JP4458591B2

JP4458591B2 - 液晶表示装置

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Publication number: JP4458591B2
Application number: JP32000099A
Authority: JP
Inventors: 哲也飯塚; 暢子福岡; 敦行真鍋; 大輔宮崎; 仁羽藤
Original assignee: Toshiba Mobile Display Co Ltd
Current assignee: Japan Display Central Inc
Priority date: 1999-11-10
Filing date: 1999-11-10
Publication date: 2010-04-28
Anticipated expiration: 2019-11-10
Also published as: JP2001142088A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置に関し、特に、アレイ基板側に着色層が設けられた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は、配向膜を有する２枚の基板を配向膜が対向するように配置し、これら２枚の基板間に液晶層を挟持して構成されている。これら２枚の基板は、シール材および封止材によって周辺領域同士が貼り合わされ、この２枚の基板間には、基板間距離を所定の値に保持するために粒状スペーサ、またはフォトリソグラフィー法により形成された樹脂からなる柱状スペーサが配置されている。液晶表示装置によりカラー表示する場合、一般に、基板の一方に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）からなる着色層が配置されている。
【０００３】
通常、基板の表示領域の外側には、バックライトからの光漏れを防止するために額縁状のブラックマトリクス（ＢＭ）が形成される。このＢＭ材料としては、Ｃｒ、ＭｏＷ等の金属薄膜や、樹脂が使用されている。
【０００４】
また、アレイ基板側に着色層を形成する場合、Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層の他に黒の着色層で柱状スペーサと額縁パターンを同時に形成する。このとき黒着色層をＲ、Ｇ、Ｂ着色層上に形成することにより所望のセルギヤップを得ることができる。通常、高い透過率を得るために、Ｒ、Ｇ、Ｂ着色層は黒着色層よりも薄く形成される。そのため、額縁パターンの部分におけるセルギヤップは、表示領域におけるセルギャップよりも小さくなっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このような液晶表示装置において、液晶は、シール材の一部に形成された注入口を通して基板間に注入される。しかしながら、この場合、液晶注入口は額縁パターンと隣接対向して位置しているとともに、この額縁パターンは膜厚が厚くセルギャツプが小さくなっている。従って、液晶は、注入口からセルギャップの小さな額縁パターンを通って基板間に注入されることになり、液晶の注入に時間が掛かってしまう。
【０００６】
これに対し、膜厚の薄い他の着色層を注入口近傍に配置すると、注入口の開口断面積が大きくなるため注入時間は短くなるものの、注入口に対向する額縁パターンの一部分で色が異なることになり、見栄えが悪くなると言う問題が発生する。
【０００７】
この発明は、以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、液晶注入時間の短縮を図ることができるとともに、注入口部分の見栄えの低下を防止可能な液晶表示装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、この発明に係る液晶表示装置は、表示領域の外周縁に沿って設けられた額縁パターンを備え、この額縁パターンの内、液晶注入口に隣接対向する部分は、膜厚の厚い着色層と膜厚の薄い着色層とを配置して構成されている。
【０００９】
すなわち、この発明の態様に係る液晶表示装置は、基板の一主面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記交差部毎に配置されたスイッチング素子と、前記信号線、前記走査線及び前記スイッチング素子の少なくとも一部を覆うように配置された複数の着色層と、それぞれ前記着色層上に重ねて配置されているとともに前記着色層に形成されたスルーホール部を介して前記スイッチング素子にそれぞれ接続された複数の画素電極と、を有した表示領域と、前記表示領域を囲んで設けられ、前記着色層よりも厚い膜厚と高い遮光性を有し、前記表示領域周縁の光漏れを防止する額縁パターンと、前記スイッチング素子と同時に形成され前記表示領域を駆動する駆動回路と、前記スイッチング素子および前記駆動回路を構成する導電膜により形成されているとともに前記表示領域周縁に平行に配置され、前記駆動回路を動作させるための複数本の配線と、を備えたアレイ基板と、前記アレイ基板と対向して配置された対向基板と、前記表示領域の周囲を囲んで設けられ前記アレイ基板と前記対向基板との周縁部同志を接着しているとともに、液晶注入口を有したシール材と、前記アレイ基板と前記対向基板との間に設けられ、前記アレイ基板と前記対向基板との間に所定の隙間を保持した複数のスペーサと、前記液晶注入口から前記アレイ基板と前記対向基板との間の間隙に注入された液晶層と、前記液晶注入口を封止した封止材と、を備え、
