JP3831947B2 - 樹脂組成物、カラーフィルタの保護膜およびその形成方法 - Google Patents

Description

本発明は、保護膜用硬化性組成物、その組成物から保護膜を形成する方法、および保護膜に関する。さらに詳しくは、液晶表示素子（ＬＣＤ）用カラーフィルタおよび電荷結合素子（ＣＣＤ）用カラーフィルタに用いられる保護膜を形成するための材料として好適な組成物、その組成物を使用した保護膜の形成方法、ならびにその組成物から形成された保護膜に関する。

ＬＣＤやＣＣＤ等の放射線デバイスは、その製造工程中に、溶剤、酸またはアルカリ溶液等による表示素子の浸漬処理が行なわれ、また、スパッタリングにより配線電極層を形成する際には、素子表面が局部的に高温に曝される。従って、このような処理によって素子が劣化あるいは損傷することを防止するために、これらの処理に対して耐性を有する薄膜からなる保護膜を素子の表面に設けることが行なわれている。

このような保護膜は、当該保護膜を形成すべき基体または下層、さらに保護膜上に形成される層に対して密着性が高いものであること、膜自体が平滑で強靭であること、透明性を有するものであること、耐熱性および耐光性が高く、長期間にわたって着色、黄変、白化等の変質を起こさないものであること、耐水性、耐溶剤性、耐酸性および耐アルカリ性に優れたものであること等の性能が要求される。これらの諸特性を満たす保護膜を形成するための材料としては、例えばグリシジル基を有する重合体を含む熱硬化性組成物が知られている（特許文献１および特許文献２参照）。

また、このような保護膜をカラー液晶表示装置や電荷結合素子のカラーフィルタの保護膜として使用する場合には、一般的に下地基板上に形成されたカラーフィルタによる段差を平坦化できることが要求される。

さらに、カラー液晶表示装置、例えばＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式あるいはＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｅｒ）方式のカラー液晶表示素子では、液晶層のセルギャップを均一に保持するためにビーズ状のスペーサーを保護膜上に散布したうえでパネルを貼り合わせることが行われている。その後にシール材を熱圧着することにより液晶セルを密封することとなるが、その際にかかる熱と圧力で、ビーズが存在する部分の保護膜が凹む現象が見られ、セルギャップが狂うことが問題となっている。

特にＳＴＮ方式のカラー液晶表示素子を製造する際には、カラーフィルタと対向基板との張り合わせの精度を極めて厳密に行わなければならず、保護膜には極めて高度な段差の平坦化性能および耐熱耐圧性能が要求されている。

また、近年ではスパッタリングによりカラーフィルタの保護膜上に配線電極（インジウムチンオキサイド：ＩＴＯ）を成膜し、強酸や強アルカリ等でＩＴＯをパターニングする方式も採られている。このため、カラーフィルタ保護膜はスパッタリング時に表面が局部的に高温に曝されたり、数々の薬品処理がなされる。したがって、これらの処理に耐えること、および薬品処理時にＩＴＯが保護膜上から剥がれないように配線電極との密着性も要求されている。

このような保護膜の形成には、簡易な方法で硬度に優れる保護膜を形成できる利点のある熱硬化性組成物を使用することが便宜であるが、上記したような諸特性を発現させるための保護膜樹脂組成物は、強固な架橋を形成させる反応性のよい架橋基あるいは触媒を有しており、そのために組成物自身のシェルフライフが非常に短いという問題があり、ハンドリングが非常にやっかいであった。すなわち、組成物の塗布性能自体が経時的に悪化するばかりでなく、塗工機の頻繁なメンテナンス、洗浄等が必要になり操作上も煩雑であった。

透明性などの保護膜としての一般的な要求性能を満たしたうえ上記したような諸性能を満たす保護膜を簡易に形成でき、かつ組成物としての保存安定性に優れた材料は未だ知られていない。

また、特許文献３には、塗料、インク、接着剤、成形品に用いられる、潜在化カルボキシル化合物を含む熱硬化性組成物が開示されているが、カラーフィルターの保護膜については何ら開示されていない。
特開平５−７８４５３号公報 特開２００１−９１７３２号公報 特開平４−２１８５６１号公報

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に、平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性、耐スパッタ性などの各種の耐性に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に用いられ、かつ組成物としての保存安定性に優れる組成物、その上記組成物を用いた保護膜の形成方法、および上記組成物より形成された保護膜を提供することにある。

本発明によれば、本発明の上記目的は、第一に、（Ａ）カルボン酸のアセタールエステル構造およびカルボン酸のケタールエステル構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造ならびにエポキシ構造を有し且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量が２，０００以上である高分子量体（以下、「高分子量体（Ａ）」ということがある。）、ならびに（Ｂ）分子内に２個以上のエポキシ構造を有する化合物（ただし前記（Ａ）成分を除く。）（以下、「エポキシ化合物（Ｂ）」ということがある。）を含有する樹脂組成物によって達成される。

本発明の上記目的は、第二に、上記樹脂組成物を用いるカラーフィルタの保護膜の形成方法によって達成される。

本発明の上記目的は、第三に、上記樹脂組成物から形成された、カラーフィルタの保護膜によって達成される。

本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。

以下、本発明の樹脂組成物の各成分について説明する。

高分子量体（Ａ）
本発明に用いられる高分子量体（Ａ）は、カルボン酸のアセタールエステル構造およびカルボン酸のケタールエステル構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造ならびにエポキシ構造を有し且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量が２，０００以上である。

カルボキシル基と結合してカルボン酸のアセタールエステル構造を形成する基としては、例えば、１−メトキシエトキシ基、１−エトキシエトキシ基、１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−ｉ−プロポキシエトキシ基、１−ｎ−ブトキシエトキシ基、１−ｉ−ブトキシエトキシ基、１−ｓｅｃ−ブトキシエトキシ基、１−ｔ−ブトキシエトキシ基、１−シクロペンチルオキシエトキシ基、１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−ノルボルニルオキシエトキシ基、１−ボルニルオキシエトキシ基、１−フェニルオキシエトキシ基、１−（１−ナフチルオキシ）エトキシ基、１−ベンジルオキシエトキシ基、１−フェネチルオキシエトキシ基、（シクロヘキシル）（メトキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（エトキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（ｎ−プロポキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（ｉ−プロポキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（シクロヘキシルオキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（フェノキシ）メトキシ基、（シクロヘキシル）（ベンジルオキシ）メトキシ基、（フェニル）（メトキシ）メトキシ基、（フェニル）（エトキシ）メトキシ基、（フェニル）（ｎ−プロポキシ）メトキシ基、（フェニル）（ｉ−プロポキシ）メトキシ基、（フェニル）（シクロヘキシルオキシ）メトキシ基、（フェニル）（フェノキシ）メトキシ基、（フェニル）（ベンジルオキシ）メトキシ基、（ベンジル）（メトキシ）メトキシ基、（ベンジル）（エトキシ）メトキシ基、（ベンジル）（ｎ−プロポキシ）メトキシ基、（ベンジル）（ｉ−プロポキシ）メトキシ基、（ベンジル）（シクロヘキシルオキシ）メトキシ基、（ベンジル）（フェノキシ）メトキシ基、（ベンジル）（ベンジルオキシ）メトキシ基、２−テトラヒドロフラニルオキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基等を挙げることができる。

