WO2007116565A1 - 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 - Google Patents

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WO2007116565A1
WO2007116565A1 PCT/JP2006/325207 JP2006325207W WO2007116565A1 WO 2007116565 A1 WO2007116565 A1 WO 2007116565A1 JP 2006325207 W JP2006325207 W JP 2006325207W WO 2007116565 A1 WO2007116565 A1 WO 2007116565A1
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recording medium
light
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Makoto Kamo
Yoshihisa Usami
Toshio Sasaki
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Fujifilm Corporation
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    • G11B7/0938—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following servo format, e.g. guide tracks, pilot signals
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    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers

Definitions

  • the present invention relates to a method for processing an optical recording medium having a thick recording layer on which holography is recorded, a processing apparatus for the optical recording medium, and an optical recording / reproducing apparatus provided with processing means for the optical recording medium.
  • An optical recording medium is one of recording media capable of writing a large amount of information such as high-density image data.
  • this optical recording medium for example, a rewritable optical recording medium such as a magneto-optical disk and a phase change optical disk, and a write-once optical recording medium such as a CD-R, which are already practically used
  • the demand for large capacity is increasing.
  • all conventionally proposed optical recording media are two-dimensional recording, and there is a limit to increasing the recording capacity. Therefore, recently, a holographic optical recording medium capable of recording information three-dimensionally has attracted attention.
  • the hologram type optical recording method in general, information light provided with a two-dimensional intensity distribution, and the information light and reference light having a substantially constant intensity are superposed inside a photosensitive recording layer, Information is recorded by generating a distribution of optical characteristics inside the recording layer using interference fringes formed by them.
  • the recording layer in reading (reproducing) the written information, the recording layer is irradiated with only the reference light in the same arrangement as in recording, and the reproducing light having an intensity distribution corresponding to the optical characteristic distribution formed inside the recording layer is used. This is done by emitting from the recording layer.
  • the optical characteristic distribution is three-dimensionally formed in the recording layer, so that the area where information is written by one information light and the information is written by another information light. It is possible to partially overlap the area, that is, multiplex recording.
  • SZN ratio signal-to-noise ratio
  • An optical recording medium 21 used in a recording method in which a first substrate 1, a first gap layer 8, a filter layer 6, a second gap layer 7, a recording layer 4, and a second substrate 5 are laminated in this order, etc. Can be mentioned.
  • additional recording or rewritable optical recording media were recorded for long-term storage and repeated reproduction. After that, it is preferable to perform a process of desensitizing the recording layer.
  • the recording image can be satisfactorily maintained by properly performing this desensitization treatment, and its long-term storage and repeated reproduction durability can be maintained before desensitization treatment. It can be increased dramatically compared to
  • the recording layer on which information is recorded is a thick film.
  • the physical properties change and the recorded image cannot be reproduced correctly.
  • Patent Document 1 JP 2002-123949 A
  • the present invention relates to an optical recording medium having a thick recording layer for recording information using holography, for long-term storage of a recorded image without deteriorating information during desensitization processing of the recording layer.
  • An object of the present invention is to provide an optical recording medium processing method, an optical recording medium processing apparatus, and an optical recording / reproducing apparatus including the optical recording medium processing apparatus capable of increasing the existence and the repeated reproduction durability.
  • Processing light that passes through a light diffusing member having a haze value of 70 to 100% is recorded on the recording layer on which information of an optical recording medium having at least a recording layer for recording information using holography is recorded. Irradiation is an optical recording medium processing method.
  • ⁇ 2> The method for processing an optical recording medium according to ⁇ 1>, wherein the half width of the wavelength with respect to the energy intensity of the processing light is 5 to 700 nm.
  • ⁇ 3> The method for processing an optical recording medium according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 2>, wherein the optical recording medium is a write-once (WORM) type.
  • WORM write-once
  • An optical recording / reproducing method comprising the processing step of the optical recording medium according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>.
  • An optical recording medium having at least a recording layer for recording information using holography, a processing light source, and a haze value of 70 to 100% between the processing light source and the optical recording medium.
  • An optical recording medium processing apparatus having a light diffusing member,
  • An apparatus for processing an optical recording medium characterized in that the processing light from the processing light source that has passed through the light diffusing member is irradiated to the recording layer on which information is recorded.
  • ⁇ 6> The optical recording medium processing apparatus according to ⁇ 5>, wherein the half-value width of the wavelength with respect to the energy intensity of the processing light is 5 to 700 nm.
  • ⁇ 7> The optical recording medium processing device according to any one of ⁇ 5> to ⁇ 6>, wherein the optical recording medium is a write-once (WORM) type.
  • WORM write-once
  • An optical recording / reproducing apparatus comprising the processing means for an optical recording medium described in any one of ⁇ 5> to ⁇ 7>.
  • the optical recording medium processing method of the present invention has a haze of 70 to 100% with respect to the recording layer on which information of the optical recording medium having at least a recording layer for recording information using holography is recorded.
  • the recording layer of the thick film which records information using volume holography, is not desensitized during long-term storage of recorded images.
  • durability for repeated reproduction can be increased.
  • the optical recording medium processing apparatus of the present invention includes an optical recording medium having at least a recording layer for recording information using holography, a processing light source, the processing light source, and the optical recording medium. And a light diffusion member having a haze value of 70 to 100%, and the processing light from the processing light source that has passed through the light diffusion member is applied to the recording layer on which information is recorded. .
  • a light diffusion member having a haze value of 70 to 100%, and the processing light from the processing light source that has passed through the light diffusion member is applied to the recording layer on which information is recorded.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conventional optical recording medium.
  • FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example of an optical recording medium used in the present invention.
  • FIG. 3 is an explanatory view showing an example of an optical system around an optical recording medium according to the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of an optical recording / reproducing apparatus of the present invention.
  • FIG. 5 is a block diagram showing an example of an optical recording / reproducing apparatus of the present invention.
  • the method for processing an optical recording medium of the present invention comprises a light having a haze of 70 to 100% with respect to the recording layer on which information of the optical recording medium having at least a recording layer for recording information using holography is recorded. Irradiate treatment light through the diffusing member.
  • the optical recording medium processing apparatus of the present invention includes an optical recording medium having at least a recording layer for recording information using holography, a processing light source, and the processing light source and the optical recording medium.
  • optical recording medium processing method of the present invention and the optical recording medium processing apparatus of the present invention will be described in detail below.
  • any light source can be used depending on the purpose without particular limitation, and examples thereof include a fluorescent lamp, a mercury lamp, a xenon lamp, a halogen lamp, a light emitting diode, a laser, and a flash lamp. It is also possible to guide the light of these light source powers using an optical fiber, a lens optical system, an optical waveguide, etc., and emit the light.
  • a plurality of light sources may be used in combination. In this case, a plurality of types of the light sources may be arbitrarily combined, a plurality of the same type of light sources may be used in combination, or light sources having different wavelength ranges of the light sources may be combined, or the same You may combine the light sources which have a wavelength range. Among these, it is more preferable to use a plurality of types of light emitting diodes having different wavelength ranges in which it is preferable to use light emitting diodes because of heat generation from the light source and simplicity of equipment.
  • the wavelength of the light source is not particularly limited and is appropriately selected according to the photosensitive wavelength of the recording layer of the optical recording medium to be used, but preferably 300-1, OOOnm force, more preferably 350-700nm. 400-600 nm force is more preferred. Desensitization is difficult in this wavelength range It is performed smoothly without accompanying. When the wavelength exceeds 1, OOOnm, the energy per photon decreases, which may cause a long processing time and may cause complicated processing. If the wavelength is less than 300 nm, If the energy per unit is too large, it may cause an unexpected change in physical properties of the recording layer and other members in the optical recording medium.
  • the haze value of the light diffusing member is 70 to 100%, preferably 72 to 95%, and more preferably 75 to 90%.
  • the haze value of each light diffusing member is 15 to 100% is preferred, 30 to 90% is more preferred, and 40 to 90% is still more preferred.
  • the haze is also called haze, and is the percentage of the transmitted light that passes through the light diffusing member that deviates by 2.5 ° or more from the incident light due to forward scattering.
  • the haze value can be measured according to a method described in, for example, JIS K7136. JIS K7105.
  • the light diffusing member can be appropriately selected depending on the purpose for which there is no particular restriction.
  • the light diffusing member may be a frosted glass, a frosted resin sheet, a frosted resin piece, or a light diffusing member. Examples include a cell enclosing a liquid, a liquid crystal panel, and the like. Among these, a frosted glass, a cloudy resin sheet, and a cloudy resin piece are particularly preferable.
  • the frosted glass may be one that has been treated with hydrogen fluoride, or one that has fine irregularities on its surface by brush grains, sand blasting, or the like. Of these, those that have been treated with hydrogen fluoride are particularly preferred because of their high haze.
  • Examples of the cloudy resin sheet or the cloudy resin piece include acetate-based resin such as triacetinocellulose; polyester-based resin, polyethersulfone-based resin, polysulfone-based resin, polycarbonate-based resin Resin, polyamide-based resin, polyimide-based resin, polyester Riofin resin, acrylic resin, polynorbornene resin, cellulose resin, polyarylate resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl chloride resin, polysalt resin
  • a material that imparts light diffusibility by using separation, scratching the surface with brush grains or sand blasting, or applying or adhering particles to the surface.
  • a cast film of triacetyl cellulose or a stretched film of polyethylene terephthalate (PET), a stretched film of polyethylene or polypropylene, or polycyclohexylene is preferably used. It is done.
  • the light source may be directly covered, or may be installed in the vicinity of the optical recording medium, or the distance on the optical path between the light source and the optical recording medium. You may arrange with.
  • the light diffusing member is installed so that all the light generated by the light source force and applied to the optical recording medium passes through the light diffusing member at least once.
  • a plurality of types of light diffusion members may be used in combination, or only a single type of light diffusion member may be used.
  • a plurality of the light diffusing members may be provided. In this case, it is preferable to measure the haze according to the method described above in a state where all the light diffusing members to be used are stacked.
  • the light source and the light diffusing member may be mounted on an optical recording / reproducing apparatus described later, or may be separate apparatuses. In particular, it is preferable to be mounted in an optical recording / reproducing apparatus because it can process information immediately after recording.
  • the light emitted from the light source and passed through the light diffusing member can be irradiated onto the optical recording medium through an arbitrary path.
  • This arbitrary path may be, for example, an optical system using a lens, a mirror, or the like, or an optical waveguide means using an optical fiber or an optical waveguide. Note that light may be directly irradiated from the light diffusing member to the optical recording medium without providing such a path.
  • Optical elements that can be provided on the optical path from the light source to the light diffusing member and from the light diffusing member to the optical recording medium include, for example, a phase modulation element, a spatial modulation element, and a beam splitter. And optical filters that limit the wavelength of transmitted light, mirrors, polygon mirrors, pinholes, slits, ⁇ wavelength plates, optical waveguides, optical fibers, lenses, and interference lenses.
  • the half width of the wavelength of the processing light irradiated to the recording layer of the optical recording medium with respect to the energy intensity is preferably 5 to 700 nm force, more preferably 30 to 300 nm force, and more preferably 50 to LOONm.
  • the half width of the wavelength with respect to the energy intensity is the maximum of the wavelength at which the energy intensity is 1Z2 of the peak value with respect to the peak value of the energy intensity when the wavelength is on the horizontal axis and the energy intensity is on the vertical axis. It is the difference between the value and the minimum value.
  • the unit of energy intensity at this time is W (Watt) or eV (Electron Volt). This value can be measured using any photometer.
  • the half-width range it is possible to increase the long-term storage stability and repeated reproduction durability while minimizing the deterioration of information.
  • the half-width exceeds 700 nm, the upper limit wavelength or the lower limit wavelength is excessively absorbed by the optical recording medium member or the recording layer component, causing an unexpected change in physical properties, or inducing deterioration of information. Absorption may not provide sufficient energy for the processing of the recording layer and may reduce processing efficiency.
  • the full width at half maximum is less than 5 nm, optical interference fringes due to reflection, diffraction, refraction, thickness unevenness, etc. are drawn on the recording layer, which may promote deterioration of information.
  • the total exposure amount of the processing light irradiated on the recording layer of the optical recording medium can be appropriately selected according to the purpose without any particular limitation.
  • the optical recording medium includes at least a recording layer for recording information using holography, and further includes other layers as necessary.
  • the optical recording medium is preferably a write-once (WORM) type.
  • the optical recording medium is not particularly limited as long as it can be recorded and reproduced using the principle of holograms.
  • a large amount of information such as relatively thin planar holograms and three-dimensional images for recording information such as two dimensions. Either a transmission type or a reflection type may be used.
  • the hologram recording method may be any method, for example, an amplitude hologram, a phase hologram, a blazed hologram, a complex amplitude hologram, or the like.
  • the optical recording medium is not particularly limited as long as it has a recording layer for recording information using holography.
  • the optical recording medium can be appropriately selected according to the purpose, but at least the first substrate is selected. It is preferable to have a reflective layer, a recording layer, and a second substrate in this order, and further include other layers as necessary.
  • the recording layer contains at least a noder, a polymerizable monomer, and a polymerization initiator, and further contains other components as necessary.
  • the noinder is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.
  • acrylic resin, urethane resin, polyester resin, polycarbonate resin, norbornene resin Styrene resin, polyethersulfone resin, silicone resin, polyamide resin, polyimide resin, polysiloxane resin, fluorine resin, polybutadiene resin, butyl ether resin examples include vinyl ester-based resin
  • the amount of the additive added to the noder is 50 to 9 with respect to the total mass of the hologram recording layer.
  • the range of 9% by mass is preferred.
  • the range of 60-98% by mass is more preferred, and the range of 70-95% is particularly preferred.
  • a recording layer excellent in sensitivity, multiplicity, and storage stability can be obtained. If the added amount of the binder is less than 50% by mass, information may be lost when stored for a long period of time. If the added amount exceeds 99% by mass, the monomer cannot be sufficiently contained. It may not be possible to obtain a satisfactory recording layer.
  • a cation polymerizable monomer and a radical polymerizable monomer can be used, and either one of them may be used or a combination thereof may be used.
  • Examples of the cationic polymerizable monomer include di- or polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof. Specific examples include diglyceryl polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl.
  • Aromatic epoxides include di- or polyglycidyl ethers prepared by reaction of polyhydric phenol having at least one aromatic nucleus or an alkylene oxide adduct thereof with epichlorohydrin, such as bisphenol. Examples thereof include di- or polyglycidyl ethers of A or its alkylene oxide-attached cages, di- or polyglycidyl ethers of hydrogenated bisphenol A or its alkylene oxide adducts, and novolak-type epoxy resins. Examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.
  • the glycidyl ether group of the glycidyl ether compound is converted into 2-oxetaluene n-propyl ether, 2-oxetanyl-n butyl ether, 2-oxetanyl-n pentyl ether, 2-oxetanyl-n-hexyl ether, 2-oxetanyl-3 N-ethyl ether, 2-oxetanyl-2-benzyl ether ether, 3-oxetanium n-butyl ether, 3-oxetanyl n-pentyl ether, 3-oxetanyl n-hexyl ether, 3-oxetanyl 3-phenyl n propyleneateol, 4-Oxetani nore n Pentinoreethenore, 4-Oxetaninole n-Hexyl ether, 4-Oxetanyl n-heptyl ether, 4-Oxetani
  • alicyclic epoxide a compound having at least one cycloalkane ring such as cyclohexene or cyclopentene ring is epoxidized with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid.
  • a cyclohexene oxide or cyclopentene oxide-containing compound obtained by the following 4, 4 ′ bis (2, 3 epoxy group) Mouthoxyperfunoleo mouth isopropinole) Diphenenoleethenole, 3, 4 Epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-Epoxycyclohexanecarboxylate, 3, 4 Epoxy cyclohexyloxysilane, 1, 2, 5, 6 Diepoxy 4, 7-Methanoperhydroindene, 2- (3,4 Epoxycyclohexenole) 3 ', 4' — Epoxy 1, 3 Dioxane-5-Spirocyclohexane, 1, 2 Ethylenedioxybis (3,4 Epoxycyclo) Hexylmethane), 4 ′, 5, monoepoxy 1 ′ 2′-methylcyclohexylmethyl 4,5 epoxy 2-methylcyclohexanecarboxylate, ethylene glycol bis (3,4 epoxy group) Mouthoxyper
  • butyl ether compound examples include ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divininole ether, dipropylene glycol divininole ether, butanediol divinyl ether, hexanediol.
  • Di- or tribyl ether compounds such as dibule ether, cyclohexane dimethanol dibule ether, 1,4-cyclohexane dimethanol dibule ether, trimethylolpropane tribyl ether; Tyl vinyl ether, n -butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, otadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethyl hexyl vinyl ether, cyclohexane dimethanol monovinyl etherol, n propinolevinole Etherenole, isopropinorevininoatenore, isopropenyl ether O propylene carbonate, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinylinoatenore, octadecinorevininoreatenolevininore 2-chloroethinole ether, etc.
  • radical polymerizable monomer examples include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof.
