエーテル(このアリール基
は、例えばフェニル、トリル、クロロフェニル、2,4
−ジクロロ−フェニル、ナフチル、及びアントラニルを
含む);ビニルエステル、例えばビニルブチラート、ビ
ニルイソブチラート、ビニルトリメチルアセタート、ビ
ニルジエチル−アセタート、ビニルバラート、ビニルカ
プロアート、ビニルクロロ−アセタタート、ビニルジク
ロロアセタート、ビニルメトキシアセタート、ビニルブ
トキシアセタート、ビニルフェニルアセタート、ビニル
アセト−アセタート、ビニルラクタート、ビニル−b−
フェニルブチラート、ビニルシクロヘキシルカルボキシ
ラート、ビニルベンゾアート、ビニルサルシラート、ビ
ニルクロロベンゾアート、ビニルテトラクロロベンゾア
ート、及びビニルナフトアート;スチレン、例えばスチ
レン、アルキルスチレン、(例えば、メチルスチレン、
ジメチルスチレン、トリメチル−スチレン、エチルスチ
レン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチ
ルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレ
ン、デシル−スチレン、ベンジルスチレン、クロロメチ
ルスチレン、トリフルオロ−メチルスチレン、エトキシ
メチルスチレン、及びアセトキシスチレン)、アルコキ
シスチレン(例えば、メトキシスチレン、4−メトキシ
−3−メチルスチレン、及びジメトキシスチレン)、及
びハロゲノスチレン(例えば、クロロスチレン、ジクロ
ロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレ
ン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモ
スチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフ
ルオロスチレン、2−ブロモ−4−トリフルオロメチル
スチレン、及び4−フルオロ−3−トリフルオロメチル
−スチレン);クロトナート、例えばアルキルクロトナ
ート(例えば、ブチルクロトナート、ヘキシルクロトナ
ート、及びグリセリンモノクロトナート);ジアルキル
イタコナート(例えば、ジメチルイタコナート、ジエチ
ルイタコナート、及びじブチルイタコナート);ジアル
キルマレアート又はフマラート(例えば、ジメチルマレ
アート及びジブチルフマラート);及び(メタ)アクリ
ロニトリルを含む。
はコ−ポリマー又はノボラックタイプフェノール樹脂、
例えばポリ(ヒドロキシスチレン)及びポリ(ヒドロキ
シスチレン−コ−ビニルシクロヘキサノール)、ノボラ
ック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、及びハロゲン化
フェノールノボラック樹脂を用いることができる。更に
特に、それは、例えばコモノマーとしてのスチレンと
の、例えばメタクリル酸コポリマー、アクリル酸コポリ
マー、イタコン酸コポリマー、クロトン酸コポリマー、
マレイン酸無水物コポリマー、及びマレイン酸コポリマ
ー、並びに部分的にエステル化されたマレイン酸コポリ
マー、それぞれは、例えばJP 59−44615−B
4(ここで用いている用語“JP−B4”は、審査され
た日本特許公開を意味する)、JP 54−34327
−B4、JP 58−12577−B4、及びJP 5
4−25975−B4、JP 59−53836−A、
JP59−71048−A、JP 60−159743
−A、JP 60−258539−A、JP 1−15
2449−A、JP 2−199404−A、及びJP
2−199404−Aに記載され、並びにコポリマー
は、更にUS 560263に記載されているように、
アミンと反応させることができ;更に、側鎖にカルボキ
シル基を有するセルロース誘導体を用いることができ、
そして、ベンジル(メタ)アクリラートと(メタ)アク
リル酸のコポリマー及びベンジル(メタ)アクリラー
ト、(メタ)アクリル酸及びUS 4139391、J
P 59−44615−B4、JP 60−15974
3−A及びJP 60−258539−Aに記載されて
いるような他のモノマーとのコモノマーは特に好適であ
る。
を有するそれらに関し、光感受性、被覆フィルム強度、
被覆溶媒及び化学耐性並びに基質への接着性を改善する
ための光重合性有機結合剤ポリマーを得るために、カル
ボン酸基のいくつか又はすべてを、グリシジル(メタ)
アクリラート又はエポキシ(メタ)アクリラートと反応
させることは可能である。例は、JP 50−3444
3−B4及びUS 5153095、T. Kudo et al.
J. Appl. Phys., Vol. 37 (1998), p.3594-3603、US
5677385及びUS 5650233に記載され
ている。
00〜1,000,000、例えば3,000〜1,0
00,000、更に好適には5,000〜400,00
0である。
の混合物として用いることができる。光−感受性樹脂配
合物中の結合剤の含量は、全固体物質に基づいて、好適
には10〜95重量%、更に好適には15〜90重量%
である。
れの色の全固体成分は、イオン性不純物補足剤、例えば
エポキシ基を有する有機化合物を含むことができる。全
固体成分中のイオン性不純物補足剤の濃度は、0.1重
量%〜10重量%の範囲である。
し、イオン性不純物補足剤の組み合わせは、EP 32
0264に記載されている。EP 320264に記載
されているカラーフィルター配合物中の本発明の光開始
剤、すなわち式(I)、(II)、(III)及び(IV)の
化合物は、トリアジン開始剤を置き換えることができ
る。
0221843−Aに記載されているように、酸により
活性化される架橋剤を含むことができ、それは、熱的
に、又は化学線照射により酸を発生し、架橋反応を活性
化する。
被覆を含む潜在定顔料の熱処理の間に細かく分散され顔
料へ移行する潜在的顔料も含むことができる。熱処理
は、曝露後、又は潜在顔料−含有光画像性層の現像後
に、実施することができる。そのような潜在的顔料は、
例えばUS 5879855に記載のように、化学的、
熱的、光又は放射線誘導方法により、不溶性顔料へ移行
させることができる可溶性顔料前駆体である。そのよう
な潜在的顔料の移行は、化学線曝露で酸を生成する化合
物の添加又は配合物へ酸を添加することにより増強させ
ることができる。したがって、本発明の配合物に潜在的
顔料を含むカラーフィルターレジストを製造することも
できる。
とができる画像記録又は画像再作成(コピー、レプログ
ラフィ)のための、1−又は2−層以上の材料の生産の
ための適用を見出した。更に、この材料は、カラー耐性
システムに適切である。この技術において、マイクロカ
プセルを含む配合物が、用いられることができ、画像作
成のために、放射線硬化を、熱処理に続いて用いること
ができる。そのようなシステムは、例えばUS 537
6459に記載されている。
は、例えばポリエステル、セルロースアセタート、又は
ポリマー−被覆ペーパーのフィルムを含み;オフセット
印刷型の基質は、特に処理されたアルミニウムであり、
印刷回路を製造するための基質は、銅メッキラミネート
であり、そして集積回路を製造するための基質は、シリ
コンウエハーである。ホトグラフィ材料及びオフセット
印刷型のための層厚さは、一般に約0.5μm〜10μm
であり、一方印刷回路の厚さは、1.0μm〜約100
μmである。
燥により除去され、基質上にホトレジストの被覆を得
る。
め決められたパターンを含む光遮蔽、例えばスライド又
はレチクルを通す曝露、及びレーザー又は光ビームを用
いる曝露、それは、例えばコンピューター制御下に被覆
した基質の表面を移動し、この方法で画像を作成し、コ
ンピューター制御の電子線ビームで照射する、方法の両
者を含む。例えば、A. Bertsch, J.Y. Jezequel, J.C.
Andre in Journal ofPhotochemistry and Photobiology
A: Chemistry 1997, 107, p.275-181及びK.-P. Nicola
y in Offset Printing 1997, 6, p.34-37に記載されて
いるようにピクセルによりピクセルを記憶し、デジタル
画像を生成することもできる液晶から作成されたマスク
を用いることもできる。
に、短時間熱処理することが好都合であることができ
る。現像の後での熱焼き付けは、配合物を硬化させ、溶
媒の全痕跡を除くことができる。用いる温度は、一般に
50〜250℃、好適には80〜220℃であり;熱処
理の時間は、一般に0.25〜60分である。
0133581に記載されているように、印刷プレート
又はホトレジストの製造方法で用いることができる。そ
のような方法において、配合物は、画像方法照射の前、
同時に又はその後に、少なくも400nmの波長の可視光
にマスクなしに短時間曝露される。
感受性被覆の非曝露領域は、それ自体既知の方法で、現
像剤により除去される。
カリにより現像することができる。特に、適切な水性ア
ルカリ現像溶液は、テトラアルキルアンモニウムヒドロ
キシド又はアルカリ金属シリカート、ホスファート及び
カーボナートの溶液である。湿潤剤及び/又は有機溶媒
のより少ない量が、所望ならば、それらの溶液に加えて
もよい。現像溶液へ少量加えてもよい典型的な有機溶媒
の例は、シクロへキサノン、2−エトキシエタノール、
トルエン、アセトン及びそのような溶媒の混合物であ
る。基質に従い、また、溶媒は、現像剤として又は上述
したようにそのような溶媒と水性アルカリの混合物とし
て用いることができる。
成速度に対し重要なファクターであり、それは重要な秒
の割合の範囲であるべきであるので、光硬化は印刷のた
めに重要である。UV−硬化性インキは、特にスクリー
ン印刷及びオフセット印刷のために重要である。
ートを製造するために非常に適切である。この適用は、
例えば、カルボキシル基、ポリビニルアルコール若しく
はウレタンアクリラートを含む、可溶性線状ポリアミド
又はスチレン/ブタジエン及び/若しくはスチレン/イ
ソプレンラバーポリアクリラート又はポリメチルメタク
リラートと光重合性モノマー、例えばアクリルアミド及
び/若しくはメタクリルアミド、又はメタクリラート、
及び光開始剤の混合物を用いる。それらのシステム(湿
潤及び乾燥)のフィルム及びプレートは、印刷された最
初のネガ(又はポジ)の上で曝露され、次いで非硬化部
分は、適切な溶媒又は水性溶液を用いて洗い出される。
覆であり、この場合、例えば金属板及び管、缶又はビン
のふたであり、PVCに基づくポリマー被覆、例えばP
VCに基づく床又は壁の覆いの光硬化である。ペーパー
被覆の光硬化の例は、ラベル、レコードの紙袋及び本の
カバーの無色ワニスである。
された成形品を硬化させる新規な光開始剤の用途であ
る。複合材化合物は、自己支持マトッリクス材料、例え
ば、グラスファイバー織物、又は別のものとして、例え
ばプラントファイバー〔K.-P.Mieck, T. Reussmann in
Kunststoffe 85 (1995), 365-370参照〕からなり、これ
は光硬化配合物を組み込まれている。複合材を含む成形
部分は、新規な化合物を用いて製造されたとき、高水準
の機械的安定性及び耐性を達成する。これらの新規な配
合物は、例えばEP 7086に記載されているよう
に、成形品、組み込み品及び被覆配合物での光硬化剤と
して用いることができる。そのような配合物の例は、ゲ
ル被覆樹脂(これは、硬化活性及び黄色化耐性に関して
厳しい要求になりやすい)、及び繊維強化成形品、例え
ば光分散パネル(これは、平面であるか又は縦しわ又は
横しわを有する)である。そのような成形品、例えば手
仕上げ、噴霧仕上げ、遠心注型又は糸巻きのような成形
品を製造する技術が、例えばP.H. Selden in “Glasfas
erverstarkte Kunststoffe”, page 610、Springer Ver
lag Berlin-Heidelberg-New York 1967に記載されてい
る。それらの技術で製造することができる製品の例は、
ボート、繊維ボード、ガラス繊維強化プラスチックで両
側を被覆したボール紙パネル、管、容器などである。成
形、組み込み及び被覆配合物の例は、ガラス繊維(GR
P)を含む成形品、例えばしわ紙及びペーパーラミネー
トのためのUP樹脂ゲル被覆である。ラミネートを製造
する前に、ゲル被覆が支持材(例えば、フィルム)の上
に製造される。新規な光硬化性配合物は、注型樹脂又は
埋め込み製品、例えば電気部品のために用いることがで
きる。
ィ、導波管、光学スイッチの製造に用いることができ、
照射及び非照射領域の間の屈折率の差を大きくする利点
を有している。
硬化性配合物は、また重要である。そのような適用にお
いて、上に既述したように、支持材上に塗布されたその
層(湿潤又は乾燥)は、画像様に、例えば光マスクを通