これらのうち、１−エトキシエトキシ基、１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基、１−ｎ−プロポキシエトキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基を好ましいものとして挙げることができる。

カルボキシル基と結合してカルボン酸のケタールエステル構造を形成する基としては、例えば、１−メチル−１−メトキシエトキシ基、１−メチル−１−エトキシエトキシ基、１−メチル−１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−メチル−１−ｉ−プロポキシエトキシ基、１−メチル−１−ｎ−ブトキシエトキシ基、１−メチル−１−ｉ−ブトキシエトキシ基、１−メチル−１−ｓｅｃ−ブトキシエトキシ基、１−メチル−１−ｔ−ブトキシエトキシ基、１−メチル−１−シクロペンチルオキシエトキシ基、１−メチル−１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−メチル−１−ノルボルニルオキシエトキシ基、１−メチル−１−ボルニルオキシエトキシ基、１−メチル−１−フェニルオキシエトキシ基、１−メチル−１−（１−ナフチルオキシ）エトキシ基、１−メチル−１−ベンジルオオキシエトキシ基、１−メチル−１−フェネチルオキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−メトキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−エトキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−ｉ−プロポキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−フェノキシエトキシ基、１−シクロヘキシル−１−ベンジルオキシエトキシ基、１−フェニル−１−メトキシエトキシ基、１−フェニル−１−エトキシエトキシ基、１−フェニル−１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−フェニル−１−ｉ−プロポキシエトキシ基、１−フェニル−１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−フェニル−１−フェニルオキシエトキシ基、１−フェニル−１−ベンジルオキシエトキシ基、１−ベンジル−１−メトキシエトキシ基、１−ベンジル−１−エトキシエトキシ基、１−ベンジル−１−ｎ−プロポキシエトキシ基、１−ベンジル−１−ｉ−プロポキシエトキシ基、１−ベンジル−１−シクロヘキシルオキシエトキシ基、１−ベンジル−１−フェニルオキシエトキシ基、１−ベンジル−１−ベンジルオキシエトキシ基、２−（２−メチル−テトラヒドロフラニル）オキシ基、２−（２−メチル−テトラヒドロピラニル）オキシ基、１−メトキシ−シクロペンチルオキシ基、１−メトキシ−シクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。

これらのうち、１−メチル−１−メトキシエトキシ基、１−メチル−１−シクロヘキシルオキシエトキシ基を好ましいものとして挙げることができる。

高分子量体（Ａ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（溶出溶媒テトラヒドロフラン）で測定したポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」ということがある。）が２，０００以上であるが、好ましくは２，０００〜１００，０００であり、さらに好ましくは３，０００〜５０，０００であり、特に好ましくは８，０００〜４０，０００である。この場合、Ｍｗが２，０００未満であると、組成物の塗布性が不十分となり、あるいは形成される保護膜の耐熱性が不足する場合があり、一方Ｍｗが１００，０００を超えると、平坦化性能が不十分となる場合がある。

また、高分子量体（Ａ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（溶出溶媒テトラヒドロフラン）で測定した数平均分子量（以下、「Ｍｎ」ということがある）が、好ましくは１，０００以上、より好ましくは１，０００〜５０，０００、さらに好ましくは２，０００〜２５，０００、特に好ましくは４，５００〜２０，０００である。Ｍｎが１，０００より小さいと、組成物の塗布性が不十分となり、あるいは形成される保護膜の耐熱性が不足する場合があり、一方Ｍｎが５０，０００を超えると、平坦化能が不十分となる場合がある。

さらに、高分子量体（Ａ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は好ましくは５．０以下であり、さらに好ましくは３．０以下である。

高分子量体（Ａ）は上記の条件を満たすものである限り特に限定はないが、たとえば、（ａ１）カルボン酸のアセタールエステル構造またはカルボン酸のケタールエステル構造を有する不飽和化合物（以下、「単量体（ａ１）」ということがある。）、（ａ２）エポキシ基を有する不飽和化合物（以下、「単量体（ａ２）」ということがある。）、および（ａ３）（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物（以下、「単量体（ａ３）」ということがある。）の共重合体（以下、「共重合体（Ａ）」ということがある。）であることができる。

単量体（ａ１）としては、例えば、カルボン酸のアセタールエステル構造またはカルボン酸のケタールエステル構造を有するノルボルネン化合物、カルボン酸のアセタールまたはケタールエステル構造を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物を挙げることができる。

上記アセタールエステル構造またはケタールエステル構造を有するノルボルネン化合物の具体例としては、例えば、２，３−ジ−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−トリメチルシラニルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−トリエチルシラニルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−ｔ−ブチルジメチルシラニルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−トリメチルゲルミルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−トリエチルゲルミルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−ｔ−ブチルジメチルゲルミルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−ｔ−ブチルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−ベンジルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−テトラヒドロフラン−２−イルオキシカルボニル−５−ノルボルネン
２，３−ジ−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニル−５−ノルボルネン
２，３−ジ−シクロブチルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−シクロペンチルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−シクロヘキシルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−シクロヘプチルオキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−１−メトキシエトキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−１−ｔ−ブトキシエトキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−１−ベンジルオキシエトキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−（シクロヘキシル）（エトキシ）メトキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−１−メチル−１−メトキシエトキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−１−メチル−１−ｉ−ブトキシエトキシカルボニル−５−ノルボルネン、
２，３−ジ−（ベンジル）（エトキシ）メトキシカルボニル−５−ノルボルネン等；

上記アセタールエステルまたはケタールエステル構造を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物の具体例としては、例えば、１−エトキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（メタ）アクリレート、１−（シクロヘキシルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、１−（２−メチルプロポキシ）エチル（メタ）アクリレート、１−（１，１−ジメチル−エトキシ）エチル（メタ）アクリレート、１−（シクロヘキシルオキシ）エチル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。

これらのうち、カルボン酸のアセタールエステルまたはケタールエステル構造を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物が好ましく、とくに１−エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルメタクリレート、１−（シクロヘキシルオキシ）エチルメタクリレート、１−（２−メチルプロポキシ）エチルメタクリレート、１−（１，１−ジメチル−エトキシ）エチルメタクリレート、１−（シクロヘキシルオキシ）エチルメタクリレートが好ましい。

