WO2020059509A1 - 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 - Google Patents

硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 Download PDF

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Definitions

  • the present disclosure relates to a curable composition, a cured film, an infrared transmission filter, a laminate, a solid-state imaging device, a sensor, and a pattern forming method.
  • Patent Literature 1 discloses that a multilayer film in which a dielectric film having a high refractive index and a dielectric film having a low refractive index are alternately laminated on both surfaces of a transparent resin substrate, and has a wavelength range of 420 nm to 740 nm. Is a near-infrared filter that transmits near 90% or more and cuts near infrared rays having a wavelength range of 770 nm or more and 1,800 nm or less, wherein the first multilayer film formed on one surface of the transparent resin substrate has a short wavelength range.
  • the second multilayer film formed on the other surface shields near-infrared light in a long wavelength region other than the short wavelength region, so that the wavelength region is 770 nm or more on both surfaces of the transparent resin substrate.
  • a near-infrared cut filter characterized by cutting so that the average transmittance of near-infrared light with respect to the integrated irradiation amount of sunlight of 800 nm or less is 15% or less.
  • Patent Document 2 discloses an infrared sensor that includes an infrared transmission filter and a near-infrared absorption filter, and detects an object by detecting light having a wavelength of 900 nm or more and 1,000 nm or less. Describes an infrared sensor containing a near-infrared absorbing substance having a maximum absorption wavelength at a wavelength of 900 nm or more and 1,000 nm or less.
  • an infrared absorption filter it is required that generation of noise derived from visible light be suppressed.
  • the wavelength is relatively short, having a wavelength of 900 nm or more and 1,000 nm or less, and the purpose is to detect infrared light having a wavelength close to visible light. It is considered that there is room for further improvement from the viewpoint of suppressing noise originating from.
  • the infrared absorption filter has a low dependence on humidity, suppresses blurring of an image even in a high-humidity environment (excellent in high-humidity sensitivity), and depends on an angle of incident light (angle dependence).
  • the infrared absorption filter described in Patent Document 1 is formed by laminating dielectric films, and has problems such as poor angle dependence.
  • problems to be solved by other embodiments of the present invention are a cured film obtained by curing the curable composition, an infrared transmission filter including the cured film, the cured film or the infrared transmission filter, and It is an object to provide a laminate including a dielectric multilayer film, the cured film, the infrared transmission filter, or a solid-state imaging device or sensor including the laminate, or a pattern forming method using the curable composition. .
  • Means for solving the above problems include the following aspects. ⁇ 1> A curable composition containing an infrared absorbent and a curable compound, wherein the infrared absorbent has an absorbance X at a maximum absorption wavelength at a wavelength of 400 nm to 1,300 nm, a wavelength X exceeding 950 nm, and a wavelength 1,
  • the maximum absorbance Y in the range of 300 nm or less satisfies the following formula 1, and when the curable composition is applied in a thickness of 0.1 ⁇ m to 100 ⁇ m, a wavelength of 1,000 nm to 1,300 nm is obtained.
  • Tb There is a wavelength Tb at which the transmittance becomes 50%
  • Ta is a wavelength that is 200 nm shorter than the wavelength Tb
  • Tc is a wavelength that is 200 nm longer than the wavelength Tb.
  • a / C which is the ratio of the minimum value A of the absorbance at a wavelength in the range of 50 nm to the maximum value C of the absorbance at a wavelength within a range of ⁇ 50 nm from the wavelength of Tc, is 4.5 or more.
  • a ′ / C which is a ratio between the minimum value A ′ of the absorbance in the range of 400 nm or more and the Ta ′ or less and the maximum value C is:
  • ⁇ 4> As the compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 400 nm to 700 nm, a group consisting of a red colorant, a blue colorant, a green colorant, a yellow colorant, a black colorant, a purple colorant, and a brown colorant.
  • the curable composition according to ⁇ 2> or ⁇ 3> comprising at least one compound selected from the group consisting of: ⁇ 5>
  • the infrared absorbing agent is at least one compound selected from the group consisting of a cyanine compound, a phthalocyanine compound, a squarylium compound, a croconium compound, a diimmonium compound, a perylene compound, a pyrrolopyrrole compound, a metal complex, and a compound semiconductor.
  • ⁇ 7> The curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, further including a photopolymerization initiator.
  • ⁇ 8> The curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, which is used for forming an infrared transmission filter.
  • ⁇ 9> A cured film obtained by curing the curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>.
  • ⁇ 10> An infrared transmission filter including the cured film according to ⁇ 9>.
  • ⁇ 11> A laminate including the cured film according to ⁇ 9> or the infrared transmission filter according to ⁇ 10>, and a dielectric multilayer film.
  • ⁇ 12> A solid-state imaging device comprising the cured film according to ⁇ 9>, the infrared transmission filter according to ⁇ 10>, or the laminate according to ⁇ 11>.
  • ⁇ 13> A sensor comprising the cured film according to ⁇ 9>, the infrared transmission filter according to ⁇ 10>, or the laminate according to ⁇ 11>.
  • ⁇ 14> a step of patternwise exposing a curable composition layer containing the curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, and a step of forming a pattern by removing unexposed portions
  • a pattern forming method including:
  • the occurrence of noise derived from visible light is suppressed, excellent in high humidity sensitivity, excellent in angle dependence, and curability that can be reduced in height
  • a composition is provided.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of an embodiment of an infrared sensor according to the present disclosure.
  • FIG. 11 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of another embodiment of the infrared sensor according to the present disclosure. It is a figure which shows the absorption spectrum in a solution and in a film
  • FIG. 3 is a view showing absorption spectra of pyrrolopyrrole compounds PP-a to PP-h in a solution, respectively.
  • FIG. 3 is a diagram showing absorption spectra in a film of pyrrolopyrrole compounds PP-i to PP-p, respectively.
  • FIG. 4 is a graph showing a change in absorption spectrum due to the formation of a J-aggregate when the content ratio of the pyrrolopyrrole compounds PP-q and PP-r is changed.
  • FIG. 3 is a diagram showing a change in absorption spectrum due to the formation of a J-aggregate when the content ratio of the pyrrolopyrrole compounds PP-s and PPPP-t is changed.
  • exposure includes not only exposure using light, but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • the light used for exposure include an emission line spectrum of a mercury lamp, deep ultraviolet rays represented by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, and active rays such as electron beams or radiation.
  • the notation of not indicating substituted or unsubstituted includes not only a group having no substituent but also a group having a substituent.
  • the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • Me in the chemical formula represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Pr represents a propyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • (meth) acryl is a term used as a concept including both acryl and methacryl
  • (meth) acryloyl is a term used as a concept including both acryloyl and methacryloyl.
  • step in the present disclosure is not limited to an independent step, and is included in the term even if it cannot be clearly distinguished from other steps if the intended purpose of the step is achieved. It is.
  • “mass%” and “wt%” have the same meaning
  • “mass part” and “part by weight” have the same meaning.
  • the unit of the wavelength is nm unless otherwise specified.
  • each component in the composition or each constituent unit in the polymer in the present disclosure may be included alone or in combination of two or more.
  • the amount of each component in the composition, or each constituent unit in the polymer, each component in the composition, or a plurality of substances or constituent units corresponding to each constituent unit in the polymer are present in this case, unless otherwise specified, it refers to the total amount of the corresponding plural substances present in the composition or the corresponding plural structural units present in the polymer.
  • a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
  • the method of measuring the weight average molecular weight and the number average molecular weight of the compound used in the present disclosure can be measured by gel permeation chromatography (GPC), and is defined as a value in terms of polystyrene by GPC measurement.
  • GPC gel permeation chromatography
  • HLC-8220 manufactured by Tosoh Corporation
  • TSKgel Super AWM-H manufactured by Tosoh Corporation, 6.0 mm ID ⁇ 15.0 cm
  • 10 mmol / L lithium bromide NMP N -Methylpyrrolidinone
  • the near-infrared ray refers to light (electromagnetic wave) having a maximum absorption wavelength range of 700 nm to 2,500 nm.
  • the total solid content refers to the total mass of components excluding the solvent from the entire composition of the composition.
  • the solid content in the present disclosure is a solid content at 25 ° C.
  • composition is a curable composition containing an infrared absorbent and a curable compound, and the infrared absorbent has a wavelength of 400 nm to
  • the absorbance X at the maximum absorption wavelength at 1,300 nm and the maximum absorbance Y in the range from 700 nm to 1,300 nm satisfy the following formula 1, and the curable composition is prepared from any of 0.1 ⁇ m to 100 ⁇ m. Is applied, a wavelength Tb at which the transmittance becomes 50% exists between a wavelength of 1,000 nm and a wavelength of 1,300 nm.
  • a wavelength shorter than the wavelength Tb by 200 nm is Ta, and a wavelength Tb is the wavelength Tb.
  • the curable composition according to the present disclosure is preferably a curable composition used for forming an infrared transmission filter.
  • the present inventor has conducted intensive studies and, as a result of adopting the above configuration, in a cured film after curing, occurrence of noise derived from visible light is suppressed, excellent in high humidity sensitivity, excellent in angle dependency, and It has been found that a curable composition capable of reducing the height can be provided.
  • the detailed mechanism for obtaining the above effects is unknown, but is presumed as follows.
  • the curable composition contains an infrared absorbent and the above-mentioned A / C is 4.5 or more, the change in absorbance from the visible light region to the infrared region becomes steep, so that noise derived from visible light Is considered to be suppressed.
  • the curable composition contains an infrared absorbent satisfying the above formula 1, and the above-mentioned A / C is 4.5 or more, infrared rays having a wavelength of 1,000 nm to 1,300 nm can be emitted. It can be a transmission infrared absorption filter.
  • infrared rays having such a wavelength range are used, the influence of infrared absorption by water (water vapor) is smaller than when an infrared absorption filter that transmits infrared rays having a wavelength of 1,400 nm or more is used. It is considered to be excellent in high humidity sensitivity.
  • the cured film of the curable composition containing the infrared absorbent according to the present disclosure has excellent angle dependence as compared with, for example, a case where only a dielectric multilayer film is used.
  • the curable composition according to the present disclosure has Tb when applied with a thickness of 0.1 ⁇ m to 100 ⁇ m, the composition with Tb present when applied with a thickness exceeding 100 ⁇ m It is considered that the height is excellent in comparison with the case where an object is used.
  • each requirement in the curable composition according to the present disclosure will be described in detail.
  • the curable composition according to the present disclosure has a wavelength Tb at which the transmittance becomes 50% between a wavelength of 1,000 nm and a wavelength of 1,300 nm when applied with a thickness of 0.1 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • Tb the wavelength that is 200 nm shorter than the wavelength Tb
  • Tc the wavelength that is 200 nm longer than the wavelength Tb
  • wavelength in a range of ⁇ 50 nm from the wavelength of Ta means “wavelength in a range of Ta ⁇ 50 nm or more and Ta + 50 nm or less”.
  • the A / C is preferably 10 or more, more preferably 15 or more, and still more preferably 20 or more.
  • the minimum value A is preferably 0.8 or more, more preferably 1.0 or more, and even more preferably 1.3 or more.
  • the maximum value C is preferably 0.2 or less, more preferably 0.15 or less, and even more preferably 0.10 or less.
  • the absorbance and transmittance at Ta, Tb, and Tc are determined based on the type and content of the infrared absorber and the compound having a maximum absorption wavelength at a wavelength of 400 nm to 700 nm contained in the curable composition. It is possible to design by adjusting the amount.
  • the absorbance A ⁇ at a certain wavelength ⁇ is defined by the following equation (1).
  • a ⁇ ⁇ log (T ⁇ ) (1)
  • a ⁇ is the absorbance at wavelength ⁇
  • T ⁇ is the transmittance at wavelength ⁇ .
  • the value of the absorbance is determined by applying a curable composition onto a glass substrate by spin coating or the like so that the film thickness after drying becomes a predetermined film thickness, and applying an appropriate method (exposure) according to the curable composition. , Heating, etc.) and, if necessary, drying.
  • the film thickness of the film can be measured with respect to the substrate having the film using a stylus type surface shape measuring device (DEKTAK150 manufactured by ULVAC).
  • the absorbance and transmittance at a certain wavelength can be measured using an ultraviolet-visible-near-infrared spectrophotometer (U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). Unless otherwise specified, the absorbance and transmittance in the present disclosure are values under the conditions of 25 ° C. and 40% relative humidity.
  • an embodiment having a transmittance of 20% or less (preferably 10% or less) at a wavelength of 1,600 nm is further exemplified.
  • a so-called bandpass filter that transmits light having a wavelength of, for example, 1,000 nm to 1,300 nm and shields wavelengths shorter and longer than the above range. It is possible.
  • the infrared absorbent used in the present disclosure is a compound in which the absorbance X at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 400 nm to 1,300 nm and the maximum absorbance Y in the range of more than 700 nm and 1,300 nm or less satisfy the following formula 1. It is preferable that the absorbance X at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 400 nm to 1,300 nm and the maximum absorbance Y in the range of more than 950 nm and not more than 1,300 nm satisfy the following formula 1.
  • the infrared absorber used in the present disclosure is preferably a compound in which the above X and Y satisfy the following formula 2, and more preferably a compound satisfying the following formula 3. Y> X ⁇ 0.5 Equation 1 Y> X ⁇ 0.7 Equation 2 Y> X ⁇ 0.9 Equation 3
  • the infrared absorbent used in the present disclosure preferably has an absorption maximum in a wavelength range of 350 nm to 1,500 nm and in a wavelength range of 950 nm to 1,300 nm.
  • “having an absorption maximum in the range of wavelengths Anm to Bnm in the range of wavelengths 350 to 1,300 nm” means “in the absorption spectrum in the range of wavelengths 350 to 1,300 nm” of wavelengths Anm to Bnm. Has a wavelength showing the maximum absorbance in the range.
  • the infrared absorber used in the present disclosure is not particularly limited, but is selected from the group consisting of a cyanine compound, a phthalocyanine compound, a squarylium compound, a croconium compound, a diimmonium compound, a perylene compound, a pyrrolopyrrole compound, a metal complex, and a compound semiconductor.
  • a cyanine compound is included, more preferably at least one selected from the group consisting of a cyanine compound and a squarylium compound is included, and it is further preferable that a cyanine compound is included.
  • Cyanine compound Preferred examples of the cyanine compound include a compound represented by the following formula (I).
  • L C1 represents an alkylene group
  • R C11 and R C12 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group
  • R C11 and R C12 bond to form a ring structure.
  • R C13 and R C14 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, R C13 and R C14 may form a ring structure, R C15 represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group or a hydrogen atom, are each R C16 and R C17 independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group or an aryl group, X 1 represents an anion or cation necessary for neutralizing the charge, if the structure other than the structure represented by X 1 in formula (I) is electrically neutral, X 1 is absent It may be.
  • L C1 represents an alkylene group, and is preferably an ethylene group or a propylene group.
  • the above-mentioned LC1 may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R C11 and R C12 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and more preferably represent a hydrogen atom, a C 1-10 alkyl group.
  • R C11 is the above alkyl group or the above alkoxy group
  • R C12 is a hydrogen atom.
  • the ring structure formed by R C11 and R C12 is preferably a five-membered ring structure or a six-membered ring structure, more preferably a five-membered ring structure, and still more preferably a tetrahydrofuran ring structure.
  • the ring structure may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R C13 and R C14 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and more preferably a hydrogen atom, a C 1-10 carbon atom.
  • An alkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable, and a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is further preferable.
  • R C13 is the above alkyl group or the above alkoxy group
  • R C14 is a hydrogen atom.
  • the ring structure formed by R C13 and R C14 is preferably a five-membered ring structure or a six-membered ring structure, more preferably a five-membered ring structure, and still more preferably a tetrahydrofuran ring structure.
  • the ring structure may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R C15 represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group or a hydrogen atom, preferably an alkyl group, an aryl group or a hydrogen atom, and more preferably an aryl group or a hydrogen atom.
  • an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is more preferable, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable.
  • the alkenyl group is preferably an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, and further preferably an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms.
  • the alkynyl group is preferably an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms, and further preferably an alkynyl group having 2 to 8 carbon atoms.
  • the aralkyl group is preferably an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, more preferably an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms.
  • the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and more preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group may each be linear or branched, and may have a ring structure.
  • R C16 and R C17 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, or an aryl group, and an alkyl group is preferable.
  • the alkyl group in R C15 an alkenyl group, an alkynyl group, the same as the preferred embodiment of the aralkyl group or an aryl group.
  • the above alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group or aryl group may further have a substituent.
  • the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, a carboxy group, a sulfo group, an alkoxy group, and an amino group.
  • a carboxy group and a sulfo group are preferred, and a sulfo group is particularly preferred.
  • the carboxy group and the sulfo group may have a hydrogen atom dissociated or may be in a salt state.
  • X 1 represents an anion or a cation necessary for neutralizing the charge.
  • the anion include halide ions (Cl ⁇ , Br ⁇ , I ⁇ ), paratoluenesulfonic acid ions, ethyl sulfate ions, PF 6 ⁇ , BF 4 ⁇ , ClO 4 ⁇ , and tris (halogenoalkylsulfonyl) methide anions (for example, (CF 3 SO 2 ) 3 C ⁇ ), a di (halogenoalkylsulfonyl) imide anion (for example, (CF 3 SO 2 ) 2 N ⁇ ), and a tetracyanoborate anion.
  • Examples of the cation include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, transition metal ions, and other metal ions (ammonium ion, triethylammonium ion, tributylammonium ion, pyridinium ion, tetrabutylammonium ion, guanidinium ion, tetramethylguanidini ion). Ion and diazabicycloundecenium.
  • a commercially available product may be used as the infrared absorbent.
  • Examples of the commercially available product include S09425, S04046, S04290, S12008, and S01983 manufactured by Spectrum Info.
  • the content of the infrared absorber is preferably from 0.1% by mass to 95% by mass of the total solids of the composition.
  • the upper limit of the content is more preferably 75% by mass or less, and further preferably 50% by mass or less.
  • the lower limit of the content is more preferably 0.2% by mass or more, and further preferably 0.5% by mass or more.
  • the curable composition according to the present disclosure may further include an infrared absorber that does not satisfy Formula 1 (hereinafter, also referred to as “another infrared absorber”).
  • Other infrared absorbers are compounds in which the absorbance X at the maximum absorption wavelength and the maximum absorbance Y in the range of more than 950 nm and not more than 1,300 nm do not satisfy the above formula 1.
  • the other infrared absorbing agent is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 700 nm to 950 nm.
  • the other infrared absorber used in the present disclosure preferably has an absorption maximum in a wavelength range of 700 nm to 950 nm in a wavelength range of 350 nm to 1,300 nm, and in a wavelength range of 350 nm to 1,300 nm. More preferably has an absorption maximum in the wavelength range of 800 nm to 950 nm. Further, as another infrared absorbing agent, it absorbs in the wavelength range of 1500 to 2,000 nm (preferably in the wavelength range of 1,600 to 1,900 nm) in the wavelength range of 350 to 2,000 nm. By using a compound having a maximum, the curable composition according to the present disclosure can also be used for forming a bandpass filter.
  • infrared absorbers used in the present disclosure are not particularly limited, pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, pyrylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, diiminium compounds, lanthanum boride, metal flat particles, quantum dots A rare earth atom-containing ceramic, and the like, and preferably contains at least one selected from the group consisting of pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, pyrylium compounds, and diiminium compounds, pyrrolopyrrole compounds, pyrylium compounds, More preferably, it contains at least one selected from the group consisting of squarylium compounds and cyanine compounds.
  • the pyrrolopyrrole compound is not particularly limited, and a known infrared absorber having a pyrrolopyrrole structure can be used.
  • the pyrrolopyrrole compound used in the present disclosure preferably forms a J-aggregate.
  • the slip angle of the J-aggregate formed by the pyrrolopyrrole compound is preferably 1 ° to 54 °, more preferably 2 ° to 45 °, and still more preferably 3 ° to 40 °.
  • the pyrrolopyrrole compound used in the present disclosure preferably has a group having a boron atom on the nitrogen atom of the pyrrolopyrrole ring, and the nitrogen atom and the boron atom are preferably directly bonded. preferable.
  • a substituent on the boron atom directly bonded to the nitrogen atom it functions as a steric hindrance group that controls the plane overlap of the pyrrolopyrrole ring structure between the molecules, and a J-aggregate is preferably formed.
  • the J-aggregate may be a J-aggregate composed of two or more different dye compounds (infrared absorbers), that is, a mixed J-aggregate.
  • Forming a mixed J aggregate has the effect that the maximum absorption wavelength ( ⁇ max) can be arbitrarily controlled by the mixing ratio of the two dye compounds.
  • the ratio of each dye compound of the mixed J-aggregate can be arbitrarily selected, but when the dye A and the dye B are composed of two types, the ratio (molar ratio) between the dye A and the dye B is 1:99 to 99: It is preferably 1 and more preferably 10:90 to 90:10.
  • the ratio of the absorbance of the secondary absorption to the absorbance at the maximum absorption wavelength ( ⁇ max) (absorbance of the secondary absorption / absorbance at the maximum absorption wavelength) is preferably from 0 to 0.1, more preferably from 0 to 0.07, and more preferably from 0 to 0.07. 05 is more preferred.
  • the absorbance of the side absorption is the absorbance at 400 nm.
  • the half width of the maximum absorption wavelength ( ⁇ max) is not particularly limited, but is preferably 5 nm to 300 nm.
  • FIGS. 4 to 7 show examples of the absorption spectrum of the pyrrolopyrrole compound.
  • PP-a to PP-t in FIGS. 4 to 7 are all pyrrolopyrrole compounds.
  • the vertical axis represents absorbance (Absobance Unit), and the horizontal axis represents wavelength (nm).
  • FIG. 3 is a diagram showing absorption spectra of an example of a pyrrolopyrrole compound in a solution and in a film, respectively.
  • FIG. 4 is a diagram showing absorption spectra of the pyrrolopyrrole compounds PP-a to PP-h in a solution.
  • FIG. 5 is a diagram showing absorption spectra in the films of the pyrrolopyrrole compounds PP-i to PP-p, respectively.
  • FIG. 6 is a diagram showing a change in absorption spectrum due to the formation of a J-aggregate when the content ratio of the pyrrolopyrrole compounds PP-q and PPPP-r is changed.
  • FIG. 7 is a diagram showing a change in absorption spectrum due to the formation of a J-aggregate by changing the content ratio of the pyrrolopyrrole compounds PP-s and PPPP-t.
  • the pyrrolopyrrole compound is preferably a compound represented by the formula (PP).
  • R 1a and R 1b represent each independently an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • R 2 and R 3 independently represents a hydrogen atom or a substituent
  • R 2 and R 3 represents the bond to R 4 may also form a ring with each other, each independently, a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BR 4A R 4B, or a metal atom
  • R 4 May have a covalent bond or a coordinate bond with at least one selected from R 1a , R 1b and R 3
  • R 4A and R 4B each independently represent a substituent.
  • R 1a and R 1b are each independently preferably an aryl group or a heteroaryl group, more preferably an aryl group.
  • the alkyl group, aryl group and heteroaryl group represented by R 1a and R 1b may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include a substituent T described below.
  • R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • substituent T examples include the substituent T described below.
  • At least one of R 2 and R 3 is preferably an electron withdrawing group, and is preferably a cyano group, a carboxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, or an alkyl group. It is more preferably a sulfonyl group or an arylsulfonyl group, and further preferably a cyano group.
  • R 2 preferably represents an electron-withdrawing group (preferably a cyano group), and R 3 preferably represents a heteroaryl group.
  • the heteroaryl group preferably has a 5- or 6-membered ring.
  • the heteroaryl group is preferably a single ring or a condensed ring, preferably a single ring or a condensed ring having 2 to 8 condensed numbers, and more preferably a single ring or a condensed ring having 2 to 4 condensed numbers.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably from 1 to 3, more preferably from 1 to 2. Examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom.
  • the heteroaryl group preferably has one or more nitrogen atoms.
  • Two R 2 together in the formula (PP) may be the same or may be different.
  • two R 3 together in the formula (PP) may be the same or may be different.
  • R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group or a group represented by —BR 4A R 4B , and is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or —BR. more preferably a group represented by 4A R 4B, and more preferably a group represented by -BR 4A R 4B.
  • the substituent represented by R 4A and R 4B is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or a heteroaryl group, more preferably an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, and an aryl group. Particularly preferred. These groups may further have a substituent.
  • Two R 4 together in the formula (PP) may be the same or may be different.
  • R 4A and R 4B may combine with each other to form a ring.
  • Specific examples of the compound represented by the formula (PP) include the following compounds.
  • Me represents a methyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • Examples of the pyrrolopyrrole compound include compounds described in paragraphs 0016 to 0058 of JP-A-2009-263614, compounds described in paragraphs 0037 to 0052 of JP-A-2011-68731, and the like. The contents are incorporated herein. Further, as specific examples of the pyrrolopyrrole compound, IP-1 and IP-2 described in Examples described later are also preferably mentioned.
  • Cyanine compound As the cyanine compound, a compound represented by the formula (C) is preferable.
  • Z 1 and Z 2 are each independently a non-metallic atomic group forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may be condensed
  • R 101 and R 102 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group or an aryl group
  • L 1 represents a methine chain having an odd number of methine groups
  • a and b are each independently 0 or 1;
  • X 1 represents an anion
  • c represents a number necessary for balancing charges
  • the site represented by Cy in the formula is an anion portion.
  • X 1 represents a cation
  • c represents a number required to balance the charge, and when the charge at
  • Examples of the cyanine compound include compounds described in paragraphs 0044 to 0045 of JP-A-2009-108267, compounds described in paragraphs 0026 to 0030 of JP-A-2002-194040, and described in JP-A-2015-172004.
  • the compounds described in JP-A-2015-172102, the compounds described in JP-A-2008-88426, the compounds described in JP-A-2017-031394, and the like are described in the present specification. Is incorporated into
  • a 1 and A 2 each independently represent an aryl group, a heteroaryl group, or a group represented by the formula (A-1);
  • Z 1 represents a nonmetallic atomic group forming a nitrogen-containing heterocyclic ring
  • R 2 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group
  • d represents 0 or 1
  • a wavy line represents a connecting hand.
  • the squarylium compound is preferably a compound represented by the following formula (SQ-1).
  • Ring A and ring B each independently represent an aromatic ring
  • X A and X B each independently represent a substituent
  • G A and G B independently represents a substituent
  • kA represents an integer of 0 ⁇ n A
  • kB represents an integer of 0 ⁇ n B
  • n A and n B each represent a maximum integer that can be substituted on ring A or ring B
  • X A and G A, X B and G B, X A and X B may be bonded to each other to form a ring, if G A and G B are present in plural can combine with each other to form a ring structure May be formed.
  • the substituent represented by G A and G B include the substituent T which will be described later.
  • Examples of the substituent represented by X A and X B preferably a group having an active hydrogen, -OH, -SH, -COOH, -SO 3 H, -NR X1 R X2, -NHCOR X1, -CONR X1 R X2, -NHCONR X1 R X2 , -NHCOOR X1 , -NHSO 2 R X1 , -B (OH) 2 and -PO (OH) 2 are more preferable, and -OH, -SH and -NR X1 R X2 are further preferable.
  • R X1 and R X2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituents R X1 and R X2 in X A and X B include an alkyl group, an aryl group, and a heteroaryl group, and an alkyl group is preferable.
  • Ring A and ring B each independently represent an aromatic ring.
  • the aromatic ring may be a single ring or a condensed ring.
  • Specific examples of the aromatic ring include a benzene ring, a naphthalene ring, a pentalene ring, an indene ring, an azulene ring, a heptalen ring, an indacene ring, a perylene ring, a pentacene ring, an acenaphthene ring, a phenanthrene ring, an anthracene ring, a naphthacene ring, and a chrysene ring.
  • Triphenylene ring Fluorene ring, biphenyl ring, pyrrole ring, furan ring, thiophene ring, imidazole ring, oxazole ring, thiazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, indolizine ring, indole ring, benzofuran ring, Benzothiophene ring, isobenzofuran ring, quinolidine ring, quinoline ring, phthalazine ring, naphthyridine ring, quinoxaline ring, quinoxazoline ring, isoquinoline ring, carbazole ring, phenanthridine ring, acridine ring, phenanthroline ring, thia Train ring, chromene ring, xanthene ring, phenoxathiin ring, phenothia Train
  • X A and G A , X B and G B , X A and X B may be bonded to each other to form a ring, and when a plurality of G A and G B are respectively present, they are bonded to each other to form a ring. It may be formed.
  • a 5- or 6-membered ring is preferable.
  • the ring may be a single ring or a condensed ring.
  • X A and G A , X B and G B , X A and X B , G A or G B are bonded to form a ring, they may be directly bonded to form a ring,
  • the ring may be formed by bonding via a divalent linking group consisting of a group, —CO—, —O—, —NH—, —BR— and a combination thereof.
  • R represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include a substituent T described below, and an alkyl group or an aryl group is preferable.
  • kA represents an integer of 0 ⁇ n A
  • kB represents an integer of 0 ⁇ n B
  • n A represents the largest integer that can be substituted in the ring A
  • n B is the maximum that can be replaced by ring B Represents an integer.
  • kA and kB are each independently preferably from 0 to 4, more preferably from 0 to 2, and particularly preferably from 0 to 1.
  • the squarylium compound is also preferably a compound represented by the following formula (SQ-10), (SQ-11) or (SQ-12).
  • X is independently a formula wherein one or more hydrogen atoms may be substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkoxy group. It is a divalent organic group represented by formula (1) or formula (2).
  • n1 is 2 or 3.
  • n2 and n3 are each independently an integer of 0 to 2
  • n2 + n3 is 1 or 2.
  • R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl group and the aryl group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • substituent T examples include the substituent T described below.
  • R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group.
  • n is 2 or 3.
  • Examples of the squarylium compound include compounds having the following structures. Further, compounds described in paragraphs 0044 to 0049 of JP-A-2011-208101, compounds described in paragraphs 0060 to 0061 of Japanese Patent No. 6065169, and compounds described in paragraph 0040 of WO 2016/181987. Compounds, compounds described in WO 2013/133030, compounds described in WO 2014/088063, compounds described in JP-A-2014-126642, compounds described in JP-A-2016-146719, Compounds described in JP-A-2015-176046, compounds described in JP-A-2017-25311, compounds described in International Publication No. WO2016 / 154772, compounds described in Patent No. 588,953, and Patent No. 6036689. Described compound, in Japanese Patent No. 5810604 Compounds of the mounting, can be mentioned compounds described in JP-A-2017-068120, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of the pyrylium compound include compounds having the following structure.
