WO2021117395A1

WO2021117395A1 - 磁性粒子含有膜、積層体及び電子部品

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Publication number: WO2021117395A1
Application number: PCT/JP2020/041703
Authority: WO
Inventors: 哲志宮田; 達郎石川; 竜雄見上
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2019-12-10
Filing date: 2020-11-09
Publication date: 2021-06-17
Also published as: TW202122478A

Abstract

本発明は、透磁率に優れた磁性粒子含有膜を提供することを課題とする。また、本発明は、上記磁性粒子含有膜を含む積層体、及び、上記積層体を含む電子部品を提供することも課題とする。本発明の磁性粒子含有膜は、磁性粒子と樹脂とを含む磁性粒子含有膜であって、磁性粒子含有膜の厚み方向に沿って磁性粒子含有膜を切断した際の断面において、磁性粒子含有膜の一方の表面から他方の表面に向かって磁性粒子含有膜の厚みの１／５０に相当する深さ位置をＤａとし、磁性粒子含有膜の他方の表面から一方の表面に向かって磁性粒子含有膜の厚みの１／５０に相当する深さ位置をＤｂとした際に、一方の表面からＤａまでの領域において磁性粒子が占める面積率Ｍｄ_５０が、他方の表面からＤｂまでの領域において磁性粒子が占める面積率Ｍｕ_５０よりも大きく、上記Ｍｄ_５０に対する上記Ｍｕ_５０の割合が０．９未満である。

Description

磁性粒子含有膜、積層体及び電子部品

　本発明は、磁性粒子含有膜、積層体及び電子部品に関する。

　電子通信機器等においてはノイズ低減やエネルギー効率改良などの観点で、磁性体材料を用いた電子部品が使用されている。これらの磁性体材料として、磁性粒子を樹脂等に分散させてなる磁性体複合材料が使用されることがあり、例えば、特許文献１では、軟磁性金属粉末と、樹脂とを有する組成物を型内に充填し、硬化させて得られる磁性体複合材料が開示されている。従来は、このようにして得られた磁性体複合材料にコイルを巻き付けて得られたインダクタをプリント配線板上に実装していた。

　しかしながら、近年の電子部品の小型化の要求から、プリント配線板の導体パターンによってコイルを形成し、インダクタをプリント配線板の内部に設ける方法が採用される場合がある。例えば、特許文献２では、磁性フィラー及び樹脂を含む樹脂組成物を用いて形成された絶縁層（磁性粒子含有膜）と、導体層と、をこの順に複数積層させて得られるインダクタ基板の製造方法が開示されている。

特開２０１５－６２２４５号公報特開２０１９－６７９６０号公報

　磁性粒子含有膜は、さらなる性能向上が求められており、その要求性能の一つとして透磁率が挙げられる。
　本発明者らは、特許文献１及び特許文献２を参考にして、樹脂、硬化剤及び磁性粒子等を含む組成物を用いて磁性粒子含有膜を製造したところ、透磁率が不十分となる場合があり、改善の余地があることを明らかとした。

　そこで、本発明は、透磁率に優れた磁性粒子含有膜を提供することを課題とする。また、本発明は、上記磁性粒子含有膜を含む積層体、及び、上記積層体を含む電子部品を提供することも課題とする。

　本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、磁性粒子及び樹脂を含む磁性粒子含有膜について、これの厚み方向に沿って切断した際の断面において、磁性粒子含有膜の一方の表面から所定の深さ位置Ｄａまでの領域において磁性粒子が占める面積率Ｍｄ_５０が、磁性粒子含有膜の他方の表面から所定の深さ位置Ｄｂまでの領域において磁性粒子が占める面積率Ｍｕ_５０よりも大きく、上記Ｍｄ_５０に対する上記Ｍｕ_５０の割合（Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０）が０．９未満であれば、透磁率に優れることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

［１］
　磁性粒子と、樹脂と、を含む磁性粒子含有膜であって、
　上記磁性粒子含有膜の厚み方向に沿って上記磁性粒子含有膜を切断した際の断面において、上記磁性粒子含有膜の一方の表面から他方の表面に向かって上記磁性粒子含有膜の厚みの１／５０に相当する深さ位置を深さ位置Ｄａとし、上記磁性粒子含有膜の上記他方の表面から上記一方の表面に向かって上記磁性粒子含有膜の厚みの１／５０に相当する深さ位置を深さ位置Ｄｂとした際に、
　上記一方の表面から上記深さ位置Ｄａまでの領域において上記磁性粒子が占める面積率Ｍｄ_５０が、上記他方の表面から上記深さ位置Ｄｂまでの領域において上記磁性粒子が占める面積率Ｍｕ_５０よりも大きく、上記Ｍｄ_５０に対する上記Ｍｕ_５０の割合（Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０）が０．９未満である、磁性粒子含有膜。
［２］
　上記Ｍｄ_５０に対する上記Ｍｕ_５０の割合が、０．５未満である、［１］に記載の磁性粒子含有膜。
［３］
　上記磁性粒子含有膜の厚み方向に沿って上記磁性粒子含有膜を切断した際の上記断面において、上記磁性粒子含有膜の上記一方の表面から上記他方の表面に向かって上記磁性粒子含有膜の厚みの１／１０に相当する深さ位置を深さ位置Ｄｃとした際に、
　上記一方の表面から上記深さ位置Ｄｃまでの領域において上記磁性粒子が占める面積率Ｍｄ_１０が３０％以上である、［１］又は［２］に記載の磁性粒子含有膜。
［４］
　上記樹脂の比重に対する上記磁性粒子の比重の割合が、２以上である、［１］～［３］のいずれかに記載の磁性粒子含有膜。
［５］
　上記磁性粒子が、Ｆｅ基アモルファス合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ系合金、Ｆｅナノ結晶合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｏ系合金、Ｃｏ基アモルファス合金、Ｎｉ－Ｍｏ系合金、スピネルフェライト及び六方晶フェライトからなる群から選択される少なくとも１種を含む、［１］～［４］のいずれかに記載の磁性粒子含有膜。
［６］
　基板と、［１］～［５］のいずれかに記載の磁性粒子含有膜と、を有し、
　上記磁性粒子含有膜の上記一方の表面が、上記基板側に配置されている、積層体。
［７］
　［６］に記載の積層体を含む、電子部品。
［８］
　インダクタとして用いられる、［７］に記載の電子部品。
［９］
　アンテナとして用いられる、［７］に記載の電子部品。

　本発明によれば、透磁率に優れた磁性粒子含有膜を提供できる。また、本発明によれば、上記磁性粒子含有膜を含む積層体、及び、上記積層体を含む電子部品も提供できる。

本発明の磁性粒子含有膜の一例を模式的に示す断面図である。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされる場合があるが、本発明はそのような実施態様に限定されない。
　本明細書中における基（原子団）の表記について、本発明の趣旨に反しない限り、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基と共に置換基を有する基をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。また、本明細書中における「有機基」とは、少なくとも１個の炭素原子を含む基をいう。

　本明細書中における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光：　Ｅｘｔｒｅｍｅ　Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）、Ｘ線、及び電子線（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｂｅａｍ）等を意味する。本明細書中における「光」とは、活性光線又は放射線を意味する。
　本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線、Ｘ線、及びＥＵＶ光等による露光のみならず、電子線、及びイオンビーム等の粒子線による描画も含む。

　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。

　本明細書において、（メタ）アクリレートはアクリレート及びメタクリレートを表し、（メタ）アクリルはアクリル及びメタクリルを表し、（メタ）アクリロイルはアクリロイル及びメタクリロイルを表す。

　本明細書において、磁性粒子含有組成物の「全固形分」とは、磁性粒子含有膜を形成する成分を意味し、磁性粒子含有組成物が溶剤（有機溶剤、水等）を含有する場合、溶剤を除いたすべての成分を意味する。また、磁性粒子含有膜を形成する成分であれば、液体状の成分も固形分とみなす。

［磁性粒子含有膜］
　本発明の磁性粒子含有膜は、磁性粒子と、樹脂と、を含む磁性粒子含有膜である。
　また、上記磁性粒子含有膜の厚み方向に沿って上記磁性粒子含有膜を切断した際の断面において、上記磁性粒子含有膜の一方の表面から他方の表面に向かって上記磁性粒子含有膜の厚みの１／５０に相当する深さ位置を深さ位置Ｄａとし、上記磁性粒子含有膜の上記他方の表面から上記一方の表面に向かって上記磁性粒子含有膜の厚みの１／５０に相当する深さ位置を深さ位置Ｄｂとした際に、上記一方の表面から上記深さ位置Ｄａまでの領域において上記磁性粒子が占める面積率Ｍｄ_５０が、上記他方の表面から上記深さ位置Ｄｂまでの領域において上記磁性粒子が占める面積率Ｍｕ_５０よりも大きく、上記Ｍｄ_５０に対する上記Ｍｕ_５０の割合（Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０）が、０．９未満である。
　本発明の磁性粒子含有膜は、透磁率に優れる。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。

　面積率Ｍｄ_５０及び面積率Ｍｕ_５０は、磁性粒子含有膜の表面近傍の磁性粒子の存在状態を表している。そのため、上記割合（Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０）が０．９未満であるということは、磁性粒子含有膜の一方の表面近傍では、磁性粒子含有膜の他方の表面近傍よりも、磁性粒子が密に存在していることを意味するといえる。
　このように、磁性粒子含有膜において磁性粒子が密に配置された領域があることで、透磁率に優れた磁性粒子含有膜が得られたと推測される。

　ここで、本発明の好適態様の一つとして、磁性粒子含有膜が基板に積層した積層体の形態で用いられる態様が挙げられる。この態様において、磁性粒子が密に配置された側の表面（すなわち、磁性粒子含有膜の一方の表面）を基板側に配置し、磁性粒子が疎に配置された側の表面（すなわち、磁性粒子含有膜の他方の表面）を空気側に配置すれば（後述の本発明の積層体の構成に相当）、磁性粒子含有膜を酸処理する際に、主に磁性粒子が疎に配置された側の表面が酸と接触することになる。これにより、磁性粒子が酸と接触することを抑制できるので、耐酸性に優れた磁性粒子含有膜が得られる。

　本発明の磁性粒子含有膜について、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の磁性粒子含有膜の一例を模式的に示す断面図である。なお、図１における寸法比は、説明の便宜上、実際のものとは異なったものである。
　図１に示すように、磁性粒子含有膜１は、磁性粒子１０と、樹脂１２と、を有する。磁性粒子含有膜１の一方の表面である表面Ｓａ側では、磁性粒子含有膜１の他方の表面である表面Ｓｂ側よりも磁性粒子１０が密に配置されている。また、表面Ｓｂ側では、表面Ｓａ側よりも磁性粒子１０が疎に配置されている。

〔面積率〕
　面積率Ｍｄ_５０及び面積率Ｍｕ_５０の算出方法について、図１を参照しながら説明する。
　面積率Ｍｄ_５０は、磁性粒子含有膜１の厚み方向（すなわち、磁性粒子含有膜１の表面Ｓａにおける法線方向）に沿って磁性粒子含有膜１を切断した際の断面において、磁性粒子含有膜１の表面Ｓａから表面Ｓｂに向かって磁性粒子含有膜１の厚みの１／５０に相当する深さ位置を深さ位置Ｄａとした場合、表面Ｓａから深さ位置Ｄａまでの領域Ａ１において磁性粒子１０が占める面積率を意味する。すなわち、面積率Ｍｄ_５０は、下記式（Ｍ１）により算出される。
　面積率Ｍｄ_５０（％）＝１００×（領域Ａ１において磁性粒子１０が占める面積）／（領域Ａ１の面積）　　　（Ｍ１）

　面積率Ｍｕ_５０は、磁性粒子含有膜１の上記断面において、表面Ｓｂから表面Ｓａに向かって磁性粒子含有膜１の厚みの１／５０に相当する深さ位置を深さ位置Ｄｂとした場合、表面Ｓｂから深さ位置Ｄｂまでの領域Ａ２において磁性粒子１０が占める面積率を意味する。すなわち、面積率Ｍｕ_５０は、下記式（Ｍ２）により算出される。
　面積率Ｍｕ_５０（％）＝１００×（領域Ａ２において磁性粒子１０が占める面積）／（領域Ａ２の面積）　　　（Ｍ２）

　ここで、各面積率の算出にあたって、次のようにして得られた画像データを用いて行う。
　まず、磁性粒子含有膜１の厚み方向（すなわち、磁性粒子含有膜１の表面Ｓａにおける法線方向）に沿って磁性粒子含有膜１をＡｒイオンミリング装置で切断して、磁性粒子含有膜１の断面を露出させる。次に、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、磁性粒子含有膜１の断面を撮影する。次に、磁性粒子含有膜１の断面の撮影画像を画像処理ソフトウェア（ＩｍａｇｅＪ）によって、磁性粒子１０に相当する箇所とそれ以外の箇所を２値化した画像データを得る。このようにして、得られた画像データを用いて、各面積率を算出する。
　なお、面積率の測定にあたって、磁性粒子含有膜の５箇所の異なる断面毎に面積率を測定し、その平均値を用いた。

　面積率Ｍｄ_５０に対する面積率Ｍｕ_５０の割合（Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０）は、０．９未満であり、磁性粒子含有膜を後述の積層体に適用した際の耐酸性が優れる点から、０．５未満が好ましく、０．１未満が特に好ましい。
　上記割合（Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０）の下限値は、磁性粒子含有膜を後述の積層体に適用した際の耐酸性がより優れる点から、０が好ましい。

　上記割合（Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０）を上記値にする方法としては、例えば、適切な樹脂（例えば、分散剤として機能する樹脂）を用いる方法、磁性粒子と樹脂との比重差を調整する方法、磁性粒子含有組成物（後述）の静止粘度を小さくする方法、磁性粒子含有組成物を塗布する際の膜厚を大きくする方法、組成物層形成工程（後述）における組成物層の乾燥時間を長くする方法、及び、組成物層形成工程後に硬化工程（後述）を実施するまでの時間を長くする方法が挙げられる。
　例えば、磁性粒子と樹脂との比重差を適切に調整した場合、磁性粒子含有膜を成膜する際に磁性粒子と樹脂とが速やかに分離して、磁性粒子含有膜の一方の表面側では、磁性粒子が密に配置され、磁性粒子含有膜の他方の表面側では、磁性粒子が疎に配置される。

　面積率Ｍｄ_５０は、磁性粒子含有膜の透磁率がより優れる点から、３０％以上が好ましく、４０％以上がより好ましく、５０％以上が特に好ましい。
　面積率Ｍｄ_５０の上限値は、１００％が好ましく、９５％がより好ましく、９０％が特に好ましい。

　面積率Ｍｕ_５０は、磁性粒子含有膜を後述の積層体に適用した際の耐酸性がより優れる点から、５０％以下が好ましく、３０％以下がより好ましく、１０％以下が特に好ましい。
　面積率Ｍｕ_５０の下限値は、０％が好ましい。