これらは、単独であるいは組み合わせて用いられる。

単量体（ａ２）としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが挙げられる。

これらのうち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが共重合反応性および得られる保護膜または絶縁膜の耐熱性、表面硬度を高める点から好ましく用いられる。

これらは、単独であるいは組み合わせて用いられる。

単量体（ａ３）としては、例えば、メタクリル酸アルキルエステル（ただしｔ−ブチルメタクリレートを除く）、アクリル酸アルキルエステル（ただしｔ−ブチルアクリレートを除く）、メタクリル酸環状アルキルエステル、アクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物類、マレイミド化合物類、不飽和芳香族化合物、共役ジエン系化合物、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸無水物、その他の不飽和化合物を挙げることができる。

これらの具体例としては、例えば、メタクリル酸アルキルエステル（ただしｔ−ブチルメタクリレートを除く）として、ヒドロキシメチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、２−メタクリロキシエチルグリコサイド、４−ヒドロキシフェニルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、ｎ−ラウリルメタクリレート、トリデシルメタクリレート、ｎ−ステアリルメタクリレート等；

アクリル酸アルキルエステル（ただしｔ−ブチルアクリレートを除く）としてメチルアクリレート、イソプロピルアクリレート等；

メタクリル酸環状アルキルエステルとして、シクロヘキシルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシルメタクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルメタクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレート等；

アクリル酸環状アルキルエステルとして、シクロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレート等；

メタクリル酸アリールエステルとして、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等；

アクリル酸アリールエステルとして、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート等；
不飽和ジカルボン酸ジエステルとして、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等；

ビシクロ不飽和化合物類として、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等；
マレイミド化合物類として、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等；

不飽和芳香族化合物として、スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン等；
共役ジエン系化合物として、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等；

不飽和モノカルボン酸として、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等；
不飽和ジカルボン酸として、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等；

不飽和ジカルボン酸無水物として、上記不飽和ジカルボン酸の各無水物；
その他の不飽和化合物として、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル等を挙げることができる。

これらのうち、スチレン、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルメタクリレート、ｐ−メトキシスチレン、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、１，３−ブタジエン、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンなどが共重合反応性等の点から好ましい。

これらは、単独であるいは組み合わせて用いられる。

共重合体（Ａ）は単量体（ａ１）に由来する構造単位を好ましくは５〜６０重量％、さらに好ましくは１０〜５０重量％含有する。この範囲の含有量において、良好な平坦化性能および耐熱性を実現することができる。

共重合体（Ａ）は単量体（ａ２）に由来する構造単位を好ましくは１０〜７０重量％、さらに好ましくは２０〜６０重量％含有する。この値が１０重量％未満であると、得られる保護膜の耐熱性、表面硬度が不足する場合がある。一方、この値が７０重量％を超えると、樹脂組成物の保存安定性が低下する傾向にある。

共重合体（Ａ）中の単量体（ａ３）に由来する構造単位の含有量は、１００重量％から上記単量体（ａ１）および（ａ２）に由来する構造単位の含有量を減じた量として示されるが、単量体（ａ３）として不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸または不飽和ジカルボン酸無水物を使用した場合、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸および不飽和ジカルボン酸無水物に由来する構造単位の含有量の合計が４０重量％を超えると、得られる組成物の安定性が損なわれる場合があるため、この値を超えないことが好ましい。

共重合体（Ａ）の好ましい具体例としては、例えば、スチレン／テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（メタ）アクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／１−（シクロヘキシルオキシ）エチル（メタ）アクリレート／メタリル酸トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（メタ）アクリレート／フェニルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、

スチレン／２，３−ジ−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニル−５−ノルボルネン／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル共重合体、

スチレン／１−（シクロヘキシルオキシ）エチル（メタ）アクリレート／シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、

スチレン／テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（メタ）アクリレート／シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、

スチレン／２，３−ジ−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニル−５−ノルボルネン／シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、
ブタジエン／スチレン／１−（シクロヘキシルオキシ）エチル（メタ）アクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル共重合体、

ブタジエン／テトラヒドロー２Ｈ―ピラン−２−イル（メタ）アクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル共重合体、

ｔ−ブチルメタクリレート／テトラヒドロ−２Ｈ―ピラン−２−イル（メタ）アクリレート／無水マレイン酸／メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル共重合体、
スチレン／テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（メタ）アクリレート／メタクリル酸メチル／メタクリル酸グリシジル共重合体、
ｐ−メトキシスチレン／テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（メタ）アクリレート／シクロヘキシルアクリレート／メタクリル酸グリシジル共重合体等、
ｔ−ブチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸グリシジル／シクロヘキシルマレイミド共重合体、

等が挙げられる。

それらのうち好ましいものとして、
スチレン／テトラヒドロ−２Ｈ―ピラン−２−イル（メタ）アクリレート／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル共重合体、

スチレン／テトラヒドロ−２Ｈ―ピラン−２−イル（メタ）アクリレート／フェニルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／２，３−ジ−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニル−５−ノルボルネン／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル／メタクリル酸グリシジル共重合体、

スチレン／１−（シクロヘキシルオキシ）エチル（メタ）アクリレート／シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、
スチレン／テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル（メタ）アクリレート／シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、

スチレン／２，３−ジ−テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニル−５−ノルボルネン／シクロヘキシルマレイミド／メタクリル酸グリシジル共重合体、
が挙げられる。

このような共重合体（Ａ）は、上記単量体（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）を、適当な溶媒および適当な重合開始剤の存在下、公知の方法、例えばラジカル重合によって合成することができる。

また、共重合体（Ａ）としては、不飽和多価カルボン酸無水物類を共重合させた前駆共重合体中の酸無水物基に、ビニルエーテル化合物またはビニルチオエーテル化合物を、酸触媒の不存在下、室温〜１００℃程度の温度で付加させることにより得られる共重合体も好ましい。但し、該共重合体（Ａ）においては、遊離のカルボキシル基が存在しないか、あるいは少ないこと（例えば、前駆共重合体中の酸無水物基の２０モル％以下であること）が好ましい。

このような共重合体（Ａ）としては、例えば、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にエチルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｎ−プロピルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｉ−プロピルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｎ−ブチルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｉ−ブチルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｔ−ブチルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体に３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水イタコン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にエチルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／無水イタコン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｉ−プロピルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水イタコン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体に３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／無水シトラコン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にエチルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水シトラコン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｉ−プロピルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／無水シトラコン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体に３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／シス−１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にエチルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／シス−１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｉ−プロピルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／シス−１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体に３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体

