KR100614332B1 - 액정표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 COT 구조를 갖는 액정표시장치에서 박막 트랜지스터 상에 형성되는 블랙 매트릭스를 컬러 필터층을 적층하여 형성함으로써, 제조 공정을 단순화하고, 표면 반사도를 줄일 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 액정표시장치 제조방법은, 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되도록 형성하여 화소 영역을 정의하고, 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에는 박막 트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막 트랜지스터가 형성된 기판 상에 보호막을 형성하는 단계; 상기 보호막이 형성된 기판의 화소 영역과 상기 화소 영역의 양측에 형성된 박막 트랜지스터와 데이터 배선 상부에 적층되도록 그린 컬러필터층을 형성하는 단계; 상기 그린 컬러 필터층이 형성된 기판 상에 레드 컬러 필터층과 블루 컬러 필터층을 순차적으로 형성하는 단계; 상기 그린, 레드, 블루 컬러필터층이 형성된 기판 상에 유기 절연막을 형성하는 단계; 상기 유기 절연막이 형성된 기판 상에 콘택홀을 형성하는 단계; 및 상기 콘택홀이 형성된 기판 상에 화소 전극을 형성하는 단계;를 포함한다.
COT, 액정표시장치, R, G, B, 저 반사

Description

액정표시장치 및 그 제조방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND METHOD FOR MANUFACTURING LCD}
도 1a 내지 도 1f는 종래 기술에 따른 COT 구조를 갖는 액정표시장치의 제조 공정을 도시한 도면.
도 2는 본 발명에 따른 COT 구조를 갖는 액정표시장치의 화소 구조를 도시한 평면도.
도 3a 내지 도 3f는 상기 도 2의 A-A' 영역의 제조 공정을 도시한 단면도.
도 4는 상기 도 2의 B-B' 영역의 단면도.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 도면.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 도면.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
100: 기판 101: 게이트 전극
103: 게이트 절연막 105: 채널층
106: 오믹 콘택층 107a: 소스 전극
107b: 드레인 전극 109: 보호막
111a: 그린 컬러 필터층 111b: 레드 컬러 필터층
111c: 블루 컬러 필터층 115: 유기 절연막
118a, 118b, 118c: 화소 전극
본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 COT 구조를 갖는 액정표시장치에서 박막 트랜지스터 상에 형성되는 블랙 매트릭스를 적층된 컬러 필터층으로 형성함으로써, 제조 공정을 단순화 및 화면 품위를 개선시킬 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.
최근 들어 급속한 발전을 거듭하고 있는 반도체 산업의 기술 개발에 의하여 액정표시장치는 소형, 경량화 되면서 성능은 더욱 강력해진 제품들이 생산되고 있다. 지금까지 정보 디스플레이 장치에 널리 사용되고 있는 CRT(cathode ray tube)가 성능이나 가격 측면에서 많은 장점을 갖고 있지만, 소형화 또는 휴대성의 측면에서는 많은 단점을 갖고 있었다.
이에 반하여, 액정표시장치는 소형화, 경량화, 저 전력 소비화 등의 장점을 갖고 있어 CRT의 단점을 극복할 수 있는 대체 수단으로 점차 주목받아 왔고, 현재는 디스플레이 장치를 필요로 하는 거의 모든 정보 처리 기기에 장착되고 있는 실정이다.
이러한 액정표시장치는 일반적으로 액정의 특정한 분자 배열에 전압을 인가하여, 다른 분자 배열로 변환시키고, 이러한 분자 배열에 의해 발광하는 액정 셀의 복굴절성, 선광성, 2색성 및 광산란 특성 등의 광학적 성질의 변화를 시각 변화로 변환하는 것으로, 액정 셀에 의한 빛의 변조를 이용한 디스플레이 장치이다.
상기 액정표시장치는 화소 단위를 이루는 액정 셀의 형성 공정을 동반하는 패널 상판 및 하판의 제조 공정과, 액정 배향을 위한 배향막의 형성 및 러빙(Rubbing) 공정과, 상판 및 하판의 합착 공정과, 합착된 상판 및 하판 사이에 액정을 주입하고 봉지 하는 공정 등의 여러 과정을 거쳐 완성되게 된다.
특히, 액정표시장치의 상판에는 광차단을 위하여 형성하는 블랙 매트릭스, 레드(R), 그린(G), 블루(B) 컬러 필터층을 여러 번의 마스크 공정으로 진행하여 제작된다.
유사한 방법으로 액정표시장치 하판에는 구동 신호와 데이터 신호를 인가하기 위한 게이트 배선들과 데이터 배선들, 데이터 신호에 의하여 전계를 형성하는 화소 전극들을 마스크 공정을 진행하여 제작한다.
그러나, 이와 같이 서로 다른 글라스 기판 상에 컬러 필터층이 형성된 상판과 화소 어레이가 형성된 하판을 제작할 경우에는 제조 공정이 복잡하고, 하판으로부터 진행하는 광을 상판의 블랙 매트릭스가 완전히 차단하지 못해 화면 품위를 저하시키는 문제가 있었다.
그래서 최근 개발되고 있는 기술이 하나의 글라스 기판 상에 컬러 필터층과 화소 전극 등을 함께 형성하는 COT(Color On TFT) 기술이다.
이하, 일반적으로 사용되고 있는 COT 기술에 대하여 설명한다.
도 1a 내지 도 1f는 종래 기술에 따른 COT 구조를 갖는 액정표시장치의 제조 공정을 도시한 도면이다.
도 1a에 도시된 바와 같이, 투명성 절연 기판(10) 상에 금속 막을 증착하고 이를 식각하여 상기 기판(10) 상에 게이트 배선(미도시), 게이트 전극(1)을 패터닝한다.
상기 게이트 배선, 게이트 전극(1)을 패터닝하기 위해서는 일반적으로 포토리소그라피(photolithography) 공정을 사용하는데, 먼저, 금속막이 상기 기판(10)의 전 영역 상에 증착되면 포토레지스트(photoresist)와 같은 감광막을 코팅하고, 이를 노광, 현상 및 식각하는 방식으로 패터닝한다.
상기와 같이 기판(10) 상에 게이트 전극(1), 게이트 배선이 형성되면, 상기 기판(10)의 전 영역 상에 게이트 절연막(3)을 도포한다.
