JPH10195326A - 有機顔料組成物 - Google Patents

有機顔料組成物

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JPH10195326A JP9367830A JP36783097A JPH10195326A JP H10195326 A JPH10195326 A JP H10195326A JP 9367830 A JP9367830 A JP 9367830A JP 36783097 A JP36783097 A JP 36783097A JP H10195326 A JPH10195326 A JP H10195326A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機顔料組成物 【解決手段】 本発明は、有機顔料に基づいて約0.1
〜約20重量%の式(I) 【化1】 [式中、Qは有機顔料残基を表し、NHetは環窒素原
子においてアミドメチル連結基のカルボニル官能基に結
合する窒素含有ヘテロ芳香族基を表し、そしてnは1〜
4である]を有するN−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔
料誘導体で処理した有機顔料を含んでなる顔料組成物に
関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、有機顔料を、優秀な着色性及び
改良されたレオロジ−性を付与するN−ヘテロアリ−ル
アミドメチル顔料誘導体で処理することによって得られ
る顔料組成物に関する。
【0002】公知の有機顔料の製造で使用される化学は
一般に簡単である。しかしながら典型的には、最初に生
成した粗化合物は顔料として用いるのに不適当であり、
適当な着色性、レオロジ−性及び分散性を達成するため
に、1つまたはそれ以上の更なる仕上げ工程を行って粒
径、粒子の形、または結晶構造を改変しなければならな
い。
【0003】レオロジ−性を改変する方法は公知であ
る。例えば顔料を、種々の添加剤、例えば種々の顔料の
スルホン酸及びスルホンアミド誘導体で処理するとよ
い。例えば米国特許第3418322号、第34466
41号、第4088507号、第4310359号、及
び第5368641号、英国特許第1544839号及
び第2009205号を参照。
【0004】他の顔料誘導体も、顔料添加剤として開示
されている。例えばピラゾリルメチルキナクリドン誘導
体は米国特許第5334727号に記述されている。し
かしながらこの特許は、本発明の決定的な特徴である、
ピラゾ−ル環及びメチル基間へのアミド官能基の導入を
示唆していない。置換されたベンズアミドメチルキナク
リドン及び構造的に関連するフタルイミドメチル及びス
ルホベンズイミドメチルキナクリドンは、米国特許第3
635981号、第4197404号、第425650
7号、第4439240号、第4455173号、第4
478968号、第4541872号、第484474
2号、第4895949号、第5194088号、第5
264032号、第5286863号、第542442
9号、第5453151号、及び第5457203号に
開示されている。しかしながらこれらの特許は、本発明
の他の決定的な特徴である、アミドカルボニル基が環炭
素原子においてベンゼン環に結合している化合物を開示
し、且つアミドカルボニル基が環窒素原子に結合してい
る化合物を示唆していない。
【0005】今回驚くべきことに、優秀な着色性及びレ
オロジ−性を有する顔料組成物は、有機顔料を、各アミ
ドアリ−ルアミドメチル連結基のカルボニル官能基が窒
素含有ヘテロ芳香族基の環窒素原子において結合する1
つまたはそれ以上のヘテロアリ−ルアミドメチル置換基
を持つある種の顔料で処理することにより得られること
が発見された。
【0006】本発明は、有機顔料に基づいて約0.1〜
約20重量%(好ましくは約1〜約10重量%)の式
(I)
【0007】
【化2】
【0008】[式中、Qは有機顔料残基を表し、NHe
tは環窒素原子においてアミドメチル−CH2−NH−
CO−連結基のカルボニル官能基に結合する窒素含有ヘ
テロ芳香族基を表し、そしてnは1〜4である]を有す
るN−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料誘導体(好まし
くはピラゾリルアミドメチル顔料誘導体)で処理した有
機顔料を含んでなる顔料組成物に関する。
【0009】更に本発明は、塗料、プラスチック、繊
維、インキ、及びトナ−の着色におけるそのような顔料
の使用法に関する。
【0010】本発明の方法で処理できる適当な有機顔料
は、キナクリドン、フタロシアニン、及びペリレン顔
料、並びに他の公知の顔料を含む。そのような顔料の、
固溶体を含む混合物も適当である。
【0011】キナクリドン顔料は特に適当な有機顔料で
ある。(本明細書では未置換のキナクリドン、キナクリ
ドン誘導体、及びその固溶体を含む)キナクリドンは、
技術的に公知のいくつかの方法のいずれかで製造できる
が、好ましくは種々の2、5−ジアニリノテレフタル酸
前駆体の、ポリ燐酸の存在下における熱的閉環で製造さ
れる。例えばS.S.レバナ(Lebana)及びL.
L.レバナ、ケミカル・レビュ−(Chemical
Review),67、1〜18(1967)の「キナ
クリドン」並びに米国特許第3157659号、第32
56285号、第3257405号、及び第33175
39号を参照。適当なキナクリドン顔料は未置換でも、
(例えば1つまたはそれ以上のアルキル、アルコキシ、
ハロゲン例えば塩素、または他のキナクリドン顔料に典
型的な置換基で)置換されていてもよい。
【0012】金属フタロシアニン顔料も適当な有機顔料
である。銅フタロシアニンが好適であるけれど、他の金
属含有フタロシアニン顔料、例えば亜鉛、コバルト、
鉄、ニッケル、及び他のそのような金属に基づくものも
使用できる。適当なフタロシアニン顔料は未置換でも、
(例えば1つまたはそれ以上のアルキル、アルコキシ、
ハロゲン例えば塩素、または他のフタロシアニン顔料に
典型的な置換基で)置換されていてもよい。粗フタロシ
アニンは、技術的に公知のいくつかの方法のいずれかで
製造できるが、好ましくは無水フタル酸、フタロニトリ
ルまたはそれらの誘導体の、金属ドナ−、窒素ドナ−
(例えば尿素またはフタロニトリル自体)と、好ましく
は有機溶媒中随時触媒の存在下に反応させることによっ
て製造できる。例えばW.ハ−ブスト(Herbst)
及びK.ハンガ−(Hunger)、「工業有機顔料」
[VCH出版、ニュ−ヨ−ク、1993年]、418〜
427ペ−ジ、H.ゾリンガ−(Zollinge
r)、「色剤化学」(VCH出版、1973年)101
〜104ペ−ジ、及びN.M.ピゲロ−(Pigelo
w)及びM.A.パ−キンス(Perkins)、H.
