JPH09188710A - モノボランからのボレート光開始剤 - Google Patents
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- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 153
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 129
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 129
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 39
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 352
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 167
- -1 aromatic hydrocarbon radical Chemical class 0.000 claims description 157
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 65
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 56
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 claims description 50
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 36
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 35
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 27
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 24
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 19
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 19
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 19
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 19
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 18
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 14
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 13
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 11
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 11
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000001326 naphthylalkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 10
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 8
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 8
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical group C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 7
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 7
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 claims description 7
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XJKSTNDFUHDPQJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 XJKSTNDFUHDPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 claims description 6
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 6
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N binaphthyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 6
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000006755 (C2-C20) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 5
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 5
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 5
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 claims description 5
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 claims description 4
- 239000012949 free radical photoinitiator Substances 0.000 claims description 4
- 239000000976 ink Substances 0.000 claims description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 claims description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 4
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical compound NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacetophenone Chemical compound OCC(=O)C1=CC=CC=C1 ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 claims description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 claims description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 claims description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 claims description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 claims description 3
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical group CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000006373 (C2-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 2
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical group CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 claims description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000002112 pyrrolidino group Chemical group [*]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 abstract description 7
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 abstract description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 4
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 49
- 239000010408 film Substances 0.000 description 26
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 23
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 21
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 16
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 15
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 14
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 12
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YLEIFZAVNWDOBM-ZTNXSLBXSA-N ac1l9hc7 Chemical compound C([C@H]12)C[C@@H](C([C@@H](O)CC3)(C)C)[C@@]43C[C@@]14CC[C@@]1(C)[C@@]2(C)C[C@@H]2O[C@]3(O)[C@H](O)C(C)(C)O[C@@H]3[C@@H](C)[C@H]12 YLEIFZAVNWDOBM-ZTNXSLBXSA-N 0.000 description 8
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 8
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical class B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 7
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 7
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 6
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 6
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 5
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 5
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 5
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 5
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- JLZIXYIYQIKFHP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropane-1-thione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=S)C(C)(C)N1CCOCC1 JLZIXYIYQIKFHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- FOXXZZGDIAQPQI-XKNYDFJKSA-N Asp-Pro-Ser-Ser Chemical compound OC(=O)C[C@H](N)C(=O)N1CCC[C@H]1C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](CO)C(O)=O FOXXZZGDIAQPQI-XKNYDFJKSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 4
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 4
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OARRHUQTFTUEOS-UHFFFAOYSA-N safranin Chemical compound [Cl-].C=12C=C(N)C(C)=CC2=NC2=CC(C)=C(N)C=C2[N+]=1C1=CC=CC=C1 OARRHUQTFTUEOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 4
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 4
- AOSZTAHDEDLTLQ-AZKQZHLXSA-N (1S,2S,4R,8S,9S,11S,12R,13S,19S)-6-[(3-chlorophenyl)methyl]-12,19-difluoro-11-hydroxy-8-(2-hydroxyacetyl)-9,13-dimethyl-6-azapentacyclo[10.8.0.02,9.04,8.013,18]icosa-14,17-dien-16-one Chemical compound C([C@@H]1C[C@H]2[C@H]3[C@]([C@]4(C=CC(=O)C=C4[C@@H](F)C3)C)(F)[C@@H](O)C[C@@]2([C@@]1(C1)C(=O)CO)C)N1CC1=CC=CC(Cl)=C1 AOSZTAHDEDLTLQ-AZKQZHLXSA-N 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940126657 Compound 17 Drugs 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004653 anthracenylene group Chemical group 0.000 description 3
- 229940027983 antiseptic and disinfectant quaternary ammonium compound Drugs 0.000 description 3
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 3
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000012952 cationic photoinitiator Substances 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 125000005562 phenanthrylene group Chemical group 0.000 description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 3
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 3
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 3
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 3
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 125000005548 pyrenylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005551 pyridylene group Chemical group 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005730 thiophenylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 3
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZCBDIVMCGFVPW-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(aminomethyl)-2,6-di(propan-2-yl)phenyl]-3-[1-butyl-4-(3-methoxyphenyl)-2-oxo-1,8-naphthyridin-3-yl]urea;hydrochloride Chemical compound Cl.CC(C)C=1C=C(CN)C=C(C(C)C)C=1NC(=O)NC=1C(=O)N(CCCC)C2=NC=CC=C2C=1C1=CC=CC(OC)=C1 SZCBDIVMCGFVPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBYBHKQEHCYBQV-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-dodecoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 DBYBHKQEHCYBQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 2
- BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n,6-n-hexakis(methoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound COCN(COC)C1=NC(N(COC)COC)=NC(N(COC)COC)=N1 BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 4-(trichloromethyl)triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=CC=NN=N1 IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N Cyanamide Chemical compound NC#N XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003270 Cymel® Polymers 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N Oxamide Chemical compound NC(=O)C(N)=O YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical group C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical compound CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical group C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N azulene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC2=C1 CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- QSRFYFHZPSGRQX-UHFFFAOYSA-N benzyl(tributyl)azanium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 QSRFYFHZPSGRQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N benzyl(trimethyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001851 biosynthetic effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 2
- NEUSVAOJNUQRTM-UHFFFAOYSA-N cetylpyridinium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 NEUSVAOJNUQRTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004830 cetylpyridinium Drugs 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 2
- 150000004775 coumarins Chemical class 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- WATLWUFSKRFBOD-UHFFFAOYSA-N difluoro(phenyl)borane Chemical compound FB(F)C1=CC=CC=C1 WATLWUFSKRFBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- WZWGERGANZMXOM-UHFFFAOYSA-N fluoro-bis(2,4,6-trimethylphenyl)borane Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1B(F)C1=C(C)C=C(C)C=C1C WZWGERGANZMXOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- OUBISKKOUYNDML-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) 2-[bis[2-oxo-2-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)oxyethyl]amino]acetate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CN(CC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1)CC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 OUBISKKOUYNDML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKVDFISMMWVMEU-UHFFFAOYSA-N (2,4-ditert-butylphenyl) 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate;(2,6-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1.CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OC(=O)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 FKVDFISMMWVMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATLWFAZCZPSXII-UHFFFAOYSA-N (2-octylphenyl) 2-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O ATLWFAZCZPSXII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDLPMGPHYARAFP-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-phenylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C(O)=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 PDLPMGPHYARAFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHEANNSDVJOIBS-MHZLTWQESA-N (3s)-3-cyclopropyl-3-[3-[[3-(5,5-dimethylcyclopenten-1-yl)-4-(2-fluoro-5-methoxyphenyl)phenyl]methoxy]phenyl]propanoic acid Chemical compound COC1=CC=C(F)C(C=2C(=CC(COC=3C=C(C=CC=3)[C@@H](CC(O)=O)C3CC3)=CC=2)C=2C(CCC=2)(C)C)=C1 CHEANNSDVJOIBS-MHZLTWQESA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOZHNJTXLALKRL-UHFFFAOYSA-N (5-benzoyl-2,4-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(O)=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 GOZHNJTXLALKRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- VCMZIKKVYXGKCI-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2,4-ditert-butyl-6-methylphenyl)-2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C(C)(C)C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C)C(C)(C)C)C(C)(C)C VCMZIKKVYXGKCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGASRBUYZODJTG-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2,4-ditert-butylphenyl)-2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C=CC(=C1)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C RGASRBUYZODJTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrotriazine Chemical compound C1NNNC=C1 FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- MLKIVXXYTZKNMI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 MLKIVXXYTZKNMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAYNQDOURTYRRC-UHFFFAOYSA-N 1-[1-(2-aminopropoxy)ethoxy]propan-2-amine Chemical compound CC(N)COC(C)OCC(C)N QAYNQDOURTYRRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 1-[6-[4-(5-chloro-6-methyl-1H-indazol-4-yl)-5-methyl-3-(1-methylindazol-5-yl)pyrazol-1-yl]-2-azaspiro[3.3]heptan-2-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound ClC=1C(=C2C=NNC2=CC=1C)C=1C(=NN(C=1C)C1CC2(CN(C2)C(C=C)=O)C1)C=1C=C2C=NN(C2=CC=1)C AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRKHIWKXLZCAKP-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-(2-bromophenyl)benzene Chemical group BrC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1Br DRKHIWKXLZCAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMIMBQIBIZZZHQ-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(Br)C(C)=CC=C21 CMIMBQIBIZZZHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTADSLDAUJLZGL-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-phenylbenzene Chemical group BrC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 KTADSLDAUJLZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZMJVBOGDBMGI-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpropylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC)C1=CC=CC=C1 BUZMJVBOGDBMGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEBQUUKDSJCPIX-UHFFFAOYSA-N 12h-benzo[a]thioxanthene Chemical compound C1=CC=CC2=C3CC4=CC=CC=C4SC3=CC=C21 YEBQUUKDSJCPIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVZRKVYGKNFTRR-UHFFFAOYSA-N 12h-benzo[a]xanthene Chemical compound C1=CC=CC2=C3CC4=CC=CC=C4OC3=CC=C21 VVZRKVYGKNFTRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWJKLDGAAPQXGO-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-4-octadecoxypiperidine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 BWJKLDGAAPQXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXURZKWLMYOCDX-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O.OCC(CO)(CO)CO GXURZKWLMYOCDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYKPJMYWPYIXGG-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylbutane;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(C)(C)C OYKPJMYWPYIXGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZJQCUDHKUWEFU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpentanenitrile Chemical compound CCCC(C)(C)C#N TZJQCUDHKUWEFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSMDRQQBGGGIJ-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-tributyl-4-hydroxybenzoic acid Chemical compound C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C(O)=O)C=1)CCCC)CCCC)O RWSMDRQQBGGGIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- ONTODYXHFBKCDK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C1=NC=NC=N1 ONTODYXHFBKCDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCOC(=O)C(C)=C QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-5-octoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTNVDKBRTXEWQE-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-butan-2-yl-4-tert-butylphenol Chemical compound CCC(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O RTNVDKBRTXEWQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQMHSKWEJGIXGA-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-dodecyl-4-methylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC(C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O VQMHSKWEJGIXGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEXBEKLLSUWSIM-UHFFFAOYSA-N 2-Butyl-4-methylphenol Chemical compound CCCCC1=CC(C)=CC=C1O FEXBEKLLSUWSIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FESJNIGBEZWAIB-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(2-hydroxy-3-octoxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 FESJNIGBEZWAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZQCIHBFVOTXRU-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-butoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 BZQCIHBFVOTXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(octyloxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPUPWUDXQCOMBF-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(4-methylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-octoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC(C)=CC=2)=NC(C=2C=CC(C)=CC=2)=N1 NPUPWUDXQCOMBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHIVRACNDKRDTF-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2,4-dimethylphenyl)-6-(2-hydroxy-4-propoxyphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-propoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(OCCC)=CC=2)O)=N1 HHIVRACNDKRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQJGENPOECTPNX-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCOC(=O)C=C)C=C1 UQJGENPOECTPNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWMGONWXQSKRMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-phenylethenyl)phenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC(C=CC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=N1 TWMGONWXQSKRMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOOMXAQUNPWDLL-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(diethylamino)-3-(diethyliminiumyl)-3h-xanthen-9-yl]-5-sulfobenzene-1-sulfonate Chemical compound C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1S([O-])(=O)=O IOOMXAQUNPWDLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMMWFBAUBABTM-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-1-(3,4-dimethoxyphenyl)-2-(dimethylamino)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(OC)C(OC)=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 OTMMWFBAUBABTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZKSYYXGGXYPKB-UHFFFAOYSA-N 2-bis(2,4,6-trimethylphenyl)boranyl-n,n-dimethylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C(N(C)C)=C1B(C=1C(=CC(C)=CC=1C)C)C1=C(C)C=C(C)C=C1C DZKSYYXGGXYPKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- WHPSZRLQXXDHSF-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-1-phenyl-3,4-bis(2,4,6-trimethylphenyl)benzene tetramethylazanium borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-].C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.CCCCc1c(ccc(-c2c(C)cc(C)cc2C)c1-c1c(C)cc(C)cc1C)-c1ccccc1 WHPSZRLQXXDHSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOTYDHBOKPPXRB-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]propanedioic acid Chemical compound CCCCC(C(O)=O)(C(O)=O)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 DOTYDHBOKPPXRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- AWEVLIFGIMIQHY-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCC(CC)CCCC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O AWEVLIFGIMIQHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[3-[1-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propoxy]ethoxy]propyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCOC(C)OCCCNC(=O)C(C)=C UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZSVVCFHMVMYCR-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-2-ylpyridine;ruthenium Chemical compound [Ru].N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1.N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1.N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 BZSVVCFHMVMYCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXFCIXRFAJRBSG-UHFFFAOYSA-N 3,2,3-tetramine Chemical compound NCCCNCCNCCCN RXFCIXRFAJRBSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLUZWKKWWSCRSR-UHFFFAOYSA-N 3,9-bis(8-methylnonoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1OP(OCCCCCCCC(C)C)OCC21COP(OCCCCCCCC(C)C)OC2 YLUZWKKWWSCRSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 3,9-dioctadecoxy-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1OP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCC21COP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OC2 PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- SAEZGDDJKSBNPT-UHFFFAOYSA-N 3-dodecyl-1-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl)pyrrolidine-2,5-dione Chemical compound O=C1C(CCCCCCCCCCCC)CC(=O)N1C1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 SAEZGDDJKSBNPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001541 3-thienyl group Chemical group S1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrachloro-3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound O1C(=O)C(C(=C(Cl)C(Cl)=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPFWYRKGZUGGPB-UHFFFAOYSA-N 4,6-dichloro-n-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)-1,3,5-triazin-2-amine Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)NC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 HPFWYRKGZUGGPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxy-1-(2-hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1CCO STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 4-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(O)=CC=2)O)=N1 FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-7h-pyrrolo[2,3-d]pyrimidin-2-amine Chemical compound COC1=NC(N)=NC2=C1C=CN2 CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDGDVFRFRZOKJO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-(4-methylpyridin-2-yl)pyridine;2-pyridin-2-ylpyridine;ruthenium Chemical compound [Ru].N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1.N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1.CC1=CC=NC(C=2N=CC=C(C)C=2)=C1 BDGDVFRFRZOKJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHMPMLYBTPIVII-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-(4-methylpyridin-2-yl)pyridine;ruthenium Chemical compound [Ru].CC1=CC=NC(C=2N=CC=C(C)C=2)=C1.CC1=CC=NC(C=2N=CC=C(C)C=2)=C1.CC1=CC=NC(C=2N=CC=C(C)C=2)=C1 OHMPMLYBTPIVII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2H-benzotriazol-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2NN=NC2=C1C1=CC=CC=C1 ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVNWQSXXRMNYKH-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-benzotriazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC2=C1NN=N2 BVNWQSXXRMNYKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- NJCDRURWJZAMBM-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1h-1,3,5-triazin-2-one Chemical compound OC1=NC=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 NJCDRURWJZAMBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPOKLVDHXARWQB-UHFFFAOYSA-N 7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound O=C1N(CCCCCCCC)C(=O)NC11CC(C)(C)NC(C)(C)C1 VPOKLVDHXARWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAZWNFJQEZAVOT-UHFFFAOYSA-N 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound O=C1N(CCCCCCCCCCCC)C(=O)NC11CC(C)(C)N(C(C)=O)C(C)(C)C1 RAZWNFJQEZAVOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 9H-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3SC2=C1 PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAUGRYOERYOXHX-UHFFFAOYSA-N Alloxazine Chemical class C1=CC=C2N=C(C(=O)NC(=O)N3)C3=NC2=C1 HAUGRYOERYOXHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUDAGBBGBXTTBP-UHFFFAOYSA-N B.C1(=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound B.C1(=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 NUDAGBBGBXTTBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- PFRDHQQZKFQCHP-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Ti](C1C(C=CC=C1F)(F)C=1COC=CC=1)(C1C(C=CC=C1F)(C=1COC=CC=1)F)C1C=CC=C1 Chemical compound C1(C=CC=C1)[Ti](C1C(C=CC=C1F)(F)C=1COC=CC=1)(C1C(C=CC=C1F)(C=1COC=CC=1)F)C1C=CC=C1 PFRDHQQZKFQCHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTUDOEKGRCEPHC-UHFFFAOYSA-N CC1(NC(CC(C1)N1CCC(CC1)NCCCCCCNC1CCN(CC1)C1CC(NC(C1)(C)C)(C)C)(C)C)C Chemical compound CC1(NC(CC(C1)N1CCC(CC1)NCCCCCCNC1CCN(CC1)C1CC(NC(C1)(C)C)(C)C)(C)C)C MTUDOEKGRCEPHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 101000856234 Clostridium acetobutylicum (strain ATCC 824 / DSM 792 / JCM 1419 / LMG 5710 / VKM B-1787) Butyrate-acetoacetate CoA-transferase subunit A Proteins 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001174 Diethylhydroxylamine Polymers 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010056740 Genital discharge Diseases 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Natural products CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- UASNCBSRKVNZCB-UHFFFAOYSA-N OC1=C(C=CC(=C1)OCCCCCCCC)C1=NC(=NC(=N1)C1=C(C=C(C=C1)OCCCCCCCC)O)C1=C(C=C(C=C1)OCCCCCCCC)O.N1=CN=CN=C1 Chemical compound OC1=C(C=CC(=C1)OCCCCCCCC)C1=NC(=NC(=N1)C1=C(C=C(C=C1)OCCCCCCCC)O)C1=C(C=C(C=C1)OCCCCCCCC)O.N1=CN=CN=C1 UASNCBSRKVNZCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O Chemical compound OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQNURTYSNZCZQY-UHFFFAOYSA-N OP(O)OP(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C=CC=C1)C(O)C(CO)(CO)CO Chemical compound OP(O)OP(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C=CC=C1)C(O)C(CO)(CO)CO JQNURTYSNZCZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical group C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical group C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLZVEHJLHYMBBY-UHFFFAOYSA-N Tetradecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCN PLZVEHJLHYMBBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 241000221013 Viscum album Species 0.000 description 1
- HGBBFIVJLKAPGV-UHFFFAOYSA-N [(2,4-dipentoxyphenyl)-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CCCCCOC1=CC(OCCCCC)=CC=C1P(=O)(C(=O)C=1C(=CC(C)=CC=1C)C)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C HGBBFIVJLKAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYESEEYVQKFGTJ-UHFFFAOYSA-N [(e)-diazenylazo]amine Chemical compound NN=NN=N NYESEEYVQKFGTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CO)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJHFUFVRZNYVMK-CYBMUJFWSA-N [3-[4-(aminomethyl)-6-(trifluoromethyl)pyridin-2-yl]oxyphenyl]-[(3R)-3-hydroxypyrrolidin-1-yl]methanone Chemical compound NCC1=CC(=NC(=C1)C(F)(F)F)OC=1C=C(C=CC=1)C(=O)N1C[C@@H](CC1)O LJHFUFVRZNYVMK-CYBMUJFWSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHFMFWAFQGUGOB-UHFFFAOYSA-N [5-(4-tert-butylbenzoyl)-2,4-dihydroxyphenyl]-(4-tert-butylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC(C(=O)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)=C(O)C=C1O HHFMFWAFQGUGOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical group [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical group [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZFAICFLGCPIEA-UHFFFAOYSA-N [Ru].c1ccc(nc1)-c1ccccn1.c1ccc(nc1)-c1ccccn1.Clc1cc2cccnc2c2ncccc12 Chemical compound [Ru].c1ccc(nc1)-c1ccccn1.c1ccc(nc1)-c1ccccn1.Clc1cc2cccnc2c2ncccc12 NZFAICFLGCPIEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003868 ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000427 antigen Substances 0.000 description 1
- 102000036639 antigens Human genes 0.000 description 1
- 108091007433 antigens Proteins 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical compound [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N benzyl(triethyl)azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BCCDCNCWUHICFM-UHFFFAOYSA-N benzyl(tripropyl)azanium Chemical compound CCC[N+](CCC)(CCC)CC1=CC=CC=C1 BCCDCNCWUHICFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012455 biphasic mixture Substances 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDHIQDKAYUDND-UHFFFAOYSA-N biphenylene-1,2-diamine Chemical group C1=CC=C2C3=C(N)C(N)=CC=C3C2=C1 LZDHIQDKAYUDND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMMIEQKTIFFHRR-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxy-2-phenylcyclohexyl)methanone Chemical compound C1CCCC(C=2C=CC=CC=2)C1(O)C(=O)C1(O)CCCCC1C1=CC=CC=C1 RMMIEQKTIFFHRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKVSLLBZHYUYHH-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-3-yl) butanedioate Chemical compound CC1(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CCC1OC(=O)CCC(=O)OC1C(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CC1 VKVSLLBZHYUYHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLMFVJSIGDIJBB-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-3-yl) decanedioate Chemical compound CC1(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CCC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1C(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CC1 NLMFVJSIGDIJBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSIVCXJNIBEGCL-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)C1 OSIVCXJNIBEGCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOJOVSYIGHASEI-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) butanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 GOJOVSYIGHASEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEFSGHVBJCEKAZ-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-ditert-butyl-6-methylphenyl) ethyl phosphite Chemical compound CC=1C=C(C(C)(C)C)C=C(C(C)(C)C)C=1OP(OCC)OC1=C(C)C=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C ZEFSGHVBJCEKAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZRMYAIVHSRUQY-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-ditert-butyl-6-methylphenyl) methyl phosphite Chemical compound CC=1C=C(C(C)(C)C)C=C(C(C)(C)C)C=1OP(OC)OC1=C(C)C=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C VZRMYAIVHSRUQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USEBNKAALRHMOS-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylnaphthalen-1-yl)-phenylborane Chemical compound CC1=CC=C2C=CC=CC2=C1B(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1C)C1=CC=CC=C1 USEBNKAALRHMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GHXRKGHKMRZBJH-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O.OB(O)O GHXRKGHKMRZBJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001897 boron-11 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- DCBIXTBHCUSRQQ-UHFFFAOYSA-N butanedioic acid;hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO.OC(=O)CCC(O)=O DCBIXTBHCUSRQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000009750 centrifugal casting Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- RLGQACBPNDBWTB-UHFFFAOYSA-N cetyltrimethylammonium ion Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C RLGQACBPNDBWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYXSBFYARXAAKO-WTKGSRSZSA-N chembl402140 Chemical compound Cl.C1=2C=C(C)C(NCC)=CC=2OC2=C\C(=N/CC)C(C)=CC2=C1C1=CC=CC=C1C(=O)OCC VYXSBFYARXAAKO-WTKGSRSZSA-N 0.000 description 1
- 239000011093 chipboard Substances 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940120693 copper naphthenate Drugs 0.000 description 1
- SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L copper;3-(4-ethylcyclohexyl)propanoate;3-(3-ethylcyclopentyl)propanoate Chemical compound [Cu+2].CCC1CCC(CCC([O-])=O)C1.CCC1CCC(CCC([O-])=O)CC1 SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VNZQQAVATKSIBR-UHFFFAOYSA-L copper;octanoate Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O VNZQQAVATKSIBR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;iron(3+) Chemical class [Fe+3].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-diol Chemical compound OC1CCC(O)C1 NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 1
- ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- OBISXEJSEGNNKL-UHFFFAOYSA-N dinitrogen-n-sulfide Chemical compound [N-]=[N+]=S OBISXEJSEGNNKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- MZRQZJOUYWKDNH-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,3,4-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=C(C)C(C)=CC=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MZRQZJOUYWKDNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)O GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007590 electrostatic spraying Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L erythrosin B Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940011411 erythrosine Drugs 0.000 description 1
- 239000004174 erythrosine Substances 0.000 description 1
- 235000012732 erythrosine Nutrition 0.000 description 1
- FYIBGDKNYYMMAG-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;terephthalic acid Chemical compound OCCO.OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 FYIBGDKNYYMMAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl prop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)C=C BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011094 fiberboard Substances 0.000 description 1