  • unsaturated carboxylic acids for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.
  • esters and amides thereof Preferably, an ester of an unsaturated carboxylic acid and a polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and a polyvalent amine compound is used.
  • a dehydration condensation reaction product with a polyfunctional carboxylic acid is also preferably used.
  • an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, and further a halogen.
  • a substituted reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a substituent such as a group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
  • a compound group in which an unsaturated phosphonic acid, styrene or the like is substituted for the unsaturated carboxylic acid can be used.
  • Examples of the monomer of an ester of a polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylate esters such as ethylene glycol ditalylate, triethylene glycol ditalylate, 1,3 butanediol ditalylate, and tetramethylene glycol.
  • methacrylic acid ester examples include tetramethylene glycol dimetatalylate, triethylene glycol dimetatalylate, neopentyl glycol dimetatalylate, trimethylolpropane trimetatalylate, trimethylololeethane trimethacrylate, and ethylene glycol.
  • Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3 butanediol diitaconate, 1,4 butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate. Sorbitol tetritaconate, and the like.
  • crotonic acid ester examples include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
  • isocrotonic acid esters examples include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
  • maleic acid esters examples include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, sorbitole tetramaleate, and the like.
  • esters include esters having a 9,9 dialylfluorene skeleton described in Japanese Patent No. 2849021; siloxane bond-containing (meth) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-101499 and Japanese Patent No. 3532679. Atalylates; (meth) atarylates containing the biphenyl described in JP-A-2001-125474; JP-A-7-199777, JP-A-7-199779, JP-A-7-104643 Examples thereof include (meth) acrylate having an oligomer structure described in the publication. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the polymerizable monomer preferably has a content power of 0.5 to 50% by mass of the polymerizable monomer in the total solid content of the monomer supply layer, more preferably 1 to 40% by mass, and 2 to 30% by mass is particularly preferred.
  • the content of the polymerizable monomer contained in the monomer supply layer is preferably higher than the content of the polymerizable monomer in the total solid content of the recording layer.
  • the initiator system may be a system composed of a single compound or a system composed of a plurality of compound forces.
  • the initiator system may be a system that activates radical polymerization and a system that activates cationic polymerization or ring-opening polymerization in a single initiator system, or two different initiator systems. Each may be done with.
  • a photoacid generator is preferred.
  • the photoacid generator include trichloromethyl monostriazines, gallo-ordonium salts. , Triarylsulfo-um salts, quaternary ammonium salts, sulfonic acid esters, and the like.
  • Examples of the trichloromethyl 1 s triazines include 2, 4, 6 tris (trichloromethyl) 1 s triazine, 2 phenol 1, 4 6 bis (trichloromethyl) s triazine, 2- (4 chlorotriazine).
  • Mouth file 4, 6 Bis (trichloromethyl) s triazine, 2— (3 black mouth) -4, 6 bis (trichloromethyl) s triazine, 2— (2 black-faced phenol)-4, 6 bis (trichloromethyl) s triazine, 2— (4-methoxyphenol) 1,4 6-bis (trichloromethyl) s triazine, 2— (3-methoxyphenyl) 4,6 bis (trichloromethyl) s triazine, 2 -— (2-methoxyphenyl) 4,6 bis (trichloromethyl) —s triazine , 2— (4-methylthiophenyl) 4,6 bis (trichloromethyl) s—triazine, 2— (3-methylthiophenol) 4,6 bis (trichloromethyl) s triazine, 2— (2— 4,6 bis (trichloromethyl) s triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) 4,6 bis (
  • diarylordone salt examples include diphenyl rhodonitr tetrafluoroborate, diphenolenodihemohexanoleo phosphonate, diphenenoleo-umhexofenoreoloano.
  • triarylsulfo-sulfur salts include, for example, triphenylsulfotetrafluorobenzoate, triphenol-nolesnorhohexahexolenoorone phosphonate, triphenol-nolesulfo-hexafluoroarsenate, triphenylsulfosulfate.
  • Examples of the fourth ammonium salt include tetramethyl ammonium tetrafluoroborate, tetramethyl ammonium hexafluorophosphonate, tetramethyl ammonium hexafluoroarsenate.
  • Tetramethylammonium trifluoromethanesulfonate Tetramethylammonium trifluoromethanesulfonate, tetramethylammonium trifluoroacetate, tetramethylammonium p— Toluenesulfonate, tetramethylammonium butyltris (2, 6-difluorophenol) borate, tetramethylammonium hexyltris (p-black-mouthed phenol) borate, tetramethylammonium hexyltris ( 3-trifluoromethylphenol) borate, tetrabutylammonium tetrafluoroborate, tetraptylammonium hexafluorophosphonate, tetraptylammonium hexafluoroarsenate, tetrabutylammonium- Umtrifluoromethanesulfonate, tetraptylammo-mummuflu
  • sulfonic acid esters examples include ⁇ -hydroxymethylbenzoin mono-p-toluenesulfonic acid ester, ⁇ -hydroxymethylbenzoin monotrifluoromethanesulfonic acid ester, a-hydroxymethylbenzoin-methanesulfonic acid ester, pyrogallol tri (P Toluenesulfonic acid) ester, pyrogallol-tri (trifluoromethanesulfonic acid) ester, pyrogallol-trimethanesulfonic acid ester, 2,4 di-to-benzyl-p toluenesulfonic acid ester, 2, 4 dinitrobenzyl-trifluoromethanesulfone Acid ester, 2, 4 dinitrobenzyl monomethanesulfonic acid ester, 2, 4 dinitrobenzyl mono 1,2 naphthoquinonediazido 5-sulfonic acid ester, 2, 6-dinitrobenzil-p toluen
  • trichloromethyl monostriazines include 2- (3-chlorophenol) 4,6 bis (trichloromethyl) s triazine, 2- (4-methoxyphenol) 4,6 bis ( Trichloromethyl) s Triazine, 2— (4-Methylthiophenyl) 1,4,6-bis (trichloromethyl) s Triazine, 2 -— (4-Methoxy-1-13-styryl) 4,6 bis (trichloromethyl) s Triazine, 2 pipetyl 4,6 bis (trichloromethyl) s triazine, 2— [2— (furan 2-yl) etul] — 4, 6 bis (trichloromethyl) —s triazine, 2— [2— (5-Methylfuran-2-yl) etul] — 4, 6 Bis (trichloromethyl) s triazine, 2— [2— (4- (Jetylamino) 2-methylphenyl) en
  • radical photopolymerization initiation system examples include, for example, organic halogenated compounds, carbonyl compounds, organic peroxide compounds, azo polymerization initiators, azide compounds, meta-octene compounds, hexaarylbiimidazoles.
  • Preferred examples thereof include organic compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, oxime ester compounds, and onium salt compounds.
  • organic halogenated compound examples include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, JP-B-46- 4605, JP-A 48-36281, JP-A 55-32070, JP-A 60-239 736, JP-A 61-169835, JP-A 61-169837, JP 62-58241, JP 62-212401, JP 63-70243, JP 63-298339, MP Hutt "Jurnal of Heterocyclic Chemistry” 1 ( ⁇ 3), (1970) "and the like.
  • torino, oxazolyl compounds substituted with a lomethyl group, and S-triazine compound are particularly preferred! /.
  • the s-triazine derivative bonded to at least one model di- or tri-halogen-substituted methyl group ⁇ -triazine ring specifically, for example, 2, 4, 6 Oral methyl) —s Triazine, 2, 4, 6 Tris (Dichloromethyl) —s Triazine, 2, 4, 6 —Tris (trichloromethyl) s Triazine, 2-methyl-4,6 Bis (trichloromethyl) —s Triazine 2 n-propyl-1,4 bis (trichloromethyl) s triazine, 2-(a, a, j8—trichloromethyl) 1,4 bis (trichloromethyl) s triazine, 2 —phenol 1,4 6 Bis (trichloromethyl) s triazine, 2— (p-methoxyphenyl) —4, 6 Bis (trichloromethyl) s triazine, 2— (3,4 epoxy resin) 4, 6
  • carbole compound examples include, for example, benzophenone, Michler ketone, 2-methyl benzophenone, 3-methenolebenzophenone, 4-methinolevenzophenone, 2-clobenbenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-strength.
  • Benzophenone derivatives such as noreboxybenzophenone; 2,2-dimethoxy-2-phenyl-phenphenone, 2,2-ethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, ⁇ -hydroxy-2-methylphenyl propanone 1-hydroxy 1 1-methylethyl 1 ( ⁇ -isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy 1 1 ( ⁇ dodecyl phenyl) ketone, 2 -methyl- (4, 1 (methylthio) 2 1) 2-morpholino 1 1-propanone, 1, 1, 1-trichloromethyl mono ( ⁇ butylphenol) ketone, etc.
  • Acetophenone derivatives such as thixanthone, 2 ethylthioxanthone, 2 isopropyl thixanthone, 2 black mouth thixanthone, 2,4 dimethylthioxanthone, 2,4 jetylthioxanthone, 2,4 diisopropylthioxanthone; ⁇ dimethylaminobenzoic acid And benzoic acid ester derivatives such as ethyl and ⁇ -detylaminobenzoic acid.
  • azo compound for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.
  • Examples of the organic peroxide compound include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetylacetone peroxide, 1, 1 bis (tert-butylperoxy) -3, 3, 5 trimethylcyclohexane, 1, 1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butylhydride peroxy , Cumene hydride oral peroxide, diisopropylbenzene hydride oral peroxide, 2, 5 dimethyl hexane 2, 5 dihydric oral peroxide, 1, 1, 3, 3-tetramethyl butyl hydride oral peroxide, tert butyl tamyl peroxide, dicumyl baro Oxide, 2, 5 dimethyl-2,5 di (tert-butylperoxy) hexane, 2,5-oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide,
  • Examples of the meta-orthene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, and JP-A-2-4705.
  • Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588 for example, di-cyclopentagenyl Ti bisphenyl, dicyclopentagenyl Ti bis 2,6 difluorophenyyl, dicyclo Pentageneru Ti-Bis 2,4 Di-fluorophenyl 1-yl, Di-cyclopentagenyl Ti-Bis 1,2,4,6 Trifluoro 1-yl, Di-cyclopentagenenyl 1 Ti-bis 1, 3, 5, 6-tetrafluorophenyl 1-yl, dicyclopentagenyl Ti-bis 1, 2, 4, 5, 6-pentafluoropheny 1 , Dimethylcyclopentadiene Ti-Bis 2, 6 —Difluorophenyl 1— Di-methylcyclopentagenyl Ti-bis-1,2,
  • Examples of the hexarylbiimidazole compound include, for example, Japanese Patent Publication No. 6-29285, US Pat. No. 3,479,185, US Pat. No. 4,311,783, US Various compounds described in Japanese Patent No.
  • Examples of the organic borate compound include, for example, JP-A-62-130444, JP-A-62-150242, JP-A-9-188685, JP-A-9-188686. No. 9-188710, JP 2000-131837, JP 2002-107916, JP 764769, and Kunz, Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19 22, 1998. Organoborates described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-157623, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-175564, Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • organic boron oxo Sulphurium complexes organoboron iodine complexes described in JP-A-6-175554, JP-A-6-175553, organoboron phosphorium complexes described in JP-A-9-188710, JP-A-6-348 No. 011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-3 06527, And organic boron transition metal coordination complex as claimed in Unexamined 7- 292014 discloses the like can be given as specific examples.
  • Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A-61-166544 and JP-A-2002-328465.
  • Examples of the oxime ester compound include JCS Perkin II (1979) pp. 163-1660, JCS Perkin II (1979) pp. 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) pp. 202-232.
  • the compounds described in JP-A No. 2000-66385, the compounds described in JP-A No. 2000-80068, specifically, the compounds shown below can be mentioned.
  • Examples of the onium salt compound include the compounds described above as the cationic polymerization initiator. Furthermore, SI Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), TS Bal Diazo-um salt described in et al, Polymer, 21, 423 (1980), U.S. Pat. No. 4,069,055, ammo-um salt described in JP-A-4-365049, U.S. Patent No. 4, 06 9, 055, U.S. Pat.No. 4,069,056, phospho-um salt, European Patent No. 104,143, U.S. Pat.No. 339,049 , U.S. Pat. No.
  • the reactive and stable surface strengths include the oxime ester compounds, diazo-um salts, iodonium salts, sulfo-um salts, and the like.
  • these ohmic salts have a function as a cationic polymerization initiator and also function as an ionic radical polymerization initiator. Using this property, it is possible to activate both cationic polymerization and radical polymerization with a single compound.
  • sensitization aid examples include coumarins having a substituent at the 3-position and the Z- or 7-position, flavones, dibenzalacetones, dibenzalcyclohexanes, chalcones, xanthenes, thixanthenes, Porphyrins, phthalocyanines, atalidines, anthracenes and the like can be used.
  • the addition amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 10% by mass based on the total mass of the recording layer, and more preferably 1 to 7% by mass. More preferred is mass%. In this range, a recording layer having excellent sensitivity and multiplicity can be obtained. If the value is below the lower limit, sufficient sensitivity cannot be obtained, and if the value exceeds the upper limit, the reference light and signal light are unnecessarily absorbed, and in particular, sufficient signal strength cannot be obtained when reading the signal. There is a fear.
  • the other components can be appropriately selected depending on the purpose without particular limitation, and examples thereof include various additives such as an infrared heat conversion agent and a swelling agent.
  • the thickness of the recording layer can be appropriately selected according to the purpose without particular limitation. 1 to 1,000 / zm force, preferably 100 to 700 111 centimeters preferred 1 to 0 thickness of the recording layer 10 to 300 multiplex shift multiplex recording, angle multiplex A sufficient SZN ratio can be obtained even by performing high multiplex recording such as recording, and it is more preferable than the above, and it is advantageous in that it is remarkable in the numerical range.
  • the shape, structure, size, etc. of the substrate can be appropriately selected according to the purpose without any particular restrictions.
  • Examples of the shape include a disk shape, a card shape, a flat plate shape, and a sheet shape.
  • the structure may be a single layer structure or a laminated structure, and the size may be appropriately selected according to the size of the optical recording medium, etc. .
  • any of inorganic materials and organic materials that are not particularly limited can be suitably used, but the mechanical strength of the optical recording medium can be ensured, and recording and reproduction are possible.
  • a transmissive type in which the light used is incident through the substrate it must be sufficiently transparent in the wavelength range of the light used.
  • Examples of the inorganic material include glass, quartz, and silicon.
  • organic material examples include acetate-based resins such as triacetyl cellulose, polyester-based resins, polyethersulfone-based resins, polysulfone-based resins, polycarbonate-based resins, polyamide-based resins, and polyimide-based resins.
  • examples thereof include fats, polysalt-vinylidene-based resins, polyacrylic-based resins, polylactic acid-based resins, plastic film laminated paper, and synthetic paper. These may be used alone or in combination of two or more.
  • polycarbonate resins and acrylic resins are preferable from the viewpoints of moldability, optical characteristics, and cost.
  • the substrate may be an appropriately manufactured substrate or a commercially available product.
  • the thickness of the substrate is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, and is preferably 0.1 to 5 mm, more preferably 0.3 to 2 mm. If the thickness of the substrate is less than 0.1 lmm, the distortion of the shape during storage of the disk may not be suppressed. In other words, an excessive load may be applied when the entire disk has a large mass and is rotated by a drive motor.
  • the substrate is provided with address servo areas as a plurality of positioning areas extending linearly in the radial direction at predetermined angular intervals, and a sector section between adjacent address servo areas becomes a data area.
  • address servo areas information for performing focus servo and tracking servo by the sampled servo system and address information are recorded in advance by embossed pits (servo pits) (pre-format).
  • servo pits pre-format
  • the focus servo can be performed using the reflective surface of the reflective film.
  • a wobble pit can be used as information for performing the tracking servo.
  • the reflective film is formed on the surface of the servo pit pattern of the substrate.
  • the material of the reflective film it is preferable to use a material having a high reflectance with respect to the recording light and the reference light.
  • the wavelength of light to be used is 400 to 780 nm, for example, Al, A1 alloy, Ag, Ag alloy, etc. are preferably used.
  • the wavelength of light to be used is 650 nm or more, it is preferable to use Al, A1 alloy, Ag, Ag alloy, Au, Cu alloy, TiN, or the like.
  • an optical recording medium that reflects light and can be added or deleted such as a DVD (digital video disc)
  • DVD digital video disc
  • add and rewrite directory information such as information on which part has an error and how the replacement process was performed without affecting the hologram.
  • the formation of the reflective film is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.
  • Various vapor deposition methods such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a plasma CVD method, a photo CVD method, an ion A plating method, an electron beam evaporation method, or the like is used.
  • the sputtering method is excellent in terms of mass productivity and film quality.
  • the thickness of the reflective film is preferably 50 nm or more, more preferably 1 OOnm or more so that sufficient reflectivity can be achieved.
  • the selective reflection layer is provided on a servo pit of the substrate or on the reflection layer.
  • the selective reflection layer has a wavelength selective reflection function of reflecting only light of a specific wavelength from among a plurality of types of light rays.
