JP4223071B2 - オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 - Google Patents
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Description
また、本発明は、上記光重合開始剤及びエチレン性不飽和結合を有するアルカリ現像性化合物を含有してなるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供するものである。
また、本発明は、上記アルカリ現像性感光性樹脂組成物に、さらに色材を含有させてなる着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供するものである。
本発明の感光性組成物は、上述の本発明のオキシムエステル化合物を有効成分とする光重合開始剤及びエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、並びに、必要に応じて、無機化合物及び/又は色材、さらに溶媒等の任意成分を含有するものである。
これらの重合性化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができ、また2種以上を混合して使用する場合には、それらを予め共重合して共重合体として使用してもよい。
また、上記エチレン性不飽和結合を有するアルカリ現像性化合物は、不飽和基を0.2〜1.0当量含有していることが好ましい。
また、上記不飽和一塩基酸を作用させた後に作用させる上記多塩基酸無水物としては、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、ビフタル酸無水物、無水マレイン酸、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、2,2’−3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロールトリスアンヒドロトリメリテート、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等が挙げられる。
上記エポキシ化合物、上記不飽和一塩基酸および上記多塩基酸無水物の反応は、常法に従って行なうことができる。
その他、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物;3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、1−エポキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキサン等の脂環式エポキシ化合物;フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステルなどのグリシジルエステル類;テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルP−アミノフェノール、N,N−ジグリシジルアニリンなどのグリシジルアミン類;1,3−ジグリシジル−5,5−ジメチルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ化合物;ジシクロペンタジエンジオキシド等のジオキシド化合物;ナフタレン型エポキシ化合物、トリフェニルメタン型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物等を用いることもできる。
これらの中でもケトン類、セロソルブ系溶媒等、特にプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート、シクロヘキサノン等が、感光性組成物においてレジストと光重合開始剤の相溶性がよいので好ましい。
他の有機重合体を使用する場合、その使用量は、エチレン性不飽和結合を有する上記重合性化合物100質量部に対して、好ましくは10〜500質量部である。
<ステップ1>アシル体の製造
窒素雰囲気下、塩化アルミニウム10.4g(78ミリモル)及び二塩化エタン33.0gを仕込み、氷冷下で酸クロリド36ミリモル、続いてニトロカルバゾール化合物30ミリモル及び二塩化エタン33.0gを徐々に滴下し、5℃で30分間撹拌した。反応液を氷水にあけ、油水分離を行った。脱溶媒して、目的物であるアシル体をそれぞれ得た。
窒素気流下、ステップ1で得られたアシル体の20ミリモル、塩酸ヒドロキシルアミン2.1g(30ミリモル)、及びジメチルホルムアミド16.9gを仕込み、80℃で1時間撹拌した。室温に冷却して油水分離を行った。溶媒を留去して、残さに酢酸ブチル25.4g、続いて無水酢酸2.45g(24ミリモル)を加えて90℃で1時間撹拌し、室温に冷却した。5%水酸化ナトリウム水溶液で中和し、油水分離、脱溶媒、酢酸エチルからの再結晶を経て、目的物である化合物No.1〜No.3、No.7、No.10、No.12、No.20、No.33、No.45〜51、No.53〜58をそれぞれ得た。分析結果を〔表1〕〜〔表3〕に示す。なお、化合物No.49は、2つの異性体が分離して得られたためそれぞれの分析結果を記載し、化合物No.53及び化合物No.54は、NMRの分析結果のみ2つの異性体の値が分析可能であったため両方を記載する。
アクリル系共重合体14.0gに対し、トリメチロールプロパントリアクリレート 5.90g、実施例1−1で得られた化合物No.1の2.70g及びエチルセロソルブ 79.0gを加えて良く撹拌し、感光性組成物No.1を得た。
尚、上記アクリル系共重合体は、メタクリル酸20質量部、ヒドロキシエチルメタクリレート15質量部、メチルメタクリレート10質量部及びブチルメタクリレート55質量部をエチルセロソルブ300質量部に溶解し、窒素雰囲気下でアゾビスイソブチルニトリル0.75質量部を加えて70℃で5時間反応させることにより得られたものである。
実施例1−1で得られた化合物No.1に替えて、実施例1−2で得られた化合物No.2の2.70gを用いた他は実施例2と同様にして、感光性組成物No.2を得た。
実施例1−1で得られた化合物No.1に替えて、実施例1−3で得られた化合物No.3の2.70gを用いた他は実施例2と同様にして、感光性組成物No.3を得た。
実施例1−1で得られた化合物No.1に替えて、実施例1−4で得られた化合物No.7の2.70gを用いた他は実施例2と同様にして、感光性組成物No.4を得た。
実施例1−1で得られた化合物No.1に替えて、実施例1−5で得られた化合物No.10の2.70gを用いた他は実施例2と同様にして、感光性組成物No.5を得た。
実施例1−1で得られた化合物No.1に替えて、実施例1−6で得られた化合物No.12の2.70gを用いた他は実施例2と同様にして、感光性組成物No.6を得た。
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート15.0gと、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル3.74gとを混合し、実施例1で得られた化合物No.1の3.30g及びエチルセロソルブ78gを添加して良く撹拌し、感光性組成物No.7を得た。
