CN104640932A - 分散组合物、使用其的固化性组合物、透明膜、微透镜、及固态摄像元件、及高分子化合物 - Google Patents

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Abstract

本发明提供含有一次粒径为1nm～100nm的金属氧化物粒子(A)、重均分子量为10000以下的下述通式(1)所表示的高分子化合物(B)、和溶剂(C)，折射率高且涂布后的膜面的面状优异的分散组合物、使用其的固化性组合物、透明膜、微透镜、及固态摄像元件。此外，提供能够提供涂布及干燥后的膜面的面状优异、折射率高的分散组合物、且能够维持粒子的分散稳定性的化合物。

Description

分散组合物、使用其的固化性组合物、透明膜、微透镜、及固态摄像元件、及高分子化合物
技术领域
本发明涉及分散组合物、使用其的固化性组合物、透明膜、微透镜、及固态摄像元件、及高分子化合物。
背景技术
作为电子复印机、固态摄像元件等的片上滤色器的成像光学系统中使用的微透镜、代替铜布线的光布线用途，期望能够形成折射率高且微细的透明膜、透明布线等的透明构件形成用组合物。
特别是固态摄像元件中使用的微透镜随着固态摄像元件的微细化不断发展，要求更加微细，同时为了实现更有效的聚光而要求高折射率。例如，公开了使用二氧化硅被覆氧化钛粒子的高折射率的微透镜形成用或固态摄像元件形成用组合物(例如，参照专利文献1、2)。特别是近年来，随着高像素化，1像素的尺寸极小，要求更有效地聚光。因此，要求更高折射率的微透镜。此外，为了在1次制造中制作更多的设备，所使用的晶片尺寸也变大，这种情况下存在涂布面状变差的倾向。
另一方面，在专利文献3中，公开了可提高滤色器用途的有机颜料的分散性的特定结构的分散树脂。此外，在专利文献4中，公开了与无机微粒同时含有上述特定结构的分散树脂的高折射率材料形成用的组合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-179678号公报
专利文献2：日本特开2008-185683号公报
专利文献3：日本特开2007-277514号公报
专利文献4：日本特开2008-239923号公报
发明内容
发明所要解决的课题
然而，从达成高折射率的观点出发，上述那样的高折射率材料形成用的组合物要求以高含量含有无机微粒。在以高含量含有无机微粒的组合物中，由于无机微粒的凝聚等而分散性差，粘度增大，对涂布膜形成带来障碍。在高含量下无机微粒的分散性也良好、可降低组合物的粘度的分散剂的开发成为课题。
本发明是鉴于上述问题而进行，目的在于提供折射率高、粘度低的分散组合物、使用其的固化性组合物、透明膜、微透镜、及固态摄像元件。
此外，本发明的目的还在于提供能够提供涂布及干燥后的膜面的面状优异、折射率高的分散组合物、且能够维持粒子的分散稳定性的化合物。
用于解决课题的方案
用于解决上述课题的具体的方案如下所述。
<1>
一种分散组合物，其含有一次粒径为1nm～100nm的金属氧化物粒子(A)、重均分子量为10000以下的下述通式(1)所表示的高分子化合物(B)、和溶剂(C)，
[化学式1]
通式(1)
上述通式(1)中，
R1表示(m+n)价的连结基团，R2表示单键或2价的连结基团；A1表示具有至少1种选自由酸基、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、烷基、芳基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、羧酸盐基、磺酰胺基、杂环基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基及羟基组成的组中的基团的1价的取代基；n个A1及R2分别可以相同，也可以不同；
m表示8以下的正的数，n表示1～9，m+n满足3～10；
P1表示聚合物链；m个P1可以相同，也可以不同。
<2>
根据<1>所述的分散组合物，其中，上述高分子化合物(B)的重均分子量为5000～8000。
<3>
根据<1>或<2>所述的分散组合物，其中，上述高分子化合物(B)的酸值为70～90mgKOH/g。
<4>
根据<1>～<3>中任一项所述的分散组合物，其中，上述金属氧化物粒子(A)相对于上述分散组合物的全部固体成分的含量为65质量％以上。
<5>
根据<1>～<4>中任一项所述的分散组合物，其中，上述高分子化合物(B)为下述通式(2)所表示的高分子化合物，
[化学式2]
通式(2)
上述通式(2)中，
R3表示(m+n)价的连结基团，R4、R5分别独立地表示单键或2价的连结基团；A2表示具有至少1种选自由酸基、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、烷基、芳基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、羧酸盐基、磺酰胺基、杂环基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基及羟基组成的组中的基团的1价的取代基；n个A2及R4分别可以相同，也可以不同；m表示8以下的正的数，n表示1～9，m+n满足3～10；
P2表示聚合物链；m个P2及R5分别可以相同，也可以不同。
<6>
根据<1>～<5>中任一项所述的分散组合物，其中，上述通式(1)中的A1或上述通式(2)中的A2为具有至少1种选自由酸基、酚基、烷基、芳基、具有亚烷基氧基链的基团、羟基、脲基、氨基甲酸酯基、磺酰胺基、酰亚胺基及具有配位性氧原子的基团组成的组中的基团的1价的取代基。
<7>
根据<1>～<5>中任一项所述的分散组合物，其中，上述通式(1)中的A1或上述通式(2)中的A2为具有至少1种pKa为5以上的官能团的1价的取代基。
<8>
根据<7>所述的分散组合物，其中，上述pKa为5以上的官能团为具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、脲基、氨基甲酸酯基、烷基、芳基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、羧酸盐基、磺酰胺基、羟基或杂环基。
<9>
根据<1>～<8>中任一项所述的分散组合物，其中，P1或P2所表示的聚合物链为来自选自乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨基甲酸酯系聚合物、酰胺系聚合物、环氧系聚合物、硅酮系聚合物、及它们的改性物或共聚物中的至少1种的聚合物链。
<10>
根据<1>～<9>中任一项所述的分散组合物，其中，P1或P2所表示的聚合物链含有至少1种重复单元，且上述至少1种的重复单元的重复数k为3～50。
<11>
根据<1>～<10>中任一项所述的分散组合物，其中，上述通式(1)中的R1或上述通式(2)中的R3为下述通式中的任一者所表示的基团，
[化学式3]
上述通式中，
L3表示3价的基团；T3表示单键或2价的连结基团，3个存在的T3彼此可以相同，也可以不同；
L4表示4价的基团；T4表示单键或2价的连结基团，4个存在的T4彼此可以相同，也可以不同；
L5表示5价的基团；T5表示单键或2价的连结基团，5个存在的T5彼此可以相同，也可以不同；
L6表示6价的基团；T6表示单键或2价的连结基团，6个存在的T6彼此可以相同，也可以不同。
<12>
根据<1>～<11>中任一项所述的分散组合物，其中，上述高分子化合物(B)为下述通式(5)所表示的高分子化合物，
[化学式4]
上述通式(5)中，
R6表示(m+n1+n2)价的连结基团，R7～R9分别独立地表示单键或2价的连结基团；
A3表示具有至少1种酸基的1价的取代基；A4表示与A3不同的1价的取代基；n1个A3及R7分别可以相同，也可以不同；n2个A4及R8分别可以相同，也可以不同；
m表示8以下的正的数，n1表示1～8，n2表示1～8，m+n1+n2满足3～10；
P3表示聚合物链；m个P3及R9分别可以相同，也可以不同。
<13>
一种固化性组合物，其包含<1>～<12>中任一项所述的分散组合物、和聚合性化合物(D)。
<14>
根据<13>所述的固化性组合物，上述聚合性化合物(D)为选自由分子内具有2个以上的环氧基或氧杂环丁烷基的化合物、及具有2个以上末端烯属不饱和键的化合物组成的组中的至少1种。
<15>
根据<13>或<14>所述的固化性组合物，其还含有选自由聚合引发剂(E)、及粘合剂聚合物组成的组中的至少1种。
<16>
根据<15>所述的固化性组合物，其中，上述聚合引发剂(E)为肟系聚合引发剂。
<17>
根据<13>～<16>中任一项所述的固化性组合物，其用于微透镜形成或滤色器的下涂膜形成。
<18>
一种透明膜，其是使用<13>～<17>中任一项所述的固化性组合物而形成的。
<19>
一种微透镜，其是使用通过<17>所述的固化性组合物而得到的透明膜来形成的。
<20>
一种固态摄像元件，其具有<19>所述的微透镜。
<21>
<1>～<12>中任一项所述的分散组合物的制造方法。
<22>
一种高分子化合物，其由下述通式(5)表示，
[化学式5]
上述通式(5)中，
R6表示(m+n1+n2)价的连结基团，R7～R9分别独立地表示单键或2价的连结基团；
A3表示具有至少1种酸基的1价的取代基；A4表示与A3不同的1价的取代基；n1个A3及R7分别可以相同，也可以不同；n2个A4及R8分别可以相同，也可以不同；
m表示8以下的正的数，n1表示1～8，n2表示1～8，m+n1+n2满足3～10；
P3表示聚合物链；m个P3及R9分别可以相同，也可以不同。
<23>
根据<22>所述的高分子化合物，其中，上述取代基A3为具有至少1种pKa小于5的酸基的1价的取代基，
上述取代基A4为具有至少1种pKa为5以上的官能团的1价的取代基。
<24>
根据<22>或<23>所述的高分子化合物，其中，上述取代基A3为具有至少1种选自由羧酸基、磺酸基、磷酸基、膦酸基及次膦酸基组成的组中的基团的1价的取代基，上述与A3不同的取代基A4为具有至少1种选自由具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、脲基、氨基甲酸酯基、烷基、芳基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、羧酸盐基、磺酰胺基、羟基及杂环基组成的组中的基团的1价的取代基。
<25>
根据<22>～<24>中任一项所述的高分子化合物，其中，上述取代基A3为羧酸基。
<26>
根据<22>～<25>中任一项所述的高分子化合物，其中，上述取代基A4为烷基、芳基、具有配位性氧原子的基团、脲基或氨基甲酸酯基。
<27>
根据<22>～<26>中任一项所述的高分子化合物，其中，P3所表示的聚合物链为来自选自乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨基甲酸酯系聚合物、酰胺系聚合物、环氧系聚合物、硅酮系聚合物、及它们的改性物或共聚物中的至少1种的聚合物链。
<28>
根据<22>～<27>中任一项所述的高分子化合物，其中，P3所表示的聚合物链含有至少1种重复单元，且上述至少1种的重复单元的重复数k为3～50。
<29>
根据<22>～<28>中任一项所述的高分子化合物，其重均分子量为10000以下。
本发明更优选为下述构成。
<30>
一种透明膜的制造方法，其具有以下工序：将<13>～<17>中任一项所述的固化性组合物涂布到晶片上的工序；
接下来的第一加热工序、及
进一步接下来的高于上述第一加热工序的温度的温度下的第二加热工序。
<31>
一种微透镜的制造方法，其具有将<18>所述的透明膜进行后烘烤处理并成型修整的工序、以及干式蚀刻工序。
<32>
一种固态摄像元件的制造方法，其具有以下工序：在至少具有光电二极管、遮光膜、及设备保护膜的固态摄像元件用基板上形成红色像素、蓝色像素、及绿色像素的工序；
涂布<13>～<17>中任一项所述的固化性组合物并加热的工序；
形成抗蚀图案的工序、
进行后烘烤处理并将所形成的抗蚀图案成型修整成透镜状的形状的工序；以及
干式蚀刻工序。
发明效果
根据本发明，能够提供折射率高、粘度低的分散组合物、使用其的固化性组合物、透明膜、微透镜、及固态摄像元件。
此外，根据本发明，能够提供能够提供涂布及干燥后的膜面的面状优异、折射率高的分散组合物、且能够维持粒子的分散稳定性的化合物。
附图说明
图1是表示有源矩阵方式的液晶显示装置的一个例子的剖面简图。
图2为有机EL显示装置的一个例子的构成简图。
图3为表示静电容量型输入装置的构成的剖面图。
图4为表示静电容量型输入装置的构成的概略图。
图5为表示本发明中的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一个例子的说明图。
具体实施方式
本说明书中的基团(原子团)的表述中，没有记载取代及未取代的表述包含不具有取代基的基团，同时也包含具有取代基的基团。例如，所谓“烷基”，不仅包含不具有取代基的烷基(未取代烷基)，还包含具有取代基的烷基(取代烷基)。
以下记载的构成要件的说明有时基于本发明的代表性实施方式来进行，但本发明并不限定于那样的实施方式。另外，本说明书中使用“～”表示的数值范围是指包含“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值的范围。
另外，本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，“(甲基)丙烯基”表示丙烯基及甲基丙烯基，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基。此外，本说明书中，“单体”与“monomer”含义相同。本发明中的单体与低聚物及聚合物相区别，是指质均分子量为2,000以下的化合物。本说明书中，聚合性化合物是指具有聚合性基团的化合物，可以是单体，也可以是聚合物。聚合性基团是指参与聚合反应的基团。
此外，本说明书中，所谓“折射率”，只要没有特别说明，则是指相对于波长为635nm的光的折射率。
<分散组合物>
本发明的分散组合物含有一次粒径为1nm～100nm的金属氧化物粒子(A)、重均分子量为10000以下的下述通式(1)所表示的高分子化合物(B)、和溶剂(C)。
[化学式6]
通式(1)
上述通式(1)中，
R1表示(m+n)价的连结基团，R2表示单键或2价的连结基团。A1表示具有至少1种选自由酸基、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、烷基、芳基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、羧酸盐基、磺酰胺基、杂环基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基及羟基组成的组中的基团的1价的取代基。
n个A1及R2分别可以相同，也可以不同。
m表示8以下的正的数，n表示1～9，m+n满足3～10。
P1表示聚合物链。m个P1可以相同，也可以不同。
本发明中的分散组合物中，由于高分子化合物(B)所具有的上述取代基A1能够与金属氧化物粒子(A)相互作用，所以通过使高分子化合物(B)具有n个(1～9个)取代基A1，从而能够与金属氧化物粒子(A)牢固地相互作用。此外，高分子化合物(B)所具有的m个聚合物链P1可以作为空间排斥基团发挥功能，通过具有m个而发挥良好的空间排斥力，能够使金属氧化物粒子均匀地分散。进而推测，高分子化合物(B)在分子结构上也不会产生由以往的接枝无规结构的分散剂产生的粒子间交联所导致的粒子的凝聚等弊病。
<(A)一次粒径为1nm～100nm的金属氧化物粒子>
作为本发明中的金属氧化物粒子(A)，优选为折射率高、无色、白色或透明的无机粒子，可列举出钛(Ti)、锆(Zr)、铝(Al)、硅(Si)、锌(Zn)或镁(Mg)的氧化物粒子，优选为二氧化钛(TiO2)粒子、二氧化锆(ZrO2)粒子或二氧化硅(SiO2)粒子，其中，更优选为二氧化钛粒子(以下，有时也简称为“二氧化钛”)。
作为本发明中的二氧化钛粒子，可以用化学式TiO2表示，优选纯度为70％以上，更优选纯度为80％以上，进一步优选纯度为85％以上。通式TinO2n-1(n表示2～4的数。)所表示的低次氧化钛、氮氧化钛等优选为30质量％以下，更优选为20质量％以下，进一步优选为15质量％以下。
本发明中的金属氧化物粒子只要一次粒径为1nm～100nm，则没有特别限制，例如，可以从市售的金属氧化物粒子中适当选择使用。
上述金属氧化物粒子的一次粒径为1nm～100nm，但优选为1nm～80nm，更优选为1nm～50nm，特别优选为10nm～30nm。若金属氧化物粒子的一次粒径超过100nm，则有时折射率及透射率降低。此外，在低于1nm的情况下，有时因凝聚而导致分散性降低。
此外，本发明中，还可以使用平均粒径作为一次粒径的指标。本发明中的金属氧化物粒子的平均粒径是指通过将包含金属氧化物粒子的混合液或分散液用丙二醇单甲基醚乙酸酯稀释成80倍，对所得到的稀释液用动态光散射法进行测定而得到的值。
设为使用日机装株式会社制Microtrac UPA-EX150进行该测定而得到的数均粒径。
本发明中，作为金属氧化物粒子的折射率，没有特别限制，但从获得高折射率的观点出发，优选为1.75～2.70，进一步优选为1.90～2.70。
此外，金属氧化物粒子的比表面积优选为10m2/g到400m2/g，更优选为20m2/g到200m2/g，进一步优选为30m2/g到150m2/g，最优选为40m2/g到70m2/g。
此外，对于金属氧化物粒子的形状没有特别限制。可以为例如米粒状、球状、立方体状、纺锤形状或无定形状。
本发明中的金属氧化物粒子也可以是经有机化合物进行表面处理而成的粒子。用于表面处理的有机化合物的例子包括多元醇、烷醇胺、脂肪酸(优选硬脂酸)、硅烷偶联剂及钛酸酯偶联剂。其中，优选脂肪酸(优选硬脂酸)或硅烷偶联剂，特别优选脂肪酸。
表面处理可以利用单独1种表面处理剂来实施，也可以将2种以上的表面处理剂组合来实施。
此外，还优选金属氧化物粒子的表面被铝、硅、氧化锆等氧化物覆盖。由此，耐候性更加提高。
作为本发明中的金属氧化物粒子，可优选使用市售的金属氧化物粒子。
作为二氧化钛粒子的市售物，可列举出例如石原产业(株)制TTO系列(TTO-51(A)、TTO-51(C)等)、TTO-S、V系列(TTO-S-1、TTO-S-2、TTO-V-3等)、Tayca(株)制MT系列(MT-01、MT-05等)等。
作为二氧化锆粒子的市售物，可列举出例如UEP(第一稀元素化学工业(株)制)、PCS(日本电工(株)制)、JS-01、JS-03、JS-04(日本电工(株)制)、UEP-100(第一稀元素化学工业(株)制)等。
作为二氧化硅粒子的市售物，可列举出例如OG502-31科莱恩公司(Clariant Co.)制等。
本发明中，金属氧化物粒子可以单独使用1种，也可以将2种以上组合使用。
作为本发明的分散组合物(或后述的固化性组合物)中的金属氧化物粒子的含量，从获得高折射率的观点出发，相对于分散组合物全部固体成分优选为65质量％以上，更优选为70质量％以上。
作为含量的上限，没有特别限制，但相对于分散组合物全部固体成分优选为90质量％以下，更优选为85质量％以下。
<(B)重均分子量为10000以下的上述通式(1)所表示的高分子化合物>
本发明中，上述通式(1)所表示的高分子化合物(B)的重均分子量为10000以下，优选为8000以下。
认为若重均分子量过大，则分散组合物(固化性组合物)中的金属氧化物粒子(A)-高分子化合物(B)复合体的粒径变大，在所得到的膜中，粒子彼此不紧密，难以提高折射率。另一方面认为，本发明中，通过使重均分子量为上述范围，可以将金属氧化物粒子(A)-高分子化合物(B)复合体的粒径抑制得较小，在所得到的膜中，粒子彼此变密，能够提高折射率。此外，理由虽然并不清楚，但认为通过设为上述范围还能够提高分散性，能够降低粘度。
另外，作为重均分子量的下限值，没有特别限制，但从发挥作为分散剂的功能、进而更可靠地达成本发明的效果的观点出发，优选为1000以上，更优选为3000以上。
此外，如后述那样，从在形成固化膜时，固化膜的可见光透射率特别优异的方面出发，特别优选高分子化合物(B)的重均分子量为5000～8000。
以下，对上述通式(1)中的各基团进行详细说明。
上述A1表示具有至少1种酸基、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、酚基、烷基、芳基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、羧酸盐基、磺酰胺基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基及羟基那样的具有对金属氧化物粒子(A)的吸附能力的官能团、杂环结构那样的可具有对金属氧化物粒子(A)的吸附能力的结构的1价的取代基。
另外，以下，将该具有对金属氧化物粒子(A)的吸附能力的部位(上述官能团及结构)适当总称为“吸附部位”进行说明。
上述吸附部位只要在1个A1中包含至少1个即可，也可以包含2个以上。
作为在1个A1中包含2个以上的吸附部位的方式，可列举出隔着链状饱和烃基(可以是直链状也可以是支链状，优选碳原子数为1～10)、环状饱和烃基(优选碳原子数为3～10)、芳香族基(优选碳原子数为5～10，例如，亚苯基)等键合2个以上的吸附部位而形成1价的取代基A1的方式等，优选隔着链状饱和烃基键合2个以上的吸附部位而形成1价的取代基A1的方式。
另外，在吸附部位本身构成1价的取代基的情况下，吸附部位其本身也可以是A1所表示的1价的取代基。
首先，以下对构成上述A1的吸附部位进行说明。
作为上述“酸基”，可列举出例如羧酸基、磺酸基、单硫酸酯基、磷酸基、单磷酸酯基、膦酸基、次膦酸基、硼酸基作为优选的例子，更优选羧酸基、磺酸基、单硫酸酯基、磷酸基、单磷酸酯基、膦酸基、次膦酸基，进一步优选羧酸基、磺酸基、磷酸基、膦酸基、次膦酸基，特别优选羧酸基。
作为上述“脲基”，可列举出例如-NR15CONR16R17(其中，R15、R16、及R17分别独立地表示氢原子、碳原子数为1到20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、或碳原子数为7以上的芳烷基。)作为优选的例子，更优选-NR15CONHR17(其中，R15及R17分别独立地表示氢原子或碳原子数为1到10的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)，特别优选-NHCONHR17(其中，R17表示氢原子或碳原子数为1到10的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)。
作为上述“氨基甲酸酯基”，可列举出例如-NHCOOR18、-NR19COOR20、-OCONHR21、-OCONR22R23(其中，R18、R19、R20、R21、R22及R23分别独立地表示碳原子数为1到20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)等作为优选的例子，更优选-NHCOOR18、-OCONHR21(其中，R18、R21分别独立地表示碳原子数为1到20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)等，特别优选-NHCOOR18、-OCONHR21(其中，R18、R21分别独立地表示碳原子数为1到10的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)等。
作为上述“具有配位性氧原子的基团”，可列举出例如乙酰丙酮基、冠醚等。
作为上述“具有碱性氮原子的基团”，可列举出例如氨基(-NH2)、取代亚氨基(-NHR8、-NR9R10、其中，R8、R9、及R10分别独立地表示碳原子数为1到20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。)、下述式(a1)所表示的胍基、下述式(a2)所表示的脒基等作为优选的例子。
[化学式7]
式(a1)中，R11及R12分别独立地表示碳原子数为1到20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。
式(a2)中，R13及R14分别独立地表示碳原子数为1到20的烷基、碳原子数为6以上的芳基、碳原子数为7以上的芳烷基。
它们中，更优选氨基(-NH2)、取代亚氨基(-NHR8、-NR9R10、其中，R8、R9、及R10分别独立地表示碳原子数为1到10的烷基、苯基、苄基。)、上述式(a1)所表示的胍基〔式(a1)中，R11及R12分别独立地表示碳原子数为1到10的烷基、苯基、苄基。〕、上述式(a2)所表示的脒基〔式(a2)中，R13及R14分别独立地表示碳原子数为1到10的烷基、苯基、苄基。〕等。
特别优选使用氨基(-NH2)、取代亚氨基(-NHR8、-NR9R10、其中，R8、R9、及R10分别独立地表示碳原子数为1到5的烷基、苯基、苄基。)、上述式(a1)所表示的胍基〔式(a1)中，R11及R12分别独立地表示碳原子数为1到5的烷基、苯基、苄基。〕、上述式(a2)所表示的脒基〔式(a2)中，R13及R14分别独立地表示碳原子数为1到5的烷基、苯基、苄基。〕等。