  • the selective reflection layer can be appropriately selected according to the purpose for which there is no particular limitation.
  • it is formed by a laminate in which at least one of a dichroic mirror layer, a colorant-containing layer, a dielectric vapor deposition layer, a single layer or two or more cholesteric layers and other layers appropriately selected as necessary are laminated.
  • the selective reflection layer is laminated on a substrate such as a film which may be laminated on the substrate by coating or the like together with the direct recording layer to produce a selective reflection layer, which is laminated on the substrate. Also good.
  • the other layers can be appropriately selected according to the purpose without particular limitation, and examples thereof include a first gap layer and a second gap layer.
  • the first gap layer is provided between the selective reflection layer and the reflection film as necessary, and is formed for the purpose of smoothing the surface of the second substrate. It is also effective for adjusting the size of the hologram generated in the recording layer. That is, since the recording layer needs to form an interference area of the reference light and the information light to a certain size, it is effective to provide a gap between the recording layer and the servo pit pattern.
  • the first gap layer can be formed, for example, by applying a material such as an upper-strength ultraviolet curable resin of the servo pit pattern by spin coating or the like and curing it.
  • a material such as an upper-strength ultraviolet curable resin of the servo pit pattern by spin coating or the like and curing it.
  • the transparent substrate when using a filter layer formed on a transparent substrate, the transparent substrate also functions as the first gap layer.
  • the thickness of the first gap layer can be appropriately selected according to the purpose without particular limitation, and is preferably 1 to: LOO / zm.
  • the second gap layer is provided between the recording layer and the selective reflection layer as necessary.
  • the portion of the point where the information light and the reference light are focused is filled with a photopolymer, when the overexposure is performed, the monomer is excessively consumed, and the multiplex recording capability may be reduced. There is a function to prevent this harmful effect.
  • the material of the second gap layer is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.
  • triacetyl cellulose TAC
  • PC polycarbonate
  • PET polyethylene terephthalate
  • PS polystyrene
  • PSF Polysulfone
  • PMMA polybutyl alcohol
  • polymethyl methacrylate polymethyl methacrylate (PMMA)
  • other transparent resin films such as JSR Corporation trade name ARTON film or Nippon Zeo
  • a norbornene-based resin film such as Zeonor, a trade name manufactured by N.
  • TAC, PC, trade name ARTON, and trade name Zeonor which are highly isotropic, are particularly preferred.
  • the thickness of the second gap layer is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, and is preferably 1 to 200 m.
  • optical recording medium will be described in more detail with reference to the drawings.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the optical recording medium in the embodiment of the present invention.
  • a servo pit pattern 3 is formed on a first substrate 1 made of polycarbonate resin, and the servo pit pattern 3 is coated with aluminum, gold, platinum or the like to form a reflective film 2. Is provided.
  • the servo pit pattern 3 may be formed periodically on the entire surface of the first substrate 1. The maximum height of this servo pit is 1750 A (175 nm), which is sufficiently small compared to the thickness of other layers including the first substrate.
  • the servo pit of the first substrate is provided, and on the side, a dichroic mirror layer in which Ag is selectively deposited as the selective reflection layer 6 is provided.
  • a recording layer 4 is provided on the reflective film 2.
  • An optical recording medium 21 is configured by sandwiching the selective reflection film 6 and the recording layer 4 between the first substrate 1 and the second substrate 5 (substrate of polycarbonate resin).
  • light (red light) emitted from the servo laser is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13 and passes through the objective lens 12.
  • Servo light is applied to the optical recording medium 21 by the objective lens 12 so as to be focused on the reflective film 2.
  • the dichroic mirror 13 transmits green or blue wavelength light and reflects almost 100% of red wavelength light.
  • the servo light that has also entered the A force passes through the second substrate 5, the recording layer 4, and the selective reflection layer 6, is reflected by the reflective film 2, and is selectively reflected again.
  • the light passes through the layer 6, the recording layer 4, and the second substrate 5 and is emitted from the incident / exit surface A.
  • the emitted return light passes through the objective lens 12, is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, and servo information is detected by a servo information detector (not shown).
  • the detected servo information is used for focus servo, tracking servo, slide servo, and so on.
  • the hologram material constituting the recording layer 4 is not sensitive to red light, even if the servo light passes through the recording layer 4 or the servo light is irregularly reflected by the reflective film 2, the recording layer 4 4 is not affected. In addition, since the return light of the servo light reflecting film 2 is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, the servo light is detected by the CMOS sensor or CCD 14 for detecting the reproduced image. It will not become noise for the reproduced light.
  • the information light and the recording reference light generated from the recording Z reproducing laser pass through the polarizing plate 16, become linearly polarized light, pass through the half mirror 17, and pass through the 1Z4 wavelength plate 15. Becomes circularly polarized light.
  • the optical recording medium 21 is irradiated with information light and recording reference light by the objective lens 11 so as to generate an interference pattern in the recording layer 4.
  • the information light and the recording reference light are incident from the incident / exit surface A and interfere with each other in the recording layer 4 to generate an interference pattern there.
  • the information light and the recording reference light are incident on the recording layer 4 and the selective reflection layer 6, but are reflected between the bottom surface of the selective reflection layer 6 and become return light. That is, the information light and the recording reference light do not reach the reflective film 2. This is because the selective reflection layer 6 has a property of transmitting only red light.
  • the optical recording / reproducing apparatus of the present invention includes at least the processing means for the optical recording medium of the present invention. Provided, recording means, reproducing means, and other means as required.
  • the optical recording / reproducing method of the present invention includes at least the processing step for the optical recording medium of the present invention, and further includes a recording step, a reproducing step, and other steps as necessary.
  • optical recording / reproducing method of the present invention can be preferably implemented by the optical recording / reproducing apparatus of the present invention.
  • the optical recording / reproducing apparatus in FIG. 4 is a general hologram recording / reproducing apparatus in which information light and reference light are irradiated from different directions.
  • the light emitted from the light source 61 is divided into the information light 51 transmitted through the half mirror 64 and the reference light 52 reflected by the half mirror 64.
  • the information light 51 is divided into a mirror 66 and a beam expander 68. And is irradiated onto the recording layer surface of the optical recording medium 50.
  • the reference light 52 is enlarged via a mirror 65 and a beam expander 67, and is irradiated onto the recording layer surface opposite to the recording layer surface on which the information light 51 is irradiated. Interference fringes are generated, and the interference fringes are recorded as optical information on the recording layer.
  • processing means of the present invention having a light diffusing member is provided in the vicinity of at least one of the force light sources 61 and 62 (not shown).
  • FIG. 5 is an overall configuration diagram of an optical recording / reproducing apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • the optical recording / reproducing apparatus 100 controls a spindle 81 to which the optical recording medium 20 is attached, a spindle motor 82 for rotating the spindle 81, and the spindle motor 82 so as to keep the rotational speed of the optical recording medium 20 at a predetermined value.
  • Spindle servo circuit 83 that performs!
  • the optical recording / reproducing apparatus 100 records information by irradiating the optical recording medium 20 with information light and reference light, and also irradiates the optical recording medium 20 with reproduction reference light to generate reproduction light.
  • the processing means of the present invention having a light diffusing member is provided in the vicinity of the force pickup 31 (not shown).
  • the optical recording / reproducing apparatus 100 includes a detection circuit 85 for detecting a focus error signal FE, a tracking error signal TE, and a reproduction signal RF from the output signal of the pickup 31, and a focus error detected by the detection circuit 85. Based on the signal FE, the actuator in the pickup 31 is driven to move the objective lens (not shown) in the thickness direction of the optical recording medium 20 to perform focus servo, and the detection circuit 85 detects the focus servo circuit 86.
  • a tracking servo circuit 87 that drives the actuator in the pickup 31 based on the tracking error signal TE to move the objective lens in the radial direction of the optical recording medium 20 to perform tracking servo, and the tracking error signal TE and a control port to be described later -Pick up by controlling the drive unit 84 based on the Laka command
  • a slide servo circuit 88 for performing a slide servo for moving 31 in the radial direction of the optical recording medium 20.
  • the optical recording / reproducing apparatus 100 further decodes output data of a later-described CMOS or CCD array in the pickup 31 to reproduce or detect data recorded in the data area of the optical recording medium 20.
  • a signal processing circuit 89 that reproduces a basic clock and discriminates an address from the reproduction signal RF from the circuit 85, a controller 90 that controls the entire optical recording / reproducing apparatus 100, and various types of controllers 90 And an operation unit 91 for giving instructions.
  • the controller 90 inputs the basic clock and address information output from the signal processing circuit 89, and controls the pickup 31, spindle servo circuit 83, slide servo circuit 88, and the like.
  • the spindle servo circuit 83 inputs the basic clock output from the signal processing circuit 89.
  • the controller 90 has a CPU (Central Processing Unit), ROM (Read Only Memory), and RAM (Random Access Memory), and the CPU executes a program stored in the ROM using the RAM as a work area. The function of the controller 90 is realized.
  • the optical recording / reproducing apparatus of the present invention includes the optical recording medium processing apparatus of the present invention, information deterioration occurs during desensitization processing of a thick recording layer on which information is recorded using volume holography. Increase the long-term storage stability and repetitive playback durability of recorded images. Togashi.
  • the recording layer in which the information is recorded is desensitized to the optical recording medium having the thick recording layer in which information is recorded using holography.
  • An optical recording / reproducing apparatus can be provided.
  • WORM write-once
  • a second substrate made of polycarbonate resin having a diameter of 120 mm, an inner diameter of 15 mm, and a thickness of 0.6 mm was produced.
  • the first substrate is a DVD + R with a diameter of 120 mm, an inner diameter of 15 mm, and a thickness of 0.6 mm.
  • a general polycarbonate resin substrate used for W was used.
  • a servo pit pattern is formed on the substrate surface, the track pitch is 0.74 m, the groove depth is 140 nm, and the groove width is 300 nm.
  • a reflective layer was formed on the servo pit pattern surface of the first substrate.
  • Silver (Ag) was used as the material for the reflective layer.
  • a 150 nm thick Ag reflective layer was formed by DC magnetron sputtering.
  • an adhesive (trade name: SD640, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) is applied on the reflective layer to a thickness by spin coating, and the following selective reflective layer is then applied to the adhesive layer. (First gap layer). [0092] Preparation of selective reflection layer
  • Polycarbonate film (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name Iupilon) is formed by vapor deposition of a dichroic mirror layer consisting of an Ag film with a thickness of 30 ⁇ m and a thickness of 3 ⁇ m on a 100 ⁇ m thickness by DC magnetron sputtering. And in order to laminate
  • a holographic recording layer coating solution having the following compositional power was prepared in the following tank A and tank B under a nitrogen atmosphere.
  • the prepared tank was filled with dry nitrogen.
  • the disc-shaped selective reflection layer is placed on the first substrate on which the reflective layer and the adhesive layer (first gap layer) are formed, and the base film surface of the selective reflective layer is on the servo pit pattern side. Pasted. The bonding was performed such that no air bubbles entered the gap. Thus, the selective reflection layer was formed on the first substrate.
  • a protective layer (second gap layer)
  • a protective layer composition containing an adhesive (SD640, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) is spin-coated on the selective reflective layer so that the thickness becomes Formed.
  • the composition of tank A prepared above and the composition of tank B are combined with Posilatio (liquid Using the liquid mixing and injection device available from Control Co., Ltd., the second tank was kept at a height of 500 m while mixing 10 parts by weight of tank A composition and 18 parts by weight of tank B composition.
  • Posilatio liquid Using the liquid mixing and injection device available from Control Co., Ltd.
  • the second tank was kept at a height of 500 m while mixing 10 parts by weight of tank A composition and 18 parts by weight of tank B composition.
  • the composition quickly and spontaneously cured to form a recording layer having a thickness of 500 m.
  • an optical recording medium of Production Example 1 was produced.
  • the collinear optical recording / reproduction evaluation device manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd., SHOT-2000
  • the information was recorded and reproduced, the SZN ratio was obtained, and the image quality of the reproduced image was visually observed. Based on the following criteria.
  • the desensitization treatment was performed by irradiating the treated light passing through for 8,000 seconds.
  • the total exposure irradiated was 3 0, OOOmjZcm 2.
  • the half width of the wavelength for the energy intensity of the processed light is 155 nm.
  • the desensitized optical recording medium is mounted on the collinear optical recording / reproduction evaluation apparatus again, the information recorded above is reproduced, the SZN ratio is obtained, and the image quality of the reproduced image is visually checked as follows. Evaluated by criteria.
  • Example 2 In Example 1, except that the irradiated total exposure amount was changed to 10, OOOmiZcm 2 , reproduction evaluation of the optical recording medium before and after desensitization treatment and after irradiation with reproduction light was performed in the same manner as Example 1. The results are shown in Table 1. The half width of the wavelength with respect to the energy intensity of the processed light is 155 nm.
  • Example 1 except that the light source was changed to a xenon lamp power LED array (wavelength: 532 nm), the optical recording medium was evaluated for reproduction before and after desensitization treatment and after irradiation with reproduction light in the same manner as Example 1. .
  • the results are shown in Table 1.
  • the half width of the wavelength with respect to the energy intensity of the processed light was 155 nm.
  • Example 3 except that the irradiated total exposure amount was changed to 10, OOOmiZcm 2 , reproduction evaluation of the optical recording medium before and after desensitization treatment and after irradiation with reproduction light was performed in the same manner as Example 3. The results are shown in Table 1. The half width of the wavelength with respect to the energy intensity of the processed light is 155 nm.
  • Example 5 except that the irradiated total exposure amount was changed to 10, OOOmiZcm 2 , reproduction evaluation of the optical recording medium before and after desensitization treatment and after irradiation with reproduction light was performed in the same manner as Example 5. The results are shown in Table 1.
  • Example 1 In Example 1, except for removing the light diffusion filter, reproduction evaluation of the optical recording medium was performed in the same manner as in Example 1 before and after the desensitization treatment and after irradiation with the reproduction light. The results are shown in Table 1.
  • Example 2 except for removing the light diffusion filter, reproduction evaluation of the optical recording medium was performed in the same manner as in Example 2 before and after the desensitization treatment and after irradiation with the reproduction light. The results are shown in Table 1.
  • Example 3 except for removing the light diffusion filter, reproduction evaluation of the optical recording medium was performed in the same manner as in Example 3 before and after the desensitization treatment and after irradiation with the reproduction light. The results are shown in Table 1.
  • Example 4 except for removing the light diffusion filter, reproduction evaluation of the optical recording medium was performed in the same manner as in Example 4 before and after the desensitization treatment and after irradiation with the reproduction light. The results are shown in Table 1.
  • Example 5 Except that the light diffusion filter was omitted, reproduction evaluation of the optical recording medium was performed in the same manner as in Example 5 before and after the desensitization treatment and after irradiation with the reproduction light. The results are shown in Table 1.
  • Example 6 except for removing the light diffusion filter, reproduction evaluation of the optical recording medium was performed in the same manner as in Example 6 before and after the desensitizing process and after irradiation with the reproduction light. The results are shown in Table 1.
  • Example 1 the desensitization treatment was not performed, and the reproduction light of the total irradiation amount lOOjZcm 2 was continuously irradiated, and the reproduction evaluation of the optical recording medium before and after the reproduction light irradiation was performed.
  • the results are shown in Table 1.
  • the haze value of the light diffusion filter is 70 to 100%. Is found to be effective.
  • the optical recording medium processing method and processing apparatus of the present invention can increase the long-term storage stability and repeated reproduction durability of recorded images without deteriorating information during the desensitization processing of the recording layer on which information is recorded. It is used for various volume hologram type optical recording media capable of high-density image recording.