して、UV又は可視光で照射され、層の非曝露領域は現
像剤で処理して除かれる。金属への光硬化性層の塗布
は、電着により実施することができる。曝露領域は、架
橋を通しての重合性であり、したがって不溶性であり、
支持材上に残る。適切な着色は、可視画像を調製する。
支持材がメタル化層である場合、金属は、曝露及び現像
に続いて、非曝露部分で食刻されるか、又はメッキによ
り強化される。この方法で、電子回路オ及びホトレジス
トを製造することができる。画像−形成材料で用いられ
るとき、新規な光開始剤は、いわゆる印刷画像の製造に
おいて、優れた効果を提供し、それにより色変化は、照
射により誘導される。そのような印刷画像を形成するた
めに、異なる染料及び/又はそれらのロイコ形態が用い
られ、そのような印刷画像システムの例は、例えばWO
96/41240、EP 706091、EP 51
1403、US 3579339及びUS 46222
86に見ることができる。
0nm〜600nm(UV−可視領域)に広がっている。適
切な照射は存在し、例えば太陽光又は人工光源の光であ
る。結論的に、多くの種々な光源が用いられる。点光源
及び配列(面ランプ)の両方が適切である。例は、カー
ボンアークランプ、ゼノンアークランプ、中圧、高圧及
び低圧水銀ランプ、多分金属ハロゲン化物をドープした
(金属−ハロゲンランプ)、マイクロ波励起金属ラン
プ、エキシマーランプ、超化学蛍光管、蛍光ランプ、ア
ルゴン白熱ランプ、電気フラッシュ光、写真用フラッド
ランプ、光発光ダイオード(LED)、電子線ビーム及
びX−線である。ランプと本発明の曝露される基質の距
離は、意図される適用、型及びランプの出力により変え
ることができ、例えば2cm〜150cmであることができ
る。レーザー光源、例えばエキシマレーザー、例えば2
48nmでの曝露のためのKrFエキシマレーザ及び19
3nmでの曝露のためのArFエキシマレーザは、適切で
ある。可視領域でのレーザも用いることができる。この
方法で、電子工業での印刷回路、リソグラフィオフセッ
ト印刷プレート又はレリーフ印刷プレート、及びホトグ
ラフ画像記録材料を製造することは、可能である。
エチレン性不飽和二重結合を含む、モノマー性、オリゴ
マー性又はポリマー性化合物の光重合のための方法であ
って、上述の化合物に、上記の、式(I)、(II)、
(III)又は(IV)の光開始剤の少なくとも1種を加
え、得られた配合物を電磁照射で、電子線ビーム又はX
線で、特に波長190〜600nmの光で照射することを
含む方法を提供する。
及びワニス、粉体被覆、印刷インキ、印刷プレート、接
着剤、歯科配合物、ホトレジストを含むレジスト材料、
カラーフィルター材料、電気及び電子部品を封止するた
めの組成物として、磁場記録材料、微小機械部品、導波
管、光学スイッチ、メッキ遮蔽、食刻遮蔽、カラープル
ーフィングシステム、グラスファイバーケーブル被覆、
スクリーン印刷型紙、の製造、ステレオリドグラフィの
手法による三次元物体の製造、及び画像記録材料、特に
ホログラフ記録、マイクロ電子回路、脱色材料、画像記
録材料のための脱色材料、マイクロカプセルを用いる画
像記録材料を製造するための配合物を提供する。
も一つの表面に被覆された基質を提供し、レリーフ画像
のホトグラフ製造の方法を記載し、そこで、被覆された
基質は、画像方法での曝露に付され、次いで非曝露部分
は、現像剤で除去される。画像方法の曝露は、マスクを
通してか又はレーザービームの方法により実施すること
ができる。特に、この文脈において、既に上記したよう
にレーザービーム曝露が好都合である。
も、低濃度において、高い感受性及び分解性を有してい
る。それらは、良好な熱安定性及び低揮発性を有し、空
気(酸素)の存在においての光重合にも適切である。更
に、本発明の化合物は、光重合後配合物中に低い黄色化
をもたらすのみである。
している。部及びパーセントは、明細書及びクレームに
おいて、特に断らないかぎり、重量である。3個を超え
る炭素原子を有するアルキル基が、特定の異性体に何ら
かの言及なしに参照されている場合、それぞれの場合
に、n−異性体を意味する。
フェニル)−ブタン−1,2−ブタン 2−オキシム−
O−アセタートの製造 式(I)において:R1=C2H5;R2=COCH3;
R3、R4、R5、R6、R7=SCH3 1.a.:1−(4−メチルスルファニル−フェニル)
−ブタン−1,2−ブタン 2−オキシム 11.0g(0.206mol)のナトリウムメトキシド
を、130mlのメタノールに懸濁した。次いで、イソア
ミルナイトライト(27ml、0.206mol)及び25
g(0.129mol)の1−(4−メチルスルファニル
−フェニル)−ブタン−1−オンを70mlのテトラヒド
ロフラン(THF)に溶解した溶液を加え、反応溶液を
室温で1.5日攪拌した。濃縮した後、水及び酢酸を加
えて中和した。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、
塩水(brine)で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃縮し
た。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ(溶離
剤:エチルアセタート−ヘキサン(15:85))で精
製した。構造は、1H−NMRスペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.14 (t,
3H), 2.52 (s, 3H), 2.72 (q, 2H), 7.25 (d, 2H), 7.8
6 (d, 2H), 8.01 (s, 1H).
−フェニル)−ブタン−1,2−ブタン 2−オキシム
−O−アセタート 3.5g(15.7mmol)の1−(4−メチルスルファ
ニル−フェニル)−ブタン−1,2−ブタン 2−オキ
シムを20mlのTHFに溶解し、次いで溶液を氷−浴で
冷却した。アセチルクロリド(1.23ml、17.3mm
ol)及びトリエチルアミン(3.3ml、23.6mmol)
を、順次加え、反応溶液を0℃で1時間攪拌し、次いで
水に注いだ。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、塩
水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃縮した。残渣を、
シリカゲルカラムクロマトグラフィ(溶離剤:エチルア
セタート−ヘキサン(20:80))で精製した。構造
は、1H−NMRスペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.17 (t,
3H), 2.27 (s, 3H), 2.53 (s, 3H), 2.78 (q, 2H), 7.2
7 (d, 2H), 8.00 (d, 2H).
は、相当するケトンから実施例1記載の方法に従い、ジ
クロロメタン中アルミニウムクロリドの存在下に相当す
る芳香族及びアシルクロリドを用いるフリーデルクラフ
ト反応を用いて製造した。化合物及び1H−NMR−デ
ータは、表1に示した。
ル−フェニル)−ブタン−1−オンオキシム−O−アセ
タートの製造 式(III)において:R1′=C3H7;R2=COCH3;
R5′=SCH3;R4′、R6 ′=H 22.a:1−(4−メチルスルファニル−フェニル)
−ブタン−1−オンオキシム 9.72g(50mmol)の1−(4−メチルスルファニ
ル−フェニル)−ブタン−1−オンを熱エタノール中へ
溶解した。次いで、20mlの水中のヒドロキシアンモニ
ウムクロリド(3.58g、51.5mmol)及びナトリ
ウムアセタート(7.0g、85mmol)の溶液を加え、
反応溶液を100℃で4時間攪拌した。冷却し、濃縮し
た後、水を加えた。粗生成物をエチルアセタートで抽出
し、塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(エチルアセタ
ート−ヘキサン(20:80)溶離剤)で精製した。構
造は、1H−NMRスペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 0.98 (t,
3H), 1.54-1.64 (m, 2H), 2.50 (s, 3H), 2.76 (t, 2
H), 7.24 (d, 2H), 7.54 (d, 2H), 7.98 (s, 1H).
−フェニル)−ブタン−1−オンオキシム−O−アセタ
ート 2.0g(9.56mmol)の1−(4−メチルスルファ
ニル−フェニル)−ブタン−1−オンオキシムを10ml
のテトラヒドロフラン(THF)に溶解し、溶液を氷−
浴で冷却した。アセチルクロリド(0.75ml、10.
5mmol)及びトリエチルアミン(2.0ml、14.3mm
ol)を順次に加え、反応溶液を0℃で1時間攪拌し、次
いで水に注いだ。粗生成物をエチルアセタートで抽出
し、塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(エチルアセタ
ート−ヘキサン(20:80)溶離剤)で精製した。生
成物は、無色油状物であった。構造は、1H−NMRス
ペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 0.98 (t,
3H), 1.56-1.64 (m, 2H), 2.26 (s, 3H), 2.50 (s, 3
H), 2.81 (t, 2H), 7.25 (d, 2H), 7.65 (d, 2H).
ニル−フェニル)−ブタン−1−オンオキシム−O−ア
セタートの製造 式(III)において:R1′=C3H7;R2=COCH3;
R4′、R6′=H;R5′=−SC6H5 化合物は出発物質として、1−(4−フェニルスルファ
ニル−フェニル)−ブタン−1−オンを用い、実施例2
2に従い製造した。構造は、1H−NMRスペクトルで
確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.0
4 (t,3H), 1.71 (m,2H), 2.
93(t, 2H), 7.32−7.52 (m,9
H), 7.62 (t,1H), 7.70 (d,
2H), 8.10 (d,2H).
チルスルファニル−フェニル)−酢酸エチルエステル−
O−アセタート 式(III)において:R1′=COC2H5;R2=CO
CH3;R4′、R6′=H;R5′=−SCH3 24.a:(4−メチルスルファニル−フェニル)−オ
キソ−酢酸エチルエステル 37.5g(0.3mol)のチオアニソール及び4.4
g(0.3mol)のクロロ−オキソ−酢酸エチルエステ
ルを200mlのジクロロメタンに溶解し、350mlのジ
クロロメタン中の60g(0.45mol)のアルミニウ
ムトリクロロクロリドの懸濁液へ0℃で滴下により加え
た。溶液を室温で一夜攪拌し、次いで2時間加熱還流し
た。室温に冷却した後、反応混合物を100ml濃HCl
と氷/水の混合物へ注加した。ジクロロメタンで抽出し
た後、有機相を、水及び炭酸水素ナトリウムで洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した。塩を濾別し、溶媒を留去
して、52.3g(78%)の(4−メチルスルファニ
ル−フェニル)−オキソ−酢酸エチルエステルを黄色油
状物として得た。この油状物は、更に精製することなく
次の工程で用いた。構造は、1H−NMRスペクトルで
確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 7.87 (d,
2H), 7.24 (d, 2H), 4.39 (q, 2H), 2.48 (s, 2H), 1.3
7 (t, 3H).
ルスルファニル−フェニル)−酢酸エチルエステル 22.4g(0.1mol)の(4−メチルスルファニル
−フェニル)−オキソ−酢酸エチルエステル及び7.6
g(0.1mol)の水酸化アンモニウム塩酸塩を、18
0mlのピリジンへ溶解し、混合物を室温で16時間攪拌
した。帯黄色溶液を水とエチルアセタートで抽出し、有
機相を分離し、水性相を数回エチルアセタートで抽出し
た。合わせた有機抽出物を希塩酸及び水で洗浄し、溶媒
を留去した。24g(100%)の粗ヒドロキシイミノ
−(4−メチルスルファニル−フェニル)−酢酸エチル
エステル(66:34のE及びZ異性体の混合物)を
得、更に精製することなく次の工程で用いた。構造は、
1H−NMRスペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 7.46 (d,
2H), 7.19 (d, 2H), 4.44 (E)及び4,32 (Z) (2 d,2H)
2.47 (Z)及び2.46 (E) (s, 3H) 1.37 (E)及び1.28(Z)
(t, 3H).
