WO2014034813A1 - 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子、並びに高分子化合物 - Google Patents

分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子、並びに高分子化合物 Download PDF

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宏明 出井
久保田　誠
高桑　英希
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    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical

Definitions

  • the present invention relates to a dispersion composition, a curable composition using the same, a transparent film, a microlens, a solid-state imaging device, and a polymer compound.
  • High optical refractive index and fine transparent film and transparent wiring can be formed for use as an optical wiring alternative to micro lenses and copper wiring used in imaging optical systems for on-chip color filters such as electronic copying machines and solid-state image sensors.
  • a transparent composition for forming a transparent member is desired.
  • microlenses used in solid-state imaging devices are required to be finer as solid-state imaging devices become more miniaturized, and higher refractive index is required to achieve more efficient light collection. It has become.
  • a composition for forming a high-refractive index microlens or solid-state imaging device using silica-coated titanium oxide particles is disclosed (for example, see Patent Documents 1 and 2).
  • Patent Document 3 discloses a dispersion resin having a specific structure that can improve the dispersibility of an organic pigment for use in a color filter.
  • Patent Document 4 discloses a composition for forming a high refractive index material, which contains the dispersion resin having the specific structure together with inorganic fine particles.
  • Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-179678 Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-185683 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-277514 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-239923
  • the composition for forming a high refractive index material as described above is required to contain inorganic fine particles with a high content from the viewpoint of achieving a high refractive index.
  • the dispersibility is poor due to aggregation of inorganic fine particles and the like, the viscosity increases, and the formation of a coating film can be hindered.
  • Even at high contents, the dispersibility of inorganic fine particles is good, and the development of a dispersant that can reduce the viscosity of the composition has been an issue.
  • the present invention has been made in view of the above, and an object thereof is to provide a dispersion composition having a high refractive index and a low viscosity, a curable composition using the same, a transparent film, a microlens, and a solid-state imaging device. To do. Another object of the present invention is to provide a compound that can provide a dispersion composition having excellent surface shape after coating and drying, having a high refractive index, and maintaining the dispersion stability of particles.
  • R 1 represents a (m + n) -valent linking group
  • R 2 represents a single bond or a divalent linking group
  • a 1 is an acid group, a urea group, a urethane group, a group having a coordinating oxygen atom, a group having a basic nitrogen atom, a phenol group, an alkyl group, an aryl group, a group having an alkyleneoxy chain, an imide group, an alkyloxy group
  • a monovalent substituent having at least one group selected from the group consisting of a carbonyl group, an alkylaminocarbonyl group, a carboxylate group, a sulfonamide group, a heterocyclic group, an alkoxysilyl group, an epoxy group, an isocyanate group, and a hydroxyl group;
  • n A 1 and R 2 may be the same or different.
  • m represents a positive number of 8 or less, n represents 1 to 9, and m + n satisfies 3 to 10.
  • P 1 represents a polymer chain.
  • the m P 1 may be the same or different.
  • ⁇ 4> The dispersion composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the content of the metal oxide particles (A) with respect to the total solid content of the dispersion composition is 65% by mass or more.
  • ⁇ 5> The dispersion composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the polymer compound (B) is a polymer compound represented by the following general formula (2).
  • R 3 represents a (m + n) -valent linking group
  • R 4 and R 5 each independently represents a single bond or a divalent linking group
  • a 2 is an acid group, a urea group, a urethane group, a group having a coordinating oxygen atom, a group having a basic nitrogen atom, a phenol group, an alkyl group, an aryl group, a group having an alkyleneoxy chain, an imide group, an alkyloxy group
  • a monovalent substituent having at least one group selected from the group consisting of a carbonyl group, an alkylaminocarbonyl group, a carboxylate group, a sulfonamide group, a heterocyclic group, an alkoxysilyl group, an epoxy group, an isocyanate group, and a hydroxyl group;
  • a 2 and R 4 may be the same or different.
  • m represents a positive number of 8 or less, n represents 1 to 9, and m + n satisfies 3 to 10.
  • P 2 represents the polymer chain.
  • the m P 2 and R 5 may be the same or different.
  • a 1 in the general formula (1) or A 2 in the general formula (2) is an acid group, a phenol group, an alkyl group, an aryl group, a group having an alkyleneoxy chain, a hydroxyl group, a urea group, a urethane group, or a sulfonamide.
  • the dispersion composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5> which is a monovalent substituent having at least one group selected from the group consisting of a group having a group, an imide group and a coordinating oxygen atom object.
  • ⁇ 7> Any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein A 1 in the general formula (1) or A 2 in the general formula (2) is a monovalent substituent having at least one functional group of pKa5 or higher.
  • the functional group of pKa5 or higher is a group having a coordinating oxygen atom, a group having a basic nitrogen atom, a phenol group, a urea group, a urethane group, an alkyl group, an aryl group, an alkyloxycarbonyl group, an alkylaminocarbonyl group,
  • the dispersion composition according to ⁇ 7> which is a group having an alkyleneoxy chain, an imide group, a carboxylate group, a sulfonamide group, a hydroxyl group or a heterocyclic group.
  • a polymer chain represented by P 1 or P 2 is a polymer or copolymer of a vinyl monomer, an ester polymer, an ether polymer, a urethane polymer, an amide polymer, an epoxy polymer, a silicone polymer, and these
  • the dispersion composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8> which is a polymer chain derived from at least one selected from a modified product or a copolymer.
  • L 3 represents a trivalent group.
  • T 3 represents a single bond or a divalent linking group, and three T 3 s may be the same or different from each other.
  • L 4 represents a tetravalent group.
  • T 4 represents a single bond or a divalent linking group, and the four T 4 s may be the same or different from each other.
  • L 5 represents a pentavalent group.
  • T 5 represents a single bond or a divalent linking group, and five T 5 s may be the same or different from each other.
  • L 6 represents a hexavalent group.
  • T 6 represents a single bond or a divalent linking group, and six T 6 s may be the same or different from each other.
  • R 6 represents a (m + n1 + n2) -valent linking group
  • R 7 to R 9 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
  • a 3 represents a monovalent substituent having at least one acid group.
  • a 4 represents a monovalent substituent different from A 3 .
  • the n1 A 3 and R 7 may be the same or different from each other.
  • the n2 A 4 and R 8 may be the same or different from each other.
  • m is a positive number of 8 or less
  • n1 represents 1 to 8
  • n2 represents 1 to 8
  • m + n1 + n2 satisfies 3 to 10.
  • P 3 represents a polymer chain.
  • the m P 3 and R 9 may be the same or different.
  • a curable composition comprising the dispersion composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12> and a polymerizable compound (D).
  • the polymerizable compound (D) is at least one selected from the group consisting of a compound having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in the molecule and a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds.
  • the curable composition as described in ⁇ 13>.
  • ⁇ 16> The curable composition according to ⁇ 15>, wherein the polymerization initiator (E) is an oxime polymerization initiator.
  • ⁇ 17> The curable composition according to any one of ⁇ 13> to ⁇ 16>, which is used for forming a microlens or for forming an undercoat film of a color filter.
  • ⁇ 18> A transparent film formed using the curable composition according to any one of ⁇ 13> to ⁇ 17>.
  • ⁇ 19> A microlens formed using a transparent film obtained from the curable composition according to ⁇ 17>.
  • ⁇ 20> ⁇ 19> The solid-state image sensor which has a micro lens as described in ⁇ 19>.
  • ⁇ 21> ⁇ 1> to ⁇ 12> The method for producing a dispersion composition according to any one of ⁇ 12>.
  • R 6 represents a (m + n1 + n2) -valent linking group
  • R 7 to R 9 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
  • a 3 represents a monovalent substituent having at least one acid group.
  • a 4 represents a monovalent substituent different from A 3 .
  • the n1 A 3 and R 7 may be the same or different from each other.
  • the n2 A 4 and R 8 may be the same or different from each other.
  • m is a positive number of 8 or less
  • n1 represents 1 to 8
  • n2 represents 1 to 8
  • m + n1 + n2 satisfies 3 to 10.
  • P 3 represents a polymer chain.
  • the m P 3 and R 9 may be the same or different.
  • the substituent A 3 is a monovalent substituent having at least one acid group having a pKa smaller than 5. It said substituents A 4 is a monovalent substituent which chromatic least one functional group having at least PKa5, polymer compound according to ⁇ 22>.
  • the substituent A 3 is a monovalent substituent having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, and a phosphinic acid group, and the A 3
  • the substituent A 4 different from the group having a coordinating oxygen atom, a group having a basic nitrogen atom, a phenol group, a urea group, a urethane group, an alkyl group, an aryl group, an alkyloxycarbonyl group, an alkylaminocarbonyl group, ⁇ 22> or ⁇ 23, which is a monovalent substituent having at least one group selected from the group consisting of a group having an alkyleneoxy chain, an imide group, a carboxylate group, a sulfonamide group, a hydroxyl group and a heterocyclic group > The high molecular compound of.
  • substituents A 3 is a carboxylic acid group ⁇ 22> - The polymer compound according to any one of ⁇ 24>.
  • Said substituents A 4 is an alkyl group, an aryl group, a group having a coordinating oxygen atom, a urea group or urethane group, ⁇ 22> - The polymer compound according to any one of ⁇ 25>.
  • the polymer chain represented by P 3 is a polymer or copolymer of vinyl monomer, ester polymer, ether polymer, urethane polymer, amide polymer, epoxy polymer, silicone polymer, and modified products thereof or
  • the polymer compound according to any one of ⁇ 22> to ⁇ 26> which is a polymer chain derived from at least one selected from copolymers.
  • ⁇ 28> Any one of ⁇ 22> to ⁇ 27>, wherein the polymer chain represented by P 3 contains at least one repeating unit, and the number k of repeating units of the at least one repeating unit is 3 to 50.
  • the high molecular compound as described in. ⁇ 29> The polymer compound according to any one of ⁇ 22> to ⁇ 28>, wherein the weight average molecular weight is 10,000 or less.
  • the present invention preferably further has the following configuration.
  • a transparent film manufacturing method comprising: a first heating step that continues; and a second heating step at a temperature higher than the temperature of the first heating step.
  • a method for producing a microlens comprising a step of post-baking and shaping the transparent film according to ⁇ 18>, and further a dry etching step.
  • ⁇ 32> Forming a red pixel, a blue pixel, and a green pixel on a solid-state imaging device substrate having at least a photodiode, a light shielding film, and a device protection film; ⁇ 13> to a step of applying and heating the curable composition according to any one of ⁇ 17>, Forming a resist pattern;
  • a method for manufacturing a solid-state imaging device comprising: a step of post-baking and shaping a formed resist pattern into a lens shape; and a dry etching step.
  • a dispersion composition having a high refractive index and a low viscosity, a curable composition using the same, a transparent film, a microlens, and a solid-state imaging device can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide a dispersion composition that is excellent in the surface shape of the film surface after coating and drying, can provide a dispersion composition having a high refractive index, and can maintain the dispersion stability of particles.
  • the notation which does not describe substitution and non-substitution includes the thing which has a substituent with the thing which does not have a substituent.
  • the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • the description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.
  • a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • (meth) acrylate represents acrylate and methacrylate
  • (meth) acryl represents acryl and methacryl
  • (meth) acryloyl represents acryloyl and methacryloyl.
  • monomer and “monomer” are synonymous.
  • the monomer in the present invention is distinguished from oligomer and polymer, and refers to a compound having a mass average molecular weight of 2,000 or less.
  • a polymerizable compound means a compound having a polymerizable group, and may be a monomer or a polymer, and a polymerizable group is a group involved in a polymerization reaction.
  • “refractive index” refers to a refractive index with respect to light having a wavelength of 635 nm unless otherwise specified.
  • the dispersion composition of the present invention comprises a metal oxide particle (A) having a primary particle size of 1 nm to 100 nm, a polymer compound (B) represented by the following general formula (1) having a weight average molecular weight of 10,000 or less, a solvent (C).
  • R 1 represents a (m + n) -valent linking group
  • R 2 represents a single bond or a divalent linking group
  • a 1 is an acid group, a urea group, a urethane group, a group having a coordinating oxygen atom, a group having a basic nitrogen atom, a phenol group, an alkyl group, an aryl group, a group having an alkyleneoxy chain, an imide group, an alkyloxy group
  • a monovalent substituent having at least one group selected from the group consisting of a carbonyl group, an alkylaminocarbonyl group, a carboxylate group, a sulfonamide group, a heterocyclic group, an alkoxysilyl group, an epoxy group, an isocyanate group, and a hydroxyl group;
  • n A 1 and R 2 may be the same or different.
  • m represents a positive number of 8 or less, n represents 1 to 9, and m + n satisfies 3 to 10.
  • P 1 represents a polymer chain.
  • the m P 1 may be the same or different.
  • the polymer compound (B) since the substituent A 1 of the polymer compound (B) can interact with the metal oxide particles (A), the polymer compound (B) has n (1 By having ( ⁇ 9) substituents A 1 , it is possible to strongly interact with the metal oxide particles (A). Further, m polymer chains P 1 of the polymer compound (B) can function as steric repulsion groups, and by having m, the polymer compound P 1 exhibits a favorable steric repulsion force and uniformly disperses the metal oxide particles. be able to. Further, it is presumed that the polymer compound (B) does not cause adverse effects such as aggregation of particles due to cross-linking between particles, which can be generated by a conventional dispersant having a graft random structure.
  • the metal oxide particles (A) in the present invention are preferably inorganic particles that have a high refractive index and are colorless, white or transparent, and are titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), silicon (Si). ), Zinc (Zn) or magnesium (Mg) oxide particles, and preferably titanium dioxide (TiO 2 ) particles, zirconium dioxide (ZrO 2 ) particles or silicon dioxide (SiO 2 ) particles. Titanium particles (hereinafter sometimes simply referred to as “titanium dioxide”) are more preferable.
  • the titanium dioxide particles in the present invention can be represented by the chemical formula TiO 2 , the purity is preferably 70% or more, the purity is more preferably 80% or more, and the purity is more preferably 85% or more.
  • Low-order titanium oxide, titanium oxynitride and the like represented by the general formula Ti n O 2n-1 (n represents a number of 2 to 4) are preferably 30% by mass or less, and 20% by mass or less. More preferably, the content is 15% by mass or less.
  • the metal oxide particles in the present invention are not particularly limited as long as the primary particle diameter is 1 nm to 100 nm.
  • the metal oxide particles can be appropriately selected from commercially available metal oxide particles.
  • the primary particle diameter of the metal oxide particles is 1 nm to 100 nm, preferably 1 nm to 80 nm, more preferably 1 nm to 50 nm, and particularly preferably 10 nm to 30 nm. If the primary particle diameter of the metal oxide particles exceeds 100 nm, the refractive index and the transmittance may decrease. If it is less than 1 nm, the dispersibility may decrease due to aggregation. In the present invention, the average particle size can also be used as an index of the primary particle size.
  • the average particle diameter of the metal oxide particles in the present invention is obtained by diluting a mixed liquid or dispersion containing the metal oxide particles 80 times with propylene glycol monomethyl ether acetate, and subjecting the obtained diluted liquid to a dynamic light scattering method. The value obtained by using and measuring. This measurement is the number average particle diameter obtained by using Microtrack UPA-EX150 manufactured by Nikkiso Co., Ltd.
  • the refractive index of the metal oxide particles is not particularly limited, but is preferably 1.75 to 2.70, and preferably 1.90 to 2.70 from the viewpoint of obtaining a high refractive index. Further preferred.
  • the specific surface area of the metal oxide particles is preferably 10 m 2 / g to 400 m 2 / g, more preferably 20 m 2 / g to 200 m 2 / g, and 30 m 2 / g to 150 m 2 / g. More preferably, it is most preferably 40 m 2 / g to 70 m 2 / g.
  • the metal oxide particles in the present invention may be surface-treated with an organic compound.
  • the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, fatty acids (preferably stearic acid), silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, fatty acids (preferably stearic acid) or silane coupling agents are preferred, and fatty acids are particularly preferred.
  • the surface treatment may be carried out by using a single surface treatment agent or a combination of two or more surface treatment agents. It is also preferable that the surface of the metal oxide particles is covered with an oxide such as aluminum, silicon, or zirconia.
  • titanium dioxide particles examples include TTO series (TTO-51 (A), TTO-51 (C), etc.), TTO-S, and V series (TTO-S-1, TTO-) manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. S-2, TTO-V-3, etc.) and MT series (MT-01, MT-05, etc.) manufactured by Teika Corporation.
  • zirconium dioxide particles include, for example, UEP (Daiichi Rare Element Chemical Co., Ltd.), PCS (Nippon Denko Co., Ltd.), JS-01, JS-03, JS-04 (Nippon Denko ( And UEP-100 (Daiichi Rare Element Chemical Industries, Ltd.).
  • Examples of commercially available silicon dioxide particles include OG502-31 manufactured by Clariant Co.
  • the metal oxide particles may be used singly or in combination of two or more.
  • the content of the metal oxide particles in the dispersion composition (or curable composition described later) of the present invention is 65% by mass or more based on the total solid content of the dispersion composition from the viewpoint of obtaining a high refractive index. Is preferable, and it is more preferable that it is 70 mass% or more. Although there is no restriction
  • the polymer compound (B) represented by the general formula (1) has a weight average molecular weight of 10,000 or less, preferably 8000 or less. If the weight average molecular weight is too large, the particle size of the metal oxide particle (A) -polymer compound (B) complex in the dispersion composition (curable composition) becomes large, and the particles are densely packed in the resulting film. Therefore, it is considered difficult to increase the refractive index.
  • the particle diameter of the metal oxide particle (A) -polymer compound (B) complex can be kept small by setting the weight average molecular weight in the above range, and the particles are densely packed in the resulting film. It is considered that the refractive index can be increased. Further, although the reason is not clear, it is considered that dispersibility can be improved and viscosity can be reduced by setting the above range.
  • the lower limit of the weight average molecular weight is not particularly limited, but it is preferably 1000 or more from the viewpoint of exhibiting the function as a dispersant and more reliably achieving the effects of the present invention. More preferably. As will be described later, when the cured film is formed, the visible light transmittance of the cured film is particularly excellent, so that the weight average molecular weight of the polymer compound (B) is particularly preferably 5000 to 8000.
  • a 1 is an acid group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, a urethane group, a group having a coordinating oxygen atom, a phenol group, an alkyl group, an aryl group, a group having an alkyleneoxy chain, an imide group, Functional groups having an ability to adsorb metal oxide particles (A) such as alkyloxycarbonyl groups, alkylaminocarbonyl groups, carboxylate groups, sulfonamido groups, alkoxysilyl groups, epoxy groups, isocyanate groups and hydroxyl groups, and heterocyclic structures Represents a monovalent substituent having at least one structure capable of adsorbing the metal oxide particles (A).
  • the site having the ability to adsorb to the metal oxide particles (A) (the functional group and the structure) will be collectively referred to as “adsorption site” as appropriate.
  • At least one adsorption site is included in one A 1 , and two or more adsorption sites may be included.
  • a chain saturated hydrocarbon group (which may be linear or branched and preferably has 1 to 10 carbon atoms) ), A cyclic saturated hydrocarbon group (preferably having 3 to 10 carbon atoms), an aromatic group (preferably having 5 to 10 carbon atoms, for example, a phenylene group) and the like.
  • adsorption sites themselves may also be a monovalent substituent represented by A 1.
  • a 1 the adsorption site constituting A 1 will be described below.
  • Preferred examples of the “acid group” include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a monosulfate group, a phosphoric acid group, a monophosphate group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, and a boric acid group.
  • acid groups More preferred are acid groups, sulfonic acid groups, monosulfate groups, phosphoric acid groups, monophosphate groups, phosphonic acid groups, and phosphinic acid groups, carboxylic acid groups, sulfonic acid groups, phosphoric acid groups, phosphonic acid groups, and phosphinic acids.
  • Groups are more preferred and carboxylic acid groups are particularly preferred.
  • Examples of the “urea group” include —NR 15 CONR 16 R 17 (wherein R 15 , R 16 and R 17 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a carbon number of 6 The above aryl group or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms may be mentioned as a preferred example, and —NR 15 CONHR 17 (wherein R 15 and R 17 are each independently a hydrogen atom or 1 carbon atom) More preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, and an aralkyl group having 7 or more carbon atoms.) —NHCONHR 17 (wherein R 17 is a hydrogen atom or 1 to 10 carbon atoms) An alkyl group, an aryl group having 6 or more carbon atoms, and an aralkyl group having 7 or more carbon atoms are particularly preferable.
  • Examples of the “urethane group” include —NHCOOR 18 , —NR 19 COOR 20 , —OCONHR 21 , —OCONR 22 R 23 (where R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 and R 23 are Each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms), and the like.
  • R 18 and R 21 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, an aralkyl group having 7 or more carbon atoms, or the like, more preferably —NHCOOR 18 , -OCONHR 21 (wherein, R 18, R 21 each independently represents an alkyl group having from 1 to 10 carbon atoms, 6 or more arylene carbon Group, the number 7 or aralkyl group having a carbon.), Etc. are particularly preferred.
  • the “group having a coordinating oxygen atom” include an acetylacetonato group and a crown ether.
  • Examples of the “group having a basic nitrogen atom” include an amino group (—NH 2 ), a substituted imino group (—NHR 8 , —NR 9 R 10 , where R 8 , R 9 , and R 10 are each Independently, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, an aralkyl group having 7 or more carbon atoms), a guanidyl group represented by the following formula (a1), and the following formula (a2)
  • a preferred example is an amidinyl group represented by:
  • R 11 and R 12 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms.
  • R 13 and R 14 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms.
  • an amino group —NH 2
  • a substituted imino group —NHR 8 , —NR 9 R 10 , wherein R 8 , R 9 , and R 10 are each independently a group having 1 to 10 carbon atoms.
  • a guanidyl group represented by the formula (a1) [in the formula (a1), R 11 and R 12 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Represents a phenyl group or a benzyl group.
  • An amidinyl group represented by the formula (a2) [in the formula (a2), R 13 and R 14 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group, or a benzyl group. ] Is more preferable.
  • an amino group (—NH 2 ), a substituted imino group (—NHR 8 , —NR 9 R 10 , wherein R 8 , R 9 , and R 10 are each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • a phenyl group and a benzyl group a guanidyl group represented by the formula (a1) [in the formula (a1), R 11 and R 12 are each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, phenyl Represents a benzyl group.
  • the alkyl group represented by the substituent A 1 may be linear or branched and is preferably an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 4 to 30 carbon atoms. An alkyl group having 10 to 18 carbon atoms is more preferable.
  • the aryl group represented by the substituent A 1 is preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
  • the terminal preferably forms an alkyloxy group, and more preferably an alkyloxy group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the alkyleneoxy chain is not particularly limited as long as it has at least one alkyleneoxy group, but is preferably composed of an alkyleneoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • alkyleneoxy group examples include —CH 2 CH 2 O—, —CH 2 CH 2 CH 2 O— and the like.
  • the alkyl group moiety in the “alkyloxycarbonyl group” is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the alkyl group moiety in the “alkylaminocarbonyl group” is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • Examples of the “carboxylic acid base” include groups composed of ammonium salts of carboxylic acids.
  • a hydrogen atom bonded to a nitrogen atom may be substituted with an alkyl group (such as a methyl group) or an acyl group (such as an acetyl group or a trifluoroacetyl group).
  • heterocyclic structure examples include thiophene, furan, xanthene, pyrrole, pyrroline, pyrrolidine, dioxolane, pyrazole, pyrazoline, pyrazolidine, imidazole, oxazole, thiazole, oxadiazole, triazole, thiadiazole, pyran, pyridine, piperidine
  • Preferred examples include dioxane, morpholine, pyridazine, pyrimidine, piperazine, triazine, trithiane, isoindoline, isoindolinone, benzimidazolone, benzothiazole, hydantoin, indole, quinoline, carbazole, acridine, acridone and anthraquinone.
  • Examples of the “imide group” include succinimide, phthalimide, naphthalimide and the like.
  • the “heterocyclic structure” and the “imide group” may further have a substituent.
  • Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group.
  • An acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms such as an aryl group having 6 to 16 carbon atoms such as a phenyl group or a naphthyl group, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonamide group, an N-sulfonylamide group or an acetoxy group; Alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms such as methoxy group and ethoxy group, halogen atoms such as chlorine and bromine, alkoxycarbonyl groups having 2 to 7 carbon atoms such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group and cyclohexyloxycarbonyl group; And carbonic acid ester groups such as cyano group and t-butyl carbonate.
  • alkoxysilyl group may be any of monoalkoxysilyl group, dialkoxysilyl group and trialkoxysilyl group, but is preferably trialkoxysilyl group, for example, trimethoxysilyl group, triethoxysilyl group Etc.
  • epoxy group include a substituted or unsubstituted oxirane group (ethylene oxide group).
  • a 1 is a monovalent having at least one functional group of pKa5 or higher.
  • a monovalent substituent having at least one functional group of pKa5 to 14 is more preferable.
  • pKa has the definition described in Chemical Handbook (II) (4th revised edition, 1993, edited by The Chemical Society of Japan, Maruzen Co., Ltd.).
  • the functional group having a pKa of 5 or more includes a group having a coordinating oxygen atom, a group having a basic nitrogen atom, a phenol group, a urea group, a urethane group, an alkyl group, an aryl group, an alkyloxycarbonyl group, and an alkylaminocarbonyl group.
  • the functional group having a pKa of 5 or more include, for example, a phenol group (about pKa 8 to 10), an alkyl group (about pKa 46 to 53), an aryl group (about pKa 40 to 43), and a urea group (pKa 12 to 14). Degree), urethane group (about pKa 11 to 13), —COCH 2 CO— (about pKa 8 to 10) as a coordinating oxygen atom, sulfonamide group (about pKa 9 to 11), hydroxyl group (pKa 15 to 17) Degree), a heterocyclic group (pKa about 12 to 30) and the like.
  • a 1 an acid group, a phenol group, an alkyl group, an aryl group, a group having an alkyleneoxy chain, a hydroxyl group, a urea group, a urethane group, a sulfonamide group, an imide group, and a coordinating oxygen atom It is preferably a monovalent substituent having at least one group selected from the group consisting of the having groups.
  • R 2 represents a single bond or a divalent linking group.
  • n R 2 may be the same or different.
  • the divalent linking group represented by R 2 includes 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, and 1 to 200 carbon atoms.
  • a group consisting of a hydrogen atom and 0 to 20 sulfur atoms is included, which may be unsubstituted or may further have a substituent.
  • R 2 may be a single bond or 1 to 10 carbon atoms, 0 to 5 nitrogen atoms, 0 to 10 oxygen atoms, 1 to 30 hydrogen atoms, and A divalent linking group consisting of 0 to 5 sulfur atoms is preferred.
  • R 2 includes a chain saturated hydrocarbon group (which may be linear or branched, preferably having 1 to 20 carbon atoms), or a cyclic saturated hydrocarbon group (having 3 to 20 carbon atoms).
  • an aromatic group preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • a thioether bond preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • a thioether bond preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • an aromatic group preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • a thioether bond preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • a group or a combination of two or more of these selected from the group consisting of a chain saturated hydrocarbon group, a cyclic saturated hydrocarbon group, an aromatic group, a thioether bond, an ester bond, an ether bond, and an amide bond Or a combination of two or more of these, a chain saturated hydrocarbon group, a thioether bond, an ester bond, an ether bond, and an amide A group selected from the group consisting of a bond, or a group obtained by combining two or more of these is particularly preferable.
  • examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, a phenyl group, C1-C6 acyloxy groups such as naphthyl groups and the like, aryl groups having 6 to 16 carbon atoms, hydroxyl groups, amino groups, carboxyl groups, sulfonamido groups, N-sulfonylamide groups, acetoxy groups, methoxy groups, ethoxy groups
  • An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a group, a halogen atom such as chlorine or bromine, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group or a cyclohexyloxycarbonyl group, a cyano group, t -Carbonate groups such as butyl
  • R 1 represents an (m + n) -valent linking group.
  • m + n satisfies 3 to 10.
  • Examples of the (m + n) -valent linking group represented by R 1 include 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, and 1 to 200. Groups consisting of up to 0 hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms are included, which may be unsubstituted or further substituted.
  • the (m + n) -valent linking group represented by R 1 is preferably a group represented by any one of the following general formulas.
  • L 3 represents a trivalent group.
  • T 3 represents a single bond or a divalent linking group, and three T 3 s may be the same or different from each other.
  • L 4 represents a tetravalent group.
  • T 4 represents a single bond or a divalent linking group, and the four T 4 s may be the same or different from each other.
  • L 5 represents a pentavalent group.
  • T 5 represents a single bond or a divalent linking group, and five T 5 s may be the same or different from each other.
  • L 6 represents a hexavalent group.
  • T 6 represents a single bond or a divalent linking group, and six T 6 s may be the same or different from each other.
  • Specific examples (specific examples (1) to (17)) of the (m + n) -valent linking group represented by R 1 are shown below. However, the present invention is not limited to these.
  • the most preferable (m + n) -valent linking groups are the following (1), (2), (10), from the viewpoint of availability of raw materials, ease of synthesis, and solubility in various solvents. (11), (16) and (17).
  • n represents 1 to 9. n is preferably 2 to 8, more preferably 2 to 7, and particularly preferably 3 to 6.
  • P 1 represents a polymer chain and can be selected from known polymers according to the purpose.
  • the m P 1 may be the same or different.
  • polymers in order to form a polymer chain, a polymer or copolymer of a vinyl monomer, an ester polymer, an ether polymer, a urethane polymer, an amide polymer, an epoxy polymer, a silicone polymer, and modifications thereof
  • copolymer for example, polyether / polyurethane copolymer, copolymer of polyether / vinyl monomer polymer, etc. (any of random copolymer, block copolymer, graft copolymer, etc. May also be included).
  • At least one selected from the group consisting of vinyl monomers selected from the group consisting of polymers or copolymers of vinyl monomers, ester polymers, ether polymers, urethane polymers, and modified products or copolymers thereof. At least one kind is more preferable, and a polymer or copolymer of vinyl monomers is particularly preferable.
  • the polymer or copolymer of vinyl monomer, the ester polymer, and the ether polymer that the polymer chain P 1 may have, the structures represented by the following general formulas (L), (M), and (N), respectively, It is preferable to have.
  • X 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.
  • a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferable, a hydrogen atom or a methyl group is more preferable, and a methyl group is particularly preferable.
  • R 10 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and is not particularly limited in terms of structure, but is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group. is there.
  • R 10 is an alkyl group
  • the alkyl group includes a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 5 to 20 carbon atoms.
  • a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is more preferable, and a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is particularly preferable.
  • Formula (L) different R 10 structurally may have two or more in.
  • R 11 and R 12 each represent a branched or straight chain alkylene group (the number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 8, and still more preferably 3 to 6).
  • Each general formula may have two or more types of R 11 or R 12 having different structures.
  • k1, k2, and k3 each independently represents a number of 5 to 140.
  • the polymer chain P 1 preferably contains at least one repeating unit.
  • the number k of the at least one repeating unit in the polymer chain P 1 is preferably 3 or more from the viewpoint of exhibiting steric repulsion and improving dispersibility and achieving a high refractive index and low viscosity. More preferably, it is 5 or more.
  • the bulk of the polymer compound (B) is suppressed to achieve low viscosity, and the metal oxide particles (A) are densely present in the cured film (transparent film) to achieve a high refractive index.
  • the number k of repeating units of the at least one repeating unit is preferably 50 or less, more preferably 40 or less, and even more preferably 30 or less.
  • the polymer is preferably soluble in an organic solvent.
  • the affinity with the organic solvent is low, the affinity with the dispersion medium is weakened, and it may be impossible to secure an adsorption layer sufficient for stabilizing the dispersion.
  • the vinyl monomer is not particularly limited.
  • these vinyl monomers include paragraphs 0089 to 0094, 0096 and 0097 of JP-A-2007-277514 (paragraphs 0105 to 0117 and 0119 to 0120 in the corresponding US 2010/233595). ), The contents of which are incorporated herein.
  • vinyl monomers having a functional group such as a urethane group, a urea group, a sulfonamide group, a phenol group, and an imide group can also be used.
  • a monomer having a urethane group or a urea group can be appropriately synthesized using, for example, an addition reaction between an isocyanate group and a hydroxyl group or an amino group.
  • an addition reaction between an isocyanate group-containing monomer and a compound containing one hydroxyl group or a compound containing one primary or secondary amino group, or a hydroxyl group-containing monomer or primary or secondary amino group containing It can be appropriately synthesized by an addition reaction between a monomer and monoisocyanate.
  • polymer compounds (B) represented by the general formula (1) polymer compounds represented by the following general formula (2) are preferable.
  • a 2 has the same meaning as the A 1 in the general formula (1), a preferable embodiment thereof is also the same.
  • the n A 2 may be the same or different.
  • R 4 and R 5 each independently represents a single bond or a divalent linking group.
  • the n R 4 s may be the same or different.
  • the m R 5 s may be the same or different.
  • the divalent linking group represented by R 4 or R 5 the same divalent linking groups as those represented by R 2 in the general formula (1) can be used, and a preferred embodiment Is the same.
  • a chain saturated hydrocarbon group (which may be linear or branched and preferably has 1 to 20 carbon atoms)
  • a cyclic saturated hydrocarbon group preferably having 3 to 20 carbon atoms
  • an aromatic group preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • an ester bond preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • an ester bond preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • an ester bond preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • an ester bond preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • an ester bond preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • an ester bond preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene group
  • an ester bond preferably having 5 to 20 carbon atoms, such as a phenylene
  • R 3 represents a (m + n) -valent linking group. m + n satisfies 3 to 10.
  • the (m + n) -valent linking group represented by R 3 may be unsubstituted or may further have a substituent, and the (m + n) -valent linking group represented by R 1 in the general formula (1).
  • the thing similar to what was mentioned as group is used, and its preferable aspect is also the same.
  • m and n have the same meanings as m and n in the general formula (1), respectively, and preferred embodiments thereof are also the same.
  • P 2 of the general formula (2) has the same meaning as P 1 in Formula (1), a preferable embodiment thereof is also the same.
  • R 3 Specific examples (1), (2), (10), (11), (16), or (17)
  • R 4 a single bond or a group selected from the group consisting of a chain saturated hydrocarbon group, a cyclic saturated hydrocarbon group, an aromatic group, an ester bond, an amide bond, an ether bond, a nitrogen atom, and a carbonyl group, or these two or more combined group
  • R 5 a single bond, an ethylene group, a propylene group, the following group (a), or the following group (b)
  • R 12 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • l represents 1 or 2.
  • P 2 Polymer or copolymer of vinyl monomer, ester polymer, ether polymer, urethane polymer, and modified products thereof m: 1 to 3 n: 3-6
  • the polymer compound represented by the following general formula (5) is more preferable from the viewpoints of dispersion stability, coated surface shape, and the like. .
  • R 6 represents a (m + n1 + n2) -valent linking group
  • R 7 to R 9 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
  • a 3 represents a monovalent substituent having at least one acid group.
  • a 4 represents a monovalent substituent different from A 3 .
  • the n1 A 3 and R 7 may be the same or different from each other.
  • the n2 A 4 and R 8 may be the same or different from each other.
  • m is synonymous with m in the general formula (1), and preferred embodiments are also the same.
  • n1 represents 1 to 8
  • n2 represents 1 to 8
  • P 3 has the same meaning as P 2 in the general formula (2), and the preferred embodiment is also the same.
  • the m P 3 and R 9 may be the same or different.
  • Examples of the (m + n1 + n2) -valent linking group for R 6 include those exemplified as the (m + n) -valent linking group represented by R 1 in the general formula (1) or R 3 in the general formula (2).
  • the same thing is used and a preferable aspect is also the same.
  • the divalent linking group for R 7 to R 9 the same divalent linking groups as those represented by R 4 and R 5 in the general formula (2) can be used, which is preferable.
  • the aspect is also the same.
  • the substituent A 3 is a monovalent substituent having at least one acid group having a pKa smaller than 5 and is based on a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, and a phosphinic acid group.
  • Particularly preferred is a monovalent substituent having at least one group selected from the group consisting of carboxylic acid groups.
  • the monovalent substituent A 4 different from A 3 are the same as the groups other than the acid group in the specific examples and preferred examples described above for A 1 in the general formula (1). Is mentioned.
  • the substituent A 4 is more preferably a monovalent substituent having at least one functional group having a pKa of 5 or more, a group having a coordinating oxygen atom, a group having a basic nitrogen atom, and a phenol group.
  • the substituent A 3 is a monovalent substituent having at least one functional group having a pKa smaller than 5, and the substituent A 4 is a pKa 5
  • a monovalent substituent having at least one of the above functional groups is preferable.
  • the substituent A 3 is a monovalent substituent having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, and a phosphinic acid group
  • the substitution Group A 4 is a group having a coordinating oxygen atom, a group having a basic nitrogen atom, a phenol group, a urea group, a urethane group, an alkyl group, an aryl group, an alkyloxycarbonyl group, an alkylaminocarbonyl group, an alkyleneoxy chain.
  • the substituent A 3 is a monovalent substituent having a carboxylic acid group
  • the substituent A 4 is an alkyl group, an aryl group, a group having a coordinating oxygen atom, or a group having a basic nitrogen atom. More preferably, it is a urea group or a urethane group.
  • the substituents A 3 is a carboxylic acid group
  • the substituent A 4 is an alkyl group. Adsorption of alkyl group substituents A 4 and titanium dioxide particles in the range of good, such as when titanium dioxide particles are surface treated with stearic acid, alkyl group and substituted alkyl group of group A 4 of the stearic acid Is presumed to interact with each other.
  • the acid value of the polymer compound (B) is not particularly limited, but from the viewpoint of viscosity or dispersibility, the acid value is preferably 400 mgKOH / g or less, more preferably 300 mgKOH / g or less, and 250 mgKOH / g. More preferably, it is g or less.
  • the acid value is preferably 400 mgKOH / g or less, more preferably 300 mgKOH / g or less, and 250 mgKOH / g. More preferably, it is g or less.
  • it is g or less.
  • the acid value of the polymer compound (B) is particularly preferably 70 to 90 mgKOH / g.
  • the acid value of the polymer compound (B) is the solid content acid value of the polymer compound (B).
  • the acid value of the polymer compound (B) can be calculated, for example, from the average content of acid groups in the polymer compound (B).
  • the acid value of the polymer compound (B) can be adjusted by appropriately adjusting the amount of the acid group in the polymer compound (B) and the amount of the functional group of pKa5 or higher.
  • the amount of the compound having an acid group and a carbon-carbon double bond as a raw material the amount of the compound having a functional group of pKa5 or higher and a carbon-carbon double bond
  • the polymer compound (B) having a desired acid value can be synthesized by appropriately adjusting the amount of the vinyl monomer having an acid group.
  • the polymer compound represented by the general formula (1) or (2) is not particularly limited. In the specification, it can be synthesized according to the synthesis method described in paragraphs 0145 to 0173 and 0289 to 0429).
  • the polymer compound (B) represented by the general formula (1) or (2) is preferably synthesized by a method of radical polymerization of a vinyl monomer in the presence of a mercaptan compound having a plurality of the adsorption sites.
  • the above vinyl monomers may be polymerized by only one kind, or may be copolymerized by using two or more kinds in combination. Specific examples (M-1) to (M-9) and (M-14) to (M-16) of vinyl monomers are shown below, but the present invention is not limited to these.
  • a vinyl monomer is converted into a radical in the presence of a compound represented by the following general formula (3).
  • a polymerization method is preferred.
  • R 6 , R 7 , A 3 , m, and n have the same meanings as R 3 , R 4 , A 2 , m, and n in the general formula (2), respectively.
  • the preferred embodiment is also the same.
  • a synthesis method of the polymer compound (B) represented by the general formula (1) or (2) a compound represented by the general formula (3) and a macromonomer having a carbon-carbon double bond A method of adding (thiol-ene reaction method) is also preferred. It is preferable to use a radical generator or a base as a catalyst for the reaction.
  • Specific examples of the macromonomer having a carbon-carbon double bond are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following specific examples, the number k of repeating units is an integer of 3 to 50.
  • a compound represented by the general formula (3) and a polymer compound having a carboxylic acid group A method of forming a thioester group by a dehydration condensation reaction is also preferable.
  • Specific examples of the polymer compound having a carboxylic acid group are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the number k of repeating units is an integer of 3 to 50.
  • a compound represented by the general formula (3) and a polymer compound having a leaving group A method of forming a thioether group by a nucleophilic substitution reaction is also preferable.
  • the leaving group is preferably a halogen such as iodine, bromine or chlorine, or a sulfonic acid ester such as tosylate, mesylate or trifluoromethanesulfonate.
  • Specific examples of the polymer compound having a leaving group are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following specific examples, the number k of repeating units is an integer of 3 to 50.
  • the compound represented by the general formula (3) is preferably synthesized by the following method.
  • a method in which a compound having 3 to 10 mercapto groups in one molecule and a compound having the adsorption site and having a carbon-carbon double bond capable of reacting with a mercapto group are subjected to an addition reaction.
  • Particularly preferred is an addition reaction.
  • the carbon-carbon double bond is more preferably a mono- or di-substituted vinyl group in terms of reactivity with the mercapto group.
  • Specific examples of the compound having 3 to 10 mercapto groups in one molecule [specific examples (18) to (34)] include the following compounds.
  • a compound having the adsorption site and having a carbon-carbon double bond (specifically, an acid group, a urea group, a urethane group, a group having a coordinating oxygen atom, a group having a basic nitrogen atom, Phenol group, alkyl group, aryl group, group having an alkyleneoxy chain, imide group, alkyloxycarbonyl group, alkylaminocarbonyl group, carboxylate group, sulfonamide group, heterocyclic group, alkoxysilyl group, epoxy group, isocyanate group
  • a compound having at least one group selected from the group consisting of a hydroxyl group and having a carbon-carbon double bond is not particularly limited, and examples thereof include the following.
  • the radical addition reaction product of the “compound having 3 to 10 mercapto groups in one molecule” and the “compound having the adsorption site and having a carbon-carbon double bond” is, for example, The above-mentioned “compound having 3 to 10 mercapto groups in one molecule” and “compound having the adsorption site and having a carbon-carbon double bond” are dissolved in a suitable solvent, It is obtained using a method (thiol-ene reaction method) in which a radical generator is added and added at about 50 ° C. to 100 ° C.
  • suitable solvents used in the thiol-ene reaction method include “compound having 3 to 10 mercapto groups in one molecule”, “having the adsorption site, and carbon-carbon double It can be arbitrarily selected according to the solubility of the “compound having a bond” and the “radical addition reaction product to be produced”.
  • solvents may be used as a mixture of two or more.
  • radical generators 2,2′-azobis (isobutyronitrile) (AIBN), 2,2′-azobis- (2,4′-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate
  • An azo compound such as [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.], a peroxide such as benzoyl peroxide, and a persulfate such as potassium persulfate and ammonium persulfate can be used.
  • a peroxide such as benzoyl peroxide
  • a persulfate such as potassium persulfate and ammonium persulfate
  • the polymer compound of the present invention those obtained by polymerizing these vinyl monomers and the compound represented by the general formula (3) by a known method according to a conventional method are preferable.
  • the compound represented by the general formula (3) in the present invention functions as a chain transfer agent, and may be simply referred to as “chain transfer agent” hereinafter.
  • chain transfer agent a method in which these vinyl monomers and the chain transfer agent are dissolved in an appropriate solvent, a radical polymerization initiator is added thereto, and the mixture is polymerized in a solution at about 50 ° C. to 220 ° C. (solution polymerization method) ).
  • suitable solvents used in the solution polymerization method can be arbitrarily selected according to the monomers used and the solubility of the resulting copolymer.
  • solvents may be used as a mixture of two or more.
