JPH10244206A - ソルダレジスト膜の形成方法 - Google Patents

ソルダレジスト膜の形成方法

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JPH10244206A
JPH10244206A JP4929397A JP4929397A JPH10244206A JP H10244206 A JPH10244206 A JP H10244206A JP 4929397 A JP4929397 A JP 4929397A JP 4929397 A JP4929397 A JP 4929397A JP H10244206 A JPH10244206 A JP H10244206A
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solder resist
resist film
circuit pattern
viscosity
resin
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JP4929397A
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Ryota Bando
了太 坂東
Toyohito Nakaoka
豊人 中岡
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Kansai Paint Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ソルダレジスト面に部品を樹脂封入する際
に、樹脂が漏洩することがなく、かつ良好な外観のソル
ダレジスト膜を形成できる方法を提供する。 【解決手段】 回路パターンを形成したプリント回路基
板上に、ソルダレジスト膜を形成し、さらにその上に部
品を実装し、該部品を樹脂封入する方法において、該ソ
ルダレジスト膜の形成を、プリント回路基板上に粘度1
00〜800センチポイズ、固形分40重量%以上の第
1のソルダレジスト液をスプレー塗装し、指触乾燥以上
の乾燥状態になるまで溶剤を蒸発させた後、該第1のソ
ルダレジスト膜の上に、粘度100〜900センチポイ
ズ、固形分50重量%以上の第2のソルダレジスト液を
スプレー塗装し、乾燥させることによって行うことを特
徴とする部品の樹脂封入方法におけるソルダレジスト膜
の形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、回路パターンを形
成したプリント回路基板上にソルダレジスト膜を形成
し、さらにその上に部品を実装し、該部品を樹脂封入す
る方法におけるソルダレジスト膜の形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び解決すべき課題】静電スプレー塗装な
どのスプレー塗装によりソルダレジスト膜を回路パター
ン形成したプリント回路基板上に形成し、このソルダレ
ジスト膜上に部品を実装し、部品実装後に部品の保護、
固定などのために部品を樹脂封入することが行われてい
る。
【0003】従来、ソルダレジスト膜上の実装した部品
を型枠を用いて樹脂封入する際に、型枠とソルダレジス
ト膜面との隙間から樹脂が漏洩することが多かった。
【0004】本発明の目的は、ソルダレジスト面に部品
を樹脂封入する際に、樹脂が漏洩することがなく、かつ
良好な外観のソルダレジスト膜を形成できる方法を提供
することである。
【0005】本発明者らは、上記目的を達成するため鋭
意検討を行った。従来、スプレー塗装によりソルダレジ
スト膜を回路パターン形成したプリント回路基板上に形
成する際には、基板面に対して1回塗装仕上げすること
が行われており、回路パターン部と回路パターンのない
部分とでソルダレジスト面の高さが異なり、回路パター
ン部が回路パターンのない部分に比べ、ソルダレジスト
面が16μm以上も高くなることが多くあり、このため
樹脂封入の際に型枠とソルダレジスト膜面との間の隙間
から漏れ出ることが大きな原因であることがわかった。
【0006】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、回
路パターン部と回路パターンのない部分とのソルダレジ
スト面の高さの差を容易に小さくでき、樹脂封入の際に
