WO2023200018A1 - 反射フィルム、積層体、ウインドシールドガラス、画像表示システム - Google Patents

反射フィルム、積層体、ウインドシールドガラス、画像表示システム Download PDF

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WO2023200018A1
WO2023200018A1 PCT/JP2023/015360 JP2023015360W WO2023200018A1 WO 2023200018 A1 WO2023200018 A1 WO 2023200018A1 JP 2023015360 W JP2023015360 W JP 2023015360W WO 2023200018 A1 WO2023200018 A1 WO 2023200018A1
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WO
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layer
reflective film
group
reflective
compound
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PCT/JP2023/015360
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啓吾 植木
昭裕 安西
晋也 渡邉
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富士フイルム株式会社
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    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements

Definitions

  • the present invention relates to a reflective film, a laminate, a windshield glass, and an image display system.
  • the reflective film By incorporating a reflective film into laminated glass used for automobile windshields, etc., the reflective film (laminated glass) can be used as a projection display member of a head-up display system.
  • Patent Document 1 discloses the use of a reflective film including a retardation layer and a plurality of cholesteric liquid crystal layers as a projection display member of a head-up display system mounted on an automobile.
  • laminated glass for automobiles has an interlayer between two glass plates.
  • Patent Document 1 describes that a reflective film is provided as an intermediate film in a windshield glass having a laminated glass structure.
  • An object of the present invention is to provide a reflective film that exhibits excellent curved surface followability when laminated to an object, exhibits excellent abrasion resistance after lamination, and also has excellent reflective properties.
  • Another object of the present invention is to provide a windshield glass, a laminate, and an image display system.
  • the present invention provides the following.
  • a reflective film comprising, in this order, an adhesive layer, a reflective layer that selectively reflects light, and a hard coat layer.
  • the hard coat layer is a layer formed using a curable composition for forming a hard coat layer containing a cationic polymerizable compound, The reflective film according to any one of (1) to (3), wherein the content of the cationic polymerizable compound is 5% by mass or more based on the total solid content of the curable composition for forming a hard coat layer.
  • the hard coat layer is a layer formed using a curable composition for forming a hard coat layer containing inorganic particles
  • the reflective film according to (5), wherein the inorganic particles have an average primary particle size of 40 nm or more.
  • the reflective film according to (5) or (6), wherein the inorganic particles have an average primary particle size of 40 nm or more and less than 200 nm.
  • the surface roughness Sa1 of the component having a wavelength of 2.5 ⁇ m or less on the surface of the hard coat layer opposite to the reflective layer side is 0.30 nm or more, according to any one of (1) to (7).
  • reflective film The reflective film according to any one of (1) to (8), wherein the surface roughness Sa2 of the component having a wavelength of 10 ⁇ m or more on the surface of the hard coat layer opposite to the reflective layer side is 2.0 nm or less. .
  • (20) comprising, in this order, a hard coat layer, a reflective layer that selectively reflects light, and a heat seal layer laminated on one side of the reflective layer; a reflective layer is formed using a composition containing a polymerizable liquid crystal compound, A reflective film in which the heat-sealing layer includes a thermoplastic resin or an elastomer.
  • the heat seal layer is a layer formed using a composition containing a polymerization initiator.
  • the reflective film according to (21), wherein the composition further contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable liquid crystal compound has an ethylenically unsaturated polymerizable group
  • a polarization conversion layer is formed using a composition containing a polymerizable liquid crystal compound,
  • a reflective film in which the heat-sealing layer includes a thermoplastic resin or an elastomer.
  • the reflective film according to (24), wherein the heat seal layer is a layer formed using a composition containing a polymerization initiator.
  • the reflective film according to (25), wherein the composition further contains a polymerizable compound.
  • the reflective film according to any one of (22), (23), and (26), wherein the content of the polymerizable compound is 5 to 80% by mass based on the solid content of the composition.
  • the reflective film according to any one of (22), (23), and (26), wherein the polymerizable compound has an I/O ratio of 0.4 or more.
  • the reflective film according to any one of (20) to (28), wherein the heat seal layer has a water content of 2.0% or less at 25° C. and 60% RH.
  • a windshield glass comprising a glass plate and the reflective film according to any one of (20) to (28) bonded together via a heat-sealing layer.
  • An image display system comprising the windshield glass according to (30) and a projector that irradiates projected image light onto the reflective film side of the windshield glass.
  • a reflective film that exhibits excellent curved surface followability when laminated to an object, exhibits excellent abrasion resistance after lamination, and also has excellent reflective properties.
  • a windshield glass, a laminate, and an image display system can be provided.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a reflective film of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a reflective film of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a reflective film of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a reflective film of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a windshield glass having a reflective film of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a reflective film of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a reflective film of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a windshield glass having a reflective film of the present invention.
  • a reflective film, a windshield glass, a laminate, and an image having an adhesive layer, a reflective layer, and a hard coat layer (HC layer) of the present invention in this order will be described.
  • the display system will be explained in detail. Note that the figures described below are illustrative for explaining the present invention, and the present invention is not limited to the figures shown below.
  • " ⁇ " indicating a numerical range includes the numerical values written on both sides.
  • the range of ⁇ 1 is the range including the numerical value ⁇ 1 and the numerical value ⁇ 1 , and expressed in mathematical symbols as ⁇ 1 ⁇ 1 ⁇ 1 .
  • angles such as “angle expressed in specific numerical values”, “parallel”, “perpendicular”, and “perpendicular” include error ranges generally accepted in the relevant technical field. More specifically, in this specification, parallel, perpendicular, and perpendicular mean a range of parallel ⁇ 5°, a range of perpendicular ⁇ 5°, and a range of perpendicular ⁇ 5°, respectively. Further, “same” includes the generally acceptable error range in the relevant technical field, and “overall” etc. also includes the generally acceptable error range in the relevant technical field.
  • “Selective” with respect to circularly polarized light means that the amount of either the right-handed circularly polarized light component or the left-handed circularly polarized light component is greater than the amount of the other circularly polarized light component.
  • the degree of circular polarization of light is preferably 0.3 or more, more preferably 0.6 or more, and even more preferably 0.8 or more. More preferably, it is substantially 1.0.
  • the degree of circular polarization is expressed as
  • sense regarding circularly polarized light, we mean whether it is right-handed circularly polarized light or left-handed circularly polarized light.
  • the sense of circularly polarized light is that when you look at the light as if it is traveling towards you, if the tip of the electric field vector rotates clockwise as time increases, it is right-handed circularly polarized light, and if it rotates counterclockwise, it is left-handed circularly polarized light. Defined as circularly polarized light.
  • sense is sometimes used to refer to the twist direction of the helix of cholesteric liquid crystal.
  • the helical twist direction (sense) of the cholesteric liquid crystal is right, it reflects right-handed circularly polarized light and transmits left-handed circularly polarized light, and when the sense is left, it reflects left-handed circularly polarized light and transmits right-handed circularly polarized light.
  • Visible light is electromagnetic waves with wavelengths that can be seen by the human eye, and usually indicates light in the wavelength range of 380 to 780 nm.
  • Invisible light is light in a wavelength range of less than 380 nm or in a wavelength range of more than 780 nm.
  • B blue
  • G green
  • R red
  • the “visible light transmittance” is the A light source visible light transmittance defined in JIS (Japanese Industrial Standards) R 3212:2015 (Automotive safety glass test method). That is, the transmittance of each wavelength in the wavelength range of 380 to 780 nm is measured using a spectrophotometer using A light source, and the transmittance is obtained from the wavelength distribution and wavelength interval of the CIE (Commission Internationale de l'Eclairage) photopic standard luminous efficiency. This is the transmittance obtained by multiplying the transmittance at each wavelength by the weighted coefficient obtained by weighting and averaging the results.
  • reflected light or “transmitted light” it is used in a meaning that includes scattered light and diffracted light.
  • the polarization state of each wavelength of light can be measured using a spectroradiometer or spectrometer equipped with a circularly polarizing plate.
  • the intensity of light measured through the right-handed circularly polarizing plate corresponds to I R and the intensity of light measured through the left-handed circularly polarizing plate corresponds to IL .
  • measurement can also be performed by attaching a circularly polarizing plate to an illuminance meter or optical spectrometer. The ratio can be measured by attaching a right-handed circularly polarized light transmitting plate and measuring the amount of right-handed circularly polarized light, and by attaching a left-handed circularly polarized light transmitting plate and measuring the amount of left-handed circularly polarized light.
  • P-polarized light means polarized light that vibrates in a direction parallel to the plane of incidence of light.
  • the incident surface refers to a surface that is perpendicular to a reflective surface (such as a windshield glass surface) and that includes incident light and reflected light.
  • a reflective surface such as a windshield glass surface
  • the plane of vibration of the electric field vector is parallel to the plane of incidence.
  • the front phase difference is a value measured using AxoScan manufactured by Axometrics. Unless otherwise specified, the measurement wavelength is 550 nm.
  • a value measured using KOBRA 21ADH or WR (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.) by making light with a wavelength within the visible wavelength range incident in the normal direction of the film can also be used.
  • the wavelength selection filter can be replaced manually, or the measurement value can be converted using a program or the like.
  • Projection image means an image based on the projection of light from the projector used, rather than the surrounding scenery such as the front.
  • the projected image is observed by the viewer as a virtual image that appears above the projected image display area of the windshield glass.
  • “Screen image” means an image displayed on a rendering device of a projector or an image rendered by a rendering device on an intermediate image screen or the like.
  • An image is a real image, as opposed to a virtual image. Both the image and the projected image may be a monochrome image, a multicolor image of two or more colors, or a full color image.
  • the reflective film of the present invention is characterized by having an adhesive layer, a reflective layer that selectively reflects light (hereinafter also simply referred to as a "reflective layer”), and a hard coat layer in this order.
  • Another configuration of the reflective film of the present invention is that it has a hard coat layer, a reflective layer that selectively reflects light in wavelength, and a heat seal layer laminated on one side of the reflective layer in this order. do.
  • a hard coat layer a reflective layer that selectively reflects light
  • a polarization conversion layer a polarization conversion layer
  • a heat seal layer laminated on one side of the polarization conversion layer are combined. It is characterized by having the following in order:
  • FIG. 1 shows an example of the reflective film of the present invention.
  • the reflective film 10A shown in FIG. 1 includes an adhesive layer 1, a reflective layer 2, and a hard coat layer (hereinafter also referred to as HC layer) 3 in this order.
  • HC layer hard coat layer
  • FIG. 6 shows another example of the reflective film of the present invention.
  • the reflective film 10E shown in FIG. 6 includes a heat seal layer 12, a reflective layer 2, and an HC layer 3 in this order.
  • FIG. 7 shows another example of the reflective film of the present invention.
  • the reflective film 10F shown in FIG. 7 includes a heat seal layer 12, a polarization conversion layer 5, a reflective layer 2, and an HC layer 3 in this order.
  • the reflective film 10F may have a retardation layer and a transparent base material, as described below.
  • the polarization conversion layer 5 is placed on the side of the vehicle-inside glass plate 11.
  • the windshield glass shown in FIG. 8 has a car interior glass plate 11, a heat seal layer 12, a polarization conversion layer 5, a reflective layer 2, a retardation layer 6, a transparent base material 7, and an HC layer 3 in this order.
  • the reflective film of the present invention has an adhesive layer for adhering the film to the outside of the laminated glass. Having the adhesive layer allows the reflective film to be attached to the windshield.
  • the material of the adhesive layer can be any material as long as it has transparency to ensure the visibility of display contents when the reflective film of the present invention is applied to the windshield, and can bond the reflective film and the windshield. is not particularly limited, and may be made of resin or elastomer (including oil-extended rubber).
  • the above resins include 1,2-polybutadiene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer (abbreviated as "EVA", usually containing 3% by mass or more of vinyl acetate structural units), polyolefin resin such as polyethylene, Vinyl chloride resin, polystyrene resin, vinyl ester resin (excluding EVA), saturated polyester resin, polyamide resin, fluororesin (polyvinylidene fluoride, etc.), polycarbonate resin, polyacetal resin, urethane resin, epoxy resin, (meth)acrylate resin ( (Also referred to as (meth)acrylic resin, meaning (meth)acrylic acid ester resin, etc.), unsaturated polyester resins, silicone resins, and modified resins of these resins.
  • urethane resins include urethane-modified polyester resins and urethane resins.
  • Elastomers include block (co)polymers of conjugated dienes, acrylic block (co)polymers, styrene block (co)polymers, block copolymers of aromatic vinyl compounds and conjugated dienes, and blocks of conjugated dienes. Hydrogenated products of (co)polymers, hydrogenated products of block copolymers of aromatic vinyl compounds and conjugated dienes, ethylene- ⁇ -olefin copolymers, polar group-modified olefin copolymers, polar group-modified Elastomers made of olefin copolymers and metal ions and/or metal compounds, nitrile rubbers (e.g.
  • thermoplastic polyolefin elastomers TPO
  • thermoplastic polyurethanes TPU
  • thermoplastic polyester elastomers TPEE
  • thermoplastic polyamide elastomers TPAE
  • diene elastomers 1,2-polybutadiene, etc.
  • silicone elastomers fluorine-based elastomers.
  • the weight average molecular weight of the resin or elastomer is preferably 10,000 to 1,000,000, more preferably 50,000 to 500,000, from the viewpoint of the balance between solubility in a solvent and storage modulus.
  • the adhesive layer contains these resins or elastomers
  • these resins or elastomers alone can be used as the constituent material of the adhesive layer, but softeners, plasticizers, lubricants, crosslinking agents, crosslinking aids, and photosensitizers may also be used.
  • the adhesive layer may further contain a coupling agent, an additive such as a titanium coupling agent, a polymerizable group-containing compound, or another polymer as a constituent material. That is, the adhesive layer may be constructed using a resin composition or a composition containing an elastomer.
  • SK Dyne 2057 SK Dyne 2094, SK Dyne 2147, SK Dyne 1811L, SK Dyne 1478, SK Dyne 1442, SK Dyne 1435, SK Dyne 1415 (Soken Co., Ltd.
  • NCF-N632, NCF-D692, NCF-F619 MO-T015, MO-5115XV (manufactured by Lintec Co., Ltd.), TD06, MK64, TI14, ME57, TX48, MJ63, MG70, MF58 (manufactured by Tomegawa Paper Mills Co., Ltd.), Panaclean PD-S1, Panaclean PD-R5 (manufactured by Panac Co., Ltd.), MHM-FWD, MHM-FWV, MHM-UVC, MHM-SI (manufactured by Nichiei Shinka Co., Ltd.), Olivine EG-655, and Olivine BPS5896 (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) (trade names).
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 50 ⁇ m or less, even more preferably 1 to 30 ⁇ m, and particularly preferably 5 to 20 ⁇ m. If the adhesive layer is within the above range, the scratch resistance will be better, the adhesion between the windshield and the reflective film will be improved, and the curved surface followability will be better.
  • the storage modulus E' of the adhesive layer at 25° C. and frequency of 1 Hz is preferably greater than 1 kPa, and from the viewpoint of adhesion to the windshield, it is preferably 4 GPa or less.
  • the storage elastic modulus E' is more preferably greater than 1 KPa and less than or equal to 1 GPa, and even more preferably greater than 1 KPa and less than or equal to 100 MPa.
  • the maximum value of the loss tangent (tan ⁇ ) of the adhesive layer at a frequency of 1 Hz is preferably in the temperature range of -80 to 40°C, more preferably in the range of -60 to 40°C.
  • the storage modulus of the adhesive layer at 25° C. and a frequency of 1 Hz and the tan ⁇ at a frequency of 1 Hz are determined as follows.
  • test piece was conditioned in advance at a temperature of 25°C and an atmosphere of 60% relative humidity for 2 hours or more.
  • a master curve of tan ⁇ , storage modulus, and loss modulus with respect to frequency at 25° C. is obtained by editing the “master curve”.
  • the maximum value of tan ⁇ and the frequency showing the maximum value are determined from the obtained master curve.
  • the method of forming the adhesive layer is not particularly limited, and examples thereof include coating method, casting method (solventless casting method and solvent casting method), pressing method, extrusion method, injection molding method, casting method, and inflation method. It will be done. Specifically, a liquid material in which the constituent material of the adhesive layer is dissolved or dispersed in a solvent, or a melt of the components constituting the constituent material of the adhesive layer is prepared, and then this liquid material or melt is applied. Then, by removing the solvent as necessary, a reflective film including an adhesive layer can be produced.
  • the constituent material of the adhesive layer is applied in the same manner as above on the release-treated surface of the release sheet that has been subjected to release treatment, and dried to form a sheet having an adhesive layer, and the adhesive layer of this sheet is used as a reflective layer. By pasting them together, an adhesive layer can be created on the reflective layer.
  • a reflective layer is arrange
  • the heat seal layer is a layer for physically bonding the reflective film and the glass substrate.
  • the heat seal layer includes a thermoplastic resin or an elastomer.
  • the thermoplastic resin is preferably one that has good affinity and adhesion with the glass substrate, such as 1,2-polybutadiene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer (abbreviated as "EVA", usually 3% by mass or more of vinyl acetate).
  • polyolefin resins such as polyethylene, polyvinyl chloride resins, polystyrene resins, vinyl ester resins (excluding EVA), saturated polyester resins, polyamide resins, fluororesins (polyvinylidene fluoride, etc.), polycarbonate resins, Polyacetal resin, urethane resin, epoxy resin, (meth)acrylate resin (also referred to as (meth)acrylic resin, meaning (meth)acrylic acid ester resin, etc.), unsaturated polyester resin, silicone resin, and these resins Modified resins and the like can be mentioned.
  • the urethane resin include urethane-modified polyester resins and urethane resins.As the thermoplastic resin, polyvinyl butyral or ethylene-vinyl acetate copolymer is preferred.
  • Polyvinyl butyral can be obtained by acetalizing polyvinyl alcohol with butyraldehyde.
  • the degree of acetalization of polyvinyl butyral is not particularly limited, but is preferably 40% or more, more preferably 60% or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 85% or less, more preferably 75% or less.
  • Polyvinyl alcohol used in the synthesis of polyvinyl butyral is usually obtained by saponifying polyvinyl acetate, and polyvinyl alcohol with a saponification degree of 80 to 99.8 mol% is generally used. Further, the degree of polymerization of the polyvinyl alcohol is preferably 200 to 3,000.
  • Elastomers include block (co)polymers of conjugated dienes, acrylic block (co)polymers, styrene block (co)polymers, block copolymers of aromatic vinyl compounds and conjugated dienes, and blocks of conjugated dienes.
  • TPU thermoplastic polyolefin elastomers
  • TPEE thermoplastic polyester
  • the thermoplastic resin or elastomer may be synthesized by a known method, or a commercially available product may be used.
  • commercially available elastomers include Clarity LA1114, Clarity LA2140, Clarity LA2250, Clarity LA2330, Clarity LA4285, Hyblar 5127, Hyblar 7311F, Septon 2104, and Septon 2063 (trade name, manufactured by Kuraray Co., Ltd.).
  • the elastomer is preferably an acrylic block (co)polymer or a styrene block (co)polymer.
  • the weight average molecular weight of the thermoplastic resin and elastomer is preferably 10,000 to 1,000,000, more preferably 50,000 to 500,000, from the viewpoint of the balance between solubility in a solvent and storage modulus.
  • the heat seal layer is preferably formed using a composition (heat seal layer forming composition) containing a polymerizable compound for chemically bonding with the reflective layer or the polarization conversion layer.
  • the polymerizable compound is preferably one that can chemically bond with the polymerizable liquid crystal compound used to form the reflective layer or the polarization conversion layer.
  • the polymerizable liquid crystal compound has an ethylenically unsaturated polymerizable group
  • polymerizable it is preferable that the compound also has an ethylenically unsaturated polymerizable group.
  • Examples of the ethylenically unsaturated polymerizable group-containing compound include the following. However, the present invention is not limited to the exemplified compounds below.
  • (meth)acrylate commercially available products, such as Aronix M-208 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, and its epichlorohydrin-modified products, neopentyl glycol di(meth)acrylate, hydroxypivalic acid Neopentyl glycol di(meth)acrylate and its caprolactone modified product, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, tricyclo Decane dimethanol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate monostearate, trimethylolpropane acrylic acid/benzoic acid ester, and isocyanuric acid EO-modified di(meth)acrylate (as a commercial product, for example, manufactured by Toagose
  • trimethylolpropane tri(meth)acrylate (as a commercially available product, e.g. TPMTA manufactured by Nippon Kayaku), its EO, PO, epichlorohydrin modified products, pentaerythritol tri(meth)acrylate, glycerol tri(meth)acrylate, and its EO, PO, epichlorohydrin-modified product, isocyanuric acid EO-modified tri(meth)acrylate (commercially available products, such as Toagosei Aronix M-315, etc.), tris(meth)acryloyloxyethyl phosphate, hydrogen phthalate (2, Trifunctional (meth)acrylate compounds such as 2,2-tri-(meth)acryloyloxymethyl)ethyl, glycerol tri(meth)acrylate, and its EO, PO, and epichlorohydrin modified products; pentaerythritol tetra(meth)acrylate (commercially available
  • Two or more kinds of ethylenically unsaturated polymerizable group-containing compounds may be used in combination.
  • "DPHA” manufactured by Nippon Kayaku
  • a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate can be preferably used.
  • polyester (meth)acrylate and epoxy (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 200 or more and less than 1000 are also preferable.
  • polyester (meth)acrylates include the Beam Set 700 series manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd., such as Beam Set 700 (6 functional), Beam Set 710 (4 functional), Beam Set 720 (3 functional), etc. It will be done.
  • epoxy (meth)acrylates include the SP series manufactured by Showa Kobunshi Co., Ltd., such as SP-1506, 500, SP-1507, 480, the VR series, such as VR-77, and the product name EA- manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. Examples include 1010/ECA, EA-11020, EA-1025, EA-6310/ECA, and the like.
  • the I/O ratio (ratio of inorganic value (I value) to organic value (O value)) of a polymerizable compound (especially a compound containing an ethylenically unsaturated polymerizable group) is a factor in adhesion to the glass substrate. It is preferably 0.40 or more, more preferably 0.60 or more, and even more preferably 1.2 or more. Although the upper limit of the I/O ratio is not particularly limited, it is preferably smaller than 3.0 from the viewpoint of compatibility with the thermoplastic resin.
  • the I/O ratio is calculated using the calculation method in the organic conceptual diagram.
  • Organic conceptual diagrams were proposed by Fujita et al., and are an effective method for predicting various physicochemical properties from the chemical structure of organic compounds (Yoshio Koda, Organic Conceptual Diagrams - Basics and Applications, Sankyo Publishing). (1984)). Since the polarity of organic compounds depends on the number of carbon atoms and substituents, the inorganic value of other substituents is based on the case where the organic value of methylene group is 20 and the inorganic value of hydroxyl group is 100. and the organic value are determined, and the inorganic value and organic value of the organic compound are calculated. Organic compounds with large inorganicity values have high polarity, and organic compounds with large organicity values have low polarity.
  • the content of the polymerizable compound is preferably 5 to 80% by mass, and 10 to 60% by mass based on the solid content in the composition. It is more preferably 15% to 50% by mass, and even more preferably 15% to 50% by mass.
  • the solid content in the composition means other components in the composition excluding the solvent. Even if other components are liquid, they are calculated as solid content.
  • the composition used to form the heat seal layer preferably contains a polymerization initiator from the viewpoint of adhesion to glass.
  • the polymerization initiator include photopolymerization initiators.
  • the photopolymerization initiator may be any photopolymerization initiator as long as it can generate radicals as active species upon irradiation with light, and any known photopolymerization initiator can be used without any limitations.
  • Specific examples include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl-(2-hydroxy-2-propyl)ketone , 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino(4-thiomethylphenyl)propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butanone, 2-hydroxy -2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone oligomer and 2-hydroxy-1- ⁇ 4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl] Acetophenones such as phenyl ⁇ -2-methyl-propan-1-one; 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-,2-(O-benzoyloxime)], and ethanone, 1- Oxime
  • auxiliary agent for the polymerization initiator triethanolamine, triisopropanolamine, 4,4'-dimethylaminobenzophenone (Michler's ketone), 4,4'-diethylaminobenzophenone, 2-dimethylaminoethylbenzoic acid, 4-dimethylamino Ethyl benzoate, (n-butoxy)ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, and 2,4-diisopropylthioxanthone etc.
  • the above polymerization initiators and auxiliary agents can be synthesized by known methods and are also available as commercial products.
  • the content of the polymerization initiator contained in the composition used to form the heat seal layer is not particularly limited, and may be adjusted as appropriate within a range that allows the polymerization reaction of the polymerizable compound to proceed favorably.
  • a polymerization initiator is included in the composition used to form the heat seal layer, the content of the polymerization initiator is 0.1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymerizable compound contained in the composition. is preferable, 0.5 to 10 parts by weight is more preferable, and even more preferably 1 to 10 parts by weight.
  • the heat seal layer may contain inorganic particles. Since the heat seal layer contains inorganic particles, unevenness is formed on the surface of the heat seal layer, and when the heat seal layer and the HC layer are rolled into a state where they are in direct contact, friction between the heat seal layer and the HC layer is reduced. This is preferable because it can be rolled without wrinkles.
  • the inorganic particles contained in the heat-sealing layer are preferably inorganic oxide particles, more preferably silica (silicon dioxide) particles, aluminum oxide particles, titanium dioxide particles, or zirconium oxide particles, and even more preferably silica particles.
  • the inorganic particles consist of primary particles and form secondary particles formed by aggregation of the primary particles.
  • the average primary particle diameter of the inorganic particles is not particularly limited, but is preferably 5 to 50 nm, more preferably 5 to 15 nm.
  • the average secondary particle diameter of the inorganic particles is not particularly limited, but is preferably 100 to 500 nm.
  • the content of inorganic particles in the heat-sealing layer is not particularly limited, but is preferably 1% by mass or more, more preferably 9% by mass or more, based on the total mass of the heat-sealing layer.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less.
  • the average primary particle diameter of the inorganic particles is measured by transmission electron microscopy. Specifically, for 50 arbitrarily selected primary particles, the diameter of a circle circumscribing the primary particles is determined, and the arithmetic mean thereof is taken as the average primary particle diameter.
  • the observation magnification of the transmission electron microscope is set to any magnification that allows the primary particle diameter to be determined between 500,000 times and 5,000,000 times.
  • the above average secondary particle diameter is a value measured by performing true spherical fitting (refractive index 1.46) using a laser diffraction scattering particle size distribution measuring device.
  • the measuring device for example, MicroTrac MT3000 manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd. can be used.
  • the heat seal layer may contain a leveling agent.
  • a leveling agent By containing the leveling agent in the heat-sealing layer, the surface of the heat-sealing layer is smoothed, and visibility when integrated with a glass substrate can be improved.
  • a known leveling agent can be used, such as a surfactant, and among them, a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant is preferable.
  • the fluorine content in the fluorine surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and even more preferably 7 to 25% by mass.
  • a fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid saving properties.
  • the content of the leveling agent in the heat-sealing layer is not particularly limited, but is preferably 0.005 to 0.5% by mass, more preferably 0.01 to 0.1% by mass, based on the total mass of the heat-sealing layer.
  • the water contact angle of the surface of the heat seal layer opposite to the reflective layer or polarization conversion layer is not particularly limited, but from the viewpoint of better adhesion to the glass substrate, it is preferably 100° or less, more preferably 90° or less. , 70° or less is more preferable.
  • the lower limit is not particularly limited, but is often 10° or more, more often 30° or more.
  • the method for measuring the water contact angle is as follows. First, three different locations on the surface of the heat-sealing layer of the reflective film were measured using a contact angle meter CA-X (manufactured by Kyowa Kaimen Kagaku Co., Ltd.) using pure water in an environment of 20°C and 65% RH.
  • a droplet of .0 mm is made at the tip of the needle and brought into contact with the surface of the heat-sealing layer to form a droplet.
  • the angle between the tangent to the pure water surface and the heat-sealing layer surface at the point where the heat-sealing layer surface and pure water contact, 25 seconds after the heat-sealing layer surface and pure water contact, on the side containing pure water. are measured and their average value is taken as the water contact angle of the heat seal layer.
  • the heat seal layer is preferably formed by applying a composition for forming a heat seal layer.
  • the composition for forming a heat seal layer is a composition that contains the above-mentioned components and is used to form a heat seal layer.
  • the composition for forming a heat seal layer preferably contains a solvent from the viewpoint of coatability.
  • the type of solvent is not particularly limited, and examples include water and organic solvents, with organic solvents being preferred. Examples of organic solvents include ketones, alkyl halides, amides, sulfoxides, heterocyclic compounds, hydrocarbons, esters, and ethers.
  • the method of applying the composition for forming a heat seal layer is not particularly limited, and examples thereof include wire bar coating method, curtain coating method, extrusion coating method, direct gravure coating method, reverse gravure coating method, die coating method, spin coating method, and dip coating method. Examples include coating methods, spray coating methods, and slide coating methods.
  • the coating film obtained by coating may be subjected to a drying treatment if necessary.
  • the drying treatment include heat treatment.
  • the heating temperature in the heat treatment is not particularly limited, but is preferably 50 to 150°C, more preferably 60 to 140°C.
  • the heating time is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 20 minutes, more preferably 0.5 to 10 minutes.
  • the surface of the formed heat-sealing layer (the surface opposite to the reflective layer or polarization conversion layer) may be subjected to surface treatment, if necessary.
  • the surface of the heat-sealing layer may be subjected to hydrophilic treatment.
  • the hydrophilic treatment include plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, and electron beam irradiation treatment, with corona treatment being preferred.
  • the conditions for the hydrophilic treatment are appropriately selected depending on the type of treatment to be performed, and are preferably adjusted so that the water contact angle on the surface of the heat-sealing layer falls within the range described above.
  • the average thickness of the heat seal layer is preferably 0.2 ⁇ m or more, more preferably 0.4 ⁇ m or more, and even more preferably 0.8 ⁇ m or more from the viewpoint of adhesion to the glass substrate, reflective layer, or polarization conversion layer.
  • the upper limit is not particularly limited, but from the viewpoint of thinning the film, it is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less.
  • the method for measuring the above average thickness is to cut the heat seal layer with a microtome, cut out a cross section, observe the cross section using a SEM (Scanning Electron Microscope), and measure the thickness at three different locations on the heat seal layer. Measure the thickness at , calculate the average value (arithmetic mean value) of the measured values, and use it as the average thickness.
  • the heat seal layer may have a single layer structure or a multilayer structure of two or more layers.
  • the average value of the total thickness of the heat-sealing layer may be within the above range.
  • the moisture content (water content at 25° C. and 60% RH) of the heat seal layer is preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less, and further preferably 0.5% or less from the viewpoint of wet heat durability. preferable.
  • the lower limit is not particularly limited, and may be 0%.
  • the moisture content of the heat-sealing layer was measured by scraping the heat-sealing layer and conditioning the sample in an environment of 25°C and 60% RH for 24 hours or more. VA-05'' (both manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) using the Karl Fischer method, and calculated by dividing the water content (g) by the sample mass (g, including water content).
  • the reflective film of the present invention has a reflective layer that selectively reflects light.
  • the reflective layer of the present invention has a cholesteric liquid crystal layer having a selective reflection center wavelength in a red wavelength region, a cholesteric liquid crystal layer having a selective reflection center wavelength in a green wavelength region, and a selective reflection center wavelength in a blue wavelength region. It is preferable to have a cholesteric liquid crystal layer.
  • the three cholesteric liquid crystal layers have different selective reflection center wavelengths. Each cholesteric liquid crystal layer may be in direct contact with any other cholesteric liquid crystal layer.
  • a cholesteric liquid crystal layer is a layer in which a liquid crystal compound is fixed in an oriented state in a helical structure of a cholesteric liquid crystal phase, and reflects light with a center wavelength of selective reflection according to the pitch of the helical structure, while reflecting light with a center wavelength of selective reflection according to the pitch of the helical structure. Transmits light in the area. Further, the cholesteric liquid crystal layer exhibits selective reflection property for either left or right circularly polarized light at a specific wavelength.
  • the reflective layer preferably satisfies the following requirements (i) to (iii) from the viewpoint of visibility.
  • the maximum value of natural light reflectance is more than 7% (preferably more than 20%), and the difference between the maximum value and the minimum value of natural light reflectance is 3% or more, and the total value of the wavelength band width in the region higher than the average value of the maximum value and minimum value of the natural light reflectance is 20 to 80 nm.
  • the maximum value of natural light reflectance is more than 7% (preferably more than 20%), and the difference between the maximum value and the minimum value of natural light reflectance is 3% or more, and the total value of the wavelength band width in the region higher than the average value of the maximum value and minimum value of the natural light reflectance is 20 to 80 nm.
  • the maximum value of natural light reflectance is more than 7% (preferably 20% or more) and is higher than the average value of the maximum value and minimum value of natural light reflectance.
  • the total value of the wavelength band width is 120 nm or more.
  • the reflected wavelength and reflectance can be adjusted by adjusting the selective reflection center wavelength, thickness (helical pitch number), etc. of the cholesteric liquid crystal layer.
  • a cholesteric liquid crystal layer that mainly reflects light in the blue wavelength region achieves reflection that satisfies requirement (i)
  • a cholesteric liquid crystal layer that reflects light in the green wavelength region achieves reflection that satisfies requirement (ii).
  • the maximum value of the natural light reflectance in the range from 400 nm to less than 500 nm is preferably more than 7%, more preferably 20% or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is often 35% or less, for example.
  • the maximum value of the natural light reflectance in the range of 500 nm or more and less than 600 nm is preferably more than 7%, more preferably 20% or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is often 35% or less, for example.
  • the maximum value of the natural light reflectance in the range of 600 to 800 nm is preferably more than 7%, more preferably 20% or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is often 35% or less, for example.
  • the difference between the maximum value and the minimum value of the natural light reflectance in the range of 400 nm or more and less than 500 nm is preferably 4 to 20%, More preferably 4% to 12%.
  • the difference between the maximum value and the minimum value of the natural light reflectance in the range from 500 nm to 600 nm is 4 to 20%. is preferable, and 4 to 12% is more preferable.
  • the wavelength band width of the region where the reflectance is higher than the average value of the maximum value and the minimum value of the reflectance from 400 nm to less than 500 nm is set to 30 ⁇ 30 nm. 78 nm is preferred, and 35 to 75 nm is more preferred.
  • the wavelength band width of the region where the reflectance is higher than the average value of the maximum value and minimum value of the reflectance from 500 nm to 600 nm is , 30 to 78 nm is preferable, and 35 to 75 nm is more preferable.
  • the wavelength band width of 400 nm or more and less than 500 nm, and the wavelength band width of 500 nm or more and less than 600 nm the narrower the width, the better the transmittance, but since the wavelength band width of 600 to 800 nm is wide, If the wavelength band width is too narrow and/or the wavelength band width is 500 nm or more and less than 600 nm, there is a risk that the reflected color tone will deteriorate.
  • the wavelength band width of 400 nm or more and less than 500 nm and the wavelength band width of 500 nm or more and less than 600 nm are preferably within the above ranges. Moreover, the influence of the wavelength band width in the range of 500 nm or more and less than 600 nm is greater on the transmittance.
  • the wavelength band width of the region where the reflectance is higher than the average value of the maximum value and minimum value of the reflectance in the range of 600 to 800 nm is set to 120 to 200 nm. is preferred.
  • the reflective layer preferably has two or more cholesteric liquid crystal layers with different selective reflection center wavelengths. Further, each cholesteric liquid crystal layer is preferably in direct contact with any other cholesteric liquid crystal layer.
  • the film thickness between the layers increases, making it difficult to obtain the effect of interference of light reflected by each cholesteric liquid crystal layer.
  • a configuration in which the cholesteric liquid crystal layers are in contact with each other is preferable because the wavelength band width can be narrowed by the effect of interference of light reflected by each cholesteric liquid crystal layer.
  • the film thickness of each cholesteric liquid crystal layer is thinner than the wavelength of light (visible light 380 to 780 nm) because the interference effect becomes more pronounced.
  • the cholesteric liquid crystal layers are not limited to a structure in which they are in direct contact with each other, but may be in a structure in which they are laminated via an adhesive layer or the like.
  • each cholesteric liquid crystal layer may have at least one selective reflection center wavelength, but at least one of the cholesteric liquid crystal layers may have two or more selective reflection center wavelengths.
  • a cholesteric liquid crystal layer having two or more selective reflection center wavelengths is achieved by a helical structure in which the helical pitch changes in the thickness direction.
  • the total thickness of the reflective layer is preferably 0.4 to 2.0 ⁇ m, more preferably 0.6 to 1.8 ⁇ m, and even more preferably 0.8 to 1.4 ⁇ m.
  • the total thickness of the reflective layer is within the above range, the natural light reflectance of the reflective layer is high, the brightness of the displayed image can be increased, and the transmittance is high.
  • the material and method for manufacturing the cholesteric liquid crystal layer will be described below.
  • Examples of the material used to form the cholesteric liquid crystal layer include a liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound and a chiral agent (optically active compound).
  • the liquid crystal composition may further contain a surfactant, a polymerization initiator, a solvent, and the like, if necessary.
  • the above liquid crystal composition can be applied to a support, an alignment layer, a lower cholesteric liquid crystal layer, etc., and after cholesteric alignment ripening, the liquid crystal composition can be fixed by curing to form a cholesteric liquid crystal layer.
  • the polymerizable liquid crystal compound may be a rod-like liquid crystal compound or a discotic liquid crystal compound, but is preferably a rod-like liquid crystal compound.
  • An example of the rod-shaped polymerizable liquid crystal compound that forms the cholesteric liquid crystal layer is a rod-shaped nematic liquid crystal compound.
  • Rod-shaped nematic liquid crystal compounds include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, and alkoxy-substituted phenylpyrimidines.
  • phenyldioxanes, tolans, and alkenylcyclohexylbenzonitrile are preferably used. Not only low-molecular liquid crystal compounds but also high-molecular liquid crystal compounds can be used.
  • a polymerizable liquid crystal compound can be obtained by introducing a polymerizable group into a liquid crystal compound.
  • the polymerizable group include an unsaturated polymerizable group, an epoxy group, and an aziridinyl group, with an unsaturated polymerizable group being preferred and an ethylenically unsaturated polymerizable group being more preferred.
  • the polymerizable group can be introduced into the molecules of the liquid crystal compound by various methods.
  • the number of polymerizable groups that the polymerizable liquid crystal compound has in one molecule is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3.
  • Examples of polymerizable liquid crystal compounds include Makromol. Chem. , Volume 190, Page 2255 (1989), Advanced Materials Volume 5, Page 107 (1993), US Patent No.
  • the following mixture 1 can be mentioned.
  • the content of the polymerizable liquid crystal compound in the liquid crystal composition is preferably 80 to 99.9% by mass, and 85 to 99.5% by mass based on the solid content mass (mass excluding solvent) of the liquid crystal composition. % is more preferable, and 90 to 99% by mass is even more preferable.
  • the cholesteric liquid crystal layer may have a low ⁇ n.
  • the low ⁇ n cholesteric liquid crystal layer can be formed using a low ⁇ n polymerizable liquid crystal compound.
  • the low ⁇ n polymerizable liquid crystal compound will be specifically explained below.
  • a narrow band reflective layer can be obtained by forming a cholesteric liquid crystal phase using a low ⁇ n polymerizable liquid crystal compound and forming a fixed film.
  • low ⁇ n polymerizable liquid crystal compounds include compounds described in WO2015/115390, WO2015/147243, WO2016/035873, JP2015-163596A, and JP2016-053149A.
  • WO2016/047648 For a liquid crystal composition that provides a reflective layer with a small half width, reference can also be made to the description in WO2016/047648.
  • liquid crystal compound is a polymerizable compound represented by the following formula (I) described in WO2016/047648.
  • A represents a phenylene group which may have a substituent or a trans-1,4-cyclohexylene group which may have a substituent
  • L is a single bond
  • m represents an integer from 3 to 12
  • Sp 1 and Sp 2 each independently represent a single bond, a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
  • Q 1 and Q 2 are each independently a hydrogen atom or the following formulas Q-1 to Q It represents a polymerizable group selected from the group consisting of groups represented by -5, provided that either one of Q 1 and Q 2 represents a polymerizable group.
  • the phenylene group is preferably a 1,4-phenylene group.
  • the substituent is not particularly limited, and includes, for example, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an alkyl ether. Examples include substituents selected from the group consisting of a group, an amide group, an amino group, a halogen atom, and a group constituted by a combination of two or more of the above-mentioned substituents.
  • the phenylene group and trans-1,4-cyclohexylene group may have 1 to 4 substituents. When it has two or more substituents, the two or more substituents may be the same or different.
  • the alkyl group may be either linear or branched.
  • the alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and still more preferably 1 to 6 carbon atoms.
  • Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, Examples include 1,1-dimethylpropyl group, n-hexyl group, isohexyl group, linear or branched heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, and dodecyl group.
  • an alkyl group also applies to an alkoxy group containing an alkyl group.
  • specific examples of the alkylene group when referring to an alkylene group include divalent groups obtained by removing one arbitrary hydrogen atom from each of the above-mentioned examples of the alkyl group.
  • examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the number of carbon atoms in the cycloalkyl group is preferably 3 to 20, more preferably 5 or more, and preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and even more preferably 6 or less.
  • Examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group.
  • X 3 represents a single bond, -O-, -S-, or -N(Sp 4 -Q 4 )-, or a nitrogen atom forming a ring structure together with Q 3 and Sp 3 shows.
  • Sp 3 and Sp 4 each independently represent a single bond, a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, or one or more linear or branched alkylene groups having 1 to 20 carbon atoms.
  • Q 3 and Q 4 each independently represent a hydrogen atom, a cycloalkyl group, or a cycloalkyl group in which one or more -CH 2 - is -O-, -S-, -NH-, -N(CH 3 )
  • the substitution position is not particularly limited. Among these, a tetrahydrofuranyl group is preferred, and a 2-tetrahydrofuranyl group is more preferred.
  • the m-1 L's may be the same or different from each other.
  • Sp 1 and Sp 2 each independently represent one or more of a single bond, a straight chain or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and a straight chain or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the linking group is preferably a linking group composed of a combination of one or more groups, and is preferably a straight-chain alkylene group having 1 to 10 carbon atoms with -O- bonded to both ends.
  • Q 1 and Q 2 each independently represent a hydrogen atom or a polymerizable group selected from the group consisting of the groups represented by the above formulas Q-1 to Q-5, provided that Q 1 and Q Either one of 2 represents a polymerizable group.
  • the polymerizable group is preferably an acryloyl group (formula Q-1) or a methacryloyl group (formula Q-2).
  • m represents an integer of 3 to 12.
  • m is preferably an integer of 3 to 9, more preferably 3 to 7, even more preferably 3 to 5.
  • the polymerizable compound represented by formula (I) has at least one phenylene group which may have a substituent as A and a trans-1,4-cyclohexylene group which may have a substituent. It is preferable to include at least one.
  • the polymerizable compound represented by formula (I) preferably contains 1 to 4 trans-1,4-cyclohexylene groups, which may have a substituent, and preferably contains 1 to 3 trans-1,4-cyclohexylene groups as A. is more preferable, and it is even more preferable to contain 2 or 3 pieces.
  • the polymerizable compound represented by formula (I) preferably contains one or more phenylene groups, which may have a substituent, as A, more preferably 1 to 4, and 1 to 4. It is more preferable to contain three pieces, and it is particularly preferable to contain two or three pieces.
  • examples of the polymerizable compound represented by formula (I) include compounds described in paragraphs 0051 to 0058 of WO2016/047648, as well as JP2013-112631A, JP2010-070543A, Examples include compounds described in Patent No. 4725516, WO2015/115390, WO2015/147243, WO2016/035873, JP 2015-163596, and JP 2016-053149.
  • the chiral agent has the function of inducing a helical structure of the cholesteric liquid crystal phase.
  • Chiral compounds may be selected depending on the purpose, since the helical sense or helical pitch induced by the compound differs depending on the compound.
  • There are no particular limitations on the chiral agent and known compounds can be used. Examples of chiral agents include the Liquid Crystal Device Handbook (Chapter 3, Section 4-3, Chiral Agents for TN and STN, p. 199, edited by the 142nd Committee of the Japan Society for the Promotion of Science, 1989), Japanese Patent Laid-Open No. 2003-287623, Examples include compounds described in JP-A Nos. 2002-302487, 2002-080478, 2002-080851, 2010-181852, and 2014-034581.
  • Chiral agents generally contain asymmetric carbon atoms, but axially asymmetric compounds or planar asymmetric compounds that do not contain asymmetric carbon atoms can also be used as chiral agents.
  • Axial asymmetric compounds or planar asymmetric compounds include binaphthyl, helicene, paracyclophane, and derivatives thereof.
  • the chiral agent may have a polymerizable group. When both the chiral agent and the liquid crystal compound have polymerizable groups, a polymerization reaction between the polymerizable chiral agent and the polymerizable liquid crystal compound results in repeating units derived from the polymerizable liquid crystal compound and repeating units derived from the chiral agent. repeating units can be formed.
  • the polymerizable group possessed by the polymerizable chiral agent is preferably the same type of group as the polymerizable group possessed by the polymerizable liquid crystal compound. Therefore, the polymerizable group of the chiral agent is preferably an unsaturated polymerizable group, an epoxy group or an aziridinyl group, more preferably an unsaturated polymerizable group, and preferably an ethylenically unsaturated polymerizable group. Particularly preferred. Moreover, a liquid crystal compound may be sufficient as a chiral agent.
  • isosorbide derivatives As the chiral agent, isosorbide derivatives, isomannide derivatives, binaphthyl derivatives, etc. are preferable.
  • isosorbide derivative commercially available products such as LC756 manufactured by BASF may be used.
  • the content of the chiral agent in the liquid crystal composition is preferably 0.01 to 200 mol%, more preferably 1 to 30 mol%, based on the total molar amount of the polymerizable liquid crystal compound. Note that the content of the chiral agent in the liquid crystal composition is intended to be the concentration (% by mass) of the chiral agent relative to the total solid content in the composition.
  • the cholesteric liquid crystal layer of the reflective layer included in the reflective film of the present invention may have two or more selective reflection center wavelengths.
  • a cholesteric liquid crystal layer having two or more selective reflection center wavelengths is achieved by changing the pitch of the helical structure in the thickness direction.
  • a cholesteric liquid crystal layer in which the pitch of the helical structure changes in the thickness direction is created by changing the thickness when forming a cholesteric liquid crystal layer using a chiral agent whose helical twisting power (HTP) changes when irradiated with light. It can be produced by changing the amount of light irradiated in the direction.
  • HTP helical twisting power
  • Examples of chiral agents whose HTP changes upon irradiation with light include those that undergo back isomerization, dimerization, isomerization and dimerization, etc. upon irradiation with light.
  • the photoisomerizable group is preferably an isomerization site of a compound exhibiting photochromic properties, an azo group, an azoxy group, or a cinnamoyl group.
  • the liquid crystal composition contains a polymerization initiator.
  • the polymerization initiator used is preferably a photopolymerization initiator that can initiate the polymerization reaction by ultraviolet irradiation.
  • photopolymerization initiators include ⁇ -carbonyl compounds (described in U.S. Pat. No. 2,367,661 and U.S. Pat. No. 2,367,670), acyloin ether (described in U.S. Pat. No. 2,448,828), and ⁇ -hydrocarbons. Substituted aromatic acyloin compounds (described in U.S. Pat. No.
  • an acylphosphine oxide compound or an oxime compound As the polymerization initiator contained in the liquid crystal composition, it is also preferable to use an acylphosphine oxide compound or an oxime compound.
  • the acylphosphine oxide compound include commercially available IRGACURE 810 (compound name: bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide) manufactured by BASF Japan Co., Ltd.
