JP2003262716A - カラーフィルタ保護膜用組成物および保護膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 密着性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光
性、耐溶剤性などを満たすと共に、下地基板上に形成さ
れたカラーフィルタの段差を平坦化する性能に優れたカ
ラーフィルタ保護膜を形成するために好適に用いられる
組成物および上記組成物より形成された保護膜を提供す
ること 【解決手段】 （Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸および
／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基
含有不飽和化合物、ならびに（ａ３）（ａ１）および
（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、
（Ｂ）（Ａ）成分以外のカチオン重合性化合物、ならび
に（Ｃ）常圧における沸点が１８０℃以上の溶媒を含有
するインクジェット方式カラーフィルタ保護膜用組成
物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置や電荷結合素子等の光デバイスに用いられるカラーフ
ィルタを保護するための保護膜をインクジェット方式に
より形成するための材料として好適なインクジェット方
式によるカラーフィルタ保護膜用組成物、その組成物を
使用した保護膜の形成方法、ならびにその組成物から形
成された保護膜に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶表示装置や電荷結合素子等の
光デバイスは、その製造工程中に、溶剤、酸またはアル
カリ溶液等による表示素子の浸漬処理が行われ、また、
スパッタリングにより配線電極層を形成する際には、素
子表面が局部的に高温に曝される。このような処理によ
って素子が劣化、損傷することを防止するために、これ
らの処理に対して耐性を有する薄膜からなる保護膜を素
子の表面に設けることが行われている。

【０００３】このような保護膜の形成方法としては、従
来、カラーフィルタ等の基板表面上に、スプレー法、ロ
ールコート法、回転塗布法、バー塗布法などの方法で塗
布し、プレベークにより溶媒を除去して塗膜とした後、
加熱処理をすることにより目的とする保護膜を形成する
ことが知られている。しかし、これらの方法では、保護
膜形成に必要な樹脂組成物量を超えて、安定的な塗布の
ために多量の樹脂組成物が必要である。従って樹脂組成
物の無駄が多く、そのためコストが高くなる等の問題が
あった。

【０００４】一方、特開昭５９−７５２０５号公報、特
開昭６１−２４５１０６号公報および特開昭６３−２３
５９０１号公報等には、インクジェットヘッドを用いて
カラーフィルタの着色層を形成する工程を備えた、イン
クジェット方式によるカラーフィルタの製造方法が開示
されている。この方法では、カラーフィルタ用樹脂組成
物の液滴を吐出する位置の制御が容易で、樹脂組成物の
無駄も少なくなるため、製造コストを低減できるという
利点がある。

【０００５】しかしながら、これらの公報では、インク
ジェット方式に適した組成を持つカラーフィルタ保護膜
用組成物については十分な考察がなされていない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、インク
ジェット方式によるカラーフィルタ保護膜用組成物のカ
ラーフィルタ製造過程における挙動を詳細に検討した結
果、カラーフィルタを構成している各画素パターンは面
積が微小であるため、使用されるインクジェットヘッド
の目詰まりを無くして、カラーフィルタ保護膜用組成物
の液滴を直進性良く吐出する必要があり、そのために
は、カラーフィルタ保護膜用組成物の吐出時の液滴の乾
燥速度を小さくするとともに、乾燥による液滴の過度の
粘度上昇も抑え、かつ固形分の析出を防止する必要があ
ることを究明した。

【０００７】本発明は、従来技術における前記事情を勘
案し、かつ前記知見に基づいてされたものである。それ
故、本発明の目的は、カラーフィルタの製造に最適化さ
れたカラーフィルタ保護膜を、低コストのインクジェッ
ト方式により製造するための組成物、およびその保護膜
を提供することにある。

【０００８】本発明の他の目的は、保護膜として要求さ
れる諸特性、具体的には、密着性、表面硬度、透明性、
耐熱性、耐光性、耐溶剤性などを満たすと共に、下地基
板上に形成されたカラーフィルタの段差を平坦化する性
能に優れたカラーフィルタ保護膜を形成するために好適
に用いられる組成物および上記組成物より形成された保
護膜を提供することにある。

【０００９】本発明のさらに他の目的および利点は、以
下の説明から明らかになろう。

【００１０】本発明によれば、本発明の上記目的および
利点は、第一に、（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸およ
び／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ
基含有不飽和化合物、ならびに（ａ３）（ａ１）および
（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物の共重合体
（以下、「共重合体（Ａ）」ということがある。）、
（Ｂ）（Ａ）成分以外のカチオン重合性化合物、ならび
に（Ｃ）常圧における沸点が１８０℃以上の溶媒を含有
することを特徴とする、インクジェット方式カラーフィ
ルタ保護膜用組成物によって達成される。

【００１１】本発明によれば、本発明の上記目的および
利点は、第二に、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分および
（Ｃ）成分に加えて、さらに（Ｄ）熱および／または放
射線により酸を発生する化合物を含有することを特徴と
する組成物によって達成される。

【００１２】本発明の上記目的および利点は、第三に、
上記本発明の組成物より形成された保護膜により達成さ
れる。

【００１３】以下、本発明の組成物に使用されるその他
の構成成分について詳説する。

【００１４】共重合体（Ａ） 本発明で使用される共重合体（Ａ）は、（ａ１）不飽和
カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、
（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物、ならびに（ａ
３）（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和
化合物の共重合体である。

【００１５】本発明で用いられる共重合体（Ａ）は、化
合物（ａ１）から誘導される構成単位を、好ましくは５
〜４０重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％含有し
ている。この構成単位が５重量％未満である共重合体
は、耐熱性、耐薬品性、表面硬度が低下する傾向にあ
り、一方４０重量％を超える共重合体は保存安定性が低
下する場合がある。

【００１６】上記（ａ１）不飽和カルボン酸および／ま
たは不飽和カルボン酸無水物としては、例えば、アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボン
酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン
酸、イタコン酸などのジカルボン酸；およびこれらジカ
ルボン酸の無水物が挙げられる。これらのうち、アクリ
ル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸などが共重合反応
性、耐熱性および入手が容易である点から好ましく用い
られる。これらの化合物（ａ１）は、単独であるいは組
み合わせて用いられる。

【００１７】本発明で用いられる共重合体（Ａ）は、化
合物（ａ２）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量％、特に好ましくは２０〜６０重量％含有
している。この構成単位が１０重量％未満の場合は得ら
れる保護膜の耐熱性、表面硬度が低下する傾向にあり、
一方７０重量％を超える場合は、そのような共重合体を
含有する組成物の保存安定性が低下する傾向にある。

