JPH09188710A - モノボランからのボレート光開始剤 - Google Patents

モノボランからのボレート光開始剤

Info

Publication number
JPH09188710A
JPH09188710A JP8329222A JP32922296A JPH09188710A JP H09188710 A JPH09188710 A JP H09188710A JP 8329222 A JP8329222 A JP 8329222A JP 32922296 A JP32922296 A JP 32922296A JP H09188710 A JPH09188710 A JP H09188710A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
phenyl
substituted
alkyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8329222A
Other languages
English (en)
Inventor
Allan Francis Cunningham
フランシス クニングハム アラン
Martin Kunz
クンツ マルチン
Hisatoshi Kura
久稔 倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPH09188710A publication Critical patent/JPH09188710A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic System
    • C07F5/02Boron compounds
    • C07F5/027Organoboranes and organoborohydrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/115Cationic or anionic
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/116Redox or dye sensitizer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121Nitrogen in heterocyclic ring
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/122Sulfur compound containing
    • Y10S430/123Sulfur in heterocyclic ring

Abstract

(57)【要約】 【課題】補助開始剤を添加しない場合でも、光重合を開
始するために十分に反応性である光開始剤を含有する光
重合性組成物の提供。 【解決手段】式IまたはI’のホウ酸塩を光開始剤とし
て含む光重合性組成物。 【化1】 (2以下のR1 、R2 およびR3 が同一、R1 、R2
よびR3 の少なくとも2つが両方のオルト位で置換され
た芳香族炭化水素基またはフェニル基、少なくとも1つ
のR1 、R2 またはR3 が立体的に嵩張るアリール基、
1 、R2 およびR3 の残りの基が少なくとも一方のオ
ルト位で置換された芳香族炭化水素基またはフェニル
基、R4 =フェニル基,アルキル基等G=陽イオン形成
性基、E=アンモニウム基等、R1a=2価の芳香族炭化
水素基)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はボレート光開始剤を
含有する、特に単分子ボレート光開始剤を包含する光重
合性組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】補助開始剤と一緒に光開始剤としてボレ
ートを使用することは従来公知である。例えば米国特許
第4772530号、同第4772541号および同第
5151520号はカチオン染料、例えば対イオンとし
てのシアニン、ローダミン等と共にトリアリールアルキ
ルボレートを開示している。これらの化合物は光開始剤
として使用されている。米国特許第4954414号に
おいて、カチオン遷移金属錯体が光重合性組成物におい
てトリアリールアルキルボレートアニオンと一緒に使用
される。米国特許第5055372号から、第四アンモ
ニウム化合物、例えばテトラメチルアンモニウム、ピリ
ジニウム、セチルピリジニウム等を上記トリアリールア
ルキルボレートに対するカチオン対イオンとして使用す
ることは公知である。この文献において、ボレートは光
硬化性材料における補助開始剤としての芳香族ケトン開
始剤化合物と一緒に使用される。光開始剤の広範囲の用
途のために、光重合性組成物における開始剤として使用
され得る安定な反応性化合物に対する産業上の要求が存
在する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記文献に記載された
ボレート化合物は補助開始剤と組み合わせて光開始剤と
して常に使用される。この分野において、補助開始剤を
添加しない場合でも、光重合を開始するために十分に反
応性である光開始剤を含有する光重合性組成物を提供す
ることが有利である。上記の特性を有する特定の置換基
パターンを有するボレートが驚くべきことに今見出され
た。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、 a)少なくとも1種の重合性エチレン性不飽和化合物、
および b)単分子光開始剤として少なくとも1種の次式Iまた
はI’:
【化13】 (式中、R1 、R2 およびR3 は互いに独立してフェニ
ル基または異原子を含むかもしくは含まない別の芳香族
炭化水素基を表すが、それらの基は置換されていない
か、または非置換またはOR6 −もしくはR7 8 N−
置換された炭素原子数1ないし20のアルキル基、1ま
たはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5 により中
断された炭素原子数2ないし20のアルキル基、O
6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R7
8 N、R6 OC(O)、R7 8 NC(O)、R9
(O)、R9 1011Si、R9 1011Sn、ハロゲ
ン原子、R9 10P(O)q 、CNおよび/または
【化14】 により1〜5回置換されており、または基R2 およびR
3 は橋を形成して次式II、IIaまたはIIb:
【化15】 で表される構造をとるが、上記芳香環は置換されていな
いか、または炭素原子数1ないし20のアルキル基によ
り、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5
により中断された炭素原子数2ないし20のアルキル基
により、またはOR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)
2 O、R7 8 N、R6 OC(O)、R78 NC
(O)、R9 C(O)、R9 1011Si、ハロゲン原
子、R9 10PO)q および/またはR9 1011Sn
により置換されているが、ただし2以下の基R1 、R2
およびR3 は同一であり、そして基R1 、R2 およびR
3 のいずれかの少なくとも2つは両方のオルト位で置換
された芳香族炭化水素基またはフェニル基を表すか、ま
たは少なくとも1つの基R1 、R2 またはR3 は立体的
に嵩張るアリール基を表し、そしてR1 、R2 およびR
3 の残りの基は少なくとも一方のオルト位で置換された
芳香族炭化水素基またはフェニル基を表し、R1aは置換
されていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基、OR6 、S(O)p 6 、OS(O)2 6 、N
8 7 、C(O)OR6 、C(O)NR8 7 、C
(O)R9 、SiR9 1011またはハロゲン原子によ
り置換された2価の芳香族炭化水素基を表すか、または
1aはフェニル−炭素原子数1ないし6のアルキレン基
を表し、R4 はフェニル基または異原子を含むかもしく
は含まない別の芳香族炭化水素基を表すが、それらの基
は置換されていないか、または非置換またはOR6 −も
しくはR7 8 N−置換された炭素原子数1ないし20
のアルキル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p
たはNR5 により中断された炭素原子数2ないし20の
アルキル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2
O、R7 8 N、R6 OC(O)、R7 8 NC
(O)、R9 C(O)、R9 1011Si、R910
11Sn、ハロゲン原子、R9 10P(O)q 、CNおよ
び/または
【化16】 により1〜5回置換されており、またはR4 は炭素原子
数1ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基
O、S(O)p またはNR5 により中断された炭素原子
数2ないし20のアルキル基を表すか、または炭素原子
数3ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2ない
し8のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1ないし6
のアルキル基またはナフチル−炭素原子数1ないし3の
アルキル基を表し、上記の炭素原子数1ないし20のア
ルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキル
基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、フェニル−
炭素原子数1ないし6のアルキル基またはナフチル−炭
素原子数1ないし3のアルキル基は置換されていない
か、またはOR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)
2 O、R7 8 N、R6 OC(O)、R7 8 NC
(O)、R9 C(O)、R9 1011Si、R9 10
11Sn、ハロゲン原子、R9 10P(O)q および/ま
たはCNにより置換されており、Yは(CH2 n 、C
H=CH、C(O)、NR5 、O、S(O)p または
【化17】 を表し、nは0、1または2を表し、mは2または3を
表し、pは0、1または2を表し、qは0または1を表
し、EはR212223P、R7 7a8 NまたはR6
6aSを表し、R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、R6
およびR6aは非置換またはハロゲン置換された炭素原子
数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭素原子数1
ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、上記フ
ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフェ
ニル基は置換されていないか、または炭素原子数1ない
し6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ基および/またはハロゲン原子により1〜5回置換さ
れており、R7 、R7aおよびR8 は互いに独立して非置
換または炭素原子数1ないし12のアルコキシ−、ハロ
ゲン−、OH−、COOR6 −もしくはCN−置換され
た炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3
ないし12のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数
1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、上記
フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフ
ェニル基は置換されていないか、または炭素原子数1な
いし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回置換
されているか、またはR7 およびR8 はそれらが結合さ
れているN原子と一緒になって、さらにOまたはS原子
を含んでいてもよい5または6員環を形成し、R9 、R
10およびR11は互いに独立して炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
ル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基ま
たはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子数1な
いし6のアルキル基またはフェニル基は置換されていな
いか、または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素
原子数1ないし12のアルコキシ基および/またはハロ
ゲン原子により1〜5回置換されており、R12、R13
14およびR15は互いに独立して水素原子、非置換また
は炭素原子数1ないし12のアルコキシ置換された炭素
原子数1ないし12のアルキル基、非置換または炭素原
子数1ないし6のアルキル、炭素原子数1ないし12の
アルコキシもしくはハロゲンで1ないし5置換されたフ
ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表すか、
または非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル、
炭素原子数1ないし12のアルコキシもしくはハロゲン
で1ないし5置換されたフェニル基を表すか、または基
12、R13、R14およびR15は一緒になって別の芳香環
に縮合されてもよい芳香環を形成し、R16、R17
18、R18a 、R19およびR20は互いに独立して水素原
子、非置換または炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ、OHもしくはハロゲン置換された炭素原子数1ない
し12のアルキル基を表すか、または非置換または炭素
原子数1ないし12のアルキル、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシ、OH−もしくはハロゲン置換されたフ
ェニル基を表し、R21、R22およびR23は互いに独立し
て炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数2
ないし12のアルケニル基または炭素原子数3ないし1
2のシクロアルキル基を表し、上記炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアルケニ
ル基および炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基
は置換されていないか、またはR6 OCOもしくはCN
により置換されており、またはR21、R22およびR23
非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素原
子数1ないし12のアルコキシまたはハロゲンで1ない
し5置換されたフェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基を表すか、または非置換または炭素原子数1ない
し6のアルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキシ
もしくはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基を
表し、XはN、SまたはOを表し、そしてGは陽イオン
を形成し得る基を表す)で表される化合物、からなる組
成物を提供する。
【0005】補助開始剤を添加しない場合でさえも、式
IおよびI’で表される化合物はエチレン性不飽和化合
物の光重合のための反応性開始剤である。
【0006】上記化合物の特徴は、まず第一に、2以下
の基R1 、R2 およびR3 が同一であり、そして第二
に、基R1 、R2 およびR3 のいずれかの少なくとも2
つが両方のオルト位で置換された芳香族炭化水素基また
はフェニル基を表すか、または少なくとも1つの基
1 、R2 またはR3 は立体的に嵩張るアリール基を表
し、そしてR1 、R2 およびR3 の残りの基は少なくと
も一方のオルト位で置換された芳香族炭化水素基または
フェニル基を表すことである。
【0007】新規化合物に存在し得るような芳香族炭化
水素は、例えば1またはそれ以上の、特に1または2個
の異原子を含有し得る。適当な異原子の例はN、O、P
およびS、好ましくはNまたはOである。芳香族炭化水
素基の例はフェニル基、1−および2−ナフチル基、ス
チルベニル基、ビフェニル基、o−、m−またはp−タ
ーフェニル基、トリフェニルフェニル基、ビナフチル
基、アントラシル基、フェナントリル基、フェロセニル
基、ピレニル基、フラニ−2−イル基またはフラニ−3
−イル基、チオフェニ−2−イル基またはチオフェニ−
3−イル基、ピリジニ−2−イル基、ピリジニ−3−イ
ル基またはピリジニ−4−イル基、ピリミジニル基、キ
ノリル基またはイソキノリル基である。
【0008】次式:
【化18】 〔式中、AおよびZは互いに独立して−(CH2
n −、−C(O)−、N、S(O)p (式中、nおよび
pは上記の意味を表す)を表す〕で表される芳香族炭化
水素基もまた適当である。これらの例はアントラシル
基、フルオレニル基、チアントリル基、キサンチル基、
アクリジニル基、フェナジニル基、フェノチアジニル
基、フェノキサチニル基およびフェノキサジニル基であ
る。
【0009】スチルベニル基は
【化19】 である。ビフェニル基は
【化20】 である。o−、m−またはp−ターフェニル基は
【化21】 である。トリフェニルフェニル基は
【化22】 である。ビナフチル基は
【化23】 である。アントラシル基は
【化24】 である。フェナントリル基は
【化25】 である。ピレニル基は
【化26】 である。キノリル基は
【化27】 である。イソキノリル基は
【化28】 である。フラニル基はフラニ−2−イル基またはフラニ
−3−イル基である。チオフェニル基はチオフェニ−2
−イル基またはチオフェニ−3−イル基である。ピリジ
ニル基はピリジニ−2−イル基、ピリジニ−3−イル基
またはピリジニ−4−イル基である。
【0010】置換されたフェニル基、スチルベニル基、
o−、m−またはp−ターフェニル基、トリフェニルフ
ェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、アントラシル
基、フェナントリル基、ピレニル基、フェロセニル基、
フラニル基、チオフェニル基、ピリジニル基、キノリニ
ル基またはイソキノリル基は1ないし4回、例えば1、
2または3回、特に2または3回置換されている。フェ
ニル環上の置換基は好ましくはフェニル環上の2、4ま
たは6位、または2,6位もしくは2,4,6位の配位
にある。
【0011】本明細書において使用される「立体的に嵩
張るアリール基」という用語は、例えば、多環、すなわ
ち多環式アリール基を意味する。これらの例は異原子、
好ましくはS、OまたはNを含むか、または含まない縮
合された炭化水素環であり、その例は1−および2−ナ
フチル基、ビナフチル基、アントラシル基、フェナント
リル基、ピレニル基、キノリル基およびイソキノリル基
である。しかしながら、「立体的に嵩張るアリール基」
という用語は環配列、すなわち単結合で結合されたアリ
ール環をも意味する。これらの例はビフェニル基、o
−、m−またはp−ターフェニル基またはトリフェニル
フェニル基である。
【0012】炭素原子数1ないし20のアルキル基は線
状または枝分かれ基であり、例えば炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアルキル
基、炭素原子数1ないし6のアルキル基または炭素原子
数1ないし4のアルキル基である。例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
第二−ブチル基、イソ−ブチル基、第三−ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2,4,4−トリ
メチル−フェニル基、2−エチルヘキシル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基またはエ
イコシル基である。例えば、R4 は炭素原子数1ないし
8のアルキル基、特に炭素原子数1ないし6のアルキル
基、好ましくは炭素原子数1ないし4のアルキル基、例
えばメチル基またはブチル基である。R1 、R2 、R3
およびR4 がR9 1011Siで置換された炭素原子数
1ないし20のアルキル基の場合、アルキル基は例えば
炭素原子数1ないし12のアルキル基、特に炭素原子数
1ないし8のアルキル基、好ましくは炭素原子数1ない
し4のアルキル基を表す。メチル基が特に好ましい。
【0013】炭素原子数1ないし12のアルキル基およ
び炭素原子数1ないし6のアルキル基は同様にして、線
状または枝分かれ基であり、また例えば炭素原子の数に
対応する上記の定義を有する。R5 、R6 、R6a
7 、R7a、R8 、R9 、R10、R11、R12およびR13
は、例えば炭素原子数1ないし8のアルキル基、特に炭
素原子数1ないし6のアルキル基、好ましくは炭素原子
数1ないし4のアルキル基、例えばメチル基またはブチ
ル基である。フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基またはフェニル基のための炭素原子数1ないし6の
アルキル置換基は、特に炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基、例えばメチル基またはブチル基である。
【0014】−O−、−S(O)p −または−NR5
で1回またはそれよりも多く中断された炭素原子数2な
いし20のアルキル基は、例えば1ないし9回、例えば
1ないし7回または1回もしくは2回、−O−、−S
(O)p −または−NR5 −で中断されている。これに
より、例えば以下のような構造単位:−CH2 −O−C
3 、−CH2 CH2 −O−CH2 CH3 、−[CH2
CH2 O]y −CH3 (式中、yは1ないし9を表
す)、−(CH2 CH2 O)7 CH2 CH3 、−CH2
−CH(CH3 )−O−CH2 CH2 CH3 、−CH2
−CH(CH3 )−O−CH2 CH2 、−CH2 SCH
3 または−CH2 −N(CH3 2 を形成する。
【0015】炭素原子数3ないし12のシクロアルキル
基は、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデシル
基、特にシクロペンチル基およびシクロヘキシル基、好
ましくはシクロヘキシル基である。1ないし多置換され
得る炭素原子数2ないし8のアルケニル基は、例えばア
リル基、メタリル基、1,1−ジメチルアリル基、1−
ブテニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、1,3
−ペンタジエニル基、5−ヘキセニル基または7−オク
テニル基、特にアリル基である。炭素原子数2ないし8
のアルケニル基としてのR4 は、例えば炭素原子数2な
いし6のアルケニル基、特に炭素原子数2ないし4のア
ルケニル基である。
【0016】フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基は、例えばベンジル基、フェニルエチル基、α−メ
チルベンジル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキシ
ル基またはα、α−ジメチルベンジル基、特にベンジル
基である。好ましいものは、フェニル−炭素原子数1な
いし4のアルキル基、特にフェニル−炭素原子数1また
は2のアルキル基である。置換されたフェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基は1ないし4回、例えば1
回、2回または3回、特に1回または2回フェニル環上
で置換されている。
【0017】フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
レン基は2つの遊離結合を有し、その一方はフェニル環
上にあり、そして他方はアルキレン基にある。すなわち
次式:
【化29】 (式中、xは1ないし6を表す)で表される。
【0018】置換されたフェニル基は1ないし5回、例
えば1回、2回または3回、特に1回または2回フェニ
ル環上で置換されている。置換基は例えばフェニル環の
2位と6位、2位と4位または2位、4位および6位に
あり、好ましくは2位と6位または2位、4位および6
位にある。ナフチル−炭素原子数1ないし3のアルキル
基は、例えばナフチルメチル基、ナフチルエチル基、ナ
フチルプロピル基またはナフチル−1−メチルエチル
基、特にナフチルメチル基である。アルキル単位はナフ
チル環系の1位または2位のいずれかに有り得る。置換
されたナフチル−炭素原子数1ないし3のアルキル基は
1ないし4回、例えば1回、2回または3回、特に1回
または2回芳香環上で置換されている。
【0019】炭素原子数1ないし12のアルコキシ基は
線状または枝分かれ基であり、例えばメトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブチル
オキシ基、第二ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、