Abstract

ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を少なくとも有する光記録媒体の情報を記録した該記録層に対し、曇価が７０～１００％である光拡散部材を通した処理光を照射する光記録媒体の処理方法、及びホログラフィを利用して情報を記録する記録層を少なくとも有する光記録媒体と、処理光光源と、該処理光光源と前記光記録媒体との間に、曇価が７０～１００％である光拡散部材とを有し、前記光拡散部材を通過させた前記処理光光源からの処理光を、情報を記録した前記記録層に照射する光記録媒体の処理装置を提供する。該処理光のエネルギー強度に対する波長の半値幅が５～７００ｎｍである態様、該光記録媒体が、ライトワンス（ＷＯＲＭ）型である態様が好ましい。

Description

明 細 書
光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 技術分野
[0001] 本発明は、ホログラフィを記録した厚膜の記録層を有する光記録媒体の処理方法 及び光記録媒体の処理装置、並びに該光記録媒体の処理手段を備えた光記録再 生装置に関する。
背景技術
[0002] 高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光 記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば光磁気ディスク、相変化型 光ディスク等の書換型光記録媒体や CD— R等の追記型光記録媒体については既 に実用化されている力 光記録媒体の更なる大容量ィヒに対する要求は高まる一方で ある。しかし、従来より提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容 量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録可能なホログ ラム型の光記録媒体が注目されて 、る。
[0003] 前記ホログラム型光記録方法は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報 光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、 それらが形成する干渉縞を利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせること により、情報を記録する。一方、書き込んだ情報の読み出し (再生）は、記録時と同様 の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に 対応した強度分布を有する再生光を前記記録層から出射させることにより行われる。 このホログラム型光記録方法では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成さ れるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書 き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち、多重記録が可能である。デジ タルボリュームホログラフィを利用した場合には、 1スポットの信号対雑音比（SZN比 )は極めて高くなるので、重ね書きにより SZN比が多少低くなつても元の情報を忠実 に再現できる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容 量を著しく増大させることができる (特許文献 1参照)。 [0004] 前記光記録媒体としては、例えば、図 1に示すように、情報光の光軸と参照光の光 軸とが、同軸となるようにして、該情報光及び参照光を照射して記録する方式に用い られ、第一の基板 1、第一ギャップ層 8、フィルタ層 6、第二ギャップ層 7、記録層 4、第 二の基板 5がこの順に積層された光記録媒体 21などが挙げられる。
このような現在提案されているホログラフィック光記録媒体のうち、追記又は書き換 え可能な光記録媒体 (ライトワンス型、リライタブル型）は、長期保存性及び繰り返し 再生を行うため、記録を行った後、記録層を不感化する処理を行うことが好ましい。 特に記録層にフォトポリマーを用いたライトワンス型の光記録媒体では、この不感化 処理を適正に行うことにより記録像が良好に保持され、その長期保存性及び繰り返し 再生耐久性を不感化処理前に比べて劇的に増大させることが可能である。
しかし、ホログラフィを利用して情報を記録する厚膜の記録層を有する光記録媒体 については、情報が記録された記録層が厚膜であるがゆえに、上記不感化処理に際 して不可測の物性変化が生じて、記録像が正しく再生できなくなるという問題がある。
[0005] 特許文献 1 :特開 2002— 123949号公報
発明の開示
[0006] 本発明は、ホログラフィを利用して情報を記録する厚膜の記録層を有する光記録媒 体に対し、該記録層の不感化処理時に情報の劣化を伴うことなぐ記録像の長期保 存性及び繰り返し再生耐久性を増大させることが可能な光記録媒体の処理方法及 び光記録媒体の処理装置、並びに該光記録媒体の処理装置を備えた光記録再生 装置を提供することを目的とする。
[0007] 前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
< 1 > ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を少なくとも有する光記録媒 体の情報を記録した該記録層に対し、曇価が 70〜100%である光拡散部材を通し た処理光を照射することを特徴とする光記録媒体の処理方法である。
< 2> 処理光のエネルギー強度に対する波長の半値幅が 5〜700nmである前記 < 1 >に記載の光記録媒体の処理方法である。
< 3 > 光記録媒体が、ライトワンス（WORM)型である前記 < 1 >から < 2 >のい ずれかに記載の光記録媒体の処理方法である。 <4> 前記 < 1 >から < 3 >のいずれかに記載の光記録媒体の処理工程を含む ことを特徴とする光記録再生方法である。
< 5 > ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を少なくとも有する光記録媒 体と、処理光光源と、該処理光光源と前記光記録媒体との間に、曇価が 70〜100% である光拡散部材とを有する光記録媒体の処理装置であって、
前記光拡散部材を通過させた前記処理光光源からの処理光を、情報を記録した前 記記録層に照射することを特徴とする光記録媒体の処理装置である。
< 6 > 処理光のエネルギー強度に対する波長の半値幅が 5〜700nmである前記 < 5 >に記載の光記録媒体の処理装置である。
< 7> 光記録媒体が、ライトワンス（WORM)型である前記 < 5 >から < 6 >のい ずれかに記載の光記録媒体の処理装置である。
< 8 > 前記 < 5 >から < 7 >の 、ずれかに記載の光記録媒体の処理手段を備え たことを特徴とする光記録再生装置である。
[0008] 本発明の光記録媒体の処理方法は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録 層を少なくとも有する光記録媒体の情報を記録した該記録層に対し、曇価が 70〜1 00%である光拡散部材を通した処理光を照射することにより、体積ホログラフィを利 用して情報を記録する厚膜の記録層の不感化処理時に情報の劣化を伴うことなぐ 記録像の長期保存性及び繰り返し再生耐久性を増大させることができる。
[0009] 本発明の光記録媒体の処理装置は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録 層を少なくとも有する光記録媒体と、処理光光源と、該処理光光源と前記光記録媒 体との間に、曇価が 70〜100%である光拡散部材とを有してなり、前記光拡散部材 を通過させた前記処理光光源からの処理光を、情報を記録した前記記録層に照射 する。その結果、情報を記録した記録層の不感化処理時に情報の劣化を伴うことなく 、記録像の長期保存性及び繰り返し再生耐久性を増大させることができる。
図面の簡単な説明
[0010] [図 1]図 1は、従来の光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
[図 2]図 2は、本発明に用いる光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
[図 3]図 3は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。 [図 4]図 4は、本発明の光記録再生装置の一例を示す概略図である。
[図 5]図 5は、本発明の光記録再生装置の一例を表すブロック図である。
発明を実施するための最良の形態
[0011] (光記録媒体の処理方法及び光記録媒体の処理装置）
本発明の光記録媒体の処理方法は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録 層を少なくとも有する光記録媒体の情報を記録した該記録層に対し、曇価が 70〜1 00%である光拡散部材を通した処理光を照射する。
本発明の光記録媒体の処理装置は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録 層を少なくとも有する光記録媒体と、処理光光源と、該処理光光源と前記光記録媒 体との間に、曇価が 70〜100%である光拡散部材とを有してなり、前記光拡散部材 を通過させた前記処理光光源からの処理光を、情報を記録した前記記録層に照射 する。
以下、本発明の光記録媒体の処理方法及び本発明の光記録媒体の処理装置に ついて詳細に説明する。
[0012] 処理光光源
前記処理光光源としては、特に制限はなぐ目的に応じて任意の光源が利用可能 であり、例えば蛍光灯、水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、発光ダイオード 、レーザー、フラッシュランプなどが挙げられる。また、これらの光源力 の光を光ファ ィバー、レンズ光学系、光導波路等を用いて導光し光を出射することも可能である。 また、複数の光源を併用してもよい。この場合、上記光源の複数種を任意に組み合 わせてもよいし、同一種の光源を複数併用してもよぐその光源の波長域が異なる光 源同士を組み合わせてもよいし、同一の波長域を有する光源同士を組み合わせても よい。これらの中でも、光源からの発熱、及び設備の簡便さから、発光ダイオードを用 いることが好ましぐ異なる波長域を有する複数種の発光ダイオードを併用することが より好まし 、。
[0013] 前記光源の波長としては、特に制限はなぐ用いる光記録媒体の記録層の感光波 長に応じて適宜選択されるが、 300-1, OOOnm力好ましく、 350〜700nmがより好 ましぐ 400〜600nm力更に好ましい。この波長範囲において、不感化処理は困難 を伴うことなく円滑に行われる。前記波長が 1, OOOnmを超えると、一光子あたりのェ ネルギ一が少なくなることによって長時間の処理が必要となり処理を煩雑ィ匕する原因 となることがあり、 300nm未満であると、一光子あたりのエネルギーが大きすぎること により記録層及びその他の光記録媒体中の部材に対して不可測の物性変化を引き 起こす要因となるおそれがある。
[0014] 一光拡散部材ー
前記光拡散部材は、その曇価が 70〜100%であり、 72〜95%力好ましく、 75〜9 0%がより好ましい。この範囲の光拡散部材を用いることによって、情報を記録した記 録層の不感化処理時に情報の劣化を伴うことなぐ記録像の長期保存性及び繰り返 し再生耐久性を増大させることができる。
なお、後述するように、複数の光拡散部材を重層して用いる場合は、重層した光拡 散部材が上記曇価の範囲を満たせば特に制限はないが、個々の光拡散部材の曇価 は、 15〜100%が好ましぐ 30〜90%がより好ましぐ 40〜90%が更に好ましい。 ここで、前記曇価はヘイズとも呼ばれ、光拡散部材を通過する透過光のうち、前方 散乱によって入射光から 2. 5° 以上それた透過光の百分率であり、「全光線透過率 (平行透過率 +拡散透過率）に対する拡散透過率の比」として定義される。前記曇価 は、例え «JIS K7136. JIS K7105などに記載の手法に準拠して測定することが できる。
[0015] 前記光拡散部材としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ るが、例えば曇りガラス、曇りのある榭脂シート、曇りのある榭脂片、光拡散性のある 液体を封入したセル、液晶パネル等が挙げられる。これらの中でも、曇りガラス、曇り のある榭脂シート、曇りのある榭脂片が特に好ましい。
[0016] 前記曇りガラスとしては、フッ化水素で処理したものでもよ 、し、ブラッシュグレイン、 サンドブラストなどにより表面に細かい凹凸をつけたものでもよい。これらの中でも、曇 価の高さから、フッ化水素処理を行ったものが特に好ま U、。
[0017] 前記曇りのある榭脂シート又は曇りのある榭脂片としては、例えば、トリァセチノレセ ルロース等のアセテート系榭脂；ポリエステル系榭脂、ポリエーテルスルホン系榭脂、 ポリスルホン系榭脂、ポリカーボネート系榭脂、ポリアミド系榭脂、ポリイミド系榭脂、ポ リオレフイン系榭脂、アクリル系榭脂、ポリノルボルネン系榭脂、セルロース系榭脂、 ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系榭脂、ポリビニルアルコール系榭脂、ポリ塩化ビ 二ル系榭脂、ポリ塩ィ匕ビニリデン系榭脂、ポリアクリル系榭脂、ポリ乳酸系榭脂などの 榭脂を延伸又はキャスティングしたもの、又は成形したものに対し、例えば、化学的な 処理を施したり、延伸の際に生じる相分離を利用したり、ブラッシュグレインやサンド ブラストにより表面に細かい傷をつけたり、表面に粒子を塗布又は付着させて、光拡 散性を付与したものが好適に用いられる。前記樹脂の素材としては、光学的な透明 性力 ら、トリァセチルセルロースのキャスティングフィルム又はポリエチレンテレフタラ ート（PET)の延伸フィルム、ポリエチレン又はポリプロピレン、ポリシクロォレフィンの 延伸フィルムなどが好適に用いられる。
[0018] 前記光拡散部材の設置方法としては、光源を直接覆ってもよ!ヽし、光記録媒体に 近接して設置してもよいし、光源と光記録媒体との光路上にある間隔をもって配置し てもよい。ただし、本発明においては、光源力 発生し、光記録媒体に照射される光 は全て前記光拡散部材を少なくとも 1度は通過するよう該光拡散部材は設置される。 前記光拡散部材は、上記で述べた具体例のうち、複数種のものを併用してもよいし、 単一種のもののみを使用してもよい。また、前記光拡散部材を複数設けてもよいが、 この場合は、用いる全ての光拡散部材を重層した状態において、上述した方法に準 じて曇価を測ることが好まし 、。
前記光源及び光拡散部材は、後述する光記録再生装置に搭載されていてもよいし 、別個の装置であってもよい。中でも、情報を記録直後に速やかに処理を行える点に ぉ 、て、光記録再生装置に搭載されて 、ることが好ま 、。
[0019] 前記光源から出射され、上記光拡散部材を通過した光は、任意の経路で光記録媒 体へと照射されることが可能である。この任意の経路とは、例えば、レンズやミラーな どを用いた光学系であってもよ 、し、光ファイバ一や光導波路を用いた光導波手段 などであってもよい。なお、このような経路を設置せず、光拡散部材から直接光記録 媒体へ光を照射してもよい。
[0020] 前記光源から光拡散部材、光拡散部材から光記録媒体までの光路上に設けること が可能な光学要素としては、例えば、位相変調素子、空間変調素子、ビームスプリツ ター、波長可変装置、透過光波長を制限する光学フィルタ、ミラー、ポリゴンミラー、ピ ンホール、スリット、 ΐΖχ波長板、光導波路、光ファイバ一、レンズ、干渉レンズなど が挙げられる。
[0021] 前記光記録媒体の記録層に照射される処理光の、エネルギー強度に対する波長 の半値幅は、 5〜700nm力好ましく、 30〜300nm力より好ましく、 50〜： LOOnmが更 に好ましい。ここで、前記エネルギー強度に対する波長の半値幅とは、波長を横軸、 エネルギー強度を縦軸にとった際、エネルギー強度のピーク値に対し、エネルギー 強度がそのピーク値の 1Z2となる波長の最大値と最小値との差である。このときのェ ネルギー強度の単位は、 W (ワット）又は eV (エレクトロンボルト）が用いられる。この値 は、任意の光量計を用いて測定することが可能である。上記半値幅範囲において、 情報の劣化を最小限に抑えつつ、情報の長期保存性及び繰り返し再生耐久性を増 すことが可能となる。前記半値幅が 700nmを超えると、上限の波長又は下限の波長 が光記録媒体の部材あるいは記録層成分に過剰に吸収され、不測の物性変化を起 こした結果情報の劣化を誘起する、あるいは、吸収により記録層の処理に十分なェ ネルギーを与えられず処理効率を低下させるおそれがある。一方、前記半値幅が 5n m未満であると、記録層に反射、回折、屈折、厚みムラ等による光干渉縞が描かれた 結果、情報の劣化を促進するおそれがある。
前記光記録媒体の処理方法にぉ 、て、光記録媒体の記録層に照射される処理光 の総露光量は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選定することができる。
[0022] <光記録媒体 >
前記光記録媒体としては、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を少なくと も有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。前記光記録媒体としては、 ライトワンス (WORM)型が好適である。
[0023] 前記光記録媒体は、ホログラムの原理を利用して記録再生可能なものであれば特 に制限はなぐ 2次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像 など多量の情報を記録する体積ホログラムであってもよぐ透過型及び反射型の 、ず れであってもよい。また、ホログラムの記録方式もいずれであってもよぐ例えば、振幅 ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラムなどでもよい。 [0024] 前記光記録媒体は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有していれば 特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができるが、少なくとも第一の基板と 、選択反射層と、記録層と、第二の基板とをこの順に有するものが好ましぐ更に必要 に応じてその他の層を有してなる。
[0025] 記録層
前記記録層は、少なくともノ インダー、重合性モノマー、及び重合開始剤を含み、 更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
[0026] 前記ノインダ一としては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができる 力 例えば、アクリル系榭脂、ウレタン系榭脂、ポリエステル系榭脂、ポリカーボネート 系榭脂、ノルボルネン系榭脂、スチレン系榭脂、ポリエーテルスルホン系榭脂、シリコ ーン榭脂、ポリアミド榭脂、ポリイミド榭脂、ポリシロキサン系榭脂、フッ素系榭脂、ポリ ブタジエン系榭脂、ビュルエーテル系榭脂、ビニルエステル系榭脂などが挙げられる
。これらは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。
[0027] 前記ノ インダ一の添カ卩量としては、前記ホログラム記録層の全質量に対し、 50〜9
9質量％の範囲が好ましぐ 60〜98質量％の範囲が更に好ましぐ 70〜95%の範 囲が特に好ましい。この範囲において感度、多重度、保存性に優れた記録層を得る ことができる。前記バインダーの添加量が 50質量％未満であると、長期間保存する 際に情報が失われるおそれがあり、 99質量％を超えると、モノマーを十分に含むこと ができないために感度、多重度において満足しうる記録層を得ることができないこと がある。
[0028] 前記重合性モノマーは、カチオン重合性モノマー、ラジカル重合性モノマーが利用 可能であり、いずれか一種のみを使用してもよいし、併用してもよい。