A.ラブス(Lubs)編「合成染料及び顔料の化学」
[ロバ−ト(Robert)E.クリ−ガ−(Krie
ger)出版、1955年]、584〜587ペ−ジに
おける「フタロシアニン顔料」、更に米国特許第415
8572号、第4257951号、及び第517528
2号、並びに英国特許第1502884号を参照。
【0013】ペリレン、特にペリレン−3、4、9、1
0−テトラカルボン酸のジイミド及び二無水物も適当な
有機顔料である。適当なペリレン顔料は未置換でも、
(例えば1つまたはそれ以上のアルキル、アルコキシ、
ハロゲン例えば塩素、または他のペリレン顔料に典型的
な置換基で)置換されていてもよい。ここに置換された
顔料は、イミド窒素原子がアルキルのような化学的に理
に適った基で置換されたものも含む。粗ペリレンは技術
的に公知の方法で製造できる。例えばW.ハ−ブスト及
びK.ハンガ−、「工業有機顔料」[VCH出版、ニュ
−ヨ−ク、1993年]、9及び465〜475ペ−
ジ、H.ゾリンガ−、「色剤化学」(VCH出版、19
73年)227〜228ペ−ジ、及びM.A.パ−キン
ス、H.A.ラブス編「合成染料及び顔料の化学」[ロ
バ−トE.クリ−ガ−出版、1955年]、481〜4
82ペ−ジにおける「ピリジン及びピリドン」を参照。
【0014】他の適当な有機顔料は、ジオキサジン(即
ちトリフェンジオキサジン)、1、4−ジケトピロロピ
ロ−ル、アンスラピリミジン、アンサンスロン、フラバ
ンスロン、インダンスロン、イソインドリン、イソイン
ドリノン、ペリノン、ピランスロン、チオインジゴ、
4、4′−ジアミノ−1、1′−ジアンスラキノニル、
及びアゾ化合物並びにそれらの置換された誘導体を含
む。
【0015】有機顔料は、本発明に従い、例えば粗有機
顔料を強鉱酸中でN−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料
誘導体と混合することにより、粗または最終有機顔料を
N−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料誘導体と湿式また
は乾式混合することにより、或いは顔料の合成中にN−
ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料誘導体を添加すること
により処理される。有機顔料を、N−ヘテロアリ−ルア
ミドメチル顔料誘導体の存在下における調整(cond
itioning)で処理することも可能である。
【0016】適当なN−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔
料誘導体は、式(I)
【0017】
【化3】
【0018】[式中、Qは有機顔料残基を表し、NHe
tは環窒素原子においてアミドメチル(即ち−CH2
NH−CO−)連結基のカルボニル官能基に結合する窒
素含有ヘテロ芳香族基を表し、そしてnは1〜4であ
る]を有する化合物である。好適なN−ヘテロアリ−ル
アミドメチル顔料誘導体は、顔料残基Qに結合したN−
ヘテロアリ−ルアミドメチル基を1または2つ(好まし
くは1つ)含むものである。
【0019】顔料残基Qは、本質的にキナクリドン、フ
タロシアニン、ペリレン(好ましくはペリレン−3、
4、9、10−テトラカルボン酸のイミド、ジイミド、
無水物、及び/または二無水物)、ジオキサジン(即ち
トリフェンジオキサジン)、1、4−ジケトピロロピロ
−ル、アンスラピリミジン、アンサンスロン、フラバン
スロン、インダンスロン、イソインドリン、イソインド
リノン、ペリノン、ピランスロン、チオインジゴ、4、
4′−ジアミノ−1、1′−ジアンスラキノニル、及び
アゾ化合物並びにそれらの置換された誘導体を含むいず
れかの種類の有機顔料に由来していてよい。適当な誘導
体は、そのような顔料に典型的な置換基、例えばC1
6アルキル、C1〜C6アルコキシ、C5〜C7シクロア
ルキル、C5〜C7シクロアルコキシ、C6〜C10アリ−
ル、C6〜C10アリ−ロキシ、C7〜C16アラルキル、C
7〜C16アラルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、ニトリ
ル、カルボキシルまたはそのアミド、スルホニル基(例
えばアルキル−及びアリ−ルスルホニルまたはスルホキ
シル及びそのアミド)或いはそれらの組み合わせ基を1
つまたはそれ以上有するものを含む。顔料残基Qの置換
された誘導体は、勿論環窒素原子が化学的に理の適った
基、例えばアルキル、シクロアルキル、アリ−ル、また
はアラルキルで置換されたものを含む。顔料残基Qが処
理する有機顔料と同一の顔料種であるN−ヘテロアリ−
ルアミドメチル顔料誘導体を使用することはしばしば望
ましい。しかしながら、顔料残基Qが処理する有機顔料
と異なった顔料種であるN−ヘテロアリ−ルアミドメチ
ル顔料誘導体を使用することもしばしば望ましい。好適
な顔料誘導体は、キナクリドン、フタロシアニン、及び
ペリレンに由来するものである。
【0020】適当なヘテロ芳香族NHet基は、アミド
メチル基に結合する環窒素原子が第4級化(即ち4価)
できない窒素含有芳香族種である。好適な窒素含有ヘテ
ロ芳香族NHet基は、1つまたはそれ以上の環炭素原
子がC1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、C5〜C7
シクロアルキル、C5〜C7シクロアルコキシ、C6〜C
10アリ−ル、C6〜C10アリ−ロキシ、C7〜C16アラル
キル、C7〜C16アラルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲ
ン、ニトリル、カルボキシルまたはそのアミド、スルホ
ニル基(例えばアルキル−及びアリ−ルスルホニルまた
はスルホキシル及びそのアミド)或いはそれらの組み合
わせ基で置換されているピロリル、イミダゾリル、及び
ピラゾリル基またはそれらの誘導基を含む。
【0021】ここで用いるような「C1〜C6アルキル」
とは、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖脂肪族炭化水素
基を意味する。C1〜C6アルキルの例は、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、及びそれ
らの異性体形である。「C1〜C6アルコキシ」とは、炭
素数1〜6の直鎖または分岐鎖アルキルオキシ基を意味
する。C1〜C6アルコキシの例は、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチロキシ、ヘキシロキ
シ、及びそれらの異性体形である。「C5〜C7シクロア
ルキル」とは、炭素数5〜7の脂環族炭化水素基を意味
する。C5〜C7シクロアルキルの例は、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、及びシクロヘプチルである。「C
5〜C7シクロアルコキシ」とは、炭素数5〜7のシクロ
アルコキシ基を意味する。C5〜C7シクロアルコキシの
例は、シクロペンチロキシ、シクロヘキシロキシ、及び
シクロヘプチロキシである。「C6〜C10アリ−ル」と
は、フェニル及び1−または2−ナフチル、並びに本明
細書で定義されるようにアルキル、アルコキシ、ハロゲ
ン、シアノで置換されたフェニル及びナフチルを意味す
る。「C6〜C10アリ−ロキシ」とは、アリ−ル部分が
随時「アリ−ル」に関して上述したように置換されてい
てよいフェノキシ及び1−または2−ナフチロキシを意
味する。「C7〜C16アラルキル」とは、全炭素数が7
〜16のC6〜C10アリ−ルで置換されたC1〜C6アル
