WO2022059706A1

WO2022059706A1 - 組成物、磁性粒子含有膜、及び、電子部品

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Publication number: WO2022059706A1
Application number: PCT/JP2021/033938
Authority: WO
Inventors: 達郎石川; 哲志宮田
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2020-09-18
Filing date: 2021-09-15
Publication date: 2022-03-24
Also published as: TW202216875A; JPWO2022059706A1; US20230238164A1; EP4216242A1

Abstract

本発明の課題は、透磁率及び耐酸性に優れた磁性粒子含有膜を形成でき、且つ、沈降安定性に優れた組成物を提供することである。また、本発明の他の課題は、上記組成物に関する磁性粒子含有膜、及び、磁性粒子含有膜を含む電子部品を提供することである。　本発明の組成物は、Ｆｅ原子を７０～９０質量％含み、Ｆｅの結晶構造を有し、平均粒径が２～３０μｍであり、且つ、アスペクト比が８未満である磁性粒子と、レオロジーコントロール剤と、を含む。

Description

組成物、磁性粒子含有膜、及び、電子部品

　本発明は、組成物、磁性粒子含有膜、及び、電子部品に関する。

　電子デバイスの高性能化及び小型化に伴い、電子回路はその集積度を増している。このような集積度の向上するための素材の一つとして、磁性粒子を含む塗布型の組成物が存在する。このような組成物を使用すれば任意の形状で磁性体を実装可能となるため、従来の磁性体の個片をチップ上に配置する方式よりも、電子デバイスの小型化及び高性能化を実現しやすい。

　ところで、磁性粒子を含む塗布型の組成物及び上記組成物から形成される膜は、電子回路の製造プロセスに晒されるため各種の耐久性が求められる。
　例えば、特許文献１では、「（Ａ）支持体と、該支持体上に設けられた樹脂組成物層とを含む支持体付き樹脂シートを、樹脂組成物層が内層基板と接合するように、内層基板に積層する工程、
（Ｂ）樹脂組成物層を熱硬化して絶縁層を形成する工程、
（Ｃ）絶縁層に穴あけ加工する工程、
（Ｄ）絶縁層表面に、酸化剤溶液を用いた湿式デスミア処理を行う工程、及び
（Ｅ）湿式デスミア処理が行われた絶縁層の表面に導体層を形成する工程、
をこの順で含み、複数の絶縁層と複数の導体層とによりインダクタが形成されるインダクタ基板の製造方法であって、
　樹脂組成物層は、磁性フィラーを含む樹脂組成物から形成されており、
　ｐＨ１の酸性溶液中、２０℃、３時間保持したときの磁性フィラーの重量減少率が０％以上４０％以下である、インダクタ基板の製造方法。」（請求項１参照）を開示している。特許文献１では、具体的に、磁性粉末と磁性粉末を被覆する被覆層とを有する磁性フィラー（以下「被覆磁性粒子」ともいう）を使用することによって、酸化剤溶液を用いた湿式デスミア処理を行う工程において発生し得る「絶縁層と導体層との間のピール強度の低下」を抑制している。

特開２０１９－０６７９６０号公報

　本発明者らは、特許文献１の実施例欄を参照して被覆磁性粒子及び被覆磁性粒子を含む組成物を作製して検討したところ、上記組成物から形成される膜の耐酸性が昨今の要求水準を満たしていない場合があることを明らかとした。また、被覆磁性粒子の分散処理の際に分散が進行するにつれ、磁性粉末から被覆層の剥がれが生じる場合があることも明らかとした。

　ところで、磁性を有する膜には、基本性能として、透磁率に優れることが求められる。また、磁性粒子を含む塗布型の組成物である場合、組成物は、基本性能として、長期経時後であっても磁性粒子が安定して組成物中に分散している性能（以下「沈降安定性」ともいう）が優れることが求められる。

　そこで、本発明は、透磁率及び耐酸性に優れた磁性粒子含有膜を形成でき、且つ、沈降安定性に優れた組成物を提供することを課題とする。また、本発明は、上記組成物に関する磁性粒子含有膜、及び、磁性粒子含有膜を含む電子部品を提供することも課題とする。

　本発明者らは、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

　〔１〕　Ｆｅ原子を７０～９０質量％含み、Ｆｅの結晶構造を有し、平均粒径が２～３０μｍであり、且つ、アスペクト比が８未満である磁性粒子と、
　レオロジーコントロール剤と、を含む、組成物。
　〔２〕　Ｆｅ原子を７０～９０質量％含み、Ｘ線回折法により得られるＸ線回折パターンにおいて２θが４２～４８°の範囲に現れる回折ピークの半値幅が０．２～３°であり、平均粒径が２～３０μｍであり、且つ、アスペクト比が８未満である磁性粒子と、
　レオロジーコントロール剤と、を含む、組成物。
　〔３〕　上記磁性粒子は、Ｘ線回折法により得られるＸ線回折パターンにおいて２θが４２～４８°の範囲に現れる回折ピークの半値幅が０．２～３°である、〔１〕に記載の組成物。
　〔４〕　上記磁性粒子の含有量が、組成物の全質量に対して、７０～９０質量％である、〔１〕～〔３〕のいずれかに記載の組成物。
　〔５〕　上記レオロジーコントロール剤が、ポリカルボン酸、ポリ無水カルボン酸、及び、アマイドワックスからなる群から選択される１種以上である、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の組成物。
　〔６〕　更に、光又は熱により硬化する硬化成分を含む、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の組成物。
　〔７〕　上記硬化成分が、重合性化合物を含む、〔６〕に記載の組成物。
　〔８〕　上記重合性化合物が、エポキシ基及びオキセタニル基の１種以上を含む化合物を含む、〔７〕に記載の組成物。
　〔９〕　更に、重合開始剤を含む、〔１〕～〔８〕のいずれかに記載の組成物。
　〔１０〕　上記組成物が溶媒を実質的に含まないか、又は、
　上記組成物が更に溶媒を含み、且つ、上記溶媒の含有量が、組成物の全質量に対して、１質量％以上１２質量％未満である、〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の組成物。
　〔１１〕　〔１〕～〔１０〕のいずれかに記載の組成物を用いて形成される、磁性粒子含有膜。
　〔１２〕　〔１１〕に記載の磁性粒子含有膜を含む、電子部品。
　〔１３〕　インダクタとして用いられる、〔１２〕に記載の電子部品。
　〔１４〕　アンテナとして用いられる、〔１２〕に記載の電子部品。

　本発明によれば、透磁率及び耐酸性に優れた磁性粒子含有膜を形成でき、且つ、沈降安定性に優れた組成物を提供できる。また、本発明によれば、上記組成物に関する磁性粒子含有膜、及び、磁性粒子含有膜を含む電子部品を提供できる。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされる場合があるが、本発明はそのような実施態様に限定されない。
　本明細書中における基（原子団）の表記について、本発明の趣旨に反しない限り、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基と共に置換基を有する基をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。また、本明細書中における「有機基」とは、少なくとも１個の炭素原子を含む基をいう。

　本明細書中における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光：　Ｅｘｔｒｅｍｅ　Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）、Ｘ線、及び、電子線（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｂｅａｍ）等を意味する。本明細書中における「光」とは、活性光線又は放射線を意味する。
　本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線、Ｘ線、及び、ＥＵＶ光等による露光のみならず、電子線、及び、イオンビーム等の粒子線による描画も含む。

　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。

　本明細書において、（メタ）アクリレートはアクリレート及びメタクリレートを表し、（メタ）アクリルはアクリル及びメタクリルを表し、（メタ）アクリロイルはアクリロイル及びメタクリロイルを表す。

　本明細書において、組成物の「固形分」とは、磁性粒子含有膜を形成する成分を意味し、組成物が溶媒（有機溶媒、水等）を含む場合、溶媒を除いたすべての成分を意味する。また、磁性粒子含有膜を形成する成分であれば、液体状の成分も固形分とみなす。

　また、本明細書において重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（Ｇｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ：ゲル浸透クロマトグラフィー）法によるポリスチレン換算値である。
　本明細書においてＧＰＣ法は、ＨＬＣ－８０２０ＧＰＣ（東ソー製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる方法に基づく。

　また、本明細書において、各成分は、特段の断りが無い限り、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。

［組成物］
　本発明の組成物（以下「組成物Ａ」という場合もある。）は、Ｆｅ原子を７０～９０質量％含み、Ｆｅの結晶構造（以下「結晶構造」と略記する場合もある。）を有し、平均粒径が２～３０μｍであり、且つ、アスペクト比が８未満である磁性粒子（以下「特定磁性粒子」ともいう。）と、レオロジーコントロール剤と、を含む。

　強磁性金属の中でもＦｅ原子を含む磁性粒子（以下「Ｆｅ原子含有磁性粒子」ともいう。）は高い透磁率を発現するものの、一方で、標準酸化還元電位のマイナス電位が大きい（すなわち、イオン化傾向が大きい）ため、酸性液中に浸漬された場合、酸に溶出し易い。すなわち、Ｆｅ原子含有磁性粒子を含む磁性粒子含有膜は、透磁率に優れるものの耐酸性に劣ることが懸念されている。なお、磁性粒子中のＦｅ原子含有磁性粒子の含有量が多いほど、形成される磁性粒子含有膜の透磁率は高くなるが、より酸に溶解しやすくなるため、耐酸性は劣化すると考えられる。これに対して、本発明者らは、今般の検討により、Ｆｅ原子含有磁性粒子が結晶構造を有する場合、形成される磁性粒子含有膜の耐酸性が著しく向上することを明らかとしている（なお、この理由としては、Ｆｅ原子含有磁性粒子が結晶構造を有することにより、酸性液中に浸漬した場合でも、酸化されにくく元の組成が変化しにくいことから、透磁率の劣化が少なく優れた耐酸性が奏されると推測している。）特に、Ｆｅ原子含有磁性粒子が結晶構造を有し、且つ、Ｆｅ原子含有量が７０～９０質量％である場合、形成される磁性粒子含有膜は、高い透磁率と優れた耐酸性が両立し得ることを見出した。本発明者らは、上記知見に基づいて更に検討を進めたところ、上述した本発明の組成物の構成によって発明の課題を解決できることを明らかとした。組成物がこのような構成であることで本発明の課題を解決できる理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。

　上述のとおり、特定磁性粒子が、結晶構造を有し、且つ、Ｆｅ原子含有量が７０～９０質量％である構成により、形成される磁性粒子含有膜は、高い透磁率と優れた耐酸性が両立し得る。
　また、特定磁性粒子のアスペクト比が８未満とすることによって磁性粒子含有膜中で磁性粒子が等方的に配列し易くしており、このことも、形成される磁性粒子含有膜の透磁率の向上に寄与していると推測している。一方で、アスペクト比が８未満である磁性粒子は、アスペクト比が８以上である磁性粒子と比べて組成物中で沈降しやすく、沈降安定性に悪影響を与えやすい傾向がある。このため、本発明の組成物においては、特定磁性粒子の平均粒径を２～３０μｍとし、且つ、組成物中にレオロジーコントロール剤を導入することにより、沈降安定性を担保している。なお、組成物中にレオロジーコントロール剤を導入することで特定磁性粒子の分散性が改善され、結果として、磁性粒子含有膜中で磁性粒子がより均一に配列していると推測される。このことも、形成される磁性粒子含有膜の透磁率の向上に寄与していると考えている。

　以下、組成物の沈降安定性、形成される磁性粒子含有膜の透磁率、及び、形成される磁性粒子含有膜の耐酸性のうちの少なくとも１つ以上がより優れることを、本発明の効果がより優れるともいう。

　以下において、まず、組成物に含まれる各種成分について説明する。

〔磁性粒子〕
＜特定磁性粒子＞
　組成物は、特定磁性粒子を含む。
　特定磁性粒子は、Ｆｅ原子を７０～９０質量％含み、Ｆｅの結晶構造を有し、平均粒径が２～３０μｍであり、且つ、アスペクト比が８未満である磁性粒子である。

　特定磁性粒子は、金属原子として、鉄原子（Ｆｅ原子）を含む。
　鉄原子は、鉄原子を含む合金（好ましくは、鉄原子を含む磁性合金）、鉄酸化物（好ましくは、磁性鉄酸化物）、鉄窒化物（好ましくは、磁性鉄窒化物）、又は、鉄炭化物（好ましくは、磁性鉄炭化物）として、磁性粒子に含まれていてもよい。
　鉄原子の含有量は、特定磁性粒子の全質量に対して、７０～９０質量％である。鉄原子の含有量が、特定磁性粒子の全質量に対して７０質量％以上である場合、形成される磁性粒子含有膜は、透磁率に優れる。鉄原子の含有量が、特定磁性粒子の全質量に対して９０質量％以下である場合、形成される磁性粒子含有膜は、耐酸性に優れる。
　鉄原子の含有量の下限値としては、特定磁性粒子の全質量に対して、７５質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましい。鉄原子の含有量の上限値としては、特定磁性粒子の全質量に対して、８８質量％以下が好ましい。

　特定磁性粒子は、鉄原子以外の他の金属原子を含んでいてもよい。
　なお、ここでいう「他の金属原子」には、ホウ素、ケイ素、ゲルマニウム、ヒ素、アンチモン、及び、テルルのような半金属原子も含まれる。
　他の金属原子は、金属原子を含む合金（好ましくは、磁性合金）、金属酸化物（好ましくは、磁性酸化物）、金属窒化物（好ましくは、磁性窒化物）、又は、金属炭化物（好ましくは、磁性炭化物）として、磁性粒子に含まれていてもよい。

　特定磁性粒子中、金属原子の含有量（鉄原子及び他の金属原子の合計含有量）の下限値としては、特定磁性特定磁性粒子の全質量に対して、７０質量％以上であり、７５質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましい。また、金属原子（鉄原子及び他の金属原子）の含有量の上限値としては、特定磁性特定磁性粒子の全質量に対して、１００質量％以下が好ましく、９０質量％以下が好ましい。

　また、特定磁性粒子を構成する鉄原子以外の材料としては、例えば、Ｎｉ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｚｎ、Ｓｒ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｐｂ、Ｃａ、Ｂ、Ｃ、Ｎ、及び、Ｏが挙げられる。
　特定磁性粒子は、鉄原子以外の材料として、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｃ、Ｐ、Ｃｕ、Ｎｂ、及びＢからなる群から選択される１種以上の原子を含むのが好ましい。

　特定磁性粒子がＣｕ原子を含む場合、Ｃｕ原子の含有量としては、特定磁性粒子の全質量に対して、０．１～１０質量％であるのが好ましく、０．１～５質量％であるのがより好ましく、０．１～３質量％であるのが更に好ましい。

　特定磁性粒子がＮｂ原子を含む場合、Ｎｂ原子の含有量としては、特定磁性粒子の全質量に対して、２～１０質量％であるのが好ましく、３～８質量％であるのがより好ましく、４～６質量％であるのが更に好ましい。

　特定磁性粒子がＢ原子を含む場合、Ｂ原子の含有量としては、特定磁性粒子の全質量に対して、１～４質量％であるのが好ましく、２～４質量％であるのがより好ましい。

　特定磁性粒子がＳｉ原子を含む場合、Ｓｉ原子の含有量としては、特定磁性粒子の全質量に対して、１～２０質量％であるのが好ましく、３～１５質量％であるのがより好ましく、５～１０質量％であるのが更に好ましい。

　特定磁性粒子がＣｒ原子を含む場合、Ｃｒ原子の含有量としては、特定磁性粒子の全質量に対して、０．００１～１質量％であるのが好ましく、０．００５～０．５質量％であるのがより好ましく、０．０１～０．１質量％であるのが更に好ましい。

　特定磁性粒子がＣ原子を含む場合、Ｃ原子の含有量としては、特定磁性粒子の全質量に対して、０．００１～１質量％であるのが好ましく、０．００５～０．５質量％であるのがより好ましく、０．０１～０．２質量％であるのが更に好ましい。

　特定磁性粒子がＰ原子を含む場合、Ｐ原子の含有量としては、特定磁性粒子の全質量に対して、０．００１～１０質量％であるのが好ましく、０．０１～１０質量％であるのがより好ましく、０．１～１０質量％であるのが更に好ましい。

　特定磁性粒子中における各金属原子の含有量は、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法により同定できる。

　特定磁性粒子は、Ｆｅの結晶構造（結晶構造）を有する。
　結晶構造の有無及びその性質については、Ｘ線回折測定及び電子顕微鏡（例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等で同定できる。
　特定磁性粒子が有する結晶構造の種類としては、例えば、α－Ｆｅ結晶相が挙げられる。特定磁性粒子中が上記のような結晶構造を有する場合、２θ法によるＸ線回折法により得られるＸ線回折パターンにおいて、例えば、４２～４８°の回折角（２θ）にピークが観測され得る。言い換えると、特定磁性粒子中が上記のような結晶構造を有する場合、特定磁性粒子は、Ｘ線回折法により得られるＸ線回折パターンにおいて、２θが４２～４８°の範囲に回折ピークを有する。

　但し、本明細書中、Ｘ線回折法により得られるＸ線回折パターンにおいて２θが４２～４８°の範囲に回折ピークを有し、且つ、この回折ピークの半値幅が５°以下であるときに、「結晶構造を有している」という。

　上記Ｘ線回折パターンにおいて、２θが４２～４８°の範囲に現れる回折ピークの半値幅は、０．２～３°であるのが好ましく、０．２～２°であるのがより好ましく、０．２～１°であるのが更に好ましい。回折ピークの半値幅が小さいほどより密な結晶構造であり、形成される磁性粒子含有膜の耐酸性がより優れる。

　結晶構造の大きさとしては、例えば１～１００ｎｍであり、１０～４０ｎｍであるのが好ましい。なお、ここでいう「ナノ結晶構造の大きさ」は、特定磁性粒子をＴＥＭで観察したときに確認されるナノ結晶部分（ＴＥＭ画像上で２次元的に観察される領域）の真円相当直径に該当する。

　なお、特定磁性粒子において、ナノ結晶構造以外の部分がアモルファスであってもよい。つまり、特定磁性粒子は、アモルファス状の粒子の中に、ナノ結晶構造を有するものであってもよい。特定磁性粒子の結晶化率は特に制限されないが、例えば、３０～１００体積％が好ましく、５０～１００体積％がより好ましい。