  • Examples of the pyrylium compound include substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in US Pat. No. 3,881,924, trimethinethiapyrylium salts described in JP-A-57-142645, and JP-A-58-181051.
  • phthalocyanine compound examples include compounds described in paragraph No. 0093 of JP-A-2012-77153, oxytitanium phthalocyanine described in JP-A-2006-343631, and paragraphs 0013 to 0029 of JP-A-2013-195480. And vanadium phthalocyanine described in Japanese Patent No. 6081771, the contents of which are incorporated herein. Further, a compound having the following structure can be used as the phthalocyanine compound. Examples of the naphthalocyanine compound include the compounds described in paragraph No. 0093 of JP-A-2012-77153, the contents of which are incorporated herein.
  • a commercially available product can be used as the phthalocyanine compound.
  • SDO-C33 manufactured by Arimoto Chemical Industry Co., Ltd.
  • EEX Color IR-14 EEX Color IR-10A
  • EEX Color TX-EX-801B EEX Color TX-EX-805K ((Co.) ) manufactured by Nippon Shokubai)
  • ShigenoxNIA-8041 ShigenoxNIA-8042
  • ShigenoxNIA-814 ShigenoxNIA-820
  • ShigenoxNIA-839 Hakko Chemical Co., Ltd.
  • EpoliteV-63 Epolight3801, made Epolight3036 (EPOLIN, Inc.)
  • PRO-JET825LDI Fluji Film Co., Ltd.
  • NK-3027 NK-5060
  • YKR-3070 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
  • diiminium compound As the diiminium compound, a compound represented by the following formula (Im) is preferable.
  • R 11 to R 18 each independently represent an alkyl group or an aryl group
  • V 11 to V 15 each independently represent an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, or a cyano group
  • X represents a counter anion
  • c represents a number necessary for balancing electric charges
  • n1 to n5 are each independently 0 to 4.
  • R 11 to R 18 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
  • the carbon number of the alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, and particularly preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched.
  • the carbon number of the aryl group is preferably from 6 to 25, more preferably from 6 to 15, and even more preferably from 6 to 12.
  • the alkyl group and the aryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups described for the following substituent T.
  • V 11 to V 15 each independently represent an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, or a cyano group.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the carbon number of the alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, and particularly preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched, and particularly preferably linear.
  • the carbon number of the aryl group is preferably from 6 to 25, more preferably from 6 to 15, and even more preferably from 6 to 12.
  • the carbon number of the alkoxy group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, and particularly preferably 1 to 8.
  • the alkoxy group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched, and particularly preferably linear.
  • n1 to n5 are each independently 0 to 4.
  • n1 to n4 are preferably 0 to 2, and more preferably 0 or 1.
  • n5 is preferably from 0 to 3, and more preferably from 0 to 2.
  • X represents a counter anion.
  • the counter anion include halide ions (Cl ⁇ , Br ⁇ , I ⁇ ), p-toluenesulfonic acid ion, ethyl sulfate ion, SbF 6 ⁇ , PF 6 ⁇ , BF 4 ⁇ , ClO 4 ⁇ , tris (halogenoalkyl Sulfonyl) methide anions (eg, (CF 3 SO 2 ) 3 C ⁇ ), di (halogenoalkylsulfonyl) imide anions (eg, (CF 3 SO 2 ) 2 N ⁇ ), and tetracyanoborate anions.
  • c represents a number necessary to balance the charges, and is preferably, for example, two.
  • An alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • an alkenyl group preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an alkynyl group preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryl group preferably An aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an amino group (preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms), an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms), an aryloxy group (preferably having 6 to 30 carbon atoms)
  • a heteroaryloxy group an acyl group (preferably an acyl group having 1 to 30 carbon atoms), an alkoxycarbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms), and an aryloxycarbonyl group (preferably Is an aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms
  • An aryloxycarbonylamino group having 30 carbon atoms a sulfamoyl group (preferably a sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms), a carbamoyl group (preferably a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms), and an alkylthio group (preferably having 1 to 30 carbon atoms).
  • An alkylsulfinyl group preferably having 1 to 30 carbon atoms
  • an arylsulfinyl group preferably having 6 to 30 carbon atoms
  • a heteroarylsulfinyl group preferably having 1 to 30 carbon atoms
  • a ureido group preferably having 1 to 30 carbon atoms
  • hydroxy group, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a carboxylic acid amide group preferably a group represented by -NHCOR A1, R A1 is carbonized Represent
  • sulfonamide group (preferably a group represented by -NHSO 2 R A2 .R A2 represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group. hydrocarbon group and the heterocyclic
  • the ring group may further have a substituent.
  • the substituent is preferably a halogen atom, and more preferably a fluorine atom.
  • Imidate group (preferably, -SO 2 NHSO 2 R A3, -CONHSO 2 R A4, .R A3 ⁇ R A6 is a group represented by -CONHCOR A5 or -SO 2 NHCOR A6 are each independently Represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group.The hydrocarbon group and the heterocyclic group may further have a substituent.), A mercapto group, a halogen atom, a cyano group, an alkylsulfino group, an arylsulfino group Hydrazino group, imino group, heteroaryl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms). When these groups are further substitutable groups, they may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups described above for the substituent T.
  • diiminium compound examples include the following compounds. ⁇ max in the table is the maximum absorption wavelength of the compound.
  • diiminium compounds include IRG-068 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • the tabular metal particles are not particularly limited as long as they are particles composed of two main planes, and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples thereof include a hexagonal shape, a circular shape, and a triangular shape. Among them, from the viewpoint of high visible light transmittance, it is more preferably a polygonal shape to a hexagonal shape or a circular shape, and particularly preferably a hexagonal shape or a circular shape.
  • the thickness of the metal tabular grains is preferably 20 nm or less, more preferably 14 nm or less.
  • the aspect ratio of the metal tabular grains is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.
  • the reflectance in the infrared region (for example, light having a wavelength of more than 1,000 nm and 1,200 nm or less) is used. From the viewpoint of increasing the value, 6 to 40 is preferable, and 8 to 30 is more preferable.
  • the above aspect ratio means a value obtained by dividing the average particle diameter (average equivalent circle diameter) of primary particles of metal tabular particles by the average particle thickness of metal tabular particles.
  • the average grain thickness corresponds to the distance between the main planes of the metal tabular grains, and can be measured by an atomic force microscope (AFM).
  • AFM atomic force microscope
  • Quantum dots examples of the material of the quantum dot used as another infrared absorber include FeSi, Ge, InN, InAs, PbTe, PbSe, and InSb.
  • the shape of the quantum dot is not particularly limited, and may be a true sphere, a scale, a plate, an ellipsoid, or an irregular shape.
  • a ceramic containing a rare earth atom such as Yb, Ho, or Tm can be given.
  • Yb, Ho, or Tm a ceramic containing a rare earth atom such as Yb, Ho, or Tm.
  • the content of the other infrared absorber is preferably 0.5 to 30% by mass of the total solids of the composition.
  • the upper limit of the content is more preferably 20% by mass or less, and further preferably 15% by mass or less.
  • the lower limit of the content is more preferably 1% by mass or more, and further preferably 2% by mass or more.
  • the curable composition according to the present disclosure preferably further includes a compound having a maximum absorption wavelength at a wavelength of 400 nm to 700 nm (hereinafter, also referred to as a “visible light absorbing compound”).
  • the curable composition according to the present disclosure further includes a visible light absorbing compound, and when the wavelength that is a shorter wavelength of 150 nm than the wavelength Tb is Ta ′, the absorbance in the range of wavelength 400 nm or more and Ta ′ or less.
  • a ′ / C which is the ratio between the minimum value A ′ and the maximum value C, is 4.5 or more.
  • a '/ C is preferably 10 or more, more preferably 15 or more, even more preferably 20 or more.
  • the minimum value A ′ is preferably 0.8 or more, more preferably 1.0 or more, and still more preferably 1.3 or more.
  • the visible light absorbing compound is preferably a compound that absorbs light in a violet to red wavelength range.
  • the visible light absorbing compound is preferably a colorant that blocks light having a wavelength of 450 nm to 650 nm (preferably 400 nm to 700 nm).
  • the visible light absorbing compound preferably has a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 400 nm or more and 700 nm or less.
  • the visible light absorbing compound preferably has an absorption maximum in a wavelength range of 400 nm to 700 nm in a wavelength range of 350 nm to 1,300 nm.
  • the visible light absorbing compound is preferably a compound having a high transmittance to light in a wavelength range of 1,000 nm to 1,300 nm.
  • the curable composition preferably contains two or more visible light absorbing compounds.
  • the visible light absorbing compound preferably satisfies at least one of the following requirements (1) and (2).
  • the chromatic colorant means a colorant other than the white colorant and the black colorant.
  • a colorant having an absorption maximum in a wavelength range of 400 nm to 700 nm in a wavelength range of 350 to 1,300 nm is preferable.
  • an organic black colorant as a visible light absorbing compound means a material that absorbs visible light but transmits at least part of infrared light. Therefore, in the present disclosure, the organic black colorant as the visible light absorbing compound does not include a black colorant that absorbs both visible light and infrared light, for example, carbon black and titanium black.
  • a colorant having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 400 nm or more and 700 nm or less is preferable.
  • a colorant having an absorption maximum in a wavelength range of 400 to 700 nm in a wavelength range of 350 to 1,300 nm is preferable.
  • the visible light absorbing compound has a ratio A1 / B1 of 4 between a minimum value A1 of absorbance in a wavelength range of 450 nm to 650 nm and a maximum value B1 of absorbance in a wavelength range of 1,000 nm to 1,500 nm. It is preferably at least 0.5.
  • the above-mentioned spectral characteristics (A1 / B1) of the visible light absorbing compound may be satisfied by one kind of visible light absorbing compound, or may be satisfied by a combination of a plurality of visible light absorbing compounds.
  • the above-mentioned spectral characteristics are satisfied by combining a plurality of chromatic colorants.
  • the organic black colorant may satisfy the above spectral characteristics.
  • the above spectral characteristics may be satisfied by a combination of an organic black colorant and a chromatic colorant.
  • the chromatic colorant is preferably at least one colorant selected from the group consisting of a red colorant, a blue colorant, a green colorant, a yellow colorant, a purple colorant, and a brown colorant. .
  • the chromatic colorant may be a pigment or a dye.
  • it is a pigment.
  • the pigment preferably has an average particle size (r) satisfying preferably 20 nm ⁇ r ⁇ 300 nm, more preferably 25 nm ⁇ r ⁇ 250 nm, particularly preferably 30 nm ⁇ r ⁇ 200 nm.
  • average particle size as used herein means an average particle size of secondary particles in which primary particles of the pigment are aggregated, and means a number average particle size.
  • the particle size distribution of the secondary particles of the pigment that can be used (hereinafter, also simply referred to as “particle size distribution”) is such that 70% by mass or more of the secondary particles falling within (average particle size ⁇ 100) nm, Preferably, it is 80% by mass or more.
  • the average particle size and the particle size distribution of the secondary particles can be measured using a dynamic light scattering method.
  • Pigments having the above-mentioned average particle size and particle size distribution can be obtained by mixing commercially available pigments with other pigments that may be used (the average particle size of secondary particles usually exceeds 300 nm), preferably with a resin and an organic solvent.
  • the mixture can be prepared by mixing and dispersing the mixture while pulverizing it using a pulverizer such as a bead mill or a roll mill.
  • the pigment thus obtained usually takes the form of a pigment dispersion.
  • the pigment is preferably an organic pigment, and examples thereof include the following. However, the present disclosure is not limited to these. Color Index (CI) Pigment Yellow 1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170 17
  • Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, etc. (above, purple pigment)
  • These organic pigments can be used alone or in various combinations.
  • the dye is not particularly limited, and a known dye can be used.
  • the chemical structure includes pyrazole azo, anilino azo, triarylmethane, anthraquinone, anthrapyridone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, Xanthene-based, phthalocyanine-based, benzopyran-based, indigo-based, and pyrromethene-based dyes can be used. Further, a multimer of these dyes may be used. Further, the dyes described in JP-A-2015-28144 and JP-A-2015-34966 can also be used.
  • examples of the combination of chromatic colorants include the following. (1) An embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant, a purple colorant, and a red colorant. (2) An embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant, and a red colorant. (3) An embodiment containing a yellow colorant, a purple colorant, and a red colorant. (4) An embodiment containing a yellow colorant and a purple colorant. (5) An embodiment containing a green colorant, a blue colorant, a purple colorant, and a red colorant. (6) An embodiment containing a purple colorant and an orange colorant. (7) An embodiment containing a green colorant, a purple colorant, and a red colorant. (8) An embodiment containing a green colorant and a red colorant.
  • Specific examples of the above embodiment (1) include C.I. I. Pigment Yellow 139 or 185, and C.I. I. Pigment Blue 15: 6 or C.I. I. Pigment Blue 16 and C.I. I. Pigment Violet 23 and C.I. I. Pigment Red 254 or 224.
  • Specific examples of the above embodiment (2) include C.I. I. Pigment Yellow 139 or 185, and C.I. I. Pigment Blue 15: 6 or C.I. I. Pigment Blue 16 and C.I. I. Pigment Red 254 or 224.
  • Specific examples of the above embodiment (3) include C.I. I. Pigment Yellow 139 or 185, and C.I. I. Pigment Violet 23 and C.I. I. Pigment Red 254 or 224.
  • Specific examples of the above embodiment (4) include C.I. I. Pigment Yellow 139 or 185, and C.I. I. Pigment Violet 23.
  • Specific examples of the above embodiment (5) include C.I. I. Pigment Green 7 or 36, and C.I. I. Pigment Blue 15: 6 and C.I. I. Pigment Violet 23 and C.I. I. Pigment Red 254 or 224.
  • Specific examples of the above embodiment (6) include C.I. I. Pigment Violet 23 and C.I. I. Pigment Orange 71.
  • Specific examples of the above (7) include C.I. I. Pigment Green 7 or 36, and C.I. I. Pigment Violet 23 and C.I. I. Pigment Red 254 or 224.
  • Specific examples of the above (8) include C.I. I. Pigment Green 7 or 36, and C.I. I. Pigment Red 254 or 224.
  • the ratio (mass ratio) of each colorant is preferably, for example, the following ratio.
  • the yellow colorant is more preferably 0.1 to 0.3, the blue colorant is more preferably 0.1 to 0.5, and the purple colorant is more preferably 0.01 to 0.2.
  • the red colorant is more preferably 0.1 to 0.5.
  • the yellow colorant is more preferably 0.1 to 0.3, the blue colorant is more preferably 0.1 to 0.5, and the red colorant is more preferably 0.1 to 0.5. .
  • the organic black colorant examples include a bisbenzofuranone compound, an azomethine compound, a perylene compound, and an azo compound, and a bisbenzofuranone compound or a perylene compound is preferable.
  • the bisbenzofuranone compound examples include those described in JP-T-2010-534726, JP-T-2012-515233, JP-T-2012-515234, WO 2014/208348, JP-T-2015-525260, and the like.
  • Compounds are available, for example, available as “Irgaphor Black” manufactured by BASF.
  • perylene compounds examples include C.I. I. Pigment Black 31, 32, and the like.
  • the azomethine compound examples include those described in JP-A-1-170601 and JP-A-2-34664. For example, it can be obtained as "Chromofine Black A1103" manufactured by Dainichi Seika.
  • the bisbenzofuranone compound is preferably a compound represented by the following formula and a mixture thereof.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • R 3 and R 4 each independently represent a substituent
  • a and b each independently represent an integer of 0 to 4.
  • a is 2 or more
  • a plurality of R 3 may be the same or different, and a plurality of R 3 may combine to form a ring
  • b is 2 or more
  • a plurality of R 4 may be the same or different, and a plurality of R 4 may combine to form a ring.
  • the substituents represented by R 1 to R 4 are a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, —OR 301 , —COR 302 , and —COOR 303.
  • R 301 to R 318 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heteroaryl group.
  • an organic black colorant when used as the visible light absorbing compound, it is preferably used in combination with a chromatic colorant.
  • a chromatic colorant By using an organic black colorant and a chromatic colorant in combination, it is easy to obtain excellent spectral characteristics.
  • the chromatic colorant used in combination with the organic black colorant include a red colorant, a blue colorant, and a purple colorant, and a red colorant and a blue colorant are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the mixing ratio of the chromatic colorant to the organic black colorant is preferably 10 to 200 parts by mass, more preferably 15 to 150 parts by mass, per 100 parts by mass of the organic black colorant. preferable.
  • the content of the pigment in the visible light absorbing compound is preferably 95% by mass or more, more preferably 97% by mass or more, and more preferably 99% by mass or more based on the total amount of the visible light absorbing compound. It is even more preferred.
  • the content of the visible light absorbing compound is preferably from 10 to 60% by mass of the total solids of the composition.
  • the upper limit is preferably equal to or less than 50% by mass, and more preferably equal to or less than 45% by mass.
  • the lower limit is preferably at least 20% by mass, more preferably at least 25% by mass.
  • the curable composition according to the present disclosure contains a curable compound.
  • the curable compound include polymerizable compounds, resins, and natural polymers such as gelatin and cellulose.
  • the gelatin there are acid-treated gelatin and alkali-treated gelatin (lime treatment and the like) depending on the synthesis method, and both can be preferably used.
  • Gelatin preferably has a molecular weight of 10,000 to 1,000,000. Further, denatured gelatin modified by utilizing amino groups and carboxyl groups of gelatin can also be used (for example, phthalated gelatin).
  • inert gelatin for example, Nitta Gelatin 750
  • phthalated gelatin for example, Nitta Gelatin 801 and the like can be used.
  • the resin may be a non-polymerizable resin (a resin having no polymerizable group) or a polymerizable resin (a resin having a polymerizable group).
  • the polymerizable group include a group having an ethylenically unsaturated bond, an epoxy group, a methylol group, and an alkoxymethyl group.
  • the group having an ethylenically unsaturated bond include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
  • the polymerizable resin (resin having a polymerizable group) is also a polymerizable compound.
  • the curable compound it is preferable to use one containing at least a resin, and it is more preferable to use a resin and a polymerizable compound that is a monomer, and the resin has a group having an ethylenically unsaturated bond. It is more preferable to use a polymerizable compound which is a monomer.
  • the content of the curable compound is preferably from 0.1 to 80% by mass based on the total solid content of the composition.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 70% by mass or less, more preferably 60% by mass or less, still more preferably 50% by mass or less, even more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or less.
  • the curable compound contained in the curable composition according to the present disclosure may be only one type, or may be two or more types. In the case of two or more types, the total amount is preferably within the above range.
  • polymerizable compound examples include a compound having a group having an ethylenically unsaturated bond, a compound having an epoxy group, a compound having a methylol group, and a compound having an alkoxymethyl group.
  • the polymerizable compound may be a monomer or a resin.
  • a monomer having a group having an ethylenically unsaturated bond is preferable.
  • a polymerizable compound which is a monomer having a group having an ethylenically unsaturated bond can be preferably used as a radical polymerizable compound.
  • a compound having an epoxy group, a compound having a methylol group, and a compound having an alkoxymethyl group can be preferably used as a cationically polymerizable compound.
  • the molecular weight of the polymerizable compound as a monomer is preferably less than 2,000, more preferably 100 or more and less than 2,000, and further preferably 200 or more and less than 2,000.
  • the upper limit is preferably, for example, 1,500 or less.
  • the polymerizable compound as a resin preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 2,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably at most 1,000,000, more preferably at most 500,000.
  • the lower limit is preferably 3,000 or more, and more preferably 5,000 or more.
  • polymerizable compound as a resin examples include an epoxy resin and a resin containing a structural unit having a polymerizable group.
  • the structural unit having a polymerizable group examples include the following (A2-1) to (A2-4).
  • R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably from 1 to 5, more preferably from 1 to 3, and even more preferably 1.
  • R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • L 51 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the number of carbon atoms of the alkylene group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 15, and still more preferably 1 to 10.
  • the alkylene group may have a substituent, but is preferably unsubstituted.
  • the alkylene group may be linear, branched, or cyclic. Further, the cyclic alkylene group may be either monocyclic or polycyclic.
  • the carbon number of the arylene group is preferably from 6 to 18, more preferably from 6 to 14, and even more preferably from 6 to 10.
  • P 1 represents a polymerizable group.
  • the polymerizable group include a group having an ethylenically unsaturated bond, an epoxy group, a methylol group, and an alkoxymethyl group.
  • the compound having a group having an ethylenically unsaturated bond is preferably a 3- to 15-functional (meth) acrylate compound, more preferably a 3- to 6-functional (meth) acrylate compound.
  • the description of paragraphs [0033] to [0034] of JP-A-2013-253224 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • Examples of the compound having a group having an ethylenically unsaturated bond include ethyleneoxy-modified pentaerythritol tetraacrylate (commercially available products are NK ester ATM-35E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and dipentaerythritol triacrylate (commercially available).
  • Products include KAYARAD D-330 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetraacrylate (commercially available products include KAYARAD D-320; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and dipentaerythritol penta (meta).
  • the compound containing a group having an ethylenically unsaturated bond may further have an acid group such as a carboxy group, a sulfo group, and a phosphate group.
  • an acid group such as a carboxy group, a sulfo group, and a phosphate group.
  • Examples of commercially available products include Aronix series (eg, M-305, M-510, M-520) manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a compound having a caprolactone structure is also a preferred embodiment.
  • the compound having a caprolactone structure the description in paragraphs 0042 to 0045 of JP-A-2013-253224 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • Examples of the compound having a caprolactone structure include DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120, which are commercially available as KAYARAD DPCA series from Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • a compound having a group having an ethylenically unsaturated bond and an alkyleneoxy group can also be used.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond and the compound having an alkyleneoxy group a compound having an ethylenically unsaturated bond and a compound having an ethyleneoxy group and / or a propyleneoxy group are preferable.
  • a compound having a group and an ethyleneoxy group is more preferable, and a 3 to 6-functional (meth) acrylate compound having 4 to 20 ethyleneoxy groups is more preferable.
  • Examples of the compound containing a group having an ethylenically unsaturated bond include 8UH-1006 and 8UH-1012 (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) and light acrylate POB-A0 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). preferable.
  • the content of the compound containing a group having an ethylenically unsaturated bond is 0% based on the total solid content of the composition.
  • 0.1% by mass or more is preferable, 0.5% by mass or more is more preferable, 1% by mass or more is further preferable, and 5% by mass or more is particularly preferable.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less, even more preferably 50% by mass or less, still more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or less. preferable.
  • Examples of the compound having an epoxy group include a monofunctional or polyfunctional glycidyl ether compound and a polyfunctional aliphatic glycidyl ether compound. Further, as the epoxy compound, a compound having an alicyclic epoxy group can also be used.
  • Examples of the epoxy compound include compounds having one or more epoxy groups in one molecule.
  • the epoxy compound is preferably a compound having 1 to 100 epoxy groups per molecule.
  • the upper limit of the number of epoxy groups can be, for example, 10 or less, or 5 or less.
  • the lower limit of the epoxy group is preferably two or more.
  • the epoxy compound may be a low molecular weight compound (for example, a molecular weight of less than 1,000) or a high molecular weight compound (a macromolecule) (for example, a molecular weight of 1,000 or more, and in the case of a polymer, a weight average molecular weight of 1,000 or more). Either may be used.
  • the weight average molecular weight of the epoxy compound is preferably from 2,000 to 100,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5,000 or less, and even more preferably 3,000 or less.
  • epoxy compounds include EHPE3150 (manufactured by Daicel Co., Ltd.), EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corporation), Adecaglycylol ED-505 (manufactured by ADEKA Corporation, epoxy group-containing monomer), Marproof G-0150M, G-0105SA, G-0130SP, G-0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 (manufactured by NOF Corporation, containing epoxy group Polymer).
  • the content of the epoxy compound is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, based on the total solid content of the composition. 1% by mass or more is more preferable, and 5% by mass or more is particularly preferable.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less, even more preferably 50% by mass or less, still more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or less. preferable.
  • -Compound having a methylol group, compound having an alkoxymethyl group examples include compounds in which the methylol group is bonded to a nitrogen atom or a carbon atom forming an aromatic ring.
  • Examples of the compound having an alkoxymethyl group include a compound in which an alkoxymethyl group is bonded to a nitrogen atom or a carbon atom forming an aromatic ring.
  • Examples of the compound in which an alkoxymethyl group or a methylol group is bonded to a nitrogen atom include alkoxymethylated melamine, methylolated melamine, alkoxymethylated benzoguanamine, methylolated benzoguanamine, alkoxymethylated glycoluril, methylolated glycoluril, and alkoxymethyl.
  • Urea and methylolated urea are preferred.
  • the description of paragraphs 0134 to 0147 of JP-A-2004-295116 and paragraphs 0095 to 0126 of JP-A-2014-089408 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the content of the methylol compound is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, based on the total solid content of the composition, 1% by mass or more is more preferable, and 5% by mass or more is particularly preferable.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less, even more preferably 50% by mass or less, still more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or less. preferable.
  • the content of the alkoxymethyl compound is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more based on the total solid content of the composition. It is preferably at least 1% by mass, more preferably at least 5% by mass.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less, even more preferably 50% by mass or less, still more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or less. preferable.
  • the composition according to the present disclosure can use a resin as the curable compound. It is preferable to use a curable compound containing at least a resin. Resins can also be used as dispersants. Note that a resin used to disperse a pigment or the like is also referred to as a dispersant. However, such a use of the resin is an example, and the resin may be used for a purpose other than the use. Note that a resin having a polymerizable group also corresponds to a polymerizable compound.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably from 2,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 3,000 or more, more preferably 5,000 or more.
  • (meth) acrylic resin, epoxy resin, ene thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin examples thereof include a polyamideimide resin, a polyolefin resin, a cyclic olefin resin, a polyester resin, and a styrene resin.
  • epoxy resin examples include compounds that are resins among the compounds exemplified as the epoxy compound described in the section of the polymerizable compound described above.
  • -Cyclic olefin resin- Commercial products of the cyclic olefin resin include ARTON D4540 and F4520 (both manufactured by JSR Corporation).
  • the resins described in Examples of International Publication WO 2016/088645, the resins described in JP-A-2017-57265, the resins described in JP-A-2017-32685, and the resins described in JP-A-2017-075248 The resin described in the gazette and the resin described in JP-A-2017-066240 can also be used, and the contents thereof are incorporated herein.
  • a resin having a fluorene skeleton can be preferably used.
  • the resin having a fluorene skeleton include a resin having the following structure.
  • A is a residue of a carboxylic acid dianhydride selected from pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride and diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride.
  • M is a phenyl group or a benzyl group.
  • the resin used in the present disclosure may have an acid group.
  • the acid group include a carboxy group, a phosphoric acid group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group, and a carboxy group is preferable. These acid groups may be used alone or in combination of two or more.
  • the resin having an acid group can be used as an alkali-soluble resin.
  • a polymer having a carboxy group in a side chain is preferable.
  • alkali-soluble polymers such as methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, and novolak resins.
  • examples thereof include phenol resins, acidic cellulose derivatives having a carboxyl group in the side chain, and resins obtained by adding an acid anhydride to a polymer having a hydroxy group.
  • a copolymer of (meth) acrylic acid and another monomer copolymerizable therewith is suitable as the alkali-soluble resin.
  • alkyl (meth) acrylate, aryl (meth) acrylate, and vinyl compounds examples include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, Examples of vinyl compounds such as hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tolyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate include styrene, ⁇ -methylstyrene, vinylto
  • N-substituted maleimide monomers described in JP-A-10-300922 for example, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like can also be used.
  • the other monomer copolymerizable with the (meth) acrylic acid may be only one kind or two or more kinds.
  • the resin having an acid group may further contain a constituent unit having a polymerizable group.
  • the content of the constituent unit having a polymerizable group in all the constituent units is preferably 10 to 90 mol%, and 20 to 90 mol%.
  • the content is more preferably 90 mol%, and further preferably 20 to 85 mol%.
  • the content of the structural unit having an acid group in all the structural units is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 5 to 40 mol%, and more preferably 5 to 30 mol%. More preferred.
  • Examples of the resin having an acid group include benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate copolymer, and benzyl (meth) acrylate.
  • A) multi-component copolymer composed of acrylate / (meth) acrylic acid / other monomer can be preferably used.
  • the resin having an acid group is a monomer containing a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimer”). It is also preferable to include a polymer obtained by polymerizing the components.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP-A-2010-168538 can be referred to.
  • ether dimer for example, paragraph No. 0317 of JP-A-2013-29760 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the ether dimer may be only one kind or two or more kinds.
  • the resin having an acid group may include a structural unit derived from a compound represented by the following formula (X).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
  • R 3 represents a C 1 to 20 carbon atom which may contain a hydrogen atom or a benzene ring.
  • n represents an integer of 1 to 15.