　本発明の磁性粒子含有膜の透磁率がより優れる点から、以下のようにして算出される面積率Ｍｄ_１０は、３０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましく、６０％以上が特に好ましい。なお、面積率Ｍｄ_１０は、透磁率の向上に特に有効な領域における磁性粒子の面積率を意味する実効的な充填率である。

　面積率Ｍｄ_１０の算出方法について、図１を参照しながら説明する。
　面積率Ｍｄ_１０は、磁性粒子含有膜１の上記断面において、表面Ｓａから表面Ｓｂに向かって磁性粒子含有膜１の厚みの１／１０に相当する深さ位置を深さ位置Ｄｃとした場合、表面Ｓａから深さ位置Ｄｃまでの領域Ａ３において磁性粒子１０が占める面積率を意味する。すなわち、面積率Ｍｄ_１０は、下記式（Ｍ３）により算出される。
　面積率Ｍｄ_１０（％）＝１００×（領域Ａ３において磁性粒子１０が占める面積）／（領域Ａ３の面積）　　　（Ｍ３）

　磁性粒子が密に配置されている領域と、磁性粒子が疎に配置されている領域との境界が、磁性粒子が密に配置されている表面側に近いほど、磁性粒子含有膜を後述の積層体に適用した際の耐酸性がより優れ、磁性粒子が疎に配置されている表面側に近いほど、磁性粒子含有膜の透磁率がより優れる。
　ここで、「磁性粒子が密に配置されている領域」と「磁性粒子が疎に配置されている領域」との「境界」について、図１を参照しながら説明する。
　「磁性粒子が疎に配置されている領域」とは、磁性粒子含有膜１の上記断面において、表面Ｓｂから表面Ｓａに向かって磁性粒子含有膜１の厚みの所定の深さ位置を深さ位置Ｄとした場合、表面Ｓｂから深さ位置Ｄまでの領域において磁性粒子１０が占める面積率が［（Ｍｄ_５０＋Ｍｕ_５０）／２］％未満となる領域Ａ４を意味する。「磁性粒子が密に配置されている領域」は、磁性粒子含有膜１の上記断面における「磁性粒子が疎に配置されている領域」以外の領域を意味する。したがって、「磁性粒子が密に配置されている領域」と、「磁性粒子が疎に配置されている領域」との「境界」は、上記深さ位置Ｄとなる。
　深さ位置Ｄは、表面Ｓｂから表面Ｓａに向かって、磁性粒子含有膜１の厚みの１／１００以上の深さ位置であるのが好ましく、３／１００以上の深さ位置であるのがより好ましく、５／１００以上の深さ位置であるのが特に好ましい。また、深さ位置Ｄは、表面Ｓｂから表面Ｓａに向かって磁性粒子含有膜１の厚みの９０／１００以下の深さ位置であるのが好ましく、７５／１００以下の深さ位置であるのがより好ましく、５０／１００以下の深さ位置であるのが特に好ましい。

〔磁性粒子〕
　本発明の磁性粒子含有膜は、磁性粒子を含有する。
　磁性粒子を構成する材料は、金属元素を含有することが好ましく、中でも、Ｆｅ、Ｎｉ及びＣｏからなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含有することが好ましい。
　上記金属元素は、金属元素を含む合金（好ましくは、磁性合金）、金属酸化物（好ましくは、磁性酸化物）、金属窒化物（好ましくは、磁性酸化物）、又は、金属炭化物（好ましくは、磁性炭化物）として、磁性粒子に含まれていてもよい。
　磁性粒子を構成する材料は、Ｆｅ、Ｎｉ及びＣｏ以外の元素を含んでいてもよく、その具体例としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｚｎ、Ｓｒ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｐｂ、Ｃａ、Ｂ、Ｃ、Ｎが挙げられる。

　磁性粒子を構成する材料の具体例としては、Ｆｅ－Ｃｏ系合金（好ましくは、パーメンジュール）、Ｆｅ－Ｎｉ系合金（例えば、パーマロイ）、Ｆｅ－Ｚｒ系合金、Ｆｅ－Ｍｎ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ系合金、Ｆｅ－Ａｌ系合金、Ｎｉ－Ｍｏ系合金（好ましくは、スーパーマロイ）、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｏ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ａｌ系合金（好ましくは、センダスト）、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ－Ｃ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ－Ｃｒ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ－Ｃｒ－Ｃ系合金、Ｆｅ－Ｃｏ－Ｓｉ－Ｂ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ－Ｎｂ系合金、Ｆｅナノ結晶合金、Ｆｅ基アモルファス合金、Ｃｏ基アモルファス合金、スピネルフェライト（好ましくは、Ｎｉ－Ｚｎ系フェライト、Ｍｎ－Ｚｎ系フェライト）及び六方晶フェライト（好ましくは、バリウムフェライト、後述の式（Ｆ１）で表されるマグネトプランバイト型六方晶フェライト）が挙げられる。なお、上記合金は、アモルファスであってもよい。
　中でも、磁性粒子含有膜の透磁率がより優れる点から、Ｆｅ基アモルファス合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ系合金、Ｆｅナノ結晶合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｏ系合金、Ｃｏ基アモルファス合金、Ｎｉ－Ｍｏ系合金、スピネルフェライト又は六方晶フェライトが好ましい。
　磁性粒子を構成する材料は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。

　式（Ｆ１）は、次の通りである。
　　ＡＦｅ_{（１２－Ｘ）}Ａｌ_ＸＯ_１９　　　式（Ｆ１）
　式（Ｆ１）中、Ａは、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃａ、及びＰｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素を表し、ｘは、１．５≦ｘ≦８．０を満たす。

　式（Ｆ１）におけるＡは、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃａ、及びＰｂからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素であれば、金属元素の種類及び数は、特に制限されない。
　例えば、操作性及び取り扱い性の観点からは、式（Ｆ１）におけるＡは、Ｓｒ、Ｂａ、及びＣａからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素が好ましい。
　式（Ｆ１）におけるｘは、１．５≦ｘ≦８．０を満たし、１．５≦ｘ≦６．０を満たすことが好ましく、２．０≦ｘ≦６．０を満たすことがより好ましい。
　式（Ｆ１）におけるｘが１．５以上であると、６０ＧＨｚよりも高い周波数帯域の電波を吸収し得る。
　式（Ｆ１）におけるｘが８．０以下であると、マグネトプランバイト型六方晶フェライト粒子が磁性を有する。

　式（Ｆ１）で表されるマグネトプランバイト型六方晶フェライトの具体例としては、ＳｒＦｅ_{（９．５８）}Ａｌ_{（２．４２）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（９．３７）}Ａｌ_{（２．６３）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（９．２７）}Ａｌ_{（２．７３）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（９．８５）}Ａｌ_{（２．１５）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（１０．００）}Ａｌ_{（２．００）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（９．７４）}Ａｌ_{（２．２６）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（１０．４４）}Ａｌ_{（１．５６）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（９．７９）}Ａｌ_{（２．２１）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（９．３３）}Ａｌ_{（２．６７）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（７．８８）}Ａｌ_{（４．１２）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（７．０４）}Ａｌ_{（４．９６）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（７．３７）}Ａｌ_{（４．６３）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（６．２５）}Ａｌ_{（５．７５）}Ｏ_１９、ＳｒＦｅ_{（７．７１）}Ａｌ_{（４．２９）}Ｏ_１９、Ｓｒ_{（０．８０）}Ｂａ_{（０．１０）}Ｃａ_{（０．１０）}Ｆｅ_{（９．８３）}Ａｌ_{（２．１７）}Ｏ_１９、ＢａＦｅ_{（９．５０）}Ａｌ_{（２．５０）}Ｏ_１９、ＣａＦｅ_{（１０．００）}Ａｌ_{（２．００）}Ｏ_１９、ＰｂＦｅ_{（９．００）}Ａｌ_{（３．００）}Ｏ_１９が挙げられる。

　マグネトプランバイト型六方晶フェライト粒子の組成は、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法により確認する。
　具体的には、試料粒子１２ｍｇ及び４ｍｏｌ／Ｌ（リットル；以下、同じ。）の塩酸水溶液１０ｍＬを入れた耐圧容器を、設定温度１２０℃のオーブンで１２時間保持し、溶解液を得る。次いで、得られた溶解液に純水３０ｍＬを加えた後、０．１μｍのメンブレンフィルタを用いてろ過する。このようにして得られたろ液の元素分析を、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析装置を用いて行う。得られた元素分析の結果に基づき、鉄原子１００原子％に対する各金属原子の含有率を求める。得られた含有率に基づき、組成を確認する。
　測定装置としては、例えば、（株）島津製作所の高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析装置（型番：ＩＣＰＳ－８１００）を好適に用いることができる。ただし、測定装置は、これに限定されない。

　式（Ｆ１）で表されるマグネトプランバイト型六方晶フェライトは、結晶相が単相であるマグネトプランバイト型六方晶フェライトであるのが好ましい。
　本明細書において、「結晶相が単相である」場合とは、粉末Ｘ線回折（ＸＲＤ：X-Ray-Diffraction）測定において、任意の組成のマグネトプランバイト型六方晶フェライトの結晶構造を示す回折パターンが１種類のみ観察される場合をいう。換言すると、任意の組成のマグネトプランバイト型六方晶フェライトが複数混在し、回折パターンが２種類以上観察されたり、マグネトプランバイト型六方晶フェライト以外の結晶の回折パターンが観察されたりすることがない場合をいう。回折パターンの帰属には、例えば、国際回折データセンター（ＩＣＤＤ：International Centre for Diffraction Data、登録商標）のデータベースを参照できる。例えば、Ｓｒを含むマグネトプランバイト型六方晶フェライトの回折パターンは、国際回折データセンター（ＩＣＤＤ）の「００－０３３－１３４０」を参照できる。但し、鉄の一部がアルミニウムに置換されることで、ピーク位置については、シフトする。

　マグネトプランバイト型六方晶フェライトの結晶相が単相であることの確認は、例えば、Ｘ線回折（ＸＲＤ）法により行うことができる。
　具体的には、粉末Ｘ線回折装置を用い、以下の条件にて測定する方法が挙げられる。
　測定装置としては、例えば、ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社のＸ’Ｐｅｒｔ　Ｐｒｏ回折計を好適に用いることができる。但し、測定装置は、これに限定されない。

－条件－
　Ｘ線源：ＣｕＫα線
〔波長：１．５４Å（０．１５４ｎｍ）、出力：４０ｍＡ，４５ｋＶ〕
　スキャン範囲：２０°＜２θ＜７０°
　スキャン間隔：０．０５°
　スキャンスピード：０．７５°／ｍｉｎ

　磁性粒子の平均一次粒子径としては、０．００１～１００μｍが好ましく、０．０１～５０μｍがより好ましく、０．１～３０μｍがさらに好ましく、０．５～２５μｍが特に好ましい。
　磁性粒子は、平均一次粒子径の異なる粒子を複数組み合わせて用いてもよい。

　磁性粒子の一次粒子の粒子径は、磁性粒子を透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１００，０００倍で撮影し、総倍率５００，０００倍になるように印画紙にプリントして得た粒子写真において、デジタイザーで粒子（一次粒子）の輪郭をトレースし、トレースした領域と同じ面積の円の直径（円面積相径）を算出することで測定する。ここで、一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。透過型電子顕微鏡を用いる撮影は、加速電圧３００ｋＶで透過型電子顕微鏡を用いて直接法により行うものとする。透過型電子顕微鏡観察及び測定は、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ－９０００型及びカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ－４００を用いて行うことができる。

　磁性粒子の形状に関して、「板状」とは、対向する２つの板面を有する形状をいう。一方、そのような板面を持たない粒子形状の中で、長軸と短軸の区別のある形状が「楕円状」である。長軸とは、粒子の長さを最も長く取ることができる軸（直線）として決定する。一方、短軸とは、長軸と直交する直線で粒子長さを取ったときに長さが最も長くなる軸として決定する。長軸と短軸の区別がない形状、即ち長軸長＝短軸長となる形状が「球状」である。形状から長軸及び短軸が特定できない形状を不定形と呼ぶ。上記の粒子形状特定のための透過型電子顕微鏡を用いる撮影は、撮影対象粒子に配向処理を施さずに行う。磁性粒子の形状は、板状、楕円状、球状、及び不定形のいずれでもよい。

　ここで、本明細書に記載の各種粒子に関する平均一次粒子径は、市販品を用いる場合、カタログ値を採用する。
　カタログ値が無い場合、上記のように撮影された粒子写真を用いて、無作為に抽出した５００個の粒子について求められた値の算術平均とする。

　磁性粒子含有膜に含まれる、樹脂の比重に対する磁性粒子の比重の割合（磁性粒子の比重／樹脂の比重）は、２以上が好ましく、３以上がより好ましく、４以上が特に好ましい。
　上記比重の割合が２以上であれば、磁性粒子含有膜の製造時に磁性粒子と樹脂とが速やかに分離するので、上述した各面積率の磁性粒子含有膜が得られやすくなる。
　なお、上記比重の割合の上限値は、１０以下が好ましい。

　磁性粒子含有膜中の磁性粒子の含有量は、磁性粒子含有膜の透磁率がより優れる点から、磁性粒子含有膜の全質量に対して、１０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。
　磁性粒子含有膜中の磁性粒子の含有量は、磁性粒子含有膜を後述の積層体に適用した際の耐酸性がより優れる点から、磁性粒子含有膜の全質量に対して、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下が特に好ましい。

〔樹脂〕
　本発明の磁性粒子含有膜は、樹脂を含有する。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、フェノキシ樹脂、などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましい。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０）などが挙げられる。エポキシ樹脂としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。また、エポキシ樹脂は、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）などを用いることもできる。また、樹脂は、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載の樹脂を用いることもできる。また、樹脂が側鎖にエチレン性不飽和基、特に（メタ）アクリロイル基を有する場合、主鎖とエチレン性不飽和基とが脂環構造を有する２価の連結基を介して結合していることも好ましい。
　中でも、（メタ）アクリル樹脂、又は、ポリイミド樹脂が好ましい。

　磁性粒子含有膜中の樹脂の含有量は、磁性粒子含有膜を後述の積層体に適用した際の耐酸性がより優れる点から、磁性粒子含有膜の全質量に対して、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。
　磁性粒子含有膜中の樹脂の含有量は、磁性粒子含有膜の透磁率がより優れる点から、磁性粒子含有膜の全質量に対して、９０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下が特に好ましい。
　樹脂は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の樹脂を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

＜グラフト鎖を含む繰り返し単位を有する樹脂＞
　本発明における樹脂は、グラフト鎖を含む繰り返し単位を有する樹脂（以下、「樹脂Ａ」ともいう。）を含むことが好ましい。樹脂Ａは、後述の磁性粒子含有組成物中において、磁性粒子を分散させる分散剤として用いられる場合がある。ただし、このような用途は一例であって、他の目的で樹脂Ａを使用することもできる。
　また、樹脂Ａを用いると、上述の割合（Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０）が０．９未満である磁性粒子含有膜が得られやすい。