や、これらの共重合体で各ビニルエーテルの代わりにそれぞれ対応するチオエーテルを付加させた共重合体
等を挙げることができる。

これらの共重合体（Ａ）のうち、さらに好ましくは、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にエチルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｎ−プロピルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｉ−プロピルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｎ−ブチルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／無水マレイン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体に３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水イタコン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にエチルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／無水イタコン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｉ−プロピルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／無水イタコン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体に３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／無水シトラコン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体に３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、
（メタ）アクリル酸グリシジル／シス−１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にエチルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体、

（メタ）アクリル酸グリシジル／シス−１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン共重合体にｉ−プロピルビニルエーテルを酸無水物基に対して２倍モル付加させた共重合体
等である。

エポキシ化合物（Ｂ）
本発明に使用されるエポキシ化合物（Ｂ）は、分子内に２個以上のエポキシ構造を有する化合物（ただし前記（Ａ）成分を除く。）である。

このようなエポキシ化合物（Ｂ）としては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物、分子内に２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物等を挙げることができる。

上記分子内にエポキシ基を２個以上有する化合物としては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル類；

１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類；
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；

フェノールノボラック型エポキシ樹脂；
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；
ポリフェノール型エポキシ樹脂；
脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；
高級脂肪酸のグリシジルエステル類；
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等を挙げることができる。

上記エポキシ基を２以上有する化合部の市販品としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、エピコート１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）等；

ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン（株）製）等；
フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｓ６５（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）等；

クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（以上、日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン（株）製）等；
ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）等；

環状脂肪族エポキシ樹脂として、ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本インキ（株）製）、エピコート８７１、同８７２（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＤ−５６６１、同５６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等；
脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）等が挙げられる。

上記分子内に２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等を挙げることができる。

このようなエポキシ化合物（Ｂ）のうち、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびポリフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。

なお、高分子量体（Ａ）も分子内に２個以上のエポキシ構造を有するが、カルボン酸のアセタールエステル基および／またはケタールエステル基を有する点で、エポキシ化合物（Ｂ）とは異なる。

本発明の樹脂組成物中におけるエポキシ化合物（Ｂ）の使用量は、高分子量体（Ａ）１００重量部あたり、好ましくは３〜２００重量部、さらに好ましくは５〜１００重量部、特に１０〜５０重量部である。エポキシ化合物（Ｂ）の使用量が２００重量部より多いと、組成物の塗布性に問題が生ずる場合があり、一方、３重量部未満であると、得られる保護膜の硬度が不足する場合がある。

本発明の樹脂組成物は、上記の高分子量体（Ａ）およびエポキシ化合物（Ｂ）を必須成分として含有するものであるが、場合により、（Ｃ）感放射線性酸発生剤または（Ｄ）感熱性酸発生剤を含有することができる。

（Ｃ）感放射線性酸発生剤
感放射線性酸発生剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射により酸を発生することができる化合物である。

このような感放射線性酸発生剤としては、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、ジアリールホスホニウム塩類等が挙げられ、これらを好ましく使用できる。

上記ジアリールヨードニウム塩類としては、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。これらのうちでも、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネートが好適に用いられる。

上記トリアリールスルホニウム塩類としては、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルトリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。これらのうちでも、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナートが好適に用いられる。

上記ジアリールホスホニウム塩類としては、（１−６−η−クメン）（η−シクロペンタジエニル）鉄ヘキサフルオロホスホネート等を挙げることができる。

感放射線性酸発生剤として好適に用いられる酸発生剤の市販品としては、ジアリールヨードニウム塩類として、ユニオンカーバイド社製 商品名：ＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０、みどり化学（株）製 商品名：ＭＰＩ−１０３、ＢＢＩ−１０３等を挙げることができる。

また、トリアリールスルホニウム塩類として、旭電化工業（株）製 商品名：アデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１、日本曹達（株）製 商品名：ＣＩ−２４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０６４、みどり化学（株）製 商品名：ＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３、ＴＰＳ−１０３、ＭＤＳ−１０３、サートマー社製 商品名：ＣＤ−１０１０、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２等を挙げることができる。

また、ジアリールホスホニウム塩類としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製 商品名：イルガキュアー２６１、日本化薬（株）製 商品名：ＰＣＩ−０６１Ｔ、ＰＣＩ−０６２Ｔ、ＰＣＩ−０２０Ｔ、ＰＣＩ−０２２Ｔ等を挙げることができる。

これらのうち、ユニオンカーバイド社製 商品名：ＵＶＩ−６９７０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０、旭電化工業（株）製 商品名：アデカオプトマーＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１、サートマー社製 商品名：ＣＤ−１０１２、みどり化学（株）製 商品名：ＭＰＩ−１０３が、得られる保護膜が高い表面硬度を有することから好ましい。

本発明の樹脂組成物が（Ｃ）感放射線性酸発生剤を含有するものである場合、その使用量は高分子量体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜２０重量部、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。この範囲の使用量とすることにより、充分な硬度を有する保護膜を得ることができる。

（Ｄ）感熱性酸発生剤
感熱酸発生剤としては、スルホニウム塩類（前述のトリアリールスルホニウム塩類を除く）、ベンゾチアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類等が挙げられ、これらのうちでもスルホニウム塩類（前述のトリアリールスルホニウム塩類を除く）、ベンゾチアゾニウム塩類が好ましく用いられる。

上記スルホニウム塩類（前記のトリアリールスルホニウム塩類を除く）の具体例としては、４−アセトフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−４−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−３−クロロ−４−アセトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネートなどのアルキルスルホニウム塩；

ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェートなどのベンジルスルホニウム塩；

ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−メトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェートなどのジベンジルスルホニウム塩；

ｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、３，５−ジクロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネートなどの置換ベンジルスルホニウム塩等が挙げられる。

これらのうちでも４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルベンジルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート等が好ましく用いられる。

上記ベンゾチアゾニウム塩類としては３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム テトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベンジル）ベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−クロロベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネートなどのベンジルベンゾチアゾニウム塩が挙げられる。

これらのうち、３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート等が好ましく用いられる。

感熱酸発生剤として好適に用いられる酸発生剤の市販品としては、アルキルスルホニウム塩として、旭電化工業（株）製 商品名：アデカオプトンＣＰ−６６、ＣＰ−７７を挙げることができる。

また、ベンジルスルホニウム塩として、三新化学工業（株）製 商品名：ＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ−１５０、ＳＩ−８０Ｌ、ＳＩ−１００Ｌ、ＳＩ−１１０Ｌを挙げることができる。

これらのうち、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０が、得られる保護膜が高い表面硬度を有することから好ましい。

本発明の樹脂組成物が（Ｄ）感熱酸発生剤を含有するものである場合、その使用量は高分子量体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜２０重量部、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。この範囲の使用量とすることにより、充分な硬度を有する保護膜を得ることができる。