  • the resin having an acid group is described in JP-A-2012-208494, paragraphs 0558 to 0571 (corresponding to U.S. Patent Application Publication No. 2012/0235099, paragraphs 0685 to 0700) and JP-A-2012-198408. References to paragraphs 0076 to 999 of the publication can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • a commercially available resin can be used as the resin having an acid group.
  • Cyclomer ACA210 ⁇ manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
  • Acrybase FF-426 manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.
  • the acid value of the resin having an acid group is preferably from 30 to 200 mgKOH / g.
  • the lower limit is preferably at least 50 mgKOH / g, more preferably at least 70 mgKOH / g.
  • the upper limit is preferably equal to or less than 150 mgKOH / g, and more preferably equal to or less than 120 mgKOH / g.
  • Examples of the resin having an acid group include a resin having the following structure.
  • Me represents a methyl group.
  • the composition according to the present disclosure can also include a resin as a dispersant.
  • the dispersant include an acidic dispersant (acidic resin) and a basic dispersant (basic resin).
  • the acidic dispersant (acidic resin) refers to a resin in which the amount of an acid group is larger than the amount of a basic group.
  • the acid dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of the acid group accounts for 70 mol% or more when the total amount of the acid group and the basic group is 100 mol%. More preferred are resins consisting only of groups.
  • the acid group of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxy group.
  • the acid value of the acidic dispersant is preferably from 40 to 105 mgKOH / g, more preferably from 50 to 105 mgKOH / g, even more preferably from 60 to 105 mgKOH / g.
  • the basic dispersant (basic resin) refers to a resin in which the amount of the basic group is larger than the amount of the acid group.
  • the basic dispersant (basic resin) is preferably a resin in which the amount of the basic group exceeds 50 mol% when the total amount of the acid group and the amount of the basic group is 100 mol%.
  • the basic group of the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as a dispersant preferably contains a structural unit having an acid group.
  • residues generated on the base of the pixel can be further reduced when a pattern is formed by a photolithography method.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a graft copolymer. Since the graft copolymer has an affinity for a solvent due to the graft chain, the dispersibility of the pigment and the dispersion stability after aging are excellent.
  • the details of the graft copolymer can be referred to paragraphs 0025 to 0094 of JP-A-2012-255128, the contents of which are incorporated herein.
  • specific examples of the graft copolymer include the following resins.
  • the following resins are also resins having an acid group (alkali-soluble resins).
  • Examples of the graft copolymer include resins described in paragraphs 0072 to 994 of JP-A-2012-255128, the contents of which are incorporated herein.
  • an oligoimine-based dispersant containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain as the resin (dispersant).
  • the oligoimine-based dispersant includes a structural unit having a partial structure X having a functional group of pKa14 or less, a side chain including a side chain Y having 40 to 10,000 atoms, and a main chain and a side chain. Resins having a basic nitrogen atom on at least one side are preferred.
  • the basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a basic nitrogen atom.
  • oligoimine-based dispersant the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP-A-2012-255128 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • a resin having the following structure or a resin described in paragraph numbers 0168 to 0174 of JP-A-2012-255128 can be used.
  • the dispersant is also available as a commercial product, and specific examples of such a dispersant include BYK2000 (manufactured by BYK Japan KK). Further, pigment dispersants described in paragraph numbers 0041 to 0130 of JP-A-2014-130338 can also be used, and the contents thereof are incorporated herein. Further, the above-mentioned resin having an acid group can be used as a dispersant.
  • the content of the resin is preferably 0.1 to 50% by mass based on the total solid content of the composition according to the present disclosure.
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 5% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is more preferably 40% by mass or less, and still more preferably 30% by mass or less.
  • the content of the resin having an acid group is preferably from 0.1 to 50% by mass based on the total solid content of the composition according to the present disclosure.
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 5% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is more preferably 40% by mass or less, and still more preferably 30% by mass or less.
  • the composition according to the present disclosure may include only one type of resin, or may include two or more types of resins. When two or more kinds are contained, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the mass ratio of the polymerizable compound to the resin is It is preferable that the ionic compound / resin is 0.4 to 1.4.
  • the lower limit of the mass ratio is preferably 0.5 or more, and more preferably 0.6 or more.
  • the upper limit of the mass ratio is preferably 1.3 or less, more preferably 1.2 or less. When the mass ratio is within the above range, a pattern having more excellent rectangularity can be formed.
  • the lower limit of the mass ratio is preferably 0.5 or more, and more preferably 0.6 or more.
  • the upper limit of the mass ratio is preferably 1.3 or less, more preferably 1.2 or less. When the mass ratio is within the above range, a pattern having more excellent rectangularity can be formed.
  • the composition according to the present disclosure preferably contains a polymerization initiator.
  • the polymerization initiator may be a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator, but from the viewpoint of easy patterning by exposure, a photopolymerization initiator is preferable.
  • the polymerization initiator include a radical polymerization initiator and a cationic polymerization initiator. It is preferable to select and use according to the type of the polymerizable compound. When a radical polymerizable compound such as a compound having a group having an ethylenically unsaturated bond is used as the polymerizable compound, it is preferable to use a radical polymerization initiator as the polymerization initiator.
  • a cationic polymerization initiator is not particularly limited, and can be appropriately selected from known polymerization initiators.
  • a photopolymerization initiator having photosensitivity to light in the ultraviolet region to the visible region is preferable.
  • the content of the polymerization initiator is preferably from 0.1 to 50% by mass, more preferably from 0.5 to 30% by mass, still more preferably from 1 to 20% by mass, based on the total solid content of the composition.
  • the content of the polymerization initiator is in the above range, better sensitivity and pattern formability can be obtained.
  • the composition according to the present disclosure may include only one type of polymerization initiator, or may include two or more types. When two or more polymerization initiators are contained, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • Photo radical polymerization initiator examples include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole, oxime compounds, and organic peroxides Thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • photopolymerization initiators include trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, triarylimidazoles Dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyloxadiazole compounds and 3-aryl-substituted coumarin compounds are preferred, and oxime compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ - Compounds selected from aminoketone compounds and acylphosphine compounds are more preferred, and oxime compounds are even more preferred.
  • the description of paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173 can be referred to as the photo-radical polymerization initiator, and the contents thereof are incorporated
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, and IRGACURE-127 (all manufactured by BASF).
  • commercially available ⁇ -aminoketone compounds include IRGACURE-907, IRGACURE-369, IRGACURE-379, and IRGACURE-379EG (all manufactured by BASF).
  • commercially available acylphosphine compounds include IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (all manufactured by BASF).
  • Examples of the oxime compound include the compounds described in JP-A-2001-233842, the compounds described in JP-A-2000-80068, the compounds described in JP-A-2006-342166, and the compounds described in J. Am. C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp. 1653-1660); C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp. 156-162), compounds described in Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp.
  • oxime compound examples include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyimiminobtan-2-one, 3-propionyloxyimiminobtan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxy And imino-1-phenylpropan-1-one.
  • IRGACURE-OXE01 IRGACURE-OXE02, IRGACURE-OXE03, IRGACURE-OXE04 (all manufactured by BASF), TR-PBG-304 (manufactured by Changzhou Strong Electronics New Materials Co., Ltd.), and Adeka Optomer N-1919.
  • Photopolymerization initiator 2 described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-14052, manufactured by ADEKA Corporation.
  • the oxime compound a compound having no coloring property or a compound having high transparency and hardly discoloring is used. It is also preferred.
  • Commercially available products include ADEKA ARKULS NCI-730, NCI-831, and NCI-930 (all manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a fluorene ring may be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include compounds described in JP-A-2014-137466. This content is incorporated herein.
  • an oxime compound having a fluorine atom may be used as the photoradical polymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24 and 36 to 40 described in JP-T-2014-500852, and JP-A-2013-164471.
  • Compound (C-3) This content is incorporated herein.
  • an oxime compound having a nitro group can be used as the photoradical polymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP-A-2013-114249, paragraphs 0008 to 0012 of JP-A-2014-137466, and 0070 to 0079. Compounds described in paragraphs [0007] to [0025] of Japanese Patent No. 4223071, and Adeka Arculs NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation) may be mentioned.
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can be used as the photoradical polymerization initiator.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in WO 2015/036910.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the range of 350 nm to 500 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the range of 360 nm to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or 405 nm is preferably high from the viewpoint of sensitivity, more preferably from 1,000 to 300,000, and preferably from 2,000 to 300,000. Is more preferable, and particularly preferably 5,000 to 200,000.
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) using an ethyl acetate solvent at a concentration of 0.01 g / L.
  • a bifunctional or trifunctional or higher functional radical polymerization initiator may be used as the radical photopolymerization initiator.
  • photo-radical polymerization initiators are described in JP-A-2010-527339, JP-A-2011-524436, WO 2015/004565, and Paragraph No. 0407 of JP-A-2016-532675.
  • 0412, dimers of oxime compounds described in paragraphs 0039 to 0055 of WO2017 / 033680, compounds (E) and (G) described in JP-T-2013-522445, Cmpd1 to Cmp7 described in WO 2016/034963 and the like can be mentioned.
  • the photoradical polymerization initiator also preferably contains an oxime compound and an ⁇ -aminoketone compound. By using both of them, developability is improved and a pattern having excellent rectangularity is easily formed.
  • the amount of the ⁇ -aminoketone compound is preferably from 50 to 600 parts by mass, more preferably from 150 to 400 parts by mass, per 100 parts by mass of the oxime compound.
  • the content of the photoradical polymerization initiator is preferably from 0.1 to 50% by mass, more preferably from 0.5 to 30% by mass, and even more preferably from 1 to 20% by mass, based on the total solid content of the composition according to the present disclosure. preferable. When the content of the photoradical polymerization initiator is in the above range, better sensitivity and pattern formability can be obtained.
  • the composition according to the present disclosure may include only one type of photoradical polymerization initiator, or may include two or more types. When two or more photoradical polymerization initiators are contained, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • Photocationic polymerization initiator examples include a photoacid generator.
  • the photoacid generator include onium salt compounds such as diazonium salts, phosphonium salts, sulfonium salts, iodonium salts, and the like, which decompose upon irradiation with light to generate an acid, imidosulfonate, oxime sulfonate, diazodisulfone, disulfone, and o-nitrobenzyl.
  • sulfonate compounds such as sulfonates.
  • the content of the cationic photopolymerization initiator is preferably from 0.1 to 50% by mass, more preferably from 0.5 to 30% by mass, even more preferably from 1 to 20% by mass, based on the total solids of the composition according to the present disclosure. preferable. When the content of the photocationic polymerization initiator is in the above range, better sensitivity and pattern formability can be obtained.
  • the composition according to the present disclosure may include only one type of the cationic photopolymerization initiator, or may include two or more types. When two or more photocationic polymerization initiators are contained, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition according to the present disclosure can contain a polyfunctional thiol.
  • a polyfunctional thiol is a compound having two or more thiol (SH) groups.
  • SH thiol
  • a thiol radical which acts as a chain transfer agent and is less susceptible to polymerization inhibition by oxygen is generated.
  • a polyfunctional aliphatic thiol in which an SH group is bonded to an aliphatic group such as a methylene or ethylene group is preferable.
  • Examples of the multifunctional thiol include hexanedithiol, decanedithiol, 1,4-butanediol bisthioglycolate, 1,4-butanediol bisthioglycolate, ethylene glycol bisthioglycolate, ethylene glycol bisthiopropiolate , Trimethylolpropane tristhioglycolate, trimethylolpropane tristhiopropionate, trimethylolethanetris (3-mercaptobutyrate), trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), trimethylolpropane tris (3- Mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakisthioglycolate, pentaerythritol tetrakisthiopropionate, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropione) G), dipentaerythritol hex
  • the content of the polyfunctional thiol is preferably 0.1% by mass to 20% by mass, more preferably 0.1% by mass to 15% by mass, and more preferably 0.1% by mass based on the total solid content of the composition according to the present disclosure. -10% by mass is more preferred.
  • the composition according to the present disclosure may include only one type of polyfunctional thiol, or may include two or more types of polyfunctional thiol. When two or more kinds are contained, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition preferably further includes an epoxy resin curing agent.
  • the epoxy resin curing agent include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, phenol compounds, and polycarboxylic acids.
  • the epoxy resin curing agent polyvalent carboxylic acids are preferred from the viewpoint of heat resistance and transparency of the cured product, and compounds having two or more carboxylic anhydride groups in the molecule are most preferred.
  • Specific examples of the epoxy resin curing agent include butane diacid. For details of the epoxy resin curing agent, paragraphs 0072 to 0078 can be referred to, and the contents are incorporated in the present specification.
  • the content of the epoxy resin curing agent is preferably from 0.01 to 20 parts by mass, more preferably from 0.01 to 10 parts by mass, and more preferably from 0.1 to 6 parts by mass, per 100 parts by mass of the epoxy resin. 0 parts by mass is more preferred.
  • the composition according to the present disclosure can further contain a pigment derivative.
  • the pigment derivative include a compound having a structure in which a part of a pigment is substituted with an acid group, a basic group, a group having a salt structure, or a phthalimidomethyl group.
  • the pigment include the above-mentioned infrared absorber, another infrared absorber, and the above-mentioned visible light absorbing compound.
  • a compound represented by the formula (B1) is preferable.
  • P represents a dye structure
  • L represents a single bond or a linking group
  • X represents an acid group, a basic group, a group having a salt structure or a phthalimidomethyl group
  • m is an integer of 1 or more.
  • n represents an integer of 1 or more.
  • Examples of the dye structure represented by P include a pyrrolopyrrole dye structure, a diketopyrrolopyrrole dye structure, a quinacridone dye structure, an anthraquinone dye structure, a dianthraquinone dye structure, a benzoisoindole dye structure, a thiazineindigo dye structure, an azo dye structure, and a quinophthalone.
  • At least one selected from a dye structure, a phthalocyanine dye structure, a naphthalocyanine dye structure, a dioxazine dye structure, a perylene dye structure, a perinone dye structure, a benzimidazolone dye structure, a benzothiazole dye structure, a benzimidazole dye structure, and a benzoxazole dye structure are preferable, and at least one selected from the group consisting of a pyrrolopyrrole dye structure, a diketopyrrolopyrrole dye structure, a quinacridone dye structure and a benzimidazolone dye structure is more preferable. It is particularly preferred.
  • linking group represented by L examples include a hydrocarbon group, a heterocyclic group, a group consisting of —NR—, —SO 2 —, —S—, —O—, —CO—, or a combination thereof.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • Examples of the acid group represented by X include a carboxy group, a sulfo group, a carboxamide group, a sulfonamide group, and an imido group.
  • a carboxylic acid amide group a group represented by —NHCOR X1 is preferable.
  • a group represented by —NHSO 2 R X2 is preferable.
  • a group represented by —NHSO 2 R X3 , —CONHSO 2 R X4 , —CONHCOR X5, or —SO 2 NHCOR X6 is preferable.
  • R X1 to R X6 each independently represent a hydrocarbon group or a heterocyclic group.
  • the hydrocarbon group and the heterocyclic group represented by R X1 to R X6 may further have a substituent.
  • substituents include the substituent T described above, and are preferably a halogen atom, and more preferably a fluorine atom.
  • the basic group represented by X include an amino group.
  • salt structure represented by X include salts of the above-described acid groups or basic groups.
  • Examples of the pigment derivative include compounds having the following structures.
  • a visible pigment derivative and an infrared derivative described in Examples described later may be used.
  • JP-A-56-118462, JP-A-63-264677, JP-A-1-217077, JP-A-3-9961, JP-A-3-26767, and JP-A-3-153780 are examples of the pigment derivative.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably at most 40 parts by mass, more preferably at most 30 parts by mass.
  • the composition according to the present disclosure can contain a solvent.
  • the solvent include an organic solvent.
  • the solvent is basically not particularly limited as long as the solubility of each component and the coating property of the composition are satisfied.
  • the organic solvent include, for example, esters, ethers, ketones, and aromatic hydrocarbons. For these details, reference can be made to paragraph No. 0223 of WO 2015/166779, the contents of which are incorporated herein. Further, an ester solvent substituted with a cyclic alkyl group and a ketone solvent substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • the organic solvent examples include dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, Examples include cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether acetate.
  • the organic solvent may be used alone or in combination of two or more.
  • 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide and 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide are preferable from the viewpoint of improving solubility.
  • aromatic hydrocarbons benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.
  • as a solvent may need to be reduced for environmental reasons or the like (for example, 50 mass ppm (parts per part based on the total amount of the organic solvent). (million) or less, 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • a solvent having a low metal content it is preferable to use a solvent having a low metal content, and the metal content of the solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per billion) or less. If necessary, a solvent having a level of parts per trillion (ppt) may be used, and such a high-purity solvent is provided, for example, by Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Industry Daily, November 13, 2015).
  • Examples of the method for removing impurities such as metals from the solvent include distillation (molecular distillation, thin-film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore size of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and still more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Further, only one isomer may be contained, or a plurality of isomers may be contained.
  • the organic solvent preferably has a peroxide content of 0.8 mmol / L or less, and more preferably contains substantially no peroxide.
  • the content of the solvent is preferably from 10 to 99% by mass based on the total amount of the composition according to the present disclosure.
  • the upper limit is preferably 95% by mass or less, more preferably 90% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, still more preferably 50% by mass or more, even more preferably 60% by mass or more, and particularly preferably 70% by mass or more.
  • the composition according to the present disclosure can contain a polymerization inhibitor.
  • the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salts, cerous salts).
  • p-methoxyphenol is preferable.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.001 to 5% by mass based on the total solid content of the composition according to the present disclosure.
  • the composition according to the present disclosure can contain a silane coupling agent.
  • the silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and another functional group.
  • the term "hydrolyzable group" refers to a substituent that is directly bonded to a silicon atom and can form a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction. Examples of the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group and the like, and an alkoxy group is preferable. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of the functional group other than the hydrolyzable group include a vinyl group, a (meth) acryloyl group, a mercapto group, an epoxy group, an oxetanyl group, an amino group, an ureide group, a sulfide group, an isocyanate group, and a phenyl group. And a (meth) acryloyl group and an epoxy group are preferred.
  • Examples of the silane coupling agent include compounds described in paragraphs 0018 to 0036 of JP-A-2009-288703 and compounds described in paragraphs 0056 to 0066 of JP-A-2009-242604. Incorporated in the specification.
  • the content of the silane coupling agent is preferably from 0.01 to 15.0% by mass, more preferably from 0.05 to 10.0% by mass, based on the total solid content of the composition according to the present disclosure.
  • the silane coupling agent may be only one kind or two or more kinds. In the case of two or more types, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition according to the present disclosure can contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.
  • paragraphs 0238 to 0245 of WO 2015/166779 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the surfactant is preferably a fluorinated surfactant.
  • a fluorine-based surfactant in the composition according to the present disclosure, liquid properties (particularly, fluidity) are further improved, and liquid saving properties can be further improved. Further, a film with small thickness unevenness can be formed.
  • the fluorine content in the fluorinated surfactant is preferably from 3 to 40% by mass, more preferably from 5 to 30% by mass, and particularly preferably from 7 to 25% by mass.
  • a fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of the thickness of the coating film and liquid saving properties, and has good solubility in the composition.
  • fluorine-based surfactant examples include surfactants described in paragraphs 0060 to 0064 of JP-A-2014-41318 (paragraphs 0060 to 0064 of corresponding International Publication WO 2014/17669), and the like. Surfactants described in paragraph Nos. 0117 to 0132 of JP-A-2011-132503, the contents of which are incorporated herein.
  • fluorosurfactants include, for example, Megafac F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, EXP, MFS -330 (manufactured by DIC Corporation), Florado FC430, FC431, FC171 (manufactured by Sumitomo 3M Limited), Surflon S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068, SC-381, SC-383, S-393, KH-40 (all manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PolyFox PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002 (all manufactured by OMNOVA) and the like. .
  • the fluorine-based surfactant is a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and an acrylic compound in which a portion of the functional group containing a fluorine atom is cut off when heat is applied to volatilize the fluorine atom is also preferable.
  • a fluorinated surfactant include Megafac DS series (manufactured by DIC Corporation, Chemical Daily, February 22, 2016) (Nikkei Sangyo Shimbun, February 23, 2016), for example, Megafac DS. -21.
  • fluorine-based surfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound.
  • a fluorine-based surfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound.
  • JP-A-2016-216602 can be referred to for such a fluorine-based surfactant, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the fluorine-based surfactant a block polymer can also be used.
  • the fluorinated surfactant has a constitutional unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and has 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy group and propyleneoxy group) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a structural unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the following compounds are also exemplified as the fluorinated surfactant used in the present disclosure.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably from 3,000 to 50,000, for example, 14,000. In the above compounds,% indicating the ratio of the constitutional unit is mol%.
  • a fluorine-based surfactant a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated group in a side chain can also be used.
  • Specific examples include compounds described in paragraphs [0050] to [0090] and paragraphs [0289] to [0295] of JP-A-2010-164965, such as Megafac RS-101, RS-102, and RS-718K manufactured by DIC Corporation. , RS-72-K and the like.
  • the fluorinated surfactant compounds described in Paragraph Nos. 0015 to 0158 of JP-A-2015-117327 can also be used.
  • nonionic surfactant examples include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and ethoxylates and propoxylates thereof (for example, glycerol propoxylate and glycerol ethoxylate), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (BASF) Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries
  • the content of the surfactant is preferably from 0.001% to 5.0% by mass, more preferably from 0.005% to 3.0% by mass, based on the total solids of the composition according to the present disclosure.
  • the surfactant may be only one kind or two or more kinds. In the case of two or more types, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition according to the present disclosure can contain an ultraviolet absorber.
  • an ultraviolet absorber conjugated diene compounds, aminobutadiene compounds, methyldibenzoyl compounds, coumarin compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, azomethine compounds, indole compounds, triazine compounds and the like can be used. Details of these are described in paragraphs 0052 to 0072 of JP-A-2012-208374, paragraphs 0317 to 0334 of JP-A-2013-68814, and paragraphs 0061 to 0080 of JP-A-2016-162946. For reference, their contents are incorporated herein.
  • conjugated diene compounds include, for example, UV-503 (manufactured by Daito Chemical Co., Ltd.).
  • examples of the indole compound include compounds having the following structure.
  • MYUA series manufactured by Miyoshi Oil & Fats, Chemical Daily, February 1, 2016 may be used.
  • UV-1 to UV-3 can be preferably used as the ultraviolet absorber.
  • R 101 and R 102 each independently represent a substituent
  • m1 and m2 each independently represent 0 to 4.
  • R 201 and R 202 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 203 and R 204 each independently represent a substituent.
  • R 301 to R 303 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 304 and R 305 each independently represent a substituent.
  • the content of the ultraviolet absorber is preferably from 0.01% by mass to 10% by mass, more preferably from 0.01% by mass to 5% by mass, based on the total solid content of the composition according to the present disclosure.
  • only one UV absorber may be used, or two or more UV absorbers may be used.
  • the total amount is preferably within the above range.
  • the composition according to the present disclosure can contain an antioxidant.
  • the antioxidant include a phenol compound, a phosphite compound, and a thioether compound.
  • the phenol compound any phenol compound known as a phenolic antioxidant can be used.
  • Preferred phenol compounds include hindered phenol compounds. Compounds having a substituent at a site adjacent to the phenolic hydroxy group (ortho position) are preferred.
  • a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferable.
  • the antioxidant a compound having a phenol group and a phosphite group in the same molecule is also preferable.
  • a phosphorus-based antioxidant can also be suitably used.
  • a phosphorus-based antioxidant tris [2-[[2,4,8,10-tetrakis (1,1-dimethylethyl) dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphepin-6 -Yl] oxy] ethyl] amine, tris [2-[(4,6,9,11-tetra-tert-butyldibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphepin-2-yl ) Oxy] ethyl] amine, ethyl bisphosphite (2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) and the like.
  • antioxidants include, for example, Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO-60, Adekastab AO-60G, Adekastab AO-80 And ADK STAB AO-330 (above, ADEKA Corporation). Further, as an antioxidant, a polyfunctional hindered amine antioxidant described in International Publication No. 17/006600 can also be used.
  • the content of the antioxidant is preferably from 0.01 to 20% by mass, more preferably from 0.3 to 15% by mass, based on the total solids of the composition according to the present disclosure.
  • One type of antioxidant may be used, or two or more types may be used. When two or more kinds are used, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition according to the present disclosure may include, if necessary, a sensitizer, a curing accelerator, a filler, a thermosetting accelerator, a plasticizer and other auxiliaries (for example, conductive particles, a filler, a defoaming agent, Flame retardants, leveling agents, release accelerators, fragrances, surface tension adjusters, chain transfer agents, etc.).
  • auxiliaries for example, conductive particles, a filler, a defoaming agent, Flame retardants, leveling agents, release accelerators, fragrances, surface tension adjusters, chain transfer agents, etc.
  • the composition according to the present disclosure may contain a latent antioxidant as needed.
  • the latent antioxidant is a compound in which a site functioning as an antioxidant is protected with a protecting group, and is heated at 100 to 250 ° C. or heated at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid / base catalyst.
  • a compound in which a protecting group is eliminated to function as an antioxidant can be mentioned.
  • Examples of the latent antioxidant include compounds described in WO 2014/021023, WO 2017/030005, and JP-A-2017-008219.
  • Commercially available products include Adeka Aquel's GPA-5001 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • the container for the composition according to the present disclosure is not particularly limited, and a known container can be used.
  • a storage container for the purpose of suppressing impurities from being mixed into the raw materials and the composition, a multi-layer bottle in which the inner wall of the container is composed of six types and six layers of resin or a bottle having six types of resin having a seven-layer structure is used. It is also preferred to use. Examples of such a container include a container described in JP-A-2015-123351.
  • composition according to the present disclosure is not particularly limited.
  • it can be preferably used for forming an infrared transmission filter or the like.
  • composition according to the present disclosure can be prepared by mixing the above-mentioned components.
  • the composition may be prepared by simultaneously dissolving or dispersing all the components in a solvent, or, if necessary, preliminarily mixing two or more solutions or dispersions in which the respective components are appropriately blended. They may be prepared and mixed at the time of use (at the time of application) to prepare a composition.
  • the composition preferably includes a process of dispersing the particles.
  • examples of mechanical force used for dispersing particles include compression, squeezing, impact, shearing, and cavitation.
  • Specific examples of these processes include a bead mill, a sand mill, a roll mill, a ball mill, a paint shaker, a microfluidizer, a high-speed impeller, a sand grinder, a flow jet mixer, high-pressure wet atomization, and ultrasonic dispersion.
  • the particles may be refined in a salt milling step.
  • the materials, equipment, processing conditions, and the like used in the salt milling step can be referred to, for example, the descriptions in JP-A-2015-194521 and JP-A-2012-046629.
  • any filter that has been conventionally used for filtration or the like can be used without particular limitation.
  • fluorine resins such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resins such as nylon (eg, nylon-6, nylon-6,6), and polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) (high-density, ultra-high molecular weight (Including polyolefin resins).
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • nylon eg, nylon-6, nylon-6,6)
  • polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) (high-density, ultra-high molecular weight (Including polyolefin resins).
  • PP polypropylene
  • nylon are preferable.
  • the pore size of the filter is suitably 0.01 ⁇ m to 7.0 ⁇ m, preferably 0.01 ⁇ m to 3.0 ⁇ m, and more preferably 0.05 ⁇ m to 0.5 ⁇ m. If the pore size of the filter is within the above range, fine foreign matter can be reliably removed. It is also preferable to use a fibrous filter medium.
  • the fibrous filter medium include a polypropylene fiber, a nylon fiber, and a glass fiber.
  • filter cartridges of the SBP type series (eg, SBP008), TPR type series (eg, TPR002, TPR005), and SHPX type series (eg, SHPX003) manufactured by Loki Techno Co., Ltd. are exemplified.