作为上述取代基A1所表示的烷基，可以是直链状，也可以是支链状，优选碳原子数为1～40的烷基，更优选碳原子数为4～30的烷基，进一步优选碳原子数为10～18的烷基。
作为上述取代基A1所表示的芳基，优选碳原子数为6～10的芳基。
作为上述“具有亚烷基氧基链的基团”，优选末端形成烷基氧基，更优选形成碳原子数为1～20的烷基氧基。此外，作为亚烷基氧基链，只要具有至少1个亚烷基氧基则没有特别限制，但优选由碳原子数为1～6的亚烷基氧基构成。作为亚烷基氧基，可列举出例如-CH2CH2O-、-CH2CH2CH2O-等。
作为上述“烷基氧基羰基”中的烷基部分，优选碳原子数为1到20的烷基。
作为上述“烷基氨基羰基”中的烷基部分，优选碳原子数为1到20的烷基。
作为上述“羧酸盐基”，可列举出由羧酸的铵盐构成的基团等。
作为上述“磺酰胺基”，氮原子上键合的氢原子也可以被烷基(甲基等)、酰基(乙酰基、三氟乙酰基等)等取代。
作为上述“杂环结构”，可列举出例如噻吩、呋喃、呫吨、吡咯、吡咯啉、吡咯烷、二氧杂戊环、吡唑、吡唑啉、吡唑烷、咪唑、噁唑、噻唑、噁二唑、三唑、噻二唑、吡喃、吡啶、哌啶、二噁烷、吗啉、哒嗪、嘧啶、哌嗪、三嗪、三噻烷、异吲哚啉、异吲哚啉酮、苯并咪唑酮、苯并噻唑、己内酰脲、吲哚、喹啉、咔唑、吖啶、吖啶酮、蒽醌作为优选的例子。
作为上述“酰亚胺基”，可列举出琥珀酰亚胺、邻苯二甲酰亚胺、萘二甲酰亚胺。
另外，上述“杂环结构”及“酰亚胺基”也可以进一步具有取代基，作为该取代基，可列举出例如甲基、乙基等碳原子数为1到20的烷基、苯基、萘基等碳原子数为6到16的芳基、羟基、氨基、羧基、磺酰胺基、N-磺酰基酰胺基、乙酰氧基等碳原子数为1到6的酰氧基、甲氧基、乙氧基等碳原子数为1到20的烷氧基、氯、溴等卤素原子、甲氧基羰基、乙氧基羰基、环己氧基羰基等碳原子数为2到7的烷氧基羰基、氰基、碳酸叔丁酯等碳酸酯基等。
作为上述“烷氧基甲硅烷基”，可以是单烷氧基甲硅烷基、二烷氧基甲硅烷基、三烷氧基甲硅烷基中的任一者，但优选为三烷氧基甲硅烷基，可列举出例如三甲氧基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基等。
作为上述“环氧基”，可列举出取代或未取代的环氧乙烷基(ethyleneoxide基)。
特别是从使与金属氧化物粒子(A)的相互作用良好、提高折射率、且降低组合物的粘度的观点出发，A1优选为具有至少1种pKa为5以上的官能团的1价的取代基，更优选为具有至少1种pKa为5～14的官能团的1价的取代基。
这里所谓的“pKa”是化学便览(II)(修订4版、1993年、日本化学会编、丸善株式会社)中记载的定义的值。
作为上述pKa为5以上的官能团，可列举出具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、脲基、氨基甲酸酯基、烷基、芳基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、羧酸盐基、磺酰胺基、羟基、杂环基等。
作为pKa为5以上的官能团，具体而言，可列举出例如酚基(pKa为8～10左右)、烷基(pKa为46～53左右)、芳基(pKa为40～43左右)、脲基(pKa为12～14左右)、氨基甲酸酯基(pKa为11～13左右)、作为配位性氧原子的-COCH2CO-(pKa为8～10左右)、磺酰胺基(pKa为9～11左右)、羟基(pKa为15～17左右)、杂环基(pKa为12～30左右)等。
上述中，作为上述A1，优选为具有至少1种选自由酸基、酚基、烷基、芳基、具有亚烷基氧基链的基团、羟基、脲基、氨基甲酸酯基、磺酰胺基、酰亚胺基及具有配位性氧原子的基团组成的组中的基团的1价的取代基。
上述通式(1)中，R2表示单键或2价的连结基团。n个R2可以相同，也可以不同。
作为R2所表示的2价的连结基团，包含由1到100个碳原子、0个到10个氮原子、0个到50个氧原子、1个到200个氢原子、及0个到20个硫原子构成的基团，可以未取代，也可以进一步具有取代基。
作为R2，优选单键、或由1到10个碳原子、0个到5个氮原子、0个到10个氧原子、1个到30个氢原子、及0个到5个硫原子构成的2价的连结基团。
作为R2，更优选选自由链状饱和烃基(可以是直链状也可以是支链状，优选碳原子数为1～20)、环状饱和烃基(优选碳原子数为3～20)、芳香族基(优选碳原子数为5～20，例如亚苯基)、硫醚键、酯键、酰胺键、醚键、氮原子、及羰基组成的组中的基团、或将它们2种以上组合而成的基团，进一步优选选自由链状饱和烃基、环状饱和烃基、芳香族基、硫醚键、酯键、醚键、及酰胺键组成的组中的基团、或将它们2种以上组合而成的基团，特别优选选自由链状饱和烃基、硫醚键、酯键、醚键、及酰胺键组成的组中的基团、或将它们2种以上组合而成的基团。
上述中，R2所表示的2价的连结基团具有取代基的情况下，作为该取代基，可列举出例如甲基、乙基等碳原子数为1到20的烷基、苯基、萘基等碳原子数为6到16的芳基、羟基、氨基、羧基、磺酰胺基、N-磺酰基酰胺基、乙酰氧基等碳原子数为1到6的酰氧基、甲氧基、乙氧基等碳原子数为1到6的烷氧基、氯、溴等卤素原子、甲氧基羰基、乙氧基羰基、环己氧基羰基等碳原子数为2到7的烷氧基羰基、氰基、碳酸叔丁酯等碳酸酯基等。
上述通式(1)中，R1表示(m+n)价的连结基团。m+n满足3～10。
作为上述R1所表示的(m+n)价的连结基团，包含由1到100个碳原子、0个到10个氮原子、0个到50个氧原子、1个到200个氢原子、及0个到20个硫原子构成的基团，可以未取代，也可以进一步具有取代基。
R1所表示的(m+n)价的连结基团优选为下述通式中的任一者所表示的基团。
[化学式8]
上述通式中，
L3表示3价的基团。T3表示单键或2价的连结基团，3个存在的T3彼此可以相同，也可以不同。
L4表示4价的基团。T4表示单键或2价的连结基团，4个存在的T4彼此可以相同，也可以不同。
L5表示5价的基团。T5表示单键或2价的连结基团，5个存在的T5彼此可以相同，也可以不同。
L6表示6价的基团。T6表示单键或2价的连结基团，6个存在的T6彼此可以相同，也可以不同。
以下示出上述R1所表示的(m+n)价的连结基团的具体的例子〔具体例子(1)～(17)〕。但是，本发明中，并不限定于它们。
[化学式9]
[化学式10]
上述的具体例子中，从原料的获取性、合成的容易性、在各种溶剂中的溶解性的观点出发，最优选的(m+n)价的连结基团为下述(1)、(2)、(10)、(11)、(16)、(17)的基团。
[化学式11]
上述通式(1)中，m表示8以下的正的数。作为m，优选为0.5～5，更优选为1～4，特别优选为1～3。
此外，上述通式(1)中，n表示1～9。作为n，优选为2～8，更优选为2～7，特别优选为3～6。
上述通式(1)中，P1表示聚合物链，可以从公知的聚合物等中根据目的等而选择。m个P1可以相同，也可以不同。
聚合物中，为了构成聚合物链，优选选自由乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨基甲酸酯系聚合物、酰胺系聚合物、环氧系聚合物、硅酮系聚合物、及它们的改性物、或共聚物〔例如，包含聚醚/聚氨酯共聚物、聚醚/乙烯基单体的聚合物的共聚物等(可以是无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物中的任一种。)。〕组成的组中的至少一种，更优选选自由乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨基甲酸酯系聚合物、及它们的改性物或共聚物组成的组中的至少一种，特别优选乙烯基单体的聚合物或共聚物。
作为聚合物链P1可具有的乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物，优选分别具有下述通式(L)、(M)、(N)所表示的结构。
[化学式12]
上述通式中，
X1表示氢原子或1价的有机基团。从合成上的制约的观点出发，优选为氢原子、或碳原子数为1～12的烷基，更优选为氢原子或甲基，特别优选为甲基。
R10表示氢原子或1价的有机基团，结构上没有特别限定，但优选为氢原子、烷基、芳基、杂芳基，进一步优选为氢原子、烷基。该R10为烷基的情况下，作为该烷基，优选碳原子数为1～20的直链状烷基、碳原子数为3～20的支链状烷基、或碳原子数为5～20的环状烷基，更优选碳原子数为1～20的直链状烷基，特别优选碳原子数为1～6的直链状烷基。通式(L)中也可以具有2种以上结构不同的R10。
R11及R12表示支链或直链的亚烷基(优选碳原子数为1～10，更优选为2～8，进一步优选为3～6。)。各通式中也可以具有2种以上结构不同的R11或R12。
k1、k2、k3分别独立地表示5～140的数。
优选聚合物链P1含有至少1种重复单元。
从发挥空间排斥力并提高分散性、达成高折射率且低粘度的观点出发，聚合物链P1中的上述至少1种重复单元的重复数k优选为3以上，更优选为5以上。
此外，从抑制高分子化合物(B)的体积大而达成低粘度、进一步使金属氧化物粒子(A)致密地存在于固化膜(透明膜)中、达成高折射率的观点出发，上述至少1种重复单元的重复单元数k优选为50以下，更优选为40以下，进一步优选为30以下。
另外，上述聚合物优选为可溶于有机溶剂中。若与有机溶剂的亲和性低，则有时与分散介质的亲和性弱，对于分散稳定化无法确保充分的吸附层。
作为上述乙烯基单体，没有特别限制，但优选例如(甲基)丙烯酸酯类、巴豆酸酯类、乙烯基酯类、具有酸基的乙烯基单体、马来酸二酯类、富马酸二酯类、衣康酸二酯类、(甲基)丙烯酰胺类、苯乙烯类、乙烯基醚类、乙烯基酮类、烯烃类、马来酰亚胺类、(甲基)丙烯腈等，更优选为(甲基)丙烯酸酯类、巴豆酸酯类、乙烯基酯类、具有酸基的乙烯基单体，进一步优选为(甲基)丙烯酸酯类、巴豆酸酯类。
作为这些乙烯基单体的优选的例子，可列举出日本特开2007-277514号公报段落0089～0094、0096及0097(对应的美国专利申请公开第2010/233595号说明书中的段落0105～0117、及0119～0120)中记载的乙烯基单体，它们的内容被纳入本申请说明书中。
除了上述的化合物以外，还可以使用例如具有氨基甲酸酯基、脲基、磺酰胺基、酚基、酰亚胺基等官能团的乙烯基单体。作为这样的具有氨基甲酸酯基、或脲基的单体，例如可以利用异氰酸酯基与羟基、或氨基的加成反应来适当合成。具体而言，可以通过含有异氰酸酯基的单体与含有1个羟基的化合物或含有1个伯氨基或仲氨基的化合物的加成反应、或含有羟基的单体或含有伯氨基或仲氨基的单体与单异氰酸酯的加成反应等来适当合成。
上述通式(1)所表示的高分子化合物(B)中，优选下述通式(2)所表示的高分子化合物。
[化学式13]
通式(2)
上述通式(2)中，A2与上述通式(1)中的上述A1含义相同，优选的方式也相同。n个A2可以相同，也可以不同。
上述通式(2)中，R4、R5分别独立地表示单键或2价的连结基团。n个R4可以相同，也可以不同。此外，m个R5可以相同，也可以不同。
作为R4、R5所表示的2价的连结基团，可采用与作为上述通式(1)的R2所表示的2价的连结基团列举出的基团同样的连结基团，优选的方式也相同。
其中，作为R4、R5所表示的2价的连结基团，优选选自由链状饱和烃基(可以是直链状也可以是支链状，优选碳原子数为1～20)、环状饱和烃基(优选碳原子数为3～20)、芳香族基(优选碳原子数为5～20，例如亚苯基)、酯键、酰胺键、醚键、氮原子、及羰基组成的组中的基团、或将它们2种以上组合而成的基团，更优选选自由链状饱和烃基、环状饱和烃基、芳香族基、酯键、醚键、及酰胺键组成的组中的基团、或将它们2种以上组合而成的基团，进一步优选选自由链状饱和烃基、酯键、醚键、及酰胺键组成的组中的基团、或将它们2种以上组合而成的基团。
上述通式(2)中，R3表示(m+n)价的连结基团。m+n满足3～10。
作为上述R3所表示的(m+n)价的连结基团，可以未取代，也可以进一步具有取代基，可采用与作为上述通式(1)的R1所表示的(m+n)价的连结基团列举出的基团同样的连结基团，优选的方式也相同。
上述通式(2)中，m、n分别与上述通式(1)中的m、n含义相同，优选的方式也相同。
此外，通式(2)中的P2与上述通式(1)中的P1含义相同，优选的方式也相同。m个的P2可以相同，也可以不同。
上述通式(2)所表示的高分子化合物中，最优选全部满足以下所示的R3、R4、R5、P2、m、及n的化合物。
R3：上述具体例子(1)、(2)、(10)、(11)、(16)、或(17)
R4：单键、或选自由链状饱和烃基、环状饱和烃基、芳香族基、酯键、酰胺键、醚键、氮原子、及羰基组成的组中的基团、或将它们2种以上组合而成的基团
R5：单键、亚乙基、亚丙基、下述基团(a)、或下述基团(b)
另外，下述基团中，R12表示氢原子或甲基，l表示1或2。
[化学式14]
P2：乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨基甲酸酯系聚合物及它们的改性物
m：1～3
n：3～6
上述通式(1)或(2)所表示的高分子化合物(B)中，从分散稳定性、涂布面状等观点出发，更优选下述通式(5)所表示的高分子化合物。
[化学式15]
上述通式(5)中，
R6表示(m+n1+n2)价的连结基团，R7～R9分别独立地表示单键或2价的连结基团。
A3表示具有至少1种酸基的1价的取代基。A4表示与A3不同的1价的取代基。n1个A3及R7分别可以相同，也可以不同。n2个A4及R8分别可以相同，也可以不同。
m与上述通式(1)中的m含义相同，优选的方式也相同。
n1表示1～8，n2表示1～8，m+n1+n2满足3～10。
P3与上述通式(2)中的P2含义相同，优选的方式也相同。m个P3及R9分别可以相同，也可以不同。
作为关于R6的(m+n1+n2)价的连结基团，可采用与作为上述通式(1)的R1或上述通式(2)的R3所表示的(m+n)价的连结基团列举出的基团同样的连结基团，优选的方式也相同。
作为关于R7～R9的2价的连结基团，可采用与作为上述通式(2)的R4、R5所表示的2价的连结基团列举出的基团同样的连结基团，优选的方式也相同。
作为上述取代基A3可具有的酸基的具体例子、优选的例子，可列举出与对上述通式(1)中的酸基所述的具体例子、优选的例子同样的酸基。
上述取代基A3进一步优选为具有至少1种pKa小于5的酸基的1价的取代基，特别优选为具有至少1种选自由羧酸基、磺酸基、磷酸基、膦酸基及次膦酸基组成的组中的基团的1价的取代基，最优选为羧酸基。
作为与A3不同的1价的取代基A4的具体例子、优选的例子，可列举出与对上述通式(1)中的A1所述的具体例子、优选的例子中的除酸基以外的基团同样的1价的取代基。其中，上述取代基A4更优选为具有至少1种pKa为5以上的官能团的1价的取代基，进一步优选为具有至少1种选自由具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、脲基、氨基甲酸酯基、烷基、芳基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、羧酸盐基、磺酰胺基、羟基及杂环基组成的组中的基团的1价的取代基，特别优选为烷基、芳基、具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、脲基或氨基甲酸酯基。
作为上述取代基A3与取代基A4的组合，优选上述取代基A3为具有至少1种pKa小于5的官能团的1价的取代基、且上述取代基A4为具有至少1种pKa为5以上的官能团的1价的取代基。
更优选上述取代基A3为具有至少1种选自由羧酸基、磺酸基、磷酸基、膦酸基及次膦酸基组成的组中的基团的1价的取代基、且上述取代基A4为具有至少1种选自由具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、脲基、氨基甲酸酯基、烷基、芳基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、羧酸盐基、磺酰胺基、羟基及杂环基组成的组中的基团的1价的取代基。
进一步优选上述取代基A3为具有羧酸基的1价的取代基、且上述取代基A4为烷基、芳基、具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、脲基或氨基甲酸酯基。
从后述的金属氧化物粒子(A)(其中，特别是二氧化钛粒子)与取代基A3的烷基的吸附良好的观点出发，特别优选上述取代基A3为羧酸基、且上述取代基A4为烷基。
推测二氧化钛粒子与取代基A4的烷基的吸附良好是由于二氧化钛粒子经硬脂酸进行了表面处理时等，该硬脂酸的烷基与取代基A4的烷基相互作用。
高分子化合物(B)的酸值没有特别限制，但从粘度或分散性的观点出发，酸值优选为400mgKOH/g以下，更优选为300mgKOH/g以下，进一步优选为250mgKOH/g以下。
另外，作为酸值的下限值，没有特别限制，但从金属氧化物粒子的分散稳定性的观点，优选为5mgKOH/g以上，更优选为10mgKOH/g以上。
此外，如后述那样，从在形成固化膜时，固化膜的可见光透射率特别优异的方面出发，高分子化合物(B)的酸值特别优选为70～90mgKOH/g。
这里，高分子化合物(B)的酸值为高分子化合物(B)的固体成分酸值。
本发明中，高分子化合物(B)的酸值可以由例如高分子化合物(B)中的酸基的平均含量算出。高分子化合物(B)的酸值可以通过适当调整高分子化合物(B)中的酸基的量、和上述的pKa为5以上的官能团的量来调整。例如，可以通过在高分子化合物(B)的合成时，适当调整成为原料的具有酸基及碳-碳双键的化合物的投入量、具有pKa为5以上的官能团及碳-碳双键的化合物的投入量、具有酸基的乙烯基单体的投入量来合成具有所期望的酸值的高分子化合物(B)。
(高分子化合物(B)的合成方法)
上述通式(1)或(2)所表示的高分子化合物没有特别限制，可以根据日本特开2007-277514号公报段落0114～0140及0266～0348(对应的美国专利申请公开第2010/233595号说明书中的段落0145～0173、及0289～0429)中记载的合成方法进行合成。
特别优选在具有多个上述吸附部位的硫醇化合物存在下，通过将乙烯基单体进行自由基聚合的方法来合成上述通式(1)或(2)所表示的高分子化合物(B)。
上述的乙烯基单体可以仅用1种进行聚合，也可以将2种以上并用而进行共聚。
这里，以下示出乙烯基单体的具体例子(M-1)～(M-9)、(M-14)～(M-16)，但本发明并不限定于它们。
[化学式16]
作为上述通式(1)或(2)所表示的高分子化合物(B)的合成方法，更具体而言，优选在下述通式(3)所表示的化合物存在下，使乙烯基单体进行自由基聚合的方法。
[化学式17]
通式(3)
上述通式(3)中，R6、R7、A3、m、及n分别与上述通式(2)中的R3、R4、A2、m、及n含义相同，其优选的方式也相同。
此外，作为上述通式(1)或(2)所表示的高分子化合物(B)的合成方法，还优选使上述通式(3)所表示的化合物与具有碳-碳双键的大分子单体加成的方法(硫醇-烯反应法)。作为反应的催化剂，优选使用自由基产生剂或碱。
以下示出具有碳-碳双键的大分子单体的具体例子，但本发明并不限定于它们。下述具体例子中，重复单元数k为3～50的整数。
[化学式18]
此外，作为上述通式(1)或(2)所表示的高分子化合物(B)的合成方法，还优选通过上述通式(3)所表示的化合物与具有羧酸基的高分子化合物的脱水缩合反应形成硫酯基的方法。
以下示出具有羧酸基的高分子化合物的具体例子，但本发明并不限定于它们。下述具体例子中，重复单元数k为3～50的整数。
[化学式19]
此外，作为上述通式(1)或(2)所表示的高分子化合物(B)的合成方法，还优选通过上述通式(3)所表示的化合物与具有脱离基的高分子化合物的亲核取代反应形成硫醚基的方法。作为脱离基，优选碘、溴、氯等卤素、甲苯磺酸酯、甲磺酸酯、三氟甲烷磺酸酯等磺酸酯。
以下示出具有脱离基的高分子化合物的具体例子，但本发明并不限定于它们。下述具体例子中，重复单元数k为3～50的整数。
[化学式20]
上述通式(3)所表示的化合物优选通过下述的方法进行合成。
使一分子中具有3～10个巯基的化合物与具有上述吸附部位、且具有能够与巯基反应的碳-碳双键的化合物进行加成反应的方法
上述加成反应特别优选为自由基加成反应。另外，作为碳-碳双键，从与巯基的反应性的方面出发，更优选1取代或2取代的乙烯基。
作为一分子中具有3～10个巯基的化合物的具体的例子〔具体例子(18)～(34)〕，可列举出以下的化合物。
[化学式21]
[化学式22]
上述中，从原料的获取性、合成的容易性、在各种溶剂中的溶解性的观点出发，特别优选的化合物为以下的化合物。
[化学式23]
上述中，作为市售品，可以获得(例如(33)为二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)：堺化学工业(株)制)等。
作为具有上述吸附部位、且具有碳-碳双键的化合物(具体而言，为具有至少1种选自由酸基、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、烷基、芳基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、羧酸盐基、磺酰胺基、杂环基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基及羟基组成的组中的基团、且具有碳-碳双键的化合物)，没有特别限制，但可列举出以下那样的化合物。
[化学式24]
[化学式25]
[化学式26]
[化学式27]
[化学式28]
上述“一分子中具有3～10个巯基的化合物”与“具有上述吸附部位、且具有碳-碳双键的化合物”的自由基加成反应产物可利用例如将上述的“一分子中具有3～10个巯基的化合物”及“具有上述吸附部位、且具有碳-碳双键的化合物”溶解到适当的溶剂中，向其中添加自由基产生剂，在约50℃～100℃下使其加成的方法(硫醇-烯反应法)来获得。
作为上述硫醇-烯反应法中使用的适当的溶剂的例子，可以根据所使用的“一分子中具有3～10个巯基的化合物”、“具有上述吸附部位、且具有碳-碳双键的化合物”、及“生成的自由基加成反应产物”的溶解性而任意选择。
可列举出例如甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、1-甲氧基-2-丙醇、2-乙基己醇、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、甲氧基丙基乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸乙酯、乙腈、四氢呋喃、二甲基甲酰胺、氯仿、甲苯。这些溶剂也可以将两种以上混合使用。
此外，作为自由基产生剂，可以利用2,2’-偶氮双(异丁腈)(AIBN)、2,2’-偶氮双-(2,4’-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮双异丁酸二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕那样的偶氮化合物、苯甲酰过氧化物那样的过氧化物、及过硫酸钾、过硫酸铵那样的过硫酸盐等。
作为本发明的高分子化合物，优选通过使用这些乙烯基单体和上述通式(3)所表示的化合物，用公知的方法按照常规方法使其聚合而得到的高分子化合物。另外，本发明中的上述通式(3)所表示的化合物为作为链转移剂发挥功能的化合物，以下，有时也简称为“链转移剂”。
例如，可以利用将这些乙烯基单体、及上述链转移剂溶解到适当的溶剂中，向其中添加自由基聚合引发剂，在约50℃～220℃下，使其在溶液中聚合的方法(溶液聚合法)来得到。
作为溶液聚合法中使用的适当的溶剂的例子，可以根据所使用的单体、及所生成的共聚物的溶解性而任意选择。可列举出例如甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、1-甲氧基-2-丙醇、2-乙基己醇、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、甲氧基丙基乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸乙酯、乙腈、四氢呋喃、二甲基甲酰胺、氯仿、甲苯。这些溶剂也可以将两种以上混合使用。
此外，作为自由基聚合引发剂，可以利用2,2’-偶氮双(异丁腈)(AIBN)、2,2’-偶氮双-(2,4’-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮双异丁酸二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕那样的偶氮化合物、苯甲酰过氧化物那样的过氧化物、及过硫酸钾、过硫酸铵那样的过硫酸盐等。
本发明的分散组合物中，高分子化合物(B)可以单独使用1种、或将2种以上组合使用。
从分散性、高折射率及涂布面状的观点出发，高分子化合物(B)相对于本发明的分散组合物(或后述的固化性组合物)的全部固体成分的含量优选为5～40质量％的范围，更优选为10～35质量％的范围，进一步优选为12～30质量％的范围。