その他の成分
本発明の樹脂組成物は、上記したとおり、高分子量体（Ａ）およびエポキシ化合物（Ｂ）を必須成分として含有し、場合により（Ｃ）感放射線性酸発生剤または（Ｄ）感熱性酸発生剤を含有するものであるが、さらに必要に応じてその他の成分を含有することもできる。このようなその他の成分としては、（Ｅ）界面活性剤、（Ｆ）接着助剤等を挙げることができる。

（Ｅ）界面活性剤
上記界面活性剤は、本発明の樹脂組成物の塗布性能を向上させるために添加することができる。

このような界面活性剤としては例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、その他の界面活性剤を挙げることができる。

上記フッ素系界面活性剤としては、例えば、ＢＭ ＣＨＩＭＩＥ社製 商品名：ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、大日本インキ化学工業（株）社製 商品名：メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、住友スリーエム（株）社製 商品名：フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１、旭硝子（株）社製 商品名：サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１，同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２，同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６等の市販品を挙げることができる。

上記シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製 商品名：ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０、信越化学工業（株）社製 商品名：ＫＰ３４１、新秋田化成（株）社製 商品名：エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２等の市販品を挙げることができる。

上記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリオキシエチレンジアルキルエステル類などが挙げられる。

上記ポリオキシエチレンアルキルエーテル類としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等が挙げられ、ポリオキシエチレンアリールエーテル類としては、例えば、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルが挙げられ、ポリオキシエチレンジアルキルエステル類としては、例えば、ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレート等が挙げられる。

上記その他の界面活性剤として、共栄社化学（株）社製 商品名：（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７、同Ｎｏ．９０等を挙げることができる。

これらの（Ｅ）界面活性剤の添加量は、高分子量体（Ａ）１００重量部当たり、好ましくは５重量部以下、より好ましくは２重量部以下で使用される。界面活性剤の量が５重量部を越える場合は、塗布工程において塗膜の膜荒れが生じやすくなる場合がある。

（Ｆ）接着助剤
上記（Ｆ）接着助剤は、形成される保護膜と基板との密着性を向上させるために添加することができる。

このような（Ｆ）接着助剤としては、例えば、反応性置換基を有する官能性シランカップリング剤を使用することができる。上記反応性置換基としては、例えば、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基等を挙げることができる。

（Ｆ）接着助剤の具体例としては、例えば、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。

このような（Ｆ）接着助剤は、高分子量体（Ａ）１００重量部当たり、好ましくは３０重量部以下、より好ましくは２５重量部以下の量で用いられる。（Ｆ）接着助剤の量が３０重量部を超えると、得られる保護膜の耐熱性が不十分となる場合がある。

樹脂組成物
本発明の樹脂組成物は、上記の高分子量体（Ａ）およびエポキシ化合物（Ｂ）を必須成分とし、場合により（Ｃ）感放射線性酸発生剤または（Ｄ）感熱性酸発生剤を含有するものであるが、さらに任意的に（Ｅ）界面活性剤および／または（Ｆ）接着助剤を含有するものである。

本発明の樹脂組成物は、上記の各成分を、好ましくは適当な溶媒中に均一に溶解または分散することにより調製される。使用される溶媒としては、組成物の各成分を溶解または分散し、各成分と反応しないものが好ましく用いられる。

このような溶媒としては、アルコール類、エーテル類、グリコールエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類、芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類等を挙げることができる。

これらの具体例としては、例えば、アルコール類として、メタノール、エタノール、ベンジルアルコールなど；
エーテル類として、テトラヒドロフランなど；
グリコールエーテル類として、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなど；

エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなど；
ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類として、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなど；
ジエチレングリコールジアルキルエーテル類として、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなど；

プロピレングリコールモノアルキルエーテル類として、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルなど；
プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテートなど；

プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類として、プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートなど；
芳香族炭化水素類として、トルエン、キシレンなど；
ケトン類として、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、メチルイソアミルケトンなど；

エステル類として、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどが、それぞれ挙げられる。

これらのうち、アルコール類、ジエチレングリコール類、プロピレングリコールアルキルアセテート類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類が好ましく、特に、ベンジルアルコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテルが好ましい。

溶媒の使用量としては、本発明の組成物中の全固形分（溶媒を含む組成物の総量から溶媒の量を除いた量）の含有量が好ましくは１〜５０重量％、より好ましくは５〜４０重量％となるような範囲である。

前記の溶媒とともに高沸点溶媒を併用することができる。ここで併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。

高沸点溶媒を併用する際の使用量としては、全溶媒量に対して好ましくは９０重量％以下、さらに好ましくは８０重量％以下である。

上記のようにして調製された組成物は、孔径０．２〜３．０μｍ、好ましくは孔径０．２〜０．５μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾別した後、使用に供することもできる。

カラーフィルタの保護膜の形成
次に、本発明の組成物を用いてカラーフィルタの保護膜を形成する方法について説明する。

本発明の樹脂組成物が、上記の高分子量体（Ａ）およびエポキシ化合物（Ｂ）を必須成分として含有し、任意的に（Ｅ）界面活性剤および／または（Ｆ）接着助剤を含有するものである場合、あるいは、上記の高分子量体（Ａ）、エポキシ化合物（Ｂ）および（Ｄ）感熱性酸発生剤を必須成分として含有し、任意的に（Ｅ）界面活性剤および／または（Ｆ）接着助剤を含有するものである場合には、当該樹脂組成物を基板表面に塗布し、プレベークにより溶媒を除去して塗膜とした後、加熱処理をすることにより目的とするカラーフィルタの保護膜を形成することができる。

上記基板として使用できるものとしては、例えばガラス、石英、シリコン、樹脂等の基板が使用することができる。樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、ならびに環状オレフィンの開環重合体およびその水素添加物の如き樹脂を挙げることができる。

塗布方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法、インクジェット法などの適宜の方法を採用することができ、特にスピンコーター、スピンレスコーター、スリットダイコーターを用いた塗布が好適に使用できる。

上記プレベークの条件としては、各成分の種類や配合割合などによっても異なるが、通常７０〜９０℃で１〜１５分間程度の条件を採用できる。塗膜の厚さとしては好ましくは０．１５〜８．５μｍ、より好ましくは０．１５〜６．５μｍ、さらに好ましくは０．１５〜４．５μｍとすることができる。なお、ここでいう塗膜の厚さは、溶媒除去後の厚さとして理解されるべきである。

塗膜形成後の加熱処理は、ホットプレートやクリーンオーブンなどの適宜の加熱装置により実施することができる。処理温度としては、１５０〜２５０℃程度が好ましく、加熱時間は、ホットプレート使用の場合は５〜３０分間、オーブン使用の場合は、３０〜９０分間の処理時間を採用することができる。