第三ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキ
シ基、ヘプチルオキシ基、2,4,4−トリメチルペン
チルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、オクチル
オキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基またはドデ
シルオキシ基、特にメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、n−ブチルオキシ基、第二ブ
チルオキシ基、イソブチルオキシ基、第三ブチルオキシ
基、好ましくはメトキシ基である。
【0020】ハロゲン原子はフッ素原子、塩素原子、臭
素原子およびヨウ素原子、特に塩素原子、臭素原子およ
びフッ素原子、好ましくは塩素原子およびフッ素原子で
ある。1またはそれ以上のハロゲン原子で置換された炭
素原子数1ないし20のアルキル基は、例えばアルキル
基上で1ないし3または1もしくは2個のハロゲン置換
基により置換されている。
【0021】R7 およびR8 がそれらが結合されている
N原子と一緒になって、さらにOまたはS原子を含んで
いてもよい5または6員環を形成する場合、包含される
環は例えば飽和または不飽和環、例えばアジリジン、ピ
ロール、ピロリジン、オキサゾール、チアゾール、ピリ
ジン、1,3−ジアジン、1,2−ジアジン、ピペリジ
ンまたはモルホリンである。
【0022】2価の芳香族炭化水素基の例はフェニレン
基、スチルベニレン基、ビフェニレン基、o−、m−ま
たはp−ターフェニレン基、トリフェニルフェニレン
基、ナフチレン基、ビナフチレン基、アントラセニレン
基、フェナントリレン基、ピレニレン基、フェロセニレ
ン基、フラニレン基、チオフェニレン基、ピリジニレン
基、キノリニレン基またはイソキノニレン基である。
【0023】ナフチレン基は
【化30】 、特に
【化31】 である。スチルベニレン基は
【化32】 である。ビフェニレン基は
【化33】 である。o−、m−またはp−ターフェニレン基は
【化34】 である。トリフェニルフェニレン基は
【化35】 である。ビナフチレン基は
【化36】 、特に
【化37】 である。アントラセニレン基は
【化38】 である。フェナントリレン基は
【化39】 である。ピレニレン基は
【化40】 である。フラニレン基は
【化41】 である。チオフェニレン基は
【化42】 である。ピリジニレン基は
【化43】 である。キノリニレン基は
【化44】 である。イソキノニレン基は
【化45】 である。1,4−ドゥリル基は
【化46】 である。
【0024】置換されたフェニレン基、スチルベニレン
基、ビフェニレン基、o−、m−またはp−ターフェニ
レン基、トリフェニルフェニレン基、ナフチレン基、ビ
ナフチレン基、アントラセニレン基、フェナントリレン
基、ピレニレン基、フェロセニレン基、フラニレン基、
チオフェニレン基、ピリジニレン基、キノリニレン基ま
たはイソキノニレン基は、1ないし4回、例えば1、2
または3回、特に1または2回置換されている。1,4
−フェニレン環上の置換基はフェニル環上の2、3、5
または6位、特に2または3位にある。1,3−フェニ
レン環上の置換基はフェニル環上の2、4、5または6
位、特に4または5位にある。
【0025】式I中の陰性のボレートに対する対イオン
+ として一般に適当である基は陽イオンを形成するこ
とができるものである。これらの例はアルカリ金属、特
にリチウムまたはナトリウム、第四アンモニウム化合
物、ホスホニウム、スルホニウムおよびヨードニウム化
合物、カチオン遷移金属錯体化合物または染料である。
式Iの単分子ボレート化合物のために、Gは好ましくは
アンモニウムまたはテトラアルキルアンモニウムであ
る。テトラアルキルアンモニウムの例は特にテトラメチ
ルアンモニウムまたはテトラブチルアンモニウムであ
る。しかしながら、トリスアルキルアンモニウムイオ
ン、例えばトリメチルアンモニウムもまた適当である。
その他の有利な第四アンモニウム化合物は、例えばトリ
メチルセチルアンモニウムまたはセチルピリジニウムで
ある。次式: +PRw x y z および+NRw x
y z (式中、Rw 、Rx 、Ry 、Rz は互いに独立
して水素原子、非置換または置換されたアルキル基、シ
クロアルキル基、アルケニル基、フェニル基またはアリ
ールアルキル基を表す)で表されるホスホニウムおよび
アンモニウム対イオンもまた適当である。これらのアル
キル基、シクロアルキル基、アルケニル基、フェニル基
およびアリールアルキル基の例はハロゲン化物の基(ハ
ライド基)、ヒドロキシル基、ヘテロシクロアルキル基
(例えばエポキシ基、アジリジル基、オキセタニル基、
フラニル基、ピロリジニル基、ピロリル基、チオフェニ
ル基、テトラヒドロフラニル基等)、ジアルキルアミノ
基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル−およびアリ
ールカルボニル基およびアリールオキシ−およびアルコ
キシカルボニル基である。
【0026】4価の窒素原子はまた、5または6員環の
一部であってもよく、その場合、この環はその他の環系
に縮合されていてもよい。これらの系はまた追加の異原
子、例えばS、N、Oを包含してもよい。4価の窒素原
子はまた、多環系、例えばアゾニアプロペランの一部で
あってもよい。これらの系はまた、その他の異原子、例
えばS、N、Oを含んでいてもよい。
【0027】ポリアンモニウム塩およびポリホスホニウ
ム塩、特にビス塩もまた適当であり、「モノ」化合物に
対して上記したようなものと同じ置換基が存在してもよ
い。アンモニウム塩およびホスホニウム塩はまた、中性
染料(例えばチオキサンテネン,チオキサントン,クマ
リン,ケトクマリン等)により置換されていてもよい。
そのような塩は反応性基(例えばエポキシ基,アミノ
基,ヒドロキシル基等)により置換されたアンモニウム
塩およびホスホニウム塩と、中性染料の適当な誘導体と
の反応により得られる。相当する例はEP−A2249
67に記載されている(カンタキュアQTX)。
【0028】同様に、アンモニウム塩およびホスホニウ
ム塩はまた、無色の電子受容体(例えばベンゾフェノ
ン)により置換され得る。これらの例はカンタキュアA
BQ
【化47】 、カンタキュアBPQ
【化48】 およびカンタキュアBTC
【化49】 であり、これらはインターナショナル・バイオシンセテ
ィクスから入手できる。
【0029】式Iの化合物は、対イオンとして染料また
はカチオン遷移金属錯体を含まない場合でさえも反応性
である。換言すれば、それらは単分子の形態でさえも使
用され得る。本発明はそれ故にさらに、Gが特に、第1
酸化状態にある周期表I族の金属、特にNa+ 、K+
たはLi+ を表すか、またはGがMgZ1 + またはCa
1 + (式中、Z1 はハロゲン原子または炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基を表す)を表すか、またはGが
アンモニウム塩、スルホニウム塩またはホスホニウム塩
を表す化合物を提供する。アンモニウム塩またはホスホ
ニウム塩は、例えばRa b c d + およびRa
b c d + (式中、Ra 、Rb 、Rc 、Rd は互い
に独立して炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素
原子数3ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2
ないし8のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1ない
し6のアルキル基、ナフチル−炭素原子数1ないし3の
アルキル基またはフェニル基を表す)である。
【0030】単分子光開始剤化合物の反応性はもちろん
補助開始剤、例えば染料の添加により増加され得る。結
果的に、対イオンとして染料カチオンまたはカチオン遷
移金属配位錯体化合物を使用することも可能である。こ
れらの基はボレートのための補助開始剤として作用す
る。式Iの化合物中に使用されるべき陽性の対イオンG
+ の例は以下のイオン:
【化50】 (式中、ZはP、SまたはNを表し、そしてRはアルキ
ル基またはアリール基を表す)を包含する。例えば次
式:
【化51】 の化合物もまた適当である(Yagci 等, J. Polym. Sci.
Part A: Polymer Chem.1992, 30, 1987 およびPolymer
1993,34(6), 1130 に記載されている)または次式:
【化52】 (式中、R’は非置換または置換されたベンジル基また
はフェンアシル基を表す)の化合物(特開平7−702
21号に記載されている)もまた適当である。これらの
化合物の中で、ピリジニウムの芳香環は置換されていて
もよい。テトラアルキルアンモニウムは例えば(炭素原
子数1ないし10のアルキル)4 + 、例えばテトラヘ
キシルアンモニウム、テトラオクチルアンモニウム、テ
トラデシルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムま
たはテトラメチルアンモニウムである。テトラ(炭素原
子数1ないし4のアルキル)アンモニウム、N(炭素原
子数1ないし4のアルキル)+ が好ましく、ここで炭素
原子数1ないし4のアルキルは相当する炭素原子数まで
の上記の定義を有し得る。相当するアンモニウム化合物
は例えばテトラメチルアンモニウム、テトラエチルアン
モニウム、テトラプロピルアンモニウムまたはテトラブ
チルアンモニウム、特にテトラメチルアンモニウムおよ
びテトラブチルアンモニウムである。ベンジル−トリ
(炭素原子数1ないし4のアルキル)アンモニウムはC
6 4 −CH2 −N(炭素原子数1ないし4のアルキ
ル)3 + であり、ここで炭素原子数1ないし4のアルキ
ルは相当する炭素原子数までの上記の定義を有し得る。
そのような基の例はベンジルトリメチルアンモニウム、
ベンジルトリエチルアンモニウム、ベンジルトリプロピ
ルアンモニウムおよびベンジルトリブチルアンモニウ
ム、特にベンジルトリメチルアンモニウおよびベンジル
トリブチルアンモニウムである。
【0031】使用に適するポレートに対するその他の陽
性対イオンG+ は別のオニウムイオン、例えばヨードニ
ウムまたはスルホニウムイオンである。そのような対イ
オンの例はEP−A−555058およびEP−A−6
90074に記載されるような次式:
【化53】 の基である。
【化54】 もまた対イオンとして興味深い。新規ボレートのための
その他の適当な対イオンは次式:
【化55】 (式中、R9 はアルキル基、特にエチル基またはベンジ
ル基を表す)のカチオンであり、そして芳香環はその他
の置換基を有していてもよい。その他の適当な対イオン
はEP−A−334056およびEP−A−56289
7に記載されるようなハロニウムイオン、特にジアリー
ルヨウドニウムイオンである。
【0032】しかしながら、EP−A−949145お
よびEP−A−109851に記載されるようなフェロ
セニウム塩のカチオン、例えば
【化56】 もまた適当である。その他の適当なオニウムカチオン、
例えばアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム、ヨ
ードニウム、セロニウム、アルソニウム、テロニウムお
よびビスムトニウムは例えば特願平6−266102号
に記載されている。
【0033】対イオンとして適当であるカチオン遷移金
属錯体化合物の例は米国特許第4954414号に記載
されている。ビス(2,2’−ビピリジン)(4,4’
−ジメチル−2,2’−ビピリジン)ルテニウム、トリ
ス(4,4’−ジメチル−2,2’−ビピリジン)ルテ
ニウム、トリス(4,4’−ジメチル−2,2’−ビピ
リジン)鉄、トリス(2,2’,2”−ターピリジン)
ルテニウム、トリス(2,2’−ビピリジン)ルテニウ
ムおよびビス(2,2’−ビピリジン)(5−クロロ−
1,10−フェナントロリン)ルテニウムが特に有利で
ある。適当な染料の例は例えばトリアリールメタン、例
えばマラカイトグリーン、インドリン、チアジン、例え
ばメチレンブルー、キサントン、チオキサントン、オキ
サジン、アクリジン、シアニン、ローダミン、フェナジ
ン、例えばサフラニン、好ましくはシアニンおよびチオ
キサントンである。
【0034】式IおよびI’の好ましい化合物は上記式
中、R1 およびR2 が同一であるものである。式I中、
1 、R2 およびR3 が互いに独立してフェニル基また
は異原子を含むかもしくは含まない別の芳香族炭化水素
基を表すが、それらの基は置換されていないか、または
非置換またはOR6 −もしくはR7 8 N−置換された
炭素原子数1ないし6のアルキル基、OR6 、R6
(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 8 N、ハロゲン原
子および/または
【化57】 により1〜5回置換されており、または基R2 およびR
3 が橋を形成して式II、IIaまたはIIbで表され
る構造をとり、R4 がフェニル基、炭素原子数1ないし
20のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロア
ルキル基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、フェ
ニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはナフチ
ル−炭素原子数1ないし3のアルキル基を表し、R12
13、R14およびR15が互いに独立してH、炭素原子数
1ないし12のアルキル基またはフェニル基を表すか、
または基R12、R13、R14およびR15が一緒になって別
の芳香環に縮合されてもよい芳香環を形成し、そしてX
がNまたはOを表す化合物を含有する組成物が興味深
い。
【0035】式IまたはI’中、R4 が炭素原子数1な
いし12のアルキル基、アリル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、ベンジル基またはナフチルメチル基
を表す化合物を含有する組成物が特に強調される価値が
ある。特に好ましいのは、式IまたはI’中、R6 が炭
素原子数1ないし4のアルキル基、トリフルオロメチル
基を表すか、または置換されていないか、または炭素原
子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜
5回置換されたフェニル基を表す化合物を含有する組成
物である。
【0036】式IまたはI’中、R7 およびR8 が炭素
原子数1ないし4のアルキル基、フェニル基またはフェ
ニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表すか、ま
たはそれらが結合されているN原子と一緒なってピロリ
ジノ基、ピペリジノ基またはモルホリノ基を表す化合物
を含有する組成物が興味深い。式I中、R1 およびR2
が2,6−ジ(炭素原子数1ないし6のアルキル)フェ
ニル基、2,6−ジ(炭素原子数1ないし6のアルコキ
シ)フェニル基、2,6−ビス(トリフルオロメチル)
フェニル基、2,6−ジハロフェニル基、2,4,6−
トリ(炭素原子数1ないし6のアルキル)フェニル基、
2,4,6−トリ(炭素原子数1ないし6のアルコキ
シ)フェニル基、2,4,6−トリス(トリフルオロメ
チル)フェニル基または2,4,6−トリハロフェニル
基を表す化合物を含有する組成物もまた好ましい。
【0037】同様に、式I中、R1 およびR2 がメシチ
ル基を表す化合物を含有する組成物が好ましい。その他
の好ましい組成物は、式I中、R1 が1−ナフチル基、
2−(炭素原子数1ないし6のアルキル)ナフチ−1−
イル基、1−アントラシル基、9−アントラシル基また
はフェロセニル基を表す化合物を含有するものである。
その他の興味深い組成物は、式I中、RおよびR2 がo
−(炭素原子数1ないし6のアルキル)フェニル基、o
−(ハロ)フェニル基、o−(炭素原子数1ないし6の
アルコキシ)フェニル基またはo−トリフルオロメチル
フェニル基を表す化合物を含有するものである。
【0038】その他の好ましい組成物は、式I中、R1
およびR2 が同一であり、そして炭素原子数1ないし4
のアルキルおよび/またはハロゲンで1ないし5置換さ
れたフェニル基、ナフチル基またはアントラシル基を表
し、R3 が非置換またはハロゲンもしくは炭素原子数1
ないし4のアルキル置換されたフェニル基、ビフェニル
基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アントラシ
ル基、9−フェナントリル基または1−ピレニル基を表
し、R4 がフェニル基または炭素原子数1ないし4のア
ルキル基を表すか、またはR2 およびR3 が橋を形成し
てYが直接結合である式IIの構造をとり、そしてGが
テトラメチルアンモニウム基、サフラニンOカチオン
【化58】 を表す化合物、または式I’中、R1aがナフチレン基を
表し、そしてEがトリメチルアンモニウム基またはジメ
チルベンジルアンモニウム基を表す化合物を含有するも
のである。
【0039】式Iの化合物は、例えばトリオルガニルボ
ラン(A)を有機金属試薬、例えばアルキルリチウム化
合物またはグリニャール試薬と反応させることにより得
られ得る:
【化59】 Mは例えばアルカリ金属(例としてLiまたはNa)ま
たはMgX(式中、Xはハロゲン原子、特にBrを表
す)を表す。式Iの化合物を製造するための別の可能性
は、例えばアルキルジハロボランまたはアルキルジアル
コキシ−もしくはアルキルジアリールオキシボラン
(B)と有機金属化合物、例えばグリニャール試薬また
はリチウムオルガニル化合物と反応させることにより得
られ得る:
【化60】 Xはハロゲン原子、特にBrを表し、X’はハロゲン原
子、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表す。その
他の基の定義は上記と同じである。式I中のGはリチウ
ムまたはマグネシウム以外の陽性の基であり、これらの
化合物は例えばカチオン交換反応により得られる得る。
【0040】有機金属試薬と反応させる場合の反応条件
は通常当業者に知られている。例えば、反応は不活性有
機溶媒、例えばエーテルまたは脂肪族炭化水素、例とし
てジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはヘキサ
ン中で有利に行われる。新規ポリボレートを調製するた
めの適当な有機金属試薬の例は、相当する脂肪族および
芳香族炭化水素基のリチウム化合物である。グリニャー
ル試薬の調製は当業者に知られており、そして教科書や
その他の刊行物に広く記載されている。有機金属試薬と
の反応は空気を排除して、または不活性ガス、例えば窒
素雰囲気下で有利に行われる。一般に反応は0℃または
それ以下まで冷却して、次いで室温まで加温して行われ
る。反応混合物は攪拌することが有利である。生成物は
単離され、そして当業者には一般的に公知のなものと同
様の方法、例えばクロマトグラフィー、再結晶等により
精製される。
【0041】式Iの新規化合物が染料の基をカチオンと
して含有する場合、これらの化合物は相当するボレート
塩(ホウ酸塩)と染料とのカチオン交換反応により製造
される。該交換のために適当なホウ酸塩の例はリチウ
ム、マグネシウム、ナトリウム、アンモニウムおよびテ
トラアルキルアンモニウム塩である。式Iの化合物が遷
移金属錯体をカチオンとして含む場合、これらの化合物
は米国特許第4954141号明細書第7欄第2項に記
載のものと同様の方法により製造される。
【0042】トリオルガニルボラン(A)の製造:ある
種のアルキルジアリールボランの製造は例えばA. Pelte
r 等によりTetrahedron 1993, 49, 2965に記載されてい
る。ある種のトリアリールボランの合成はDoty等により
J. Organomet. Chem. 1972,38, 229 、Brown 等により
J. Organomet. Chem. 1981, 209, 1、Brown 等によりJ.
Amer. Chem. Soc. 1957, 79, 2302およびWittig等によ
りChem. Ber. 1955, 88, 962に記載されている。 アリールジハロボラン(B)の製造:ある種のアルキル
ジハロボラン(B)の製造のための経路は例えばBrown
等によりJACS 1977,99, 7097および米国特許第3083
288号に示されている。さらに、Mikailov等によりZ
h. Obshch. Khim. 1959, 29, 3405およびTuchagues 等
によりBull. Chim. Soc. France, 1967, 11, 4160 は上
記化合物の製造を記載している。フェニルジフルオロボ
ランの製造はNahm等によりJ. Organomet. Chem. 1972,
35, 9 に記載されている。アルコキシジアルコキシ−お
よびアルキルジアリールオキシボランは、例えばBrown
等, Organometallics 1983, 2 1316; Brown 等, Organo
metallics 1992,11, 3091; Brown 等, J. Org. Chem. 1
980, 2, 1316 等の種々の文献に記載の方法により製造
することができる。新規化合物のための出発材料として
必要なボランは、例えば上記の文献中の方法の一つに従
って得られる得る。
【0043】本発明は、次式IaまたはIa’:
【化61】 (式中、R1 ’およびR2 ’は互いに独立してホウ素原
子への結合に対して少なくとも1つのオルト位で炭素原
子数1ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基
O、S(O)p またはNR5 により中断された炭素原子
数2ないし20のアルキル基、OR6 、R6
(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 8 N、R6 OC
(O)、R7 8 NC(O)、R9 C(O)、R9 10
11Si、R9 1011Sn、ハロゲン原子、R9 10
P(O)q 、CNおよび/または
【化62】 により置換されたフェニル基を表すか、または基R1
およびR2 ’は橋を形成して次式II、IIaまたはI
Ib:
【化63】 で表される構造をとるが、上記式II中の芳香環は置換
されていないか、または炭素原子数1ないし20のアル
キル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはN
5 により中断された炭素原子数2ないし20のアルキ
ル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R
7 8 N、R6 OC(O)、R7 8 NC(O)、R9
C(O)、R9 1011Si、ハロゲン原子、R9 10
P(O)qおよび/またはR9 1011Snにより置換
されており、R1a’は置換されていないか、または炭素
原子数1ないし6のアルキル基、OR6 、S(O)p
6 、OS(O)2 6 、NR8 7 、C(O)OR6
C(O)NR8 7 、C(O)R9 、SiR9 1011
またはハロゲン原子により置換された2価の芳香族炭化
水素基を表すか、またはR1a’はフェニル−炭素原子数
1ないし6のアルキレン基を表し、R3 ’は嵩張る芳香
族基を表し、R4 はフェニル基、炭素原子数1ないし2
0のアルキル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p
またはNR5 により中断された炭素原子数2ないし20
のアルキル基を表すか、または炭素原子数3ないし12
のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし8のアルケニ
ル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基ま
たはナフチル−炭素原子数1ないし3のアルキル基を表
し、上記炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原
子数3ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2な
いし8のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1ないし
6のアルキル基またはナフチル−炭素原子数1ないし3
のアルキル基は置換されていないか、またはOR6 、R
6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 8 N、R6
C(O)、R7 8 NC(O)、R9 C(O)、R9
1011Si、R9 1011Sn、ハロゲン原子、R9
10P(O)q および/またはCNにより置換されてお
り、Yは(CH2 n 、CH=CH、C(O)、N
5 、O、S(O)p または
【化64】 を表し、nは0、1または2を表し、mは2または3を
表し、pは0、1または2を表し、qは0または1を表
し、EはR212223P、R7 7a8 NまたはR6
6aSを表し、R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、R6
およびR6aは互いに独立して炭素原子数1ないし12の
アルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子
数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換され
ていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、
7 、R7aおよびR8 は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されているか、ま
たはR7 およびR8 はそれらが結合されているN原子と