[0029] 前記カチオン重合性モノマーとしては、多価アルコール又はそのアルキレンォキサ イド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等が挙げられ、具体的には、ジグリセ口 一ルポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、 1, 4ービ ス（2, 3 エポキシプロポキシパーフルォロイソプロピル）シクロへキサン、ソルビトー ルポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、レゾルシ ンジグリシジルエーテル、 1, 6 へキサンジオールジグリシジルエーテル、ポリエチレ ングリコールジグリシジルエーテル、フエ-ルグリシジルエーテル、 p— tert ブチル フエ-ルグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、オルソフタル酸ジグリ シジルエステル、ジブロモフエ-ルグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコ 一ルジグリシジルエーテル、 1, 2, 7, 8 ジエポキシオクタン、 1, 6 ジメチロールパ 一フルォ口へキサンジグリシジルエーテルなどが挙げられる。
[0030] 芳香族エポキシドとしては、少なくとも 1個の芳香族核を有する多価フエノール又は そのアルキレンオキサイド付加体とェピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジ 又はポリグリシジルエーテル、例えば、ビスフエノール A又はそのアルキレンォキサイ ド付カ卩体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添カ卩ビスフエノール A又はそのアル キレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、ノボラック型エポキシ榭脂 などが挙げられる。なお、前記アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド、プ ロピレンオキサイドなどが挙げられる。
[0031] グリシジルエーテル化合物のグリシジルエーテル基を、 2—ォキセタ-ルー n—プロ ピルエーテル、 2—ォキセタニルー n ブチルエーテル、 2—ォキセタニルー n ペン チルエーテル、 2—ォキセタニルー n—へキシルエーテル、 2—ォキセタニルー 3 フ ェニルェチルエーテル、 2—ォキセタニルー 2 べンジルーェチルエーテル、 3—ォ キセタ二ルー n ブチルエーテル、 3—ォキセタニルー n ペンチルエーテル、 3— ォキセタニル n へキシルエーテル、 3—ォキセタニル 3—フエニル n プロピ ノレエーテノレ、 4ーォキセタニノレー n ペンチノレエーテノレ、 4ーォキセタニノレー n—へ キシルエーテル、 4ーォキセタニルー n—へプチルエーテル、 4ーォキセタニノレー 4 —フエ-ル n ブチルエーテル、 5 -ォキセタ-ル n へキシルエーテルで置換 したものが、ォキセタンィ匕合物として使用可能である。これらの化合物のうち、入手の 容易性などの点から、 2—ォキセタ-ル—n—プロピルエーテル、 2—ォキセタ -ル— n ブチルエーテルを用いた化合物が特に好まし 、。
[0032] 更に、脂環式エポキシドとしては、少なくとも 1個のシクロへキセン又はシクロペンテ ン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤 でエポキシ化することによって得られる、シクロへキセンオキサイド又はシクロペンテン オキサイド含有ィ匕合物が好ましぐ具体例としては、 4, 4' ビス（2, 3 エポキシプ 口ポキシパーフノレオ口イソプロピノレ）ジフエニノレエーテノレ、 3, 4 エポキシシクロへキ シルメチルー 3' , 4 '—エポキシシクロへキサンカルボキシレート、 3, 4 エポキシシ クロへキシルォキシラン、 1, 2, 5, 6 ジエポキシ 4, 7—メタノペルヒドロインデン、 2- (3, 4 エポキシシクロへキシノレ） 3' , 4 ' —エポキシ 1, 3 ジォキサンー5 ースピロシクロへキサン、 1, 2 エチレンジォキシ一ビス（3, 4 エポキシシクロへキ シルメタン）、 4' , 5， 一エポキシ一 2'—メチルシクロへキシルメチル 4, 5 ェポキ シ 2—メチルシクロへキサンカルボキシレート、エチレングリコール ビス（3, 4 ェ ポキシシクロへキサンカルボキシレート）、ビス一（3, 4—エポキシシクロへキシルメチ ル）アジペート、ジー 2, 3 エポキシシクロペンチルエーテルや、下記式で示す化合 物、などが挙げられる。
[化 1]
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ビュルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビュルエーテル、ジ エチレングリコールジビュルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロ ピレングリコールジビニノレエーテル、ジプロピレングリコールジビニノレエーテル、ブタ ンジオールジビニルエーテル、へキサンジオールジビュルエーテル、シクロへキサン ジメタノールジビュルエーテル、 1， 4ーシクロへキサンジメタノールジビュルエーテル 、トリメチロールプロパントリビュルエーテル等のジ又はトリビュルエーテル化合物；ェ チルビニルエーテル、 n—ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オタ タデシルビ-ルエーテル、シクロへキシルビ-ルエーテル、ヒドロキシブチルビ-ルェ 一テル、 2—ェチルへキシルビニルエーテル、シクロへキサンジメタノールモノビニル エーテノレ、 n プロピノレビニノレエーテノレ、イソプロピノレビニノレエーテノレ、イソプロぺニ ルエーテル O プロピレンカーボネート、ドデシルビ-ルエーテル、ジエチレングリ コ一ノレモノビニノレエーテノレ、ォクタデシノレビニノレエーテノレビ二ノレ 2—クロロェチノレ エーテル等のモノビュルエーテル化合物；ビュルグリシジルエーテルなどが挙げられ る。これらは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。
[0035] 前記ラジカル重合性モノマーとして、例えば、不飽和カルボン酸 (例えば、アクリル 酸、メタクリル酸、ィタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエス テル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコールィ匕合物 とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミンィ匕合物とのアミド類が用いられる。また 、ヒドロキシル基やアミカルボンカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン 酸エステル或 、はアミド類と単官能若しくは多官能イソシァネート類或 、はエポキシ 類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物 等も好適に使用される。また、イソシァネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基 を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコ ール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基等の置換基を有す る不飽和カルボン酸エステル或 、はアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類 、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、前記の不 飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を 使用することも可能である。
[0036] 多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーとしては、アタリ ル酸エステルとして、例えばエチレングリコールジアタリレート、トリエチレングリコール ジアタリレート、 1, 3 ブタンジオールジアタリレート、テトラメチレングリコールジアタリ レート、プロピレングリコールジアタリレート、ネオペンチルグリコールジアタリレート、ト リメチロールプロパントリアタリレート、トリメチロールプロパントリ（アタリロイルォキシプ 口ピル）エーテル、トリメチロールェタントリアタリレート、へキサンジオールジァクリレー ト、 1, 4ーシクロへキサンジオールジアタリレート、テトラエチレングリコールジアタリレ ート、ペンタエリスリトールジアタリレート、ペンタエリスリトールトリアタリレート、ペンタ エリスリトールテトラアタリレート、ジペンタエリスリトールジアタリレート、ジペンタエリス リトールへキサアタリレート、ソルビトールトリアタリレート、ソルビトールテトラアタリレー ト、ソルビトールペンタアタリレート、ソルビトールへキサアタリレート、トリ（アタリロイル ォキシェチル)イソシァヌレート、ポリエステルアタリレートオリゴマー、イソシァヌール 酸 EO変性トリアタリレート、ベンジルアタリレート、 2—フエノキシェチルアタリレート、 ナフチルアタリレート、イソボル-ルアタリレート、トリブロモフエ-ルアタリレート、など が挙げられる。
[0037] メタクリル酸エステルとしては、例えば、テトラメチレングリコールジメタタリレート、トリ エチレングリコールジメタタリレート、ネオペンチルグリコールジメタタリレート、トリメチ ロールプロパントリメタタリレート、トリメチローノレエタントリメタクリレート、エチレングリコ ールジメタタリレート、 1, 3 ブタンジオールジメタタリレート、へキサンジオールジメタ タリレート、ペンタエリスリトールジメタタリレート、ペンタエリスリトールトリメタタリレート、 ペンタエリスリトールテトラメタタリレート、ジペンタエリスリトールジメタタリレート、ジぺ ンタエリスリトールへキサメタタリレート、ソルビトールトリメタタリレート、ソルビトールテト ラメタクリレート、ビス〔ρ—（3—メタクリルォキシ 2 ヒドロキシプロポキシ）フエ-ル〕 ジメチルメタン、ビス一〔ρ— (メタクリルォキシエトキシ）フエ-ル〕ジメチルメタン、など が挙げられる。
[0038] ィタコン酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジイタコネート、プロピレン グリコールジイタコネート、 1, 3 ブタンジオールジイタコネート、 1, 4 ブタンジォー ルジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタ コネート、ソルビトールテトライタコネート、などが挙げられる。
クロトン酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレ ングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジク ロトネート、などが挙げられる。
イソクロトン酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジイソクロトネート、ペン タエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート、などが挙げられ る。
マレイン酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジマレート、トリエチレング リコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトーノレテトラマレート、など が挙げられる。
[0039] その他のエステルとしては、特許第 2849021号公報に記載の 9, 9 ジァリールフ ルオレン骨格を有するエステル類;特開平 8— 101499号公報、特許 3532679号公 報に記載のシロキサン結合含有 (メタ)アタリレート類;特開 2001— 125474号公報 に記載のビフエ-ルを含んだ (メタ)アタリレート類;特開平 7— 199777号公報、特開 平 7— 199779号公報、特開平 7— 104643号公報に記載のオリゴマー構造の (メタ )アタリレートなどが挙げられる。これらは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併 用してちょい。
[0040] 前記重合性モノマーとしては、前記モノマー供給層の全固形分中における前記重 合性モノマーの含有量力 0. 5〜50質量％が好ましぐ 1〜40質量％がより好ましく 、 2〜30質量％が特に好ましい。前記モノマー供給層に含まれる重合性モノマーの 含有量は、前記記録層の全固形分中における前記重合性モノマーの含有量よりも上 回っていることが好ましい。
[0041] 前記重合開始剤としては、特に制限はなぐ公知の各種の系が利用可能ある。開 始剤系は、単一の化合物でなる系でもよいし、複数の化合物力もなる系であってもよ い。開始剤系は、ラジカル重合を活性ィヒする系と、カチオン重合又は開環重合を活 性ィ匕する系とを、単一の開始剤系で行ってもよいし、異なる 2つの開始剤系で各々行 つてもよい。
[0042] 前記光力チオン重合又は開環重合開始剤としては、光酸発生剤が好ましぐ該光 酸発生剤としては、例えばトリクロロメチル一 s トリアジン類、ジァリールョードニゥム 塩類、トリアリールスルホ -ゥム塩類、第四アンモ-ゥム塩類、スルホン酸エステル類 、などが挙げられる。
[0043] 前記トリクロロメチル一 s トリアジン類としては、例えば 2, 4, 6 トリス（トリクロロメチ ル）一 s トリァジン、 2 フエ-ル一 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (4 クロ口フエ-ル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (3 クロ口 フエ-ル） -4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (2 クロ口フエ-ル） - 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (4—メトキシフエ-ル）一 4, 6 ビ ス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (3—メトキシフエ-ル） 4, 6 ビス（トリクロ ロメチル） s トリァジン、 2— (2—メトキシフエ-ル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） —s トリァジン、 2— (4—メチルチオフエ-ル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s— トリアジン、 2— (3—メチルチオフエ-ル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリア ジン、 2— (2—メチルチオフエ-ル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2- (4—メトキシナフチル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (3— メトキシナフチル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (2—メトキシナ フチル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (4—メトキシ一 13—スチ リル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (3—メトキシ一 13—スチリル )—4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (2—メトキシ一 13—スチリル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (3, 4, 5 トリメトキシ一 13—スチリ ル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (4—メチルチオ一 13—スチリ ル）—4, 6 ビス（トリクロロメチル）—s トリァジン、 2— (3—メチルチオ— 13—スチリ ル）—4, 6 ビス（トリクロロメチル）—s トリァジン、 2— (3—メチルチオ— 13—スチリ ル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2 ピぺ口-ル一 4, 6 ビス（トリ クロロメチル） s トリァジン、 2— [2— (フラン一 2—ィル）ェテュル]— 4, 6 ビス（ト リク口ロメチル） s トリァジン、 2— [2— (5—メチルフラン一 2—ィル）ェテュル]—4 , 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— [2— (4—ジェチルァミノ一 2—メチ ルフエ-ル）ェテュル]— 4, 6—ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、などが挙げら れる。
前記ジァリールョードニゥム塩類としては、例えばジフエ二ルョードニゥムテトラフル ォロボレート、ジフエニノレョードニゥムへキサフノレオ口ホスホネート、ジフエ二ノレョード -ゥムへキサフノレオロアノレセネート、ジフエ-ルョードニゥムトリフノレオロメタンスノレホ ナート、ジフエ-ルョードニゥムトリフルォロアセテート、ジフエ-ルョードニゥム—p ト ルエンスルホナート、ジフエ-ルョードニゥムブチルトリス（2, 6 ジフルオロフェ -ル） ボレート、ジフエ-ノレョード -ゥムへキシノレトリス（p クロ口フエ-ノレ）ボレート、ジフエ -ルョ一ド-ゥムへキシルトリス（3—トリフルォロメチルフエ-ル）ボレート、 4—メトキシ フエ-ルフエ-ルョードニゥムテトラフルォロボレート、 4ーメトキシフエ-ルフエ-ルョ 一ドニゥムへキサフノレオ口ホスホネート、 4ーメトキシフエ-ノレフエ-ノレョードニゥムへ キサフルォロアルセネート、 4ーメトキシフエ-ルフエ-ルョードニゥムトリフルォロメタ ンスルホナート、 4ーメトキシフエ-ルフエ-ルョードニゥムトリフルォロアセテート、 4 メトキシフエ-ルフエ-ルョードニゥムー p トルエンスルホナート、 4ーメトキシフエ- ルフエ-ルョードニゥムブチルトリス（2, 6 ジフルオロフェ -ル）ボレート、 4ーメトキ シフエ-ノレフエ-ノレョード -ゥムへキシルトリス（p クロ口フエ-ノレ）ボレート、 4—メトキ シフエ-ルフエ-ルョード-ゥムへキシルトリス（3—トリフルォロメチルフエ-ル）ボレ ート、ビス（4— tert ブチルフエ-ル）ョードニゥムテトラフルォロボレート、ビス（4—t ert ブチルフエ-ル）ョードニゥムへキサフルォロアルセネート、ビス（4— tert—ブ チルフエ-ル）ョード -ゥムトリフルォロメタンスルホナート、ビス（4— tert—ブチルフ ェ -ル）ョード -ゥムトリフルォロアセテート、ビス（4 tert ブチルフエ-ル）ョードニ ゥム—p—トルエンスルホナート、ビス（4— tert ブチルフエ-ル）ョードニゥムブチル トリス（2, 6 ジフルオロフェ -ル）ボレート、ビス（4— tert ブチルフエ-ル）ョードニ ゥムへキシルトリス（p クロ口フエニル）ボレート、ビス（4— tert—ブチルフエ-ル）ョ 一ドニゥムへキシルトリス（3—トリフルォロメチルフエ-ル）ボレートなどが挙げられる。 前記トリアリールスルホ -ゥム塩類としては、例えばトリフエ-ルスルホ-ゥムテトラフ ノレォロボレート、トリフエ-ノレスノレホニゥムへキサフノレオ口ホスホネート、トリフエ-ノレス ルホ -ゥムへキサフルォロアルセネート、トリフエ-ルスルホ -ゥムトリフルォロメタンス ノレホナート、トリフエ-ルスルホ -ゥムトリフルォロアセテート、トリフエ-ルスルホ -ゥム p—トルエンスルホナート、トリフエ-ルスルホ-ゥムブチルトリス（2, 6 ジフルォロ フエ-ノレ）ボレート、トリフエ-ノレスノレホニゥムへキシノレトリス（p クロ口フエ二ノレ）ボレ ート、トリフエ-ルスルホ-ゥムへキシルトリス（3—トリフルォロメチルフエ-ル）ボレート 、 4ーメトキシフエ-ルジフエ-ルスルホ-ゥムテトラフルォロボレート、 4ーメトキシフエ ニノレジフエ-ノレスノレホニゥムへキサフノレオ口ホスホネート、 4ーメトキシフエ-ノレジフエ ニノレスノレホ -ゥムへキサフノレオロアノレセネート、 4ーメトキシフエ-ノレジフエ-ノレスノレホ -ゥムトリフルォロメタンスルホナート、 4ーメトキシフエ-ルジフエ-ルスルホ -ゥムトリ フルォロアセテート、 4—メトキシフエ-ルジフエ-ルスルホ-ゥム— p トルエンスル ホナート、 4ーメトキシフエ-ルジフエ-ルスルホ-ゥムブチルトリス（2, 6 ジフルォロ フエ-ル）ボレート、 4—メトキシフエ-ルジフエ-ルスルホ-ゥムへキシルトリス（p ク ロロフエ-ル）ボレート、 4—メトキシフエ-ルジフエ-ルスルホ-ゥムへキシルトリス（3 トリフルォロメチルフエ-ル）ボレート、 4 フエ-ルチオフエ-ルジフエ-ルスルホ -ゥムテトラフルォロボレート、 4 フエ-ルチオフエ-ルジフエ-ルスルホ-ゥムへキ サフノレオ口ホスホネート、 4 フエ-ノレチォフエ-ノレジフエ-ノレスノレホニゥムへキサフ ルォロアルセネート、 4 フエ-ルチオフエ-ルジフエ-ルスルホ -ゥムトリフルォロメ タンスルホナート、 4 フエ-ルチオフエ-ルジフエ-ルスルホ -ゥムトリフルォロアセ テート、 4 フエ-ルチオフエ-ルジフエ-ルスルホ -ゥム p トルエンスルホナート 、 4 フエ-ルチオフエ-ルジフエ-ルスルホ-ゥムブチルトリス（2, 6 ジフルオロフ ェ-ノレ）ボレート、 4—フエ-ルチオフエ-ルジフエ-ルスルホ -ゥムへキシルトリス（p —クロ口フエ二ノレ)ボレート、 4—フエ-ノレチォフエ-ノレジフエ-ノレスノレホニゥムへキシ ルトリス（3 トリフルォロメチルフエ-ル）ボレート、 4 ヒドロキシ一 1 ナフタレ-ル） ジメチルスルホ-ゥムテトラフルォロボレート、 4 ヒドロキシ一 1 ナフタレ-ル）ジメ チノレスノレホ-ゥムへキサフノレオ口ホスホネート、 4ーヒドロキシー 1 ナフタレ-ル）ジメ チルスルホ -ゥムへキサフルォロアルセネート、 4ーヒドロキシー 1 ナフタレ-ル）ジ メチルスルホ -ゥムトリフルォロメタンスルホナート、 4 ヒドロキシ一 1 ナフタレ-ル） ジメチルスルホ -ゥムトリフルォロアセテート、 4 ヒドロキシ一 1 ナフタレ-ル）ジメ チルスルホ -ゥム p トルエンスルホナート、 4 -ヒドロキシ 1 ナフタレ-ル）ジメ チルスルホ-ゥムブチルトリス（2, 6 ジフルオロフェ -ル）ボレート、 4ーヒドロキシー 1—ナフタレ-ル）ジメチルスルホ -ゥムへキシルトリス（p クロ口フエニル）ボレート、 4 ヒドロキシ一 1 ナフタレ-ル）ジメチルスルホ -ゥムへキシルトリス（3 トリフルォ ロメチルフエ-ル）ボレート、などが挙げられる。
