JP3471692B2 - カラー液晶表示パネル - Google Patents

カラー液晶表示パネル

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JP3471692B2
JP3471692B2 JP2000013571A JP2000013571A JP3471692B2 JP 3471692 B2 JP3471692 B2 JP 3471692B2 JP 2000013571 A JP2000013571 A JP 2000013571A JP 2000013571 A JP2000013571 A JP 2000013571A JP 3471692 B2 JP3471692 B2 JP 3471692B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は薄膜トランジスタを
備えたカラー液晶表示パネルに関し、特に、ブラックマ
トリクスの下材との間の密着性の向上により高精細化を
図ったカラー液晶表示パネルに関する。
【0002】
【従来の技術】カラー液晶表示パネルには、2枚のガラ
ス基板とその間に挟まれた液晶層とが設けられており、
薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)タ
イプのパネルでは、TFTが設けられたTFT側ガラス
基板に対向する対向側ガラス基板上に3色(赤色、緑色
及び青色)の色層が一般に形成されている。しかし、こ
のような構造では、隣り合う画素開口部間にコントラス
ト向上等のために設けられるブラックマトリクスに大き
な重ね合わせマージンが必要となるため、パネルの高精
細化が困難であった。
【0003】そこで、近時、TFT側基板上に3色の色
層が設けられたカラー液晶表示パネルが注目されてい
る。図12は従来のTFT側基板上に3色の色層が設け
られたカラー液晶表示パネルを示す断面図である。
【0004】従来のカラー液晶表示パネルにおいては、
TFT側ガラス基板101及び対向側ガラス基板102
間に液晶層117が設けられている。以下、ガラス基板
101及び102の液晶層117側を内側、その反対側
を外側という。
【0005】TFT側ガラス基板101の内側表面上に
は、ゲート電極103が形成されており、更にゲート電
極103を覆うようにゲート絶縁膜104が形成されて
いる。ゲート電極103はパネルの行方向に延びるゲー
ト線(図示せず)に接続されている。
【0006】また、ゲート絶縁膜104の内側表面上で
各ゲート電極103に整合する位置には、半導体層10
5が形成されており、この半導体層105を挟むように
ドレイン電極106及びソース電極107が形成されて
いる。ドレイン電極106は列方向に延びる信号線(図
示せず)に接続されている。一方、ソース電極107
は、各TFT108に固有のものである。このようにし
て、マトリクス状に複数個のTFT108が配置されて
いる。更に、TFT側ガラス基板101の内側表面上に
は、TFT108を覆うように全面に絶縁膜109が形
成されている。
【0007】そして、各TFT108上には、絶縁膜1
09を介して黒色樹脂層(ブラックマトリクス)113
が形成されている。黒色樹脂層113は、各ゲート線及
び信号線上及びパネルの額縁部120においても、絶縁
膜109を介して形成されている。
【0008】また、赤色を発光する画素開口部において
は、色層として赤色層110のみが絶縁膜109上に設
けられ、緑色を発光する画素開口部においては、緑色層
111のみが絶縁膜109上に設けられ、青色を発光す
る画素開口部においては、青色層(図示せず)のみが絶
縁膜109上に設けられている。
【0009】更に、TFT側ガラス基板101の内側表
面上には、TFT108及び黒色樹脂層113等を覆い
表面が平坦化された平坦化膜114が全面に形成されて
いる。平坦化膜114には、夫々各ソース電極107ま
で達する複数個のコンタクトホール118が形成されて
おり、このコンタクトホール118内にITO膜からな
る画素電極115が形成されている。画素電極115は
平坦化膜114上で、その画素開口部の色層を覆うよう
に延出している。
【0010】一方、対向側ガラス基板102の内側表面
上には、各画素電極115と対向するように拡がる対向
側透明共通電極116が形成されている。対向側透明共
通電極116はITO膜からなる。
【0011】ガラス基板101及び102間には、液晶
層117を包囲するシール材119が設けられている。
また、平坦化膜114及び対向側透明共通電極116上
には、配向膜(図示せず)が形成されている。
【0012】このように構成された従来のカラー液晶表
