JP2012003225A - ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 - Google Patents
ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012003225A JP2012003225A JP2010271640A JP2010271640A JP2012003225A JP 2012003225 A JP2012003225 A JP 2012003225A JP 2010271640 A JP2010271640 A JP 2010271640A JP 2010271640 A JP2010271640 A JP 2010271640A JP 2012003225 A JP2012003225 A JP 2012003225A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- solder resist
- polymerizable composition
- compound
- polymerizable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
- G03F1/56—Organic absorbers, e.g. of photo-resists
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3452—Solder masks
Abstract
【解決手段】赤外線遮蔽材、重合開始剤、及び、重合性化合物を含有するソルダーレジスト用重合性組成物である。赤外線遮蔽材としては、赤外線吸収色素、又は、チタンブラック等の金属含有無機顔料が好ましい。
【選択図】なし
Description
このようなソルダーレジスト形成用の感光性組成物は、利便性の観点から、保存安定性に優れる必要もある。
固体撮像素子の小型化の為に、貫通電極の応用、及びシリコンウエハを薄膜化する手法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。シリコンウエハを研磨して薄膜化することで小型化は実現できるが、シリコンウエハの薄膜化により、800nm以下の光の遮光性は維持されるが、波長800nm以上の光を透過し易くなってきた。固体撮像素子に使用されるフォトダイオードは、800nm以上1200nm以下の光にも反応してしまうために、800nm以上の光の透過により画質が低下してしまうという新たな問題が生じることがわかった。
また、現状では、ソルダーレジストを塗布法により形成した後に、赤外線遮光性層を別に設けるため、ソルダーレジストの形成と赤外線遮光性層の形成において、複数回の塗布、露光、現像、後加熱など工程が必要であり、工程が煩雑でありコストアップの要因ともなるため改善が望まれていた。
そこで、ソルダーレジスト自体に遮光性をもたせることが試みられ、例えば、黒色着色剤と、黒色以外の着色剤と、多官能エポキシ化合物とを含有する黒色ソルダーレジスト組成物が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。しかしながら、この組成物は、黒色以外の着色剤と併用することで黒色着色剤の含有量を低く抑えることを特徴するものであり、遮光性、特に、赤外領域での遮光性と硬化性との両立という観点からは実用上不充分であった。
即ち、本発明の目的は、赤外領域における遮光性と硬化性の双方が良好なソルダーレジスト用重合性組成物及びそれを用いたソルダーレジストパターンの形成方法を提供することにある。
本発明のソルダーレジスト用重合性組成物は、赤外線遮蔽材、重合開始剤、及び、重合性化合物を含有する。
ここで、赤外線遮蔽材としては、チタンブラック等の金属含有無機顔料や赤外線吸収性と安定性とに優れた赤外線吸収色素が好ましい。本発明のソルダーレジスト用重合性組成物における重合性化合物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物のいずれであってもよく、両者を併用してもよい。また、重合性化合物は、分子内に複数の重合性基を有する多官能重合性化合物であってもよい。
本発明のソルダーレジスト用重合性組成物を用いて形成した硬化膜は赤外線遮蔽性に優れており、本発明の重合性組成物によれば、例えば、膜厚20μmの硬化膜を形成したとき、該硬化膜の波長800−1200nmの光の透過率が10%以下であり、また、可視光領域の透過性が良好であり、より具体的には、該硬化膜の波長800−1200nmにおける光学濃度(OD値)の最低値が、該硬化膜の波長300−450nmにおける光学濃度の最低値の3倍未満である硬化膜を形成しうる。
また、得られた硬化膜は絶縁性に優れることが必要であり、形成された硬化膜の絶縁性の目安としては、絶縁破壊電圧が1MV/cm以上であることが好ましい。なお、絶縁破壊電圧の測定方法は、フォーディメンションズ製水銀プローバ、及び、横川ヒューレットパッカード製のHP4285ALCRメーターを用いて、I−V測定により評価でき、本発明においては、この方法で測定した結果により評価される。
また、本発明のソルダーレジストパターンの形成方法は、基板上に、前記本発明のソルダーレジスト用重合性組成物を含有する感光層を形成する工程と、該感光層をパターン露光して、露光部を硬化させる工程と、未硬化の感光層を現像により除去してパターン状の赤外線遮蔽性硬化膜を形成する工程と、をこの順で有することを特徴とする。
本明細書では、重合性組成物の全固形分とは、重合性組成物の総質量から溶剤を除いた成分の総質量のことを指す。
(ソルダーレジスト用重合性組成物)
本発明の重合性組成物は、少なくとも赤外線遮蔽材、重合開始剤、及び、重合性化合物を含有し、必要に応じ、バインダーポリマーと、フィラー、エラストマー、その他の成分を含有してなる。
なお、本明細書において、「アクリル」及び「メタクリル」のいずれか或いは双方を表す場合、「(メタ)アクリル」と表記することがある。
本発明に使用される赤外線遮蔽材としては、800−1200nmに吸収を有する化合物であり、且つ、露光に用いられる光の透過性が良好であることが好ましい。そのような観点から、本発明における赤外線遮蔽材は、赤外線吸収色素、及び、赤外線吸収性金属含有無機顔料から選択されることが好ましい。
本発明において赤外線遮蔽材として使用できる赤外線吸収色素としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、インモニウム色素、アミノウム色素、キノリウム色素、ピリリウム色素、Ni錯体色素などの金属錯体色素、さらに、下記一般式(I)〜一般式(III)で表される色素などを挙げることができる。
(一般式(I)で表される色素)
まず、赤外線遮蔽材として好適に用いうる一般式(I)で表される赤外線吸収色素について説明する。一般式(I)で表される色素は、シアニン色素に包含される。
アルケニル基としては、置換基を有していてもよい、炭素数2〜10のアルケニル基が好ましく、例えば、2−ペンテニル、ビニル、アリル、2−ブテニル及び1−プロペニルが挙げられる。アルケニル基に導入可能な置換基としては、前記アルキル基に導入可能な置換基と同様のものが挙げられる。
アラルキル基としては、置換基を有していてもよい炭素数7〜12のアラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル及びフェネチルが含まれる。アラルキル基に導入可能な置換基としては、前記Z1及びZ2に導入かのとして挙げたものと同様の置換基が挙げられる。
メチン基はメチン基同士が結合して5又は6員環を形成してもよい。又、メチン基は置換基を有していてもよい。置換基を有するメチン基は中央の(メソ位の)メチン基であることが好ましい。置換基の例としては、メチル基、エチル基、メトキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子(Cl、Br、F)、アリール基(フェニル、ナフチルを含み、置換基を有していてもよい。置換基としては、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、Cl、Br、F、エトキシカルボニル、シアノ、ニトロ等である)、−NR3R4、−OR3、−SR3、−SO2R3、ヒドロキシル基又はケトンが挙げられる。ここでR3及びR4はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。アルキル基、アリール基の例としては、前記したのと同義である。
Xは対アニオンを表す。アニオンの例としては、ハライドイオン(Cl−、Br−、I−)、p−トルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、PF6 −、BF4 −、及び、ClO4 −等を挙げることができる。なお、一般式(I)で表される色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合には、Xは存在しない。例えば、カルボキシル基のようにアニオン性置換基がN+と分子内塩を形成するときには、見かけ上Xは存在しない態様をとる。
(一般式(II)で表される色素)
次に、赤外線遮蔽材として好適に用いうる一般式(II)で表される赤外線吸収色素について説明する。一般式(II)で表される色素は、スクアリリウム色素に包含されるジヒドロペリミジンスクアリリウム化合物である。
R10〜R21がシクロアルキル基を表す場合のシクロアルキル基としては、シクロペンチル、シクロヘキシルを挙げることができる。
R10〜R21がアリール基を表す場合のアリール基としては、6から12の炭素数のものが好ましく、フェニル基又はナフチル基が挙げられる。アリール基は、置換していてもよい。置換基としては、炭素数1から8のアルキル基(例えば、メチル、エチル、ブチル)、炭素原子数1から6のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、p−クロロフェノキシ)、ハロゲン原子(F、Cl、Br)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル)、アミノ基(例えば、メチルアミノ、アセチルアミノ、メタンスルホンアミド)、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基(塩でもよい)およびスルホ基(塩でもよい)が含まれる。
R10〜R21がヘテロ環基を表す場合のヘテロ環基としては、チエニル、フリル、ピロリル、ピラゾリル、ピリジル、インドリル等を挙げることができる。
R22〜R24で表される1価の基としては、上記アリール基で述べた置換基を挙げることが出来る。
R10とR11、R12とR13、R14とR15、R16とR17、R18とR10、R19とR11、R20とR16、及び、R21とR17、の1組以上は、互いに連結して5員又は6員の環構造を形成してもよく、環構造としては、シクロペンタン又はシクロヘキサン環が挙げられる。
mは0または1〜6の整数を表し、混合物であってもよい。
次に、赤外線遮蔽材として好適に用いうる一般式(III)で表される赤外線吸収色素について説明する。一般式(III)で表される色素は、インドアニリン色素に包含される。
R30〜R35がアラルキル基を表す場合のアラルキル基としては、7から12の炭素数を有するアラルキル基が好ましく(例えば、ベンジル、フェニルエチル)、置換基(例えば、メチル、メトキシ、クロル原子、カルボキシル、スルホ)を有していてもよい。
R30及びR32がハロゲン原子を表す場合のハロゲン原子としては、F、Br、Clである。
R32がアルコキシ基を表す場合のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、イソブトキシ等が挙げられる。
R32がアミノ基を表す場合のアミノ基としては、メチルアミノ、アセチルアミノ、メタンスルホンアミド等が挙げられる。
R33とR34、R32とR33、及びR32とR34の1組以上は、互いに結合し5員又は6員の環構造を形成してもよく、R33とR34とは、互いに結合し、ピペラジン、ピペリジン、モルホリン又はピロリジン環などの環を形成してもよい。
また、R32とR33、及びR32とR34の1組以上は、互いに結合し5員又は6員の環構造、例えば、ジュロリジン、テトラヒドロキノリン環を形成してもよい。
R32がアミノ基を表す場合のアミノ基としては、−NHCOR35、−NHSO2R35、−NHCONHR35、−NHCOOR35、−NHR35(R35は前述と同義)及び−NH2を挙げることができる。
R30及びR32がハロゲン原子を表す場合のハロゲン原子としては、F、Cl、Brを挙げることができる。
これらの色素をソルダーレジスト用重合性組成物に適用する場合、通常、有機溶媒又は水に溶解して用いることが、重合形成に用いるモノマーに直接溶解して用いてもよい。また、前記色素は固体微粒子の状態で用いてもよい。固体微粒子の状態で用いる場合には、公知の分散機により均一分散して用いられる。
FEW Chemicals社製 S0345、S0389、S0450、S0253、S0322、S0585、S0402、S0337、S0391、S0094、S0325、S0260、S0229、S0447、S0378、S0306、S0484
American Dye Source,Inc.製 ADS795WS、ADS805WS、ADS819WS、ADS820WS、ADS823WS、ADS830WS、ADS850WS、ADS845MC、ADS870MC、ADS880MC、ADS890MC、ADS920MC、ADS990MC、ADS805PI、ADSW805PP、ADS810CO、ADS813MT、ADS815EI、ADS816EI、ADS818HT、ADS819MT、ADS819MT、ADS821NH、ADS822MT、ADS838MT、ADS840MT、ADS905AM、ADS956BP、ADS1040P、ADS1040T、ADS1045P、ADS1040P、ADS1050P、ADS1065A、ADS1065P、ADS1100T、ADS1120F
林原生物化学研究所製 NK−123、NK−124、NK−1144、NK−2204、NK−2268、NK−3027、NKX−113、NKX−1199、NK−2674、NK−3508、NKX−114、NK−2545、NK−3555、NK−3509、NK−3519
フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素としては、λmaxが900nm以上1200nm以下であるものがより好ましい。市販品の好適な例としては、山本化成(MIR−370、YKR−3040、YKR−3081、MIR−3081、MIR−362、YKR−3080)、日本触媒(イーエクスカラーIR−906、イーエクスカラーIR−910)が挙げられる。
また、一般式(I)〜一般式(III)で表される色素のなかでも、一般式(II)で表されるスクアリリウム色素が好ましく、吸収波長の観点から、特許第3690707号公報に記載の、一般式(1)で表されるジヒドロペリミジンスクアリリウム化合物がより好ましいものとして挙げられる。
赤外線遮蔽材として用いられる無機顔料の粒径は、平均一次粒径が5nm〜0.01mmであることが好ましく、分散性、遮光性、経時での沈降性の観点から平均一次粒径が10nm〜1μmであることが好ましい。
本発明において好適な赤外線遮蔽材として用いうるチタンブラックは、公知の手法により得ることができ、また、市販品としては、例えば、石原産業株式会社製、赤穂化成株式会社製、株式会社ジェムコ社製、三菱マテリアル株式会社製、及び、三菱マテリアル電子化成株式会社製のチタンブラックを使用してもよい。
赤外線遮蔽性と可視光透過性のバランスについて述べれば、例えば、本発明の重合性組成物により厚さ20μmの硬化膜を形成したとき、該硬化膜の赤外域である波長800−1200nmにおける光学濃度(OD値)の最低値が、該硬化膜の波長300−450nmにおける光学濃度の最低値の3倍未満であることが好ましく、より好ましくは2倍以下であり、最も好ましくは1.5倍以下である。
ちなみに、金属を含有しない顔料であるカーボンブラックを、金属含有無機顔料であるチタンブラックに変えて等量用いた場合、波長800−1200nmにおける光学濃度(OD値)の最低値は、該硬化膜の波長300−450nmにおける光学濃度の最低値の3倍またはそれ以上の値となる。
このような遮光条件を達成しうる赤外線遮蔽材としては、前記した赤外線吸収色素、及び、チタンブラックなどの金属含有無機顔料が挙げられるが、耐熱性、露光によるパターン形成性の観点からチタンブラック等の金属含有無機顔料が最も好ましい。
表面修飾法としては、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、及び、酸化ジルコニウムから選択される1種以上により表面を被覆する方法が挙げられ、また、特開2007−302836号公報の段落番号〔0010〕〜〔0027〕に示されるような撥水性物質により表面処理してもよい。
また、前記チタンブラックは、分散性、着色性等を調整する目的でCu、Fe、Mn、V、Ni等の複合酸化物、酸化コバルト、酸化鉄、カーボンブラック、アニリンブラック等の、チタンブラック以外の黒色顔料の1種あるいは2種以上と組み合わせて使用してもよく、この場合、顔料の50質量%以上をチタンブラック粒子が占めることが好ましい。