前記第四アンモ-ゥム塩類としては、例えばテトラメチルアンモ-ゥムテトラフルォロ ボレート、テトラメチルアンモ -ゥムへキサフルォロホスホネート、テトラメチルアンモ- ゥムへキサフルォロアルセネート、テトラメチルアンモ -ゥムトリフルォロメタンスルホナ ート、テトラメチルアンモ -ゥムトリフルォロアセテート、テトラメチルアンモ-ゥム一 p— トルエンスルホナート、テトラメチルアンモ-ゥムブチルトリス（2, 6—ジフルオロフェ- ル）ボレート、テトラメチルアンモ-ゥムへキシルトリス（p—クロ口フエ-ル）ボレート、テ トラメチルアンモ-ゥムへキシルトリス（3—トリフルォロメチルフエ-ル）ボレート、テトラ ブチルアンモ-ゥムテトラフルォロボレート、テトラプチルアンモ -ゥムへキサフルォロ ホスホネート、テトラプチルアンモ -ゥムへキサフルォロアルセネート、テトラブチルァ ンモ -ゥムトリフルォロメタンスルホナート、テトラプチルアンモ -ゥムトリフルォロアセ テート、テトラプチルアンモ-ゥムー p—トルエンスルホナート、テトラプチルアンモ- ゥムブチルトリス（2, 6—ジフルオロフェ -ル）ボレート、テトラプチルアンモ-ゥムへキ シルトリス（p—クロ口フエニル）ボレート、テトラプチルアンモ-ゥムへキシルトリス（3— トリフルォロメチルフエ-ル）ボレート、ベンジルトリメチルアンモ-ゥムテトラフルォロ ボレート、ベンジルトリメチルアンモ -ゥムへキサフルォロホスホネート、ベンジルトリメ チルアンモ -ゥムへキサフルォロアルセネート、ベンジルトリメチルアンモ -ゥムトリフ ルォロメタンスルホナート、ベンジルトリメチルアンモ -ゥムトリフルォロアセテート、ベ ンジルトリメチルアンモ -ゥム—p—トルエンスルホナート、ベンジルトリメチルアンモ- ゥムブチルトリス（2, 6—ジフルオロフェ -ル）ボレート、ベンジルトリメチルアンモ-ゥ ムへキシルトリス（p—クロ口フエニル）ボレート、ベンジルトリメチルアンモ -ゥムへキシ ルトリス（3—トリフルォロメチルフエ-ル）ボレート、ベンジルジメチルフエ-ルアンモ- ゥムテトラフルォロボレート、ベンジルジメチルフエ-ルアンモ -ゥムへキサフルォロホ スホネート、ベンジルジメチルフエ-ルアンモ -ゥムへキサフルォロアルセネート、ベ ンジルジメチルフエ-ルアンモ -ゥムトリフルォロメタンスルホナート、ベンジルジメチ ルフエ-ルアンモ -ゥムトリフルォロアセテート、ベンジルジメチルフエ-ルアンモ-ゥ ム—p—トルエンスルホナート、ベンジルジメチルフエ-ルアンモ-ゥムブチルトリス（2 , 6—ジフルオロフェ -ル）ボレート、ベンジルジメチルフエ-ルアンモ-ゥムへキシル トリス（p—クロ口フエニル）ボレート、ベンジルジメチルフエ-ルアンモ-ゥムへキシルト リス（3—トリフルォロメチルフエ-ル）ボレート、 N—シンナミリデンェチルフエ-ルアン モ-ゥムテトラフルォロボレート、 N—シンナミリデンェチルフエ-ルアンモ-ゥムへキ サフルォロホスホネート、 N—シンナミリデンェチルフエ-ルアンモ -ゥムへキサフル ォロアルセネート、 N—シンナミリデンェチルフエ-ルアンモ -ゥムトリフルォロメタンス ルホナート、 N シンナミリデンェチルフエ-ルアンモ -ゥムトリフルォロアセテート、 N -シンナミリデンェチルフエ-ルアンモ -ゥム p トルエンスルホナート、 N -シン ナミリデンェチルフエ-ルアンモ-ゥムブチルトリス（2, 6 ジフルオロフェ -ル）ボレ ート、 N シンナミリデンェチルフエ-ルアンモ-ゥムへキシルトリス（p クロ口フエ- ル）ボレート、 N—シンナミリデンェチルフエ-ルアンモ-ゥムへキシルトリス（3—トリフ ルォロメチルフエ-ル）ボレート、などが挙げられる。
前記スルホン酸エステル類としては、例えば、 α—ヒドロキシメチルベンゾイン一 p— トルエンスルホン酸エステル、 αーヒドロキシメチルベンゾイン一トリフルォロメタンス ルホン酸エステル、 a—ヒドロキシメチルベンゾイン—メタンスルホン酸エステル、ピロ ガロールートリ（p トルエンスルホン酸）エステル、ピロガロールートリ（トリフルォロメタ ンスルホン酸）エステル、ピロガロールートリメタンスルホン酸エステル、 2, 4 ジ-ト 口ベンジル— p トルエンスルホン酸エステル、 2, 4 ジニトロベンジル—トリフルォロ メタンスルホン酸エステル、 2, 4 ジニトロベンジル一メタンスルホン酸エステル、 2, 4 ジニトロベンジル一 1, 2 ナフトキノンジアジドー 5—スルホン酸エステル、 2, 6 —ジニトロべンジル—p トルエンスルホン酸エステル、 2, 6 ジニトロベンジル—トリ フルォロメタンスルホン酸エステル、 2, 6 ジニトロベンジル一メタンスルホン酸エス テル、 2, 6 ジニトロべンジルー 1, 2 ナフトキノンジアジドー 5—スルホン酸エステ ル、 2— -トロベンジル— p トルエンスルホン酸エステル、 2— -トロベンジル—トリフ ルォロメタンスルホン酸エステル、 2— -トロベンジル一メタンスルホン酸エステル、 2 -トロベンジル一 1, 2 ナフトキノンジアジドー 5—スルホン酸エステル、 4 ニトロ ベンジル p トルエンスルホン酸エステル、 4 -ニトロべンジル トリフルォロメタン スルホン酸エステル、 4—二トロベンジル—メタンスルホン酸エステル、 4—二トロベン ジルー 1, 2 ナフトキノンジアジドー 5—スルホン酸エステル、 N—ヒドロキシナフタル イミドー p トルエンスルホン酸エステル、 N ヒドロキシナフタルイミド トリフルォロメ タンスルホン酸エステル、 N—ヒドロキシナフタルイミドーメタンスルホン酸エステル、 N -ヒドロキシ 5 ノルボルネン一 2, 3 ジカルボキシイミド p トルエンスルホン酸 エステル、 N ヒドロキシ 5 ノルボルネン 2, 3 ジカルボキシイミドートリフルォ ロメタンスルホン酸エステル、 N—ヒドロキシ一 5 ノルボルネン一 2, 3 ジカルボキ シイミドーメタンスルホン酸エステル、 2, 4, 6, 3 ' , 4' , 5，一へキサヒドロキシベンゾ フエノン一 1, 2 ナフトキノンジアジド一 4—スルホン酸エステル、 1, 1, 1 トリ（p ヒ ドロキシフエ-ル）ェタン一 1, 2 ナフトキノンジアジドー 4—スルホン酸エステル、な どが挙げられる。
これらの化合物のうち、トリクロロメチル一 s トリアジン類としては、 2— (3—クロロフ ェ -ル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (4—メトキシフエ-ル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (4—メチルチオフエ-ル）一 4, 6— ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (4—メトキシ一 13—スチリル） 4, 6 ビ ス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2 ピぺ口-ル一 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— [2— (フラン一 2—ィル）ェテュル]— 4, 6 ビス（トリクロロメチル） —s トリァジン、 2— [2— (5—メチルフラン— 2—ィル）ェテュル]— 4, 6 ビス（トリ クロロメチル） s トリァジン、 2— [2— (4—ジェチルァミノ一 2—メチルフエ-ル）ェ テニル]—4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン又は 2— (4—メトキシナフチル )—4, 6—ビス（トリクロロメチル） s トリァジン；ジァリールョードニゥム塩類としては 、ジフエ-ルョードニゥムトリフルォロアセテート、ジフエ-ルョードニゥムトリフルォロメ タンスルホナート、 4ーメトキシフエ-ルフエ-ルョードニゥムトリフルォロメタンスルホ ナート又は 4—メトキシフエ二ルフエ二ルョードニゥムトリフルォロアセテート；トリアリー ルスルホ -ゥム塩類としては、トリフエ-ルスルホ -ゥムトリフルォロメタンスルホナート 、トリフエ-ルスルホ -ゥムトリフルォロアセテート、 4—メトキシフエ-ルジフエ-ルスル ホ -ゥムトリフルォロメタンスルホナート、 4ーメトキシフエ-ルジフエ-ルスルホ-ゥムト リフルォロアセテート、 4 フエ-ルチオフエ-ルジフエ-ルスルホ -ゥムトリフルォロメ タンスルホナート又は 4 フエ-ルチオフエ-ルジフエ-ルスルホ -ゥムトリフルォロア セテート；第四アンモ-ゥム塩類としては、テトラメチルアンモ-ゥムブチルトリス（2, 6 —ジフルオロフェ -ル）ボレート、テトラメチルアンモ-ゥムへキシルトリス（p クロロフ ェ -ル）ボレート、テトラメチルアンモ-ゥムへキシルトリス（3—トリフルォロメチルフエ -ル）ボレート、ベンジルジメチルフエ-ルアンモ-ゥムブチルトリス（2, 6 ジフルォ 口フエ-ル）ボレート、ベンジルジメチルフエ-ルアンモ-ゥムへキシルトリス（p クロ 口フエ-ル）ボレート、ベンジルジメチルフエ-ルアンモ-ゥムへキシルトリス（3—トリフ ルォロメチルフエ-ル）ボレート；スルホン酸エステル類としては、 2, 6 ジ-トロベン ジルー p—トルエンスルホン酸エステル、 2, 6 ジニトロべンジルートリフルォロメタン スルホン酸エステル、 N ヒドロキシナフタルイミドー p トルエンスルホン酸エステル 、 N—ヒドロキシナフタルイミドートリフルォロメタンスルホン酸エステル、などが挙げら れる。
[0049] 前記光ラジカル重合開始系としては、例えば、有機ハロゲンィ匕化合物、カルボニル 化合物、有機過酸化化合物、ァゾ系重合開始剤、アジドィ匕合物、メタ口セン化合物、 へキサァリールビイミダゾールイ匕合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸ィ匕合物、ォ キシムエステル化合物、ォ-ゥム塩ィ匕合物、などが好適に挙げられる。
[0050] 前記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem. Soc J apan」42、 2924 ( 1969)、米国特許第 3, 905, 815号明細書、特公昭 46— 4605 号公報、特開昭 48— 36281号公報、特開昭 55— 32070号公報、特開昭 60— 239 736号公報、特開昭 61— 169835号公報、特開昭 61— 169837号公報、特開昭 6 2— 58241号公報、特開昭 62— 212401号公報、特開昭 63— 70243号公報、特 開昭 63— 298339号公報、 M. P. Hutt"Jurnal of Heterocyclic Chemistry" 1 (Νο3) , ( 1970)」などに記載の化合物が挙げられる。これらの中でも、トリノ、ロメチ ル基が置換したォキサゾールイ匕合物、 S トリアジンィ匕合物が特に好まし!/、。
[0051] より好適には、少なくとも一つのモ入ジ、又はトリハロゲン置換メチル基カ^—トリア ジン環に結合した s—トリァジン誘導体、具体的には、例えば、 2, 4, 6 トリス (モノク 口ロメチル）—s トリアジン、 2, 4, 6 トリス（ジク口ロメチル）—s トリアジン、 2, 4, 6 —トリス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2—メチルー 4, 6 ビス（トリクロロメチル） —s トリァジン、 2 n—プロピル一 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2 - ( a , a , j8—トリクロ口ェチル）一4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリアジン、 2 —フエ-ル一 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (p—メトキシフエ-ル )—4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (3, 4 エポキシフエ-ル） 4 、 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2— (p クロ口フエ-ル） 4, 6 ビス（ト リク口ロメチル） s トリァジン、 2—〔1— (p—メトキシフエ-ル） 2, 4 ブタジェ- ル〕 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2—スチリル一 4, 6 ビス（トリク 口ロメチル） s トリァジン、 2— (p—メトキシスチリル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル )—s トリァジン、 2— (p—i—プロピルォキシスチリル） 4、 6 ビス（トリクロロメチル )— s トリァジン、 2 （p トリル） 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2 - (4 ナトキシナフチル） -4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2 フエ- ルチオ一 4, 6 ビス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2 ベンジルチオ一 4, 6 ビ ス（トリクロロメチル） s トリァジン、 2, 4, 6 トリス（ジブ口モメチル）一 s トリァジン 、 2, 4, 6 トリス（トリブロモメチル）— s トリアジン、 2—メチル—4, 6 ビス（トリブ口 モメチル）一 s トリァジン、 2—メトキシ一 4, 6 ビス（トリブ口モメチル）一 s トリアジ ン、などが挙げられる。
[0052] 前記カルボ-ル化合物としては、例えば、ベンゾフエノン、ミヒラーケトン、 2 メチル ベンゾフエノン、 3—メチノレべンゾフエノン、 4—メチノレべンゾフエノン、 2 クロ口べンゾ フエノン、 4 ブロモベンゾフエノン、 2—力ノレボキシベンゾフエノン等のベンゾフエノン 誘導体； 2, 2—ジメトキシ一 2—フエ-ルァセトフエノン、 2, 2—ジェトキシァセトフエノ ン、 1ーヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、 α—ヒドトキシー 2—メチルフエニル プロパノン、 1—ヒドロキシ一 1—メチルェチル一（ρ—イソプロピルフエニル）ケトン、 1 ーヒドロキシー 1一（ρ ドデシルフエ-ル）ケトン、 2—メチルー（4， 一（メチルチオ）フ ェ-ル）一2—モルホリノ一 1—プロパノン、 1, 1, 1—トリクロロメチル一（ρ ブチルフ ェ -ル）ケトン等のァセトフエノン誘導体；チォキサントン、 2 ェチルチオキサントン、 2 イソプロピルチォキサントン、 2 クロ口チォキサントン、 2, 4 ジメチルチオキサ ントン、 2, 4 ジェチルチオキサントン、 2, 4 ジイソプロピルチオキサントン等のチ ォキサントン誘導体； ρ ジメチルァミノ安息香酸ェチル、 ρ ジェチルァミノ安息香 酸ェチル等の安息香酸エステル誘導体、などが挙げられる。
[0053] 前記ァゾィ匕合物としては、例えば、特開平 8— 108621号公報に記載のァゾィ匕合 物等を使用することができる。
[0054] 前記有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロへキサノンパーォキサイ ド、ァセチルアセトンパーオキサイド、 1, 1 ビス（tert ブチルパーォキシ）ー3, 3, 5 トリメチルシクロへキサン、 1, 1—ビス（tert—ブチルパーォキシ）シクロへキサン 、 2, 2—ビス（tert ブチルパーォキシ）ブタン、 tert ブチルハイド口パーォキサイ ド、クメンハイド口パーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイド口パーオキサイド、 2, 5 ジメチルへキサン 2, 5 ジハイド口パーオキサイド、 1, 1, 3, 3—テトラメチル ブチルハイド口パーオキサイド、 tert ブチルタミルパーオキサイド、ジクミルバーオ キサイド、 2, 5 ジメチルー 2, 5 ジ（tert ブチルパーォキシ）へキサン、 2, 5—ォ キサノィルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化べンゾィル、 2, 4ージクロ口ベン ゾィルパーオキサイド、ジイソプロピルパーォキシジカーボネート、ジー 2—ェチルへ キシルバーォキシジカーボネート、ジー 2—エトキシェチルバ一才キシジカーボネー ト、ジメトキシイソプロピルパーォキシカーボネート、ジ（3—メチルー 3—メトキシブチ ル）パーォキシジカーボネート、 tert ブチルパーォキシアセテート、 tert ブチル パーォキシビバレート、 tert ブチルパーォキシネオデカノエート、 tert—ブチルバ 一ォキシオタタノエート、 tert ブチルパーォキシラウレート、ターシルカーボネート、 3, 3' , 4, 4'ーテトラー（t ブチルパーォキシカルボ-ル）ベンゾフエノン、 3, 3' , 4 , 4'ーテトラー（t一へキシルバーォキシカルボ-ル）ベンゾフエノン、 3, 3' , 4, 4' テトラ一（ρ—イソプロピルタミルパーォキシカルボニル）ベンゾフエノン、カルボニルジ (t ブチルパーォキシ二水素二フタレート）、カルボ-ルジ（t一へキシルバーォキシ 二水素二フタレート）などが挙げられる。
前記メタ口セン化合物としては、特開昭 59— 152396号公報、特開昭 61— 15119 7号公報、特開昭 63— 41484号公報、特開平 2— 249号公報、特開平 2—4705号 公報、特開平 5— 83588号公報に記載の種々のチタノセンィ匕合物、例えば、ジ―シ クロペンタジェニル Ti ビス フエニル、ジ シクロペンタジェニル Ti ビス 2 , 6 ジフルオロフェニー 1 ィル、ジーシクロペンタジェ二ルー Ti—ビス 2, 4 ジ —フルオロフェニ一 1—ィル、ジ一シクロペンタジェニル一 Ti—ビス一 2, 4, 6 トリフ ルオロフェニ一 1—ィル、ジ一シクロペンタジェニル一 Ti—ビス一 2, 3, 5, 6—テトラ フルオロフェニ一 1—ィル、ジ一シクロペンタジェニル一 Ti—ビス一 2, 3, 4, 5, 6— ペンタフルォロフェニー 1 ィル、ジーメチルシクロペンタジェ二ルー Ti—ビス 2, 6 —ジフルオロフェニ一 1—ィル、ジ一メチルシクロペンタジェニル一 Ti—ビス一 2, 4, 6 トリフルオロフェニ一 1—ィル、ジ一メチルシクロペンタジェ二ルー Ti—ビス一 2, 3 , 5, 6—テトラフルオロフェニ一 1—ィル、ジ一メチルシクロペンタジェニル一 Ti—ビ ス— 2, 3, 4, 5, 6 ペンタフルォロフエ-— 1—ィル、特開平 1— 304453号公報、 特開平 1— 152109号公報記載の鉄—アレーン錯体などが挙げられる。