  • oxime compounds include IRGACURE OXE01 (manufactured by BASF), IRGACURE OXE02 (manufactured by BASF), TR-PBG-304 (manufactured by Changzhou Strong Electronics New Materials Co., Ltd.), Adeka Arcles NCI-831, and Adeka Arcles NCI-930.
  • the content of the photopolymerization initiator in the liquid crystal composition is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the content of the polymerizable liquid crystal compound.
  • the liquid crystal composition may optionally contain a crosslinking agent in order to improve film strength and durability after curing.
  • a crosslinking agent those that are cured by ultraviolet rays, heat, moisture, etc. can be suitably used.
  • the crosslinking agent is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose.
  • crosslinking agents include polyfunctional acrylate compounds such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate; epoxy compounds such as glycidyl(meth)acrylate and ethylene glycol diglycidyl ether; Aziridine compounds such as 2,2-bishydroxymethylbutanol-tris[3-(1-aziridinyl)propionate] and 4,4-bis(ethyleneiminocarbonylamino)diphenylmethane; hexamethylene diisocyanate, biuret-type isocyanate, etc.
  • polyfunctional acrylate compounds such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate
  • epoxy compounds such as glycidyl(meth)acrylate and ethylene glycol diglycidyl ether
  • Aziridine compounds such as 2,2-bishydroxymethylbutanol-tris[3-(1
  • isocyanate compounds polyoxazoline compounds having an oxazoline group in the side chain; alkoxysilane compounds such as vinyltrimethoxysilane and N-(2-aminoethyl)3-aminopropyltrimethoxysilane.
  • a known catalyst can be used depending on the reactivity of the crosslinking agent, and productivity can be improved in addition to improving membrane strength and durability. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the crosslinking agent is preferably 3 to 20% by mass, more preferably 5 to 15% by mass, based on the total solid content of the liquid crystal composition.
  • (meth)acrylate is used to mean “one or both of acrylate and methacrylate.”
  • the liquid crystal composition may contain an alignment control agent that contributes to stably or rapidly forming a cholesteric liquid crystal layer with planar alignment.
  • alignment control agents include fluorine (meth)acrylate polymers described in paragraphs 0018 to 0043 of JP-A No. 2007-272185, and formulas ( Examples include compounds represented by I) to (IV) and compounds described in JP-A No. 2013-113913.
  • the alignment control agent one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • alignment control agents include alignment control agent 1 and alignment control agent 2 below.
  • the content of the alignment control agent in the liquid crystal composition is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass, and 0.02 to 5% by mass, based on the total mass of the polymerizable liquid crystal compound. 1% by mass is more preferred.
  • the liquid crystal composition may contain at least one kind selected from various additives such as a surfactant for adjusting the surface tension of the coating film and making the thickness uniform, and a polymerizable monomer.
  • various additives such as a surfactant for adjusting the surface tension of the coating film and making the thickness uniform, and a polymerizable monomer.
  • polymerization inhibitors, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, coloring materials, metal oxide fine particles, etc. may be added within a range that does not reduce optical performance. It can be added with.
  • the cholesteric liquid crystal layer consists of a liquid crystal composition in which a polymerizable liquid crystal compound, a polymerization initiator, a chiral agent, a surfactant, etc. added as necessary are dissolved in a solvent, a transparent base material, a retardation layer, an alignment layer, etc.
  • the cholesteric liquid crystal composition is coated on the previously prepared cholesteric liquid crystal layer, etc. and dried to obtain a coating film, and this coating film is irradiated with actinic rays to polymerize the cholesteric liquid crystal composition, thereby fixing the cholesteric regularity.
  • cholesteric liquid crystal layer can be formed. Note that a laminated film consisting of a plurality of cholesteric liquid crystal layers can be formed by repeatedly performing the above-described manufacturing process for cholesteric liquid crystal layers.
  • the solvent used for preparing the liquid crystal composition is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, but organic solvents are preferably used.
  • the organic solvent is not particularly limited and can be selected as appropriate depending on the purpose. Examples include ketones, alkyl halides, amides, sulfoxides, heterocyclic compounds, hydrocarbons, esters, and ethers. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, ketones are preferred in consideration of the burden on the environment.
  • the method of applying the liquid crystal composition to the transparent substrate, the alignment layer, the underlying cholesteric liquid crystal layer, etc. is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the purpose.
  • coating methods include wire bar coating, curtain coating, extrusion coating, direct gravure coating, reverse gravure coating, die coating, spin coating, dip coating, spray coating, and slide coating.
  • One example is the law.
  • It can also be carried out by transferring a liquid crystal composition separately coated onto a support.
  • the heating temperature is preferably 200°C or lower, more preferably 130°C or lower.
  • This alignment treatment yields an optical thin film in which the polymerizable liquid crystal compound is twisted and oriented so that the helical axis is substantially perpendicular to the film surface.
  • the liquid crystal composition can be cured by further polymerizing the oriented liquid crystal compound.
  • the polymerization may be thermal polymerization or photopolymerization using light irradiation, but photopolymerization is preferred. It is preferable to use ultraviolet light for light irradiation.
  • the irradiation energy is preferably 20 mJ/cm 2 to 50 J/cm 2 , more preferably 100 to 1,500 mJ/cm 2 .
  • light irradiation may be performed under heating conditions or under a nitrogen atmosphere.
  • the irradiation ultraviolet wavelength is preferably 350 to 430 nm.
  • the polymerization reaction rate is preferably higher, preferably 70% or more, and more preferably 80% or more.
  • the polymerization reaction rate can be determined by measuring the consumption rate of polymerizable functional groups by infrared absorption spectrum.
  • the reflective film of the present invention has a hard coat layer (HC layer).
  • the HC layer provides abrasion resistance that prevents scratches even when hard materials rub against it, scratch resistance that prevents scratches even when pushed by hard materials, and even if dirt adheres to it, it can be easily wiped off. Provides stain resistance, etc.
  • the HC layer in the present invention comprises at least one compound selected from the group consisting of a polysiloxane compound having a polymerizable group in its molecule and a fluorine-containing compound having a polymerizable group in its molecule, and other than these compounds. It is preferably formed by polymerizing and curing a polymerizable compound having a polymerizable group in the molecule described below, and it is more preferable that these polymerizable groups are radically polymerizable groups.
  • the compound selected from the group consisting of polysiloxane-containing compounds and fluorine-containing compounds and the polymerizable compound forming the HC layer exist in a bonded state, providing better antifouling properties.
  • the compound selected from the group consisting of a polysiloxane-containing compound and a fluorine-containing compound has a polymerizable group
  • the polymerizable group in the compound selected from the group consisting of a polysiloxane-containing compound and a fluorine-containing compound described below does not react. Therefore, it exists in the HC layer in a bonded state.
  • the HC layer furthest from the adhesive layer may contain at least a compound selected from the group consisting of a polysiloxane compound and a fluorine-containing compound.
  • a compound selected from the group consisting of a polysiloxane compound and a fluorine-containing compound Preferably, it is more preferable that only the HC layer farthest from the adhesive layer contains it.
  • the HC layer furthest from the adhesive layer has at least the above-mentioned Preferably, it is a cured film of the compound, and more preferably only the HC layer furthest from the adhesive layer is a cured film of the compound.
  • specific embodiments of the HC layer will be described, but the present invention is not limited to the following embodiments.
  • the fluorine-containing compound in the present invention is not particularly limited as long as it can impart abrasion resistance and antifouling properties to the HC layer, and any compound having a fluorine atom in the molecule can be used.
  • a fluorine-containing antifouling agent exhibiting antifouling properties is preferably used.
  • the fluorine-containing compound may be a monomer, an oligomer, or a polymer.
  • the fluorine-containing compound must have a substituent that contributes to bond formation or compatibility with other components (e.g., polysiloxane-containing compound, polymerizable monomer that is a component of the resin, resin) in the HC layer. is preferred.
  • These substituents may be the same or different, and preferably there is a plurality of them.
  • This substituent is preferably a polymerizable group, and may be a polymerizable reactive group exhibiting any one of radical polymerizability, cationic polymerizability, anionic polymerizability, condensation polymerizability, and addition polymerizability.
  • Examples of preferable substituents include Examples include an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group, a cinnamoyl group, an epoxy group, an oxetanyl group, a hydroxyl group, a polyoxyalkylene group, a carboxyl group, and an amino group. Among these, a radically polymerizable group is preferred, and an acryloyl group or a methacryloyl group is more preferred.
  • the fluorine-containing compound may be a polymer or an oligomer with a compound that does not contain a fluorine atom.
  • a fluorine-based compound represented by the following general formula (F) is preferable.
  • n is 1 to 3 represents an integer of 1 to 3.
  • R A represents a polymerizable unsaturated group.
  • the polymerizable unsaturated group is preferably a group having an unsaturated bond (i.e., a radically polymerizable group) that can cause a radical polymerization reaction by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and (meth) Examples include acryloyl group, (meth)acryloyloxy group, vinyl group, and allyl group, and (meth)acryloyl group, (meth)acryloyloxy group, and any hydrogen atom in these groups are substituted with a fluorine atom. groups are preferably used.
  • R f represents a (per)fluoroalkyl group or a (per)fluoropolyether group.
  • the (per)fluoroalkyl group represents at least one of a fluoroalkyl group and a perfluoroalkyl group
  • the (per)fluoropolyether group represents at least one of a fluoropolyether group and a perfluoropolyether group. represents a species. From the viewpoint of antifouling properties, it is preferable that the fluorine content in R f be higher.
  • the number of carbon atoms in the (per)fluoroalkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10.
  • (Per)fluoroalkyl groups have linear structures (e.g., -CF 2 CF 3 , -CH 2 (CF 2 ) 4 H, -CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , and -CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 H), branched structures (for example, -CH(CF 3 ) 2 , -CH 2 CF(CF 3 ) 2 , -CH(CH 3 )CF 2 CF 3 , and -CH(CH 3 ) (CF 2 ) 5 CF 2 H), an alicyclic structure (preferably a 5-membered or 6-membered ring, for example, a perfluorocyclohexyl group and a perfluorocyclopentyl group, or substituted with these groups) (alkyl group) may also be used.
  • the (per)fluoropolyether group refers to the case where the (per)fluoroalkyl group has an ether bond, and may be a monovalent or divalent or more valent group.
  • the fluoropolyether group include -CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , -CH 2 CH 2 OCH 2 C 4 F 8 H, -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 C 8 F 17 , -CH 2 CH
  • Examples include 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H, and a fluorocycloalkyl group having 4 or more fluorine atoms and having 4 to 20 carbon atoms.
  • examples of the perfluoropolyether group include -(CF 2 O) p -(CF 2 CF 2 O) q -, -[CF(CF 3 )CF 2 O] p -[CF(CF 3 )]
  • Examples include q -, -(CF 2 CF 2 CF 2 O) p -, and -(CF 2 CF 2 O) p -.
  • the above p and q each independently represent an integer of 0 to 20. However, p+q is an integer of 1 or more.
  • the total of p and q is preferably 1 to 83, more preferably 1 to 43, and even more preferably 5 to 23.
  • the above-mentioned fluorine-containing antifouling agent preferably has a perfluoropolyether group represented by -(CF 2 O) p -(CF 2 CF 2 O) q - from the viewpoint of having excellent antifouling properties.
  • the fluorine-containing antifouling agent preferably has a perfluoropolyether group and a plurality of polymerizable unsaturated groups in one molecule.
  • W represents a single bond or a connecting group.
  • W include alkylene groups, arylene groups, heteroalkylene groups, and linking groups that are combinations of these groups. These linking groups may further have a functional group such as an oxy group, a carbonyl group, a carbonyloxy group, a carbonylimino group, a sulfonamide group, or a combination of these groups.
  • a functional group such as an oxy group, a carbonyl group, a carbonyloxy group, a carbonylimino group, a sulfonamide group, or a combination of these groups.
  • an ethylene group is preferable, and an ethylene group bonded to a carbonylimino group is more preferable.
  • the fluorine atom content of the fluorine-containing antifouling agent is not particularly limited, but is preferably 20% by mass or more, more preferably 30 to 70% by mass, and even more preferably 40 to 70% by mass.
  • fluorine-containing antifouling agents examples include R-2020, M-2020, R-3833, M-3833 manufactured by Daikin Chemical Industries, Ltd., and Optool DAC (all trade names) manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. Examples include Megafac F-171, F-172, F-179A, RS-78, RS-90, Defensor MCF-300 and MCF-323 (all trade names).
  • the product of n and m (n ⁇ m) is preferably 2 or more, and more preferably 4 or more.
  • Preferred specific examples of the embodiment in which n and m are both 1 in the general formula (F) include compounds represented by the following general formulas (F-1) to (F-3).
  • R f2 represents a fluorine atom or a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms
  • R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 represents a single bond or an alkylene group
  • R 22 represents a single bond or a divalent linking group
  • p is an integer representing the degree of polymerization
  • the degree of polymerization p is greater than or equal to k (k is an integer of 3 or more).
  • R 22 represents a divalent linking group
  • examples of this divalent linking group include those similar to the above-mentioned W.
  • telomer type (meth)acrylate containing a fluorine atom in general formula (F-1) examples include (meth)acrylic acid moieties or fully fluorinated alkyl ester derivatives.
  • the compound represented by the general formula (F-1) above may be synthesized by the general formula (F-1) depending on the telomerization conditions and the separation conditions of the reaction mixture.
  • a plurality of fluorine-containing (meth)acrylic acid esters in which p of the group R f2 (CF 2 CF 2 ) p R 22 CH 2 CH 2 R 21 O- is k, k+1, k+2, etc. May include.
  • F-2 F(CF 2 ) q -CH 2 -CHX-CH 2 Y
  • q represents an integer from 1 to 20
  • X and Y represent a (meth)acryloyloxy group or a hydroxyl group, and at least one of X and Y represents a (meth)acryloyloxy group.
  • the fluorine-containing (meth)acrylic acid ester represented by the general formula (F-2) has a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms and a trifluoromethyl group (-CF 3 ) at the end. Even in a small amount of fluorine-containing (meth)acrylic acid ester, trifluoromethyl groups are effectively oriented on the surface.
  • q is preferably 6 to 20, more preferably 8 to 10.
  • Fluorine-containing (meth)acrylic esters having a fluoroalkyl group having 8 to 10 carbon atoms have an excellent coefficient of friction compared to fluorine-containing (meth)acrylic esters having fluoroalkyl groups with other chain lengths. It exhibits a reduction effect and has excellent abrasion resistance.
  • the fluorine-containing (meth)acrylic acid ester represented by the general formula (F-2) includes 1-(meth)acryloyloxy-2-hydroxy-4,4,5,5,6,6,7 , 7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,13-heneicosafluorotridecane, 2-(meth)acryloyloxy-1-hydroxy-4, 4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,13-heneicosafluorotridecane, and 1 ,2-bis(meth)acryloyloxy4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,13 - Heneicosafluorotridecane.
  • Fluorine atom-containing monofunctional (meth)acrylate represented by the above general formula (F-3) is produced by reacting a fluorine atom-containing alcohol compound represented by the following general formula (FG-3) with (meth)acrylic acid halide. It can be obtained by
  • fluorine atom-containing alcohol compound represented by the above general formula (FG-3) include 1H,1H-perfluoro-3,6-dioxaheptan-1-ol, 1H,1H-perfluoro-3,6- Dioxaoctan-1-ol, 1H,1H-perfluoro-3,6-dioxadecane-1-ol, 1H,1H-perfluoro-3,6,9-trioxadecan-1-ol, 1H,1H-perfluoro- 3,6,9-trioxaundecan-1-ol, 1H,1H-perfluoro-3,6,9-trioxatridecan-1-ol, 1H,1H-perfluoro-3,6,9,12-tetra Oxatridecan-1-ol, 1H,1H-perfluoro-3,6,9,12-tetraoxatetradecan-1-ol, 1H,1H-perfluoro
  • the (meth)acrylic acid halide to be reacted with the fluorine atom-containing alcohol compound represented by the above general formula (FG-3) includes (meth)acrylic acid fluoride, (meth)acrylic acid chloride, (meth)acrylic acid chloride, and (meth)acrylic acid halide.
  • examples include bromide and (meth)acrylic acid iodide. From the viewpoint of availability, (meth)acrylic acid chloride is preferred.
  • the fluorine-containing polyether compound represented by the above general formula (F-3)' may have a plurality of polymerizable unsaturated groups.
  • the fluorine-containing polyether compound represented by the general formula (F-3)' above contains six or more fluorine-containing polyether chains represented by the general formula (FG-3)' as repeating units in the R f3 group. It is important that the material is resistant to scratches, and this can impart abrasion resistance. More specifically, it may be a mixture containing 6 or more repeating units of the fluorine-containing polyether chain, and when used in the form of a mixture, a fluorine-containing unsaturated compound containing less than 6 repeating units and a fluorine-containing unsaturated compound containing less than 6 repeating units may be used.
  • the fluorine-containing polyether chain represented by the general formula (FG-3)' is preferably 6 or more, more preferably 10 or more, even more preferably 18 or more, and particularly preferably 20 or more.
  • the fluorine-containing polyether chain may be present at the end of the R f3 group or within the chain.
  • the R f3 group has the general formula (c-4): R 4 -(CX 6 2 CF 2 CF 2 O) t -(R 5 ) e - (wherein, X 6 has the same meaning as X 6 in the fluorine-containing polyether chain represented by formula (FG-3)') , R 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a fluorine-containing alkyl group, an alkyl group containing an ether bond, or a fluorine-containing alkyl group containing an ether bond, R 5 represents a divalent or higher organic group, t represents an integer from 6 to 66, and e represents 0 or 1.) A group represented by is preferred.
  • the R f3 group is a fluorine-containing organic group that is bonded to a reactive carbon-carbon double bond via a divalent or higher-valent organic group R 5 and further has R 4 at the terminal.
  • R 5 may be any organic group as long as it can bond the fluorine-containing polyether chain represented by the general formula (FG-3)' to a reactive carbon-carbon double bond. Examples include an alkylene group, a fluorine-containing alkylene group, an alkylene group containing an ether bond, and a fluorine-containing alkylene group containing an ether bond. Among these, a fluorine-containing alkylene group or a fluorine-containing alkylene group containing an ether bond is preferred in terms of transparency and low refractive index.
  • fluorine-containing polyether compound represented by the general formula (F-3)' compounds listed in Republished Patent No. WO 2003/022906 are preferably used.
  • CH 2 CF-COO-CH 2 CF 2 CF 2 -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) 7 -OC 3 F 7 is preferred.
  • Examples of embodiments in which n and m are not 1 at the same time in general formula (F) include compounds represented by general formula (F-4) and general formula (F-5).
  • n is Represents an integer from 1 to 3
  • m represents an integer from 1 to 3
  • n and m are never 1 at the same time.
  • R f1 can be monovalent to trivalent.
  • the terminal groups are (C n F 2n+1 )-, (C n F 2n+1 O)-, (XC n F 2n O)-, (XC n F 2n+1 )- (wherein X is It is preferably a hydrogen atom, a chlorine atom, or a bromine atom, and n is an integer of 1 to 10).
  • CF 3 O(C 2 F 4 O) p CF 2 ⁇ , C 3 F 7 O(CF 2 CF 2 CF 2 O) p CF 2 CF 2 ⁇ , C 3 F 7 O(CF(CF 3 ) CF 2 O) p CF(CF 3 )- or F(CF(CF 3 )CF 2 O) p CF(CF 3 )- is preferable.
  • the average value of p is 0 to 50, preferably 3 to 30, more preferably 3 to 20, and even more preferably 4 to 15.
  • R f1 is divalent, -(CF 2 O) q (C 2 F 4 O) r CF 2 -, -(CF 2 ) 3 O(C 4 F 8 O) r (CF 2 ) 3 -, -CF 2 O (C 2 F 4 O) r CF 2 -, -C 2 F 4 O (C 3 F 6 O) r C 2 F 4 -, -CF (CF 3 ) (OCF 2 CF (CF 3 ) ) s OC t F 2t O(CF(CF 3 )CF 2 O) r CF(CF 3 )- or -(CF(CF 3 )CF 2 O) p CF(CF 3 )- is preferred.
  • the average value of p, q, r, and s in the formula is 0 to 50.
  • the number is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 20, and even more preferably 4 to 15.
  • t is an integer from 2 to 6.
  • Preferred specific examples and synthesis methods of the compound represented by general formula (F-4) are described in International Publication No. 2005/113690.
  • F(CF(CF 3 )CF 2 O) p CF(CF 3 )- with an average value of p of 6 to 7 is referred to as "HFPO-"
  • -HFPO- F(CF(CF 3 )CF 2 O) p CF(CF 3 )- with an average value of p of 6 to 7
  • -HFPO- indicates a specific compound of general formula (F-4), but is limited to these. It's not a thing.
  • the compound whose polymerizable unsaturated group is a (meth)acryloyloxy group may have a plurality of (meth)acryloyloxy groups. Because the fluorine-containing antifouling agent has multiple (meth)acryloyloxy groups, it forms a three-dimensional network structure when cured, has a high glass transition temperature, and has low transferability of the antifouling agent. Durability against repeated wiping of dirt can be improved. Furthermore, an HC layer with excellent heat resistance, weather resistance, etc. can be obtained.
  • Specific examples of the compound represented by the above general formula (F-5) include di(meth)acrylic acid-2,2,2-trifluoroethylethylene glycol, di(meth)acrylic acid-2,2,3 , 3,3-pentafluoropropylethylene glycol, di(meth)acrylic acid-2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutylethylene glycol, di(meth)acrylic acid-2,2,3 , 3,4,4,5,5,5-nonafluoropentylethylene glycol, di(meth)acrylic acid-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-undeca Fluorohexylethylene glycol, di(meth)acrylic acid-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-tridecafluoroheptylethylene glycol, di(meth)acrylic acid Acid-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-pentadecafluorooctylethylene glycol, di
  • di(meth)acrylic acid esters can be prepared by known methods such as those listed in JP-A-6-306326.
  • diacrylic acid-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-heptadecafluorononylethylene glycol is preferred. used.
  • the compound whose polymerizable unsaturated group is a (meth)acryloyloxy group is a compound having a plurality of (per)fluoroalkyl groups or (per)fluoropolyether groups in one molecule. There may be.
  • the weight average molecular weight (Mw) of a fluorine-containing compound having a polymerizable unsaturated group can be measured using molecular exclusion chromatography, such as gel permeation chromatography (GPC).
  • Mw of the fluorine-containing compound used in the present invention is preferably 400 or more and less than 50,000, more preferably 400 or more and less than 30,000, and even more preferably 400 or more and less than 25,000. If it is more than the above lower limit, the surface migration property of the antifouling agent in the HC layer increases, which is preferable.
  • the fluorine-containing compound may have a multimodal weight average molecular weight.
  • the fluorine-containing compound may be included in the curable composition for forming an HC layer.
  • the content of the fluorine-containing compound in the curable composition for HC layer formation is preferably 0.01 to 5% by mass, and 0.1 to 5% by mass, based on the total solid content in the curable composition for HC layer formation. It is more preferably 0.5-5% by weight, particularly preferably 0.5-2% by weight. When the amount added is at least the above upper limit, the coefficient of friction can be reduced and the abrasion resistance can be further improved.
  • the amount added in the curable composition for forming the HC layer that forms the HC layer containing the fluorine-containing compound or the polysiloxane compound means.
  • the solid content in the curable composition for forming an HC layer means components other than the solvent in the curable composition for forming an HC layer. Even if the component is liquid, it is considered solid.
  • the polysiloxane-containing compound in the present invention is not particularly limited, and includes compounds having a polysiloxane structure in the molecule.
  • the polysiloxane structure possessed by the polysiloxane-containing compound may be linear, branched, or cyclic.
  • a polysiloxane antifouling agent exhibiting antifouling properties is preferably used.
  • the polysiloxane antifouling agent is a compound represented by the following general formula (F-6).
  • R a R A b SiO (4-ab)/2 (In the formula, R represents a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, or phenyl group, R A represents an organic group containing a polymerizable unsaturated group, and 0 ⁇ a, 0 ⁇ b, a+b ⁇ 4 )
  • a is preferably from 1 to 2.75, more preferably from 1 to 2.5; when it is 1 or more, the synthesis of the compound becomes industrially easy; when it is 2.75 or less, it improves curability and antifouling properties. It becomes easier to balance both.
  • Examples of the polymerizable unsaturated group in R A include the same polymerizable unsaturated groups (i.e., radically polymerizable groups) as R A in the above general formula (F), such as (meth)acryloyl group, (meth)acryloyl Preferred are oxy groups and groups in which any hydrogen atom in these groups is substituted with a fluorine atom. Also in the polysiloxane antifouling agent, from the viewpoint of film strength, it is preferable to have a plurality of polymerizable unsaturated groups in one molecule.
  • the polysiloxane antifouling material is preferably polydimethylsiloxane having a plurality of polymerizable unsaturated groups in one molecule.
  • Preferred examples of polysiloxane antifouling agents include those having a substituent at the end and/or side chain of a compound chain containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units.
  • the compound chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may contain structural units other than dimethylsilyloxy.
  • These substituents may be the same or different, and preferably there is a plurality of them.
  • This substituent is preferably a polymerizable group, and may be any polymerizable group exhibiting any one of radical polymerizability, cationic polymerizability, anionic polymerizability, condensation polymerizability, and addition polymerizability.
  • substituents examples include (meth)acryloyl group, ((meth)acryloyloxy) group, vinyl group, allyl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, and carboxyl group. group, and a group containing an amino group and the like.
  • radically polymerizable groups are preferred, and (meth)acryloyloxy groups are particularly preferred from the viewpoint of improving stain resistance.
  • the number of substituents in the compound is preferably 100 to 10,000 g/mol, more preferably 100 to 3,000 g/mol, and 100 to 2,000 g/mol in terms of functional group equivalents. is more preferred, and 100 to 1000 g/mol is particularly preferred.
  • the functional group equivalent to the above-mentioned lower limit value, it does not become more compatible with the polymerizable compound (resin component when forming the HC layer) in the curable composition for HC layer formation, and the stain resistance is improved. This is preferable because the surface migration property of the agent in the HC layer becomes high. It is preferable to set the functional group equivalent to the above upper limit value or less because it is possible to improve the film hardness and improve the antifouling property.
  • R A is preferably an organic group containing a (meth)acryloyl group, and more preferably the bond to the Si atom is a Si--O--C bond for ease of industrial synthesis.
  • b is preferably 0.4 to 0.8, more preferably 0.6 to 0.8; when it is at least the above lower limit, the curability improves, and when it is below the above upper limit, the antifouling property improves. .
  • a+b is preferably 3 to 3.7, more preferably 3 to 3.5. If it is more than the above lower limit, the compound is likely to be unevenly distributed on the surface of the HC layer, and if it is less than the above upper limit, both curability and antifouling properties can be improved.
  • the polysiloxane antifouling agent preferably has 3 or more Si atoms in one molecule, and more preferably 3 to 40 Si atoms. When there are three or more Si atoms, uneven distribution of the compound on the surface of the HC layer is promoted, making it easier to obtain sufficient antifouling properties.
  • Polysiloxane antifouling agents can be produced using known methods such as those listed in JP-A No. 2007-145884.
  • additives having a polysiloxane structure include polysiloxanes (for example, "KF-96-10CS", “KF-100T”, “X-22-169AS”, “KF-102”, “X-22-3701IE"), “X-22-164”, “X-22-164A”, “X-22-164AS”, “X-22-164B”, “X-22-164C”, “X-22-5002”, “X -22-173B”, “X-22-174D”, “X-22-167B”, “X-22-161AS” (product names), manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.; “AK-5”, “AK-30”, “AK-32” (product name), manufactured by Toagosei Co., Ltd.; “Silaplane FM0725”, “Siraplane FM0721” (product name), manufactured by Chisso Corporation; “DMS-” Preferred are "
  • the weight average molecular weight of the polysiloxane-containing compound is preferably 300 or more, more preferably 300 to 100,000, and even more preferably 300 to 30,000.
  • the weight average molecular weight of the polysiloxane-containing compound is 300 or more, uneven distribution of the polysiloxane-containing compound on the surface of the HC layer is promoted, and the abrasion resistance and hardness are further improved.
  • the content of the polysiloxane-containing compound in the curable composition for HC layer formation is preferably 0.01 to 5% by mass, and 0.1 to 5% by mass, based on the total solid content in the curable composition for HC layer formation. It is more preferably 5% by weight, even more preferably 0.5-5% by weight, particularly preferably 0.5-2% by weight.
  • the amount added is at least the above lower limit, the antifouling properties can be further improved.
  • the polysiloxane compound that is insufficiently mixed with the polymerizable compound (resin component when forming the HC layer) in the curable composition for HC layer formation may be present on the surface.
  • the HC layer has a laminated structure of two or more layers as described below, it means the amount added in the curable composition for forming the HC layer that forms the HC layer containing the polysiloxane compound.
  • the HC layer used in the present invention can be obtained by irradiating the curable composition for forming an HC layer with active energy rays and curing it.
  • active energy ray refers to ionizing radiation, and includes X-rays, ultraviolet rays, visible light, infrared rays, electron beams, alpha rays, beta rays, gamma rays, and the like.
  • the HC layer-forming curable composition used to form the HC layer contains at least one component (hereinafter also referred to as "active energy ray-curable component") that has the property of being cured by irradiation with active energy rays. .
  • the active energy ray-curable component is preferably at least one polymerizable compound selected from the group consisting of radically polymerizable compounds and cationic polymerizable compounds.
  • a "polymerizable compound” is a compound which has a polymeric group in a molecule, and the polymeric group should just be one or more in 1 molecule.
  • the polymerizable group is a group that can participate in a polymerization reaction, and specific examples include groups included in various polymerizable compounds described below. Further, examples of the polymerization reaction include various polymerization reactions such as radical polymerization, cationic polymerization, and anionic polymerization. Further, the HC layer in the present invention includes at least one compound selected from the group consisting of polysiloxane-containing compounds having a polymerizable group in the molecule and fluorine-containing compounds having a polymerizable group in the molecule, and compounds other than these compounds.
  • the curable composition for forming an HC layer containing a polymerizable compound having a polymerizable group in its molecule is irradiated with active energy rays to be polymerized and cured.
  • the polymerizable group possessed by the polysiloxane-containing compound, the fluorine-containing compound, and the polymerizable compound is a radically polymerizable group.
  • the HC layer used in the present invention may have a one-layer structure or a laminated structure of two or more layers, and preferably has a one-layer structure or a laminated structure of two or more layers as detailed below.
  • a preferred embodiment of the curable composition for forming an HC layer for forming a one-layer structure HC layer includes, as a first embodiment, two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.
  • examples include curable compositions for forming an HC layer containing at least one polymerizable compound having the following properties.
  • the ethylenically unsaturated group refers to a functional group containing an ethylenically unsaturated double bond.
  • a curable composition for forming an HC layer includes at least one radically polymerizable compound and at least one cationically polymerizable compound.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the first embodiment will be explained below.
  • the polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule contained in the curable composition for forming an HC layer of the first aspect is an ester of polyhydric alcohol and (meth)acrylic acid [
  • the number of ethylenically unsaturated groups contained in the polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule is not particularly limited, but is preferably from 2 to 10, more preferably from 2 to 6, and from 4 to 6. 6 is more preferred, and 5 to 6 are particularly preferred.
  • Polymerization of a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group can be carried out by irradiation with active energy rays in the presence of a radical photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator the radical photopolymerization initiator described below is preferably applied.
  • the content ratio of the radical photopolymerization initiator to the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group in the curable composition for forming an HC layer the content ratio of the radical photopolymerization initiator to the radical polymerizable compound described below Descriptions of quantitative ratios are preferably applied.
  • the curable composition for forming an HC layer of the second aspect preferably contains at least one radically polymerizable compound and at least one cationically polymerizable compound.
  • a curable composition for forming an HC layer may be mentioned.
  • the curable composition for forming an HC layer contains a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator.
  • a curable composition for forming an HC layer may be mentioned. In the following, this aspect will be referred to as the second aspect (1).
  • the above radically polymerizable compound preferably contains two or more radically polymerizable groups in one molecule and one or more urethane bonds in one molecule.
  • a) it contains an alicyclic epoxy group and an ethylenically unsaturated group, and the number of alicyclic epoxy groups contained in one molecule is one;
  • a curable composition for forming an HC layer may be mentioned.
  • this aspect will be referred to as the second aspect (2).
  • the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer of the second aspect (2) preferably has a structure derived from a) above, when the total solid content of the HC layer is 100% by mass. 5 to 70% by mass of the structure derived from b) above, 25 to 80% by mass of the structure derived from b) above, 0.1 to 10% by mass of c) above, and 0.1 to 10% by mass of d) above.
  • the curable composition for forming an HC layer of the second aspect (2) has the above-mentioned a) when the total solid content of the curable composition for forming an HC layer is 100% by mass. It is preferably contained in an amount of 15 to 70% by mass.
  • the term "alicyclic epoxy group” refers to a monovalent functional group having a cyclic structure in which an epoxy ring and a saturated hydrocarbon ring are condensed.
  • the curable composition for forming an HC layer of the second aspect contains at least one radically polymerizable compound and at least one cationically polymerizable compound.
  • the radically polymerizable compound in the second aspect (1) contains two or more radically polymerizable groups in one molecule selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group.
  • the above-mentioned radically polymerizable compound may preferably contain, for example, 2 to 10, and more preferably 2 to 6, radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl and methacryloyl groups in one molecule. , more preferably 4 to 6 pieces, particularly preferably 5 to 6 pieces.
  • a radically polymerizable compound having a molecular weight of 200 or more and less than 1,000 is preferable.
  • “molecular weight” shall refer to the weight average molecular weight measured in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) for a multimer.
  • GPC device HLC-8120 (manufactured by Tosoh Corporation)
  • Eluent Tetrahydrofuran
  • the curable composition for forming an HC layer of the second aspect (1) contains a radically polymerizable compound containing two or more radically polymerizable groups in one molecule selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group. In addition, it may contain one or more radically polymerizable compounds other than such radically polymerizable compounds.
  • radically polymerizable compounds include the following.
  • the present invention is not limited to the exemplified compounds below.
  • (meth)acrylate commercially available products, such as Aronix M-208 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, and its epichlorohydrin-modified products, neopentyl glycol di(meth)acrylate, hydroxypivalic acid Neopentyl glycol di(meth)acrylate and its caprolactone modified product, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, tricyclo Decane dimethanol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate monostearate, trimethylolpropane acrylic acid/benzoic acid ester, and isocyanuric acid EO-modified di(meth)acrylate (as a commercial product, for example, manufactured by Toagose
  • trimethylolpropane tri(meth)acrylate (as a commercially available product, e.g. TPMTA manufactured by Nippon Kayaku), its EO, PO, epichlorohydrin modified products, pentaerythritol tri(meth)acrylate, glycerol tri(meth)acrylate, and its EO, PO, epichlorohydrin modified product, isocyanuric acid EO modified tri(meth)acrylate (commercially available products, such as Toagosei Aronix M-315, etc.), tris(meth)acryloyloxyethyl phosphate, hydrogen phthalate (2, Trifunctional (meth)acrylate compounds such as 2,2-tri-(meth)acryloyloxymethyl)ethyl, glycerol tri(meth)acrylate, and its EO, PO, and epichlorohydrin modified products; pentaerythritol tetra(meth)acrylate (commercially available)
  • Two or more radically polymerizable compounds may be used in combination.
  • "DPHA” manufactured by Nippon Kayaku
  • a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate can be preferably used.
  • polyester (meth)acrylate and epoxy (meth)acrylate having a weight average molecular weight of 200 or more and less than 1000 are also preferable.
  • polyester (meth)acrylates include the Beam Set 700 series manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd., such as Beam Set 700 (6 functional), Beam Set 710 (4 functional), Beam Set 720 (3 functional), etc. It will be done.
  • epoxy (meth)acrylates include the SP series manufactured by Showa Kobunshi Co., Ltd., such as SP-1506, 500, SP-1507, 480, the VR series, such as VR-77, and the product name EA- manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. Examples include 1010/ECA, EA-11020, EA-1025, EA-6310/ECA, and the like.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) which is a preferred aspect of the second aspect, contains b) a radically polymerizable compound containing three or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.
  • a radically polymerizable compound containing three or more ethylenically unsaturated groups in one molecule includes.
  • Component b) includes esters of polyhydric alcohols and (meth)acrylic acid, vinylbenzene and its derivatives, vinyl sulfone, and (meth)acrylamide.
  • radically polymerizable compounds containing three or more radically polymerizable groups in one molecule selected from the group consisting of acryloyl groups and methacryloyl groups are preferred.
  • Specific examples include compounds that are esters of polyhydric alcohols and (meth)acrylic acid and have three or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.
  • resins containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl groups and methacryloyl groups in one molecule are also preferred.
  • resins containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl groups and methacryloyl groups in one molecule include polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, and urethane resins. , alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polymers such as polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols.
  • radically polymerizable compounds containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl groups and methacryloyl groups in one molecule include the examples shown in paragraph 0096 of JP-A No. 2007-256844. Examples include compounds. Further, specific examples of radically polymerizable compounds containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl groups and methacryloyl groups in one molecule include KAYARAD DPHA, DPHA-2C, and PET manufactured by Nippon Kayaku.
  • UV-1400B UV-1700B, UV-6300B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, UV- 7640B, UV-6630B, UV-7000B, UV-7510B, UV-7461TE, UV-3000B, UV-3200B, UV-3210EA, UV-3310EA, UV-3310B, UV- 3500BA, UV-3520TL, UV-3700B, UV-6100B, UV-6640B, UV-2000B, UV-2010B, UV-2250EA, UV-2750B (Nippon Gosei), UL- 503LN (manufactured by Kyoeisha Chemical), Unidic 17-806, 17-813, V-4030, Unidic V-4000BA (manufactured by Dainippon Ink Chemical), EB-1290K, EB-220, EB-5129, EB- 1830, EB-4358 (manufactured by Daicel
  • the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer of the second aspect (2) preferably contains the components derived from a) above, when the total solid content of the HC layer is 100% by mass. It can contain 5 to 70% by mass of the structure derived from b), 25 to 80% by mass of the structure derived from b), 0.1 to 10% by mass of c), and 0.1 to 10% by mass of d).
  • the structure derived from b) preferably contains 40 to 75% by mass, more preferably 60 to 75% by mass, when the total solid content of the HC layer is 100% by mass.
  • the curable composition for forming an HC layer of the second aspect (2) contains 40 to 75% by weight of component b) when the total solid content of the curable composition for forming an HC layer is 100% by weight. %, more preferably 50 to 75% by mass.
  • the curable composition for forming an HC layer of the second aspect preferably contains at least one radically polymerizable compound and at least one cationically polymerizable compound.
  • the cationically polymerizable compound any compound having a cationically polymerizable polymerizable group (cationically polymerizable group) can be used without any restriction. Further, the number of cationically polymerizable groups contained in one molecule is at least one.
  • the cationically polymerizable compound may be a monofunctional compound containing one cationically polymerizable group in one molecule, or a polyfunctional compound containing two or more cationically polymerizable groups.
  • the number of cationically polymerizable groups contained in the polyfunctional compound is not particularly limited, but is, for example, 2 to 6 in one molecule. Further, two or more cationically polymerizable groups contained in one molecule of the polyfunctional compound may be the same or may be two or more types having different structures.
  • the cationically polymerizable compound preferably has one or more radically polymerizable groups in one molecule together with the cationically polymerizable group.
  • the radically polymerizable group that such a cationically polymerizable compound has the above description of the radically polymerizable compound can be referred to.
  • it is an ethylenically unsaturated group
  • the ethylenically unsaturated group is more preferably a radically polymerizable group selected from the group consisting of a vinyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group.
  • the number of radically polymerizable groups in one molecule of the cationically polymerizable compound having a radically polymerizable group is at least 1, preferably 1 to 3, and more preferably 1.
  • the cationic polymerizable group include oxygen-containing heterocyclic groups and vinyl ether groups.
  • the cationically polymerizable compound may contain one or more oxygen-containing heterocyclic groups and one or more vinyl ether groups in one molecule.
  • the oxygen-containing heterocycle may be a single ring or a fused ring. Moreover, those having a bicyclo skeleton are also preferable.
  • the oxygen-containing heterocycle may be a non-aromatic ring or an aromatic ring, and is preferably a non-aromatic ring. Specific examples of monocycles include epoxy rings, tetrahydrofuran rings, and oxetane rings. Further, examples of those having a bicyclo skeleton include an oxabicyclo ring. Note that the cationically polymerizable group containing an oxygen-containing heterocycle is included in the cationically polymerizable compound as a monovalent substituent or as a polyvalent substituent having a valence of two or more.
  • the above-mentioned condensed ring is a condensation of two or more oxygen-containing heterocycles, or a condensation of one or more oxygen-containing heterocycles with one or more ring structures other than the oxygen-containing heterocycle.
  • Ring structures other than the above-mentioned oxygen-containing heterocycles include, but are not limited to, cycloalkane rings such as cyclohexane rings.
  • oxygen-containing heterocycle Specific examples of the oxygen-containing heterocycle are shown below. However, the present invention is not limited to the specific examples below.
  • the cationically polymerizable compound may contain a partial structure other than the cationically polymerizable group.
  • a partial structure is not particularly limited, and may be a linear structure, a branched structure, or a cyclic structure. These partial structures may contain one or more heteroatoms such as oxygen atoms and nitrogen atoms.
  • a preferred embodiment of the cationically polymerizable compound includes a compound containing a cyclic structure (compound containing a cyclic structure) as the cationically polymerizable group or as a partial structure other than the cationically polymerizable group.
  • the number of cyclic structures contained in the cyclic structure-containing compound is, for example, one in one molecule, and may be two or more.
  • the number of cyclic structures contained in the cyclic structure-containing compound is, for example, 1 to 5 in one molecule, but is not particularly limited.
  • a compound containing two or more cyclic structures in one molecule may contain the same cyclic structure, or may contain two or more types of cyclic structures with different structures.
  • cyclic structure contained in the above-mentioned cyclic structure-containing compound is an oxygen-containing heterocycle. The details are as described above.
  • Cationic polymerizability determined by dividing the molecular weight (hereinafter referred to as "B") by the number of cationically polymerizable groups contained in one molecule of the cationically polymerizable compound (hereinafter referred to as "C")
  • the cationically polymerizable group equivalent is preferably 50 or more.
  • the cationically polymerizable group contained in the cationically polymerizable compound for which the cationically polymerizable group equivalent is determined can be an epoxy group (epoxy ring). That is, in one embodiment, the cationically polymerizable compound is an epoxy ring-containing compound.
  • the epoxy ring-containing compound is determined by dividing the molecular weight by the number of epoxy rings contained in one molecule, from the viewpoint of improving the adhesion between the HC layer obtained by curing the curable composition for HC layer formation and the resin film.
  • the epoxy group equivalent is preferably less than 150, and more preferably 120 or less from the viewpoint of better wear resistance.
  • the epoxy group equivalent of the epoxy ring-containing compound is, for example, 50 or more.
  • the molecular weight of the cationically polymerizable compound is preferably 500 or less, more preferably 300 or less.
  • a cationic polymerizable compound having a molecular weight within the above range tends to easily penetrate into the transparent substrate described below, and can contribute to improving the adhesion between the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer and the transparent substrate. It is assumed that.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) contains a) an alicyclic epoxy group and an ethylenically unsaturated group, and the number of alicyclic epoxy groups contained in one molecule is 1. and contains a cationically polymerizable compound in which the number of ethylenically unsaturated groups contained in one molecule is one and the molecular weight is 300 or less.
  • component a) the above a) will be referred to as "component a)".
  • the number of alicyclic epoxy groups and ethylenically unsaturated groups in one molecule is preferably one each.
  • the molecular weight of component a) is 300 or less, preferably 210 or less, and more preferably 200 or less.
  • a preferred embodiment of component a) is a compound represented by the following general formula (1).
  • R represents a monocyclic hydrocarbon or a bridged hydrocarbon
  • L represents a single bond or a divalent linking group
  • Q represents an ethylenically unsaturated group.
  • R in general formula (1) is a monocyclic hydrocarbon
  • the monocyclic hydrocarbon is preferably an alicyclic hydrocarbon, and more preferably an alicyclic group having 4 to 10 carbon atoms. , more preferably an alicyclic group having 5 to 7 carbon atoms, and particularly preferably an alicyclic group having 6 carbon atoms.
  • Preferred specific examples include a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cycloheptyl group, with a cyclohexyl group being preferred.
  • R in general formula (1) is a bridged hydrocarbon
  • the bridged hydrocarbon is preferably a bicyclic bridged hydrocarbon (bicyclo ring) or a tricyclic bridge hydrocarbon (tricyclo ring).
  • Specific examples include bridged hydrocarbons having 5 to 20 carbon atoms, such as norbornyl group, bornyl group, isobornyl group, tricyclodecyl group, dicyclopentenyl group, dicyclopentanyl group, tricyclopentenyl group, Examples include a tricyclopentanyl group, an adamantyl group, and an adamantyl group substituted with a lower alkyl group (eg, having 1 to 6 carbon atoms).
  • the divalent linking group is preferably a divalent aliphatic hydrocarbon group.
  • the number of carbon atoms in the divalent aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1.
  • the divalent aliphatic hydrocarbon group is preferably a linear, branched or cyclic alkylene group, more preferably a linear or branched alkylene group, even more preferably a linear alkylene group.
  • component a) examples include various compounds exemplified in paragraph 0015 of JP-A-10-017614, compounds represented by the following general formula (1A) or (1B), and 1,2-epoxy -4-vinylcyclohexane and the like. Among these, compounds represented by the following general formula (1A) or (1B) are more preferred. In addition, as for the compound represented by the following general formula (1A), its isomer is also preferable.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • L 2 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the divalent aliphatic hydrocarbon group represented by L 2 in general formulas (1A) and (1B) has 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, and more preferably 1 carbon number.
  • the divalent aliphatic hydrocarbon group is preferably a linear, branched or cyclic alkylene group, more preferably a linear or branched alkylene group, even more preferably a linear alkylene group.
  • the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) preferably has a structure derived from a) of 15 to 10% when the total solid content of the HC layer is 100% by mass.
  • the content is preferably 70% by mass, more preferably 18 to 50% by mass, and even more preferably 22 to 40% by mass.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) contains component a) in an amount of 15 to 70% by mass when the total solid content of the curable composition for forming an HC layer is 100% by mass. %, more preferably 18 to 50% by weight, even more preferably 22 to 40% by weight.
  • cyclic structure contained in the above-mentioned cyclic structure-containing compound is an alicyclic structure.
  • the alicyclic structure include a cyclo ring, a dicyclo ring, and a tricyclo ring structure, and specific examples include a dicyclopentanyl ring and a cyclohexane ring.
  • the cationically polymerizable compound described above can be synthesized by a known method. It is also possible to obtain it as a commercial product.
  • cationically polymerizable compounds containing an oxygen-containing heterocycle as a cationically polymerizable group include 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (commercial products such as Cyclomer M100 manufactured by Daicel Corporation), 3,4-epoxycyclohexylmethyl -3',4'-epoxycyclohexane carboxylate (for example, commercially available products such as Union Carbide's UVR6105, UVR6110 and Daicel Chemical's Celoxide 2021), bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipate (for example, Union Carbide's UVR6128) ), vinylcyclohexene monoepoxide (for example, Celloxide 2000 manufactured by Daicel Chemical), ⁇ -caprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3',4'-epoxycyclohexane carboxylate (for example, Celloxide 2081 manufactured by Daicel Chemical
  • Daicel Chemical Celloxide 3000 7,7'-dioxa-3,3'-bis[bicyclo[ 4.1.0]heptane] (for example, Celoxide 8000 manufactured by Daicel Chemical), 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4bis ⁇ [(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxy]methyl ⁇ benzene, 3 -ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl)oxetane and di[1-ethyl(3-oxetanyl)]methyl ether.