キルを意味する。「C7〜C16アラルコキシ」とは、全
炭素数が7〜16のC6〜C10アリ−ルで置換されたC1
〜C6アルコキシを意味する。C7〜C16アラルコキシの
例はベンジロキシである。ハロゲンの例は、弗素、塩
素、臭素、及びよう素である。特に好適なヘテロ芳香族
NHet基は、その1−窒素においてアミドメチル結合
基に結合する3、5−ジメチルピラゾリル基である。
【0022】適当ではあるが、一般にさほど好適でない
ヘテロ芳香族NHet基は、それ自体上述したように環
置換されていてもよい、或いはより好ましくはないけれ
どO、S、及びNから選択される環ヘテロ原子を1つま
たはそれ以上含んでいてよい1つまたはそれ以上の隣り
合う環炭素原子が芳香族環(例えばベンゼンまたはその
ヘテロ芳香族同族体)と融合しているポリ芳香族ピロリ
ル、イミダゾリル、またはピラゾリル誘導体を含む。適
当なそのようなヘテロ芳香族NHet基の例は、インド
リル及びイソインドリル(即ちピロ−ルのベンゾ誘導
体)、カルバゾリル(即ちピロ−ルのジベンゾ誘導
体)、インダゾリル、及びベンズイミダゾリル、並びに
それらの環置換誘導体である。
【0023】本発明で使用されるN−ヘテロアリ−ルア
ミドメチル顔料誘導体は、公知の方法で、例えば誘導体
化すべき顔料を、N−ヘテロアリ−ルカルボキサミド
(例えばピラゾリル−1−カルボキサミド)またはその
誘導体及びホルムアルデヒドまたはその官能基的同等体
(例えば重合体形パラホルムアルデヒドまたはホルムア
ルデヒド生成化合物例えばトリオキサン)の混合物と或
いはN−ヘテロアリ−ルカルボキサミドの対応するN−
メチロ−ル誘導体と、脱水剤の存在下に約0〜約200
℃の温度で縮合させることによって製造できる。そのよ
うな脱水剤は、硫酸、発煙硫酸、ポリ燐酸、有機酸また
はその無水物、及びそれらの混合物を含む。発煙硫酸
は、ことに反応性の低い顔料の場合、特に適当な縮合剤
である。顔料分子に対するN−ヘテロアリ−ルアミドメ
チルの置換度は、種々の因子例えばN−ヘテロアリ−ル
カルボキサミドの性質、反応温度、及び反応時間によっ
て影響される。結果としてのN−ヘテロアリ−ルアミド
メチル顔料誘導体は、反応混合物を、顔料誘導体を完全
にまたはほとんど完全に溶解しない液体、好ましくは水
またはメタノ−ルまたは他の低級脂肪族アルコ−ル(例
えばエタノ−ル、プロパノ−ル、またはブタノ−ル)並
びにそれらの混合物に添加することによって単離でき
る。液体中に種々の添加剤、例えば表面活性剤を含ませ
ることも有利である。ついで顔料誘導体を、(例えば濾
過または他の公知の方法により)単離し、残存する酸が
なくなるまで洗浄する。
【0024】本発明の顔料を処理するのに使用するため
の特に好適なN−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料誘導
体は、(a)式(II)
【0025】
【化4】
【0026】[式中、Rはキナクリドン環炭素原子に結
合するC1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ハロゲ
ン、またはスルホキシル(またはそのアミド)であり、
nは1〜4(好ましくは1または2)であり、そしてr
は0〜9(好ましくは0〜4、更に好ましくは0〜2、
最も好ましくは0である(但し0の値はキナクリドン残
基がR基で置換されていない)こと)を意味する]を有
するピラゾリルアミドメチルキナクリドン、(b)式
(III)
【0027】
【化5】
【0028】[式中、CuPcは銅フタロシアニン残基
を表し、各Rは独立にフタロシアニン環炭素原子に結合
するC1〜C6アルキル、ハロゲン、またはスルホキシル
(またはそのアミド)を表し、nは1〜4(好ましくは
1または2)であり、そしてsは0〜15(好ましくは
0〜8、更に好ましくは0〜4、最もいないこと)を意
味する]を有するピラゾリルアミドメチル銅フタロシア
ニン、そして(c)式(IV)
【0029】
【化6】
【0030】[式中、各Rはペロレン環炭素原子に結合
するハロゲン、カルボキサミド、またはスルホンアミド
を表し、nは1〜4(好ましくは1または2)であり、
そしてtは0〜7(好ましくは0〜4,更に好ましくは
0であり、但し好ましくは0〜4または更に好ましくは
0であり、但し0の値はペリレン残基がR基で置換され
てないことを示す)を意味する]を含む。
【0031】式(II)、(III)、及び(IV)はR基に
対して特別な位置を示すことを意味しないで、むしろそ
のような基が各顔料残基の化学的に理に適った箇所に位
置することを意味する。
【0032】本発明の顔料組成物を製造するためのいく
つかの方法は公知である。1つの好適な方法において
は、粗有機顔料及び適当なN−ヘテロアリ−ルアミドメ
チル顔料誘導体を強鉱酸に溶解(ペ−スト化)し、また
は懸濁(膨潤)させ、ついで沈殿させる。有利な時間内
での酸性溶液または懸濁液の生成を保証するために、十
分な量の鉱酸、好ましくは濃酸を添加する。しかしなが
ら溶液または懸濁液が酸性であるという必要条件を除い
て、酸の濃度及び量は一般的に厳密ではない。例えば、
撹拌時間を長くするならば、より希釈された酸を使用で
きるが、商業的には濃酸が好適である。適当な鉱酸は、
硫酸及びポリ燐酸を含み、硫酸が好適である。特に少な
くとも64%の硫酸を、粗有機顔料及びN−ヘテロアリ
−ルアミドメチル顔料誘導体の全量に対して約4〜約1
5重量部の量で使用することが好適である。粗顔料及び
顔料誘導体の混合物の溶解速度は、混合物を(例えば約
50℃まで)暖めることによって増大できるけれど、混
合物を35℃でまたはそれ以下の温度で酸に溶解し、
(硫酸を用いる場合)スルホン化或いは顔料または顔料
誘導体の分解を最小にすることが一般に好ましい。酸処
理の完結後、強酸溶液を、顔料及び顔料誘導体が完全に
またはほとんど完全に溶解しない液体、好ましくは水ま
たはメタノ−ルまたは他の低級脂肪族アルコ−ル(例え
ばエタノ−ル、プロパノ−ル、またはブタノ−ル)並び
にそれらの混合物へ添加することにより、顔料組成物を
沈殿させる。
【0033】N−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料誘導
体のまたは究極的な顔料組成物の製造に硫酸または発煙
硫酸を使用する場合、顔料残基はスルホン化することが
できる。そのようなスルホン化誘導体は遊離酸、アンモ
ニウム塩、または金属塩(例えばナトリウムまたはカリ
ウム、アルカリ土類金属例えばカルシウムまたはバリウ
ム、及び第III族の金属例えばアルミニウムの塩を含
む)として単離できる。
【0034】第2の好適な具体的方法においては、有機
顔料を、湿式または乾式混合法により、適当なN−ヘテ
ロアリ−ルアミドメチル顔料組成物と混合してもよい。
乾式混合法は、(a)有機顔料を、有機顔料に基づいて
約0.1〜20重量%(好ましくは1〜10重量%)の
式(I)のN−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料誘導体
と乾式混合し、そして(b)顔料組成物を集める、こと
を含んでなる。湿式混合法は、(a)有機顔料を、
(1)有機顔料に基づいて約0.1〜20重量%(好ま
しくは1〜10重量%)の式(I)のN−ヘテロアリ−
ルアミドメチル顔料誘導体で、及び(2)有機顔料に基
づいて約5〜20重量%(好ましくは5〜15重量%)
の、有機顔料が実質的に不溶である液体で処理して、処
理した顔料の液体中組成物を生成せしめ、そして(b)
顔料組成物を集める、ことを含んでなる。湿式混合に使
用される液体は、有機顔料が実質的に不溶である液体、
好ましくは水、水と混和できる溶媒例えばメタノ−ルま