　特定磁性粒子の平均粒径は体積基準のメジアン径（Ｄ５０）であり、２～３０μｍである。ここで、特定磁性粒子の体積基準のメジアン径（Ｄ５０）とは、特定磁性粒子全体を体積累計が５０％となる粒子径を閾値に２つに分けた場合に、大径側と小径側での特定磁性粒子の体積の合計が等量となる径をいう。
　特定磁性粒子の平均粒径（Ｄ５０）が、２μｍ以上の場合、形成される磁性粒子含有膜の透磁率が優れる。一方で、特定磁性粒子の平均粒径（Ｄ５０）が、３０μｍ以下の場合、組成物中における特定磁性粒子の沈降安定性が優れる。
　特定磁性粒子の平均粒径（Ｄ５０）の上限値としては、本発明の効果がより優れる点で、２８μｍ以下であるのが好ましく、２５μｍ以下であるのがより好ましい。
　特定磁性粒子の体積基準のメジアン径（Ｄ５０）は、レーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置により測定できる。なお、測定装置としては、例えば、（株）堀場製作所のレーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置ＬＡ－９６０（型番）を使用できる。但し、測定装置は、これに制限されない。

　特定磁性粒子のアスペクト比は、アスペクト比が８未満である。特定磁性粒子のアスペクト比が８未満である場合、組成物中における特定磁性粒子の沈降安定性が優れ、且つ、形成される磁性粒子含有膜の透磁率が優れる。特定磁性粒子のアスペクト比としては、組成物中における特定磁性粒子の沈降安定性がより優れる点で、７未満であるのが好ましく、６以下であるのがより好ましい。
　特定磁性粒子のアスペクト比の下限値としては特に制限されないが、１以上であるのが好ましい。
　本明細書において、粒子のアスペクト比は以下のように求められる。すなわち、アスペクト比を求める対象の粒子を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、そこから無作為に抽出した２００個の粒子について、粒子の最長の幅Ａを、最短の幅Ｂで割った値（Ａ／Ｂ）をそれぞれ求める。それぞれ求められた２００個の「Ａ／Ｂ」の平均値を、その粒子のアスペクト比とする。

　特定磁性粒子の形状としては、上述の平均粒径及びアスペクト比に関する要件を満たす限り、板状、楕円状、球状、及び、不定形のいずれでもよい。

　特定磁性粒子の製造方法としては特に制限されない。
　特定磁性粒子の製造方法の一態様としては、Ｆｅ原子を７０～９０質量％含み、平均粒径が２～３０μｍであり、且つアスペクト比が８未満であるＦｅ基含有アモルファス粒子に対して熱処理を施す製造方法が挙げられる。具体的には、まず上記組成のＦｅ基含有アモルファス粒子を準備し、次にそのアモルファス粒子を、高温（例えば４００～６００℃程度）で熱処理することで、アモルファス粒子内に結晶構造を形成することで製造する方法である。
　また、特定磁性粒子の製造方法の他の態様としては、Ｆｅ原子を７０～９０質量％含むＦｅ基含有アモルファス粒子に対して熱処理を施してアモルファス粒子内に結晶構造を形成した後、所定の分散処理によって、平均粒径及びアスペクト比を所定範囲に調整する製造方法が挙げられる。なお、熱処理の手順としては、既述のとおりである。
　特定磁性粒子としては、例えば、「ＫＵＡＭＥＴ　ＮＣ１」(エプソンアトミックス（株）製)等の市販品も使用できる。

　特定磁性粒子の表面には、表面層が設けられていてもよい。このように、特定磁性粒子が表面層を有していることで、特定磁性粒子に表面層の材質に応じた機能を付与できる。
　表面層としては、無機層又は有機層が挙げられる。

　無機層形成用化合物としては、絶縁性、ガスバリヤ性及び化学安定性の少なくとも１つに優れる表面層を形成できる点から、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、リン酸金属塩化合物、ホウ酸金属塩化合物、又は、ケイ酸化合物（例えば、オルトケイ酸テトラエチル等のケイ酸エステル、ケイ酸ソーダ等のケイ酸塩）が好ましい。これらの化合物に含まれる元素の具体例としては、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、及び、希土類元素が挙げられる。
　無機層形成用化合物を用いて得られる無機層を構成する材料としては、酸化ケイ素、酸化ゲルマニウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、及び、酸化マグネシウム等が挙げられ、無機層はこれらを２種以上含む層であってもよい。

　有機層形成用化合物としては、アクリルモノマーが挙げられる。アクリルモノマーの具体例としては、特開２０１９－０６７９６０号公報の段落００２２～００２３に記載の化合物が挙げられる。
　有機層形成用化合物を用いて得られる有機層を構成する材料としては、アクリル樹脂が挙げられる。

　表面層の厚みは特に限定されないが、表面層の機能がより発揮される点から、３～１０００ｎｍが好ましい。

　組成物中、特定磁性粒子の含有量としては、組成物の全質量に対して、７０～９０質量％であるのが好ましい。なかでも、形成される磁性粒子含有膜の透磁率がより優れる点で、特定磁性粒子の含有量の下限値としては、７５質量％以上であるのがより好ましい。また、組成物の塗布適性がより優れる点で、特定磁性粒子の含有量の上限値としては、８５質量％以下であるのがより好ましい。
　組成物中、特定磁性粒子の含有量としては、組成物の全固形分に対して、７０～９０質量％であるのが好ましい。
　特定磁性粒子としては、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

〔レオロジーコントロール剤〕
　組成物は、レオロジーコントロール剤を含む。
　レオロジーコントロール剤は、せん断力（せん断速度）が低い場合には高粘度を示し、せん断力（せん断速度）が高い場合には低粘度を示すチキソトロピック性を組成物に付与する成分である。
　レオロジーコントロール剤の含有量は、組成物の全質量に対して、０．１～３５質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、０．５～２７質量％が更に好ましく、１～２７質量％が特に好ましい。
　レオロジーコントロール剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～３５質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、０．５～２７質量％が更に好ましく、１～２７質量％が特に好ましい。

　レオロジーコントロール剤としては、有機系レオロジーコントロール剤及び無機系レオロジーコントロール剤が挙げられ、有機系レオロジーコントロール剤が好ましい。

＜有機系レオロジーコントロール剤＞
　有機系レオロジーコントロール剤の含有量は、組成物の全質量に対して、０．１～３５質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、０．５～２５質量％が更に好ましく、１～２５質量％が特に好ましい。
　有機系レオロジーコントロール剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～３５質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、０．５～２５質量％が更に好ましく、１～２５質量％が特に好ましい。
　有機系レオロジーコントロール剤は１種単独で使用してもよく２種以上使用してもよい。

　有機系レオロジーコントロール剤は、例えば、吸着基を１以上（好ましくは２以上）有し、更に、立体反発構造基を有する化合物が挙げられる。
　吸着基は、特定磁性粒子の表面と相互作用して、有機系レオロジーコントロール剤を特定磁性粒子の表面に吸着させる。
　上記吸着基としては、例えば、酸基、塩基性基、及び、アミド基が挙げられる。
　酸基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性水酸基、及び、これらの酸無水物基（カルボキシ基の酸無水物基等）が挙げられ、本発明の効果がより優れる点から、カルボキシ基が好ましい。
　塩基性基としては、例えば、アミノ基（アンモニア、１級アミン又は２級アミンから水素原子を１つ除いた基）、及び、イミノ基が挙げられる。
　中でも吸着基は、カルボキシ基又はアミド基が好ましく、カルボキシ基がより好ましい。
　立体反発構造基は、立体的に嵩高い構造を有することで、有機系レオロジーコントロール剤が吸着した特定磁性粒子に立体障害を導入し、特定磁性粒子同士の間に適度な空間を保持させる。立体反発構造基としては、例えば、鎖状基が好ましく長鎖脂肪酸基がより好ましく、長鎖アルキル基が更に好ましい。
　有機系レオロジーコントロール剤は、水素結合性ユニットを有することも好ましい。
　水素結合性ユニットは、有機系レオロジーコントロール剤同士、並びに、有機系レオロジーコントロール剤及び他の成分の間で、水素結合性のネットワークを構築するために機能する部分構造である。上記ネットワークの形成に寄与する有機系レオロジーコントロール剤は、特定磁性粒子の表面に吸着していてもよく、していなくてもよい。
　水素結合性ユニットは上述の吸着基と同じであってもよく異なっていてもよい。水素結合性ユニットが上述の吸着基と同じである場合、上記吸着基の一部が特定磁性粒子の表面に結合し、他の一部が水素結合性ユニットとして機能する。
　水素結合性ユニットとしては、カルボキシ基又はアミド基が好ましい。水素結合性ユニットとしてのカルボキシ基は磁性粒子含有膜を作製する際に硬化反応に組み込みやすい点で好ましく、アミド基は組成物の経時安定性がより優れる点で好ましい。

　有機レオロジーコントロール剤が樹脂である場合、樹脂である有機レオロジーコントロール剤は、後述のグラフト鎖を含む繰り返し単位を有してもよいし、実質的に有していなくてもよい。樹脂である有機レオロジーコントロール剤が後述のグラフト鎖を含む繰り返し単位を実質的に有さない場合、樹脂である有機レオロジーコントロール剤の全質量に対して後述のグラフト鎖を含む繰り返し単位の含有量は、２質量％未満が好ましく、１質量％以下がより好ましく、０．１質量％未満が更に好ましい。下限は０質量％以上である。

　有機系レオロジーコントロール剤は、ポリカルボン酸（カルボキシ基を２以上有する化合物）、ポリ無水カルボン酸（カルボキシ基同士からなる酸無水物基を２以上有する化合物）、及び、アマイドワックスからなる群から選択される１種以上が好ましい。
　これらは、樹脂であってもよいし、樹脂以外であってもよい。
　また、これらは、後述する、凝集コントロール剤、及び／又は、凝集分散剤に該当していてもよい。

　また、有機系レオロジーコントロール剤としては、例えば、変性ウレア、ウレア変性ポリアマイド、脂肪酸アマイド、ポリウレタン、ポリアミドアマイド、高分子ウレア誘導体、及び、その塩（カルボン酸塩等）等が挙げられる。
　変性ウレアは、イソシアネート単量体又はそのアダクト体と有機アミンとの反応物である。変性ウレアは、ポリオキシアルキレンポリオール（ポリオキシエチレンポリオール、ポリオキシプロピレンポリオール等）、及び／又は、アルキド鎖等で変性されている。ウレア変性ポリアマイドは、例えば、尿素結合を含む化合物とこれらに中極性基又は低極性基を末端に導入した化合物である。中極性基又は低極性基としては、例えば、ポリオキシアルキレンポリオール（ポリオキシエチレンポリオール、ポリオキシプロピレンポリオール等）、及び、アルキド鎖が挙げられる。脂肪酸アマイドは、分子内に長鎖脂肪酸基とアミド基とを有する化合物である。
　これらは、樹脂であってもよいし樹脂以外であってもよい。
　また、これらは、後述する、凝集コントロール剤、及び／又は、凝集分散剤に該当していてもよい。

　有機系レオロジーコントロール剤の分子量（分子量分布を有する場合は重量平均分子量）は、２００～５００００の範囲が好ましい。
　有機系レオロジーコントロール剤が、酸価を有する場合、酸価は５～４００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。
　有機系レオロジーコントロール剤が、アミン酸価を有する場合、アミン価は５～３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。

（凝集コントロール剤）
　有機系レオロジーコントロール剤としては、凝集コントロール剤も挙げられる。凝集コントロール剤は樹脂であってもよいし樹脂以外であってもよい。
　凝集コントロール剤は、特定磁性粒子のような相対的に密度の高い凝集体に対して結合し、更に、任意で含まれるその他の成分（例えば、重合性化合物等）を組成物中に分散し、嵩高い凝集体を作ることができるという機能を備える。
　組成物が凝集コントロール剤を含む場合、組成物中の特定磁性粒子のハードケーキ化が抑制され、更に嵩高い凝集体が形成されるため、再分散性が向上し得る。

　凝集コントロール剤としては、例えば、セルロース誘導体が挙げられる。
　セルロース誘導体としては、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルエチルセルロース、及び、それらの塩等が挙げられる。

　組成物が凝集コントロール剤を含む場合、凝集コントロール剤の含有量は、組成物の全質量に対して、０．１～２０質量％が好ましく、０．３～１５質量％が好ましく、０．５～１０質量％が更に好ましい。
　凝集コントロール剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～２０質量％が好ましく、０．３～１５質量％が好ましく、０．５～１０質量％が更に好ましい。

（凝集分散剤）
　有機系レオロジーコントロール剤としては、凝集分散剤も挙げられる。
　凝集分散剤は樹脂であってもよいし樹脂以外であってもよい。
　凝集分散剤は、特定磁性粒子の表面に吸着し、特定磁性粒子を相互に離間させながら、分散剤間の相互作用により特定磁性粒子同士の距離を一定以上に保ち、特定磁性粒子同士が直接凝集することを防ぐことができるという機能を備える。この結果として、特定磁性粒子の凝集が抑制され、凝集体が形成される場合であっても、相対的に密度の低い凝集体が形成される。更に、組成物中に任意で含まれるその他の成分（例えば、重合性化合物等）を組成物中に分散し、嵩高い凝集体を作ることができため、再分散性が向上し得る。

　凝集分散剤としては、多塩基酸のアルキロールアンモニウム塩が好ましい。
　多塩基酸は、酸基を２個以上有していればよく、例えば、酸基を有する繰り返し単位を含む酸性ポリマー（例えば、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリビニルスルホン酸、及び、ポリリン酸等）が挙げられる。また、上記以外の多塩基酸としては、クロトン酸等の不飽和脂肪酸を重合させたポリマーが挙げられる。多塩基酸のアルキロールアンモニウム塩は、これらの多塩基酸にアルキロールアンモニウムを反応させることにより得られる。このような反応によって得られた塩は、通常、以下の部分構造を含む。
　－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（－Ｒ^１）（－Ｒ^２－ＯＨ）
　ここで、Ｒ^１はアルキル基、Ｒ^２はアルキレン基である。
　多塩基酸のアルキロールアンモニウム塩としては、上記部分構造を複数含むポリマーであるのが好ましい。多塩基酸のアルキロールアンモニウム塩がポリマーである場合、重量平均分子量としては、１，０００～１００，０００が好ましく、５，０００～２０，０００がより好ましい。多塩基酸のアルキロールアンモニウム塩のポリマーは、特定磁性粒子の表面に結合し、また他の凝集分散剤分子と水素結合することにより、ポリマーの主鎖構造が特定磁性粒子間に入り込み、特定磁性粒子同士を離間させ得る。

　凝集分散剤の好適態様の一つとしては、（ａ）飽和脂肪族モノカルボン酸類及びヒドロキシ基含有脂肪族モノカルボン酸類、並びに、（ｂ）多塩基酸類の少なくとも何れかの酸類と、（ｃ）ジアミン類及びテトラアミン類の少なくとも何れかのアミン類と、が脱水縮合した縮合物であるアマイドワックスが挙げられる。
　上記（ａ）～（ｃ）は、モル比で（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝１～３：０～５：１～６となるように用いることが好ましい。

　飽和脂肪族モノカルボン酸類は、炭素数１２～２２であるのが好ましい。具体的には、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、及び、ベヘン酸等が挙げられる。
　ヒドロキシ基含有脂肪族モノカルボン酸類は、炭素数１２～２２であるのが好ましい。具体的には、１２－ヒドロキシステアリン酸、及び、ジヒドロキシステアリン酸が挙げられる。
　これらの飽和脂肪族モノカルボン酸類及びヒドロキシ基含有脂肪族モノカルボン酸類は、単独で使用してもよく、複数を併用してもよい。

　多塩基酸類は、炭素数２～１２の二塩基酸以上のカルボン酸が好ましく、ジカルボン酸がより好ましい。
　このようなジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、１，１０－デカンジカルボン酸、及び、１，１２－ドデカンジカルボン酸のような脂肪族ジカルボン酸；フタル酸、イソフタル酸、及び、テレフタル酸のような芳香族ジカルボン酸；１，２－シクロヘキサンジカルボン酸、１，３－シクロヘキサンジカルボン酸、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸、及び、シクロヘキシルコハク酸のような脂環式ジカルボン酸が挙げられる。これらの多塩基酸類は単独で使用してもよく、複数を併用してもよい。

　ジアミン類は、炭素数２～１４であるのが好ましい。具体的には、エチレンジアミン、１，３－プロパンジアミン、１，４－ブタンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、メタキシレンジアミン、トリレンジアミン、パラキシレンジアミン、フェニレンジアミン、イソホロンジアミン、１，１０－デカンジアミン、１，１２－ドデカンジアミン、４，４－ジアミノジシクロヘキシルメタン、及び、４，４－ジアミノジフェニルメタンが挙げられる。
　テトラアミン類は、炭素数２～１４であるのが好ましい。具体的には、ブタン－１，１，４，４－テトラアミン、及び、ピリミジン－２，４，５，６－テトラアミンが挙げられる。これらのジアミン類及びテトラアミン類は単独で使用してもよく、複数を併用してもよい。

　ジアミン類及びテトラアミン類の量は、飽和脂肪族モノカルボン酸又はヒドロキシ基含有脂肪族モノカルボン酸のモル数と、多塩基酸類のモル数とに従って、カルボキシ基の総数とアミノ基の総数とが当量となるように、調整される。例えば、脂肪族モノカルボン酸２モルに対して、多塩基酸類である脂肪族ジカルボン酸ｎモル（ｎ＝０～５）である場合、ジアミン類を（ｎ＋１）モルとすると、酸とアミンとが当量となる。

　このアマイドワックスは、異なる分子量を有する複数の化合物の混合物として得られ手もよい。アマイドワックスは、下記化学式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。なお、アマイドワックスは、単一の化合物であってもよく、混合物であってもよい。
　Ａ－Ｃ－（Ｂ－Ｃ）_ｍ－Ａ・・・（Ｉ）
　式（Ｉ）中、Ａは飽和脂肪族モノカルボン酸及び／又はヒドロキシ基含有飽和脂肪族モノカルボン酸の脱水酸基残基、Ｂは多塩基酸の脱水酸基残基、Ｃはジアミン及び／又はテトラアミンの脱水素残基、ｍは０≦ｍ≦５である。

　凝集分散剤の好適態様の一つとしては、下記式（ＩＩ）で表される化合物が挙げられる。

　式（ＩＩ）中、Ｒ^１は、炭素数１０～２５の１価の直鎖状脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立に、炭素数２、４、６若しくは８の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数６の２価の脂環式炭化水素基、又は、２価の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^４は、炭素数１～８の２価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立に、炭素数１～３の１価の脂肪族炭化水素基、又は、ヒドロキシアルキルエーテル基を表す。
　式（ＩＩ）中、Ｌ^１～Ｌ^３はそれぞれ独立にアミド結合を表し、Ｌ^１とＬ^３が－ＣＯＮＨ－である場合、Ｌ^２は－ＮＨＣＯ－であり、Ｌ^１とＬ^３が－ＮＨＣＯ－である場合、Ｌ^２は－ＣＯＮＨ－である。