【００１８】上記（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物
は、エポキシ基と重合性炭素−炭素二重結合を一分子中
に持つ化合物であり、具体的には例えば、アクリル酸グ
リシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリ
ル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジ
ル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸
−３,４−エポキシブチル、メタクリル酸−３,４−エポ
キシブチル、アクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、
メタクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、α−エチル
アクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベ
ンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシ
ジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル
などが挙げられる。

【００１９】これらのうち、メタクリル酸グリシジル、
メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニル
ベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリ
シジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテ
ルなどが共重合反応性および得られる保護膜の耐熱性、
硬度を高める点から好ましく用いられる。これらの（ａ
２）エポキシ基含有不飽和化合物は、単独であるいは組
み合わせて用いられる。

【００２０】本発明で用いられる共重合体（Ａ）は、化
合物（ａ３）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量％、特に好ましくは２０〜５０重量％含有
している。この構成単位が１０重量％未満の場合は、そ
のような共重合体を含有する組成物の保存安定性が低下
する傾向にあり、一方７０重量％を超える場合は得られ
る保護膜の耐熱性、表面硬度が低下する場合がある。

【００２１】上記（ａ３）成分である（ａ１）および
（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物としては、例
えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ
−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレー
ト、ｔ−ブチルメタクリレートなどのメタクリル酸アル
キルエステル；メチルアクリレート、イソプロピルアク
リレートなどのアクリル酸アルキルエステル；シクロヘ
キシルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシルメタ
クリレート、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル
酸トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル
（当該技術分野で慣用名としてメタクリル酸ジシクロペ
ンタニルといわれている）、ジシクロペンタニルオキシ
エチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレートな
どのメタクリル酸環状アルキルエステル；シクロヘキシ
ルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレー
ト、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸トリシクロ
［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル（当該技術分
野で慣用名としてアクリル酸ジシクロペンタニルといわ
れている）、ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレ
ート、イソボロニルアクリレートなどのアクリル酸環状
アルキルエステル；フェニルメタクリレート、ベンジル
メタクリレートなどのメタクリル酸アリールエステル；
フェニルアクリレート、ベンジルアクリレートなどのア
クリル酸アリールエステル；マレイン酸ジエチル、フマ
ル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどのジカルボン酸
ジエステル；インデン、１−メチルインデン等のインデ
ン誘導体；フェニルマレイミド、ベンジルマレイミド、
シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３
−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４
−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−
マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−
マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジル）マ
レイミド等のジカルボニルイミド誘導体；２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタ
クリレートなどのヒドロキシアルキルエステル；および
スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、
ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシス
チレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリル
アミド、酢酸ビニル、１,３−ブタジエン、イソプレ
ン、２,３−ジメチル−１,３−ブタジエンなどが挙げら
れる。

【００２２】これらのうち、スチレン、ｔ−ブチルメタ
クリレート、メタクリル酸ジシクロペンタニル、ｐ−メ
トキシスチレン、２−メチルシクロヘキシルアクリレー
ト、１,３−ブタジエン、フェニルマレイミド、シクロ
ヘキシルなどが共重合反応性および耐熱性の点から好ま
しい。

【００２３】これらの化合物（ａ３）は、単独であるい
は組み合わせて用いられる。

【００２４】本発明に用いられる共重合体（Ａ）は、ポ
リスチレン換算重量平均分子量が、好ましくは３，００
０〜１００，０００、さらに好ましくは３，０００〜５
０，０００、特に好ましくは３，０００〜２０，０００
である。この範囲の分子量を持つ共重合体を使用するこ
とにより、平坦化性に優れた保護膜を得ることができ
る。

【００２５】本発明で使用される共重合体（Ａ）は、上
記（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カル
ボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物、
ならびに（ａ３）（ａ１）および（ａ２）以外のオレフ
ィン系不飽和化合物を、適当な溶媒および重合開始剤の
存在下、例えばラジカル重合によって製造することがで
きる。

【００２６】共重合体（Ａ）の製造に使用される溶媒と
しては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコ
ール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；メチ
ルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート
などのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
などのジエチレングリコール類；プロピレングリコール
メチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテ
ル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレ
ングリコールブチルエーテルなどのプロピレングリコー
ルモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールメチ
ルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエ
ーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエー
テルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテル
アセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテ
ルアセテート類；プロピレングリコールメチルエーテル
プロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテル
プロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテ
ルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテ
ルプロピオネートなどのプロピレングリコールアルキル
エーテルプロピオネート類；トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、
メチルイソアミルケトンなどのケトン類；

【００２７】および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒド
ロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ
酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、
乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−
ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピ
オン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、
２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ
酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピ
ル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキ
シ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブ
チル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、
プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブト
キシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プ
ロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン
酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メト
キシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸
ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキ
シプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロ
ピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシ
プロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチ
ル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシ
プロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプ
ロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチ
ル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプ
ロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピ
ル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシ
プロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポ
キシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メ
チル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシ
プロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチ
ルなどのエステル類が挙げられる。

【００２８】これらのうち、ジエチレングリコール類、
プロピレングリコールアルキルアセテート類が好まし
く、就中、エチレングリコールエチルメチルエーテル、
プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールエチルエーテルアセテートが特に好ま
しい。

【００２９】共重合体（Ａ）の製造に使用される開始剤
としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られて
いるものが使用でき、例えば２,２’−アゾビスイソブ
チロニトリル、２,２’−アゾビス−（２,４−ジメチル
バレロニトリル）、２,２’−アゾビス−（４−メトキ
シ−２,４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合
物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシ
ド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１,１’−ビス
−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機
過酸化物；および過酸化水素が挙げられる。ラジカル重
合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を
還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよ
い。

【００３０】（Ｂ）（Ａ）成分以外のカチオン重合性化
合物 本発明で使用される（Ｂ）成分である（Ａ）成分以外の
カチオン重合性化合物としては、例えば、オキセタン
基、３，４−エポキシシクロへキシル基、又はエポキシ
基を分子内に２個以上有する化合物を挙げることができ
る。

