JP2012077122A - 電子線硬化性樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の電子線硬化性樹脂組成物は、電子線照射によりカチオンを発生する物質と、カチオン重合化合物を含有し、前記カチオン重合化合物は、エポキシ基及びオキセタン基からなる群から選択される少なくとも1種の置換基を1個以上有し、前記電子線照射によりカチオンを発生する物質は、波長350〜400nmの光に対するモル吸光係数が100以下であり、且つ、波長300nm未満に極大吸収を有することを特徴とする。
【選択図】なし
Description
本発明の電子線硬化性樹脂組成物(以下、単に樹脂組成物ともいう)は、電子線照射によりカチオンを発生する物質と、カチオン重合化合物を含有し、上記カチオン重合化合物は、エポキシ基及びオキセタン基からなる群から選択される少なくとも1種の置換基を1個以上有し、上記電子線照射によりカチオンを発生する物質は、波長350〜400nmの光に対するモル吸光係数が100以下であり、且つ、波長300nm未満に極大吸収を有することを特徴とする。以下、カチオン重合化合物、電子線照射によりカチオンを発生する物質、その他の成分について順に説明する。
本発明の樹脂組成物は、カチオン重合化合物を含有する。そして、該カチオン重合化合物は、その分子内にエポキシ基及びオキセタン基からなる群から選択される少なくとも1種の置換基を1個以上有する。分子内に少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物や、分子内に少なくとも1個のオキセタニル基を有する化合物は、光カチオン重合性が高く、少ない光量でも効率的に硬化が進行する。そして、得られた硬化膜は永久膜として粘接着剤や封止剤等に用いることができる。
本発明の樹脂組成物は、電子線照射によりカチオンを発生する物質を含有する。本発明の樹脂組成物において、電子線照射によりカチオンを発生する物質は、カチオン重合開始剤として作用する。そして、該電子線照射によりカチオンを発生する物質は、波長350〜400nmの光に対するモル吸光係数が100以下であり、且つ、波長300nm未満に極大吸収を有する。
本発明の樹脂組成物は電子線硬化性であるため、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系等の紫外線吸収分子が挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン(商品名「sumisorb130」,住友化学株式会社製)、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン(商品名「SEESORB100」,シプロ化成社製)、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸3水和物(商品名「SEESORB101S」,シプロ化成社製)、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン(商品名「SEESORB102」,シプロ化成社製)、4−ベンジロキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン(商品名「SEESORB105」,シプロ化成社製)等が挙げられる。
本発明の樹脂組成物は、その他、本発明の目的を損なわない範囲で必要に応じて、例えば、接着性付与剤、吸湿剤、可塑剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤等の各種添加剤を含有してもよい。
本発明の硬化物は、上記の樹脂組成物を電子線照射により硬化して得られる。波長300nm未満に吸収波長を有する光カチオン重合開始剤は、レジストの細線形成を前提とするエキシマレーザ向けに開発されたものであり、照射光源の点から、所定面積に均一に全面照射を行う必要がある粘接着剤や封止剤用途として適用することは困難であった。これに対して、本発明では、電子線照射により硬化するため、所定面積に均一に全面照射することができ、粘接着剤や封止剤用途としても適用可能である。
カチオン重合化合物(商品名「エピクロン EXA−835LV」,ビスフェノールF型エポキシ樹脂,エポキシ当量:160〜170g/eq.,質量平均分子量:320〜340,DIC社製)100質量部と、電子線照射によりカチオンを発生する物質(商品名「TPS−102」,トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェイト,極大吸収波長:233nm,波長350〜400nmの光に対するモル吸光係数:100以下,みどり化学社製)5質量部とを、攪拌機(製品名「T.K.ホモディスパー2.5型」,PRIMIX社製)を用いて混合攪拌した後、脱泡させて電子線硬化性樹脂膜形成用塗工液を調製した。