前記額縁パターンは、前記液晶注入口に隣接対向した注入ガイド部を有し、この注入ガイド部において、額縁パターンの少なくとも一部が、前記着色層の少なくとも１つで置き換えられ、前記注入ガイド部における前記着色層の下部に、前記スイッチング素子の一部を構成する絶縁層の少なくとも１層が設けられ、前記注入ガイド部において、前記着色層の下方に設けられ前記駆動回路を作動させるための前記複数本の配線間は、前記スイッチング素子を構成する前記絶縁層と遮光パターンとにより遮光されていることを特徴としている。
【００１０】
このような構成によれば、額縁パターンに注入ガイド部を設けることにより、額縁パターンを全て厚い着色層、例えば、黒色着色層で形成する場合に比較して、液晶注入口の開口部断面積が大きくなり、液晶注入時間を短縮することができるとともに、注入ガイド部の色が異なることによる見栄えの悪さも緩和することができる。
【００１１】
一方、シール材で囲まれた基板間の隙間に液晶が進入するとき、液晶は弧を描いて広がってゆく。従って、額縁パターンの注入ガイド部の長さを液晶注入口よりも長く形成し、液晶注入口のみならず、更に両側に広げて配置することにより、液晶の進路を確保することができ、液晶注入時間を短縮し、かつ、膜厚の薄い着色層の比率を低く抑えて見栄えがよい液晶表示装置を得ることが可能である。
【００１２】
また、この発明に係る液晶表示装置によれば、注入ガイド部に配置された着色層上の一部に、表示領域内と同様に柱状スペーサを設けることにより、液晶注入口が潰れてギャップが狭くなることを防止でき、液晶注入時間をより短縮することが可能となる。
【００１３】
更に、この発明に係る液晶表示装置によれば、注入ガイド部の膜厚の厚い部分の下部に存在する膜の厚さを、膜厚の薄い着色層部分の下部に存在する膜の厚さよりも薄くすることにより、液晶注入口部分のギャップを更に広げることが可能となる。
【００１４】
また、この発明に係る液晶表示装置によれば、液晶駆動回路を、スイッチング素子と同時に表示領域周辺に形成し、液晶注入口近傍に液晶駆動回路動用の配線を有する場合において、注入ガイド部に配置された着色層と重なって位置した部分の配線間の隙間を、スイッチング素子および液晶駆動回路を構成する複数の絶縁膜と遮光性膜のいずれかを組み合わせて遮光することにより、配線部分においても、膜厚の薄い着色層を配置することが可能となり、液晶注入時間を改善することが可能となる。
【００１５】
更に、注入ガイド部において、額縁パターンと着色層とがグラデーションになるように配置したり、モザイク模様に配置することにより、一層見栄えが向上する。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、この発明の実施の形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置について詳細に説明する。
図１ないし図３に示すように、液晶表示装置１０は、カラーフィルタとしての着色層が設けられたアレイ基板１２と、このアレイ基板に所定のセルギャップを置いて対向配置された対向基板２０と、を備え、これらアレイ基板と対向基板との間に液晶層７０が挟持されている。
【００１７】
アレイ基板１２および対向基板２０は、液晶表示装置の表示領域４０の外周を囲むように配置されたシール材１８により周縁部同士が接合されている。シール材１８の一部には液晶注入口３５が形成され、この液晶注入口３５は、液晶注入後、封止材３４により封止されている。
【００１８】
対向基板２０は、ガラスからなる透明基板２１上にＩＴＯからなる透明電極２２、配向膜１３を順に形成して構成されている。
【００１９】
また、アレイ基板１２は、ガラスからなる透明基板１１上に図示しない複数の走査電極およびこれと平行に設けられた補助容量電極、および絶縁膜２３を介してこれらと直交する複数の信号線１４が配置され、走査線と信号線の各交点近傍にはスイッチング素子として図示しないＮｃｈ型ＬＤＤ構造のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子と、このスイッチング素子と電気的に接続されたソース電極１５と、このソース電極に接続された画素電極３０と、が配置されている。
【００２０】