一方、本発明の樹脂組成物が、上記の高分子量体（Ａ）、エポキシ化合物（Ｂ）および（Ｃ）感放射線性酸発生剤を必須成分として含有し、任意的に（Ｅ）界面活性剤および／または（Ｆ）接着助剤を含有するものである場合には、当該樹脂組成物を基板表面に塗布し、プレベークにより溶媒を除去して塗膜とした後、放射線照射処理（露光処理）を施すことにより目的とする保護膜を形成することができる。必要に応じて、露光処理後にさらに加熱処理を行っても良い。

ここで使用できる基板、塗膜を形成する方法については上記と同様である。塗膜の厚さとしては好ましくは０．１５〜８．５μｍ、より好ましくは０．１５〜６．５μｍ、さらに好ましくは０．１５〜４．５μｍとすることができる。なお、ここでいう塗膜の厚さは、溶媒除去後の厚さとして理解されるべきである。

上記放射線の照射処理において使用できる放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を挙げることができるが、１９０〜４５０ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。

露光量としては、通常１００〜２０，０００Ｊ／ｍ²、好ましくは１５０〜１０，０００Ｊ／ｍ²である。

放射線照射後さらに任意的に加熱処理を行ってもよい。このときの加熱温度としては、１５０〜２５０℃程度が好ましく、加熱装置として例えばホットプレート、クリーンオーブン等の適宜の装置を使用することができる。加熱時間は、ホットプレート使用の場合は５〜３０分間、オーブン使用の場合は、３０〜９０分間の処理時間を採用することができる。

カラーフィルタの保護膜
このように形成された保護膜は、その膜厚が好ましくは０．１〜８μｍ、より好ましくは０．１〜６μｍ、さらに好ましくは０．１〜４μｍである。なお、本発明の保護膜がカラーフィルタの段差を有する基板上に形成される場合には、上記の膜厚は、カラーフィルタの最上部からの厚さとして理解されるべきである。

本発明の保護膜は、下記する実施例から明らかなように、密着性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光性、耐溶剤性などを満たすと共に、熱のかかった状態での荷重によっても凹まず、また下地基板上に形成されたカラーフィルタの段差を平坦化する性能に優れた光デバイス用保護膜として好適である。

特に、本発明の保護膜が、パネル製造工程において２５０℃を超える加熱に曝されることがあるので、その場合にも十分に耐えられる耐熱性を持つことが、２７０℃で十分な寸法安定性を持つことによって保証される。

本発明によれば、表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に、平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性、耐スパッタ性などの各種の耐性に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に用いられ、かつ組成物としての保存安定性に優れる樹脂組成物、その樹脂組成物を用いた保護膜の形成方法、および上記組成物より形成された保護膜が提供される。

以下に合成例、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、合成例５および実施例５は欠番である。

高分子量体（Ａ）の製造
合成例１
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）２重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、１−（シクロヘキシルオキシ）エチルメタクリレート２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部およびメタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル１０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−１）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．０％であった。また、共重合体（Ａ−１）の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）およびＭｗ／Ｍｎを表１に示した。

合成例２
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン１８重量部、テトラヒドロー２Ｈ―ピラン−２−イルメタクリレート２０重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量部およびシクロヘキシルマレイミド２２重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−２）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．０％であった。また、共重合体（Ａ−２）のＭｗ、ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎを表１に示した。

合成例３
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１０重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン１８重量部、１−（シクロヘキシルオキシ）エチルメタクリレート２０重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量部およびシクロヘキシルマレイミド２２重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−３）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３２．７％であった。また、共重合体（Ａ−３）のＭｗ、ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎを表１に示した。

合成例４
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン１３重量部、１−（シクロヘキシルオキシ）エチルメタクリレート４０重量部、メタクリル酸グリシジル３０重量部およびシクロヘキシルマレイミド１７重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−４）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．０％であった。また、共重合体（Ａ−４）のＭｗ、ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎを表１に示した。

合成例６
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン１８重量部、２，３−ジカルボン酸テトラヒドロピラン−２−イルオキシカルボニル−５−ノルボルネン２０重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量部およびシクロヘキシルマレイミド２２重量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−６）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．０％であった。また、共重合体（Ａ−６）のＭｗ、ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎを表１に示した。

合成例７
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）５部およびジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００部を仕込み、引き続き、メタクリル酸グリシジル４５部、無水マレイン酸１５部、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１５部およびスチレン２５部を仕込んで窒素置換したのち、ゆるやかに攪拌して、反応溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を保持して５時間重合した。その後、ｉ−プロピルビニルエーテル３０部を滴下し、攪拌しつつ、２時間反応させることにより、共重合体（Ａ−７）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．２％であった。また、共重合体（Ａ−７）のＭｗ、ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎを表１に示した。

比較合成例１
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）２重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、メタクリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部およびメタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル１０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（Ａ−１）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３．０％であった。また、共重合体（ａ−１）のＭｗ、ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎを表１に示した。

比較合成例２
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）２０重量部、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、１−（シクロヘキシルオキシ）エチルメタクリレート２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部およびメタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル１０重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに攪拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し共重合体（ａ−２）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３２．８％であった。また、共重合体（ａ−２）のＭｗ、ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎを表１に示した。

（Ｄ）感熱性酸発生剤を含有する樹脂組成物の調製および評価
実施例１
上記合成例１で得られた共重合体（Ａ−１）を含む溶液（共重合体（Ａ−１）１００重量部（固形分）に相当する量）と、エポキシ化合物（Ｂ）としてビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂「エピコート１５７Ｓ６５」（ジャパンエポキシレジン（株）製）１０．０重量部、（Ｅ）界面活性剤としてＳＨ−２８ＰＡ（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）０．１重量部および（Ｆ）接着助剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１５重量部を加え、さらに固形分濃度が２０％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加した後、孔径０．５μｍのミリポアフィルタで濾過して樹脂組成物を調製した。

保護膜の形成
上記のようにして調製した組成物に、（Ｄ）感熱性酸発生剤としてベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート１重量部をジエチレングリコールエチルメチルエーテル６５重量部に溶解させたものを加え、保護膜形成用の樹脂組成物を調製した。ここで調製した組成物は、無色透明であった。

スピンナーを用いて上記組成物を、ＳｉＯ₂ディップガラス基板上に塗布した後、ホットプレート上で８０℃、５分間プレベークして塗膜を形成し、さらにオーブン中で２３０℃にて６０分間加熱処理して膜厚２．０μｍの保護膜を形成した。

保護膜の評価
（１）透明性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、分光光度計（１５０−２０型ダブルビーム（日立製作所（株）製））を用いて４００〜８００ｎｍの透過率を測定した。４００〜８００ｎｍの透過率の最小値を表２に示した。この値が９５％以上のとき、保護膜の透明性は良好といえる。

（２）耐熱寸法安定性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、オーブン中２５０℃で１時間の条件および２７０℃で１時間の条件のそれぞれの条件で加熱し、加熱前後の膜厚を測定した。下記式にしたがって算出した耐熱寸法安定性を表２に示した。この値が９５％以上のとき、耐熱寸法安定性は良好といえる。