チタンブラックに代表される金属含有無機顔料の比表面積は、とくに限定がないが、かかる金属含有無機顔料を撥水化剤で表面処理した後の撥水性が所定の性能となるために、BET法にて測定した値が通常5〜150m2/g程度、特に20〜100m2/g程度であることが好ましい。
本発明において赤外線遮蔽材として金属含有無機顔料を用いる場合には、重合性組成物中での分散性、分散安定性向上を目的として、公知の分散剤により分散して用いてもよい。
高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
高分子分散剤は顔料の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。
一方で、顔料誘導体は顔料表面を改質することで、高分子分散剤の吸着を促進させる効果を有する。
具体的には、多くの種類の化合物を使用可能であり、例えば、BYKChemie社製「Disperbyk−101(ポリアミドアミン燐酸塩)、107(カルボン酸エステル)、110(酸基を含む共重合物)、130(ポリアミド)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共重合物)」、「BYK−P104、P105(高分子量不飽和ポリカルボン酸)、BASFジャパン株式会社製「EFKA4047、4050〜4010〜4165(ポリウレタン系)、EFKA4330〜4340(ブロック共重合体)、4400〜4402(変性ポリアクリレート)、5010(ポリエステルアミド)、5765(高分子量ポリカルボン酸塩)、6220(脂肪酸ポリエステル)、6745(フタロシアニン誘導体)、6750(アゾ顔料誘導体)」、味の素ファンテクノ社製「アジスパーPB821、PB822、PB880、PB881」、共栄社化学社製「フローレンTG−710(ウレタンオリゴマー)」、「ポリフローNo.50E、No.300(アクリル系共重合体)」、楠本化成社製「ディスパロンKS−860、873SN、874、#2150(脂肪族多価カルボン酸)、#7004(ポリエーテルエステル)、DA−703−50、DA−705、DA−725」、花王社製「デモールRN、N(ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物)、MS、C、SN−B(芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物)」、「ホモゲノールL−18(高分子ポリカルボン酸)」、「エマルゲン920、930、935、985(ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル)」、「アセタミン86(ステアリルアミンアセテート)」、アビシア社製「ソルスパース5000(フタロシアニン誘導体)、22000(アゾ顔料誘導体)、13240(ポリエステルアミン)、3000、17000、27000(末端部に機能部を有する高分子)、24000、28000、32000、38500(グラフト型高分子)」、日光ケミカル者製「ニッコールT106(ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート)、MYS−IEX(ポリオキシエチレンモノステアレート)」、川研ファインケミカル(株)製 ヒノアクトT−8000E等が挙げられる。
好ましい分散樹脂は、分子内に、水素原子を除いた原子数が40〜10000の範囲であり、ポリエステル構造、ポリエーテル構造、及びポリアクリレート構造から選択されるグラフト鎖を有するグラフト共重合体であり、下記式(11)〜式(15)のいずれかで表される構造単位を含むグラフト共重合体である。
特に、本発明の好ましい態様である下記式(11)〜式(15)のいずれか1つで表される構造単位を含むグラフト共重合体を重合性組成物に用いた場合には、グラフト鎖の親水性がさらに向上する。これによりグラフト共重合体の現像性がさらに向上し、優れた分散性と現像での残渣低減が高い次元で両立できる。
式(11)〜式(15)において、Y1、Y2、Y3、Y4、および、Y5はそれぞれ独立に2価の連結基であり、特に構造上制約されない。具体的には、下記の(Y−1)から(Y−20)の連結基などが挙げられる。下記構造において、Aは式(11)〜式(15)におけるY1、Y2、Y3、Y4、又はY5の左末端基との結合を意味し、Bは、式(11)〜式(15)におけるY1、Y2、Y3、Y4、又はY5の右末端基との結合を意味する。下記に示した構造のうち、合成の簡便性から、(Y−2)、(Y−13)であることがより好ましい。
式(11)〜式(15)において、n、m、p、q、および、rはそれぞれ1から500の整数であり、好ましくは、3から100の整数であり、さらに好ましくは、5から50の整数である。
式(11)および式(12)において、jおよびkは、それぞれ独立に、2〜8の整数を表す。式(11)および式(12)におけるjおよびkは、それぞれ独立に、分散安定性、現像性の観点から、4〜6の整数が好ましく、5が最も好ましい。
また、式(15)中のRとしては特定樹脂中に構造の異なるRが2種以上含まれていても良い。
また、前記式(12)で表される構造単位としては、分散安定性、現像性の観点から、下記式(2A)で表される構造単位であることがより好ましい。
式(2A)中、X2、Y2、Z2及びmは、式(12)におけるX2、Y2、Z2及びmと同義であり、好ましい範囲も同様である。
具体例として、以下に示す化合物が挙げられる。なお、下記例示化合物中、各構造単位に併記される数値は、当該構造単位の含有量〔質量%:適宜、(wt%)と記載〕を表す。
なお、赤外線遮蔽材として、無機顔料や赤外線吸収色素を用いる場合においても、所望の分光透過率を実現すべく、既存の赤、青、緑、黄色、シアン、マゼンタ、グレーなどの色相を有する有機顔料及び前記赤外線遮蔽材として例示した以外の色素から適宜選択して組み合わせて用いてもよい。
C.I.Pigment Yellow 1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214
C.I.Pigment Orange 2、5、13、16、17:1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73
C.I. Pigment Green 7、10、36、37、58
C.I.Pigment Blue 1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66、79、79のCl置換基をOHに変更したもの、80
C.I.Pigment Violet 1、19、23、27、32、37、42
C.I.Pigment Brown 25、28等を挙げることができる。
本発明の重合性組成物に用いる重合開始剤としては、光、熱のいずれか或いはその双方により重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、光で重合を開始させる場合、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。
また、熱で重合を開始させる場合には、150℃〜250℃で分解する開始剤が好ましい。
感度の観点から、オキシムエステル化合物、アセトフェノン系化合物、α−アミノケトン化合物、トリハロメチル化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、及び、チオール化合物が好ましい。
以下、本発明に好適な重合開始剤の例を挙げるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
さらに、特開2007−231000公報、及び、特開2007−322744公報に記載される環状オキシム化合物も好適に用いることができる。
最も好ましい例として、特開2007−269779公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開2009−191061公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。
以下、本発明の重合性組成物に好ましく用いられるオキシム系光重合開始剤について、詳細に説明する。
本発明に好適に用いられるオキシム系光重合開始剤としては、上記したBASF社製 IRGACURE OXE 01、およびOXE 02以外に、下記式(1)で表される化合物が好ましい開始剤として挙げられる。なお、下記式(1)で表される化合物は、オキシム部位におけるN−O結合が(E)体のオキシム化合物であっても、(Z)体のオキシム化合物であっても、(E)体と(Z)体との混合物であってもよい。
前記Rで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。前記一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、1以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。
置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
具体的には、チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ナフト[2,3−b]チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H−インドリル基、インドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、4H−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、及び、チオキサントリル基が例示できる。
下記の構造中、Y、X、及び、nは、それぞれ、後述する式(2)におけるY、X、及び、nと同義であり、好ましい例も同様である。
なかでも、Aとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基)で置換されたアルキレン基、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基)で置換されたアルキレン基、アリール基(例えば、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基)で置換されたアルキレン基が好ましい。
なかでも、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニル基が好ましい。
式(2)におけるR、A、及びArは、前記式(1)におけるR、A、及びArと同義であり、好ましい例も同様である。
また、式(2)におけるnは、0〜5の整数を表し、0〜2の整数が好ましい。
式(3)におけるR、X、A、Ar、及び、nは、前記式(2)におけるR、X、A、Ar、及び、nとそれぞれ同義であり、好ましい例も同様である。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計(Varian社製Carry−5 spcetrophotometer)にて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
本発明の重合性組成物における光重合開始剤の含有量は、重合性組成物の全固形分に対して0.01質量%〜30質量%が好ましく、0.1質量%〜20質量%がより好ましく、0.1質量%〜15質量%が特に好ましい。
本発明のレジスト形成用重合性組成物は、重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有してもよい。本発明に用いることができる増感剤としては、前記した光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。本発明に用いることができる増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、且つ300nm〜450nmの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
例えば、多核芳香族類(例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、9,10−ジアルコキシアントラセン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、チオキサントン類(イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン)、シアニン類(例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、フタロシアニン類、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)、アクリジンオレンジ、クマリン類(例えば、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン)、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、N−アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。
更に欧州特許第568,993号明細書、米国特許第4,508,811号明細書、同5,227,227号明細書、特開2001−125255号公報、特開平11−271969号公報等に記載の化合物等などが挙げられる。
本発明の重合性組成物における増感剤の含有量は、重合性組成物の全固形分に対して0.1質量%〜5質量%が好ましく、0.5質量%〜2質量%がより好ましい。この範囲であると、より良好な形状のパターンが得られる。
本発明の重合性組成物には重合性化合物を含有する。ここで用いられる重合性化合物としては、酸、ラジカル、及び、熱の少なくとも1種により反応する官能基(本明細書では、このような官能基を「重合性基」と称することがある)を分子内に有する化合物であればいずれを用いてもよく、好ましくは、分子内にこれら重合性基を2基以上有する多官能重合性化合物であることが好ましい。
本発明に好適に用いられる、酸、ラジカル、及び、熱の少なくともいずれかに反応する重合性の官能基を有する重合性化合物としては、不飽和エステル官能基、不飽和アミド基、ビニルエーテル基、アリル基等のエチレン性不飽和基を有するエチレン性不飽和基含有化合物;スチレン基、エポキシ基、オキセタン基などの環状エーテル基を有する環状エーテル化合物;メチロール化合物、ビスマレイミド化合物、シアネート化合物、ベンゾシクロブテン化合物、ビスアリルナジイミド化合物、及びベンゾオキサジン化合物などが挙げられる。
これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。但し、後述のバインダーポリマーとは構造が異なる化合物である。
モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
〔ただし、R4及びR5は、各々独立に、H又はCH3を示す。〕
カプロラクトン構造を有する多官能性単量体としては、その分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、(メタ)アクリル酸およびε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能(メタ)アクリレートを挙げることができる。なかでも下記式(i)で表されるカプロラクトン構造を有する多官能性単量体が好ましい。
また、硬化感度、および、未露光部の現像性の観点からは、EO変性体を含有する化合物が好ましく、硬化感度、および、露光部強度の観点からは、ウレタン結合を含む化合物も好ましく用いられる。さらに、パターン形成時の現像性の観点からは、酸基を有する化合物が好ましく用いられる。
また、酸基を有するエチレン性不飽和化合物類も好適であり、市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のカルボキシル基含有3官能アクリレートであるTO−756、及びカルボキシル基含有5官能アクリレートであるTO−1382などが挙げられる。
重合性化合物の含有量は、本発明の重合性組成物の全固形分に対して、3質量%以上80質量%以下であることが好ましく、5質量%以上50質量%以下であることがより好ましい。
また、重合性化合物は2種以上を使用することが可能である。
本発明のソルダーレジスト用重合性組成物は、更に、熱架橋剤を含むことが好ましい。前記熱架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記重合性組成物を用いて形成される感光層の硬化後の膜強度を改良するために、現像性等に悪影響を与えない範囲で、例えば、1分子内に少なくとも2つのオキシラン基を有するエポキシ化合物、1分子内に少なくとも2つのオキセタニル基を有するオキセタン化合物を用いることができる。