たは他の低級脂肪族アルコ−ル、或いはそれらの混合物
である。N−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料誘導体が
少なくとも部分的に液体に不溶であることは好適であ
る。適当な液体は、水及び/または水と混和できる有機
液体、例えば低級脂肪族アルコ−ル例えばメタノ−ル、
ケトン及びケトアルコ−ル例えばアセトン、メチルエチ
ルケトン、及びジアセトンアルコ−ル、アミド例えばジ
メチルホルムアミド及びジメチルアセトアミド、エ−テ
ル例えばテトラヒドロフラン及びジオキサン、アルキレ
ングリコ−ル及びトリオ−ル例えばエチレングリコ−ル
及びグリセロ−ル、並びに技術的に公知のそのような有
機液体を含む。他の有機液体も、使用できるが、一般に
それほど好適ではない。湿式混合を行う温度は、一般に
厳密ではないが、普通約5〜約60℃(好ましくは液体
の沸点以下)である。
【0035】キナクリドン顔料組成物を製造するのに特
に有用である第3の好適な方法においては、適当なN−
ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料誘導体を処理する有機
顔料の合成中または更には合成前に添加して、有機顔料
が生成するにつれて、その反応及びその処理過程を少な
くとも部分的にその場で行なわせしめてもよい。例えば
キナクリドン顔料を製造する場合、好適な製造法は、
(a)(i)2、5−ジアニリノテレフタル酸、2、5
−ジアニリノ−6、13−ジヒドロテレフタル酸、2、
5−ジアニリノ−3、6−ジオキソ−1、4−シクロヘ
キサジエン1、4−ジカルボン酸、或いは少なくとも1
つのアニリン環に1つまたはそれ以上の置換基を有する
それらの誘導体、該酸の塩またはエステルまたはそれら
の誘導体、或いはそれらの混合物、(ii)成分(a)
(i)に基づいて約0.1〜約15重量%(0.1〜1
0重量%)の適当なN−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔
料誘導体、(iii)成分(a)(i)1部当たり約3
〜約20重量部(好ましくは3〜10重量部)の脱水剤
(好ましくはポリ燐酸)、を含んでなる反応混合物を約
80〜約145℃(好ましくは100〜130℃)に加
熱し、但し成分(a)(i)または成分(a)(ii)
のいずれかが2、5−ジアニリノ−6、13−ジヒドロ
テレフタル酸またはその誘導体であるという条件ならば
反応工程(a)が更に(最初に生成したジヒドロキナク
リドン中間体を対応するキナクリドンへ酸化する)酸化
工程を含んでなり、(b)工程(a)からの反応混合物
を、成分(a)(i)1部当たり約3〜約15重量部
(好ましくは5〜10重量部)の、キナクリドン顔料が
実質的に不溶である液体に添加して、該反応混合物を取
り出し、そして(c)キナクリドン顔料を単離する、こ
とを含んでなる。上記方法の各々は、技術的に公知の1
つまたはそれ以上の更なる顔料誘導体、特にスルホン酸
及びスルホンアミド誘導体の存在下に行うことができ
る。
【0036】上記方法のいずれを使用するかにかかわら
ず、得られる顔料組成物は技術的に公知の方法、好まし
くは濾過で集められ、ついで洗浄工程に供して残存する
酸を除去する。技術的に公知の他の捕集法、例えば遠心
分離または単なる傾斜も適当であるが、一般にそれほど
好適ではない。ついで顔料組成物を、使用するためにま
たは使用に先立つ更なる処理のために乾燥する。
【0037】本発明による顔料組成物は、上述した製造
法の代わりに或いはその工程に加えて、有機顔料をN−
ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料誘導体の存在下に調整
することによって製造できる。勿論技術的に公知の1つ
またはそれ以上の更なる顔料誘導体、特にスルホン酸及
びスルホンアミド誘導体を包含させることも可能であ
る。調整(conditioning)は、技術的に公
知の種々の方法のいずれか、例えば溶媒処理または溶媒
処理と組み合わせたミル処理を用いることで行いうる。
顔料の最終粒径は、後処理の方法を変えることによって
制御できる。例えば顔料は、粒径を減じることによって
より透明に或いは粒径を増大させることによってより不
透明にすることができる。適当なミル処理法は、添加剤
を用いるまたは用いない乾式ミル処理法、例えばサンド
ミル、ボ−ルミルなど、或いは添加剤を用いるまたは用
いない水中または有機溶媒中での湿式ミル処理法、例え
ば塩混練り、ビ−ズミルなどを含む。
【0038】顔料の着色強度及び透明性は、しばしば添
加剤の存在下に、顔料組成物の適当な溶媒中分散液を加
熱することにより行われる溶媒処理によっても影響され
る。適当な溶媒は、有機溶媒、例えばアルコ−ル、エス
テル、ケトン、及び脂肪族及び芳香族炭化水素並びにそ
の誘導体、及び無機溶媒、例えば水を含む。適当な添加
剤は、綿状沈降物を減じる、分散液の安定性を増大させ
る、及び塗布粘度を減じる組成物、例えば重合体分散剤
(界面活性剤)を含む。例えば米国特許第445517
3号、第4758665号、第4844742号、第4
895948号、及び第4895949号を参照。
【0039】随意の調整工程中または後、改良された性
質を付与する種々の他の随時の成分を使用することはし
ばしば望ましい。そのような随時の成分の例は、炭素数
が少なくとも12の脂肪酸、例えばステアリン酸または
ベヘン酸、或いは対応するアミド、エステル、または
塩、例えばステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜
鉛、ステアリン酸アルミニウム、またはべヘン酸マグネ
シウム、第4級アンモニウム化合物、例えばトリ[(C
1〜C4アルキル)ベンジル]アンモニウム塩、可塑剤、
例えばエポキシ化大豆油、ワックス、例えばポリエチレ
ンワックス、樹脂酸、例えばアビエチン酸、ロジン石
鹸、水素化または2量化ロジン、C12〜C18パラフィン
ジスルホン酸、アルキルフェノ−ル、アルコ−ル、例え
ばステアリルアルコ−ル、アミン、例えばラウリルアミ
ンまたはステアリルアミン、及び脂肪族1、2−ジオ−
ル、例えばドデカン1、2−ジオ−ル、を含む。そのよ
うな添加剤は、顔料の量に基づいて約0.05〜50重
量%(好ましくは1〜10重量%)の範囲の量で添加さ
れる。
【0040】本発明による顔料組成物は、その光安定性
及び移動性のために、多くの異なった顔料の用途に対し
て適当である。例えば本発明による顔料組成物は、非常
に光堅牢性の着色系に対する色剤として(または2つま
たはそれ以上の色剤の1つとして)使用できる。その例
は、他の材料との着色混合物、顔料処方物、塗料、印刷
インキ、色紙、または着色した高分子材料を含む。ここ
に「他の材料との混合物」とは、例えば無機白色顔料、
例えば二酸化チタンまたはセメント、或いは他の無機顔
料との混合物を含むものと理解すべきである。顔料処方
物の例は、有機液体またはペ−ストとのフラッシュした
ペ−スト及び水との分散液、分散剤、及び適当ならば保
存剤を含む。本発明の顔料組成物が使用できる塗料の例
は、例えば物理的にまたは酸化的に乾燥するラッカ−、
スト−ビングエナメル、反応性塗料、2成分塗料、溶媒
または水に基づく塗料、耐水性コ−テイングのための乳
化塗料、及びジステンパ−(distempers)を
含む。印刷インキは、紙、織物、及びブリキ印刷に使用
するのに公知のものを含む。適当な高分子材料は、天然
起源のもの、例えばゴム、化学的改変で得られるもの、
例えばアセチルセルロ−ス、らく酸セルロ−ス、または
ビスコ−ス、或いは合成起源のもの、例えば重合体、重
付加生成物、及び重縮合体を含む。合成起源の高分子材