耐熱寸法安定性＝（加熱後の膜厚）／（加熱前の膜厚）×１００（％）

（３）耐熱変色性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、オーブン中２５０℃で１時間加熱し、加熱前後の透明性を、上記（１）と同様にして測定した。下記式にしたがって算出した耐熱変色性を表２に示した。この値が５％以下のとき、耐熱変色性は良好といえる。

耐熱変色性＝加熱前の透過率−加熱後の透過率（％）

（４）表面硬度の測定
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９９０の８．４．１鉛筆引っかき試験により保護膜の表面硬度を測定した。この値を表２に示す。この値が４Ｈまたはそれより硬いとき、表面硬度は良好といえる。

（５）ダイナミック微小硬度の測定
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、島津ダイナミック微小硬度計ＤＵＨ−２０１（（株）島津製作所製）を用い、稜角１１５°三角圧子（ヘルコビッチ型）の押し込み試験により、保護膜のダイナミック微小硬度を、荷重：０．１ｇｆ、速度：０．０１４５ｇｆ／ｓｅｃ．、保持時間：５ｓｅｃ．、温度は２３℃および１４０℃の測定条件で測定した。結果を表２に示す。

（６）密着性の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板について、プレッシャークッカー試験（１２０℃、湿度１００％、４時間）を行った後、ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９９０の８．５．３付着性碁盤目テープ法により保護膜の密着性（ＳｉＯ₂に対する密着性）を評価した。碁盤目１００個中、残った碁盤目の数を表２に示した。

また、Ｃｒに対する密着性の評価として、ＳｉＯ₂ディップガラス基板の替わりにＣｒ基板を用いた他は上記と同様にして膜厚２．０μｍの保護膜を形成し、上記の碁盤目テープ法により同様に評価した。結果は表２に示した。

（７）平坦化性の評価
ＳｉＯ₂ディップガラス基板上に、顔料系カラーレジスト（商品名「ＪＣＲ ＲＥＤ ６８９」、「ＪＣＲ ＧＲＥＥＮ ７０６」、「ＣＲ ８２００Ｂ」、以上、ＪＳＲ（株）製）をスピンナーにより塗布し、ホットプレート上で９０℃、１５０秒間プレベークして塗膜を形成した。その後、所定のパターンマスクを介して、露光機Ｃａｎｏｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン（株）製）を用いてｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍの強度比＝２．７：２．５：４．８）をｉ線換算で２，０００Ｊ／ｍ²の露光量で照射し、０．０５％水酸化カリウム水溶液を用いて現像し、超純水にて６０秒間リンスした後、さらにオーブン中で２３０℃にて３０分間加熱処理して、赤、緑、および青の３色のストライプ状カラーフィルタ（ストライプ幅１００μｍ）を形成した。

このカラーフィルタが形成された基板表面の凹凸を、表面粗さ計「α−ステップ」（商品名：テンコール社製）で測定したところ、１．０μｍであった。ただし、測定長２，０００μｍ、測定範囲２，０００μｍ角、測定点数ｎ＝５で測定した。すなわち、測定方向を赤、緑、青方向のストライプライン短軸方向および赤・赤、緑・緑、青・青の同一色のストライプライン長軸方向の２方向とし、各方向につきｎ＝５で測定した（合計のｎ数は１０）。

この上に、上記保護膜形成用組成物をスピンナーにて塗布した後、ホットプレート上で９０℃、５分間プレベークして塗膜を形成し、さらにオーブン中で２３０℃にて６０分間加熱処理し、カラーフィルタの上面からの膜厚が２．０μｍの保護膜を形成した。ただし、ここで言う膜厚は、基板上に形成されたカラーフィルタの最上面からの厚さを意味する。

上記のようにして形成した、カラーフィルタ上に保護膜を有する基板について、接触式膜厚測定装置α−ステップ（テンコールジャパン（株）製）にて保護膜の表面の凹凸を測定した。ただし、測定長２，０００μｍ、測定範囲２，０００μｍ角、測定点数ｎ＝５で測定した。すなわち、測定方向を赤、緑、青方向のストライプライン短軸方向および赤・赤、緑・緑、青・青の同一色のストライプライン長軸方向の２方向とし、各方向につきｎ＝５で測定した（合計のｎ数は１０）。各測定ごとの最高部と最底部の高低差（ｎｍ）の１０回の平均値を表２に示した。この値が３００ｎｍ以下のとき、平坦化性は良好といえる。

（８）保存安定性の評価
実施例１で調製した保護膜形成用の樹脂組成物（（Ｄ）感熱性酸発生剤を加えた後のもの）における粘度を、東京計器（株）製 ＥＬＤ型粘度計を用いて測定した。その後、該組成物を２５℃にて静置しつつ、２５℃における溶液粘度を毎日測定した。調製直後の粘度を基準に５％増粘するのに要した日数を求め、この日数を表２に示した。この日数が３０日以上のとき、保存安定性は良好といえる。

実施例２〜４、６〜９および比較例１、２
組成物の各成分の種類および量を表２に記載の通りとし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの代わりに表２に記載の溶媒を使用して表２記載の固形分濃度に合わせた他は、実施例１と同様にして樹脂組成物を調製した。

上記のように調製した保護膜形成用の樹脂組成物を使用し、実施例１と同様に保護膜を形成し、評価した。結果を表２に示した。

実施例１０
組成物の各成分の種類および量を表２に記載の通りとし、スピンコーターの代わりに、スリットダイコーターを用いて塗布した以外は、実施例１と同様に樹脂組成物を調整し、保護膜を形成し、評価した。結果を表２に示した。

なお、表２において、エポキシ化合物（Ｂ）、（Ｄ）感熱性酸発生剤および溶媒の略称は、それぞれ以下のものを表す。

Ｂ−１：ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン（株）製 商品名：エピコート１５７Ｓ６５）
Ｂ−２：トリメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル
Ｄ−１：ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
Ｓ−１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
Ｓ−２：ジエチレングリコールジメチルエーテル
Ｓ−３：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル

（Ｃ）感放射線性酸発生剤を含有する樹脂組成物の調製および評価
実施例１１
上記合成例１で得られた共重合体（Ａ−１）を含む溶液（共重合体（Ａ−１）１００重量部（固形分）に相当する量）と、エポキシ化合物（Ｂ）としてビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂「エピコート１５７Ｓ６５」（ジャパンエポキシレジン（株）製）１０．０重量部、（Ｅ）界面活性剤としてＳＨ−２８ＰＡ（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）０．１重量部および（Ｆ）接着助剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１５重量部を加え、さらに固形分濃度が２０％になるようにジエチレングリコールジメチルエーテルを添加した後、孔径０．５μｍのミリポアフィルタで濾過して樹脂組成物を調製した。