前記1分子中に少なくとも2つのオキシラン基を有するエポキシ化合物としては、例えば、ビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂(「YX4000;ジャパンエポキシレジン社製」等)又はこれらの混合物、イソシアヌレート骨格等を有する複素環式エポキシ樹脂(「TEPIC;日産化学工業社製」、「アラルダイトPT810;BASFジャパン社製」等)、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポトートYDF−170;東都化成株式会社製)、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ−ルノボラック型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂(例えば、低臭素化エポキシ樹脂、高ハロゲン化エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂など)、アリル基含有ビスフェノールA型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジフェニルジメタノール型エポキシ樹脂、フェノールビフェニレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(「HP−7200、HP−7200H;DIC株式会社製」等)、グリシジルアミン型エポキシ樹脂(ジアミノジフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジグリシジルアニリン、トリグリシジルアミノフェノール等)、グリジジルエステル型エポキシ樹脂(フタル酸ジグリシジルエステル、アジピン酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸ジグリシジルエステル等)ヒダントイン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ジシクロペンタジエンジエポキシド、「GT−300、GT−400、EHPE3150;ダイセル化学工業製」等、)、
β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも含むエポキシ化合物は、1分子中に含まれる2個以上のエポキシ基のすべてがβ−アルキル置換グリシジル基であってもよく、少なくとも1個のエポキシ基がβ−アルキル置換グリシジル基であってもよい。
β−アルキル置換グリシジル基としては、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、β−メチルグリシジル基、β−エチルグリシジル基、β−プロピルグリシジル基、β−ブチルグリシジル基、などが挙げられ、これらの中でも、前記重合性組成物の保存安定性を向上させる観点、及び合成の容易性の観点から、β−メチルグリシジル基が好ましい。
また、β−アルキルエピハロヒドリンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、β−メチルエピクロロヒドリン、β−メチルエピブロモヒドリン、β−メチルエピフロロヒドリン等のβ−メチルエピハロヒドリン;β−エチルエピクロロヒドリン、β−エチルエピブロモヒドリン、β−エチルエピフロロヒドリン等のβ−エチルエピハロヒドリン;β−プロピルエピクロロヒドリン、β−プロピルエピブロモヒドリン、β−プロピルエピフロロヒドリン等のβ−プロピルエピハロヒドリン;β−ブチルエピクロロヒドリン、β−ブチルエピブロモヒドリン、β−ブチルエピフロロヒドリン等のβ−ブチルエピハロヒドリン;などが挙げられる。これらの中でも、前記多価フェノールとの反応性及び流動性の観点から、β−メチルエピハロヒドリンが好ましい。
前記一般式(D−2)中、RD1は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、RD2は水素原子、又はCH3を表し、nは0〜20の整数を表す。
上記一般式(D−1)及び一般式(D−2)中に、複数存在するRD1及びRD2は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
これらβ位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また1分子中に少なくとも2つのオキシラン環を有するエポキシ化合物、及びβ位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物を併用することも可能である。
これらは1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。なお、前記エポキシ樹脂化合物や前記オキセタン化合物の硬化触媒、あるいは、これらとカルボキシル基の反応を促進することができるものであれば、特に制限はなく、上記以外の熱硬化を促進可能な化合物を用いてもよい。
前記エポキシ化合物、前記オキセタン化合物、及びこれらとカルボン酸との熱硬化を促進可能な化合物の前記重合性組成物の固形分中の含有量は、通常0.01〜15質量%である。
前記イソシアネート基ブロック剤としては、アルコール類(例えば、イソプロパノール、tert−ブタノール等)、ラクタム類(例えば、ε−カプロラクタム等)、フェノール類(例えば、フェノール、クレゾール、p−tert−ブチルフェノール、p−sec−ブチルフェノール、p−sec−アミルフェノール、p−オクチルフェノール、p−ノニルフェノール等)、複素環式ヒドロキシル化合物(例えば、3−ヒドロキシピリジン、8−ヒドロキシキノリン等)、活性メチレン化合物(例えば、ジアルキルマロネート、メチルエチルケトキシム、アセチルアセトン、アルキルアセトアセテートオキシム、アセトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等)などが挙げられる。これらの他、特開平6−295060号公報記載の分子内に少なくとも1つの重合可能な二重結合及び少なくとも1つのブロックイソシアネート基のいずれかを有する化合物などを用いることができる。
本発明の重合性組成物には、皮膜特性向上などの目的で、必要に応じて、更にバインダーポリマーを使用することができる。バインダーポリマーとしては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。
このほか、2-ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合したもの等も有用なものとして挙げられる。該ポリマーは任意の量で混合して用いることができる。
前記アルキル(メタ)アクリレート及びアリール(メタ)アクリレートの具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、トリル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
本発明に使用しうる側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性バインダーポリマーは、その構造において、非画像部除去性などの諸性能を向上させるために、樹脂がアルカリ可溶となるための酸基と、少なくとも1つの不飽和二重結合を有する。このような部分構造を有するバインダー樹脂は、特開2003−262958号公報に詳細に記載され、ここに記載の化合物を本発明にも使用することができる。
これら重合性基を含有するバインダーポリマーの例を以下に示すが、分子内にCOOH基、OH基等のアルカリ可溶性基と炭素−炭素間不飽和結合とが含まれていれば、下記に限定されない。
(1)予めイソシアネート基とOH基を反応させ、未反応のイソシアネート基を1つ残し、かつ(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ含む化合物とカルボキシル基を含むアクリル樹脂との反応によって得られるウレタン変性した重合性二重結合含有アクリル樹脂。
(2)カルボキシル基を含むアクリル樹脂と分子内にエポキシ基及び重合性二重結合を共に有する化合物との反応によって得られる不飽和基含有アクリル樹脂。
(3)OH基を含むアクリル樹脂と重合性二重結合を有する2塩基酸無水物を反応させた重合性二重結合含有アクリル樹脂。
上記のうち、特に(1)及び(2)の樹脂が好ましい。
酸性基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等が挙げられるが、原料入手の点からカルボキシル基が好ましい。
これらの例は、特許第2763775号公報、特開平3−172301号公報、及び、特開2000−232264号公報等に記載される化合物が挙げられる。
その中でも、重合性組成物の経時での現像安定性の点から、特定バインダー樹脂Aは、側鎖にカルボキシル基を含み、且つ、側鎖に、ヘテロ環を含んでもよい芳香族基及びエチレン性不飽和結合を含む高分子化合物が好ましい。
前記芳香族基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、ベンゾピロール環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基、ピラゾール環基、イソキサゾール環基、イソチアゾール環基、インダゾール環基、ベンゾイソキサゾール環基、ベンゾイソチアゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズオキサゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、フタラジン環基、キナゾリン環基、キノキサリン環基、アシリジン環基、フェナントリジン環基、カルバゾール環基、プリン環基、ピラン環基、ピペリジン環基、ピペラジン環基、インドール環基、インドリジン環基、クロメン環基、シンノリン環基、アクリジン環基、フェノチアジン環基、テトラゾール環基、トリアジン環基等が挙げられる。これらの中では、炭化水素芳香族基が好ましく、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
ここで、前記含有量(meq/g)は、例えば、ヨウ素価滴定により測定することができる。
このようなラジカル重合性化合物が有する酸基としては、例えば、カルボン酸、スルホン酸、リン酸基等が挙げられ、既述のように、カルボン酸が特に好ましい。
カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、インクロトン酸、マレイン酸、p−カルボキシルスチレン等が挙げられ、これらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸、p−カルボキシルスチレンが好ましい。これらは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
本発明で使用されるポリイミド樹脂は、例えば、前駆体としてのポリアミック酸を加熱閉環イミド化することによって形成される。
ポリイミド系樹脂の合成に用いられるポリアミック酸は、通常、下記一般式(IV)で表される構造単位を主成分とする。
耐熱性の面から、R1は環状炭化水素、芳香族環または芳香族複素環を含有し、かつ炭素数6から30の3価または4価の基が好ましい。
R1で表される有機基の例としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフタレン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェニルスルフォン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェノン基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、シクロブチル基、シクロペンチル基などから誘導された基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なかでも、R1としては、フェニル基、シクロブチル基が好ましい。
R2は少なくとも2個の炭素原子を有する2価の有機基を示す。耐熱性の面から、R2は環状炭化水素、芳香族環または芳香族複素環を含有し、かつ炭素数6から30の2価の基が好ましい。
R2で表される二価の有機基の例としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフタレン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェニルスルフォン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェノン基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、ジフェニルメタン基、シクロヘキシルメタン基などから誘導された2価の基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なかでも、R2としては、ジフェニルエーテル基、ジフェニルスルフォン基、ジフェニルプロパン基、ジフェニルメタン基が好ましい。
上記一般式(IV)で表される構造単位を主成分とするポリマーは、一般式(IV)で表される構造単位を1種のみ含む単独重合体であってもよく、互いに異なる2種以上の一般式(IV)で表される構造単位を含む共重合体であってもよい。
また、一般式(IV)で表される構造単位以外の構造単位を共重合成分として含んでいてもよい。
本発明に用いられる特定バインダー樹脂Cは、その側鎖に、下記一般式(C−1)〜(C−3)で表される官能基のうち少なくとも1つを有するものが挙げられる。まず、下記一般式(C−1)〜(C−3)で表される官能基について説明する。
本発明に係る特定バインダー樹脂Cは、下記一般式(C−4)で表されるジイソシアネート化合物の少なくとも1種と、一般式(C−5)で表されるジオール化合物の少なくとも1種と、の反応生成物で表される構造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂である。
HO−Y0−OH (C−5)
上記一般式(C−4)で表されるジイソシアネート化合物としては、例えば、トリイソシアネート化合物と、不飽和基を有する単官能のアルコール又は単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させて得られる生成物がある。
ジイソシアネート化合物を得るための上記化合物の具体例については、特開2006−63550号公報の段落番号〔0034〕〜〔0040〕に記載され、該化合物を用いることができる。また、ジイソシアネート化合物として側鎖に重合性基を有する、同公報段落番号〔0042〕〜〔0049〕に記載の化合物を用いることも好ましい。
上記一般式(C−5)で表されるジオール化合物としては、広くは、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物等が挙げられる。
このようなジオール化合物としては、例えば、同公報に式(17)〜(19)として記載されるものが含まれ、具体的には、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)酪酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒石酸、N,N−ジヒドロキシエチルグリシン、N,N―ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−カルボキシ−プロピオンアミド等が挙げられる。
前記側鎖にエチレン性不飽和結合基を有するポリウレタン樹脂が、さらに側鎖にカルボキシル基を有する樹脂でることが好ましく、より具体的には、側鎖にエチレン性不飽和結合基を、当量で言えば、0.3meq/g以上、さらには0.35〜1.50meq/g含有し、且つ、側鎖にカルボキシル基を0.4meq/g以上、より好ましくは0.45〜1.00meq/g含有するポリウレタン樹脂が、本発明のバインダーポリマーとして特に好ましい。
これらのバインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい。
重合性組成物において用いうるバインダーポリマーが、ビニル結合を有するモノマーにより合成される場合に使用されるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が挙げられる。
含有量が上記範囲であると、露光感度が良好で、加工時間が短時間で済み、且つ、良好なTCT耐性が得られる。
本発明の重合性組成物には、さらにフィラーを含んでもよい。本発明に用い得るフィラーとしては、シランカップリング剤で表面処理された球状のシリカが挙げられる。シランカップリング剤で表面処理された球状のシリカを用いることにより、重合性組成物のサーマルサイクルテスト耐性、保存安定性が向上し、例えば、サーマルサイクルテストの如き厳しい雰囲気を経た後も、パターン形成直後と同様な良好な形状を維持することが可能となる。
前記フィラーが球状であることは、走査型電子顕微鏡(SEM)で観察することにより、確認することができる。
前記フィラーの一次粒子の体積平均粒径は、動的光散乱法粒子径分布測定装置により測定することができる。
前記フィラーは前述の無機顔料の分散剤、バインダーを用いることにより分散することができる。硬化性の観点から、側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性バインダーポリマーが特に好ましい。