ルスルファニル−フェニル)−酢酸エチルエステル−O
−アセタート 14.35g(0.06mol)の粗ヒドロキシイミノ−
(4−メチルスルファニル−フェニル)−酢酸エチルエ
ステル及び9.1g(0.09mol)のトリエチルアミ
ンを、100mlのTHFに溶解した。5.2g(0.0
66mol)のアセチルクロリドを10mlのTHFに溶解
し、0℃で加えた。この懸濁液を室温に暖め、一夜攪拌
した。反応混合物をエチルアセタート及び水で希釈し、
水相を数回更なるエチルアセタートで抽出し、合わせた
有機画分を塩水及び水で洗浄し、MgSO4で乾燥し
た。溶媒を留去して、油状物として粗生成物を得、シリ
カゲル濾過により精製した。11.2g(66%)のヒ
ドロキシイミノ−(4−メチルスルファニル−フェニ
ル)−酢酸エチルエステル−O−アセタートを帯黄色油
状物として得た。1H−NMRスペクトルは、(E)及
び(Z)異性体の70:30混合物であるあること示し
た。構造は、1H−NMRスペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 7.59及び
7.43 (d, 2H), 4.44及び4.35 (q, 2H), 2.48及び2.47
(s, 3H), 2.15及び2.13 (s, 3H) 1.33及び1.32 (t,3H). 元素分析: %C %H %N %S 計算値: 55.50 5.37 4.98 11.40 実測値: 55.54 5.46 4.95 11.41
チルスルファニル−フェニル)−酢酸エチルエステル−
O−ベンゾアート 式(III)において:R1′=COOC2H5;R2=
5mol)のヒドロキシイミノ−(4−メチルスルファニ
ル−フェニル)−酢酸エチルエステル−O−アセタート
を7.95g(0.056mol)のベンゾイルクロリド
と反応させた。17.5gの粗生成物を帯褐色油状物と
して得、更にシリカゲルフラッシュクロマトグラフィ
(溶離剤:石油エーテル/エチルアセタート5:1、
3:1)に付した。最初の画分(帯黄色油状物、5.4
g、31%)を、1H−NMRにより、ヒドロキシイミ
ノ−(4−メチルスルファニル−フェニル)−酢酸エチ
ルエステル−O−ベンゾアートの純粋な(E)異性体で
あると同定した。第2の画分(帯黄色油状物、7.6
g、44%)を、ヒドロキシイミノ−(4−メチルスル
ファニル−フェニル)−酢酸エチルエステル−O−ベン
ゾアートの(E)及び(Z)異性体の45:55混合物
であると同定した。 画分1((E)−異性体): 1H−NMRスペクトル(CD
Cl3)δ〔ppm〕: 8.01 (d, 2H), 7.68 (d, 2H), 7.57
(t, 1H), 7.48 (t, 2H), 7.25 (d, 2H), 4.49 (q,2H),
2.49 (s, 3H), 1.38 (t, 3H). 元素分析: %C %H %N %S 計算値: 62.96 4.99 4.08 9.34 実測値: 62.98 4.99 3.97 9.20
−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 8.01及び7.89
(d, 2H), 7.68-7.20 (7H), 4.49及び4.39 (q, 2H), 2.
52及び2.49 (s, 3H), 1.40及び1.38 (t, 3
H). 元素分析: %C %H %N %S 計算値: 62.96 4.99 4.08 9.34 実測値: 62.79 4.90 4.34 9.25
−ジメトキシ−フェニル)−酢酸エチルエステル−O−
アセタート 式(III)において:R1′=COOC2H5;R2=C
OCH3、;R4′=OCH3、R5′=OCH3、R6′=
H 26.a.:(3,4−ジメトキシ−フェニル)−オキ
ソ−酢酸エチルエステルこの化合物は、実施例24.
a.記載の方法と類似に、出発物質としてチオアニソー
ルに代えて、ベラトロールを用いて製造した。収量:7
4%の橙色油状物。構造は、1H−NMRスペクトルで
確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 7.58 (dx
d, 1H), 7.53 (d, 1H), 6.87 (d, 1H), 4.38 (q, 2H),
3.92 (s, 3H), 3.89 (s, 3H), 1.37 (q, 3H).
ル)−ヒドロキシイミノ−酢酸エチルエステル この化合物は、(3,4−ジメトキシ−フェニル)−オ
キソ−酢酸エチルエステルから、実施例24.bに記載
のように製造し、(E)及び(Z)の80:20混合物
を83%の収率で得た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 8.43 (幅
広 s, 1H), 7.18及び7.17(d, 1H), 6.99 (dxd, 1H), 6.
83 (d, 1H), 4.44及び4.33 (q, 2H), 3,90, 3.89, 3.8
7, 3.86 (s, 6H), 1.38, 1.36 (t, 3H).
シフェニル)−2−アセチルオキシイミノ−アセタート 実施例24.c.に記載のように、(3,4−ジメトキ
シ−フェニル)−ヒドロキシイミノ−酢酸エチルエステ
ルをアセチルクロリドと反応させた。生成物は、帯黄色
油状物として、79%収率で得た。1H−NMRスペク
トルは、(E)及び(Z)異性体の85:15の混合物
であることを示した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 7.38及び
7.32 (d, 1H), 7.15-7.10(1H), 6.88及び6.83 (d, 1H),
4.44及び4.35 (q, 2H), 3.87, 3.86, 3.84, 3.83 (s,
6H), 2.27及び2.16 (s, 3H), 1.37及び1.32 (d, 3H). 元素分析: %C %H %N 計算値: 56.95 5.80 4.74 実測値: 56.71 5.76 4.88
キシフェニル)−2−ベンゾイルオキシイミノミノ−ベ
ンゾアート 式(III)において:R1′=COOC2H5;R2=
ドロキシイミノ−酢酸エチルエステルから、実施例25
に記載されたように、ベンゾイルクロリドとの反応によ
り製造した。固体生成生成物をトルエンから再結晶し、
純粋な(E)異性体を白色結晶として得た。融点:98
〜99℃(収率:49%)。母液から溶媒を留去して、
43%の帯黄色液体を得た。これは1H−NMRスペク
トルから、(E)及び(Z)異性体の粗55:45混合
物であった。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: (E)-異性
体: 8.02 (d, 1H), 7.57,7.49 (d), 7.48 (t, 3H), 7.1
3 (d, 1H), 6.87 (d, 2H), 4.49 (q, 2H), 3.94(s, 3
H), 3.92 (s, 3H), 1.39 (t, 3H). 元素分析: %C %H %N 計算値: 63.86 5.36 3.92 実測値: 63.95 5.37 3.75
ル−フェニル)−ブタン−1−オンオキシム−O−ベン
ゾアート 式(III)において:R1′=C3H7;R2=
アセチルクロリドに代えてベンゾイルクロリドを用いて
製造した。生成物を室温放置により固体化する油状物と
して得た(m.p.48〜53℃)。構造は、1H−NMR
スペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.04 (t,
3H), 1.71 (dt, 2H), 2.52 (s, 3H), 2.94 (t, 2H), 7.
27 (d, 2H), 7.51 (t, 2H), 7.62 (t, 1H), 7.74(d, 2
H), 8.11 (d, 2H).
ニル−フェニル)−オクタン−1−オンオキシム−O−
アセタート 式(III)において:R1′=C7H1 5;R2=COC
H3;R4′、R6′=H;R5′=SC6H5 この化合物は、実施例22bの記載にしたがい、相当す
るケトンから製造した。生成物は油状物として得た。構
造は、1H−NMRスペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 0.8
7 (t, 3H), 1.20−1.39 (m,
8H), 1.49−1.60 (m, 2H),
2.25 (s, 3H), 2.79 (t, 2
H), 7.26 (d, 2H), 7.31−7.
38(m, 3H), 7.42 (d, 2H),
7.61 (d, 2H).
ニル−フェニル)−オクタン−1−オンオキシム−O−
ベンゾアート 式(III)において:R1′=C7H1 5;R2=COC
H3;R4′、R6′=H;R5′=SC6H5 この化合物は、実施例29の記載のように、アセチルク
ロリドに代えて、ベンゾイルクロリドを用いて製造し
た。構造は、1H−NMRスペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 0.85 (t,
3H), 1.25-1.44 (m, 8H), 1.65 (t, 2H), 2.94 (t, 2
H), 7.20-7.45 (m, 7H), 7.50 (t, 2H), 7.62 (t,1H),
7.69 (d, 2H), 8.10 (d, 2H).
1−(4−メチルスルファニル−フェニル)−エタノン
オキシム−O−アセタート 式(III)において:R1′=CF3;R2=COCH3;
R4′、R6′=H;R5′=SCH3 31.1:2,2,2−トリフルオロ−1−(4−メチ
ルスルファニル−フェニル)−エタノン 500mlのCH2Cl2中の50.0g(403mmol)の
チオアニソール及び49.2g(403mmol)の4−ジ
メチルアミノピリジンへ、84.6g(403mmol)ト
リフルオロ酢酸無水物、次いで123g(926mmol)
のAlCl3を注意深く0℃で加えた。反応混合物を室
温で1夜攪拌し、次いで氷中へ注加した。CH2Cl2で
抽出した後、有機層を水、水性アンモニア溶液、次いで
塩水で洗浄し、無水MgSO4で乾燥した。濾過し、溶
媒を濾過した後、50.0gの帯黄色固体を得た(56
%)。この固体は、更に精製することなく次の工程で用
いた。構造は、1H−NMRスペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d
2.55 (s, 3H), 7.32 (d, 2
H), 7.97 (d, 2H).
−(4−メチルスルファニル−フェニル)−エタノンオ
キシム 49.3g(224mmol)の2,2,2−トリフル
オロ−1−(4−メチルスルファニル−フェニル)−エ
タノンを、250mlの熱エタノール中に溶解した。この
溶液に、125mlの水中のヒドロキシアンモニウムクロ
リド(16.3g、235mmol)及びナトリウムアセタ
ート(31.2g、381mmol)溶液を加え、反応溶液
を6.5時間還流下に加熱した。反応混合物をロータリ
ーエバポレーターで濃縮し、氷/水中に注加した。得ら
れた帯黄色固体を濾過し、水で洗浄した。減圧下に乾燥
し、ヘキサン−エチルアセタートから再結晶し、28.
4gの白色固体(54%)を得た。構造は、1H−NM
Rスペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 2.51
(s, 3H), 7.31 (d, 2H), 7.49 (d, 2H), 8.80 (幅広 s,
1H).
−(4−メチルスルファニル−フェニル)−エタノンオ
キシム−O−アセタート 30mlのTHF中の2,2,2−トリフルオロ−1−
(4−メチルスルファニル−フェニル)−エタノンオキ
シム(2.00g、8.50mmol)及びアセチルクロリ
ド(0.734g、9.35mmol)の溶液に、トリエチ
ルアミン(1.29g、12.8mmol)を0℃で滴下に
より加えた。0℃で3時間攪拌した後、反応混合物を氷
/水に注加した。生成物をエチルアセタートで抽出し、
有機層を水性NaHCO3及び塩水で洗浄し、続いて無
水MgSO4で乾燥した。濾過し、溶媒を蒸発させた
後、所望の生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
(溶離剤:エチルアセタート−ヘキサン(1:9))で
精製した。1.20gの無色油状物を得た(51%)。
構造は、1H−NMRスペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 2.11
(s, 3H), 2.45 (s, 3H), 7.24 (d, 2H), 7.32 (d, 2H).
1−(4−フェニルスルファニル−フェニル)−エタノ
ンオキシム−O−アセタート 式(III)において:R1′=CF3;R2=COCH3;
R4′、R6′=H;R5′=SC6H5 32.1:2,2,2−トリフルオロ−1−(4−フェ
ニルスルファニル−フェニル)−エタノン 500mlのCH2Cl2中の37.3g(200mmol)の
ジフェニルスルフィド及び36.7g(300mmol)の
4−ジメチルアミノピリジンへ、63.0g(300mm
ol)のトリフルオロ酢酸無水物、続いて92.0g(6
90mmol)のAlCl3を、0℃で注意して加えた。反
応混合物を室温で一夜攪拌し、次いで氷中へ注いだ。C
H2Cl2で抽出し、有機層を水、水性塩化アンモニウム
及び塩水で洗浄し、無水MgSO4で乾燥した。濾過し
溶媒を留去した後、54.1gの褐色油状物を得た。1
0gの粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
(溶離剤:CH2Cl2−ヘキサン(1:4))に付し
た。7.40gの帯黄色油状物を得た(13%)。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 7.19
(d, 2H), 7.45-7.49 (m, 3H), 7.54-7.7.58 (m, 2H),
7.90 (d, 2H).