【００３１】このような（Ｂ）成分である（Ａ）成分以
外のカチオン重合性化合物の具体例としては、以下のも
のを挙げることができる。

【００３２】上記オキセタン基を分子内に２以上有する
化合物としては、例えば３，７−ビス（３−オキセタニ
ル）−５−オキサ−ノナン、３，３’−（１，３−（２
−メチレニル）プロパンジイルビス（オキシメチレ
ン））ビス−（３−エチルオキセタン）、１，４−ビス
〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕
ベンゼン、１，２−ビス［（３−エチル−３−オキセタ
ニルメトキシ）メチル］エタン、１，３−ビス［（３−
エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］プロパ
ン、エチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセ
タニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３
−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリエ
チレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニル
メチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３
−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリシ
クロデカンジイルジメチレンビス（３−エチル−３−オ
キセタニルメチル）エーテル、トリメチロールプロパン
トリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテ
ル、１，４−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメト
キシ）ブタン、１，６−ビス（３−エチル−３−オキセ
タニルメトキシ）ヘキサン、ペンタエリスリトールトリ
ス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、
ペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オ
キセタニルメチル）エーテル、ポリエチレングリコール
ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテ
ル、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−
３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリ
トールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチ
ル）エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス（３
−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペン
タエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセ
タニルメチル）エーテルとカプロラクトンとの反応生成
物、ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−
３−オキセタニルメチル）エーテルとカプロラクトンと
の反応生成物、ジトリメチロールプロパンテトラキス
（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ビ
スフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメ
チル）エーテルとエチレンオキサイドとの反応生成物、
ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニル
メチル）エーテルとプロピレンオキサイドとの反応生成
物、水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキ
セタニルメチル）エーテルとエチレンオキサイドとの反
応生成物、水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３
−オキセタニルメチル）エーテルとプロピレンオキサイ
ドとの反応生成物、ビスフェノールＦビス（３−エチル
−３−オキセタニルメチル）エーテルとエチレンオキサ
イドとの反応生成物等を挙げることができる。

【００３３】上記３，４−エポキシシクロヘキシル基を
分子内に２個以上有する化合物としては、例えば、３，
４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−
エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エ
ポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス
（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペー
ト、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシ
ルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチル
シクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチル
シクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，
４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエン
ジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エ
ポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス
（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト）、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメ
チル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート等を挙げることができる。

【００３４】エポキシ基を２個以上有する上記化合物と
しては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェ
ノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡ
ジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシ
ジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエ
ーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭
素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等の各種ビ
スフェノール化合物のジグリシジルエーテル類；１，４
−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキ
サンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグ
リシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシ
ジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類；エ
チレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン
などの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のア
ルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリ
エーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂；クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂；ポリフェノール型エポキシ樹脂；脂
肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪
酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆油、エポキ
シ化アマニ油等を挙げることができる。

【００３５】エポキシ基を２個以上有する上記化合物の
市販品としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ
樹脂として、エピコート１００１、同１００２、同１０
０３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１
０、同８２８（以上、油化シェルエポキシ（株）製）
等；ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、エピコー
ト８０７（油化シェルエポキシ（株）製）等；フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート１５
２、同１５４、同１５７Ｓ６５（以上、油化シェルエポ
キシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日
本化薬（株）製）等；クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂として、ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４
Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（以上、日本化薬
（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエポ
キシ（株）製）等；ポリフェノール型エポキシ樹脂とし
て、エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（以
上、油化シェルエポキシ（株）製）等；環状脂肪族エポ
キシ樹脂として、ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、
アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（以上、
チバ・スペシャルティー・ケミカルズ（株）製）、ＥＲ
Ｌ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（以上、
Ｕ.Ｃ.Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）
製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本イン
キ（株）製）、エピコート８７１、同８７２（以上、油
化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６１、同５６
６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等；脂
肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト１００Ｍ
Ｆ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油
脂（株）製）等が挙げられる。

【００３６】上記のカチオン重合性化合物は、１種単独
で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

【００３７】これらの（Ｂ）成分である（Ａ）成分以外
のカチオン重合性化合物のうち、好ましいものとして、
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ポリフェノール
型エポキシ樹脂が挙げられる。

【００３８】（Ｃ）常圧における沸点が１８０℃以上の
溶媒 本発明における溶媒は、常圧（１気圧）における沸点
（以下、単に「沸点」という。）が１８０℃以上の溶媒
（以下、「高沸点溶媒」という。）からなる。高沸点溶
媒の沸点は、、好ましくは２００℃以上である。また、
高沸点溶媒の沸点の上限は、本発明におけるインクジェ
ット方式カラーフィルタ保護膜用組成物からインクジェ
ット方式によりカラーフィルタ保護膜を製造することが
できる限り、特に制約されるものではない。樹脂組成物
の調製工程およびカラーフィルタ保護膜の製造工程にお
ける操作性の観点からみると、沸点が好ましくは２９０
℃以下、より好ましくは２８０℃以下の、常温（２０
℃）で比較的低粘度の液体である高沸点溶媒が望まし
い。したがって、本発明における高沸点溶媒の好ましい
沸点範囲は、具体的には、１８０〜２９０℃であり、さ
らに好ましくは２００〜２８０℃である。

【００３９】高沸点溶媒としては、例えば、式 Ｒ¹−
Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂−Ｒ²（式中、Ｒ¹およびＲ²は相互
に独立に炭素数２〜１０のアルキル基を示す。）で表さ
れるジエチレングリコールジアルキルエーテル系溶媒；
式 Ｒ³−Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₃−Ｒ⁴（式中、Ｒ³および
Ｒ⁴は相互に独立に炭素数１〜１０のアルキル基を示
す。）で表されるトリエチレングリコールジアルキルエ
ーテル系溶媒；式 Ｒ⁵−Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_i−Ｒ
⁶（式中、Ｒ⁵およびＲ⁶は相互に独立に炭素数１〜１０
のアルキル基を示し、ｉは２〜３０の整数である。）で
表されるポリエチレングリコールジアルキルエーテル系
溶媒；式 Ｒ⁷−ＯＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂Ｏ−Ｒ⁸（式中、
Ｒ⁷およびＲ⁸は相互に独立に炭素数２〜１０のアルキル
基を示す。）で表されるプロピレングリコールジアルキ
ルエーテル系溶媒；が挙げられる。

【００４０】エチレングリコールモノイソアミルエーテ
ル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレ
ングリコールモノフェニルエーテル等のエチレングリコ
ールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノ
ブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノ
アルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテ
ル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテ
ルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエ
ーテルアセテート類；エチレングリコールモノフェニル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエ
ーテル、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル
等の他のエーテル類；プロピレングリコールブチルエー
テルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエー
テルアセテート類が挙げられる。