[0056] 前記へキサァリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平 6— 29285号 公報、米国特許第 3, 479, 185号明細書、米国特許第 4, 311, 783号明細書、米 国特許第 4, 622, 286号明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、 2, 2'— ビス（o クロ口フエ-ル）一 4, 4，， 5, 5，一テトラフエ-ルビイミダゾール、 2, 2，一ビ ス（o ブロモフエ-ル）） 4, 4，， 5, 5，一テトラフエ-ルビイミダゾール、 2, 2，一ビス（ o, p ジクロロフエ-ル）一 4, 4，， 5, 5，一テトラフエ-ルビイミダゾール、 2, 2，一ビ ス（o クロ口フエ-ル）一 4, 4，， 5, 5，一テトラ（m—メトキシフエ-ル）ビイジダゾール 、 2, 2，一ビス（o, o，一ジクロロフエ-ル）一 4, 4，， 5, 5，一テトラフエ-ルビイミダゾ ール、 2, 2，一ビス（o -トロフエ-ル）一 4, 4，， 5, 5，一テトラフエ-ルビイミダゾー ル、 2, 2，一ビス（o—メチルフエ-ル）一 4, 4，， 5, 5，一テトラフエ-ルビイミダゾール 、 2, 2，一ビス（o トリフルオロフェ-ル）一4, 4，， 5, 5，一テトラフエ-ルビイミダゾー ルなどが挙げられる。
[0057] 前記有機ホウ酸塩ィ匕合物としては、例えば、特開昭 62— 143044号公報、特開昭 62— 150242号公報、特開平 9— 188685号公報、特開平 9— 188686号公報、特 開平 9— 188710号公報、特開 2000— 131837号公報、特開 2002— 107916号 公報、特許第二 764769号公報、及び、 Kunz, Martin"Rad Tech ' 98. Procee ding April 19 22, 1998, Chicago"等に記載される有機ホウ酸塩、特開平 6— 157623号公報、特開平 6— 175564号公報、特開平 6— 175561号公報に記載の 有機ホウ素スルホユウム錯体或 、は有機ホウ素ォキソスルホユウム錯体、特開平 6— 175554号公報、特開平 6— 175553号公報に記載の有機ホウ素ョードニゥム錯体 、特開平 9— 188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホ-ゥム錯体、特開平 6— 348 011号公報、特開平 7— 128785号公報、特開平 7— 140589号公報、特開平 7— 3 06527号公報、特開平 7— 292014号公報等に記載の有機ホウ素遷移金属配位錯 体などが具体例として挙げられる。
[0058] 前記ジスルホン化合物としては、特開昭 61— 166544号公報、特開 2002— 3284 65号公報等に記載される化合物が挙げられる。 [0059] 前記ォキシムエステル化合物としては、 J. C. S. Perkin II (1979) 1653〜16 60頁、 J. C. S. Perkin II (1979) 156〜162頁、 Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202〜232頁、特開 2000— 66385号公報 に記載の化合物、特開 2000— 80068号公報に記載の化合物、具体的には以下に 示す化合物が挙げられる。
[0060] [化 2]
Figure imgf000026_0001
[0061] 前記ォ-ゥム塩ィ匕合物としては、カチオン重合開始剤として上述したィ匕合物、更に は、 S. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974)、 T. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980)に記載のジァゾ -ゥム塩、米国特許第 4, 069, 055 号明細書、特開平 4— 365049号公報に記載のアンモ-ゥム塩、米国特許第 4, 06 9, 055号明細書、米国特許第 4, 069, 056号明細書に記載のホスホ-ゥム塩、欧 州特許第 104, 143号明細書、米国特許第 339, 049号明細書、米国特許第 410, 201号明細書、特開平 2— 150848号公報、特開平 2— 296514号公報に記載のョ 一ドニゥム塩、欧州特許第 370, 693号明細書、欧州特許第 390, 214号明細書、 欧州特許第 233, 567号明細書、欧州特許第 297, 443号明細書、欧州特許第 29 7, 442号明細書、米国特許第 4, 933, 377号明細書、米国特許第 161, 811号明 細書、米国特許第 410, 201号明細書、米国特許第 339, 049号明細書、米国特許 第 4, 760, 013号明細書、米国特許第 4, 734, 444号明細書、米国特許第 2, 833 , 827号明細書、独国特許第 2, 904, 626号明細書、独国特許第 3, 604, 580号 明細書、独国特許第 3, 604, 581号明細書に記載のスルホ -ゥム塩、 J. V. Crivell o et al, Macromolecules, 10 (6) , 1307 (1977)、 J. V. Crivello et al, J. P olymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979)に記載のセレノ -ゥム 塩、 C. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo , Oct (1988)に記載のアルソ-ゥム塩等のォ-ゥム塩、などが挙げられる。
[0062] 特に反応性、安定性の面力 前記ォキシムエステルイ匕合物、ジァゾ -ゥム塩、ョー ドニゥム塩、スルホ -ゥム塩などが挙げられる。本発明において、これらのォ-ゥム塩 はカチオン重合開始剤としての機能も有する力 同時にイオン性のラジカル重合開 始剤としても機能する。この性質を利用して、単一の化合物でカチオン重合及びラジ カル重合の両方を活性ィ匕することも可能である。
[0063] 前記重合開始剤を更に増感するために、更に増感助剤を加えることが可能である。
前記増感助剤としては、例えば 3—位及び Z又は 7—位に置換基を有するクマリン類 、フラボン類、ジベンザルアセトン類、ジベンザルシクロへキサン類、カルコン類、キサ ンテン類、チォキサンテン類、ポルフィリン類、フタロシアニン類、アタリジン類、アント ラセン類等を用いることができる。
[0064] 前記光重合開始剤の添加量としては、前記記録層の全質量に対し、 0. 1〜10質 量％が好ましぐ 1〜7質量％がより好ましぐ 1. 5〜5質量％が更に好ましい。この範 囲において、感度、多重度ともに優れた記録層を得ることができる。下限を下回ると 十分な感度を得ることができず、上限を上回ると、参照光、信号光を不必要に吸収し てしまい、特に、信号の読み出しの際に十分な信号強度を得ることができないおそれ がある。
[0065] 前記その他の成分としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することがで き、例えば、赤外線熱変換剤、膨潤剤等の各種添加剤、などが挙げられる。
[0066] 前記記録層の厚みとしては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することがで さ、 1〜1, 000 /z m力好ましく、 100〜700 111カ^ょり好まし1ヽ0前記記録層の厚み 力 前記好ましい数値範囲であると、 10〜300多重のシフト多重記録、角度多重記 録などの高多重記録を行っても十分な SZN比を得ることができ、前記より好ま 、数 値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
[0067] —基板一
前記基板としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなぐ 目的に 応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形 状平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもよいし、 積層構造であってもよぐ前記大きさとしては、前記光記録媒体の大きさ等に応じて 適宜選択することができる。
[0068] 前記基板の材料としては、特に制限はなぐ無機材料及び有機材料のいずれをも 好適に用いることができるが、光記録媒体の機械的強度を確保できるものであり、記 録及び再生に用いる光が基板を通して入射する透過型の場合は、用いる光の波長 領域で十分に透明であることが必要である。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリァセチルセルロース等のアセテート系榭脂、ポ リエステル系榭脂、ポリエーテルスルホン系榭脂、ポリスルホン系榭脂、ポリカーボネ 一ト系榭脂、ポリアミド系榭脂、ポリイミド系榭脂、ポリオレフイン系榭脂、アクリル系榭 脂、ポリノルボルネン系榭脂、セルロース系榭脂、ポリアリレート系榭脂、ポリスチレン 系榭脂、ポリビニルアルコール系榭脂、ポリ塩ィ匕ビ二ル系榭脂、ポリ塩ィ匕ビ二リデン系 榭脂、ポリアクリル系榭脂、ポリ乳酸系榭脂、プラスチックフィルムラミネート紙、合成 紙などが挙げられる。これらは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよ い。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート系榭脂、ァ クリル系樹脂が好ましい。
[0069] 前記基板としては、適宜作製したものであってもよ!/ヽし、市販品を使用してもよ ヽ。
前記基板の厚みとしては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができ 、 0. l〜5mmが好ましぐ 0. 3〜2mmがより好ましい。前記基板の厚みが、 0. lmm 未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、 5mmを超 えると、ディスク全体の質量が大きくなつてドライブモーターなどにより回転して用いる 場合には、過剰な負荷をかけることがある。
[0070] 前記基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス サーボエリア間の扇 形の区間がデータエリアになっている。アドレス サーボエリアには、サンプルドサ一 ボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス 情報とが、予めエンボスピット（サーボピット）等によって記録されている（プリフォーマ ット)。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラツキ ングサーボを行うための情報としては、例えば、ゥォブルピットを用いることができる。
[0071] 一反射膜
前記反射膜は、前記基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高 、反射率を有する材料を 用いることが好ましい。使用する光の波長が 400〜780nmである場合には、例えば 、 Al、 A1合金、 Ag、 Ag合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が 6 50nm以上である場合には、 Al、 A1合金、 Ag、 Ag合金、 Au、 Cu合金、 TiN、などを 使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な 光記録媒体、例えば、 DVD (ディジタル ビデオ ディスク)などを用い、ホログラムを どのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交 替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えず に追記及び書き換えすることも可能となる。
[0072] 前記反射膜の形成は、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができ、各 種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ CVD法、光 CVD 法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、 スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みは、十分な反射率を実現し得るように、 50nm以上が好ましぐ 1 OOnm以上がより好ましい。
[0073] 選択反射層 前記選択反射層は、前記基板のサーボピット上又は前記反射層上に設けられる。 前記選択反射層は、複数種の光線の中から特定の波長の光のみを反射する、波 長選択反射機能を有する。特に、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じる ことなぐ情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノィ ズの発生を防止する機能もあり、前記光記録媒体に前記選択反射層を積層すること により、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記選択反射層としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ
、例えば、ダイクロイツクミラー層、色材含有層、誘電体蒸着層、単層又は 2層以上の コレステリック層及び必要に応じて適宜選択したその他の層の少なくともいずれかを 積層した積層体により形成される。
前記選択反射層は、直接記録層など共に、前記基板上に塗布などにより積層して もよぐフィルム等の基材上に積層して選択反射層を作製し、これを基板上に積層し てもよい。
[0074] <その他の層 >
前記その他の層としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、 例えば、第一ギャップ層、第二ギャップ層などが挙げられる。
[0075] 第一ギャップ層一
前記第一ギャップ層は、必要に応じて前記選択反射層と前記反射膜との間に設け られ、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成され るホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、参照光及 び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層と サーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第一ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上力 紫外線硬化榭脂等 の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。また、 フィルタ層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基 材が第一ギャップ層としても働くことになる。
前記第一ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択する ことができ、 1〜： LOO /z mが好ましい。 [0076] 第二ギャップ層一
前記第二ギャップ層は、必要に応じて記録層と選択反射層との間に設けられる。該 第二ギャップ層は、情報光及び参照光がフォーカシングするポイントの部分をフォト ポリマーで埋めていると、過剰露光がされた場合に、モノマーの過剰消費が起こり、 多重記録能力が低下することがあり、この弊害を防止する機能がある。
前記第二ギャップ層の材料としては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択する ことができ、例えば、トリァセチルセルロース (TAC)、ポリカーボネート（PC)、ポリエ チレンテレフタラート（PET)、ポリスチレン（PS)、ポリスルホン（PSF)、ポリビュルァ ルコール（PVA)、ポリメタクリル酸メチル =ポリメチルメタタリレート（PMMA)等のよう な透明榭脂フィルム、又は、 JSR株式会社製の商品名 ARTONフィルムや日本ゼォ ン株式会社製の商品名ゼォノアのような、ノルボルネン系榭脂フィルム、などが挙げ られる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましぐ TAC、 PC、商品名 ARTON 、商品名ゼォノアが特に好ましい。
前記第二ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択する ことができ、 1〜 200 mが好ましい。
[0077] ここで、前記光記録媒体について、図面を参照して更に詳しく説明する。
図 2は、本発明の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。 この実施形態に係る光記録媒体 21では、ポリカーボネート榭脂からなる第一の基板 1にサーボピットパターン 3が形成され、該サーボピットパターン 3上にアルミニウム、 金、白金等でコーティングして反射膜 2が設けられている。なお、図 2では第一の基 板 1全面にサーボピットパターン 3が形成されている力 周期的に形成されていてもよ い。また、このサーボピットの高さは最大 1750 A (175nm)であり、第一の基板を始 め他の層の厚みに比べて充分に小さ!/、ものである。
第一の基板のサーボピットを設けて 、な 、側には選択反射層 6としての Agを多層 蒸着したダイクロイツクミラー層が設けられている。
反射膜 2上に記録層 4が設けられている。第一の基板 1及び第二の基板 5 (ポリカー ボネート榭脂の基板）によって、選択反射膜 6、記録層 4を挟むことによって光記録媒 体 21が構成される。 [0078] 次に、図 3を参照して、光記録媒体 21周辺での光学的動作を説明する。まず、サ ーボ用レーザーから出射した光 (赤色光）は、ダイクロイツクミラー 13でほぼ 100%反 射して、対物レンズ 12を通過する。対物レンズ 12によってサーボ用光は反射膜 2上 で焦点を結ぶように光記録媒体 21に対して照射される。つまり、ダイクロイツクミラー 1 3は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ 100%反射させるよう になっている。光記録媒体 21の光の入出射面 A力も入射したサーボ用光は、第二の 基板 5、記録層 4、及び選択反射層 6を通過し、反射膜 2で反射され、再度、選択反 射層 6、記録層 4、及び第二の基板 5を透過して入出射面 Aから出射する。出射した 戻り光は、対物レンズ 12を通過し、ダイクロイツクミラー 13でほぼ 100%反射して、サ ーボ情報検出器 (不図示)でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フ オーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層 4を構成 するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光 が記録層 4を通過したり、サーボ用光が反射膜 2で乱反射したとしても、記録層 4には 影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜 2による戻り光は、ダイクロイツクミラー 1 3によってほぼ 100%反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のた めの CMOSセンサ又は CCD14で検出されることはなぐ再生光に対してノイズとな ることちない。