−(4−フェニルスルファニル−フェニル)−エタノン
オキシム 6.21g(22.0mmol)の2,2,2−トリフルオ
ロ−1−(4−フェニルスルファニル−フェニル)−エ
タノンを25mlの熱エタノール中に溶解した。この溶液
に、12.5mlの水中のヒドロキシアンモニウムクロリ
ド(1.61g、23.1mmol)及びナトリウムアセタ
ート(3.07g、37.4mmol)を滴下により加え、
反応溶液を6時間還流下に攪拌した。反応混合物をロー
タリーエバポレーターで濃縮し、氷/水中へ注いだ。得
られた白色固体を濾過し、水で洗浄した。減圧下に乾燥
した後、ヘキサン−CH2Cl2からの再結晶により4.
1gの白色固体(63%)を得た。構造は、1H−NM
Rスペクトルで確認した。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d
7.26 (d, 2H), 7.36−7.44
(m, 5H), 7.48−7.51 (m, 2
H), 8.78 (s, 1H).
−(4−フェニルスルファニル−フェニル)−エタノン
オキシム−O−アセタート THF(25ml)中の2,2,2−トリフルオロ−1
−(4−フェニルスルファニル−フェニル)−エタノン
オキシム(1.50g、5.05mmol)及びアセチルク
ロリド(0.436g、5.56mmol)の溶液に、トリ
エチルアミン(0.766g、7.57mmol)を0℃で
滴下により加えた。0℃で3時間攪拌した後、反応混合
物を氷/水に注加した。生成物をエチルアセタートで抽
出し、次いで有機層を水性NaHCO3及び塩水で洗浄
し、続いて無水MgSO4で乾燥した。濾過し、溶媒を
留去した後、所望の生成物は、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィ(溶離剤:CH2Cl2−ヘキサン(1:
1))で精製した。0.91gの白色固体を、シン及び
アンチの混合物として得た(53%)。少量の異性体に
対する主異性体の割合は、1H−NMRに基づいて、8
7:13であった。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 2.18及
び2.28 (s, 3H), 7.24 (d, 2H), 7.34-7.53 (m, 7H). シグナルは、以下のように主異性体(E)に当てはめ
た。d 2.18 (s, 3H), 7.34(d, 2H), 7.53 (dd, 2H). 固体の融点は、76〜80℃であった。
ニル−フェニル)−デカン−1−オンオキシム−O−ペ
ンタフルオロベンゾアート 式(III)において:R1′=C9H1 9;R2=COC
6F5;R4′、R6′=H;R5′=SC6H5 THF(25ml)中の1−(4−フェニルスルファニル
−フェニル)−デカン−1−オンオキシム(2.00
g、5.63mmol)及びペンタフルオロベンゾイルクロ
リド(1.43g、6.19mmol)の溶液に、トリエチ
ルアミン(0.85g、8.45mmol)を、0℃で滴下
により加えた。0℃で1時間攪拌した後、反応混合物を
氷/水に注加した。生成物をエチルアセタートで抽出
し、有機層をNaHCO3水性溶液で洗浄し、続いて無
水MgSO4で乾燥した。濾過し、溶媒を留去した後、
所望の生成物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
(溶離剤:CH2Cl2−ヘキサン(1:4))で精製し
た。2.08gの白色固体(融点:56〜59℃)を得
た(67%)。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 0.86
(t, 3H), 1.2-1.4 (m, 12H), 1.56 (幅広 s, 2H), 2.84
(t, 2H), 7.27 (d, 2H), 7.35-7.38 (m, 3H), 7.45 (d
d, 2H), 7.64 (d, 2H).
1−(4−メチルスルファニル−フェニル)−プロパン
−1−オンオキシム−O−アセタート 式(III)において:R1′=CF3CH2;R2=COC
H3;R4′、R6′=H;R5′=SCH3 34.1:N,N−ジメチルN′−(4−メチルスルフ
ァニル−ベンジリデン)−ヒドラジン 7.44g(48.9mmol)の4−メチルチオベンザル
デヒド及び4.0ml(52.7mmol)の1,1−ジメチ
ルヒドラジンをトルエン(50ml)に溶解し、2.5時
間還流下に加熱した。塩水を、この反応混合物に加え
た。冷却した後、生成物をトルエンで抽出した。トルエ
ン層を濃縮し残渣をシリカゲルクロマトグラフィ(溶離
剤:アセトン−ヘキサン(1:20))に付した。9.
07gの淡黄色油状物を得た(96%)。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 2.48
(s, 3H), 2.96 (s, 6H), 7.20 (s, 1H), 7.21 (d, 2H),
7.49 (d, 2H).
−(4−メチルスルファニル−フェニル)−プロパン−
1−オン 64ml(453mmol)のトリフルオロ酢酸無水物を、ピ
リジン中の8.68g(44.7mmol)のN,N−ジメ
チル−N′−(4−メチルスルファニル−ベンジリデ
ン)−ヒドラジンに0℃で20分かけて、滴下により加
えた、次いで、反応溶液を、徐々に室温まで暖め、一夜
攪拌した。過剰のトリフルオロ酢酸無水物及びピリジン
をロータリーエバポレーターを用いて、減圧下に留去し
た。残渣を200mlのアセトニトリル及び200mlの6
N HCl水性溶液に溶解した。室温で一夜攪拌した後、
反応溶液をNaHCO3で中和した。アセトニトリルを
除いて白色固体を得、濾過し、水で洗浄した。生成物を
シリカゲルクロマトグラフィ(溶離剤:アセトン−ヘキ
サン(1:1))に付した。3.18gの白色結晶(融
点118〜120℃)を得た(30%)。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 2.54
(s, 3H), 3.75 (q, 2H), 7.29 (d, 2H), 7.84 (d, 2H)
−(4−メチルスルファニル−フェニル)−プロパン−
1−オンオキシム ヒドロキシアンモニウムクロリド(1.07g、15.
4mmol)及びナトリウムアセタート(1.85g、2
2.5mmol)を、10mlの水に溶解した。この溶液に、
30mlのエタノール中の2.35g(10.0mmol)の
3,3,3−トリフルオロ−1−(4−メチルスルファ
ニル−フェニル)−プロパン−1−オンを加えた。反応
混合物を6.5時間攪拌した。反応混合物をロータリー
エバポレーターで留去して濃縮し、水に注加した。生成
物をCH2Cl2で抽出し、有機層を水で洗浄し、無水M
gSO4で乾燥した。溶媒を留去した後、生成物をシリ
カゲルクロマトグラフィ(溶離剤:CH2Cl2−ヘキサ
ン(2:1))に付した。1.48gの白色結晶(融点
106〜107℃)を得た(59%)。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 2.51
(s, 3H), 3.73 (q, 2H), 7.26 (d, 2H), 7.57 (d, 2H),
8.23 (s, 1H).
−(4−メチルスルファニル−フェニル)−プロパン−
1−オンオキシム−O−アセタート THF(10ml)中の3,3,3−トリフルオロ−1−
(4−メチルスルファニル−フェニル)−プロパン−1
−オンオキシム(1.12g、4.50mmol)及びアセ
チルクロリド(0.35ml、4.92mmol)の溶液に、
ピリジン(0.40ml、4.95mmol)を0℃で滴下に
より加えた。一夜室温で攪拌した後、反応混合物を水に
注加した。生成物をTHFで抽出し、有機層をNaHC
O3次いで塩水で洗浄し、続いて無水MgSO4で乾燥し
た。濾過し、溶媒を留去した後、所望の生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ(溶離剤:CH2Cl2−ヘ
キサン(2:1))で精製した。0.997gの淡黄色
固体(融点70〜71℃)を得た(76%)。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 2.28
(s, 3H), 2.51 (s, 3H), 3.75 (q, 2H), 7.26 (d, 2H),
7.69 (d, 2H).
ル−フェニル)−2−フェニル−エタノンオキシム−O
−アセタート 式(III)において:R1′=C6H5CH2;R2=COC
H3;R4′、R6′=H;R5′=SCH3 35.1:1−(4−メチルスルファニル−フェニル)
−2−フェニル−エタノン チオアニソール(6.22g、50mmol)をCH2Cl2
(5ml)で希釈し、CH2Cl2(45ml)中のAlCl
3(6.8g、51mmol)の懸濁液に加えた。CH2Cl
2(15ml)中のフェニルアセチルクロリド(7.73
g、50.0mmol)を0℃で5分にわたり滴下により加
えた。次いで、反応溶液を徐々に室温まで暖め、一夜攪
拌した。反応溶液を氷に注加した。得られた白色沈殿を
CH2Cl2で抽出し、有機層を水及び水性NaHCO3
で洗浄し、続いてMgSO4で乾燥した。溶媒を留去し
た後、残渣をヘキサンから再結晶した。10.4gの白
色固体を得た(86%)。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 2.50
(s, 3H), 4.23 (s, 2H), 7.22-7.27 (m, 5H), 7.32 (t,
2H), 7.91 (d, 2H)
−フェニル)−2−フェニル−エタノンオキシム ヒドロキシアンモニウムクロリド(4.19g、60.
2mmol)及びナトリウムアセタート(7.42g、9
0.4mmol)を20mlの水に溶解した。60mlのエタノ
ール中の9.72g(40.1mmol)の1−(4−メチ
ルスルファニル−フェニル)−2−フェニル−エタノン
の溶液に加えた。反応混合物を18時間加熱還流した。
反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮し、水中
に注加した。得られた白色固体を水で洗浄した。減圧下
で乾燥し、ヘキサン−CH2Cl2から再結晶し、7.3
2gの白色固体を得た(71%)。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 2.45
(s, 3H), 4.20 (s, 2H), 7.16-7.20 (m, 3H), 7.24-7.2
7 (m, 4H), 7.54 (d, 2H), 9.03 (s, 1H).
−フェニル)−2−フェニル−エタノンオキシム−O−
アセタート THF(20ml)中の1−(4−メチルスルファニル−
フェニル)−2−フェニル−エタノンオキシム(2.6
4g、10.3mmol)及びアセチルクロリド(0.8m
l、11.3mmol)の溶液に、ピリジン(1.0ml、1
2.4mmol)を0℃で滴下により加えた。室温で一夜攪
拌した後、反応混合物を水に注加した。生成物をTHF
で抽出し、有機層を水性NaHCO3溶液及び塩水で洗
浄し、続いて無水MgSO4で乾燥した。濾過し、溶媒
を留去した後、所望の生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ(溶離剤:CH2Cl2)で精製した。2.7
9gの白色固体(融点57〜59℃)を得た(91
%)。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: d 2.20
(s, 3H), 2.44 (s, 3H), 4.20 (s, 2H), 7.16-7.23 (m,
5H), 7.26 (dd, 2H), 7.67 (d, 2H).
スルファニル−フェニル)−ノナン−1,2,8,9−
テトラオン2,8−ジオキシムジ(O−アセタート) 式(II)において:M=−(CH2)5−;R2=COC
H3;R3、R4、R6、R7=H;R5=SCH3 36.1:1,9−ビス−(4−メチルスルファニル−
フェニル)−ノナン−1,9−ブタン チオアニソール(23.5ml、0.20mol)を、20
0mlのCH2Cl2のAlCl3(27.3g、0.20
5mol)の懸濁液へ加えた。アゼラオイルクロリド(1
9.7ml、0.10mol)を、徐々に滴下により加え、
その間反応混合物を氷−浴で冷却し、反応溶液を19時
間室温で攪拌した。反応溶液を氷/水中運に注加した。
生成した白色沈殿を濾別し、粗生成物を濾液からCH2
Cl2で抽出し、塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃
縮した。残渣をi−Pr2O−CHCl3から再結晶によ
り精製した。生成物を白色固体として得た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.35-1.43
(m, 6H), 1.72 (t, 4H), 2.52 (s, 6H), 2.91 (t, 4
H), 7.26 (d, 4H), 7.87 (d, 4H).