一緒になって、さらにOまたはS原子を含んでいてもよ
い5または6員環を形成し、R9 、R10およびR11は互
いに独立して炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭
素原子数3ないし12のシクロアルキル基、フェニル−
炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を
表し、上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル
基またはフェニル基は置換されていないか、または炭素
原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシ基および/またはハロゲン原子により1
〜5回置換されており、R12、R13、R14およびR15
互いに独立して水素原子、非置換または炭素原子数1な
いし12のアルコキシ置換された炭素原子数1ないし1
2のアルキル基、非置換または炭素原子数1ないし6の
アルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキシもしく
はハロゲンで1ないし5置換されたフェニル−炭素原子
数1ないし6のアルキル基を表すか、または非置換また
は炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素原子数1ない
し12のアルコキシもしくはハロゲンで1ないし5置換
されたフェニル基を表すか、または基R12、R13、R14
およびR15は一緒になって別の芳香環に縮合されてもよ
い芳香環を形成し、R21、R22およびR23は互いに独立
して炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数
2ないし12のアルケニル基または炭素原子数3ないし
12のシクロアルキル基を表し、上記炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアルケ
ニル基および炭素原子数3ないし12のシクロアルキル
基は置換されていないか、またはR6 OCOもしくはC
Nにより置換されており、またはR21、R22およびR23
は非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素
原子数1ないし12のアルコキシまたはハロゲンで1な
いし5置換されたフェニル−炭素原子数1ないし6のア
ルキル基を表すか、または非置換または炭素原子数1な
いし6のアルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキ
シもしくはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基
を表し、そしてGは陽イオンを形成し得る基を表す)で
表される化合物を包含する。
【0044】好ましい化合物は式中、R3 ’が1−もし
くは2−ナフチル基、ビナフチル基、アントラシル基、
フェナントリル基、ピレニル基、キノリル基、イソキノ
リル基、ビフェニル基、o−、m−もしくはp−ターフ
ェニル基またはトリフェニルフェニル基を表すものであ
る。基R1 ’、R2 ’およびR3 ’の定義はR1 、R2
およびR3 に対して上で与えられたものと全く同じであ
る。
【0045】本発明に従って、式Iaの化合物はエチレ
ン性不飽和化合物または該化合物の混合物の光重合のた
めの光開始剤として使用され得る。対イオンとして染料
の基を含有しない式Iaの化合物は単分子光開始剤とし
て使用され得る。それ故に、本発明に係る特別である化
合物は、上記式中、Gが第1酸化状態にある周期表I族
の金属、特にNa+ 、K+ またはLi+ を表すか、また
はGがMgZ1 + またはCaZ1 + (式中、Z1 はハロ
ゲン原子または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を
表す)を表すか、またはGがアンモニウム塩、スルホニ
ウム塩またはホスホニウム塩を表すものである。
【0046】もちろん化合物の反応性を高めるために少
なくとも1種の補助開始剤または電子受容体(c)と組
み合わせて使用され得る。別の光開始剤および/または
その他の添加剤と組み合わせて使用されてもよい。新規
組成物は同様に、成分(a)および(b)に加えて、そ
の他の光開始剤(d)および/またはその他の添加剤、
並びに少なくとも1種の補助開始剤または電子受容体
(c)を含有し得る。
【0047】補助開始剤として添加され得る電子受容体
として適当な染料の例は米国特許第5151520号に
記載されている。例えば、トリアリールメタン、例とし
てマラカイトグリーン、インドリン、チアジン、例とし
てメチレンブルー、キサントン、チオキサントン、オキ
サジン、アクリジンまたはフェナジン、例としてサフラ
ニンである。補助開始剤として、上記遷移貴金属錯体化
合物またはオニウムイオン化合物を使用することも可能
である。カチオン、中性またはアニオン染料は新規化合
物の補助開始剤として使用され得る。特に適当なカチオ
ン染料はマラカイトグリーン、メチレンブルー、サフラ
ニンO、次式III:
【化65】 (式中、RおよびR’はアルキル基またはアリール基を
表し、例としてローダミンB、ローダミン6Gまたはバ
イオラミンR)のローダミン、そしてスルホローダミン
BまたはスルホローダミンGである。
【0048】その他の適当な染料は、例えばNeckers 等
によりJ. Polym. Sci., Part A, Poly. Chem., 1995, 3
3, 1691-1703に記載されているようなフルオロンであ
る。
【化66】 が特に有利である。
【0049】その他の適当な染料の例は次式IV:
【化67】 (式中、R=アルキル基;n=0、1、2、3または
4、そしてY1 =CH=CH,N−CH3 ,C(C
3 2 ,O,SまたはSe)のシアニンである。好ま
しいシアニンは上記IV式中Y1 がC(CH3 2 また
はSのものである。
【0050】以下の染料化合物がまた補助開始剤として
適している:
【化68】 (式中、ZはP、SまたはNを表し、そしてRはアルキ
ル基またはアリール基を表す)。上記式の中の好ましい
化合物は式中ZR3 がN(CH3 3 、N(C25
3 またはP(C6 5 3 であるものである。
【0051】例えばYagci 等によりJ. Polym. Sci. Par
t A: Polymer Chem. 1992, 30, 1987 およびPolymer 19
93, 34(6), 1130 に記載されるような
【化69】 または特開平7−70221号に記載される
【化70】 (式中、R’は非置換または置換されたベンジル基また
はフェンアシル基を表す)の化合物もまた適当である。
上記ピリジニウム化合物は芳香族ピリジニウム環におい
て置換されていてもよい。
【0052】その他の適当な染料は例えば米国特許第4
902604号明細書中に見出される得る。これらはア
ズレン染料である。新規化合物のための補助開始剤とし
て特に適しているのは上記特許明細書の第10および1
1欄に挙げられた化合物1−18である。その他の適当
な染料の例は米国特許第4950581号明細書の第6
欄第20行〜第9欄第57行に記載されている。新規化
合物および組成物のための補助開始剤として、クマリン
化合物を使用することも可能である。これらの例は米国
特許第4950581号明細書の第11欄第20行〜第
12欄第42行に記載されている。その他の適当な補助
開始剤は例えば米国特許第4950581号明細書の第
12欄第44行〜第13欄第15行に記載されているキ
サントンまたはチオキサントンである。アニオン染料化
合物もまた例えば補助開始剤として使用され得る。例え
ば、ローズベンガル、エオシンまたはフルオレセインも
また適している。例えばトリアリールメタン類またはア
ゾ類からのその他の適当な染料は例えば米国特許第51
43818号に記載されている。
【0053】その他の適当な補助開始剤または電子受容
体(c)はベンゾプテリジンジオン(特開平2−113
002号に記載)、置換されたベンゾフェノン(例えば
ミヒラーケトン,インターナショナル・バイオシンセテ
ィクスからのカンタキュアABQ,カンタキュアBPQ
およびカンタキュアBTC)、トリクロロメチルトリア
ジン(特開平1−33548号に記載)、金属錯体(特
開平4−261405号に記載)、ポルフィリン(特開
平6−202548号および特開平6−195014号
に記載)、クマリンおよびケトクマリン(米国特許第4
950581号および特開平6−175557号に記
載)、p−アミノフェニル化合物(EP−A−4751
53に記載)、キサンテン(特開平6−175566号
に記載)またはピリリウム、チオピリリウムおよびセレ
ノピリリウム染料(特開平6−175563号に記載)
である。その他の適当な電子受容体化合物および補助開
始剤は下に記載されている。
【0054】容易に還元し得る化合物、特にハロゲン化
炭化水素がその他の添加剤として使用されるその他の組
成物が興味深い。ハロゲン化炭化水素は適当な容易に還
元し得る化合物である。それらの例は特に以下のもので
ある:
【化71】
【0055】本明細書において「容易に還元し得る化合
物」という用語はまた、米国特許第4950581号に
記載された化合物をも意味し、そして例えばヨードニウ
ム塩、スルホニウム塩、有機過酸化物、炭素−ハライド
結合を有する化合物(トリクロロメチルトリアジン)、
複素環式硫黄化合物およびその他の光開始剤(α−アミ
ノケトン)を包含する。その他の添加剤の例は特許およ
び特許出願であるUS5168032,JP02−24
4050,JP02−54268,JP01−1704
8およびDE383308に記載されているような複素
環類である。その他の添加剤の例はUS5079126
に記載される芳香族イミンであり、そしてUS5200
292に記載される芳香族ジアゾ化合物(例えばイミノ
キノンジアジド)、US4937159に記載されるチ
オール、およびUS4874685に記載されるN,N
−ジアルキルアニリンである。上記の補助開始剤または
電子受容体および添加剤の2種またはそれ以上を組み合
わせて使用することも可能である。
【0056】さらに本発明は、成分(a)および(b)
の他に、少なくとも1種の次式XI:
【化72】 (式中、Ra 、Rb 、Rc およびRd は互いに独立して
炭素原子数1ないし12のアルキル基、トリメチルシリ
ルメチル基、フェニル基、別の芳香族炭化水素基、炭素
原子数1ないし6のアルキルフェニル基、アリル基、フ
ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子
数2ないし8のアルケニル基、炭素原子数2ないし8の
アルキニル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
ル基または飽和もしくは不飽和複素環式基を表し、上記
フェニル基、別の芳香族炭化水素基、フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基または飽和もしくは不飽和
複素環式基は置換されていないか、または非置換または
OR6 −もしくはR7 8 N−置換された炭素原子数1
ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基O、S
(O)p またはNR5 により中断された炭素原子数2な
いし20のアルキル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6
S(O)2 O、R7 8 N、R6 OC(O)、R7 8
NC(O)、R9 C(O)、R9 1011Si、R9
1011Sn、ハロゲン原子またはR9 10P(O)q
CNにより1〜5回置換されており、pは0、1または
2を表し、qは0または1を表し、R5 は水素原子、炭
素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、
上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
はフェニル基は置換されていないか、または炭素原子数
1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回
置換されており、R6 は非置換またはハロゲン置換され
た炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭
素原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表
し、上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基
またはフェニル基は置換されていないか、または炭素原
子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜
5回置換されており、R7 およびR8 は互いに独立して
非置換または炭素原子数1ないし12のアルコキシ−、
ハロゲン−、OH−、COOR6 −もしくはCN−置換
された炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子
数3ないし12のシクロアルキル基、フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、
上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
はフェニル基は置換されていないか、または炭素原子数
1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回
置換されているか、またはR7 およびR8 はそれらが結
合されているN原子と一緒になって、さらにOまたはS
原子を含んでいてもよい5または6員環を形成し、
9 、R10およびR11は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、そし
てZは陽イオンを形成し得る基、特にアルカリ金属、ア
ンモニウムまたはテトラアルキルアンモニウムを表す)
で表される化合物を含有する組成物を提供する。
【0057】炭素原子数1ないし12のアルキル基、芳
香族炭化水素基、炭素原子数1ないし6のアルキルフェ
ニル基、アリル基、フェニル−炭素原子数1ないし6の
アルキル基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、炭
素原子数2ないし8アルキニル基、炭素原子数3ないし
12のシクロアルキル基、飽和または不飽和複素環式
基、陽イオンを形成し得る基、アルカリ金属およびテト
ラアルキルアンモニウム、並びにR5 ないしR11の定義
は式I、I’またはIa’に対して上で与えられたもの
と同一である。
【0058】本発明はさらに、式I、I’、Iaまたは
Ia’で表される少なくとも1種のボレートと、照射の
間または後に色が変化するか、または色を失う少なくと
も1種の染料とからなり、該染料がカチオンとして式
I、I’、IaまたはIa’で表される化合物の構成成
分であり得る組成物を提供する。そのような染料の例は
シアニンまたはピリリウム染料である。
【0059】上記したように、新規ボレート化合物を補
助開始剤、例えば増感剤(=エネルギー移動化合物)と
組み合わせることが有利である。本明細書において、さ
らに、そして特に、2種またはそれ以上の異なる増感剤
との組合せ、例えば新規ボレート化合物と染料を有する
オニウム塩およびチオキサントンまたはクマリンとの混
合物が非常に有効である。これらの混合物において好ま
しいオニウム塩はジフェニルヨードニウムヘキサフルオ
ロホスフェート、(p−オクチルオキシフェニル)(フ
ェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ま
たはこれら化合物の相当するその他のアニオン、例えば
ハロゲン化物;およびまたスルホニウム塩、例えばトリ
アリールスルホニウム塩〔ユニオン・カーバイド社から
のサイラキュア(登録商標)UVI6990,サイラキ
ュアUVI−6974;デグッサ社からのデガキュア
(登録商標)KI85または旭電化社からのSP−15
0およびSP−170〕である。例えば、新規ボレート
化合物とジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフ
ェートおよびイソプロピルチオキサントンとの混合物、
新規ボレート化合物と(p−オクチルオキシフェニル)
(フェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート
およびイソプロピルチオキサントンとの混合物、および
新規ボレート化合物と
【化73】 (=サイラキュアUVI−6974)およびイソプロピ
ルチオキサントンとの混合物が好ましい。また、上記混
合物にα−アミノケトン型のさらに別の光開始剤を添加
することが特に有利である。例えば、新規ボレート化合
物とオニウム塩およびチオキサントンまたは染料および
α−アミノケトンとの混合物が非常に有効である。好ま
しい例は、新規ボレート化合物とジフェニルヨードニウ
ムヘキサフルオロホスフェートまたは(p−オクチルフ
ェニル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、イソプロピルチオキサントンおよび(4−メチル
チオベンゾイル)メチル−1−モルホリノエタンとの混
合物である。これらの混合物における特に適当なボレー
ト化合物はテトラメチルアンモニウムメチルジメシチル
(1−ナフチル)ボレートである。
【0060】それ故に、本発明はまた、成分(a)およ
び(b)の他に、少なくとも1種の中性、アニオンまた
はカチオン染料またはチオキサントン化合物およびオニ
ウム化合物を含有する組成物、および遊離ラジカル光開
始剤、特にα−アミノケトン化合物をさらに含有する上
記組成物を提供する。
【0061】成分(a)の不飽和化合物は1もしくはそ
れ以上のオレフィン性二重結合を含んでいてよい。それ
らは低い(モノマーの)または高い(オリゴマーの)分
子量であってよい。二重結合を含むモノマーの例はアル
キルもしくはヒドロキシアルキルアクリレートまたはメ
タクリレートであり、たとえばメチル、エチル、ブチ
ル、2−エチルヘキシルもしくは2−ヒドロキシエチル
アクリレート、イソボルニルアクリレート、メチルメタ
クリレートもしくはエチルメタクリレートである。シリ
コンアクリレートもまた有利である。他の例はアクリロ
ニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−置
換(メタ)アクリルアミド、ビニルエステル例えば、酢
酸ビニル、ビニルエーテル例えば、イソブチルビニルエ
ーテル、スチレン、アルキル−およびハロスチレン、N
−ビニルピロリドン、塩化ビニルまたは塩化ビニリデン
である。
【0062】2もしくはそれ以上の二重結合を含むモノ
マーの例は、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコー
ルのまたはビスフェノールAのジアクリレート、および
4,4’−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジ
フェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレートもしく
はテトラアクリレート、ビニルアクリレート、ジビニル
ベンゼン、ジビニルスクシネート、ジアリルフタレー
ト、トリアリルホスフェート、トリアリルイソシアヌレ
ートまたはトリス(2−アクロイルエチル)イソシアヌ
レートである。
【0063】比較的高分子量(オリゴマー)のポリ不飽
和化合物の例はアクリル化エポキシ樹脂、アクリル化ポ
リエステル、ビニルエーテルもしくはエポキシ基を含む
ポリエステルおよび、またポリウレタンおよびポリエー
テルである。不飽和オリゴマーの他の例は通常マレイン
酸、フタル酸および1もしくはそれ以上のジオール類か
ら製造され、そして約500ないし3000の分子量を
有する不飽和ポリエステル樹脂である。それに加えてま
た、ビニルエーテルモノマーおよびオリゴマー、ならび
にポリエスルテル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリ
ビニルエーテルおよびエポキシ主鎖によるマレエート末
端オリゴマーを使用することもできる。特に適当なもの
はビニルエーテル基をもつオリゴマーの組合せおよびW
O90/01512に記載されたポリマーの組合せであ
る。しかし、ビニルエーテルおよびマレイン酸官能化モ
ノマーもまた適当である。この種類の不飽和オリゴマー
はまた、プレポリマーとも記載される。
【0064】特に適当な例は、エチレン性不飽和カルボ
ン酸とポリオールもしくはポリエポキシドとのエステ
ル、および主鎖または側鎖中にエチレン性不飽和基をも
つポリマーであり、例えば不飽和ポリエステル、ポリア
ミドおよびポリウレタンおよびそれらのコポリマー、ア
ルキド樹脂、ポリブタジエンおよびブタジエンコポリマ
ー、ポリイソプレンおよびイソプレンコポリマー、およ
び側鎖に(メタ)アクリル基を含むポリマーおよびコポ
リマーならびにこれらのポリマーの1もしくはそれ以上
の混合物である。
【0065】不飽和カルボン酸の例は、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイヒ酸および
不飽和脂肪酸例えば、リノレン酸もしくはオレイン酸で
ある。アクリル酸およびメタクリル酸が好ましい。適当
なポリオールは芳香族の、ならびに特に脂肪族のおよび
脂環式のポリオールである。芳香族ポリオールの例はヒ
ドロキノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,
2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)プロパンおよびまた
ノボラックおよびレゾールである。ポリエポキシドの例
は上述したポリオール、特に芳香族ポリオールおよびエ
ピクロロヒドリンをベースとするものである。他の適当
なポリオールはポリマー鎖または側鎖にヒドロキシル基
を含むポリマーおよびコポリマーであり、例としてポリ
ビニルアルコールおよびそのコポリマーまたはポリヒド
ロキシアルキルメタクリレートまたはそのコポリマーで
ある。適当な他のポリオールはヒドロキシ末端基をもつ
オリゴエステルである。
【0066】脂肪族および脂環式ポリオールの例は好ま
しくは2ないし12個の炭素原子を有するアルキレンジ
オール、例えばエチレングリコール、1,2−または
1,3−プロパンジオール、1,2−,1,3−もしく
は1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサ
ンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、好まし
くは200ないし1500の分子量をもつポリエチレン
グリコール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2
−,1,3−もしくは1,4−シクロヘキサンジオー
ル、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリ
セロール、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタ
エリスリトール、ジペンタエリスリトールおよびソルビ
トールである。
【0067】ポリオールはあるカルボン酸または種々の
不飽和カルボン酸により部分的または全体的にエステル
化されていてもよく、そして部分エステル中遊離ヒドロ
キシル基は変性されていてもよく、例えば他のカルボン
酸とエーテル化またはエステル化されていてもよい。
【0068】エステルの例は以下のものである:トリメ
チルプロパントリアクリレート、トリメチロールエタン
トリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、
テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチ
レングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタ
エリスリトールオクタアクリレート、ペンタエリスリト
ールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ト
リペンタエリスリトールオクタメタクリレート、ペンタ
エリスリトールジイタコネート、ジペンタエリスリトー
ルトリスイタコネート、ジペンタエリスリトールペンタ
イタコネート、ジペンタエリスリトールヘキサイタコネ
ート、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブ
タンジオールジアクリレート、1,3−ブタンジオール
ジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジイタコネ
ート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテ
トラアクリレート、ペンタエリスリトール−変性トリア
クリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ソル
ビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアク
リレート、オリゴエステルアクリレートおよびメタクリ
レート、グリセロールジアクリレートおよびトリアクリ
レート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、分子
量200ないし1500をもつポリエチレングリコール
のビスアクリレートおよびビスメタクリレート、あるい
はそれらの混合物である。
【0069】成分(a)としてまた適当なものは、好ま