  • cationically polymerizable compounds containing a vinyl ether group as a cationically polymerizable group include 1,4-butanediol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, nonanediol divinyl ether, cyclohexanediol divinyl ether, and cyclohexane.
  • Examples include dimethanol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, and pentaerythritol tetravinyl ether.
  • the cationically polymerizable compound containing a vinyl ether group those having an alicyclic structure are also preferable.
  • JP-A-8-143806, JP-A-8-283320, JP-A-2000-186079, JP-A-2000-327672, JP-A-2004-315778, and , JP-A-2005-29632, etc. can also be used.
  • Exemplary compounds B-1 to B-14 are shown below as specific examples of cationically polymerizable compounds, but the present invention is not limited to the following specific examples.
  • preferred embodiments of the curable composition for forming an HC layer include the following embodiments. It is more preferable that one or more of the following aspects are satisfied, and even more preferable that two or more of the following aspects are satisfied. Note that it is also preferable that one cationically polymerizable compound satisfies a plurality of aspects.
  • the cationically polymerizable compound includes a cationically polymerizable compound having a cationically polymerizable group equivalent of less than 150.
  • an epoxy group-containing compound having an epoxy group equivalent of less than 150 is included.
  • the cationically polymerizable compound contains an ethylenically unsaturated group.
  • the content of the cationically polymerizable compound in the curable composition for forming an HC layer is preferably 10 parts by mass or more, and 15 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total content of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound. The above is more preferable, and 20 parts by mass or more is even more preferable. Further, the content of the cationically polymerizable compound in the curable composition for forming an HC layer is preferably 50 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the total content of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound.
  • the content of the cationic polymerizable compound in the curable composition for forming an HC layer is 0.05 parts by mass based on 100 parts by mass of the total content of the radical polymerizable compound and the cationic polymerizable compound.
  • the amount is preferably at least 0.1 part by mass, more preferably at least 1 part by mass, and even more preferably at least 1 part by mass.
  • the content of the cationically polymerizable compound is preferably 50 parts by mass or less, more preferably 40 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the total content of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound.
  • the content of the cationically polymerizable compound in the curable composition for forming an HC layer is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, based on the total solid content of the curable composition for forming an HC layer.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 40% by mass or less, more preferably 25% by mass or less.
  • a compound having both a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group is classified as a cationically polymerizable compound, and the content thereof in the curable composition for forming an HC layer is defined.
  • the curable composition for forming an HC layer preferably contains a polymerization initiator, and more preferably contains a photopolymerization initiator.
  • the curable composition for forming an HC layer containing a radically polymerizable compound preferably contains a radical photopolymerization initiator, and the curable composition for forming an HC layer containing a cationic polymerizable compound preferably contains a cationic photopolymerization initiator. It is preferable. Note that one type of radical photopolymerization initiator may be used, or two or more types with different structures may be used in combination. The same holds true for cationic photopolymerization initiators. Each photopolymerization initiator will be explained below.
  • the radical photopolymerization initiator may be anything that can generate radicals as active species upon irradiation with light, and any known radical photopolymerization initiator may be used without any restrictions. can. Specific examples include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl-(2-hydroxy-2-propyl)ketone , 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino(4-thiomethylphenyl)propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butanone, 2-hydroxy -2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone oligomer and 2-hydroxy-1- ⁇ 4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl] Acetophenones such
  • auxiliary agents for radical photopolymerization initiators triethanolamine, triisopropanolamine, 4,4'-dimethylaminobenzophenone (Michler's ketone), 4,4'-diethylaminobenzophenone, 2-dimethylaminoethylbenzoic acid, 4- Ethyl dimethylaminobenzoate, (n-butoxy)ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, and 2,4- Diisopropylthioxanthone or the like may be used in combination.
  • radical photopolymerization initiator and auxiliary agent can be synthesized by known methods, and can also be obtained as commercial products.
  • the content of the radical photopolymerization initiator in the above-mentioned curable composition for forming an HC layer may be adjusted as appropriate within a range that allows the polymerization reaction (radical polymerization) of the radically polymerizable compound to proceed favorably, and is not particularly limited. do not have.
  • the amount is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.5 to 10 parts by weight, and 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the radically polymerizable compound contained in the curable composition for forming an HC layer. More preferred.
  • Cationic photopolymerization initiator may be anything that can generate cations as active species upon irradiation with light, and any known cationic photopolymerization initiator may be used without any restrictions. can. Specific examples include known sulfonium salts, ammonium salts, iodonium salts (eg, diaryliodonium salts), triarylsulfonium salts, diazonium salts, and iminium salts.
  • cationic photopolymerization initiators represented by formulas (25) to (28) shown in paragraphs 0050 to 0053 of JP-A-8-143806, JP-A-8-283320
  • Examples of cationic polymerization catalysts include those exemplified in paragraph 0020 of .
  • the cationic photopolymerization initiator can be synthesized by a known method and is also available as a commercially available product.
  • Commercially available products include, for example, Nippon Soda CI-1370, CI-2064, CI-2397, CI-2624, CI-2639, CI-2734, CI-2758, CI-2823, CI-2855, and CI-5102.
  • PHOTOINITIATOR 2047 manufactured by Rhodia
  • a diazonium salt, an iodonium salt, a sulfonium salt, or an iminium salt is preferable from the viewpoint of the sensitivity of the photopolymerization initiator to light, the stability of the compound, etc. Furthermore, from the viewpoint of weather resistance, iodonium salts are preferred.
  • iodonium salt-based cationic photopolymerization initiators include, for example, B2380 manufactured by Tokyo Kasei, BBI-102 manufactured by Midori Chemical, WPI-113 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., WPI-124 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Examples include WPI-169 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, WPI-170 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, and DTBPI-PFBS manufactured by Toyo Gosei.
  • the content of the cationic photopolymerization initiator in the above-mentioned curable composition for forming an HC layer may be adjusted as appropriate within a range that allows the polymerization reaction (cationic polymerization) of the cationic polymerizable compound to proceed favorably, and is not particularly limited. do not have. It is preferably 0.1 to 200 parts by weight, more preferably 1 to 150 parts by weight, and even more preferably 2 to 100 parts by weight, per 100 parts by weight of the cationic polymerizable compound.
  • photopolymerization initiators include photopolymerization initiators described in paragraphs 0052 to 0055 of JP-A No. 2009-204725, and the contents of this publication are incorporated into the present invention.
  • the curable composition for forming an HC layer contains at least one component having a property of being cured by irradiation with active energy rays and a compound selected from the group consisting of polysiloxane-containing compounds and fluorine-containing compounds, and optionally at least one component. It is preferable to include a polymerization initiator. Their details are as described above. Next, various components that can be optionally included in the curable composition for forming an HC layer will be explained.
  • the curable composition for forming an HC layer can contain inorganic particles having an average primary particle size of less than 2 ⁇ m. From the viewpoint of improving the hardness of a front plate having an HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer (and further improving the hardness of a liquid crystal panel having this front plate), the curable composition for forming an HC layer and this composition
  • the hardened HC layer preferably contains inorganic particles having an average primary particle size of less than 2 ⁇ m.
  • the average primary particle size of the inorganic particles is preferably 5 nm to 1 ⁇ m, more preferably 5 to 200 nm, and even more preferably 40 nm or more and less than 200 nm.
  • the particles were observed using a transmission electron microscope (magnification of 500,000 to 2,000,000 times), and 100 randomly selected particles (primary particles) were observed. , the average value of these particle sizes is taken as the average primary particle size.
  • examples of the inorganic particles include silica particles, titanium dioxide particles, zirconium oxide particles, and aluminum oxide particles. Among these, silica particles are preferred.
  • the surface of the inorganic particles is preferably treated with a surface modifier containing an organic segment in order to increase the affinity with the organic component contained in the curable composition for forming an HC layer.
  • the surface modifier preferably has a functional group that can form a bond with the inorganic particles or be adsorbed to the inorganic particles and a functional group that has a high affinity with the organic component in the same molecule.
  • Examples of surface modifiers having functional groups that can bind or adsorb to inorganic particles include silane surface modifiers, metal alkoxide surface modifiers such as aluminum, titanium, and zirconium, and phosphoric acid groups, sulfuric acid groups, and sulfonic acid groups.
  • a surface modifier having an anionic group such as a group and an anionic group such as a carboxylic acid group is preferred.
  • the functional group having high affinity with the organic component include a functional group having the same hydrophilic and hydrophobic properties as the organic component, and a functional group capable of chemically bonding with the organic component.
  • functional groups that can chemically bond to organic components are preferred, and ethylenically unsaturated groups or ring-opening polymerizable groups are more preferred.
  • inorganic particles having an ethylenically unsaturated group on the surface are preferable as the above-mentioned inorganic particles.
  • a preferred surface modifier for inorganic particles is a metal alkoxide surface modifier or a polymerizable compound having an anionic group and an ethylenically unsaturated group or a ring-opening polymerizable group in the same molecule.
  • Specific examples of the surface modifier include the following exemplified compounds S-1 to S-8.
  • S-1 H 2 C C(X)COOC 3 H 6 Si(OCH 3 ) 3
  • S-2 H 2 C C(X) COOC 2 H 4 OTi(OC 2 H 5 ) 3
  • H 2 C C(X)COOC 2 H 4 OSO 3 H
  • S-6 H 2 C C(X)COO(C 5 H 10 COO) 2 H
  • S-7 H 2 C C(X)COOC 5 H 10 COOH S-8 CH 2 CH (O) CH 2 OC 3 H 6 Si(OCH 3 ) 3
  • X represents a hydrogen atom or a methyl group
  • the surface modification of inorganic particles with a surface modifier is preferably performed in a solution.
  • a surface modifier is also present, or after the inorganic particles are mechanically dispersed, a surface modifier is added and stirred, or the inorganic particles are mechanically dispersed.
  • Surface modification may be performed before (if necessary, heating is performed after drying, or pH (power of hydrogen) is changed), and then dispersion may be performed.
  • the solvent for dissolving the surface modifier highly polar organic solvents are preferred. Specific examples include known solvents such as alcohols, ketones, and esters.
  • the content of the inorganic particles is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, even more preferably 30% by mass or less, when the total solid content of the curable composition for HC layer formation is 100% by mass. .
  • the lower limit of the above content is not particularly limited and may be 0% by mass (the HC layer does not need to contain inorganic particles), but if it is included, it is 0.5% by mass. It is preferably at least 1% by mass, more preferably at least 1% by mass, even more preferably at least 7% by mass.
  • the shape of the primary particles of the inorganic particles may be either spherical or non-spherical, and the primary particles of the inorganic particles are preferably spherical. In order to further improve the hardness, it is more preferable that 2 to 10 spherical inorganic particles (primary particles) are present as higher-order particles such as non-spherical secondary particles or higher.
  • inorganic particles include ELCOM V-8802 (spherical silica particles with an average primary particle size of 15 nm manufactured by JGC Catalysts & Chemicals), ELCOM V-8803 (unshaped silica particles manufactured by JGC Catalysts & Chemicals), and MiBK-SD ( (Spherical silica particles with an average primary particle size of 10-20 nm manufactured by Nissan Chemical Industries), MEK-AC-2140Z (Spherical silica particles with an average primary particle size of 10-20 nm manufactured by Nissan Chemical Industries), MEK-AC-4130 (Spherical silica particles with an average primary particle size of 10-20 nm manufactured by Nissan Chemical Industries) MiBK-SD-L (spherical silica particles with an average primary particle size of 40 to 50 nm manufactured by Nissan Chemical), MEK-ST-L (average primary particle size manufactured by Nissan Chemical) MEK-AC-5140Z (spherical silica particles with an average primary particle size of 85
  • MEK-AC-2140Z manufactured by Nissan Chemical Industries is preferred from the viewpoint of further improving hardness, and RX-300, MEK-ST-ZL and MEK-AC-5140Z are preferred from the viewpoint of imparting surface irregularities. From the viewpoint of both visibility, MEK-ST-ZL and MEK-AC-5140Z are more preferred.
  • the curable composition for forming an HC layer can also contain mat particles.
  • the matte particles are particles having an average primary particle size of 2 ⁇ m or more, and may be inorganic particles, organic particles, or particles of an inorganic/organic composite material.
  • the shape of the matte particles may be either spherical or non-spherical.
  • the average primary particle size of the matte particles is preferably 2 to 20 ⁇ m, more preferably 4 to 14 ⁇ m, and even more preferably 6 to 10 ⁇ m.
  • matte particles include inorganic particles such as silica particles and TiO 2 particles, and organic particles such as crosslinked acrylic particles, crosslinked acrylic-styrene particles, crosslinked styrene particles, melamine resin particles, and benzoguanamine resin particles.
  • the matte particles are organic particles, and crosslinked acrylic particles, crosslinked acrylic-styrene particles, or crosslinked styrene particles are more preferable.
  • the content of matte particles per unit volume in the HC layer obtained by curing the curable composition for HC layer formation is preferably 0.10 g/cm 3 or more, more preferably 0.10 to 0.40 g/cm 3 , and .10 to 0.30 g/cm 3 is more preferable.
  • UV absorber The curable composition for forming an HC layer can contain an ultraviolet absorber.
  • the ultraviolet absorber include benzotriazole compounds and triazine compounds.
  • the benzotriazole compound is a compound having a benzotriazole ring, and specific examples thereof include various benzotriazole ultraviolet absorbers described in paragraph 0033 of JP-A-2013-111835.
  • a triazine compound is a compound having a triazine ring, and specific examples include various triazine-based ultraviolet absorbers described in paragraph 0033 of JP-A No. 2013-111835.
  • the content of the ultraviolet absorber in the curable composition for HC layer formation is preferably 0.1 to 10% by mass, when the total solid content of the curable composition for HC layer formation is 100% by mass.
  • paragraph 0032 of JP-A No. 2013-111835 can also be referred to.
  • ultraviolet light in this specification refers to light having an emission center wavelength in a wavelength band of 200 to 380 nm.
  • the curable composition for forming an HC layer can contain a leveling agent.
  • a leveling agent a fluorine-containing polymer is preferably used.
  • the fluoroaliphatic group-containing polymer described in Japanese Patent No. 5175831 may be mentioned.
  • a fluoroaliphatic group-containing polymer in which the content of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by general formula (1), which constitutes the fluoroaliphatic group-containing polymer, is 50% by mass or less of the total polymerized units can be used as a leveling agent. It can also be used.
  • the content of the leveling agent is preferably from 0.01 to 7% by mass, and from 0.05 to 5% by mass based on the solid content of the curable composition for forming an HC layer. It is more preferably 0.1% to 2% by mass, and even more preferably 0.1 to 2% by mass.
  • the curable composition for forming an HC layer may contain only one type of leveling agent, or may contain two or more types of leveling agents. When two or more types are contained, it is preferable that the total amount falls within the above range.
  • the curable composition for forming an HC layer contains a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and one or more organic solvents may be used in any proportion.
  • organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, and i-butanol; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; and cellosolves such as ethyl cellosolve.
  • aromatics such as toluene and xylene
  • glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether
  • acetate esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate
  • diacetone alcohol and the like.
  • the amount of solvent in the curable composition for forming an HC layer can be adjusted as appropriate within a range that ensures coating suitability of the composition.
  • the content of the solvent is preferably 50 to 500 parts by weight, more preferably 80 to 200 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable compound and photopolymerization initiator.
  • the solid content of the curable composition for HC formation is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 50 to 80% by mass, and more preferably 65 to 75% by mass, based on the total mass of the curable composition for HC formation. % is more preferable.
  • the curable composition for forming an HC layer can contain one or more types of known additives in arbitrary amounts.
  • additives include surface conditioners, polymerization inhibitors, polyrotaxanes, and the like.
  • paragraphs 0032 to 0034 of JP-A No. 2012-229412 can be referred to.
  • the additives are not limited to these, and various additives that can be generally added to the curable composition for forming an HC layer can be used.
  • the curable composition for forming an HC layer can be prepared by mixing the various components described above simultaneously or sequentially in any order.
  • the preparation method is not particularly limited, and a known stirrer or the like can be used for the preparation.
  • the thickness of the HC layer is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 1 to 100 ⁇ m, even more preferably 1 to 20 ⁇ m, particularly preferably 3 to 20 ⁇ m, and most preferably 5 to 20 ⁇ m.
  • the thickness of the HC layer was determined by cutting the HC layer with a microtome, cutting out a cross section, staining it with an approximately 3% by mass osmium tetroxide aqueous solution overnight, cutting out the surface again, and measuring the cross section with an SEM (Scanning Electron Microscope). Observe using an electron microscope).
  • the surface roughness Sa1 of the component with a wavelength of 2.5 ⁇ m or less on the surface of the HC layer opposite to the reflective layer side is preferably 0.30 nm or more, more preferably 0.40 nm or more, even more preferably 0.45 nm or more, and 0. Particularly preferred is .50 nm or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is often 3.0 nm or less, more often 2.0 nm or less.
  • the reflective layer and the HC layer are rolled into a roll in such a state that they are in contact with each other, it is possible to reduce the friction between the reflective layer and the HC layer, which is preferable since the reflective layer and the HC layer can be rolled without wrinkles.
  • the surface roughness Sa2 of the component having a wavelength of 10 ⁇ m or more on the surface of the HC layer opposite to the reflective layer side is preferably 2.0 nm or less, more preferably 1.5 nm or less, and even more preferably 1.2 nm or less. Although the lower limit is not particularly limited, it is often 0.5 nm or more. It is preferable that the surface roughness Sa2 falls within the above range, as this can improve the visibility of the reflective film.
  • the surface roughness of the HC layer surface was measured using a surface profile measurement system [VertScan (registered trademark) R5500G, manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.] under the following conditions. Measure the shape and read the image data. ⁇ Measurement mode: Wave mode ⁇ Completion: Yes ⁇ Baseline correction: Yes
  • FFT fast Fourier transformed
  • the surface roughness Sa of the acquired image data was defined as the surface roughness Sa2 of the component having a wavelength of 10 ⁇ m or more.
  • the HC layer can be formed by applying a curable composition for forming an HC layer and irradiating the composition with active energy rays. Coating can be performed by known coating methods such as dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, die coating, wire bar coating, and gravure coating.
  • the HC layer can also be formed as a HC layer with a laminated structure of two or more layers (for example, about 2 to 5 layers) by simultaneously or sequentially applying two or more compositions having different compositions.
  • the HC layer can be formed by irradiating the applied curable composition for forming an HC layer with active energy rays.
  • the curable composition for forming an HC layer contains a radically polymerizable compound, a cationic polymerizable compound, a radical photopolymerization initiator, and a cationic photopolymerization initiator
  • the polymerization reaction of the radically polymerizable compound and the cationic polymerizable compound The polymerization can be initiated and progressed by the action of a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator, respectively.
  • the wavelength of the irradiated light may be determined depending on the type of polymerizable compound and polymerization initiator used.
  • Light sources for light irradiation include high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, xenon lamps, chemical lamps, electrodeless discharge lamps, and LEDs (Light Emitting) that emit light in the wavelength band of 150 to 450 nm. Diode). Further, the amount of light irradiation is preferably 30 to 3000 mJ/cm 2 , more preferably 100 to 1500 mJ/cm 2 . If necessary, drying treatment may be performed before and/or after the light irradiation. The drying process can be performed by blowing hot air, placing in a heating furnace, transporting in a heating furnace, etc.
  • the heating temperature is not particularly limited as long as it is set to a temperature that allows the solvent to be removed by drying.
  • the heating temperature refers to the temperature of hot air or the ambient temperature in the heating furnace.
  • the reflective film may have layers other than the above-described adhesive layer, reflective layer, and HC layer.
  • the reflective film 10B includes an adhesive layer 1, a polarization conversion layer 5, a reflective layer 2, a retardation layer 6, a transparent base material 7, and an HC layer 3 in this order.
  • a protective film 4 is arranged on the side of the adhesive layer 1 of the reflective film 10B opposite to the reflective layer 2 side, and a laminate including the reflective film 10B and the protective film 4 is formed.
  • the reflective film 10C has the adhesive layer 1, the transparent base material 7, the polarization conversion layer 5, the reflective layer 2, the retardation layer 6, and the HC layer 3 in this order.
  • a protective film 4 is disposed on the side of the adhesive layer 1 of the reflective film 10C opposite to the reflective layer 2 side, and a laminate including the reflective film 10C and the protective film 4 is formed.
  • the reflective film 10D includes an adhesive layer 1, a matte layer 8, a polarization conversion layer 5, a reflective layer 2, a retardation layer 6, a transparent base material 7, and an HC layer 3 in this order.
  • a protective film 4 is disposed on the opposite side of the reflective layer 2 of the adhesive layer 1 of the reflective film 10D, and a laminate including the reflective film 10C and the protective film 4 is formed.
  • the reflective film 10B and the reflective film 10C are made of the same material except that the order of lamination is different.
  • the members constituting the reflective film 10B, the reflective film 10C, and the reflective film 10D, and the protective film will be described in detail.
  • the adhesive layer 1, reflective layer 2, and HC layer 3 in the reflective film 10B, reflective film 10C, and reflective film 10D are the same as the adhesive layer, reflective layer, and HC layer described above, respectively, so the explanation will be omitted. omitted.
  • the polarization conversion layer is a layer in which a helical alignment structure of a liquid crystal compound is fixed, and the pitch number x of the helical alignment structure and the film thickness y (unit: ⁇ m) of the polarization conversion layer are expressed by the following relational expressions (a) to (c). It is preferable that it satisfies all of the following. 0.1 ⁇ x ⁇ 1.0... Formula (a) 0.5 ⁇ y ⁇ 3.0... Formula (b) 3000 ⁇ (1560 ⁇ y)/x ⁇ 50000... Formula (c) Note that one pitch of the helical structure of the liquid crystal compound corresponds to one turn of the spiral of the liquid crystal compound. That is, the pitch number is 1 when the director of the helically aligned liquid crystal compound (in the case of a rod-shaped liquid crystal, the long axis direction) is rotated by 360 degrees.
  • the polarization conversion layer When the polarization conversion layer has a helical structure of a liquid crystal compound, it exhibits optical rotation and birefringence for visible light having a shorter wavelength than the reflection peak wavelength in the infrared region. Therefore, polarization in the visible range can be controlled.
  • the pitch number x of the helical orientation structure of the polarization conversion layer and the film thickness y of the polarization conversion layer within the above ranges, the polarization conversion layer can optically compensate for visible light or straight lines incident on the reflective film.
  • a function of converting polarized light (p-polarized light) into circularly polarized light can be provided.
  • the polarization conversion layer exhibits optical rotation and birefringence with respect to visible light because the liquid crystal compound has a helical structure that satisfies the relational expressions (a) to (c).
  • the pitch P of the helical structure of the polarization conversion layer is set to a length corresponding to the pitch P of the cholesteric liquid crystal layer whose selective reflection center wavelength is in the long wavelength infrared region, it is possible to Shows high optical rotation and birefringence.
  • Relational expression (a) is "0.1 ⁇ x ⁇ 1.0.” It is preferable that the pitch number x of the helical structure is 0.1 or more because sufficient optical rotation and birefringence can be obtained. Further, when the pitch number x of the helical structure is 1.0 or less, optical rotation and birefringence are sufficient, and desired elliptically polarized light is easily obtained.
  • the relational expression (b) is "0.5 ⁇ y ⁇ 3.0.”
  • the thickness y of the polarization conversion layer is 0.5 ⁇ m or more, sufficient optical rotation and birefringence can be obtained.
  • the thickness y of the polarization conversion layer is 3.0 ⁇ m or less, optical rotation and birefringence are sufficient, and desired circularly polarized light is easily obtained.
  • the relational expression (c) is "3000 ⁇ (1560 ⁇ y)/x ⁇ 50000.”
  • (1560xy)/x is 3000 or more, desired polarized light can be easily obtained.
  • (1560xy)/x is 50,000 or less, desired polarized light can be easily obtained.
  • the pitch number x of the helical structure of the polarization conversion layer is more preferably 0.1 to 0.8, and the film thickness y is more preferably 0.6 to 2.6 ⁇ m. Further, “(1560 ⁇ y)/x” is more preferably 5000 to 13000.
  • the polarization conversion layer has a long pitch P of a helical structure and a small number of pitches x. Specifically, it is preferable that the polarization conversion layer has a spiral pitch P equal to the pitch P of a cholesteric liquid crystal layer whose selective reflection center wavelength is in the long wavelength infrared region, and a small pitch number x. More specifically, it is preferable that the polarization conversion layer has a helical pitch P equal to the pitch P of a cholesteric liquid crystal layer with a selective reflection center wavelength of 3000 to 10000 nm, and a small number of pitches x. In such a polarization conversion layer, since the selective reflection center wavelength corresponding to the pitch P is much longer wavelength than visible light, it more suitably exhibits the above-mentioned optical rotation and birefringence with respect to visible light.
  • Such a polarization conversion layer can basically be formed in the same manner as a known cholesteric liquid crystal layer.
  • the liquid crystal compound used should be adjusted so that the pitch number x and the film thickness y [ ⁇ m] of the helical structure in the polarization conversion layer satisfy all of the relational expressions (a) to (c). It is preferable to adjust the chiral agent used, the amount of chiral agent added, the film thickness, etc.
  • a retardation layer changes the state of incident polarized light by adding a phase difference (optical path difference) to two orthogonal polarized light components.
  • the front retardation of the retardation layer may be a retardation that can be optically compensated.
  • the retardation layer preferably has a front retardation of 50 to 160 nm at a wavelength of 550 nm.
  • the angle of the slow axis is 10 to 50° or - The angle is preferably 50° to -10°.
  • the retardation layer converts linearly polarized light into circularly polarized light
  • the retardation layer has a front retardation of ⁇ /4, and the front retardation is 3 ⁇ /4. It may be composed of something that gives 4.
  • the angle of the slow axis may be arranged so as to change the incident linearly polarized light into circularly polarized light.
  • the front retardation of the retardation layer at a wavelength of 550 nm is preferably in the range of 100 to 450 nm, more preferably in the range of 120 to 200 nm or 300 to 400 nm.
  • the direction of the slow axis of the retardation layer is determined by the direction of incidence of projected light for displaying a projected image when the reflective film is used in a head-up display system, and the direction of the helical direction of the cholesteric liquid crystal layer constituting the reflective layer. It is preferable to decide according to the sense of
  • the retardation layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose.
  • the retardation layer include a stretched polycarbonate film, a stretched norbornene-based polymer film, a transparent film containing and oriented inorganic particles having birefringence such as strontium carbonate, and an inorganic dielectric material on a support.
  • examples include a thin film obtained by obliquely vapor-depositing a polymerizable liquid crystal compound, a film in which a polymerizable liquid crystal compound is uniaxially oriented and the orientation is fixed, and a film in which a liquid crystal compound is uniaxially oriented and the orientation is fixed.
  • a film in which a polymerizable liquid crystal compound is uniaxially aligned and fixed in orientation is preferably exemplified as a retardation layer.
  • a retardation layer can be formed by coating a liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound on the surface of a transparent substrate, a temporary support, or an alignment layer, and then converting the polymerizable liquid crystal compound in the liquid crystal composition into a liquid crystal. After being formed into a nematic orientation in a state, it can be fixed by curing. Formation of the retardation layer in this case can be performed in the same manner as the formation of the cholesteric liquid crystal layer described above, except that no chiral agent is added to the liquid crystal composition.
  • the heating temperature is preferably 50 to 120°C, more preferably 60 to 100°C.
  • a retardation layer is formed by applying a composition containing a polymeric liquid crystal compound onto the surface of a transparent substrate, temporary support, or alignment layer to form a nematic alignment in a liquid crystal state, and then fixing the alignment by cooling. It may also be a layer obtained by
  • the thickness of the retardation layer is not particularly limited, and is preferably 0.2 to 300 ⁇ m, more preferably 0.5 to 150 ⁇ m, and even more preferably 1.0 to 80 ⁇ m.
  • the thickness of the retardation layer formed from the liquid crystal composition is not particularly limited, and is preferably 0.2 to 10 ⁇ m, more preferably 0.5 to 5.0 ⁇ m, and even more preferably 0.7 to 2.0 ⁇ m.
  • the slow axis of the retardation layer is set, for example, at an angle ⁇ with respect to the axis of the retardation layer in an arbitrary direction.
  • the direction of the slow axis can be set, for example, by rubbing the alignment film that is the lower layer of the retardation layer.
  • the reflective film may be in the form of a thin film, a sheet, or the like.
  • the reflective film may be in the form of a roll or the like as a thin film before being used in the windshield glass.
  • Transparent substrates can also be used as substrates in forming reflective layers or HC layers.
  • the transparent substrate used for forming the reflective layer or HC layer may be a temporary support that is peeled off after forming the reflective layer or HC layer. Therefore, the finished reflective film and windshield glass may not include a transparent substrate. Note that when the completed reflective film or windshield glass includes a transparent base material rather than being peeled off as a temporary support, the transparent base material is preferably transparent in the visible light region.
  • the material of the transparent base material is not particularly limited.
  • the transparent substrate include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonates, acrylic resins, epoxy resins, polyurethanes, polyamides, polyolefins, cellulose derivatives, and plastic films such as silicones.
  • PET polyethylene terephthalate
  • acrylic resins acrylic resins
  • epoxy resins epoxy resins
  • polyurethanes polyamides
  • polyolefins polyolefins
  • cellulose derivatives cellulose derivatives
  • plastic films such as silicones.
  • glass in addition to the above-mentioned plastic film, glass may be used.
  • cellulose acylate film is preferred.
  • the thickness of the transparent base material may be about 5.0 to 1000 ⁇ m, preferably 10 to 250 ⁇ m, more preferably 15 to 90 ⁇ m, and even more preferably 40 to 80 ⁇ m.
  • the transparent base material may be formed into a film by any method, such as a melt film forming method and a solution film forming method.
  • the melt film forming method consists of a melting process in which the resin is melted using an extruder, a process in which the molten resin is extruded into a sheet form from a die, and a process in which it is formed into a film form. It is preferable to include. Depending on the material of the resin, a filtration step for the molten resin may be provided after the melting step, or cooling may be performed when extruding into a sheet. A specific solution film forming method will be described below, but the present invention is not limited thereto.
  • the method for manufacturing the transparent base material described above includes a melting process in which the resin is melted using an extruder, a filtration process in which the molten resin is filtered through a filtration device equipped with a filter, and the filtered resin is extruded into a sheet form from a die. , a film forming step of forming an unstretched transparent base material by cooling and solidifying the film by bringing it into close contact with a cooling drum; and a stretching step of uniaxially or biaxially stretching the unstretched transparent base material. preferable.
  • a transparent base material can be manufactured.
  • the pore diameter of the filter used in the process of filtering the molten resin is 1 ⁇ m or less, foreign substances can be sufficiently removed.
  • the method for forming a transparent substrate can include the following steps.
  • the method for manufacturing the transparent substrate described above includes a melting step of melting the resin using an extruder. It is preferable that the resin or the mixture of the resin and the additive be dried to a water content of 200 ppm or less, and then introduced into a single-screw (single-screw) or twin-screw extruder and melted. At this time, it is also preferable to melt the resin in nitrogen or vacuum in order to suppress decomposition of the resin.
  • the extruder is preferably a uniaxial kneading extruder. Furthermore, it is also preferable to use a gear pump in order to increase the precision of feeding the molten resin (melt).
  • the method for manufacturing a transparent substrate includes a filtration step of filtering the molten resin through a filtration device equipped with a filter, and the pore size of the filter used in the filtration step is preferably 1 ⁇ m or less. In the filtration process, only one set or two or more sets of filtration devices having filters having pore diameters in this range may be installed in the filtration process.
  • the above-mentioned method for producing a transparent substrate includes a film forming step of extruding the filtered resin into a sheet from a die, placing it in close contact with a cooling drum, and cooling and solidifying it to form an unstretched transparent substrate.
  • a layer containing an ultraviolet absorber and a layer not containing an ultraviolet absorber may be laminated. More preferably, a three-layer structure with a layer containing an ultraviolet absorber as an inner layer is preferable because the polarizer is not affected by ultraviolet rays. This is preferable in that deterioration can be suppressed and bleeding out of the ultraviolet absorber can be suppressed.
  • the thickness of the inner layer of the obtained transparent substrate is preferably 50 to 99%, more preferably 60 to 99%, and 70 to 99% of the thickness of all layers. % is more preferable.
  • Such stacking can be performed using a feedblock die and a multi-manifold die.
  • the temperature of the resin extruded from the die is preferably 280 to 320°C, more preferably 285 to 310°C. It is preferable that the temperature of the resin extruded from the die in the melting step is 280° C. or higher, since this reduces the amount of unmelted raw material resin and suppresses the generation of foreign matter. It is preferable that the temperature of the resin extruded from the die in the melting step is 320° C. or lower, since decomposition of the resin can be reduced and generation of foreign matter can be suppressed.
  • the temperature of the resin extruded from the die can be measured without contacting the surface of the resin using a radiation thermometer (manufactured by Hayashi Denko, model number: RT61-2, used with an emissivity of 0.95).
  • an electrostatic charge applying electrode when bringing the resin into close contact with the cooling drum in the film forming process. This allows the resin to be strongly adhered to the cooling drum so that the film surface does not become rough.
  • the temperature of the resin is preferably 280° C. or higher when the resin is brought into close contact with the cooling drum (at the point where the molten resin extruded from the die first contacts the cooling drum). This increases the electrical conductivity of the resin, allows it to be strongly adhered to the cooling drum by electrostatic application, and suppresses roughening of the film surface.
  • the temperature of the resin when brought into close contact with the cooling drum can be measured without contacting the surface of the resin using a radiation thermometer (manufactured by Hayashi Denko, model number: RT61-2, used with an emissivity of 0.95).
  • the above-mentioned method for producing a transparent base material includes a stretching step of uniaxially or biaxially stretching an unstretched transparent base material.
  • the longitudinal stretching process the process of stretching in the same direction as the film transport direction
  • the transparent base material is heated, and there is a difference in circumferential speed (i.e., different transport speeds). It is stretched in the transport direction by a group of rollers.
  • the preheating temperature in the longitudinal stretching step is preferably Tg-40°C or higher and Tg+60°C or lower, more preferably Tg-20°C or higher and Tg+40°C or lower, and Tg or higher and Tg+30°C or lower relative to the glass transition temperature (Tg) of the transparent substrate. More preferred.
  • the stretching temperature in the longitudinal stretching step is preferably Tg+2°C or higher and Tg+40°C or lower, still more preferably Tg+5°C or higher and Tg+30°C or lower.
  • the stretching ratio in the longitudinal direction is preferably 1.0 to 2.5 times, more preferably 1.1 to 2 times.
  • the transparent base material is laterally stretched in the width direction by a lateral stretching step (a step of stretching in a direction perpendicular to the film transport direction).
  • a lateral stretching step for example, a tenter can be suitably used, and the tenter grips both ends of the transparent base material in the width direction with clips and stretches the transparent base material in the lateral direction. This lateral stretching can increase the tensile modulus of the transparent base material in the optical film.
  • the lateral stretching is preferably carried out using a tenter, and the preferred stretching temperature is preferably Tg or higher and Tg + 60°C or lower, more preferably Tg + 2°C or higher and Tg + 40°C or lower, with respect to the glass transition temperature (Tg) of the transparent substrate. More preferably Tg+4°C or higher and Tg+30°C or lower.
  • the stretching ratio is preferably 1.0 to 5.0 times, more preferably 1.1 to 4.0 times. It is also preferable to relax the transparent substrate in either or both of the vertical and horizontal directions after the horizontal stretching.
  • the variation in thickness depending on the location in both the width direction and the longitudinal direction is kept to 10% or less, more preferably 8% or less, even more preferably 6% or less, and 4% or less. It is particularly preferred that the content be 2% or less.
  • the variation in thickness can be determined as follows.
  • Th TD-av thickness average value Th TD-av in the width direction, the maximum value Th TD-max , and the minimum value Th TD-min , (Th TD-max - Th TD-min ) ⁇ Th TD-av ⁇ 100 [%] is the variation in thickness in the width direction.
  • the average thickness Th MD-av in the longitudinal direction, the maximum value Th MD-max , and the minimum value Th MD-min are determined, (Th MD-max - Th MD-min ) ⁇ Th MD-av ⁇ 100 [%] is the variation in thickness in the longitudinal direction.
  • the transparent base material after stretching can be wound up into a roll in a winding process.
  • the winding tension of the transparent base material is preferably 0.02 kg/mm 2 or less.
  • a dope solution forming a core layer is used.
  • a method of increasing the viscosity of the dope to ensure the strength of the cast film and lowering the viscosity of the dope forming the outer layer are used.
  • preferred methods include a method in which the cast membrane is rapidly dried to form a film on the surface of the cast film, and the surface shape is smoothed by the leveling effect of the formed film, and a method in which the cast film is stretched. .
  • the transparent base material may be shrunk by heat.
  • the reflective film when the reflective film is made to follow curved glass, it is preferable that the reflective film shrinks due to heat shrinkage of the transparent base material, thereby suppressing wrinkles.
  • the application liquid a liquid obtained by dissolving a surfactant in distilled water, ion-exchanged water, or tap water can be used.
  • the surfactant contributes to improving the wettability of the application liquid to the surface of the object to be laminated (eg, glass), adjusting the evaporation time, and the like.
  • ester type surfactants such as glycerin fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, and sucrose fatty acid ester
  • ether type surfactants such as alkyl polyethylene glycol and polyoxyethylene alkylphenyl ether
  • nonionic surfactants such as alkyl glycosides.
  • concentration of the surfactant in the application liquid is preferably 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.
  • a reflective film using a heat-shrinkable transparent base material has the effect of effectively suppressing the occurrence of wrinkles in the highly curved portions of the glass.
  • the film In areas where the curvature of the glass is large, the film has a degree of freedom to expand in the thickness direction, causing film contraction in the plane direction, and in areas where the curvature of the glass is small, the degree of freedom for the film to expand in the thickness direction is small, causing film contraction in the plane direction.
  • a possible mechanism of action is that almost no film shrinkage occurs.
  • the temperature at which the transparent base material is thermally shrunk varies depending on the material forming the transparent base material, but it is preferable that the transparent base material shrinks within a range of 80 to 200°C, and the heat treatment temperature with a heat gun in a general curved surface following process is It is more preferable to shrink within a certain range of 100 to 140°C.
  • the heating for shrinking the transparent substrate may be applied to the entire curved glass, or may be applied locally to areas that have a high curvature and are prone to wrinkles.
  • the amount of shrinkage of the transparent substrate required to suppress wrinkles in the reflective film varies depending on the curvature and dimensions of the glass.
  • the transparent base material has a heat shrinkage rate of 0.01 to 5.0% in the direction where the heat shrinkage rate is maximum and in the direction perpendicular to the direction under heating conditions using a heat gun or the like in the curved surface following process. It is preferably 0.05 to 3.0%, and even more preferably 0.2 to 2.0%.
  • the heat shrinkage rate is 0.01% or more, wrinkles are less likely to occur when following a curved surface.
  • the thermal shrinkage rate is 5.0% or less, bubbles are less likely to be generated when following a curved surface.
  • the heat shrinkage rate can be adjusted as appropriate by adjusting the stretching conditions when manufacturing the transparent base material.
  • the heat shrinkage rate was measured as follows. Two reference lines are placed in advance in the width direction of a sample piece of film cut out to a width of 30 mm and a length of 120 mm so as to have an interval of 100 mm. After leaving the sample piece in a heating oven at 140° C. for 45 minutes under no tension, the sample piece is cooled to room temperature, and the distance between the two reference lines is measured. The post-processing interval measured at this time is defined as A [mm].
  • the thermal shrinkage rate of the sample piece is the numerical value [%] calculated from the pre-treatment interval 100 mm and the post-treatment interval Amm using the formula "100 x (100-A)/100".
  • ⁇ Protective film layer of adhesive layer> It is preferable to provide a removable protective film layer on one side of the adhesive layer. By having such a protective film layer, it is possible to prevent the adhesive layer of the reflective film before use from being damaged and from adhering to dust, dirt, etc., and the protective film layer can be peeled off at the time of use.
  • a release layer can be provided between the protective film layer and the adhesive layer to facilitate peeling off the protective film layer.
  • the method for providing such a release layer is not particularly limited, and, for example, it can be provided by applying a release coating agent to the surface of at least one of the protective film layer and the adhesive layer.
  • the type of release coating agent is not particularly limited, and examples include silicone coating agents, inorganic coating agents, fluorine coating agents, and organic-inorganic hybrid coating agents.
  • a laminate containing a reflective film and a protective film can be obtained by providing the release layer on the surface of the protective film layer and then laminating it on the surface of the adhesive layer.
  • the release layer may be provided not on the surface of the protective film layer but on the surface of the adhesive layer.
  • the difference in thermal shrinkage rate between the protective film layer and the reflective film layer is small.
  • the difference in thermal shrinkage rate under heating conditions using a heat gun or the like in the curved surface following process is preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less, and even more preferably 0.6% or less.
  • the difference in thermal shrinkage rate at 140° C. between the reflective film and the protective film is less than 1.5%.
  • the difference between the heat shrinkage rate of the reflective film at 140°C and the heat shrinkage rate of the protective film at 140°C is preferably smaller than 1.5%, more preferably 1.0% or less, and 0.6%.
  • the following are more preferable.
  • the lower limit is not particularly limited, and may be 0%.
  • the reflective film of the present invention preferably reflects linearly polarized light.
  • the projected image light is preferably p-polarized light, that is, linearly polarized light, in order to suppress reflection on the surface of the windshield glass.
  • the reflective layer has a cholesteric liquid crystal layer and reflects circularly polarized light. Therefore, the reflective film of the present invention preferably has a layer that converts linearly polarized light incident on the reflective film into circularly polarized light. Examples of the layer that converts the polarization state of light include the above-mentioned polarization conversion layer and retardation layer.
  • the polarization conversion layer exhibits optical rotation and birefringence with respect to visible light, and converts the polarization state of incident light.
  • the polarization conversion layer is preferably made of a layer in which a birefringent material such as a liquid crystal compound is oriented with a twist amount of 360° or less.
  • the retardation layer changes the state of incident polarized light by adding a phase difference (optical path difference) to two orthogonal polarized light components.
  • the retardation layer is a layer in which birefringent materials such as liquid crystal compounds are aligned in the same direction, and does not have optical rotation.
  • the reflective film has a polarization conversion layer or a retardation layer on the light incident side of the reflective layer
  • linearly polarized light incident on the reflective film is converted to circularly polarized light
  • the reflective layer reflects the circularly polarized light.
  • the polarization conversion layer or the retardation layer may convert the reflected circularly polarized light into linearly polarized light and emit the linearly polarized light.
  • the reflective film 10D has the polarization conversion layer 5 on one side of the reflective layer 2, and the retardation layer 6 on the other side.
  • the polarization conversion layer 5 is placed on the car-inside glass plate 11 side.
  • the windshield glass shown in FIG. 5 includes a car interior glass plate 11, an adhesive layer 1, a matte layer 8, a polarization conversion layer 5, a reflective layer 2, a retardation layer 6, a transparent base material 7, and an HC layer 3 in this order. It has.
  • the polarization conversion layer has a function of converting projected p-polarized light (linearly polarized light) into circularly polarized light reflected by the cholesteric liquid crystal layer of the reflective layer.
  • the retardation layer has a function of optically compensating for light incident from outside the windshield glass. For example, the polarization state of s-polarized light incident from the outside of the windshield glass changes when it passes through a polarization conversion layer, and a p-polarized light component is mixed therein. Since polarized sunglasses cut out s-polarized light, this p-polarized light component passes through the polarized sunglasses.
  • the function of polarized sunglasses that cuts out the glare of reflected light whose main component is s-polarized light is impaired, which poses a problem that may impede driving.
  • the suitability for polarized sunglasses can be improved by providing a structure including a retardation layer and optically compensating with the retardation layer.
  • the reflective film 10D has a configuration in which the polarization conversion layer 5 is placed on the side of the vehicle interior glass plate 11, but the configuration is not limited thereto.
  • the reflective film 10D may be arranged such that the retardation layer 6 is on the vehicle-inside glass plate 11 side.
  • the retardation layer 6 has a function of converting the projected p-polarized light (linearly polarized light) into circularly polarized light reflected by the cholesteric liquid crystal layer of the reflective layer 2.
  • the polarization conversion layer 5 has a function of optically compensating for light incident from the outside of the windshield glass, and by optically compensating with the polarization conversion layer 5, suitability for polarized sunglasses can be improved.
  • the reflective film of the present invention may have a configuration in which the reflective layer 2 has polarization conversion layers on both sides, or may have a configuration in which it has retardation layers on both sides.
  • the polarization conversion layer or retardation layer disposed on the inside glass plate has a function of converting the projected p-polarized light (linearly polarized light) into circularly polarized light reflected by the cholesteric liquid crystal layer of the reflective layer. do it.
  • the polarization conversion layer or the retardation layer disposed on the outside of the vehicle may have a function of optically compensating for light incident from outside the windshield glass.
  • the polarization conversion layer and the retardation layer are as described above.
  • the reflective film of the present invention may have a matte layer on the opposite side of the reflective layer from the hard coat layer.
  • the reflective film may have a matte layer between the adhesive layer and the reflective layer.
  • the matte layer is a layer having unevenness.
  • the matte layer and the HC layer can come into direct contact with each other when the reflective film is a semi-finished product (at the stage of a laminate that includes a matte layer, a reflective layer, and an HC layer but does not have an adhesive layer).
  • the matte layer can be provided on the opposite side of the retardation layer or polarization conversion layer from the hard coat layer.
  • the matte layer can be obtained by irradiating the curable composition for forming a matte layer with active energy rays and curing it.
  • the curable composition for forming a matte layer used for forming the matte layer contains two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule in order to ensure adhesion with the reflective layer, retardation layer, and polarization conversion layer. It is preferable to contain a polymerizable compound and a radical photopolymerization initiator, and it is preferable to contain particles in order to provide unevenness. Moreover, it is also preferable that the curable composition for forming a matte layer contains a solvent or a leveling agent.
  • the thickness of the matte layer is preferably 10 nm or more, more preferably 10 nm to 1 ⁇ m, and even more preferably 30 nm to 1 ⁇ m.
  • the thickness of the matte layer was determined by cutting the matte layer with a microtome, cutting out a cross section, staining it with an approximately 3% by mass osmium tetroxide aqueous solution overnight, cutting out the surface again, and measuring the cross section with an SEM (Scanning Electron Microscope). Observe using an electron microscope).
  • the surface roughness Sa1 of the component having a wavelength of 2.5 ⁇ m or less on the surface of the matte layer opposite to the reflective layer side is preferably 0.30 nm or more, more preferably 0.40 nm or more, even more preferably 0.45 nm or more, and 0. Particularly preferred is .50 nm or more.
  • composition for forming reflective layer ⁇ Preparation of composition for forming reflective layer, composition for forming retardation layer, and composition for forming polarization conversion layer>
  • the components were mixed according to the formulation shown in Table 3 below, and filtered through a polypropylene filter with a pore size of 10 ⁇ m to form reflective layer forming compositions BG1, R1, IR1, retardation layer forming composition A1, and polarization conversion layer forming composition.
  • Composition TW-1 was prepared. The amount of each component shown in Table 3 is expressed in parts by mass.
  • the mixture 1, the alignment control agent 1, and the alignment control agent 2 are the compounds mentioned above.
  • composition for forming matte layer Each component was mixed according to the formulation shown in Table 4 below, and filtered through a polypropylene filter with a pore size of 10 ⁇ m to prepare matte layer forming compositions M-1 to M-3.
  • the amount of each component shown in Table 4 is expressed in parts by mass.
  • a cellulose acylate film on which an alignment film was formed was used as a transparent base material.
  • a cellulose acylate film with a thickness of 40 ⁇ m was produced using the same production method as in Example 20 of International Publication No. 2014/112575. Note that UV-531 manufactured by Teimori Kako Co., Ltd. was added to this cellulose acylate film as an ultraviolet absorber. The amount added was 3 phr (per hundred resin).