ルファニル−フェニル)−ノナン−1,2,8,9−テ
トラオン2,8−ジオキシム 5.0g(12.5mmol)の1,9−ビス−(4−メチ
ルスルファニル−フェニル)−ノナン−1,9−ブタン
を、120mlのt−ブチルメチルエーテル及び200ml
のCH2Cl2に溶解した。HClガスをこの混合物を通
して吹き込み、続いてメチルナイトライト−ガスを0.
5時間吹き込んだ。吹き込みが終了した後、反応溶液を
水に注加した。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、
水及び塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃縮した。
残渣をメタノールからの再結晶により精製した。帯黄色
固体の生成物を得た。1 H−NMRスペクトル(DMSO-d6)δ〔ppm〕: 1.25
(m, 2H), 1.41 (m, 4H), 2.45 (s, 6H), 2.50 (t, 4H),
7.24 (d, 4H), 7.69 (d, 4H).
ルファニル−フェニル)−ノナン−1,2,8,9−テ
トラオン2,8−ジオキシムジ(O−アセタート) アセチルクロリド(0.33ml、4.58mmol)及びト
リエチルアミン(0.91ml、6.54mmol)を、35
mlのTHF中の1,9−ビス−(4−メチルスルファニ
ル−フェニル)−ノナン−1,2,8,9−テトラオン
2,8−ジオキシム(1.0g、2.18mmol)の溶液
へ加えた。0℃で3時間攪拌した後、生成した固体を濾
別した。粗生成物を濃縮し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィ(溶離剤エチルアセタート−ヘキサン(1:4
〜2:3))で精製した。生成物を粘稠油状物として得
た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.40-1.49
(m, 2H), 1.52-1.64 (m, 4H), 2.25 (s, 6H), 2.52
(s, 6H), 2.76 (t, 4H), 7.26 (d, 4H), 7.98 (d,4H).
スルファニル−フェニル)−ノナン−1,9−ブタンジ
オキシムジ(O−アセタート) 式(IV)において:M=−(CH2)7−;R2=COC
H3;R4′、R6′=H;R5′=SCH3 37.1:1,9−ビス−(4−メチルスルファニル−
フェニル)−ノナン−1,9−ブタンジオキシム 8.0g(20mmol)の1,9−ビス−(4−メチルス
ルファニル−フェニル)−ノナン−1,9−ブタンを、
400mlの熱エタノール及び70mlの熱THFに溶解し
た。次いで、70mlの水中のヒドロキシアンモニウムク
ロリド(2.9g、42mmol)及びナトリウムアセター
ト(5.6g、68mmol)の溶液を加え、反応溶液を3
時間100℃で攪拌した。冷却し、濃縮し、水を加え
た。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、塩水で洗浄
し、MgSO4で乾燥し、濃縮した。残渣をメタノール
から再結晶した。生成物を白色固体として得た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.30-1.40
(m, 6H), 1.48-1.58 (m, 4H), 2.50 (s, 6H), 2.75
(t, 4H), 7.23 (d, 4H), 7.52 (d, 4H).
ルファニル−フェニル)−ノナン−1,9−ブタンジオ
キシムジ(O−アセタート) アセチルクロリド(0.69ml、9.74mmol)及びト
リエチルアミン(1.9ml、13.9mmol)を、70ml
の水中の1,9−ビス−(4−メチルスルファニル−フ
ェニル)−ノナン−1,9−ブタンジオキシム(2.0
g、4.64mmol)の溶液へ加えた。0℃で30分攪拌
した後、生成した固体を濾別した。粗生成物を濃縮し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィ(溶離剤:エチルア
セタート−ヘキサン(1:4〜2:3))により精製し
た。生成物を粘稠油状物として得た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.27-1.40
(m, 6H), 1.48-1.58 (m, 4H), 2.25 (s, 6H), 2.50
(s, 6H), 2.80 (t, 4H), 7.24 (d, 4H), 7.63 (d,4H).
トキシイミノ−ブチリル)−フェニルスルファニル〕−
フェニル}−ブタン−1,2−ブタン 2−オキシム−
O−アセタート 式(I)において、R1=C2H5;R2=−COCH3;
R3、R4、R6=H;R5=SR9;R9=
ァニル)−フェニル〕−ブタン−1−オン ジフェニルスルフィド(33.3ml、0.20mol)
を、350mlのCH2Cl2のAlCl3(54.7g、
0.41mol)の懸濁液に加えた。n−ブチリルクロリ
ド(41.4ml、0.40mol)を、氷−浴中で徐々に
滴下により加え、反応溶液を室温で15時間攪拌した。
次いで、反応溶液を氷/水中へ注加した。粗生成物をC
H2Cl2で抽出し、1NのNaOH及び塩水で洗浄し、
MgSO4で乾燥し、濃縮した。生成物を白色固体とし
て得た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕:δ 〔pp
m〕: 1.00 (t, 6H), 1.77 (tq, 4H), 2.92 (t, 4H), 7.
40 (d, 4H), 7.90 (d, 4H).
キシイミノ−ブチリル)−フェニルスルファニル〕−フ
ェニル}−ブタン−1,2−ブタン 2−オキシム 20g(61mmol)の1−〔4−(4−ブチリル−フェ
ニルスルファニル)−フェニル〕−ブタン−1−オン
を、300mlのt−ブチルメチルエーテル及び50mlの
CH2Cl2に溶解した。HClガスをこの混合物を通し
て吹き込み、続いてメチルナイトライト−ガスを0.5
時間吹き込んだ。吹き込みが終了した後、反応溶液を水
に注加した。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、水
及び塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃縮した。シ
リカゲルカラムクロマトグラフィ(溶離剤:エチルアセ
タート−ヘキサン(1:8〜1:3))により精製し
た。帯黄色固体の生成物を得た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.15 (t,
6H), 2.73 (q, 4H), 7.35 (d, 4H), 7.84 (d, 4H), 8.4
0 (bs, 2H).
キシイミノ−ブチリル)−フェニルスルファニル〕−フ
ェニル}−ブタン−1,2−ブタン 2−オキシム−O
−アセタート アセチルクロリド(2.0ml、28.6mmol)及びトリ
エチルアミン(5.7ml、40.8mmol)を、20mlの
THF中の1−{4−〔4−(2−ヒドロキシイミノ−
ブチリル)−フェニルスルファニル〕−フェニル}−ブ
タン−1,2−ブタン 2−オキシム(5.0g、1
3.6mmol)の溶液へ加えた。0℃で30分攪拌した
後、生成した固体を濾別した。粗生成物を濃縮し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィ(溶離剤:エチルアセタ
ート−ヘキサン(1:8〜1:3))により精製した。
帯黄色固体の生成物を得た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.18 (t,
6H), 2.27 (s, 6H), 2.80 (q, 4H), 7.44 (d, 4H), 8.0
4 (d, 4H).
ゾキシイミノ−ブチリル)−フェニルスルファニル〕−
フェニル}−ブタン−1,2−ブタン 2−オキシム−
O−ベンゾアート 式(I)において、R1=C2H5;R2=−COフェニ
ル;R3、R4、R6、R7=H;R5=SR9;R9=
トリエチルアミン(8.5ml、61mmol)を、40mlの
THF中の1−{4−〔4−(2−ヒドロキシイミノ−
ブチリル)−フェニルスルファニル〕−フェニル}−ブ
タン−1,2−ブタン 2−オキシム(7.45g、2
0.3mmol)の溶液へ加えた。0℃で50分攪拌した
後、反応溶液を水へ注加した。粗生成物をエチルアセタ
ートで抽出し、水で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(溶離
剤:エチルアセタート−ヘキサン(1:9:0〜1:
3:1))により精製した。帯黄色固体の生成物(融点
110〜113℃)を得た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.28 (t,
6H), 2.93 (q, 4H), 7.45-7.56 (m, 8H), 7.65 (t, 2
H), 8.08-8.18 (m, 8H).
トキシイミノ−ブチル)−フェニルスルファニル〕−フ
ェニル}−ブタン−1−オンオキシム−O−アセタート 式(III)において、R1′=C3H7;R2=−COC
H3;R4′、R6′=H;R5=SR9;R9=
ブチル)−フェニルスルファニル〕−フェニル}−ブタ
ン−1−オンオキシム 20g(61.3mmol)の1−〔4−(4−ブチリル−
フェニルスルファニル)−フェニル〕−ブタン−1−オ
ンを、140mlの熱エタノールに溶解した。次いで、7
0mlの水中のヒドロキシアンモニウムクロリド(8.5
5g、123mmol)及びナトリウムアセタート(17.
1g、208mmol)の溶液を加え、反応溶液を100℃
で2時間攪拌した。冷却し、濃縮した後、水を加えた。
粗生成物をエチルアセタートで抽出し、塩水で洗浄し、
MgSO4で乾燥し、濃縮した。残渣をメタノールから
の再結晶により生成した。生成物(異性体混合物)を白
色固体として得た。< 主 生 成 物 > 1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔pp
m〕: 0.98 (t, 6H), 1.61(tq, 4H), 2.76 (t, 4H), 7.3
4 (d, 4H), 7.55 (d, 4H).
キシイミノ−ブチル)−フェニルスルファニル〕−フェ
ニル}−ブタン−1−オンオキシム−O−アセタート アセチルクロリド(2.1ml、29.4mmol)及びトリ
エチルアミン(5.9ml、42mmol)を、40mlのTH
F中の1−{4−〔4−(1−ヒドロキシイミノ−ブチ
ル)−フェニルスルファニル〕−フェニル}−ブタン−
1−オンオキシム(5.0g、14.0mmol)の溶液に
加えた。0℃で30分攪拌した後、生成した固体を濾別
した。粗生成物を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィ(溶離剤:エチルアセタート−ヘキサン(1:4
〜2:5))で精製した。生成物を無色油状物として得
た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 0.99 (t,
6H), 1.60 (tq, 4H), 2.26 (s, 6H), 2.81 (t, 4H), 7.
35 (d, 4H), 7.66 (d, 4H).
ンテン−9−オンオキシム−O−ベンゾアート
ェニル環の炭素原子と、基R9を介して環を形成するS
R9である) 41.1:2,4−ジエチル−チオキサンテン−9−オ
ンオキシム 7.0g(26mmol)のジエチルチオキサンテン−9−
オンを、15mlの熱エタノール及び15mlのピリジンに
溶解した。次いで、ヒドロキシアンモニウムクロリド
(3.6g、52mmol)を加え、反応溶液を115℃で
21時間攪拌した。冷却した後、水を加えた。粗生成物
をエチルアセタートで抽出し、水で洗浄し、MgSO4
で乾燥し、濃縮した。残渣を、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィ(溶離剤:エチルアセタート−ヘキサン
(1:30〜1:10))で精製した。生成物(異性体
混合物)を淡黄色固体として得た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.23-1.32
(m, 6H), 2.65-2.72 (m, 2H), 2.77-2.86 (m, 2H), 7.
12(s, 1H), 7.30-7.36 (m, 2H), 7.45 (dd, 1/2H), 7.5
3-7.55 (m, 1H), 7.80 (dd, 1/2H), 8.03 (d, 1/2H),
8.09-8.48 (bs, 1H), 8.34 (dd, 1/2H), ここで1/2Hは
どちらかの異性体の1Hを意味する。
テン−9−オンオキシム−O−ベンゾアート ベンゾイルクロリド(1.1ml、9.9mmol)及びトリ
エチルアミン(1.9ml、13.5mmol)を、10mlの
THF中の2,4−ジエチル−チオキサンテン−9−オ
ンオキシム(2.56g、9.0mmol)の溶液に加え
た。0℃で70分攪拌した後、反応溶液を水中へ注加し
た。粗生成物をエチルアセタートで抽出し、水で洗浄
し、MgSO4で乾燥し、濃縮した。残渣を、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィ(溶離剤:エチルアセタート
−ヘキサン(1:20〜1:8))で精製した。生成物
(異性体混合物)を黄色固体として得た。1 H−NMRスペクトル(CDCl3)δ〔ppm〕: 1.24-1.36
(m, 6H), 2.71-2.76 (q, 2H), 2.81-2.90 (m, 2H), 7.