しくは2ないし6個の、特に2ないし4個のアミノ基を
有する芳香族、脂環式および脂肪族ポリアミンとの、同
じかまたは異なる、不飽和カルボン酸のアミドである。
このようなポリアミンの例はエチレンジアミン、1,2
−もしくは1,3−プロピレンジアミン、1,2−、
1,3−または1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペ
ンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、オク
チレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−ジアミ
ノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジ
アミン、ビフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチル
エーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
アミン、ジ(β−アミノエトキシ)−またはジ(β−ア
ミノプロポキシ)エタンである。他の適当なポリアミン
は好ましくは側鎖に他のアミノ基をもつポリマーおよび
コポリマー、およびアミノ末端基をもつオリゴアミドで
ある。このような不飽和アミドの例はメチレンビスアク
リルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミ
ド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビ
ス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、β−メタク
リルアミドエチルメタクリレートおよびN[(β−ヒド
ロキシエトキシ)エチル]アクリルアミドである。
【0070】適当な不飽和ポリエステルおよびポリアミ
ドは例えばマレイン酸からおよびジオールもしくはジア
ミンから誘導される。マレイン酸のあるものは他のジカ
ルボン酸によって置換されていてよい。それらはエチレ
ン性不飽和コモノマー、例えばスチレンと一緒に使用し
てよい。ポリエステルおよびポリアミドはジカルボン酸
からおよびエチレン性不飽和ジオールまたはジアミンか
ら、特に比較的長鎖の、例えば6ないし20個の炭素原
子のものから誘導されてもよい。ポリウレタンの例は飽
和もしくは不飽和ジイソシアネートから、および不飽和
またはそれぞれ飽和ジオールを含むものである。
【0071】ポリブタジエンおよびポリイソプレンおよ
びそれらのコポリマーは公知である。適当なコモノマー
の例はオレフィン例えばエチレン、プロペン、ブテンお
よびヘキセン、(メタ)アクリレート、アクリロニトリ
ル、スチレンまたは塩化ビニルである。側鎖に(メタ)
アクリレート基をもつポリマーは同様に公知である。そ
れらは、例えばノボラックをベースとするエポキシ樹脂
と(メタ)アクリル酸との反応生成物であるか、あるい
は(メタ)アクリル酸によりエステル化された、ビニル
アルコールまたはそのヒドロキシアルキル誘導体のホモ
−もしくはコポリマーであるか、あるいはヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリレートによりエステル化された
(メタ)アクリレートのホモ−及びコポリマーであって
よい。
【0072】光重合性化合物は単独でまたはあらゆる所
望の混合物で使用できる。ポリオール(メタ)アクリレ
ートの混合物を使用することは好ましい。バインダーも
またこれらの新規な組成物に添加でき、そして、このこ
とは光重合性化合物が液体または粘性物質である場合に
特に都合がよい。バインダーの量は、例えば全固形含量
に対して5−95重量%、好ましくは10−90重量%
および特に40−90重量%であってよい。バインダー
の選択は適用の分野およびこの分野のために要求される
特性、例えば水性および有機溶媒系での現像に対する能
力、支持体への接着および酸素への感受性によってなさ
れる。
【0073】適当なバインダーの例は約5000ないし
2000000、好ましくは10000ないし1000
000の分子量をもつポリマーである。具体例は次のも
のである:アクリレートおよびメタクリレートのホモお
よびコポリマー、例えばメチルメタクリレート/エチル
アクリレート/メタクリル酸、ポリ(アルキルメタクリ
レート)、ポリ(アルキルアクリレート)のコポリマ
ー;セルロースエステルおよびセルロースエーテル例え
ばセルロースアセテート、セルロースアセトブチレー
ト、メチルセルロース、エチルセルロース;ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴム、ポリエ
ーテル例えば、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレン
オキシドおよびポリテトラヒドロフラン;ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレ
フィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/塩化ビニリデン
コポリマー、塩化ビニリデンとアクリロニトリル、メチ
ルメタクリレートおよび酢酸ビニルとのコポリマー、ポ
リ酢酸ビニル、コポリ(エチレン/酢酸ビニル)、ポリ
カプロラクタムおよびポリ(ヘキサメチレンアジパミ
ド)のようなポリマー、およびポリエステル例えば、ポ
リ(エチレングリコールテレフタレート)およびポリ
(ヘキサメチレングリコールスクシネート)。
【0074】不飽和化合物はまた、光重合性でない、塗
膜形成成分との混合物としてもまた使用できる。これら
は例えば、物理的に乾燥するポリマーまたは有機溶媒、
例えばニトロセルロースまたはセルロースアセトブチレ
ート中のそれらの溶液であってもよい。しかし、それら
はまた、化学的および/または熱的に硬化しうる(熱硬
化性)樹脂であってもよく、具体例はポリイソシアネー
ト、ポリエポキシドおよびメラミン樹脂である。同時に
熱硬化性樹脂を使用することは第一段階で光重合され、
第二段階で熱後処理によって架橋されるハイブリッド系
として公知の系での使用のために重要である。
【0075】本発明はさらに、成分(a)および(b)
の他に、少なくとも1種の補助開始剤または電子受容体
(c)、例えば中性、カチオンもしくはアニオン染料ま
たはUV吸収剤を含有する組成物を提供する。
【0076】適当な染料(c)は上記されている。その
他の適当な例はベンゾキサンテン、ベンゾチオキサンテ
ン、ピロニンまたはポルフィリン染料である。染料とし
てシアニド誘導体を有する組成物が特に好ましい。特に
好ましいシアニドは、式IV中、n=1〜4、Y1 =C
(CH3 2 またはSそしてR=炭素原子数1ないし1
0のアルキル基を表す化合物である。補助開始剤または
電子受容体(c)として適当であるUV吸収剤の例はチ
オキサントン誘導体、クマリン、ベンゾフェノン、ベン
ゾフェノン誘導体またはヘキサアリールビスイミダゾー
ル(HABI)の誘導体である。適当なヘキサアリール
ビスイミダゾール誘導体の例は米国特許第378455
7号、同第4252887号、同第4311783号、
同第4459349号、同第4410621号および同
第4622286号に記載されている。特に興味深いの
は、2−o−クロロフェニル置換誘導体、例えば2,
2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,1’−ビスイミダゾールで
ある。本発明において適当であるその他のUV吸収剤は
例えば多環式芳香族炭化水素、例としてEP−A−13
7452、DE−A−2718254およびDE−A−
2243621に記載されているアントラセンまたはピ
レン、およびトリアジンである。その他の適当なトリア
ジンは米国特許第4950581号明細書の第14欄第
60行〜第18欄第44行に見出され得る。特に興味深
いのは、トリハロメチルトリアジン、例えば2,4−ビ
ス(トリクロロメチル)−6−(4−スチレンフェニ
ル)−s−トリアジンである。
【0077】光開始剤に加えて、光重合性混合物は種々
の添加剤を含んでいてよい。これらの具体例は、早期重
合を防止を意図する熱抑制剤(thermal inhibitor)、例
えばヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−メトキシ
フェノール、β−ナフトールまたは立体障害性フェノー
ル、例えば2,6−ジ−第三ブチル−p−クレゾールで
ある。暗所での貯蔵の安定性を増加させるため、例え
ば、銅化合物例えば、銅ナフテネート、ステアレートも
しくはオクトエート、リン化合物例えば、トリフェニル
ホスフィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスフ
ィット、トリフェニルホスフィットまたはトリベンジル
ホスフィット、第四アンモニウム化合物例えば塩化テト
ラメチルアンモニウムもしくは塩化トリメチルベンジル
アンモニウム、またはヒドロキシルアミン誘導体例え
ば、N−ジエチルヒドロキシルアミンである。重合中に
大気酸素を除くためにポリマー中に充分に溶解せず、重
合の開始において表面に移動し、空気の進入を防ぐ透明
な表層を形成するパラフィンまたは同等のワックス様物
質を加えることもできる。少量で添加できる光安定剤は
紫外線吸収剤、例えばヒドロキシフェニルベンゾトリア
ゾール、ヒドロキシフェニルベンゾフェノン、オキサル
アミドまたはヒドロキシフェニル−s−トリアジンタイ
プのものである。これらの化合物は個別にまたは立体障
害性アミン(HALS)を含むまたは含まない混合物で
使用できる。
【0078】上記UV吸収剤および光安定剤の例は以下
のとおりである: 2.1.2−(2’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾールの例 2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−2’
−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三アミル
−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−
オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−
5’−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニル
エチル〕−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フ
ェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキ
シカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−
(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−
〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチ
ル〕−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオ
クチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリア
ゾールの混合物、2,2’−メチレンビス〔4−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリア
ゾール−2−イルフェノール〕;2−〔3’−第三ブチ
ル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−
ヒドロキシフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールとポ
リエチレングリコール300とのエステル交換体;次
式:〔R−CH2 CH2 −COO(CH2 3 −〕2
(式中、Rは3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ−
5’−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル基
を表す)で表される化合物。
【0079】2.2−ヒドロキシ−ベンゾフェノンの例 4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクチルオキ
シ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4
−ベンジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ
−および2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導
体。
【0080】3.置換されたおよび非置換安息香酸のエ
ステルの例 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ
−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
【0081】4.アクリレートの例 エチルα−シアノ−β, β−ジフェニルアクリレート、
イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリ
レート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチ
ルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシン
ナメート、メチルα−カルボメトキシ−p −メトキシシ
ンナメートおよびN−(β−カルボメトキシ−β−シア
ノビニル) −2−メチルインドリン。
【0082】5.立体障害性アミンの例 ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバ
ケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1
−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)n−ブチル−3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、
1−(ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三
オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリ
アジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、
テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)−1,2,3,4−ブタンテトラオエート、
1,1’−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,
5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステ
アリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5
−ジ第三ブチルベンジル)マロネート、3−n−オクチ
ル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリ
アザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、ビス
(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシネー
ト、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジア
ミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5
−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ビ
ス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−
ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオンお
よび3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオ
ン。
【0083】6.オキサミドの例 4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−
ジエトキシオキサニリド、2,2’−ジオクチルオキシ
−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2,2’−ジドデ
シルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2−エ
トキシ−2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス
(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エト
キシ−5−第三ブチル−2’−エトキサニリドおよび該
化合物と2−エトキシ−2’−エチル−5,4’−ジ第
三ブトキサニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メ
トキシ−二置換オキサニリドの混合物およびo−および
p−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【0084】7.2−(2−ヒドロキシフェニル)−
1,3,5−トリアジンの例 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオ
キシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2−
ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−
ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリ
アジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,
6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−
トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロ
ピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ
−4−オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシ
フェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ
−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシプロポキ
シ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキ
シ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシプロピ
ルオキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチ
ルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔4−
(ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシ
プロポキシ)−2−ヒドロキシフェニル〕−4,6−ビ
ス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリア
ジン。
【0085】8.ホスフィットおよびホスホナイトの例 トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフ
ィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノ
ニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィッ
ト、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペン
タエリトリトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ
第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペン
タエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第
三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニ
ル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシ
ルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)ペンタ
エリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−ト
リス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホ
スフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィ
ット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)
4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオク
チルオキシ−2,4,8,10−テトラ第三ブチル−1
2H−ジベンゾ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホス
ホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ第三
ブチル−12−メチル−ジベンゾ〔d,g〕−1,3,
2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ第三ブチル
−6−メチルフェニル)メチルホスフィットおよびビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチル
ホスフィット。
【0086】光重合を促進するために、アミン、例えば
トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミ
ン、p−ジメチルアミノベンゾエートまたはミヒラーケ
トンを加えることが可能である。アミンの作用はベンゾ
フェノンタイプの芳香族ケトンの添加により強化でき
る。酸素掃去剤として使用できるアミンの例はEP−A
−339841号公開公報に記載される置換N,N−ジ
アルキルアニリンである。他の促進剤、補助開始剤およ
び自動酸化剤は、例えば、EP−A−438123、B
G−2180358および特開平6−268309号に
記載されるような、チオール、チオエーテル、ジスルフ
ィド、ホスホニウム塩、ホスフィンオキシドまたはホス
フィンである。光重合はまた、スペクトル感受性をシフ
トしまたは拡張する他の増感剤を加えることによっても
促進される。それらは特に芳香族カルボニル化合物、例
えばベンゾフェノン、チオキサントン、アントラキノン
および3−アシルクマリン誘導体であり、およびまた3
−(アロイルメチレン)チアゾリンでもあるが、エオシ
ン、ローダミンおよびエリスロシン染料でもある。
【0087】硬化工程は特に(例えば二酸化チタンによ
り)着色された組成物により、および、また加熱条件下
でフリーラジカルを形成する成分、例えば2,2’−ア
ゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリ
ルのようなアゾ化合物、トリアゼン、ジアゾスルフィ
ド、ペンタザジエン、あるいはパーオキシ化合物、例え
ば、ヒドロパーオキシドまたはパーオキシカーボネー
ト、例えばEP−A−245639に記載されるような
第三ブチルヒドロパーオキシドを加えることにより補助
できる。
【0088】他の慣用の添加剤は意図する用途による
が、蛍光増白剤、充填剤、顔料、染料、湿潤剤もしくは
均展剤である。厚いおよび着色した塗膜の硬化のために
は、米国特許第5013768号に記載されているよう
にガラス微小球または粉末化したガラス繊維の添加が適
当である。
【0089】本発明はまた、成分(a)として水中に乳
化または溶解されるエチレン性不飽和光重合性化合物の
少なくとも1つを含む組成物を提供する。そのような輻
射線硬化性水性プレポリマー分散剤の多くの変種は市販
で入手できる。プレポリマー分散物は水の分散物および
その中で分散される少なくとも1つのプレポリマーであ
るとして理解される。これらの系の水の濃度は例えば5
ないし80重量%、特には30ないし60重量%であ
る。輻射線硬化性プレポリマーまたはプレポリマー混合
物の濃度は例えば95ないし20重量%、特に70ない
し40重量%である。これらの組成物では水およびプレ
ポリマーに対するパーセントの総計は意図される使用に
より変化する量で添加される補助剤および添加剤ととも
にそれぞれの場合100である。
【0090】水に分散されそしてしばしば溶解される輻
射線硬化性塗膜形成プレポリマーはそれ自体公知の、一
もしくは多官能価のエチレン性不飽和プレポリマーの水
性プレポリマー分散物であって、フリーラジカルにより