-其他分散树脂-
出于调整金属氧化物粒子的分散性等目的，本发明的分散组合物中也可以含有上述特定树脂以外的分散树脂(以下有时称为“其他分散树脂”)。
作为本发明中可使用的其他分散树脂，可列举出高分子分散剂〔例如，聚酰胺胺及其盐、聚羧酸及其盐、高分子量不饱和酸酯、改性聚氨酯、改性聚酯、改性聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸福尔马林缩合物〕、及聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺、烷醇胺、颜料衍生物等。
其他分散树脂根据其结构可以进一步分为直链状高分子、末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。
其他分散树脂吸附到金属氧化物粒子的表面并发挥作用以防止再凝聚。因此，可列举出具有对金属氧化物粒子表面的锚固部位的末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子作为优选的结构。
另一方面，其他分散树脂具有通过将金属氧化物粒子表面进行改性从而促进分散树脂的吸附的效果。
作为其他分散树脂的具体例子，可列举出BYK Chemie公司制“DISPERBYK101(聚酰胺胺磷酸盐)、107(羧酸酯)、110、180(包含酸基的共聚合物)、130(聚酰胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共聚合物)”、“BYK-P104、P105(高分子量不饱和聚羧酸)、EFKA公司制“EFKA4047、4050、4010、4165(聚氨酯系)、EFKA4330、4340(嵌段共聚物)、4400、4402(改性聚丙烯酸酯)、5010(聚酯酰胺)、5765(高分子量聚羧酸盐)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞菁衍生物)、6750(偶氮颜料衍生物)”、Ajinomoto Fine-Techno公司制“Ajisper PB821、PB822”、共荣社化学公司制“Florene TG-710(氨基甲酸酯低聚物)”、“Polyflow No.50E、No.300(丙烯酸系共聚物)”、楠本化成公司制“Disparlon KS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多元羧酸)、#7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725”、花王公司制“Demol RN、N(萘磺酸福尔马林缩聚物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸福尔马林缩聚物)”、“Homogenol L-18(高分子聚羧酸)”、“Emulgen920、930、935、985(聚氧乙烯壬基苯基醚)”、“Acetamin86(硬脂胺乙酸酯)”、Lubrizol公司制“Solsperse5000(酞菁衍生物)、22000(偶氮颜料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、17000、27000(末端部具有功能部的高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)”、Nikko Chemicals公司制“NikolT106(聚氧乙烯山梨糖醇酐单油酸酯)、MYS-IEX(聚氧乙烯单硬脂酸酯)”等。
此外，作为其他分散树脂，还可列举出日本特开2012-208494号公报段落0562(对应的美国专利申请公开第2012/235099号说明书的[0692])以后的将式(ED)所表示的化合物(有时也称为醚二聚物)作为必须的单体成分进行聚合而成的聚合物，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为醚二聚物的具体例子，可以参考日本特开2012-208494号公报段落0565(对应的美国专利申请公开第2012/235099号说明书的[0694])的醚二聚物的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为将式(ED)所表示的化合物作为必须的单体成分进行聚合而成的聚合物的具体例子，可列举出与粘合剂聚合物的项中后述的将式(ED)所表示的化合物作为必须的单体成分进行聚合而成的聚合物的具体例子相同的聚合物。
这些其他树脂可以单独使用，也可以将2种以上组合使用。
本发明的分散组合物(或后述的固化性组合物)可以含有其他分散树脂，也可以不含有，在含有的情况下，其他分散树脂相对于本发明的分散组合物(或后述的固化性组合物)的全部固体成分的含量优选为1～20质量％的范围，更优选为1～10质量％的范围。
<(C)溶剂>
本发明的分散组合物包含溶剂，但该溶剂可以使用各种有机溶剂来构成。
作为这里可使用的有机溶剂，有丙酮、甲乙酮、环己烷、乙酸乙酯、二氯乙烷、四氢呋喃、甲苯、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇二甲基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、乙酰丙酮、环己酮、二丙酮醇、乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇乙基醚乙酸酯、乙二醇单异丙基醚、乙二醇单丁基醚乙酸酯、3-甲氧基丙醇、甲氧基甲氧基乙醇、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、3-甲氧基丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、γ-丁内酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。
这些有机溶剂可以单独或混合使用。本发明的分散组合物中的固体成分的浓度优选为2～60质量％。
作为本发明的分散组合物的制造方法，可以没有特别限制地应用通常使用的分散组合物的制造方法。例如可以通过将金属氧化物粒子(A)、高分子化合物(B)、及溶剂(C)混合，并使用循环型分散装置(珠磨机)等进行分散处理来制造。
另外，本发明还涉及上述分散组合物的制造方法，此外，还涉及下述固化性组合物的制造方法。
<固化性组合物>
本发明的固化性组合物优选为通过包含上述本发明的分散组合物、和聚合性化合物(D)、并根据需要包含其他成分而构成的固化性组合物。
上述分散组合物通过制成固化性组合物可以形成折射率高的固化膜(透明膜)。
此外，本发明还涉及使用本发明的固化性组合物而形成的透明膜。
由固化性组合物得到的固化膜(通过固化性组合物形成膜，接着，进行固化反应而得到的膜)优选折射率为1.85～2.60，更优选为1.90～2.60。
固化膜的折射率为1.85～2.60这样的物性可通过本发明的固化性组合物含有高分子化合物(B)来适宜地达成，但也可以进一步通过任意的方法来达成，例如也可通过调整聚合性化合物(D)、可进一步添加的粘合剂聚合物的种类及含量、在使固化性组合物中含有金属氧化物粒子(A)的同时调整金属氧化物粒子的种类及含量从而更可靠地达成。
特别是通过将金属氧化物粒子制成上述的优选的例子，可优选达成上述物性。
此外，本发明的组合物优选为透明的组合物，更具体而言，为通过组合物形成膜厚为1.0μm的固化膜时，相对于该固化膜的厚度方向的光透射率在400～700nm的整个波长区域达到90％以上那样的组合物。
即，本发明的透明膜是指在膜厚为1.0μm时，相对于膜的厚度方向的光透射率在400～700nm的整个波长区域达到90％以上那样的膜。
这样的光透射率的物性只要固化性组合物含有本发明的分散组合物、聚合性化合物(D)，则可以通过任意的方法来达成，例如通过调整聚合性化合物(D)、可进一步添加的粘合剂聚合物的种类及含量，可适宜地达成。此外，也可以通过调整金属氧化物粒子(A)的粒径、高分子化合物(B)的种类及添加量，适宜地达成上述光透射率的物性。
特别是从在形成固化膜时，固化膜的可见光透射率特别优异的方面出发，特别优选高分子化合物(B)的重均分子量为5000～8000、且酸值为70～90mgKOH/g。
若金属氧化物粒子的含量多，则有时固化膜的透明性成为问题，本发明中通过使用这样的高分子化合物(B)，可以得到透明性优异的固化膜。
关于本发明的固化性组合物及透明膜，上述光透射率在400～700nm的整个波长区域为90％以上，特别是微透镜、滤色器的下涂膜为了表现出其所要求的特性这是重要的要素。
上述光透射率优选在400～700nm的整个波长区域为95％以上，更优选为99％以上，最优选为100％。
鉴于以上情况，本发明的固化性组合物实质上不含有着色剂(着色剂的含量相对于组合物的全部固体成分优选为0质量％)。
(D)聚合性化合物
本发明中，从微透镜制造时、固态摄像元件制造时的固化膜(透明膜)的耐溶剂性的观点出发，优选使用“分子内具有2个以上的环氧基或氧杂环丁烷基的化合物”作为聚合性化合物(D)。
-分子内具有2个以上的环氧基(环氧乙烷基)或氧杂环丁烷基的化合物-
作为聚合性化合物(D)的分子内具有2个以上的环氧基的化合物的具体例子，可列举出双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、线型酚醛清漆型环氧树脂、甲酚线型酚醛清漆型环氧树脂、脂肪族环氧树脂等。
它们可以作为市售品获得。例如，作为双酚A型环氧树脂，为JER-827、JER-828、JER-834、JER-1001、JER-1002、JER-1003、JER-1055、JER-1007、JER-1009、JER-1010(以上由三菱化学(株)制)、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055(以上由DIC(株)制)等，作为双酚F型环氧树脂，为JER-806、JER-807、JER-4004、JER-4005、JER-4007、JER-4010(以上由三菱化学(株)制)、EPICLON830、EPICLON835(以上由DIC(株)制)、LCE-21、RE-602S(以上由日本化药(株)制)等，作为线型酚醛清漆型环氧树脂，为JER-152、JER-154、JER-157S70、JER-157S65、(以上由三菱化学(株)制)、EPICLON N-740、EPICLON N-740、EPICLON N-770、EPICLON N-775(以上由DIC(株)制)等，作为甲酚线型酚醛清漆型环氧树脂，为EPICLON N-660、EPICLON N-665、EPICLONN-670、EPICLON N-673、EPICLON N-680、EPICLON N-690、EPICLONN-695(以上由DIC(株)制)、EOCN-1020(以上由日本化药(株)制)等，作为脂肪族环氧树脂，为ADEKA RESIN EP-4080S、ADEKA RESIN EP-4085S、ADEKA RESIN EP-4088S(以上由(株)ADEKA制)Celloxide2021P、Celloxide2081、Celloxide2083、Celloxide2085、EHPE-3150、EPOLEAD PB3600、EPOLEAD PB 4700(以上由Daicel Chemical Industries,Ltd.制)、Denacol EX-211L、EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L(以上由NagasechemiteX(株)制)等。此外，还可列举出ADEKA RESINEP-4000S、ADEKA RESIN EP-4003S、ADEKA RESIN EP-4010S、ADEKARESIN EP-4011S(以上由(株)ADEKA制)、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上由(株)ADEKA制)、JER-1031S(三菱化学(株)制)等。
它们可以单独使用1种或将2种以上组合使用。
作为分子内具有2个以上的氧杂环丁烷基的化合物的具体例子，可使用ARONE OXETANE OXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX(以上由东亚合成(株)制)。
此外，包含氧杂环丁烷基的化合物优选单独使用或与包含环氧基的化合物混合使用。
此外，作为(D)聚合性化合物，还可以使用具有至少1个烯属不饱和双键的加聚性化合物，优选使用具有至少1个、优选2个以上末端烯属不饱和键的化合物。
本发明中，聚合性化合物(D)更优选为选自由上述的分子内具有2个以上的环氧基或氧杂环丁烷基的化合物、及具有2个以上末端烯属不饱和键的化合物组成的组中的至少1种。
这样的具有至少1个烯属不饱和双键的加聚性化合物在该技术领域中已被广泛公知，本发明中可以没有特别限定地使用它们。
使用这样的化合物作为(D)聚合性化合物的情况下，本发明的固化性组合物优选进一步含有后述的聚合引发剂(E)。
这样的具有至少1个烯属不饱和双键的加聚性化合物具有例如单体、预聚物、即2聚物、3聚物及低聚物、或它们的混合物及它们的共聚物等化学形态。作为单体及其共聚物的例子，可列举出不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸等)、其酯类、酰胺类，优选使用不饱和羧酸与脂肪族多元醇化合物形成的酯、不饱和羧酸与脂肪族多胺化合物形成的酰胺类。此外，还适宜使用具有羟基、氨基、巯基等亲核性取代基的不饱和羧酸酯类或不饱和羧酸酰胺类与单官能或多官能异氰酸酯类或环氧类的加成反应物、及与单官能或多官能的羧酸的脱水缩合反应物等。
此外，具有异氰酸酯基、环氧基等亲电子性取代基的不饱和羧酸酯或不饱和羧酸酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺类、硫醇类的加成反应物；进而具有卤素基团、甲苯磺酰氧基等离去性取代基的不饱和羧酸酯或不饱和羧酸酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺类、硫醇类的置换反应物也是适宜的。
此外，作为其他例子，也可以使用将上述的不饱和羧酸替换为不饱和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等的化合物组。
作为这些具体的化合物，本发明中还可适宜地使用日本特开2009-288705号公报的段落号0095～段落号0108中记载的化合物。
此外，作为(D)聚合性化合物(以下也简称为“聚合性单体等”、“聚合性单体”。)，还优选含有至少1个可加成聚合的乙烯基的在常压下具有100℃以上的沸点的具有烯属不饱和基的化合物。作为其例子，可列举出聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等单官能的丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己烷二醇(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、在甘油、三羟甲基乙烷等多官能醇上加成环氧乙烷、环氧丙烷后进行(甲基)丙烯酸酯化而得到的化合物、日本特公昭48-41708号、日本特公昭50-6034号、日本特开昭51-37193号各公报中记载的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯类、日本特开昭48-64183号、日本特公昭49-43191号、日本特公昭52-30490号各公报中记载的聚酯丙烯酸酯类、环氧聚合物与(甲基)丙烯酸的反应产物即环氧丙烯酸酯类等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯及它们的混合物。
还可列举出使多官能羧酸与(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等具有环状醚基和烯属不饱和基的化合物反应而得到的多官能(甲基)丙烯酸酯等。
此外，作为其他优选的聚合性单体等，还可以使用日本特开2010-160418、日本特开2010-129825、日本专利4364216等中记载的具有芴环且具有2官能以上的烯属聚合性基团的化合物、Cardo聚合物。
此外，作为在常压下具有100℃以上的沸点且具有至少一个可加成聚合的烯属不饱和基的化合物，日本特开2008-292970号公报的段落号[0254]～[0257]中记载的化合物也是适宜的。
此外，在日本特开平10-62986号公报中作为通式(1)及(2)与其具体例子一起记载的上述在多官能醇上加成环氧乙烷、环氧丙烷后进行(甲基)丙烯酸酯化而得到的化合物也可以作为聚合性单体使用。
本发明中使用的聚合性单体还进一步优选为日本特开2012-215806号公报段落0297～0300中记载的通式(MO-1)～(MO-6)所表示的聚合性单体。
作为上述通式(MO-1)～(MO-6)所表示的自由基聚合性单体的具体例子，在本发明中也可以适宜使用日本特开2007-269779号公报的段落号0248～段落号0251中记载的化合物。
其中，作为聚合性单体等，优选二季戊四醇三丙烯酸酯(作为市售品，KAYARAD D-330；日本化药株式会社制)、二季戊四醇四丙烯酸酯(作为市售品，KAYARAD D-320；日本化药株式会社制)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(作为市售品，KAYARAD D-310；日本化药株式会社制)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(作为市售品，KAYARAD DPHA；日本化药株式会社制)、及它们的(甲基)丙烯酰基隔着乙二醇、丙二醇残基的结构、或二甘油EO(环氧乙烷)改性(甲基)丙烯酸酯(作为市售品，M-460；东亚合成制)。也可以使用它们的低聚物型。
例如，可列举出RP-1040(日本化药株式会社制)等。
作为聚合性单体等，也可以是多官能单体、且具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。因此，若烯属化合物如上所述为混合物时那样具有未反应的羧基的羧基，则可以将其直接利用，但根据需要也可以使上述烯属化合物的羟基与非芳香族羧酸酐反应而导入酸基。这种情况下，作为所使用的非芳香族羧酸酐的具体例子，可列举出四氢邻苯二甲酸酐、烷基化四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、烷基化六氢邻苯二甲酸酐、琥珀酸酐、马来酸酐。
本发明中，作为具有酸基的单体，优选为脂肪族多羟基化合物与不饱和羧酸形成的酯，且使脂肪族多羟基化合物的未反应的羟基与非芳香族羧酸酐反应而具有酸基的多官能单体，特别优选为该酯中的脂肪族多羟基化合物为季戊四醇和/或二季戊四醇的单体。作为市售品，可列举出例如东亚合成株式会社制的作为多元酸改性丙烯酸低聚物的Aronix系列的M-305、M-510、M-520等。
作为具有酸基的多官能单体的优选的酸值，为0.1～40mg-KOH/g，特别优选为5～30mg-KOH/g。将2种以上不同的酸基的多官能单体并用的情况下、或者将不具有酸基的多官能单体并用的情况下，必须在制备时使得作为整体的多官能单体的酸值落入上述范围。
此外，作为聚合性单体等，还可以使用日本特开2012-215806号公报段落0306～0313中记载的具有己内酯改性结构的多官能性单体。
具有这样的己内酯改性结构的多官能性单体可列举出例如由日本化药(株)作为KAYARAD DPCA系列市售的DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等。
本发明中，具有己内酯改性结构的多官能性单体可以单独使用或将2种以上混合使用。
此外，作为本发明中的聚合性单体等，还可以使用日本特开2012-215806号公报段落0314～0324中记载的通式(Z-4)或(Z-5)所表示的化合物。
作为通式(Z-4)、(Z-5)所表示的聚合性单体等的市售品，可列举出例如Sartomer公司制的具有4个亚乙氧基链的4官能丙烯酸酯即SR-494、日本化药株式会社制的具有6个亚戊氧基链的6官能丙烯酸酯即DPCA-60、具有3个亚异丁氧基链的3官能丙烯酸酯即TPA-330等。
此外，作为聚合性单体等，日本特公昭48-41708号、日本特开昭51-37193号、日本特公平2-32293号、日本特公平2-16765号中记载的那样的氨基甲酸酯丙烯酸酯类、日本特公昭58-49860号、日本特公昭56-17654号、日本特公昭62-39417号、日本特公昭62-39418号记载的具有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化合物类也是适宜的。进而，作为聚合性单体等，通过使用日本特开昭63-277653号、日本特开昭63-260909号、日本特开平1-105238号中记载的分子内具有氨基结构、硫醚结构的加聚性单体类，可以得到感光速度非常优异的固化性组合物。
作为聚合性单体等的市售品，可列举出氨基甲酸酯低聚物UAS-10、UAB-140(Sanyo Kokusaku Pulp公司制)、UA-7200(新中村化学公司制、DPHA-40H(日本化药公司制)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共荣社制)等。
作为聚合性单体等，还可以使用日本特开2012-150468号公报段落0216～0220中记载的同一分子内具有2个以上巯基(SH)的多官能硫醇化合物。
此外，作为脂肪族多胺化合物与不饱和羧酸形成的酰胺的单体的具体例子，有亚甲基双-丙烯酰胺、亚甲基双-甲基丙烯酰胺、1,6-六亚甲基双-丙烯酰胺、1,6-六亚甲基双-甲基丙烯酰胺、二亚乙基三胺三丙烯酰胺、苯二甲基双丙烯酰胺、苯二甲基双甲基丙烯酰胺等。
作为其他优选的酰胺系单体的例子，可列举出日本特公昭54-21726号公报中记载的具有亚环己基结构的单体。
此外，利用异氰酸酯与羟基的加成反应制造的氨基甲酸酯系加聚性化合物也是适宜的，作为这样的具体例子，可列举出例如日本特公昭48-41708号公报中记载的在1分子中具有2个以上的异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物上加成下述式(V)所表示的具有羟基的乙烯基单体而成的1分子中含有2个以上的聚合性乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物等。
下述式(V)中，R7及R8分别独立地表示氢原子或甲基。
[化学式29]
H2C＝C(R7)COOCH2CH(R8)OH  式(V)
此外，日本特开昭51-37193号公报、日本特公平2-32293号公报、日本特公平2-16765号公报中记载的那样的氨基甲酸酯丙烯酸酯类、日本特公昭58-49860号公报、日本特公昭56-17654号公报、日本特公昭62-39417号公报、日本特公昭62-39418号公报中记载的具有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化合物类也是适宜的。进而，通过使用日本特开昭63-277653号公报、日本特开昭63-260909号公报、日本特开平1-105238号公报中记载的分子内具有氨基结构、硫醚结构的聚合性化合物类，可以得到感光速度非常优异的固化性组合物。
作为其他例子，可列举出日本特开昭48-64183号、日本特公昭49-43191号、日本特公昭52-30490号各公报中记载的那样的聚酯丙烯酸酯类、使环氧树脂与(甲基)丙烯酸反应而得到的环氧丙烯酸酯类等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。此外，还可列举出日本特公昭46-43946号公报、日本特公平1-40337号公报、日本特公平1-40336号公报记载的特定的不饱和化合物、日本特开平2-25493号公报记载的乙烯基膦酸系化合物等。此外，在某些情况下，适宜使用日本特开昭61-22048号公报记载的含有全氟烷基的结构。进而，还可以使用日本接着协会志vol.20、No.7、第300～308页(1984年)中记载的光固化性单体及低聚物。
关于这些聚合性化合物，其结构、是单独使用还是并用、添加量等使用方法的详细情况可以根据固化性组合物的最终的性能设计而任意设定。例如，可以从如下的观点出发来进行选择。
从感光度的方面考虑，优选每1分子的不饱和基含量多的结构，大多情况下，优选为2官能以上。此外，为了提高固化膜的强度，3官能以上的结构较佳，进而，通过将不同的官能数·不同的聚合性基团(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯基醚系化合物)的化合物并用来对感光度和强度这两者进行调节的方法也是有效的。
此外，对于与固化性组合物中含有的其他成分(例如聚合引发剂、金属氧化物粒子等)的相容性、分散性，聚合性化合物的选择·使用法也是重要的因素，例如，有时可以通过使用低纯度化合物、或并用2种以上其他成分来提高相容性。此外，有时也可以出于提高与基板等硬质表面的粘附性的目的而选择特定的结构。