また、アレイ基板１２の透明基板１１上には、スイッチング素子と同時に、図示しない液晶駆動回路が表示領域４０周辺に形成され、表示領域近傍には、この液晶駆動回路を動作させるために必要な複数の配線１６が設けられている。
【００２１】
そして、スイッチング素子および液晶駆動回路を覆うように保護絶縁膜２４が設けられ、更にその上部に、それぞれストライプ状の緑色（Ｇ）の着色層２５Ｇ、青色（Ｂ）の着色層２５Ｂ、赤色（Ｒ）の着色層２５Ｒが配置されている。そして、緑色の着色層２５Ｇの両側縁が青色着色層２５Ｂや赤色着色層２５Ｒによって覆われている。このような構成は、各着色層を加工する際に用いる遮光マスクを適合するように作製することで達成される。
【００２２】
そして、画素電極３０は、これらの着色層２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒ上にそれぞれ配置され、着色層および保護絶縁膜２４に形成されたスルーホール２６を介してそれぞれ対応するスイッチング素子のソース電極１５に接続されている。更に、画素電極３０および着色層２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒを覆うように、ガラス基板１１基板全面には配向膜１３が形成されている。着色層材料には、紫外線硬化型アクリル樹脂を、配向膜材料には、ポリイミドをそれぞれ用いている。
【００２３】
また、アレイ基板１２のガラス基板１１上には、表示領域４０の周縁を囲むように、所定幅を持った黒色の着色層からなる矩形状の額縁パターン３２が形成されている。この額縁パターン３２は、他の着色層２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ｒよりも厚く形成されている。更に、この額縁パターン３２と同時に、画素電極３０上には所望の密度で多数の柱状スペーサ３１が形成されている。シール材１８は、その一部が額縁パターン３２に重なった状態で、表示領域４０の周縁部に設けられている。
【００２４】
そして、アレイ基板１２および対向基板２０は、シール材１８により周縁部同士が接着されているとともに、これらの基板間のセルギャップは、多数の柱状スペーサ３１によって所定の値に維持されている。
【００２５】
額縁パターン３２において、シール材１８の液晶注入口３５と隣接対向する部分は、注入ガイド部３３として形成されている。すなわち、注入ガイド部３３は、額縁パターン３２を構成する黒色着色層と、この黒色着色層よりも薄い他の着色層、例えば、青色着色層２５Ｂと、交互に設けることによって形成されている。
【００２６】
注入ガイド部３３は、液晶注入口３５の長さの約１．４の長さＬを有し、液晶注入口の両端を越えて延出している。そして、注入ガイド部３３の中央部３３ａにおいては、同一幅の黒色着色層と青色着色層とが１：１の割合で交互に設けられ、両端部では、黒色着色層の幅が徐々に大きく、青色着色層の幅が徐々に小さくなり、いわゆるグラデーション領域３３ｂとなっている。
【００２７】
次に、上記構成のアクティブマトリクス型液晶表示装置の製造方法について説明する。
まず、高歪点ガラス基板や石英基板などの透光性絶縁性基板１１上にＣＶＤ法などによりａ−Ｓｉ膜を５０ｎｍ程度被着する。これを４５０℃で１時間炉アニールを行った後、ＸｅＣｌエキシマレーザを照射し、ａ−Ｓｉ膜を多結晶化しポリシリコン膜とする。その後に、ポリシリコン膜をフォトエングレイビング法によりパターンニングして、図示しない表示領域内画素部のＴＦＴのチャネル層、および図示しない液晶駆動回路領域のＴＦＴ（回路ＴＦＴ）のチャネル層を形成し、更に、補助容量素子の下部電極を形成する。
【００２８】
次に、ＣＶＤ法により絶縁基板１１の全面に図示しないゲート絶縁膜となるシリコン酸化膜を１００ｎｍ程度被着する。続いて、このシリコン酸化膜上全面にＴａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又はその積層膜あるいは合金膜を４００ｎｍ程度被着し、フォトエングレイビング法により所定の形状にパターニングし、いずれも図示しない走査線と、走査線を延在して成る画素ＴＦＴのゲート電極、補助容量線、回路ＴＦＴのゲート電極、および駆動回路領域内の各種配線を形成する。この時、液晶駆動回路を駆動させるために必要となる配線１６も同時に形成する。
【００２９】
その後、これらのゲート電極をマスクとしてイオン注入やイオンドーピング法により上述したチャネル層に不純物の注入を行い、画素ＴＦＴのソース電極１５、図示しないドレイン電極、および図示しないＮｃｈ型の回路ＴＦＴのソース電極とドレイン電極とを形成する。不純物の注入は、例えば加速電圧８０ｋｅＶで５×１０^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２のドーズ量で、ＰＨ３／Ｈ２によりリンを高濃度注入した。
【００３０】