次に、フィラーの表面処理について説明する。フィラーの表面処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、シランカップリング剤によりシリカを被覆する処理が好ましい。
フィラーの表面処理に用いられるシランカップリング剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、アルコキシシリル基、クロロシリル基、及びアセトキシシリル基から選択される少なくとも1種の官能基(以下、「「第1官能基」とも称する。」と、(メタ)アクリロイル基、アミノ基及びエポキシ基から選択される少なくとも1種の官能基(以下、「第2官能基」とも称する。)が好ましく、第2官能基が(メタ)アクリロイル基、又はアミノ基がより好ましく、第2官能基としては(メタ)アクリロイル基がより好ましい。前記第2官能基が(メタ)アクリロイル基であると、保存安定性やTCT耐性点で、有利である。
前処理を行う方法としては、特に制限はなく、例えば、乾式法、水溶液法、有機溶媒法、スプレー法等の方法が挙げられる。前処理を行なう温度は、特に制限はないが、常温〜200℃が好ましい。
前処理を行なう際には触媒を加えることも好ましい。この触媒としては、特に制限はなく、例えば、酸、塩基、金属化合物、有機金属化合物等が挙げられる。
本発明で用いることができるシランカップリング剤で表面処理された球状のシリカとしては、例えば、電気化学工業:FB、SFPシリーズ、龍森:1−FX、東亜合成:HSPシリーズ、扶桑化学工業:SPシリーズなどが挙げられる。
本発明のソルダーレジスト用重合性組成物には、熱架橋剤として用いられる前記エポキシ化合物や前記オキセタン化合物の熱硬化を促進するため、例えば、アミン化合物(例えば、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、4−(ジメチルアミノ)−N,N−ジメチルベンジルアミン、4−メトキシ−N,N−ジメチルベンジルアミン、4−メチル−N,N−ジメチルベンジルアミン等)、4級アンモニウム塩化合物(例えば、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等)、ブロックイソシアネート化合物(例えば、ジメチルアミン等)、イミダゾール誘導体二環式アミジン化合物及びその塩(例えば、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、4−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール等)、リン化合物(例えば、トリフェニルホスフィン等)、グアナミン化合物(例えば、メラミン、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等)、S−トリアジン誘導体(例えば、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−S−トリアジン、2−ビニル−2,4−ジアミノ−S−トリアジン、2−ビニル−4,6−ジアミノ−S−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−S−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等)などを用いることができる。これらは1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。なお、前記エポキシ樹脂化合物や前記オキセタン化合物の硬化触媒、あるいは、これらとカルボキシル基の反応を促進することができるものであれば、特に制限はなく、上記以外の熱硬化を促進可能な化合物を用いてもよい。
前記エポキシ化合物、前記オキセタン化合物、及びこれらとカルボン酸との熱硬化を促進可能な化合物の前記重合性組成物全固形分中の含有量は、通常0.01〜15質量%である。
本発明の重合性組成物には、さらに、エラストマーを含むことが好ましい。
エラストマーを含有させることにより、重合性組成物をソルダーレジストに用いた際のプリント配線板の導体層との密着性をより向上させることができるとともに、硬化膜の耐熱性、耐熱衝撃性、柔軟性及び強靭性をより向上させることができる。
本発明の重合性組成物には、界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤の各種界面活性剤を使用できる。
特に、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液としたときの液特性(特に、流動性)をより向上させ、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
すなわち、フッ素系界面活性剤を含有する重合性組成物においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μmから数十μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
ノニオン系界面活性剤として具体的には、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル(BASF社製のプルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロニック304、701、704、901、904、150R1等が挙げられる。
アニオン系界面活性剤として具体的には、W004、W005、W017(裕商社製)等が挙げられる
界面活性剤は2種類以上を組み合わせてもよい。
本発明の重合性組成物には、前記必須成分や前記好ましい添加剤に加え、本発明の効果を損なわない限りにおいて、目的に応じてその他の成分を適宜選択して用いてもよい。
併用可能なその他の成分としては、例えば、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤(着色顔料あるいは染料)などが挙げられ、更に基材表面への密着促進剤及びその他の助剤類(例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など)を併用してもよい。
これらの成分を適宜含有させることにより、目的とするソルダーレジストの安定性、写真性、膜物性などの性質を調整することができる。
前記熱重合禁止剤については、例えば特開2008−250074号公報の段落〔0101〕〜〔0102〕に詳細に記載されている。
前記可塑剤については、例えば特開2008−250074号公報の段落〔0103〕〜〔0104〕に詳細に記載されている。
前記着色剤については、例えば特開2008−250074号公報の段落〔0105〕〜〔0106〕に詳細に記載されている。
前記密着促進剤については、例えば特開2008−250074号公報の段落〔0107〕〜〔0109〕に詳細に記載されている。
これら公報に記載の添加剤は、いずれも本発明の重合性組成物に使用可能である。
フィルタの孔径は、0.01〜7.0μm程度が適しており、好ましくは0.01〜2.5μm程度、さらに好ましくは0.01〜1.5μm程度である。この範囲とすることにより、後工程において均一及び平滑な着色組成物の調製を阻害する、微細な異物を確実に除去することが可能となる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第1のフィルタでのフィルタリングは、1回のみでもよいし、2回以上行ってもよい。異なるフィルタを組み合わせて2回以上フィルタリングを行う場合は1回目のフィルタリングの孔径より2回目以降の孔径が大きい方が好ましい。また、上述した範囲内で異なる孔径の第1のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
第2のフィルタは、上述した第1のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。第2のフィルタの孔径は、0.5〜7.0μm程度が適しており、好ましくは2.5〜7.0μm程度、さらに好ましくは4.5〜6.0μm程度である。この範囲とすることにより、混合液に含有されている成分粒子を残存させたまま、混合液に混入しており、後工程でおいて均一及び平滑な重合性組成物の調製を阻害する異物を除去することができる。
例えば、第1のフィルタでのフィルタリングは、分散液のみで行い、他の成分を混合した後で、第2のフィルタリングを行ってもよい。
また、本発明の重合性組成物の粘度は、厚膜形成性と均一塗布性の観点から、10mPa・s以上 3000mPa・s以下の範囲にあることが好ましく、より好ましくは、500mPa・s以上 1500mPa・s以下の範囲であり、最も好ましくは、700mPa・s以上1400mPa・s以下の範囲である。
パターン状のソルダーレジスト(ソルダーレジストパターン)を形成するには、まず、前記本発明の重合性組成物により感光層を形成する。感光層は、前記重合性組成物を含んで形成される層であれば、特に制限はなく、膜厚、積層構造などについては、目的に応じて適宜選択することができる。
また、塗膜の乾燥条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常60℃〜150℃の温度で30秒間〜15分間程度である。
本発明のソルダーレジスト用重合性組成物を用いてソルダーレジスト永久パターンを形成する方法は、露光工程を少なくとも含み、さらに、通常は、必要に応じて適宜条件を選択した現像工程、及び、その他の工程を含む。なお、本発明において「露光」とは、各種波長の光のみならず、電子線、i線などの放射線照射をも包含する意味で用いられる。
露光工程では、前記重合性組成物層により形成された感光性層を、マスクを介して露光する工程であり、本工程により、光照射された領域のみが硬化される。
露光は放射線の照射により行うことが好ましく、露光に際して用いることができる放射線としては、特に、電子線、KrF、ArF、g線、h線、i線等の紫外線や可視光が好ましく用いられる。好ましくは、KrF、g線、h線、i線が好ましい。
露光方式としては。ステッパー露光や、高圧水銀灯による露光などが挙げられる。
露光量は5mJ/cm2〜3000mJ/cm2が好ましく10mJ/cm2〜2000mJ/cm2がより好ましく、50mJ/cm2〜1000mJ/cm2が最も好ましい。
前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材の表面処理工程、現像工程、硬化処理工程、ポスト露光工程などが挙げられる。
露光工程に次いで、アルカリ現像処理(現像工程)を行い、露光工程における光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させる。これにより、光硬化した部分だけが残ってパターン状の遮光性を有するソルダーレジストが形成される。
現像液としては、下地の回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常、20℃〜40℃であり、現像時間は10秒〜180秒である。
前記硬化処理工程は、必要に応じ、前記現像工程が行われた後、形成されたパターンにおける感光層に対して硬化処理を行う工程であり、この処理を行うことにより、永久パターの機械的強度が向上する。
前記硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。
前記全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯などのUV露光機が好適に挙げられる。
全面加熱における加熱温度は、120℃〜250℃が好ましく、120℃〜250℃がより好ましい。該加熱温度が120℃以上であれば、加熱処理によって膜強度が向上し、250℃以下であれば、前記重合性組成物中の樹脂の分解が生じ、膜質が弱く脆くなることを防止できる。
全面加熱における加熱時間は、3分〜180分が好ましく、5分〜120分がより好ましい。
全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、IRヒーターなどが挙げられる。
<チタンブラック分散液Aの調製>
下記組成1を、ニーダーで30分混練した後、二本ロールにて高粘度分散処理を施し、分散物を得た。この際の分散物の粘度は40000mPa・sであった。
・平均一次粒径75nmチタンブラック13M−C 40部
(三菱マテリアルズ(株)製)(ピグメント ブラック35)
・例示化合物13(Mw:20000)のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(溶剤:以下、PGMEAと称することがある)溶液(固形分40%) 12部
この際の、混合溶液の粘度は7.0mPa・sであった。
・例示化合物13(Mw:20000)のPGMEA溶液(固形分40%) 6部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 200部
下記組成3を、ニーダーで30分混練した後、二本ロールにて高粘度分散処理を施し、分散物を得た。この際の分散物の粘度は40000mPa・sであった。
・平均一次粒径75nmチタンブラック13M−C 39部
(三菱マテリアルズ(株)製)(ピグメント ブラック35)
・アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体のPGMEA溶液(固形分40%) 8部
(アリルメタクリレート/メタクリル酸=70/30(質量比)、Mw:25000)
・ソルスパース5000(ルーブリゾール社製) 1部
この際の、混合溶液の粘度は7.0mPa・sであった。
・アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体のPGMEA溶液(固形分40%) 8部
(アリルメタクリレート/メタクリル酸=70/30(質量比)、Mw:25000)
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 200部
下記組成5を二本ロールにて高粘度分散処理を施し、分散物を得た。この際の分散物の粘度は70000mPa・sであった。
その後、この分散物に下記組成6の混合物を添加し、3000rpmの条件でホモジナイザーを用いて3時間攪拌した。得られた混合溶液を、0.3mmジルコニアビーズを用いた分散機(商品名:ディスパーマット GETZMANN社製)にて4時間微分散処理を施して、カーボンブラック分散液A(以下、CB分散液Aと表記する。)を調製した。この際の混合溶液の粘度は37mPa・sであった。
・平均一次粒径15nmカーボンブラック(PigmentBlack7) 23部
・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体のPGMEA45%溶液 22部
(ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=67/33(質量比) Mw:28000)
・ソルスパース5000(ルーブリゾール社製) 1.2部
・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体のPGMEA45%溶液 22部
(ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=67/33(質量比) Mw:28000)
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 200部
反応容器にシクロヘキサノン800部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら100℃に加熱して、同温度で、スチレン60.0部、メタクリル酸80.0部、メチルメタクリレート68.0部、ブチルメタクリレート62.0部、アゾビスイソブチロニトリル9.0部の混合物を1時間かけて滴下して重合反応を行った。滴下後さらに100℃で3時間反応させた後、アゾビスイソブチロニトリル2.0部をシクロヘキサノン50部で溶解させたものを添加し、さらに100℃で1時間反応を続けて、重量平均分子量が約30000、3.44mmol/gのアクリル樹脂1の溶液を得た。
室温まで冷却した後、樹脂溶液約2gをサンプリングして180℃、20分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が20質量%になるようにシクロヘキサノンを添加して特定樹脂1溶液を調製した。
アクリル樹脂1の溶液にグリシジルメタクリレートを10部、テトラエチルアンモニウムブロミド1部を加え、90℃で2時間攪拌し、側鎖に二重結合性基を導入した。
そして、再沈方法により、重量平均分子量が約32000、二重結合性基が3.1mmol/gの固体の特定樹脂2(特定バインダー樹脂Aに相当)を得た。
その後、特定樹脂1の合成と同様にして不揮発分が20質量%となるよう溶媒量を調整し、特定樹脂2溶液を得た。
下記の重合性組成物溶液Aの組成を混合し、下記のフィルタを用いてろ過して、実施例1〜4、および比較例1、2の重合性組成物を調製した。
ろ過のフィルタ:第1のフィルタとして、日本ポール社製プロファイル・スター(ポリプロピレン 濾過精度1.5μm)を用い、第2のフィルタには日本ポール社製HDCII(高密度ポリプロピレン 濾過精度6.0μm)を用いた。