- 238000009730 filament winding Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N fluorescein Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC=C(O)C=C1OC1=CC(O)=CC=C21 GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- FRIPRWYKBIOZJU-UHFFFAOYSA-N fluorone Chemical compound C1=CC=C2OC3=CC(=O)C=CC3=CC2=C1 FRIPRWYKBIOZJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009787 hand lay-up Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000592 heterocycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- NZYMWGXNIUZYRC-UHFFFAOYSA-N hexadecyl 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NZYMWGXNIUZYRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVIYEYCFMVPYST-UHFFFAOYSA-N hexane-1,3-diol Chemical compound CCCC(O)CCO AVIYEYCFMVPYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- LHSMYPISIKFGAU-UHFFFAOYSA-N iron;4-methyl-2-(4-methylpyridin-2-yl)pyridine Chemical compound [Fe].CC1=CC=NC(C=2N=CC=C(C)C=2)=C1.CC1=CC=NC(C=2N=CC=C(C)C=2)=C1.CC1=CC=NC(C=2N=CC=C(C)C=2)=C1 LHSMYPISIKFGAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001463 metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N methyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRBLLGLKTUGCSG-UHFFFAOYSA-N methyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O VRBLLGLKTUGCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YIMHRDBSVCPJOV-UHFFFAOYSA-N n'-(2-ethoxyphenyl)-n-(2-ethylphenyl)oxamide Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1CC YIMHRDBSVCPJOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBQDLRYXMLWKHO-UHFFFAOYSA-N n'-[1-(3-aminopropylamino)ethyl]propane-1,3-diamine Chemical compound NCCCNC(C)NCCCN CBQDLRYXMLWKHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NATBXRMDPXYPLM-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylprop-2-enamide;2-hydroxyacetic acid Chemical compound OCC(O)=O.CNC(=O)C(C)=C NATBXRMDPXYPLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKJARPDLRWBRAX-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)hexane-1,6-diamine Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1NCCCCCCNC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 UKJARPDLRWBRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJFPXDGPJMHQMW-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis[3-(dimethylamino)propyl]oxamide Chemical compound CN(C)CCCNC(=O)C(=O)NCCCN(C)C ZJFPXDGPJMHQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DARUEKWVLGHJJT-UHFFFAOYSA-N n-butyl-1-[4-[4-(butylamino)-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl]-6-chloro-1,3,5-triazin-2-yl]-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-amine Chemical compound CC1(C)CC(NCCCC)CC(C)(C)N1C1=NC(Cl)=NC(N2C(CC(CC2(C)C)NCCCC)(C)C)=N1 DARUEKWVLGHJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004998 naphthylethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001196 nonadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006611 nonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQAABEDPVQWFPN-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCCCCCCCC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O XQAABEDPVQWFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFXLIFZVRXRRR-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCCCCCCCC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O DMFXLIFZVRXRRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-L oxido carbonate Chemical compound [O-]OC([O-])=O MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005825 oxyethoxy group Chemical group [H]C([H])(O[*:1])C([H])([H])O[*:2] 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N pentane-1,1-diol Chemical compound CCCCC(O)O UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002988 phenazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)methanone Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMXWIUGROJIVPN-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)-(2,4,6-trimethyl-3-phenylsulfanylphenyl)borane Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1B(C=1C(=C(SC=2C=CC=CC=2)C(C)=CC=1C)C)C1=CC=CC=C1 RMXWIUGROJIVPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004346 phenylpentyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)CCCCC* 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical class OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 229920001603 poly (alkyl acrylates) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 229940068886 polyethylene glycol 300 Drugs 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- SOGFHWHHBILCSX-UHFFFAOYSA-J prop-2-enoate silicon(4+) Chemical class [Si+4].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C SOGFHWHHBILCSX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000003153 propellanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Chemical group COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- INCIMLINXXICKS-UHFFFAOYSA-M pyronin Y Chemical compound [Cl-].C1=CC(=[N+](C)C)C=C2OC3=CC(N(C)C)=CC=C3C=C21 INCIMLINXXICKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000719 pyrrolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940116351 sebacate Drugs 0.000 description 1
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L sebacate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCCCCCC([O-])=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- GSMVXZUBBCEROW-UHFFFAOYSA-N selenopyran-1-ium Chemical compound C1=CC=[se+]C=C1 GSMVXZUBBCEROW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000009788 spray lay-up Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000005650 substituted phenylene group Chemical group 0.000 description 1
- YEOUFHBJWTZWCZ-UHFFFAOYSA-M sulforhodamine G Chemical compound [Na+].C=12C=C(C)C(NCC)=CC2=[O+]C=2C=C(NCC)C(C)=CC=2C=1C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1S([O-])(=O)=O YEOUFHBJWTZWCZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTIFFPXSSXFQCJ-UHFFFAOYSA-N tetrahexylazanium Chemical compound CCCCCC[N+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC DTIFFPXSSXFQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- CHYBTAZWINMGHA-UHFFFAOYSA-N tetraoctylazanium Chemical compound CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC CHYBTAZWINMGHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N tetrapropylammonium Chemical compound CCC[N+](CCC)(CCC)CCC OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 150000004897 thiazines Chemical class 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical compound C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- AYNNSCRYTDRFCP-UHFFFAOYSA-N triazene Chemical compound NN=N AYNNSCRYTDRFCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N tridodecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCC IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNUJLMSKURPSHE-UHFFFAOYSA-N trioctadecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC CNUJLMSKURPSHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N tris(2-nonylphenyl) phosphite Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1)CCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) phosphate Chemical compound C=CCOP(=O)(OCC=C)OCC=C XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】
【課題】補助開始剤を添加しない場合でも、光重合を開
始するために十分に反応性である光開始剤を含有する光
重合性組成物の提供。 【解決手段】式IまたはI’のホウ酸塩を光開始剤とし
て含む光重合性組成物。 【化1】 (2以下のR1 、R2 およびR3 が同一、R1 、R2 お
よびR3 の少なくとも2つが両方のオルト位で置換され
た芳香族炭化水素基またはフェニル基、少なくとも1つ
のR1 、R2 またはR3 が立体的に嵩張るアリール基、
R1 、R2 およびR3 の残りの基が少なくとも一方のオ
ルト位で置換された芳香族炭化水素基またはフェニル
基、R4 =フェニル基,アルキル基等G=陽イオン形成
性基、E=アンモニウム基等、R1a=2価の芳香族炭化
水素基)
始するために十分に反応性である光開始剤を含有する光
重合性組成物の提供。 【解決手段】式IまたはI’のホウ酸塩を光開始剤とし
て含む光重合性組成物。 【化1】 (2以下のR1 、R2 およびR3 が同一、R1 、R2 お
よびR3 の少なくとも2つが両方のオルト位で置換され
た芳香族炭化水素基またはフェニル基、少なくとも1つ
のR1 、R2 またはR3 が立体的に嵩張るアリール基、
R1 、R2 およびR3 の残りの基が少なくとも一方のオ
ルト位で置換された芳香族炭化水素基またはフェニル
基、R4 =フェニル基,アルキル基等G=陽イオン形成
性基、E=アンモニウム基等、R1a=2価の芳香族炭化
水素基)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はボレート光開始剤を
含有する、特に単分子ボレート光開始剤を包含する光重
合性組成物に関するものである。
含有する、特に単分子ボレート光開始剤を包含する光重
合性組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】補助開始剤と一緒に光開始剤としてボレ
ートを使用することは従来公知である。例えば米国特許
第4772530号、同第4772541号および同第
5151520号はカチオン染料、例えば対イオンとし
てのシアニン、ローダミン等と共にトリアリールアルキ
ルボレートを開示している。これらの化合物は光開始剤
として使用されている。米国特許第4954414号に
おいて、カチオン遷移金属錯体が光重合性組成物におい
てトリアリールアルキルボレートアニオンと一緒に使用
される。米国特許第5055372号から、第四アンモ
ニウム化合物、例えばテトラメチルアンモニウム、ピリ
ジニウム、セチルピリジニウム等を上記トリアリールア
ルキルボレートに対するカチオン対イオンとして使用す
ることは公知である。この文献において、ボレートは光
硬化性材料における補助開始剤としての芳香族ケトン開
始剤化合物と一緒に使用される。光開始剤の広範囲の用
途のために、光重合性組成物における開始剤として使用
され得る安定な反応性化合物に対する産業上の要求が存
在する。
ートを使用することは従来公知である。例えば米国特許
第4772530号、同第4772541号および同第
5151520号はカチオン染料、例えば対イオンとし
てのシアニン、ローダミン等と共にトリアリールアルキ
ルボレートを開示している。これらの化合物は光開始剤
として使用されている。米国特許第4954414号に
おいて、カチオン遷移金属錯体が光重合性組成物におい
てトリアリールアルキルボレートアニオンと一緒に使用
される。米国特許第5055372号から、第四アンモ
ニウム化合物、例えばテトラメチルアンモニウム、ピリ
ジニウム、セチルピリジニウム等を上記トリアリールア
ルキルボレートに対するカチオン対イオンとして使用す
ることは公知である。この文献において、ボレートは光
硬化性材料における補助開始剤としての芳香族ケトン開
始剤化合物と一緒に使用される。光開始剤の広範囲の用
途のために、光重合性組成物における開始剤として使用
され得る安定な反応性化合物に対する産業上の要求が存
在する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記文献に記載された
ボレート化合物は補助開始剤と組み合わせて光開始剤と
して常に使用される。この分野において、補助開始剤を
添加しない場合でも、光重合を開始するために十分に反
応性である光開始剤を含有する光重合性組成物を提供す
ることが有利である。上記の特性を有する特定の置換基
パターンを有するボレートが驚くべきことに今見出され
た。
ボレート化合物は補助開始剤と組み合わせて光開始剤と
して常に使用される。この分野において、補助開始剤を
添加しない場合でも、光重合を開始するために十分に反
応性である光開始剤を含有する光重合性組成物を提供す
ることが有利である。上記の特性を有する特定の置換基
パターンを有するボレートが驚くべきことに今見出され
た。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、 a)少なくとも1種の重合性エチレン性不飽和化合物、
および b)単分子光開始剤として少なくとも1種の次式Iまた
はI’:
および b)単分子光開始剤として少なくとも1種の次式Iまた
はI’:
【化13】 (式中、R1 、R2 およびR3 は互いに独立してフェニ
ル基または異原子を含むかもしくは含まない別の芳香族
炭化水素基を表すが、それらの基は置換されていない
か、または非置換またはOR6 −もしくはR7 R8 N−
置換された炭素原子数1ないし20のアルキル基、1ま
たはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5 により中
断された炭素原子数2ないし20のアルキル基、O
R6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R
8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC(O)、R9 C
(O)、R9 R10R11Si、R9 R10R11Sn、ハロゲ
ン原子、R9 R10P(O)q 、CNおよび/または
ル基または異原子を含むかもしくは含まない別の芳香族
炭化水素基を表すが、それらの基は置換されていない
か、または非置換またはOR6 −もしくはR7 R8 N−
置換された炭素原子数1ないし20のアルキル基、1ま
たはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5 により中
断された炭素原子数2ないし20のアルキル基、O
R6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R
8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC(O)、R9 C
(O)、R9 R10R11Si、R9 R10R11Sn、ハロゲ
ン原子、R9 R10P(O)q 、CNおよび/または
【化14】 により1〜5回置換されており、または基R2 およびR
3 は橋を形成して次式II、IIaまたはIIb:
3 は橋を形成して次式II、IIaまたはIIb:
【化15】 で表される構造をとるが、上記芳香環は置換されていな
いか、または炭素原子数1ないし20のアルキル基によ
り、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5
により中断された炭素原子数2ないし20のアルキル基
により、またはOR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)
2 O、R7 R8 N、R6 OC(O)、R7R8 NC
(O)、R9 C(O)、R9 R10R11Si、ハロゲン原
子、R9 R10PO)q および/またはR9 R10R11Sn
により置換されているが、ただし2以下の基R1 、R2
およびR3 は同一であり、そして基R1 、R2 およびR
3 のいずれかの少なくとも2つは両方のオルト位で置換
された芳香族炭化水素基またはフェニル基を表すか、ま
たは少なくとも1つの基R1 、R2 またはR3 は立体的
に嵩張るアリール基を表し、そしてR1 、R2 およびR
3 の残りの基は少なくとも一方のオルト位で置換された
芳香族炭化水素基またはフェニル基を表し、R1aは置換
されていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基、OR6 、S(O)p R6 、OS(O)2 R6 、N
R8 R7 、C(O)OR6 、C(O)NR8 R7 、C
(O)R9 、SiR9 R10R11またはハロゲン原子によ
り置換された2価の芳香族炭化水素基を表すか、または
R1aはフェニル−炭素原子数1ないし6のアルキレン基
を表し、R4 はフェニル基または異原子を含むかもしく
は含まない別の芳香族炭化水素基を表すが、それらの基
は置換されていないか、または非置換またはOR6 −も
しくはR7 R8 N−置換された炭素原子数1ないし20
のアルキル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p ま
たはNR5 により中断された炭素原子数2ないし20の
アルキル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2
O、R7 R8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC
(O)、R9 C(O)、R9 R10R11Si、R9R10R
11Sn、ハロゲン原子、R9 R10P(O)q 、CNおよ
び/または
いか、または炭素原子数1ないし20のアルキル基によ
り、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5
により中断された炭素原子数2ないし20のアルキル基
により、またはOR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)
2 O、R7 R8 N、R6 OC(O)、R7R8 NC
(O)、R9 C(O)、R9 R10R11Si、ハロゲン原
子、R9 R10PO)q および/またはR9 R10R11Sn
により置換されているが、ただし2以下の基R1 、R2
およびR3 は同一であり、そして基R1 、R2 およびR
3 のいずれかの少なくとも2つは両方のオルト位で置換
された芳香族炭化水素基またはフェニル基を表すか、ま
たは少なくとも1つの基R1 、R2 またはR3 は立体的
に嵩張るアリール基を表し、そしてR1 、R2 およびR
3 の残りの基は少なくとも一方のオルト位で置換された
芳香族炭化水素基またはフェニル基を表し、R1aは置換
されていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基、OR6 、S(O)p R6 、OS(O)2 R6 、N
R8 R7 、C(O)OR6 、C(O)NR8 R7 、C
(O)R9 、SiR9 R10R11またはハロゲン原子によ
り置換された2価の芳香族炭化水素基を表すか、または
R1aはフェニル−炭素原子数1ないし6のアルキレン基
を表し、R4 はフェニル基または異原子を含むかもしく
は含まない別の芳香族炭化水素基を表すが、それらの基
は置換されていないか、または非置換またはOR6 −も
しくはR7 R8 N−置換された炭素原子数1ないし20
のアルキル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p ま
たはNR5 により中断された炭素原子数2ないし20の
アルキル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2
O、R7 R8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC
(O)、R9 C(O)、R9 R10R11Si、R9R10R
11Sn、ハロゲン原子、R9 R10P(O)q 、CNおよ
び/または
【化16】 により1〜5回置換されており、またはR4 は炭素原子
数1ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基
O、S(O)p またはNR5 により中断された炭素原子
数2ないし20のアルキル基を表すか、または炭素原子
数3ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2ない
し8のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1ないし6
のアルキル基またはナフチル−炭素原子数1ないし3の
アルキル基を表し、上記の炭素原子数1ないし20のア
ルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキル
基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、フェニル−
炭素原子数1ないし6のアルキル基またはナフチル−炭
素原子数1ないし3のアルキル基は置換されていない
か、またはOR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)
2 O、R7 R8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC
(O)、R9 C(O)、R9 R10R11Si、R9 R10R
11Sn、ハロゲン原子、R9 R10P(O)q および/ま
たはCNにより置換されており、Yは(CH2 )n 、C
H=CH、C(O)、NR5 、O、S(O)p または
数1ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基
O、S(O)p またはNR5 により中断された炭素原子
数2ないし20のアルキル基を表すか、または炭素原子
数3ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2ない
し8のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1ないし6
のアルキル基またはナフチル−炭素原子数1ないし3の
アルキル基を表し、上記の炭素原子数1ないし20のア
ルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキル
基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、フェニル−
炭素原子数1ないし6のアルキル基またはナフチル−炭
素原子数1ないし3のアルキル基は置換されていない
か、またはOR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)
2 O、R7 R8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC
(O)、R9 C(O)、R9 R10R11Si、R9 R10R
11Sn、ハロゲン原子、R9 R10P(O)q および/ま
たはCNにより置換されており、Yは(CH2 )n 、C
H=CH、C(O)、NR5 、O、S(O)p または
【化17】 を表し、nは0、1または2を表し、mは2または3を
表し、pは0、1または2を表し、qは0または1を表
し、EはR21R22R23P、R7 R7aR8 NまたはR6 R
6aSを表し、R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、R6
およびR6aは非置換またはハロゲン置換された炭素原子
数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭素原子数1
ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、上記フ
ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフェ
ニル基は置換されていないか、または炭素原子数1ない
し6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ基および/またはハロゲン原子により1〜5回置換さ
れており、R7 、R7aおよびR8 は互いに独立して非置
換または炭素原子数1ないし12のアルコキシ−、ハロ
ゲン−、OH−、COOR6 −もしくはCN−置換され
た炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3
ないし12のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数
1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、上記
フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフ
ェニル基は置換されていないか、または炭素原子数1な
いし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回置換
されているか、またはR7 およびR8 はそれらが結合さ
れているN原子と一緒になって、さらにOまたはS原子
を含んでいてもよい5または6員環を形成し、R9 、R
10およびR11は互いに独立して炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
ル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基ま
たはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子数1な
いし6のアルキル基またはフェニル基は置換されていな
いか、または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素
原子数1ないし12のアルコキシ基および/またはハロ
ゲン原子により1〜5回置換されており、R12、R13、
R14およびR15は互いに独立して水素原子、非置換また
は炭素原子数1ないし12のアルコキシ置換された炭素
原子数1ないし12のアルキル基、非置換または炭素原
子数1ないし6のアルキル、炭素原子数1ないし12の
アルコキシもしくはハロゲンで1ないし5置換されたフ
ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表すか、
または非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル、
炭素原子数1ないし12のアルコキシもしくはハロゲン
で1ないし5置換されたフェニル基を表すか、または基
R12、R13、R14およびR15は一緒になって別の芳香環
に縮合されてもよい芳香環を形成し、R16、R17、
R18、R18a 、R19およびR20は互いに独立して水素原
子、非置換または炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ、OHもしくはハロゲン置換された炭素原子数1ない
し12のアルキル基を表すか、または非置換または炭素
原子数1ないし12のアルキル、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシ、OH−もしくはハロゲン置換されたフ
ェニル基を表し、R21、R22およびR23は互いに独立し
て炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数2
ないし12のアルケニル基または炭素原子数3ないし1
2のシクロアルキル基を表し、上記炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアルケニ
ル基および炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基
は置換されていないか、またはR6 OCOもしくはCN
により置換されており、またはR21、R22およびR23は
非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素原
子数1ないし12のアルコキシまたはハロゲンで1ない
し5置換されたフェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基を表すか、または非置換または炭素原子数1ない
し6のアルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキシ
もしくはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基を
表し、XはN、SまたはOを表し、そしてGは陽イオン
を形成し得る基を表す)で表される化合物、からなる組
成物を提供する。
表し、pは0、1または2を表し、qは0または1を表
し、EはR21R22R23P、R7 R7aR8 NまたはR6 R
6aSを表し、R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、R6
およびR6aは非置換またはハロゲン置換された炭素原子
数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭素原子数1
ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、上記フ
ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフェ
ニル基は置換されていないか、または炭素原子数1ない
し6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ基および/またはハロゲン原子により1〜5回置換さ
れており、R7 、R7aおよびR8 は互いに独立して非置
換または炭素原子数1ないし12のアルコキシ−、ハロ
ゲン−、OH−、COOR6 −もしくはCN−置換され
た炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3
ないし12のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数
1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、上記
フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフ
ェニル基は置換されていないか、または炭素原子数1な
いし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回置換
されているか、またはR7 およびR8 はそれらが結合さ
れているN原子と一緒になって、さらにOまたはS原子
を含んでいてもよい5または6員環を形成し、R9 、R
10およびR11は互いに独立して炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
ル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基ま
たはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子数1な
いし6のアルキル基またはフェニル基は置換されていな
いか、または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素
原子数1ないし12のアルコキシ基および/またはハロ
ゲン原子により1〜5回置換されており、R12、R13、
R14およびR15は互いに独立して水素原子、非置換また
は炭素原子数1ないし12のアルコキシ置換された炭素
原子数1ないし12のアルキル基、非置換または炭素原
子数1ないし6のアルキル、炭素原子数1ないし12の
アルコキシもしくはハロゲンで1ないし5置換されたフ
ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表すか、
または非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル、
炭素原子数1ないし12のアルコキシもしくはハロゲン
で1ないし5置換されたフェニル基を表すか、または基
R12、R13、R14およびR15は一緒になって別の芳香環
に縮合されてもよい芳香環を形成し、R16、R17、
R18、R18a 、R19およびR20は互いに独立して水素原
子、非置換または炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ、OHもしくはハロゲン置換された炭素原子数1ない
し12のアルキル基を表すか、または非置換または炭素
原子数1ないし12のアルキル、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシ、OH−もしくはハロゲン置換されたフ
ェニル基を表し、R21、R22およびR23は互いに独立し
て炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数2
ないし12のアルケニル基または炭素原子数3ないし1
2のシクロアルキル基を表し、上記炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアルケニ
ル基および炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基
は置換されていないか、またはR6 OCOもしくはCN
により置換されており、またはR21、R22およびR23は
非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素原
子数1ないし12のアルコキシまたはハロゲンで1ない
し5置換されたフェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基を表すか、または非置換または炭素原子数1ない
し6のアルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキシ
もしくはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基を
表し、XはN、SまたはOを表し、そしてGは陽イオン
を形成し得る基を表す)で表される化合物、からなる組
成物を提供する。
【0005】補助開始剤を添加しない場合でさえも、式
IおよびI’で表される化合物はエチレン性不飽和化合
物の光重合のための反応性開始剤である。
IおよびI’で表される化合物はエチレン性不飽和化合
物の光重合のための反応性開始剤である。
【0006】上記化合物の特徴は、まず第一に、2以下
の基R1 、R2 およびR3 が同一であり、そして第二
に、基R1 、R2 およびR3 のいずれかの少なくとも2
つが両方のオルト位で置換された芳香族炭化水素基また
はフェニル基を表すか、または少なくとも1つの基
R1 、R2 またはR3 は立体的に嵩張るアリール基を表
し、そしてR1 、R2 およびR3 の残りの基は少なくと
も一方のオルト位で置換された芳香族炭化水素基または
フェニル基を表すことである。
の基R1 、R2 およびR3 が同一であり、そして第二
に、基R1 、R2 およびR3 のいずれかの少なくとも2
つが両方のオルト位で置換された芳香族炭化水素基また
はフェニル基を表すか、または少なくとも1つの基
R1 、R2 またはR3 は立体的に嵩張るアリール基を表
し、そしてR1 、R2 およびR3 の残りの基は少なくと
も一方のオルト位で置換された芳香族炭化水素基または
フェニル基を表すことである。
【0007】新規化合物に存在し得るような芳香族炭化
水素は、例えば1またはそれ以上の、特に1または2個
の異原子を含有し得る。適当な異原子の例はN、O、P
およびS、好ましくはNまたはOである。芳香族炭化水
素基の例はフェニル基、1−および2−ナフチル基、ス
チルベニル基、ビフェニル基、o−、m−またはp−タ
ーフェニル基、トリフェニルフェニル基、ビナフチル
基、アントラシル基、フェナントリル基、フェロセニル
基、ピレニル基、フラニ−2−イル基またはフラニ−3
−イル基、チオフェニ−2−イル基またはチオフェニ−
3−イル基、ピリジニ−2−イル基、ピリジニ−3−イ
ル基またはピリジニ−4−イル基、ピリミジニル基、キ
ノリル基またはイソキノリル基である。
水素は、例えば1またはそれ以上の、特に1または2個
の異原子を含有し得る。適当な異原子の例はN、O、P
およびS、好ましくはNまたはOである。芳香族炭化水
素基の例はフェニル基、1−および2−ナフチル基、ス
チルベニル基、ビフェニル基、o−、m−またはp−タ
ーフェニル基、トリフェニルフェニル基、ビナフチル
基、アントラシル基、フェナントリル基、フェロセニル
基、ピレニル基、フラニ−2−イル基またはフラニ−3
−イル基、チオフェニ−2−イル基またはチオフェニ−
3−イル基、ピリジニ−2−イル基、ピリジニ−3−イ
ル基またはピリジニ−4−イル基、ピリミジニル基、キ
ノリル基またはイソキノリル基である。
【0008】次式:
【化18】 〔式中、AおよびZは互いに独立して−(CH2 )
n −、−C(O)−、N、S(O)p (式中、nおよび
pは上記の意味を表す)を表す〕で表される芳香族炭化
水素基もまた適当である。これらの例はアントラシル
基、フルオレニル基、チアントリル基、キサンチル基、
アクリジニル基、フェナジニル基、フェノチアジニル
基、フェノキサチニル基およびフェノキサジニル基であ
る。
n −、−C(O)−、N、S(O)p (式中、nおよび
pは上記の意味を表す)を表す〕で表される芳香族炭化
水素基もまた適当である。これらの例はアントラシル
基、フルオレニル基、チアントリル基、キサンチル基、
アクリジニル基、フェナジニル基、フェノチアジニル
基、フェノキサチニル基およびフェノキサジニル基であ
る。
【0009】スチルベニル基は
【化19】 である。ビフェニル基は
【化20】 である。o−、m−またはp−ターフェニル基は
【化21】 である。トリフェニルフェニル基は
【化22】 である。ビナフチル基は
【化23】 である。アントラシル基は
【化24】 である。フェナントリル基は
【化25】 である。ピレニル基は
【化26】 である。キノリル基は
【化27】 である。イソキノリル基は
【化28】 である。フラニル基はフラニ−2−イル基またはフラニ
−3−イル基である。チオフェニル基はチオフェニ−2
−イル基またはチオフェニ−3−イル基である。ピリジ
ニル基はピリジニ−2−イル基、ピリジニ−3−イル基
またはピリジニ−4−イル基である。
−3−イル基である。チオフェニル基はチオフェニ−2
−イル基またはチオフェニ−3−イル基である。ピリジ
ニル基はピリジニ−2−イル基、ピリジニ−3−イル基
またはピリジニ−4−イル基である。
【0010】置換されたフェニル基、スチルベニル基、
o−、m−またはp−ターフェニル基、トリフェニルフ
ェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、アントラシル
基、フェナントリル基、ピレニル基、フェロセニル基、
フラニル基、チオフェニル基、ピリジニル基、キノリニ
ル基またはイソキノリル基は1ないし4回、例えば1、
2または3回、特に2または3回置換されている。フェ
ニル環上の置換基は好ましくはフェニル環上の2、4ま
たは6位、または2,6位もしくは2,4,6位の配位
にある。
o−、m−またはp−ターフェニル基、トリフェニルフ
ェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、アントラシル
基、フェナントリル基、ピレニル基、フェロセニル基、
フラニル基、チオフェニル基、ピリジニル基、キノリニ
ル基またはイソキノリル基は1ないし4回、例えば1、
2または3回、特に2または3回置換されている。フェ
ニル環上の置換基は好ましくはフェニル環上の2、4ま
たは6位、または2,6位もしくは2,4,6位の配位
にある。
【0011】本明細書において使用される「立体的に嵩
張るアリール基」という用語は、例えば、多環、すなわ
ち多環式アリール基を意味する。これらの例は異原子、
好ましくはS、OまたはNを含むか、または含まない縮
合された炭化水素環であり、その例は1−および2−ナ
フチル基、ビナフチル基、アントラシル基、フェナント
リル基、ピレニル基、キノリル基およびイソキノリル基
である。しかしながら、「立体的に嵩張るアリール基」
という用語は環配列、すなわち単結合で結合されたアリ
ール環をも意味する。これらの例はビフェニル基、o
−、m−またはp−ターフェニル基またはトリフェニル
フェニル基である。
張るアリール基」という用語は、例えば、多環、すなわ
ち多環式アリール基を意味する。これらの例は異原子、
好ましくはS、OまたはNを含むか、または含まない縮
合された炭化水素環であり、その例は1−および2−ナ
フチル基、ビナフチル基、アントラシル基、フェナント
リル基、ピレニル基、キノリル基およびイソキノリル基
である。しかしながら、「立体的に嵩張るアリール基」
という用語は環配列、すなわち単結合で結合されたアリ
ール環をも意味する。これらの例はビフェニル基、o
−、m−またはp−ターフェニル基またはトリフェニル
フェニル基である。
【0012】炭素原子数1ないし20のアルキル基は線
状または枝分かれ基であり、例えば炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアルキル
基、炭素原子数1ないし6のアルキル基または炭素原子
数1ないし4のアルキル基である。例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
第二−ブチル基、イソ−ブチル基、第三−ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2,4,4−トリ
メチル−フェニル基、2−エチルヘキシル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基またはエ
イコシル基である。例えば、R4 は炭素原子数1ないし
8のアルキル基、特に炭素原子数1ないし6のアルキル
基、好ましくは炭素原子数1ないし4のアルキル基、例
えばメチル基またはブチル基である。R1 、R2 、R3
およびR4 がR9 R10R11Siで置換された炭素原子数
1ないし20のアルキル基の場合、アルキル基は例えば
炭素原子数1ないし12のアルキル基、特に炭素原子数
1ないし8のアルキル基、好ましくは炭素原子数1ない
し4のアルキル基を表す。メチル基が特に好ましい。
状または枝分かれ基であり、例えば炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアルキル
基、炭素原子数1ないし6のアルキル基または炭素原子
数1ないし4のアルキル基である。例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
第二−ブチル基、イソ−ブチル基、第三−ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2,4,4−トリ
メチル−フェニル基、2−エチルヘキシル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基またはエ
イコシル基である。例えば、R4 は炭素原子数1ないし
8のアルキル基、特に炭素原子数1ないし6のアルキル
基、好ましくは炭素原子数1ないし4のアルキル基、例
えばメチル基またはブチル基である。R1 、R2 、R3
およびR4 がR9 R10R11Siで置換された炭素原子数
1ないし20のアルキル基の場合、アルキル基は例えば
炭素原子数1ないし12のアルキル基、特に炭素原子数
1ないし8のアルキル基、好ましくは炭素原子数1ない
し4のアルキル基を表す。メチル基が特に好ましい。
【0013】炭素原子数1ないし12のアルキル基およ
び炭素原子数1ないし6のアルキル基は同様にして、線
状または枝分かれ基であり、また例えば炭素原子の数に
対応する上記の定義を有する。R5 、R6 、R6a、
R7 、R7a、R8 、R9 、R10、R11、R12およびR13
は、例えば炭素原子数1ないし8のアルキル基、特に炭
素原子数1ないし6のアルキル基、好ましくは炭素原子
数1ないし4のアルキル基、例えばメチル基またはブチ
ル基である。フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基またはフェニル基のための炭素原子数1ないし6の
アルキル置換基は、特に炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基、例えばメチル基またはブチル基である。
び炭素原子数1ないし6のアルキル基は同様にして、線
状または枝分かれ基であり、また例えば炭素原子の数に
対応する上記の定義を有する。R5 、R6 、R6a、
R7 、R7a、R8 、R9 、R10、R11、R12およびR13
は、例えば炭素原子数1ないし8のアルキル基、特に炭
素原子数1ないし6のアルキル基、好ましくは炭素原子
数1ないし4のアルキル基、例えばメチル基またはブチ
ル基である。フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基またはフェニル基のための炭素原子数1ないし6の
アルキル置換基は、特に炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基、例えばメチル基またはブチル基である。
【0014】−O−、−S(O)p −または−NR5 −
で1回またはそれよりも多く中断された炭素原子数2な
いし20のアルキル基は、例えば1ないし9回、例えば
1ないし7回または1回もしくは2回、−O−、−S
(O)p −または−NR5 −で中断されている。これに
より、例えば以下のような構造単位:−CH2 −O−C
H3 、−CH2 CH2 −O−CH2 CH3 、−[CH2
CH2 O]y −CH3 (式中、yは1ないし9を表
す)、−(CH2 CH2 O)7 CH2 CH3 、−CH2
−CH(CH3 )−O−CH2 CH2 CH3 、−CH2
−CH(CH3 )−O−CH2 CH2 、−CH2 SCH
3 または−CH2 −N(CH3 )2 を形成する。
で1回またはそれよりも多く中断された炭素原子数2な
いし20のアルキル基は、例えば1ないし9回、例えば
1ないし7回または1回もしくは2回、−O−、−S
(O)p −または−NR5 −で中断されている。これに
より、例えば以下のような構造単位:−CH2 −O−C
H3 、−CH2 CH2 −O−CH2 CH3 、−[CH2
CH2 O]y −CH3 (式中、yは1ないし9を表
す)、−(CH2 CH2 O)7 CH2 CH3 、−CH2
−CH(CH3 )−O−CH2 CH2 CH3 、−CH2
−CH(CH3 )−O−CH2 CH2 、−CH2 SCH
3 または−CH2 −N(CH3 )2 を形成する。
【0015】炭素原子数3ないし12のシクロアルキル
基は、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデシル
基、特にシクロペンチル基およびシクロヘキシル基、好
ましくはシクロヘキシル基である。1ないし多置換され
得る炭素原子数2ないし8のアルケニル基は、例えばア
リル基、メタリル基、1,1−ジメチルアリル基、1−
ブテニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、1,3
−ペンタジエニル基、5−ヘキセニル基または7−オク
テニル基、特にアリル基である。炭素原子数2ないし8
のアルケニル基としてのR4 は、例えば炭素原子数2な
いし6のアルケニル基、特に炭素原子数2ないし4のア
ルケニル基である。
基は、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデシル
基、特にシクロペンチル基およびシクロヘキシル基、好
ましくはシクロヘキシル基である。1ないし多置換され
得る炭素原子数2ないし8のアルケニル基は、例えばア
リル基、メタリル基、1,1−ジメチルアリル基、1−
ブテニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、1,3
−ペンタジエニル基、5−ヘキセニル基または7−オク
テニル基、特にアリル基である。炭素原子数2ないし8
のアルケニル基としてのR4 は、例えば炭素原子数2な
いし6のアルケニル基、特に炭素原子数2ないし4のア
ルケニル基である。
【0016】フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基は、例えばベンジル基、フェニルエチル基、α−メ
チルベンジル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキシ
ル基またはα、α−ジメチルベンジル基、特にベンジル
基である。好ましいものは、フェニル−炭素原子数1な
いし4のアルキル基、特にフェニル−炭素原子数1また
は2のアルキル基である。置換されたフェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基は1ないし4回、例えば1
回、2回または3回、特に1回または2回フェニル環上
で置換されている。
ル基は、例えばベンジル基、フェニルエチル基、α−メ
チルベンジル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキシ
ル基またはα、α−ジメチルベンジル基、特にベンジル
基である。好ましいものは、フェニル−炭素原子数1な
いし4のアルキル基、特にフェニル−炭素原子数1また
は2のアルキル基である。置換されたフェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基は1ないし4回、例えば1
回、2回または3回、特に1回または2回フェニル環上
で置換されている。
【0017】フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
レン基は2つの遊離結合を有し、その一方はフェニル環
上にあり、そして他方はアルキレン基にある。すなわち
次式:
レン基は2つの遊離結合を有し、その一方はフェニル環
上にあり、そして他方はアルキレン基にある。すなわち
次式:
【化29】 (式中、xは1ないし6を表す)で表される。
【0018】置換されたフェニル基は1ないし5回、例
えば1回、2回または3回、特に1回または2回フェニ
ル環上で置換されている。置換基は例えばフェニル環の
2位と6位、2位と4位または2位、4位および6位に
あり、好ましくは2位と6位または2位、4位および6
位にある。ナフチル−炭素原子数1ないし3のアルキル
基は、例えばナフチルメチル基、ナフチルエチル基、ナ
フチルプロピル基またはナフチル−1−メチルエチル
基、特にナフチルメチル基である。アルキル単位はナフ
チル環系の1位または2位のいずれかに有り得る。置換
されたナフチル−炭素原子数1ないし3のアルキル基は
1ないし4回、例えば1回、2回または3回、特に1回
または2回芳香環上で置換されている。
えば1回、2回または3回、特に1回または2回フェニ
ル環上で置換されている。置換基は例えばフェニル環の
2位と6位、2位と4位または2位、4位および6位に
あり、好ましくは2位と6位または2位、4位および6
位にある。ナフチル−炭素原子数1ないし3のアルキル
基は、例えばナフチルメチル基、ナフチルエチル基、ナ
フチルプロピル基またはナフチル−1−メチルエチル
基、特にナフチルメチル基である。アルキル単位はナフ
チル環系の1位または2位のいずれかに有り得る。置換
されたナフチル−炭素原子数1ないし3のアルキル基は
1ないし4回、例えば1回、2回または3回、特に1回
または2回芳香環上で置換されている。
【0019】炭素原子数1ないし12のアルコキシ基は
線状または枝分かれ基であり、例えばメトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブチル
オキシ基、第二ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、
第三ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキ
シ基、ヘプチルオキシ基、2,4,4−トリメチルペン
チルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、オクチル
オキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基またはドデ
シルオキシ基、特にメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、n−ブチルオキシ基、第二ブ
チルオキシ基、イソブチルオキシ基、第三ブチルオキシ
基、好ましくはメトキシ基である。
線状または枝分かれ基であり、例えばメトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブチル
オキシ基、第二ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、
第三ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキ
シ基、ヘプチルオキシ基、2,4,4−トリメチルペン
チルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、オクチル
オキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基またはドデ
シルオキシ基、特にメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、n−ブチルオキシ基、第二ブ
チルオキシ基、イソブチルオキシ基、第三ブチルオキシ
基、好ましくはメトキシ基である。
【0020】ハロゲン原子はフッ素原子、塩素原子、臭
素原子およびヨウ素原子、特に塩素原子、臭素原子およ
びフッ素原子、好ましくは塩素原子およびフッ素原子で
ある。1またはそれ以上のハロゲン原子で置換された炭
素原子数1ないし20のアルキル基は、例えばアルキル
基上で1ないし3または1もしくは2個のハロゲン置換
基により置換されている。
素原子およびヨウ素原子、特に塩素原子、臭素原子およ
びフッ素原子、好ましくは塩素原子およびフッ素原子で
ある。1またはそれ以上のハロゲン原子で置換された炭
素原子数1ないし20のアルキル基は、例えばアルキル
基上で1ないし3または1もしくは2個のハロゲン置換
基により置換されている。
【0021】R7 およびR8 がそれらが結合されている
N原子と一緒になって、さらにOまたはS原子を含んで
いてもよい5または6員環を形成する場合、包含される
環は例えば飽和または不飽和環、例えばアジリジン、ピ
ロール、ピロリジン、オキサゾール、チアゾール、ピリ
ジン、1,3−ジアジン、1,2−ジアジン、ピペリジ
ンまたはモルホリンである。
N原子と一緒になって、さらにOまたはS原子を含んで
いてもよい5または6員環を形成する場合、包含される
環は例えば飽和または不飽和環、例えばアジリジン、ピ
ロール、ピロリジン、オキサゾール、チアゾール、ピリ
ジン、1,3−ジアジン、1,2−ジアジン、ピペリジ
ンまたはモルホリンである。
【0022】2価の芳香族炭化水素基の例はフェニレン
基、スチルベニレン基、ビフェニレン基、o−、m−ま
たはp−ターフェニレン基、トリフェニルフェニレン
基、ナフチレン基、ビナフチレン基、アントラセニレン
基、フェナントリレン基、ピレニレン基、フェロセニレ
ン基、フラニレン基、チオフェニレン基、ピリジニレン
基、キノリニレン基またはイソキノニレン基である。
基、スチルベニレン基、ビフェニレン基、o−、m−ま
たはp−ターフェニレン基、トリフェニルフェニレン
基、ナフチレン基、ビナフチレン基、アントラセニレン
基、フェナントリレン基、ピレニレン基、フェロセニレ
ン基、フラニレン基、チオフェニレン基、ピリジニレン
基、キノリニレン基またはイソキノニレン基である。
【0023】ナフチレン基は
【化30】 、特に
【化31】 である。スチルベニレン基は
【化32】 である。ビフェニレン基は
【化33】 である。o−、m−またはp−ターフェニレン基は
【化34】 である。トリフェニルフェニレン基は
【化35】 である。ビナフチレン基は
【化36】 、特に
【化37】 である。アントラセニレン基は
【化38】 である。フェナントリレン基は
【化39】 である。ピレニレン基は
【化40】 である。フラニレン基は
【化41】 である。チオフェニレン基は
【化42】 である。ピリジニレン基は
【化43】 である。キノリニレン基は
【化44】 である。イソキノニレン基は
【化45】 である。1,4−ドゥリル基は
【化46】 である。
【0024】置換されたフェニレン基、スチルベニレン
基、ビフェニレン基、o−、m−またはp−ターフェニ
レン基、トリフェニルフェニレン基、ナフチレン基、ビ
ナフチレン基、アントラセニレン基、フェナントリレン
基、ピレニレン基、フェロセニレン基、フラニレン基、
チオフェニレン基、ピリジニレン基、キノリニレン基ま
たはイソキノニレン基は、1ないし4回、例えば1、2
または3回、特に1または2回置換されている。1,4
−フェニレン環上の置換基はフェニル環上の2、3、5
または6位、特に2または3位にある。1,3−フェニ
レン環上の置換基はフェニル環上の2、4、5または6
位、特に4または5位にある。
基、ビフェニレン基、o−、m−またはp−ターフェニ
レン基、トリフェニルフェニレン基、ナフチレン基、ビ
ナフチレン基、アントラセニレン基、フェナントリレン
基、ピレニレン基、フェロセニレン基、フラニレン基、
チオフェニレン基、ピリジニレン基、キノリニレン基ま
たはイソキノニレン基は、1ないし4回、例えば1、2
または3回、特に1または2回置換されている。1,4
−フェニレン環上の置換基はフェニル環上の2、3、5
または6位、特に2または3位にある。1,3−フェニ
レン環上の置換基はフェニル環上の2、4、5または6
位、特に4または5位にある。
【0025】式I中の陰性のボレートに対する対イオン
G+ として一般に適当である基は陽イオンを形成するこ
とができるものである。これらの例はアルカリ金属、特
にリチウムまたはナトリウム、第四アンモニウム化合
物、ホスホニウム、スルホニウムおよびヨードニウム化
合物、カチオン遷移金属錯体化合物または染料である。
式Iの単分子ボレート化合物のために、Gは好ましくは
アンモニウムまたはテトラアルキルアンモニウムであ
る。テトラアルキルアンモニウムの例は特にテトラメチ
ルアンモニウムまたはテトラブチルアンモニウムであ
る。しかしながら、トリスアルキルアンモニウムイオ
ン、例えばトリメチルアンモニウムもまた適当である。
その他の有利な第四アンモニウム化合物は、例えばトリ
メチルセチルアンモニウムまたはセチルピリジニウムで
ある。次式: +PRw Rx Ry Rz および+NRw Rx
Ry Rz (式中、Rw 、Rx 、Ry 、Rz は互いに独立
して水素原子、非置換または置換されたアルキル基、シ
クロアルキル基、アルケニル基、フェニル基またはアリ
ールアルキル基を表す)で表されるホスホニウムおよび
アンモニウム対イオンもまた適当である。これらのアル
キル基、シクロアルキル基、アルケニル基、フェニル基
およびアリールアルキル基の例はハロゲン化物の基(ハ
ライド基)、ヒドロキシル基、ヘテロシクロアルキル基
(例えばエポキシ基、アジリジル基、オキセタニル基、
フラニル基、ピロリジニル基、ピロリル基、チオフェニ
ル基、テトラヒドロフラニル基等)、ジアルキルアミノ
基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル−およびアリ
ールカルボニル基およびアリールオキシ−およびアルコ
キシカルボニル基である。
G+ として一般に適当である基は陽イオンを形成するこ
とができるものである。これらの例はアルカリ金属、特
にリチウムまたはナトリウム、第四アンモニウム化合
物、ホスホニウム、スルホニウムおよびヨードニウム化
合物、カチオン遷移金属錯体化合物または染料である。
式Iの単分子ボレート化合物のために、Gは好ましくは
アンモニウムまたはテトラアルキルアンモニウムであ
る。テトラアルキルアンモニウムの例は特にテトラメチ
ルアンモニウムまたはテトラブチルアンモニウムであ
る。しかしながら、トリスアルキルアンモニウムイオ
ン、例えばトリメチルアンモニウムもまた適当である。
その他の有利な第四アンモニウム化合物は、例えばトリ
メチルセチルアンモニウムまたはセチルピリジニウムで
ある。次式: +PRw Rx Ry Rz および+NRw Rx
Ry Rz (式中、Rw 、Rx 、Ry 、Rz は互いに独立
して水素原子、非置換または置換されたアルキル基、シ
クロアルキル基、アルケニル基、フェニル基またはアリ
ールアルキル基を表す)で表されるホスホニウムおよび
アンモニウム対イオンもまた適当である。これらのアル
キル基、シクロアルキル基、アルケニル基、フェニル基
およびアリールアルキル基の例はハロゲン化物の基(ハ
ライド基)、ヒドロキシル基、ヘテロシクロアルキル基
(例えばエポキシ基、アジリジル基、オキセタニル基、
フラニル基、ピロリジニル基、ピロリル基、チオフェニ
ル基、テトラヒドロフラニル基等)、ジアルキルアミノ
基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル−およびアリ
ールカルボニル基およびアリールオキシ−およびアルコ
キシカルボニル基である。
【0026】4価の窒素原子はまた、5または6員環の
一部であってもよく、その場合、この環はその他の環系
に縮合されていてもよい。これらの系はまた追加の異原
子、例えばS、N、Oを包含してもよい。4価の窒素原
子はまた、多環系、例えばアゾニアプロペランの一部で
あってもよい。これらの系はまた、その他の異原子、例
えばS、N、Oを含んでいてもよい。
一部であってもよく、その場合、この環はその他の環系
に縮合されていてもよい。これらの系はまた追加の異原
子、例えばS、N、Oを包含してもよい。4価の窒素原
子はまた、多環系、例えばアゾニアプロペランの一部で
あってもよい。これらの系はまた、その他の異原子、例
えばS、N、Oを含んでいてもよい。
【0027】ポリアンモニウム塩およびポリホスホニウ
ム塩、特にビス塩もまた適当であり、「モノ」化合物に
対して上記したようなものと同じ置換基が存在してもよ
い。アンモニウム塩およびホスホニウム塩はまた、中性
染料(例えばチオキサンテネン,チオキサントン,クマ
リン,ケトクマリン等)により置換されていてもよい。
そのような塩は反応性基(例えばエポキシ基,アミノ
基,ヒドロキシル基等)により置換されたアンモニウム
塩およびホスホニウム塩と、中性染料の適当な誘導体と
の反応により得られる。相当する例はEP−A2249
67に記載されている(カンタキュアQTX)。
ム塩、特にビス塩もまた適当であり、「モノ」化合物に
対して上記したようなものと同じ置換基が存在してもよ
い。アンモニウム塩およびホスホニウム塩はまた、中性
染料(例えばチオキサンテネン,チオキサントン,クマ
リン,ケトクマリン等)により置換されていてもよい。
そのような塩は反応性基(例えばエポキシ基,アミノ
基,ヒドロキシル基等)により置換されたアンモニウム
塩およびホスホニウム塩と、中性染料の適当な誘導体と
の反応により得られる。相当する例はEP−A2249
67に記載されている(カンタキュアQTX)。
【0028】同様に、アンモニウム塩およびホスホニウ
ム塩はまた、無色の電子受容体(例えばベンゾフェノ
ン)により置換され得る。これらの例はカンタキュアA
BQ
ム塩はまた、無色の電子受容体(例えばベンゾフェノ
ン)により置換され得る。これらの例はカンタキュアA
BQ
【化47】 、カンタキュアBPQ
【化48】 およびカンタキュアBTC
【化49】 であり、これらはインターナショナル・バイオシンセテ
ィクスから入手できる。
ィクスから入手できる。
【0029】式Iの化合物は、対イオンとして染料また
はカチオン遷移金属錯体を含まない場合でさえも反応性
である。換言すれば、それらは単分子の形態でさえも使
用され得る。本発明はそれ故にさらに、Gが特に、第1
酸化状態にある周期表I族の金属、特にNa+ 、K+ ま
たはLi+ を表すか、またはGがMgZ1 + またはCa
Z1 + (式中、Z1 はハロゲン原子または炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基を表す)を表すか、またはGが
アンモニウム塩、スルホニウム塩またはホスホニウム塩
を表す化合物を提供する。アンモニウム塩またはホスホ
ニウム塩は、例えばRa Rb Rc Rd N+ およびRa R
b Rc Rd P+ (式中、Ra 、Rb 、Rc 、Rd は互い
に独立して炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素
原子数3ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2
ないし8のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1ない
し6のアルキル基、ナフチル−炭素原子数1ないし3の
アルキル基またはフェニル基を表す)である。
はカチオン遷移金属錯体を含まない場合でさえも反応性
である。換言すれば、それらは単分子の形態でさえも使
用され得る。本発明はそれ故にさらに、Gが特に、第1
酸化状態にある周期表I族の金属、特にNa+ 、K+ ま
たはLi+ を表すか、またはGがMgZ1 + またはCa
Z1 + (式中、Z1 はハロゲン原子または炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基を表す)を表すか、またはGが
アンモニウム塩、スルホニウム塩またはホスホニウム塩
を表す化合物を提供する。アンモニウム塩またはホスホ
ニウム塩は、例えばRa Rb Rc Rd N+ およびRa R
b Rc Rd P+ (式中、Ra 、Rb 、Rc 、Rd は互い
に独立して炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素
原子数3ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2
ないし8のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1ない
し6のアルキル基、ナフチル−炭素原子数1ないし3の
アルキル基またはフェニル基を表す)である。
【0030】単分子光開始剤化合物の反応性はもちろん
補助開始剤、例えば染料の添加により増加され得る。結
果的に、対イオンとして染料カチオンまたはカチオン遷
移金属配位錯体化合物を使用することも可能である。こ
れらの基はボレートのための補助開始剤として作用す
る。式Iの化合物中に使用されるべき陽性の対イオンG
+ の例は以下のイオン:
補助開始剤、例えば染料の添加により増加され得る。結
果的に、対イオンとして染料カチオンまたはカチオン遷
移金属配位錯体化合物を使用することも可能である。こ
れらの基はボレートのための補助開始剤として作用す
る。式Iの化合物中に使用されるべき陽性の対イオンG
+ の例は以下のイオン:
【化50】 (式中、ZはP、SまたはNを表し、そしてRはアルキ
ル基またはアリール基を表す)を包含する。例えば次
式:
ル基またはアリール基を表す)を包含する。例えば次
式:
【化51】 の化合物もまた適当である(Yagci 等, J. Polym. Sci.