[0079] また、記録用 Z再生用レーザーから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光 板 16を通過して線偏光となりハーフミラー 17を通過して 1Z4波長板 15を通った時 点で円偏光になる。ダイクロイツクミラー 13を透過し、対物レンズ 11によって情報光と 記録用参照光が記録層 4内で干渉パターンを生成するように光記録媒体 21に照射 される。情報光及び記録用参照光は入出射面 Aから入射し、記録層 4で干渉し合つ て干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層 4、 選択反射層 6に入射するが、該選択反射層 6の底面までの間に反射されて戻り光と なる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜 2までは到達しない。選択反射層 6は 、赤色光のみを透過する性質を有するからである。
[0080] (光記録再生装置及び光記録再生方法）
本発明の光記録再生装置は、少なくとも本発明の前記光記録媒体の処理手段を 備え、記録手段、再生手段、更に必要に応じてその他の手段を有してなる。
本発明の光記録再生方法は、少なくとも本発明の前記光記録媒体の処理工程を 含み、記録工程、再生工程、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
本発明の光記録再生方法は、本発明の光記録再生装置により好適に実施すること ができる。
[0081] ここで、本発明の光記録再生装置について図 4を参照して説明する。図 4の光記録 再生装置は、情報光と参照光とが異なる方向から照射される一般的なホログラムの記 録再生装置である。
図 4に示すように、光源 61から出射した光が、ハーフミラー 64を透過した情報光 51 と、該ハーフミラー 64に反射した参照光 52に分割され、情報光 51はミラー 66及びビ ームエキスパンダ 68を経由して拡大され、光記録媒体 50の記録層面に照射される。 他方、参照光 52は、ミラー 65及びビームエキスパンダ 67を経由して拡大され、情報 光 51が照射される前記記録層面と反対側の記録層面に照射され、情報光 51と参照 光 52とにより干渉縞が生成され、この干渉縞が光情報として前記記録層に記録され る。
この記録方法により光記録媒体 50への多重記録は、図 4に示すように、光記録媒 体 50を少しずつ移動させて記録を繰り返すことにより可能である。
また、図示を省略している力 光源 61, 62の少なくともいずれかの近傍に光拡散部 材を有する本発明の処理手段を設けている。
[0082] 次に、図 5は、本発明の一実施形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。
この光記録再生装置 100は、光記録媒体 20が取り付けられるスピンドル 81と、この スピンドル 81を回転させるスピンドルモータ 82と、光記録媒体 20の回転数を所定の 値に保つようにスピンドルモータ 82を制御するスピンドルサーボ回路 83とを備えて!/ヽ る。
また、光記録再生装置 100は、光記録媒体 20に対して情報光と参照光とを照射し て情報を記録すると共に、光記録媒体 20に対して再生用参照光を照射し、再生光を 検出して、光記録媒体 20に記録されている情報を再生するためのピックアップ 31と、 このピックアップ 31を光記録媒体 20の半径方向に移動可能とする駆動装置 84とを 備えている。
この場合、図示を省略している力 ピックアップ 31の近傍に光拡散部材を有する本 発明の処理手段を設けている。
[0083] 光記録再生装置 100は、ピックアップ 31の出力信号よりフォーカスエラー信号 FE、 トラッキングエラー信号 TE、及び再生信号 RFを検出するための検出回路 85と、この 検出回路 85によって検出されるフォーカスエラー信号 FEに基づいて、ピックアップ 3 1内のァクチユエータを駆動して対物レンズ (不図示）を光記録媒体 20の厚み方向に 移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路 86と、検出回路 85によって 検出されるトラッキングエラー信号 TEに基づいてピックアップ 31内のァクチユエータ を駆動して対物レンズを光記録媒体 20の半径方向に移動させてトラッキングサーボ を行うトラッキングサーボ回路 87と、トラッキングエラー信号 TE及び後述するコント口 ーラカもの指令に基づいて駆動装置 84を制御してピックアップ 31を光記録媒体 20 の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路 88とを備えている。
[0084] 光記録再生装置 100は、更に、ピックアップ 31内の後述する CMOS又は CCDァレ ィの出力データをデコードして、光記録媒体 20のデータエリアに記録されたデータを 再生したり、検出回路 85からの再生信号 RFより基本クロックを再生したりアドレスを 判別したりする信号処理回路 89と、光記録再生装置 100の全体を制御するコント口 ーラ 90と、このコントローラ 90に対して種々の指示を与える操作部 91とを備えている 。コントローラ 90は、信号処理回路 89より出力される基本クロックやアドレス情報を入 力すると共に、ピックアップ 31、スピンドルサーボ回路 83、及びスライドサーボ回路 8 8等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路 83は、信号処理回路 89より 出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ 90は、 CPU (中央 処理装置）、 ROM (リード オンリ メモリ）、及び RAM (ランダム アクセス メモリ）を 有し、 CPUが、 RAMを作業領域として、 ROMに格納されたプログラムを実行するこ とによって、コントローラ 90の機能を実現するようになっている。
[0085] 本発明の光記録再生装置は、本発明の光記録媒体の処理装置を備えているので 、体積ホログラフィを利用して情報を記録した厚膜の記録層の不感化処理時に情報 の劣化を伴うことなぐ記録像の長期保存性及び繰り返し再生耐久性を増大させるこ とがでさる。
[0086] 本発明によると、従来における諸問題を解決でき、ホログラフィを利用して情報を記 録する厚膜の記録層を有する光記録媒体に対し、該情報を記録した記録層の不感 化処理時に情報の劣化を伴うことなぐ記録像の長期保存性及び繰り返し再生耐久 性を増大させることが可能な光記録媒体の処理方法及び光記録媒体の処理装置、 並びに該光記録媒体の処理装置を備えた光記録再生装置を提供することができる。 実施例
[0087] 以下、本発明の実施例について説明する力 本発明はこれらの実施例に何ら限定 されるものではない。
[0088] (製造例 1)
一光記録媒体の作製
前記光記録媒体として、第二の基板、反射層、接着層、選択反射層、保護層 (第二 ギャップ層）及び第一の基板の順に積層されたライトワンス (WORM)型の光記録媒 体を作製した。
[0089] 第二の基板の作製
直径 120mm、内径 15mm、厚み 0. 6mmのポリカーボネート榭脂製の第二の基板 を作製した。
[0090] 第一の基板の作製
前記第一の基板としては、直径 120mm、内径 15mm、厚み 0. 6mmの DVD+R
W用に用いられて 、る一般的なポリカーボネート榭脂製基板を使用した。この基板表 面には、サーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは 0. 74 mであ り、溝深さは 140nm、溝幅は 300nmである。
[0091] まず、第一の基板のサーボピットパターン表面に反射層を形成した。反射層の材料 には銀 (Ag)を用いた。 DCマグネトロンスパッタリング法により厚み 150nmの Ag反射 層を形成した。
次に、該反射層の上に、接着剤（商品名： SD640、大日本インキ化学工業株式会 社製)をスピンコートにより厚み となるように塗工した後、下記の選択反射層を 接着層（第一ギャップ層）上に形成した。 [0092] 選択反射層の作製
ポリカーボネートフィルム（三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ユーピロン)厚み 100 μ m上に、 DCマグネトロンスパッタリング法により、層数が 30、厚み 3 μ mの Ag膜か らなるダイクロイツクミラー層を蒸着により形成し、前記第一の基板に積層するため、 該第一の基板と同形状のディスクに打ち抜き加工した。
[0093] <記録層塗布液の調製 >
下記組成力もなるホログラフィック記録層塗布液を、下記のタンク Aとタンク Bに分け て窒素雰囲気下で調製した。調製後のタンクは乾燥窒素を充填した。
<タンク A>
'へキサメチレンジイソシァネートのビウレットトリマ 292. Og
•へキサメチレンジイソシァネート · · · 97. 4g
•トリブロモフエニルアタリレート · ' · 64. 22g
'ィルガキュア 784 (チバスべシャリティケミカルズ株式会社製） · · · 14g •3, 5 ジターシャリーブチルー 4ーヒドロキシトルエン' · ' 210mg
<タンク B>
•Poly Fox™T (ォムノバ'ソリューションズ社製） · ' · 817. 9g
•ポリプロピレンオキサイドトリオール（平均分子量 1, 000) · · - 517. 9g
•ターシャリーブチルペルオキサイド' · · 580 μ 1
'ジブチルラウレートスズ' · · 10. 2g
[0094] 光記録媒体の積層
まず、反射層及び接着層（第一ギャップ層）が形成された前記第一の基板に、上記 ディスク形状の選択反射層を、該選択反射層のベースフィルム面をサーボピットバタ ーン側にして貼り付けた。貼り合わせには間隙に気泡が入らないようにして行った。 以上により前記第一の基板上に選択反射層を形成した。
次に、保護層 (第二ギャップ層）として、接着剤 (SD640、大日本インキ化学工業株 式会社製)を含む保護層組成物をスピンコートにより、厚みが になるように選 択反射層上に形成した。
次に、上記で調製したタンク Aの組成物と、タンク Bの組成物をポシラティォ (リキッド コントロール社より入手可能な液混合注入装置）を用いてタンク A組成物を 10質量部 、タンク B組成物を 18質量部の割合で混合しながら、高さを 500 mに保った上記第 二の基板と各層が設けられた第一の基板との隙間に注入したところ、組成物は速や かに自発的に硬化し、厚みが 500 mの記録層が形成された。以上により、製造例 1 の光記録媒体を作製した。
[0095] (実施例 1)
製造例 1で作製した光記録媒体を、コリニア方式光記録再生評価装置 (パルステツ ク工業株式会社製、 SHOT— 2000)を用い、情報を記録再生し、 SZN比を求め、 再生像の画質を目視により下記基準で評価した。
その後、一旦光記録媒体を装置から取り外し、光記録媒体を、記録面を上にして黒 のつや消しゴム板上に置き、更に光拡散部材としての光拡散フィルタ (恵和株式会社 製、ォパルス ZD— 097、曇価 = 81. 9%)、及び透明ガラス板を載せ、その上からキ セノンランプ（ゥシォ電機株式会社製、 UXL- 2500— 0、出力 2. 5kW)カゝら光学フィ ルタ（日本真空光学株式会社製、 Δ Z2= 155nm、T% = 95%、 λ =545nm) o
を通した処理光を 8, 000秒間照射して不感化処理を行った。照射した総露光量は 3 0, OOOmjZcm2であった。処理光のエネルギー強度に対する波長の半値幅は 155 nmであつ 7こ。
次に、不感化処理後の光記録媒体を、再度上記コリニア方式光記録再生評価装置 に装着し、上記で記録した情報の再生を行い、 SZN比を求め、再生像の画質を目 視により下記基準で評価した。
更に、再生された信号位置にて、再生光 (波長 532nm)を照射総量 lOOjZcm2と なるように連続照射し、その後、再度再生を行って、 SZN比を求め、再生像の画質 を目視により下記基準で評価した。それぞれの結果を表 1に示す。
[0096] <再生像の評価基準 >
〇 · · · 良好な再生像が得られた
△ · · · 不良であるが再生像の存在を知ることができた
X · · · 全く再生することができな力つた
[0097] (実施例 2) 実施例 1において、照射した総露光量を 10, OOOmiZcm2に変えた以外は、実施 例 1と同様にして、不感化処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行つ た。結果を表 1に示す。なお、処理光のエネルギー強度に対する波長の半値幅は 15 5nmであつ 7こ。
[0098] (実施例 3)
実施例 1において、光源をキセノンランプ力も LEDアレイ（波長 532nm)に変えた 以外は、実施例 1と同様にして、不感化処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再 生評価を行った。結果を表 1に示す。なお、処理光のエネルギー強度に対する波長 の半値幅は 155nmであつた。
[0099] (実施例 4)
実施例 3において、照射した総露光量を 10, OOOmiZcm2に変えた以外は、実施 例 3と同様にして、不感化処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行つ た。結果を表 1に示す。なお、処理光のエネルギー強度に対する波長の半値幅は 15 5nmであつ 7こ。
[0100] (実施例 5)
実施例 1において、透明ガラス板の代わりに、光学フィルタ（日本真空光学株式会 社製、中心波長 542nm、半値幅 35nm、 T% = 85%)を用いた以外は、実施例 1と 同様にして、不感化処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行った。 結果を表 1に示す。
[0101] (実施例 6)
実施例 5において、照射した総露光量を 10, OOOmiZcm2に変えた以外は、実施 例 5と同様にして、不感化処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行つ た。結果を表 1に示す。
[0102] (実施例 7)
実施例 1において、光拡散部材としての光拡散フィルタ (恵和株式会社製、ォパル ス PBS— 050、曇価 = 72. 9%)を用いた以外は、実施例 1と同様にして、不感化処 理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行った。結果を表 1に示す。
[0103] (比較例 1) 実施例 1において、光拡散フィルタを除いた以外は、実施例 1と同様にして、不感 化処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行った。結果を表 1に示す。
[0104] (比較例 2)
実施例 2において、光拡散フィルタを除いた以外は、実施例 2と同様にして、不感 化処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行った。結果を表 1に示す。
[0105] (比較例 3)
実施例 3において、光拡散フィルタを除いた以外は、実施例 3と同様にして、不感 化処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行った。結果を表 1に示す。
[0106] (比較例 4)
実施例 4において、光拡散フィルタを除いた以外は、実施例 4と同様にして、不感 化処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行った。結果を表 1に示す。
[0107] (比較例 5)
実施例 5において、光拡散フィルタを除いた以外は、実施例 5と同様にして、不感 化処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行った。結果を表 1に示す。
[0108] (比較例 6)
実施例 6において、光拡散フィルタを除いた以外は、実施例 6と同様にして、不感 化処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行った。結果を表 1に示す。
[0109] (比較例 7)
実施例 1において、不感化処理を行わず、照射総量 lOOjZcm2の再生光の連続 照射を行い、再生光照射前後の光記録媒体の再生評価を行った。結果を表 1に示 す。
[0110] (比較例 8)
実施例 1において、光拡散部材としての光拡散フィルタ (恵和株式会社製、ォパル ス # 100— BMU3S、曇価 = 51%)を用いた以外は、実施例 1と同様にして、不感化 処理前後、再生光照射後の光記録媒体の再生評価を行った。結果を表 1に示す。
[0111] [表 1] 記録直後（不感化処理前） 不感化処理後 再生光照射後 再生像 Sノ N比 再生像 Sノ N比 再生像 SZN比 実施例 1 〇 1.8 〇 1.7 実施例 2 〇 2.1 〇 1.8 実施例 3 〇 3.2 〇 2.6 実施例 4 〇 3.1 〇 2.1 実施例 5 〇 2.8 〇 2.2 実施例 6 〇 2.8 〇 1.9 実施例 7 〇 2.2 〇 2.1 比較例 1 〇 5.6 X - - - 比較例 2 Δ 1.0
比較例 3 Δ 0.8 - - 比較例 4 Δ 1.2 - - 比較例 5 X - - - 比較例 6 X
比較例 7 - - 比較例 8 X
*表 1中、比較例 1〜8における「-」は、信号劣化が著しいため、測定不能であった ことを示す。
表 1の結果から、実施例 1〜7と、比較例 7との比較から、不感化処理操作を行うこと により、再生耐久性が向上することが推測できる。
また、実施例 1〜7と、比較例 1〜6との比較から、光拡散フィルタを用いることにより 、光源力 の光を拡散することが信号の劣化を抑制する上で極めて有用であることが 推測できる。
また、実施例 3及び 5の比較から、照射波長の幅が狭いほうがより信号の劣化を 抑制可能であることが推測される。更に、不感化処理時のエネルギーを多く与えてお くことにより、不感化処理後の曝光 (再生光、及び、周囲の光）に対して、その耐久性 が格段に向上することが推測でき、繰り返し再生及び長期保存に適した状態が得ら れていることが推測される。
実施例 1、 7及び比較例 8の結果から、光拡散フィルタの曇価が 70〜 100%である ことが有効であることが認められる。
産業上の利用可能性
本発明の光記録媒体の処理方法及び処理装置は、情報を記録した記録層の不感 化処理時に情報の劣化を伴うことなぐ記録像の長期保存性及び繰り返し再生耐久 性を増大させることができるので、高密度画像記録が可能なボリュームホログラム型 の各種光記録媒体に用いられる。

Claims

請求の範囲
[1] ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を少なくとも有する光記録媒体の情 報を記録した該記録層に対し、曇価が 70〜： LOO%である光拡散部材を通した処理 光を照射することを特徴とする光記録媒体の処理方法。
[2] 処理光のエネルギー強度に対する波長の半値幅が 5〜700nmである請求の範囲 第 1項に記載の光記録媒体の処理方法。
[3] 光記録媒体が、ライトワンス (WORM)型である請求の範囲第 1項力 第 2項の 、ず れかに記載の光記録媒体の処理方法。
[4] 請求の範囲第 1項力 第 3項のいずれかに記載の光記録媒体の処理工程を含むこ とを特徴とする光記録再生方法。
[5] ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を少なくとも有する光記録媒体と、処 理光光源と、該処理光光源と前記光記録媒体との間に、曇価が 70〜100%である 光拡散部材とを有する光記録媒体の処理装置であって、
前記光拡散部材を通過させた前記処理光光源からの処理光を、情報を記録した前 記記録層に照射することを特徴とする光記録媒体の処理装置。
[6] 処理光のエネルギー強度に対する波長の半値幅が 5〜700nmである請求の範囲 第 5項に記載の光記録媒体の処理装置。
[7] 光記録媒体が、ライトワンス (WORM)型である請求の範囲第 5項力 第 6項の 、ず れかに記載の光記録媒体の処理装置。
[8] 請求の範囲第 5項から第 7項のいずれかに記載の光記録媒体の処理手段を備えた ことを特徴とする光記録再生装置。
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