・下記組成のシリカ分散液 79.94部
・赤外線遮蔽材(下記表1に記載の化合物) (下記表1記載の量)
・重合性化合物(下記表1に記載の化合物) 20.00部
・特定樹脂2(上記合成法で得たもの) 37.50部
・メガファックF−780 0.15部
〔DIC(株)製〕の30%メチルエチルケトン溶液
・ビスフェノールAジグリシジルエーテル 10.93部
・重合開始剤(下記表1に記載の化合物) 0.90部
・溶媒(PGMEA) 20.0部
・フィラー1(SC−2500−SMJ;球状シリカ 16.99部
メタクリルシラン処理1%;一次粒子の体積平均粒径0.5μm;アドマテックス社製)
・特定樹脂2溶液(濃度20%) 62.75部
・ジシアンジアミド(硬化促進剤) 0.20部
(重合性化合物)
M−1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)
M−2:ペンタエリスリトールトリアクリレートのコハク酸変性体
また、分散機(商品名:ディスパーマット GETZMANN社製)で微分散処理を施した分散液の粘度は、東機産業社製 型式RE550Hを用いて25℃で測定した。
透過率は、島津製作所社製 型式 UV−3600を用いて測定した。
得られた実施例1〜4、比較例1、2の重合性組成物を、それぞれ、シリコンウエハにスピンコート法で、膜厚が25μmになるよう塗布し、その後、ホットプレート上において120℃で2分加熱して重合性組成物層を得た。
次いで、得られた重合性組成物層を、i線ステッパーを用い、300μmのパターンを有するフォトマスクを介して露光量50〜2000mJ/cm2の範囲の露光量を、50mJ/cm2の刻みで変化させて照射した。
前記露光後の重合性組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド2.38質量%水溶液を用い、25℃で60秒間パドル現像を行った。その後スピンシャワーにてリンスを行いさらに純水にて水洗し、赤外線遮蔽性のソルダーレジストパターンを得た。現像工程を60秒実施した際に直径300μmの円のパターンが得られた最低露光量を測定し、パターン形成性の目安とした。数値が小さい程、感度、パターン形成性が良好であると評価する。
また、同条件でガラス基板に重合性組成物をスピンコートして膜厚が25μmの感光層(重合性組成物層)塗膜を形成し、塗膜の波長1200nmの透過率を測定した。数値が低いほど赤外線遮蔽性に優れると評価する。透過率が2%以下で実用上良好な赤外線遮蔽性を示すといえる。
−重合性組成物溶液Bの組成−
・バインダー(ZAR−2039H、日本化薬株式会社製、固形分濃度60%;ビスフェノールA型のエポキシアクリレート) 35.6部
・重合性化合物(DPHA、日本化薬株式会社製) 2.57部
・熱架橋剤(エポトートYDF−170、東都化成株式会社製、ビスフェノールF型エポキシ樹脂) 3.95部
・熱架橋剤(和光純薬製 メラミン) 1.38部
・重合開始剤(イルガキュア−907、BASF社製) 0.97部
・増感剤(ジエチルチオキサントン) 0.009部
・エラストマー(エスペル1620、日立化成工業社製) 32.48部
・赤外線遮蔽材(下記表3に記載の化合物) (下記表3に記載の量)
・メガファックF−780〔DIC(株)製〕の30%メチルエチルケトン溶液 0.15部
・PGMEA(溶媒) 22.90部
・シクロヘキサノン(溶媒) 10.00部
赤外線遮蔽材1:American Dye Source,Inc.社製 ADS 1120P(ピリリウム染料)
赤外線遮蔽材2:American Dye Source,Inc.社製 ADS 840MT(キノリニウム染料)
赤外線遮蔽材3:山本化成(株)社製 PA−1001(フタロシアニン染料)
赤外線遮蔽材4:山本化成(株)社製 SIR−132(フタロシアニン染料)
赤外線遮蔽材5:山本化成(株)社製 YKR−3040(フタロシアニン染料)
−特定樹脂3の合成−
1,000mL三口フラスコに、1−メトキシ−2−プロパノール159gを入れ、窒素気流下、85℃まで加熱した。これに、ベンジルメタクリレート63.4g、メタクリル酸72.3g、V−601(重合開始剤:和光純薬製)4.15gの1−メトキシ−2−プロパノール159g溶液を、2時間かけて滴下した。滴下終了後、更に5時間加熱して反応させた。
次いで、加熱を止め、ベンジルメタクリレート/メタクリル酸(30/70mol%比)の共重合体を得た。
次に、前記共重合体溶液のうち、120.0gを300mL三口フラスコに移し、グリシジルメタクリレート16.6g、p−メトキシフェノール0.16gを加え、撹拌し溶解させた。溶解後、トリフェニルホスフィン3.0gを加え、100℃に加熱し、付加反応を行った。グリシジルメタクリレートが消失したことを、ガスクロマトグラフィーで確認し、加熱を止めた。
1−メトキシ−2−プロパノール38gを加え、酸価112mgKOH/g、重量平均分子量24,000、固形分46%の特定樹脂3溶液を調製した。
・上記特定樹脂3溶液 45.0部
・赤外線遮蔽材(下記表5に記載の化合物・分散物) (下記表5に記載の量)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 10.7部
(商品名:KAYARAD DPHA、日本化薬(株)製)
・重合開始剤〔Irgacure OXE02(BASF社製)〕 1.50部
・エポキシ樹脂〔エポトートYDF−170(東都化成株式会社製、ビスフェノールF型)〕 5.00部
・下記の顔料分散液 35.7部
・メガファックF−780(DIC株式会社製)の30%メチルエチルケトン溶液 0.13部
・メチルエチルケトン 12.0部
シリカ(アドマテックス(株)製、SO−C2)30部と、前記特定樹脂3溶液48.2部と、フタロシアニンブルー(C.I.Pigment Blue15:3)0.51部と、アントラキノン系黄色顔料(C.I.Pigment Yellow 24)0.14部と、ジシアンジアミド0.37部と、酢酸ノルマルプロピル59.0部と、を予め混合した後、モーターミルM−250(アイガー社製)で、直径1.0mmのジルコニアビーズを用い、周速9m/sにて3時間分散して調製した。
赤外線遮蔽材6:特開平11−109126において化合物16として例示された下記構造のシアニン色素。
赤外線遮蔽材7:日本触媒製、IR−910(フタロシアニン色素)
−特定バインダー樹脂Bに相当するバインダーポリマーB(ポリイミド樹脂前駆体〜ポリアミック酸1)の合成−
<ポリアミック酸1の合成>
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口、および窒素ガス導入口を備えた1000mlの四つ口フラスコに、DPM(4,4’−ジアミノジフェニルメタン、24.454g)および乾燥NMP(436.86ml)を入れ、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。反応系の温度を70℃の範囲内に保ちながら、PMDA(ピロメリット酸二無水物、13.451g)およびCBDA(シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、12.095g)を添加して、24時間反応させ、ポリアミック酸1のNMP溶液を得た。得られたポリアミック酸のGPCによる分子量は、75,000であった。
前記重合性組成物溶液Cにおいて用いた特定樹脂3溶液を、前記バインダーポリマーB溶液に代えた以外は実施例11と同様にして、実施例16の重合性組成物溶液Dを得た。
−特定バインダー樹脂Cに相当するバインダーポリマーC(アルカリ可溶性光架橋性ポリウレタン樹脂)の合成−
500mlの三つ口フラスコに4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート50.1gとポリオキシテトラメチレングリコール(分子量=981)68.7gと2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸17.4gをジオキサン90mlに溶解した。N,N−ジエチルアニリンを0.3g添加した後、ジオキサン還流下で6時間撹拌することにより、カルボキシル基を有するポリウレタン樹脂溶液を得た。
反応終了後、酸素7容量%、窒素93容量%の混合気流下で、グリシジルアクリレート3.84g、トリフェニルホスフィン0.11g、及びハイドロキノンモノメチルエーテル0.027gを加え、100℃で10時間反応することにより、バインダーポリマーC溶液を得た。
上記で得られたバインダーポリマーCの固形分の酸価は、40mgKOH/gで、固形分の臭素価は、3.4gBr2/100gであった。GPC装置にて分子量を測定したところ、質量平均(ポリスチレン標準)で32,000であった。
前記酸価は、JIS K0070に準拠して測定した。ただし、サンプルが溶解しない場合は、溶媒としてジオキサン又はテトラヒドロフラン(THF)などを使用した。
前記臭素価は、JIS K2605に準拠して測定した。
前記質量平均分子量は、高速GPC装置(東洋曹達社製、HLC−802A)を使用して測定した。即ち、0.5質量%のTHF溶液を試料溶液とし、カラムはTSKgelGMHを使用し、200μlの試料を注入し、前記THF溶液で溶離して、25℃で屈折率検出器により測定した。次に、標準ポリスチレンで較正した分子量分布曲線より質量平均分子量を求めた。
前記重合性組成物溶液Cにおいて用いた特定樹脂3溶液を、前記バインダーポリマーC溶液に代えた以外は実施例11と同様にして、実施例17の重合性組成物溶液Eを得た。
表6に明らかなように、バインダーポリマーとして、特定バインダー樹脂Bに相当するポリイミド樹脂や特定バインダー樹脂Cに相当するポリウレタン樹脂を用いた場合でも、本発明のソルダーレジスト用重合性組成物は、赤外線遮蔽性とパターン形成性に優れることがわかる。
Claims (13)
- 赤外線遮蔽材、重合開始剤、及び、重合性化合物を含有するソルダーレジスト用重合性組成物。
- 前記赤外線遮蔽材が、赤外吸収色素、又は、金属含有無機顔料である請求項1に記載のソルダーレジスト用重合性組成物。
- 前記赤外線遮蔽材が、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、下記一般式(I)で表される色素、下記一般式(II)で表される色素、及び、下記一般式(III)で表される色素から選択される少なくとも1種の赤外吸収色素である請求項1に記載のソルダーレジスト用重合性組成物。
前記一般式(I)中、Z1及びZ2は、それぞれ独立に、縮環してもよい5員又は6員の含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、R1及びR2は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、又はアラルキル基を表す。Lは5個から9個のメチン基が二重結合で共役するように結合してなる構造を含む連結基であり、a、及びbは、それぞれ0又は1であり、Xは対アニオンを表す。
前記一般式(II)中、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、及びR17は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、R10とR11、R12とR13、R14とR15、及びR16とR17の1組以上は、互いに結合し5員又は6員の環構造を形成してもよい。X1は酸素原子、又は−NR18を、X2は酸素原子又は−NR19を、X3は酸素原子又は−NR20を、X4は、酸素原子又は−NR21を表し、R18、R19、R20、及びR21は、それぞれ独立に、水素原子、直鎖又は分岐アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環基を表し、R18とR10、R19とR11、R20とR16、及びR21とR17の1組以上は、互いに連結して5員又は6員の環構造を形成してもよい。R22、R23及びR24は、それぞれ独立に水素原子又は1価の基を表し、nは1から3の整数を、mは0から6の整数を表す。nが2又は3を表すとき、複数存在するR22、R23又はR24は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
一般式(III)中、R30は、−CONHR35、−SO2NHR35、−NHSO2R35、−NHCOR35、−NHCONHR35、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、又は、スルホ基を表し、R31は水素原子、アルキル基、−NHSO2R35、−NHCOR35を表し、R35はアルキル基、アリール基、又は、ヘテロ環基を表す。R32は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基、又はハロゲン原子を表し、複数存在するR32は互いに同じであっても異なっていてもよい。nは0から3の整数を表す。R33及びR34は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、R33とR34、R32とR33、及びR32とR34の1組以上は、互いに結合し5員又は6員の環構造を形成してもよい。 - 前記赤外線遮蔽材が、チタンブラックである請求項1又は請求項2に記載のソルダーレジスト用重合性組成物。
- 前記重合性化合物が、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物からなる群より選択される1種以上である請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用重合性組成物。
- 前記重合性化合物が、分子内に複数の重合性基を有する多官能重合性化合物である請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用重合性組成物。
- さらにバインダーポリマーを含有する請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用重合性組成物。
- 固形分濃度が30質量%以上80質量%以下であり、粘度が10mPa・s以上3000mPa・s以下の範囲にある請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用重合性組成物。
- 膜厚20μmの硬化膜を形成したとき、該硬化膜の波長800−1200nmの光の透過率が10%以下である請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用重合性組成物。
- 膜厚20μmの硬化膜を形成したとき、該硬化膜の波長800−1200nmにおける光学濃度(OD値)の最低値が、該硬化膜の波長300−450nmにおける光学濃度の最低値の3倍未満である請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用重合性組成物。
- 膜厚20μmの硬化膜を形成したとき、該硬化膜の絶縁破壊電圧が1MV/cm以上である請求項1から請求項10のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用重合性組成物。
- 固体撮像素子に使用されるソルダーレジストの形成に用いられる請求項1から請求項11のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用重合性組成物。
- 基板上に、請求項1から請求項11のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用重合性組成物を含有する感光層を形成する工程と、
該感光層をパターン露光して、露光部を硬化させる工程と、
未硬化の感光層を現像により除去してパターン状の赤外線遮蔽性硬化膜を形成する工程と、
をこの順で有するソルダーレジストパターンの形成方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010271640A JP2012003225A (ja) | 2010-01-27 | 2010-12-06 | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
PCT/JP2010/072154 WO2011092950A1 (ja) | 2010-01-27 | 2010-12-09 | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
EP10844704.6A EP2530523A4 (en) | 2010-01-27 | 2010-12-09 | POLYMERIZABLE COMPOSITION FOR SOLDER RESERVE AND METHOD FOR FORMING SOLDER RESIST PATTERN |
US13/575,551 US9389505B2 (en) | 2010-01-27 | 2010-12-09 | Polymerizable composition for solder resist, and solder resist pattern formation method |