示パネルにおいては、ブラックマトリクス113がTF
T側ガラス基板101上に形成されているので、ブラッ
クマトリクス113の幅を狭めることができ、それまで
のものと比して開口率を向上させることができる。例え
ば、XGAのパネルでは80%程度の開口率が得られ
る。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来のTFT側基板上に3色の色層が設けられた
カラー液晶表示パネルでは、その製造工程において、各
色層に対して塗布、現像及び焼成が行われた後に、又は
各色層が形成される前にブラックマトリクスの原料とな
る黒色樹脂膜の塗布、現像及び焼成が行われるが、黒色
樹脂膜の現像の最適な条件の幅(現像マージン)が極め
て狭いため、現像の際に黒色樹脂膜が絶縁膜109から
剥がれやすいという問題点がある。この黒色樹脂膜の剥
離は、光リソグラフィでパターニングするとき、黒色樹
脂膜では光が表面部分で吸収されてその内部まで感光し
ないためである。この対策としては、黒色樹脂膜を薄膜
化することである程度の改善はできるが、その場合、光
学濃度が低下するという新たな問題が生じてしまう。光
学濃度としては、3.0以上のOD値が必要とされる。
また、光学濃度を高めるためにカーボンの含有量を高め
ると、下地との密着に寄与しているアクリル成分の比率
が低下するため、密着力が低下するといったトレードオ
フの関係となってしまう。つまり、このような黒色樹脂
膜の剥離は、ブラックマトリクス113を厚膜化しよう
とした場合及びそのカーボン含有量を高めた場合等に、
特に顕著に現れる。従って、良好なコントラストを得る
ために光学濃度、即ち遮光能力を高めることは困難であ
るという問題点もある。一方、カラーフィルタにおいて
は、光が内部まで透過するため、十分な感光を行うこと
ができる。
【0014】また、遮光膜として3色の色層の積層体を
使用した液晶表示素子が提案されている(特開昭62−
250416号公報)。しかし、このような積層体をT
FT側ガラス基板上にブラックマトリクスの代替物とし
て使用しても、十分な遮光を行うことはできず、OD値
が低下し、コントラストが低下してしまう。
【0015】一方、前述の対向側ガラス基板上に3色の
色層が形成された液晶表示体用カラーフィルタでは、隣
り合う色層同士をそれらの境界で重ね合わせたものが提
案されている(特開昭63−173023号公報)。こ
の公報に記載されたカラーフィルタでは、前述の重ね合
わせ部上に黒色インクをローラにより塗布してブラック
マトリクスを形成している。しかし、このようなカラー
フィルタにおいては、隣り合う色層の色によって遮光率
が相違するため、表示される画像のコントラストにばら
つきが生じ、画像にむらが現れてしまう。
【0016】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、安定したコントラストを維持したまま、ブ
ラックマトリクスの絶縁膜との間の密着性を高め、現像
時の剥離を防止して高精細化することができるカラー液
晶表示パネルを提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明に係るカラー液晶
表示パネルは、対向して配置された第1及び第2の透明
基板と、前記第1及び第2の透明基板間に設けられた液
晶層と、前記第1の透明基板上にマトリクス状に配置さ
れた複数個の薄膜トランジスタと、前記第1の透明基板
上に設けられ前記薄膜トランジスタを覆う絶縁膜と、こ
の絶縁膜上に形成されたブラックマトリクスと、前記絶
縁膜上で前記ブラックマトリクスにより区画された領域
に設けられ第1乃至第3の色層を備えたカラーフィルタ
と、を有するカラー液晶表パネルにおいて、前記ブラッ
クマトリクスと前記絶縁膜との間には前記第1乃至第3
の色層から選択された少なくとも1つの色層と同じ色層
が設けられていることを特徴とする。
【0018】本発明においては、ブラックマトリクスと
絶縁膜との間に第1乃至第3の色層から選択された少な
くとも1つの色層と同じ色層が設けられている。色層に
ついては、その形成における光リソグラフィで光が内部
まで透過するため、十分な感光を行うことができ、この
色層と絶縁膜との間の密着性は高い。また、ブラックマ
トリクスについては、その下に色層が設けられているた
め、高い光学濃度が得られるので、薄膜化することがで
き、また、ブラックマトリクス及び色層の基材は通常同
一のもの、例えばアクリル樹脂であるので、色層とブラ
ックマトリクスとの間の密着性も高いこの結果、ブラッ
クマトリクスと絶縁膜との間に高い密着性が確保され