　Ｒ^１は炭素数１０～２５の１価の直鎖状脂肪族炭化水素基であり、例えば、デシル基、ラウリル基、ミリスチル基、ペンタデシル基、ステアリル基、パルミチル基、ノナデシル基、エイコシル基、及び、ベヘニル基等の直鎖状アルキル基；デセニル基、ペンタデセニル基、オレイル基、及び、エイコセニル基等の直鎖状アルケニル基；ペンタデシニル基、オクタデシニル基、及び、ノナデシニル基等の直鎖状アルキニル基が挙げられる。
　中でも、Ｒ^１は、炭素数１４～２５の１価の直鎖状脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数１８～２１の１価の直鎖状脂肪族炭化水素基がより好ましい。直鎖状脂肪族炭化水素基は、アルキル基が好ましい。

　Ｒ^２及びＲ^３における炭素数２、４、６若しくは８の２価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、エチレン基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ヘキシレン基、及び、ｎ－オクチレン基が挙げられる。
　Ｒ^２及びＲ^３における炭素数６の２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、１，４－シクロヘキシレン基、１，３－シクロヘキシレン基、及び、１，２－シクロヘキシレン基が挙げられる。
　Ｒ^２及びＲ^３における２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、１，４－フェニレン基、１，３－フェニレン基、及び、１，２－フェニレン基等の炭素数６～１０のアリーレン基が挙げられる。

　中でも、Ｒ^２及びＲ^３は、増粘効果に優れる点で、炭素数２、４、６若しくは８の２価の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数２、４若しくは６の２価の脂肪族炭化水素基がより好ましく、炭素数２若しくは４の２価の脂肪族炭化水素基が更に好ましく、炭素数２の２価の脂肪族炭化水素基がより好ましい。２価の脂肪族炭化水素基は、直鎖状アルキレン基が好ましい。

　Ｒ^４は、炭素数１～８の２価の脂肪族炭化水素基を表し、中でも、増粘効果に優れる点で、直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基が好ましく、直鎖状アルキレン基がより好ましい。
　また、Ｒ^４における２価の脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～８であり、増粘効果に優れる点で、１～７が好ましく、３～７がより好ましく、３～６が更に好ましく、３～５が特に好ましい。
　したがって、Ｒ^４は、炭素数１～８の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基が好ましく、炭素数１～７の直鎖状アルキレン基がより好ましく、炭素数３～７の直鎖状アルキレン基が更に好ましく、炭素数３～６の直鎖状アルキレン基が特に好ましく、炭素数３～５の直鎖状アルキレン基が最も好ましい。

　Ｒ^５及びＲ^６における炭素数１～３の１価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、及び、イソプロピル基等の炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基；ビニル基、１－メチルビニル基、及び、２－プロペニル基等の炭素数２～３の直鎖状又は分岐鎖状アルケニル基；エチニル基、及び、プロピニル基等の炭素数２～３の直鎖状又は分岐鎖状アルキニル基等が挙げられる。

　Ｒ^５及びＲ^６におけるヒドロキシアルキルエーテル基としては、例えば、２－ヒドロキシエトキシ基、２－ヒドロキシプロポキシ基、及び、２，３－ジヒドロキシプロポキシ基等の、モノ又はジ（ヒドロキシ）Ｃ_１－３アルキルエーテル基が挙げられる。

　中でも、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立に、炭素数１～３の１価の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数１～３の直鎖状アルキル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。

　式（ＩＩ）で表される化合物としては、下記式（ＩＩ－１）～（ＩＩ－９）で表される化合物が好ましい。

　凝集分散剤としては、例えばＡＮＴＩ－ＴＥＲＲＡ－２０３、同２０４、同２０６、同２５０（いずれも商品名、ＢＹＫ社製）：ＡＮＴＩ－ＴＥＲＲＡ－Ｕ（商品名、ＢＹＫ社製）：ＤＩＳＰＥＲ　ＢＹＫ－１０２、同１８０、同１９１（いずれも商品名、ＢＹＫ社製）：ＢＹＫ－Ｐ１０５（商品名、ＢＹＫ社製）：ＴＥＧＯ　Ｄｉｓｐｅｒ６３０、同７００（いずれも商品名、エボニックデグサジャパン社製）：ターレン　ＶＡ－７０５Ｂ（商品名、共栄社化学社製）：ＦＬＯＷＮＯＮ　ＲＣＭ－３００ＴＬ、同ＲＣＭ－２３０ＡＦ（商品名、共栄社化学社製、アマイドワックス）等が挙げられる。

　組成物が凝集分散剤を含む場合、凝集分散剤の含有量は、組成物の全質量に対して、０．１～３５質量％が好ましく、０．３～３０質量％が好ましく、０．５～２７質量％が更に好ましい。
　凝集分散剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～３５質量％が好ましく、０．３～３０質量％が好ましく、０．５～２７質量％が更に好ましい。

＜無機系レオロジーコントロール剤＞
　無機系レオロジーコントロール剤としては、例えば、ベントナイト、シリカ、炭酸カルシウム、及び、スメクタイトが挙げられる。

〔その他の樹脂〕
　組成物は、その他の樹脂を含むのも好ましい。
　上記その他の樹脂とは、樹脂であるレオロジーコントロール剤には該当しない樹脂のことを意味する。
　その他の樹脂は、重量平均分子量が、２０００超であることが好ましい。

　その他の樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、フェノキシ樹脂、などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましい。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０）などが挙げられる。エポキシ樹脂としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。また、エポキシ樹脂は、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）などを用いることもできる。また、その他の樹脂は、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載の樹脂を用いることもできる。また、その他の樹脂が側鎖にエチレン性不飽和基、特に（メタ）アクリロイル基を有する場合、主鎖とエチレン性不飽和基とが脂環構造を有する２価の連結基を介して結合していることも好ましい。

　その他の樹脂の好適態様の一つとしては、不飽和二重結合（例えば、エチレン性不飽和二重結合）、エポキシ基又はオキセタニル基等の重合性基を有する樹脂が挙げられる。重合性基が磁性粒子含有膜を形成する際に反応した場合、機械的強度に優れた磁性粒子含有膜が得られる。
　このようなその他の樹脂としては、例えば、側鎖にエポキシ基を有するポリマー、及び、分子内に２個以上のエポキシ基を有する重合性モノマー又はオリゴマーが挙げられ、その具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。
　これらのその他の樹脂は、市販品を用いてもよいし、ポリマーの側鎖へエポキシ基を導入することによっても得られる。
　市販品としては、例えば、特開２０１２－１５５２８８号公報段落０１９１等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　その他にも、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、同ＥＰ－４００３Ｓ、同ＥＰ－４０１０Ｓ、同ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、ＡＤＥＫＡ社製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、ＡＤＥＫＡ社製）、ＪＥＲ１０３１Ｓ等も挙げられる。
　さらに、フェノールノボラック型エポキシ樹脂の市販品として、ＪＥＲ－１５７Ｓ６５、ＪＥＲ－１５２、ＪＥＲ－１５４、ＪＥＲ－１５７Ｓ７０（以上、三菱化学社製）等が挙げられる。
　側鎖にオキセタニル基を有するポリマー、及び上述の分子内に２個以上のオキセタニル基を有する重合性モノマー又はオリゴマーの具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成社製）を用いることができる。
　ポリマー側鎖にエポキシ基を導入してエポキシ基を有するその他の樹脂を合成する場合、導入反応は、例えばトリエチルアミン、ベンジルメチルアミン等の３級アミン、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩、ピリジン、トリフェニルホスフィン等を触媒として有機溶媒中、反応温度５０～１５０℃で所定時間反応させることにより行える。脂環式エポキシ不飽和化合物の導入量は得られるポリマーの酸価が５～２００ＫＯＨ・ｍｇ／ｇを満たす範囲になるように制御することができる。また、重量平均分子量は、５００～５００００００、好ましくは１０００～５０００００の範囲とすることができる。
　脂環式エポキシ不飽和化合物の代わりに、グリシジル（メタ）アクリレートやアリルグリシジルエーテル等のエポキシ基としてグリシジル基を有するものも使用可能である。このようなものとしては、例えば特開２００９－２６５５１８号公報の段落００４５等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

　その他の樹脂の好適態様の一つとしては、酸基、塩基性基、又は、アミド基を有するその他の樹脂が挙げられる。酸基、塩基性基、又は、アミド基を有するその他の樹脂は、磁性体粒子を分散させる分散剤としての機能を発揮しやすく、本発明の効果がより優れる点から好適である。
　酸基としては、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性水酸基等が挙げられ、本発明の効果がより優れる点から、カルボキシ基が好ましい。
　塩基性基としては、アミノ基（アンモニア、１級アミン又は２級アミンから水素原子を１つ除いた基）、イミノ基が挙げられる。
　中でも、本発明の効果がより優れる点から、その他の樹脂は、カルボキシ基又はアミド基を有することが好ましい。

　その他の樹脂が酸基を有する場合、その他の樹脂の酸価は、本発明の効果がより優れる点から、１０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、３０～４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。

　その他の樹脂としては、組成物中におけるその他の樹脂の分散性が向上して、本発明の効果がより優れる点から、溶媒に対する溶解度が１０ｇ／Ｌ以上であるその他の樹脂を用いることが好ましく、溶媒に対する溶解度が２０ｇ／Ｌ以上であるその他の樹脂を用いることがより好ましい。
　溶媒に対するその他の樹脂の溶解度の上限値は、２０００ｇ／Ｌ以下が好ましく、１０００ｇ／Ｌ以下が特に好ましい。
　溶媒に対する樹脂の溶解度は、２５℃における溶媒１Ｌに対する樹脂の溶解量（ｇ）を意味する。

　その他の樹脂の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、組成物の全質量に対して、０．１～３０質量％が好ましく、１～２０質量％がより好ましく、２～１５質量％が更に好ましく、２．５～１０質量％が特に好ましい。
　その他の樹脂の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～３０質量％が好ましく、１～２０質量％がより好ましく、２～１５質量％が更に好ましく、２．５～１０質量％が特に好ましい。

＜グラフト鎖を含む繰り返し単位を有する樹脂（樹脂Ａ）＞
　その他の樹脂としては、例えば、グラフト鎖を含む繰り返し単位を有する樹脂（以下、「樹脂Ａ」ともいう。）が挙げられる。樹脂Ａは、レオロジーコントロール剤の効果を補助して、組成物の経時安定性の改善効果を向上し得る。

　組成物が樹脂Ａを含む場合、樹脂Ａの含有量は、本発明の効果がより優れる点から、組成物の全質量に対して、０．１～３０質量％が好ましく、０．５～２０質量％がより好ましく、１～１０質量％が更に好ましい。
　樹脂Ａの含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～３０質量％が好ましく、０．５～２０質量％がより好ましく、１～１０質量％が更に好ましい。
　樹脂Ａを使用する場合、樹脂Ａの含有量に対するレオロジーコントロール剤の含有量の質量比（レオロジーコントロール剤／樹脂Ａ）は、１０／９０～９０／１０が好ましく、３０／７０～８０／２０がより好ましく、５０／５０～７０／３０が更に好ましい。

（グラフト鎖を含む繰り返し単位）
　グラフト鎖を含む繰り返し単位において、グラフト鎖が長くなると立体反発効果が高くなり特定磁性粒子の分散性は向上する。一方、グラフト鎖が長すぎると特定磁性粒子への吸着力が低下して、特定磁性粒子の分散性は低下する傾向となる。このため、グラフト鎖は、水素原子を除いた原子数が４０～１００００であることが好ましく、水素原子を除いた原子数が５０～２０００であることがより好ましく、水素原子を除いた原子数が６０～５００であることが更に好ましい。
　ここで、グラフト鎖とは、主鎖の根元（主鎖から枝分かれしている基において主鎖に結合する原子）から、主鎖から枝分かれしている基の末端までを示す。

　また、グラフト鎖は、ポリマー構造を含んでいることが好ましく、このようなポリマー構造としては、例えば、ポリ（メタ）アクリレート構造（例えば、ポリ（メタ）アクリル構造）、ポリエステル構造、ポリウレタン構造、ポリウレア構造、ポリアミド構造、及び、ポリエーテル構造等が挙げられる。
　グラフト鎖と溶媒との相互作用性を向上させ、それにより特定磁性粒子の分散性を高めるために、グラフト鎖は、ポリエステル構造、ポリエーテル構造、及び、ポリ（メタ）アクリレート構造からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むグラフト鎖であることが好ましく、ポリエステル構造及びポリエーテル構造の少なくともいずれかを含むグラフト鎖であることがより好ましい。

　樹脂Ａは、グラフト鎖を含むマクロモノマー（ポリマー構造を有し、主鎖に結合してグラフト鎖を構成するモノマー）を用いて得られる樹脂であってもよい。
　グラフト鎖を含むマクロモノマー（ポリマー構造を有し、主鎖に結合してグラフト鎖を構成するモノマー）としては、特に制限されないが、反応性二重結合性基を含むマクロモノマーを好適に使用できる。

　上記グラフト鎖を含む繰り返し単位に対応し、樹脂Ａの合成に好適に用いられる市販のマクロモノマーとしては、ＡＡ－６、ＡＡ－１０、ＡＢ－６、ＡＳ－６、ＡＮ－６、ＡＷ－６、ＡＡ－７１４、ＡＹ－７０７、ＡＹ－７１４、ＡＫ－５、ＡＫ－３０、及び、ＡＫ－３２（いずれも商品名、東亞合成社製）、並びに、ブレンマーＰＰ－１００、ブレンマーＰＰ－５００、ブレンマーＰＰ－８００、ブレンマーＰＰ－１０００、ブレンマー５５－ＰＥＴ－８００、ブレンマーＰＭＥ－４０００、ブレンマーＰＳＥ－４００、ブレンマーＰＳＥ－１３００、及び、ブレンマー４３ＰＡＰＥ－６００Ｂ（いずれも商品名、日油社製）が用いられる。この中でも、ＡＡ－６、ＡＡ－１０、ＡＢ－６、ＡＳ－６、ＡＮ－６、又は、ブレンマーＰＭＥ－４０００が好ましい。

　樹脂Ａは、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル、及び、環状又は鎖状のポリエステルからなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましく、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル、及び、鎖状のポリエステルからなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことがより好ましく、ポリアクリル酸メチル構造、ポリメタクリル酸メチル構造、ポリカプロラクトン構造、及び、ポリバレロラクトン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが更に好ましい。樹脂Ａは、上記構造を１種単独で含んでいてもよいし、これらの構造を複数含んでいてもよい。
　ここで、ポリカプロラクトン構造とは、ε－カプロラクトンを開環した構造を繰り返し単位として含む構造をいう。ポリバレロラクトン構造とは、δ－バレロラクトンを開環した構造を繰り返し単位として含む構造をいう。

　なお、樹脂Ａが後述する式（１）及び後述する式（２）におけるｊ及びｋが５である繰り返し単位を含む場合、樹脂Ａ中に、上述したポリカプロラクトン構造を導入できる。
　また、樹脂Ａが後述する式（１）及び後述する式（２）におけるｊ及びｋが４である繰り返し単位を含む場合、樹脂中に、上述したポリバレロラクトン構造を導入できる。
　また、樹脂Ａが後述する式（４）におけるＸ^５が水素原子であり、Ｒ^４がメチル基である繰り返し単位を含む場合、樹脂Ａ中に、上述したポリアクリル酸メチル構造を導入できる。
　また、樹脂Ａが後述する式（４）におけるＸ^５がメチル基であり、Ｒ^４がメチル基である繰り返し単位を含む場合、樹脂Ａ中に、上述したポリメタクリル酸メチル構造を導入できる。

　樹脂Ａは、グラフト鎖を含む繰り返し単位として、下記式（１）～式（４）のいずれかで表される繰り返し単位を含むことが好ましく、下記式（１Ａ）、下記式（２Ａ）、下記式（３Ａ）、下記式（３Ｂ）、及び、下記（４）のいずれかで表される繰り返し単位を含むことがより好ましい。

　式（１）～（４）において、Ｗ^１、Ｗ^２、Ｗ^３、及び、Ｗ^４は、それぞれ独立に、酸素原子又はＮＨを表す。Ｗ^１、Ｗ^２、Ｗ^３、及び、Ｗ^４は、酸素原子であることが好ましい。
　式（１）～（４）において、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、及び、Ｘ^５は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、及び、Ｘ^５は、合成上の制約の点からは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数（炭素原子数）１～１２のアルキル基が好ましく、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。

　式（１）～（４）において、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、及び、Ｙ^４は、それぞれ独立に、２価の連結基を表し、連結基は特に構造上制約されない。Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、及び、Ｙ^４で表される２価の連結基として、具体的には、下記の（Ｙ－１）～（Ｙ－２１）の連結基等が挙げられる。下記に示した構造において、Ａ及びＢはそれぞれ、式（１）～（４）における左末端基、右末端基との結合部位を意味する。下記に示した構造のうち、合成の簡便性から、（Ｙ－２）又は（Ｙ－１３）がより好ましい。