（グラフト鎖を含む繰り返し単位）
　グラフト鎖を含む繰り返し単位において、グラフト鎖が長くなると立体反発効果が高くなり磁性粒子の分散性は向上する。一方、グラフト鎖が長すぎると磁性粒子への吸着力が低下して、磁性粒子の分散性は低下する傾向となる。このため、グラフト鎖は、水素原子を除いた原子数が４０～１００００であることが好ましく、水素原子を除いた原子数が５０～２０００であることがより好ましく、水素原子を除いた原子数が６０～５００であることがさらに好ましい。
　ここで、グラフト鎖とは、主鎖の根元（主鎖から枝分かれしている基において主鎖に結合する原子）から、主鎖から枝分かれしている基の末端までを示す。

　また、グラフト鎖は、ポリマー構造を含んでいることが好ましく、このようなポリマー構造としては、例えば、ポリ（メタ）アクリレート構造（例えば、ポリ（メタ）アクリル構造）、ポリエステル構造、ポリウレタン構造、ポリウレア構造、ポリアミド構造、及びポリエーテル構造等が挙げられる。
　グラフト鎖と溶剤との相互作用性を向上させ、それにより磁性粒子の分散性を高めるために、グラフト鎖は、ポリエステル構造、ポリエーテル構造、及びポリ（メタ）アクリレート構造からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むグラフト鎖であることが好ましく、ポリエステル構造及びポリエーテル構造の少なくともいずれかを含むグラフト鎖であることがより好ましい。

　樹脂Ａは、グラフト鎖を含むマクロモノマー（ポリマー構造を有し、主鎖に結合してグラフト鎖を構成するモノマー）を用いて得られる樹脂であってもよい。
　グラフト鎖を含むマクロモノマー（ポリマー構造を有し、主鎖に結合してグラフト鎖を構成するモノマー）としては、特に制限されないが、反応性二重結合性基を含むマクロモノマーを好適に使用できる。

　上記グラフト鎖を含む繰り返し単位に対応し、樹脂Ａの合成に好適に用いられる市販のマクロモノマーとしては、ＡＡ－６、ＡＡ－１０、ＡＢ－６、ＡＳ－６、ＡＮ－６、ＡＷ－６、ＡＡ－７１４、ＡＹ－７０７、ＡＹ－７１４、ＡＫ－５、ＡＫ－３０、及びＡＫ－３２（いずれも商品名、東亞合成社製）、並びにブレンマーＰＰ－１００、ブレンマーＰＰ－５００、ブレンマーＰＰ－８００、ブレンマーＰＰ－１０００、ブレンマー５５－ＰＥＴ－８００、ブレンマーＰＭＥ－４０００、ブレンマーＰＳＥ－４００、ブレンマーＰＳＥ－１３００、及びブレンマー４３ＰＡＰＥ－６００Ｂ（いずれも商品名、日油社製）が用いられる。この中でも、ＡＡ－６、ＡＡ－１０、ＡＢ－６、ＡＳ－６、ＡＮ－６、又はブレンマーＰＭＥ－４０００が好ましい。

　樹脂Ａは、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル、及び、環状又は鎖状のポリエステルからなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましく、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル、及び鎖状のポリエステルからなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことがより好ましく、ポリアクリル酸メチル構造、ポリメタクリル酸メチル構造、ポリカプロラクトン構造、及びポリバレロラクトン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが特に好ましい。樹脂Ａは、上記構造を１種単独で含んでいてもよいし、これらの構造を複数含んでいてもよい。
　ここで、ポリカプロラクトン構造とは、ε－カプロラクトンを開環した構造を繰り返し単位として含む構造をいう。ポリバレロラクトン構造とは、δ－バレロラクトンを開環した構造を繰り返し単位として含む構造をいう。

　なお、樹脂Ａが後述する式（１）及び後述する式（２）におけるｊ及びｋが５である繰り返し単位を含む場合、樹脂Ａ中に、上述したポリカプロラクトン構造を導入できる。
　また、樹脂Ａが後述する式（１）及び後述する式（２）におけるｊ及びｋが４である繰り返し単位を含む場合、樹脂中に、上述したポリバレロラクトン構造を導入できる。
　また、樹脂Ａが後述する式（４）におけるＸ^５が水素原子であり、Ｒ^４がメチル基である繰り返し単位を含む場合、樹脂Ａ中に、上述したポリアクリル酸メチル構造を導入できる。
　また、樹脂Ａが後述する式（４）におけるＸ^５がメチル基であり、Ｒ^４がメチル基である繰り返し単位を含む場合、樹脂Ａ中に、上述したポリメタクリル酸メチル構造を導入できる。

　樹脂Ａは、グラフト鎖を含む繰り返し単位として、下記式（１）～式（４）のいずれかで表される繰り返し単位を含むことが好ましく、下記式（１Ａ）、下記式（２Ａ）、下記式（３Ａ）、下記式（３Ｂ）、及び下記（４）のいずれかで表される繰り返し単位を含むことがより好ましい。

　式（１）～（４）において、Ｗ^１、Ｗ^２、Ｗ^３、及びＷ^４は、それぞれ独立に、酸素原子又はＮＨを表す。Ｗ^１、Ｗ^２、Ｗ^３、及びＷ^４は、酸素原子であることが好ましい。
　式（１）～（４）において、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、及びＸ^５は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、及びＸ^５は、合成上の制約の点からは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数（炭素原子数）１～１２のアルキル基が好ましく、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。

　式（１）～（４）において、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、及びＹ^４は、それぞれ独立に、２価の連結基を表し、連結基は特に構造上制約されない。Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、及びＹ^４で表される２価の連結基として、具体的には、下記の（Ｙ－１）～（Ｙ－２１）の連結基等が挙げられる。下記に示した構造において、Ａ及びＢはそれぞれ、式（１）～（４）における左末端基、右末端基との結合部位を意味する。下記に示した構造のうち、合成の簡便性から、（Ｙ－２）又は（Ｙ－１３）がより好ましい。

　式（１）～（４）において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、及びＺ^４は、それぞれ独立に１価の有機基を表す。有機基の構造は、特に制限されないが、具体的には、アルキル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基、及びアミノ基等が挙げられる。これらの中でも、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、及びＺ^４で表される有機基としては、特に分散性向上の点から、立体反発効果を含む基が好ましく、それぞれ独立に炭素数５～２４のアルキル基又はアルコキシ基がより好ましく、その中でも、特にそれぞれ独立に炭素数５～２４の分岐鎖状アルキル基、炭素数５～２４の環状アルキル基、又は炭素数５～２４のアルコキシ基がさらに好ましい。なお、アルコキシ基中に含まれるアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。

　式（１）～（４）において、ｎ、ｍ、ｐ、及びｑは、それぞれ独立に、１～５００の整数である。
　また、式（１）及び（２）において、ｊ及びｋは、それぞれ独立に、２～８の整数を表す。式（１）及び（２）におけるｊ及びｋは、４～６の整数が好ましく、５がより好ましい。
　また、式（１）及び（２）において、ｎ及びｍは、１０以上の整数が好ましく、２０以上の整数がより好ましい。また、樹脂Ａが、ポリカプロラクトン構造、及びポリバレロラクトン構造を含む場合、ポリカプロラクトン構造の繰り返し数と、ポリバレロラクトンの繰返し数の和としては、１０以上の整数が好ましく、２０以上の整数がより好ましい。

　式（３）中、Ｒ^３は分岐鎖状又は直鎖状のアルキレン基を表し、炭素数１～１０のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましい。ｐが２～５００のとき、複数存在するＲ^３は互いに同じであっても異なっていてもよい。
　式（４）中、Ｒ^４は水素原子又は１価の有機基を表し、この１価の有機基の構造は特に制限されない。Ｒ^４としては、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基が好ましく、水素原子又はアルキル基がより好ましい。Ｒ^４がアルキル基である場合、アルキル基としては、炭素数１～２０の直鎖状アルキル基、炭素数３～２０の分岐鎖状アルキル基、又は炭素数５～２０の環状アルキル基が好ましく、炭素数１～２０の直鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数１～６の直鎖状アルキル基がさらに好ましい。式（４）において、ｑが２～５００のとき、グラフト鎖中に複数存在するＸ^５及びＲ^４は互いに同じであっても異なっていてもよい。

　また、樹脂Ａは、２種以上の構造が異なる、グラフト鎖を含む繰り返し単位を含んでいてもよい。すなわち、樹脂Ａの分子中に、互いに構造の異なる式（１）～（４）で示される繰り返し単位を含んでいてもよく、また、式（１）～（４）においてｎ、ｍ、ｐ、及びｑがそれぞれ２以上の整数を表す場合、式（１）及び（２）においては、側鎖中にｊ及びｋが互いに異なる構造を含んでいてもよく、式（３）及び（４）においては、分子内に複数存在するＲ^３、Ｒ^４、及びＸ^５は互いに同じであっても異なっていてもよい。

　式（１）で表される繰り返し単位としては、下記式（１Ａ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。
　また、式（２）で表される繰り返し単位としては、下記式（２Ａ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。

　式（１Ａ）中、Ｘ^１、Ｙ^１、Ｚ^１、及びｎは、式（１）におけるＸ^１、Ｙ^１、Ｚ^１、及びｎと同義であり、好ましい範囲も同様である。式（２Ａ）中、Ｘ^２、Ｙ^２、Ｚ^２、及びｍは、式（２）におけるＸ^２、Ｙ^２、Ｚ^２、及びｍと同義であり、好ましい範囲も同様である。

　また、式（３）で表される繰り返し単位としては、下記式（３Ａ）又は式（３Ｂ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。

　式（３Ａ）又は（３Ｂ）中、Ｘ^３、Ｙ^３、Ｚ^３、及びｐは、式（３）におけるＸ^３、Ｙ^３、Ｚ^３、及びｐと同義であり、好ましい範囲も同様である。

　樹脂Ａは、グラフト鎖を含む繰り返し単位として、式（１Ａ）で表される繰り返し単位を含むことがより好ましい。

　また、樹脂Ａとしては、ポリアルキレンイミン構造とポリエステル構造を含む繰り返し単位を含むことも好ましい。ポリアルキレンイミン構造とポリエステル構造を含む繰り返し単位は、主鎖にポリアルキレンイミン構造を含み、グラフト鎖としてポリエステル構造を含むことが好ましい。

　上記ポリアルキレンイミン構造とは、同一又は異なるアルキレンイミン鎖を２つ以上含む重合構造である。アルキレンイミン鎖としては、具体的には下記式（４Ａ）及び下記式（４Ｂ）で表されるアルキレンイミン鎖が挙げられる。

　式（４Ａ）中、Ｒ^Ｘ１及びＲ^Ｘ２は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。ａ^１は、２以上の整数を表す。＊^１はポリエステル鎖、隣接するアルキレンイミン鎖、又は、水素原子若しくは置換基との結合位置を表す。

　式（４Ｂ）中、Ｒ^Ｘ３及びＲ^Ｘ４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。ａ^２は、２以上の整数を表す。式（４Ｂ）で表されるアルキレンイミン鎖は、アニオン性基を有するポリエステル鎖と、式（４Ｂ）中に明示されるＮ^＋とポリエステル鎖に含まれるアニオン性基が塩架橋基を形成することにより、結合する。

　式（４Ａ）及び式（４Ｂ）中の＊、及び、式（４Ｂ）中の＊^２は、それぞれ独立に、隣接するアルキレンイミン鎖、又は、水素原子若しくは置換基と結合する位置を表す。
　式（４Ａ）及び式（４Ｂ）中の＊としては、なかでも、隣接するアルキレンイミン鎖と結合する位置を表すことが好ましい。

　式（４Ａ）中のＲ^Ｘ１及びＲ^Ｘ２、並びに式（４Ｂ）中のＲ^Ｘ３及びＲ^Ｘ４は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
　アルキル基の炭素数としては、炭素数１～６が好ましく、炭素数１～３が好ましい。
　式（４Ａ）中、Ｒ^Ｘ１及びＲ^Ｘ２としては、いずれも水素原子であることが好ましい。
　式（４Ｂ）中、Ｒ^Ｘ３及びＲ^Ｘ４としては、いずれも水素原子であることが好ましい。

　式（４Ａ）中のａ^１及び式（４Ｂ）中のａ^２としては、２以上の整数であれば特に制限されない。その上限値としては１０以下が好ましく、６以下がより好ましく、４以下がさらに好ましく、２又は３がさらに好ましく、２が特に好ましい。

　式（４Ａ）及び式（４Ｂ）中、＊は、隣接するアルキレンイミン鎖、又は、水素原子若しくは置換基との結合位置を表す。
　上記置換基としては、例えばアルキル基（例えば炭素数１～６のアルキル基）等の置換基が挙げられる。また、置換基として、ポリエステル鎖が結合してもよい。

　式（４Ａ）で表されるアルキレンイミン鎖は、上述した＊¹の位置で、ポリエステル鎖と連結していることが好ましい。具体的には、ポリエステル鎖中のカルボニル炭素が、上述した＊¹の位置で結合することが好ましい。
　上記ポリエステル鎖としては、下記式（５Ａ）で表されるポリエステル鎖が挙げられる。

　アルキレンイミン鎖が式（４Ｂ）で表されるアルキレンイミン鎖である場合、ポリエステル鎖はアニオン性（好ましくは酸素アニオンＯ^－）を含み、このアニオン性と式（４Ｂ）中のＮ^＋とが塩架橋基を形成することが好ましい。
　このようなポリエステル鎖としては、下記式（５Ｂ）で表されるポリエステル鎖が挙げられる。

　式（５Ａ）中のＬ^Ｘ１、及び式（５Ｂ）中のＬ^Ｘ２は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。２価の連結基としては、好ましくは炭素数３～３０のアルキレン基が挙げられる。

　式（５Ａ）中のｂ^１１、及び式（５Ｂ）中のｂ^２１は、それぞれ独立に２以上の整数を表し、その上限は、例えば、２００以下である。

　式（５Ａ）中のｂ^１２、及び式（５Ｂ）中のｂ^２２は、それぞれ独立に０又は１を表す。

　式（５Ａ）中のＸ^Ａ、及び式（５Ｂ）中のＸ^Ｂは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ポリアルキレンオキシアルキル基、及びアリール基等が挙げられる。

　上記アルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。）、及び、上記アルコキシ基中に含まれるアルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。）の炭素数としては、１～３０が挙げられ、１～１０が好ましい。また、上記アルキル基はさらに置換基を有していてもよく、置換基としては、水酸基及びハロゲン原子（ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等）が挙げられる。

　ポリアルキレンオキシアルキル基とは、Ｒ^Ｘ６（ＯＲ^Ｘ７）_ｐ（Ｏ）_ｑ－で表される置換基である。Ｒ^Ｘ６はアルキル基を表し、Ｒ^Ｘ７はアルキレン基を表し、ｐは２以上の整数を表し、ｑは、０又は１を表す。
　Ｒ^Ｘ６で表されるアルキル基は、Ｘ^Ａで表されるアルキル基と同義である。また、Ｒ^Ｘ７で表されるアルキレン基としては、Ｘ^Ａで表されるアルキル基から水素原子を１つ除いた基が挙げられる。
　ｐは、２以上の整数であり、その上限値としては、例えば１０以下であり、５以下が好ましい。