Part A: Polymer Chem.1992, 30, 1987 およびPolymer
1993,34(6), 1130 に記載されている)または次式:
Part A: Polymer Chem.1992, 30, 1987 およびPolymer
1993,34(6), 1130 に記載されている)または次式:
【化52】 (式中、R’は非置換または置換されたベンジル基また
はフェンアシル基を表す)の化合物(特開平7−702
21号に記載されている)もまた適当である。これらの
化合物の中で、ピリジニウムの芳香環は置換されていて
もよい。テトラアルキルアンモニウムは例えば(炭素原
子数1ないし10のアルキル)4 N+ 、例えばテトラヘ
キシルアンモニウム、テトラオクチルアンモニウム、テ
トラデシルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムま
たはテトラメチルアンモニウムである。テトラ(炭素原
子数1ないし4のアルキル)アンモニウム、N(炭素原
子数1ないし4のアルキル)+ が好ましく、ここで炭素
原子数1ないし4のアルキルは相当する炭素原子数まで
の上記の定義を有し得る。相当するアンモニウム化合物
は例えばテトラメチルアンモニウム、テトラエチルアン
モニウム、テトラプロピルアンモニウムまたはテトラブ
チルアンモニウム、特にテトラメチルアンモニウムおよ
びテトラブチルアンモニウムである。ベンジル−トリ
(炭素原子数1ないし4のアルキル)アンモニウムはC
6 H4 −CH2 −N(炭素原子数1ないし4のアルキ
ル)3 + であり、ここで炭素原子数1ないし4のアルキ
ルは相当する炭素原子数までの上記の定義を有し得る。
そのような基の例はベンジルトリメチルアンモニウム、
ベンジルトリエチルアンモニウム、ベンジルトリプロピ
ルアンモニウムおよびベンジルトリブチルアンモニウ
ム、特にベンジルトリメチルアンモニウおよびベンジル
トリブチルアンモニウムである。
はフェンアシル基を表す)の化合物(特開平7−702
21号に記載されている)もまた適当である。これらの
化合物の中で、ピリジニウムの芳香環は置換されていて
もよい。テトラアルキルアンモニウムは例えば(炭素原
子数1ないし10のアルキル)4 N+ 、例えばテトラヘ
キシルアンモニウム、テトラオクチルアンモニウム、テ
トラデシルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムま
たはテトラメチルアンモニウムである。テトラ(炭素原
子数1ないし4のアルキル)アンモニウム、N(炭素原
子数1ないし4のアルキル)+ が好ましく、ここで炭素
原子数1ないし4のアルキルは相当する炭素原子数まで
の上記の定義を有し得る。相当するアンモニウム化合物
は例えばテトラメチルアンモニウム、テトラエチルアン
モニウム、テトラプロピルアンモニウムまたはテトラブ
チルアンモニウム、特にテトラメチルアンモニウムおよ
びテトラブチルアンモニウムである。ベンジル−トリ
(炭素原子数1ないし4のアルキル)アンモニウムはC
6 H4 −CH2 −N(炭素原子数1ないし4のアルキ
ル)3 + であり、ここで炭素原子数1ないし4のアルキ
ルは相当する炭素原子数までの上記の定義を有し得る。
そのような基の例はベンジルトリメチルアンモニウム、
ベンジルトリエチルアンモニウム、ベンジルトリプロピ
ルアンモニウムおよびベンジルトリブチルアンモニウ
ム、特にベンジルトリメチルアンモニウおよびベンジル
トリブチルアンモニウムである。
【0031】使用に適するポレートに対するその他の陽
性対イオンG+ は別のオニウムイオン、例えばヨードニ
ウムまたはスルホニウムイオンである。そのような対イ
オンの例はEP−A−555058およびEP−A−6
90074に記載されるような次式:
性対イオンG+ は別のオニウムイオン、例えばヨードニ
ウムまたはスルホニウムイオンである。そのような対イ
オンの例はEP−A−555058およびEP−A−6
90074に記載されるような次式:
【化53】 の基である。
【化54】 もまた対イオンとして興味深い。新規ボレートのための
その他の適当な対イオンは次式:
その他の適当な対イオンは次式:
【化55】 (式中、R9 はアルキル基、特にエチル基またはベンジ
ル基を表す)のカチオンであり、そして芳香環はその他
の置換基を有していてもよい。その他の適当な対イオン
はEP−A−334056およびEP−A−56289
7に記載されるようなハロニウムイオン、特にジアリー
ルヨウドニウムイオンである。
ル基を表す)のカチオンであり、そして芳香環はその他
の置換基を有していてもよい。その他の適当な対イオン
はEP−A−334056およびEP−A−56289
7に記載されるようなハロニウムイオン、特にジアリー
ルヨウドニウムイオンである。
【0032】しかしながら、EP−A−949145お
よびEP−A−109851に記載されるようなフェロ
セニウム塩のカチオン、例えば
よびEP−A−109851に記載されるようなフェロ
セニウム塩のカチオン、例えば
【化56】 もまた適当である。その他の適当なオニウムカチオン、
例えばアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム、ヨ
ードニウム、セロニウム、アルソニウム、テロニウムお
よびビスムトニウムは例えば特願平6−266102号
に記載されている。
例えばアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム、ヨ
ードニウム、セロニウム、アルソニウム、テロニウムお
よびビスムトニウムは例えば特願平6−266102号
に記載されている。
【0033】対イオンとして適当であるカチオン遷移金
属錯体化合物の例は米国特許第4954414号に記載
されている。ビス(2,2’−ビピリジン)(4,4’
−ジメチル−2,2’−ビピリジン)ルテニウム、トリ
ス(4,4’−ジメチル−2,2’−ビピリジン)ルテ
ニウム、トリス(4,4’−ジメチル−2,2’−ビピ
リジン)鉄、トリス(2,2’,2”−ターピリジン)
ルテニウム、トリス(2,2’−ビピリジン)ルテニウ
ムおよびビス(2,2’−ビピリジン)(5−クロロ−
1,10−フェナントロリン)ルテニウムが特に有利で
ある。適当な染料の例は例えばトリアリールメタン、例
えばマラカイトグリーン、インドリン、チアジン、例え
ばメチレンブルー、キサントン、チオキサントン、オキ
サジン、アクリジン、シアニン、ローダミン、フェナジ
ン、例えばサフラニン、好ましくはシアニンおよびチオ
キサントンである。
属錯体化合物の例は米国特許第4954414号に記載
されている。ビス(2,2’−ビピリジン)(4,4’
−ジメチル−2,2’−ビピリジン)ルテニウム、トリ
ス(4,4’−ジメチル−2,2’−ビピリジン)ルテ
ニウム、トリス(4,4’−ジメチル−2,2’−ビピ
リジン)鉄、トリス(2,2’,2”−ターピリジン)
ルテニウム、トリス(2,2’−ビピリジン)ルテニウ
ムおよびビス(2,2’−ビピリジン)(5−クロロ−
1,10−フェナントロリン)ルテニウムが特に有利で
ある。適当な染料の例は例えばトリアリールメタン、例
えばマラカイトグリーン、インドリン、チアジン、例え
ばメチレンブルー、キサントン、チオキサントン、オキ
サジン、アクリジン、シアニン、ローダミン、フェナジ
ン、例えばサフラニン、好ましくはシアニンおよびチオ
キサントンである。
【0034】式IおよびI’の好ましい化合物は上記式
中、R1 およびR2 が同一であるものである。式I中、
R1 、R2 およびR3 が互いに独立してフェニル基また
は異原子を含むかもしくは含まない別の芳香族炭化水素
基を表すが、それらの基は置換されていないか、または
非置換またはOR6 −もしくはR7 R8 N−置換された
炭素原子数1ないし6のアルキル基、OR6 、R6 S
(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R8 N、ハロゲン原
子および/または
中、R1 およびR2 が同一であるものである。式I中、
R1 、R2 およびR3 が互いに独立してフェニル基また
は異原子を含むかもしくは含まない別の芳香族炭化水素
基を表すが、それらの基は置換されていないか、または
非置換またはOR6 −もしくはR7 R8 N−置換された
炭素原子数1ないし6のアルキル基、OR6 、R6 S
(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R8 N、ハロゲン原
子および/または
【化57】 により1〜5回置換されており、または基R2 およびR
3 が橋を形成して式II、IIaまたはIIbで表され
る構造をとり、R4 がフェニル基、炭素原子数1ないし
20のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロア
ルキル基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、フェ
ニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはナフチ
ル−炭素原子数1ないし3のアルキル基を表し、R12、
R13、R14およびR15が互いに独立してH、炭素原子数
1ないし12のアルキル基またはフェニル基を表すか、
または基R12、R13、R14およびR15が一緒になって別
の芳香環に縮合されてもよい芳香環を形成し、そしてX
がNまたはOを表す化合物を含有する組成物が興味深
い。
3 が橋を形成して式II、IIaまたはIIbで表され
る構造をとり、R4 がフェニル基、炭素原子数1ないし
20のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロア
ルキル基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、フェ
ニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはナフチ
ル−炭素原子数1ないし3のアルキル基を表し、R12、
R13、R14およびR15が互いに独立してH、炭素原子数
1ないし12のアルキル基またはフェニル基を表すか、
または基R12、R13、R14およびR15が一緒になって別
の芳香環に縮合されてもよい芳香環を形成し、そしてX
がNまたはOを表す化合物を含有する組成物が興味深
い。
【0035】式IまたはI’中、R4 が炭素原子数1な
いし12のアルキル基、アリル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、ベンジル基またはナフチルメチル基
を表す化合物を含有する組成物が特に強調される価値が
ある。特に好ましいのは、式IまたはI’中、R6 が炭
素原子数1ないし4のアルキル基、トリフルオロメチル
基を表すか、または置換されていないか、または炭素原
子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜
5回置換されたフェニル基を表す化合物を含有する組成
物である。
いし12のアルキル基、アリル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、ベンジル基またはナフチルメチル基
を表す化合物を含有する組成物が特に強調される価値が
ある。特に好ましいのは、式IまたはI’中、R6 が炭
素原子数1ないし4のアルキル基、トリフルオロメチル
基を表すか、または置換されていないか、または炭素原
子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜
5回置換されたフェニル基を表す化合物を含有する組成
物である。
【0036】式IまたはI’中、R7 およびR8 が炭素
原子数1ないし4のアルキル基、フェニル基またはフェ
ニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表すか、ま
たはそれらが結合されているN原子と一緒なってピロリ
ジノ基、ピペリジノ基またはモルホリノ基を表す化合物
を含有する組成物が興味深い。式I中、R1 およびR2
が2,6−ジ(炭素原子数1ないし6のアルキル)フェ
ニル基、2,6−ジ(炭素原子数1ないし6のアルコキ
シ)フェニル基、2,6−ビス(トリフルオロメチル)
フェニル基、2,6−ジハロフェニル基、2,4,6−
トリ(炭素原子数1ないし6のアルキル)フェニル基、
2,4,6−トリ(炭素原子数1ないし6のアルコキ
シ)フェニル基、2,4,6−トリス(トリフルオロメ
チル)フェニル基または2,4,6−トリハロフェニル
基を表す化合物を含有する組成物もまた好ましい。
原子数1ないし4のアルキル基、フェニル基またはフェ
ニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表すか、ま
たはそれらが結合されているN原子と一緒なってピロリ
ジノ基、ピペリジノ基またはモルホリノ基を表す化合物
を含有する組成物が興味深い。式I中、R1 およびR2
が2,6−ジ(炭素原子数1ないし6のアルキル)フェ
ニル基、2,6−ジ(炭素原子数1ないし6のアルコキ
シ)フェニル基、2,6−ビス(トリフルオロメチル)
フェニル基、2,6−ジハロフェニル基、2,4,6−
トリ(炭素原子数1ないし6のアルキル)フェニル基、
2,4,6−トリ(炭素原子数1ないし6のアルコキ
シ)フェニル基、2,4,6−トリス(トリフルオロメ
チル)フェニル基または2,4,6−トリハロフェニル
基を表す化合物を含有する組成物もまた好ましい。
【0037】同様に、式I中、R1 およびR2 がメシチ
ル基を表す化合物を含有する組成物が好ましい。その他
の好ましい組成物は、式I中、R1 が1−ナフチル基、
2−(炭素原子数1ないし6のアルキル)ナフチ−1−
イル基、1−アントラシル基、9−アントラシル基また
はフェロセニル基を表す化合物を含有するものである。
その他の興味深い組成物は、式I中、RおよびR2 がo
−(炭素原子数1ないし6のアルキル)フェニル基、o
−(ハロ)フェニル基、o−(炭素原子数1ないし6の
アルコキシ)フェニル基またはo−トリフルオロメチル
フェニル基を表す化合物を含有するものである。
ル基を表す化合物を含有する組成物が好ましい。その他
の好ましい組成物は、式I中、R1 が1−ナフチル基、
2−(炭素原子数1ないし6のアルキル)ナフチ−1−
イル基、1−アントラシル基、9−アントラシル基また
はフェロセニル基を表す化合物を含有するものである。
その他の興味深い組成物は、式I中、RおよびR2 がo
−(炭素原子数1ないし6のアルキル)フェニル基、o
−(ハロ)フェニル基、o−(炭素原子数1ないし6の
アルコキシ)フェニル基またはo−トリフルオロメチル
フェニル基を表す化合物を含有するものである。
【0038】その他の好ましい組成物は、式I中、R1
およびR2 が同一であり、そして炭素原子数1ないし4
のアルキルおよび/またはハロゲンで1ないし5置換さ
れたフェニル基、ナフチル基またはアントラシル基を表
し、R3 が非置換またはハロゲンもしくは炭素原子数1
ないし4のアルキル置換されたフェニル基、ビフェニル
基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アントラシ
ル基、9−フェナントリル基または1−ピレニル基を表
し、R4 がフェニル基または炭素原子数1ないし4のア
ルキル基を表すか、またはR2 およびR3 が橋を形成し
てYが直接結合である式IIの構造をとり、そしてGが
テトラメチルアンモニウム基、サフラニンOカチオン
およびR2 が同一であり、そして炭素原子数1ないし4
のアルキルおよび/またはハロゲンで1ないし5置換さ
れたフェニル基、ナフチル基またはアントラシル基を表
し、R3 が非置換またはハロゲンもしくは炭素原子数1
ないし4のアルキル置換されたフェニル基、ビフェニル
基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アントラシ
ル基、9−フェナントリル基または1−ピレニル基を表
し、R4 がフェニル基または炭素原子数1ないし4のア
ルキル基を表すか、またはR2 およびR3 が橋を形成し
てYが直接結合である式IIの構造をとり、そしてGが
テトラメチルアンモニウム基、サフラニンOカチオン
【化58】 を表す化合物、または式I’中、R1aがナフチレン基を
表し、そしてEがトリメチルアンモニウム基またはジメ
チルベンジルアンモニウム基を表す化合物を含有するも
のである。
表し、そしてEがトリメチルアンモニウム基またはジメ
チルベンジルアンモニウム基を表す化合物を含有するも
のである。
【0039】式Iの化合物は、例えばトリオルガニルボ
ラン(A)を有機金属試薬、例えばアルキルリチウム化
合物またはグリニャール試薬と反応させることにより得
られ得る:
ラン(A)を有機金属試薬、例えばアルキルリチウム化
合物またはグリニャール試薬と反応させることにより得
られ得る:
【化59】 Mは例えばアルカリ金属(例としてLiまたはNa)ま
たはMgX(式中、Xはハロゲン原子、特にBrを表
す)を表す。式Iの化合物を製造するための別の可能性
は、例えばアルキルジハロボランまたはアルキルジアル
コキシ−もしくはアルキルジアリールオキシボラン
(B)と有機金属化合物、例えばグリニャール試薬また
はリチウムオルガニル化合物と反応させることにより得
られ得る:
たはMgX(式中、Xはハロゲン原子、特にBrを表
す)を表す。式Iの化合物を製造するための別の可能性
は、例えばアルキルジハロボランまたはアルキルジアル
コキシ−もしくはアルキルジアリールオキシボラン
(B)と有機金属化合物、例えばグリニャール試薬また
はリチウムオルガニル化合物と反応させることにより得
られ得る:
【化60】 Xはハロゲン原子、特にBrを表し、X’はハロゲン原
子、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表す。その
他の基の定義は上記と同じである。式I中のGはリチウ
ムまたはマグネシウム以外の陽性の基であり、これらの
化合物は例えばカチオン交換反応により得られる得る。
子、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表す。その
他の基の定義は上記と同じである。式I中のGはリチウ
ムまたはマグネシウム以外の陽性の基であり、これらの
化合物は例えばカチオン交換反応により得られる得る。
【0040】有機金属試薬と反応させる場合の反応条件
は通常当業者に知られている。例えば、反応は不活性有
機溶媒、例えばエーテルまたは脂肪族炭化水素、例とし
てジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはヘキサ
ン中で有利に行われる。新規ポリボレートを調製するた
めの適当な有機金属試薬の例は、相当する脂肪族および
芳香族炭化水素基のリチウム化合物である。グリニャー
ル試薬の調製は当業者に知られており、そして教科書や
その他の刊行物に広く記載されている。有機金属試薬と
の反応は空気を排除して、または不活性ガス、例えば窒
素雰囲気下で有利に行われる。一般に反応は0℃または
それ以下まで冷却して、次いで室温まで加温して行われ
る。反応混合物は攪拌することが有利である。生成物は
単離され、そして当業者には一般的に公知のなものと同
様の方法、例えばクロマトグラフィー、再結晶等により
精製される。
は通常当業者に知られている。例えば、反応は不活性有
機溶媒、例えばエーテルまたは脂肪族炭化水素、例とし
てジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはヘキサ
ン中で有利に行われる。新規ポリボレートを調製するた
めの適当な有機金属試薬の例は、相当する脂肪族および
芳香族炭化水素基のリチウム化合物である。グリニャー
ル試薬の調製は当業者に知られており、そして教科書や
その他の刊行物に広く記載されている。有機金属試薬と
の反応は空気を排除して、または不活性ガス、例えば窒
素雰囲気下で有利に行われる。一般に反応は0℃または
それ以下まで冷却して、次いで室温まで加温して行われ
る。反応混合物は攪拌することが有利である。生成物は
単離され、そして当業者には一般的に公知のなものと同
様の方法、例えばクロマトグラフィー、再結晶等により
精製される。
【0041】式Iの新規化合物が染料の基をカチオンと
して含有する場合、これらの化合物は相当するボレート
塩(ホウ酸塩)と染料とのカチオン交換反応により製造
される。該交換のために適当なホウ酸塩の例はリチウ
ム、マグネシウム、ナトリウム、アンモニウムおよびテ
トラアルキルアンモニウム塩である。式Iの化合物が遷
移金属錯体をカチオンとして含む場合、これらの化合物
は米国特許第4954141号明細書第7欄第2項に記
載のものと同様の方法により製造される。
して含有する場合、これらの化合物は相当するボレート
塩(ホウ酸塩)と染料とのカチオン交換反応により製造
される。該交換のために適当なホウ酸塩の例はリチウ
ム、マグネシウム、ナトリウム、アンモニウムおよびテ
トラアルキルアンモニウム塩である。式Iの化合物が遷
移金属錯体をカチオンとして含む場合、これらの化合物
は米国特許第4954141号明細書第7欄第2項に記
載のものと同様の方法により製造される。
【0042】トリオルガニルボラン(A)の製造:ある
種のアルキルジアリールボランの製造は例えばA. Pelte
r 等によりTetrahedron 1993, 49, 2965に記載されてい
る。ある種のトリアリールボランの合成はDoty等により
J. Organomet. Chem. 1972,38, 229 、Brown 等により
J. Organomet. Chem. 1981, 209, 1、Brown 等によりJ.
Amer. Chem. Soc. 1957, 79, 2302およびWittig等によ
りChem. Ber. 1955, 88, 962に記載されている。 アリールジハロボラン(B)の製造:ある種のアルキル
ジハロボラン(B)の製造のための経路は例えばBrown
等によりJACS 1977,99, 7097および米国特許第3083
288号に示されている。さらに、Mikailov等によりZ
h. Obshch. Khim. 1959, 29, 3405およびTuchagues 等
によりBull. Chim. Soc. France, 1967, 11, 4160 は上
記化合物の製造を記載している。フェニルジフルオロボ
ランの製造はNahm等によりJ. Organomet. Chem. 1972,
35, 9 に記載されている。アルコキシジアルコキシ−お
よびアルキルジアリールオキシボランは、例えばBrown
等, Organometallics 1983, 2 1316; Brown 等, Organo
metallics 1992,11, 3091; Brown 等, J. Org. Chem. 1
980, 2, 1316 等の種々の文献に記載の方法により製造
することができる。新規化合物のための出発材料として
必要なボランは、例えば上記の文献中の方法の一つに従
って得られる得る。
種のアルキルジアリールボランの製造は例えばA. Pelte
r 等によりTetrahedron 1993, 49, 2965に記載されてい
る。ある種のトリアリールボランの合成はDoty等により
J. Organomet. Chem. 1972,38, 229 、Brown 等により
J. Organomet. Chem. 1981, 209, 1、Brown 等によりJ.
Amer. Chem. Soc. 1957, 79, 2302およびWittig等によ
りChem. Ber. 1955, 88, 962に記載されている。 アリールジハロボラン(B)の製造:ある種のアルキル
ジハロボラン(B)の製造のための経路は例えばBrown
等によりJACS 1977,99, 7097および米国特許第3083
288号に示されている。さらに、Mikailov等によりZ
h. Obshch. Khim. 1959, 29, 3405およびTuchagues 等
によりBull. Chim. Soc. France, 1967, 11, 4160 は上
記化合物の製造を記載している。フェニルジフルオロボ
ランの製造はNahm等によりJ. Organomet. Chem. 1972,
35, 9 に記載されている。アルコキシジアルコキシ−お
よびアルキルジアリールオキシボランは、例えばBrown
等, Organometallics 1983, 2 1316; Brown 等, Organo
metallics 1992,11, 3091; Brown 等, J. Org. Chem. 1
980, 2, 1316 等の種々の文献に記載の方法により製造
することができる。新規化合物のための出発材料として
必要なボランは、例えば上記の文献中の方法の一つに従
って得られる得る。
【0043】本発明は、次式IaまたはIa’:
【化61】 (式中、R1 ’およびR2 ’は互いに独立してホウ素原
子への結合に対して少なくとも1つのオルト位で炭素原
子数1ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基
O、S(O)p またはNR5 により中断された炭素原子
数2ないし20のアルキル基、OR6 、R6 S
(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R8 N、R6 OC
(O)、R7 R8 NC(O)、R9 C(O)、R9 R10
R11Si、R9 R10R11Sn、ハロゲン原子、R9 R10
P(O)q 、CNおよび/または
子への結合に対して少なくとも1つのオルト位で炭素原
子数1ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基
O、S(O)p またはNR5 により中断された炭素原子
数2ないし20のアルキル基、OR6 、R6 S
(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R8 N、R6 OC
(O)、R7 R8 NC(O)、R9 C(O)、R9 R10
R11Si、R9 R10R11Sn、ハロゲン原子、R9 R10
P(O)q 、CNおよび/または
【化62】 により置換されたフェニル基を表すか、または基R1 ’
およびR2 ’は橋を形成して次式II、IIaまたはI
Ib:
およびR2 ’は橋を形成して次式II、IIaまたはI
Ib:
【化63】 で表される構造をとるが、上記式II中の芳香環は置換
されていないか、または炭素原子数1ないし20のアル
キル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはN
R5 により中断された炭素原子数2ないし20のアルキ
ル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R
7 R8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC(O)、R9
C(O)、R9 R10R11Si、ハロゲン原子、R9 R10
P(O)qおよび/またはR9 R10R11Snにより置換
されており、R1a’は置換されていないか、または炭素
原子数1ないし6のアルキル基、OR6 、S(O)p R
6 、OS(O)2 R6 、NR8 R7 、C(O)OR6 、
C(O)NR8 R7 、C(O)R9 、SiR9 R10R11
またはハロゲン原子により置換された2価の芳香族炭化
水素基を表すか、またはR1a’はフェニル−炭素原子数
1ないし6のアルキレン基を表し、R3 ’は嵩張る芳香
族基を表し、R4 はフェニル基、炭素原子数1ないし2
0のアルキル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p
またはNR5 により中断された炭素原子数2ないし20
のアルキル基を表すか、または炭素原子数3ないし12
のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし8のアルケニ
ル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基ま
たはナフチル−炭素原子数1ないし3のアルキル基を表
し、上記炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原
子数3ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2な
いし8のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1ないし
6のアルキル基またはナフチル−炭素原子数1ないし3
のアルキル基は置換されていないか、またはOR6 、R
6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R8 N、R6 O
C(O)、R7 R8 NC(O)、R9 C(O)、R9 R
10R11Si、R9 R10R11Sn、ハロゲン原子、R9 R
10P(O)q および/またはCNにより置換されてお
り、Yは(CH2 )n 、CH=CH、C(O)、N
R5 、O、S(O)p または
されていないか、または炭素原子数1ないし20のアル
キル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはN
R5 により中断された炭素原子数2ないし20のアルキ
ル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R
7 R8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC(O)、R9
C(O)、R9 R10R11Si、ハロゲン原子、R9 R10
P(O)qおよび/またはR9 R10R11Snにより置換
されており、R1a’は置換されていないか、または炭素
原子数1ないし6のアルキル基、OR6 、S(O)p R
6 、OS(O)2 R6 、NR8 R7 、C(O)OR6 、
C(O)NR8 R7 、C(O)R9 、SiR9 R10R11
またはハロゲン原子により置換された2価の芳香族炭化
水素基を表すか、またはR1a’はフェニル−炭素原子数
1ないし6のアルキレン基を表し、R3 ’は嵩張る芳香
族基を表し、R4 はフェニル基、炭素原子数1ないし2
0のアルキル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p
またはNR5 により中断された炭素原子数2ないし20
のアルキル基を表すか、または炭素原子数3ないし12
のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし8のアルケニ
ル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基ま
たはナフチル−炭素原子数1ないし3のアルキル基を表
し、上記炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原
子数3ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2な
いし8のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1ないし
6のアルキル基またはナフチル−炭素原子数1ないし3
のアルキル基は置換されていないか、またはOR6 、R
6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R8 N、R6 O
C(O)、R7 R8 NC(O)、R9 C(O)、R9 R
10R11Si、R9 R10R11Sn、ハロゲン原子、R9 R
10P(O)q および/またはCNにより置換されてお
り、Yは(CH2 )n 、CH=CH、C(O)、N
R5 、O、S(O)p または
【化64】 を表し、nは0、1または2を表し、mは2または3を
表し、pは0、1または2を表し、qは0または1を表
し、EはR21R22R23P、R7 R7aR8 NまたはR6 R
6aSを表し、R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、R6
およびR6aは互いに独立して炭素原子数1ないし12の
アルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子
数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換され
ていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、
R7 、R7aおよびR8 は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されているか、ま
たはR7 およびR8 はそれらが結合されているN原子と
一緒になって、さらにOまたはS原子を含んでいてもよ
い5または6員環を形成し、R9 、R10およびR11は互
いに独立して炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭
素原子数3ないし12のシクロアルキル基、フェニル−
炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を
表し、上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル
基またはフェニル基は置換されていないか、または炭素
原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシ基および/またはハロゲン原子により1
〜5回置換されており、R12、R13、R14およびR15は
互いに独立して水素原子、非置換または炭素原子数1な
いし12のアルコキシ置換された炭素原子数1ないし1
2のアルキル基、非置換または炭素原子数1ないし6の
アルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキシもしく
はハロゲンで1ないし5置換されたフェニル−炭素原子
数1ないし6のアルキル基を表すか、または非置換また
は炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素原子数1ない
し12のアルコキシもしくはハロゲンで1ないし5置換
されたフェニル基を表すか、または基R12、R13、R14
およびR15は一緒になって別の芳香環に縮合されてもよ
い芳香環を形成し、R21、R22およびR23は互いに独立
して炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数
2ないし12のアルケニル基または炭素原子数3ないし
12のシクロアルキル基を表し、上記炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアルケ
ニル基および炭素原子数3ないし12のシクロアルキル
基は置換されていないか、またはR6 OCOもしくはC
Nにより置換されており、またはR21、R22およびR23
は非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素
原子数1ないし12のアルコキシまたはハロゲンで1な
いし5置換されたフェニル−炭素原子数1ないし6のア
ルキル基を表すか、または非置換または炭素原子数1な
いし6のアルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキ
シもしくはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基
を表し、そしてGは陽イオンを形成し得る基を表す)で
表される化合物を包含する。
表し、pは0、1または2を表し、qは0または1を表
し、EはR21R22R23P、R7 R7aR8 NまたはR6 R
6aSを表し、R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、R6
およびR6aは互いに独立して炭素原子数1ないし12の
アルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子
数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換され
ていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、
R7 、R7aおよびR8 は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されているか、ま
たはR7 およびR8 はそれらが結合されているN原子と
一緒になって、さらにOまたはS原子を含んでいてもよ
い5または6員環を形成し、R9 、R10およびR11は互
いに独立して炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭
素原子数3ないし12のシクロアルキル基、フェニル−
炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を
表し、上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル
基またはフェニル基は置換されていないか、または炭素
原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシ基および/またはハロゲン原子により1
〜5回置換されており、R12、R13、R14およびR15は
互いに独立して水素原子、非置換または炭素原子数1な
いし12のアルコキシ置換された炭素原子数1ないし1
2のアルキル基、非置換または炭素原子数1ないし6の
アルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキシもしく
はハロゲンで1ないし5置換されたフェニル−炭素原子
数1ないし6のアルキル基を表すか、または非置換また
は炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素原子数1ない
し12のアルコキシもしくはハロゲンで1ないし5置換
されたフェニル基を表すか、または基R12、R13、R14
およびR15は一緒になって別の芳香環に縮合されてもよ
い芳香環を形成し、R21、R22およびR23は互いに独立
して炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数
2ないし12のアルケニル基または炭素原子数3ないし
12のシクロアルキル基を表し、上記炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアルケ
ニル基および炭素原子数3ないし12のシクロアルキル
基は置換されていないか、またはR6 OCOもしくはC
Nにより置換されており、またはR21、R22およびR23
は非置換または炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素
原子数1ないし12のアルコキシまたはハロゲンで1な
いし5置換されたフェニル−炭素原子数1ないし6のア
ルキル基を表すか、または非置換または炭素原子数1な
いし6のアルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキ
シもしくはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基
を表し、そしてGは陽イオンを形成し得る基を表す)で
表される化合物を包含する。
【0044】好ましい化合物は式中、R3 ’が1−もし
くは2−ナフチル基、ビナフチル基、アントラシル基、
フェナントリル基、ピレニル基、キノリル基、イソキノ
リル基、ビフェニル基、o−、m−もしくはp−ターフ
ェニル基またはトリフェニルフェニル基を表すものであ
る。基R1 ’、R2 ’およびR3 ’の定義はR1 、R2
およびR3 に対して上で与えられたものと全く同じであ
る。
くは2−ナフチル基、ビナフチル基、アントラシル基、
フェナントリル基、ピレニル基、キノリル基、イソキノ
リル基、ビフェニル基、o−、m−もしくはp−ターフ
ェニル基またはトリフェニルフェニル基を表すものであ
る。基R1 ’、R2 ’およびR3 ’の定義はR1 、R2
およびR3 に対して上で与えられたものと全く同じであ
る。
【0045】本発明に従って、式Iaの化合物はエチレ
ン性不飽和化合物または該化合物の混合物の光重合のた
めの光開始剤として使用され得る。対イオンとして染料
の基を含有しない式Iaの化合物は単分子光開始剤とし
て使用され得る。それ故に、本発明に係る特別である化
合物は、上記式中、Gが第1酸化状態にある周期表I族
の金属、特にNa+ 、K+ またはLi+ を表すか、また
はGがMgZ1 + またはCaZ1 + (式中、Z1 はハロ
ゲン原子または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を
表す)を表すか、またはGがアンモニウム塩、スルホニ
ウム塩またはホスホニウム塩を表すものである。
ン性不飽和化合物または該化合物の混合物の光重合のた
めの光開始剤として使用され得る。対イオンとして染料
の基を含有しない式Iaの化合物は単分子光開始剤とし
て使用され得る。それ故に、本発明に係る特別である化
合物は、上記式中、Gが第1酸化状態にある周期表I族
の金属、特にNa+ 、K+ またはLi+ を表すか、また
はGがMgZ1 + またはCaZ1 + (式中、Z1 はハロ
ゲン原子または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を
表す)を表すか、またはGがアンモニウム塩、スルホニ
ウム塩またはホスホニウム塩を表すものである。
【0046】もちろん化合物の反応性を高めるために少
なくとも1種の補助開始剤または電子受容体(c)と組
み合わせて使用され得る。別の光開始剤および/または
その他の添加剤と組み合わせて使用されてもよい。新規
組成物は同様に、成分(a)および(b)に加えて、そ
の他の光開始剤(d)および/またはその他の添加剤、
並びに少なくとも1種の補助開始剤または電子受容体
(c)を含有し得る。
なくとも1種の補助開始剤または電子受容体(c)と組
み合わせて使用され得る。別の光開始剤および/または
その他の添加剤と組み合わせて使用されてもよい。新規
組成物は同様に、成分(a)および(b)に加えて、そ
の他の光開始剤(d)および/またはその他の添加剤、
並びに少なくとも1種の補助開始剤または電子受容体
(c)を含有し得る。
【0047】補助開始剤として添加され得る電子受容体
として適当な染料の例は米国特許第5151520号に
記載されている。例えば、トリアリールメタン、例とし
てマラカイトグリーン、インドリン、チアジン、例とし
てメチレンブルー、キサントン、チオキサントン、オキ
サジン、アクリジンまたはフェナジン、例としてサフラ
ニンである。補助開始剤として、上記遷移貴金属錯体化
合物またはオニウムイオン化合物を使用することも可能
である。カチオン、中性またはアニオン染料は新規化合
物の補助開始剤として使用され得る。特に適当なカチオ
ン染料はマラカイトグリーン、メチレンブルー、サフラ
ニンO、次式III:
として適当な染料の例は米国特許第5151520号に
記載されている。例えば、トリアリールメタン、例とし
てマラカイトグリーン、インドリン、チアジン、例とし
てメチレンブルー、キサントン、チオキサントン、オキ
サジン、アクリジンまたはフェナジン、例としてサフラ
ニンである。補助開始剤として、上記遷移貴金属錯体化
合物またはオニウムイオン化合物を使用することも可能
である。カチオン、中性またはアニオン染料は新規化合
物の補助開始剤として使用され得る。特に適当なカチオ
ン染料はマラカイトグリーン、メチレンブルー、サフラ
ニンO、次式III:
【化65】 (式中、RおよびR’はアルキル基またはアリール基を
表し、例としてローダミンB、ローダミン6Gまたはバ
イオラミンR)のローダミン、そしてスルホローダミン
BまたはスルホローダミンGである。
表し、例としてローダミンB、ローダミン6Gまたはバ
イオラミンR)のローダミン、そしてスルホローダミン
BまたはスルホローダミンGである。
【0048】その他の適当な染料は、例えばNeckers 等
によりJ. Polym. Sci., Part A, Poly. Chem., 1995, 3
3, 1691-1703に記載されているようなフルオロンであ
る。
によりJ. Polym. Sci., Part A, Poly. Chem., 1995, 3
3, 1691-1703に記載されているようなフルオロンであ
る。
【化66】 が特に有利である。
【0049】その他の適当な染料の例は次式IV:
【化67】 (式中、R=アルキル基;n=0、1、2、3または
4、そしてY1 =CH=CH,N−CH3 ,C(C
H3 )2 ,O,SまたはSe)のシアニンである。好ま
しいシアニンは上記IV式中Y1 がC(CH3 )2 また
はSのものである。
4、そしてY1 =CH=CH,N−CH3 ,C(C
H3 )2 ,O,SまたはSe)のシアニンである。好ま
しいシアニンは上記IV式中Y1 がC(CH3 )2 また
はSのものである。
【0050】以下の染料化合物がまた補助開始剤として
適している:
適している:
【化68】 (式中、ZはP、SまたはNを表し、そしてRはアルキ
ル基またはアリール基を表す)。上記式の中の好ましい
化合物は式中ZR3 がN(CH3 )3 、N(C2H5 )
3 またはP(C6 H5 )3 であるものである。
ル基またはアリール基を表す)。上記式の中の好ましい
化合物は式中ZR3 がN(CH3 )3 、N(C2H5 )
3 またはP(C6 H5 )3 であるものである。
【0051】例えばYagci 等によりJ. Polym. Sci. Par
t A: Polymer Chem. 1992, 30, 1987 およびPolymer 19
93, 34(6), 1130 に記載されるような
t A: Polymer Chem. 1992, 30, 1987 およびPolymer 19
93, 34(6), 1130 に記載されるような
【化69】 または特開平7−70221号に記載される
【化70】 (式中、R’は非置換または置換されたベンジル基また
はフェンアシル基を表す)の化合物もまた適当である。
上記ピリジニウム化合物は芳香族ピリジニウム環におい
て置換されていてもよい。
はフェンアシル基を表す)の化合物もまた適当である。
上記ピリジニウム化合物は芳香族ピリジニウム環におい
て置換されていてもよい。
【0052】その他の適当な染料は例えば米国特許第4
902604号明細書中に見出される得る。これらはア
ズレン染料である。新規化合物のための補助開始剤とし
て特に適しているのは上記特許明細書の第10および1
1欄に挙げられた化合物1−18である。その他の適当
な染料の例は米国特許第4950581号明細書の第6
欄第20行〜第9欄第57行に記載されている。新規化
合物および組成物のための補助開始剤として、クマリン
化合物を使用することも可能である。これらの例は米国
特許第4950581号明細書の第11欄第20行〜第
12欄第42行に記載されている。その他の適当な補助
開始剤は例えば米国特許第4950581号明細書の第
12欄第44行〜第13欄第15行に記載されているキ
サントンまたはチオキサントンである。アニオン染料化
合物もまた例えば補助開始剤として使用され得る。例え
ば、ローズベンガル、エオシンまたはフルオレセインも
また適している。例えばトリアリールメタン類またはア
ゾ類からのその他の適当な染料は例えば米国特許第51
43818号に記載されている。
902604号明細書中に見出される得る。これらはア
ズレン染料である。新規化合物のための補助開始剤とし
て特に適しているのは上記特許明細書の第10および1
1欄に挙げられた化合物1−18である。その他の適当
な染料の例は米国特許第4950581号明細書の第6
欄第20行〜第9欄第57行に記載されている。新規化
合物および組成物のための補助開始剤として、クマリン
化合物を使用することも可能である。これらの例は米国
特許第4950581号明細書の第11欄第20行〜第
12欄第42行に記載されている。その他の適当な補助
開始剤は例えば米国特許第4950581号明細書の第
12欄第44行〜第13欄第15行に記載されているキ
サントンまたはチオキサントンである。アニオン染料化
合物もまた例えば補助開始剤として使用され得る。例え
ば、ローズベンガル、エオシンまたはフルオレセインも
また適している。例えばトリアリールメタン類またはア
ゾ類からのその他の適当な染料は例えば米国特許第51
43818号に記載されている。
【0053】その他の適当な補助開始剤または電子受容
体(c)はベンゾプテリジンジオン(特開平2−113
002号に記載)、置換されたベンゾフェノン(例えば
ミヒラーケトン,インターナショナル・バイオシンセテ
ィクスからのカンタキュアABQ,カンタキュアBPQ
およびカンタキュアBTC)、トリクロロメチルトリア