る。このため、現像時のブラックマトリクスの原料とな
る黒色樹脂膜の剥離が抑制されるので、微細なパターニ
ングが可能となり、高精細化の実現が可能となる。ま
た、ブラックマトリクス以外にその下の色層も遮光膜と
して機能するので、高い光学濃度が得られる。
【0019】なお、前記ブラックマトリクスと前記絶縁
膜との間に設けられた色層の層数は1層であり、この色
層の色は全体で統一されていてもよく、前記ブラックマ
トリクスと前記絶縁膜との間に設けられた色層の層数は
2層であり、これらの色層の色の組合せは全体で統一さ
れていてもよい。また、前記ブラックマトリクスと前記
絶縁膜との間に設けられた色層の層数は3層であっても
よい。
【0020】更に、前記ブラックマトリクスは、基材と
してのアクリル樹脂部と、このアクリル樹脂部中に分散
したカーボン粒子と、を有することができる。
【0021】更にまた、前記ブラックマトリクスと前記
絶縁膜との間に設けられた色層は、前記カラーフィルタ
を構成する色層と同時に形成されたものであってもよ
い。
【0022】また、前記絶縁膜は、シリコン窒化膜であ
ることが望ましい。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に係るカラ
ー液晶表示パネルについて、添付の図面を参照して具体
的に説明する。図1は本発明の実施例に係るカラー液晶
表示パネルの構造を示す断面図である。
【0024】本実施例のカラー液晶表示パネルにおいて
は、TFT側ガラス基板1及び対向側ガラス基板2間に
液晶層17が設けられている。以下、ガラス基板1及び
2の液晶層17側を内側、その反対側を外側という。
【0025】TFT側ガラス基板1の内側表面上には、
複数個のゲート電極3が形成されており、更にゲート電
極3を覆うようにゲート絶縁膜4が形成されている。行
をなす複数個のTFT8のゲート電極3はパネルの行方
向に延びるゲート線(図示せず)に共通接続されてい
る。
【0026】また、ゲート絶縁膜4は、例えばSiO2
膜からなる。ゲート絶縁膜4の内側表面上で各ゲート電
極3に整合する位置には、半導体層5が形成されてお
り、この半導体層5を挟むようにドレイン電極6及びソ
ース電極7が形成されている。列をなす複数個のTFT
8のドレイン電極6はパネルの列方向に延びる信号線
(図示せず)に共通接続されている。一方、ソース電極
7は、各TFT8に固有のものである。このようにし
て、マトリクス状に複数個のTFT8が配置されてい
る。更に、TFT側ガラス基板1の内側表面上には、T
FT8を覆うように全面に絶縁膜9が形成されている。
絶縁膜9は、例えばシリコン窒化物からなるが、これに
限定されるものではない。
【0027】そして、各TFT8上には、絶縁膜9を介
して第1の色層10、第2の色層11、第3の色層12
及び黒色樹脂層13が下から順に積層されている。この
ような第1乃至第3の色層10乃至12及び黒色樹脂層
13からなる積層体は、各ゲート線及び信号線上及びパ
ネルの額縁部20においても、絶縁膜9を介して形成さ
れている。第1乃至第3の色層10乃至12は、本実施
例では、例えば夫々赤色層、緑色層及び青色層である
が、これらの組合せの順番が異なっていてもよい。例え
ば、第1乃至第3の色層10乃至12は、夫々アクリル
樹脂層に各色層に適した粒子が分散したものであり、黒
色樹脂層13は、アクリル樹脂層にカーボン粒子が分散
したものである。以下、全ての黒色樹脂層13をブラッ
クマトリクス13といい、その中でも特に額縁部20に
設けられたブラックマトリクスを額縁ブラックマトリク
スという。
【0028】また、赤色を発光する画素開口部において
は、色層として第1の色層10のみが絶縁膜9上に設け
られ、緑色を発光する画素開口部においては、色層とし
て第2の色層11のみが絶縁膜9上に設けられ、青色を
発光する画素開口部(図示せず)においては、色層とし
て第3の色層12のみが絶縁膜9上に設けられている。
【0029】更に、TFT側ガラス基板1の内側表面上
には、TFT8並びに第1乃至第3の色層10乃至12
及び黒色樹脂層13からなる積層体等を覆い表面が平坦
化された平坦化膜14が全面に形成されている。平坦化
膜14には、夫々各ソース電極7まで達する複数個のコ
ンタクトホール18が形成されており、このコンタクト
ホール18内に、例えばITO膜からなる画素電極15
が形成されている。画素電極15は平坦化膜14上で、
その画素開口部の色層を覆うように延出している。
【0030】一方、対向側ガラス基板2の内側表面上に
は、各画素電極15と対向するように拡がる対向側透明
共通電極16が形成されている。対向側透明共通電極1
6は、例えばITO膜からなる。