　式（１）～（４）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、及び、Ｚ^４は、それぞれ独立に水素原子又は１価の置換基を表す。上記置換基の構造は、特に制限されないが、具体的には、アルキル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基、及び、アミノ基等が挙げられる。これらの中でも、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、及び、Ｚ^４で表される基としては、特に分散性向上の点から、立体反発効果を含む基が好ましく、それぞれ独立に炭素数５～２４のアルキル基又はアルコキシ基がより好ましく、その中でも、特にそれぞれ独立に炭素数５～２４の分岐鎖状アルキル基、炭素数５～２４の環状アルキル基、又は、炭素数５～２４のアルコキシ基が更に好ましい。なお、アルコキシ基中に含まれるアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれでもよい。
　また、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、及び、Ｚ^４で表される置換基は、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、及び／又は、オキセタニル基等の硬化性基を含有する基であるのも好ましい。上記硬化性基を含有する基としては、例えば、「－Ｏ－アルキレン基－（－Ｏ－アルキレン基－）_ＡＬ－（メタ）アクリロイルオキシ基」が挙げられる。ＡＬは、０～５の整数を表し、１が好ましい。上記アルキレン基は、それぞれ独立に、炭素数１～１０が好ましい。上記アルキレン基が置換基を有する場合、置換基は、水酸基が好ましい。
　上記置換基は、オニウム構造を含有する基であってもよい。
　オニウム構造を含有する基は、アニオン部とカチオン部とを有する基である。アニオン部としては、例えば、酸素アニオン（－Ｏ^－）を含有する部分構造が挙げられる。中でも、酸素アニオン（－Ｏ^－）は、式（１）～（４）で表される繰り返し単位において、ｎ、ｍ、ｐ、又は、ｑが付された繰り返し構造の末端に直接結合していることが好ましく、式（１）で表される繰り返し単位において、ｎが付された繰り返し構造の末端（つまり、－（－Ｏ－Ｃ_ｊＨ_２ｊ－ＣＯ－）_ｎ－における右端）に直接結合していることがより好ましい。
　オニウム構造を含有する基の、カチオン部のカチオンとしては、例えば、アンモニウムカチオンが挙げられる。カチオン部がアンモニウムカチオンである場合、カチオン部はカチオン性窒素原子（＞Ｎ^＋＜）を含有する部分構造である。カチオン性窒素原子（＞Ｎ^＋＜）は、４個の置換基（好ましくは有機基）に結合することが好ましく、そのうちの１～４個が炭素数１～１５のアルキル基であることが好ましい。また、４個の置換基のうちの１個以上（好ましくは１個）が、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、及び／又は、オキセタニル基等の硬化性基を含有する基であるのも好ましい。上記置換基がなり得る、上記硬化性基を含有する基としては、例えば、上述の「－Ｏ－アルキレン基－（－Ｏ－アルキレン基－）_ＡＬ－（メタ）アクリロイルオキシ基」が挙げられる。

　式（１）～（４）において、ｎ、ｍ、ｐ、及び、ｑは、それぞれ独立に、１～５００の整数である。
　また、式（１）及び（２）において、ｊ及びｋは、それぞれ独立に、２～８の整数を表す。式（１）及び（２）におけるｊ及びｋは、４～６の整数が好ましく、５がより好ましい。
　また、式（１）及び（２）において、ｎ及びｍは、例えば２以上の整数であり、６以上の整数が好ましく、１０以上の整数がより好ましく、２０以上の整数が更に好ましい。また、樹脂Ａが、ポリカプロラクトン構造、及び、ポリバレロラクトン構造を含む場合、ポリカプロラクトン構造の繰り返し数と、ポリバレロラクトンの繰返し数の和としては、１０以上の整数が好ましく、２０以上の整数がより好ましい。

　式（３）中、Ｒ^３は分岐鎖状又は直鎖状のアルキレン基を表し、炭素数１～１０のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましい。ｐが２～５００のとき、複数存在するＲ^３は互いに同じであっても異なっていてもよい。
　式（４）中、Ｒ^４は水素原子又は１価の有機基を表し、この１価の置換基の構造は特に制限されない。Ｒ^４としては、水素原子、アルキル基、アリール基、又は、ヘテロアリール基が好ましく、水素原子又はアルキル基がより好ましい。Ｒ^４がアルキル基である場合、アルキル基としては、炭素数１～２０の直鎖状アルキル基、炭素数３～２０の分岐鎖状アルキル基、又は、炭素数５～２０の環状アルキル基が好ましく、炭素数１～２０の直鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数１～６の直鎖状アルキル基が更に好ましい。式（４）において、ｑが２～５００のとき、グラフト鎖中に複数存在するＸ^５及びＲ^４は互いに同じであっても異なっていてもよい。

　また、樹脂Ａは、２種以上の構造が異なる、グラフト鎖を含む繰り返し単位を含んでいてもよい。すなわち、樹脂Ａの分子中に、互いに構造の異なる式（１）～（４）で示される繰り返し単位を含んでいてもよく、また、式（１）～（４）においてｎ、ｍ、ｐ、及び、ｑがそれぞれ２以上の整数を表す場合、式（１）及び（２）においては、側鎖中にｊ及びｋが互いに異なる構造を含んでいてもよく、式（３）及び（４）においては、分子内に複数存在するＲ^３、Ｒ^４、及び、Ｘ^５は互いに同じであっても異なっていてもよい。

　式（１）で表される繰り返し単位としては、下記式（１Ａ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。
　また、式（２）で表される繰り返し単位としては、下記式（２Ａ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。

　式（１Ａ）中、Ｘ^１、Ｙ^１、Ｚ^１、及び、ｎは、式（１）におけるＸ^１、Ｙ^１、Ｚ^１、及び、ｎと同義であり、好ましい範囲も同様である。式（２Ａ）中、Ｘ^２、Ｙ^２、Ｚ^２、及び、ｍは、式（２）におけるＸ^２、Ｙ^２、Ｚ^２、及び、ｍと同義であり、好ましい範囲も同様である。

　また、式（３）で表される繰り返し単位としては、下記式（３Ａ）又は式（３Ｂ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。

　式（３Ａ）又は（３Ｂ）中、Ｘ^３、Ｙ^３、Ｚ^３、及び、ｐは、式（３）におけるＸ^３、Ｙ^３、Ｚ^３、及び、ｐと同義であり、好ましい範囲も同様である。

　樹脂Ａは、グラフト鎖を含む繰り返し単位として、式（１Ａ）で表される繰り返し単位を含むことがより好ましい。

　また、樹脂Ａとしては、ポリアルキレンイミン構造とポリエステル構造を含む繰り返し単位を含むことも好ましい。ポリアルキレンイミン構造とポリエステル構造を含む繰り返し単位は、主鎖にポリアルキレンイミン構造を含み、グラフト鎖としてポリエステル構造を含むことが好ましい。

　上記ポリアルキレンイミン構造とは、同一又は異なるアルキレンイミン鎖を２つ以上含む重合構造である。アルキレンイミン鎖としては、具体的には下記式（４Ａ）及び下記式（４Ｂ）で表されるアルキレンイミン鎖が挙げられる。

　式（４Ａ）中、Ｒ^Ｘ１及びＲ^Ｘ２は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。ａ^１は、２以上の整数を表す。＊^１はポリエステル鎖、隣接するアルキレンイミン鎖、又は、水素原子若しくは置換基との結合位置を表す。

　式（４Ｂ）中、Ｒ^Ｘ３及びＲ^Ｘ４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。ａ^２は、２以上の整数を表す。式（４Ｂ）で表されるアルキレンイミン鎖は、アニオン性基を有するポリエステル鎖と、式（４Ｂ）中に明示されるＮ^＋とポリエステル鎖に含まれるアニオン性基が塩架橋基を形成することにより、結合する。

　式（４Ａ）及び式（４Ｂ）中の＊、及び、式（４Ｂ）中の＊^２は、それぞれ独立に、隣接するアルキレンイミン鎖、又は、水素原子若しくは置換基と結合する位置を表す。
　式（４Ａ）及び式（４Ｂ）中の＊としては、中でも、隣接するアルキレンイミン鎖と結合する位置を表すことが好ましい。

　式（４Ａ）中のＲ^Ｘ１及びＲ^Ｘ２、並びに式（４Ｂ）中のＲ^Ｘ３及びＲ^Ｘ４は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
　アルキル基の炭素数としては、炭素数１～６が好ましく、炭素数１～３が好ましい。
　式（４Ａ）中、Ｒ^Ｘ１及びＲ^Ｘ２としては、いずれも水素原子であることが好ましい。
　式（４Ｂ）中、Ｒ^Ｘ３及びＲ^Ｘ４としては、いずれも水素原子であることが好ましい。

　式（４Ａ）中のａ^１及び式（４Ｂ）中のａ^２としては、２以上の整数であれば特に制限されない。その上限値としては１０以下が好ましく、６以下がより好ましく、４以下が更に好ましく、２又は３が更に好ましく、２が特に好ましい。

　式（４Ａ）及び式（４Ｂ）中、＊は、隣接するアルキレンイミン鎖、又は、水素原子若しくは置換基との結合位置を表す。
　上記置換基としては、例えばアルキル基（例えば炭素数１～６のアルキル基）等の置換基が挙げられる。また、置換基として、ポリエステル鎖が結合してもよい。

　式（４Ａ）で表されるアルキレンイミン鎖は、上述した＊¹の位置で、ポリエステル鎖と連結していることが好ましい。具体的には、ポリエステル鎖中のカルボニル炭素が、上述した＊¹の位置で結合することが好ましい。
　上記ポリエステル鎖としては、下記式（５Ａ）で表されるポリエステル鎖が挙げられる。

　アルキレンイミン鎖が式（４Ｂ）で表されるアルキレンイミン鎖である場合、ポリエステル鎖はアニオン性（好ましくは酸素アニオンＯ^－）を含み、このアニオン性と式（４Ｂ）中のＮ^＋とが塩架橋基を形成することが好ましい。
　このようなポリエステル鎖としては、下記式（５Ｂ）で表されるポリエステル鎖が挙げられる。

　式（５Ａ）中のＬ^Ｘ１、及び、式（５Ｂ）中のＬ^Ｘ２は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。２価の連結基としては、好ましくは炭素数３～３０のアルキレン基が挙げられる。

　式（５Ａ）中のｂ^１１、及び、式（５Ｂ）中のｂ^２１は、それぞれ独立に２以上の整数を表し、６以上の整数が好ましく、その上限は、例えば、２００以下である。

　式（５Ａ）中のｂ^１２、及び、式（５Ｂ）中のｂ^２２は、それぞれ独立に０又は１を表す。

　式（５Ａ）中のＸ^Ａ、及び、式（５Ｂ）中のＸ^Ｂは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ポリアルキレンオキシアルキル基、及び、アリール基等が挙げられる。

　上記アルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれでもよい。）、及び、上記アルコキシ基中に含まれるアルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれでもよい。）の炭素数としては、１～３０が挙げられ、１～１０が好ましい。また、上記アルキル基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては、水酸基及びハロゲン原子（ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子等）が挙げられる。

　ポリアルキレンオキシアルキル基とは、Ｒ^Ｘ６（ＯＲ^Ｘ７）_ｐ（Ｏ）_ｑ－で表される置換基である。Ｒ^Ｘ６はアルキル基を表し、Ｒ^Ｘ７はアルキレン基を表し、ｐは２以上の整数を表し、ｑは、０又は１を表す。
　Ｒ^Ｘ６で表されるアルキル基は、Ｘ^Ａで表されるアルキル基と同義である。また、Ｒ^Ｘ７で表されるアルキレン基としては、Ｘ^Ａで表されるアルキル基から水素原子を１つ除いた基が挙げられる。
　ｐは、２以上の整数であり、その上限値としては、例えば１０以下であり、５以下が好ましい。

　アリール基としては、例えば、炭素数６～２４のアリール基（単環及び多環のいずれであってもよい。）が挙げられる。
　上記アリール基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、及び、シアノ基等が挙げられる。

　上記ポリエステル鎖としては、ε－カプロラクトン、δ－カプロラクトン、β－プロピオラクトン、γ－ブチロラクトン、δ－バレロラクトン、γ－バレロラクトン、エナントラクトン、β－ブチロラクトン、γ－ヘキサノラクトン、γ－オクタノラクトン、δ－ヘキサラノラクトン、δ－オクタノラクトン、δ－ドデカノラクトン、α－メチル－γ－ブチロラクトン、及び、ラクチド（Ｌ体であってもＤ体であってもよい。）等のラクトンを開環した構造が好ましく、ε－カプロラクトン又はδ－バレロラクトンを開環した構造がより好ましい。

　上記ポリアルキレンイミン構造とポリエステル構造を含む繰り返し単位としては、特許第５９２３５５７号に記載の合成方法に準じて合成できる。

　樹脂Ａにおいて、グラフト鎖を含む繰り返し単位の含有量は、質量換算で、樹脂Ａの全質量に対して、例えば２～１００質量％であり、２～９５質量％が好ましく、２～９０質量％がより好ましく、５～３０質量％が更に好ましい。グラフト鎖を含む繰り返し単位がこの範囲内で含まれると、本発明の効果がより優れる。

（疎水性繰り返し単位）
　また、樹脂Ａは、グラフト鎖を含む繰り返し単位とは異なる（すなわち、グラフト鎖を含む繰り返し単位には相当しない）疎水性繰り返し単位を含んでいてもよい。ただし、本明細書において、疎水性繰り返し単位は、酸基（例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、フェノール性水酸基等）を有さない繰り返し単位である。

　疎水性繰り返し単位は、ＣｌｏｇＰ値が１．２以上の化合物（モノマー）に由来する（対応する）繰り返し単位であることが好ましく、ＣｌｏｇＰ値が１．２～８の化合物に由来する繰り返し単位であることがより好ましい。これにより、本発明の効果をより確実に発現できる。

　ＣｌｏｇＰ値は、Ｄａｙｌｉｇｈｔ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　Ｓｙｓｔｅｍ，　Ｉｎｃ．から入手できるプログラム「ＣＬＯＧＰ」で計算された値である。このプログラムは、Ｈａｎｓｃｈ，　Ｌｅｏのフラグメントアプローチ（下記文献参照）により算出される「計算ｌｏｇＰ」の値を提供する。フラグメントアプローチは化合物の化学構造に基づいており、化学構造を部分構造（フラグメント）に分割し、そのフラグメントに対して割り当てられたｌｏｇＰ寄与分を合計して化合物のｌｏｇＰ値を推算している。その詳細は以下の文献に記載されている。本明細書では、プログラムＣＬＯＧＰ　ｖ４．８２により計算したＣｌｏｇＰ値を用いる。
　Ａ．　Ｊ．　Ｌｅｏ，　Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，　Ｖｏｌ．４，　Ｃ．　Ｈａｎｓｃｈ，　Ｐ．　Ｇ．　Ｓａｍｍｎｅｎｓ，　Ｊ．　Ｂ．　Ｔａｙｌｏｒ　ａｎｄ　Ｃ．　Ａ．　Ｒａｍｓｄｅｎ，　Ｅｄｓ．，　ｐ．２９５，　Ｐｅｒｇａｍｏｎ　Ｐｒｅｓｓ，　１９９０　Ｃ．　Ｈａｎｓｃｈ　＆　Ａ．　Ｊ．　Ｌｅｏ．　ＳＵｂｓｔｉｔｕｅｎｔ　Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ　Ｆｏｒ　Ｃｏｒｒｅｌａｔｉｏｎ　Ａｎａｌｙｓｉｓ　ｉｎ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ａｎｄ　Ｂｉｏｌｏｇｙ．　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ．　Ａ．Ｊ．　Ｌｅｏ．　Ｃａｌｃｕｌａｔｉｎｇ　ｌｏｇＰｏｃｔ　ｆｒｏｍ　ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ．　Ｃｈｅｍ．　Ｒｅｖ．，　９３，　１２８１－１３０６，　１９９３．

　ｌｏｇＰは、分配係数Ｐ（Ｐａｒｔｉｔｉｏｎ　Ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）の常用対数を意味し、ある有機化合物が油（一般的には１－オクタノール）と水の２相系の平衡でどのように分配されるかを定量的な数値として表す物性値であり、以下の式で示される。
　　ｌｏｇＰ＝ｌｏｇ（Ｃｏｉｌ／Ｃｗａｔｅｒ）
　式中、Ｃｏｉｌは油相中の化合物のモル濃度を、Ｃｗａｔｅｒは水相中の化合物のモル濃度を表す。
　ｌｏｇＰの値が０をはさんでプラスに大きくなると油溶性が増し、マイナスで絶対値が大きくなると水溶性が増し、有機化合物の水溶性と負の相関があり、有機化合物の親疎水性を見積るパラメータとして広く利用されている。

　樹脂Ａは、疎水性繰り返し単位として、下記式（ｉ）～（ｉｉｉ）で表される単量体に由来の繰り返し単位から選択された１種以上の繰り返し単位を含むことが好ましい。

　上記式（ｉ）～（ｉｉｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、及び、Ｒ^３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、及び、臭素原子等）、又は、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、及び、プロピル基等）を表す。
　Ｒ^１、Ｒ^２、及び、Ｒ^３は、水素原子又は炭素数が１～３のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましい。Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子であることが更に好ましい。
　Ｘは、酸素原子（－Ｏ－）又はイミノ基（－ＮＨ－）を表し、酸素原子が好ましい。

　Ｌは、単結合又は２価の連結基である。２価の連結基としては、２価の脂肪族基（例えば、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基）、２価の芳香族基（例えば、アリーレン基、置換アリーレン基）、２価の複素環基、酸素原子（－Ｏ－）、硫黄原子（－Ｓ－）、イミノ基（－ＮＨ－）、置換イミノ基（－ＮＲ^３１－、ここでＲ^３１は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、カルボニル基（－ＣＯ－）、及び、これらの組合せ等が挙げられる。

　２価の脂肪族基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０が更に好ましい。脂肪族基は不飽和脂肪族基であっても飽和脂肪族基であってもよいが、飽和脂肪族基が好ましい。また、脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、芳香族基、及び、複素環基等が挙げられる。

　２価の芳香族基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１５がより好ましく、６～１０が更に好ましい。また、芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、及び、複素環基等が挙げられる。

　２価の複素環基は、複素環として５員環又は６員環を含むことが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環、又は、芳香族環が縮合していてもよい。また、複素環基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）、チオキソ基（＝Ｓ）、イミノ基（＝ＮＨ）、置換イミノ基（＝Ｎ－Ｒ^３２、ここでＲ^３２は脂肪族基、芳香族基、又は、複素環基）、脂肪族基、芳香族基、及び、複素環基が挙げられる。

　Ｌは、単結合、アルキレン基又はオキシアルキレン構造を含む２価の連結基が好ましい。オキシアルキレン構造は、オキシエチレン構造又はオキシプロピレン構造がより好ましい。また、Ｌは、オキシアルキレン構造を２以上繰り返して含むポリオキシアルキレン構造を含んでいてもよい。ポリオキシアルキレン構造としては、ポリオキシエチレン構造又はポリオキシプロピレン構造が好ましい。ポリオキシエチレン構造は、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）ｎ－で表され、ｎは、２以上の整数が好ましく、２～１０の整数がより好ましい。

　Ｚとしては、脂肪族基（例えば、アルキル基、置換アルキル基、不飽和アルキル基、置換不飽和アルキル基、）、芳香族基（例えば、アリール基、置換アリール基、アリーレン基、置換アリーレン基）、複素環基、及び、これらの組み合わせが挙げられる。これらの基には、酸素原子（－Ｏ－）、硫黄原子（－Ｓ－）、イミノ基（－ＮＨ－）、置換イミノ基（－ＮＲ^３１－、ここでＲ^３１は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、又は、カルボニル基（－ＣＯ－）が含まれていてもよい。