  • radical polymerization initiators examples include 2,2′-azobis (isobutyronitrile) (AIBN), 2,2′-azobis- (2,4′-dimethylvaleronitrile), and 2,2′-azobisisobutyric acid.
  • An azo compound such as dimethyl [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.], a peroxide such as benzoyl peroxide, and a persulfate such as potassium persulfate and ammonium persulfate can be used.
  • the polymer compound (B) can be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the polymer compound (B) with respect to the total solid content of the dispersion composition of the present invention (or the curable composition described later) is 5 to 40% by mass from the viewpoints of dispersibility, high refractive index and coated surface shape.
  • the range is preferably 10 to 35% by mass, more preferably 12 to 30% by mass.
  • the dispersion composition of the present invention contains a dispersion resin other than the specific resin (hereinafter may be referred to as “other dispersion resin”) for the purpose of adjusting the dispersibility of the metal oxide particles. May be.
  • dispersion resins that can be used in the present invention include polymer dispersants [for example, polyamidoamine and its salt, polycarboxylic acid and its salt, high molecular weight unsaturated acid ester, modified polyurethane, modified polyester, modified poly ( (Meth) acrylate, (meth) acrylic copolymer, naphthalene sulfonic acid formalin condensate], polyoxyethylene alkyl phosphate ester, polyoxyethylene alkyl amine, alkanol amine, pigment derivative and the like.
  • Other dispersion resins can be further classified into linear polymers, terminal-modified polymers, graft polymers, and block polymers based on their structures.
  • the other dispersion resin is adsorbed on the surface of the metal oxide particles and acts to prevent re-aggregation. Therefore, a terminal-modified polymer, a graft polymer, and a block polymer having an anchor site to the surface of the metal oxide particles can be cited as preferred structures. On the other hand, other dispersion resins have the effect of promoting the adsorption of the dispersion resin by modifying the surface of the metal oxide particles.
  • dispersion resins include “DISPERBYK101 (polyamideamine phosphate), 107 (carboxylic acid ester), 110, 180 (copolymer containing an acid group), 130 (polyamide), 161, manufactured by BYK Chemie.
  • ether dimer a compound represented by the formula (ED) after the paragraph 0562 of JP2012-208494A (corresponding [0692] of US Patent Application Publication No. 2012/235099) (ether dimer) May be mentioned as an essential monomer component, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • ether dimer the description of the ether dimer described in paragraph 0565 of JP2012-208494A (corresponding [0694] of US Patent Application Publication No. 2012/235099) can be referred to. Incorporated in the description.
  • the polymer obtained by polymerizing the compound represented by the formula (ED) as an essential monomer component include the compound represented by the formula (ED) described later in the section of the binder polymer as an essential monomer.
  • the thing similar to the specific example of the polymer polymerized as a component is mentioned.
  • These other resins may be used alone or in combination of two or more.
  • the dispersion composition of the present invention (or curable composition described later) may or may not contain other dispersion resins.
  • the content of the other dispersion resin with respect to the total solid content is preferably in the range of 1 to 20% by mass, and more preferably in the range of 1 to 10% by mass.
  • the dispersion composition of this invention contains a solvent
  • this solvent can be comprised using various organic solvents.
  • Organic solvents that can be used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether.
  • Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, ⁇ -butyrolactone, methyl lactate, Examples include ethyl lactate.
  • the concentration of the solid content in the dispersion composition of the present invention is preferably 2 to 60% by mass.
  • the manufacturing method of the dispersion composition normally used can be applied.
  • the metal oxide particles (A), the polymer compound (B), and the solvent (C) can be mixed and dispersed using a circulation type dispersion device (bead mill) or the like.
  • this invention relates also to the manufacturing method of the said dispersion composition, and also relates to the manufacturing method of the following curable composition.
  • the curable composition of the present invention is a curable composition constituted by including the dispersion composition of the present invention and the polymerizable compound (D) and, if necessary, other components. preferable.
  • a cured film (transparent film) having a high refractive index can be formed.
  • the present invention also relates to a transparent film formed using the curable composition of the present invention.
  • a cured film obtained from the curable composition preferably has a refractive index of 1.85 to 2.60. More preferably, it is ⁇ 2.60.
  • the physical property that the refractive index of the cured film is 1.85 to 2.60 can be suitably achieved when the curable composition of the present invention contains the polymer compound (B).
  • the curable composition of the present invention contains the polymer compound (B).
  • it may be achieved by means, for example, adjusting the kind and content of the polymerizable compound (D) and the binder polymer that can be further added, or containing the metal oxide particles (A) in the curable composition
  • it can be achieved more reliably by adjusting the type and content of the metal oxide particles.
  • the above physical properties can be preferably achieved by using metal oxide particles as the above-described preferred examples.
  • the composition of the present invention is preferably a transparent composition. More specifically, when a cured film having a thickness of 1.0 ⁇ m is formed from the composition, light transmission in the thickness direction of the cured film is achieved.
  • the composition has a rate of 90% or more over the entire wavelength region of 400 to 700 nm. That is, the transparent film of the present invention refers to a film having a light transmittance of 90% or more over the entire wavelength region of 400 to 700 nm at a film thickness of 1.0 ⁇ m.
  • Such physical properties of light transmittance may be achieved by any means as long as the curable composition contains the dispersion composition of the present invention and the polymerizable compound (D).
  • the said physical property of the light transmittance can be suitably achieved also by adjusting the particle diameter of a metal oxide particle (A), and the kind and addition amount of a high molecular compound (B).
  • the polymer compound (B) has a weight average molecular weight of 5000 to 8000 and an acid value of 70 to 90 mgKOH / g. It is particularly preferred.
  • the content of the metal oxide particles is large, the transparency of the cured film may become a problem.
  • the light transmittance is 90% or more over the entire wavelength region of 400 to 700 nm.
  • an undercoat film of a microlens or a color filter is required. It is an important factor for developing the characteristics.
  • the light transmittance is preferably 95% or more, more preferably 99% or more, and most preferably 100% over the entire wavelength region of 400 to 700 nm.
  • the curable composition of the present invention substantially does not contain a colorant (the content of the colorant is preferably 0% by mass with respect to the total solid content of the composition). .
  • the polymerizable compound (D) is “two or more epoxies in the molecule”. It is preferable to use a compound having a group or an oxetanyl group.
  • bisphenol A type epoxy resins include JER-827, JER-828, JER-834, JER-1001, JER-1002, JER-1003, JER-1055, JER-1007, JER-1009, JER-1010 ( (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), EPICLON 860, EPICLON 1050, EPICLON 1051, EPICLON 1055 (above, manufactured by DIC Corporation), and the like.
  • JER-4005, JER-4007, JER-4010 Mitsubishi Chemical Corporation
  • EPICLON 830, EPICLON 835 Made by DIC Corporation
  • LCE-21 LCE-21
  • RE-602S Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • phenol novolac type epoxy resins include JER-152, JER-154, JER-157S70, JER-157S65 (above, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), EPICLON N-740, EPICLON N-740, EPICLON N -770, EPICLON N-775 (manufactured by DIC Corporation), etc.
  • cresol novolac type epoxy resins include EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-670, EPICLON N-673, EPICLON N -680, EPICLON N-690, EPICLON N-695 (above, manufactured by DIC Corporation), EOCN-1020 (above, made by Nippon Kayaku Co.,
  • ADEKA RESIN EP-4000S, EP-4003S, EP-4010S, EP-4010S, EP-4011S (above, manufactured by ADEKA Corporation), NC-2000, NC-3000, NC-7300, XD-1000, EPPN-501, EPPN-502 (manufactured by ADEKA Corporation), JER-1031S (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
  • Aron oxetane OXT-121, OXT-221, OX-SQ, PNOX manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • the compound containing an oxetanyl group individually or in mixture with the compound containing an epoxy group.
  • an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond can also be used, and at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. It is preferable to use the compound which has.
  • the polymerizable compound (D) is selected from the group consisting of a compound having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in the molecule and a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. More preferably, there is at least one.
  • the curable composition of the present invention preferably further contains a polymerization initiator (E) described later.
  • a polymerization initiator E
  • Such an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond is, for example, a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.
  • Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof.
  • unsaturated carboxylic acids for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.
  • esters and amides thereof for example, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used.
  • an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and A dehydration condensation reaction product with a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid is also preferably used.
  • a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a leaving group such as a halogen group or a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. It is.
  • the compounds described in paragraph numbers 0095 to 0108 of JP-A-2009-288705 can be preferably used in the present invention.
  • the polymerizable compound (hereinafter, also simply referred to as “polymerizable monomer”, “polymerizable monomer”) has at least one addition-polymerizable ethylene group, and is 100 ° C. or higher under normal pressure.
  • a compound having an ethylenically unsaturated group having a boiling point of Examples include monofunctional acrylates and methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethanetri (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl
  • a polyfunctional (meth) acrylate obtained by reacting a polyfunctional carboxylic acid with a compound having a cyclic ether group such as glycidyl (meth) acrylate and an ethylenically unsaturated group can also be used.
  • compounds having a fluorene ring and having two or more functional ethylenic groups described in JP 2010-160418 A, JP 2010-129825 A, JP 4364216 A, etc. Polymers can also be used.
  • JP-A-2008-292970 compounds having a boiling point of 100 ° C. or higher under normal pressure and having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group are disclosed in paragraphs [0254] to [0257] of JP-A-2008-292970.
  • the compounds described are also suitable.
  • compounds described in JP-A-10-62986 as general formulas (1) and (2) together with specific examples thereof are compounds that have been (meth) acrylated after addition of ethylene oxide or propylene oxide to the polyfunctional alcohol. Can be used as a polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer used in the present invention is also preferably a polymerizable monomer represented by the general formulas (MO-1) to (MO-6) described in paragraphs 0297 to 0300 of JP2012-215806A.
  • Specific examples of the radically polymerizable monomer represented by the above general formulas (MO-1) to (MO-6) include compounds described in paragraph numbers 0248 to 0251 of JP-A No. 2007-26979. Can also be suitably used in the present invention.
  • dipentaerythritol triacrylate (KAYARAD D-330 as a commercially available product; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetraacrylate (as a commercially available product, KAYARAD D-320; Nippon Kayaku) Dipentaerythritol penta (meth) acrylate (manufactured by Co., Ltd.) (as a commercial product, KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (as a commercial product, KAYARAD DPHA; Nippon Kayaku Co., Ltd.) Company), and the structure in which these (meth) acryloyl groups are mediated by ethylene glycol and propylene glycol residues, diglycerin EO (ethylene oxide) modified (meth) acrylate (
  • the polymerizable monomer is a polyfunctional monomer and may have an acid group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group. Therefore, if the ethylenic compound has an unreacted carboxyl group as in the case of a mixture as described above, this can be used as it is.
  • the acid group may be introduced by reacting the group with a non-aromatic carboxylic acid anhydride.
  • non-aromatic carboxylic acid anhydride examples include tetrahydrophthalic anhydride, alkylated tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, alkylated hexahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, anhydrous Maleic acid is mentioned.
  • the monomer having an acid group is an ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid, and a non-aromatic carboxylic acid anhydride is reacted with an unreacted hydroxyl group of the aliphatic polyhydroxy compound.
  • a polyfunctional monomer having an acid group is preferable, and in this ester, the aliphatic polyhydroxy compound is pentaerythritol and / or dipentaerythritol.
  • Examples of commercially available products include Aronix series M-305, M-510, and M-520 as polybasic acid-modified acrylic oligomers manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a preferable acid value of the polyfunctional monomer having an acid group is 0.1 to 40 mg-KOH / g, and particularly preferably 5 to 30 mg-KOH / g.
  • it is essential that the acid value of the entire polyfunctional monomer is within the above range. It is.
  • a polyfunctional monomer having a caprolactone-modified structure described in paragraphs 0306 to 0313 of JP2012-215806A can also be used.
  • Such polyfunctional monomers having a caprolactone-modified structure are commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the KAYARAD DPCA series, such as DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, etc. Can be mentioned.
  • the polyfunctional monomer which has a caprolactone modified structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.
  • polymerizable monomer or the like in the present invention compounds represented by the general formula (Z-4) or (Z-5) described in paragraphs 0314 to 0324 of JP2012-215806A can also be used.
  • examples of commercially available monomers such as polymerizable monomers represented by the general formulas (Z-4) and (Z-5) include SR-494, a tetrafunctional acrylate having four ethyleneoxy chains manufactured by Sartomer, Nippon Kayaku. Examples thereof include DPCA-60, which is a hexafunctional acrylate having 6 pentyleneoxy chains, and TPA-330, which is a trifunctional acrylate having 3 isobutyleneoxy chains.
  • Examples of the polymerizable monomer include urethane acrylates described in JP-B-48-41708, JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, and the like. Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417, and JP-B-62-39418 are also suitable. Furthermore, as polymerizable monomers, addition polymerizable monomers having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used.
  • urethane oligomers UAS-10, UAB-140 (manufactured by Sanyo Kokusaku Pulp Co., Ltd.), UA-7200 "(manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA -306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600 (manufactured by Kyoeisha) and the like.
  • a polyfunctional thiol compound having two or more mercapto (SH) groups in the same molecule described in paragraphs 0216 to 0220 of JP2012-150468A can also be used.
  • amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
  • examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.
  • urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable.
  • a vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer having a hydroxyl group represented by the following formula (V) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups: Etc.
  • V vinyl monomer having a hydroxyl group represented by the following formula (V)
  • Etc polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups
  • R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
  • urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56- Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in Japanese Patent No. 17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, and Japanese Patent Publication No. 62-39418 are also suitable.
  • polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238. Can obtain a curable composition having a very high photosensitive speed.
  • polyester acrylates examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-B-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates obtained by reaction. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, the Japan Adhesion Association magazine vol. 20, no. 7, photocurable monomers and oligomers described on pages 300 to 308 (1984) can also be used.
  • the details of usage methods can be arbitrarily set according to the final performance design of a curable composition.
  • it is selected from the following viewpoints.
  • a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable.
  • those having three or more functionalities are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether compound).
  • a method of adjusting both sensitivity and intensity by using a combination of these materials is also effective.
  • the selection and use of the polymerizable compound is also an important factor for compatibility and dispersibility with other components (for example, polymerization initiator, metal oxide particles, etc.) contained in the curable composition.
  • the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more other components in combination.
  • a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a hard surface such as a substrate.
  • the content of the polymerizable compound (D) is preferably in the range of 1% by mass to 40% by mass and preferably in the range of 3% by mass to 35% by mass with respect to the total solid content of the curable composition. Is more preferable, and the range of 5 to 30% by mass is even more preferable.
  • the curable composition of the present invention preferably further contains at least one selected from the group consisting of a polymerization initiator (E) described below and a binder polymer.
  • E) Polymerization initiator It is preferable from a viewpoint of the further sclerosis
  • a polymerization initiator in this invention what is known as a polymerization initiator described below can be used.
  • the polymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate polymerization of the polymerizable compound, and can be appropriately selected from known polymerization initiators.
  • the polymerization initiator preferably contains at least one compound having a molecular extinction coefficient of at least about 50 within a range of about 300 nm to 800 nm (more preferably 330 nm to 500 nm).
  • polymerization initiator examples include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, those having a triazine skeleton, those having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds such as acylphosphine oxide, hexaarylbiimidazole, oxime derivatives. Oxime compounds such as organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoacetophenone compounds, and hydroxyacetophenones.
  • halogenated hydrocarbon derivatives for example, those having a triazine skeleton, those having an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds such as acylphosphine oxide, hexaarylbiimidazole, oxime derivatives.
  • Oxime compounds such as organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoaceto
  • halogenated hydrocarbon compound having a triazine skeleton examples include those described in Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), a compound described in British Patent No. 1388492, a compound described in JP-A-53-133428, a compound described in German Patent No. 3337024, F.I. C. J. Schaefer et al. Org. Chem. 29, 1527 (1964), compound described in JP-A-62-258241, compound described in JP-A-5-281728, compound described in JP-A-5-34920, US Pat. No. 4,221,976 And the compounds described in the book.
  • polyhalogen compounds for example, 4-phenyl acridine, such as 9-phenylacridine, 1,7-bis (9,9′-acridinyl) heptane), N-phenylglycine, and the like Carbon bromide, phenyltribromomethylsulfone, phenyltrichloromethylketone, etc.
  • coumarins for example, 3- (2-benzofuranoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (2-benzofuroyl) -7- (1- Pyrrolidinyl) coumarin, 3-benzoyl-7-diethylaminocoumarin, 3- (2-methoxybenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (4-dimethylaminobenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3,3′-carbonylbis ( 5,7-di-n-propoxycoumarin), 3,3
  • acylphosphine oxides for example, bis (2,4 , 6-Trimethylbenzoyl) -phenylphosphine Side, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphenylphosphine oxide, Lucirin TPO, etc.
  • metallocenes for example, bis ( ⁇ 5-2,4-cyclopentadien-1-yl)- Bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium, ⁇ 5-cyclopentadienyl- ⁇ 6-cumenyl-iron (1 +)-hexafluorophosphate (1-), etc.
  • metallocenes for example, bis ( ⁇ 5-2,4-cyclopentadien-1-yl)- Bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium, ⁇ 5-cyclopentadienyl- ⁇ 6-
  • hydroxyacetophenone compounds As the polymerization initiator, hydroxyacetophenone compounds, aminoacetophenone compounds, and acylphosphine compounds can also be suitably used. More specifically, for example, aminoacetophenone initiators described in JP-A-10-291969 and acylphosphine oxide initiators described in Japanese Patent No. 4225898 can also be used.
  • hydroxyacetophenone-based initiator IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127 (trade names: all manufactured by BASF) can be used.
  • aminoacetophenone initiator commercially available products IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE-379 (trade names: all manufactured by BASF) can be used.
  • aminoacetophenone-based initiator a compound described in JP-A-2009-191179 in which an absorption wavelength is matched with a long wave light source such as 365 nm or 405 nm can also be used.
  • acylphosphine initiator commercially available products such as IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (trade names: both manufactured by BASF) can be used.
  • an oxime compound can also be suitably used as the polymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime initiator include compounds described in JP-A No. 2001-233842, compounds described in JP-A 2000-80068, and compounds described in JP-A 2006-342166.
  • oxime ester compounds examples include TRONLY TR-PBG-304, TRONLY TR-PBG-309, and TRONLY TR-PBG-305 (manufactured by CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD).
  • Commercial products can be used.
  • the description of the polymerization initiator described in paragraphs 0092 to 0096 of JP2012-113104A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • a curable composition having high curing sensitivity and good developability can be provided.
  • the oxime compound is a compound described in paragraphs 0030 and after of JP2012-113104A.
  • the general formula is represented by the general formula (I) described in claim 1 of JP2012-113104A, more preferably the general formula (IA) described in claim 3.
  • These descriptions can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • J.M. C. S. Perkin II (1979) pp. 156-162 Journal of Photopolymer Science and Technology (1995), pp. 156-162.
  • 202-232 Journal of Applied Polymer Science (2012) pp. 725-731, compounds described in JP-A No. 2000-66385, paragraphs 0218-0281 of JP-A No.
  • IRGACURE-OXE01 manufactured by BASF
  • IRGACURE-OXE02 manufactured by BASF
  • oxime ester compounds other than those described above compounds described in JP-T-2009-519904 in which oxime is linked to carbazole N-position, compounds described in US Pat. No. 7,626,957 in which a hetero substituent is introduced into the benzophenone moiety, A compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-15025 and US Patent Publication No. 2009-292039 in which a nitro group is introduced into the dye moiety, a ketoxime compound described in International Patent Publication No. 2009-131189, the triazine skeleton and the oxime skeleton are the same A compound described in US Pat. No. 7,556,910 contained in the molecule, a compound described in JP 2009-221114 A having an absorption maximum at 405 nm and good sensitivity to a g-ray light source may be used.
  • cyclic oxime compounds described in JP 2007-231000 A and JP 2007-322744 A can also be suitably used.
  • cyclic oxime compounds in particular, cyclic oxime compounds fused to carbazole dyes described in JP2010-32985A and JP2010-185072A have high light absorptivity and high sensitivity. preferable.
  • the compounds described in JP-A-2009-242469 having an unsaturated bond at a specific site of the oxime compound can be preferably used because high sensitivity can be achieved by regenerating the active radical from the polymerization inert radical. it can.
  • an oxime compound having a specific substituent as disclosed in JP-A-2007-267979 and an oxime compound having a thioaryl group as described in JP-A-2009-191061 are exemplified.
  • a compound represented by the following formula (OX-1) is also preferable.
  • the oxime N—O bond may be an (E) oxime compound, a (Z) oxime compound, or a mixture of (E) and (Z) isomers. .
  • R and B each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group.
  • the monovalent substituent represented by R is preferably a monovalent nonmetallic atomic group.
  • the monovalent nonmetallic atomic group include an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heterocyclic group, an alkylthiocarbonyl group, and an arylthiocarbonyl group.
  • these groups may have one or more substituents.
  • the substituent mentioned above may be further substituted by another substituent.
  • substituents examples include a halogen atom, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acyl group, an alkyl group, and an aryl group.
  • alkyl group an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is preferable.
  • the description in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-032556, paragraph 0026 and the like can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the aryl group an aryl group having 6 to 30 carbon atoms is preferable.
  • the description in paragraph 0027 of JP2012-032556A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • acyl group an acyl group having 2 to 20 carbon atoms is preferable.
  • the alkoxycarbonyl group is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms. Specifically, description in paragraph 0029 of JP2012-032556A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification. As the aryloxycarbonyl group, the description in paragraph 0030 of JP2012-032556A can be specifically referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the heterocyclic group an aromatic or aliphatic heterocyclic ring containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom is preferable.
  • JP2012-032556A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the description in paragraph 0032 of JP2012-032556A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the arylthiocarbonyl group the description in paragraph 0033 of JP2012-032556A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the monovalent substituent represented by B represents an aryl group, a heterocyclic group, an arylcarbonyl group, or a heterocyclic carbonyl group. These groups may have one or more substituents. Examples of the substituent include the above-described substituents. Moreover, the substituent mentioned above may be further substituted by another substituent.
  • Y, X, and n have the same meanings as Y, X, and n in formula (OX-2) described later, and preferred examples are also the same.
  • examples of the divalent organic group represented by A include an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, and an alkynylene group. These groups may have one or more substituents. Examples of the substituent include the above-described substituents. Moreover, the substituent mentioned above may be further substituted by another substituent. Among them, A in the formula (OX-1) is an unsubstituted alkylene group, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group, dodecyl) from the viewpoint of increasing sensitivity and suppressing coloring due to heating.
  • an alkyl group for example, a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group, dodecyl
  • alkylene group alkenyl group (eg vinyl group, allyl group) alkylene group, aryl group (eg phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naphthyl group, anthryl) Group, a phenanthryl group, and a styryl group) are preferable.
  • alkenyl group eg vinyl group, allyl group
  • aryl group eg phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naphthyl group, anthryl
  • a phenanthryl group e.g., phenanthryl group
  • styryl group alkylene group substituted alkylene group
  • alkenyl group eg vinyl group, allyl group
  • aryl group eg phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naphth
  • the aryl group represented by Ar is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and may have a substituent.
  • substituents include the same substituents as those introduced into the substituted aryl group mentioned above as specific examples of the aryl group which may have a substituent.
  • a substituted or unsubstituted phenyl group is preferable from the viewpoint of increasing sensitivity and suppressing coloring due to heating.
  • the oxime compound represented by the formula (OX-1) is preferably a compound represented by the following formula (OX-2).
  • R and X each independently represent a monovalent substituent
  • a and Y each independently represent a divalent organic group
  • Ar represents an aryl group
  • n represents 0 to (It is an integer of 5.
  • R, A and Ar in the formula (OX-2) have the same meanings as R, A and Ar in the formula (OX-1), and preferred examples are also the same.
  • the monovalent substituent represented by X is an alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, amino group, heterocyclic ring Group and halogen atom. These groups may have one or more substituents. Examples of the substituent include the above-described substituents. Moreover, the substituent mentioned above may be further substituted by another substituent. Among these, X in the formula (OX-2) is preferably an alkyl group from the viewpoints of solvent solubility and improvement in absorption efficiency in the long wavelength region. In the formula (2), n represents an integer of 0 to 5, and an integer of 0 to 2 is preferable.
  • examples of the divalent organic group represented by Y include the structures Sub-1 to Sub-11 shown below.
  • “*” represents a bonding position between Y and an adjacent carbon atom in the formula (OX-2).
  • the structures Sub-1 and Sub-2 are preferable from the viewpoint of increasing sensitivity.
  • the oxime compound represented by the formula (OX-2) is preferably a compound represented by the following formula (OX-3).
  • R and X each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, Ar represents an aryl group, and n is an integer of 0 to 5.
  • A represents a divalent organic group
  • Ar represents an aryl group
  • n is an integer of 0 to 5.
  • R, X, A, Ar, and n in formula (OX-3) have the same meanings as R, X, A, Ar, and n in formula (OX-2), respectively, and preferred examples are also the same. is there.
  • PIox-1 to (PIox-13) of preferably used oxime compounds are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the oxime compound has a maximum absorption wavelength in a wavelength region of 350 nm to 500 nm, preferably has an absorption wavelength in a wavelength region of 360 nm to 480 nm, and particularly preferably has a high absorbance at 365 nm and 455 nm.
  • the molar extinction coefficient at 365 nm or 405 nm of the oxime compound is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, more preferably 5,000 to 200, from the viewpoint of sensitivity. Is particularly preferred.
  • a known method can be used for the molar extinction coefficient of the compound.
  • an ultraviolet-visible spectrophotometer (Varian Inc., Carry-5 spctrophotometer) is used with an ethyl acetate solvent. It is preferable to measure at a concentration of / L.
  • the polymerization initiator used in the present invention may be used in combination of two or more as required.
  • trihalomethyltriazine compounds More preferred are trihalomethyltriazine compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimers, onium compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, trihalomethyltriazine compounds, ⁇ -aminoketones
  • the curable composition of the present invention is provided on a color filter of a solid-state imaging device to form a microlens, it is required to form a fine pattern with a sharp shape. It is important that the exposed area is developed without residue.
  • an oxime compound as the polymerization initiator.
  • stepper exposure is used for curing exposure, but this exposure machine may be damaged by halogen, and it is required to keep the addition amount of a polymerization initiator low. Therefore, in view of these points, it is most preferable to use an oxime compound as the polymerization initiator (E) in order to form a fine pattern such as a solid-state imaging device.
  • the content (E) of the polymerization initiator contained in the curable composition of the present invention (total content in the case of 2 or more) is 0.1% by mass or more and 40% by mass with respect to the total solid content of the curable composition. It is preferable that it is mass% or less, More preferably, it is 0.5 mass% or more and 20 mass% or less, More preferably, it is 1 mass% or more and 15 mass% or less. Within this range, good curability, good sensitivity and pattern formability can be obtained.
  • the curable composition of the present invention may further contain optional components described in detail below, if necessary.
  • the curable composition of the present invention may contain a sensitizer for the purpose of (E) improving the radical generation efficiency of the polymerization initiator and increasing the photosensitive wavelength.
  • the sensitizer that can be used in the present invention is preferably a sensitizer that sensitizes the above-mentioned (E) polymerization initiator by an electron transfer mechanism or an energy transfer mechanism. Examples of the sensitizer include those belonging to the compounds listed below and having an absorption wavelength in a wavelength region of 300 nm to 450 nm.
  • polynuclear aromatics eg, phenanthrene, anthracene, pyrene, perylene, triphenylene, 9,10-dialkoxyanthracene
  • xanthenes eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal
  • Thioxanthones isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, chlorothioxanthone
  • cyanines eg thiacarbocyanine, oxacarbocyanine
  • merocyanines eg merocyanine, carbomerocyanine
  • phthalocyanines thiazines (eg thionine, methylene blue, Toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine), anthraquinones (eg, anthraquinone
  • Aromatic ketone compounds and heterocyclic compounds such as N-aryloxazolidinones. Further, in European Patent No. 568,993, US Pat. No. 4,508,811, No. 5,227,227, JP-A-2001-125255, JP-A-11-271969, etc. And the like.
  • the content of the sensitizer in the curable composition is preferably 0.1% by mass or more and 20% by mass or less in terms of solid content from the viewpoint of light absorption efficiency in the deep part and decomposition efficiency of the initiator. 0.5 mass% or more and 15 mass% or less is more preferable.
  • a sensitizer may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
  • the curable composition of the present invention preferably further contains a co-sensitizer.
  • the co-sensitizer has effects such as (E) further improving the sensitivity of the polymerization initiator and sensitizer to actinic radiation, or suppressing the inhibition of polymerization of the polymerizable compound (D) by oxygen.
  • Examples of such co-sensitizers include amines such as M.I. R. Sander et al., “Journal of Polymer Society”, Vol. 10, 3173 (1972), Japanese Patent Publication No. 44-20189, Japanese Patent Publication No. 51-82102, Japanese Patent Publication No. 52-134692, Japanese Patent Publication No. 59-138205. No.
  • co-sensitizers include amino acid compounds (eg, N-phenylglycine), organometallic compounds described in JP-B-48-42965 (eg, tributyltin acetate), JP-B 55- And a hydrogen donor described in JP 34414 and a sulfur compound (eg, trithiane) described in JP-A-6-308727.
  • a co-sensitizer may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
  • the content of these co-sensitizers is 0.1% by mass or more and 30% by mass or less with respect to the mass of the total solid content of the curable composition from the viewpoint of improving the curing rate due to the balance between polymerization growth rate and chain transfer.
  • the range of 1 mass% or more and 25 mass% or less is more preferable, and the range of 1.5 mass% or more and 20 mass% or less is still more preferable.
  • Polymerization inhibitor In the present invention, it is preferable to add a polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated double bond that can be polymerized during production or storage of the curable composition.
  • Polymerization inhibitors that can be used in the present invention include phenolic hydroxyl group-containing compounds, N-oxide compounds, piperidine 1-oxyl free radical compounds, pyrrolidine 1-oxyl free radical compounds, N-nitrosophenylhydroxylamines, diazonium Examples include compounds, and cationic dyes, sulfide group-containing compounds, nitro group-containing compounds, and transition metal compounds such as FeCl 3 and CuCl 2 . Further preferred embodiments are as follows.
  • the phenolic hydroxyl group-containing compound is hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), Selected from the group consisting of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol (BHT), phenolic resins, and cresol resins It is preferable that it is a compound.
  • N-oxide compounds include 5,5-dimethyl-1-pyrroline N-oxide, 4-methylmorpholine N-oxide, pyridine N-oxide, 4-nitropyridine N-oxide, 3-hydroxypyridine N-oxide, picoline A compound selected from the group consisting of acid N-oxide, nicotinic acid N-oxide, and isonicotinic acid N-oxide is preferred.
  • Piperidine 1-oxyl free radical compounds include piperidine 1-oxyl free radical, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-oxo-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1 -Oxyl free radical, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-acetamido-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, 4-maleimide A compound selected from the group consisting of -2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical and 4-phosphonoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical Is preferred.
  • the pyrrolidine 1-oxyl free radical compounds are preferably 3-carboxyproxyl free radicals (3-carboxy-2,2,5,5-tetramethylpyrrolidine 1-oxyl free radical).
  • the N-nitrosophenylhydroxylamines are preferably compounds selected from the group consisting of N-nitrosophenylhydroxylamine cerium salts and N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salts.
  • the diazonium compound is selected from the group consisting of 4-diazophenyldimethylamine hydrogen sulfate, 4-diazodiphenylamine tetrafluoroborate, and 3-methoxy-4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate Is preferred.
  • a preferable addition amount of the polymerization inhibitor is preferably 0.01 parts by weight or more and 10 parts by weight or less, and more preferably 0.01 parts by weight or more and 8 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polymerization initiator (E). It is preferable that it is in the range of 0.05 parts by mass or more and 5 parts by mass or less. By setting it as the said range, the curing reaction suppression in a non-image part and the curing reaction acceleration in an image part are fully performed, and image forming property and a sensitivity become favorable.
  • the curable composition of the present invention preferably further contains a binder polymer from the viewpoint of improving film properties.
  • a binder polymer As such a linear organic polymer, a well-known thing can be used arbitrarily.
  • a linear organic polymer that is soluble or swellable in water or weak alkaline water is selected to enable water development or weak alkaline water development.
  • the linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent but also according to the use as water, weak alkaline water or an organic solvent developer. For example, when a water-soluble organic polymer is used, water development becomes possible.
  • linear organic polymer examples include radical polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, and JP-B-sho. No. 54-25957, JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, JP-A-59-71048, ie, a monomer having a carboxyl group alone or Copolymerized resin, acid anhydride monomer alone or copolymerized, acid anhydride unit hydrolyzed, half esterified or half amidated, epoxy resin unsaturated monocarboxylic acid and acid anhydride Examples include modified epoxy acrylate.
  • Examples of the monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, and 4-carboxylstyrene.
  • Examples of the monomer having an acid anhydride include maleic anhydride. It is done.
  • those obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group are useful.
  • a monomer other than the monomers listed above can also be used as the compound to be copolymerized.
  • examples of other monomers include the following compounds (1) to (12).
  • Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, acrylic acid-2- Al
  • Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
  • Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
  • Styrenes such as styrene, ⁇ -methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene, and p-acetoxystyrene.
  • Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
  • Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene.
  • N-vinylpyrrolidone acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
  • Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
  • a methacrylic acid monomer having a hetero atom bonded to the ⁇ -position For example, compounds described in JP-A-2002-309057, JP-A-2002-311569 and the like can be mentioned. In the present invention, these monomers can be applied to the synthesis of a copolymer by combining them without particular limitation within the scope of the present invention. For example, although an example of the copolymer formed by polymerizing the monomer component containing these monomers is shown below, this invention is not limited to this. The composition ratio of the exemplary compounds shown below is mol%.
  • the binder polymer includes a compound (referred to as an ether dimer) represented by the formula (ED) after paragraph 0562 of JP2012-208494A (corresponding to US Patent Application Publication No. 2012/235099, [0692]). May be referred to), and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • an ether dimer represented by the formula (ED) after paragraph 0562 of JP2012-208494A (corresponding to US Patent Application Publication No. 2012/235099, [0692]). May be referred to), and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the description of the ether dimer described in paragraph 0565 of JP2012-208494A (corresponding [0694] of US Patent Application Publication No. 2012/235099) can be referred to. Incorporated in the description.
  • polymerizing the compound represented by a formula (ED) as an essential monomer component is illustrated below, this invention is not limited to these.
  • DM dimethyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate
  • BzMA benzyl methacrylate
  • MMA methyl methacrylate
  • MAA Methacrylic acid
  • GMA glycidyl methacrylate
  • the molar ratio of DM: BzMA: MMA: MAA: GMA is preferably 5 to 15:40 to 50: 5 to 15: 5 to 15:20 to 30.
  • the weight average molecular weight of such a polymer is preferably 9000 to 20000.
  • the polymer used in the present invention has a weight average molecular weight (polystyrene conversion value measured by GPC method) of preferably 1000 to 2 ⁇ 10 5 , more preferably 2000 to 1 ⁇ 10 5 , and more preferably 5000 to More preferably, it is 5 ⁇ 10 4 .
  • a (meth) acrylic resin having an allyl group, a vinyl ester group, and a carboxyl group in the side chain, and a side chain described in JP-A Nos. 2000-187322 and 2002-62698 are doubled.
  • An alkali-soluble resin having a bond and an alkali-soluble resin having an amide group in the side chain described in JP-A No. 2001-242612 are preferable because of excellent balance of film strength, sensitivity, and developability.
  • Examples of the above-mentioned polymers include: Dial NR series (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Photomer 6173 (COOH-containing polyurethane acrylic oligomer. Diamond Shamrock Co.
  • Japanese Patent Publication No. 7-12004 Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Publication No. 63-287944, Japanese Patent Publication No. 63-287947.
  • Urethane binder polymers containing acid groups as described in JP-A-1-271741 and the like, and urethane binders having acid groups and double bonds in side chains as described in JP-A-2002-107918 Since the polymer is very excellent in strength, it is advantageous in terms of film strength.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-318463 is also preferable because of its excellent film strength.
  • polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer.
  • alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful.
  • the weight average molecular weight (polystyrene equivalent value measured by GPC method) of the binder polymer that can be used in the curable composition of the present invention is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more and 300,000 or less.
  • the number average molecular weight is preferably 1,000 or more, and more preferably 2,000 or more and 250,000 or less.
  • the polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably 1.1 or more and 10 or less.
  • These binder polymers may be any of random polymers, block polymers, graft polymers and the like.
  • the binder polymer that can be used in the present invention can be synthesized by a conventionally known method.
  • the solvent used in the synthesis include tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy.
  • Examples include -2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the radical polymerization initiator used when synthesizing the binder polymer that can be used in the curable composition of the present invention include known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator. In the curable composition of the present invention, the binder polymer can be used alone or in combination of two or more.
  • the curable composition of the present invention may or may not contain a binder polymer, but when it is contained, the content of the binder polymer with respect to the total solid content of the curable composition is 1% by mass or more and 40%.
  • the mass is preferably 3% by mass or less, more preferably 3% by mass or more and 30% by mass or less, and still more preferably 4% by mass or more and 20% by mass or less.
  • surfactant Various surfactants may be added to the curable composition of the present invention from the viewpoint of further improving applicability.
  • various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.
  • the curable composition of the present invention contains a fluorosurfactant, liquid properties (particularly fluidity) when prepared as a coating liquid are further improved. The liquid-saving property can be further improved.
  • the fluorine content in the fluorosurfactant is preferably 3% by mass to 40% by mass, more preferably 5% by mass to 30% by mass, and particularly preferably 7% by mass to 25% by mass.
  • a fluorine-based surfactant having a fluorine content in this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid-saving properties, and has good solubility in a curable composition.
  • the fluorosurfactant include Megafac F171, F172, F173, F176, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, F780, F781 (above DIC Corporation), Florard FC430, FC431, FC171 (above, Sumitomo 3M Limited), Surflon S-382, SC-101, Same SC-103, Same SC-104, Same SC-105, Same SC1068, Same SC-381, Same SC-383, Same S393, Same KH-40 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PF636, PF656, PF6320 PF6520, PF7002 (manufactured by OMNOVA), and
  • nonionic surfactant examples include nonionic surfactants described in paragraph 0252 of JP2012-201643A, the contents of which are incorporated herein.
  • cationic surfactant examples include cationic surfactants described in JP 2012-201643 A, paragraph 0253, and the like, the contents of which are incorporated herein.
  • anionic surfactant examples include W004, W005, W017 (manufactured by Yusho Co., Ltd.) and the like.
  • silicone surfactant examples include “Toray Silicone DC3PA”, “Toray Silicone SH7PA”, “Tore Silicone DC11PA”, “Tore Silicone SH21PA”, “Tore Silicone SH28PA”, “Toray Silicone” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.
  • the curable composition may or may not contain a surfactant.
  • the addition amount of the surfactant is 0.001% by mass to 2% with respect to the total mass of the curable composition. It is preferably 0.0% by mass, more preferably 0.005% by mass to 1.0% by mass.
  • additives such as a plasticizer and a fat-sensitizing agent
  • plasticizers include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, and triacetyl glycerin. , 10% by mass or less can be added with respect to the total mass of the polymerizable compound and the binder polymer.
  • the curable composition of the present invention may contain an ultraviolet absorber.
  • an ultraviolet absorber a compound represented by the following general formula (I) which is a conjugated diene compound is particularly preferable.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R 1 and R 2 May be the same as or different from each other, but do not represent a hydrogen atom at the same time.
  • R 1 and R 2 may form a cyclic amino group together with the nitrogen atom to which R 1 and R 2 are bonded. Examples of the cyclic amino group include piperidino group, morpholino group, pyrrolidino group, hexahydroazepino group, piperazino group and the like.
  • R 3 and R 4 represent an electron withdrawing group.
  • the electron withdrawing group is an electron withdrawing group having a Hammett's substituent constant ⁇ p value (hereinafter simply referred to as “ ⁇ p value”) of 0.20 or more and 1.0 or less. Preferably, it is an electron withdrawing group having a ⁇ p value of 0.30 or more and 0.8 or less.
  • ⁇ p value Hammett's substituent constant
  • Hammett's rule was found in 1935 by L. L. in order to quantitatively discuss the effect of substituents on the reaction or equilibrium of benzene derivatives. P. A rule of thumb proposed by Hammett, which is widely accepted today.
  • Substituent constants determined by Hammett's rule include ⁇ p value and ⁇ m value, and these values are described in many general books. A.
  • the electron withdrawing group having a ⁇ p value of 0.20 or more and 1.0 or less include an acyl group, an acyloxy group, a carbamoyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, and a nitro group.
  • R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be in the form of a polymer derived from a monomer bonded to a vinyl group via a linking group. It may be a copolymer with another monomer.