【0031】ガラス基板1及び2間には、液晶層17を
包囲するシール材19が設けられている。シール材19
は、例えばエポキシ系樹脂接着剤からなるが、これに限
定されるものではない。また、平坦化膜14及び対向側
透明共通電極16上には、配向膜(図示せず)が形成さ
れている。
【0032】このように構成された本実施例のカラー液
晶表示パネルにおいては、ブラックマトリクス13は第
1乃至第3の色層10乃至12を介して絶縁膜9上に形
成されている。第1乃至第3の色層10乃至12は、フ
ォトレジストを使用したパターニングにより形成される
ものであり、感光性が高く架橋反応が十分に起こるの
で、シリコン窒化物からなる絶縁膜9との密着性が高
い。また、第3の色層12及びブラックマトリクス13
の基材は、いずれもアクリル樹脂であるので、それらの
間の密着性も高い。更に、ブラックマトリクス13の下
層に第1乃至第3の色層10乃至12が設けられている
ので、ブラックマトリクス13を薄膜化しても、高い光
学濃度が得られるので、内部の感光率を高めるために薄
膜化することも可能である。従って、ブラックマトリク
ス13と絶縁膜9との間に高い密着性が得られる。この
ため、微細なパターンを採用しても、その製造工程にお
けるブラックマトリクス13の剥離が極めて発生しにく
くなるので、微細パターンを採用して高精細のパネルに
適用することが可能となる。例えば幅が10μm程度の
ブラックマトリクスのパターニングが可能となり、XG
Aのパネルにおいて80%程度の開口率が得られる。
【0033】また、ブラックマトリクス13の下には3
色の色層10乃至12が設けられているので、ブラック
マトリクス13の位置による遮光率のばらつきは生じな
い。このため、安定したコントラストが得られる。更
に、ブラックマトリクス13の光学濃度(OD(Optica
l Density)値)に3色の色層10乃至12の各光学濃
度が付加されるので、高い総光学濃度が得られる。
【0034】次に、上述のような本実施例のカラー液晶
表示パネルを製造する方法について説明する。図2
(a)乃至(c)、図3(a)及び(b)並びに図4
(a)及び(b)は本発明の実施例に係るカラー液晶表
示パネルを製造する方法を工程順に示す断面図である。
また、図5は図2(a)に断面図を示す工程を示す平面
図であり、図6は図2(b)に断面図を示す工程を示す
平面図であり、図7は図2(c)に断面図を示す工程を
示す平面図であり、図8は図3(a)に断面図を示す工
程を示す平面図であり、図9は図3(b)に断面図を示
す工程を示す平面図である。なお、図2乃至図9におい
ては、簡略化のため絶縁膜4等は省略する。
【0035】前述のカラー液晶表示パネルを製造する際
には、先ず、図2(a)及び図5に示すように、TFT
側ガラス基板1上にマトリクス状に複数個のTFT8を
形成する。この工程において、ゲート電極3及びゲート
線3aを形成した後に絶縁膜4を形成している。
【0036】次に、全面に絶縁膜9を形成し、図2
(b)及び図6に示すように、TFT8のゲート電極3
及びドレイン電極6、額縁部20、赤色を発光する画素
開口部、ゲート線3a上並びに信号線6a上における絶
縁膜9上に赤色の第1の色層10を形成する。第1の色
層10はアクリル樹脂を基材とし、その内部に赤色の粒
子が分散されている。また、第1の色層10の厚さは、
例えば1乃至2μmである。
【0037】次いで、図2(c)及び図7に示すよう
に、TFT8のゲート電極3及びドレイン電極6、額縁
部20、緑色を発光する画素開口部、ゲート線3a上並
びに信号線6a上における第1の色層10及び露出した
絶縁膜9上に緑色の第2の色層11を形成する。第2の
色層11はアクリル樹脂を基材とし、その内部に緑色の
粒子が分散されている。また、第2の色層11の厚さ
は、例えば1乃至2μmである。
【0038】更に、図3(a)及び図8に示すように、
TFT8のゲート電極3及びドレイン電極6、額縁部2
0、青色を発光する画素開口部、ゲート線3a上並びに
信号線6a上における第2の色層11及び露出した絶縁
膜9上に青色の第3の色層12を形成する。第3の色層
12はアクリル樹脂を基材とし、その内部に青色の粒子
が分散されている。また、第3の色層12の厚さは、例
えば1乃至2μmである。
【0039】そして、図3(b)及び図9に示すよう
に、TFT8のゲート電極3及びドレイン電極6、額縁
部20、ゲート線3a上並びに信号線6a上における第
3の色層11上にブラックマトリクス13を形成する。
ブラックマトリクス13の厚さは、例えば1乃至2μm
である。
【0040】続いて、図4(a)に示すように、全面に
平坦化膜14を形成し、平坦化膜14に夫々各ソース電