　脂肪族基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０が更に好ましい。脂肪族基には、更に環集合炭化水素基、架橋環式炭化水素基が含まれ、環集合炭化水素基の例としては、ビシクロヘキシル基、パーヒドロナフタレニル基、ビフェニル基、及び、４－シクロヘキシルフェニル基等が含まれる。架橋環式炭化水素環として、例えば、ピナン、ボルナン、ノルピナン、ノルボルナン、ビシクロオクタン環（ビシクロ［２．２．２］オクタン環、及び、ビシクロ［３．２．１］オクタン環等）等の２環式炭化水素環、ホモブレダン、アダマンタン、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン、及び、トリシクロ［４．３．１．１^２，５］ウンデカン環等の３環式炭化水素環、並びに、テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカン、及び、パーヒドロ－１，４－メタノ－５，８－メタノナフタレン環等の４環式炭化水素環等が挙げられる。また、架橋環式炭化水素環には、縮合環式炭化水素環、例えば、パーヒドロナフタレン（デカリン）、パーヒドロアントラセン、パーヒドロフェナントレン、パーヒドロアセナフテン、パーヒドロフルオレン、パーヒドロインデン、及び、パーヒドロフェナレン環等の５～８員シクロアルカン環が複数個縮合した縮合環も含まれる。
　脂肪族基は不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。また、脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、芳香族基及び複素環基が挙げられる。ただし、脂肪族基は、置換基として酸基を有さない。

　芳香族基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１５がより好ましく、６～１０が更に好ましい。また、芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、及び、複素環基が挙げられる。ただし、芳香族基は、置換基として酸基を有さない。

　複素環基は、複素環として５員環又は６員環を含むことが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環又は芳香族環が縮合していてもよい。また、複素環基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）、チオキソ基（＝Ｓ）、イミノ基（＝ＮＨ）、置換イミノ基（＝Ｎ－Ｒ^３２、ここでＲ^３２は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、脂肪族基、芳香族基、及び、複素環基が挙げられる。ただし、複素環基は、置換基として酸基を有さない。

　上記式（ｉｉｉ）中、Ｒ^４、Ｒ^５、及び、Ｒ^６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、及び、臭素原子等）、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、及び、プロピル基等）、Ｚ、又は、Ｌ－Ｚを表す。ここでＬ及びＺは、上記における基と同義である。Ｒ^４、Ｒ^５、及び、Ｒ^６としては、水素原子、又は、炭素数が１～３のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。

　上記式（ｉ）で表される単量体として、Ｒ^１、Ｒ^２、及び、Ｒ^３が水素原子、又は、メチル基であって、Ｌが単結合又はアルキレン基若しくはオキシアルキレン構造を含む２価の連結基であって、Ｘが酸素原子又はイミノ基であって、Ｚが脂肪族基、複素環基、又は、芳香族基である化合物が好ましい。
　また、上記式（ｉｉ）で表される単量体として、Ｒ^１が水素原子又はメチル基であって、Ｌがアルキレン基であって、Ｚが脂肪族基、複素環基、又は、芳香族基である化合物が好ましい。また、上記式（ｉｉｉ）で表される単量体として、Ｒ^４、Ｒ^５、及び、Ｒ^６が水素原子又はメチル基であって、Ｚが脂肪族基、複素環基、又は、芳香族基である化合物が好ましい。

　式（ｉ）～（ｉｉｉ）で表される代表的な化合物の例としては、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、及び、スチレン類等から選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられる。
　なお、式（ｉ）～（ｉｉｉ）で表される代表的な化合物の例としては、特開２０１３－２４９４１７号公報の段落００８９～００９３に記載の化合物を参照でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　樹脂Ａにおいて、疎水性繰り返し単位の含有量は、質量換算で、樹脂Ａの全質量に対して、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましい。

（特定磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基）
　樹脂Ａは、特定磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基を有していてもよい。
　樹脂Ａは、特定磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基を含む繰り返し単位を更に含むことが好ましい。
　特定磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基としては、例えば、酸基、塩基性基、配位性基、及び、反応性を有する官能基等が挙げられる。
　樹脂Ａが、酸基、塩基性基、配位性基、又は、反応性を有する官能基を含む場合、それぞれ、酸基を含む繰り返し単位、塩基性基を含む繰り返し単位、配位性基を含む繰り返し単位、又は、反応性を有する官能基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。

　酸基を含む繰り返し単位は、上記のグラフト鎖を含む繰り返し単位と同一の繰り返し単位であっても、異なる繰り返し単位であってもよいが、酸基を含む繰り返し単位は、上記の疎水性繰り返し単位とは異なる繰り返し単位である（すなわち、上記の疎水性繰り返し単位には相当しない）。

　特定磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基である酸基としては、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及び、フェノール性水酸基等があり、カルボン酸基、スルホン酸基、及び、リン酸基のうち少なくとも１種が好ましく、カルボン酸基がより好ましい。カルボン酸基は、特定磁性粒子への吸着力が良好で、且つ、分散性が高い。
　すなわち、樹脂Ａは、カルボン酸基、スルホン酸基、及び、リン酸基のうち少なくとも１種を含む繰り返し単位を更に含むことが好ましい。

　樹脂Ａは、酸基を含む繰り返し単位を１種又は２種以上有してもよい。
　樹脂Ａが酸基を含む繰り返し単位を含む場合、その含有量は、質量換算で、樹脂Ａの全質量に対して、５～８０質量％が好ましく、１０～６０質量％がより好ましい。

　特定磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基である塩基性基としては、例えば、第１級アミノ基、第２級アミノ基、第３級アミノ基、Ｎ原子を含むヘテロ環、及び、アミド基等があり、好ましい塩基性基は、特定磁性粒子への吸着力が良好で、且つ、分散性が高い点で、第３級アミノ基である。樹脂Ａは、これらの塩基性基を１種又は２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ａが塩基性基を含む繰り返し単位を含む場合、その含有量は、質量換算で、樹脂Ａの全質量に対して、０．０１～５０質量％が好ましく、０．０１～３０質量％がより好ましい。

　特定磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基である配位性基、及び、反応性を有する官能基としては、例えば、アセチルアセトキシ基、トリアルコキシシリル基、イソシアネート基、酸無水物、及び、酸塩化物等が挙げられる。好ましい官能基は、特定磁性粒子への吸着力が良好で、特定磁性粒子の分散性が高い点で、アセチルアセトキシ基である。樹脂Ａは、これらの基を１種又は２種以上有してもよい。
　樹脂Ａが、配位性基を含む繰り返し単位、又は、反応性を有する官能基を含む繰り返し単位を含む場合、これらの含有量は、質量換算で、樹脂Ａの全質量に対して、１０～８０質量％が好ましく、２０～６０質量％がより好ましい。

　上記樹脂Ａが、グラフト鎖以外に、特定磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基を含む場合、上記の各種の特定磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基を含んでいればよく、これらの官能基がどのように導入されているかは特に制限されない。例えば、組成物に含まれる樹脂は、下記式（ｉｖ）～（ｖｉ）で表される単量体に由来の繰り返し単位から選択された１種以上の繰り返し単位を含むことが好ましい。

　式（ｉｖ）～（ｖｉ）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及び、Ｒ^１３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、及び、臭素原子等）、又は、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、及び、プロピル基等）を表す。
　式（ｉｖ）～（ｖｉ）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及び、Ｒ^１３としては、水素原子、又は、炭素数が１～３のアルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。一般式（ｉｖ）中、Ｒ^１２及びＲ^１３としては、水素原子が更に好ましい。

　式（ｉｖ）中のＸ_１は、酸素原子（－Ｏ－）又はイミノ基（－ＮＨ－）を表し、酸素原子が好ましい。
　また、式（ｖ）中のＹは、メチン基又は窒素原子を表す。

　また、式（ｉｖ）～（ｖ）中のＬ_１は、単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基の定義は、上述した式（ｉ）中のＬで表される２価の連結基の定義と同じである。

　Ｌ_１は、単結合、アルキレン基又はオキシアルキレン構造を含む２価の連結基が好ましい。オキシアルキレン構造は、オキシエチレン構造又はオキシプロピレン構造がより好ましい。また、Ｌ_１は、オキシアルキレン構造を２以上繰り返して含むポリオキシアルキレン構造を含んでいてもよい。ポリオキシアルキレン構造としては、ポリオキシエチレン構造又はポリオキシプロピレン構造が好ましい。ポリオキシエチレン構造は、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）ｎ－で表され、ｎは、２以上の整数が好ましく、２～１０の整数がより好ましい。

　式（ｉｖ）～（ｖｉ）中、Ｚ_１は、グラフト鎖以外に特定磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基を表し、カルボン酸基、又は、第３級アミノ基が好ましく、カルボン酸基がより好ましい。

　式（ｖｉ）中、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及び、Ｒ^１６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、及び、臭素原子等）、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、及び、プロピル基等）、－Ｚ_１、又は、Ｌ_１－Ｚ_１を表す。ここでＬ_１及びＺ_１は、上記におけるＬ_１及びＺ_１と同義であり、好ましい例も同様である。Ｒ^１４、Ｒ^１５、及び、Ｒ^１６としては、水素原子、又は、炭素数が１～３のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。

　式（ｉｖ）で表される単量体として、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及び、Ｒ^１３がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であって、Ｌ_１がアルキレン基又はオキシアルキレン構造を含む２価の連結基であって、Ｘ_１が酸素原子又はイミノ基であって、Ｚ_１がカルボン酸基である化合物が好ましい。
　また、式（ｖ）で表される単量体として、Ｒ^１１が水素原子又はメチル基であって、Ｌ_１がアルキレン基であって、Ｚ_１がカルボン酸基であって、Ｙがメチン基である化合物が好ましい。
　更に、式（ｖｉ）で表される単量体として、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及び、Ｒ^１６がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であって、Ｚ_１がカルボン酸基である化合物が好ましい。

　以下に、式（ｉｖ）～（ｖｉ）で表される単量体（化合物）の代表的な例を示す。
　単量体の例としては、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含む化合物（例えば、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル）とコハク酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含む化合物とフタル酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含む化合物とテトラヒドロキシフタル酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含む化合物と無水トリメリット酸との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含む化合物とピロメリット酸無水物との反応物、アクリル酸、アクリル酸ダイマー、アクリル酸オリゴマー、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、４－ビニル安息香酸、ビニルフェノール、及び、４－ヒドロキシフェニルメタクリルアミド等が挙げられる。

　特定磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基を含む繰り返し単位の含有量は、特定磁性粒子との相互作用、経時安定性、及び、現像液への浸透性の点から、質量換算で、樹脂Ａの全質量に対して、０．０５～９０質量％が好ましく、１．０～８０質量％がより好ましく、１０～７０質量％が更に好ましい。

（エチレン性不飽和基）
　樹脂Ａは、エチレン性不飽和基を含んでいてもよい。
　エチレン性不飽和基としては特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、及び、スチリル基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　樹脂Ａとしては、中でも、側鎖にエチレン性不飽和基を含む繰り返し単位を含むことが好ましく、側鎖にエチレン性不飽和基を含み、且つ（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位（以下、「側鎖にエチレン性不飽和基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位」ともいう。）を含むことがより好ましい。
　側鎖にエチレン性不飽和基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位は、例えば、カルボン酸基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位を含む樹脂Ａ中の上記カルボン酸基に、グリシジル基又は脂環式エポキシ基を含むエチレン性不飽和化合物を付加反応させて得られる。このようにして、側鎖にエチレン性不飽和基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位が形成され得る。

　樹脂Ａがエチレン性不飽和基を含む繰り返し単位を含む場合、その含有量は、質量換算で、樹脂Ａの全質量に対して、３０～７０質量％が好ましく、４０～６０質量％がより好ましい。

（その他の硬化性基）
　樹脂Ａは、エチレン性不飽和基以外にもその他の硬化性基を含んでいてもよい。
　その他の硬化性基としては、例えば、エポキシ基、及び、オキセタニル基が挙げられる。
　樹脂Ａとしては、中でも、側鎖にその他の硬化性基を含む繰り返し単位を含むことが好ましく、側鎖にその他の硬化性基を含み、且つ（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位（以下、「側鎖にその他の硬化性基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位」ともいう。）を含むことがより好ましい。
　側鎖にその他の硬化性基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位は、例えば、（メタ）アクリル酸グリシジルが挙げられる。

　樹脂Ａがその他の硬化性基を含む繰り返し単位を含む場合、その含有量は、質量換算で、樹脂Ａの全質量に対して、５～５０質量％が好ましく、１０～３０質量％がより好ましい。

（その他の繰り返し単位）
　更に、樹脂Ａは、膜形成能等の諸性能を向上する目的で、本発明の効果を損なわない限りにおいて、上述の繰り返し単位とは異なる、種々の機能を有する他の繰り返し単位を更に有していてもよい。
　このような、他の繰り返し単位としては、例えば、アクリロニトリル類、及び、メタクリロニトリル類等から選ばれるラジカル重合性化合物に由来の繰り返し単位が挙げられる。
　樹脂Ａは、これらの他の繰り返し単位を１種又は２種以上使用でき、その含有量は、質量換算で、樹脂Ａの全質量に対して、０～８０質量％が好ましく、１０～６０質量％がより好ましい。

（樹脂Ａの物性）
　樹脂Ａの酸価としては特に制限されないが、例えば、０～４００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、１０～３５０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、３０～３００ｍｇＫＯＨ／ｇが更に好ましく、５０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲が特に好ましい。
　樹脂Ａの酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば、特定磁性粒子の沈降安定性をより向上できる。

　本明細書において酸価は、例えば、化合物中における酸基の平均含有量から算出できる。また、樹脂中における酸基を含む繰り返し単位の含有量を変えることで、所望の酸価を有する樹脂を得られる。

　樹脂Ａの重量平均分子量は特に制限されないが、例えば、３，０００以上が好ましく、４，０００以上がより好ましく、５，０００以上が更に好ましく、６，０００以上が特に好ましい。また、上限値としては、例えば、３００，０００以下が好ましく、２００，０００以下がより好ましく、１００，０００以下が更に好ましく、５０，０００以下が特に好ましい。
　樹脂Ａは、公知の方法に基づいて合成できる。

　なお、樹脂Ａの具体例の例としては、特開２０１３－２４９４１７号公報の段落０１２７～０１２９に記載の高分子化合物を参照でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　また、樹脂Ａとしては、特開２０１０－１０６２６８号公報の段落００３７～０１１５（対応するＵＳ２０１１／０１２４８２４の段落００７５～０１３３欄）のグラフト共重合体も使用でき、これらの内容は援用でき、本明細書に組み込まれる。

＜アルカリ可溶性樹脂＞
　その他の樹脂は、アルカリ可溶性樹脂を含んでいてもよい。
　本明細書において、アルカリ可溶性樹脂とは、アルカリ可溶性を促進する基（アルカリ可溶性基、例えばカルボン酸基等の酸基）を含む樹脂を意味し、上述の樹脂Ａとは異なる樹脂を意味する。

　アルカリ可溶性樹脂としては、分子中に少なくとも１個のアルカリ可溶性基を含む樹脂が挙げられ、例えば、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリシロキサン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂、（メタ）アクリル／（メタ）アクリルアミド共重合体、エポキシ樹脂、及び、ポリイミド樹脂等が挙げられる。

　アルカリ可溶性樹脂の具体例としては、不飽和カルボン酸とエチレン性不飽和化合物の共重合体が挙げられる。
　不飽和カルボン酸としては特に制限されないが、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、及び、ビニル酢酸等のモノカルボン酸類；イタコン酸、マレイン酸、及び、フマル酸等のジカルボン酸、又は、その酸無水物；並びに、フタル酸モノ（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）等の多価カルボン酸モノエステル類；等が挙げられる。

　共重合可能なエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリル酸メチル等が挙げられる。また、特開２０１０－０９７２１０号公報の段落００２７、及び、特開２０１５－０６８８９３号公報の段落００３６～００３７に記載の化合物も使用でき、上記の内容は本明細書に組み込まれる。

　また、共重合可能なエチレン性不飽和化合物であって、側鎖にエチレン性不飽和基を含む化合物を組み合わせて用いてもよい。つまり、アルカリ可溶性樹脂は、側鎖にエチレン性不飽和基を含む繰り返し単位を含んでいてもよい。
　側鎖に含まれるエチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリル酸基が好ましい。
　側鎖にエチレン性不飽和基を含む繰り返し単位は、例えば、カルボン酸基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位のカルボン酸基に、グリシジル基又は脂環式エポキシ基を含むエチレン性不飽和化合物を付加反応させて得られる。

　アルカリ可溶性樹脂としては、硬化性基を含むアルカリ可溶性樹脂も好ましい。
　上記硬化性基としては、例えば、エチレン性不飽和基（例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、及び、スチリル基等）、及び、環状エーテル基（例えば、エポキシ基、オキセタニル基等）等が挙げられるが、これらに制限されない。
　中でも、ラジカル反応で重合制御が可能な点で、硬化性基としては、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
　硬化性基を含むアルカリ可溶性樹脂としては、硬化性基を側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂等が好ましい。硬化性基を含むアルカリ可溶性樹脂としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有　ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ　ａｃｒｙｌｉｃ　ｏｌｉｇｏｍｅｒ．Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｓｈａｍｒｏｃｋ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ－２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル　ＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセル・オルネクス社製）、及び、アクリキュアＲＤ－Ｆ８（日本触媒社製）等が挙げられる。

　アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、特開昭５９－０４４６１５号公報、特公昭５４－０３４３２７号公報、特公昭５８－１２５７７号公報、特公昭５４－２５９５７号公報、特開昭５４－９２７２３号公報、特開昭５９－０５３８３６号公報、及び、特開昭５９－０７１０４８号公報に記載されている側鎖にカルボン酸基を含むラジカル重合体；欧州特許第９９３９６６号公報、欧州特許第１２０４０００号明細書、及び、特開２００１－３１８４６３号公報に記載されているアルカリ可溶性基を含むアセタール変性ポリビニルアルコール系バインダー樹脂；ポリビニルピロリドン；ポリエチレンオキサイド；アルコール可溶性ナイロン、及び、２，２－ビス－（４－ヒドロキシフェニル）－プロパンとエピクロロヒドリンとの反応物であるポリエーテル等；並びに、国際公開第２００８／１２３０９７号パンフレットに記載のポリイミド樹脂；等を使用できる。

　アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、特開２０１６－０７５８４５号公報の段落０２２５～０２４５に記載の化合物も使用でき、上記内容は本明細書に組み込まれる。