그런 다음, 도 1b에 도시된 바와 같이, 게이트 절연막(3)이 도포된 기판(10) 상에 비정질 실리콘 막과 도핑된 비정질 실리콘막(n+ Si:H)을 차례대로 도포한다.
상기 비정질 실리콘막과 도핑된 비정질 실리콘막이 차례대로 도포되면, 포토리소그라피 공정을 진행하여, 게이트 전극(10) 상부에 채널층(5)과 오믹 콘택층(6)을 형성한다.
상기와 같이 채널층(5)과 오믹 콘택층(6)이 기판(10) 상에 형성되면, 도 1c에 도시된 바와 같이, 상기 채널층(5) 상부에 소스/드레인 전극(7a, 7b)과 도면에는 도시하지 않았지만, 화소 영역과 평행한 방향으로 데이터 배선을 형성하기 위해서 금속막을 증착한다.
상기 채널층(5)과 오믹 콘택층(6)이 형성된 기판 상에 금속막이 증착되면 도 1a에 설명한 금속 식각 공정을 진행하여 상기 채널층(5) 상부에 소스/드레인 전극(7a, 7b)을 패터닝함으로써, 스위칭 소자인 박막 트랜지스터를 형성하고 동시에 각 화소 영역을 횡단하는 데이터 배선(미도시)을 형성한다.
그런 다음, 도 1d에 도시된 바와 같이, 소스/드레인 전극(7a, 7b)과 데이터 배선이 형성되면, 기판(10) 상에 형성된 소자들을 보호하기 위하여 보호막(9)을 기판(10)의 전 영역 상에 도포한다.
이때, 일반적인 액정표시장치의 어레이 기판 제조 공정과 달리 콘택홀 형성 공정을 진행하지 않고, 화소 영역 상에 R, G, B 컬러 필터층을 형성하는 포토 공정을 진행한다.
순차적으로 레드(R) 컬러 레진(감광성 레진)을 기판(10)의 전 영역 상에 도포한 다음, 이를 노광, 현상 및 식각하여 레드(R) 컬러 필터층(11a)을 형성한다.
상기와 같이 레드 컬러 필터층(11a)이 기판(10) 상에 형성되면, 도 1e에 도시된 바와 같이, 계속해서 그린 컬러 필터층(11b), 블루 컬러 필터층(11c)을 순차적으로 형성하기 위한 공정을 진행한다.
따라서, 상기 레드(R) 컬러 필터층(11a)이 형성된 기판(10) 상에 그린(G) 컬러 레진을 도포하고, 이를 노광, 현상 및 식각하여 그린(G) 컬러 필터층(11a)을 형성하고, 계속해서 같은 방식으로 블루(B) 컬러 레진을 도포한 다음, 블루 컬러 필터층(11c)을 형성한다.
상기 레드, 그린, 블루 컬러 필터층(11a, 11b, 11c)은 박막 트랜지스터 상에 확보된 화소 영역 상에 형성되기 때문에 상기 기판(10) 하부로부터 진행해오는 광을 차단시키기 위해서 블랙 매트릭스(13) 형성 공정을 진행한다.
즉, 상기 레드, 그린, 블루 컬러 필터층(11a, 11b, 11c) 이 형성되지 않은, 박막 트랜지스터 상에 수지를 도포하고, 이를 식각하여 블랙 매트릭스(13)를 상기 박막 트랜지스터 상에 형성한다.
상기와 같이 레드, 그린, 블루 컬러 필터층(11a, 11b, 11c), 블랙 매트릭스(13)가 형성되면, 기판(10)의 전 영역 상에 도 1f에 도시된 바와 같이, 유기 절연막(15)을 도포한다. 이것은 화소 전극(18a, 18b, 18c)을 형성하기 위하여 컬러 필터층들(11a, 11b, 11c)을 형성하면서 발생된 단차들을 평탄화(over coating)시키기 위해서이다.
상기 유기 절연막(15)은 포토 아크릴(photo-acryl), BCB(benzo cyclobutene), 무기막인 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx)을 사용한다.
상기 유기 절연막(15)이 컬러 필터층들(11a, 11b, 11c)이 형성된 기판(10)의 전 영역 상에 도포되면, 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극(7b) 상부에 홀을 형성하는 콘택홀 공정을 진행한다.
따라서, 상기 유기 절연막(15) 상에 포토레지스트를 도포하고, 이를 노광, 현상 및 식각 공정을 진행하여, 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극(7b) 상부에 존재하는 보호막(15), 수지 BM, 유기 절연막(15)을 식각하여 콘택홀을 형성한다.
상기와 같이 유기 절연막(15) 상에 콘택홀이 형성되면, 기판(10)의 전 영역 상에 투명성 금속인 ITO 금속을 증착하고, 이를 식각하여 각각의 컬러 필터층들(11a, 11b, 11c)에 대응되는 화소 전극을 형성한다.
따라서, COT 구조를 갖는 액정표시장치는 종래의 상하판으로 분리하여 제작하는 액정표시장치와 달리, 블랙 매트릭스와 컬러 필터층을 박막 트랜지스터와 화소 전극이 형성된 기판 상에 형성하기 때문에 상하판 합착 액정표시장치에 비해서 제조 공정이 단순해지는 이점이 있다.
아울러, 저 반사율을 갖는 수지 블랙 매트릭스가 박막 트랜지스터 상에 형성되어 있으므로, 외부로부터 입사되는 광에 의하여 광반사가 발생하지 않아 화면 품위를 개선시킬 수 있는 이점이 있다.
그러나, 상기와 같은 COT 구조를 갖는 액정표시장치는 종래 상하 기판의 합착 공정에 의해서 제조되는 액정표시장치 제조 공정과 비교해서 단순해지는 이점이 있지만, COT 구조와 같이 하나의 기판 상에 컬러 필터층과 TFT를 함께 형성할 경우에는 TFT 상에 블랙 매트릭스를 제조하기 위한 마스크 공정이 추가되어야하는 단점이 있다.