  • the produced cellulose acylate film was passed through a dielectric heating roll at a temperature of 60°C to raise the surface temperature of the film to 40°C, and then an alkaline solution having the composition shown below was applied to one side of the film using a bar coater. The sample was applied at a coating amount of 14 mL/m 2 using a 110° C.
  • cellulose acylate films prepared with adjusted film thicknesses of 25 ⁇ m, 60 ⁇ m, and 80 ⁇ m were prepared, and treated in the same manner as above to produce cellulose acylate films 2, 3, and 4. .
  • a cellulose acylate film prepared by adjusting the film thickness to 40 ⁇ m and adjusting the stretching conditions to increase the residual stress was prepared, and subjected to the same treatment as above to form cellulose acylate film 5. Created.
  • a coating solution for forming an alignment film having the composition shown below was applied at 24 mL/m 2 using a wire bar coater, and then heated at 100°C. It was dried with warm air for 120 seconds to obtain an alignment film with a thickness of 0.5 ⁇ m.
  • composition of coating liquid for forming alignment film ⁇ ⁇ Modified polyvinyl alcohol shown below 28 parts by mass ⁇ Citric acid ester (AS3, manufactured by Sankyo Kagaku Co., Ltd.) 1.2 parts by mass ⁇ Photoinitiator (Irgacure 2959, manufactured by BASF) 0.84 parts by mass ⁇ Glutaraldehyde 2.8 Parts by mass/Water 699 parts by mass/Methanol 226 parts by mass ⁇
  • ⁇ Preparation of reflective film> The alignment film prepared above was subjected to rubbing treatment (rayon cloth, pressure: 0.1 kgf (0.98 N), rotation speed: 1000 rpm (revolutions) in a direction rotated 45 degrees clockwise with respect to the long side direction of the support per minute), conveyance speed: 10 m/min, number of times: 1 reciprocation).
  • the reflection layer forming composition IR1 was applied to the surface of the alignment film rubbed above at room temperature using a wire bar so that the thickness of the dry film after drying was 0.4 ⁇ m to obtain a coating layer. . After drying the coating layer at room temperature for 30 seconds, it was heated in an atmosphere of 85° C. for 2 minutes. After that, in an environment with an oxygen concentration of 1000 ppm or less, ultraviolet rays were irradiated at 60 °C with a Fusion D bulb (90 mW/cm lamp) at 60% output for 6 to 12 seconds to fix the cholesteric liquid crystal phase. A cholesteric liquid crystal layer IR1 having a thickness of 0.4 ⁇ m was obtained.
  • a cholesteric liquid crystal layer BG1 having a thickness of 0.34 ⁇ m was laminated on the surface of the obtained cholesteric liquid crystal layer IR1 by repeating the same process using the reflective layer forming composition BG1.
  • a cholesteric liquid crystal layer R1 having a thickness of 0.20 ⁇ m was laminated on the surface of the obtained cholesteric liquid crystal layer BG1 by repeating the same process using the reflective layer forming composition R1. In this way, a film A1 having a reflective layer consisting of three cholesteric liquid crystal layers was obtained.
  • a curable composition for forming an HC layer HC-1 is applied to the surface of the cellulose acylate film 1 opposite to the reflective layer in the film A1 produced above and cured to form an HC1 layer with a thickness of 6 ⁇ m.
  • the coating and curing methods were as follows.
  • the curable composition for forming an HC layer was applied by the die coating method using a slot die described in Example 1 of JP-A No. 2006-122889 at a conveyance speed of 30 m/min, and then coated at an ambient temperature of 60° C. for 60 seconds. Dry.
  • NCF-D692 Adhesive layer thickness 15 ⁇ m, manufactured by Lintec Corporation
  • the reflective film of Example 1 having the structure of HC layer/transparent base material/reflective layer/adhesive layer/protective film was produced by laminating them together. Note that the above NCF-D692 has a light release film, an adhesive layer, and a heavy release film, and the protective film in the reflective film corresponds to the heavy release film of NCF-D692.
  • Examples 2 to 13 The reflections of Examples 2 to 13 were prepared in the same manner as in Example 1, except that the curable compositions for HC layer formation HC-2 to HC-13 were used instead of the curable composition for HC layer formation HC-1. A film was produced.
  • Example 14 A reflective film of Example 14 was produced in the same manner as Example 2 except that the thickness of the first HC layer was 12 ⁇ m.
  • Example 15 A reflective film of Example 15 was produced in the same manner as Example 2 except that the thickness of the first HC layer was 3 ⁇ m.
  • Example 16> The curable composition for HC layer formation HC-14 was used instead of the curable composition for HC layer formation HC-2, and the ultraviolet irradiation conditions for curing were as follows: illuminance 20 mW/cm 2 and irradiation amount 30 mJ/cm 2
  • the first HC layer was formed in the same manner as in Example 14 except for the following steps.
  • a curable composition for forming an HC layer, HC-15 was applied onto the surface of the first HC layer formed above and cured to form a second HC layer with a thickness of 4 ⁇ m.
  • the coating and curing methods were as follows.
  • the curable composition for forming an HC layer was applied by the die coating method using a slot die described in Example 1 of JP-A-2006-122889 at a conveyance speed of 30 m/min, and then coated at an ambient temperature of 60° C. for 150 seconds. Dry. After that, under a nitrogen purge, ultraviolet rays were irradiated with an illumination intensity of 150 mW/cm 2 and an irradiation amount of 600 mJ/cm 2 using a 160 W/cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics) at an oxygen concentration of approximately 0.1 volume %. After forming a second HC layer, winding was performed to obtain a film HC2 having a reflective layer and an HC layer.
  • An adhesive layer was applied to the reflective layer side of the film HC2 produced above. After peeling off the light release film of NCF-D692 (adhesive layer thickness 15 ⁇ m, manufactured by Lintec Corporation), the exposed adhesive layer was brought into contact with the reflective layer of film HC1 while applying a load of 2 kg with a rubber roller.
  • a reflective film of Example 16 having a structure of HC layer/transparent base material/reflective layer/adhesive layer/protective film was produced by laminating.
  • Example 17 A reflective film of Example 17 was produced in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the cholesteric liquid crystal layer BG1 was 0.84 ⁇ m.
  • Example 18 A reflective film of Example 18 was produced in the same manner as Example 2 except that the thickness of the cholesteric liquid crystal layer R1 was 0.36 ⁇ m.
  • Example 19 A reflective film of Example 19 was produced in the same manner as Example 18, except that NCF-D692 (adhesive layer thickness: 10 ⁇ m, manufactured by Lintec Corporation) was used as the adhesive layer. Note that the above NCF-D692 has a light release film, an adhesive layer, and a heavy release film, and the protective film in the reflective film corresponds to the heavy release film of NCF-D692.
  • NCF-D692 adheresive layer thickness: 10 ⁇ m, manufactured by Lintec Corporation
  • Example 20 A reflective film of Example 20 was produced in the same manner as in Example 18, except that NCF-D692 (adhesive layer thickness: 5 ⁇ m, manufactured by Lintec Corporation) was used as the adhesive layer. Note that the above NCF-D692 has a light release film, an adhesive layer, and a heavy release film, and the protective film in the reflective film corresponds to the heavy release film of NCF-D692.
  • NCF-D692 adheresive layer thickness: 5 ⁇ m, manufactured by Lintec Corporation
  • Example 21 A reflective film of Example 21 was produced in the same manner as in Example 18, except that NCF-D692 (adhesive layer thickness: 20 ⁇ m, manufactured by Lintec Corporation) was used as the adhesive layer. Note that the above NCF-D692 has a light release film, an adhesive layer, and a heavy release film, and the protective film in the reflective film corresponds to the heavy release film of NCF-D692.
  • NCF-D692 adheresive layer thickness: 20 ⁇ m, manufactured by Lintec Corporation
  • Example 22 A reflective film of Example 22 was produced in the same manner as in Example 18, except that NCF-D692 (adhesive layer thickness: 25 ⁇ m, manufactured by Lintec Corporation) was used as the adhesive layer. Note that the above NCF-D692 has a light release film, an adhesive layer, and a heavy release film, and the protective film in the reflective film corresponds to the heavy release film of NCF-D692.
  • NCF-D692 adheresive layer thickness: 25 ⁇ m, manufactured by Lintec Corporation
  • Example 23 A reflective film of Example 23 was produced in the same manner as Example 18, except that Panaclean PD-S1 (adhesive layer thickness: 5 ⁇ m, manufactured by Panac Co., Ltd.) was used as the adhesive layer.
  • the Panaclean PD-S1 has a light release film, an adhesive layer, and a heavy release film, and the protective film in the reflective film corresponds to the heavy release film of PD-S1.
  • Example 24 A reflective film of Example 24 was produced in the same manner as Example 18, except that MF-58 (adhesive layer thickness: 12 ⁇ m, manufactured by Tomoekawa Paper Manufacturing Co., Ltd.) was used as the adhesive layer. Note that the above MF-58 has a light release film, an adhesive layer, and a heavy release film, and the protective film in the reflective film corresponds to the heavy release film of MF-58.
  • MF-58 adheresive layer thickness: 12 ⁇ m, manufactured by Tomoekawa Paper Manufacturing Co., Ltd.
  • Example 25 A reflective film of Example 25 was produced in the same manner as Example 18, except that MHM-UVC (adhesive layer thickness: 15 ⁇ m, manufactured by Nichiei Shinka Co., Ltd.) was used as the adhesive layer. Note that the MHM-UVC has a light release film, an adhesive layer, and a heavy release film, and the protective film in the reflective film corresponds to the heavy release film of the MHM-UVC.
  • MHM-UVC adheresive layer thickness: 15 ⁇ m, manufactured by Nichiei Shinka Co., Ltd.
  • Example 26 A reflective film of Example 26 was produced in the same manner as Example 18, except that SK Dyne 2057 (adhesive layer thickness: 25 ⁇ m, manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd.) was used as the adhesive layer. Note that SK Dyne 2057 has a light release film, an adhesive layer, and a heavy release film, and the protective film in the reflective film corresponds to the heavy release film of SK Dyne 2057.
  • Example 27 A reflective film of Example 27 was produced in the same manner as Example 18 except that cellulose acylate film 2 (thickness: 25 ⁇ m) was used as the transparent base material.
  • Example 28 A reflective film of Example 28 was produced in the same manner as in Example 18, except that cellulose acylate film 3 (thickness: 60 ⁇ m) was used as the transparent base material.
  • Example 29 A reflective film of Example 29 was produced in the same manner as Example 18 except that cellulose acylate film 4 (thickness: 80 ⁇ m) was used as the transparent base material.
  • Example 30 A reflective film of Example 30 was produced in the same manner as Example 18 except that cellulose acylate film 5 (thickness: 40 ⁇ m) was used as the transparent base material.
  • Example 31 The retardation layer forming composition A1 is applied to the rubbed alignment film surface using a wire bar, dried, and then cured under the following conditions to form a reflective layer on the cured retardation layer A1.
  • a reflective film of Example 31 was produced in the same manner as Example 24, except that the composition IR1 was applied.
  • composition A1 ⁇ Curing conditions for retardation layer forming composition A1> After applying and drying the composition A1 for forming a retardation layer, it was placed on a hot plate at 50°C, and in an environment with an oxygen concentration of 1000 ppm or less, an electrodeless lamp "D Bulb” manufactured by Fusion UV Systems (60 mW/cm 2 ) for 6 seconds to form a retardation layer. In this way, a retardation layer whose thickness was adjusted to have a desired front retardation, that is, a desired retardation, was obtained. The retardation of the produced retardation layer at 550 nm was measured using AxoScan manufactured by Axometrics, and was found to be 126 nm.
  • Example 32 A reflective film of Example 32 was produced in the same manner as Example 31, except that the polarization conversion layer TW1 was provided on the cholesteric liquid crystal layer R1 to a thickness of 0.8 ⁇ m.
  • the polarization conversion layer TW1 is formed by coating the polarization conversion layer forming composition TW1 on the cholesteric liquid crystal layer R1 at room temperature using a wire bar, drying the coating layer at room temperature for 30 seconds, and drying it in an atmosphere of 85°C. Heat for 2 minutes. Thereafter, in an environment with an oxygen concentration of 1000 ppm or less, ultraviolet rays were irradiated at 60° C. using a Fusion D bulb (90 mW/cm lamp) at 60% output for 6 to 12 seconds to form a polarization conversion layer.
  • a Fusion D bulb 90 mW/cm lamp
  • Examples 33 to 42 The reflections of Examples 33 to 42 were prepared in the same manner as in Example 24, except that the curable compositions for HC layer formation HC-16 to HC-25 were used instead of the curable composition for HC layer formation HC-2. A film was produced.
  • Example 43 The curable composition for HC layer formation HC-14 was used instead of the curable composition for HC layer formation HC-2, and the ultraviolet irradiation conditions for curing were as follows: illuminance 20 mW/cm 2 and irradiation amount 30 mJ/cm 2
  • the first HC layer was formed in the same manner as in Example 24 except for the following steps.
  • a curable composition for forming an HC layer HC-26 was applied and cured to form a second HC layer with a thickness of 0.2 ⁇ m.
  • a reflective film of Example 43 was produced by applying the adhesive layer in the same manner as in Example 24.
  • Examples 44 to 46> A reflective film having a polarization conversion layer was produced in the same manner as in Example 32, except that HC-17 was used as the HC forming composition. Matte layer forming compositions M-1 to M-3 were each applied onto the surface of the polarization conversion layer of the reflective film and cured to form a matte layer with a thickness of 60 nm. Specifically, the coating and curing methods were as follows. The curable composition for forming a matte layer was applied by the die coating method using a slot die described in Example 1 of JP-A No. 2006-122889 at a conveyance speed of 30 m/min, and then coated at an ambient temperature of 45° C. for 60 seconds. Dry.
  • Comparative example 1 A reflective film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the HC layer was not provided.
  • Comparative example 2 A reflective film of Comparative Example 2 was produced in the same manner as Example 1 except that no reflective layer was provided.
  • Comparative example 3 A reflective film of Comparative Example 3 was produced in the same manner as Example 1 except that no adhesive layer was provided.
  • Pencil Hardness Pencil hardness was evaluated according to JIS (JIS stands for Japanese Industrial Standards) K5400. Peel off the protective film from the adhesive layer of the reflective film, and place a glass plate (manufactured by Corning, product name: Eagle A laminate of the reflective film and the glass plate was produced by laminating the reflective film and the glass plate while applying a load of 2 kg using a rubber roller. After conditioning the laminate for 2 hours at a temperature of 25°C and a relative humidity of 60%, five different locations on the surface of the HC layer were tested under a load of 750 gf using a test pencil of H to 9H specified in JIS S 6006. I scratched it. After that, among the hardnesses of pencils with 0 to 2 visually observed scratches, the pencil hardness with the highest hardness was used as the evaluation result.
  • JIS JIS stands for Japanese Industrial Standards
  • a Taber abrasion tester (rotary abrasion tester, manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), the surface of the HC layer was tested for 100 cycles at a rotation speed of 72 rpm with a CS-10F abrasion wheel and a load of 500 gf. After the test, the haze (HB) of the test portion of the laminate was measured. The ⁇ haze (HB-HA) before and after the test was calculated and evaluated based on the following criteria.
  • A 1% or less.
  • B greater than 1% and less than 2.5%.
  • C greater than 2.5% and less than 4%.
  • D greater than 4%.
  • a to C is an acceptable range.
  • the average value of the reflectance when P-polarized light is incident and the reflectance when S-polarized light is incident is the same as the reflectance when unpolarized light (natural light) is incident. That is, the average value of the reflection spectrum of P-polarized light and the reflection spectrum of S-polarized light is synonymous with the reflection spectrum when natural light is incident.
  • a to B is an acceptable range.
  • the above-prepared application liquid was sprayed onto the convex side of a curved glass measuring 330 mm wide x 260 mm long, with a curvature of 330 mm, R1750 mm in the longitudinal direction, 260 mm and R1250 mm in the transverse direction.
  • the reflective film produced above was cut out to a size of 330 mm x 260 mm and pasted so that the hard coat layer side of the reflective film was in contact with the convex side of the curved glass.
  • the reflective film was adsorbed to the convex side of the curved glass due to the surface tension of the application solution, but a portion of the reflective film did not come into contact with the curved glass and remained as wrinkles.
  • a squeegee was used while applying hot air to the wrinkled portion of the reflective film using a heat gun (Heating Gun 882, manufactured by Hakko Co., Ltd.), and the wrinkled portion of the reflective film was shrunk to follow the surface of the curved glass.
  • Heating Gun 882 manufactured by Hakko Co., Ltd.
  • A It will slip even if you put a 150g weight on it.
  • B It will slip even if you put a 100g weight on it, but it will not slip if you put a 150g weight on it.
  • C It will slip even if you put a 50g weight on it, but it will not slip if you put a 100g weight on it.
  • D It will not slip when a 50g weight is placed on it.
  • A No blur is visible around the point light source in the reflected image.
  • B The area around the point light source in the reflected image appears blurred.
  • C The area around the point light source in the reflected image appears strongly blurred.
  • the reflective films of Examples 23 to 26 and 31 to 46 were able to follow curved surfaces without problems (evaluation A).
  • the reflective film of Example 30 was applied with hot air from a heat gun when forming a curved surface, the reflective film curled toward the laminate film, but it could be formed by applying hot air while pressing with a squeegee, and the curved surface could be followed (rating B ).
  • the reflective films of Examples 1 to 22, 27 to 29 and Comparative Examples 1 to 2 were exposed to hot air from a heat gun during curved surface molding, the reflective films curled toward the laminate film and were significantly deformed, but they could be pressed down with multiple squeegees. It was possible to mold the material and follow the curved surface (rating: C).
  • the reflective film of Comparative Example 3 the reflective film and the curved glass peeled off during drying during curved surface following, and the curved surface could not be followed (rating D).
  • the "HC layer Sa1” column represents the surface roughness Sa1 (nm) of the component having a wavelength of 2.5 ⁇ m or less on the surface of the hard coat layer opposite to the reflective layer side.
  • the "HC layer Sa2” column represents the surface roughness Sa2 (nm) of the component having a wavelength of 10 ⁇ m or more on the surface of the hard coat layer opposite to the reflective layer side.
  • the “Matte layer Sa1” column represents the surface roughness Sa1 (nm) of the component having a wavelength of 2.5 ⁇ m or less on the surface of the matte layer opposite to the reflective layer side.
  • the reflective film of the present invention exhibited the desired effects.
  • the content of the cationic polymerizable compound is 50 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the total content of the radical polymerizable compound and the cationic polymerizable compound. In some cases, better abrasion resistance and pencil hardness were observed. From the comparison of Examples 2, 4, and 5, it was found that when the number of radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl groups and methacryloyl groups in the radically polymerizable compound is 4 or more (preferably 5 or more), the wear resistance is improved. It was confirmed that the pencil hardness was better.
  • Example 201 The heat seal layer forming composition HS-1 was applied to the surface of the reflective layer of the reflective film of Example 18 using a wire bar so that the film thickness after drying was 0.8 ⁇ m, and then heated to 120°C. A drying process was performed for 1 minute to form a heat seal layer. Then, under a nitrogen purge, ultraviolet rays were irradiated with an illuminance of 150 mW/cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ/cm 2 using a 160 W/cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics) at an oxygen concentration of approximately 0.1 volume %. The applied curable composition for forming a heat seal layer was cured to produce a reflective film of Example 201.
  • Example 202 A reflective film of Example 202 was produced in the same manner as in Example 201, except that the heat seal layer forming composition HS-1 was applied to the surface of the polarization conversion layer of the reflective film of Example 32.
  • Example 224 A reflective film of Example 224 was prepared in the same manner as Example 206, except that the heat seal layer forming composition HS-5 was applied so that the film thickness after drying was 0.4 ⁇ m.
  • Example 225 A reflective film of Example 225 was prepared in the same manner as Example 206, except that the heat seal layer forming composition HS-5 was applied so that the film thickness after drying was 0.2 ⁇ m.
  • Example 226 A reflective film of Example 226 was prepared in the same manner as Example 206, except that the heat seal layer forming composition HS-5 was applied so that the film thickness after drying was 10.0 ⁇ m.
  • Comparative example 201 A reflective film of Comparative Example 201 was produced in the same manner as Example 201 except that HS30 was used as the composition for forming a heat seal layer.
  • Test Example 7 Abrasion resistance of heat-sealing layer-applied product
  • the reflective films obtained in 201 to 233 and Comparative Example 201 were placed on a glass plate (manufactured by Corning, product name: Eagle XG, thickness 1 mm). It was placed in the center of the glass plate with the surface on the heat seal layer side serving as the contact surface.
  • Example 201 when the reflective film of Example 201 is used, a laminate having a glass substrate, a heat seal layer, a selective reflection layer, a support, and a hard coat layer in this order is formed, and Examples 202 to 233 Using this reflective film, a laminate including a glass substrate, a heat seal layer, a polarization conversion layer, a selective reflection layer, a retardation layer, a support, and a hard coat layer in this order was formed.
  • the haze (HA) before the abrasion test was measured using a haze meter (NDH2000N, manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.).
  • a Taber abrasion tester rotary abrasion tester, manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.
  • the surface of the hard coat layer was tested for 100 cycles at a rotation speed of 72 rpm with a CS-10F abrasion wheel and a load of 500 gf.
  • the haze (HB) of the test portion of the laminate was measured.
  • the ⁇ haze (HB-HA) before and after the test was calculated and evaluated based on the following criteria.
  • A 1% or less.
  • B greater than 1% and less than 2.5%.
  • C greater than 2.5% and less than 4%.
  • D greater than 4%.
  • a to C is an acceptable range.
  • Example 201 when the reflective film of Example 201 is used, a laminate having a glass substrate, a heat seal layer, a selective reflection layer, a support, and a hard coat layer in this order is formed, and Examples 202 to 233 Using this reflective film, a laminate including a glass substrate, a heat seal layer, a polarization conversion layer, a selective reflection layer, a retardation layer, a support, and a hard coat layer in this order was formed.
  • a PVB film (intermediate film) manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. with the same size and thickness as the glass plate and 0.76 mm is placed on top of this laminate, and a glass plate (2 mm thick, float glass) is placed on top of this. Placed.
  • a Kukkiri Miere (manufactured by Tomoekawa Paper Manufacturing Co., Ltd.) was pasted on the glass plate side of the above glass sample, and using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, V-670), P-polarized light and S-polarized light were incident from a direction of 5°, and the reflection spectra of 400 to 1000 nm were measured. The average value (average reflection spectrum) of the measured reflection spectra of P-polarized light and S-polarized light was determined.
  • a to B is an acceptable range.
  • Example 201 when the reflective film of Example 201 is used, a laminate having a glass substrate, a heat seal layer, a selective reflection layer, a support, and a hard coat layer in this order is formed, and Examples 202 to 233 Using this reflective film, a laminate including a glass substrate, a heat seal layer, a polarization conversion layer, a selective reflection layer, a retardation layer, a support, and a hard coat layer in this order was formed.
  • a PVB film (intermediate film) manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., measuring 260 mm long x 330 mm wide and 0.76 mm thick, is placed, and on top of that, a PVB film (interlayer film) of 260 mm long x 330 mm wide and 0.76 mm thick is placed.
  • a curved glass substrate (second glass substrate) having a size of 330 mm and a thickness of 2 mm was placed.
  • the above laminated glass was peeled between the PVB film and the hard coat layer, and the resulting laminate including the first glass substrate and the heat seal layer was prepared as a glass sample for evaluation of curved surface conformability.
  • the curved surface followability of the reflective film including the heat seal layer with respect to the first glass substrate which is a curved glass substrate in the glass sample for use, was evaluated based on the following criteria.
  • A The curved surface could be followed without any problem.
  • B Part of the reflective film peeled off from the glass, but it was able to follow the curved surface.
  • C The reflective film peeled off and could not follow the curved surface.
  • a to B is an acceptable range.
  • A It will slip even if you put a 150g weight on it.
  • B It will slip even if you put a 100g weight on it, but it will not slip if you put a 150g weight on it.
  • C It will slip even if you put a 50g weight on it, but it will not slip if you put a 100g weight on it.
  • D It will not slip when a 50g weight is placed on it.
  • Test Example 11 Visibility of heat-sealing layer-applied product Regarding the glass sample prepared in Test Example 9, light was applied from the glass plate side with a point light source in a dark room, and the reflected image of the point light source visually recognized on the glass plate is shown below. It was evaluated based on the following criteria.
  • a laminate including a glass substrate, a heat seal layer, a polarization conversion layer, a selective reflection layer, a retardation layer, a support, and a hard coat layer in this order was formed using the following.
  • a PVB film intermediate film made by Sekisui Chemical Co., Ltd., measuring 150 mm long x 25 mm wide and 0.76 mm thick, is placed, and on top of that, a flat glass plate measuring 80 mm long x 50 mm wide and 2 mm thick is placed.
  • a substrate (second glass substrate) was placed.
  • the glass sample for evaluation of curved surface followability produced above (the above-mentioned laminate including the first glass substrate and the reflective film including the heat-sealing layer) was conditioned for 80 hours in an environment of 90°C and 80% RH. After that, the humidity was controlled in an environment of 25° C. and 60% RH for 24 hours. The glass sample after humidity conditioning was observed, and the adhesion of the reflective film to the first glass substrate was evaluated based on the following criteria. Evaluation Criteria A: The reflective film has not peeled off from the glass. B: Part of the reflective film has peeled off from the glass.
  • the reflective film of the present invention exhibited the desired effects.
  • the effect is more excellent when the I/O ratio of the ethylenically unsaturated polymerizable group-containing compound is 0.60 or more (preferably 1.2 or more).
  • the content of the polymerizable compound contained in the heat seal layer is 10 to 60% by mass (preferably 15 to 50% by mass) based on the total mass of the heat seal layer. %), it was confirmed that the effect was better.
  • the effect is more excellent when the average thickness of the heat seal layer is 0.4 ⁇ m or more (preferably 0.8 ⁇ m or more).