【００４１】１−オクタノール、１−ノナノール、ベン
ジルアルコール等のアルコール類；アセトニルアセト
ン、イソホロン等のケトン類；カプロン酸、カプリル酸
等のカルボン酸類；乳酸ブチル、安息香酸エチル、安息
香酸ｎ−ブチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチ
ル、マレイン酸ジ−ｎ−ブチル、グリセリントリアセテ
ート、フマル酸ジ−ｎ−ブチル、フタル酸ジメチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジ−ｎ−プロピル、フタル酸
ジ−ｉ−プロピル、フタル酸ジ−ｎ−ブチル、サリチル
酸ｉ−アミル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭
酸プロピレン等のエステル系溶媒等を挙げることができ
る。

【００４２】本発明における好ましい高沸点溶媒の具体
例としては、エチレングリコールモノブチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジ
プロピレングリコール、プロピレングリコールブチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチ
ルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ペンタエチレングリコールジメチルエーテル、ヘキ
サエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレング
リコールジ−ｎ−ブチルエーテル、乳酸ブチル等が好ま
しい。

【００４３】前記高沸点溶媒は、単独でまたは２種以上
を混合して使用することができる。

【００４４】高沸点溶媒の使用量は、共重合体（Ａ）１
００重量部に対して、好ましくは、１００〜１０，００
０重量部、より好ましくは１，０００〜１０，０００重
量部、さらに好ましくは２，０００〜５，０００重量部
である。

【００４５】本発明においては、高沸点溶媒を使用する
ことにより、下記の如き効果を奏することができる。す
なわち、 インクジェット方式により画素パターンを形成する
際には、カラーフィルタ保護膜用組成物を隔壁上端より
盛り上がった状態となるようにカラーフィルタ領域に吐
出させたのち、乾燥して、隔壁により区画されたカラー
フィルタ領域内に保護膜を形成するが、このときの高沸
点溶媒の蒸発速度が低く、吐出された該樹脂組成物が乾
燥時に急激に変化することがないため、保護膜を形成す
る際の作業マージンが向上する。 インクジェット方式により保護膜を形成する際に
は、溶媒の蒸発によりカラーフィルタ保護膜用組成物が
次第に粘稠になるが、溶媒の沸点が低いと粘度変化が大
きくなるため、保護膜の形成過程の初期と終期での、カ
ラーフィルタ領域に吐出された該樹脂組成物の変化の度
合いが大きくなり、保護膜の形成に支障をきたすのに対
して、高沸点溶媒を採用することにより、この粘度変化
を小さく抑えることができ、所望の保護膜の形成が容易
となる。 カラーフィルタ保護膜用組成物を吐出させるインク
ジェットヘッドの乾燥による目詰まりを防止でき、また
該組成物を吐出する際のインクジェットヘッドの乾燥に
よる飛行曲がりも防止でき、良好な直進性を確保できる
ため、カラーフィルタ保護膜用組成物の利用効率および
保護膜製造装置の洗浄効率が向上する。

【００４６】また、本発明においては、沸点が１８０℃
未満の溶媒（以下、「低沸点溶媒」という。）を高沸点
溶媒と併用することができる。

【００４７】低沸点溶媒としては、例えば、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエー
テル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチ
レングリコールモノアルキルエーテル類；メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエ
チレングリコールアルキルエーテルアセテート類；エチ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレン
グリコールモノプロピルエーテルアセテート等のエチレ
ングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプ
ロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン等の他のエーテル類；

【００４８】プロピレングリコールメチルエーテル、プ
ロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコ
ールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエ
ーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテ
ル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等の
プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
メタノール、エタノールなどのアルコール類；トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−
２−ペンタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、メ
チルイソアミルケトンなどのケトン類；

【００４９】および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、ぎ酸ｎ−アミル、
酢酸イソアミル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチ
ル、２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキ
シプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプ
ロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピ
オン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸
エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、乳酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチ
ル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキ
シプロピオン酸プロピル、２−ヒドロキシ−３−メチル
ブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エ
チル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エ
トキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸
プロピル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチ
ル、、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、２−
メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン
酸エチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エト
キシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸メ
チル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシ
プロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチ
ル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプ
ロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸メチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシ
プロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル
などのエステル類が挙げられる。

【００５０】これらのうち、ジエチレングリコール類、
プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピ
レングリコールアルキルアセテート類、エステル類が好
ましく、特に、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロ
ピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコー
ルメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエ
チルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メ
チル、３−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸メチル、
乳酸エチルが好ましい。

【００５１】これらの低沸点溶媒は、単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。

【００５２】低沸点溶媒の使用割合は、高沸点溶媒と低
沸点溶媒との合計に対して、好ましくは、３０重量％以
下、より好ましくは１０重量％以下である。この場合、
低沸点溶媒の使用割合が３０重量％を超えると、高沸点
溶媒を使用することによる所期の効果が損なわれるおそ
れがある。

【００５３】（Ｄ）熱および／または放射線により酸を
発生する化合物 本発明に使用される（Ｄ）成分は、感放射線酸発生剤ま
たは感熱酸発生剤である。

【００５４】感放射線酸発生剤としては、例えばジアリ
ールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩
類、ジアリールホスホニウム塩類等が好ましく使用でき
る。また、感熱酸発生剤としては、例えばスルホニウム
塩類（前述のトリアリールスルホニウム塩類を除く）、
ベンゾチアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニ
ウム塩類等が挙げられる。これらのうちでもスルホニウ
ム塩類（前述のトリアリールスルホニウム塩類を除
く）、ベンゾチアゾニウム塩類がさらに好ましく用いら
れる。

【００５５】上記ジアリールヨードニウム塩類として
は、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテ
ート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテト
ラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨ
ードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシ
フェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリ
フルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフ
ェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスル
ホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロア
セテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウム−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。
これらのうちでも、ジフェニルヨードニウムヘキサフル
オロホスホネートが好適に用いられる。

【００５６】上記トリアリールスルホニウム塩類として
は、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホス
ホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トル
エンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルス
ルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェ
ニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェ
ニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオ
ロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホ
ニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネー
ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオ
ロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニル
トリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフ
ェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェニ
ルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナート
等が挙げられる。これらのうちでも、トリフェニルスル
ホニウムトリフルオロメタンスルホナートが好適に用い
られる。