ジン(特開平1−33548号に記載)、金属錯体(特
開平4−261405号に記載)、ポルフィリン(特開
平6−202548号および特開平6−195014号
に記載)、クマリンおよびケトクマリン(米国特許第4
950581号および特開平6−175557号に記
載)、p−アミノフェニル化合物(EP−A−4751
53に記載)、キサンテン(特開平6−175566号
に記載)またはピリリウム、チオピリリウムおよびセレ
ノピリリウム染料(特開平6−175563号に記載)
である。その他の適当な電子受容体化合物および補助開
始剤は下に記載されている。
体(c)はベンゾプテリジンジオン(特開平2−113
002号に記載)、置換されたベンゾフェノン(例えば
ミヒラーケトン,インターナショナル・バイオシンセテ
ィクスからのカンタキュアABQ,カンタキュアBPQ
およびカンタキュアBTC)、トリクロロメチルトリア
ジン(特開平1−33548号に記載)、金属錯体(特
開平4−261405号に記載)、ポルフィリン(特開
平6−202548号および特開平6−195014号
に記載)、クマリンおよびケトクマリン(米国特許第4
950581号および特開平6−175557号に記
載)、p−アミノフェニル化合物(EP−A−4751
53に記載)、キサンテン(特開平6−175566号
に記載)またはピリリウム、チオピリリウムおよびセレ
ノピリリウム染料(特開平6−175563号に記載)
である。その他の適当な電子受容体化合物および補助開
始剤は下に記載されている。
【0054】容易に還元し得る化合物、特にハロゲン化
炭化水素がその他の添加剤として使用されるその他の組
成物が興味深い。ハロゲン化炭化水素は適当な容易に還
元し得る化合物である。それらの例は特に以下のもので
ある:
炭化水素がその他の添加剤として使用されるその他の組
成物が興味深い。ハロゲン化炭化水素は適当な容易に還
元し得る化合物である。それらの例は特に以下のもので
ある:
【化71】
【0055】本明細書において「容易に還元し得る化合
物」という用語はまた、米国特許第4950581号に
記載された化合物をも意味し、そして例えばヨードニウ
ム塩、スルホニウム塩、有機過酸化物、炭素−ハライド
結合を有する化合物(トリクロロメチルトリアジン)、
複素環式硫黄化合物およびその他の光開始剤(α−アミ
ノケトン)を包含する。その他の添加剤の例は特許およ
び特許出願であるUS5168032,JP02−24
4050,JP02−54268,JP01−1704
8およびDE383308に記載されているような複素
環類である。その他の添加剤の例はUS5079126
に記載される芳香族イミンであり、そしてUS5200
292に記載される芳香族ジアゾ化合物(例えばイミノ
キノンジアジド)、US4937159に記載されるチ
オール、およびUS4874685に記載されるN,N
−ジアルキルアニリンである。上記の補助開始剤または
電子受容体および添加剤の2種またはそれ以上を組み合
わせて使用することも可能である。
物」という用語はまた、米国特許第4950581号に
記載された化合物をも意味し、そして例えばヨードニウ
ム塩、スルホニウム塩、有機過酸化物、炭素−ハライド
結合を有する化合物(トリクロロメチルトリアジン)、
複素環式硫黄化合物およびその他の光開始剤(α−アミ
ノケトン)を包含する。その他の添加剤の例は特許およ
び特許出願であるUS5168032,JP02−24
4050,JP02−54268,JP01−1704
8およびDE383308に記載されているような複素
環類である。その他の添加剤の例はUS5079126
に記載される芳香族イミンであり、そしてUS5200
292に記載される芳香族ジアゾ化合物(例えばイミノ
キノンジアジド)、US4937159に記載されるチ
オール、およびUS4874685に記載されるN,N
−ジアルキルアニリンである。上記の補助開始剤または
電子受容体および添加剤の2種またはそれ以上を組み合
わせて使用することも可能である。
【0056】さらに本発明は、成分(a)および(b)
の他に、少なくとも1種の次式XI:
の他に、少なくとも1種の次式XI:
【化72】 (式中、Ra 、Rb 、Rc およびRd は互いに独立して
炭素原子数1ないし12のアルキル基、トリメチルシリ
ルメチル基、フェニル基、別の芳香族炭化水素基、炭素
原子数1ないし6のアルキルフェニル基、アリル基、フ
ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子
数2ないし8のアルケニル基、炭素原子数2ないし8の
アルキニル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
ル基または飽和もしくは不飽和複素環式基を表し、上記
フェニル基、別の芳香族炭化水素基、フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基または飽和もしくは不飽和
複素環式基は置換されていないか、または非置換または
OR6 −もしくはR7 R8 N−置換された炭素原子数1
ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基O、S
(O)p またはNR5 により中断された炭素原子数2な
いし20のアルキル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6
S(O)2 O、R7 R8 N、R6 OC(O)、R7 R8
NC(O)、R9 C(O)、R9 R10R11Si、R9 R
10R11Sn、ハロゲン原子またはR9 R10P(O)q 、
CNにより1〜5回置換されており、pは0、1または
2を表し、qは0または1を表し、R5 は水素原子、炭
素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、
上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
はフェニル基は置換されていないか、または炭素原子数
1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回
置換されており、R6 は非置換またはハロゲン置換され
た炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭
素原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表
し、上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基
またはフェニル基は置換されていないか、または炭素原
子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜
5回置換されており、R7 およびR8 は互いに独立して
非置換または炭素原子数1ないし12のアルコキシ−、
ハロゲン−、OH−、COOR6 −もしくはCN−置換
された炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子
数3ないし12のシクロアルキル基、フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、
上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
はフェニル基は置換されていないか、または炭素原子数
1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回
置換されているか、またはR7 およびR8 はそれらが結
合されているN原子と一緒になって、さらにOまたはS
原子を含んでいてもよい5または6員環を形成し、
R9 、R10およびR11は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、そし
てZは陽イオンを形成し得る基、特にアルカリ金属、ア
ンモニウムまたはテトラアルキルアンモニウムを表す)
で表される化合物を含有する組成物を提供する。
炭素原子数1ないし12のアルキル基、トリメチルシリ
ルメチル基、フェニル基、別の芳香族炭化水素基、炭素
原子数1ないし6のアルキルフェニル基、アリル基、フ
ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子
数2ないし8のアルケニル基、炭素原子数2ないし8の
アルキニル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
ル基または飽和もしくは不飽和複素環式基を表し、上記
フェニル基、別の芳香族炭化水素基、フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基または飽和もしくは不飽和
複素環式基は置換されていないか、または非置換または
OR6 −もしくはR7 R8 N−置換された炭素原子数1
ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基O、S
(O)p またはNR5 により中断された炭素原子数2な
いし20のアルキル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6
S(O)2 O、R7 R8 N、R6 OC(O)、R7 R8
NC(O)、R9 C(O)、R9 R10R11Si、R9 R
10R11Sn、ハロゲン原子またはR9 R10P(O)q 、
CNにより1〜5回置換されており、pは0、1または
2を表し、qは0または1を表し、R5 は水素原子、炭
素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、
上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
はフェニル基は置換されていないか、または炭素原子数
1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回
置換されており、R6 は非置換またはハロゲン置換され
た炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭
素原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表
し、上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基
またはフェニル基は置換されていないか、または炭素原
子数1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜
5回置換されており、R7 およびR8 は互いに独立して
非置換または炭素原子数1ないし12のアルコキシ−、
ハロゲン−、OH−、COOR6 −もしくはCN−置換
された炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子
数3ないし12のシクロアルキル基、フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、
上記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
はフェニル基は置換されていないか、または炭素原子数
1ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回
置換されているか、またはR7 およびR8 はそれらが結
合されているN原子と一緒になって、さらにOまたはS
原子を含んでいてもよい5または6員環を形成し、
R9 、R10およびR11は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、そし
てZは陽イオンを形成し得る基、特にアルカリ金属、ア
ンモニウムまたはテトラアルキルアンモニウムを表す)
で表される化合物を含有する組成物を提供する。
【0057】炭素原子数1ないし12のアルキル基、芳
香族炭化水素基、炭素原子数1ないし6のアルキルフェ
ニル基、アリル基、フェニル−炭素原子数1ないし6の
アルキル基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、炭
素原子数2ないし8アルキニル基、炭素原子数3ないし
12のシクロアルキル基、飽和または不飽和複素環式
基、陽イオンを形成し得る基、アルカリ金属およびテト
ラアルキルアンモニウム、並びにR5 ないしR11の定義
は式I、I’またはIa’に対して上で与えられたもの
と同一である。
香族炭化水素基、炭素原子数1ないし6のアルキルフェ
ニル基、アリル基、フェニル−炭素原子数1ないし6の
アルキル基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、炭
素原子数2ないし8アルキニル基、炭素原子数3ないし
12のシクロアルキル基、飽和または不飽和複素環式
基、陽イオンを形成し得る基、アルカリ金属およびテト
ラアルキルアンモニウム、並びにR5 ないしR11の定義
は式I、I’またはIa’に対して上で与えられたもの
と同一である。
【0058】本発明はさらに、式I、I’、Iaまたは
Ia’で表される少なくとも1種のボレートと、照射の
間または後に色が変化するか、または色を失う少なくと
も1種の染料とからなり、該染料がカチオンとして式
I、I’、IaまたはIa’で表される化合物の構成成
分であり得る組成物を提供する。そのような染料の例は
シアニンまたはピリリウム染料である。
Ia’で表される少なくとも1種のボレートと、照射の
間または後に色が変化するか、または色を失う少なくと
も1種の染料とからなり、該染料がカチオンとして式
I、I’、IaまたはIa’で表される化合物の構成成
分であり得る組成物を提供する。そのような染料の例は
シアニンまたはピリリウム染料である。
【0059】上記したように、新規ボレート化合物を補
助開始剤、例えば増感剤(=エネルギー移動化合物)と
組み合わせることが有利である。本明細書において、さ
らに、そして特に、2種またはそれ以上の異なる増感剤
との組合せ、例えば新規ボレート化合物と染料を有する
オニウム塩およびチオキサントンまたはクマリンとの混
合物が非常に有効である。これらの混合物において好ま
しいオニウム塩はジフェニルヨードニウムヘキサフルオ
ロホスフェート、(p−オクチルオキシフェニル)(フ
ェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ま
たはこれら化合物の相当するその他のアニオン、例えば
ハロゲン化物;およびまたスルホニウム塩、例えばトリ
アリールスルホニウム塩〔ユニオン・カーバイド社から
のサイラキュア(登録商標)UVI6990,サイラキ
ュアUVI−6974;デグッサ社からのデガキュア
(登録商標)KI85または旭電化社からのSP−15
0およびSP−170〕である。例えば、新規ボレート
化合物とジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフ
ェートおよびイソプロピルチオキサントンとの混合物、
新規ボレート化合物と(p−オクチルオキシフェニル)
(フェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート
およびイソプロピルチオキサントンとの混合物、および
新規ボレート化合物と
助開始剤、例えば増感剤(=エネルギー移動化合物)と
組み合わせることが有利である。本明細書において、さ
らに、そして特に、2種またはそれ以上の異なる増感剤
との組合せ、例えば新規ボレート化合物と染料を有する
オニウム塩およびチオキサントンまたはクマリンとの混
合物が非常に有効である。これらの混合物において好ま
しいオニウム塩はジフェニルヨードニウムヘキサフルオ
ロホスフェート、(p−オクチルオキシフェニル)(フ
ェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ま
たはこれら化合物の相当するその他のアニオン、例えば
ハロゲン化物;およびまたスルホニウム塩、例えばトリ
アリールスルホニウム塩〔ユニオン・カーバイド社から
のサイラキュア(登録商標)UVI6990,サイラキ
ュアUVI−6974;デグッサ社からのデガキュア
(登録商標)KI85または旭電化社からのSP−15
0およびSP−170〕である。例えば、新規ボレート
化合物とジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフ
ェートおよびイソプロピルチオキサントンとの混合物、
新規ボレート化合物と(p−オクチルオキシフェニル)
(フェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート
およびイソプロピルチオキサントンとの混合物、および
新規ボレート化合物と
【化73】 (=サイラキュアUVI−6974)およびイソプロピ
ルチオキサントンとの混合物が好ましい。また、上記混
合物にα−アミノケトン型のさらに別の光開始剤を添加
することが特に有利である。例えば、新規ボレート化合
物とオニウム塩およびチオキサントンまたは染料および
α−アミノケトンとの混合物が非常に有効である。好ま
しい例は、新規ボレート化合物とジフェニルヨードニウ
ムヘキサフルオロホスフェートまたは(p−オクチルフ
ェニル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、イソプロピルチオキサントンおよび(4−メチル
チオベンゾイル)メチル−1−モルホリノエタンとの混
合物である。これらの混合物における特に適当なボレー
ト化合物はテトラメチルアンモニウムメチルジメシチル
(1−ナフチル)ボレートである。
ルチオキサントンとの混合物が好ましい。また、上記混
合物にα−アミノケトン型のさらに別の光開始剤を添加
することが特に有利である。例えば、新規ボレート化合
物とオニウム塩およびチオキサントンまたは染料および
α−アミノケトンとの混合物が非常に有効である。好ま
しい例は、新規ボレート化合物とジフェニルヨードニウ
ムヘキサフルオロホスフェートまたは(p−オクチルフ
ェニル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、イソプロピルチオキサントンおよび(4−メチル
チオベンゾイル)メチル−1−モルホリノエタンとの混
合物である。これらの混合物における特に適当なボレー
ト化合物はテトラメチルアンモニウムメチルジメシチル
(1−ナフチル)ボレートである。
【0060】それ故に、本発明はまた、成分(a)およ
び(b)の他に、少なくとも1種の中性、アニオンまた
はカチオン染料またはチオキサントン化合物およびオニ
ウム化合物を含有する組成物、および遊離ラジカル光開
始剤、特にα−アミノケトン化合物をさらに含有する上
記組成物を提供する。
び(b)の他に、少なくとも1種の中性、アニオンまた
はカチオン染料またはチオキサントン化合物およびオニ
ウム化合物を含有する組成物、および遊離ラジカル光開
始剤、特にα−アミノケトン化合物をさらに含有する上
記組成物を提供する。
【0061】成分(a)の不飽和化合物は1もしくはそ
れ以上のオレフィン性二重結合を含んでいてよい。それ
らは低い(モノマーの)または高い(オリゴマーの)分
子量であってよい。二重結合を含むモノマーの例はアル
キルもしくはヒドロキシアルキルアクリレートまたはメ
タクリレートであり、たとえばメチル、エチル、ブチ
ル、2−エチルヘキシルもしくは2−ヒドロキシエチル
アクリレート、イソボルニルアクリレート、メチルメタ
クリレートもしくはエチルメタクリレートである。シリ
コンアクリレートもまた有利である。他の例はアクリロ
ニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−置
換(メタ)アクリルアミド、ビニルエステル例えば、酢
酸ビニル、ビニルエーテル例えば、イソブチルビニルエ
ーテル、スチレン、アルキル−およびハロスチレン、N
−ビニルピロリドン、塩化ビニルまたは塩化ビニリデン
である。
れ以上のオレフィン性二重結合を含んでいてよい。それ
らは低い(モノマーの)または高い(オリゴマーの)分
子量であってよい。二重結合を含むモノマーの例はアル
キルもしくはヒドロキシアルキルアクリレートまたはメ
タクリレートであり、たとえばメチル、エチル、ブチ
ル、2−エチルヘキシルもしくは2−ヒドロキシエチル
アクリレート、イソボルニルアクリレート、メチルメタ
クリレートもしくはエチルメタクリレートである。シリ
コンアクリレートもまた有利である。他の例はアクリロ
ニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−置
換(メタ)アクリルアミド、ビニルエステル例えば、酢
酸ビニル、ビニルエーテル例えば、イソブチルビニルエ
ーテル、スチレン、アルキル−およびハロスチレン、N
−ビニルピロリドン、塩化ビニルまたは塩化ビニリデン
である。
【0062】2もしくはそれ以上の二重結合を含むモノ
マーの例は、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコー
ルのまたはビスフェノールAのジアクリレート、および
4,4’−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジ
フェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレートもしく
はテトラアクリレート、ビニルアクリレート、ジビニル
ベンゼン、ジビニルスクシネート、ジアリルフタレー
ト、トリアリルホスフェート、トリアリルイソシアヌレ
ートまたはトリス(2−アクロイルエチル)イソシアヌ
レートである。
マーの例は、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコー
ルのまたはビスフェノールAのジアクリレート、および
4,4’−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジ
フェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレートもしく
はテトラアクリレート、ビニルアクリレート、ジビニル
ベンゼン、ジビニルスクシネート、ジアリルフタレー
ト、トリアリルホスフェート、トリアリルイソシアヌレ
ートまたはトリス(2−アクロイルエチル)イソシアヌ
レートである。
【0063】比較的高分子量(オリゴマー)のポリ不飽
和化合物の例はアクリル化エポキシ樹脂、アクリル化ポ
リエステル、ビニルエーテルもしくはエポキシ基を含む
ポリエステルおよび、またポリウレタンおよびポリエー
テルである。不飽和オリゴマーの他の例は通常マレイン
酸、フタル酸および1もしくはそれ以上のジオール類か
ら製造され、そして約500ないし3000の分子量を
有する不飽和ポリエステル樹脂である。それに加えてま
た、ビニルエーテルモノマーおよびオリゴマー、ならび
にポリエスルテル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリ
ビニルエーテルおよびエポキシ主鎖によるマレエート末
端オリゴマーを使用することもできる。特に適当なもの
はビニルエーテル基をもつオリゴマーの組合せおよびW
O90/01512に記載されたポリマーの組合せであ
る。しかし、ビニルエーテルおよびマレイン酸官能化モ
ノマーもまた適当である。この種類の不飽和オリゴマー
はまた、プレポリマーとも記載される。
和化合物の例はアクリル化エポキシ樹脂、アクリル化ポ
リエステル、ビニルエーテルもしくはエポキシ基を含む
ポリエステルおよび、またポリウレタンおよびポリエー
テルである。不飽和オリゴマーの他の例は通常マレイン
酸、フタル酸および1もしくはそれ以上のジオール類か
ら製造され、そして約500ないし3000の分子量を
有する不飽和ポリエステル樹脂である。それに加えてま
た、ビニルエーテルモノマーおよびオリゴマー、ならび
にポリエスルテル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリ
ビニルエーテルおよびエポキシ主鎖によるマレエート末
端オリゴマーを使用することもできる。特に適当なもの
はビニルエーテル基をもつオリゴマーの組合せおよびW
O90/01512に記載されたポリマーの組合せであ
る。しかし、ビニルエーテルおよびマレイン酸官能化モ
ノマーもまた適当である。この種類の不飽和オリゴマー
はまた、プレポリマーとも記載される。
【0064】特に適当な例は、エチレン性不飽和カルボ
ン酸とポリオールもしくはポリエポキシドとのエステ
ル、および主鎖または側鎖中にエチレン性不飽和基をも
つポリマーであり、例えば不飽和ポリエステル、ポリア
ミドおよびポリウレタンおよびそれらのコポリマー、ア
ルキド樹脂、ポリブタジエンおよびブタジエンコポリマ
ー、ポリイソプレンおよびイソプレンコポリマー、およ
び側鎖に(メタ)アクリル基を含むポリマーおよびコポ
リマーならびにこれらのポリマーの1もしくはそれ以上
の混合物である。
ン酸とポリオールもしくはポリエポキシドとのエステ
ル、および主鎖または側鎖中にエチレン性不飽和基をも
つポリマーであり、例えば不飽和ポリエステル、ポリア
ミドおよびポリウレタンおよびそれらのコポリマー、ア
ルキド樹脂、ポリブタジエンおよびブタジエンコポリマ
ー、ポリイソプレンおよびイソプレンコポリマー、およ
び側鎖に(メタ)アクリル基を含むポリマーおよびコポ
リマーならびにこれらのポリマーの1もしくはそれ以上
の混合物である。
【0065】不飽和カルボン酸の例は、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイヒ酸および
不飽和脂肪酸例えば、リノレン酸もしくはオレイン酸で
ある。アクリル酸およびメタクリル酸が好ましい。適当
なポリオールは芳香族の、ならびに特に脂肪族のおよび
脂環式のポリオールである。芳香族ポリオールの例はヒ
ドロキノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,
2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)プロパンおよびまた
ノボラックおよびレゾールである。ポリエポキシドの例
は上述したポリオール、特に芳香族ポリオールおよびエ
ピクロロヒドリンをベースとするものである。他の適当
なポリオールはポリマー鎖または側鎖にヒドロキシル基
を含むポリマーおよびコポリマーであり、例としてポリ
ビニルアルコールおよびそのコポリマーまたはポリヒド
ロキシアルキルメタクリレートまたはそのコポリマーで
ある。適当な他のポリオールはヒドロキシ末端基をもつ
オリゴエステルである。
タクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイヒ酸および
不飽和脂肪酸例えば、リノレン酸もしくはオレイン酸で
ある。アクリル酸およびメタクリル酸が好ましい。適当
なポリオールは芳香族の、ならびに特に脂肪族のおよび
脂環式のポリオールである。芳香族ポリオールの例はヒ
ドロキノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,
2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)プロパンおよびまた
ノボラックおよびレゾールである。ポリエポキシドの例
は上述したポリオール、特に芳香族ポリオールおよびエ
ピクロロヒドリンをベースとするものである。他の適当
なポリオールはポリマー鎖または側鎖にヒドロキシル基
を含むポリマーおよびコポリマーであり、例としてポリ
ビニルアルコールおよびそのコポリマーまたはポリヒド
ロキシアルキルメタクリレートまたはそのコポリマーで
ある。適当な他のポリオールはヒドロキシ末端基をもつ
オリゴエステルである。
【0066】脂肪族および脂環式ポリオールの例は好ま
しくは2ないし12個の炭素原子を有するアルキレンジ
オール、例えばエチレングリコール、1,2−または
1,3−プロパンジオール、1,2−,1,3−もしく
は1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサ
ンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、好まし
くは200ないし1500の分子量をもつポリエチレン
グリコール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2
−,1,3−もしくは1,4−シクロヘキサンジオー
ル、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリ
セロール、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタ
エリスリトール、ジペンタエリスリトールおよびソルビ
トールである。
しくは2ないし12個の炭素原子を有するアルキレンジ
オール、例えばエチレングリコール、1,2−または
1,3−プロパンジオール、1,2−,1,3−もしく
は1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサ
ンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、好まし
くは200ないし1500の分子量をもつポリエチレン
グリコール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2
−,1,3−もしくは1,4−シクロヘキサンジオー
ル、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリ
セロール、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタ
エリスリトール、ジペンタエリスリトールおよびソルビ
トールである。
【0067】ポリオールはあるカルボン酸または種々の
不飽和カルボン酸により部分的または全体的にエステル
化されていてもよく、そして部分エステル中遊離ヒドロ
キシル基は変性されていてもよく、例えば他のカルボン
酸とエーテル化またはエステル化されていてもよい。
不飽和カルボン酸により部分的または全体的にエステル
化されていてもよく、そして部分エステル中遊離ヒドロ
キシル基は変性されていてもよく、例えば他のカルボン
酸とエーテル化またはエステル化されていてもよい。
【0068】エステルの例は以下のものである:トリメ
チルプロパントリアクリレート、トリメチロールエタン
トリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、
テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチ
レングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタ
エリスリトールオクタアクリレート、ペンタエリスリト
ールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ト
リペンタエリスリトールオクタメタクリレート、ペンタ
エリスリトールジイタコネート、ジペンタエリスリトー
ルトリスイタコネート、ジペンタエリスリトールペンタ
イタコネート、ジペンタエリスリトールヘキサイタコネ
ート、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブ
タンジオールジアクリレート、1,3−ブタンジオール
ジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジイタコネ
ート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテ
トラアクリレート、ペンタエリスリトール−変性トリア
クリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ソル
ビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアク
リレート、オリゴエステルアクリレートおよびメタクリ
レート、グリセロールジアクリレートおよびトリアクリ
レート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、分子
量200ないし1500をもつポリエチレングリコール
のビスアクリレートおよびビスメタクリレート、あるい
はそれらの混合物である。
チルプロパントリアクリレート、トリメチロールエタン
トリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、
テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチ
レングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタ
エリスリトールオクタアクリレート、ペンタエリスリト
ールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ト
リペンタエリスリトールオクタメタクリレート、ペンタ
エリスリトールジイタコネート、ジペンタエリスリトー
ルトリスイタコネート、ジペンタエリスリトールペンタ
イタコネート、ジペンタエリスリトールヘキサイタコネ
ート、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブ
タンジオールジアクリレート、1,3−ブタンジオール
ジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジイタコネ
ート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテ
トラアクリレート、ペンタエリスリトール−変性トリア
クリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ソル
ビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアク
リレート、オリゴエステルアクリレートおよびメタクリ
レート、グリセロールジアクリレートおよびトリアクリ
レート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、分子
量200ないし1500をもつポリエチレングリコール
のビスアクリレートおよびビスメタクリレート、あるい
はそれらの混合物である。
【0069】成分(a)としてまた適当なものは、好ま
しくは2ないし6個の、特に2ないし4個のアミノ基を
有する芳香族、脂環式および脂肪族ポリアミンとの、同
じかまたは異なる、不飽和カルボン酸のアミドである。
このようなポリアミンの例はエチレンジアミン、1,2
−もしくは1,3−プロピレンジアミン、1,2−、
1,3−または1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペ
ンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、オク
チレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−ジアミ
ノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジ
アミン、ビフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチル
エーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
アミン、ジ(β−アミノエトキシ)−またはジ(β−ア
ミノプロポキシ)エタンである。他の適当なポリアミン
は好ましくは側鎖に他のアミノ基をもつポリマーおよび
コポリマー、およびアミノ末端基をもつオリゴアミドで
ある。このような不飽和アミドの例はメチレンビスアク
リルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミ
ド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビ
ス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、β−メタク
リルアミドエチルメタクリレートおよびN[(β−ヒド
ロキシエトキシ)エチル]アクリルアミドである。
しくは2ないし6個の、特に2ないし4個のアミノ基を
有する芳香族、脂環式および脂肪族ポリアミンとの、同
じかまたは異なる、不飽和カルボン酸のアミドである。
このようなポリアミンの例はエチレンジアミン、1,2
−もしくは1,3−プロピレンジアミン、1,2−、
1,3−または1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペ
ンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、オク
チレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−ジアミ
ノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジ
アミン、ビフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチル
エーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
アミン、ジ(β−アミノエトキシ)−またはジ(β−ア
ミノプロポキシ)エタンである。他の適当なポリアミン
は好ましくは側鎖に他のアミノ基をもつポリマーおよび
コポリマー、およびアミノ末端基をもつオリゴアミドで
ある。このような不飽和アミドの例はメチレンビスアク
リルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミ
ド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビ
ス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、β−メタク
リルアミドエチルメタクリレートおよびN[(β−ヒド
ロキシエトキシ)エチル]アクリルアミドである。
【0070】適当な不飽和ポリエステルおよびポリアミ
ドは例えばマレイン酸からおよびジオールもしくはジア
ミンから誘導される。マレイン酸のあるものは他のジカ
ルボン酸によって置換されていてよい。それらはエチレ
ン性不飽和コモノマー、例えばスチレンと一緒に使用し
てよい。ポリエステルおよびポリアミドはジカルボン酸
からおよびエチレン性不飽和ジオールまたはジアミンか
ら、特に比較的長鎖の、例えば6ないし20個の炭素原
子のものから誘導されてもよい。ポリウレタンの例は飽
和もしくは不飽和ジイソシアネートから、および不飽和
またはそれぞれ飽和ジオールを含むものである。
ドは例えばマレイン酸からおよびジオールもしくはジア
ミンから誘導される。マレイン酸のあるものは他のジカ
ルボン酸によって置換されていてよい。それらはエチレ
ン性不飽和コモノマー、例えばスチレンと一緒に使用し
てよい。ポリエステルおよびポリアミドはジカルボン酸
からおよびエチレン性不飽和ジオールまたはジアミンか
ら、特に比較的長鎖の、例えば6ないし20個の炭素原
子のものから誘導されてもよい。ポリウレタンの例は飽
和もしくは不飽和ジイソシアネートから、および不飽和
またはそれぞれ飽和ジオールを含むものである。
【0071】ポリブタジエンおよびポリイソプレンおよ
びそれらのコポリマーは公知である。適当なコモノマー
の例はオレフィン例えばエチレン、プロペン、ブテンお
よびヘキセン、(メタ)アクリレート、アクリロニトリ
ル、スチレンまたは塩化ビニルである。側鎖に(メタ)
アクリレート基をもつポリマーは同様に公知である。そ
れらは、例えばノボラックをベースとするエポキシ樹脂
と(メタ)アクリル酸との反応生成物であるか、あるい
は(メタ)アクリル酸によりエステル化された、ビニル
アルコールまたはそのヒドロキシアルキル誘導体のホモ
−もしくはコポリマーであるか、あるいはヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリレートによりエステル化された
(メタ)アクリレートのホモ−及びコポリマーであって
よい。
びそれらのコポリマーは公知である。適当なコモノマー
の例はオレフィン例えばエチレン、プロペン、ブテンお
よびヘキセン、(メタ)アクリレート、アクリロニトリ
ル、スチレンまたは塩化ビニルである。側鎖に(メタ)
アクリレート基をもつポリマーは同様に公知である。そ
れらは、例えばノボラックをベースとするエポキシ樹脂
と(メタ)アクリル酸との反応生成物であるか、あるい
は(メタ)アクリル酸によりエステル化された、ビニル
アルコールまたはそのヒドロキシアルキル誘導体のホモ
−もしくはコポリマーであるか、あるいはヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリレートによりエステル化された
(メタ)アクリレートのホモ−及びコポリマーであって
よい。
【0072】光重合性化合物は単独でまたはあらゆる所
望の混合物で使用できる。ポリオール(メタ)アクリレ
ートの混合物を使用することは好ましい。バインダーも
またこれらの新規な組成物に添加でき、そして、このこ
とは光重合性化合物が液体または粘性物質である場合に
特に都合がよい。バインダーの量は、例えば全固形含量
に対して5−95重量%、好ましくは10−90重量%
および特に40−90重量%であってよい。バインダー
の選択は適用の分野およびこの分野のために要求される
特性、例えば水性および有機溶媒系での現像に対する能
力、支持体への接着および酸素への感受性によってなさ
れる。
望の混合物で使用できる。ポリオール(メタ)アクリレ
ートの混合物を使用することは好ましい。バインダーも
またこれらの新規な組成物に添加でき、そして、このこ
とは光重合性化合物が液体または粘性物質である場合に
特に都合がよい。バインダーの量は、例えば全固形含量
に対して5−95重量%、好ましくは10−90重量%
および特に40−90重量%であってよい。バインダー
の選択は適用の分野およびこの分野のために要求される
特性、例えば水性および有機溶媒系での現像に対する能
力、支持体への接着および酸素への感受性によってなさ
れる。
【0073】適当なバインダーの例は約5000ないし
2000000、好ましくは10000ないし1000
000の分子量をもつポリマーである。具体例は次のも
のである:アクリレートおよびメタクリレートのホモお
よびコポリマー、例えばメチルメタクリレート/エチル
アクリレート/メタクリル酸、ポリ(アルキルメタクリ
レート)、ポリ(アルキルアクリレート)のコポリマ
ー;セルロースエステルおよびセルロースエーテル例え
ばセルロースアセテート、セルロースアセトブチレー
ト、メチルセルロース、エチルセルロース;ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴム、ポリエ
ーテル例えば、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレン
オキシドおよびポリテトラヒドロフラン;ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレ
フィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/塩化ビニリデン
コポリマー、塩化ビニリデンとアクリロニトリル、メチ
ルメタクリレートおよび酢酸ビニルとのコポリマー、ポ
リ酢酸ビニル、コポリ(エチレン/酢酸ビニル)、ポリ
カプロラクタムおよびポリ(ヘキサメチレンアジパミ
ド)のようなポリマー、およびポリエステル例えば、ポ
リ(エチレングリコールテレフタレート)およびポリ
(ヘキサメチレングリコールスクシネート)。
2000000、好ましくは10000ないし1000
000の分子量をもつポリマーである。具体例は次のも
のである:アクリレートおよびメタクリレートのホモお
よびコポリマー、例えばメチルメタクリレート/エチル
アクリレート/メタクリル酸、ポリ(アルキルメタクリ
レート)、ポリ(アルキルアクリレート)のコポリマ
ー;セルロースエステルおよびセルロースエーテル例え
ばセルロースアセテート、セルロースアセトブチレー
ト、メチルセルロース、エチルセルロース;ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴム、ポリエ
ーテル例えば、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレン
オキシドおよびポリテトラヒドロフラン;ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレ
フィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/塩化ビニリデン
コポリマー、塩化ビニリデンとアクリロニトリル、メチ
ルメタクリレートおよび酢酸ビニルとのコポリマー、ポ
リ酢酸ビニル、コポリ(エチレン/酢酸ビニル)、ポリ
カプロラクタムおよびポリ(ヘキサメチレンアジパミ
ド)のようなポリマー、およびポリエステル例えば、ポ
リ(エチレングリコールテレフタレート)およびポリ
(ヘキサメチレングリコールスクシネート)。
【0074】不飽和化合物はまた、光重合性でない、塗
膜形成成分との混合物としてもまた使用できる。これら
は例えば、物理的に乾燥するポリマーまたは有機溶媒、
例えばニトロセルロースまたはセルロースアセトブチレ
ート中のそれらの溶液であってもよい。しかし、それら
はまた、化学的および/または熱的に硬化しうる(熱硬
化性)樹脂であってもよく、具体例はポリイソシアネー
ト、ポリエポキシドおよびメラミン樹脂である。同時に
熱硬化性樹脂を使用することは第一段階で光重合され、
第二段階で熱後処理によって架橋されるハイブリッド系
として公知の系での使用のために重要である。
膜形成成分との混合物としてもまた使用できる。これら
は例えば、物理的に乾燥するポリマーまたは有機溶媒、
例えばニトロセルロースまたはセルロースアセトブチレ
ート中のそれらの溶液であってもよい。しかし、それら
はまた、化学的および/または熱的に硬化しうる(熱硬
化性)樹脂であってもよく、具体例はポリイソシアネー
ト、ポリエポキシドおよびメラミン樹脂である。同時に
熱硬化性樹脂を使用することは第一段階で光重合され、
第二段階で熱後処理によって架橋されるハイブリッド系
として公知の系での使用のために重要である。
【0075】本発明はさらに、成分(a)および(b)
の他に、少なくとも1種の補助開始剤または電子受容体
(c)、例えば中性、カチオンもしくはアニオン染料ま
たはUV吸収剤を含有する組成物を提供する。
の他に、少なくとも1種の補助開始剤または電子受容体
(c)、例えば中性、カチオンもしくはアニオン染料ま
たはUV吸収剤を含有する組成物を提供する。
【0076】適当な染料(c)は上記されている。その
他の適当な例はベンゾキサンテン、ベンゾチオキサンテ
ン、ピロニンまたはポルフィリン染料である。染料とし
てシアニド誘導体を有する組成物が特に好ましい。特に
好ましいシアニドは、式IV中、n=1〜4、Y1 =C
(CH3 )2 またはSそしてR=炭素原子数1ないし1
0のアルキル基を表す化合物である。補助開始剤または
電子受容体(c)として適当であるUV吸収剤の例はチ
オキサントン誘導体、クマリン、ベンゾフェノン、ベン
ゾフェノン誘導体またはヘキサアリールビスイミダゾー
ル(HABI)の誘導体である。適当なヘキサアリール
ビスイミダゾール誘導体の例は米国特許第378455
7号、同第4252887号、同第4311783号、
同第4459349号、同第4410621号および同
第4622286号に記載されている。特に興味深いの
は、2−o−クロロフェニル置換誘導体、例えば2,
2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,1’−ビスイミダゾールで
ある。本発明において適当であるその他のUV吸収剤は
例えば多環式芳香族炭化水素、例としてEP−A−13
7452、DE−A−2718254およびDE−A−
2243621に記載されているアントラセンまたはピ
レン、およびトリアジンである。その他の適当なトリア
ジンは米国特許第4950581号明細書の第14欄第
60行〜第18欄第44行に見出され得る。特に興味深
いのは、トリハロメチルトリアジン、例えば2,4−ビ
ス(トリクロロメチル)−6−(4−スチレンフェニ
ル)−s−トリアジンである。
他の適当な例はベンゾキサンテン、ベンゾチオキサンテ
ン、ピロニンまたはポルフィリン染料である。染料とし
てシアニド誘導体を有する組成物が特に好ましい。特に
好ましいシアニドは、式IV中、n=1〜4、Y1 =C
(CH3 )2 またはSそしてR=炭素原子数1ないし1
0のアルキル基を表す化合物である。補助開始剤または
電子受容体(c)として適当であるUV吸収剤の例はチ
オキサントン誘導体、クマリン、ベンゾフェノン、ベン