본 발명은, 종래 COT 구조를 갖는 액정표시장치 기판에서 수지 BM 공정을 진행하지 않고, 수지 BM이 형성될 영역에 저반사 블랙 매트릭스 역할을 할 수 있는 컬러 필터층을 적층함으로써, 제조 공정을 단순화하고, 화면 품위를 개선시킨 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한, 본 발명에 따른 액정표시장치 제조방법은,
기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되도록 형성하여 화소 영역을 정의하고, 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에는 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막 트랜지스터가 형성된 기판 상에 보호막을 형성하는 단계;
상기 보호막이 형성된 기판의 화소 영역과 상기 화소 영역의 양측에 형성된 박막 트랜지스터와 데이터 배선 상부에 적층되도록 그린 컬러필터층을 형성하는 단계;
상기 그린 컬러 필터층이 형성된 기판 상에 레드 컬러 필터층과 블루 컬러 필터층을 순차적으로 형성하는 단계;
상기 그린, 레드, 블루 컬러필터층이 형성된 기판 상에 유기 절연막을 형성하는 단계;
상기 유기 절연막이 형성된 기판 상에 콘택홀을 형성하는 단계; 및
상기 콘택홀이 형성된 기판 상에 화소 전극을 형성하는 단계;를 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치 제조방법은,
기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되도록 형성하여 화소 영역을 정의하고, 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에는 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막 트랜지스터가 형성된 기판 상에 보호막을 형성하는 단계;
상기 보호막이 형성된 기판의 박막트랜지스터와 데이터 배선을 제외한 화소 영역 내측에 그린 컬러필터층을 형성하는 단계;
상기 그린 컬러 필터층이 형성된 기판 상에 레드 컬러필터층 또는 블루 컬러필터층을 화소 영역과 이 화소영역에 인접한 박막 트랜지스터와 데이터 배선 상에 순차적으로 형성하는 단계;
상기 그린, 레드, 블루 컬러필터층이 형성된 기판 상에 유기 절연막을 형성하는 단계;
상기 유기 절연막이 형성된 기판 상에 콘택홀을 형성하는 단계; 및
상기 콘택홀이 형성된 기판 상에 화소 전극을 형성하는 단계;를 포함한다.
본 발명의 또 다른 실시예의 액정표시장치 제조방법은,
기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하도록 형성하여 화소 영역을 정의하고, 상기 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되는 영역에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 박막 트랜지스터가 형성된 기판 상에 보호막을 형성하는 단계;
상기 보호막이 형성된 기판 상에 그린 컬러필터층이 형성될 화소 영역과, 각각의 박막트랜지스터, 데이터 배선 및 게이트 배선 상에 그린 컬러필터층을 형성하는 단계;
상기 그린 컬러 필터층이 형성되어 있는 기판 상에 레드 컬러 필터층 및 블루 컬러 필터층을 순차적으로 형성하고, 동시에 상기 각각의 박막트랜지스터, 데이터 배선 및 게이트 배선 상에 레드 컬러필터층과 블루 컬러필터층을 순차적으로 적층 형성하는 단계;
상기 컬러 필터층이 형성된 기판의 전 영역 상에 유기 절연막을 형성하는 단계;
상기 유기 절연막이 도포된 기판 상에 콘택홀을 형성하는 단계; 및
상기 콘택홀이 형성된 기판 상에 화소 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 실시예의 액정표시장치는,
기판;
상기 기판 상에 교차 배열되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선과, 데이터 배선;
상기 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되는 영역에 배치된 박막 트랜지스터;
상기 기판 상의 화소 영역에 형성된 각각 레드 그린, 블루 컬러필터층과, 상기 그린 컬러필터층이 형성된 화소영역의 양측 박막 트랜지스터, 게이트 배선 및 데이터 배선 상에는 그린 컬러필터층 상에 적층된 레드 컬러필터층 또는 블루 컬러필터층;
상기 컬러 필터층 상부에 표면 평탄화를 위해서 배치된 유기 절연층; 및
상기 컬러 필터층들에 각각 대응되면서 상기 유기 절연층 상에 배치되어 있는 화소 전극;을 포함한다.
본 발명의 또 다른 실시예의 액정표시장치는,
기판;
상기 기판 상에 교차 배열되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선과, 데이터 배선;
상기 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되는 영역에 배치된 박막 트랜지스터;
상기 기판 상의 화소 영역에 각각 형성된 레드 그린, 블루 컬러필터층과, 각각의 화소 영역의 박막 트랜지스터, 게이트 배선 및 데이터 배선 상에 형성된 레드 컬러필터층 또는 블루 컬러필터층;
상기 컬러 필터층 상부에 표면 평탄화를 위해서 배치된 유기 절연층; 및
상기 컬러 필터층들에 각각 대응되면서 상기 유기 절연층 상에 배치되어 있는 화소 전극;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 실시예의 액정표시장치는,
기판;
상기 기판 상에 교차 배열되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선과, 데이터 배선;
상기 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되는 영역에 배치된 박막 트랜지스터;
상기 기판 상의 화소 영역에 각각 형성된 레드 그린, 블루 컬러필터층과, 각각의 화소 영역의 박막 트랜지스터, 게이트 배선 및 데이터 배선 상에 그린 컬러필터층이 형성되고, 상기 그린 컬러필터층 상에 순차적으로 적층된 레드 컬러필터층과 블루 컬러필터층;
상기 컬러 필터층 상부에 표면 평탄화를 위해서 배치된 유기 절연층; 및
상기 컬러 필터층들에 각각 대응되면서 상기 유기 절연층 상에 배치되어 있는 화소 전극;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 종래 COT 구조를 갖는 액정표시장치 기판에서 수지 BM 공정을 진행하지 않고, 수지 BM이 형성될 영역에 저반사 블랙 매트릭스 역할을 할 수 있는 컬러 필터층을 적층함으로써, 제조 공정을 단순화하고, 화면 품위를 개선시키는 이점이 있다.
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이하, 첨부한 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 자세히 설명하도록 한다.
도 2는 본 발명에 따른 COT 구조를 갖는 액정표시장치의 화소 구조를 도시한 평면도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 데이터 배선(108)과 게이트 배선(102)이 수직으로 교차 배열되어 단위 화소 영역을 한정하고, 그 단위 화소 영역 상에는 그린(G), 레드(R), 블루(B) 컬러 필터층이 배치되어 있다.
상기 그린, 레드, 블루 컬러 필터층(G, R, B) 상부에는 컬러 필터층과 오버랩 되도록 화소 전극들(118a, 118b, 118c)이 각각 배치되어 있다.
도면에서 표시한 G, R, B는 화소 전극들(118a, 118b, 118c) 하측에 배치되어 있는 그린, 레드, 블루 컬러 필터층을 나타낸 것이다.