【００５７】上記ジアリールホスホニウム塩類として
は、（１−６−η−クメン）（η−シクロペンタジエニ
ル）鉄ヘキサフルオロホスホネート等を挙げることがで
きる。

【００５８】感放射線性酸発生剤として好適に用いられ
る酸発生剤の市販品としては、ジアリールヨードニウム
塩類として、ユニオンカーバイド社製 商品名：ＵＶＩ
−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、Ｕ
ＶＩ−６９９０、みどり化学（株）製 商品名：ＭＰＩ
−１０３、ＢＢＩ−１０３等を挙げることができる。

【００５９】また、トリアリールスルホニウム塩類とし
て、旭電化工業（株）製 商品名：アデカオプトマーＳ
Ｐ−１５０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７
１、日本曹達（株）製 商品名：ＣＩ−２４８１、ＣＩ
−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４、みどり
化学（株）製 商品名：ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０
３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０
３、ＭＤＳ−１０３、サートマー社製 商品名：ＣＤ−
１０１０、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２等を挙げる
ことができる。

【００６０】また、ジアリールホスホニウム塩類として
チバスペシャルティケミカルズ（株）製 商品名：イル
ガキュアー２６１、日本化薬（株）製 商品名：ＰＣＩ
−０６１Ｔ、ＰＣＩ−０６２Ｔ、ＰＣＩ−０２０Ｔ、Ｐ
ＣＩ−０２２Ｔ等を挙げることができる。

【００６１】これらのうち、ユニオンカーバイド社製
商品名：ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ
−６９９０、旭電化工業（株）製 商品名：アデカオプ
トマーＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１、サートマー社製
商品名：ＣＤ−１０１２、みどり化学（株）製 商品
名：ＭＰＩ−１０３が、得られる保護膜が高い表面硬度
を有することから好ましい。

【００６２】上記感熱酸発生剤のうち、スルホニウム塩
類（前記のトリアリールスルホニウム塩類を除く）の具
体例としては、４−アセトフェニルジメチルスルホニウ
ムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェ
ニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、ジメチル−４−（ベンジルオキシカルボニルオキ
シ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル
−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウム ヘ
キサフルオロアルセネート、ジメチル−３−クロロ−４
−アセトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロア
ンチモネートなどのアルキルスルホニウム塩；

【００６３】ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチル
スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジ
ル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキ
サフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルベン
ジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト、ベンジル−４−メトキシフェニルメチルスルホニウ
ム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−２−メ
チル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネート、ベンジル−３−クロロ−
４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフ
ルオロアルセネート、４−メトキシベンジル−４−ヒド
ロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロホ
スフェートなどのベンジルスルホニウム塩；

【００６４】ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル
−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジ
ル−４−メトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒド
ロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネ
ート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−
４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホ
スフェートなどのジベンジルスルホニウム塩；

【００６５】ｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェ
ニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト、ｐ−ニトロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチ
ルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−
クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホ
ニウム ヘキサフルオロホスフェート、ｐ−ニトロベン
ジル−３−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、３,５−ジ
クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｏ−クロロベン
ジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネートなどの置換ベ
ンジルスルホニウム塩等が挙げられる。

【００６６】これらのうちでも４−アセトキシフェニル
ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、
ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェ
ニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアン
チモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセト
キシフェニルベンジルスルホニウム ヘキサフルオロア
ンチモネート等が好ましく用いられる。

【００６７】上記ベンゾチアゾニウム塩類としては３−
ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフル
オロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム
テトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベンジ
ル）ベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−
クロロベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ートなどのベンジルベンゾチアゾニウム塩が挙げられ
る。

【００６８】これらのうち、３−ベンジルベンゾチアゾ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネート等が好ましく用
いられる。

【００６９】感熱酸発生剤として好適に用いられる酸発
生剤の市販品としては、アルキルスルホニウム塩とし
て、旭電化工業（株）製 商品名：アデカオプトンＣＰ
−６６、ＣＰ−７７を挙げることができる。

【００７０】また、ベンジルスルホニウム塩として、三
新化学工業（株）製 商品名：ＳＩ−６０、ＳＩ−８
０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ
−１５０、ＳＩ−８０Ｌ、ＳＩ−１００Ｌ、ＳＩ−１１
０Ｌを挙げることができる。

【００７１】これらのうち、ＳＩ−８０、ＳＩ−１０
０、ＳＩ−１１０が、得られる保護膜が高い表面硬度を
有することから好ましい。

【００７２】これら（Ｄ）成分の使用量は、共重合体
（Ａ）１００重量部当たり、好ましくは０．０５〜２０
重量部、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。

【００７３】この範囲の使用において良好な硬化特性が
得られ、硬化後の膜の諸物性が損なわれることがない。

【００７４】組成物 次に、本発明の組成物について説明する。

【００７５】本発明の組成物の実施態様としては、以下
の各場合を挙げることができる。

【００７６】前述の共重合体（Ａ）、（Ｂ）成分であ
る（Ａ）成分以外のカチオン重合性化合物、および
（Ｃ）常圧における沸点が１８０℃以上の溶媒を必須成
分とし、場合により後述する任意添加成分を含有する組
成物（以下、「第１組成物」ということがある。）。

【００７７】上記第１の組成物にさらに（Ｄ）熱およ
び／または放射線により酸を発生する化合物を含有させ
た組成物（以下、「第２組成物」ということがあ
る。）。

【００７８】上記第１組成物中の各成分の配合割合は、
以下の通りである。

【００７９】第１組成物中に含有される（Ｂ）成分であ
る（Ａ）成分以外のカチオン重合性化合物の配合割合
は、共重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは
３〜１００重量部、より好ましくは５〜５０重量部の量
で用いられる。この値が３重量部未満であると、得られ
る保護膜の硬度が不十分となる場合があり、一方この値
が１００重量部を超えると、塗膜の形成工程において困
難を生ずる場合がある。

【００８０】第１組成物中に含有される（Ｃ）常圧にお
ける沸点が１８０℃以上の溶媒の使用量は、共重合体
（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは、１００〜１
０，０００重量部、より好ましくは１，０００〜１０，
０００重量部、さらに好ましくは２，０００〜５，００
０重量部である。