カチオン重合化合物(商品名「エピクロン EXA−835LV」,ビスフェノールF型エポキシ樹脂,エポキシ当量:160〜170g/eq.,質量平均分子量:320〜340,DIC社製)100質量部と、電子線照射によりカチオンを発生する物質(商品名「TPS−103」,トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート,極大吸収波長:235nm,波長350〜400nmの光に対するモル吸光係数:100以下,みどり化学社製)5質量部とを、攪拌機(製品名「T.K.ホモディスパー2.5型」,PRIMIX社製)を用いて混合攪拌した後、脱泡させて電子線硬化性樹脂膜形成用塗工液を調製した以外は、実施例1と同様の方法にて、実施例2の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
カチオン重合化合物(商品名「エピクロン 850S」,ビスフェノールA型エポキシ樹脂,エポキシ当量:183〜193g/eq.,質量平均分子量:368〜388,DIC社製)100質量部と、電子線照射によりカチオンを発生する物質(商品名「TPS−103」,トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート,極大吸収波長:235nm,波長350〜400nmの光に対するモル吸光係数:100以下,みどり化学社製)5質量部とを、攪拌機(製品名「T.K.ホモディスパー2.5型」,PRIMIX社製)を用いて混合攪拌した後、脱泡させて電子線硬化性樹脂膜形成用塗工液を調製した以外は、実施例1と同様の方法にて、実施例3の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
カチオン重合化合物(商品名「エピクロン EXA−835LV」,ビスフェノールF型エポキシ樹脂,エポキシ当量:160〜170g/eq.,質量平均分子量:320〜340,DIC社製)100質量部と、光照射によりカチオンを発生する物質(商品名「イルガキュア PAG121」,オキシムエステル化合物,極大吸収波長:400nm付近,365nm(i線)及び436nm(g線)の光線の照射により活性化するカチオン発生剤)5質量部とを、攪拌機(製品名「T.K.ホモディスパー2.5型」,PRIMIX社製)を用いて、均一に混合攪拌した後、脱泡させて電子線硬化性樹脂膜形成用塗工液を調製した以外は、実施例1と同様の方法にて、比較例1の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
カチオン重合化合物(商品名「エピクロン EXA−835LV」,ビスフェノールF型エポキシ樹脂,エポキシ当量:160〜170g/eq.,質量平均分子量:320〜340,DIC社製)100質量部と、電子線照射によりカチオンを発生する物質(商品名「アデカオプトマーSP−170」,トリフェニルスルホニウム−アンチモン化合物、極大吸収波長:310nm,ADEKA社製)5質量部とを、攪拌機(製品名「T.K.ホモディスパー2.5型」,PRIMIX社製)を用いて、均一に混合攪拌した後、脱泡させて電子線硬化性樹脂膜形成用塗工液を調製した以外は、実施例1と同様の方法にて、比較例2の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
(1)電子線照射
上記実施例1〜3及び比較例1,2の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜の面に、電子線加速装置(製品名「LB1023」,アイ・エレクトロンビーム社製)を用いて、加速電圧165keV、電流3.8mA、機速5m/minで、照射線量100kGyの電子線を照射した後、乾燥オーブンにて80℃で1時間加熱した。
そして、得られた膜を指触し、タックがないことを確認した後、メチルエチルケトンを含ませた布で膜の表面を拭き、硬化性を評価した。結果を表1に示す。なお、評価基準は次の通りである。○:拭き取れる、△:若干、拭き取れる、×:完全に拭き取れる。
上記実施例1〜3及び比較例1,2の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜の面に、プロキシミティ露光機(製品名「MA−1100」,光源:超高圧水銀灯,株式会社大日本科研製)を用い、波長300〜400nmの紫外線を照射した。波長300nm未満の紫外線についてはマスクアライナーを用いて遮断した。紫外線の照射量(J)は、表1に示す通りであり、波長365nmにおける照度での積算光量とした。紫外線照射後、乾燥オーブンにて80℃で1時間加熱した。
そして、得られた膜を指触し、タックがないことを確認した後、メチルエチルケトンを含ませた布で膜の表面を拭き、硬化性を確認した。結果を表1に示す。なお、評価基準は次の通りである。○:拭き取れる、△:若干、拭き取れる、×:完全に拭き取れる。
ガラス板上に、実施例1と同じ膜形成用塗工液を乾燥後の膜厚が10μmとなるように、アプリケーターを用いて全面塗工した後、乾燥させ、実施例4の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