ゾフェノン誘導体またはヘキサアリールビスイミダゾー
ル(HABI)の誘導体である。適当なヘキサアリール
ビスイミダゾール誘導体の例は米国特許第378455
7号、同第4252887号、同第4311783号、
同第4459349号、同第4410621号および同
第4622286号に記載されている。特に興味深いの
は、2−o−クロロフェニル置換誘導体、例えば2,
2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,1’−ビスイミダゾールで
ある。本発明において適当であるその他のUV吸収剤は
例えば多環式芳香族炭化水素、例としてEP−A−13
7452、DE−A−2718254およびDE−A−
2243621に記載されているアントラセンまたはピ
レン、およびトリアジンである。その他の適当なトリア
ジンは米国特許第4950581号明細書の第14欄第
60行〜第18欄第44行に見出され得る。特に興味深
いのは、トリハロメチルトリアジン、例えば2,4−ビ
ス(トリクロロメチル)−6−(4−スチレンフェニ
ル)−s−トリアジンである。
【0077】光開始剤に加えて、光重合性混合物は種々
の添加剤を含んでいてよい。これらの具体例は、早期重
合を防止を意図する熱抑制剤(thermal inhibitor)、例
えばヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−メトキシ
フェノール、β−ナフトールまたは立体障害性フェノー
ル、例えば2,6−ジ−第三ブチル−p−クレゾールで
ある。暗所での貯蔵の安定性を増加させるため、例え
ば、銅化合物例えば、銅ナフテネート、ステアレートも
しくはオクトエート、リン化合物例えば、トリフェニル
ホスフィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスフ
ィット、トリフェニルホスフィットまたはトリベンジル
ホスフィット、第四アンモニウム化合物例えば塩化テト
ラメチルアンモニウムもしくは塩化トリメチルベンジル
アンモニウム、またはヒドロキシルアミン誘導体例え
ば、N−ジエチルヒドロキシルアミンである。重合中に
大気酸素を除くためにポリマー中に充分に溶解せず、重
合の開始において表面に移動し、空気の進入を防ぐ透明
な表層を形成するパラフィンまたは同等のワックス様物
質を加えることもできる。少量で添加できる光安定剤は
紫外線吸収剤、例えばヒドロキシフェニルベンゾトリア
ゾール、ヒドロキシフェニルベンゾフェノン、オキサル
アミドまたはヒドロキシフェニル−s−トリアジンタイ
プのものである。これらの化合物は個別にまたは立体障
害性アミン(HALS)を含むまたは含まない混合物で
使用できる。
の添加剤を含んでいてよい。これらの具体例は、早期重
合を防止を意図する熱抑制剤(thermal inhibitor)、例
えばヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−メトキシ
フェノール、β−ナフトールまたは立体障害性フェノー
ル、例えば2,6−ジ−第三ブチル−p−クレゾールで
ある。暗所での貯蔵の安定性を増加させるため、例え
ば、銅化合物例えば、銅ナフテネート、ステアレートも
しくはオクトエート、リン化合物例えば、トリフェニル
ホスフィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスフ
ィット、トリフェニルホスフィットまたはトリベンジル
ホスフィット、第四アンモニウム化合物例えば塩化テト
ラメチルアンモニウムもしくは塩化トリメチルベンジル
アンモニウム、またはヒドロキシルアミン誘導体例え
ば、N−ジエチルヒドロキシルアミンである。重合中に
大気酸素を除くためにポリマー中に充分に溶解せず、重
合の開始において表面に移動し、空気の進入を防ぐ透明
な表層を形成するパラフィンまたは同等のワックス様物
質を加えることもできる。少量で添加できる光安定剤は
紫外線吸収剤、例えばヒドロキシフェニルベンゾトリア
ゾール、ヒドロキシフェニルベンゾフェノン、オキサル
アミドまたはヒドロキシフェニル−s−トリアジンタイ
プのものである。これらの化合物は個別にまたは立体障
害性アミン(HALS)を含むまたは含まない混合物で
使用できる。
【0078】上記UV吸収剤および光安定剤の例は以下
のとおりである: 2.1.2−(2’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾールの例 2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−2’
−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三アミル
−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−
オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−
5’−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニル
エチル〕−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フ
ェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキ
シカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−
(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−
〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチ
ル〕−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオ
クチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリア
ゾールの混合物、2,2’−メチレンビス〔4−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリア
ゾール−2−イルフェノール〕;2−〔3’−第三ブチ
ル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−
ヒドロキシフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールとポ
リエチレングリコール300とのエステル交換体;次
式:〔R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −〕2 −
(式中、Rは3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ−
5’−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル基
を表す)で表される化合物。
のとおりである: 2.1.2−(2’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾールの例 2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−2’
−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三アミル
−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−
オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−
5’−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニル
エチル〕−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フ
ェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキ
シカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−
(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−
〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチ
ル〕−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオ
クチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリア
ゾールの混合物、2,2’−メチレンビス〔4−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリア
ゾール−2−イルフェノール〕;2−〔3’−第三ブチ
ル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−
ヒドロキシフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールとポ
リエチレングリコール300とのエステル交換体;次
式:〔R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −〕2 −
(式中、Rは3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ−
5’−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル基
を表す)で表される化合物。
【0079】2.2−ヒドロキシ−ベンゾフェノンの例 4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクチルオキ
シ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4
−ベンジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ
−および2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導
体。
シ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4
−ベンジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ
−および2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導
体。
【0080】3.置換されたおよび非置換安息香酸のエ
ステルの例 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ
−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
ステルの例 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ
−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
【0081】4.アクリレートの例 エチルα−シアノ−β, β−ジフェニルアクリレート、
イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリ
レート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチ
ルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシン
ナメート、メチルα−カルボメトキシ−p −メトキシシ
ンナメートおよびN−(β−カルボメトキシ−β−シア
ノビニル) −2−メチルインドリン。
イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリ
レート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチ
ルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシン
ナメート、メチルα−カルボメトキシ−p −メトキシシ
ンナメートおよびN−(β−カルボメトキシ−β−シア
ノビニル) −2−メチルインドリン。
【0082】5.立体障害性アミンの例 ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバ
ケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1
−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)n−ブチル−3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、
1−(ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三
オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリ
アジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、
テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)−1,2,3,4−ブタンテトラオエート、
1,1’−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,
5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステ
アリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5
−ジ第三ブチルベンジル)マロネート、3−n−オクチ
ル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリ
アザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、ビス
(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシネー
ト、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジア
ミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5
−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ビ
ス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−
ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオンお
よび3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオ
ン。
ケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1
−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)n−ブチル−3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、
1−(ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三
オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリ
アジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、
テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)−1,2,3,4−ブタンテトラオエート、
1,1’−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,
5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステ
アリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5
−ジ第三ブチルベンジル)マロネート、3−n−オクチ
ル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリ
アザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、ビス
(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシネー
ト、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジア
ミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5
−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ビ
ス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−
ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオンお
よび3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオ
ン。
【0083】6.オキサミドの例 4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−
ジエトキシオキサニリド、2,2’−ジオクチルオキシ
−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2,2’−ジドデ
シルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2−エ
トキシ−2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス
(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エト
キシ−5−第三ブチル−2’−エトキサニリドおよび該
化合物と2−エトキシ−2’−エチル−5,4’−ジ第
三ブトキサニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メ
トキシ−二置換オキサニリドの混合物およびo−および
p−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
ジエトキシオキサニリド、2,2’−ジオクチルオキシ
−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2,2’−ジドデ
シルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2−エ
トキシ−2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス
(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エト
キシ−5−第三ブチル−2’−エトキサニリドおよび該
化合物と2−エトキシ−2’−エチル−5,4’−ジ第
三ブトキサニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メ
トキシ−二置換オキサニリドの混合物およびo−および
p−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【0084】7.2−(2−ヒドロキシフェニル)−
1,3,5−トリアジンの例 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオ
キシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2−
ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−
ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリ
アジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,
6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−
トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロ
ピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ
−4−オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシ
フェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ
−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシプロポキ
シ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキ
シ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシプロピ
ルオキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチ
ルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔4−
(ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシ
プロポキシ)−2−ヒドロキシフェニル〕−4,6−ビ
ス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリア
ジン。
1,3,5−トリアジンの例 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオ
キシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2−
ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−
ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリ
アジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,
6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−
トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロ
ピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ
−4−オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシ
フェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ
−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシプロポキ
シ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキ
シ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシプロピ
ルオキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチ
ルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔4−
(ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシ
プロポキシ)−2−ヒドロキシフェニル〕−4,6−ビ
ス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリア
ジン。
【0085】8.ホスフィットおよびホスホナイトの例 トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフ
ィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノ
ニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィッ
ト、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペン
タエリトリトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ
第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペン
タエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第
三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニ
ル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシ
ルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)ペンタ
エリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−ト
リス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホ
スフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィ
ット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)
4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオク
チルオキシ−2,4,8,10−テトラ第三ブチル−1
2H−ジベンゾ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホス
ホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ第三
ブチル−12−メチル−ジベンゾ〔d,g〕−1,3,
2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ第三ブチル
−6−メチルフェニル)メチルホスフィットおよびビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチル
ホスフィット。
ィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノ
ニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィッ
ト、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペン
タエリトリトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ
第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペン
タエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第
三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニ
ル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシ
ルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)ペンタ
エリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−ト
リス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホ
スフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィ
ット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)
4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオク
チルオキシ−2,4,8,10−テトラ第三ブチル−1
2H−ジベンゾ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホス
ホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ第三
ブチル−12−メチル−ジベンゾ〔d,g〕−1,3,
2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ第三ブチル
−6−メチルフェニル)メチルホスフィットおよびビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチル
ホスフィット。
【0086】光重合を促進するために、アミン、例えば
トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミ
ン、p−ジメチルアミノベンゾエートまたはミヒラーケ
トンを加えることが可能である。アミンの作用はベンゾ
フェノンタイプの芳香族ケトンの添加により強化でき
る。酸素掃去剤として使用できるアミンの例はEP−A
−339841号公開公報に記載される置換N,N−ジ
アルキルアニリンである。他の促進剤、補助開始剤およ
び自動酸化剤は、例えば、EP−A−438123、B
G−2180358および特開平6−268309号に
記載されるような、チオール、チオエーテル、ジスルフ
ィド、ホスホニウム塩、ホスフィンオキシドまたはホス
フィンである。光重合はまた、スペクトル感受性をシフ
トしまたは拡張する他の増感剤を加えることによっても
促進される。それらは特に芳香族カルボニル化合物、例
えばベンゾフェノン、チオキサントン、アントラキノン
および3−アシルクマリン誘導体であり、およびまた3
−(アロイルメチレン)チアゾリンでもあるが、エオシ
ン、ローダミンおよびエリスロシン染料でもある。
トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミ
ン、p−ジメチルアミノベンゾエートまたはミヒラーケ
トンを加えることが可能である。アミンの作用はベンゾ
フェノンタイプの芳香族ケトンの添加により強化でき
る。酸素掃去剤として使用できるアミンの例はEP−A
−339841号公開公報に記載される置換N,N−ジ
アルキルアニリンである。他の促進剤、補助開始剤およ
び自動酸化剤は、例えば、EP−A−438123、B
G−2180358および特開平6−268309号に
記載されるような、チオール、チオエーテル、ジスルフ
ィド、ホスホニウム塩、ホスフィンオキシドまたはホス
フィンである。光重合はまた、スペクトル感受性をシフ
トしまたは拡張する他の増感剤を加えることによっても
促進される。それらは特に芳香族カルボニル化合物、例
えばベンゾフェノン、チオキサントン、アントラキノン
および3−アシルクマリン誘導体であり、およびまた3
−(アロイルメチレン)チアゾリンでもあるが、エオシ
ン、ローダミンおよびエリスロシン染料でもある。
【0087】硬化工程は特に(例えば二酸化チタンによ
り)着色された組成物により、および、また加熱条件下
でフリーラジカルを形成する成分、例えば2,2’−ア
ゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリ
ルのようなアゾ化合物、トリアゼン、ジアゾスルフィ
ド、ペンタザジエン、あるいはパーオキシ化合物、例え
ば、ヒドロパーオキシドまたはパーオキシカーボネー
ト、例えばEP−A−245639に記載されるような
第三ブチルヒドロパーオキシドを加えることにより補助
できる。
り)着色された組成物により、および、また加熱条件下
でフリーラジカルを形成する成分、例えば2,2’−ア
ゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリ
ルのようなアゾ化合物、トリアゼン、ジアゾスルフィ
ド、ペンタザジエン、あるいはパーオキシ化合物、例え
ば、ヒドロパーオキシドまたはパーオキシカーボネー
ト、例えばEP−A−245639に記載されるような
第三ブチルヒドロパーオキシドを加えることにより補助
できる。
【0088】他の慣用の添加剤は意図する用途による
が、蛍光増白剤、充填剤、顔料、染料、湿潤剤もしくは
均展剤である。厚いおよび着色した塗膜の硬化のために
は、米国特許第5013768号に記載されているよう
にガラス微小球または粉末化したガラス繊維の添加が適
当である。
が、蛍光増白剤、充填剤、顔料、染料、湿潤剤もしくは
均展剤である。厚いおよび着色した塗膜の硬化のために
は、米国特許第5013768号に記載されているよう
にガラス微小球または粉末化したガラス繊維の添加が適
当である。
【0089】本発明はまた、成分(a)として水中に乳
化または溶解されるエチレン性不飽和光重合性化合物の
少なくとも1つを含む組成物を提供する。そのような輻
射線硬化性水性プレポリマー分散剤の多くの変種は市販
で入手できる。プレポリマー分散物は水の分散物および
その中で分散される少なくとも1つのプレポリマーであ
るとして理解される。これらの系の水の濃度は例えば5
ないし80重量%、特には30ないし60重量%であ
る。輻射線硬化性プレポリマーまたはプレポリマー混合
物の濃度は例えば95ないし20重量%、特に70ない
し40重量%である。これらの組成物では水およびプレ
ポリマーに対するパーセントの総計は意図される使用に
より変化する量で添加される補助剤および添加剤ととも
にそれぞれの場合100である。
化または溶解されるエチレン性不飽和光重合性化合物の
少なくとも1つを含む組成物を提供する。そのような輻
射線硬化性水性プレポリマー分散剤の多くの変種は市販
で入手できる。プレポリマー分散物は水の分散物および
その中で分散される少なくとも1つのプレポリマーであ
るとして理解される。これらの系の水の濃度は例えば5
ないし80重量%、特には30ないし60重量%であ
る。輻射線硬化性プレポリマーまたはプレポリマー混合
物の濃度は例えば95ないし20重量%、特に70ない
し40重量%である。これらの組成物では水およびプレ
ポリマーに対するパーセントの総計は意図される使用に
より変化する量で添加される補助剤および添加剤ととも
にそれぞれの場合100である。
【0090】水に分散されそしてしばしば溶解される輻
射線硬化性塗膜形成プレポリマーはそれ自体公知の、一
もしくは多官能価のエチレン性不飽和プレポリマーの水
性プレポリマー分散物であって、フリーラジカルにより
反応開始され得、そして例えばプレポリマー100g当
り重合可能な二重結合を0.01ないし1.0モルの含
量および、例えば少なくとも400、特に500ないし
10000の平均分子量を有するものである。より高分
子量をもつプレポリマーは、しかし意図される用途によ
って考慮に入れられる。EP−A−12339に記載さ
れるように、例えば重合性C−C二重結合を含むおよび
10未満の酸価を有するポリエステル、重合性C−C二
重結合を含むポリエーテル、1分子当たり少なくとも2
つのエポキシド基を含むポリエポキシドと少なくとも1
つのα,β−エチレン性不飽和カルボン酸との反応生成
物、ポリウレタン、(メタ)アクリレート、ならびに、
α,β−エチレン性不飽和アクリル基を含むアクリルコ
ポリマーが使用される。これらのプレポリマーの混合物
は同様に使用できる。また適当なものは、EP−A−3
3896に記載された平均分子量少なくとも600、プ
レポリマー100gにつきカルボキシル基含量0.2な
いし15%および重合性C−C二重結合0.01ないし
0.8モル含量の重合性プレポリマーのチオエーテルの
付加物である重合性プレポリマーである。他の適当な、
特定のアルキル(メタ)アクリレートポリマーをベース
とする水性分散物はEP−A−41125に記載されお
よび適当なウレタンアクリレートの水−分散性輻射線硬
化性プレポリマーはDE−A−2936039に見いだ
し得る。輻射線−硬化性水性プレポリマー分散物に含ま
れ得る他の添加剤は分散助剤、乳化剤、酸化防止剤、光
安定剤、染料、顔料、充填剤例えば、タルク、石膏、ケ
イ酸、ルチル、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化鉄、
反応促進剤、均展剤、滑剤、湿潤剤、増粘剤、艶消剤、
消泡剤および塗料技術において慣用される他の補助剤で
ある。適当な分散助剤は高分子量でありおよび極性基を
含む水溶性有機化合物であり、例えばポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドンまたはセルロースエーテル
である。使用できる乳化剤は非イオン性乳化剤および所
望ならば同様にイオン系乳化剤である。
射線硬化性塗膜形成プレポリマーはそれ自体公知の、一
もしくは多官能価のエチレン性不飽和プレポリマーの水
性プレポリマー分散物であって、フリーラジカルにより
反応開始され得、そして例えばプレポリマー100g当
り重合可能な二重結合を0.01ないし1.0モルの含
量および、例えば少なくとも400、特に500ないし
10000の平均分子量を有するものである。より高分
子量をもつプレポリマーは、しかし意図される用途によ
って考慮に入れられる。EP−A−12339に記載さ
れるように、例えば重合性C−C二重結合を含むおよび
10未満の酸価を有するポリエステル、重合性C−C二
重結合を含むポリエーテル、1分子当たり少なくとも2
つのエポキシド基を含むポリエポキシドと少なくとも1
つのα,β−エチレン性不飽和カルボン酸との反応生成
物、ポリウレタン、(メタ)アクリレート、ならびに、
α,β−エチレン性不飽和アクリル基を含むアクリルコ
ポリマーが使用される。これらのプレポリマーの混合物
は同様に使用できる。また適当なものは、EP−A−3
3896に記載された平均分子量少なくとも600、プ
レポリマー100gにつきカルボキシル基含量0.2な
いし15%および重合性C−C二重結合0.01ないし
0.8モル含量の重合性プレポリマーのチオエーテルの
付加物である重合性プレポリマーである。他の適当な、
特定のアルキル(メタ)アクリレートポリマーをベース
とする水性分散物はEP−A−41125に記載されお
よび適当なウレタンアクリレートの水−分散性輻射線硬
化性プレポリマーはDE−A−2936039に見いだ
し得る。輻射線−硬化性水性プレポリマー分散物に含ま
れ得る他の添加剤は分散助剤、乳化剤、酸化防止剤、光
安定剤、染料、顔料、充填剤例えば、タルク、石膏、ケ
イ酸、ルチル、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化鉄、
反応促進剤、均展剤、滑剤、湿潤剤、増粘剤、艶消剤、
消泡剤および塗料技術において慣用される他の補助剤で
ある。適当な分散助剤は高分子量でありおよび極性基を
含む水溶性有機化合物であり、例えばポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドンまたはセルロースエーテル
である。使用できる乳化剤は非イオン性乳化剤および所
望ならば同様にイオン系乳化剤である。
【0091】ある場合には、新規な光開始剤の2もしく
はそれ以上の混合物を使用することは有利であろう。も
ちろん、公知の光開始剤例えば、ベンゾフェノン、アセ
トフェノン誘導体例えばα−ヒドロキシシクロアルキル
フェニルケトン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒ
ドロキシ−もしくはα−アミノアセトフェノン、4−ア
ロイル−1,3−ジオキソラン、ベンゾインアルキルエ
ーテルおよびベンジルケタール、モノアシルホスフィン
オキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、フェロセ
ン、チタノセン、アントラキノン、チオキサントンまた
はキサントン、との混合物を使用することも可能であ
る。特に適当な光開始剤は以下のものである:1−(4
−ドデシルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチル
エタン、1−(4−イソプロピルベンゾイル)−1−ヒ
ドロキシ−1−メチルエタン、1−ベンゾイル−1−ヒ
ドロキシ−1−メチルエタン、1−[4−(2−ヒドロ
キシエトキシ)−ベンゾイル]−1−ヒドロキシ−1−
メチルエタン、1−[4−(アクリロイルオキシエトキ
シ)−ベンゾイル]−1−ヒドロキシ−1−メチルエタ
ン、ジフェニルケトン、フェニル−1−ヒドロキシ−シ
クロヘキシルケトン、(4−モルホリノベンゾイル)−
1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン、1−
(3,4−ジメトキシフェニル)−2−ベンジル−2−
ジメチルアミノ−ブタン−1−オン、(4−メチルチオ
ベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノ−エタン、
ベンジルジメチルケタール、ビス(シクロペンタジエニ
ル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−ピリル−フェニ
ル)チタン、シクロペンタジエニル−アレーン−鉄(I
I)錯塩、例えば、(η6 −イソプロピルベンゼン)−
(η5 −シクロペンタジエニル)−鉄(II)ヘキサフル
オロホスフェート、トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシ−ベンゾ
イル)−(2,4,4−トリメチル−ペンチル)−ホス
フィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾ
イル)−2,4−ジペンチルオキシフェニル−ホスフィ
ンオキシドまたはビス(2,4,6−トリメチルベンゾ
イル)フェニル−ホスフィンオキシド。他の適当な追加
の光開始剤は米国特許第4950581号の明細書第2
0欄第35行〜第21欄第35行に見出される。トリア
ジン化合物は、例えばEP−A−137452、DE−
A−2718254およびDE−A−2243621に
記載されるトリアジンもまた適当である。その他の適当
なトリアジンは米国特許第4950581号明細書の第
14欄第60行〜第18欄第44行に見出される。トリ
ハロメチルトリアジン、例えば2,4−ビス(トリクロ
ロメチル)−6−(4−スチリルフェニル)−s−トリ
アジンが特に興味深い。この新規な光開始剤がハイブリ
ッド系で使用される場合に、新規なフリーラジカル硬化
剤に加えてカチオン系光開始剤、例えばパーオキサイド
化合物例えば、ベンゾイルパーオキサイド(他の適当な
パーオキサイドは米国特許第4950581号の明細書
第19欄第17〜25行に記載されている)、例えば米
国特許第4950581号の明細書第18欄第60行〜
第19欄第10行に記載されている芳香族スルホニウム
もしくはヨードニウム塩、またはシクロペンタジエニル
−アレーン−鉄(II)錯塩、例えば、(η6 −イソプロ
ピルベンゼン)−(η5 −シクロペンタジエニル)−鉄
(II)ヘキサフルオロホスフェートが使用される。
はそれ以上の混合物を使用することは有利であろう。も
ちろん、公知の光開始剤例えば、ベンゾフェノン、アセ
トフェノン誘導体例えばα−ヒドロキシシクロアルキル
フェニルケトン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒ
ドロキシ−もしくはα−アミノアセトフェノン、4−ア
ロイル−1,3−ジオキソラン、ベンゾインアルキルエ
ーテルおよびベンジルケタール、モノアシルホスフィン
オキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、フェロセ
ン、チタノセン、アントラキノン、チオキサントンまた
はキサントン、との混合物を使用することも可能であ
る。特に適当な光開始剤は以下のものである:1−(4
−ドデシルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチル
エタン、1−(4−イソプロピルベンゾイル)−1−ヒ
ドロキシ−1−メチルエタン、1−ベンゾイル−1−ヒ
ドロキシ−1−メチルエタン、1−[4−(2−ヒドロ
キシエトキシ)−ベンゾイル]−1−ヒドロキシ−1−
メチルエタン、1−[4−(アクリロイルオキシエトキ
シ)−ベンゾイル]−1−ヒドロキシ−1−メチルエタ
ン、ジフェニルケトン、フェニル−1−ヒドロキシ−シ
クロヘキシルケトン、(4−モルホリノベンゾイル)−
1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン、1−
(3,4−ジメトキシフェニル)−2−ベンジル−2−
ジメチルアミノ−ブタン−1−オン、(4−メチルチオ
ベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノ−エタン、
ベンジルジメチルケタール、ビス(シクロペンタジエニ
ル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−ピリル−フェニ
ル)チタン、シクロペンタジエニル−アレーン−鉄(I
I)錯塩、例えば、(η6 −イソプロピルベンゼン)−
(η5 −シクロペンタジエニル)−鉄(II)ヘキサフル
オロホスフェート、トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシ−ベンゾ
イル)−(2,4,4−トリメチル−ペンチル)−ホス
フィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾ
イル)−2,4−ジペンチルオキシフェニル−ホスフィ
ンオキシドまたはビス(2,4,6−トリメチルベンゾ
イル)フェニル−ホスフィンオキシド。他の適当な追加
の光開始剤は米国特許第4950581号の明細書第2
0欄第35行〜第21欄第35行に見出される。トリア
ジン化合物は、例えばEP−A−137452、DE−
A−2718254およびDE−A−2243621に
記載されるトリアジンもまた適当である。その他の適当
なトリアジンは米国特許第4950581号明細書の第
14欄第60行〜第18欄第44行に見出される。トリ
ハロメチルトリアジン、例えば2,4−ビス(トリクロ
ロメチル)−6−(4−スチリルフェニル)−s−トリ
アジンが特に興味深い。この新規な光開始剤がハイブリ
ッド系で使用される場合に、新規なフリーラジカル硬化
剤に加えてカチオン系光開始剤、例えばパーオキサイド
化合物例えば、ベンゾイルパーオキサイド(他の適当な
パーオキサイドは米国特許第4950581号の明細書
第19欄第17〜25行に記載されている)、例えば米
国特許第4950581号の明細書第18欄第60行〜
第19欄第10行に記載されている芳香族スルホニウム
もしくはヨードニウム塩、またはシクロペンタジエニル
−アレーン−鉄(II)錯塩、例えば、(η6 −イソプロ
ピルベンゼン)−(η5 −シクロペンタジエニル)−鉄
(II)ヘキサフルオロホスフェートが使用される。
【0092】従って本発明は、上記したように、光開始
剤(b)に加えて他の光開始剤(d)および/または別
の添加剤の少なくとも1つを含む組成物を提供する。こ
の光重合性組成物は光開始剤(b)および/またはまた
は光開始剤(b)および(d)を組成物に基づいて0.
05ないし15重量%、好ましくは0.1ないし5重量
%の量で都合良く含有する。(示された量は組成物の光
開始剤の総量に関する。) 光開始剤(d)として、チタノセン、フェロセン、ベン
ゾフェノン、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルケ
タール、4−アロイル−1,3−ジオキソラン、ジアル
コキシアセトフェノン、α−ヒドロキシ−またはα−ア
ミノアセトフェノン、α−ヒドロキシシクロアルキルフ
ェニルケトン、キサントン、チオキサントン、アントラ
キノンまたはモノ−もしくはビス−アシルホスフィンオ
キシドまたはそれらの混合物を追加の光開始剤として含
む組成物は特に好ましいものである。
剤(b)に加えて他の光開始剤(d)および/または別
の添加剤の少なくとも1つを含む組成物を提供する。こ
の光重合性組成物は光開始剤(b)および/またはまた
は光開始剤(b)および(d)を組成物に基づいて0.