  • filters When using filters, different filters (for example, a first filter and a second filter) may be combined. At that time, the filtration by each filter may be performed only once or may be performed twice or more. Further, filters having different hole diameters may be combined within the above-described range.
  • the pore diameter here can refer to the nominal value of the filter manufacturer.
  • Commercially available filters are selected from various filters provided by, for example, Nippon Pall Co. (DFA4201NIEY, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Nippon Integris Co., Ltd. (former Nippon Microlith Co., Ltd.) or Kitz Micro Filter Co., Ltd. can do.
  • the second filter a filter formed of the same material or the like as the first filter can be used. Further, the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after the other components are mixed, the filtration with the second filter may be performed.
  • the total solid content (solid content concentration) of the composition according to the present disclosure varies depending on the application method, but is preferably, for example, 1 to 50% by mass.
  • the lower limit is more preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is more preferably 30% by mass or less.
  • a film formed using the composition according to the present disclosure can be preferably used as an infrared transmission filter.
  • a film formed using the composition according to the present disclosure into a solid-state imaging device or a sensor, generation of noise derived from visible light can be suppressed.
  • the pattern forming method according to the present disclosure includes a step of forming a pattern on the curable composition layer by a photolithography method or a dry etching method on the curable composition layer containing the composition according to the present disclosure. Is preferred. Further, the pattern forming method may further include a step of preparing a pattern-forming laminate before the step of forming the pattern. The step of preparing the pattern-forming laminate may further include the step of forming the curable composition layer on a support using the curable composition according to the present disclosure, or curing the support on the support. You may obtain the laminated body for pattern formation in which the hydrophilic composition layer was formed.
  • a pattern forming method by photolithography includes a step of patternwise exposing a curable composition layer containing a composition according to the present disclosure, and a step of developing and removing an unexposed portion to form a pattern.
  • the pattern forming method may further include a step of preparing a pattern-forming laminate before the step of forming the pattern.
  • the step of preparing the pattern-forming laminate may further include the step of forming the curable composition layer on a support using the curable composition according to the present disclosure, or curing the support on the support. You may obtain the laminated body for pattern formation in which the hydrophilic composition layer was formed.
  • a pattern forming method by a dry etching method is to form a cured product layer by curing a curable composition layer containing the curable composition according to the present disclosure, and then a resist patterned on the cured product layer
  • the method can be performed by forming a layer, and then performing dry etching on the cured product layer using an etching gas with the patterned resist layer as a mask.
  • the pattern forming method may further include a step of preparing a pattern-forming laminate before the step of forming the pattern.
  • the step of preparing the pattern-forming laminate may further include the step of forming the curable composition layer on a support using the curable composition according to the present disclosure, or curing the support on the support. You may obtain the laminated body for pattern formation in which the hydrophilic composition layer was formed. Hereinafter, each step will be described.
  • a curable composition layer is formed on a support using the composition according to the present disclosure.
  • the support include a substrate made of a material such as silicon, non-alkali glass, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, and quartz glass. It is also preferable to use an InGaAs substrate or the like as a support. Since the InGaAs substrate has good sensitivity to light having a wavelength exceeding 1000 nm, an infrared sensor having excellent sensitivity is easily obtained by stacking the film according to the present disclosure on the InGaAs substrate.
  • a charge-coupled device CCD
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • a transparent conductive film or the like
  • a black matrix for isolating each pixel is formed on the support.
  • the support may be provided with an undercoat layer, if necessary, for improving adhesion to an upper layer, preventing diffusion of a substance, or flattening the substrate surface.
  • a known method can be used as a method of applying the composition to the support.
  • a dropping method drop casting
  • a slit coating method for example, a spraying method; a roll coating method; a spin coating method (spin coating); a casting coating method; a slit and spin method; a pre-wetting method (for example, JP-A-2009-145395).
  • Publications inkjet (eg, on-demand method, piezo method, thermal method), discharge printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing method, etc.
  • Various printing methods a transfer method using a mold or the like; a nanoimprint method, and the like.
  • the application method in the ink jet is not particularly limited, and for example, a method shown in “Spread and usable ink jets—infinite possibilities seen in patents”, published in February 2005, Sumibe Techno Research (especially from page 115). 133 page), JP-A-2003-262716, JP-A-2003-185831, JP-A-2003-261828, JP-A-2012-126830, JP-A-2006-169325, and the like.
  • No. regarding the method for applying the resin composition the descriptions in WO2017 / 030174 and WO2017 / 018419 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the curable composition layer formed on the support may be dried (prebaked).
  • prebaking may not be performed.
  • the prebaking temperature is preferably 150 ° C or lower, more preferably 120 ° C or lower, and even more preferably 110 ° C or lower.
  • the lower limit may be, for example, 50 ° C. or higher, and may be 80 ° C. or higher.
  • the prebake time is preferably from 10 seconds to 3000 seconds, more preferably from 40 seconds to 2500 seconds, and still more preferably from 80 seconds to 2200 seconds. Drying can be performed on a hot plate, an oven, or the like.
  • the curable composition layer is exposed in a pattern (exposure step).
  • the curable composition layer can be subjected to pattern exposure by exposing the curable composition layer through a mask having a predetermined mask pattern using an exposure device such as a stepper. Thereby, the exposed portion can be cured.
  • radiation (light) that can be used for exposure, ultraviolet rays such as g-rays and i-rays are preferable, and i-rays are more preferable.
  • Irradiation dose for example, preferably 0.03J / cm 2 ⁇ 2.5J / cm 2, more preferably 0.05J / cm 2 ⁇ 1.0J / cm 2, 0.08J / cm 2 ⁇ 0.5 J / cm 2 is most preferred.
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected.
  • a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, substantially oxygen-free)
  • a high oxygen atmosphere having an oxygen concentration exceeding 21% by volume (for example, 22% by volume, 30% by volume, 50% by volume).
  • the exposure intensity is can be set appropriately, usually 1,000W / m 2 ⁇ 100,000W / m 2 ( e.g., 5,000W / m 2, 15,000W / m 2, 35,000W / m 2 ) It can be selected from the range.
  • Oxygen concentration and exposure illuminance may appropriately combined conditions, for example, illuminance 10,000 W / m 2 at an oxygen concentration of 10 vol%, oxygen concentration of 35 vol% can be such illuminance 20,000W / m 2.
  • (Development step) In the developing step, a pattern is formed by developing and removing an unexposed part of the curable composition layer in the cured curable composition layer after exposure.
  • the development and removal of the unexposed portion of the composition layer can be performed using a developer.
  • the unexposed portion of the composition layer in the exposure step elutes into the developer, and only the photocured portion remains on the support.
  • As the developing solution an alkali developing solution that does not damage the underlying solid-state imaging device or circuit is desirable.
  • the temperature of the developer is preferably, for example, 20 to 30 ° C.
  • the development time is preferably from 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removal property, the step of shaking off the developer every 60 seconds and further supplying a new developer may be repeated several times.
  • alkaline agent used in the developer examples include ammonia water, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, Tetrabutylammonium hydroxide, ethyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7 -Organic alkaline compounds such as undecene, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate Beam, sodium silicate, and inorganic alkaline compound such as sodium metasilicate.
  • the alkali agent a compound having a large molecular weight is preferable in terms of environment and safety.
  • an alkaline aqueous solution obtained by diluting these alkaline agents with pure water is preferably used.
  • the concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably from 0.001 to 10% by mass, more preferably from 0.01 to 1% by mass.
  • a surfactant may be used for the developer. Examples of the surfactant include the surfactants described above, and a nonionic surfactant is preferable.
  • the developer may be once produced as a concentrated solution and diluted to a necessary concentration at the time of use, from the viewpoint of convenience of transportation and storage.
  • the dilution ratio is not particularly limited, but can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times.
  • a developer composed of such an alkaline aqueous solution it is preferable to wash (rinse) with pure water after development.
  • a curing step of curing by heat treatment (post-bake) or post-exposure may be performed.
  • Post baking is a heat treatment after development to complete the curing.
  • the heating temperature in the post-baking is preferably, for example, 100 to 240 ° C., and more preferably 200 to 240 ° C.
  • the heating temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, and 100 ° C. or lower. C. or lower, more preferably 90.degree. C. or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50 ° C. or higher.
  • Post-baking can be performed on the film after development in a continuous manner or a batch manner using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot-air circulation type dryer), or a high frequency heater so that the above conditions are satisfied. .
  • a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot-air circulation type dryer), or a high frequency heater so that the above conditions are satisfied.
  • Post-exposure can be performed by g-line, h-line, i-line, excimer laser such as KrF or ArF, electron beam, X-ray, or the like, but can be performed at a low temperature of 20 ° C. to 50 ° C. using an existing high-pressure mercury lamp. preferable.
  • the irradiation time is 10 seconds to 180 seconds, preferably 30 seconds to 60 seconds. When both post-exposure and post-bake are used, it is preferable to perform post-exposure first.
  • the pattern formation by the dry etching method cures the composition layer on the support to form a cured product layer, then forms a patterned resist layer on the cured product layer, and then forms the patterned resist It can be performed by a method such as dry-etching the cured product layer using an etching gas using the layer as a mask.
  • a method such as dry-etching the cured product layer using an etching gas using the layer as a mask.
  • a mode in which a heat treatment after exposure and a heat treatment after development (post-bake treatment) are preferable.
  • the description in paragraphs 0010 to 0067 of JP-A-2013-064993 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • a pattern (pixel) of a film having a specific spectral distribution according to the present disclosure can be formed.
  • the cured film according to the present disclosure is a cured film obtained by curing the composition according to the present disclosure described above.
  • the cured film according to the present disclosure can be preferably used as an infrared transmission filter.
  • the cured film according to the present disclosure preferably has the following spectral characteristics (1).
  • infrared rays preferably infrared rays having a wavelength of more than 1,000 nm, more preferably 100 nm to A film capable of transmitting infrared light having a wavelength of 1,300 nm
  • the preferred ranges of A / C, minimum value A, and maximum value C are the above-mentioned A / C, minimum value A, and maximum value in the curable composition according to the present disclosure described above. This is the same as the preferable range of the value C.
  • Tb There is a wavelength Tb having a transmittance of 50% between a wavelength of 1,000 nm and a wavelength of 1,300 nm.
  • Ta is a wavelength that is 200 nm shorter than the wavelength Tb, and 200 nm longer than the wavelength Tb.
  • Tc the ratio of the minimum value A of the absorbance at a wavelength within a range of ⁇ 50 nm from the wavelength of Ta to the maximum value C of the absorbance at a wavelength within a range of ⁇ 50 nm from the wavelength of Tc, A / C is 4.5 or more.
  • the thickness of the cured film according to the present disclosure is not particularly limited, but is preferably 0.1 ⁇ m to 50 ⁇ m, more preferably 0.1 ⁇ m to 20 ⁇ m, and still more preferably 0.5 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • An infrared transmission filter according to the present disclosure includes the cured film according to the present disclosure.
  • the infrared transmitting filter according to the present disclosure is preferably used by being laminated on a support. Examples of the support include those described above.
  • the infrared transmission filter according to the present disclosure can be used in combination with a color filter containing a chromatic colorant.
  • a color filter can be manufactured using a coloring composition containing a chromatic colorant.
  • the chromatic colorant includes the chromatic colorant described in the composition according to the present disclosure.
  • the coloring composition can further contain a resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a surfactant, a solvent, a polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, and the like.
  • the materials described in the composition according to the present disclosure can be used, and these can be used.
  • the infrared transmission filter according to the present disclosure can be used in combination with another infrared transmission filter having spectral characteristics different from those of the film according to the present disclosure.
  • the preferred ranges of A / C, minimum value A, and maximum value C are the above-mentioned A / C, minimum value A, and maximum value in the curable composition according to the present disclosure described above. This is the same as the preferable range of the value C.
  • Tb There is a wavelength Tb having a transmittance of 50% between a wavelength of 1,000 nm and a wavelength of 1,300 nm.
  • Ta is a wavelength that is 200 nm shorter than the wavelength Tb, and 200 nm longer than the wavelength Tb.
  • Tc the ratio of the minimum value A of the absorbance at a wavelength within a range of ⁇ 50 nm from the wavelength of Ta to the maximum value C of the absorbance at a wavelength within a range of ⁇ 50 nm from the wavelength of Tc, A / C is 4.5 or more.
  • the laminate according to the present disclosure includes the cured film according to the present disclosure or the infrared transmission filter according to the present disclosure, and a dielectric multilayer film.
  • the dielectric multilayer film is a film in which dielectric materials having different refractive indices are laminated, and is an optical thin film formed on a lens surface or the like for the purpose of preventing or completely reflecting a specific wavelength. It is preferable that the dielectric multilayer film includes at least a Bragg reflection layer.
  • the Bragg reflection layer is a layer having a refractive index modulation in the thickness direction of the layer.
  • the Bragg reflection layer When light having a component orthogonal to the refractive index modulation enters, the Bragg reflection layer generates transmitted light and reflected light at each refractive index interface, which interfere with each other. The part is reflected.
  • a Bragg reflection layer has a periodic multilayer structure, and the reflectance can be controlled by increasing or decreasing the number of layers.
  • the selective reflection in the Bragg reflection layer can generally select the reflection wavelength by controlling the thickness of each layer in the multilayer structure.
  • the Bragg reflection layer for example, it can be produced by alternately stacking several tens of thin films of silicon oxide and niobium pentoxide. It can also be produced by laminating polymer films in multiple layers.
  • a multilayer reflection film “ESR” manufactured by 3M can be used.
  • the dielectric multilayer film for example, those having a transmittance of light of wavelength Tbnm to Tb + 200 nm of 80% or more and a transmittance of light of wavelength 400 nm to Tbnm of 10% or less are preferable. More preferably, the transmittance of light having a wavelength of Tb + 200 nm is 90% or more, and the transmittance of light having a wavelength of 400 nm to Tbnm is 5% or less. It is considered that the occurrence of noise derived from visible light is further suppressed by the laminate according to the present disclosure having the dielectric multilayer film.
  • a solid-state imaging device includes the above-described cured film according to the present disclosure, the infrared transmission filter according to the present disclosure, or the laminate according to the present disclosure.
  • the configuration of the solid-state imaging device according to the present disclosure is a configuration having the cured film according to the present disclosure, the infrared transmission filter according to the present disclosure, or the laminate according to the present disclosure, and any configuration that functions as a solid-state imaging device. Although there is no limitation, for example, the following configuration is used.
  • a plurality of photodiodes constituting a light receiving area of a solid-state imaging device (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) and a transfer electrode made of polysilicon or the like are provided on the support, and the photodiode and the transfer electrode are formed on the transfer electrode.
  • the configuration includes a cured film according to the present disclosure, an infrared transmission filter according to the present disclosure, or a laminate according to the present disclosure.
  • a light-collecting unit for example, a microscopic device
  • Lens, etc. a cured film according to the present disclosure, an infrared transmission filter according to the present disclosure, or a configuration including a light collecting unit in the laminate according to the present disclosure.
  • the sensor (optical sensor, preferably an infrared sensor) according to the present disclosure includes the above-described cured film according to the present disclosure, the infrared transmission filter according to the present disclosure, or the laminate according to the present disclosure.
  • the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor.
  • an embodiment of an infrared sensor according to the present disclosure will be described with reference to the drawings.
  • reference numeral 110 denotes a solid-state imaging device.
  • the imaging area provided on the solid-state imaging device 110 has an infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114. Further, a color filter 112 is laminated on the infrared cut filter 111.
  • a micro lens 115 is arranged on the side of the incident light h ⁇ of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114.
  • a flattening layer 116 is formed so as to cover the microlenses 115.
  • the infrared cut filter 111 is a filter that transmits light in the visible light region (for example, light having a wavelength of 400 to 700 nm) and blocks light in the infrared region.
  • the color filter 112 is a color filter in which pixels transmitting and absorbing light of a specific wavelength in the visible region are formed, and is not particularly limited, and a conventionally known color filter for forming pixels can be used. For example, a color filter having red (R), green (G), and blue (B) pixels is used.
  • R red
  • G green
  • B blue
  • the infrared transmission filter 114 has a visible light shielding property and transmits infrared light of a specific wavelength, and is formed of a film or a laminate according to the present disclosure having the above-described spectral characteristics.
  • an infrared cut filter (another infrared cut filter) different from the infrared cut filter 111 may be further arranged on the flattening layer 116.
  • Other infrared cut filters include those having a layer containing copper and / or a dielectric multilayer film. These details are as described above. Further, as another infrared cut filter, a dual band pass filter may be used.
  • the color filter 112 is provided on the incident light h ⁇ side with respect to the infrared cut filter 111, but the order of the infrared cut filter 111 and the color filter 112 is changed so that the infrared cut filter 111 is cut.
  • the filter 111 may be provided closer to the incident light h ⁇ than the color filter 112.
  • the infrared cut filter 111 and the color filter 112 are stacked adjacent to each other, but the two filters are not necessarily adjacent to each other, and another layer is provided between them. Is also good.
  • another infrared transmission filter having a spectral characteristic different from that of the infrared transmission filter 114 may be further provided.
  • the infrared sensor illustrated in FIG. 2 is another embodiment of the infrared sensor according to the present disclosure.
  • the infrared sensor is different from the infrared transmission filter 114 in the imaging region of the solid-state imaging device 110.
  • a second infrared transmission filter 120 disposed on the incident light h ⁇ side of the infrared transmission filter 114 and the second infrared transmission filter 120.
  • a flattening layer 116 is formed so as to cover the microlenses 115.
  • the second infrared transmission filter 120 may include two or more types of infrared transmission filters having different spectral characteristics.
  • the film or the laminate according to the present disclosure can also be used for an image display device such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence (organic EL) display device.
  • an image display device such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence (organic EL) display device.
  • organic EL organic electroluminescence
  • display devices see, for example, “Electronic Display Devices (by Akio Sasaki, published by the Industrial Research Institute, Inc., 1990)” and “Display Devices (by Junsho Ibuki, Heisei Sangyo Co., Ltd.) (Issued in the first year).
  • the liquid crystal display device is described in, for example, “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, published by the Industrial Research Institute, Inc., 1994)”.
  • the type of the liquid crystal display device to which the present disclosure can be applied is not particularly limited, and for example, can be applied to various types of liquid crystal display devices described in the above-menti
  • the image display device may be an image display device having a white organic EL element as a display element.
  • the white organic EL element preferably has a tandem structure.
  • the spectrum of white light emitted from the organic EL element preferably has strong maximum emission peaks in a blue region (430 nm to 485 nm), a green region (530 nm to 580 nm), and a yellow region (580 nm to 620 nm). It is more preferable to have a maximum emission peak in a red region (650 nm to 700 nm) in addition to these emission peaks.
  • Example 1 to 79 and Comparative Examples 1 to 6 ⁇ Preparation of visible absorption dispersion liquid and infrared absorption dispersion liquid>
  • a visible absorption dispersion liquid and / or an infrared absorption dispersion liquid having the compositions shown in Tables 1 to 29 below were prepared.
  • a total of five dispersion liquids of visible absorption dispersion liquids R1, Y1, B1, and infrared absorption dispersion liquids IR1 and IR2 were prepared.
  • zirconia beads having a diameter of 0.3 mm were mixed and dispersed for 3 hours with a bead mill (a high-pressure dispersing machine NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.) with a decompression mechanism).
  • the visible absorption dispersion liquid and / or the infrared absorption dispersion liquid in each Example or Comparative Example were respectively prepared.
  • the column of "visible pigment” indicates the type and content of the used visible light absorbing compound
  • the column of "visible derivative” indicates the type and content of the used pigment derivative.
  • the components shown in Tables 1 to 29 below were mixed so as to have the compositions (parts by mass) shown in each table to prepare curable compositions.
  • VP-1 C.I. I. Pigment Red 254
  • VP-2 C.I. I. Pigment Red 122 VP-3: C.I. I. Pigment Yellow 139
  • VP-4 C.I. I. Pigment Yellow 185
  • VP-5 C.I. I. Pigment Blue 15: 6
  • VP-6 C.I. I. Pigment Blue 16
  • VP-7 C.I. I. Pigment Violet 23
  • VP-8 Irgaphor Black X11 (manufactured by BASF)
  • VP-9 C.I. I. Pigment Black 32 VP-10: Si simple particle VP-11: C.I. I. Pigment Black 7
  • VD-1 [Visible dye (visible light absorbing compound)]
  • VD-1 RDW-K01 (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
  • IP-1 a compound having the following structure
  • IP-2 a compound having the following structure
  • IP-3 Compound having the following structure
  • IP-4 Compound having the following structure
  • IP-5 Compound having the following structure
  • IS-1 Compound having the following structure
  • IS-2 Compound having the following structure
  • IS-3 Compound having the following structure
  • IS-4 Compound having the following structure
  • IS-5 Compound having the following structure
  • IS-6 Compound having the following structure
  • IS-7 Compound having the following structure
  • ID-1 Compound having the following structure (maximum absorption wavelength: 902 nm)
  • ID-2 Compound having the following structure (maximum absorption wavelength: 1,007 nm)
  • ID-3 Compound having the following structure (maximum absorption wavelength: 1,104 nm)
  • ID-4 Compound having the following structure (maximum absorption wavelength: 1,156 nm)
  • ID-5 Compound having the following structure (maximum absorption wavelength: 1,176 nm)
  • ID-6 Compound having the following structure (maximum absorption wavelength: 1,311 nm)
  • ID-7 ST7 / 4 (manufactured by Syntech)
  • ID-8 CIR-RL (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.) (maximum absorption wavelength: 1,104 nm)
  • ⁇ resin ⁇ B-1 Compound having the following structure
  • B-2 Compound having the following structure
  • B-3 ARTON F4520 (manufactured by JSR Corporation)
  • B-4 ARTON D4540 (manufactured by JSR Corporation)
  • B-5 Neoprim S-200 (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.)
  • M-1 Compound having the following structure
  • M-2 Compound having the following structure
  • M-3 A-DPH (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
  • M-4 A-BPE-10 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
  • A-1 Compound having the following structure
  • A-2 AO-80 (made by ADEKA Corporation)
  • A-3 LA-82 (made by ADEKA Corporation)
  • A-4 Ogusol PG-100 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.)
  • a curable composition after application at an exposure amount that provides a desired pattern size (The coated film was exposed. Thereafter, the substrate on which the exposed coating film is formed is placed on a horizontal rotating table of a spin shower developing machine (DW-30, manufactured by Chemitronics Co., Ltd.), and CD-2060 (tetramethylammonium hydroxy Pad solution development was performed at 23 ° C. for 60 seconds using an aqueous solution (manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.) to form a cured film. The substrate on which the pattern of the cured film was formed was rinsed with pure water, and then spin-dried. Further, a heat treatment (post bake) was performed for 300 seconds using a 200 ° C. hot plate to produce a cured film.
  • FPA-3000i5 + manufactured by Canon Inc.
  • Examples 69 to 71 after applying and heating in the same manner, a heat treatment was performed at 220 ° C. for 300 seconds using a hot plate to form a cured material layer.
  • a positive photoresist “FHi622BC” (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) was applied on the cured product layer, and prebaked at 110 ° C. for 1 minute to form a photoresist layer having a thickness of 3.0 ⁇ m. .
  • the photoresist layer is subjected to pattern exposure using an i-line stepper (manufactured by Canon Inc.) at an exposure amount of 200 mJ / cm 2 , and then a temperature at which the temperature of the photoresist layer or the ambient temperature becomes 90 ° C. For 1 minute. Thereafter, a developing process for 1 minute was performed using a developing solution “FHD-5” (manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.), and a post-baking process was further performed at 110 ° C. for 1 minute to form a resist pattern. Next, dry etching of the cured product layer was performed by the following procedure using the resist pattern as an etching mask.
  • an i-line stepper manufactured by Canon Inc.
  • RF power 800 W
  • antenna bias 400 W
  • wafer bias 200 W
  • chamber internal pressure 4.0 Pa
  • substrate temperature 50 ° C.
  • mixed gas of dry etching equipment U-621, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation
  • the gas species and flow rate CF 4: 80mL / min
  • O 2 40mL / min
  • Ar a 800 mL / min
  • the resist is removed by performing a peeling process using a photoresist remover “MS230C” (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) for 120 seconds, followed by washing with pure water. Spin drying was performed. Thereafter, a dehydration bake treatment was performed at 100 ° C. for 2 minutes to produce a cured film having a desired pattern.
  • MS230C photoresist remover
  • a cured film was formed between the substrate 11 and the lens 17 of Example 1 of International Publication No. 2017/159130, and a sensor with a cured film was produced.
  • a dielectric multilayer film was deposited on the substrate 11
  • a cured film was formed by the above-described film forming method, and a lens 17 was formed.
  • a sensor was made.
  • the obtained cured film was measured for a half-value wavelength, an absorbance ratio, and a degree of shielding.
  • the cured film obtained in each of the examples or comparative examples was applied to an ultraviolet-visible-near-infrared spectrophotometer (U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) to use a half-value wavelength (the above-described wavelength Tb). ), Absorbance ratio (A / C described above), and degree of shielding (A '/ C described above) were measured.
  • the measurement results are shown in Tables 1 to 29, respectively.
  • the wavelength of the infrared LED light source is 1300 nm in Examples 21 to 24, 1100 nm in Example 79, and 1200 nm in others.
  • the light emission intensity was reduced by sandwiching the dimming plate without changing the spectral shape from the AM1.5G condition.
  • the signal intensities of both diffusers were compared, and the dimming rate at which the intensity Iv on the AM1.5G side reached 1/10 of the intensity I on the infrared LED side was recorded, and evaluated according to the following evaluation criteria.
  • the evaluation results are shown in the column of “external light” in Tables 1 to 29.
  • the sensor (the sensor including the cured film according to the present disclosure) using the curable composition according to the example produced in “Production of cured film” described above is 300 m away in a space of a temperature of 20 ° C. and a relative humidity of 95%.
  • the target photographed image of the target wavelength was equivalent to the target photographed image 300 m ahead in a space of a temperature of 20 ° C. and a relative humidity of 10% (A judgment).
  • image blur was remarkably observed under high humidity (B determination).
  • each composition film (cured film) was formed on a glass substrate by the above-described method, and the following tactile evaluation was performed on a portion where these film patterns exist and a portion where no pattern exists.
  • the testers were in their 20s of 5 or more, and the testers touched the presented membrane with their forefinger's index finger without looking. The tester was instructed to apply only a vertical force to the stimulus without tracing. The applied force was constantly displayed on the liquid crystal monitor, and the force applied by the tester himself was adjusted to be 1N. The tester replied with two choices as to whether the contact surface had irregularities.
  • the substrate was kept at 32 ° C.
  • ⁇ Evaluation of light resistance> a cured film was formed on a glass substrate by the above method, and put in a light resistance tester (illuminance: 10,000 Lx, temperature: 50 ° C., relative humidity: 50%) for 6 months, and light resistance was evaluated. did.
  • the light resistance was evaluated according to the following evaluation criteria, and the evaluation results are shown in Tables 1 to 29.
  • the curable composition according to the present disclosure has a cured film after curing in which generation of noise derived from visible light is suppressed, excellent in high humidity sensitivity, and excellent in angle dependency. It turns out that it is excellent and that the height can be reduced.
  • Example 1 in the case of not adding a heavy storage agent and in the case of not adding a surfactant, the same result as in Example 1 was obtained. Since the curable composition according to Comparative Example 1 does not contain an infrared absorber that satisfies the above-described formula 1 (Y> X ⁇ 0.5), generation of noise derived from visible light in a cured film after curing occurs. It turns out that it is not suppressed.
  • the curable composition according to Comparative Example 2 does not contain an infrared absorber that satisfies the above formula 1 (Y> X ⁇ 0.5) and has only a dielectric multilayer film. It can be seen that although the occurrence is suppressed, the angle dependency is poor. Since the curable composition described in Comparative Example 3 does not contain an infrared absorber that satisfies the above formula 1 (Y> X ⁇ 0.5), the cured film after curing is inferior in high humidity sensitivity. . Since the curable composition described in Comparative Example 4 has a value of A / C of less than 4.5, generation of noise derived from visible light is not suppressed in the cured film after curing. Recognize.
  • the infrared image was obtained because the above-mentioned wavelength Tb did not exist between 1,000 nm and 1,300 nm, and it was difficult for the cured film after curing to transmit infrared light. You can see that it is not done.
  • the curable composition described in Comparative Example 6 since the above-mentioned wavelength Tb does not exist between the wavelength of 1,000 nm and 1,300 nm, the curable composition has a thickness of 0.1 ⁇ m to 100 ⁇ m. It can be seen that no Tb was present when the composition was applied, and the low profile was inferior.
  • 110 solid-state imaging device
  • 111 infrared cut filter
  • 112 color filter
  • 114 infrared transmission filter
  • 115 microlens
  • 116 flattening layer
  • 120 second infrared transmission filter