상기 데이터 배선(108)과 게이트 배선(102)이 교차하는 영역에는 스위칭 소자인 박막 트랜지스터가 배치되어 있는데, 상기 박막 트랜지스터는 게이트 배선(102)에서 분획된 게이트 전극(101), 액티브층(미도시), 소스/드레인 전극(107a, 107b)으로 구성되어 있다.
본 발명의 COT 구조를 갖는 액정표시장치에서는 게이트 배선(102), 데이터 배선(108), 박막 트랜지스터 영역에는 광을 차단시키는 차단층에 레드, 그린, 블루 컬러 필터층을 적층하거나, 외부광에 대한 반사율이 낮은 레드 또는 블루 컬러 필터층으로 형성하였다.
따라서, 본 발명에서는 상기 게이트 배선(102), 데이터 배선(108), 박막 트랜지스터 상에 차단층을 형성하기 위한 별도의 공정 없이 컬러 필터층 형성 공정에서, 컬러 필터층을 조합하여 적층함으로써, 차단층을 형성하였다.
상기 게이트 배선(102), 데이터 배선(108), 박막 트랜지스터를 따라 빗금쳐진 영역이 컬러 필터층에 의한 차단층을 형성한 영역이다.
도 3a 내지 도 3f는 상기 도 2의 A-A' 영역의 제조 공정을 도시한 단면도.
도 3a에 도시된 바와 같이, 투명성 절연 기판(100) 상에 금속 막을 증착하고, 이를 식각하여 상기 기판(100) 상에 게이트 배선, 게이트 전극(101)을 패터닝 한다.
상기 게이트 배선, 게이트 전극(101)을 패터닝하기 위해서는 일반적으로 포토리소그라피(photolithography) 공정을 사용하는데, 먼저, 금속 막이 상기 기판(100)의 전 영역 상에 증착되면, 포토레지스트와 같은 감광막을 코팅하고, 노광, 현상 및 식각하여 패터닝한다.
상기와 같이 기판(100) 상에 게이트 전극(101), 게이트 배선이 형성되면, 상 기 기판(100)의 전 영역 상에 게이트 절연막(103)을 도포한다.
그런 다음, 도 3b에 도시된 바와 같이, 게이트 절연막(103)이 도포된 기판(100) 상에 비정질 실리콘막과 도핑된 비정질 실리콘막(n+ Si:H)을 차례대로 도포한다.
상기 비정질 실리콘막과 도핑된 비정질 실리콘막이 차례대로 도포되면, 포토리소그라피 공정을 진행하여, 상기 게이트 전극(101) 상부에 채널층(105)과 오믹 콘택층(106)을 형성한다.
상기와 같이 채널층(105)과 오믹 콘택층(106)이 기판(100) 상에 형성되면, 도 3c에 도시된 바와 같이, 상기 채널층(105) 상부에 소스/드레인 전극(107a, 107b)과 도면에는 도시하지 않았지만, 화소 영역과 평행한 방향으로 데이터 배선을 형성하기 위하여 금속막을 증착한다.
상기 채널층(105)과 오믹 콘택층(106)이 형성된 기판(100) 상에 금속막이 증착되면 도 3a에 설명한 금속 식각 공정을 진행하여 상기 채널층(105) 상부에 소스/드레인 전극(107a, 107b)을 패터닝함으로써, 스위칭 소자인 박막 트랜지스터를 형성하고, 동시에 각 화소 영역을 횡단하는 데이터 배선을 형성한다.
그런 다음, 도 3d에 도시된 바와 같이, 소스/드레인 전극(107a, 107b)과 데이터 배선이 형성되면, 기판(100) 상에 형성된 소자들을 보호하기 위해서 보호막(109)을 도포한다.
이때, 일반적인 액정표시장치의 어레이 기판 제조 공정에서 실시하는 콘택홀 형성 공정을 진행하지 않고, 화소 영역 상에 R, G, B 컬러 필터층을 형성하는 포토 공정을 진행한다.
이때, 본 발명에서는 종래 COT 기판에서 컬러 필터층을 형성하는 순서인 레드(R), 그린(G), 블루(B) 순서가 아니라, 컬러 레진 중에서 반사도가 가장 높은 그린(G) 컬러 레진을 먼저, 도포하고 이를 노광, 현상 및 식각하여 그린(G) 컬러 필터층(111a)을 먼저 형성한다.
따라서, 도면에 도시된 바와 같이, 그린 컬러 필터층(111a)의 양측 가장자리는 각각 박막 트랜지스터 상에 형성된다.
상기에서와 같이 기판(100) 상에 그린 컬러 필터층(111a)이 형성되면, 상기 기판(100)의 전 영역 상에 레드 컬러 레진을 도포하고 이를 노광, 현상 및 식각하여 레드 컬러 필터층(111b)을 도 3e에서와 같이 형성한다.
상기 도 3e에 도시된 바와 같이, 상기 레드 컬러 필터층(111b)을 형성할 때에는 상기 일측은 상기 그린 컬러 필터층(111a)이 형성된 박막 트랜지스터 상에 적층되면서, 타측은 상기 그린 컬러 필터층(111a)이 형성되지 않은 박막 트랜지스터 상에 형성한다.
그러므로, 상기 레드 컬러 필터층(111b)의 일측은 상기 그린 컬러 필터층(111a) 상에 적층되어 있고, 상기 레드 컬러 필터층(111b)의 타측은 박막 트랜지스터 상에 형성된다.
그리고 상기 레드 컬러 필터층(111b)이 형성되면, 계속해서 블루 컬러 레진을 기판(100)의 전 영역 상에 도포하고, 이를 식각하여 블루 컬러 필터층(111c)을 형성하는데, 상기 블루 컬러 필터층(111c)의 일측은 상기 박막 트랜지스터 상에 상 기 레드 컬러 필터층(111b)이 형성된 영역에 형성되어 상기 레드 컬러 필터층(111b)과 적층된다.
상기 블루 컬러 필터층(111c)의 타측은 상기 박막 트랜지스터 상부이며 상기 그린 컬러 필터층(111a)이 형성된 영역에 형성되어 상기 그린 컬러 필터층(111a)과 적층된다.
그러므로, 본 발명에서는 박막 트랜지스터 상에 컬러 필터층들을 적층 형성함으로써, 블랙 매트릭스 기능을 수행 할 수 있도록 하였으며, 상기 박막 트랜지스터 상에 적층 형성되는 컬러 필터층의 순서는 광 반사도가 높은 그린 컬러 필터층(111a)이 적층된 컬러 필터층(111b, 111c)의 최상단에 오지 않도록 하였다.