極7まで達するコンタクトホール18を形成する。
【0041】次に、図4(b)に示すように、平坦化膜
14上でその画素開口部の色層を覆うように延出する画
素電極15をコンタクトホール18内及び平坦化膜14
上に形成する。
【0042】その後、通常の方法により、対向側ガラス
基板2上に対向側透明共通電極16を形成し、これらの
基板を貼り合わせる等してカラー液晶表示パネルを完成
させる。
【0043】なお、前述の実施例では、ブラックマトリ
クス13と絶縁膜9との間に3層の色層10乃至12が
設けられているが、色層の層数は1又は2層であっても
よい。この場合、その色層の色は限定されるものではな
い。但し、パネル全体で安定したコントラストを得るた
めには、ブラックマトリクス13と絶縁膜9との間に設
けられる色層の組合せは一定である必要がある。このよ
うに、ブラックマトリクス13と絶縁膜9との間の色層
の層数を1又は2としても、高い密着性及びコントラス
トを得ることは可能である。例えば、色層の層数が1層
の場合、ブラックマトリクスの厚さは3乃至4μmであ
ることが好ましい。
【0044】図10は横軸に波長をとり、縦軸に透過率
をとって2層の色層及びブラックマトリクスを設けた場
合等種々の場合における両者の関係を示すグラフ図であ
り、図11は横軸に波長をとり、縦軸に透過率をとって
2層の色層のみを設けた場合等種々の場合における両者
の関係を示すグラフ図である。なお、図10において、
実線は2層の色層及びOD値が1.6のブラックマトリ
クスを設けた場合(本発明の実施例に相当)を示し、一
点鎖線はOD値が3のブラックマトリクスのみを設けた
場合を示し、破線はOD値が1.6のブラックマトリク
スのみを設けた場合を示している。また、図11におい
て、実線はOD値が3のブラックマトリクスのみを設け
た場合を示し、一点鎖線は3層の色層のみを設けた場合
を示し、破線は2層の色層のみを設けた場合を示してい
る。図10及び図11に示すように、2層の色層及びブ
ラックマトリクスを設けた場合には、他の場合と比して
極めて低い透過率が得られている。なお、図10及び図
11に示す2層の場合の色層は、赤色の色層と青色の色
層とを組合わせたものである。
【0045】また、実際に本願発明者が黒色樹脂膜の現
像時のマージンの確認を行ったところ、以下に示す表1
及び表2のような結果が得られた。表1はシリコン窒化
膜の上に第1乃至第3の色層及び黒色樹脂膜が順次堆積
したときの結果であり、表2はシリコン窒化膜上に直接
黒色樹脂膜を堆積したときの結果である。なお、表1及
び表2において、○は黒色樹脂膜に剥がれ及び現像残り
のいずれもが生じなかったことを示し、△は黒色樹脂膜
の一部に剥がれ及び/又は現像残りが生じたことを示
し、×は黒色樹脂膜が剥がれたか、又は現像が不可能で
あったことを示す。また、pH値の中心条件Dの値は1
0乃至11であり、現像時間の中心時間Tは60乃至1
20秒間である。
【0046】
【表1】
【0047】
【表2】
【0048】なお、前述の実施例では、ブラックマトリ
クス及び色層の基材としてアクリル樹脂を使用している
が、ポリイミド樹脂等他の樹脂を使用してもよい。
【0049】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
色層と絶縁膜との間の密着性及び色層とブラックマトリ
クスとの間の密着性が高く、このような色層を少なくと
も1層ブラックマトリクスと絶縁膜との間に設けている
ので、ブラックマトリクスと絶縁膜である窒化膜との間
に高い密着性を得ることができる。この結果、現像時の
ブラックマトリクスの原料となる黒色樹脂膜の剥離を抑
制することができ、微細なパターニングが可能となり、
パネルを高精細化することができる。また、ブラックマ
トリクス以外にその下の色層も遮光膜として機能するの
で、高い光学濃度を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係るカラー液晶表示パネルの
構造を示す断面図である。
【図2】(a)乃至(c)は本発明の実施例に係るカラ
ー液晶表示パネルを製造する方法を工程順に示す断面図
である。
【図3】(a)及び(b)は、同じく実施例に係るカラ
ー液晶表示パネルを製造する方法を示す図であって、図
2(a)乃至(c)に示す工程の次工程を工程順に示す
断面図である。
【図4】(a)及び(b)は、同じく実施例に係るカラ
ー液晶表示パネルを製造する方法を示す図であって、図
3(a)及び(b)に示す工程の次工程を工程順に示す
断面図である。
【図5】図2(a)に断面図を示す工程を示す平面図で
ある。
【図6】図2(b)に断面図を示す工程を示す平面図で