Abstract

硬化後の硬化膜において、可視光に由来するノイズの発生が抑制され、高湿感度に優れ、かつ、角度依存性に優れ、かつ、低背化が可能である硬化性組成物を提供すること、上記硬化性組成物を硬化してなる硬化膜、上記硬化膜を備える赤外線透過フィルタ、積層体、上記硬化膜、上記赤外線透過フィルタ若しくは上記積層体を備える固体撮像素子若しくはセンサ又は上記硬化性組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。硬化性組成物は、特定の赤外線吸収剤と、硬化性化合物とを含む硬化性組成物であって、特定の波長特性を有する。

Description

硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法

　本開示は、硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法に関する。

　例えば、スマートフォンや監視カメラ、車載カメラ、ＩｏＴ（Internet of Things）用カメラ、赤外線センサなど、今後は「どこに何があるか」をＡＩ等により認識する技術が重要となってくると考えられる。

　ここで、これらのカメラ、センサ等において、赤外線を利用することが検討されている。赤外線は物体の材質等に依存した特徴的な吸収を有するため、物体の材質等の認識精度を向上させることが可能になると考えられる。

　このように赤外線を利用するための赤外線透過フィルタとして、例えば特許文献１又は２に記載のものが知られている。

　特許文献１には、透明樹脂基板の両面に高屈折率の誘電体膜と低屈折率の誘電体膜を交互に積層された多層膜が各々形成され、波長域が４２０ｎｍ以上７４０ｎｍ以下の可視光を９０％以上透過させ、波長域が７７０ｎｍ以上１，８００ｎｍ以下の近赤外線をカットする近赤外線フィルタであって、上記透明樹脂基板の一方の面に形成された第一多層膜では短波長域の近赤外線を遮光し、他方の面に形成された第二多層膜では上記短波長域以外の長波長域の近赤外線を遮光することで、上記透明樹脂基板両面で波長域が７７０ｎｍ以上１，８００ｎｍ以下の太陽光の積算照射量に対する近赤外線の平均透過率が１５％以下となるようにカットすることを特徴とする近赤外線カットフィルタが記載されている。

　特許文献２には、赤外線透過フィルタと、近赤外線吸収フィルタとを有し、波長９００ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下の光を検出することで物体を検出する赤外線センサであって、上記近赤外線吸収フィルタが、波長９００ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下に極大吸収波長を有する近赤外線吸収物質を含有する赤外線センサが記載されている。

特開２０１５－１６１７３１号公報 国際公開第２０１５／１６６８７３号

　赤外線吸収フィルタにおいては、可視光に由来するノイズの発生が抑制されることが求められている。

　例えば、特許文献２に記載の近赤外線吸収フィルタを用いた場合、波長９００ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下の比較的波長が短く、可視光に近い波長の赤外線を検出することを目的としているため、可視光に由来するノイズを抑制するという観点からは、更なる改良の余地があると考えられる。

　更に、赤外線吸収フィルタにおいては、湿度への依存性が低く、高湿度環境下においても像のぼやけ等が抑制される（高湿感度に優れる）こと、入射光の角度への依存性（角度依存性）が低く、広角度の赤外線を透過できること、及び、得られるパターンの膜厚を小さくすることが可能である（パターンの低背化が可能である）ことが求められている。

　特許文献１に記載の赤外線吸収フィルタは誘電体膜を積層することにより形成されており、角度依存性に劣る等の問題があった。

　本発明の実施形態が解決しようとする課題は、硬化後の硬化膜において、可視光に由来するノイズの発生が抑制され、高湿感度に優れ、角度依存性に優れ、かつ、低背化が可能な硬化性組成物を提供することである。

　また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記硬化性組成物を硬化してなる硬化膜、上記硬化膜を備える赤外線透過フィルタ、上記硬化膜若しくは上記赤外線透過フィルタ、及び、誘電体多層膜を含む積層体、上記硬化膜、上記赤外線透過フィルタ、若しくは、上記積層体を備える固体撮像素子若しくはセンサ、又は、上記硬化性組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。

　上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。

＜１＞　赤外線吸収剤と、硬化性化合物とを含む硬化性組成物であって、上記赤外線吸収剤の、波長４００ｎｍ～１，３００ｎｍにおける極大吸収波長における吸光度Ｘと、波長９５０ｎｍを超え波長１，３００ｎｍ以下の範囲の最大吸光度Ｙと、が下記式１を満たし、上記硬化性組成物を０．１μｍ～１００μｍのいずれかの厚さで塗布した際に、波長１，０００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの間に透過率が５０％となる波長Ｔｂが存在し、上記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ短波である波長をＴａ、上記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ長波である波長をＴｃとした際の、Ｔａの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最小値Ａと、Ｔｃの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最大値Ｃとの比であるＡ／Ｃが４．５以上である硬化性組成物。

　Ｙ＞Ｘ×０．５　　　式１

＜２＞　波長４００ｎｍ～波長７００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物を更に含み、

　上記波長Ｔｂよりも１５０ｎｍ短波である波長をＴａ’とした際の、波長４００ｎｍ以上上記Ｔａ’以下の範囲の吸光度の最小値Ａ’と、上記最大値Ｃとの比であるＡ’／Ｃが４．５以上である、＜１＞に記載の硬化性組成物。

＜３＞　上記波長４００ｎｍ～波長７００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物を２種以上含む、＜２＞に記載の硬化性組成物。

＜４＞　上記波長４００ｎｍ～波長７００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物として、赤色着色剤、青色着色剤、緑色着色剤、黄色着色剤、黒色着色剤、紫色着色剤、及び、茶色着色剤よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含む、＜２＞又は＜３＞に記載の硬化性組成物。

＜５＞　上記赤外線吸収剤が、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、ジインモニウム化合物、ペリレン化合物、ピロロピロール化合物、金属錯体、及び、化合物半導体よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含む、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物。

＜６＞　上記式１を満たさない赤外線吸収剤を更に含む、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物。

＜７＞　光重合開始剤を更に含む、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物。

＜８＞　赤外線透過フィルタの形成に用いられる、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物。

＜９＞　＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜。

＜１０＞　＜９＞に記載の硬化膜を備える赤外線透過フィルタ。

＜１１＞　＜９＞に記載の硬化膜又は＜１０＞に記載の赤外線透過フィルタ、及び、誘電体多層膜を含む積層体。

＜１２＞　＜９＞に記載の硬化膜、＜１０＞に記載の赤外線透過フィルタ、又は、＜１１＞に記載の積層体を備える固体撮像素子。

＜１３＞　＜９＞に記載の硬化膜、＜１０＞に記載の赤外線透過フィルタ、又は、＜１１＞に記載の積層体を備えるセンサ。

＜１４＞　＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物を含む硬化性組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部を除去してパターンを形成する工程と、を含むパターン形成方法。

　本発明の実施形態によれば、硬化後の硬化膜において、可視光に由来するノイズの発生が抑制され、高湿感度に優れ、角度依存性に優れ、かつ、低背化が可能な硬化性組成物を提供される。

　また、本発明の他の実施形態によれば、上記硬化性組成物を硬化してなる硬化膜、上記硬化膜を備える赤外線透過フィルタ、上記硬化膜若しくは上記赤外線透過フィルタ、及び、誘電体多層膜を含む積層体、上記硬化膜、上記赤外線透過フィルタ、若しくは、上記積層体を備える固体撮像素子若しくはセンサ、又は、上記硬化性組成物を用いたパターン形成方法を提供することができる。

本開示に係る赤外線センサの一実施形態の構成を示す概略断面図である。 本開示に係る赤外線センサの別の一実施形態の構成を示す概略断面図である。 ピロロピロール化合物の一例における溶液中と膜中との吸収スペクトルをそれぞれ示す図である。 ピロロピロール化合物ＰＰ－ａ～ＰＰ－ｈにおける溶液中の吸収スペクトルをそれぞれ示す図である。 ピロロピロール化合物ＰＰ－ｉ～ＰＰ－ｐにおける膜中の吸収スペクトルをそれぞれ示す図である。 ピロロピロール化合物ＰＰ－ｑ及び～ＰＰ－ｒの含有質量比を変化させ、Ｊ会合体の形成による吸収スペクトル変化を示す図である。 ピロロピロール化合物ＰＰ－ｓ及び～ＰＰ－ｔの含有質量比を変化させ、Ｊ会合体の形成による吸収スペクトル変化を示す図である。

　以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。

　なお、本開示において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。

　本開示において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線又は放射線が挙げられる。

　また、本開示における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。

　本開示において、化学式中のＭｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ示す。

　本開示において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。

　また、本開示中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。　また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。

　本開示において、特別な記載がない限り、波長の単位はｎｍとする。

　特に限定しない限りにおいて、本開示において組成物中の各成分、又は、ポリマー中の各構成単位は、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上を併用してもよいものとする。

　更に、本開示において組成物中の各成分、又は、ポリマー中の各構成単位の量は、組成物中に各成分、又は、ポリマー中の各構成単位に該当する物質又は構成単位が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質、又は、ポリマー中に存在する該当する複数の各構成単位の合計量を意味する。

　更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。

　本開示で用いられる化合物の重量平均分子量及び数平均分子量の測定方法は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定でき、ＧＰＣの測定によるポリスチレン換算値として定義される。例えば、ＨＬＣ－８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＡＷＭ―Ｈ（東ソー（株）製、６．０ｍｍＩＤ×１５．０ｃｍ）を、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ　リチウムブロミドＮＭＰ（Ｎ－メチルピロリジノン）溶液を用いることによって求めることができる。

　近赤外線とは、極大吸収波長領域が波長７００ｎｍ～波長２，５００ｎｍの光（電磁波）をいう。

　本開示において、全固形分とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。本開示における固形分は、２５℃における固形分である。

　以下、本開示を詳細に説明する。

（硬化性組成物）

　本開示に係る硬化性組成物（以下、単に「組成物」ともいう。）は、赤外線吸収剤と、硬化性化合物とを含む硬化性組成物であって、上記赤外線吸収剤の、波長４００ｎｍ～１，３００ｎｍにおける極大吸収波長における吸光度Ｘと、波長７００ｎｍを超え波長１，３００ｎｍ以下の範囲の最大吸光度Ｙと、が下記式１を満たし、上記硬化性組成物を０．１μｍ～１００μｍのいずれかの厚さで塗布した際に、波長１，０００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの間に透過率が５０％となる波長Ｔｂが存在し、上記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ短波である波長をＴａ、上記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ長波である波長をＴｃとした際の、Ｔａの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最小値Ａと、Ｔｃの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最大値Ｃとの比であるＡ／Ｃが４．５以上である。

　Ｙ＞Ｘ×０．５　　　式１

　また、本開示における硬化性組成物は、赤外線透過フィルタの形成に用いられる硬化性組成物であることが好ましい。

　本発明者は鋭意検討した結果、上記構成を採用することにより、硬化後の硬化膜において、可視光に由来するノイズの発生が抑制され、高湿感度に優れ、角度依存性に優れ、かつ、低背化が可能な硬化性組成物を提供することができることを見出した。

　上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。

　硬化性組成物が赤外線吸収剤を含み、かつ、上述のＡ／Ｃが４．５以上であることにより、可視光領域から赤外線領域にかけての吸光度の変化が急峻となるため、可視光由来のノイズの発生が抑制されると考えられる。

　また、硬化性組成物が上記式１を満たす赤外線吸収剤を含み、かつ、上述のＡ／Ｃが４．５以上であることにより、波長１，０００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの範囲内の赤外線を透過する赤外線吸収フィルタとすることができる。このような波長範囲の赤外線を用いた場合には、例えば波長１，４００ｎｍ以上の赤外線を透過する赤外線吸収フィルタを用いた場合と比較して、水（水蒸気）による赤外線吸収の影響が小さくなるため、高湿感度に優れると考えられる。

　更に、本開示に係る赤外線吸収剤を含む硬化性組成物の硬化膜においては、例えば誘電体多層膜のみを用いた場合と比較して、角度依存性に優れると考えられる。

　加えて、本開示に係る硬化性組成物は、０．１μｍ～１００μｍのいずれかの厚さで塗布した際にＴｂが存在するため、１００μｍを超える厚さで塗布した場合にＴｂが存在する組成物を用いた場合と比較して、低背化に優れると考えられる。

　以下、本開示に係る硬化性組成物における各要件について詳細を説明する。

＜波長特性＞

　本開示に係る硬化性組成物は、０．１μｍ～１００μｍのいずれかの厚さで塗布した際に、波長１，０００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの間に透過率が５０％となる波長Ｔｂが存在し、上記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ短波である波長をＴａ、上記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ長波である波長をＴｃとした際の、Ｔａの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最小値Ａと、Ｔｃの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最大値Ｃとの比であるＡ／Ｃが４．５以上である。

　本開示において、例えば「Ｔａの波長から±５０ｎｍの範囲の波長」とは、「Ｔａ－５０ｎｍ以上Ｔａ＋５０ｎｍ以下の範囲の波長」を意味する。

　上記Ａ／Ｃは、１０以上が好ましく、１５以上がより好ましく、２０以上が更に好ましい。

　上記最小値Ａは０．８以上であることが好ましく、１．０以上であることがより好ましく、１．３以上であることが更に好ましい。

　上記最大値Ｃは０．２以下であることが好ましく、０．１５以下であることがより好ましく、０．１０以下であることが更に好ましい。

　本開示において、上記Ｔａ、上記Ｔｂ及び上記Ｔｃにおける吸光度及び透過率は、硬化性組成物に含まれる、上記赤外線吸収剤、及び、波長４００ｎｍ～波長７００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物の種類及び含有量を調整することにより設計することが可能である。

　ある波長λにおける吸光度Ａλは、以下の式（１）により定義される。

　　Ａλ＝－ｌｏｇ（Ｔλ）　　　・・・（１）

　Ａλは、波長λにおける吸光度であり、Ｔλは、波長λにおける透過率である。

　吸光度の値は、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜厚が所定の膜厚となるように硬化性組成物を塗布し、硬化性組成物に応じた適切な方法（露光、加熱等）で硬化及び必要に応じて乾燥して調製した膜を用いる。膜の膜厚は、膜を有する基板に対し、触針式表面形状測定器（ＵＬＶＡＣ社製　ＤＥＫＴＡＫ１５０）を用いて測定することができる。

　また、ある波長における吸光度及び透過率は、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ（株）製　Ｕ－４１００）を用いて測定できる。

　また、特に記載のない限り、本開示における吸光度及び透過率は、いずれも２５℃、相対湿度４０％の条件下における値である。

　また、本開示に係る硬化性組成物の一態様として、更に、波長１，６００ｎｍにおける透過率が２０％以下（好ましくは１０％以下）である態様が挙げられる。

　このような硬化性組成物を用いることにより、例えば波長１，０００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの光を透過し、上記範囲よりも短い波長及び長い波長を遮光する、いわゆるバンドパスフィルタを形成することも可能である。

＜赤外線吸収剤＞

　本開示において用いられる赤外線吸収剤は、波長４００ｎｍ～１，３００ｎｍにおける極大吸収波長における吸光度Ｘと、波長７００ｎｍを超え波長１，３００ｎｍ以下の範囲の最大吸光度Ｙとが下記式１を満たす化合物であり、波長４００ｎｍ～１，３００ｎｍにおける極大吸収波長における吸光度Ｘと、波長９５０ｎｍを超え波長１，３００ｎｍ以下の範囲の最大吸光度Ｙと、が下記式１を満たす化合物であることが好ましい。

　本開示において用いられる赤外線吸収剤は、上記Ｘ及び上記Ｙが下記式２を満たす化合物であることが好ましく、下記式３を満たす化合物であることがより好ましい。

　Ｙ＞Ｘ×０．５　　　式１

　Ｙ＞Ｘ×０．７　　　式２

　Ｙ＞Ｘ×０．９　　　式３

　また、本開示において用いられる赤外線吸収剤は、波長３５０ｎｍ～波長１，５００ｎｍの範囲において、波長９５０ｎｍ～波長１，３００ｎｍの範囲内に吸収極大を有することが好ましい。

　本開示において、「波長３５０～波長１，３００ｎｍの範囲において波長Ａｎｍ～波長Ｂｎｍの範囲に吸収極大を有する」とは、波長３５０ｎｍ～波長１，３００ｎｍの範囲における吸収スペクトルにおいて、波長Ａｎｍ～波長Ｂｎｍの範囲に最大の吸光度を示す波長を有することを意味する。

　本開示において用いられる赤外線吸収剤は、特に限定されないが、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、ジインモニウム化合物、ペリレン化合物、ピロロピロール化合物、金属錯体、及び、化合物半導体よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物ことが好ましく、シアニン化合物、及び、スクアリリウム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種を含むことよりが好ましく、シアニン化合物を含むことが更に好ましい。

〔シアニン化合物〕

　好ましいシアニン化合物としては、下記式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

　式（Ｉ）中、ＬＣ１はアルキレン基を表し、ＲＣ１１及びＲＣ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、ＲＣ１１及びＲＣ１２は結合して環構造を形成してもよく、ＲＣ１３及びＲＣ１４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、ＲＣ１３及びＲＣ１４は結合して環構造を形成してもよく、ＲＣ１５はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基又は水素原子を表し、ＲＣ１６及びＲＣ１７はそれぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基又はアリール基を表し、Ｘ１は電荷の中和に必要なアニオン又はカチオンを表し、式（Ｉ）中のＸ１で表される構造以外の構造が電気的に中性である場合、Ｘ１は存在しなくともよい。

　式（Ｉ）中、ＬＣ１はアルキレン基を表し、エチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。上記ＬＣ１は置換基を有していてもよく、置換基としてはアルキル基が挙げられ、炭素数１～４のアルキル基が好ましく挙げられる。

　式（Ｉ）中、ＲＣ１１及びＲＣ１２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基が好ましく、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のアルコキシ基がより好ましく、水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４のアルコキシ基が更に好ましい。

　また、ＲＣ１１が上記アルキル基又は上記アルコキシ基であり、ＲＣ１２が水素原子であることが好ましい。

　ＲＣ１１及びＲＣ１２が形成する環構造としては、５員環構造又は６員環構造が好ましく、５員環構造がより好ましく、テトラヒドロフラン環構造が更に好ましい。上記環構造は置換基を有していてもよく、置換基としてはアルキル基が挙げられ、炭素数１～４のアルキル基が好ましく挙げられる。

　式（Ｉ）中、ＲＣ１３及びＲＣ１４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基が好ましく、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のアルコキシ基がより好ましく、水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４のアルコキシ基が更に好ましい。

　また、ＲＣ１３が上記アルキル基又は上記アルコキシ基であり、ＲＣ１４が水素原子であることが好ましい。

　ＲＣ１３及びＲＣ１４が形成する環構造としては、５員環構造又は６員環構造が好ましく、５員環構造がより好ましく、テトラヒドロフラン環構造が更に好ましい。上記環構造は置換基を有していてもよく、置換基としてはアルキル基が挙げられ、炭素数１～４のアルキル基が好ましく挙げられる。

　式（Ｉ）中、ＲＣ１５はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基又は水素原子を表し、アルキル基、アリール基又は水素原子が好ましく、アリール基又は水素原子がより好ましい。上記アルキル基としては、炭素数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素数１～１２のアルキル基がより好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましい。上記アルケニル基としては、炭素数２～２０のアルケニル基が好ましく、炭素数２～１２のアルケニル基がより好ましく、炭素数２～８のアルケニル基が更に好ましい。上記アルキニル基としては、炭素数２～２０のアルキニル基が好ましく、炭素数２～１２のアルキニル基がより好ましく、炭素数２～８のアルキニル基が更に好ましい。

上記アラルキル基としては、炭素数７～２０のアラルキル基が好ましく、炭素数７～１３のアラルキル基がより好ましい。上記アリール基としては、炭素数６～２０のアリール基が好ましく、炭素数６～１２のアリール基がより好ましい。

　本開示において、特別の記載がない限り、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基はそれぞれ直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環構造を有していてもよい。

　式（Ｉ）中、ＲＣ１６及びＲＣ１７はそれぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基又はアリール基を表し、アルキル基が好ましい。これらの基の好ましい態様としては、ＲＣ１５におけるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基又はアリール基の好ましい態様と同様である。また、上記アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基又はアリール基は更に置換基を有していてもよい。

置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられ、カルボキシ基及びスルホ基が好ましく、スルホ基が特に好ましい。カルボキシ基及びスルホ基は、水素原子が解離していてもよく、塩の状態であってもよい。

　Ｘ１は電荷の中和に必要なアニオン又はカチオンを表す。

　アニオンとしては、ハロゲン化物イオン（Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－）、パラトルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＰＦ６ －、ＢＦ４ －、ＣｌＯ４ －、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオン（例えば、（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃ－）、ジ（ハロゲノアルキルスルホニル）イミドアニオン（例えば（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ－）、テトラシアノボレートアニオン等が挙げられる。

　カチオンとしては、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、遷移金属イオン、その他の金属イオン（アンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、トリブチルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、グアニジニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン、ジアザビシクロウンデセニウムなどが挙げられる。

〔具体例〕

　本開示において用いられる赤外線吸収剤の具体例としては、下記化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002

　また、赤外線吸収剤としては市販品を用いてもよく、市販品としてはスペクトラムインフォ社製Ｓ０９４２５、Ｓ０４０４６、Ｓ０４２９０、Ｓ１２００８、Ｓ０１９８３等が挙げられる。

〔含有量〕

　本開示に係る組成物において、赤外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分の０．１質量％～９５質量％であることが好ましい。上記含有量の上限は、７５質量％以下がより好ましく、５０質量％以下が更に好ましい。上記含有量の下限は、０．２質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上が更に好ましい。

＜式１を満たさない赤外線吸収剤＞

　本開示に係る硬化性組成物は、式１を満たさない赤外線吸収剤（以下、「他の赤外線吸収剤」ともいう。）を更に含んでもよい。他の赤外線吸収剤は、極大吸収波長における吸光度Ｘと、波長９５０ｎｍを超え波長１，３００ｎｍ以下の範囲の最大吸光度Ｙと、が上記式１を満たさない化合物である。

　また、他の赤外線吸収剤は、波長７００ｎｍ～波長９５０ｎｍの波長範囲に極大吸収波長を有する化合物であることが好ましい。

　また、本開示において用いられる他の赤外線吸収剤は、波長３５０ｎｍ～波長１，３００ｎｍの範囲において波長７００ｎｍ～波長９５０ｎｍの範囲内に吸収極大を有することが好ましく、波長３５０ｎｍ～波長１，３００ｎｍの範囲において波長８００ｎｍ～波長９５０ｎｍの範囲内に吸収極大を有することがより好ましい。

　さらに、他の赤外線吸収剤として、波長３５０～波長２，０００ｎｍの範囲において波長１，５００ｎｍ～波長２，０００ｎｍの範囲内（好ましくは、波長１，６００ｎｍ～波長１，９００ｎｍの範囲内）に吸収極大を有する化合物を用いることにより、本開示に係る硬化性組成物を、バンドパスフィルタの形成用に用いることも可能である。

　本開示において用いられる他の赤外線吸収剤は、特に限定されないが、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、ピリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ジイミニウム化合物、ホウ化ランタン、金属平板粒子、量子ドット、希土類原子含有セラミックなどが挙げられ、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、ピリリウム化合物、及び、ジイミニウム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種を含むことが好ましく、ピロロピロール化合物、ピリリウム化合物、スクアリリウム化合物、及び、シアニン化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種を含むことがより好ましい。

〔ピロロピロール化合物〕

　ピロロピロール化合物としては、特に制限はなく、公知のピロロピロール構造を有する赤外線吸収剤を用いることができる。

　本開示に用いられるピロロピロール化合物は、Ｊ会合体を形成していることが好ましい。

　ピロロピロール化合物が形成するＪ会合体のスリップアングルは、１°～５４°が好ましく、２°～４５°がより好ましく、３°～４０°が更に好ましい。

　ピロロピロール化合物が形成するＪ会合体の遷移モーメント間距離は、２．０Å～３０Åが好ましく、３．０Å～２５Åがより好ましい。なお、１Å＝０．１ｎｍである。

　また、本開示に用いられるピロロピロール化合物は、ピロロピロール環の窒素原子上にホウ素原子を有する基を有することが好ましく、また、上記窒素原子と上記ホウ素原子とは、直接結合していることが好ましい。上記窒素原子と直接結合する上記ホウ素原子上に置換基を有することにより、分子間においてピロロピロール環構造の平面の重なりを制御する立体障害基として機能しており、好適にＪ会合体が形成される。