  • Adhesive layer 2 Reflective layer 3 Hard coat layer (HC layer) 4 Protective film 5 Polarization conversion layer 6 Retardation layer 7 Transparent base material 8 Matte layer 10A, 10B, 10C, 10D, 10E, 10F Reflective film 11 Car interior glass 12 Heat seal layer

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Abstract

本発明は、被貼合物への貼合時に曲面追従性に優れ、貼合後に優れた耐摩耗性を示し、更に反射特性にも優れる反射フィルム、ウインドシールドガラス、積層体、および、画像表示システムを提供する。本発明の反射フィルムは、粘着層と、波長選択的に光を反射する反射層と、ハードコート層とをこの順に有する。

Description

反射フィルム、積層体、ウインドシールドガラス、画像表示システム
　本発明は、反射フィルム、積層体、ウインドシールドガラスおよび画像表示システムに関する。
　自動車のウインドシールド等に使用される合わせガラスに反射フィルムを内蔵することにより、反射フィルム（合わせガラス）をヘッドアップディスプレイシステムの投映像表示用部材として利用することができる。
　例えば、特許文献１には、位相差層および複数のコレステリック液晶層を含む反射フィルムを、自動車に搭載されるヘッドアップディスプレイシステムの投映像表示用部材として使用することが開示されている。通常、自動車用の合わせガラスは２枚のガラス板の間に中間膜を有する。特許文献１には、合わせガラス構成のウインドシールドガラスにおいて、反射フィルムを中間膜に設けることが記載されている。
国際公開第２０１６／０５２３６７号
　上述の特許文献１のように、反射フィルムを中間膜に設ける構成では、ガラス板表面の反射と、反射フィルム表面の反射による２重像が発生する課題がある。
　それに対して、合わせガラスの外側に反射フィルムを付与することで上記課題は解決できるが、反射フィルム自体が合わせガラスの外側に位置するため、反射フィルム自体が優れた耐摩耗性を有することが求められる。
　また、反射フィルムを付与する際に、曲面等の形状に合わせて追従できることが求められている。以後、上記のような曲面に追従する性質を曲面追従性という。
　更に、投映像表示用部材としての機能の点で、反射フィルム自体が優れた反射特性を有することが求められている。
　本発明は、被貼合物への貼合時に曲面追従性に優れ、貼合後に優れた耐摩耗性を示し、更に反射特性にも優れる反射フィルムを提供することを課題とする。
　また、本発明は、ウインドシールドガラス、積層体、および、画像表示システムを提供することも課題とする。
　本発明は以下を提供する。
（１）　粘着層と、波長選択的に光を反射する反射層と、ハードコート層とをこの順に有する、反射フィルム。
（２）　粘着層の厚みが１～３０μｍである、（１）に記載の反射フィルム。
（３）　ハードコート層の厚みが１μｍ以上である、（１）または（２）に記載の反射フィルム。
（４）　ハードコート層が、カチオン重合性化合物を含むハードコート層形成用硬化性組成物を用いて形成された層であり、
　カチオン重合性化合物の含有量が、ハードコート層形成用硬化性組成物の全固形分に対して、５質量％以上である、（１）～（３）のいずれかに記載の反射フィルム。
（５）　ハードコート層が、無機粒子を含むハードコート層形成用硬化性組成物を用いて形成された層であり、
　無機粒子の含有量が、ハードコート層形成用硬化性組成物の全固形分に対して、０．５質量％以上である、（１）～（４）のいずれかに記載の反射フィルム。
（６）　無機粒子の平均一次粒径が４０ｎｍ以上である、（５）に記載の反射フィルム。
（７）　無機粒子の平均一次粒径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ未満である、（５）または（６）に記載の反射フィルム。
（８）　ハードコート層の反射層側とは反対側の表面における波長２．５μｍ以下の成分の面粗さＳａ１が０．３０ｎｍ以上である、（１）～（７）のいずれかに記載の反射フィルム。
（９）　ハードコート層の反射層側とは反対側の表面における波長１０μｍ以上の成分の面粗さＳａ２が２．０ｎｍ以下である、（１）～（８）のいずれかに記載の反射フィルム。
（１０）　更に、透明基材を有する、（１）～（９）のいずれかに記載の反射フィルム。
（１１）　透明基材がセルロースアシレートフィルムである、（１０）に記載の反射フィルム。
（１２）　位相差層を更に有する、（１）～（１１）のいずれかに記載の反射フィルム。
（１３）　偏光変換層を更に有し、
　位相差層、反射層、および、偏光変換層がこの順に配置されている、（１２）に記載の反射フィルム。
（１４）　粘着層と反射層との間に、マット層を更に有する、（１）～（１３）のいずれかに記載の反射フィルム。
（１５）　マット層の反射層側とは反対側の表面における波長２．５μｍ以下の成分の面粗さＳａ１が０．３０ｎｍ以上である、（１４）に記載の反射フィルム。
（１６）　（１）～（１５）のいずれかに記載の反射フィルムと、
　反射フィルムの粘着層の反射層側とは反対側の面に積層される保護フィルムを有する、積層体。
（１７）　反射フィルムと保護フィルムの１４０℃における熱収縮率の差が１．５％より小さい、（１６）に記載の積層体。
（１８）　ガラス板と、（１）～（１５）のいずれかに記載の反射フィルムとが粘着層を介して貼り合わされてなる、ウインドシールドガラス。
（１９）　（１８）に記載のウインドシールドガラスと、ウインドシールドガラスの反射フィルム側に投映画像光を照射するプロジェクターと、を有する画像表示システム。
（２０）　ハードコート層と、波長選択的に光を反射する反射層と、前記反射層の片側に積層されたヒートシール層とをこの順に有し、
　反射層が、重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成され、
　ヒートシール層が、熱可塑性樹脂またはエラストマーを含む、反射フィルム。
（２１）　ヒートシール層が、重合開始剤を含む組成物を用いて形成された層である、（２０）に記載の反射フィルム。
（２２）　組成物が、さらに重合性化合物を含む、（２１）に記載の反射フィルム。
（２３）　重合性液晶化合物が、エチレン性不飽和重合性基を有し、
　重合性化合物が、エチレン性不飽和重合性基を有する、（２２）に記載の反射フィルム。
（２４）　ハードコート層と、波長選択的に光を反射する反射層と、偏光変換層と、偏光変換層の片側に積層されたヒートシール層とをこの順に有し、
　偏光変換層が、重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成され、
　ヒートシール層が、熱可塑性樹脂またはエラストマーを含む、反射フィルム。
（２５）　ヒートシール層が、重合開始剤を含む組成物を用いて形成された層である、（２４）に記載の反射フィルム。
（２６）　組成物が、さらに重合性化合物を含む、（２５）に記載の反射フィルム。
（２７）　重合性化合物の含有量が、組成物の固形分に対して、５～８０質量％である、（２２）、（２３）、および、（２６）のいずれかに記載の反射フィルム。
（２８）　重合性化合物のＩ／Ｏ比が０．４以上である、（２２）、（２３）、および、（２６）のいずれかに記載の反射フィルム。
（２９）　ヒートシール層の２５℃、６０％ＲＨにおける含水率が２．０％以下である、（２０）～（２８）のいずれかに記載の反射フィルム。
（３０）　ガラス板と、（２０）～（２８）のいずれかに記載の反射フィルムとがヒートシール層を介して貼り合わされてなる、ウインドシールドガラス。
（３１）　（３０）に記載のウインドシールドガラスと、ウインドシールドガラスの反射フィルム側に投映画像光を照射するプロジェクターと、を有する画像表示システム。
　本発明によれば、被貼合物への貼合時に曲面追従性に優れ、貼合後に優れた耐摩耗性を示し、更に反射特性にも優れる反射フィルムを提供できる。
　また、本発明によれば、ウインドシールドガラス、積層体、および、画像表示システムを提供できる。
本発明の反射フィルムの一例を示す模式図である。 本発明の反射フィルムの一例を示す模式図である。 本発明の反射フィルムの一例を示す模式図である。 本発明の反射フィルムの一例を示す模式図である。 本発明の反射フィルムを有するウインドシールドガラスの一例を示す模式図である。 本発明の反射フィルムの一例を示す模式図である。 本発明の反射フィルムの一例を示す模式図である。 本発明の反射フィルムを有するウインドシールドガラスの一例を示す模式図である。
　以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の粘着層、反射層、および、ハードコート層（ＨＣ層）をこの順に有する反射フィルム、ウインドシールドガラス、積層体、および、画像表示システムを詳細に説明する。
　なお、以下に説明する図は、本発明を説明するための例示的なものであり、以下に示す図に本発明が限定されるものではない。
　なお、以下において数値範囲を示す「～」とは両側に記載された数値を含む。例えば、ε１が数値α１～数値β１とは、ε１の範囲は数値α１と数値β１を含む範囲であり、数学記号で示せばα１≦ε１≦β１である。
　「具体的な数値で表された角度」、「平行」、「垂直」および「直交」等の角度は、特に記載がなければ、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。より具体的には、本明細書において、平行、垂直、および、直交は、それぞれ、平行±５°の範囲、直交±５°の範囲、および、垂直±５°の範囲を意味する。
　また、「同一」とは該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含み、「全面」等も該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。
　円偏光につき「選択的」というときは、光の右円偏光成分および左円偏光成分のいずれかの光量が、他方の円偏光成分よりも多いことを意味する。具体的には「選択的」というとき、光の円偏光度は、０．３以上であることが好ましく、０．６以上がより好ましく、０．８以上が更に好ましい。実質的に１．０であることが更に好ましい。ここで、円偏光度とは、光の右円偏光成分の強度をＩR、左円偏光成分の強度をＩLとしたとき、｜ＩR－ＩL｜／（ＩR＋ＩL）で表される値である。
　円偏光につき「センス」というときは、右円偏光であるか、左円偏光であるかを意味する。円偏光のセンスは、光が手前に向かって進んでくるように眺めた場合に電場ベクトルの先端が時間の増加に従って時計回りに回る場合が右円偏光であり、反時計回りに回る場合が左円偏光であるとして定義される。
　コレステリック液晶の螺旋のねじれ方向について「センス」との用語を用いることもある。コレステリック液晶の螺旋のねじれ方向（センス）が右の場合は右円偏光を反射し、左円偏光を透過し、センスが左の場合は左円偏光を反射し、右円偏光を透過する。
　「光」という場合、特に断らない限り、可視光かつ自然光（非偏光）の光を意味する。可視光は電磁波のうち、ヒトの目で見える波長の光であり、通常、３８０～７８０ｎｍの波長域の光を示す。非可視光は、３８０ｎｍ未満の波長領域または７８０ｎｍを超える波長領域の光である。
　また、これに制限されるものではないが、可視光のうち、４２０～４９０ｎｍの波長領域の光は青色（Ｂ）光であり、４９５～５７０ｎｍの波長領域の光は緑色（Ｇ）光であり、６２０～７５０ｎｍの波長領域の光は赤色（Ｒ）光である。
　「可視光透過率」はＪＩＳ（日本工業規格）　Ｒ　３２１２：２０１５（自動車用安全ガラス試験方法）において定められたＡ光源可視光透過率とする。すなわち、Ａ光源を用い分光光度計にて、波長３８０～７８０ｎｍの範囲の各波長の透過率を測定し、ＣＩＥ（国際照明委員会）の明順応標準比視感度の波長分布および波長間隔から得られる重価係数を各波長での透過率に乗じて加重平均することによって求められる透過率である。
　単に「反射光」または「透過光」というときは、散乱光および回折光を含む意味で用いられる。
　なお、光の各波長の偏光状態は、円偏光板を装着した分光放射輝度計またはスペクトルメータを用いて測定することができる。この場合、右円偏光板を通して測定した光の強度がＩR、左円偏光板を通して測定した光の強度がＩLに相当する。また、照度計または光スペクトルメータに円偏光板を取り付けても測定することができる。右円偏光透過板をつけ、右円偏光量を測定、左円偏光透過板をつけ、左円偏光量を測定することにより、比率を測定できる。
　ｐ偏光は光の入射面に平行な方向に振動する偏光を意味する。入射面は反射面（ウインドシールドガラス表面等）に垂直で入射光線と反射光線とを含む面を意味する。ｐ偏光は電場ベクトルの振動面が入射面に平行である。
　正面位相差は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏＳｃａｎを用いて測定した値である。測定波長は特に言及のないときは、波長５５０ｎｍとする。正面位相差はＫＯＢＲＡ　２１ＡＤＨまたはＷＲ（王子計測機器（株）製）において可視光波長域内の波長の光をフィルム法線方向に入射させて測定した値を用いることもできる。測定波長の選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。
　「投映像（projection image）」は、前方等の周囲の風景ではない、使用するプロジェクターからの光の投射に基づく映像を意味する。投映像は、観察者から見てウインドシールドガラスの投映像表示部位の先に浮かび上がって見える虚像として観測される。
　「画像（screen image）」はプロジェクターの描画デバイスに表示される像または、描画デバイスにより中間像スクリーン等に描画される像を意味する。虚像に対して、画像は実像である。
　画像および投映像は、いずれも単色の像であっても、２色以上の多色の像であっても、フルカラーの像であってもよい。
　本発明の反射フィルムは、粘着層と、波長選択的に光を反射する反射層（以下、単に「反射層」ともいう。）と、ハードコート層をこの順に有することを特徴とする。
　また、本発明の反射フィルムの別の構成として、ハードコート層と、波長選択的に光を反射する反射層と、反射層の片側に積層されたヒートシール層とをこの順に有することを特徴とする。
　また、本発明の反射フィルムの別の構成として、ハードコート層と、波長選択的に光を反射する反射層と、偏光変換層と、偏光変換層の片側に積層されたヒートシール層とをこの順に有することを特徴とする。
　図１に、本発明の反射フィルムの一例を示す。図１に示す、反射フィルム１０Ａは、粘着層１と、反射層２と、ハードコート層（以下、ＨＣ層ともいう。）３と、をこの順に有する。
　図６に、本発明の反射フィルムの別の一例を示す。図６に示す、反射フィルム１０Ｅは、ヒートシール層１２と、反射層２と、ＨＣ層３と、をこの順に有する。
　図７に、本発明の反射フィルムの別の一例を示す。図７に示す、反射フィルム１０Ｆは、ヒートシール層１２と、偏光変換層５と、反射層２と、ＨＣ層３と、をこの順に有する。
　反射フィルム１０Ｆは、後述するように、位相差層および透明基材を有していてもよい。
　このような反射フィルム１０Ｆがウインドシールドガラスに組み込まれる際には、一例として、図８に示すように、偏光変換層５が車内側ガラス板１１側となるように配置される。
　図８に示すウインドシールドガラスは、車内側ガラス板１１、ヒートシール層１２、偏光変換層５、反射層２、位相差層６、透明基材７、および、ＨＣ層３をこの順で有する。
　以下、本発明の反射フィルムに用いられる各層について説明する。
＜粘着層＞
　本発明の反射フィルムは合わせガラスの外側へとフィルムを貼着させるための粘着層を有する。粘着層を有することでウインドシールドへ反射フィルムを貼合することができる。
　粘着層は、本発明の反射フィルムをウインドシールドに付与した際に、表示内容の視認性を確保できる透明性を有し、かつ、反射フィルムとウインドシールドとを接着できるものであれば、その材質は特に限定されず、樹脂から構成されていてもよいし、エラストマー（油展ゴムを含む）から構成されていてもよい。
　上記樹脂としては、１，２－ポリブタジエン樹脂、エチレン－酢酸ビニル共重合体（「ＥＶＡ」と略す。通常、３質量％以上の酢酸ビニル構成単位を含有する。）およびポリエチレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ビニルエステル樹脂（ＥＶＡを除く）、飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、フッ素樹脂（ポリフッ化ビニリデン等）、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、（メタ）アクリレート樹脂（（メタ）アクリル樹脂とも称し、（メタ）アクリル酸エステル樹脂等を意味する。）、不飽和ポリエステル樹脂およびケイ素樹脂、並びにこれらの樹脂の変性樹脂等が挙げられる。
　ウレタン樹脂としては、ウレタン変性ポリエステル樹脂やウレタン樹脂が挙げられる。
　エラストマーとしては、共役ジエンのブロック（共）重合体、アクリル系ブロック（共）重合体、スチレン系ブロック（共）重合体、芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体、共役ジエンのブロック（共）重合体の水素添加物、芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体の水素添加物、エチレン－α－オレフィン系共重合体、極性基変性オレフィン系共重合体、極性基変性オレフィン系共重合体と金属イオンおよび／または金属化合物とよりなるエラストマー、ニトリル系ゴム（例えば、アクロルニトリル－ブタジエン系ゴム）、ブチルゴム、アクリル系ゴム、熱可塑性ポリオレフィンエラストマー（ＴＰＯ）、熱可塑性ポリウレタンエラストマー（ＴＰＵ）、熱可塑性ポリエステルエラストマー（ＴＰＥＥ）、熱可塑性ポリアミドエラストマー（ＴＰＡＥ）、および、ジエン系エラストマー（１，２－ポリブタジエン等）等の熱可塑性エラストマー、シリコーン系エラストマー、並びに、フッ素系エラストマーを挙げることができる。
　樹脂またはエラストマーの重量平均分子量は、溶剤への溶解性と貯蔵弾性率のバランスの観点から、１０，０００～１，０００，０００が好ましく、５０，０００～５００，０００がより好ましい。
　これらの樹脂またはエラストマーを粘着層が含む場合、これらの樹脂またはエラストマーのみを粘着層の構成材料とすることもできるが、軟化剤、可塑剤、滑剤、架橋剤、架橋助剤、光増感剤、酸化防止剤、老化防止剤、熱安定剤、難燃剤、防菌剤、防かび剤、耐候剤、紫外線吸収剤、粘着付与剤、造核剤、顔料、染料、有機フィラー、無機フィラー、シランカップリング剤、および、チタンカップリング剤等の添加剤、重合性基含有化合物、または、他の重合体を更に粘着層が構成材料として含んでいてもよい。即ち、粘着層は、樹脂組成物またはエラストマーを含む組成物を用いて構成されてもよい。
　粘着剤は市販のものを使用してもよく、例えば、ＳＫダイン２０５７、ＳＫダイン２０９４、ＳＫダイン２１４７、ＳＫダイン１８１１Ｌ、ＳＫダイン１４７８、ＳＫダイン１４４２、ＳＫダイン１４３５、ＳＫダイン１４１５（以上、綜研化学（株）製）、ＮＣＦ－Ｎ６３２、ＮＣＦ－Ｄ６９２、ＮＣＦ－Ｆ６１９、ＭＯ－Ｔ０１５、ＭＯ－５１１５ＸＶ（以上、リンテック（株）製）、ＴＤ０６、ＭＫ６４、ＴＩ１４、ＭＥ５７、ＴＸ４８、ＭＪ６３，ＭＧ７０、ＭＦ５８（以上、巴川製紙所（株）製）、パナクリーンＰＤ－Ｓ１、パナクリーンＰＤ－Ｒ５（以上、パナック（株）製）、ＭＨＭ－ＦＷＤ、ＭＨＭ－ＦＷＶ、ＭＨＭ－ＵＶＣ、ＭＨＭ－ＳＩ（日榮新化（株）製）、オリバインＥＧ－６５５、および、オリバインＢＰＳ５８９６（以上、東洋インキ（株）製）等（以上、商品名）が挙げられる。
　粘着層の厚みは、１００μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、１～３０μｍが更に好ましく、５～２０μｍが特に好ましい。粘着層の上記範囲内であると、耐傷性がより優れ、ウインドシールドと反射フィルムとの密着性が向上し、曲面追従性がより優れる。
　耐傷性の観点から、粘着層の２５℃、周波数１Ｈｚにおける貯蔵弾性率Ｅ’は１ｋＰａより大きいことが好ましく、ウインドシールドへの貼合性の観点から、４ＧＰａ以下であることが好ましい。上記貯蔵弾性率Ｅ’は、１ＫＰａより大きく１ＧＰａ以下であることがより好ましく、１ＫＰａより大きく１００ＭＰａ以下であることが更に好ましい。
　粘着層の周波数１Ｈｚにおける損失正接（ｔａｎδ）の極大値は、－８０～４０℃の温度領域にあることが好ましく、－６０～４０℃にあることがより好ましい。ｔａｎδを上記範囲にすることで、ウインドシールドへの貼合性と耐久性とを両立することができる。
　本発明では、粘着層の２５℃、周波数１Ｈｚにおける貯蔵弾性率と周波数１Ｈｚにおけるｔａｎδは下記のように求める。
（試料作製方法）
　粘着層を溶剤に溶解させて、または、粘着層を溶融させて得られた塗布液を、剥離処理が施された剥離ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）シートの剥離処理面に、乾燥後の厚みが４０μｍになるよう塗布、乾燥させた後、剥離ＰＥＴシートから粘着層を剥離し粘着層の試験片を作製する。
（測定方法）
　動的粘弾性測定装置（（株）アイティー・エス・ジャパン製ＤＶＡ－２２５）を用いて、あらかじめ温度２５℃、相対湿度６０％雰囲気下で２時間以上調湿した上記試験片について、「ステップ昇温・周波数分散」モードにおいて下記条件において測定を行った後、「マスターカーブ」編集にて２５℃における周波数に対するｔａｎδ、貯蔵弾性率および損失弾性率のマスターカーブを得る。得られたマスターカーブからｔａｎδの極大値および極大値を示す周波数を求める。
　試料：５ｍｍ×２０ｍｍ
　つかみ間距離：２０ｍｍ
　設定歪み：０．１０％
　測定温度：－１００～４０℃
　昇温条件：２℃／ｍｉｎ
（粘着層の形成方法）
　粘着層の形成方法には特に制限されず、例えば、コーティング法、キャスト法（無溶剤キャスト法および溶剤キャスト法）、プレス法、押出法、射出成形法、注型法、および、インフレーション法が挙げられる。詳細には、上記粘着層の構成材料を溶媒に溶解若しくは分散させた液状物、または、上記粘着層の構成材料を構成する成分の溶融液を調製し、次いで、この液状物または溶融液を塗布し、その後、必要により溶媒の除去等をすることにより、粘着層を含む反射フィルムを作製できる。
　また、剥離処理が施された剥離シートの剥離処理面に粘着層の構成材料を上記と同様に塗布し、乾燥して、粘着層を有するシートを形成し、このシートの粘着層を反射層と貼り合せることで、反射層上に粘着層を作製できる。
　なお、反射層が透明基材上に配置されている場合、透明基材の反射層側とは反対側に上記シートの粘着層を貼り合わせることで、反射フィルムを形成できる。
＜ヒートシール層＞
　ヒートシール層は、反射フィルムとガラス基板とを物理的に接合するための層である。
　ヒートシール層は、熱可塑性樹脂またはエラストマーを含む。
　熱可塑性樹脂としては、ガラス基板との親和性および接着性がよいものが好ましく、１，２－ポリブタジエン樹脂、エチレン－酢酸ビニル共重合体（「ＥＶＡ」と略す。通常３質量％以上の酢酸ビニル構成単位を含有する。）およびポリエチレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ビニルエステル樹脂（ＥＶＡを除く）、飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、フッ素樹脂（ポリフッ化ビニリデン等）、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、（メタ）アクリレート樹脂（（メタ）アクリル樹脂とも称し、（メタ）アクリル酸エステル樹脂等を意味する。）、不飽和ポリエステル樹脂およびケイ素樹脂、ならびに、これらの樹脂の変性樹脂等が挙げられる。ウレタン樹脂としては、ウレタン変性ポリエステル樹脂およびウレタン樹脂が挙げられる
　熱可塑性樹脂としては、ポリビニルブチラールまたはエチレン－酢酸ビニル共重合体が好ましい。
　ポリビニルブチラールは、ポリビニルアルコールをブチルアルデヒドによりアセタール化して得ることができる。
　ポリビニルブチラールのアセタール化度は特に制限されないが、４０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、８５％以下が好ましく、７５％以下がより好ましい。
　ポリビニルブチラールの合成に用いられるポリビニルアルコールは、通常、ポリ酢酸ビニルを鹸化することにより得られ、鹸化度８０～９９．８モル％のポリビニルアルコールが一般的に用いられる。
　また、上記ポリビニルアルコールの重合度は、２００～３０００が好ましい。
　エラストマーとしては、共役ジエンのブロック（共）重合体、アクリル系ブロック（共）重合体、スチレン系ブロック（共）重合体、芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体、共役ジエンのブロック（共）重合体の水素添加物、芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体の水素添加物、エチレン－α－オレフィン系共重合体、極性基変性オレフィン系共重合体、極性基変性オレフィン系共重合体と金属イオン及び／または金属化合物とよりなるエラストマー、アクロルニトリル－ブタジエン系ゴム等のニトリル系ゴム、ブチルゴム、アクリル系ゴム、熱可塑性ポリオレフィンエラストマー（ＴＰＯ）、熱可塑性ポリウレタンエラストマー（ＴＰＵ）、熱可塑性ポリエステルエラストマー（ＴＰＥＥ）、熱可塑性ポリアミドエラストマー（ＴＰＡＥ）、ジエン系エラストマー（１，２－ポリブタジエン等）等の熱可塑性エラストマー、シリコーン系エラストマー、および、フッ素系エラストマーが挙げられる。
　熱可塑性樹脂またはエラストマーは公知の方法で合成してもよいし、市販品を用いてもよい。市販されているエラストマーとしては、例えば、クラリティＬＡ１１１４、クラリティＬＡ２１４０、クラリティＬＡ２２５０、クラリティＬＡ２３３０、クラリティＬＡ４２８５、ハイブラー５１２７、ハイブラー７３１１Ｆ、セプトン２１０４、セプトン２０６３（（株）クラレ製、商品名）が挙げられる。エラストマーとしてはアクリル系ブロック（共）重合体またはスチレン系ブロック（共）重合体が好ましい。
　熱可塑性樹脂およびエラストマーの重量平均分子量は、溶剤への溶解性と貯蔵弾性率のバランスの観点から、１０，０００～１，０００，０００が好ましく、５０，０００～５００，０００がより好ましい。
　ヒートシール層は、反射層または偏光変換層と化学的に結合するための重合性化合物を含む組成物（ヒートシール層形成用組成物）を用いて形成されることが好ましい。重合性化合物としては、反射層または偏光変換層の形成に用いられる重合性液晶化合物と化学的に結合できるものが好ましく、例えば重合性液晶化合物がエチレン性不飽和重合性基を有する場合は、重合性化合物もエチレン性不飽和重合性基を有することが好ましい。
　エチレン性不飽和重合性基含有化合物としては、例えば以下のものを例示できる。ただし本発明は、下記例示化合物に限定されるものではない。
　例えば、ポリエチレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール３００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール６００ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば長瀬産業製デナコールＤＡ－８１１等）、ポリプロピレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール７００ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（ＥＯ；Ｅｔｈｙｌｅｎｅ　Ｏｘｉｄｅ）・プロピレンオキシド（ＰＯ；Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ　Ｏｘｉｄｅ）ブロックポリエーテルジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば日本油脂製ブレンマーＰＥＴシリーズ等）、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製Ｍ－２１０、新中村化学工業製ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－２０等）、水添ビスフェノールＡ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（新中村化学工業製ＮＫエステルＡ－ＨＰＥ－４等）、ビスフェノールＡ　ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば共栄社化学製ライトアクリレートＢＰ－４ＰＡ等）、ビスフェノールＡ　エピクロルヒドリン付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えばダイセルＵＣＢ製エベクリル１５０等）、ビスフェノールＡ　ＥＯ・ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東邦化学工業製ＢＰ－０２３－ＰＥ等）、ビスフェノールＦ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製アロニックスＭ－２０８等）、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、およびそのエピクロルヒドリン変性品、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、およびそのカプロラクトン変性品、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、トリメチロールプロパンアクリル酸・安息香酸エステル、および、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製アロニックスＭ－２１５等）等の２官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
　また、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば日本化薬製ＴＰＭＴＡ）、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製アロニックスＭ－３１５等）、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素－（２，２，２－トリ－（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品等の３官能（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば新中村化学製ＴＰＭＴＡ）、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の４官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の５官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の６官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
　エチレン性不飽和重合性基含有化合物は２種以上併用してもよい。この場合、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”（日本化薬製）等を好ましく用いることができる。
　また、エチレン性不飽和重合性基含有化合物として、重量平均分子量が２００以上１０００未満のポリエステル（メタ）アクリレート、および、エポキシ（メタ）アクリレートも好ましい。市販品では、ポリエステル（メタ）アクリレートとして、荒川化学工業製の商品名ビームセット７００シリーズ、例えばビームセット７００（６官能）、ビームセット７１０（４官能）、ビームセット７２０（３官能）等が挙げられる。また、エポキシ（メタ）アクリレートとしては、昭和高分子製の商品名ＳＰシリーズ、例えばＳＰ－１５０６、５００、ＳＰ－１５０７、４８０、ＶＲシリーズ、例えばＶＲ－７７、新中村化学工業製商品名ＥＡ－１０１０／ＥＣＡ、ＥＡ－１１０２０、ＥＡ－１０２５、ＥＡ－６３１０／ＥＣＡ等が挙げられる。
　重合性化合物（特に、エチレン性不飽和重合性基含有化合物）のＩ／Ｏ比（無機性値（Ｉ値）と有機性値（Ｏ値）との比）はガラス基板との密着性の点で、０．４０以上であることが好ましく、０．６０以上がより好ましく、１．２以上が更に好ましい。Ｉ／Ｏ比の上限は特に制限されないが、熱可塑性樹脂との相溶性の観点から３．０より小さいことが好ましい。
　Ｉ／Ｏ比は、有機概念図における計算方法より算出される。有機概念図は藤田らにより提案されたものであり、有機化合物の化学構造から種々の物理化学的性状を予測する有効な手法である（甲田善生著、有機概念図－基礎と応用－、三共出版（１９８４）参照）。有機化合物の極性は炭素原子数や置換基により左右されることから、メチレン基の有機性値を２０とし、水酸基の無機性値を１００とした場合を基準として、他の置換基の無機性値および有機性値を定め、有機化合物の無機性値および有機性値を算出するものである。無機性値の大きい有機化合物は極性が高く、有機性値の大きい有機化合物は極性が低い。
　上記Ｉ値、Ｏ値、及び、Ｉ／Ｏ比の具体的算出手法については、「新版　有機概念図　基礎と応用」の共著である本間らがＥｘｃｅｌ用有機概念図計算シートとして公開（http://www.ecosci.jp/sheet/orgs_help.html）しており、これを利用して算出できる。
　ヒートシール層の形成に用いられる組成物が重合性化合物を含む場合、重合性化合物の含有量は、組成物中の固形分に対して、５～８０質量％であることが好ましく、１０～６０質量％であることがより好ましく、１５質～５０質量％であることがさらに好ましい。ヒートシール層の形成に用いられる組成物に含まれる重合性化合物を上記範囲にすることで、ガラス基板に対する密着と反射層または偏光変換層に対する密着とを両立することができる。
　組成物中の固形分とは、組成物中の溶媒を除いた他の成分を意味する。他の成分の性状が液状であっても、固形分として計算する。
　ヒートシール層の形成に用いられる組成物（ヒートシール層形成用組成物）は、重合開始剤を含むことが、ガラスとの密着の観点で好ましい。
　重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤が挙げられる。
　光重合開始剤としては、光照射により活性種としてラジカルを発生することができるものであればよく、公知の光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。具体例としては、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－［４－（１－メチルビニル）フェニル］プロパノンオリゴマー、および、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン等のアセトフェノン類；１，２－オクタンジオン、１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、および、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、および、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、オルト－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチル－ジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－［２－（１－オキソ－２－プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、および、（４－ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類；２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン、および、２－（３－ジメチルアミノ－２－ヒドロキシ）－３，４－ジメチル－９Ｈ－チオキサントン－９－オンメソクロリド等のチオキサントン類；２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルフォスフィンオキサイド、および、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類；等が挙げられる。また、重合開始剤の助剤として、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４’－ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、４，４’－ジエチルアミノベンゾフェノン、２－ジメチルアミノエチル安息香酸、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸（ｎ－ブトキシ）エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、２，４－ジエチルチオキサントン、および、２，４－ジイソプロピルチオキサントン等を併用してもよい。
　以上の重合開始剤および助剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品として入手も可能である。市販のラジカル光重合開始剤としては、ＢＡＳＦ製のイルガキュア（１２７，６５１，１８４，８１９，９０７，１８７０（ＣＧＩ－４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤、５００，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３等）、ＯＸＥ０１）等、日本化薬製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ－Ｓ，ＢＰ－１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２－ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡ等）、サートマー製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）等が挙げられる。
　上記ヒートシール層の形成に用いられる組成物に含まれる重合開始剤の含有量は、重合性化合物の重合反応を良好に進行させる範囲で適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。ヒートシール層の形成に用いられる組成物に重合開始剤が含まれる場合、重合開始剤の含有量は、上記組成物に含まれる重合性化合物１００質量部に対して、０．１～２０質量部が好ましく、０．５～１０質量部がより好ましく、１～１０質量部が更に好ましい。
　ヒートシール層は、無機粒子含んでいてもよい。ヒートシール層が無機粒子を含むことで、ヒートシール層表面に凹凸が形成され、ヒートシール層とＨＣ層が直接接するような状態でロール状にする際に、ヒートシール層とＨＣ層との摩擦を低減できるため、シワなく巻くことができ好ましい。
　ヒートシール層に含まれる無機粒子としては、無機酸化物粒子が好ましく、シリカ（二酸化ケイ素）粒子、酸化アルミニウム粒子、二酸化チタン粒子、または、酸化ジルコニウム粒子がより好ましく、シリカ粒子がさらに好ましい。
　無機粒子は、一次粒子からなり、その一次粒子の凝集からなる二次粒子を形成していることが好ましい。
　無機粒子の平均一次粒子径は特に制限されないが、５～５０ｎｍが好ましく、５～１５ｎｍがより好ましい。
　無機粒子の平均二次粒子径は特に制限されないが、１００～５００ｎｍが好ましい。
　ヒートシール層中の無機粒子の含有量は特に制限されないが、ヒートシール層全質量に対して、１質量％以上が好ましく、９質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
　無機粒子の平均一次粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡観察により行う。具体的には、任意に選択した５０個の一次粒子について、一次粒子に外接する円の直径を求め、その算術平均を、平均一次粒子径とする。透過型電子顕微鏡の観察倍率は、５０万倍～５００万倍の間の一次粒子径が判別できる任意の倍率とする。
　上記平均二次粒子径は、レーザー回折散乱式粒子径分布測定装置を用いて真球形フィッティング（屈折率１．４６）を行い測定される値である。測定装置としては、例えばマイクロトラック・ベル社製ＭｉｃｒｏＴｒａｃ  ＭＴ３０００を用いることができる。
　ヒートシール層は、レベリング剤を含んでいてもよい。ヒートシール層がレベリング剤を含むことにより、ヒートシール層の表面の平滑化が進行し、ガラス基板と一体化させた際の視認性を向上させることができる。
　レベリング剤としては、公知のレベリング剤を用いることができ、例えば、界面活性剤が挙げられ、なかでも、フッ素系界面活性剤、または、シリコーン系界面活性剤が好ましい。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましく、７～２５質量％がさらに好ましい。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的である。
　ヒートシール層中のレベリング剤の含有量は特に制限されないが、ヒートシール層全質量に対して、０．００５～０．５質量％が好ましく、０．０１～０．１質量％がより好ましい。
　ヒートシール層の反射層または偏光変換層とは反対側の表面の水接触角は特に制限されないが、ガラス基板との密着性がより優れる点で、１００°以下が好ましく、９０°以下がより好ましく、７０°以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、１０°以上の場合が多く、３０°以上の場合がより多い。
　上記水接触角の測定方法は、以下の通りである。
　まず、反射フィルムのヒートシール層表面の異なる３箇所について、接触角計ＣＡ－Ｘ（協和界面科学社製）を用い、２０℃、６５％ＲＨの環境下において、純水を使用して直径１．０ｍｍの液滴を針先に作り、これを上記のヒートシール層の表面に接触させて液滴を作る。ヒートシール層表面と純水が接してから２５秒後の、ヒートシール層表面と純水が接する点における、純水表面に対する接線とヒートシール層表面がなす角で、純水を含む側の角度を測定し、それらの平均値をヒートシール層の水接触角とする。
　ヒートシール層は、ヒートシール層形成用組成物を塗布して形成することが好ましい。
　ヒートシール層形成用組成物は、上述した成分を含み、ヒートシール層を形成するために用いられる組成物である。
　ヒートシール層形成用組成物は、塗布性の点から、溶媒を含むことが好ましい。
　溶媒の種類は特に制限されず、水および有機溶媒が挙げられ、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、および、エーテル類が挙げられる。
　ヒートシール層形成用組成物の塗布方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法、および、スライドコーティング法が挙げられる。
　塗布して得られる塗膜に対しては、必要に応じて乾燥処理を施してもよい。
　乾燥処理としては、加熱処理が挙げられる。加熱処理における加熱温度は特に制限されないが、５０～１５０℃が好ましく、６０～１４０℃がより好ましい。加熱時間は特に制限されないが、０．５～２０分間が好ましく、０．５～１０分間がより好ましい。
　形成されたヒートシール層の表面（反射層あるいは偏光変換層とは反対側の表面）に対して、必要に応じて表面処理を施してもよい。
　例えば、ヒートシール層の表面の水接触角を下げるために、ヒートシール層の表面に対して親水化処理を実施してもよい。親水化処理としては、プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、および、電子線照射処理が挙げられ、コロナ処理が好ましい。
　親水化処理の条件は実施される処理の種類に応じて適宜選択され、上述したヒートシール層の表面の水接触角の範囲となるように調整されることが好ましい。
　ヒートシール層の平均厚みは、ガラス基板、反射層または偏光変換層との密着の観点から、０．２μｍ以上が好ましく、０．４μｍ以上がより好ましく、０．８μｍ以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、薄膜化の点から、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましい。
　上記平均厚みの測定方法としては、ヒートシール層をミクロトームで切削して断面を切り出し、断面をＳＥＭ（Scanning Electron Microscope、走査型電子顕微鏡）を用いて観察し、ヒートシール層の異なる３箇所の位置における厚みを測定して、その測定値の平均値（算術平均値）を算出し、平均厚みとする。
　なお、ヒートシール層は、単層構造であってもよいし、２層以上の複層構造であってもよい。
　ヒートシール層が複層構造である場合、ヒートシール層の合計厚みの平均値が、上記範囲であればよい。
　ヒートシール層の含水率（２５℃、６０％ＲＨにおける含水率）は、湿熱耐久性の観点から、２．０％以下が好ましく、１．０％以下がより好ましく、０．５％以下がさらに好ましい。下限は特に制限されず、０％が挙げられる。
　ヒートシール層の含水率は、ヒートシール層を掻き取って集めた試料を２５℃６０％ＲＨの環境下で２４時間以上調湿した後に、水分測定器、試料乾燥装置“ＣＡ－０３”及び“ＶＡ－０５”（共に三菱化学（株）製）にてカールフィッシャー法で測定し、水分量（ｇ）を試料質量（ｇ、水分量を含む）で除して算出した。
＜波長選択的に光を反射する反射層＞
　本発明の反射フィルムは、波長選択的に光を反射する反射層を有する。
　本発明の反射層は、赤色の波長領域に選択反射中心波長を有するコレステリック液晶層と、緑色の波長領域に選択反射中心波長を有するコレステリック液晶層と、青色の波長領域に選択反射中心波長を有するコレステリック液晶層と、を有することが好ましい。３層のコレステリック液晶層は選択反射中心波長が互いに異なっている。各コレステリック液晶層は、他のいずれかのコレステリック液晶層と直接接触してもよい。
　周知のとおり、コレステリック液晶層は、液晶化合物がコレステリック液晶相の螺旋構造の配向状態で固定化された層であり、螺旋構造のピッチに応じた選択反射中心波長の光を反射し、他の波長域の光を透過する。また、コレステリック液晶層は、特定の波長において左右いずれかの円偏光に対して選択反射性を示す。
　ここで、反射層は、以下の要件（ｉ）から（iii）を満たすことが視認性の観点から好ましい。
（ｉ）波長４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満の範囲において、自然光反射率の最大値は７％超（好ましくは、２０％超）であり、自然光反射率の最大の極大値と最小の極小値との差が３％以上であり、自然光反射率の最大値と最小値との平均値よりも高い領域の波長帯幅の合計値が２０～８０ｎｍである。
（ii）波長５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満の範囲において、自然光反射率の最大値が７％超（好ましくは、２０％超）であり、自然光反射率の最大の極大値と最小の極小値との差が３％以上であり、自然光反射率の最大値と最小値との平均値よりも高い領域の波長帯幅の合計値が２０～８０ｎｍである。
（iii）波長６００～８００ｎｍの範囲において、自然光反射率の最大値が７％超（好ましくは、２０％以上）であり、自然光反射率の最大値と最小値との平均値よりも高い領域の波長帯幅の合計値が１２０ｎｍ以上である。
　コレステリック液晶層を有する反射層において、反射する波長、および、反射率は、コレステリック液晶層の選択反射中心波長、および、厚み（螺旋ピッチ数）等によって調整できる。主に、青色の波長領域の光を反射するコレステリック液晶層によって、要件（ｉ）を満たす反射を実現し、緑色の波長領域の光を反射するコレステリック液晶層によって、要件（ii）を満たす反射を実現し、赤色の波長領域の光を反射するコレステリック液晶層によって、要件（iii）を満たす反射を実現できる。
　反射色味を向上しつつ、透過率を高くすることができる観点から、４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満における、自然光反射率の最大値は、７％超が好ましく、２０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、例えば、３５％以下の場合が多い。
　同様に、反射色味を向上しつつ、透過率を高くすることができる観点から、５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満における、自然光反射率の最大値は、７％超が好ましく、２０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、例えば、３５％以下の場合が多い。
　反射色味を向上しつつ、表示画像の輝度を高くすることができる観点から、６００～８００ｎｍにおける、自然光反射率の最大値は、７％超が好ましく、２０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、例えば、３５％以下の場合が多い。
　反射色味を向上しつつ、透過率を高くすることができる観点から、４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満における、自然光反射率の最大の極大値と最小の極小値との差は、４～２０％が好ましく、４～１２％がより好ましい。
　同様に、反射色味を向上しつつ、透過率を高くすることができる観点から、５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満における、自然光反射率の最大の極大値と最小の極小値との差は、４～２０％が好ましく、４～１２％がより好ましい。
　反射色味を向上しつつ、透過率を高くすることができる観点から、４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満の反射率の最大値と最小値の平均値よりも反射率が高い領域の波長帯幅は、３０～７８ｎｍが好ましく、３５～７５ｎｍがより好ましい。
　同様に、反射色味を向上しつつ、透過率を高くすることができる観点から、５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満の反射率の最大値と最小値の平均値よりも反射率が高い領域の波長帯幅は、３０～７８ｎｍが好ましく、３５～７５ｎｍがより好ましい。
　４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満における上記波長帯幅、および、５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満における上記波長帯幅は、幅が狭いほど透過率に有利であるが、６００～８００ｎｍにおける波長帯幅が広いため、４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満における波長帯幅、および／または、５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満における波長帯幅が狭すぎると、反射色味が悪化するおそれがある。この点から、４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満における波長帯幅、および、５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満における波長帯幅は、上記範囲とすることが好ましい。
　また、透過率に対しては、５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満における波長帯幅の影響がより大きい。
　反射色味を向上しつつ、表示画像の正面輝度を向上する観点から、６００～８００ｎｍの反射率の最大値と最小値の平均値よりも反射率が高い領域の波長帯幅は、１２０～２００ｎｍが好ましい。
　反射層は、２つ以上の、選択反射中心波長の異なるコレステリック液晶層を有することが好ましい。また、各コレステリック液晶層は、他のいずれかのコレステリック液晶層と直接接触していることが好ましい。
　コレステリック液晶層同士が離間していると、層間の膜厚が厚くなり各コレステリック液晶層によって反射される光の干渉の効果が得られにくくなる。これに対して、コレステリック液晶層同士が接している構成とすることで、各コレステリック液晶層によって反射される光の干渉の効果によって、波長帯幅を狭くすることができるため好ましい。特に各コレステリック液晶層の膜厚が光の波長（可視光３８０～７８０ｎｍ）よりも薄いと、干渉の効果がより顕著になり好ましい。
　なお、本発明において、反射層が２層以上のコレステリック液晶層を有する場合に、各コレステリック液晶層は直接接する構成に制限されず、接着層等を介して積層される構成であってもよい。
　ここで、各コレステリック液晶層は、少なくとも１つの選択反射中心波長を有するものであればよいが、コレステリック液晶層の少なくとも１層が２以上の選択反射中心波長を有するものであってもよい。２以上の選択反射中心波長を有するコレステリック液晶層は、螺旋ピッチが厚み方向に変化する螺旋構造により達成される。
　反射層の合計厚みは、０．４～２．０μｍが好ましく、０．６～１．８μｍがより好ましく、０．８～１．４μｍが更に好ましい。
　反射層の合計厚みが上記範囲であると、反射層による自然光反射率が高くなり、表示画像の輝度を高くでき、透過率が高くなる。
（コレステリック液晶層の作製方法）
　以下、コレステリック液晶層の作製材料および作製方法について説明する。
　上述のコレステリック液晶層の形成に用いる材料としては、重合性液晶化合物とキラル剤（光学活性化合物）とを含む液晶組成物が挙げられる。液晶組成物は、必要に応じて、更に、界面活性剤、重合開始剤、および、溶媒等を含んでいてもよい。
　上記液晶組成物を、支持体、配向層、および、下層となるコレステリック液晶層等に塗布し、コレステリック配向熟成後、液晶組成物の硬化により固定化してコレステリック液晶層を形成することができる。
（重合性液晶化合物）
　重合性液晶化合物は、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよいが、棒状液晶化合物であることが好ましい。
　コレステリック液晶層を形成する棒状の重合性液晶化合物の例としては、棒状ネマチック液晶化合物が挙げられる。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、および、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。
　重合性液晶化合物は、重合性基を液晶化合物に導入することで得られる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、および、アジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基がより好ましい。重合性基は種々の方法で、液晶化合物の分子中に導入できる。重合性液晶化合物が有する重合性基の個数は、一分子中に１～６個が好ましく、１～３個がより好ましい。
　重合性液晶化合物の例は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許第５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７号明細書、ＷＯ９５／０２２５８６、ＷＯ９５／０２４４５５、ＷＯ９７／００６００、ＷＯ９８／０２３５８０、ＷＯ９８／０５２９０５、特開平１－２７２５５１号公報、特開平６－０１６６１６号公報、特開平７－１１０４６９号公報、特開平１１－０８００８１号公報、および、特開２００１－３２８９７３号公報等に記載の化合物が含まれる。２種類以上の重合性液晶化合物を併用してもよい。２種類以上の重合性液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。
　また、重合性液晶化合物の具体例としては、下記混合物１が挙げられる。
　また、液晶組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、液晶組成物の固形分質量（溶媒を除いた質量）に対して、８０～９９．９質量％が好ましく、８５～９９．５質量％がより好ましく、９０～９９質量％が更に好ましい。
　可視光透過率を向上させるためには、コレステリック液晶層は低Δｎであってもよい。低Δｎのコレステリック液晶層は、低Δｎ重合性液晶化合物を用いて形成することができる。以下、低Δｎ重合性液晶化合物について具体的に説明する。
（低Δｎ重合性液晶化合物）
　低Δｎ重合性液晶化合物を利用してコレステリック液晶相を形成し、これを固定したフィルムとすることにより、狭帯域な反射層を得ることができる。低Δｎ重合性液晶化合物の例としては、ＷＯ２０１５／１１５３９０、ＷＯ２０１５／１４７２４３、ＷＯ２０１６／０３５８７３、特開２０１５－１６３５９６号公報、および、特開２０１６－０５３１４９号公報に記載の化合物が挙げられる。半値幅の小さい反射層を与える液晶組成物については、ＷＯ２０１６／０４７６４８の記載も参照できる。
　液晶化合物は、ＷＯ２０１６／０４７６４８に記載の以下の式（Ｉ）で表される重合性化合物であることも好ましい。
　式（Ｉ）中、Ａは、置換基を有していてもよいフェニレン基または置換基を有していてもよいトランス－１，４－シクロヘキシレン基を示し、Ｌは単結合、－ＣＨ2Ｏ－、－ＯＣＨ2－、－（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、および、－ＯＣ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－からなる群から選択される連結基を示し、ｍは３～１２の整数を示し、Ｓｐ1およびＳｐ2は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、および、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つまたは２つ以上の－ＣＨ2－が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ3）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、水素原子または以下の式Ｑ－１～式Ｑ－５で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、ただしＱ1およびＱ2のいずれか一方は重合性基を示す。
　式（Ｉ）中の、フェニレン基は１，４－フェニレン基であることが好ましい。
　フェニレン基およびトランス－１，４－シクロヘキシレン基について「置換基を有していてもよい」というときの置換基は、特に制限されず、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルエーテル基、アミド基、アミノ基、および、ハロゲン原子ならびに、上述の置換基を２つ以上組み合わせて構成される基からなる群から選択される置換基が挙げられる。また、置換基の例としては、後述の－Ｃ（＝Ｏ）－Ｘ3－Ｓｐ3－Ｑ3で表される置換基が挙げられる。フェニレン基およびトランス－１，４－シクロヘキシレン基は、置換基を１～４個有していてもよい。２個以上の置換基を有するとき、２個以上の置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　アルキル基は直鎖状および分岐鎖状のいずれでもよい。アルキル基の炭素数は１～３０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６が更に好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジメチルプロピル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、直鎖状または分岐鎖状のヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、および、ドデシル基が挙げられる。アルキル基に関する上述の説明はアルキル基を含むアルコキシ基においても同様である。また、アルキレン基というときのアルキレン基の具体例としては、上述のアルキル基の例それぞれにおいて、任意の水素原子を１つ除いて得られる２価の基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられる。
　シクロアルキル基の炭素数は、３～２０が好ましく、５以上がより好ましく、また、１０以下が好ましく、８以下がより好ましく、６以下が更に好ましい。シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、および、シクロオクチル基が挙げられる。
　フェニレン基およびトランス－１，４－シクロヘキシレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、および、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｘ3－Ｓｐ3－Ｑ3からなる群から選択される置換基が好ましい。ここで、Ｘ3は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、もしくは－Ｎ（Ｓｐ4－Ｑ4）－を示すか、または、Ｑ3およびＳｐ3と共に環構造を形成している窒素原子を示す。Ｓｐ3およびＳｐ4は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、または、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つもしくは２つ以上の－ＣＨ2－が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ3）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、もしくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。
　Ｑ3およびＱ4は、それぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の－ＣＨ2－が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ3）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、もしくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基、または、式Ｑ－１～式Ｑ－５で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示す。
　シクロアルキル基において１つまたは２つ以上の－ＣＨ2－が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ3）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基として、具体的には、テトラヒドロフラニル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピラゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、および、モルホルニル基等が挙げられる。置換位置は特に限定されない。これらのうち、テトラヒドロフラニル基が好ましく、２－テトラヒドロフラニル基がより好ましい。
　式（Ｉ）において、Ｌは、単結合、－ＣＨ2Ｏ－、－ＯＣＨ2－、－（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、および、－ＯＣ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－からなる群から選択される連結基を示す。Ｌは、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－または－ＯＣ（＝Ｏ）－であることが好ましい。ｍ－１個のＬは互いに同一でも異なっていてもよい。
　Ｓｐ1およびＳｐ2は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１から２０の直鎖または分岐のアルキレン基、および、炭素数１から２０の直鎖または分岐のアルキレン基において１つまたは２つ以上の－ＣＨ2－が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ3）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。
　Ｓｐ1およびＳｐ2は、それぞれ独立に、両末端にそれぞれ－Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、および－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－からなる群から選択される連結基が結合した炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－、および、炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基からなる群から選択される基を１または２以上組み合わせて構成される連結基であることが好ましく、両方の末端に－Ｏ－がそれぞれ結合した炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基であることが好ましい。
　Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、水素原子、または、上述の式Ｑ－１～式Ｑ－５で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、ただしＱ1およびＱ2のいずれか一方は重合性基を示す。
　重合性基としては、アクリロイル基（式Ｑ－１）またはメタクリロイル基（式Ｑ－２）が好ましい。
　式（Ｉ）中、ｍは、３～１２の整数を示す。ｍは、３～９の整数が好ましく、３～７の整数がより好ましく、３～５の整数が更に好ましい。