次に、図示しない画素ＴＦＴ、および駆動回路領域のＮｃｈ型の回路ＴＦＴには不純物が注入されないようにレジストで被覆した後、図示しないＰｃｈ型の回路ＴＦＴのゲート電極をそれぞれマスクとして、加速電圧加速電圧８０ｋｅＶで５×１０^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２のドーズ量で、Ｂ２ＰＨ６／Ｈ２によりボロンを高濃度注入し、Ｐｃｈ型の回路ＴＦＴのソース電極およびドレイン電極を形成する。
【００３１】
その後、図示しないＮｃｈ型ＬＤＤ（Light1y Doped Drain ）を形成するための不純物注入を行い、基板をアニールすることにより不純物を活性化する。
【００３２】
更に、例えばＰＥＣＶＤ法を用いて絶縁基板１１の全面にシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜２３を５００ｎｍ程度被着する。
【００３３】
続いて、フォトエッチング法により、画素ＴＦＴのソース電極１５に至るコンタクトホール２６と図示しないドレイン電極に至るコンタクトホールと、図示しない回路ＴＦＴのソース電極およびドレイン電極に至るコンタクトホールをそれぞれ形成する。
【００３４】
次に、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又はその積層膜あるいは合金膜を５００ｎｍ程度被着し、フォトエングレイビング法により所定の形状にパターニングして、信号線１４、画素ＴＦＴのドレイン電極、ソース電極１５、および図示しない液晶駆動回路領域内の回路ＴＦＴの各種の配線等を行った。
【００３５】
このとき、液晶駆動回路を動作させるために必要となる配線１６は、液晶注入口３５と対向する部分を除く部分において、図４に示すように、従来と同じ２層配線とした。また、液晶注入口３５と対向する注入ガイド部３３において、青色着色層２５Ｂが設けられている部分では、図５に示すように、配線１６は、ゲート線と同時に形成した１層のみの配線とし、隣接する配線１６間に重ねて、光漏れを防ぐ遮光パターン１７を層間絶縁膜２３を介して設ける。更に、注入ガイド部３３において、黒色着色層が配置された領域については、図３に示すように、配線１６を単層構造とし、かつ層間絶縁膜２３を除く構造としている。
【００３６】
次に、ＰＥＣＶＤ法により絶縁基板１１の全面にＳｉＮｘからなる保護絶縁膜２４を成膜し、フォトエングレイビング法により、それぞれ画素電極３０に至るコンタクトホール２６を形成する。
【００３７】
続いて、紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液を、画素電極３０が形成された絶縁基板１１上にスピンナ塗布により２μｍ程度の膜厚で塗布する。その後、約９０℃で約５分間プリベークし、所定のマスクパターンを用いて、１５０ｍＪ／ｃｍ２の強度の紫外線により露光する。ここで用いるフォトマスクパターンは、緑色着色層２５Ｇに対応するストライプ形状パターンと、画素電極３０とソース電極１５とを接続するためのコンタクトホール２６として直径１５μｍの円形パターンと、を有している。
【００３８】
続いて、約０．１重量％のＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドライド）水溶液を用いて約６０秒間現像し、更に水洗い後、約２０℃で１時間ほどポストベークすることによって、コンタクトホール２６を有する緑色着色層２５Ｇを形成した。
【００３９】
続いて、青色着色層２５Ｂ、赤色着色層２５Ｒを同様の工程にて形成する。この際、緑色着色層２５Ｇのパターン端が青色着色層２５Ｂや赤色着色層２５Ｒによって覆われる構成とした。これは、上記のように、各着色層を加工する際に用いる露光マスクを適合するように作製することで達成される。
【００４０】
次に、着色層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ上にスパッタリング法によりインジウム・すず酸化物（ＩＴＯ）を堆積し、これをパターニングすることにより画素電極３０を形成する。
【００４１】
その後、黒色着色層により柱状スペーサ３１および額縁パターン３２を形成する。額縁パターン３２は、液晶注入口３５を除く表示領域４０周辺部分に一定の幅で形成し、また、液晶注入口に隣接対向する一部、つまり、注入ガイド部３３に形成する。
【００４２】
注入ガイド部３３において、中央部３３ａでは、黒色着色層と青色着色層２５Ｂとが５０μｍ幅で交互に配置され、面積比率が１：１となるように配置している。注入ガイド部３３の両端部では、端部に近づくにつれて徐々に黒色着色層の割合を増やしグラデーション領域３３ｂとした。
【００４３】
注入ガイド部３３において、青色着色層２５Ｂが配置された部分の下部には、図５に示すように、スイッチング素子を形成する遮光性膜のいずれか、例えば、保護絶縁膜２４を配置し、光漏れが起こらない構造とする。更に、注入ガイド部３３において、青色着色層２５Ｂの上には、表示領域４０内と同じ割合で柱状スペーサ３１を配置する。