　アルカリ可溶性樹脂としては、ポリイミド前駆体も使用できる。ポリイミド前駆体は、酸無水物基を含む化合物とジアミン化合物とを４０～１００℃下において付加重合反応して得られる樹脂を意味する。
　上記ポリイミド前駆体の具体例としては、例えば、特開２００８－１０６２５０号公報の段落００１１～００３１に記載の化合物、特開２０１６－１２２１０１号公報の段落００２２～００３９に記載の化合物、特開２０１６－０６８４０１号公報の段落００６１～００９２に記載の化合物、特開２０１４－１３７５２３号公報の段落００５０に記載された樹脂、特開２０１５－１８７６７６号公報の段落００５８に記載された樹脂、及び、特開２０１４－１０６３２６号公報の段落００１２～００１３に記載された樹脂等が挙げられ、上記の内容は本明細書に組み込まれる。

　アルカリ可溶性樹脂としては、〔ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体、及び、〔アリル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が、膜強度、感度、及び、現像性のバランスに優れており、好適である。
　上記その他の付加重合性ビニルモノマーには、１種単独でも２種以上でもよい。
　上記共重合体は、硬化膜の耐湿性がより優れる点から、硬化性基を有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和基を含むことがより好ましい。
　例えば、上記その他の付加重合性ビニルモノマーとして硬化性基を有するモノマーを使用して共重合体に硬化性基が導入されていてもよい。また、共重合体中の（メタ）アクリル酸に由来する単位及び／又は上記その他の付加重合性ビニルモノマーに由来する単位の１種以上の、一部又は全部に、硬化性基（好ましくは（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和基）が導入されていてもよい。
　上記その他の付加重合性ビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、スチレン系単量体（ヒドロキシスチレン等）、及び、エーテルダイマーが挙げられる。
　上記エーテルダイマーは、例えば、下記一般式（ＥＤ１）で表される化合物、及び、下記一般式（ＥＤ２）で表される化合物が挙げられる。

　一般式（ＥＤ１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～２５の炭化水素基を表す。

　一般式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子又は炭素数１～３０の有機基を表す。一般式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。

　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

　アルカリ可溶性樹脂の酸価としては、特に制限されないが、一般に、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。

　組成物がアルカリ可溶性樹脂を含む場合、アルカリ可溶性樹脂の含有量は、組成物の全質量に対して、０．１～４０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。
　組成物がアルカリ可溶性樹脂を含む場合、アルカリ可溶性樹脂の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～４０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。

〔重合性化合物〕
　本発明の組成物は、上述の成分とは異なる成分として、重合性化合物を含んでいてもよい。

　重合性化合物の含有量は、組成物の全質量に対して、１～３５質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましく、３～２７質量％が更に好ましい。
　重合性化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、１～３５質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましく、３～２７質量％が更に好ましい。
　重合性化合物の分子量（又は重量平均分子量）は、特に制限されないが、２０００以下が好ましい。

＜エチレン性不飽和結合を含む基を含む化合物＞
　重合性化合物の一態様として、エチレン性不飽和結合を含む基（以下、単に「エチレン性不飽和基」ともいう）を含む化合物が挙げられる。
　つまり本発明の組成物の一態様としては、エチレン性不飽和基を含む低分子化合物を、重合性化合物として含むことが好ましい。
　上記重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を１個以上含む化合物が好ましく、２個以上含む化合物がより好ましく、３個以上含む化合物が更に好ましく、５個以上含む化合物が特に好ましい。上限は、例えば、１５個以下である。エチレン性不飽和基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、及び、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。

　上記重合性化合物としては、例えば、特開２００８－２６０９２７号公報の段落００５０、及び、特開２０１５－０６８８９３号公報の段落００４０に記載されている化合物を使用でき、上記の内容は本明細書に組み込まれる。

　上記重合性化合物は、例えば、モノマー、プレポリマー、オリゴマー、及び、これらの混合物、並びに、これらの多量体等の化学的形態のいずれであってもよい。
　上記重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物が好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物がより好ましい。

　上記重合性化合物は、エチレン性不飽和基を１個以上含む、常圧下で１００℃以上の沸点を持つ化合物も好ましい。例えば、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落０２５４～０２５７に記載の化合物を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　上記重合性化合物は、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬社製、Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学社製）、及び、これらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール残基又はプロピレングリコール残基を介している構造（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。また、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ（ペンタエリスリトールテトラアクリレート、新中村化学社製）、Ａ－ＴＭＭＴ（多官能アクリレート、東亜合成社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－３０６０、及び、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２（いずれも商品名、日本化薬社製）等を使用してもよい。

　上記重合性化合物は、カルボン酸基、スルホン酸基、及び、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を含む上記重合性化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルが好ましく、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応の水酸基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた上記重合性化合物がより好ましく、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールである化合物が更に好ましい。市販品としては、例えば、東亞合成社製の、アロニックスＴＯ－２３４９、Ｍ－３０５、Ｍ－５１０、及び、Ｍ－５２０等が挙げられる。

　酸基を含む上記重合性化合物の酸価としては、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５～３０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。上記重合性化合物の酸価が０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば、現像溶解特性が良好であり、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば、製造及び／又は取扱い上、有利である。更には、光重合性能が良好で、硬化性に優れる。

　上記重合性化合物は、カプロラクトン構造を含む化合物も好ましい態様である。
　カプロラクトン構造を含む化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を含む限り特に制限されないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、又は、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε－カプロラクトンとをエステル化して得られる、ε－カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。中でも下記式（Ｚ－１）で表されるカプロラクトン構造を含む化合物が好ましい。

　式（Ｚ－１）中、６個のＲは全てが下記式（Ｚ－２）で表される基であるか、又は、６個のＲのうち１～５個が下記式（Ｚ－２）で表される基であり、残余が下記式（Ｚ－３）で表される基である。

　式（Ｚ－２）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示し、ｍは１又は２の数を示し、「＊」は結合手を示す。

　式（Ｚ－３）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示し、「＊」は結合手を示す。

　カプロラクトン構造を含む上記重合性化合物は、例えば、日本化薬からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０（上記式（Ｚ－１）～（Ｚ－３）においてｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝２、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－３０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝３、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－６０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝６、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）、及び、ＤＰＣＡ－１２０（同式においてｍ＝２、式（Ｚ－２）で表される基の数＝６、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）等が挙げられる。また、カプロラクトン構造を含む上記重合性化合物の市販品としては、東亞合成社製Ｍ－３５０（商品名）（トリメチロールプロパントリアクリレート）も挙げられる。

　上記重合性化合物は、下記式（Ｚ－４）又は（Ｚ－５）で表される化合物も使用できる。

　式（Ｚ－４）及び（Ｚ－５）中、Ｅは、－（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ_２Ｏ）－、又は、（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）－を表し、ｙは、０～１０の整数を表し、Ｘは、（メタ）アクリロイル基、水素原子、又は、カルボン酸基を表す。
　式（Ｚ－４）中、（メタ）アクリロイル基の合計は３個又は４個であり、ｍは０～１０の整数を表し、各ｍの合計は０～４０の整数である。
　式（Ｚ－５）中、（メタ）アクリロイル基の合計は５個又は６個であり、ｎは０～１０の整数を表し、各ｎの合計は０～６０の整数である。

　式（Ｚ－４）中、ｍは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。
　また、各ｍの合計は、２～４０の整数が好ましく、２～１６の整数がより好ましく、４～８の整数が更に好ましい。
　式（Ｚ－５）中、ｎは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。
　また、各ｎの合計は、３～６０の整数が好ましく、３～２４の整数がより好ましく、６～１２の整数が更に好ましい。
　また、式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）中の－（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ_２Ｏ）－又は（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）－は、酸素原子側の末端がＸに結合する形態が好ましい。

　式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。特に、式（Ｚ－５）において、６個のＸ全てがアクリロイル基である形態、式（Ｚ－５）において、６個のＸ全てがアクリロイル基である化合物と、６個のＸのうち、少なくとも１個が水素原子ある化合物との混合物である態様が好ましい。このような構成として、現像性をより向上できる。

　また、式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物の上記重合性化合物中における全含有量としては、２０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましい。
　式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体及び／又はジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。

　また、上記重合性化合物は、カルド骨格を含んでいてもよい。
　カルド骨格を含む上記重合性化合物としては、９，９－ビスアリールフルオレン骨格を含む上記重合性化合物が好ましい。
　カルド骨格を含む上記重合性化合物としては、制限されないが、例えば、オンコートＥＸシリーズ（長瀬産業社製）及びオグソール（大阪ガスケミカル社製）等が挙げられる。
　上記重合性化合物は、イソシアヌル酸骨格を中心核として含む化合物も好ましい。このような上記重合性化合物の例としては、例えば、ＮＫエステルＡ－９３００（新中村化学社製）が挙げられる。
　上記重合性化合物のエチレン性不飽和基の含有量（上記重合性化合物中のエチレン性不飽和基の数を、上記重合性化合物の分子量（ｇ／ｍｏｌ）で除した値を意味する）は５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上が好ましい。上限は特に制限されないが、一般に、２０．０ｍｍｏｌ／ｇ以下である。

＜エポキシ基及びオキセタニル基の１種以上を含む化合物＞
　重合性化合物の一態様として、エポキシ基及びオキセタニル基の１種以上を含む化合物も挙げられる。
　つまり本発明の組成物は一態様として、エポキシ基及びオキセタニル基の１種以上を含む化合物を、重合性化合物として含むことが好ましい。
　上記重合性化合物は、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を１個以上含む化合物であるのが好ましく、２個以上含む化合物であるのがより好ましい。上限は、例えば、１０個以下である。
　なかでも、上記重合性化合物は、エポキシ基を有するエポキシ硬化性の化合物（エポキシ化合物）であるのがより好ましい。
　上記重合性化合物において、エポキシ基及び／又はオキセタニル基（好ましくはエポキシ基）は、環状基（脂環基等）と縮環していてもよい。エポキシ基及び／又はオキセタニル基と縮環した環状基は、炭素数５～１５が好ましい。また、上記環状基において、縮環しているエポキシ基及び／又はオキセタニル基以外の部分は、単環でも多環でもよい。１つの環状基には、１つだけエポキシ基又はオキセタニル基が縮環していてもよいし、２以上のエポキシ基及び／又はオキセタニル基が縮環していてもよい。

　上記重合性化合物としては、例えば、単官能又は多官能グリシジルエーテル化合物が挙げられる。
　上記重合性化合物は、例えば、（ポリ）アルキレングリコールジグリシジルエーテルでもよい。

　上記重合性化合物は、上述の式（Ｚ－１）で表されるカプロラクトン構造を含む化合物において、式（Ｚ－２）で表される基が下記式（Ｚ－２Ｅ）に変更され、式（Ｚ－３）で表される基が式（Ｚ－３Ｅ）で表される基に変更された化合物でもよい。

　式（Ｚ－２Ｅ）中、ｍは１又は２の数を示し、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に水素原子又は置換基（好ましくはアルキル基、好ましくは炭素数１～３）を示し、「＊」は結合手を示す。
　式（Ｚ－３Ｅ）中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に水素原子又は置換基（好ましくはアルキル基、好ましくは炭素数１～３）を示し、「＊」は結合手を示す。

　上記重合性化合物は、Ｘが、式（Ｚ－３Ｅ）で表される基、又は、水素原子を表すように変更された上述の式（Ｚ－４）で表される化合物でもよい。
　このように変更された式（Ｚ－４）中、式（Ｚ－３Ｅ）で表される基の合計は２～４個である。

　上記重合性化合物は、Ｘが、式（Ｚ－３Ｅ）で表される基、又は、水素原子を表すように変更された上述の式（Ｚ－５）で表される化合物でもよい。
　このように変更された式（Ｚ－５）中、式（Ｚ－３Ｅ）で表される基の合計は２～６個（好ましくは５又は６）である。

　上記重合性化合物は、エポキシ基及び／又はオキセタニル基と縮環した環状基のＮ個（が連結基を介して結合された構造の化合物でもよい。
　Ｎは、２以上の整数であり、２～６の整数が好ましく、２がより好ましい。上記連結基は、水素原子以外の原子の数の合計が、１～２０であることが好ましく、２～６であることがより好ましい。Ｎが２である場合、上記連結基としては、例えば、アルキレンオキシカルボニル基が挙げられる。

　上記重合性化合物の市販品としては、デナコール　ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ、（以上、ナガセケムテックス(株)製）等の多官能脂肪族グリシジルエーテル化合物が挙げられる。これらは、低塩素品であるが、低塩素品ではない、ＥＸ－２１２、ＥＸ－２１４、ＥＸ－２１６、ＥＸ－３２１、ＥＸ－６１４、ＥＸ－８５０等も同様に使用できる。
　また、市販品としては、セロキサイド　２０２１Ｐ（ダイセル社製、多官能エポキシモノマー）も使用できる。

　組成物は、重合性化合物として、エチレン性不飽和結合を含む基を含む化合物と、エポキシ基及びオキセタニル基の１種以上を含む化合物との両方を含んでもよく、この場合、それらの含有量の質量比（「エチレン性不飽和結合を含む基を含む化合物」の含有量／「エポキシ基及びオキセタニル基の１種以上を含む化合物」の含有量）は、１０／９０～９０／１０が好ましく、２０／８０～８０／２０がより好ましく、３０／７０～７０／／３０が更に好ましい。

〔硬化促進剤〕
　組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。
　中でも、組成物が、重合性化合物としてエポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する化合物を含有している場合に、硬化促進剤を含むことが好ましい。
　硬化促進剤としては、例えば、トリフェニルホスフィン、メチルトリブチルホスホニウムジメチルホスフェート、トリスオルトトリルホスフィン、及び、三フッ化ホウ素アミン錯体が挙げられる。その他にも、２－メチルイミダゾール（商品名；２ＭＺ）、２－ウンデシルイミダゾール（商品名；Ｃ１１－Ｚ）、２－ヘプタデシルイミダゾール（商品名；Ｃ１７Ｚ）、１，２－ジメチルイミダゾール（商品名；１．２ＤＭＺ）、２－エチル－４－メチルイミダゾール（商品名；２Ｅ４ＭＺ）、２－フェニルイミダゾール（商品名；２ＰＺ）、２－フェニル－４－メチルイミダゾール（商品名；２Ｐ４ＭＺ）、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール（商品名；１Ｂ２ＭＺ）、１－ベンジル－２－フェニルイミダゾール（商品名；１Ｂ２ＰＺ）、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール（商品名；２ＭＺ－ＣＮ）、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール（商品名；Ｃ１１Ｚ－ＣＮ）、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾリウムトリメリテイト（商品名；２ＰＺＣＮＳ－ＰＷ）、２，４－ジアミノ－６－［２’－メチルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジン（商品名；２ＭＺ－Ａ）、２，４－ジアミノ－６－［２’－ウンデシルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジン（商品名；Ｃ１１Ｚ－Ａ）、２，４－ジアミノ－６－［２’－エチル－４’－メチルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジン（商品名；２Ｅ４ＭＺ－Ａ）、２，４－ジアミノ－６－［２’－メチルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジンイソシアヌル酸付加物（商品名；２ＭＡ－ＯＫ）、２－フェニル－４，５－ジヒドロキシメチルイミダゾール（商品名；２ＰＨＺ－ＰＷ）、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロキシメチルイミダゾール（商品名；２Ｐ４ＭＨＺ－ＰＷ）、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール（商品名；２ＰＺ－ＣＮ）、２，４－ジアミノ－６－［２’－メチルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジン（商品名；２ＭＺＡ－ＰＷ）、及び、２，４－ジアミノ－６－［２’－メチルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジンイソシアヌル酸付加物（商品名；２ＭＡＯＫ－ＰＷ）等のイミダゾール系硬化促進剤等が挙げられる（いずれも四国化成工業（株）製）。更に、トリアリールホスフィン系の硬化促進剤として特開２００４－０４３４０５号公報の段落００５２に記載の化合物も挙げられる。トリアリールホスフィンにトリフェニルボランが付加したリン系硬化促進剤として、特開２０１４－００５３８２の段落００２４に記載の化合物も挙げられる。
　硬化促進剤の含有量は、組成物の全質量に対して、０．０００２～３質量％が好ましく、０．００２～２質量％がより好ましく、０．０２～１質量％が更に好ましい。
　硬化促進剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０００２～３質量％が好ましく、０．００２～２質量％がより好ましく、０．０２～１質量％が更に好ましい。

〔重合開始剤〕
　組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。
　重合開始剤としては特に制限されず、公知の重合開始剤を使用できる。重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、及び、熱重合開始剤等が挙げられ、光重合開始剤が好ましい。なお、重合開始剤としては、いわゆるラジカル重合開始剤が好ましい。
　組成物が重合開始剤を含む場合、その含有量は、組成物の全質量に対して、０．３～１５質量％が好ましく、０．３～１０質量％がより好ましく、０．３～８．０質量％が更に好ましい。
　組成物が重合開始剤を含む場合、その含有量は、組成物の全固形分に対して、０．３～１５質量％が好ましく、０．３～１０質量％がより好ましく、０．３～８．０質量％が更に好ましい。

＜熱重合開始剤＞
　熱重合開始剤としては、例えば、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、３－カルボキシプロピオニトリル、アゾビスマレノニトリル、及び、ジメチル－（２，２’）－アゾビス（２－メチルプロピオネート）［Ｖ－６０１］等のアゾ化合物、並びに、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、及び、過硫酸カリウム等の有機過酸化物が挙げられる。
　重合開始剤の具体例としては、例えば、加藤清視著「紫外線硬化システム」（株式会社総合技術センター発行：平成元年）の第６５～１４８頁に記載されている重合開始剤等が挙げられる。

＜光重合開始剤＞
　光重合開始剤としては、重合性化合物の重合を開始できれば特に制限されず、公知の光重合開始剤を使用できる。光重合開始剤としては、例えば、紫外線領域から可視光領域に対して感光性を有する光重合開始剤が好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、重合性化合物の種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
　また、光重合開始剤は、３００～８００ｎｍ（３３０～５００ｎｍがより好ましい。）の範囲内に少なくとも５０のモル吸光係数を有する化合物を、少なくとも１種含んでいることが好ましい。