料の例は、プラスチック材料、例えばポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、及びポリプロピオン酸ビニル、ポリオ
レフィン、例えばポリエチレン及びポリプロピレン、高
分子量ポリアミド、アクリレ−ト、メタクリレ−ト、ア
クリロニトリル、アクリルアミド、ブタジエン、または
スチレンの重合体及び共重合体、ポリウレタン、及びポ
リカ−ボネ−トを含む。本発明の顔料で着色された物質
は、いずれか所望の形態または形を取ることができる。
【0041】本発明による顔料組成物は、高度の耐水
性、耐油性、耐酸性、耐石灰性、耐アルカリ性、耐溶媒
性、ラッカ−塗り過ぎに対する堅牢性、噴霧し過ぎに対
する堅牢性、昇華堅牢性、熱堅牢性、及び加硫堅牢性で
あり、しかも非常に良好な着色収率を与え、そして容易
に(例えばプラスチック材料中へ)分散しうる。
【0042】次の実施例は、本発明の組成物の製造法及
び使用法を更に詳細に例示する。上述した本発明は、精
神的にも、範囲的にもこれらの実施例により制限される
べきではない。同業者は、次の製造工程の条件及び過程
を公知のように変えて本発明の組成物を製造できること
を容易に理解するであろう。実施例中断らない限り、す
べての温度は摂氏であり、すべてのパ−セントは重量%
である。
【0043】
【実施例】
ピラゾリルアミドメチル顔料誘導体の製造 キナクリドン、フタロシアニン、及びペリレンのピラゾ
リルアミドメチル誘導体は次のように製造した。
【0044】3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチル
キナクリドン
【0045】
【化7】
【0046】方法A 100%硫酸210gに、約25
℃で15分間に亘って撹拌しながらパラホルムアルデヒ
ド3.0g(0.10モル)を添加した。この酸性混合
物を、更に10分間撹拌し、ついで3、5−ジメチルピ
ラゾリル−1−カルボキサミド13.92g(0.10
モル)を10分間に亘って添加した。反応混合物を室温
で2時間撹拌し、ついで外部から冷却しつつ5℃まで冷
却した。この混合物に、5〜10℃の温度で10分間に
亘り、キナクリドン31.2g(0,10モル)を添加
した。混合物を5〜10℃で2時間撹拌し、ついで室温
まで暖めて、18時間撹拌した。続いて反応混合物を6
0℃に3時間保った。30℃まで冷却後、反応混合物を
10分間に亘り、氷水2kg上にゆっくりと注いだ。得
られたスラリ−を30分間撹拌し、ついで固体を濾過に
より単離し、水洗した。湿ったプレスケ−キを水で再ス
ラリ−化し、60℃まで加熱し、ついで固体を濾過によ
り単離し、水洗した。この湿ったプレスケ−キを60℃
の炉で乾燥し、3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチ
ルキナクリドン41.5g(収率90%)を得た。
【0047】方法B(米国特許第5334727号に記
述されるピラゾリルメチルキナクリドンの一般的な製造
法)。96%硫酸200gに、約35℃で15分間に亘
って撹拌しながらキナクリドン31.2g(0.10モ
ル)を添加した。この酸性混合物を更に15分間撹拌
し、ついで3、5−ジメチルピラゾリル−1−カルボキ
サミド13.92g(0.10モル)を、15分間に亘
り、温度を外部冷却により40℃に保ちつつ添加した。
得られた反応混合物を更に5分間撹拌し、ついで温度を
40℃に維持しながらパラホルムアルデヒド3.0g
(0.10モル)を15分間に亘り添加した。この反応
混合物を60℃に5時間加熱した。30℃まで冷却後、
反応混合物を10分間に亘り、氷水1kg上にゆっくり
と注いだ。得られたスラリ−を30分間撹拌し、ついで
固体を濾過により単離し、水洗した。湿ったプレスケ−
キを水で再スラリ−化し、60℃まで加熱した。ついで
固体を濾過により単離し、水洗した。この湿ったプレス
ケ−キを60℃の炉で乾燥し、3、5−ジメチルピラゾ
リルアミドメチルキナクリドン41.9g(収率90
%)を得た。
【0048】ジ(3、5−ジメチルピラゾリルアミドメ
チル)キナクリドン
【0049】
【化8】
【0050】100%硫酸260gに、約25℃で15
分間に亘って撹拌しながらパラホルムアルデヒド63.
0g(0.20モル)を添加した。この酸性混合物を更
に10分間撹拌し、ついで3、5−ジメチルピラゾリル
−1−カルボキサミド27.83g(0.20モル)を
30分間に亘って添加した。反応混合物を室温で2時間
撹拌し、ついで外部から冷却しつつ5℃まで冷却した。
この混合物に、5〜10℃の温度で10分間に亘り、キ
ナクリドン31.2g(0,10モル)を添加した。混
合物を5〜10℃で2時間撹拌し、ついで室温まで暖め
て、18時間撹拌した。ついで反応混合物を60℃に3
時間保った。30℃まで冷却後、反応混合物を10分間
に亘り、氷水2kg上にゆっくりと注いだ。得られたス
ラリ−を30分間撹拌し、ついで固体を濾過により単離
し、水洗した。湿ったプレスケ−キを水で再スラリ−化
し、60℃まで加熱した。ついで固体を濾過により単離
し、水洗した。湿ったプレスケ−キを60℃の炉で乾燥
し、ジ(3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチル)キ
ナクリドン50.8gを得た。
【0051】3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチル
銅フタロシアニン
【0052】
【化9】
【0053】96%硫酸410gに、3、5−ジメチル
ピラゾリル−1−カルボキサミド8.3gを6℃で添加
した。この酸性混合物を25分間撹拌し、ついでパラホ
ルムアルデヒド1.8gを添加した。得られた混合物
を、温度を25℃以下に保ちつつ1.5時間撹拌した。
ついでこの反応混合物に、銅フタロシアニン29.1g
を10分間に亘り添加した。反応混合物を35℃以下の
温度で15分間撹拌し、ついで50〜55℃に5時間加
熱した。25℃まで冷却後、反応混合物を氷水2kg上
にゆっくりと注いだ。得られたスラリ−を1.5時間撹
拌し、ついで固体を濾過により単離し、水洗した。湿っ
たプレスケ−キを水で再スラリ−化し、60℃に30分
間加熱し、ついで固体を濾過により単離し、水洗した。
この湿ったプレスケ−キを60℃の炉で乾燥し、3、5
−ジメチルピラゾリルアミドメチル銅フタロシアニン2
8.4gを得た。
【0054】(3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチ
ル)−N、N′−ジメチルペリレンテトラカルボン酸ジ
イミド
【0055】
【化10】
【0056】101%硫酸600gに、3、5−ジメチ
ルピラゾリル−1−カルボキサミド13.9gを6℃で
添加した。この酸性混合物を10分間撹拌し、ついで温
度を10℃以下に保ちつつパラホルムアルデヒド3.0
gを添加した。得られた混合物を20〜25℃で30分
間撹拌し、ついでN、N′−ジメチルペリレンテトラカ
ルボン酸ジイミド41.8gをゆっくり添加した。反応
混合物を20〜25℃で5時間、そして110〜115
℃で4時間撹拌した。24℃まで冷却後、温度を10℃
以下に保ちつつ反応混合物を氷水3kg上にゆっくりと
注いだ。得られたスラリ−を1.5時間撹拌し、ついで
固体を濾過により単離し、水洗した。湿ったプレスケ−
キを水で再スラリ−化し、60℃に30分間加熱し、つ
いで固体を濾過により単離し、水洗した。この湿ったプ
レスケ−キを60℃の炉で乾燥し、(3、5−ジメチル
ピラゾリルアミドメチル)−N、N′−ジメチルペリレ
ンテトラカルボン酸ジイミド39.6gを得た。
【0057】実施例1〜6 実施例1〜6は顔料組成物の製造及び試験例を示す。