相对于固化性组合物的全部固体成分，(D)聚合性化合物的含量优选为1质量％～40质量％的范围，更优选为3质量％～35质量％的范围，进一步优选为5质量％～30质量％的范围。
若为该范围内，则不会降低折射率而固化性良好，优选。
本发明的固化性组合物优选进一步含有选自由以下说明的聚合引发剂(E)、及粘合剂聚合物组成的组中的至少1种。
(E)聚合引发剂
本发明的固化性组合物进一步含有聚合引发剂从固化性进一步提高的观点出发是优选的。
作为本发明中的聚合引发剂，可以使用以下叙述的作为聚合引发剂公知的物质。
作为上述聚合引发剂，只要具有引发上述聚合性化合物的聚合的能力，则没有特别限制，可以从公知的聚合引发剂中适当选择。
此外，从使后述的微透镜的形成方法中的工序(ⅱ)、(b)等利用放射线照射的曝光工序中的固化良好的观点等出发，例如优选相对于紫外线区域到可见的光线具有感放射线性的聚合引发剂。此外，可以是与光激发的敏化剂产生某种作用而生成活性自由基的活性剂，也可以是根据单体的种类而引发阳离子聚合那样的引发剂。
此外，上述聚合引发剂优选含有至少1种在约300nm～800nm(更优选330nm～500nm。)的范围内具有至少约50的分子吸光系数的化合物。
作为上述聚合引发剂，可列举出例如卤代烃衍生物(例如，具有三嗪骨架的卤代烃衍生物、具有噁二唑骨架的卤代烃衍生物等)、酰基氧化膦等酰基膦化合物、六芳基联咪唑、肟衍生物等肟化合物、有机过氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族鎓盐、酮肟醚、氨基苯乙酮化合物、羟基苯乙酮等。
作为上述具有三嗪骨架的卤代烃化合物，可列举出例如若林等著、Bull.Chem.Soc.Japan，42、2924(1969)记载的化合物、英国专利1388492号说明书记载的化合物、日本特开昭53-133428号公报记载的化合物、德国专利3337024号说明书记载的化合物、F.C.Schaefer等的J.Org.Chem.；29、1527(1964)记载的化合物、日本特开昭62-58241号公报记载的化合物、日本特开平5-281728号公报记载的化合物、日本特开平5-34920号公报记载化合物、美国专利第4212976号说明书中记载的化合物等。
此外，作为上述以外的聚合引发剂，可列举出吖啶衍生物(例如，9-苯基吖啶、1,7-双(9,9’-吖啶基)庚烷等)、N-苯基甘氨酸等、聚卤素化合物(例如，四溴化碳、苯基三溴甲基砜、苯基三氯甲基酮等)、香豆素类(例如，3-(2-苯并呋喃酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯并呋喃甲酰基)-7-(1-吡咯烷基)香豆素、3-苯甲酰基-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二甲基氨基苯甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3,3’-羰基双(5,7-二正丙氧基香豆素)、3,3’-羰基双(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲酰基-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基肉桂酰基)-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲酰基-5,7-二丙氧基香豆素、7-苯并三唑-2-基香豆素、以及日本特开平5-19475号公报、日本特开平7-271028号公报、日本特开2002-363206号公报、日本特开2002-363207号公报、日本特开2002-363208号公报、日本特开2002-363209号公报等中记载的香豆素化合物等)、酰基氧化膦类(例如，双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦、双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基-戊基苯基氧化膦、LucirinTPO等)、茂金属类(例如，双(η5-2,4-环戊二烯-1-基)-双(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)钛、η5-环戊二烯基-η6-枯烯基-铁(1+)-六氟磷酸酯(1-)等)、日本特开昭53-133428号公报、日本特公昭57-1819号公报、日本特公昭57-6096号公报、及美国专利第3615455号说明书中记载的化合物等。
作为上述酮化合物，可列举出日本特开2011-252945号公报段落0084中记载的化合物等，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为聚合引发剂，还可适宜使用羟基苯乙酮化合物、氨基苯乙酮化合物、及酰基膦化合物。更具体而言，还可以使用例如日本特开平10-291969号公报中记载的氨基苯乙酮系引发剂、日本专利第4225898号公报中记载的酰基氧化膦系引发剂。
作为羟基苯乙酮系引发剂，可以使用IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959，IRGACURE-127(商品名：均由BASF公司制)。作为氨基苯乙酮系引发剂，可以使用作为市售品的IRGACURE-907、IRGACURE-369、及IRGACURE-379(商品名：均由BASF公司制)。作为氨基苯乙酮系引发剂，还可使用吸收波长与365nm或405nm等长波光源匹配的日本特开2009-191179公报中记载的化合物。此外，作为酰基膦系引发剂，可以使用作为市售品的IRGACURE-819、DAROCUR-TPO(商品名：均由BASF公司制)。
作为聚合引发剂，还可适宜使用肟系化合物。作为肟系引发剂的具体例子，可以使用日本特开2001-233842号公报记载的化合物、日本特开2000-80068号公报记载的化合物、日本特开2006-342166号公报记载的化合物。
作为本发明中作为聚合引发剂适宜使用的肟衍生物等肟化合物，可列举出例如3-苯甲酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、3-乙酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、3-丙酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、2-乙酰氧基亚氨基戊烷-3-酮、2-乙酰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲酰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺酰氧基)亚氨基丁烷-2-酮、及2-乙氧基羰基氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮等。
作为肟酯化合物，可使用TRONLY TR-PBG-304、TRONLYTR-PBG-309、TRONLY TR-PBG-305(常州强力电子新材料有限公司社(CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO.，LTD)制)等市售品。此外，可以参考日本特开2012-113104号公报的段落0092～0096中记载的聚合引发剂的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。通过使用这样的肟化合物，能够提供固化感光度高、显影性良好的固化性组合物。上述肟化合物为日本特开2012-113104号公报的段落0030以后说明的化合物。作为通式，为日本特开2012-113104的权利要求1中记载的通式(I)所表示的、更优选权利要求3中记载的通式(I-A)所表示的化合物，可以参考这些记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。此外，可列举出J.C.S.Perkin II(1979年)pp.1653-1660)、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年)pp.202-232、Journal of Applied Polymer Science(2012年)pp.725-731、日本特开2000-66385号公报记载的化合物、日本特开2000-80068号公报段落0218～0281、特表2004-534797号公报段落0242～0251、日本特开2006-342166号公报的各公报中记载的化合物等。
市售品中还适宜使用IRGACURE-OXE01(BASF公司制)、IRGACURE-OXE02(BASF公司制)。
此外，作为上述记载以外的肟酯化合物，还可以使用在咔唑N位连结有肟的日本特表2009-519904号公报中记载的化合物、在二苯甲酮部位导入了杂取代基的美国专利7626957号公报中记载的化合物、在色素部位导入了硝基的日本特开2010-15025号公报及美国专利公开2009-292039号记载的化合物、国际公开专利2009-131189号公报中记载的酮肟系化合物、在同一分子内含有三嗪骨架和肟骨架的美国专利7556910号公报中记载的化合物、在405nm处具有最大吸收且相对于g射线光源具有良好的感光度的日本特开2009-221114号公报记载的化合物等。
进而，还可适宜使用日本特开2007-231000号公报、及日本特开2007-322744号公报中记载的环状肟化合物。环状肟化合物中，从具有高的光吸收性且高感光度化的观点出发，特别优选日本特开2010-32985号公报、日本特开2010-185072号公报中记载的稠环于咔唑色素上的环状肟化合物。
此外，在肟化合物的特定部位具有不饱和键的日本特开2009-242469号公报中记载的化合物也通过由聚合不活性自由基再生活性自由基而能够达成高感光度化，可以适宜使用。
除此以外，可列举出日本特开2007-269779号公报所示的具有特定取代基的肟化合物、日本特开2009-191061号公报中所示的具有硫芳基的肟化合物。
具体而言，还优选下述式(OX-1)所表示的化合物。另外，可以是肟的N-O键为(E)体的肟化合物，也可以是(Z)体的肟化合物，还可以是(E)体与(Z)体的混合物。
[化学式30]
(式(OX-1)中，R及B分别独立地表示1价的取代基，A表示2价的有机基团，Ar表示芳基。)
上述式(OX-1)中，作为R所表示的1价的取代基，优选为1价的非金属原子团。
作为上述1价的非金属原子团，可列举出烷基、芳基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环基、烷硫基羰基、芳硫基羰基等。此外，这些基团也可以具有1个以上的取代基。此外，上述的取代基还可以进一步被其他取代基取代。
作为取代基，可列举出卤素原子、芳氧基、烷氧基羰基或芳氧基羰基、酰氧基、酰基、烷基、芳基等。
作为烷基，优选碳原子数为1～30的烷基。具体而言，可以参考日本特开2012-032556号公报段落0026等的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为芳基，优选碳原子数为6～30的芳基。具体而言，可以参考日本特开2012-032556号公报段落0027等的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为酰基，优选碳原子数为2～20的酰基。具体而言，可以参考日本特开2012-032556号公报段落0028等的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为烷氧基羰基，优选碳原子数为2～20的烷氧基羰基。具体而言，可以参考日本特开2012-032556号公报段落0029等的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为芳氧基羰基，具体而言，可以参考日本特开2012-032556号公报段落0030等的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为杂环基，优选包含氮原子、氧原子、硫原子或磷原子的芳香族或脂肪族的杂环。具体而言，可以参考日本特开2012-032556号公报段落0031等的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为烷硫基羰基，具体而言，可以参考日本特开2012-032556号公报段落0032等的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为芳硫基羰基，具体而言，可以参考日本特开2012-032556号公报段落0033等的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。
上述式(OX-1)中，作为B所表示的1价的取代基，表示芳基、杂环基、芳基羰基、或杂环羰基。此外，这些基团也可以具有1个以上的取代基。作为取代基，可例示出上述的取代基。此外，上述的取代基还可以进一步被其他取代基取代。
其中，特别优选为以下所示的结构。
下述的结构中，Y、X、及n分别与后述式(OX-2)中的Y、X、及n含义相同，优选的例子也相同。
[化学式31]
上述式(OX-1)中，作为A所表示的2价的有机基团，可列举出碳原子数为1～12的亚烷基、环亚烷基、亚炔基。此外，这些基团也可以具有1个以上的取代基。作为取代基，可例示出上述的取代基。此外，上述的取代基还可以进一步被其他取代基取代。
其中，作为式(OX-1)中的A，从提高感光度、抑制由加热经时引起的着色的方面出发，优选未取代的亚烷基、被烷基(例如，甲基、乙基、叔丁基、十二烷基)取代的亚烷基、被烯基(例如，乙烯基、烯丙基)取代的亚烷基、被芳基(例如，苯基、对甲苯基、二甲苯基、枯烯基、萘基、蒽基、菲基、苯乙烯基)取代的亚烷基。
上述式(OX-1)中，作为Ar所表示的芳基，优选碳原子数为6～30的芳基，此外，也可以具有取代基。作为取代基，可例示出与之前作为也可以具有取代基的芳基的具体例子列举出的导入取代芳基中的取代基相同的基团。
其中，从提高感光度、抑制由加热经时引起的着色的方面出发，优选取代或未取代的苯基。
式(OX-1)中，由上述式(OX-1)中的Ar和与其邻接的S形成的“SAr”的结构优选日本特开2012-032556号公报段落0040等中记载的结构。它们的内容被纳入本申请说明书中。
上述式(OX-1)所表示的肟化合物优选为下述式(OX-2)所表示的化合物。
[化学式32]
(式(OX-2)中，R及X分别独立地表示1价的取代基，A及Y分别独立地表示2价的有机基团，Ar表示芳基，n为0～5的整数。X存在多个的情况下，多个X可以相同，也可以不同。)
式(OX-2)中的R、A、及Ar与上述式(OX-1)中的R、A、及Ar含义相同，优选的例子也相同。
上述式(OX-2)中，作为X所表示的1价的取代基，可列举出烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、酰氧基、酰基、烷氧基羰基、氨基、杂环基、卤素原子。此外，这些基团也可以具有1个以上的取代基。作为取代基，可例示出上述的取代基。此外，上述的取代基还可以进一步被其他取代基取代。
它们中，作为式(OX-2)中的X，从溶剂溶解性和长波长区域的吸收效率提高的方面出发，优选烷基。
此外，式(2)中的n表示0～5的整数，优选0～2的整数。
上述式(OX-2)中，作为Y所表示的2价的有机基团，可列举出以下所示的结构Sub-1～Sub-11。另外，在以下所示的基团中，“*”表示上述式(OX-2)中，Y与邻接的碳原子的键合位置。其中，从高感光度化的观点出发，优选结构Sub-1及Sub-2。
[化学式33]
进而，上述式(OX-2)所表示的肟化合物优选为下述式(OX-3)所表示的化合物。
[化学式34]
(式(OX-3)中，R及X分别独立地表示1价的取代基，A表示2价的有机基团，Ar表示芳基，n为0～5的整数。X存在多个的情况下，多个X可以相同，也可以不同。)
式(OX-3)中的R、X、A、Ar、及n与上述式(OX-2)中的R、X、A、Ar、及n分别含义相同，优选的例子也相同。
以下示出适宜使用的肟化合物的具体例子(PIox-1)～(PIox-13)，但本发明并不限定于它们。
[化学式35]
肟化合物为在350nm～500nm的波长区域具有最大吸收波长的化合物，优选为在360nm～480nm的波长区域具有吸收波长的化合物，特别优选在365nm及455nm的吸光度高的化合物。
从感光度的观点出发，肟化合物在365nm或405nm下的摩尔吸光系数优选为1,000～300,000，更优选为2,000～300,000，特别优选为5,000～200,000。
化合物的摩尔吸光系数可以使用公知的方法，但具体而言，优选例如利用紫外可见分光光度计(Varian公司制Carry-5spctrophotometer)，使用乙酸乙酯溶剂，在0.01g/L的浓度下进行测定。
本发明中使用的聚合引发剂根据需要也可以将2种以上组合使用。
作为本发明的固化性组合物中使用的(E)聚合引发剂，从固化性的观点出发，优选选自由三卤代甲基三嗪化合物、苯偶酰二甲基缩酮化合物、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、茂金属化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、环戊二烯-苯-铁络合物及其盐、卤代甲基噁二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物组成的组中的化合物。
进一步优选为三卤代甲基三嗪化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚物、鎓化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物，最优选选自由三卤代甲基三嗪化合物、α-氨基酮化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚物、二苯甲酮化合物组成的组中的至少一种化合物。
特别是在将本发明的固化性组合物设置在固态摄像元件的滤色器上而制成微透镜的情况下，由于要求以尖细的形状形成微细的图案，所以固化性以及在未曝光部没有残渣地被显影是重要的。从这样的观点出发，作为聚合引发剂，特别优选使用肟化合物。特别是在固态摄像元件中形成微细的图案的情况下，在固化用曝光中使用步进曝光，但该曝光机有时被卤素损伤，聚合引发剂的添加量也被要求抑制得较低，因此，若考虑到这些方面，为了形成像固态摄像元件那样的微细图案，作为(E)聚合引发剂，最优选使用肟化合物。
本发明的固化性组合物中含有的(E)聚合引发剂的含量(2种以上的情况下为总含量)相对于固化性组合物的全部固体成分优选为0.1质量％以上且40质量％以下，更优选为0.5质量％以上且20质量％以下，进一步优选为1质量％以上且15质量％以下。在该范围内，可得到良好的固化性、良好的感光度和图案形成性。
本发明的固化性组合物根据需要还可以进一步含有以下详细叙述的任意成分。
[敏化剂]
出于提高(E)聚合引发剂的自由基产生效率、感光波长的长波长化的目的，本发明的固化性组合物也可以含有敏化剂。
作为本发明中可使用的敏化剂，优选相对于上述的(E)聚合引发剂以电子转移机制或能量转移机制使其敏化的化合物。
作为敏化剂，可列举出属于以下列举的化合物类、且在300nm～450nm的波长区域具有吸收波长的化合物。
即，可列举出例如多核芳香族类(例如，菲、蒽、芘、苝、三亚苯、9,10-二烷氧基蒽)、呫吨类(例如，荧光素、曙红、赤藓红、若丹明B、玫瑰红)、噻吨酮类(异丙基噻吨酮、二乙基噻吨酮、氯噻吨酮)、花青类(例如，噻碳花青、噁碳花青)、部花青类(例如，部花青、碳部花青)、酞菁类、噻嗪类(例如，硫堇、亚甲基蓝、甲苯胺蓝)、吖啶类(例如，吖啶橙、氯黄素、吖啶黄)、蒽醌类(例如，蒽醌)、方酸菁类(例如，方酸菁)、吖啶橙、香豆素类(例如，7-二乙基氨基-4-甲基香豆素)、酮香豆素、吩噻嗪类、吩嗪类、苯乙烯基苯类、偶氮化合物、二苯基甲烷、三苯基甲烷、二苯乙烯基苯类、咔唑类、卟啉、螺环化合物、喹吖啶酮、靛蓝、苯乙烯基、吡喃鎓化合物、吡咯甲川化合物、吡唑并三唑化合物、苯并噻唑化合物、巴比土酸衍生物、硫代巴比土酸衍生物、苯乙酮、二苯甲酮、噻吨酮、米蚩酮等芳香族酮化合物、N-芳基噁唑烷酮等杂环化合物等。
进一步可列举出欧洲专利第568,993号说明书、美国专利第4,508,811号说明书、美国专利5,227,227号说明书、日本特开2001-125255号公报、日本特开平11-271969号公报等中记载的化合物等等。
从深部中的光吸收效率和引发剂的分解效率的观点出发，固化性组合物中的敏化剂的含量以固体成分换算计优选为0.1质量％以上且20质量％以下，更优选为0.5质量％以上且15质量％以下。
敏化剂可以单独使用1种，也可以将2种以上并用。
[共敏化剂]
本发明的固化性组合物还优选进一步含有共敏化剂。
本发明中共敏化剂具有进一步提高(E)聚合引发剂、敏化剂相对于活性放射线的感光度、或抑制由氧引起的(D)聚合性化合物的聚合阻碍等作用。
作为这样的共敏化剂的例子，可列举出胺类、例如M.R.Sander等著“Journal of Polymer Society”第10卷3173页(1972)、日本特公昭44-20189号公报、日本特开昭51-82102号公报、日本特开昭52-134692号公报、日本特开昭59-138205号公报、日本特开昭60-84305号公报、日本特开昭62-18537号公报、日本特开昭64-33104号公报、Research Disclosure 33825号记载的化合物等，具体而言，可列举出三乙醇胺、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺、对甲基硫代二甲基苯胺等。
作为共敏化剂的其他例子，可列举出硫醇及硫醚类、例如日本特开昭53-702号公报、日本特公昭55-500806号公报、日本特开平5-142772号公报记载的硫醇化合物、日本特开昭56-75643号公报的二硫醚化合物等，具体而言，可列举出2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基-4(3H)-喹唑啉、β-巯基萘等。
此外，作为共敏化剂的其他例子，可列举出氨基酸化合物(例如N-苯基甘氨酸等)、日本特公昭48-42965号公报记载的有机金属化合物(例如乙酸三丁基锡等)、日本特公昭55-34414号公报记载的给氢体、日本特开平6-308727号公报记载的硫化合物(例如三噻烷等)等。
共敏化剂可以单独使用1种，也可以将2种以上并用。
从由聚合生长速度与链转移的平衡引起的固化速度的提高的观点出发，这些共敏化剂的含量相对于固化性组合物的全部固体成分的质量优选为0.1质量％以上且30质量％以下的范围，更优选为1质量％以上且25质量％以下的范围，进一步优选为1.5质量％以上且20质量％以下的范围。
[阻聚剂]
本发明中，为了阻止在固化性组合物的制造中或保存中具有可聚合的烯属不饱和双键的化合物的不需要的聚合，优选添加阻聚剂。
作为可用于本发明的阻聚剂，可列举出含有酚系羟基的化合物、N-氧化物化合物类、哌啶1-烃氧基自由基化合物类、吡咯烷1-烃氧基自由基化合物类、N-亚硝基苯基羟基胺类、重氮鎓化合物类、及阳离子染料类、含有硫醚基的化合物类、含有硝基的化合物类、FeCl3、CuCl2等过渡金属化合物类。
作为进一步优选的方式，如下所述。
含有酚系羟基的化合物优选为选自由氢醌、对甲氧基苯酚、二叔丁基对甲酚、连苯三酚、叔丁基儿茶酚、苯醌、4,4-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚(BHT)、酚醛树脂类、及甲酚树脂类组成的组中的化合物。
N-氧化物化合物类优选为选自由5,5-二甲基-1-吡咯啉N-氧化物、4-甲基吗啉N-氧化物、吡啶N-氧化物、4-硝基吡啶N-氧化物、3-羟基吡啶N-氧化物、皮考啉酸N-氧化物、烟酸N-氧化物、及异烟酸N-氧化物组成的组中的化合物。
哌啶1-烃氧基自由基化合物类优选为选自由哌啶1-烃氧基自由基、2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-氧代-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-乙酰胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-马来酰亚胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、及4-膦酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基组成的组中的化合物。
吡咯烷1-烃氧基自由基化合物类优选为3-羧基-2,2,5,5-四甲基吡咯烷1-烃氧基自由基(3-carboxy-proxyl free radical)。