KR1020127022090A KR20120127612A (ko) | 2010-01-27 | 2010-12-09 | 솔더 레지스트용 중합성 조성물 및 솔더 레지스트 패턴의 형성 방법 |
TW100100491A TWI557506B (zh) | 2010-01-27 | 2011-01-06 | 防焊光阻用聚合性組成物及防焊光阻圖案的形成方法 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010016041 | 2010-01-27 | ||
JP2010016041 | 2010-01-27 | ||
JP2010115725 | 2010-05-19 | ||
JP2010115725 | 2010-05-19 | ||
JP2010271640A JP2012003225A (ja) | 2010-01-27 | 2010-12-06 | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012003225A true JP2012003225A (ja) | 2012-01-05 |
Family
ID=44318949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010271640A Abandoned JP2012003225A (ja) | 2010-01-27 | 2010-12-06 | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9389505B2 (ja) |
EP (1) | EP2530523A4 (ja) |
JP (1) | JP2012003225A (ja) |
KR (1) | KR20120127612A (ja) |
TW (1) | TWI557506B (ja) |
WO (1) | WO2011092950A1 (ja) |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014069197A1 (ja) * | 2012-11-01 | 2014-05-08 | 株式会社Adeka | アルカリ現像性感光性組成物 |
WO2014129366A1 (ja) | 2013-02-19 | 2014-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュールおよびその製造方法 |
WO2014168221A1 (ja) | 2013-04-11 | 2014-10-16 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
WO2014189099A1 (ja) | 2013-05-23 | 2014-11-27 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュール |
WO2014199937A1 (ja) | 2013-06-12 | 2014-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、カメラモジュールおよびカメラモジュールの製造方法 |
JP2017034213A (ja) * | 2015-08-06 | 2017-02-09 | 住友ベークライト株式会社 | ソルダーレジスト用樹脂組成物、キャリア付樹脂膜、配線基板、電子装置、および電子装置の製造方法 |
CN107710074A (zh) * | 2015-06-24 | 2018-02-16 | 互应化学工业株式会社 | 阻焊剂组合物、被膜、被覆印刷布线板、被膜的制造方法和被覆印刷布线板的制造方法 |
JP6322837B1 (ja) * | 2017-06-13 | 2018-05-16 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | スクアリリウム色素及びその用途 |
JP2018141976A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、および感光性樹脂印刷版原版 |
WO2019054281A1 (ja) | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、積層体、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ |
TWI656402B (zh) * | 2017-01-14 | 2019-04-11 | 臻鼎科技股份有限公司 | 感光樹脂組合物及其製備方法 |
WO2020049930A1 (ja) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 車両用ヘッドライトユニット、ヘッドライト用の遮光膜、ヘッドライト用の遮光膜の製造方法 |
WO2020059509A1 (ja) | 2018-09-20 | 2020-03-26 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 |
WO2021100768A1 (ja) | 2019-11-21 | 2021-05-27 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、光硬化性樹脂組成物、積層体の製造方法、及び、電子デバイスの製造方法 |
WO2022130773A1 (ja) | 2020-12-17 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
WO2022131191A1 (ja) | 2020-12-16 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
WO2022202647A1 (ja) | 2021-03-22 | 2022-09-29 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化物、積層体、硬化物の製造方法、及び、半導体デバイス |
WO2022210175A1 (ja) | 2021-03-29 | 2022-10-06 | 富士フイルム株式会社 | 黒色感光性組成物、黒色感光性組成物の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、光学素子、固体撮像素子、ヘッドライトユニット |
WO2023032545A1 (ja) | 2021-08-31 | 2023-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6463018B2 (ja) * | 2014-07-11 | 2019-01-30 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | カラーフィルター用感光性樹脂組成物の製造方法及びカラーフィルター用感光性樹脂組成物 |
KR102121343B1 (ko) * | 2015-09-30 | 2020-06-10 | 도레이 카부시키가이샤 | 네가티브형 감광성 수지 조성물, 경화막, 경화막을 구비하는 소자 및 표시 장치, 및 그의 제조 방법 |
CN108474885B (zh) * | 2016-01-15 | 2021-04-13 | 东洋油墨Sc控股株式会社 | 固体摄像元件用近红外线吸收性组合物及滤波器、固体摄像元件 |
KR20170099525A (ko) * | 2016-02-24 | 2017-09-01 | 동우 화인켐 주식회사 | 레지스트 박리액 조성물 |
US11561470B2 (en) * | 2017-03-29 | 2023-01-24 | Toray Industries, Inc. | Negative photosensitive resin composition, cured film, element provided with cured film, organic EL display provided with cured film, and method for producing same |
TWI662063B (zh) * | 2018-02-02 | 2019-06-11 | 新應材股份有限公司 | 感光性聚醯亞胺組成物及其所製成之光阻膜 |
TWI707004B (zh) * | 2018-08-02 | 2020-10-11 | 臻鼎科技股份有限公司 | 感光樹脂組合物及其製備方法 |
KR102253712B1 (ko) * | 2018-10-02 | 2021-05-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치 |
CN110475435A (zh) * | 2019-08-14 | 2019-11-19 | 江西景旺精密电路有限公司 | 一种防焊小孔径制作通孔的方法 |
US20220005687A1 (en) * | 2020-07-02 | 2022-01-06 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device and pattern formation method |
TW202230402A (zh) * | 2020-10-14 | 2022-08-01 | 日商味之素股份有限公司 | 磁性糊料 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0277749A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-16 | Mitsubishi Kasei Corp | ソルダーマスクの製造法 |
JPH0758305A (ja) * | 1993-08-18 | 1995-03-03 | Nec Corp | 固体撮像装置 |
JPH10244206A (ja) * | 1997-03-04 | 1998-09-14 | Kansai Paint Co Ltd | ソルダレジスト膜の形成方法 |
JPH11109126A (ja) * | 1997-10-03 | 1999-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 近赤外吸収フイルターおよびそれを用いた表示素子 |
JP2001228607A (ja) * | 2000-02-21 | 2001-08-24 | Mitsubishi Chemicals Corp | 赤外光硬化性組成物 |
JP2001235857A (ja) * | 2000-02-22 | 2001-08-31 | Mitsubishi Chemicals Corp | 赤外光硬化性組成物 |
JP2001335619A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-12-04 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | エポキシ変性ポリイミドおよび、これを用いた感光性組成物、カバーレイフィルム、ソルダーレジスト、プリント配線板 |
JP2002294131A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Goo Chemical Co Ltd | フォトソルダーレジストインク |
JP2004226621A (ja) * | 2003-01-22 | 2004-08-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 近赤外レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 |
WO2007023834A1 (ja) * | 2005-08-23 | 2007-03-01 | Bridgestone Corporation | 接着剤組成物 |
JP2008257045A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 黒色ソルダーレジスト組成物およびその硬化物 |
WO2009116442A1 (ja) * | 2008-03-17 | 2009-09-24 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散組成物、着色感光性組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子 |
JP2009244741A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP2011075678A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Taiyo Holdings Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びその硬化物、並びにプリント配線板 |
WO2011067998A1 (ja) * | 2009-12-04 | 2011-06-09 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを用いた積層体および固体撮像装置 |
Family Cites Families (95)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3479185A (en) | 1965-06-03 | 1969-11-18 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers |
DK125218B (da) | 1967-11-09 | 1973-01-15 | Kalle Ag | Lysfølsomt optegnelsesmateriale og lysfølsom blanding til anvendelse ved fremstilling af materialet. |
DE2033769B2 (de) | 1969-07-11 | 1980-02-21 | Ppg Industries, Inc., Pittsburgh, Pa. (V.St.A.) | Bis-<2-acryloxyäthyl)hexahydrophthalat enthaltende Gemische und Herstellungsverfahren |
JPS4841708B1 (ja) | 1970-01-13 | 1973-12-07 | ||
DE2053683A1 (de) | 1970-11-02 | 1972-05-10 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Photopolymerisierbare Kopiermasse |
DE2064080C3 (de) | 1970-12-28 | 1983-11-03 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
DE2064079C2 (de) | 1970-12-28 | 1982-09-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
JPS5324989B2 (ja) | 1971-12-09 | 1978-07-24 | ||
JPS5230490B2 (ja) | 1972-03-21 | 1977-08-09 | ||
JPS5212733B2 (ja) | 1972-05-04 | 1977-04-09 | ||
DE2361041C3 (de) | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
DE2363806B2 (de) | 1973-12-21 | 1979-05-17 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
JPS5311314B2 (ja) | 1974-09-25 | 1978-04-20 | ||
ZA757984B (en) | 1974-10-04 | 1976-12-29 | Dynachem Corp | Polymers for aqueous processed photoresists |
NZ187714A (en) | 1977-07-15 | 1980-09-12 | Ici Ltd | Dispersing agent reaction product of a polyalkylene imine and a polyester |
DE2822189A1 (de) | 1978-05-20 | 1980-04-17 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
DE2822190A1 (de) | 1978-05-20 | 1979-11-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
US4311783A (en) | 1979-08-14 | 1982-01-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5,-triphenylimidazole compounds as photoinitiators |