反応開始され得、そして例えばプレポリマー100g当
り重合可能な二重結合を0.01ないし1.0モルの含
量および、例えば少なくとも400、特に500ないし
10000の平均分子量を有するものである。より高分
子量をもつプレポリマーは、しかし意図される用途によ
って考慮に入れられる。EP−A−12339に記載さ
れるように、例えば重合性C−C二重結合を含むおよび
10未満の酸価を有するポリエステル、重合性C−C二
重結合を含むポリエーテル、1分子当たり少なくとも2
つのエポキシド基を含むポリエポキシドと少なくとも1
つのα,β−エチレン性不飽和カルボン酸との反応生成
物、ポリウレタン、(メタ)アクリレート、ならびに、
α,β−エチレン性不飽和アクリル基を含むアクリルコ
ポリマーが使用される。これらのプレポリマーの混合物
は同様に使用できる。また適当なものは、EP−A−3
3896に記載された平均分子量少なくとも600、プ
レポリマー100gにつきカルボキシル基含量0.2な
いし15%および重合性C−C二重結合0.01ないし
0.8モル含量の重合性プレポリマーのチオエーテルの
付加物である重合性プレポリマーである。他の適当な、
特定のアルキル(メタ)アクリレートポリマーをベース
とする水性分散物はEP−A−41125に記載されお
よび適当なウレタンアクリレートの水−分散性輻射線硬
化性プレポリマーはDE−A−2936039に見いだ
し得る。輻射線−硬化性水性プレポリマー分散物に含ま
れ得る他の添加剤は分散助剤、乳化剤、酸化防止剤、光
安定剤、染料、顔料、充填剤例えば、タルク、石膏、ケ
イ酸、ルチル、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化鉄、
反応促進剤、均展剤、滑剤、湿潤剤、増粘剤、艶消剤、
消泡剤および塗料技術において慣用される他の補助剤で
ある。適当な分散助剤は高分子量でありおよび極性基を
含む水溶性有機化合物であり、例えばポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドンまたはセルロースエーテル
である。使用できる乳化剤は非イオン性乳化剤および所
望ならば同様にイオン系乳化剤である。
【0091】ある場合には、新規な光開始剤の2もしく
はそれ以上の混合物を使用することは有利であろう。も
ちろん、公知の光開始剤例えば、ベンゾフェノン、アセ
トフェノン誘導体例えばα−ヒドロキシシクロアルキル
フェニルケトン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒ
ドロキシ−もしくはα−アミノアセトフェノン、4−ア
ロイル−1,3−ジオキソラン、ベンゾインアルキルエ
ーテルおよびベンジルケタール、モノアシルホスフィン
オキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、フェロセ
ン、チタノセン、アントラキノン、チオキサントンまた
はキサントン、との混合物を使用することも可能であ
る。特に適当な光開始剤は以下のものである:1−(4
−ドデシルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチル
エタン、1−(4−イソプロピルベンゾイル)−1−ヒ
ドロキシ−1−メチルエタン、1−ベンゾイル−1−ヒ
ドロキシ−1−メチルエタン、1−[4−(2−ヒドロ
キシエトキシ)−ベンゾイル]−1−ヒドロキシ−1−
メチルエタン、1−[4−(アクリロイルオキシエトキ
シ)−ベンゾイル]−1−ヒドロキシ−1−メチルエタ
ン、ジフェニルケトン、フェニル−1−ヒドロキシ−シ
クロヘキシルケトン、(4−モルホリノベンゾイル)−
1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン、1−
(3,4−ジメトキシフェニル)−2−ベンジル−2−
ジメチルアミノ−ブタン−1−オン、(4−メチルチオ
ベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノ−エタン、
ベンジルジメチルケタール、ビス(シクロペンタジエニ
ル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−ピリル−フェニ
ル)チタン、シクロペンタジエニル−アレーン−鉄(I
I)錯塩、例えば、(η6 −イソプロピルベンゼン)−
(η5 −シクロペンタジエニル)−鉄(II)ヘキサフル
オロホスフェート、トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシ−ベンゾ
イル)−(2,4,4−トリメチル−ペンチル)−ホス
フィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾ
イル)−2,4−ジペンチルオキシフェニル−ホスフィ
ンオキシドまたはビス(2,4,6−トリメチルベンゾ
イル)フェニル−ホスフィンオキシド。他の適当な追加
の光開始剤は米国特許第4950581号の明細書第2
0欄第35行〜第21欄第35行に見出される。トリア
ジン化合物は、例えばEP−A−137452、DE−
A−2718254およびDE−A−2243621に
記載されるトリアジンもまた適当である。その他の適当
なトリアジンは米国特許第4950581号明細書の第
14欄第60行〜第18欄第44行に見出される。トリ
ハロメチルトリアジン、例えば2,4−ビス(トリクロ
ロメチル)−6−(4−スチリルフェニル)−s−トリ
アジンが特に興味深い。この新規な光開始剤がハイブリ
ッド系で使用される場合に、新規なフリーラジカル硬化
剤に加えてカチオン系光開始剤、例えばパーオキサイド
化合物例えば、ベンゾイルパーオキサイド(他の適当な
パーオキサイドは米国特許第4950581号の明細書
第19欄第17〜25行に記載されている)、例えば米
国特許第4950581号の明細書第18欄第60行〜
第19欄第10行に記載されている芳香族スルホニウム
もしくはヨードニウム塩、またはシクロペンタジエニル
−アレーン−鉄(II)錯塩、例えば、(η6 −イソプロ
ピルベンゼン)−(η5 −シクロペンタジエニル)−鉄
(II)ヘキサフルオロホスフェートが使用される。
【0092】従って本発明は、上記したように、光開始
剤(b)に加えて他の光開始剤(d)および/または別
の添加剤の少なくとも1つを含む組成物を提供する。こ
の光重合性組成物は光開始剤(b)および/またはまた
は光開始剤(b)および(d)を組成物に基づいて0.
05ないし15重量%、好ましくは0.1ないし5重量
%の量で都合良く含有する。(示された量は組成物の光
開始剤の総量に関する。) 光開始剤(d)として、チタノセン、フェロセン、ベン
ゾフェノン、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルケ
タール、4−アロイル−1,3−ジオキソラン、ジアル
コキシアセトフェノン、α−ヒドロキシ−またはα−ア
ミノアセトフェノン、α−ヒドロキシシクロアルキルフ
ェニルケトン、キサントン、チオキサントン、アントラ
キノンまたはモノ−もしくはビス−アシルホスフィンオ
キシドまたはそれらの混合物を追加の光開始剤として含
む組成物は特に好ましいものである。
【0093】光重合性組成物は例えば、印刷インキとし
て、透明仕上材として、例えば木材または金属用の白色
仕上材(white finish) として、特に紙、木材、金属ま
たはプラスチック用のコーティング材料として;建築物
および路面標識のマーキングのための、写真による複写
技術のための、ホログラフィー記録材料のための、画像
記録技術のためのまたは有機溶媒または水性アルカリに
より現像できる印刷版を製造するための、スクリーン印
刷用のマスクを製造するための、日光−硬化性(daylig
ht curable) コーティングとして、歯科用充填組成物と
して、接着剤として、感圧接着剤として、積層樹脂とし
て、エッチレジストまたは永久レジストとして、および
電子回路用のソルダーマスクとして、複合材料(例え
ば、所望によりガラス繊維および/または他の繊維およ
び補助剤を含むこともできるスチレン性ポリエステル)
および他の肉圧な組成物を製造するため、塊状硬化(mas
s curing) (透明成形品の紫外線硬化)によりまたは、
米国特許第4575330号に記載されるような、ステ
レオリソグラフィー技術による三次元製品を製造するた
めに、電子部品を被覆または封止するために、あるいは
光ファイバーのための被覆材(コーティング,coating
s) として、種々の目的に使用できる。新規な化合物は
さらに乳化重合のための開始剤として、液晶のモノマー
およびオリゴマーの規則状態を固定するための重合開始
剤として、または有機材料に染料を固定するための開始
剤としてさらに使用できる。
【0094】コーティング材料ではモノ不飽和モノマー
を同様に含むことのできるポリ不飽和モノマーとのプレ
ポリマーとの混合物をしばしば使用する。ここでそれは
最初に塗膜の特性を規定するプレポリマーでありそれを
変化させることにより当業者は硬化した塗膜の特性に影
響させることができる。ポリ不飽和モノマーは塗膜を不
溶にする架橋剤として作用する。モノ不飽和モノマーは
溶媒の必要なく粘度を減少するのに使用される反応性希
釈剤として作用する。不飽和ポリエステル樹脂はモノ不
飽和モノマー、好ましくはスチレンとともに通常二成分
(2パック)系で使用される。フォトレジストに対して
は、特定の1成分系がしばしば使用され、例えばDE−
A−2308830に記載されるようにポリマレイミ
ド、ポリカルコンまたはポリイミドがある。
【0095】新規な化合物およびそれらの混合物はま
た、フリーラジカル光開始剤または輻射線−硬化性粉体
塗料のための光開始系としても使用できる。粉体塗料
(粉末コーティング)は固体樹脂および反応性二重結合
を含むモノマーに基づくものであり、例えばマレエー
ト、ビニルエーテル、アクリレート、アクリルアミドお
よびその混合物である。フリーラジカル性紫外線硬化性
粉末塗料はまた不飽和ポリエステル樹脂を、ソリッドア
クリルアミド類(例えば、メチルメタクリルアミドグリ
コーレート)および例えばM.ウイッティングおよびT
h.ゴーマン(M.Witting and Th. Gohmann)による論
文”Radiation Curing of Powder Coating", Confrence
Proceedings Radtech Europe 1993に記載される配合物
のような新規なフリーラジカル光開始剤と混合すること
により配合物とすることができる。粉末コーティングは
また、例えば、DE−A−4228514およびEP−
A−636669に記載されるようにバインダーを含む
こともできる。フリーラジカル性紫外線硬化性粉末塗料
はまた不飽和ポリエステル樹脂を、固体アクリレート、
メタクリレートまたはビニルエステルと、そして新規光
開始剤(または光開始剤混合物)と混合することにより
配合物とすることができる。紫外線硬化性粉体塗料はさ
らに白色または有色顔料を含んでいてよい。例えば、良
好な隠蔽力の硬化粉体を得るために好ましくはルチル型
二酸化チタンは50重量%以上の濃度で使用できる。方
法は通常、支持体、例えば、金属または木材上への粉体
の静電的もしくは摩擦静電的(tribostatic) 吹付、加熱
による粉体の溶融、ならびに平滑な塗膜が形成された後
の、例えば中圧水銀ランプ、金属ハライドランプまたは
キセノンランプを使用する紫外線および/または可視光
線を用いる塗膜の輻射線−硬化からなる。熱硬化性の相
当物品上にある輻射線−硬化性粉体塗料の特別な利点
は、粉体粒子を溶融後、滑らかな、高光沢性塗膜の形成
を確実にするために流れ時間を遅らせ得ることである。
熱硬化性系と比較して、輻射線−硬化性粉体塗料はそれ
らの保存期間を短くする不所望の作用を伴うことなく、
より低温で溶融するために配合することができる。この
理由のため、それらはまた感熱性支持体、例えば、木材
またはプラスチックスのための被覆材としても適当であ
る。新規な光開始剤に加え、粉体塗料配合物はまた紫外
線吸収剤を含んでいてもよい。適当な例は上に挙げた1
ないし8項にあるものである。
【0096】新規な光硬化性組成物は例えば、木材、織
物、紙、セラミックス、ガラス、プラスチックス例え
ば、特にフィルムの形態におけるポリエステル、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリオレフィンまたはセルロー
スアセテート、ならびに金属、例えばAl、Cu、N
i、Fe、Zn、MgまたはCoおよびGaAs、Si
またはSiO2 のような、保護層を適用しまたは、画像
様露光の方法により、再生画像を精製することを目的と
する、あらゆる種類の支持体(基材)のためのコーティ
ング材料として適当である。
【0097】支持体の塗布は液体組成物、溶液または懸
濁液を基材に塗布することにより行うことができる。溶
媒の選択および濃度は主に組成物の種類および塗布技術
に依存する。溶媒は、不活性、即ち成分と化学反応せ
ず、そして冷却後、乾燥の間に再度除去可能なものであ
るべきである。溶媒の例は、メチルエチルケトン、イソ
ブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサ
ノン、N−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタ
ノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1,2−ジ
メトキシエタン、酢酸エチル、n−ブチルアセテートお
よびエチル3−エトキシプロピオネートである。溶液は
公知の塗布技術、例えばスピン塗布、浸漬被覆、ナイフ
塗布、カーテン塗布、刷毛塗り、吹付特に静電吹付によ
る吹付、ならびにリバースロール塗布によって、および
また電気泳動塗装によって支持体に均質に塗布される。
また感光性層を一時的に可撓性の支持体に塗布して次に
積層によって層を転写することにより最終的な支持体、
例えば銅張回路板に塗布することもできる。
【0098】塗布される量(塗膜厚)および支持体の性
質(層支持材)は所望の適用分野による。塗布厚の範囲
は一般に約0.1μmないし100μm以上の値を含
む。
【0099】新規な輻射線感受性組成物は光に対して非
常に高い感受性をもち、そして水性アルカリ媒体により
膨潤することなく現像され得るネガ型レジストとしての
適用が見いだされる。それらはエレクトロニクス(電気
メッキレジスト、エッチングレジストもしくはソルダー
レジスト)のためのフォトレジストとして、オフセット
印刷版またはスクリーン印刷のような印刷版の製造、蝕
刻で使用するために、あるいは集積回路の製造のマイク
ロレジストとして適している。可能な層支持材、ならび
に被覆支持体の加工条件は適当に変化できる。
【0100】本発明の化合物はまた、単彩色または多彩
色が可能である画像記録または画像複製(複写、電子複
写)のための1またはそれより多い積層された材料の製
造への適用が見いだされている。さらにまた、材料は着
色防止系(color proofing systems) に適当である。こ
の技術においてはマイクロカプセルを含む配合物が適用
でき、画像形成のために輻射線硬化は熱処理させること
ができる。この様なシステムおよび技術やそれらの適用
は例えば米国特許第5376459号に開示される。
【0101】写真による情報記録のために使用される支
持体は、例えば、ポリエステルのフィルム、セルロース
アセテートまたはポリマー塗被紙を含み;オフセット印
刷型(offset printing formes) のための支持体は特に
処理されたアルミニウムであり、プリント回路を製造す
るための支持体は銅張積層体であり、ならびに集積回路
を製造するための支持体はシリコンウエハである。写真
材料およびオフセット印刷型のための層厚は一般に約
0.5μmないし10μmであり、同時にプリント回路
のための層厚は1.0μmないし約100μmである。
支持体の塗布に続いて、溶媒が一般には乾燥により除去
され、支持体上にフォトレジストの塗膜が残る。
【0102】用語「画像様(image-wise) 」露光は予め
決められたパターンを有するフォトマスク例えばスライ
ドを通す露光、例えばコンピューター制御下で、塗布さ
れた支持体の表面上を動きそしてこれにより画像を形成
するレーザービームによる露光、およびコンピューター
制御された電子ビームによる照射を含む。材料の画像様
露光に続き、そして現像の前に短時間に熱処理を行うこ
とは有利であろう。この場合には露光した領域のみが熱
硬化される。使用される温度は一般に50−150℃、
好ましくは80−130℃であり、熱処理の時間は一般
に0.25ないし10分である。
【0103】光硬化性組成物はさらに例えばDE−A−
4013358に記載されたような印刷版またはフォト
レジストを製造する方法に使用できる。この様な方法で
は画像様に照射する前に、同時またはその後、組成物は
マスクなしで少なくとも400nmの波長である可視光
線に短時間、露光される。露光の後、そして熱処理を行
う場合には、感光性塗膜の露光されない領域はそれ自体
公知の方法による現像によって除去される。
【0104】既に言及したように、新規な組成物は水性
アルカリで現像できる。特に適当な水性アルカリ現像液
は水酸化テトラアルキルアンモニウム水溶液、アルカリ
金属シリケート、ホスフェート、水酸化物および炭酸塩
の水溶液である。所望ならばこれらの溶液に湿潤剤およ
び/または有機溶媒のごく少量を添加することも可能で
ある。現像溶液に少量で加えることのできる代表的な有
機溶媒の例はシクロヘキサノン、2−エトキシエタノー
ル、トルエン、アセトンおよびこれらの溶媒の混合物で
ある。バインダーの乾燥時間がグラフィック製品の生成
速度のための重要因子でありそしてそれはほんの数秒の
オーダーであるべきなので、光硬化は印刷に非常に重要
である。UV硬化性インキはスクリーン印刷に特に重要
である。
【0105】既に上述したように、新規な混合物はま
た、印刷版を製造するのに非常に適当である。この用途
では、例えば溶解性直鎖ポリアミド類またはスチレン/
ブタジエンおよび/またはスチレン/イソプレンゴム、
カルボキシル基を含むポリアクリレートまたはポリメチ
ルメタクリレート、光重合性モノマー、例えばアクリル
アミドおよび/またはメタクリルアミドを伴うポリビニ
ルアルコールもしくはウレタンアクリレート、あるいは
アクリレートおよび/またはメタクリレートと光開始剤
との混合物を使用する。これらのシステムのフィルムお
よびプレート(湿式または乾式)は印刷される原本のネ
ガ(またはポジ)上に露光され、硬化されない部分は続
いて適当な溶媒を使用して洗い落とされる。
【0106】光硬化が使用される他の分野は金属の塗
装、各々場合において、例えば、金属板および管、缶ま
たは瓶の蓋の塗装であり、そして例えばPVCをベース
とする床または壁仕上材のようなポリマー被覆材の光硬
化である。塗被紙の光硬化の例は、ラベル、レコード入
れおよびブックカバーの無色のワニス塗布である。
【0107】また、複合材料組成物から作られる成形品
の硬化のための新規な化合物の使用も重要である。この
複合材料化合物は自己支持性マトリックス材料、例えば
ガラス繊維織物または代わりに例えば植物繊維〔Kunsts
toffe 85(1995),366-370におけるK.−P.ミエック,
T.ロイスマン(K.-P. Mieck, T.Reussmann) 参照〕の
ような、光硬化配合物で含浸されたものである。新規な
化合物を使用して製造された場合、複合材料化合物から
なる成形部品高いレベルの機械的安定性および機械抵抗
性が達成される。新規な化合物は例えばEP−A−70
86に記載されるような成形、含浸および塗装組成物の
光硬化剤として使用することもできる。このような組成
物の例は硬化活性および黄変抵抗性に関する厳密な要求
を受けるゲルコート樹脂、および例えば平面であるかま
たは長さ方向もしくは幅方向の波形(Lengthwise or cr
osswise corrugation)をもつ光拡散パネル(light diff
using panels) のような繊維強化成形品である。このよ
うな成形品を製造するための技術、例えばハンドレイア
ップ、スプレーレイアップ、遠心注型またはフィラメン
ト巻きは、例えば、P.H.セルデン(P.H.Selden) に
より、”Glasfaserverstarkte Kunststoffe", 第610
頁,Springer Verlag, Berlin-Heidelberg-NewYork 1967
に記載されている。これらの技術により製造すること
のできる製品の例は、ボート、ガラス繊維強化プラスチ
ックを両面塗布しこ繊維ボードまたはチップボードパネ
ル、パイプ、容器等々である。成形材料、含浸材料およ
び塗料組成物の他の例は、ガラス繊維(GRP)を含む
成形品例えば、波形板およびラミネート紙のためのUP
樹脂ゲルコートである。ラミネート紙は尿素樹脂または
メラミン樹脂をベースとする。ラミネートの製造の前に
ゲルコートは支持材(例えばフィルム)上に製造され
る。新規な光硬化性組成物はまた注型用樹脂、または製
品例えば、電子部品を埋封するためにも使用できる。硬
化は慣用の紫外線硬化に使用できる中圧水銀ランプを使
用して行われる。しかし、より強度の少ないランプ、例
えばTL40W/03またはTL40W/05のタイプ
が特に関係する。これらのランプの強度は日光の強度に
ほぼ相当する。硬化のために直射日光を使用することも
できる。さらに有利には、複合材料は部分的に硬化され
た塑性状態で光源から取り出し、そして続いて生じる完
全硬化により成形できることである。
【0108】本発明による組成物および化合物は導波管
および光学スイッチの製造のために使用され得、それに
よる利点は照射領域と未照射領域の間で屈折率に相違が
生じることである。画像形成技術および情報用の光学製
品のための光硬化性組成物の使用はまた重要である。こ
のような適用においては、既に上述したとおり、支持材
に塗布された層(湿潤または乾燥)はフォトマスクを通
して紫外線または可視光線により照射され、そして層の
露光されない領域は溶媒(現像液)による処理により除
去される。金属への光硬化性層の塗布は電着によっても
行われる。露光領域は架橋により重合されそしてそのた
め不溶となりそして支持材上に残る。適当な着色は可視
画像を製造する。支持材が蒸着層の場合、金属は、露光
および現像に続いて露光されない領域において腐蝕して
取り去るかまたは電気めっきにより強化する。この様に
して電子回路およびフォトレジストを製造することがで
きる。
【0109】新規な組成物の感光性は、一般に約200
nmから紫外領域を経て赤外領域(約20000nm、
特に1200nm)まで拡がっており、そのため全範囲
は非常に広い範囲である。適当な輻射線は例えば日光ま
たは人工光源に存在する。結論として、非常に異なる多
数のタイプの光源が使用できる。点光源および線光源
(「ランプカーペット」)が適当である。具体例はカー
ボンアークランプ、キセノンアーク灯または金属ハライ
ドでドープ塗布されていてもよい中圧、高圧および低圧
の水銀蒸気ランプ(金属ハライドランプ)、マイクロウ
ェーブ励起金属蒸気ランプ(microwave-stimulated met
al vapour lamps)、エキシマーランプ(excimer lamps)
、スーパーアクチニック蛍光灯(superactinic fluores
ent tubes)、蛍光ランプ、アルゴン白熱灯、電子閃光ラ
ンプ、写真投光ランプ、シンクロトロンまたはレーザー
プラズマによる電子ビームおよびX線である。ランプと
照射される本発明による基材との距離は意図する用途お
よびランプのタイプおよび強度により変化でき、例えば
2cmないし150cmであってよい。レーザー抗原、
例えばエキシマレーザーが特に適している。特に好適な
光源はレーザー光源、例えば248nmにおける露光に
対するクリプトン−Fレーザーのようなエキシマーレー
ザーである。可視領域および赤外領域におけるレーザー
もまた使用できる。この場合、新規な材料の高い感受性
は非常に有利である。この方法により、電子工業におけ
るプリント回路、リソグラフィーによりオフセット印刷
版またはレリーフ印刷版ならびにまた写真画像記録材料
を製造できる。
【0110】従って、本発明はまた、少なくとも1種の
エチレン性不飽和二重結合を含む非揮発性のモノマー
性、オリゴマー性またはポリマー性化合物の光重合のた
めの方法であって、該化合物に少なくとも1種の上記式
I、I’またはIa中、Gが第1酸化状態にある周期表
I族の金属、特にNa+ 、K+ またはLi+ を表すか、
またはGはMgZ1 + またはCaZ1 + (式中、Z1
ハロゲン原子または炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基を表す)を表すか、またはGはアンモニウム塩、スル
ホニウム塩またはホスホニウム塩を表す化合物を添加
し、そしてこの混合物を赤外領域からUV領域ないし2
00nmの波長の光で照射することからなる上記光重合
方法に関する。
【0111】
【発明の実施の形態】本発明はさらに着色および未着色
のコーティング材料、粉末コーティング、印刷インキ、
印刷版、接着剤、歯科用組成物、導波管、光学スイッ
チ、着色防止系、ガラス繊維ケーブルコーティング、ス
クリーン印刷ステンシル、レジスト材料を製造するため
に、電気および電子部品を包囲(封止)するために、複
合材料を製造するために、磁気記録材料を製造するため
に、ステレオリソグラフィーにより3次元物品を製造す
るために、写真による複製のために、および画像記録材
料として、特にホログラフィーによる記録のために上記
組成物を使用する方法を提供する。
【0112】本発明はさらに上記の組成物で少なくとも
一方の表面が被覆されている被覆された基材、および被
覆された基材が画像様に露光され、そして次に未露光部
分を溶媒により除去するレリーフ画像の写真による形成
方法を記載する。本発明において特に興味深いのは既に
記載したレーザービーム露光である。