　式（Ｉ）で表される重合性化合物は、Ａとして置換基を有していてもよいフェニレン基を少なくとも１つおよび置換基を有していてもよいトランス－１，４－シクロヘキシレン基を少なくとも１つ含むことが好ましい。式（Ｉ）で表される重合性化合物は、Ａとして、置換基を有していてもよいトランス－１，４－シクロヘキシレン基を１～４個含むことが好ましく、１～３個含むことがより好ましく、２または３個含むことが更に好ましい。また、式（Ｉ）で表される重合性化合物は、Ａとして、置換基を有していてもよいフェニレン基を１個以上含むことが好ましく、１～４個含むことがより好ましく、１～３個含むことが更に好ましく、２個または３個含むことが特に好ましい。
　式（Ｉ）において、Ａで表されるトランス－１，４－シクロヘキシレン基の数をｍで割った数をｍｃとしたとき、０．１＜ｍｃ＜０．９が好ましく、０．３＜ｍｃ＜０．８がより好ましく、０．５＜ｍｃ＜０．７が更に好ましい。液晶組成物が０．５＜ｍｃ＜０．７である式（Ｉ）で表される重合性化合物と共に、０．１＜ｍｃ＜０．３である式（Ｉ）で表される重合性化合物を含むことも好ましい。
　式（Ｉ）で表される重合性化合物の例として具体的には、ＷＯ２０１６／０４７６４８の段落００５１～００５８に記載の化合物のほか、特開２０１３－１１２６３１号公報、特開２０１０－０７０５４３号公報、特許４７２５５１６号、ＷＯ２０１５／１１５３９０、ＷＯ２０１５／１４７２４３、ＷＯ２０１６／０３５８７３、特開２０１５－１６３５９６号公報、および、特開２０１６－０５３１４９号公報に記載の化合物等を挙げることができる。
（キラル剤：光学活性化合物）
　キラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル化合物は、化合物によって誘起する螺旋のセンスまたは螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
　キラル剤としては、特に制限はなく、公知の化合物を用いることができる。キラル剤の例としては、液晶デバイスハンドブック（第３章４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９）、特開２００３－２８７６２３号、特開２００２－３０２４８７号、特開２００２－０８０４７８号、特開２００２－０８０８５１号、特開２０１０－１８１８５２号、および、特開２０１４－０３４５８１号等の各公報に記載の化合物が挙げられる。
　キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物も、キラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン、および、これらの誘導体が含まれる。
　キラル剤は、重合性基を有していてもよい。キラル剤と液晶化合物とがいずれも重合性基を有する場合は、重合性キラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性キラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることが更に好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
　また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。
　キラル剤としては、イソソルビド誘導体、イソマンニド誘導体、または、ビナフチル誘導体等を好ましい。イソソルビド誘導体としては、ＢＡＳＦ社製のＬＣ７５６等の市販品を用いてもよい。
　液晶組成物における、キラル剤の含有量は、重合性液晶化合物量全モル量に対して、０．０１～２００モル％が好ましく、１～３０モル％がより好ましい。なお、液晶組成物中におけるキラル剤の含有量は、組成物中の全固形分に対するキラル剤の濃度（質量％）を意図する。
　また、前述のとおり、本発明の反射フィルムが有する反射層のコレステリック液晶層は、２以上の選択反射中心波長を有するものであってもよい。２以上の選択反射中心波長を有するコレステリック液晶層は、螺旋構造のピッチを厚み方向に変化させることで達成される。螺旋構造のピッチが厚み方向に変化するコレステリック液晶層は、光の照射によって、螺旋誘起力（ＨＴＰ：Helical Twisting Power）が変化するキラル剤を用いて、コレステリック液晶層を形成する際に、厚さ方向に光の照射量を変えることによって作製できる。
　光の照射によってＨＴＰが変化するキラル剤は、光の照射によって、戻り異性化、二量化、ならびに、異性化および二量化等を生じるものが挙げられる。
　キラル剤が光異性化基を有する場合の、光異性化基としては、フォトクロッミック性を示す化合物の異性化部位、アゾ基、アゾキシ基、または、シンナモイル基が好ましい。具体的な化合物として、特開２００２－０８０４７８号公報、特開２００２－０８０８５１号公報、特開２００２－１７９６６８号公報、特開２００２－１７９６６９号公報、特開２００２－１７９６７０号公報、特開２００２－１７９６８１号公報、特開２００２－１７９６８２号公報、特開２００２－３３８５７５号公報、特開２００２－３３８６６８号公報、特開２００３－３１３１８９号公報、および、特開２００３－３１３２９２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
（重合開始剤）
　液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、米国特許第２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、米国特許第２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－０４０７９９号公報、特公平５－０２９２３４号公報、特開平１０－０９５７８８号公報、特開平１０－０２９９９７号公報、特開２００１－２３３８４２号公報、特開２０００－０８００６８号公報、特開２００６－３４２１６６号公報、特開２０１３－１１４２４９号公報、特開２０１４－１３７４６６号公報、特許４２２３０７１号公報、特開２０１０－２６２０２８号公報、特表２０１４－５００８５２号公報記載）、オキシム化合物（特開２０００－０６６３８５号公報、特許第４４５４０６７号公報記載）、および、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。例えば、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落０５００～０５４７の記載も参酌できる。
　液晶組成物が含有する重合開始剤としては、アシルフォスフィンオキシド化合物またはオキシム化合物を用いることも好ましい。
　アシルフォスフィンオキシド化合物としては、例えば、市販品のＢＡＳＦジャパン（株）製のＩＲＧＡＣＵＲＥ８１０（化合物名：ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド）が挙げられる。オキシム化合物としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（ＡＤＥＫＡ社製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品が挙げられる。
　重合開始剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量に対して、０．１～２０質量％が好ましく、０．５～５質量％がより好ましい。
（架橋剤）
　液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、任意に架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、および、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
　架橋剤は特に制限されず、目的に応じて適宜選択できる。架橋剤としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、および、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート、および、エチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］、および、４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、および、ビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ビニルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物等が挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、膜強度および耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　架橋剤の含有量は、液晶組成物の全固形分に対して、３～２０質量％が好ましく、５～１５質量％がより好ましい。架橋剤の含有量を３質量％以上とすることにより、架橋密度向上の効果を得ることができ、架橋剤の含有量を２０質量％以下とすることにより、コレステリック液晶層の安定性の低下を防止できる。
　なお、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味で使用される。
（配向制御剤）
　液晶組成物中は、安定的にまたは迅速にプレーナー配向のコレステリック液晶層とするために寄与する配向制御剤を含んでいてもよい。配向制御剤の例としては、特開２００７－２７２１８５号公報の段落００１８～００４３等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマー、特開２０１２－２０３２３７号公報の段落００３１～００３４等に記載の式（Ｉ）～（ＩＶ）で表される化合物、および、特開２０１３－１１３９１３号公報に記載の化合物等が挙げられる。
　なお、配向制御剤としては１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　また、配向制御剤として使用可能な化合物の具体例としては、下記配向制御剤１、および、配向制御剤２が挙げられる。
　液晶組成物中における、配向制御剤の含有量は、重合性液晶化合物の全質量に対して、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましく、０．０２～１質量％が更に好ましい。
（その他の添加剤）
　その他、液晶組成物は、塗膜の表面張力を調整し厚さを均一にするための界面活性剤、および、重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。また、液晶組成物中には、必要に応じて、更に重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、および、金属酸化物微粒子等を、光学性能を低下させない範囲で添加することができる。
　コレステリック液晶層は、重合性液晶化合物および重合開始剤、更に必要に応じて添加されるキラル剤、界面活性剤等を溶媒に溶解させた液晶組成物を、透明基材、位相差層、配向層、または、先に作製されたコレステリック液晶層等の上に塗布し、乾燥させて塗膜を得、この塗膜に活性光線を照射してコレステリック液晶性組成物を重合し、コレステリック規則性が固定化されたコレステリック液晶層を形成することができる。
　なお、複数のコレステリック液晶層からなる積層膜は、コレステリック液晶層の上述の製造工程を繰り返し行うことにより形成することができる。
（溶媒）
　液晶組成物の調製に使用する溶媒には、特に制限されず、目的に応じて適宜選択できるが、有機溶媒が好ましく用いられる。
　有機溶媒には、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択でき、例えば、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、および、エーテル類等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が好ましい。
（塗布、配向、重合）
　透明基材、配向層、および、下層となるコレステリック液晶層等への液晶組成物の塗布方法は特に制限されず、目的に応じて適宜選択できる。
　塗布方法としては、例えば、ワイヤーバーコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法、および、スライドコーティング法が挙げられる。また、別途支持体上に塗設した液晶組成物を転写することによっても実施できる。
　塗布した液晶組成物を加熱することにより、液晶分子を配向させる。加熱温度は、２００℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。この配向処理により、重合性液晶化合物が、フィルム面に対して実質的に垂直な方向に螺旋軸を有するようにねじれ配向している光学薄膜が得られる。
　配向させた液晶化合物を更に重合させることにより、液晶組成物を硬化することができる。重合は、熱重合、および、光照射を利用する光重合のいずれでもよいが、光重合が好ましい。光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2～５０Ｊ／ｃｍ2が好ましく、１００～１，５００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましい。
　光重合反応を促進するため、加熱条件下または窒素雰囲気下で光照射を実施してもよい。照射紫外線波長は、３５０～４３０ｎｍが好ましい。重合反応率は安定性の観点から、高いほうが好ましく、７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましい。重合反応率は、重合性の官能基の消費割合を赤外線吸収スペクトルの測定により、決定することができる。
＜ハードコート層（ＨＣ層）＞
　本発明の反射フィルムは、ハードコート層（ＨＣ層）を有する。ＨＣ層を有することで硬い物質が擦れた場合でも傷がつきにくい耐摩耗性、硬い物質で押し込まれた場合でも傷がつきにくい耐傷性、および、汚れが付着した場合でも容易に汚れを拭取れる防汚性等が得られる。
　本発明におけるＨＣ層は、分子中に重合性基を有する含ポリシロキサン化合物および分子中に重合性基を有する含フッ素化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物と、これらの化合物以外の、後述の分子中に重合性基を有する重合性化合物とを重合硬化してなることが好ましく、これらの重合性基がラジカル重合性基であることがより好ましい。これにより、ＨＣ層中において、含ポリシロキサン化合物および含フッ素化合物からなる群から選択される化合物とＨＣ層を形成する重合性化合物とが結合した状態で存在し、より優れた防汚性を付与することができる。含ポリシロキサン化合物および含フッ素化合物からなる群から選択される化合物が重合性基を有する場合、後述する含ポリシロキサン化合物および含フッ素化合物からなる群から選択される化合物中の重合性基は反応して、結合を形成した状態でＨＣ層中に存在することとなる。
　なお、ＨＣ層が後述する２層以上の積層構造である場合には、含ポリシロキサン化合物および含フッ素化合物からなる群から選択される化合物は、粘着層から最も離れたＨＣ層が少なくとも含むことが好ましく、粘着層から最も離れたＨＣ層のみが含むことがより好ましい。分子中に重合性基を有する含ポリシロキサン化合物および分子中に重合性基を有する含フッ素化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を用いる場合、粘着層から最も離れたＨＣ層が少なくとも上記化合物の硬化膜であることが好ましく、粘着層から最も離れたＨＣ層のみが上記化合物の硬化膜であることがより好ましい。
　以下、ＨＣ層の具体的態様を説明するが、本発明は下記態様に限定されるものではない。
（含フッ素化合物）
　本発明における含フッ素化合物はＨＣ層に耐擦性や防汚性を付与できるものであれば、特に制限されることなく、分子中にフッ素原子を有する化合物を用いることができる。含フッ素化合物としては、防汚剤の性質を示す含フッ素防汚剤が好ましく用いられる。
　本発明において、含フッ素化合物は、モノマー、オリゴマー、および、ポリマーのいずれでもよい。含フッ素化合物は、ＨＣ層中でその他の成分（例えば、含ポリシロキサン化合物、樹脂の構成成分である重合性モノマー、樹脂）との結合形成または相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。この置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。
　この置換基は重合性基が好ましく、ラジカル重合性、カチオン重合性、アニオン重合性、縮重合性および付加重合性のうちいずれかを示す重合性反応基であればよく、好ましい置換基の例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、および、アミノ基が挙げられる。その中でも、ラジカル重合性基が好ましく、アクリロイル基、または、メタクリロイル基がより好ましい。
　含フッ素化合物は、フッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよい。
　上記含フッ素防汚剤としては、下記一般式（Ｆ）で表されるフッ素系化合物が好ましい。
　一般式（Ｆ）：
　（Ｒｆ）－［（Ｗ）－（ＲＡ）ｎ］ｍ
（式中、Ｒｆは（パー）フルオロアルキル基または（パー）フルオロポリエーテル基を表し、Ｗは単結合または連結基を表し、ＲＡは重合性不飽和基を表す。ｎは１～３の整数を表す。ｍは１～３の整数を表す。）
　一般式（Ｆ）において、ＲＡは重合性不飽和基を表す。重合性不飽和基は、紫外線および電子線等の活性エネルギー線を照射することによりラジカル重合反応を起こしうる不飽和結合を有する基（すなわち、ラジカル重合性基）であることが好ましく、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、および、アリル基が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、およびこれらの基における任意の水素原子がフッ素原子に置換された基が好ましく用いられる。
　一般式（Ｆ）において、Ｒｆは（パー）フルオロアルキル基または（パー）フルオロポリエーテル基を表す。
　ここで、（パー）フルオロアルキル基は、フルオロアルキル基およびパーフルオロアルキル基のうち少なくとも１種を表し、（パー）フルオロポリエーテル基は、フルオロポリエーテル基およびパーフルオロポリエーテル基のうち少なくとも１種を表す。防汚性の観点では、Ｒｆ中のフッ素含有率は高いほうが好ましい。
　（パー）フルオロアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。
　（パー）フルオロアルキル基は、直鎖構造（例えば、－ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ、－ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＦ３、および、－ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ）であっても、分岐構造（例えば、－ＣＨ（ＣＦ３）２、－ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３、および、－ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環または６員環で、例えばパーフルオロシクロへキシル基およびパーフルオロシクロペンチル基並びにこれらの基で置換されたアルキル基）であってもよい。
　（パー）フルオロポリエーテル基は、（パー）フルオロアルキル基がエーテル結合を有している場合を指し、１価でも２価以上の基であってもよい。フルオロポリエーテル基としては、例えば、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ、および、フッ素原子を４個以上有する炭素数４～２０のフルオロシクロアルキル基等が挙げられる。また、パーフルオロポリエーテル基としては、例えば、－（ＣＦ２Ｏ）ｐ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑ－、－［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｐ―［ＣＦ（ＣＦ３）］ｑ－、－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐ－、および、－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐ－が挙げられる。
　上記ｐおよびｑは、それぞれ独立に、０～２０の整数を表す。ただしｐ＋ｑは１以上の整数である。
　ｐおよびｑの総計は１～８３が好ましく、１～４３がより好ましく、５～２３が更に好ましい。
　上記含フッ素防汚剤は、防汚性に優れるという観点から、－（ＣＦ２Ｏ）ｐ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑ－で表されるパーフルオロポリエーテル基を有することが好ましい。
　本発明においては、含フッ素防汚剤は、パーフルオロポリエーテル基を有し、かつ、重合性不飽和基を一分子中に複数有することが好ましい。
　一般式（Ｆ）において、Ｗは単結合または連結基を表す。Ｗとしては、例えば、アルキレン基、アリーレン基およびヘテロアルキレン基、並びにこれらの基が組み合わさった連結基が挙げられる。これらの連結基は、更に、オキシ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニルイミノ基およびスルホンアミド基等、並びにこれらの基が組み合わさった官能基を有してもよい。
　Ｗとして、エチレン基が好ましく、カルボニルイミノ基と結合したエチレン基がより好ましい。
　含フッ素防汚剤のフッ素原子含有量は特に制限されないが、２０質量％以上が好ましく、３０～７０質量％がより好ましく、４０～７０質量％が更に好ましい。
　好ましい含フッ素防汚剤の例としては、ダイキン化学工業（株）製のＲ－２０２０、Ｍ－２０２０、Ｒ－３８３３、Ｍ－３８３３およびオプツールＤＡＣ（以上商品名）、大日本インキ（株）製のメガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７９Ａ、ＲＳ－７８、ＲＳ－９０、ディフェンサＭＣＦ－３００およびＭＣＦ－３２３（以上商品名）が挙げられる。
　耐擦性の観点から、一般式（Ｆ）において、ｎとｍの積（ｎ×ｍ）は２以上が好ましく、４以上がより好ましい。
　一般式（Ｆ）において、ｎとｍが同時に１である態様の好ましい具体例として、下記一般式（Ｆ－１）～（Ｆ－３）で表される化合物が挙げられる。
一般式（Ｆ－１）：
　Ｒｆ２（ＣＦ２ＣＦ２）ｐＲ２２ＣＨ２ＣＨ２Ｒ２１ＯＣＯＣＲ１１＝ＣＨ２
（式中、Ｒｆ２は、フッ素原子、または炭素数が１～１０であるフルオロアルキル基を表し、Ｒ１１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２１は単結合またはアルキレン基を表し、Ｒ２２は単結合または２価の連結基を表し、ｐは重合度を表す整数であり、重合度ｐはｋ（ｋは３以上の整数）以上である。）
　Ｒ２２が２価の連結基を表す場合、この２価の連結基としては、前述のＷと同様のものが挙げられる。
　一般式（Ｆ－１）におけるフッ素原子を含むテロマー型（メタ）アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類等が挙げられる。
　上記の一般式（Ｆ－１）で表される化合物は、合成の際にテロメリゼイションを用いると、テロメリゼイションの条件および反応混合物の分離条件等によっては、一般式（Ｆ－１）の基であるＲｆ２（ＣＦ２ＣＦ２）ｐＲ２２ＣＨ２ＣＨ２Ｒ２１Ｏ－のｐがそれぞれｋ、ｋ＋１、ｋ＋２、・・・等である、複数の含フッ素（メタ）アクリル酸エステルを含むことがある。
一般式（Ｆ－２）：
　Ｆ（ＣＦ２）ｑ－ＣＨ２－ＣＨＸ－ＣＨ２Ｙ
（式中、ｑは１～２０の整数を表し、ＸおよびＹは（メタ）アクリロイルオキシ基または水酸基を表し、ＸおよびＹの少なくとも一方は（メタ）アクリロイルオキシ基を表す。）
　一般式（Ｆ－２）で表される含フッ素（メタ）アクリル酸エステルは、末端にトリフルオロメチル基（－ＣＦ３）をもつ炭素数１～２０のフルオロアルキル基を有しており、この含フッ素（メタ）アクリル酸エステルは少量でもトリフルオロメチル基が表面に有効に配向される。
　耐擦性および化合物の製造の容易性から、ｑは６～２０が好ましく、８～１０より好ましい。炭素数８～１０のフルオロアルキル基を有する含フッ素（メタ）アクリル酸エステルは、他の鎖長のフルオロアルキル基を有する含フッ素（メタ）アクリル酸エステルと比較しても、摩擦係数の優れた低減効果を発現し、耐擦性に優れる。
　一般式（Ｆ－２）で表される含フッ素（メタ）アクリル酸エステルとして具体的には、１－（メタ）アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシ－４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３－ヘンエイコサフルオロトリデカン、２－（メタ）アクリロイルオキシ－１－ヒドロキシ－４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３－ヘンエイコサフルオロトリデカン、および、１，２－ビス（メタ）アクリロイルオキシ４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３－ヘンエイコサフルオロトリデカンが挙げられる。なかでも、１－アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシ－４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３－ヘンエイコサフルオロトリデカンが好ましい。
一般式（Ｆ－３）：
　Ｆ（ＣＦ２）ｒＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｓＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣＲ３＝ＣＨ２
（式中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し、ｓは１～２０の整数を表し、ｒは１～４の整数を表す。）
　上記一般式（Ｆ－３）で表されるフッ素原子含有単官能（メタ）アクリレートは、下記一般式（ＦＧ－３）で表されるフッ素原子含有アルコール化合物と（メタ）アクリル酸ハライドとを反応させることにより得ることができる。
一般式（ＦＧ－３）：
　Ｆ（ＣＦ２）ｒＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｓＣＦ２ＣＨ２ＯＨ
（一般式（ＦＧ－３）中、ｓは１～２０の整数であり、ｒは１～４の整数を表す。）
　上記一般式（ＦＧ－３）表されるフッ素原子含有アルコール化合物の具体例としては、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６－ジオキサヘプタン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６－ジオキサオクタン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６－ジオキサデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９－トリオキサデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９－トリオキサウンデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９－トリオキサトリデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２－テトラオキサトリデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２－テトラオキサテトラデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２－テトラオキサヘキサデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５－ペンタオキサヘキサデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５－ペンタオキサヘプタデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５－ペンタオキサノナデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５，１８－ヘキサオキサイコサン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５，１８－ヘキサオキサドコサン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５，１８，２１－ヘプタオキサトリコサン－１－オール、および、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５，１８，２１－ヘプタオキサペンタコサン－１－オール等が挙げられる。
　これらは市販品を入手でき、その具体例としては、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６－ジオキサヘプタン－１－オール（商品名「Ｃ５ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９－トリオキサデカン－１－オール（商品名「Ｃ７ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６－ジオキサデカン－１－オール（商品名「Ｃ８ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９－トリオキサトリデカン－１－オール（商品名「Ｃ１０ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、および、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２－テトラオキサヘキサデカン－１－オール（商品名「Ｃ１２ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）が挙げられる。
　なかでも、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２－テトラオキサトリデカン－１－オールが好ましい。
　また、上記一般式（ＦＧ－３）で表されるフッ素原子含有アルコール化合物と反応させる（メタ）アクリル酸ハライドとしては、（メタ）アクリル酸フルオライド、（メタ）アクリル酸クロライド、（メタ）アクリル酸ブロマイド、および、（メタ）アクリル酸アイオダイドが挙げられる。入手しやすさ等の観点から、（メタ）アクリル酸クロライドが好ましい。
　以下に一般式（Ｆ－３）で表される化合物の好ましい具体例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｆ－３）で表される好ましい具体例は、特開２００７－２６４２２１号公報にも記載がある。
　（ｂ－１）：Ｆ９Ｃ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２
　（ｂ－２）：Ｆ９Ｃ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２
　更に一般式（Ｆ－３）で表される化合物とは別に、下記一般式（Ｆ－３）’で表される化合物も好ましい。
一般式（Ｆ－３）’：
　Ｒｆ３－［（Ｏ）ｃ（Ｏ＝Ｃ）ｂ（ＣＸ４Ｘ５）ａ－ＣＸ３＝ＣＸ１Ｘ２］
（式中、Ｘ１およびＸ２は、ＨまたはＦを表し、Ｘ３はＨ、Ｆ、ＣＨ３またはＣＦ３を表し、Ｘ４およびＸ５は、Ｈ、Ｆ、またはＣＦ３を表し、ａ、ｂ、およびｃは０または１を表し、Ｒｆ３は炭素数１８～２００のエーテル結合を含む含フッ素有機基を表す。）
　上記一般式（Ｆ－３）’で表される化合物は、Ｒｆ３基中に、一般式（ＦＧ－３）’：－（ＣＸ６ ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）－（式中、Ｘ６はＦまたはＨ）で示される繰り返し単位を６個以上有する、含フッ素不飽和化合物である。
　上記一般式（Ｆ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル化合物の例としては、
一般式（ｃ－１）　Ｒｆ３－［（Ｏ）（Ｏ＝Ｃ）ｂ－ＣＸ３＝ＣＸ１Ｘ２］
一般式（ｃ－２）　Ｒｆ３－［（Ｏ）（Ｏ＝Ｃ）－ＣＸ３＝ＣＸ１Ｘ２］
一般式（ｃ－３）　Ｒｆ３－［（Ｏ）ｃ（Ｏ＝Ｃ）－ＣＦ＝ＣＨ２］
が挙げられる（一般式（ｃ－１）～（ｃ－３）における各記号の定義は一般式（ＦＧ－３）’と同義である。）。
　上記含フッ素ポリエーテル化合物の重合性不飽和基としては、以下の構造を含むものを好ましく用いることができる。
　また、上記一般式（Ｆ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル化合物は、重合性不飽和基を複数個有していてもよい。
　本発明においては、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＣＦ＝ＣＨ２の構造を有する化合物の重合（硬化）反応性が特に高く、効率よく硬化物を得ることができる点で好ましい。
　上記一般式（Ｆ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル化合物は、Ｒｆ３基中に一般式（ＦＧ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル鎖を繰り返し単位で６個以上含んでいることが重要であり、これによって耐擦性を付与できる。
　また更に詳しくは、含フッ素ポリエーテル鎖の繰り返し単位が６個以上のものを含んでいる混合物でもよく、混合物の形で使用する場合、上記繰り返し単位が６個未満の含フッ素不飽和化合物と６個以上の含フッ素不飽和化合物との分布において、ポリエーテル鎖の繰り返し単位が６個以上の含フッ素不飽和化合物の存在比率が最も高い混合物とすることが好ましい。
　一般式（ＦＧ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル鎖の繰り返し単位は６個以上が好ましく、１０個以上がより好ましく、１８個以上が更に好ましく、２０個以上が特に好ましい。これによって、動摩擦係数を低減し、耐擦性を向上することができる。また、含フッ素ポリエーテル鎖はＲｆ３基の末端にあっても、鎖中に存在していてもよい。
　Ｒｆ３基は具体的には、一般式（ｃ－４）：
　Ｒ４－（ＣＸ６ ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｔ－（Ｒ５）ｅ－（式中、Ｘ６は式（ＦＧ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル鎖中のＸ６と同義であり、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、含フッ素アルキル基、エーテル結合を含むアルキル基またはエーテル結合を含む含フッ素アルキル基を表し、Ｒ５は２価以上の有機基を表し、ｔは６～６６の整数を表し、ｅは０または１を表す。）
で表される基が好ましい。
　つまり、Ｒｆ３基は、２価以上の有機基Ｒ５を介して、反応性の炭素－炭素二重結合と結合し、更に末端にＲ４を有する含フッ素有機基である。
　Ｒ５は一般式（ＦＧ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル鎖を反応性の炭素－炭素二重結合に結合させることができる有機基であれば、如何なるものでもよい。例えば、アルキレン基、含フッ素アルキレン基、エーテル結合を含むアルキレン基、および、エーテル結合を含む含フッ素アルキレン基が挙げられる。中でも、含フッ素アルキレン基、または、エーテル結合を含む含フッ素アルキレン基が、透明性、低屈折率性の点で好ましい。
　一般式（Ｆ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル化合物の具体例としては、再公表特許ＷＯ２００３／０２２９０６号公報に挙げられる化合物等が好ましく用いられる。
　本発明においては、ＣＨ２＝ＣＦ－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）７－ＯＣ３Ｆ７が好ましい。
　一般式（Ｆ）において、ｎとｍが同時に１でない態様としては、一般式（Ｆ－４）および一般式（Ｆ－５）で表される化合物が挙げられる。
一般式（Ｆ－４）：
（Ｒｆ１）－［（Ｗ）－（ＲＡ）ｎ］ｍ
（一般式（Ｆ－４）中、Ｒｆ１は（パー）フルオロアルキル基または（パー）フルオロポリエーテル基を表し、Ｗは連結基を表し、ＲＡは重合性不飽和基を表す。ｎは１～３の整数を表し、ｍは１～３の整数を表し、ｎとｍは同時に１であることはない。）
　撥水撥油性に優れると共に撥水撥油性の持続（防汚耐久性）に優れるという観点から、ｎが２～３、ｍが１～３であることが好ましく、ｎが２～３、ｍが２～３であることがより好ましく、ｎが３、ｍが２～３であることが更に好ましい。
　Ｒｆ１は１価～３価のものを用いることができる。Ｒｆ１が１価の場合、末端基としては（ＣｎＦ２ｎ＋１）－、（ＣｎＦ２ｎ＋１Ｏ）－、（ＸＣｎＦ２ｎＯ）－、（ＸＣｎＦ２ｎ＋１）－（式中Ｘは水素原子、塩素原子、または臭素原子であり、ｎは１～１０の整数）であることが好ましい。具体的には、ＣＦ３Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２－、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ２ＣＦ２－、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）－、または、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）－が好ましい。
　ｐの平均値は、０～５０であり、３～３０が好ましく、３～２０がより好ましく、４～１５が更に好ましい。
　Ｒｆ１が２価の場合は、－（ＣＦ２Ｏ）ｑ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｒＣＦ２－、－（ＣＦ２）３Ｏ（Ｃ４Ｆ８Ｏ）ｒ（ＣＦ２）３－、－ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｒＣＦ２－、－Ｃ２Ｆ４Ｏ（Ｃ３Ｆ６Ｏ）ｒＣ２Ｆ４－、－ＣＦ（ＣＦ３）（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｓＯＣｔＦ２ｔＯ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｒＣＦ（ＣＦ３）－、または、－（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）－が好ましい。
　ここで、式中ｐ、ｑ、ｒ、および、ｓの平均値は０～５０である。なかでも、３～３０が好ましく、３～２０がより好ましく、４～１５が更に好ましい。ｔは２～６の整数である。
　一般式（Ｆ－４）で表される化合物の好ましい具体例や合成方法は国際公開第２００５／１１３６９０号公報に記載されている。
　以下では、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）－においてｐの平均値が６～７のものを“ＨＦＰＯ－”と記載し、－（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）－においてｐの平均値が６～７のものを“－ＨＦＰＯ－”と記載し、一般式（Ｆ－４）の具体的化合物を示すが、これらに限定されるものではない。
（ｄ－１）：ＨＦＰＯ－ＣＯＮＨ－Ｃ－（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２ＣＨ２ＣＨ３
（ｄ－２）：ＨＦＰＯ－ＣＯＮＨ－Ｃ－（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２Ｈ
（ｄ－３）：ＨＦＰＯ－ＣＯＮＨ－Ｃ３Ｈ６ＮＨＣＨ３とトリメチロールプロパントリアクリレートの１：１マイケル付加重合物
（ｄ－４）：（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）２Ｈ－Ｃ－ＣＯＮＨ－ＨＦＰＯ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２Ｈ
（ｄ－５）：（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３－Ｃ－ＣＯＮＨ－ＨＦＰＯ－ＣＯＮＨ－Ｃ－（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）３
　更に、一般式（Ｆ－４）で表される化合物として、下記一般式（Ｆ－５）で表される化合物を用いることもできる。
一般式（Ｆ－５）：
　ＣＨ２＝ＣＸ１－ＣＯＯ－ＣＨＹ－ＣＨ２－ＯＣＯ－ＣＸ２＝ＣＨ２
（式中Ｘ１およびＸ２は、水素原子またはメチル基を表し、Ｙは、フッ素原子を３個以上有する炭素数２～２０のフルオロアルキル基またはフッ素原子を４個以上有する炭素数４～２０のフルオロシクロアルキル基を表す。）
　本発明において、重合性不飽和基が（メタ）アクリロイルオキシ基である化合物は、複数の（メタ）アクリロイルオキシ基を有していてもよい。含フッ素防汚剤が複数の（メタ）アクリロイルオキシ基を有していることにより、硬化させた際に、三次元網目構造となり、ガラス転移温度が高く、防汚剤の転写性が低く、また汚れの繰り返しの拭取りに対する耐久性を向上させることができる。更には、耐熱性、および、耐候性等に優れたＨＣ層を得ることができる。
　上記一般式（Ｆ－５）で表される化合物の具体例としては、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，２－トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，４－ヘプタフルオロブチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６－ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７－トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９－ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０－ノナデカフルオロデシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０－ヘプタデカフルオロデシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２－トリフルオロメチル－３，３，３－トリフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－３－トリフルオロメチル－４，４，４－トリフルオロブチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－１－メチル－２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、および、ジ（メタ）アクリル酸－１－メチル－２，２，３，３，４，４，４－ヘプタフルオロブチルエチレングリコール等を好ましく挙げることができ、使用に際しては単独若しくは混合物として用いることができる。このようなジ（メタ）アクリル酸エステルを調製するには、特開平６－３０６３２６号公報に挙げられるような公知の方法により製造できる。本発明においては、ジアクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９－ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールが好ましく用いられる。
　本発明においては、重合性不飽和基が（メタ）アクリロイルオキシ基である化合物として、一分子中に複数個の（パー）フルオロアルキル基または（パー）フルオロポリエーテル基を有している化合物であってもよい。
　重合性不飽和基を有する含フッ素化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、分子排斥クロマトグラフィー、例えばゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）等を用いて測定できる。
　本発明で用いられる含フッ素化合物のＭｗは４００以上５００００未満が好ましく、４００以上３００００未満がより好ましく、４００以上２５０００未満が更に好ましい。上記下限値以上であると、防汚剤のＨＣ層中での表面移行性が高くなるため好ましい。また、上記上限値未満であると、後述するＨＣ層形成用硬化性組成物を塗布してから硬化する工程の間に、含フッ素化合物の表面移行性が妨げられず、ＨＣ層表面への偏在がより均一に起こりやすくなり、耐擦性および膜硬度が向上するため好ましい。また、含フッ素化合物は重量平均分子量に関して多峰性であってもよい。
　後述するように、ＨＣ層を形成する際には、ＨＣ層形成用硬化性組成物を用いることが好ましい。含フッ素化合物は、ＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれていてもよい。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物中における含フッ素化合物の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の全固形分に対して、０．０１～５質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましく、０．５～５質量％が更に好ましく、０．５～２質量％が特に好ましい。添加量が上記上限値以上であると、摩擦係数を低減でき、耐擦性がより向上される。また、添加量が上記下限値以下であると、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の重合性化合物（ＨＣ層を形成する際の樹脂成分）との混合が不十分な含フッ素化合物が表面に析出することがなく、ＨＣ層が白化したり表面に白粉を生じたりすることが抑制されるため好ましい。
　なお、ＨＣ層が後述する２層以上の積層構造である場合には、含フッ素化合物あるいは含ポリシロキサン化合物を含有するＨＣ層を形成する、ＨＣ層形成用硬化性組成物中での添加量を意味する。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物中の固形分とは、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の溶媒を除いた他の成分を意味する。その成分の性状が液状であっても、固形分とする。
（含ポリシロキサン化合物）
　本発明における含ポリシロキサン化合物は、特に制限されず、分子中にポリシロキサン構造を有する化合物が挙げられる。
　含ポリシロキサン化合物が有するポリシロキサン構造としては、直鎖状、分岐鎖状および環状のいずれでもよい。
　含ポリシロキサン化合物としては、防汚剤の性質を示すポリシロキサン防汚剤が好ましく用いられる。
　上記ポリシロキサン防汚剤は、好ましくは下記一般式（Ｆ－６）で表される化合物が挙げられる。
一般式（Ｆ－６）：
　ＲａＲＡ ｂＳｉＯ（４－ａ－ｂ）／２
（式中、Ｒは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基またはフェニル基を表し、ＲＡは重合性不飽和基を含有する有機基を表し、０＜ａ、０＜ｂ、ａ＋ｂ＜４である。）
　ａは、１～２．７５が好ましく、１～２．５がより好ましく、１以上であると化合物の合成が工業的に容易となり、２．７５以下であると、硬化性と防汚性の両立がしやすくなる。
　ＲＡにおける重合性不飽和基としては、上記一般式（Ｆ）におけるＲＡと同様の重合性不飽和基（すなわち、ラジカル重合性基）が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、およびこれらの基における任意の水素原子がフッ素原子に置換した基が好ましい。
　ポリシロキサン防汚剤においても、膜強度の観点から、一分子中に重合性不飽和基を複数有することが好ましい。
　ポリシロキサン防汚罪は、一分子中に重合性不飽和基を複数有するポリジメチルシロキサンであることが好ましい。
　ポリシロキサン防汚剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。
　ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中には、ジメチルシリルオキシ以外の構造単位が含まれていてもよい。この置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。
　この置換基は重合性基が好ましく、ラジカル重合性、カチオン重合性、アニオン重合性、縮重合性および付加重合性のうちいずれかを示す重合性基であればよい。好ましい置換基の例としては、（メタ）アクリロイル基、（（メタ）アクリロイルオキシ）基、ビニル基、アリル基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、および、アミノ基等を含む基が挙げられる。
　なかでも、ラジカル重合性基が好ましく、特に（メタ）アクリロイルオキシ基が防汚性を向上する観点で好ましい。
　また、膜強度と防汚性とを両立する観点から、化合物中の上記置換基数は、官能基等量として１００～１００００ｇ／ｍｏｌが好ましく、１００～３０００ｇ／ｍｏｌがより好ましく、１００～２０００ｇ／ｍｏｌが更に好ましく、１００～１０００ｇ／ｍｏｌが特に好ましい。官能基当量を上記下限値以上にすることで、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の重合性化合物（ＨＣ層を形成する際の樹脂成分）と必要以上に相溶することがなく、防汚剤のＨＣ層中での表面移行性が高くなるため好ましい。官能基当量を上記上限値以下にすることで、膜硬度を向上し、防汚性を向上させることができるため好ましい。
　ＲＡとしては、（メタ）アクリロイル基を含む有機基が好ましく、工業的な合成のし易さからＳｉ原子への結合がＳｉ－Ｏ－Ｃ結合となることがより好ましい。ｂは、０．４～０．８が好ましく、０．６～０．８がより好ましく、上記下限値以上であると硬化性が向上し、上記上限値以下であると防汚性が向上する。
　また、ａ＋ｂは、３～３．７が好ましく、３～３．５がより好ましい。上記下限値以上であると化合物のＨＣ層表面への偏在化が起こりやすくなり、上記上限値以下であると硬化性と防汚性の両立を向上させることができる。
　ポリシロキサン防汚剤は、１分子中にＳｉ原子を３個以上有することが好ましく、Ｓｉ原子を３～４０個有することがより好ましい。Ｓｉ原子が３個以上あると化合物のＨＣ層表面への偏在化が促進され、十分な防汚性がより得られやすくなる。
　ポリシロキサン防汚剤は、特開２００７－１４５８８４号公報に挙げられる公知の方法等を用いて製造できる。
　ポリシロキサン構造を有する添加剤としては、ポリシロキサン（例えば“ＫＦ－９６－１０ＣＳ”、“ＫＦ－１００Ｔ”、“Ｘ－２２－１６９ＡＳ”、“ＫＦ－１０２”、“Ｘ－２２－３７０１ＩＥ”、“Ｘ－２２－１６４”、“Ｘ－２２－１６４Ａ”、“Ｘ－２２－１６４ＡＳ”、“Ｘ－２２－１６４Ｂ”、“Ｘ－２２－１６４Ｃ”、“Ｘ－２２－５００２”、“Ｘ－２２－１７３Ｂ”、“Ｘ－２２－１７４Ｄ”、“Ｘ－２２－１６７Ｂ”、“Ｘ－２２－１６１ＡＳ”（商品名）、以上、信越化学工業（株）製；“ＡＫ－５”、“ＡＫ－３０”、“ＡＫ－３２”（商品名）、以上東亞合成（株）製；「サイラプレーンＦＭ０７２５」、「サイラプレーンＦＭ０７２１」（商品名）、以上チッソ（株）製；“ＤＭＳ－Ｕ２２”、“ＲＭＳ－０３３”、“ＵＭＳ－１８２”（商品名）、以上Ｇｅｌｅｓｔ製；「アクリット８ＳＳ－７２３」（商品名）、以上大成ファインケミカル（株）製等）が好ましい。また、特開２００３－１１２３８３号公報の表２、表３に記載のポリシロキサン系化合物も好ましい。
　含ポリシロキサン化合物の重量平均分子量は、３００以上が好ましく、３００～１０００００がより好ましく、３００～３００００が更に好ましい。含ポリシロキサン化合物の重量平均分子量が３００以上であると、含ポリシロキサン化合物のＨＣ層表面への偏在化が促進され、耐擦性および硬度がより向上される。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物中における含ポリシロキサン化合物の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の全固形分に対して、０．０１～５質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましく、０．５～５質量％が更に好ましく、０．５～２質量％が特に好ましい。添加量が上記下限値以上であると、防汚性をより向上することができる。また、添加量が上記上限値以下であると、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の重合性化合物（ＨＣ層を形成する際の樹脂成分）との混合が不十分な含ポリシロキサン化合物が表面に析出することがなく、ＨＣ層が白化したり表面に白粉を生じたりすることが抑制されるため好ましい。
　なお、ＨＣ層が後述する２層以上の積層構造である場合には、含ポリシロキサン化合物を含むＨＣ層を形成する、ＨＣ層形成用硬化性組成物中での添加量を意味する。
　本発明に用いられるＨＣ層は、ＨＣ層形成用硬化性組成物に活性エネルギー線を照射し、硬化することで得ることができる。なお本明細書において、「活性エネルギー線」とは、電離放射線をいい、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、α線、β線、γ線等が包含される。
　ＨＣ層の形成に用いられるＨＣ層形成用硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射により硬化する性質を有する少なくとも一種の成分（以下、「活性エネルギー線硬化性成分」とも記載する。）を含む。活性エネルギー線硬化性成分としては、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物からなる群から選択される少なくとも一種の重合性化合物が好ましい。なお本明細書において、「重合性化合物」とは、分子中に重合性基を有する化合物であり、この重合性基は１分子中に１個以上あればよい。重合性基とは、重合反応に関与し得る基であり、具体例としては、後述の各種重合性化合物に含まれる基を例示することができる。また、重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合、および、アニオン重合等の各種重合反応が挙げられる。
　また、本発明におけるＨＣ層は、分子中に重合性基を有する含ポリシロキサン化合物および分子中に重合性基を有する含フッ素化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物と、これらの化合物以外の、分子中に重合性基を有する重合性化合物とを含むＨＣ層形成用硬化性組成物に、活性エネルギー線を照射し、重合硬化することで得られることが好ましい。この場合、含ポリシロキサン化合物、含フッ素化合物および重合性化合物が有する重合性基は、ラジカル重合性基であることがより好ましい。
　本発明に用いられるＨＣ層は、１層構造でも２層以上の積層構造であってもよく、下記に詳細を記載する１層構造または２層以上の積層構造からなるＨＣ層が好ましい。
１）１層構造
　１層構造のＨＣ層を形成するためのＨＣ層形成用硬化性組成物の好ましい態様としては、第一の態様として、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を少なくとも一種含むＨＣ層形成用硬化性組成物が挙げられる。エチレン性不飽和基とは、エチレン性不飽和二重結合を含有する官能基をいう。また、第二の態様として、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物を含むＨＣ層形成用硬化性組成物が挙げられる。
　以下、第一の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物について説明する。
　第一の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれる１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、上記のエステルのエチレンオキサイド変性体、ポリエチレンオキサイド変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、１，４－ジビニルベンゼン、４－ビニル安息香酸－２－アクリロイルエチルエステル、１，４－ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。
　上記１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物に含まれるエチレン性不飽和基の数は特に制限されないが、２～１０が好ましく、２～６がより好ましく、４～６がさらに好ましく、５～６が特に好ましい。
　エチレン性不飽和基を有する重合性化合物の重合は、ラジカル光重合開始剤の存在下、活性エネルギー線の照射により行うことができる。ラジカル光重合開始剤としては、後述するラジカル光重合開始剤が好ましく適用される。また、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物に対するラジカル光重合開始剤の含有量比については、後述するラジカル重合性化合物に対するラジカル光重合開始剤の含有量比の記載が好ましく適用される。
　次に、第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物について説明する。
　第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物を含むことが好ましい。好ましい態様としては、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物と；
　カチオン重合性化合物と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物が挙げられる。
　上記ＨＣ層形成用硬化性組成物は、ラジカル光重合開始剤とカチオン光重合開始剤とを含むことがより好ましい。第二の態様の好ましい一態様としては、
　アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物と；
　カチオン重合性化合物と；
　ラジカル光重合開始剤と；
　カチオン光重合開始剤と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物が挙げられる。以下において、本態様を、第二の態様（１）と記載する。
　第二の態様（１）において、上記のラジカル重合性化合物は、１分子中に２個以上のラジカル重合性基と共に、１分子中に１個以上のウレタン結合を含むことが好ましい。
　第二の態様の他の好ましい一態様では、ａ）脂環式エポキシ基およびエチレン性不飽和基を含み、１分子中に含まれる脂環式エポキシ基の数が１個であり、かつ１分子中に含まれるエチレン性不飽和基の数が１個であり、分子量が３００以下であるカチオン重合性化合物と；
ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含むラジカル重合性化合物と；
ｃ）ラジカル重合開始剤と；
ｄ）カチオン重合開始剤と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物が挙げられる。以下において、本態様を、第二の態様（２）と記載する。第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化して得られるＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を５～７０質量％、上記ｂ）由来の構造を２５～８０質量％、上記ｃ）を０．１～１０質量％、上記ｄ）を０．１～１０質量％含むことができる。また、一態様では、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、このＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）を１５～７０質量％含むことが好ましい。なお、「脂環式エポキシ基」とは、エポキシ環と飽和炭化水素環とが縮合した環状構造を有する１価の官能基をいうものとする。
　以下、第二の態様、好ましくは第二の態様（１）または第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれ得る各種成分について、更に詳細に説明する。
－ラジカル重合性化合物－
　第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物とを含む。第二の態様（１）におけるラジカル重合性化合物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含む。上記ラジカル重合性化合物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を、１分子中に、好ましくは例えば２～１０個含むことができ、より好ましくは２～６個含むことができ、さらに好ましくは４～６個含むことができ、特に好ましくは５～６個含むことができる。
　上記ラジカル重合性化合物としては、分子量が２００以上１０００未満のラジカル重合性化合物が好ましい。なお、本明細書において「分子量」とは、多量体については、ゲル浸透クロマトグラフィー（Ｇｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ；ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で測定される重量平均分子量をいうものとする。重量平均分子量の具体的な測定条件の一例としては、以下の測定条件を挙げることができる。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ－８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ　ｇｅｌ　Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ　ＨＸＬ－Ｍ（東ソー社製、内径７．８ｍｍ×カラム長３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン
　また、第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物に加えて、かかるラジカル重合性化合物以外のラジカル重合性化合物の一種以上を含んでいてもよい。
　ラジカル重合性化合物としては、例えば以下のものを例示できる。ただし本発明は、下記例示化合物に限定されるものではない。
　例えば、ポリエチレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール３００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール６００ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば長瀬産業製デナコールＤＡ－８１１等）、ポリプロピレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール７００ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（ＥＯ；Ｅｔｈｙｌｅｎｅ　Ｏｘｉｄｅ）・プロピレンオキシド（ＰＯ；Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ　Ｏｘｉｄｅ）ブロックポリエーテルジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば日本油脂製ブレンマーＰＥＴシリーズ等）、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製Ｍ－２１０、新中村化学工業製ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－２０等）、水添ビスフェノールＡ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（新中村化学工業製ＮＫエステルＡ－ＨＰＥ－４等）、ビスフェノールＡ　ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば共栄社化学製ライトアクリレートＢＰ－４ＰＡ等）、ビスフェノールＡ　エピクロルヒドリン付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えばダイセルＵＣＢ製エベクリル１５０等）、ビスフェノールＡ　ＥＯ・ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東邦化学工業製ＢＰ－０２３－ＰＥ等）、ビスフェノールＦ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製アロニックスＭ－２０８等）、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、およびそのエピクロルヒドリン変性品、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、およびそのカプロラクトン変性品、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、トリメチロールプロパンアクリル酸・安息香酸エステル、および、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製アロニックスＭ－２１５等）等の２官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