　光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を含む化合物、オキサジアゾール骨格を含む化合物、等）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、アミノアセトフェノン化合物、及び、ヒドロキシアセトフェノン等が挙げられる。
　光重合開始剤の具体例としては、例えば、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２６５～０２６８を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　光重合開始剤としては、より具体的には、例えば、特開平１０－２９１９６９号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、及び、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィン系開始剤も使用できる。
　ヒドロキシアセトフェノン化合物としては、例えば、Ｏｍｎｉｒａｄ－１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ－１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ－５００、Ｏｍｎｉｒａｄ－２９５９、及び、Ｏｍｎｉｒａｄ－１２７（商品名、いずれもＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）を使用できる。
　アミノアセトフェノン化合物としては、例えば、市販品であるＯｍｎｉｒａｄ－９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ－３６９、及び、Ｏｍｎｉｒａｄ－３７９ＥＧ（商品名、いずれもＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）を使用できる。アミノアセトフェノン化合物としては、波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍ等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開２００９－１９１１７９公報に記載の化合物も使用できる。
　アシルホスフィン化合物としては、市販品であるＯｍｎｉｒａｄ－８１９、及び、Ｏｍｎｉｒａｄ－ＴＰＯ（商品名、いずれもＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）を使用できる。

　光重合開始剤として、オキシムエステル系重合開始剤（オキシム化合物）がより好ましい。特にオキシム化合物は高感度で重合効率が高く、組成物中における色材の含有量を高く設計しやすいため好ましい。
　オキシム化合物の具体例としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、又は、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物を使用できる。
　オキシム化合物としては、例えば、３－ベンゾイロキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイロキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び、２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン等が挙げられる。
　また、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１６５３－１６６０、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１５６－１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年）ｐｐ．２０２－２３２、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報、特表２００４－５３４７９７号公報、及び、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物等も挙げられる。
　市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ社製）、又は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ社製）も好ましい。また、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（ＡＤＥＫＡ社製）、又は、Ｎ－１９１９（カルバゾール・オキシムエステル骨格含有光開始剤（ＡＤＥＫＡ社製））も使用できる。

　また上記記載以外のオキシム化合物として、カルバゾールＮ位にオキシムが連結した特表２００９－５１９９０４号公報に記載の化合物；ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第７６２６９５７号公報に記載の化合物；色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０－０１５０２５号公報及び米国特許公開２００９－２９２０３９号明細書に記載の化合物；国際公開第２００９－１３１１８９号パンフレットに記載のケトオキシム化合物；及びトリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含む米国特許第７５５６９１０号明細書に記載の化合物；４０５ｎｍに吸収極大を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９－２２１１１４号公報に記載の化合物；等を用いてもよい。
　例えば、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２７４～０２７５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　具体的には、オキシム化合物としては、下記式（ＯＸ－１）で表される化合物が好ましい。なお、オキシム化合物のＮ－Ｏ結合が（Ｅ）体のオキシム化合物であっても、（Ｚ）体のオキシム化合物であっても、（Ｅ）体と（Ｚ）体との混合物であってもよい。

　式（ＯＸ－１）中、Ｒ及びＢはそれぞれ独立に１価の置換基を表し、Ａは２価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。
　式（ＯＸ－１）中、Ｒで表される１価の置換基としては、１価の非金属原子団が好ましい。
　１価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、及び、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、１以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。
　置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、及び、アリール基等が挙げられる。
　式（ＯＸ－１）中、Ｂで表される１価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基が好ましく、アリール基、又は、複素環基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。
　式（ＯＸ－１）中、Ａで表される２価の有機基としては、炭素数１～１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、又は、アルキニレン基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。

　光重合開始剤として、フッ素原子を含むオキシム化合物も使用できる。フッ素原子を含むオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物；特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０；及び特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）；等が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　光重合開始剤として、下記一般式（１）～（４）で表される化合物も使用できる。

　式（１）において、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数４～２０の脂環式炭化水素基、炭素数６～３０のアリール基、又は、炭素数７～３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ^１及びＲ^２がフェニル基の場合、フェニル基同士が結合してフルオレン基を形成してもよく、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基又は炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を示す。

　式（２）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及び、Ｒ^４は、式（１）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及び、Ｒ^４と同義であり、Ｒ^５は、－Ｒ^６、－ＯＲ^６、－ＳＲ^６、－ＣＯＲ^６、－ＣＯＮＲ^６Ｒ^６、－ＮＲ^６ＣＯＲ^６、－ＯＣＯＲ^６、－ＣＯＯＲ^６、－ＳＣＯＲ^６、－ＯＣＳＲ^６、－ＣＯＳＲ^６、－ＣＳＯＲ^６、－ＣＮ、ハロゲン原子、又は、水酸基を表し、Ｒ^６は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、又は、炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を表し、ａは０～４の整数を表す。

　式（３）において、Ｒ^１は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数４～２０の脂環式炭化水素基、炭素数６～３０のアリール基、又は、炭素数７～３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、又は、炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を示す。

　式（４）において、Ｒ^１、Ｒ^３、及び、Ｒ^４は、式（３）におけるＲ^１、Ｒ^３、及び、Ｒ^４と同義であり、Ｒ^５は、－Ｒ^６、－ＯＲ^６、－ＳＲ^６、－ＣＯＲ^６、－ＣＯＮＲ^６Ｒ^６、－ＮＲ^６ＣＯＲ^６、－ＯＣＯＲ^６、－ＣＯＯＲ^６、－ＳＣＯＲ^６、－ＯＣＳＲ^６、－ＣＯＳＲ^６、－ＣＳＯＲ^６、－ＣＮ、ハロゲン原子、又は、水酸基を表し、Ｒ^６は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、又は、炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を表し、ａは０～４の整数を表す。

　上記式（１）及び（２）において、Ｒ^１及びＲ^２は、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、シクロヘキシル基、又は、フェニル基が好ましい。Ｒ^３はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基、又は、キシリル基が好ましい。Ｒ^４は炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基が好ましい。Ｒ^５はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基、又は、ナフチル基が好ましい。Ｘは直接結合が好ましい。
　また、上記式（３）及び（４）において、Ｒ^１は、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、シクロヘキシル基、又は、フェニル基が好ましい。Ｒ^３はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基、又は、キシリル基が好ましい。Ｒ^４は炭素数１～６のアルキル基、又は、フェニル基が好ましい。Ｒ^５はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基、又は、ナフチル基が好ましい。Ｘは直接結合が好ましい。
　式（１）及び式（２）で表される化合物の具体例としては、例えば、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落００７６～００７９に記載された化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　上記組成物に好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示す。以下に示すオキシム化合物の中でも、一般式（Ｃ－１３）で表されるオキシム化合物がより好ましい。
　また、オキシム化合物としては、国際公開第２０１５－０３６９１０号パンフレットのＴａｂｌｅ１に記載の化合物も使用でき、上記の内容は本明細書に組み込まれる。

　オキシム化合物は、３５０～５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有することが好ましく、３６０～４８０ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有することがより好ましく、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの波長の吸光度が高いことが更に好ましい。
　オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の点から、１，０００～３００，０００が好ましく、２，０００～３００，０００がより好ましく、５，０００～２００，０００が更に好ましい。
　化合物のモル吸光係数は、公知の方法を使用できるが、例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチルを用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤は、必要に応じて２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　また、光重合開始剤としては、特開第２００８－２６０９２７号公報の段落００５２、特開第２０１０－９７２１０号公報の段落００３３～００３７、及び、特開第２０１５－０６８８９３号公報の段落００４４に記載の化合物も使用でき、上記の内容は本明細書に組み込まれる。また、韓国公開特許第１０－２０１６－０１０９４４４号公報に記載のオキシム開始剤も使用できる。

〔重合禁止剤〕
　組成物は、重合禁止剤を含んでいてもよい。
　重合禁止剤としては特に制限されず、公知の重合禁止剤を使用できる。重合禁止剤としては、例えば、フェノール系重合禁止剤（例えば、ｐ－メトキシフェノール、２，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２，６－ジｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４－メトキシナフトール等）；ハイドロキノン系重合禁止剤（例えば、ハイドロキノン、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルハイロドロキノン等）；キノン系重合禁止剤（例えば、ベンゾキノン等）；フリーラジカル系重合禁止剤（例えば、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル等）；ニトロベンゼン系重合禁止剤（例えば、ニトロベンゼン、４－ニトロトルエン等）；及びフェノチアジン系重合禁止剤（例えば、フェノチアジン、２－メトキシフェノチアジン等）；等が挙げられる。
　中でも、フェノール系重合禁止剤、又は、フリーラジカル系重合禁止剤が好ましい。

　重合禁止剤は、硬化性基を含む樹脂と共に用いる場合にその効果が顕著である。
　組成物中における重合禁止剤の含有量としては特に制限されないが、組成物の全質量に対して、０．０００１～０．５質量％が好ましく、０．０００１～０．２質量％がより好ましく、０．０００１～０．０５質量％が更に好ましい。
　重合禁止剤の含有量は、組成物の全固形分に対しては、０．０００１～０．５質量％が好ましく、０．０００１～０．２質量％がより好ましく、０．０００１～０．０５質量％が更に好ましい。
　また、組成物中の重合性化合物（特にエチレン性不飽和結合を含む基を含む化合物）の含有量に対する、重合禁止剤の含有量の比（重合禁止剤の含有量／重合性化合物の含有量（質量比））は、０．０００５超が好ましく、０．０００６～０．０２がより好ましく、０．０００６～０．００５が更に好ましい。

〔界面活性剤〕
　組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤は、組成物の塗布性向上に寄与する。
　組成物が、界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、組成物の全質量に対して、０．００１～２．０質量％が好ましく、０．００５～０．５質量％がより好ましく、０．０１～０．１質量％が更に好ましい。
　界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．００１～２．０質量％が好ましく、０．００５～０．５質量％がより好ましく、０．０１～０．１質量％が更に好ましい。

　界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、及び、シリコーン系界面活性剤等が挙げられる。

　例えば、組成物がフッ素系界面活性剤を含めば、組成物の液特性（特に、流動性）がより向上する。即ち、フッ素系界面活性剤を含む組成物を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させて、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚さムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。

　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましく、７～２５質量％が更に好ましい。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性及び／又は省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。

　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤、特開２０２０－００８６３４号公報に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４３、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ（以上、株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤としてブロックポリマーも使用でき、具体例としては、例えば特開第２０１１－０８９０９０号公報に記載されたが化合物が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、ＫＦ－６０００、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＦ－６００３、ＫＦ６００７（信越化学工業社製）が挙げられる。

　環境規制の観点から、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の使用が規制されることがある。
　組成物中における、上記化合物の含有量を小さくする場合、パーフルオロアルキルスルホン酸（特にパーフルオロアルキル基の炭素数が６～８のパーフルオロアルキルスルホン酸）及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸（特にパーフルオロアルキル基の炭素数が６～８のパーフルオロアルキルカルボン酸）及びその塩の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～１，０００ｐｐｂであることが好ましく、０．０５～５００ｐｐｂであることがより好ましく、０．１～３００ｐｐｂであることが更に好ましい。
　また、組成物は、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を実質的に含まなくてもよい。例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩の代替となり得る化合物、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の代替となり得る化合物を用いることで、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を実質的に含まない組成物としてもよい。規制化合物の代替となり得る化合物としては、例えば、パーフルオロアルキル基の炭素数の違いによって規制対象から除外された化合物が挙げられる。ただし、上記した内容は、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の使用を妨げるものではない。組成物は、許容される最大の範囲内で、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を含んでもよい。

〔溶媒〕
　組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
　溶媒としては、水及び有機溶媒が挙げられ、有機溶媒が好ましい。
　溶媒の沸点は、塗布性という点から、１００～４００℃が好ましく、１５０～３００℃が好ましく、１７０～２５０℃が更に好ましい。本明細書において、沸点とは、特に断りのない限り、標準沸点を意味する。

　有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、１，４－ブタンジオールジアセテート、３－メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、及び、乳酸エチル等が挙げられるが、これらに制限されない。

　組成物が溶媒を含む場合、その含有量は、本発明の効果がより優れる点から、組成物の全質量に対して、１～２５質量％が好ましく、１～１５質量％がより好ましく、１質量％以上１２質量％未満が更に好ましい。
　組成物は、溶媒を実質的に含まないことも好ましい。組成物が溶媒を実質的に含まないとは、溶媒の含有量が、組成物の全質量に対して、１質量％未満であることを意図し、例えば、０質量％以上１質量％未満が好ましく、０～０．５質量％がより好ましく、０～０．１質量％が更に好ましい。
　組成物の固形分濃度は、２０～１００質量％が好ましく、４０～１００質量％が好ましく、７５～１００質量％が更に好ましい。

〔その他の任意成分〕
　組成物は、上述した成分以外のその他の任意成分を更に含んでいてもよい。例えば、特定磁性粒子以外の磁性粒子、増感剤、共増感剤、架橋剤（硬化剤）、熱硬化促進剤、可塑剤、希釈剤、感脂化剤、及び、ゴム成分等が挙げられ、更に、基板表面への密着促進剤及びその他の助剤類（例えば、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、及び、連鎖移動剤等）等の公知の添加剤を必要に応じて加えてもよい。

〔組成物の好適態様の一例〕
　組成物の好適な態様の一例として、特定磁性粒子と、レオロジーコントロール剤と、光又は熱により硬化する硬化成分とを含む組成物が挙げられる。上記組成物は、なかでも、特定磁性粒子と、レオロジーコントロール剤と、重合性化合物とを含む組成物であるのが好ましく、特定磁性粒子と、レオロジーコントロール剤と、エポキシ基及びオキセタニル基の１種以上を含む化合物とを含む組成物であるのがより好ましい。
　なお、組成物が光により硬化する硬化成分を含む場合、組成物は更に光重合開始剤を含むのが好ましい。組成物が熱により硬化する硬化成分を含む場合、組成物は更に熱重合開始剤を含んでいてもよい。組成物がエポキシ基及びオキセタニル基の１種以上を含む化合物を含む場合、組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。

〔組成物の物性〕
　組成物の２３℃における粘度は、せん断速度が０．１（１／ｓ）である場合、特定磁性粒子の沈降安定性がより優れる点から、１～１００００００Ｐａ・ｓが好ましく、１０～５００００Ｐａ・ｓがより好ましく、５０～１００００Ｐａ・ｓが更に好ましい。
　組成物の２３℃における粘度は、せん断速度が１０００（１／ｓ）である場合、特定磁性粒子の沈降安定性がより優れる点から、１００Ｐａ・ｓ以下が好ましく、５０Ｐａ・ｓ以下がより好ましく、１０Ｐａ・ｓ以下が更に好ましい。せん断速度が１０００（１／ｓ）である場合の下限値は、０．００１Ｐａ・ｓ以上が好ましい。
　ここで、組成物の２３℃における粘度は、ＭＣＲ－１０２（アントンパール社製）を用いて、０．１／ｓから１０００／ｓに昇速させながら２３℃で測定することで得られる。

〔組成物の製造方法〕
　組成物は、上記の各成分を公知の混合方法（例えば、撹拌機、ホモジナイザー、高圧乳化装置、湿式粉砕機、又は、湿式分散機等を用いた混合方法）により混合して調製できる。
　本発明の組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分をそれぞれ、溶媒に溶解又は分散した後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序及び作業条件は特に制限されない。例えば、その他の樹脂を複数種類使用する場合、それらを一括で配合してもよく、種類ごとに複数回に分けて配合してもよい。

［組成物の好適な形態の一例］
　本発明の組成物（組成物Ａ）の好適な形態の一例としては、Ｆｅ原子を７０～９０質量％含み、Ｘ線回折法により得られるＸ線回折パターンにおいて２θが４２～４８°の範囲に現れる回折ピークの半値幅が０．２～３°であり、平均粒径が２～３０μｍであり、且つ、アスペクト比が８未満である磁性粒子と、レオロジーコントロール剤と、を含む組成物（以下「組成物Ｂ」ともいう）が挙げられる。

［磁性粒子含有膜］
　本発明の磁性粒子含有膜は、上述の本発明の組成物を用いて形成される。
　磁性粒子含有膜の膜厚は、透磁率により優れる点から、１～１００００μｍが好ましく、１０～１０００μｍがより好ましく、１５～８００μｍが更に好ましい。
　磁性粒子含有膜は、電子通信機器等に装備されるアンテナ及びインダクタ等の電子部品として好適に用いられる。

〔磁性粒子含有膜の製造方法〕
　本発明の磁性粒子含有膜は、例えば、上記組成物を硬化して得られる。
　磁性粒子含有膜の製造方法としては特に制限されないが、以下の工程を含むことが好ましい。
・組成物層形成工程
・硬化工程

＜組成物層形成工程＞
　組成物層形成工程においては、基板（支持体）等の上に組成物を付与して、組成物の層（組成物層）を形成する。基板としては、例えば、アンテナ部又はインダクタ部を有する配線基板等を使用できる。

　基板上への組成物の適用方法としては、スリット塗布法、インクジェット法、回転塗布法、流延塗布法、ロール塗布法、及び、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用できる。組成物層の膜厚としては、１～１００００μｍが好ましく、１０～１０００μｍがより好ましく、１５～８００μｍが更に好ましい。基板上に塗布された組成物層を加熱（プリベーク）してもよく、プリベークは、例えば、ホットプレート、オーブン等で５０～１４０℃の温度で１０～１８００秒間で行える。プリベークは、中でも、組成物が溶媒を含む場合に行われることが好ましい。

＜硬化工程＞
　硬化工程としては、組成物層を硬化できるのであれば特に制限されないが、組成物層を加熱する加熱処理、及び、組成物層を活性光線又は放射線を照射する露光処理等が挙げられる。

　加熱処理を行う場合、加熱処理は、例えば、ホットプレート、コンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、又は、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式又はバッチ式で行える。
　加熱処理における加熱温度は、１２０～２６０℃が好ましく、１５０～２４０℃がより好ましい。また、加熱時間としては特に制限されないが、１０～１８００秒間が好ましい。
　なお、組成物層形成工程におけるプリベークが、硬化工程における加熱処理を兼ねていてもよい。

　露光処理を行う場合、活性光線又は放射線の照射方法としては特に制限されないが、パターン状の開口部を有するフォトマスクを介して照射することが好ましい。
　露光は、放射線の照射により行うことが好ましい。露光に際して使用できる放射線としては、ｇ線、ｈ線、又は、ｉ線等の紫外線が好ましく、光源としては高圧水銀灯が好まれる。照射強度は５～１５００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
　なお、組成物が熱重合開始剤を含む場合、上記露光処理において、組成物層を加熱してもよい。加熱温度として特に制限されないが、８０～２５０℃が好ましい。また、加熱時間としては特に制限されないが、３０～３００秒間が好ましい。
　なお、露光処理において、組成物層を加熱する場合、後述する後加熱工程を兼ねてもよい。言い換えれば、露光処理において、組成物層を加熱する場合、磁性粒子含有膜の製造方法は後加熱工程を含まなくてもよい。