　アリール基としては、例えば、炭素数６～２４のアリール基（単環及び多環のいずれであってもよい。）が挙げられる。
　上記アリール基はさらに置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、及びシアノ基等が挙げられる。

　上記ポリエステル鎖としては、ε－カプロラクトン、δ－カプロラクトン、β－プロピオラクトン、γ－ブチロラクトン、δ－バレロラクトン、γ－バレロラクトン、エナントラクトン、β－ブチロラクトン、γ－ヘキサノラクトン、γ－オクタノラクトン、δ－ヘキサラノラクトン、δ－オクタノラクトン、δ－ドデカノラクトン、α－メチル－γ－ブチロラクトン、及びラクチド（Ｌ体であってもＤ体であってもよい。）等のラクトンを開環した構造が好ましく、ε－カプロラクトン又はδ－バレロラクトンを開環した構造がより好ましい。

　上記ポリアルキレンイミン構造とポリエステル構造を含む繰り返し単位としては、特許第５９２３５５７号に記載の合成方法に準じて合成できる。

　樹脂Ａにおいて、グラフト鎖を含む繰り返し単位の含有量は、質量換算で、樹脂Ａの総質量に対して、２～９５質量％が好ましく、２～９０質量％がより好ましく、５～３０質量％が特に好ましい。グラフト鎖を含む繰り返し単位がこの範囲内で含まれると、磁性粒子含有膜の透磁率及び後述の積層体に適用した際の耐酸性がより優れる。

（疎水性繰り返し単位）
　また、樹脂Ａは、グラフト鎖を含む繰り返し単位とは異なる（すなわち、グラフト鎖を含む繰り返し単位には相当しない）疎水性繰り返し単位を含んでいてもよい。ただし、本明細書において、疎水性繰り返し単位は、酸基（例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、フェノール性水酸基等）を有さない繰り返し単位である。

　疎水性繰り返し単位は、ＣｌｏｇＰ値が１．２以上の化合物（モノマー）に由来する（対応する）繰り返し単位であることが好ましく、ＣｌｏｇＰ値が１．２～８の化合物に由来する繰り返し単位であることがより好ましい。これにより、本発明の効果をより確実に発現できる。

　ＣｌｏｇＰ値は、Ｄａｙｌｉｇｈｔ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　Ｓｙｓｔｅｍ，　Ｉｎｃ．から入手できるプログラム「ＣＬＯＧＰ」で計算された値である。このプログラムは、Ｈａｎｓｃｈ，　Ｌｅｏのフラグメントアプローチ（下記文献参照）により算出される「計算ｌｏｇＰ」の値を提供する。フラグメントアプローチは化合物の化学構造に基づいており、化学構造を部分構造（フラグメント）に分割し、そのフラグメントに対して割り当てられたｌｏｇＰ寄与分を合計して化合物のｌｏｇＰ値を推算している。その詳細は以下の文献に記載されている。本明細書では、プログラムＣＬＯＧＰ　ｖ４．８２により計算したＣｌｏｇＰ値を用いる。
　Ａ．　Ｊ．　Ｌｅｏ，　Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，　Ｖｏｌ．４，　Ｃ．　Ｈａｎｓｃｈ，　Ｐ．　Ｇ．　Ｓａｍｍｎｅｎｓ，　Ｊ．　Ｂ．　Ｔａｙｌｏｒ　ａｎｄ　Ｃ．　Ａ．　Ｒａｍｓｄｅｎ，　Ｅｄｓ．，　ｐ．２９５，　Ｐｅｒｇａｍｏｎ　Ｐｒｅｓｓ，　１９９０　Ｃ．　Ｈａｎｓｃｈ　＆　Ａ．　Ｊ．　Ｌｅｏ．　ＳＵｂｓｔｉｔｕｅｎｔ　Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ　Ｆｏｒ　Ｃｏｒｒｅｌａｔｉｏｎ　Ａｎａｌｙｓｉｓ　ｉｎ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ａｎｄ　Ｂｉｏｌｏｇｙ．　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ．　Ａ．Ｊ．　Ｌｅｏ．　Ｃａｌｃｕｌａｔｉｎｇ　ｌｏｇＰｏｃｔ　ｆｒｏｍ　ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ．　Ｃｈｅｍ．　Ｒｅｖ．，　９３，　１２８１－１３０６，　１９９３．

　ｌｏｇＰは、分配係数Ｐ（Ｐａｒｔｉｔｉｏｎ　Ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）の常用対数を意味し、ある有機化合物が油（一般的には１－オクタノール）と水の２相系の平衡でどのように分配されるかを定量的な数値として表す物性値であり、以下の式で示される。
　　ｌｏｇＰ＝ｌｏｇ（Ｃｏｉｌ／Ｃｗａｔｅｒ）
　式中、Ｃｏｉｌは油相中の化合物のモル濃度を、Ｃｗａｔｅｒは水相中の化合物のモル濃度を表す。
　ｌｏｇＰの値が０をはさんでプラスに大きくなると油溶性が増し、マイナスで絶対値が大きくなると水溶性が増し、有機化合物の水溶性と負の相関があり、有機化合物の親疎水性を見積るパラメータとして広く利用されている。

　樹脂Ａは、疎水性繰り返し単位として、下記式（ｉ）～（ｉｉｉ）で表される単量体に由来の繰り返し単位から選択された１種以上の繰り返し単位を含むことが好ましい。

　上記式（ｉ）～（ｉｉｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、及び臭素原子等）、又は炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、及びプロピル基等）を表す。
　Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３は、水素原子又は炭素数が１～３のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましい。Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子であることがさらに好ましい。
　Ｘは、酸素原子（－Ｏ－）又はイミノ基（－ＮＨ－）を表し、酸素原子が好ましい。

　Ｌは、単結合又は２価の連結基である。２価の連結基としては、２価の脂肪族基（例えば、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基）、２価の芳香族基（例えば、アリーレン基、置換アリーレン基）、２価の複素環基、酸素原子（－Ｏ－）、硫黄原子（－Ｓ－）、イミノ基（－ＮＨ－）、置換イミノ基（－ＮＲ^３１－、ここでＲ^３１は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、カルボニル基（－ＣＯ－）、及びこれらの組合せ等が挙げられる。

　２価の脂肪族基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。脂肪族基は不飽和脂肪族基であっても飽和脂肪族基であってもよいが、飽和脂肪族基が好ましい。また、脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、芳香族基、及び複素環基等が挙げられる。

　２価の芳香族基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１５がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。また、芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、及び複素環基等が挙げられる。

　２価の複素環基は、複素環として５員環又は６員環を含むことが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環、又は芳香族環が縮合していてもよい。また、複素環基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）、チオキソ基（＝Ｓ）、イミノ基（＝ＮＨ）、置換イミノ基（＝Ｎ－Ｒ^３２、ここでＲ^３２は脂肪族基、芳香族基、又は複素環基）、脂肪族基、芳香族基、及び複素環基が挙げられる。

　Ｌは、単結合、アルキレン基又はオキシアルキレン構造を含む２価の連結基が好ましい。オキシアルキレン構造は、オキシエチレン構造又はオキシプロピレン構造がより好ましい。また、Ｌは、オキシアルキレン構造を２以上繰り返して含むポリオキシアルキレン構造を含んでいてもよい。ポリオキシアルキレン構造としては、ポリオキシエチレン構造又はポリオキシプロピレン構造が好ましい。ポリオキシエチレン構造は、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）ｎ－で表され、ｎは、２以上の整数が好ましく、２～１０の整数がより好ましい。

　Ｚとしては、脂肪族基（例えば、アルキル基、置換アルキル基、不飽和アルキル基、置換不飽和アルキル基、）、芳香族基（例えば、アリール基、置換アリール基、アリーレン基、置換アリーレン基）、複素環基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらの基には、酸素原子（－Ｏ－）、硫黄原子（－Ｓ－）、イミノ基（－ＮＨ－）、置換イミノ基（－ＮＲ^３１－、ここでＲ^３１は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、又はカルボニル基（－ＣＯ－）が含まれていてもよい。

　脂肪族基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。脂肪族基には、さらに環集合炭化水素基、架橋環式炭化水素基が含まれ、環集合炭化水素基の例としては、ビシクロヘキシル基、パーヒドロナフタレニル基、ビフェニル基、及び４－シクロヘキシルフェニル基等が含まれる。架橋環式炭化水素環として、例えば、ピナン、ボルナン、ノルピナン、ノルボルナン、ビシクロオクタン環（ビシクロ［２．２．２］オクタン環、及びビシクロ［３．２．１］オクタン環等）等の２環式炭化水素環、ホモブレダン、アダマンタン、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン、及びトリシクロ［４．３．１．１^２，５］ウンデカン環等の３環式炭化水素環、並びに、テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカン、及びパーヒドロ－１，４－メタノ－５，８－メタノナフタレン環等の４環式炭化水素環等が挙げられる。また、架橋環式炭化水素環には、縮合環式炭化水素環、例えば、パーヒドロナフタレン（デカリン）、パーヒドロアントラセン、パーヒドロフェナントレン、パーヒドロアセナフテン、パーヒドロフルオレン、パーヒドロインデン、及びパーヒドロフェナレン環等の５～８員シクロアルカン環が複数個縮合した縮合環も含まれる。
　脂肪族基は不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。また、脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、芳香族基及び複素環基が挙げられる。ただし、脂肪族基は、置換基として酸基を有さない。

　芳香族基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１５がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。また、芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基及び複素環基が挙げられる。ただし、芳香族基は、置換基として酸基を有さない。

　複素環基は、複素環として５員環又は６員環を含むことが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環又は芳香族環が縮合していてもよい。また、複素環基は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）、チオキソ基（＝Ｓ）、イミノ基（＝ＮＨ）、置換イミノ基（＝Ｎ－Ｒ^３２、ここでＲ^３２は脂肪族基、芳香族基又は複素環基）、脂肪族基、芳香族基、及び複素環基が挙げられる。ただし、複素環基は、置換基として酸基を有さない。

　上記式（ｉｉｉ）中、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、及び臭素原子等）、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、及びプロピル基等）、Ｚ、又はＬ－Ｚを表す。ここでＬ及びＺは、上記における基と同義である。Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６としては、水素原子、又は炭素数が１～３のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。

　上記式（ｉ）で表される単量体として、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３が水素原子、又はメチル基であって、Ｌが単結合又はアルキレン基もしくはオキシアルキレン構造を含む２価の連結基であって、Ｘが酸素原子又はイミノ基であって、Ｚが脂肪族基、複素環基、又は芳香族基である化合物が好ましい。
　また、上記式（ｉｉ）で表される単量体として、Ｒ^１が水素原子又はメチル基であって、Ｌがアルキレン基であって、Ｚが脂肪族基、複素環基、又は芳香族基である化合物が好ましい。また、上記式（ｉｉｉ）で表される単量体として、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６が水素原子又はメチル基であって、Ｚが脂肪族基、複素環基、又は芳香族基である化合物が好ましい。

　式（ｉ）～（ｉｉｉ）で表される代表的な化合物の例としては、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、及びスチレン類等から選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられる。
　なお、式（ｉ）～（ｉｉｉ）で表される代表的な化合物の例としては、特開２０１３－２４９４１７号公報の段落００８９～００９３に記載の化合物を参照でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　樹脂Ａにおいて、疎水性繰り返し単位の含有量は、質量換算で、樹脂Ａの総質量に対して、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましい。

（磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基に由来する基）
　樹脂Ａは、磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基に由来する基を有していてもよい。磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基に由来する基は、磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基そのものであってもよいし、磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基が磁性粒子と反応した後の反応残基であってもよい。
　樹脂Ａは、磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基に由来する基を含む繰り返し単位をさらに含むことが好ましい。
　磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基としては、例えば、酸基、塩基性基、配位性基、及び反応性を有する官能基等が挙げられる。
　樹脂Ａが、酸基、塩基性基、配位性基、又は反応性を有する官能基に由来する基を含む場合、それぞれ、酸基に由来する基を含む繰り返し単位、塩基性基に由来する基を含む繰り返し単位、配位性基に由来する基を含む繰り返し単位、又は反応性を有する官能基に由来する基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。

　酸基としてのアルカリ可溶性基に由来する基を含む繰り返し単位は、上記のグラフト鎖を含む繰り返し単位と同一の繰り返し単位であっても、異なる繰り返し単位であってもよいが、酸基としてのアルカリ可溶性基に由来する基を含む繰り返し単位は、上記の疎水性繰り返し単位とは異なる繰り返し単位である（すなわち、上記の疎水性繰り返し単位には相当しない）。

　磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基である酸基としては、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及びフェノール性水酸基等があり、カルボン酸基、スルホン酸基、及びリン酸基のうち少なくとも１種が好ましく、カルボン酸基がより好ましい。カルボン酸基は、磁性粒子への吸着力が良好で、かつ、分散性が高い。
　すなわち、樹脂Ａは、カルボン酸基、スルホン酸基、及びリン酸基に由来する基のうち少なくとも１種を含む繰り返し単位をさらに含むことが好ましい。

　樹脂Ａは、酸基に由来する基を含む繰り返し単位を１種又は２種以上有してもよい。
　樹脂Ａが酸基に由来する基を含む繰り返し単位を含む場合、その含有量は、質量換算で、樹脂Ａの総質量に対して、５～８０質量％が好ましく、１０～６０質量％がより好ましい。

　磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基である塩基性基としては、例えば、第１級アミノ基、第２級アミノ基、第３級アミノ基、Ｎ原子を含むヘテロ環、及びアミド基等があり、好ましい塩基性基は、磁性粒子への吸着力が良好で、かつ、分散性が高い点で、第３級アミノ基である。樹脂Ａは、これらの塩基性基に由来する基を１種又は２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ａが塩基性基に由来する基を含む繰り返し単位を含む場合、その含有量は、質量換算で、樹脂Ａの総質量に対して、０．０１～５０質量％が好ましく、０．０１～３０質量％がより好ましい。

　磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基である配位性基、及び反応性を有する官能基としては、例えば、アセチルアセトキシ基、トリアルコキシシリル基、イソシアネート基、酸無水物、及び酸塩化物等が挙げられる。好ましい官能基は、磁性粒子への吸着力が良好で、磁性粒子の分散性が高い点で、アセチルアセトキシ基である。樹脂Ａは、これらの基に由来する基を１種又は２種以上有してもよい。
　樹脂Ａが、配位性基に由来する基を含む繰り返し単位、又は反応性を有する官能基に由来する基を含む繰り返し単位を含む場合、これらの含有量は、質量換算で、樹脂Ａの総質量に対して、１０～８０質量％が好ましく、２０～６０質量％がより好ましい。

　上記樹脂Ａが、グラフト鎖以外に、磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基に由来する基を含む場合、上記の各種の磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基に由来する基を含んでいればよく、これらの官能基に由来する基がどのように導入されているかは特に制限されない。例えば、磁性粒子含有組成物に含まれる樹脂は、下記式（ｉｖ）～（ｖｉ）で表される単量体に由来の繰り返し単位から選択された１種以上の繰り返し単位を含むことが好ましい。