　また、Ｊ会合体は、異なる２つ以上の色素化合物（赤外線吸収剤）からなるＪ会合体、すなわち、混合Ｊ会合体であってもよい。混合Ｊ会合体を形成することで、２種類の色素化合物の混合比率によって極大吸収波長（λｍａｘ）を任意に制御できるという効果がある。混合Ｊ会合体の各色素化合物の比率は、任意に選択できるが、色素Ａ及び色素Ｂの２種類から成る場合、色素Ａと色素Ｂとの比率（モル比）は、１：９９～９９：１であることが好ましく、１０：９０～９０：１０であることがより好ましい。

　極大吸収波長（λｍａｘ）における吸光度に対する副吸収の吸光度の比（副吸収の吸光度／極大吸収波長における吸光度）は、０～０．１が好ましく、０～０．０７がより好ましく、０～０．０５が更に好ましい。ただし、上記副吸収の吸光度は、４００ｎｍにおける吸光度である。

　極大吸収波長（λｍａｘ）の半値幅は、特に限定されないが、５ｎｍ～３００ｎｍであることが好ましい。

　図３～図７にピロロピロール化合物の吸収スペクトルの一例を示す。なお、図４～図７におけるＰＰ－ａ～ＰＰ－ｔは、いずれもピロロピロール化合物である。また、図３～図７における縦軸は、吸光度（Absobance Unit）を表し、横軸は、波長（ｎｍ）を表す。

　図３は、ピロロピロール化合物の一例における溶液中と膜中との吸収スペクトルをそれぞれ示す図である。

　図４は、ピロロピロール化合物ＰＰ－ａ～ＰＰ－ｈにおける溶液中の吸収スペクトルをそれぞれ示す図である。

　図５は、ピロロピロール化合物ＰＰ－ｉ～ＰＰ－ｐにおける膜中の吸収スペクトルをそれぞれ示す図である。

　図６は、ピロロピロール化合物ＰＰ－ｑ及び～ＰＰ－ｒの含有質量比を変化させ、Ｊ会合体の形成による吸収スペクトル変化を示す図である。

　図７は、ピロロピロール化合物ＰＰ－ｓ及び～ＰＰ－ｔの含有質量比を変化させ、Ｊ会合体の形成による吸収スペクトル変化を示す図である。

　また、ピロロピロール化合物としては、式（ＰＰ）で表される化合物であることが好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

　式（ＰＰ）中、Ｒ１ａ及びＲ１ｂは、各々独立にアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２及びＲ３は、各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ４ＡＲ４Ｂ、又は金属原子を表し、Ｒ４は、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ及びＲ３から選ばれる少なくとも一つと共有結合若しくは配位結合していてもよく、Ｒ４Ａ及びＲ４Ｂは、各々独立に置換基を表す。式（ＰＰ）の詳細については、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１７～００４７、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００１１～００３６、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００２４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　式（ＰＰ）において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂは、各々独立に、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。また、Ｒ１ａ及びＲ１ｂが表すアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。

　式（ＰＰ）において、Ｒ２及びＲ３は、各々独立に水素原子又は置換基を表す。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。Ｒ２及びＲ３の少なくとも一方は電子求引性基であることが好ましく、シアノ基、カルボキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルスルホニル基、又は、アリールスルホニル基であることがより好ましく、シアノ基であることが更に好ましい。

　式（ＰＰ）において、Ｒ２は電子求引性基（好ましくはシアノ基）を表し、Ｒ３はヘテロアリール基を表すことが好ましい。ヘテロアリール基は、５員環又は６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環又は縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２～４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示される。ヘテロアリール基は、窒素原子を１個以上有することが好ましい。式（ＰＰ）における２個のＲ２同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、式（ＰＰ）における２個のＲ３同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。

　式（ＰＰ）において、Ｒ４は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又は－ＢＲ４ＡＲ４Ｂで表される基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基又は－ＢＲ４ＡＲ４Ｂで表される基であることがより好ましく、－ＢＲ４ＡＲ４Ｂで表される基であることが更に好ましい。Ｒ４Ａ及びＲ４Ｂが表す置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基、又は、ヘテロアリール基がより好ましく、アリール基が特に好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。式（ＰＰ）における２個のＲ４同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ４Ａ及びＲ４Ｂは互いに結合して環を形成していてもよい。

　式（ＰＰ）で表される化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。また、ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ピロロピロール化合物の具体例としては、後述する実施例に記載のＩＰ－１及びＩＰ－２も好適に挙げられる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009

〔シアニン化合物〕

　シアニン化合物は、式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010

　式（Ｃ）中、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員又は６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、

　Ｒ１０１及びＲ１０２は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基又はアリール基を表し、

　Ｌ１は、奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表し、

　ａ及びｂは、それぞれ独立に、０又は１であり、

　ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、

　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ１はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ１はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。

　シアニン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－８８４２６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

〔スクアリリウム化合物〕

　スクアリリウム化合物としては、下記式（ＳＱ）で表される化合物が好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　式（ＳＱ）中、Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基又は式（Ａ－１）で表される基を表す；

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式（Ａ－１）中、Ｚ１は、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ２は、アルキル基、アルケニル基又はアラルキル基を表し、ｄは、０又は１を表し、波線は連結手を表す。式（ＳＱ）の詳細については、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００２０～００４９、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００４３～００６２、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００２４～００４０の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　なお、式（ＳＱ）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013

　スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ－１）で表される化合物が好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014

　環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に芳香族環を表し、

　ＸＡ及びＸＢはそれぞれ独立に置換基を表し、

　ＧＡ及びＧＢはそれぞれ独立に置換基を表し、

　ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、

　ｎＡ及びｎＢはそれぞれ環Ａ又は環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、

　ＸＡとＧＡ、ＸＢとＧＢ、ＸＡとＸＢは、互いに結合して環を形成してもよく、ＧＡ及びＧＢがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。

　ＧＡ及びＧＢが表す置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。

　ＸＡ及びＸＢが表す置換基としては、活性水素を有する基が好ましく、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＯＯＨ、－ＳＯ３Ｈ、－ＮＲＸ１ＲＸ２、－ＮＨＣＯＲＸ１、－ＣＯＮＲＸ１ＲＸ２、－ＮＨＣＯＮＲＸ１ＲＸ２、－ＮＨＣＯＯＲＸ１、－ＮＨＳＯ２ＲＸ１、－Ｂ（ＯＨ）２及び－ＰＯ（ＯＨ）２がより好ましく、－ＯＨ、－ＳＨ及び－ＮＲＸ１ＲＸ２が更に好ましい。ＲＸ１及びＲＸ２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。ＸＡ及びＸＢにおける置換基ＲＸ１及びＲＸ２としてはアルキル基、アリール基、又は、ヘテロアリール基が挙げられ、アルキル基が好ましい。

　環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族環を表す。芳香族環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、及び、フェナジン環が挙げられ、ベンゼン環又はナフタレン環が好ましい。芳香族環は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。

　ＸＡとＧＡ、ＸＢとＧＢ、ＸＡとＸＢは、互いに結合して環を形成してもよく、ＧＡ及びＧＢがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していてもよい。環としては、５員環又は６員環が好ましい。環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。

ＸＡとＧＡ、ＸＢとＧＢ、ＸＡとＸＢ、ＧＡ同士又はＧＢ同士が結合して環を形成する場合、これらが直接結合して環を形成してもよく、アルキレン基、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＢＲ－及びそれらの組み合わせからなる２価の連結基を介して結合して環を形成してもよい。Ｒは、水素原子又は置換基を表す。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられ、アルキル基又はアリール基が好ましい。

　ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、ｎＡは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表す。ｋＡ及びｋＢは、それぞれ独立に０～４が好ましく、０～２がより好ましく、０～１が特に好ましい。

　スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ－１０）、式（ＳＱ－１１）又は式（ＳＱ－１２）で表される化合物であることも好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017

　式（ＳＱ－１０）～（ＳＱ－１２）中、Ｘは、独立して、１つ以上の水素原子がハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい式（１）又は式（２）で示される２価の有機基である。

　－（ＣＨ２）ｎ１－　　　・・・（１）

　式（１）中、ｎ１は２又は３である。

　－（ＣＨ２）ｎ２－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ３－　　　・・・（２）

　式（２）中、ｎ２とｎ３はそれぞれ独立して０～２の整数であり、ｎ２＋ｎ３は１又は２である。

　Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、アルキル基又はアリール基を表す。アルキル基及びアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。

　Ｒ３～Ｒ６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。

　ｎは２又は３である。

　スクアリリウム化合物としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００４０に記載の化合物、国際公開第２０１３／１３３０９９号に記載の化合物、国際公開第２０１４／０８８０６３号に記載の化合物、特開２０１４－１２６６４２号公報に記載の化合物、特開２０１６－１４６６１９号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、特開２０１７－２５３１１号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１５４７８２号に記載の化合物、特許５８８４９５３号公報に記載の化合物、特許６０３６６８９号公報に記載の化合物、特許５８１０６０４号公報に記載の化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018

〔ピリリウム化合物〕

　ピリリウム化合物としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、ピリリウム化合物としては、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７－１４２６４５号記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８－１８１０５１号公報、同５８－２２０１４３号公報、同５９－４１３６３号公報、同５９－８４２４８号公報、同５９－８４２４９号公報、同５９－１４６０６３号公報、同５９－１４６０６１号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９－２１６１４６号公報記載のシアニン染料、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５－１３５１４号公報、同５－１９７０２号公報に記載されているピリリウム化合物などが挙げられる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019

〔フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物〕

　フタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２－７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニンが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、フタロシアニン化合物として、下記構造の化合物を用いることもできる。ナフタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２－７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020

　本開示において、フタロシアニン化合物としては、市販品を用いることもできる。例えば、ＳＤＯ－Ｃ３３（有本化学工業（株）製）、イーエクスカラーＩＲ－１４、イーエクスカラーＩＲ－１０Ａ、イーエクスカラーＴＸ－ＥＸ－８０１Ｂ、イーエクスカラーＴＸ－ＥＸ－８０５Ｋ（（株）日本触媒製）、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８０４１、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８０４２、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８１４、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８２０、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８３９（ハッコーケミカル社製）、ＥｐｏｌｉｔｅＶ－６３、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３８０１、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３０３６（ＥＰＯＬＩＮ社製）、ＰＲＯ－ＪＥＴ８２５ＬＤＩ（富士フイルム（株）製）、ＮＫ－３０２７、ＮＫ－５０６０（（株）林原製）、ＹＫＲ－３０７０（三井化学（株）製）などが挙げられる。

〔ジイミニウム化合物〕

　ジイミニウム化合物としては、下記式（Ｉｍ）で表される化合物が好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021

　式（Ｉｍ）中、Ｒ１１～Ｒ１８は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｖ１１～Ｖ１５は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基又はシアノ基を表し、Ｘは対アニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、ｎ１～ｎ５は、それぞれ独立に、０～４である。

　Ｒ１１～Ｒ１８は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖又は分岐が好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１５が更に好ましく、６～１２がより好ましい。アルキル基及びアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、以下の置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　Ｖ１１～Ｖ１５は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基又はシアノ基を表す。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖又は分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１５が更に好ましく、６～１２がより好ましい。アルコキシ基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８が特に好ましい。アルコキシ基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖又は分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。

　ｎ１～ｎ５は、それぞれ独立に、０～４である。ｎ１～ｎ４は、０～２が好ましく、０又は１がより好ましい。ｎ５は、０～３が好ましく、０～２がより好ましい。

　Ｘは対アニオンを表す。対アニオンの例としては、ハライドイオン（Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－）、パラトルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＳｂＦ６ －、ＰＦ６ －、ＢＦ４ －、ＣｌＯ４ －、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオン（例えば、（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃ－）、ジ（ハロゲノアルキルスルホニル）イミドアニオン（例えば（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ－）、テトラシアノボレートアニオンなどが挙げられる。

　ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、例えば、２であることが好ましい。

（置換基Ｔ）

　アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、ヘテロアリールオキシ基、アシル基（好ましくは炭素数１～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１～３０）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０）、ヘテロアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０）、ヘテロアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０）、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、カルボン酸アミド基（好ましくは－ＮＨＣＯＲＡ１で表される基であり、ＲＡ１は、炭化水素基又は複素環基を表す。炭化水素基及び複素環基は、更に置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。）、スルホン酸アミド基（好ましくは－ＮＨＳＯ２ＲＡ２で表される基である。ＲＡ２は、炭化水素基又は複素環基を表す。炭化水素基及び複素環基は、更に置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。）、イミド酸基（好ましくは、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＡ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＡ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＡ５又は－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＡ６で表される基である。ＲＡ３～ＲＡ６は、それぞれ独立して炭化水素基又は複素環基を表す。炭化水素基及び複素環基は、更に置換基を有してもよい。）、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロアリール基（好ましくは炭素数１～３０）。

　これらの基は、更に置換可能な基である場合、更に置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。

　ジイミニウム化合物の具体例としては、以下に示す化合物が挙げられる。表中のλｍａｘは、同化合物の極大吸収波長である。また、ジイミニウム化合物の市販品としては、ＩＲＧ－０６８（日本化薬（株）製）などが挙げられる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022

〔金属平板粒子〕

　他の赤外線吸収剤として用いられる金属平板粒子の材料としては、銀、金、アルミニウム、銅、ロジウム、ニッケル、白金などが好ましく、銀がより好ましい。金属平板粒子としては、２つの主平面からなる粒子であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、六角形状、円形状、三角形状などが挙げられる。これらの中でも、可視光透過率が高い点で、六角形状以上の多角形状～円形状であることがより好ましく、六角形状又は円形状であることが特に好ましい。金属平板粒子の厚みは２０ｎｍ以下であることが好ましく、１４ｎｍ以下であることがより好ましい。金属平板粒子のアスペクト比としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、赤外領域（例えば、波長１，０００ｎｍを超え１，２００ｎｍ以下の範囲の光）の反射率が高くなる点から、６～４０が好ましく、８～３０がより好ましい。前述のアスペクト比は、金属平板粒子の一次粒子の平均粒径（平均円相当径）を金属平板粒子の平均粒子厚みで除算した値を意味する。平均粒子厚みは、金属平板粒子の主平面間距離に相当し、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定することができる。金属平板粒子の詳細については、特開２０１３－１９５５６３号公報の段落番号００１７～００２７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

〔量子ドット〕

　他の赤外線吸収剤として用いられる量子ドットの材料としては、ＦｅＳｉ、Ｇｅ、ＩｎＮ、ＩｎＡｓ、ＰｂＴｅ、ＰｂＳｅ、ＩｎＳｂなどが挙げられる。量子ドットの形状としては、特に限定はなく、真球状、燐片状、板状、楕円球状、不定形が挙げられる。

〔希土類原子含有セラミック〕

　他の赤外線吸収剤として用いられる希土類原子含有セラミックとしては、Ｙｂ、Ｈｏ、Ｔｍ等の希土類原子を含むセラミックが挙げられる。具体例としては、Ｙｂ及びＨｏを含むＹ２Ｏ３、Ｙｂ及びＴｍを含むＹ２Ｏ３などが挙げられる。

〔含有量〕

　本開示に係る組成物において、他の赤外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分の０．５～３０質量％であることが好ましい。上記含有量の上限は、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下が更に好ましい。上記含有量の下限は、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上が更に好ましい。

＜波長４００ｎｍ～波長７００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物＞

　本開示に係る硬化性組成物は、波長４００ｎｍ～波長７００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物（以下、「可視光吸収化合物」ともいう。）を更に含むことが好ましい。

　また、本開示に係る硬化性組成物は、可視光吸収化合物を更に含み、上記波長Ｔｂよりも１５０ｎｍ短波である波長をＴａ’とした際の、波長４００ｎｍ以上上記Ｔａ’以下の範囲の吸光度の最小値Ａ’と、上記最大値Ｃとの比であるＡ’／Ｃが４．５以上であることが好ましい。

　上記Ａ’／Ｃは、１０以上が好ましく、１５以上がより好ましく、２０以上が更に好ましい。

　上記最小値Ａ’は、０．８以上であることが好ましく、１．０以上であることがより好ましく、１．３以上であることが更に好ましい。

〔可視光吸収化合物〕

　可視光吸収化合物は、紫色から赤色の波長域の光を吸収する化合物であることが好ましい。

　可視光吸収化合物は、波長４５０ｎｍ～波長６５０ｎｍ（好ましくは波長４００ｎｍ～波長７００ｎｍ）の波長の光を遮光する着色剤であることが好ましい。

　可視光吸収化合物は、波長４００ｎｍ以上波長７００ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。

　可視光吸収化合物は、波長３５０ｎｍ～１，３００ｎｍの範囲において波長４００ｎｍ～波長７００ｎｍの範囲内に吸収極大を有することが好ましい。

　可視光吸収化合物は、波長１，０００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの範囲の光に対する透過性の高い化合物であることが好ましい。

　本開示において、硬化性組成物は、可視光吸収化合物を２種以上含むことが好ましい。

　本開示において、可視光吸収化合物は、以下の（１）及び（２）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。

（１）：２種類以上の有彩色着色剤を含む。より好ましくは、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせにより黒色を形成している。

（２）：有機系黒色着色剤を含む。（２）の態様において、更に有彩色着色剤を含有することも好ましい。

　なお、本開示において、有彩色着色剤とは、白色着色剤及び黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長３５０～波長１，３００ｎｍの範囲において、波長４００ｎｍ以上波長７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大を有する着色剤が好ましい。

　また、本開示において、可視光吸収化合物としての有機系黒色着色剤は、可視光線を吸収するが、赤外線の少なくとも一部は透過する材料を意味する。したがって、本開示において、可視光吸収化合物としての有機系黒色着色剤は、可視光線及び赤外線の両方を吸収する黒色着色剤、例えば、カーボンブラックやチタンブラックは含まない。有機系黒色着色剤は、波長４００ｎｍ以上波長７００ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長を有する着色剤が好ましい。波長３５０～波長１，３００ｎｍの範囲において、波長４００ｎｍ以上波長７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大を有する着色剤が好ましい。

　可視光吸収化合物は、例えば、波長４５０ｎｍ～波長６５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａ１と、波長１，０００ｎｍ～波長１，５００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂ１との比であるＡ１／Ｂ１が４．５以上であることが好ましい。

　可視光吸収化合物の上記の分光特性（Ａ１／Ｂ１）は、１種類の可視光吸収化合物で満たしていてもよく、複数の可視光吸収化合物の組み合わせで満たしていてもよい。例えば、上記（１）の態様の場合、複数の有彩色着色剤を組み合わせて上記分光特性を満たしていることが好ましい。また、上記（２）の態様の場合、有機系黒色着色剤が上記分光特性を満たしていてもよい。また、有機系黒色着色剤と有彩色着色剤との組み合わせで上記の分光特性を満たしていてもよい。

－有彩色着色剤－

　本開示において、有彩色着色剤は、赤色着色剤、青色着色剤、緑色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤及び茶色着色剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種の着色剤であることが好ましい。

　本開示において、有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。好ましくは顔料である。

　顔料は、平均粒径（ｒ）が、好ましくは２０ｎｍ≦ｒ≦３００ｎｍ、より好ましくは２５ｎｍ≦ｒ≦２５０ｎｍ、特に好ましくは３０ｎｍ≦ｒ≦２００ｎｍを満たすことが好ましい。ここでいう「平均粒径」とは、顔料の一次粒子が集合した二次粒子についての平均粒径を意味し、数平均粒径を意味する。

　また、使用しうる顔料の二次粒子の粒径分布（以下、単に「粒径分布」ともいう。）は、（平均粒径±１００）ｎｍに入る二次粒子が全体の７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上であることが好ましい。なお、二次粒子の平均粒径及び粒径分布は、動的光散乱法を用いて測定することができる。

　上述した平均粒径及び粒径分布を有する顔料は、市販の顔料を、場合により使用される他の顔料（二次粒子の平均粒径は通常、３００ｎｍを超える）と共に、好ましくは樹脂及び有機溶媒と混合した顔料混合液として、例えばビーズミル、ロールミル等の粉砕機を用いて、粉砕しつつ混合及び分散することにより調製することができる。このようにして得られる顔料は、通常、顔料分散液の形態をとる。

　顔料は、有機顔料であることが好ましく、以下のものを挙げることができる。但し本開示は、これらに限定されるものではない。

　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４等（以上、黄色顔料）、

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９，２９４（キサンテン系、Ｏｒｇａｎｏ　Ｕｌｔａｍａｒｉｎｅ，Ｂｌｕｉｓｈ　Ｒｅｄ）等（以上、赤色顔料）、

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９等（以上、緑色顔料）、

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２等（以上、紫色顔料）、

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７（モノアゾ系），８８（メチン／ポリメチン系）等（以上、青色顔料）、

　これら有機顔料は、単独若しくは種々組合せて用いることができる。

　染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が使用できる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開２０１５－０２８１４４号公報、特開２０１５－３４９６６号公報に記載の染料を用いることもできる。

　２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。

（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。

（２）黄色着色剤、青色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。

（３）黄色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。

（４）黄色着色剤及び紫色着色剤を含有する態様。

（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。

（６）紫色着色剤及びオレンジ色着色剤を含有する態様。

（７）緑色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。

（８）緑色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。

　上記（１）の態様の具体例としては、黄色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３９又は１８５と、青色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６又はＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１６と、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。

　上記（２）の態様の具体例としては、黄色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３９又は１８５と、青色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６又はＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１６と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。

　上記（３）の態様の具体例としては、黄色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３９又は１８５と、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。

　上記（４）の態様の具体例としては、黄色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３９又は１８５と、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３とを含有する態様が挙げられる。

　上記（５）の態様の具体例としては、緑色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７又は３６と、青色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６と、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。

　上記（６）の態様の具体例としては、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３と、オレンジ色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ７１とを含有する態様が挙げられる。

　上記（７）の具体例としては、緑色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７又は３６と、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。

　上記（８）の具体例としては、緑色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７又は３６と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。

　各着色剤の比率(質量比)としては、例えば、以下の比率であることが好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023

　上記Ｎｏ．１において、黄色着色剤は０．１～０．３がより好ましく、青色着色剤は０．１～０．５がより好ましく、紫色着色剤は０．０１～０．２であることがより好ましく、赤色着色剤は０．１～０．５であることがより好ましい。上記Ｎｏ．２において、黄色着色剤は０．１～０．３がより好ましく、青色着色剤は０．１～０．５がより好ましく、赤色着色剤は０．１～０．５であることがより好ましい。

－有機系黒色着色剤－

　有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ系化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、又は、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報、国際公開第２０１４／２０８３４８号、特表２０１５－５２５２６０号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平１－１７０６０１号公報、特開平２－３４６６４号公報などに記載のものが挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。

　本開示において、ビスベンゾフラノン化合物は、下記式で表される化合物及びこれらの混合物であることが好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024

　式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して置換基を表し、ａ及びｂはそれぞれ独立して０～４の整数を表し、ａが２以上の場合、複数のＲ３は、同一であってもよく、異なってもよく、複数のＲ３は結合して環を形成していてもよく、ｂが２以上の場合、複数のＲ４は、同一であってもよく、異なってもよく、複数のＲ４は結合して環を形成していてもよい。

　Ｒ１～Ｒ４が表す置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＲ３０１、－ＣＯＲ３０２、－ＣＯＯＲ３０３、－ＯＣＯＲ３０４、－ＮＲ３０５Ｒ３０６、－ＮＨＣＯＲ３０７、－ＣＯＮＲ３０８Ｒ３０９、－ＮＨＣＯＮＲ３１０Ｒ３１１、－ＮＨＣＯＯＲ３１２、－ＳＲ３１３、－ＳＯ２Ｒ３１４、－ＳＯ２ＯＲ３１５、－ＮＨＳＯ２Ｒ３１６又は－ＳＯ２ＮＲ３１７Ｒ３１８を表し、Ｒ３０１～Ｒ３１８は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。

　ビスベンゾフラノン化合物の詳細については、特表２０１０－５３４７２６号公報の段落番号００１４～００３７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　本開示において、可視光吸収化合物として有機系黒色着色剤を用いる場合、有彩色着色剤と組み合わせて使用することが好ましい。有機系黒色着色剤と有彩色着色剤とを併用することで、優れた分光特性が得られ易い。有機系黒色着色剤と組み合わせて用いる有彩色着色剤としては、例えば、赤色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤などが挙げられ、赤色着色剤及び青色着色剤が好ましい。これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

　また、有彩色着色剤と有機系黒色着色剤との混合割合は、有機系黒色着色剤１００質量部に対して、有彩色着色剤が１０～２００質量部が好ましく、１５～１５０質量部がより好ましい。

　本開示において、可視光吸収化合物における顔料の含有量は、可視光吸収化合物の全量に対して９５質量％以上であることが好ましく、９７質量％以上であることがより好ましく、９９質量％以上であることが更に好ましい。

　本開示に係る硬化性組成物において、可視光吸収化合物の含有量は、組成物の全固形分の１０～６０質量％であることが好ましい。上限は、５０質量％以下が好ましく、４５質量％以下がより好ましい。下限は、２０質量％以上が好ましく、２５質量％以上がより好ましい。

＜硬化性化合物＞

　本開示に係る硬化性組成物は、硬化性化合物を含有する。

　硬化性化合物としては、重合性化合物、樹脂、ゼラチンやセルロース等の天然高分子等が挙げられる。

　ゼラチンとしては、その合成方法によって、酸処理ゼラチン及びアルカリ処理ゼラチン（石灰処理など）があり、いずれも好ましく用いることができる。ゼラチンの分子量は、１０，０００～１，０００，０００であることが好ましい。また、ゼラチンのアミノ基やカルボキシル基を利用して変性処理した変性ゼラチンも用いることができる（例えば、フタル化ゼラチンなど）。ゼラチンとしては、イナートゼラチン（例えば、新田ゼラチン７５０）、フタル化ゼラチン（例えば、新田ゼラチン８０１）などを用いることができる。樹脂は、非重合性の樹脂（重合性基を有さない樹脂）であってもよく、重合性の樹脂（重合性基を有する樹脂）であってもよい。重合性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基、メチロール基、アルコキシメチル基などが挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。なお、重合性の樹脂（重合性基を有する樹脂）は、重合性化合物でもある。

　本開示において、硬化性化合物としては、樹脂を少なくとも含むものを用いることが好ましく、樹脂とモノマーである重合性化合物とを用いることがより好ましく、樹脂と、エチレン性不飽和結合を有する基を有するモノマーである重合性化合物とを用いることが更に好ましい。

　本開示に係る組成物において、硬化性化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～８０質量％であることが好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下が更に好ましく、４０質量％以下がより一層好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。

　本開示に係る硬化性組成物に含まれる硬化性化合物は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

〔重合性化合物〕

　重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシメチル基を有する化合物等が挙げられる。

　重合性化合物は、モノマーであってもよく、樹脂であってもよい。

　モノマーとしては、エチレン性不飽和結合を有する基を有するモノマーが好ましい。

　エチレン性不飽和結合を有する基を有するモノマーである重合性化合物は、ラジカル重合性化合物として好ましく用いることができる。

　また、エポキシ基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシメチル基を有する化合物は、カチオン重合性化合物として好ましく用いることができる。

　モノマーである重合性化合物の分子量は、２，０００未満であることが好ましく、１００以上２，０００未満であることがより好ましく、２００以上２，０００未満であることが更に好ましい。上限は、例えば１，５００以下であることが好ましい。

　樹脂である重合性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２，０００～２，０００，０００であることが好ましい。上限は、１，０００，０００以下であることが好ましく、５００，０００以下であることがより好ましい。下限は、３，０００以上であることが好ましく、５，０００以上であることがより好ましい。

－樹脂である重合性化合物－

　樹脂である重合性化合物としては、エポキシ樹脂や、重合性基を有する構成単位を含む樹脂などが挙げられる。重合性基を有する構成単位としては、下記（Ａ２－１）～（Ａ２－４）などが挙げられる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025

　Ｒ１は、水素原子又はアルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１が更に好ましい。Ｒ１は、水素原子又はメチル基が好ましい。

　Ｌ５１は、単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１０－（Ｒ１０は水素原子あるいはアルキル基を表し、水素原子が好ましい）、又は、これらの組み合わせからなる基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０が更に好ましい。アルキレン基は、置換基を有していてもよいが、無置換が好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０が更に好ましい。