ある。
【図7】図2(c)に断面図を示す工程を示す平面図で
ある。
【図8】図3(a)に断面図を示す工程を示す平面図で
ある。
【図9】図3(b)に断面図を示す工程を示す平面図で
ある。
【図10】2層の色層及びブラックマトリクスを設けた
場合等種々の場合における波長と透過率との関係を示す
グラフ図である。
【図11】2層の色層のみを設けた場合等種々の場合に
おける波長と透過率との関係を示すグラフ図である。
【図12】従来のTFT側基板上に3色の色層が設けら
れたカラー液晶表示パネルを示す断面図である。
【符号の説明】
1、2;ガラス基板 3;ゲート電極 3a;ゲート線 4、9;絶縁膜 5;半導体層 6;ドレイン電極 6a;信号線 7;ソース電極 8;TFT 10、11、12;色層 13;ブラックマトリクス(黒色樹脂膜) 14;平坦化膜 15;画素電極 16;対向側透明共通電極 17;液晶層 18;コンタクトホール 19;シール材 20;額縁部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI G03F 7/004 511 G03F 7/004 511 H04N 5/66 102 H04N 5/66 102A 9/30 9/30 (72)発明者 渡邊 貴彦 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気 株式会社内 (72)発明者 吉川 周憲 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気 株式会社内 (72)発明者 丸山 宗生 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気 株式会社内 (56)参考文献 特開 平8−146402(JP,A) 特開 平4−348320(JP,A) 特開 平6−118223(JP,A) 特開 平11−64837(JP,A) 特開 平5−134271(JP,A) 特開 平11−119230(JP,A) 特開 平10−221696(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G09F 9/30 - 9/46 G02F 1/1335 - 1/13363

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対向して配置された第1及び第2の透明
    基板と、前記第1及び第2の透明基板間に設けられた液
    晶層と、前記第1の透明基板上にマトリクス状に配置さ
    れた複数個の薄膜トランジスタと、前記第1の透明基板
    上に設けられ前記薄膜トランジスタを覆う絶縁膜と、こ
    の絶縁膜上に形成されたブラックマトリクスと、前記絶
    縁膜上で前記ブラックマトリクスにより区画された領域
    に設けられ第1乃至第3の色層を備えたカラーフィルタ
    と、を有するカラー液晶表パネルにおいて、前記ブラッ
    クマトリクスと前記絶縁膜との間には前記第1乃至第3
    の色層から選択された少なくとも1つの色層と同じ色層
    が設けられていることを特徴とするカラー液晶表示パネ
    ル。
  2. 【請求項2】 前記ブラックマトリクスと前記絶縁膜と
    の間に設けられた色層の層数は1層であり、この色層の
    色は全体で統一されていることを特徴とする請求項1に
    記載のカラー液晶表示パネル。
  3. 【請求項3】 前記ブラックマトリクスと前記絶縁膜と
    の間に設けられた色層の層数は2層であり、これらの色
    層の色の組合せは全体で統一されていることを特徴とす
    る請求項1に記載のカラー液晶表示パネル。
  4. 【請求項4】 前記ブラックマトリクスと前記絶縁膜と
    の間に設けられた色層の層数は3層であることを特徴と
    する請求項1に記載のカラー液晶表示パネル。
  5. 【請求項5】 前記ブラックマトリクスは、基材として
    のアクリル樹脂部と、このアクリル樹脂部中に分散した
    カーボン粒子と、を有することを特徴とする請求項1乃
    至4のいずれか1項に記載のカラー液晶表示パネル。
  6. 【請求項6】 前記ブラックマトリクスと前記絶縁膜と
    の間に設けられた色層は、前記カラーフィルタを構成す
    る色層と同時に形成されたものであることを特徴とする
    請求項1乃至5のいずれか1項に記載のカラー液晶表示
    パネル。
  7. 【請求項7】 前記絶縁膜は、シリコン窒化膜であるこ
    とを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の