DE2952698A1 (de) | 1979-12-29 | 1981-07-02 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial |
DE2952697A1 (de) | 1979-12-29 | 1981-07-02 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches kopiermaterial |
DE3036694A1 (de) | 1980-09-29 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3048502A1 (de) | 1980-12-22 | 1982-07-22 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE3120052A1 (de) | 1981-05-20 | 1982-12-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial |
JPS57205322A (en) | 1981-06-15 | 1982-12-16 | Mitsubishi Metal Corp | Manufacture of fine powder of black lower titanium oxide |
DE3223104A1 (de) | 1982-06-21 | 1983-12-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial |
JPS595241A (ja) | 1982-06-21 | 1984-01-12 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 放射線重合可能な混合物 |
JPS5944615A (ja) | 1982-09-07 | 1984-03-13 | Furuno Electric Co Ltd | ジヤイロ装置 |
JPS5953836A (ja) | 1982-09-21 | 1984-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JPS5971048A (ja) | 1982-10-18 | 1984-04-21 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合系感光性組成物 |
NL8300155A (nl) | 1983-01-17 | 1984-08-16 | Philips Nv | Registratie-element met een pyrylium- of thiopyrylium-squarylium kleurstoflaag en nieuwe pyrylium- of thiopyrylium-squarylium verbindingen. |
JPS6065069A (ja) | 1983-09-21 | 1985-04-13 | Mitsubishi Metal Corp | 黒色顔料 |
JPH0629285B2 (ja) | 1983-10-14 | 1994-04-20 | 三菱化成株式会社 | 光重合性組成物 |
DE3421511A1 (de) | 1984-06-08 | 1985-12-12 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Polymerisierbare, perfluoralkylgruppen aufweisende verbindungen, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck |
JPS61201610A (ja) | 1985-02-28 | 1986-09-06 | Mitsubishi Metal Corp | 黒色粉末およびその製造方法 |
US4622286A (en) | 1985-09-16 | 1986-11-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer |
DE3710279A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3710282A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-13 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3710281A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3738864A1 (de) | 1987-11-16 | 1989-05-24 | Hoechst Ag | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
JP2763775B2 (ja) | 1988-05-17 | 1998-06-11 | ダイセル化学工業株式会社 | 活性エネルギー線硬化型不飽和樹脂組成物 |
DE3817424A1 (de) | 1988-05-21 | 1989-11-23 | Hoechst Ag | Alkenylphosphon- und -phosphinsaeureester, verfahren zu ihrer herstellung und durch strahlung polymerisierbares gemisch, das diese verbindungen enthaelt |
DE3843205A1 (de) | 1988-12-22 | 1990-06-28 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbare verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
JP2893531B2 (ja) | 1989-04-13 | 1999-05-24 | 三菱化学株式会社 | ポリエステルマクロモノマー |
DE3930687A1 (de) | 1989-09-14 | 1991-04-11 | Byk Chemie Gmbh | Phosphorsaeureester, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung als dispergiermittel |
JPH0792603B2 (ja) | 1989-11-30 | 1995-10-09 | タムラ化研株式会社 | ソルダーマスク用感光性樹脂組成物 |
CA2011515C (en) | 1990-03-05 | 1994-10-11 | Roger Boulanger | Method for producing a non-woven fabric with a thermally activated adhesive surface, resulting product and applications thereof |
DE59108989D1 (de) | 1990-12-18 | 1998-06-25 | Ciba Geigy Ag | Strahlungsempfindliche Zusammensetzung auf Basis von Wasser als Lösungs- bzw. Dispersionsmittel |
JPH0768256B2 (ja) | 1991-08-01 | 1995-07-26 | 株式会社ジャパンエナジー | 新規イミダゾールシラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤 |
DE69320241T2 (de) | 1992-05-06 | 1999-04-29 | Kyowa Hakko Kogyo Kk | Chemisch amplifizierte Resistzusammensetzung |
JPH06295060A (ja) | 1992-10-29 | 1994-10-21 | Ajinomoto Co Inc | 感光性樹脂組成物又は感光性熱硬化性樹脂組成物及びそれらを使用したフォトソルダ−レジスト組成物 |
GB9306222D0 (en) | 1993-03-25 | 1993-05-19 | Zeneca Ltd | Dispersants |
JP3421428B2 (ja) | 1994-05-27 | 2003-06-30 | 日立化成工業株式会社 | 着色画像形成材料を含む感光液、これを用いた感光性エレメント及びカラーフィルターの製造法 |
JPH0977994A (ja) | 1995-09-18 | 1997-03-25 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 非水系用顔料分散剤、およびそれを含有する顔料組成物、ならびに非水系顔料分散体 |
JP3718915B2 (ja) | 1995-10-16 | 2005-11-24 | 味の素株式会社 | 顔料分散剤 |
JP3946309B2 (ja) | 1997-04-10 | 2007-07-18 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性組成物 |
JP3867177B2 (ja) | 1997-04-30 | 2007-01-10 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物 |
JP3690707B2 (ja) | 1997-06-24 | 2005-08-31 | ホリカフーズ株式会社 | アレルゲン低減化米の製造方法、及びアレルゲン低減化米を用いた加工食品 |
JP3247091B2 (ja) | 1997-11-28 | 2002-01-15 | 日立化成工業株式会社 | 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
JPH11271969A (ja) | 1998-01-21 | 1999-10-08 | Mitsubishi Chemical Corp | 光重合性組成物及び感光性平版印刷版 |
US6359090B1 (en) | 1998-06-09 | 2002-03-19 | Kerr Corporation | Polymerizable dispersant |
SG77689A1 (en) | 1998-06-26 | 2001-01-16 | Ciba Sc Holding Ag | New o-acyloxime photoinitiators |
DK199901098A (da) | 1998-08-18 | 2000-02-19 | Ciba Sc Holding Ag | Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse |
DE19847033A1 (de) | 1998-10-13 | 2000-04-20 | Agfa Gevaert Ag | Negativ arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch zur Herstellung eines mit Wärme oder Infrarotlaser bebilderbaren Aufzeichnungsmaterials |
JP4502427B2 (ja) | 1998-12-09 | 2010-07-14 | 互応化学工業株式会社 | フォトソルダーレジストインク |
JP2001125255A (ja) | 1999-10-27 | 2001-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
TW567198B (en) * | 1999-12-28 | 2003-12-21 | Kaneka Corp | Epoxy-modified polyimide, photosensitive composition, coverlay film, solder resist, and printed wiring board using the epoxy-modified polyimide |
JP4295418B2 (ja) | 2000-05-11 | 2009-07-15 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版 |
JP2002139828A (ja) | 2000-11-06 | 2002-05-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP2002273191A (ja) | 2001-03-21 | 2002-09-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 顔料分散剤および感光性着色組成物 |
US6849679B2 (en) | 2001-05-21 | 2005-02-01 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Pigment compositions with modified block copolymer dispersants |
CN100528838C (zh) | 2001-06-11 | 2009-08-19 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 具有复合结构的肟酯光引发剂 |
JP4064681B2 (ja) | 2002-02-14 | 2008-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散剤、それを含む顔料分散組成物及び着色感光性組成物 |
JP3908569B2 (ja) | 2002-03-11 | 2007-04-25 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録材料 |
JP4428911B2 (ja) | 2002-07-05 | 2010-03-10 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 |
JP4142973B2 (ja) | 2003-03-28 | 2008-09-03 | 株式会社日本触媒 | 硬化性樹脂組成物およびその用途 |
US7180149B2 (en) * | 2003-08-28 | 2007-02-20 | Fujikura Ltd. | Semiconductor package with through-hole |
JP4401261B2 (ja) | 2004-08-25 | 2010-01-20 | 大川工業株式会社 | 可搬型天幕のフレーム |
JP4020150B1 (ja) | 2005-07-08 | 2007-12-12 | 東洋インキ製造株式会社 | 分散剤、その製造方法、及び該分散剤を含む顔料分散体 |
JP5312743B2 (ja) | 2006-02-01 | 2013-10-09 | 富士フイルム株式会社 | オキシム化合物及びそれを含む感光性組成物 |
JP5354863B2 (ja) | 2006-02-24 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | オキシム誘導体、光重合性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法 |
JP5171005B2 (ja) | 2006-03-17 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤 |
JP2007302836A (ja) | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Mikuni Color Ltd | ブラックマトリックス形成用カーボンブラック分散液 |
JP2007322744A (ja) | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Fujifilm Corp | 着色感光性樹脂組成物、及び感光性樹脂転写材料、並びに、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置 |
JP5219408B2 (ja) | 2006-06-02 | 2013-06-26 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散組成物、光硬化性組成物、それを用いたカラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法 |
JP5191181B2 (ja) | 2006-09-01 | 2013-04-24 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
JP2008250074A (ja) | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