【００４４】
その後、ポリイミドからなる配向膜材料を絶縁基板１１全面に塗布、配向処理を施して配向膜１３を形成し、これにより、カラーフィルタを有するアレイ基板１１を得た。
【００４５】
一方、透明絶縁基板２１上にスパッタ法によりＩＴＯを約１００ｎｍの厚さに堆積して対向電極２２を形成し、続いてポリイミドからなる配向膜材料を基板全面に塗布、配向処理を施して配向膜１３を形成することにより、対向基板２０をを得る。
【００４６】
このようにして形成された対向基板２０の外周縁部に、液晶注入口３５を除いてシール材１８を塗布する。この対向基板２０、およびカラーフィルタの設けられたアレイ基板１２をシール材１８により貼り合わせることにより、空状態のセルが完成する。
【００４７】
次に、カイラル材が添加されたネマティック液晶材料を、液晶注入口３５からセル内に真空注入し、注入後、液晶注入口３５を封止材３３としての紫外線硬化樹脂を用いて封止する。その後、セルの両側にそれぞれ偏光板を貼付することにより、液晶表示装置が完成する。
【００４８】
このように構成された液晶表示装置によれば、額縁パターン３２に、黒色着色層と膜圧の薄い青色着色層とを交互に配置した注入ガイド部３３を設けることにより、液晶注入口３５の実質的な開口断面積を大きくすることができ、額縁パターンを黒色着色層のみで形成したものと比較して、液晶注入時間が２７０分から９０分に短縮することができた。また、注入ガイド部３３に黒色着色層と青色着色層とを混合し、かつ膜厚の薄い青色着色層の下部に遮光層を設けたことにより、額縁パターン３２を黒色着色層だけで形成した場合と比較して、見栄えの悪化もみられなかった。
【００４９】
注入ガイド部３３において、青色着色層２５Ｂの上には、表示領域４０内と同じ割合で柱状スペーサ３１を配置することにより、液晶注入口３５が潰れてギャップが狭くなることを防止でき、液晶注入時間をより短縮することが可能となる。
【００５０】
更に、注入ガイド部３３の膜厚の厚い黒色着色層部分の下部に存在する膜の厚さを、膜厚の薄い青色着色層２５Ｂ部分の下部に存在する膜の厚さよりも薄くすることにより、液晶注入口３５部分のギャップを更に広げることが可能となる。
【００５１】
また、注入ガイド部３３に配置された青色着色層２５Ｂと重なって位置した部分の配線１６間の隙間を、スイッチング素子および液晶駆動回路を構成する複数の絶縁膜と遮光性膜のいずれかを組み合わせて遮光することにより、配線１６部分においても、膜厚の薄い着色層を配置することが可能となり、液晶注入時間を改善することが可能となる。
【００５２】
なお、上記実施の形態においては、額縁パターン３２を表示領域４０内の柱状スペーサ３１と同一材料で同時形成する構成としたが、２色または３色の着色層を重ねて額縁パターン３２を形成する構成としても、上記実施の形態と同様の効果が得られる。
【００５３】
この発明の他の実施の形態によれば、アレイ基板に設けられた額縁パターン３２の注入ガイド部３３における黒色着色層および色着色層の配置を変更し、図６に示すように、モザイク模様に配置している。
【００５４】
このようなアレイ基板を用いて上記実施の形態と同様にセルを作製し、液晶材料の注入を行ったが、上記実施の形態と同様に、約９０分で注入することができた。また、注入ガイド部３３をモザイク模様とすることにより、更に見栄えが改善された。
【００５５】
なお、この発明は上述した実施の形態に限定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能である。上述した実施の形態では、注入ガイド部における着色層の配置方法として、ストライプ、グラデーション、モザイク模様について説明したが、これら配置の組み合わせ、並びにピッチや、向きは、例えば図７に示すように、必要に応じて種々変形可能である。また、着色層の組み合わせは、黒と青に限らず、黒と緑、黒と赤としても同様の効果が得られる。
【００５６】
【発明の効果】
以上詳述したように、この発明によれば、表示領域の周縁部に設けられた額縁パターンにおいて、液晶注入口に隣接対向した部分の一部を他の薄い着色層に置き換えて注入ガイド部とし、薄い着色層の下部に遮光層を設けることにより、液晶注入口部全域に額縁パターンが形成されている場合と比較して、液晶注入時間を大幅に短縮することができ、かつ、これら異なる色の着色層の割合および組み合わせを工夫することにより、見栄えが悪化することのない液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態に係るアクティブマトリクス型の液晶表示を示す斜視図。
【図２】上記液晶表示装置に用いられるアレイ基板の液晶注入口部分を拡大して示す平面図。
【図３】図２の線Ａ−Ａに沿った断面図。
【図４】図２の線Ｂ−Ｂに沿った断面図。
【図５】図２の線Ｃ−Ｃに沿った断面図。