ガラス板上に、実施例2と同じ膜形成用塗工液を乾燥後の膜厚が10μmとなるように、アプリケーターを用いて全面塗工した後、乾燥させ、実施例5の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
ガラス板上に、実施例3と同じ膜形成用塗工液を乾燥後の膜厚が10μmとなるように、アプリケーターを用いて全面塗工した後、乾燥させ、実施例6の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
ガラス板上に、比較例1と同じ膜形成用塗工液を乾燥後の膜厚が10μmとなるように、アプリケーターを用いて全面塗工した後、乾燥させ、比較例3の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
ガラス板上に、比較例2と同じ膜形成用塗工液を乾燥後の膜厚が10μmとなるように、アプリケーターを用いて全面塗工した後、乾燥させ、比較例4の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
上記実施例4〜6及び比較例3,4の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜の面に、電子線加速装置(製品名「LB1023」,アイ・エレクトロンビーム社製)を用いて、加速電圧165keV、電流3.8mA、機速5m/minで、照射線量100kGyの電子線を照射した後、乾燥オーブンにて80℃で1時間加熱した。そして、得られた硬化膜を室温にて1日間放置した後、目視にて観察し、色相を評価した。結果を表2に示す。なお、評価基準は次の通りである。○:無色透明である、△:わずかに黄変している、×:黄変又は褐変している。
2枚のアクリルガラス(厚み:1mm)の間を、スペーサーを用いて100μmに保ち、その間に実施例1と同じ膜形成用塗工液を流し込んだ後、乾燥させ、実施例7の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
2枚のアクリルガラス(厚み:1mm)の間を、スペーサーを用いて100μmに保ち、その間に実施例2と同じ膜形成用塗工液を流し込んだ後、乾燥させ、実施例8の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
2枚のアクリルガラス(厚み:1mm)の間を、スペーサーを用いて100μmに保ち、その間に実施例3と同じ膜形成用塗工液を流し込んだ後、乾燥させ、実施例9の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
2枚のアクリルガラス(厚み:1mm)の間を、スペーサーを用いて100μmに保ち、その間に比較例1と同じ膜形成用塗工液を流し込んだ後、乾燥させ、比較例5の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
2枚のアクリルガラス(厚み:1mm)の間を、スペーサーを用いて100μmに保ち、その間に比較例2と同じ膜形成用塗工液を流し込んだ後、乾燥させ、比較例6の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜を形成した。
上記実施例7〜9及び比較例5,6の電子線硬化性樹脂組成物からなる膜の面に、電子線加速装置(製品名「LB1023」,アイ・エレクトロンビーム社製)を用いて、加速電圧165keV、電流3.8mA、機速5m/minで、照射線量100kGyの電子線を照射した後、乾燥オーブンにて80℃で1時間加熱した。そして、得られた硬化膜を室温にて1日間放置した後、分光光度計(製品名「UV−2500PC」,島津製作所社製)を用いて、波長400nm、550nm、及び780nmにおける吸光度を測定し、光線透過率を算出した。
Claims (7)
- 電子線照射によりカチオンを発生する物質と、カチオン重合化合物を含有し、
前記カチオン重合化合物は、エポキシ基及びオキセタン基からなる群から選択される少なくとも1種の置換基を1個以上有し、
前記電子線照射によりカチオンを発生する物質は、波長350〜400nmの光に対するモル吸光係数が100以下であり、且つ、波長300nm未満に極大吸収を有することを特徴とする電子線硬化性樹脂組成物。 - 更に、紫外線吸収剤を含有する請求項1に記載の電子線硬化性樹脂組成物。
- 前記紫外線吸収剤の含有量は、前記カチオン重合化合物100質量部に対して0.1〜10質量部である請求項2に記載の電子線硬化性樹脂組成物。
- 請求項1〜3いずれかに記載の電子線硬化性樹脂組成物を電子線照射により硬化してなる硬化物。
- 前記電子線照射の後に加熱を行う請求項4に記載の硬化物。
- 厚さ100μmの硬化膜における光線透過率が、波長400nmにおいて90%以上である請求項4又は5に記載の硬化物。
- 接着剤、粘着剤、及び封止剤からなる群から選択される少なくとも1つとして用いられる請求項4〜6いずれかに記載の硬化物。
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