【0113】式I、I’およびIaの化合物は空気中で
安定な白色粉体である。既に上記したように、これらの
化合物において、基R1 、R2 およびR3 のいずれかの
少なくとも2つは両方のオルト位で置換された芳香族炭
化水素基またはフェニル基を表すか、または少なくとも
1つの基R1 、R2 またはR3 は立体的に嵩張るアリー
ル基を表し、そしてR1 、R2 およびR3 の残りの基は
少なくとも一方のオルト位で置換された芳香族炭化水素
基またはフェニル基を表す。
【0114】これらの化合物は驚くべきことに単分子フ
リーラジカル光開始剤として良好な反応性を示すもので
ある。換言すれば、それらは補助開始剤を添加しない場
合でも、エチレン性不飽和化合物の光重合を開始するの
に十分な程反応性である。電子吸引基を含む式I、I’
およびIaの化合物はまた、一般に、酸安定性であり、
そして光硬化剤として酸性の光重合し得る配合物中で使
用され得る。
【0115】新規ボレート化合物は光重合反応のための
開始剤としてだけでなく、熱重合開始剤として使用され
得る。それ故に、本発明はさらに、エチレン性不飽和二
重結合を含有する化合物の熱重合のための開始剤として
式IおよびI’で表される化合物を使用する方法、およ
び少なくとも1種の式IまたはI’で表される化合物を
重合開始剤として添加することからなる、エチレン性不
飽和二重結合を含有する化合物の熱重合方法を提供す
る。
【0116】
【実施例】以下の実施例は本発明をより詳細に記載す
る。部および%は特記しない限り重量に基づくが、これ
は本実施例およびその他の明細書の記載においても同様
である。
【0117】I.ボランの製造 実施例1:(方法A) アリールジメシチルボランを製造するための一般的方法 ジメシチルビフェニルボランの製造 ヘキサン中のブチルリチウム1.1当量(0.077モ
ル)をテトラヒドロフラン(THF)100ml中の4
−ブロモビフェニル16.3g(0.07モル)の溶液
に−78℃で15分かけて添加する。反応混合物をその
温度で3時間攪拌する。次いで固体ジメシチルフルオロ
ボラン18.8g(0.07モル)を添加し、そして混
合物を室温まで加温し、そして1時間さらに攪拌する。
混合物を水500ml中に注ぎ、そして酢酸エチルでの
抽出を行う。MgSO4 上での乾燥、濾過および濃縮を
行うと、淡い黄色固体生成物が得られ、これを沸騰する
アセトニトリルで精製する。生成物22.9g(理論値
の81%)が融点範囲165−166℃の白色固体とし
て得られる。 1H−NMRにおけるシフトδは第1表に
示されている。
【0118】実施例2〜13,22,23および24 ボラン2〜13,22,23および24は相当する出発
物質を用い上記方法Aと同様の操作を行うことにより得
られる。化合物およびそれらの構造は第1表に示されて
いる。
【0119】第1表
【表1】
【表2】
【表3】
【0120】実施例14:(方法B) ビス(2−メチルナフチ−1−イル)フェニルボランの
製造 ペンテン中の第三ブチルリチウムの1.5M溶液27m
lをTHF40ml中の1−ブロモ−2−メチルナフタ
レン4.42g(0.02モル)の溶液に−78℃で
1.5時間かけて添加する。反応混合物を1時間攪拌す
る。フェニルジフルオロボラン1.1ml(1.26
g,0.01モル)を添加する。混合物を次に室温まで
加温し、そして2時間さらに攪拌する。混合物を水30
0ml中に注ぎ、そして得られる懸濁液を濾過する。生
成物をクロマトグラフィー(SiO2,ヘキサン)によ
り精製すると、融点208−209℃の白色固体として
ボラン1.43g(すなわち理論値の39%)が得られ
る。CDCl3 中で測定した 1H−NMRのシフトδは
以下のとおりである:7.72ppm(d,4,J=
8.3Hz),7.53ppm(d,2,J=8.6H
z),7.40−7.35ppm(m,3),7.25
−7.15ppm(m,6),7.03ppm(t,
4,J=7Hz)および2.16ppm(s,6)。
【0121】実施例15および16 ボラン15および16は相当する出発物質を用い上記方
法AまたはBと同様の操作を行うことにより得られる。
化合物およびそれらの構造は第2表に示されている。
【0122】第2表
【表4】
【0123】実施例17:
【化74】 CH2 Cl2 5ml中の(フェニルチオ)フェニルジメ
シチルボラン1.09g(0.0025モル)およびト
リフルオロメチルスルホネート0.45g(0.002
75モル)の溶液を調製し、そして21時間静置する。
反応混合物を引続き濃縮し、そして得られる固体をヘキ
サンで処理する。白色懸濁液を濾過すると白色固体0.
94g(すなわち理論値の63%)が得られる。CD3
COCD3 中で測定した 1H−NMRのシフトδは以下
のとおりである:8.20−8.15ppm((m,
4),7.87−7.64ppm(m,5),6.85
ppm(s,4),4.00ppm(s,3),2.2
6ppm(s,6)および1.94ppm(s,1
2)。
【0124】実施例18:(1−ジメチルアミノナフチ
ル)(ジメシチル)ボラン 本化合物は相当する出発物質を用い実施例1に記載の方
法Aより製造される。融点は160−162℃である。
CDCl3 中で測定した 1H−NMRスペクトルにおけ
るシグナルは以下のように現れる:6.09ppm
(d,1,J=8Hz),7.78ppm(d,1,J
=8Hz),7.37−7.28ppm(m,2),
7.11ppm(dt,1,J=7Hz),6.81p
pm(d,1,J=8Hz),6.69ppm(s,
4),2.28ppm(s,6),2.21ppm
(s,6)および1.88ppm(br s,12)。
【0125】II.ボレートの製造 実施例1a:(方法C)トリオルガニルボランからボレ
ートを製造するための一般的方法 テトラメチルアンモニウムジメシチルブチルビフェニル
ボレートの製造 ヘキサン中のブチルリチウム1当量(0.005モル)
をジエチルエーテル10ml中のジメシチルビフェニル
ボラン2.0g(0.005モル)の懸濁液に、温度が
5℃を越えないような速度で添加する。反応混合物を室
温まで加温し、そして2時間攪拌する。得られる2相の
混合物を水50mlおよびヘキサン40ml中の塩化テ
トラメチルアンモニウム1.1g(0.01モル)の激
しく攪拌された溶液に注ぐ。沈澱した固体を濾別し、ヘ
キサンそして水で洗浄し、さらに真空下で乾燥させる
と、融点範囲141−144℃の白色固体として生成物
2.2g(理論値の82%)が得られる。11B−NMR
(CD3 OCD3 中で測定)におけるシフトシグナルδ
は−8.45ppmに現れる。
【0126】実施例1a〜15a,25a 実施例1a,2a〜2d,3a〜3d,4a,4b,5
a,5b,6a,6b,7a,8a,9a,11a,1
4a,15aおよび25aのボレートは相当するボラン
を用いて上記方法Cに準拠して製造される。構造、製造
方法および物理的データは第3表に示されている。
【0127】第3表
【表5】
【表6】
【表7】
【0128】実施例17a:メチル4−〔(フェニル)
(メチル)スルホニオ〕フェニルジメシチルボレート 式I’中、R2 がメシチル基を表し、R3 がメシチル基
を表し、R4 がメチル基を表し、R1aがフェニレン基を
表し、そしてEが次式:
【化75】 で表される基を表す化合物 本化合物は化合物17から出発して方法Cにより製造さ
れるが、仕上げは濃縮、酢酸エチルへの溶解、水での洗
浄、硫酸マグネシウム上での乾燥、濾過および再濃縮に
より行われる。融点195−200℃の白色固体が得ら
れる。11B−NMRにおけるシフトはDMSO−d6
おいて測定されて−5.75ppmにある。
【0129】実施例19a:メチル1−トリメチルアン
モニオナフチルジメシチルボレート 式I’中、R2 がメシチル基を表し、R3 がメシチル基
を表し、R4 がメチル基を表し、R1aがナフチレン基を
表し、そしてEがN(CH3 3 を表す化合物 本化合物は化合物17に対して記載した方法を用い化合
物18aから出発して製造されるが、反応混合物の濃縮
の後、残渣を酢酸エチル中に溶解し、そして水で洗浄す
る。MgSO4 での処理、濾過および濃縮により、白色
固体が得られる。 1H−NMRスペクトル(CD3 CO
CD3 )におけるシフトδは以下のとおり現れる:8.
63ppm(d,1,J=9Hz),8.28ppm
(d,1,J=8Hz),7.61ppm(m,1),
7.55ppm(d,1,J=8Hz),7.32pp
m(m,2),6.62ppm(s,4),3.90p
pm(s,9),2.27ppm(s,6),1.83
ppm(s,12)および0.66ppm(m,3)。
【0130】実施例20a:メチル1−ベンジルジメチ
ルアンモニオナフチルジメシチルボレート 式I’中、R2 がメシチル基を表し、R3 がメシチル基
を表し、R4 がメチル基を表し、R1aがナフチレン基を
表し、そしてEがN(CH3 2 (CH2 65 )を
表す化合物 本化合物は化合物17に対して記載した方法を用い化合
物18aから出発して製造されるが、アセトニトリル中
の臭化ベンジル2当量との反応を行い、そして反応混合
物の濃縮の後、酢酸エチル中に残渣を溶解し、そしてそ
れを水で洗浄する。MgSO4 での処理、濾過および濃
縮により、融点125−128℃を有する白色固体が得
られる。 1H−NMRスペクトル(CD3 CN)におけ
るシフトδ(ppm)は以下のとおり現れる:8.62
ppm(d,1,J=9Hz),8.42ppm(d,
1,J=9Hz),7.64ppm(t,1,J=7H
z),7.47−7.00ppm(m,6),6.83
ppm(d,2,J=7Hz),6.61ppm(s,
4),5.44ppm(s,2),3.83ppm
(s,6),2.26ppm(s,6),1.84pp
m(s,12)および0.69ppm(m,3)。
【0131】実施例21a:次式:
【化76】 のテトラメチルアンモニウム2,2’−ビフェニリルジ
メシチルボレートの製造 ペンタン(0.091モル)中の第三ブチルリチウムの
1.5M溶液60.5mlをテトラヒドロフラン(TH
F)80ml中の2,2’ジブロモビフェニル7.06
g(0.023モル)の攪拌された溶液に−78℃で
2.5時間かけて添加する。引続き反応混合物を−78
℃でさらに1時間攪拌し、次いでジメシチルフルオロボ
ラン6.06g(0.0226モル)を添加する。反応
混合物を徐々に室温まで加温し、そしてこの温度で15
時間さらに攪拌する。溶媒を除去し、そして得られる固
体をメタノール::H2 O(4:1)100ml中に溶
解する。懸濁液を濾過し、そして濾液を塩化テトラメチ
ルアンモニウム2.97g(0.027モル)で処理す
る。沈澱した固体を濾別し、酢酸エチルで洗浄し、さら
に真空下で乾燥させると、融点が230℃以上である白
色固体6.31g(理論値の59%)が得られる。CD
3 CN中で記録された11B−NMRスペクトルにおける
シフトシグナルは−1.02ppmにある。
【0132】実施例2g〜2t 実施例2g〜2tの化合物は方法Cにより製造される。
構造およびデータは第3b表に示されている。
【0133】第3b表
【表8】
【表9】
【0134】実施例22a,22b,23a,23bお
よび24a 本化合物は相当する出発物質を用い上記方法Cに準拠し
て製造される。化合物は第4表に示されている。
【0135】第4表
【表10】
【0136】実施例26:クリアコートにおける反応性
試験 光硬化性組成物は以下の成分を混合することにより調製
される: ジペンタエリトリトールモノヒドロキシペンタアクリレ
ート〔登録商標SR399,サルトメール(クライノー
社,フランス)〕 10.0g トリプロピレングリコールジアクリレート 15.0g N−ビニルピロリドン(フルカ社) 15.0g トリメチロールプロパントリアクリレート(デグッサ
社) 10.0g ウレタンアクリレート(登録商標アクチランAJ20,
ソシエテ・ナショナーレ・デュ・プードル・エ・エスプ
ロシフス) 50.0g レベル助剤(登録商標Byk300,バイク−マリンク
ロッド) 0.3g。
【0137】上記組成物の一部を40℃まで加熱し、そ
して試験されるべきボレート光開始剤を配合物の全量に
基づいて1.6%、上記温度で配合物中に溶解する。全
ての操作は赤色光の下で行われる。開始剤が添加された
試料を300μmのアルミニウム箔に適用する。乾燥フ
ィルムの厚さは約60〜70μmである。76μmのポ
リエステルフィルムをこのフィルムに適用し、そして2
1ステップの異なる光学濃度を有する標準テストネガ
(ストーファーウェッジ)をその上に載せる。試料を第
2のUV透過フィルムで覆い、そして減圧下で金属プレ
ート上に圧縮する。露光は5kW MO61ランプを用
いて30cmの距離から20秒間行う。露光に続き、カ
バーおよびマスクを取り除き、そして露光済みフィルム
を超音波浴内のエタノール中23℃で10秒間現像す
る。フィルムを対流オーブン中40℃で5分間乾燥させ
る。使用された開始剤系の感度はタックなしに再生され
た最後のウエッジステップを示すことにより特徴づけら
れる。ステップ数が多いほど、試験された系の感度は高
い。結果は第4aないし4g表にまとめて示されてい
る。
【0138】
【0139】
【0140】
【0141】
【0142】
【0143】実施例27 試験されるべきボレート光開始剤0.4%および(N,
N’−ジブチル)ジメチルインドカルボシアニンクロリ
ド0.3%を実施例25に記載した配合物中に混合す
る。フィルム製造、硬化および反応性の決定は実施例2
6に記載のものと同様に行う。結果は第5ないし5f表
に再現されている。
【0144】 * b=配合物は褪色作用(bleaching behaviour) を示す
(肉眼による試験)
【0145】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験) −=肉眼では褪色作用が見られない
【0146】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験) −=肉眼では褪色作用が見られない
【0147】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験)
【0148】
【0149】
【0150】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験) −=肉眼では褪色作用が見られない
【0151】実施例28:モノマー−ポリマー混合物の
光硬化 光硬化性組成物は以下の成分を混合することにより調製
される: サルトメールSR444(登録商標),ペンタエリトリ
トールトリアクリレート(サルトメール・カンパニー,
米国ウエストチェスター) 37.64g サイメル301(登録商標),ヘキサメトキシメチルメ
ラミン(アメリカン・シアナミド社,米国) 10.7
6g カーボセット525(登録商標),カルボキシル基を含
有する熱硬化性ポリアクリレート(B.F.グッドリッ
チ社) 47.30g ポリビニルピロリドンPVC(GAF社,米国) 4.
30g 塩化メチレン 319.00gおよびメタノール 3
0.0g。
【0152】上記組成物の一部を各々の場合において固
体含量に基づいて新規ボレートを1.6%と室温で1時
間攪拌することにより混合する。全ての操作は赤色光の
下で行われる。開始剤が添加された試料を300μmの
アルミニウム箔(10×15cm)に適用する。まず最
初に室温で5分間乾燥させ、そして次に対流オーブン内
60℃で15分間加熱することにより溶媒を除去する。
このようにして調製した約30〜35μmのフィルムに
厚さ76μmのポリエステルフィルムを載せ、そして2
1ステップの異なる光学濃度を有する標準テストネガ
(ストーファーウェッジ)をその上に載せる。試料を第
2のUV透過フィルムで覆い、そして減圧下で金属プレ
ート上に圧縮する。露光は4kWキセノンランプを用い
て30cmの距離から40秒間行う。露光に続き、フィ
ルムーおよびマスクを取り除き、そしてコーティングさ
れたフィルムを超音波浴内の炭酸ナトリウムの0.85
%強度の溶液中で240秒間現像する。フィルムを対流
オーブン中60℃で15分間乾燥させる。使用された開
始剤系の感度はタックなしに再生された最後のウエッジ
ステップを示すことにより特徴づけられる。ステップ数
が多いほど、試験された系の感度は高い。結果は第6表
および第6a表にまとめて示されている。
【0153】
【0154】
【0155】実施例29 染料カチオンを有するボレート光開始剤0.3%を実施
例28に記載した配合物中に混合する。フィルム製造、
硬化および反応性の決定は実施例28に記載のものと同
様に行う。結果は第7表および第7a表にまとめられて
いる。
【0156】
【0157】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験) −=肉眼では褪色作用が見られない
【0158】実施例30 光硬化性組成物は以下の成分を混合することにより調製
される: サルトメールSR444(登録商標),ペンタエリトリ
トアルトリアクリレート(サルトメール・カンパニー,
米国ウエストチェスター) 37.64g サイメル301(登録商標),ヘキサメトキシメチルメ
ラミン(アメリカン・シアナミド社,米国) 10.7
6g カーボセット525(登録商標),カルボキシル基を含
有する熱硬化性ポリアクリレート(B.F.グッドリッ
チ社) 47.30g ポリビニルピロリドンPVC(GAF社,米国) 4.
30g 塩化メチレン 319.00gおよびメタノール 3
0.0g。
【0159】上記組成物の一部を各々の場合において固
体含量に基づいて実施例2aからのボレート0.4%、
イソプロプルチオキサントン0.4%および(4−メチ
ルチオベンゾイル)メチル−1−モルホリノエタン0.
4%と室温で1時間攪拌することにより混合する。全て
の操作は赤色光の下で行われる。開始剤が添加された試
料を200μmのアルミニウム箔(10×15cm)に
適用する。まず最初に室温で5分間乾燥させ、そして次
に対流オーブン内60℃で15分間加熱することにより
溶媒を除去する。このようにして調製した約30〜35
μmのフィルムに厚さ76μmのポリエステルフィルム
を載せ、そして21ステップの異なる光学濃度を有する
標準テストネガ(ストーファーウェッジ)をその上に載
せる。試料を第2のUV透過フィルムで覆い、そして減
圧下で金属プレート上に圧縮する。露光はSMX−30
00ハロゲン化金属ドープ高圧水銀灯を用いて30cm
の距離から40秒間行う。露光に続き、カバーフィルム
およびマスクを取り除き、そしてコーティングされたフ
ィルムを超音波浴内の炭酸ナトリウムの1%強度の溶液
中で180秒間現像する。フィルムを対流オーブン中6
0℃で15分間乾燥させる。使用された開始剤系の感度
はタックなしに再生された最後のウエッジステップを示
すことにより特徴づけられる。ステップ数が多いほど、
試験された系の感度は高い。この尺度において、2ステ
ップの増加は硬化速度が約2倍であることを意味する。
結果は第8表に示されている。
【0160】
【0161】実施例31 固体含量に基づいて、実施例2aからのボレート0.6
%、イソプロピルチオキサントン0.4%およびサイラ
キュアUVI−6974(登録商標,ユニオンカーバイ
ド社)=
【化77】 (炭酸プロピレン中の50%強度溶液として)1.2%
を実施例27に記載した組成物中に混合する。試験の方
法および評価は実施例27に記載のものと同様に行う。
結果は第9表に示されている。
【0162】
【0163】実施例32 固体含量に基づいて、実施例2aからのボレート0.4
%、イソプロピルチオキサントン0.4%、サイラキュ
アUVI−6974(登録商標,ユニオンカーバイド
社)=
【化78】 (炭酸プロピレン中の50%強度溶液として)0.8%
および(4−メチルチオベンゾイル)メチル−1−モル
ホリノエタン0.4%を実施例30に記載した組成物中
に混合する。試験の方法および評価は実施例30に記載
のものと同様に行う。結果は第10表に示されている。
【0164】
【0165】実施例33 ボレート光開始剤0.4%および染料サフラニンO0.
3%を実施例28に記載の配合物に混合する。フィルム
の製造、硬化および反応性の決定は実施例28に記載さ
れたものと同様に行われる。結果は第11表に示されて
いる。
【0166】
【0167】実施例34 化合物2a0.4%および染料0.3%を実施例28に
記載された配合物中に混合する。さらに、キセノンラン
プの代わりに、周波数倍加Nd/YAGレーザー(COHE
RENT DPSS 532-50,ビーム直径0.7mm,分散<1.
3mrad)が波長532nmの単色光および出力50
mWで用いられる。約3.3mmの直径を有するレーザ
ービームを試料の上に固定されている21ステップスト
ウファーウェッジ上を6mm/秒の速度で移動させる。
現像後、幅および長さが異なるラインが残る。評価のた
めに、硬化したラインが依然として認められ得るステッ
プの数が計測される。フィルムの製造、硬化および反応
性の決定は実施例28に記載されたものと同様に行われ
る。結果は第12表に示されている。
【0168】第12表
【表11】
【表12】
【表13】
【0169】実施例35 実施例28と同じ配合物が使用され、そしてこの組成物
の一部は配合物の全量に基づいて化合物5を0.4%お
よび染料0.3%と混合される。全ての操作は赤色光の
下で行われる。試料を約3cmの直径を有するピルボト
ル中に入れる。これらの配合物を該ボトル中で周波数倍
加Nd/YAGレーザー(COHERENT DPSS 532-50,ビー
ム直径0.7mm,分散<1.3mrad)を用い波長
532nmの単色光および出力50mWでもって30c
mの距離から10秒間露光処理を行う。露光に続き、未
硬化配合物はすすぎ落とされ、そして残留する硬化した
層を超音波浴内の23℃のエタノール中で10秒間現像
する。フィルムを対流オーブン中40℃で5分間乾燥さ
せる。現像後、長さの異なる針状物が残される。評価は
該針状物の長さを計測することにより行われるが、これ
はスルー硬化能力の尺度である。使用された染料および
結果は第13表に示されている。
【0170】第13表
【表14】
【0171】実施例36 染料−ホウ酸塩0.4%を用いる以外は実施例28の操
作を繰り返す。さらに、キセノンランプの代わりに、周
波数倍加Nd/YAGレーザー(COHERENT DPSS 532-5
0,ビーム直径0.7mm,分散<1.3mrad)が
波長532nmの単色光および出力100mWで用いら
れる。約3.3mmの直径を有するレーザービームを試
料の上に固定されている21ステップストウファーウェ
ッジ上を6mm/秒の速度で移動させる。現像後、幅お
よび長さが異なるラインが残る。評価のために、硬化し
たラインが依然として認められ得るステップの数が計測
される。使用された染料および結果は第14表に示され
ている。
【0172】実施例37 2mmのフィルムの光学濃度が波長532nmに対して
0.5となるような濃度で染料−ホウ酸塩をを用い、そ
して追加の化合物2aが使用される以外は実施例35の
操作を繰り返す。実施例34とは異なり、波長532n
mの単色光および出力100mWを有する周波数倍加N
d/YAGレーザー(COHERENT DPSS 532-50,ビーム直
径0.7mm,分散<1.3mrad)が用いられ、そ
して露光は30cmの距離から5秒間行われる。結果は
第15表に示されている。
【0173】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験) −=肉眼では褪色作用が見られない
【0174】実施例38 実施例26と同じ配合物が使用され、そしてそしてこの
組成物の一部は配合物の全量に基づいて化合物2a0.
4%および染料0.3%と混合される。全ての操作は赤
色光の下で行われる。試料を直径約1.5cmおよび高
さ約12mmを有するプラスチック製の黒色のフタ中に
置き、そしてマイラーフィルムで覆う。これらの試料を
日光および1200mJ/cm2 の線量に晒す。この露
光の後、未硬化配合物を洗い落とし、そして残留する硬
化した層を超音波浴内の23℃のエタノール中で1分間
現像する。フィルムを対流オーブン中40℃で5分間乾
燥させる。評価は硬化層の厚さが計測されるが、これは
スルー硬化能力の尺度である。使用された染料および結
果は第16表に示されている。
【0175】
【0176】実施例39 ボレートと染料の混合物の代わりに、新規染料−ホウ酸
塩0.4%と、それに加えて化合物2aが使用される以
外は実施例38の操作が繰り返される。結果は第17表
に再現されている。
【0177】
【0178】実施例40 実施例26の操作が繰り返されるが、各々場合、カチオ
ン光開始剤0.4%が化合物2a0.4%と共に添加さ
れる。結果は第18表に再現されている。
【0179】第18表
【表15】
【0180】実施例41 実施例26の操作が繰り返されるが、各々場合、カチオ
ン光開始剤0.4%が化合物2a0.4%および染料
0.3%と共に添加される。結果は第19表に記載され
ている。
【0181】第19表
【表16】
【0182】実施例42 実施例26の操作が繰り返されるが、各々場合、化合物
2a0.4%および染料または電子受容体0.3%が添
加される。結果は第20表に記載されている。
【0183】第20表
【表17】
【0184】実施例43 実施例26の操作が繰り返されるが、各々場合、化合物
2a2%および電子受容体2%が添加される。結果は第
21表に記載されている。
【0185】第21表
【表18】
【0186】実施例44 実施例26の操作が繰り返されるが、各々場合、化合物
2a0.4%および電子受容体0.3%および電子受容
体0.3%が添加される。結果は第22表に記載されて
いる。
【0187】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マルチン クンツ ドイツ国 79588 エフリンゲン−キルヘ ン バスレルシュトラーセ 13/5 (72)発明者 倉 久稔 兵庫県宝塚市小林5−3−15−205