N-亚硝基苯基羟基胺类优选为选自由N-亚硝基苯基羟基胺铈(III)盐及N-亚硝基苯基羟基胺铝盐组成的化合物组中的化合物。
重氮鎓化合物类优选为选自由4-重氮苯基二甲基胺的硫酸氢盐、4-重氮二苯基胺的四氟硼酸盐、及3-甲氧基-4-重氮二苯基胺的六氟磷酸盐组成的组中的化合物。
其中，优选为氢醌、对甲氧基苯酚、二叔丁基-对甲酚、连苯三酚、叔丁基儿茶酚、苯醌、4,4-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)的含有酚系羟基的化合物、哌啶1-烃氧基自由基化合物类或2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-氧代-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-乙酰胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-马来酰亚胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、及4-膦酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基的哌啶1-烃氧基自由基化合物、或N-亚硝基苯基羟基胺铈(III)盐及N-亚硝基苯基羟基胺铝盐的N-亚硝基苯基羟基胺化合物，更优选为2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-氧代-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-乙酰胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、4-马来酰亚胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基、及4-膦酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-烃氧基自由基的哌啶1-烃氧基自由基化合物、或N-亚硝基苯基羟基胺铈(III)盐及N-亚硝基苯基羟基胺铝盐的N-亚硝基苯基羟基胺化合物，进一步优选为-亚硝基苯基羟基胺铈(III)盐及N-亚硝基苯基羟基胺铝盐的N-亚硝基苯基羟基胺化合物。
阻聚剂可以单独使用1种，也可以将2种以上并用。
作为阻聚剂的优选的添加量，相对于(E)聚合引发剂100质量份，优选为0.01质量份以上且10质量份以下，进一步优选为0.01质量份以上且8质量份以下，最优选在0.05质量份以上且5质量份以下的范围。
通过设为上述范围，可充分地抑制非图像部中的固化反应及促进图像部中的固化反应，图像形成性及感光度变得良好。
[粘合剂聚合物]
从皮膜特性提高等观点出发，本发明的固化性组合物优选进一步包含粘合剂聚合物。
作为上述粘合剂聚合物，优选使用线状有机聚合物。作为这样的线状有机聚合物，可以任意地使用公知的线状有机聚合物。优选为了能够进行水显影或弱碱水显影，选择在水或弱碱水中为可溶性或溶胀性的线状有机聚合物。线状有机聚合物不仅作为皮膜形成剂，还可以作为水、弱碱水或有机溶剂显影剂根据用途选择使用。例如，若使用水可溶性有机聚合物，则能够进行水显影。作为这样的线状有机聚合物，可列举出在侧链具有羧酸基的自由基聚合物、例如日本特开昭59-44615号公报、日本特公昭54-34327号公报、日本特公昭58-12577号公报、日本特公昭54-25957号公报、日本特开昭54-92723号公报公报、日本特开昭59-53836号公报、日本特开昭59-71048号公报中记载的聚合物，即，使具有羧基的单体均聚或共聚而得到的树脂、使具有酸酐的单体均聚或共聚并使酸酐单元水解或半酯化或半酰胺化而得到的树脂、将环氧树脂用不饱和一元羧酸及酸酐改性而得到的环氧丙烯酸酯等。作为具有羧基的单体，可列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸、4-羧基苯乙烯等，作为具有酸酐的单体，可列举出马来酸酐等。
此外，同样有在侧链具有羧酸基的酸性纤维素衍生物。此外，在具有羟基的聚合物上加成环状酸酐而成的聚合物等也是有用的。
本发明中，在使用共聚物作为粘合剂聚合物的情况下，作为进行共聚的化合物，还可以使用上述列举的单体以外的其他单体。作为其他单体的例子，可列举出下述(1)～(12)的化合物。
(1)丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸3-羟基丙酯、丙烯酸4-羟基丁酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基丙酯、甲基丙烯酸3-羟基丙酯、甲基丙烯酸4-羟基丁酯等具有脂肪族羟基的丙烯酸酯类、及甲基丙烯酸酯类。
(2)丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸-2-氯乙酯、丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯、丙烯酸乙烯酯、丙烯酸2-苯基乙烯酯、丙烯酸1-丙烯酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、丙烯酸炔丙酯等丙烯酸烷基酯。
(3)甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸-2-氯乙酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸乙烯酯、甲基丙烯酸2-苯基乙烯酯、甲基丙烯酸1-丙烯酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、甲基丙烯酸炔丙酯等甲基丙烯酸烷基酯。
(4)丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-己基甲基丙烯酰胺、N-环己基丙烯酰胺、N-羟乙基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺、N-硝基苯基丙烯酰胺、N-乙基-N-苯基丙烯酰胺、乙烯基丙烯酰胺、乙烯基甲基丙烯酰胺、N,N-二烯丙基丙烯酰胺、N,N-二烯丙基甲基丙烯酰胺、烯丙基丙烯酰胺、烯丙基甲基丙烯酰胺等丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺。
(5)乙基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、羟乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、辛基乙烯基醚、苯基乙烯基醚等乙烯基醚类。
(6)乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等乙烯基酯类。
(7)苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、对乙酰氧基苯乙烯等苯乙烯类。
(8)甲基乙烯基酮、乙基乙烯基酮、丙基乙烯基酮、苯基乙烯基酮等乙烯基酮类。
(9)乙烯、丙烯、异丁烯、丁二烯、异戊二烯等烯烃类。
(10)N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯腈、甲基丙烯腈等。
(11)马来酰亚胺、N-丙烯酰基丙烯酰胺、N-乙酰基甲基丙烯酰胺、N-丙酰基甲基丙烯酰胺、N-(对氯苯甲酰)甲基丙烯酰胺等不饱和酰亚胺。
(12)α位上键合有杂原子的甲基丙烯酸系单体。可列举出例如日本特开2002-309057号、日本特开2002-311569号等的各公报中记载的化合物。
本发明中，这些单体通过在本发明的范围内没有特别限制地组合，可以应用于共聚物的合成。例如下述示出将包含这些单体的单体成分聚合而成的共聚物的一个例子，但本发明并不限定于此。下述所示的例示化合物的组成比为摩尔％。
[化学式36]
对于上述粘合剂聚合物，可以参考将日本特开2012-208494号公报段落0562(对应的美国专利申请公开第2012/235099号说明书的[0692])以后的式(ED)所表示的化合物(有时也称为醚二聚物)作为必须的单体成分聚合而成的聚合物的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为醚二聚物的具体例子，可以参考日本特开2012-208494号公报段落0565(对应的美国专利申请公开第2012/235099号说明书的[0694])的醚二聚物的记载，它们的内容被纳入本申请说明书中。
此外，以下例示出将式(ED)所表示的化合物作为必须的单体成分聚合而成的聚合物的具体例子，但本发明并不限定于它们。下述所示的例示化合物的组成比为摩尔％。
[化学式37]
[化学式38]
本发明中，特别优选使2,2’-[氧代双(亚甲基)]双-2-丙烯酸二甲酯(以下称为“DM”)、甲基丙烯酸苄酯(以下称为“BzMA”)、甲基丙烯酸甲酯(以下称为“MMA”)、甲基丙烯酸(以下称为“MAA”)、甲基丙烯酸缩水甘油酯(以下称为“GMA”)进行共聚而成的聚合物。特别优选DM：BzMA：MMA：MAA：GMA的摩尔比为5～15：40～50：5～15：5～15：20～30。优选构成本发明中使用的共聚物的成分的95质量％以上为这些成分。此外，所述聚合物的重均分子量优选为9000～20000。
本发明中使用的聚合物的重均分子量(利用GPC法测定的聚苯乙烯换算值)优选为1000～2×105，更优选为2000～1×105，进一步优选为5000～5×104。
它们中，在侧链具有烯丙基、乙烯基酯基和羧基的(甲基)丙烯酸树脂及日本特开2000-187322号公报、日本特开2002-62698号公报中记载的在侧链具有双键的碱可溶性树脂、日本特开2001-242612号公报中记载的在侧链具有酰胺基的碱可溶性树脂，膜强度、感光度、显影性的平衡优异，是适宜的。作为上述的聚合物的例子，可列举出Dianal NR系列(MitsubishiRayon株式会社制)、Photomer6173(含有COOH polyurethane acrylicoligomer.Diamond Shamrock Co.Ltd.，制)、Viscoat R-264、KSRESIST106(均由大阪有机化学工业株式会社制)、Cyclomer P ACA230AA等Cyclomer P系列、PlaccelCF200系列(均由Daicel Chemical Industries,Ltd.制)、Ebecryl3800(Daicel-UCB株式会社制)等。
此外，日本特公平7-12004号公报、日本特公平7-120041号公报、日本特公平7-120042号公报、日本特公平8-12424号公报、日本特开昭63-287944号公报、日本特开昭63-287947号公报、日本特开平1-271741号公报等中记载的含有酸基的氨基甲酸酯系粘合剂聚合物、日本特开2002-107918号公报中记载的在侧链具有酸基和双键的氨基甲酸酯系粘合剂聚合物由于强度非常优异，所以在膜强度的方面是有利的。
此外，欧洲专利第993966号、欧洲专利第1204000号、日本特开2001-318463号公报等中记载的具有酸基的缩醛改性聚乙烯基醇系粘合剂聚合物的膜强度也优异，是适宜的。
进而，作为其他的水溶性线状有机聚合物，聚乙烯基吡咯烷酮、聚环氧乙烷等是有用的。此外，为了提高固化皮膜的强度，醇可溶性尼龙、2,2-双-(4-羟基苯基)-丙烷与表氯醇形成的聚醚等也是有用的。
作为本发明的固化性组合物中可使用的粘合剂聚合物的重均分子量(利用GPC法测定的聚苯乙烯换算值)，优选为5,000以上，进一步优选为1万以上且30万以下的范围，关于数均分子量，优选为1,000以上，进一步优选为2,000以上且25万以下的范围。多分散度(重均分子量/数均分子量)优选为1以上，进一步优选为1.1以上且10以下的范围。
这些粘合剂聚合物可以是无规聚合物、嵌段聚合物、接枝聚合物等中的任一种。
本发明中可使用的粘合剂聚合物可以通过以往公知的方法来合成。作为合成时使用的溶剂，可列举出例如四氢呋喃、二氯乙烷、环己酮、甲乙酮、丙酮、甲醇、乙醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、2-甲氧基乙基乙酸酯、二乙二醇二甲基醚、1-甲氧基-2-丙醇、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、二甲基亚砜、水等。这些溶剂可以单独使用或将2种以上混合使用。
作为在合成本发明的固化性组合物中可使用的粘合剂聚合物时所使用的自由基聚合引发剂，可列举出偶氮系引发剂、过氧化物引发剂等公知的化合物。
本发明的固化性组合物中，粘合剂聚合物可以单独使用1种、或将2种以上组合使用。
本发明的固化性组合物可以含有粘合剂聚合物，也可以不含有，但在含有的情况下，相对于固化性组合物的全部固体成分，粘合剂聚合物的含量优选为1质量％以上且40质量％以下，更优选为3质量％以上且30质量％以下，进一步优选为4质量％以上且20质量％以下。
[表面活性剂]
从更加提高涂布性的观点出发，本发明的固化性组合物也可以添加各种表面活性剂。作为表面活性剂，可以使用氟系表面活性剂、非离子系表面活性剂、阳离子系表面活性剂、阴离子系表面活性剂、硅酮系表面活性剂等各种表面活性剂。
特别是由于本发明的固化性组合物通过含有氟系表面活性剂，制备成涂布液时的液特性(特别是流动性)更加提高，所以能够进一步改善涂布厚度的均匀性、省液性。
即，在使用应用了含有氟系表面活性剂的感光性透明组合物的涂布液进行膜形成的情况下，通过降低被涂布面与涂布液的表面张力，可改善被涂布面上的润湿性，被涂布面上的涂布性提高。因此，即使在以少量的液量形成数μm左右的薄膜的情况下，在更适宜进行厚度不均小的均匀厚度的膜形成的方面也是有效的。
氟系表面活性剂中的氟含有率优选为3质量％～40质量％，更优选为5质量％～30质量％，特别优选为7质量％～25质量％。氟含有率为该范围内的氟系表面活性剂在涂布膜的厚度均匀性、省液性的方面是有效的，在固化性组合物中的溶解性也良好。
作为氟系表面活性剂，可列举出例如Megafac F171、Megafac F172、Megafac F173、Megafac F176、Megafac F177、Megafac F141、Megafac F142、Megafac F143、Megafac F144、Megafac R30、Megafac F437、Megafac F475、Megafac F479、Megafac F482、Megafac F554、Megafac F780、MegafacF781(以上由DIC(株)制)、Fluorad FC430、Fluorad FC431、Fluorad FC171(以上，Sumitomo 3M Limited制)、Surflon S-382、Surflon SC-101、SurflonSC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC1068、Surflon SC-381、Surflon SC-383、Surflon S393、Surflon KH-40(以上，旭硝子(株)制)、PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(OMNOVA公司制)等。
作为非离子系表面活性剂，具体而言，可列举出日本特开2012-201643号公报段落0252等中记载的非离子系表面活性剂，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为阳离子系表面活性剂，具体而言，可列举出日本特开2012-201643号公报段落0253等中记载的阳离子系表面活性剂，它们的内容被纳入本申请说明书中。
作为阴离子系表面活性剂，具体而言，可列举出W004、W005、W017(裕商(株)社制)等。
作为硅酮系表面活性剂，例如可列举出Toray Dowcorning(株)制“ToraySilicone DC3PA”、“Toray Silicone SH7PA”、“Toray Silicone DC11PA”，“Toray Silicone SH21PA”，“Toray Silicone SH28PA”、“Toray SiliconeSH29PA”、“Toray Silicone SH30PA”、“Toray Silicone SH8400”、MomentivePerformance Materials公司制“TSF-4440”、“TSF-4300”、“TSF-4445”、“TSF-4460”、“TSF-4452”、Shinetsu Silicone株式会社制“KP341”、“KF6001”、“KF6002”、BYK Chemie公司制“BYK307”、“BYK323”、“BYK330”等。
表面活性剂可以仅使用1种，也可以将2种以上组合。
固化性组合物可以含有表面活性剂，也可以不含有，但在含有的情况下，表面活性剂的添加量相对于固化性组合物的总质量优选为0.001质量％～2.0质量％，更优选为0.005质量％～1.0质量％。
[其他添加剂]
进而，对于固化性组合物，为了改良固化皮膜的物性，也可以添加增塑剂、增感剂等公知的添加剂。
其他添加剂可以仅使用1种，也可以将2种以上组合。
作为增塑剂，有例如邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二(十二烷基)酯、三乙二醇二辛酸酯、二甲基二醇邻苯二甲酸酯、磷酸三甲酚酯、己二酸二辛酯、癸二酸二丁酯、三乙酰基甘油等，在使用粘合剂聚合物的情况下，相对于聚合性化合物与粘合剂聚合物的总质量可以添加10质量％以下。
[紫外线吸收剂]
本发明的固化性组合物也可以含有紫外线吸收剂。作为紫外线吸收剂，特别优选作为共轭二烯系化合物的下述通式(I)所表示的化合物。
[化学式39]
通式(I)
上述通式(I)中，R1及R2各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～20的烷基、或碳原子数为6～20的芳基，R1与R2彼此可以相同也可以不同，但不同时表示氢原子。
此外，R1及R2也可以与R1及R2所键合的氮原子一起形成环状氨基。作为环状氨基，可列举出例如哌啶子基、吗啉代基、吡咯烷基、六氢氮杂卓(hexahydroazepino)基、哌嗪基等。
上述通式(I)中，R3及R4表示吸电子基。这里吸电子基是哈曼特的取代基常数σp值(以下简称为“σp值”。)为0.20以上且1.0以下的吸电子性基。优选σp值为0.30以上且0.8以下的吸电子性基。
哈曼特法则是为了定量地论述取代基对于苯衍生物的反应或平衡带来的影响，由L.P.Hammett在1935年提出的经验法则，其妥当性现在已得到普遍认可。通过哈曼特法则求出的取代基常数中包括σp值和σm值，这些值在很多常规的成书中有记载，例如详见J.A.Dean编“Lange’s Handbookof Chemistry”第12版、1979年(Mc Graw-Hill)、“化学的领域增刊”、122号、96～103页、1979年(南江堂)、Chemical Reviews，91卷、165页～195页、1991年。本发明中，意思是并不仅仅限定于具有这些成书中记载的文献已知的值的取代基，即使该值为文献未知，只要基于哈曼特法则进行测定时包含于该范围内，则当然也包含在内。
作为上述σp值为0.20以上且1.0以下的吸电子性基的具体例子，可列举出酰基、酰氧基、氨基甲酰基、烷基氧基羰基、芳氧基羰基、氰基、硝基、二烷基膦酰基、二芳基膦酰基、二芳基氧膦基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、磺酰氧基、酰硫基、氨磺酰基、硫氰酸酯基、硫代羰基、被至少2个以上的卤素原子取代的烷基、被至少2个以上的卤素原子取代的烷氧基、被至少2个以上的卤素原子取代的芳氧基、被至少2个以上的卤素原子取代的烷基氨基、被至少2个以上的卤素原子取代的烷硫基、被σp值为0.20以上的其他吸电子性基取代的芳基、杂环基、氯原子、溴原子、偶氮基、或硒氰酸酯基。
此外，R3及R4也可以彼此键合而形成环。
此外，上述的R1、R2、R3、及R4中的至少1个也可以变成由经由连结基团与乙烯基键合的单体衍生的聚合物的形态。也可以是与其他单体的共聚物。在共聚物的情况下，作为其他单体，有丙烯酸、α-氯丙烯酸、α-烷基丙烯酸(例如，由甲基丙烯酸等丙烯酸类衍生的酯、优选低级烷基酯及酰胺例如丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、叔丁基丙烯酰胺、丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸辛酯、及甲基丙烯酸月桂酯、亚甲基双丙烯酰胺等)、乙烯基酯(例如，乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯及月桂酸乙烯酯等)、丙烯腈、甲基丙烯腈、芳香族乙烯基化合物(例如，苯乙烯及其衍生物、例如乙烯基甲苯、二乙烯基苯、乙烯基苯乙酮、磺基苯乙烯、及苯乙烯亚磺酸等)、衣康酸、柠康酸、巴豆酸、偏氯乙烯、乙烯基烷基醚(例如，乙烯基乙基醚等)、马来酸酯、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N-乙烯基吡啶、2-乙烯基吡啶及4-乙烯基吡啶等。
也可以将上述其他单体化合物的2种以上一起并用。例如，可以将丙烯酸正丁酯与二乙烯基苯、苯乙烯与甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯与甲基丙烯酸酯酸等并用。
通式(I)所表示的紫外线吸收剂可以通过日本特公昭44-29620号、日本特开53-128333号、日本特开昭61-169831号、日本特开昭63-53543、日本特开昭63-53544号、日本特开昭63-56651号等各公报、WO2009/123109号小册子中记载的方法进行合成。具体而言，可以通过WO2009/123109号小册子段落号0040中记载的方法来合成上述例示化合物(1)。
本发明的固化性组合物可以含有紫外线吸收剂，也可以不含有，但在含有的情况下，紫外线吸收剂的含量相对于组合物的全部固体成分优选为0.1质量％～10质量％，更优选为0.1质量％～5质量％，特别优选为0.1质量％～3质量％。
此外，本发明中，上述各种紫外线吸收剂可以单独使用一种，也可以将两种以上组合使用。
出于除去异物、减少缺陷等的目的，本发明的固化性组合物优选用过滤器进行过滤。只要是以往被用于过滤用途等的过滤器，则可以没有特别限定地使用。可列举出例如由PTFE(聚四氟乙烯)等氟树脂、尼龙-6、尼龙-6,6等聚酰胺系树脂、聚乙烯、聚丙烯(PP)等聚烯烃树脂(包含高密度、超高分子量)等制成的过滤器。这些材料中，优选聚丙烯(包含高密度聚丙烯)。
过滤器的孔径为0.01～7.0μm左右是合适的，优选为0.01～2.5μm左右，进一步优选为0.01～1.5μm左右。通过设为该范围，能够可靠地除去混入溶解的颜料等中、在后工序中阻碍均匀及平滑的固化性组合物的制备的微细的异物。
使用过滤器时，也可以将不同的过滤器组合。此时，利用第1过滤器的过滤可以仅进行1次，也可以进行2次以上。在组合不同的过滤器并进行2次以上过滤的情况下，优选使第2次过滤以后的孔径大于第1次过滤的孔径。此外，也可以在上述范围内组合不同的孔径的第1过滤器。这里的孔径可以参照过滤器制造商的标称值。作为市售的过滤器，可以从例如NihonPall Ltd.、Advantec Toyo Kaisha,Ltd.、Nihon Entegris K.K.(原NihonMykrolis K.K.)或Kitz Microfilter Corporation等提供的各种过滤器中选择。
第2过滤器可以使用由与上述的第1过滤器同样的材料等形成的过滤器。第2过滤器的孔径为0.5～7.0μm左右是合适的，优选为2.5～7.0μm左右，进一步优选为4.5～6.0μm左右。通过设为该范围，能够在使混合液中含有的成分粒子残留的状态下除去混入混合液中、在后工序中阻碍均匀及平滑的固化性组合物的制备的异物。
例如，利用第1过滤器的过滤可以仅对分散液进行，也可以在混合其他成分后，进行第2过滤。
<固化膜>
本发明的固化膜为将上述的固化性组合物进行固化而得到的固化膜。
本发明的固化膜可以作为层间绝缘膜适宜使用。此外，本发明的固化膜优选为通过后述的本发明的固化膜的制造方法而得到的固化膜。
通过本发明的固化性组合物，可得到绝缘性优异、即使在高温下烘烤的情况下也具有高的透明性的层间绝缘膜。使用本发明的固化性组合物而成的层间绝缘膜由于具有高的透明性、固化膜物性优异，所以在有机EL显示装置、液晶显示装置的用途中是有用的。
本发明的固化膜可以作为微透镜、光波导路、防反射膜、LED用密封材料及LED用芯片涂覆材料等光学构件、或触摸面板中使用的布线电极的视觉辨认性降低用固化物适宜使用。
此外，本发明的固化膜可以适宜用于例如后述那样的液晶显示装置或有机EL装置等中的平坦化膜或层间绝缘膜、滤色器的保护膜、液晶显示装置中的用于将液晶层的厚度保持恒定的隔板、MEMS(Micro ElectroMechanical Systems；微机电系统)设备的结构构件等中。