05ないし15重量%、好ましくは0.1ないし5重量
%の量で都合良く含有する。(示された量は組成物の光
開始剤の総量に関する。) 光開始剤(d)として、チタノセン、フェロセン、ベン
ゾフェノン、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルケ
タール、4−アロイル−1,3−ジオキソラン、ジアル
コキシアセトフェノン、α−ヒドロキシ−またはα−ア
ミノアセトフェノン、α−ヒドロキシシクロアルキルフ
ェニルケトン、キサントン、チオキサントン、アントラ
キノンまたはモノ−もしくはビス−アシルホスフィンオ
キシドまたはそれらの混合物を追加の光開始剤として含
む組成物は特に好ましいものである。
【0093】光重合性組成物は例えば、印刷インキとし
て、透明仕上材として、例えば木材または金属用の白色
仕上材(white finish) として、特に紙、木材、金属ま
たはプラスチック用のコーティング材料として;建築物
および路面標識のマーキングのための、写真による複写
技術のための、ホログラフィー記録材料のための、画像
記録技術のためのまたは有機溶媒または水性アルカリに
より現像できる印刷版を製造するための、スクリーン印
刷用のマスクを製造するための、日光−硬化性(daylig
ht curable) コーティングとして、歯科用充填組成物と
して、接着剤として、感圧接着剤として、積層樹脂とし
て、エッチレジストまたは永久レジストとして、および
電子回路用のソルダーマスクとして、複合材料(例え
ば、所望によりガラス繊維および/または他の繊維およ
び補助剤を含むこともできるスチレン性ポリエステル)
および他の肉圧な組成物を製造するため、塊状硬化(mas
s curing) (透明成形品の紫外線硬化)によりまたは、
米国特許第4575330号に記載されるような、ステ
レオリソグラフィー技術による三次元製品を製造するた
めに、電子部品を被覆または封止するために、あるいは
光ファイバーのための被覆材(コーティング,coating
s) として、種々の目的に使用できる。新規な化合物は
さらに乳化重合のための開始剤として、液晶のモノマー
およびオリゴマーの規則状態を固定するための重合開始
剤として、または有機材料に染料を固定するための開始
剤としてさらに使用できる。
て、透明仕上材として、例えば木材または金属用の白色
仕上材(white finish) として、特に紙、木材、金属ま
たはプラスチック用のコーティング材料として;建築物
および路面標識のマーキングのための、写真による複写
技術のための、ホログラフィー記録材料のための、画像
記録技術のためのまたは有機溶媒または水性アルカリに
より現像できる印刷版を製造するための、スクリーン印
刷用のマスクを製造するための、日光−硬化性(daylig
ht curable) コーティングとして、歯科用充填組成物と
して、接着剤として、感圧接着剤として、積層樹脂とし
て、エッチレジストまたは永久レジストとして、および
電子回路用のソルダーマスクとして、複合材料(例え
ば、所望によりガラス繊維および/または他の繊維およ
び補助剤を含むこともできるスチレン性ポリエステル)
および他の肉圧な組成物を製造するため、塊状硬化(mas
s curing) (透明成形品の紫外線硬化)によりまたは、
米国特許第4575330号に記載されるような、ステ
レオリソグラフィー技術による三次元製品を製造するた
めに、電子部品を被覆または封止するために、あるいは
光ファイバーのための被覆材(コーティング,coating
s) として、種々の目的に使用できる。新規な化合物は
さらに乳化重合のための開始剤として、液晶のモノマー
およびオリゴマーの規則状態を固定するための重合開始
剤として、または有機材料に染料を固定するための開始
剤としてさらに使用できる。
【0094】コーティング材料ではモノ不飽和モノマー
を同様に含むことのできるポリ不飽和モノマーとのプレ
ポリマーとの混合物をしばしば使用する。ここでそれは
最初に塗膜の特性を規定するプレポリマーでありそれを
変化させることにより当業者は硬化した塗膜の特性に影
響させることができる。ポリ不飽和モノマーは塗膜を不
溶にする架橋剤として作用する。モノ不飽和モノマーは
溶媒の必要なく粘度を減少するのに使用される反応性希
釈剤として作用する。不飽和ポリエステル樹脂はモノ不
飽和モノマー、好ましくはスチレンとともに通常二成分
(2パック)系で使用される。フォトレジストに対して
は、特定の1成分系がしばしば使用され、例えばDE−
A−2308830に記載されるようにポリマレイミ
ド、ポリカルコンまたはポリイミドがある。
を同様に含むことのできるポリ不飽和モノマーとのプレ
ポリマーとの混合物をしばしば使用する。ここでそれは
最初に塗膜の特性を規定するプレポリマーでありそれを
変化させることにより当業者は硬化した塗膜の特性に影
響させることができる。ポリ不飽和モノマーは塗膜を不
溶にする架橋剤として作用する。モノ不飽和モノマーは
溶媒の必要なく粘度を減少するのに使用される反応性希
釈剤として作用する。不飽和ポリエステル樹脂はモノ不
飽和モノマー、好ましくはスチレンとともに通常二成分
(2パック)系で使用される。フォトレジストに対して
は、特定の1成分系がしばしば使用され、例えばDE−
A−2308830に記載されるようにポリマレイミ
ド、ポリカルコンまたはポリイミドがある。
【0095】新規な化合物およびそれらの混合物はま
た、フリーラジカル光開始剤または輻射線−硬化性粉体
塗料のための光開始系としても使用できる。粉体塗料
(粉末コーティング)は固体樹脂および反応性二重結合
を含むモノマーに基づくものであり、例えばマレエー
ト、ビニルエーテル、アクリレート、アクリルアミドお
よびその混合物である。フリーラジカル性紫外線硬化性
粉末塗料はまた不飽和ポリエステル樹脂を、ソリッドア
クリルアミド類(例えば、メチルメタクリルアミドグリ
コーレート)および例えばM.ウイッティングおよびT
h.ゴーマン(M.Witting and Th. Gohmann)による論
文”Radiation Curing of Powder Coating", Confrence
Proceedings Radtech Europe 1993に記載される配合物
のような新規なフリーラジカル光開始剤と混合すること
により配合物とすることができる。粉末コーティングは
また、例えば、DE−A−4228514およびEP−
A−636669に記載されるようにバインダーを含む
こともできる。フリーラジカル性紫外線硬化性粉末塗料
はまた不飽和ポリエステル樹脂を、固体アクリレート、
メタクリレートまたはビニルエステルと、そして新規光
開始剤(または光開始剤混合物)と混合することにより
配合物とすることができる。紫外線硬化性粉体塗料はさ
らに白色または有色顔料を含んでいてよい。例えば、良
好な隠蔽力の硬化粉体を得るために好ましくはルチル型
二酸化チタンは50重量%以上の濃度で使用できる。方
法は通常、支持体、例えば、金属または木材上への粉体
の静電的もしくは摩擦静電的(tribostatic) 吹付、加熱
による粉体の溶融、ならびに平滑な塗膜が形成された後
の、例えば中圧水銀ランプ、金属ハライドランプまたは
キセノンランプを使用する紫外線および/または可視光
線を用いる塗膜の輻射線−硬化からなる。熱硬化性の相
当物品上にある輻射線−硬化性粉体塗料の特別な利点
は、粉体粒子を溶融後、滑らかな、高光沢性塗膜の形成
を確実にするために流れ時間を遅らせ得ることである。
熱硬化性系と比較して、輻射線−硬化性粉体塗料はそれ
らの保存期間を短くする不所望の作用を伴うことなく、
より低温で溶融するために配合することができる。この
理由のため、それらはまた感熱性支持体、例えば、木材
またはプラスチックスのための被覆材としても適当であ
る。新規な光開始剤に加え、粉体塗料配合物はまた紫外
線吸収剤を含んでいてもよい。適当な例は上に挙げた1
ないし8項にあるものである。
た、フリーラジカル光開始剤または輻射線−硬化性粉体
塗料のための光開始系としても使用できる。粉体塗料
(粉末コーティング)は固体樹脂および反応性二重結合
を含むモノマーに基づくものであり、例えばマレエー
ト、ビニルエーテル、アクリレート、アクリルアミドお
よびその混合物である。フリーラジカル性紫外線硬化性
粉末塗料はまた不飽和ポリエステル樹脂を、ソリッドア
クリルアミド類(例えば、メチルメタクリルアミドグリ
コーレート)および例えばM.ウイッティングおよびT
h.ゴーマン(M.Witting and Th. Gohmann)による論
文”Radiation Curing of Powder Coating", Confrence
Proceedings Radtech Europe 1993に記載される配合物
のような新規なフリーラジカル光開始剤と混合すること
により配合物とすることができる。粉末コーティングは
また、例えば、DE−A−4228514およびEP−
A−636669に記載されるようにバインダーを含む
こともできる。フリーラジカル性紫外線硬化性粉末塗料
はまた不飽和ポリエステル樹脂を、固体アクリレート、
メタクリレートまたはビニルエステルと、そして新規光
開始剤(または光開始剤混合物)と混合することにより
配合物とすることができる。紫外線硬化性粉体塗料はさ
らに白色または有色顔料を含んでいてよい。例えば、良
好な隠蔽力の硬化粉体を得るために好ましくはルチル型
二酸化チタンは50重量%以上の濃度で使用できる。方
法は通常、支持体、例えば、金属または木材上への粉体
の静電的もしくは摩擦静電的(tribostatic) 吹付、加熱
による粉体の溶融、ならびに平滑な塗膜が形成された後
の、例えば中圧水銀ランプ、金属ハライドランプまたは
キセノンランプを使用する紫外線および/または可視光
線を用いる塗膜の輻射線−硬化からなる。熱硬化性の相
当物品上にある輻射線−硬化性粉体塗料の特別な利点
は、粉体粒子を溶融後、滑らかな、高光沢性塗膜の形成
を確実にするために流れ時間を遅らせ得ることである。
熱硬化性系と比較して、輻射線−硬化性粉体塗料はそれ
らの保存期間を短くする不所望の作用を伴うことなく、
より低温で溶融するために配合することができる。この
理由のため、それらはまた感熱性支持体、例えば、木材
またはプラスチックスのための被覆材としても適当であ
る。新規な光開始剤に加え、粉体塗料配合物はまた紫外
線吸収剤を含んでいてもよい。適当な例は上に挙げた1
ないし8項にあるものである。
【0096】新規な光硬化性組成物は例えば、木材、織
物、紙、セラミックス、ガラス、プラスチックス例え
ば、特にフィルムの形態におけるポリエステル、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリオレフィンまたはセルロー
スアセテート、ならびに金属、例えばAl、Cu、N
i、Fe、Zn、MgまたはCoおよびGaAs、Si
またはSiO2 のような、保護層を適用しまたは、画像
様露光の方法により、再生画像を精製することを目的と
する、あらゆる種類の支持体(基材)のためのコーティ
ング材料として適当である。
物、紙、セラミックス、ガラス、プラスチックス例え
ば、特にフィルムの形態におけるポリエステル、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリオレフィンまたはセルロー
スアセテート、ならびに金属、例えばAl、Cu、N
i、Fe、Zn、MgまたはCoおよびGaAs、Si
またはSiO2 のような、保護層を適用しまたは、画像
様露光の方法により、再生画像を精製することを目的と
する、あらゆる種類の支持体(基材)のためのコーティ
ング材料として適当である。
【0097】支持体の塗布は液体組成物、溶液または懸
濁液を基材に塗布することにより行うことができる。溶
媒の選択および濃度は主に組成物の種類および塗布技術
に依存する。溶媒は、不活性、即ち成分と化学反応せ
ず、そして冷却後、乾燥の間に再度除去可能なものであ
るべきである。溶媒の例は、メチルエチルケトン、イソ
ブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサ
ノン、N−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタ
ノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1,2−ジ
メトキシエタン、酢酸エチル、n−ブチルアセテートお
よびエチル3−エトキシプロピオネートである。溶液は
公知の塗布技術、例えばスピン塗布、浸漬被覆、ナイフ
塗布、カーテン塗布、刷毛塗り、吹付特に静電吹付によ
る吹付、ならびにリバースロール塗布によって、および
また電気泳動塗装によって支持体に均質に塗布される。
また感光性層を一時的に可撓性の支持体に塗布して次に
積層によって層を転写することにより最終的な支持体、
例えば銅張回路板に塗布することもできる。
濁液を基材に塗布することにより行うことができる。溶
媒の選択および濃度は主に組成物の種類および塗布技術
に依存する。溶媒は、不活性、即ち成分と化学反応せ
ず、そして冷却後、乾燥の間に再度除去可能なものであ
るべきである。溶媒の例は、メチルエチルケトン、イソ
ブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサ
ノン、N−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタ
ノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1,2−ジ
メトキシエタン、酢酸エチル、n−ブチルアセテートお
よびエチル3−エトキシプロピオネートである。溶液は
公知の塗布技術、例えばスピン塗布、浸漬被覆、ナイフ
塗布、カーテン塗布、刷毛塗り、吹付特に静電吹付によ
る吹付、ならびにリバースロール塗布によって、および
また電気泳動塗装によって支持体に均質に塗布される。
また感光性層を一時的に可撓性の支持体に塗布して次に
積層によって層を転写することにより最終的な支持体、
例えば銅張回路板に塗布することもできる。
【0098】塗布される量(塗膜厚)および支持体の性
質(層支持材)は所望の適用分野による。塗布厚の範囲
は一般に約0.1μmないし100μm以上の値を含
む。
質(層支持材)は所望の適用分野による。塗布厚の範囲
は一般に約0.1μmないし100μm以上の値を含
む。
【0099】新規な輻射線感受性組成物は光に対して非
常に高い感受性をもち、そして水性アルカリ媒体により
膨潤することなく現像され得るネガ型レジストとしての
適用が見いだされる。それらはエレクトロニクス(電気
メッキレジスト、エッチングレジストもしくはソルダー
レジスト)のためのフォトレジストとして、オフセット
印刷版またはスクリーン印刷のような印刷版の製造、蝕
刻で使用するために、あるいは集積回路の製造のマイク
ロレジストとして適している。可能な層支持材、ならび
に被覆支持体の加工条件は適当に変化できる。
常に高い感受性をもち、そして水性アルカリ媒体により
膨潤することなく現像され得るネガ型レジストとしての
適用が見いだされる。それらはエレクトロニクス(電気
メッキレジスト、エッチングレジストもしくはソルダー
レジスト)のためのフォトレジストとして、オフセット
印刷版またはスクリーン印刷のような印刷版の製造、蝕
刻で使用するために、あるいは集積回路の製造のマイク
ロレジストとして適している。可能な層支持材、ならび
に被覆支持体の加工条件は適当に変化できる。
【0100】本発明の化合物はまた、単彩色または多彩
色が可能である画像記録または画像複製(複写、電子複
写)のための1またはそれより多い積層された材料の製
造への適用が見いだされている。さらにまた、材料は着
色防止系(color proofing systems) に適当である。こ
の技術においてはマイクロカプセルを含む配合物が適用
でき、画像形成のために輻射線硬化は熱処理させること
ができる。この様なシステムおよび技術やそれらの適用
は例えば米国特許第5376459号に開示される。
色が可能である画像記録または画像複製(複写、電子複
写)のための1またはそれより多い積層された材料の製
造への適用が見いだされている。さらにまた、材料は着
色防止系(color proofing systems) に適当である。こ
の技術においてはマイクロカプセルを含む配合物が適用
でき、画像形成のために輻射線硬化は熱処理させること
ができる。この様なシステムおよび技術やそれらの適用
は例えば米国特許第5376459号に開示される。
【0101】写真による情報記録のために使用される支
持体は、例えば、ポリエステルのフィルム、セルロース
アセテートまたはポリマー塗被紙を含み;オフセット印
刷型(offset printing formes) のための支持体は特に
処理されたアルミニウムであり、プリント回路を製造す
るための支持体は銅張積層体であり、ならびに集積回路
を製造するための支持体はシリコンウエハである。写真
材料およびオフセット印刷型のための層厚は一般に約
0.5μmないし10μmであり、同時にプリント回路
のための層厚は1.0μmないし約100μmである。
支持体の塗布に続いて、溶媒が一般には乾燥により除去
され、支持体上にフォトレジストの塗膜が残る。
持体は、例えば、ポリエステルのフィルム、セルロース
アセテートまたはポリマー塗被紙を含み;オフセット印
刷型(offset printing formes) のための支持体は特に
処理されたアルミニウムであり、プリント回路を製造す
るための支持体は銅張積層体であり、ならびに集積回路
を製造するための支持体はシリコンウエハである。写真
材料およびオフセット印刷型のための層厚は一般に約
0.5μmないし10μmであり、同時にプリント回路
のための層厚は1.0μmないし約100μmである。
支持体の塗布に続いて、溶媒が一般には乾燥により除去
され、支持体上にフォトレジストの塗膜が残る。
【0102】用語「画像様(image-wise) 」露光は予め
決められたパターンを有するフォトマスク例えばスライ
ドを通す露光、例えばコンピューター制御下で、塗布さ
れた支持体の表面上を動きそしてこれにより画像を形成
するレーザービームによる露光、およびコンピューター
制御された電子ビームによる照射を含む。材料の画像様
露光に続き、そして現像の前に短時間に熱処理を行うこ
とは有利であろう。この場合には露光した領域のみが熱
硬化される。使用される温度は一般に50−150℃、
好ましくは80−130℃であり、熱処理の時間は一般
に0.25ないし10分である。
決められたパターンを有するフォトマスク例えばスライ
ドを通す露光、例えばコンピューター制御下で、塗布さ
れた支持体の表面上を動きそしてこれにより画像を形成
するレーザービームによる露光、およびコンピューター
制御された電子ビームによる照射を含む。材料の画像様
露光に続き、そして現像の前に短時間に熱処理を行うこ
とは有利であろう。この場合には露光した領域のみが熱
硬化される。使用される温度は一般に50−150℃、
好ましくは80−130℃であり、熱処理の時間は一般
に0.25ないし10分である。
【0103】光硬化性組成物はさらに例えばDE−A−
4013358に記載されたような印刷版またはフォト
レジストを製造する方法に使用できる。この様な方法で
は画像様に照射する前に、同時またはその後、組成物は
マスクなしで少なくとも400nmの波長である可視光
線に短時間、露光される。露光の後、そして熱処理を行
う場合には、感光性塗膜の露光されない領域はそれ自体
公知の方法による現像によって除去される。
4013358に記載されたような印刷版またはフォト
レジストを製造する方法に使用できる。この様な方法で
は画像様に照射する前に、同時またはその後、組成物は
マスクなしで少なくとも400nmの波長である可視光
線に短時間、露光される。露光の後、そして熱処理を行
う場合には、感光性塗膜の露光されない領域はそれ自体
公知の方法による現像によって除去される。
【0104】既に言及したように、新規な組成物は水性
アルカリで現像できる。特に適当な水性アルカリ現像液
は水酸化テトラアルキルアンモニウム水溶液、アルカリ
金属シリケート、ホスフェート、水酸化物および炭酸塩
の水溶液である。所望ならばこれらの溶液に湿潤剤およ
び/または有機溶媒のごく少量を添加することも可能で
ある。現像溶液に少量で加えることのできる代表的な有
機溶媒の例はシクロヘキサノン、2−エトキシエタノー
ル、トルエン、アセトンおよびこれらの溶媒の混合物で
ある。バインダーの乾燥時間がグラフィック製品の生成
速度のための重要因子でありそしてそれはほんの数秒の
オーダーであるべきなので、光硬化は印刷に非常に重要
である。UV硬化性インキはスクリーン印刷に特に重要
である。
アルカリで現像できる。特に適当な水性アルカリ現像液
は水酸化テトラアルキルアンモニウム水溶液、アルカリ
金属シリケート、ホスフェート、水酸化物および炭酸塩
の水溶液である。所望ならばこれらの溶液に湿潤剤およ
び/または有機溶媒のごく少量を添加することも可能で
ある。現像溶液に少量で加えることのできる代表的な有
機溶媒の例はシクロヘキサノン、2−エトキシエタノー
ル、トルエン、アセトンおよびこれらの溶媒の混合物で
ある。バインダーの乾燥時間がグラフィック製品の生成
速度のための重要因子でありそしてそれはほんの数秒の
オーダーであるべきなので、光硬化は印刷に非常に重要
である。UV硬化性インキはスクリーン印刷に特に重要
である。
【0105】既に上述したように、新規な混合物はま
た、印刷版を製造するのに非常に適当である。この用途
では、例えば溶解性直鎖ポリアミド類またはスチレン/
ブタジエンおよび/またはスチレン/イソプレンゴム、
カルボキシル基を含むポリアクリレートまたはポリメチ
ルメタクリレート、光重合性モノマー、例えばアクリル
アミドおよび/またはメタクリルアミドを伴うポリビニ
ルアルコールもしくはウレタンアクリレート、あるいは
アクリレートおよび/またはメタクリレートと光開始剤
との混合物を使用する。これらのシステムのフィルムお
よびプレート(湿式または乾式)は印刷される原本のネ
ガ(またはポジ)上に露光され、硬化されない部分は続
いて適当な溶媒を使用して洗い落とされる。
た、印刷版を製造するのに非常に適当である。この用途
では、例えば溶解性直鎖ポリアミド類またはスチレン/
ブタジエンおよび/またはスチレン/イソプレンゴム、
カルボキシル基を含むポリアクリレートまたはポリメチ
ルメタクリレート、光重合性モノマー、例えばアクリル
アミドおよび/またはメタクリルアミドを伴うポリビニ
ルアルコールもしくはウレタンアクリレート、あるいは
アクリレートおよび/またはメタクリレートと光開始剤
との混合物を使用する。これらのシステムのフィルムお
よびプレート(湿式または乾式)は印刷される原本のネ
ガ(またはポジ)上に露光され、硬化されない部分は続
いて適当な溶媒を使用して洗い落とされる。
【0106】光硬化が使用される他の分野は金属の塗
装、各々場合において、例えば、金属板および管、缶ま
たは瓶の蓋の塗装であり、そして例えばPVCをベース
とする床または壁仕上材のようなポリマー被覆材の光硬
化である。塗被紙の光硬化の例は、ラベル、レコード入
れおよびブックカバーの無色のワニス塗布である。
装、各々場合において、例えば、金属板および管、缶ま
たは瓶の蓋の塗装であり、そして例えばPVCをベース
とする床または壁仕上材のようなポリマー被覆材の光硬
化である。塗被紙の光硬化の例は、ラベル、レコード入
れおよびブックカバーの無色のワニス塗布である。
【0107】また、複合材料組成物から作られる成形品
の硬化のための新規な化合物の使用も重要である。この
複合材料化合物は自己支持性マトリックス材料、例えば
ガラス繊維織物または代わりに例えば植物繊維〔Kunsts
toffe 85(1995),366-370におけるK.−P.ミエック,
T.ロイスマン(K.-P. Mieck, T.Reussmann) 参照〕の
ような、光硬化配合物で含浸されたものである。新規な
化合物を使用して製造された場合、複合材料化合物から
なる成形部品高いレベルの機械的安定性および機械抵抗
性が達成される。新規な化合物は例えばEP−A−70
86に記載されるような成形、含浸および塗装組成物の
光硬化剤として使用することもできる。このような組成
物の例は硬化活性および黄変抵抗性に関する厳密な要求
を受けるゲルコート樹脂、および例えば平面であるかま
たは長さ方向もしくは幅方向の波形(Lengthwise or cr
osswise corrugation)をもつ光拡散パネル(light diff
using panels) のような繊維強化成形品である。このよ
うな成形品を製造するための技術、例えばハンドレイア
ップ、スプレーレイアップ、遠心注型またはフィラメン
ト巻きは、例えば、P.H.セルデン(P.H.Selden) に
より、”Glasfaserverstarkte Kunststoffe", 第610
頁,Springer Verlag, Berlin-Heidelberg-NewYork 1967
に記載されている。これらの技術により製造すること
のできる製品の例は、ボート、ガラス繊維強化プラスチ
ックを両面塗布しこ繊維ボードまたはチップボードパネ
ル、パイプ、容器等々である。成形材料、含浸材料およ
び塗料組成物の他の例は、ガラス繊維(GRP)を含む
成形品例えば、波形板およびラミネート紙のためのUP
樹脂ゲルコートである。ラミネート紙は尿素樹脂または
メラミン樹脂をベースとする。ラミネートの製造の前に
ゲルコートは支持材(例えばフィルム)上に製造され
る。新規な光硬化性組成物はまた注型用樹脂、または製
品例えば、電子部品を埋封するためにも使用できる。硬
化は慣用の紫外線硬化に使用できる中圧水銀ランプを使
用して行われる。しかし、より強度の少ないランプ、例
えばTL40W/03またはTL40W/05のタイプ
が特に関係する。これらのランプの強度は日光の強度に
ほぼ相当する。硬化のために直射日光を使用することも
できる。さらに有利には、複合材料は部分的に硬化され
た塑性状態で光源から取り出し、そして続いて生じる完
全硬化により成形できることである。
の硬化のための新規な化合物の使用も重要である。この
複合材料化合物は自己支持性マトリックス材料、例えば
ガラス繊維織物または代わりに例えば植物繊維〔Kunsts
toffe 85(1995),366-370におけるK.−P.ミエック,
T.ロイスマン(K.-P. Mieck, T.Reussmann) 参照〕の
ような、光硬化配合物で含浸されたものである。新規な
化合物を使用して製造された場合、複合材料化合物から
なる成形部品高いレベルの機械的安定性および機械抵抗
性が達成される。新規な化合物は例えばEP−A−70
86に記載されるような成形、含浸および塗装組成物の
光硬化剤として使用することもできる。このような組成
物の例は硬化活性および黄変抵抗性に関する厳密な要求
を受けるゲルコート樹脂、および例えば平面であるかま
たは長さ方向もしくは幅方向の波形(Lengthwise or cr
osswise corrugation)をもつ光拡散パネル(light diff
using panels) のような繊維強化成形品である。このよ
うな成形品を製造するための技術、例えばハンドレイア
ップ、スプレーレイアップ、遠心注型またはフィラメン
ト巻きは、例えば、P.H.セルデン(P.H.Selden) に
より、”Glasfaserverstarkte Kunststoffe", 第610
頁,Springer Verlag, Berlin-Heidelberg-NewYork 1967
に記載されている。これらの技術により製造すること
のできる製品の例は、ボート、ガラス繊維強化プラスチ
ックを両面塗布しこ繊維ボードまたはチップボードパネ
ル、パイプ、容器等々である。成形材料、含浸材料およ
び塗料組成物の他の例は、ガラス繊維(GRP)を含む
成形品例えば、波形板およびラミネート紙のためのUP
樹脂ゲルコートである。ラミネート紙は尿素樹脂または
メラミン樹脂をベースとする。ラミネートの製造の前に
ゲルコートは支持材(例えばフィルム)上に製造され
る。新規な光硬化性組成物はまた注型用樹脂、または製
品例えば、電子部品を埋封するためにも使用できる。硬
化は慣用の紫外線硬化に使用できる中圧水銀ランプを使
用して行われる。しかし、より強度の少ないランプ、例
えばTL40W/03またはTL40W/05のタイプ
が特に関係する。これらのランプの強度は日光の強度に
ほぼ相当する。硬化のために直射日光を使用することも
できる。さらに有利には、複合材料は部分的に硬化され
た塑性状態で光源から取り出し、そして続いて生じる完
全硬化により成形できることである。
【0108】本発明による組成物および化合物は導波管
および光学スイッチの製造のために使用され得、それに
よる利点は照射領域と未照射領域の間で屈折率に相違が
生じることである。画像形成技術および情報用の光学製
品のための光硬化性組成物の使用はまた重要である。こ
のような適用においては、既に上述したとおり、支持材
に塗布された層(湿潤または乾燥)はフォトマスクを通
して紫外線または可視光線により照射され、そして層の
露光されない領域は溶媒(現像液)による処理により除
去される。金属への光硬化性層の塗布は電着によっても
行われる。露光領域は架橋により重合されそしてそのた
め不溶となりそして支持材上に残る。適当な着色は可視
画像を製造する。支持材が蒸着層の場合、金属は、露光
および現像に続いて露光されない領域において腐蝕して
取り去るかまたは電気めっきにより強化する。この様に
して電子回路およびフォトレジストを製造することがで
きる。
および光学スイッチの製造のために使用され得、それに
よる利点は照射領域と未照射領域の間で屈折率に相違が
生じることである。画像形成技術および情報用の光学製
品のための光硬化性組成物の使用はまた重要である。こ
のような適用においては、既に上述したとおり、支持材
に塗布された層(湿潤または乾燥)はフォトマスクを通
して紫外線または可視光線により照射され、そして層の
露光されない領域は溶媒(現像液)による処理により除
去される。金属への光硬化性層の塗布は電着によっても
行われる。露光領域は架橋により重合されそしてそのた
め不溶となりそして支持材上に残る。適当な着色は可視
画像を製造する。支持材が蒸着層の場合、金属は、露光
および現像に続いて露光されない領域において腐蝕して
取り去るかまたは電気めっきにより強化する。この様に
して電子回路およびフォトレジストを製造することがで
きる。
【0109】新規な組成物の感光性は、一般に約200
nmから紫外領域を経て赤外領域(約20000nm、
特に1200nm)まで拡がっており、そのため全範囲
は非常に広い範囲である。適当な輻射線は例えば日光ま
たは人工光源に存在する。結論として、非常に異なる多
数のタイプの光源が使用できる。点光源および線光源
(「ランプカーペット」)が適当である。具体例はカー
ボンアークランプ、キセノンアーク灯または金属ハライ
ドでドープ塗布されていてもよい中圧、高圧および低圧
の水銀蒸気ランプ(金属ハライドランプ)、マイクロウ
ェーブ励起金属蒸気ランプ(microwave-stimulated met
al vapour lamps)、エキシマーランプ(excimer lamps)
、スーパーアクチニック蛍光灯(superactinic fluores
ent tubes)、蛍光ランプ、アルゴン白熱灯、電子閃光ラ
ンプ、写真投光ランプ、シンクロトロンまたはレーザー
プラズマによる電子ビームおよびX線である。ランプと
照射される本発明による基材との距離は意図する用途お
よびランプのタイプおよび強度により変化でき、例えば
2cmないし150cmであってよい。レーザー抗原、
例えばエキシマレーザーが特に適している。特に好適な
光源はレーザー光源、例えば248nmにおける露光に
対するクリプトン−Fレーザーのようなエキシマーレー
ザーである。可視領域および赤外領域におけるレーザー
もまた使用できる。この場合、新規な材料の高い感受性
は非常に有利である。この方法により、電子工業におけ
るプリント回路、リソグラフィーによりオフセット印刷
版またはレリーフ印刷版ならびにまた写真画像記録材料
を製造できる。
nmから紫外領域を経て赤外領域(約20000nm、
特に1200nm)まで拡がっており、そのため全範囲
は非常に広い範囲である。適当な輻射線は例えば日光ま
たは人工光源に存在する。結論として、非常に異なる多
数のタイプの光源が使用できる。点光源および線光源
(「ランプカーペット」)が適当である。具体例はカー
ボンアークランプ、キセノンアーク灯または金属ハライ
ドでドープ塗布されていてもよい中圧、高圧および低圧
の水銀蒸気ランプ(金属ハライドランプ)、マイクロウ
ェーブ励起金属蒸気ランプ(microwave-stimulated met
al vapour lamps)、エキシマーランプ(excimer lamps)
、スーパーアクチニック蛍光灯(superactinic fluores
ent tubes)、蛍光ランプ、アルゴン白熱灯、電子閃光ラ
ンプ、写真投光ランプ、シンクロトロンまたはレーザー
プラズマによる電子ビームおよびX線である。ランプと
照射される本発明による基材との距離は意図する用途お
よびランプのタイプおよび強度により変化でき、例えば
2cmないし150cmであってよい。レーザー抗原、
例えばエキシマレーザーが特に適している。特に好適な
光源はレーザー光源、例えば248nmにおける露光に
対するクリプトン−Fレーザーのようなエキシマーレー
ザーである。可視領域および赤外領域におけるレーザー
もまた使用できる。この場合、新規な材料の高い感受性
は非常に有利である。この方法により、電子工業におけ
るプリント回路、リソグラフィーによりオフセット印刷
版またはレリーフ印刷版ならびにまた写真画像記録材料
を製造できる。
【0110】従って、本発明はまた、少なくとも1種の
エチレン性不飽和二重結合を含む非揮発性のモノマー
性、オリゴマー性またはポリマー性化合物の光重合のた
めの方法であって、該化合物に少なくとも1種の上記式
I、I’またはIa中、Gが第1酸化状態にある周期表
I族の金属、特にNa+ 、K+ またはLi+ を表すか、
またはGはMgZ1 + またはCaZ1 + (式中、Z1 は
ハロゲン原子または炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基を表す)を表すか、またはGはアンモニウム塩、スル
ホニウム塩またはホスホニウム塩を表す化合物を添加
し、そしてこの混合物を赤外領域からUV領域ないし2
00nmの波長の光で照射することからなる上記光重合
方法に関する。
エチレン性不飽和二重結合を含む非揮発性のモノマー
性、オリゴマー性またはポリマー性化合物の光重合のた
めの方法であって、該化合物に少なくとも1種の上記式
I、I’またはIa中、Gが第1酸化状態にある周期表
I族の金属、特にNa+ 、K+ またはLi+ を表すか、
またはGはMgZ1 + またはCaZ1 + (式中、Z1 は
ハロゲン原子または炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基を表す)を表すか、またはGはアンモニウム塩、スル
ホニウム塩またはホスホニウム塩を表す化合物を添加
し、そしてこの混合物を赤外領域からUV領域ないし2
00nmの波長の光で照射することからなる上記光重合
方法に関する。
【0111】
【発明の実施の形態】本発明はさらに着色および未着色
のコーティング材料、粉末コーティング、印刷インキ、
印刷版、接着剤、歯科用組成物、導波管、光学スイッ
チ、着色防止系、ガラス繊維ケーブルコーティング、ス
クリーン印刷ステンシル、レジスト材料を製造するため
に、電気および電子部品を包囲(封止)するために、複
合材料を製造するために、磁気記録材料を製造するため
に、ステレオリソグラフィーにより3次元物品を製造す
るために、写真による複製のために、および画像記録材
料として、特にホログラフィーによる記録のために上記
組成物を使用する方法を提供する。
のコーティング材料、粉末コーティング、印刷インキ、
印刷版、接着剤、歯科用組成物、導波管、光学スイッ
チ、着色防止系、ガラス繊維ケーブルコーティング、ス
クリーン印刷ステンシル、レジスト材料を製造するため
に、電気および電子部品を包囲(封止)するために、複
合材料を製造するために、磁気記録材料を製造するため
に、ステレオリソグラフィーにより3次元物品を製造す
るために、写真による複製のために、および画像記録材
料として、特にホログラフィーによる記録のために上記
組成物を使用する方法を提供する。
【0112】本発明はさらに上記の組成物で少なくとも
一方の表面が被覆されている被覆された基材、および被
覆された基材が画像様に露光され、そして次に未露光部
分を溶媒により除去するレリーフ画像の写真による形成
方法を記載する。本発明において特に興味深いのは既に
記載したレーザービーム露光である。
一方の表面が被覆されている被覆された基材、および被
覆された基材が画像様に露光され、そして次に未露光部
分を溶媒により除去するレリーフ画像の写真による形成
方法を記載する。本発明において特に興味深いのは既に
記載したレーザービーム露光である。
【0113】式I、I’およびIaの化合物は空気中で
安定な白色粉体である。既に上記したように、これらの
化合物において、基R1 、R2 およびR3 のいずれかの
少なくとも2つは両方のオルト位で置換された芳香族炭
化水素基またはフェニル基を表すか、または少なくとも
1つの基R1 、R2 またはR3 は立体的に嵩張るアリー
ル基を表し、そしてR1 、R2 およびR3 の残りの基は
少なくとも一方のオルト位で置換された芳香族炭化水素
基またはフェニル基を表す。
安定な白色粉体である。既に上記したように、これらの
化合物において、基R1 、R2 およびR3 のいずれかの
少なくとも2つは両方のオルト位で置換された芳香族炭
化水素基またはフェニル基を表すか、または少なくとも
1つの基R1 、R2 またはR3 は立体的に嵩張るアリー
ル基を表し、そしてR1 、R2 およびR3 の残りの基は
少なくとも一方のオルト位で置換された芳香族炭化水素
基またはフェニル基を表す。
【0114】これらの化合物は驚くべきことに単分子フ
リーラジカル光開始剤として良好な反応性を示すもので
ある。換言すれば、それらは補助開始剤を添加しない場
合でも、エチレン性不飽和化合物の光重合を開始するの
に十分な程反応性である。電子吸引基を含む式I、I’
およびIaの化合物はまた、一般に、酸安定性であり、
そして光硬化剤として酸性の光重合し得る配合物中で使
用され得る。
リーラジカル光開始剤として良好な反応性を示すもので
ある。換言すれば、それらは補助開始剤を添加しない場
合でも、エチレン性不飽和化合物の光重合を開始するの
に十分な程反応性である。電子吸引基を含む式I、I’
およびIaの化合物はまた、一般に、酸安定性であり、
そして光硬化剤として酸性の光重合し得る配合物中で使
用され得る。
【0115】新規ボレート化合物は光重合反応のための
開始剤としてだけでなく、熱重合開始剤として使用され
得る。それ故に、本発明はさらに、エチレン性不飽和二
重結合を含有する化合物の熱重合のための開始剤として
式IおよびI’で表される化合物を使用する方法、およ
び少なくとも1種の式IまたはI’で表される化合物を
重合開始剤として添加することからなる、エチレン性不
飽和二重結合を含有する化合物の熱重合方法を提供す
る。
開始剤としてだけでなく、熱重合開始剤として使用され
得る。それ故に、本発明はさらに、エチレン性不飽和二
重結合を含有する化合物の熱重合のための開始剤として
式IおよびI’で表される化合物を使用する方法、およ
び少なくとも1種の式IまたはI’で表される化合物を
重合開始剤として添加することからなる、エチレン性不
飽和二重結合を含有する化合物の熱重合方法を提供す
る。
【0116】
【実施例】以下の実施例は本発明をより詳細に記載す
る。部および%は特記しない限り重量に基づくが、これ
は本実施例およびその他の明細書の記載においても同様
である。
る。部および%は特記しない限り重量に基づくが、これ
は本実施例およびその他の明細書の記載においても同様
である。
【0117】I.ボランの製造 実施例1:(方法A) アリールジメシチルボランを製造するための一般的方法 ジメシチルビフェニルボランの製造 ヘキサン中のブチルリチウム1.1当量(0.077モ
ル)をテトラヒドロフラン(THF)100ml中の4
−ブロモビフェニル16.3g(0.07モル)の溶液
に−78℃で15分かけて添加する。反応混合物をその
温度で3時間攪拌する。次いで固体ジメシチルフルオロ
ボラン18.8g(0.07モル)を添加し、そして混
合物を室温まで加温し、そして1時間さらに攪拌する。
混合物を水500ml中に注ぎ、そして酢酸エチルでの
抽出を行う。MgSO4 上での乾燥、濾過および濃縮を
行うと、淡い黄色固体生成物が得られ、これを沸騰する
アセトニトリルで精製する。生成物22.9g(理論値
の81%)が融点範囲165−166℃の白色固体とし
て得られる。 1H−NMRにおけるシフトδは第1表に
示されている。
ル)をテトラヒドロフラン(THF)100ml中の4
−ブロモビフェニル16.3g(0.07モル)の溶液
に−78℃で15分かけて添加する。反応混合物をその
温度で3時間攪拌する。次いで固体ジメシチルフルオロ
ボラン18.8g(0.07モル)を添加し、そして混
合物を室温まで加温し、そして1時間さらに攪拌する。
混合物を水500ml中に注ぎ、そして酢酸エチルでの
抽出を行う。MgSO4 上での乾燥、濾過および濃縮を
行うと、淡い黄色固体生成物が得られ、これを沸騰する
アセトニトリルで精製する。生成物22.9g(理論値
の81%)が融点範囲165−166℃の白色固体とし
て得られる。 1H−NMRにおけるシフトδは第1表に
示されている。
【0118】実施例2〜13,22,23および24 ボラン2〜13,22,23および24は相当する出発
物質を用い上記方法Aと同様の操作を行うことにより得
られる。化合物およびそれらの構造は第1表に示されて
いる。
物質を用い上記方法Aと同様の操作を行うことにより得
られる。化合物およびそれらの構造は第1表に示されて
いる。
【0119】第1表
【表1】
【表2】
【表3】
【0120】実施例14:(方法B) ビス(2−メチルナフチ−1−イル)フェニルボランの
製造 ペンテン中の第三ブチルリチウムの1.5M溶液27m
lをTHF40ml中の1−ブロモ−2−メチルナフタ
レン4.42g(0.02モル)の溶液に−78℃で
1.5時間かけて添加する。反応混合物を1時間攪拌す
る。フェニルジフルオロボラン1.1ml(1.26
g,0.01モル)を添加する。混合物を次に室温まで
加温し、そして2時間さらに攪拌する。混合物を水30
0ml中に注ぎ、そして得られる懸濁液を濾過する。生
成物をクロマトグラフィー(SiO2,ヘキサン)によ
り精製すると、融点208−209℃の白色固体として
ボラン1.43g(すなわち理論値の39%)が得られ
る。CDCl3 中で測定した 1H−NMRのシフトδは
以下のとおりである:7.72ppm(d,4,J=
8.3Hz),7.53ppm(d,2,J=8.6H
z),7.40−7.35ppm(m,3),7.25
−7.15ppm(m,6),7.03ppm(t,
4,J=7Hz)および2.16ppm(s,6)。
製造 ペンテン中の第三ブチルリチウムの1.5M溶液27m
lをTHF40ml中の1−ブロモ−2−メチルナフタ
レン4.42g(0.02モル)の溶液に−78℃で
1.5時間かけて添加する。反応混合物を1時間攪拌す
る。フェニルジフルオロボラン1.1ml(1.26
g,0.01モル)を添加する。混合物を次に室温まで
加温し、そして2時間さらに攪拌する。混合物を水30
0ml中に注ぎ、そして得られる懸濁液を濾過する。生
成物をクロマトグラフィー(SiO2,ヘキサン)によ
り精製すると、融点208−209℃の白色固体として
ボラン1.43g(すなわち理論値の39%)が得られ
る。CDCl3 中で測定した 1H−NMRのシフトδは
以下のとおりである:7.72ppm(d,4,J=
8.3Hz),7.53ppm(d,2,J=8.6H
z),7.40−7.35ppm(m,3),7.25
−7.15ppm(m,6),7.03ppm(t,
4,J=7Hz)および2.16ppm(s,6)。
【0121】実施例15および16 ボラン15および16は相当する出発物質を用い上記方
法AまたはBと同様の操作を行うことにより得られる。
化合物およびそれらの構造は第2表に示されている。
法AまたはBと同様の操作を行うことにより得られる。
化合物およびそれらの構造は第2表に示されている。
【0122】第2表
【表4】
【0123】実施例17:
【化74】 CH2 Cl2 5ml中の(フェニルチオ)フェニルジメ
シチルボラン1.09g(0.0025モル)およびト
リフルオロメチルスルホネート0.45g(0.002
75モル)の溶液を調製し、そして21時間静置する。
反応混合物を引続き濃縮し、そして得られる固体をヘキ
サンで処理する。白色懸濁液を濾過すると白色固体0.