【図６】この発明の他の実施の形態に係る液晶表示装置におけるアレイ基板に設けられた額縁パターンの注入ガイド部を拡大して示す平面図。
【図７】上記額縁パターンの注入ガイド部の変形例を示す平面図。
【符号の説明】
１０…液晶表示装置
１２…アレイ基板
１３…配向膜
１４…信号線
１５…ソース電極
１６…配線
１７…遮光パターン
２０…対向基板
２２…対向電極
２３…層間絶縁膜
２４…保護絶縁膜
２５Ｂ、２５Ｇ、２５Ｒ…着色層
２６…スルーホール
３１…柱状スペーサ
３５…画素電極
３２…額縁パターン
３３…注入ガイド部
３５…液晶注入口
４０…表示画素領域
７０…液晶層

Claims

基板の一主面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記交差部毎に配置されたスイッチング素子と、前記信号線、前記走査線及び前記スイッチング素子の少なくとも一部を覆うように配置された複数の着色層と、それぞれ前記着色層上に重ねて配置されているとともに前記着色層に形成されたスルーホール部を介して前記スイッチング素子にそれぞれ接続された複数の画素電極と、を有した表示領域と、前記表示領域を囲んで設けられ、前記着色層よりも厚い膜厚と高い遮光性を有し、前記表示領域周縁の光漏れを防止する額縁パターンと、前記スイッチング素子と同時に形成され前記表示領域を駆動する駆動回路と、前記スイッチング素子および前記駆動回路を構成する導電膜により形成されているとともに前記表示領域周縁に平行に配置され、前記駆動回路を動作させるための複数本の配線と、を備えたアレイ基板と、
前記アレイ基板と対向して配置された対向基板と、
前記表示領域の周囲を囲んで設けられ前記アレイ基板と前記対向基板との周縁部同志を接着しているとともに、液晶注入口を有したシール材と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に設けられ、前記アレイ基板と前記対向基板との間に所定の隙間を保持した複数のスペーサと、
前記液晶注入口から前記アレイ基板と前記対向基板との間の間隙に注入された液晶層と、
前記液晶注入口を封止した封止材と、を備え、
前記額縁パターンは、前記液晶注入口に隣接対向した注入ガイド部を有し、この注入ガイド部において、額縁パターンの少なくとも一部が、前記着色層の少なくとも１つで置き換えられ、
前記注入ガイド部における前記着色層の下部に、前記スイッチング素子の一部を構成する絶縁層の少なくとも１層が設けられ、
前記注入ガイド部において、前記着色層の下方に設けられ前記駆動回路を作動させるための前記複数本の配線間は、前記スイッチング素子を構成する前記絶縁層と遮光パターンとにより遮光されていることを特徴とする液晶表示装置。
上記スペーサは、上記額縁パターンと同一の遮光性材料によって同時に形成された柱状スペーサを備えていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記アレイ基板は、前記注入ガイド部における少なくとも一部の前記着色層上に設けられた柱状スペーサを備えていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
前記額縁パターンの前記注入ガイド部において、額縁パターンの下部に設けられた層の高さが、前記着色層の下部に設けられた層の高さよりも低いことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
前記額縁パターンは、前記着色層の少なくとも２層を重ねることにより形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記額縁パターンおよびスペーサは、黒色着色層により形成されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
前記額縁パターンの前記注入ガイド部において、額縁パターンと前記着色層とが交互に並んで配置されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
前記注入ガイド部は、額縁パターンと着色層とが同一の割合で交互に並んだ中央部と、前記中央部の両端側にそれぞれ位置しているとともに、額縁パターンの割合が徐々に増加するように額縁パターンと前記着色層とが交互に並んだグラデーション領域と、を備えていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
前記注入ガイド部は、前記液晶注入口の長さよりも大きな長さを有し、液晶注入口の両端を越えて延出していることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
前記額縁パターンの前記注入ガイド部において、前記額縁パターンと前記着色層パターンとがモザイク状に配置されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。