20 (d, 1/2H), 7.23 (d, 1/2H), 7.38-7.54 (m,4H + 1/
2H), 7.59-7.65 (m, 1H + 1/2H), 7.87 (m, 1/2H), 7.9
4 (m, 1/2H), 8.08 (t, 2H), 8.16 (dd, 1/2H), 8.22
(dd, 1/2H), ここで1/2Hはどちらかの異性体の1Hを意味
する。
分を混合して調製した: アクリル化アクリルコポリマー(R T MACA200M、Daicel Industries, Ltd.から ) 200.0重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート((DPHA)、UCBから) 15.0重量部 試験すべき光開始剤 2.3重量部 全ての操作は、黄色光の下で行った。この配合物をアル
ミニウムプレートの上に塗布した。通常のオーブン中、
80℃15分加熱して溶媒を除いた。乾燥フィルムの厚
さは、25μmであった。この被覆にアセタートフィル
ムを塗布し、その上に異なる光学密度の21段階(Stou
ffer step wedge)を有する標準化された試験陰画(tes
t negative)を置いた。サンプルを第二のUV−透過フ
ィルムで覆い、真空の方法で金属プレートの上に押し付
けた。曝露を、第一の試験系で40秒間、第二の試験系
で80秒間、そして第三の試験系で160秒間、3kW金
属ハライドランプ(ORC、モデルSMX3000)を用い
て、60cmの距離で行った。曝露に続いて、覆いのフィ
ルム及びマスクを除き、曝露したフィルムを1%炭酸ナ
トリウム水溶液で30℃で180秒間、噴霧タイプ現像
剤(Walter Lemmen、モデル21)を用いて現像した。用
いた開始剤の感受性は、最も高い段階の数(現像後、残
留する(すなわち、重合した)を示すことで際立ってい
る。段階の数が高ければ、試験したシステムは、より感
受性である。別の試験システムが、上記の配合物へ、
0.23重量部の2−イソプロピルチオキサントン及び
4−イソプロピルチオキサントンの混合物(R T MQUANTAC
URE ITX, International Biosynthetics)を添加して、
準備された。結果は、表2に集めた。
ジストのモデルとして働く)は、以下の成分を混合する
ことにより調製した: R T M SCRIPSET 540(スチレン−マレイン酸無水物コポリマー、Monsantoから) 45.1重量% トリメチロールプロパントリアセタート 48.3重量% ペンタエチレングリコールジアクリラート 6.6重量% アセトン 105.2重量% この混合物にR T MQUANTACURE ITX 0.25%(固型分に
基づいて)、ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
0.14%(固型分に基づいて)及び試験すべき開始剤
3%の混合物に加え、攪拌した。すべての操作は、黄色
光条件下で行った。開始剤が加えられたサンプルを、ア
ルミニウムホイルに塗布した。通常のオーブン中、60
℃15分加熱して溶媒を除いた。乾燥フィルムの厚さ
は、35〜40μmであった。乾燥フィルム上に76μm
厚さのポリエステルフィルムをラミネートし、21段階
の異なる光学密度を有する標準化された試験陰画(test
negative)(Stouffer wedge)をその上に置いた。サ
ンプルを第二のUV透過フィルムで覆い、真空の方法で
金属プレート上に加圧した。曝露は、第一の試験系で1
0秒間、第二の試験系で20秒間、そして第三の試験系
で40秒間、5kW金属ハライドランプ(MO61、Staub A
G)を用いて、30cmの距離で行った。曝露に続いて、
覆いのフィルム及びマスクを除き、曝露したフィルムを
0.85%炭酸ナトリウム水溶液で35℃で180秒
間、噴霧タイプ現像剤を用いて行った(WalterLemmen、
モデル21)。用いた開始剤の感受性は、最も高い段階の
数(現像後、残留する(すなわち、重合した)を示すこ
とで際立っている。段階の数が高ければ、試験したシス
テムは、より感受性である。
ト−コ−メタクリラート)の調製 24gのベンジルメタクリラート、6gのメタクリル酸
及び0.525gのアゾビスイソブチロニトリルル(A
IBN)を90mlのプロピレングリコール1−モノメチ
ルエーテル2−アセタート(PGMEA)に溶解した。
得られた反応混合物を、油浴中80℃で5時間攪拌した
後、得られた粘稠溶液を室温に冷却し、更に精製するこ
となく用いた。固型分顔料は、約25%であった。
ことにより調製した。 ベンジルメタクリラートとメタクリル酸のコポリマー (ベンジルメタクリラート:メタクリル酸=80:20重量%) 25%プロピレングリコール1−モノメチルエーテル2−アセタート (PGMEA)溶液(上記のように製造した) 200.0重量部; ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート((DPHA)、UCB Chemicals から) 50.0重量部; 光開始剤 4.0重量部;及び PGMEA 150.0重量部 すべての操作は、黄色光条件下で行った。配合物を、ア
ルミニウムプレートにワイヤーを巻いたバーを有する電
気塗布機を用いて塗布した。通常のオーブン中、60℃
15分加熱して溶媒を除いた。乾燥フィルムの厚さは、
約2μmであった。この被覆にアセタートフィルムを塗
布し、その上に21段階の異なる光学密度を有する標準
化された試験陰画(test negative)(Stouffer wedg
e)を置いた。サンプルを第二のUV透過フィルムで覆
い、真空の方法で金属プレート上に加圧した。365nm
及び405nmでの波長を選択するために最上部に妨害フ
ィルターを置いた。250Wの超高圧水銀ランプ(USHI
O、USA-25-BY)を用い、15cmの距離で行った。曝露し
た後、覆ったフィルム及びマスクを除き、曝露したフィ
ルムを1%炭酸ナトリウム水溶液で30℃で200秒
間、噴霧タイプ現像剤(Walter Lemmen、モデル21)を
用いて現像を行った。用いた開始剤の感受性は、それぞ
れの波長での照射で硬化に必要な最少の照射量により際
立っており、それは、硬化された最も高い数での段階の
透過から計算される。照射量がより少なければ、選択さ
れた波長での試験された開始剤がより感受性が高い。結
果は表4に集めた。
ノ)ベンゾフェノン(2.4重量部で加えられた)であ
る。
分を混合することにより調製した。 ベンジルメタクリラートとメタクリル酸のコポリマー (ベンジルメタクリラート:メタクリル酸=80:20重量%) 25%プロピレングリコール1−モノメチルエーテル2−アセタート (PGMEA)溶液(実施33記載のように調製した) 200.0重量部; ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート((DPHA)、UCB Chemicals から) 50.0重量部; 光開始剤 2.0重量部;及び PGMEA 150.0重量部 すべての操作は、黄色光条件下で行った。配合物を、ア
ルミニウムプレートにワイヤーを巻いたバーを有する電
気塗布機を用いて塗布した。通常のオーブン中、100
℃、2分加熱して溶媒を除いた。乾燥フィルムの厚さ
は、約2μmであった。21段階の異なる光学密度を有
する標準化された試験陰画(test negative)(Stouffe
r wedge)を、このフィルムとレジストの間の100μm
の空気間隔を持たせて配置した。365nmの波長を選択
するために最上部に妨害フィルターを置いた。曝露は、
250Wの超高圧水銀ランプ(USHIO、USA-25-BY)を用
い、15cmの距離で行った。曝露した後、覆ったフィル
ム及びマスクを除き、曝露したフィルムを1%炭酸ナト
リウム水溶液で30℃で200秒間、噴霧タイプ現像剤
(Walter Lemmen、モデル21)を用いて現像を行った。
用いた開始剤の感受性は、それぞれの波長での照射で硬
化に必要な最少の照射量により際立っており、それは、
硬化された最も高い数での段階の透過から計算される。
照射量がより少なければ、選択された波長での試験され
た開始剤がより感受性が高い。結果は表5に集めた。
ノ)ベンゾフェノン(1.2重量%で添加)である。S
−2は、クマリン106(1.2重量%で添加)
624826の実施例I.1に従い、オキシジフタル
酸ジ無水物、メクリル酸−2 ヒドロキシエチルエステ
ル及び4,4′−ジアミノジフェニルエーテルから調製
した。固有粘度は、0.31dl/gであり、平均分子量は
Mw=2,550g/mol、Mn=3,800g/molであっ
た。配合物は、16.97gの上記の前駆体、2.54
5gのテトラエチレングリコールジメタクリラート(SR
209、Cray Valley)及び0.85gの実施例21の化合
物を29.52gのN−メチルピロリジノンに溶解して
調製した。配合物は、拡大のために1,500rpmで5
秒、続いて5,000rpmで30秒のスピンサイクル
で、シリコンウエハー上にスピン−被覆した。被覆した
ウエハーをホットプレート上で、100℃で5分間乾燥
した。6μm厚さの光感受性の粘性のフィルムをえた。
次いで、このウエハーを、365nmの狭いバンドフィル
ターを通すか、又は全アークスペクトルでの350W水
銀ランプを有するORIEL(モデル87532)曝露装置
を用いて、段階−くさび(step-wedge)を通して曝露し
た。段階くさびマスクの真空接触は、基質と段階くさび
を覆うポリエステルホイルを用いて真空チューブで行っ
た。強度は、365nmセンサーを有するOAI強度計を
用いて測定した。曝露されたフィルムを、シクロペンタ
ノン中で60秒間、浸漬現像し、シクロペンタノン/イ
ソプロパノールの1:1混合物で10秒間2回すすい
だ。365nmでの単色照射で、28mJ/cm2の照射量が、
このフィルムを現像液中で不溶性にするため十分に架橋
させるのに必要である。水銀ランプの全アークスペクト
ルを用いた場合、38mJ/cm2の照射量が、フィルムを架
橋させるのに必要であり、それによりそれは現像液中で
溶解しなかった。
施例Aに記載したポリイミド前駆体、2.545gのテ
トラエチレングリコールジメタクリラート(R T MSR209、
Cray Valley)、0.85gの実施例29の開始剤、
0.17gのミヘラーケトン及び29.52gのN−メ
チルピロリジノンを混合することにより製造した。配合
物は、拡大のために1,500rpmで5秒、続いて5,
000rpmで30秒のスピンサイクルで、シリコンウエ
ハー上にスピン−被覆した。被覆したウエハーをホット
プレート上で、100℃で5分間乾燥した。6μm厚さ
の光感受性の粘性のフィルムを得た。次いで、このウエ
ハーを、365nmの狭いバンドフィルターを通すか、又
は全アークスペクトルでの350W水銀ランプを有する
ORIEL(モデル87532)曝露装置を用いて、段階−
くさび(step-wedge)を通して曝露した。段階くさびマ
スクの真空接触は、基質と段階くさびを覆うポリエステ
ルホイルを用いて真空チューブで行った。強度は、36
5nmセンサーを有するOAI強度計を用いて測定した。
曝露されたフィルムを、シクロペンタノン中で60秒
間、浸漬現像し、シクロペンタノン/イソプロパノール
の1:1混合物で10秒間2回すすぎ、最後に純粋のイ
ソプロパノールで10秒間すすいだ。365nmでの単色
照射で、36mJ/cm2の照射量が、このフィルムを現像液
中で不溶性にするため十分に架橋させるのに必要であ
る。全スペクトルを用いた場合、75mJ/cm2の照射量
が、フィルムを架橋させるのに必要であり、それにより
それは現像液中で溶解しなかった。
Claims (10)
- 【請求項1】 式(I)、(II)、(III)及び(I
V): 【化1】 (式中、 R1は、フェニル(これは、非置換であるか、又はC1−
C6アルキル、フェニル、ハロゲン、OR8、SR9若し
くはNR1 0R1 1の1個以上により置換されている)であ
るか;又はR1は、C1−C2 0アルキル又はC2−C2 0ア
ルキル(これは、場合により−O−の1個以上により中
断、及び/又は場合によりヒドロキシ基の1個以上によ