JP5320760B2 (ja) | 2007-07-27 | 2013-10-23 | 三菱化学株式会社 | カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP5496482B2 (ja) | 2007-08-27 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
JP5371449B2 (ja) | 2008-01-31 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法 |
JP5334624B2 (ja) | 2008-03-17 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
US8872099B2 (en) * | 2008-03-18 | 2014-10-28 | Fujifilm Corporation | Solid-state image sensor including a light-shielding color filter formed from a photosensitive resin composition, photosensitive resin composition and method of producing a light-shielding color filter |
JP5173528B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP5192876B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-05-08 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP5340102B2 (ja) | 2008-10-03 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット |
TWI543993B (zh) * | 2010-03-25 | 2016-08-01 | 富士軟片股份有限公司 | 黑色硬化型組成物、用於固態攝像元件的遮光彩色濾光片及其製造方法、固態攝像元件、晶圓級透鏡及攝影模組 |
-
2010
- 2010-12-06 JP JP2010271640A patent/JP2012003225A/ja not_active Abandoned
- 2010-12-09 EP EP10844704.6A patent/EP2530523A4/en not_active Withdrawn
- 2010-12-09 WO PCT/JP2010/072154 patent/WO2011092950A1/ja active Application Filing
- 2010-12-09 KR KR1020127022090A patent/KR20120127612A/ko active Search and Examination
- 2010-12-09 US US13/575,551 patent/US9389505B2/en active Active
-
2011
- 2011-01-06 TW TW100100491A patent/TWI557506B/zh active
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0277749A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-16 | Mitsubishi Kasei Corp | ソルダーマスクの製造法 |
JPH0758305A (ja) * | 1993-08-18 | 1995-03-03 | Nec Corp | 固体撮像装置 |
JPH10244206A (ja) * | 1997-03-04 | 1998-09-14 | Kansai Paint Co Ltd | ソルダレジスト膜の形成方法 |
JPH11109126A (ja) * | 1997-10-03 | 1999-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 近赤外吸収フイルターおよびそれを用いた表示素子 |
JP2001335619A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-12-04 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | エポキシ変性ポリイミドおよび、これを用いた感光性組成物、カバーレイフィルム、ソルダーレジスト、プリント配線板 |
JP2001228607A (ja) * | 2000-02-21 | 2001-08-24 | Mitsubishi Chemicals Corp | 赤外光硬化性組成物 |
JP2001235857A (ja) * | 2000-02-22 | 2001-08-31 | Mitsubishi Chemicals Corp | 赤外光硬化性組成物 |
JP2002294131A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Goo Chemical Co Ltd | フォトソルダーレジストインク |
JP2004226621A (ja) * | 2003-01-22 | 2004-08-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 近赤外レーザー感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 |
WO2007023834A1 (ja) * | 2005-08-23 | 2007-03-01 | Bridgestone Corporation | 接着剤組成物 |
JP2008257045A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 黒色ソルダーレジスト組成物およびその硬化物 |
WO2009116442A1 (ja) * | 2008-03-17 | 2009-09-24 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散組成物、着色感光性組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子 |
JP2009244741A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP2011075678A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Taiyo Holdings Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びその硬化物、並びにプリント配線板 |
WO2011067998A1 (ja) * | 2009-12-04 | 2011-06-09 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを用いた積層体および固体撮像装置 |
Cited By (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014069197A1 (ja) * | 2012-11-01 | 2014-05-08 | 株式会社Adeka | アルカリ現像性感光性組成物 |
KR20150082113A (ko) * | 2012-11-01 | 2015-07-15 | 가부시키가이샤 아데카 | 알칼리 현상성 감광성 조성물 |
JPWO2014069197A1 (ja) * | 2012-11-01 | 2016-09-08 | 株式会社Adeka | アルカリ現像性感光性組成物 |
KR102093446B1 (ko) * | 2012-11-01 | 2020-03-25 | 가부시키가이샤 아데카 | 알칼리 현상성 감광성 조성물 |
WO2014129366A1 (ja) | 2013-02-19 | 2014-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュールおよびその製造方法 |
WO2014168221A1 (ja) | 2013-04-11 | 2014-10-16 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
WO2014189099A1 (ja) | 2013-05-23 | 2014-11-27 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュール |
WO2014199937A1 (ja) | 2013-06-12 | 2014-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、カメラモジュールおよびカメラモジュールの製造方法 |
CN107710074A (zh) * | 2015-06-24 | 2018-02-16 | 互应化学工业株式会社 | 阻焊剂组合物、被膜、被覆印刷布线板、被膜的制造方法和被覆印刷布线板的制造方法 |
JP2017034213A (ja) * | 2015-08-06 | 2017-02-09 | 住友ベークライト株式会社 | ソルダーレジスト用樹脂組成物、キャリア付樹脂膜、配線基板、電子装置、および電子装置の製造方法 |
TWI656402B (zh) * | 2017-01-14 | 2019-04-11 | 臻鼎科技股份有限公司 | 感光樹脂組合物及其製備方法 |
JP2018141976A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、および感光性樹脂印刷版原版 |
JP2019001983A (ja) * | 2017-06-13 | 2019-01-10 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | スクアリリウム色素及びその用途 |
US11512204B2 (en) | 2017-06-13 | 2022-11-29 | Toyo Ink Sc Holdings Co., Ltd. | Squarylium dye and composition containing same |
WO2018230486A1 (ja) * | 2017-06-13 | 2018-12-20 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | スクアリリウム色素およびそれを含む組成物 |
KR20200018790A (ko) * | 2017-06-13 | 2020-02-20 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | 스쿠아릴륨 색소 및 이것을 포함하는 조성물 |
JP6322837B1 (ja) * | 2017-06-13 | 2018-05-16 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | スクアリリウム色素及びその用途 |
KR102583220B1 (ko) | 2017-06-13 | 2023-09-27 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | 스쿠아릴륨 색소 및 이것을 포함하는 조성물 |
WO2019054281A1 (ja) | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、積層体、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ |
WO2020049930A1 (ja) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 車両用ヘッドライトユニット、ヘッドライト用の遮光膜、ヘッドライト用の遮光膜の製造方法 |
WO2020059509A1 (ja) | 2018-09-20 | 2020-03-26 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 |
WO2021100768A1 (ja) | 2019-11-21 | 2021-05-27 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、光硬化性樹脂組成物、積層体の製造方法、及び、電子デバイスの製造方法 |
WO2022131191A1 (ja) | 2020-12-16 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
WO2022130773A1 (ja) | 2020-12-17 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
WO2022202647A1 (ja) | 2021-03-22 | 2022-09-29 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化物、積層体、硬化物の製造方法、及び、半導体デバイス |
WO2022210175A1 (ja) | 2021-03-29 | 2022-10-06 | 富士フイルム株式会社 | 黒色感光性組成物、黒色感光性組成物の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、光学素子、固体撮像素子、ヘッドライトユニット |
WO2023032545A1 (ja) | 2021-08-31 | 2023-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120127612A (ko) | 2012-11-22 |
EP2530523A1 (en) | 2012-12-05 |
TWI557506B (zh) | 2016-11-11 |
EP2530523A4 (en) | 2013-07-10 |
US20130034812A1 (en) | 2013-02-07 |
US9389505B2 (en) | 2016-07-12 |
TW201135366A (en) | 2011-10-16 |
WO2011092950A1 (ja) | 2011-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5757749B2 (ja) | 重合性組成物 | |
US9389505B2 (en) | Polymerizable composition for solder resist, and solder resist pattern formation method | |
JP5544239B2 (ja) | 重合性組成物 | |
JP5723699B2 (ja) | 遮光性組成物、遮光性組成物の製造方法、ソルダレジスト、パターン形成方法、及び固体撮像素子 | |
JP5674399B2 (ja) | 重合性組成物、感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法 | |
JP5579035B2 (ja) | 重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法 | |
JP5965639B2 (ja) | 赤外線カットフィルタの製造方法、該製造方法に用いられる赤外線吸収性液状組成物、及びカメラモジュールの製造方法 | |
JP2013155353A (ja) | 赤外線吸収性液状組成物、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 | |
JP5623958B2 (ja) | 感放射線性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 | |
JP2013151675A (ja) | 赤外線吸収性組成物、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 | |
KR20150013932A (ko) | 고체 촬상 소자용 경화성 조성물, 및 그 조성물을 사용한 감광층, 영구 패턴, 웨이퍼 레벨 렌즈, 고체 촬상 소자 및 패턴 형성 방법 | |
JP2013127613A (ja) | 赤外線遮光性組成物、赤外線遮光膜、パターン形成方法及び固体撮像素子 | |
JP5544217B2 (ja) | 重合性組成物 | |
JP5588847B2 (ja) | 重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140603 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140804 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141125 |
|
A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20141212 |