＜現像工程＞
　硬化工程において露光処理を行う場合、現像工程を更に含んでいてもよい。
　現像工程は、露光後の上記組成物層を現像して磁性粒子含有膜を形成する工程である。本工程により、露光処理における光未照射部分の組成物層が溶出し、光硬化した部分だけが残り、パターン状の磁性粒子含有膜が得られる。
　現像工程で使用される現像液の種類は特に制限されないが、回路等にダメージを起こさないアルカリ現像液が望ましい。
　現像温度としては、例えば、２０～３０℃である。
　現像時間は、例えば、２０～９０秒間である。残渣をよりよく除去するため、近年では１２０～１８０秒間実施する場合もある。更には、残渣除去性をより向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返す場合もある。

　アルカリ現像液としては、アルカリ性化合物を濃度が０．００１～１０質量％（好ましくは０．０１～５質量％）となるように水に溶解して調製されたアルカリ性水溶液が好ましい。
　アルカリ性化合物は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム，硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシ、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、及び、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン等が挙げられる（このうち、有機アルカリが好ましい。）。
　なお、アルカリ現像液として用いた場合は、一般に現像後に水で洗浄処理が施される。

＜ポストベーク＞
　硬化工程において露光処理を行う場合、硬化工程の後に、加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。ポストベークは、硬化を完全にするための加熱処理である。現像工程を実施する場合は、現像工程後にポストベークを実施することが好ましい。その加熱温度は、２４０℃以下が好ましく、２２０℃以下がより好ましい。下限は特にないが、効率的且つ効果的な処理を考慮すると、５０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましい。また、加熱時間としては特に制限されないが、１０～１８００秒間が好ましい。
　ポストベークは、ホットプレート、コンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、又は、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式又はバッチ式で行える。

　上記のポストベークは、低酸素濃度の雰囲気下で行うことが好ましい。その酸素濃度は、１９体積％以下が好ましく、１５体積％以下がより好ましく、１０体積％以下が更に好ましく、７体積％以下が特に好ましく、３体積％以下が最も好ましい。下限は特にないが、１０体積ｐｐｍ以上が実際的である。

　また、上記の加熱によるポストベークに変え、ＵＶ（紫外線）照射によって硬化を完遂させてもよい。
　この場合、組成物は、更にＵＶ硬化剤を含むことが好ましい。ＵＶ硬化剤は、通常のｉ線露光によるリソグラフィー工程のために添加する重合開始剤の露光波長である３６５ｎｍより短波の波長で硬化できるＵＶ硬化剤が好ましい。ＵＶ硬化剤としては、例えば、チバ　イルガキュア　２９５９（商品名）が挙げられる。ＵＶ照射を行う場合においては、組成物層が波長３４０ｎｍ以下で硬化する材料であることが好ましい。波長の下限値は特にないが、２２０ｎｍ以上が一般的である。またＵＶ照射の露光量は１００～５０００ｍＪが好ましく、３００～４０００ｍＪがより好ましく、８００～３５００ｍＪが更に好ましい。このＵＶ硬化工程は、露光処理の後に行うことが、低温硬化をより効果的に行うために、好ましい。露光光源はオゾンレス水銀ランプを使用することが好ましい。

［電子部品］
　本発明の電子部品は、上述の本発明の磁性粒子含有膜を含む。すなわち、本発明の電子部品は、上記磁性粒子含有膜を部品の一部として含んでいてもよい。電子部品としては、例えば、インダクタ及びアンテナが挙げられる。電子部品としては、公知の構造を有するものを用いることができる。

　以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
　なお、以下において、特段の断りがない限り「％」は「質量％」を意味し、「部」は「質量部」を示す。

［組成物の調製に使用した各種成分］
　組成物の調製にあたって、表１に記載の各成分を準備した。表１に記載の各成分の概要を以下に示す。

〔磁性粒子〕
　磁性粒子としては、以下に示すＰ－１～Ｐ－４及びＣＰ－１～ＣＰ－５を使用した。
　なお、Ｐ－２～Ｐ－４及びＣＰ－１～ＣＰ－２は、Ｆｅ基アモルファスを所定の熱処理することによって作製した。また、アスペクト比の調整は、ビーズミルによるメカノケミカル処理により実施した。
・Ｐ－１：製品名「ＫＵＡＭＥＴ　ＮＣ１」（エプソンアトミックス社製）“Ｆｅナノ結晶合金、結晶質（Ｆｅに由来する結晶構造を有する）、Ｆｅ原子含有量：８３質量％、Ｄ５０：２３μｍ、アスペクト比：１～２、固形分濃度：１００質量％”
・Ｐ－２：Ｆｅナノ結晶合金“結晶質（Ｆｅに由来する結晶構造を有する）、Ｆｅ原子含有量：８３質量％、Ｄ５０：３μｍ、アスペクト比：１～２、固形分濃度：１００質量％”
・Ｐ－３：Ｆｅナノ結晶合金“結晶質（Ｆｅに由来する結晶構造を有する）、Ｆｅ原子含有量：８３質量％、Ｄ５０：３０μｍ、アスペクト比：１～２、固形分濃度：１００質量％”
・Ｐ－４：Ｆｅナノ結晶合金“結晶質（Ｆｅに由来する結晶構造を有する）、Ｆｅ原子含有量：８３質量％、Ｄ５０：２８μｍ、アスペクト比：７以上８未満、固形分濃度：１００質量％”

・ＣＰ－１：Ｆｅナノ結晶合金“結晶質（Ｆｅに由来する結晶構造を有する）、Ｆｅ原子含有量：８３質量％、Ｄ５０：３５μｍ、アスペクト比：１～２、固形分濃度：１００質量％”
・ＣＰ－２：Ｆｅナノ結晶合金“結晶質（Ｆｅに由来する結晶構造を有する）、Ｆｅ原子含有量：８３質量％、Ｄ５０：２８μｍ、アスペクト比：８～９、固形分濃度：１００質量％”

・ＣＰ－３：製品名「ＡＷ２－０８　ＰＦ－３Ｆ」（エプソンアトミックス社製）“Ｆｅ基アモルファス、非結晶質（Ｆｅに由来する結晶構造を有さない）、Ｆｅ原子含有量：８７質量％、Ｄ５０：３μｍ、アスペクト比：１～２、固形分濃度：１００質量％”
・ＣＰ－４：製品名「ＥＡ－ＳＭＰ－１０　ＰＦ－５Ｆ」（エプソンアトミックス社製）“ＦｅＳｉＣｒ、結晶質（Ｆｅに由来する結晶構造を有する）、Ｆｅ原子含有量：９２質量％、Ｄ５０：４μｍ、アスペクト比：１～２、固形分濃度：１００質量％”
・ＣＰ－５：製品名「ＪＲＭ３５Ｇ」（日本重化学工業社製）“Ｎｉ－Ｚｎフェライト、結晶質（Ｆｅに由来する結晶構造を有する）、Ｆｅ原子含有量：＜４７質量％、Ｄ５０：３３μｍ、アスペクト比：１～２、固形分濃度：１００質量％”

〔レオロジーコントロール剤及びその他の樹脂〕
・Ｄ－１：製品名「ＢＹＫ－Ｐ１０５」（ＢＹＫ社製）“低分子量不飽和カルボン酸のポリマー、固形分濃度：１００質量％”
・Ｄ－２：製品名「ＡＮＴＩ－ＴＥＲＲＡ　２０４」（ＢＹＫ社製）“ポリアミノアマイドのポリカルボン酸塩の溶液、固形分濃度：５２質量％”
・Ｄ－３：製品名「ターレン　ＶＡ７０５Ｂ」（共栄社化学社製）“高級脂肪酸アマイド、固形分濃度：１００質量％”
・Ｄ－４：製品名「ＦＬＯＷＮＯＮ　ＲＣＭ－２３０ＡＦ」（共栄社化学社製）“高級脂肪酸アマイドの溶液、固形分濃度１０％”
・Ｄ－５：フェニルホスホン酸（日産化学製）“固形分濃度１００％”

　なお、Ｄ－１及びＤ－３はレオロジーコントロール剤そのものであり、Ｄ－２及びＤ－４、はレオロジーコントロール剤（固形分）を含む溶液である。
　また、Ｄ－５は、レオロジーコントロール剤には該当しない。

〔重合性化合物〕
・Ｍ－１：セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル化学工業社製）“３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、固形分濃度１００質量％”
・Ｍ－２：デナコールＥＸ－４１１（ナガセケムテックス社製）“ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、固形分濃度：１００質量％”
・Ｍ－３：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０（日本化薬製）“下記化合物、固形分濃度１００質量％”

・Ｍ－４：Ａ－ＴＭＭＴ（東亞合成社製）、“ペンタエリスリトールテトラアクリレート、固形分濃度１００質量％”

〔添加剤〕
・Ａ－１：トリフェニルホスフィン（東京化成工業社製）“固形分濃度：１００質量％、硬化促進剤”
・Ａ－２：ヒシコーリンＰＸ－４ＭＰ（日本化学工業社製）“固形分濃度：１００質量％、メチルトリブチルホスホニウムジメチルホスフェート、硬化促進剤”
・Ａ－３：ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ社製）“固形分濃度：１００質量％、オキシムエステル系光重合開始剤”
・Ａ－４：Ｏｍｎｉｒａｄ－３６９（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）“固形分濃度：１００質量％、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤”
・Ｓｕｒ－１：ＭＥＧＡＦＡＣ　Ｆ－７８１Ｆ（ＤＩＣ社製）“固形分濃度：１００質量％、フッ素系界面活性剤”
・Ｓｕｒ－２：ＫＦ－６００１（信越化学工業社製）“固形分濃度：１００質量％、シリコーン系界面活性剤、両末端カルビノール変性ポリジメチルシロキサン”

〔溶媒〕
・Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）（東京化成工業社製）
・Ｓ－２：１，４－ブタンジオールジアセテート（１，４－ＢＤＤＡ）（ダイセル化学工業社製）

〔実施例及び比較例の組成物の調製〕
　表１に示す溶媒以外の成分について、表１に示す組成比（質量基準）になるように表１に記載の成分を混合して、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）製の密閉容器に投入した。続いて、表１に示す組成比（質量基準）になるように溶媒を添加した後、容器を密閉して、Ｒｅｓｏｄｙｎ社製のＲＡＭ（低周波共振音響ミキサー）を用いて、５０Ｇ、２時間で分散することで、各実施例及び比較例の組成物を調製した。

［評価］
〔透磁率〕
　アプリケーターを使用して、厚み１００μｍのＳｉｗａｆｅｒ上に、実施例及び比較例の各組成物を成膜後の膜厚が１００μｍになるように塗布して、塗膜を形成した。
　次いで、塗布した組成物が光重合開始剤を含有しない組成物であった場合は、得られた塗膜に対して１００℃にて１０分間の乾燥条件で加熱乾燥を施した後、さらに２３０℃にて１０分間加熱を実施することにより硬化膜付き基板を作製した。また、塗布した組成物が光重合開始剤を含有する組成物であった場合は、プロキシミティ露光機にて１０００ｍＪ／ｃｍ^２の条件で露光処理を行い、更に、２３０℃で１０分間加熱を実施することにより、硬化膜付き基板を作製した。
　次いで、得られた硬化膜付き基板を、基板ごと１ｃｍ×２．８ｃｍのサイズに割断し、測定用サンプル基板を作製した。
　その後、ＰＥＲ－０１（キーコム社製、高周波透磁率測定装置）を使用して、得られた各測定用サンプル基板における硬化膜の５０ＭＨｚでの透磁率を測定し、膜の比透磁率μ’を得た。
　得られた比透磁率μ’の値に基づいて下記評価基準に基づいて評価を実施した。実用上、「Ｂ」以上の評価であるのが好ましい。
（評価基準）
　「Ａ」：　１０≦μ’
　「Ｂ」：　５≦μ’＜１０
　「Ｃ」：　μ’＜５

〔耐酸性〕
　上述の透磁率評価で作製した測定用サンプル基板を１０％ＨＣｌａｑ．に３０分間浸漬した後、基板における硬化膜の５０ＭＨｚでの透磁率をＰＥＲ－０１（キーコム社製、高周波透磁率測定装置）を使用して測定し、膜の比透磁率μ’を得た。
　次いで、下記式（１）により浸漬前後での変化率Δμ’（％）を求めた。
　変化率Δμ’（％）＝｛｜浸漬後の比透磁率μ’－浸漬前の比透磁率μ’｜／浸漬前の比透磁率μ’｝×１００
　得られた変化率Δμ’の値に基づいて下記評価基準に基づいて評価を実施した。実用上、「Ｂ」以上の評価であるのが好ましい。
（評価基準）
　「Ａ」：Δμ’＜３％
　「Ｂ」：３％≦Δμ’＜１０％
　「Ｃ」：１０％≦Δμ’

〔沈降安定性〕
　実施例及び比較例の各組成物３ｍＬを透明なガラス容器（直径２３ｍｍ×高さ３５ｍｍの円柱形）に投入し、密閉して、２５℃にて１ヶ月静置した。
　その後、ガラス容器中の組成物を目視にて観察して、気液界面から、透明な領域と不透明な領域との界面までの距離ｄ１、及び、気液界面からガラス容器の底面までの距離ｄ２を測定した。
　続いて、同じガラス容器を、タイテック社製振盪機Ｓｅ－０８を用いて、３３００ｒｐｍ／ｍｉｎにて、３０秒間撹拌したあと、２５℃にて１２時間静置した。その後、ガラス容器中の組成物を目視にて観察して、気液界面から、透明な領域と不透明な領域との界面までの距離ｄ１’、及び、気液界面からガラス容器の底面までの距離ｄ２’を測定した。
　距離ｄ１及び距離ｄ２、並びに、距離ｄ１’及び距離ｄ２’を用いて以下の基準によって、沈降安定性を評価した。以下の基準が「Ｂ」以上であれば、沈降安定性に優れると判断した。結果を表１に示す。
（評価基準）
　「Ａ」：　０≦ｄ１／ｄ２≦０．１、且つ、０≦ｄ１’／ｄ２’≦０．１（経時で液が完全に分離しない）
　「Ｂ」：　０．１＜ｄ１／ｄ２≦０．３、且つ、０≦ｄ１’／ｄ２’≦０．１（経時で液が若干分離するが、撹拌で戻る）
　「Ｃ」：　０．３＜ｄ１／ｄ２、又は、０．１＜ｄ１’／ｄ２’（経時で液が分離し、撹拌しても戻らない）

〔塗布適性〕
　透磁率評価におけるアプリケーターを使用した塗布が可能であるか否かにより、塗布適性を評価した。具体的には、下記評価基準に基づいて評価を実施した。
　「Ａ」：　塗布可能である
　「Ｂ」：　組成物の流動性が悪いが、塗布可能である
　「Ｃ」：　組成物の流動性が悪く、塗布不可能である

　下記表１に、各組成物の配合及び各組成物について行った評価試験の結果を示す。
　なお、以下の評価において「Ｘ線回折ピークの半値幅」とは、Ｘ線回折法により得られるＸ線回折パターンにおいて２θが４２～４８°の範囲に現れる回折ピークの半値幅（°）を意図する。
　特定磁性粒子のＸ線回折測定は、以下の装置及び条件に基づいて粉体の状態で実施した。
　　装置名：Ｘ’Ｐｅｒｔ　ＰＲＯ　ＭＰＤ（ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社製）
　　測定条件：Ｃｕ線源使用（出力：４５ｋＶ、４０ｍＡ）
　　　　　　　Ｓｃａｎ条件：２０～７０°の範囲を０．０５３°／ｓｔｅｐ、０．７１°／ｍｉｎ

　表１の結果から、実施例の組成物によれば、透磁率及び耐酸性に優れた磁性粒子含有膜を形成できることが明らかである。また、実施例の組成物は、沈降安定性にも優れていることが明らかである。
　また、実施例１～４の対比から、特定磁性粒子の平均粒径（Ｄ５０）が２８μｍ以下である場合、組成物の沈降安定性がより優れることが確認された。
　また、実施例１～４の対比から、特定磁性粒子のアスペクト比が７未満である場合、組成物の沈降安定性がより優れることが確認された。
　また、実施例１、実施例６、及び実施例７の対比から、特定磁性粒子の含有量が、組成物の全質量に対して７５質量％以上である場合、形成される磁性粒子含有膜の透磁率がより優れることが確認された。
　また、実施例１、実施例６、及び実施例７の対比から、特定磁性粒子の含有量が、組成物の全質量に対して８５質量％以下である場合、組成物の塗布適性がより優れることが確認された。
　また、実施例１、実施例１９、実施例２０の対比から、組成物中における溶媒の含有量が１２質量％未満である場合、組成物の沈降安定性がより優れることが確認された。

　一方、比較例の組成物では、所望の効果が得られなかった。

Claims

　Ｆｅ原子を７０～９０質量％含み、Ｆｅの結晶構造を有し、平均粒径が２～３０μｍであり、且つ、アスペクト比が８未満である磁性粒子と、
　レオロジーコントロール剤と、を含む、組成物。
　Ｆｅ原子を７０～９０質量％含み、Ｘ線回折法により得られるＸ線回折パターンにおいて２θが４２～４８°の範囲に現れる回折ピークの半値幅が０．２～３°であり、平均粒径が２～３０μｍであり、且つ、アスペクト比が８未満である磁性粒子と、
　レオロジーコントロール剤と、を含む、組成物。
　前記磁性粒子は、Ｘ線回折法により得られるＸ線回折パターンにおいて２θが４２～４８°の範囲に現れる回折ピークの半値幅が０．２～３°である、請求項１に記載の組成物。
　前記磁性粒子の含有量が、組成物の全質量に対して、７０～９０質量％である、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
　前記レオロジーコントロール剤が、ポリカルボン酸、ポリ無水カルボン酸、及び、アマイドワックスからなる群から選択される１種以上である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
　更に、光又は熱により硬化する硬化成分を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
　前記硬化成分が、重合性化合物を含む、請求項６に記載の組成物。
　前記重合性化合物が、エポキシ基及びオキセタニル基の１種以上を含む化合物を含む、請求項７に記載の組成物。
　更に、重合開始剤を含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の組成物。
　前記組成物が溶媒を実質的に含まないか、又は、
　前記組成物が更に溶媒を含み、且つ、前記溶媒の含有量が、組成物の全質量に対して、１質量％以上１２質量％未満である、請求項１～９のいずれか１項に記載の組成物。
　請求項１～１０のいずれか１項に記載の組成物を用いて形成される、磁性粒子含有膜。
　請求項１１に記載の磁性粒子含有膜を含む、電子部品。
　インダクタとして用いられる、請求項１２に記載の電子部品。
　アンテナとして用いられる、請求項１２に記載の電子部品。