樹脂の漏洩を防止でき、かつ良好な外観のソルダレジス
ト膜を形成できる方法について検討の結果、基板面に対
してソルダレジストを2回塗装仕上げし、1回目と2回
目の塗装に用いるソルダレジストをそれぞれ所定のもの
を用いることにより上記目的を達成できることを見出し
本発明を完成するに至った。
【0007】すなわち本発明は、1.回路パターンを形
成したプリント回路基板上に、ソルダレジスト膜を形成
し、さらにその上に部品を実装し、該部品を樹脂封入す
る方法において、該ソルダレジスト膜の形成を、プリン
ト回路基板上に粘度100〜800センチポイズ、固形
分40重量%以上の第1のソルダレジスト液をスプレー
塗装し、指触乾燥以上の乾燥状態になるまで溶剤を蒸発
させた後、該第1のソルダレジスト膜の上に、粘度10
0〜900センチポイズ、固形分50重量%以上の第2
のソルダレジスト液をスプレー塗装し、乾燥させること
によって行うことを特徴とする部品の樹脂封入方法にお
けるソルダレジスト膜の形成方法を提供するものであ
る。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明において、回路パターンを
形成したプリント回路基板としては、例えばガラス・エ
ポキシ基板上に銅回路パターンを形成してなるものを挙
げることができる。
【0009】上記回路パターンを形成したプリント回路
基板に塗装するソルダレジストは、スプレー塗装可能な
液状ソルダレジストであれば下記粘度及び固形分の範囲
内であるかぎり特に制限なく使用することができる。こ
の液状ソルダレジストは、ポジ型及びネガ型のいずれで
あってもよい。
【0010】本発明方法においては、ソルダレジストを
2回塗装する。1回目に塗装する第1のソルダレジスト
液は、粘度が100〜800センチポイズ、好ましくは
400〜700センチポイズであり、固形分が40重量
%以上、好ましくは50〜70重量%である。また2回
目に塗装する第2のソルダレジスト液は、粘度が300
〜900センチポイズ、好ましくは500〜800セン
チポイズであり、固形分が50重量%以上、好ましくは
55〜70重量%である。本発明において、粘度は、液
温25℃でブルックフィールド粘度計(BM型)にてロ
ータの回転速度60rpmの条件での測定によるものと
する。
【0011】第1のソルダレジスト液において、粘度が
100センチポイズ未満では、スプレー塗装時にソルダ
レジスト液のたれが基板上で発生しやすくなり、一方、
粘度が800センチポイズを超えると、塗装時のソルダ
レジスト液の流動性が低下し、基板上の回路パターン部
と回路パターンのない部分とでソルダレジスト面の高さ
の差が大きくなるという問題があり、さらに、固形分が
40重量%未満では乾燥後の第1のソルダレジスト膜の
膜痩せが大きいため基板上の回路パターン部と回路パタ
ーンのない部分とでソルダレジスト面の高さの差が大き
くなるという問題がある。
【0012】また第2のソルダレジスト液において、粘
度が100センチポイズ未満では、スプレー塗装時にソ
ルダレジスト液のたれが基板上で発生しやすくなり、一
方、粘度が900センチポイズを超えると、塗装時のソ
ルダレジスト液の流動性が低下し、基板上の回路パター
ン部と回路パターンのない部分とでソルダレジスト面の
高さの差が大きくなるという問題があり、さらに、固形
分が50重量%未満では乾燥後の第1のソルダレジスト
膜の膜痩せが大きいため基板上の回路パターン部と回路
パターンのない部分とでソルダレジスト面の高さの差が
大きくなるという問題がある。
【0013】本発明方法において、上記第1及び第2の
ソルダレジスト液はスプレー塗装される。スプレー塗装
としては、例えばエアスプレー塗装、静電エアスプレー
塗装を挙げることができる。
【0014】本発明方法においては、第1のソルダレジ
スト液の塗装後、この膜を乾燥させ、ついで第1のソル
ダレジスト膜の上に第2のソルダレジスト液を塗装して
乾燥を行うことによってソルダレジスト膜を形成する。
【0015】本発明方法において、第1のソルダレジス
ト液の塗装膜厚は、特に限定されるものではないが、基
板上の回路パターン部と回路パターンのない部分でのソ
ルダレジスト面の高さの差を小さくする観点から、回路
パターンのない部分における第1のソルダレジスト膜の
乾燥膜厚が、回路パターンの高さの0.5〜1.1倍の
範囲であることが好ましく、回路パターンの高さの0.