<ステップ1>アルカリ現像性樹脂組成物No.8の調製
1,1−ビス(4’−エポキシプロピルオキシフェニル)−1−(1’’−ビフェニル)−1−シクロヘキシルメタン17.0g、アクリル酸4.43g、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール0.06g、テトラブチルアンモニウムアセテート0.11g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート14.3gを仕込み、120℃で16時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート7.18g、無水コハク酸4.82g及びテトラブチルアンモニウムアセテート0.25gを加えて100℃で5時間撹拌した。更に、1,1−ビス(4’−エポキシプロピルオキシフェニル)−1−(1’’−ビフェニル)−1−シクロヘキシルメタン5.08g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート2.18gを加えて120℃で12時間、80℃で2時間、40℃で2時間撹拌後、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート13.1gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.8を得た(Mw=4200、Mn=2100、酸価(固形分)55mgKOH/g)。
実施例9のステップ1で得られたアルカリ現像性樹脂組成物No.8の2.68g、トリメチロールプロパントリアクリレート0.73g、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート7.91g及びシクロヘキサノン5.18gを混合し、実施例1で得られた化合物No.1の1.58gを添加して良く撹拌し、アルカリ現像性感光性樹脂組成物である感光性組成物No.8を得た。
<ステップ1>アルカリ現像性樹脂組成物No.9の調製
ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量231)184g、アクリル酸58.0g、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール0.26g、テトラブチルアンモニウムアセテート0.11g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート23.0gを仕込み、120℃で16時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート35.0g、ビフタル酸無水物59.0g及びテトラ−n−ブチルアンモニウムブロミド0.24gを加えて120℃で4時間撹拌した。更にテトラヒドロ無水フタル酸20gを加え、120℃で4時間、100℃で3時間、80℃で4時間、60℃で6時間、40℃で11時間撹拌後、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート90.0gを加えてプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.9を得た(Mw=5000、Mn=2100、酸価(固形分)92.7mgKOH/g)。
実施例10のステップ1で得られたアルカリ現像性樹脂組成物No.9の2.68g、トリメチロールプロパントリアクリレート0.73g、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート7.91g及びシクロヘキサノン5.18gを混合し、実施例1で得られた化合物No.1の1.58gを添加して良く撹拌し、アルカリ現像性感光性樹脂組成物である感光性組成物No.9を得た。
さらにピグメントブルー15の2.00gを加えた以外は実施例9と同様にして、着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物である感光性組成物No.10を得た。
さらにカーボンブラックの3.00gを加えた以外は実施例10と同様にして、着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物である感光性組成物No.11を得た。
さらに酸化チタン4.52gを加えた以外は実施例2と同様にして、感光性組成物No.12を得た。
実施例1−1で得られた化合物No.1に替えて、下記〔化23〕に示す比較化合物1の2.70gを用いた以外は、実施例2と同様にして、比較用の感光性組成物No.13を得た。
実施例1−1で得られた化合物No.1の1.58gに替えて比較化合物1の1.58gを用いた以外は、実施例9と同様にして、比較用のアルカリ現像性感光性樹脂組成物である感光性組成物No.14を得た。
また、アルカリ現像性感光性樹脂組成物である感光性組成物No.8及び比較用のアルカリ現像性感光性樹脂組成物である感光性樹脂組成物No.14について、感度の評価を以下のようにして行った。評価結果を〔表5〕に示す。
感光性組成物を厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムに#3のバーコーターで塗布した。これに、ベルトコンベア付の光照射装置を使用して80W/cmの高圧水銀灯の光を照射した。ランプからベルトコンベアまでの距離は10cm、ベルトコンベアのラインスピードは8cm/分とした。硬化後24時間室温に放置してから、鉛筆硬度試験機を用い、荷重1kgで鉛筆硬度を測定した。
アルカリ現像性感光性樹脂組成物をアルミ基板に#3のバーコーターで約1μmの厚さに塗布した。60℃で15分間プリベークを行った後、日本分光株式会社製の分光照射装置CT−25CPにより光源として超高圧水銀ランプを用いて露光し、次いで、2.5質量%炭酸ナトリウム溶液に25℃で浸漬して現像し、良く水洗し、365nm及び405nmにおける分光感度を測定した。感度は、365nm及び405nmの光において硬化に必要な最小の硬化エネルギーを、アルミ板上に残った硬化膜段数と365nm及び405nmの射出光量より求めた。
また、実施例9のアルカリ現像性感光性樹脂組成物No.8は、長波長である365nm及び405nmの光に対して感度が優れていたが、比較例2のアルカリ現像性感光性樹脂組成物No.14は、365nm及び405nmの光に対しては感度が低いため露光量を多くせざるを得なかった。
実施例9のステップ1で得られたアルカリ現像性樹脂組成物No.8の11.5g、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物0.3g、カーボンブラック6.6g、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート30.0g及びシクロヘキサノン30.0gを混合し、実施例1−17で得られた化合物No.54の1.0gを添加して良く攪拌し、着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物である感光性組成物No.15を得た。
〔比較例3〕着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物である感光性組成物No.16の調製