【００８１】上記第１組成物は、（Ｄ）熱および／また
は放射線により酸を発生する化合物をさらに含有させ、
第２組成物とすることができる。

【００８２】第２組成物に含有される（Ｄ）熱および／
または放射線により酸を発生する化合物の量は、共重合
体（Ａ）１００重量部当たり、好ましくは２０重量部以
下、より好ましくは０．０５〜２０重量部、さらに好ま
しくは０．１〜１０重量部である。この範囲の使用量に
おいて組成物は良好な硬化特性を示し、得られる保護膜
の諸物性が損なわれることはない。

【００８３】上記第１または第２組成物から、後述する
方法により保護膜を形成することができる。このように
して形成された保護膜は、密着性、表面硬度、透明性、
耐熱性、耐光性、耐溶剤性などを満たすと共に、熱のか
かった状態で荷重によって凹まず、および下地基板上に
形成されたカラーフィルタの段差を平坦化する性能に優
れる。本発明の保護膜は、平坦化性が好ましくは３００
ｎｍ以下、さらに好ましくは２００ｎｍ以下である。

【００８４】任意添加成分 本発明の組成物は、上記した諸態様をとりうるが、本発
明の目的を損なわない範囲で必要に応じて上記以外の他
の成分を含有していてもよい。このような他の成分とし
ては、例えば、界面活性剤、接着助剤等を挙げることが
できる。

【００８５】上記界面活性剤は、組成物の塗布性を向上
するために添加される。

【００８６】このような界面活性剤としては、例えば、
フッ素系界面活性剤；シリコーン系界面活性剤；ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アリールエーテル類、ポリオキシエチレンジアルキルエ
ステル類などのノニオン系界面活性剤等が挙げられる。

【００８７】ポリオキシエチレンアルキルエーテル類と
しては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、
ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエ
チレンオレイルエーテル等が挙げられる。ポリオキシエ
チレンアリールエーテル類としては、例えばポリオキシ
エチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテルが挙げられる。ポリオキシエ
チレンジアルキルエステル類としては、例えばポリオキ
シエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステア
レート等が挙げられる。

【００８８】このような界面活性剤の市販品としては、
フッ素系界面活性剤として、ＢＭＣＨＩＭＩＥ社製 商
品名：ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、大日本インキ
化学工業（株）社製 商品名：メガファックＦ１４２
Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、住友スリー
エム（株）社製 商品名：フロラードＦＣ−１３５、同
ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１、旭
硝子（株）社製 商品名：サーフロンＳ−１１２、同Ｓ
−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１，同Ｓ−１４
５、同Ｓ−３８２，同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、
同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同
ＳＣ−１０６等；シリコーン系界面活性剤として、東レ
シリコーン（株）社製 商品名：ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ
−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４
２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０、信越化学工業（株）
社製 商品名：ＫＰ３４１、新秋田化成（株）社製 商
品名：エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３
５２等；その他の界面活性剤として、共栄社化学（株）
社製 商品名：（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフロ
ーＮｏ.５７、同Ｎｏ．９０等を挙げることができる。

【００８９】これらの界面活性剤の添加量は、上記第１
および２組成物に添加する場合にあっては共重合体
（Ａ）１００重量部当たり、好ましくは５重量部以下、
より好ましくは２重量部以下で使用される。界面活性剤
の量が５重量部を超える場合は、塗布工程において塗膜
の膜荒れが生じやすくなる場合がある。

【００９０】上記接着助剤は、形成される保護膜と基板
との密着性を向上させるために添加される。

【００９１】このような接着助剤としては、例えばカル
ボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エ
ポキシ基などの反応性置換基を有する官能性シランカッ
プリング剤が好ましく用いられる。具体的にはトリメト
キシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、β−（３,４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシランなどが挙げられる。

【００９２】このような接着助剤は、上記第１および２
組成物に添加する場合にあっては共重合体（Ａ）１００
重量部当たり、好ましくは３０重量部以下、より好まし
くは２５重量部以下の量で用いられる。接着助剤の量が
３０重量部を超える場合は、得られる保護膜の耐熱性が
不十分となる場合がある。

【００９３】上記のようにして調製された組成物は、例
えば孔径０．２〜３．０μｍ、好ましくは孔径０．２〜
０．５μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾別し
た後、使用に供することもできる。

【００９４】保護膜の形成 次に、本発明の組成物を用いて本発明の保護膜を形成す
る方法について説明する。

【００９５】本発明の組成物が上記第１組成物である場
合、および（Ｄ）成分として感熱酸発生剤を含有する第
２組成物である場合には、当該組成物を基板表面にイン
クジェット装置により塗布し、プレベークにより溶媒を
除去して塗膜とした後、加熱処理をすることにより目的
とする保護膜を形成することができる。

【００９６】上記基板として使用できるものとしては、
例えばガラス、石英、シリコン、樹脂等の基板が使用す
ることができる。樹脂としては、例えばポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエー
テルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、ならび
に環状オレフィンの開環重合体およびその水素添加物の
如き樹脂を挙げることができる。

【００９７】本発明の組成物の塗布方法としては、イン
クジェット法が主であるが、例えばスプレー法、ロール
コート法、回転塗布法、バー塗布法などの適宜の方法を
採用することができる。

【００９８】上記プレベークの条件としては、各成分の
種類や配合割合などによっても異なるが、例えば７０〜
９０℃で１〜１５分間程度の条件を採用できる。

【００９９】塗膜形成後の加熱処理は、ホットプレート
やオーブンなどの適宜の加熱装置により実施することが
できる。処理温度としては、１５０〜２５０℃程度が好
ましく、加熱装置としてホットプレート使用の場合は５
〜３０分間、オーブン使用の場合は、３０〜９０分間の
処理時間を採用することが好ましい。

【０１００】また、本発明の組成物が、（Ｄ）成分とし
て感放射線酸発生剤を含有する第２組成物である場合に
は、当該組成物を基板表面に塗布し、プレベークにより
溶媒を除去して塗膜とした後、放射線照射処理（露光処
理）を施すことにより目的とする保護膜を形成すること
ができる。必要に応じて、露光処理後にさらに加熱処理
を行ってもよい。

【０１０１】この場合、上記と同様にして基板上に塗膜
を形成することができる。

【０１０２】上記放射線の照射処理において使用できる
放射線としては、例えば可視光線、紫外線、遠紫外線、
電子線、Ｘ線等を挙げることができる。１９０〜４５０
ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。