　式（ｉｖ）～（ｖｉ）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及びＲ^１３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、及び臭素原子等）、又は炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）を表す。
　式（ｉｖ）～（ｖｉ）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及びＲ^１３としては、水素原子、又は炭素数が１～３のアルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。一般式（ｉｖ）中、Ｒ^１２及びＲ^１３としては、水素原子がさらに好ましい。

　式（ｉｖ）中のＸ_１は、酸素原子（－Ｏ－）又はイミノ基（－ＮＨ－）を表し、酸素原子が好ましい。
　また、式（ｖ）中のＹは、メチン基又は窒素原子を表す。

　また、式（ｉｖ）～（ｖ）中のＬ_１は、単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基の定義は、上述した式（ｉ）中のＬで表される２価の連結基の定義と同じである。

　Ｌ_１は、単結合、アルキレン基又はオキシアルキレン構造を含む２価の連結基が好ましい。オキシアルキレン構造は、オキシエチレン構造又はオキシプロピレン構造がより好ましい。また、Ｌ_１は、オキシアルキレン構造を２以上繰り返して含むポリオキシアルキレン構造を含んでいてもよい。ポリオキシアルキレン構造としては、ポリオキシエチレン構造又はポリオキシプロピレン構造が好ましい。ポリオキシエチレン構造は、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）ｎ－で表され、ｎは、２以上の整数が好ましく、２～１０の整数がより好ましい。

　式（ｉｖ）～（ｖｉ）中、Ｚ_１は、グラフト鎖以外に磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基を表し、カルボン酸基、又は第３級アミノ基が好ましく、カルボン酸基がより好ましい。

　式（ｖｉ）中、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、及び臭素原子等）、炭素数が１～６のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、及びプロピル基等）、－Ｚ_１、又はＬ_１－Ｚ_１を表す。ここでＬ_１及びＺ_１は、上記におけるＬ_１及びＺ_１と同義であり、好ましい例も同様である。Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１６としては、水素原子、又は炭素数が１～３のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。

　式（ｉｖ）で表される単量体として、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及びＲ^１３がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であって、Ｌ_１がアルキレン基又はオキシアルキレン構造を含む２価の連結基であって、Ｘ_１が酸素原子又はイミノ基であって、Ｚ_１がカルボン酸基である化合物が好ましい。
　また、式（ｖ）で表される単量体として、Ｒ^１１が水素原子又はメチル基であって、Ｌ_１がアルキレン基であって、Ｚ_１がカルボン酸基であって、Ｙがメチン基である化合物が好ましい。
　さらに、式（ｖｉ）で表される単量体として、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１６がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であって、Ｚ_１がカルボン酸基である化合物が好ましい。

　以下に、式（ｉｖ）～（ｖｉ）で表される単量体（化合物）の代表的な例を示す。
　単量体の例としては、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含む化合物（例えば、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル）とコハク酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含む化合物とフタル酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含む化合物とテトラヒドロキシフタル酸無水物との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含む化合物と無水トリメリット酸との反応物、分子内に付加重合性二重結合及び水酸基を含む化合物とピロメリット酸無水物との反応物、アクリル酸、アクリル酸ダイマー、アクリル酸オリゴマー、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、４－ビニル安息香酸、ビニルフェノール、及び４－ヒドロキシフェニルメタクリルアミド等が挙げられる。

　磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基に由来する基を含む繰り返し単位の含有量は、磁性粒子との相互作用、経時安定性、及び現像液への浸透性の点から、質量換算で、樹脂Ａの総質量に対して、０．０５～９０質量％が好ましく、１．０～８０質量％がより好ましく、１０～７０質量％がさらに好ましい。

（エチレン性不飽和基に由来する基）
　樹脂Ａは、エチレン性不飽和基に由来する基を含んでいてもよい。エチレン性不飽和基に由来する基は、エチレン性不飽和基そのものであってもよいし、エチレン性不飽和基が反応した後の反応残基であってもよい。
　エチレン性不飽和基としては特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、及びスチリル基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　樹脂Ａとしては、なかでも、側鎖にエチレン性不飽和基に由来する基を含む繰り返し単位を含むことが好ましく、側鎖にエチレン性不飽和基に由来する基を含み、且つ（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位（以下、「側鎖にエチレン性不飽和基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位」ともいう。）を含むことがより好ましい。
　側鎖にエチレン性不飽和基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位は、例えば、カルボン酸基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位を含む樹脂Ａ中の上記カルボン酸基に、グリシジル基又は脂環式エポキシ基を含むエチレン性不飽和化合物を付加反応させて得られる。このようにして導入されたエチレン性不飽和基（グリシジル基又は脂環式エポキシ基）を反応させれば、側鎖にエチレン性不飽和基に由来する基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位を得ることができる。

　樹脂Ａがエチレン性不飽和基に由来する基を含む繰り返し単位を含む場合、その含有量は、質量換算で、樹脂Ａの総質量に対して、３０～７０質量％が好ましく、４０～６０質量％がより好ましい。

（その他の繰り返し単位）
　さらに、樹脂Ａは、膜形成能等の諸性能を向上する目的で、本発明の効果を損なわない限りにおいて、グラフト鎖を含む繰り返し単位、疎水性繰り返し単位、及び磁性粒子と相互作用を形成し得る官能基に由来する基を含む繰り返し単位とは異なる、種々の機能を有する他の繰り返し単位（例えば、後述する溶剤との親和性を有する官能基等を含む繰り返し単位）をさらに有していてもよい。
　このような、他の繰り返し単位としては、例えば、アクリロニトリル類、及びメタクリロニトリル類等から選ばれるラジカル重合性化合物に由来の繰り返し単位が挙げられる。
　樹脂Ａは、これらの他の繰り返し単位を１種又は２種以上使用でき、その含有量は、質量換算で、樹脂Ａの総質量に対して、０～８０質量％が好ましく、１０～６０質量％がより好ましい。

　磁性粒子含有膜が樹脂Ａを含有する場合、樹脂Ａの含有量は、磁性粒子含有膜の透磁率及び後述の積層体に適用した際の耐酸性のバランスがより優れる点から、磁性粒子含有膜の全質量に対して、１～９０質量％が好ましく、３～７０質量％がより好ましく、５～５０質量％が更に好ましく、８～５０質量％が特に好ましい。
　樹脂Ａは、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の樹脂Ａを併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

＜アルカリ可溶性樹脂＞
　本発明における樹脂は、アルカリ可溶性樹脂を含んでいてもよい。本明細書において、アルカリ可溶性樹脂とは、アルカリ可溶性を促進する基（アルカリ可溶性基、例えばカルボン酸基等の酸基）を含む樹脂を意味し、既に説明した樹脂Ａとは異なる樹脂を意味する。
　アルカリ可溶性樹脂は、磁性粒子含有膜中において、アルカリ可溶性基が反応した後の状態で含まれていてもよい。

　アルカリ可溶性樹脂としては、分子中に少なくとも１個のアルカリ可溶性基を含む樹脂が挙げられ、例えば、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリシロキサン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂、（メタ）アクリル／（メタ）アクリルアミド共重合体、エポキシ系樹脂、及びポリイミド樹脂等が挙げられる。

　アルカリ可溶性樹脂の具体例としては、不飽和カルボン酸とエチレン性不飽和化合物の共重合体が挙げられる。
　不飽和カルボン酸としては特に制限されないが、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、及びビニル酢酸等のモノカルボン酸類；イタコン酸、マレイン酸、及びフマル酸等のジカルボン酸、又はその酸無水物；並びに、フタル酸モノ（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）等の多価カルボン酸モノエステル類；等が挙げられる。

　共重合可能なエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリル酸メチル等が挙げられる。また、特開２０１０－９７２１０号公報の段落００２７、及び特開２０１５－６８８９３号公報の段落００３６～００３７に記載の化合物も使用でき、上記の内容は本明細書に組み込まれる。

　また、共重合可能なエチレン性不飽和化合物であって、側鎖にエチレン性不飽和基を含む化合物を組み合わせて用いてもよい。つまり、アルカリ可溶性樹脂は、側鎖にエチレン性不飽和基を含む繰り返し単位を含んでいてもよい。
　側鎖に含まれるエチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリル酸基が好ましい。
　側鎖にエチレン性不飽和基を含む繰り返し単位は、例えば、カルボン酸基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位のカルボン酸基に、グリシジル基又は脂環式エポキシ基を含むエチレン性不飽和化合物を付加反応させて得られる。

　アルカリ可溶性樹脂としては、硬化性基を含むアルカリ可溶性樹脂も好ましい。
　上記硬化性基としては、例えば、エチレン性不飽和基（例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、及び、スチリル基等）、及び、環状エーテル基（例えば、エポキシ基、オキセタニル基等）等が挙げられるが、これらに制限されない。
　中でも、ラジカル反応で重合制御が可能な点で、硬化性基としては、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
　硬化性基を含むアルカリ可溶性樹脂としては、硬化性基を側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂等が好ましい。硬化性基を含むアルカリ可溶性樹脂としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有　ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ　ａｃｒｙｌｉｃ　ｏｌｉｇｏｍｅｒ．Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｓｈａｍｒｏｃｋ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ－２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル　ＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセル・オルネクス社製）、及びアクリキュアＲＤ－Ｆ８（日本触媒社製）等が挙げられる。

　アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、特開昭５９－４４６１５号公報、特公昭５４－３４３２７号公報、特公昭５８－１２５７７号公報、特公昭５４－２５９５７号公報、特開昭５４－９２７２３号公報、特開昭５９－５３８３６号公報、及び特開昭５９－７１０４８号公報に記載されている側鎖にカルボン酸基を含むラジカル重合体；欧州特許第９９３９６６号公報、欧州特許第１２０４０００号明細書、及び特開２００１－３１８４６３号公報に記載されているアルカリ可溶性基を含むアセタール変性ポリビニルアルコール系バインダー樹脂；ポリビニルピロリドン；ポリエチレンオキサイド；アルコール可溶性ナイロン、及び２，２－ビス－（４－ヒドロキシフェニル）－プロパンとエピクロロヒドリンとの反応物であるポリエーテル等；並びに、国際公開第２００８／１２３０９７号パンフレットに記載のポリイミド樹脂；等を使用できる。

　アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、特開２０１６－７５８４５号公報の段落０２２５～０２４５に記載の化合物も使用でき、上記内容は本明細書に組み込まれる。

　アルカリ可溶性樹脂としては、ポリイミド前駆体も使用できる。ポリイミド前駆体は、酸無水物基を含む化合物とジアミン化合物とを４０～１００℃下において付加重合反応して得られる樹脂を意味する。
　上記ポリイミド前駆体の具体例としては、例えば、特開２００８－１０６２５０号公報の段落００１１～００３１に記載の化合物、特開２０１６－１２２１０１号公報の段落００２２～００３９に記載の化合物、特開２０１６－６８４０１号公報の段落００６１～００９２に記載の化合物、特開２０１４－１３７５２３号公報の段落００５０に記載された樹脂、特開２０１５－１８７６７６号公報の段落００５８に記載された樹脂、及び特開２０１４－１０６３２６号公報の段落００１２～００１３に記載された樹脂等が挙げられ、上記の内容は本明細書に組み込まれる。

　アルカリ可溶性樹脂としては、〔ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体、及び〔アリル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が、膜強度、感度、及び現像性のバランスに優れており、好適である。
　上記その他の付加重合性ビニルモノマーには、１種単独でも２種以上でもよい。
　上記共重合体は、硬化膜の耐湿性がより優れる点から、硬化性基を有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和基を含むことがより好ましい。
　例えば、上記その他の付加重合性ビニルモノマーとして硬化性基を有するモノマーを使用して共重合体に硬化性基が導入されていてもよい。また、共重合体中の（メタ）アクリル酸に由来する単位及び／又は上記その他の付加重合性ビニルモノマーに由来する単位の１種以上の、一部又は全部に、硬化性基（好ましくは（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和基）が導入されていてもよい。
　上記その他の付加重合性ビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、スチレン系単量体（ヒドロキシスチレン等）、及びエーテルダイマーが挙げられる。
　上記エーテルダイマーは、例えば、下記一般式（ＥＤ１）で表される化合物、及び下記一般式（ＥＤ２）で表される化合物が挙げられる。

　一般式（ＥＤ１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～２５の炭化水素基を表す。

　一般式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子又は炭素数１～３０の有機基を表す。一般式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。

　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

　アルカリ可溶性樹脂の酸価としては、特に制限されないが、一般に、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。

　磁性粒子含有膜がアルカリ可溶性樹脂を含有する場合、アルカリ可溶性樹脂の含有量は、磁性粒子含有膜の全質量に対して、１～９０質量％が好ましく、５～７０質量％がより好ましく、１０～５０質量％が特に好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上のアルカリ可溶性樹脂を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

〔他の成分〕
　磁性粒子含有膜は、磁性粒子含有組成物に含まれ得る成分、及びこれらの反応物を含有してもよい。磁性粒子含有組成物に含まれる得る成分は、後述の通りである。
　例えば、磁性粒子含有組成物に含まれ得る重合性化合物は、重合後のポリマーの形態で磁性粒子含有膜に含まれる場合がある。この場合、重合性化合物の重合後のポリマーは、上述の樹脂に分類される。

〔磁性粒子含有膜の物性〕
　磁性粒子含有膜の膜厚は、１～１００００μｍが好ましく、１０～１０００μｍがより好ましく、磁性粒子含有膜を後述の積層体に適用した際の耐酸性がより優れる点から、１５～８００μｍが特に好ましい。

〔磁性粒子含有膜の用途〕
　本発明の磁性粒子含有膜は、電子通信機器等に装備されるアンテナ及びインダクタ等の電子部品として好適に用いられる。

〔磁性粒子含有膜の製造方法〕
　本発明の磁性粒子含有膜は、例えば、磁性粒子及び樹脂を含む磁性粒子含有組成物を硬化して得られる。
　磁性粒子含有膜の製造方法としては特に制限されないが、以下の工程を含むことが好ましい。
・組成物層形成工程
・硬化工程

＜組成物層形成工程＞
　組成物層形成工程においては、基板（支持体）等の上に磁性粒子含有組成物を付与して、磁性粒子含有組成物の層（組成物層）を形成する。基板としては、例えば、アンテナ部又はインダクタ部を有する配線基板等を使用できる。

　基板上への磁性粒子含有組成物の適用方法としては、スリット塗布法、インクジェット法、回転塗布法、流延塗布法、ロール塗布法、及び、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用できる。組成物層の膜厚としては、１～１００００μｍが好ましく、１０～１０００μｍがより好ましく、１５～８００μｍが特に好ましい。基板上に塗布された組成物層の乾燥（プリベーク）は、例えば、ホットプレート、オーブン等で５０～１４０℃の温度で１０～１８００秒間で行える。

＜硬化工程＞
　硬化工程としては、組成物層を硬化できるのであれば特に制限されないが、組成物層を加熱する加熱処理、及び、組成物層を活性光線又は放射線を照射する露光処理等が挙げられる。