り置換されている)であるか、又はR1は、C5−C8シ
クロアルキル若しくはC2−C2 0アルカノイルである
か;又はベンゾイル(これは、非置換であるか、又はC
1−C6アルキル、フェニル、OR8、SR9若しくはNR
1 0R1 1の1個以上により置換されている)であるか、又
はR1は、C2−C1 2アルコキシカルボニル(これは、場
合により−O−の1個以上により中断、及び/又は場合
によりヒドロキシ基の1個以上により置換されている)
であるか、又はR1は、フェノキシカルボニル(これ
は、非置換であるか、又はC1−C6アルキル、ハロゲ
ン、フェニル、OR8若しくはNR1 0R1 1の1個以上に
より置換されている)であるか、又はR1は、−CON
R1 0R1 1、CN、NO2、C1−C4ハロアルキル、S
(O)mC1−C6アルキル;非置換若しくはC1−C1 2ア
ルキル−置換S(O)m−C6−C1 2アリール;SO2O−
C1−C6アルキル;SO2O−C6−C1 0アリール、又は
ジフェニル−ホスフィノイルであり;mは、1又は2で
あり;R1′は、C2−C1 2アルコキシカルボニル(これ
は、場合により−O−の1個以上により中断、及び/又
は場合によりヒドロキシル基の1個以上により置換され
ている)であるか;又はR1′は、フェノキシカルボニ
ル(これは、非置換であるか、又はC1−C6アルキル、
ハロゲン、フェニル、OR8若しくはNR1 0R1 1の1個
以上により置換されている)であるか;又はR1′は、
C5−C8シクロアルキル、−CONR1 0R1 1、CN;又
はフェニル(これは、SR9により置換されており、こ
こで、場合により基R4′、R5′及びR6′を有するフ
ェニル環の炭素原子への結合を構築することにより基R
9を介して5−又は6−員環が形成される);又は
R4′、R5′及びR6′の少なくとも1個が、−SR9で
あるならば、R1′は、更にC1−C1 2アルキル(これ
は、非置換であるか、又はハロゲン、OH、OR2、フ
ェニル、ハロゲン化フェニル、又はSR9置換フェニル
の1個以上により置換されており、かつ場合により−O
−又は−NH(CO)−により中断されている)であ
り;R2は、C2−C1 2アルカノイル(これは、非置換で
あるか、又はハロゲン若しくはCNの1個以上により置
換されている)であるか;又はR2は、C4−C6アルケ
ノイルであるが、ただし二重結合はカルボニル基と共役
しておらず;又はR2は、ベンゾイル(これは、非置換
であるか、又はC1−C6アルキル、ハロゲン、CN、O
R8、SR9若しくは又はNR1 0R1 1の1個以上により置
換されている)であるか、又はR2は、C2−C6アルコ
キシカルボニル;若しくはフェノキシカルボニル(これ
は、非置換であるか、又はC1−C6アルキル若しくはハ
ロゲンにより置換されている)であり;R3、R4、
R5、R6及びR7は、互いに独立して、水素、ハロゲ
ン、C1−C1 2アルキル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル;又はフェニル(これは、非置換であるか、又はO
R8、SR9若しくはNR1 0R1 1の1個以上により置換さ
れている)であるか;又はR3、R4、R5、R6及びR7
は、ベンジル、ベンゾイル、C2−C1 2アルカノイル;
C2−C1 2アルコキシカルボニル(これは、場合により
−O−の1個以上により中断、及び/又は場合によりヒ
ドロキシル基の1個以上により置換されている)である
か;又はR3、R4、R5、R6及びR7は、フェノニキシ
カルボニル又は基OR8、SR9、SOR9、SO2R9若
しくはNR1 0R1 1(ここで、置換基OR8、SR9及びN
R1 0R1 1は、場合によりフェニル環の更なる置換基又は
フェニル環の炭素原子の一つと、基R8、R9、R1 0及び
/又はR1 1を介して5−又は6−員環を形成する)であ
るが;ただしR3、R4、R5、R6及びR7の少なくとも
一つは、OR8、SR9及びNR1 0R1 1であり;R4′、
R5′及びR6′は、互いに独立して、水素、ハロゲン、
C1−C1 2アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル;フェニル(これは、非置換であるか、又はOR8、
SR9若しくは又はNR1 0R1 1により置換されている)
であるか;又はR4′、R5′及びR6′は、ベンジル、
ベンゾイル、C2−C1 2アルカノイル;C2−C1 2アルコ
キシカルボニル(これは、場合により−O−の1個以上
により中断、及び/又は場合によりヒドロキシル基の1
個以上により置換されている)であるか;又はR4′、
R5′及びR6′は、フェノニキシカルボニル;又は基O
R8、SR9、SOR9、SO2R9若しくはNR1 0R
1 1(ここで、置換基OR8、SR9及びNR1 0R1 1は、場
合によりフェニル環の更なる置換基又はフェニル環の炭
素原子の一つと、基R8、R9、R1 0及び/又はR1 1を介
して5−又は6−員環を形成する)であるが;ただしR
4′、R5′及びR6′の少なくとも一つは、OR8、SR
9及びNR1 0R1 1であり;かつR5′がメトキシであり、
R4′及びR6′が両方同時に水素であり、R1′がCN
であれば、R2′は、ベンゾイル又は4−(C1−C1 0ア
ルキル)ベンゾイルではなく;R8は、水素、C1−C1 2
アルキルであるか;又はC2−C6アルキル(これは、−
OH、−SH、−CN、C1−C4アルコキシ、C3−C6
アルケンオキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2
(CO)O(C1−C4アルキル)、−O(CO)−C1−
C4アルキル、−O(CO)−フェニル、−(CO)OH
又は−(CO)O(C1−C4アルキル)で置換されている)
であるか;又はR8は、C2−C6アルキル(これは、−
O−の1個以上によりより中断されている)であるか;
又はR8は、−(CH2CH2O)nH、C2−C8アルカノ
イル、C3−C1 2アルケニル、C3-C6アルケノイル、シ
クロヘキシル;又はフェニル(これは、非置換である
か、又はハロゲン、C1−C1 2アルキル若しくはC1−C
4アルコキシで置換されている)であるか;又はR8は、
フェニル−C1−C3アルキル、Si(C1−C8アルキ
ル)r(フェニル)3 - r又は下記式: 【化2】 のいずれかの基であり;nは、1〜20であり;rは、
1、2又は3であり;R9は、水素、C1−C1 2アルキ
ル、C3−C1 2アルケニル、シクロヘキシル;C2−C6
アルキル(これは、−OH、−SH、−CN、C1−C4
アルコキシ、C3−C6アルケンオキシ、−OCH2CH2
CN、−OCH2CH2(CO)O(C1−C4アルキ
ル)、−O(CO)−C1−C4アルキル、−O(CO)
−フェニル、−(CO)OH又は−(CO)O(C1−
C4アルキル)で置換されている)であるか;又はR
9は、C2−C1 2アルキル(これは、−O−又は−S−の
1個以上により中断されている)であるか;又はR
9は、フェニル(これは、非置換であるか、又はハロゲ
ン、C1−C1 2アルキル若しくはC1−C4アルコキシで
置換されている)であるか;又はR9は、フェニル−C1
−C3アルキル、又は下記式: 【化3】 のいずれかの基であり;R1 0及びR1 1は、互いに独立し
て、水素、C1−C1 2アルキル、C2−C4ヒドロキシア
ルキル、C2−C1 0アルコキシアルキル、C3−C5アル
ケニル、C5−C1 2シクロアルキル、フェニル−C1−C
3アルキル;フェニル(これは、非置換であるか、又は
C1−C1 2アルキル又はC1−C4アルコキシにより置換
されている)であるか;又はR1 0及びR1 1は、C2−C3
アルカノイル、C3−C6アルケノイル又はベンゾイルで
あるか;又はR1 0及びR1 1は、一緒になってC2−C6ア
ルキレン(これは、場合により−O−若しくは−NR8
−により中断、及び/又は場合によりヒドロキシル、C
1−C4アルコキシ、C2−C4アルカノイルオキシ若しく
はベンゾイルオキシで置換されている)であるか;又は
R1 0が水素であるとき、R1 1は、下記式: 【化4】 のいずれかの基であってよく;Mは、C1−C1 2アルキ
レン、シクロヘキシレン、フェニレン、−(CO)O−
(C2−C1 2アルキレン)−O(CO)−、−(CO)
O−(CH2CH2O)n−(CO)−又は−(CO)−
(C2−C1 2−アルキレン)−(CO)−であり;M
1は、直接結合であるか;又はC1−C1 2アルキレンオキ
シ(これは、場合により、1〜5個の−O−、−S−、
及び/又は−NR1 0−により中断されている)であり;
M2は、直接結合であるか;又はC1−C1 2アルキレン−
S−(これは、場合により、1〜5個の−O−、−S
−、及び/又は−NR1 0−により中断されている)であ
り;M3は、直接結合、ピペラジノ基;又はC1−C1 2ア
ルキレン−NH−(これは、場合により、1〜5個の−
O−、−S−、及び/又は−NR1 0−により中断されて
いる)であるが;ただし (i)R5がメトキシであり、R2がベンゾイル又はアセ
チルであるならば、R1はフェニルではなく; (ii)R5がメトキシであり、R2がエトキシカルボニル
であるならば、R2はベンゾイル又はエトキシカルボニ
ルではなく; (iii)R5がメトキシであり、R1が4−メトキシベンゾ
イルであるならば、R2はエトキシカルボニルではな
く; (iv)R5がメタクリロイルアミノであり、R1がメチ
ルであるならば、R2はベンゾイルではなく; (v)R5及びR4、又はR5及びR6の両方がOR8基で
あり、それらのOR8基が一緒になってR8を介して環を
形成し、それにより−O−CH2−O−を与え、R1がメ
チルであるならば、R2はアセチルではなく; (vi)R4、R5及びR6が、同時にメトキシであり、R1
がエトキシカルボニルであるならば、R2はアセチルで
はなく; (vii)R5がメトキシであり、同時にR4又はR6がアセ
トキシであり、R1がエチルであるならば、R2はアセチ
ルではなく; (viii)式(III)において、R1′がメチルであり、R
5′がフェニルチオであり、R4′及びR5′が両方Hで
あるならば、R2は4−クロロベンゾイルではない)で示
される化合物。 - 【請求項2】 R3、R4及びR7、又はR4′及びR6′
が、水素であり、そしてR5又はR5′が、SR9であ
る、請求項1記載の式(I)又は(III)の化合物。 - 【請求項3】 R1が、フェニル又はC1−C1 2アルキル
であり;R1′がC2−C4アルコキシカルボニル、又は
フェニル(これは、SR9により置換されており、基
R4′、R5′及びR6′を有するフェニル環の炭素原子
への結合を構築することにより基R9を介して5−又は
6−員環が形成される)であるか;又はR4′、R5′及
びR6′の少なくとも1個が、−SR9であるならば、R
1′は、C1−C1 2アルキル(これは、非置換であるか、
又はフェニル若しくはフルオロの1個以上により置換さ
れている)であり;R2が、C2−C4アルカノイル、又
はベンゾイル(これは、非置換であるか、又はC1−C4
アルキル若しくはハロゲンにより置換されている)であ
り;R3、R6及びR7が、水素であり;R4及びR5が、
互いに独立して、水素又は基OR8、SR9、又はNR1 0
R1 1であり;R4′及びR5′が、互いに独立して、水素
又は基OR8、SR9、又はNR1 0R 1 1であり;R6′
が、水素であり;R8及びR9が、C1−C4アルキル、フ
ェニル又は下記式: 【化5】 のいずれかの基であり;R1 0及びR1 1が、メチル若しく
はエチルであるか、又はR1 0とR1 1が、一緒になって、
C2−C6アルキレン(これは、−O−により中断されて
いる)であり;Mが、C1−C1 2アルキレンであり;そ
してM2が、直接結合である、式(I)、(II)、(II
I)又は(IV)の請求項1記載の化合物。 - 【請求項4】 (a)エチレン性不飽和の光重合性化合
物の少なくとも1種及び(b)光開始剤として、式
(I)、(II)、(III)及び/又は(IV): 【化6】 (式中、 R1は、フェニル(これは、非置換であるか、又はC1−
C6アルキル、フェニル、ハロゲン、OR8、SR9若し