【０１０３】露光量は、好ましくは１００〜２０，００
０Ｊ／ｍ²、より好ましくは１，０００〜１０，０００
Ｊ／ｍ²である。

【０１０４】このように形成された保護膜は、その膜厚
が、好ましくは０．１〜８μｍ、より好ましくは０．１
〜６μｍ、さらに好ましくは０．１〜４μｍである。な
お、本発明の保護膜がカラーフィルタの段差を有する基
板上に形成される場合には、上記の膜厚は、カラーフィ
ルタの最上部からの厚さとして理解されるべきである。

【０１０５】本発明の保護膜は、下記の実施例から明ら
かなように、密着性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光
性、耐溶剤性などを満たすと共に、下地基板上に形成さ
れたカラーフィルタの段差を平坦化する性能に優れた光
デバイス用保護膜として好適である。

【０１０６】

【実施例】以下に合成例、実施例を示して、本発明をさ
らに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定
されるものではない。

【０１０７】共重合体（Ａ）の製造 以下、本発明に使用される共重合体（Ａ）の製造例を合
成例１および２に示す。 合成例１ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエ
チレングリコールメチルエチルエーテル２００重量部を
仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、メタクリル酸
２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部および
メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０ ^2,6］デカン
−８−イル１０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるや
かに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、こ
の温度を５時間保持し共重合体（Ａ−１）を含む重合体
溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３
３.０％であった。また、共重合体（Ａ−１）の重量平
均分子量（Ｍｗ）は、６，０００であった。

【０１０８】合成例２ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエ
チレングリコールメチルエチルエーテル２００重量部を
仕込んだ。引き続きスチレン１８重量部、メタクリル酸
２０重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量部および
シクロヘキシルマレイミド２２重量部を仕込み窒素置換
した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上
昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−２）を
含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃
度は、３３.０％であった。また、共重合体（Ａ−２）
の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１２，０００であった。

【０１０９】第１組成物の調製および評価 実施例１ （Ａ）成分として合成例１で得られた共重合体（Ａ−
１）を含む溶液（共重合体（Ａ−１）１００重量部（固
形分）に相当する量）と、成分（Ｂ）としてビスフェノ
ールＡノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ
（株）製 商品名：エピコート１５７Ｓ６５）１０．０
重量部、成分（Ｃ）としてジエチレングリコールモノブ
チルエーテルアセテート８００重量部、接着助剤として
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１５重量
部、および界面活性剤としてＳＨ−２８ＰＡ（東レシリ
コーン(株)製）０.１重量部を加え、さらに固形分濃度
が１０％になるようにジエチレングリコールメチルエチ
ルエーテルを添加した後、孔径０.５μｍのミリポアフ
ィルタで濾過して第１組成物を調製した。 保護膜の形成 上記のようにして調製した組成物は、無色透明であっ
た。

【０１１０】インクジェット装置を用いて上記組成物
を、ＳｉＯ₂ディップガラス基板上に塗布した後、ホッ
トプレート上で８０℃、５分間プレベークして塗膜を形
成し、さらにオーブン中で２３０℃にて６０分間加熱処
理して膜厚２．０μｍの保護膜を形成した。

【０１１１】保護膜の評価 透明性の評価 上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、分光光度計（１５０−２０型ダブルビーム（日立製
作所(株)製））を用いて４００〜８００ｎｍの透過率を
測定した。４００〜８００ｎｍの透過率の最小値を表１
に示した。この値が９５％以上のとき、保護膜の透明性
は良好といえる。

【０１１２】耐熱寸法安定性の評価 上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、オーブン中２５０℃で１時間加熱し、加熱前後の膜
厚を測定した。下記式にしたがって算出した耐熱寸法安
定性を表１に示した。この値が９５％以上のとき、耐熱
寸法安定性は良好といえる。 耐熱寸法安定性＝｛（加熱後の膜厚）／（加熱前の膜
厚）｝×１００（％）

【０１１３】耐熱変色性の評価 上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、オーブン中２５０℃で１時間加熱し、加熱前後の透
明性を、上記と同様にして測定した。下記式にしたが
って算出した耐熱変色性を表１に示した。この値が５％
以下のとき、耐熱変色性は良好といえる。 耐熱変色性＝加熱前の透過率−加熱後の透過率（％）

【０１１４】表面硬度の測定 上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９９０の８．４．１鉛筆
引っかき試験により保護膜の表面硬度を測定した。この
値を表１に示す。この値が４Ｈまたはそれより硬いと
き、表面硬度は良好といえる。

【０１１５】密着性の評価 上記のようにして形成した保護膜を有する基板につい
て、プレッシャークッカー試験（１２０℃、湿度１００
％、４時間）を行った後、ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９
９０の８．５．３付着性碁盤目テープ法により保護膜の
密着性を評価した。碁盤目１００個中、残った碁盤目の
数を表１に示した。

【０１１６】平坦化性の評価 ＳｉＯ₂ディップガラス基板上に、顔料系カラーレジス
ト（商品名「ＪＣＲＲＥＤ ６８９」、「ＪＣＲ ＧＲ
ＥＥＮ ７０６」、「ＣＲ ８２００Ｂ」、以上、ジェ
イエスアール（株）製）をスピンナーにより塗布し、ホ
ットプレート上で９０℃、１５０秒間プレベークして塗
膜を形成した。その後、所定のパターンマスクを介し
て、露光機Ｃａｎｏｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン
（株）製）を用いてｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５
ｎｍ、３６５ｎｍの強度比＝２.７：２.５：４.８）を
ｉ線換算で２，０００Ｊ／ｍ²の露光量で照射し、０．
０５％水酸化カリウム水溶液を用いて現像し、超純水に
て６０秒間リンスした後、さらにオーブン中で２３０℃
にて３０分間加熱処理して、赤、緑および青の３色のス
トライプ状カラーフィルタ（各画素はストライプ幅１０
０μｍ×長さ３００μｍの長方形）を形成した。

【０１１７】このカラーフィルタが形成された基板表面
の凹凸を、表面粗さ計「α−ステップ」（商品名：テン
コール社製）で測定したところ、１．０μｍであった。
測定長：２,０００μｍ、測定範囲：２,０００μｍ角、
測定点数：ｎ＝５。すなわち、測定方向を赤、緑、青方
向のストライプライン短軸方向および赤・赤、緑・緑、
青・青の同一色ストライプライン長軸方向の２方向と
し、各方向にｎ＝５で測定（合計ｎ数１０）。