　また、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば日本化薬製ＴＰＭＴＡ）、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製アロニックスＭ－３１５等）、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素－（２，２，２－トリ－（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品等の３官能（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば新中村化学製ＴＰＭＴＡ）、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の４官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の５官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の６官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
　ラジカル重合性化合物は２種以上併用してもよい。この場合、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”（日本化薬製）等を好ましく用いることができる。
　また、ラジカル重合性化合物として、重量平均分子量が２００以上１０００未満のポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートも好ましい。市販品では、ポリエステル（メタ）アクリレートとして、荒川化学工業製の商品名ビームセット７００シリーズ、例えばビームセット７００（６官能）、ビームセット７１０（４官能）、ビームセット７２０（３官能）等が挙げられる。また、エポキシ（メタ）アクリレートとしては、昭和高分子製の商品名ＳＰシリーズ、例えばＳＰ－１５０６、５００、ＳＰ－１５０７、４８０、ＶＲシリーズ、例えばＶＲ－７７、新中村化学工業製商品名ＥＡ－１０１０／ＥＣＡ、ＥＡ－１１０２０、ＥＡ－１０２５、ＥＡ－６３１０／ＥＣＡ等が挙げられる。
　第二の態様の好ましい一態様である第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含むラジカル重合性化合物を含む。ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物を、以下において「ｂ）成分」とも記載する。
　ｂ）成分としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル、ビニルベンゼンおよびその誘導体、ビニルスルホン、および、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。中でも、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物が好ましい。
　具体例としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステルであって、１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物が挙げられる。より詳しくは、例えば、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート、１，２，４－シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、および、ペンタグリセロールトリアクリレートが挙げられる。なお上記の「（ジ）ペンタエリスリトール」とは、ペンタエリスリトールとジペンタエリスリトールの一方または両方の意味で用いられる。
　更に、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含む樹脂も好ましい。
　アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含む樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、スピロアセタール系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリチオールポリエン系樹脂、および、多価アルコール等の多官能化合物等の重合体等も挙げられる。
　アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物の具体例としては、特開２００７－２５６８４４号公報の段落００９６に示されている例示化合物が挙げられる。
　更に、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物の具体例としては、日本化薬製ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ－２Ｃ、同ＰＥＴ－３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ－３２０、同ＴＰＡ－３３０、同ＲＰ－１０４０、同Ｔ－１４２０、同Ｄ－３１０、同ＤＰＣＡ－２０、同ＤＰＣＡ－３０、同ＤＰＣＡ－６０、同ＧＰＯ－３０３、大阪有機化学工業製Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物が挙げられる。
　また、紫光ＵＶ－１４００Ｂ、同ＵＶ－１７００Ｂ、同ＵＶ－６３００Ｂ、同ＵＶ－７５５０Ｂ、同ＵＶ－７６００Ｂ、同ＵＶ－７６０５Ｂ、同ＵＶ－７６１０Ｂ、同ＵＶ－７６２０ＥＡ、同ＵＶ－７６３０Ｂ、同ＵＶ－７６４０Ｂ、同ＵＶ－６６３０Ｂ、同ＵＶ－７０００Ｂ、同ＵＶ－７５１０Ｂ、同ＵＶ－７４６１ＴＥ、同ＵＶ－３０００Ｂ、同ＵＶ－３２００Ｂ、同ＵＶ－３２１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０Ｂ、同ＵＶ－３５００ＢＡ、同ＵＶ－３５２０ＴＬ、同ＵＶ－３７００Ｂ、同ＵＶ－６１００Ｂ、同ＵＶ－６６４０Ｂ、同ＵＶ－２０００Ｂ、同ＵＶ－２０１０Ｂ、同ＵＶ－２２５０ＥＡ、同ＵＶ－２７５０Ｂ（日本合成化学製）、ＵＬ－５０３ＬＮ（共栄社化学製）、ユニディック１７－８０６、同１７－８１３、同Ｖ－４０３０、同Ｖ－４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業製）、ＥＢ－１２９０Ｋ、ＥＢ－２２０、ＥＢ－５１２９、ＥＢ－１８３０，ＥＢ－４３５８（ダイセルＵＣＢ製）、ハイコープＡＵ－２０１０、同ＡＵ－２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ－１９６０（東亞合成製）、アートレジンＵＮ－３３２０ＨＡ、ＵＮ－３３２０ＨＣ、ＵＮ－３３２０ＨＳ、ＵＮ－９０４、ＨＤＰ－４Ｔ等の３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ－８１００、Ｍ－８０３０、Ｍ－９０５０（東亞合成製）、および、ＫＢＭ－８３０７（ダイセルサイテック製）の３官能以上のポリエステル化合物も挙げられる。
　また、ｂ）成分としては、一種のみ用いてもよく、構造の異なる２種以上を併用してもよい。
　前述の通り、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を５～７０質量％、上記ｂ）由来の構造を２５～８０質量％、上記ｃ）を０．１～１０質量％、上記ｄ）を０．１～１０質量％含むことができる。ｂ）由来の構造は、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、４０～７５質量％含まれることが好ましく、６０～７５質量％含まれることがより好ましい。また、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、このＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、ｂ）成分を４０～７５質量％含むことが好ましく、５０～７５質量％含むことがより好ましい。
－カチオン重合性化合物－
　第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物を含むことが好ましい。カチオン重合性化合物としては、カチオン重合可能な重合性基（カチオン重合性基）を有するものであれば、何ら制限なく用いることができる。また、１分子中に含まれるカチオン重合性基の数は、少なくとも１個である。カチオン重合性化合物は、カチオン重合性基を１分子中に１個含む単官能化合物であっても、２個以上含む多官能化合物であってもよい。多官能化合物に含まれるカチオン重合性基の数は、特に限定されるものではないが、例えば１分子中に２～６個である。また、多官能化合物の１分子中に２個以上含まれるカチオン重合性基は、同一であってもよく、構造が異なる２種以上であってもよい。
　また、カチオン重合性化合物は、一態様では、カチオン重合性基と共に、１分子中に１個以上のラジカル重合性基を有することも好ましい。そのようなカチオン重合性化合物が有するラジカル重合性基については、ラジカル重合性化合物についての上述の記載を参照できる。好ましくは、エチレン性不飽和基であり、エチレン性不飽和基は、より好ましくは、ビニル基、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基である。ラジカル重合性基を有するカチオン重合性化合物の１分子中のラジカル重合性基の数は、少なくとも１個であり、１～３個であることが好ましく、１個であることがより好ましい。
　カチオン重合性基としては、好ましくは、含酸素複素環基およびビニルエーテル基を挙げることができる。なおカチオン重合性化合物は、１分子中に、１個以上の含酸素複素環基と１個以上のビニルエーテル基とを含んでいてもよい。
　含酸素複素環としては、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、ビシクロ骨格を有するものも好ましい。含酸素複素環は、非芳香族環であっても芳香族環であってもよく、非芳香族環であることが好ましい。単環の具体例としては、エポキシ環、テトラヒドロフラン環、および、オキセタン環が挙げられる。また、ビシクロ骨格を有するものとしては、オキサビシクロ環が挙げられる。なお、含酸素複素環を含むカチオン重合性基は、１価の置換基として、または２価以上の多価置換基として、カチオン重合性化合物に含まれる。また、上記縮合環は、含酸素複素環の２個以上が縮合したものであっても、含酸素複素環の１個以上と含酸素複素環以外の環構造の１個以上が縮合したものであってもよい。上記の含酸素複素環以外の環構造としては、これらに限定されるものではないが、シクロヘキサン環等のシクロアルカン環を挙げることができる。
　以下に、含酸素複素環の具体例を示す。ただし、本発明は、下記具体例に限定されるものではない。
　カチオン重合性化合物には、カチオン重合性基以外の部分構造が含まれていてもよい。
　そのような部分構造は、特に限定されるものではなく、直鎖構造であっても、分岐構造であっても、環状構造であってもよい。これら部分構造には、酸素原子、および、窒素原子等のヘテロ原子が１個以上含まれていてもよい。
　カチオン重合性化合物の好ましい一態様としては、カチオン重合性基として、またはカチオン重合性基以外の部分構造として、環状構造を含む化合物（環状構造含有化合物）が挙げられる。環状構造含有化合物に含まれる環状構造は、１分子中に、例えば１個であり、２個以上であってもよい。環状構造含有化合物に含まれる環状構造の数は、１分子中に、例えば１～５個であるが、特に限定されるものではない。１分子中に２個以上の環状構造を含む化合物は、同一の環状構造を含んでいてもよく、構造の異なる２種以上の環状構造を含んでいてもよい。
　上記環状構造含有化合物に含まれる環状構造の一例としては、含酸素複素環が挙げられる。その詳細は、先に記載した通りである。
　カチオン重合性化合物の１分子中に含まれるカチオン重合性基の数（以下、「Ｃ」と記載する。）によって分子量（以下、「Ｂ」と記載する。）を除して求められるカチオン重合性基当量（＝Ｂ／Ｃ）は、例えば３００以下であり、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、１５０未満であることが好ましく、耐摩耗性がより優れる観点からは、１２０以下であることがより好ましい。一方、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層の吸湿性の観点からは、カチオン重合性基当量は、５０以上であることが好ましい。また、一態様では、カチオン重合性基当量を求めるカチオン重合性化合物に含まれるカチオン重合性基は、エポキシ基（エポキシ環）であることができる。即ち、一態様では、カチオン重合性化合物は、エポキシ環含有化合物である。エポキシ環含有化合物は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、１分子中に含まれるエポキシ環の数によって分子量を除して求められるエポキシ基当量が、１５０未満であることが好ましく、耐摩耗性がより優れる観点からは、１２０以下であることがより好ましい。また、エポキシ環含有化合物のエポキシ基当量は、例えば５０以上である。
　また、カチオン重合性化合物の分子量は５００以下であることが好ましく、３００以下であることがより好ましい。上記範囲の分子量を有するカチオン重合性化合物は、後述の透明基材へ浸透しやすい傾向があり、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と透明基材との密着性向上に寄与できると推察される。
　第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ａ）脂環式エポキシ基およびエチレン性不飽和基を含み、１分子中に含まれる脂環式エポキシ基の数が１個であり、かつ１分子中に含まれるエチレン性不飽和基の数が１個であり、分子量が３００以下であるカチオン重合性化合物を含む。以下において、上記ａ）を、「ａ）成分」と記載する。
　エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、および、アリル基等を含むラジカル重合性基が挙げられ、中でも、アクリロイル基、メタクリロイル基、または、Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、アクリロイル基、または、メタクリロイル基がより好ましい。１分子中の脂環式エポキシ基とエチレン性不飽和基の数は、それぞれ１個であることが好ましい。
　ａ）成分の分子量は、３００以下であり、２１０以下が好ましく、２００以下がより好ましい。
　ａ）成分の好ましい一態様としては、下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
　一般式（１）中、Ｒは単環式炭化水素または架橋炭化水素を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｑはエチレン性不飽和基を表す。
　一般式（１）中のＲが単環式炭化水素の場合、単環式炭化水素は脂環式炭化水素であることが好ましく、中でも炭素数４～１０の脂環基であることがより好ましく、炭素数５～７の脂環基であることが更に好ましく、炭素数６の脂環基であることが特に好ましい。好ましい具体例としては、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、および、シクロヘプチル基が挙げられ、シクロヘキシル基が好ましい。
　一般式（１）中のＲが架橋炭化水素の場合、架橋炭化水素は、２環系架橋炭化水素（ビシクロ環）、または、３環系架橋炭化水素（トリシクロ環）が好ましい。具体例としては、炭素数５～２０の架橋炭化水素が挙げられ、例えば、ノルボルニル基、ボルニル基、イソボルニル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基、アダマンチル基、および、低級（例えば炭素数１～６）アルキル基置換アダマンチル基等が挙げられる。
　Ｌが２価の連結基を表す場合、２価の連結基は、２価の脂肪族炭化水素基が好ましい。
　２価の脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１が更に好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。
　Ｑとしては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、および、アリル基等を含むエチレン性不飽和基が挙げられ、中でも、アクリロイル基、メタクリロイル基、または、Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基がより好ましい。
　ａ）成分の具体例としては、特開平１０－０１７６１４号公報の段落００１５に例示されている各種化合物、下記一般式（１Ａ）または（１Ｂ）で表される化合物、および、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン等が挙げられる。中でも、下記一般式（１Ａ）または（１Ｂ）で表される化合物がより好ましい。なお、下記一般式（１Ａ）で表される化合物は、その異性体も好ましい。
　一般式（１Ａ）、（１Ｂ）中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｌ２は炭素数１～６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
　一般式（１Ａ）および（１Ｂ）中のＬ２で表される２価の脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～６であり、１～３が好ましく、１がより好ましい。
　２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。
　第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を１５～７０質量％含むことが好ましく、１８～５０質量％含むことがより好ましく、２２～４０質量％含むことが更に好ましい。また、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ａ）成分を、ＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、１５～７０質量％含むことが好ましく、１８～５０質量％含むことがより好ましく、２２～４０質量％含むことが更に好ましい。
　上記環状構造含有化合物に含まれる環状構造の他の一例としては、脂環構造が挙げられる。脂環構造としては、例えば、シクロ環、ジシクロ環、および、トリシクロ環構造が挙げられ、具体例としては、ジシクロペンタニル環、または、シクロヘキサン環が挙げられる。
　以上説明したカチオン重合性化合物は、公知の方法で合成できる。また、市販品として入手することも可能である。
　カチオン重合性基として含酸素複素環を含むカチオン重合性化合物の具体例としては、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（株式会社ダイセル製サイクロマーＭ１００等の市販品）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ユニオンカーバイド製ＵＶＲ６１０５、ＵＶＲ６１１０およびダイセル化学製セロキサイド２０２１等の市販品）、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート（例えば、ユニオンカーバイド製ＵＶＲ６１２８）、ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド（例えば、ダイセル化学製セロキサイド２０００）、ε－カプロラクトン変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ダイセル化学製セロキサイド２０８１）、１－メチル－４－（２－メチルオキシラニル）－７－オキサビシクロ［４，１，０］ヘプタン（例えば、ダイセル化学製セロキサイド３０００）、７，７’－ジオキサ－３，３’－ビス［ビシクロ［４．１．０］ヘプタン］（例えば、ダイセル化学製セロキサイド８０００）、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、１，４ビス｛［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタンおよびジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテルが挙げられる。
　また、カチオン重合性基としてビニルエーテル基を含むカチオン重合性化合物の具体例としては、１，４－ブタンジオールジビニルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジビニルエーテル、ノナンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、および、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテルが挙げられる。ビニルエーテル基を含むカチオン重合性化合物としては、脂環構造を有するものも好ましい。
　更に、カチオン重合性化合物としては、特開平８－１４３８０６号公報、特開平８－２８３３２０号公報、特開２０００－１８６０７９号公報、特開２０００－３２７６７２号公報、特開２００４－３１５７７８号公報、および、特開２００５－２９６３２号公報等に例示されている化合物を用いることもできる。
　以下に、カチオン重合性化合物の具体例として例示化合物Ｂ－１～Ｂ－１４を示すが、本発明は下記具体例に限定されるものではない。
　また、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、ＨＣ層形成用硬化性組成物の好ましい態様としては、下記態様が挙げられる。下記態様の１つ以上を満たすことがより好ましく、２つ以上を満たすことが更に好ましい。なお１つのカチオン重合性化合物が、複数の態様を満たすことも好ましい。
（１）カチオン重合性化合物として、カチオン重合性基当量が１５０未満のカチオン重合性化合物を含む。好ましくは、エポキシ基当量が１５０未満のエポキシ基含有化合物を含む。
（２）カチオン重合性化合物が、エチレン性不飽和基を含む。
　上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン重合性化合物の含有量は、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、１０質量部以上が好ましく、１５質量部以上がより好ましく、２０質量部以上が更に好ましい。また、上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン重合性化合物の含有量は、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましい。
　また、上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン重合性化合物の含有量は、ラジカル重合性化合物の含有量とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、０．０５質量部以上が好ましく、０．１質量部以上がより好ましく、１質量部以上が更に好ましい。一方、カチオン重合性化合物の含有量は、ラジカル重合性化合物の含有量とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましく、４０質量部以下がより好ましい。
　また、上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン重合性化合物の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、４０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましい。
　なお、本明細書において、カチオン重合性基とラジカル重合性基をともに有する化合物は、カチオン重合性化合物に分類し、ＨＣ層形成用硬化性組成物における含有量を規定するものとする。
（重合開始剤）
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は重合開始剤を含むことが好ましく、光重合開始剤を含むことがより好ましい。ラジカル重合性化合物を含むＨＣ層形成用硬化性組成物は、ラジカル光重合開始剤を含むことが好ましく、カチオン重合性化合物を含むＨＣ層形成用硬化性組成物は、カチオン光重合開始剤を含むことが好ましい。なおラジカル光重合開始剤は一種のみ用いてもよく、構造の異なる２種以上を併用してもよい。この点は、カチオン光重合開始剤についても同様である。
　以下、各光重合開始剤について、順次説明する。
（ｉ）ラジカル光重合開始剤
　ラジカル光重合開始剤としては、光照射により活性種としてラジカルを発生することができるものであればよく、公知のラジカル光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。具体例としては、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－［４－（１－メチルビニル）フェニル］プロパノンオリゴマー、および、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン等のアセトフェノン類；１，２－オクタンジオン、１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、および、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、および、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、オルト－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチル－ジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－［２－（１－オキソ－２－プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、および、（４－ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類；２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン、および、２－（３－ジメチルアミノ－２－ヒドロキシ）－３，４－ジメチル－９Ｈ－チオキサントン－９－オンメソクロリド等のチオキサントン類；２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルフォスフィンオキサイド、および、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類；等が挙げられる。また、ラジカル光重合開始剤の助剤として、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４’－ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、４，４’－ジエチルアミノベンゾフェノン、２－ジメチルアミノエチル安息香酸、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸（ｎ－ブトキシ）エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、２，４－ジエチルチオキサントン、および、２，４－ジイソプロピルチオキサントン等を併用してもよい。
　以上のラジカル光重合開始剤および助剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品として入手も可能である。市販のラジカル光重合開始剤としては、ＢＡＳＦ製のイルガキュア（１２７，６５１，１８４，８１９，９０７，１８７０（ＣＧＩ－４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤、５００，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３等）、ＯＸＥ０１）等、日本化薬製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ－Ｓ，ＢＰ－１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２－ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡ等）、サートマー製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）等を好ましい例として挙げられる。
　上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のラジカル光重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性化合物の重合反応（ラジカル重合）を良好に進行させる範囲で適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。上記ＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれるラジカル重合性化合物１００質量部に対して、０．１～２０質量部が好ましく、０．５～１０質量部がより好ましく、１～１０質量部が更に好ましい。
（ｉｉ）カチオン光重合開始剤
　カチオン光重合開始剤としては、光照射により活性種としてカチオンを発生することができるものであればよく、公知のカチオン光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。具体例としては、公知のスルホニウム塩、アンモニウム塩、ヨードニウム塩（例えばジアリールヨードニウム塩）、トリアリールスルホニウム塩、ジアゾニウム塩、および、イミニウム塩が挙げられる。より具体的には、例えば、特開平８－１４３８０６号公報の段落００５０～００５３に示されている式（２５）～（２８）で表されるカチオン光重合開始剤、特開平８－２８３３２０号公報の段落００２０にカチオン重合触媒として例示されているもの等が挙げられる。また、カチオン光重合開始剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品としても入手可能である。市販品としては、例えば、日本曹達製ＣＩ－１３７０、ＣＩ－２０６４、ＣＩ－２３９７、ＣＩ－２６２４、ＣＩ－２６３９、ＣＩ－２７３４、ＣＩ－２７５８、ＣＩ－２８２３、ＣＩ－２８５５およびＣＩ－５１０２等、ローディア製ＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０４７等、ユニオンカーバイド製ＵＶＩ－６９７４、ＵＶＩ－６９９０、および、サンアプロ製ＣＰＩ－１０Ｐが挙げられる。
　カチオン光重合開始剤としては、光重合開始剤の光に対する感度、化合物の安定性等の点からは、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、または、イミニウム塩が好ましい。また、耐候性の点からは、ヨードニウム塩が好ましい。
　ヨードニウム塩系のカチオン光重合開始剤の具体的な市販品としては、例えば、東京化成製Ｂ２３８０、みどり化学製ＢＢＩ－１０２、和光純薬工業製ＷＰＩ－１１３、和光純薬工業製ＷＰＩ－１２４、和光純薬工業製ＷＰＩ－１６９、和光純薬工業製ＷＰＩ－１７０、および、東洋合成化学製ＤＴＢＰＩ－ＰＦＢＳが挙げられる。
　また、カチオン光重合開始剤として使用可能なヨードニウム塩化合物の具体例としては、下記化合物ＰＡＧ－１、および、ＰＡＧ－２が挙げられる。
　上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン光重合開始剤の含有量は、カチオン重合性化合物の重合反応（カチオン重合）を良好に進行させる範囲で適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。カチオン重合性化合物１００質量部に対して、０．１～２００質量部が好ましく、１～１５０質量部がより好ましく、２～１００質量部が更に好ましい。
　その他の光重合開始剤としては、特開２００９－２０４７２５号公報の段落００５２～００５５に記載の光重合開始剤が挙げられ、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
－ＨＣ層形成用硬化性組成物に任意に含まれ得る成分－
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射により硬化する性質を有する少なくとも一種の成分と含ポリシロキサン化合物および含フッ素化合物からなる群から選択される化合物とを含み、任意に少なくとも一種の重合開始剤を含むことができ、含むことが好ましい。それらの詳細は、先に記載した通りである。
　次に、ＨＣ層形成用硬化性組成物に任意に含まれ得る各種成分について説明する。
（ｉ）無機粒子
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、平均一次粒径が２μｍ未満の無機粒子を含むことができる。ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層を有する前面板の硬度向上（更にはこの前面板を有する液晶パネルの硬度向上）の観点からは、ＨＣ層形成用硬化性組成物およびこの組成物を硬化したＨＣ層は、平均一次粒径が２μｍ未満の無機粒子を含むことが好ましい。無機粒子の平均一次粒径は、５ｎｍ～１μｍが好ましく、５～２００ｎｍがより好ましく、４０ｎｍ以上２００ｎｍ未満が更に好ましい。
　無機粒子および後述のマット粒子の平均一次粒径については、透過型電子顕微鏡（倍率５０万～２００万倍）で粒子の観察を行い、無作為に選択した粒子（一次粒子）１００個を観察し、それらの粒径の平均値をもって平均一次粒径とする。
　上記無機粒子としては、シリカ粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、および、酸化アルミニウム粒子が挙げられる。中でも、シリカ粒子が好ましい。
　上記無機粒子は、ＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれる有機成分との親和性を高めるために、その表面が有機セグメントを含む表面修飾剤で処理されていることが好ましい。表面修飾剤としては、無機粒子と結合を形成するか無機粒子に吸着し得る官能基と、有機成分と高い親和性を有する官能基を同一分子内に有するものが好ましい。無機粒子に結合または吸着し得る官能基を有する表面修飾剤としては、シラン系表面修飾剤、アルミニウム、チタニウム、および、ジルコニウム等の金属アルコキシド表面修飾剤、並びに、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、および、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が好ましい。有機成分との親和性の高い官能基としては、有機成分と同様の親疎水性を有する官能基、および、有機成分と化学的に結合し得る官能基等が挙げられる。中でも、有機成分と化学的に結合し得る官能基等が好ましく、エチレン性不飽和基または開環重合性基がより好ましい。
　なかでも、上記無機粒子として、エチレン性不飽和基を表面に有する無機粒子が好ましい。
　好ましい無機粒子の表面修飾剤は、金属アルコキシド表面修飾剤、または、アニオン性基とエチレン性不飽和基若しくは開環重合性基とを同一分子内に有する重合性化合物である。これら表面修飾剤によって無機粒子と有機成分とを化学的に結合させることによりＨＣ層の架橋密度を高めることができ、その結果、耐傷性を向上させることができる。
　上記表面修飾剤の具体例としては、以下の例示化合物Ｓ－１～Ｓ－８が挙げられる。
　Ｓ－１　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
　Ｓ－２　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＴｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
　Ｓ－３　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
　Ｓ－４　（Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０Ｏ）２ＰＯＯＨ
　Ｓ－５　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＳＯ３Ｈ
　Ｓ－６　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯ（Ｃ５Ｈ１０ＣＯＯ）２Ｈ
　Ｓ－７　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ５Ｈ１０ＣＯＯＨ
　Ｓ－８　ＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２ＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
　（Ｘは、水素原子またはメチル基を表す）
　表面修飾剤による無機粒子の表面修飾は、溶液中で行うことが好ましい。無機粒子を機械的に分散する際に、一緒に表面修飾剤を存在させるか、無機粒子を機械的に分散した後に表面修飾剤を添加して攪拌するか、または、無機粒子を機械的に分散する前に表面修飾を行って（必要により、加温、乾燥した後に加熱、またはｐＨ（ｐｏｗｅｒ　ｏｆ　ｈｙｄｒｏｇｅｎ）変更を行う）、その後に分散を行ってもよい。表面修飾剤を溶解する溶媒としては、極性の大きな有機溶媒が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、および、エステル等の公知の溶媒が挙げられる。
　無機粒子の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましい。上記含有量の下限値は、特に限定されるものではなく、０質量％であってもよい（ＨＣ層中に無機粒子が含まれなくてもよい）が、含まれる場合には、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましく、７質量％以上が更に好ましい。無機粒子の一次粒子の形状は、球形、および、非球形のいずれであってもよく、無機粒子の一次粒子は球形であることが好ましく、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層中において球形の２～１０個の無機粒子（一次粒子）が連結した非球形の２次粒子以上の高次粒子として存在することが更なる硬度向上の観点からより好ましい。
　無機粒子の具体的な例としては、ＥＬＣＯＭ　Ｖ－８８０２（日揮触媒化成製の平均一次粒径１５ｎｍの球形シリカ粒子）、ＥＬＣＯＭ　Ｖ－８８０３（日揮触媒化成製の異形シリカ粒子）、ＭｉＢＫ－ＳＤ（日産化学工業製平均一次粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ（日産化学工業製の平均一次粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－４１３０（日産化学工業製の平均一次粒径４５ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭｉＢＫ－ＳＤ－Ｌ（日産化学工業製の平均一次粒径４０～５０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ（日産化学工業製の平均一次粒径４０～５０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－５１４０Ｚ（日産化学工業製の平均一次粒径８５ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ－ＳＴ－ＺＬ（日産化学工業製の平均一次粒径８５ｎｍの球形シリカ粒子）、および、ＲＸ－３００（日本アエロジル製の平均一次粒径７ｎｍの球形シリカ粒子）が挙げられる。中でも、日産化学工業製ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚが、更なる硬度向上の観点から好ましく、ＲＸ－３００、ＭＥＫ－ＳＴ－ＺＬおよびＭＥＫ－ＡＣ－５１４０Ｚが表面凹凸付与の観点から好ましく、表面凹凸付与と視認性の両立の観点からＭＥＫ－ＳＴ－ＺＬよびＭＥＫ－ＡＣ－５１４０Ｚがより好ましい。
（ｉｉ）マット粒子
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、マット粒子を含むこともできる。マット粒子とは、平均一次粒径が２μｍ以上の粒子をいうものとし、無機粒子であっても有機粒子であってもよく、または無機・有機の複合材料の粒子であってもよい。マット粒子の形状は、球形および非球形のいずれであってもよい。マット粒子の平均一次粒径は、２～２０μｍが好ましく、４～１４μｍがより好ましく、６～１０μｍが更に好ましい。
　マット粒子の具体例としては、シリカ粒子、ＴｉＯ２粒子等の無機粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリル－スチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、および、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の有機粒子が挙げられる。中でも、マット粒子が有機粒子であることが好ましく、架橋アクリル粒子、架橋アクリル－スチレン粒子、または、架橋スチレン粒子がより好ましい。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層における単位体積あたりのマット粒子の含有量は、０．１０ｇ／ｃｍ３以上が好ましく、０．１０～０．４０ｇ／ｃｍ３がより好ましく、０．１０～０．３０ｇ／ｃｍ３が更に好ましい。
（ｉｉｉ）紫外線吸収剤（ＵＶ吸収剤）
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含むことができる。
　紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール化合物、および、トリアジン化合物が挙げられる。ここでベンゾトリアゾール化合物とは、ベンゾトリアゾール環を有する化合物であり、具体例としては、特開２０１３－１１１８３５号公報の段落００３３に記載されている各種ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が挙げられる。トリアジン化合物とは、トリアジン環を有する化合物であり、具体例としては、特開２０１３－１１１８３５号公報の段落００３３に記載されている各種トリアジン系紫外線吸収剤が挙げられる。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物中の紫外線吸収剤の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、０．１～１０質量％が好ましい
　また、紫外線吸収剤については、特開２０１３－１１１８３５号公報の段落００３２も参照できる。なお本明細書における紫外線とは２００～３８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光をいうものとする。
（ｉｖ）レベリング剤
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、レベリング剤を含むことができる。
　レベリング剤としては、含フッ素ポリマーが好ましく用いられる。例えば、特許第５１７５８３１号に記載されているフルオロ脂肪族基含有ポリマーが挙げられる。また、フルオロ脂肪族基含有ポリマーを構成する、一般式（１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの含有量が全重合単位の５０質量％以下のフルオロ脂肪族基含有ポリマーをレベリング剤として用いることもできる。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物がレベリング剤を含む場合、レベリング剤の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物の固形分中、０．０１～７質量％が好ましく、０．０５～５質量％がより好ましく、０．１～２質量％が更に好ましい。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、レベリング剤を、１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。２種以上含まれている場合、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
（ｖ）溶媒
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、溶媒を含むことも好ましい。
　溶媒としては、有機溶媒が好ましく、有機溶媒の１種または２種以上を任意の割合で混合して用いることができる。有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ－ブタノール、および、ｉ－ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、および、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルセロソルブ等のセロソルブ類；トルエン、および、キシレン等の芳香族類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；ジアセトンアルコール等が挙げられる。
　これらの中でも、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルおよび酢酸メチルを任意の割合で混合して用いることが好ましい。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物中の溶媒量は、上記組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整できる。溶媒の含有量は、重合性化合物および光重合開始剤の合計量１００質量部に対して、５０～５００質量部が好ましく、８０～２００質量部がより好ましい。
　また、ＨＣ形成用硬化性組成物の固形分の割合は、ＨＣ形成用硬化性組成物全質量に対して、１０～９０質量％が好ましく、５０～８０質量％がより好ましく、６５～７５質量％が更に好ましい。
（ｖｉ）その他の成分
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、上記成分に加えて、公知の添加剤の一種以上を任意の量で含むことができる。添加剤としては、表面調整剤、重合禁止剤、ポリロタキサン等が挙げられる。
　それらの詳細については、例えば、特開２０１２－２２９４１２号公報の段落００３２～００３４を参照できる。ただし添加剤はこれらに限らず、ＨＣ層形成用硬化性組成物に一般に添加され得る各種添加剤を用いることができる。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、以上記載した各種成分を同時に、または任意の順序で順次混合することにより調製できる。調製方法は特に限定されるものではなく、調製には公知の攪拌機等を用いることができる。
（ＨＣ層の厚み）
　ＨＣ層の厚みは、１μｍ以上が好ましく、１～１００μｍがより好ましく、１～２０μｍが更に好ましく、３～２０μｍが特に好ましく、５～２０μｍが最も好ましい。
　ＨＣ層の厚みは、ＨＣ層をミクロトームで切削して断面を切り出し、約３質量％の四酸化オスミウム水溶液で１晩染色したのち、再度表面を切り出して、断面をＳＥＭ（Scanning Electron Microscope、走査型電子顕微鏡）を用いて観察する。
　ＨＣ層の反射層側と反対側の表面における波長２．５μｍ以下の成分の面粗さＳａ１は、０．３０ｎｍ以上が好ましく、０．４０ｎｍ以上がより好ましく、０．４５ｎｍ以上がさらに好ましく、０．５０ｎｍ以上が特に好ましい。上限は特に制限されないが、３．０ｎｍ以下の場合が多く、２．０ｎｍ以下の場合がより多い。
　上記面粗さＳａ１が上記範囲となることで、反射フィルムの半製品の段階（反射層とＨＣ層とを含み、粘着層を有さない積層体の段階）で、反射層とＨＣ層が直接接するような状態でロール状にする際に、反射層とＨＣ層との摩擦を低減できるため、シワなく巻くことができ好ましい。
　ＨＣ層の反射層側と反対側の表面における波長１０μｍ以上の成分の面粗さＳａ２は、２．０ｎｍ以下が好ましく、１．５ｎｍ以下がより好ましく、１．２ｎｍ以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０．５ｎｍ以上の場合が多い。
　面粗さＳａ２が上記範囲となることで、反射フィルムの視認性を良好にでき好ましい。
　ＨＣ層表面の面粗さは、表面形状計測システム〔ＶｅｒｔＳｃａｎ（登録商標）Ｒ５５００Ｇ、株式会社日立ハイテクサイエンス社製〕を用いて、以下の条件で、ＨＣ層の表面の１２８μｍ×１２８μｍの領域における凹凸形状を測定し、画像データを読み取る。
・測定モード：Ｗａｖｅモード
・補完：あり
・ベースライン補正：あり
　得られた画像データを高速フーリエ変換（ＦＦＴ）し、波長＝２．５μｍの場合、周波数＝１／波長＝１／２．５（１／μｍ）＝１０００／２．５（１／ｍｍ）＝４００（１／ｍｍ）以上の成分をＨｉｇｈｐａｓｓで抜き出した画像データを取得し、取得された画像データの面粗さＳａを２．５μｍ以下の成分の面粗さＳａ１とした。
　同様に波長１０μｍの場合、周波数＝１／波長＝１／１０（１／μｍ）＝１０００／１０（１／ｍｍ）＝１００（１／ｍｍ）以下の成分をＬｏｗｐａｓｓで抜き出した画像データを取得し、取得された画像データの面粗さＳａを波長１０μｍ以上の成分の面粗さＳａ２とした。
（ＨＣ層の形成方法）
　ＨＣ層形成用硬化性組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射することにより、ＨＣ層を形成できる。
　塗布は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、および、グラビアコート法等の公知の塗布方法により行うことができる。
　なお、ＨＣ層は、２種以上の異なる組成の組成物を同時または逐次塗布することにより２層以上（例えば２層～５層程度）の積層構造のＨＣ層として形成することもできる。
　塗布されたＨＣ層形成用硬化性組成物に対して活性エネルギー線照射を行うことにより、ＨＣ層を形成できる。
　例えば、ＨＣ層形成用硬化性組成物がラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、ラジカル光重合開始剤およびカチオン光重合開始剤を含む場合、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物の重合反応を、それぞれラジカル光重合開始剤、カチオン光重合開始剤の作用により開始させ進行させることができる。照射する光の波長は、用いる重合性化合物および重合開始剤の種類に応じて決定すればよい。光照射のための光源としては、１５０～４５０ｎｍ波長帯域の光を発する高圧水銀ランプ、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、無電極放電ランプ、および、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）が挙げられる。
　また、光照射量は、３０～３０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１００～１５００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。光照射の前および後の一方または両方において、必要に応じて乾燥処理を行ってもよい。乾燥処理は、温風の吹き付け、加熱炉内への配置、および、加熱炉内での搬送等により行うことができる。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物が溶媒を含む場合、加熱温度は、溶媒を乾燥除去できる温度に設定すればよく、特に制限されない。ここで加熱温度とは、温風の温度または加熱炉内の雰囲気温度をいうものとする。
　反射フィルムは、上述した粘着層、反射層、および、ＨＣ層以外の他の層を有していてもよい。
　例えば、図２に示す例では、反射フィルム１０Ｂは、粘着層１、偏光変換層５、反射層２、位相差層６、透明基材７、および、ＨＣ層３をこの順に有する。反射フィルム１０Ｂの粘着層１の反射層２側とは反対側には保護フィルム４が配置され、反射フィルム１０Ｂと保護フィルム４とを含む積層体が形成される。
　また、図３に示す例では、反射フィルム１０Ｃは、粘着層１、透明基材７、偏光変換層５、反射層２、位相差層６、および、ＨＣ層３をこの順に有する。反射フィルム１０Ｃの粘着層１の反射層２側とは反対側には保護フィルム４が配置され、反射フィルム１０Ｃと保護フィルム４とを含む積層体が形成される。
　また、図４に示す例では、反射フィルム１０Ｄは、粘着層１、マット層８、偏光変換層５、反射層２、位相差層６、透明基材７、および、ＨＣ層３をこの順に有する。反射フィルム１０Ｄの粘着層１の反射層２側とは反対側には保護フィルム４が配置され、反射フィルム１０Ｃと保護フィルム４とを含む積層体が形成される。
　反射フィルム１０Ｂと反射フィルム１０Ｃとは、積層順が異なる以外、同じ部材を用いている。
　以下、反射フィルム１０Ｂ、反射フィルム１０Ｃおよび反射フィルム１０Ｄを構成する部材、および、保護フィルムについて詳述する。
　なお、反射フィルム１０Ｂ、反射フィルム１０Ｃおよび反射フィルム１０Ｄ中の粘着層１、反射層２、および、ＨＣ層３は、それぞれ上述した粘着層、反射層、および、ＨＣ層と同じであるため、説明を省略する。
＜偏光変換層＞
　偏光変換層は、液晶化合物の螺旋配向構造を固定化した層であって、螺旋配向構造のピッチ数ｘおよび偏光変換層の膜厚ｙ（単位μｍ）が下記関係式（ａ）～（ｃ）の全てを満足するものであるのが好ましい。
　　　０．１≦ｘ≦１．０　・・・　式（ａ）
　　　０．５≦ｙ≦３．０　・・・　式（ｂ）
　　　３０００≦（１５６０×ｙ）／ｘ≦５００００　・・・　式（ｃ）
　なお、液晶化合物の螺旋構造の１ピッチは、液晶化合物の螺旋の巻き数１回分である。すなわち、螺旋配向される液晶化合物のダイレクター（棒状液晶であれば長軸方向）が、３６０°回転した状態をピッチ数１とする。
　偏光変換層は液晶化合物の螺旋構造を有していると、赤外域の反射ピーク波長よりも短波長である可視光に対して旋光性と複屈折性を示す。そのため、可視域の偏光を制御できる。偏光変換層の螺旋配向構造のピッチ数ｘおよび偏光変換層の膜厚ｙを上記の範囲とすることで、可視光に対して偏光変換層で光学補償する機能、あるいは、反射フィルムに入射した直線偏光（ｐ偏光）を円偏光に変換する機能を付与することができる。
　偏光変換層は、液晶化合物が、関係式（ａ）～（ｃ）を満たす螺旋構造を有することにより、可視光に対して旋光性および複屈折性を示す。特に、偏光変換層の螺旋構造のピッチＰを、選択反射中心波長が長波長の赤外域であるコレステリック液晶層のピッチＰに対応する長さとすることにより、短波長である可視光に対して、高い旋光性と複屈折性を示す。
　関係式（ａ）は、『０．１≦ｘ≦１．０』である。
　螺旋構造のピッチ数ｘが０．１以上では、十分な旋光性および複屈折性が得られ、好ましい。
　また、螺旋構造のピッチ数ｘが１．０以下では、旋光性および複屈折性が十分で、所望の楕円偏光が得られやすい。
　関係式（ｂ）は、『０．５≦ｙ≦３．０』である。
　偏光変換層の厚さｙが０．５μｍ以上では、十分な旋光性および複屈折性が得られる。
　偏光変換層の厚さｙが３．０μｍ以下では、旋光性および複屈折性が十分で、所望の円偏光が得られやすい。
　関係式（ｃ）は、『３０００≦（１５６０×ｙ）／ｘ≦５００００』である。
　「（１５６０×ｙ）／ｘ」が３０００以上では、所望の偏光が得られやすい。
　「（１５６０×ｙ）／ｘ」が５００００以下では、所望の偏光が得られやすい。
　本発明において、偏光変換層の螺旋構造のピッチ数ｘは、０．１～０．８がより好ましく、膜厚ｙは、０．６～２．６μｍがより好ましい。また、「（１５６０×ｙ）／ｘ」は、５０００～１３０００がより好ましい。
　すなわち、偏光変換層は、螺旋構造のピッチＰが長く、かつ、ピッチ数ｘが少ないのが好ましい。
　具体的には、偏光変換層は、螺旋のピッチＰが、選択反射中心波長が長波長の赤外域であるコレステリック液晶層のピッチＰと同等で、かつ、ピッチ数ｘが少ないのが好ましい。より具体的には、偏光変換層は、螺旋のピッチＰが、選択反射中心波長が３０００～１００００ｎｍであるコレステリック液晶層のピッチＰと同等で、かつ、ピッチ数ｘが少ないのが好ましい。
　このような偏光変換層は、ピッチＰが対応する選択反射中心波長が、可視光よりも遥かに長波長であるため、上述した可視光に対する旋光性と複屈折性を、より好適に発現する。
　このような偏光変換層は、基本的に、公知のコレステリック液晶層と同様に形成できる。ただし、偏光変換層を形成する際には、偏光変換層における螺旋構造のピッチ数ｘおよび膜厚ｙ［μｍ］が、関係式（ａ）～（ｃ）を全て満たすように、使用する液晶化合物、使用するキラル剤、キラル剤の添加量、および、膜厚等を調節することが好ましい。
＜位相差層＞
　位相差層は、直交する２つの偏光成分に位相差（光路差）をつけて、入射した偏光の状態を変えるものである。
　位相差層が、車内側となるガラス板側に配置され光学補償するものである場合には、位相差層の正面位相差は、光学補償できる位相差とすればよい。
　この場合、位相差層は、波長５５０ｎｍにおける正面リタデーションが５０～１６０ｎｍであることが好ましい。
　また、反射フィルムを有するウインドシールドガラスを車両に装着した際における第１ガラス板の表面の鉛直方向上方に対応する方向を０°とした際に、遅相軸の角度が１０～５０°または－５０～－１０°であることが好ましい。
　また、位相差層が直線偏光を円偏光に変換するものである場合には、位相差層の正面位相差は、λ／４を与えるもので構成されることが好ましく、正面位相差として３λ／４を与えるもので構成してもよい。また、遅相軸の角度は、入射する直線偏光を円偏光に変える向きとなるように配置すればよい。
　この場合、位相差層は、例えば、波長５５０ｎｍにおける正面位相差が１００～４５０ｎｍの範囲であるのが好ましく、１２０～２００ｎｍまたは３００～４００ｎｍの範囲であることがより好ましい。また、位相差層の遅相軸の方向は、反射フィルムをヘッドアップディスプレイシステムに用いた場合における、投映像表示のための投映光の入射方向、および、反射層を構成するコレステリック液晶層の螺旋のセンスに応じて決定することが好ましい。
　位相差層は特に制限されず、目的に応じて適宜選択できる。位相差層としては、例えば、延伸されたポリカーボネートフィルム、延伸されたノルボルネン系ポリマーフィルム、炭酸ストロンチウムのような複屈折を有する無機粒子を含有して配向させた透明フィルム、支持体上に無機誘電体を斜め蒸着した薄膜、重合性液晶化合物を一軸配向させて配向固定したフィルム、および、液晶化合物を一軸配向させて配向固定したフィルム等が挙げられる。
　中でも、重合性液晶化合物を一軸配向させて配向固定したフィルムは、位相差層として、好適に例示される。
　このような位相差層は、一例として、透明基材、仮支持体、または配向層表面に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し、そこで液晶組成物中の重合性液晶化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、硬化によって固定化して、形成することができる。
　この場合の位相差層の形成は、液晶組成物中にキラル剤を添加しない以外は、上述のコレステリック液晶層の形成と同様に行うことができる。ただし、液晶組成物の塗布後のネマチック配向の際、加熱温度は５０～１２０℃が好ましく、６０～１００℃がより好ましい。
　位相差層は、高分子液晶化合物を含む組成物を、透明基材、仮支持体、または配向層等の表面に塗布して液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる層であってもよい。
　位相差層の厚さは、特に制限されず、０．２～３００μｍが好ましく、０．５～１５０μｍがより好ましく、１．０～８０μｍが更に好ましい。液晶組成物から形成される位相差層の厚さは、特に制限されず、０．２～１０μｍが好ましく、０．５～５．０μｍがより好ましく、０．７～２．０μｍが更に好ましい。
　位相差層は、例えば、位相差層の任意の方向の軸に対して、例えば、角度α傾けて遅相軸が設定される。遅相軸の方向は、例えば、位相差層の下層となる配向膜のラビング処理により設定できる。
　反射フィルムは、薄膜のフィルム状およびシート状等であればよい。反射フィルムは、ウインドシールドガラスに使用される前は、薄膜のフィルムとしてロール状等になっていてもよい。
＜透明基材＞
　透明基材は、反射層またはＨＣ層を形成する際の基板として使用することもできる。
　反射層またはＨＣ層の形成のために用いられる透明基材は、反射層またはＨＣ層の形成後に剥離される、仮支持体であってもよい。従って、完成した反射フィルムおよびウインドシールドガラスには、透明基材は含まれていなくてもよい。なお、仮支持体として剥離するのではなく、完成した反射フィルムまたはウインドシールドガラスが透明基材を含む場合には、透明基材は、可視光領域で透明であることが好ましい。
　透明基材の材料は特に制限されない。透明基材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリオレフィン、セルロース誘導体、および、シリコーン等のプラスチックフィルムが挙げられる。仮支持体としては、上述のプラスチックフィルムのほか、ガラスを用いてもよい。
　透明基材としては、セルロースアシレートフィルムが好ましい。
　透明基材の厚さとしては、５．０～１０００μｍ程度であればよく、１０～２５０μｍが好ましく、１５～９０μｍがより好ましく、４０～８０μｍが更に好ましい。
　透明基材は、いずれの方法で製膜してもよく、例えば、溶融製膜法および溶液製膜法が挙げられる。
（溶融製膜法、平滑化）
　透明基材を溶融製膜法で製膜する場合、溶融製膜法は、樹脂を押出機で溶融する溶融工程と、溶融した樹脂をダイからシート状に押し出す工程と、フィルム状に成形する工程とを含むことが好ましい。樹脂の材質によっては、溶融工程の後に溶融樹脂のろ過工程を設けてもよく、シート状に押し出す際に冷却してもよい。
　以下、具体的な溶膜製膜法を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
　上記透明基材の製造方法は、樹脂を押出機で溶融する溶融工程と、溶融した樹脂をフィルターが設置されたろ過装置に通してろ過するろ過工程と、ろ過した樹脂をダイからシート状に押し出し、冷却ドラムの上に密着させることにより冷却固化して未延伸の透明基材を成形するフィルム成形工程と、未延伸の透明基材を、１軸または２軸延伸する延伸工程とを有することが好ましい。
　このような構成により、透明基材を製造できる。溶融した樹脂のろ過工程で使用されるフィルターの孔径が１μｍ以下であると、異物を十分に取り除くことができる。その結果、得られる透明基材のフィルム幅方向の表面粗さを制御することができる。
　具体的には、透明基材の形成方法は下記工程を含むことができる。
［溶融工程］
　上記透明基材の製造方法は、樹脂を押出機で溶融する溶融工程を含む。
　樹脂、または、樹脂と添加剤との混合物を含水率２００ｐｐｍ以下に乾燥した後、一軸（単軸）または二軸の押出機に導入し溶融させることが好ましい。この時、樹脂の分解を抑制するために、窒素中または真空中で溶融することも好ましい。詳細な条件は、特許第４９６２６６１号の段落００５１～００５２（ＵＳ２０１３／０１００３７８号公報の段落００８５～００８６）を援用して、これらの公報に従い実施でき、これらの公報に記載された内容は本明細書に組み込まれる。
　押出機は、一軸混練押出機が好ましい。
　更に、溶融樹脂（メルト）の送り出し精度を上げるためギアポンプを使用することも好ましい。
［ろ過工程］
　上記透明基材の製造方法は、溶融した樹脂をフィルターが設置されたろ過装置に通してろ過するろ過工程を含み、ろ過工程で使用されるフィルターの孔径は１μｍ以下が好ましい。
　このような孔径の範囲のフィルターを有するろ過装置は、ろ過工程において１セットのみ設置してもよく、２セット以上設置してもよい。
［フィルム成形工程］
　上記透明基材の製造方法は、ろ過した樹脂をダイからシート状に押し出し、冷却ドラムの上に密着させることにより冷却固化して未延伸の透明基材を成形するフィルム成形工程を含む。
　溶融（および混練）し、ろ過した樹脂（樹脂を含むメルト）をダイからシート状に押し出す際、単層で押出しても、多層で押出してもよい。多層で押出す場合は、例えば、紫外線吸収剤を含む層と含まない層とを積層してもよく、より好ましくは紫外線吸収剤を含む層を内層にした３層構成が、紫外線による偏光子の劣化を抑え、紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できる点で好ましい。
　透明基材が多層で押出されて製造される場合、全層の厚みに対する、得られる透明基材の好ましい内層の厚みは、５０～９９％が好ましく、６０～９９％がより好ましく、７０～９９％が更に好ましい。このような積層は、フィードブロックダイおよびマルチマニホールドダイを用いることで実施できる。
　特開２００９－２６９３０１号公報の段落００５９に従い、ダイからシート状に押し出した樹脂（樹脂を含むメルト）を冷却ドラム（キャスティングドラム）上に押出し、冷却固化し、未延伸の透明基材（原反）を得ることが好ましい。
　上記透明基材の製造方法において、ダイから押し出される樹脂の温度は、２８０～３２０℃が好ましく、２８５～３１０℃がより好ましい。溶融工程でダイから押し出される樹脂の温度が２８０℃以上であることが、原料樹脂の溶融残りを減少させて異物の発生を抑制することができる点で好ましい。溶融工程でダイから押し出される樹脂の温度が３２０℃以下であることが、樹脂の分解を減少させて異物の発生を抑制することができる点で好ましい。
　ダイから押し出される樹脂の温度は、放射温度計（林電工製、型番：ＲＴ６１－２、放射率０．９５で使用）により樹脂の表面を非接触で測定することができる。
　上記透明基材の製造方法は、フィルム成形工程において、樹脂を冷却ドラムの上に密着させる際に静電印加電極を用いることが好ましい。これにより、フィルム面が荒れないように樹脂を強く冷却ドラムの上に密着させることができる。
　上記透明基材の製造方法は、冷却ドラムの上に密着させる際（ダイから押出された溶融樹脂が冷却ドラムと最初に接触する点）の樹脂の温度は２８０℃以上が好ましい。これにより、樹脂の電気伝導性が高まり、静電印加により冷却ドラムに強く密着させることができ、フィルム面の荒れを抑制できる。
　冷却ドラムの上に密着させる際の樹脂の温度は、放射温度計（林電工製、型番：ＲＴ６１－２、放射率０．９５で使用）により、樹脂の表面を非接触で測定できる。
［延伸工程］
　上記透明基材の製造方法は、未延伸の透明基材を、１軸または２軸延伸する延伸工程を含む。