【0058】実施例で製造した顔料に対する色合い及び
色度の相違を、アプライド・カラ−・システム・スペク
トラル・センサ−(Applied Color Sy
stem Spectral Sensor)[フント
・アソシエイテッド研究所(Hunt Associa
ted Laboratories,Fairfax,
Virginia)]を用いて測定した。
【0059】水に基づく塗料の試験 水由来ベ−スコ−ト/溶媒由来クリアコ−ト系を用いて
水に基づく塗料の試験を行った。水性分散液は、アロロ
ン(AROLONR)559−G4−70アクリル樹脂
[ライヒホ−ルド・ケミカルズ(Reichhold
Chemicals,Inc.)]12.4%、ソルス
パ−ス(SOLSPERSER)27000ハイパ−デ
イスパ−サント(hyperdispersant)
[ゼネカ(Zeneca,Inc.)]3.2%、2−
アミノ−2−メチル−1−プロパノ−ル[アングス・ケ
ミカル(Angus Chemical)]1.6%、
及び顔料18%の混合物を用いて製造した。これは顔料
対結合剤比18:12及び全固体含量30%を与えた。
(この時点で分散液濃厚物のいくつかの試料を取り、粘
度を決定した。)ついで更にアロロン559−G4−7
0アクリル樹脂(全量25%)及びサイメル(CYME
R)325メラミン/ホルムアルデヒド樹脂[サイテ
ック・インダストリ−ズ(Cytec Industr
ies)]25%を添加して、顔料対結合剤比を10:
40まで減じ、全固体含量を50%にした。マスト−ン
(masstone)及び透明性の測定は、それぞれ湿
ったフィルムを厚さ76及び38μmで適用し且つ室温
に15分間及び100℃に5分間放置して作成したフィ
ルムを用いて行った。ついでアロプラズ(APOPLA
R)1453−X−50アルキッド樹脂80%及びサ
イメル325メラミン/ホルムアルデヒド樹脂20%の
混合物を全固体量57%で含むクリアコ−トを、湿った
フィルムの厚さ76μmで適用し且つ室温に15分間及
び121℃に15分間放置して、ベ−スコ−ト上に適用
した。
【0060】薄い色合いの塗料は、顔料対結合剤比を1
0:40を有する上述の減じた水性分散液から、更にア
ロロン559−G4−70アクリル樹脂、サイメル32
5メラミン/ホルムアルデヒド樹脂、及びテイント−A
YD(TINT−AYDR)CW−5003ホワイト分
散液[ダニエル・プロダクツ(Daniel Prod
ucts Co.)]35%を添加することにより製造
した。これは、顔料対結合剤比1:1.1、全固体含量
55%,及びTiO2対顔料比90:10を与えた。色
の測定は、湿ったフィルムの厚さ38μmで適用し且つ
室温に15分間及び100℃に5分間放置して作成した
フィルムを用いて行った。ついでクリアコ−トを適用
し、上述したように焼き付けた。
【0061】メタリック塗料は、顔料対結合剤比18:
12を有する上述した分散液から、水に分散できるアル
ミニウム顔料[シルバ−ライン・マヌファクチュアリン
グ(Silberline Manufacturin
g Co.,Inc.)からのハイドロペ−スト(HY
DROPASTER)]、アロロン559−G4−70
アクリル樹脂、及びサイメエル325メラミン/ホルム
アルデヒド樹脂を、顔料対結合剤比1:2,アルミニウ
ム対顔料比20:80、及び全固体含量43%を与える
量で使用して製造した。色の測定は、湿ったフィルムの
厚さ38μmで適用し且つ上述のように処理したフィル
ムを用いて行った。ついでクリアコ−トを適用し、上述
したように焼き付けた。
【0062】粘度は、温度制御付きのハ−ケ・レオスト
レス(Haake RheoStress)RS100
レオメ−タ−[フィション・インスツルメンツ(Fis
ion Instruments,Paramus,N
ew Jersey)]を用いて、(顔料対結合剤比を
18:12から10:40に減じる前に採取した)分散
液試料について測定した。粘度は、剪断速度4秒-1及び
温度25℃における剪断応力(mPa・s)として決定
した。
【0063】溶媒に基づく塗料の試験 溶媒に基づく塗料の試験は、一般的なメラミン塗料系を
用いて行った。顔料分散液は、アロプラズ(APOPL
AZR)1453−X−50アルキッド樹脂[ライヒホ
−ルド・ケミカルズ(Reichhold Chemi
cals,Inc.)]33%、キシレン63%、及び
顔料4%を用いて製造した。この顔料対結合剤比は4:
33及び全固体含量は37%であった。ついでアロプラ
ズ(APOPLAZR)1453−X−50アルキッド
樹脂2.3%及びレシメン(RESIMENER)71
7メラミン樹脂[モンサント(Monsant C
o.)]6.5%を添加して顔料対結合剤比を1:10
に減じた。この全固体含量は40%であった。マスト−
ン及び透明性の測定は、それぞれ湿ったフィルムの厚さ
152及び38μmで適用し、且つ室温で30分間及び
121℃で30分間フラッシュしたフィルムを用いて行
った。
【0064】薄い色合いの塗料は、顔料対結合剤比4:
33を有する上述の分散液から、アロプラズ1453−
X−50アルキッド樹脂30%、キシレン20%、ヌオ
スパ−ス(NUOSPERSER)657[ヒュルス・
アメリカ(Huels America)]5%,及び
TI−ピュア(TI−PURER)R−960TiO2
料[デユポン(DuPont)]50%から製造した分
散液31%、アロプラズ1453−X−50アルキッド
樹脂21%、及びレシメン717メラミン樹脂7%を添
加して製造した。これは、顔料対結合剤比1:2、全固
体含量50%,及びTiO2対顔料比90:10を与え
た。色の測定は、湿ったフィルムの厚さ76μmで適用
し且つ室温で30分間及び121℃で30分間フラッシ
ュしたフィルムを用いて行った。
【0065】メタリック塗料は、顔料対結合剤比4:3
3を有する上述した分散液から、アルミニウムペ−スト
(シルバ−ライン・マヌファクチュアリングからの52
51AR)、アロプラズ1453−X−50アルキッド
樹脂、及びレシメン717メラミン樹脂を、顔料対結合
剤比1:9,アルミニウム対顔料比20:80、及び全
固体含量41%を与える量で使用して製造した。色の測
定は、湿ったフィルムの厚さ76μmで適用し且つ室温
で30分間及び121℃で30分間フラッシュしたフィ
ルムを用いて行った。
【0066】実施例1(対照例) 本発明によるN−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料誘導
体の不存在下に顔料2、9−ジメチルキナクリドンを製
造した。
【0067】88℃に加熱したポリ燐酸(燐酸112
%)300gに、温度を添加速度の調節で120℃以下
に保ちながら35分間に亘り、2、5−ジ(4−メチル
アニリノ)テレフタル酸68.2gを添加した。反応混
合物を123℃に2時間加熱した。この溶融物を93℃
まで冷却し、ついで温度を外部冷却と添加速度の調節で
64℃以下に保ちながらメタノ−ル494g中へゆっく
りと注いだ。得られたスラリ−を還流下に1時間加熱
し、60℃以下まで冷却し、水で希釈し、濾過により集
め、酸がなくなるまで水洗した。ついでプレスケ−キを
水に再スラリ−化した。pHを7以上に調整した後、5
0%水酸化ナトリウム5.5gを添加し、得られたスラ
リ−を90℃に1時間加熱した。このスラリ−を冷却
し、濾過し、そしてアルカリがなくなるまで水洗し、再
び水にスラリ−化した。pHを9.5に調整した後、ス
ラリ−を密閉系(例えば加圧反応器)で143℃に2時
間加熱し、そして40℃まで冷却した。このスラリ−を
pH3.3の酸性にした後、アニオン性界面活性剤2.