즉, 상기 박막 트랜지스터 상에 적층되는 컬러 필터층의 상부에는 광반사도가 낮은 레드 컬러 필터층(111b), 블루 컬러 필터층(111c)이 적층되도록 하여 액정표시장치 외부에서 진행해오는 광의 반사가 발생하지 않도록 하였다.
상기에서와 같이 컬러 필터층을 그린(G), 레드(R), 블루(B) 컬러 필터층(111a, 111b, 111c)을 순차적으로 형성한 다음, 도 3f에 도시된 바와 같이, 평탄화를 위해서 기판(100)의 전 영역 상에 유기 절연막(115)을 도포한다.
상기 유기 절연막(115)은 포토 아크릴(photo-acryl), BCB(benzo cyclobutene), 무기막인 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx)을 사용한다.
상기 유기 절연막(115)이 컬러 필터층들(111a, 111b, 111c)이 형성된 기판(100)의 전 영역 상에 도포되면, 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극(107b) 상부에 홀을 형성하는 콘택홀 공정을 진행한다.
따라서, 상기 유기 절연막(115) 상에 포토레지스트를 도포하고, 이를 노광, 현상 및 식각 공정을 진행하여, 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극(107b) 상부에 존재하는 보호막(109), 적층된 컬러 필터층들, 유기 절연막(115)을 식각하여 콘택홀을 형성한다.
상기와 같이 유기 절연막(115) 상에 콘택홀이 형성되면, 상기 기판(100)의 전 영역 상에 투명성 금속인 ITO 금속을 증착하고, 이를 식각하여 각각의 컬러 필터층들(111a, 111b, 111c)에 대응되는 화소 전극(118a, 118b, 118c)을 형성한다.
상기에서는 컬러 필터층과 박막 트랜지스터의 제조 공정을 도시하였지만, 차단층이 형성되는 영역인 데이터 배선 영역에도 동일한 공정 순으로 제조된다.
이하, 본 발명에 따라 완성된 COT 구조를 갖는 액정표시장치의 데이터 배선영역을 도시한 단면도를 중심으로 설명한다.
도 4는 상기 도 2의 B-B' 영역의 단면도이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 기판(100) 상에 게이트 절연막(103)이 도포되어 있고, 박막 트랜지스터의 액티브층이 형성될 때, 도포된 비정질 실리콘막과 도핑된 실리콘막을 제거되어 데이터 배선(108) 영역에는 존재하지 않는다.
상기 박막 트랜지스터의 소스/드레인 전극이 형성될 때, 데이터 배선(108)이 게이트 배선과 수직하게 형성된다.
상기 데이터 배선(108)이 형성된 기판(100) 상에 보호막(109)이 도포되어 어레이 기판이 완성되면, 계속해서 도 3a 내지 도 3f에서 설명한 공정에 따라 그린 컬러 필터층, 레드 컬러 필터층, 블루 컬러 필터층이 순차적으로 형성된다.
이때, 상기 데이터 배선(108) 상에서도 도 3f에 도시된 도면과 같이, 외부 광에 의하여 반사율이 큰 그린 컬러 필터층(111a)을 먼저 형성된다.
상기 그린 컬러 필터층(111a)은 선택된 화소 영역에 형성되고, 인접한 데이터 배선(108) 상에 형성된다.
상기 그린 컬러 필터층(111a)이 형성되면 계속해서 레드 컬러 필터층(111b)이 선택된 화소 영역에 형성되는데, 이때 상기 데이터 배선(111b) 상에 형성된 그린 컬러 필터층(111a) 상부에 적층 형태로 상기 레드 컬러 필터층(111b)의 일측이 형성된다.
상기 그린 컬러 필터층(111a) 상에 적층되어 형성되지 않은 레드 컬러 필터층(111b)의 타측은 인접한 데이터 배선(108) 상부 까지 형성되고, 이후 형성되는 블루 컬러 필터층(111c)의 일측이 상기 데이터 배선(108) 상부에 형성된 레드 컬러 필터층(111b) 상부에 적층 형성된다.
따라서, 도 2의 B-B' 영역의 데이터 배선 상의 적층된 컬러 필터층 구조와 도 2의 A-A' 영역을 절단한 도 3f의 구조와 유사한 적층 구조를 갖는다.
즉, 도 2의 차단층이 형성되는 영역은 모두 동일한 적층 구조를 갖도록 형성되어 있다.
따라서, 본 발명에서는 별도의 차단층 공정 없이 컬러 필터층 형성 공정에서 적층된 컬러 필터층 구조를 형성함으로써, 외부 광에 의한 저반사 차단층을 형성할 수 있는 이점이 있다.
그리고 도 4에서는 데이터 배선 상의 단면도를 도시하였지만, 게이트 배선 상에서도 이와 유사한 구조의 컬러 필터층이 적층 형성된다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 도면이다.
도 5a는 도 2a 내지 도 2f에 도시된 바와 달리, 그린(G), 레드(R), 블루(B) 컬러 필터층 형성 순서에 관계없이 상기 그린 컬러 필터층(211a)을 화소 영역 내에만 형성한다.
즉, 도 5a에 도시된 것과 같이, 상기 그린 컬러 필터층(211a)은 양측에 형성된 박막 트랜지스터 사이의 화소 영역에만 형성된다. 이후 형성될 레드 또는 블루 컬러 필터층(211b, 211c)은 상기 그린 컬러 필터층(211a)과 인접하면서 양측 가장자리가 각각 박막 트랜지스터 상에 형성될 수 있도록 하였다.
특히, 상기 레드 컬러 필터층(211b)이 블루 컬러 필터층(211c)보다, 먼저 형성될 경우에는 상기 레드 컬러 필터층(211b)의 일측이 상기 그린 컬러 필터층(211a)의 일측과 인접하면서, 상기 레드 컬러 필터층(211b) 양측 가장자리가 각각 박막 트랜지스터 상에 형성되도록 한다.
그런 다음, 상기 블루 컬러 필터층(211c)이 형성될 경우에는 일측이 그린 컬러 필터층(211a)과 인접하면서 박막 트랜지스터 상에 형성되고, 타측은 상기 레드 컬러 필터층(211b)과 인접하도록 형성된다.