　縦延伸工程（フィルムの搬送方向と同じ方向に延伸する工程）では、透明基材が予熱された後、透明基材が加熱された状態で、周速差のある（すなわち、搬送速度の異なる）ローラー群で搬送方向に延伸される。
　縦延伸工程における予熱温度は透明基材のガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、Ｔｇ－４０℃以上Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、Ｔｇ－２０℃以上Ｔｇ＋４０℃以下がより好ましく、Ｔｇ以上Ｔｇ＋３０℃以下が更に好ましい。また、縦延伸工程における延伸温度は、Ｔｇ以上Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、Ｔｇ＋２℃以上Ｔｇ＋４０℃以下がより好ましく、Ｔｇ＋５℃以上Ｔｇ＋３０℃以下が更に好ましい。縦方向の延伸倍率は１．０～２．５倍が好ましく、１．１～２倍がより好ましい。
　透明基材は、縦延伸工程に加えて、または縦延伸工程に代えて、横延伸工程（フィルムの搬送方向に対して垂直な方向に延伸する工程）により、幅方向に横延伸される。横延伸工程では例えばテンターを好適に用いることができ、このテンターによって透明基材の幅方向の両端部をクリップで把持し、横方向に延伸する。この横延伸によって、光学フィルムにおける透明基材の引張弾性率を高めることができる。
　横延伸は、テンターを用いて実施するのが好ましく、好ましい延伸温度は透明基材のガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、Ｔｇ以上Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、Ｔｇ＋２℃以上Ｔｇ＋４０℃以下がより好ましく、Ｔｇ＋４℃以上Ｔｇ＋３０℃以下が更に好ましい。延伸倍率は１．０～５．０倍が好ましく、１．１～４．０倍がより好ましい。横延伸の後に縦および横のいずれか、または、両方に透明基材を緩和させることも好ましい。
　また、厚みの幅方向および長手方向の場所による変動をいずれも１０％以下にすることが好ましく、８％以下にすることがより好ましく、６％以下にすることが更に好ましく、４％以下にすることが特に好ましく、２％以下にすることが最も好ましい。
　尚、ここで、厚みの変動は、以下の通り求めることができる。
　延伸された透明基材を１０ｍ（メートル）サンプリングし、フィルム幅方向の両端部２０％ずつを除き、フィルム中心部から幅方向および長手方向に等間隔でそれぞれ５０点サンプリングし、厚みを測定する。
　幅方向の厚み平均値ＴｈＴＤ－ａｖ、最大値ＴｈＴＤ－ｍａｘ、および、最小値ＴｈＴＤ－ｍｉｎを求め、
　　　（ＴｈＴＤ－ｍａｘ－ＴｈＴＤ－ｍｉｎ）÷　ＴｈＴＤ－ａｖ×１００　［％］
が幅方向の厚みの変動である。
　また、長手方向の厚み平均値ＴｈＭＤ－ａｖ、最大値ＴｈＭＤ－ｍａｘ、および、最小値ＴｈＭＤ－ｍｉｎを求め、
　　　（ＴｈＭＤ－ｍａｘ－ＴｈＭＤ－ｍｉｎ）÷　ＴｈＭＤ－ａｖ×１００　［％］
が長手方向の厚みの変動である。
　上記延伸工程により、透明基材の厚み精度の向上を図ることができる。
　延伸後の透明基材は、巻取工程でロール状に巻き取ることができる。その際、透明基材の巻取りテンションは、０．０２ｋｇ／ｍｍ２以下とすることが好ましい。
　その他詳細な条件については、溶融製膜は特開２０１５－２２４２６７号公報の段落０１３４～０１４８に記載された内容、延伸工程は特開２００７－１３７０２８号公報に記載された内容を、本発明にあわせて本明細書に組み込むことができる。
（溶液製膜法、平滑化）
　透明基材を溶液製膜法で製膜する場合、ドープ液を流延バンド上に流延し、流延膜を形成する工程と、流延膜を乾燥する工程と、流延膜を延伸する工程とを含むことが好ましい。具体的には、特許第４８８９３３５号に記載の方法によって製膜するのが好ましい。
　本発明では、以下の方法を採用することが好ましい。
　例えば、特開平１１－１２３７３２号公報に記載の、流延膜の乾燥速度を乾量基準の含有溶媒量で３００質量％／ｍｉｎ（＝５質量％／ｓ）以下とし、緩やかな乾燥を行う方法が挙げられる。また、特開２００３－２７６０３７号公報に記載の、中間層であるコア層の両表面にスキン層（外層）を有する多層構造の流延膜の共流延法において、コア層を形成するドープ液の粘度を高めて流延膜の強度を確保すると共に外層を形成するドープの粘度を低くする方法が挙げられる。更に、流延膜を急乾燥して流延膜表面に膜を形成し、形成された膜のレベリング効果により面状を平滑化する方法、および、流延膜を延伸する方法等も好ましく挙げられる。
　透明基材は、熱で収縮してもよい。特に、反射フィルムを曲面ガラスに追従させる場合には、透明基材が熱収縮することで、反射フィルムが収縮し、シワを抑制できる点で好ましい。
　なお、反射フィルムを曲面ガラス等に追従させる際には、曲面ガラスの表面上に施工液を付与した上で、反射フィルムの曲面ガラス上への追従処理を実施することが好ましい。
　施工液として、界面活性剤を、蒸留水、イオン交換水または水道水に溶解させて得られる液を用いることができる。界面活性剤は、施工液の被貼合物（例えば、ガラス）表面への濡れ性の向上、蒸発時間の調整等に寄与する。
　界面活性剤としては、グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、および、ショ糖脂肪酸エステル等のエステル型界面活性剤、アルキルポリエチレングリコール、および、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等のエーテル型界面活性剤、並びに、アルキルグリコシド等の非イオン型界面活性剤が挙げられる。
　施工液における界面活性剤の濃度は、０．０１～５質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましい。
　曲面ガラスに対して、平面の反射フィルムを挟む場合に、余分となるフィルムによって生じるシワを、透明基材を含む反射フィルムが収縮することで解消できるものと推定する。
　一般に、透明基材は、製造において延伸するプロセスが含まれており、延伸による応力が残留応力として存在する。そのため、この残留応力を利用し、曲面追従時の加熱によって、熱収縮させることができる。この熱収縮によって、曲面ガラスへ追従させる際に発生するシワを解消できるものと推定する。また、シワは、曲面ガラスの外周部近傍のガラスの湾曲の大きい部分に発生しやすく、ガラスの湾曲の小さい部分では発生しにくい。これに対して、熱収縮する透明基材を用いた反射フィルムでは、ガラスの湾曲が大きい部分でシワの発生を効果的に抑える作用がある。ガラスの湾曲の大きい部分では、フィルムが厚み方向に膨張する自由度があり、面方向のフィルム収縮が起こり、ガラスの湾曲の小さい部分ではフィルムが厚み方向に膨張する自由度が小さく、面方向のフィルム収縮がほとんど起こらないという作用機構が考えられる。
　透明基材が熱収縮する温度は、透明基材の形成材料に応じて様々であるが、８０～２００℃の範囲で収縮するのが好ましく、一般的な曲面追従プロセスにおけるヒートガンによる加熱処理温度である１００～１４０℃の範囲で収縮するのがより好ましい。
　透明基材を収縮させるための加温は、曲面ガラス全体に行ってもよいが、曲率が高く、シワが発生しやすい部分に局所的に行ってもよい。
　反射フィルムのシワの抑制に必要な透明基材の収縮量は、ガラスの曲率および寸法等によって異なる。透明基材は、曲面追従プロセスにおけるヒートガン等による加温条件において、熱収縮率が最大となる方向、および、該方向と直交する方向の熱収縮率が、それぞれ、０．０１～５．０％であることが好ましく、０．０５～３．０％であることがより好ましく、０．２～２．０％であることが更に好ましい。熱収縮率が０．０１％以上の場合、曲面追従時にシワが発生しにくい。また、熱収縮率が５．０％以下の場合、曲面追従時に泡が発生しにくい。熱収縮率は、透明基材を製造する際の延伸条件によって適宜調整することができる。
　熱収縮率の測定は、以下の通りである。
　幅方向３０ｍｍ、長さ方向１２０ｍｍに切り出したフィルムの試料片に、予め１００ｍｍの間隔となるように幅方向に２本の基準線を入れる。試料片を、無張力下で１４０℃の加熱オーブン中に４５分間静置した後、試料片を室温まで冷却する処理を行い、２本の基準線の間隔を測定する。このときに測定される処理後の間隔をＡ〔ｍｍ〕とする。処理前の間隔１００ｍｍと、処理後の間隔Ａｍｍとから、「１００×（１００－Ａ）／１００」の式を用いて算出される数値〔％〕を、試料片の熱収縮率とする。
＜粘着層の保護フィルム層＞
　粘着層の片側の面に、剥離可能な保護フィルム層を設けることが好ましい。かかる保護フィルム層を有することにより、使用前の反射フィルムが有する粘着層の破損および埃、汚れ等の付着を防ぐことができ、使用時には上記保護フィルム層を剥がすことができる。
　保護フィルム層と粘着層との間には、保護フィルム層の剥離を容易にするために、剥離層を設けることができる。かかる剥離層を設ける方法は、特に限定されるものではなく、例えば、保護フィルム層および粘着層のうちの少なくともいずれかの表面に剥離コート剤を塗布することにより設けることができる。剥離コート剤の種類については特に限定されるものではなく、例えば、シリコーン系コート剤、無機系コート剤、フッ素コート剤、および、有機無機ハイブリッド系コート剤等が挙げられる。
　剥離層を用いる場合、保護フィルム層表面に剥離層を設けた後、粘着層の表面に積層することにより、反射フィルムと保護フィルムとを含む積層体を得ることができる。この場合、上記剥離層は保護フィルム層表面ではなく、粘着層の表面に設けてもよい。
　本発明の反射フィルム上（粘着層上）に保護フィルム層を設ける場合、保護フィルム層と反射フィルム層は熱収縮率差が小さいことが好ましい。
　具体的には、曲面追従プロセスにおけるヒートガン等による加温条件における熱収縮率差は、２．０％以下が好ましく、１．０％以下がより好ましく、０．６％以下が更に好ましい。保護フィルム層と反射フィルム層との熱収縮率差を上記範囲にすることで、曲面ガラスへ追従させる際のヒートガン等による加熱時における反射フィルムの変形を抑えることができる。
　より具体的には、反射フィルムと保護フィルムとの１４０℃における熱収縮率の差が１．５％より小さいことが好ましい。つまり、反射フィルムの１４０℃における熱収縮率と、保護フィルムの１４０℃における熱収縮率との差が、１．５％より小さいことが好ましく、１．０％以下がより好ましく、０．６％以下が更に好ましい。下限は特に制限されず、０％が挙げられる。
　本発明の反射フィルムは、直線偏光を反射することが好ましい。反射フィルムをウインドシールドガラスに組み込んでヘッドアップディスプレイのコンバイナとして用いる場合、ウインドシールドガラス表面における反射を抑制するために、投映される画像光はｐ偏光、すなわち、直線偏光であることが好ましい。
　一方、本発明において、反射層は、コレステリック液晶層を有し、円偏光を反射するものである。
　従って、本発明の反射フィルムは、反射フィルムに入射する直線偏光を円偏光に変換する層を有することが好ましい。光の偏光状態を変換する層としては、上述した、偏光変換層、および、位相差層が挙げられる。
　上述したように、偏光変換層は、可視光に対して旋光性および複屈折性を示すものであり、入射した光の偏光状態を変換するものである。本発明において、偏光変換層は、液晶化合物等複屈折性を有する材料がねじれ量３６０°以下で配向された層からなることが好ましい。
　上述したように、位相差層は、直交する２つの偏光成分に位相差（光路差）をつけて、入射した偏光の状態を変えるものである。本発明において、位相差層は、液晶化合物等複屈折性を有する材料が同じ方向に向いて配列してなる層であり、旋光性を有さない。
　反射フィルムが、反射層の光が入射する側に偏光変換層または位相差層を有する構成とすることで、反射フィルムに入射する直線偏光を円偏光に変換して、反射層が円偏光を反射し、反射した円偏光を偏光変換層または位相差層が直線偏光に変換して出射するものとすることができる。
　上述したように、図４に示す例では、反射フィルム１０Ｄは、反射層２の一方の面側に偏光変換層５を有し、他方の面側に位相差層６を有する。このような反射フィルム１０Ｄがウインドシールドガラスに組み込まれる際には、一例として、図５に示すように、偏光変換層５が車内側ガラス板１１側となるように配置される。
　図５に示すウインドシールドガラスは、車内側ガラス板１１、粘着層１、マット層８、偏光変換層５、反射層２、位相差層６、透明基材７、および、ＨＣ層３をこの順で有する。
　この場合、偏光変換層は、投映されるｐ偏光（直線偏光）を、反射層のコレステリック液晶層が反射する円偏光に変換する機能を有する。
　一方、位相差層は、ウインドシールドガラスの外側から入射する光に対する光学補償する機能を有する。例えば、ウインドシールドガラスの外側から入射したｓ偏光は、偏光変換層を通過する際に偏光状態が変化して、ｐ偏光の成分が混在してしまう。偏光サングラスはｓ偏光をカットするので、このｐ偏光の成分は、偏光サングラスを透過してしまう。そのため、ｓ偏光が主成分である反射光のギラツキをカットする偏光サングラスの機能が損なわれ、運転の支障となる問題がある。これに対して、位相差層を有する構成とし、位相差層で光学補償することで、偏光サングラス適性が改善できる。
　なお、図５に示す例では、反射フィルム１０Ｄは、偏光変換層５が車内側ガラス板１１側となるように配置される構成としたがこれに限定はされない。反射フィルム１０Ｄは、位相差層６が車内側ガラス板１１側となるように配置されてもよい。
　この場合、位相差層６は、投映されるｐ偏光（直線偏光）を、反射層２のコレステリック液晶層が反射する円偏光に変換する機能を有する。
　一方、偏光変換層５は、ウインドシールドガラスの外側から入射する光に対する光学補償する機能を有し、偏光変換層５で光学補償することで、偏光サングラス適性が改善できる。
　また、本発明の反射フィルムは、反射層２の両側に偏光変換層を有する構成であってもよいし、両側に位相差層を有する構成であってもよい。
　この場合、車内側ガラス板に配置される偏光変換層または位相差層が、投映されるｐ偏光（直線偏光）を、反射層のコレステリック液晶層が反射する円偏光に変換する機能を有する構成とすればよい。
　一方、車外側に配置される偏光変換層または位相差層が、ウインドシールドガラスの外側から入射する光に対する光学補償する機能を有する構成とすればよい。
　偏光変換層および位相差層については上述した通りである。
＜マット層＞
　また、本発明の反射フィルムは、反射層のハードコート層とは反対側にマット層を有していてもよい。特に、反射フィルムは、粘着層と反射層との間に、マット層を有していてもよい。
　マット層は、凹凸を有する層である。マット層を付与することで、反射フィルムの半製品の段階（マット層と反射層とＨＣ層とを含み、粘着層を有さない積層体の段階）で、マット層とＨＣ層が直接接するような状態でロール状にする際に、マット層とＨＣ層との摩擦を低減できるため、シワなく巻くことができ好ましい。反射層上に位相差層または偏光変換層を有する構成の場合、マット層は位相差層または偏光変換層のハードコート層とは反対側に設けることができる。
　マット層は、マット層形成用硬化性組成物に活性エネルギー線を照射し、硬化することで得ることができる。
　マット層の形成に用いられるマット層形成用硬化性組成物は、反射層、位相差層および偏光変換層との密着を確保するために、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と、ラジカル光重合開始剤とを含むことが好ましく、凹凸を付与するために粒子を含むことが好ましい。
　また、マット層形成用硬化性組成物は、溶媒、または、レベリング剤を含むことも好ましい。
（マット層の厚み）
　マット層の厚みは、１０ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ～１μｍがより好ましく、３０ｎｍ～１μｍが更に好ましい。
　マット層の厚みは、マット層をミクロトームで切削して断面を切り出し、約３質量％の四酸化オスミウム水溶液で１晩染色したのち、再度表面を切り出して、断面をＳＥＭ（Scanning Electron Microscope、走査型電子顕微鏡）を用いて観察する。
　マット層の反射層側と反対側の表面における波長２．５μｍ以下の成分の面粗さＳａ１は、０．３０ｎｍ以上が好ましく、０．４０ｎｍ以上がより好ましく、０．４５ｎｍ以上がさらに好ましく、０．５０ｎｍ以上が特に好ましい。
　上記面粗さＳａ１が上記範囲となることで、反射フィルムの半製品の段階（マット層とＨＣ層とを含み、粘着層を有さない積層体の段階）で、マット層とＨＣ層が直接接するような状態でロール状にする際に、マット層とＨＣ層との摩擦を低減できるため、シワなく巻くことができ好ましい。
　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例、比較例、作製例に示す材料、試薬、物質量とその割合、および、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は、以下の実施例に限定されるものではない。
＜ＨＣ層形成用硬化性組成物の調製＞
　下記表１および２に示す配合で各成分を混合し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１～ＨＣ－２６を調製した。
　表１および２に示す各成分の配合量は、質量部で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
　上記表１および２中の数値の単位は質量％である。
　表１および２に記載した各化合物の詳細を以下に示す。
　なお、ＰＡＧ－１およびＰＡＧ－２は、上述した化合物である。
＜レベリング剤＞
　Ｐ－１１２：レベリング剤、特許第５１７５８３１号の段落００５３に記載の化合物Ｐ－１１２
＜反射層形成用組成物、位相差層形成用組成物、偏光変換層形成用組成物の調製＞
　下記表３に示す配合で各成分を混合し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、反射層形成用組成物ＢＧ１、Ｒ１、ＩＲ１、位相差層形成用組成物Ａ１、偏光変換層形成用組成物ＴＷ－１を調製した。
　表３に示す各成分の配合量は、質量部で表される。
　なお、混合物１、配向制御剤１および配向制御剤２は、上述した化合物である。
＜マット層形成用組成物の調製＞
　下記表４に示す配合で各成分を混合し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、マット層形成用組成物Ｍ－１～３を調製した。
　表４に示す各成分の配合量は、質量部で表される。
　配向膜を形成したセルロースアシレートフィルムを、透明基材として用いた。
＜セルロースアシレートフィルムの鹸化＞
　国際公開第２０１４／１１２５７５号の実施例２０と同一の作製方法で、厚み４０μｍセルロースアシレートフィルムを作製した。なお、このセルロースアシレートフィルムには、紫外線吸収剤として、帝盛化工社製のＵＶ－５３１を添加した。添加量は、３ｐｈｒ（per hundred resin）とした。
　作製したセルロースアシレートフィルムを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させて、フィルムの表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍＬ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外ヒーター（ノリタケカンパニーリミテド社製）の下に１０秒間滞留させた。
　次いで、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍＬ／ｍ2塗布した。
　次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１を作製した。
　また、膜厚が２５μｍ、６０μｍ、および、８０μｍになるよう調節して作製したセルロースアシレートフィルムを用意し、上記と同様の処理を施し、セルロースアシレートフィルム２、３、および、４を作製した。
　また、膜厚が４０μｍになるよう調節し、更に、残留応力が大きくなるよう延伸条件を調整して作製したセルロースアシレートフィルムを用意し、上記と同様の処理を施し、セルロースアシレートフィルム５を作製した。
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アルカリ溶液の組成
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・水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．７質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５．７質量部
・イソプロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　６４．８質量部
・界面活性剤（Ｃ16Ｈ33Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10Ｈ）　　　　 　１．０質量部
・プロピレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　１４．９質量部
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＜配向膜の形成＞
　上述で得られた鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１（透明基材）の鹸化処理面に、下記に示す組成の配向膜形成用塗布液をワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ2塗布し、１００℃の温風で１２０秒乾燥し、厚み０．５μｍの配向膜を得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液の組成
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・下記に示す変性ポリビニルアルコール　　　　　　　　　　２８質量部
・クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学社製）　　　　　　１．２質量部
・光開始剤（イルガキュア２９５９、ＢＡＳＦ社製）　　０．８４質量部
・グルタルアルデヒド　　　　　　　　　　　　　　　　　２．８質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６９９質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２２６質量部
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（変性ポリビニルアルコール）
＜反射フィルムの作製＞
　上記で作製した配向膜に、支持体の長辺方向を基準に時計回りに４５°回転させた方向にラビング処理（レーヨン布、圧力：０．１ｋｇｆ（０．９８Ｎ）、回転数：１０００ｒｐｍ（revolutions per minute）、搬送速度：１０ｍ／ｍｉｎ、回数：１往復）を施した。
　上記でラビングした配向膜表面に、反射層形成用組成物ＩＲ１を、乾燥後の乾膜の厚さが０．４μｍになるようにワイヤーバーを用いて室温にて塗布して塗布層を得た。
　塗布層を室温で３０秒間乾燥させた後、８５℃の雰囲気で２分間加熱した。その後、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の環境で、６０℃でフュージョン社製のＤバルブ（９０ｍＷ／ｃｍのランプ）によって、出力６０％で６～１２秒間、紫外線を照射し、コレステリック液晶相を固定して、厚さ０．４μｍのコレステリック液晶層ＩＲ１を得た。
　次に、得られたコレステリック液晶層ＩＲ１の表面に更に、反射層形成用組成物ＢＧ１を用いて同様の工程を繰り返し、厚さ０．３４μｍのコレステリック液晶層ＢＧ１を積層した。
　次に、得られたコレステリック液晶層ＢＧ１の表面に更に、反射層形成用組成物Ｒ１を用いて同様の工程を繰り返し、厚さ０．２０μｍのコレステリック液晶層Ｒ１を積層した。
　こうして３層のコレステリック液晶層からなる反射層を有するフィルムＡ１を得た。フィルムＡ１の透過スペクトルを分光光度計（日本分光社製、Ｖ－６７０）で測定したところ、５１５ｎｍ、６８５ｎｍ、および、７７５ｎｍに選択反射中心波長を有する透過スペクトルが得られた。
　上記で作製したフィルムＡ１におけるセルロースアシレートフィルム１の、反射層とは逆側の面に、ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１を塗布し、硬化させて膜厚６μｍのＨＣ１層を形成した。
　塗布および硬化の方法は、具体的には、次の通りとした。特開２００６－１２２８８９号公報の実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件でＨＣ層形成用硬化性組成物を塗布し、雰囲気温度６０℃で６０秒間乾燥した。その後、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度１５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、塗布したＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化させて第１のＨＣ層を形成し、反射層とＨＣ層とを有するフィルムＨＣ１を得た。
　上記で作製したフィルムＨＣ１の反射層側へ粘着層を付与した。ＮＣＦ－Ｄ６９２（粘着層膜厚１５μｍ、リンテック(株)社製）の軽剥離フィルムを剥離した後、露出した粘着層とフィルムＨＣ１の反射層が接するようにしてゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせ、ＨＣ層／透明基材／反射層／粘着層／保護フィルムの構成を持つ実施例１の反射フィルムを作製した。
　なお、上記ＮＣＦ－Ｄ６９２は、軽剥離フィルム、粘着層、および、重剥離フィルムを有しており、反射フィルム中の保護フィルムは、ＮＣＦ－Ｄ６９２の重剥離フィルムに該当する。
＜実施例２～１３＞
　ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１の代わりにＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－２～ＨＣ－１３を使用した以外は、実施例1と同様にして、実施例２～１３の反射フィルムを作製した。
＜実施例１４＞
　第１のＨＣ層の厚みを１２μｍとした以外は、実施例２と同様にして、実施例１４の反射フィルムを作製した。
＜実施例１５＞
　第１のＨＣ層の厚みを３μｍとした以外は、実施例２と同様にして、実施例１５の反射フィルムを作製した。
＜実施例１６＞
　ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－２の代わりにＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１４を使用し、硬化する際の紫外線照射条件を照度２０ｍＷ／ｃｍ２、照射量３０ｍＪ／ｃｍ２とした以外は実施例１４と同様にして第１のＨＣ層を形成した。
　上記で形成した第１のＨＣ層の表面上に、ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１５を塗布し、硬化させて膜厚４μｍの第２のＨＣ層を形成した。
　塗布および硬化の方法は、具体的には、次の通りとした。特開２００６－１２２８８９号公報の実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件でＨＣ層形成用硬化性組成物を塗布し、雰囲気温度６０℃で１５０秒間乾燥した。その後、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度１５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、第２のＨＣ層を形成した後、巻き取りを行い反射層とＨＣ層とを有するフィルムＨＣ２を得た。
　上記で作製したフィルムＨＣ２の反射層側へ粘着層を付与した。ＮＣＦ－Ｄ６９２（粘着層膜厚１５μｍ、リンテック(株)社製）の軽剥離フィルムを剥離した後、露出した粘着層とフィルムＨＣ１の反射層が接するようにしてゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせ、ＨＣ層／透明基材／反射層／粘着層／保護フィルムの構成を持つ実施例１６の反射フィルムを作製した。
＜実施例１７＞
　コレステリック液晶層ＢＧ１の厚みを０．８４μｍにした以外は、実施例２と同様にして、実施例１７の反射フィルムを作製した。
＜実施例１８＞
　コレステリック液晶層Ｒ１の厚みを０．３６μｍにした以外は、実施例２と同様にして、実施例１８の反射フィルムを作製した。
＜実施例１９＞
　粘着層としてＮＣＦ－Ｄ６９２（粘着層厚み１０μｍ、リンテック（株）社製）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例１９の反射フィルムを作製した。
　なお、上記ＮＣＦ－Ｄ６９２は、軽剥離フィルム、粘着層、および、重剥離フィルムを有しており、反射フィルム中の保護フィルムは、ＮＣＦ－Ｄ６９２の重剥離フィルムに該当する。
＜実施例２０＞
　粘着層としてＮＣＦ－Ｄ６９２（粘着層厚み５μｍ、リンテック（株）社製）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２０の反射フィルムを作製した。
　なお、上記ＮＣＦ－Ｄ６９２は、軽剥離フィルム、粘着層、および、重剥離フィルムを有しており、反射フィルム中の保護フィルムは、ＮＣＦ－Ｄ６９２の重剥離フィルムに該当する。
＜実施例２１＞
　粘着層としてＮＣＦ－Ｄ６９２（粘着層厚み２０μｍ、リンテック（株）社製）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２１の反射フィルムを作製した。
　なお、上記ＮＣＦ－Ｄ６９２は、軽剥離フィルム、粘着層、および、重剥離フィルムを有しており、反射フィルム中の保護フィルムは、ＮＣＦ－Ｄ６９２の重剥離フィルムに該当する。
＜実施例２２＞
　粘着層としてＮＣＦ－Ｄ６９２（粘着層厚み２５μｍ、リンテック（株）社製）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２２の反射フィルムを作製した。
　なお、上記ＮＣＦ－Ｄ６９２は、軽剥離フィルム、粘着層、および、重剥離フィルムを有しており、反射フィルム中の保護フィルムは、ＮＣＦ－Ｄ６９２の重剥離フィルムに該当する。
＜実施例２３＞
　粘着層としてパナクリーンＰＤ－Ｓ１（粘着層厚み５μｍ、パナック（株）製）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２３の反射フィルムを作製した。
　なお、上記パナクリーンＰＤ－Ｓ１は、軽剥離フィルム、粘着層、および、重剥離フィルムを有しており、反射フィルム中の保護フィルムは、ＰＤ－Ｓ１の重剥離フィルムに該当する。
＜実施例２４＞
　粘着層としてＭＦ－５８（粘着層厚み１２μｍ、巴川製紙所（株）製）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２４の反射フィルムを作製した。
　なお、上記ＭＦ－５８は、軽剥離フィルム、粘着層、および、重剥離フィルムを有しており、反射フィルム中の保護フィルムは、ＭＦ－５８の重剥離フィルムに該当する。
＜実施例２５＞
　粘着層としてＭＨＭ－ＵＶＣ（粘着層厚み１５μｍ、日榮新化（株）製）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２５の反射フィルムを作製した。
　なお、上記ＭＨＭ－ＵＶＣは、軽剥離フィルム、粘着層、および、重剥離フィルムを有しており、反射フィルム中の保護フィルムは、ＭＨＭ－ＵＶＣの重剥離フィルムに該当する。
＜実施例２６＞
　粘着層としてＳＫダイン２０５７（粘着層厚み２５μｍ、綜研化学（株）製）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２６の反射フィルムを作製した。
　なお、上記ＳＫダイン２０５７は、軽剥離フィルム、粘着層、および、重剥離フィルムを有しており、反射フィルム中の保護フィルムは、ＳＫダイン２０５７の重剥離フィルムに該当する。
＜実施例２７＞
　透明基材としてセルロースアシレートフィルム２（厚み２５μｍ）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２７の反射フィルムを作製した。
＜実施例２８＞
　透明基材としてセルロースアシレートフィルム３（厚み６０μｍ）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２８の反射フィルムを作製した。
＜実施例２９＞
　透明基材としてセルロースアシレートフィルム４（厚み８０μｍ）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２９の反射フィルムを作製した。
＜実施例３０＞
　透明基材としてセルロースアシレートフィルム５（厚み４０μｍ）を使用した以外は、実施例１８と同様にして、実施例３０の反射フィルムを作製した。
＜実施例３１＞
　ラビングした配向膜表面に、位相差層形成用組成物Ａ１をワイヤーバーを用いて塗布した後、乾燥させた後、下記の条件で硬化させ、硬化させた位相差層Ａ１の上に反射層形成用組成物ＩＲ１を塗布した以外は、実施例２４と同様にして、実施例３１の反射フィルムを作製した。
＜位相差層形成用組成物Ａ１の硬化条件＞
　位相差層形成用組成物Ａ１を塗布、乾燥した後、５０℃のホットプレート上に置き、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の環境で、フュージョンＵＶシステムズ社製の無電極ランプ「Ｄバルブ」（６０ｍＷ／ｃｍ2）によって６秒間、紫外線を照射し、位相差層を形成した。これによりして、所望の正面位相差、すなわち、所望のレタデーションとなるように厚さを調整した位相差層を得た。
　作製した位相差層の５５０ｎｍにおけるレタデーションをＡｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏＳｃａｎを用いて測定したところ、１２６ｎｍであった。
＜実施例３２＞
　コレステリック液晶層Ｒ１の上に偏光変換層ＴＷ１を、厚さが０．８μｍになるように付与した以外は実施例３１と同様にして実施例３２の反射フィルムを作製した。
　なお、偏光変換層ＴＷ１は偏光変換層形成用組成物ＴＷ１をワイヤーバーを用いて室温にてコレステリック液晶層Ｒ１の上に塗布した後、塗布層を室温で３０秒間乾燥し、８５℃の雰囲気で２分間加熱した。その後、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の環境で、６０℃でフュージョン社製のＤバルブ（９０ｍＷ／ｃｍのランプ）によって、出力６０％で６～１２秒間、紫外線を照射し、偏光変換層を形成した。
＜実施例３３～４２＞
　ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－２の代わりにＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１６～ＨＣ－２５を使用した以外は、実施例２４と同様にして、実施例３３～４２の反射フィルムを作製した。
＜実施例４３＞
　ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－２の代わりにＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１４を使用し、硬化する際の紫外線照射条件を照度２０ｍＷ／ｃｍ２、照射量３０ｍＪ／ｃｍ２とした以外は、実施例２４と同様にして、第１のＨＣ層を形成した。
　上記で形成した第１のＨＣ層の表面上に、ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－２６を塗布し、硬化させて膜厚０．２μｍの第２のＨＣ層を形成した。
　粘着層の付与も実施例２４と同様にして、実施例４３の反射フィルムを作製した。
＜実施例４４～４６＞
　ＨＣ形成用組成物としてＨＣ－１７を使用した以外は実施例３２と同様にして、偏光変換層を有する反射フィルムを作製した。反射フィルムの偏光変換層の表面上に、マット層形成用組成物Ｍ－１～Ｍ－３をそれぞれ塗布し、硬化させて膜厚６０ｎｍのマット層を形成した。
　塗布および硬化の方法は、具体的には、次の通りとした。特開２００６－１２２８８９号公報の実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件でマット層形成用硬化性組成物を塗布し、雰囲気温度４５℃で６０秒間乾燥した。その後、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度１５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、塗布したマット層形成用硬化性組成物を硬化させてマット層を形成し、マット層を有する実施例４４～４６の反射フィルムを得た。
＜比較例１＞
　ＨＣ層を付与しなかった以外は、実施例１と同様にして、比較例１の反射フィルムを作製した。
＜比較例２＞
　反射層を付与しなかった以外は、実施例１と同様にして、比較例２の反射フィルムを作製した。
＜比較例３＞
　粘着層を付与しなかった以外は、実施例１と同様にして、比較例３の反射フィルムを作製した。
　上記で作製した反射フィルムについて、以下の試験を行った。試験結果を下記表３にまとめて記載する。
〔試験例１〕鉛筆硬度
　ＪＩＳ（ＪＩＳは、Japanese Industrial Standards（日本工業規格）である）　Ｋ５４００に従い鉛筆硬度評価を行った。
　反射フィルムの粘着層から保護フィルムを剥離し、ガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグルＸＧ、厚み１ｍｍ）と、上記で作製した反射フィルムとを、ガラス板と反射フィルムの粘着層側が向かい合うようにして、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせて、反射フィルムとガラス板との積層体を作製した。
　積層体を温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＨＣ層の表面の異なる５箇所について、ＪＩＳ　Ｓ　６００６に規定するＨ～９Ｈの試験用鉛筆を用いて７５０ｇｆの荷重にて引っ掻いた。その後、目視で傷が認められる箇所が０～２箇所であった鉛筆の硬度のうち、最も硬度の高い鉛筆硬度を評価結果とした。
〔試験例２〕耐摩耗性
　反射フィルムの粘着層から保護フィルムを剥離し、ガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグルＸＧ、厚み１ｍｍ）と、上記で作製した反射フィルムとを、ガラス板と反射フィルムの粘着層側が向かい合うようにして、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせて、反射フィルムとガラス板との積層体を作製した。
　積層体を温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００Ｎ，日本電飾（株）製）を用いて、摩耗試験前のヘイズ（ＨＡ）を測定した。テーバー摩耗試験機（ロータリーアブレージョンテスタ、東洋精機（株）製）を用いて、ＣＳ－１０Ｆ磨耗ホイールと５００ｇｆ荷重条件で７２ｒｐｍの回転速度でＨＣ層の表面を１００サイクル試験した。試験後の積層体について、試験部分のヘイズ（ＨＢ）を測定した。試験前後のΔヘイズ（ＨＢ－ＨＡ）を算出し、以下の基準で評価した。
＜耐摩耗性試験前後Δヘイズ＞
　Ａ：１％以下である。
　Ｂ：１％より大きく２．５％以下である。
　Ｃ：２．５％より大きく４％以下である。
　Ｄ：４％より大きい。
　Ａ～Ｃまでが許容される範囲である。
〔試験例３〕反射スペクトル
　反射フィルムの粘着層から保護フィルムを剥離し、ガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグル ＸＧ、厚み１ｍｍ）と、上記で作製した反射フィルムとを、ガラス板と反射フィルムの粘着層側が向かい合うようにして、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせて、反射フィルムとガラス板との積層体を作製した。
　積層体のガラス板側にくっきりミエール、巴川製紙所（株）製）を貼り合わせ、分光光度計（日本分光株式会社製、Ｖ－６７０）を用いて、反射フィルム表面の法線方向に対し５°の方向からＰ偏光およびＳ偏光を入射し、４００～１０００ｎｍの反射スペクトルをそれぞれ測定した。測定したＰ偏光の反射スペクトルとＳ偏光の反射スペクトルの平均値（平均の反射スペクトル）を求めた。
　なお、Ｐ偏光を入射した際の反射率とＳ偏光を入射した際の反射率との平均値は、無偏光（自然光）を入射した際の反射率と同義である。すなわち、Ｐ偏光の反射スペクトルとＳ偏光の反射スペクトルの平均値は、自然光を入射した際の反射スペクトルと同義である。
　算出したＰ偏光とＳ偏光の反射スペクトルの平均値から、
・波長４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満の帯域における自然光反射率の最大値Ｒ１、および、
・波長５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満の帯域における自然光反射率の最大値Ｒ２、および、
・波長６００ｎｍ～８００ｎｍの帯域における自然光反射率の最大値Ｒ３を算出し、以下の基準で評価した。
　Ａ：最大値Ｒ１、最大値Ｒ２、および、最大値Ｒ３のいずれも２０％より大きい。
　Ｂ：最大値Ｒ１、最大値Ｒ２、および、最大値Ｒ３のいずれも７％より大きく、いずれかが２０％以下である。
　Ｃ：最大値Ｒ１、最大値Ｒ２、および、最大値Ｒ３のいずれかが７％以下である。
　Ａ～Ｂまでが許容される範囲である。
〔試験例４〕曲面追従性
＜施工液の調製＞
　下記に示す組成の施工液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
施工液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・フィルム施工液（３Ｍ製）　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
＜反射フィルムの曲面成形＞
　幅３３０ｍｍ×長さ２６０ｍｍで、曲率が３３０ｍｍ長手方向でＲ１７５０ｍｍ、２６０ｍｍ短手方向でＲ１２５０ｍｍの曲面ガラスの凸面側に上記で調製した施工液を噴霧した。上記で作製した反射フィルムを３３０ｍｍ×２６０ｍｍに切り出し、反射フィルムのハードコート層側と曲面ガラスの凸面側が接するように貼り付けた。このとき、反射フィルムは施工液の表面張力により曲面ガラスの凸面側に吸着するが、反射フィルムの一部分は曲面ガラスに接触せずシワとして残存した。反射フィルムのシワ部分に、ヒートガン（白光社製ヒーティングガン８８２）を用いて熱風を当てながらスキージを用いて、反射フィルムの当該部分を収縮させながら曲面ガラスの表面に追従させた。なお、メモリハイロガー（ＬＲ８４５０、ＨＩＯＫＩ社製）を用いて熱電対でヒートガンの熱風の温度を測定したところ、１２０～１４０℃だった。
＜反射フィルムの曲面追従＞
　反射フィルムの粘着層から保護フィルムを剥離し、上記の曲面ガラスの凹面側と、上記で曲面成形した反射フィルムの粘着層の表面に施工液を噴霧した後、反射フィルムの粘着層と曲面ガラスの凹面が向き合うように接着させた。スキージを用いて施工液を掻き出しながら反射フィルムと曲面ガラスを密着させ、室温で１２時間乾燥させたのち、以下の基準で評価した。
　Ａ：問題なく曲面追従できた。
　Ｂ：曲面成形時または曲面追従時にフィルムの一部が変形したが、曲面追従できた。
　Ｃ：曲面成形時または曲面追従時にフィルムの変形が大きかったが、曲面追従できた。
　Ｄ：曲面成形または曲面追従できなかった。
　Ａ～Ｃまでが許容される範囲である。
〔試験例５〕滑り性
　各実施例および比較例の手順において、粘着層を設ける前の、反射層とＨＣ層とを有するフィルムを、１００ｍｍ×１００ｍｍで２枚切り出し、反射層とＨＣ層とが接するように積層した。積層したフィルムにφ３０ｍｍの重りを載せ、２枚のフィルム同士を滑らせた時の感触を、以下の基準で評価した。
　なお、反射層またはＨＣ層がないフィルムについては、反射層と透明基材、または、ＨＣ層と透明基材とが接するように積層して同様の評価を行った。
　また、反射層上にマット層を有するフィルムについては、マット層とＨＣ層とが接するように積層して同様の評価を行った。
Ａ：１５０ｇの重りを載せても滑る。
Ｂ：１００ｇの重りを載せても滑るが、１５０ｇの重りを載せると滑らない。
Ｃ：５０ｇの重りを載せても滑るが、１００ｇの重りを載せると滑らない。
Ｄ：５０ｇの重りを載せると滑らない。
〔試験例６〕視認性
　反射フィルムの粘着層から保護フィルムを剥離し、ガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグルＸＧ、厚み１ｍｍ）と、上記で作製した反射フィルムとを、ガラス板と反射フィルムの粘着層側が向かい合うようにして、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせて、反射フィルムとガラス板との積層体を作製した。
　上記で作製した積層体について、暗室において点光源で光をガラス板側から当て、ガラス板上に視認される点光源の反射像を以下の基準で評価した。
Ａ：反射像の点光源周囲にぼやけが見えない。
Ｂ：反射像の点光源周囲がぼやけて見える。
Ｃ：反射像の点光源周囲が強くぼやけて見える。
　実施例２３～２６、３１～４６の反射フィルムは問題なく曲面追従できた（評価Ａ）。
　実施例３０の反射フィルムは曲面成形時にヒートガンの熱風を当てると反射フィルムがラミフィルム側にカールするように変形したが、スキージで押さえながら熱風を当てることで成形でき、曲面追従できた（評価Ｂ)。
　実施例１～２２、２７～２９および比較例１～２の反射フィルムは曲面成形時にヒートガンの熱風を当てると反射フィルムがラミフィルム側にカールするように大きく変形したが、複数のスキージで押さえることで成形でき、曲面追従できた（評価Ｃ）。
　比較例３の反射フィルムは曲面追従時の乾燥中に反射フィルムと曲面ガラスが剥離してしまい、曲面追従できなかった（評価Ｄ）。
　以下の表中、「ＨＣ層Ｓａ１」欄は、前記ハードコート層の反射層側とは反対側の表面における波長２．５μｍ以下の成分の面粗さＳａ１（ｎｍ）を表す。
　「ＨＣ層Ｓａ２」欄は、ハードコート層の反射層側とは反対側の表面における波長１０μｍ以上の成分の面粗さＳａ２（ｎｍ）を表す。
　「マット層Ｓａ１」欄は、マット層の反射層側とは反対側の表面における波長２．５μｍ以下の成分の面粗さＳａ１（ｎｍ）を表す。
　上記表に示すように、本発明の反射フィルムは、所望の効果を示すことが確認された。
　実施例１と２との比較より、カチオン重合性化合物の含有量は、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対するカチオン重合性化合物の含有量が５０質量部以下である場合、耐摩耗性および鉛筆硬度がより優れることが確認された。
　実施例２、４および５の比較より、ラジカル重合性化合物中のアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基の数が４以上（好ましくは、５以上）の場合、耐摩耗性および鉛筆硬度がより優れることが確認された。
　実施例２、６および７の比較より、カチオン重合性化合物がカチオン重合性基と共に、ラジカル重合性基を有する場合、耐摩耗性および鉛筆硬度がより優れることが確認された。
　実施例６と７との比較より、カチオン重合性化合物のカチオン重合性基当量が１２０以下の場合、耐摩耗性および鉛筆硬度がより優れることが確認された。
　実施例１０および１２と他の実施例との比較より、エチレン性不飽和基を表面に有する無機粒子を用いる場合、鉛筆硬度がより優れることが確認された。
　実施例１４～１６の比較より、ＨＣ層の膜厚が５～２０μｍである場合、より鉛筆硬度が優れることが確認された。
　実施例１８～２２に示すように、粘着層の厚みが５～２０μｍの場合、より鉛筆硬度が優れることが確認された。
　実施例１８、２７～３０に示すように、透明基材の厚さが４０～８０μｍの場合、より鉛筆硬度が優れることが確認された。
　実施例２３～２６と他の実施例との比較より、保護フィルム層と反射フィルム層との熱収縮率差が１．０％以下の場合、曲面追従性がより優れることが確認された。
＜ヒートシール層形成用硬化性組成物の調製＞
　下記表に示す配合で各成分を混合し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、ヒートシール層形成用硬化性組成物ＨＳ－１～ＨＣ－３０を調製した。
　表９に示す各成分の配合量は、質量部で表される。
＜実施例２０１＞
　実施例１８の反射フィルムの反射層の表面に、ヒートシール層形成用組成物ＨＳ－１を、乾燥後の膜厚が０．８μｍとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した後、１２０℃にて１分間乾燥処理を行い、ヒートシール層を形成した。
　その後、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度１５０ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、塗布したヒートシール層形成用硬化性組成物を硬化させて実施例２０１の反射フィルムを作製した。
＜実施例２０２＞
　実施例３２の反射フィルムの偏光変換層の表面に、ヒートシール層形成用組成物ＨＳ－１を塗布した以外は、実施例２０１と同様にして、実施例２０２の反射フィルムを作製した。
＜実施例２０３～２２３、２２７～２３３＞
　ヒートシール層形成用組成物としてＨＳ２～ＨＳ２９を使用した以外は、実施例２０２と同様にして、実施例２０３～２２３、２２７～２３３の反射フィルムを作製した。
＜実施例２２４＞
　ヒートシール層形成用組成物ＨＳ－５を乾燥後の膜厚が０．４μｍとなるように塗布した以外は、実施例２０６と同様にして、実施例２２４の反射フィルムを作製した。
＜実施例２２５＞
　ヒートシール層形成用組成物ＨＳ－５を乾燥後の膜厚が０．２μｍとなるように塗布した以外は、実施例２０６と同様にして、実施例２２５の反射フィルムを作製した。
＜実施例２２６＞
　ヒートシール層形成用組成物ＨＳ－５を乾燥後の膜厚が１０．０μｍとなるように塗布した以外は、実施例２０６と同様にして、実施例２２６の反射フィルムを作製した。
＜比較例２０１＞
　ヒートシール層形成用組成物としてＨＳ３０を使用した以外は、実施例２０１と同様にして、比較例２０１の反射フィルムを作製した。
　上記で作製した反射フィルムについて、以下の試験を行った。試験結果を下記表１０にまとめて記載する。
〔試験例７〕ヒートシール層付与品の耐摩耗性
　ガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグルＸＧ、厚み１ｍｍ）の上に、２０１～２３３および比較例２０１にて得られた反射フィルムを、ヒートシール層側の表面を接触面にしてガラス板の中央部に配置した。これにより、実施例２０１の反射フィルムを用いた場合には、ガラス基板、ヒートシール層、選択反射層、支持体、ハードコート層を、この順番で有する積層体を形成し、実施例２０２～２３３の反射フィルムを用いて、ガラス基板、ヒートシール層、偏光変換層、選択反射層、位相差層、支持体、ハードコート層を、この順番で有する積層体を形成した。
　この積層体の上に、ガラス板と同じサイズで、厚み０．７６ｍｍの積水化学工業社製のＰＶＢフィルム（中間膜）を配置し、さらにその上に、ガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグルＸＧ、厚み１ｍｍ）を配置した。これを１１５℃、１０ｋＰａ（０．１気圧）下で１時間保持した後に、オートクレーブ（栗原製作所製）にて１４０℃、１．３Ｍｐａ（１３気圧）で６０分間加熱して気泡を除去し、合わせガラスを得た。
　上記合わせガラスを、ＰＶＢフィルムとハードコート層との間で剥離させ、耐摩耗性試験用のガラスサンプルを得た。
　ガラスサンプルを温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００Ｎ，日本電飾（株）製）を用いて、摩耗試験前のヘイズ（ＨＡ）を測定した。テーバー摩耗試験機（ロータリーアブレージョンテスタ、東洋精機（株）製）を用いて、ＣＳ－１０Ｆ磨耗ホイールと５００ｇｆ荷重条件で７２ｒｐｍの回転速度でハードコート層の表面を１００サイクル試験した。試験後の積層体について、試験部分のヘイズ（ＨＢ）を測定した。試験前後のΔヘイズ（ＨＢ－ＨＡ）を算出し、以下の基準で評価した。
＜耐摩耗性試験前後Δヘイズ＞
　Ａ：１％以下である。
　Ｂ：１％より大きく２．５％以下である。
　Ｃ：２．５％より大きく４％以下である。
　Ｄ：４％より大きい。
　Ａ～Ｃまでが許容される範囲である。
〔試験例８〕ヒートシール層付与品の反射スペクトル
　ガラス板（厚み２ｍｍ、フロートガラス）の上に、実施例２０１～２３３および比較例２０１にて得られた反射フィルムを、ヒートシール層側の表面を接触面にしてガラス板の中央部に配置した。これにより、実施例２０１の反射フィルムを用いた場合には、ガラス基板、ヒートシール層、選択反射層、支持体、ハードコート層を、この順番で有する積層体を形成し、実施例２０２～２３３の反射フィルムを用いて、ガラス基板、ヒートシール層、偏光変換層、選択反射層、位相差層、支持体、ハードコート層を、この順番で有する積層体を形成した。
　この積層体の上に、ガラス板と同じサイズで、厚み０．７６ｍｍの積水化学工業社製のＰＶＢフィルム（中間膜）を配置し、さらにその上に、ガラス板（厚み２ｍｍ、フロートガラス）を配置した。これを１１５℃、１０ｋＰａ（０．１気圧）下で１時間保持した後に、オートクレーブ（栗原製作所製）にて１４０℃、１．３Ｍｐａ（１３気圧）で６０分間加熱して気泡を除去し、合わせガラスを得た。
　上記合わせガラスを、ＰＶＢフィルムとハードコート層との間で剥離させ、反射スペクトル測定用のガラスサンプルを得た。
　上記ガラスサンプルのガラス板側にくっきりミエール、巴川製紙所（株）製）を貼り合わせ、分光光度計（日本分光株式会社製、Ｖ－６７０）を用いて、反射フィルム表面の法線方向に対し５°の方向からＰ偏光およびＳ偏光を入射し、４００～１０００ｎｍの反射スペクトルをそれぞれ測定した。測定したＰ偏光の反射スペクトルとＳ偏光の反射スペクトルの平均値（平均の反射スペクトル）を求めた。
　算出したＰ偏光とＳ偏光の反射スペクトルの平均値から、
・波長４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満の帯域における自然光反射率の最大値Ｒ１、および、
・波長５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満の帯域における自然光反射率の最大値Ｒ２、および、
・波長６００ｎｍ～８００ｎｍの帯域における自然光反射率の最大値Ｒ３を算出し、以下の基準で評価した。
　Ａ：最大値Ｒ１、最大値Ｒ２、および、最大値Ｒ３のいずれも２０％より大きい。
　Ｂ：最大値Ｒ１、最大値Ｒ２、および、最大値Ｒ３のいずれも７％より大きく、いずれかが２０％以下である。
　Ｃ：最大値Ｒ１、最大値Ｒ２、および、最大値Ｒ３のいずれかが７％以下である。
　Ａ～Ｂまでが許容される範囲である。
〔試験例９：ヒートシール層付与品の曲面追従性〕
＜合わせガラスの作製＞
　縦２６０ｍｍ×横３３０ｍｍ、厚み２ｍｍの曲面ガラス基板（第１ガラス基板）の上に、縦２６０×横３３０ｍｍの２０１～２３３および比較例２０１にて得られた反射フィルムを、ヒートシール層側の表面を接触面にしてガラス基板の中央部に配置した。これにより、実施例２０１の反射フィルムを用いた場合には、ガラス基板、ヒートシール層、選択反射層、支持体、ハードコート層を、この順番で有する積層体を形成し、実施例２０２～２３３の反射フィルムを用いて、ガラス基板、ヒートシール層、偏光変換層、選択反射層、位相差層、支持体、ハードコート層を、この順番で有する積層体を形成した。
　この積層体の上（ハードコート層の上）に、縦２６０ｍｍ×横３３０ｍｍ、厚み０．７６ｍｍの積水化学工業社製のＰＶＢフィルム（中間膜）を配置し、さらにその上に、縦２６０ｍｍ×横３３０ｍｍ、厚み２ｍｍの曲面ガラス基板（第２ガラス基板）を配置した。これを１１５℃、１０ｋＰａ（０．１気圧）下で１時間保持した後に、オートクレーブ（栗原製作所製）にて１４０℃、１．３Ｍｐａ（１３気圧）で６０分間加熱して気泡を除去し、合わせガラスを得た。
　上記合わせガラスを、ＰＶＢフィルムとハードコート層との間で剥離させ、得られた第１ガラス基板およびヒートシール層を含む積層体を曲面追従性評価用のガラスサンプルとして作製し、曲面追従性評価用のガラスサンプル中の曲面ガラス基板である第１ガラス基板に対するヒートシール層を含む反射フィルムの曲面追従性を以下の基準で評価した。
　Ａ：問題なく曲面追従できた。
　Ｂ：反射フィルムが一部ガラスから剥離したが曲面追従できた。
　Ｃ：反射フィルムが剥離して曲面追従できなかった。
　Ａ～Ｂまでが許容される範囲である。
〔試験例１０〕ヒートシール層付与品の滑り性
　各実施例および比較例において、ヒートシール層とＨＣ層とを有するフィルムを、１００ｍｍ×１００ｍｍで２枚切り出し、ヒートシール層とＨＣ層とが接するように積層した。積層したフィルムにφ３０ｍｍの重りを載せ、２枚のフィルム同士を滑らせた時の感触を、以下の基準で評価した。
　なお、ヒートシール層がないフィルムについては、反射層とＨＣ層とが接するように積層して同様の評価を行った。
Ａ：１５０ｇの重りを載せても滑る。
Ｂ：１００ｇの重りを載せても滑るが、１５０ｇの重りを載せると滑らない。
Ｃ：５０ｇの重りを載せても滑るが、１００ｇの重りを載せると滑らない。
Ｄ：５０ｇの重りを載せると滑らない。
〔試験例１１〕ヒートシール層付与品の視認性
　試験例９で作製したガラスサンプルについて、暗室において点光源で光をガラス板側から当て、ガラス板上に視認される点光源の反射像を以下の基準で評価した。
Ａ：反射像の点光源周囲にぼやけが見えない。
Ｂ：反射像の点光源周囲がぼやけて見える。
Ｃ：反射像の点光源周囲が強くぼやけて見える。
Ｄ：曲面成形時に反射フィルムが剥離して評価不能。
〔試験例１２：剥離性〕
＜合わせガラスの作製＞
　縦８０ｍｍ×横５０ｍｍ、厚み２ｍｍの平板ガラス基板の上に、縦１５０×横２５ｍｍの２０１～２３３および比較例２０１にて得られた反射フィルムを、ヒートシール層側の表面を接触面にしてガラス基板の中央部に配置した。実施例２０１の反射フィルムを用いた場合には、ガラス基板、ヒートシール層、選択反射層、支持体、ハードコート層を、この順番で有する積層体を形成し、実施例２０２～２３３の反射フィルムを用いて、ガラス基板、ヒートシール層、偏光変換層、選択反射層、位相差層、支持体、ハードコート層を、この順番で有する積層体を形成した。
　この積層体の上に、縦１５０ｍｍ×横２５ｍｍ、厚み０．７６ｍｍの積水化学工業社製のＰＶＢフィルム（中間膜）を配置し、さらにその上に、縦８０ｍｍ×横５０ｍｍ、厚み２ｍｍの平板ガラス基板（第２ガラス基板）を配置した。これを１１５℃、１０ｋＰａ（０．１気圧）下で１時間保持した後に、オートクレーブ（栗原製作所製）にて１４０℃、１．３Ｍｐａ（１３気圧）で６０分間加熱して気泡を除去し、合わせガラスを得た。
　上記合わせガラスを、ＰＶＢフィルムとハードコート層との間で剥離させ、剥離力試験用のガラスサンプルを得た。
〔剥離性；剥離強度の評価〕
　上記で作製した剥離性試験用のガラスサンプルの反射フィルム部分を、テンシロン万能材料試験機（オリエンテック社製）のアームでつかみ、反射フィルム部分と平板ガラスとの角度が９０°を保つようにして剥離したときの剥離強度を測定し、以下の基準で評価した。
評価基準
Ａ：４．０Ｎ／２５ｍｍ以上
Ｂ：２．５Ｎ／２５ｍｍ以上、４．０Ｎ／２５ｍｍ未満
Ｃ：１．０Ｎ／２５ｍｍ以上、２．５Ｎ／２５ｍｍ未満
Ｄ：１．０Ｎ／２５ｍｍ未満
〔湿熱耐久性〕
　上記で作製した曲面追従性評価用のガラスサンプル（上述した、第１ガラス基板とヒートシール層を含む反射フィルムとを含む積層体）を、９０℃、８０％ＲＨの環境下で８０時間調湿した後、２５℃、６０％ＲＨの環境で２４時間調湿した。調湿後のガラスサンプルを観察し、第１ガラス基板に対する反射フィルムの密着性を以下の基準で評価した。
評価基準
Ａ：反射フィルムがガラスから剥離していない。
Ｂ：反射フィルムがガラスから一部剥離している。
　表１０に示すように、本発明の反射フィルムは所定の効果を示すことが確認された。
　なかでも、実施例２０５、２１０～２１３の比較より、エチレン性不飽和重合性基含有化合物のＩ／Ｏ比が０．６０以上（好ましくは、１．２以上）の場合、より効果が優れることが確認された。
　また、実施例２０１、２０３～２０９の比較より、ヒートシール層に含まれる重合性化合物の含有量が、ヒートシール層全質量に対して、１０～６０質量％（好ましくは、１５質～５０質量％）の場合、より効果が優れることが確認された。
　また、実施例２２３～２２５の比較より、ヒートシール層の平均厚みが０．４μｍ以上（好ましくは、０．８μｍ以上）の場合、より効果が優れることが確認された。
　１　　粘着層
　２　　反射層
　３　　ハードコート層（ＨＣ層）
　４　　保護フィルム
　５　　偏光変換層
　６　　位相差層
　７　　透明基材
　８　　マット層
　１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ，１０Ｆ　　反射フィルム
　１１　　車内側ガラス
　１２　　ヒートシール層

Claims (31)

  1. 　粘着層と、波長選択的に光を反射する反射層と、ハードコート層とをこの順に有する、反射フィルム。
  2. 　前記粘着層の厚みが１～３０μｍである、請求項１に記載の反射フィルム。
  3. 　前記ハードコート層の厚みが１μｍ以上である、請求項１に記載の反射フィルム。
  4. 　前記ハードコート層が、カチオン重合性化合物を含むハードコート層形成用硬化性組成物を用いて形成された層であり、
    　前記カチオン重合性化合物の含有量が、前記ハードコート層形成用硬化性組成物の全固形分に対して、５質量％以上である、請求項１に記載の反射フィルム。
  5. 　前記ハードコート層が、無機粒子を含むハードコート層形成用硬化性組成物を用いて形成された層であり、
    　前記無機粒子の含有量が、前記ハードコート層形成用硬化性組成物の全固形分に対して、０．５質量％以上である、請求項１に記載の反射フィルム。
  6. 　前記無機粒子の平均一次粒径が４０ｎｍ以上である、請求項５に記載の反射フィルム。
  7. 　前記無機粒子の平均一次粒径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ未満である、請求項５に記載の反射フィルム。
  8. 　前記ハードコート層の前記反射層側とは反対側の表面における波長２．５μｍ以下の成分の面粗さＳａ１が０．３０ｎｍ以上である、請求項１に記載の反射フィルム。
  9. 　前記ハードコート層の前記反射層側とは反対側の表面における波長１０μｍ以上の成分の面粗さＳａ２が２．０ｎｍ以下である、請求項１に記載の反射フィルム。
  10. 　更に、透明基材を有する、請求項１に記載の反射フィルム。
  11. 　前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである、請求項１０に記載の反射フィルム。
  12. 　位相差層を更に有する、請求項１に記載の反射フィルム。
  13. 　偏光変換層を更に有し、
    　前記位相差層、前記反射層、および、前記偏光変換層がこの順に配置されている、請求項１２に記載の反射フィルム。
  14. 　前記粘着層と前記反射層との間に、マット層を更に有する、請求項１に記載の反射フィルム。
  15. 　前記マット層の前記反射層側とは反対側の表面における波長２．５μｍ以下の成分の面粗さＳａ１が０．３０ｎｍ以上である、請求項１４に記載の反射フィルム。
  16. 　請求項１～１５のいずれか１項に記載の反射フィルムと、
    　前記反射フィルムの前記粘着層の前記反射層側とは反対側の面に積層される保護フィルムを有する、積層体。
  17. 　前記反射フィルムと前記保護フィルムの１４０℃における熱収縮率の差が１．５％より小さい、請求項１６に記載の積層体。
  18. 　ガラス板と、請求項１～１５のいずれか１項に記載の反射フィルムとが前記粘着層を介して貼り合わされてなる、ウインドシールドガラス。
  19. 　請求項１８に記載の前記ウインドシールドガラスと、前記ウインドシールドガラスの前記反射フィルム側に投映画像光を照射するプロジェクターと、を有する画像表示システム。
  20. 　ハードコート層と、波長選択的に光を反射する反射層と、前記反射層の片側に積層されたヒートシール層とをこの順に有し、
    　前記反射層が、重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成され、
    　前記ヒートシール層が、熱可塑性樹脂またはエラストマーを含む、反射フィルム。
  21. 　前記ヒートシール層が、重合開始剤を含む組成物を用いて形成された層である、請求項２０に記載の反射フィルム。
  22. 　前記組成物が、さらに重合性化合物を含む、請求項２１に記載の反射フィルム。
  23. 　前記重合性液晶化合物が、エチレン性不飽和重合性基を有し、
    　前記重合性化合物が、エチレン性不飽和重合性基を有する、請求項２２に記載の反射フィルム。
  24. 　ハードコート層と、波長選択的に光を反射する反射層と、偏光変換層と、前記偏光変換層の片側に積層されたヒートシール層とをこの順に有し、
    　前記偏光変換層が、重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成され、
    　前記ヒートシール層が、熱可塑性樹脂またはエラストマーを含む、反射フィルム。
  25. 　前記ヒートシール層が、重合開始剤を含む組成物を用いて形成された層である、請求項２４に記載の反射フィルム。
  26. 　前記組成物が、さらに重合性化合物を含む、請求項２５に記載の反射フィルム。
  27. 　前記重合性化合物の含有量が、前記組成物の固形分に対して、５～８０質量％である、請求項２２、２３、および、２６のいずれか１項に記載の反射フィルム。
  28. 　前記重合性化合物のＩ／Ｏ比が０．４以上である、請求項２２、２３、および、２６のいずれか１項に記載の反射フィルム。
  29. 　前記ヒートシール層の２５℃、６０％ＲＨにおける含水率が２．０％以下である、請求項２０～２６のいずれか１項に記載の反射フィルム。
  30. 　前記ガラス板と、請求項２０～２６のいずれか１項に記載の前記反射フィルムとが前記ヒートシール層を介して貼り合わされてなる、ウインドシールドガラス。
  31. 　請求項３０に記載の前記ウインドシールドガラスと、前記ウインドシールドガラスの前記反射フィルム側に投映画像光を照射するプロジェクターと、を有する画像表示システム。
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