実施例1−17で得られた化合物No.54に替えて比較化合物1の1.0gを用いた以外は、実施例14と同様にして、比較用の着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物である感光性組成物No.16を得た。
露光時に、露光量が60mJ/cm2でパターン形成できたものをa、100mJ/cm2で露光しないとパターン形成できなかったものをb、150mJ/cm2で露光しないとパターン形成できなかったものをcとした。
<解像度>
露光現像時に、線幅8μm以下でも良好にパターン形成できたものをA、線幅10〜30μmであれば良好にパターン形成できたものをB、線幅30μm以上でないと良好なパターン形成ができなかったものをCとした。
<密着性>
現像して得られたパターンのはがれにつき観察し、パターンはがれが観察されないものを○、一部にはがれが観察されるものを×とした。
これに対して、比較例3の着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物である感光性組成物16は、低感度であり、解像度および基板との密着性も低いものであった。
Claims (14)
- 下記一般式(I)で表されるオキシムエステル化合物。
(式中、R1は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又はCNを表し、アルキル基、アリール基及びアリールアルキル基の水素原子は、更にOR21、COR21、SR21、NR22R23 、−NCOR22−OCOR23 、CN、ハロゲン原子、−CR21=CR22R23 又は−CO−CR21=CR22 R 23 で置換されていてもよく、R21、R22及びR23は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環基を表し、R 2 は、R 11 又はOR 11 を表し、R 11 は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基又は炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又を表し、アルキル基、アリール基及びアリールアルキル基の水素原子は、更にハロゲン原子で置換されていてもよく、R 3 は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基又は炭素原子数7〜30のアリールアルキル基を表し、上記R 1 、R 3 、R21、R22及びR23で表される置換基のアルキレン部分のメチレン基は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により1〜5回中断されていてもよく、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合であってもよく、R 3 は、隣接するベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよい。R4及びR5は、それぞれ独立に、R11、OR11 、CN又はハロゲン原子を表し、a及びbは、それぞれ独立に、0〜3である。) - 上記一般式(I)中のR1が、炭素原子数11〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又はCNであるか、R3が、エーテル結合又はエステル結合で1〜5回中断されている炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数13〜20のアルキル基であり、R 1 及びR3のアルキル基、アリール基及びアリールアルキル基の水素原子は、更にOR21、COR21、SR21、NR22R23 、−NCOR22−OCOR23 、CN、ハロゲン原子、−CR21=CR22R23 又は−CO−CR21=CR22 R 23 で置換されていてもよく、R21、R22及びR23は、それぞれ独立に、水素原
子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環基を表し、上記R1、R3 、R 21 、R22及びR23で表される置換基のアルキレン部分のメチレン基は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により1〜5回中断されていてもよく、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合であってもよく、R 3 は、隣接するベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよい置換基である請求の範囲第1項記載のオキシムエステル化合物。 - 上記一般式(I)中のR1が、炭素原子数11〜20のアルキル基又は炭素原子数6〜30のアリール基であり、アルキル基及びアリール基の水素原子は、更にOR21、COR21、SR21、NR22R23 、−NCOR22−OCOR23 、CN、ハロゲン原子、−CR21=CR22R23 又は−CO−CR21=CR22 R 23 で置換されていてもよく、R21、R22及びR23は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環基を表し、R1、R21、R22及びR23で表される置換基のアルキレン部分のメチレン基は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により1〜5回中断されていてもよく、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合であってもよい置換基である請求の範囲第1又は2記載のオキシムエステル化合物。
- 上記一般式(I)中のR 1 が、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基又は炭素原子数7〜30のアリールアルキル基であり、アリール基の水素原子は、更にOR 21 又はハロゲン原子で置換されていてもよく、R 21 は、炭素原子数1〜20のアルキル基を表し、R 21 で表される置換基のアルキレン部分のメチレン基は、エーテル結合により1〜5回中断されていてもよく、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖があってもよく、R 2 及びR 3 が、それぞれ独立に、炭素原子数1〜20のアルキル基であり、R 3 で表される置換基のアルキレン部分のメチレン基は、エーテル結合又はエステル結合により1〜5回中断されていてもよく、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖があってもよく、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合であってもよく、a及びbは、共に0である請求の範囲第1又は2記載のオキシムエステル化合物。
- 上記一般式(I)中のR3が、アルキル基のアルキレン部分のメチレン基がエーテル結合又はエステル結合で1〜5回中断されていてもよい炭素原子数8以上の分岐アルキル基である請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載のオキシムエステル化合物。