도면에는 명확하게 도시하지 않았지만, 선택적으로 레드 컬러 필터층(211b)과 블루 컬러 필터층(211c)의 형성 순서에 따라 마지막에 형성되는 컬러 필터층은 인접한 레드 또는 블루 컬러 필터층(211b, 211c)이 형성된 박막 트랜지스터 상부에 적층 형태로 형성되어 외부광에 대한 반사율은 더욱 낮출 수 있다.
본 발명에서는 광 반사도가 높은 그린 컬러 필터층(211a)을 박막 트랜지스터 외의 화소 영역 상에만 형성하고, 이외의 레드 컬러 필터층(211b)과 블루 컬러 필터층(211c)을 박막 트랜지스터 상에 형성하여 블랙 매트릭스 역할을 하면서, 외부 광에 대한 저반사 층을 형성하였다.
도 5b에서는 데이터 배선 영역을 도시하였는데, 상기 그린 컬러 필터층(211a)은 양측에 형성된 데이터 배선(108) 사이의 화소 영역에만 형성된다.
이후 형성될 레드 또는 블루 컬러 필터층(211b, 211c)은 상기 그린 컬러 필터층(211a)과 인접하면서 양측 가장자리가 각각 인접한 데이터 배선(108) 상에 형성될 수 있도록 하였다.
상기 도 5a에서와 같이, 상기 레드 컬러 필터층(211b)이 블루 컬러 필터층(211c)보다, 먼저 형성될 경우에는 상기 레드 컬러 필터층(211b)의 일측이 상기 그린 컬러 필터층(211a)의 일측과 인접하면서, 상기 레드 컬러 필터층(211b) 양측 가장자리가 데이터 배선(108) 상에 형성되도록 한다.
그런 다음, 상기 블루 컬러 필터층(211c)이 형성될 경우에는 일측이 그린 컬러 필터층(211a)과 인접하면서 데이터 배선(108) 상에 형성되고, 타측은 상기 레드 컬러 필터층(211b)과 인접하도록 형성된다.
도면에는 명확하게 도시하지 않았지만, 선택적으로 레드 컬러 필터층(211b)과 블루 컬러 필터층(211c)의 형성 순서에 따라 마지막에 형성되는 컬러 필터층은 인접한 레드 또는 블루 컬러 필터층(211b, 211c)이 형성된 데이터 배선(108) 상부 에 적층 형태로 형성되어 외부광에 대한 반사율을 더욱 낮출 수 있다.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 도면이다.
도 6a에 도시된 COT 구조는 본 발명의 또 다른 실시예로서, 박막 트랜지스터가 그린, 레드, 블루 컬러 필터층이 적층되어 있는 구조를 도시하였다.
도 6a의 실시예도 기본적으로 도 3a 내지 도 3f에 도시된 바와 달리, 그린(G) 컬러 필터층(311a, 311b, 311c) 이후에 형성되는 레드(R)와 블루(B) 컬러 필터층(311b, 311c)의 형성 순서는 선택적이다.
즉, 도 6a에 도시된 것과 같이, 박막 트랜지스터가 완성되고, 기판(300) 상에 보호막(315)이 도포되면, 그린(G) 컬러 레진을 사용하여 그린 컬러 필터층(311a)을 형성하는데, 상기 그린 컬러 필터층(311a)은 하나의 화소 영역 양측에 존재하는 박막 트랜지스터 상부까지 형성한다.
또한, 인접한 화소 영역의 박막 트랜지스터 상부에도 그린 컬러 필터층(311a)이 형성한다.
즉, 상기 그린 컬러 필터층(311a)은 레드, 그린, 블루 컬러 필터층(311b, 311a, 311c)을 하나의 화소로 볼 때, 이와 대응되도록 각 화소 영역에 배치되어 있는 박막 트랜지스터 상에 그린 컬러 필터층(311a)을 모두 형성된 구조를 하고 있다.
상기와 같이, 그린 컬러 필터층(311a) 영역에 컬러 필터층이 형성하면서, 기판(100) 상에 형성되어 있는 모든 박막 트랜지스터 상에도 그린 컬러 필터층(311a)을 형성하였다.
상기와 같이 그린 컬러 필터층(311a)이 기판(100) 상에 형성되면, 레드 컬러 레진을 도포하여 레드 컬러 필터층(311b)을 형성한다.
이때, 상기 레드 컬러 필터층(311b)의 경우에도 그린 컬러 필터층(311a)과 동일한 방식으로 인접하는 양측에 위치하는 박막 트랜지스터 상부에 레드 컬러 필터층(311b)을 형성하고, 인접한 화소 영역에 대응되는 박막 트랜지스터 상부에도 레드 컬러 필터층(311b)을 형성한다.
따라서, 상기 레드 컬러 필터층(311b) 영역에는 컬러 필터층이 형성되어 있고, 기판(100) 상에 형성된 모든 박막 트랜지스터 상에는 그린 컬러 필터층(311a), 레드 컬러 필터층(311b)이 순차적으로 적층되어 있는 구조를 하게 된다.
상기와 같이 레드 컬러 필터층(311b)이 기판(100) 상에 형성되면, 블루 컬러 레진을 형성하여 블루 컬러 필터층(311c)을 형성하는데, 상기 블루 컬러 레진도 상기 그린 컬러 필터층(311a), 레드 컬러 필터층(311b)과 동일한 방식으로 패터닝하여 형성한다.
따라서, 상기 기판(100) 상에 형성되어 있는 박막 트랜지스터 상에는 그린 컬러 필터층(311a), 레드 컬러 필터층(311b), 블루 컬러 필터층(311c)이 순차적으로 적층되어 있는 구조를 하고 있다.
도 6a에서는 광에 대한 반사도가 높은 그린 컬러 필터층(311a)을 맨 밑층에 형성하고, 차례대로 레드 컬러 필터층(311b), 블루 컬러 필터층(311c)이 순차적으로 적층 형성되어 있다.
하지만, 상기 그린 컬러 필터층(311a)을 맨 밑층에 형성하고, 상기 레드 컬 러 필터층(311b), 블루 컬러 필터층(311c)의 적층 순서를 선택적으로 바꾸어 형성할 수 있다.
도 6b는 데이터 배선 영역을 도시한 단면도로서, 도 3a 내지 도 3f에 도시된 바와 달리, 그린(G) 컬러 필터층(311a, 311b, 311c) 이후에 형성되는 레드(R)와 블루(B) 컬러 필터층(311b, 311c)의 형성 순서는 선택적이다.