【０１１８】この上に、上記保護膜形成用組成物をイン
クジェット装置にて塗布した後、ホットプレート上で８
０℃、５分間プレベークして塗膜を形成し、さらにオー
ブン中で２３０℃にて６０分間加熱処理し、カラーフィ
ルタの上面からの膜厚が２．０μｍの保護膜を形成し
た。

【０１１９】上記のようにして形成した、カラーフィル
タ上に保護膜を有する基板について、接触式膜厚測定装
置α−ステップ（テンコールジャパン（株）製）にて保
護膜の表面の凹凸を測定した。測定長：２,０００μ
ｍ、測定範囲：２,０００μｍ角、測定点数：ｎ＝５。
すなわち、測定方向を赤、緑、青方向のストライプライ
ン短軸方向および赤・赤、緑・緑、青・青の同一色スト
ライプライン長軸方向の２方向とし、各方向にｎ＝５で
測定（合計ｎ数１０）。各測定毎の最高部と最底部の高
低差（ｎｍ）の１０回の平均値を表１に示した。この値
が３００ｎｍ以下のとき、平坦化性は良好といえる。

【０１２０】実施例２〜５および比較例１ 組成物の各成分の種類および量を表１に記載のとおりと
した他は実施例１と同様にして保護膜形成用組成物を調
製し、実施例１と同様に保護膜を形成し、評価した。結
果を表１に示した。

【０１２１】第２組成物の調製および評価 実施例６ （Ａ）成分として合成例１で得られた共重合体（Ａ−
１）を含む溶液（共重合体（Ａ−１）１００重量部（固
形分）に相当する量）と、成分（Ｂ）としてビスフェノ
ールＡ型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ（株）製
商品名：エピコート１０３２Ｈ６０）５０．０重量部、
成分（Ｃ）としてジエチレングリコールモノブチルエー
テルアセテート１,０００重量部、（Ｄ）成分としてベ
ンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルス
ルホニウムヘキサフルオロアンチモネート２重量部、接
着助剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン１５重量部、および界面活性剤としてＳＨ−２８Ｐ
Ａ（東レシリコーン(株)製）０.１重量部を加え、さら
に固形分濃度が１０％になるようにジエチレングリコー
ルジメチルエーテルを添加した後、孔径０.５μｍのミ
リポアフィルタで濾過して第２組成物を調製した。ここ
で得られた組成物の外観を表１に示した。

【０１２２】上記のように調製した組成物を使用して実
施例１と同様に保護膜を形成し、評価した。結果を表１
に示した。

【０１２３】実施例７および比較例２ 組成物の各成分の種類および量を表１に記載の通りとし
た他は、実施例６と同様にして組成物を調製した。ここ
で調製した組成物の外観を表１に示す。

【０１２４】上記組成物溶液をＳｉＯ₂ディップガラス
基板上に、インクジェット塗布装置を用いて塗布した
後、８０℃で５分間ホットプレート上でプレベークを行
って塗膜を形成した。

【０１２５】次いで、形成された塗膜に露光機Ｃａｎｏ
ｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン（株）製）を用いてｇｈ
ｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍの強度
比＝２.７：２.５：４.８）をｉ線換算で２，０００Ｊ
／ｍ²の露光量で照射した。さらにオーブン中２３０℃
で６０分間加熱し、保護膜を形成した。

【０１２６】また、実施例１に記載の方法と同様にして
カラーフィルタを形成した基板上に、上記と同様に塗
布、プレベーク、露光および加熱の各工程を実施して保
護膜を形成した。

【０１２７】これらの保護膜を有する基板を用いて、実
施例１と同様にして評価した。評価結果を表１に示す。

【０１２８】

【表１】

【０１２９】なお、表１において、各成分の添加量は重
量部であり、表中の「−」は、該当する成分を添加して
いないことを表す。なお、共重合体（Ａ）の添加量は合
成例１、２で合成した共重合体溶液中の固形分量に、そ
れぞれ換算した値を表す。

【０１３０】また、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成
分およびその他の溶媒の略称は、それぞれ以下のものを
表す。

【０１３１】Ｂ−１：ビスフェノールＡノボラック型エ
ポキシ樹脂（油化シェルエポキシ（株）製 商品名：エ
ピコート１５７Ｓ６５） Ｂ−２：：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（油化シェ
ルエポキシ（株）製商品名：エピコート１０３２Ｈ６
０） Ｂ−３：トリメチロールプロパントリス（３−エチル−
３−オキセタニルメチル）エーテル Ｃ−１：ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート Ｃ−２：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート Ｄ−１：ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート Ｄ−２：トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタン
スルホナート Ｓ−１：ジエチレングリコールジメチルエーテル Ｓ−２：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル

【０１３２】

【発明の効果】本発明によれば、カラー液晶表示装置や
電荷結合素子等の光デバイスに用いられるカラーフィル
タを保護するための保護膜をインクジェット方式により
形成するための材料として好適な保護膜用組成物ならび
にその組成物から形成された保護膜を得ることができ
る。さらに、保護膜として従来から要求される諸特性、
具体的には、密着性、表面硬度、透明性、耐熱寸法安定
性、耐熱変色性を満たすと共に、下地基板であるカラー
フィルタの段差を平坦化する性能に優れた光デバイス用
保護膜形成材料として好適な組成物、およびそれから形
成された保護膜を得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丹羽 一明 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BA02 BA64 BB02 BB37 BB42 4F071 AA22X AA32X AA33 AA42 AC18 AE22 AF25 AF30 AF45 AG14 AG27 AH19 BC01 4J002 BG071 CD012 CD022 CD052 CD062 CD191 CH032 EB107 EH036 EH156 EV297 EW177 GP00

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸および
   ／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基
   含有不飽和化合物、ならびに（ａ３）（ａ１）および
   （ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、
   （Ｂ）（Ａ）成分以外のカチオン重合性化合物、ならび
   に（Ｃ）常圧における沸点が１８０℃以上の溶媒を含有
   することを特徴とする、インクジェット方式カラーフィ
   ルタ保護膜用組成物。
2. 【請求項２】 （Ｄ）熱および／または放射線により酸
   を発生する化合物をさらに含有する請求項１に記載の組
   成物。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の組成物より形
   成されたインクジェット方式カラーフィルタの保護膜。
4. 【請求項４】 インクジェット方式によりカラーフィル
   タ保護膜を製造するための請求項１に記載の組成物の用
   途。