  • other monomers include acrylic acid, ⁇ -chloroacrylic acid, ⁇ -alacrylic acid (for example, esters derived from acrylic acids such as methacrylic acid, preferably lower alkyl esters and amides such as Acrylamide, methacrylamide, t-butyl acrylamide, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-hexyl acrylate, octyl methacrylate , Lauryl methacrylate, methylenebisacrylamide, etc.), vinyl esters (eg, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl laurate, etc.), acrylonitrile, methacryloni Tolyl, aromatic vinyl compounds (for example, styrene and its derivatives such as vinyl toluen
  • Two or more of the other monomer compounds can be used together.
  • n-butyl acrylate and divinylbenzene, styrene and methyl methacrylate, methyl acrylate and methacrylate acid, or the like can be used in combination.
  • the ultraviolet absorbers represented by the general formula (I) are disclosed in JP-B 44-29620, JP-A 53-128333, JP-A 61-169831, JP-A 63-53543, and JP-A 63-53544. Can be synthesized by the methods described in JP-A 63-56651 and other publications, and WO 2009/123109 pamphlet. Specifically, the exemplified compound (1) can be synthesized by the method described in paragraph No. 0040 of WO2009 / 123109 pamphlet.
  • the curable composition of the present invention may or may not contain an ultraviolet absorber, but when it is contained, the content of the ultraviolet absorber is 0.1% by mass relative to the total solid content of the composition. Is preferably 10% by mass, more preferably 0.1% by mass to 5% by mass, and particularly preferably 0.1% by mass to 3% by mass. Moreover, in this invention, the said various ultraviolet absorber may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
  • the curable composition of the present invention is preferably filtered with a filter for the purpose of removing foreign substances and reducing defects. If it is conventionally used for the filtration use etc., it can use without being specifically limited.
  • fluorine resin such as PTFE (polytetrafluoroethylene), polyamide resin such as nylon-6 and nylon-6,6, polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene (PP) (including high density and ultra high molecular weight), etc.
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • polyamide resin such as nylon-6 and nylon-6,6, polyolefin resin
  • polyethylene and polypropylene (PP) including high density and ultra high molecular weight
  • PP polypropylene
  • the pore size of the filter is suitably about 0.01 to 7.0 ⁇ m, preferably about 0.01 to 2.5 ⁇ m, more preferably about 0.01 to 1.5 ⁇ m.
  • the filtering by the first filter may be performed only once or may be performed twice or more.
  • the second and subsequent pore sizes be larger than the pore size of the first filtering.
  • the pore diameter here can refer to the nominal value of the filter manufacturer.
  • a commercially available filter for example, it can be selected from various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd., Advantech Toyo Co., Ltd., Japan Entegris Co., Ltd. (formerly Japan Microlith Co., Ltd.) or KITZ Micro Filter Co., Ltd. .
  • the second filter a filter formed of the same material as the first filter described above can be used.
  • the pore size of the second filter is suitably about 0.5 to 7.0 ⁇ m, preferably about 2.5 to 7.0 ⁇ m, more preferably about 4.5 to 6.0 ⁇ m.
  • the filtering by the first filter may be performed only with the dispersion, and the second filtering may be performed after mixing other components.
  • the cured film of the present invention is a cured film obtained by curing the aforementioned curable composition.
  • the cured film of the present invention can be suitably used as an interlayer insulating film.
  • the cured film of this invention is a cured film obtained by the manufacturing method of the cured film of this invention mentioned later.
  • an interlayer insulating film having excellent insulation and high transparency even when baked at a high temperature can be obtained.
  • the interlayer insulating film using the curable composition of the present invention has high transparency and is excellent in cured film physical properties, and thus is useful for applications of organic EL display devices and liquid crystal display devices.
  • the cured film of the present invention is an optical member such as a microlens, an optical waveguide, an antireflection film, an LED sealing material and an LED chip coating material, or a cured product for reducing the visibility of wiring electrodes used in touch panels. It can be used suitably.
  • the cured film of the present invention has a constant thickness of a planarizing film, an interlayer insulating film, a color filter protective film, and a liquid crystal layer in a liquid crystal display device as described later, for example, in a liquid crystal display device or an organic EL device. It can be suitably used as a spacer for holding, a structural member of a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) device, or the like.
  • MEMS Micro Electro Mechanical Systems
  • the above-described curable composition is applied on a wafer by spraying, roll coating, spin coating (spin coating), bar coating, or the like, A first heating step followed by a second heating step at a higher temperature.
  • the conditions in the first heating step are the same as the conditions described later as the pre-bake conditions in the step (a) in the microlens manufacturing method.
  • the conditions in the second heating step are the same as those described later as the post-bake conditions in the step (d) in the microlens manufacturing method.
  • the curable composition of the present invention can form a transparent film having a high refractive index and a high transmittance, it can be used very suitably, for example, for forming microlenses and microlens arrays. That is, the curable composition of the present invention is preferably for forming a microlens.
  • the present invention also relates to a microlens formed using a transparent film formed using the curable composition of the present invention.
  • the method for producing a microlens using the curable composition of the present invention is not particularly limited, and a commonly used method can be applied.
  • the above-described transparent film is post-baked and shaped, and further dried.
  • the manufacturing method etc. which have an etching process are mentioned.
  • the step of post-baking and shaping the transparent film is the same as that described later in detail as step (f).
  • the dry etching process is the same as that described later in detail as the process (g).
  • a production method including at least the following steps (a) to (d) can be mentioned.
  • A The process of forming the coating film of the curable composition of this invention on a board
  • B A step of irradiating at least a part of the coating film with radiation.
  • C A step of developing the coated film after irradiation.
  • D A step of heating the coated film after development.
  • Step (a) the curable composition is preferably applied as a liquid composition to the substrate surface, and the solvent is removed by pre-baking to form a coating film on the substrate.
  • the substrate include a glass substrate, a silicon wafer, a substrate on which various metal layers are formed, a substrate on which an on-chip color filter for an image sensor is applied, and the like.
  • the coating method is not particularly limited, and for example, an appropriate method such as a spray method, a roll coating method, a spin coating method, or a bar coating method can be employed.
  • the pre-baking conditions vary depending on the type and amount of each component used, but are usually 60 to 120 ° C. for about 30 seconds to 15 minutes.
  • the thickness of the coating film to be formed is preferably about 0.5 to 20 ⁇ m as a value after pre-baking.
  • radiation is applied to at least a part of the formed coating film.
  • a mask having a predetermined pattern As radiation to be irradiated, for example, ultraviolet rays such as g-rays and i-rays, far ultraviolet rays such as KrF excimer lasers and ArF excimer lasers, X-rays such as synchrotron radiation, charged particle beams such as electron beams, etc. may be used. Of these, ultraviolet rays are preferred.
  • the exposure amount can be appropriately selected according to the composition of the curable composition, but is preferably about 50 to 2,000 J / m 2 .
  • the exposed coating film is developed with a developer, preferably an alkali developer, and a pattern having a predetermined shape is formed by removing the unirradiated portion of the radiation.
  • a developer preferably an alkali developer
  • the alkali developer include inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, and aqueous ammonia, primary amines such as ethylamine and n-propylamine, diethylamine, and the like.
  • Secondary amines such as di-n-butylamine, tertiary amines such as triethylamine and methyldiethylamine, alcohol amines such as dimethylethanolamine and triethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropyl Ammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrapentylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, ethyl Tetraalkylammonium hydroxide such as trimethylammonium hydroxide, butyltrimethylammonium hydroxide, methyltriamylammonium hydroxide, dibutyldipentylammonium hydroxide, trimethylphenylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, triethylbenzyl
  • Alkaline aqueous solutions such as quaternary ammonium salts, cyclic amines such as pyrrole and pihelidine can be used. These alkaline aqueous solutions can be used alone or in admixture of two or more. Further, a water-soluble organic solvent such as methanol and ethanol, a surfactant, and various organic solvents can be added to the alkali developer.
  • a developing method an appropriate method such as a liquid piling method, a dipping method, a rocking dipping method, a shower method or the like can be employed.
  • After developing with an alkali developing solution it is usually washed, for example, with running water.
  • the development time varies depending on the composition of the curable composition and the composition of the developer, but is usually about 30 to 120 seconds at room temperature.
  • the said coating film is hardened by heating (post-baking) the coating film after image development with heating apparatuses, such as a hotplate and oven.
  • the heating temperature is usually 120 to 250 ° C., preferably 160 to 230 ° C.
  • the heating time varies depending on the heating means, it is usually about 5 to 30 minutes when heated on a hot plate, and is usually about 30 to 90 minutes when heated in an oven.
  • a step baking method in which heating is performed twice or more can be adopted.
  • Another preferred embodiment of the method for producing a microlens using the curable composition of the present invention includes a forming method including at least the following steps (a) to (g).
  • Step of forming a coating film on a substrate such as a color filter using the curable composition of the present invention (b) Heating the coating film to dry the coating film (or drying and curing) Or a step of obtaining a high refractive index film (transparent film) by performing at least one of exposure and curing of the coating film with a light source of appropriate wavelength (g-line, i-line, etc.) ( c) Step of forming a resist coating film on the high refractive index film after the heating (d) Step of exposing the resist coating film with a light source of appropriate wavelength (g-line, i-line, etc.) (e) The exposure Step (f) for forming a resist pattern after developing the resist film after the step (f) Step for shaping the resist pattern into a lens by heating (g) One of the resist pattern and the high refractive index film by dry etching High refraction by removing parts A step of shaping the film to lenticular
  • a preferable embodiment of heating the coating film includes a two-step heat treatment of pre-baking and post-baking.
  • the pre-baking conditions vary depending on the type and amount of each component used, but are usually 60 to 120 ° C. for about 30 seconds to 15 minutes.
  • the thickness of the coating film to be formed is preferably about 0.5 to 20 ⁇ m as a value after pre-baking. This pre-baking step may be omitted.
  • the coating film is cured by heating (post-baking) with a heating device such as a hot plate or an oven.
  • the post-baking conditions are usually 120 ° C. to 300 ° C. for about 30 seconds to 60 minutes.
  • the radiation to be irradiated includes the same radiation type and exposure amount as in the step (b).
  • a resist coating film is formed on the high refractive index film.
  • This resist a commercially available resist that can be patterned by ultraviolet exposure can be used.
  • the resist coating film is pre-baked in the same manner as in the step (a).
  • -(D) Process- the coating film is exposed in a pattern using a mask. Examples of the radiation to be irradiated include the same radiation types and exposure amounts as those in the step (b).
  • the alkali developer examples include alkali developers similar to those in the step (c).
  • Examples of the developing method include the same methods as those described above for step (c).
  • the development time is the same as that described above for the step (c).
  • the post-baking conditions are usually 120 ° C. to 300 ° C. for about 30 seconds to 60 minutes.
  • the step baking method etc. which heat twice or more are also employable.
  • -(G) Process- Dry etching can be performed by a known method (for example, JP 2010-204154 A).
  • the dry etching gas for example, the following etching gas is preferably used. CF 4, CHF 3, SF 6 , Cl 2, C 2 F 6, C 4 F 6, C 4 F 8, C 5 F 8, H 2, N 2, NH 3.
  • One of these gases can be selected and used, or two or more gases can be used in combination.
  • the fluorine-based gas is at least one selected from the group consisting of CF 4 , C 4 F 6 , C 2 F 6 , C 4 F 8 , and CHF 3.
  • the mixed gas used in dry etching may contain other gases in addition to the above-described fluorine-based gas and oxygen gas from the viewpoint of maintaining the partial pressure control stability of the etching plasma and maintaining the perpendicularity of the shape to be etched.
  • gases include helium (He), neon (Ne), argon (Ar), krypton (Kr), xenon (Xe), and other rare gases, and halogens including halogen atoms such as chlorine, fluorine, and bromine atoms.
  • the mixed gas used in the dry etching is composed of only a fluorine-based gas and an oxygen gas. Also good. In this way, a target microlens can be manufactured. According to the method for manufacturing a microlens of the present invention, a high-definition microlens and a microlens array having excellent characteristics (for example, high refractive index and high transparency) can be easily formed with a high product yield.
  • the curable composition of the present invention can also be used as an undercoat film for a color filter. Since the curable composition of the present invention can form a transparent and flat coating film, it can be suitably used as an undercoat film. That is, the curable composition of the present invention is preferably used for an undercoat film of a color filter.
  • This undercoat film is preferably a color filter undercoat film formed in the following steps.
  • a ′ Step of forming a coating film on a substrate on which a device is formed using the curable composition of the present invention
  • B ′ The coating film is heated to dry (or dry) the coating film.
  • the formation of the coating film and the transparent film is the above ⁇ microlens>. It can be performed according to the method described.
  • the undercoat film of the microlens and the color filter in the present invention is formed from the curable composition of the present invention and has an excellent property balance, and various OA devices, liquid crystal televisions, mobile phones, projectors.
  • the liquid crystal display device such as a liquid crystal display device, an on-chip color filter imaging optical system such as a facsimile, an electronic copying machine, and a solid-state imaging device, and an optical fiber connector can be used very suitably.
  • the solid-state imaging device of the present invention includes a microlens formed using the curable composition of the present invention described above. Since the solid-state imaging device of the present invention includes a microlens having a high refractive index and high transparency, noise can be reduced and excellent color reproducibility is exhibited.
  • the solid-state imaging device of the present invention is a configuration including a microlens formed using the curable composition of the present invention, and is not particularly limited as long as the configuration functions as a solid-state imaging device.
  • a light receiving element made of a plurality of photodiodes and polysilicon constituting a light receiving area of a solid-state imaging device (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.), and the above-mentioned undercoat film under a color filter,
  • a solid-state imaging device CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.
  • a red pixel, a blue pixel, a solid-state image sensor substrate which has at least a photodiode, a light shielding film, and a device protective film, And forming a green pixel, Applying and heating the curable composition described above, Forming a resist pattern; A step of post-baking and shaping the formed resist pattern into a lens shape, and a dry etching step.
  • the step of applying and heating the curable composition the step of forming the coating film on the substrate in the steps (a) and (b) in the above-described microlens manufacturing method and the coating film are heated and applied.
  • the step of forming the resist pattern is the same as the step (d) and the step (e) in the above-described microlens manufacturing method.
  • the step of post-baking and shaping the formed resist pattern into a lens shape is the same as the step (f) in the above-described microlens manufacturing method.
  • the dry etching process is the same as the process (g) in the above-described microlens manufacturing method.
  • the liquid crystal display device of the present invention comprises the above-described cured film of the present invention.
  • the liquid crystal display device of the present invention is not particularly limited except that it has a flattening film and an interlayer insulating film formed using the curable composition of the present invention, and known liquid crystal display devices having various structures are used. Can be mentioned.
  • specific examples of TFT (Thin-Film Transistor) included in the liquid crystal display device of the present invention include amorphous silicon-TFT, low-temperature polysilicon-TFT, oxide semiconductor TFT, and the like. Since the cured film of the present invention is excellent in electrical characteristics, it can be preferably used in combination with these TFTs.
  • the liquid crystal display device of the present invention can take, a TN (Twisted Nematic) method, a VA (Virtual Alignment) method, an IPS (In-Place-Switching) method, an FFS (Frings Field Switching) method, an OCB (OCB) (Optical Compensated Bend) method.
  • a TN (Twisted Nematic) method a TN (Twisted Nematic) method
  • VA Virtual Alignment
  • IPS In-Place-Switching
  • FFS Frrings Field Switching
  • OCB Optical Compensated Bend
  • the cured film of the present invention can also be used in a COA (Color Filter on Array) type liquid crystal display device.
  • COA Color Filter on Array
  • the organic insulating film (115) described in JP-A-2005-284291 It can be used as the organic insulating film (212) described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-346054.
  • the alignment method of the liquid crystal alignment film that the liquid crystal display device of the present invention can take include a rubbing alignment method and a photo alignment method.
  • the polymer orientation may be supported by a PSA (Polymer Sustained Alignment) technique described in JP-A Nos. 2003-149647 and 2011-257734.
  • FIG. 1 is a conceptual cross-sectional view showing an example of an active matrix liquid crystal display device 10.
  • the color liquid crystal display device 10 is a liquid crystal panel having a backlight unit 12 on the back surface, and the liquid crystal panel includes all pixels disposed between two glass substrates 14 and 15 having a polarizing film attached thereto.
  • the elements of the TFT 16 corresponding to are arranged.
  • Each element formed on the glass substrate is wired with an ITO transparent electrode 19 that forms a pixel electrode through a contact hole 18 formed in the cured film 17.
  • an RGB color filter 22 in which a liquid crystal 20 layer and a black matrix are arranged is provided.
  • the light source of the backlight is not particularly limited, and a known light source can be used.
  • the liquid crystal display device can be a 3D (stereoscopic) type or a touch panel type. Further, it can be made flexible, and used as the second interphase insulating film (48) described in JP2011-145686A or the interphase insulating film (520) described in JP2009-258758A. Can do.
  • the organic EL display device of the present invention includes the above-described cured film of the present invention.
  • the organic EL display device of the present invention is not particularly limited except that it has a planarizing film and an interlayer insulating film formed using the curable composition of the present invention, and various known organic EL devices having various structures.
  • a display device and a liquid crystal display device can be given.
  • specific examples of TFT (Thin-Film Transistor) included in the organic EL display device of the present invention include amorphous silicon-TFT, low-temperature polysilicon-TFT, oxide semiconductor TFT, and the like. Since the cured film of the present invention is excellent in electrical characteristics, it can be preferably used in combination with these TFTs.
  • FIG. 2 is a conceptual diagram of an example of an organic EL display device.
  • a schematic cross-sectional view of a substrate in a bottom emission type organic EL display device is shown, and a planarizing film 4 is provided.
  • a bottom gate type TFT 1 is formed on a glass substrate 6, and an insulating film 3 made of Si 3 N 4 is formed so as to cover the TFT 1.
  • a contact hole (not shown) is formed in the insulating film 3, and then a wiring 2 (height: 1.0 ⁇ m) connected to the TFT 1 through the contact hole is formed on the insulating film 3.
  • the wiring 2 is used to connect the TFT 1 with an organic EL element formed between the TFTs 1 or in a later process.
  • a planarizing layer 4 is formed on the insulating film 3 in a state where the unevenness due to the wiring 2 is embedded.
  • a bottom emission type organic EL element is formed on the planarizing film 4 on the planarizing film 4. That is, the first electrode 5 made of ITO is formed on the planarizing film 4 so as to be connected to the wiring 2 through the contact hole 7.
  • the first electrode 5 corresponds to the anode of the organic EL element.
  • An insulating film 8 having a shape covering the periphery of the first electrode 5 is formed. By providing the insulating film 8, a short circuit between the first electrode 5 and the second electrode formed in the subsequent process is prevented. can do. Further, although not shown in FIG.
  • a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron transport layer are sequentially deposited through a desired pattern mask, and then a second layer made of Al is formed on the entire surface above the substrate.
  • An active matrix organic material in which two electrodes are formed and sealed by bonding using a sealing glass plate and an ultraviolet curable epoxy resin, and each organic EL element is connected to a TFT 1 for driving it.
  • An EL display device is obtained.
  • a resist pattern formed using the curable composition of the present invention is used as a partition as a structural member of a MEMS device. Used as part of it.
  • MEMS devices include SAW (surface acoustic wave) filters, BAW (bulk acoustic wave) filters, gyro sensors, micro shutters for displays, image sensors, electronic paper, inkjet heads, biochips, and sealants. And the like. More specific examples are exemplified in JP-T-2007-522531, JP-A-2008-250200, JP-A-2009-263544, and the like.
  • the curable composition of the present invention is excellent in flatness and transparency, for example, the bank layer (16) and the planarization film (57) described in FIG. 2 of JP-A-2011-107476, JP-A-2010-
  • It can also be used to form a chemical film (12), a pixel isolation insulating film (14), and the like.
  • the touch panel display device of the present invention includes a capacitive input device having the cured film of the present invention. Moreover, the capacitance-type input device of the present invention has the cured film of the present invention.
  • the capacitance-type input device of the present invention has at least the following elements (1) to (5) on the front plate and the non-contact side of the front plate, and the above (4) is the cured product of the present invention. Preferably there is.
  • (1) Mask layer (2) A plurality of first transparent electrode patterns formed by extending a plurality of pad portions in a first direction via connection portions (3) The first transparent electrode pattern and the electric
  • a plurality of second transparent electrode patterns comprising a plurality of pad portions which are insulated and extend in a direction intersecting the first direction.
  • a transparent protective layer is further provided so as to cover all or part of the elements (1) to (5).
  • the transparent protective layer is preferably And more preferably the cured film.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing the configuration of the capacitive input device.
  • the capacitive input device 30 includes a front plate 31, a mask layer 32, a first transparent electrode pattern 33, a second transparent electrode pattern 34, an insulating layer 35, and a conductive element 36. And a transparent protective layer 37.
  • the front plate 31 is composed of a light-transmitting substrate such as a glass substrate, and tempered glass represented by gorilla glass manufactured by Corning Inc. can be used. Moreover, in FIG. 3, the side in which each element of the front plate 31 is provided is called a non-contact surface. In the capacitive input device 30 of the present invention, input is performed by bringing a finger or the like into contact with the contact surface (the surface opposite to the non-contact surface) of the front plate 31.
  • the front plate may be referred to as a “base material”.
  • a mask layer 32 is provided on the non-contact surface of the front plate 31.
  • the mask layer 32 is a frame-like pattern around the display area formed on the non-contact side of the touch panel front plate, and is formed so as not to show the lead wiring and the like.
  • a mask layer 32 is provided so as to cover a part of the front plate 31 (a region other than the input surface in FIG. 4).
  • the front plate 31 can be provided with an opening 38 in a part thereof as shown in FIG. A mechanical switch by pressing can be installed in the opening 38.
  • a plurality of first transparent electrode patterns 33 formed with a plurality of pad portions extending in the first direction via the connection portions, A plurality of second transparent electrode patterns 34 each including a plurality of pad portions that are electrically insulated from one transparent electrode pattern 33 and extend in a direction crossing the first direction; An insulating layer 35 that electrically insulates the electrode pattern 33 and the second transparent electrode pattern 34 is formed.
  • the first transparent electrode pattern 33, the second transparent electrode pattern 34, and the conductive element 36 to be described later are translucent conductive materials such as ITO (Indium Tin Oxide) and IZO (Indium Zinc Oxide). It can be made of a conductive metal oxide film.
  • a metal film examples include an ITO film; a metal film such as Al, Zn, Cu, Fe, Ni, Cr, and Mo; and a metal oxide film such as SiO 2 .
  • the film thickness of each element can be set to 10 to 200 nm.
  • the first transparent electrode pattern 33, the second transparent electrode pattern 34, and the conductive element 36 to be described later use a photocurable transfer material having a curable composition using the conductive fibers. Can also be manufactured.
  • paragraphs [0014] to [0016] of Japanese Patent No. 4506785 can be referred to.
  • At least one of the first transparent electrode pattern 33 and the second transparent electrode pattern 34 extends over both the non-contact surface of the front plate 31 and the region opposite to the front plate 31 of the mask layer 32. Can be installed.
  • FIG. 3 a diagram is shown in which the second transparent electrode pattern is installed across both areas of the non-contact surface of the front plate 31 and the surface opposite to the front plate 31 of the mask layer 32. Yes.
  • FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of the first transparent electrode pattern and the second transparent electrode pattern in the present invention.
  • the first transparent electrode pattern 33 is formed such that a pad portion 33a extends in a first direction via a connection portion 33b.
  • the second transparent electrode pattern 34 is electrically insulated by the first transparent electrode pattern 33 and the insulating layer 35 and extends in a direction intersecting the first direction (second direction in FIG. 5). It is constituted by a plurality of pad portions that are formed.
  • the pad portion 33a and the connection portion 33b may be manufactured as one body, or only the connection portion 33b is manufactured, and the pad portion 33a and the second portion 33b are formed.
  • the transparent electrode pattern 34 may be integrally formed (patterned).
  • the pad portion 33a and the second transparent electrode pattern 34 are integrally formed (patterned), as shown in FIG. 5, a part of the connection part 33b and a part of the pad part 33a are connected, and an insulating layer is formed. Each layer is formed so that the first transparent electrode pattern 33 and the second transparent electrode pattern 34 are electrically insulated by 35.
  • a conductive element 36 is provided on the surface of the mask layer 32 opposite to the front plate 31.
  • the conductive element 36 is electrically connected to at least one of the first transparent electrode pattern 33 and the second transparent electrode pattern 34, and is different from the first transparent electrode pattern 33 and the second transparent electrode pattern 34. Is another element.
  • FIG. 3 a view in which the conductive element 36 is connected to the second transparent electrode pattern 34 is shown.
  • the transparent protective layer 37 is installed so that all of each component may be covered.
  • the transparent protective layer 37 may be configured to cover only a part of each component.
  • the insulating layer 35 and the transparent protective layer 37 may be made of the same material or different materials.
  • the capacitive input device obtained by the manufacturing method of the present invention and the touch panel display device including the capacitive input device as a constituent element are “latest touch panel technology” (issued July 6, 2009). Techno Times), supervised by Yuji Mitani, “Technology and Development of Touch Panels”, CMC Publishing (2004, 12), FPD International 2009 Forum T-11 Lecture Textbook, Cypress Semiconductor Corporation Application Note AN2292, etc. Can be applied.
  • the weight average molecular weight is measured using HPC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corp.), guard column: TSKguardcolumn SuperHZ-L, column: TSKgel SuperHZM-M, TSKgel SuperHZ4000, TSKgel SuperHZ3000, TSKgel Super T Then, 10 ⁇ l of a tetrahydrofuran solution having a sample concentration of 0.1% by mass was injected, tetrahydrofuran was flowed as an elution solvent at a flow rate of 0.35 ml / min, and the sample peak was detected by an RI detector. Calculation was performed using a calibration curve prepared using standard polystyrene.
  • V-601 0.81 part was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream.
  • room temperature 25 ° C.
  • a mixed solution of 499.57 parts of a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-1) and 100.13 parts of methyl methacrylate (M-1) was heated to 90 ° C. under a nitrogen stream.
  • 0.681 parts of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added 72.73 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate.
  • the solution dissolved in was added dropwise over 2 hours, followed by heating at 90 ° C. for 2 hours. Further, 0.230 parts of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream.
  • V-601 dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added and heated for 2 hours. Further, 0.478 parts of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream. By cooling to room temperature, a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-34) in which the compounds (A-3) and (A-16) were added to part of the sulfur atoms of the compound (33) was obtained. .
  • a mixed solution of 150.3 parts of a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-34) and 54.9 parts of methyl methacrylate (M-1) was heated to 90 ° C. in a nitrogen stream.
  • 0.379 parts of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added 39.9 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate.
  • the solution dissolved in was added dropwise over 2 hours, followed by heating at 90 ° C. for 2 hours. Further, 0.126 part of V-601 was added and reacted at 90 ° C.
  • V-601 dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added and heated for 2 hours. Further, 0.515 parts of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream. By cooling to room temperature, a 30% by mass solution of a mercaptan compound (B-35) in which the compounds (A-3) and (A-16) were added to some of the sulfur atoms of the compound (33) was obtained. .
  • a mixed solution of 143.7 parts of a 30% by mass mercaptan compound (B-35) and 56.9 parts of methyl methacrylate (M-1) was heated to 90 ° C. under a nitrogen stream.
  • 0.392 parts of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added 41.3 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate.
  • the solution dissolved in was added dropwise over 2 hours, followed by heating at 90 ° C. for 2 hours. Further, 0.131 part of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream. Again, 0.131 part of V-601 was added and reacted at 90 ° C.
  • V-601 dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added and heated for 2 hours. Further, 0.478 parts of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream. By cooling to room temperature, a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-36) in which the compounds (A-3) and (A-17) were added to some of the sulfur atoms of the compound (33) was obtained. .
  • a mixed solution of 150.3 parts of a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-36) and 54.9 parts of methyl methacrylate (M-1) was heated to 90 ° C. in a nitrogen stream.
  • 0.379 parts of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added 39.9 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate.
  • the solution dissolved in was added dropwise over 2 hours, followed by heating at 90 ° C. for 2 hours. Further, 0.126 part of V-601 was added and reacted at 90 ° C.
  • V-601 dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added and heated for 2 hours. Further, 0.515 parts of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream. By cooling to room temperature, a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-37) in which the compounds (A-3) and (A-17) were added to some of the sulfur atoms of the compound (33) was obtained. .
  • a mixed solution of 143.7 parts of a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-37) and 56.9 parts of methyl methacrylate (M-1) was heated to 90 ° C. in a nitrogen stream.
  • 0.392 parts of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added 41.3 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate.
  • the solution dissolved in was added dropwise over 2 hours, followed by heating at 90 ° C. for 2 hours. Further, 0.131 part of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream.
  • a mixed solution of 200.0 parts of a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-62) and 80.0 parts of methyl methacrylate (M-1) was heated to 90 ° C. in a nitrogen stream.
  • 0.552 parts of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added 58.1 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate.
  • the solution dissolved in was added dropwise over 2 hours, followed by heating at 90 ° C. for 2 hours.
  • 0.184 part of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream. Again, 0.184 part of V-601 was added and reacted at 90 ° C.
  • Synthesis Example 7 Synthesis of Polymer Compound (C-63) A mixed solution of 155.6 parts of a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-62) and 93.3 parts of methyl methacrylate (M-1) was prepared. And heated to 90 ° C. under a nitrogen stream. To this, 0.644 parts of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added 67.8 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate. The solution dissolved in was added dropwise over 2 hours, followed by heating at 90 ° C. for 2 hours. Further, 0.215 parts of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream.
  • V-601 dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate
  • V-601 dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added thereto and heated for 2 hours. Further, 0.228 parts of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream. By cooling to room temperature, a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-68) in which the compounds (A-3) and (A-26) were added to some of the sulfur atoms of the compound (33) was obtained. .
  • a mixed solution of 202.0 parts of a 30% by mass mercaptan compound (B-68) and 79.4 parts of methyl methacrylate (M-1) was heated to 90 ° C. in a nitrogen stream.
  • 0.548 parts of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added to this and 57.7 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate.
  • the solution dissolved in was added dropwise over 2 hours, followed by heating at 90 ° C. for 2 hours. Further, 0.183 part of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream.
  • Synthesis Example 9 Synthesis of Polymer Compound (C-69) A mixed solution of 157.4 parts of a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-68) and 92.8 parts of methyl methacrylate (M-1) was prepared. And heated to 90 ° C. under a nitrogen stream. To this, 0.640 parts of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added to 67.40 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate. The solution dissolved in was added dropwise over 2 hours, followed by heating at 90 ° C. for 2 hours. Further, 0.213 parts of V-601 was added and reacted at 90 ° C.
  • V-601 dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added and heated for 2 hours. Further, 0.515 parts of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream. By cooling to room temperature, a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-72) in which the compounds (A-3) and (A-28) were added to a part of the sulfur atoms of the compound (33) was obtained. .
  • a mixed solution of 194.7 parts of a 30% by mass mercaptan compound (B-72) and 81.6 parts of methyl methacrylate (M-1) was heated to 90 ° C. in a nitrogen stream.
  • 0.563 parts of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added 59.3 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate.
  • the solution dissolved in was added dropwise over 2 hours, followed by heating at 90 ° C. for 2 hours.
  • 0.188 part of V-601 was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours under a nitrogen stream. Again, 0.188 part of V-601 was added and reacted at 90 ° C.
  • a mixed solution of 150.8 parts of a 30% by mass solution of the mercaptan compound (B-72) and 94.8 parts of methyl methacrylate (M-1) was heated to 90 ° C. in a nitrogen stream.
  • 0.654 parts of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) [V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added 68.8 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate.
  • the solution dissolved in was added dropwise over 2 hours, followed by heating at 90 ° C. for 2 hours. Further, 0.218 parts of V-601 was added and reacted at 90 ° C.
  • the kind of “compound having (m + n) -valent linking group R 1 and mercapto group” (corresponding to the above-mentioned “compound having 3 to 10 mercapto groups in one molecule”) as a raw material
  • the charged amount, the type and charged amount of the “compound having substituent A 1 and a carbon-carbon double bond” (corresponding to the “compound having an adsorption site and having a carbon-carbon double bond” described above)
  • the polymer compound (C— 2) to (C-33), (C-38) to (C-61), (C-64) to (C-67), (C-70), (C-71), (C-74) ⁇ (C-99) were also synthesized.
  • m number and n number represent m and n in General formula (1) or (2).
  • n number represents compound ( This represents the total number of structures derived from A-7) and structures derived from the compound (A-3).
  • the k number represents the number k of repeating units in P 1 in the general formula (1) or P 2 in the general formula (2).
  • the k number of 13 is the monomer ( This represents the total number of repeats of the repeating unit derived from M-1) and the repeating unit derived from the monomer (M-2).
  • Examples of the “compound having a (m + n) -valent linking group R 1 and a mercapto group” (corresponding to the above-mentioned “compound having 3 to 10 mercapto groups in one molecule”) in Tables 1 and 2 are as follows: Compounds (18), (27) and (33) were used.
  • Examples of the “compound having substituent A 1 and a carbon-carbon double bond” in Table 1 above are as follows: Compounds (A-1) to (A-32) were used.
  • Synthesis Example 12 Synthesis of Macromonomer A5 Under a nitrogen atmosphere, 35.0 parts of 2-ethylhexanol, 215.0 parts of ⁇ -caprolactone and 0.20 parts of dibutyltin laurate were stirred at 90 ° C. for 5 hours, and subsequently at 110 ° C. Heated for 1 hour to obtain a polyester monohydroxy product. The completion of the reaction was confirmed by measuring the disappearance of ⁇ -caprolactone by NMR. Then, after placing under air, 0.071 part of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol (BHT) and 37.7 parts of allyl succinic anhydride were added and reacted at 110 ° C. for 8 hours.
  • BHT 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol
  • the macromonomer A5 shown below was obtained. The completion of the reaction was confirmed by measuring by NMR that allyl succinic anhydride had disappeared by 95% or more.
  • the weight average molecular weight in terms of polystyrene of the macromonomer A5 was 1400, and the acid value was 54 mgKOH / g.
  • Macromonomers A1 to A4 were synthesized in the same manner as in Synthesis Example 12, and macromonomers E1 to E4 were synthesized in the same manner as in Synthesis Example 13. Each structural formula and physical property values are shown below.
  • Example 1 [Preparation of titanium dioxide dispersion (dispersion composition)]
  • a mixed liquid having the following composition as a circulation type dispersion apparatus (bead mill), an ultra-apex mill manufactured by Kotobuki Kogyo Co., Ltd. was used for dispersion treatment as follows to obtain a titanium dioxide dispersion as a dispersion composition. .
  • the dispersing device was operated under the following conditions. ⁇ Bead diameter: ⁇ 0.05mm ⁇ Bead filling rate: 75% by volume ⁇ Peripheral speed: 10 m / sec ⁇ Pump supply: 10 kg / hour ⁇ Cooling water: Tap water ⁇ Bead mill annular passage volume: 0.15 L ⁇ Amount of liquid mixture to be dispersed: 0.44 kg
  • the average particle size was measured at 30 minute intervals (one pass time). The average particle diameter decreased with the dispersion time (pass number), but the amount of change gradually decreased. Dispersion was terminated when the change in the primary particle size when the dispersion time was extended by 30 minutes became 5 nm or less.
  • the primary particle diameter of the titanium dioxide particles in this dispersion was 40 nm.
  • the primary particle diameter of titanium dioxide in this example was obtained by diluting a mixed liquid or dispersion containing titanium dioxide 80 times with propylene glycol monomethyl ether acetate, and using the dynamic light scattering method for the obtained diluted liquid. It means the value obtained by measuring. This measurement is the number average particle diameter obtained by using Microtrack UPA-EX150 manufactured by Nikkiso Co., Ltd.
  • curable composition 1 Using the titanium dioxide dispersion (dispersion composition) obtained above, each component was mixed so as to obtain the following composition to obtain a curable composition.
  • ⁇ Composition of curable composition ⁇ -Titanium dioxide dispersion prepared above (dispersion composition) ... 81.98 parts-The following JER-157S65 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) ...
  • the curable composition obtained above was applied onto a 12-inch silicon wafer by spin coating, and then heated at 100 ° C. for 2 minutes on a hot plate to obtain a coating film having a thickness of 1.05 ⁇ m. Further, this coating film was heated on a hot plate at 200 ° C. for 5 minutes to obtain a cured film (film thickness: 1.0 ⁇ m) as a transparent film.
  • Examples 2 to 135, Comparative Examples 1 to 7> Except for changing the content of titanium dioxide relative to the total solid content of the curable composition, the dispersant (polymer compound (B)) and the type of the polymerizable compound as shown in Tables 5 and 6 below, in accordance with Example 1.
  • the curable compositions of Examples 2 to 135 and Comparative Examples 1 to 7 were prepared. That is, for the example in which the dispersant (polymer compound (B)) was changed from C-1 used in Example 1, in the preparation of the titanium dioxide dispersion used in Example 1, instead of C-1. A titanium dioxide dispersion obtained using the dispersant (polymer compound (B)) shown in Table 5 or 6 was used.
  • Comparative Examples 1 and 2 as the dispersant different from the polymer compound (B) of the present invention, Solsperse 5000 manufactured by Lubrizol and DISPERBYK180 manufactured by BYK Chemie were used, respectively.
  • the polymerizable compound was changed from T-4 used in Example 1 (Examples 134 and 135)
  • the following polymerization was performed instead of T-4.
  • Sex compounds (T-2, T-3) were used.
  • T-2 JER-1031S below (Mitsubishi Chemical Corporation)
  • T-3 EHPE-3150 shown below (produced by Daicel Chemical Industries, Ltd .; 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol)
  • the content (concentration) of titanium dioxide with respect to the total solid content of the curable composition was changed by changing the total amount of titanium dioxide and the dispersing agent with respect to the total solid content of the curable composition [titanium dioxide dispersion (dispersion composition) of Example 1].
  • the titanium dioxide dispersion was prepared by supplementing the increase or decrease in the content of titanium dioxide with the increase or decrease in the content of the dispersant.
  • transparent films were respectively produced in the same manner as in Example 1, and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Tables 5 and 6.
  • Example 136 [Preparation 2 of curable composition] Using a titanium dioxide dispersion (dispersion composition) obtained in the same manner as described above except that C-6 is used as the dispersant (polymer compound (B)), each component is adjusted to the following composition. The mixture was mixed to obtain a curable composition.
  • Example 137 to 141 The curable compositions of Examples 137 to 141 were prepared according to Example 136 except that the types of the dispersant (polymer compound (B)) and the polymerization initiator were changed as shown in Table 6 below. That is, for the example in which the dispersant (polymer compound (B)) was changed from C-6 used in Example 136, in the preparation of the titanium dioxide dispersion used in Example 136, instead of C-6, A titanium dioxide dispersion obtained using the dispersant (polymer compound (B)) shown in Table 6 was used.
  • Example 6 In addition, for the examples where the polymerization initiator was changed from K-1 used in Example 136, in the preparation of the curable composition in Example 136, the polymerization initiator shown in Table 6 was used instead of K-1. used. Further, using the obtained curable composition, transparent films were respectively produced in the same manner as in Example 1, and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 6.
  • Comparative Examples 1 and 2 not using the polymer compound (B) have a slightly lower refractive index and a higher viscosity. Further, it can be seen that Comparative Examples 3 to 7 in which the dispersant satisfies the general formula (1) but the weight average molecular weight exceeds 10,000 have a high refractive index but a high viscosity. On the other hand, Examples 1 to 141 using the polymer compound (B) of the present invention have a high refractive index and a low viscosity.
  • Examples 1 to 135 using an epoxy compound as a polymerizable compound and Examples 136 to 139 using an oxime compound as a polymerization initiator are excellent in solvent resistance and use an epoxy compound as a polymerizable compound. It can be seen that Examples 1 to 135 have particularly high solvent resistance.
  • dispersants C-5, C-10, C-24, C-26, C-27, C-43 to C- having a weight average molecular weight of 5000 to 8000 and an acid value of 70 to 90 mgKOH / g 45, C-61, C-81, C-89, C-91, C-97, C-107, C-108, C-111, C-119, C-120, C-122, C-124, Examples 5, 7, 21, 23, 24, 40 to 42, 54, 55, 62, 63 using C-126, C-128, C-130, C-132, C-134, C-136,
  • the transmittance of the cured film at a wavelength of 400 nm is 90% or more. Confirmed that the transmittance of visible light in the membrane is particularly excellent It came.
  • a transparent film is formed on a silicon wafer.
  • a photodiode, a light shielding film, a device protection film, and the like are formed on the silicon wafer. It may be replaced with a solid-state image sensor substrate.
  • a light shielding film made of tungsten having an opening only in the light receiving portion of the photodiode is formed, and the entire surface of the formed light shielding film and the photodiode light receiving portion (opening in the light shielding film)
  • a device protective layer made of silicon nitride is formed so as to cover the substrate.
  • the curable composition of the example prepared as described above as an undercoat layer was applied on the formed device protective layer so as to have a film thickness of 0.50 ⁇ m, and then heated at 100 ° C. for 2 minutes. And heated. Subsequently, it was cured by heating on a hot plate at 230 ° C. for 10 minutes. Further, a red pixel, a blue pixel, and a green pixel each having a side length of 1.4 ⁇ m are formed by the method described in Example 16 of JP 2010-210702 A, and a color filter is created. did. On top of this, the curable compositions of Examples prepared as described above were applied to a film thickness of 1.5 ⁇ m, heated at 100 ° C.
  • the substrate obtained as described above was subjected to a dry etching process using a dry etching apparatus (manufactured by Hitachi High-Technologies: U-621) under the following conditions to obtain a transparent film of the present invention having a high refractive index. It was processed so that it could be used as a microlens.
  • ⁇ RF power 800W ⁇
  • Antenna bias 100W ⁇
  • Photoresist etching rate 140 nm / min
  • a dispersion composition having a high refractive index and a low viscosity, a curable composition using the same, a transparent film, a microlens, and a solid-state imaging device can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide a dispersion composition that is excellent in the surface shape of the film surface after coating and drying, can provide a dispersion composition having a high refractive index, and can maintain the dispersion stability of particles.
  • TFT thin film transistor
  • 2 wiring
  • 3 insulating film
  • 4 planarization film
  • 5 first electrode
  • 6 glass substrate
  • 7 contact hole
  • 8 insulating film
  • 10 liquid crystal display device
  • 12 Backlight unit
  • 14 15: Glass substrate
  • 16 TFT
  • 17 Cured film
  • 18 Contact hole
  • 19 ITO transparent electrode
  • 20 Liquid crystal
  • 22 Color filter
  • 30 Capacitive input device 31: front plate, 32: mask layer, 33: first transparent electrode pattern, 33a: pad portion, 33b: connection portion, 34: second transparent electrode pattern, 35: insulating layer
  • 36 conductive element
  • 37 Transparent protective layer
  • 38 Opening