[透明膜(固化膜)的制造方法]
作为本发明的透明膜的制造方法，具有以下工序：通过喷雾法、辊涂法、旋转涂布法(旋涂法)、棒涂布法等将上述的固化性组合物涂布到晶片上的工序；
接下来的第一加热工序；以及
进一步接下来的在更高的温度下的第二加热工序。
作为第一加热工序中的条件，与作为微透镜的制造方法中的(ⅰ)工序中的预烘烤条件后述的条件相同。
作为第二加热工序中的条件，与作为微透镜的制造方法中的(ⅳ)工序中的后烘烤条件后述的条件相同。
<微透镜>
本发明的固化性组合物由于能够形成高折射率且高透射率的透明膜，所以可以在例如微透镜及微透镜阵列的形成中极其适宜地使用。
即，本发明的固化性组合物优选用于微透镜形成。
此外，本发明还涉及使用利用本发明的固化性组合物形成的透明膜而形成的微透镜。
[微透镜的制造方法]
对于使用本发明的固化性组合物的微透镜的制造方法，可以没有特别限制地应用通常使用的方法，可列举出例如具有将上述的透明膜进行后烘烤处理并进行成型修整的工序、以及干式蚀刻工序的制造方法等。
作为将透明膜进行后烘烤处理并进行成型修整的工序，与作为(f)工序详细后述的工序相同。
作为干式蚀刻工序，与作为(g)工序详细后述的工序相同。
作为使用本发明的固化性组合物的微透镜的制造方法的优选的1个方式，可列举出至少包括下述(ⅰ)～(ⅳ)的工序的制造方法。
(ⅰ)在基板上形成本发明的固化性组合物的涂膜的工序。
(ⅱ)对该涂膜的至少一部分照射放射线的工序。
(ⅲ)将照射后的涂膜进行显影的工序。
(ⅳ)将显影后的涂膜进行加热的工序。
以下，对这些工序进行说明。
(ⅰ)工序
在该工序中，将固化性组合物优选制成液状组合物，涂布到基板表面，通过进行预烘烤而除去溶剂，在基板上形成涂膜。
作为上述基板，可列举出例如玻璃基板、硅晶片、在它们的表面形成有各种金属层的基板、涂布有图像传感器用片上滤色器的基板等。
作为涂布方法，没有特别限定，可以采用例如喷雾法、辊涂法、旋转涂布法、棒涂布法等适宜的方法。
作为预烘烤的条件，也根据各成分的种类、使用量等而不同，但通常为60～120℃下30秒～15分钟左右。所形成的涂膜的膜厚以预烘烤后的值计优选为0.5～20μm左右。
(ⅱ)工序
在该工序中，对所形成的涂膜的至少一部分照射放射线。
仅对涂膜的一部分照射放射线时，隔着具有规定的图案的掩模进行照射。
作为照射的放射线，可以使用例如g射线、i射线等紫外线、KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线、同步加速器放射线等X射线、电子射线等带电粒子线等，但它们中优选紫外线。
曝光量可以根据固化性组合物的构成等适当选择，但优选为50～2,000J/m2左右。
(ⅲ)工序
在该工序中，将曝光后的涂膜通过显影液、优选碱显影液进行显影，并除去放射线的未照射部分，从而形成规定形状的图案。
作为上述碱显影液，可以使用例如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、正硅酸钠、氨水等无机碱类、乙胺、正丙基胺等伯胺类、二乙基胺、二正丁基胺等仲胺类、三乙基胺、甲基二乙基胺等叔胺类、二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺类、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四戊基氢氧化铵、四己基氢氧化铵、四辛基氢氧化铵、乙基三甲基氢氧化铵、丁基三甲基氢氧化铵、甲基三戊基氢氧化铵、二丁基二戊基氢氧化铵等四烷基氢氧化铵、三甲基苯基氢氧化铵、三甲基苄基氢氧化铵、三乙基苄基氢氧化铵等季铵盐、吡咯、哌啶等环状胺类等碱性水溶液。这些碱性水溶液可以单独使用或将2种以上混合使用。此外，碱显影液中可以添加甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂、表面活性剂、各种有机溶剂而使用。
作为显影方法，可以采用浆式法、浸渍法、揺动浸渍法、喷淋法等适宜的方法。另外，利用碱显影液进行显影后，通常通过例如流水洗涤等进行洗涤。
显影时间根据固化性组合物的构成、显影液的构成而不同，但通常为常温下30～120秒左右。
(ⅳ)工序
在该工序中，通过将显影后的涂膜利用热板、烘箱等加热装置进行加热(后烘烤)，从而使该涂膜固化。
在该后烘烤中，加热温度通常为120～250℃，优选为160～230℃。此外，加热时间根据加热手段而不同，但在热板上进行加热的情况下，通常为5～30分钟左右，在烘箱中进行加热的情况下，通常为30～90分钟左右。
此外，在后烘烤时，还可以采用进行2次以上加热的逐步烘烤法等。
作为使用本发明的固化性组合物的微透镜的制造方法的优选的其它方式，可列举出至少包括下述(a)～(g)的工序的形成方法。
(a)使用本发明的固化性组合物，在滤色器等基材上形成涂布膜的工序
(b)通过加热上述的涂布膜而进行涂布膜的干燥(或干燥及固化)、或者将上述的涂布膜利用适当波长的光源(g射线、i射线等)进行曝光而使其固化中的至少一种，从而得到高折射率膜(透明膜)的工序
(c)在上述加热后的高折射率膜上形成抗蚀涂膜的工序
(d)将上述抗蚀涂膜利用适当波长的光源(g射线、i射线等)进行曝光的工序
(e)将上述曝光后的抗蚀涂膜进行显影，形成抗蚀图案的工序
(f)通过后加热使上述抗蚀图案成型修整成透镜状的工序
(g)通过利用干式蚀刻除去上述抗蚀图案、和上述高折射率膜的一部分，将高折射率膜成型修整成透镜状的工序
以下，对这些工序进行说明。
-(a)工序-
在该工序中，将本发明的固化性组合物涂布到滤色器等基材上，形成涂布膜。
作为涂布方法，可列举出与上述工序(ⅰ)同样的方法。
-(b)工序-
在该工序中，作为加热涂布膜的优选的一个实施方式，可列举出预烘烤和后烘烤这2个阶段的加热处理。
作为预烘烤的条件，也根据各成分的种类、使用量等而不同，但通常为60～120℃下30秒～15分钟左右。所形成的涂膜的膜厚以预烘烤后的值计优选为0.5～20μm左右。该预烘烤的工序有时也可省略。
接着，通过利用热板、烘箱等加热装置进行加热(后烘烤)，使该涂布膜固化。作为后烘烤的条件，通常为120℃～300℃下30秒～60分钟左右。另外，通过在后烘烤工序之前进行曝光，也可以促进固化。
在将上述的涂布膜利用适当波长的光源(g射线、i射线等)进行曝光而使其固化的情况下，作为照射的放射线，可列举出与上述工序(ⅱ)同样的放射线种类及曝光量。
-(c)工序-
在该工序中，在高折射率膜上形成抗蚀涂膜。作为该抗蚀剂，可以使用通常市售的通过紫外线曝光能够形成图案的抗蚀剂。对该抗蚀涂膜，与(a)工序同样地实施预烘烤。
-(d)工序-
在该工序中，对上述涂膜使用掩模曝光成图案状。作为照射的放射线，可列举出与上述工序(ⅱ)同样的放射线种类及曝光量。
-(e)工序-
在该工序中，将曝光后的抗蚀涂膜利用显影液、优选碱显影液进行显影，并除去放射线的未照射部分或照射部分，从而形成规定形状的图案。
作为上述碱显影液，可列举出与上述工序(ⅲ)同样的碱显影液。
作为显影方法，可列举出对工序(ⅲ)所述的方法同样的方法。
作为显影时间，与对工序(ⅲ)所述的显影时间相同。
-(f)工序-
在该工序中，通过利用热板、烘箱等加热装置进行后加热(后烘烤)，使上述图案形成后的抗蚀剂变形成透镜状。作为后烘烤的条件，通常为120℃～300℃下30秒～60分钟左右。此外，为了使其变形成透镜状，还可以采用进行2次以上加热的逐步烘烤法等。
-(g)工序-
干式蚀刻可以通过公知的方法(例如日本特开2010-204154号公报)来实行。
作为干式蚀刻的气体，例如优选使用以下的蚀刻气体。CF4、CHF3、SF6、Cl2、C2F6、C4F6、C4F8、C5F8、H2、N2、NH3。可以从它们中选择1种气体使用，此外，可以将2种以上的气体组合使用。进而，它们中，从维持被蚀刻部分的矩形性的观点出发，氟系气体优选为选自CF4、C4F6、C2F6、C4F8、及CHF3的组中的至少1种以上，更优选为CF4或C4F6，最优选为CF4及C4F6的混合气体。
此外，从维持蚀刻等离子体的分压控制稳定性、及被蚀刻形状的垂直性的观点出发，干式蚀刻中使用的混合气体优选除了包含上述的氟系气体及氧气以外，还包含其他气体。作为其他气体，优选包含选自氦气(He)、氖气(Ne)、氩气(Ar)、氪气(Kr)、氙气(Xe)等稀有气体、包含氯原子、氟原子、溴原子等卤素原子的卤素系气体(例如，CCl4、CClF3、AlF3、AlCl3等)、N2、CO、及CO2的组中的至少1种，更优选包含选自He、Ar、Kr、N2、及Xe的组中的至少1种，进一步优选包含选自He、Ar、及Xe的组中的至少1种。
另外，在能够维持蚀刻等离子体的分压控制稳定性、及被蚀刻形状的垂直性的情况下，干式蚀刻中使用的混合气体也可以仅由氟系气体及氧气组成。
这样操作，可以制造目标微透镜。
根据本发明的微透镜的制造方法，能够以高的产品成品率简便地形成具有优异的特性(例如，高折射率和高透射性)的高精细的微透镜及微透镜阵列。
<滤色器的下涂膜>
此外，本发明的固化性组合物还可以作为滤色器的下涂膜使用。本发明的固化性组合物由于能够形成透明且平坦的涂膜，所以可以作为下涂膜适宜使用。
即，本发明的固化性组合物还优选用于滤色器的下涂膜。
该下涂膜优选为通过下述工序形成的滤色器的下涂膜。
(ⅰ’)使用本发明的固化性组合物，在形成有设备的基板上形成涂布膜的工序
(ⅱ’)通过将上述的涂布膜加热，进行涂布膜的干燥(或干燥及固化)，从而得到透明膜的工序
(ⅲ’)在上述的透明膜上，利用公知的方法形成滤色器的工序
涂布膜及透明膜的形成可以按照上述<微透镜>中说明的方法来进行。
本发明中的微透镜及滤色器的下涂膜为由本发明的固化性组合物形成的下涂膜，具有优异的特性平衡，可以在各种OA设备、液晶电视、手机、投影仪等液晶显示元件、传真机、电子复印机、固态摄像元件等片上滤色器的成像光学系统、光纤连接器等中极其适宜地使用。
<固态摄像元件>
本发明的固态摄像元件的特征在于，其具备使用已述的本发明的固化性组合物而形成的微透镜。
本发明的固态摄像元件由于具备高折射率且高透射性的微透镜，所以能够减少噪音，显示优异的色再现性。
本发明的固态摄像元件为具备使用本发明的固化性组合物而形成的微透镜的构成，只要是作为固态摄像元件发挥功能的构成，则没有特别限定，可列举出例如：在基板上具有构成固态摄像元件(CCD图像传感器、CMOS图像传感器等)的受光区域的多个光电二极管及由多晶硅等构成的受光元件，同时在滤色器下具备上述下涂膜的构成；在滤色器上具备上述微透镜的构成等。
作为本发明的固态摄像元件的制造方法，没有特别限制，但作为1个优选的方式，具有以下工序：在至少具有光电二极管、遮光膜、及设备保护膜的固态摄像元件用基板上形成红色像素、蓝色像素、及绿色像素的工序；
涂布上述的固化性组合物并进行加热的工序；
形成抗蚀图案的工序；
进行后烘烤处理，将所形成的抗蚀图案成型修整成透镜状的形状的工序；以及
干式蚀刻工序。
作为涂布固化性组合物并加热的工序，与上述的微透镜的制造方法中的(a)工序及(b)工序中的在基材上形成涂布膜的步骤及将涂布膜加热而进行涂布膜的干燥(或干燥及固化)的步骤相同。
作为形成抗蚀图案的工序，与上述的微透镜的制造方法中的(d)工序及(e)工序相同。
作为进行后烘烤处理而将所形成的抗蚀图案成型修整成透镜状的形状的工序，与上述的微透镜的制造方法中的(f)工序相同。
作为干式蚀刻工序，与上述的微透镜的制造方法中的(g)工序相同。
<液晶显示装置>
本发明的液晶显示装置的特征在于，其具备上述的本发明的固化膜。
作为本发明的液晶显示装置，除了具有使用本发明的固化性组合物而形成的平坦化膜、层间绝缘膜以外，没有特别限制，可列举出采取各种结构的公知的液晶显示装置。
例如，作为本发明的液晶显示装置所具备的TFT(Thin-Film Transistor，薄膜晶体管)的具体例子，可列举出无定形硅-TFT、低温多晶硅-TFT、氧化物半导体TFT等。本发明的固化膜由于电特性优异，所以可以与这些TFT组合而优选使用。
此外，作为本发明的液晶显示装置可采取的液晶驱动方式，可列举出TN(Twisted Nematic，扭曲向列)方式、VA(Virtical Alignment，垂直取向)方式、IPS(In-Place-Switching，面内切换)方式、FFS(Frings Field Switching，边缘场开关)方式、OCB(Optical Compensated Bend，光学补偿弯曲)方式等。
在面板构成中，在COA(Color Filter on Allay，阵列上滤色器)方式的液晶显示装置中也可以使用本发明的固化膜，例如可以作为日本特开2005-284291号公报中记载的有机绝缘膜(115)、日本特开2005-346054号公报中记载的有机绝缘膜(212)使用。
此外，作为本发明的液晶显示装置可采取的液晶取向膜的具体的取向方式，可列举出摩擦取向法、光取向法等。此外，也可以通过日本特开2003-149647号公报、日本特开2011-257734号公报中记载的PSA(PolymerSustained Alignment，聚合物稳定取向)技术来进行聚合物取向支撑。
图1是表示有源矩阵方式的液晶显示装置10的一个例子的剖面简图。该彩色液晶显示装置10为在背面具有背光源单元12的液晶面板，且液晶面板配置了与配置在贴附有偏振光膜的2片玻璃基板14、15之间的全部像素对应的TFT16的元件。在形成于玻璃基板上的各元件上，通过形成于固化膜17中的接触孔18，布线了形成像素电极的ITO透明电极19。在ITO透明电极19上，设置了液晶20的层和配置了黑色矩阵的RGB滤色器22。
作为背光源的光源，可以没有特别限定地使用公知的光源。可列举出例如白色LED、蓝色·红色·绿色等多色LED、荧光灯(冷阴极管)、有机EL等。
此外，液晶显示装置可以是3D(立体视)型的，也可以是触摸面板型的。进一步还可以制成柔性型，可以作为日本特开2011-145686号公报中记载的第2相间绝缘膜(48)、日本特开2009-258758号公报中记载的相间绝缘膜(520)使用。
<有机EL显示装置>
本发明的有机EL显示装置的特征在于，其具备上述的本发明的固化膜。
作为本发明的有机EL显示装置，除了具有使用本发明的固化性组合物而形成的平坦化膜、层间绝缘膜以外，没有特别限制，可列举出采取各种结构的公知的各种有机EL显示装置、液晶显示装置。
例如，作为本发明的有机EL显示装置所具备的TFT(Thin-FilmTransistor)的具体例子，可列举出无定形硅-TFT、低温多晶硅-TFT、氧化物半导体TFT等。本发明的固化膜由于电特性优异，所以可以与这些TFT组合而优选使用。
图2为有机EL显示装置的一个例子的构成简图。表示底部发射型的有机EL显示装置中的基板的示意性剖面图，具有平坦化膜4。
在玻璃基板6上形成底部闸极型的TFT1，在覆盖该TFT1的状态下形成由Si3N4构成的绝缘膜3。在绝缘膜3中形成这里省略图示的接触孔后，在绝缘膜3上形成经由该接触孔与TFT1连接的布线2(高度为1.0μm)。布线2用于将TFT1间、或在后面的工序中形成的有机EL元件与TFT1连接。
进而，为了将因布线2的形成所产生的凹凸平坦化，在填埋由布线2所产生的凹凸的状态下在绝缘膜3上形成平坦化层4。
在平坦化膜4上形成有底部发射型的有机EL元件。即，在平坦化膜4上，由ITO构成的第一电极5经由接触孔7与布线2连接而形成。此外，第一电极5相当于有机EL元件的阳极。
形成了覆盖第一电极5的周缘的形状的绝缘膜8，通过设置该绝缘膜8，能够防止第一电极5与其后的工序中形成的第二电极之间的短路。
进而，图2中虽未图示，但隔着所期望的图案掩模，依次蒸镀而设置空穴输送层、有机发光层、电子输送层，接着，在基板上方的整个面上形成由Al构成的第二电极，通过使用密封用玻璃板和紫外线固化型环氧树脂使其贴合而进行密封，获得在各有机EL元件上连接用于驱动其的TFT1而成的有源矩阵型的有机EL显示装置。
本发明的固化性组合物由于固化性及固化膜特性优异，所以作为MEMS设备的结构构件，将使用本发明的固化性组合物而形成的抗蚀图案制成隔壁、或作为机械驱动部件的一部分插入而使用。作为这样的MEMS用设备，可列举出例如SAW(surface acoustic wave，表面声波)滤波器、BAW(bulk acoustic wave，体声波)滤波器、陀螺传感器、显示器用微快门、图像传感器、电子纸、喷墨头、生物芯片、密封剂等部件。更具体的例子被例示于日本特表2007-522531号公报、日本特开2008-250200号公报、日本特开2009-263544号公报等中。
本发明的固化性组合物由于平坦性、透明性优异，所以还可以用于例如日本特开2011-107476号公报的图2中记载的围堰(bank)层(16)及平坦化膜(57)、日本特开2010-9793号公报的图4(a)中记载的隔壁(12)及平坦化膜(102)、日本特开2010-27591号公报的图10中记载的围堰层(221)及第3层间绝缘膜(216b)、日本特开2009-128577号公报的图4(a)中记载的第2层间绝缘膜(125)及第3层间绝缘膜(126)、日本特开2010-182638号公报的图3中记载的平坦化膜(12)及像素分离绝缘膜(14)等的形成。
<触摸面板显示装置>
本发明的触摸面板显示装置具备具有本发明的固化膜的静电容量型输入装置。此外，本发明的静电容量型输入装置的特征在于，其具有本发明的固化膜。
本发明的静电容量型输入装置具有前面板和位于上述前面板的非接触侧的至少下述(1)～(5)的要素，上述(4)优选为本发明的固化物。
(1)掩模层
(2)多个垫部分经由连接部分沿第一方向延伸而形成的多个第一透明电极图案
(3)与上述第一透明电极图案电绝缘、且由沿与上述第一方向交叉的方向延伸而形成的多个垫部分构成的多个第二透明电极图案
(4)将上述第一透明电极图案与上述第二透明电极图案电绝缘的绝缘层
(5)与上述第一透明电极图案及上述第二透明电极图案中的至少一者电连接、且不同于上述第一透明电极图案及上述第二透明电极图案的其他导电性要素
本发明的静电容量型输入装置优选进一步按照覆盖上述(1)～(5)的要素的全部或一部分的方式设置透明保护层，上述透明保护层更优选为本发明的固化膜。
首先，对静电容量型输入装置的构成进行说明。图3是表示静电容量型输入装置的构成的剖面图。图3中，静电容量型输入装置30由前面板31、掩模层32、第一透明电极图案33、第二透明电极图案34、绝缘层35、导电性要素36、和透明保护层37构成。
前面板31由玻璃基板等透光性基板构成，可以使用以CorningIncorporated的Gorilla玻璃为代表的强化玻璃等。此外，在图3中，将前面板31的设置有各要素的一侧称为非接触面。在本发明的静电容量型输入装置30中，使手指等与前面板31的接触面(非接触面的相反面)接触等来进行输入。以下，有时将前面板称为“基材”。
此外，在前面板31的非接触面上设置有掩模层32。掩模层32为形成于触摸面板前面板的非接触侧的显示区域周围的框状的图案，是为了看不到引绕布线等而形成的。
在本发明的静电容量型输入装置中，如图4所示的那样，按照覆盖前面板31的一部分区域(图4中除输入面以外的区域)的方式设置有掩模层32。进而，在前面板31上，可以如图4所示的那样在一部分中设置开口部38。在开口部38可以设置利用按压的机械开关。
如图5所示的那样，在前面板31的接触面形成有多个垫部分经由连接部分沿第一方向延伸而形成的多个第一透明电极图案33、与第一透明电极图案33电绝缘且由沿与第一方向交叉的方向延伸而形成的多个垫部分构成的多个第二透明电极图案34、和将第一透明电极图案33与第二透明电极图案34电绝缘的绝缘层35。上述第一透明电极图案33、第二透明电极图案34、和后述的导电性要素36可以通过例如ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)、IZO(Indium Zinc Oxide，氧化铟锌)等透光性的导电性金属氧化膜来制作。作为这样的金属膜，可列举出ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等金属膜；SiO2等金属氧化膜等。此时，各要素的膜厚可以设为10～200nm。此外，由于通过烧成，将无定形的ITO膜制成多晶的ITO膜，所以还能够降低电阻。此外，上述第一透明电极图案33、第二透明电极图案34、和后述的导电性要素36还可以使用具有使用了上述导电性纤维的固化性组合物的光固化性转印材料来制造。此外，在通过ITO等形成第一导电性图案等的情况下，可以参考日本专利第4506785号公报的段落[0014]～[0016]等。
此外，第一透明电极图案33及第二透明电极图案34中的至少一者可以跨越前面板31的非接触面及掩模层32的与前面板31相反侧的面的两个区域而设置。图3中，示出第二透明电极图案跨越前面板31的非接触面及掩模层32的与前面板31相反侧的面的两个区域而设置的图。
利用图5对第一透明电极图案33及第二透明电极图案34进行说明。图5是表示本发明中的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一个例子的说明图。如图5所示的那样，第一透明电极图案33的垫部分33a经由连接部分33b沿第一方向延伸而形成。此外，第二透明电极图案34与第一透明电极图案33通过绝缘层35而电绝缘，通过沿与第一方向交叉的方向(图5中的第二的方向)延伸而形成的多个垫部分而构成。这里，在形成第一透明电极图案33的情况下，可以将上述垫部分33a和连接部分33b作为一体来制作，也可以仅制作连接部分33b，并将垫部分33a和第二透明电极图案34作为一体来制作(图案化)。将垫部分33a和第二透明电极图案34作为一体来制作(图案化)的情况下，如图5所示的那样，按照连接部分33b的一部分与垫部分33a的一部分连结、并且通过绝缘层35使第一透明电极图案33与第二透明电极图案34电绝缘的方式形成各层。
图3中，在掩模层32的与前面板31相反侧的面侧设置有导电性要素36。导电性要素36为与第一透明电极图案33及第二透明电极图案34中的至少一者电连接、并且不同于第一透明电极图案33及第二透明电极图案34的其他要素。图3中，示出导电性要素36与第二透明电极图案34连接的图。
此外，在图3中，按照覆盖各构成要素的全部的方式设置有透明保护层37。透明保护层37也可以按照仅覆盖各构成要素的一部分的方式构成。绝缘层35与透明保护层37可以是相同的材料，也可以是不同的材料。
<静电容量型输入装置、及具备静电容量型输入装置的触摸面板显示装置>
通过本发明的制造方法而得到的静电容量型输入装置、及具备该静电容量型输入装置作为构成要素的触摸面板显示装置可以应用“最新触摸面板技术”(2009年7月6日发行Techno Times Co.,Ltd.)、三谷雄二监修、“触摸面板的技术与开发”、CMC出版(2004，12)、FPD International 2009 ForumT-11讲演教科书、Cypress Semiconductor Corporation应用注解AN2292等中公开的构成。
实施例
以下，通过实施例对本发明进行具体说明，但本发明并不限定于这些实施例。另外，只要没有特别说明，“份”及“％”为质量基准。
此外，实施例中，酸值通过电位差法(溶剂四氢呋喃/水＝54/6(体积比)、滴定液0.1N氢氧化钠水溶液(酸值)来确定。
此外，以后的重均分子量的测定通过将HPC-8220GPC(TOSOHCORPORATION制)、保护柱：TSKguardcolumn SuperHZ-L、柱：TSKgelSuperHZM-M、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ3000、TSKgelSuperHZ2000串联连接，在柱温度40℃下，注入10μl试样浓度为0.1质量％的四氢呋喃溶液，使作为洗脱溶剂的四氢呋喃以每分钟0.35ml的流量流动，利用RI检测装置检测试样峰来进行。使用利用标准聚苯乙烯制作的标准曲线来计算。
(合成例1)高分子化合物(C-1)的合成
根据日本特开2007-277514号公报段落0266～0348(对应的美国专利申请公开第2010/233595号说明书中的段落0289～0429)中记载的合成方法，合成高分子化合物(C-1)。具体而言，如下所述。
使二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)〔(33)；堺化学工业(株)制〕100份、及下述的具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物(A-3)91.38份溶解到1-甲氧基-2-丙醇446.6份中，在氮气气流下，加热至90℃。此时的投料比以摩尔比计为1.0：5.5。
向其中加入2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.81份并加热2小时。进一步添加0.81份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。通过冷却至室温(25℃)，得到化合物(33)的硫原子中的一部分上加成化合物(A-3)而成的硫醇化合物(B-1)的30质量％溶液。
[化学式40]