6〜1.0倍の範囲であることがさらに好ましい。
【0016】第1のソルダレジスト液塗装後の乾燥は、
第1のソルダレジスト膜が指触乾燥以上に乾燥するまで
行われる。乾燥後の第1のソルダレジスト膜における溶
剤含有率は、5重量%以下であることが好ましく、3重
量%以下であることがさらに好ましい。第1のソルダレ
ジスト膜の乾燥が不十分であると膜中に残存する溶剤量
が多くなり、第2のソルダレジスト液塗装後の乾燥の際
に、その残存溶剤に基因する膜痩せが発生したり、第2
のソルダレジスト液塗装によって第1のソルダレジスト
膜が溶解して塗面状態を劣化させたり、また2回塗装に
よるソルダレジスト面の高さの差を小さくするという効
果が発揮されなくなるという問題が発生しやすくなる。
第1のソルダレジスト液塗装後の乾燥は、通常、60〜
120℃で3〜30分間程度行われる。
【0017】第2のソルダレジスト液の塗装膜厚は、特
に限定されるものではなく、基板上に形成すべき最終ソ
ルダレジスト膜厚に応じて塗装されるが、通常、回路パ
ターン上に乾燥ソルダレジスト膜が10〜50μm形成
されるように塗装する。塗装後、乾燥が行われるが、こ
の乾燥は溶剤の蒸発を目的に行われ、ソルダレジスト膜
が反応して硬化することのない条件、通常、60〜12
0℃で10〜30分間程度行われる。
【0018】本発明においては、上記のようにしてソル
ダレジスト膜を形成したプリント回路基板上に、LSI
パッケージ部品などの回路部品を実装し、ついで、この
部品を樹脂封入する。部品を樹脂封入するには、型枠を
部品を被せ、型枠内に樹脂を注入し、硬化させればよ
い。型枠内に樹脂を注入するには、型枠内を減圧状態と
して樹脂を注入する方法などによって行うことができ
る。この際、レジスト膜表面の凹凸が大きいと、型枠と
レジスト膜表面との隙間から型枠内に注入された樹脂が
漏れ出やすくなる。型枠内に樹脂を注入後、必要に応じ
て、樹脂の硬化程度の適切な時期に型枠を取り外しても
よい。
【0019】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。本発明は実施例に限定されるものではない。
【0020】実施例1 幅30μm、高さ40μmの銅回路パターンを有するプ
リント回路基板上に、粘度400センチポイズに調整
(固形分約55重量%)したゾンネアルソルダーPW7
000(関西ペイント(株)製、ネガ型アクリル樹脂系
液状ソルダレジスト液)を静電スプレー塗装し、80℃
で10分間加熱して指触乾燥以上の状態に乾燥した第1
のソルダレジスト膜を得た。この乾燥膜は、回路パター
ン上の膜厚aが3μmであり回路パターンのない部分の
膜厚bが25μmであった(後記図1参照)。
【0021】ついで、上記第1のソルダレジスト膜上に
粘度600センチポイズに調整(固形分約60重量%)
したゾンネアルソルダーPW7000を静電スプレー塗
装した。塗装後、80℃で30分間加熱して、ソルダレ
ジスト膜中の溶剤を蒸発、乾燥させてソルダレジスト膜
形成プリント回路基板を得た。第1と第2の合計の乾燥
ソルダーレジスト膜における回路パターン上の膜厚cは
17μm、回路パターンのない部分の膜厚dは50μm
であり、回路パターン部と回路パターンのない部分との
ソルダレジスト面の高さの差eは7μmであった(後記
図2参照)。この高さの差eは、(回路パターンの高さ
+c−d)の値となる。また基板上のソルダレジスト膜
は良好な外観を有していた。
【0022】得られたソルダレジスト膜形成プリント回
路基板上に、櫛形回路を跨ぐようにLSIパッケージ部
品を実装し、内部が約30×30×5mmの大きさの樹
脂成型用型枠をかぶせ、型枠内に、エポキシ−ポリアミ
ン樹脂系封止用樹脂を注入し、硬化させて部品の樹脂封
入を行った(後記図3参照)。樹脂封入の際に、型枠か
ら封止用樹脂の漏出は認められず良好な樹脂封入を行う
ことができた。
【0023】実施例2〜4ならびに比較例2及び3 実施例1において、使用する第1及び第2のソルダーレ
ジストとして、固形分及び粘度が後記表1に示すとおり
のゾンネアルソルダーPW7000を使用する以外は実
施例1と同様に行いソルダレジスト膜形成プリント回路
基板を得た。実施例2〜4については、基板上のソルダ
レジスト膜はいずれも良好な外観を有していた。比較例
2については、第1及び第2のソルダレジスト塗装時に
レジストのたれが激しく所定膜厚を塗装することができ
なかった。比較例3については、基板上のソルダレジス
ト膜はユズ肌の外観を呈し平滑性に劣るものであった。
実施例2〜4及び比較例3において、得られたソルダレ
ジスト膜形成プリント回路基板に実施例1と同様に、部
品実装及び樹脂封入を行ったところ、実施例2〜4につ
いては、いずれも型枠から封止用樹脂の漏出は認められ
ず良好な樹脂封入を行うことができたが、比較例3につ