Abstract

　一次粒子径が１ｎｍ～１００ｎｍの金属酸化物粒子（Ａ）と、重量平均分子量１００００以下の下記一般式（１）で表される高分子化合物（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを含有し、屈折率が高く塗布後の膜面の面状に優れる、分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子を提供する。また、塗布及び乾燥後の膜面の面状に優れ、屈折率が高い分散組成物を提供でき、粒子の分散安定性を維持できる化合物を提供する。

Description

分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子、並びに高分子化合物
　本発明は、分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子、並びに高分子化合物に関する。
　電子複写機、固体撮像素子などのオンチップカラーフィルターの結像光学系に用いられるマイクロレンズや銅配線に代わる光配線用途として、屈折率が高くかつ微細な透明膜や透明配線などの形成が可能な透明部材形成用組成物が望まれている。
　特に固体撮像素子に用いられるマイクロレンズは、固体撮像素子の微細化が進むとともに、より微細であることが求められるとともに、より効率的な集光を実現するために高屈折率が求められるようになってきた。例えば、シリカ被覆酸化チタン粒子を用いた高屈折率のマイクロレンズ形成用ないし固体撮像素子形成用組成物が開示されている（例えば、特許文献１、２参照）。特に近年では高画素化に伴い１画素のサイズが極めて小さく、より効率よく光を集めることが要求されてきている。このため、より高屈折率のマイクロレンズが要求されている。また、１回の製造でより多くのデバイスを作成するため、使用されるウエハーサイズも大きくなっており、その場合には塗布面状が悪くなる傾向がある。
　一方、特許文献３には、カラーフィルタ用途の有機顔料の分散性を向上させ得る特定構造の分散樹脂が開示されている。また、特許文献４には、上記特定構造の分散樹脂を無機微粒子とともに含有させてなる高屈折率材料形成用の組成物が開示されている。
日本国特開２００９－１７９６７８号公報 日本国特開２００８－１８５６８３号公報 日本国特開２００７－２７７５１４号公報 日本国特開２００８－２３９９２３号公報
　しかしながら、上述のような高屈折率材料形成用の組成物は、高屈折率を達成する観点から、高い含有量で無機微粒子を含有させることが要求されている。高い含有量で無機微粒子を含有する組成物では、無機微粒子の凝集等により分散性が悪く、粘度が増大し、塗布膜形成に支障をきたし得る。高い含有量においても無機微粒子の分散性がよく、組成物の粘度を低減し得る分散剤の開発が課題となっている。
　本発明は上記に鑑みなされたものであり、屈折率が高く、粘度が低い分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子を提供することを目的とする。
　また、本発明は、塗布及び乾燥後の膜面の面状に優れ、屈折率が高い分散組成物を提供でき、粒子の分散安定性を維持できる化合物を提供することも目的とする。
　前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞
　一次粒子径が１ｎｍ～１００ｎｍの金属酸化物粒子（Ａ）と、重量平均分子量１００００以下の下記一般式（１）で表される高分子化合物（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを含有する分散組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　上記一般式（１）中、
　Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｒ２は単結合又は２価の連結基を表す。Ａ１は酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。ｎ個のＡ１及びＲ２は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
　ｍは８以下の正の数、ｎは１～９を表し、ｍ＋ｎは３～１０を満たす。
　Ｐ１はポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
＜２＞
　前記高分子化合物（Ｂ）の重量平均分子量が５０００～８０００である、＜１＞に記載の分散組成物。
＜３＞
　前記高分子化合物（Ｂ）の酸価が７０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇである、＜１＞又は＜２＞に記載の分散組成物。
＜４＞
　上記分散組成物の全固形分に対する上記金属酸化物粒子（Ａ）の含有量が６５質量％以上である、＜１＞～＜３＞のいずれか１項に記載の分散組成物。
＜５＞
　上記高分子化合物（Ｂ）が下記一般式（２）で表される高分子化合物である、＜１＞～＜４＞のいずれか１項に記載の分散組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　上記一般式（２）中、
　Ｒ３は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｒ４、Ｒ５は各々独立に単結合又は２価の連結基を表す。Ａ２は酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。ｎ個のＡ２及びＲ４は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは８以下の正の数、ｎは１～９を表し、ｍ＋ｎは３～１０を満たす。
　Ｐ２はポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ２及びＲ５は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
＜６＞
　上記一般式（１）におけるＡ１又は上記一般式（２）におけるＡ２が、酸基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、水酸基、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基及び配位性酸素原子を有する基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基である＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の分散組成物。
＜７＞
　上記一般式（１）におけるＡ１又は上記一般式（２）におけるＡ２が、ｐＫａ５以上の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基である、＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の分散組成物。
＜８＞
　上記ｐＫａ５以上の官能基が、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、ウレア基、ウレタン基、アルキル基、アリール基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、水酸基又は複素環基である、＜７＞に記載の分散組成物。
＜９＞
　Ｐ１又はＰ２で表されるポリマー鎖が、ビニルモノマーの重合体若しくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、及びこれらの変性物若しくは共重合体より選ばれる少なくとも１種に由来するポリマー鎖である、＜１＞～＜８＞のいずれか１項に記載の分散組成物。
＜１０＞
　Ｐ１又はＰ２で表されるポリマー鎖が、少なくとも１種の繰り返し単位を含有し、上記少なくとも１種の繰り返し単位の繰り返し数ｋが３～５０である、＜１＞～＜９＞のいずれか１項に記載の分散組成物。
＜１１＞
　上記一般式（１）におけるＲ１又は上記一般式（２）におけるＲ３が、下記一般式のいずれかで表される基である、＜１＞～＜１０＞のいずれか１項に記載の分散組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　上記一般式中、
　Ｌ３は３価の基を表す。Ｔ３は単結合又は２価の連結基を表し、３個存在するＴ３は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｌ４は４価の基を表す。Ｔ４は単結合又は２価の連結基を表し、４個存在するＴ４は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｌ５は５価の基を表す。Ｔ５は単結合又は２価の連結基を表し、５個存在するＴ５は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｌ６は６価の基を表す。Ｔ６は単結合又は２価の連結基を表し、６個存在するＴ６は互いに同一であっても異なっていてもよい。
＜１２＞
　前記高分子化合物（Ｂ）が下記一般式（５）で表される高分子化合物である、＜１＞～＜１１＞のいずれか１項に記載の分散組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　上記一般式（５）中、
　Ｒ６は、（ｍ＋ｎ１＋ｎ２）価の連結基を表し、Ｒ７～Ｒ９は各々独立に単結合又は２価の連結基を表す。
　Ａ３は、酸基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。Ａ４は、Ａ３とは異なる１価の置換基を表す。ｎ１個のＡ３及びＲ７は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。ｎ２個のＡ４及びＲ８は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
　ｍは８以下の正の数、ｎ１は１～８を表し、ｎ２は１～８を表し、ｍ＋ｎ１＋ｎ２は３～１０を満たす。
　Ｐ３はポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ３及びＲ９は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
＜１３＞
　＜１＞～＜１２＞のいずれか１項に記載の分散組成物と、重合性化合物（Ｄ）とを含む硬化性組成物。
＜１４＞
　上記重合性化合物（Ｄ）が分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、及び、末端エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも１つである、＜１３＞に記載の硬化性組成物。
＜１５＞
　重合開始剤（Ｅ）、及び、バインダーポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１つを更に含有する、＜１３＞又は＜１４＞に記載の硬化性組成物。
＜１６＞
　上記重合開始剤（Ｅ）がオキシム系重合開始剤である、＜１５＞に記載の硬化性組成物。
＜１７＞
　マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用である＜１３＞～＜１６＞のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
＜１８＞
　＜１３＞～＜１７＞のいずれか１項に記載の硬化性組成物を用いて形成された透明膜。
＜１９＞
　＜１７＞に記載の硬化性組成物により得られる透明膜を用いて形成されたマイクロレンズ。
＜２０＞
　＜１９＞に記載のマイクロレンズを有する固体撮像素子。
＜２１＞
　＜１＞～＜１２＞のいずれか１項に記載の分散組成物の製造方法。
＜２２＞
　下記一般式（５）で表される高分子化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　上記一般式（５）中、
　Ｒ６は、（ｍ＋ｎ１＋ｎ２）価の連結基を表し、Ｒ７～Ｒ９は各々独立に単結合又は２価の連結基を表す。
　Ａ３は酸基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。Ａ４は、Ａ３とは異なる１価の置換基を表す。ｎ１個のＡ３及びＲ７は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。ｎ２個のＡ４及びＲ８は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
　ｍは８以下の正の数、ｎ１は１～８を表し、ｎ２は１～８を表し、ｍ＋ｎ１＋ｎ２は３～１０を満たす。
　Ｐ３はポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ３及びＲ９は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
＜２３＞
　上記置換基Ａ３がｐＫａが５より小さい酸基を少なくとも１種有する１価の置換基であり、
　上記置換基Ａ４がｐＫａ５以上の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基である、＜２２＞に記載の高分子化合物。
＜２４＞
　上記置換基Ａ３が、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基及びホスフィン酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であり、上記Ａ３とは異なる置換基Ａ４が配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、ウレア基、ウレタン基、アルキル基、アリール基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、水酸基及び複素環基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基である、＜２２＞又は＜２３＞に記載の高分子化合物。
＜２５＞
　上記置換基Ａ３が、カルボン酸基である＜２２＞～＜２４＞のいずれか１項に記載の高分子化合物。
＜２６＞
　上記置換基Ａ４が、アルキル基、アリール基、配位性酸素原子を有する基、ウレア基又はウレタン基である、＜２２＞～＜２５＞のいずれか１項に記載の高分子化合物。
＜２７＞
　Ｐ３で表されるポリマー鎖が、ビニルモノマーの重合体若しくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、及びこれらの変性物若しくは共重合体より選ばれる少なくとも１種に由来するポリマー鎖である、＜２２＞～＜２６＞のいずれか１項に記載の高分子化合物。
＜２８＞
　Ｐ３で表されるポリマー鎖が、少なくとも１種の繰り返し単位を含有し、前記少なくとも１種の繰り返し単位の繰り返し数ｋが３～５０である、＜２２＞～＜２７＞のいずれか１項に記載の高分子化合物。
＜２９＞
　重量平均分子量が１００００以下である、＜２２＞～＜２８＞のいずれか１項に記載の高分子化合物。
　本発明は、更に、下記構成であることが好ましい。
＜３０＞
　＜１３＞～＜１７＞のいずれか１項に記載の硬化性組成物をウエハ上に塗布する工程、
　続く第一の加熱工程、及び
　更に続いて、前記第一の加熱工程の温度よりも高い温度での第二の加熱工程を有する、透明膜の製造方法。
＜３１＞
　＜１８＞に記載の透明膜をポストベーク処理し整形する工程、更にドライエッチング工程を有する、マイクロレンズの製造方法。
＜３２＞
　少なくともフォトダイオード、遮光膜、及びデバイス保護膜を有する固体撮像素子用基板に、赤色画素、青色画素、及び緑色画素を形成する工程、
　＜１３＞～＜１７＞のいずれか１項に記載の硬化性組成物を塗布し加熱する工程、
　レジストパターンを形成する工程、
　ポストベーク処理し、形成したレジストパターンをレンズ状の形状に整形する工程、及び
　ドライエッチング工程
　を有する、固体撮像素子の製造方法。
　本発明によれば、屈折率が高く、粘度が低い分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子を提供することができる。
　また、本発明によれば、塗布及び乾燥後の膜面の面状に優れ、屈折率が高い分散組成物を提供でき、粒子の分散安定性を維持できる化合物を提供することができる。
アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の一例を示す概念的断面図である。 有機ＥＬ表示装置の一例の構成概念図である。 静電容量型入力装置の構成を示す断面図である。 静電容量型入力装置の構成を示す概略図である。 本発明における第一の透明電極パターン及び第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。
　本明細書に於ける基（原子団）の表記に於いて、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　なお、本明細書において、“（メタ）アクリレート”はアクリレート及びメタアクリレートを表し、“（メタ）アクリルはアクリル及びメタアクリルを表し、“（メタ）アクリロイル”は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。また、本明細書中において、“単量体”と“モノマー”とは同義である。本発明における単量体は、オリゴマー及びポリマーと区別され、質量平均分子量が２，０００以下の化合物をいう。本明細書中において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性基とは、重合反応に関与する基を言う。
　また、本明細書において、「屈折率」とは、特に断らない限り、波長６３５ｎｍの光に対する屈折率のことを言う。
＜分散組成物＞
　本発明の分散組成物は、一次粒子径が１ｎｍ～１００ｎｍの金属酸化物粒子（Ａ）と、重量平均分子量１００００以下の下記一般式（１）で表される高分子化合物（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを含有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　上記一般式（１）中、
　Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｒ２は単結合又は２価の連結基を表す。Ａ１は酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。
　ｎ個のＡ１及びＲ２は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
　ｍは８以下の正の数、ｎは１～９を表し、ｍ＋ｎは３～１０を満たす。
　Ｐ１はポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
　本発明における分散組成物において、高分子化合物（Ｂ）が有する、上記置換基Ａ１は金属酸化物粒子（Ａ）と相互作用することができるので、高分子化合物（Ｂ）はｎ個（１～９個）の置換基Ａ１を有することにより金属酸化物粒子（Ａ）と強固に相互作用することができる。また、高分子化合物（Ｂ）がｍ個有するポリマー鎖Ｐ１は立体反発基として機能することができ、ｍ個有することにより良好な立体反発力を発揮して金属酸化物粒子を均一に分散することができる。更に、高分子化合物（Ｂ）は分子構造的に、従来のグラフトランダム構造の分散剤で生じ得た粒子間架橋による粒子の凝集などの弊害が生じることもないものと推定される。
＜（Ａ）一次粒子径が１ｎｍ～１００ｎｍの金属酸化物粒子＞
　本発明における金属酸化物粒子（Ａ）としては、屈折率が高く、無色、白色又は透明な無機粒子であることが好ましく、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、亜鉛（Ｚｎ）又はマグネシウム（Ｍｇ）の酸化物粒子が挙げられ、二酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）粒子又は二酸化珪素（ＳｉＯ２）粒子であることが好ましく、中でも二酸化チタン粒子（以下、単に「二酸化チタン」ということもある）であることがより好ましい。
　本発明における二酸化チタン粒子としては、化学式ＴｉＯ２で表すことができ、純度が７０％以上であることが好ましく、純度８０％以上であることがより好ましく、純度８５％以上であることが更に好ましい。一般式ＴｉｎＯ２ｎ－１（ｎは２～４の数を表す。）で表される低次酸化チタン、酸窒化チタン等は３０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以下であることが更に好ましい。
　本発明における金属酸化物粒子は、一次粒子径が１ｎｍ～１００ｎｍであれば特に制限はなく、例えば、市販の金属酸化物粒子から適宜選択して用いることができる。
　前記金属酸化物粒子の一次粒子径は１ｎｍ～１００ｎｍであるが、１ｎｍ～８０ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ～５０ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ～３０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物粒子の一次粒子径が１００ｎｍを超えると屈折率及び透過率が低下することがある。また１ｎｍ未満の場合には、凝集により分散性が低下する場合がある。
　また本発明においては、一次粒子径の指標として平均粒子径を用いることもできる。本発明における金属酸化物粒子の平均粒子径は、金属酸化物粒子を含む混合液又は分散液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで８０倍に希釈し、得られた希釈液について動的光散乱法を用いて測定することにより得られた値のことを言う。
　この測定は、日機装株式会社製マイクロトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０を用いて行って得られた数平均粒子径のこととする。
　本発明において金属酸化物粒子の屈折率としては特に制限はないが、高屈折率を得る観点から、１．７５～２．７０であることが好ましく、１．９０～２．７０であることが更に好ましい。
　また金属酸化物粒子の比表面積は、１０ｍ２／ｇから４００ｍ２／ｇであることが好ましく、２０ｍ２／ｇから２００ｍ２／ｇであることがより好ましく、３０ｍ２／ｇから１５０ｍ２／ｇであることが更に好ましく、４０ｍ２／ｇから７０ｍ２／ｇであることが最も好ましい。
　また金属酸化物粒子の形状には特に制限はない。例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることができる。
　本発明における金属酸化物粒子は、有機化合物により表面処理されたものであってもよい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、脂肪酸（好ましくはステアリン酸）、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。中でも脂肪酸（好ましくはステアリン酸）又はシランカップリング剤が好ましく、脂肪酸が特に好ましい。
　表面処理は、１種単独の表面処理剤でも、２種類以上の表面処理剤を組み合わせて実施してもよい。
　また金属酸化物粒子の表面が、アルミニウム、ケイ素、ジルコニアなどの酸化物により覆われていることもまた好ましい。これにより、より耐候性が向上する。
　本発明における金属酸化物粒子としては、市販されているものを好ましく用いることができる。
　二酸化チタン粒子の市販物としては、例えば石原産業（株）製ＴＴＯシリーズ（ＴＴＯ－５１（Ａ）、ＴＴＯ－５１（Ｃ）など）、ＴＴＯ－Ｓ、Ｖシリーズ（ＴＴＯ－Ｓ－１、ＴＴＯ－Ｓ－２、ＴＴＯ－Ｖ－３など）、テイカ（株）製ＭＴシリーズ（ＭＴ－０１、ＭＴ－０５など）などを挙げることができる。
　二酸化ジルコニウム粒子の市販物としては、例えば、ＵＥＰ（第一稀元素化学工業（株）製）、ＰＣＳ（日本電工（株）製）、ＪＳ－０１、ＪＳ－０３、ＪＳ－０４（日本電工（株）製）、ＵＥＰ－１００（第一稀元素化学工業（株）製）などを挙げることができる。
　二酸化珪素粒子の市販物としては、例えば、ＯＧ５０２－３１クラリアント社（Ｃｌａｒｉａｎｔ　Ｃｏ．）製などを挙げることができる。
　本発明において金属酸化物粒子は、１種単独でも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　本発明の分散組成物（又は後述する硬化性組成物）における金属酸化物粒子の含有量としては、高屈折率を得る観点から、分散組成物全固形分に対して６５質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。
　含有量の上限としては特に制限はないが、分散組成物全固形分に対して９０質量％以下であることが好ましく、８５質量％以下であることがより好ましい。
＜（Ｂ）重量平均分子量１００００以下の前記一般式（１）で表される高分子化合物＞
　本発明において、前記一般式（１）で表される高分子化合物（Ｂ）の重量平均分子量は１００００以下であり、８０００以下であることが好ましい。
　重量平均分子量が大きすぎると、分散組成物（硬化性組成物）中の金属酸化物粒子（Ａ）－高分子化合物（Ｂ）複合体の粒径が大きくなり、得られる膜において粒子同士が密にならず、屈折率を高めることが難しいものと考えられる。一方、本発明においては重量平均分子量を上記範囲とすることにより金属酸化物粒子（Ａ）－高分子化合物（Ｂ）複合体の粒径を小さく抑えることができ、得られる膜において粒子同士が密になり、屈折率を高めることができるものと考えられる。また、理由は定かではないが、上記範囲とすることにより分散性も向上させることができ、粘度を低減できるものと考えられる。
　なお、重量平均分子量の下限値としては特に制限はないが、分散剤としての機能を発揮し、ひいては本発明の効果をより確実に達成する観点から、１０００以上であることが好ましく、３０００以上であることがより好ましい。
　また、後述するように、硬化膜を形成した際に、硬化膜の可視光透過率が特に優れることから、高分子化合物（Ｂ）の重量平均分子量が５０００～８０００であることが特に好ましい。
　以下、前記一般式（１）における各基について詳細に説明する。
　前記Ａ１は、酸基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基のような金属酸化物粒子（Ａ）に対する吸着能を有する官能基、複素環構造のような金属酸化物粒子（Ａ）に対する吸着能を有し得る構造を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。
　なお、以下、この金属酸化物粒子（Ａ）に対する吸着能を有する部位（上記官能基及び構造）を、適宜、「吸着部位」と総称して、説明する。
　前記吸着部位は、１つのＡ１の中に、少なくとも１個含まれていればよく、２個以上を含んでいてもよい。
　１つのＡ１の中に、２個以上の吸着部位が含まれる態様としては、鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐状であってもよく、炭素数１～１０であることが好ましい）、環状飽和炭化水素基（炭素数３～１０であることが好ましい）、芳香族基（炭素数５～１０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）等を介して２個以上の吸着部位が結合し１価の置換基Ａ１を形成する態様等が挙げられ、鎖状飽和炭化水素基を介して２個以上の吸着部位が結合し１価の置換基Ａ１を形成する態様が好ましい。
　なお、吸着部位自体が１価の置換基を構成する場合には、吸着部位そのものがＡ１で表される１価の置換基であってもよい。
　まず、前記Ａ１を構成する吸着部位について以下に説明する。
　前記「酸基」として、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、ホウ酸基が好ましい例として挙げられ、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基がより好ましく、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基が更に好ましく、カルボン酸基が特に好ましい。
　前記「ウレア基」として、例えば、－ＮＲ１５ＣＯＮＲ１６Ｒ１７（ここで、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は各々独立に、水素原子、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、又は炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が好ましい例として挙げられ、－ＮＲ１５ＣＯＮＨＲ１７（ここで、Ｒ１５及びＲ１７は各々独立に、水素原子あるいは、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）がより好ましく、－ＮＨＣＯＮＨＲ１７（ここで、Ｒ１７は水素原子あるいは、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が特に好ましい。
　前記「ウレタン基」として、例えば、－ＮＨＣＯＯＲ１８、－ＮＲ１９ＣＯＯＲ２０、－ＯＣＯＮＨＲ２１、－ＯＣＯＮＲ２２Ｒ２３（ここで、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが好ましい例として挙げられ、－ＮＨＣＯＯＲ１８、－ＯＣＯＮＨＲ２１（ここで、Ｒ１８、Ｒ２１は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などがより好ましく、－ＮＨＣＯＯＲ１８、－ＯＣＯＮＨＲ２１（ここで、Ｒ１８、Ｒ２１は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが特に好ましい。
　前記「配位性酸素原子を有する基」としては、例えば、アセチルアセトナト基、クラウンエーテルなどが挙げられる。
　前記「塩基性窒素原子を有する基」として、例えば、アミノ基（－ＮＨ２）、置換イミノ基（－ＮＨＲ８、－ＮＲ９Ｒ１０、ここで、Ｒ８、Ｒ９、及びＲ１０は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）、下記式（ａ１）で表されるグアニジル基、下記式（ａ２）で表されるアミジニル基などが好ましい例として挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式（ａ１）中、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。
　式（ａ２）中、Ｒ１３及びＲ１４は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。
　これらの中でも、アミノ基（－ＮＨ２）、置換イミノ基（－ＮＨＲ８、－ＮＲ９Ｒ１０、ここで、Ｒ８、Ｒ９、及びＲ１０は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。）、前記式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕、前記式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ１３及びＲ１４は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕などがより好ましい。
　特に、アミノ基（－ＮＨ２）、置換イミノ基（－ＮＨＲ８、－ＮＲ９Ｒ１０、ここで、Ｒ８、Ｒ９、及びＲ１０は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。）、前記式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕、前記式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ１３及びＲ１４は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕などが好ましく用いられる。
　前記置換基Ａ１で示されるアルキル基としては、直鎖状であっても、分岐状であってもよく、炭素数１～４０のアルキル基が好ましく、炭素数４～３０のアルキル基がより好ましく、炭素数１０～１８のアルキル基が更に好ましい。
　前記置換基Ａ１で示されるアリール基としては、炭素数６～１０のアリール基が好ましい。
　前記「アルキレンオキシ鎖を有する基」としては、末端がアルキルオキシ基を形成していることが好ましく、炭素数１～２０のアルキルオキシ基を形成していることがより好ましい。また、アルキレンオキシ鎖としては、少なくとも１つのアルキレンオキシ基を有する限り特に制限はないが、炭素数１～６のアルキレンオキシ基からなるであることが好ましい。アルキレンオキシ基としては、例えば、－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－等が挙げられる。
　前記「アルキルオキシカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数１から２０までのアルキル基であることが好ましい。
　前記「アルキルアミノカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数１から２０までのアルキル基であることが好ましい。
　前記「カルボン酸塩基」としては、カルボン酸のアンモニウム塩からなる基などが挙げられる。
　前記「スルホンアミド基」としては、窒素原子に結合する水素原子がアルキル基（メチル基等）、アシル基（アセチル基、トリフルオロアセチル基など）等で置換されていてもよい。
　前記「複素環構造」としては、例えば、チオフェン、フラン、キサンテン、ピロール、ピロリン、ピロリジン、ジオキソラン、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ピラン、ピリジン、ピペリジン、ジオキサン、モルホリン、ピリダジン、ピリミジン、ピペラジン、トリアジン、トリチアン、イソインドリン、イソインドリノン、ベンズイミダゾロン、ベンゾチアゾール、ヒダントイン、インドール、キノリン、カルバゾール、アクリジン、アクリドン、アントラキノンが好ましい例として挙げられる。
　前記「イミド基」としては、コハクイミド、フタルイミド、ナフタルイミド等が挙げられる。
　なお、前記「複素環構造」及び「イミド基」は、更に置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ－スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から２０までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ－ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。
　前記「アルコキシシリル基」としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基のいずれでもよいが、トリアルコキシシリル基であることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。
　前記「エポキシ基」としては、置換又は無置換のオキシラン基（エチレンオキシド基）が挙げられる。
　特に、金属酸化物粒子（Ａ）との相互作用を良好にし、屈折率を向上し、かつ組成物の粘度を低減する観点から、Ａ１は、ｐＫａ５以上の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基であることが好ましく、ｐＫａ５～１４の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基であることがより好ましい。
　ここでいう「ｐＫａ」とは、化学便覧（ＩＩ）（改訂４版、１９９３年、日本化学会編、丸善株式会社）に記載されている定義のものである。
　上記ｐＫａ５以上の官能基としては、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、ウレア基、ウレタン基、アルキル基、アリール基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、水酸基、複素環基等が挙げられる。
　ｐＫａ５以上の官能基として具体的には、例えば、フェノール基（ｐＫａ　８～１０程度）、アルキル基（ｐＫａ　４６～５３程度）、アリール基（ｐＫａ　４０～４３程度）、ウレア基（ｐＫａ　１２～１４程度）、ウレタン基（ｐＫａ　１１～１３程度）、配位性酸素原子としての－ＣＯＣＨ２ＣＯ－（ｐＫａ　８～１０程度）、スルホンアミド基（ｐＫａ　９～１１程度）、水酸基（ｐＫａ　１５～１７程度）、複素環基（ｐＫａ　１２～３０程度）等が挙げられる。
　上記の中では、前記Ａ１として、酸基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、水酸基、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基及び配位性酸素原子を有する基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であることが好ましい。
　前記一般式（１）中、Ｒ２は単結合あるいは２価の連結基を表す。ｎ個のＲ２は、同一であっても、異なっていてもよい。
　Ｒ２で表される２価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、及び０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
　Ｒ２としては、単結合、又は、１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、及び０個から５個までの硫黄原子から成り立つ２価の連結基が好ましい。
　Ｒ２としては、鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐状であってもよく、炭素数１～２０であることが好ましい）、環状飽和炭化水素基（炭素数３～２０であることが好ましい）、芳香族基（炭素数５～２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、窒素原子、及びカルボニル基よりなる群から選択される基、或いはこれらの２つ以上を組み合わせた基がより好ましく、鎖状飽和炭化水素基、環状飽和炭化水素基、芳香族基、チオエーテル結合、エステル結合、エーテル結合、及びアミド結合よりなる群から選択される基、或いはこれらの２つ以上を組み合わせた基が更に好ましく、鎖状飽和炭化水素基、チオエーテル結合、エステル結合、エーテル結合、及びアミド結合よりなる群から選択される基、或いはこれらの２つ以上を組み合わせた基が特に好ましい。
　上記のうち、Ｒ２で表される２価の連結基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ－スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ－ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。
　前記一般式（１）中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。ｍ＋ｎは３～１０を満たす。
　前記Ｒ１で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、及び０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
　Ｒ１で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基は下記一般式のいずれかで表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　上記一般式中、
　Ｌ３は３価の基を表す。Ｔ３は単結合又は２価の連結基を表し、３個存在するＴ３は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｌ４は４価の基を表す。Ｔ４は単結合又は２価の連結基を表し、４個存在するＴ４は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｌ５は５価の基を表す。Ｔ５は単結合又は２価の連結基を表し、５個存在するＴ５は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｌ６は６価の基を表す。Ｔ６は単結合又は２価の連結基を表し、６個存在するＴ６は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　前記Ｒ１で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基の具体的な例〔具体例（１）～（１７）〕を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　上記の具体例の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、最も好ましい（ｍ＋ｎ）価の連結基は下記（１）、（２）、（１０）、（１１）、（１６）、（１７）の基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　前記一般式（１）中、ｍは８以下の正の数を表す。ｍとしては、０．５～５が好ましく、１～４がより好ましく、１～３が特に好ましい。
　また、前記一般式（１）中、ｎは１～９を表す。ｎとしては、２～８が好ましく、２～７がより好ましく、３～６が特に好ましい。
　前記一般式（１）中、Ｐ１はポリマー鎖を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
　ポリマーの中でも、ポリマー鎖を構成するには、ビニルモノマーの重合体若しくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、及びこれらの変性物、又は共重合体〔例えば、ポリエーテル／ポリウレタン共重合体、ポリエーテル／ビニルモノマーの重合体の共重合体など（ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。）を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ビニルモノマーの重合体若しくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、及びこれらの変性物又は共重合体からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、ビニルモノマーの重合体若しくは共重合体が特に好ましい。
　ポリマー鎖Ｐ１が有し得るビニルモノマーの重合体若しくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマーとしては、それぞれ、下記一般式（Ｌ）、（Ｍ）、（Ｎ）で表される構造を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　上記一般式中、
　Ｘ１は水素原子或いは１価の有機基を表す。合成上の制約の観点から、好ましくは水素原子、或いは炭素数１～１２のアルキル基であり、水素原子或いはメチル基であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。
　Ｒ１０は水素原子又は１価の有機基を表し、特に構造上限定はされないが、好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基であり、更に好ましくは、水素原子、アルキル基である。該Ｒ１０がアルキル基である場合、該アルキル基としては、炭素数１～２０の直鎖状アルキル基、炭素数３～２０の分岐状アルキル基、又は炭素数５～２０の環状アルキル基が好ましく、炭素数１～２０の直鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数１～６の直鎖状アルキル基が特に好ましい。一般式（Ｌ）中に構造の異なるＲ１０を２種以上有していても良い。
　Ｒ１１及びＲ１２は、分岐若しくは直鎖のアルキレン基（炭素数は１～１０が好ましく、２～８であることがより好ましく、３～６であることが更に好ましい。）を表す。各一般式中に構造の異なるＲ１１又はＲ１２を２種以上有していても良い。
　ｋ１、ｋ２、ｋ３は、それぞれ独立に、５～１４０の数を表す。
　ポリマー鎖Ｐ１が少なくとも１種の繰り返し単位を含有することが好ましい。
　ポリマー鎖Ｐ１における、前記少なくとも１種の繰り返し単位の繰り返し数ｋが、立体反発力を発揮し分散性を向上し、高屈折率かつ低粘度を達成する観点から、３以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましい。
　また、高分子化合物（Ｂ）の嵩張りを抑え低粘度を達成し、更に硬化膜（透明膜）中に金属酸化物粒子（Ａ）を密に存在させ、高屈折率を達成する観点から、前記少なくとも１種の繰り返し単位の繰り返し単位数ｋは、５０以下であることが好ましく、４０以下であることがより好ましく、３０以下であることが更に好ましい。
　なお、前記ポリマーは有機溶媒に可溶であることが好ましい。有機溶媒との親和性が低いと、分散媒との親和性が弱まり、分散安定化に十分な吸着層を確保できなくなることがある。
　前記ビニルモノマーとしては、特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、酸基を有するビニルモノマー、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、スチレン類、ビニルエーテル類、ビニルケトン類、オレフィン類、マレイミド類、（メタ）アクリロニトリルなどが好ましく、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、酸基を有するビニルモノマーであることがより好ましく、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類であることが更に好ましい。
　これらのビニルモノマーの好ましい例としては、特開２００７－２７７５１４号公報段落００８９～００９４、００９６及び００９７（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０１０５～０１１７、及び０１１９～０１２０）に記載のビニルモノマーが挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　上記の化合物以外にも、例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基などの官能基を有するビニルモノマーも用いることができる。このようなウレタン基、又はウレア基を有する単量体としては、例えば、イソシアナート基と水酸基、又はアミノ基の付加反応を利用して、適宜合成することが可能である。具体的には、イソシアナート基含有モノマーと水酸基を１個含有する化合物又は１級あるいは２級アミノ基を１個含有する化合物との付加反応、又は水酸基含有モノマー又は１級あるいは２級アミノ基含有モノマーとモノイソシアネートとの付加反応等により適宜合成することができる。
　前記一般式（１）で表される高分子化合物（Ｂ）の中でも、下記一般式（２）で表される高分子化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　前記一般式（２）において、Ａ２は、前記一般式（１）における前記Ａ１と同義であり、好ましい態様も同様である。ｎ個のＡ２は同一であっても、異なっていてもよい。
　前記一般式（２）において、Ｒ４、Ｒ５は各々独立に単結合あるいは２価の連結基を表す。ｎ個のＲ４は、同一であっても、異なっていてもよい。また、ｍ個のＲ５は、同一であっても、異なっていてもよい。
　Ｒ４、Ｒ５で表される２価の連結基としては、前記一般式（１）のＲ２で表される２価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。
　なかでも、Ｒ４、Ｒ５で表される２価の連結基としては、鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐状であってもよく、炭素数１～２０であることが好ましい）、環状飽和炭化水素基（炭素数３～２０であることが好ましい）、芳香族基（炭素数５～２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、窒素原子、及びカルボニル基よりなる群から選択される基、或いはこれらの２つ以上を組み合わせた基が好ましく、鎖状飽和炭化水素基、環状飽和炭化水素基、芳香族基、エステル結合、エーテル結合、及びアミド結合よりなる群から選択される基、或いはこれらの２つ以上を組み合わせた基がより好ましく、鎖状飽和炭化水素基、エステル結合、エーテル結合、及びアミド結合よりなる群から選択される基、或いはこれらの２つ以上を組み合わせた基が更に好ましい。
　前記一般式（２）において、Ｒ３は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。ｍ＋ｎは３～１０を満たす。
　前記Ｒ３で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、無置換でも置換基を更に有していてもよく、前記一般式（１）のＲ１で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。
　前記一般式（２）中、ｍ、ｎは、それぞれ、前記一般式（１）におけるｍ、ｎと同義であり、好ましい態様も同様である。
　また、一般式（２）中のＰ２は、前記一般式（１）におけるＰ１と同義であり、好ましい態様も同様である。ｍ個のＰ２は、同一であっても、異なっていてもよい。
　前記一般式（２）で表される高分子化合物のうち、以下に示すＲ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｐ２、ｍ、及びｎを全て満たすものが最も好ましい。
　Ｒ３：前記具体例（１）、（２）、（１０）、（１１）、（１６）、又は（１７）
　Ｒ４：単結合、又は、鎖状飽和炭化水素基、環状飽和炭化水素基、芳香族基、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、窒素原子、及びカルボニル基よりなる群から選択される基、或いはこれらの２つ以上を組み合わせた基
　Ｒ５：単結合、エチレン基、プロピレン基、下記基（ａ）、又は下記基（ｂ）
　なお、下記基中、Ｒ１２は水素原子又はメチル基を表し、ｌは１又は２を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　Ｐ２：ビニルモノマーの重合体若しくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー及びこれらの変性物
　ｍ：１～３
　ｎ：３～６
　前記一般式（１）又は（２）で表される高分子化合物（Ｂ）の中でも、分散安定性、塗布面状等の観点から下記一般式（５）で表される高分子化合物がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　上記一般式（５）中、
　Ｒ６は、（ｍ＋ｎ１＋ｎ２）価の連結基を表し、Ｒ７～Ｒ９は各々独立に単結合又は２価の連結基を表す。
　Ａ３は酸基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。Ａ４は、Ａ３とは異なる１価の置換基を表す。ｎ１個のＡ３及びＲ７は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。ｎ２個のＡ４及びＲ８は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
　ｍは前記一般式（１）におけるｍと同義であり、好ましい態様も同様である。
　ｎ１は１～８を表し、ｎ２は１～８を表し、ｍ＋ｎ１＋ｎ２は３～１０を満たす。
　Ｐ３は前記一般式（２）におけるＰ２と同義であり、好ましい態様も同様である。ｍ個のＰ３及びＲ９は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
　Ｒ６についての（ｍ＋ｎ１＋ｎ２）価の連結基としては、前記一般式（１）のＲ１又は前記一般式（２）のＲ３で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。
　Ｒ７～Ｒ９についての２価の連結基としては、前記一般式（２）のＲ４、Ｒ５で表される２価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。
　上記置換基Ａ３が有し得る酸基の具体例、好ましい例としては、前記一般式（１）における酸基について前述した具体例、好ましい例と同様のものが挙げられる。
　上記置換基Ａ３がｐＫａが５より小さい酸基を少なくとも１種有する１価の置換基であることが更に好ましく、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基及びホスフィン酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であることが特に好ましく、カルボン酸基が最も好ましい。
　Ａ３とは異なる１価の置換基Ａ４の具体例、好ましい例としては、前記一般式（１）におけるＡ１について前述した具体例、好ましい例のうちの酸基以外の基と同様のものが挙げられる。なかでも、上記置換基Ａ４はｐＫａ５以上の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基であることがより好ましく、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、ウレア基、ウレタン基、アルキル基、アリール基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、水酸基及び複素環基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であることが更に好ましく、アルキル基、アリール基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基又はウレタン基であることが特に好ましい。
　前記置換基Ａ３と置換基Ａ４との組合せとしては、前記置換基Ａ３がｐＫａが５より小さい官能基を少なくとも１種有する１価の置換基であり、かつ前記置換基Ａ４がｐＫａ５以上の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基であることが好ましい。
　前記置換基Ａ３が、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基及びホスフィン酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であり、かつ前記置換基Ａ４が配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、ウレア基、ウレタン基、アルキル基、アリール基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、水酸基及び複素環基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であることがより好ましい。
　前記置換基Ａ３が、カルボン酸基を有する１価の置換基であり、かつ前記置換基Ａ４が、アルキル基、アリール基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基又はウレタン基であることが更に好ましい。
　後述の金属酸化物粒子（Ａ）（なかでも特に二酸化チタン粒子）と、置換基Ａ３のアルキル基との吸着が良好である観点から、前記置換基Ａ３がカルボン酸基であり、かつ前記置換基Ａ４がアルキル基であることが特に好ましい。
　二酸化チタン粒子と置換基Ａ４のアルキル基との吸着が良好であるのは、二酸化チタン粒子がステアリン酸で表面処理されている場合など、そのステアリン酸のアルキル基と置換基Ａ４のアルキル基とが相互作用するためと推測される。
　高分子化合物（Ｂ）の酸価は特に制限はないが、粘度ないし分散性の観点から、酸価が４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。
　なお、酸価の下限値としては特に制限はないが、金属酸化物粒子の分散安定性の観点から、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましい。
　また、後述するように、硬化膜を形成した際に、硬化膜の可視光透過率が特に優れることから、高分子化合物（Ｂ）の酸価が７０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
　ここで、高分子化合物（Ｂ）の酸価は、高分子化合物（Ｂ）の固形分酸価である。
　本発明において、高分子化合物（Ｂ）の酸価は、例えば、高分子化合物（Ｂ）中における酸基の平均含有量から算出することができる。高分子化合物（Ｂ）の酸価は高分子化合物（Ｂ）中の酸基の量と、前述のｐＫａ５以上の官能基の量とを適宜調整することにより、調整できる。例えば、高分子化合物（Ｂ）の合成に際し、原料となる酸基及び炭素－炭素二重結合を有する化合物の仕込み量、ｐＫａ５以上の官能基及び炭素－炭素二重結合を有する化合物の仕込み量、酸基を有するビニルモノマーの仕込み量を適宜調整することで所望の酸価を有する高分子化合物（Ｂ）を合成することができる。
（高分子化合物（Ｂ）の合成方法）
　前記一般式（１）又は（２）で表される高分子化合物は、特に制限されないが、特開２００７－２７７５１４号公報段落０１１４～０１４０及び０２６６～０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０１４５～０１７３、及び０２８９～０４２９）に記載の合成方法に準じて合成することができる。
　特に、複数の前記吸着部位を有するメルカプタン化合物存在下で、ビニルモノマーをラジカル重合する方法により前記一般式（１）又は（２）で表される高分子化合物（Ｂ）を合成することが好ましい。
　上記のビニルモノマーは１種のみで重合させてもよいし、２種以上を併用して共重合させてもよい。
　ここで、ビニルモノマーの具体例（Ｍ－１）～（Ｍ－９）、（Ｍ－１４）～（Ｍ－１６）を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　前記一般式（１）又は（２）で表される高分子化合物（Ｂ）の合成方法として、より具体的には、下記一般式（３）で表される化合物存在下で、ビニルモノマーをラジカル重合させる方法が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　前記一般式（３）において、Ｒ６、Ｒ７、Ａ３、ｍ、及びｎは、それぞれ前記一般式（２）におけるＲ３、Ｒ４、Ａ２、ｍ、及びｎと同義であり、その好ましい態様も同様である。