94g(すなわち理論値の63%)が得られる。CD3
COCD3 中で測定した 1H−NMRのシフトδは以下
のとおりである:8.20−8.15ppm((m,
4),7.87−7.64ppm(m,5),6.85
ppm(s,4),4.00ppm(s,3),2.2
6ppm(s,6)および1.94ppm(s,1
2)。
シチルボラン1.09g(0.0025モル)およびト
リフルオロメチルスルホネート0.45g(0.002
75モル)の溶液を調製し、そして21時間静置する。
反応混合物を引続き濃縮し、そして得られる固体をヘキ
サンで処理する。白色懸濁液を濾過すると白色固体0.
94g(すなわち理論値の63%)が得られる。CD3
COCD3 中で測定した 1H−NMRのシフトδは以下
のとおりである:8.20−8.15ppm((m,
4),7.87−7.64ppm(m,5),6.85
ppm(s,4),4.00ppm(s,3),2.2
6ppm(s,6)および1.94ppm(s,1
2)。
【0124】実施例18:(1−ジメチルアミノナフチ
ル)(ジメシチル)ボラン 本化合物は相当する出発物質を用い実施例1に記載の方
法Aより製造される。融点は160−162℃である。
CDCl3 中で測定した 1H−NMRスペクトルにおけ
るシグナルは以下のように現れる:6.09ppm
(d,1,J=8Hz),7.78ppm(d,1,J
=8Hz),7.37−7.28ppm(m,2),
7.11ppm(dt,1,J=7Hz),6.81p
pm(d,1,J=8Hz),6.69ppm(s,
4),2.28ppm(s,6),2.21ppm
(s,6)および1.88ppm(br s,12)。
ル)(ジメシチル)ボラン 本化合物は相当する出発物質を用い実施例1に記載の方
法Aより製造される。融点は160−162℃である。
CDCl3 中で測定した 1H−NMRスペクトルにおけ
るシグナルは以下のように現れる:6.09ppm
(d,1,J=8Hz),7.78ppm(d,1,J
=8Hz),7.37−7.28ppm(m,2),
7.11ppm(dt,1,J=7Hz),6.81p
pm(d,1,J=8Hz),6.69ppm(s,
4),2.28ppm(s,6),2.21ppm
(s,6)および1.88ppm(br s,12)。
【0125】II.ボレートの製造 実施例1a:(方法C)トリオルガニルボランからボレ
ートを製造するための一般的方法 テトラメチルアンモニウムジメシチルブチルビフェニル
ボレートの製造 ヘキサン中のブチルリチウム1当量(0.005モル)
をジエチルエーテル10ml中のジメシチルビフェニル
ボラン2.0g(0.005モル)の懸濁液に、温度が
5℃を越えないような速度で添加する。反応混合物を室
温まで加温し、そして2時間攪拌する。得られる2相の
混合物を水50mlおよびヘキサン40ml中の塩化テ
トラメチルアンモニウム1.1g(0.01モル)の激
しく攪拌された溶液に注ぐ。沈澱した固体を濾別し、ヘ
キサンそして水で洗浄し、さらに真空下で乾燥させる
と、融点範囲141−144℃の白色固体として生成物
2.2g(理論値の82%)が得られる。11B−NMR
(CD3 OCD3 中で測定)におけるシフトシグナルδ
は−8.45ppmに現れる。
ートを製造するための一般的方法 テトラメチルアンモニウムジメシチルブチルビフェニル
ボレートの製造 ヘキサン中のブチルリチウム1当量(0.005モル)
をジエチルエーテル10ml中のジメシチルビフェニル
ボラン2.0g(0.005モル)の懸濁液に、温度が
5℃を越えないような速度で添加する。反応混合物を室
温まで加温し、そして2時間攪拌する。得られる2相の
混合物を水50mlおよびヘキサン40ml中の塩化テ
トラメチルアンモニウム1.1g(0.01モル)の激
しく攪拌された溶液に注ぐ。沈澱した固体を濾別し、ヘ
キサンそして水で洗浄し、さらに真空下で乾燥させる
と、融点範囲141−144℃の白色固体として生成物
2.2g(理論値の82%)が得られる。11B−NMR
(CD3 OCD3 中で測定)におけるシフトシグナルδ
は−8.45ppmに現れる。
【0126】実施例1a〜15a,25a 実施例1a,2a〜2d,3a〜3d,4a,4b,5
a,5b,6a,6b,7a,8a,9a,11a,1
4a,15aおよび25aのボレートは相当するボラン
を用いて上記方法Cに準拠して製造される。構造、製造
方法および物理的データは第3表に示されている。
a,5b,6a,6b,7a,8a,9a,11a,1
4a,15aおよび25aのボレートは相当するボラン
を用いて上記方法Cに準拠して製造される。構造、製造
方法および物理的データは第3表に示されている。
【0127】第3表
【表5】
【表6】
【表7】
【0128】実施例17a:メチル4−〔(フェニル)
(メチル)スルホニオ〕フェニルジメシチルボレート 式I’中、R2 がメシチル基を表し、R3 がメシチル基
を表し、R4 がメチル基を表し、R1aがフェニレン基を
表し、そしてEが次式:
(メチル)スルホニオ〕フェニルジメシチルボレート 式I’中、R2 がメシチル基を表し、R3 がメシチル基
を表し、R4 がメチル基を表し、R1aがフェニレン基を
表し、そしてEが次式:
【化75】 で表される基を表す化合物 本化合物は化合物17から出発して方法Cにより製造さ
れるが、仕上げは濃縮、酢酸エチルへの溶解、水での洗
浄、硫酸マグネシウム上での乾燥、濾過および再濃縮に
より行われる。融点195−200℃の白色固体が得ら
れる。11B−NMRにおけるシフトはDMSO−d6 に
おいて測定されて−5.75ppmにある。
れるが、仕上げは濃縮、酢酸エチルへの溶解、水での洗
浄、硫酸マグネシウム上での乾燥、濾過および再濃縮に
より行われる。融点195−200℃の白色固体が得ら
れる。11B−NMRにおけるシフトはDMSO−d6 に
おいて測定されて−5.75ppmにある。
【0129】実施例19a:メチル1−トリメチルアン
モニオナフチルジメシチルボレート 式I’中、R2 がメシチル基を表し、R3 がメシチル基
を表し、R4 がメチル基を表し、R1aがナフチレン基を
表し、そしてEがN(CH3 )3 を表す化合物 本化合物は化合物17に対して記載した方法を用い化合
物18aから出発して製造されるが、反応混合物の濃縮
の後、残渣を酢酸エチル中に溶解し、そして水で洗浄す
る。MgSO4 での処理、濾過および濃縮により、白色
固体が得られる。 1H−NMRスペクトル(CD3 CO
CD3 )におけるシフトδは以下のとおり現れる:8.
63ppm(d,1,J=9Hz),8.28ppm
(d,1,J=8Hz),7.61ppm(m,1),
7.55ppm(d,1,J=8Hz),7.32pp
m(m,2),6.62ppm(s,4),3.90p
pm(s,9),2.27ppm(s,6),1.83
ppm(s,12)および0.66ppm(m,3)。
モニオナフチルジメシチルボレート 式I’中、R2 がメシチル基を表し、R3 がメシチル基
を表し、R4 がメチル基を表し、R1aがナフチレン基を
表し、そしてEがN(CH3 )3 を表す化合物 本化合物は化合物17に対して記載した方法を用い化合
物18aから出発して製造されるが、反応混合物の濃縮
の後、残渣を酢酸エチル中に溶解し、そして水で洗浄す
る。MgSO4 での処理、濾過および濃縮により、白色
固体が得られる。 1H−NMRスペクトル(CD3 CO
CD3 )におけるシフトδは以下のとおり現れる:8.
63ppm(d,1,J=9Hz),8.28ppm
(d,1,J=8Hz),7.61ppm(m,1),
7.55ppm(d,1,J=8Hz),7.32pp
m(m,2),6.62ppm(s,4),3.90p
pm(s,9),2.27ppm(s,6),1.83
ppm(s,12)および0.66ppm(m,3)。
【0130】実施例20a:メチル1−ベンジルジメチ
ルアンモニオナフチルジメシチルボレート 式I’中、R2 がメシチル基を表し、R3 がメシチル基
を表し、R4 がメチル基を表し、R1aがナフチレン基を
表し、そしてEがN(CH3 )2 (CH2 C6H5 )を
表す化合物 本化合物は化合物17に対して記載した方法を用い化合
物18aから出発して製造されるが、アセトニトリル中
の臭化ベンジル2当量との反応を行い、そして反応混合
物の濃縮の後、酢酸エチル中に残渣を溶解し、そしてそ
れを水で洗浄する。MgSO4 での処理、濾過および濃
縮により、融点125−128℃を有する白色固体が得
られる。 1H−NMRスペクトル(CD3 CN)におけ
るシフトδ(ppm)は以下のとおり現れる:8.62
ppm(d,1,J=9Hz),8.42ppm(d,
1,J=9Hz),7.64ppm(t,1,J=7H
z),7.47−7.00ppm(m,6),6.83
ppm(d,2,J=7Hz),6.61ppm(s,
4),5.44ppm(s,2),3.83ppm
(s,6),2.26ppm(s,6),1.84pp
m(s,12)および0.69ppm(m,3)。
ルアンモニオナフチルジメシチルボレート 式I’中、R2 がメシチル基を表し、R3 がメシチル基
を表し、R4 がメチル基を表し、R1aがナフチレン基を
表し、そしてEがN(CH3 )2 (CH2 C6H5 )を
表す化合物 本化合物は化合物17に対して記載した方法を用い化合
物18aから出発して製造されるが、アセトニトリル中
の臭化ベンジル2当量との反応を行い、そして反応混合
物の濃縮の後、酢酸エチル中に残渣を溶解し、そしてそ
れを水で洗浄する。MgSO4 での処理、濾過および濃
縮により、融点125−128℃を有する白色固体が得
られる。 1H−NMRスペクトル(CD3 CN)におけ
るシフトδ(ppm)は以下のとおり現れる:8.62
ppm(d,1,J=9Hz),8.42ppm(d,
1,J=9Hz),7.64ppm(t,1,J=7H
z),7.47−7.00ppm(m,6),6.83
ppm(d,2,J=7Hz),6.61ppm(s,
4),5.44ppm(s,2),3.83ppm
(s,6),2.26ppm(s,6),1.84pp
m(s,12)および0.69ppm(m,3)。
【0131】実施例21a:次式:
【化76】 のテトラメチルアンモニウム2,2’−ビフェニリルジ
メシチルボレートの製造 ペンタン(0.091モル)中の第三ブチルリチウムの
1.5M溶液60.5mlをテトラヒドロフラン(TH
F)80ml中の2,2’ジブロモビフェニル7.06
g(0.023モル)の攪拌された溶液に−78℃で
2.5時間かけて添加する。引続き反応混合物を−78
℃でさらに1時間攪拌し、次いでジメシチルフルオロボ
ラン6.06g(0.0226モル)を添加する。反応
混合物を徐々に室温まで加温し、そしてこの温度で15
時間さらに攪拌する。溶媒を除去し、そして得られる固
体をメタノール::H2 O(4:1)100ml中に溶
解する。懸濁液を濾過し、そして濾液を塩化テトラメチ
ルアンモニウム2.97g(0.027モル)で処理す
る。沈澱した固体を濾別し、酢酸エチルで洗浄し、さら
に真空下で乾燥させると、融点が230℃以上である白
色固体6.31g(理論値の59%)が得られる。CD
3 CN中で記録された11B−NMRスペクトルにおける
シフトシグナルは−1.02ppmにある。
メシチルボレートの製造 ペンタン(0.091モル)中の第三ブチルリチウムの
1.5M溶液60.5mlをテトラヒドロフラン(TH
F)80ml中の2,2’ジブロモビフェニル7.06
g(0.023モル)の攪拌された溶液に−78℃で
2.5時間かけて添加する。引続き反応混合物を−78
℃でさらに1時間攪拌し、次いでジメシチルフルオロボ
ラン6.06g(0.0226モル)を添加する。反応
混合物を徐々に室温まで加温し、そしてこの温度で15
時間さらに攪拌する。溶媒を除去し、そして得られる固
体をメタノール::H2 O(4:1)100ml中に溶
解する。懸濁液を濾過し、そして濾液を塩化テトラメチ
ルアンモニウム2.97g(0.027モル)で処理す
る。沈澱した固体を濾別し、酢酸エチルで洗浄し、さら
に真空下で乾燥させると、融点が230℃以上である白
色固体6.31g(理論値の59%)が得られる。CD
3 CN中で記録された11B−NMRスペクトルにおける
シフトシグナルは−1.02ppmにある。
【0132】実施例2g〜2t 実施例2g〜2tの化合物は方法Cにより製造される。
構造およびデータは第3b表に示されている。
構造およびデータは第3b表に示されている。
【0133】第3b表
【表8】
【表9】
【0134】実施例22a,22b,23a,23bお
よび24a 本化合物は相当する出発物質を用い上記方法Cに準拠し
て製造される。化合物は第4表に示されている。
よび24a 本化合物は相当する出発物質を用い上記方法Cに準拠し
て製造される。化合物は第4表に示されている。
【0135】第4表
【表10】
【0136】実施例26:クリアコートにおける反応性
試験 光硬化性組成物は以下の成分を混合することにより調製
される: ジペンタエリトリトールモノヒドロキシペンタアクリレ
ート〔登録商標SR399,サルトメール(クライノー
社,フランス)〕 10.0g トリプロピレングリコールジアクリレート 15.0g N−ビニルピロリドン(フルカ社) 15.0g トリメチロールプロパントリアクリレート(デグッサ
社) 10.0g ウレタンアクリレート(登録商標アクチランAJ20,
ソシエテ・ナショナーレ・デュ・プードル・エ・エスプ
ロシフス) 50.0g レベル助剤(登録商標Byk300,バイク−マリンク
ロッド) 0.3g。
試験 光硬化性組成物は以下の成分を混合することにより調製
される: ジペンタエリトリトールモノヒドロキシペンタアクリレ
ート〔登録商標SR399,サルトメール(クライノー
社,フランス)〕 10.0g トリプロピレングリコールジアクリレート 15.0g N−ビニルピロリドン(フルカ社) 15.0g トリメチロールプロパントリアクリレート(デグッサ
社) 10.0g ウレタンアクリレート(登録商標アクチランAJ20,
ソシエテ・ナショナーレ・デュ・プードル・エ・エスプ
ロシフス) 50.0g レベル助剤(登録商標Byk300,バイク−マリンク
ロッド) 0.3g。
【0137】上記組成物の一部を40℃まで加熱し、そ
して試験されるべきボレート光開始剤を配合物の全量に
基づいて1.6%、上記温度で配合物中に溶解する。全
ての操作は赤色光の下で行われる。開始剤が添加された
試料を300μmのアルミニウム箔に適用する。乾燥フ
ィルムの厚さは約60〜70μmである。76μmのポ
リエステルフィルムをこのフィルムに適用し、そして2
1ステップの異なる光学濃度を有する標準テストネガ
(ストーファーウェッジ)をその上に載せる。試料を第
2のUV透過フィルムで覆い、そして減圧下で金属プレ
ート上に圧縮する。露光は5kW MO61ランプを用
いて30cmの距離から20秒間行う。露光に続き、カ
バーおよびマスクを取り除き、そして露光済みフィルム
を超音波浴内のエタノール中23℃で10秒間現像す
る。フィルムを対流オーブン中40℃で5分間乾燥させ
る。使用された開始剤系の感度はタックなしに再生され
た最後のウエッジステップを示すことにより特徴づけら
れる。ステップ数が多いほど、試験された系の感度は高
い。結果は第4aないし4g表にまとめて示されてい
る。
して試験されるべきボレート光開始剤を配合物の全量に
基づいて1.6%、上記温度で配合物中に溶解する。全
ての操作は赤色光の下で行われる。開始剤が添加された
試料を300μmのアルミニウム箔に適用する。乾燥フ
ィルムの厚さは約60〜70μmである。76μmのポ
リエステルフィルムをこのフィルムに適用し、そして2
1ステップの異なる光学濃度を有する標準テストネガ
(ストーファーウェッジ)をその上に載せる。試料を第
2のUV透過フィルムで覆い、そして減圧下で金属プレ
ート上に圧縮する。露光は5kW MO61ランプを用
いて30cmの距離から20秒間行う。露光に続き、カ
バーおよびマスクを取り除き、そして露光済みフィルム
を超音波浴内のエタノール中23℃で10秒間現像す
る。フィルムを対流オーブン中40℃で5分間乾燥させ
る。使用された開始剤系の感度はタックなしに再生され
た最後のウエッジステップを示すことにより特徴づけら
れる。ステップ数が多いほど、試験された系の感度は高
い。結果は第4aないし4g表にまとめて示されてい
る。
【0138】
【0139】
【0140】
【0141】
【0142】
【0143】実施例27 試験されるべきボレート光開始剤0.4%および(N,
N’−ジブチル)ジメチルインドカルボシアニンクロリ
ド0.3%を実施例25に記載した配合物中に混合す
る。フィルム製造、硬化および反応性の決定は実施例2
6に記載のものと同様に行う。結果は第5ないし5f表
に再現されている。
N’−ジブチル)ジメチルインドカルボシアニンクロリ
ド0.3%を実施例25に記載した配合物中に混合す
る。フィルム製造、硬化および反応性の決定は実施例2
6に記載のものと同様に行う。結果は第5ないし5f表
に再現されている。
【0144】 * b=配合物は褪色作用(bleaching behaviour) を示す
(肉眼による試験)
(肉眼による試験)
【0145】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験) −=肉眼では褪色作用が見られない
【0146】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験) −=肉眼では褪色作用が見られない
【0147】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験)
【0148】
【0149】
【0150】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験) −=肉眼では褪色作用が見られない
【0151】実施例28:モノマー−ポリマー混合物の
光硬化 光硬化性組成物は以下の成分を混合することにより調製
される: サルトメールSR444(登録商標),ペンタエリトリ
トールトリアクリレート(サルトメール・カンパニー,
米国ウエストチェスター) 37.64g サイメル301(登録商標),ヘキサメトキシメチルメ
ラミン(アメリカン・シアナミド社,米国) 10.7
6g カーボセット525(登録商標),カルボキシル基を含
有する熱硬化性ポリアクリレート(B.F.グッドリッ
チ社) 47.30g ポリビニルピロリドンPVC(GAF社,米国) 4.
30g 塩化メチレン 319.00gおよびメタノール 3
0.0g。
光硬化 光硬化性組成物は以下の成分を混合することにより調製
される: サルトメールSR444(登録商標),ペンタエリトリ
トールトリアクリレート(サルトメール・カンパニー,
米国ウエストチェスター) 37.64g サイメル301(登録商標),ヘキサメトキシメチルメ
ラミン(アメリカン・シアナミド社,米国) 10.7
6g カーボセット525(登録商標),カルボキシル基を含
有する熱硬化性ポリアクリレート(B.F.グッドリッ
チ社) 47.30g ポリビニルピロリドンPVC(GAF社,米国) 4.
30g 塩化メチレン 319.00gおよびメタノール 3
0.0g。
【0152】上記組成物の一部を各々の場合において固
体含量に基づいて新規ボレートを1.6%と室温で1時
間攪拌することにより混合する。全ての操作は赤色光の
下で行われる。開始剤が添加された試料を300μmの
アルミニウム箔(10×15cm)に適用する。まず最
初に室温で5分間乾燥させ、そして次に対流オーブン内
60℃で15分間加熱することにより溶媒を除去する。
このようにして調製した約30〜35μmのフィルムに
厚さ76μmのポリエステルフィルムを載せ、そして2
1ステップの異なる光学濃度を有する標準テストネガ
(ストーファーウェッジ)をその上に載せる。試料を第
2のUV透過フィルムで覆い、そして減圧下で金属プレ
ート上に圧縮する。露光は4kWキセノンランプを用い
て30cmの距離から40秒間行う。露光に続き、フィ
ルムーおよびマスクを取り除き、そしてコーティングさ
れたフィルムを超音波浴内の炭酸ナトリウムの0.85
%強度の溶液中で240秒間現像する。フィルムを対流
オーブン中60℃で15分間乾燥させる。使用された開
始剤系の感度はタックなしに再生された最後のウエッジ
ステップを示すことにより特徴づけられる。ステップ数
が多いほど、試験された系の感度は高い。結果は第6表
および第6a表にまとめて示されている。
体含量に基づいて新規ボレートを1.6%と室温で1時
間攪拌することにより混合する。全ての操作は赤色光の
下で行われる。開始剤が添加された試料を300μmの
アルミニウム箔(10×15cm)に適用する。まず最
初に室温で5分間乾燥させ、そして次に対流オーブン内
60℃で15分間加熱することにより溶媒を除去する。
このようにして調製した約30〜35μmのフィルムに
厚さ76μmのポリエステルフィルムを載せ、そして2
1ステップの異なる光学濃度を有する標準テストネガ
(ストーファーウェッジ)をその上に載せる。試料を第
2のUV透過フィルムで覆い、そして減圧下で金属プレ
ート上に圧縮する。露光は4kWキセノンランプを用い
て30cmの距離から40秒間行う。露光に続き、フィ
ルムーおよびマスクを取り除き、そしてコーティングさ
れたフィルムを超音波浴内の炭酸ナトリウムの0.85
%強度の溶液中で240秒間現像する。フィルムを対流
オーブン中60℃で15分間乾燥させる。使用された開
始剤系の感度はタックなしに再生された最後のウエッジ
ステップを示すことにより特徴づけられる。ステップ数
が多いほど、試験された系の感度は高い。結果は第6表
および第6a表にまとめて示されている。
【0153】
【0154】
【0155】実施例29 染料カチオンを有するボレート光開始剤0.3%を実施
例28に記載した配合物中に混合する。フィルム製造、
硬化および反応性の決定は実施例28に記載のものと同
様に行う。結果は第7表および第7a表にまとめられて
いる。
例28に記載した配合物中に混合する。フィルム製造、
硬化および反応性の決定は実施例28に記載のものと同
様に行う。結果は第7表および第7a表にまとめられて
いる。
【0156】
【0157】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験) −=肉眼では褪色作用が見られない
【0158】実施例30 光硬化性組成物は以下の成分を混合することにより調製
される: サルトメールSR444(登録商標),ペンタエリトリ
トアルトリアクリレート(サルトメール・カンパニー,
米国ウエストチェスター) 37.64g サイメル301(登録商標),ヘキサメトキシメチルメ
ラミン(アメリカン・シアナミド社,米国) 10.7
6g カーボセット525(登録商標),カルボキシル基を含
有する熱硬化性ポリアクリレート(B.F.グッドリッ
チ社) 47.30g ポリビニルピロリドンPVC(GAF社,米国) 4.
30g 塩化メチレン 319.00gおよびメタノール 3
0.0g。
される: サルトメールSR444(登録商標),ペンタエリトリ
トアルトリアクリレート(サルトメール・カンパニー,
米国ウエストチェスター) 37.64g サイメル301(登録商標),ヘキサメトキシメチルメ
ラミン(アメリカン・シアナミド社,米国) 10.7
6g カーボセット525(登録商標),カルボキシル基を含
有する熱硬化性ポリアクリレート(B.F.グッドリッ
チ社) 47.30g ポリビニルピロリドンPVC(GAF社,米国) 4.
30g 塩化メチレン 319.00gおよびメタノール 3
0.0g。
【0159】上記組成物の一部を各々の場合において固
体含量に基づいて実施例2aからのボレート0.4%、
イソプロプルチオキサントン0.4%および(4−メチ
ルチオベンゾイル)メチル−1−モルホリノエタン0.
4%と室温で1時間攪拌することにより混合する。全て
の操作は赤色光の下で行われる。開始剤が添加された試
料を200μmのアルミニウム箔(10×15cm)に
適用する。まず最初に室温で5分間乾燥させ、そして次
に対流オーブン内60℃で15分間加熱することにより
溶媒を除去する。このようにして調製した約30〜35
μmのフィルムに厚さ76μmのポリエステルフィルム
を載せ、そして21ステップの異なる光学濃度を有する
標準テストネガ(ストーファーウェッジ)をその上に載
せる。試料を第2のUV透過フィルムで覆い、そして減
圧下で金属プレート上に圧縮する。露光はSMX−30
00ハロゲン化金属ドープ高圧水銀灯を用いて30cm
の距離から40秒間行う。露光に続き、カバーフィルム
およびマスクを取り除き、そしてコーティングされたフ
ィルムを超音波浴内の炭酸ナトリウムの1%強度の溶液
中で180秒間現像する。フィルムを対流オーブン中6
0℃で15分間乾燥させる。使用された開始剤系の感度
はタックなしに再生された最後のウエッジステップを示
すことにより特徴づけられる。ステップ数が多いほど、
試験された系の感度は高い。この尺度において、2ステ
ップの増加は硬化速度が約2倍であることを意味する。
結果は第8表に示されている。
体含量に基づいて実施例2aからのボレート0.4%、
イソプロプルチオキサントン0.4%および(4−メチ
ルチオベンゾイル)メチル−1−モルホリノエタン0.
4%と室温で1時間攪拌することにより混合する。全て
の操作は赤色光の下で行われる。開始剤が添加された試
料を200μmのアルミニウム箔(10×15cm)に
適用する。まず最初に室温で5分間乾燥させ、そして次
に対流オーブン内60℃で15分間加熱することにより
溶媒を除去する。このようにして調製した約30〜35
μmのフィルムに厚さ76μmのポリエステルフィルム
を載せ、そして21ステップの異なる光学濃度を有する
標準テストネガ(ストーファーウェッジ)をその上に載
せる。試料を第2のUV透過フィルムで覆い、そして減
圧下で金属プレート上に圧縮する。露光はSMX−30
00ハロゲン化金属ドープ高圧水銀灯を用いて30cm
の距離から40秒間行う。露光に続き、カバーフィルム
およびマスクを取り除き、そしてコーティングされたフ
ィルムを超音波浴内の炭酸ナトリウムの1%強度の溶液
中で180秒間現像する。フィルムを対流オーブン中6
0℃で15分間乾燥させる。使用された開始剤系の感度
はタックなしに再生された最後のウエッジステップを示
すことにより特徴づけられる。ステップ数が多いほど、
試験された系の感度は高い。この尺度において、2ステ
ップの増加は硬化速度が約2倍であることを意味する。
結果は第8表に示されている。
【0160】
【0161】実施例31 固体含量に基づいて、実施例2aからのボレート0.6
%、イソプロピルチオキサントン0.4%およびサイラ
キュアUVI−6974(登録商標,ユニオンカーバイ
ド社)=
%、イソプロピルチオキサントン0.4%およびサイラ
キュアUVI−6974(登録商標,ユニオンカーバイ
ド社)=
【化77】 (炭酸プロピレン中の50%強度溶液として)1.2%
を実施例27に記載した組成物中に混合する。試験の方
法および評価は実施例27に記載のものと同様に行う。
結果は第9表に示されている。
を実施例27に記載した組成物中に混合する。試験の方
法および評価は実施例27に記載のものと同様に行う。
結果は第9表に示されている。
【0162】
【0163】実施例32 固体含量に基づいて、実施例2aからのボレート0.4
%、イソプロピルチオキサントン0.4%、サイラキュ
アUVI−6974(登録商標,ユニオンカーバイド
社)=
%、イソプロピルチオキサントン0.4%、サイラキュ
アUVI−6974(登録商標,ユニオンカーバイド
社)=
【化78】 (炭酸プロピレン中の50%強度溶液として)0.8%
および(4−メチルチオベンゾイル)メチル−1−モル
ホリノエタン0.4%を実施例30に記載した組成物中
に混合する。試験の方法および評価は実施例30に記載
のものと同様に行う。結果は第10表に示されている。
および(4−メチルチオベンゾイル)メチル−1−モル
ホリノエタン0.4%を実施例30に記載した組成物中
に混合する。試験の方法および評価は実施例30に記載
のものと同様に行う。結果は第10表に示されている。
【0164】
【0165】実施例33 ボレート光開始剤0.4%および染料サフラニンO0.
3%を実施例28に記載の配合物に混合する。フィルム
の製造、硬化および反応性の決定は実施例28に記載さ
れたものと同様に行われる。結果は第11表に示されて
いる。
3%を実施例28に記載の配合物に混合する。フィルム
の製造、硬化および反応性の決定は実施例28に記載さ
れたものと同様に行われる。結果は第11表に示されて
いる。
【0166】
【0167】実施例34 化合物2a0.4%および染料0.3%を実施例28に
記載された配合物中に混合する。さらに、キセノンラン
プの代わりに、周波数倍加Nd/YAGレーザー(COHE
RENT DPSS 532-50,ビーム直径0.7mm,分散<1.