2g、石油留分30g、及び水80gの乳化液を添加
し、そしてスラリ−を3時間撹拌した。湿ったケ−キを
60℃の炉で乾燥し、2、9−ジメチルキナクリドン約
60gをマジェンタ色の顔料として得た。
【0068】実施例2 対照実施例1の方法で製造した2、9−ジメチルキナク
リドンを、3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチルキ
ナクリドン10重量%と乾式混合した。
【0069】上述したように製造した水に基づく塗料
は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対照顔料
を用いて製造した塗料と比べて、大きい透明なマスト−
ン及び増大した金属様青及び明色性を示した。
【0070】分散液濃厚物(上述の試料)の粘度を、実
施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対照顔料の対照
分散液濃厚物及び3、5−ジメチルピラゾリルアミドメ
チルキナクリドン(米国特許第5334727号に従っ
て製造)10重量%と乾式混合した2、9−ジメチルキ
ナクリドンの対照分散液濃厚物のそれと比較した。試験
結果を下の表に示す。
【0071】実施例3 対照実施例1の方法で製造した2、9−ジメチルキナク
リドンを、ジ(3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチ
ル)キナクリドン10重量%と乾式混合した。
【0072】上述したように製造した水に基づく塗料
は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対照顔料
を用いて製造した塗料と比べて、大きい透明なマスト−
ン及び増大した金属様青と明色性を示した。
【0073】分散液濃厚物(上述の試料)の粘度を、実
施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対照顔料の対照
分散液濃厚物及び3、5−ジメチルピラゾリルアミドメ
チルキナクリドン(米国特許第5334727号に従っ
て製造)10重量%と乾式混合した2、9−ジメチルキ
ナクリドンの対照分散液濃厚物のそれと比較した。試験
結果を下の表に示す。
【0074】 表 実施例2及び3の顔料組成物の濃分散液の粘度 分散液濃厚物 剪断応力(mPa・s) 実施例1(対照例) 7200 対照添加剤(1) 6400 実施例2 3000 実施例3 3000 (1)3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチルキナクリドン(米国特許第5 334727号) 実施例4 3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチルキナクリドン
6.8g(2、5−ジ(4−メチルアニリノ)テレフタ
ル酸に基づいて10重量%)を、2、5−ジ(4−メチ
ルアニリノ)テレフタル酸の添加前にポリ燐酸へ添加す
る以外対照実施例1の方法に従って2、9−ジメチルキ
ナクリドン(60g)を製造した。上述のように製造し
た水に基づく塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナ
クリドン対照顔料を用いて製造した塗料と比べて、非常
に深い、より明色の、より透明なマスト−ンと増大した
金属様青を示した。
【0075】実施例5 塩素含量約5.7重量%のモノクロロ銅フタロシアニン
を、3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチル銅フタロ
シアニン10重量%と乾式混合した。
【0076】上述のように製造した水に基づく塗料は、
3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチル銅フタロシア
ニンで処理してないモノクロロ銅フタロシアニンを用い
て製造した水に基づく塗料と比べて、より緑色がかった
色及び増大した金属様赤と明色性を示した。
【0077】上述のように製造した溶媒に基づくアルキ
ッド塗料は、3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチル
銅フタロシアニンで処理してないモノクロロ銅フタロシ
アニンを用いて製造した溶媒に基づく塗料と比べて、よ
り緑色がかった色及び増大した金属様緑を示した。
【0078】実施例6 N、N′−ジメチルペリレンテトラカルボン酸ジイミド
を、(3、5−ジメチルピラゾリルアミドメチル)−
N、N´−ジメチルペリレンテトラカルボン酸ジイミド
10重量%と乾式混合した。上述のように製造した水に
基づく塗料は、(3、5−ジメチルピラゾリルアミドメ
チル)−N、N′−ジメチルペリレンテトラカルボン酸
ジイミドで処理してないN、N′−ジメチルペリレンテ
トラカルボン酸ジイミドを用いて製造した水に基づく塗
料と比べて、僅かにより明るい、僅かにより不透明なマ
スト−ンと青色及び増大した金属様黄を示した。
【0079】本発明の特徴及び態様は以下の通りであ
る。
【0080】1.有機顔料に基づいて約0.1〜約20
重量%の式
【0081】
【化11】
【0082】[式中、Qは有機顔料残基を表し、NHe
tは環窒素原子においてアミドメチル連結基のカルボニ
ル官能基に結合する窒素含有ヘテロ芳香族基を表し、そ
してnは1〜4である]を有するN−ヘテロアリ−ルア
ミドメチル顔料誘導体で処理した有機顔料を含んでなる
顔料組成物。
【0083】2.有機顔料をN−ヘテロアリ−ルアミド
メチル顔料誘導体10重量%で処理する、上記1の顔料
組成物。
【0084】3.N−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料
誘導体がピラゾリルアミドメチル顔料誘導体である、上
記1の顔料組成物。
【0085】4.N−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料
誘導体が(a)式
【0086】
【化12】
【0087】[式中、Rはキナクリドン環炭素原子に結
合するC1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ハロゲ
ン、またはスルホキシル(またはそのアミド)であり、
nは1〜4であり、そしてrは0〜4である]を有する
ピラゾリルアミドメチルキナクリドン、(b)式
【0088】
【化13】
【0089】[式中、CuPcは銅フタロシアニン残基
を表し、各Rは独立にフタロシアニン環炭素原子に結合
するC1〜C6アルキル、ハロゲン、またはスルホキシル
(またはそのアミド)を表し、nは1〜4であり、そし
てsは0〜8である]を有するピラゾリルアミドメチル
銅フタロシアニン、そして(c)式
【0090】
【化14】
【0091】[式中、各Rは独立にペリレン環炭素原子
に結合するハロゲン、カルボキサミド、またはスルホン
アミドを表し、nは1〜4であり、そしてtは0〜4で
ある]である、上記1の顔料組成物。
【0092】5.N−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料
誘導体が式
【0093】
【化15】
【0094】[式中、nは1〜4である]のピラゾリル
アミドメチルキナクリドンである、上記1の顔料組成
物。
【0095】6.有機顔料がキナクリドンである、上記
5の顔料組成物。
【0096】7.N−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料
誘導体が式
【0097】
【化16】
【0098】[式中、CuPcは銅フタロシアニン残基
を表す]のピラゾリルアミドメチル銅フタロシアニンで
ある、上記1の顔料組成物。
【0099】8.有機顔料が銅フタロシアニンである、
上記7の顔料組成物。
【0100】9.N−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料
誘導体が式
【0101】
【化17】
【0102】[式中、nは1〜4である]のピラゾリル
アミドメチルペリレンである、上記1の顔料組成物。
【0103】10.有機顔料がペリレンである、上記9
の顔料組成物。
【0104】11.有機顔料を、(a)粗有機顔料を、
強鉱酸中においてN−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料
誘導体と混合する、(b)粗製のまたはフラッシュした
有機顔料をN−ヘテロアリ−ルアミドメチル顔料誘導体
と湿式または乾式混合する、(c)N−ヘテロアリ−ル
アミドメチル顔料誘導体を、該有機顔料の合成中に添加
する、(d)該有機顔料を、N−ヘテロアリ−ルアミド
メチル顔料誘導体の存在下に調整する、或いは(e)方
法(a)、(b)、(c)、及び(d)の1つまたはそ
れ以上を組み合わせる、ことにより処理する、上記1の
顔料組成物。
【0105】12.請求項1の顔料組成物を含む顔料で
着色した塗料。
【0106】13.請求項1の顔料組成物を含む顔料で
着色したプラスチック。
【0107】14.請求項1の顔料組成物を含む顔料で
着色したインキ。
【0108】15.請求項1の顔料組成物を含む顔料で
着色したトナ−。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09D 11/00 C09D 11/00 (72)発明者 マーゴツト・カンポス アメリカ合衆国サウスカロライナ州29412 チヤールストン・ウオーターターキーリト リート574 (72)発明者 ダフネ・ジエイ・ライス アメリカ合衆国サウスカロライナ州29414 チヤールストン・トレントストリート879 (72)発明者 ニラン・ヌガラ アメリカ合衆国コネチカツト州06484シエ ルトン・バスキングリツジロード42

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 有機顔料に基づいて約0.1〜約20重
    量%の式 【化1】 [式中、Qは有機顔料部分を表し、 NHetは環窒素原子においてアミドメチル連結基のカ
    ルボニル官能基に結合する窒素含有ヘテロ芳香族基を表
    し、そしてnは1〜4である]を有するN−ヘテロアリ
    −ルアミドメチル顔料誘導体で処理した有機顔料を含ん
    でなる顔料組成物。
  2. 【請求項2】 請求項1の顔料組成物を含む顔料で着色
    した塗料。
  3. 【請求項3】 請求項1の顔料組成物を含む顔料で着色
    したプラスチック。
  4. 【請求項4】 請求項1の顔料組成物を含む顔料で着色
    したインキ。
  5. 【請求項5】 請求項1の顔料組成物を含む顔料で着色
    したトナ−。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011024896A1 (ja) 2009-08-27 2011-03-03 富士フイルム株式会社 ジクロロジケトピロロピロール顔料、これを含有する色材分散物およびその製造方法