Claims (34)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】a)少なくとも1種の重合性エチレン性不
    飽和化合物、および b)単分子光開始剤として少なくとも1種の次式Iまた
    はI’: 【化1】 (式中、R1 、R2 およびR3 は互いに独立してフェニ
    ル基または異原子を含むかもしくは含まない別の芳香族
    炭化水素基を表すが、それらの基は置換されていない
    か、または非置換またはOR6 −もしくはR7 8 N−
    置換された炭素原子数1ないし20のアルキル基、1ま
    たはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5 により中
    断された炭素原子数2ないし20のアルキル基、O
    6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R7
    8 N、R6 OC(O)、R7 8 NC(O)、R9
    (O)、R9 1011Si、R9 1011Sn、ハロゲ
    ン原子、R9 10P(O)q 、CNおよび/または 【化2】 により1〜5回置換されており、または基R2 およびR
    3 は橋を形成して次式II、IIaまたはIIb: 【化3】 で表される構造をとるが、上記芳香環は置換されていな
    いか、または炭素原子数1ないし20のアルキル基によ
    り、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5
    により中断された炭素原子数2ないし20のアルキル基
    により、またはOR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)
    2 O、R7 8 N、R6 OC(O)、R78 NC
    (O)、R9 C(O)、R9 1011Si、ハロゲン原
    子、R9 10PO)q および/またはR9 1011Sn
    により置換されているが、ただし2以下の基R1 、R2
    およびR3 は同一であり、そして基R1 、R2 およびR
    3 のいずれかの少なくとも2つは両方のオルト位で置換
    された芳香族炭化水素基またはフェニル基を表すか、ま
    たは少なくとも1つの基R1 、R2 またはR3 は立体的
    に嵩張るアリール基を表し、そしてR1 、R2 およびR
    3 の残りの基は少なくとも一方のオルト位で置換された
    芳香族炭化水素基またはフェニル基を表し、 R1aは置換されていないか、または炭素原子数1ないし
    6のアルキル基、OR6 、S(O)p 6 、OS(O)
    2 6 、NR8 7 、C(O)OR6 、C(O)NR8
    7 、C(O)R9 、SiR9 1011またはハロゲン
    原子により置換された2価の芳香族炭化水素基を表す
    か、またはR1aはフェニル−炭素原子数1ないし6のア
    ルキレン基を表し、 R4 はフェニル基または異原子を含むかもしくは含まな
    い別の芳香族炭化水素基を表すが、それらの基は置換さ
    れていないか、または非置換またはOR6 −もしくはR
    7 8 N−置換された炭素原子数1ないし20のアルキ
    ル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはNR
    5 により中断された炭素原子数2ないし20のアルキル
    基、OR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R7
    8 N、R6 OC(O)、R7 8 NC(O)、R9
    (O)、R9 1011Si、R91011Sn、ハロゲ
    ン原子、R9 10P(O)q 、CNおよび/または 【化4】 により1〜5回置換されており、またはR4 は炭素原子
    数1ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基
    O、S(O)p またはNR5 により中断された炭素原子
    数2ないし20のアルキル基を表すか、または炭素原子
    数3ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2ない
    し8のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1ないし6
    のアルキル基またはナフチル−炭素原子数1ないし3の
    アルキル基を表し、上記の炭素原子数1ないし20のア
    ルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキル
    基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、フェニル−
    炭素原子数1ないし6のアルキル基またはナフチル−炭
    素原子数1ないし3のアルキル基は置換されていない
    か、またはOR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)
    2 O、R7 8 N、R6 OC(O)、R7 8 NC
    (O)、R9 C(O)、R9 1011Si、R9 10
    11Sn、ハロゲン原子、R9 10P(O)q および/ま
    たはCNにより置換されており、 Yは(CH2 n 、CH=CH、C(O)、NR5
    O、S(O)p または 【化5】 を表し、 nは0、1または2を表し、 mは2または3を表し、 pは0、1または2を表し、 qは0または1を表し、 EはR212223P、R7 7a8 NまたはR6 6a
    を表し、 R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
    基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
    はフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子数1ない
    し6のアルキル基またはフェニル基は置換されていない
    か、または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原
    子数1ないし12のアルコキシ基および/またはハロゲ
    ン原子により1〜5回置換されており、 R6 およびR6aは非置換またはハロゲン置換された炭素
    原子数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭素原子
    数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、上
    記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基または
    フェニル基は置換されていないか、または炭素原子数1
    ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアル
    コキシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回置
    換されており、 R7 、R7aおよびR8 は互いに独立して非置換または炭
    素原子数1ないし12のアルコキシ−、ハロゲン−、O
    H−、COOR6 −もしくはCN−置換された炭素原子
    数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12
    のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6
    のアルキル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−
    炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は
    置換されていないか、または炭素原子数1ないし6のア
    ルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基およ
    び/またはハロゲン原子により1〜5回置換されている
    か、またはR7 およびR8 はそれらが結合されているN
    原子と一緒になって、さらにOまたはS原子を含んでい
    てもよい5または6員環を形成し、 R9 、R10およびR11は互いに独立して炭素原子数1な
    いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
    ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
    キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
    子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
    れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
    基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
    たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、 R12、R13、R14およびR15は互いに独立して水素原
    子、非置換または炭素原子数1ないし12のアルコキシ
    置換された炭素原子数1ないし12のアルキル基、非置
    換または炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素原子数
    1ないし12のアルコキシもしくはハロゲンで1ないし
    5置換されたフェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
    ル基を表すか、または非置換または炭素原子数1ないし
    6のアルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキシも
    しくはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基を表
    すか、または基R12、R13、R14およびR15は一緒にな
    って別の芳香環に縮合されてもよい芳香環を形成し、 R16、R17、R18、R18a 、R19およびR20は互いに独
    立して水素原子、非置換または炭素原子数1ないし12
    のアルコキシ、OHもしくはハロゲン置換された炭素原
    子数1ないし12のアルキル基を表すか、または非置換
    または炭素原子数1ないし12のアルキル、炭素原子数
    1ないし12のアルコキシ、OH−もしくはハロゲン置
    換されたフェニル基を表し、 R21、R22およびR23は互いに独立して炭素原子数1な
    いし12のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアル
    ケニル基または炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
    ル基を表し、上記炭素原子数1ないし12のアルキル
    基、炭素原子数2ないし12のアルケニル基および炭素
    原子数3ないし12のシクロアルキル基は置換されてい
    ないか、またはR6 OCOもしくはCNにより置換され
    ており、またはR21、R22およびR23は非置換または炭
    素原子数1ないし6のアルキル、炭素原子数1ないし1
    2のアルコキシまたはハロゲンで1ないし5置換された
    フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表す
    か、または非置換または炭素原子数1ないし6のアルキ
    ル、炭素原子数1ないし12のアルコキシもしくはハロ
    ゲンで1ないし5置換されたフェニル基を表し、 XはN、SまたはOを表し、そしてGは陽イオンを形成
    し得る基を表す)で表される化合物、からなる組成物。
  2. 【請求項2】 式IおよびI’中、R1 およびR2 が同
    一である化合物を含有する請求項1記載の組成物。
  3. 【請求項3】 式I中、 R1 、R2 およびR3 が互いに独立してフェニル基また
    は異原子を含むかもしくは含まない別の芳香族炭化水素
    基を表すが、それらの基は置換されていないか、または
    非置換またはOR6 −もしくはR7 8 N−置換された
    炭素原子数1ないし6のアルキル基、OR6 、R6
    (O)p 、R6 S(O)2 O、R7 8 N、ハロゲン原
    子および/または 【化6】 により1〜5回置換されており、または基R2 およびR
    3 が橋を形成して式II、IIaまたはIIbで表され
    る構造をとり、 R4 がフェニル基、炭素原子数1ないし20のアルキル
    基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基、炭素
    原子数2ないし8のアルケニル基、フェニル−炭素原子
    数1ないし6のアルキル基またはナフチル−炭素原子数
    1ないし3のアルキル基を表し、 R12、R13、R14およびR15が互いに独立してH、炭素
    原子数1ないし12のアルキル基またはフェニル基を表
    すか、または基R12、R13、R14およびR15が一緒にな
    って別の芳香環に縮合されてもよい芳香環を形成し、そ
    してXがNまたはOを表す化合物を含有する請求項1記
    載の組成物。
  4. 【請求項4】 式IまたはI’中、R4 が炭素原子数1
    ないし12のアルキル基、アリル基、シクロペンチル
    基、シクロヘキシル基、ベンジル基またはナフチルメチ
    ル基を表す化合物を含有する請求項1記載の組成物。
  5. 【請求項5】 式IまたはI’中、R6 が炭素原子数1
    ないし4のアルキル基、トリフルオロメチル基を表す
    か、または置換されていないか、または炭素原子数1な
    いし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
    キシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回置換
    されたフェニル基を表す化合物を含有する請求項1記載
    の組成物。
  6. 【請求項6】 式IまたはI’中、R7 およびR8 が炭
    素原子数1ないし4のアルキル基、フェニル基またはフ
    ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表すか、
    またはそれらが結合されているN原子と一緒なってピロ
    リジノ基、ピペリジノ基またはモルホリノ基を表す化合
    物を含有する請求項1記載の組成物。
  7. 【請求項7】 式I中、R1 およびR2 が2,6−ジ
    (炭素原子数1ないし6のアルキル)フェニル基、2,
    6−ジ(炭素原子数1ないし6のアルコキシ)フェニル
    基、2,6−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、
    2,6−ジハロフェニル基、2,4,6−トリ(炭素原
    子数1ないし6のアルキル)フェニル基、2,4,6−
    トリ(炭素原子数1ないし6のアルコキシ)フェニル
    基、2,4,6−トリス(トリフルオロメチル)フェニ
    ル基または2,4,6−トリハロフェニル基を表す化合
    物を含有する請求項1記載の組成物。
  8. 【請求項8】 式I中、R1 およびR2 がメシチル基を
    表す化合物を含有する請求項1記載の組成物。
  9. 【請求項9】 式I中、R1 が1−ナフチル基、2−
    (炭素原子数1ないし6のアルキル)ナフチ−1−イル
    基、1−アントラシル基、9−アントラシル基またはフ
    ェロセニル基を表す化合物を含有する請求項1記載の組
    成物。
  10. 【請求項10】 式I中、RおよびR2 がo−(炭素原
    子数1ないし6のアルキル)フェニル基、o−(ハロ)
    フェニル基、o−(炭素原子数1ないし6のアルコキ
    シ)フェニル基またはo−トリフルオロメチルフェニル
    基を表す化合物を含有する請求項9記載の組成物。
  11. 【請求項11】 式I中、Gが第1酸化状態にある周期
    表I族の金属、特にNa+ 、K+ またはLi+ を表す
    か、またはGがMgZ1 + またはCaZ1 + (式中、Z
    1 はハロゲン原子または炭素原子数1ないし4のアルコ
    キシ基を表す)を表すか、またはGがアンモニウム塩、
    スルホニウム塩またはホスホニウム塩を表す化合物を含
    有する請求項1記載の組成物。
  12. 【請求項12】 式I中、R1 およびR2 が同一であ
    り、そして炭素原子数1ないし4のアルキルおよび/ま
    たはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基、ナフ
    チル基またはアントラシル基を表し、R3 が非置換また
    はハロゲンもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル置
    換されたフェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、
    2−ナフチル基、9−アントラシル基、9−フェナント
    リル基または1−ピレニル基を表し、R4 がフェニル基
    または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表すか、ま
    たはR2 およびR3 が橋を形成してYが直接結合である
    式IIの構造をとり、そしてGがテトラメチルアンモニ
    ウム基、サフラニンOカチオン 【化7】 を表す化合物、または式I’中、R1aがナフチレン基を
    表し、そしてEがトリメチルアンモニウム基またはジメ
    チルベンジルアンモニウム基を表す化合物を含有する請
    求項1記載の組成物。
  13. 【請求項13】 成分(a)および(b)の他に、少な
    くとも1種の補助開始剤(c)を含有する請求項1ない
    し12のいずれか1項に記載の組成物。
  14. 【請求項14】 補助開始剤(c)が中性、カチオンま
    たはアニオン染料である請求項1ないし12のいずれか
    1項に記載の組成物。
  15. 【請求項15】 補助開始剤(c)がUV吸収剤である
    請求項1ないし12のいずれか1項に記載の組成物。
  16. 【請求項16】 成分(a)および(b)の他に、少な
    くとも1種の次式XI: 【化8】 (式中、Ra 、Rb 、Rc およびRd は互いに独立して
    炭素原子数1ないし12のアルキル基、トリメチルシリ
    ルメチル基、フェニル基、別の芳香族炭化水素基、炭素
    原子数1ないし6のアルキルフェニル基、アリル基、フ
    ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子
    数2ないし8のアルケニル基、炭素原子数2ないし8の
    アルキニル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
    ル基または飽和もしくは不飽和複素環式基を表し、上記
    フェニル基、別の芳香族炭化水素基、フェニル−炭素原
    子数1ないし6のアルキル基または飽和もしくは不飽和
    複素環式基は置換されていないか、または非置換または
    OR6 −もしくはR7 8 N−置換された炭素原子数1
    ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基O、S
    (O)p またはNR5 により中断された炭素原子数2な
    いし20のアルキル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6
    S(O)2 O、R7 8 N、R6 OC(O)、R7 8
    NC(O)、R9 C(O)、R9 1011Si、R9
    1011Sn、ハロゲン原子またはR9 10P(O)q
    CNにより1〜5回置換されており、 pは0、1または2を表し、 qは0または1を表し、 R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
    基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
    はフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子数1ない
    し6のアルキル基またはフェニル基は置換されていない
    か、または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原
    子数1ないし12のアルコキシ基および/またはハロゲ
    ン原子により1〜5回置換されており、 R6 は非置換またはハロゲン置換された炭素原子数1な
    いし12のアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし
    6のアルキル基またはフェニル基を表し、上記フェニル
    −炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基
    は置換されていないか、または炭素原子数1ないし6の
    アルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基お
    よび/またはハロゲン原子により1〜5回置換されてお
    り、 R7 およびR8 は互いに独立して非置換または炭素原子
    数1ないし12のアルコキシ−、ハロゲン−、OH−、
    COOR6 −もしくはCN−置換された炭素原子数1な
    いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
    ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
    キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
    子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
    れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
    基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
    たはハロゲン原子により1〜5回置換されているか、ま
    たはR7 およびR8 はそれらが結合されているN原子と
    一緒になって、さらにOまたはS原子を含んでいてもよ
    い5または6員環を形成し、 R9 、R10およびR11は互いに独立して炭素原子数1な
    いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
    ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
    キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
    子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
    れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
    基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
    たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、そし
    てZは陽イオンを形成し得る基を表す)で表される化合
    物を含有する請求項1記載の組成物。
  17. 【請求項17】 式IまたはI’で表される少なくとも
    1種のボレートと、照射の間または後に色が変化する
    か、または色を失う少なくとも1種の染料とからなり、
    該染料がカチオンとして式Iで表される化合物の構成成
    分であり得る請求項1記載の組成物。
  18. 【請求項18】 光開始剤(b)の他に、少なくとも1
    種のその他の光開始剤(d)および/またはその他の添
    加剤を含有する請求項1ないし17のいずれか1項に記
    載の組成物。
  19. 【請求項19】 容易に還元し得る化合物、特にハロゲ
    ン化炭化水素がその他の添加剤として使用される請求項
    18記載の組成物。
  20. 【請求項20】 光開始剤(d)として、チタノセン、
    フェロセン、ベンゾフェノン、ベンゾインアルキルエー
    テル、ベンジルケタール、4−アロイル−1,3−ジオ
    キソラン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキ
    シ−もしくはα−アミノアセトフェノン、α−ヒドロキ
    シシクロアルキルフェニルケトン、キサントン、チオキ
    サントン、アントラキノンまたはモノ−もしくはビスア
    シルホスフィンオキシド、またはそれらの混合物を追加
    の光開始剤として含有する請求項18記載の組成物。
  21. 【請求項21】 成分(a)および(b)の他に、少な
    くとも1種の中性、アニオンまたはカチオン染料または
    チオキサントンおよびオニウム化合物を含有する請求項
    1記載の組成物。
  22. 【請求項22】 遊離ラジカル光開始剤、特にα−アミ
    ノケトン化合物をさらに含有する請求項21記載の組成
    物。
  23. 【請求項23】 組成物に基づいて、0.05ないし1
    5重量%、特に0.2ないし5重量%の成分(b)およ
    び/または成分(b)+(d)を含有する請求項1ない
    し22のいずれか1項に記載の組成物。
  24. 【請求項24】 次式IaまたはIa’: 【化9】 (式中、R1 ’およびR2 ’は互いに独立してホウ素原
    子への結合に対して少なくとも1つのオルト位で炭素原
    子数1ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基
    O、S(O)p またはNR5 により中断された炭素原子
    数2ないし20のアルキル基、OR6 、R6
    (O)p 、R6 S(O)2 O、R7 8 N、R6 OC
    (O)、R7 8 NC(O)、R9 C(O)、R9 10
    11Si、R9 1011Sn、ハロゲン原子、R9 10
    P(O)q 、CNおよび/または 【化10】 により置換されたフェニル基を表すか、または基R1
    およびR2 ’は橋を形成して次式II、IIaまたはI
    Ib: 【化11】 で表される構造をとるが、上記式II中の芳香環は置換
    されていないか、または炭素原子数1ないし20のアル
    キル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはN
    5 により中断された炭素原子数2ないし20のアルキ
    ル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R
    7 8 N、R6 OC(O)、R7 8 NC(O)、R9
    C(O)、R9 1011Si、ハロゲン原子、R9 10
    P(O)qおよび/またはR9 1011Snにより置換
    されており、 R1a’は置換されていないか、または炭素原子数1ない
    し6のアルキル基、OR6 、S(O)p 6 、OS
    (O)2 6 、NR8 7 、C(O)OR6 、C(O)
    NR8 7 、C(O)R9 、SiR9 1011またはハ
    ロゲン原子により置換された2価の芳香族炭化水素基を
    表すか、またはR1a’はフェニル−炭素原子数1ないし
    6のアルキレン基を表し、 R3 ’は嵩張る芳香族基を表し、 R4 はフェニル基、炭素原子数1ないし20のアルキル
    基、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5
    により中断された炭素原子数2ないし20のアルキル基
    を表すか、または炭素原子数3ないし12のシクロアル
    キル基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、フェニ
    ル−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはナフチル
    −炭素原子数1ないし3のアルキル基を表し、上記炭素
    原子数1ないし20のアルキル基、炭素原子数3ないし
    12のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし8のアル
    ケニル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル
    基またはナフチル−炭素原子数1ないし3のアルキル基
    は置換されていないか、またはOR6 、R6
    (O)p 、R6 S(O)2 O、R7 8 N、R6 OC
    (O)、R7 8 NC(O)、R9 C(O)、R9 10
    11Si、R9 1011Sn、ハロゲン原子、R9 10
    P(O)q および/またはCNにより置換されており、 Yは(CH2 n 、CH=CH、C(O)、NR5
    O、S(O)p または 【化12】 を表し、 nは0、1または2を表し、 mは2または3を表し、 pは0、1または2を表し、 qは0または1を表し、 EはR212223P、R7 7a8 NまたはR6 6a
    を表し、 R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
    基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
    はフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子数1ない
    し6のアルキル基またはフェニル基は置換されていない
    か、または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原
    子数1ないし12のアルコキシ基および/またはハロゲ
    ン原子により1〜5回置換されており、 R6 およびR6aは互いに独立して炭素原子数1ないし1
    2のアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のア
    ルキル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素
    原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換
    されていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキ
    ル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/
    またはハロゲン原子により1〜5回置換されており、 R7 、R7aおよびR8 は互いに独立して炭素原子数1な
    いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
    ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
    キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
    子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
    れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
    基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
    たはハロゲン原子により1〜5回置換されているか、ま
    たはR7 およびR8 はそれらが結合されているN原子と
    一緒になって、さらにOまたはS原子を含んでいてもよ
    い5または6員環を形成し、 R9 、R10およびR11は互いに独立して炭素原子数1な
    いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
    ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
    キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
    子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
    れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
    基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
    たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、 R12、R13、R14およびR15は互いに独立して水素原
    子、非置換または炭素原子数1ないし12のアルコキシ
    置換された炭素原子数1ないし12のアルキル基、非置
    換または炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素原子数
    1ないし12のアルコキシもしくはハロゲンで1ないし
    5置換されたフェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
    ル基を表すか、または非置換または炭素原子数1ないし
    6のアルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキシも
    しくはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基を表
    すか、または基R12、R13、R14およびR15は一緒にな
    って別の芳香環に縮合されてもよい芳香環を形成し、 R21、R22およびR23は互いに独立して炭素原子数1な
    いし12のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアル
    ケニル基または炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
    ル基を表し、上記炭素原子数1ないし12のアルキル
    基、炭素原子数2ないし12のアルケニル基および炭素
    原子数3ないし12のシクロアルキル基は置換されてい
    ないか、またはR6 OCOもしくはCNにより置換され
    ており、またはR21、R22およびR23は非置換または炭
    素原子数1ないし6のアルキル、炭素原子数1ないし1
    2のアルコキシまたはハロゲンで1ないし5置換された
    フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表す
    か、または非置換または炭素原子数1ないし6のアルキ
    ル、炭素原子数1ないし12のアルコキシもしくはハロ
    ゲンで1ないし5置換されたフェニル基を表し、そして
    Gは陽イオンを形成し得る基を表す)で表される化合
    物。
  25. 【請求項25】 上記式中、Gが第1酸化状態にある周
    期表I族の金属、特にNa+ 、K+ またはLi+ を表す
    か、またはGがMgZ1 + またはCaZ1 +(式中、Z
    1 はハロゲン原子または炭素原子数1ないし4のアルコ
    キシ基を表す)を表すか、またはGがアンモニウム塩、
    スルホニウム塩またはホスホニウム塩を表す請求項24
    記載の化合物。
  26. 【請求項26】 上記式中、R3 ’が1−もしくは2−
    ナフチル基、ビナフチル基、アントラシル基、フェナン
    トリル基、ピレニル基、キノリル基、イソキノリル基、
    ビフェニル基、o−、m−もしくはp−ターフェニル基
    またはトリフェニルフェニル基を表す請求項24記載の
    化合物。
  27. 【請求項27】 エチレン性不飽和化合物の光重合のた
    めの単分子光開始剤として請求項1または24記載の化
    合物を使用する方法。
  28. 【請求項28】 少なくとも1つのエチレン性不飽和二
    重結合を含有する非揮発性のモノマー、オリゴマーまた
    はポリマー化合物の光重合方法において、該化合物に請
    求項1記載の式IもしくはI’で表される化合物または
    請求項24記載の式Iaで表される化合物の少なくとも
    1種を単分子光開始剤として添加し、そしてこの混合物
    を赤外領域からUV領域ないし200nmの波長の光で
    照射することからなる上記光重合方法。
  29. 【請求項29】 着色および未着色のコーティング材
    料、粉末コーティング、印刷インキ、印刷版、接着剤、
    歯科用組成物、導波管、光学スイッチ、着色防止系、ガ
    ラス繊維ケーブルコーティング、スクリーン印刷ステン
    シル、レジスト材料を製造するために、電気および電子
    部品を包囲するために、複合材料を製造するために、磁
    気記録材料を製造するために、ステレオリソグラフィー
    により3次元物品を製造するために、写真による複製の
    ために、および画像記録材料として、特にホログラフィ
    ーによる記録のために請求項1ないし23のいずれか1
    項に記載の組成物を使用する方法。
  30. 【請求項30】 請求項1ないし23のいずれか1項に
    記載の組成物で少なくとも1つの面が被覆されている被
    覆された基材。
  31. 【請求項31】 請求項30記載の被覆された基材を画
    像様露光に供し、そして溶媒で未露光領域を除去するこ
    とからなるレリーフ画像の写真による形成方法。
  32. 【請求項32】 請求項30記載の被覆された基材を可
    動レーザービームにより(マスクなしで)露光し、そし
    て溶媒で未露光領域を除去することからなるレリーフ画
    像の形成方法。
  33. 【請求項33】 エチレン性不飽和二重結合を含有する
    化合物の熱重合のための開始剤として式IもしくはI’
    または式IaもしくはIa’で表される化合物を使用す
    る方法。
  34. 【請求項34】 少なくとも1種の式IもしくはI’ま
    たは式IaもしくはIa’で表される化合物を重合開始
    剤として添加することからなる、エチレン性不飽和二重
    結合を含有する化合物の熱重合方法。
JP8329222A 1995-11-24 1996-11-25 モノボランからのボレート光開始剤 Pending JPH09188710A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH334495 1995-11-24
CH3344/95 1995-11-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09188710A true JPH09188710A (ja) 1997-07-22