将上述硫醇化合物(B-1)的30质量％溶液499.57份、及甲基丙烯酸甲酯(M-1)100.13份的混合溶液在氮气气流下，加热至90℃。用2小时向其中滴加将2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.681份溶解到丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯72.73份中而得到的溶液，接着，在90℃下加热2小时。进一步加入0.230份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时，再次加入0.230份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。之后，加入丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯160.9份，通过冷却至室温，得到以下所示的高分子化合物(C-1：聚苯乙烯换算的重均分子量为3300、酸值为241mgKOH/g)的30质量％溶液。
[化学式41]
(合成例2)高分子化合物(C-34)的合成
根据日本特开2007-277514号公报段落0266～0348(对应的美国专利申请公开第2010/233595号说明书中的段落0289～0429)中记载的合成方法，合成高分子化合物(C-34)。具体而言，如下所述。
使二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)〔(33)；堺化学工业(株)制〕65.0份、及下述的具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物(A-16)44.5份、(A-3)27.0份溶解到1-甲氧基-2-丙醇318.4份中，在氮气气流下，加热至90℃。此时的(33)与(A-16)与(A-3)的投料比以摩尔比计为1.0：2.5：2.5。
向其中加入2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.478份并加热2小时。进一步加入0.478份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。通过冷却至室温，得到在化合物(33)的硫原子中的一部分上加成化合物(A-3)及(A-16)而成的硫醇化合物(B-34)的30质量％溶液。
[化学式42]
将上述硫醇化合物(B-34)的30质量％溶液150.3份、及甲基丙烯酸甲酯(M-1)54.9份的混合溶液在氮气气流下，加热至90℃。用2小时向其中滴加将2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.379份溶解到丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯39.9份中而得到的溶液，接着，在90℃下加热2小时。进一步加入0.126份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时，再次加入0.126份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。之后，加入丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯88.3份，通过冷却至室温，得到以下所示的高分子化合物(C-34：聚苯乙烯换算的重均分子量为4400、酸值为77mgKOH/g)的30质量％溶液。
[化学式43]
(合成例3)高分子化合物(C-35)的合成
根据日本特开2007-277514号公报段落0266～0348(对应的美国专利申请公开第2010/233595号说明书中的段落0289～0429)中记载的合成方法，合成高分子化合物(C-35)。具体而言，如下所述。
使二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)〔(33)；堺化学工业(株)制〕70.0份、及下述的具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物(A-16)19.2份、(A-3)46.5份溶解到1-甲氧基-2-丙醇316.6份中，在氮气气流下，加热至90℃。此时的(33)与(A-16)与(A-3)的投料比以摩尔比计为1.0：1.0：4.0。
向其中加入2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.515份并加热2小时。进一步加入0.515份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。通过冷却至室温，得到在化合物(33)的硫原子中的一部上加成化合物(A-3)及(A-16)而成的硫醇化合物(B-35)的30质量％溶液。
[化学式44]
将上述硫醇化合物(B-35)的30质量％溶液143.7份、及甲基丙烯酸甲酯(M-1)56.9份的混合溶液在氮气气流下，加热至90℃。用2小时向其中滴加使2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.392份溶解到丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯41.3份中而得到的溶液，接着，在90℃下加热2小时。进一步加入0.131份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时，再次加入0.131份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。之后，加入丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯91.4份，通过冷却至室温，得到以下所示的高分子化合物(C-35：聚苯乙烯换算的重均分子量为4500、酸值为128mgKOH/g)的30质量％溶液。
[化学式45]
(合成例4)高分子化合物(C-36)的合成
根据日本特开2007-277514号公报段落0266～0348(对应的美国专利申请公开第2010/233595号说明书中的段落0289～0429)中记载的合成方法，合成高分子化合物(C-36)。具体而言，如下所述。
使二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)〔(33)；堺化学工业(株)制〕65.0份、及下述的具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物(A-17)44.5份、(A-3)27.0份溶解到1-甲氧基-2-丙醇318.4份中，在氮气气流下，加热至90℃。此时的(33)与(A-17)与(A-3)的投料比以摩尔比计为1.0：2.5：2.5。
向其中加入2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.478份并加热2小时。进一步加入0.478份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。通过冷却至室温，得到在化合物(33)的硫原子中的一部分上加成化合物(A-3)及(A-17)而成的硫醇化合物(B-36)的30质量％溶液。
[化学式46]
将上述硫醇化合物(B-36)的30质量％溶液150.3份、及甲基丙烯酸甲酯(M-1)54.9份的混合溶液在氮气气流下，加热至90℃。用2小时向其中滴加将2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.379份溶解到丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯39.9份中而得到的溶液，接着，在90℃下加热2小时。进一步加入0.126份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时，再次加入0.126份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。之后，加入丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯88.3份，通过冷却至室温，得到以下所示的高分子化合物(C-36：聚苯乙烯换算的重均分子量为4300、酸值为77mgKOH/g)的30质量％溶液。
[化学式47]
(合成例5)高分子化合物(C-37)的合成
根据日本特开2007-277514号公报段落0266～0348(对应的美国专利申请公开第2010/233595号说明书中的段落0289～0429)中记载的合成方法，合成高分子化合物(C-37)。具体而言，如下所述。
使二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)〔(33)；堺化学工业(株)制〕70.0份、及下述的具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物(A-17)19.2份、(A-3)46.5份溶解到1-甲氧基-2-丙醇316.6份中，在氮气气流下，加热至90℃。此时的(33)与(A-17)与(A-3)的投料比以摩尔比计为1.0：1.0：4.0。
向其中加入2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.515份并加热2小时。进一步加入0.515份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。通过冷却至室温，得到在化合物(33)的硫原子中的一部分上加成化合物(A-3)及(A-17)而成的硫醇化合物(B-37)的30质量％溶液。
[化学式48]
将上述硫醇化合物(B-37)的30质量％溶液143.7份、及甲基丙烯酸甲酯(M-1)56.9份的混合溶液在氮气气流下，加热至90℃。用2小时向其中滴加将2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.392份溶解到丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯41.3份中而得到的溶液，接着，在90℃下加热2小时。进一步加入0.131份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时，再次加入0.131份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。之后，加入丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯91.4份，通过冷却至室温，得到以下所示的高分子化合物(C-37：聚苯乙烯换算的重均分子量为5500、酸值为127mgKOH/g)的30质量％溶液。
[化学式49]
(合成例6)高分子化合物(C-62)的合成
根据日本特开2007-277514号公报段落0266～0348(对应的美国专利申请公开第2010/233595号说明书中的段落0289～0429)中记载的合成方法，合成高分子化合物(C-62)。具体而言，如下所述。
使二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)〔(33)；堺化学工业(株)制〕70.0份、及下述的具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物(A-23)17.7份、(A-3)46.5份溶解到1-甲氧基-2-丙醇313.2份中，在氮气气流下，加热至90℃。此时的(33)与(A-23)与(A-3)的投料比以摩尔比计为1.0：1.0：4.0。
向其中加入2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.515份并加热2小时。进一步加入0.515份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。通过冷却至室温，得到在化合物(33)的硫原子中的一部分上加成化合物(A-3)及(A-23)而成的硫醇化合物(B-62)的30质量％溶液。
[化学式50]
将上述硫醇化合物(B-62)的30质量％溶液200.0份、及甲基丙烯酸甲酯(M-1)80.0份的混合溶液在氮气气流下，加热至90℃。用2小时向其中滴加将2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.552份溶解到丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯58.1份中而得到的溶液，接着，在90℃下加热2小时。进一步加入0.184份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时，再次加入0.184份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。之后，加入丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯128.6份，通过冷却至室温，得到以下所示的高分子化合物(C-62：聚苯乙烯换算的重均分子量为4700、酸值为128mgKOH/g)的30质量％溶液。
[化学式51]
(合成例7)高分子化合物(C-63)的合成
将上述硫醇化合物(B-62)的30质量％溶液155.6份、及甲基丙烯酸甲酯(M-1)93.3份的混合溶液在氮气气流下，加热至90℃。用2小时向其中滴加将2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.644份溶解到丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯67.8份中而得到的溶液，接着，在90℃下加热2小时。进一步加入0.215份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时，再次加入0.215份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。之后，加入丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯150.0份，通过冷却至室温，得到以下所示的高分子化合物(C-63：聚苯乙烯换算的重均分子量为6400、酸值为99mgKOH/g)的30质量％溶液。
[化学式52]
(合成例8)高分子化合物(C-68)的合成
根据日本特开2007-277514号公报段落0266～0348(对应的美国专利申请公开第2010/233595号说明书中的段落0289～0429)中记载的合成方法，合成高分子化合物(C-68)。具体而言，如下所述。
使二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)〔(33)；堺化学工业(株)制〕31.0份、及下述的具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物(A-26)8.88份、(A-3)20.6份溶解到1-甲氧基-2-丙醇141.1份中，在氮气气流下，加热至90℃。此时的(33)与(A-26)与(A-3)的投料比以摩尔比计为1.0：1.0：4.0。
向其中加入2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.228份并加热2小时。进一步加入0.228份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。通过冷却至室温，得到在化合物(33)的硫原子中的一部分上加成化合物(A-3)及(A-26)而成的硫醇化合物(B-68)的30质量％溶液。
[化学式53]
将上述硫醇化合物(B-68)的30质量％溶液202.0份、及甲基丙烯酸甲酯(M-1)79.4份的混合溶液在氮气气流下，加热至90℃。用2小时向其中滴加将2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.548份溶解到丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯57.7份中而得到的溶液，接着，在90℃下加热2小时。进一步加入0.183份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时，再次加入0.183份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。之后，加入丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯127.6份，通过冷却至室温，得到以下所示的高分子化合物(C-68：聚苯乙烯换算的重均分子量为4900、酸值为127mgKOH/g)的30质量％溶液。
[化学式54]
(合成例9)高分子化合物(C-69)的合成
将上述硫醇化合物(B-68)的30质量％溶液157.4份、及甲基丙烯酸甲酯(M-1)92.8份的混合溶液在氮气气流下，加热至90℃。用2小时向其中滴加将2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.640份溶解到丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯67.40份中而得到的溶液，接着，在90℃下加热2小时。进一步加入0.213份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时，再次加入0.213份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。之后，加入丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯149.1份，通过冷却至室温，得到以下所示的高分子化合物(C-69：聚苯乙烯换算的重均分子量为6600、酸值为99mgKOH/g)的30质量％溶液。
[化学式55]
(合成例10)高分子化合物(C-72)的合成
根据日本特开2007-277514号公报段落0266～0348(对应的美国专利申请公开第2010/233595号说明书中的段落0289～0429)中记载的合成方法，合成高分子化合物(C-72)。具体而言，如下所述。
使二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)〔(33)；堺化学工业(株)制〕70.0份、及下述的具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物(A-28)11.6份、(A-3)46.5份溶解到1-甲氧基-2-丙醇299.0份中，在氮气气流下，加热至90℃。此时的(33)与(A-28)与(A-3)的投料比以摩尔比计为1.0：1.0：4.0。
向其中加入2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.515份并加热2小时。进一步加入0.515份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。通过冷却至室温，得到在化合物(33)的硫原子中的一部分上加成化合物(A-3)及(A-28)而成的硫醇化合物(B-72)的30质量％溶液。
[化学式56]
将上述硫醇化合物(B-72)的30质量％溶液194.7份、及甲基丙烯酸甲酯(M-1)81.6份的混合溶液在氮气气流下，加热至90℃。用2小时向其中滴加将2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.563份溶解到丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯59.3份中而得到的溶液，接着，在90℃下加热2小时。进一步加入0.188份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时，再次加入0.188份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。之后，加入丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯131.1份，通过冷却至室温，得到以下所示的高分子化合物(C-72：聚苯乙烯换算的重均分子量为4800、酸值为131mgKOH/g)的30质量％溶液。
[化学式57]
(合成例11)高分子化合物(C-73)的合成
将上述硫醇化合物(B-72)的30质量％溶液150.8份、及甲基丙烯酸甲酯(M-1)94.8份的混合溶液在氮气气流下，加热至90℃。用2小时向其中滴加将2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯〔V-601、和光纯药工业(株)制〕0.654份溶解到丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯68.8份中而得到的溶液，接着，在90℃下加热2小时。进一步加入0.218份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时，再次加入0.218份V-601，在氮气气流下、90℃下反应2小时。之后，加入丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯152.3份，通过冷却至室温，得到以下所示的高分子化合物(C-73：聚苯乙烯换算的重均分子量为6400、酸值为99mgKOH/g)的30质量％溶液。
[化学式58]
对于高分子化合物(C-2)～(C-33)、(C-38)～(C-61)、(C-64)～(C-67)、(C-70)、(C-71)、(C-74)～(C-99)，也根据日本特开2007-277514号公报段落0266～0348(对应的美国专利申请公开第2010/233595号说明书中的段落0289～0429)中记载的合成方法来合成。具体而言，除了适当变更作为原料的“具有(m+n)价的连结基团R1和巯基的化合物”(相当于上述的“一分子中具有3～10个巯基的化合物”)的种类及投入量、“具有取代基A1和碳-碳双键的化合物”(相当于上述的“具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物”)的种类及投入量、及“形成P1或P2的单体”(相当于上述的“乙烯基单体”)的种类及投入量以外，与上述合成例1～11同样地操作，也对高分子化合物(C-2)～(C-33)、(C-38)～(C-61)、(C-64)～(C-67)、(C-70)、(C-71)、(C-74)～(C-99)进行合成。
关于这些合成的高分子化合物(C-1)～(C-99)，将作为原料的“具有(m+n)价的连结基团R1和巯基的化合物”、作为原料的“具有取代基A1和碳-碳双键的化合物”(在并用的情况下表示各自的投入量摩尔比。)、作为原料的“形成P1或P2的单体”(在并用的情况下表示各自的投入量摩尔比。)、通式(1)或(2)中的m、n、通式(1)中的P1或通式(2)中的P2中的重复单元的重复数k、酸值、重均分子量汇总于下述表1及2中。
[表1]
[表2]
上述表1及2中，m数、n数表示通式(1)或(2)中的m、n。例如，如(C-21)那样，将化合物(A-7)与(A-3)混合使用的情况下(投入量摩尔比1：4)，作为n数的3表示来自化合物(A-7)的结构和来自化合物(A-3)的结构的总计的数。
k数表示通式(1)中的P1或通式(2)中的P2中的重复单元的重复数k。例如，如(C-44)那样，在将单体(M-1)与(M-2)混合使用的情况下(投入量摩尔比1：1)，作为k数的13表示来自单体(M-1)的重复单元和来自单体(M-2)的重复单元的总计的重复数。
作为上述表1及2中的“具有(m+n)价的连结基团R1和巯基的化合物”(相当于上述的“一分子中具有3～10个巯基的化合物”)，使用下述化合物(18)、(27)、(33)。
[化学式59]
作为上述表1中的“具有取代基A1和碳-碳双键的化合物”(相当于上述的“具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物”)，使用下述化合物(A-1)～(A-32)。
[化学式60]
[化学式61]
作为上述表1中的“形成P1或P2的单体”(相当于上述的“乙烯基单体”)，从上述的单体(M-1)～(M-9)、(M-14)～(M-16)中适当选择使用。
以下，示出所合成的高分子化合物(C-1)～(C-99)的结构。
[化学式62]
[化学式63]
[化学式64]
[化学式65]
[化学式66]
[化学式67]
[化学式68]
[化学式69]
[化学式70]
[化学式71]
[化学式72]
[化学式73]
[化学式74]
[化学式75]
[化学式76]
[化学式77]
(合成例12)大分子单体A5的合成
