KR100905409B1 - 액정표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 121
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 61
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 51
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 49
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 17
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract description 14
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 29
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
Description
Claims (9)
- 제 1 기판 상에 서로 교차하여 화소영역을 정의하며 형성된 게이트 배선 및 데이터 배선과;상기 게이트 배선 및 데이터 배선 교차부에 형성된 박막트랜지스터와;상기 화소 영역별로 적, 녹, 청 컬러필터가 차례대로 배열되며, 상기 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀을 가지는 컬러필터층과;상기 박막트랜지스터를 덮는 영역에서, 적어도 2 개층의 컬러필터 물질층의 적층 구조로 이루어지며 상기 컬러필터층과 그 높이가 일치하여 상기 컬러필터층과 더불어 평탄한 상부 표면을 이루는 광차단 패턴부와;상기 컬러필터층과 상기 광차단 패턴부 위로 이와 접촉하며 형성되며, 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 상기 드레인 콘택홀을 통해 접촉하며 형성된 화소전극과;상기 제 1 기판과 대향되게 배치된 제 2 기판과;상기 제 2 기판의 내부면에 형성된 공통 전극과;상기 화소 전극 및 공통 전극 사이 구간에 개재된 액정층을 포함하고,상기 공통전극과 상기 화소전극 사이의 거리는 상기 드레인 콘택홀을 제외한 영역에서 일정한 것이 특징인 액정표시장치.
- 제 1 기판 상에 형성된 게이트 전극과;상기 게이트 전극을 덮는 위치에 형성된 게이트 절연막과;상기 게이트 절연막 상부의 게이트 전극을 덮는 영역에 위치하며, 비정질 실리콘(a-Si)으로 이루어진 액티브층(active layer)과, 불순물 비정질 실리콘(n+ a-Si)으로 이루어진 오믹콘택층(ohmic contact layer)이 차례대로 적층된 구조의 반도체층과;상기 반도체층 상부에서 서로 이격되게 위치하는 소스 전극 및 드레인 전극과;상기 게이트 전극, 게이트 절연막, 반도체층, 소스 전극 및 드레인 전극은 박막트랜지스터를 이루고, 상기 박막트랜지스터 위로 서로 다른 색을 갖는 두 개의 컬러필터 물질층이 적층되어 이루어진 광차단 패턴부와;상기 광차단 패턴부와 동일 공정에서 동일 물질로 이루어진 적, 녹, 청 컬러필터로 이루어지며, 상기 드레인 전극을 일부 노출시키는 드레인 콘택홀을 가지며 상기 광차단 패턴과 그 높이가 일치하여 상기 광차단 패턴과 더불어 평탄한 상부 표면을 가지며 형성된 컬러필터층과;상기 컬러필터층과 상기 광차단 패턴 위로 이와 접촉하며 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 접촉하며 형성된 화소 전극과;상기 제 1 기판과 대향되게 배치되는 제 2 기판과;상기 제 2 기판 내부면에 형성된 공통 전극과;상기 제 1, 2 기판 사이 구간에 개재된 액정층을 포함하고,상기 공통전극과 상기 화소전극 사이의 거리는 상기 드레인 콘택홀을 제외한 영역에서 일정한 것이 특징인 액정표시장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 컬러필터층은, 감광성 안료를 이용한 사진식각공정(photolithography)에 의해, 적, 녹, 청 컬러필터를 순서대로 형성하는 방법에 의해 이루어지는 액정표시장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 광차단 패턴부에 위치하는 컬러필터 물질층 각각은, 해당컬러 컬러필터 공정에서 회절노광법에 의한 사진식각 공정에 의해, 화소 영역에 위치하는 컬러필터층 두께와 다른 두께를 갖도록 형성되는 액정표시장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 광차단 패턴부는, 적색 컬러필터 물질층, 녹색 컬러필터 물질층, 청색 컬러필터 물질층이 차례대로 적층된 구조로 이루어지는 액정표시장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 광차단 패턴부는, 적색 컬러필터 물질층, 녹색 컬러필터 물질층이 차례대로 적층된 구조로 이루어지는 액정표시장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 광차단 패턴부는, 적색 컬러필터 물질층, 청색 컬러필터 물질층이 차례대로 적층된 구조로 이루어지는 액정표시장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 광차단 패턴부는, 녹색 컬러필터 물질층, 청색 컬러필터 물질층이 차례대로 적층된 구조로 이루어지는 액정표시장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 박막트랜지스터를 덮으며 상기 제 1 기판 전면에 보호층이 추가로 포함되고, 상기 보호층 상부에 상기 컬러필터층 및 상기 광차단 패턴부가 형성되어 있는 액정표시장치.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020020084611A KR100905409B1 (ko) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
GB0327846A GB2396732B (en) | 2002-12-26 | 2003-12-01 | Liquid crystal device and method for fabricating the same |
TW092133743A TWI304511B (en) | 2002-12-26 | 2003-12-01 | Liquid crystal display device having light-shield color filter pattern and method for fabricating the same |
US10/731,950 US8107038B2 (en) | 2002-12-26 | 2003-12-10 | Liquid crystal display device with light-shielding color filter pattern and method for fabricating the same |
JP2003415252A JP3878172B2 (ja) | 2002-12-26 | 2003-12-12 | 液晶表示装置とその製造方法及び液晶表示装置用アレイ基板の製造方法 |
CNB2003101230591A CN1265233C (zh) | 2002-12-26 | 2003-12-23 | 液晶显示设备及其制造方法 |
US13/343,351 US8233120B2 (en) | 2002-12-26 | 2012-01-04 | Liquid crystal display device with light-shielding color filter pattern and method for fabricating the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020020084611A KR100905409B1 (ko) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040057798A KR20040057798A (ko) | 2004-07-02 |
KR100905409B1 true KR100905409B1 (ko) | 2009-07-02 |
Family
ID=29775050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020020084611A KR100905409B1 (ko) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8107038B2 (ko) |
JP (1) | JP3878172B2 (ko) |
KR (1) | KR100905409B1 (ko) |
CN (1) | CN1265233C (ko) |
GB (1) | GB2396732B (ko) |
TW (1) | TWI304511B (ko) |
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---|---|---|---|---|
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US20120099059A1 (en) | 2012-04-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
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J201 | Request for trial against refusal decision | ||
J501 | Disposition of invalidation of trial | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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