Family

ID=4253942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8329222A Pending JPH09188710A (ja) 1995-11-24 1996-11-25 モノボランからのボレート光開始剤

Country Status (18)

Country Link
US (2) US5932393A (ja)
JP (1) JPH09188710A (ja)
KR (1) KR970028790A (ja)
CN (1) CN1159450A (ja)
AT (1) AT406777B (ja)
AU (1) AU712075B2 (ja)
BE (1) BE1010765A5 (ja)
BR (1) BR9605696A (ja)
CA (1) CA2191056A1 (ja)
DE (1) DE19648256A1 (ja)
ES (1) ES2126500B1 (ja)
FR (1) FR2741624B1 (ja)
GB (1) GB2307472B (ja)
IT (1) IT1286499B1 (ja)
MX (1) MX9605720A (ja)
NL (1) NL1004599C2 (ja)
SG (1) SG49990A1 (ja)
TW (1) TW467933B (ja)

Cited By (86)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1614537A1 (en) 2004-07-07 2006-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1619023A2 (en) 2004-07-20 2006-01-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
EP1621338A1 (en) 2004-07-27 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1621341A2 (en) 2004-07-30 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1630602A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor
EP1630618A2 (en) 2004-08-24 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1637324A2 (en) 2004-08-26 2006-03-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Color image-forming material and lithographic printing plate precursor
EP1669195A1 (en) 2004-12-13 2006-06-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing method
EP1685957A2 (en) 2005-01-26 2006-08-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors
EP1755002A2 (en) 2005-08-18 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate
EP1754597A2 (en) 2005-08-19 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process
WO2007105404A1 (ja) 2006-03-10 2007-09-20 Fujifilm Corporation 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置
WO2007108367A1 (ja) 2006-03-17 2007-09-27 Fujifilm Corporation 高分子化合物およびその製造方法、顔料分散剤、顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びにカラーフィルタおよびその製造方法
WO2007116565A1 (ja) 2006-03-31 2007-10-18 Fujifilm Corporation 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1939687A2 (en) 2006-12-26 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1956428A2 (en) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes
EP1972440A2 (en) 2007-03-23 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
EP1973000A2 (en) 2007-03-22 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Dipping-type automatic developing apparatus and method for lithographic printing plates
EP1975706A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP1975701A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 Fujifilm Corporation Color filter and method for producing the same
EP1974914A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP1975710A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Plate-making method of lithographic printing plate precursor
EP1975702A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 Fujifilm Corporation Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device
EP1992989A1 (en) 2004-12-27 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1992482A2 (en) 2007-05-18 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2006091A2 (en) 2007-06-22 2008-12-24 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method
EP2006738A2 (en) 2007-06-21 2008-12-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP2011643A2 (en) 2007-07-02 2009-01-07 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2036957A2 (en) 2007-07-13 2009-03-18 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion liquid, curable composition, color filter, produced using the same, and solid state imaging device
EP2039509A1 (en) 2007-09-18 2009-03-25 FUJIFILM Corporation Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor
EP2042924A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate
EP2042312A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Processing method of lithographic printing plate precursor
EP2042923A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Image-forming method and lithographic printing plate precursor
EP2042928A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
EP2042311A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2045662A2 (en) 2007-09-28 2009-04-08 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2048000A2 (en) 2007-09-18 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Plate making method of lithographic printing plate precursor
EP2055476A2 (en) 2007-10-29 2009-05-06 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2070696A1 (en) 2007-12-10 2009-06-17 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2078985A1 (en) 2008-01-09 2009-07-15 Fujifilm Corporation Method for developing lithographic printing plate
EP2078984A1 (en) 2008-01-11 2009-07-15 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2082875A1 (en) 2008-01-22 2009-07-29 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
WO2009096452A1 (ja) 2008-01-31 2009-08-06 Fujifilm Corporation 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いて製造されたカラーフィルタ及びその製造方法
EP2088468A1 (en) 2008-02-06 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2090933A1 (en) 2008-02-05 2009-08-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method
EP2100731A2 (en) 2008-03-11 2009-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing
EP2101218A1 (en) 2008-03-10 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
WO2009113447A1 (ja) 2008-03-10 2009-09-17 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
EP2103994A1 (en) 2008-03-21 2009-09-23 FUJIFILM Corporation Automatic processing apparatus for making lithographic printing plate
EP2103993A1 (en) 2008-03-21 2009-09-23 FUJIFILM Corporation Automatic processing for making lithographic printing plate
WO2009116434A1 (ja) 2008-03-17 2009-09-24 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
EP2105793A2 (en) 2008-03-28 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Green curable composition, color filter and method of producing same
EP2105800A2 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor
EP2105298A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
EP2105297A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and plate making method using the same
WO2009119687A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 浸漬型平版印刷版用自動現像装置および自動現像方法
WO2009119430A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
WO2009123050A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
WO2009122789A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタおよび固体撮像素子
EP2110261A2 (en) 2008-04-18 2009-10-21 FUJIFILM Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
EP2112182A1 (en) 2008-04-25 2009-10-28 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition, light-shielding color filter, black curable composition, light-shielding color filter for solid-state image pickup device and method of producing the same, and solid-state image pickup device
EP2145772A2 (en) 2008-07-16 2010-01-20 FUJIFILM Corporation Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate
EP2157130A1 (en) 2008-08-21 2010-02-24 Fujifilm Corporation Photosensitive resin composition, color filter and method of producing the same, and solid-state imaging device
EP2165830A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2165829A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
EP2169463A2 (en) 2008-09-29 2010-03-31 FUJIFILM Corporation Colored curable composition, color filter and method for producing the same
EP2168989A1 (en) 2008-09-29 2010-03-31 Fujifilm Corporation Colored curable composition, color filter and production method thereof, and solid-state imaging device
EP2168767A1 (en) 2008-09-24 2010-03-31 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
WO2010038836A1 (ja) 2008-10-03 2010-04-08 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフイルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウエハレベルレンズ、および撮像ユニツト
WO2010038795A1 (ja) 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
WO2010038625A1 (ja) 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
EP2177357A2 (en) 2008-08-29 2010-04-21 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
EP2246741A1 (en) 2004-05-19 2010-11-03 Fujifilm Corporation Image recording method
WO2011122707A1 (en) 2010-03-31 2011-10-06 Fujifilm Corporation Colored composition, inkjet ink, color filter and method of producing the same, solid-state image sensor and display device
EP2498130A2 (en) 2011-03-08 2012-09-12 Fujifilm Corporation Curable composition for solid-state imaging device, and photosensitive layer, permanent pattern, wafer-level lens, solid-state imaging device and pattern forming method each using the composition
DE112011101165T5 (de) 2010-03-29 2013-03-28 Mitsubishi Paper Mills Limited Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial
WO2013099948A1 (ja) 2011-12-28 2013-07-04 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
WO2013099945A1 (ja) 2011-12-28 2013-07-04 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
EP2618215A1 (en) 2004-05-31 2013-07-24 Fujifilm Corporation Method for producing a lithographic printing plate
WO2014104137A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子
WO2014104136A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 富士フイルム株式会社 赤外線反射膜形成用の硬化性樹脂組成物、赤外線反射膜及びその製造方法、並びに赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子
KR20160072158A (ko) * 2013-10-17 2016-06-22 코베스트로 도이칠란트 아게 Tg가 낮은 보레이트를 포함하는 홀로그래픽 매체의 제조를 위한 광중합체 배합물
EP3086176A1 (en) 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation A lithographic printing method
EP3284599A1 (en) 2004-01-09 2018-02-21 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997036937A1 (en) * 1996-03-29 1997-10-09 The Dow Chemical Company Metallocene cocatalyst
EP0974595B1 (en) * 1997-02-06 2003-10-01 Showa Denko Kabushiki Kaisha Process for producing boron compounds
JPH11316458A (ja) * 1998-03-03 1999-11-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US7081277B1 (en) * 1999-10-22 2006-07-25 Fujitsu Limited Magnetic disk drive having a surface coating on a magnetic disk
JP2002308922A (ja) * 2001-04-12 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物並びにそれを用いた記録材料
US6806020B2 (en) * 2001-08-21 2004-10-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Negative working imageable composition containing sulfonic acid
US7056639B2 (en) * 2001-08-21 2006-06-06 Eastman Kodak Company Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid
JP3969109B2 (ja) * 2002-02-08 2007-09-05 コニカミノルタホールディングス株式会社 感光性平版印刷版及びその記録方法
JP2003322968A (ja) * 2002-05-01 2003-11-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
DE102004022232A1 (de) * 2004-05-04 2005-12-01 Infineon Technologies Ag Viskoses Klebematerial zur Befestigung elektronischer Bauelemente
US7893130B2 (en) * 2004-05-13 2011-02-22 Bluestar Silicones France Sas Photocurable dental composition
KR101031693B1 (ko) * 2004-06-18 2011-04-29 엘지디스플레이 주식회사 패턴형성용 레지스트 및 이를 이용한 패턴형성방법
DE102005010327A1 (de) * 2005-03-03 2006-09-07 Basf Ag Ratikalisch härtbare Beschichtungsmassen
WO2007138095A1 (de) * 2006-06-01 2007-12-06 Basf Se Verwendung cyanin-kationen-haltiger stabilisator-zusammensetzungen in verpackungsmaterialien
EP2112178A4 (en) * 2007-01-17 2012-04-25 Kuraray Medical Inc POLYMERIZABLE MONOMER-CONTAINING COMPOSITION
EP2223948B1 (en) * 2007-11-01 2013-01-23 Adeka Corporation Salt compound, cationic polymerization initiator and cationically polymerizable composition
KR20100052948A (ko) * 2008-11-11 2010-05-20 삼성전자주식회사 라디칼 중합용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
EP2380925A1 (en) * 2010-04-22 2011-10-26 3M Innovative Properties Company Radiation curable composition, process of production and use thereof
CA2735531A1 (en) * 2011-03-31 2012-09-30 Queen's University At Kingston Four-coordinate boron compounds for use as photochromic dyes
JP2014214129A (ja) * 2013-04-26 2014-11-17 サンアプロ株式会社 硬化性組成物及びそれを用いた硬化体
TW201710405A (zh) * 2015-06-23 2017-03-16 科思創德意志股份有限公司 含有經鏈取代之花青染料的全像媒體
KR20200094262A (ko) 2019-01-29 2020-08-07 삼성디스플레이 주식회사 유기 전계 발광 소자 및 유기 전계 발광 소자용 다환 화합물
KR20200107028A (ko) 2019-03-05 2020-09-16 삼성디스플레이 주식회사 유기 전계 발광 소자 및 유기 전계 발광 소자용 다환 화합물
CN111689995B (zh) * 2020-06-15 2023-09-19 万华化学集团股份有限公司 一种高溶解度的三芳基碳硼酸盐及其制备方法和应用

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3567453A (en) * 1967-12-26 1971-03-02 Eastman Kodak Co Light sensitive compositions for photoresists and lithography
US5151520A (en) * 1985-11-20 1992-09-29 The Mead Corporation Cationic dye-triarylmonoalkylorate anion complexes
US4772530A (en) * 1986-05-06 1988-09-20 The Mead Corporation Photosensitive materials containing ionic dye compounds as initiators
US4772541A (en) * 1985-11-20 1988-09-20 The Mead Corporation Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same
EP0223587B1 (en) * 1985-11-20 1991-02-13 The Mead Corporation Photosensitive materials containing ionic dye compounds as initiators
JPH0820732B2 (ja) * 1987-10-13 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US4954414A (en) * 1988-11-08 1990-09-04 The Mead Corporation Photosensitive composition containing a transition metal coordination complex cation and a borate anion and photosensitive materials employing the same
KR910001448A (ko) * 1989-06-30 1991-01-30 로레인 제이. 프란시스 광개시제로서 이온성 염료 반응성 반대이온 복합체 및 오늄염을 함유하는 양이온적으로 개시되는 조성물 및 이를 사용하는 감광성 물질
US5057393A (en) * 1989-07-10 1991-10-15 The Mead Corporation Dye branched-alkyl borate photoinitiators
US5055372A (en) * 1990-04-23 1991-10-08 The Mead Corporation Photohardenable composition containing borate salts and ketone initiators
CA2053761A1 (en) * 1990-10-25 1992-04-26 Gregory C. Weed Borate coinitiators for photopolymerizable compositions
US5143818A (en) * 1991-02-01 1992-09-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Borate coinitiators for photopolymerizable compositions
US5147758A (en) * 1991-02-19 1992-09-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Red sensitive photopolymerizable compositions
JPH0534868A (ja) * 1991-07-26 1993-02-12 Konica Corp ハロゲン化銀写真感光材料
DE69212275T2 (de) * 1991-11-14 1997-01-09 Showa Denko Kk Entfärbbarer Toner
DE4142541A1 (de) * 1991-12-21 1993-06-24 Hoechst Ag Diallylammonium-verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung sowie ihre verwendung
DE69310401T2 (de) * 1992-02-07 1997-08-21 Toyo Ink Mfg Co (Oxo)Sulfoniumkomplex, diese enthaltende polymerisierbare Zusammensetzung und Verfahren zur Polymerisation
US5500453A (en) * 1992-02-07 1996-03-19 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. (Oxo)sulfonium complex, polymerizable composition containing the complex, and method of polymerizing the composition
US5346801A (en) * 1992-04-01 1994-09-13 Konica Corporation Method of forming images
DE69333327T2 (de) * 1992-06-23 2004-09-09 The Dow Chemical Company, Midland Verfahren zur Herstellung Tetrakisfluorphenylborat
JP3321288B2 (ja) * 1994-04-25 2002-09-03 日本ペイント株式会社 近赤外光重合性組成物
WO1997023191A1 (fr) * 1995-12-22 1997-07-03 Tokuyama Corporation Composition d'agent de decapage dentaire et catalyseur de polymerisation
US5817376A (en) * 1996-03-26 1998-10-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Free-radically polymerizable compositions capable of being coated by electrostatic assistance

Cited By (93)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3284599A1 (en) 2004-01-09 2018-02-21 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
EP2246741A1 (en) 2004-05-19 2010-11-03 Fujifilm Corporation Image recording method
EP2618215A1 (en) 2004-05-31 2013-07-24 Fujifilm Corporation Method for producing a lithographic printing plate
EP1614537A1 (en) 2004-07-07 2006-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1619023A2 (en) 2004-07-20 2006-01-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
EP1621338A1 (en) 2004-07-27 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1621341A2 (en) 2004-07-30 2006-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1630618A2 (en) 2004-08-24 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1637324A2 (en) 2004-08-26 2006-03-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Color image-forming material and lithographic printing plate precursor
EP1630602A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor
EP1669195A1 (en) 2004-12-13 2006-06-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing method
EP1992989A1 (en) 2004-12-27 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1685957A2 (en) 2005-01-26 2006-08-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors
EP3086176A1 (en) 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation A lithographic printing method
EP3086177A1 (en) 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation Method for preparing a lithographic printing place precursor
EP2306246A1 (en) 2005-08-18 2011-04-06 Fujifilm Corporation Manufacturing method of lithographic printing plate
EP1755002A2 (en) 2005-08-18 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate
EP1754597A2 (en) 2005-08-19 2007-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process
WO2007105404A1 (ja) 2006-03-10 2007-09-20 Fujifilm Corporation 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置
WO2007108367A1 (ja) 2006-03-17 2007-09-27 Fujifilm Corporation 高分子化合物およびその製造方法、顔料分散剤、顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びにカラーフィルタおよびその製造方法
WO2007116565A1 (ja) 2006-03-31 2007-10-18 Fujifilm Corporation 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1939687A2 (en) 2006-12-26 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1956428A2 (en) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes
EP2592475A1 (en) 2007-02-06 2013-05-15 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and novel cyanine dyes
EP1973000A2 (en) 2007-03-22 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Dipping-type automatic developing apparatus and method for lithographic printing plates
EP1972440A2 (en) 2007-03-23 2008-09-24 FUJIFILM Corporation Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP1975702A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 Fujifilm Corporation Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device
EP1974914A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP1975701A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 Fujifilm Corporation Color filter and method for producing the same
EP1975710A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Plate-making method of lithographic printing plate precursor
EP1975706A2 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP1992482A2 (en) 2007-05-18 2008-11-19 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2006738A2 (en) 2007-06-21 2008-12-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP2006091A2 (en) 2007-06-22 2008-12-24 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method
EP2011643A2 (en) 2007-07-02 2009-01-07 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2036957A2 (en) 2007-07-13 2009-03-18 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion liquid, curable composition, color filter, produced using the same, and solid state imaging device
EP2039509A1 (en) 2007-09-18 2009-03-25 FUJIFILM Corporation Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor
EP2048000A2 (en) 2007-09-18 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Plate making method of lithographic printing plate precursor
EP2045662A2 (en) 2007-09-28 2009-04-08 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2042923A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Image-forming method and lithographic printing plate precursor
EP2042924A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate
EP3021167A1 (en) 2007-09-28 2016-05-18 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
EP2042311A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2042312A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Processing method of lithographic printing plate precursor
EP2042928A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
EP2055476A2 (en) 2007-10-29 2009-05-06 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2380737A1 (en) 2007-10-29 2011-10-26 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2070696A1 (en) 2007-12-10 2009-06-17 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2078985A1 (en) 2008-01-09 2009-07-15 Fujifilm Corporation Method for developing lithographic printing plate
EP2078984A1 (en) 2008-01-11 2009-07-15 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
EP2082875A1 (en) 2008-01-22 2009-07-29 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
WO2009096452A1 (ja) 2008-01-31 2009-08-06 Fujifilm Corporation 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いて製造されたカラーフィルタ及びその製造方法
EP2090933A1 (en) 2008-02-05 2009-08-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method
EP2088468A1 (en) 2008-02-06 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
EP2101218A1 (en) 2008-03-10 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
WO2009113447A1 (ja) 2008-03-10 2009-09-17 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
EP2100731A2 (en) 2008-03-11 2009-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing
WO2009116434A1 (ja) 2008-03-17 2009-09-24 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
EP2103994A1 (en) 2008-03-21 2009-09-23 FUJIFILM Corporation Automatic processing apparatus for making lithographic printing plate
EP2103993A1 (en) 2008-03-21 2009-09-23 FUJIFILM Corporation Automatic processing for making lithographic printing plate
EP2105297A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and plate making method using the same
WO2009119687A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 浸漬型平版印刷版用自動現像装置および自動現像方法
WO2009119430A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
EP2105800A2 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor
EP2105298A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
EP2105793A2 (en) 2008-03-28 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Green curable composition, color filter and method of producing same
WO2009122789A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタおよび固体撮像素子
WO2009123050A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
EP2110261A2 (en) 2008-04-18 2009-10-21 FUJIFILM Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
EP2112182A1 (en) 2008-04-25 2009-10-28 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition, light-shielding color filter, black curable composition, light-shielding color filter for solid-state image pickup device and method of producing the same, and solid-state image pickup device
EP2145772A2 (en) 2008-07-16 2010-01-20 FUJIFILM Corporation Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate
EP2157130A1 (en) 2008-08-21 2010-02-24 Fujifilm Corporation Photosensitive resin composition, color filter and method of producing the same, and solid-state imaging device
EP2177357A2 (en) 2008-08-29 2010-04-21 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
EP2165829A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
EP2165830A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and printing method using the same
EP2168767A1 (en) 2008-09-24 2010-03-31 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
EP2169463A2 (en) 2008-09-29 2010-03-31 FUJIFILM Corporation Colored curable composition, color filter and method for producing the same
EP2168989A1 (en) 2008-09-29 2010-03-31 Fujifilm Corporation Colored curable composition, color filter and production method thereof, and solid-state imaging device
WO2010038625A1 (ja) 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
WO2010038795A1 (ja) 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
WO2010038836A1 (ja) 2008-10-03 2010-04-08 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフイルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウエハレベルレンズ、および撮像ユニツト
DE112011101165T5 (de) 2010-03-29 2013-03-28 Mitsubishi Paper Mills Limited Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial
WO2011122707A1 (en) 2010-03-31 2011-10-06 Fujifilm Corporation Colored composition, inkjet ink, color filter and method of producing the same, solid-state image sensor and display device
EP2498130A2 (en) 2011-03-08 2012-09-12 Fujifilm Corporation Curable composition for solid-state imaging device, and photosensitive layer, permanent pattern, wafer-level lens, solid-state imaging device and pattern forming method each using the composition
WO2013099945A1 (ja) 2011-12-28 2013-07-04 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
WO2013099948A1 (ja) 2011-12-28 2013-07-04 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
WO2014104137A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子
WO2014104136A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 富士フイルム株式会社 赤外線反射膜形成用の硬化性樹脂組成物、赤外線反射膜及びその製造方法、並びに赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子
KR20160072158A (ko) * 2013-10-17 2016-06-22 코베스트로 도이칠란트 아게 Tg가 낮은 보레이트를 포함하는 홀로그래픽 매체의 제조를 위한 광중합체 배합물
JP2016537452A (ja) * 2013-10-17 2016-12-01 コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトCovestro Deutschland Ag 低Tgを持つボラートを含むホログラフィック媒体の製造のためのフォトポリマー配合物
US10001703B2 (en) 2013-10-17 2018-06-19 Covestro Deutschland Ag Photopolymer formulation for production of holographic media comprising borates with low TG

Also Published As

Publication number Publication date
BR9605696A (pt) 1998-08-18
US6045974A (en) 2000-04-04
NL1004599A1 (nl) 1997-05-27
SG49990A1 (en) 2001-01-16
ES2126500A1 (es) 1999-03-16
GB9624328D0 (en) 1997-01-08
FR2741624A1 (fr) 1997-05-30
GB2307472B (en) 1999-11-17
FR2741624B1 (fr) 1998-12-04
IT1286499B1 (it) 1998-07-15
NL1004599C2 (nl) 1998-01-12
AT406777B (de) 2000-09-25
ES2126500B1 (es) 1999-11-16
ATA204296A (de) 2000-01-15
TW467933B (en) 2001-12-11
CN1159450A (zh) 1997-09-17
BE1010765A5 (fr) 1999-01-05
DE19648256A1 (de) 1997-05-28
MX9605720A (es) 1997-05-31
AU7179296A (en) 1997-05-29
ITMI962437A0 (it) 1996-11-22
US5932393A (en) 1999-08-03
CA2191056A1 (en) 1997-05-25
GB2307472A (en) 1997-05-28
AU712075B2 (en) 1999-10-28
KR970028790A (ko) 1997-06-24
ITMI962437A1 (it) 1998-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4026087B2 (ja) 光重合のための酸安定性硼酸塩
JPH09188710A (ja) モノボランからのボレート光開始剤
US5952152A (en) Borate coinitiators for photopolymerization
US6096794A (en) Quinolinium dyes and borates in photopolymerizable compositions
US6057078A (en) Polyborane photoinitiators and borate photoinitiators from polyboranes
US6087062A (en) Polyborate coinitiators for photopolymerization
US6090865A (en) Polymerizable composition
Cunningham United States Patent No
MXPA98009066A (en) New colors of quinolinio and boratos encomposiciones fotopolimerizab
MXPA98009065A (en) Polymerize composition
CH691595A5 (de) Borat-Coinitiatoren für die Photopolymerisation.