3mrad)が波長532nmの単色光および出力50
mWで用いられる。約3.3mmの直径を有するレーザ
ービームを試料の上に固定されている21ステップスト
ウファーウェッジ上を6mm/秒の速度で移動させる。
現像後、幅および長さが異なるラインが残る。評価のた
めに、硬化したラインが依然として認められ得るステッ
プの数が計測される。フィルムの製造、硬化および反応
性の決定は実施例28に記載されたものと同様に行われ
る。結果は第12表に示されている。
記載された配合物中に混合する。さらに、キセノンラン
プの代わりに、周波数倍加Nd/YAGレーザー(COHE
RENT DPSS 532-50,ビーム直径0.7mm,分散<1.
3mrad)が波長532nmの単色光および出力50
mWで用いられる。約3.3mmの直径を有するレーザ
ービームを試料の上に固定されている21ステップスト
ウファーウェッジ上を6mm/秒の速度で移動させる。
現像後、幅および長さが異なるラインが残る。評価のた
めに、硬化したラインが依然として認められ得るステッ
プの数が計測される。フィルムの製造、硬化および反応
性の決定は実施例28に記載されたものと同様に行われ
る。結果は第12表に示されている。
【0168】第12表
【表11】
【表12】
【表13】
【0169】実施例35 実施例28と同じ配合物が使用され、そしてこの組成物
の一部は配合物の全量に基づいて化合物5を0.4%お
よび染料0.3%と混合される。全ての操作は赤色光の
下で行われる。試料を約3cmの直径を有するピルボト
ル中に入れる。これらの配合物を該ボトル中で周波数倍
加Nd/YAGレーザー(COHERENT DPSS 532-50,ビー
ム直径0.7mm,分散<1.3mrad)を用い波長
532nmの単色光および出力50mWでもって30c
mの距離から10秒間露光処理を行う。露光に続き、未
硬化配合物はすすぎ落とされ、そして残留する硬化した
層を超音波浴内の23℃のエタノール中で10秒間現像
する。フィルムを対流オーブン中40℃で5分間乾燥さ
せる。現像後、長さの異なる針状物が残される。評価は
該針状物の長さを計測することにより行われるが、これ
はスルー硬化能力の尺度である。使用された染料および
結果は第13表に示されている。
の一部は配合物の全量に基づいて化合物5を0.4%お
よび染料0.3%と混合される。全ての操作は赤色光の
下で行われる。試料を約3cmの直径を有するピルボト
ル中に入れる。これらの配合物を該ボトル中で周波数倍
加Nd/YAGレーザー(COHERENT DPSS 532-50,ビー
ム直径0.7mm,分散<1.3mrad)を用い波長
532nmの単色光および出力50mWでもって30c
mの距離から10秒間露光処理を行う。露光に続き、未
硬化配合物はすすぎ落とされ、そして残留する硬化した
層を超音波浴内の23℃のエタノール中で10秒間現像
する。フィルムを対流オーブン中40℃で5分間乾燥さ
せる。現像後、長さの異なる針状物が残される。評価は
該針状物の長さを計測することにより行われるが、これ
はスルー硬化能力の尺度である。使用された染料および
結果は第13表に示されている。
【0170】第13表
【表14】
【0171】実施例36 染料−ホウ酸塩0.4%を用いる以外は実施例28の操
作を繰り返す。さらに、キセノンランプの代わりに、周
波数倍加Nd/YAGレーザー(COHERENT DPSS 532-5
0,ビーム直径0.7mm,分散<1.3mrad)が
波長532nmの単色光および出力100mWで用いら
れる。約3.3mmの直径を有するレーザービームを試
料の上に固定されている21ステップストウファーウェ
ッジ上を6mm/秒の速度で移動させる。現像後、幅お
よび長さが異なるラインが残る。評価のために、硬化し
たラインが依然として認められ得るステップの数が計測
される。使用された染料および結果は第14表に示され
ている。
作を繰り返す。さらに、キセノンランプの代わりに、周
波数倍加Nd/YAGレーザー(COHERENT DPSS 532-5
0,ビーム直径0.7mm,分散<1.3mrad)が
波長532nmの単色光および出力100mWで用いら
れる。約3.3mmの直径を有するレーザービームを試
料の上に固定されている21ステップストウファーウェ
ッジ上を6mm/秒の速度で移動させる。現像後、幅お
よび長さが異なるラインが残る。評価のために、硬化し
たラインが依然として認められ得るステップの数が計測
される。使用された染料および結果は第14表に示され
ている。
【0172】実施例37 2mmのフィルムの光学濃度が波長532nmに対して
0.5となるような濃度で染料−ホウ酸塩をを用い、そ
して追加の化合物2aが使用される以外は実施例35の
操作を繰り返す。実施例34とは異なり、波長532n
mの単色光および出力100mWを有する周波数倍加N
d/YAGレーザー(COHERENT DPSS 532-50,ビーム直
径0.7mm,分散<1.3mrad)が用いられ、そ
して露光は30cmの距離から5秒間行われる。結果は
第15表に示されている。
0.5となるような濃度で染料−ホウ酸塩をを用い、そ
して追加の化合物2aが使用される以外は実施例35の
操作を繰り返す。実施例34とは異なり、波長532n
mの単色光および出力100mWを有する周波数倍加N
d/YAGレーザー(COHERENT DPSS 532-50,ビーム直
径0.7mm,分散<1.3mrad)が用いられ、そ
して露光は30cmの距離から5秒間行われる。結果は
第15表に示されている。
【0173】 * b=配合物は褪色作用を示す(肉眼による試験) −=肉眼では褪色作用が見られない
【0174】実施例38 実施例26と同じ配合物が使用され、そしてそしてこの
組成物の一部は配合物の全量に基づいて化合物2a0.
4%および染料0.3%と混合される。全ての操作は赤
色光の下で行われる。試料を直径約1.5cmおよび高
さ約12mmを有するプラスチック製の黒色のフタ中に
置き、そしてマイラーフィルムで覆う。これらの試料を
日光および1200mJ/cm2 の線量に晒す。この露
光の後、未硬化配合物を洗い落とし、そして残留する硬
化した層を超音波浴内の23℃のエタノール中で1分間
現像する。フィルムを対流オーブン中40℃で5分間乾
燥させる。評価は硬化層の厚さが計測されるが、これは
スルー硬化能力の尺度である。使用された染料および結
果は第16表に示されている。
組成物の一部は配合物の全量に基づいて化合物2a0.
4%および染料0.3%と混合される。全ての操作は赤
色光の下で行われる。試料を直径約1.5cmおよび高
さ約12mmを有するプラスチック製の黒色のフタ中に
置き、そしてマイラーフィルムで覆う。これらの試料を
日光および1200mJ/cm2 の線量に晒す。この露
光の後、未硬化配合物を洗い落とし、そして残留する硬
化した層を超音波浴内の23℃のエタノール中で1分間
現像する。フィルムを対流オーブン中40℃で5分間乾
燥させる。評価は硬化層の厚さが計測されるが、これは
スルー硬化能力の尺度である。使用された染料および結
果は第16表に示されている。
【0175】
【0176】実施例39 ボレートと染料の混合物の代わりに、新規染料−ホウ酸
塩0.4%と、それに加えて化合物2aが使用される以
外は実施例38の操作が繰り返される。結果は第17表
に再現されている。
塩0.4%と、それに加えて化合物2aが使用される以
外は実施例38の操作が繰り返される。結果は第17表
に再現されている。
【0177】
【0178】実施例40 実施例26の操作が繰り返されるが、各々場合、カチオ
ン光開始剤0.4%が化合物2a0.4%と共に添加さ
れる。結果は第18表に再現されている。
ン光開始剤0.4%が化合物2a0.4%と共に添加さ
れる。結果は第18表に再現されている。
【0179】第18表
【表15】
【0180】実施例41 実施例26の操作が繰り返されるが、各々場合、カチオ
ン光開始剤0.4%が化合物2a0.4%および染料
0.3%と共に添加される。結果は第19表に記載され
ている。
ン光開始剤0.4%が化合物2a0.4%および染料
0.3%と共に添加される。結果は第19表に記載され
ている。
【0181】第19表
【表16】
【0182】実施例42 実施例26の操作が繰り返されるが、各々場合、化合物
2a0.4%および染料または電子受容体0.3%が添
加される。結果は第20表に記載されている。
2a0.4%および染料または電子受容体0.3%が添
加される。結果は第20表に記載されている。
【0183】第20表
【表17】
【0184】実施例43 実施例26の操作が繰り返されるが、各々場合、化合物
2a2%および電子受容体2%が添加される。結果は第
21表に記載されている。
2a2%および電子受容体2%が添加される。結果は第
21表に記載されている。
【0185】第21表
【表18】
【0186】実施例44 実施例26の操作が繰り返されるが、各々場合、化合物
2a0.4%および電子受容体0.3%および電子受容
体0.3%が添加される。結果は第22表に記載されて
いる。
2a0.4%および電子受容体0.3%および電子受容
体0.3%が添加される。結果は第22表に記載されて
いる。
【0187】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マルチン クンツ ドイツ国 79588 エフリンゲン−キルヘ ン バスレルシュトラーセ 13/5 (72)発明者 倉 久稔 兵庫県宝塚市小林5−3−15−205
Claims (34)
- 【請求項1】a)少なくとも1種の重合性エチレン性不
飽和化合物、および b)単分子光開始剤として少なくとも1種の次式Iまた
はI’: 【化1】 (式中、R1 、R2 およびR3 は互いに独立してフェニ
ル基または異原子を含むかもしくは含まない別の芳香族
炭化水素基を表すが、それらの基は置換されていない
か、または非置換またはOR6 −もしくはR7 R8 N−
置換された炭素原子数1ないし20のアルキル基、1ま
たはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5 により中
断された炭素原子数2ないし20のアルキル基、O
R6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R
8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC(O)、R9 C
(O)、R9 R10R11Si、R9 R10R11Sn、ハロゲ
ン原子、R9 R10P(O)q 、CNおよび/または 【化2】 により1〜5回置換されており、または基R2 およびR
3 は橋を形成して次式II、IIaまたはIIb: 【化3】 で表される構造をとるが、上記芳香環は置換されていな
いか、または炭素原子数1ないし20のアルキル基によ
り、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5
により中断された炭素原子数2ないし20のアルキル基
により、またはOR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)
2 O、R7 R8 N、R6 OC(O)、R7R8 NC
(O)、R9 C(O)、R9 R10R11Si、ハロゲン原
子、R9 R10PO)q および/またはR9 R10R11Sn
により置換されているが、ただし2以下の基R1 、R2
およびR3 は同一であり、そして基R1 、R2 およびR
3 のいずれかの少なくとも2つは両方のオルト位で置換
された芳香族炭化水素基またはフェニル基を表すか、ま
たは少なくとも1つの基R1 、R2 またはR3 は立体的
に嵩張るアリール基を表し、そしてR1 、R2 およびR
3 の残りの基は少なくとも一方のオルト位で置換された
芳香族炭化水素基またはフェニル基を表し、 R1aは置換されていないか、または炭素原子数1ないし
6のアルキル基、OR6 、S(O)p R6 、OS(O)
2 R6 、NR8 R7 、C(O)OR6 、C(O)NR8
R7 、C(O)R9 、SiR9 R10R11またはハロゲン
原子により置換された2価の芳香族炭化水素基を表す
か、またはR1aはフェニル−炭素原子数1ないし6のア
ルキレン基を表し、 R4 はフェニル基または異原子を含むかもしくは含まな
い別の芳香族炭化水素基を表すが、それらの基は置換さ
れていないか、または非置換またはOR6 −もしくはR
7 R8 N−置換された炭素原子数1ないし20のアルキ
ル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはNR
5 により中断された炭素原子数2ないし20のアルキル
基、OR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R7
R8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC(O)、R9 C
(O)、R9 R10R11Si、R9R10R11Sn、ハロゲ
ン原子、R9 R10P(O)q 、CNおよび/または 【化4】 により1〜5回置換されており、またはR4 は炭素原子
数1ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基
O、S(O)p またはNR5 により中断された炭素原子
数2ないし20のアルキル基を表すか、または炭素原子
数3ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数2ない
し8のアルケニル基、フェニル−炭素原子数1ないし6
のアルキル基またはナフチル−炭素原子数1ないし3の
アルキル基を表し、上記の炭素原子数1ないし20のア
ルキル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキル
基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、フェニル−
炭素原子数1ないし6のアルキル基またはナフチル−炭
素原子数1ないし3のアルキル基は置換されていない
か、またはOR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)
2 O、R7 R8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC
(O)、R9 C(O)、R9 R10R11Si、R9 R10R
11Sn、ハロゲン原子、R9 R10P(O)q および/ま
たはCNにより置換されており、 Yは(CH2 )n 、CH=CH、C(O)、NR5 、
O、S(O)p または 【化5】 を表し、 nは0、1または2を表し、 mは2または3を表し、 pは0、1または2を表し、 qは0または1を表し、 EはR21R22R23P、R7 R7aR8 NまたはR6 R6aS
を表し、 R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
はフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子数1ない
し6のアルキル基またはフェニル基は置換されていない
か、または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原
子数1ないし12のアルコキシ基および/またはハロゲ
ン原子により1〜5回置換されており、 R6 およびR6aは非置換またはハロゲン置換された炭素
原子数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭素原子
数1ないし6のアルキル基またはフェニル基を表し、上
記フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基または
フェニル基は置換されていないか、または炭素原子数1
ないし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアル
コキシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回置
換されており、 R7 、R7aおよびR8 は互いに独立して非置換または炭
素原子数1ないし12のアルコキシ−、ハロゲン−、O
H−、COOR6 −もしくはCN−置換された炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12
のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6
のアルキル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−
炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は
置換されていないか、または炭素原子数1ないし6のア
ルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基およ
び/またはハロゲン原子により1〜5回置換されている
か、またはR7 およびR8 はそれらが結合されているN
原子と一緒になって、さらにOまたはS原子を含んでい
てもよい5または6員環を形成し、 R9 、R10およびR11は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、 R12、R13、R14およびR15は互いに独立して水素原
子、非置換または炭素原子数1ないし12のアルコキシ
置換された炭素原子数1ないし12のアルキル基、非置
換または炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素原子数
1ないし12のアルコキシもしくはハロゲンで1ないし
5置換されたフェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基を表すか、または非置換または炭素原子数1ないし
6のアルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキシも
しくはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基を表
すか、または基R12、R13、R14およびR15は一緒にな
って別の芳香環に縮合されてもよい芳香環を形成し、 R16、R17、R18、R18a 、R19およびR20は互いに独
立して水素原子、非置換または炭素原子数1ないし12
のアルコキシ、OHもしくはハロゲン置換された炭素原
子数1ないし12のアルキル基を表すか、または非置換
または炭素原子数1ないし12のアルキル、炭素原子数
1ないし12のアルコキシ、OH−もしくはハロゲン置
換されたフェニル基を表し、 R21、R22およびR23は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアル
ケニル基または炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
ル基を表し、上記炭素原子数1ないし12のアルキル
基、炭素原子数2ないし12のアルケニル基および炭素
原子数3ないし12のシクロアルキル基は置換されてい
ないか、またはR6 OCOもしくはCNにより置換され
ており、またはR21、R22およびR23は非置換または炭
素原子数1ないし6のアルキル、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシまたはハロゲンで1ないし5置換された
フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表す
か、または非置換または炭素原子数1ないし6のアルキ
ル、炭素原子数1ないし12のアルコキシもしくはハロ
ゲンで1ないし5置換されたフェニル基を表し、 XはN、SまたはOを表し、そしてGは陽イオンを形成
し得る基を表す)で表される化合物、からなる組成物。 - 【請求項2】 式IおよびI’中、R1 およびR2 が同
一である化合物を含有する請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 式I中、 R1 、R2 およびR3 が互いに独立してフェニル基また
は異原子を含むかもしくは含まない別の芳香族炭化水素
基を表すが、それらの基は置換されていないか、または
非置換またはOR6 −もしくはR7 R8 N−置換された
炭素原子数1ないし6のアルキル基、OR6 、R6 S
(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R8 N、ハロゲン原
子および/または 【化6】 により1〜5回置換されており、または基R2 およびR
3 が橋を形成して式II、IIaまたはIIbで表され
る構造をとり、 R4 がフェニル基、炭素原子数1ないし20のアルキル
基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキル基、炭素
原子数2ないし8のアルケニル基、フェニル−炭素原子
数1ないし6のアルキル基またはナフチル−炭素原子数
1ないし3のアルキル基を表し、 R12、R13、R14およびR15が互いに独立してH、炭素
原子数1ないし12のアルキル基またはフェニル基を表
すか、または基R12、R13、R14およびR15が一緒にな
って別の芳香環に縮合されてもよい芳香環を形成し、そ
してXがNまたはOを表す化合物を含有する請求項1記
載の組成物。 - 【請求項4】 式IまたはI’中、R4 が炭素原子数1
ないし12のアルキル基、アリル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、ベンジル基またはナフチルメチ
ル基を表す化合物を含有する請求項1記載の組成物。 - 【請求項5】 式IまたはI’中、R6 が炭素原子数1
ないし4のアルキル基、トリフルオロメチル基を表す
か、または置換されていないか、または炭素原子数1な
いし6のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基および/またはハロゲン原子により1〜5回置換
されたフェニル基を表す化合物を含有する請求項1記載
の組成物。 - 【請求項6】 式IまたはI’中、R7 およびR8 が炭
素原子数1ないし4のアルキル基、フェニル基またはフ
ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表すか、
またはそれらが結合されているN原子と一緒なってピロ
リジノ基、ピペリジノ基またはモルホリノ基を表す化合
物を含有する請求項1記載の組成物。 - 【請求項7】 式I中、R1 およびR2 が2,6−ジ
(炭素原子数1ないし6のアルキル)フェニル基、2,
6−ジ(炭素原子数1ないし6のアルコキシ)フェニル
基、2,6−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、
2,6−ジハロフェニル基、2,4,6−トリ(炭素原
子数1ないし6のアルキル)フェニル基、2,4,6−
トリ(炭素原子数1ないし6のアルコキシ)フェニル
基、2,4,6−トリス(トリフルオロメチル)フェニ
ル基または2,4,6−トリハロフェニル基を表す化合
物を含有する請求項1記載の組成物。 - 【請求項8】 式I中、R1 およびR2 がメシチル基を
表す化合物を含有する請求項1記載の組成物。 - 【請求項9】 式I中、R1 が1−ナフチル基、2−
(炭素原子数1ないし6のアルキル)ナフチ−1−イル
基、1−アントラシル基、9−アントラシル基またはフ
ェロセニル基を表す化合物を含有する請求項1記載の組
成物。 - 【請求項10】 式I中、RおよびR2 がo−(炭素原
子数1ないし6のアルキル)フェニル基、o−(ハロ)
フェニル基、o−(炭素原子数1ないし6のアルコキ
シ)フェニル基またはo−トリフルオロメチルフェニル
基を表す化合物を含有する請求項9記載の組成物。 - 【請求項11】 式I中、Gが第1酸化状態にある周期
表I族の金属、特にNa+ 、K+ またはLi+ を表す
か、またはGがMgZ1 + またはCaZ1 + (式中、Z
1 はハロゲン原子または炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基を表す)を表すか、またはGがアンモニウム塩、
スルホニウム塩またはホスホニウム塩を表す化合物を含
有する請求項1記載の組成物。 - 【請求項12】 式I中、R1 およびR2 が同一であ
り、そして炭素原子数1ないし4のアルキルおよび/ま
たはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基、ナフ
チル基またはアントラシル基を表し、R3 が非置換また
はハロゲンもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル置
換されたフェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、
2−ナフチル基、9−アントラシル基、9−フェナント
リル基または1−ピレニル基を表し、R4 がフェニル基
または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表すか、ま
たはR2 およびR3 が橋を形成してYが直接結合である
式IIの構造をとり、そしてGがテトラメチルアンモニ
ウム基、サフラニンOカチオン 【化7】 を表す化合物、または式I’中、R1aがナフチレン基を
表し、そしてEがトリメチルアンモニウム基またはジメ
チルベンジルアンモニウム基を表す化合物を含有する請
求項1記載の組成物。 - 【請求項13】 成分(a)および(b)の他に、少な
くとも1種の補助開始剤(c)を含有する請求項1ない
し12のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項14】 補助開始剤(c)が中性、カチオンま
たはアニオン染料である請求項1ないし12のいずれか
1項に記載の組成物。 - 【請求項15】 補助開始剤(c)がUV吸収剤である
請求項1ないし12のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項16】 成分(a)および(b)の他に、少な
くとも1種の次式XI: 【化8】 (式中、Ra 、Rb 、Rc およびRd は互いに独立して
炭素原子数1ないし12のアルキル基、トリメチルシリ
ルメチル基、フェニル基、別の芳香族炭化水素基、炭素
原子数1ないし6のアルキルフェニル基、アリル基、フ
ェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原子
数2ないし8のアルケニル基、炭素原子数2ないし8の
アルキニル基、炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
ル基または飽和もしくは不飽和複素環式基を表し、上記
フェニル基、別の芳香族炭化水素基、フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基または飽和もしくは不飽和
複素環式基は置換されていないか、または非置換または
OR6 −もしくはR7 R8 N−置換された炭素原子数1
ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基O、S
(O)p またはNR5 により中断された炭素原子数2な
いし20のアルキル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6
S(O)2 O、R7 R8 N、R6 OC(O)、R7 R8
NC(O)、R9 C(O)、R9 R10R11Si、R9 R
10R11Sn、ハロゲン原子またはR9 R10P(O)q 、
CNにより1〜5回置換されており、 pは0、1または2を表し、 qは0または1を表し、 R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
はフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子数1ない
し6のアルキル基またはフェニル基は置換されていない
か、または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原
子数1ないし12のアルコキシ基および/またはハロゲ
ン原子により1〜5回置換されており、 R6 は非置換またはハロゲン置換された炭素原子数1な
いし12のアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし
6のアルキル基またはフェニル基を表し、上記フェニル
−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基
は置換されていないか、または炭素原子数1ないし6の
アルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基お
よび/またはハロゲン原子により1〜5回置換されてお
り、 R7 およびR8 は互いに独立して非置換または炭素原子
数1ないし12のアルコキシ−、ハロゲン−、OH−、
COOR6 −もしくはCN−置換された炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されているか、ま
たはR7 およびR8 はそれらが結合されているN原子と
一緒になって、さらにOまたはS原子を含んでいてもよ
い5または6員環を形成し、 R9 、R10およびR11は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、そし
てZは陽イオンを形成し得る基を表す)で表される化合
物を含有する請求項1記載の組成物。 - 【請求項17】 式IまたはI’で表される少なくとも
1種のボレートと、照射の間または後に色が変化する
か、または色を失う少なくとも1種の染料とからなり、
該染料がカチオンとして式Iで表される化合物の構成成
分であり得る請求項1記載の組成物。 - 【請求項18】 光開始剤(b)の他に、少なくとも1
種のその他の光開始剤(d)および/またはその他の添
加剤を含有する請求項1ないし17のいずれか1項に記
載の組成物。 - 【請求項19】 容易に還元し得る化合物、特にハロゲ
ン化炭化水素がその他の添加剤として使用される請求項
18記載の組成物。 - 【請求項20】 光開始剤(d)として、チタノセン、
フェロセン、ベンゾフェノン、ベンゾインアルキルエー
テル、ベンジルケタール、4−アロイル−1,3−ジオ
キソラン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキ
シ−もしくはα−アミノアセトフェノン、α−ヒドロキ
シシクロアルキルフェニルケトン、キサントン、チオキ
サントン、アントラキノンまたはモノ−もしくはビスア
シルホスフィンオキシド、またはそれらの混合物を追加
の光開始剤として含有する請求項18記載の組成物。 - 【請求項21】 成分(a)および(b)の他に、少な
くとも1種の中性、アニオンまたはカチオン染料または
チオキサントンおよびオニウム化合物を含有する請求項
1記載の組成物。 - 【請求項22】 遊離ラジカル光開始剤、特にα−アミ
ノケトン化合物をさらに含有する請求項21記載の組成
物。 - 【請求項23】 組成物に基づいて、0.05ないし1
5重量%、特に0.2ないし5重量%の成分(b)およ
び/または成分(b)+(d)を含有する請求項1ない
し22のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項24】 次式IaまたはIa’: 【化9】 (式中、R1 ’およびR2 ’は互いに独立してホウ素原
子への結合に対して少なくとも1つのオルト位で炭素原
子数1ないし20のアルキル基、1またはそれ以上の基
O、S(O)p またはNR5 により中断された炭素原子
数2ないし20のアルキル基、OR6 、R6 S
(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R8 N、R6 OC
(O)、R7 R8 NC(O)、R9 C(O)、R9 R10
R11Si、R9 R10R11Sn、ハロゲン原子、R9 R10
P(O)q 、CNおよび/または 【化10】 により置換されたフェニル基を表すか、または基R1 ’
およびR2 ’は橋を形成して次式II、IIaまたはI
Ib: 【化11】 で表される構造をとるが、上記式II中の芳香環は置換
されていないか、または炭素原子数1ないし20のアル
キル基、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはN
R5 により中断された炭素原子数2ないし20のアルキ
ル基、OR6 、R6 S(O)p 、R6 S(O)2 O、R
7 R8 N、R6 OC(O)、R7 R8 NC(O)、R9
C(O)、R9 R10R11Si、ハロゲン原子、R9 R10
P(O)qおよび/またはR9 R10R11Snにより置換
されており、 R1a’は置換されていないか、または炭素原子数1ない
し6のアルキル基、OR6 、S(O)p R6 、OS
(O)2 R6 、NR8 R7 、C(O)OR6 、C(O)
NR8 R7 、C(O)R9 、SiR9 R10R11またはハ
ロゲン原子により置換された2価の芳香族炭化水素基を
表すか、またはR1a’はフェニル−炭素原子数1ないし
6のアルキレン基を表し、 R3 ’は嵩張る芳香族基を表し、 R4 はフェニル基、炭素原子数1ないし20のアルキル
基、1またはそれ以上の基O、S(O)p またはNR5
により中断された炭素原子数2ないし20のアルキル基
を表すか、または炭素原子数3ないし12のシクロアル
キル基、炭素原子数2ないし8のアルケニル基、フェニ
ル−炭素原子数1ないし6のアルキル基またはナフチル
−炭素原子数1ないし3のアルキル基を表し、上記炭素
原子数1ないし20のアルキル基、炭素原子数3ないし
12のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし8のアル
ケニル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル
基またはナフチル−炭素原子数1ないし3のアルキル基
は置換されていないか、またはOR6 、R6 S
(O)p 、R6 S(O)2 O、R7 R8 N、R6 OC
(O)、R7 R8 NC(O)、R9 C(O)、R9 R10
R11Si、R9 R10R11Sn、ハロゲン原子、R9 R10
P(O)q および/またはCNにより置換されており、 Yは(CH2 )n 、CH=CH、C(O)、NR5 、
O、S(O)p または 【化12】 を表し、 nは0、1または2を表し、 mは2または3を表し、 pは0、1または2を表し、 qは0または1を表し、 EはR21R22R23P、R7 R7aR8 NまたはR6 R6aS
を表し、 R5 は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基また
はフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原子数1ない
し6のアルキル基またはフェニル基は置換されていない
か、または炭素原子数1ないし6のアルキル基、炭素原
子数1ないし12のアルコキシ基および/またはハロゲ
ン原子により1〜5回置換されており、 R6 およびR6aは互いに独立して炭素原子数1ないし1
2のアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のア
ルキル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素
原子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換
されていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/
またはハロゲン原子により1〜5回置換されており、 R7 、R7aおよびR8 は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されているか、ま
たはR7 およびR8 はそれらが結合されているN原子と
一緒になって、さらにOまたはS原子を含んでいてもよ
い5または6員環を形成し、 R9 、R10およびR11は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数3ないし12のシク
ロアルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフェニル基を表し、上記フェニル−炭素原
子数1ないし6のアルキル基またはフェニル基は置換さ
れていないか、または炭素原子数1ないし6のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基および/ま
たはハロゲン原子により1〜5回置換されており、 R12、R13、R14およびR15は互いに独立して水素原
子、非置換または炭素原子数1ないし12のアルコキシ
置換された炭素原子数1ないし12のアルキル基、非置
換または炭素原子数1ないし6のアルキル、炭素原子数
1ないし12のアルコキシもしくはハロゲンで1ないし
5置換されたフェニル−炭素原子数1ないし6のアルキ
ル基を表すか、または非置換または炭素原子数1ないし
6のアルキル、炭素原子数1ないし12のアルコキシも
しくはハロゲンで1ないし5置換されたフェニル基を表
すか、または基R12、R13、R14およびR15は一緒にな
って別の芳香環に縮合されてもよい芳香環を形成し、 R21、R22およびR23は互いに独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアル
ケニル基または炭素原子数3ないし12のシクロアルキ
ル基を表し、上記炭素原子数1ないし12のアルキル
基、炭素原子数2ないし12のアルケニル基および炭素
原子数3ないし12のシクロアルキル基は置換されてい
ないか、またはR6 OCOもしくはCNにより置換され
ており、またはR21、R22およびR23は非置換または炭
素原子数1ないし6のアルキル、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシまたはハロゲンで1ないし5置換された
フェニル−炭素原子数1ないし6のアルキル基を表す
か、または非置換または炭素原子数1ないし6のアルキ
ル、炭素原子数1ないし12のアルコキシもしくはハロ
ゲンで1ないし5置換されたフェニル基を表し、そして
Gは陽イオンを形成し得る基を表す)で表される化合
物。 - 【請求項25】 上記式中、Gが第1酸化状態にある周
期表I族の金属、特にNa+ 、K+ またはLi+ を表す
か、またはGがMgZ1 + またはCaZ1 +(式中、Z
1 はハロゲン原子または炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基を表す)を表すか、またはGがアンモニウム塩、
スルホニウム塩またはホスホニウム塩を表す請求項24
記載の化合物。 - 【請求項26】 上記式中、R3 ’が1−もしくは2−
ナフチル基、ビナフチル基、アントラシル基、フェナン
トリル基、ピレニル基、キノリル基、イソキノリル基、
ビフェニル基、o−、m−もしくはp−ターフェニル基
またはトリフェニルフェニル基を表す請求項24記載の
化合物。 - 【請求項27】 エチレン性不飽和化合物の光重合のた
めの単分子光開始剤として請求項1または24記載の化
合物を使用する方法。 - 【請求項28】 少なくとも1つのエチレン性不飽和二
重結合を含有する非揮発性のモノマー、オリゴマーまた
はポリマー化合物の光重合方法において、該化合物に請
求項1記載の式IもしくはI’で表される化合物または
請求項24記載の式Iaで表される化合物の少なくとも
1種を単分子光開始剤として添加し、そしてこの混合物
を赤外領域からUV領域ないし200nmの波長の光で
照射することからなる上記光重合方法。 - 【請求項29】 着色および未着色のコーティング材
料、粉末コーティング、印刷インキ、印刷版、接着剤、
歯科用組成物、導波管、光学スイッチ、着色防止系、ガ
ラス繊維ケーブルコーティング、スクリーン印刷ステン
シル、レジスト材料を製造するために、電気および電子
部品を包囲するために、複合材料を製造するために、磁
気記録材料を製造するために、ステレオリソグラフィー
により3次元物品を製造するために、写真による複製の
ために、および画像記録材料として、特にホログラフィ
ーによる記録のために請求項1ないし23のいずれか1
項に記載の組成物を使用する方法。 - 【請求項30】 請求項1ないし23のいずれか1項に
記載の組成物で少なくとも1つの面が被覆されている被
覆された基材。 - 【請求項31】 請求項30記載の被覆された基材を画
像様露光に供し、そして溶媒で未露光領域を除去するこ
とからなるレリーフ画像の写真による形成方法。 - 【請求項32】 請求項30記載の被覆された基材を可
動レーザービームにより(マスクなしで)露光し、そし
て溶媒で未露光領域を除去することからなるレリーフ画
像の形成方法。 - 【請求項33】 エチレン性不飽和二重結合を含有する
化合物の熱重合のための開始剤として式IもしくはI’
または式IaもしくはIa’で表される化合物を使用す
る方法。 - 【請求項34】 少なくとも1種の式IもしくはI’ま
たは式IaもしくはIa’で表される化合物を重合開始
剤として添加することからなる、エチレン性不飽和二重
結合を含有する化合物の熱重合方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH334495 | 1995-11-24 | ||
CH3344/95 | 1995-11-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09188710A true JPH09188710A (ja) | 1997-07-22 |
Family
ID=4253942
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8329222A Pending JPH09188710A (ja) | 1995-11-24 | 1996-11-25 | モノボランからのボレート光開始剤 |
Country Status (18)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5932393A (ja) |
JP (1) | JPH09188710A (ja) |
KR (1) | KR970028790A (ja) |
CN (1) | CN1159450A (ja) |
AT (1) | AT406777B (ja) |
AU (1) | AU712075B2 (ja) |
BE (1) | BE1010765A5 (ja) |
BR (1) | BR9605696A (ja) |
CA (1) | CA2191056A1 (ja) |
DE (1) | DE19648256A1 (ja) |
ES (1) | ES2126500B1 (ja) |
FR (1) | FR2741624B1 (ja) |
GB (1) | GB2307472B (ja) |
IT (1) | IT1286499B1 (ja) |
MX (1) | MX9605720A (ja) |
NL (1) | NL1004599C2 (ja) |
SG (1) | SG49990A1 (ja) |
TW (1) | TW467933B (ja) |
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- 1996-11-15 AU AU71792/96A patent/AU712075B2/en not_active Ceased
- 1996-11-21 US US08/755,771 patent/US5932393A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-21 DE DE19648256A patent/DE19648256A1/de not_active Withdrawn
- 1996-11-21 FR FR9614200A patent/FR2741624B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-21 MX MX9605720A patent/MX9605720A/es unknown
- 1996-11-22 IT IT96MI002437A patent/IT1286499B1/it active IP Right Grant
- 1996-11-22 BE BE9600980A patent/BE1010765A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1996-11-22 SG SG1996011378A patent/SG49990A1/en unknown
- 1996-11-22 CN CN96121744A patent/CN1159450A/zh active Pending
- 1996-11-22 NL NL1004599A patent/NL1004599C2/nl not_active IP Right Cessation
- 1996-11-22 CA CA002191056A patent/CA2191056A1/en not_active Abandoned
- 1996-11-22 AT AT0204296A patent/AT406777B/de not_active IP Right Cessation
- 1996-11-22 ES ES009602465A patent/ES2126500B1/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-11-22 GB GB9624328A patent/GB2307472B/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-23 KR KR1019960056881A patent/KR970028790A/ko not_active Application Discontinuation
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---|---|
BR9605696A (pt) | 1998-08-18 |
US6045974A (en) | 2000-04-04 |
NL1004599A1 (nl) | 1997-05-27 |
SG49990A1 (en) | 2001-01-16 |
ES2126500A1 (es) | 1999-03-16 |
GB9624328D0 (en) | 1997-01-08 |
FR2741624A1 (fr) | 1997-05-30 |
GB2307472B (en) | 1999-11-17 |
FR2741624B1 (fr) | 1998-12-04 |
IT1286499B1 (it) | 1998-07-15 |
NL1004599C2 (nl) | 1998-01-12 |
AT406777B (de) | 2000-09-25 |
ES2126500B1 (es) | 1999-11-16 |
ATA204296A (de) | 2000-01-15 |
TW467933B (en) | 2001-12-11 |
CN1159450A (zh) | 1997-09-17 |
BE1010765A5 (fr) | 1999-01-05 |
DE19648256A1 (de) | 1997-05-28 |
MX9605720A (es) | 1997-05-31 |
AU7179296A (en) | 1997-05-29 |
ITMI962437A0 (it) | 1996-11-22 |
US5932393A (en) | 1999-08-03 |
CA2191056A1 (en) | 1997-05-25 |
GB2307472A (en) | 1997-05-28 |
AU712075B2 (en) | 1999-10-28 |
KR970028790A (ko) | 1997-06-24 |
ITMI962437A1 (it) | 1998-05-22 |
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