　加熱処理を行う場合、加熱処理は、例えば、ホットプレート、コンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、又は、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式又はバッチ式で行える。
　加熱処理における加熱温度は、１２０～２６０℃が好ましく、１５０～２４０℃が特に好ましい。
　なお、組成物層形成工程におけるプリベークが、硬化工程における加熱処理を兼ねていてもよい。

　露光処理を行う場合、活性光線又は放射線の照射方法としては特に制限されないが、パターン状の開口部を有するフォトマスクを介して照射することが好ましい。
　露光は、放射線の照射により行うことが好ましい。露光に際して使用できる放射線としては、ｇ線、ｈ線、及び、ｉ線等の紫外線が好ましく、光源としては高圧水銀灯が好まれる。照射強度は５～１５００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
　なお、磁性粒子含有組成物が熱重合開始剤を含む場合、上記露光処理において、組成物層を加熱してもよい。加熱温度として特に制限されないが、８０～２５０℃が好ましい。また、加熱時間としては特に制限されないが、３０～３００秒間が好ましい。
　なお、露光処理において、組成物層を加熱する場合、後述する後加熱工程を兼ねてもよい。言い換えれば、露光処理において、組成物層を加熱する場合、磁性粒子含有膜の製造方法は後加熱工程を含有しなくてもよい。

＜現像工程＞
　硬化工程において露光処理を行う場合、現像工程をさらに含んでいてもよい。
　現像工程は、露光後の上記組成物層を現像して磁性粒子含有膜を形成する工程である。本工程により、露光処理における光未照射部分の組成物層が溶出し、光硬化した部分だけが残り、パターン状の磁性粒子含有膜が得られる。
　現像工程で使用される現像液の種類は特に制限されないが、回路等にダメージを起こさないアルカリ現像液が望ましい。
　現像温度としては、例えば、２０～３０℃である。
　現像時間は、例えば、２０～９０秒間である。残渣をよりよく除去するため、近年では１２０～１８０秒間実施する場合もある。さらには、残渣除去性をより向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返す場合もある。

　アルカリ現像液としては、アルカリ性化合物を濃度が０．００１～１０質量％（好ましくは０．０１～５質量％）となるように水に溶解して調製されたアルカリ性水溶液が好ましい。
　アルカリ性化合物は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム，硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシ、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、及び、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン等が挙げられる（このうち、有機アルカリが好ましい。）。
　なお、アルカリ現像液として用いた場合は、一般に現像後に水で洗浄処理が施される。

＜ポストベーク＞
　硬化工程において露光処理を行う場合、硬化工程の後に、加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。ポストベークは、硬化を完全にするための現像後の加熱処理である。その加熱温度は、２４０℃以下が好ましく、２２０℃以下がより好ましい。下限は特にないが、効率的かつ効果的な処理を考慮すると、５０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましい。
　ポストベークは、ホットプレート、コンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、又は、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式又はバッチ式で行える。

　上記のポストベークは、低酸素濃度の雰囲気下で行うことが好ましい。その酸素濃度は、１９体積％以下が好ましく、１５体積％以下がより好ましく、１０体積％以下がさらに好ましく、７体積％以下が特に好ましく、３体積％以下が最も好ましい。下限は特にないが、１０体積ｐｐｍ以上が実際的である。

　また、上記の加熱によるポストベークに変え、ＵＶ（紫外線）照射によって硬化を完遂させてもよい。
　この場合、磁性粒子含有組成物は、さらにＵＶ硬化剤を含むことが好ましい。ＵＶ硬化剤は、通常のｉ線露光によるリソグラフィー工程のために添加する重合開始剤の露光波長である３６５ｎｍより短波の波長で硬化できるＵＶ硬化剤が好ましい。ＵＶ硬化剤としては、例えば、チバ　イルガキュア　２９５９（商品名）が挙げられる。ＵＶ照射を行う場合においては、組成物層が波長３４０ｎｍ以下で硬化する材料であることが好ましい。波長の下限値は特にないが、２２０ｎｍ以上が一般的である。またＵＶ照射の露光量は１００～５０００ｍＪが好ましく、３００～４０００ｍＪがより好ましく、８００～３５００ｍＪがさらに好ましい。このＵＶ硬化工程は、露光処理の後に行うことが、低温硬化をより効果的に行うために、好ましい。露光光源はオゾンレス水銀ランプを使用することが好ましい。

〔磁性粒子含有組成物〕
　本発明の磁性粒子含有膜は、上述の通り、磁性粒子含有組成物を用いて製造できる。
　磁性粒子含有組成物（以下、単に「組成物」ともいう。）は、磁性粒子及び樹脂を含有する。

＜磁性粒子＞
　組成物に含まれる磁性粒子は、上述の磁性粒子含有膜に含まれる磁性粒子と同様である。
　組成物中における磁性粒子の含有量は、組成物の全固形分に対して、１０～９９質量％が好ましく、３０～９５質量％が特に好ましい。磁性粒子は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の磁性粒子を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

＜樹脂＞
　組成物に含まれる樹脂は、上述の磁性粒子含有膜に含まれる樹脂の項で説明した通りである。ただし、組成物に含まれる樹脂において、磁性粒子含有膜を形成する際に反応する基については、反応前の状態で存在している。

　磁性粒子含有膜を形成する際に反応する基を有する樹脂としては、不飽和二重結合（例えば、エチレン性不飽和二重結合）、エポキシ基またはオキセタニル基等の重合性基を有する樹脂が挙げられる。
　このような樹脂としては、例えば、側鎖にエポキシ基を有するポリマー、及び、分子内に２個以上のエポキシ基を有する重合性モノマーまたはオリゴマーが挙げられ、その具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。
　これらの樹脂は、市販品を用いてもよいし、ポリマーの側鎖へエポキシ基を導入することによっても得られる。
　市販品としては、例えば、特開２０１２－１５５２８８号公報段落０１９１等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　その他にも、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、同ＥＰ－４００３Ｓ、同ＥＰ－４０１０Ｓ、同ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、ＡＤＥＫＡ社製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、ＡＤＥＫＡ社製）、ＪＥＲ１０３１Ｓ等も挙げられる。
　さらに、フェノールノボラック型エポキシ樹脂の市販品として、ＪＥＲ－１５７Ｓ６５、ＪＥＲ－１５２、ＪＥＲ－１５４、ＪＥＲ－１５７Ｓ７０（以上、三菱化学社製）等が挙げられる。
　側鎖にオキセタニル基を有するポリマー、および上述の分子内に２個以上のオキセタニル基を有する重合性モノマーまたはオリゴマーの具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成社製）を用いることができる。
　ポリマー側鎖にエポキシ基を導入してエポキシ基を有する樹脂を合成する場合、導入反応は、例えばトリエチルアミン、ベンジルメチルアミン等の３級アミン、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩、ピリジン、トリフェニルホスフィン等を触媒として有機溶剤中、反応温度５０～１５０℃で所定時間反応させることにより行える。脂環式エポキシ不飽和化合物の導入量は得られるポリマーの酸価が５～２００ＫＯＨ・ｍｇ／ｇを満たす範囲になるように制御することができる。また、重量平均分子量は、５００～５００００００、好ましくは１０００～５０００００の範囲とすることができる。
　脂環式エポキシ不飽和化合物の代わりに、グリシジル（メタ）アクリレートやアリルグリシジルエーテル等のエポキシ基としてグリシジル基を有するものも使用可能である。このようなものとしては、例えば特開２００９－２６５５１８号公報の段落００４５等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

　組成物中における樹脂の含有量は、組成物の全固形分に対して、１～９０質量％が好ましく、５～７０質量％が特に好ましい。樹脂は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の樹脂を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

＜重合開始剤＞
　組成物は、重合開始剤を含有してもよい。
　重合開始剤としては特に制限されず、公知の重合開始剤を使用できる。重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、及び熱重合開始剤等が挙げられ、光重合開始剤が好ましい。なお、重合開始剤としては、いわゆるラジカル重合開始剤が好ましい。
　組成物中における重合開始剤の含有量としては特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、０．５～１５質量％が好ましく、１．０～１０質量％がより好ましく、１．５～８．０質量％がさらに好ましい。重合開始剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の重合開始剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

（熱重合開始剤）
　熱重合開始剤としては、例えば、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、３－カルボキシプロピオニトリル、アゾビスマレノニトリル、及びジメチル－（２，２’）－アゾビス（２－メチルプロピオネート）［Ｖ－６０１］等のアゾ化合物、並びに、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、及び過硫酸カリウム等の有機過酸化物が挙げられる。
　重合開始剤の具体例としては、例えば、加藤清視著「紫外線硬化システム」（株式会社総合技術センター発行：平成元年）の第６５～１４８頁に記載されている重合開始剤等が挙げられる。

（光重合開始剤）
　上記組成物は光重合開始剤を含むことが好ましい。
　光重合開始剤としては、重合性化合物の重合を開始できれば特に制限されず、公知の光重合開始剤を使用できる。光重合開始剤としては、例えば、紫外線領域から可視光領域に対して感光性を有する光重合開始剤が好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、重合性化合物の種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
　また、光重合開始剤は、３００～８００ｎｍ（３３０～５００ｎｍがより好ましい。）の範囲内に少なくとも５０のモル吸光係数を有する化合物を、少なくとも１種含んでいることが好ましい。

　組成物中における光重合開始剤の含有量としては特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、０．５～１５質量％が好ましく、１．０～１０質量％がより好ましく、１．５～８．０質量％がさらに好ましい。光重合開始剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の光重合開始剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

　光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を含む化合物、オキサジアゾール骨格を含む化合物、等）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、アミノアセトフェノン化合物、及びヒドロキシアセトフェノン等が挙げられる。
　光重合開始剤の具体例としては、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落０２６５～０２６８を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　光重合開始剤としては、より具体的には、例えば、特開平１０－２９１９６９号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、及び特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィン系開始剤も使用できる。
　ヒドロキシアセトフェノン化合物としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ－１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－２９５９、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ－１２７（商品名、いずれもＢＡＳＦ社製）を使用できる。
　アミノアセトフェノン化合物としては、例えば、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９ＥＧ（商品名、いずれもＢＡＳＦ社製）を使用できる。アミノアセトフェノン化合物としては、波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍ等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開２００９－１９１１７９公報に記載の化合物も使用できる。
　アシルホスフィン化合物としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－８１９、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＴＰＯ（商品名、いずれもＢＡＳＦ社製）を使用できる。

　光重合開始剤として、オキシムエステル系重合開始剤（オキシム化合物）がより好ましい。特にオキシム化合物は高感度で重合効率が高く、組成物中における色材の含有量を高く設計しやすいため好ましい。
　オキシム化合物の具体例としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、又は特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物を使用できる。
　オキシム化合物としては、例えば、３－ベンゾイロキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイロキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン等が挙げられる。
　また、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１６５３－１６６０、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１５６－１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年）ｐｐ．２０２－２３２、特開２０００－６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報、特表２００４－５３４７９７号公報、及び特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物等も挙げられる。
　市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ社製）、又はＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ社製）も好ましい。また、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（ＡＤＥＫＡ社製）、又はＮ－１９１９（カルバゾール・オキシムエステル骨格含有光開始剤（ＡＤＥＫＡ社製））も使用できる。

　また上記記載以外のオキシム化合物として、カルバゾールＮ位にオキシムが連結した特表２００９－５１９９０４号公報に記載の化合物；ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第７６２６９５７号公報に記載の化合物；色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０－１５０２５号公報及び米国特許公開２００９－２９２０３９号明細書に記載の化合物；国際公開第２００９－１３１１８９号パンフレットに記載のケトオキシム化合物；及びトリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含む米国特許第７５５６９１０号明細書に記載の化合物；４０５ｎｍに吸収極大を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９－２２１１１４号公報に記載の化合物；等を用いてもよい。
　例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落０２７４～０２７５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　具体的には、オキシム化合物としては、下記式（ＯＸ－１）で表される化合物が好ましい。なお、オキシム化合物のＮ－Ｏ結合が（Ｅ）体のオキシム化合物であっても、（Ｚ）体のオキシム化合物であっても、（Ｅ）体と（Ｚ）体との混合物であってもよい。

　式（ＯＸ－１）中、Ｒ及びＢはそれぞれ独立に１価の置換基を表し、Ａは２価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。
　式（ＯＸ－１）中、Ｒで表される１価の置換基としては、１価の非金属原子団が好ましい。
　１価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、及びアリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、１以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。
　置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、及びアリール基等が挙げられる。
　式（ＯＸ－１）中、Ｂで表される１価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は複素環カルボニル基が好ましく、アリール基、又は複素環基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。
　式（ＯＸ－１）中、Ａで表される２価の有機基としては、炭素数１～１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、又はアルキニレン基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。

　光重合開始剤として、フッ素原子を含むオキシム化合物も使用できる。フッ素原子を含むオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物；特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０；及び特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）；等が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　光重合開始剤として、下記一般式（１）～（４）で表される化合物も使用できる。

　式（１）において、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数４～２０の脂環式炭化水素基、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ^１及びＲ^２がフェニル基の場合、フェニル基同士が結合してフルオレン基を形成してもよく、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基又は炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を示す。

　式（２）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、式（１）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４と同義であり、Ｒ^５は、－Ｒ^６、－ＯＲ^６、－ＳＲ^６、－ＣＯＲ^６、－ＣＯＮＲ^６Ｒ^６、－ＮＲ^６ＣＯＲ^６、－ＯＣＯＲ^６、－ＣＯＯＲ^６、－ＳＣＯＲ^６、－ＯＣＳＲ^６、－ＣＯＳＲ^６、－ＣＳＯＲ^６、－ＣＮ、ハロゲン原子、又は水酸基を表し、Ｒ^６は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、又は炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を表し、ａは０～４の整数を表す。

　式（３）において、Ｒ^１は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数４～２０の脂環式炭化水素基、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、又は炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を示す。

　式（４）において、Ｒ^１、Ｒ^３、及びＲ^４は、式（３）におけるＲ^１、Ｒ^３、及びＲ^４と同義であり、Ｒ^５は、－Ｒ^６、－ＯＲ^６、－ＳＲ^６、－ＣＯＲ^６、－ＣＯＮＲ^６Ｒ^６、－ＮＲ^６ＣＯＲ^６、－ＯＣＯＲ^６、－ＣＯＯＲ^６、－ＳＣＯＲ^６、－ＯＣＳＲ^６、－ＣＯＳＲ^６、－ＣＳＯＲ^６、－ＣＮ、ハロゲン原子、又は水酸基を表し、Ｒ^６は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、又は炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を表し、ａは０～４の整数を表す。