　Ｐ１は、重合性基を表す。重合性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基、メチロール基、アルコキシメチル基などが挙げられる。

－エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物－

　エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物としては、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。

　エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物の例としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３３～００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。

　エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ；新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、及びこれらの（メタ）アクリロイル基が、エチレングリコール残基及び／又はプロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０５８５）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、Ａ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。

　例えば、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。また、アロニックス　Ｍ－３５０、ＴＯ－２３４９（東亞合成製）を使用することもできる。

　エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物は、更に、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のアロニックスシリーズ（例えば、Ｍ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０）などが挙げられる。

　エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物も好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する化合物としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。

　カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。

　エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物として、エチレン性不飽和結合を有する基とアルキレンオキシ基を有する化合物を用いることもできる。エチレン性不飽和結合を有する基とアルキレンオキシ基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基と、エチレンオキシ基及び／又はプロピレンオキシ基とを有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基とエチレンオキシ基とを有する化合物がより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物が更に好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基とアルキレンオキシ基を有する化合物の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、イソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。

　エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物としては、特公昭４８－４１７０８号公報、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報に記載されているウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平１－１０５２３８号公報に記載されている分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることができる。市販品としては、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００（共栄社化学（株））製などが挙げられる。

　また、エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物としては、特開２０１７－４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報に記載されている化合物を用いることもできる。

　また、エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物としては、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることも好ましい。

　本開示に係る組成物がエチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物を含有する場合、エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましく、５質量％以上が特に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましく、５０質量％以下がより一層好ましく、４０質量％以下が更に一層好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。

－エポキシ基を有する化合物－

　エポキシ基を有する化合物（以下、エポキシ化合物ともいう）としては、単官能又は多官能グリシジルエーテル化合物や、多官能脂肪族グリシジルエーテル化合物などが挙げられる。また、エポキシ化合物としては、脂環式エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。

　エポキシ化合物としては、１分子にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられる。

エポキシ化合物はエポキシ基を１分子に１～１００個有する化合物が好ましい。エポキシ基の数の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の下限は２個以上が好ましい。

　エポキシ化合物は、低分子化合物（例えば、分子量１，０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１，０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１，０００以上）のいずれでもよい。エポキシ化合物の重量平均分子量は、２，０００～１００，０００が好ましい。重量平均分子量の上限は、１０，０００以下が好ましく、５，０００以下がより好ましく、３，０００以下が更に好ましい。

　エポキシ化合物の市販品としては、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）、アデカグリシロール　ＥＤ－５０５（（株）ＡＤＥＫＡ製、エポキシ基含有モノマー）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）などが挙げられる。また、エポキシ化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。

　本開示に係る組成物がエポキシ化合物を含有する場合、エポキシ化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましく、５質量％以上が特に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましく、５０質量％以下がより一層好ましく、４０質量％以下が更に一層好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。

－メチロール基を有する化合物、アルコキシメチル基を有する化合物－

　メチロール基を有する化合物（以下、メチロール化合物ともいう）としては、メチロール基が、窒素原子又は芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。また、アルコキシメチル基を有する化合物（以下、アルコキシメチル化合物ともいう）としては、アルコキシメチル基が、窒素原子又は芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。アルコキシメチル基又はメチロール基が、窒素原子に結合している化合物としては、アルコキシメチル化メラミン、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、メチロール化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル、メチロール化グリコールウリル、アルコキシメチル化尿素及びメチロール化尿素等が好ましい。また、特開２００４－２９５１１６号公報の段落０１３４～０１４７、特開２０１４－０８９４０８の段落００９５～０１２６の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　本開示に係る組成物がメチロール化合物を含有する場合、メチロール化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましく、５質量％以上が特に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましく、５０質量％以下がより一層好ましく、４０質量％以下が更に一層好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。

　本開示に係る組成物がアルコキシメチル化合物を含有する場合、アルコキシメチル化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましく、５質量％以上が特に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましく、５０質量％以下がより一層好ましく、４０質量％以下が更に一層好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。

〔樹脂〕

　本開示に係る組成物は、硬化性化合物として樹脂を用いることができる。硬化性化合物は、樹脂を少なくとも含むものを用いることが好ましい。樹脂は分散剤として用いることもできる。なお、顔料などを分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で樹脂を使用することもできる。なお、重合性基を有する樹脂は、重合性化合物にも該当する。

　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２,０００～２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。

　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。

－エポキシ樹脂－

　エポキシ樹脂としては、上述した重合性化合物の欄で説明したエポキシ化合物として例示した化合物のうち樹脂である化合物が挙げられる。

－環状オレフィン樹脂－

　環状オレフィン樹脂の市販品としては、ＡＲＴＯＮ　Ｄ４５４０、Ｆ４５２０（共にＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。また、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載された樹脂、特開２０１７－５７２６５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－３２６８５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載された樹脂を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

－フルオレン骨格を有する樹脂－

　また、フルオレン骨格を有する樹脂を好ましく用いることもできる。フルオレン骨格を有する樹脂としては、下記構造の樹脂が挙げられる。以下の構造式中、Ａは、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及びジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物から選択されるカルボン酸二無水物の残基であり、Ｍはフェニル基又はベンジル基である。フルオレン骨格を有する樹脂については、米国特許出願公開第２０１７／０１０２６１０号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026

－酸基を有する樹脂－

　本開示において用いられる樹脂は、酸基を有していてもよい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシ基が好ましい。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。

　酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシ基を有するポリマーが好ましい。具体例としては、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシ基を有するポリマーに酸無水物を付加させた樹脂が挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレート及びアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。また他のモノマーは、特開平１０－３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー、例えば、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等を用いることもできる。なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

　酸基を有する樹脂は、更に重合性基を有する構成単位を含有していてもよい。酸基を有する樹脂が、更に重合性基を有する構成単位を含有する場合、全構成単位中における重合性基を有する構成単位の含有量は、１０～９０モル％であることが好ましく、２０～９０モル％であることがより好ましく、２０～８５モル％であることが更に好ましい。また、全構成単位中における酸基を有する構成単位の含有量は、１～５０モル％であることが好ましく、５～４０モル％であることがより好ましく、５～３０モル％であることが更に好ましい。

　酸基を有する樹脂としては、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましく用いることができる。また、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合したもの、特開平７－１４０６５４号公報に記載の、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。

　酸基を有する樹脂は、下記式（ＥＤ１）で示される化合物及び／又は下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分を重合してなるポリマーを含むことも好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027

　式（ＥＤ１）中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子又は炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）で表される化合物の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。

　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

　酸基を有する樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する構成単位を含んでいてもよい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029

　式（Ｘ）において、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ３は、水素原子又はベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。

　酸基を有する樹脂については、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸基を有する樹脂は市販品を用いることもできる。例えば、サイクロマーＡＣＡ２１０β（ダイセル化学（株）製）、アクリベースＦＦ－４２６（藤倉化成（株）製）などが挙げられる。

　酸基を有する樹脂の酸価は、３０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

　酸基を有する樹脂としては、例えば下記構造の樹脂などが挙げられる。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表す。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030

－分散剤としての樹脂－

　本開示に係る組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。分散剤は、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシ基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、４０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが更に好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。

　分散剤として用いる樹脂は、酸基を有する構成単位を含むことが好ましい。分散剤として用いる樹脂が酸基を有する構成単位を含むことにより、フォトリソグラフィ法によりパターン形成する際、画素の下地に発生する残渣をより低減することができる。

　分散剤として用いる樹脂は、グラフト共重合体であることも好ましい。グラフト共重合体は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、顔料の分散性、及び、経時後の分散安定性に優れる。グラフト共重合体の詳細は、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、グラフト共重合体の具体例は、下記の樹脂が挙げられる。以下の樹脂は酸基を有する樹脂（アルカリ可溶性樹脂）でもある。また、グラフト共重合体としては特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００７２～００９４に記載の樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031

　また、本開示において、樹脂（分散剤）は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系分散剤を用いることも好ましい。オリゴイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘを有する構造単位と、原子数４０～１０，０００の側鎖Ｙを含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。オリゴイミン系分散剤については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。オリゴイミン系分散剤としては、下記構造の樹脂や、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１６８～０１７４に記載の樹脂を用いることができる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032

　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ＢＹＫ２０００（ビックケミージャパン（株）製）などが挙げられる。また、特開２０１４－１３０３３８号公報の段落番号００４１～０１３０に記載された顔料分散剤を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、上述した酸基を有する樹脂などを分散剤として用いることもできる。

　本開示に係る組成物が樹脂を含有する場合、樹脂の含有量は、本開示に係る組成物の全固形分に対し、０．１～５０質量％が好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。上限は、４０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましい。また、酸基を有する樹脂の含有量は、本開示に係る組成物の全固形分に対し、０．１～５０質量％が好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。上限は、４０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましい。本開示に係る組成物は、樹脂を、１種のみを含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

　本開示に係る組成物が重合性化合物（好ましくはエチレン性不飽和結合を有する基を有するモノマータイプの重合性化合物）と樹脂とを含む場合、重合性化合物と、樹脂との質量比は、重合性化合物／樹脂＝０．４～１．４であることが好ましい。上記質量比の下限は０．５以上が好ましく、０．６以上がより好ましい。上記質量比の上限は１．３以下が好ましく、１．２以下がより好ましい。上記質量比が、上記範囲であれば、より矩形性に優れたパターンを形成することができる。

　また、重合性化合物（好ましくはエチレン性不飽和結合を有する基を有するモノマである重合性化合物）と酸基を有する樹脂との質量比は、重合性化合物／酸基を有する樹脂＝０．４～１．４であることが好ましい。上記質量比の下限は０．５以上が好ましく、０．６以上がより好ましい。上記質量比の上限は１．３以下が好ましく、１．２以下がより好ましい。上記質量比が上記範囲であれば、より矩形性に優れたパターンを形成することができる。

＜重合開始剤＞

　本開示に係る組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。

　重合開始剤としては、光重合開始剤であっても、熱重合開始剤であってもよいが、露光によるパターニングを行いやすい観点からは、光重合開始剤が好ましい。

　重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤などが挙げられる。重合性化合物の種類に応じて選択して用いることが好ましい。重合性化合物として、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物などのラジカル重合性化合物を用いた場合においては、重合開始剤としてラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。また、重合性化合物としてカチオン重合性化合物を用いた場合においては、重合開始剤としてカチオン重合開始剤を用いることが好ましい。重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外領域から可視領域の光線に対して感光性を有する光重合開始剤が好ましい。

　重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対し０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。重合開始剤の含有量が上記範囲であれば、より良好な感度とパターン形成性が得られる。本開示に係る組成物は、重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。重合開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

〔光ラジカル重合開始剤〕

　光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物及び３－アリール置換クマリン化合物が好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物がより好ましく、オキシム化合物が更に好ましい。光ラジカル重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ－１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－８１９、ＤＡＲＯＣＵＲ－ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。

　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物などがあげられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられるまた、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。

　本開示において、光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　本開示において、光ラジカル重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　本開示において、光ラジカル重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

　本開示において、光ラジカル重合開始剤として、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されるＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。

　本開示において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034

　オキシム化合物は、波長３５０ｎｍ～波長５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０ｎｍ～波長４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１，０００～３００，０００であることがより好ましく、２，０００～３００，０００であることが更に好ましく、５，０００～２００，０００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

　本開示は、光ラジカル重合開始剤として、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体や、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）及び化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７などが挙げられる。

　光ラジカル重合開始剤は、オキシム化合物とα－アミノケトン化合物とを含むことも好ましい。両者を併用することで、現像性が向上し、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。オキシム化合物とα－アミノケトン化合物とを併用する場合、オキシム化合物１００質量部に対して、α－アミノケトン化合物が５０質量部～６００質量部が好ましく、１５０質量部～４００質量部がより好ましい。

　光ラジカル重合開始剤の含有量は、本開示に係る組成物の全固形分に対し０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。光ラジカル重合開始剤の含有量が上記範囲であれば、より良好な感度とパターン形成性が得られる。本開示に係る組成物は、光ラジカル重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光ラジカル重合開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

〔光カチオン重合開始剤〕

　光カチオン重合開始剤としては、光酸発生剤が挙げられる。光酸発生剤としては、光照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ－ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。光カチオン重合開始剤の詳細については特開２００９－２５８６０３号公報の段落番号０１３９～０２１４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　光カチオン重合開始剤の含有量は、本開示に係る組成物の全固形分に対し０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。光カチオン重合開始剤の含有量が上記範囲であれば、より良好な感度とパターン形成性が得られる。本開示に係る組成物は、光カチオン重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光カチオン重合開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜多官能チオール＞

　本開示に係る組成物は多官能チオールを含有することができる。多官能チオールは、チオール（ＳＨ）基を２個以上有する化合物である。多官能チオールは上述の光ラジカル重合開始剤とともに使用することにより、光照射後のラジカル重合過程において、連鎖移動剤として働き、酸素による重合阻害を受けにくいチイルラジカルが発生するので、組成物の感度を高めることができる。特にＳＨ基がメチレン、エチレン基等の脂肪族基に結合した多官能脂肪族チオールが好ましい。

　多官能チオールとしては、例えば、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４－ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６－トリメルカプト－ｓ－トリアジン、２－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－４，６－ジメルカプト－ｓ－トリアジンなどが挙げられる。また、下記構造の化合物も挙げられる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035

　多官能チオールの含有量は、本開示に係る組成物の全固形分に対し０．１質量％～２０質量％が好ましく、０．１質量％～１５質量％がより好ましく、０．１質量％～１０質量％が更に好ましい。本開示に係る組成物は、多官能チオールを、１種のみを含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜エポキシ樹脂硬化剤＞

　本開示に係る組成物がエポキシ樹脂を含む場合、エポキシ樹脂硬化剤を更に含むことが好ましい。エポキシ樹脂硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノール系化合物、多価カルボン酸などが挙げられる。エポキシ樹脂硬化剤としては耐熱性、硬化物の透明性という観点から多価カルボン酸が好ましく、分子内に二つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物が最も好ましい。エポキシ樹脂硬化剤の具体例としては、ブタン二酸などが挙げられる。エポキシ樹脂硬化剤の詳細については、段落番号００７２～００７８を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　エポキシ樹脂硬化剤の含有量は、エポキシ樹脂１００質量部に対し、０．０１質量部～２０質量部が好ましく、０．０１質量部～１０質量部がより好ましく、０．１質量部～６．０質量部が更に好ましい。

＜顔料誘導体＞

　本開示に係る組成物は、更に顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、顔料の一部を、酸基、塩基性基、塩構造を有する基又はフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。顔料としては、上述の赤外線吸収剤、他の赤外線吸収剤、又は、上述の可視光吸収化合物における顔料が挙げられる。

　顔料誘導体としては、式（Ｂ１）で表される化合物が好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036

　式（Ｂ１）中、Ｐは色素構造を表し、Ｌは単結合又は連結基を表し、Ｘは酸基、塩基性基、塩構造を有する基又はフタルイミドメチル基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＬ及びＸは互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸは互いに異なっていてもよい。

　Ｐが表す色素構造としては、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造、アントラキノン色素構造、ジアントラキノン色素構造、ベンゾイソインドール色素構造、チアジンインジゴ色素構造、アゾ色素構造、キノフタロン色素構造、フタロシアニン色素構造、ナフタロシアニン色素構造、ジオキサジン色素構造、ペリレン色素構造、ペリノン色素構造、ベンゾイミダゾロン色素構造、ベンゾチアゾール色素構造、ベンゾイミダゾール色素構造及びベンゾオキサゾール色素構造から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造及びベンゾイミダゾロン色素構造から選ばれる少なくとも１種が更に好ましく、ピロロピロール色素構造が特に好ましい。

　Ｌが表す連結基としては、炭化水素基、複素環基、－ＮＲ－、－ＳＯ2－、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＣＯ－若しくはこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。Ｒは水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。

　Ｘが表す酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基等が挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲＸ１で表される基が好ましい。スルホン酸アミド基としては、－ＮＨＳＯ２ＲＸ２で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＸ５又は－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＸ６で表される基が好ましい。ＲＸ１～ＲＸ６は、それぞれ独立に、炭化水素基又は複素環基を表す。ＲＸ１～ＲＸ６が表す、炭化水素基及び複素環基は、更に置換基を有してもよい。さらなる置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。Ｘが表す塩基性基としてはアミノ基が挙げられる。Ｘが表す塩構造としては、上述した酸基又は塩基性基の塩が挙げられる。

　顔料誘導体としては、下記構造の化合物が挙げられる。その他、後述する実施例に記載の可視顔料誘導体、及び、赤外誘導体を用いてもよい。また、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平１－２１７０７７号公報、特開平３－９９６１号公報、特開平３－２６７６７号公報、特開平３－１５３７８０号公報、特開平３－４５６６２号公報、特開平４－２８５６６９号公報、特開平６－１４５５４６号公報、特開平６－２１２０８８号公報、特開平６－２４０１５８号公報、特開平１０－３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４、国際公開第２０１７／０３８２５２号の段落番号００８２等に記載の化合物、特許第５２９９１５１号公報に記載の化合物を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037

　本開示に係る組成物が顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対し、１～５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。顔料誘導体の含有量が上記範囲であれば、顔料の分散性を高めて、顔料の凝集を効率よく抑制できる。顔料誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜溶剤＞

　本開示に係る組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤の例としては、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。

　これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。

　有機溶剤の具体例としては、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。

　本開示において有機溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミドも溶解性向上の観点から好ましい。

　ただし溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。

　本開示においては、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。

　溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレン又はナイロンが好ましい。

　溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。

　本開示において、有機溶剤は、過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。

　溶剤の含有量は、本開示に係る組成物の全量に対し、１０～９９質量％であることが好ましい。上限は、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。下限は、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が更に好ましく、６０質量％以上がより一層好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。

＜重合禁止剤＞

　本開示に係る組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、本開示に係る組成物の全固形分に対して、０．００１～５質量％が好ましい。

＜シランカップリング剤＞

　本開示に係る組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本開示において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基及びエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　シランカップリング剤の含有量は、本開示に係る組成物の全固形分に対して、０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜界面活性剤＞

　本開示に係る組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤は、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　本開示において、界面活性剤は、フッ素系界面活性剤であることが好ましい。本開示に係る組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性（特に、流動性）がより向上し、省液性をより改善することができる。また、厚みムラの小さい膜を形成することもできる。

　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。

　フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。

　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。

　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基又はフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１－８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本開示で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００～５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、構成単位の割合を示す％はモル％である。

　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０及び段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。

　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。

　界面活性剤の含有量は、本開示に係る組成物の全固形分に対して、０．００１質量％～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜紫外線吸収剤＞

　本開示に係る組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノブタジエン化合物、メチルジベンゾイル化合物、クマリン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、アゾメチン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。インドール化合物としては下記構造の化合物が挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039

　本開示においては、紫外線吸収剤として、式（ＵＶ－１）～式（ＵＶ－３）で表される化合物を好ましく用いることもできる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040

　式（ＵＶ－１）において、Ｒ１０１及びＲ１０２は、各々独立に、置換基を表し、ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立して０～４を表す。式（ＵＶ－２）において、Ｒ２０１及びＲ２０２は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ２０３及びＲ２０４は、各々独立に、置換基を表す。式（ＵＶ－３）において、Ｒ３０１～Ｒ３０３は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ３０４及びＲ３０５は、各々独立に、置換基を表す。

　式（ＵＶ－１）～式（ＵＶ－３）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041

　紫外線吸収剤の含有量は、本開示に係る組成物の全固形分に対して、０．０１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～５質量％がより好ましい。本開示において、紫外線吸収剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜酸化防止剤＞

　本開示に係る組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ）などが挙げられる。また、酸化防止剤として、国際公開第１７／００６６００号に記載された多官能ヒンダードアミン酸化防止剤を用いることもできる。

　酸化防止剤の含有量は、本開示に係る組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。酸化防止剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜その他成分＞

　本開示に係る組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　また、本開示に係る組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開２０１４／０２１０２３号、国際公開２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

　本開示に係る組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。

　本開示に係る組成物の用途は、特に限定されない。例えば、赤外線透過フィルタなどの形成に好ましく用いることができる。

＜組成物の調製方法＞

　本開示に係る組成物は、上述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解又は分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液又は分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物として調製してもよい。

　また、本開示に係る組成物が顔料などの粒子を含む場合は、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセス及び分散機は、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。

　組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）及びナイロンが好ましい。

　フィルタの孔径は、０．０１μｍ～７．０μｍが適しており、好ましくは０．０１μｍ～３．０μｍであり、更に好ましくは０．０５μｍ～０．５μｍである。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジが挙げられる。

　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。

　また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。

　第２のフィルタは、第１のフィルタと同様の素材等で形成されたものを使用することができる。

　また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。

　本開示に係る組成物の全固形分（固形分濃度）は、適用方法により変更されるが、例えば、１～５０質量％であることが好ましい。下限は１０質量％以上がより好ましい。上限は３０質量％以下がより好ましい。

＜用途＞

　本開示に係る組成物を用いて形成される膜は、赤外線透過フィルタとして好ましく用いることができる。例えば、本開示に係る組成物を用いて形成される膜を固体撮像素子又はセンサに組み込むことで、可視光に由来するノイズの発生を抑制することができる。

（パターン形成方法）

　次に、本開示に係る組成物を用いたパターン形成方法について説明する。本開示に係るパターン形成方法は、本開示に係る組成物を含む硬化性組成物層に対し、フォトリソグラフィ法又はドライエッチング法により、硬化性組成物層に対してパターンを形成する工程を含むことが好ましい。

　また、上記パターン形成方法は、上記パターンを形成する工程の前に、パターン形成用積層体を準備する工程を更に含んでもよい。

　パターン形成用積層体を準備する工程においては、本開示に係る硬化性組成物を用いて、支持体上に上記硬化性組成物層を形成する工程を更に含んでもよいし、支持体上に硬化性組成物層が形成されたパターン形成用積層体を入手してもよい。

　フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本開示に係る組成物を含む硬化性組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部を現像除去してパターンを形成する工程と、を含むことが好ましい。

　また、上記パターン形成方法は、上記パターンを形成する工程の前に、パターン形成用積層体を準備する工程を更に含んでもよい。

　パターン形成用積層体を準備する工程においては、本開示に係る硬化性組成物を用いて、支持体上に上記硬化性組成物層を形成する工程を更に含んでもよいし、支持体上に硬化性組成物層が形成されたパターン形成用積層体を入手してもよい。

　また、ドライエッチング法でのパターン形成方法は、本開示に係る硬化性組成物を含む硬化性組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。

　また、上記パターン形成方法は、上記パターンを形成する工程の前に、パターン形成用積層体を準備する工程を更に含んでもよい。

　パターン形成用積層体を準備する工程においては、本開示に係る硬化性組成物を用いて、支持体上に上記硬化性組成物層を形成する工程を更に含んでもよいし、支持体上に硬化性組成物層が形成されたパターン形成用積層体を入手してもよい。

　以下、各工程について説明する。

＜硬化性組成物層を形成する工程＞

　硬化性組成物層を形成する工程では、本開示に係る組成物を用いて、支持体上に硬化性組成物層を形成する。

　支持体としては、例えば、シリコン、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラスなどの材質で構成された基板が挙げられる。

　また、支持体としてＩｎＧａＡｓ基板などを用いることも好ましい。ＩｎＧａＡｓ基板は、波長１０００ｎｍを超える光に対する感度が良好であるため、ＩｎＧａＡｓ基板上に本開示に係る膜を積層することで、感度に優れた赤外線センサが得られやすい。

　また、支持体には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。

　また、支持体には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。

　また、支持体には、必要に応じて、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。

　支持体への組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。

インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。また、樹脂組成物の塗布方法については、国際公開第２０１７／０３０１７４号、国際公開第２０１７／０１８４１９号の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　支持体上に形成された硬化性組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。低温プロセスによりパターンを形成する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０秒～３０００秒が好ましく、４０秒～２５００秒がより好ましく、８０秒～２２００秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。

＜フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合＞

〔露光工程〕

　露光工程においては、硬化性組成物層をパターン状に露光する（露光工程）。例えば、硬化性組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、硬化性組成物層をパターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく、ｉ線がより好ましい。照射量（露光量）は、例えば、０．０３Ｊ／ｃｍ２～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５Ｊ／ｃｍ２～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましく、０．０８Ｊ／ｃｍ２～０．５Ｊ／ｃｍ２が最も好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１，０００Ｗ／ｍ２～１００，０００Ｗ／ｍ２（例えば、５，０００Ｗ／ｍ２、１５，０００Ｗ／ｍ２、３５，０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１０，０００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２０，０００Ｗ／ｍ２などとすることができる。

〔現像工程〕

　現像工程においては、露光後の硬化性組成物層における未露光部の硬化性組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液としては、下地の固体撮像素子や回路などにダメージを与えない、アルカリ現像液が望ましい。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。

　現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面及び安全面で好ましい。現像液は、これらのアルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましく使用される。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液には、界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の例としては、上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。

〔硬化工程〕

　本開示においては、現像工程後に、乾燥を施した後、加熱処理（ポストベーク）や後露光により硬化する硬化工程を行ってもよい。

　ポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理である。ポストベークでの加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。また、発光光源として有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合、加熱温度は１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１００℃以下が更に好ましく、９０℃以下が特に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができる。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。

　後露光は、ｇ線、ｈ線、ｉ線、ＫｒＦやＡｒＦなどのエキシマレーザ、電子線、Ｘ線等により行うことができるが、既存の高圧水銀灯で２０℃～５０℃の低温で行うことが好ましい。照射時間としては、１０秒～１８０秒、好ましくは３０秒～６０秒である。後露光とポストベークとを併用する場合、後露光を先に実施することが好ましい。

＜ドライエッチング法でパターン形成する場合＞

　ドライエッチング法でのパターン形成は、支持体上の組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。レジスト層の形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　以上説明した、各工程を行うことにより、本開示に係る特定の分光を有する膜のパターン（画素）を形成できる。

（硬化膜）

　次に、本開示に係る硬化膜について説明する。

　本開示に係る硬化膜は、上述した本開示に係る組成物を硬化してなる硬化膜である。本開示に係る硬化膜は、赤外線透過フィルタとして好ましく用いることができる。例えば、本開示に係る硬化膜を赤外線センサに組み込むことで、水分を感度よく検出することができる。

　本開示に係る硬化膜は、以下の（１）の分光特性を有することが好ましい。この態様によれば、波長４００ｎｍ～波長１，０００ｎｍの範囲の光を遮光して、可視光線由来のノイズが少ない状態で赤外線（好ましくは、波長１，０００ｎｍを超える赤外線、より好ましくは波長１００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの赤外線）を透過可能な膜とすることができる。（１）に示す分光特性において、Ａ／Ｃ、最小値Ａ、及び、最大値Ｃの好ましい範囲は、上述の本開示に係る硬化性組成物における上記Ａ／Ｃ、最小値Ａ、及び、最大値Ｃの好ましい範囲と同様である。

　（１）：波長１，０００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの間に透過率が５０％となる波長Ｔｂが存在し、上記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ短波である波長をＴａ、上記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ長波である波長をＴｃとした際の、Ｔａの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最小値Ａと、Ｔｃの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最大値Ｃとの比であるＡ／Ｃが４．５以上である。

　本開示に係る硬化膜の膜厚は、特に限定はないが、０．１μｍ～５０μｍが好ましく、０．１μｍ～２０μｍがより好ましく、０．５μｍ～１０μｍが更に好ましい。

（赤外線透過フィルタ）

　本開示に係る赤外線透過フィルタは、本開示に係る硬化膜を備える。

　本開示に係る赤外線透過フィルタは、支持体に積層して用いることが好ましい。支持体としては、上述したものが挙げられる。

　本開示に係る赤外線透過フィルタは、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、本開示に係る組成物で説明した有彩色着色剤が挙げられる。着色組成物は、樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、界面活性剤、溶剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤などを更に含有することができる。これらの詳細については、本開示に係る組成物で説明した材料が挙げられ、それらを用いることができる。