くは又はNR1 0R1 1の1個以上により置換されている)
であるか;又はR1は、C5−C8シクロアルキル、C1−
C2 0アルキル;又はC2−C2 0アルキル(これらは、場
合により−O−の1個以上により中断、及び/又は場合
によりヒドロキシ基の1個以上により置換されている)
であるか、R1は、C2−C2 0アルカノイルであるか;又
はベンゾイル(これは、非置換であるか、又はC1−C6
アルキル、フェニル、OR8、SR9若しくはNR1 0R1 1
の1個以上により置換されている)であるか、又はR1
は、C2−C1 2アルコキシカルボニル(これは、場合に
より−O−の1個以上により中断、及び/又は場合によ
りヒドロキシ基の1個以上により置換されている)であ
るか、又はR1は、フェノキシカルボニル(これは、非
置換であるか、又はC1−C6アルキル、ハロゲン、フェ
ニル、OR8若しくは又はNR1 0R1 1の1個以上により
置換されている)であるか、又はR1は、−CONR1 0
R1 1、CN、NO2、C1−C4ハロアルキル、S(O)m
C1−C6アルキル;非置換若しくはC1−C1 2アルキル
−置換S(O)m−C1−C6アリール;SO2O−C1−C
6アルキル;SO2O−C6−C1 0アリール、又はジフェ
ニル−ホスフィニルであり;mは、1又は2であり;R
1′は、C2−C1 2アルコキシカルボニル(これは、場合
により−O−の1個以上により中断、及び/又は場合に
よりヒドロキシル基の1個以上により置換されている)
であるか;又はR1′は、フェノキシカルボニル(これ
は、非置換であるか、又はC1−C6アルキル、ハロゲ
ン、フェニル、OR8若しくは又はNR1 0R1 1の1個以
上により置換されている)であるか;又はR1′は、C5
−C8シクロアルキル、−CONR1 0R1 1、CNである
か;又はフェニル(これは、SR9により置換されてお
り、場合により基R4′、R5′及びR6′を有するフェ
ニル環の炭素原子への結合を構築することにより基R9
を介して5−又は6−員環が形成される);又は
R4′、R5′及びR6′の少なくとも1個が、−SR9で
あるならば、R1′は、更にC1−C1 2アルキル(これ
は、非置換であるか、又はハロゲン、OH、OR2、フ
ェニル、ハロゲン化フェニル又はSR9で置換されたフ
ェニルの1個以上により置換されており、かつ場合によ
り−O−又は−NH(CO)−により中断されている)
であり;R2は、C2−C1 2アルカノイル(これは、非置
換であるか、又はハロゲン若しくはCNの1個以上によ
り置換されている)であるか;又はR2は、C2−C4ア
ルケノイルであるが、ただし二重結合はカルボニル基と
共役しておらず;又はR2は、ベンゾイル(これは、非
置換であるか、又はC1−C6アルキル、ハロゲン、C
N、OR8、SR9若しくは又はNR1 0R1 1の1個以上に
より置換されている)であるか、又はR2は、C2−C6
アルコキシカルボニル;又はフェノキシカルボニル(こ
れは、非置換であるか、又はC1−C6アルキル若しくは
ハロゲンにより置換されている)であり;R3、R4、R
5、R6及びR7は、互いに独立して、水素、ハロゲン、
C1−C1 2アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル;又はフェニル(これは、非置換であるか、又はOR
8、SR9若しくは又はNR1 0R1 1の1個以上により置換
されている)であるか;又はR3、R4、R5、R6及びR
7は、ベンジル、ベンゾイル、C2−C1 2アルカノイル;
C2−C1 2アルコキシカルボニル(これは、場合により
−O−の1個以上により中断、及び/又は場合によりヒ
ドロキシル基の1個以上により置換されている)である
か;又はR3、R4、R5、R6及びR7は、フェノニキシ
カルボニル;OR8、SR9、SOR9、SO2R9若しく
はNR1 0R1 1(ここで、置換基OR8、SR9及びNR1 0
R1 1は、場合によりフェニル環の更なる置換基又はフェ
ニル環の炭素原子の一つと、基R8、R9、R1 0及び/又
はR1 1を介して5−又は6−員環を形成する)である
が;ただしR3、R4、R5、R6及びR7の少なくとも一
つは、OR8、SR9及びNR1 0R1 1であり;R4′、
R5′及びR6′は、互いに独立して、水素、ハロゲン、
C1−C1 2アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル;フェニル(これは、非置換であるか、又はOR8、
SR9若しくは又はNR1 0R1 1の1個以上により置換さ
れている)であるか;又はR4′、R5′及びR6′は、
ベンジル、ベンゾイル、C2−C1 2アルカノイル;C2−
C1 2アルコキシカルボニル(これは、場合により−O−
の1個以上により中断、及び/又は場合によりヒドロキ
シル基の1個以上により置換されている)であるか;又
はR4′、R5′及びR6′は、フェノニキシカルボニ
ル;OR8、SR9、SOR9、SO2R9若しくはNR1 0
R1 1(ここで、置換基OR8、SR9及びNR1 0R1 1は、
場合によりフェニル環の更なる置換基又はフェニル環の
炭素原子の一つと、基R8、R9、R1 0及び/又はR1 1を
介して5−又は6−員環を形成する)であるが;ただし
R4′、R5′及びR6′の少なくとも一つは、OR8、S
R9及びNR1 0R1 1であり;かつR5′がメトキシであ
り、R4′及びR6′が両方同時に水素であり、R1′が
CNであれば、R2′は、ベンゾイル又は4−(C1−C
1 0アルキル)ベンゾイルではなく;R8は、水素、C1−
C1 2アルキルであるか;又はC2−C6アルキル(これ
は、−OH、−SH、−CN、C1−C4アルコキシ、C
3−C6アルケンオキシ、−OCH2CH2CN、−OCH
2CH2(CO)O(C1−C4アルキル)、−O(CO)
−C1−C4アルキル、−O(CO)−フェニル、−(C
O)OH又は−(CO)O(C1−C4アルキル)で置換
されている)であるか;又はR8は、C2−C6アルキル
(これは、−O−の1個以上によりより中断されてい
る)であるか;又はR8は、−(CH2CH2O)nH、C2
−C8アルカノイル、C3−C1 2アルケニル、C3−C6ア
ルケノイル、シクロヘキシル;又はフェニル(これは、
非置換であるか、又はハロゲン、C1−C1 2アルキル若
しくはC1−C4アルコキシで置換されている)である
か;又はR8は、フェニル−C1−C3アルキル、Si
(C1−C8アルキル)r(フェニル)3 - r又は下記式: 【化7】 のいずれかの基であり;nは、1〜20であり;rは、
1、2又は3であり;R9は、水素、C1−C1 2アルキ
ル、C3−C1 2アルケニル、シクロヘキシル;C2−C6
アルキル(これは、−OH、−SH、−CN、C1−C4
アルコキシ、C3−C6アルケンオキシ、−OCH2CH2
CN、−OCH2CH2(CO)O(C1−C4アルキ
ル)、−O(CO)−C1−C4アルキル、−O(CO)
−フェニル、−(CO)OH又は−(CO)O(C1−
C4アルキル)で置換されている)であるか;又はR
9は、C2−C1 2アルキル(これは、−O−又は−S−の
1個以上により中断されている)であるか;又はR
9は、フェニル(これは、非置換であるか、又はハロゲ
ン、C1−C1 2アルキル若しくはC1−C4アルコキシで
置換されている)であるか;又はR9は、フェニル−C1
−C3アルキル、又は下記式: 【化8】 のいずれかの基であり;R1 0及びR1 1は、互いに独立し
て、水素、C1−C1 2アルキル、C2−C4ヒドロキシア
ルキル、C2−C1 0アルコキシアルキル、C3−C5アル
ケニル、C5−C1 2シクロアルキル,フェニル−C1−C3
アルキル;フェニル(これは、非置換であるか、又はC
1−C1 2アルキル又はC1−C4アルコキシにより置換さ
れている)であるか;又はR1 0及びR1 1は、C2−C3ア
ルカノイル、C3−C6-アルケノイル又はベンゾイルで
あるか;又はR1 0及びR1 1は、一緒になってC2−C6ア
ルキレン(これは、場合により−O−若しくは−NR8
−により中断、及び/又は場合によりヒドロキシル、C
1−C4アルコキシ、C2−C4アルカノイルオキシ若しく
はベンゾイルオキシで置換されている)であるか;又は
R1 0が水素であるとき、R1 1は、下記式: 【化9】 のいずれかの基であってよく;Mは、C1−C1 2アルキ
レン、シクロヘキシレン、フェニレン、−(CO)O−
(C2−C1 2アルキレン)−O(CO)−、−(CO)
O−(CH2CH2O)n−(CO)−又は−(CO)−
(C2−C1 2−アルキレン)−(CO)−であり;M
1は、直接結合であるか;又はC1−C1 2アルキレンオキ
シ(これは、場合により、1〜5個の−O−、−S−、
及び/又は−NR1 0−により中断されている)であり;
M2は、直接結合であるか;又はC1−C1 2アルキレン−
S−(これは、場合により、1〜5個の−O−、−S
−、及び/又は−NR1 0−により中断されている)であ
り;M3は、直接結合、ピペラジノ基;又はC1−C1 2ア
ルキレン−NH−(これは、場合により、1〜5個の−
O−、−S−、及び/又は−NR1 0−により中断されて
いる)であるが;ただし (i)R5がメトキシであり、R2がベンゾイル又はアセ
チルであるならば、R1はフェニルではなく; (ii)R5がメトキシであり、R2がエトキシカルボニル
であるならば、R2はベンゾイル又はエトキシカルボニ
ルではなく; (iii)R5がメトキシであり、R1が4−メトキシベンゾ
イルであるならば、R2はエトキシカルボニルではな
く; (iv)R5がメタクリロイルアミノであり、R1がメチル
であるならば、R2はベンゾイルではなく; (v)R5及びR4、又はR5及びR6の両方がOR8基で
あり、それらのOR8基が一緒になってR8を介して環を
形成し、それにより−O−CH2−O−を与え、R1がメ
チルであるならば、R2はアセチルではなく; (vi)R4、R5及びR6が、同時にメトキシであり、R1
がエトキシカルボニルであるならば、R2はアセチルで
はない)で示される化合物の少なくとも1種を含む、光
重合性配合物。 - 【請求項5】 光開始剤(b)に加えて、少なくとも1
種の更なる光開始剤(c)及び/又は他の添加剤(d)
を含む、請求項4記載の光重合性配合物。 - 【請求項6】 結合剤ポリマー(e)を更に含む、請求
項4記載の光重合性配合物。 - 【請求項7】 エチレン性不飽和二重結合を含む化合物
を光重合させる方法であって、 請求項4記載の配合物を、電子線ビーム又はX−線によ
り、190〜600nmの範囲での電磁放射線で照射する
ことを特徴とする方法。 - 【請求項8】 着色及び非−着色の、ペイント及びワニ
ス、粉体塗装、印刷インキ、印刷プレート、接着剤、歯
科配合物、複合配合物、光レジストを含むレジスト、カ
ラーフィルター材料、電気及び電子成分封止配合物の製
造のための、磁気記録材料、微小機械部品、導波部材、
光スイッチ、プレートマスク、食刻マスク、カラー耐性
システム、ガラス繊維被覆、スクリーン印刷型紙の製造
のための、ミクロリソグラフィ、プレーティング、ステ
レオリソグラフィによる三次元体の製造のための、画像
記録材料、特にホログラフ記録、マイクロ電子回路、脱
カラー化材料、画像記録材料のための脱カラー材料の製
造のための、又はマイクロカプセルを用いる画像記録材
料の製造のための、請求項7記載の方法。 - 【請求項9】 レリーフ画像の写真製造のための方法で
あって、 請求項4記載の配合物で被覆された基質を画像様に暴露
し、次いで非暴露部分を現像剤で取り除くことを特徴と
する方法。 - 【請求項10】 全てが、透過基質上に光感受性樹脂及
び顔料を含む、赤色、緑色及び青色の画素並びに黒色マ
トリックスを設け、かつ基質の表面又はカラーフィルタ
ー層の表面のいずれかに透明電極を設けることにより調
製されたカラーフィルターであって、 該光感受性樹脂が、多官能性アクリラートモノマー、有
機ポリマー結合剤、及び請求項1記載の式(I)、(I
I)、(III)又は(IV)の光重合開始剤を含むことを特
徴とする方法。
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