　また、前記一般式（１）又は（２）で表される高分子化合物（Ｂ）の合成方法として、前記一般式（３）で表される化合物と、炭素－炭素二重結合を有するマクロモノマーを付加させる方法（チオール－エン反応法）も好ましい。反応の触媒とし、ラジカル発生剤又は塩基を用いることが好ましい。
　炭素－炭素二重結合を有するマクロモノマーの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、繰り返し単位数ｋは３～５０の整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　また、前記一般式（１）又は（２）で表される高分子化合物（Ｂ）の合成方法として、前記一般式（３）で表される化合物と、カルボン酸基を有する高分子化合物との脱水縮合反応によってチオエステル基を形成する方法も好ましい。
　カルボン酸基を有する高分子化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、繰り返し単位数ｋは３～５０の整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　また、前記一般式（１）又は（２）で表される高分子化合物（Ｂ）の合成方法として、前記一般式（３）で表される化合物と、脱離基を有する高分子化合物との求核置換反応によってチオエーテル基を形成する方法も好ましい。脱離基としてはヨウ素、臭素、塩素などのハロゲン、トシラート、メシラート、トリフルオロメタンスルホナートなどのスルホン酸エステルが好ましい。
　脱離基を有する高分子化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、繰り返し単位数ｋは３～５０の整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　前記一般式（３）で表される化合物は下記の方法で合成することが好ましい。
　一分子中に３～１０個のメルカプト基を有する化合物と、前記吸着部位を有し、かつメルカプト基と反応可能な炭素－炭素二重結合を有する化合物とを付加反応させる方法
　前記付加反応がラジカル付加反応であることが特に好ましい。なお、炭素－炭素二重結合としては、メルカプト基との反応性の点で、１置換若しくは２置換のビニル基がより好ましい。
　一分子中に３～１０個のメルカプト基を有する化合物の具体的な例〔具体例（１８）～（３４）〕としては、以下の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　上記の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、特に好ましい化合物は、以下の化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　上記は、市販品として、（例えば（３３）はジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）：堺化学工業（株）製）などが入手可能である。
　前記吸着部位を有し、かつ、炭素－炭素二重結合を有する化合物（具体的には、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有し、かつ、炭素－炭素二重結合を有する化合物）としては、特に制限されないが、以下のようなものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
　前記「一分子中に３～１０個のメルカプト基を有する化合物」と、「前記吸着部位を有し、かつ、炭素－炭素二重結合を有する化合物」とのラジカル付加反応生成物は、例えば、上記の「一分子中に３～１０個のメルカプト基を有する化合物」及び「前記吸着部位を有し、かつ、炭素－炭素二重結合を有する化合物」を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル発生剤を添加して、約５０℃～１００℃で、付加させる方法（チオール－エン反応法）を利用して得られる。
　前記チオール－エン反応法で用いられる適当な溶媒の例としては、用いる「一分子中に３～１０個のメルカプト基を有する化合物」、「前記吸着部位を有し、かつ、炭素－炭素二重結合を有する化合物」、及び「生成するラジカル付加反応生成物」の溶解性に応じて任意に選択できる。
　例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１－メトキシ－２－プロパノール、２－エチルヘキサノール、１－メトキシ－２－プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
　また、ラジカル発生剤としては、２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’－アゾビス－（２，４’－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビスイソ酪酸ジメチル〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕のようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、及び過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などが利用できる。
　本発明の高分子化合物としては、これらのビニルモノマーと前記一般式（３）で表される化合物とを用いて、公知の方法で常法に従って重合させることで得られるものが好ましい。なお、本発明における前記一般式（３）で表される化合物は、連鎖移動剤として機能するものであり、以下、単に「連鎖移動剤」と称することがある。
　例えば、これらのビニルモノマー、及び前記連鎖移動剤を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して、約５０℃～２２０℃で、溶液中で重合させる方法（溶液重合法）を利用して得られる。
　溶液重合法で用いられる適当な溶媒の例としては、用いる単量体、及び生成する共重合体の溶解性に応じて任意に選択できる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１－メトキシ－２－プロパノール、２－エチルヘキサノール、１－メトキシ－２－プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
　また、ラジカル重合開始剤としては、２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’－アゾビス－（２，４’－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビスイソ酪酸ジメチル〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕のようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、及び過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などが利用できる。
　本発明の分散組成物において、高分子化合物（Ｂ）は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　本発明の分散組成物（又は後述する硬化性組成物）の全固形分に対する高分子化合物（Ｂ）の含有量は、分散性、高屈折率及び塗布面状の観点から、５～４０質量％の範囲が好ましく、１０～３５質量％の範囲がより好ましく、１２～３０質量％の範囲が更に好ましい。
－その他の分散樹脂－
　本発明の分散組成物には、金属酸化物粒子の分散性を調整する等の目的で、上記特定樹脂以外の分散樹脂（以下、「その他の分散樹脂」と称する場合がある）が含有されていてもよい。
　本発明に用いることができるその他の分散樹脂としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。
　その他の分散樹脂は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
　その他の分散樹脂は、金属酸化物粒子の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、金属酸化物粒子表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。
　一方で、その他の分散樹脂は、金属酸化物粒子表面を改質することで、分散樹脂の吸着を促進させる効果を有する。
　その他の分散樹脂の具体例としては、ＢＹＫ　Ｃｈｅｍｉｅ社製「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１０１（ポリアミドアミン燐酸塩）、１０７（カルボン酸エステル）、１１０、１８０（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアミド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「ＢＹＫ－Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和ポリカルボン酸）、ＥＦＫＡ社製「ＥＦＫＡ４０４７、４０５０、４０１０、４１６５（ポリウレタン系）、ＥＦＫＡ４３３０、４３４０（ブロック共重合体）、４４００、４４０２（変性ポリアクリレート）、５０１０（ポリエステルアミド）、５７６５（高分子量ポリカルボン酸塩）、６２２０（脂肪酸ポリエステル）、６７４５（フタロシアニン誘導体）、６７５０（アゾ顔料誘導体）」、味の素ファィンテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２」、共栄社化学社製「フローレンＴＧ－７１０（ウレタンオリゴマー）」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合体）」、楠本化成社製「ディスパロンＫＳ－８６０、８７３ＳＮ、８７４、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル）、ＤＡ－７０３－５０、ＤＡ－７０５、ＤＡ－７２５」、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ－Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物）」、「ホモゲノールＬ－１８（高分子ポリカルボン酸）」、「エマルゲン９２０、９３０、９３５、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン８６（ステアリルアミンアセテート）」、ルーブリゾール社製「ソルスパース５０００（フタロシアニン誘導体）、２２０００（アゾ顔料誘導体）、１３２４０（ポリエステルアミン）、３０００、１７０００、２７０００（末端部に機能部を有する高分子）、２４０００、２８０００、３２０００、３８５００（グラフト型高分子）」、日光ケミカル社製「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ－ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）」等が挙げられる。
　また、その他の分散樹脂として、特開２０１２－２０８４９４号公報段落０５６２（対応する米国特許出願公開第２０１２／２３５０９９号明細書の［０６９２］）以降の式（ＥＤ）で表される化合物（エーテルダイマーと称することもある）を必須の単量体成分として重合してなるポリマーも挙げることができ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　エーテルダイマーの具体例としては、特開２０１２－２０８４９４号公報段落０５６５（対応する米国特許出願公開第２０１２／２３５０９９号明細書の［０６９４］）のエーテルダイマーの記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　式（ＥＤ）で表される化合物を必須の単量体成分として重合してなるポリマーの具体例としては、バインダーポリマーの項で後述する式（ＥＤ）で表される化合物を必須の単量体成分として重合してなるポリマーの具体例と同様のものが挙げられる。
　これらのその他の樹脂は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
　本発明の分散組成物（又は後述する硬化性組成物）はその他の分散樹脂を含有してもしなくても良いが、含有する場合、本発明の分散組成物（又は後述する硬化性組成物）の全固形分に対するその他の分散樹脂の含有量は、１～２０質量％の範囲が好ましく、１～１０質量％の範囲がより好ましい。
＜（Ｃ）溶媒＞
　本発明の分散組成物は溶媒を含むが、該溶媒は種々の有機溶剤を用いて構成することができる。
　ここで使用できる有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３－メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。
　これらの有機溶剤は、単独あるいは混合して使用することができる。本発明の分散組成物における固形分の濃度は、２～６０質量％であることが好ましい。
　本発明の分散組成物の製造方法としては、特に制限はなく通常用いられる分散組成物の製造方法を適用することができる。例えば、金属酸化物粒子（Ａ）、高分子化合物（Ｂ）、及び溶媒（Ｃ）を混合し、循環型分散装置（ビーズミル）等を用いて分散処理することで製造することができる。
　なお、本発明は、前記分散組成物の製造方法に関するものでもあり、また、下記硬化性組成物の製造方法に関するものでもある。
＜硬化性組成物＞
　本発明の硬化性組成物は、前記本発明の分散組成物と、重合性化合物（Ｄ）とを含み、必要に応じてその他の成分を含むことによって構成される硬化性組成物であることが好ましい。
　前記分散組成物が、硬化性組成物とされることにより屈折率が高い硬化膜（透明膜）を形成できる。
　また、本発明は、本発明の硬化性組成物を用いて形成された透明膜にも関する。
　硬化性組成物から得られる硬化膜（硬化性組成物により膜を形成し、次いで、硬化反応を行った膜）は、屈折率が１．８５～２．６０であることが好ましく、１．９０～２．６０であることがより好ましい。
　硬化膜の屈折率が１．８５～２．６０であるという物性は、本発明の硬化性組成物が、高分子化合物（Ｂ）を含有することにより好適に達成し得るが、更にどのような手段によって達成されても良いが、例えば、重合性化合物（Ｄ）や、更に添加され得るバインダーポリマーの種類及び含有量の調整することや、硬化性組成物に金属酸化物粒子（Ａ）を含有させるとともに、金属酸化物粒子の種類及び含有量の調整することによってもより確実に達成され得る。
　特に、金属酸化物粒子を、上記した好ましい例にすることにより、上記物性を好ましく達成できる。
　また、本発明の組成物は、透明な組成物であることが好ましく、より具体的には、組成物により膜厚１．０μｍの硬化膜を形成した時、該硬化膜の厚み方向に対する光透過率が、４００～７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上となるような組成物である。
　すなわち、本発明の透明膜は、膜厚１．０μｍにおいて、膜の厚み方向に対する光透過率が、４００～７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上となるような膜を言う。
　このような光透過率の物性は、硬化性組成物が、本発明の分散組成物、重合性化合物（Ｄ）を含有する限りにおいて、どのような手段によって達成されても良いが、例えば、重合性化合物（Ｄ）や、更に添加され得るバインダーポリマーの種類及び含有量の調整することにより、好適に達成される。また、金属酸化物粒子（Ａ）の粒子径や、高分子化合物（Ｂ）の種類及び添加量を調整することによっても、上記光透過率の物性を好適に達成できる。
　特に、硬化膜を形成した際に、硬化膜の可視光透過率が特に優れることから、高分子化合物（Ｂ）の重量平均分子量が５０００～８０００であり、かつ酸価が７０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
　金属酸化物粒子の含有量が多いと、硬化膜の透明性が問題になることがあるが、本発明ではこのような高分子化合物（Ｂ）を用いることで、透明性に優れる硬化膜を得ることができる。
　本発明の硬化性組成物及び透明膜に関し、上記光透過率が、４００～７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上であることは、特にマイクロレンズやカラーフィルターの下塗り膜が、その求められる特性を発現するために重要な要素である。
　上記光透過率は、４００～７００ｎｍの波長領域全域に渡って、９５％以上であることが好ましく、９９％以上であることがより好ましく、１００％であることが最も好ましい。
　以上を鑑み、本発明の硬化性組成物は、実質的には、着色剤を含有しない（着色剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０質量％であることが好ましい）。
（Ｄ）重合性化合物
　本発明において、マイクロレンズ製造時、固体撮像素子製造時の硬化膜（透明膜）の耐溶剤性の観点から重合性化合物（Ｄ）として「分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物」を使用することが好ましい。
－分子内に２個以上のエポキシ基（オキシラニル基）又はオキセタニル基を有する化合物－
　重合性化合物（Ｄ）としての分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。
　これらは市販品として入手できる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ－８２７、ＪＥＲ－８２８、ＪＥＲ－８３４、ＪＥＲ－１００１、ＪＥＲ－１００２、ＪＥＲ－１００３、ＪＥＲ－１０５５、ＪＥＲ－１００７、ＪＥＲ－１００９、ＪＥＲ－１０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ－８０６、ＪＥＲ－８０７、ＪＥＲ－４００４、ＪＥＲ－４００５、ＪＥＲ－４００７、ＪＥＲ－４０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ－２１、ＲＥ－６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ－１５２、ＪＥＲ－１５４、ＪＥＲ－１５７Ｓ７０、ＪＥＲ－１５７Ｓ６５、（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ－１０２０（以上、日本化薬（株）製）等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０８０Ｓ、同ＥＰ－４０８５Ｓ、同ＥＰ－４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ－３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、同ＰＢ　４７００（以上、ダイセル化学工業（株）製）、デナコール　ＥＸ－２１１Ｌ、ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス（株）製）等である。その他にも、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、同ＥＰ－４００３Ｓ、同ＥＰ－４０１０Ｓ、同ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＪＥＲ－１０３１Ｓ（三菱化学（株）製）等が挙げられる。
　これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
　分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。
　また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することが好ましい。
　また、（Ｄ）重合性化合物として、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物を使用することもでき、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物を使用することが好ましい。
　本発明において、重合性化合物（Ｄ）は、前述の分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、及び、末端エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも１つであることがより好ましい。
　このような少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物は当該技術分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。
　このような化合物を（Ｄ）重合性化合物として使用する場合、本発明の硬化性組成物は、後述の重合開始剤（Ｅ）を更に含有することが好ましい。
　このような少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
　また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物；更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。
　また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
　これらの具体的な化合物としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～段落番号０１０８に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
　また、（Ｄ）重合性化合物（以下、単に「重合性モノマー等」、「重合性モノマー」ともいう。）としては、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で１００℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物も好ましい。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８－４１７０８号、特公昭５０－６０３４号、特開昭５１－３７１９３号各公報に記載されているようなウレタン（メタ）アクリレート類、特開昭４８－６４１８３号、特公昭４９－４３１９１号、特公昭５２－３０４９０号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシポリマーと（メタ）アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレート及びこれらの混合物を挙げることができる。
　多官能カルボン酸にグリシジル（メタ）アクリレート等の環状エーテル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させ得られる多官能（メタ）アクリレートなども挙げることができる。
　また、その他の好ましい重合性モノマー等として、特開２０１０－１６０４１８、特開２０１０－１２９８２５、特許４３６４２１６等に記載される、フルオレン環を有し、エチレン性重合性基を２官能以上有する化合物、カルドポリマーも使用することが可能である。
　また、常圧下で１００℃以上の沸点を有し、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和基を持つ化合物としては、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号［０２５４］～［０２５７］に記載の化合物も好適である。
　また、特開平１０－６２９８６号公報において一般式（１）及び（２）としてその具体例と共に記載の、前記多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後に（メタ）アクリレート化した化合物も、重合性モノマーとして用いることができる。
　本発明で用いる重合性モノマーは、更に、特開２０１２－２１５８０６号公報段落０２９７～０３００に記載の一般式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－６）で表される重合性モノマーであることも好ましい。
　上記一般式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－６）で表される、ラジカル重合性モノマーの具体例としては、特開２００７－２６９７７９号公報の段落番号０２４８～段落番号０２５１に記載されている化合物も本発明においても好適に用いることができる。
　中でも、重合性モノマー等としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬株式会社製）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬株式会社製）、及びこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造や、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としては　Ｍ－４６０；東亜合成製）が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。
　例えば、ＲＰ－１０４０（日本化薬株式会社製）などが挙げられる。
　重合性モノマー等としては、多官能モノマーであって、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していても良い。従って、エチレン性化合物が、上記のように混合物である場合のように未反応のカルボキシル基を有するものであれば、これをそのまま利用することができるが、必要において、上述のエチレン性化合物のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を導入しても良い。この場合、使用される非芳香族カルボン酸無水物の具体例としては、無水テトラヒドロフタル酸、アルキル化無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アルキル化無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸が挙げられる。
　本発明において、酸基を有するモノマーとしては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであり、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能モノマーが好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０などが挙げられる。
　酸基を有する多官能モノマーの好ましい酸価としては、０．１～４０ｍｇ－ＫＯＨ／ｇであり、特に好ましくは５～３０ｍｇ－ＫＯＨ／ｇである。異なる酸基の多官能モノマーを２種以上併用する場合、或いは酸基を有しない多官能モノマーを併用する場合、全体の多官能モノマーとしての酸価が上記範囲に入るように調製することが必須である。
　また、重合性モノマー等として、特開２０１２－２１５８０６号公報段落０３０６～０３１３に記載のカプロラクトン変性構造を有する多官能性単量体も用いることができる。
　このようなカプロラクトン変性構造を有する多官能性単量体は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等を挙げることができる。
　本発明において、カプロラクトン変性構造を有する多官能性単量体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
　また、本発明における重合性モノマー等としては、特開２０１２－２１５８０６号公報段落０３１４～０３２４に記載の一般式（Ｚ－４）又は（Ｚ－５）で表される化合物も用いることができる。
　一般式（Ｚ－４）、（Ｚ－５）で表される重合性モノマー等の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬株式会社製のペンチレンオキシ鎖を６個有する６官能アクリレートであるＤＰＣＡ－６０、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　また、重合性モノマー等としては、特公昭４８－４１７０８号、特開昭５１－３７１９３号、特公平２－３２２９３号、特公平２－１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号、特公昭５６－１７６５４号、特公昭６２－３９４１７号、特公昭６２－３９４１８号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、重合性モノマー等として、特開昭６３－２７７６５３号、特開昭６３－２６０９０９号、特開平１－１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性モノマー類を用いることによって、非常に感光スピードに優れた硬化性組成物を得ることができる。
　重合性モノマー等の市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ－１０、ＵＡＢ－１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ－７２００」（新中村化学社製、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬社製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００（共栄社製）などが挙げられる。
　重合性モノマー等としては、特開２０１２－１５０４６８号公報段落０２１６～０２２０に記載の同一分子内に２個以上のメルカプト（ＳＨ）基を有する多官能チオール化合物も用いることができる。
　また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス－アクリルアミド、メチレンビス－メタクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビス－アクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビス－メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
　その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４－２１７２６号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
　また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８－４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式（Ｖ）で表され、水酸基を有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
　下記式（Ｖ）中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
　また、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平１－１０５２３８号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた硬化性組成物を得ることができる。
　その他の例としては、特開昭４８－６４１８３号、特公昭４９－４３１９１号、特公昭５２－３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させて得られたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６－４３９４６号公報、特公平１－４０３３７号公報、特公平１－４０３３６号公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平２－２５４９３号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１－２２０４８号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に、日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００～３０８ページ（１９８４年）に記載されている光硬化性モノマー及びオリゴマーも使用することができる。
　これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、硬化性組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
　感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
　また、硬化性組成物に含有される他の成分（例えば、重合開始剤、金属酸化物粒子等）との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の他の成分の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板などの硬質表面との密着性を向上させる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
　硬化性組成物の全固形分に対して、（Ｄ）重合性化合物の含有量は、１質量％～４０質量％の範囲であることが好ましく、３質量％～３５質量％の範囲であることがより好ましく、５質量％～３０質量％の範囲であることが更に好ましい。
　この範囲内であると、屈折率を低下させることなく、硬化性が良好で好ましい。
　本発明の硬化性組成物は、以下説明する重合開始剤（Ｅ）、及び、バインダーポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１つを更に含有することが好ましい。
（Ｅ）重合開始剤
　本発明の硬化性組成物は、更に重合開始剤を含有することが、さらなる硬化性向上の観点から好ましい。
　本発明における重合開始剤としては、以下に述べる重合開始剤として知られているものを用いることができる。
　前記重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の重合開始剤の中から適宜選択することができる。
　また、後述するマイクロレンズの形成方法における、工程（ロ）、（ｂ）などの放射線照射による露光工程における硬化を良好にする観点などから、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感放射線性を有するものが好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
　また、前記重合開始剤は、約３００ｎｍ～８００ｎｍ（３３０ｎｍ～５００ｎｍがより好ましい。）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する化合物を、少なくとも１種含有していることが好ましい。
　前記重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、など）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられる。
　前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、特開昭５３－１３３４２８号公報記載の化合物、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、Ｆ．Ｃ．ＳｃｈａｅｆｅｒなどによるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２－５８２４１号公報記載の化合物、特開平５－２８１７２８号公報記載の化合物、特開平５－３４９２０号公報記載化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されている化合物などが挙げられる。
　また、上記以外の重合開始剤として、アクリジン誘導体（例えば、９－フェニルアクリジン、１，７－ビス（９，９’－アクリジニル）ヘプタンなど）、Ｎ－フェニルグリシンなど、ポリハロゲン化合物（例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトンなど）、クマリン類（例えば、３－（２－ベンゾフラノイル）－７－ジエチルアミノクマリン、３－（２－ベンゾフロイル）－７－（１－ピロリジニル）クマリン、３－ベンゾイル－７－ジエチルアミノクマリン、３－（２－メトキシベンゾイル）－７－ジエチルアミノクマリン、３－（４－ジメチルアミノベンゾイル）－７－ジエチルアミノクマリン、３，３’－カルボニルビス（５，７－ジ－ｎ－プロポキシクマリン）、３，３’－カルボニルビス（７－ジエチルアミノクマリン）、３－ベンゾイル－７－メトキシクマリン、３－（２－フロイル）－７－ジエチルアミノクマリン、３－（４－ジエチルアミノシンナモイル）－７－ジエチルアミノクマリン、７－メトキシ－３－（３－ピリジルカルボニル）クマリン、３－ベンゾイル－５，７－ジプロポキシクマリン、７－ベンゾトリアゾール－２－イルクマリン、また、特開平５－１９４７５号公報、特開平７－２７１０２８号公報、特開２００２－３６３２０６号公報、特開２００２－３６３２０７号公報、特開２００２－３６３２０８号公報、特開２００２－３６３２０９号公報などに記載のクマリン化合物など）、アシルホスフィンオキサイド類（例えば、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルフェニルホスフィンオキサイド、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯなど）、メタロセン類（例えば、ビス（η５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）－ビス（２，６－ジフロロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）－フェニル）チタニウム、η５－シクロペンタジエニル－η６－クメニル－アイアン（１＋）－ヘキサフロロホスフェート（１－）など）、特開昭５３－１３３４２８号公報、特公昭５７－１８１９号公報、同５７－６０９６号公報、及び米国特許第３６１５４５５号明細書に記載された化合物などが挙げられる。
　前記ケトン化合物としては、特開２０１１－２５２９４５号公報段落００８４に記載の化合物等が挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　重合開始剤としては、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アミノアセトフェノン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。より具体的には、例えば、特開平１０－２９１９６９号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤も用いることができる。
　ヒドロキシアセトフェノン系開始剤としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ－１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－２９５９，ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１２７（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤として、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開２００９－１９１１７９公報に記載の化合物も用いることができる。また、アシルホスフィン系開始剤としては市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－８１９やＤＡＲＯＣＵＲ－ＴＰＯ（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。
　重合開始剤としては、オキシム系化合物も好適に用いることができる。オキシム系開始剤の具体例としては、特開２００１－２３３８４２号公報記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報記載の化合物を用いることができる。
　本発明で重合開始剤として好適に用いられるオキシム誘導体等のオキシム化合物としては、例えば、３－ベンゾイロキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイロキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。
　オキシムエステル化合物としては、ＴＲＯＮＬＹ　ＴＲ－ＰＢＧ－３０４、ＴＲＯＮＬＹ　ＴＲ－ＰＢＧ－３０９、ＴＲＯＮＬＹ　ＴＲ－ＰＢＧ－３０５（常州強力電子新材料有限公司社（ＣＨＡＮＧＺＨＯＵ　ＴＲＯＮＬＹ　ＮＥＷ　ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣ　ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ　ＣＯ．，ＬＴＤ）製）などの市販品が使用できる。また、特開２０１２－１１３１０４号公報の段落００９２～００９６に記載されている重合開始剤の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。このようなオキシム化合物を使用することで、硬化感度が高く、現像性が良好な硬化性組成物を提供することができる。上記オキシム化合物は、特開２０１２－１１３１０４号公報の段落００３０以降に説明されている化合物である。一般式としては、特開２０１２－１１３１０４の請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表され、より好ましくは請求項３に記載の一般式（Ｉ－Ａ）で表されるものであり、これらの記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。また、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１６５３－１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１５６－１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年）ｐｐ．２０２－２３２、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ（２０１２年）ｐｐ．７２５－７３１、特開２０００－６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報段落０２１８～０２８１、特表２００４－５３４７９７号公報段落０２４２～０２５１、特開２００６－３４２１６６号公報の各公報に記載の化合物等が挙げられる。
　市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）も好適に用いられる。
　また上記記載以外のオキシムエステル化合物として、カルバゾールＮ位にオキシムが連結した特表２００９－５１９９０４号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許７６２６９５７号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０－１５０２５号公報及び米国特許公開２００９－２９２０３９号記載の化合物、国際公開特許２００９－１３１１８９号公報に記載のケトオキシム系化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許７５５６９１０号公報に記載の化合物、４０５ｎｍに吸収極大を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９－２２１１１４号公報記載の化合物などを用いてもよい。
　更に、特開２００７－２３１０００号公報、及び、特開２００７－３２２７４４号公報に記載される環状オキシム化合物も好適に用いることができる。環状オキシム化合物の中でも、特に特開２０１０－３２９８５号公報、特開２０１０－１８５０７２号公報に記載されるカルバゾール色素に縮環した環状オキシム化合物は、高い光吸収性を有し高感度化の観点から好ましい。
　また、オキシム化合物の特定部位に不飽和結合を有する特開２００９－２４２４６９号公報に記載の化合物も、重合不活性ラジカルから活性ラジカルを再生することで高感度化を達成でき好適に使用することができる。
　他にも、特開２００７－２６９７７９号公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開２００９－１９１０６１号公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。
　具体的には、下記式（ＯＸ－１）で表される化合物も好ましい。なお、オキシムのＮ－Ｏ結合が（Ｅ）体のオキシム化合物であっても、（Ｚ）体のオキシム化合物であっても、（Ｅ）体と（Ｚ）体との混合物であってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
　（式（ＯＸ－１）中、Ｒ及びＢは各々独立に１価の置換基を表し、Ａは２価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。）
　前記式（ＯＸ－１）中、Ｒで表される１価の置換基としては、１価の非金属原子団であることが好ましい。
　前記１価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、１以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。
　置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
　アルキル基としては、炭素数１～３０のアルキル基が好ましい。具体的には、特開２０１２－０３２５５６号公報段落００２６等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　アリール基としては、炭素数６～３０のアリール基が好ましい。具体的には、特開２０１２－０３２５５６号公報段落００２７等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　アシル基としては、炭素数２～２０のアシル基が好ましい。具体的には、特開２０１２－０３２５５６号公報段落００２８等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　アルコキシカルボニル基としては、炭素数２～２０のアルコキシカルボニル基が好ましい。具体的には、特開２０１２－０３２５５６号公報段落００２９等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　アリールオキシカルボニル基としては、具体的には、特開２０１２－０３２５５６号公報段落００３０等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子若しくはリン原子を含む、芳香族又は脂肪族の複素環が好ましい。具体的には、特開２０１２－０３２５５６号公報段落００３１等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　アルキルチオカルボニル基として具体的には、特開２０１２－０３２５５６号公報段落００３２等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　アリールチオカルボニル基として具体的には、特開２０１２－０３２５５６号公報段落００３３等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　前記式（ＯＸ－１）中、Ｂで表される１価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基を表す。また、これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。
　なかでも、特に好ましくは以下に示す構造である。
　下記の構造中、Ｙ、Ｘ、及び、ｎは、それぞれ、後述する式（ＯＸ－２）におけるＹ、Ｘ、及び、ｎと同義であり、好ましい例も同様である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
　前記式（ＯＸ－１）中、Ａで表される２価の有機基としては、炭素数１～１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基が挙げられる。また、これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。
　中でも、式（ＯＸ－１）におけるＡとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ドデシル基）で置換されたアルキレン基、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基）で置換されたアルキレン基、アリール基（例えば、フェニル基、ｐ－トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基）で置換されたアルキレン基が好ましい。
　前記式（ＯＸ－１）中、Ａｒで表されるアリール基としては、炭素数６～３０のアリール基が好ましく、また、置換基を有していてもよい。置換基としては、先に置換基を有していてもよいアリール基の具体例として挙げた置換アリール基に導入された置換基と同様のものが例示できる。
　なかでも、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニル基が好ましい。
　式（ＯＸ－１）においては、前記式（ＯＸ－１）中のＡｒとそれに隣接するＳとで形成される「ＳＡｒ」の構造が、特開２０１２－０３２５５６号公報段落００４０等に記載されている構造が好ましい。これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　前記式（ＯＸ－１）で表されるオキシム化合物は、下記式（ＯＸ－２）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
（式（ＯＸ－２）中、Ｒ及びＸは各々独立に１価の置換基を表し、Ａ及びＹは各々独立に２価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表し、ｎは０～５の整数である。Ｘが複数存在する場合は、複数のＸは同じでも、異なっていてもよい。）
　式（ＯＸ－２）におけるＲ、Ａ、及びＡｒは、前記式（ＯＸ－１）におけるＲ、Ａ、及びＡｒと同義であり、好ましい例も同様である。
　前記式（ＯＸ－２）中、Ｘで表される１価の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、複素環基、ハロゲン原子が挙げられる。また、これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。
　これらの中でも、式（ＯＸ－２）におけるＸとしては、溶剤溶解性と長波長領域の吸収効率向上の点から、アルキル基が好ましい。
　また、式（２）におけるｎは、０～５の整数を表し、０～２の整数が好ましい。
　前記式（ＯＸ－２）中、Ｙで表される２価の有機基としては、以下に示す構造Ｓｕｂ－１～Ｓｕｂ－１１が挙げられる。なお、以下に示される基において、「＊」は、前記式（ＯＸ－２）において、Ｙと隣接する炭素原子との結合位置を示す。中でも、高感度化の観点から、構造Ｓｕｂ－１及びＳｕｂ－２が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　更に前記式（ＯＸ－２）で表されるオキシム化合物は、下記式（ＯＸ－３）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
（式（ＯＸ－３）中、Ｒ及びＸは各々独立に１価の置換基を表し、Ａは２価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表し、ｎは０～５の整数である。Ｘが複数存在する場合は、複数のＸは同じでも、異なっていてもよい。）
　式（ＯＸ－３）におけるＲ、Ｘ、Ａ、Ａｒ、及び、ｎは、前記式（ＯＸ－２）におけるＲ、Ｘ、Ａ、Ａｒ、及び、ｎとそれぞれ同義であり、好ましい例も同様である。
　好適に用いられるオキシム化合物の具体例（ＰＩｏｘ－１）～（ＰＩｏｘ－１３）を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
　オキシム化合物は、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、３６０ｎｍ～４８０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものであることが好ましく、３６５ｎｍ及び４５５ｎｍの吸光度が高いものが特に好ましい。
　オキシム化合物は、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１，０００～３００，０００であることが好ましく、２，０００～３００，０００であることがより好ましく、５，０００～２００，０００であることが特に好ましい。
　化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｒｙ－５　ｓｐｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　本発明に用いられる重合開始剤は、必要に応じて２種以上を組み合わせて使用しても良い。
　本発明の硬化性組成物に用いられる（Ｅ）重合開始剤としては、硬化性の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体及びその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、３－アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。
　更に好ましくは、トリハロメチルトリアジン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物であり、トリハロメチルトリアジン化合物、α－アミノケトン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾフェノン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が最も好ましい。
　特に、本発明の硬化性組成物を固体撮像素子のカラーフィルタ上に設けてマイクロレンズとする場合には、微細なパターンをシャープな形状で形成することが要求されるために、硬化性とともに未露光部に残渣がなく現像されることが重要である。このような観点からは、重合開始剤としてはオキシム化合物を使用することが特に好ましい。特に、固体撮像素子において微細なパターンを形成する場合、硬化用露光にステッパー露光を用いるが、この露光機はハロゲンにより損傷される場合があり、重合開始剤の添加量も低く抑えることが要求されるため、これらの点を考慮すれば、固体撮像素子の如き微細パターンを形成するには（Ｅ）重合開始剤としては、オキシム化合物を用いることが最も好ましい。
　本発明の硬化性組成物に含有される（Ｅ）重合開始剤の含有量（２種以上の場合は総含有量）は、硬化性組成物の全固形分に対し０．１質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．５質量％以上２０質量％以下、更に好ましくは１質量％以上１５質量％以下である。この範囲で、良好な硬化性と、良好な感度とパターン形成性とが得られる。
　本発明の硬化性組成物は、更に、必要に応じて、以下に詳述する任意成分を更に含有してもよい。
［増感剤］
　本発明の硬化性組成物は、（Ｅ）重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。
　本発明に用いることができる増感剤としては、前記した（Ｅ）重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
　増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、かつ、３００ｎｍ～４５０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
　即ち、例えば、多核芳香族類（例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、９，１０－ジアルコキシアントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、チオキサントン類（イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン）、シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、フタロシアニン類、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリリウム類（例えば、スクアリリウム）、アクリジンオレンジ、クマリン類（例えば、７－ジエチルアミノ－４－メチルクマリン）、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、Ｎ－アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。
　更に欧州特許第５６８，９９３号明細書、米国特許第４，５０８，８１１号明細書、同５，２２７，２２７号明細書、特開２００１－１２５２５５号公報、特開平１１－２７１９６９号公報等に記載の化合物等などが挙げられる。