在氮气氛下将2-乙基己醇35.0份、ε-己内酯215.0份及月桂酸二丁基锡0.20份在90℃下加热5小时，接着在110℃下加热1小时，得到聚酯单羟基体。反应的结束通过用NMR测定ε-己内酯的消失来确认。接着，置于空气下后，加入2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚(BHT)0.071份、烯丙基琥珀酸酐37.7份，在110℃下反应8小时，得到以下所示的大分子单体A5。反应的结束通过用NMR测定烯丙基琥珀酸酐消失95％以上来确认。大分子单体A5的聚苯乙烯换算的重均分子量为1400，酸值为54mgKOH/g。
[化学式78]
大分子单体A5
(合成例13)大分子单体E5的合成
在反应容器中投入丙二醇单甲基醚乙酸酯200份，边向容器中注入氮气边加热至80℃。在其他容器中，加入硫代乙醇40.1份、甲基丙烯酸甲酯360份、丙二醇单甲基醚乙酸酯200份、V-60135.5份并搅拌后，用2小时滴加到在80℃下加热搅拌的反应容器中。进一步在该温度下反应2小时后，添加35.5份V-601，进一步在90℃下继续反应1小时，从而得到聚甲基丙烯酸甲酯单羟基体。反应的结束通过用NMR测定甲基丙烯酸甲酯的双键部位消失99％以上来确认。接着，置于空气下后，加入2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚0.134g、烯丙基琥珀酸酐71.2g，通过在110℃下反应8小时，得到以下所示的大分子单体E5(固体成分浓度＝28.9质量％)。反应的结束通过用NMR测定烯丙基琥珀酸酐消失95％以上来确认。大分子单体E5的聚苯乙烯换算的重均分子量为1600，酸值为64mgKOH/g。
[化学式79]
大分子单体E5
与合成例12同样地操作合成大分子单体A1～A4，与合成例13同样地操作合成大分子单体E1～E4。以下示出各自的结构式和物性值。
[化学式80]
[表3]
(合成例14)高分子化合物(C-106)的合成
在反应容器中投入二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)〔(33)；堺化学工业(株)制〕20份、大分子单体A581.9份、上述的具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物(A-1)7.67份、丙二醇单甲基醚乙酸酯255份，边向容器中注入氮气边加热至90℃。在该温度下搅拌15分钟后，添加0.71份V-601并开始反应。在该温度下反应2小时后，添加0.71份V-601，进一步在90℃下继续反应2小时，由此得到以下所示的高分子化合物(C-106：聚苯乙烯换算的重均分子量为4600、酸值为108mgKOH/g)的30质量％溶液。反应的结束通过用NMR测定大分子单体A5及戊烯酸的双键部位消失95％以上来确认。
[化学式81]
除了适当变更作为原料的“具有(m+n)价的连结基团R1和巯基的化合物”(相当于上述的“一分子中具有3～10个巯基的化合物”)的种类及投入量、“具有取代基A1和碳-碳双键的化合物”(相当于上述的“具有吸附部位且具有碳-碳双键的化合物”)的种类及投入量、及“大分子单体”(相当于P1、P2或P3所表示的聚合物链的化合物)的种类及投入量以外，与上述合成例14[高分子化合物(C-106)的合成]同样地操作，也对高分子化合物(C-101)～(C-105)、(C-107)～(C-136)进行了合成。(C-118)～(C-136)的合成中使用的大分子单体如下所述。
[化学式82]
[化学式83]
对于这些合成的高分子化合物(C-101)～(C-136)，将作为原料的“具有(m+n)价的连结基团R1和巯基的化合物”、作为原料的“具有取代基A1和碳-碳双键的化合物”(并用的情况下表示各自的投入量摩尔比。)、作为原料的“大分子单体”、酸值、重均分子量汇总于下述表4中。
[表4]
以下，示出所合成的高分子化合物(C-101)～(C-136)的结构。
[化学式84]
[化学式85]
[化学式86]
[化学式87]
[化学式88]
[化学式89]
[化学式90]
[化学式91]
<实施例1>
[二氧化钛分散液(分散组合物)的制备]
对于下述组成的混合液，作为循环型分散装置(珠磨机)，使用寿工业株式会社制Ultra Apex Mill，如下进行分散处理，得到作为分散组合物的二氧化钛分散液。
～组成～
·二氧化钛(石原产业(株)制TTO-51(C))(纯度为75％以上)：181.8份
·分散剂(高分子化合物(B))C-1(30质量％溶液)：133.3份
·丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)：284.9份
此外，分散装置在以下的条件下运转。
·珠直径：φ0.05mm
·珠填充率：75体积％
·圆周速度：10m/秒
·泵供给量：10kg/小时
·冷却水：自来水
·珠磨机环状通路内容积：0.15L
·进行分散处理的混合液量：0.44kg
分散开始后，以30分钟间隔(1pass的时间)进行平均粒径的测定。
平均粒径随着分散时间(pass次数)减少，但其变化量逐渐变少。在将分散时间延长30分钟时的一次粒径的变化达到5nm以下的时刻结束分散。另外，该分散液中的二氧化钛粒子的一次粒径为40nm。
另外，本实施例中的二氧化钛的一次粒径是指通过将包含二氧化钛的混合液或分散液用丙二醇单甲基醚乙酸酯稀释至80倍，对所得到的稀释液使用动态光散射法进行测定而得到的值。
设为使用日机装株式会社制Microtrac UPA-EX150进行该测定而得到的数均粒径。
[二氧化钛分散液粘度的测定]
利用东机产业(株)制“RE-85L”测定上述得到的二氧化钛分散液的粘度来评价分散性。
此外，对于按照与后述的实施例2～141、比较例1～7对应的方式，除了将二氧化钛的含量、分散剂(高分子化合物(B))的种类如下述表5及6那样进行变更以外按照实施例1中的分散组合物制备的与后述的实施例2～141、比较例1～7对应的分散组合物，也测定粘度并评价分散性。将结果示于表5及6中。
[固化性组合物的制备1]
使用上述得到的二氧化钛分散液(分散组合物)，按照成为以下的组成的方式将各成分混合而得到固化性组合物。
～固化性组合物的组成～
·上述制备的二氧化钛分散液(分散组合物)    …81.98份
·下述JER-157S65(三菱化学(株)制)          …3.72份
(聚合性化合物、下述表中的T-4)
·粘合剂聚合物                            …0.44份
(下述M-1；重均分子量(Mw)及共聚比(重量比)如下所述)
·表面活性剂Megafac F-781(DIC公司制)      …0.03份
·对甲氧基苯酚                            …0.01份
·丙二醇单甲基醚乙酸酯                    …13.82份
[化学式92]
[化学式93]
粘合剂聚合物M-1
(固化膜(透明膜)的制作)
将上述得到的固化性组合物通过旋涂法涂布到12英寸硅晶片上，之后在热板上在100℃下加热2分钟而得到膜厚为1.05μm的涂布膜。进一步将该涂布膜在热板上在200℃下加热5分钟，得到作为透明膜的固化膜(膜厚：1.0μm)。
[透明膜的折射率的测定]
对上述得到的基板，使用J.A Woollam·Japan公司制椭圆偏光仪，测定透明膜的相对于波长635nm的光的折射率。
将结果示于下述表5及6中。
[固化膜的耐溶剂性评价]
将如上述那样形成的固化膜在PGMEA中浸渍5分钟，根据上述的方法测定浸渍后的透明膜(固化膜)的折射率。将由[溶剂浸渍后的折射率]-[溶剂浸渍前的折射率]算出的处理后的折射率变化的值作为耐溶剂性的指标。
将结果示于下述表5及6中。
<实施例2～135、比较例1～7>
除了将二氧化钛相对于固化性组合物的全部固体成分的含量、分散剂(高分子化合物(B))及聚合性化合物的种类如下述表5及6那样进行变更以外，根据实施例1，制备了实施例2～135、比较例1～7的固化性组合物。
即，对于将分散剂(高分子化合物(B))由实施例1中使用的C-1进行了变更的例子，使用在实施例1中使用的二氧化钛分散液的制备中，使用表5或6所示的分散剂(高分子化合物(B))代替C-1而得到的二氧化钛分散液。
另外，比较例1、2中，作为与本发明的高分子化合物(B)不同的分散剂，分别使用了Lubrizol公司制Solsperse5000、BYK Chemie公司制DISPERBYK180。
此外，对于将聚合性化合物由实施例1中使用的T-4进行了变更的例子(实施例134、135)，在实施例1中的固化性组合物的制备中，使用下述聚合性化合物(T-2、T-3)代替T-4。
·T-2：下述JER-1031S(三菱化学(株)制)
·T-3：下述EHPE-3150(Daicel Chemical Industries,Ltd.制；2,2-双(羟基甲基)-1-丁醇的1,2-环氧基-4-(2-环氧乙烷基)环己烷加成物)
[化学式94]
[化学式95]
二氧化钛相对于固化性组合物的全部固体成分的含量(浓度)的变更通过以下方式来进行：使二氧化钛和分散剂的总量相对于固化性组合物的全部固体成分与实施例1的[二氧化钛分散液(分散组合物)的制备]中相同，并且通过分散剂的含量的增减弥补二氧化钛的含量的增减量来制备二氧化钛分散液。
此外，使用所得到的固化性组合物，与实施例1同样地操作，分别制作透明膜，与实施例1同样地进行评价。将结果示于表5及6中。
<实施例136>
[固化性组合物的制备2]
使用除了使用C-6作为分散剂(高分子化合物(B))以外与上述同样地操作而得到的二氧化钛分散液(分散组合物)，按照成为以下的组成的方式将各成分混合来得到固化性组合物。
～固化性组合物的组成～
·上述二氧化钛分散液(分散组合物)     …81.98份
·二季戊四醇六丙烯酸酯
(KAYARAD DPHA；日本化药株式会社制)   …3.48份
(聚合性化合物、下述表中的T-1)
·肟系光聚合引发剂                   …0.24份
(聚合引发剂、下述K-1)
·粘合剂聚合物                         …0.44份
(上述M-1；重均分子量(Mw)及共聚比(重量比)如上所述)
·表面活性剂Megafac F-781(DIC公司制)   …0.03份
·对甲氧基苯酚                         …0.01份
·丙二醇单甲基醚乙酸酯                 …13.82份
[化学式96]
使用所得到的固化性组合物，与实施例1同样地操作，分别制作透明膜，与实施例1同样地进行评价。将结果示于表6中。
<实施例137～141>
除了将分散剂(高分子化合物(B))及聚合引发剂的种类如下述表6那样进行变更以外，根据实施例136，制备了实施例137～141的固化性组合物。
即，对于将分散剂(高分子化合物(B))由实施例136中使用的C-6进行了变更的例子，使用在实施例136中使用的二氧化钛分散液的制备中，使用表6所示的分散剂(高分子化合物(B))代替C-6而得到的二氧化钛分散液。
此外，对于将聚合性引发剂由实施例136中使用的K-1进行了变更的例子，在实施例136中的固化性组合物的制备中，使用表6所示的聚合引发剂代替K-1。
此外，使用所得到的固化性组合物，与实施例1同样地操作，分别制作透明膜，与实施例1同样地进行评价。将结果示于表6中。
[表5]
[表6]
由表5及6明显获知，没有使用高分子化合物(B)的比较例1、2的折射率稍低，粘度高。
此外获知，虽然分散剂满足通式(1)但重均分子量超过10000的比较例3～7的折射率虽然高，但粘度也高。
另一方面获知，使用了本发明的高分子化合物(B)的实施例1～141的折射率高，粘度低。
特别是获知，使用了环氧系化合物作为聚合性化合物的实施例1～135、使用了肟系化合物作为聚合引发剂的实施例136～139的耐溶剂性优异，使用了环氧系化合物作为聚合性化合物的实施例1～135的耐溶剂性特别高。
此外，可以确认使用了重均分子量为5000～8000且酸值为70～90mgKOH/g的分散剂C-5、C-10、C-24、C-26、C-27、C-43～C-45、C-61、C-81、C-89、C-91、C-97、C-107、C-108、C-111、C-119、C-120、C-122、C-124、C-126、C-128、C-130、C-132、C-134、C-136的实施例5、7、21、23、24、40～42、54、55、62、63、65、76、96、104、106、108、110、112、114、116、118、124、128、130的固化性组合物中，固化膜的波长400nm下的透射率为90％以上，固化膜的可见光下的透射率特别优异。
在以上的实施例中，对在硅晶片上形成透明膜的例子进行了说明，但在制作固态摄像元件的情况下，只要将上述硅晶片置换成形成有光电二极管、遮光膜、及设备保护膜等的固态摄像元件用基板即可。
在形成有光电二极管及传输电极的硅晶片上，形成仅光电二极管的受光部开口的由钨构成的遮光膜，按照覆盖所形成的遮光膜整面及光电二极管受光部(遮光膜中的开口部)的方式形成由氮化硅构成的设备保护层。
接着，在所形成的设备保护层上，作为下涂层按照膜厚达到0.50μm的方式涂布如上述那样制备的实施例的固化性组合物后，用热板在100℃下加热2分钟。接着，用热板在230℃下加热10分钟，使其固化。在其上，通过日本特开2010-210702号公报的实施例16中记载的方法，分别形成1边的长度为1.4μm的红色像素、蓝色像素、及绿色像素，制作了滤色器。
在其上，按照膜厚达到1.5μm的方式涂布如上述那样制备的实施例的固化性组合物后，用热板在100℃下加热2分钟后，用热板在230℃下加热10分钟，使其固化。
进一步在其上涂布HPR-204ESZ-9-5mPa·s(FUJIFILM ElectronicMaterials Co.,Ltd.制抗蚀剂液)，用热板在90℃下加热1分钟。将该涂布膜隔着具有多个1边为1.4μm的正方图案的掩模通过i射线步进(制品名：FPA-3000i5+、Canon Inc.制)以100mJ/cm2进行曝光。这里，掩模按照掩模中的多个正方图案分别成为与上述滤色器中的红色像素、蓝色像素、及绿色像素对应的位置的方式配置。
将其使用碱性显影液HPRD-429E(FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.制)，在室温下进行60秒钟、浆式显影后，进一步通过20秒钟旋转喷淋用纯水进行冲洗。之后，进一步用纯水进行水洗，之后，通过高速旋转使基板干燥，形成抗蚀图案。用热板在200℃下进行300秒钟后烘烤处理，将抗蚀剂成型修整成透镜状的形状。
将如以上那样操作而得到的基板使用干式蚀刻装置(HitachiHigh-Technologies Corporation制：U-621)，在下述条件下实施干式蚀刻处理，加工成能够将高折射率的本发明的透明膜作为微透镜使用。
·RF功率：800W
·天线偏压：100W
·晶片偏压：500W
·腔室内压：0.5Pa
·基板温度：50℃
·混合气体种类及流量：CF4/C4F6/O2/Ar＝175/25/50/200ml/分钟
·光致抗蚀剂蚀刻速率：140nm/分钟
使用所得到的设备对图像进行摄影时，能够得到良好的图像。
产业上的可利用性
根据本发明，能够提供折射率高、粘度低的分散组合物、使用其的固化性组合物、透明膜、微透镜、及固态摄像元件。
此外，根据本发明，能够提供能够提供涂布及干燥后的膜面的面状优异、折射率高的分散组合物、且能够维持粒子的分散稳定性的化合物。
对本发明详细地且参照特定的实施方式进行了说明，但在不脱离本发明的精神和范围的情况下可以加以各种变更、修改对于本领域技术人员而言是显而易见的。
本申请基于2012年8月31日申请的日本专利申请(日本特愿2012-192557)、2012年10月3日申请的日本专利申请(日本特愿2012-221610)、2013年2月13日申请的日本专利申请(日本特愿2013-026066)及2013年2月13日申请的日本专利申请(日本特愿2013-026069)，其内容作为参照援引于此。
符号说明
1：TFT(薄膜晶体管)、2：布线、3：绝缘膜、4：平坦化膜、5：第一电极、6：玻璃基板、7：接触孔、8：绝缘膜、10：液晶显示装置、12：背光源单元、14、15：玻璃基板、16：TFT、17：固化膜、18：接触孔、19：ITO透明电极、20：液晶、22：滤色器、30：静电容量型输入装置、31：前面板、32：掩模层、33：第一透明电极图案、33a：垫部分、33b：连接部分、34：第二透明电极图案、35：绝缘层、36：导电性要素、37：透明保护层、38：开口部

Claims (29)

1.一种分散组合物，其含有一次粒径为1nm～100nm的金属氧化物粒子(A)、重均分子量为10000以下的下述通式(1)所表示的高分子化合物(B)、和溶剂(C)，
所述通式(1)中，
R1表示(m+n)价的连结基团，R2表示单键或2价的连结基团；A1表示具有至少1种选自由酸基、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、烷基、芳基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、羧酸盐基、磺酰胺基、杂环基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基及羟基组成的组中的基团的1价的取代基；n个A1及R2分别可以相同，也可以不同；
m表示8以下的正的数，n表示1～9，m+n满足3～10；
P1表示聚合物链；m个P1可以相同，也可以不同。
2.根据权利要求1所述的分散组合物，其中，
所述高分子化合物(B)的重均分子量为5000～8000。
3.根据权利要求1或2所述的分散组合物，其中，
所述高分子化合物(B)的酸值为70～90mgKOH/g。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的分散组合物，其中，
所述金属氧化物粒子(A)相对于所述分散组合物的全部固体成分的含量为65质量％以上。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的分散组合物，其中，
所述高分子化合物(B)为下述通式(2)所表示的高分子化合物，
所述通式(2)中，
R3表示(m+n)价的连结基团，R4、R5分别独立地表示单键或2价的连结基团；A2表示具有至少1种选自由酸基、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、烷基、芳基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、羧酸盐基、磺酰胺基、杂环基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基及羟基组成的组中的基团的1价的取代基；n个A2及R4分别可以相同，也可以不同；m表示8以下的正的数，n表示1～9，m+n满足3～10；
P2表示聚合物链；m个P2及R5分别可以相同，也可以不同。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的分散组合物，其中，
所述通式(1)中的A1或所述通式(2)中的A2为具有至少1种选自由酸基、酚基、烷基、芳基、具有亚烷基氧基链的基团、羟基、脲基、氨基甲酸酯基、磺酰胺基、酰亚胺基及具有配位性氧原子的基团组成的组中的基团的1价的取代基。
7.根据权利要求1～5中任一项所述的分散组合物，其中，
所述通式(1)中的A1或所述通式(2)中的A2为具有至少1种pKa为5以上的官能团的1价的取代基。
8.根据权利要求7所述的分散组合物，其中，
所述pKa为5以上的官能团为具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、脲基、氨基甲酸酯基、烷基、芳基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、羧酸盐基、磺酰胺基、羟基或杂环基。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的分散组合物，其中，
P1或P2所表示的聚合物链为来自选自乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨基甲酸酯系聚合物、酰胺系聚合物、环氧系聚合物、硅酮系聚合物、及它们的改性物或共聚物中的至少1种的聚合物链。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的分散组合物，其中，
P1或P2所表示的聚合物链含有至少1种重复单元，且所述至少1种重复单元的重复数k为3～50。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的分散组合物，其中，
所述通式(1)中的R1或所述通式(2)中的R3为下述通式中的任一者所表示的基团，
所述通式中，
L3表示3价的基团；T3表示单键或2价的连结基团，3个存在的T3彼此可以相同，也可以不同；
L4表示4价的基团；T4表示单键或2价的连结基团，4个存在的T4彼此可以相同，也可以不同；
L5表示5价的基团；T5表示单键或2价的连结基团，5个存在的T5彼此可以相同，也可以不同；
L6表示6价的基团；T6表示单键或2价的连结基团，6个存在的T6彼此可以相同，也可以不同。
12.根据权利要求1～11中任一项所述的分散组合物，其中，
所述高分子化合物(B)为下述通式(5)所表示的高分子化合物，
所述通式(5)中，
R6表示(m+n1+n2)价的连结基团，R7～R9分别独立地表示单键或2价的连结基团；
A3表示具有至少1种酸基的1价的取代基；A4表示与A3不同的1价的取代基；n1个A3及R7分别可以相同，也可以不同；n2个A4及R8分别可以相同，也可以不同；
m表示8以下的正的数，n1表示1～8，n2表示1～8，m+n1+n2满足3～10；
P3表示聚合物链；m个P3及R9分别可以相同，也可以不同。
13.一种固化性组合物，其包含权利要求1～12中任一项所述的分散组合物和聚合性化合物(D)。
14.根据权利要求13所述的固化性组合物，其中，
所述聚合性化合物(D)为选自由分子内具有2个以上环氧基或氧杂环丁烷基的化合物、及具有2个以上末端烯属不饱和键的化合物组成的组中的至少1种。
15.根据权利要求13或14所述的固化性组合物，其还含有选自由聚合引发剂(E)及粘合剂聚合物组成的组中的至少1种。
16.根据权利要求15所述的固化性组合物，其中，
所述聚合引发剂(E)为肟系聚合引发剂。
17.根据权利要求13～16中任一项所述的固化性组合物，其用于微透镜形成或滤色器的下涂膜形成。
18.一种透明膜，其是使用权利要求13～17中任一项所述的固化性组合物而形成的。
19.一种微透镜，其是使用通过权利要求17所述的固化性组合物而得到的透明膜来形成的。
20.一种固态摄像元件，其具有权利要求19所述的微透镜。
21.权利要求1～12中任一项所述的分散组合物的制造方法。
22.一种高分子化合物，其由下述通式(5)表示，
所述通式(5)中，
R6表示(m+n1+n2)价的连结基团，R7～R9分别独立地表示单键或2价的连结基团；
A3表示具有至少1种酸基的1价的取代基；A4表示与A3不同的1价的取代基；n1个A3及R7分别可以相同，也可以不同；n2个A4及R8分别可以相同，也可以不同；
m表示8以下的正的数，n1表示1～8，n2表示1～8，m+n1+n2满足3～10；
P3表示聚合物链；m个P3及R9分别可以相同，也可以不同。
23.根据权利要求22所述的高分子化合物，其中，
所述取代基A3为具有至少1种pKa小于5的酸基的1价的取代基，
所述取代基A4为具有至少1种pKa为5以上的官能团的1价的取代基。
24.根据权利要求22或23所述的高分子化合物，其中，
所述取代基A3为具有至少1种选自由羧酸基、磺酸基、磷酸基、膦酸基及次膦酸基组成的组中的基团的1价的取代基，所述与A3不同的取代基A4为具有至少1种选自由具有配位性氧原子的基团、具有碱性氮原子的基团、酚基、脲基、氨基甲酸酯基、烷基、芳基、烷基氧基羰基、烷基氨基羰基、具有亚烷基氧基链的基团、酰亚胺基、羧酸盐基、磺酰胺基、羟基及杂环基组成的组中的基团的1价的取代基。
25.根据权利要求22～24中任一项所述的高分子化合物，其中，
所述取代基A3为羧酸基。
26.根据权利要求22～25中任一项所述的高分子化合物，其中，
所述取代基A4为烷基、芳基、具有配位性氧原子的基团、脲基或氨基甲酸酯基。
27.根据权利要求22～26中任一项所述的高分子化合物，其中，
P3所表示的聚合物链为来自选自乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨基甲酸酯系聚合物、酰胺系聚合物、环氧系聚合物、硅酮系聚合物、及它们的改性物或共聚物中的至少1种的聚合物链。
28.根据权利要求22～27中任一项所述的高分子化合物，其中，
P3所表示的聚合物链含有至少1种重复单元，且所述至少1种重复单元的重复数k为3～50。
29.根据权利要求22～28中任一项所述的高分子化合物，其重均分子量为10000以下。
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