WO2019054281A1 (ja) 2017-09-15 2019-03-21 富士フイルム株式会社 組成物、膜、積層体、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ
WO2020059509A1 (ja) 2018-09-20 2020-03-26 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法
WO2021039205A1 (ja) 2019-08-29 2021-03-04 富士フイルム株式会社 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物
WO2022130773A1 (ja) 2020-12-17 2022-06-23 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
WO2022131191A1 (ja) 2020-12-16 2022-06-23 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9609436D0 (en) * 1996-05-04 1996-07-10 Zeneca Ltd Composition and use
US5879444A (en) * 1997-09-02 1999-03-09 Bayer Corporation Organic pigment compositions
US5972099A (en) * 1997-12-17 1999-10-26 Bayer Corporation Process for preparing organic pigment compositions
WO2008134190A2 (en) 2007-04-24 2008-11-06 Sun Chemical Corporation Pigments for non-aqueous inks and coatings

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL263729A (ja) * 1960-04-18
GB1138465A (en) * 1965-08-16 1969-01-01 Ici Ltd Pigment compositions
US3635981A (en) * 1968-11-01 1972-01-18 Xerox Corp Photoelectrophoretic imaging pigment composition and process
JPS5828303B2 (ja) * 1974-08-07 1983-06-15 トウヨウインキセイゾウ カブシキガイシヤ ガンリヨウソセイブツ
DK140901C (da) * 1975-04-12 1980-05-19 Basf Ag Phthalocyaninpigmentpraeparater stabiliseret mod rekrystallisation og modifikationsomdannelse
JPS52132031A (en) * 1976-04-30 1977-11-05 Toyo Ink Mfg Co Ltd Phthalocyanine pigment composition
JPS5940172B2 (ja) * 1977-10-28 1984-09-28 東洋インキ製造株式会社 フタロシアニン顔料組成物
US4197404A (en) * 1978-05-08 1980-04-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Preparation of γ-quinacridone pigment
DE2905114C2 (de) * 1979-02-10 1981-03-19 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Pigmentzubereitungen
JPS56118462A (en) * 1980-02-25 1981-09-17 Toyo Ink Mfg Co Ltd Pigment composition
US4455173A (en) * 1981-07-07 1984-06-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Preparation of pigmentary form of quinacridone pigments
US4541872A (en) * 1982-06-21 1985-09-17 Ciba-Ceigy Corporation Preparation of pigmentary grade pigment from crude pigment
US4439240A (en) * 1983-02-16 1984-03-27 E. I. Du Pont De Nemours & Company Aqueous milling of quinacridone pigment
US4478968A (en) * 1983-04-06 1984-10-23 Ciba-Geigy Corporation Manufacture of resin extended pigments
US4844742A (en) * 1986-04-08 1989-07-04 Ciba-Geigy Corporation Surface modified pigment compositions
US4895948A (en) * 1988-06-20 1990-01-23 Ciba-Geigy Corporation Process for preparation of opaque quinacridones
US4895949A (en) * 1988-06-20 1990-01-23 Ciba-Geigy Corporation Process for preparation of quinacridone solid solutions
DE3833423A1 (de) * 1988-10-01 1990-04-19 Hoechst Ag Chinacridon-pigmente, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE3833422A1 (de) * 1988-10-01 1990-04-05 Hoechst Ag Chinacridone mit gezielt eingestellten triboelektrischen effekten
DE69109057T2 (de) * 1990-11-08 1995-09-21 Ciba Geigy Ag Pyrazol enthaltende Pigmentderivate.
GB9107651D0 (en) * 1991-04-11 1991-05-29 Ciba Geigy Ag Pigment compositions
GB9110260D0 (en) * 1991-05-11 1991-07-03 Ciba Geigy Ag Pigment compositions
US5194088A (en) * 1991-07-08 1993-03-16 Ciba-Geigy Corporation Process for conditioning organic pigments
US5286863A (en) * 1991-08-22 1994-02-15 Ciba-Geigy Corporation Oxidation process for preparing quinacridone pigments
ES2088070T5 (es) * 1991-10-23 2001-04-01 Clariant Gmbh Preparados de pigmentos.
DK0574792T3 (da) * 1992-06-18 1999-03-22 Clariant Gmbh Fremgangsmåde til fremstilling af kobberphthalocyaninpigmentpræparater i alfa-fasen
US5476544A (en) * 1993-02-26 1995-12-19 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Water-based pigment dispersion
JP3129030B2 (ja) * 1993-06-04 2001-01-29 東洋インキ製造株式会社 銅フタロシアニン顔料組成物の製造方法
US5457203A (en) * 1993-09-15 1995-10-10 Ciba-Geigy Corporation Pigmentary synthesis of quinacridone solid solutions
US5424429A (en) * 1993-09-15 1995-06-13 Ciba-Geigy Corporation Preparation of pigmentary 2,9-dichloroquinacridone
US5453151A (en) * 1994-01-25 1995-09-26 Ciba-Geigy Corporation Resinated 2,9-dimethylquinacridone
DE4403231A1 (de) * 1994-02-03 1995-08-10 Hoechst Ag Verfahren zur Herstellung von Chinacridonpigmenten

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011024896A1 (ja) 2009-08-27 2011-03-03 富士フイルム株式会社 ジクロロジケトピロロピロール顔料、これを含有する色材分散物およびその製造方法
WO2019054281A1 (ja) 2017-09-15 2019-03-21 富士フイルム株式会社 組成物、膜、積層体、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ
WO2020059509A1 (ja) 2018-09-20 2020-03-26 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法
WO2021039205A1 (ja) 2019-08-29 2021-03-04 富士フイルム株式会社 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物
WO2022131191A1 (ja) 2020-12-16 2022-06-23 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
WO2022130773A1 (ja) 2020-12-17 2022-06-23 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ

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