　本開示に係る赤外線透過フィルタは、本開示に係る膜とは異なる分光特性を有する他の赤外線透過フィルタと組み合わせて用いることもできる。

　他の赤外線透過フィルタとしては、以下の（１）に記載の分光特性を満たしているフィルタなどが挙げられる。（１）に示す分光特性において、Ａ／Ｃ、最小値Ａ、及び、最大値Ｃの好ましい範囲は、上述の本開示に係る硬化性組成物における上記Ａ／Ｃ、最小値Ａ、及び、最大値Ｃの好ましい範囲と同様である。

　（１）：波長１，０００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの間に透過率が５０％となる波長Ｔｂが存在し、上記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ短波である波長をＴａ、上記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ長波である波長をＴｃとした際の、Ｔａの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最小値Ａと、Ｔｃの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最大値Ｃとの比であるＡ／Ｃが４．５以上である。

（積層体）

　本開示に係る積層体は、本開示に係る硬化膜又は本開示に係る赤外線透過フィルタ、及び、誘電体多層膜を含む。

　誘電体多層膜とは、屈折率の異なる誘電体が積層された膜であり、特定の波長に対する反射防止又は完全反射を目的としてレンズの表面等に形成される光学薄膜である。

　誘電体多層膜は、少なくともブラッグ反射層を含むことが好ましい。

　ブラッグ反射層は、層の厚さ方向に屈折率の変調を有する層である。ブラッグ反射層は、その屈折率変調に対して直交する成分を有する光が入射した際に、各屈折率界面において透過光及び反射光が生じ、これらが互いに干渉し、その結果、入射光の一部が反射される。一般に、ブラッグ反射層は、周期的な多層構造を有し、層の数を増減することで反射率を制御することができる。また、ブラッグ反射層における選択反射は一般に、多層構造における個々の層の厚みを制御することで、反射波長を選択できる。

　ブラッグ反射層の一例としては、例えば、酸化ケイ素と五酸化ニオブの薄膜を交互に数十層、積層して作製することができる。また、高分子フィルムを多層積層することによっても作製することができる。市販品では、３Ｍ社製の多層反射フィルム「ＥＳＲ」等を用いることができる。

　誘電体多層膜としては、例えば、波長Ｔｂｎｍ～波長Ｔｂ＋２００ｎｍの光の透過率が８０％以上、かつ、波長４００ｎｍ～波長Ｔｂｎｍの光の透過率が１０％以下のものが好ましく挙げられ、波長Ｔｂｎｍ～波長Ｔｂ＋２００ｎｍの光の透過率が９０％以上、かつ、波長４００ｎｍ～波長Ｔｂｎｍの光の透過率が５％以下のものがより好ましい。

　本開示に係る積層体が誘電体多層膜を有することにより、可視光に由来するノイズの発生が更に抑制されると考えられる。

（固体撮像素子）

　本開示に係る固体撮像素子は、上述した本開示に係る硬化膜、本開示に係る赤外線透過フィルタ、又は、本開示に係る積層体を有する。本開示に係る固体撮像素子の構成としては、本開示に係る硬化膜、本開示に係る赤外線透過フィルタ又は本開示に係る積層体を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。

　支持体上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオード及び転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本開示に係る硬化膜、本開示に係る赤外線透過フィルタ、又は、本開示に係る積層体を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって、本開示に係る硬化膜、本開示に係る赤外線透過フィルタ、又は、本開示に係る積層体の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本開示に係る硬化膜、本開示に係る赤外線透過フィルタ、又は、本開示に係る積層体に集光手段を有する構成等であってもよい。

（センサ）

　本開示に係るセンサ（光学センサ、好ましくは赤外線センサ）は、上述した本開示に係る硬化膜、本開示に係る赤外線透過フィルタ、又は、本開示に係る積層体を含む。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本開示に係る赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。

　図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０上に設けられている撮像領域は、赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とを有する。また、赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が積層している。カラーフィルタ１１２及び赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。

　赤外線カットフィルタ１１１は、可視光線領域の光（例えば、波長４００～７００ｎｍの光）を透過し、赤外領域の光を遮蔽するフィルタである。カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０２１４～０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。赤外線透過フィルタ１１４は、可視光線遮蔽性を有し、かつ、特定波長の赤外線を透過させるフィルタであって、上述した分光特性を有する本開示に係る膜又は積層体で構成されている。

　図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、赤外線カットフィルタ１１１とは別の赤外線カットフィルタ（他の赤外線カットフィルタ）が更に配置されていてもよい。他の赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層及び／又は誘電体多層膜を有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。

　また、図１に示す実施形態では、カラーフィルタ１１２が、赤外線カットフィルタ１１１よりも入射光ｈν側に設けられているが、赤外線カットフィルタ１１１と、カラーフィルタ１１２との順序を入れ替えて、赤外線カットフィルタ１１１を、カラーフィルタ１１２よりも入射光ｈν側に設けてもよい。

　また、図１に示す実施形態では、赤外線カットフィルタ１１１とカラーフィルタ１１２は隣接して積層しているが、両フィルタは必ずしも隣接している必要はなく、間に他の層が設けられていても良い。

　また、図１に示す実施形態において、赤外線透過フィルタ１１４とは異なる分光特性を有する他の赤外線透過フィルタを更に有していてもよい。

　図２に示す赤外線センサは、本開示に係る赤外線センサの他の実施形態であって、この赤外線センサは、固体撮像素子１１０の撮像領域に、赤外線透過フィルタ１１４と、赤外線透過フィルタ１１４とは異なる第２の赤外線透過フィルタ１２０とを有している。そして、赤外線透過フィルタ１１４及び第２の赤外線透過フィルタ１２０の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。

　図２に示す赤外線センサにおいて、第２の赤外線透過フィルタ１２０として、異なる分光特性を有する赤外線透過フィルタを２種類以上有していてもよい。

（画像表示装置）

　本開示に係る膜又は積層体は、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などの画像表示装置に用いることもできる。表示装置の定義や各表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木　昭夫著、（株）工業調査会　１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹　順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田　龍男編集、（株）工業調査会　１９９４年発行）」に記載されている。本開示が適用できる液晶表示装置のタイプは特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。

　画像表示装置は、表示素子として白色有機ＥＬ素子を有する画像表示装置であってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６－３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０ｎｍ－４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０ｎｍ－５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０ｎｍ－６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有することが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０ｎｍ－７００ｎｍ）に極大発光ピークを有することがより好ましい。

　以下、本開示を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は、質量基準である。

（実施例１～７９、及び、比較例１～６）

＜可視吸収分散液、赤外吸収分散液の調製＞

　各実施例又は比較例において、下記表１～表２９に記載の組成で可視吸収分散液及び／又は赤外吸収分散液を調製した。

　例えば、実施例１においては、可視吸収分散液Ｒ１、Ｙ１、Ｂ１、赤外吸収分散液ＩＲ１及びＩＲ２の、計５つの分散液を調製した。

　具体的には、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、各実施例又は比較例における可視吸収分散液及び／又は赤外吸収分散液をそれぞれ調製した。

　表１～表２９中、「可視顔料」の欄には使用した可視光吸収化合物の種類及び含有量を、「可視誘導体」の欄には、使用した顔料誘導体の種類及び含有量を、「分散剤」の欄には使用した分散剤の種類及び含有量を、「溶剤」の欄には使用した溶剤の種類及び含有量をそれぞれ記載した。

　また、表１～表２９中、「赤外顔料」の欄には使用した他の赤外線吸収剤の種類及び含有量を、「赤外誘導体」の欄には使用した顔料誘導体の種類及び含有量をそれぞれ記載した。

　なお、各表中に記載の可視吸収分散液及び赤外吸収分散液における各成分の含有量は、最終的に硬化性組成物を調製した際の硬化性組成物における含有量である。

　また、表１～表２９中、「－」の記載は、該当する化合物を使用しなかったことを示している。

＜硬化性組成物の調製＞

　各実施例又は比較例において、下記表１～表２９に記載の成分を、各表に記載の組成（質量部）となるように混合して硬化性組成物を調製した。

　具体的には、調製した上記可視吸収分散液、上記赤外吸収分散液と、可視染料と、赤外染料（赤外線吸収剤）と、樹脂と、重合性単量体（硬化性化合物）と、重合開始剤と、添加剤と、重禁剤（重合禁止剤）と、界面活性剤と、溶剤と、を混合することにより調製した。



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Figure JPOXMLDOC01-appb-T000070

　表１～表２９中、符号で記載された化合物の詳細は下記の通りである。

〔可視顔料（可視光吸収化合物）〕

　ＶＰ－１：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４

　ＶＰ－２：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２

　ＶＰ－３：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９

　ＶＰ－４：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５

　ＶＰ－５：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６

　ＶＰ－６：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１６

　ＶＰ－７：Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３

　ＶＰ－８：Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ　Ｘ１１（ＢＡＳＦ社製）

　ＶＰ－９：Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック３２

　ＶＰ－１０：Ｓｉ単体粒子

　ＶＰ－１１：Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック　７

〔可視誘導体（顔料誘導体）〕

　ＶＳ－１：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４－ＳＯ３Ｈ誘導体

　ＶＳ－２：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９－ＳＯ３Ｈ誘導体

　ＶＳ－３：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６－ＳＯ３Ｈ誘導体

　ＶＳ－４：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４－ＮＨ２誘導体

　ＶＳ－５：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９－ＮＨ２誘導体

　ＶＳ－６：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６－ＮＨ２誘導体

〔分散剤〕

　Ｄ－１：下記構造の化合物

　Ｄ－２：下記構造の化合物

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071

〔溶剤〕

　Ｓ－１：ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

　Ｓ－２：ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）

　Ｓ－３：Ｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｎｏｎｅ

〔可視染料（可視光吸収化合物）〕

　ＶＤ－１：ＲＤＷ－Ｋ０１（富士フイルム和光純薬（株））

〔赤外顔料（他の赤外線吸収剤）〕

　ＩＰ－１：下記構造の化合物

　ＩＰ－２：下記構造の化合物

　ＩＰ－３：下記構造の化合物

　ＩＰ－４：下記構造の化合物

　ＩＰ－５：下記構造の化合物

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074

〔赤外誘導体（顔料誘導体）〕

　ＩＳ－１：下記構造の化合物

　ＩＳ－２：下記構造の化合物

　ＩＳ－３：下記構造の化合物

　ＩＳ－４：下記構造の化合物

　ＩＳ－５：下記構造の化合物

　ＩＳ－６：下記構造の化合物

　ＩＳ－７：下記構造の化合物

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080

〔赤外染料（赤外線吸収剤）〕

　ＩＤ－１：下記構造の化合物（極大吸収波長：９０２ｎｍ）

　ＩＤ－２：下記構造の化合物（極大吸収波長：１，００７ｎｍ）

　ＩＤ－３：下記構造の化合物（極大吸収波長：１，１０４ｎｍ）

　ＩＤ－４：下記構造の化合物（極大吸収波長：１，１５６ｎｍ）

　ＩＤ－５：下記構造の化合物（極大吸収波長：１，１７６ｎｍ）

　ＩＤ－６：下記構造の化合物（極大吸収波長：１，３１１ｎｍ）

　ＩＤ－７：ＳＴ７／４　（Ｓｙｎｔｅｃｈ社製）

　ＩＤ－８：ＣＩＲ－ＲＬ　（日本カーリット（株）製）（極大吸収波長：１，１０４ｎｍ）

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082

〔樹脂〕

　Ｂ－１：下記構造の化合物

　Ｂ－２：下記構造の化合物

　Ｂ－３：ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製）

　Ｂ－４：ＡＲＴＯＮ　Ｄ４５４０（ＪＳＲ（株）製）

　Ｂ－５：ネオプリム　Ｓ－２００（三菱ガス化学（株）製）

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083

〔重合性単量体（硬化性化合物）〕

　Ｍ－１：下記構造の化合物

　Ｍ－２：下記構造の化合物

　Ｍ－３：Ａ－ＤＰＨ（新中村化学工業（株）製）

　Ｍ－４：Ａ－ＢＰＥ－１０（新中村化学工業（株）製）

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084

〔重合性開始剤〕

　Ｉ－１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０１　（ＢＡＳＦ社製）

　Ｉ－２：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３６９　（ＢＡＳＦ社製）

　Ｉ－３：ＮＣＩ－９３０　（（株）ＡＤＥＫＡ製）

〔添加剤〕

　Ａ－１：下記構造の化合物

　Ａ－２：ＡＯ－８０　（（株）ＡＤＥＫＡ製）

　Ａ－３：ＬＡ－８２　（（株）ＡＤＥＫＡ製）

　Ａ－４：オグソールＰＧ－１００（大阪ガスケミカル（株）製）

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085

〔重禁剤（重合禁止剤）〕

　Ｉｎ－１：ｐ－メトキシフェノール

　Ｉｎ－２：１，２－ジメトキシフェノール

〔重禁剤（重合禁止剤）〕

　Ｓｕ－１：Ｍｅｇａｆａｃ　Ｆ－７８１Ｆ（ＤＩＣ（株）製）

　Ｓｕ－２：Ｍｅｇａｆａｃ　Ｆ－５５４Ｆ（ＤＩＣ（株）製）

（評価）

＜硬化膜の作製＞

　各実施例又は比較例において行った硬化膜の作製方法の一例を以下に示すが、本開示に係る硬化膜はこれに限定されるものではない。

　例えば、実施例６９～７１を除く各実施例又は比較例において得られた硬化性組成物を、下記の成膜方法によって成膜した。

　ポストベーク後の膜厚が上記表に記載の目標膜厚（単位：μｍ）の値となるように、各組成物を支持体上にスピンコートし、次いでホットプレートを用いて、１００℃、１２０秒間加熱した。

　次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を使用して、任意のサイズのフォトマスクを用いて、所望のパターンサイズとなる露光量にて塗布後の硬化性組成物（塗布膜）に対して露光を行った。

　その後、露光された塗布膜が形成されている基板をスピン・シャワー現像機（ＤＷ－３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、ＣＤ－２０６０（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行い、硬化膜を形成した。

　硬化膜のパターンが形成された基板を純水でリンス処理を行い、その後スピン乾燥した。更に、２００℃のホットプレートを用いて３００秒間加熱処理（ポストベーク）を行い、硬化膜を製造した。

　実施例６９～７１に関しては、同様の方法で塗布・加熱を行った後、ホットプレートを用いて２２０℃で３００秒間加熱処理を行うことで、硬化物層を形成した。

　次いで、硬化物層の上に、ポジ型フォトレジスト「ＦＨｉ６２２ＢＣ」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）を塗布し、１１０℃で１分間プリベークを行い、膜厚３．０μｍのフォトレジスト層を形成した。

　続いて、フォトレジスト層に対し、ｉ線ステッパー（キャノン（株）製）を用いて２００ｍＪ／ｃｍ２の露光量でパターン露光し、次いで、フォトレジスト層の温度又は雰囲気温度が９０℃となる温度で１分間加熱処理を行なった。その後、現像液「ＦＨＤ－５」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）を用いて１分間の現像処理を行い、更に１１０℃で１分間のポストベーク処理を実施して、レジストパターンを形成した。

　次に、レジストパターンをエッチングマスクとして、硬化物層のドライエッチングを以下の手順で行った。

　ドライエッチング装置（日立ハイテクノロジーズ社製、Ｕ－６２１）にて、ＲＦパワー：８００Ｗ、アンテナバイアス：４００Ｗ、ウエハバイアス：２００Ｗ、チャンバーの内部圧力：４．０Ｐａ、基板温度：５０℃、混合ガスのガス種及び流量を、ＣＦ４：８０ｍＬ／ｍｉｎ、Ｏ２：４０ｍＬ／ｍｉｎ、Ａｒ：８００ｍＬ／ｍｉｎとして、８０秒の第１段階のエッチング処理を実施した。

　次いで、同一のエッチングチャンバーにて、ＲＦパワー：６００Ｗ、アンテナバイアス：１００Ｗ、ウエハバイアス：２５０Ｗ、チャンバーの内部圧力：２．０Ｐａ、基板温度：５０℃、混合ガスのガス種及び流量をＮ２：５００ｍＬ／ｍｉｎ、Ｏ２：５０ｍＬ／ｍｉｎ、Ａｒ：５００ｍＬ／ｍｉｎとし（Ｎ２／Ｏ２／Ａｒ＝１０／１／１０）、２８秒の第２段階エッチング処理、オーバーエッチング処理を実施した。

　上記条件でドライエッチングを行った後、フォトレジスト剥離液「ＭＳ２３０Ｃ」（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）を使用して１２０秒間、剥離処理を実施してレジストを除去し、更に純水による洗浄、スピン乾燥を実施した。その後、１００℃で２分間の脱水ベーク処理を行い、所望のパターニングが施された硬化膜を製造した。

　上記成膜法を用いて、国際公開第２０１７／１５９１３０号の実施例１の基板１１とレンズ１７の間に硬化膜を作製し、硬化膜付きセンサを作製した。

　「誘電体」の欄に「あり」と記載された実施例に関しては、基板１１上に誘電体多層膜を蒸着し、更に上記成膜法にて硬化膜を作製し、レンズ１７を形成し、センサを作製した。

＜半値波長、吸光度比及び遮蔽度の測定＞

　各実施例又は比較例において、得られた硬化膜に対し、半値波長、吸光度比及び遮蔽度の測定を行った。

　具体的には、各実施例又は比較例において得られた硬化膜に対し、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ（株）製Ｕ－４１００）を用いて半値波長（上述の波長Ｔｂ）、吸光度比（上述のＡ／Ｃ）、及び、遮蔽度（上述のＡ’／Ｃ）の測定を行った。

　測定結果は表１～表２９にそれぞれ記載した。

＜可視光に由来するノイズの測定＞

　暗室中に、波長４００ｎｍ～波長２，０００ｎｍの範囲で均等な光拡散能を持つ白色拡散板を２つ設置した。

　一方の白色拡散板に、ＡＭ１．５Ｇ条件の波長３００ｎｍ～波長４００ｎｍ域と波長８００ｎｍより長波域を遮蔽した光を当て、別の一方に１．０μＷ／ｃｍ２の発光面強度と所定の波長を有する赤外ＬＥＤ（light emitting diode）光源から発した光を照射した。赤外ＬＥＤ光源の波長は、具体的には、実施例２１～２４が１３００ｎｍであり、実施例７９が１１００ｎｍであり、その他が１２００ｎｍである。

　その後、作製した撮像素子を用いて両方の拡散板を撮影しながら、ＡＭ１．５Ｇ条件からスペクトル形状を変えないまま減光板を挟むことで発光強度を下げていった。

　両拡散板の信号強度を比較し、ＡＭ１．５Ｇ側の強度Ｉｖが赤外ＬＥＤ側の強度Ｉの１／１０に達した減光率を記録し、下記評価基準により評価した。評価結果は表１～表２９の「外光」の欄に記載した。

〔評価基準〕

　５：減光率０％で達した

　４：減光率９０％で達した

　３：減光率９９％で達した

　２：減光率９９．９％で達した

　１：減光率９９．９％でも達しなかった

　上記試験結果は、数値（１～５）が大きいほど、結果が良好であると言える。

　本試験結果が良好である組成物は、例えば太陽光の存在下であっても可視光に由来するノイズ（外光ノイズ）の少ない赤外線画像が取得可能であると考えられる。

＜高湿感度の評価＞

　上述の「硬化膜の作製」において作製された実施例に係る硬化性組成物を用いたセンサ（本開示に係る硬化膜を備えるセンサ）は、温度２０℃／相対湿度９５％の空間で３００ｍ先の目的波長の目標の撮影像と、温度２０℃／相対湿度１０％の空間で３００ｍ先の目標の撮影像が同等であった（Ａ判定）。

　対して、比較例３の組成物を用いたセンサでは、高湿度下で像のぼやけが顕著に見られた（Ｂ判定）。具体的には、比較例３の組成物を用いたセンサでは、温度２０℃／相対湿度９５％の空間で３００ｍ先の目的波長の目標の撮影像が、温度２０℃／相対湿度１０％の空間で３００ｍ先の目標の撮影像と比較してぼやけが顕著であった。

　本試験結果が良好である（Ａ判定）硬化性組成物を用いたセンサは、湿度に依存しにくく良好な画像が取得可能である。

＜角度依存性の評価＞

　上述の「硬化膜の作製」において作製された各実施例又は比較例におけるセンサの受光面の法線方向から、０度と３０度から波長４００ｎｍ～波長１，８００ｎｍの波長の光を照射し、入射角度ごとの信号を取得した。

　上記信号に対し、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ（株）製　Ｕ－４１００）を用いて半値幅を測定し、半値幅の変化（０度における半値幅と３０度における半値幅の差の絶対値）を得た。下記評価基準に従って角度依存性を評価し、評価結果は表１～表２９に記載した。

〔評価基準〕

　５：半値幅が全く変化しない

　４：半値幅の変化が１０ｎｍ未満である

　３：半値幅の変化が１０ｎｍ～２０ｎｍである

　２：半値幅の変化が２０ｎｍ～３０ｎｍである

　１：半値幅の変化が３０ｎｍ超である

　上記試験結果は、数値（１～５）が大きいほど、結果が良好であると言える。

　本試験が良好である組成物は、画像の中心部と端部で感度差が生じにくく、良好な画像が取得可能である。

＜低背化の評価＞

　各実施例又は比較例において、ガラス基板上に上記方法で各組成物膜（硬化膜）を作製し、これらの膜のパターンが存在する部位としない部位に関して、下記の触覚による評価を行った。

　試験者は５名以上の２０代であり、試験者は提示された膜を目視することなく利き腕の人差し指で触れた。試験者はなぞり動作をせずに、刺激片に対して鉛直方向にのみ力をかけるようにするよう指示された。印加している力は液晶モニタ上に常時表示され、試験者自らが印加する力を１Ｎとなるように調節した。

　試験者は接触表面に凹凸があるか否かを強制２択で回答した。熱の移動が凹凸知覚の手がかりにならないよう、各実験試行の前に基板を恒温プレート（日伸理化製　ＮＨＰ－４５Ｎ）上で３２℃に保温した。試行は各基板を１０回ずつ行った。下記評価基準に従って低背化を評価し、評価結果は表１～表２９に記載した。

〔評価基準〕

Ａ：凹凸が存在するという回答率が５０％以下である

Ｂ：凹凸が存在するという回答率が５０％を超えた

　本試験が良好（Ａ）である組成物膜は、センサに導入されても有意な高背化を及ぼしにくいと考えられる。

＜耐光性の評価＞

　各実施例又は比較例において、ガラス基板上に上記方法にて硬化膜を形成し、耐光試験機（照度１万Ｌｘ、温度５０℃、相対湿度５０％）に６ヶ月入れ、耐光性評価を実施した。

　耐光性評価前後の膜について、波長４００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの光の透過率Ｔ％を測定し、その差分であるΔＴ％＝｜Ｔ％（耐光性試験前）－Ｔ％（耐光性試験後）｜を求めて耐光性を評価した。下記評価基準に従って耐光性を評価し、評価結果は表１～表２９に記載した。

〔評価基準〕

　５：ΔＴ％＜３％

　４：３％≦ΔＴ％＜５％

　３：５％≦ΔＴ％＜１０％

　２：１０％≦ΔＴ％＜２０％

　１：２０％≦ΔＴ％

　表１～表２９に記載の結果から、本開示に係る硬化性組成物は、硬化後の硬化膜において、可視光に由来するノイズの発生が抑制され、高湿感度に優れ、角度依存性に優れ、かつ、低背化が可能であることがわかる。

　なお、実施例１において、重禁剤を添加しない場合、界面活性剤を添加しない場合、いずれも実施例１と同様の結果であった。

　比較例１に係る硬化性組成物は、上述の式１（Ｙ＞Ｘ×０．５）を満たす赤外線吸収剤を含有しないため、硬化後の硬化膜において、可視光に由来するノイズの発生が抑制されていないことがわかる。

　比較例２に係る硬化性組成物は、上述の式１（Ｙ＞Ｘ×０．５）を満たす赤外線吸収剤を含有せず、誘電体多層膜のみを有するため、可視光に由来するノイズの発生は抑制されるものの、角度依存性に劣ることがわかる。

　比較例３に記載の硬化性組成物は、上述の式１（Ｙ＞Ｘ×０．５）を満たす赤外線吸収剤を含有しないため、硬化後の硬化膜において、高湿感度に劣ることがわかる。

　比較例４に記載の硬化性組成物は、上述のＡ／Ｃの値が４．５未満であるため、硬化後の硬化膜において、可視光に由来するノイズの発生が抑制されていないことがわかる。

　比較例５に記載の硬化性組成物は、上述の波長Ｔｂが波長１，０００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの間に存在せず、硬化後の硬化膜において赤外線を透過しにくいため、赤外線画像を取得できていないことがわかる。

　比較例６に記載の硬化性組成物は、上述の波長Ｔｂが波長１，０００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの間に存在しないため、上記硬化性組成物を０．１μｍ～１００μｍのいずれかの厚さで塗布した際に、Ｔｂが存在せず、低背化に劣ることがわかる。

１１０：固体撮像素子、１１１：赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層、１２０：第２の赤外線透過フィルタ

Claims (14)


  1. 　赤外線吸収剤と、

    　硬化性化合物と、

    　を含む硬化性組成物であって、

    　前記赤外線吸収剤の、波長４００ｎｍ～１，３００ｎｍにおける極大吸収波長における吸光度Ｘと、波長９５０ｎｍを超え波長１，３００ｎｍ以下の範囲の最大吸光度Ｙと、が下記式１を満たし、

    　前記硬化性組成物を０．１μｍ～１００μｍのいずれかの厚さで塗布した際に、波長１，０００ｎｍ～波長１，３００ｎｍの間に透過率が５０％となる波長Ｔｂが存在し、

    　前記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ短波である波長をＴａ、前記波長Ｔｂよりも２００ｎｍ長波である波長をＴｃとした際の、Ｔａの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最小値Ａと、Ｔｃの波長から±５０ｎｍの範囲の波長における吸光度の最大値Ｃとの比であるＡ／Ｃが４．５以上である

    　硬化性組成物。

    　Ｙ＞Ｘ×０．５　　　式１

  2. 　波長４００ｎｍ～波長７００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物を更に含み、

    　前記波長Ｔｂよりも１５０ｎｍ短波である波長をＴａ’とした際の、波長４００ｎｍ以上前記Ｔａ’以下の範囲の吸光度の最小値Ａ’と、前記最大値Ｃとの比であるＡ’／Ｃが４．５以上である、請求項１に記載の硬化性組成物。

  3. 　前記波長４００ｎｍ～波長７００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物を２種以上含む、請求項２に記載の硬化性組成物。

  4. 　前記波長４００ｎｍ～波長７００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物として、赤色着色剤、青色着色剤、緑色着色剤、黄色着色剤、黒色着色剤、紫色着色剤、及び、茶色着色剤よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含む、請求項２又は請求項３に記載の硬化性組成物。

  5. 　前記赤外線吸収剤が、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、ジインモニウム化合物、ペリレン化合物、ピロロピロール化合物、金属錯体、及び、化合物半導体よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含む、請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の硬化性組成物。

  6. 　前記式１を満たさない赤外線吸収剤を更に含む、請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の硬化性組成物。

  7. 　光重合開始剤を更に含む、請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の硬化性組成物。

  8. 　赤外線透過フィルタの形成に用いられる、請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の硬化性組成物。

  9. 　請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜。

  10. 　請求項９に記載の硬化膜を備える赤外線透過フィルタ。

  11. 　請求項９に記載の硬化膜又は請求項１０に記載の赤外線透過フィルタと、

    　誘電体多層膜とを含む積層体。

  12. 　請求項９に記載の硬化膜、請求項１０に記載の赤外線透過フィルタ、又は、請求項１１に記載の積層体を備える固体撮像素子。

  13. 　請求項９に記載の硬化膜、請求項１０に記載の赤外線透過フィルタ、又は、請求項１１に記載の積層体を備えるセンサ。

  14. 　請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の硬化性組成物を含む硬化性組成物層をパターン状に露光する工程と、

    　未露光部を除去してパターンを形成する工程と、を含む

    　パターン形成方法。
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