    カラー液晶表示パネル。
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Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3793402B2 (ja) * 2000-07-28 2006-07-05 株式会社日立製作所 カラー液晶表示装置
KR100518051B1 (ko) * 2001-01-11 2005-09-28 엔이씨 엘씨디 테크놀로지스, 엘티디. 능동 매트릭스형 액정 디스플레이 장치와 그 제조 방법
TW575775B (en) * 2001-01-29 2004-02-11 Hitachi Ltd Liquid crystal display device
JP4876341B2 (ja) * 2001-07-13 2012-02-15 日本電気株式会社 アクティブマトリクス基板及びその製造方法
KR100783606B1 (ko) * 2002-02-04 2007-12-07 삼성전자주식회사 액정표시장치
JP3705229B2 (ja) * 2002-03-08 2005-10-12 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置及び電子機器、並びに電気光学装置の製造方法
TW564327B (en) * 2002-10-14 2003-12-01 Hannstar Display Corp Active color filter on array structure and its manufacturing method
KR100887671B1 (ko) * 2002-12-23 2009-03-11 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법
KR100905409B1 (ko) * 2002-12-26 2009-07-02 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR20040080778A (ko) 2003-03-13 2004-09-20 삼성전자주식회사 4색 구동 액정 표시 장치 및 이에 사용하는 표시판
KR100945579B1 (ko) * 2003-03-17 2010-03-08 삼성전자주식회사 표시 장치용 표시판 및 그의 제조 방법과 그 표시판을포함하는 액정 표시 장치
KR100940569B1 (ko) * 2003-05-12 2010-02-03 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터 기판
TW588807U (en) * 2003-06-17 2004-05-21 Allied Material Technology Cor Back light LCD module
KR100614332B1 (ko) * 2004-03-30 2006-08-18 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR100945354B1 (ko) * 2004-06-29 2010-03-08 엘지디스플레이 주식회사 화소영역외곽부에 블랙매트릭스가 형성된 cot구조액정표시장치
US7884900B2 (en) * 2005-05-26 2011-02-08 Toshiba Matsushita Display Technology Co., Ltd. Liquid crystal display device with partition walls made of color filter layers as a dam for the light shielding material
JP4731576B2 (ja) * 2005-09-15 2011-07-27 シャープ株式会社 表示パネル
WO2007032395A1 (ja) * 2005-09-15 2007-03-22 Sharp Kabushiki Kaisha 表示パネル
JP2008209732A (ja) * 2007-02-27 2008-09-11 Sharp Corp 薄膜トランジスタアレイ基板、その製造方法および液晶表示装置
CN101581852B (zh) * 2009-06-24 2012-02-08 昆山龙腾光电有限公司 彩色滤光片基板及制作方法和液晶显示面板
TWI391735B (zh) * 2009-07-06 2013-04-01 Au Optronics Corp 具有彩色濾光陣列之畫素陣列基板以及顯示面板