- 上記一般式(I)中のR3が、アルキル基のアルキレン部分のメチレン基がエーテル結合又はエステル結合で1〜5回中断されていてもよい炭素原子数13以上のアルキル基である請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載のオキシムエステル化合物。
- 上記一般式(I)中のR3が、エーテル結合により1〜5回中断されているアルキル基である請求の範囲第1〜6項のいずれかに記載のオキシムエステル化合物。
- 上記一般式(I)中のR3が、エステル結合により1〜5回中断されているアルキル基である請求の範囲第1〜6項のいずれかに記載のオキシムエステル化合物。
- プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート又はシクロヘキサノンに1質量%以上溶解する請求の範囲第1〜8項のいずれかに記載のオキシムエステル化合物。
- 請求の範囲第1〜9項のいずれかに記載のオキシムエステル化合物を有効成分とする光重合開始剤。
- 請求の範囲第10項記載の光重合開始剤及びエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物を含有してなる感光性組成物。
- さらに無機化合物を含有してなる請求の範囲第11項記載の感光性組成物。
- 請求の範囲第10項記載の光重合開始剤及びエチレン性不飽和結合を有するアルカリ現像性化合物を含有してなるアルカリ現像性感光性樹脂組成物。
- 請求の範囲第13項記載のアルカリ現像性感光性樹脂組成物に、さらに色材を含有させてなる着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006351996 | 2006-12-27 | ||
| JP2006351996 | 2006-12-27 | ||
| JP2007221710 | 2007-08-28 | ||
| JP2007221710 | 2007-08-28 | ||
| PCT/JP2007/074646 WO2008078678A1 (ja) | 2006-12-27 | 2007-12-21 | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP4223071B2 true JP4223071B2 (ja) | 2009-02-12 |
| JPWO2008078678A1 JPWO2008078678A1 (ja) | 2010-04-22 |
Family
ID=39562468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008521071A Active JP4223071B2 (ja) | 2006-12-27 | 2007-12-21 | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20090292039A1 (ja) |
| EP (1) | EP2072500B1 (ja) |
| JP (1) | JP4223071B2 (ja) |
| KR (1) | KR100910103B1 (ja) |
| CN (1) | CN101528694B (ja) |
| TW (1) | TW200844094A (ja) |
| WO (1) | WO2008078678A1 (ja) |
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| WO2020004601A1 (ja) | 2018-06-29 | 2020-01-02 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物およびこれを含有する光重合開始剤 |
| WO2020059509A1 (ja) | 2018-09-20 | 2020-03-26 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 |
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| WO2020262270A1 (ja) | 2019-06-27 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜および光センサ |
| WO2021039253A1 (ja) | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、センサモジュール |
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| WO2021060402A1 (ja) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | 富士フイルム株式会社 | ヘッドアップディスプレイ用プロジェクター |
| WO2021199748A1 (ja) | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜及び光センサ |
| WO2021200655A1 (ja) | 2020-03-30 | 2021-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
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| WO2022065006A1 (ja) | 2020-09-28 | 2022-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 積層体の製造方法、アンテナインパッケージの製造方法、積層体及び組成物 |
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| WO2022123946A1 (ja) | 2020-12-09 | 2022-06-16 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
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| WO2023054324A1 (ja) | 2021-09-30 | 2023-04-06 | 富士フイルム株式会社 | ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機 |
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- 2007-12-21 JP JP2008521071A patent/JP4223071B2/ja active Active
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- 2007-12-21 KR KR1020087031367A patent/KR100910103B1/ko active Active
- 2007-12-21 WO PCT/JP2007/074646 patent/WO2008078678A1/ja not_active Ceased