保護膜の形成
上記のようにして調製した組成物に、（Ｃ）感放射線性酸発生剤としてベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート１重量部をジエチレングリコールエチルメチルエーテル６５重量部に溶解させたものを加え、保護膜形成用の樹脂組成物を調製した。ここで調製した組成物は、無色透明であった。

スピンナーを用いて上記組成物を、ＳｉＯ₂ディップガラス基板上に塗布した後、ホットプレート上で８０℃、５分間プレベークして塗膜を形成した。

次いで、形成された塗膜に露光機Ｃａｎｏｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン（株）製）を用いてｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍの強度比＝２．７：２．５：４．８）をｉ線換算で２，０００Ｊ／ｍ²の露光量で照射した。さらにオーブン中で２３０℃にて６０分間加熱処理して膜厚２．０μｍの保護膜を形成した。

保護膜の評価
上記のようにして形成した保護膜を有する基板を用い、実施例１と同様にして、（１）透明性の評価、（２）耐熱寸法安定性の評価、（３）耐熱変色性の評価、（４）表面硬度の測定、（５）ダイナミック微小硬度の測定および（６）密着性の評価を行った。結果を表３に示す。

（７）平坦化性の評価
ＳｉＯ₂ディップガラス基板上に、顔料系カラーレジスト（商品名「ＪＣＲ ＲＥＤ ６８９」、「ＪＣＲ ＧＲＥＥＮ ７０６」、「ＣＲ ８２００Ｂ」、以上、ジェイエスアール（株）製）をスピンナーにより塗布し、ホットプレート上で９０℃、１５０秒間プレベークして塗膜を形成した。その後、所定のパターンマスクを介して、露光機Ｃａｎｏｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン（株）製）を用いてｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍの強度比＝２．７：２．５：４．８）をｉ線換算で２，０００Ｊ／ｍ²の露光量で照射し、０．０５％水酸化カリウム水溶液を用いて現像し、超純水にて６０秒間リンスした後、さらにオーブン中で２３０℃にて３０分間加熱処理して、赤、緑、および青の３色のストライプ状カラーフィルタ（ストライプ幅１００μｍ）を形成した。

このカラーフィルタが形成された基板表面の凹凸を、表面粗さ計「α−ステップ」（商品名：テンコール社製）で測定したところ、１．０μｍであった。ただし、測定長２，０００μｍ、測定範囲２，０００μｍ角、測定点数ｎ＝５で測定した。すなわち、測定方向を赤、緑、青方向のストライプライン短軸方向および赤・赤、緑・緑、青・青の同一色のストライプライン長軸方向の２方向とし、各方向につきｎ＝５で測定した（合計のｎ数は１０）。

この上に、上記保護膜形成用組成物をスピンナーにて塗布した後ホットプレート上で８０℃、５分間プレベークして塗膜を形成した。

次いで、形成された塗膜に露光機Ｃａｎｏｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン（株）製）を用いてｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍの強度比＝２．７：２．５：４．８）をｉ線換算で２，０００Ｊ／ｍ²の露光量で照射した。さらにオーブン中で２３０℃にて６０分間加熱処理して膜厚２．０μｍの保護膜を形成した。ただし、ここで言う膜厚は、基板上に形成されたカラーフィルタの最上面からの厚さを意味する。

上記のようにして形成した、カラーフィルタ上に保護膜を有する基板について、接触式膜厚測定装置α−ステップ（テンコールジャパン（株）製）にて保護膜の表面の凹凸を測定した。ただし、測定長２，０００μｍ、測定範囲２，０００μｍ角、測定点数ｎ＝５で測定した。すなわち、測定方向を赤、緑、青方向のストライプライン短軸方向および赤・赤、緑・緑、青・青の同一色のストライプライン長軸方向の２方向とし、各方向につきｎ＝５で測定した（合計のｎ数は１０）。各測定ごとの最高部と最底部の高低差（ｎｍ）の１０回の平均値を表３に示した。この値が３００ｎｍ以下のとき、平坦化性は良好といえる。

（８）保存安定性の評価
実施例１０で調製した保護膜形成用の樹脂組成物（（Ｃ）感放射線性酸発生剤を加えた後のもの）の２５℃における粘度を、東京計器（株）製 ＥＬＤ型粘度計を用いて測定した。その後、該組成物を２５℃にて静置しつつ、２５℃における溶液粘度を毎日測定した。調製直後の粘度を基準に５％増粘するのに要した日数を求め、この日数を表３に示した。この日数が３０日以上のとき、保存安定性は良好といえる。

実施例１２、１３および比較例３
組成物の各成分の種類および量を表３に記載の通りとし、ジエチレングリコールジメチルエーテルの代わりに表３に記載の溶媒を使用して表３記載の固形分濃度に合わせた他は、実施例１１と同様にして樹脂組成物を調製した。

上記のように調製した保護膜形成用の樹脂組成物を使用し、実施例１１と同様に保護膜を形成し、評価した。結果を表３に示した。

実施例１４
組成物の各成分の種類および量を表３に記載の通りとし、スピンコーターの代わりに、スリットダイコーターを用いて塗布した以外は、実施例１１と同様に樹脂組成物を調整し、保護膜を形成し、評価した。結果を表３に示した。

なお、表３において、エポキシ化合物（Ｂ）、（Ｃ）感放射線性酸発生剤および溶媒の略称は、それぞれ以下のものを表す。

Ｂ−２：トリメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル
Ｃ−１：トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート
Ｓ−１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
Ｓ−２：ジエチレングリコールジメチルエーテル
Ｓ−３：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
Ｓ−４：エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート

Claims (8)

1. （Ａ）カルボン酸のアセタールエステル構造およびカルボン酸のケタールエステル構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造ならびにエポキシ構造を有し且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量が２，０００以上である高分子量体、ならびに（Ｂ）分子内に２個以上のエポキシ構造を有する化合物（ただし前記（Ａ）成分を除く。）を含有する樹脂組成物。
2. （Ｃ）感放射線性酸発生剤をさらに含有する請求項１に記載の樹脂組成物。
3. （Ｄ）感熱性酸発生剤をさらに含有する請求項１に記載の樹脂組成物。
4. 樹脂組成物がカラーフィルタの保護膜形成用である請求項２に記載の樹脂組成物。
5. 樹脂組成物がカラーフィルタの保護膜形成用である請求項１または３に記載の樹脂組成物。
6. 請求項４に記載の樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程および該塗膜に放射線を照射する工程を含むことを特徴とする、カラーフィルタの保護膜の形成方法。
7. 請求項５に記載の樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程および該塗膜を加熱する工程を含むことを特徴とする、カラーフィルタの保護膜の形成方法。
8. 請求項４または５に記載の樹脂組成物から形成された、カラーフィルタの保護膜。