　上記式（１）及び（２）において、Ｒ^１及びＲ^２は、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、シクロヘキシル基、又はフェニル基が好ましい。Ｒ^３はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基、又はキシリル基が好ましい。Ｒ^４は炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基が好ましい。Ｒ^５はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基、又はナフチル基が好ましい。Ｘは直接結合が好ましい。
　また、上記式（３）及び（４）において、Ｒ^１は、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、シクロヘキシル基、又はフェニル基が好ましい。Ｒ^３はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基、又はキシリル基が好ましい。Ｒ^４は炭素数１～６のアルキル基、又はフェニル基が好ましい。Ｒ^５はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基、又はナフチル基が好ましい。Ｘは直接結合が好ましい。
　式（１）及び式（２）で表される化合物の具体例としては、例えば、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落００７６～００７９に記載された化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　上記組成物に好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示す。以下に示すオキシム化合物の中でも、一般式（Ｃ－１３）で表されるオキシム化合物がより好ましい。
　また、オキシム化合物としては、国際公開第２０１５－０３６９１０号パンフレットのＴａｂｌｅ１に記載の化合物も使用でき、上記の内容は本明細書に組み込まれる。

　オキシム化合物は、３５０～５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有することが好ましく、３６０～４８０ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有することがより好ましく、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの波長の吸光度が高いことがさらに好ましい。
　オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の点から、１，０００～３００，０００が好ましく、２，０００～３００，０００がより好ましく、５，０００～２００，０００がさらに好ましい。
　化合物のモル吸光係数は、公知の方法を使用できるが、例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチルを用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤は、必要に応じて２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　また、光重合開始剤としては、特開第２００８－２６０９２７号公報の段落００５２、特開第２０１０－９７２１０号公報の段落００３３～００３７、及び特開第２０１５－６８８９３号公報の段落００４４に記載の化合物も使用でき、上記の内容は本明細書に組み込まれる。

＜重合性化合物＞
　本発明の組成物は、重合性化合物を含んでいてもよい。
　本明細書において重合性化合物とは、上述した重合開始剤の作用を受けて重合する化合物を意味し、上述した本発明の組成物中の樹脂とは異なる成分を意味する。つまり、重合性化合物は、グラフト鎖は有さない。

　組成物中における重合性化合物の含有量としては特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、１～２５質量％が好ましく、１～２０質量％がより好ましく、３～１５質量％がさらに好ましい。重合性化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の重合性化合物を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
　重合性化合物の分子量（又は重量平均分子量）は、特に制限されないが、２０００以下が好ましい。

　重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を含む基（以下単に「エチレン性不飽和基」ともいう）を含む化合物が好ましい。
　つまり本発明の組成物は、エチレン性不飽和基を含む低分子化合物を、重合性化合物として含むことが好ましい。
　重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を１個以上含む化合物が好ましく、２個以上含む化合物がより好ましく、３個以上含む化合物がさらに好ましく、５個以上含む化合物が特に好ましい。上限は、例えば、１５個以下である。エチレン性不飽和基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、及び（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。

　重合性化合物としては、例えば、特開２００８－２６０９２７号公報の段落００５０、及び特開２０１５－６８８９３号公報の段落００４０に記載されている化合物を使用でき、上記の内容は本明細書に組み込まれる。

　重合性化合物は、例えば、モノマー、プレポリマー、オリゴマー、及びこれらの混合物、並びに、これらの多量体等の化学的形態のいずれであってもよい。
　重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物が好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物がより好ましい。

　重合性化合物は、エチレン性不飽和基を１個以上含む、常圧下で１００℃以上の沸点を持つ化合物も好ましい。例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落０２５４～０２５７に記載の化合物を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　重合性化合物は、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬社製、Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学社製）、及びこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール残基又はプロピレングリコール残基を介している構造（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。また、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ（ペンタエリスリトールテトラアクリレート、新中村化学社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－３０６０、及びＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２（いずれも商品名、日本化薬社製）等を使用してもよい。
　以下に好ましい重合性化合物の態様を示す。

　重合性化合物は、カルボン酸基、スルホン酸基、及びリン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を含む重合性化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルが好ましく、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応の水酸基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた重合性化合物がより好ましく、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールである化合物がさらに好ましい。市販品としては、例えば、東亞合成社製の、アロニックスＴＯ－２３４９、Ｍ－３０５、Ｍ－５１０、及びＭ－５２０等が挙げられる。

　酸基を含む重合性化合物の酸価としては、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５～３０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。重合性化合物の酸価が０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば、現像溶解特性が良好であり、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば、製造及び／又は取扱い上、有利である。さらには、光重合性能が良好で、硬化性に優れる。

　重合性化合物は、カプロラクトン構造を含む化合物も好ましい態様である。
　カプロラクトン構造を含む化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を含む限り特に制限されないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、又はトリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε－カプロラクトンとをエステル化して得られる、ε－カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。中でも下記式（Ｚ－１）で表されるカプロラクトン構造を含む化合物が好ましい。

　式（Ｚ－１）中、６個のＲは全てが下記式（Ｚ－２）で表される基であるか、又は６個のＲのうち１～５個が下記式（Ｚ－２）で表される基であり、残余が下記式（Ｚ－３）で表される基である。

　式（Ｚ－２）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示し、ｍは１又は２の数を示し、「＊」は結合手を示す。

　式（Ｚ－３）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示し、「＊」は結合手を示す。

　カプロラクトン構造を含む重合性化合物は、例えば、日本化薬からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０（上記式（Ｚ－１）～（Ｚ－３）においてｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝２、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－３０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝３、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－６０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝６、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）、及びＤＰＣＡ－１２０（同式においてｍ＝２、式（Ｚ－２）で表される基の数＝６、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）等が挙げられる。また、カプロラクトン構造を含む重合性化合物の市販品としては、東亞合成社製Ｍ－３５０（商品名）（トリメチロールプロパントリアクリレート）も挙げられる。

　重合性化合物は、下記式（Ｚ－４）又は（Ｚ－５）で表される化合物も使用できる。

　式（Ｚ－４）及び（Ｚ－５）中、Ｅは、－（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ_２Ｏ）－、又は（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）－を表し、ｙは、０～１０の整数を表し、Ｘは、（メタ）アクリロイル基、水素原子、又はカルボン酸基を表す。
　式（Ｚ－４）中、（メタ）アクリロイル基の合計は３個又は４個であり、ｍは０～１０の整数を表し、各ｍの合計は０～４０の整数である。
　式（Ｚ－５）中、（メタ）アクリロイル基の合計は５個又は６個であり、ｎは０～１０の整数を表し、各ｎの合計は０～６０の整数である。

　式（Ｚ－４）中、ｍは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。
　また、各ｍの合計は、２～４０の整数が好ましく、２～１６の整数がより好ましく、４～８の整数がさらに好ましい。
　式（Ｚ－５）中、ｎは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。
　また、各ｎの合計は、３～６０の整数が好ましく、３～２４の整数がより好ましく、６～１２の整数がさらに好ましい。
　また、式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）中の－（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ_２Ｏ）－又は（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）－は、酸素原子側の末端がＸに結合する形態が好ましい。

　式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。特に、式（Ｚ－５）において、６個のＸ全てがアクリロイル基である形態、式（Ｚ－５）において、６個のＸ全てがアクリロイル基である化合物と、６個のＸのうち、少なくとも１個が水素原子ある化合物との混合物である態様が好ましい。このような構成として、現像性をより向上できる。

　また、式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物の重合性化合物中における全含有量としては、２０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましい。
　式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体及び／又はジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。

　また、重合性化合物は、カルド骨格を含んでいてもよい。
　カルド骨格を含む重合性化合物としては、９，９－ビスアリールフルオレン骨格を含む重合性化合物が好ましい。
　カルド骨格を含む重合性化合物としては、制限されないが、例えば、オンコートＥＸシリーズ（長瀬産業社製）及びオグソール（大阪ガスケミカル社製）等が挙げられる。
　重合性化合物は、イソシアヌル酸骨格を中心核として含む化合物も好ましい。このような重合性化合物の例としては、例えば、ＮＫエステルＡ－９３００（新中村化学社製）が挙げられる。
　重合性化合物のエチレン性不飽和基の含有量（重合性化合物中のエチレン性不飽和基の数を、重合性化合物の分子量（ｇ／ｍｏｌ）で除した値を意味する）は５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上が好ましい。上限は特に制限されないが、一般に、２０．０ｍｍｏｌ／ｇ以下である。

　重合性化合物としては、オキサシクロ化合物を用いることも好ましい。オキサシクロ化合物としては、エポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物が好ましく、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物）が特に好ましい。
　このような、重合性化合物の具体例としては、単官能または多官能グリシジルエーテル化合物が挙げられる。
　また、市販品としては、デナコールＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス(株)製）等の多官能脂肪族グリシジルエーテル化合物が挙げられる。これらは、低塩素品であるが、低塩素品ではない、ＥＸ－２１２、ＥＸ－２１４、ＥＸ－２１６、ＥＸ－３２１、ＥＸ－８５０なども同様に使用できる。

＜重合禁止剤＞
　組成物は、重合禁止剤を含んでいてもよい。
　重合禁止剤としては特に制限されず、公知の重合禁止剤を使用できる。重合禁止剤としては、例えば、フェノール系重合禁止剤（例えば、ｐ－メトキシフェノール、２，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２，６－ジｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４－メトキシナフトール等）；ハイドロキノン系重合禁止剤（例えば、ハイドロキノン、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルハイロドロキノン等）；キノン系重合禁止剤（例えば、ベンゾキノン等）；フリーラジカル系重合禁止剤（例えば、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル等）；ニトロベンゼン系重合禁止剤（例えば、ニトロベンゼン、４－ニトロトルエン等）；及びフェノチアジン系重合禁止剤（例えば、フェノチアジン、２－メトキシフェノチアジン等）；等が挙げられる。
　中でも、組成物がより優れた効果を有する点で、フェノール系重合禁止剤、又はフリーラジカル系重合禁止剤が好ましい。

　重合禁止剤は、硬化性基を含む樹脂と共に用いる場合にその効果が顕著である。
　組成物中における重合禁止剤の含有量としては特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、０．０００１～０．５質量％が好ましく、０．０００１～０．２質量％がより好ましく、０．０００１～０．０５質量％がさらに好ましい。重合禁止剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の重合禁止剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
　また、組成物中の重合性化合物の含有量に対する、重合禁止剤の含有量の比（重合禁止剤の含有量／重合性化合物の含有量（質量比））は、０．０００５超が好ましく、０．０００６～０．０２がより好ましく、０．０００６～０．００５がさらに好ましい。

＜界面活性剤＞
　組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤は、組成物の塗布性向上に寄与する。
　上記組成物が、界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量としては、組成物の全固形分に対して、０．００１～２．０質量％が好ましく、０．００５～０．５質量％がより好ましく、０．０１～０．１質量％がさらに好ましい。
　界面活性剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。界面活性剤を２種以上併用する場合は、合計量が上記範囲内であることが好ましい。

　界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、及びシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。

　例えば、組成物がフッ素系界面活性剤を含めば、組成物の液特性（特に、流動性）がより向上する。即ち、フッ素系界面活性剤を含む組成物を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させて、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚さムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。

　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましく、７～２５質量％がさらに好ましい。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性及び／又は省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。

　フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、及び同Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ社製）；フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、及び同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム社製）；サーフロンＳ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ－３８１、同ＳＣ－３８３、同Ｓ３９３、及び同ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ社製）；並びに、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、及びＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤としてブロックポリマーも使用でき、具体例としては、例えば特開第２０１１－８９０９０号公報に記載されたが化合物が挙げられる。

＜溶剤＞
　組成物は、溶剤を含んでいてもよい。
　溶剤としては特に制限されず公知の溶剤を使用できる。
　組成物中における溶剤の含有量としては特に制限されないが、組成物の固形分が１０～９０質量％となる量が好ましく、１０～８０質量％となる量がより好ましく、１５～７５質量％となる量がさらに好ましい。
　溶剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の溶剤を併用する場合には、組成物の全固形分が上記範囲内となるように調整されることが好ましい。

　溶剤としては、例えば、有機溶剤が挙げられる。

　有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３－メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、及び乳酸エチル等が挙げられるが、これらに制限されない。

＜その他の任意成分＞
　組成物は、上述した成分以外のその他の任意成分をさらに含んでいてもよい。例えば、増感剤、共増感剤、架橋剤（硬化剤）、硬化促進剤、熱硬化促進剤、可塑剤、希釈剤、感脂化剤、ゴム成分等が挙げられ、さらに、基板表面への密着促進剤及びその他の助剤類（例えば、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、及び連鎖移動剤等）等の公知の添加剤を必要に応じて加えてもよい。

［積層体、電子部品］
　本発明の積層体は、基板と、本発明の磁性粒子含有膜と、を有し、磁性粒子含有膜の一方の表面（すなわち、図１における表面Ｓａ）が基板側に配置されている。そのため、本発明の積層体は、耐酸性及び透磁率に優れる。
　基板としては、例えば、アンテナ部又はインダクタ部を有する配線基板等が挙げられる。
　本発明の積層体は、電子部品に含まれていてもよい。すなわち、本発明の電子部品は、上記積層体を部品の一部として含んでいてもよい。電子部品としては、インダクタ及びアンテナが挙げられる。電子部品としては、上述の積層体を含む以外は、公知の構造を有するものを用いることができる。

　以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容及び処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［磁性粒子含有組成物の調製に使用した各種成分］
　磁性粒子含有組成物の調製にあたって、表１に記載の各成分を準備した。表１に記載の各成分の概要を以下に示す。