いては、いずれも型枠から封止用樹脂が漏出し、良好な
樹脂封入を行うことができなかった。
【0024】比較例1 後記表1に示すゾンネアルソルダーPW7000を、回
路パターンのない部分のソルダレジスト膜の乾燥膜厚が
50μmとなるように、かつ1回のみ静電塗装する以外
は実施例1と同様に行いソルダレジスト膜形成プリント
回路基板を得た。基板上のソルダレジスト膜はいずれも
良好な外観を有していた。得られたソルダレジスト膜形
成プリント回路基板に実施例1と同様に、部品実装及び
樹脂封入を行ったところ、樹脂封入の際に、型枠から封
止用樹脂が漏出し、良好な樹脂封入を行うことができな
かった。
【0025】比較例4 実施例1において、第1のソルダーレジスト塗装後の乾
燥を、80℃で10分間加熱して指触乾燥以上に乾燥さ
せるかわりに、80℃で3分間加熱して指触乾燥してお
らず指で触れるとレジストが指に付着する状態とする以
外は実施例1と同様に行いソルダレジスト膜形成プリン
ト回路基板を得た。得られた基板上のソルダレジスト膜
は光沢低下及び膜厚のばらつきがあり、レジスト膜は外
観の劣るものであった。
【0026】後記表1に、実施例1〜4及び比較例1〜
4における、第1のソルダレジスト乾燥膜の、回路パタ
ーン上のレジスト膜厚a、回路パターンのない部分のレ
ジスト膜厚b、また部品実装前のソルダレジスト膜形成
プリント回路基板における、回路パターン上のレジスト
膜厚c、回路パターンのない部分のレジスト膜厚d、及
び回路パターン部と回路パターンのない部分とのソルダ
レジスト面の高さの差eを表示する。
【0027】表1において、比較例8の第1のソルダレ
ジスト膜の膜厚a及びbの欄で、()内の数値は指触乾
燥以上の状態に乾燥した場合の膜厚を表示する。
【0028】
【表1】
【0029】
【発明の効果】本発明方法においては、第1回目のソル
ダレジストの塗装、乾燥により、基板上の回路パターン
部と回路パターンのない部分におけるレジスト表面の高
さの差を小さくでき、ついで、その上に所定の高固形分
の第2回目のソルダレジストを塗装、乾燥することによ
り、総合レジスト膜として、レジスト表面の高さの差が
小さく、かつ表面状態に問題のないソルダレジスト膜を
得ることができる。このため、ソルダレジスト膜上に実
装した部品を樹脂封入する際、樹脂が型枠とソルダレジ
スト膜の隙間から樹脂が漏れ出ることを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1のソルダレジスト膜を塗装、乾燥した後の
プリント回路基板断面の説明図である。
【図2】第2のソルダレジスト膜を塗装、乾燥した後の
プリント回路基板断面の説明図である。
【図3】部品を実装した櫛型回路パターンを有するプリ
ント回路基板への樹脂封入を示す断面の説明図である。
【符号の説明】
1……基板、 2……銅パターン、 3S1……第1のソ
ルダレジスト膜、3S2……第1のソルダレジスト膜、
3……ソルダレジスト膜、4……部品、 5……型枠、
6……封入樹脂、a……銅パターン上の第1のソルダ
レジスト膜の膜厚、b……銅パターンのない部分の基板
上の第1のソルダレジスト膜の膜厚、c……第2のレジ
スト膜形成後の銅パターン上のレジスト膜の総合膜厚、
d……第2のレジスト膜形成後の銅パターンのない部分
の基板上のレジスト膜の総合膜厚、 e……基板上の回
路パターン部と回路パターンのない部分とにおけるソル
ダレジスト面の高さの差

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路パターンを形成したプリント回路基
    板上に、ソルダレジスト膜を形成し、さらにその上に部
    品を実装し、該部品を樹脂封入する方法において、該ソ
    ルダレジスト膜の形成を、プリント回路基板上に粘度1
    00〜800センチポイズ、固形分40重量%以上の第
    1のソルダレジスト液をスプレー塗装し、指触乾燥以上
    の乾燥状態になるまで溶剤を蒸発させた後、該第1のソ
    ルダレジスト膜の上に、粘度100〜900センチポイ
    ズ、固形分50重量%以上の第2のソルダレジスト液を
    スプレー塗装し、乾燥させることによって行うことを特
    徴とする部品の樹脂封入方法におけるソルダレジスト膜
    の形成方法。
  2. 【請求項2】 回路パターンのない部分における第1の
    ソルダレジスト膜の乾燥膜厚が、回路パターンの高さの
    0.5〜1.1倍の範囲であることを特徴とする請求項
    1記載のソルダレジスト膜の形成方法。
JP4929397A 1997-03-04 1997-03-04 ソルダレジスト膜の形成方法 Pending JPH10244206A (ja)

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