즉, 도 6b에 도시된 것과 같이, 데이터 배선(108)이 형성된 기판(300) 상에 보호막(315)이 도포되면, 그린(G) 컬러 레진을 사용하여 그린 컬러 필터층(311a)을 형성하는데, 상기 그린 컬러 필터층(311a)은 하나의 화소 영역 양측에 존재하는 데이터 배선(108) 상부까지 형성한다.
또한, 인접한 화소 영역의 데이터 배선(108) 상부에도 그린 컬러 필터층(311a)이 형성한다.
따라서, 상기 그린 컬러 필터층(311a)은 레드, 그린, 블루 컬러 필터층(311b, 311a, 311c)을 하나의 화소로 볼 때, 이와 대응되도록 각 화소 영역에 배치되어 있는 데이터 배선(108) 상에 그린 컬러 필터층(311a)을 모두 형성된 구조를 하고 있다.
상기와 같이, 그린 컬러 필터층(311a) 영역에 컬러 필터층이 형성하면서, 기판(100) 상에 형성되어 있는 모든 데이터 배선(108) 상에도 그린 컬러 필터층(311a)이 형성된다.
상기와 같이 그린 컬러 필터층(311a)이 기판(100) 상에 형성되면, 레드 컬러 레진을 도포하여 레드 컬러 필터층(311b)을 형성한다.
이때, 상기 레드 컬러 필터층(311b)의 경우에도 그린 컬러 필터층(311a)과 동일한 방식으로 인접하는 양측에 위치하는 데이터 배선(108) 상부에 레드 컬러 필터층(311b)을 형성하고, 인접한 화소 영역에 대응되는 데이터 배선(108) 상부에도 레드 컬러 필터층(311b)을 형성한다.
따라서, 상기 레드 컬러 필터층(311b) 영역에는 컬러 필터층이 형성되어 있고, 기판(100) 상에 형성된 모든 데이터 배선(108) 상에는 그린 컬러 필터층(311a), 레드 컬러 필터층(311b)이 순차적으로 적층되어 있는 구조를 하게 된다.
상기와 같이 레드 컬러 필터층(311b)이 기판(100) 상에 형성되면, 블루 컬러 레진을 형성하여 블루 컬러 필터층(311c)을 형성하는데, 상기 블루 컬러 레진도 상기 그린 컬러 필터층(311a), 레드 컬러 필터층(311b)과 동일한 방식으로 패터닝하여 형성한다.
따라서, 상기 기판(100) 상에 형성되어 있는 데이터 배선(108) 상에는 그린 컬러 필터층(311a), 레드 컬러 필터층(311b), 블루 컬러 필터층(311c)이 순차적으로 적층되어 있는 구조를 하고 있다.
도 6b에서는 광에 대한 반사도가 높은 그린 컬러 필터층(311a)을 맨 밑층에 형성하고, 차례대로 레드 컬러 필터층(311b), 블루 컬러 필터층(311c)이 순차적으로 적층 형성되어 있다.
하지만, 상기 그린 컬러 필터층(311a)을 맨 밑층에 형성하고, 상기 레드 컬러 필터층(311b), 블루 컬러 필터층(311c)의 적층 순서를 선택적으로 바꾸어 형성 할 수 있다.
본 발명의 실시예에서는 상기 박막 트랜지스터 상에 그린, 레드, 블루 필터층이 순차적으로 적층 형성되어 있고, 또한 동일한 적층 구조로 데이터 배선, 게이트 배선 상에도 적층되어 있으므로, 외부 광에 의한 광 반사율이 낮아져 화면 품위를 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
이상에서 자세히 설명된 바와 같이, 본 발명은 종래 COT 구조를 갖는 액정표시장치 기판에서 수지 BM 공정을 진행하지 않고, 수지 BM이 형성될 영역에 저반사 블랙 매트릭스 역할을 할 수 있는 컬러 필터층을 적층하여 제조 공정을 단순화한 효과가 있다.
아울러, 저반사 컬러 필터층에 의하여 외부 광이 반사되지 않아 화면 품위를 개선할 수 있는 효과가 있다.
본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않고, 이하 청구 범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.

Claims (24)

  1. 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되도록 형성하여 화소 영역을 정의하고, 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에는 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
    상기 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막 트랜지스터가 형성된 기판 상에 보호막을 형성하는 단계;
    상기 보호막이 형성된 기판의 화소 영역과 상기 화소 영역의 양측에 형성된 박막 트랜지스터와 데이터 배선 상부에 적층되도록 그린 컬러필터층을 형성하는 단계;
    상기 그린 컬러 필터층이 형성된 기판 상에 레드 컬러 필터층과 블루 컬러 필터층을 순차적으로 형성하는 단계;
    상기 그린, 레드, 블루 컬러필터층이 형성된 기판 상에 유기 절연막을 형성하는 단계;
    상기 유기 절연막이 형성된 기판 상에 콘택홀을 형성하는 단계; 및
    상기 콘택홀이 형성된 기판 상에 화소 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 액정표시장치 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 레드 컬러필터층은 일측 가장자리 영역이 그린 컬러필터층이 형성된 박막트랜지스터와 데이터 배선 상에 형성되고, 타측 가장자리 영역은 그린 컬러필터층이 형성되지 않은 박막트랜지스터와 데이터 배선 상부에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 블루 컬러필터층은 일측 가장자리 영역이 레드 컬러필터층이 형성된 박막 트랜지스터와 데이터 배선 상에 형성되고, 타측 가장자리 영역은 그린 컬러필터층이 형성된 박막 트랜지스터와 데이터 배선 상에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 그린 컬러필터층이 형성된 박막 트랜지스터와 데이터 배선 상에는 레드 컬러필터층 또는 블루 컬러필터층이 형성되도록 하여 광반사를 줄이도록 하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 레드 컬러필터층과 블루 컬러필터층 사이에 형성된 박막 트랜지스터와 데이터 배선 상에는 블랙 매트릭스 기능을 하도록 레드 컬러필터층과 블루 컬러필터층이 적층되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 그린 컬러필터층과 레드 컬러필터층 사이에 형성된 박막 트랜지스터와 데이터 배선 상에는 블랙 매트릭스 기능을 하도록 그린 컬러필터층 상에 레드 컬러필터층이 적층되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 그린 컬러필터층과 블루 컬러필터층 사이에 형성된 박막 트랜지스터와 데이터 배선 상에는 블랙 매트릭스 기능을 하도록 그린 컬러필터층 상에 블루 컬러필터층이 적층되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  8. 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되도록 형성하여 화소 영역을 정의하고, 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에는 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