　硬化性組成物中における増感剤の含有量は、深部への光吸収効率と開始剤の分解効率の観点から、固形分換算で、０．１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上１５質量％以下がより好ましい。
　増感剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
［共増感剤］
　本発明の硬化性組成物は、更に共増感剤を含有することも好ましい。
　本発明において共増感剤は、（Ｅ）重合開始剤や増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは、酸素による（Ｄ）重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
　このような共増感剤の例としては、アミン類、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４－２０１８９号公報、特開昭５１－８２１０２号公報、特開昭５２－１３４６９２号公報、特開昭５９－１３８２０５号公報、特開昭６０－８４３０５号公報、特開昭６２－１８５３７号公報、特開昭６４－３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　３３８２５号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ－ホルミルジメチルアニリン、ｐ－メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
　共増感剤の別の例としては、チオール及びスルフィド類、例えば、特開昭５３－７０２号公報、特公昭５５－５００８０６号公報、特開平５－１４２７７２号公報記載のチオール化合物、特開昭５６－７５６４３号公報のジスルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプト－４（３Ｈ）－キナゾリン、β－メルカプトナフタレン等が挙げられる。
　また、共増感剤の別の例としては、アミノ酸化合物（例、Ｎ－フェニルグリシン等）、特公昭４８－４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５－３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６－３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例、トリチアン等）等が挙げられる。
　共増感剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　これら共増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、硬化性組成物の全固形分の質量に対し、０．１質量％以上３０質量％以下の範囲が好ましく、１質量％以上２５質量％以下の範囲がより好ましく、１．５質量％以上２０質量％以下の範囲が更に好ましい。
［重合禁止剤］
　本発明においては、硬化性組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な重合を阻止するために、重合禁止剤を添加することが好ましい。
　本発明に用いうる重合禁止剤としては、フェノール系水酸基含有化合物、Ｎ－オキシド化合物類、ピペリジン１－オキシルフリーラジカル化合物類、ピロリジン１－オキシルフリーラジカル化合物類、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類、ジアゾニウム化合物類、及びカチオン染料類、スルフィド基含有化合物類、ニトロ基含有化合物類、ＦｅＣｌ３、ＣｕＣｌ２等の遷移金属化合物類が挙げられる。
　更に好ましい態様としては、以下の通りである。
　フェノール系水酸基含有化合物が、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール（ＢＨＴ）、フェノール樹脂類、及びクレゾール樹脂類からなる群より選択される化合物であるのが好ましい。
　Ｎ－オキシド化合物類が、５，５－ジメチル－１－ピロリンＮ－オキシド、４－メチルモルホリンＮ－オキシド、ピリジンＮ－オキシド、４－ニトロピリジンＮ－オキシド、３－ヒドロキシピリジンＮ－オキシド、ピコリン酸Ｎ－オキシド、ニコチン酸Ｎ－オキシド、及びイソニコチン酸Ｎ－オキシドからなる群より選択される化合物であるのが好ましい。
　ピペリジン１－オキシル　フリーラジカル化合物類が、ピペリジン１－オキシルフリーラジカル、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－オキソ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－アセトアミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－マレイミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、及び４－ホスホノキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカルからなる群より選択される化合物であるのが好ましい。
　ピロリジン１－オキシルフリーラジカル化合物類が３－カルボキシプロキシルフリーラジカル（３－カルボキシ－２，２，５，５－テトラメチルピロリジン１－オキシルフリーラジカル）であるのが好ましい。
　Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類が、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びＮ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩からなる化合物群から選択される化合物であるのが好ましい。
　ジアゾニウム化合物類が、４－ジアゾフェニルジメチルアミンの硫酸水素塩、４－ジアゾジフェニルアミンのテトラフルオロホウ酸塩、及び３－メトキシ－４－ジアゾジフェニルアミンのヘキサフルオロリン酸塩からなる群より選択される化合物であるのが好ましい。
　なかでも、好ましくは、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）のフェノール系水酸基含有化合物、ピペリジン１－オキシルフリーラジカル化合物類若しくは、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－オキソ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－アセトアミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－マレイミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、及び４－ホスホノキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカルのピペリジン１－オキシルフリーラジカル化合物、若しくはＮ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びＮ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩のＮ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン化合物であり、より好ましくは、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－オキソ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－アセトアミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、４－マレイミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカル、及び４－ホスホノキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルフリーラジカルのピペリジン１－オキシルフリーラジカル化合物、若しくはＮ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びＮ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩のＮ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン化合物であり、更に好ましくは、－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩及びＮ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩のＮ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン化合物である。
　重合禁止剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　重合禁止剤の好ましい添加量としては、（Ｅ）重合開始剤１００質量部に対して、０．０１質量部以上１０質量部以下であることが好ましく、更に０．０１質量部以上８質量部以下であることが好ましく、０．０５質量部以上５質量部以下の範囲にあることが最も好ましい。
　上記範囲とすることで、非画像部における硬化反応抑制及び画像部における硬化反応促進が充分おこなわれ、画像形成性及び感度が良好となる。
［バインダーポリマー］
　本発明の硬化性組成物は、皮膜特性向上などの観点から、更にバインダーポリマーを含むことが好ましい。
　前記バインダーポリマーとしては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような線状有機ポリマーとしては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可能とするために、水あるいは弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭５９－４４６１５号公報、特公昭５４－３４３２７号公報、特公昭５８－１２５７７号公報、特公昭５４－２５９５７号公報、特開昭５４－９２７２３号公報公報、特開昭５９－５３８３６号公報、特開昭５９－７１０４８号公報に記載されているもの、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独あるいは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独あるいは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解若しくはハーフエステル化若しくはハーフアミド化させた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸及び酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、４－カルボキシルスチレン等があげられ、酸無水物を有するモノマーとしては、無水マレイン酸等が挙げられる。
　また、同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
　本発明において、バインダーポリマーとして、共重合体を用いる場合、共重合させる化合物として、先にあげたモノマー以外の他のモノマーを用いることもできる。他のモノマーの例としては、下記（１）～（１２）の化合物が挙げられる。
　（１）２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、３－ヒドロキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート、３－ヒドロキシプロピルメタクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
　（２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸２－エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸－２－クロロエチル、グリシジルアクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、ビニルアクリレート、２－フェニルビニルアクリレート、１－プロペニルアクリレート、アリルアクリレート、２－アリロキシエチルアクリレート、プロパルギルアクリレート等のアルキルアクリレート。
　（３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸２－エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸－２－クロロエチル、グリシジルメタクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、ビニルメタクリレート、２－フェニルビニルメタクリレート、１－プロペニルメタクリレート、アリルメタクリレート、２－アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
　（４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ－メチロールアクリルアミド、Ｎ－エチルアクリルアミド、Ｎ－ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ－シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ－フェニルアクリルアミド、Ｎ－ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルアクリルアミド、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジアリルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジアリルメタクリルアミド、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
　（５）エチルビニルエーテル、２－クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
　（６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
　（７）スチレン、α－メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ｐ－アセトキシスチレン等のスチレン類。
　（８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
　（９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
　（１０）Ｎ－ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
　（１１）マレイミド、Ｎ－アクリロイルアクリルアミド、Ｎ－アセチルメタクリルアミド、Ｎ－プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ－（ｐ－クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
　（１２）α位にヘテロ原子が結合したメタクリル酸系モノマー。例えば、特開２００２－３０９０５７号、特開２００２－３１１５６９号等の各公報に記載の化合物を挙げる事ができる。
　本発明において、これらのモノマーは本発明の範囲内において特に制限なく組み合わせることによって、共重合体の合成に適用できる。例えば下記にこれらのモノマーを含む単量体成分を重合してなる共重合体の一例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記に示す例示化合物の組成比はモル％である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
　前記バインダーポリマーには、特開２０１２－２０８４９４号公報段落０５６２（対応する米国特許出願公開第２０１２／２３５０９９号明細書の［０６９２］）以降の式（ＥＤ）で表される化合物（エーテルダイマーと称することもある）を必須の単量体成分として重合してなるポリマーの記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　エーテルダイマーの具体例としては、特開２０１２－２０８４９４号公報段落０５６５（対応する米国特許出願公開第２０１２／２３５０９９号明細書の［０６９４］）のエーテルダイマーの記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　また、式（ＥＤ）で表される化合物を必須の単量体成分として重合してなるポリマーの具体例を以下に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記に示す例示化合物の組成比はモル％である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
　本発明では特に、ジメチル－２，２’－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート（以下「ＤＭ」と称する）、ベンジルメタクリレート（以下「ＢｚＭＡ」と称する）、メタクリル酸メチル（以下「ＭＭＡ」と称する）、メタクリル酸（以下「ＭＡＡ」と称する）、グリシジルメタクリレート（以下「ＧＭＡ」と称する）を共重合させた重合体が好ましい。特に、ＤＭ：ＢｚＭＡ：ＭＭＡ：ＭＡＡ：ＧＭＡのモル比が５～１５：４０～５０：５～１５：５～１５：２０～３０であることが好ましい。本発明で用いる共重合体を構成する成分の９５質量％以上がこれらの成分であることが好ましい。また、かかる重合体の重量平均分子量は９０００～２００００であることが好ましい。
　本発明で用いる重合体は、重量平均分子量（ＧＰＣ法で測定されたポリスチレン換算値）が１０００～２×１０５であることが好ましく、２０００～１×１０５であることがより好ましく、５０００～５×１０４であることが更に好ましい。
　これらの中で、側鎖にアリル基やビニルエステル基とカルボキシル基を有する（メタ）アクリル樹脂及び特開２０００－１８７３２２号公報、特開２００２－６２６９８号公報に記載されている側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂や、特開２００１－２４２６１２号公報に記載されている側鎖にアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。上述のポリマーの例としては、ダイヤナ－ルＮＲシリーズ（三菱レイヨン株式会社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有　ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ　ａｃｒｙｌｉｃ　ｏｌｉｇｏｍｅｒ．　Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｓｈａｍｒｏｃｋ　Ｃｏ．Ｌｔｄ．，製）、ビスコートＲ－２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰ　ＡＣＡ２３０ＡＡ等のサイクロマーＰシリーズ、プラクセル　ＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル化学工業株式会社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）などが挙げられる。
　また、特公平７－１２００４号公報、特公平７－１２００４１号公報、特公平７－１２００４２号公報、特公平８－１２４２４号公報、特開昭６３－２８７９４４号公報、特開昭６３－２８７９４７号公報、特開平１－２７１７４１号公報等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーや、特開２００２－１０７９１８号公報に記載される酸基と二重結合を側鎖に有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、膜強度の点で有利である。
　また、欧州特許第９９３９６６号、欧州特許第１２０４０００号、特開２００１－３１８４６３号公報等に記載の酸基を有するアセタール変性ポリビニルアルコール系バインダーポリマーも、膜強度に優れており、好適である。
　更にこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや２，２－ビス－（４－ヒドロキシフェニル）－プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
　本発明の硬化性組成物で使用しうるバインダーポリマーの重量平均分子量（ＧＰＣ法で測定されたポリスチレン換算値）としては、好ましくは５，０００以上であり、更に好ましくは１万以上３０万以下の範囲であり、数平均分子量については好ましくは１，０００以上であり、更に好ましくは２，０００以上２５万以下の範囲である。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、更に好ましくは１．１以上１０以下の範囲である。
　これらのバインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい。
　本発明で用いうるバインダーポリマーは、従来公知の方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２－メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、１－メトキシ－２－プロパノール、１－メトキシ－２－プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は２種以上混合して用いられる。
　本発明の硬化性組成物において用いうるバインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が挙げられる。
　本発明の硬化性組成物において、バインダーポリマーは、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　本発明の硬化性組成物は、バインダーポリマーを含有してもしなくても良いが、含有する場合、硬化性組成物の全固形分に対して、バインダーポリマーの含有量は、１質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、４質量％以上２０質量％以下であることが更に好ましい。
［界面活性剤］
　本発明の硬化性組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
　特に、本発明の硬化性組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
　即ち、フッ素系界面活性剤を含有する感光性透明組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３質量％～４０質量％が好適であり、より好ましくは５質量％～３０質量％であり、特に好ましくは７質量％～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、硬化性組成物中における溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ－３８１、同ＳＣ－３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
　ノニオン系界面活性剤として具体的には、特開２０１２－２０１６４３号公報段落０２５２等に記載のノニオン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　カチオン系界面活性剤として具体的には、特開２０１２－２０１６４３号公報段落０２５３等に記載のカチオン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
　アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング（株）製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ」、「トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ８４００」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「ＴＳＦ－４４４０」、「ＴＳＦ－４３００」、「ＴＳＦ－４４４５」、「ＴＳＦ－４４６０」、「ＴＳＦ－４４５２」、信越シリコーン株式会社製「ＫＰ３４１」、「ＫＦ６００１」、「ＫＦ６００２」、ビックケミー社製「ＢＹＫ３０７」、「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」等が挙げられる。
　界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。
　硬化性組成物は、界面活性剤を含有してもしなくても良いが、含有する場合、界面活性剤の添加量は、硬化性組成物の全質量に対して、０．００１質量％～２．０質量％が好ましく、より好ましくは０．００５質量％～１．０質量％である。
［その他の添加剤］
　更に、硬化性組成物に対しては、硬化皮膜の物性を改良するために可塑剤や感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
　その他の添加剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。
　可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、バインダーポリマーを使用した場合、重合性化合物とバインダーポリマーとの合計質量に対し１０質量％以下添加することができる。
［紫外線吸収剤］
　本発明の硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤としては、共役ジエン系化合物である下記一般式（Ｉ）で表される化合物が特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
　前記一般式（Ｉ）において、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、又は炭素原子数６～２０のアリール基を表し、Ｒ１とＲ２とは互いに同一でも異なっていてもよいが、同時に水素原子を表すことはない。
　また、Ｒ１及びＲ２は、Ｒ１及びＲ２が結合する窒素原子と共に、環状アミノ基を形成してもよい。環状アミノ基としては、例えば、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、ヘキサヒドロアゼピノ基、ピペラジノ基等が挙げられる。
　前記一般式（Ｉ）において、Ｒ３及びＲ４は、電子求引基を表す。ここで電子求引基は、ハメットの置換基定数σｐ値（以下、単に「σｐ値」という。）が、０．２０以上１．０以下の電子求引性基である。好ましくは、σｐ値が０．３０以上０．８以下の電子求引性基である。
　ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために、１９３５年にＬ．　Ｐ．　Ｈａｍｍｅｔｔにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則により求められた置換基定数には、σｐ値とσｍ値とがあり、これらの値は多くの一般的な成書に記載があるが、例えば、Ｊ．Ａ．　Ｄｅａｎ編「Ｌａｎｇｅ’ｓ　Ｈａｎｄｂｏｏｋ　ｏｆ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」第１２版、１９７９年（Ｍｃ　Ｇｒａｗ－Ｈｉｌｌ）や「化学の領域増刊」、１２２号、９６～１０３頁、１９７９年（南江堂）、Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｒｅｖｉｅｗｓ，　９１巻、１６５頁～１９５頁、１９９１年に詳しい。本発明では、これらの成書に記載の文献既知の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合にその範囲内に含まれる限り包含されることは勿論である。
　前記σｐ値が、０．２０以上１．０以下の電子求引性基の具体例としては、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアリールホスフィニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルコキシ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアリールオキシ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルアミノ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルチオ基、σｐ値０．２０以上の他の電子求引性基で置換されたアリール基、複素環基、塩素原子、臭素原子、アゾ基、又はセレノシアネート基が挙げられる。
　また、Ｒ３及びＲ４は互いに結合して環を形成してもよい。
　また、上記のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４の少なくとも１つは、連結基を介して、ビニル基と結合したモノマーより導かれるポリマーの形になっていてもよい。他のモノマーとの共重合体であっても良い。共重合体の場合、他のモノマーとしては、アクリル酸、α―クロロアクリル酸、α―アルアクリル酸（例えば、メタアクリル酸などのアクリル酸類から誘導されるエステル、好ましくは低級アルキルエステル及びアミド例えばアクリルアミド、メタアクリルアミド、ｔ－ブチルアクリルアミド、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタアクリレート、ｎ－プロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、２－エチルへキシルアクリレート、ｎ－へキシルアクリレート、オクチルメタアクリレート、及びラウリルメタアクリレート、メチレンビスアクリルアミド等）、ビニルエステル（例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート及びビニルラウレート等）、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、芳香族ビニル化合物（例えば、スチレン及びその誘導体、例えばビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ビニルアセトフェノン、スルホスチレン、及びスチレンスルフィン酸等）、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル（例えば、ビニルエチルエーテル等）、マレイン酸エステル、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン、Ｎ－ビニルピリジン、２－及び４－ビニルピリジン等がある。
　上記他のモノマー化合物の２種以上を一緒に併用することも出来る。例えば、ｎ－ブチルアクリレートとジビニルベンゼン、スチレンとメチルメタアクリレート、メチルアクリレートとメタアクリレート酸等を併用できる。
　一般式（Ｉ）で表される紫外線吸収剤は、特公昭４４－２９６２０号、特開５３－１２８３３３号、特開昭６１－１６９８３１号、特開昭６３－５３５４３、特開昭６３－５３５４４号、特開昭６３－５６６５１号等の各公報、ＷＯ２００９／１２３１０９号パンフレットに記載されている方法により合成することができる。具体的にはＷＯ２００９／１２３１０９号パンフレット段落番号００４０に記載の方法で上記例示化合物（１）を合成することができる。
　本発明の硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含有してもしなくても良いが、含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１質量％～１０質量％が好ましく、０．１質量％～５質量％がより好ましく、０．１質量％～３質量％が特に好ましい。
　また、本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
　本発明の硬化性組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタで濾過することが好ましい。従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素樹脂、ナイロン－６、ナイロン－６，６等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）等によるフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）が好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．０１～２．５μｍ程度、更に好ましくは０．０１～１．５μｍ程度である。この範囲とすることにより、溶解した顔料等に混入しており、後工程において均一及び平滑な硬化性組成物の調製を阻害する、微細な異物を確実に除去することが可能となる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせても良い。その際、第１のフィルタでのフィルタリングは、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。異なるフィルターを組み合わせて２回以上フィルタリングを行う場合は１回目のフィルタリングの孔径より２回目以降の孔径が大きい方が好ましい。また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
　第２のフィルタは、上述した第１のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。第２のフィルタの孔径は、０．５～７．０μｍ程度が適しており、好ましくは２．５～７．０μｍ程度、更に好ましくは４．５～６．０μｍ程度である。この範囲とすることにより、混合液に含有されている成分粒子を残存させたまま、混合液に混入しており、後工程でおいて均一及び平滑な硬化性組成物の調製を阻害する異物を除去することができる。
　例えば、第１のフィルタでのフィルタリングは、分散液のみで行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタリングを行ってもよい。
＜硬化膜＞
　本発明の硬化膜は、前述の硬化性組成物を硬化して得られた硬化膜である。
　本発明の硬化膜は、層間絶縁膜として好適に用いることができる。また、本発明の硬化膜は、後述の本発明の硬化膜の製造方法により得られた硬化膜であることが好ましい。
　本発明の硬化性組成物により、絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する層間絶縁膜が得られる。本発明の硬化性組成物を用いてなる層間絶縁膜は、高い透明性を有し、硬化膜物性に優れるため、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置の用途に有用である。
　本発明の硬化膜は、マイクロレンズ、光導波路、反射防止膜、ＬＥＤ用封止材及びＬＥＤ用チップコート材等の光学部材、又は、タッチパネルに使用される配線電極の視認性低減用硬化物として好適に用いることができる。
　また、本発明の硬化膜は、例えば、後述するような、液晶表示装置又は有機ＥＬ装置等における平坦化膜や層間絶縁膜、カラーフィルターの保護膜、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサー、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ　Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ　Ｓｙｓｔｅｍｓ）デバイスの構造部材等に好適に用いることができる。
［透明膜（硬化膜）の製造方法］
　本発明の透明膜の製造方法としては、前述の硬化性組成物をウエハ上にスプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、バー塗布法等で塗布する工程、
　続く第一の加熱工程、及び
　更に続いてより高い温度での第二の加熱工程を有する。
　第一の加熱工程における条件としては、マイクロレンズの製造方法における（イ）工程におけるプリベーク条件として後述する条件と同様である。
　第二の加熱工程における条件としては、マイクロレンズの製造方法における（ニ）工程におけるポストベーク条件として後述する条件と同様である。
＜マイクロレンズ＞
　本発明の硬化性組成物は、高屈折率で高透過率な透明膜を形成可能であるため、例えば、マイクロレンズ及びマイクロレンズアレイの形成に極めて好適に使用することができる。
　すなわち、本発明の硬化性組成物は、マイクロレンズ形成用であることが好ましい。
　また、本発明は、本発明の硬化性組成物を用いて形成された透明膜を用いて形成されたマイクロレンズにも関する。
［マイクロレンズの製造方法］
　本発明の硬化性組成物を用いたマイクロレンズの製造方法には、特に制限はなく通常用いられる方法を適用することができ、例えば、前述の透明膜をポストベーク処理し整形する工程、更にドライエッチング工程を有する製造方法などが挙げられる。
　透明膜をポストベーク処理し整形する工程としては、（ｆ）工程として詳細に後述するものと同様である。
　ドライエッチング工程としては、（ｇ）工程として詳細に後述するものと同様である。
　本発明の硬化性組成物を用いたマイクロレンズの製造方法の好ましい１つの態様として、少なくとも下記（イ）～（ニ）の工程を含む製造方法が挙げられる。
　（イ）本発明の硬化性組成物の塗膜を基板上に形成する工程。
　（ロ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程。
　（ハ）照射後の塗膜を現像する工程。
　（ニ）現像後の塗膜を加熱する工程。
　以下、これらの工程について説明する。
（イ）工程
　この工程においては、硬化性組成物を、好ましくは液状組成物として、基板表面に塗布し、プリベークを行うことにより溶媒を除去して、基板上に塗膜を形成する。
　前記基板としては、例えば、ガラス基板、シリコンウエハーや、これらの表面に各種金属層が形成された基板、イメージセンサー用オンチップカラーフィルターが塗布された基板等を挙げることができる。
　塗布方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法等の適宜の方法を採用することができる。
　プリベークの条件としては、各成分の種類や使用量等によっても異なるが、通常、６０～１２０℃で３０秒～１５分間程度である。形成される塗膜の膜厚は、プリベーク後の値として、０．５～２０μｍ程度が好ましい。
（ロ）工程
　この工程においては、形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する。
　塗膜の一部のみに放射線を照射する際には、所定のパターンを有するマスクを介して照射する。
　照射する放射線としては、例えば、ｇ線、ｉ線等の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷電粒子線等を使用することができるが、これらのうち紫外線が好ましい。
　露光量は、硬化性組成物の構成等に応じて適宜選択できるが、５０～２，０００Ｊ／ｍ２程度が好ましい。
（ハ）工程
　この工程においては、露光後の塗膜を現像液、好ましくはアルカリ現像液により現像して、放射線の未照射部分を除去することにより、所定形状のパターンを形成させる。
　前記アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ－プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン、ジ－ｎ－ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラペンチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ブチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、メチルトリアミルアンモニウムヒドロキシド、ジブチルジペンチルアンモニウムヒドロキシド等のテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩、ピロール、ピヘリジン等の環状アミン類等のアルカリ性水溶液を使用することができる。これらアルカリ性水溶液は単独で又は２種以上混合して用いることができる。また、アルカリ現像液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒、界面活性剤や各種有機溶媒を添加して使用することができる。
　現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を採用することができる。なお、アルカリ現像液で現像したのちは、通常、例えば流水洗浄等により洗浄する。
　現像時間は、硬化性組成物の構成、現像液の構成によって異なるが、通常、常温で３０～１２０秒間程度である。
（ニ）工程
　この工程においては、現像後の塗膜を、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により加熱（ポストベーク）することにより、当該塗膜を硬化させる。
　このポストベークにおいて、加熱温度は、通常、１２０～２５０℃、好ましくは１６０～２３０℃である。また加熱時間は、加熱手段により異なるが、ホットプレート上で加熱する場合、通常５～３０分間程度であり、オーブン中で加熱する場合、通常、３０～９０分間程度である。
　また、ポストベークに際しては、２回以上加熱するステップベーク法等を採用することもできる。
　本発明の硬化性組成物を用いたマイクロレンズの製造方法の好ましい別の態様として、少なくとも下記（ａ）～（ｇ）の工程を含む形成方法が挙げられる。
（ａ）本発明の硬化性組成物を用いて、カラーフィルター等の基材上に塗布膜を形成する工程
（ｂ）上記の塗布膜を加熱して、塗布膜の乾燥（又は、乾燥及び硬化）を行うか、上記の塗布膜を適切な波長の光源（ｇ線、ｉ線等）により露光し硬化させるかの少なくともいずれかを行うことにより、高屈折率膜（透明膜）を得る工程
（ｃ）上記加熱後の高屈折率膜上にレジスト塗膜を形成する工程
（ｄ）上記レジスト塗膜を、適切な波長の光源（ｇ線、ｉ線等）により露光する工程
（ｅ）上記露光後のレジスト塗膜を現像し、レジストパターンを形成する工程
（ｆ）後加熱により上記レジストパターンをレンズ状に整形させる工程
（ｇ）ドライエッチングにより、上記レジストパターンと、上記高屈折率膜の一部を除去することにより、高屈折率膜をレンズ状に整形する工程
　以下、これらの工程について説明する。
－（ａ）工程－
　この工程においては、本発明の硬化性組成物を、カラーフィルター等の基材上に塗布して、塗布膜を形成する。
　塗布方法としては、前記工程（イ）と同様の方法が挙げられる。
－（ｂ）工程－
　この工程において、塗布膜の加熱の好ましい一実施形態としては、プリベークとポストベークの２段階の加熱処理が挙げられる。
　プリベークの条件としては、各成分の種類や使用量等によっても異なるが、通常、６０～１２０℃で３０秒～１５分間程度である。形成される塗膜の膜厚は、プリベーク後の値として、０．５～２０μｍ程度が好ましい。このプリベークの工程は省略されることもある。
　次いで、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により加熱（ポストベーク）することにより、当該塗布膜を硬化させる。ポストベークの条件としては、通常、１２０℃～３００℃で３０秒～６０分間程度である。なお、ポストベーク工程の前に露光を行うことにより、硬化を促進してもよい。
　上記の塗布膜を適切な波長の光源（ｇ線、ｉ線等）により露光し硬化させる場合において、照射する放射線としては、前記工程（ロ）と同様な放射線種及び露光量が挙げられる。
－（ｃ）工程－
　この工程においては、高屈折率膜の上にレジスト塗膜を形成する。このレジストとしては、一般に市販されている、紫外線露光によりパターン形成可能なレジストが使用可能である。このレジスト塗膜に対し、（ａ）工程と同様にプリベークを実施する。
－（ｄ）工程－
　この工程においては、上記塗膜に対しマスクを使用してパターン状に露光する。照射する放射線としては、前記工程（ロ）と同様な放射線種及び露光量が挙げられる。
－（ｅ）工程－
　この工程においては、露光後のレジスト塗膜を現像液、好ましくはアルカリ現像液により現像して、放射線の未照射部分あるいは照射部分を除去することにより、所定形状のパターンを形成させる。
　前記アルカリ現像液としては、前記工程（ハ）と同様なアルカリ現像液が挙げられる。
　現像方法としては、工程（ハ）について前述した方法と同様の方法が挙げられる。
　現像時間としては、工程（ハ）について前述したものと同様である。
－（ｆ）工程－
　この工程においては、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により後加熱（ポストベーク）することにより、上記パターン形成後のレジストをレンズ状に変形させる。ポストベークの条件としては、通常、１２０℃～３００℃で３０秒～６０分間程度である。また、レンズ状に変形させるため、２回以上加熱するステップベーク法等を採用することもできる。
－（ｇ）工程－
　ドライエッチングは、公知の方法（たとえば特開２０１０－２０４１５４号公報）により実行することができる。
　ドライエッチングのガスとしては、例えば、以下のエッチングガスの使用が好ましい。ＣＦ４、ＣＨＦ３、ＳＦ６、Ｃｌ２、Ｃ２Ｆ６、Ｃ４Ｆ６、Ｃ４Ｆ８、Ｃ５Ｆ８、Ｈ２、Ｎ２、ＮＨ３。これらの中から１種のガスを選択して用いることができ、また、２種以上のガスを組合せて用いることができる。更に、これらの中でも、被エッチング部分の矩形性維持の観点から、フッ素系ガスはＣＦ４、Ｃ４Ｆ６、Ｃ２Ｆ６、Ｃ４Ｆ８、及びＣＨＦ３の群から選ばれる少なくとも１種以上であることが好ましく、ＣＦ４又はＣ４Ｆ６がより好ましく、最も好ましいのがＣＦ４及びＣ４Ｆ６の混合ガスである。
　また、ドライエッチングで用いる混合ガスは、エッチングプラズマの分圧コントロール安定性、及び被エッチング形状の垂直性を維持する観点から、上述のフッ素系ガス及び酸素ガスに加え、他のガスを含むことが好ましい。他のガスとしては、ヘリウム（Ｈｅ）、ネオン（Ｎｅ）、アルゴン（Ａｒ）、クリプトン（Ｋｒ）、キセノン（Ｘｅ）などの希ガス、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等のハロゲン原子を含むハロゲン系ガス（例えば、ＣＣｌ４、ＣＣｌＦ３、ＡｌＦ３、ＡｌＣｌ３等）、Ｎ２、ＣＯ、及びＣＯ２の群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、Ｈｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｎ２、及びＸｅの群から選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましく、Ｈｅ、Ａｒ、及びＸｅの群から選ばれる少なくとも１種を含むことが更に好ましい。
　なお、エッチングプラズマの分圧コントロール安定性、及び被エッチング形状の垂直性を維持することが可能である場合は、ドライエッチングで用いる混合ガスは、フッ素系ガス及び酸素ガスのみからなるものであってもよい。
　このようにして、目的とするマイクロレンズを製造することができる。
　本発明のマイクロレンズの製造方法によると、優れた特性（例えば、高屈折率と高透過性）を有する高精細なマイクロレンズ及びマイクロレンズアレイを高い製品歩留りで簡便に形成することができる。
＜カラーフィルターの下塗り膜＞
　また、本発明の硬化性組成物は、カラーフィルターの下塗り膜としても使用することができる。本発明の硬化性組成物は、透明かつ平坦な塗膜が形成できるため、下塗り膜として好適に使用できる。
　すなわち、本発明の硬化性組成物は、カラーフィルターの下塗り膜用であることも好ましい。
　この下塗り膜は、下記工程にて形成されるカラーフィルターの下塗り膜であることが好ましい。
（イ’）本発明の硬化性組成物を用いて、デバイスが形成された基板上に塗布膜を形成する工程
（ロ’）上記の塗布膜を加熱して、塗布膜の乾燥（又は、乾燥及び硬化）を行うことにより、透明膜を得る工程
（ハ’）上記の透明膜上に、公知の方法にてカラーフィルターを形成する工程
　塗布膜及び透明膜の形成は、上記＜マイクロレンズ＞で説明した方法に準じて行うことができる。
　本発明におけるマイクロレンズ及びカラーフィルターの下塗り膜は、本発明の硬化性組成物から形成されたものであり、優れた特性バランスを有しており、各種のＯＡ機器、液晶テレビ、携帯電話、プロジェクター等の液晶表示素子、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子等のオンチップカラーフィルターの結像光学系、光ファイバコネクタ等に極めて好適に使用することができる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、既述の本発明の硬化性組成物を用いて形成されたマイクロレンズを備えることを特徴とする。
　本発明の固体撮像素子は、高屈折率で高透過性のマイクロレンズを備えているため、ノイズを低減でき、優れた色再現性を示す。
　本発明の固体撮像素子は、本発明の硬化性組成物を用いて形成されたマイクロレンズを備えた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば、特に限定はなく、例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有するとともに、カラーフィルターの下に上記下塗り膜を備えた構成、カラーフィルター上に前記マイクロレンズが備えた構成等が挙げられる。
　本発明の固体撮像素子の製造方法としては特に制限はないが、１つの好ましい態様としては、少なくともフォトダイオード、遮光膜、及びデバイス保護膜を有する固体撮像素子用基板に、赤色画素、青色画素、及び緑色画素を形成する工程、
　前述の硬化性組成物を塗布し加熱する工程、
　レジストパターンを形成する工程、
　ポストベーク処理し、形成したレジストパターンをレンズ状の形状に整形する工程、及び
　ドライエッチング工程
　を有する。
　硬化性組成物を塗布し加熱する工程としては、前述のマイクロレンズの製造方法における（ａ）工程及び（ｂ）工程における基材上に塗布膜を形成するステップ及び塗布膜を加熱して、塗布膜の乾燥（又は、乾燥及び硬化）を行うステップと同様である。
　レジストパターンを形成する工程としては、前述のマイクロレンズの製造方法における（ｄ）工程及び（ｅ）工程と同様である。
　ポストベーク処理し、形成したレジストパターンをレンズ状の形状に整形する工程としては、前述のマイクロレンズの製造方法における（ｆ）工程と同様である。
　ドライエッチング工程としては、前述のマイクロレンズの製造方法における（ｇ）工程と同様である。
＜液晶表示装置＞
　本発明の液晶表示装置は、前述した本発明の硬化膜を具備することを特徴とする。
　本発明の液晶表示装置としては、本発明の硬化性組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の液晶表示装置を挙げることができる。
　例えば、本発明の液晶表示装置が具備するＴＦＴ（Ｔｈｉｎ－Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）の具体例としては、アモルファスシリコン－ＴＦＴ、低温ポリシリコン－ＴＦＴ、酸化物半導体ＴＦＴ等が挙げられる。本発明の硬化膜は電気特性に優れるため、これらのＴＦＴに組み合わせて好ましく用いることができる。
　また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶駆動方式としてはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｃｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｓ　Ｆｉｅｌｄ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ　Ｂｅｎｄ）方式などが挙げられる。
　パネル構成においては、ＣＯＡ（Ｃｏｌｏｒ　Ｆｉｌｔｅｒ　ｏｎ　Ａｌｌａｙ）方式の液晶表示装置でも本発明の硬化膜を用いることができ、例えば、特開２００５－２８４２９１号公報に記載の有機絶縁膜（１１５）や、特開２００５－３４６０５４号公報に記載の有機絶縁膜（２１２）として用いることができる。
　また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶配向膜の具体的な配向方式としてはラビング配向法、光配向方などが挙げられる。また、特開２００３－１４９６４７号公報や特開２０１１－２５７７３４号公報に記載のＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）技術によってポリマー配向支持されていてもよい。
　図１は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置１０の一例を示す概念的断面図である。このカラー液晶表示装置１０は、背面にバックライトユニット１２を有する液晶パネルであって、液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた２枚のガラス基板１４，１５の間に配置されたすべての画素に対応するＴＦＴ１６の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜１７中に形成されたコンタクトホール１８を通して、画素電極を形成するＩＴＯ透明電極１９が配線されている。ＩＴＯ透明電極１９の上には、液晶２０の層とブラックマトリックスを配置したＲＧＢカラーフィルター２２が設けられている。
　バックライトの光源としては、特に限定されず公知の光源を用いることができる。例えば白色ＬＥＤ、青色・赤色・緑色などの多色ＬＥＤ、蛍光灯（冷陰極管）、有機ＥＬなどを挙げることができる。
　また、液晶表示装置は、３Ｄ（立体視）型のものとしたり、タッチパネル型のものとしたりすることも可能である。更にフレキシブル型にすることも可能であり、特開２０１１－１４５６８６号公報に記載の第２相間絶縁膜（４８）や、特開２００９－２５８７５８号公報に記載の相間絶縁膜（５２０）として用いることができる。
＜有機ＥＬ表示装置＞
　本発明の有機ＥＬ表示装置は、前述した本発明の硬化膜を具備することを特徴とする。
　本発明の有機ＥＬ表示装置としては、本発明の硬化性組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。
　例えば、本発明の有機ＥＬ表示装置が具備するＴＦＴ（Ｔｈｉｎ－Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）の具体例としては、アモルファスシリコン－ＴＦＴ、低温ポリシリコン－ＴＦＴ、酸化物半導体ＴＦＴ等が挙げられる。本発明の硬化膜は電気特性に優れるため、これらのＴＦＴに組み合わせて好ましく用いることができる。
　図２は、有機ＥＬ表示装置の一例の構成概念図である。ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜４を有している。
　ガラス基板６上にボトムゲート型のＴＦＴ１を形成し、このＴＦＴ１を覆う状態でＳｉ３Ｎ４から成る絶縁膜３が形成されている。絶縁膜３に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してＴＦＴ１に接続される配線２（高さ１．０μｍ）が絶縁膜３上に形成されている。配線２は、ＴＦＴ１間、又は、後の工程で形成される有機ＥＬ素子とＴＦＴ１とを接続するためのものである。
　更に、配線２の形成による凹凸を平坦化するために、配線２による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜３上に平坦化層４が形成されている。
　平坦化膜４上には、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子が形成されている。すなわち、平坦化膜４上に、ＩＴＯからなる第一電極５が、コンタクトホール７を介して配線２に接続させて形成されている。また、第一電極５は、有機ＥＬ素子の陽極に相当する。
　第一電極５の周縁を覆う形状の絶縁膜８が形成されており、この絶縁膜８を設けることによって、第一電極５とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
　更に、図２には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にＡｌから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機ＥＬ素子にこれを駆動するためのＴＦＴ１が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置が得られる。
　本発明の硬化性組成物は、硬化性及び硬化膜特性に優れるため、ＭＥＭＳデバイスの構造部材として、本発明の硬化性組成物を用いて形成されたレジストパターンを隔壁としたり、機械駆動部品の一部として組み込んで使用される。このようなＭＥＭＳ用デバイスとしては、例えば、ＳＡＷ（ｓｕｒｆａｃｅ　ａｃｏｕｓｔｉｃ　ｗａｖｅ）フィルター、ＢＡＷ（ｂｕｌｋ　ａｃｏｕｓｔｉｃ　ｗａｖｅ）フィルター、ジャイロセンサー、ディスプレイ用マイクロシャッター、イメージセンサー、電子ペーパー、インクジェットヘッド、バイオチップ、封止剤等の部品が挙げられる。より具体的な例は、特表２００７－５２２５３１号公報、特開２００８－２５０２００号公報、特開２００９－２６３５４４号公報等に例示されている。