〔磁性粒子〕
Ｍ－１：Ｆｅ基アモルファス粒子（製品名「ＭＡ－ＸＣＱ－１」、ＤＯＷＡエレクトロニクス社製、平均一次粒子径３μｍ、比重７．３）
Ｍ－２：Ｆｅ基アモルファス粒子（製品名「ＭＡ－ＸＣＱ－２」、ＤＯＷＡエレクトロニクス社製、平均一次粒子径２μｍ、比重７．３）
Ｍ－１：Ｆｅ基アモルファス粒子（製品名「ＭＡ－ＸＣＱ－３」、ＤＯＷＡエレクトロニクス社製、平均一次粒子径５μｍ、比重７．３）
Ｍ－４：Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ系合金粒子（製品名「ＭＡ－ＸＣＱ－４」、ＤＯＷＡエレクトロニクス社製、平均一次粒子径３μｍ、比重７．３）
Ｍ－５：Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ系合金粒子（製品名「ＭＡ－ＸＣＱ－５」、ＤＯＷＡエレクトロニクス社製、平均一次粒子径５μｍ、比重７．３）
Ｍ－６：Ｆｅ基アモルファス粒子（製品名「ＫＵＡＭＥＴ６Ｂ２－Ｖ１－３８μｍ」、エプソンアトミックス社製、平均一次粒子径１５μｍ、比重７．３）
Ｍ－７：Ｆｅ基アモルファス粒子（製品名「ＫＵＡＭＥＴ６Ｂ２－５３μｍ」、エプソンアトミックス社製、平均一次粒子径２４μｍ、比重７．３）
Ｍ－８：Ｆｅ基アモルファス粒子（製品名「ＫＵＡＭＥＴ６Ｂ２－１５０μｍ」、エプソンアトミックス社製、平均一次粒子径５０μｍ、比重７．３）
Ｍ－９：Ｃｏ基アモルファス粒子（製品名「ＫＵＡＭＥＴ－ＣＴ５－２５μｍ」、エプソンアトミックス社製、平均一次粒子径２５μｍ、比重７．６）
Ｍ－１０：スーパーマロイ粒子（製品名「ＰＦ－１５Ｆ」、エプソンアトミックス社製、平均一次粒子径８μｍ、比重８．８）
Ｍ－１１：Ｎｉ－Ｚｎ系フェライト粒子（製品名「ＢＳＮ－１２５」、戸田工業社製、平均一次粒子径５μｍ、比重４．８）
Ｍ－１２：Ｍｎ－Ｚｎ系フェライト粒子（製品名「ＢＳＦ－５４７」、戸田工業社製、平均一次粒子径１１μｍ、比重４．９）
Ｍ－１３：Ｎｉ－Ｚｎ系フェライト粒子（製品名「ＮＢ４」、日本重化学工業社製、平均一次粒子径３μｍ、比重４．８）
Ｍ－１４：バリウムフェライト（六方晶フェライト）（製品名「ＢＭＸＦ－５」、ＢＧＲＩＭＭ社製、平均一次粒子径５μｍ、比重５．３）
Ｍ－１５：マグネトプランバイト型六方晶フェライト粒子（ＳｒＦｅ_{（９．５８）}Ａｌ_{（２．４２）}Ｏ_１９、国際公開第２０１９／１３１６７５号の実施例１Ａに記載の方法と同様にして製造、結晶相が単層、比重４．８、平均一次粒子径１０μｍ）
Ｍ－１６：マグネトプランバイト型六方晶フェライト粒子（ＳｒＦｅ_{（７．８８）}Ａｌ_{（４．１２）}Ｏ_１９、国際公開第２０１９／１３１６７５号の実施例１１Ａに記載の方法と同様にして製造、結晶相が単層、比重４．８、平均一次粒子径１０μｍ）
Ｍ－１７：マグネトプランバイト型六方晶フェライト粒子（ＳｒＦｅ_{（６．２５）}Ａｌ_{（５．７５）}Ｏ_１９、国際公開第２０１９／１３１６７５号の実施例１４Ａに記載の方法と同様にして製造、結晶相が単層、比重４．８、平均一次粒子径１０μｍ）

　なお、磁性粒子の平均一次粒子径はいずれも、上述の方法によって測定した測定値である。

〔樹脂（分散剤）〕
Ｄ－１：下記化合物（重量平均分子量１００００、比重１．２）
Ｄ－２：下記化合物（重量平均分子量１００００、比重１．２）
Ｄ－３：下記化合物（重量平均分子量１００００、比重１．２）

（その他の成分）
Ａ－１：樹脂（下記化合物、重量平均分子量３５００、エポキシ樹脂、比重１．２）
Ａ－２：ゴム成分（製品名「Ｎ２１５ＳＬ」、ＪＳＲ社製、ニトリルブタジエンゴム、比重１．１）
Ａ－３：樹脂と硬化剤の混合物（製品名「ＸＷ－２３１０」、ペルノックス社製、エポキシ樹脂と硬化剤の混合物、比重１．２）
Ａ－４：光重合開始剤（製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１」、ＢＡＳＦ社製）
Ａ－５：硬化促進剤（トリフェニルホスフィン、東京化成工業社製）
Ａ－６：樹脂（製品名「ＪＥＲ８２８」、ジャパンエポキシレジン社製、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、比重１．２）
Ａ－７：硬化剤（製品名「ＹＨ３００」、ジャパンエポキシレジン社製、酸無水物系硬化剤）
Ａ－８：硬化促進剤（製品名「ＥＭＩ２４」、ジャパンエポキシレジン社製、２－エチル－４（５）－メチルイミダゾール））
Ａ－９：樹脂（製品名「８２８ＵＳ」、三菱ケミカル社製、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、比重１．２）
Ａ－１０：樹脂（製品名「ＮＣ３０００Ｌ」、日本化薬社製、ビフェニル型エポキシ樹脂、比重１．２）
Ａ－１１：樹脂（製品名「ＨＰ－４０３２」、ＤＩＣ社製、ナフタレン型エポキシ樹脂、比重１．２）
Ａ－１２：樹脂（製品名「ＹＬ７５５３ＢＨ３０」、三菱ケミカル社製、フェノキシ樹脂、比重１．２）
Ａ－１３：硬化剤（製品名「ＬＡ－３０１８－５０Ｐ」、ＤＩＣ社製、トリアジン骨格含有フェノール系硬化剤）
Ａ－１４：硬化剤（製品名「ＨＰＣ８０００－６５Ｔ」、ＤＩＣ社製、活性エステル型硬化剤）
Ａ－１５：硬化剤（製品名「Ｖ－０３」、日清紡ケミカル社製、カルボジイミド化合物）
Ａ－１６：硬化促進剤（４－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、和光純薬工業社製）
Ａ－１７：樹脂（製品名「オグゾールＥＧ２５０」、大阪ガスケミカル社製、フルオレン骨格を有する液状エポキシ樹脂、比重１．２）
Ａ－１８：硬化剤（４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルフィド、東京化成工業社製）

〔磁性粒子含有組成物の調製〕
　表１に示す組成比（質量基準）になるように表１に記載の成分を混合して、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）製の密閉容器に投入した。続いて、固形分が９０質量％になるようにＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）を添加した後、容器を密閉して、Ｒｅｓｏｄｙｎ社製のＲＡＭ（低周波共振音響ミキサー）を用いて、５０Ｇ、２時間で分散することで、各実施例及び比較例で使用する磁性粒子含有組成物を調製した。

［実施例及び比較例の磁性粒子含有膜の製造］
　上記のようにして得られた磁性粒子含有組成物を用いて、表１に記載の膜厚になるように実施例及び比較例の磁性粒子含有膜を製造した。
　具体的には、下塗り層（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＣＴ－４０００Ｌ、厚さ０．１μｍ）付きシリコンウエハ（４インチ）（以下、「基板」ともいう。）上に各磁性粒子含有組成物をドロップした後、ベーカーアプリケーターを用いて、後述のベーク後に所定の膜厚になるように塗布を行った。その後、１００℃のホットプレートを用いて２分間乾燥ベークを実施した。更に、エポキシ樹脂を含有する場合は、続けて２３０℃のホットプレートにて１０分間硬化ベークを実施し、基板上に形成された磁性粒子含有膜を得た。また、磁性粒子含有組成物が光重合開始剤を含有する場合には、硬化ベークの代わりに、ＵＶ（ultraviolet）　Ｃｕｒｅ装置（ウシオ電機製）を用いて２０Ｊ／ｃｍ^２の露光量で塗膜を全面露光し、基板上に形成された磁性粒子含有膜を得た。

［評価］
〔粒子偏在度〕
　基板上に形成された実施例及び比較例の磁性粒子含有膜を用いて、上述した方法にしたがって、面積率Ｍｕ_５０及び面積率Ｍｄ_５０を算出した。得られた面積率から、面積率Ｍｄ_５０に対する面積率Ｍｕ_５０の割合（Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０）を算出し、粒子偏在度として評価した。
　なお、面積率の測定にあたって、磁性粒子含有膜の５箇所の異なる断面毎に面積率を測定し、その平均値を用いた。
　得られた割合の値に基づいて、以下の基準により１～５に分類した。結果を表１に示す。
　５：　Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０＜０．１
　４：　０．１≦Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０＜０．５
　３：　０．５≦Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０＜０．９
　２：　０．９≦Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０＜１．０
　１：　Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０＝１．０

〔実効充填率〕
　基板上に形成された実施例及び比較例の磁性粒子含有膜を用いて、上述した方法にしたがって、面積率Ｍｄ_１０を算出し、実効充填率として評価した。
　なお、面積率の測定にあたって、磁性粒子含有膜の５箇所の異なる断面毎に面積率を測定し、その平均値を用いた。
　得られた割合の値に基づいて、以下の基準により１～５に分類した。結果を表１に示す。
　５：　６０％≦Ｍｄ_１０
　４：　５０％≦Ｍｄ_１０＜６０％
　３：　３０％≦Ｍｄ_１０＜５０％
　２：　１０％≦Ｍｄ_１０＜３０％
　１：　Ｍｄ_１０＜１０％

〔耐酸性〕
　基板上に形成された実施例及び比較例の磁性粒子含有膜を１０質量％の塩酸水溶液に３０分浸漬した。そして、塩酸水溶液に浸漬前後における磁性粒子含有膜について、高周波透磁率測定装置（キーコム（株）製、Ｍｏｄｅｌ　Ｎｏ．ＰＥＲ０１）を用いて、１００ＭＨｚにおける透磁率の測定を行った。
　耐酸性の評価は、塩酸水溶液に浸漬前後における磁性粒子含有膜の１００ＭＨｚにおける透磁率の変化率Δｕ’を以下の式にしたがって算出した値に基づいて行った。評価基準は以下の通りであり、結果を表１に示す。
　透磁率の変化率Δｕ’（％）＝１００×（浸漬前の磁性粒子含有膜の透磁率－浸漬後の磁性粒子含有膜の透磁率）／（浸漬前の磁性粒子含有膜の透磁率）
　３：　Δｕ’＜１
　２：　１≦Δｕ’＜５
　１：　５≦Δｕ’

〔透磁率の向上率〕
　まず、基板上に形成された実施例１の磁性粒子含有膜について、面積率の測定で得られた画像データ（２値化した断面画像）を用いて、磁性粒子が断面全体に占める面積率Ｍ_ａｌｌを求めた。すなわち、面積率Ｍ_ａｌｌは、下記式（Ｍ４）により算出した。なお、面積率の測定にあたって、磁性粒子含有膜の５箇所の異なる断面毎に面積率を測定し、その平均値を用いた。
　面積率Ｍ_ａｌｌ（％）＝１００×（断面全体において磁性粒子が占める面積）／（断面全体の面積）　　　（Ｍ４）
　次に、１０質量部のＡ－２と、５質量部のＡ－３と、実施例１の磁性粒子含有膜に含まれる磁性粒子と、を混合した磁性粒子含有組成物Ｒ１を調製した。得られた磁性粒子含有組成物Ｒ１を用いた以外は、実施例１と同様にして、基板上に形成された実施例１用の標準膜１を作製した。ここで、磁性粒子含有組成物Ｒ１の調製にあたって、標準膜１の面積率Ｍ_ａｌｌが実施例１の磁性粒子含有膜の面積率Ｍ_ａｌｌと同様になるように、磁性粒子の使用量を調節した。
　次に、実施例１の磁性粒子含有膜と、実施例１用の標準膜１とを１．０ｃｍ×２．８ｃｍのサイズに切断して、透磁率の測定用の各サンプルを得た。
　その後、高周波透磁率測定装置（キーコム（株）製、Ｍｏｄｅｌ　Ｎｏ．ＰＥＲ０１）を用いて、各サンプルの１００ＭＨｚにおける透磁率の測定を行った。実施例１の磁性粒子含有膜の透磁率μ’と、実施例１用の標準膜１の透磁率μ’ｒｅｆに基づいて、透磁率の向上率（μ’／μ’ｒｅｆ）を算出した。
　他の実施例及び比較例についても、各実施例及び比較例に応じた磁性粒子を用いた以外は、標準膜１と同様の手法で各実施例及び比較例に対応する標準膜を作製し、これを用いて透磁率の向上率を算出した。
　評価基準は以下の通りであり、結果を表１に示す。
　３：　１．０５＜μ’／μ’ｒｅｆ
　２：　０．９５＜μ’／μ’ｒｅｆ≦１．０５
　１：　μ’／μ’ｒｅｆ≦０．９５

　表１に示すように、Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０が０．９未満である磁性粒子含有膜は、透磁率に優れており、また、耐酸性にも優れていた（実施例）。
　実施例１～３の対比から、磁性粒子含有膜の膜厚が１５μｍ以上であれば（実施例２及び３）、磁性粒子含有膜を積層体に適用した際の耐酸性がより優れることが示された。
　実施例５、６、８～１０の対比から、磁性粒子含有膜中の分散剤の含有量が８質量％以上であれば（実施例５、８～１０）、磁性粒子含有膜の磁性率がより優れることが示された。
　一方、Ｍｕ_５０／Ｍｄ_５０が０．９以上である磁性粒子含有膜を用いた場合、透磁率が劣ることが示された（比較例）。

１　磁性粒子含有膜
１０　磁性粒子
１２　樹脂
Ｓａ，Ｓｂ　表面
Ｄ，Ｄａ，Ｄｂ，Ｄｃ　深さ位置
Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４　領域

Claims

　磁性粒子と、樹脂と、を含む磁性粒子含有膜であって、
　前記磁性粒子含有膜の厚み方向に沿って前記磁性粒子含有膜を切断した際の断面において、前記磁性粒子含有膜の一方の表面から他方の表面に向かって前記磁性粒子含有膜の厚みの１／５０に相当する深さ位置を深さ位置Ｄａとし、前記磁性粒子含有膜の前記他方の表面から前記一方の表面に向かって前記磁性粒子含有膜の厚みの１／５０に相当する深さ位置を深さ位置Ｄｂとした際に、
　前記一方の表面から前記深さ位置Ｄａまでの領域において前記磁性粒子が占める面積率Ｍｄ_５０が、前記他方の表面から前記深さ位置Ｄｂまでの領域において前記磁性粒子が占める面積率Ｍｕ_５０よりも大きく、
　前記Ｍｄ_５０に対する前記Ｍｕ_５０の割合が、０．９未満である、磁性粒子含有膜。
　前記Ｍｄ_５０に対する前記Ｍｕ_５０の割合が、０．５未満である、請求項１に記載の磁性粒子含有膜。
　前記磁性粒子含有膜の厚み方向に沿って前記磁性粒子含有膜を切断した際の前記断面において、前記磁性粒子含有膜の前記一方の表面から前記他方の表面に向かって前記磁性粒子含有膜の厚みの１／１０に相当する深さ位置を深さ位置Ｄｃとした際に、
　前記一方の表面から前記深さ位置Ｄｃまでの領域において前記磁性粒子が占める面積率Ｍｄ_１０が３０％以上である、請求項１又は２に記載の磁性粒子含有膜。
　前記樹脂の比重に対する前記磁性粒子の比重の割合が、２以上である、請求項１～３のいずれか１項に記載の磁性粒子含有膜。
　前記磁性粒子が、Ｆｅ基アモルファス合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ系合金、Ｆｅナノ結晶合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｏ系合金、Ｃｏ基アモルファス合金、Ｎｉ－Ｍｏ系合金、スピネルフェライト及び六方晶フェライトからなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の磁性粒子含有膜。
　基板と、請求項１～５のいずれか１項に記載の磁性粒子含有膜と、を有し、
　前記磁性粒子含有膜の前記一方の表面が、前記基板側に配置されている、積層体。
　請求項６に記載の積層体を含む、電子部品。
　インダクタとして用いられる、請求項７に記載の電子部品。
　アンテナとして用いられる、請求項７に記載の電子部品。