    상기 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막 트랜지스터가 형성된 기판 상에 보호막을 형성하는 단계;
    상기 보호막이 형성된 기판의 박막트랜지스터와 데이터 배선을 제외한 화소 영역 내측에 그린 컬러필터층을 형성하는 단계;
    상기 그린 컬러 필터층이 형성된 기판 상에 레드 컬러필터층 또는 블루 컬러필터층을 화소 영역과 이 화소영역에 인접한 박막 트랜지스터와 데이터 배선 상에 순차적으로 형성하는 단계;
    상기 그린, 레드, 블루 컬러필터층이 형성된 기판 상에 유기 절연막을 형성하는 단계;
    상기 유기 절연막이 형성된 기판 상에 콘택홀을 형성하는 단계; 및
    상기 콘택홀이 형성된 기판 상에 화소 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 액정표시장치 제조방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 박막트랜지스터와 데이터 배선 및 게이트 배선 상부에는 블랙 매트릭스 기능을 하도록 레드 컬러 필터층 또는 블루 컬러필터층중 어느 하나가 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 블루 컬러 필터층은 상기 블루 컬러 필터층이 형성되는 화소 영역과, 그 화소 영역의 양측 데이터 배선, 게이트 배선 및 양측 박막 트랜지스터 상부까지 확장 형성하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  11. 제 8 항에 있어서,
    상기 레드 컬러 필터층은 상기 레드 컬러 필터층이 형성되는 화소 영역과, 그 화소 영역의 양측 데이터 배선, 게이트 배선 및 양측 박막 트랜지스터 상부까지 확장형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하도록 형성하여 화소 영역을 정의하고, 상기 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되는 영역에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
    상기 박막 트랜지스터가 형성된 기판 상에 보호막을 형성하는 단계;
    상기 보호막이 형성된 기판 상에 그린 컬러필터층이 형성될 화소 영역과, 각각의 박막트랜지스터, 데이터 배선 및 게이트 배선 상에 그린 컬러필터층을 형성하는 단계;
    상기 그린 컬러 필터층이 형성되어 있는 기판 상에 레드 컬러 필터층 및 블루 컬러 필터층을 순차적으로 형성하고, 동시에 상기 각각의 박막트랜지스터, 데이터 배선 및 게이트 배선 상에 레드 컬러필터층과 블루 컬러필터층을 순차적으로 적층 형성하는 단계;
    상기 컬러 필터층이 형성된 기판의 전 영역 상에 유기 절연막을 형성하는 단계;
    상기 유기 절연막이 도포된 기판 상에 콘택홀을 형성하는 단계; 및
    상기 콘택홀이 형성된 기판 상에 화소 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 박막 트랜지스터와 데이터 배선 및 게이트 배선 상에 형성되어 블랙 매트릭스 역할을 하는 컬러필터층의 적층 구조는 하부층은 그린 컬러 필터층이고, 이후 적층되는 컬러필터층은 레드 컬러필터층 또는 블루 컬러필터층이 교대로 적층되어 있는 구조인 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 게이트 배선, 데이터 배선, 박막 트랜지스터 상에 대응되는 보호막과 집적 맞닿는 층에는 광반사율이 높은 그린 컬러필터층을 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  17. 삭제
  18. 삭제
  19. 삭제
  20. 기판;
    상기 기판 상에 교차 배열되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선과, 데이터 배선;
    상기 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되는 영역에 배치된 박막 트랜지스터;
    상기 기판 상의 화소 영역에 형성된 각각 레드 그린, 블루 컬러필터층과, 상기 그린 컬러필터층이 형성된 화소영역의 양측 박막 트랜지스터, 게이트 배선 및 데이터 배선 상에는 그린 컬러필터층 상에 적층된 레드 컬러필터층 또는 블루 컬러필터층;
    상기 컬러 필터층 상부에 표면 평탄화를 위해서 배치된 유기 절연층; 및
    상기 컬러 필터층들에 각각 대응되면서 상기 유기 절연층 상에 배치되어 있는 화소 전극;을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 레드 컬러필터층과 블루 컬러필터층이 형성된 화소영역 사이의 박막 트랜지스터, 게이트 배선 및 데이터 배선 상에는 레드 컬러필터층 또는 블루 컬러필터층이 적층된 구조로 되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  22. 기판;
    상기 기판 상에 교차 배열되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선과, 데이터 배선;
    상기 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되는 영역에 배치된 박막 트랜지스터;
    상기 기판 상의 화소 영역에 각각 형성된 레드 그린, 블루 컬러필터층과, 각각의 화소 영역의 박막 트랜지스터, 게이트 배선 및 데이터 배선 상에 형성된 레드 컬러필터층 또는 블루 컬러필터층;
    상기 컬러 필터층 상부에 표면 평탄화를 위해서 배치된 유기 절연층; 및
    상기 컬러 필터층들에 각각 대응되면서 상기 유기 절연층 상에 배치되어 있는 화소 전극;을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  23. 기판;
    상기 기판 상에 교차 배열되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선과, 데이터 배선;
    상기 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되는 영역에 배치된 박막 트랜지스터;
    상기 기판 상의 화소 영역에 각각 형성된 레드 그린, 블루 컬러필터층과, 각각의 화소 영역의 박막 트랜지스터, 게이트 배선 및 데이터 배선 상에 그린 컬러필터층이 형성되고, 상기 그린 컬러필터층 상에 순차적으로 적층된 레드 컬러필터층과 블루 컬러필터층;
    상기 컬러 필터층 상부에 표면 평탄화를 위해서 배치된 유기 절연층; 및
    상기 컬러 필터층들에 각각 대응되면서 상기 유기 절연층 상에 배치되어 있는 화소 전극;을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  24. 제 23항에 있어서,
    상기 게이트 배선, 박막 트랜지스터 및 데이터 배선 상에는 순차적으로 그린, 레드, 블루 컬러필터층으로된 3층 구조이거나 순차적으로 그린, 블루, 레드 컬러필터층으로된 3층구조인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
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