　本発明の硬化性組成物は、平坦性や透明性に優れるため、例えば、特開２０１１－１０７４７６号公報の図２に記載のバンク層（１６）及び平坦化膜（５７）、特開２０１０－９７９３号公報の図４（ａ）に記載の隔壁（１２）及び平坦化膜（１０２）、特開２０１０－２７５９１号公報の図１０に記載のバンク層（２２１）及び第３層間絶縁膜（２１６ｂ）、特開２００９－１２８５７７号公報の図４（ａ）に記載の第２層間絶縁膜（１２５）及び第３層間絶縁膜（１２６）、特開２０１０－１８２６３８号公報の図３に記載の平坦化膜（１２）及び画素分離絶縁膜（１４）などの形成に用いることもできる。
＜タッチパネル表示装置＞
　本発明のタッチパネル表示装置は、本発明の硬化膜を有する静電容量型入力装置を具備する。また、本発明の静電容量型入力装置は、本発明の硬化膜を有することを特徴とする。
　本発明の静電容量型入力装置は、前面板と、上記前面板の非接触側に、少なくとも下記（１）～（５）の要素を有し、上記（４）が本発明の硬化物であることが好ましい。
　（１）マスク層
　（２）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
　（３）上記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、上記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン
　（４）上記第一の透明電極パターンと上記第二の透明電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
　（５）上記第一の透明電極パターン及び上記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、上記第一の透明電極パターン及び上記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素
　本発明の静電容量型入力装置は、更に上記（１）～（５）の要素の全て又は一部を覆うように透明保護層を設置することが好ましく、上記透明保護層が本発明の硬化膜であることがより好ましい。
　まず、静電容量型入力装置の構成について説明する。図３は、静電容量型入力装置の構成を示す断面図である。図３において静電容量型入力装置３０は、前面板３１と、マスク層３２と、第一の透明電極パターン３３と、第二の透明電極パターン３４と、絶縁層３５と、導電性要素３６と、透明保護層３７と、から構成されている。
　前面板３１は、ガラス基板等の透光性基板で構成されており、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、図３において、前面板３１の各要素が設けられている側を非接触面と称する。本発明の静電容量型入力装置３０においては、前面板３１の接触面（非接触面の反対の面）に指などを接触などさせて入力が行われる。以下、前面板を、「基材」と称する場合がある。
　また、前面板３１の非接触面上にはマスク層３２が設けられている。マスク層３２は、タッチパネル前面板の非接触側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにするために形成される。
　本発明の静電容量型入力装置には、図４に示すように、前面板３１の一部の領域（図４においては入力面以外の領域）を覆うようにマスク層３２が設けられている。更に、前面板３１には、図４に示すように一部に開口部３８を設けることができる。開口部３８には、押圧によるメカニカルなスイッチを設置することができる。
　図５に示すように、前面板３１の接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン３３と、第一の透明電極パターン３３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン３４と、第一の透明電極パターン３３と第二の透明電極パターン３４を電気的に絶縁する絶縁層３５とが形成されている。上記第一の透明電極パターン３３と、第二の透明電極パターン３４と、後述する導電性要素３６とは、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ２等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０～２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。また、上記第一の透明電極パターン３３と、第二の透明電極パターン３４と、後述する導電性要素３６とは、上記導電性繊維を用いた硬化性組成物を有する光硬化性転写材料を用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落［００１４］～［００１６］等を参考にすることができる。
　また、第一の透明電極パターン３３及び第二の透明電極パターン３４の少なくとも一方は、前面板３１の非接触面及びマスク層３２の前面板３１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図３においては、第二の透明電極パターンが、前面板３１の非接触面及びマスク層３２の前面板３１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置されている図が示されている。
　図５を用いて第一の透明電極パターン３３及び第二の透明電極パターン３４について説明する。図５は、本発明における第一の透明電極パターン及び第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。図５に示すように、第一の透明電極パターン３３は、パッド部分３３ａが接続部分３３ｂを介して第一の方向に延在して形成されている。また、第二の透明電極パターン３４は、第一の透明電極パターン３３と絶縁層３５によって電気的に絶縁されており、第一の方向に交差する方向（図５における第二の方向）に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の透明電極パターン３３を形成する場合、上記パッド部分３３ａと接続部分３３ｂとを一体として作製してもよいし、接続部分３３ｂのみを作製して、パッド部分３３ａと第二の透明電極パターン３４とを一体として作製（パターニング）してもよい。パッド部分３３ａと第二の透明電極パターン３４とを一体として作製（パターニング）する場合、図５に示すように接続部分３３ｂの一部とパッド部分３３ａの一部とが連結され、かつ、絶縁層３５によって第一の透明電極パターン３３と第二の透明電極パターン３４とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。
　図３において、マスク層３２の前面板３１とは逆側の面側には導電性要素３６が設置されている。導電性要素３６は、第一の透明電極パターン３３及び第二の透明電極パターン３４の少なくとも一方に電気的に接続され、かつ、第一の透明電極パターン３３及び第二の透明電極パターン３４とは別の要素である。図３においては、導電性要素３６が第二の透明電極パターン３４に接続されている図が示されている。
　また、図３においては、各構成要素の全てを覆うように透明保護層３７が設置されている。透明保護層３７は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層３５と透明保護層３７とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。
＜静電容量型入力装置、及び、静電容量型入力装置を具備したタッチパネル表示装置＞
　本発明の製造方法によって得られる静電容量型入力装置、及び当該静電容量型入力装置を構成要素として備えたタッチパネル表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　２００９　Ｆｏｒｕｍ　Ｔ－１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ　アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。
　以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
　また、実施例中、酸価は電位差法（溶媒テトラヒドロフラン／水＝５４／６（体積比）、滴定液　０．１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（酸価）により決定した。
　また、以降における重量平均分子量の測定は、ＨＰＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー製）、ガードカラム：ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ　ＳｕｐｅｒＨＺ－Ｌ、カラム：ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｍ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ３０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２０００を直結し、カラム温度４０℃、試料濃度０．１質量％のテトラヒドロフラン溶液を１０μｌ注入し、溶出溶媒としてテトラヒドロフランを毎分０．３５ｍｌの流量でフローさせ、ＲＩ検出装置にて試料ピークを検出することで行った。標準ポリスチレンを用いて作製した検量線を用いて計算した。
（合成例１）高分子化合物（Ｃ－１）の合成
　特開２００７－２７７５１４号公報段落０２６６～０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０２８９～０４２９）に記載の合成方法に準じて、高分子化合物（Ｃ－１）を合成した。具体的には以下の通りである。
　ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）〔（３３）；堺化学工業（株）製〕１００部、及び、下記の吸着部位を有しかつ炭素－炭素二重結合を有する化合物（Ａ－３）９１．３８部を、１－メトキシ－２－プロパノール４４６．６部に溶解させ、窒素気流下、９０℃に加熱した。このときの仕込比はモル比で１．０：５．５であった。
　これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．８１部を加えて２時間加熱した。更に、Ｖ－６０１を０．８１部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。室温（２５℃）まで冷却することで、化合物（３３）の硫黄原子のうちの一部に化合物（Ａ－３）が付加したメルカプタン化合物（Ｂ－１）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
　上記メルカプタン化合物（Ｂ－１）の３０質量％溶液４９９．５７部、及びメタクリル酸メチル（Ｍ－１）１００．１３部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．６８１部をプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート７２．７３部に溶解した液を２時間かけて滴下し、続いて９０℃で２時間加熱した。更にＶ－６０１を０．２３０部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させ、再びＶ－６０１を０．２３０部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。その後、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート１６０．９部を加え、室温まで冷却することにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－１：ポリスチレン換算の重量平均分子量３３００、酸価２４１ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
（合成例２）高分子化合物（Ｃ－３４）の合成
　特開２００７－２７７５１４号公報段落０２６６～０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０２８９～０４２９）に記載の合成方法に準じて、高分子化合物（Ｃ－３４）を合成した。具体的には以下の通りである。
　ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）〔（３３）；堺化学工業（株）製〕６５．０部、及び、下記の吸着部位を有しかつ炭素－炭素二重結合を有する化合物（Ａ－１６）４４．５部、（Ａ－３）２７．０部を、１－メトキシ－２－プロパノール３１８．４部に溶解させ、窒素気流下、９０℃に加熱した。このときの（３３）と（Ａ－１６）と（Ａ－３）との仕込比はモル比で１．０：２．５：２．５であった。
　これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．４７８部を加えて２時間加熱した。更に、Ｖ－６０１を０．４７８部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。室温まで冷却することで、化合物（３３）の硫黄原子のうちの一部に化合物（Ａ－３）及び（Ａ－１６）が付加したメルカプタン化合物（Ｂ－３４）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
　前記メルカプタン化合物（Ｂ－３４）の３０質量％溶液１５０．３部、及びメタクリル酸メチル（Ｍ－１）５４．９部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．３７９部をプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート３９．９部に溶解した液を２時間かけて滴下し、続いて９０℃で２時間加熱した。更にＶ－６０１を０．１２６部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させ、再びＶ－６０１を０．１２６部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。その後、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート８８．３部を加え、室温まで冷却することにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－３４：ポリスチレン換算の重量平均分子量４４００、酸価７７ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
（合成例３）高分子化合物（Ｃ－３５）の合成
　特開２００７－２７７５１４号公報段落０２６６～０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０２８９～０４２９）に記載の合成方法に準じて、高分子化合物（Ｃ－３５）を合成した。具体的には以下の通りである。
　ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）〔（３３）；堺化学工業（株）製〕７０．０部、及び、下記の吸着部位を有しかつ炭素－炭素二重結合を有する化合物（Ａ－１６）１９．２部、（Ａ－３）４６．５部を、１－メトキシ－２－プロパノール３１６．６部に溶解させ、窒素気流下、９０℃に加熱した。このときの（３３）と（Ａ－１６）と（Ａ－３）との仕込比はモル比で１．０：１．０：４．０であった。
　これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．５１５部を加えて２時間加熱した。更に、Ｖ－６０１を０．５１５部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。室温まで冷却することで、化合物（３３）の硫黄原子のうちの一部に化合物（Ａ－３）及び（Ａ－１６）が付加したメルカプタン化合物（Ｂ－３５）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
　前記メルカプタン化合物（Ｂ－３５）の３０質量％溶液１４３．７部、及びメタクリル酸メチル（Ｍ－１）５６．９部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．３９２部をプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート４１．３部に溶解した液を２時間かけて滴下し、続いて９０℃で２時間加熱した。更にＶ－６０１を０．１３１部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させ、再びＶ－６０１を０．１３１部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。その後、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート９１．４部を加え、室温まで冷却することにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－３５：ポリスチレン換算の重量平均分子量４５００、酸価１２８ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
（合成例４）高分子化合物（Ｃ－３６）の合成
　特開２００７－２７７５１４号公報段落０２６６～０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０２８９～０４２９）に記載の合成方法に準じて、高分子化合物（Ｃ－３６）を合成した。具体的には以下の通りである。
　ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）〔（３３）；堺化学工業（株）製〕６５．０部、及び、下記の吸着部位を有しかつ炭素－炭素二重結合を有する化合物（Ａ－１７）４４．５部、（Ａ－３）２７．０部を、１－メトキシ－２－プロパノール３１８．４部に溶解させ、窒素気流下、９０℃に加熱した。このときの（３３）と（Ａ－１７）と（Ａ－３）との仕込比はモル比で１．０：２．５：２．５であった。
　これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．４７８部を加えて２時間加熱した。更に、Ｖ－６０１を０．４７８部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。室温まで冷却することで、化合物（３３）の硫黄原子のうちの一部に化合物（Ａ－３）及び（Ａ－１７）が付加したメルカプタン化合物（Ｂ－３６）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
　前記メルカプタン化合物（Ｂ－３６）の３０質量％溶液１５０．３部、及びメタクリル酸メチル（Ｍ－１）５４．９部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．３７９部をプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート３９．９部に溶解した液を２時間かけて滴下し、続いて９０℃で２時間加熱した。更にＶ－６０１を０．１２６部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させ、再びＶ－６０１を０．１２６部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。その後、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート８８．３部を加え、室温まで冷却することにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－３６：ポリスチレン換算の重量平均分子量４３００、酸価７７ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
（合成例５）高分子化合物（Ｃ－３７）の合成
　特開２００７－２７７５１４号公報段落０２６６～０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０２８９～０４２９）に記載の合成方法に準じて、高分子化合物（Ｃ－３７）を合成した。具体的には以下の通りである。
　ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）〔（３３）；堺化学工業（株）製〕７０．０部、及び、下記の吸着部位を有しかつ炭素－炭素二重結合を有する化合物（Ａ－１７）１９．２部、（Ａ－３）４６．５部を、１－メトキシ－２－プロパノール３１６．６部に溶解させ、窒素気流下、９０℃に加熱した。このときの（３３）と（Ａ－１７）と（Ａ－３）との仕込比はモル比で１．０：１．０：４．０であった。
　これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．５１５部を加えて２時間加熱した。更に、Ｖ－６０１を０．５１５部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。室温まで冷却することで、化合物（３３）の硫黄原子のうちの一部に化合物（Ａ－３）及び（Ａ－１７）が付加したメルカプタン化合物（Ｂ－３７）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
　前記メルカプタン化合物（Ｂ－３７）の３０質量％溶液１４３．７部、及びメタクリル酸メチル（Ｍ－１）５６．９部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．３９２部をプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート４１．３部に溶解した液を２時間かけて滴下し、続いて９０℃で２時間加熱した。更にＶ－６０１を０．１３１部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させ、再びＶ－６０１を０．１３１部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。その後、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート９１．４部を加え、室温まで冷却することにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－３７：ポリスチレン換算の重量平均分子量５５００、酸価１２７ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
（合成例６）高分子化合物（Ｃ－６２）の合成
　特開２００７－２７７５１４号公報段落０２６６～０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０２８９～０４２９）に記載の合成方法に準じて、高分子化合物（Ｃ－６２）を合成した。具体的には以下の通りである。
　ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）〔（３３）；堺化学工業（株）製〕７０．０部、及び、下記の吸着部位を有しかつ炭素－炭素二重結合を有する化合物（Ａ－２３）１７．７部、（Ａ－３）４６．５部を、１－メトキシ－２－プロパノール３１３．２部に溶解させ、窒素気流下、９０℃に加熱した。このときの（３３）と（Ａ－２３）と（Ａ－３）との仕込比はモル比で１．０：１．０：４．０であった。
　これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．５１５部を加えて２時間加熱した。更に、Ｖ－６０１を０．５１５部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。室温まで冷却することで、化合物（３３）の硫黄原子のうちの一部に化合物（Ａ－３）及び（Ａ－２３）が付加したメルカプタン化合物（Ｂ－６２）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
　前記メルカプタン化合物（Ｂ－６２）の３０質量％溶液２００．０部、及びメタクリル酸メチル（Ｍ－１）８０．０部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．５５２部をプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート５８．１部に溶解した液を２時間かけて滴下し、続いて９０℃で２時間加熱した。更にＶ－６０１を０．１８４部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させ、再びＶ－６０１を０．１８４部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。その後、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート１２８．６部を加え、室温まで冷却することにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－６２：ポリスチレン換算の重量平均分子量４７００、酸価１２８ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
（合成例７）高分子化合物（Ｃ－６３）の合成
　前記メルカプタン化合物（Ｂ－６２）の３０質量％溶液１５５．６部、及びメタクリル酸メチル（Ｍ－１）９３．３部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．６４４部をプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート６７．８部に溶解した液を２時間かけて滴下し、続いて９０℃で２時間加熱した。更にＶ－６０１を０．２１５部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させ、再びＶ－６０１を０．２１５部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。その後、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート１５０．０部を加え、室温まで冷却することにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－６３：ポリスチレン換算の重量平均分子量６４００、酸価９９ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
（合成例８）高分子化合物（Ｃ－６８）の合成
　特開２００７－２７７５１４号公報段落０２６６～０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０２８９～０４２９）に記載の合成方法に準じて、高分子化合物（Ｃ－６８）を合成した。具体的には以下の通りである。
　ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）〔（３３）；堺化学工業（株）製〕３１．０部、及び、下記の吸着部位を有しかつ炭素－炭素二重結合を有する化合物（Ａ－２６）８．８８部、（Ａ－３）２０．６部を、１－メトキシ－２－プロパノール１４１．１部に溶解させ、窒素気流下、９０℃に加熱した。このときの（３３）と（Ａ－２６）と（Ａ－３）との仕込比はモル比で１．０：１．０：４．０であった。
　これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．２２８部を加えて２時間加熱した。更に、Ｖ－６０１を０．２２８部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。室温まで冷却することで、化合物（３３）の硫黄原子のうちの一部に化合物（Ａ－３）及び（Ａ－２６）が付加したメルカプタン化合物（Ｂ－６８）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
　前記メルカプタン化合物（Ｂ－６８）の３０質量％溶液２０２．０部、及びメタクリル酸メチル（Ｍ－１）７９．４部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．５４８部をプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート５７．７部に溶解した液を２時間かけて滴下し、続いて９０℃で２時間加熱した。更にＶ－６０１を０．１８３部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させ、再びＶ－６０１を０．１８３部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。その後、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート１２７．６部を加え、室温まで冷却することにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－６８：ポリスチレン換算の重量平均分子量４９００、酸価１２７ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
（合成例９）高分子化合物（Ｃ－６９）の合成
　前記メルカプタン化合物（Ｂ－６８）の３０質量％溶液１５７．４部、及びメタクリル酸メチル（Ｍ－１）９２．８部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．６４０部をプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート６７．４０部に溶解した液を２時間かけて滴下し、続いて９０℃で２時間加熱した。更にＶ－６０１を０．２１３部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させ、再びＶ－６０１を０．２１３部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。その後、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート１４９．１部を加え、室温まで冷却することにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－６９：ポリスチレン換算の重量平均分子量６６００、酸価９９ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
（合成例１０）高分子化合物（Ｃ－７２）の合成
　特開２００７－２７７５１４号公報段落０２６６～０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０２８９～０４２９）に記載の合成方法に準じて、高分子化合物（Ｃ－７２）を合成した。具体的には以下の通りである。
　ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）〔（３３）；堺化学工業（株）製〕７０．０部、及び、下記の吸着部位を有しかつ炭素－炭素二重結合を有する化合物（Ａ－２８）１１．６部、（Ａ－３）４６．５部を、１－メトキシ－２－プロパノール２９９．０部に溶解させ、窒素気流下、９０℃に加熱した。このときの（３３）と（Ａ－２８）と（Ａ－３）との仕込比はモル比で１．０：１．０：４．０であった。
　これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．５１５部を加えて２時間加熱した。更に、Ｖ－６０１を０．５１５部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。室温まで冷却することで、化合物（３３）の硫黄原子のうちの一部に化合物（Ａ－３）及び（Ａ－２８）が付加したメルカプタン化合物（Ｂ－７２）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
　前記メルカプタン化合物（Ｂ－７２）の３０質量％溶液１９４．７部、及びメタクリル酸メチル（Ｍ－１）８１．６部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．５６３部をプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート５９．３部に溶解した液を２時間かけて滴下し、続いて９０℃で２時間加熱した。更にＶ－６０１を０．１８８部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させ、再びＶ－６０１を０．１８８部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。その後、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート１３１．１部を加え、室温まで冷却することにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－７２：ポリスチレン換算の重量平均分子量４８００、酸価１３１ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
（合成例１１）高分子化合物（Ｃ－７３）の合成
　前記メルカプタン化合物（Ｂ－７２）の３０質量％溶液１５０．８部、及びメタクリル酸メチル（Ｍ－１）９４．８部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。これに、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）〔Ｖ－６０１、和光純薬工業（株）製〕０．６５４部をプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート６８．８部に溶解した液を２時間かけて滴下し、続いて９０℃で２時間加熱した。更にＶ－６０１を０．２１８部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させ、再びＶ－６０１を０．２１８部加え、窒素気流下、９０℃で２時間反応させた。その後、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート１５２．３部を加え、室温まで冷却することにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－７３：ポリスチレン換算の重量平均分子量６４００、酸価９９ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
　高分子化合物（Ｃ－２）～（Ｃ－３３）、（Ｃ－３８）～（Ｃ－６１）、（Ｃ－６４）～（Ｃ－６７）、（Ｃ－７０）、（Ｃ－７１）、（Ｃ－７４）～（Ｃ－９９）についても特開２００７－２７７５１４号公報段落０２６６～０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０２８９～０４２９）に記載の合成方法に準じて合成した。具体的には、原料となる「（ｍ＋ｎ）価の連結基Ｒ１とメルカプト基とを有する化合物」（前述の「一分子中に３～１０個のメルカプト基を有する化合物」に相当）の種類及び仕込み量、「置換基Ａ１と炭素－炭素二重結合とを有する化合物」（前述の「吸着部位を有しかつ炭素－炭素二重結合を有する化合物」に相当）の種類及び仕込み量、並びに「Ｐ１又はＰ２を形成するモノマー」（前述の「ビニルモノマー」に相当）の種類及び仕込み量を適宜変更する以外は上記合成例１～１１と同様にして、高分子化合物（Ｃ－２）～（Ｃ－３３）、（Ｃ－３８）～（Ｃ－６１）、（Ｃ－６４）～（Ｃ－６７）、（Ｃ－７０）、（Ｃ－７１）、（Ｃ－７４）～（Ｃ－９９）についても合成した。
　これら合成した高分子化合物（Ｃ－１）～（Ｃ－９９）について、原料となる「（ｍ＋ｎ）価の連結基Ｒ１とメルカプト基とを有する化合物」、原料となる「置換基Ａ１と炭素－炭素二重結合とを有する化合物」（併用する場合は各々の仕込み量モル比を示す。）、原料となる「Ｐ１又はＰ２を形成するモノマー」（併用する場合は各々の仕込み量モル比を示す。）、一般式（１）又は（２）におけるｍ、ｎ、一般式（１）におけるＰ１又は一般式（２）におけるＰ２における繰り返し単位の繰り返し数ｋ、酸価、重量平均分子量を、下記表１及び２に纏める。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000065
　上記表１及び２中、ｍ数、ｎ数は、一般式（１）又は（２）におけるｍ、ｎを表す。例えば、（Ｃ－２１）のように、化合物（Ａ－７）と（Ａ－３）とを混合して使用した場合（仕込み量モル比１：４）、ｎ数としての３は、化合物（Ａ－７）に由来する構造と化合物（Ａ－３）に由来する構造との合計の数を表す。
　ｋ数は一般式（１）におけるＰ１又は一般式（２）におけるＰ２における繰り返し単位の繰り返し数ｋを表す。例えば、（Ｃ－４４）のように、モノマー（Ｍ－１）と（Ｍ－２）とを混合して使用した場合（仕込み量モル比１：１）、ｋ数としての１３は、モノマー（Ｍ－１）に由来する繰り返し単位とモノマー（Ｍ－２）に由来する繰り返し単位との合計の繰り返し数を表す。
　上記表１及び２における「（ｍ＋ｎ）価の連結基Ｒ１とメルカプト基とを有する化合物」（前述の「一分子中に３～１０個のメルカプト基を有する化合物」に相当）としては、下記化合物（１８）、（２７）、（３３）を使用した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
　上記表１における「置換基Ａ１と炭素－炭素二重結合とを有する化合物」（前述の「吸着部位を有し、かつ、炭素－炭素二重結合を有する化合物」に相当）としては、下記化合物（Ａ－１）～（Ａ－３２）を使用した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
　上記表１における「Ｐ１又はＰ２を形成するモノマー」（前述の「ビニルモノマー」に相当）としては、前述したモノマー（Ｍ－１）～（Ｍ－９）、（Ｍ－１４）～（Ｍ－１６）から適宜選択して使用した。
　以下に、合成した高分子化合物（Ｃ－１）～（Ｃ－９９）の構造を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
　
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
（合成例１２）マクロモノマーＡ５の合成
　窒素雰囲気下、２－エチルヘキサノール３５．０部、ε－カプロラクトン２１５．０部及びジブチルスズラウレート０．２０部を９０℃で５時間、続いて１１０℃で１時間加熱し、ポリエステルモノヒドロキシ体を得た。反応の終了はε－カプロラクトンの消失をＮＭＲで測定することで確認した。続けて空気下にした後、２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール（ＢＨＴ）を０．０７１部、アリルこはく酸無水物３７．７部を加え、１１０℃で８時間反応し、以下に示すマクロモノマーＡ５を得た。反応の終了はアリルこはく酸無水物が９５％以上消失していることをＮＭＲで測定することにより確認した。マクロモノマーＡ５のポリスチレン換算の重量平均分子量は１４００、酸価は５４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
（合成例１３）マクロモノマーＥ５の合成
　反応容器にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら８０℃に加熱した。別の容器に、チオエタノール４０．１部、メタクリル酸メチル３６０部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部、Ｖ－６０１　３５．５部を加え攪拌した後、８０℃で加熱攪拌している反応容器に２時間かけて滴下した。更に同温度で２時間反応した後、Ｖ－６０１を３５．５部添加し、更に９０℃で１時間反応を続けることにより、ポリメタクリル酸メチルモノヒドロキシ体を得た。反応の終了はメタクリル酸メチルの二重結合部位が９９％以上消失していることをＮＭＲで測定することにより確認した。続けて空気下にした後、２，６－ジターシャリーブチル－４－メチルフェノールを０．１３４ｇ、アリルこはく酸無水物７１．２ｇを加え、１１０℃で８時間反応することで、以下に示すマクロモノマーＥ５（固形分濃度＝２８．９質量％）を得た。反応の終了はアリルこはく酸無水物が９５％以上消失していることをＮＭＲで測定することにより確認した。マクロモノマーＥ５のポリスチレン換算の重量平均分子量は１６００、酸価は６４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
　合成例１２と同様にしてマクロモノマーＡ１～Ａ４を、合成例１３と同様にしてマクロモノマーＥ１～Ｅ４を合成した。それぞれの構造式と物性値を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000088
（合成例１４）高分子化合物（Ｃ－１０６）の合成
　反応容器にジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）〔（３３）；堺化学工業（株）製〕２０部、マクロモノマーＡ５　８１．９部、上記の、吸着部位を有し、かつ炭素－炭素二重結合を有する化合物（Ａ－１）７．６７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５５部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら９０℃に加熱した。同温度で１５分間攪拌した後、Ｖ－６０１を０．７１部添加し反応を開始させた。同温度で２時間反応した後、Ｖ－６０１を０．７１部添加し、更に９０℃で２時間反応を続けることにより、以下に示す高分子化合物（Ｃ－１０６：ポリスチレン換算の重量平均分子量４６００、酸価１０８ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３０質量％溶液を得た。反応の終了はマクロモノマーＡ５及びペンテン酸の二重結合部位が９５％以上消失していることをＮＭＲで測定することにより確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
　原料となる「（ｍ＋ｎ）価の連結基Ｒ１とメルカプト基とを有する化合物」（前述の「一分子中に３～１０個のメルカプト基を有する化合物」に相当）の種類及び仕込み量、「置換基Ａ１と炭素－炭素二重結合とを有する化合物」（前述の「吸着部位を有しかつ炭素－炭素二重結合を有する化合物」に相当）の種類及び仕込み量、並びに「マクロモノマー」（Ｐ１、Ｐ２又はＰ３で表されるポリマー鎖に相当する化合物）の種類及び仕込み量を適宜変更する以外は上記合成例１４［高分子化合物（Ｃ－１０６）の合成］と同様にして、高分子化合物（Ｃ－１０１）～（Ｃ－１０５）、（Ｃ－１０７）～（Ｃ－１３６）についても合成した。（Ｃ－１１８）～（Ｃ－１３６）の合成で使用したマクロモノマーは下記の通りである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
　これら合成した高分子化合物（Ｃ－１０１）～（Ｃ－１３６）について、原料となる「（ｍ＋ｎ）価の連結基Ｒ１とメルカプト基とを有する化合物」、原料となる「置換基Ａ１と炭素－炭素二重結合とを有する化合物」（併用する場合は各々の仕込み量モル比を示す。）、原料となる「マクロモノマー」、酸価、重量平均分子量を、下記表４に纏める。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000092
　以下に、合成した高分子化合物（Ｃ－１０１）～（Ｃ－１３６）の構造を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
＜実施例１＞
［二酸化チタン分散液（分散組成物）の調製］
　下記組成の混合液に対し、循環型分散装置（ビーズミル）として、寿工業株式会社製ウルトラアペックスミルを用いて、以下のようにして分散処理を行い、分散組成物として二酸化チタン分散液を得た。
～組成～
・二酸化チタン（石原産業（株）製　ＴＴＯ－５１（Ｃ））（純度７５％以上）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：１８１．８部
・分散剤（高分子化合物（Ｂ））Ｃ－１（３０質量％溶液）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：１３３．３部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：２８４．９部
　また分散装置は以下の条件で運転した。
・ビーズ径：φ０．０５ｍｍ
・ビーズ充填率：７５体積％
・周速：１０ｍ／秒
・ポンプ供給量：１０ｋｇ／時間
・冷却水：水道水
・ビーズミル環状通路内容積：０．１５Ｌ
・分散処理する混合液量：０．４４ｋｇ
　分散開始後、３０分間隔（１パスの時間）で平均粒子径の測定を行った。
　平均粒子径は分散時間（パス回数）とともに減少していったが、次第にその変化量が少なくなっていった。分散時間を３０分間延長したときの一次粒子径の変化が５ｎｍ以下となった時点で分散を終了した。なお、この分散液中の二酸化チタン粒子の一次粒子径は４０ｎｍであった。
　なお、本実施例における二酸化チタンの一次粒子径は、二酸化チタンを含む混合液又は分散液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで８０倍に希釈し、得られた希釈液について動的光散乱法を用いて測定することにより得られた値のことを言う。
　この測定は、日機装株式会社製マイクロトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０を用いて行って得られた数平均粒子径のこととする。
［二酸化チタン分散液粘度の測定］
　上記で得られた二酸化チタン分散液の粘度を、東機産業（株）製「ＲＥ－８５Ｌ」にて測定し分散性を評価した。
　また、後述の実施例２～１４１、比較例１～７に対応するように、二酸化チタンの含有量、分散剤（高分子化合物（Ｂ））の種類を下記表５及び６のように変更する以外は実施例１における分散組成物に準じて調製した、後述の実施例２～１４１、比較例１～７に対応する分散組成物についても粘度を測定し分散性を評価した。結果を表５及び６に示す。
［硬化性組成物の調製１］
　上記で得られた二酸化チタン分散液（分散組成物）を用いて、以下の組成となるように各成分を混合して硬化性組成物を得た。
　～硬化性組成物の組成～
・上記で調製した二酸化チタン分散液（分散組成物）　…　８１．９８部
・下記ＪＥＲ－１５７Ｓ６５（三菱化学（株）製）　　…　　３．７２部
　　（重合性化合物、下記表においてＴ－４）
・バインダーポリマー　　　　　　　　　　　　　　　…　　０．４４部
（下記Ｍ－１；重量平均分子量（Ｍｗ）及び共重合比（重量比）は下記の通りである）
・界面活性剤　メガファックＦ－７８１（ＤＩＣ社製）…　　０．０３部
・ｐ－メトキシフェノール　　　　　　　　　　　　　…　　０．０１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…　１３．８２部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
（硬化膜（透明膜）の作製）
　上記で得られた硬化性組成物を１２インチシリコンウエハ上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上で１００℃で２分間加熱して膜厚１．０５μｍの塗布膜を得た。更にこの塗布膜を、２００℃で５分、ホットプレート上で加熱して、透明膜としての硬化膜（膜厚：１．０μｍ）を得た。
［透明膜の屈折率の測定］
　上記で得られた基板に対して、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製エリプソメトリーを用いて、透明膜の波長６３５ｎｍの光に対する屈折率を測定した。
　結果を下記表５及び６に示す。
［硬化膜の耐溶剤性評価］
　上記のように形成した硬化膜をＰＧＭＥＡ中に５分間浸漬させ、浸漬後の透明膜（硬化膜）の屈折率を前記の方法に準じて測定した。［溶剤浸漬後の屈折率］－［溶剤浸漬前の屈折率］から算出した処理後の屈折率変化の値を耐溶剤性の指標とした。
　結果を下記表５及び６に示す。
＜実施例２～１３５、比較例１～７＞
　硬化性組成物の全固形分に対する二酸化チタンの含有量、分散剤（高分子化合物（Ｂ））及び重合性化合物の種類を下記表５及び６のように変更する以外は、実施例１に準じて、実施例２～１３５、比較例１～７の硬化性組成物を調製した。
　すなわち、分散剤（高分子化合物（Ｂ））を、実施例１で使用したＣ－１から変更した例については、実施例１で使用した二酸化チタン分散液の調製において、Ｃ－１の代わりに表５又は６に示す分散剤（高分子化合物（Ｂ））を用いて得た二酸化チタン分散液を使用した。
　なお、比較例１、２においては、本発明の高分子化合物（Ｂ）とは異なる分散剤として、それぞれ、ルーブリゾール社製ソルスパース５０００、ＢＹＫ　Ｃｈｅｍｉｅ社製ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８０を用いた。
　また、重合性化合物を、実施例１で使用したＴ－４から変更した例（実施例１３４、１３５）については、実施例１における硬化性組成物の調製において、Ｔ－４の代わりに下記重合性化合物（Ｔ－２、Ｔ－３）を使用した。
・Ｔ－２：下記ＪＥＲ－１０３１Ｓ（三菱化学（株）製）
・Ｔ－３：下記ＥＨＰＥ－３１５０（ダイセル化学工業（株）製；２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
　硬化性組成物の全固形分に対する二酸化チタンの含有量（濃度）の変更は、硬化性組成物の全固形分に対する二酸化チタンと分散剤の総量を実施例１の［二酸化チタン分散液（分散組成物）の調製］におけるものと同様としつつ、二酸化チタンの含有量の増減分を、分散剤の含有量の増減で補うことで二酸化チタン分散液を調製することにより行った。
　また得られた硬化性組成物を用いて、実施例１と同様にして透明膜をそれぞれ作製し、実施例１と同様にして評価を行なった。結果を表５及び６に示した。
＜実施例１３６＞
［硬化性組成物の調製２］
　分散剤（高分子化合物（Ｂ））としてＣ－６を使用する以外は上記と同様にして得られた二酸化チタン分散液（分散組成物）を用いて、以下の組成となるように各成分を混合して硬化性組成物を得た。
～硬化性組成物の組成～
・上記二酸化チタン分散液（分散組成物）　　　　　…　　８１．９８部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬株式会社製）…　　　３．４８部
　　（重合性化合物、下記表においてＴ－１）
・オキシム系光重合開始剤　　　　　　　　　　　　…　　　０．２４部
　　（重合開始剤、下記Ｋ－１）
・バインダーポリマー　　　　　　　　　　　　　　…　　　０．４４部
（前記Ｍ－１；重量平均分子量（Ｍｗ）及び共重合比（重量比）は前述の通りである）
・界面活性剤　メガファックＦ－７８１（ＤＩＣ社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…　　　０．０３部
・ｐ－メトキシフェノール　　　　　　　　　　　　…　　　０．０１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…　　１３．８２部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
　得られた硬化性組成物を用いて、実施例１と同様にして透明膜をそれぞれ作製し、実施例１と同様にして評価を行なった。結果を表６に示した。
＜実施例１３７～１４１＞
　分散剤（高分子化合物（Ｂ））及び重合開始剤の種類を下記表６のように変更する以外は、実施例１３６に準じて、実施例１３７～１４１の硬化性組成物を調製した。
　すなわち、分散剤（高分子化合物（Ｂ））を、実施例１３６で使用したＣ－６から変更した例については、実施例１３６で使用した二酸化チタン分散液の調製において、Ｃ－６の代わりに表６に示す分散剤（高分子化合物（Ｂ））を用いて得た二酸化チタン分散液を使用した。
　また、重合性開始剤を、実施例１３６で使用したＫ－１から変更した例については、実施例１３６における硬化性組成物の調製において、Ｋ－１の代わりに表６に示す重合開始剤を使用した。
　また得られた硬化性組成物を用いて、実施例１と同様にして透明膜をそれぞれ作製し、実施例１と同様にして評価を行なった。結果を表６に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000106
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000107
　表５及び６から明らかなように、高分子化合物（Ｂ）を使用しない比較例１、２は屈折率がやや低く、粘度が高いことがわかる。
　また、分散剤が一般式（１）を満たすものの重量平均分子量が１００００を超える比較例３～７は、屈折率は高いものの、粘度も高いことが分かる。
　一方、本発明の高分子化合物（Ｂ）を使用した実施例１～１４１は屈折率が高く、粘度が低いことがわかる。
　特に、重合性化合物としてエポキシ系化合物を使用した実施例１～１３５、重合開始剤としてオキシム系化合物を使用した実施例１３６～１３９は、耐溶剤性に優れ、重合性化合物としてエポキシ系化合物を使用した実施例１～１３５は、耐溶剤性が特に高いことがわかる。
　また、重量平均分子量が５０００～８０００でありかつ酸価が７０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇである分散剤Ｃ－５、Ｃ－１０、Ｃ－２４、Ｃ－２６、Ｃ－２７、Ｃ－４３～Ｃ－４５、Ｃ－６１、Ｃ－８１、Ｃ－８９、Ｃ－９１、Ｃ－９７、Ｃ－１０７、Ｃ－１０８、Ｃ－１１１、Ｃ－１１９、Ｃ－１２０、Ｃ－１２２、Ｃ－１２４、Ｃ－１２６、Ｃ－１２８、Ｃ－１３０、Ｃ－１３２、Ｃ－１３４、Ｃ－１３６を用いた実施例５、７、２１、２３、２４、４０～４２、５４、５５、６２、６３、６５、７６、９６、１０４、１０６、１０８、１１０、１１２、１１４、１１６、１１８、１２４、１２８、１３０の硬化性組成物では、硬化膜の波長４００ｎｍにおける透過率が９０％以上であり、硬化膜の可視光での透過率が特に優れることが確認できた。
　以上の実施例では、シリコンウエハー上に透明膜を形成する例について説明したが、固体撮像素子を作製する場合には、前記シリコンウエハーを、フォトダイオード、遮光膜、及びデバイス保護膜などが形成された固体撮像素子用基板に置き換えればよい。
　フォトダイオード及び転送電極が形成されたシリコンウエハー上に、フォトダイオードの受光部のみ開口したタングステンからなる遮光膜を形成し、形成された遮光膜全面及びフォトダイオード受光部（遮光膜中の開口部）を覆うようにして窒化シリコンからなるデバイス保護層を形成する。
　次に、形成されたデバイス保護層上に、下塗り層として上記のようにして調製した実施例の硬化性組成物を膜厚０．５０μｍとなるように塗布後、１００℃で２分間、ホットプレートで加熱した。次いで、２３０℃で１０分間、ホットプレートで加熱し、硬化させた。その上に、特開２０１０－２１０７０２号公報の実施例１６に記載された方法により、１辺の長さが１．４μｍの赤色画素、青色画素、及び緑色画素をそれぞれ形成し、カラーフィルタを作成した。
　この上に、上記のようにして調製した実施例の硬化性組成物を膜厚１．５μｍとなるように塗布後、１００℃で２分間、ホットプレートで加熱後、２３０℃で１０分間、ホットプレートで加熱し、硬化させた。
　更に、この上にＨＰＲ－２０４ＥＳＺ－９－５ｍＰａ・ｓ（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製レジスト液）を塗布し、９０℃で１分間、ホットプレートで加熱した。この塗布膜を、１辺１．４μｍの正方パターンを多数有するマスクを介してｉ線ステッパー（製品名：ＦＰＡ－３０００ｉ５＋、キャノン（株）製）により１００ｍＪ／ｃｍ２で露光した。ここで、マスクは、マスクにおける多数の正方パターンが、それぞれ、上記カラーフィルタにおける赤色画素、青色画素、及び緑色画素に対応する位置となるように配置した。
　これをアルカリ性現像液ＨＰＲＤ－４２９Ｅ（富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて、室温にて６０秒間、パドル現像した後、更に２０秒間スピンシャワーにて純水でリンスを行った。その後更に、純水にて水洗を行い、その後、高速回転にて基板を乾燥させ、レジストパターンを形成した。２００℃で３００秒間、ホットプレートでポストベーク処理し、レジストをレンズ状の形状に整形した。
　以上のようにして得られた基板を、ドライエッチング装置（日立ハイテクノロジーズ製：Ｕ－６２１）を使用し、下記条件にてドライエッチング処理を実施し、高屈折率である本発明の透明膜をマイクロレンズとして使用できるように加工した。
・ＲＦパワー：８００Ｗ
・アンテナバイアス：１００Ｗ
・ウエハバイアス：５００Ｗ
・チャンバー内圧：０．５Ｐａ
・基板温度：５０℃
・混合ガス種及び流量：ＣＦ４／Ｃ４Ｆ６／Ｏ２／Ａｒ＝１７５／２５／５０／２００ｍｌ／分
・フォトレジストエッチングレート：１４０ｎｍ／分
　得られたデバイスを使用して画像を撮影すると、良好な画像を得ることが出来た。
　本発明によれば、屈折率が高く、粘度が低い分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子を提供することができる。
　また、本発明によれば、塗布及び乾燥後の膜面の面状に優れ、屈折率が高い分散組成物を提供でき、粒子の分散安定性を維持できる化合物を提供することができる。
　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０１２年８月３１日出願の日本特許出願（特願２０１２－１９２５５７）、２０１２年１０月３日出願の日本特許出願（特願２０１２－２２１６１０）、２０１３年２月１３日出願の日本特許出願（特願２０１３－０２６０６６）及び２０１３年２月１３日出願の日本特許出願（特願２０１３－０２６０６９）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
　１：ＴＦＴ（薄膜トランジスター）、２：配線、３：絶縁膜、４：平坦化膜、５：第一電極、６：ガラス基板、７：コンタクトホール、８：絶縁膜、１０：液晶表示装置、１２：バックライトユニット、１４，１５：ガラス基板、１６：ＴＦＴ、１７：硬化膜、１８：コンタクトホール、１９：ＩＴＯ透明電極、２０：液晶、２２：カラーフィルター、３０：静電容量型入力装置、３１：前面板、３２：マスク層、３３：第一の透明電極パターン、３３ａ：パッド部分、３３ｂ：接続部分、３４：第二の透明電極パターン、３５：絶縁層、３６：導電性要素、３７：透明保護層、３８：開口部