KR101607635B1 (ko) 2009-09-21 2016-03-31 삼성디스플레이 주식회사 표시판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
US9025112B2 (en) * 2012-02-02 2015-05-05 Apple Inc. Display with color mixing prevention structures
KR102101262B1 (ko) 2013-01-25 2020-04-16 도판 인사츠 가부시키가이샤 컬러 필터 기판, 액정 표시 장치, 및 컬러 필터 기판의 제조 방법
CN103728780A (zh) * 2013-12-31 2014-04-16 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示装置及其制造方法
TWI765679B (zh) * 2014-05-30 2022-05-21 日商半導體能源研究所股份有限公司 觸控面板
TW201631367A (zh) * 2015-02-25 2016-09-01 友達光電股份有限公司 顯示面板及其製作方法
KR102316458B1 (ko) * 2015-03-24 2021-10-25 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시장치
KR102380160B1 (ko) * 2015-04-02 2022-03-29 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
CN104965366B (zh) * 2015-07-15 2018-11-20 深圳市华星光电技术有限公司 阵列彩膜集成式液晶显示面板的制作方法及其结构
CN105116650B (zh) * 2015-09-01 2019-01-01 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板
CN105655290B (zh) * 2016-01-05 2018-11-23 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板、阵列基板及其制造方法
CN107768383B (zh) * 2016-08-19 2021-06-04 群创光电股份有限公司 阵列基板及包括此阵列基板的显示装置
US20180053791A1 (en) * 2016-08-19 2018-02-22 Innolux Corporation Array substrate and display device with the array substrate
CN107452779B (zh) * 2017-07-27 2019-12-27 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62250416A (ja) 1986-04-23 1987-10-31 Stanley Electric Co Ltd Tft組込型カラ−液晶表示素子
JPS63173023A (ja) 1987-01-13 1988-07-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示体用カラ−フイルタの製造法
US5994721A (en) * 1995-06-06 1999-11-30 Ois Optical Imaging Systems, Inc. High aperture LCD with insulating color filters overlapping bus lines on active substrate
JPH0980447A (ja) * 1995-09-08 1997-03-28 Toshiba Electron Eng Corp 液晶表示素子
US5866919A (en) * 1996-04-16 1999-02-02 Lg Electronics, Inc. TFT array having planarized light shielding element
JP3949759B2 (ja) * 1996-10-29 2007-07-25 東芝電子エンジニアリング株式会社 カラーフィルタ基板および液晶表示素子
JP3129699B2 (ja) * 1998-07-23 2001-01-31 日本電気株式会社 液晶表示装置

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