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| WO2021246402A1 (ja) | 2020-06-03 | 2021-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス |
| WO2022065006A1 (ja) | 2020-09-28 | 2022-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 積層体の製造方法、アンテナインパッケージの製造方法、積層体及び組成物 |
| WO2022070593A1 (ja) | 2020-09-30 | 2022-04-07 | 富士フイルム株式会社 | インクセット、積層体、及び、積層体の製造方法 |
| WO2022123946A1 (ja) | 2020-12-09 | 2022-06-16 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
| WO2022131191A1 (ja) | 2020-12-16 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
| WO2022130773A1 (ja) | 2020-12-17 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
| WO2022196599A1 (ja) | 2021-03-19 | 2022-09-22 | 富士フイルム株式会社 | 膜および光センサ |
| WO2022202647A1 (ja) | 2021-03-22 | 2022-09-29 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化物、積層体、硬化物の製造方法、及び、半導体デバイス |
| WO2022210175A1 (ja) | 2021-03-29 | 2022-10-06 | 富士フイルム株式会社 | 黒色感光性組成物、黒色感光性組成物の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、光学素子、固体撮像素子、ヘッドライトユニット |
| WO2023032545A1 (ja) | 2021-08-31 | 2023-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液 |
| WO2023054142A1 (ja) | 2021-09-29 | 2023-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、樹脂、膜および光センサ |
| WO2023054324A1 (ja) | 2021-09-30 | 2023-04-06 | 富士フイルム株式会社 | ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機 |
| WO2023080115A1 (ja) | 2021-11-05 | 2023-05-11 | 富士フイルム株式会社 | 虚像表示装置、ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機 |
| WO2023200018A1 (ja) | 2022-04-15 | 2023-10-19 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、積層体、ウインドシールドガラス、画像表示システム |
| WO2023234095A1 (ja) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | 富士フイルム株式会社 | 光検出素子、イメージセンサおよび光検出素子の製造方法 |
| WO2023234096A1 (ja) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | 富士フイルム株式会社 | 光検出素子、イメージセンサおよび光検出素子の製造方法 |
| WO2023234094A1 (ja) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | 富士フイルム株式会社 | 光検出素子、イメージセンサおよび光検出素子の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20090292039A1 (en) | 2009-11-26 |
| TW200844094A (en) | 2008-11-16 |
| KR100910103B1 (ko) | 2009-07-30 |
| US11667730B2 (en) | 2023-06-06 |
| KR20090009991A (ko) | 2009-01-23 |
| CN101528694A (zh) | 2009-09-09 |
| TWI309236B (ja) | 2009-05-01 |
| JPWO2008078678A1 (ja) | 2010-04-22 |
| US20170283520A1 (en) | 2017-10-05 |
| EP2072500A4 (en) | 2010-12-22 |
| CN101528694B (zh) | 2012-03-07 |
| EP2072500A1 (en) | 2009-06-24 |
| WO2008078678A1 (ja) | 2008-07-03 |
| EP2072500B1 (en) | 2012-09-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080425 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20080425 |
|
| A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20080703 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080805 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081002 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081118 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081118 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4223071 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111128 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121128 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131128 Year of fee payment: 5 |