Claims (29)

  1. 　一次粒子径が１ｎｍ～１００ｎｍの金属酸化物粒子（Ａ）と、重量平均分子量１００００以下の下記一般式（１）で表される高分子化合物（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを含有する分散組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    　上記一般式（１）中、
    　Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｒ２は単結合又は２価の連結基を表す。Ａ１は酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。ｎ個のＡ１及びＲ２は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
    　ｍは８以下の正の数、ｎは１～９を表し、ｍ＋ｎは３～１０を満たす。
    　Ｐ１はポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
  2. 　前記高分子化合物（Ｂ）の重量平均分子量が５０００～８０００である、請求項１に記載の分散組成物。
  3. 　前記高分子化合物（Ｂ）の酸価が７０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇである、請求項１又は２に記載の分散組成物。
  4. 　前記分散組成物の全固形分に対する前記金属酸化物粒子（Ａ）の含有量が６５質量％以上である、請求項１～３のいずれか１項に記載の分散組成物。
  5. 　前記高分子化合物（Ｂ）が下記一般式（２）で表される高分子化合物である、請求項１～４のいずれか１項に記載の分散組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    　上記一般式（２）中、
    　Ｒ３は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｒ４、Ｒ５は各々独立に単結合又は２価の連結基を表す。Ａ２は酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。ｎ個のＡ２及びＲ４は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは８以下の正の数、ｎは１～９を表し、ｍ＋ｎは３～１０を満たす。
    　Ｐ２はポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ２及びＲ５は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
  6. 　前記一般式（１）におけるＡ１又は上記一般式（２）におけるＡ２が、酸基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、水酸基、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基及び配位性酸素原子を有する基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基である請求項１～５のいずれか１項に記載の分散組成物。
  7. 　前記一般式（１）におけるＡ１又は上記一般式（２）におけるＡ２が、ｐＫａ５以上の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基である、請求項１～５のいずれか１項に記載の分散組成物。
  8. 　前記ｐＫａ５以上の官能基が、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、ウレア基、ウレタン基、アルキル基、アリール基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、水酸基又は複素環基である、請求項７に記載の分散組成物。
  9. 　Ｐ１又はＰ２で表されるポリマー鎖が、ビニルモノマーの重合体若しくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、及びこれらの変性物若しくは共重合体より選ばれる少なくとも１種に由来するポリマー鎖である、請求項１～８のいずれか１項に記載の分散組成物。
  10. 　Ｐ１又はＰ２で表されるポリマー鎖が、少なくとも１種の繰り返し単位を含有し、前記少なくとも１種の繰り返し単位の繰り返し数ｋが３～５０である、請求項１～９のいずれか１項に記載の分散組成物。
  11. 　前記一般式（１）におけるＲ１又は上記一般式（２）におけるＲ３が、下記一般式のいずれかで表される基である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の分散組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    　上記一般式中、
    　Ｌ３は３価の基を表す。Ｔ３は単結合又は２価の連結基を表し、３個存在するＴ３は互いに同一であっても異なっていてもよい。
    　Ｌ４は４価の基を表す。Ｔ４は単結合又は２価の連結基を表し、４個存在するＴ４は互いに同一であっても異なっていてもよい。
    　Ｌ５は５価の基を表す。Ｔ５は単結合又は２価の連結基を表し、５個存在するＴ５は互いに同一であっても異なっていてもよい。
    　Ｌ６は６価の基を表す。Ｔ６は単結合又は２価の連結基を表し、６個存在するＴ６は互いに同一であっても異なっていてもよい。
  12. 　前記高分子化合物（Ｂ）が下記一般式（５）で表される高分子化合物である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の分散組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    　上記一般式（５）中、
    　Ｒ６は、（ｍ＋ｎ１＋ｎ２）価の連結基を表し、Ｒ７～Ｒ９は各々独立に単結合又は２価の連結基を表す。
    　Ａ３は、酸基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。Ａ４は、Ａ３とは異なる１価の置換基を表す。ｎ１個のＡ３及びＲ７は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。ｎ２個のＡ４及びＲ８は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
    　ｍは８以下の正の数、ｎ１は１～８を表し、ｎ２は１～８を表し、ｍ＋ｎ１＋ｎ２は３～１０を満たす。
    　Ｐ３はポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ３及びＲ９は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
  13. 　請求項１～１２のいずれか１項に記載の分散組成物と、重合性化合物（Ｄ）とを含む硬化性組成物。
  14. 　前記重合性化合物（Ｄ）が分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、及び、末端エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも１つである、請求項１３に記載の硬化性組成物。
  15. 　重合開始剤（Ｅ）、及び、バインダーポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１つを更に含有する、請求項１３又は１４に記載の硬化性組成物。
  16. 　前記重合開始剤（Ｅ）がオキシム系重合開始剤である、請求項１５に記載の硬化性組成物。
  17. 　マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用である請求項１３～１６のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  18. 　請求項１３～１７のいずれか１項に記載の硬化性組成物を用いて形成された透明膜。
  19. 　請求項１７に記載の硬化性組成物により得られる透明膜を用いて形成されたマイクロレンズ。
  20. 　請求項１９に記載のマイクロレンズを有する固体撮像素子。
  21. 　請求項１～１２のいずれか１項に記載の分散組成物の製造方法。
  22. 　下記一般式（５）で表される高分子化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    　上記一般式（５）中、
    　Ｒ６は、（ｍ＋ｎ１＋ｎ２）価の連結基を表し、Ｒ７～Ｒ９は各々独立に単結合又は２価の連結基を表す。
    　Ａ３は酸基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。Ａ４は、Ａ３とは異なる１価の置換基を表す。ｎ１個のＡ３及びＲ７は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。ｎ２個のＡ４及びＲ８は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
    　ｍは８以下の正の数、ｎ１は１～８を表し、ｎ２は１～８を表し、ｍ＋ｎ１＋ｎ２は３～１０を満たす。
    　Ｐ３はポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ３及びＲ９は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
  23. 　上記置換基Ａ３がｐＫａが５より小さい酸基を少なくとも１種有する１価の置換基であり、
    　上記置換基Ａ４がｐＫａ５以上の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基である、請求項２２に記載の高分子化合物。
  24. 　上記置換基Ａ３が、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基及びホスフィン酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であり、上記Ａ３とは異なる置換基Ａ４が配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、ウレア基、ウレタン基、アルキル基、アリール基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、水酸基及び複素環基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基である、請求項２２又は２３に記載の高分子化合物。
  25. 　上記置換基Ａ３が、カルボン酸基である請求項２２～２４のいずれか１項に記載の高分子化合物。
  26. 　上記置換基Ａ４が、アルキル基、アリール基、配位性酸素原子を有する基、ウレア基又はウレタン基である、請求項２２～２５のいずれか１項に記載の高分子化合物。
  27. 　Ｐ３で表されるポリマー鎖が、ビニルモノマーの重合体若しくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、及びこれらの変性物若しくは共重合体より選ばれる少なくとも１種に由来するポリマー鎖である、請求項２２～２６のいずれか１項に記載の高分子化合物。
  28. 　Ｐ３で表されるポリマー鎖が、少なくとも１種の繰り返し単位を含有し、前記少なくとも１種の繰り返し単位の繰り返し数ｋが３～５０である、請求項２２～２７のいずれか１項に記載の高分子化合物。
  29. 　重量平均分子量が１００００以下である、請求項２２～２８のいずれか１項に記載の高分子化合物。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018061891A1 (ja) * 2016-09-27 2018-04-05 富士フイルム株式会社 分散液、組成物、膜、膜の製造方法および分散剤
US11045834B2 (en) * 2016-02-02 2021-06-29 Fujifilm Corporation Method for producing film
WO2024053471A1 (ja) * 2022-09-09 2024-03-14 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、膜、光センサおよび光センサの製造方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6332590B2 (ja) * 2013-11-08 2018-05-30 日東電工株式会社 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路コア層形成用光硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板
KR102091954B1 (ko) * 2016-04-21 2020-03-20 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 적외선 흡수성 조성물, 적외선 컷 필터, 및 촬상 광학계
JP6224188B1 (ja) * 2016-08-08 2017-11-01 太陽インキ製造株式会社 半導体封止材
CN111032700B (zh) * 2017-09-05 2022-04-26 富士胶片株式会社 固化性组合物、固化物及透镜单元
CN112113498B (zh) * 2020-09-14 2021-09-28 山西大学 一种高灵敏度压阻式应变传感器的制备方法

Citations (144)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4420189B1 (ja) 1965-06-03 1969-08-30
JPS4429620B1 (ja) 1961-10-10 1969-12-02
US3615455A (en) 1968-01-12 1971-10-26 Agfa Gevaert Nv Photopolymerization of ethylenically unsaturated organic compounds
JPS4864183A (ja) 1971-12-09 1973-09-05
JPS4841708B1 (ja) 1970-01-13 1973-12-07
JPS4842965B1 (ja) 1968-04-02 1973-12-15
JPS4943191B1 (ja) 1969-07-11 1974-11-19
JPS506034B1 (ja) 1970-08-11 1975-03-10
GB1388492A (en) 1971-09-03 1975-03-26 Minnesota Mining & Mfg Chromophore-substituted halomethyl-s-triazines
JPS5137193A (ja) 1974-09-25 1976-03-29 Toyo Boseki
JPS5182102A (en) 1974-12-10 1976-07-19 Basf Ag Insatsuinki oyobi hifukuzairyonotameno hikarijugokanonaketsugozai
JPS5230490B2 (ja) 1972-03-21 1977-08-09
JPS52134692A (en) 1976-05-04 1977-11-11 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPS53702A (en) 1975-12-23 1978-01-06 Dynachem Corp Adhesion promoting agent for polymerized film
JPS53128333A (en) 1977-04-15 1978-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd Prevention of influences of ultraviolet ray upon photosensitive material of silver halogenide
JPS53133428A (en) 1977-04-25 1978-11-21 Hoechst Ag Radiation sensitive copying constitute
JPS5492723A (en) 1977-12-30 1979-07-23 Somar Mfg Photosensitive material and use
JPS5421726B2 (ja) 1970-12-31 1979-08-01
JPS5425957B2 (ja) 1974-10-04 1979-08-31
JPS5434327B1 (ja) 1970-12-28 1979-10-26
US4212976A (en) 1973-06-15 1980-07-15 Merck & Co., Inc. 3,4α-Di-O-derivatives of mercaptomethylpyridine and pyridylmethyldisulfide
JPS5534414B2 (ja) 1972-06-02 1980-09-06
JPS55500806A (ja) 1978-10-19 1980-10-16
JPS5675643A (en) 1979-11-07 1981-06-22 Hoechst Ag Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material using same
JPS576096B2 (ja) 1977-11-28 1982-02-03
JPS5812577B2 (ja) 1973-12-21 1983-03-09 ヘキスト アクチエンゲゼルシヤフト 光重合可能な複写材料
JPS5849860B2 (ja) 1973-12-07 1983-11-07 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト コウジユウゴウセイフクシヤザイリヨウ
JPS5944615A (ja) 1982-09-07 1984-03-13 Furuno Electric Co Ltd ジヤイロ装置
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
JPS59138205A (ja) 1983-01-20 1984-08-08 チバ−ガイギ−　アクチエンゲゼルシヤフト 被覆組成物およびその硬化方法
US4508811A (en) 1983-01-17 1985-04-02 U.S. Philips Corporation Recording element having a pyrylium or thiopyrylium-squarylium dye layer and new pyrylium or thiopyrylium-squarylium compounds
DE3337024A1 (de) 1983-10-12 1985-04-25 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch
JPS6084305A (ja) 1983-08-30 1985-05-13 バスフ　アクチェン　ゲゼルシャフト 光重合可能な混合物
JPS6122048A (ja) 1984-06-08 1986-01-30 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 重合可能な化合物、その製法、およびこれを含有する放射線感性複写層
JPS61169831A (ja) 1985-01-19 1986-07-31 アグフア‐ゲヴエルト・アクチエンゲゼルシヤフト 感光性安定化写真記録材料
JPS6218537A (ja) 1985-07-16 1987-01-27 ザ・ミ−ド・コ−ポレ−シヨン 共開始剤として第三アミンを含有する感光性マイクロカプセルを用いた造像材料
JPS6258241A (ja) 1985-09-09 1987-03-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS6239417B2 (ja) 1978-05-20 1987-08-22 Hoechst Ag
JPS6239418B2 (ja) 1978-05-20 1987-08-22 Hoechst Ag
JPS6353543A (ja) 1986-08-23 1988-03-07 Konica Corp 発汗現象及びスタチツクマ−ク発生を防止したハロゲン化銀写真感光材料
JPS6353544A (ja) 1986-08-25 1988-03-07 Konica Corp 発汗現象及びスタチツクマ−ク発生を防止したハロゲン化銀写真感光材料
JPS6356651A (ja) 1986-08-27 1988-03-11 Konica Corp 発汗現象及びスタチツクマ−ク発生を防止したハロゲン化銀写真感光材料
JPS63260909A (ja) 1987-03-28 1988-10-27 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 光重合性混合物及びこの混合物から製造される記録材料
JPS63277653A (ja) 1987-03-28 1988-11-15 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 重合可能な化合物、これを含有する放射線重合可能な混合物及び放射線重合可能な記録材料
JPS63287944A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS63287947A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS6433104A (en) 1987-06-25 1989-02-03 Ciba Geigy Ag Photopolymerizable composition
JPH01105238A (ja) 1987-03-28 1989-04-21 Hoechst Ag 光重合可能な混合物および光重合可能な記録材料
JPH0140336B2 (ja) 1979-12-29 1989-08-28 Hoechst Ag
JPH0140337B2 (ja) 1979-12-29 1989-08-28 Hoechst Ag
JPH01271741A (ja) 1988-04-25 1989-10-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH0225493A (ja) 1988-05-21 1990-01-26 Hoechst Ag アルケニルホスホン酸エステルおよびアルケニルホスフイン酸エルテル、その製法並びに当該化合物を含有する放射線重合性混合物および記録材料
JPH0216765B2 (ja) 1980-09-29 1990-04-18 Hoechst Ag
JPH0232293B2 (ja) 1980-12-22 1990-07-19 Hoechst Ag
JPH0519475A (ja) 1991-07-12 1993-01-29 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPH0534920A (ja) 1991-07-30 1993-02-12 Fuji Photo Film Co Ltd 光硬化性樹脂組成物、保護層の形成方法及びカラーフイルター
JPH05142772A (ja) 1991-11-26 1993-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US5227227A (en) 1990-03-05 1993-07-13 Johnson & Johnson Inc. Non-woven fabric with a thermally activated adhesive surface, resulting product and applications thereof
JPH05281728A (ja) 1992-04-01 1993-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
EP0568993A2 (en) 1992-05-06 1993-11-10 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Chemical amplification resist composition
JPH0643946B2 (ja) 1986-12-27 1994-06-08 秩父セメント株式会社 粘度測定装置に於ける感応板の挿入深さ調整装置
JPH06308727A (ja) 1993-04-19 1994-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH0712004B2 (ja) 1988-10-19 1995-02-08 日本電装株式会社 コイル用ボビン
JPH07271028A (ja) 1993-09-28 1995-10-20 Hitachi Chem Co Ltd 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法
JPH07120042B2 (ja) 1987-05-21 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH07120041B2 (ja) 1987-05-21 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH0812424B2 (ja) 1987-11-19 1996-02-07 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH1062986A (ja) 1996-08-21 1998-03-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感放射線性着色組成物
JPH10291969A (ja) 1996-12-06 1998-11-04 Ciba Specialty Chem Holding Inc 新規α−アミノアセトフェノン光開始剤
JPH11271969A (ja) 1998-01-21 1999-10-08 Mitsubishi Chemical Corp 光重合性組成物及び感光性平版印刷版
JP2000066385A (ja) 1998-08-18 2000-03-03 Ciba Specialty Chem Holding Inc 高感度で高レジスト厚さのｉ線ホトレジスト用スルホニルオキシム類
JP2000080068A (ja) 1998-06-26 2000-03-21 Ciba Specialty Chem Holding Inc 新規ｏ―アシルオキシム光開始剤
EP0993966A1 (de) 1998-10-13 2000-04-19 Agfa-Gevaert AG Negativ arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch zur Herstellung eines mit Wärme oder Infrarotlaser bebilderbaren Aufzeichnungsmaterials
JP2000187322A (ja) 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法
JP2001125255A (ja) 1999-10-27 2001-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2001233842A (ja) 1999-12-15 2001-08-28 Ciba Specialty Chem Holding Inc オキシムエステルの光開始剤
JP2001242612A (ja) 2000-03-01 2001-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001318463A (ja) 2000-05-11 2001-11-16 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2002062698A (ja) 2000-08-21 2002-02-28 Kyocera Corp 画像形成機
JP2002107918A (ja) 2000-10-03 2002-04-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
EP1204000A1 (en) 2000-11-06 2002-05-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
JP2002309057A (ja) 2001-04-13 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd 酸分解型感光性組成物及び酸分解型平版印刷版
JP2002311569A (ja) 2001-04-13 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びネガ型平版印刷版
JP2002363208A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363206A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363207A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363209A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2003149647A (ja) 2001-08-31 2003-05-21 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JP2004534797A (ja) 2001-06-11 2004-11-18 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 組み合わされた構造を有するオキシムエステルの光開始剤
JP2005284291A (ja) 2004-03-30 2005-10-13 Lg Phillips Lcd Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2005346054A (ja) 2004-05-31 2005-12-15 Lg Philips Lcd Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2007522531A (ja) 2004-02-13 2007-08-09 マイクロケム コーポレイション 永久レジスト組成物、その硬化生成物、及びその使用
JP2007231000A (ja) 2006-02-01 2007-09-13 Fujifilm Corp オキシム化合物及びそれを含む感光性組成物
JP2007269779A (ja) 2006-02-24 2007-10-18 Fujifilm Corp オキシム誘導体、光重合性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法
JP2007277514A (ja) 2006-03-17 2007-10-25 Fujifilm Corp 高分子化合物およびその製造方法、顔料分散剤、顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びにカラーフィルタおよびその製造方法
JP2007322744A (ja) 2006-05-31 2007-12-13 Fujifilm Corp 着色感光性樹脂組成物、及び感光性樹脂転写材料、並びに、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置
JP2008185683A (ja) 2007-01-29 2008-08-14 Jsr Corp 固体撮像素子用組成物及びマイクロレンズアレイの製造方法
JP2008239923A (ja) 2007-03-29 2008-10-09 Fujifilm Corp 有機無機複合組成物とその製造方法、成形体および光学部品
JP2008250200A (ja) 2007-03-30 2008-10-16 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物、及びこれを用いたレジストパターンの製造方法
JP2008292970A (ja) 2006-09-27 2008-12-04 Fujifilm Corp 化合物及びその互変異性体、金属錯体化合物、感光性着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP4225898B2 (ja) 2001-08-21 2009-02-18 チバ ホールディング インコーポレーテッド 深色モノ−及びビス−アシルホスフィンオキシド及びスルフィド並びに光開始剤としてのこれらの使用
JP2009079148A (ja) * 2007-09-26 2009-04-16 Fujifilm Corp 加工顔料、顔料分散組成物、着色感光性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子
JP2009519904A (ja) 2005-12-01 2009-05-21 チバ ホールディング インコーポレーテッド オキシムエステル光開始剤
JP2009128577A (ja) 2007-11-22 2009-06-11 Hitachi Ltd 有機発光表示装置
US7556910B2 (en) 2005-12-01 2009-07-07 LF Chem, Ltd. Photosensitive composition comprising triazine-based photoactive compound containing oxime ester
WO2009087961A1 (ja) * 2008-01-07 2009-07-16 Mitsui Chemicals, Inc. 新規な重合体粒子およびその用途
JP2009179678A (ja) 2008-01-30 2009-08-13 Jsr Corp 光硬化性組成物及び、その硬化膜
JP2009191061A (ja) 2007-08-27 2009-08-27 Fujifilm Corp 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP2009191179A (ja) 2008-02-15 2009-08-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光重合開始剤、重合性組成物、および重合物の製造方法。
JP2009221114A (ja) 2008-03-13 2009-10-01 Fujifilm Corp 重合開始機能を有する化合物、重合開始剤、重合性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、ならびに固体撮像素子
WO2009123109A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター
JP2009242469A (ja) 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
JP2009258758A (ja) 2009-08-04 2009-11-05 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置の作製方法及び電子書籍の作製方法
JP4364216B2 (ja) 2005-12-30 2009-11-11 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 感光性樹脂組成物及びこれを用いたブラックマトリックス
JP2009263544A (ja) 2008-04-25 2009-11-12 Nippon Kayaku Co Ltd Ｍｅｍｓ用感光性樹脂組成物及びその硬化物
US20090292039A1 (en) 2006-12-27 2009-11-26 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same
US7626957B2 (en) 2003-04-04 2009-12-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Home agent management apparatus and method
JP2009288705A (ja) 2008-05-30 2009-12-10 Fujifilm Corp 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及び、固体撮像素子
JP2010009793A (ja) 2008-06-24 2010-01-14 Canon Inc 発光素子、発光素子を用いた表示装置及び発光素子の製造方法
JP2010015025A (ja) 2008-07-04 2010-01-21 Adeka Corp 特定の光重合開始剤を含有する感光性組成物
JP2010027591A (ja) 2008-07-17 2010-02-04 Lg Display Co Ltd 有機電界発光表示装置及びその製造方法
JP2010032985A (ja) 2008-06-30 2010-02-12 Fujifilm Corp 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP2010129825A (ja) 2008-11-28 2010-06-10 Sumitomo Chemical Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JP4506785B2 (ja) 2007-06-14 2010-07-21 エプソンイメージングデバイス株式会社 静電容量型入力装置
JP2010160418A (ja) 2009-01-09 2010-07-22 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物，並びにこれを用いた感光性エレメント，ソルダーレジスト及びプリント配線板
JP2010182638A (ja) 2009-02-09 2010-08-19 Sony Corp 表示装置の製造方法および表示装置
JP2010185072A (ja) 2009-01-15 2010-08-26 Fujifilm Corp 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
WO2010103856A1 (ja) * 2009-03-12 2010-09-16 三井化学株式会社 新規な金属酸化物多孔質体、その製造方法および用途
JP2010204154A (ja) 2009-02-27 2010-09-16 Fujifilm Corp カラーフィルタの製造方法及び固体撮像素子
JP2010210702A (ja) 2009-03-06 2010-09-24 Fujifilm Corp 固体撮像素子用着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP2011107476A (ja) 2009-11-18 2011-06-02 Panasonic Corp 電子デバイスの製造方法
JP2011127096A (ja) * 2009-11-20 2011-06-30 Fujifilm Corp 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP2011145686A (ja) 2000-02-01 2011-07-28 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置及び電子機器
JP2011252945A (ja) 2010-05-31 2011-12-15 Fujifilm Corp 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子
JP2011257734A (ja) 2010-05-14 2011-12-22 Jsr Corp 液晶表示素子、ポジ型感放射線性組成物、液晶表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法
JP2012032556A (ja) 2010-07-29 2012-02-16 Fujifilm Corp 重合性組成物
JP2012082294A (ja) * 2010-10-08 2012-04-26 Dic Corp 金属酸化物微粒子分散剤、及び分散体
JP2012113104A (ja) 2010-11-24 2012-06-14 Fujifilm Corp 着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置
JP2012150468A (ja) 2010-12-28 2012-08-09 Fujifilm Corp 遮光膜形成用チタンブラック分散組成物、それを含有する感放射線性組成物、遮光膜の製造方法、及び固体撮像素子
US20120235099A1 (en) 2011-03-17 2012-09-20 Fujifilm Corporation Radiation-sensitive colored composition, colored cured film, color filter and method of producing the same, solid-state imaging device, liquid crystal display apparatus, and method of producing dye
JP2012201643A (ja) 2011-03-25 2012-10-22 Fujifilm Corp カルボン酸の製造方法、ジピロメテン化合物の製造方法、着色感放射線性組成物、カラーフィルタ、固体撮像素子及び液晶表示装置
JP2012215806A (ja) 2011-03-25 2012-11-08 Fujifilm Corp 着色感放射線性組成物、カラーフィルタ、着色パターンの製造方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び液晶表示装置
JP2012251125A (ja) * 2011-05-06 2012-12-20 Fujifilm Corp 分散組成物、並びに、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び、固体撮像素子

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008222843A (ja) * 2007-03-12 2008-09-25 Fujifilm Corp 高分子化合物及びその製造方法、水系用顔料分散剤、水系顔料分散組成物、並びに水性インク
TW200900435A (en) 2007-03-29 2009-01-01 Fujifilm Corp Organic-inorganic composite composition and fabrication method thereof, molded article and fabrication method thereof and optical component
JP5191194B2 (ja) * 2007-09-06 2013-04-24 富士フイルム株式会社 加工顔料、それを用いた顔料分散組成物、着色感光性組成物、及び、カラーフィルタ
TW200925214A (en) * 2007-09-06 2009-06-16 Fujifilm Corp Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
EP2472330B1 (en) * 2010-12-28 2017-01-25 Fujifilm Corporation Black radiation-sensitive composition, black cured film, solid-state imaging element, and method of producing black cured film
JP5894943B2 (ja) * 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP5909468B2 (ja) * 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子

Patent Citations (148)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4429620B1 (ja) 1961-10-10 1969-12-02
JPS4420189B1 (ja) 1965-06-03 1969-08-30
US3615455A (en) 1968-01-12 1971-10-26 Agfa Gevaert Nv Photopolymerization of ethylenically unsaturated organic compounds
JPS4842965B1 (ja) 1968-04-02 1973-12-15
JPS4943191B1 (ja) 1969-07-11 1974-11-19
JPS4841708B1 (ja) 1970-01-13 1973-12-07
JPS506034B1 (ja) 1970-08-11 1975-03-10
JPS5434327B1 (ja) 1970-12-28 1979-10-26
JPS5421726B2 (ja) 1970-12-31 1979-08-01
GB1388492A (en) 1971-09-03 1975-03-26 Minnesota Mining & Mfg Chromophore-substituted halomethyl-s-triazines
JPS571819B2 (ja) 1971-09-03 1982-01-13
JPS4864183A (ja) 1971-12-09 1973-09-05
JPS5230490B2 (ja) 1972-03-21 1977-08-09
JPS5534414B2 (ja) 1972-06-02 1980-09-06
US4212976A (en) 1973-06-15 1980-07-15 Merck & Co., Inc. 3,4α-Di-O-derivatives of mercaptomethylpyridine and pyridylmethyldisulfide
JPS5849860B2 (ja) 1973-12-07 1983-11-07 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト コウジユウゴウセイフクシヤザイリヨウ
JPS5812577B2 (ja) 1973-12-21 1983-03-09 ヘキスト アクチエンゲゼルシヤフト 光重合可能な複写材料
JPS5137193A (ja) 1974-09-25 1976-03-29 Toyo Boseki
JPS5425957B2 (ja) 1974-10-04 1979-08-31
JPS5182102A (en) 1974-12-10 1976-07-19 Basf Ag Insatsuinki oyobi hifukuzairyonotameno hikarijugokanonaketsugozai
JPS53702A (en) 1975-12-23 1978-01-06 Dynachem Corp Adhesion promoting agent for polymerized film
JPS52134692A (en) 1976-05-04 1977-11-11 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPS53128333A (en) 1977-04-15 1978-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd Prevention of influences of ultraviolet ray upon photosensitive material of silver halogenide
JPS53133428A (en) 1977-04-25 1978-11-21 Hoechst Ag Radiation sensitive copying constitute
JPS576096B2 (ja) 1977-11-28 1982-02-03
JPS5492723A (en) 1977-12-30 1979-07-23 Somar Mfg Photosensitive material and use
JPS6239418B2 (ja) 1978-05-20 1987-08-22 Hoechst Ag
JPS6239417B2 (ja) 1978-05-20 1987-08-22 Hoechst Ag
JPS55500806A (ja) 1978-10-19 1980-10-16
JPS5675643A (en) 1979-11-07 1981-06-22 Hoechst Ag Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material using same
JPH0140337B2 (ja) 1979-12-29 1989-08-28 Hoechst Ag
JPH0140336B2 (ja) 1979-12-29 1989-08-28 Hoechst Ag
JPH0216765B2 (ja) 1980-09-29 1990-04-18 Hoechst Ag
JPH0232293B2 (ja) 1980-12-22 1990-07-19 Hoechst Ag
JPS5944615A (ja) 1982-09-07 1984-03-13 Furuno Electric Co Ltd ジヤイロ装置
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
US4508811A (en) 1983-01-17 1985-04-02 U.S. Philips Corporation Recording element having a pyrylium or thiopyrylium-squarylium dye layer and new pyrylium or thiopyrylium-squarylium compounds
JPS59138205A (ja) 1983-01-20 1984-08-08 チバ−ガイギ−　アクチエンゲゼルシヤフト 被覆組成物およびその硬化方法
JPS6084305A (ja) 1983-08-30 1985-05-13 バスフ　アクチェン　ゲゼルシャフト 光重合可能な混合物
DE3337024A1 (de) 1983-10-12 1985-04-25 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch
JPS6122048A (ja) 1984-06-08 1986-01-30 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 重合可能な化合物、その製法、およびこれを含有する放射線感性複写層
JPS61169831A (ja) 1985-01-19 1986-07-31 アグフア‐ゲヴエルト・アクチエンゲゼルシヤフト 感光性安定化写真記録材料
JPS6218537A (ja) 1985-07-16 1987-01-27 ザ・ミ−ド・コ−ポレ−シヨン 共開始剤として第三アミンを含有する感光性マイクロカプセルを用いた造像材料
JPS6258241A (ja) 1985-09-09 1987-03-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS6353543A (ja) 1986-08-23 1988-03-07 Konica Corp 発汗現象及びスタチツクマ−ク発生を防止したハロゲン化銀写真感光材料
JPS6353544A (ja) 1986-08-25 1988-03-07 Konica Corp 発汗現象及びスタチツクマ−ク発生を防止したハロゲン化銀写真感光材料
JPS6356651A (ja) 1986-08-27 1988-03-11 Konica Corp 発汗現象及びスタチツクマ−ク発生を防止したハロゲン化銀写真感光材料
JPH0643946B2 (ja) 1986-12-27 1994-06-08 秩父セメント株式会社 粘度測定装置に於ける感応板の挿入深さ調整装置
JPS63260909A (ja) 1987-03-28 1988-10-27 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 光重合性混合物及びこの混合物から製造される記録材料
JPS63277653A (ja) 1987-03-28 1988-11-15 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 重合可能な化合物、これを含有する放射線重合可能な混合物及び放射線重合可能な記録材料
JPH01105238A (ja) 1987-03-28 1989-04-21 Hoechst Ag 光重合可能な混合物および光重合可能な記録材料
JPH07120041B2 (ja) 1987-05-21 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPS63287947A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS63287944A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH07120042B2 (ja) 1987-05-21 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPS6433104A (en) 1987-06-25 1989-02-03 Ciba Geigy Ag Photopolymerizable composition
JPH0812424B2 (ja) 1987-11-19 1996-02-07 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH01271741A (ja) 1988-04-25 1989-10-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH0225493A (ja) 1988-05-21 1990-01-26 Hoechst Ag アルケニルホスホン酸エステルおよびアルケニルホスフイン酸エルテル、その製法並びに当該化合物を含有する放射線重合性混合物および記録材料
JPH0712004B2 (ja) 1988-10-19 1995-02-08 日本電装株式会社 コイル用ボビン
US5227227A (en) 1990-03-05 1993-07-13 Johnson & Johnson Inc. Non-woven fabric with a thermally activated adhesive surface, resulting product and applications thereof
JPH0519475A (ja) 1991-07-12 1993-01-29 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPH0534920A (ja) 1991-07-30 1993-02-12 Fuji Photo Film Co Ltd 光硬化性樹脂組成物、保護層の形成方法及びカラーフイルター
JPH05142772A (ja) 1991-11-26 1993-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH05281728A (ja) 1992-04-01 1993-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
EP0568993A2 (en) 1992-05-06 1993-11-10 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Chemical amplification resist composition
JPH06308727A (ja) 1993-04-19 1994-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH07271028A (ja) 1993-09-28 1995-10-20 Hitachi Chem Co Ltd 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法
JPH1062986A (ja) 1996-08-21 1998-03-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感放射線性着色組成物
JPH10291969A (ja) 1996-12-06 1998-11-04 Ciba Specialty Chem Holding Inc 新規α−アミノアセトフェノン光開始剤
JPH11271969A (ja) 1998-01-21 1999-10-08 Mitsubishi Chemical Corp 光重合性組成物及び感光性平版印刷版
JP2000080068A (ja) 1998-06-26 2000-03-21 Ciba Specialty Chem Holding Inc 新規ｏ―アシルオキシム光開始剤
JP2000066385A (ja) 1998-08-18 2000-03-03 Ciba Specialty Chem Holding Inc 高感度で高レジスト厚さのｉ線ホトレジスト用スルホニルオキシム類
EP0993966A1 (de) 1998-10-13 2000-04-19 Agfa-Gevaert AG Negativ arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch zur Herstellung eines mit Wärme oder Infrarotlaser bebilderbaren Aufzeichnungsmaterials
JP2000187322A (ja) 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法
JP2001125255A (ja) 1999-10-27 2001-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2001233842A (ja) 1999-12-15 2001-08-28 Ciba Specialty Chem Holding Inc オキシムエステルの光開始剤
JP2011145686A (ja) 2000-02-01 2011-07-28 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置及び電子機器
JP2001242612A (ja) 2000-03-01 2001-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001318463A (ja) 2000-05-11 2001-11-16 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2002062698A (ja) 2000-08-21 2002-02-28 Kyocera Corp 画像形成機
JP2002107918A (ja) 2000-10-03 2002-04-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
EP1204000A1 (en) 2000-11-06 2002-05-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
JP2002309057A (ja) 2001-04-13 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd 酸分解型感光性組成物及び酸分解型平版印刷版
JP2002311569A (ja) 2001-04-13 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びネガ型平版印刷版
JP2002363208A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363207A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363209A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363206A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2004534797A (ja) 2001-06-11 2004-11-18 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 組み合わされた構造を有するオキシムエステルの光開始剤
JP2006342166A (ja) 2001-06-11 2006-12-21 Ciba Specialty Chem Holding Inc 組み合わされた構造を有するオキシムエステルの光開始剤
JP4225898B2 (ja) 2001-08-21 2009-02-18 チバ ホールディング インコーポレーテッド 深色モノ−及びビス−アシルホスフィンオキシド及びスルフィド並びに光開始剤としてのこれらの使用
JP2003149647A (ja) 2001-08-31 2003-05-21 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置及びその製造方法
US7626957B2 (en) 2003-04-04 2009-12-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Home agent management apparatus and method
JP2007522531A (ja) 2004-02-13 2007-08-09 マイクロケム コーポレイション 永久レジスト組成物、その硬化生成物、及びその使用
JP2005284291A (ja) 2004-03-30 2005-10-13 Lg Phillips Lcd Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2005346054A (ja) 2004-05-31 2005-12-15 Lg Philips Lcd Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2009519904A (ja) 2005-12-01 2009-05-21 チバ ホールディング インコーポレーテッド オキシムエステル光開始剤
US7556910B2 (en) 2005-12-01 2009-07-07 LF Chem, Ltd. Photosensitive composition comprising triazine-based photoactive compound containing oxime ester
JP4364216B2 (ja) 2005-12-30 2009-11-11 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 感光性樹脂組成物及びこれを用いたブラックマトリックス
JP2007231000A (ja) 2006-02-01 2007-09-13 Fujifilm Corp オキシム化合物及びそれを含む感光性組成物
JP2007269779A (ja) 2006-02-24 2007-10-18 Fujifilm Corp オキシム誘導体、光重合性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法
JP2007277514A (ja) 2006-03-17 2007-10-25 Fujifilm Corp 高分子化合物およびその製造方法、顔料分散剤、顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びにカラーフィルタおよびその製造方法
US20100233595A1 (en) 2006-03-17 2010-09-16 Fujifilm Corporation Polymer compound and production method thereof, pigment dispersing agent, pigment dispersion composition, photocurable composition, and color filter and production method thereof
JP2007322744A (ja) 2006-05-31 2007-12-13 Fujifilm Corp 着色感光性樹脂組成物、及び感光性樹脂転写材料、並びに、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置
JP2008292970A (ja) 2006-09-27 2008-12-04 Fujifilm Corp 化合物及びその互変異性体、金属錯体化合物、感光性着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
US20090292039A1 (en) 2006-12-27 2009-11-26 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same
JP2008185683A (ja) 2007-01-29 2008-08-14 Jsr Corp 固体撮像素子用組成物及びマイクロレンズアレイの製造方法
JP2008239923A (ja) 2007-03-29 2008-10-09 Fujifilm Corp 有機無機複合組成物とその製造方法、成形体および光学部品
JP2008250200A (ja) 2007-03-30 2008-10-16 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物、及びこれを用いたレジストパターンの製造方法
JP4506785B2 (ja) 2007-06-14 2010-07-21 エプソンイメージングデバイス株式会社 静電容量型入力装置
JP2009191061A (ja) 2007-08-27 2009-08-27 Fujifilm Corp 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP2009079148A (ja) * 2007-09-26 2009-04-16 Fujifilm Corp 加工顔料、顔料分散組成物、着色感光性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子
JP2009128577A (ja) 2007-11-22 2009-06-11 Hitachi Ltd 有機発光表示装置
WO2009087961A1 (ja) * 2008-01-07 2009-07-16 Mitsui Chemicals, Inc. 新規な重合体粒子およびその用途
JP2009179678A (ja) 2008-01-30 2009-08-13 Jsr Corp 光硬化性組成物及び、その硬化膜
JP2009191179A (ja) 2008-02-15 2009-08-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光重合開始剤、重合性組成物、および重合物の製造方法。
JP2009221114A (ja) 2008-03-13 2009-10-01 Fujifilm Corp 重合開始機能を有する化合物、重合開始剤、重合性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、ならびに固体撮像素子
JP2009242469A (ja) 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
WO2009123109A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター
JP2009263544A (ja) 2008-04-25 2009-11-12 Nippon Kayaku Co Ltd Ｍｅｍｓ用感光性樹脂組成物及びその硬化物
JP2009288705A (ja) 2008-05-30 2009-12-10 Fujifilm Corp 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及び、固体撮像素子
JP2010009793A (ja) 2008-06-24 2010-01-14 Canon Inc 発光素子、発光素子を用いた表示装置及び発光素子の製造方法
JP2010032985A (ja) 2008-06-30 2010-02-12 Fujifilm Corp 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP2010015025A (ja) 2008-07-04 2010-01-21 Adeka Corp 特定の光重合開始剤を含有する感光性組成物
JP2010027591A (ja) 2008-07-17 2010-02-04 Lg Display Co Ltd 有機電界発光表示装置及びその製造方法
JP2010129825A (ja) 2008-11-28 2010-06-10 Sumitomo Chemical Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JP2010160418A (ja) 2009-01-09 2010-07-22 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物，並びにこれを用いた感光性エレメント，ソルダーレジスト及びプリント配線板
JP2010185072A (ja) 2009-01-15 2010-08-26 Fujifilm Corp 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP2010182638A (ja) 2009-02-09 2010-08-19 Sony Corp 表示装置の製造方法および表示装置
JP2010204154A (ja) 2009-02-27 2010-09-16 Fujifilm Corp カラーフィルタの製造方法及び固体撮像素子
JP2010210702A (ja) 2009-03-06 2010-09-24 Fujifilm Corp 固体撮像素子用着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
WO2010103856A1 (ja) * 2009-03-12 2010-09-16 三井化学株式会社 新規な金属酸化物多孔質体、その製造方法および用途
JP2009258758A (ja) 2009-08-04 2009-11-05 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置の作製方法及び電子書籍の作製方法
JP2011107476A (ja) 2009-11-18 2011-06-02 Panasonic Corp 電子デバイスの製造方法
JP2011127096A (ja) * 2009-11-20 2011-06-30 Fujifilm Corp 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP2011257734A (ja) 2010-05-14 2011-12-22 Jsr Corp 液晶表示素子、ポジ型感放射線性組成物、液晶表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法
JP2011252945A (ja) 2010-05-31 2011-12-15 Fujifilm Corp 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子
JP2012032556A (ja) 2010-07-29 2012-02-16 Fujifilm Corp 重合性組成物
JP2012082294A (ja) * 2010-10-08 2012-04-26 Dic Corp 金属酸化物微粒子分散剤、及び分散体
JP2012113104A (ja) 2010-11-24 2012-06-14 Fujifilm Corp 着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置
JP2012150468A (ja) 2010-12-28 2012-08-09 Fujifilm Corp 遮光膜形成用チタンブラック分散組成物、それを含有する感放射線性組成物、遮光膜の製造方法、及び固体撮像素子
US20120235099A1 (en) 2011-03-17 2012-09-20 Fujifilm Corporation Radiation-sensitive colored composition, colored cured film, color filter and method of producing the same, solid-state imaging device, liquid crystal display apparatus, and method of producing dye
JP2012208494A (ja) 2011-03-17 2012-10-25 Fujifilm Corp 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、並びに、染料の製造方法
JP2012201643A (ja) 2011-03-25 2012-10-22 Fujifilm Corp カルボン酸の製造方法、ジピロメテン化合物の製造方法、着色感放射線性組成物、カラーフィルタ、固体撮像素子及び液晶表示装置
JP2012215806A (ja) 2011-03-25 2012-11-08 Fujifilm Corp 着色感放射線性組成物、カラーフィルタ、着色パターンの製造方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び液晶表示装置
JP2012251125A (ja) * 2011-05-06 2012-12-20 Fujifilm Corp 分散組成物、並びに、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び、固体撮像素子

Non-Patent Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"Chemical Handbook fID, 4th Revised Edition", 1993, CHEMICAL SOCIETY OF JAPAN, MARUZEN
"FPD International 2009 Forum T-ll", CYPRESS SEMICONDUCTOR CORPORATION
"Saishin Touch Panel Giiutsu (Newest Touch Panel Technology)", 6 July 2009, TECHNO TIMES
CHEMICAL REVIEWS, vol. 91, 1991, pages 165 - 195
F.C. SCHAEFER, J. ORG. CHEM., vol. 29, 1964, pages 1527
J.A. DEAN: "Lange's Handbook of Chemistry, 12th ed.", 1979, MCGRAW-HILL
J.C.S. PERKIN II, 1979, pages 156 - 162
J.C.S. PERKIN II, 1979, pages 1653 - 1660
JOURNAL OF APPLIED POLYMER SCIENCE, 2012, pages 725 - 731
JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, 1995, pages 202 - 232
JOURNAL OF THE ADHESION SOCIETY OF JAPAN, vol. 20, no. 7, 1984, pages 300 - 308
M.R. SANDER ET AL., JOURNAL OF POLYMER SOCIETY, vol. 10, 1972, pages 3173
NANKODO: "Kaeakuno Ryoiki (Chemistry Region), special number. No. 122", 1979, pages: 96 - 103
See also references of EP2891687A4
WAKABAYASHI, BULL. CHEM. SOC. JAPAN, vol. 42, 1969, pages 2924
YUJI MITANI: "Touch Panel no Giiutsu to Kaihatsu (Technology and Development of Touch Panels)", December 2004, CMC PUBLISHING CO., LTD.

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11045834B2 (en) * 2016-02-02 2021-06-29 Fujifilm Corporation Method for producing film
WO2018061891A1 (ja) * 2016-09-27 2018-04-05 富士フイルム株式会社 分散液、組成物、膜、膜の製造方法および分散剤
JPWO2018061891A1 (ja) * 2016-09-27 2019-07-04 富士フイルム株式会社 分散液、組成物、膜、膜の製造方法および分散剤
US10928726B2 (en) 2016-09-27 2021-02-23 Fujifilm Corporation Dispersion liquid, composition, film, manufacturing method of film, and dispersant
WO2024053471A1 (ja) * 2022-09-09 2024-03-14 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、膜、光センサおよび光センサの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20150166780A1 (en) 2015-06-18
KR20150038368A (ko) 2015-04-08
CN104640932A (zh) 2015-05-20
JP2014177614A (ja) 2014-09-25
TW201420619A (zh) 2014-06-01
SG11201501486WA (en) 2015-05-28
EP2891687A4 (en) 2016-04-27
TWI624484B (zh) 2018-05-21
EP2891687A1 (en) 2015-07-08
CN104640932B (zh) 2017-05-17
US9447270B2 (en) 2016-09-20
JP5934682B2 (ja) 2016-06-15
KR101687725B1 (ko) 2016-12-19
EP2891687B1 (en) 2016-12-28

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